WO2021200513A1 - ガラスブランク材の製造方法、及びガラスブランク材製造装置 - Google Patents

ガラスブランク材の製造方法、及びガラスブランク材製造装置 Download PDF

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WO2021200513A1
WO2021200513A1 PCT/JP2021/012412 JP2021012412W WO2021200513A1 WO 2021200513 A1 WO2021200513 A1 WO 2021200513A1 JP 2021012412 W JP2021012412 W JP 2021012412W WO 2021200513 A1 WO2021200513 A1 WO 2021200513A1
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support rod
blank material
glass blank
wire
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宇 張
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Hoya株式会社
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    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B27/00Other grinding machines or devices
    • B24B27/06Grinders for cutting-off
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B41/00Component parts such as frames, beds, carriages, headstocks
    • B24B41/06Work supports, e.g. adjustable steadies
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B28WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
    • B28DWORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
    • B28D1/00Working stone or stone-like materials, e.g. brick, concrete or glass, not provided for elsewhere; Machines, devices, tools therefor
    • B28D1/02Working stone or stone-like materials, e.g. brick, concrete or glass, not provided for elsewhere; Machines, devices, tools therefor by sawing
    • B28D1/08Working stone or stone-like materials, e.g. brick, concrete or glass, not provided for elsewhere; Machines, devices, tools therefor by sawing with saw-blades of endless cutter-type, e.g. chain saws, i.e. saw chains, strap saws
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B28D7/04Accessories specially adapted for use with machines or devices of the preceding groups for supporting or holding work or conveying or discharging work
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/84Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers

Definitions

  • the present invention relates to a method for manufacturing a glass blank material and a glass blank material manufacturing apparatus.
  • a glass substrate or an aluminum alloy substrate has been used as a substrate for a magnetic disk.
  • a magnetic film is formed on the main surface of the substrate to form a magnetic disk. It is desired that a magnetic disk has few surface defects, does not hinder the reading and writing of information, and can read and write a large amount of information. Further, in response to a request for an increase in the storage capacity of a hard disk drive device (hereinafter referred to as an HDD), the density of magnetic recording has been increased.
  • an HDD hard disk drive device
  • the plate thickness is reduced, the rigidity of the substrate is reduced, and flutter vibration generated by the flow of the rotating magnetic disk and the gas (air or helium gas) around it is likely to occur. Therefore, it is being studied to produce a substrate having a thin plate thickness using a material having high rigidity.
  • Patent Document 1 describes that the inner peripheral surface of a hollow work is joined to a support such as a rod in order to rotate the work.
  • the work is sliced using a wire coated with cutting particles while rotating the cylindrical glass work around a support rod. It was found that the deviation of the plate thickness and the flatness of each of the cut out glass blank materials may be large.
  • the present invention provides a glass blank material capable of reducing the in-plane plate thickness deviation and flatness of each of the blank materials when slicing a glass work to produce a plurality of plate-shaped blank materials. It is an object of the present invention to provide a manufacturing method and a glass blank material manufacturing apparatus.
  • One aspect of the present invention is a method for producing a glass blank material.
  • the manufacturing method of the glass blank material is A step of integrally rotating a support rod having a rotation axis and a glass work supported by the support rod and extending in a columnar shape along the rotation axis around the rotation axis. Between the wire and the work while pulling each of the plurality of wires aligned so as to extend in a direction orthogonal to the rotation axis toward at least one side along the extending direction of the wire.
  • a step of slicing the work by pressing the wire relative to the outer peripheral side surface of the rotating work with abrasive grains interposed therebetween.
  • the ratio ⁇ / L of the bending amount ⁇ [ ⁇ m] of the support rod to the effective length L [mm] of the support rod in the slicing step is 1 or less.
  • the amount of bending of the support rod in the slicing step is adjusted so that the deviation of the plate thickness of the glass blank material obtained by slicing the work is 5 ⁇ m or less and the flatness of the main surface of the glass blank material is 10 ⁇ m or less. It is preferable that it is.
  • the effective length L is 200 to 600 [mm]
  • the length b of the portion of the work located between the rotation axis directions of the two wires located at both ends in the rotation axis direction of the wires is 150.
  • the ratio ⁇ / L is preferably 1 or less.
  • the Young's modulus of the support rod is larger than the Young's modulus of the work.
  • the work is suitable when it is made of a glass material having a Young's modulus of 90 [GPa] or more.
  • the rotation direction of the work at the portion where the wire is pressed is the direction opposite to the direction in which the wire is pulled.
  • the work has a through hole through which the support rod is arranged in the rotating step. It is also preferable that the cross-sectional shape of the through hole and the support rod in the direction orthogonal to the rotation axis is non-circular.
  • the surface of the support rod that supports the work is roughened.
  • the work is joined to the support rod by an adhesive interposed between the work and the support rod.
  • An adhesive layer made of the adhesive is formed between the work and the support rod, and an adhesive layer is formed.
  • the wire is preferably pressed against the support rod so that it reaches within the adhesive layer.
  • the support rod is a hollow member provided with a cavity extending along the axis of rotation. In the slicing step, it is also preferable to press the wire while supplying a cooling medium into the cavity.
  • the wire is repeatedly pulled in a first direction along the extending direction of the wire and then in a second direction opposite to the first direction. It is preferable that the moving distance of the wire in the second direction is shorter than the moving distance of the wire in the first direction.
  • the support rod has an outer portion where a surface supporting the work is located and an inner portion located closer to the rotation axis than the outer portion along a direction orthogonal to the rotation axis. It is also preferable that the outer portion has better machinability than the inner portion.
  • the rotating step At least one second work made of glass extending in a columnar shape along the rotation axis is supported by the support rod in addition to the first work, and the support rod, the first work.
  • the work and the second work are integrally rotated around the rotation axis, and the work and the second work are integrally rotated.
  • the abrasive grains are interposed between the wire and the first work and the second work, and the wire is pressed relative to the outer peripheral side surfaces of the rotating first work and the second work.
  • the first work and the second work may be a total of three, for example, a total of five or less.
  • Another aspect of the present invention is a glass blank material manufacturing apparatus.
  • Glass blank material manufacturing equipment A rotating device configured to integrally rotate a support rod having a rotation axis and a glass work supported by the support rod and extending in a columnar shape along the rotation axis, around the rotation axis. Grinding between the wire and the work while pulling each of the plurality of wires aligned at intervals in the direction orthogonal to the rotation axis toward at least one side along the extending direction of the wire.
  • a slicing device configured to slice the rotating work by pressing the wire relative to the outer peripheral side surface of the work with the particles interposed therebetween.
  • the ratio ⁇ / L of the bending amount ⁇ [ ⁇ m] of the support rod to the effective length L [mm] of the support rod during slicing of the work is 1 or less.
  • the plate thickness deviation in the plane of each blank material is produced. And the flatness can be reduced.
  • (A) and (b) are diagrams showing a work and a wire
  • (c) is a diagram showing a plurality of glass blank materials.
  • (A) and (b) are diagrams for explaining the slicing direction of the work when the step of slicing is performed in a state where the rate of change of the bending amount of the support rod is not adjusted. It is a figure which shows the element used for the calculation of the bending amount of a support rod.
  • the method for manufacturing the glass blank material of the present embodiment includes a step of rotating the work (hereinafter referred to as a rotating step) and a step of slicing the work (hereinafter referred to as a slicing step).
  • a rotating step a step of rotating the work
  • a slicing step a step of slicing the work
  • a support rod having a rotation axis and a glass work supported by the support rod and extending in a columnar shape along the rotation axis are integrally rotated around the rotation axis.
  • the wire and the workpiece are pulled together by pulling each of the wires, which are spaced apart from each other so as to extend in a direction orthogonal to the axis of rotation, to at least one side along the extending direction of the wire.
  • the wire is pressed relative to the outer peripheral side surface of the rotating work with abrasive grains interposed therebetween, and the work is sliced.
  • the ratio ⁇ / L of the bending amount ⁇ [ ⁇ m] of the support rod to the effective length L [mm] of the support rod in the slicing step is 1 or less.
  • the load applied to the work and the support rod by pressing the wire relative to the work is due to the fact that the rigidity of the work decreases as the radial length (cut length) of the sliced work increases. , It takes a relatively large amount on the support rod.
  • the support rod bends under a large load the direction in which the work is cut (cutting direction) by the wire changes, and as a result, the plate thickness deviation in each plane of the glass blank material and Flatness deteriorates.
  • the ratio ⁇ / L in the slicing step is 1 ⁇ m / mm or less, and the bending of the support rod during the slicing of the work is suppressed. Therefore, the change in the slicing direction (cutting direction) is suppressed, and the in-plane plate thickness deviation and flatness of each of the obtained glass blank materials are reduced.
  • FIG. 1 is a diagram illustrating a manufacturing method of the present embodiment.
  • 1 (a) is a diagram showing the work 3 and the wire 5 at the start of slicing
  • FIG. 1 (b) is a diagram showing the work 3 and the wire 5 at the end of slicing
  • FIG. 1 (c) is a diagram showing the work 3 and the wire 5 at the end of slicing.
  • Is a diagram showing a plurality of sliced glass blank materials 10.
  • Step to rotate In the step of rotating, the support rod 1 having the rotation axis X and the glass work 3 supported by the support rod 1 and extending in a columnar shape along the rotation axis X are integrally rotated around the rotation axis X. ..
  • the rotating step is performed during the slicing step.
  • the support rod 1 is a member that supports the work 3. It is preferable that the Young's modulus E and the moment of inertia of area I of the support rod 1 are adjusted so that the ratio ⁇ / L is 1 ⁇ m / mm or less. The Young's modulus E and the moment of inertia of area I of the support rod 1 will be described later.
  • FIG. 1 shows a part of the support rod 1.
  • the rotation axis X extends in a direction parallel to the longitudinal direction of the support rod 1 and passes through the radial center of the support rod 1.
  • the work 3 is a cylindrical member extending in a columnar shape along the rotation axis X. As a result, a plurality of disk-shaped glass blank materials 10 can be produced from the work 3.
  • Amorphous glass and crystallized glass such as aluminosilicate glass, soda-lime glass, and borosilicate glass are used as the glass used as the material of the work 3.
  • amorphous aluminosilicate glass is preferably used because it can be chemically strengthened as needed and a glass blank material having excellent flatness of the main surface and strength of the substrate can be produced. Can be done.
  • the diameter of the work 3 is preferably 90 mm or more. As a result, when the glass blank material 10 is used as a substrate for a magnetic disk, the storage capacity can be increased. When the magnetic disk substrate has a nominal size of 3.5 inches, the diameter of the work 3 is, for example, 105 mm or less.
  • the length (height of the cylinder) of the work 3 in the rotation axis X direction is preferably 50 mm or more, more preferably 200 mm or more. As a result, more glass blank material 10 can be obtained from the work 3, and the productivity of the glass blank material 10 is improved.
  • the length of the work 3 in the rotation axis X direction is, for example, 600 mm or less.
  • the cutting length required for slicing the work 3 is approximately half the length required for slicing the work in a stationary state, and the time for slicing the work 3 can be shortened. This improves the productivity of the glass blank material 10. Further, if the cut length for slicing the work is long, the plate thickness deviation of the obtained glass blank material and the plate thickness deviation due to the distortion and shaking during slicing caused by the weight of the plate-shaped portion in the work which becomes the glass blank material and Flatness may deteriorate.
  • the cut length for slicing the work 3 is short as described above, the plate thickness deviation of the obtained glass blank material due to distortion or shaking during slicing of the plate-shaped portion in the work 3. And deterioration of flatness can be suppressed.
  • the step of slicing the work in a stationary state is performed, as the cut length of the work becomes longer, the plate-shaped part in the work which becomes the glass blank material is inclined with respect to the radial direction of the work so as to collapse. It will be easier. When such a collapse occurs, the direction in which the wire moves relative to the work is constant, so that the portion of the obtained glass blank material on the inner peripheral side is warped or wavy.
  • the plate-shaped portion in the work 3 is hard to fall down due to the centrifugal force acting on the work 3, and the work 3 is in a “standing” state in the radial direction. It is easy to become. Therefore, the occurrence of warpage and swell can be suppressed.
  • the wire is oscillated so that the extending direction of the wire changes in the slice plane while slicing without rotating the work. The same effect as in the case of That is, it is possible to prevent a mark from being left on the main surface of the obtained glass blank material 10 by processing with a wire tool described later.
  • (Slicing step) In the slicing step, the wires are pulled while pulling each of the plurality of wires 5 that are spaced apart from each other so as to extend in the direction Y orthogonal to the rotation axis X to at least one side along the extending direction of the wires 5.
  • the wire 5 is relatively pressed against the outer peripheral side surface of the rotating work 3 with abrasive grains (not shown) interposed between the work 5 and the work 3, and the work 3 is sliced.
  • the wire 5 is a wire made of a metal material such as steel.
  • the wire diameter of the wire 5 is preferably 200 ⁇ m or less so that the cutting allowance of the work 3 can be reduced and more glass blank material 10 can be cut out.
  • the wire diameter of the wire 5 is preferably 50 ⁇ m or more so as not to break even when the traveling speed of the wire 5 that is pulled and moves is high.
  • the interval (pitch) between the wires 5 adjacent to each other in the X direction of the rotation axis is determined in consideration of the target substrate thickness, for example, when the glass blank material 10 is used as a substrate for a magnetic disk.
  • a glass blank material having a plate thickness of 0.50 mm is produced from a glass blank material 10 to 0.50 mm, and the main surface allowance generated by grinding and polishing performed at that time is 0.06 mm, and a glass blank material having a plate thickness of 0.56 mm.
  • the pitch is set to 0.74 mm.
  • abrasive grains are interposed between the wire 5 and the work 3.
  • the abrasive grains may be fixed abrasive grains fixed to the surface of the wire 5, or may be free abrasive grains supplied as a slurry between the surface of the wire 5 or the wire 5 and the work 3.
  • the fixed abrasive grains are preferable in that the work 3 can be sliced quickly and the productivity of the glass blank material can be improved.
  • the wire 5 in which the fixed abrasive grains are fixed on the surface is also referred to as a wire tool 6.
  • abrasive grains composed of particles such as single crystal diamond, polycrystalline diamond (PCD), and green carbonite (GC) are used because they have excellent cutting ability and can slice the work 3 quickly.
  • the abrasive grains are fixed to the wire 5 by being held by a layer of metal or resin that covers the surface of the wire 5.
  • the abrasive grains those having an average particle size of 3 to 35 ⁇ m are preferably used.
  • the density of abrasive grains per unit surface of the wire tool 6 is preferably 1000 to 5000 pieces / mm 2 .
  • the wire tool 6 is pulled so as to travel in the extending direction (Y direction) at a speed of preferably 700 m / min or more, more preferably 900 m / min or more.
  • a speed of preferably 700 m / min or more, more preferably 900 m / min or more By traveling at such a speed, it is possible to suppress the wire tool 6 from being displaced (laterally displaced) in the rotation axis X direction with respect to the target cutting position of the work 3, and the plate thickness deviation of the glass blank material 10. And it is possible to suppress an increase in flatness.
  • the traveling speed of the wire tool 6 is preferably 3000 m / min or less so as not to cause disconnection.
  • the work 3 moves relative to the wire tool 6 in the X direction of the rotation axis and in the direction (Z direction) orthogonal to the extending direction (Y direction) of the wire tool 6.
  • the work 3 is pressed against the outer peripheral side surface of the wire tool 6.
  • the pressing force of the work 3 against the wire tool 6 is adjusted by controlling the moving speed of the work 3 in the Z direction. Specifically, the moving speed of the work 3 is gradually adjusted from the time the work 3 comes into contact with the outer peripheral side surface of the wire tool 6 until the length (cut length) of the sliced work 3 reaches a predetermined length. Is accelerated to.
  • the moving speed of the work 3 By controlling the moving speed of the work 3 in this way, the pressing force of the work 3 at the start of slicing of the work 3 can be reduced, and a notch can be accurately formed at the target cutting position of the work 3.
  • the increased moving speed of the work 3 is kept within the set range.
  • the wire tool 6 bends under the pressing force of the work 3 and maintains a state in which a certain degree of tension is generated (hereinafter referred to as a steady state).
  • the moving speed of the work 3 is kept within a set range so as to maintain such a steady state, and the work 3 is sliced.
  • the time required for slicing the work 3 is 90 minutes or less when slicing the work 3 having a diameter of 105 mm, for example, from the viewpoint of increasing the productivity of the glass blank material 10.
  • the inner diameter of the work 3 (the diameter of the through hole 3a described later) is 20 mm
  • the speed at which the work 3 is sliced is 0.47 mm / min or more.
  • the ratio ⁇ / L in the slicing step is 1 ⁇ m / mm or less (0.001 or less) as described above. According to the study of the present inventor, by adjusting the ratio ⁇ / L within this range, it is possible to suppress the change in the slicing direction of the work 3 in the slicing step, and the obtained glass blank is obtained. It was found that the in-plane plate thickness deviation and flatness of each of the materials 10 can be reduced. When the ratio ⁇ / L exceeds 1 ⁇ m / mm, the change in the slicing direction of the work 3 becomes large in the slicing step, and the plate thickness deviation and flatness of the glass blank material become large accordingly. .. This will be described with reference to FIG. FIG.
  • FIG. 2 is a diagram for explaining the slicing direction of the work when the slicing step is performed in a state where the ratio ⁇ / L is not adjusted within the above range.
  • the direction is indicated by an arrow
  • FIG. 2B the slice direction at the end of slicing is indicated by an arrow.
  • FIGS. 2A and 2B the portion of the work located below the support rod is not shown.
  • the work 3 and the support rod 1 do not bend, and as shown in FIG. 2A, the slice direction of the work 3 is orthogonal to the rotation axis X.
  • the cut length of the work 3 is long and the rigidity of the work 3 is lowered, so that the work 3 Due to the pressing, the magnitude of the reaction force received by the support rod 1 from the wire tool 6 becomes relatively large, and as shown in FIG. 2B, the support rod 1 bends.
  • the work 3 Since the moving direction of the work 3 does not change during the slicing step, the work 3 bends as the support rod 1 bends, so that the slice direction of the work 3 becomes the longitudinal direction of the work 3 (the height direction of the cylinder). It tilts with respect to the direction orthogonal to and changes from the slice direction at the initial stage of slicing. Such a change in the slicing direction becomes remarkable as the cutting length becomes longer, and causes warpage especially in the inner peripheral side portion of the obtained glass blank material. Therefore, the flatness of the glass blank material becomes large. Further, since the slice direction is inclined, the plate thickness of the glass blank material becomes non-uniform between the outer peripheral side portion and the inner peripheral side portion, and the plate thickness deviation becomes large.
  • the Young ratio of the support rod 1 is E [N / mm 2 ]
  • the secondary cross-sectional moment of the support rod 1 is I [mm 4 ].
  • the length of the portion of the work 3 located between the rotation axis X directions in the longitudinal direction is b [mm]
  • the distance between the support end and the work 3 is a [mm]
  • L is the effective length of the support rod 1, and in the example shown in FIG.
  • the support rod 1 is rotationally supported (fixed at both ends) at the support ends on both sides of the work 3, but is rotationally supported (fixed at one end) by the support end on one side of the work 3. May be good. That is, the support rod 1 does not have to be rotationally supported on the other side of the work 3.
  • the effective length L of the support rod 1 in this case is the length of the portion of the support rod 1 extending from the end of the support end on the work 3 side to the work 3 side.
  • the ratio ⁇ / L is preferably 0.67 ⁇ m / mm or less, more preferably 0.33 ⁇ m / mm or less, from the viewpoint of reducing the plate thickness deviation and flatness of the glass blank material 10.
  • the plate thickness deviation and flatness of each of the obtained glass blank materials 10 can be reduced.
  • the cutting allowance in the grinding and polishing treatments of the main surface is reduced, so that the productivity of the glass substrate for the magnetic disk is improved. do.
  • the plate thickness deviation (difference between the maximum plate thickness and the minimum plate thickness) of the glass blank material 10 obtained by the production method of the present embodiment is specifically 5 ⁇ m or less, preferably 2 ⁇ m or less. Further, the flatness of the glass blank material 10 obtained by the production method of the present embodiment is specifically 10 ⁇ m or less, preferably 5 ⁇ m or less. In the present specification, the flatness of the glass blank material 10 means the flatness according to JIS B0621-1984.
  • the surface of the obtained glass blank material is compared with the case where slicing is performed without rotating the work 3.
  • the glass blank material 10 having a good surface property also has a reduced cutting allowance in the grinding treatment and the polishing treatment of the main surface, so that the productivity when producing a glass substrate for a magnetic disk is improved.
  • the arithmetic average roughness Ra of the glass blank material 10 obtained by the production method of the present embodiment is 0.6 ⁇ m or less, preferably 0.3 ⁇ m or less.
  • the arithmetic mean roughness Ra of the glass blank material 10 is measured by a stylus type roughness meter (contact type roughness measuring machine) using a stylus (touch needle) in accordance with JIS B0601: 2001. Will be done.
  • the method for manufacturing the glass blank material of the present embodiment can be performed using the glass blank material manufacturing apparatus described below.
  • FIG. 4 shows an outline of the glass blank material manufacturing apparatus 20 according to an example of the present embodiment.
  • the glass blank material manufacturing apparatus 20 includes a rotating apparatus 30 and a slicing apparatus 40.
  • the rotating device 30 is configured to integrally rotate the support rod 1 and the work 3 around the rotation axis X.
  • the support rod 1 and the work 3 are configured in the same manner as the support rod 1 and the work 3 described above.
  • the rotating device 30 has a driving device 32 that supplies power to rotate around the rotation axis X, and bearings 34 and 35, to the support rod 1.
  • the bearings 34 and 35 are arranged on both sides of the work 3 at intervals L [mm] from each other in the rotation axis X direction, and support the rotation of the support rod 1 on both sides of the rotation axis X of the work 3.
  • the slicing device 40 pulls each of the plurality of wire tool portions 8 toward at least one side along the extending direction of the wire tool portion 8 while interposing abrasive grains between the wire tool portion 8 and the work 3.
  • the wire tool portion 8 is relatively pressed against the outer peripheral side surface of the work 3, and the rotating work 3 is sliced.
  • the wire tool portion 8 is configured in the same manner as the wire tool 6 described above.
  • the slicing device 40 includes two rollers 42, 43 that are rotationally driven around the rotation axes X1 and X2 parallel to the rotation axis X.
  • the wire tool 7 is wound around the rollers 42, 43 so as to be hung between the rollers 42, 43.
  • the work 3 is a plurality of portions 8 of the wire tool 7 (in FIG. 7, surrounded by a broken line in FIG. 7), which are aligned with each other so as to extend in a direction orthogonal to the rotation axis X. It is pressed against the wire tool 7 located inside).
  • the rollers 42 and 43 are rotationally driven so as to be rotationally driven around the rotation axes X1 and X2 by a drive device (not shown).
  • the roller 42 is rotationally driven (forward-rotated) counterclockwise in FIG. 5, so that a plurality of wire tool portions 8 (parts of the wire tool 7 in the box of the broken line in FIG. 7) are driven by rotation (forward rotation).
  • the slicing device 40 further includes a base 44.
  • a rotating device 30 is fixedly arranged on the base 44.
  • the base 44 is driven and controlled to move up and down in the Z direction along the guides 46 and 47 by an elevating device (not shown).
  • the work 3 is pressed against the plurality of wire tool portions 8 by driving and controlling the base 44 so as to rise at a predetermined speed, and slicing is performed.
  • the support rod 1, the bearings 34, 35, and the work 3 are formed by a plurality of wire tool portions 8 spanned between the upper ends of the rollers 42, 43. It is arranged in a region in the vertical direction (Z direction) between the plurality of wire tool portions 8 spanned between the lower ends of the rollers 42 and 43.
  • the glass blank material manufacturing apparatus 20 further includes a supply device (not shown) that supplies a cooling medium (for example, coolant) for cooling the work 3 that generates heat due to friction with the wire tool portion 8 to the work 3.
  • a cooling medium for example, coolant
  • the amount of deflection ⁇ of the support rod 1 in the slicing step is such that the deviation of the in-plane plate thickness of each of the obtained glass blank materials 10 is 5 ⁇ m or less, and the glass blank material. It is preferable that the flatness of the main surface of the glass is adjusted to 10 ⁇ m or less.
  • the ratio ⁇ / L is adjusted, for example, by adjusting the flexural rigidity of the support rod 1.
  • the flexural rigidity of the support rod 1 is adjusted by adjusting the Young's modulus E and the moment of inertia of area I of the support rod 1.
  • the Young's modulus E of the support rod 1 is preferably 300 GPa or more, and more preferably 450 GPa or more, from the viewpoint of reducing the amount of deflection ⁇ or the ratio ⁇ / L of the support rod 1.
  • Examples of the material of the support rod 1 having such Young's modulus E include metals, metal compounds, and ceramics. Specific examples thereof include steel, beryllium, molybdenum, tungsten, cemented carbide, zirconia, alumina, tungsten carbide, silicon carbide and the like.
  • the upper limit of Young's modulus E of the support rod 1 is not particularly limited, but is 750 GPa or less. Among such materials, those having a fracture toughness value (JIS R1617: 2010) higher than that of alumina, specifically 3.5 MPa ⁇ m 1/2 or more, are excellent in that the support rod 1 is hard to break. preferable.
  • the moment of inertia of area I of the support rod 1 can be adjusted by adjusting the cross-sectional shape and size of the support rod 1.
  • Preferred cross-sectional shapes of the support rod 1 include circles, regular polygons, and other shapes. Examples of the regular polygon include an equilateral triangle, a square, a regular pentagon, a regular hexagon, and the like. Examples of other shapes include a cross shape and the like.
  • the cross-sectional shape of the support rod 1 is preferably such a rotationally symmetric shape from the viewpoint of suppressing the vibration of the work 3 generated by the rotation of the work 3.
  • the size of the support rod 1 is specifically adjusted by adjusting the maximum length of the cross section of the support rod 1, and when the cross-sectional shape of the support rod 1 is circular, the diameter of the support rod 1 is adjusted. It will be adjusted.
  • the maximum length of the cross section of the support rod 1 is preferably a length having a small difference from the diameter of the through hole 3a of the glass blank material 10 from the viewpoint of increasing the flexural rigidity EI of the support rod 1, and the glass blank material 10 Therefore, for example, considering the allowance for producing a substrate for a magnetic disk having a circular hole having a diameter of 25 mm, it is preferably 23.5 mm or less, more preferably less than 24 mm.
  • the bending amount ⁇ and the ratio ⁇ / L of the support rod 1 adjust the bending rigidity EI of the support rod 1, the pressing force (load w (N)) of the wire tool 6 against the work 3, and the support rod 1 Effective length L, the distance a between the support end of the support rod 1 and the work 3, and the rotation axis X direction of the two wire tools 6 located at both ends of the plurality of wire tools 6 in the rotation axis X direction. It can also be adjusted by adjusting the length b of the portion of the work 3 located between them in the longitudinal direction (the height direction of the column). Of these, the load w can be adjusted by, for example, adjusting the moving speed (cutting speed) of the work 3 in the Z direction and the tension applied to the wire tool 6.
  • the effective length L of the support rod 1 is 200 to 600 mm, and the distance between the two wire tools 6 located at both ends of the plurality of wire tools 6 in the rotation axis X direction (hereinafter, also referred to as wire width) is in the rotation axis X direction.
  • the ratio ⁇ / L in the slicing step is preferably adjusted to 1 ⁇ m / mm or less.
  • the amount of deflection ⁇ of the support rod 1 is preferably 0.67 ⁇ m / mm or less, and more preferably 0.33 ⁇ m / mm or less.
  • the Young's modulus E of the support rod 1 is preferably larger than the Young's modulus E of the work 3. As described above, in the slicing step, the load applied to the support rod 1 becomes relatively large at the end of slicing, but the fact that the Young's modulus E of the support rod 1 is larger than the Young's modulus E of the work 3 means that the glass blank material. It contributes to reducing the plate thickness deviation and flatness of 10.
  • the manufacturing method of this embodiment is suitable when the work 3 is made of a glass material having a Young's modulus E of 90 GPa or more.
  • a substrate for a magnetic disk having high rigidity can be produced, and flutter vibration is less likely to occur even if the substrate is thin.
  • such a work 3 requires a large load for slicing and may bend the support rod, so that a change in the slicing direction may occur at the end of slicing.
  • the rate of change in the amount of deflection of the support rod 1 is small, and the change in the slicing direction while the work 3 is sliced is suppressed, so that the Young's modulus E is described above. Even if the work 3 in the range is used, the glass blank material 10 having a small plate thickness deviation and flatness can be obtained.
  • the Young's modulus E of the work 3 is preferably 100 GPa or more.
  • the upper limit of Young's modulus E does not need to be set in particular, but is 180 GPa, for example, from the viewpoint of ease of processing.
  • a glass material having a Young's modulus E of 90 GPa or more can be obtained, for example, by the following glass composition.
  • Glass 1 SiO 2 56-80 mol%, Li 2 O 1-10 mol%, B 2 O 3 0 ⁇ 4 mol%, Total content of MgO and CaO (MgO + CaO) 9-40 mol%, Is.
  • the specific gravity of the glass 1 is 2.75 g / cm 3 or less, and the glass transition temperature Tg is 650 ° C. or more.
  • Glass 2 SiO 2 56-80 mol%, Li 2 O 1-10 mol%, B 2 O 3 0 ⁇ 4 mol%, Total content of MgO and CaO (MgO + CaO) 9-40 mol%, And The molar ratio of the total content of SiO 2 and ZrO 2 to the Al 2 O 3 content ((SiO 2 + ZrO 2 ) / Al 2 O 3 ) is 2 to 13, Is.
  • the glass transition temperature Tg of the glass 2 is 650 ° C. or higher.
  • Molar ratio of P 2 O 5 content to total content of B 2 O 3 , SiO 2 , Al 2 O 3 and P 2 O 5 (P 2 O 5 / (B 2 O 3 + SiO 2 + Al 2 O 3 + P 2) O 5 )) is 0.005 or less, And Glass transition temperature of 670 ° C or higher and Young's modulus of 90 GPa or higher, Relative density is 2.75 or less, Oxide glass having an average coefficient of linear expansion in the range of 40 ⁇ 10 -7 to 70 ⁇ 10 -7 / ° C at 100 to 300 ° C.
  • Work 3 is produced by pouring molten glass into a mold having a cylindrical internal space and cooling and solidifying it. At that time, by arranging a rod-shaped member extending in the height direction in the internal space in the mold, a work 3 having a through hole 3a extending in the height direction of the cylinder is produced.
  • the diameter of the through hole 3a may be 0.2 to 0.5 mm smaller than the inner diameter of the circular hole formed in the magnetic disk substrate when the obtained glass blank material is used to prepare the magnetic disk substrate. preferable.
  • the direction of rotation of the work 3 at the portion pressed against the wire tool 6 is preferably the direction opposite to the direction in which the wire tool 6 is pulled.
  • the relative speed between the wire tool 6 and the work 3 in the portion of the work 3 pressed against the wire tool 6 can be increased, and the time for slicing the work 3 can be shortened. This improves the productivity of the glass blank material 10.
  • the relative speed between the wire tool 6 and the work 3 is preferably 700 m / min or more, and more preferably 1000 m / min or more.
  • the upper limit of the relative speed is, for example, 3000 m / min.
  • the rotation speed of the work 3 is preferably 200 rotations / minute or more, and more preferably 500 rotations / minute or more.
  • the rotation speed of the work 3 is preferably 1000 rotations / minute or less from the viewpoint of suppressing the vibration of the work 3 generated by the rotation of the work 3.
  • the traveling speed of the wire tool 6 is preferably 700 m / min or more, and more preferably 1000 m / min or more.
  • the traveling speed of the wire tool 6 is preferably 3000 m / min or less from the viewpoint of preventing disconnection during traveling.
  • the work 3 has a through hole 3a as described above, and the cross-sectional shape of the through hole 3a in the direction orthogonal to the rotation axis X and the support rod 1 is non-circular.
  • slippage between the work 3 and the support rod 1 during driving and braking around the rotation axis X of the work 3 can be suppressed.
  • the direction in which the wire tool 6 is pulled is repeatedly reversed, so that the rotation direction of the work 3 may be repeatedly reversed accordingly.
  • a large torque is applied to the support rod 1, and slippage easily occurs between the work 3 and the support rod 1.
  • Preferred cross-sectional shapes of the through hole 3a of the work 3 and the support rod 1 include a regular polygon such as an equilateral triangle, a square, a regular pentagon, and a regular hexagon, and a cross shape.
  • the cross-sectional shape of the through hole 3a of the work 3 is preferably a circle in that the allowance for forming the circular hole of the magnetic disk substrate can be reduced.
  • the support rod 1 that supports the work 3 is used to suppress slippage between the work 3 and the support rod 1 due to driving and braking of the work 3.
  • the surface is preferably roughened.
  • the roughening of the support rod 1 can be performed by, for example, a thread cutting method, a grooving method, a knurling method, a slot method, or a blasting method.
  • the work 3 is joined to the support rod 1 by an adhesive interposed between the work 3 and the support rod 1.
  • an adhesive one that can be detached from the support rod 1 and the work 3 is preferably used, and one that can be easily removed with an organic solvent or the like after the step of slicing is preferably used.
  • Such an adhesive is available, for example, as "electron wax" manufactured by Furuuchi Chemical Co., Ltd. Further, as the adhesive, a normal temperature or thermosetting type adhesive is preferably used.
  • an adhesive layer 2 made of an adhesive is formed between the work 3 and the support rod 1, and in the step of slicing, the work 3 is subjected to the wire tool 6. It is preferable that the wire tool 6 is pressed so as to reach the inside of the adhesive layer 2. By moving the work 3 so that the wire tool 6 stops in the adhesive layer 2, the adjacent glass blank materials 10 can be maintained in a state of being fixed to each other via the support rod 1. The obtained glass blank material 10 can be easily handled.
  • the support rod 1 can be reused for slicing another work 3.
  • the thickness of the adhesive layer 2 is preferably 2 mm or less, more preferably 1.5 mm or less.
  • the thickness of the adhesive layer 2 is preferably thicker than the diameter of the wire tool 6, and is, for example, 200 ⁇ m or more and 50 ⁇ m or more.
  • the support rod 1 is a hollow member provided with a cavity (not shown) extending along the axis of rotation X, and in the slicing step, a cooling medium (eg, water, outside air) is supplied into the cavity. It is preferable to press the work 3 while pressing the work 3. As a result, heat generation of the work 3 due to friction between the wire tool 6 and the work 3 can be suppressed.
  • a cooling medium eg, water, outside air
  • the wire tool 6 is pulled in the first direction along the extending direction of the wire tool 6, and then pulled in the second direction opposite to the first direction.
  • the moving distance of the wire in the second direction is preferably shorter than the moving distance of the wire in the first direction.
  • Slicing of the work 3 by the wire tool 6 is usually performed over several hours, during which the abrasive grains of the wire tool 6 are easily carbonized by being exposed to frictional heat with the work 3, and the cutting performance is likely to deteriorate. .. As a result, the plate thickness deviation and flatness of the obtained glass blank material 10 may deteriorate.
  • the wire tool 6 is pulled in the above manner so that the cutting performance of the abrasive grains is maintained within the permissible level, and the wire tool is used to replace the abrasive grains having deteriorated performance with the abrasive grains having higher performance.
  • the used part of 6 can be shifted step by step.
  • the support rod 1 is located in the outer portion 1a where the surface supporting the work 3 is located along the direction orthogonal to the rotation axis X, and the outer portion 1a. It is also preferable to have an inner portion 1b located on the side of the rotation axis X.
  • the diameter ratios of the outer portion 1a and the inner portion 1b are, for example, 1.1 to 2, 1.2 to 1.8, and 1.3 to 1.6.
  • the outer portion 1a preferably has better machinability (higher machinability index) than the inner portion 1b.
  • the support rod 1 having such a hardness difference can be obtained by making the outer portion 1a and the inner portion 1b from different materials.
  • the outer periphery of the inner portion 1b made of the above-mentioned metal, metal compound, ceramic or the like is made of a metal, metal compound, glass, ceramic or the like having better machinability than the material of the inner portion 1b.
  • the work 3 is sliced using the support rod 1 having a uniform hardness in the radial direction, and the work 3 is moved so that the wire tool 6 stops at a position inside the support rod 1, so that adjacent glass blank materials are used.
  • the glass blank material 10 can be sliced so that the work 3 is maintained in a state of being fixed to each other via the support rod 1, and the manufacturing method of the present embodiment is performed using the hard and inexpensive support rod 1. Production cost can be reduced.
  • the distance (wire width) between the two wire tools 6 located at both ends in the rotation axis X direction may be longer than the length in the longitudinal direction of the work 3 (height of the cylinder). preferable.
  • a plurality of works 3 are supported by the support rod 1, and the support rod 1 and the plurality of works 3 are integrally rotated around the rotation axis X, and the plurality of works 3 are rotated. Is preferably pressed against the wire tool 6 to slice a plurality of works 3 at the same time. It is difficult for the glass work 3 to form a cylindrical body having a long length in the longitudinal direction. On the other hand, in a general slicing device, the wire width of the slicing device is longer than that of the glass work 3. Therefore, the productivity of the glass blank material 10 can be increased by simultaneously slicing the plurality of works 3 while being supported by the support rod 1.
  • the number of works 3 supported by the support rod 1 is not particularly limited, but is, for example, 2 to 10 or 3 to 5.
  • a substrate for a magnetic disk can be produced by, for example, performing each of the following treatments on the glass blank material 10 obtained by the production method of the present embodiment. That is, (1) shape processing to make a circular inner hole (circular hole) in the glass blank material 10, (2) end face chamfering to form a chamfered surface on the end face of the glass blank material 10, (3) chamfered surface to be formed on the end face. Each process is grinding to grind the main surface of the glass blank material 10 and (4) polishing to polish the main surface.
  • the shape processing for example, the irradiation position of the laser beam is relatively moved to the glass blank material 10 along a predetermined contour shape on the glass blank material 10 to be a circular hole, and the glass blank is formed along the contour line.
  • a circular hole can be formed in the glass blank material 10 by a method of cutting the material 10 (laser scribe). Shape processing is not performed in some cases.
  • Example, comparative example In order to investigate the effect of the present invention, the method for producing the glass blank material described above was performed using the glass blank material manufacturing apparatus 20 described above, and the plate thickness deviation, flatness, and arithmetic mean roughness of the obtained glass blank material were obtained. Ra was evaluated.
  • the diameter of the work was 105 mm, the length in the longitudinal direction was 150 mm in Examples 1 to 3 and 5 and Comparative Examples 1 to 3, and 200 mm in Example 4.
  • the diameter of the through hole was 24 mm.
  • the work was joined to the support rod by inserting a support rod coated with a room temperature curable epoxy resin adhesive on the surface into the through hole of the work after coating and curing the work. Only one work piece is attached to the support rod.
  • the support rod As the support rod, the one with the specifications shown in Table 1 was used.
  • the distance L between the bearings that rotationally support the support rod was set to 300 mm.
  • an electrodeposited diamond wire in which diamond particles having an average particle diameter of 30 ⁇ m were held by a nickel plating layer on the surface of a steel wire (piano wire) having a wire diameter of 180 ⁇ m and a length of 300 m was used.
  • the adjacent spacing (pitch) of the wire tools was 0.75 mm.
  • the wire width was longer than the longitudinal length of the work.
  • the support rod is rotationally driven so that the work rotates in the direction opposite to the traveling direction of the work in the portion of the work in contact with the wire tool.
  • the rotation speed of the work at the initial stage of slicing was set to 200 m / min, and the maximum relative speed between the work and the wire tool at the initial stage of slicing was set to 1500 m / min.
  • the running speed of the wire tool was set to 1000 m / min, excluding braking, driving and stopping.
  • the wire tool was repeatedly pulled to one side by 450 m and then to the other side by 440 m.
  • the moving speed (cutting speed) of the work in the Z direction in the steady state was the speed shown in Table 1. In the table, "cutting speed" represents the moving speed of the work in the Z direction.
  • the material of the support rod is cemented carbide 2 (Young's modulus 400 GPa) in Examples 1 and 3 to 5, SUS (Young's modulus 210 GPa) in Comparative Examples 2 and 3, and aluminum alloy (Young's modulus 210 GPa) in Comparative Example 1.
  • the rate was 71 GPa), and in Example 2, the cemented carbide 1 (Young's modulus 610 GPa) was used.
  • the moment of inertia of area was adjusted by changing the diameter of the support rod.
  • the cross-sectional shape of the support rod was a solid circle in both Examples and Comparative Examples.
  • the diameter of the support rod was 22 mm in Examples 1, 2 and 4, Comparative Examples 1 and 3, 20 mm in Comparative Example 2, and 24 mm in Example 3.
  • the plate thickness deviation, flatness, and arithmetic mean roughness Ra of the glass blank material were measured as described in the above embodiment.
  • the plate thickness deviation of 2 ⁇ m or less is “A”
  • the plate thickness deviation is more than 2 ⁇ m and 5 ⁇ m or less is “B”
  • the plate thickness deviation is more than 5 ⁇ m and 10 ⁇ m or less is “C”
  • the plate thickness deviation is more than 10 ⁇ m is “C”.
  • the flatness of 5 ⁇ m or less is “A”
  • the flatness of more than 5 ⁇ m and 10 ⁇ m or less is “B”
  • the flatness of more than 10 ⁇ m and 15 ⁇ m or less is “C”
  • the flatness of more than 15 ⁇ m is “D”.
  • the arithmetic average roughness Ra of 0.4 ⁇ m or less is “A”
  • the arithmetic average roughness Ra is more than 0.4 ⁇ m and 0.6 ⁇ m or less is “B”
  • the arithmetic average roughness Ra is more than 0.6 ⁇ m and 8 ⁇ m or less is “A”.
  • Those exceeding 0.8 ⁇ m were evaluated as “C”
  • those exceeding 0.8 ⁇ m were evaluated as “D”.
  • the plate thickness deviation and flatness of the obtained glass blank material are reduced when the ratio ⁇ / L in the slicing step is 1 ⁇ m / mm or less.
  • Support rod 1a Outer part 1b Inner part 2 Adhesive layer 3 Work 3a Through hole 5 Wire 6, 7 Wire tool 8 Wire tool part 10 Glass blank material 20 Glass blank material manufacturing equipment 30 Rotating device 32 Drive device 34, 35 Bearing 40 Slicing device 42,43 Roller 44 Base 46,47 Guide

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Abstract

ガラスブランク材の製造方法は、回転させるステップと、スライスするステップとを備える。回転させるステップでは、支持棒とワークとを一体に回転させる。スライスするステップでは、互いに間隔をあけて引き揃えられた複数のワイヤそれぞれを、少なくとも一方の側に引っ張りながら、ワイヤとワークとの間に砥粒を介在させて、ワークの外周側面に相対的に押し付け、ワークをスライスする。スライスするステップにおける支持棒の撓み量δ[μm]の支持棒の有効長さL[mm]に対する比δ/Lは、1以下である。

Description

ガラスブランク材の製造方法、及びガラスブランク材製造装置
 本発明は、ガラスブランク材の製造方法、及びガラスブランク材製造装置に関する。
 従来より、磁気ディスク用基板として、ガラス基板やアルミニウム合金基板が用いられている。これらの基板には、磁性膜が基板主表面に形成されて磁気ディスクが形成される。磁気ディスクは、表面欠陥が少なく、情報の読み取り書き込みに支障が無く、大量の情報の読み取り書き込みが可能なことが望まれている。また、ハードディスクドライブ装置(以下、HDDという)における記憶容量の増大の要請を受けて、磁気記録の高密度化が図られている。
 近年、ハードディスクドライブ業界では、磁気ディスクにおける磁性粒子の微細化が限界に近づいており、従来のような記録密度の向上スピードに陰りが見られている。他方、ビックデータ解析などのため、HDDに対する記憶容量の増大化の要求はますます激しくなっている。そのため、HDD1台に搭載される磁気ディスクの枚数を増やすことが検討されている。
 HDDに組み込む磁気ディスクの枚数を増大することで記憶容量の増大化を図る場合、HDD内の限られた空間内で磁気ディスクの厚さのうち大部分を占める磁気ディスク用基板の板厚を薄くする必要がある。ここで、板厚を薄くすると、基板の剛性が低下し、回転する磁気ディスクとその周りの気体(空気あるいはヘリウムガス)の流れによって生じるフラッタ振動が発生しやすくなる。このため、剛性の高い材料を用いて板厚の薄い基板を作製することが検討されている。
 ところで、半導体ウエハ製造の分野において、半導体材料からなるワークから複数のプレートを同時に切断する技術として、ダイヤモンドの切断粒子でワイヤを被覆したワイヤソーを、ワークを回転させながら、ワークの長手方向と垂直な方向にワークに対し相対移動させる方法が知られている(特許文献1)。特許文献1には、ワークを回転させるため、中空のワークの内周面をロッド等の支持体と接合することが記載されている。
特開2001-191245号公報
 ガラス製のワークから複数の板状のブランク材を同時に切断するために、円筒状のガラス製のワークを支持棒の回り回転させながら、切断粒子で被覆されたワイヤを用いてワークをスライスすると、切り出されたガラスブランク材それぞれにおいて、板厚の偏差が大きく、また、平坦度が大きくなる場合があることがわかった。
 そこで、本発明は、ガラス製のワークをスライスして複数の板状のブランク材を製造する際に、ブランク材それぞれの面内の板厚偏差及び平坦度を小さくすることができるガラスブランク材の製造方法、及びガラスブランク材製造装置を提供することを目的とする。
 本発明の一態様は、ガラスブランク材の製造方法である。
 ガラスブランク材の製造方法は、
 回転軸線を有する支持棒と、前記支持棒に支持され、前記回転軸線に沿って円柱状に延びるガラス製のワークとを、前記回転軸線の回りに一体に回転させるステップと、
 前記回転軸線と直交する方向に延びるよう互いに間隔をあけて引き揃えられた複数のワイヤそれぞれを、前記ワイヤの延在方向に沿った少なくとも一方の側に引っ張りながら、前記ワイヤと前記ワークとの間に砥粒を介在させて前記ワイヤを、回転する前記ワークの外周側面に相対的に押し付け、前記ワークをスライスするステップと、を備え、
 前記スライスするステップにおける前記支持棒の撓み量δ[μm]の前記支持棒の有効長さL[mm]に対する比δ/Lは、1以下である、ことを特徴とする。
 前記スライスするステップにおける前記支持棒の撓み量は、前記ワークをスライスして得られるガラスブランク材の板厚の偏差が5μm以下、前記ガラスブランク材の主表面の平坦度が10μm以下となるよう調整されている、ことが好ましい。
 前記有効長さLを200~600[mm]、前記ワイヤのうち前記回転軸線方向の両端に位置する2本のワイヤの前記回転軸線方向の間に位置する前記ワークの部分の長さbを150~550[mm]としたとき、前記比δ/Lは、1以下である、ことが好ましい。
 前記支持棒のヤング率は、前記ワークのヤング率より大きい、ことが好ましい。
 前記ワークは、ヤング率が90[GPa]以上のガラス材料からなる場合に好適である。
 前記ワイヤが押し付けられる部分における前記ワークの回転方向は、前記ワイヤが引っ張られる方向と反対方向である、ことが好ましい。
 前記ワークは、前記回転させるステップにおいて前記支持棒が貫通して配置される貫通孔を有し、
 前記回転軸線と直交する方向の前記貫通孔及び前記支持棒の断面形状は、非円形である、ことも好ましい。
 前記ワークを支持する前記支持棒の表面は粗面化処理されている、ことも好ましい。
 前記ワークは、前記支持棒との間に介在する接着剤により前記支持棒に接合されている、ことが好ましい。
 前記ワークと前記支持棒との間に前記接着剤からなる接着剤層が形成され、
 前記スライスするステップにおいて、前記ワイヤは、前記接着剤層内に達するよう前記支持棒の側に押し付けられる、ことが好ましい。
 前記支持棒は、回転軸線に沿って延びる空洞が設けられた中空の部材であり、
 前記スライスするステップでは、前記空洞内に冷却媒体を供給しながら前記ワイヤの押し付けを行う、ことも好ましい。
 前記スライスするステップでは、前記ワイヤを、前記ワイヤの延在方向に沿った第1の方向に引っ張った後、前記第1の方向と反対側の第2の方向に引っ張ることを繰り返し行い、
 前記第2の方向への前記ワイヤの移動距離は、前記第1の方向への前記ワイヤの移動距離より短い、ことが好ましい。
 前記支持棒は、前記回転軸線と直交する方向に沿って、前記ワークを支持する表面が位置する外側部分と、前記外側部分よりも前記回転軸線の側に位置する内側部分とを有し、
 前記外側部分は、前記内側部分より被削性が良い、ことも好ましい。
 前記ワークを第1のワークというとき、
 前記回転させるステップでは、前記回転軸線に沿って円柱状に延びるガラス製の少なくとも1つの第2ワークが、前記第1のワークに加えて前記支持棒に支持され、前記支持棒、前記第1のワーク、及び前記第2ワークを前記回転軸線の回りに一体に回転させ、
 前記ワイヤと前記第1のワーク及び前記第2のワークとの間に前記砥粒を介在させて前記ワイヤを、回転する前記第1のワーク及び前記第2のワークの外周側面に相対的に押し付け、前記第1のワーク及び前記第2のワークをスライスする、ことが好ましい。
 前記第1のワーク及び前記第2のワークは合計3個であってもよく、例えば、合計5個以下である。
 本発明の別の一態様は、ガラスブランク材製造装置である。
 ガラスブランク材製造装置は、
 回転軸線を有する支持棒と、前記支持棒に支持され、前記回転軸線に沿って円柱状に延びるガラス製のワークとを、前記回転軸線の回りに一体に回転させるよう構成された回転装置と、
 前記回転軸線と直交する方向に互いに間隔をあけて引き揃えられた複数のワイヤそれぞれを、前記ワイヤの延在方向に沿った少なくとも一方の側に引っ張りながら、前記ワイヤと前記ワークとの間に砥粒を介在させて前記ワイヤを前記ワークの外周側面に相対的に押し付け、回転する前記ワークをスライスするよう構成されたスライス装置と、を備え、
 前記ワークがスライスされる間の前記支持棒の撓み量δ[μm]の前記支持棒の有効長さL[mm]に対する比δ/Lは、1以下である、ことを特徴とする。
 上述のガラスブランク材の製造方法、及びガラスブランク材製造装置によれば、ガラス製のワークをスライスして複数の板状のブランク材を製造する際に、ブランク材それぞれの面内の板厚偏差及び平坦度を小さくすることができる。
(a),(b)は、ワーク及びワイヤを示す図であり、(c)は、複数のガラスブランク材を示す図である。 (a),(b)は、支持棒の撓み量の変化率が調整されない状態でスライスするステップを行った場合のワークのスライス方向を説明する図である。 支持棒の撓み量の計算に用いられる要素を示す図である。 本実施形態のガラスブランク材製造装置の一例を示す概略図である。 ガラスブランク材製造装置のワイヤの一例を示す概略図である。 スライス終了時点におけるワイヤの位置を示す図である。 スライス終了時点におけるワイヤの位置を示す図である。
 以下、本発明のガラスブランク材の製造方法、及びガラスブランク材製造装置について詳細に説明する。
(ガラスブランク材の製造方法の概略)
 本実施形態のガラスブランク材の製造方法は、ワークを回転させるステップ(以降、回転させるステップという)と、ワークをスライスするステップ(以降、スライスするステップという)と、を備える。
 回転させるステップでは、回転軸線を有する支持棒と、支持棒に支持され、回転軸線に沿って円柱状に延びるガラス製のワークとを、回転軸線の回りに一体に回転させる。
 スライスするステップでは、回転軸線と直交する方向に延びるよう互いに間隔をあけて引き揃えられた複数のワイヤそれぞれを、ワイヤの延在方向に沿った少なくとも一方の側に引っ張りながら、ワイヤとワークとの間に砥粒を介在させてワイヤを、回転するワークの外周側面に相対的に押し付け、ワークをスライスする。
 本実施形態の製造方法では、スライスするステップにおける支持棒の撓み量δ[μm]の支持棒の有効長さL[mm]に対する比δ/Lは、1以下である。
 スライスするステップにおいて、ワイヤをワークに相対的に押し付けることでワーク及び支持棒にかかる荷重は、スライスされたワークの径方向の長さ(切り込み長さ)が増すにつれワークの剛性が低くなることによって、支持棒に相対的に大きくかかる。ワークをスライスする際に、支持棒が大きな荷重を受けて撓むと、ワイヤによってワークが切断される方向(切り込み方向)が変化し、この結果、ガラスブランク材のそれぞれの面内の板厚偏差及び平坦度が悪化する。本実施形態の製造方法では、スライスするステップにおける比δ/Lが1μm/mm以下であり、ワークがスライスされる間の支持棒の撓みが抑制される。このため、スライス方向(切り込み方向)が変化することが抑制され、得られたガラスブランク材それぞれの面内の板厚偏差及び平坦度が小さくなる。
(ガラスブランク材の製造方法)
 図1は、本実施形態の製造方法を説明する図である。図1(a)は、スライス開始時点におけるワーク3及びワイヤ5を示す図であり、図1(b)は、スライス終了時点におけるワーク3及びワイヤ5を示す図であり、図1(c)は、スライスされた複数のガラスブランク材10を示す図である。
(回転させるステップ)
 回転させるステップでは、回転軸線Xを有する支持棒1と、支持棒1に支持され、回転軸線Xに沿って円柱状に延びるガラス製のワーク3とを、回転軸線Xの回りに一体に回転させる。回転させるステップは、スライスするステップを行う間、行われる。
 支持棒1は、ワーク3を支持する部材である。支持棒1には、上記比δ/Lが1μm/mm以下となるようヤング率E及び断面二次モーメントIが調整されていることが好ましい。支持棒1のヤング率E及び断面二次モーメントIは、後で説明する。図1には、支持棒1の一部が示されている。
 回転軸線Xは、支持棒1の長手方向と平行な方向に延び、支持棒1の径方向の中心を通る。
 ワーク3は、回転軸線Xに沿って円柱状に延びる円柱形状の部材である。これにより、ワーク3から、円板形状の複数のガラスブランク材10を作製することができる。
 ワーク3の材料となるガラスには、アルミノシリケートガラス、ソーダライムガラス、ボロシリケートガラスなどの、アモルファスガラス、結晶化ガラスが用いられる。特に、必要に応じて化学強化を施すことができ、また、主表面の平坦度及び基板の強度において優れたガラスブランク材を作製することができる点で、アモルファスのアルミノシリケートガラスを好適に用いることができる。
 ワーク3の直径は、好ましくは90mm以上である。これにより、ガラスブランク材10を磁気ディスク用基板とした場合に、記憶容量の増大化を図ることができる。なお、磁気ディスク用基板が公称3.5インチサイズである場合、ワーク3の直径は、例えば105mm以下である。
 ワーク3の回転軸線X方向の長さ(円柱の高さ)は、好ましくは50mm以上であり、より好ましくは200mm以上である。これにより、ワーク3からより多くのガラスブランク材10が得られ、ガラスブランク材10の生産性が向上する。ワーク3の回転軸線X方向の長さは、例えば、600mm以下である。
 回転させるステップでは、支持棒1とワーク3とを回転軸線Xの回りに一体に回転させる。このため、ワーク3をスライスするために必要な切り込み長さが、ワークを静止した状態でスライスする場合の略半分の長さで済み、ワーク3をスライスする時間を短縮できる。これにより、ガラスブランク材10の生産性が向上する。
 また、ワークをスライスするための切り込み長さが長いと、ガラスブランク材となるワーク内の板状の部分の自重により起きるスライス中の歪みや揺れにより、得られたガラスブランク材の板厚偏差及び平坦度が悪化するおそれがある。本実施形態では、上述のようにワーク3をスライスするための切り込み長さが短いため、ワーク3内の板状の部分のスライス中の歪みや揺れによって、得られたガラスブランク材の板厚偏差及び平坦度が悪化することを抑制できる。
 さらに、ワークを静止した状態でスライスするステップを行うと、ワークの切り込み長さが長くなるにつれ、ガラスブランク材となるワーク内の板状の部分が倒れこむようにワークの径方向に対して傾斜しやすくなる。このような倒れこみが生じると、ワイヤがワークに対し相対的に移動する方向が一定であるために、得られたガラスブランク材の内周側の部分に反りやうねりが発生する。本実施形態では、ワーク3を回転させながらスライスを行うので、ワーク3に遠心力が作用することでワーク3内の板状の部分は倒れこみ難く、ワーク3の径方向に「立った」状態となりやすい。このため、反りやうねりの発生を抑制できる。
 加えて、本実施形態では、ワーク3を回転させながらスライスを行うので、ワークを回転させずにスライスしつつワイヤの延在方向がスライス面内で変化するようにワイヤを揺動させることを行った場合と同様の効果が得られる。すなわち、後述するワイヤ工具により加工されることで、得られたガラスブランク材10の主表面に跡が残ることを防止できる。
(スライスするステップ)
 スライスするステップでは、回転軸線Xと直交する方向Yに延びるよう互いに間隔をあけて引き揃えられた複数のワイヤ5それぞれを、ワイヤ5の延在方向に沿った少なくとも一方の側に引っ張りながら、ワイヤ5とワーク3との間に砥粒(図示せず)を介在させてワイヤ5を、回転するワーク3の外周側面に相対的に押し付け、ワーク3をスライスする。このような方法を用いることにより、板厚の薄い複数のガラスブランク材10を同時に製造でき、ガラスブランク材10の生産性が向上する。
 ワイヤ5は、鋼等の金属材料からなる線材である。ワイヤ5の線径は、ワーク3の削り代を少なくするとともに、より多くのガラスブランク材10を切り出せるよう、好ましくは200μm以下である。一方、ワイヤ5の線径は、引っ張られて移動するワイヤ5の走行速度が高い場合であっても断線しないよう、好ましくは50μm以上である。
 回転軸線X方向にワイヤ5が隣り合う間隔(ピッチ)は、例えば、ガラスブランク材10を磁気ディスク用基板とする場合は、目標とする基板の板厚を考慮して定められる。例えば、ガラスブランク材10から0.50mmの板厚の基板を作製し、その際に行われる研削や研磨により生じる主表面の取り代を0.06mmとし、0.56mmの板厚のガラスブランク材10を作製する場合において、ワイヤ5の線径が0.18mmであると、ピッチは0.74mmに定められる。
 ワーク3がスライスされる間、ワイヤ5とワーク3との間には砥粒が介在している。砥粒は、ワイヤ5の表面に固定された固定砥粒であってもよく、ワイヤ5の表面、あるいは、ワイヤ5とワーク3との間にスラリーとして供給される遊離砥粒であってもよいが、ワーク3を速くスライスでき、ガラスブランク材の生産性を向上させることができる点で、固定砥粒であることが好ましい。以降の説明では、砥粒が固定砥粒である場合を例に説明する。以降の説明では、表面に固定砥粒が固定されたワイヤ5をワイヤ工具6ともいう。
 砥粒には、切削能力に優れ、ワーク3を速くスライスできる点で、単結晶ダイヤモンド、多結晶ダイヤモンド(PCD)、グリーンカーボナイト(GC)等の粒子からなる砥粒が用いられる。砥粒は、ワイヤ5の表面を被覆する金属あるいは樹脂の層に保持されることで、ワイヤ5に固定されている。砥粒には、平均粒径が3~35μmのものが好ましく用いられる。ワイヤ工具6の単位表面あたりの砥粒の密度は、好ましくは1000~5000個/mm2である。
 スライスするステップにおいて、ワイヤ工具6は、好ましくは700m/分以上、より好ましくは900m/分以上の速度で延在方向(Y方向)に走行するよう引っ張られる。このような速さで走行させることで、ワイヤ工具6を、目標とするワーク3の切削位置に対して回転軸線X方向にずれ(横ずれ)ることを抑制し、ガラスブランク材10の板厚偏差及び平坦度が大きくなることを抑制できる。一方、ワイヤ工具6の走行速度は、断線が生じないよう、3000m/分以下であることが好ましい。
 スライスするステップでは、例えば、ワーク3が、回転軸線X方向及びワイヤ工具6の延在方向(Y方向)と直交する方向(Z方向)に、ワイヤ工具6に対し相対的に移動することで、ワーク3はワイヤ工具6の外周側面に押し付けられる。スライスするステップでは、ワーク3のZ方向への移動速度を制御することで、ワーク3のワイヤ工具6に対する押付力が調整される。具体的に、ワーク3の移動速度は、ワーク3がワイヤ工具6の外周側面に接触してから、スライスされたワーク3の長さ(切り込み長さ)が所定長さに達するまでの間、徐々に速められる。このようにワーク3の移動速度を制御することにより、ワーク3のスライス開始時点におけるワーク3の押付力を小さくして、ワーク3の目標とする切断位置に精度よく切れ込みを形成することができる。次いで、速められたワーク3の移動速度は、設定された範囲内に保たれる。このとき、ワイヤ工具6は、ワーク3の押付力を受けて撓み、一定程度の張力が発生した状態(以降、定常状態という)を保つ。このような定常状態を維持するようワーク3の移動速度は設定された範囲内に保たれ、ワーク3のスライスが行われる。なお、ワーク3のスライスに要する所要時間は、ガラスブランク材10の生産性を高める観点から、例えば、直径105mmのワーク3をスライスする場合は90分以内である。このワーク3の内径(後述する貫通孔3aの直径)が20mmである場合、ワーク3がスライスされる速度は0.47mm/分以上である。
 スライスするステップにおける比δ/Lは、上述したように、1μm/mm以下(0.001以下)である。本発明者の検討によれば、比δ/Lがこの範囲内に調整されていることで、スライスするステップにおいて、ワーク3がスライスされる方向が変化することが抑えられ、得られたガラスブランク材10それぞれの面内の板厚偏差及び平坦度を小さくできるという知見が得られた。比δ/Lが1μm/mmを超えると、スライスするステップにおいて、ワーク3がスライスされる方向の変化が大きくなり、これに伴って、ガラスブランク材の板厚偏差及び平坦度が大きくなってしまう。このことを、図2を参照しながら説明する。図2は、比δ/Lが上記範囲内に調整されていない状態で、スライスするステップを行った場合のワークのスライス方向を説明する図であり、図2(a)では、スライス初期におけるスライス方向を矢印で示し、図2(b)では、スライス終期におけるスライス方向を矢印で示す。図2(a),(b)において、支持棒より下方に位置するワークの部分の図示は省略されている。比δ/Lが調整されていない状態でスライスするステップを行った場合、スライス初期(例えば、切り込み長さがワークの半径の50%に達するまでの期間)においては、ワーク3の切り込み長さが短く、ワーク3の剛性が高いので、ワーク3及び支持棒1が撓むことはなく、図2(a)に示すように、ワーク3のスライス方向は、回転軸線Xと直交している。しかし、スライス終期(例えば、切り込み長さがワークの半径の70%に達して以降の期間)には、ワーク3の切り込み長さが長く、ワーク3の剛性が低下しているため、ワーク3の押し付けによって支持棒1がワイヤ工具6から受ける反力の大きさが相対的に大きくなり、図2(b)に示すように、支持棒1は撓んでしまう。ワーク3の移動方向はスライスするステップの間変わらないため、支持棒1の撓みに伴ってワーク3が撓むことで、ワーク3のスライス方向が、ワーク3の長手方向(円柱の高さ方向)と直交する方向に対して傾斜し、スライス初期のスライス方向から変化してしまう。このようなスライス方向の変化は、切り込み長さが長くなるにつれ顕著となり、得られたガラスブランク材の特に内周側の部分において反りを生じさせる。このため、ガラスブランク材の平坦度が大きくなってしまう。また、スライス方向が傾斜したことで、ガラスブランク材の板厚が外周側の部分と内周側の部分との間で不均一となり、板厚偏差も大きくなってしまう。
 支持棒1の撓み量δ[mm]は、例えば、図3に示すように、支持棒1のヤング率をE[N/mm2]、支持棒1の断面二次モーメントをI[mm4]、ワーク3の両側で支持棒1を支持する支持端(例えば後述する軸受)の間隔L[mm]、複数のワイヤ工具6のうち回転軸線X方向の両端に位置する2本のワイヤ工具6の回転軸線X方向の間に位置するワーク3の部分の長手方向(円柱の高さ方向)の長さをb[mm]、支持端とワーク3との間隔をa[mm]、ワイヤ工具6のワーク3に対する、ワーク3の長手方向の単位長さあたりの押付力をW[N/mm]としたとき、下記式で計算される。
 δ=1/48EI×{6MA2-RA3+2W(L/2-a)4
式中、
 MA=Wb/24L2×{3L3+b2(2L-6a-3b)}
 RA=Wb/2
である。
 Lは、支持棒1の有効長さであり、図3に示す例において、支持棒1の内法長さである。
 なお、支持棒1は、図3に示す例において、ワーク3の両側の支持端において回転支持(両端固定)されているが、ワーク3の片側の支持端により回転支持(片端固定)されていてもよい。すなわち、支持棒1は、ワーク3の他方の側において回転支持されていなくてもよい。この場合の支持棒1の有効長さLは、支持端のワーク3側の端からワーク3側に延びる支持棒1の部分の長さである。
 比δ/Lは、ガラスブランク材10の板厚偏差及び平坦度を小さくする観点から、好ましくは0.67μm/mm以下、より好ましくは0.33μm/mm以下である。
 本実施形態のガラスブランク材の製造方法によれば、得られたガラスブランク材10それぞれの板厚偏差及び平坦度を小さくすることができる。板厚偏差及び平坦度の小さいガラスブランク材10を用いて磁気ディスク用基板を作製すると、主表面の研削処理及び研磨処理における削り代が低減されるので、磁気ディスク用ガラス基板の生産性が向上する。
 本実施形態の製造方法により得られるガラスブランク材10の板厚偏差(最大板厚と最小板厚の差)は、具体的に、5μm以下であり、好ましくは2μm以下である。
 また、本実施形態の製造方法により得られるガラスブランク材10の平坦度は、具体的に、10μm以下であり、好ましくは5μm以下である。本明細書において、ガラスブランク材10の平坦度は、JIS B0621-1984に準拠した平面度を意味する。
 また、本実施形態のガラスブランク材の製造方法によれば、ワーク3を回転させながらスライスを行うので、ワーク3を回転させずにスライスを行った場合と比べ、得られたガラスブランク材の表面性状が良好である。表面性状が良好なガラスブランク材10も、主表面の研削処理及び研磨処理における削り代が低減されるので、磁気ディスク用ガラス基板を作製する際の生産性が向上する。具体的に、本実施形態の製造方法により得られるガラスブランク材10の算術平均粗さRaは、0.6μm以下であり、好ましくは0.3μm以下である。本明細書において、ガラスブランク材10の算術平均粗さRaは、JIS B0601:2001に準拠して、スタイラス(触針)を用いた触針式粗さ計(接触式粗さ測定機)により測定される。
 本実施形態のガラスブランク材の製造方法は、以下に説明するガラスブランク材製造装置を用いて行うことができる。
(ガラスブランク材製造装置)
 図4に、本実施形態の一例に係るガラスブランク材製造装置20の概略を示す。
 ガラスブランク材製造装置20は、回転装置30と、スライス装置40と、を備える。
 回転装置30は、支持棒1とワーク3とを回転軸線Xの回りに一体に回転させるよう構成されている。支持棒1及びワーク3は、上記説明した支持棒1及びワーク3と同様に構成される。回転装置30は、支持棒1に、回転軸線X回りに回転する動力を供給する駆動装置32と、軸受34,35とを有している。軸受34,35は、回転軸線X方向に互いに間隔L[mm]をあけてワーク3の両側に配置されており、ワーク3の回転軸線Xの両側において支持棒1の回転を支持する。
 スライス装置40は、複数のワイヤ工具部分8それぞれを、ワイヤ工具部分8の延在方向に沿った少なくとも一方の側に引っ張りながら、ワイヤ工具部分8とワーク3との間に砥粒を介在させてワイヤ工具部分8をワーク3の外周側面に相対的に押し付け、回転するワーク3をスライスするよう構成されている。ワイヤ工具部分8は、上記説明したワイヤ工具6と同様に構成される。
 スライス装置40は、図5に示すように、回転軸線Xと平行な回転軸線X1,X2の回りに回転駆動する2本のローラ42,43を備える。図5に示す例において、ワイヤ工具7は、ローラ42,43の間に掛け渡されるようローラ42,43に巻き付けられている。図5に示すスライス装置40において、ワーク3は、ワイヤ工具7のうち、回転軸線Xと直交する方向に延びるよう互いに間隔をあけて引き揃えられた複数の部分8(図7中、破線の囲み内に位置するワイヤ工具7の部分)に押し付けられる。
 ローラ42,43は、図示されない駆動装置により、回転軸線X1,X2の回りに回転駆動するよう回転駆動される。この駆動装置は、ローラ42を、図5において反時計回りに回転駆動する(正転させる)ことで、複数のワイヤ工具部分8(図7の破線の囲み内のワイヤ工具7の部分)を、ローラ42に巻き取るように引っ張ること、及び、ローラ43を、図5において時計回りに回転駆動する(逆転させる)ことで、複数のワイヤ工具6を、ローラ43に巻き取るように引っ張ること、を交互に行うよう構成されている。
 スライス装置40は、さらに、基台44を備える。基台44には、回転装置30が固定配置されている。基台44は、図示されない昇降装置により、ガイド46,47に沿ってZ方向に昇降するよう駆動制御される。図4に示す例のガラスブランク材製造装置20では、基台44を所定の速度で上昇するよう駆動制御することで、ワーク3を複数のワイヤ工具部分8に押し付け、スライスを行う。
 図4に示す例のガラスブランク材製造装置20において、支持棒1、軸受34,35、及びワーク3は、ローラ42,43の上端同士の間に掛け渡された複数のワイヤ工具部分8と、ローラ42,43の下端同士の間に掛け渡された複数のワイヤ工具部分8との間の上下方向(Z方向)の領域内に配置される。
 ガラスブランク材製造装置20は、ワイヤ工具部分8との摩擦により発熱するワーク3を冷却するための冷却媒体(例えばクーラント)をワーク3に供給する図示されない供給装置をさらに備える。
 本実施形態のガラスブランク材の製造方法の説明に戻り、スライスするステップにおける支持棒1の撓み量δは、得られるガラスブランク材10それぞれの面内の板厚の偏差が5μm以下、ガラスブランク材の主表面の平坦度が10μm以下となるよう、調整されていることが好ましい。
 比δ/Lは、例えば、支持棒1の曲げ剛性を調整することにより調整される。支持棒1の曲げ剛性は、支持棒1のヤング率E及び断面二次モーメントIの調整を調整することにより調整される。
 支持棒1のヤング率Eは、支持棒1の撓み量δあるいは比δ/Lを小さくする観点から、好ましくは300GPa以上であり、より好ましくは450GPa以上である。このようなヤング率Eを持つ支持棒1の材質としては、例えば、金属、金属化合物、セラミック等が挙げられる。具体的には、鋼、ベリリウム、モリブデン、タングステン、超硬合金、ジルコニア、アルミナ、炭化タングステン、炭化ケイ素等が挙げられる。支持棒1のヤング率Eの上限は、特に制限されないが、750GPa以下である。このような材質の中でも、支持棒1の折れ難さに優れる点で、破壊靭性値(JIS R1617:2010)がアルミナより高いもの、具体的に3.5MPa・m1/2以上である材質が好ましい。
 支持棒1の断面二次モーメントIは、支持棒1の断面形状及び大きさを調整することにより調整することができる。
 支持棒1の好ましい断面形状として、円、正多角形、その他の形状が挙げられる。正多角形としては、例えば、正三角形、正方形、正五角形、正六角形等が挙げられる。その他の形状としては、十字形状等が挙げられる。支持棒1の断面形状は、ワーク3の回転に伴って発生するワーク3の振動を抑制する観点から、このような回転対称な形状であることが好ましい。
 支持棒1の大きさは、具体的に、支持棒1の断面の最大長さを調整することにより調整され、支持棒1の断面形状が円である場合は、支持棒1の直径の調整により調整される。支持棒1の断面の最大長さは、支持棒1の曲げ剛性EIを高める観点から、好ましくは、ガラスブランク材10の貫通孔3aの直径との差が小さい長さであり、ガラスブランク材10から例えば直径25mmの円孔を備える磁気ディスク用基板を作製する際の取り代を考慮すると、好ましくは23.5mm以下、より好ましくは24mm未満である。
 また、支持棒1の撓み量δ及び比δ/Lは、支持棒1の曲げ剛性EIを調整することのほか、ワイヤ工具6のワーク3に対する押付力(荷重w(N))、支持棒1の有効長さL、支持棒1の支持端とワーク3との間隔a、及び、複数のワイヤ工具6のうち回転軸線X方向の両端に位置する2本のワイヤ工具6の回転軸線X方向の間に位置するワーク3の部分の長手方向(円柱の高さ方向)の長さbを調整することにより調整することもできる。このうち、荷重wは、例えば、ワーク3のZ方向への移動速度(切り込み速度)や、ワイヤ工具6にかかる張力を調整することにより調整することができる。
 支持棒1の有効長さLを200~600mm、複数のワイヤ工具6のうち回転軸線X方向の両端に位置する2本のワイヤ工具6の間隔(以降、ワイヤ幅ともいう)の回転軸線X方向の間に位置するワーク3の部分の長さbを150~550mmに定めるとき、スライスするステップにおける比δ/Lは1μm/mm以下に調整されていることが好ましい。これにより、ワーク3をスライスして得られるガラスブランク材10それぞれの板厚偏差及び平坦度を小さくすることができる。支持棒1の撓み量δは、好ましくは0.67μm/mm以下であり、より好ましくは0.33μm/mm以下である。
 支持棒1のヤング率Eは、ワーク3のヤング率Eより大きいことが好ましい。上述したように、スライスするステップでは、スライス終期において、支持棒1にかかる荷重が相対的に大きくなるが、支持棒1のヤング率Eがワーク3のヤング率Eより大きいことは、ガラスブランク材10の板厚偏差及び平坦度を小さくすることに寄与する。
 本実施形態の製造方法は、ワーク3が、ヤング率Eが90GPa以上のガラス材料からなる場合に好適である。このようなワーク3から切り出されるガラスブランク材10を用いると、剛性の高い磁気ディスク用基板を作製でき、薄くてもフラッタ振動が発生し難くなる。その反面、このようなワーク3は、スライスするために大きな荷重を要し、支持棒を撓ませるおそれがあるため、スライス終期におけるスライス方向の変化が発生しうる。しかし、本実施形態によれば、上述したように、支持棒1の撓み量の変化率が小さく、ワーク3がスライスされる間のスライス方向の変化が抑えられているため、ヤング率Eが上記範囲にあるワーク3を用いても、板厚偏差及び平坦度の小さいガラスブランク材10を得ることができる。ワーク3のヤング率Eは、好ましくは100GPa以上である。ヤング率Eの上限は特に設ける必要はないが、加工容易性の観点から例えば180GPaである。
 ヤング率Eが90GPa以上のガラス材料は、例えば以下のガラス組成によって得ることができる。
(ガラス1)
SiO2 56~80モル%、
Li2O 1~10モル%、
23 0~4モル%、
MgOとCaOの合計含有量(MgO+CaO) 9~40モル%、
である。
 ガラス1の比重は2.75g/cm3以下、ガラス転移温度Tgは650℃以上である。
(ガラス2)
SiO2 56~80モル%、
Li2O 1~10モル%、
2 0~4モル%、
MgOとCaOの合計含有量(MgO+CaO) 9~40モル%、
であり、
Al2含有量に対するSiO2とZrO2の合計含有量のモル比((SiO2+ZrO2)/Al2)が2~13、
である。
ガラス2のガラス転移温度Tgは650℃以上である。
(ガラス3)
モル%表示にて、
SiO 56~65%、
Al 5~20%、
 0~4%、
MgO 3~28%、
LiO 1~10%、
であり、
SiOとAl の合計含有量(SiO+Al) 65~80%、
MgOとCaOの合計含有量(MgO+CaO) 11~30%、
MgO、CaO、SrOおよびBaOの合計含有量(MgO+CaO+SrO+BaO) 12~30%、
MgO含有量、0.7×CaO含有量、LiO含有量、TiO含有量およびZrO含有量の和(MgO+0.7CaO+LiO+TiO+ZrO) 16%以上、
5×LiO含有量、3×NaO含有量、3×KO含有量、2×B含有量、MgO含有量、2×CaO含有量、3×SrO含有量およびBaO含有量の和(5LiO+3NaO+3KO+2B+MgO+2CaO+3SrO+BaO) 32~58%、
SiO含有量、Al含有量、B含有量、P含有量、1.5×NaO含有量、1.5×KO含有量、2×SrO含有量、3×BaO含有量およびZnO含有量の和(SiO+Al+B+P+1.5NaO+1.5KO+2SrO+3BaO+ZnO) 86%以下、及び
SiO含有量、Al含有量、B含有量、P含有量、NaO含有量、KO含有量、CaO含有量、2×SrO含有量および3×BaO含有量の和(SiO+Al+B+P+NaO+KO+CaO+2SrO+3BaO) 92%以下、
であり、
MgO含有量に対するCaO含有量のモル比(CaO/MgO)が2.5以下、
LiO含有量に対するNaO含有量のモル比(NaO/LiO)が5以下、
MgOとCaOの合計含有量に対するLiO含有量のモル比(LiO/(MgO+CaO))が0.03~0.4、
LiO、NaOおよびKOの合計含有量に対するSiO含有量のモル比(SiO/(LiO+NaO+KO))が4~22、
Al に対するSiOとZrOの合計含有量のモル比((SiO+ZrO)/Al )が2~10、
MgOとCaOの合計含有量に対するTiOとAlの合計含有量のモル比((TiO+Al)/(MgO+CaO))が0.35~2、
MgO、CaO、SrOおよびBaOの合計含有量に対するMgOとCaOの合計含有量のモル比((MgO+CaO)/(MgO+CaO+SrO+BaO))が0.7~1、MgO、
CaO、SrOおよびBaOの合計含有量に対するBaO含有量のモル比(BaO/(MgO+CaO+SrO+BaO))が0.1以下、
、SiO、AlおよびPの合計含有量に対するP含有量のモル比(P/(B+SiO+Al+P))が0.005以下、
であり、
 ガラス転移温度が670℃以上かつヤング率が90GPa以上、
 比重が2.75以下、
 100~300℃における平均線膨張係数が40×10-7~70×10-7/℃の範囲にある酸化物ガラス。
 ワーク3は、円柱形状の内部空間を有する型内に溶融ガラスを流し込み、冷却固化することで作製される。その際、型内に、内部空間に高さ方向に延びる棒状部材を配置しておくことで、円柱の高さ方向に延びる貫通孔3aを有するワーク3が作製される。貫通孔3aの径は、得られるガラスブランク材を用いて磁気ディスク用基板を作製する際に磁気ディスク用基板に形成される円孔の内径より0.2~0.5mm小さい孔径であることが好ましい。
 ワイヤ工具6に押し付けられる部分におけるワーク3の回転方向は、ワイヤ工具6が引っ張られる方向と反対方向であることが好ましい。これにより、ワイヤ工具6に押し付けられるワーク3の部分におけるワイヤ工具6とワーク3との相対速度を大きくすることができ、ワーク3をスライスする時間を短縮できる。これにより、ガラスブランク材10の生産性が向上する。ワイヤ工具6とワーク3との上記相対速度は、好ましくは700m/分以上であり、より好ましくは1000m/分以上である。一方、上記相対速度の上限は、例えば、3000m/分である。
 ワーク3の回転数は、好ましくは200回転/分以上であり、より好ましくは500回転/分以上である。一方、ワーク3の回転数は、ワーク3の回転に伴って発生するワーク3の振動を抑制する観点から、好ましくは1000回転/分以下である。
 ワイヤ工具6の走行速度は、好ましくは700m/分以上であり、より好ましくは1000m/分以上である。一方、ワイヤ工具6の走行速度は、走行中の断線を防ぐ観点から、好ましくは3000m/分以下である。
 ワーク3は、上述したように貫通孔3aを有し、回転軸線Xと直交する方向の貫通孔3a及び支持棒1の断面形状は、非円形であることが好ましい。これにより、ワーク3の回転軸線X回りの駆動時及び制動時におけるワーク3と支持棒1との間の滑りを抑えることができる。スライスするステップでは、例えば、ワイヤ工具6を引っ張る方向を反転させることを繰り返し行うため、これに応じて、ワーク3の回転方向も反転させることを繰り返し行う場合がある。ワーク3の駆動時及び制動時には支持棒1に大きなトルクがかかって、ワーク3と支持棒1との間で滑りが生じやすい。このような滑りが生じると、ワーク3が支持棒1に沿って横ずれするように支持棒1に対する位置がずれる場合があり、この結果、得られるガラスブランク材10の板厚偏差及び平坦度が悪化する場合がある。このような位置ずれの発生を抑えるため、ワーク3と支持棒1との間で滑りを抑制することは重要である。ワーク3の貫通孔3a及び支持棒1の好ましい断面形状として、例えば、正三角形、正方形、正五角形、正六角形等の正多角形や、十字形状が挙げられる。
 一方で、ワーク3の貫通孔3aの断面形状は、磁気ディスク用基板の円孔を形成する際の取り代を少なくできる点で、円が好ましい。ワーク3の貫通孔3aの断面形状が円である場合の、ワーク3の駆動及び制動に伴うワーク3と支持棒1との間の滑りを抑制するために、ワーク3を支持する支持棒1の表面は粗面化処理されていることが好ましい。支持棒1の粗面化は、例えば、ねじ切り法、溝切り法、ローレット法、スロット法、ブラスト法により行うことができる。
 ワーク3は、支持棒1との間に介在する接着剤により支持棒1に接合されていることが好ましい。これにより、ワーク3の駆動及び制動に伴うワーク3と支持棒1との間の滑りが抑制される。接着剤には、好ましくは支持棒1及びワーク3に対し脱着可能なものが用いられ、スライスするステップの後、有機溶媒等を用いて容易に除去できるものが好ましくは用いられる。このような接着剤は、例えば、フルウチ化学社製の「エレクトロンワックス」として入手できる。また、接着剤には、常温又は熱硬化型の接着剤が好ましく用いられる。
 一実施形態によれば、図6に示されるように、ワーク3と支持棒1との間に接着剤からなる接着剤層2が形成され、スライスするステップにおいて、ワーク3は、ワイヤ工具6が接着剤層2内に達するようワイヤ工具6に押し付けられることが好ましい。ワイヤ工具6が接着剤層2内で停止するようワーク3を移動させることで、隣り合うガラスブランク材10同士が支持棒1を介して互いに固定された状態を維持でき。得られたガラスブランク材10の取り扱いが容易になる。また、別のワーク3のスライスを行うために、支持棒1を再利用することができる。
 接着剤層2の厚さが厚すぎると、支持棒1に沿った方向の接着剤層2の厚みのムラ、あるいは支持棒1に沿ったワーク3の位置ずれが発生しやすく、ワーク3の回転に伴って発生するワーク3の振動が大きくなる場合がある。このため、接着剤層2の厚さは、好ましくは2mm以下、より好ましくは1.5mm以下である。一方、接着剤層2の厚さは、ワイヤ工具6の径より太いことが好ましく、例えば、200μm以上、50μm以上である。
 一実施形態によれば、支持棒1は、回転軸線Xに沿って延びる図示されない空洞が設けられた中空の部材であり、スライスするステップでは、空洞内に冷却媒体(例えば水、外気)を供給しながらワーク3の押し付けを行うことが好ましい。これにより、ワイヤ工具6とワーク3との摩擦によるワーク3の発熱を抑えることができる。
 スライスするステップでは、上述したように、ワイヤ工具6を、ワイヤ工具6の延在方向に沿った第1の方向に引っ張った後、第1の方向と反対側の第2の方向に引っ張ることを繰り返し行う場合に、第2の方向へのワイヤの移動距離は、第1の方向へのワイヤの移動距離より短いことが好ましい。ワイヤ工具6によるワーク3のスライスは、通常、数時間かけて行われ、その間、ワイヤ工具6の砥粒は、ワーク3との摩擦熱に晒されることで炭化しやすく、切削性能が低下しやすい。その結果、得られるガラスブランク材10の板厚偏差及び平坦度が悪化する場合がある。このため、砥粒の切削性能が許容レベル内に維持されるよう、上記態様でワイヤ工具6を引っ張ることを行い、性能の低下した砥粒を、より性能の高い砥粒で置き換えるようにワイヤ工具6の使用部分を段階的にずらしていくことができる。
 一実施形態によれば、図7に示されるように、支持棒1は、回転軸線Xと直交する方向に沿って、ワーク3を支持する表面が位置する外側部分1aと、外側部分1aよりも回転軸線Xの側に位置する内側部分1bとを有していることも好ましい。外側部分1aと内側部分1bとの直径の比は、例えば、1.1~2、1.2~1.8、1.3~1.6である。この形態において、外側部分1aは、内側部分1bより被削性が良い(被削性指数が高い)ことが好ましい。スライスするステップにおいて、ワイヤ工具6が外側部分1a内で停止するようワーク3を移動させることで、隣り合うガラスブランク材10を支持棒1を介して互いに固定された状態を維持できるとともに、内側部分1bを再利用することができる。このような硬度差を持つ支持棒1は、外側部分1aと内側部分1bを互いに異なる材料で作製することにより得られる。例えば、支持棒1に関して上述した金属、金属化合物、セラミック等を材質とする内側部分1bの外周に、内側部分1bの材質より被削性が良い金属、金属化合物、ガラス、セラミック等を材質とする外側部分1aを設けることで、上記硬度差を有する支持棒1が得られる。
 一方で、硬度が径方向に均一な支持棒1を用いてワーク3のスライスを行い、ワイヤ工具6が支持棒1内の位置で停止するようワーク3を移動させることで、隣り合うガラスブランク材10を支持棒1を介して互いに固定された状態が維持されるようワーク3をスライスできるとともに、硬くて安価な支持棒1を用いて本実施形態の製造方法を行うことで、ガラスブランク材10の生産コストを低減することができる。
 複数のワイヤ工具6のうち、回転軸線X方向の両端に位置する2本のワイヤ工具6の間隔(ワイヤ幅)は、ワーク3の長手方向の長さ(円柱の高さ)よりも長いことが好ましい。このようなワイヤ幅のワイヤ工具6を用いてワーク3のスライスを行うことにより、ワーク3からより多くのガラスブランク材10を取り出せ、生産性が向上する。
 一実施形態によれば、回転させるステップでは、複数のワーク3が支持棒1に支持され、支持棒1と複数のワーク3を回転軸線Xの回りに一体に回転させ、回転する複数のワーク3を、ワイヤ工具6に押し付け、複数のワーク3を同時にスライスすることが好ましい。ガラス製のワーク3は、長手方向の長さが長い円柱体を作製することが難しい。一方、一般的なスライス装置において、スライス装置のワイヤ幅は、ガラス製のワーク3と比べ長い。このため、複数のワーク3を支持棒1に支持した状態で同時にスライスすることで、ガラスブランク材10の生産性を高めることができる。一方で、上述したように比δ/Lを調整しない状態で複数のワーク3を同時にスライスすると、支持棒の両端に近いワークであるほど、また、支持棒の両端に近いワークの部分であるほど、支持棒の撓みに伴う回転軸線Xに対する支持棒の傾斜が大きくなるため、スライス方向の変化が顕著となる。このため、得られるガラスブランク材の板厚偏差及び平坦度が特に大きくなりやすい。しかし、本実施形態では、上述したように、スライスするステップにおいて、支持棒1の撓み量の変化率が小さいため、そのようなガラスブランク材の板厚偏差及び平坦度を小さくできる。この態様において、支持棒1に支持されるワーク3の数は、特に制限されないが、例えば、2~10個、3~5個である。
 本実施形態の製造方法により得られたガラスブランク材10に、例えば、次の各処理を施すことにより、磁気ディスク用基板を作製することができる。すなわち、(1)ガラスブランク材10に円形の内孔(円孔)をあける形状加工、(2)ガラスブランク材10の端面に面取り面を形成する端面面取り、(3)端面に面取り面が形成されたガラスブランク材10の主表面を研削する研削、及び、(4)当該主表面を研磨する研磨、の各処理である。
(1)形状加工では、例えば、円孔となるガラスブランク材10上の所定の輪郭形状に沿ってレーザ光の照射位置をガラスブランク材10に相対的に移動させ、輪郭線に沿ってガラスブランク材10を割断する方法(レーザスクライブ)により、ガラスブランク材10に円孔をあけることができる。形状加工は、場合によっては行われない。
(2)端面面取りでは、主表面と直交する側壁面と、側壁面と両側の主表面との間に、主表面に対して傾斜した面取り面を形成する。
(3)研削では、例えば、遊星歯車機構の両面研削装置を用いてガラスブランク材10の主表面に対して研削を行う。この場合、例えば固定砥粒を定盤に設けて研削する。研削は、場合によっては行われない。
(4)研磨では、遊離砥粒を用いて、定盤に張り付けられた研磨パッドを用いて研磨を行う。
(実施例、比較例)
 本発明の効果を調べるため、上記説明したガラスブランク材製造装置20を用いて、上記説明したガラスブランク材の製造方法を行い、得られたガラスブランク材の板厚偏差、平坦度、算術平均粗さRaを評価した。
 ワークには、下記組成のガラス4(ヤング率90GPa)から作製した、回転軸線X方向に延びる貫通孔を有するものを用いた。
(ガラス4)
 SiO、Alと、LiO、NaO、およびKOからなる群から選ばれる一種以上のアルカリ金属酸化物と、MgO、CaO、SrO、およびBaOからなる群から選ばれる一種以上のアルカリ土類金属酸化物と、ZrO、HfO、Nb、Ta、La、Y3、およびTiOからなる群から選ばれる一種以上の酸化物と、を含み、
SiO 50モル%以上、
Al 3モル%以上、
かつ、SiOとAlの合計含有量 70~85モル%、
LiOおよびNaOを含有し、LiO 4.3モル%以上、
NaO 5モル%以上、
かつLiOおよびNaOの合計含有量 24モル%以下、
前記アルカリ金属酸化物と前記アルカリ土類金属酸化物の合計含有量 8モル%以上、
 含有し、
 前記アルカリ金属酸化物と前記アルカリ土類金属酸化物の前記合計含有量に対する前記酸化物の合計含有量のモル比((ZrO+HfO+Nb+Ta+La+Y+TiO)/(LiO+NaO+KO+MgO+CaO+SrO+BaO))は0.035以上であり、
MgOおよびCaOを含み、
MgO 3モル%未満、
CaO 4モル%以下、
かつCaOの含有量に対するMgOの含有量のモル比(MgO/CaO)が0.130~0.700、
であるガラス。
 ワークの直径は105mm、長手方向の長さは、実施例1~3,5及び比較例1~3では150mmとし、実施例4では200mmとした。貫通孔の径は24mmとした。ワークは、常温硬化型のエポキシ樹脂系接着剤を表面に塗布した支持棒を、塗布後ワークの貫通孔内に挿入し、硬化させることで、支持棒に接合した。支持棒に取り付けたワークは1個である。
 支持棒には、表1に示す仕様のものを用いた。支持棒を回転支持する軸受間の間隔Lは、300mmとした。
 ワイヤ工具には、線径180μm、長さ300mの鋼製ワイヤ(ピアノ線)の表面に、平均粒径30μmのダイヤモンド粒子を、ニッケルめっき層により保持した電着ダイヤモンドワイヤを用いた。ワイヤ工具の隣り合う間隔(ピッチ)は0.75mmとした。ワイヤ幅は、ワークの長手方向長さより長くした。
 回転させるステップでは、支持棒を回転駆動することにより、ワイヤ工具と接触するワークの部分において、ワークの走行方向と反対向きにワークが回転するよう、ワイヤ工具の走行方向に応じてワークの回転方向を反転させることを繰り返し行った。スライス初期におけるワークの回転数を200m/分にし、スライス初期におけるワークとワイヤ工具との最大相対速度が1500m/分とした。
 スライスするステップでは、ワイヤ工具の走行速度を、制動、駆動、停止時を除いて、1000m/分にした。スライスするステップを行う間、ワイヤ工具を、一方の側に450m引っ張った後、他方の側に440m引っ張ることを繰り返し行った。
 スライスするステップでは、切り込み長さがワークの半径の5%に達した時点から定常状態でワークをワイヤ工具に押し付けた。定常状態でのワークのZ方向への移動速度(切込速度)は表1に示す速度とした。表中、「切込速度」は、ワークのZ方向への移動速度を表す。
 支持棒の材質は、実施例1,3~5では、超硬合金2(ヤング率400GPa)とし、比較例2,3では、SUS(ヤング率210GPa)とし、比較例1では、アルミニウム合金(ヤング率71GPa)とし、実施例2では、超硬合金1(ヤング率610GPa)とした。
 断面二次モーメントは、支持棒の直径を変えることで調整した。支持棒の断面形状は、実施例及び比較例のいずれも中実の円とした。支持棒の直径に関して、実施例1,2,4、比較例1,3では22mmとし、比較例2では20mmとし、実施例3では24mmとした。
 ガラスブランク材の板厚偏差、平坦度、及び算術平均粗さRaは、上記実施形態で説明した要領で測定した。
 この結果、板厚偏差が2μm以下だったものを「A」、2μmを超え5μm以下だったものを「B」、5μmを超え10μm以下だったものを「C」、10μmを超えたものを「D」、と評価した。
 また、平坦度が5μm以下だったものを「A」、5μmを超え10μm以下だったものを「B」、10μmを超え15μm以下だったものを「C」、15μmを超えたものを「D」、と評価した。
 さらに、算術平均粗さRaが0.4μm以下だったものを「A」、0.4μmを超え0.6μm以下だったものを「B」、0.6μmを超え、8μm以下だったものを「C」、0.8μmを超えたものを「D」、と評価した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
 実施例と比較例の対比からわかるように、スライスするステップにおける比δ/Lが1μm/mm以下であることで、得られたガラスブランク材の板厚偏差及び平坦度が小さくなることがわかる。
 以上、本発明のガラスブランク材の製造方法及びガラスブランク材製造装置について詳細に説明したが、本発明は上記実施形態及び実施例に限定されず、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々の改良や変更をしてもよいのはもちろんである。
1 支持棒
1a 外側部分
1b 内側部分
2 接着剤層
3 ワーク
3a 貫通孔
5 ワイヤ
6,7 ワイヤ工具
8 ワイヤ工具部分
10 ガラスブランク材
20 ガラスブランク材製造装置
30 回転装置
32 駆動装置
34,35 軸受
40 スライス装置
42,43 ローラ
44 基台
46,47 ガイド

Claims (15)

  1.  ガラスブランク材の製造方法であって、
     回転軸線を有する支持棒と、前記支持棒に支持され、前記回転軸線に沿って円柱状に延びるガラス製のワークとを、前記回転軸線の回りに一体に回転させるステップと、
     前記回転軸線と直交する方向に延びるよう互いに間隔をあけて引き揃えられた複数のワイヤそれぞれを、前記ワイヤの延在方向に沿った少なくとも一方の側に引っ張りながら、前記ワイヤと前記ワークとの間に砥粒を介在させて前記ワイヤを、回転する前記ワークの外周側面に相対的に押し付け、前記ワークをスライスするステップと、を備え、
     前記スライスするステップにおける前記支持棒の撓み量δ[μm]の前記支持棒の有効長さL[mm]に対する比δ/Lは、1以下である、ことを特徴とするガラスブランク材の製造方法。
  2.  前記スライスするステップにおける前記支持棒の撓み量は、前記ワークをスライスして得られるガラスブランク材の板厚の偏差が5μm以下、前記ガラスブランク材の主表面の平坦度が10μm以下となるよう調整されている、請求項1に記載のガラスブランク材の製造方法。
  3.  前記有効長さLを200~600[mm]、前記ワイヤのうち前記回転軸線方向の両端に位置する2本のワイヤの前記回転軸線方向の間に位置する前記ワークの部分の長さbを150~550[mm]としたとき、前記比δ/Lは、1以下である、請求項1又は2に記載のガラスブランク材の製造方法。
  4.  前記支持棒のヤング率は、前記ワークのヤング率より大きい、請求項1から3のいずれか1項に記載のガラスブランク材の製造方法。
  5.  前記ワークは、ヤング率が90[GPa]以上のガラス材料からなる、請求項1から4のいずれか1項に記載のガラスブランク材の製造方法。
  6.  前記ワイヤが押し付けられる部分における前記ワークの回転方向は、前記ワイヤが引っ張られる方向と反対方向である、請求項1から5のいずれか1項に記載のガラスブランク材の製造方法。
  7.  前記ワークは、前記回転させるステップにおいて前記支持棒が貫通して配置される貫通孔を有し、
     前記回転軸線と直交する方向の前記貫通孔及び前記支持棒の断面形状は、非円形である、請求項1から6のいずれか1項に記載のガラスブランク材の製造方法。
  8.  前記ワークを支持する前記支持棒の表面は粗面化処理されている、請求項1から7のいずれか1項に記載のガラスブランク材の製造方法。
  9.  前記ワークは、前記支持棒との間に介在する接着剤により前記支持棒に接合されている、請求項1から8のいずれか1項に記載のガラスブランク材の製造方法。
  10.  前記ワークと前記支持棒との間に前記接着剤からなる接着剤層が形成され、
     前記スライスするステップにおいて、前記ワイヤは、前記接着剤層内に達するよう前記支持棒の側に押し付けられる、請求項9に記載のガラスブランク材の製造方法。
  11.  前記支持棒は、回転軸線に沿って延びる空洞が設けられた中空の部材であり、
     前記スライスするステップでは、前記空洞内に冷却媒体を供給しながら前記ワイヤの押し付けを行う、請求項1から10のいずれか1項に記載のガラスブランク材の製造方法。
  12.  前記スライスするステップでは、前記ワイヤを、前記ワイヤの延在方向に沿った第1の方向に引っ張った後、前記第1の方向と反対側の第2の方向に引っ張ることを繰り返し行い、
     前記第2の方向への前記ワイヤの移動距離は、前記第1の方向への前記ワイヤの移動距離より短い、請求項1から11のいずれか1項に記載のガラスブランク材の製造方法。
  13.  前記支持棒は、前記回転軸線と直交する方向に沿って、前記ワークを支持する表面が位置する外側部分と、前記外側部分よりも前記回転軸線の側に位置する内側部分とを有し、
     前記外側部分は、前記内側部分より被削性が良い、請求項1から12のいずれか1項に記載のガラスブランク材の製造方法。
  14.  前記ワークを第1のワークというとき、
     前記回転させるステップでは、前記回転軸線に沿って円柱状に延びるガラス製の少なくとも1つの第2ワークが、前記第1のワークに加えて前記支持棒に支持され、前記支持棒、前記第1のワーク、及び前記第2ワークを前記回転軸線の回りに一体に回転させ、
     前記ワイヤと前記第1のワーク及び前記第2のワークとの間に前記砥粒を介在させて前記ワイヤを、回転する前記第1のワーク及び前記第2のワークの外周側面に相対的に押し付け、前記第1のワーク及び前記第2のワークをスライスする、請求項1から13のいずれか1項に記載のガラスブランク材の製造方法。
  15.  回転軸線を有する支持棒と、前記支持棒に支持され、前記回転軸線に沿って円柱状に延びるガラス製のワークとを、前記回転軸線の回りに一体に回転させるよう構成された回転装置と、
     前記回転軸線と直交する方向に互いに間隔をあけて引き揃えられた複数のワイヤそれぞれを、前記ワイヤの延在方向に沿った少なくとも一方の側に引っ張りながら、前記ワイヤと前記ワークとの間に砥粒を介在させて前記ワイヤを前記ワークの外周側面に相対的に押し付け、回転する前記ワークをスライスするよう構成されたスライス装置と、を備え、
     前記ワークがスライスされる間の前記支持棒の撓み量δ[μm]の前記支持棒の有効長さL[mm]に対する比δ/Lは、1以下である、ことを特徴とするガラスブランク材製造装置。
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