WO2021193543A1

WO2021193543A1 - 化合物、組成物、硬化物及び硬化物の製造方法

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Publication number: WO2021193543A1
Application number: PCT/JP2021/011735
Authority: WO
Inventors: 直美佐藤; 大樹三原; 良智竹内
Original assignee: 株式会社Adeka
Priority date: 2020-03-24
Filing date: 2021-03-22
Publication date: 2021-09-30
Also published as: JPWO2021193543A1; TW202146386A; CN115052861A; KR20220157365A

Abstract

本発明の目的は、感度、電気特性及び溶解性のバランスに優れたラジカル重合開始剤を形成可能な化合物を提供することにある。　本発明は、下記一般式（Ａ）で表される化合物、及びそれを含むラジカル重合開始剤である。式中、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６及びＲ^１７のうち１つ以上が水酸基を有する基であり、かつ、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６及びＲ^１７のうち１つ以上がオキシムエステル含有基である。Ｒ^１１がオキシムエステル含有基であることが好ましく、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３及びＲ^１６の少なくとも１つが水酸基を有する基であることも好ましい。

Description

化合物、組成物、硬化物及び硬化物の製造方法

　本発明は、感度、電気特性及び溶解性に優れたラジカル重合開始剤を形成可能な化合物に関するものである。

　液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置等の表示装置において、セルの上部と下部の基板間の距離を保持するためにスペーサが用いられている。

　上記スペーサとしては、感光性組成物を基板に塗布し、所定のマスクを介して露光した後現像することにより形成される柱状のスペーサ（以下、カラムスペーサと称する場合がある。）が知られている。また、近年、カラムスペーサ及びブラックマトリクスを１つのモジュールに統合し、遮光性を持たせたブラックカラムスペーサ（ＢＣＳ）が用いられている（特許文献１）。
　しかしながら、従来の感光性組成物の硬化物は、電気特性が低く、これをスペーサに用いて表示装置を形成した場合に表示不良が生じる場合があった。
　これに対して、特許文献２には、ラジカル重合開始剤として、水酸基を有する化合物を用いることで、電気特性の低下を抑制できることが記載されている。

特開２０１７－５３９４２号公報国際公開２０１９／０８８０５５号

　しかしながら、水酸基を有する化合物をラジカル重合開始剤として用いる場合、有機溶剤に対する溶解性が十分ではなく、感光性組成物の調製時間が長時間化する不具合、及び分散安定性が低下する不具合がある。

　本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、感度、電気特性及び溶解性のバランスに優れたラジカル重合開始剤を形成可能な化合物を提供することを主目的とする。

　本発明者らは上記課題を解決するために鋭意検討を行った結果、インドール骨格を有し、かつ、水酸基を有するオキシムエステル化合物が、感度、電気特性及び溶解性のバランスに優れたラジカル重合開始剤を形成可能となることを見出し、本発明を完成させるに至った。

　すなわち、本発明は、下記一般式（Ａ）で表される化合物（以下、化合物Ａと称する場合がある。）である。

（式中、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６及びＲ^１７は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、－ＯＲ^２０、－ＣＯＲ^２０、－ＯＣＯＲ^２０、－ＣＯＯＲ^２０、－ＳＲ^２０、－ＳＯＲ^２０、－ＳＯ_２Ｒ^２０、－ＮＲ^２１Ｒ^２２、－ＮＲ^２１ＣＯＲ^２２、－ＣＯＮＲ^２１Ｒ^２２、下記一般式（１）で表される基、炭素原子数１～２０の無置換若しくは置換基を有している脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の無置換若しくは置換基を有している芳香族炭化水素環含有基、若しくは、炭素原子数２～２０の無置換若しくは置換基を有している複素環含有基、又は、上記脂肪族炭化水素基、上記芳香族炭化水素環含有基若しくは上記複素環含有基中のメチレン基の１つ以上が下記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられた基を表し、
　Ｒ^１３は、炭素原子数１～２０の無置換若しくは置換基を有している脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の無置換若しくは置換基を有している芳香族炭化水素環含有基、炭素原子数２～２０の無置換若しくは置換基を有している複素環含有基、若しくは、芳香族炭化水素環中の水素原子の１つ以上が下記一般式（１）で表される基で置換された、炭素原子数７～３０の無置換若しくは置換基を有しているアリール基である第１アリール基、又は、上記脂肪族炭化水素基、上記芳香族炭化水素環含有基、上記複素環含有基若しくは上記第１アリール基中のメチレン基の１つ以上が下記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられた基を表し、
　Ｒ^２０、Ｒ^２１及びＲ^２２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１～２０の無置換若しくは置換基を有している脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の無置換若しくは置換基を有している芳香族炭化水素環含有基、若しくは、炭素原子数２～２０の無置換若しくは置換基を有している複素環含有基、又は、上記脂肪族炭化水素基、上記芳香族炭化水素環含有基若しくは上記複素環含有基中のメチレン基の１つ以上が下記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられた基を表し、Ｒ^２０、Ｒ^２１又はＲ^２２が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ^１１とＲ^１２、Ｒ^１４とＲ^１５、Ｒ^１５とＲ^１６及びＲ^１６とＲ^１７は、結合して環を形成していてもよく、
　上記置換基を有している脂肪族炭化水素基、上記置換基を有している芳香族炭化水素環含有基、上記置換基を有している複素環含有基及び上記第１アリール基中の水素原子の１つ以上を置換する置換基が、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水酸基、チオール基、－ＣＯＯＨ又は－ＳＯ_２Ｈであり、
　Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６及びＲ^１７のうち１つ以上が上記一般式（１）で表される基であるか又はＲ^１３が上記第１アリール基であり、
　Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６及びＲ^１７のうち１つ以上が水酸基を有する基である。）

（式中、Ｒ^１は、炭素原子数１～２０の無置換若しくは置換基を有している脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の無置換若しくは置換基を有している芳香族炭化水素環含有基、若しくは、炭素原子数２～２０の無置換若しくは置換基を有している複素環含有基、又は、上記脂肪族炭化水素基、上記芳香族炭化水素環含有基若しくは上記複素環含有基中のメチレン基の１つ以上が下記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられた基を表し、
　Ｒ^２は、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭素原子数１～２０の無置換若しくは置換基を有している脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の無置換若しくは置換基を有している芳香族炭化水素環含有基、若しくは、炭素原子数２～２０の無置換若しくは置換基を有している複素環含有基、又は、上記脂肪族炭化水素基、上記芳香族炭化水素環含有基若しくは上記複素環含有基中のメチレン基の１つ以上が下記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられた基を表し、
　上記置換基を有している脂肪族炭化水素基、上記置換基を有している芳香族炭化水素環含有基及び上記置換基を有している複素環含有基中の水素原子の１つ以上を置換する置換基が、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水酸基、チオール基、－ＣＯＯＨ又は－ＳＯ_２Ｈであり、
　ｎは０又は１を表し、
　＊は、結合箇所を表す。）

　群Ｉ：－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－、－ＣＳ－、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ_２－、－ＮＲ^３０－、－ＮＲ^３０－ＣＯ－、－ＣＯ－ＮＲ^３０－、－ＮＲ^３０－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－ＮＲ^３０－又は－ＳｉＲ^３０Ｒ^３１－。
　Ｒ^３０及びＲ^３１は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素原子数１～２０の無置換の脂肪族炭化水素基を表し、Ｒ^３０又はＲ^３１が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。

　本発明においては、Ｒ^１１が上記一般式（１）で表される基であることが好ましい。上記化合物Ａが、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤を形成可能となるからである。

　本発明においては、上記水酸基を有する基が、Ｒ^１１、Ｒ^１２及びＲ^１３の少なくとも１つであることが好ましい。上記化合物Ａが、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤を形成可能となるからである。

　本発明においては、Ｒ^１１が上記一般式（１）で表される基であり、かつ、Ｒ^１１が水酸基を有する基であり、Ｒ^１が、炭素原子数１～２０の置換基として水酸基を有している脂肪族炭化水素基若しくは炭素原子数６～２０の置換基として水酸基を有している芳香族炭化水素環含有基、又は、上記脂肪族炭化水素基若しくは上記芳香族炭化水素環含有基中のメチレン基の１つ以上が上記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられた基であり、Ｒ^２が、炭素原子数１～２０の無置換の脂肪族炭化水素基であり、Ｒ^１３が、炭素原子数６～２０の無置換若しくは置換基を有している芳香族炭化水素環含有基、又は、上記芳香族炭化水素環含有基メチレン基の１つ以上が上記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられた基であることが好ましい。上記化合物Ａが、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤を形成可能となるからである。

　本発明においては、Ｒ^１１が上記一般式（１）で表される基であり、かつ、Ｒ^１２が水酸基を有する基であり、Ｒ^１及びＲ^２が、それぞれ独立に、炭素原子数１～２０の無置換の脂肪族炭化水素基であり、Ｒ^１２が、炭素原子数１～２０の置換基として水酸基を有している脂肪族炭化水素基、又は、上記脂肪族炭化水素基中のメチレン基の１つ以上が上記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられた基であり、Ｒ^１３が、炭素原子数６～２０の置換基を有している芳香族炭化水素環含有基、又は、上記芳香族炭化水素環含有基中のメチレン基の１つ以上が上記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられた基であることが好ましい。上記化合物Ａが、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤を形成可能となるからである。

　本発明においては、Ｒ^１１が上記一般式（１）で表される基であり、かつ、Ｒ^１３が水酸基を有する基であり、Ｒ^１及びＲ^２が、それぞれ独立に、炭素原子数１～２０の無置換の脂肪族炭化水素基であり、Ｒ^１３が、炭素原子数１～２０の置換基として水酸基を有している脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の置換基として水酸基を有している芳香族炭化水素環含有基、若しくは、炭素原子数２～２０の置換基として水酸基を有している複素環含有基、又は、上記脂肪族炭化水素基、上記芳香族炭化水素環含有基若しくは上記複素環含有基中のメチレン基の１つ以上が上記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられた基であることが好ましい。上記化合物Ａが、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤を形成可能となるからである。

　本発明においては、上記水酸基を有する基における水酸基の結合位置が、上記水酸基を有する基の末端であることが好ましい。上記化合物Ａが、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤を形成可能となるからである。

　本発明は、上記化合物Ａを含むラジカル重合開始剤である。
　本発明のラジカル重合開始剤は、上記化合物Ａを含むことにより、感度、電気特性及び溶解性のバランスに優れたものとなる。

　本発明は、上記化合物Ａとラジカル重合性化合物とを含む組成物である。
　本発明の組成物は、上記化合物Ａとラジカル重合性化合物とを含むことで、分散安定性に優れ、調製時間が短いものとなり、電気特性に優れた硬化物を容易に形成可能となる。

　本発明は、上記組成物の硬化物である。
　本発明の硬化物は、上記組成物を用いるため、電気特性に優れたものとなる。

　本発明は、上記組成物中のラジカル重合性化合物同士を重合する重合工程を有する硬化物の製造方法である。
　本発明の硬化物の製造方法によれば、重合工程において上記組成物を用いるため、電気特性に優れた硬化物を容易に得ることができる。

　本発明は、化合物、該化合物を含むラジカル重合開始剤、該化合物を含む組成物、該組成物の硬化物、並びに該硬化物の製造方法に関するものである。
　以下、上記化合物、上記組成物、上記硬化物及び上記硬化物の製造方法について詳細に説明する。

Ａ．化合物
　まず、本発明の化合物について説明する。
　本発明の化合物は、下記一般式（Ａ）で表される化合物（化合物Ａ）である。

（式中、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６及びＲ^１７は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、－ＯＲ^２０、－ＣＯＲ^２０、－ＯＣＯＲ^２０、－ＣＯＯＲ^２０、－ＳＲ^２０、－ＳＯＲ^２０、－ＳＯ_２Ｒ^２０、－ＮＲ^２１Ｒ^２２、－ＮＲ^２１ＣＯＲ^２２、－ＣＯＮＲ^２１Ｒ^２２、下記一般式（１）で表される基、炭素原子数１～２０の無置換若しくは置換基を有している脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の無置換若しくは置換基を有している芳香族炭化水素環含有基若しくは炭素原子数２～２０の無置換若しくは置換基を有している複素環含有基、又は、上記脂肪族炭化水素基、上記芳香族炭化水素環含有基若しくは上記複素環含有基中のメチレン基の１つ以上が下記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられた基を表し、
　Ｒ^１３は、炭素原子数１～２０の無置換若しくは置換基を有している脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の無置換若しくは置換基を有している芳香族炭化水素環含有基、炭素原子数２～２０の無置換若しくは置換基を有している複素環含有基、若しくは、芳香族炭化水素環中の水素原子の１つ以上が下記一般式（１）で表される基で置換された、炭素原子数７～３０の無置換若しくは置換基を有しているアリール基である第１アリール基、又は、上記脂肪族炭化水素基、上記芳香族炭化水素環含有基、上記複素環含有基若しくは上記第１アリール基中のメチレン基の１つ以上が下記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられた基を表し、
　Ｒ^２０、Ｒ^２１及びＲ^２２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１～２０の無置換若しくは置換基を有している脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の無置換若しくは置換基を有している芳香族炭化水素環含有基、若しくは、炭素原子数２～２０の無置換若しくは置換基を有している複素環含有基、又は、上記脂肪族炭化水素基、上記芳香族炭化水素環含有基若しくは上記複素環含有基中のメチレン基の１つ以上が下記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられた基を表し、Ｒ^２０、Ｒ^２１又はＲ^２２が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ^１１とＲ^１２、Ｒ^１４とＲ^１５、Ｒ^１５とＲ^１６及びＲ^１６とＲ^１７は、結合して環を形成していてもよく、
　上記置換基を有している脂肪族炭化水素基、上記置換基を有している芳香族炭化水素環含有基、上記置換基を有している複素環含有基及び上記第１アリール基中の水素原子の１つ以上を置換する置換基が、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水酸基、チオール基、－ＣＯＯＨ又は－ＳＯ_２Ｈであり、
　Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６及びＲ^１７のうち１つ以上が上記一般式（１）で表される基であるか又はＲ^１３が上記第１アリール基であり、
　Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６及びＲ^１７のうち１つ以上が水酸基を有する基である。）

　上記化合物Ａは、インドール環を有し、かつ、水酸基を有するために、感度、電気特性及び溶解性のバランスに優れたラジカル重合開始剤を形成可能となる。
　なお、感度に優れるとは、感光性組成物の硬化性に優れることであり、露光量が少ない場合でも、感光性組成物を十分に硬化できることをいう。
　電気特性に優れるとは、感光性組成物の硬化物に隣接する部材の電気特性への影響が少ないことであり、例えば、隣接する部材が液晶材料を含む液晶組成物である場合には、液晶組成物の電圧保持率（ＶＨＲ）の低下が少ないことである。
　溶解性に優れるとは、有機溶剤に対する溶解性に優れることである。

　ここで、上記化合物Ａが上記構造等を有することで、上述の効果を奏する理由については、以下のように推察される。

　上記化合物Ａは、上述の構造を有することで、可視光以下の波長の光、例えば、ｉ線（３６５ｎｍ）を含む４００ｎｍ以下の波長領域の光を吸収するが、その光吸収効率は比較的低い。例えば、上記化合物Ａの構造は、カルバゾール環とオキシムエステル基及び水酸基含有基とを有する構造と比較して、可視光以下の波長の光の透過率が高い傾向にある。
　このため、上記化合物Ａを添加した感光性組成物の塗膜に対して露光した場合、塗膜の露光側表面とは反対側に存在する化合物Ａも、露光光を容易に吸収可能となる。すなわち、上記化合物Ａを用いた場合には、塗膜の厚み方向に深い箇所においてもラジカルを効率的に発生できる。このようなことから、上記化合物Ａは、感度に優れたものとなるのである。

　また、上記化合物Ａは、インドール環及びオキシムエステル基と共に、水酸基を有するため、分解物も水酸基を有するものとなる。そして、分解物は、水酸基を有するので、一般的に疎水性を示す液晶材料との親和性が低く、例えば、硬化物が液晶層のスペーサとして用いられる場合であっても、液晶組成物の電圧保持率低下の原因となる液晶層への移行を抑制される。このため、上記化合物Ａは、電気特性に優れたものとなるのである。

　さらに、上記化合物Ａは、一般式（１）で表されるオキシムエステル基が結合する芳香族環として、２つの環が縮合した構造のインドール環を有する。このインドール環は、芳香族性の環の個数が２個であり平面性が低い。このため、化合物Ａは、例えば、カルバゾール環を有する化合物と比較して、芳香族環同士の分子間力が小さく、化合物Ａ同士の凝集等が少ない。その結果、上記化合物Ａは、有機溶剤に対する溶解性に優れるものとなる。また、凝集等が少ないことで、露光時の光の吸収効率に優れたものとなる。
　以上より、上記化合物Ａは、上述の構造を有することで、感度、電気特性及び溶解性に優れたラジカル重合開始剤を形成可能な化合物となるのである。

　以下、上記化合物Ａについて詳細に説明する。
　上記化合物Ａにおいて、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６及びＲ^１７のうち１つ以上が上記一般式（１）で表される基であるか又は上記Ｒ^１３が上記第１アリール基である。
　上記化合物Ａにおいて、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６及びＲ^１７のうち１つ以上が水酸基を有する基である。

　上記一般式（Ａ）及び上記一般式（１）におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。

　上記一般式（Ａ）及び上記一般式（１）における炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基は、芳香族炭化水素環及び複素環を含まない炭化水素基であり、置換基を有していてもよい。置換基を有している脂肪族炭化水素基とは、脂肪族炭化水素基中の水素原子の１つ以上が置換基で置換された構造の基である。
　無置換の脂肪族炭化水素基としては、例えば、炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数２～２０のアルケニル基、炭素原子数３～２０のシクロアルキル基、炭素原子数４～２０のシクロアルキルアルキル基が挙げられる。また、置換基を有する上記脂肪族炭化水素基としては、上記無置換の脂肪族炭化水素基中の水素原子の１つ以上が置換基により置換された基等が挙げられ、該置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水酸基、チオール基、－ＣＯＯＨ又は－ＳＯ_２Ｈ等が挙げられる。

　上記炭素原子数１～２０のアルキル基は、直鎖状であってもよく、分岐状であってもよい。直鎖のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ｉｓｏ－アミル、ｔｅｒｔ－アミル、ヘキシル、ヘプチル及びオクチルが挙げられる。分岐のアルキル基としては、ｉｓｏ－プロピル、ｓｅｃ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ｉｓｏ－ブチル、ｉｓｏ－ペンチル、ｔｅｒｔ－ペンチル、２－ヘキシル、３－ヘキシル、２－ヘプチル、３－ヘプチル、ｉｓｏ－ヘプチル、ｔｅｒｔ－ヘプチル、ｉｓｏ－オクチル、ｔｅｒｔ－オクチル、２－エチルヘキシル、ノニル、イソノニル、デシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、へブロタデシル、オクタデシル等が挙げられる。

　上記炭素原子数２～２０のアルケニル基は、直鎖状であってもよく、分岐状であってもよい。また、末端に不飽和結合を有する末端アルケニル基であってもよく、内部に不飽和結合を有する内部アルケニル基であってもよい。末端アルケニル基としては、例えば、ビニル、アリル、２－メチル－２－プロペニル、３－ブテニル、４－ペンテニル及び５－ヘキセニル等が挙げられる。内部アルケニル基としては、例えば、２－ブテニル、３－ペンテニル、２－ヘキセニル、３－ヘキセニル、２－ヘプテニル、３－ヘプテニル、４－ヘプテニル、３－オクテニル、３－ノネニル、４－デセニル、３－ウンデセニル、４－ドデセニル及び４，８，１２－テトラデカトリエニルアリル等が挙げられる。

　上記炭素原子数３～２０のシクロアルキル基としては、炭素原子数３～２０の飽和単環式アルキル基、炭素原子数３～２０の飽和多環式アルキル基、及びこれらの基の環中の水素原子の１つ以上がアルキル基で置換された炭素原子数４～２０の基が挙げられる。上記飽和単環式アルキル基としては、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル及びシクロデシル等が挙げられる。上記飽和多環式アルキル基としては、アダマンチル、デカハイドロナフチル、オクタヒドロペンタレン及びビシクロ［１．１．１］ペンタニル等が挙げられる。飽和単環式又は飽和多環式アルキル基の環中の水素原子を置換するアルキル基としては、上記炭素原子数１～２０のアルキル基として例示した基が挙げられる。飽和多環式アルキル基の環中の水素原子の１つ以上が、アルキル基で置換された基としては、例えば、ボルニル基等が挙げられる。

　上記炭素原子数４～２０のシクロアルキルアルキル基とは、アルキル基の水素原子が、シクロアルキル基で置換された炭素原子数４～２０の基を意味する。シクロアルキルアルキル基中のシクロアルキル基は単環であってもよく、多環であってもよい。シクロアルキル基が単環である炭素原子数４～２０のシクロアルキルアルキル基としては、例えば、シクロプロピルメチル、２－シクロブチルエチル、３－シクロペンチルプロピル、４－シクロヘキシルブチル、シクロヘプチルメチル、シクロオクチルメチル、２－シクロノニルエチル及び２－シクロデシルエチル等が挙げられる。シクロアルキル基が多環である炭素原子数４～２０のシクロアルキルアルキル基としては、３－３－アダマンチルプロピル及びデカハイドロナフチルプロピル等が挙げられる。

　上記一般式（Ａ）及び上記一般式（１）における炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素環含有基は、芳香族炭化水素環を含み、複素環を含まない炭化水素基であり、脂肪族炭化水素基を有していてもよく、置換基を有していてもよい。置換基を有する芳香族炭化水素環含有基とは、芳香族炭化水素環含有基中の水素原子の１つ以上が置換基で置換された構造の基である。
　無置換の芳香族炭化水素環含有基としては、例えば、炭素原子数６～２０のアリール基及び炭素原子数７～２０のアリールアルキル基が挙げられる。また、置換基を有する上記芳香族炭化水素環含有基としては、上記無置換の芳香族炭化水素環含有基中の水素原子の１つ以上が置換基により置換された基等が挙げられ、該置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水酸基、チオール基、－ＣＯＯＨ又は－ＳＯ_２Ｈ等が挙げられる。

　上記炭素原子数６～２０のアリール基は、単環構造であってもよく、縮合環構造であってもよく、更に２つの芳香族炭化水素環が連結したものであってもよい。
　２つの芳香族炭化水素環が連結したアリール基としては、２つの単環構造の芳香族炭化水素環が連結したものであってもよく、単環構造の芳香族炭化水素環と縮合環構造の芳香族炭化水素環とが連結したものであってもよく、縮合環構造の芳香族炭化水素環と縮合環構造の芳香族炭化水素環とが連結したものであってもよい。
　２つの芳香族炭化水素環を連結する連結基としては、単結合、スルフィド基（－Ｓ－）及びカルボニル基等が挙げられる。単環構造のアリール基としては、例えば、フェニル、トリル、キシリル、エチルフェニル、２，４，６－トリメチルフェニル等が挙げられる。縮合環構造のアリール基としては、例えば、ナフチル、アントラセニル、フェナントリル及びピレニル等が挙げられる。２つの単環構造の芳香族炭化水素環が連結したアリール基としては、例えば、ビフェニル、ジフェニルスルフィド、ベンゾイルフェニル等が挙げられる。

　上記炭素原子数７～２０のアリールアルキル基とは、アルキル基中の水素原子の１つ以上がアリール基で置換された基を意味する。炭素原子数７～２０のアリールアルキル基としては、例えば、ベンジル、フルオレニル、インデニル、９－フルオレニルメチル、α－メチルベンジル、α，α－ジメチルベンジル、フェニルエチル及びナフチルプロピル基等が挙げられる。

　上記一般式（Ａ）及び上記一般式（１）における炭素原子数２～２０の複素環含有基は、複素環を含む炭化水素基であり、芳香族炭化水素環含有基を有していてもよく、脂肪族炭化水素基を有していてもよく、置換基を有していてもよい。置換基を有する複素環含有基とは、複素環含有基中の水素原子の１つ以上が置換基で置換された構造の基である。
　また、炭素原子数２～２０の複素環含有基の「炭素原子数２～２０」は、複素環含有基全体の炭素原子数をいうものである。

　無置換の複素環含有基としては、ピリジル基、キノリル基、チアゾリル基、テトラヒドロフラン基、ジオキソラニル基、テトラヒドロピラニル基、モルホリルフラン基、メチルチオフェン基、ヘキシルチオフェン基、ベンゾチオフェン基、ピロール基、ピロリジン基、イミダゾール基、イミダゾリジン基、イミダゾリン基、ピラゾール基、ピラゾリジン基、ピペリジン基、ピペラジン基、ピリミジル基、フリル基、チエニル基、ベンゾオキサゾール－２－イル基、チアゾール基、イソチアゾール基、オキサゾール基、イソオキサゾール基、モルホルニル基等の複素環基、並びにアルキル基の水素原子の１つ以上が複素環で置換された基等が挙げられる。また、置換基を有する上記複素環含有基としては、上記無置換の上記複素環含有基中の水素原子の１つ以上が置換基により置換された基等が挙げられ、該置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水酸基、チオール基、－ＣＯＯＨ又は－ＳＯ_２Ｈ等が挙げられる。

　更に、無置換の複素環含有基は、複素環と単環構造の芳香族炭化水素環とが連結したものであってもよく、複素環と縮合環構造の芳香族炭化水素環とが連結したものであってもよい。２つの芳香族炭化水素環を連結する連結基としては、単結合及びカルボニル基等が挙げられる。複素環と単環構造の芳香族炭化水素環とが連結した複素環含有基としては、ベンゾチオフェン等が挙げられる。

　上記一般式（Ａ）における第１アリール基は、芳香族炭化水素環中の水素原子の１つ以上が上記一般式（１）で表される基で置換された、炭素原子数７～３０の無置換若しくは置換基を有しているアリール基である。
　ここで、芳香族炭化水素環中の水素原子の１つ以上が上記一般式（１）で表される基で置換された、置換基を有しているアリール基は、置換基を有しているアリール基の芳香族炭化水素環中の水素原子の１つ以上が上記一般式（１）で表される基で置換されたもの、すなわち、芳香族炭化水素環中の水素原子の１つ以上が上記一般式（１）で表される基で置換され、更に他の水素原子の１つ以上が、上記一般式（１）で表される基以外の置換基で置換された基である。
　上記第１アリール基における、上記一般式（１）で表される基以外の置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水酸基、チオール基、－ＣＯＯＨ又は－ＳＯ_２Ｈ等が挙げられる。
　このような第１アリール基としては、より具体的には、フェニル、トリル等の単環構造のアリール基中の水素原子の１つが、上記一般式（１）で表される基で置換された基等が挙げられる。

　上記一般式（Ａ）における上記脂肪族炭化水素基、上記芳香族炭化水素環含有基、上記複素環含有基又は上記第１アリール基中のメチレン基の１つ以上が上記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられた基は、複数の二価の基が隣り合う構造を有しない。複数の二価の基は同一であってもよく、異なっていてもよい。上記一般式（１）における上記脂肪族炭化水素基、上記芳香族炭化水素環含有基又は上記複素環含有基中のメチレン基の１つ以上が上記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられた基についても同様である。

　本発明において、基の炭素原子数は、基中の水素原子が置換基で置換されている場合、その置換後の基の炭素原子数を規定する。例えば、上記炭素原子数１～２０のアルキル基の水素原子が置換されている場合、炭素原子数１～２０とは、水素原子が置換された後の炭素原子数を指し、水素原子が置換される前の炭素原子数を指すのではない。
　また、本発明において、所定の炭素原子数の基中のメチレン基が二価の基で置き換えられた基の炭素原子数は、その置換後の基の炭素原子数を規定する。例えば、炭素原子数１～２０のアルキル基中のメチレン基が二価の基で置き換えられた基の場合、炭素原子数１～２０とは、アルキル基中のメチレン基が二価の基で置き換えられた後の炭素原子数を指し、置き換えられる前の炭素原子数を指すのではない。

　上記一般式（Ａ）において、Ｒ^１１とＲ^１２、Ｒ^１４とＲ^１５、Ｒ^１５とＲ^１６及びＲ^１６とＲ^１７が結合して形成する環は、単環であってもよく、縮合環であってもよい。単環としては、例えば、シクロペンタン、シクロヘキサン及びシクロペンテン等の単環のシクロアルカン、ベンゼン等の単環の芳香族環、ピロリジン、ピロール、ピペラジン、モルホリン、チオモルホリン、テトラヒドロピリジン、ラクトン環及びラクタム環等の単環の複素環が挙げられる。縮合環としては、ナフタレン及びアントラセン等が挙げられる。

　上記化合物Ａにおいて、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６及びＲ^１７のうち１つ以上が水酸基を有する基である。
　上記水酸基を有する基には、水酸基及び置換基として水酸基を有する基（以下、「置換水酸基含有基」と称する場合がある。）が含まれる。

　Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６及びＲ^１７が水酸基である場合としては、上記一般式（Ａ）において、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６及びＲ^１７が－ＯＲ^２０であり、かつ、Ｒ^２０が水素原子である場合が挙げられる。

　Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６及びＲ^１７が置換水酸基含有基である場合としては、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６及びＲ^１７が、炭素原子数１～２０の置換基を有している脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の置換基を有している芳香族炭化水素環含有基若しくは炭素原子数２～２０の置換基を有している複素環含有基、又は、上記脂肪族炭化水素基、上記芳香族炭化水素環含有基若しくは上記複素環含有基中のメチレン基の１つ以上が上記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられた基であり、かつ、上記置換基を有している脂肪族炭化水素基、上記置換基を有している芳香族炭化水素環含有基及び上記置換基を有している複素環含有基中の水素原子の１つ以上を置換する置換基として水酸基を含む場合、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６及びＲ^１７が、－ＯＲ^２０、－ＣＯＲ^２０、－ＯＣＯＲ^２０、－ＣＯＯＲ^２０、－ＳＲ^２０、－ＳＯＲ^２０、－ＳＯ_２Ｒ^２０、－ＮＲ^２１Ｒ^２２、－ＮＲ^２１ＣＯＲ^２２、－ＣＯＮＲ^２１Ｒ^２２若しくは上記一般式（１）で表される基であり、Ｒ^２０、Ｒ^２１、Ｒ^２２、Ｒ^１及びＲ^２が、炭素原子数１～２０の置換基を有している脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の置換基を有している芳香族炭化水素環含有基若しくは炭素原子数２～２０の置換基を有している複素環含有基、又は、上記脂肪族炭化水素基、上記芳香族炭化水素環含有基若しくは上記複素環含有基中のメチレン基の１つ以上が上記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられた基であり、かつ、上記置換基を有している脂肪族炭化水素基、上記置換基を有している芳香族炭化水素環含有基及び上記置換基を有している複素環含有基中の水素原子の１つ以上を置換する置換基として水酸基を含む場合が挙げられる。

　上記水酸基を有する基の数、すなわち、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６及びＲ^１７のうち水酸基を有する基の数は、１以上７以下であればよく、上記化合物Ａの用途、要求される電気特性、合成の容易さ等に応じて適宜設定することができる。
　上記水酸基を有する基の数は、１以上５以下であることが好ましく、１以上３以下であることがより好ましく、１以上２以下であることが更に好ましく、特に１であることが好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。

　上記一般式（Ａ）において、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６及びＲ^１７のうち１つ以上が、水酸基を有する基である。
　Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３及びＲ^１６の少なくとも１つが水酸基を有する基であることが好ましく、Ｒ^１１、Ｒ^１２及びＲ^１３の少なくとも１つが水酸基を有する基であることがより好ましく、特にＲ^１１及びＲ^１３の少なくとも１つが水酸基を有する基であることが好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。

　１つの水酸基を有する基に含まれる水酸基の数は、所望の感度、電気特性及び溶解性が得られるものであればよいが、１以上１０以下であることが好ましく、１以上５以下であることがより好ましく、特に１以上２以下であることが好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスに優れたラジカル重合開始剤とすることがより容易となるからである。

　上記水酸基を有する基に含まれる水酸基の種類としては、所望の感度、電気特性及び溶解性が得られるものであればよいが、鎖状炭化水素の炭素原子に結合した構造であるアルコール性水酸基、又は芳香族炭化水素環の炭素原子に直接結合した構造であるフェノール性水酸基であることが好ましく、上記アルコール性水酸基であることがより好ましい。上上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。

　上記水酸基を有する基が置換水酸基含有基である場合、水酸基の結合位置は、置換水酸基含有基の末端であることが好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。
　なお、水酸基の結合位置が置換水酸基含有基の末端であるとは、インドール環から最も離れた位置に水酸基が結合していることである。
　インドール環から最も離れた位置とは、インドール環と水酸基が結合する原子との間の原子の数が、最も多くなる位置である。
　インドール環と水酸基が結合する原子との間の原子の数は、両者を結ぶ最小の数をいうものであり、例えば、後述する実施例に記載の式（２－１）で表される化合物は１個、式（３－２）で表される化合物は３個、式（３－９）で表される化合物は４個である。

　上記化合物Ａ中の水酸基の数は、１以上であればよいが、１以上１０以下であることが好ましく、１以上５以下であることがより好ましく、１以上２以下であることが更に好ましく、特に１であることが好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。

　上記化合物Ａにおいて、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６及びＲ^１７のうち１つ以上が上記一般式（１）で表される基であるか又は上記Ｒ^１３が上記第１アリール基である。
　すなわち、上記化合物Ａにおいて、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６及びＲ^１７の１つ以上が、上記一般式（１）で表される基又は上記一般式（１）で表される基を有する基（以下、これらの基をオキシムエステル含有基と総称する場合がある。）である。

　上記化合物Ａ中の上記オキシムエステル含有基の数は、１以上７以下であればよく、上記化合物Ａの用途、要求される電気特性、合成の容易さ等に応じて適宜設定することができる。
　上記オキシムエステル含有基の数は、１以上５以下であることが好ましく、１以上３以下であることがより好ましく、１以上２以下であることが更に好ましく、特に１であることが好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。

　上記一般式（Ａ）において、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６及びＲ^１７のうち１つ以上が、オキシムエステル含有基である。
　Ｒ^１１及びＲ^１３の少なくとも１つがオキシムエステル含有基であることが好ましく、少なくともＲ^１１がオキシムエステル含有基であることが好ましく、特にＲ^１１のみがオキシムエステル含有基であることが好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。
　なお、Ｒ^１３がオキシムエステル含有基である場合、Ｒ^１３は第１アリール基である。

　上記化合物Ａとしては、Ｒ^１１が一般式（１）で表される基であり、かつ、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３及びＲ^１６の１つ以上が水酸基を有する基であることが好ましく、Ｒ^１１が一般式（１）で表される基であり、かつ、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３及びＲ^１６の１つのみが水酸基を有する基であることがより好ましく、Ｒ^１１が一般式（１）で表される基であり、かつ、Ｒ^１１のみが水酸基を有する基である化合物、Ｒ^１１が一般式（１）で表される基であり、かつ、Ｒ^１２のみが水酸基を有する基である化合物、Ｒ^１１が一般式（１）で表される基であり、かつ、Ｒ^１３のみが水酸基を有する基である化合物、及び、Ｒ^１１が一般式（１）で表される基であり、かつ、Ｒ^１６のみが水酸基を有する基である化合物が更に好ましく、なかでも、Ｒ^１１が一般式（１）で表される基であり、かつ、Ｒ^１１のみが水酸基を有する基である化合物、Ｒ^１１が一般式（１）で表される基であり、かつ、Ｒ^１２のみが水酸基を有する基である化合物、及び、Ｒ^１１が一般式（１）で表される基であり、かつ、Ｒ^１３のみが水酸基を有する基である化合物が好ましく、特に、Ｒ^１１が一般式（１）で表される基であり、かつ、Ｒ^１１のみが水酸基を有する基である化合物、及び、Ｒ^１１が一般式（１）で表される基であり、かつ、Ｒ^１３のみが水酸基を有する基である化合物が好ましく、Ｒ^１１が一般式（１）で表される基であり、かつ、Ｒ^１１のみが水酸基を有する基である化合物が最も好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。

　上記一般式（１）で表される基が水酸基を有する基以外の基である場合、Ｒ^１が、炭素原子数１～２０の無置換若しくは置換基を有している脂肪族炭化水素基、又は、上記脂肪族炭化水素基の基中のメチレン基の１つ以上が上記群Ｉで表される基で置換された基であることが好ましく、炭素原子数１～２０の無置換の脂肪族炭化水素基、又は、上記脂肪族炭化水素基の基中のメチレン基の１つ以上が上記群Ｉで表される基で置換された基であることがより好ましく、特に炭素原子数１～２０の無置換の脂肪族炭化水素基であることが好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。

　上記一般式（１）で表される基が水酸基を有する基以外の基である場合の、Ｒ^１で表される炭素原子数１～２０の無置換の脂肪族炭化水素基としては、炭素原子数１～２０の直鎖又は分岐のアルキル基であることが好ましく、炭素原子数２～１０の直鎖又は分岐のアルキル基であることがより好ましく、炭素原子数４～８の直鎖又は分岐のアルキル基であることが更に好ましく、特に炭素原子数４～８の直鎖のアルキル基であることが好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。

　上記一般式（１）で表される基が水酸基を有する基以外の基である場合、Ｒ^２が、炭素原子数１～２０の無置換の脂肪族炭化水素基であることが好ましく、炭素原子数１～２０の直鎖又は分岐のアルキル基であることがより好ましく、炭素原子数１～１０の直鎖又は分岐のアルキル基であることが更に好ましく、特に炭素原子数１～３の直鎖のアルキル基であることが好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。

　上記一般式（１）で表される基が水酸基を有する基以外の基である場合、Ｒ^１及びＲ^２の組み合わせとしては、それぞれ独立に、炭素原子数１～２０の無置換の脂肪族炭化水素基であることが好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。
　なお、Ｒ^１及びＲ^２として好ましい基は、上記一般式（１）で表される基が水酸基を有する基以外の基である場合に、Ｒ^１及びＲ^２の好ましい基としてそれぞれ記載した内容と同様である。

　上記一般式（１）で表される基が水酸基を有する基である場合、Ｒ^１及びＲ^２の少なくとも一方が水酸基を有する基であるが、Ｒ^１が水酸基を有する基であることが好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。

　Ｒ^１が水酸基を有する基である場合、Ｒ^１が、炭素原子数１～２０の置換基として水酸基を有している脂肪族炭化水素基若しくは炭素原子数６～２０の置換基として水酸基を有している芳香族炭化水素環含有基、又は、上記脂肪族炭化水素基若しくは上記芳香族炭化水素環含有基中のメチレン基の１つ以上が上記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられた基であることが好ましい。特に、Ｒ^１が、炭素原子数１～２０の置換基として水酸基を有している脂肪族炭化水素基、又は炭素原子数６～２０の置換基として水酸基を有している芳香族炭化水素環含有基中のメチレン基の１つ以上が上記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられた基であることが好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。
　なお、Ｒ^１が、置換基として水酸基を有している基である場合、「置換基として水酸基を有している基」は、置換基として水酸基以外の基を有するものであってもよいが、置換基として水酸基以外の基を有さないものであることが好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。

　Ｒ^１が水酸基を有する基である場合の、炭素原子数１～２０の置換基を有している脂肪族炭化水素基における「脂肪族炭化水素基」としては、炭素原子数１～２０の直鎖又は分岐のアルキル基が好ましく、炭素原子数２～１０の直鎖又は分岐のアルキル基がより好ましく、炭素原子数４～８の直鎖又は分岐のアルキル基が更に好ましく、特に炭素原子数３～７の直鎖又は分岐のアルキル基が好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。

　Ｒ^１が水酸基を有する基である場合の、炭素原子数６～２０の置換基を有している芳香族炭化水素環含有基における「芳香族炭化水素環含有基」としては、単環構造又は芳香族炭化水素環が連結した構造の炭素原子数６～２０のアリール基が好ましく、単環構造の炭素原子数６～１５のアリール基及び芳香族炭化水素環が連結した構造の炭素原子数１２～１８のアリール基がより好ましく、特に単環構造の炭素原子数８～１２のアリール基及び芳香族炭化水素環が連結した構造の炭素原子数１２～１５のアリール基が好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。
　上記芳香族炭化水素環が連結した構造の炭素原子数６～２０のアリール基に用いられる芳香族炭化水素環を連結する連結基としては、スルフィド基及びカルボニル基が好ましく、スルフィド基がより好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。

　Ｒ^１が水酸基を有する基である場合の、炭素原子数６～２０の置換基を有している芳香族炭化水素環含有基中のメチレン基の１つ以上が上記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられた基におけるメチレン基を置換する上記群Ｉから選ばれる二価の基としては、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－及び－Ｓ－が好ましく、－Ｏ－及び－Ｓ－がより好ましく、特に－Ｏ－が好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。

　上記一般式（１）で表される基が、水酸基を有する基である場合、Ｒ^２の好ましい構造としては、上記一般式（１）で表される基が、水酸基を有する基以外の基である場合と同様である。

　一般式（１）で表される基中のｎは０又は１であることが好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。

　上述のように、上記化合物Ａにおいて、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６及びＲ^１７のうち１つ以上が水酸基を有する基であり、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３及びＲ^１６の少なくとも１つが水酸基を有する基であることが好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。

　Ｒ^１１が水酸基を有する基である場合、Ｒ^１１は上記一般式（１）で表される基であることが好ましい。この場合の好ましい構造としては、上記一般式（１）で表される基が水酸基を有する基である場合の好ましい構造として挙げたものと同様である。
　すなわち、本発明においては、Ｒ^１１が、一般式（１）で表される基であり、Ｒ^１が、炭素原子数１～２０の置換基として水酸基を有している脂肪族炭化水素基若しくは炭素原子数６～２０の置換基として水酸基を有している芳香族炭化水素環含有基、又は、上記脂肪族炭化水素基若しくは上記芳香族炭化水素環含有基中のメチレン基の１つ以上が上記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられた基であることが好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。

　Ｒ^１１が水酸基を有する基以外の基である場合、Ｒ^１１は上記一般式（１）で表される基であることが好ましい。この場合の好ましい構造としては、上記一般式（１）で表される基が水酸基を有する基以外の基である場合の好ましい構造として挙げたものと同様である。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。

　Ｒ^１２が水酸基を有する基である場合、Ｒ^１２は、炭素原子数１～２０の置換基として水酸基を有している脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の置換基として水酸基を有している芳香族炭化水素環含有基、又は、上記脂肪族炭化水素基若しくは上記芳香族炭化水素環含有基中のメチレン基の１つ以上が上記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられた基であることが好ましい。特に、Ｒ^１２が、炭素原子数１～２０の置換基として水酸基を有している脂肪族炭化水素基であること、又は、炭素原子数１～２０の置換基として水酸基を有している脂肪族炭化水素基中のメチレン基の１つ以上が上記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられた基であることが好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。
　なお、Ｒ^１２が、置換基として水酸基を有している基である場合、「置換基として水酸基を有している基」は、置換基として水酸基以外の基を有するものであってもよいが、置換基として水酸基以外の基を有さないものであることが好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。

　Ｒ^１２が水酸基を有する基である場合の、炭素原子数１～２０の置換基として水酸基を有している脂肪族炭化水素基における「脂肪族炭化水素基」としては、炭素原子数１～２０の直鎖又は分岐のアルキル基が好ましく、炭素原子数１～１０の直鎖又は分岐のアルキル基がより好ましく、炭素原子数１～８の直鎖又は分岐のアルキル基が更に好ましく、特に炭素原子数１～５の直鎖又は分岐のアルキル基が好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。

　Ｒ^１２が水酸基を有する基である場合の、炭素原子数１～２０の置換基として水酸基を有している脂肪族炭化水素基中のメチレン基の１つ以上が上記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられた基における、メチレン基を置換する上記群Ｉから選ばれる二価の基としては、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－及び－Ｓ－が好ましく、特に－Ｏ－及び－ＣＯＯ－が好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。

　Ｒ^１２が水酸基を有する基以外の基である場合、Ｒ^１２は、水素原子又は炭素原子数１～２０の無置換若しくは置換基を有している脂肪族炭化水素基であることが好ましく、水素原子又は炭素原子数１～１０の無置換のアルキル基であることがより好ましく、特に水素原子又は炭素原子数１～３の無置換のアルキル基であることが好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。

　Ｒ^１３が水酸基を有する基である場合、Ｒ^１３は、炭素原子数１～２０の置換基として水酸基を有している脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の置換基として水酸基を有している芳香族炭化水素環含有基若しくは炭素原子数２～２０の置換基として水酸基を有している複素環含有基、又は、上記脂肪族炭化水素基、上記芳香族炭化水素環含有基若しくは上記複素環含有基中のメチレン基の１つ以上が下記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられた基であることが好ましい。特に、Ｒ^１３が、炭素原子数１～１０の置換基として水酸基を有している脂肪族炭化水素基であること、炭素原子数６～１２の置換基として水酸基を有している芳香族炭化水素環含有基であること、炭素原子数２～２０の置換基として水酸基を有している複素環含有基であること、又は、上記芳香族炭化水素環含有基若しくは上記複素環含有基中のメチレン基の１つ以上が上記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられた基であることが好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。

　Ｒ^１３が水酸基を有する基である場合の、炭素原子数１～２０の置換基として水酸基を有している脂肪族炭化水素基における「脂肪族炭化水素基」としては、炭素原子数１～２０の直鎖又は分岐のアルキル基が好ましく、炭素原子数１～１０の直鎖又は分岐のアルキル基がより好ましく、特に炭素原子数１～５の直鎖又は分岐のアルキル基が好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。
　なお、Ｒ^１３が、置換基として水酸基を有している脂肪族炭化水素基である場合、「置換基として水酸基を有している脂肪族炭化水素基」は、置換基として水酸基以外の基を有するものであってもよいが、置換基として水酸基以外の基を有さないものであることが好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。

　Ｒ^１３が水酸基を有する基である場合の、炭素原子数６～２０の置換基として水酸基を有している芳香族炭化水素環含有基における「芳香族炭化水素環含有基」としては、単環構造又は芳香族炭化水素環が連結した構造の炭素原子数６～２０のアリール基が好ましく、特に単環構造の炭素原子数６～１５のアリール基及び芳香族炭化水素環が連結した構造の炭素原子数１２～１８のアリール基が好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。
　上記芳香族炭化水素環が連結した構造の炭素原子数６～２０のアリール基における芳香族炭化水素環を連結する連結基としては、スルフィド基及びカルボニル基が好ましく、カルボニル基がより好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。
　なお、Ｒ^１３が、置換基として水酸基を有している芳香族炭化水素環含有基である場合、「置換基として水酸基を有している芳香族炭化水素環含有基」は、置換基として水酸基以外の基を有するものであってもよい。本発明においては、「置換基として水酸基を有している芳香族炭化水素環含有基」が、単環構造の炭素原子数６～１５のアリール基である場合、置換基として水酸基以外の基を有することが好ましく、ニトロ基を有することがより好ましい。また、「置換基として水酸基を有している芳香族炭化水素環含有基」が、芳香族炭化水素環が連結した構造の炭素原子数１２～１８のアリール基である場合、置換基として水酸基以外の基を有さないものであることが好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。

　Ｒ^１３が水酸基を有する基である場合の、炭素原子数６～２０の置換基として水酸基を有している芳香族炭化水素環含有基中のメチレン基の１つ以上が上記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられた基における、メチレン基を置換する上記群Ｉから選ばれる二価の基としては、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－及び－Ｓ－が好ましく、特に－Ｏ－及び－ＣＯ－が好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。

　Ｒ^１３が水酸基を有する基である場合の、炭素原子数２～２０の置換基として水酸基を有している複素環含有基における「複素環」としては、チエニル基、フリル基、ピロール基及びイミダゾール基が好ましく、特にチエニル基が好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。
　炭素原子数２～２０の置換基として水酸基を有している複素環含有基の炭素原子数としては、３～１０であることが好ましく、なかでも、４～８であることが好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。

　Ｒ^１３が水酸基を有する基である場合の、炭素原子数２～２０の置換基として水酸基を有している複素環含有基中のメチレン基の１つ以上が上記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられた基における、メチレン基を置換する上記群Ｉから選ばれる二価の基としては、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－及び－Ｓ－が好ましく、特に－Ｏ－が好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。

　Ｒ^１３が水酸基を有する基以外の基である場合、Ｒ^１３は、炭素原子数６～２０の無置換若しくは置換基を有している芳香族炭化水素環含有基、第１アリール基、又は、上記芳香族炭化水素環含有基若しくは上記第１アリール基中のメチレン基の１つ以上が上記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられた基であることが好ましく、炭素原子数６～２０の無置換若しくは置換基を有している芳香族炭化水素環含有基、又は、上記芳香族炭化水素環含有基中のメチレン基の１つ以上が上記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられた基であることが好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。

　Ｒ^１３が水酸基を有する基以外の基である場合の、炭素原子数６～２０の無置換若しくは置換基を有している芳香族炭化水素環含有基における「芳香族炭化水素環含有基」としては、炭素原子数６～１５の置換基を有している単環構造のアリール基又は炭素原子数６～２０の無置換の芳香族炭化水素環が連結した構造のアリール基が好ましく、芳香族炭化水素環が連結した構造の炭素原子数１２～１８の無置換のアリール基がより好ましく、特に芳香族炭化水素環が連結した構造の炭素原子数１２～１５のアリール基が好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。
　上記芳香族炭化水素環が連結した構造の炭素原子数６～２０のアリール基における芳香族炭化水素環を連結する連結基としては、スルフィド基及びカルボニル基が好ましく、カルボニル基がより好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。
　なお、Ｒ^１３が、炭素原子数６～１５の置換基を有している単環構造のアリール基が有する置換基は、ニトロ基であることが好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。

　Ｒ^１３が水酸基を有する基以外の基である場合の、炭素原子数６～２０の置換基を有している芳香族炭化水素環含有基中のメチレン基の１つ以上が上記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられた基における、メチレン基を置換する上記群Ｉから選ばれる二価の基としては、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－及び－Ｓ－が好ましく、特に－ＣＯ－が好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。

　Ｒ^１６が水酸基を有する基である場合、Ｒ^１６は、水酸基、炭素原子数１～２０の置換基として水酸基を有している脂肪族炭化水素基若しくは－ＳＲ^２０で表され、上記Ｒ^２０が、炭素原子数６～２０の置換基として水酸基を有している芳香族炭化水素環含有基、又は、上記脂肪族炭化水素基若しくは上記芳香族炭化水素環含有基中のメチレン基の１つ以上が上記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられた基であることが好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。
　なお、Ｒ^１６が、置換基として水酸基を有している基である場合、「置換基として水酸基を有している基」は、置換基として水酸基以外の基を有するものであってもよいが、置換基として水酸基以外の基を有さないものであることが好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。

　Ｒ^１６が水酸基を有する基である場合の、炭素原子数１～２０の置換基を有している脂肪族炭化水素基における「脂肪族炭化水素基」としては、炭素原子数１～２０の直鎖又は分岐のアルキル基が好ましく、炭素原子数２～１０の直鎖又は分岐のアルキル基がより好ましく、特に炭素原子数２～５の直鎖又は分岐のアルキル基が好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。

　Ｒ^１６が水酸基を有する基である場合の、炭素原子数１～２０の置換基として水酸基を有している脂肪族炭化水素基中のメチレン基の１つ以上が上記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられた基における、メチレン基を置換する上記群Ｉから選ばれる二価の基としては、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－及び－Ｓ－が好ましく、特に－Ｏ－が好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。

　Ｒ^１６が水酸基を有する基である場合の、炭素原子数６～２０の置換基として水酸基を有している芳香族炭化水素環含有基における「芳香族炭化水素環含有基」としては、単環構造又は芳香族炭化水素環が連結した構造の炭素原子数６～２０のアリール基が好ましく、単環構造の炭素原子数６～１５のアリール基及がより好ましく、特に単環構造の炭素原子数６～１０のアリール基が好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。

　Ｒ^１６が水酸基を有する基である場合の、炭素原子数６～２０の置換基として水酸基を有している芳香族炭化水素環含有基中のメチレン基の１つ以上が上記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられた基における、メチレン基を置換する上記群Ｉから選ばれる二価の基としては、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－及び－Ｓ－が好ましく、特に－Ｓ－が好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。

　Ｒ^１６が水酸基を有する基以外の基である場合、Ｒ^１６は、水素原子又は炭素原子数１～２０の無置換若しくは置換基を有している脂肪族炭化水素基であることが好ましく、水素原子又は炭素原子数１～１０の無置換のアルキル基であることがより好ましく、特に水素原子又は炭素原子数１～３の無置換のアルキル基であることが好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。

　Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１７が水酸基を有する基以外の基である場合、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１７は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数１～２０の無置換の脂肪族炭化水素基であることが好ましく、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１～４の無置換のアルキル基であることがより好ましく、特に水素原子又はハロゲン原子であることが好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。

　上記化合物Ａは、Ｒ^１１が上記一般式（１）で表される基であり、かつ、Ｒ^１１が水酸基を有する基である化合物である場合、Ｒ^１が、炭素原子数１～２０の置換基として水酸基を有している脂肪族炭化水素基若しくは炭素原子数６～２０の置換基として水酸基を有している芳香族炭化水素環含有基、又は、上記脂肪族炭化水素基若しくは上記芳香族炭化水素環含有基中のメチレン基の１つ以上が上記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられた基であり、Ｒ^２が、炭素原子数１～２０の無置換の脂肪族炭化水素基であり、Ｒ^１３が、炭素原子数６～２０の無置換若しくは置換基を有している芳香族炭化水素環含有基、又は、上記芳香族炭化水素環含有基メチレン基の１つ以上が上記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられた基であることが好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。

　上記化合物Ａは、Ｒ^１１が上記一般式（１）で表される基であり、かつ、Ｒ^１２が水酸基を有する基である化合物である場合、Ｒ^１及びＲ^２が、それぞれ独立に、炭素原子数１～２０の無置換の脂肪族炭化水素基であり、Ｒ^１２が、炭素原子数１～２０の置換基として水酸基を有している脂肪族炭化水素基、又は、上記脂肪族炭化水素基中のメチレン基の１つ以上が上記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられた基であり、Ｒ^１３が、炭素原子数６～２０の無置換若しくは置換基を有している芳香族炭化水素環含有基、又は、上記芳香族炭化水素環含有基中のメチレン基の１つ以上が上記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられた基であることが好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。

　上記化合物Ａは、Ｒ^１１が上記一般式（１）で表される基であり、かつ、Ｒ^１３が水酸基を有する基である化合物である場合、Ｒ^１及びＲ^２が、それぞれ独立に、炭素原子数１～２０の無置換の脂肪族炭化水素基であり、Ｒ^１３が、炭素原子数１～２０の置換基として水酸基を有している脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の置換基として水酸基を有している芳香族炭化水素環含有基、若しくは、炭素原子数２～２０の置換基として水酸基を有している複素環含有基、又は、上記脂肪族炭化水素基、上記芳香族炭化水素環含有基若しくは上記複素環含有基中のメチレン基の１つ以上が上記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられた基であることが好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。

　上記化合物Ａは、Ｒ^１１が上記一般式（１）で表される基であり、かつ、Ｒ^１６が水酸基を有する基である化合物である場合、Ｒ^１及びＲ^２が、それぞれ独立に、炭素原子数１～２０の無置換の脂肪族炭化水素基であり、Ｒ^１３が、炭素原子数６～２０の無置換若しくは置換基を有している芳香族炭化水素環含有基、又は、上記芳香族炭化水素環含有基中のメチレン基の１つ以上が上記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられた基であり、Ｒ^１６が、水酸基、炭素原子数１～２０の置換基として水酸基を有している脂肪族炭化水素基若しくは－ＳＲ^２０で表され、上記Ｒ^２０が、炭素原子数６～２０の置換基として水酸基を有している芳香族炭化水素環含有基、又は、上記脂肪族炭化水素基若しくは上記芳香族炭化水素環含有基中のメチレン基の１つ以上が上記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられた基であることが好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。

　上記化合物Ａの分子量としては、化合物Ａの用途等に応じて設定することができる。上記化合物Ａの分子量は、例えば、２５０以上２０００以下であることが好ましく、３００以上２０００以下であることがより好ましく、特に３５０以上１０００以下であることが好ましい。上記化合物Ａは、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたラジカル重合開始剤とすることが容易となるからである。

　上記化合物Ａの製造方法は、上記構造の化合物Ａを得ることができる方法であれば特に限定されないが、例えば、特許４２２３０７１号公報等に記載の方法を用いることができる。具体的には、下記の反応スキームで製造することができる。
　まず、インドール化合物と酸クロリドとを塩化アルミニウムの存在下に反応させてアシル体を得る。次いで、アシル体と塩酸ヒドロキシルアミンとを反応させてオキシム化合物を得る。次いで、オキシム化合物と酸無水物又は酸クロリドとを反応させて化合物Ａを得る方法を挙げることができる。

（式中、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６及びＲ^１７は、上記一般式（Ａ）と同じである。）

　なお、上記製造方法はＲ^１２～Ｒ^１７の少なくとも１つが水酸基を有する基であるインドール化合物を用いた場合の例であるが、水酸基を有しないインドール化合物を用いて同様の方法で水酸基を有しない化合物を得た後に、定法に従い水酸基を有するアルキル基等を導入する方法で化合物Ａを製造することもできる。また、水酸基を有しないインドール化合物と、Ｒ^１が水酸基を有する基である酸クロリドを反応させてアシル体を得る方法等でも化合物Ａを製造することができる。

　上記反応スキームは、一般式（Ａ）中のｎが０である場合の化合物Ａの製造方法を示すものである。
　一般式（Ａ）中のｎが１である場合の化合物Ａは、アシル体と塩酸ヒドロキシルアミンとを反応させてオキシム化合物を得る代わりに、アシル体と亜硝酸エステルとを塩酸存在下で反応させてオキシム化合物を得ること以外は、上記製造方法と同様の方法で製造することができる。

　上記化合物Ａは、ラジカルを発生するものである。
　上記化合物Ａからラジカルを発生させる方法は、ラジカル発生剤に対して一般的に用いられる方法であればよく、具体的には、エネルギー線を照射する方法、加熱処理する方法、これらの方法を同時に又は順に行う方法等を挙げることができる。

　上記エネルギー線としては、ｇ線（４３６ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ）、可視光線、紫外線、遠紫外線、Ｘ線及び荷電粒子線等が挙げられる。
　本発明において、ラジカル発生に用いられるエネルギー線は、波長２００ｎｍ以上４５０ｎｍの範囲において、波長３００ｎｍ以上４００ｎｍ以下の範囲に極大スペクトルを有するものであることが好ましく、波長３４０ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の範囲に極大スペクトルを有するものであることがより好ましい。上記化合物Ａから効果的にラジカルを発生可能だからである。

　上記エネルギー線の光源としては、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハロゲンランプ、電子線照射装置、Ｘ線照射装置、レーザー（アルゴンレーザー、色素レーザー、窒素レーザー、発光ダイオード（ＬＥＤ）、ヘリウムカドミウムレーザー等）が挙げられる。

　上記エネルギー線の露光量については、所望量のラジカルを発生可能であれば特に制限はなく、上記化合物Ａの用途等に応じて適宜決定することができる。上記露光量は、５ｍＪ／ｃｍ^２以上２０００ｍＪ／ｃｍ^２以下が好ましい。上記化合物Ａから効果的にラジカルを発生可能だからである。

　上記加熱処理における加熱温度としては、例えば、７０℃以上４５０℃以下であることが好ましく、１５０℃以上３００℃以下であることがより好ましい。また、加熱処理における加熱時間としては、例えば、１分以上１００分以下であることが好ましい。上記化合物Ａから効果的にラジカルを発生可能だからである。

　上記化合物Ａの用途としては、例えば、ラジカルを発生させる用途であればよく、例えば、ラジカルにより、ラジカル重合性化合物同士を重合させるラジカル重合開始剤が挙げられ、特にエネルギー線の照射によりラジカルを発生する光ラジカル重合開始剤が好ましい。

　上記ラジカル重合開始剤の用途としては、例えば、ラジカル重合性化合物を含む硬化性組成物が挙げられる。

　上記硬化性組成物の用途としては、例えば、光硬化性塗料あるいはワニス、光硬化性接着剤、プリント基板、あるいはカラーテレビ、ＰＣモニタ、携帯情報端末、デジタルカメラ等のカラー表示の液晶表示素子におけるカラーフィルター、プラズマ表示パネル用の電極材料、粉末コーティング、印刷インク、印刷版、接着剤、歯科用組成物、ゲルコート、電子工学用のフォトレジスト、電気メッキレジスト、エッチングレジスト、液状及び乾燥膜の双方、はんだレジスト、種々の表示用途用のカラーフィルターを製造するためのあるいはプラズマ表示パネル、電気発光表示装置、及びＬＣＤの製造工程において構造を形成するためのレジスト、電気及び電子部品を封入するための組成物、磁気記録材料、微小機械部品、導波路、光スイッチ、めっき用マスク、エッチングマスク、カラー試験系、ガラス繊維ケーブルコーティング、スクリーン印刷用ステンシル、ステレオリトグラフィによって三次元物体を製造するための材料、ホログラフィ記録用材料、画像記録材料、微細電子回路、脱色材料、画像記録材料のための脱色材料、マイクロカプセルを使用する画像記録材料用の脱色材料、印刷配線板用フォトレジスト材料、ＵＶ及び可視レーザー直接画像系用のフォトレジスト材料、プリント回路基板の逐次積層における誘電体層形成に使用するフォトレジスト材料あるいは保護膜等の各種の用途に使用することができ、その用途に特に制限はない。
　また、上記硬化性組成物の用途としては、有機エレクトロルミネッセンス(有機ＥＬ)ディスプレイ、量子ドット（ＱＤ）ディスプレイ、マイクロ発光ダイオード（μＬＥＤ）ディスプレイに用いられる、カラーフィルター、隔壁材、絶縁膜等の光学部材形成用組成物も挙げられる。
　上記硬化性組成物の用途としては、重合性液晶コーティング組成物、導電性ペースト、ＵＶ硬化性インク等の各種硬化性インク組成物も挙げられる。
　上記硬化性組成物の用途としては、半導体パッケージに用いられるソルダーレジスト、回路形成用レジスト、バンプ用レジスト等の様々な用途の電子基板回路中の絶縁性部材形成用組成物も挙げられる。

　上記化合物Ａの用途は、感度、電気特性及び溶解性のバランスに優れるとの効果をより効果的に発揮する観点からは、例えば、配向層、液晶層のスペーサ、絶縁膜、オーバーコート層、液晶層の周囲を封止する封止剤、カラーフィルター、ブラックマトリクス等の液晶材料と接する部材用途であることが好ましく、なかでも、液晶層のスペーサ用であることが好ましい。
　上記化合物Ａを用いることで、例えば、上記化合物Ａを含む組成物の硬化物を有することを特徴とする液晶層スペーサ、上記液晶層スペーサを含むことを特徴とする液晶表示装置等を得ることができる。
　なお、上記液晶層スペーサは、例えば、ブラックマトリクスとしての機能も有するブラックカラムスペーサとして用いることもできる。

Ｂ．ラジカル重合開始剤
　次に、本発明のラジカル重合開始剤について説明する。
　本発明のラジカル重合開始剤は、上述の化合物Ａを含むことを特徴とするものである。

　本発明のラジカル重合開始剤は、上記化合物Ａを含むことで、例えば、感度、電気特性及び溶解性のバランスに優れたものとなる。

　本発明のラジカル重合開始剤における化合物Ａの含有量は、所望のラジカル発生能を付与できるものであればよく、ラジカル重合開始剤の用途等に応じて適宜設定することができる。ラジカル重合開始剤における化合物Ａの含有量は、ラジカル重合開始剤１００質量部中に１００質量部、すなわち、上記ラジカル重合開始剤が上記化合物Ａのみからなるものとすることができる。また、本発明のラジカル重合開始剤における化合物Ａの含有量は、ラジカル重合開始剤１００質量部中に１００質量部未満、すなわち、ラジカル重合開始剤が上記化合物Ａ及びその他の成分を含む組成物とすることができる。その場合、化合物Ａの含有量は例えば、３０質量部超とすることができ、５０質量部以上とすることが好ましい。上記ラジカル重合開始剤は、感度、電気特性及び溶解性のバランスにより優れたものとなるからである。
　なお、本発明において、特に断りがない場合には、含有量は質量基準である。

　上記ラジカル重合開始剤に含まれる上記化合物Ａの種類は、１種類のみであってもよく、２種類以上であってもよい。上記種類は、例えば、２種類以上５種類以下とすることができる。また、本発明のラジカル重合開始剤は、化合物Ａ以外のラジカル重合開始剤を含むものであってもよい。

　なお、上述の化合物Ａについては、「Ａ．化合物」の項に記載の内容と同様である。

　上記その他の成分としては、ラジカル重合開始剤としての機能を阻害しないものを用いることができ、例えば、後述する「Ｃ．組成物」の「３．溶剤」に記載の溶剤、「４．その他の成分」の項に記載の成分等を挙げることができる。

　上記ラジカル重合開始剤の形状は、粉末状であってもよく、ペレット状であってもよい。形状がペレット状である場合、その製造方法としては、例えば、押出機等を用いて、上記化合物Ａ及びその他の成分を混合した後、ペレット状に成型する方法を挙げることができる。上記ラジカル重合開始剤の形状は、上記化合物Ａが溶剤中に分散又は溶解した溶液状であってもよい。

Ｃ．組成物
　次に、本発明の組成物について説明する。
　本発明の組成物は、上述の化合物Ａと、ラジカル重合性化合物と、を含むことを特徴とするものである。

　本発明の組成物は、上記化合物Ａと、ラジカル重合性化合物と、を含むことで、分散安定性に優れ、調製速度が短いものとなり、電気特性に優れた硬化物を容易に形成可能となる。

１．化合物Ａ
　本発明の組成物における上記化合物Ａの含有量としては、組成物に対して所望の硬化性等を付与できるものであれば特に限定されるものではない。
　本発明の組成物における上記化合物Ａの含有量は、例えば、組成物の固形分１００質量部中、０．００１質量部以上３０質量部未満とすることができ、０．００５質量部以上１０質量部以下であることが好ましい。上記組成物は、分散安定性、調製速度が短い、電気特性に優れた硬化物を容易に形成可能との効果をより効果的に発揮可能となるからである。
　なお、固形分とは、溶剤以外のすべての成分を含むものである。

　上記化合物Ａの含有量としては、ラジカル重合性化合物１００質量部に対して、０．１質量部以上５０質量部以下が好ましく、１質量部以上３０質量部以下がより好ましく、特に５質量部以上２０質量部以下が好ましい。上記組成物は、分散安定性、調製速度が短い、電気特性に優れた硬化物を容易に形成可能との効果をより効果的に発揮可能となるからである。

　上記組成物に含まれる上記化合物Ａの種類は、１種類のみであってもよく、２種類以上であってもよい。上記種類は、例えば、２種類以上５種類以下とすることができる。

２．ラジカル重合性化合物
　上記ラジカル重合性化合物は、ラジカル重合可能な化合物であればよく、例えば、アクリル基、メタクリル基、ビニル基等のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を挙げることができる。
　上記ラジカル重合性化合物は、ラジカル重合性基を１以上有するものであり、ラジカル重合性基を１つ有する単官能化合物又はラジカル重合性基を２以上有する多官能化合物のいずれでも構わない。

　上記ラジカル重合性化合物は、酸価を有する化合物又は酸価を有しない化合物のいずれでも構わない。
　上記酸価を有する化合物としては、例えば、メタクリル酸、アクリル酸等のカルボキシ基等を有するアクリレート化合物、メタクリレート化合物等を挙げることができる。
　上記酸価を有する化合物としては、カルボキシ基を有する構造単位及びエチレン性不飽和基を有する構造単位を含む重合体も挙げることができる。
　上記酸価を有しない化合物としては、ウレタンアクリレート樹脂、ウレタンメタクリレート樹脂、エポキシアクリレート樹脂、エポキシメタクリレート樹脂、アクリル酸－２－ヒドロキシエチル、メタクリル酸－２－ヒドロキシエチル等のカルボキシ基等を有しないアクリレート化合物、メタクリレート化合物を挙げることができる。

　上記ラジカル重合性化合物は、単独で又は２種以上を混合して使用することができる。例えば、ラジカル重合性化合物として、エチレン性不飽和基を有し酸価を有する化合物と、エチレン性不飽和基を有し酸価を有しない化合物とを組み合わせて使用することができる。
　ラジカル重合性化合物を２種以上混合して使用する場合には、それらを予め共重合して共重合体として使用することができる。
　このようなラジカル重合性化合物等としては、より具体的には、特開２０１６－１７６００９号公報に記載されるラジカル重合性化合物、国際公開２０１９／０８８０５５号に記載のラジカル重合性基を有する重合性化合物等が挙げられる。
　カルボキシル基を有する構造単位及びエチレン性不飽和基を有する構造単位を含む重合体としては、例えば、特開２０１６－１５１７４４号公報に記載の［Ａ］カルボキシル基を有する構造単位を含む重合体であって、（メタ）アクリロイル基を有する構造単位を、架橋性基を有する構造単位（Ａ２）として含む重合体、国際公開２０１９／０８８０５５号に記載の（２）親水性基を有する重合体のうち、メタクリロイル基又はアクリロイル基を有する構造単位を構造単位（Ｕ２）として含む重合体等も用いることができる。

　上記ラジカル重合性化合物の含有量は、所望の硬化物が得られるものであれば特に限定されるものではないが、例えば、組成物の固形分１００質量部中に、１質量部以上５０質量部以下とすることができ、５質量部以上４０質量部以下であることが好ましく、８質量部以上３０質量部以下であることがより好ましく、特に１０質量部以上２０質量部以下であることが好ましい。上記含有量が上述の範囲であることで、上記組成物は硬化性に優れた組成物となるからである。

３．溶剤
　上記組成物は、上記化合物Ａ及びラジカル重合性化合物以外に、溶剤を含むことができる。
　上記溶剤は、常温（２５℃）大気圧下で液状であり、化合物Ａ及びラジカル重合性化合物及び後述するその他の成分を分散又は溶解可能なものである。したがって、常温（２５℃）大気圧下で液状であっても、上記化合物Ａ、ラジカル重合性化合物は溶剤には含まれない。

　上記溶剤としては、水、有機溶剤のいずれも用いることができる。
　本発明においては、上記溶剤が有機溶剤であることが好ましい。上記化合物Ａ、ラジカル重合性化合物の溶解又は分散が容易だからである。

　上記有機溶剤としては、プロピレンカーボネート、ジエチルカーボネート等のカーボネート類；アセトン、２－ヘプタノン等のケトン類；エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコール－１－モノメチルエーテル－２－アセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３－メトキシブチルエーテルアセテート、エトキシエチルエーテルプロピオネート等のエーテルエステル類；エチレングリコール、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノアセテート、ジプロピレングリコール等の多価アルコール類；ジオキサンのような環式エーテル類；蟻酸エチル、３－メチル－３－メトキシブチルアセテート等のエステル類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；γ－カプロラクトン、δ－カプロラクトン等のラクトン類等が挙げられる。
　本発明においては、上記有機溶剤がエーテルエステル類を含むことが好ましい。上記溶剤を用いることで、上記組成物は、分散安定性に優れたものとなることが容易だからである。

　上記溶剤の含有量は、上記組成物１００質量部中に、１質量部以上９９質量部以下とすることができる。

４．その他
　上記組成物は、上記化合物Ａ、ラジカル重合性化合物及び溶剤以外に、必要に応じてその他の成分を含むことができる。
　上記その他の成分としては、重合性化合物、親水性基を有する重合体、着色剤、無機化合物、親水性基を有する重合体以外の他の有機重合体、連鎖移動剤、増感剤、界面活性剤、シランカップリング剤、メラミン、着色剤、無機化合物等を分散させる分散剤等が挙げられる。
　上記その他の成分としては、国際公開２０１９／０８８０５５号にその他の成分として記載のものが挙げられる。
　親水性基を有する重合体としては、特開２００５－２３４３６２号公報において、（ａ１）不飽和カルボン酸および／または不飽和カルボン酸無水物、（ａ２）エポキシ基含有不飽和化合物および（ａ３）他の不飽和化合物の共重合体である〔Ａ〕共重合体として記載されるもの、特開２０１６－１５１７４４号公報に記載の［Ａ］カルボキシル基を有する構造単位を含む重合体、国際公開２０１９／０８８０５５号に記載の（２）親水性基を有する重合体のうち、メタクリロイル基又はアクリロイル基等のラジカル重合性基を有する構造単位を含まない重合体等も用いることができる。
　上記添加剤の含有量は、その使用目的に応じて適宜選択され特に制限されないが、例えば、組成物の固形分１００質量部に対して合計で５０質量部以下とすることができ、３０質量部以下であることが好ましい。上記組成物は、分散安定性、調製速度が短い、電気特性に優れた硬化物を容易に形成可能との効果をより効果的に発揮可能となるからである。

５．組成物
　上記組成物の製造方法としては、上記各成分を所望の含有量となるように混合できる方法であればよく、公知の混合方法を用いることができる。
　上記組成物の用途としては、例えば、光照射により硬化する光硬化性組成物として用いることができる。具体的な用途としては、上記「Ａ．化合物」の項に記載の内容と同様である。

Ｄ．硬化物
　次に、本発明の硬化物について説明する。
　本発明の硬化物は、上述の組成物の硬化物である。

　本発明の硬化物は、上述の組成物を用いるため、電気特性に優れたものとなる。
　上記硬化物は、上述の組成物の硬化物であり、上記組成物に含まれるラジカル重合性化合物の重合物を含むものである。
　なお、上述の組成物については、上記「Ｃ．組成物」の項に記載の内容と同様である。

　上記硬化物の平面視形状については、上記硬化物の用途に応じて適宜設定することができ、例えば、ドット状、ライン状等のパターン状とすることができる。

　上記硬化物の用途については、上記「Ａ．化合物」の項に記載の内容と同様である。

　上記硬化物の製造方法としては、上記組成物の硬化物を所望の形状となるように形成できる方法であれば特に限定されるものではない。
　このような製造方法としては、例えば、後述する「Ｅ．硬化物の製造方法」の項に記載の製造方法が挙げられる。

Ｅ．硬化物の製造方法
　次に、本発明の硬化物の製造方法について説明する。
　本発明の硬化物の製造方法は、上述の組成物中のラジカル重合性化合物同士を重合する重合工程を有することを特徴とするものである。

　本発明の硬化物の製造方法は、重合工程において上述の組成物を用いるため、電気特性に優れた硬化物を容易に得ることができる。

１．重合工程
　本発明における重合工程は、上述の組成物を硬化する工程である。
　上記組成物を硬化する方法としては、ラジカル重合性化合物同士を重合して硬化させることができる方法であればよく、上記化合物Ａからラジカルを発生させる方法を挙げることができる。
　上記化合物Ａからラジカルを発生させる方法としては、上記化合物Ａから所望量のラジカルを発生できる方法であればよく、例えば、エネルギー線を照射する方法、加熱処理する方法及びこれらを同時に又は順に行う方法を挙げることができる。このようなエネルギー線を照射する方法、加熱処理する方法等については、上記「Ａ．化合物」の項に記載の方法と同様の方法を挙げることができる。

　本工程においては、上記ラジカルを発生させる方法が、エネルギー線を照射する方法を含むことが好ましい。上記化合物Ａから効果的にラジカルを発生可能であり、ラジカル重合性化合物を効果的に硬化可能だからである。
　なお、上記組成物については、上記「Ｃ．組成物」の項に記載の内容と同様である。

２．その他の工程
　本発明の硬化物の製造方法は、上記重合工程以外に、必要に応じてその他の工程を含むものであってもよい。
　上記その他の工程としては、上記重合工程後に、組成物の塗膜中の未重合部分を除去してパターン状硬化物を得る現像工程、上記重合工程後に、硬化物を加熱処理するポストベーク工程、上記重合工程前に、組成物を加熱処理して上記組成物中の溶剤を除去するプリベーク工程、上記重合工程前に、上記組成物の塗膜を形成する工程等を挙げることができる。
　本発明においては、上記その他の工程が、ポストベーク工程を有することが好ましい。上記化合物Ａから発生したラジカルを効果的に拡散でき、その結果、ラジカル重合性化合物の重合が十分に進行した硬化物の形成が容易となるからである。

　上記現像工程における未重合部分を除去する方法としては、例えば、アルカリ現像液等の現像液を未重合部分に塗布する方法を挙げることができる。
　上記アルカリ現像液としては、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）水溶液や、水酸化カリウム水溶液、炭酸カリウム水溶液等のアルカリ現像液として一般的に使用されているものを用いることができる。
　また、現像液としては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＥＧＭＥＡ）やシクロヘキサノンなどの溶剤現像液として一般的に使用されているものを用いることができる。
　上記現像液を用いた現像方法としては、現像したい部位と現像液とを接触させることができる方法であればよく、シャワー法、スプレー法、浸漬法等公知の方法を用いることができる。
　上記現像工程の実施タイミングとしては、上記硬化工程後であればよい。

　上記ポストベーク工程における加熱条件は、硬化工程により得られた硬化物の強度等を向上できるものであればよく、例えば、２００℃以上２５０℃以下で２０分間～９０分間とすることができる。

　上記プリベーク工程における加熱条件としては、組成物中の溶剤を除去できるものであればよく、例えば、７０℃以上１５０℃以下で３０秒～３００秒間とすることができる。

　上記塗膜を形成する工程で、組成物を塗布する方法としては、スピンコーター、ロールコーター、バーコーター、ダイコーター、カーテンコーター、各種の印刷、浸漬等の公知の方法を用いることができる。
　上記塗膜は、基材上に形成することができる。
　上記基材としては、硬化物の用途等に応じて適宜設定することができ、ソーダガラス、石英ガラス、半導体基板、配線基板、金属、紙、プラスチック等を含むものを挙げることができる。
　また、上記硬化物は、基材上で形成された後、基材から剥離して用いても、基材から他の被着体に転写して用いてもよい。

３．その他
　上記製造方法により製造される硬化物及び用途等については、上記「Ｄ．硬化物」の項に記載の内容と同様である。

　本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。

　以下、実施例等を挙げて本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。

［実施例１］
　インドール３０ミリモル、炭酸カリウム３３ミリモル、４－フルオロニトロベンゼン３３ミリモル、ＤＭＳＯを窒素雰囲気下、反応容器に仕込み、１５０℃で撹拌した。次いで精製を行い、Ｎ－ニトロフェニルインドールを得た。
　次いで、塩化アルミニウム３６ミリモル、二塩化エタンを反応容器に仕込み、得られたＮ－ニトロフェニルインドール３０ミリモル、続いて４－フルオロ－Ｏ－トルイル酸クロリド３６ミリモル仕込み撹拌した。次いで精製を行い、アシル体を得た。
　次いで、エチレングリコール、得られたアシル体２０ミリモル、炭酸カリウム４０ミリモルを反応容器に仕込み、１００℃で反応させた。次いで精製を行い、ヒドロキシ基を有するアシル体を得た。
　次いで、得られたヒドロキシ基を有するアシル体２０ミリモル、塩酸ヒドロキシルアミン４０ミリモル、ピリジン２５．０ｇを反応容器に仕込み、１００℃で撹拌した。次いで精製を行い、オキシム体を得た。
　次いで、得られたオキシム体１０ミリモル、ジメチルホルムアミドを反応容器に仕込み、トリエチルアミン１１ミリモル、アセチルクロリド１１ミリモルを滴下し、撹拌した。次いで精製を行い、下記式（１－１）で表される化合物を得た。
　得られた化合物が目的物であることを、^１Ｈ－ＮＭＲ及び質量分析（ＭＡＲＤＩ－ＴＯＦ－ＭＳ）にて確認した。
ＭＳ［Ｍ＋１］^＋　ｍ／ｚ：４７４

［実施例２］
　４－フルオロ－Ｏ－トルイル酸クロリドの代わりに、４－（クロロメチル）ベンゾイルクロリドを用いた以外は、実施例１と同様にして下記式（１－２）で表される化合物を得た。
　得られた化合物が目的物であることを、^１Ｈ－ＮＭＲ及び質量分析にて確認した。
ＭＳ［Ｍ＋１］^＋　ｍ／ｚ：４７４

［実施例３］
　４－ニトロフルオロベンゼンの代わりに４－フルオロベンゾフェノンを用い、４－フルオロ－Ｏ－トルイル酸クロリドの代わりに４－クロロブチリルクロリドを用いた以外は、実施例１と同様にして、アシル体を得た。
　次いで、ギ酸ナトリウムを１２０ミリモル、テトラブチルアンモニウムブロミドを１．５ミリモル、ジメチルホルムアミドを反応容器に仕込み、１００℃で撹拌した。次いで精製を行い、ヒドロキシ基を有するアシル体を得た。
　次いで、得られたヒドロキシ基を有するアシル体を用い、実施例１同様にして下記式（１－３）で表される化合物を得た。
　得られた化合物が目的物であることを、^１Ｈ－ＮＭＲ及び質量分析にて確認した。
ＭＳ［Ｍ＋１］^＋　ｍ／ｚ：４４１

［実施例４］
　実施例３で得られたアシル体を２０ミリモル、ジメチルホルムアミドを理論収量の３倍量、反応容器に仕込み、窒素雰囲気下５℃で撹拌しながら、３５％塩酸２０ミリモル、亜硝酸イソブチル３０ミルモルをゆっくり滴下し撹拌した。次いで精製を行い、オキシム体を得た。
　次いで、得られたオキシム体を用い、実施例１同様にして下記式（１－４）で表される化合物を得た。
　得られた化合物が目的物であることを、^１Ｈ－ＮＭＲ及び質量分析にて確認した。
ＭＳ［Ｍ＋１］^＋　ｍ／ｚ：４５５

［実施例５］
　４－ニトロフルオロベンゼンの代わりにフルオロベンゼンを、ジエチレングリコールの代わりにメルカプトエタノールを用いた以外は、実施例１と同様にして下記式（１－５）で表される化合物を得た。
　得られた化合物が目的物であることを、^１Ｈ－ＮＭＲ及び質量分析にて確認した。
ＭＳ［Ｍ＋１］^＋　ｍ／ｚ：４４５

［実施例６］
　４－ニトロフルオロベンゼンの代わりにフルオロベンゼンを、ジエチレングリコールの代わりに４－ヒドロキシチオフェノールを用いた以外は、実施例１と同様にして下記式（１－６）で表される化合物を得た。
　得られた化合物が目的物であることを、^１Ｈ－ＮＭＲ及び質量分析にて確認した。
ＭＳ［Ｍ＋１］^＋　ｍ／ｚ：４９３

［実施例７］
　インドールの代わりにインドール－２－カルボン酸を用い、４－フルオロ－Ｏ－トルイル酸クロリドの代わりにオクタノイルクロリドを用いた以外は、実施例１と同様にしてアシル体を得た。
　次いで、得られたアシル体を用い、実施例４と同様にして下記式（２－１）で表される化合物を得た。
　得られた化合物が目的物であることを、^１Ｈ－ＮＭＲ及び質量分析にて確認した。
ＭＳ［Ｍ＋１］^＋　ｍ／ｚ：４６６

［実施例８］
　インドール－２－メタノール２０ミリモル、エチレングリコール、濃硫酸１ｍｌを反応容器に仕込み、１２０℃で撹拌した。次いで精製を行い、２－（プロポキシメチル）インドールを得た。
　次いで、４－フルオロ－Ｏ－トルイル酸クロリドの代わりにオクタノイルクロリドを用いた以外は、実施例１と同様にしてアシル体を得、次いで実施例４と同様にして、下記式（２－２）で表される化合物を得た。
　得られた化合物が目的物であることを、^１Ｈ－ＮＭＲ及び質量分析にて確認した。
ＭＳ［Ｍ＋１］^＋　ｍ／ｚ：５１０

［実施例９］
　インドール－２－メタノールの代わりにインドール－２－カルボン酸を用いた以外は、実施例８と同様にして下記式（２－３）で表される化合物を得た。
　得られた化合物が目的物であることを、^１Ｈ－ＮＭＲ及び質量分析にて確認した。
ＭＳ［Ｍ＋１］^＋　ｍ／ｚ：５２４

［実施例１０］
　４－フルオロニトロベンゼンの代わりに３－ブロモ－１－プロパノールを、４－フルオロ－Ｏ－トルイル酸クロリドの代わりにオクタノイルクロリドを用いた以外は、実施例１と同様にしてアシル体を得、次いで実施例４と同様にして、下記式（３－１）で表される化合物を得た。
　得られた化合物が目的物であることを、^１Ｈ－ＮＭＲ及び質量分析にて確認した。
ＭＳ［Ｍ＋１］^＋　ｍ／ｚ：３７３

［実施例１１］
　３－ブロモ－１－プロパノールの代わりに５－フルオロ－２－ニトロフェノールを用いた以外は、実施例１０と同様にして下記式（３－２）で表される化合物を得た。
　得られた化合物が目的物であることを、^１Ｈ－ＮＭＲ及び質量分析にて確認した。
ＭＳ［Ｍ＋１］^＋　ｍ／ｚ：４５２

［実施例１２］
　インドール－２－メタノールの代わりに実施例１１で得られたＮ－（３－ヒドロキシ－４－ニトロフェニル）インドールを用いた以外は、実施例８と同様にして下記式（３－３）で表される化合物を得た。
　得られた化合物が目的物であることを、^１Ｈ－ＮＭＲ及び質量分析にて確認した。
ＭＳ［Ｍ＋１］^＋　ｍ／ｚ：４９６

［実施例１３］
　４－フルオロニトロベンゼンの代わりに２－（４－フルオロフェニル）エタノールを用い、４－フルオロ－Ｏ－トルイル酸クロリドの代わりにオクタノイルクロリドを用いた以外は、実施例１と同様にしてアシル体を得、次いで実施例４と同様にして、下記式（３－４）で表される化合物を得た。
　得られた化合物が目的物であることを、^１Ｈ－ＮＭＲ及び質量分析にて確認した。
ＭＳ［Ｍ＋１］^＋　ｍ／ｚ：４３５

［実施例１４］
　４－フルオロニトロベンゼンの代わりに、２－（４－クロロフェニル）－２－メチルプロパノールを用い、４－フルオロ－Ｏ－トルイル酸クロリドの代わりにオクタノイルクロリドを用いた以外は、実施例１と同様にしてアシル体を得、次いで実施例４と同様にして、下記式（３－５）で表される化合物を得た。
　得られた化合物が目的物であることを、^１Ｈ－ＮＭＲ及び質量分析にて確認した。
ＭＳ［Ｍ＋１］^＋　ｍ／ｚ：４６３

［実施例１５］
　インドールの代わりに２－メチルインドールを用い、４－フルオロニトロベンゼンの代わりに４－クロロフェノキシエタノールを用い、４－フルオロ－Ｏ－トルイル酸クロリドの代わりにオクタノイルクロリドを用いた以外は、実施例１と同様にしてアシル体を得、次いで実施例４と同様にして、下記式（３－６）で表される化合物を得た。
ＭＳ［Ｍ＋１］^＋　ｍ／ｚ：４６５

［実施例１６］
　４－フルオロニトロベンゼンの代わりに４－クロロフェノキシ－２－プロパノールを用い、４－フルオロ－Ｏ－トルイル酸クロリドの代わりにオクタノイルクロリドを用いた以外は、実施例１と同様にしてアシル体を得、次いで実施例４と同様にして、下記式（３－７）で表される化合物を得た。
　得られた化合物が目的物であることを、^１Ｈ－ＮＭＲ及び質量分析にて確認した。
ＭＳ［Ｍ＋１］^＋　ｍ／ｚ：４６５

［実施例１７］
　４－フルオロニトロベンゼンの代わりに４－フルオロ－４’－ヒドロキシベンゾフェノンを用い、４－フルオロ－Ｏ－トルイル酸クロリドの代わりにオクタノイルクロリドを用いた以外は、実施例１と同様にしてアシル体を得、次いで実施例４、実施例８と同様にして、下記式（３－８）で表される化合物を得た。
　得られた化合物が目的物であることを、^１Ｈ－ＮＭＲ及び質量分析にて確認した。
ＭＳ［Ｍ＋１］^＋　ｍ／ｚ：５５５

［実施例１８］
　４－フルオロニトロベンゼンの代わりに５－ブロモ－２－チオフェンメタノールを用い、４－フルオロ－Ｏ－トルイル酸クロリドの代わりにオクタノイルクロリドを用いた以外は、実施例１と同様にしてアシル体を得、次いで実施例４と同様にして、下記式（３－９）で表される化合物を得た。
　得られた化合物が目的物であることを、^１Ｈ－ＮＭＲ及び質量分析にて確認した。
ＭＳ［Ｍ＋１］^＋　ｍ／ｚ：４２７

［実施例１９］
　４－フルオロニトロベンゼンの代わりに２，５－ジブロモチオフェンを用い、４－フルオロ－Ｏ－トルイル酸クロリドの代わりにオクタノイルクロリドを用いた以外は、実施例１と同様にしてアシル体を得、次いで実施例４、実施例８と同様にして、下記式（３－１０）で表される化合物を得た。
　得られた化合物が目的物であることを、^１Ｈ－ＮＭＲ及び質量分析にて確認した。
ＭＳ［Ｍ＋１］^＋　ｍ／ｚ：４５７

［実施例２０］
　インドールの代わりに５－ヒドロキシインドールを用い、４－フルオロ－Ｏ－トルイル酸クロリドの代わりにオクタノイルクロリドを用いた以外は、実施例１と同様にしてアシル体を得、次いで実施例４と同様にして、下記式（４－１）で表される化合物を得た。
　得られた化合物が目的物であることを、^１Ｈ－ＮＭＲ及び質量分析にて確認した。
ＭＳ［Ｍ＋１］^＋　ｍ／ｚ：３８２

［実施例２１］
　インドールの代わりに５－ヒドロキシインドールを用い、４－フルオロ－Ｏ－トルイル酸クロリドの代わりにオクタノイルクロリドを用いた以外は、実施例１と同様にしてヒドロキシル基を有するアシル体を得、次いで実施例４、実施例８と同様にして、下記式（４－２）で表される化合物を得た。
　得られた化合物が目的物であることを、^１Ｈ－ＮＭＲ及び質量分析にて確認した。
ＭＳ［Ｍ＋１］^＋　ｍ／ｚ：４２６

［実施例２２］
　インドールの代わりに５－フルオロインドールを用い、４－フルオロ－Ｏ－トルイル酸クロリドの代わりにオクタノイルクロリドを用いた以外は、実施例１、実施例６と同様にしてアシル体を得、次いで実施例４と同様にして、下記式（４－３）で表される化合物を得た。
　得られた化合物が目的物であることを、^１Ｈ－ＮＭＲ及び質量分析にて確認した。
ＭＳ［Ｍ＋１］^＋　ｍ／ｚ：４９０

［実施例２３］
　アセチルクロリドの代わりにプロピオニルクロリドを用いた以外は、実施例１と同様にして下記式（１－７）で表される化合物を得た。
　得られた化合物が目的物であることを、^１Ｈ－ＮＭＲ及び質量分析にて確認した。
ＭＳ［Ｍ＋１］^＋　ｍ／ｚ：４８８

［実施例２４］
　エチレングリコールの代わりにプロピレングリコールを用いた以外は、実施例１と同様にして下記式（１－８）で表される化合物を得た。
　得られた化合物が目的物であることを、^１Ｈ－ＮＭＲ及び質量分析にて確認した。
ＭＳ［Ｍ＋１］^＋　ｍ／ｚ：４８８

［実施例２５］
　インドールの代わりに６－メチルインドールを用いた以外は、実施例１と同様にして下記式（１－９）で表される化合物を得た。
　得られた化合物が目的物であることを、^１Ｈ－ＮＭＲ及び質量分析にて確認した。
ＭＳ［Ｍ＋１］^＋　ｍ／ｚ：４８８

［実施例２６］
　インドールの代わりに５－メチルインドールを用いた以外は、実施例１と同様にして下記式（１－１０）で表される化合物を得た。
　得られた化合物が目的物であることを、^１Ｈ－ＮＭＲ及び質量分析にて確認した。
ＭＳ［Ｍ＋１］^＋　ｍ／ｚ：４８８

［実施例２７］
　インドールの代わりに５－フルオロインドールを用いた以外は、実施例１と同様にして下記式（１－１１）で表される化合物を得た。
　得られた化合物が目的物であることを、^１Ｈ－ＮＭＲ及び質量分析にて確認した。
ＭＳ［Ｍ＋１］^＋　ｍ／ｚ：４９２

［実施例２８］
　インドールの代わりに５－シアノインドールを用いた以外は、実施例１と同様にして下記式（１－１２）で表される化合物を得た。
　得られた化合物が目的物であることを、^１Ｈ－ＮＭＲ及び質量分析にて確認した。
ＭＳ［Ｍ＋１］^＋　ｍ／ｚ：４９９

［実施例２９］
　インドールの代わりに５－ジメチルアミノインドールを用いた以外は、実施例１と同様にして下記式（１－１３）で表される化合物を得た。
　得られた化合物が目的物であることを、^１Ｈ－ＮＭＲ及び質量分析にて確認した。
ＭＳ［Ｍ＋１］^＋　ｍ／ｚ：５１７

［実施例３０］
　アセチルクロリドの代わりにベンゾイルクロリドを用いた以外は、実施例３と同様にして下記式（１－１４）で表される化合物を得た。
　得られた化合物が目的物であることを、^１Ｈ－ＮＭＲ及び質量分析にて確認した。
ＭＳ［Ｍ＋１］^＋　ｍ／ｚ：５０３

［実施例３１］
　４－クロロベンゾフェノンの代わりに１，４－ジフルオロベンゼンを用いた以外は、実施例３と同様にして下記式（１－１５）で表される化合物を得た。
　得られた化合物が目的物であることを、^１Ｈ－ＮＭＲ及び質量分析にて確認した。
ＭＳ［Ｍ＋１］^＋　ｍ／ｚ：３５５

［実施例３２］
　４－クロロベンゾフェノンの代わりに５－フルオロ－２－ニトロトルエンを用いた以外は、実施例３と同様にして下記式（１－１６）で表される化合物を得た。
　得られた化合物が目的物であることを、^１Ｈ－ＮＭＲ及び質量分析にて確認した。
ＭＳ［Ｍ＋１］^＋　ｍ／ｚ：３９６

［実施例３３］
　４－クロロベンゾフェノンの代わりに５－フルオロ－２－ニトロアニソールを用いた以外は、実施例３と同様にして下記式（１－１７）で表される化合物を得た。
　得られた化合物が目的物であることを、^１Ｈ－ＮＭＲ及び質量分析にて確認した。
ＭＳ［Ｍ＋１］^＋　ｍ／ｚ：４１２

［実施例３４］
　インドールの代わりに５－ニトロインドールを用いた以外は、実施例３と同様にして下記式（１－１８）で表される化合物を得た。
　得られた化合物が目的物であることを、^１Ｈ－ＮＭＲ及び質量分析にて確認した。
ＭＳ［Ｍ＋１］^＋　ｍ／ｚ：４８６

［実施例３５］
　インドールの代わりに５－メトキシインドールを用いた以外は、実施例３と同様にして下記式（１－１９）で表される化合物を得た。
　得られた化合物が目的物であることを、^１Ｈ－ＮＭＲ及び質量分析にて確認した。
ＭＳ［Ｍ＋１］^＋　ｍ／ｚ：４７１

［実施例３６］
　インドールの代わりに２－（４－フルオロフェニル）インドールを用いた以外は、実施例１と同様にして下記式（２－４）で表される化合物を得た。
　得られた化合物が目的物であることを、^１Ｈ－ＮＭＲ及び質量分析にて確認した。
ＭＳ［Ｍ＋１］^＋　ｍ／ｚ：４７４

［実施例３７］
　オクタノイルクロリドの代わりに３－シクロヘキシルプロパノイルクロリドを用いた以外は、実施例１６と同様にして下記式（３－１１）で表される化合物を得た。
　得られた化合物が目的物であることを、^１Ｈ－ＮＭＲ及び質量分析にて確認した。
ＭＳ［Ｍ＋１］^＋　ｍ／ｚ：４７７

［実施例３８］
　オクタノイルクロリドの代わりにフェニルアセチルクロリドを用いた以外は、実施例１６と同様にして下記式（３－１２）で表される化合物を得た。
　得られた化合物が目的物であることを、^１Ｈ－ＮＭＲ及び質量分析にて確認した。
ＭＳ［Ｍ＋１］^＋　ｍ／ｚ：４５７

［実施例３９］
　オクタノイルクロリドの代わりに２－チエニルアセチルクロリドを用いた以外は、実施例１６と同様にして下記式（３－１３）で表される化合物を得た。
　得られた化合物が目的物であることを、^１Ｈ－ＮＭＲ及び質量分析にて確認した。
ＭＳ［Ｍ＋１］^＋　ｍ／ｚ：４６３

［実施例４０］
　オクタノイルクロリドの代わりにエチルグルタリルクロリドを用いた以外は、実施例１６と同様にして下記式（３－１４）で表される化合物を得た。
　得られた化合物が目的物であることを、^１Ｈ－ＮＭＲ及び質量分析にて確認した。
ＭＳ［Ｍ＋１］^＋　ｍ／ｚ：４５３

［製造例１］　親水性基を有する重合体Ｂ－１の調製
　１，１－ビス〔４－（２，３－エポキシプロピルオキシ）フェニル〕インダン１８４ｇ、アクリル酸５８ｇ、２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－ｐ－クレゾール０．２６ｇ、テトラ－ｎ－ブチルアンモニウムブロミド０．１１ｇ及びＰＧＭＥＡ１０５ｇを反応容器に仕込み、１２０℃で１６時間撹拌した。反応液を室温まで冷却し、ＰＧＭＥＡ１６０ｇ、ビフタル酸無水物５９ｇ及びテトラ－ｎ－ブチルアンモニウムブロミド０．２４ｇを加えて、１２０℃で４時間撹拌した。更に、テトラヒドロ無水フタル酸２０ｇを加え、１２０℃で４時間、１００℃で３時間、８０℃で４時間、６０℃で６時間、４０℃で１１時間撹拌した後、ＰＧＭＥＡ１２８ｇを加えて、ＰＧＭＥＡ溶液として親水性基を有する重合体Ｂ－１を得た（Ｍｗ＝５０００、Ｍｎ＝２１００、酸価（固形分）９２．７ｍｇＫＯＨ／ｇ、固形分含量４４．５質量％）。

［製造例２］カーボンブラック分散液Ｄ－１の調製
　カーボンブラックとしてＭＡ１００（三菱化学社製）を１５質量部、分散剤としてＢＹＫ１６１（ビックケミー（ＢＹＫ）社製）１１．２５質量部（固形分濃度４０質量％）、溶媒としてＰＧＭＥＡ７３．７５質量部を混合し、ビーズミルにより処理して、カーボンブラック分散液Ｄ―１を調製した。

［製造例３］比較化合物Ａ’１の合成
　下記式（Ａ’１）で表される比較化合物Ａ’１を得た。
　得られた化合物が目的物であることを、^１Ｈ－ＮＭＲ及び質量分析にて確認した。

［製造例４］比較化合物Ａ’２の合成
　下記式（Ａ’２）で表される比較化合物Ａ’２を得た。
　得られた化合物が目的物であることを、^１Ｈ－ＮＭＲ及び質量分析にて確認した。

［製造例５］比較化合物Ａ’３の合成
　下記式（Ａ’３）で表される比較化合物Ａ’３を得た。
　得られた化合物が目的物であることを、^１Ｈ－ＮＭＲ及び質量分析にて確認した。

［製造例６］比較化合物Ａ’４の合成
　下記式（Ａ’４）で表される比較化合物Ａ’４を得た。
　得られた化合物が目的物であることを、^１Ｈ－ＮＭＲ及び質量分析にて確認した。

１．感度
　下記実施例及び比較例のラジカル重合開始剤について、評価用組成物を用いて感度評価を行った。
　評価用組成物を、下記に示す組成となるように調製し、次いで、評価用組成物を、ガラス基板（１００ｍｍ×１００ｍｍ）上にスピンコーターを用いて塗布し、９０℃で１００秒間プリベークを行った。
　次いで、ミラープロジェクションアライナー（製品名：ＴＭＥ－１５０ＲＴＯ、株式会社トプコン製）を使用し、露光ギャップを１５０μｍとして、３０μｍのラインパターンの形成されたネガマスクを介して、塗膜に紫外線を照射した。
　露光量は、２５、５０、７５、１００ｍＪ／ｃｍ^２の４段階とした。
　その後、この基板に対して２３℃で０．０４質量％水酸化カリウム水溶液からなる現像液を吐出することにより、シャワー現像を行った。
　現像時間は、未露光部が完全に溶解されるまでの時間（ＢＴ：ブレイクタイム）を基準として、ＢＴの１．５倍とした。
　その後、２３０℃で３０分間、ポストベークを行った。
　ポストベーク後の塗膜の膜厚は３．０μｍであった。
　そして、ポストベーク後の３０μｍ部のパターンの幅（線幅）を求めることにより、感度特性の指標として評価を行った。結果を下記表２及び表３に示す。
＜評価基準＞
＋＋：線幅が３０μｍ以上になる露光量が２５ｍＪ／ｃｍ^２未満
＋　：線幅が３０μｍ以上になる露光量が２５ｍＪ／ｃｍ^２以上５０ｍＪ／ｃｍ^２未満
－　：線幅が３０μｍ以上になる露光量が５０ｍＪ／ｃｍ^２以上１００ｍＪ／ｃｍ^２未満
－－：線幅が３０μｍ以上になる露光量が１００ｍＪ／ｃｍ^２以上
　なお、線幅が所定の幅となるために要する露光量が少ないほど感度に優れると判断できる。

（ラジカル重合開始剤）
実施例１～２２：化合物Ａ（実施例１～実施例２２で得られたもの）
比較例１：上記式（Ａ’１）で表される化合物（製造例３で得られたもの）
比較例２：上記式（Ａ’２）で表される化合物（製造例４で得られたもの）
比較例３：上記式（Ａ’３）で表される化合物（製造例５で得られたもの）
比較例４：上記式（Ａ’４）で表される化合物（製造例６で得られたもの）
比較例５：上記式（Ａ’５）で表される化合物（光ラジカル重合開始剤、ＢＡＳＦ社製ＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＯＸＥ－０１）
比較例６：上記式（Ａ’６）で表される化合物（光ラジカル重合開始剤、ＢＡＳＦ社製ＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＯＸＥ－０２）
実施例２３～４０：化合物Ａ（実施例２３～実施例４０で得られたもの）

（評価用組成物の製造方法）
　上記実施例及び比較例のラジカル重合開始剤と、ラジカル重合性化合物、顔料分散液、カップリング剤及び溶剤と、を下記表１の配合に従って各成分を混合して評価用組成物を調製した。
　なお、表中の数字は質量部を表す。
　表中の各成分は、以下の成分を用いた。

（ラジカル重合性化合物）
Ｂ１：上記製造例１で得られた重合体（親水性基を有するラジカル重合性化合物）
Ｂ２：ＳＰＣ－３０００（親水性基を有するラジカル重合性化合物；昭和電工社製、固形分４２．７％、ＰＧＭＥＡ溶液）
Ｃ１：カヤラッドＤＰＨＡ（親水性基を有しないラジカル重合性化合物（多官能アクリレート）；日本化薬社製）

（顔料分散液）
Ｄ１：カーボンブラック顔料分散液（上記製造例２で得られたもの）

（シランカップリング剤、溶剤）
Ｅ１：ＫＢＥ－４０３（シランカップリング剤、信越化学株式会社製）
Ｆ１：プロピレングリコール－１－モノメチルエーテル－２－アセテート（溶剤）

２．電気特性
　「１．感度評価」と同様の方法で調製した評価用組成物を、ガラス基板（１００ｍｍ×１００ｍｍ）上にスピンコーターを用いて塗布し、９０℃で１００秒間プリベークを行った。
　次いで、プロキシミティー露光装置（製品名：ＴＭＥ－１５０ＲＡＫ－１２、株式会社トプコン製）を使用し、マスクを介さず塗膜に紫外線を照射量２００ｍＪ／ｃｍ^２で照射した。
　その後、２３０℃で３０分間、ポストベークを行った。
　ポストベーク後の塗膜の膜厚は３．０μｍであった。
　ポストベーク後の塗膜の１質量部を４０質量部のＡＤＥＫＡ社製の液晶「ＲＳ－１８２」と混合し、１２０℃で１時間保存した。これを室温に取り出し静置後、上澄み液を採取した。採取した液晶組成物について、上記液晶を塗膜と混合する前後でのＶＨＲ（電圧保持率）を比較し、下記式にてＶＨＲの保持率を求め、下記基準により評価を行った。結果を下記表２及び表３に示す。
　なお、評価は、液晶組成物を液晶評価用ＴＮセル（セル厚５μｍ、電極面積８ｍｍ×８ｍｍ配向膜ＪＡＬＳ２０９６）に注入し、ＶＨＲをＶＨＲ－１Ａ（東陽テクニカ製）を用い測定した（測定条件：パルス電圧幅６０μｓ、フレーム周期１６．７ｍｓ、波高±５Ｖ、測定温度６０℃）。
　ＶＨＲの保持率（％）＝｛（塗膜と混合前の液晶「ＲＳ－１８２」のＶＨＲ）―（塗膜と混合して得られた液晶組成物のＶＨＲ）｝／（塗膜と混合前の液晶「ＲＳ－１８２」のＶＨＲ）×１００
＜評価基準＞
＋＋：ＶＨＲ保持率が９６．０％超
＋　：ＶＨＲ保持率が９３．０％以上９６．０％未満
－　：ＶＨＲ保持率が９３．０％未満
　なお、ＶＨＲ保持率が高いほど電気特性に優れると判断できる。

３．溶解性評価
　上述のラジカル重合開始剤について、２５℃におけるプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥＡ）に対する溶解性の評価を行い、ＰＧＭＥＡに溶解可能なラジカル重合開始剤の濃度（質量％）を測定した。次いで、下記基準で評価を行った。結果を下記表２及び表３に示す。
＜評価基準＞
＋：５質量％以上
－：５質量％未満
　なお、溶解可能な濃度が大きいほど、溶解性に優れると判断できる。

　表２及び表３より、実施例の化合物は、感度、電気特性及び溶解性のバランスに優れることが確認できた。
　このようなことから、上記化合物Ａは、例えば、液晶層のスペーサのように、液晶材料と接する部材用に有用であることが確認できた。

　本発明によれば、感度、電気特性及び溶解性のバランスに優れたラジカル重合開始剤を形成可能な化合物を提供することができる。

Claims

　下記一般式（Ａ）で表される化合物。

（式中、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６及びＲ^１７は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、－ＯＲ^２０、－ＣＯＲ^２０、－ＯＣＯＲ^２０、－ＣＯＯＲ^２０、－ＳＲ^２０、－ＳＯＲ^２０、－ＳＯ_２Ｒ^２０、－ＮＲ^２１Ｒ^２２、－ＮＲ^２１ＣＯＲ^２２、－ＣＯＮＲ^２１Ｒ^２２、下記一般式（１）で表される基、炭素原子数１～２０の無置換若しくは置換基を有している脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の無置換若しくは置換基を有している芳香族炭化水素環含有基、若しくは、炭素原子数２～２０の無置換若しくは置換基を有している複素環含有基、又は、前記脂肪族炭化水素基、前記芳香族炭化水素環含有基若しくは前記複素環含有基中のメチレン基の１つ以上が下記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられた基を表し、
　Ｒ^１３は、炭素原子数１～２０の無置換若しくは置換基を有している脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の無置換若しくは置換基を有している芳香族炭化水素環含有基、炭素原子数２～２０の無置換若しくは置換基を有している複素環含有基、若しくは、芳香族炭化水素環中の水素原子の１つ以上が下記一般式（１）で表される基で置換された、炭素原子数７～３０の無置換若しくは置換基を有しているアリール基である第１アリール基、又は、前記脂肪族炭化水素基、前記芳香族炭化水素環含有基、前記複素環含有基若しくは前記第１アリール基中のメチレン基の１つ以上が下記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられた基を表し、
　Ｒ^２０、Ｒ^２１及びＲ^２２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１～２０の無置換若しくは置換基を有している脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の無置換若しくは置換基を有している芳香族炭化水素環含有基、若しくは、炭素原子数２～２０の無置換若しくは置換基を有している複素環含有基、又は、前記脂肪族炭化水素基、前記芳香族炭化水素環含有基若しくは前記複素環含有基中のメチレン基の１つ以上が下記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられた基を表し、Ｒ^２０、Ｒ^２１又はＲ^２２が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよく、
　Ｒ^１１とＲ^１２、Ｒ^１４とＲ^１５、Ｒ^１５とＲ^１６及びＲ^１６とＲ^１７は、結合して環を形成していてもよく、
　前記置換基を有している脂肪族炭化水素基、前記置換基を有している芳香族炭化水素環含有基、前記置換基を有している複素環含有基及び前記第１アリール基中の水素原子の１つ以上を置換する置換基が、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水酸基、チオール基、－ＣＯＯＨ又は－ＳＯ_２Ｈであり、
　Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６及びＲ^１７のうち１つ以上が前記一般式（１）で表される基であるか又はＲ^１３が前記第１アリール基であり、
　Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６及びＲ^１７のうち１つ以上が水酸基を有する基である。）

（式中、Ｒ^１は、炭素原子数１～２０の無置換若しくは置換基を有している脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の無置換若しくは置換基を有している芳香族炭化水素環含有基、若しくは、炭素原子数２～２０の無置換若しくは置換基を有している複素環含有基、又は、前記脂肪族炭化水素基、前記芳香族炭化水素環含有基若しくは前記複素環含有基中のメチレン基の１つ以上が下記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられた基を表し、
　Ｒ^２は、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭素原子数１～２０の無置換若しくは置換基を有している脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の無置換若しくは置換基を有している芳香族炭化水素環含有基、若しくは、炭素原子数２～２０の無置換若しくは置換基を有している複素環含有基、又は、前記脂肪族炭化水素基、前記芳香族炭化水素環含有基若しくは前記複素環含有基中のメチレン基の１つ以上が下記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられた基を表し、
　前記置換基を有している脂肪族炭化水素基、前記置換基を有している芳香族炭化水素環含有基及び前記置換基を有している複素環含有基中の水素原子の１つ以上を置換する置換基が、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水酸基、チオール基、－ＣＯＯＨ又は－ＳＯ_２Ｈであり、
　ｎは０又は１を表し、
　＊は、結合箇所を表す。）
　群Ｉ：－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－、－ＣＳ－、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ_２－、－ＮＲ^３０－、－ＮＲ^３０－ＣＯ－、－ＣＯ－ＮＲ^３０－、－ＮＲ^３０－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－ＮＲ^３０－又は－ＳｉＲ^３０Ｒ^３１－。
　Ｒ^３０及びＲ^３１は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素原子数１～２０の無置換の脂肪族炭化水素基を表し、Ｒ^３０又はＲ^３１が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。
　Ｒ^１１が前記一般式（１）で表される基である請求項１に記載の化合物。
　前記水酸基を有する基が、Ｒ^１１、Ｒ^１２及びＲ^１３の少なくとも１つである請求項１又は請求項２に記載の化合物。
　Ｒ^１１が前記一般式（１）で表される基であり、かつ、Ｒ^１１が水酸基を有する基であって、
　Ｒ^１が、炭素原子数１～２０の置換基として水酸基を有している脂肪族炭化水素基若しくは炭素原子数６～２０の置換基として水酸基を有している芳香族炭化水素環含有基、又は、前記脂肪族炭化水素基若しくは前記芳香族炭化水素環含有基中のメチレン基の１つ以上が前記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられた基であり、
　Ｒ^２が、炭素原子数１～２０の無置換の脂肪族炭化水素基であり、
　Ｒ^１３が、炭素原子数６～２０の無置換若しくは置換基を有している芳香族炭化水素環含有基、又は、前記芳香族炭化水素環含有基メチレン基の１つ以上が前記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられた基である、請求項２に記載の化合物。
　Ｒ^１１が前記一般式（１）で表される基であり、かつ、Ｒ^１２が水酸基を有する基であり、
　Ｒ^１及びＲ^２が、それぞれ独立に、炭素原子数１～２０の無置換の脂肪族炭化水素基であり、
　Ｒ^１２が、炭素原子数１～２０の置換基として水酸基を有している脂肪族炭化水素基、又は、前記脂肪族炭化水素基中のメチレン基の１つ以上が前記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられた基であり、
　Ｒ^１３が、炭素原子数６～２０の置換基を有している芳香族炭化水素環含有基、又は、前記芳香族炭化水素環含有基中のメチレン基の１つ以上が前記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられた基である、請求項２に記載の化合物。
　Ｒ^１１が前記一般式（１）で表される基であり、かつ、Ｒ^１３が水酸基を有する基であり、
　Ｒ^１及びＲ^２が、それぞれ独立に、炭素原子数１～２０の無置換の脂肪族炭化水素基であり、
　Ｒ^１３が、炭素原子数１～２０の置換基として水酸基を有している脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の置換基として水酸基を有している芳香族炭化水素環含有基、若しくは、炭素原子数２～２０の置換基として水酸基を有している複素環含有基、又は、前記脂肪族炭化水素基、前記芳香族炭化水素環含有基若しくは前記複素環含有基中のメチレン基の１つ以上が前記群Ｉから選ばれる二価の基で置き換えられた基である、請求項２に記載の化合物。
　前記水酸基を有する基における水酸基の結合位置が、前記水酸基を有する基の末端である請求項１～６のいずれか１項に記載の化合物。
　請求項１～７のいずれか１項に記載の化合物を含むラジカル重合開始剤。
　請求項１～７のいずれか１項に記載の化合物と、
　ラジカル重合性化合物と、
　を含む組成物。
　請求項９に記載の組成物の硬化物。
　請求項９に記載の組成物中のラジカル重合性化合物同士を重合する重合工程を有する硬化物の製造方法。