WO2021246737A1 - 가스 세정기 - Google Patents

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WO2021246737A1
WO2021246737A1 PCT/KR2021/006736 KR2021006736W WO2021246737A1 WO 2021246737 A1 WO2021246737 A1 WO 2021246737A1 KR 2021006736 W KR2021006736 W KR 2021006736W WO 2021246737 A1 WO2021246737 A1 WO 2021246737A1
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WO
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gas
unit
cleaning liquid
perforated plate
main chamber
Prior art date
Application number
PCT/KR2021/006736
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English (en)
French (fr)
Inventor
김정형
Original Assignee
인지이엔티 주식회사
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Publication date
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D47/00—Separating dispersed particles from gases, air or vapours by liquid as separating agent
    • B01D47/02—Separating dispersed particles from gases, air or vapours by liquid as separating agent by passing the gas or air or vapour over or through a liquid bath
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D45/00—Separating dispersed particles from gases or vapours by gravity, inertia, or centrifugal forces
    • B01D45/12—Separating dispersed particles from gases or vapours by gravity, inertia, or centrifugal forces by centrifugal forces
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/30—Controlling by gas-analysis apparatus
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
    • B01D53/77—Liquid phase processes
    • B01D53/78—Liquid phase processes with gas-liquid contact
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
    • B01D53/77—Liquid phase processes
    • B01D53/79—Injecting reactants
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B04—CENTRIFUGAL APPARATUS OR MACHINES FOR CARRYING-OUT PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES
    • B04C—APPARATUS USING FREE VORTEX FLOW, e.g. CYCLONES
    • B04C9/00—Combinations with other devices, e.g. fans, expansion chambers, diffusors, water locks

Definitions

  • the present invention relates to a gas scrubber, and more particularly, to a gas scrubber that cleans harmful gases generated in a comprehensive emulsification device for waste plastics and waste vinyl.
  • Patent Document 1 Republic of Korea Patent No. 10-1471091 (announced on Dec. 9, 2014, hereinafter referred to as Patent Document 1) relates to a gas cleaning device having a swirler. Patent Document 1 removes harmful substances through contact of the cleaning liquid and the harmful gas, and can produce the cleaned gas using the cyclone principle.
  • Patent Document 1 even if the cleaning liquid scatters, the rate of falling of the cleaning liquid inside the cleaning tank is fast, and since it is impossible to fill all the space inside the cleaning tank with the cleaning liquid, the contact area between the harmful gas and the cleaning liquid is narrow or the contact time is short Shortly, there was a problem that the gas was not sufficiently cleaned.
  • the present invention is to solve the conventional problems as described above, and an object of the present invention is to increase the contact area and contact time between the harmful gas and the cleaning liquid by passing the harmful gas through the cleaning liquid inside a plurality of chambers to prevent the harmful gas from being discharged. It is to provide a gas scrubber that can more reliably remove the contained harmful substances.
  • Another object of the present invention is to provide a gas scrubber having an auxiliary chamber capable of temporarily storing a washing liquid that flows back even when the pressure is increased due to an increase in the input amount of harmful gas.
  • a gas scrubber includes a first main chamber unit for accommodating a primary washing liquid for primary washing of harmful gases introduced from the outside; a first chamber unit including a first auxiliary chamber part capable of accommodating at least a portion of the primary cleaning liquid that is flowed back by the pressure of the gas washed with the car; a second main chamber for receiving a secondary cleaning liquid for secondarily cleaning the primarily cleaned gas flowing in from the first chamber unit; a second chamber unit including a possible second auxiliary chamber; a drying unit that separates the secondly cleaned gas flowing in from the second chamber unit into a cleaned gas and a liquid using centrifugal force; and a recovery unit for recovering the moisture separated from the drying unit.
  • the first auxiliary chamber portion is disposed above the first main chamber portion, and after the external harmful gas passes through the first auxiliary chamber portion, the first main It may be cleaned by being put into the first cleaning solution in the chamber and in contact with the first cleaning solution.
  • one end is connected to the first auxiliary chamber portion and the other end is located inside the primary cleaning liquid accommodated in the first main chamber portion, and harmful gas is removed from the first main chamber portion. It may further include a toxic gas inlet pipe to move to the chamber unit.
  • the first auxiliary chamber portion may have a volume capable of accommodating the primary cleaning liquid between the other end of the harmful gas inlet pipe and the water surface of the primary cleaning liquid.
  • the first main chamber part includes a dispersing part for dispersing the harmful gas injected into the primary cleaning liquid so that the contact with the first cleaning liquid is increased.
  • a dispersing part for dispersing the harmful gas injected into the primary cleaning liquid so that the contact with the first cleaning liquid is increased. may include more.
  • the dispersion unit may further include a perforated plate accommodated in the first main chamber and having a plurality of perforations.
  • the perforated plate may be tapered downward.
  • the plurality of perforations formed in the perforated plate may have a size of 1 to 3 mm, and the plurality of perforations may have the same size.
  • the material of the perforated plate may be SUS316 or SUS310.
  • first and second supports respectively disposed on one side and the other side of the perforated plate to support the perforated plate so that the perforated plate is replaceable may further include.
  • the first and second supports may be disposed along the circumference of the perforated plate.
  • the perforated plate may be ceramic coated to prevent corrosion.
  • the primary washing water or the secondary washing water may include any one or more of magnesium hydroxide (Mg(OH) 2 ) and sodium hydroxide (NaOH).
  • the drying unit may separate the secondly cleaned gas into the cleaned gas and the liquid by the cyclone principle.
  • the liquid recovered in the recovery unit may be recycled as the primary washing water or the secondary washing water.
  • the first main chamber part may further include a pH measuring device for measuring the acidity or basicity of the first washing solution.
  • the contact area between the harmful gas and the cleaning liquid can be increased by passing the gas containing the harmful substance through the cleaning liquid inside the plurality of chambers, and the contact area between the harmful gas and the cleaning liquid can be increased by using a simple physical law that the gas has a lower specific gravity than the liquid. Since the cleaning operation of harmful gas can be performed multiple times using the chamber of
  • the present invention has an auxiliary chamber, it is possible to prevent the backflow of the cleaning liquid even when the pressure is increased due to an increase in the input amount of the harmful gas, so that the failure of the cleaning machine can be prevented, thereby improving durability and preventing safety accidents.
  • FIG. 1 is a schematic block diagram showing a gas scrubber according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a view schematically illustrating a state in which a first chamber unit is filled with primary washing water in a gas scrubber according to an embodiment of the present invention.
  • FIG 3 is a view schematically illustrating a state in which the primary washing water is partially emptied by a reverse flow of the primary washing water into the first chamber unit in the gas scrubber according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 4 is an exploded perspective view of a dispersing part of a gas scrubber according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 5 is a plan view of a perforated plate of a gas cleaner according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 6 is a side view of a dispersion unit of a gas scrubber according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 7 is an exploded perspective view of a dispersing part of a gas cleaner according to another embodiment of the present invention.
  • FIG. 8 is a plan view of a conical perforated plate of a gas scrubber according to another embodiment of the present invention.
  • FIG. 9 is a side view of a dispersion unit of a gas scrubber according to another embodiment of the present invention.
  • FIG. 1 is a schematic block diagram illustrating a gas scrubber according to an embodiment of the present invention
  • FIG. 2 is a schematic view showing a state in which the first chamber unit is filled with primary washing water in the gas scrubber according to an embodiment of the present invention
  • 3 is a view schematically showing a state in which the primary washing water is partially emptied due to a reverse flow of the primary washing water into the first chamber unit in the gas scrubber according to an embodiment of the present invention
  • FIG. 4 is an embodiment of the present invention.
  • FIG. 5 is a plan view of the perforated plate of the gas scrubber according to an embodiment of the present invention
  • FIG. 6 is a side view of the dispersion part of the gas scrubber according to an embodiment of the present invention.
  • the harmful gas introduced for cleaning may be cooled through a cooling device (not shown) in advance according to a user's selection.
  • the gas scrubber may include a first chamber unit 100 , a second chamber unit 200 , a drying unit 300 , and a recovery unit 400 .
  • the first chamber unit 100 includes a first main chamber unit 110 and a first auxiliary chamber unit 120 , a noxious gas inlet pipe 130 , a noxious gas inlet pipe 140 , a primary cleaning solution inlet 150 , It may include a primary cleaning solution outlet 160 , a dispersion unit 170 , and a pH measuring port 180 .
  • the external noxious gas may pass through the noxious gas inlet pipe 130 to the first auxiliary chamber unit 120 to be introduced into the first main chamber unit 110 .
  • the first main chamber part 110 is a hollow chamber and can accommodate the primary cleaning liquid W1 for cleaning the harmful gas.
  • the first auxiliary chamber part 120 is a hollow chamber.
  • the first auxiliary chamber unit 120 may receive and store a portion of the primary cleaning liquid W1 that flows back due to an increase in pressure inside the first main chamber unit 110 for a predetermined period of time.
  • the first auxiliary chamber part 120 may be disposed above the first main chamber part 110 .
  • External noxious gas flowing in through the noxious gas inlet pipe 130 may pass through the first auxiliary chamber unit 120 and be injected into the first main chamber unit 110, and may be injected into the primary cleaning solution W1. It may be cleaned by being in contact with the primary cleaning liquid W1.
  • the noxious gas inlet pipe 140 serves as a passage for moving the noxious gas passing through the noxious gas inlet pipe 130 and the first auxiliary chamber unit 120 to the first main chamber unit 110 .
  • the first auxiliary chamber unit 120 is a primary cleaning liquid (W1) that corresponds to between the other end of the noxious gas inlet pipe 140 and the water surface of the first cleaning liquid (W1) accommodated in the first main chamber unit 110. It is desirable to have an acceptable volume. That is, it is preferable that the user injects the primary cleaning liquid W1 into the first main chamber part 110 in consideration of the volume of the first auxiliary chamber part 120 .
  • the primary cleaning liquid W1 accommodated in the first main chamber part 110 is transferred to the harmful gas input pipe 140 .
  • the first auxiliary chamber unit 120 may be reversed.
  • the water level of the primary cleaning liquid W1 accommodated in the first main chamber unit 110 is lowered, and when the water level of the first cleaning liquid W1 is lower than the other end of the harmful gas input pipe 140 , the first The washing liquid W1 no longer flows back.
  • the first cleaning liquid inlet 150 may be provided on one side of the first main chamber part 110 , and the first cleaning liquid W1 is supplied to the first main chamber part according to the user's selection through the first cleaning liquid inlet 150 . A predetermined amount may be injected into the inner space of 110 .
  • the first washing liquid W1 is an acidic or basic solution, and may include at least one of magnesium hydroxide (Mg(OH) 2 ) and sodium hydroxide (NaOH).
  • the primary cleaning liquid outlet 160 may be provided on one side, that is, below the first main chamber part 110 , and may discharge the first cleaning liquid W1 accommodated therein according to the user's intention.
  • the dispersion unit 170 may include a perforated plate 171 , a first supporter 172 , and a second supporter 173 .
  • the dispersing unit 170 may be disposed inside the first main chamber unit 110, and by dispersing the noxious gas that has passed through the other end of the noxious gas inlet pipe 140, the contact area with the primary cleaning solution W1 is reduced. can increase In addition, the dispersing unit 170 partially prevents the harmful gas from floating upwards of the primary cleaning liquid W1 due to the difference in specific gravity, and increases the time the harmful gas stays inside the primary cleaning liquid W1 to increase the cleaning time can be increased
  • the perforated plate 171 is accommodated in the first main chamber part 110, a plurality of perforated holes 171a may be formed, and a hole 171b through which the harmful gas input pipe 140 passes may be formed.
  • the plurality of perforated holes 171a formed in the perforated plate 171 preferably have a size of 1 to 3 mm, and most preferably have a size of 2 mm.
  • the plurality of perforated holes (171a) do not have to be identical in size and spacing to each other as predetermined, but may be formed to be identical to each other in predetermined sizes and intervals for the convenience of processing and manufacturing the perforated plate (171).
  • the hole 171b of the perforated plate 171 may allow the harmful gas input pipe 140 to pass therethrough.
  • the perforated plate 171 is preferably made of SUS316 or SUS310 material in order to slow and prevent corrosion and chemical reaction caused by the acidic or basic cleaning liquid W1 as much as possible.
  • the perforated plate 171 may be ceramic coated to prevent corrosion or chemical reaction by the primary cleaning solution W1.
  • the first support 172 and the second support 173 may be disposed inside the first main chamber part 110 in a donut shape, and on both sides of the perforated plate 171 with the perforated plate 171 interposed therebetween, that is, each The perforated plate 171 may be supported with respect to the first main chamber part 110 from the upper side and the lower side. That is, the first and second supports 173 may be disposed along the circumference of the perforated plate 171, and press the upper and lower sides of the edge of the perforated plate 171 downward and upward to support the perforated plate 171. have.
  • the perforated plate 171 is replaceable according to the user's selection when corrosion or chemical reaction by the primary cleaning liquid W1 occurs.
  • FIG. 7 is an exploded perspective view of a dispersing part of a gas scrubber according to another embodiment of the present invention
  • FIG. 8 is a plan view of a conical perforated plate of a gas scrubber according to another embodiment of the present invention
  • FIG. 9 is another embodiment of the present invention It is a side view of the dispersion part of the gas scrubber according to it.
  • a perforated body 174 may be provided, and the perforated body 174 may have a downwardly tapered shape. 7 to 9, the angle of the apex of the perforated body 174 is shown to be close to 90°, but this is merely an exaggerated illustration for explaining another embodiment of the present invention, and the present invention is not limited thereto, and the angle of the apex is not limited thereto. may be provided in various ways according to the intention of the manufacturer.
  • the perforated body 174 may have a donut-shaped rim 174a, and a conical perforated plate 174b may be disposed inside the rim 174a.
  • the edge 174a may be positioned between the first support 172 and the second support 173 to be supported by the first support 172 and the second support 173 .
  • the conical perforated plate 174b may have a perforated hole 174c and a hole 174d formed therein, and the description of the perforated 174c and the hole 174d is omitted here, and the perforated plate of the gas cleaner according to an embodiment of the present invention.
  • the description of the perforation (174c) and the hole (174d) of (171) will be applied mutatis mutandis.
  • the first main chamber unit 110 may be provided with a pH measuring device 180 for measuring the acidity or basicity of the primary cleaning solution (W1) on one side.
  • the second chamber unit 200 includes a second main chamber part 210 and a second auxiliary chamber part 220 , a first cleaned gas inlet pipe 230 , a first cleaned gas input pipe 240 , and a secondary It may include a cleaning solution inlet 250 , a secondary cleaning solution outlet 260 , a dispersion unit 270 , and a pH measuring port 280 .
  • the first cleaned gas inlet pipe 230 is installed instead of the harmful gas inlet pipe 130, and the first cleaned gas inlet pipe 240 is installed instead of the noxious gas inlet pipe 140.
  • the secondary washing water W2 is similar to the first chamber unit 100 and overlaps with the exception that the secondary washing water W2 washes the primarily washed gas, and sends the secondary washed gas to the drying unit 300 to be described later. Therefore, the following contents will be omitted and the contents of the first chamber unit 100 will be applied mutatis mutandis.
  • the drying unit 300 may dry the second cleaned gas.
  • the drying unit 300 may receive the second cleaned gas discharged from the second chamber unit 200 through the second cleaned gas inlet pipe 310 .
  • the second cleaned gas may include a liquid such as the second cleaning liquid W2, and the drying unit 300 may separate the cleaned gas and the liquid using centrifugal force.
  • the drying unit 300 may separate the second cleaned gas into the cleaned gas and the liquid using the cyclone principle.
  • the second cleaned gas injected through the second cleaned gas inlet pipe 310 is moved along the inner wall surface of the drying unit 300 , in which case the liquid included in the second cleaned gas is cleaned It is separated from the cleaned gas and moves down the wall by gravity, and the cleaned gas may rise and be discharged to the outside through the cleaning gas outlet 320 .
  • the liquid separated from the drying unit 300 may be discharged through the liquid outlet 330 .
  • the recovery unit 400 recovers and stores the liquid discharged through the liquid outlet 330 therein through the liquid recovery pipe 410 .
  • a predetermined amount of liquid is stored in the recovery unit 400 , it may be discharged to the outside through the recovery liquid outlet 420 according to the user's intention.
  • the liquid discharged to the recovery liquid outlet 420 may be recycled as the primary cleaning liquid W1 or the secondary cleaning liquid W2.
  • a sensor capable of measuring the amount and pressure of the primary cleaning liquid W1 and the secondary cleaning liquid W2 may be used in the above-mentioned configurations of the present invention, and each It is also a well-known technique that a valve (unsigned) or the like is provided between the components.
  • the user injects the cleaning liquids W1 and W2 by predetermined amounts through the primary cleaning liquid inlet 150 and the secondary cleaning liquid inlet 250 .
  • the cleaning liquids W1 and W2 it is preferable to inject the cleaning liquids W1 and W2 so that the water surface is located 100 mm higher than the perforated plates 171 and 271, but this is according to the user's choice or the harmful gas input pipe 140 or the first cleaned gas is input It may be variously selected in consideration of the end depth of the tube 240 .
  • the user moves the external harmful gas to the first main chamber unit 110 through the first auxiliary chamber unit 120 through the harmful gas inlet pipe 130 .
  • the noxious gas inlet pipe 140 Since the end of the noxious gas inlet pipe 140 is immersed in the primary cleaning liquid W1 accommodated in the first main chamber part 110, the noxious gas is discharged to the end of the noxious gas inlet pipe 140 and the first cleaning liquid ( It comes into contact with W1) and rises.
  • the harmful gas is limited to a part of the rise by the perforated plate 171 , and is divided through the perforated plate 171 a formed in the perforated plate 171 .
  • the noxious gas divided in this way has a larger contact area with the primary cleaning liquid W1, and as the contact time increases due to the restriction of the rise by the perforated plate 171, the cleaning operation of the noxious gas can be made more effectively.
  • the primarily cleaned gas passes from the first main chamber part 110 through the first cleaned gas inlet pipe 230 through the second auxiliary chamber part 220 of the second chamber unit 200 to enter the second main chamber. It is moved to the unit 210 .
  • the first cleaned gas is the first cleaned gas input pipe 240. It is discharged to the end of the and comes into contact with the secondary cleaning solution (W2) and rises.
  • the first-cleaned gas is limited to a partial rise by the perforated plate 271 , and is dispersed while ascending through the perforations (not shown) formed in the perforated plate 271 .
  • the harmful gas divided in this way has a wider contact area with the secondary cleaning liquid W2, and as the contact time increases due to the restriction of the rise by the perforated plate 271, the cleaning operation of the first cleaned gas can be performed more effectively. .
  • the secondly cleaned gas is moved from the second main chamber part 210 to the drying unit 300 through the secondly cleaned gas inlet pipe 310 .
  • the second cleaned gas may be in a state in which a cleaning liquid is partially included in a liquid state.
  • the second cleaned gas discharged from the second cleaned gas inlet pipe 310 into the drying unit 300 is separated into a cleaned gas and a liquid by the cyclone principle. That is, the second cleaned gas travels spirally along the inner wall of the drying unit 300 , a relatively heavy liquid is moved downward by gravity, and the cleaned gas is moved upward to the cleaning gas outlet 320 . discharged to the outside through
  • the recovery unit 400 collects and recovers the liquid discharged to the liquid outlet 330 through the liquid recovery pipe 410 .
  • the user may discharge the liquid filled in the recovery unit 400 to the outside through the recovery solution outlet 420 , and according to the user's intention, the liquid discharged through the recovery solution outlet 420 may be discharged from the first main chamber part 110 . It may be recycled as the primary cleaning liquid W1 or the secondary cleaning liquid W2 of the second main chamber unit 210 .
  • the primary cleaning liquid W1 or the secondary The cleaning liquid W2 may flow backward through the harmful gas input pipe 140 or the first cleaned gas input pipe 240 , respectively.
  • the reverse flow of the primary washing liquid W1 and the secondary washing liquid W2 is temporarily stored in the first sub-chamber part 120 and the second sub-chamber part 220, respectively, so that the primary washing solution W1 and the secondary washing solution are temporarily stored. It is possible to limit the backflow of (W2).
  • the height of the water surface of the first cleaning liquid W1 or the secondary cleaning liquid W2 inside the first main chamber part 110 or the second main chamber part 210 is 1 with the end of the harmful gas inlet pipe 140 .
  • the primary cleaning liquid W1 or the secondary cleaning liquid W2 does not flow back.

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Abstract

본 발명은 가스 세정기에 관한 것으로, 본 발명은 외부로부터 유입되는 유해가스를 1차로 세정하는 1차 세정액을 수용하는 제1메인챔버부와, 1차로 세정된 가스의 압력에 의해 역류되는 상기 1차 세정액을 적어도 일부 수용가능한 제1보조챔버부를 포함하는 제1챔버유닛; 상기 제1챔버유닛으로부터 유입되는 1차로 세정된 가스를 2차로 세정하는 2차 세정액을 수용하는 제2메인챔버부와, 2차로 세정된 가스의 압력에 의해 역류되는 상기 2차 세정액을 적어도 일부 수용가능한 제2보조챔버를 포함하는 제2챔버유닛; 상기 제2챔버유닛으로부터 유입되는 2차로 세정된 가스를 원심력을 이용하여 세정된 가스와 액체로 분리시키는 건조유닛; 및 상기 건조부로부터 분리된 수분을 회수하는 회수유닛;을 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의하여, 유해가스와 세정액의 접촉면적을 증가시킬 수 있고, 세정작업의 만족도가 매우 높으며, 세정기의 고장을 예방하여 내구성을 향상시킬 수 있고 안전사고를 예방할 수 있다.

Description

가스 세정기
본 발명은 가스 세정기에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 폐플라스틱 및 폐비닐의 종합 유화장치에서 발생하는 유해가스를 세정하는 가스 세정기에 관한 것이다.
일반적으로 폐플라스틱 또는 폐비닐을 가열하면 유화가스가 발생되고, 상기 유화가스가 냉각기를 통과시 기름, 물 그리고 액화되지 않은 가스 등이 생성된다.
그런데 상기 액화되지 않은 가스 중에는 유해 물질을 상당량 포함하고 있어 그대로 대기에 배출하기에는 환경오염 및 안전사고의 문제가 있다.
따라서, 유해가스를 세정하여 유해 물질을 걸러내는 작업이 필요하다.
대한민국 등록특허 제10-1471091호(2014.12.09.공고, 이하 특허문헌 1이라고 칭함)는 선회기를 구비한 가스 세정장치에 관한 것이다. 특허문헌 1은 세정액과 유해가스의 접촉을 통해 유해물질을 제거하고, 사이클론 원리를 이용하여 세정된 가스를 생산가능하다.
하지만, 특허문헌 1은 세정액이 비산하더라도 세정 탱크 내부에서 상기 세정액이 낙하하는 속도가 빠르고, 세정 탱크 내부 모든 공간을 세정액으로 채울 수 없으므로, 유해가스와 세정액과의 접촉면적이 좁거나 또는 접촉시간이 짧아 상기 가스가 충분히 세정되지 않는다는 문제점이 있었다.
본 발명은 상기한 바와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명의 목적은, 유해가스를 복수의 챔버 내부의 세정액에 통과시켜 유해가스와 세정액의 접촉면적 및 접촉시간을 증가시켜 유해가스에 포함된 유해물질을 보다 확실히 제거할 수 있는 가스 세정기를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 유해가스의 투입량이 많아져 압력이 증가되더라도 역류되는 세정액을 임시적으로 보관할 수 있는 보조챔버를 구비한 가스 세정기를 제공하는 것이다.
상기한 바와 같은 본 발명의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일실시예에 따른 가스 세정기는, 외부로부터 유입되는 유해가스를 1차로 세정하는 1차 세정액을 수용하는 제1메인챔버부와, 1차로 세정된 가스의 압력에 의해 역류되는 상기 1차 세정액을 적어도 일부 수용가능한 제1보조챔버부를 포함하는 제1챔버유닛; 상기 제1챔버유닛으로부터 유입되는 1차로 세정된 가스를 2차로 세정하는 2차 세정액을 수용하는 제2메인챔버부와, 2차로 세정된 가스의 압력에 의해 역류되는 상기 2차 세정액을 적어도 일부 수용가능한 제2보조챔버를 포함하는 제2챔버유닛; 상기 제2챔버유닛으로부터 유입되는 2차로 세정된 가스를 원심력을 이용하여 세정된 가스와 액체로 분리시키는 건조유닛; 및 상기 건조부로부터 분리된 수분을 회수하는 회수유닛;을 포함할 수 있다.
본 발명의 일실시예에 따른 가스 세정기에 있어서, 상기 제1보조챔버부는 상기 제1메인챔버부보다 상방에 배치되고, 상기 외부의 유해가스가 상기 제1보조챔버부를 통과한 후 상기 제1메인챔버부의 상기 1차 세정액에 투입되어 상기 1차 세정액과 접촉됨으로써 세정될 수 있다.
본 발명의 일실시예에 따른 가스 세정기에 있어서, 일단이 상기 제1보조챔버부에 연결되고 타단이 상기 제1메인챔버부 내부에 수용된 상기 1차 세정액 내부에 위치하며 유해가스가 상기 제1메인챔버부로 이동되도록 하는 유해가스 투입관;을 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일실시예에 따른 가스 세정기에 있어서, 상기 제1보조챔버부는 상기 유해가스 투입관의 타단과 상기 1차 세정액의 수면 사이에 해당하는 1차 세정액을 수용가능한 부피를 가질 수 있다.
본 발명의 일실시예에 따른 가스 세정기에 있어서, 상기 제1메인챔버부는, 상기 유해가스가 상기 1차 세정액과 접촉이 증가되도록 상기 1차 세정액에 주입된 상기 유해가스를 분산시키는 분산부;를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일실시예에 따른 가스 세정기에 있어서, 상기 분산부는, 상기 제1메인챔버부에 수용되고 복수 개의 타공이 형성된 타공판;을 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일실시예에 따른 가스 세정기에 있어서, 상기 타공판은 하방으로 테이퍼진 형태일 수 있다.
본 발명의 일실시예에 따른 가스 세정기에 있어서, 상기 타공판에 형성된 복수 개의 타공은 1 ∼ 3㎜의 크기를 갖고, 상기 복수 개의 타공은 서로 동일한 크기를 가질 수 있다.
본 발명의 일실시예에 따른 가스 세정기에 있어서, 상기 타공판의 재질은 SUS316 또는 SUS310일 수 있다.
본 발명의 일실시예에 따른 가스 세정기에 있어서, 상기 타공판의 일측면과 타측면에 각각 배치되고 상기 타공판을 교체가능하도록 상기 타공판을 지지하는 제1 및 제2지지체;를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일실시예에 따른 가스 세정기에 있어서, 상기 제1 및 제2지지체는 상기 타공판의 둘레를 따라 배치될 수 있다.
본 발명의 일실시예에 따른 가스 세정기에 있어서, 상기 타공판은 부식을 방지하도록 세라믹 코팅될 수 있다.
본 발명의 일실시예에 따른 가스 세정기에 있어서, 상기 1차 세정수 또는 2차 세정수는 수산화 마그네슘(Mg(OH)2) 또는 수산화 나트륨(NaOH) 중 어느 하나 이상을 포함할 수 있다.
본 발명의 일실시예에 따른 가스 세정기에 있어서, 상기 건조유닛은 2차로 세정된 가스를 사이클론 원리에 의해 세정된 가스와 액체로 분리할 수 있다.
본 발명의 일실시예에 따른 가스 세정기에 있어서, 상기 회수유닛에 회수된 액체는 상기 1차 세정수 또는 상기 2차 세정수로 재활용 가능하다.
본 발명의 일실시예에 따른 가스 세정기에 있어서, 상기 제1메인챔버부는 상기 1차 세정액의 산도 또는 염기도를 측정하기 위한 pH측정구;를 더 포함할 수 있다.
본 발명은 유해물질이 포함된 가스를 복수의 챔버 내부의 세정액에 통과시켜 기체가 액체보다 비중이 낮다는 간단한 물리법칙을 이용하여 유해가스와 세정액의 접촉면적을 증가시킬 수 있고, 본 발명은 복수의 챔버를 이용하여 유해가스를 다수 번 세정작업을 수행할 수 있으므로, 세정작업의 만족도가 매우 높다.
본 발명은 보조챔버를 구비하므로 유해가스의 투입량이 많아져 압력이 증가되더라도 세정액의 역류를 방지할 수 있으므로, 세정기의 고장을 예방하여 내구성을 향상시킬 수 있고 안전사고를 예방할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 가스 세정기를 나타낸 개략적인 블록도이다.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 가스 세정기에 있어서, 제1챔버유닛에 1차 세정수가 채워진 상태를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 가스 세정기에 있어서, 제1챔버유닛에 1차 세정수가 역류하여 일부 비워진 상태를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 가스 세정기의 분산부의 분해사시도이다.
도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 가스 세정기의 타공판의 평면도이다.
도 6는 본 발명의 일실시예에 따른 가스 세정기의 분산부의 측면도이다.
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 가스 세정기의 분산부의 분해사시도이다.
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 가스 세정기의 원뿔형 타공판의 평면도이다.
도 9는 본 발명의 다른 실시예에 따른 가스 세정기의 분산부의 측면도이다.
이하, 본 발명의 일부 실시예들을 예시적인 도면을 통해 상세하게 설명한다. 각 도면의 구성요소들에 참조부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가지도록 하고 있음에 유의해야 한다. 또한, 본 발명의 실시예를 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 실시예에 대한 이해를 방해한다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.
또한, 본 발명의 실시예의 구성 요소를 설명하는 데 있어서, 제1, 제2, A, B, (a), (b) 등의 용어를 사용할 수 있다. 이러한 용어는 그 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하기 위한 것일 뿐, 그 용어에 의해 해당 구성 요소의 본질이나 차례 또는 순서 등이 한정되지 않는다. 어떤 구성 요소가 다른 구성요소에 “연결”, “결합” 또는 “접속”된다고 기재된 경우, 그 구성 요소는 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되거나 접속될 수 있지만, 각 구성 요소 사이에 또 다른 구성 요소가 “연결”, “결합” 또는 “접속”될 수도 있다고 이해되어야 할 것이다.
이하에서는 본 발명의 일실시예에 따른 가스 세정기를 첨부된 도면을 참조하여 설명한다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 가스 세정기를 나타낸 개략적인 블록도이고, 도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 가스 세정기에 있어서, 제1챔버유닛에 1차 세정수가 채워진 상태를 개략적으로 나타낸 도면이며, 도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 가스 세정기에 있어서, 제1챔버유닛에 1차 세정수가 역류하여 일부 비워진 상태를 개략적으로 나타낸 도면이고, 도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 가스 세정기의 분산부의 분해사시도이며, 도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 가스 세정기의 타공판의 평면도이고, 도 6는 본 발명의 일실시예에 따른 가스 세정기의 분산부의 측면도이다.
본 발명의 일실시예에 따른 가스 세정기에 있어서, 세정을 위해 유입되는 유해가스는 사용자의 선택에 따라 미리 냉각장치(미도시)를 거쳐 냉각될 수 있다.
본 발명의 일실시예에 따른 가스 세정기는 제1챔버유닛(100)과, 제2챔버유닛(200), 건조유닛(300) 및 회수유닛(400)을 포함할 수 있다.
제1챔버유닛(100)은 제1메인챔버부(110)와 제1보조챔버부(120), 유해가스 유입관(130), 유해가스 투입관(140), 1차 세정액 주입구(150), 1차 세정액 배출구(160), 분산부(170) 및 pH측정구(180)를 포함할 수 있다.
외부의 유해가스는 유해가스 유입관(130)을 통해 제1보조챔버부(120)로 통과하여 제1메인챔버부(110)로 유입될 수 있다.
제1메인챔버부(110)는 중공의 챔버로써 상기 유해가스를 세정하는 1차 세정액(W1)을 수용할 수 있다.
제1보조챔버부(120)는 중공의 챔버이다. 제1보조챔버부(120)는 제1메인챔버부(110) 내부의 압력 증가로 인해 역류되는 1차 세정액(W1)을 미리 정해진 시간동안 일부 수용하여 보관할 수 있다. 제1보조챔버부(120)는 제1메인챔버부(110)보다 상방에 배치될 수 있다. 유해가스 유입관(130)을 통해 유입되는 외부의 유해가스는 제1보조챔버부(120)를 통과하여 제1메인챔버부(110)로 투입될 수 있으며, 1차 세정액(W1)에 투입되어 1차 세정액(W1)과 접촉됨으로써 세정될 수 있다.
유해가스 투입관(140)의 일단은 제1보조챔버부(120)와 연통되고, 타단은 제1메인챔버부(110)를 관통하여 수용된 1차 세정액(W1)에 잠겨 있는 것이 바람직하다. 이때, 유해가스 투입관(140)의 타단은 후술하는 분산부(170)보다 하측에 위치하는 것이 바람직하다. 유해가스 투입관(140)은 유해가스 유입관(130)과 제1보조챔버부(120)를 통과한 상기 유해가스를 제1메인챔버부(110)로 이동시키는 통로역할을 수행한다.
아울러, 제1보조챔버부(120)는 유해가스 투입관(140)의 타단과 제1메인챔버부(110)에 수용된 1차 세정액(W1)의 수면 사이에 해당하는 1차 세정액(W1)을 수용가능한 부피를 갖는 것이 바람직하다. 즉, 사용자는 제1보조챔버부(120)의 부피를 감안하여 제1메인챔버부(110)에 1차 세정액(W1)을 주입하는 것이 바람직하다.
한편, 제1메인챔버부(110)에 수용되는 가스 및 세정된 가스의 양이 늘어나면서 압력이 높아지는 경우 제1메인챔버부(110)에 수용된 1차 세정액(W1)은 유해가스 투입관(140)을 통해 제1보조챔버부(120)로 역류할 수 있다. 이때, 제1메인챔버부(110)에 수용된 1차 세정액(W1)의 수면이 낮아지게 되며, 상기 1차 세정액(W1)의 수면이 유해가스 투입관(140)의 타단보다 낮아지는 경우 1차 세정액(W1)은 더 이상 역류되지 않는다.
1차 세정액 주입구(150)는 제1메인챔버부(110)의 일측에 마련될 수 있고, 1차 세정액(W1)은 1차 세정액 주입구(150)를 통해 사용자의 선택에 따라 제1메인챔버부(110)의 내부공간에 미리 정해진 양이 주입될 수 있다. 참고로, 1차 세정액(W1)는 산성 또는 염기성을 갖는 용액으로써, 수산화 마그네슘(Mg(OH)2) 또는 수산화 나트륨(NaOH) 중 어느 하나 이상을 포함할 수 있다.
1차 세정액 배출구(160)는 제1메인챔버부(110)의 일측, 즉 하측에 마련될 수 있고, 사용자의 의도에 따라 내부에 수용된 1차 세정액(W1)을 배출시킬 수 있다.
분산부(170)는 타공판(171)과 제1지지체(172) 및 제2지지체(173)를 포함할 수 있다.
분산부(170) 제1메인챔버부(110)의 내부에 배치될 수 있고, 유해가스 투입관(140)의 타단을 통과한 상기 유해가스를 분산시킴으로써 1차 세정액(W1)과의 접촉면적을 증가시킬 수 있다. 또한, 분산부(170)는 상기 유해가스가 비중의 차이로 1차 세정액(W1)의 상방으로 떠오르려는 것을 일부 방해하며 상기 유해가스가 1차 세정액(W1) 내부에 머무르는 시간을 증가시켜 세정시간을 늘릴 수 있다.
타공판(171)은 제1메인챔버부(110)에 수용되고 복수 개의 타공(171a)이 형성될 수 있으며, 유해가스 투입관(140)이 관통하는 구멍(171b)이 형성될 수 있다. 이때, 타공판(171)에 형성된 복수 개의 타공(171a)은 1 ∼ 3㎜의 크기를 갖는 것이 바람직하고, 가장 바람직하게는 2㎜의 크기를 가질 수 있다. 복수 개의 타공(171a)은 그 크기와 간격이 미리 정해진 대로 상호 동일할 필요가 없으나, 타공판(171) 가공제작의 편리함을 위해 미리 정해진 크기와 간격으로 상호 동일하게 형성될 수도 있다. 타공판(171)의 구멍(171b)은 유해가스 투입관(140)이 관통할 수 있다.
타공판(171)은 산성 또는 염기성의 1차 세정액(W1)에 의한 부식 및 화학적 반응을 가능한 한 늦추고 방지하기 위하여 SUS316 또는 SUS310 재질인 것이 바람직하다.
덧붙여서, 도면에 도시하지 않았지만 타공판(171)은 1차 세정액(W1)에 의한 부식 또는 화학적 반응을 방지하도록 세라믹 코팅될 수 있다.
제1지지체(172)와 제2지지체(173)는 도넛 형상으로 제1메인챔버부(110)의 내부에 배치될 수 있고, 타공판(171)을 사이에 두고 타공판(171)의 양측, 즉 각각 상측과 하측에서 제1메인챔버부(110)에 대하여 타공판(171)을 지지할 수 있다. 즉, 제1 및 제2지지체(173)는 타공판(171의 둘레를 따라 배치될 수 있고, 타공판(171)의 테두리 부분의 상측과 하측을 하방과 상방으로 가압하여 타공판(171)을 지지할 수 있다.
타공판(171)은 1차 세정액(W1)에 의한 부식 또는 화학적 반응이 발생하면, 사용자의 선택에 따라 교환가능하다.
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 가스 세정기의 분산부의 분해사시도이고, 도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 가스 세정기의 원뿔형 타공판의 평면도이며, 도 9는 본 발명의 다른 실시예에 따른 가스 세정기의 분산부의 측면도이다.
도 7 내지 도 9를 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 가스 세정기는 타공체(174)가 마련될 수 있고, 타공체(174)는 하방으로 테이퍼진 형태를 가질 수 있다. 도 7 내지 도 9에는 타공체(174)의 꼭지부의 각도가 90°에 가까운 것으로 도시되었으나, 이는 본 발명의 다른 실시예를 설명하기 위한 과장된 도시일 뿐 이에 한정하지 않고, 상기 꼭지부의 각도는 제작자의 의도에 따라 다양하게 마련될 수 있다.
타공체(174)는 도넛 형태의 테두리(174a)를 가질 수 있고, 테두리(174a) 내측으로 원뿔형 타공판(174b)이 배치될 수 있다.
테두리(174a)는 제1지지체(172)와 제2지지체(173) 사이에 위치되어 제1지지체(172)와 제2지지체(173)에 의해 지지될 수 있다.
원뿔형 타공판(174b)은 타공(174c)과 구멍(174d)이 형성될 수 있으며, 타공(174c)과 구멍(174d)에 대한 설명은 여기서 생략하고, 본 발명의 일실시예에 따른 가스 세정기의 타공판(171)의 타공(174c)과 구멍(174d)의 설명을 준용하기로 한다.
제1메인챔버부(110)는 일측에 1차 세정액(W1)의 산도 또는 염기도를 측정하기 위한 pH측정구(180)가 마련될 수 있다.
제2챔버유닛(200)은 제2메인챔버부(210)와 제2보조챔버부(220), 1차 세정된 가스 유입관(230), 1차 세정된 가스 투입관(240), 2차 세정액 주입구(250), 2차 세정액 배출구(260), 분산부(270) 및 pH측정구(280)를 포함할 수 있다.
제2챔버유닛(200)은 유해가스 유입관(130) 대신 1차 세정된 가스 유입관(230)이 설치되고 유해가스 투입관(140) 대신 1차 세정된 가스 투입관(240)이 설치되어 2차 세정수(W2)가 1차로 세정된 가스를 대상으로 세정하고, 이에 2차 세정된 가스를 후술하는 건조유닛(300)으로 보내는 것 외에는 제1챔버유닛(100)과 유사하여 중복된다 볼 수 있으며, 따라서 이하 내용을 생략하고 제1챔버유닛(100)의 내용을 준용하기로 한다.
건조유닛(300)은 상기 2차 세정된 가스를 건조시킬 수 있다.
건조유닛(300)은 2차 세정된 가스 유입관(310)을 통해 제2챔버유닛(200)으로부터 배출되는 상기 2차 세정된 가스가 투입될 수 있다. 이때, 상기 2차 세정된 가스는 2차 세정액(W2) 등의 액체를 포함할 수 있고, 건조유닛(300)은 원심력을 이용하여 세정된 가스와 액체로 분리시킬 수 있다.
다시 말해, 건조유닛(300)은 사이클론 원리를 이용하여 상기 2차 세정된 가스를 세정된 가스와 액체로 분리시킬 수 있다. 덧붙이자면, 2차 세정된 가스 유입관(310)을 통해 투입되는 상기 2차 세정된 가스는 건조유닛(300)의 내부 벽면을 타고 이동되는데, 이때 상기 2차 세정된 가스에 포함된 액체는 세정된 가스와 분리되어 중력에 의해 벽면을 타고 아래로 이동되고, 상기 세정된 가스는 상승하여 세정 가스 배출구(320)를 통해 외부로 배출될 수 있다.
이후, 건조유닛(300)에서 분리된 액체는 액체 배출구(330)를 통해 배출될 수 있다.
회수유닛(400)은 액체 배출구(330)를 통해 배출되는 액체를 액체 회수관(410)을 통해 내부에 회수 및 저장한다. 회수유닛(400)은 미리 정해진 양만큼 액체가 저장되면, 사용자의 의도에 따라 회수액 배출구(420)를 통해 외부로 배출될 수 있다. 또한, 회수액 배출구(420)로 배출되는 액체를 1차 세정액(W1) 또는 2차 세정액(W2)으로 재활용가능하다.
도면에 도시하지 않았지만, 상기에서 언급한 본 발명의 구성들에는 1차 세정액(W1)과 2차 세정액(W2)의 양, 압력을 측정할 수 있는 센서(미도시) 등이 사용될 수 있으며, 각 구성들 사이에 밸브(미부호) 등이 마련되는 것 또한 주지의 기술이다.
이하에서는, 본 발명의 일실시예에 따른 가스 세정기의 작동과정을 첨부된 도면을 참조하여 설명한다.
먼저, 사용자는 1차 세정액 주입구(150)와 2차 세정액 주입구(250)를 통해 세정액(W1, W2)을 미리 정해진 양만큼 주입시킨다.
이때, 타공판(171, 271)보다 100㎜ 높게 수면이 위치하도록 세정액(W1, W2)을 주입하는 것이 바람직하지만, 이는 사용자의 선택에 따라 또는 유해가스 투입관(140)이나 1차 세정된 가스 투입관(240)의 끝단 깊이를 고려해 다양하게 선택될 수 있다.
이후, 사용자는 외부의 유해가스를 유해가스 유입관(130)을 통해 제1보조챔버부(120)를 통과하여 제1메인챔버부(110)로 이동시킨다.
유해가스 투입관(140)의 끝단이 제1메인챔버부(110)에 수용된 1차 세정액(W1)에 잠겨있으므로, 상기 유해가스는 유해가스 투입관(140)의 끝단으로 배출되어 1차 세정액(W1)과 접촉하며 상승하게 된다.
이때, 상기 유해가스는 타공판(171)에 의해 일부 상승에 제한되며, 타공판(171)에 형성된 타공(171a)을 통해 나누어지게 된다. 이렇게 나누어진 상기 유해가스는 1차 세정액(W1)과 접촉면적이 넓어지고, 타공판(171)에 의한 상승 제한으로 접촉시간이 늘어남에 따라 상기 유해가스의 세정작업은 더욱 효과적으로 이루어질 수 있다.
1차로 세정된 가스는 제1메인챔버부(110)로부터 1차 세정된 가스 유입관(230)을 통해 제2챔버유닛(200)의 제2보조챔버부(220)를 통과하여 제2메인챔버부(210)로 이동된다.
1차 세정된 가스 투입관(240)의 끝단이 제2메인챔버부(210)에 수용된 2차 세정액(W2)에 잠겨있으므로, 상기 1차 세정된 가스는 1차 세정된 가스 투입관(240)의 끝단으로 배출되어 2차 세정액(W2)과 접촉하며 상승하게 된다.
이때, 상기 1차 세정된 가스는 타공판(271)에 의해 일부 상승에 제한되며, 타공판(271)에 형성된 타공(미도시)을 통해 상승하면서 분산된다. 이렇게 나누어진 상기 유해가스는 2차 세정액(W2)과 접촉면적이 넓어지고, 타공판(271)에 의한 상승 제한으로 접촉시간이 늘어남에 따라 상기 1차 세정된 가스의 세정작업은 더욱 효과적으로 이루어질 수 있다.
다음으로, 2차로 세정된 가스는 제2메인챔버부(210)로부터 2차 세정된 가스 유입관(310)을 통해 건조유닛(300)로 이동된다.
상기 2차 세정된 가스는 세정액이 일부 액체상태로 포함된 상태일 수 있다.
2차 세정된 가스 유입관(310)에서 건조유닛(300) 내부로 배출되는 상기 2차 세정된 가스는 사이클론 원리에 의해 세정된 가스와 액체로 분리된다. 즉, 상기 2차 세정된 가스는 건조유닛(300) 내부의 벽면을 타고 나선으로 돌며, 상대적으로 무거운 액체는 중력에 의해 하측으로 이동되고, 세정된 가스는 상방으로 이동되어 세정 가스 배출구(320)를 통해 외부로 배출된다.
이후, 건조유닛(300)의 하측으로 이동되는 액체는 액체 배출구(330)로 배출된다.
회수유닛(400)은 액체 배출구(330)로 배출된 액체를 액체 회수관(410)를 통해 수집 및 회수한다.
사용자는 회수유닛(400)에 채워진 액체를 회수액 배출구(420)를 통해 외부로 배출시킬 수 있으며, 사용자의 의도에 따라 회수액 배출구(420)를 통해 배출되는 액체를 제1메인챔버부(110)의 1차 세정액(W1) 또는 제2메인챔버부(210)의 2차 세정액(W2)으로 재활용할 수 있다.
한편, 제1메인챔버부(110) 또는 제2메인챔버부(210) 내부에 상기 유해가스 또는 상기 1차 세정된 가스의 과도한 주입에 의해 압력이 높아지는 경우, 1차 세정액(W1) 또는 2차 세정액(W2)은 각각 유해가스 투입관(140) 또는 1차 세정된 가스 투입관(240)을 통해 역류될 수 있다.
이때, 역류되는 1차 세정액(W1)과 2차 세정액(W2)은 각각 제1보조챔버부(120)와 제2보조챔버부(220)에 일시 저장됨으로써 1차 세정액(W1)과 2차 세정액(W2)의 역류를 제한할 수 있다.
이후, 제1메인챔버부(110) 또는 제2메인챔버부(210) 내부의 1차 세정액(W1) 또는 2차 세정액(W2)의 수면의 높이가 유해가스 투입관(140)의 끝단과 1차 세정된 가스 투입관(240)의 끝단보다 낮아지게 되면, 1차 세정액(W1) 또는 2차 세정액(W2)은 역류되지 않는다.
이상에서 설명한 것은 본 발명에 따른 가스 세정기를 실시하기 위한 실시예에 불과한 것으로서, 본 발명은 상기한 실시예에 한정되지 않고, 이하 특허청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양하게 변경하여 실시가능한 범위까지 본 발명의 기술적 정신이 있다고 할 것이다.

Claims (16)

  1. 외부로부터 유입되는 유해가스를 1차로 세정하는 1차 세정액을 수용하는 제1메인챔버부와, 1차로 세정된 가스의 압력에 의해 역류되는 상기 1차 세정액을 적어도 일부 수용가능한 제1보조챔버부를 포함하는 제1챔버유닛;
    상기 제1챔버유닛으로부터 유입되는 1차로 세정된 가스를 2차로 세정하는 2차 세정액을 수용하는 제2메인챔버부와, 2차로 세정된 가스의 압력에 의해 역류되는 상기 2차 세정액을 적어도 일부 수용가능한 제2보조챔버를 포함하는 제2챔버유닛;
    상기 제2챔버유닛으로부터 유입되는 2차로 세정된 가스를 원심력을 이용하여 세정된 가스와 액체로 분리시키는 건조유닛; 및
    상기 건조부로부터 분리된 수분을 회수하는 회수유닛;
    을 포함하는 가스 세정기.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제1보조챔버부는 상기 제1메인챔버부보다 상방에 배치되고,
    상기 외부의 유해가스가 상기 제1보조챔버부를 통과한 후 상기 제1메인챔버부의 상기 1차 세정액에 투입되어 상기 1차 세정액과 접촉됨으로써 세정되는 가스 세정기.
  3. 제1항에 있어서,
    일단이 상기 제1보조챔버부에 연결되고 타단이 상기 제1메인챔버부 내부에 수용된 상기 1차 세정액 내부에 위치하며 유해가스가 상기 제1메인챔버부로 이동되도록 하는 유해가스 투입관;
    을 더 포함하는 가스 세정기.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 제1보조챔버부는 상기 유해가스 투입관의 타단과 상기 1차 세정액의 수면 사이에 해당하는 1차 세정액을 수용가능한 부피를 갖는 가스 세정기.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 제1메인챔버부는,
    상기 유해가스가 상기 1차 세정액과 접촉이 증가되도록 상기 1차 세정액에 주입된 상기 유해가스를 분산시키는 분산부;
    를 더 포함하는 가스 세정기.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 분산부는,
    상기 제1메인챔버부에 수용되고 복수 개의 타공이 형성된 타공판;
    을 더 포함하는 가스 세정기.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 타공판은 하방으로 테이퍼진 형태인 가스 세정기.
  8. 제6항에 있어서,
    상기 타공판에 형성된 복수 개의 타공은 1 ∼ 3㎜의 크기를 갖고, 상기 복수 개의 타공은 서로 동일한 크기를 갖는 가스 세정기.
  9. 제6항에 있어서,
    상기 타공판의 재질은 SUS316 또는 SUS310인 가스 세정기.
  10. 제6항에 있어서,
    상기 타공판의 일측면과 타측면에 각각 배치되고 상기 타공판을 교체가능하도록 상기 타공판을 지지하는 제1 및 제2지지체;
    를 더 포함하는 가스 세정기.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 제1 및 제2지지체는 상기 타공판의 둘레를 따라 배치되는 가스 세정기.
  12. 제6항에 있어서,
    상기 타공판은 부식을 방지하도록 세라믹 코팅된 가스 세정기.
  13. 제1항에 있어서,
    상기 1차 세정수 또는 2차 세정수는 수산화 마그네슘(Mg(OH)2) 또는 수산화 나트륨(NaOH) 중 어느 하나 이상을 포함하는 가스 세정기.
  14. 제1항에 있어서,
    상기 건조유닛은 2차로 세정된 가스를 사이클론 원리에 의해 세정된 가스와 액체로 분리하는 가스 세정기.
  15. 제1항에 있어서,
    상기 회수유닛에 회수된 액체는 상기 1차 세정수 또는 상기 2차 세정수로 재활용 가능한 가스 세정기.
  16. 제1항에 있어서,
    상기 제1메인챔버부는 상기 1차 세정액의 산도 또는 염기도를 측정하기 위한 pH측정구;
    를 더 포함하는 가스 세정기.
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