WO2022163297A1 - 高電圧モジュールおよびそれを用いる質量分析装置 - Google Patents

高電圧モジュールおよびそれを用いる質量分析装置 Download PDF

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WO2022163297A1
WO2022163297A1 PCT/JP2021/048898 JP2021048898W WO2022163297A1 WO 2022163297 A1 WO2022163297 A1 WO 2022163297A1 JP 2021048898 W JP2021048898 W JP 2021048898W WO 2022163297 A1 WO2022163297 A1 WO 2022163297A1
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high voltage
circuit
signal
substrate
voltage
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PCT/JP2021/048898
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French (fr)
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ジーハオ オン
琢真 西元
勇夫 古矢
浩 任田
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株式会社日立ハイテク
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J49/00Particle spectrometers or separator tubes
    • H01J49/02Details
    • H01J49/022Circuit arrangements, e.g. for generating deviation currents or voltages ; Components associated with high voltage supply
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J49/00Particle spectrometers or separator tubes
    • H01J49/02Details
    • H01J49/10Ion sources; Ion guns

Definitions

  • the present invention relates to a high voltage module that outputs a high voltage and a mass spectrometer using the same, and more particularly to a high voltage module that supplies a high voltage to an ion source, an ion filter and/or a detector mounted on the mass spectrometer. .
  • Patent Document 1 when a drive circuit that drives a capacitive load is considered as a high voltage module, the high voltage module is described in Patent Document 1, for example.
  • Patent Document 1 describes that heat generation is suppressed by adding a digital voltage amplifier to the drive circuit, and stability is improved by adding a buffer between the operational amplifier and the feedback circuit.
  • a high-voltage module (hereinafter also referred to as a high-voltage power supply module when used to supply a power supply voltage to a device such as a mass spectrometer) generally reduces its power consumption in exchange for a speed reduction. or unstable operation.
  • the high-voltage power supply module to be mounted is further improved in speed and stability.
  • the high-voltage power supply module to be mounted is further improved in speed and stability.
  • low power consumption is also required for high-voltage power supply modules in order to enable easy heat dissipation design and miniaturization. Therefore, in high-voltage power supply modules, it is a challenge to achieve both improvement in electrical characteristics and reduction in power consumption.
  • the board on which the high-voltage power supply module is mounted is housed in a metal (conductive) case connected to the ground voltage, etc.
  • An integrated high voltage power supply module will be installed in the device.
  • miniaturization of the high-voltage power supply module reduces the distance between the metal housing and the substrate.
  • An undesirable parasitic capacitance component is generated between the substrate and the metal housing, but as the distance between the metal housing and the substrate becomes smaller, the generated parasitic capacitance component is inversely proportional to the distance. growing.
  • the metal housing containing the substrate is filled with an insulating resin.
  • the parasitic capacitance component that occurs in proportion to the dielectric constant between the substrate and the metal housing also increases. Ingredients increase further. That is, due to the miniaturization and improved insulation of the high-voltage power supply module, the distance between the substrate and the housing is reduced, the dielectric constant is increased, and the parasitic capacitance component generated is correspondingly increased. An increase in this parasitic capacitance component causes the high-voltage power supply module to operate at low speed and/or become unstable.
  • Patent Document 1 a digital voltage amplifier is added instead of an analog amplifier to amplify the voltage of a digital signal pulse width modulated by a pulse width modulator. This makes it possible to suppress the generation of heat.
  • a buffer between the operational amplifier and the feedback circuit it reduces the influence of the feedback circuit on the loop gain determined by the operational amplifier, achieving both heat suppression and drive circuit stability. .
  • Patent Document 1 In the technique described in Patent Document 1, as the output voltage increases, the current flowing through the feedback circuit increases, and the amount of heat generated also increases proportionally. Therefore, in order to suppress the heat generation of the feedback circuit without a heat sink, it is necessary to design a high resistance value. In such a case, the stability of the entire drive circuit depends not only on the operational amplifier, but also on the feedback circuit, which determines the loop gain. The generated parasitic capacitance component strongly affects the stability of the entire drive circuit. Patent Document 1 neither describes nor recognizes the influence of the parasitic capacitance component generated between the metal housing and the substrate.
  • An object of the present invention is to provide a high-voltage module capable of stable high-speed operation with low power consumption.
  • the high voltage module includes an error amplifier that outputs a control signal based on a reference signal and a feedback signal, a high voltage output circuit that outputs a high voltage for supply based on the control signal, and a high voltage for supply. and a feedback circuit for outputting a feedback signal based on the feedback signal.
  • the feedback circuit includes a first partial circuit configured from resistive elements to which the high voltage for supply is input and outputs an intermediate signal, and a second partial circuit to which the intermediate signal is input and outputs a feedback signal.
  • the high voltage module includes a high voltage substrate area on which the high voltage output circuit and part of the first partial circuit are mounted, and a low voltage substrate area on which the error amplifier and the second partial circuit are mounted.
  • the second subcircuit comprises a resistive element and a capacitive element associated with the loop gain of the feedback circuit.
  • FIG. 1 is a circuit diagram showing a configuration of a high voltage module according to Embodiment 1;
  • FIG. FIG. 7 is a circuit diagram showing the configuration of a high voltage module according to Embodiment 2; (A) and (B) are characteristic diagrams for explaining the second embodiment.
  • FIG. 11 is a circuit diagram showing a configuration of a high voltage module according to Embodiment 3;
  • FIG. 12 is a circuit diagram showing the configuration of a high voltage module according to Embodiment 4;
  • FIG. 12 is a circuit diagram showing a configuration of a high voltage module according to a modification of the fourth embodiment;
  • FIG. 11 is a schematic diagram showing the configuration of a mass spectrometer according to Embodiment 5; 4 is a diagram showing formulas for explaining the high-voltage module according to the first embodiment; FIG. FIG. 4 is a circuit diagram showing the configuration of a high voltage module according to a comparative example;
  • FIG. 1 is a circuit diagram showing the configuration of the high voltage module according to Embodiment 1.
  • HVMD indicates a high voltage module.
  • the high voltage module HVMD includes a substrate (for example, printed circuit board) SUB on which the high voltage module is mounted and a metal housing 1 that houses the substrate SUB.
  • the mounting of the high-voltage module on the substrate SUB is achieved by, for example, mounting elements constituting the high-voltage module on the substrate SUB and wiring or the like for connecting between elements on the substrate SUB.
  • the metal housing 1 is electrically connected to a predetermined low voltage such as the ground voltage Vs in order to prevent electric shock and reduce noise radiation.
  • a predetermined low voltage such as the ground voltage Vs in order to prevent electric shock and reduce noise radiation.
  • the distance between the substrate SUB housed in the metal housing 1 and the metal housing 1 is indicated by DD.
  • a gap of distance DD is provided between the metal housing 1 and the substrate SUB, but the gap is not limited to this.
  • the metal housing 1 and the substrate SUB arranged therein may be in contact with each other.
  • the metal housing 1 may be arranged so as to cover the entire surface of the substrate SUB, or may cover a portion of the substrate SUB.
  • the substrate SUB is composed of a plurality of substrate regions, and FIG. 1 shows two substrate regions 2 and 3 of these.
  • the substrate area 2 represents the high voltage substrate area
  • the substrate area 3 hatched in FIG. 1 represents the low voltage substrate area.
  • the substrate SUB is regarded as one common substrate, the high voltage substrate area 2 and the low voltage substrate area 3 are arranged exclusively on the substrate SUB, and the high voltage substrate area 2 and the low voltage substrate area 3 are arranged. are independent of each other.
  • the high-voltage substrate area 2 and the low-voltage substrate area 3 have different maximum voltage values used in the circuits mounted on the respective substrate areas (circuits composed of mounted elements, wiring, etc.).
  • the voltage value of the highest voltage used in the circuit mounted in the high voltage substrate area 2 is, for example, 300 (V) or higher
  • the voltage value of the highest voltage mounted in the low voltage substrate area 3 is The voltage value of the highest voltage used in such circuits is, for example, less than 300 (V).
  • circuits (elements, wiring, etc.) that are used at a voltage of less than 300 (V) may be mounted within the high-voltage substrate area 2 in some cases.
  • the substrate SUB housed in the metal housing 1 may be composed of a plurality of individual substrates.
  • the high-voltage substrate area 2 is composed of, for example, one individual substrate
  • the low-voltage substrate area 3 is composed of an individual substrate different from the high-voltage substrate area 2 .
  • a reference signal Vin is supplied to the high voltage module HVMD, and the high voltage module HVMD outputs a stable high-speed supply high voltage Vout based on the reference signal Vin.
  • the reference signal Vin is a signal that designates a target voltage value of the high voltage for supply Vout, and may be a low-voltage analog voltage signal or a low-voltage digital signal.
  • a reference signal Vin is supplied to the high voltage module HVMD, for example from a computer or a control unit. When the reference signal Vin is an analog signal, the voltage value of the reference signal Vin is lower than the supply high voltage Vout.
  • the high voltage module HVMD has an error amplifier 5 , a high voltage output circuit 7 and a feedback circuit (feedback circuit) 10 .
  • the error amplifier 5 inputs the reference signal Vin and the feedback signal (feedback signal) 4 , amplifies the difference between the reference signal Vin and the feedback signal 4 , and outputs it as the control signal 6 .
  • the error amplifier 5 includes, for example, an operational amplifier supplied with the reference signal Vin and the feedback signal 4 and outputting the control signal 6 .
  • the reference signal Vin is a digital signal
  • the error amplifier 5 includes a conversion circuit that converts the digital signal into a low-voltage analog signal and supplies it to the operational amplifier.
  • the high voltage output circuit 7 receives the control signal 6 and outputs a supply high voltage Vout having a voltage value according to the control signal 6 .
  • the feedback circuit 10 receives the supply high voltage Vout as a high voltage signal and outputs a feedback signal 4 based on the high voltage signal.
  • This feedback circuit 10 has the following two functions. That is, the first function is a signal attenuation function that attenuates a high voltage signal to a low voltage signal and determines the attenuation factor in the operating frequency range of the high voltage module, and the second function is the stability of the high voltage module HVMD. It is a phase compensation function that determines the loop gain in the dynamic design. ⁇ Comparative example>
  • FIG. 9 is a circuit diagram showing the configuration of a high voltage module according to a comparative example. The difference from FIG. 1 is that in FIG. 9 the feedback circuit has been changed and is labeled 20 .
  • the feedback circuit 20 is composed of feedback resistance elements R20a and R20b and a feedback capacitance element C20.
  • a combination circuit formed by combining the feedback resistance elements R20a and R20b and the feedback capacitance element C20 realizes both the signal attenuation function and the phase compensation function.
  • the feedback resistance element R20a and the feedback capacitance element C20 are connected in parallel, one end of the RC circuit constructed by the parallel connection is connected to the supply high voltage Vout, and the other end of the RC circuit is connected to the feedback resistor. It is connected to the ground voltage Vs through the element R20b and is also connected to the error amplifier 5.
  • the voltage of feedback signal 4 is defined as Vfb.
  • Cp is a parasitic capacitance equivalently representing a parasitic capacitance component generated between the substrate SUB and the metal housing 1 .
  • FIG. 9 illustrates the case where the parasitic capacitance Cp occurs at the node generating the feedback signal 4 .
  • the attenuation coefficient ⁇ of the feedback circuit 20 the frequency bands f1 and f2 of the phase compensation, and the power consumption P are simply represented by equations (1) to (4) shown in FIG.
  • the resistance value of the feedback resistance element R20a that attenuates the signal of the supply high voltage Vout is increased.
  • P the resistance value of the feedback resistance element R20a that attenuates the signal of the supply high voltage Vout.
  • the frequency band f2 of phase compensation which is part of the phase compensation function, is determined by the product of the feedback resistance element R20a and the feedback capacitance element C20. Therefore, if the resistance value of the feedback resistance element R20a is increased in order to reduce power consumption, the feedback capacitance element C20 with a smaller capacitance value must be used in order to obtain the desired phase compensation frequency band f2. I have to.
  • the capacitance value of the feedback capacitive element C20 is sufficiently larger than the parasitic capacitance Cp (Cp ⁇ C20), the parasitic capacitance Cp can be ignored and the phase compensation It is possible to determine the frequency band f1 of However, if the capacitance value of the feedback capacitive element C20 is reduced in order to obtain a desired frequency band f2 for phase compensation while reducing power consumption, the relationship Cp ⁇ C20 is lost. Furthermore, the parasitic capacitance Cp is increased by reducing the distance DD between the substrate SUB and the metal housing 1 in order to reduce the size of the high-voltage module. Become. As a result, the degree of influence of the generated parasitic capacitance Cp increases, making it difficult to maintain the stability of the high voltage module. ⁇ Configuration of feedback circuit>
  • the feedback circuit 10 is separated into the first partial circuit 8 and the second partial circuit 9, as shown in FIG.
  • the first partial circuit 8 is connected to the high voltage output circuit 7, is supplied with a high voltage signal of the supply high voltage Vout, and outputs an intermediate signal 11 according to this high voltage signal.
  • the second partial circuit 9 is connected to the error amplifier 5 , is supplied with the intermediate signal 11 and outputs the feedback signal 4 to the error amplifier 5 .
  • the first subcircuit 8 has an attenuation function and the second subcircuit 9 has a phase compensation function related to the loop gain.
  • the high voltage output circuit 7 and a part (high voltage portion) of the first partial circuit 8 are mounted in the high voltage substrate area 2, and the error amplifier 5 and the second partial circuit are mounted in the low voltage substrate area 3.
  • 9 and a part (low voltage part) of the first partial circuit 8 are implemented. This is because, in the high voltage module according to the first embodiment, the maximum voltage used in the high voltage portions of the high voltage output circuit 7 and the first partial circuit 8 is 300 (V) or higher, and the error amplifier 5 and the This is because the maximum voltage used in the low voltage portion of the second partial circuit 9 and the second partial circuit 9 is less than 300 (V).
  • the wiring for transmitting the signal 11 is provided on the substrate SUB and mounted on an intermediate substrate region (not shown) different from the high voltage substrate region 2 and the low voltage substrate region 3 .
  • Wiring for transmitting the ground voltage Vs to circuits, elements, etc. is mounted on the substrate SUB regardless of the distinction between the high-voltage substrate area 2, the low-voltage substrate area 3 and the intermediate substrate area.
  • first partial circuit 8 and the second partial circuit 9 Various configurations are conceivable for the first partial circuit 8 and the second partial circuit 9 . Here, an example will be described with reference to FIG.
  • the first partial circuit 8 having an attenuation function includes feedback resistance elements R8a and R8b connected in series between the output node of the high voltage output circuit 7 and the ground voltage Vs.
  • a high voltage signal from the high voltage output circuit 7 is resistance-divided by the feedback resistance elements R8a and R8b and output from the first partial circuit 8 as an intermediate signal 11.
  • FIG. That is, the attenuation coefficient ⁇ ' of the feedback circuit 10 is determined by the ratio of the feedback resistance elements R8a and R8b, and the high voltage signal of the high voltage Vout for supply is attenuated to the intermediate signal 11 of low voltage.
  • This attenuation coefficient ⁇ ' is represented by the equation (5) shown in FIG.
  • the second partial circuit 9 having a phase compensation function includes an operational amplifier (operational amplifier) 12, resistor elements (phase compensation resistor elements) R9a and R9b, and capacitive elements (phase compensation capacitive elements) C9a and C9b. It consists of a compensation circuit.
  • a resistive element R 9 a and a capacitive element C 9 a are connected in parallel between the input n 2 of the operational amplifier 12 and the output n 3 of the operational amplifier 12 .
  • the resistance element R9a and the capacitance element C9a are connected in parallel, one end of the RC circuit formed by this parallel connection is connected to the input n2 of the operational amplifier 12, and the other end of the RC circuit is connected to the input n2 of the operational amplifier 12.
  • the frequency band to be corrected can be obtained from the product of the resistance elements R9a and R9b and the capacitance elements C9a and C9b.
  • Cp indicates the parasitic capacitance described in FIG.
  • FIG. 1 also shows a case where a parasitic capacitance Cp is generated at a node similar to that of FIG.
  • the phase compensation frequency bands f1' and f2' obtained by the second partial circuit 9 are shown as equations (6) and (7) in FIG.
  • the second partial circuit 9 is mounted on the low voltage substrate area 3 and supplied with the low voltage signal attenuated by the first partial circuit 8 . Therefore, compared with the case of mounting in the high-voltage substrate area 2, even if a resistive element with a smaller resistance value is used, an increase in power consumption can be suppressed. As a result, in order to obtain correction in a desired frequency band, the feedback circuit 10 is formed by combining the capacitive element C9a with a capacitance value so large that the value of the parasitic capacitance Cp can be ignored and the resistive elements R9a and R9b with low resistance values. can be realized, and the degree of influence from the parasitic capacitance Cp can be reduced.
  • the attenuation function is set by resistor elements R8a and R8b as shown in equation (5)
  • the phase compensation function is set by resistor elements R9a and R9b and capacitive element C9a and C9a as shown in equations (6) and (7).
  • C9b the feedback resistance elements R8a and R8b in the first partial circuit 8 can be set to a desired high resistance value in order to reduce power consumption without affecting the stability of the high voltage module. be.
  • FIG. 1 shows an example in which resistance voltage division is used as the first partial circuit 8, the present invention is not limited to this.
  • the first partial circuit 8 may be configured using an inverting amplifier circuit configuration using an operational amplifier.
  • the feedback circuit 10 is separated for each function (attenuation function, phase compensation function), and furthermore, by dividing the substrate area where it is mounted, the degree of influence from the parasitic capacitance originating between the housing and the substrate can be reduced. It is possible to provide a high-voltage module that can reduce power consumption and achieve both low power consumption and stable high-speed operation. (Embodiment 2)
  • a high voltage generation circuit is provided in the high voltage module HVMD shown in FIG.
  • the high voltage output circuit 7 operates using the high voltage from the high voltage generation circuit as a power supply, and outputs a supply high voltage Vout according to the control signal 6 . Since the high voltage module according to the second embodiment is provided with the high voltage generation circuit, it is possible to output the supply high voltage Vout without supplying a high voltage from the outside of the high voltage module HVMD, for example. be. However, there is concern that noise may be electromagnetically radiated from the high voltage generation circuit provided in the high voltage module HVMD.
  • Embodiment 2 provides a high voltage module capable of reducing the influence of this radiation noise.
  • FIG. 2 is a circuit diagram showing the configuration of the high voltage module according to the second embodiment.
  • FIG. 2 is similar to FIG. 1, so differences will be mainly described.
  • the high voltage module HVMD comprises a high voltage generation circuit 13 .
  • At least part of the high voltage generation circuit 13 is mounted on the high voltage substrate area 2, and the high voltage generated by the high voltage generation circuit 13 is supplied to the high voltage output circuit 7 as a power supply.
  • the high voltage generation circuit 13 is composed of a booster circuit driven by a drive signal with a predetermined drive frequency.
  • a booster circuit for example, a Cockcroft-Walton circuit is used.
  • the booster circuit is not limited to this, and any circuit that performs a switching operation according to a drive signal and generates a high voltage may be used.
  • the high voltage generation circuit 13 generates a high voltage by performing a switching operation according to a drive signal with a predetermined drive frequency, but the switching operation generates radiation noise.
  • radiation noise is schematically indicated by symbol nz. This radiation noise nz is highly likely to affect the low-voltage circuit (second partial circuit, error amplifier 5) that is mounted in the low-voltage substrate area 3 in particular and that performs precision processing.
  • the feedback circuit 10 is separated into the first partial circuit 8 and the second partial circuit 9, and the second partial circuit 9 operates at a low voltage. It is mounted on the substrate area 3 .
  • the resistance values of the resistance elements R9a and R9b are set small. If the feedback circuit 10 is separated for each function, the second partial circuit 9 that realizes the phase compensation function often has a configuration of a high-pass filter and has a large noise gain against high-frequency noise. The structure is susceptible to noise and easy to amplify.
  • the second partial circuit 9 is configured to be susceptible to the radiation noise nz.
  • the radiation noise nz is amplified by the second partial circuit 9, the error amplifier 5 and the high voltage output circuit 7, and superimposed on the supply high voltage Vout.
  • voltage noise many times as strong as the radiation noise nz generated in the high voltage generation circuit 13 is superimposed on the supply high voltage Vout and output.
  • such high voltage noise may not be acceptable.
  • FIG. 3 is a characteristic diagram for explaining the second embodiment.
  • FIG. 3 shows an image of the radiation noise intensity from the high voltage generation circuit 13 and the signal intensity handled by the second partial circuit 9 .
  • the horizontal axis represents frequency
  • the vertical axis represents voltage intensity.
  • the high voltage generation circuit 13 performs a switching operation with a drive signal having a drive frequency fn1. Therefore, the high voltage generation circuit 13 generates radiation noise having a peak near the drive frequency fn1, as shown in FIG. 3A.
  • the output signal of the feedback circuit 20 in the comparative example shown in FIG. 9 and the signal strength of the intermediate signal 11 shown in FIG. have similar values.
  • the second partial circuit 9 to which the intermediate signal 11 is supplied has a large noise gain as described above and has a configuration of a high-pass filter, it easily amplifies the radiation noise.
  • the radiation noise is within the signal band of the feedback circuit 10, it is conceivable to provide a low-pass filter (LPF) that can remove the radiation noise. be done. Therefore, in Embodiment 2, the radiation noise is further moved to the high band side, the original signal and the radiation noise are separated, and then the radiation noise is removed by the LPF.
  • LPF low-pass filter
  • a portion of the feedback circuit 10 (the second partial circuit 9 and the feedback resistance element R8b) is mounted on the low voltage substrate area 3 and supplied to the second partial circuit 9.
  • the intermediate signal 11 is the low voltage signal. That is, the voltage strength of the signal handled by the second partial circuit 9 is low.
  • a solid line 15 indicates the voltage intensity characteristic of the second partial circuit 9.
  • the second partial circuit 9 is affected by the radiation noise. will be strongly received.
  • radiation noise exists in a frequency band lower than the cutoff frequency, it is difficult to separate the radiation noise.
  • the drive frequency of the drive signal for the high voltage generation circuit 13 is changed from fn1 to frequency fn2, which is higher than the operating frequency band of the high voltage module HVMD.
  • the peak of the radiation noise shifts from around the drive frequency fn1 to around the drive frequency fn2.
  • the radiation noise moves to a frequency band higher than the cutoff frequency of the second partial circuit 9, so that the radiation noise can be separated.
  • the resistive element R9a and the capacitive element C9a provided in the second partial circuit 9 also serve as a low-pass filter (LPF).
  • the frequency characteristic (frequency filter characteristic) of the low-pass filter realized by the resistive element R9a and the capacitive element C9a is shown as characteristic 16 in FIG. 3(B). That is, the second partial circuit 9 constitutes a low-pass filter for removing radiation noise near the driving frequency fn2. This makes it possible to remove the radiation noise in the high-frequency band that has propagated to the low-pass filter realized by the resistance element R9a and the capacitance element C9a. That is, it is possible to reduce noise caused by electromagnetic radiation of the high voltage generation circuit 13 .
  • the first partial circuit 8 and the second partial circuit 9 provided in the feedback circuit 10 have a suitable high-voltage resistor when the impedances are not matched or when the impedance characteristics of each other interfere with each other.
  • a voltage module is provided.
  • FIG. 4 is a circuit diagram showing the configuration of the high voltage module according to Embodiment 3.
  • FIG. FIG. 4 is similar to FIG. 1, so differences will be mainly described. The difference is that an impedance matching circuit 17 is added between the first partial circuit 8 and the second partial circuit 9 in FIG.
  • the impedance matching circuit 17 is composed of an operational amplifier. That is, the operational amplifier constitutes a voltage follower (hereinafter also referred to as VF) circuit having an amplification factor of approximately 1, and is used as the impedance matching circuit 17 .
  • the VF circuit is supplied with the intermediate signal 11 from the first partial circuit 8 in the previous stage, and the VF circuit outputs a matching signal 18 according to the intermediate signal 11 to the second partial circuit 9 .
  • the VF circuit receives the intermediate signal 11 output from the first partial circuit 8 at high impedance and outputs the matching signal 18 to the second partial circuit 9 at low impedance.
  • the first partial circuit 8 and the second partial circuit 9 can achieve accurate signal transmission without interfering with each other's impedance characteristics.
  • the third embodiment even when the impedance characteristics of the first partial circuit and the second partial circuit in the feedback circuit 10 interfere with each other, impedance matching can be performed. It is possible to separate the feedback circuit 10 by using the two-part circuit, and it is possible to provide a high-voltage module capable of achieving both low power consumption and stable high-speed operation, as in the first embodiment. . (Embodiment 4)
  • the fourth embodiment provides a high voltage module capable of electrically insulating the high voltage substrate area and the low voltage substrate area.
  • FIG. 5 is a circuit diagram showing the configuration of a high voltage module according to Embodiment 4.
  • FIG. FIG. 5 is similar to FIG. 1, so only the differences will be described. The difference is that the first partial circuit has been modified.
  • the first partial circuit 8 is composed of a feedback resistance element R8a and a transformer 30 in FIG. That is, the feedback resistance element R8a and the primary side of the transformer 30 are connected in series between the high voltage signal of the supply high voltage Vout and the ground voltage Vs, and the intermediate signal 11 is output from the secondary side of the transformer 30. be.
  • the primary side of the transformer 30 and the feedback resistance element R8a are mounted on the high voltage substrate area 2, and the secondary side of the transformer 30 is mounted on the low voltage substrate area 3.
  • the attenuation factor of the first partial circuit 8 is determined by the winding ratio between the primary and secondary sides of the transformer 30 . Since the primary side and secondary side of the transformer 30 are magnetically coupled, in the configuration shown in FIG. It will be electrically insulated.
  • FIG. 5 shows an example in which the attenuation factor of the first partial circuit 8 is determined by the winding ratio of the transformer 30, it may be combined with the resistance voltage division ratio shown in FIG.
  • a voltage generated by resistive voltage division may be supplied to the primary side of the transformer 30 and the intermediate signal 11 may be output from the secondary side.
  • the attenuation factor of the first partial circuit 8 is determined by the winding ratio of the transformer 30 and the resistance voltage division ratio.
  • FIG. 5 as an example of the insulated signal transmission circuit that electrically insulates the high-voltage substrate region 2 and the low-voltage substrate region 3, an example of transmitting a signal using magnetism is shown. It is not limited to this. An example of transmitting a signal using light will be shown below as a modified example. ⁇ Modification>
  • FIG. 6 is a circuit diagram showing the configuration of a high voltage module according to a modification of the fourth embodiment. Since FIG. 6 is similar to FIG. 5, differences will be explained. The difference is that the first partial circuit 8 is modified in FIG.
  • the first partial circuit 8 is composed of a feedback resistance element R8a and a photocoupler 31. As shown in FIG. In this case, the feedback resistor element R8a and the input of the photocoupler 31 are mounted on the high voltage substrate area 2, and the output of the photocoupler 31 is mounted on the low voltage substrate area 3.
  • the attenuation rate of the first partial circuit 8 at this time is determined by the current transfer rate (CTR) of the photocoupler 31 .
  • CTR current transfer rate
  • the photocoupler 31 and the resistance voltage division ratio shown in FIG. 1 may be combined.
  • the attenuation rate of the first partial circuit 8 is determined by the current transfer rate of the photocoupler 31 and the resistance voltage division ratio.
  • an insulated high-voltage module can be provided. (Embodiment 5)
  • Embodiment 5 An example of a mass spectrometer (hereinafter simply referred to as an analyzer) equipped with the high voltage module HVMD shown in Embodiments 1 to 4 will be described as Embodiment 5.
  • An analysis device is, for example, a device used to examine the types or amounts of atoms that make up a sample.
  • the high voltage module HVMD described in the first embodiment will be described, but the present invention is not limited to this.
  • the high voltage module HVMD described in the second to fourth embodiments or a combination of the high voltage modules HVMD described in the first to fourth embodiments may be installed in the analyzer.
  • FIG. 7 is a schematic diagram showing the configuration of a mass spectrometer according to Embodiment 5.
  • the analyzer 100 indicates an analyzer (mass spectrometer).
  • the analyzer 100 includes an analyzer housing 110, a mass spectrometer control unit (hereinafter also referred to as a control unit) 101, a first high voltage power supply module HVMD1 to a fourth high voltage power supply module HVMD4, and an information processing unit 102. It has
  • the analyzer housing 110 includes an ion source 121 that ionizes a sample to be subjected to mass spectrometry, and a mass separator that filters the ionized sample with a filter electrode 127 and transmits only ion molecules having a mass to be analyzed. (ion filter) 126;
  • the analyzer housing 110 further includes a trajectory control unit 128 that controls the trajectories of ion molecules and electrons, a conversion dynode 122 that converts ion molecules into electrons (electricity), and a detector 123 that detects the electrons. and
  • the conversion dynode 122 and the detector 123 are arranged in the orbit control section 128 .
  • 124 indicates ions to be detected
  • 125 indicates unwanted ions.
  • Information processing unit 102 calculates the mass from the electrical signal obtained by detector 123 .
  • the first high-voltage power supply module HVMD1 to fourth high-voltage power supply module HVMD4 are configured by the high-voltage modules described in the first embodiment.
  • the control unit 101 controls the first high voltage power supply module HVMD1 to the fourth high voltage power supply module HVMD4.
  • the control unit 101 supplies the reference signals Vin1-Vin4 to the corresponding first high-voltage power supply module HVMD1-4th high-voltage power supply module HVMD4, and each high-voltage power supply module supplies the supplied reference signal to output high voltages Vout1 to Vout4 for supply according to .
  • the first high voltage power supply module HVMD1 to fourth high voltage power supply module HVMD4 are also referred to as high voltage modules HVMD1 to HVMD4.
  • the reference signals Vin1 to Vin4 are low voltage signals of less than 100 (V), and the supply high voltages Vout1 to Vout4 are high voltages of 300 (V) or more suitable for controlling ionization and ion trajectories. . Therefore, in the high-voltage module used in Embodiment 5, the maximum voltage handled in the low-voltage substrate area 3 (FIG. 1) is less than 100 (V), and handled in the high-voltage substrate area 2 (FIG. 1). The highest voltage is 300 (V) or more.
  • the voltage value of the high voltage suitable for each part provided in the analyzer housing 110 is different. Therefore, a corresponding high-voltage power supply module is installed for each part. That is, the first high-voltage power supply module HVMD1 outputs the supply high voltage Vout1 according to the reference signal Vin1 to the ion source 121, and the second high-voltage power supply module HVMD2 outputs the supply high voltage according to the reference signal Vin2. Vout2 is output to filter electrode 127 in ion filter 126 .
  • the third high voltage power supply module HVMD3 outputs a supply high voltage Vout3 according to the reference signal Vin3 to the conversion dynode 122
  • the fourth high voltage power supply module HVMD4 outputs a supply high voltage according to the reference signal Vin4.
  • Vout4 is output to detector 123 .
  • FIG. 7 shows an example in which a high voltage is supplied to the ion source 121, the ion filter 126, the conversion dynode 122 and the detector 123 from the high voltage module described in the first embodiment.
  • a high voltage may be supplied to one from the high voltage module described in the first embodiment.
  • one common high-voltage power supply module may be mounted.
  • FIG. Therefore, it is necessary to mount high-voltage power supply modules corresponding to each voltage value in the analyzer 100, and the number of high-voltage power supply modules also increases.
  • the high-voltage module according to Embodiment 1 it is possible to achieve low power consumption. This will lead to improved usability such as ease of placement.
  • the throughput and detection sensitivity of the analyzer 100 are greatly affected by the stability and high-speed operation of the high-voltage power supply module, as well as the amount of noise. Therefore, by combining the first embodiment and the second embodiment, it is possible to provide the analyzer 100 with high throughput and high sensitivity.

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Abstract

高電圧モジュール(HVMD)は、参照信号(Vin)と帰還信号(4)とに基づいて、制御信号(6)を出力する誤差増幅器(5)と、制御信号(6)に基づいて、供給用高電圧(Vout)を出力する高電圧出力回路(7)と、供給用高電圧(Vout)に基づいて、帰還信号(4)を出力する帰還回路(10)とを備えている。ここで、帰還回路(10)は、供給用高電圧(Vout)が入力され、中間信号(11)を出力する、抵抗素子から構成された第1部分回路(8)と、中間信号(11)が入力され、帰還信号(4)を出力する、第2部分回路(9)とを備えている。さらに、高電圧モジュール(HVMD)は、高電圧出力回路(7)と、第1部分回路(8)の一部とが実装された高電圧基板領域(2)と、誤差増幅器(5)と、第2部分回路(9)とが実装された低電圧基板領域(3)とを備える基板(SUB)を備え、第2部分回路(9)は、帰還回路のループゲインに関連する抵抗素子と容量素子とを備えている。

Description

高電圧モジュールおよびそれを用いる質量分析装置
 本発明は、高電圧を出力する高電圧モジュールおよびそれを用いる質量分析装置に関し、例えば質量分析装置に搭載されるイオン源、イオンフィルタまたは/および検知器に、高電圧を供給する高電圧モジュールに関する。
 例えば容量性負荷を駆動する駆動回路を高電圧モジュールと見なした場合、高電圧モジュールは、例えば特許文献1に記載されている。特許文献1には、駆動回路にデジタル電圧増幅器を追加することで熱の発生を抑制し、演算増幅器と帰還回路との間にバッファーを追加することで安定性の向上を図ることが記載されている。
特開2007-96364号
 高電圧モジュール(以下、質量分析装置等の装置に電源電圧を供給する用途に用いる場合、高電圧電源モジュールとも称する)は、一般的に、その消費電力の低減を図ると、その引き換えに低速化や不安定動作となる。
 一方、高電圧電源モジュールを搭載する装置、例えば質量分析装置では、分析の高スループット化と高感度化を図るために、搭載する高電圧電源モジュールに対して、更なる高速化や高安定動作性と言った電気特性の向上が求められている。また同時に、ユーザビリティの観点からは、容易な放熱設計や小型化を可能とするために、高電圧電源モジュールに対して低消費電力化も求められている。従って、高電圧電源モジュールでは、電気特性の向上と低消費電力化の両立が課題となっている。
 また、感電の防止やノイズ放射の低減を図るために、高電圧電源モジュールを実装した基板は、接地電圧等に接続された金属製(導体性)の筐体に収納され、金属製筐体と一体化された高電圧電源モジュールが装置に搭載されることになる。前記したように高電圧電源モジュールの小型化を図ると、金属製筐体と基板との間の距離が小さくなる。基板と金属製筐体との間には、不所望な寄生容量成分が発生するが、金属製筐体と基板との間の距離が小さくなると、発生する寄生容量成分は、距離に反比例して大きくなる。また、高電圧電源モジュールの絶縁性を高めるために、基板を収納した金属製筐体に絶縁性樹脂を充填する場合がある。金属製筐体と基板間距離以外に、基板と金属製筐体の間の誘電率に比例して発生する寄生容量成分も上昇するため、空気より誘電率が高い絶縁性樹脂があると寄生容量成分はさらに増加する。すなわち、高電圧電源モジュールの小型化・絶縁性の向上により、基板と筐体との間の距離が低減して誘電率が上昇し、その分発生する寄生容量成分が大きくなる。この寄生容量成分が大きくなることにより、高電圧電源モジュールが低速動作または/および不安定動作となる。
 特許文献1においては、アナログ増幅器の代わりにデジタル電圧増幅器を追加することで、パルス幅変調器によってパルス幅変調されたデジタル信号の電圧を増幅する。これにより、熱の発生を抑制することが可能となっている。また、演算増幅器と帰還回路との間にバッファーを追加することで、演算増幅器が決定するループゲインに帰還回路が影響するのを低減し、熱の抑制と駆動回路の安定性を両立している。
 しかしながら、特許文献1に記載の技術では、出力電圧が高くなるに従って帰還回路を流れる電流が増加し、発熱量も比例して増大する。そのため、ヒートシンクなしで帰還回路の発熱を抑制するには抵抗値を高く設計する必要がある。そうした場合、駆動回路全体の安定性は、演算増幅器だけでなく、帰還回路もループゲインを決定する回路部となるため、駆動回路を収納する金属製筐体と駆動回路が実装された基板間で発生する寄生容量成分が、駆動回路全体の安定性に強く影響することになる。特許文献1では、金属製筐体と基板間で発生する寄生容量成分による影響については、記載も認識もされていない。
 本発明の目的は、低消費電力で安定した高速動作が可能な高電圧モジュールを提供することにある。
 本発明の他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。
 本願において開示される実施の形態のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば下記の通りである。
 すなわち、高電圧モジュールは、参照信号と帰還信号とに基づいて、制御信号を出力する誤差増幅器と、制御信号に基づいて、供給用高電圧を出力する高電圧出力回路と、供給用高電圧に基づいて、帰還信号を出力する帰還回路とを備えている。帰還回路は、供給用高電圧が入力され、中間信号を出力する、抵抗素子から構成された第1部分回路と、中間信号が入力され、帰還信号を出力する、第2部分回路とを備えている。さらに、高電圧モジュールは、高電圧出力回路と、第1部分回路の一部とが実装された高電圧基板領域と、誤差増幅器と、第2部分回路とが実装された低電圧基板領域とを備える基板を備え、第2部分回路は、帰還回路のループゲインに関連する抵抗素子と容量素子とを備えている。
 本願において開示される発明のうち、代表的な実施の形態によって得られる効果を簡単に説明すると、低消費電力で安定した高速動作が可能な高電圧モジュールを提供することができる。
実施の形態1に係る高電圧モジュールの構成を示す回路図である。 実施の形態2に係る高電圧モジュールの構成を示す回路図である。 (A)および(B)は、実施の形態2を説明するための特性図である。 実施の形態3に係る高電圧モジュールの構成を示す回路図である。 実施の形態4に係る高電圧モジュールの構成を示す回路図である。 実施の形態4の変形例に係る高電圧モジュールの構成を示す回路図である。 実施の形態5に係る質量分析装置の構成を示す概略図である。 実施の形態1に係る高電圧モジュールを説明するための式を示す図である。 比較例に係る高電圧モジュールの構成を示す回路図である。
 実施の形態について、図面を参照して説明する。なお、以下に説明する実施の形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではなく、また実施の形態の中で説明されている諸要素及びその組み合わせの全てが発明の解決手段に必須であるとは限らない。
 (実施の形態1)
 図1は、実施の形態1に係る高電圧モジュールの構成を示す回路図である。図1において、HVMDは、高電圧モジュールを示している。高電圧モジュールHVMDは、高電圧モジュールが実装された基板(例えばプリント基板)SUBと基板SUBを収納する金属製筐体1とを備えている。基板SUBへの高電圧モジュールの実装は、例えば基板SUBに高電圧モジュールを構成する素子および素子間等を接続する配線等を基板SUBに実装することによって実現されている。
 金属製筐体1は、感電の防止およびノイズの放射を低減するために、接地電圧Vsのような所定の低電圧に電気的に接続されている。図1では、金属製筐体1内に収納された基板SUBと金属製筐体1との間の距離が符号DDで示されている。図1では、金属製筐体1と基板SUBとの間に、距離DDの隙間が設けられているが、これに限定されるものではない。例えば金属製筐体1と、その内部に配置された基板SUBとは当接していてもよい。また、金属製筐体1は、基板SUBの全面を覆うように配置されていてもよいし、基板SUBの一部を覆うようにしてもよい。
 基板SUBは、複数の基板領域によって構成されており、図1では、この内の2つの基板領域2、3が示されている。基板領域2は高電圧基板領域を示し、図1において斜線で示されている基板領域3は、低電圧基板領域を示している。基板SUBを、1枚の共通基板と見なした場合、基板SUBに高電圧基板領域2と低電圧基板領域3とが、排他的に配置され、高電圧基板領域2と低電圧基板領域3とは、互いに独立している。
 高電圧基板領域2と低電圧基板領域3とでは、それぞれの基板領域に実装された回路(実装された素子および配線等で構成された回路)で用いられる電圧の最高電圧値が異なっている。実施の形態1では、特に制限されないが、高電圧基板領域2内に実装された回路で用いられる最高電圧の電圧値は、例えば300(V)以上であり、低電圧基板領域3内に実装された回路で用いられる最高電圧の電圧値は、例えば300(V)未満である。勿論、300(V)未満の電圧で用いられる回路(素子、配線等)は、高電圧基板領域2内に実装される場合もある。
 また、金属製筐体1に収納される基板SUBは、複数の個別基板によって構成してもよい。この場合、高電圧基板領域2が、例えば1つの個別基板によって構成され、低電圧基板領域3は、高電圧基板領域2とは異なる個別基板によって構成される。
 高電圧モジュールHVMDには、参照信号Vinが供給され、高電圧モジュールHVMDは、参照信号Vinに基づいた安定した高速な供給用高電圧Voutを出力する。参照信号Vinは、目標とする供給用高電圧Voutの電圧値を指定する信号であり、低電圧のアナログの電圧信号であっても、低電圧のデジタル信号であってもよい。例えば、計算機あるいは制御ユニットから、参照信号Vinが高電圧モジュールHVMDに供給される。参照信号Vinがアナログ信号であった場合、参照信号Vinの電圧値は、供給用高電圧Voutよりも低い電圧値である。
 <高電圧モジュール>
 次に、高電圧モジュールHVMDの回路構成を説明する。高電圧モジュールHVMDは、誤差増幅器5、高電圧出力回路7および帰還回路(フィードバック回路)10を備えている。
 誤差増幅器5は、参照信号Vinと帰還信号(フィードバック信号)4とを入力し、参照信号Vinと帰還信号4との間の差分を増幅し、制御信号6として出力する。誤差増幅器5は、例えば、参照信号Vinと帰還信号4とが供給され、制御信号6を出力するオペアンプを含んでいる。また、参照信号Vinがデジタル信号の場合、誤差増幅器5は、デジタル信号を低電圧のアナログ信号に変換し、オペアンプに供給する変換回路を含んでいる。
 高電圧出力回路7は、制御信号6を入力し、制御信号6に従った電圧値の供給用高電圧Voutを出力する。
 帰還回路10は、供給用高電圧Voutを高電圧信号として入力し、高電圧信号に基づいた帰還信号4を出力する。この帰還回路10は、次の2つの機能を備えている。すなわち、第1の機能は、高電圧信号を低電圧信号に減衰し、高電圧モジュールの動作周波数範囲における減衰係数を決定する信号減衰機能であり、第2の機能は、高電圧モジュールHVMDの安定性設計においてループゲインを決定する位相補償機能である。
 <比較例>
 従来の高電圧モジュールにおける帰還回路では、前記の信号減衰機能と位相補償機能は、抵抗素子と容量素子とを組み合わせることで実現されていた。従来の高電圧モジュールの構成を、比較例を用いて説明する。図9は、比較例に係る高電圧モジュールの構成を示す回路図である。図1との相違点は、図9では、帰還回路が変更され、符号が20となっていることである。
 帰還回路20は、帰還抵抗素子R20a、R20bと帰還容量素子C20とによって構成されている。この帰還抵抗素子R20a、R20bと帰還容量素子C20との組み合わせにより構成された組み合わせ回路によって、前記した信号減衰機能と位相補償機能の両方の機能が実現されている。帰還抵抗素子R20aと帰還容量素子C20とは並列接続され、並列接続により構成されたRC回路の一方の端部は、供給用高電圧Voutに接続され、RC回路の他方の端部は、帰還抵抗素子R20bを介して接地電圧Vsに接続されており、誤差増幅器5にも接続されている。ここで、帰還信号4の電圧をVfbと定義する。
 前記の両方の機能の設計において、帰還抵抗素子R20aとR20bとが共有されているため、互いに影響し合うことになる。互いに影響し合うことにより生じる課題を、次に一例を用いて説明する。
 図9において、Cpは、基板SUBと金属製筐体1との間に発生する寄生容量成分を等価的に示した寄生容量である。図9では、寄生容量Cpが、帰還信号4を生成するノードで発生した場合が描かれている。このときの帰還回路20の減衰係数β、位相補償の周波数帯域f1、f2および消費電力Pは、図8に示す式(1)~(4)で簡略的に表される。
 例えば、低消費電力化を図る場合、供給用高電圧Voutの信号を減衰する帰還抵抗素子R20aの抵抗値を増加させる。これにより、式(4)から理解されるように、消費電力Pを低減させることが可能である。一方、式(3)から理解されるように、位相補償機能の一部である位相補償の周波数帯域f2は、帰還抵抗素子R20aと帰還容量素子C20の積によって決定される。そのため、低消費電力化を図るために、帰還抵抗素子R20aの抵抗値を増加させると、所望の位相補償の周波数帯域f2を得るためには、より小さな容量値の帰還容量素子C20を使用しなければならなくなる。
 加えて、式(2)から理解されるように、帰還容量素子C20の容量値を寄生容量Cpに比べて十分に大きく(Cp<<C20)すれば、寄生容量Cpを無視して、位相補償の周波数帯域f1を決定することが可能である。しかしながら、低消費電力化を図りながら、所望の位相補償の周波数帯域f2を得るために、帰還容量素子C20の容量値が小さくなると、Cp<<C20の関係が崩れることになる。さらに寄生容量Cpは、高電圧モジュールの小型化を図るために、基板SUBと金属製筐体1との間の隙間の距離DDを小さくすることにより、寄生容量Cpの容量値は増加することになる。そのため、発生する寄生容量Cpの影響度が増加し、高電圧モジュールの安定性を保つことが困難になる。
 <帰還回路の構成>
 これに対して、実施の形態1に係る高電圧モジュールHVMDにおいては、図1に示すように、帰還回路10は、第1部分回路8と第2部分回路9に分離されている。第1部分回路8は、高電圧出力回路7に接続され、供給用高電圧Voutの高電圧信号が供給され、この高電圧信号に従った中間信号11を出力する。一方、第2部分回路9は、誤差増幅器5に接続され、中間信号11が供給され、帰還信号4を誤差増幅器5に出力する。第1部分回路8は減衰機能を有し、第2部分回路9はループゲインに関連する位相補償機能を有している。
 基板SUBにおいて、高電圧基板領域2には、高電圧出力回路7と第1部分回路8の一部分(高電圧部分)が実装され、低電圧基板領域3には、誤差増幅器5と第2部分回路9と第1部分回路8の一部分(低電圧部分)が実装されている。これは、実施の形態1に係る高電圧モジュールでは、高電圧出力回路7と第1部分回路8の高電圧部分で用いられる電圧の最高電圧が300(V)以上であり、誤差増幅器5と第2部分回路9と第2部分回路9の低電圧部分で用いられる電圧の最高電圧が300(V)未満であるためである。
 高電圧基板領域2に実装された部分(回路、素子)と低電圧基板領域3に実装された部分(回路、素子)との間で送受される信号を伝達する配線、例えば制御信号6および中間信号11を伝達する配線は、基板SUBに設けられ、高電圧基板領域2および低電圧基板領域3とは異なる中間基板領域(図示しない)に実装されていると見なしてもよい。また、接地電圧Vsを回路、素子等に伝達する配線については、高電圧基板領域2、低電圧基板領域3および中間基板領域の区別とは無関係に、基板SUBに実装されている。また、前記したように、高電圧基板領域2および低電圧基板領域3のそれぞれを、個別基板に実装する場合には、個別基板ごとに、接地電圧Vsを伝達する配線を実装することが望ましい。これにより、個別基板間でノイズが伝達するのを低減することが可能である。
 第1部分回路8および第2部分回路9は、種々の構成が考えられる。ここでは、一例を、図1を用いて説明する。
 減衰機能を有する第1部分回路8は、高電圧出力回路7の出力ノードと、接地電圧Vsとの間で直列的に接続された帰還抵抗素子R8aとR8bとを備えている。高電圧出力回路7からの高電圧信号は、帰還抵抗素子R8aとR8bとによって抵抗分圧され、中間信号11として、第1部分回路8から出力される。すなわち、帰還抵抗素子R8aとR8bの比率で、帰還回路10の減衰係数β’が決定され、供給用高電圧Voutの高電圧信号が、低電圧の中間信号11に減衰される。この減衰係数β’は、図8に示す式(5)によって表される。帰還抵抗素子R8aには、減衰する前の高電圧(最高電圧が300(V)以上)が印加される(用いられる)ため、帰還抵抗素子R8aは、第1部分回路8の高電圧部分として、高電圧基板領域2に実装されている。これに対して、帰還抵抗素子R8bには、減衰された電圧が印加される(用いられる)ため、帰還抵抗素子R8bは、第1部分回路8の低電圧部分として、低電圧基板領域3に実装されている。実施の形態1では、抵抗分圧により減衰が行われるため、帰還抵抗素子R8aおよびR8bは、分圧抵抗素子と見なしてもよい。
 位相補償機能を有する第2部分回路9は、演算増幅器(オペアンプ)12と、抵抗素子(位相補償抵抗素子)R9a、R9bと、容量素子(位相補償容量素子)C9a、C9bとによって構成された位相補償回路で構成されている。抵抗素子R9aと容量素子C9aとが、演算増幅器12の入力n2と演算増幅器12の出力n3との間で並列的に接続されている。また、抵抗素子R9aと容量素子C9aとが並列的に接続され、この並列接続で構成されたRC回路の一方の端部が、演算増幅器12の入力n2に接続され、RC回路の他方の端部に中間信号11が供給される。また、演算増幅器12の入力n1は、接地電圧Vsに接続され、演算増幅器12の出力n3から帰還信号4が出力される。第2部分回路9では、抵抗素子R9a、R9bおよび容量素子C9a、C9bの積によって、補正する周波数帯域を求めることができる。図1において、Cpは、図9で説明した寄生容量を示している。図1でも、図9と同様なノードにおいて寄生容量Cpが発生した場合が示されている。第2部分回路9によって得られる位相補償の周波数帯域f1’およびf2’が、図8において式(6)および式(7)として示されている。
 第2部分回路9は、低電圧基板領域3に実装され、第1部分回路8によって減衰された低電圧信号が供給される。そのため、高電圧基板領域2に実装した場合に比べて、より抵抗値の小さな抵抗素子を用いても、消費電力の上昇を抑制することができる。結果的に、所望な周波数帯域での補正を得るために、寄生容量Cpの値を無視できるほど大きな容量値の容量素子C9aと低い抵抗値の抵抗素子R9a、R9bとの組み合わせで、帰還回路10を実現することが可能となり、寄生容量Cpからの影響度を低減できる。
 また、式(5)~(7)に示すように、減衰機能と位相補償機能とを設定する際に、共有となる素子が存在しない。すなわち、減衰機能は、式(5)に示すように抵抗素子R8a、R8bによって設定され、位相補償機能は、式(6)および(7)に示すように抵抗素子R9a、R9bおよび容量素子C9a、C9bによって設定される。そのため、第1部分回路8における帰還抵抗素子R8a、R8bは、高電圧モジュールの安定性に対して影響を与えずに、消費電力を低減するために所望の高抵抗値に設定することが可能である。図1では、第1部分回路8として抵抗分圧を用いる例を示したが、これに限定されるものではない。例えば、演算増幅器を用いた反転増幅回路の構成を用いて、第1部分回路8を構成するようにしてもよい。
 以上により、帰還回路10を、機能(減衰機能、位相補償機能)ごとに回路を分離し、さらに実装される基板領域を分けることで、筐体と基板間に由来の寄生容量からの影響度を低減でき、低消費電力と安定した高速動作を両立する高電圧モジュールを提供することが可能である。
 (実施の形態2)
 実施の形態2においては、図1に示した高電圧モジュールHVMD内に、高電圧生成回路が設けられ、高電圧生成回路によって生成された高電圧が、高電圧出力回路7に供給される。高電圧出力回路7は、高電圧生成回路からの高電圧を電源として動作し、制御信号6に従った供給用高電圧Voutを出力する。実施の形態2に係る高電圧モジュールでは、高電圧生成回路が設けられるため、例えば、高電圧モジュールHVMDの外部から高電圧を供給しなくても、供給用高電圧Voutを出力することが可能である。しかしながら、高電圧モジュールHVMDに設けられた高電圧生成回路からノイズが電磁輻射されることが危惧される。実施の形態2においては、この輻射ノイズによる影響を低減することが可能な高電圧モジュールが提供される。
 図2は、実施の形態2に係る高電圧モジュールの構成を示す回路図である。図2は、図1と類似しているので、主に相違点を説明する。相違点は、図2では、高電圧モジュールHVMDが、高電圧生成回路13を備えていることである。また、高電圧生成回路13の少なくとも一部は、高電圧基板領域2に実装され、高電圧生成回路13によって生成された高電圧は、高電圧出力回路7に、電源として給電される。
 高電圧生成回路13は、所定の駆動周波数の駆動信号で駆動される昇圧回路で構成されている。昇圧回路としては、例えばコッククロフト・ウォルトン(Cockroft-Walton)回路が用いられている。勿論、昇圧回路は、これに限定されるものではなく、駆動信号に従ってスイッチング動作を行い、高電圧を生成する回路であればよい。
 高電圧生成回路13は、所定の駆動周波数の駆動信号に従ってスイッチング動作をすることにより、高電圧を生成するが、スイッチング動作によって輻射ノイズを発生する。図2では、輻射ノイズが、模式的に符号nzで示されている。この輻射ノイズnzが、特に低電圧基板領域3に実装され、精密な処理を実行する低電圧回路(第2部分回路、誤差増幅器5)に影響を及ぼす可能性が高い。
 実施の形態1で述べたように、低消費電力化および安定動作化を図るために、帰還回路10が第1部分回路8と第2部分回路9に分離され、第2部分回路9が低電圧基板領域3に実装されている。寄生容量Cpによる影響を低減し、安定動作化するために、容量素子C9bの値を大きくすることが必要となる。その分、抵抗素子R9a、R9bの抵抗値は小さく設定される。帰還回路10を機能ごとに分離すると、位相補償機能を実現する第2部分回路9は、高域通過フィルタの構成を取ることが多く、高周波ノイズに対してのノイズゲインも大きいため、原理的にノイズを受けやすく、増幅しやすい構成となる。すなわち、原理的に第2部分回路9は、輻射ノイズnzの影響を受けやすい構成となる。例えば輻射ノイズnzが、第2部分回路9に入り込むと、輻射ノイズnzは、第2部分回路9、誤差増幅器5および高電圧出力回路7によって増幅され、供給用高電圧Voutに重畳されることになる。結果として、高電圧生成回路13で発生した輻射ノイズnzの強度の何倍もの電圧ノイズが供給用高電圧Voutに重畳され、出力されることになる。供給用高電圧Voutが給電される負荷によっては、このような高電圧ノイズを許容できない場合がある。
 実施の形態2においては、高電圧生成回路13を駆動する駆動信号の駆動周波数がfn1からfn2に変更される。次に、駆動周波数fn1、fn2について、図面を用いて説明する。図3は、実施の形態2を説明するための特性図である。図3には、高電圧生成回路13からの輻射ノイズ強度と、第2部分回路9が扱う信号強度のイメージが示されている。
 図3(A)、(B)において、横軸は周波数を表し、縦軸は電圧強度を表している。高電圧生成回路13は、駆動周波数fn1の駆動信号でスイッチング動作をしている。そのため、高電圧生成回路13は、図3(A)に示すように、駆動周波数fn1近辺でピークを持つ輻射ノイズが発生する。
 図9に示した比較例における帰還回路20の出力信号と、図1に示した中間信号11の信号強度は、帰還回路20および第1部分回路8の減衰係数が同じであれば、基本的には同様な値となる。しかしながら、中間信号11が供給される第2部分回路9は、前記したようにノイズゲインが大きく、高域通過フィルタの構成を取るため、輻射ノイズを増幅しやすい。輻射ノイズが帰還回路10の信号帯域内にある場合、輻射ノイズを除去することができる低域通過フィルタ(LPF)を設けることが考えられるが、LPFが本来の信号も含めて減衰させることが考えられる。そのため、実施の形態2では、輻射ノイズを、さらに高帯域側に移動させ、本来の信号と輻射ノイズを分離してから、LPFで輻射ノイズを除去する。
 より具体的に述べると、実施の形態1では、帰還回路10の一部分(第2部分回路9および帰還抵抗素子R8b)が、低電圧基板領域3に実装され、第2部分回路9に供給される中間信号11が低電圧信号となっている。すなわち、第2部分回路9によって扱われる信号の電圧強度が低くなっている。図3(A)において、実線15は、第2部分回路9の電圧強度の特性を示している。特性15が減衰する遮断周波数よりも、低い周波数帯域に、輻射ノイズが存在し、輻射ノイズの電圧強度が、特性15の電圧強度を超えているため、第2部分回路9は、輻射ノイズの影響を強く受けることになる。また、遮断周波数よりも低い周波数帯域に、輻射ノイズが存在するため、輻射ノイズを分離することも困難である。
 実施の形態2においては、高電圧生成回路13の駆動信号の駆動周波数が、fn1から、高電圧モジュールHVMDの動作周波数帯域よりも高い周波数fn2に変更される。これにより、図3(B)に示すように、輻射ノイズのピークは、駆動周波数fn1近辺から駆動周波数fn2近辺にシフトする。これにより、輻射ノイズは、第2部分回路9の遮断周波数より高い周波数帯域に移動するため、輻射ノイズを分離することが可能となる。
 さらに、実施の形態2においては、第2部分回路9に設けられている抵抗素子R9aと容量素子C9aとに低域通過フィルタ(LPF)としての役割も兼用させる。抵抗素子R9aと容量素子C9aにより実現される低域通過フィルタの周波数特性(周波数フィルタ特性)は、図3(B)において特性16として示されている。すなわち、第2部分回路9において、駆動周波数fn2近辺における輻射ノイズを除去する低域通過フィルタが構成される。これにより、抵抗素子R9aと容量素子C9aにより実現された低域通過フィルタに伝搬してきた高周波帯域における輻射ノイズを除去することが可能となる。すなわち、高電圧生成回路13の電磁輻射に起因したノイズを低減することが可能となる。
 実施の形態2に係る高電圧モジュールによれば、実施の形態1と同様に低消費電力化と安定した高速動作化を図ることが可能であるとともに、低ノイズ化も図ることが可能である。
 (実施の形態3)
 実施の形態3においては、帰還回路10が備える第1部分回路8と第2部分回路9との間で、インピーダンスが整合していない場合、あるいは互いのインピーダンス特性が干渉し合う場合に好適な高電圧モジュールが提供される。
 図4は、実施の形態3に係る高電圧モジュールの構成を示す回路図である。図4は、図1と類似しているので、主に相違点を説明する。相違点は、図4では、第1部分回路8と第2部分回路9との間に、インピーダンス整合回路17が追加されていることである。
 ここでは、第1部分回路8の出力インピーダンと第2部分回路9の入力インピーダンスが一致しない場合を例にして説明する。インピーダンス整合回路17を、第1部分回路8の出力と、第2部分回路9の入力との間に接続することによって、インピーダンス特性の整合を図ることが可能である。
 図4では、インピーダンス整合回路17は、演算増幅器によって構成されている。すなわち、演算増幅器によって、増幅率がほぼ1のボルテージフォロワー(以下、VFとも称する)回路が構成され、インピーダンス整合回路17として用いられている。VF回路には、前段である第1部分回路8からの中間信号11が供給され、VF回路は、中間信号11に従った整合信号18を第2部分回路9へ出力する。これにより、VF回路は、第1部分回路8の出力である中間信号11を高いインピーダンスで受け、低いインピーダンスで整合信号18を第2部分回路9へ出力する。その結果、第1部分回路8と第2部分回路9が、互いのインピーダンス特性を干渉することなく、正確な信号の伝送を実現することが可能である。
 実施の形態3によれば、帰還回路10における第1部分回路と第2部分回路のインピーダンス特性が互いに干渉しあう場合に、インピーダンス整合を行うことができ、種々の構成の第1部分回路および第2部分回路を用いて、帰還回路10を分離することが可能となり、実施の形態1と同様に、低消費電力と安定した高速動作を両立することが可能な高電圧モジュールを提供することができる。
 (実施の形態4)
 実施の形態4においては、高電圧基板領域と低電圧基板領域とを電気的に絶縁することが可能な高電圧モジュールが提供される。
 図5は、実施の形態4に係る高電圧モジュールの構成を示す回路図である。図5は、図1と類似しているので、相違点のみを説明する。相違点は、第1部分回路が変更されていることである。
 図1において、中間信号11が、帰還抵抗素子R8aから出力されると見なした場合、中間信号11は、高電圧基板領域2と低電圧基板領域3との両方を跨ぐことになる。この領域間を電気的に絶縁するために、図5では、第1部分回路8が、帰還抵抗素子R8aとトランス30とによって構成されている。すなわち、供給用高電圧Voutの高電圧信号と、接地電圧Vsとの間に、帰還抵抗素子R8aとトランス30の1次側が直列に接続され、トランス30の2次側から中間信号11が出力される。また、トランス30の1次側および帰還抵抗素子R8aは、高電圧基板領域2に実装され、トランス30の2次側は、低電圧基板領域3に実装されている。第1部分回路8の減衰率は、トランス30の1次側と2次側の巻き線比によって決定される。トランス30の1次側と2次側が磁気結合されているため、図5に示した構成では、磁気で信号の伝送が行われるようになり、高電圧基板領域2と低電圧基板領域3とは電気的に絶縁されることになる。
 図5では、第1部分回路8の減衰率を、トランス30の巻き線比で決定する例を示したが、図1に示した抵抗分圧比と組み合わせてもよい。例えば、抵抗分圧によって生成された電圧を、トランス30の1次側に供給し、2次側から中間信号11を出力するようにしてもよい。この場合、第1部分回路8の減衰率は、トランス30の巻き線比と抵抗分圧比によって決定されることになる。
 図5では、高電圧基板領域2と低電圧基板領域3とを電気的に絶縁する絶縁信号伝達回路の例として、磁気を用いて信号を伝送する例を示したが、絶縁信号伝達回路は、これに限定されるものではない。以下、変形例として、光を用いて信号を伝送する例を示す。
 <変形例>
 図6は、実施の形態4の変形例に係る高電圧モジュールの構成を示す回路図である。図6は、図5と類似しているので、相違点を説明する。相違点は、第1部分回路8が、図6では変更されていることである。第1部分回路8は、帰還抵抗素子R8aとフォトカプラ31によって構成されている。この場合、帰還抵抗素子R8aとフォトカプラ31の入力が、高電圧基板領域2に実装され、フォトカプラ31の出力が、低電圧基板領域3に実装される。このときの第1部分回路8の減衰率は、フォトカプラ31の電流伝達率(CTR)によって決定される。
 変形例においても、フォトカプラ31と図1に示した抵抗分圧比とを組み合わせるようにしてもよい。組み合わせた場合、第1部分回路8の減衰率は、フォトカプラ31の電流伝達率と抵抗分圧比によって決定されることになる。
 図5および図6では、第1部分回路8と第2部分回路9との間を電気的に絶縁する例を示したが、同様に誤差増幅器5と高電圧出力回路7との間を電気的に絶縁するようにしてもよい。この場合も、磁気あるいは光信号によって、制御信号6が、誤差増幅器5から高電圧出力回路7へ伝達される。勿論、中間信号11と制御信号6の両方が、磁気あるいは光信号によって伝達されるようにしてもよい。
 以上から,高電圧電源モジュール内の低電圧基板領域と高電圧基板領域とを、絶縁する必要がある場合でも、磁気あるいは光信号により中間信号11または/および制御信号6を伝送することが可能となり、実施の形態1で記載の効果に加えて、絶縁型の高電圧モジュールを提供することができる。
 (実施の形態5)
 次に、実施の形態1~4で示した高電圧モジュールHVMDを搭載した質量分析装置(以下、単に分析装置とも称する)の例を、実施の形態5として説明する。分析装置は、例えば、試料を構成する原子の種類または量などを調べるために用いられる装置である。
 ここでは、高電圧モジュールHVMDとして、実施の形態1で説明したものを用いる場合を説明するが、これに限定されるものではない。例えば、実施の形態2~4で説明した高電圧モジュールHVMDまたは実施の形態1~4で説明した高電圧モジュールHVMDを組み合わせたものを、分析装置に搭載するようにしてもよい。
 図7は、実施の形態5に係る質量分析装置の構成を示す概略図である。図7において、100は、分析装置(質量分析装置)を示している。分析装置100は、分析装置筐体110と、質量分析装置制御ユニット(以下、制御ユニットとも称する)101と、第1高電圧電源モジュールHVMD1~第4高電圧電源モジュールHVMD4と、情報処理ユニット102とを備えている。
 分析装置筐体110は、質量分析の対象となる試料をイオン化するイオン源121と、イオン化された試料をフィルタ電極127でフィルタリングして、分析対象の質量をもつイオン分子のみを透過する質量分離部(イオンフィルタ)126とを備えている。分析装置筐体110は、さらに、イオン分子および電子のそれぞれの移動する軌道を制御する軌道制御部128、イオン分子を電子(電気)に変換するコンバージョンダイノード122と、当該電子を検出する検出器123とを備えている。コンバージョンダイノード122および検出器123は、軌道制御部128内に配置されている。なお、図7において、124は、検出対象のイオンを示し、125は、不要イオンを示している。
 情報処理ユニット102は、検出器123により得られた電気信号から質量を計算する。
 第1高電圧電源モジュールHVMD1~第4高電圧電源モジュールHVMD4は、実施の形態1で説明した高電圧モジュールによって構成されている。制御ユニット101は、第1高電圧電源モジュールHVMD1~第4高電圧電源モジュールHVMD4を制御する。図7では、制御ユニット101が、参照信号Vin1~Vin4を、対応する第1高電圧電源モジュールHVMD1~第4高電圧電源モジュールHVMD4に供給し、それぞれの高電圧電源モジュールが、供給された参照信号に従った供給用高電圧Vout1~Vout4を出力する。以下、第1高電圧電源モジュールHVMD1~第4高電圧電源モジュールHVMD4は、高電圧モジュールHVMD1~HVMD4とも称する。
 参照信号Vin1~Vin4は、100(V)未満の低電圧信号であり、供給用高電圧Vout1~Vout4は、イオン化やイオンの軌道を制御するのに適した300(V)以上の高電圧である。そのため、実施の形態5において用いられる高電圧モジュールにおいて、低電圧基板領域3(図1)で扱われる最高電圧は、100(V)未満であり、高電圧基板領域2(図1)で扱われる最高電圧は、300(V)以上である。
 図7では、特に制限されないが、分析装置筐体110に設けられている各部によって適した高電圧の電圧値が異なっている。そのため、各部ごとに対応する高電圧電源モジュールが搭載されている。すなわち、第1高電圧電源モジュールHVMD1は、参照信号Vin1に従った供給用高電圧Vout1を、イオン源121に出力し、第2高電圧電源モジュールHVMD2は、参照信号Vin2に従った供給用高電圧Vout2を、イオンフィルタ126内のフィルタ電極127に出力する。また、第3高電圧電源モジュールHVMD3は、参照信号Vin3に従った供給用高電圧Vout3を、コンバージョンダイノード122に出力し、第4高電圧電源モジュールHVMD4は、参照信号Vin4に従った供給用高電圧Vout4を、検出器123に出力する。
 図7では、イオン源121、イオンフィルタ126、コンバージョンダイノード122および検出器123に、実施の形態1で述べた高電圧モジュールから高電圧を供給する例が示されているが、これらの内の少なくとも1つに対して実施の形態1で述べた高電圧モジュールから高電圧を供給するようにしてもよい。
 分析装置筐体110に設けられた各部分のそれぞれに、同等の電圧値の高電圧を印加すればよい場合、1つの共通の高電圧電源モジュールを搭載するようにしてもよい。しかしながら、実際には、分析装置100の多機能化により、分析装置筐体110の各部分のそれぞれに異なる電圧値の高電圧を供給することが必要となっている。そのため、それぞれの電圧値に対応した高電圧電源モジュールを、分析装置100に搭載することが必要となり、高電圧電源モジュールの個数も増加する。実施の形態1に係る高電圧モジュールによれば、低消費電力化を図ることが可能であるため、それぞれの高電圧電源モジュールの放熱設計に必要なスペースを低減することや分析装置筐体110内の配置の簡易性などユーザビリティ向上につながる。また、分析装置100のスループットと検出感度は、高電圧電源モジュールの安定性や高速動作、加えてノイズ量に大きく左右される。このため、実施の形態1と実施の形態2とを組み合わせることで、高スループットで高感度な分析装置100を提供することが可能となる。
 以上、本発明者によってなされた発明を実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
1 金属製筐体
2 高電圧基板領域
3 低電圧基板領域
5 誤差増幅器
7 高電圧出力回路
8 第1部分回路
9 第2部分回路
10 帰還回路
13 高電圧生成回路
100 質量分析装置
C9a、C9b 容量素子
Cp 寄生容量
R8a、R8b 帰還抵抗素子
R9a、R9b 抵抗素子
DD 距離
HVMD、HVMD1~HVMD4 高電圧モジュール
SUB 基板
Vin、Vin1~Vin4 参照信号
Vout、Vout1~Vout4 供給用高電圧

Claims (14)

  1.  参照信号と帰還信号とに基づいて、制御信号を出力する誤差増幅器と、前記制御信号に基づいて、供給用高電圧を出力する高電圧出力回路と、前記供給用高電圧に基づいて、前記帰還信号を出力する帰還回路とを備えた高電圧モジュールであって、
     前記帰還回路は、
      前記供給用高電圧が入力され、中間信号を出力する、抵抗素子から構成された第1部分回路と、
      前記中間信号が入力され、前記帰還信号を出力する、第2部分回路と、
     を備え、
     前記高電圧モジュールは、
      前記高電圧出力回路と、前記第1部分回路の一部とが実装された高電圧基板領域と、
      前記誤差増幅器と、前記第2部分回路とが実装された低電圧基板領域とを備える基板を備え、
     前記第2部分回路は、前記帰還回路のループゲインに関連する抵抗素子と容量素子とを備えている、
     高電圧モジュール。
  2.  請求項1に記載の高電圧モジュールにおいて、
     前記高電圧モジュールは、所定の駆動周波数で駆動され、高電圧を生成する高電圧生成回路を、さらに備え、
     前記高電圧出力回路は、前記高電圧生成回路から出力される前記高電圧を電源とし、前記制御信号に基づいた前記供給用高電圧を出力し、
     前記高電圧基板領域には、前記高電圧生成回路の少なくとも一部が実装され、
     前記第2部分回路の周波数フィルタ特性は、前記所定の駆動周波数を除去する特性を有する、高電圧モジュール。
  3.  請求項1または2に記載の高電圧モジュールにおいて、
     前記高電圧モジュールは、電源回路として用いられる、高電圧モジュール。
  4.  参照信号と帰還信号とに基づいて、制御信号を出力する誤差増幅器と、前記制御信号に基づいて、供給用高電圧を出力する高電圧出力回路と、前記供給用高電圧に基づいて、前記帰還信号を出力する帰還回路とを備える、高電圧モジュールであって、
     前記帰還回路は
      前記供給用高電圧が入力され、中間信号を出力する第1部分回路と、
      前記中間信号が入力され、前記帰還信号を出力する第2部分回路と、
     を備え、
     前記第1部分回路は、前記供給用高電圧の高電圧信号を低電圧信号に減衰する信号減衰機能を有し、
     前記第2部分回路は、前記高電圧モジュールのループゲインに関連する位相補償機能を有し、
     前記高電圧モジュールは、
      前記高電圧出力回路と前記第1部分回路の一部とが実装される高電圧基板領域と、
      前記誤差増幅器と前記第2部分回路とが実装される低電圧基板領域と、
     を備える基板と、
     前記基板に収納する金属製筐体と、
     を備える、高電圧モジュール。
  5.  請求項4に記載の高電圧モジュールにおいて、
     前記高電圧基板領域と前記低電圧基板領域は、前記基板において排他的に配置されている、高電圧モジュール。
  6.  請求項4に記載の高電圧モジュールにおいて、
     前記基板は、複数の個別基板を備え、
     前記複数の個別基板のうちの第1個別基板に、前記高電圧基板領域が配置され、前記第1個別基板とは異なる第2個別基板に、前記低電圧基板領域が配置されている、高電圧モジュール。
  7.  請求項4に記載の高電圧モジュールにおいて、
     前記高電圧基板領域で用いられる最高電圧は、300(V)以上であり、前記低電圧基板領域で用いられる最高電圧は、300(V)未満である、高電圧モジュール。
  8.  請求項4に記載の高電圧モジュールにおいて、
     前記金属製筐体は、所定の電圧に電気的に接続されている、高電圧モジュール。
  9.  請求項4に記載の高電圧モジュールにおいて、
     前記高電圧モジュールは、所定の駆動周波数で駆動され、少なくとも一部が、前記高電圧基板領域に実装され、前記高電圧出力回路に高電圧を出力する高電圧生成回路を、さらに備え、
     前記第2部分回路の周波数フィルタ特性は、前記駆動周波数を除去する特性を有する、高電圧モジュール。
  10.  請求項4に記載の高電圧モジュールにおいて、
     前記高電圧モジュールは、前記第1部分回路と前記第2部分回路との間に接続されたインピーダンス整合回路を、さらに備える、高電圧モジュール。
  11.  請求項4に記載の高電圧モジュールにおいて、
     前記第1部分回路と前記第2部分回路とは、電気的に絶縁された絶縁信号伝達回路によって接続されている、高電圧モジュール。
  12.  試料をイオン化するイオン源と、イオンをフィルタリングするイオンフィルタと、イオンを検知する検知器とを備える質量分析装置であって、
     前記イオン源、前記イオンフィルタおよび前記検知器のうちの少なくとも1つに高電圧を供給する高電圧モジュールは、
     参照信号と帰還信号とに基づいて、制御信号を出力する誤差増幅器と、前記制御信号に基づいて、供給用高電圧を出力する高電圧出力回路と、前記供給用高電圧に基づいて、前記帰還信号を出力する帰還回路とを備え、
     前記帰還回路は
      前記供給用高電圧が入力され、中間信号を出力する第1部分回路と、
      前記中間信号が入力され、前記帰還信号を出力する第2部分回路と、
     を備え、
     前記第1部分回路は、前記供給用高電圧の高電圧信号を低電圧信号に減衰する信号減衰機能を有し、
     前記第2部分回路は、前記高電圧モジュールのループゲインに関連する位相補償機能を有し、
     前記高電圧モジュールは、
      前記高電圧出力回路と前記第1部分回路の一部とが実装される高電圧基板領域と、
      前記誤差増幅器と前記第2部分回路とが実装される低電圧基板領域と、
     を備える基板と、
     前記基板を収納する金属製筐体と、
     を備える、質量分析装置。
  13.  請求項12に記載の質量分析装置において、
     前記質量分析装置は、前記イオン源、前記イオンフィルタおよび前記検知器のそれぞれに対応した前記高電圧モジュールを備えている、質量分析装置。
  14.  請求項12に記載の質量分析装置において、
     前記高電圧基板領域で用いられる最高電圧は、300(V)以上であり、前記低電圧基板領域で用いられる最高電圧は、100(V)未満である、質量分析装置。
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