WO2021193369A1 - 走査型電子顕微鏡用電子銃チャンバー、これを含む電子銃及び走査電子顕微鏡 - Google Patents

走査型電子顕微鏡用電子銃チャンバー、これを含む電子銃及び走査電子顕微鏡 Download PDF

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chamber
electron
electron source
intermediate chamber
valve
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ハン ザン
泰 山内
善博 新井
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国立研究開発法人物質・材料研究機構
テラベース株式会社
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    • H01J2237/26Electron or ion microscopes
    • H01J2237/28Scanning microscopes

Definitions

  • the present invention relates to a field emission electron gun chamber for a scanning electron microscope, and an electron gun and a scanning electron microscope including the electron gun chamber.
  • the electron gun chamber particularly relates to one that may have a substantially cubic shape.
  • the scanning electron microscope particularly relates to one that can be used even at a low acceleration voltage (specifically, a maximum acceleration voltage of 15 kV).
  • the "field emission” may be simply referred to as "FE” as an abbreviation for "field emission” or “Field Emission”.
  • the "substantially cubic shape” may be referred to as "cubic".
  • the electron microscope is roughly divided into a transmission type electron microscope (TEM) in which an electron beam passes through the sample to obtain a magnified image of the sample, and an electron beam having an extremely small diameter (probe size) is used to scan the surface of the sample to obtain the electron.
  • TEM transmission type electron microscope
  • SEM scanning electron microscope
  • detects secondary electrons generated from a line sometimes referred to as an "electron beam” in the present application
  • a high acceleration voltage specifically, an acceleration voltage of 100 kV to 1000 kV
  • an acceleration voltage of the electron beam is used as the acceleration voltage of the electron beam.
  • Some scanning electron microscopes use a high acceleration voltage of 100 kV to 500 kV as the acceleration voltage of the electron beam in order to scan the surface of the sample (for example, Patent Documents 1 and 2), but generally, electrons are used.
  • a low acceleration voltage specifically, an acceleration voltage of 10 kV to 30 kV
  • Non-Patent Documents 1 and 2 disclose an acceleration voltage of 30 kV.
  • the low acceleration voltages those having a maximum acceleration voltage of 15 kV are widely used as scanning electron microscopes.
  • An electron source that is, an electron source for generating and accelerating an electron beam
  • a scanning electron microscope is provided, for example, at the tip of a cathode electrode (sometimes referred to as an "emitter” in the present application) in a vacuum chamber.
  • a thermoelectron source that draws out electrons by heating a tungsten filament or lanthanum hexabolide (LaB 6 ) nanowire, and a high field emission in high vacuum (10-7 Pa or more) is applied to the needle tip of a tungsten single crystal.
  • field emission electron sources sometimes referred to as "field emission electron sources” in the present application
  • field emission electron sources draw out electrons by field emission actuated by.
  • the field emission electron source is generally a high-performance electron having high resolution in that the size of the electron beam is smaller than that of the thermionic source and the variation in electron energy is small. It is a source, but it is very expensive. Therefore, at present, as far as the applicant knows, the scanning electron microscope that uses a field emission electron source as an electron source has the highest acceleration voltage of 30 kV as the maximum acceleration voltage. Stay in a high-end scanning electron microscope.
  • a vacuum container sometimes referred to as a "field emission electron gun chamber” or “field emission electron gun chamber” in the present application
  • its portion in the present application, this may be referred to as a "field emission electron gun”
  • Various problems such as a complicated structure of the vacuum exhaust system part and a large size occur, and the manufacturing cost becomes very high. This point will be described in detail below with reference to FIGS. 1 and 2.
  • FIGS. 1 and 2 respectively relate to an existing scanning electron microscope having a maximum acceleration voltage of 30 kV using a field emission electron source, and a general field emission electron gun chamber and its vacuum exhaust constituting the scanning electron microscope.
  • the external view and the cross-sectional view (schematic view) of the system part are shown.
  • an intermediate chamber 1 is adjacent to the bottom surface of the electron source chamber 2, and an airlock valve 3 is installed in the intermediate chamber 1.
  • the electron source chamber 2 is a vacuum container (chamber) for loading a field emission electron source.
  • An ion pump 4 for exhausting the electron source chamber for vacuum exhausting the inside of the chamber is installed outside the electron source chamber 2 via a pipe, and outside the intermediate chamber 1, the inside of the intermediate chamber 1 is evacuated.
  • An intermediate chamber exhaust ion pump 4 is installed via a pipe.
  • a pipe provided with a roughing valve 6 is further connected to the pipe connecting the electron source chamber 2 and the electron source chamber exhaust ion pump 4, and another rough pipe is connected to the pipe connecting the intermediate chamber 1 and the intermediate chamber exhaust ion pump 4.
  • the pipes provided with the pull valve 6 are further connected, and each pipe provided with the rough pull valve 6 is connected to the vacuum exhaust pipe 5.
  • the roughing valve 6 may be referred to as a "preliminary exhaust valve 6" or simply a “preliminary exhaust valve”.
  • the field emission electron source chamber 8 is a portion for generating and accelerating an electron beam from the field emission electron source as described above, and when used as a scanning electron microscope, as shown in FIG.
  • An electron microscope barrel 7 that is, a barrel provided with a lens for a scanning electron microscope, which is generally called a "focusing lens” or an "objective lens", which is loaded and installed in a scanning electron microscope
  • the field emission electron source chamber 8 can be rephrased as a general term for the portion to be placed on the electron microscope barrel portion 7. Specifically, according to FIGS.
  • the field emission electron source chamber 8 includes an electron source chamber 2, an intermediate chamber 1, an air lock valve 3, and a roughing valve 6 (that is, an electron source chamber 2).
  • the roughing valve 6 provided in the pipe connected to the pipe connecting the electron source chamber exhaust ion pump 4 and the pipe connected to the pipe connecting the intermediate chamber 1 and the intermediate chamber exhaust ion pump 4 were provided. It is a part composed of the roughing valve 6). Therefore, the structure of the field emission electron gun chamber 8 is complicated and large. Incidentally, the field emission electron source chamber 8 and the electron microscope barrel portion 7 have a structure that allows them to be attached to and detached from each other.
  • the vacuum exhaust system unit 9 is an exhaust system portion required to achieve the high vacuum required for the field emission electron source to operate, and the vacuum exhaust system unit 9 is a field emission electron source chamber. Externally attached to 8.
  • the vacuum exhaust pipe 5 is a diffusion pump (also called an "oil diffusion pump", in which hot oil is sprayed from below in a jet shape to repel gas particles existing around the pump, and then water-cooled.
  • DP a pump that rotates at high speed and exhausts gas by repelling gas molecules
  • TMP turbomolecular pump
  • FIGS. 1 and 2 Neither can be shown.
  • These pumps (DP and TMP) are further connected to rotary pumps (which are a type of vacuum pump in which the rotating internal blades evacuate the gas as if they were squeezed out, and are sometimes referred to simply as "RP” in this application).
  • RP is not shown in either FIGS. 1 or 2).
  • the rotary pump is used for primary evacuation, and the diffusion pump and turbomolecular pump are used for secondary evacuation. In the present application, these evacuation may be referred to as “coarse drawing”. Further, in the present application, the vacuum by rough evacuation (that is, primary evacuation and secondary evacuation) may be referred to as "rough evacuation”.
  • the electron source chamber exhaust ion pump 4 and the intermediate chamber exhaust ion pump 4 are sputter ion pumps (which are pumps that adsorb gas molecules on the active metal surface and evacuate them in a vacuum, and are simply referred to as "SIP" in the present application. Sometimes) is used. These ion pumps 4 achieve a higher vacuum degree (10-7 Pa order) after rough exhausting with a diffusion pump or a turbomolecular pump until the working vacuum degree (10-4 Pa order) is reached. Used to do.
  • the field emission electron source has a brightness (that is, brightness, and a large amount of electrons per unit solid angle) as compared with a thermionic source such as a tungsten electron source and a lanthanum hexaboride (LaB 6) electron source. It has the advantage that a high-resolution image can be obtained, but its use has a vacuum degree of the electron source chamber 2 on the order of 10-7 Pa, which is compared with the tungsten electron source and the LaB 6 electron source. This is because a vacuum degree higher than two orders of magnitude is required.
  • the field emission electron guns in the chamber 8 so that the installation of electronic microscope lens barrel unit 7, the degree of vacuum in the electron microscope barrel 7 during operation 10 - It is on the order of 3 Pa.
  • the difference in vacuum between the electron source chamber 2 and the intermediate chamber 1 and the electron microscope mirror is 2 digits or less, and the difference in vacuum between the intermediate chamber 1 and the electron microscope barrel 7 is 2 digits or less).
  • Each inside of the cylinder portion 7 is individually evacuated.
  • the vacuum exhaust system unit 9 is used to exhaust the electron source chamber 2 and the intermediate chamber 1. Further, as shown in FIG. 2, the diameter of the partition surface between each vacuum chamber (that is, the partition surface between the electron source chamber 2 and the intermediate chamber 1 and the partition surface between the intermediate chamber 1 and the electron microscope barrel portion 7 is large.
  • a hole called a small throttle ( ⁇ ) of 0.5 to 1 mm (this is also referred to as a “differential exhaust throttle” in the present application) is provided, and the difference in the degree of vacuum of the continuous vacuum chambers is as described above.
  • the structure is such that the electron beam passes through this small aperture (hole) and is guided to the lower electron microscope barrel 7 while being held in the vacuum.
  • the above-mentioned "partition surface” is referred to as an "adjacent surface”.
  • the vacuum of the electron source chamber 2 and the intermediate chamber 1 part is electron microscoped.
  • Each vacuum chamber is vacuum-separated by providing a valve (that is, an air lock valve 3) for vacuum-separating the inside of the lens barrel 7 from the vacuum, and the electron beam is passed by opening the valve only when observing an image. It has a structure.
  • the structure for achieving the high vacuum required for using the field emission electron source (specifically, the field emission electron gun chamber).
  • the structure of the vacuum exhaust system section a complicated and large field emission electron gun chamber 8 and a vacuum exhaust system section 9 are required.
  • the field emission electron gun chamber 8 is usually made of stainless steel in order to meet the demand for use in high vacuum. Therefore, in the pipe and the flange portion shown in FIG. 1, the stainless steel pipe and the stainless steel flange must be connected by welding (for example, arc welding) in general.
  • the surface of the field emission electron gun chamber 8 is usually subjected to a composite electrolytic polishing treatment to be finished as a mirror surface.
  • the structure of the field emission electron gun chamber 8 and its vacuum exhaust system portion 9 is complicated, and the manufacturing cost is high.
  • high temperature baking at about 200 ° C. is usually performed for several hours to several days in order to discharge the moisture contained in the stainless metal. Therefore, the field emission electron gun chamber 8 must have a heat-resistant structure in which all parts including the valve can withstand a baking temperature of 200 ° C. Therefore, the vacuum chamber (specifically, the electron source chamber 2 and the intermediate chamber 1 in FIG. 1) and the sputter ion pump (specifically, the electron source chamber exhaust ion pump 4 and the intermediate chamber exhaust in FIG. 1) An inexpensive rubber O-ring cannot be used for the flange joint of the ion pump 4) or the like, and a conflat vacuum flange (ICF) using an expensive copper gasket is usually used.
  • ICF conflat vacuum flange
  • the technique used in the existing scanning electron microscope having a maximum acceleration voltage of 30 kV using a field emission electron source can be directly applied to a scanning electron microscope having a maximum acceleration voltage of 15 kV.
  • the structure for achieving the high vacuum required to use the field emission electron source (specifically, the structure of the field emission electron gun chamber and its vacuum exhaust system) is complicated and large. This is not desirable because it causes various problems and results in a very high manufacturing cost. Therefore, it is difficult to develop a scanning electron microscope having a maximum acceleration voltage of 15 kV using a field emission electron source, and no commercial electron microscope has been commercialized yet.
  • a field emission electron source can be used as an electron source, and a field emission for a scanning electron microscope in which the maximum acceleration voltage of an electron beam from the electron source is 15 kV. It is an object of the present invention to provide an electron gun chamber having an unprecedented simple and miniaturized structure. As a result, it is an object of the present invention to provide the field emission electron gun chamber which is also excellent in manufacturing cost. Another object of the present invention is to provide an electron gun and a scanning electron microscope including the field emission electron gun chamber, thereby reducing the manufacturing cost of the electron gun and the scanning electron microscope.
  • the process for obtaining a high vacuum will also be described below for reference.
  • the sputter ion pump (electron source chamber exhaust ion pump 4 and intermediate chamber exhaust ion pump 4) is closed (off), and two roughing valves 6 (that is, the electron source chamber 2 and the electron) are closed.
  • the valve 6) and the air lock valve 3 are opened (on), and a rotary pump (not shown in either FIG.
  • vacuum exhaust that is, primary vacuum drawing
  • main drawing that is, secondary vacuum drawing
  • vacuum exhaust to about 10 -4 Pa order with a diffusion pump or a turbomolecular pump.
  • baking is performed by using a heater to keep the electron source portion installed in the electron source chamber 2 at 150 to 200 ° C. Bake times usually last for several days.
  • the two roughing valves 6 and the air lock valve 3 are closed (off), the sputter ion pumps (electron source chamber exhaust ion pump 4 and intermediate chamber exhaust ion pump 4) are opened (on), and the height is high.
  • the desired high vacuum is obtained by performing vacuum exhaust in the vacuum region.
  • the field emission electron gun chamber 8 is provided with an airlock valve 3 for blocking the vacuum of the electron source chamber 2 and the intermediate chamber 1 from the vacuum inside the electron microscope barrel portion 7.
  • This valve is closed in order to avoid a decrease in the degree of vacuum in the electron source chamber 2 when the electron source is attached to the electron source chamber 2 or when the observation sample is exchanged during normal observation. On the other hand, it is opened when the electron beam is passed again after the vacuum in the electron microscope barrel portion 7 is improved.
  • the inventor of the present application has decided to use the conventional means of installing the electron source chamber and the spare exhaust valve installed in the intermediate chamber, which constitute the field emission electron gun chamber for the scanning electron microscope, as new means. / Or, it has been found that the above-mentioned problems can be solved by using a conventional air lock valve installation means or structure as a new means, and the present invention has been completed.
  • An electron gun chamber for a scanning electron microscope having the following: (A) An electron source chamber provided with a part for attaching and detaching a field emission electron source; (B) An intermediate chamber provided adjacent to the electron source chamber through which the electron beam passes in the direction of the electron beam emitted from the electron source installed at the site; (C) An airlock valve installation portion provided in the intermediate chamber; (D) Exhaust holes for a preliminary vacuum exhaust pump provided on each of the continuous surfaces of the electron source chamber and the intermediate chamber; and (e) provided in the electron source chamber and the intermediate chamber. An opening / closing means for directly opening / closing the exhaust hole for the preliminary vacuum exhaust pump.
  • the electron gun chamber has a substantially cubic shape.
  • the electron source chamber and the intermediate chamber are produced only by drilling holes in the same stainless steel block, which does not require welding.
  • the opening / closing means has a configuration in which each of the exhaust holes of the electron source chamber and the intermediate chamber is opened / closed by pressing and releasing the lid body interlocked with the sliding of the piston.
  • the exhaust hole of the electron source chamber is arranged on the bottom surface of a cylindrical recess provided on the side surface of the electron source chamber, and the recess is a lid that opens and closes the exhaust hole of the electron source chamber.
  • the exhaust hole of the intermediate chamber is arranged on the bottom surface of a cylindrical recess provided on the side surface of the intermediate chamber, and the recess is aligned with the lid that opens and closes the exhaust hole of the intermediate chamber.
  • the lid that opens and closes the exhaust hole of the electron source chamber and the lid that opens and closes the exhaust hole of the intermediate chamber are the same one lid.
  • the electron gun chamber according to the above. [7] Both the electron source chamber and the exhaust hole of the intermediate chamber are arranged on the bottom surface of one cylindrical recess provided on the side surface straddling the electron source chamber and the intermediate chamber, which are continuous with the electron source chamber and the intermediate chamber.
  • the electron gun chamber according to the above.
  • Each of the electron source chamber and the intermediate chamber is provided with an exhaust hole for a high vacuum exhaust pump that exhausts air to a degree of vacuum at which the field emission electron source operates.
  • the electron gun chamber according to any one of [1] to [7].
  • the exhaust holes for the high vacuum exhaust pump in the electron source chamber and the intermediate chamber are arranged at positions symmetrical with each other.
  • An electron gun chamber for a scanning electron microscope having a substantially cubic shape, which comprises the following: (A) An electron source chamber provided with a part for attaching and detaching a field emission electron source; (B) The first intermediate chamber provided adjacent to the electron source chamber and the first intermediate chamber through which the electron beam passes in the direction of the electron beam emitted from the electron source installed at the site. Second Intermediate Period adjacent to the bottom; (C') An airlock valve is installed in the second intermediate room.
  • the airlock valve is (I) An ⁇ ring installation surface having an inclination axis of 60 ° or more and 80 ° or less with respect to the adjacent surfaces of the first intermediate chamber and the second intermediate chamber.
  • the means for passing the electron beam is It has a configuration in which an electron beam passes through a through hole of the convex portion provided in the direction of the electron beam passing through the second intermediate chamber.
  • the means for blocking the electron beam is By sliding the convex portion in the direction perpendicular to the inclined axis, the through hole is shifted to block the passage of the electron beam.
  • the airlock valve is provided with a means for shielding the electron beam at a portion of the ⁇ ring installation surface exposed to the electron beam.
  • the electron gun chamber according to [10] or [11].
  • An electron gun for a scanning electron microscope including the electron gun chamber according to any one of [1] to [12].
  • a scanning electron microscope comprising the electron gun chamber according to any one of [1] to [12].
  • the present invention since the effects described below can be obtained, it is possible to use a field emission electron source as an electron source, and a scanning electron having a maximum acceleration voltage of an electron beam from the electron source of 15 kV. It is possible to provide a field emission electron gun chamber for a microscope, which has an unprecedented simple and miniaturized structure. As a result, it becomes possible to provide the field emission electron gun chamber which is also excellent in manufacturing cost. Further, according to the present invention, by providing an electron gun and a scanning electron microscope including the field emission electron gun chamber, it is possible to reduce the manufacturing cost of the electron gun and the scanning electron microscope.
  • the effects of the present invention are as follows. 1. 1. According to the invention of the present application, it has an effect of having a structure that is simple and can be miniaturized, which has never been seen before. According to the present invention, the electron source chamber, the intermediate chamber, the air lock valve, and the preliminary exhaust valve constituting the field emission electron gun chamber are made into a small machine having a substantially cubic shape (for example, a approximately 70 mm cubic stainless steel block). By processing, it is possible to easily manufacture without performing complicated welding work. Therefore, the structure is unprecedented, and the piping (specifically, the vacuum exhaust piping) and the flange, which were indispensable in the conventional scanning electron microscope using the field emission electron source, are welded. Compared to the structure, the structure is much smaller and more compact.
  • the above effect can be obtained.
  • the effect of excellent manufacturing cost is also achieved.
  • the field emission electron gun chamber of the present invention can be easily manufactured by drilling a small substantially cubic stainless block (lump) without performing welding work. The result is a very small, compact and rational structure.
  • it because it has a block structure, it is used as a heater for baking by installing a cartridge heater inside the block instead of a heater that heats by wrapping a band-shaped heater around an electron source or an expensive dedicated heater that completely surrounds the electron source.
  • the field emission electron gun chamber of the present invention has a metal block structure as described above, a hole (for example, diameter ( ⁇ ) of about 8 mm ⁇ length (L) of about 50 mm) can be machined in this block at low cost. It is possible to embed and use a simple sheath heater. Since it has a small integrated structure with no welded parts, it can be efficiently and sufficiently heated by such an embedded heater.
  • a field emission electron source can be used as an electron source and can be used as a field emission electron gun chamber for a scanning electron microscope having a maximum acceleration voltage of 15 kV.
  • a field emission electron gun chamber in a conventional scanning electron microscope using a field emission electron source is formed by machining a small substantially cubic shape (for example, a stainless block of approximately 70 mm cubic). Since it is possible to provide a field emission electron gun chamber equipped with all of the preliminary exhaust valve, the vacuum exhaust pipe, and the air lock valve that compose the vacuum exhaust system, the field emission electron source is used as it is as an electron source. It can be used as a field emission electron gun chamber for a scanning electron microscope with a maximum acceleration voltage of 15 kV. Therefore, according to the present invention, the above effect can be obtained.
  • the preliminary exhaust valve (specifically, the roughing valve 6 in FIGS. 1 and 2) used in a conventional scanning electron microscope using a field emission electron source opens and closes with one valve structure. This makes it easier to operate and design. Therefore, according to the present invention, the above effect can be obtained.
  • the airlock valve that opens and closes the inclined surface is driven so that the surface pressure at the time of closing is perpendicular to the installation surface of the ⁇ ring (hereinafter, also referred to as “ ⁇ ring surface”).
  • ⁇ ring surface the installation surface of the ⁇ ring
  • the driving force is directly applied to the sealing ⁇ ring surface. Therefore, the sealing property is improved, and the reliability as a scanning electron microscope is improved as compared with the conventional scanning electron microscope using a field emission electron source. Therefore, according to the present invention, the above effect can be obtained.
  • the structure of the airlock valve is such that the inside of the ⁇ ring of the ⁇ ring surface of the airlock valve that opens and closes the inclined surface is a recessed hole, and a cylindrical convex portion is provided so as to fit into the recessed hole.
  • an opening / closing type shielding plate for shielding the electron beam from the portion exposed to the electron beam on the sealing ⁇ ring surface is provided on the convex portion.
  • the ⁇ ring surface can be completely hidden from the electron beam path, which makes it possible to completely avoid the electron beam irradiation on the ⁇ ring surface.
  • the airlock valve in the present invention has a simple structure, it is possible to avoid the electron beam irradiation of the ⁇ ring, and also to avoid the exposure to the beam path, and further, the intermediate chamber. (According to FIGS. 5 and 6A and 6B, since it can be provided outside the intermediate chamber 1), the vacuum exhaust load can be reduced. Therefore, according to the present invention, the above effect can be obtained. Further, since the drive unit of the airlock valve in the present invention can be installed outside the intermediate chamber (intermediate chamber 1 according to FIGS.
  • a sliding seal with an ⁇ ring is adopted. It is possible. This is a significant cost reduction, considering that the conventional method requires an expensive vacuum bellows (for example, a welded bellows or a molded bellows) for the vacuum seal of the moving part of the drive shaft of the airlock valve. Therefore, it is excellent in manufacturing cost.
  • an expensive vacuum bellows for example, a welded bellows or a molded bellows
  • an acceleration with a maximum acceleration voltage of 15 kV or more for example, a high acceleration of 30 to 60 kV. It can also be used with (acceleration voltage).
  • the maximum acceleration voltage is 15 kV.
  • the high-pressure porcelain is larger than the case, it can be made by machining a small substantially cubic shape (for example, a stainless block of about 70 mm cubic), and a field emission electron gun for a scanning electron microscope with a maximum acceleration voltage of 15 kV. You will not be able to enter the chamber.
  • a stainless cylindrical electron source chamber is connected to the upper part of the substantially cubic field emission electron gun chamber of the present invention, and a large sputter ion pump (SIP) is provided.
  • SIP sputter ion pump
  • the spare exhaust valve, vacuum exhaust piping, and airlock valve function as they are, so there is no need to change them.
  • the spatter ion pump (SIP) for exhausting the vacuum chamber of the conflat vacuum flange (for example, standard size: ICF70) on the side surface to a high vacuum is a large spatter ion pump (SIP) attached to the upper cylindrical electron source chamber. It replaces SIP) and is no longer needed. Therefore, according to the present invention, even when a field emission electron gun chamber for a scanning electron microscope having a high acceleration voltage is manufactured, it can be easily manufactured. Therefore, according to the present invention, the above effect can be obtained.
  • a substantially cubic (cubic) field emission electron gun chamber equipped with a preliminary exhaust valve, a vacuum exhaust pipe, and an air lock valve has a size adapted to a high acceleration voltage in the upward direction.
  • a vacuum chamber By combining a vacuum chamber, it can also be used as a high acceleration voltage field emission electron gun chamber.
  • the external spare exhaust valve and piping (pipe) required for the conventional field emission electron gun chamber are required. Since it can be eliminated, it becomes a compact and neat shape. Since the structure is simplified in this way, the effect of facilitating the design of an external structure such as a baking bake heater and a magnetic shield can be obtained.
  • FIG. 5 It is a schematic diagram at the time of opening and closing of the airlock valve (the valve installation surface of the ⁇ ring is inclined at 5 to 15 ° with respect to the driving direction) installed in a general field emission electron gun chamber. It is the schematic at the time of opening and closing of the airlock valve with a shielding plate installed in the field emission electron gun chamber which is one Embodiment of this invention. It is an enlarged view (schematic view) of one embodiment of the airlock valve portion with a shielding plate (that is, the airlock valve portion of FIG. 5) installed in the field emission electron gun chamber which is one embodiment of the present invention. It is an enlarged view (schematic view) of one embodiment of the airlock valve portion with a shielding plate (that is, the airlock valve portion of FIG.
  • FIG. 7A which is one embodiment of the present invention.
  • P 0 the pressure of the electron source chamber
  • P 1 the pressure of the intermediate chamber
  • P 2 the pressure of the sample chamber
  • FIG. 7A the pressure of the sample chamber
  • FIGS. 4A and 4B and FIG. 5 the vacuum exhaust system portion installed in the field emission electron gun chamber (for example, the ion pump for high vacuum exhaust of the electron source chamber shown in FIGS. An ion pump for high vacuum exhaust of the intermediate chamber, etc.) is not shown for convenience.
  • the "electron gun chamber for a scanning electron microscope” (also referred to as a “field emission electron gun chamber” in the present application) is a general term for a portion of a scanning electron microscope to be placed on an electron microscope barrel.
  • the "electron microscope barrel portion” is a cylinder provided with a lens for a scanning electron microscope, which is generally called a “focusing lens” or an “objective lens”, which is loaded and installed in a scanning electron microscope. It is a department.
  • the "electron gun chamber for a scanning electron microscope” is defined between a high-pressure cable and an electron source in a scanning electron microscope and an electron source chamber and an electron microscope barrel portion of the scanning electron microscope. It is a portion provided with an intermediate chamber provided and an air lock valve installed between the intermediate chamber and the lens barrel portion.
  • the "high voltage cable” is a cable for applying a high voltage to the cathode electrodes constituting the electron source.
  • An “electron source” is one that generates and accelerates an electron beam. Specifically, a high-voltage porcelain, a portion consisting of an emitter and a cathode electrode, and an anode electrode (which is generally a “leading electrode” and “extracting electrode” and “an electron source” are used.
  • the field emission electron source is a high electric field applied to the tip of a needle such as a tungsten single crystal provided at the tip of a cathode electrode in a vacuum chamber at room temperature and in a high vacuum (about 10-7 Pa or more). It can be applied and draws electrons with a strong electric field.
  • a needle such as a tungsten single crystal provided at the tip of a cathode electrode in a vacuum chamber at room temperature and in a high vacuum (about 10-7 Pa or more). It can be applied and draws electrons with a strong electric field.
  • LaB 6 for example, a nanowire of LaB 6
  • the "electron source chamber” is a vacuum vessel that houses an electron source, but in the present application, the high voltage cable is included.
  • the "part to which the field emission electron source is attached / detached" is a part (place) to which the field emission electron source can be attached / detached, and is generally provided with a flange for that purpose.
  • the electron source is usually attached to the upper surface in the electron source chamber.
  • the electron source chamber and the intermediate chamber constituting the electron gun chamber for the scanning electron microscope are intermediate chambers provided adjacent to the electron source chamber through which the electron beam passes in the direction of the electron beam emitted from the electron source. Is. Since the electron source is usually attached to the upper surface in the electron source chamber, the electron beam travels from the upper surface in the electron source chamber toward the bottom surface (that is, downward).
  • the upper surface of the intermediate chamber is installed adjacent to the lower surface of the electron source chamber. Between the upper surface of the intermediate chamber and the bottom surface of the electron source chamber (that is, between the partition surface of the electron chamber and the partition surface of the intermediate chamber adjacent thereto), it is generated (that is, emitted) from the electron source.
  • a hole generally called a "throttle” or a “throttle for differential exhaust” is provided for passing an electron beam.
  • the aperture is a small hole for passing an electron beam and maintaining a pressure difference between directly connected spaces (rooms), and is sometimes called an "orifice".
  • the intermediate chamber is a vacuum chamber provided between the electron source chamber and the electron microscope barrel portion of the scanning electron microscope, and a throttle for further passing the electron source through the barrel portion is also provided on the bottom surface thereof.
  • the degree of vacuum in the electron source chamber (usually on the order of about 10-7 Pa) and the degree of vacuum in the electron microscope barrel (usually on the order of 10-3 Pa) are as high as 3 to 4 orders of magnitude. Therefore, an intermediate chamber, which is a small space, is provided between the electron source chamber and the electron microscope barrel, and the difference in the degree of vacuum between the individually connected vacuum chambers (that is, the difference between the electron source chamber and the intermediate chamber). The difference in the degree of vacuum between the two and the difference in the degree of vacuum between the intermediate chamber and the electron microscope barrel is set to two digits or less. In addition, an airlock valve for opening and closing the diaphragm provided on the bottom surface of the intermediate chamber will be installed. Therefore, the intermediate chamber has an airlock valve installation site on the bottom surface thereof.
  • the air lock valve In the airlock valve, the electron beam from the field emission electron source cannot be easily turned on / off, and the electron beam is always emitted.
  • the air lock valve is located between the field emission electron gun chamber maintained in a high vacuum and the electron microscope barrel portion installed in the chamber, and the degree of vacuum of the electron microscope barrel portion generated when the electron microscope sample is exchanged. It is a valve that plays an important role in closing when performing a descent. In addition, when the field emission electron source is stored or replaced independently, it plays a role as an important valve that closes between the electron source chamber and the atmospheric pressure. Specific examples of the airlock valve include those shown in FIGS. 4A and 4B. The air lock valve shown in FIG.
  • the O-ring seal surface is a horizontal surface
  • the valve portion of the valve seal O-ring is pushed down by a cam
  • the O-ring surface is pressed against the vacuum seal surface to close the valve. It is a valve.
  • the airlock valve shown in FIG. 4B presses the O-ring against the vacuum seal surface by moving in the horizontal direction
  • the O-ring surface is driven in the horizontal direction with an inclination of about 5 to 15 ° to apply pressure to the valve seat. It is a valve with a structure.
  • the O-ring installation surface is the lower surface and the seal surface is the upper surface so as not to be exposed to the electron source in order to avoid exposure of the O-ring installed on the airlock valve by the electron beam from the field emission electron source when opening and closing. It has a structure to do.
  • the airlock valve is not limited to the one shown in FIGS. 4A and 4B as long as the purpose can be achieved.
  • Exhaust holes will be installed in each of the electron source chamber and the intermediate chamber to create a high vacuum inside.
  • a high vacuum exhaust pump connected to a pump for high vacuum exhaust (for example, a sputter ion pump (SIP)).
  • an exhaust hole for the preliminary vacuum exhaust pump connected to the preliminary vacuum exhaust pump for example, a diffusion pump (DP) or a turbomolecular pump (TMP)
  • the pre-vacuum exhaust pump is used for pre-vacuum exhaust (coarse drawing) to a degree of vacuum at which the high-vacuum exhaust pump can operate.
  • a preliminary vacuum exhaust pump such as a diffusion pump (DP) or turbomolecular pump (TMP) is further connected to a rotary pump (RP), the former is used for secondary vacuuming and the latter is used for primary vacuuming.
  • DP diffusion pump
  • TMP turbomolecular pump
  • RP rotary pump
  • the exhaust hole for the preliminary vacuum exhaust pump may be referred to as a "preliminary vacuum exhaust hole”.
  • the exhaust holes for the preliminary vacuum exhaust pump installed in each of the electron source chamber and the intermediate chamber are installed on the continuous surface of the electron source chamber and the intermediate chamber. That is, the exhaust hole for the preliminary vacuum exhaust pump in the electron source chamber and the exhaust hole for the preliminary vacuum exhaust pump in the intermediate chamber are on the same surface. In the present application, this surface side (that is, the surface on which the exhaust hole for the preliminary vacuum exhaust pump is installed) may be referred to as a side surface for convenience.
  • the electron source chamber and the intermediate chamber have opening / closing means for directly opening / closing the exhaust holes for the preliminary vacuum exhaust pump installed in each chamber.
  • the opening / closing means may achieve the purpose by directly opening / closing the exhaust hole for the preliminary vacuum exhaust pump.
  • a cylindrical recess is formed on the continuous surface of the electron source chamber and the intermediate chamber, and an exhaust hole connected to the electron source chamber and an exhaust hole connected to the intermediate chamber are provided on the bottom surface of the recess, and these exhaust holes are provided. Is used as an exhaust hole for each preliminary vacuum exhaust pump in the electron source chamber and the intermediate chamber. That is, this recess straddles the exhaust hole for the preliminary vacuum exhaust pump in the electron source chamber and the exhaust hole for the preliminary vacuum exhaust pump in the intermediate chamber.
  • the continuous back surface of the electron source chamber and the intermediate chamber is used as a flange surface, and a hole (dent) is provided in the flange surface, and an exhaust hole leading to the electron source chamber and an exhaust hole connecting to the intermediate chamber are provided on the bottom surface thereof.
  • These exhaust holes are used as exhaust holes for each preliminary vacuum exhaust pump in the electron source chamber and the intermediate chamber.
  • These two exhaust holes for the preliminary vacuum exhaust pump are opened and closed by a flange having a piston structure in which an O-ring seal for opening and closing the exhaust holes is attached as a valve seal.
  • the valve seal portion which is driven back and forth according to the sliding of the piston, has a structure in which the bottom surface of the hole (recess) serves as a seal surface and the side surface serves as a guide.
  • the O-ring seal include a Viton O-ring and a heat-resistant resin polyimide sheet.
  • the opening / closing means for directly opening / closing the exhaust hole for the preliminary vacuum exhaust pump directly covers the two exhaust holes for the preliminary vacuum exhaust pump.
  • the lid (seal) is provided so that a groove is circularly formed around the circular plane (so-called disc) of the top of the piston of the cylinder and the piston mechanism and the edge (that is, the end) of the circular plane (disc).
  • the so-called disc and the O-ring are integrated to hold the O-ring (that is, a lid). Therefore, the opening / closing means for directly opening / closing the exhaust hole for the preliminary vacuum exhaust pump in the present invention has a very simple structure for opening / closing the two exhaust holes for the preliminary vacuum exhaust pump.
  • the opening / closing means for directly opening / closing the exhaust hole for the preliminary vacuum exhaust pump may have a structure for opening / closing the exhaust hole for each preliminary vacuum exhaust pump in the electron source chamber and the intermediate chamber at the same time. That is, the two exhaust holes for the preliminary vacuum exhaust pump can be directly opened and closed by the same one lid at the same time. However, a structure may be used in which this is performed separately. In this case, the two exhaust holes for the preliminary vacuum exhaust pump may be directly opened and closed by separate lids.
  • the back surface of the electron source chamber is a flange surface, a hole (dent) is provided in the flange surface, and an exhaust hole (that is, an exhaust hole for a preliminary vacuum exhaust pump) leading to the electron source chamber is provided on the bottom surface thereof.
  • an exhaust hole (exhaust hole for a preliminary vacuum exhaust pump) connected to the intermediate chamber is separately provided on the bottom surface thereof, and an O-ring seal for opening and closing the exhaust hole is provided individually.
  • the electron source chamber and the intermediate chamber constituting the electron gun chamber for a scanning electron microscope are formed by drilling holes in a small substantially cubic shape of the same stainless steel block (lump) without welding. You may just make it.
  • the electron gun chamber for the scanning electron microscope of the present invention has a substantially cubic shape.
  • a cartridge heater may be attached as a heating heater for baking.
  • the exhaust holes for the vacuum exhaust pump installed in each of the electron source chamber and the intermediate chamber may be installed at any position (location) as long as the object of the present invention can be achieved, but an efficient high vacuum inside may be provided. From the viewpoint of exhaust and compact structural design, it is preferable to install them at positions that are symmetrical with each other.
  • another intermediate chamber may be provided between the intermediate chamber and the electron microscope lens barrel portion.
  • the intermediate chamber is referred to as a first intermediate chamber, and an intermediate chamber provided separately is referred to as a second intermediate chamber.
  • the electron gun chamber for the scanning electron microscope is specifically the electron source (including the high-voltage cable), the electron source chamber, the electron source chamber, and the electrons of the scanning electron microscope in the scanning electron microscope.
  • the first intermediate chamber adjacent to the electron source chamber and the second intermediate chamber adjacent to the first intermediate chamber, and between the second intermediate chamber and the lens barrel portion which are provided between the microscope barrel portion. It is a part provided with an air lock valve installed in.
  • the electron source chamber, the first intermediate chamber, and the second intermediate chamber, which constitute the electron gun chamber for the scanning electron microscope, are adjacent to the electron source chamber through which the electron beam passes in the direction of the electron beam emitted from the electron source.
  • the first intermediate chamber and the second intermediate chamber adjacent to the lower part of the first intermediate chamber. Since the electron source is usually attached to the upper surface in the electron source chamber, the electron beam travels from the upper surface in the electron source chamber toward the bottom surface (that is, downward).
  • the upper surface of the first intermediate room is installed adjacent to the bottom surface of the electron source chamber. Between the upper surface of the first intermediate chamber and the bottom surface of the electron source chamber (that is, between the partition surface of the electron chamber and the partition surface of the intermediate chamber adjacent to it), and between the upper surface of the second intermediate chamber and the first intermediate period. An electron beam generated (that is, emitted) from an electron source passes between the bottom surface of the chamber (that is, between the partition surface of the first intermediate chamber and the partition surface of the second intermediate chamber adjacent thereto). A squeeze is provided to allow the squeezing.
  • the second intermediate room has an installation site for the airlock valve.
  • a cylindrical small-diameter through hole provided between the lower portion of the intermediate chamber 1 and the center of the diaphragm is provided from the upper surface to the bottom surface of the second intermediate chamber.
  • this through hole is provided so as not to penetrate the bottom surface of the first intermediate chamber adjacent to the upper surface of the second intermediate chamber, but to penetrate the bottom surface of the second intermediate chamber. That is, the through hole does not penetrate the partition surface between the first intermediate chamber and the second intermediate chamber, but penetrates the partition surface between the electron microscope barrel portion installed in the second intermediate chamber. doing.
  • an airlock valve to be installed in the second intermediate chamber is also installed in the airlock valve, and a through hole is provided so that the electron beam passes through the airlock valve only in the open state.
  • the size of the through hole may be any size as long as it can function as a passage path for electron beams and can achieve the object of the present invention.
  • the surface of the airlock valve on which the ⁇ ring is installed (that is, the ⁇ ring surface) is 60 ° or more and 80 ° or less with respect to the adjacent surface (partition surface) of the first intermediate chamber and the second intermediate chamber. It is tilted upward on the tilt axis. That is, the installed airlock valve is inclined upward on an inclination axis of 60 ° or more and 80 ° or less from the surface in the direction perpendicular to the surface direction when the installed airlock valve is driven and moves in the front-rear direction.
  • a concave hole is formed inside the ⁇ ring surface sealing surface and the ⁇ ring surface that are greatly inclined upward in this way, and a convex portion to be fitted into the concave portion is provided inside the ⁇ ring for sealing to be fitted.
  • This convex portion is usually cylindrical (a substantially cylindrical shape extending upward).
  • the through hole provided in the airlock valve will be formed in this convex portion. Due to such a structure, when the airlock valve is installed, the ⁇ ring is behind the convex part in the center, so that the ⁇ ring surface is exposed even when the airlock valve is open. The electron beam does not hit directly. Since the airlock valve has such a structure, the airlock valve itself to be installed is placed outside the first intermediate chamber to be evacuated.
  • the load of the vacuum exhaust in the intermediate chamber is very small as compared with the conventional case where the intermediate chamber provided with the airlock valve is evacuated.
  • the airlock valve since the convex portion is slid in the direction perpendicular to the inclined axis, the drive shaft and the ⁇ ring seal surface are perpendicular to each other, and the driving force is directly applied to the ⁇ ring seal surface. Therefore, it can be said that the airlock valve has a simpler structure than the conventional one. As described above, when the airlock valve is opened, the electron beam passes through the cylindrical through hole of the convex portion in the ⁇ ring, so that the scattered electron beam is substantially avoided from hitting the ⁇ ring.
  • an opening / closing type shielding plate may be installed on the convex portion at a portion corresponding to the exposed portion.
  • FIGS. 5 and 6A and 6B can be mentioned.
  • the conventional air lock valve that composes the field emission electron gun chamber should not be exposed to the electron source when opening and closing to avoid exposure of the O-ring installed on the air lock valve by the electron beam from the field emission electron source.
  • the structure is such that the O-ring installation surface is the lower surface and the sealing surface is the upper surface (see FIGS. 4A and 4B). Therefore, the conventional airlock valve is provided in the intermediate chamber.
  • the opening and closing is driven by a shaft that is taken in and out from the horizontal direction. Since the O-ring is pressed against the vacuum seal surface by the movement in the horizontal direction, as shown in FIG. 4B, the O-ring surface has a structure in which the O-ring surface is driven in the horizontal direction in an inclined shape of about 5 to 15 ° to apply pressure to the valve seat.
  • the O-ring seal surface is a horizontal surface, and the valve portion of the valve seal O-ring is pushed down by a cam to close the O-ring surface by pressing it against the vacuum seal surface.
  • the drive unit and the seal surface have an angle of approximately 90 °, the structure is complicated.
  • the airlock valve and the drive unit are installed in the intermediate chamber that evacuates the inside, the structure is complicated and the load of the vacuum exhaust in the intermediate chamber is large.
  • the airlock valve installed in the second intermediate chamber has the structure as described above, the above-mentioned problems that occur in the field emission electron gun chamber using the conventional airlock valve can be solved.
  • the electron gun chamber for the scanning electron microscope of the present invention may be used as an electron gun or a scanning electron microscope.
  • FIG. 3A The structure of one embodiment of the field emission electron gun chamber of the present invention is shown in FIG. 3A as a front view and a side view.
  • the front view of FIG. 3A shows a state in which the airlock valve 3 is closed.
  • the side view of FIG. 3A shows that the airlock valve 3 and the preliminary exhaust valve (roughing valve) 6 are opened and closed by sliding in the direction of the arrow.
  • the field emission electron gun chamber of the first embodiment is a block (particularly, omitted) in which the electron source chamber 2, the intermediate chamber 1, the air lock valve 3, and the preliminary exhaust valve (coarse valve) 6 are integrated. It is characterized by being composed of an integral block having a cubic shape). Therefore, the field emission electron gun chamber of the first embodiment can have a substantially cubic shape (cubic).
  • the spare exhaust valve (roughing valve) 6 is connected to a separately provided vacuum exhaust pipe 5 for roughing.
  • the dimensions for example, the dimensions of the conflat vacuum flange (standard size: ICF70) are used as a reference, and 70 mm cubic is the basic.
  • a hole having a diameter ( ⁇ ) of 40 mm ⁇ a length (L) of 35 mm is provided in the upper half of the cube to form an electron source chamber 2, and a tubular shape having a diameter ( ⁇ ) of about 7 mm ⁇ a length (L) of about 20 mm is provided below the hole.
  • An intermediate chamber 1 is provided in which a space is provided and exhausted to a high vacuum.
  • a diaphragm having a diameter ( ⁇ ) of 0.5 mm to a diameter of 1 mm (that is, a diaphragm for differential exhaust) is provided on the upper surface and the bottom surface of the cylindrical intermediate chamber 1.
  • the throttle is a small hole for passing an electron beam and maintaining a pressure difference between directly connected spaces (rooms), and is sometimes referred to as an "orifice".
  • the four surfaces of the upper surface, the back surface, and the left and right surfaces of the field emission electron gun chamber of the first embodiment are flange surfaces of a conflat vacuum flange (standard size: ICF70).
  • An electron source is installed on the upper surface. Specifically, the upper surface couples the high-voltage insulator constituting the electron source and the cathode electrode.
  • holes that is, exhaust holes leading to the outside are provided in each of the electron source chamber 2 and the intermediate chamber 1, and the insides of the electron source chamber 2 and the intermediate chamber 1 are evacuated. This is the so-called "vacuum exhaust valve structure".
  • the conflat vacuum flange (standard size: ICF70) on the back is a piston-shaped flange with an O-ring that opens and closes these two holes (that is, each exhaust hole provided in the electron source chamber 2 and the intermediate chamber 1). To form a preliminary exhaust valve 6.
  • two ion pumps are connected to the electron gun chamber 2 and the intermediate chamber 1 on the flange surfaces of the left and right conflat vacuum flanges (standard size: ICF70), respectively. Perform high vacuum exhaust inside.
  • the airlock valve 3 is provided on the bottom surface of the intermediate chamber 1 as shown in FIG. 3A.
  • the air lock valve 3 is a valve for isolating the vacuum of the electron source chamber 2 and the intermediate chamber 1 from the vacuum in the electron microscope barrel portion installed with the field emission electron gun chamber when using the scanning electron microscope. As a result, each vacuum chamber is evacuated and the electron beam is passed through the differential exhaust throttle provided on the bottom surface of the intermediate chamber 1 by opening the valve only when observing the image.
  • the airlock valve 3 is provided on the bottom surface of the intermediate chamber 1 as shown in FIG. 3A.
  • the airlock valve plays an important role in the field emission electron gun chamber as follows. Normally, the electron beam from the field emission electron source cannot be easily turned on / off, and the electron beam is always emitted.
  • the air lock valve is located between the field emission electron gun chamber maintained in a high vacuum and the electron microscope barrel portion installed in the chamber, and the degree of vacuum of the electron microscope barrel portion generated when the electron microscope sample is exchanged. It plays an important role in closing when implementing the decline. In addition, when the field emission electron source is stored or replaced independently, it plays a role as an important valve that closes between the electron source chamber and the atmospheric pressure.
  • FIGS. 4A and 4B Specific embodiments of the airlock valve 3 shown in FIG. 3A are shown in FIGS. 4A and 4B.
  • the airlock valve 3 may play any of the above roles and is not limited thereto.
  • FIG. 4A since the O-ring is pressed against the vacuum seal surface by the movement in the horizontal direction, the O-ring seal surface is a horizontal surface, and the valve portion of the valve seal O-ring is pushed down by the cam to vacuum seal the O-ring surface. It is a structure that closes when pressed against a surface.
  • FIG. 4B has a structure in which the O-ring surface is driven in the horizontal direction in an inclined shape of about 5 to 15 ° to apply pressure to the valve seat.
  • the conventional air lock valve that constitutes the field emission electron gun chamber is exposed to the O-ring installed in the air lock valve by the electron beam from the field emission electron source when opening and closing.
  • the structure is such that the O-ring installation surface is the lower surface and the sealing surface is the upper surface so as not to be exposed to the electron source. Therefore, the conventional airlock valve is provided in the intermediate chamber. The opening and closing is driven by a shaft that is taken in and out from the horizontal direction.
  • the intermediate chamber 1 is isolated from the vacuum of the electron microscope barrel portion connected to the field emission electron gun chamber when the scanning electron microscope is used by the air lock valve 3. That is, when the electron microscope barrel is connected to the field emission electron gun chamber and used as a scanning electron microscope, a vacuum chamber is formed below the installation surface of the air lock valve 3 (in other words, the bottom surface of the intermediate chamber 1). ing. On the bottom surface of the substantially cubic (cubic) field emission electron gun chamber, a structure that can be connected by a Viton O-ring is prepared for connection with the electron microscope barrel.
  • the field emission electron gun chamber of the present invention shown in FIG. 3A has an electron source chamber 2, an intermediate chamber 1, an air lock valve 3, and a preliminary exhaust valve (coarse valve) 6 as an integral block.
  • This feature is mainly brought about by using the spare exhaust valve (coarse valve) 6 constituting the field emission electron gun chamber shown in the side view of FIG. 3A. Is done.
  • the preliminary exhaust valve (roughing valve) 6 has never been used as a preliminary exhaust valve (roughing valve) for a field emission electron gun chamber. Therefore, the structure of the preliminary exhaust valve (coarse valve) 6 shown in the side view of FIG. 3A will be described in more detail.
  • the preliminary exhaust valve (roughing valve) 6 secures a vacuum path (specifically, a roughing path) between the electron source chamber 2 and the intermediate chamber 1 and adjusts the vacuum inside each.
  • the back surface of the field emission electron gun chamber is a flange surface of a conflat vacuum flange (for example, standard size: ICF70), in which a hole (dent) having a diameter ( ⁇ ) of 36 mm and a length (L) of 12 mm is formed. Is provided. An exhaust hole connected to the electron source chamber 2 and an exhaust hole connected to the intermediate chamber 1 are provided on the bottom surface of this hole (recess). These two exhaust holes are opened and closed by a flange having a piston structure (this is also referred to as a "valve seal portion" in the present application) to which an O-ring seal for opening and closing the exhaust holes is attached as a valve seal.
  • a flange having a piston structure this is also referred to as a "valve seal portion" in the present application
  • the valve seal portion which is driven back and forth according to the sliding of the piston, has a structure in which the bottom surface of the hole (recess) serves as a seal surface and the side surface serves as a guide.
  • the vacuum valve according to the first embodiment that is, the preliminary exhaust valve 6 in the side view of FIG. 3A
  • This vacuum valve opens during baking (during vacuum baking).
  • the valve seal moves rearward, whereby the two exhaust holes are connected to the separately provided vacuum exhaust pipe 5 (vacuum exhaust) (side view of FIG. 3A).
  • the preliminary exhaust valve 6 and the vacuum exhaust pipe 5 shown in the above, the insides of the electron source chamber 2 and the intermediate chamber 1 are roughly drawn.
  • the prior art described in FIGS. 1 and 2 may be applied.
  • a Viton O-ring is used as the O-ring seal
  • the preliminary exhaust valve (roughing valve) 6 has a simple structure in which the portion that seals and covers the two exhaust holes is closed by a so-called one disc / O-ring. In other words, it has a simple structure that can be opened and closed with a single valve structure. Further, in the first embodiment, since the two spare exhaust valves are opened and closed at the same time, it is more rational as a roughing means.
  • the conventional one when compared with the conventional feel field emission electron gun chamber (see FIGS. 1 and 2), the conventional one connects two spare exhaust valves (roughing valves) to secure a roughing path. Since it is provided with a complicated vacuum exhaust pipe, it becomes large as a whole, but the feel field emission electron gun chamber having a substantially cubic shape (cubic) in the first embodiment has the above-mentioned preliminary exhaust valve (coarse) as its preliminary exhaust valve. By using the pull valve) 6, the rough pull path, the valve, and the chamber are substantially housed inside the structure, and the overall size is compact and compact. Further, in the first embodiment, as described above, only one spare exhaust valve corresponding to the conventional two spare exhaust valves is required, and the spare valve seals and covers the two exhaust holes.
  • the part has a simple structure that can be closed with one disk / O-ring, and also has a structure that allows the opening and closing of two preliminary exhaust valves, which have been performed separately in the past, at the same time.
  • FIG. 3B The structure of another embodiment of the field emission electron gun chamber of the present invention is shown in FIG. 3B as a front view and a side view. Regarding the configuration in the present embodiment, the configuration not particularly described or suggested here and described in the first embodiment is similarly applied to the present embodiment.
  • the field emission electron gun chamber of the second embodiment shown in FIG. 3B has a structure and arrangement means of the airlock valve 3 constituting the chamber, and a vacuum exhaust system portion accordingly. All are the same, except for some differences.
  • the front view of FIG. 3B shows a state in which the airlock valve 3 is closed.
  • the side view of FIG. 3B shows a state in which the airlock valve 3 is opened, and the airlock valve and the preliminary exhaust valve (coarse pull valve) 6 are opened and closed by sliding in the direction of the arrow.
  • specific embodiments of the structure and arrangement means of the airlock valve 3 shown in FIG. 3B are shown in detail in FIGS.
  • the intermediate chamber 1 (sometimes referred to as the first intermediate chamber in the present application) has an airlock valve. There is no 3. It is installed in another intermediate chamber 1'(also referred to as a second intermediate chamber in the present application) adjacent to the bottom surface of the intermediate chamber 1.
  • the outline of each configuration of the electron source chamber 2, the intermediate chamber 1, the airlock valve 3, and the intermediate chamber 1'in the field emission electron gun chamber is as shown in FIG.
  • the dimensions are the same as those of the first embodiment, for example, based on the dimensions of the conflat vacuum flange (standard size: ICF70), and are basically 70 mm cubic.
  • a hole having a diameter ( ⁇ ) of 40 mm ⁇ a length (L) of 35 mm is provided in the upper half of the cube to form an electron source chamber 2, and a tubular shape having a diameter ( ⁇ ) of about 7 mm ⁇ a length (L) of about 20 mm is provided below the hole.
  • An intermediate chamber 1 is provided in which a space is provided and exhausted to a high vacuum.
  • a diaphragm having a diameter ( ⁇ ) of 0.5 mm to a diameter of 1 mm that is, a diaphragm for differential exhaust) is provided on the upper surface and the bottom surface of the cylindrical intermediate chamber 1.
  • a diaphragm for differential exhaust (a diaphragm having a diameter ( ⁇ ) of 0.5 mm to a diameter of ( ⁇ ) of 1 mm) provided between the lower surface of the intermediate chamber 1 and the lower portion of the intermediate chamber 1 is provided, and the differential thereof is further provided.
  • a small cylindrical through hole having a diameter ( ⁇ ) of 1.5 mm to 2 mm centered on the exhaust throttle is provided from the upper surface to the bottom surface of the intermediate chamber 1'(however, this through hole is the upper surface of the intermediate chamber 1'.
  • the bottom surface of the intermediate chamber 1 adjacent to is not penetrated, but the bottom surface of the intermediate chamber 1'is provided so as to penetrate the bottom surface.) This is used as a passage path for electron beams.
  • the seal surface of the airlock valve 3 installed in the intermediate chamber 1' is also provided so as to penetrate (this state is the open state shown in FIGS. 5, 6A and 6B).
  • a byton rubber ⁇ ring is used for the airlock valve 3. Since it is open when baking at 200 ° C., deformation of the ⁇ ring due to baking heating can be avoided.
  • the sealing surface of the airlock valve 3 is greatly upward at 75 ° from the surface perpendicular to the optical axis (specifically, the surface perpendicular to the surface direction when the airlock valve 3 is driven and moves in the front-rear direction). It is an inclined surface.
  • the airlock valve 3 is opened and closed by a drive unit mounted on the front along this angle.
  • the outer bottom surface of the intermediate chamber 1' (that is, the outer bottom surface of the field emission electron gun chamber (in a substantially cubic shape) of the second embodiment) has a structure connected to the electron microscope barrel portion by a flange structure. It has become.
  • the same preliminary exhaust valve (coarse valve) 6 as in the first embodiment is used, but since the intermediate chamber 1'is provided separately from the intermediate chamber 1, the vacuum exhaust system unit is provided. Is partially different.
  • the intermediate chamber 1'where the airlock valve 3 is installed has a preliminary exhaust valve 6 on the back surface (that is, a roughing path between the electron source chamber 2 and the intermediate chamber 1). It has a structure to secure and connect to each internal vacuum adjustment valve), and is connected to a separately provided spare vacuum exhaust pipe (vacuum exhaust pipe 5) connection flange.
  • the back surface of the field emission electron gun chamber is a flange surface of a conflat vacuum flange (for example, standard size: ICF70).
  • a hole (recess) having a diameter ( ⁇ ) of 36 mm and a length (L) of 12 mm is provided.
  • An exhaust hole connected to the electron source chamber 2 and an exhaust hole connected to the intermediate chamber 1 are provided on the bottom surface of this hole (recess).
  • These two exhaust holes are opened and closed by a flange having a piston structure (this is also referred to as a "valve seal portion" in the present application) to which an O-ring seal for opening and closing the exhaust holes is attached as a valve seal.
  • the valve seal portion which is driven back and forth according to the sliding of the piston, has a structure in which the bottom surface of the hole (recess) serves as a seal surface and the side surface serves as a guide.
  • the vacuum valve (specifically, the preliminary exhaust valve 6) in the second embodiment is configured. This vacuum valve opens during baking (during vacuum baking).
  • the two exhaust holes are moved to the intermediate chamber 1'where the airlock valve 3 is installed.
  • the preliminary vacuum exhaust hole that is, the hole (recess) having a diameter ( ⁇ ) of 36 mm ⁇ a length (L) of 12 mm shown in the side view of FIG. 3B) for securing the provided roughing path. It leads to the preliminary vacuum exhaust hole). Since this preliminary vacuum exhaust hole is connected to a separately provided vacuum exhaust pipe 5 (vacuum exhaust), the inside of the intermediate chamber 1'is vacuumed in addition to the electron source chamber 2 and the intermediate chamber 1 due to the rough drawing. It is exhausted. As described above, in the second embodiment, as compared with the first embodiment (FIG. 3A), the structure and arrangement means of the airlock valve 3 constituting the chamber, and a part of the vacuum exhaust system portion are different accordingly.
  • the present embodiment 2 also uses the same preliminary exhaust valve (coarse valve) 6 as that of the first embodiment, and therefore is rough-pulled.
  • the path, valve, and chamber are structured to fit inside, making them compact and compact as a whole.
  • only one spare exhaust valve corresponding to the conventional two spare exhaust valves is required, and the spare valve seals and covers the two exhaust holes. It is more rational as a roughing means because the part to be used has a simple structure that can be closed with one disk / O-ring, and also has a structure that allows the opening and closing of two preliminary exhaust valves, which have been performed separately in the past, at the same time.
  • FIGS. 5, 6A and 6B The structure of another embodiment of the field emission electron gun chamber of the present invention is shown in FIGS. 5, 6A and 6B in front and side views. Regarding the configuration in the present embodiment, the configuration not particularly described or suggested here and described in the first and second embodiments is similarly applied in the present embodiment.
  • the field emission electron gun chamber of the third embodiment is the electron source chamber 2, the intermediate chamber 1, the airlock valve 3, and the intermediate, similarly to the second embodiment (see FIG. 3B). It is characterized in that it is constructed using the chamber 1'.
  • the preliminary exhaust valve rough pull valve
  • the conventional preliminary exhaust valve (coarse valve) 6 shown can also be used.
  • FIGS. 1 and 2 a preliminary vacuum for securing a roughing path provided in the intermediate chamber 1'where the airlock valve 3 is installed is provided.
  • the exhaust holes that is, the preliminary vacuum exhaust holes provided on the lower side surface of the holes (recesses) having a diameter ( ⁇ ) of 36 mm ⁇ a length (L) of 12 mm shown in the side view of FIG. 3B) are shown in FIGS. 1 and 2.
  • the inside of the intermediate chamber 1' is also evacuated by connecting to the vacuum exhaust pipe 5 (vacuum exhaust) separately provided in the above.
  • the airlock valve 3 constituting the field emission electron gun chamber of the third embodiment is installed in the intermediate chamber 1'as shown in FIGS. 5, 6A and 6B. Specifically, it is installed in the intermediate chamber 1'adjacent to the bottom surface of the intermediate chamber 1 and between the electron microscope barrel portion installed in the field emission electron gun chamber.
  • the dimensions are the same as those of the first embodiment, for example, based on the dimensions of the conflat vacuum flange (standard size: ICF70), and are basically 70 mm cubic.
  • a hole having a diameter ( ⁇ ) of 40 mm ⁇ a length (L) of 35 mm is provided in the upper half of the cube to form an electron source chamber 2, and a tubular shape having a diameter ( ⁇ ) of about 7 mm ⁇ a length (L) of about 20 mm is provided below the hole.
  • An intermediate chamber 1 is provided in which a space is provided and exhausted to a high vacuum.
  • a diaphragm having a diameter ( ⁇ ) of 0.5 mm to a diameter of 1 mm (that is, a diaphragm for differential exhaust) is provided on the upper surface and the bottom surface of the cylindrical intermediate chamber 1.
  • a diaphragm for differential exhaust (a diaphragm having a diameter ( ⁇ ) of 0.5 mm to a diameter of ( ⁇ ) of 1 mm) provided between the lower surface of the intermediate chamber 1 and the lower portion of the intermediate chamber 1 is provided, and the differential thereof is further provided.
  • a small cylindrical through hole having a diameter ( ⁇ ) of 1.5 mm to 2 mm centered on the exhaust throttle is provided from the upper surface to the bottom surface of the intermediate chamber 1'(however, this through hole is the upper surface of the intermediate chamber 1'.
  • the bottom surface of the intermediate chamber 1 adjacent to is not penetrated, but the bottom surface of the intermediate chamber 1'is provided so as to penetrate the bottom surface.) This is used as a passage path for electron beams.
  • the seal surface of the airlock valve 3 installed in the intermediate chamber 1' is also provided so as to penetrate (this state is the open state shown in FIGS. 5, 6A and 6B).
  • the installation surface ( ⁇ ring surface) of the ⁇ ring installed on the airlock valve 3 is greatly inclined upward at 75 ° from the vertical plane of the optical axis.
  • the ⁇ ring is on the upper surface and may be irradiated with an electron beam, but the ⁇ ring seal surface that is greatly inclined upward at 75 ° and the ⁇ ring surface have a recessed hole inside, and a cylindrical shape that fits into this recessed part.
  • the convex part of the seal is provided inside the ⁇ ring for sealing, and is fitted.
  • the through hole of the airlock valve 3 is formed in the convex portion as shown in FIGS. 5 and 6A and 6B.
  • the ⁇ ring is behind the convex part in the center, so that the surface of the ⁇ ring is not directly exposed to the electron beam even when the shielding plate shown in the figure is not attached. Since the airlock valve 3 has such a structure, the airlock valve 3 itself is placed outside the intermediate chamber 1 to be evacuated. Therefore, the load of the vacuum exhaust in the intermediate chamber is very small as compared with the case where the intermediate chamber provided with the airlock valve 3 is evacuated in the room as in the conventional case.
  • the drive shaft and the ⁇ ring seal surface are perpendicular to each other, and the driving force is directly applied to the ⁇ ring seal surface, which simplifies the structure of the airlock valve.
  • the airlock valve 3 When the airlock valve 3 is opened, the electron beam passes through the cylindrical through hole of the convex portion in the ⁇ ring, so that the scattered electron beam is substantially avoided from hitting the ⁇ ring.
  • FIGS. 5 and 6A and 6B in the state where the shielding plate in the figure is not attached, strictly speaking, a part of the surface of the ⁇ ring is exposed to the through hole. That is, the exposed portion is exposed to the electron beam path. When it is desired to avoid this state, as shown in FIGS.
  • the ⁇ ring surface is not completely exposed to the electron beam path.
  • a shielding plate having the structure shown in FIGS. 6A and 6B can be provided.
  • the shielding plate with the leaf spring completely shields the ⁇ ring surface exposed to the through hole as the electron beam passes through the through hole (that is, in the open state).
  • the joint of the leaf spring is bent around the fulcrum to close the through hole. It has a simple structure that collapses.
  • the convex portion of the shielding plate is provided so as to completely shield the surface of the ⁇ ring exposed to the through hole as the electron beam passes through the through hole (that is, in the open state).
  • the structure is such that the through hole in the convex portion is closed.
  • the structure of these shielding plates is an example, and as the shielding plate, if the above-mentioned object of shielding can be achieved and the object of the present invention can be achieved, the structure and installation method thereof are particularly applicable. There is no limit.
  • the air lock valve 3 constituting the field emission electron gun chamber of the third embodiment can avoid direct electron beam irradiation to the ⁇ ring, and can also avoid exposure to the electron beam path, and moreover, the intermediate chamber 1 Since it is provided outside the above, the field emission electron gun chamber of the third embodiment can have a simple structure, and has a great advantage such as greatly reducing the vacuum exhaust load. Further, although an expensive vacuum bellows (welded bellows, molded bellows) has been conventionally required for the vacuum seal of the moving portion of the valve drive shaft, the drive portion of the airlock valve 3 of the present embodiment is in the middle of vacuuming. Since it is installed outside the room 1, the cost is greatly reduced.
  • the airlock valve 3 constituting the field emission electron gun chamber of the third embodiment serves as a sliding seal for evacuating the electron microscope barrel portion installed in the intermediate chamber 1'equipped with the airlock valve. Since it is possible to use a ring, it will be a big cost reduction.
  • FIG. 7A shows a schematic view of the structure of one embodiment of a scanning electron microscope including the field emission electron gun chamber of the present invention.
  • the outline of the field emission electron gun chamber in FIG. 7A is as shown in FIG. 3B. That is, in FIG. 7A, the electron source chamber 2, the intermediate chamber 1, the air lock valve 3, and the IP (that is, the ion pump) constituting the field emission electron gun chamber are the electron source chamber 2 and the intermediate chamber in FIG. 3, respectively. 1. Compatible with air lock valve 3 and IP.
  • FIG. 7A shows a schematic view of the structure of one embodiment of a scanning electron microscope including the field emission electron gun chamber of the present invention.
  • the outline of the field emission electron gun chamber in FIG. 7A is as shown in FIG. 3B. That is, in FIG. 7A, the electron source chamber 2, the intermediate chamber 1, the air lock valve 3, and the IP (that is, the ion pump) constituting the field emission electron gun chamber are the electron source chamber 2 and the intermediate chamber in FIG. 3, respectively. 1. Compatible with air lock valve
  • the airlock valve 3 and the electron microscope barrel 7 are simplified for convenience, but the specific structure and arrangement thereof are as shown in FIGS. 5, 6A and B. .. That is, as shown in FIGS. 5 and 6A and 6B, the airlock valve 3 is actually installed in the intermediate chamber 1'adjacent to the bottom surface of the intermediate chamber 1, and the electron is further formed by the intermediate chamber 1'and the flange.
  • the microscope barrel portion 7 is connected.
  • the scanning electron microscope is configured by connecting the electron microscope barrel portion 7 on which the field emission electron gun chamber is mounted to the sample chamber 10.
  • a leak valve that is, a vacuum valve
  • the electron beams emitted from the field emission electron source are the orifice provided between the bottom surface of the electron source chamber 2 and the upper surface of the intermediate chamber 1 and the differential exhaust provided on the bottom surface of the intermediate chamber 1.
  • the air lock valve 3 With the air lock valve 3 open, it passes through the aperture and the electron beam passage path provided in the intermediate chamber 1'where the air lock valve 3 is installed, which is adjacent to the bottom surface of the intermediate chamber 1. It passes through the inside of the electron microscope barrel portion connected to the intermediate chamber 1'by a flange and reaches the sample of the sample table 11 installed in the sample chamber 10. This outline is shown by the broken line in FIG. 7A.
  • the pressure in the electron source chamber 2 is represented by P 0
  • the pressure in the intermediate chamber 1 is represented by P 1
  • the pressure in the sample chamber 10 is represented by P 2.
  • LaB 6 is used as the emitter.
  • FIG. 7B shows the pressure (P 0 ) of the electron source chamber 2 when the scanning electron microscope (that is, FIG. 7A) according to the embodiment of the present invention is operated, the pressure of the intermediate chamber 1 (P 1 ), and the sample.
  • each pressure (unit: Pa) of the pressure chamber 10 (P 2) and the elapsed time (unit: hr) is a graph showing the relationship between.
  • the pressure in the electron source chamber 2 (P 0 ) and the pressure in the intermediate chamber 1 (P 1 ) are measured by using the same vacuum gauge (TiTan 5s ion pump manufactured by Gamma Vacuum), measuring the operating current with a homemade power supply, and ionizing.
  • the result of FIG. 7B shows the following.
  • the time point (a) indicates the time point when the airlock valve 3 is opened.
  • the pressure in the sample chamber 10 (P 2 ) is on the order of 10 -3 , and the difference in vacuum between the pressure in the sample chamber 10 (P 2 ) and the pressure in the electron source chamber 2 (P 0 ) is three orders of magnitude or more.
  • the difference in the degree of vacuum pressure of the electron source chamber 2 (P 0) and the pressure in the intermediate chamber 1 (P 1) is also two orders of magnitude less. Therefore, it satisfies the working exhaust required by a scanning electron microscope (particularly, a scanning electron microscope using LaB 6 as an emitter of a field emission electron source).
  • the period from the time point (a) to the time point (b) indicates the period from the opening to the closing of the airlock valve 3.
  • the pressure (P 0 ) of the electron source chamber 2 rises sharply once, so that the degree of vacuum decreases, but the degree of vacuum does not reach about 3 ⁇ 10 -7 Pa or more. That is, the degree of vacuum can be maintained at less than about 3 ⁇ 10 -7 Pa during the above period. This is important.
  • LaB 6 is used as an emitter of a field emission electron source, it is generally considered that the upper limit of the degree of vacuum must be up to 3 ⁇ 10 -7 Pa in order to stably emit an electron beam. Because it is. The result of FIG.
  • FIG. 7B shows that the degree of vacuum of less than about 3 ⁇ 10 -7 Pa can be maintained in a steady state for 2 hours or more during the above period, so that a stable electron beam current can be obtained. Sample measurement can be performed stably.
  • FIG. 8 is a graph showing the change in the total emission current of the electron source during a partial period (60 minutes) of this steady state, that is, a graph showing the total emission profile of the field emission electron source using LaB 6 as an emitter. be.
  • This condition is that the airlock valve 3 is open, the pressure (P 0 ) of the electron source chamber 2 is 2.5 ⁇ 10 -7 Pa, and the pressure (P 1 ) of the intermediate chamber 1 is 1 ⁇ 10 -5.
  • the pressure (P 2 ) of the sample chamber 10 is 3 ⁇ 10 -3 Pa.
  • FIG. 8 shows that a stable electron beam current, that is, an electron beam can be stably obtained.
  • the time of (b) shows the time of closing the air lock valve 3, which is the pressure of the sample chamber 10 (P 2) to atmospheric pressure for sample exchange by closing the air lock valve 3 It means the time when it was done.
  • the time point (c) indicates the time point when the sample exchange is completed and the evacuation of the sample chamber 10 is started.
  • the pressure of the sample chamber 10 (P 2) will return to atmospheric pressure, importantly, the In the period, both the pressure of the electron source chamber 2 (P 0 ) and the pressure of the intermediate chamber 1 (P 1 ) maintain the vacuum degree at which the electron beam current can be obtained even if the vacuum degree is lowered.
  • the pressure (P 0 ) of the electron source chamber 2 is a vacuum degree far below 3 ⁇ 10 -7 Pa. This means that there is no leakage from the airlock valve 3.
  • the time point (c) indicates the time point when the sample exchange is completed and the vacuuming of the sample chamber 10 is started, and the time point (d) indicates the time point when the airlock valve 3 is reopened. show.
  • the time point (d) is the time point when the pressure (P 2 ) of the sample chamber 10 is lowered to raise the degree of vacuum to a region near 1 ⁇ 10 -3 Pa, which is less than 1 ⁇ 10 -2 Pa. become. At this time, the leak valve of the sample chamber 10 is completely closed. What is important is the time between the time point (c) and the time point (d). This time is only 5 minutes, which means that the working exhaust (that is, the state in which the electron beam current flows) required for sample measurement can be achieved in a short time of 5 minutes. That is, it means that the exhaust standby time of the sample chamber 10 after the sample exchange is extremely shortened.
  • the time point (d) when the airlock valve 3 is reopened is intermediate with the pressure (P 0) of the electron source chamber 2.
  • the pressure in the chamber 1 (P 1 ) and the pressure in the sample chamber 10 (P 2 ) both rise sharply and the degree of vacuum decreases, the degree of vacuum begins to increase immediately after that to achieve a good degree of high vacuum. What is important here is that the pressure (P 0 ) of the electron source chamber 2 decreases monotonically while maintaining a pressure well below 3 ⁇ 10 -7 Pa.
  • the present invention provides a field emission electron gun chamber for a scanning electron microscope, it can be used as long as it is in the field of a scanning electron microscope using a field emission electron source.
  • the present invention since the present invention has a simple and miniaturizable structure, it can be used in a field where it is expected to use a field emission electron source in a widely used scanning electron microscope having a maximum acceleration voltage of 15 kV. Sex is highly expected.

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Abstract

本発明の課題は、電子源としてフィールドエミッション電子源を使用することが可能で、当該電子源からの電子線の最大加速電圧を15kVとする走査型電子顕微鏡用のフィールドエミッション電子銃チャンバーでありながら、これまでにない、簡単で小型化可能な構造を有するものを提供することを目的とする。これにより、製造コストにも優れる当該フィールドエミッション電子銃チャンバーを提供することである。本発明の解決手段は、以下の通りである。 以下を備える、走査型電子顕微鏡用の電子銃チャンバー: (a)フィールドエミッション電子源を脱着する部位を備える電子源チャンバー; (b)前記部位に設置される前記電子源から放出される電子線の方向に電子線が通過する、前記電子源チャンバーに隣接して設けられた中間室; (c)前記中間室に設けられるエアロックバルブ設置部; (d)前記電子源チャンバー及び前記中間室の連続する面のそれぞれに設けられた、予備真空排気用ポンプ用の排気孔;並びに (e)前記電子源チャンバーと前記中間室に備えられている、前記予備真空排気用ポンプ用の排気孔を直接開閉する開閉手段。

Description

走査型電子顕微鏡用電子銃チャンバー、これを含む電子銃及び走査電子顕微鏡
 本発明は、走査電子型顕微鏡用の電界放出電子銃チャンバー並びに当該電子銃チャンバーを含む電子銃及び走査電子顕微鏡に関する。
 前記電子銃チャンバーは、特に略立方体形状を有し得るものに関する。
 前記走査電子型顕微鏡は、特に低加速電圧(具体的には、最大加速電圧が15kV)でも使用し得るものに関する。
 本願では、前記「電界放出」を「フィールドエミッション」又は「Field Emission」の略称として単に「FE」と称することもある。また本願では、前記「略立方体形状」を「キュービック(Cubic)」と称することもある。
 電子顕微鏡には大別して、電子線が試料を透過して試料の拡大像を得る透過型電子顕微鏡(TEM)と、試料表面を極めて微小の直径(プローブサイズ)の電子線で走査し、その電子線(本願では「電子ビーム」と称することもある)照射位置から発生する二次電子を検出し、この信号によりモニター上に画像を表示する走査型電子顕微鏡(SEM)とがある。
 電子線のエネルギーとして、透過型電子顕微鏡においては、試料を電子線が透過するため、電子線の加速電圧として高加速電圧(具体的には、100kV~1000kVの加速電圧)を使用する。
 走査型電子顕微鏡においては、試料表面を走査するため、電子線の加速電圧として100kV~500kVの高い加速電圧を使用するものもあるが(例えば、特許文献1や2)、一般的には、電子線の加速電圧として透過型電子顕微鏡と比較して低めの低加速電圧(具体的には、10kV~30kVの加速電圧)を使用する。実際、非特許文献1や2においては、加速電圧を30kVとするものが開示されている。走査型電子顕微鏡としては、前記低加速電圧の中でも最大加速電圧を15kVとするものが広く一般に普及している。
 走査型電子顕微鏡における電子源(すなわち、電子線を発生させ、加速するための電子源)としては、例えば、真空チャンバー内のカソード電極の先端(本願では「エミッター」と称することもある)に設けられた、タングステンフィラメントやランタンヘキサボライド(LaB)ナノワイヤの加熱で電子を引き出す熱電子源、タングステン単結晶の針先端部に高真空中(10-7Pa以上)で高い電界を印可することにより作動する電界放出で電子を引き出す電界放出電子源(本願では「フィールドエミッション電子源」と称することもある)などがある。
 電子源の中でもフィールドエミッション電子源は、熱電子源に比べて一般的に、電子線の大きさが小さく、また、電子のエネルギーのばらつきが少ない等の点で、高分解能を有する高性能な電子源であるが、非常に高価である。そのため現状では、電子源としてフィールドエミッション電子源を使用する走査型電子顕微鏡として商品化されているものは、本出願人が知りうる限り、前記低加速電圧の中で最も高い30kVを最大加速電圧とする高級な走査型電子顕微鏡に留まる。
特表2002-541623号公報 特表2002-516018号公報
Konno et al., "Lattice imaging at an accelerating voltage of 30 kV using an in-lens type cold field-emission scanning electron microscope" Hitachi High Technol Corp, 882 Ichige, Hitachinaka, Ibaraki 3128504, Japan ULTRAMICROSCOPY 巻:145 ページ: 28-35 DOI: 10.1016/j.ultramic.2013.09.001, 発行: OCT 2014 (抄録) HERMANN, R; MULLER, M., "PROGRESS IN SCANNING ELECTRON-MICROSCOPY OF FROZEN-HYDRATED BIOLOGICAL SPECIMENS", SCANNING MICROSCOPY 巻: 7号: 1ページ: 343-350, 発行: MAR 1993 (抄録)
 一方で近年、走査型電子顕微鏡として広く一般に普及している最大加速電圧を15kVとする走査型電子顕微鏡においても、その電子源として高性能であるフィールドエミッション電子源を使用することが切望されており、その検討及び研究開発がなされている。
 しかし、フィールドエミッション電子源を使用する従来の走査型電子顕微鏡(すなわち、フィールドエミッション電子源を使用する、最大加速電圧が30kVの既存の走査型電子顕微鏡)で使用されている技術を、最大加速電圧が15kVの走査型電子顕微鏡にそのまま適用すると、フィールドエミッション電子源を使用するために必要な高真空を達成するための構造、具体的には、フィールドエミッション電子源から電子線を発生させて加速させる部分(本願では、これを「フィールドエミッション電子銃」と称することもある)を収容する真空容器(本願では「電界放出電子銃チャンバー」又は「フィールドエミッション電子銃チャンバー」と称することもある)とその真空排気系統部分の構造が複雑で大型になる等の様々な問題を生じ、製造コストが非常に高くなってしまう。この点について、図1と2を用いて以下に詳述する。
 図1と2はそれぞれ、フィールドエミッション電子源を使用する、最大加速電圧が30kVの既存の走査型電子顕微鏡に関し、当該走査型電子顕微鏡を構成する、一般的なフィールドエミッション電子銃チャンバーとその真空排気系統部の外観図と断面図(概略図)を示したものである。
 図1と2に示すとおり、電子源チャンバー2の底面に中間室1が隣接し、中間室1にエアロックバルブ3が設置されている。電子源チャンバー2は、フィールドエミッション電子源を装填する真空容器(チャンバー)である。
 電子源チャンバー2の外部には、そのチャンバー内を真空排気するための電子源チャンバー排気用イオンポンプ4が配管を介して設置され、中間室1の外部には、その中間室1内を真空排気するための中間室排気用イオンポンプ4が配管を介して設置されている。さらに、電子源チャンバー2と電子源チャンバー排気用イオンポンプ4をつなぐ配管に粗引バルブ6が設けられた配管をさらにつなぎ、中間室1と中間室排気用イオンポンプ4をつなぐ配管に別の粗引バルブ6が設けられた配管をさらにつなぎ、粗引バルブ6が設けられた各配管はいずれも、真空排気用配管5と接続している。本願では、粗引バルブ6を「予備排気バルブ6」又は単に「予備排気バルブ」と称することもある。
 ここで、フィールドエミッション電子源チャンバー8とは、上述のとおり、フィールドエミッション電子源から電子線を発生させて加速させる部分のことであり、走査型電子顕微鏡として使用する場合、図2に示すとおり、電子顕微鏡鏡筒部7(すなわち、走査型電子顕微鏡において装填・設置される、一般的に「集束レンズ」や「対物レンズ」と称される走査型電子顕微鏡用のレンズを備える筒部)を設置する。つまり、フィールドエミッション電子源チャンバー8とは、電子顕微鏡鏡筒部7の上に載せる部分の総称と言い換えることができる。具体的には、図1及び/又は2に従うと、フィールドエミッション電子源チャンバー8は、電子源チャンバー2と、中間室1と、エアロックバルブ3と、粗引バルブ6(すなわち、電子源チャンバー2と電子源チャンバー排気用イオンポンプ4をつなぐ配管につなげられた配管に設けられた粗引バルブ6と、中間室1と中間室排気用イオンポンプ4をつなぐ配管につなげられた配管に設けられた粗引バルブ6)から構成される部分になる。そのため、フィールドエミッション電子銃チャンバー8の構造は複雑で大型になる。
 因みに、フィールドエミッション電子源チャンバー8と電子顕微鏡鏡筒部7との間は、互いに脱着可能な構造となっている。
 他方、真空排気系統部9とは、フィールドエミッション電子源が稼働するために必要な高真空を達成するために必要な排気系統部分のことであり、真空排気系統部9は、フィールドエミッション電子源チャンバー8に外付けする。具体的には、図1及び/又は2に従うと、電子源チャンバー2に配管を介して設置される電子源チャンバー排気用イオンポンプ4と、中間室1に配管を介して設置される中間室排気用イオンポンプ4と、各粗引バルブ6と接続されている真空排気用配管5から構成される部分のことである。そして、真空排気用配管5は、ディフュージョンポンプ(これは、「油拡散ポンプ」とも称し、熱した油をジェット状に下から吹き付けることにより、周りに存在する気体粒子をはじきとばし、その後水冷された壁に接触すると油が液化して下に落ちる、というサイクルを繰り返して真空にするポンプのことであり、本願では単に「DP」と称することもある)及び/又はターボモレキュラーポンプ(これは、羽が高速回転して、気体分子をはじきとばすことによりガスを排気するポンプのことであり、本願では単に「TMP」と称することもある)につながっている(DPやTMPは、図1と2のいずれにも図示せず)。これらポンプ(DPやTMP)はさらに、ロータリーポンプ(これは、回転する内部の羽が気体をかき出すように排気する真空ポンプの一種で、本願では単に「RP」と称することもある)へとつながっている(RPは、図1と2のいずれにも図示せず)。ロータリーポンプは、一次真空引き用として、ディフュージョンポンプやターボモレキュラーポンプは、二次真空引き用として使用する。本願では、これらの真空引きを「粗引き」と称することもある。また、本願では、粗引き(すなわち、一次真空引き及び二次真空引き)による真空を「粗引き真空」と称することもある。
 電子源チャンバー排気用イオンポンプ4と中間室排気用イオンポンプ4には、スパッタイオンポンプ(これは、活性金属面に気体分子を吸着して真空排気するポンプで、本願では単に「SIP」と称することもある)を使用する。これらイオンポンプ4は、その稼働可能な真空度(10-4Paオーダー)になるまで、ディフュージョンポンプやターボモレキュラーポンプで粗引排気してから、さらなる高真空度(10-7Paオーダー)を達成するために使用する。フィールドエミッション電子源は、タングステン電子源、ランタンヘキサボライド(LaB)電子源などの熱電子源と比べて、輝度(すなわち、明るさのことであり、単位立体角当たりの電子量が大きいことを意味する)が優れており、高分解能像が得られる長所があるが、その使用には、電子源チャンバー2の真空度が10-7Paオーダーと、タングステン電子源やLaB電子源と比較して二桁以上高い真空度が要求されるからである。
 また、走査型電子顕微鏡と使用する際には、フィールドエミッション電子銃チャンバー8に電子顕微鏡鏡筒部7を設置することになるが、稼働時の電子顕微鏡鏡筒部7内の真空度は10-3Paオーダーである。
 電子源チャンバー2内の10-7Paオーダーの真空度と電子顕微鏡鏡筒部7内の10-3Paオーダーの真空度との間には、3~4桁にも及ぶ真空度の差が生じてしまうため、両者の間には小さな空間である中間室1を設けて、個別に連なる真空室の真空度の差が2桁以下(具体的には、電子源チャンバー2内と中間室1内の真空度の差が2桁以下で、中間室1内と電子顕微鏡鏡筒部7内の真空度の差が2桁以下)になるように、電子源チャンバー2と中間室1と電子顕微鏡鏡筒部7の各内部を個別に真空排気する。なお、電子源チャンバー2と中間室1の排気は、上述のとおり、真空排気系統部9を用いて行う。
 また、図2に示すとおり、各真空室の間(すなわち、電子源チャンバー2と中間室1との間の仕切り面と中間室1と電子顕微鏡鏡筒部7の間の仕切り面には、直径(φ)が0.5~1mmの小さな絞り(これは、本願では「差動排気用絞り」と称することもある)と呼ばれる孔が設けられ、連なる真空室の真空度の差を上述のとおりに保持しつつ、電子線がこの小さな絞り(孔)を通過して下方の電子顕微鏡鏡筒部7に導かれる構造となっている。なお、本願では、上記「仕切り面」を「隣接面」と称することもある。そして、中間室1と電子顕微鏡鏡筒部7との間の仕切り面にある孔(すなわち、絞り孔)には、電子源チャンバー2と中間室1部分の真空を電子顕微鏡鏡筒部7内の真空から真空隔離するためのバルブ(すなわち、エアロックバルブ3)を設けることによって各真空室を真空隔離し、像観察する時のみ、そのバルブを開くことによって電子線を通ずる構造となっている。
 以上の理由により、フィールドエミッション電子源を使用する従来の走査型電子顕微鏡では、フィールドエミッション電子源を使用するために必要な高真空を達成するための構造(具体的には、フィールドエミッション電子銃チャンバーとその真空排気系統部の構造)として、複雑で大型のフィールドエミッション電子銃チャンバー8と真空排気系統部9を要求している。
 しかも、フィールドエミッション電子銃チャンバー8は、高真空での使用という要求に応えるため、通常、ステンレスで作られる。そのため、図1に示される配管やフランジ部分は、一般的に、ステンレス製の配管とステンレス製のフランジを溶接(例えば、アーク溶接)でつながなければならない。そのうえ、表面積を少なくするため、フィールドエミッション電子銃チャンバー8の表面は、通常、複合電解研磨処理して鏡面に仕上げることになる。その結果、フィールドエミッション電子銃チャンバー8とその真空排気系統部9の構造は複雑で、製造コストも高くなる。
 また、高真空を得るために、ステンレス金属内に含まれる水分を排出するため、通常数時間から数日間、200℃程度の高温ベーク(焼出し)が行われる。従って、フィールドエミッション電子銃チャンバー8は、バルブも含めて全ての部分が、ベーク温度200℃に耐えられる耐熱構造としなければならない。そのため、真空チャンバー(具体的には、図1における、電子源チャンバー2や中間室1)やスパッタイオンポンプ(具体的には、図1における、電子源チャンバー排気用イオンポンプ4と中間室排気用イオンポンプ4)等のフランジ結合部には、安価なゴム製のOリングを使用することはできず、通常、高価な銅ガスケットを使用したコンフラット真空フランジ(ICF)を採用している。
 上述のとおりであるから、フィールドエミッション電子源を使用する、最大加速電圧が30kVの既存の走査型電子顕微鏡で使用されている技術を、最大加速電圧が15kVの走査型電子顕微鏡にそのまま適用することは、フィールドエミッション電子源を使用するために必要な高真空を達成するための構造(具体的には、フィールドエミッション電子銃チャンバーとその真空排気系統部の構造)が複雑で大型になる等の様々な問題を生じ、非常に高い製造コストが発生することになってしまうので、望ましくない。そのため、フィールドエミッション電子源を使用する、最大加速電圧が15kVの走査型電子顕微鏡は、商品開発が難しく、未だ商品化されたものはない。
 このような状況に鑑みて、本願発明では、電子源としてフィールドエミッション電子源を使用することが可能で、当該電子源からの電子線の最大加速電圧を15kVとする走査型電子顕微鏡用のフィールドエミッション電子銃チャンバーでありながら、これまでにない、簡単で小型化可能な構造を有するものを提供することを目的とする。これにより、製造コストにも優れる当該フィールドエミッション電子銃チャンバーを提供することを目的とする。
 また、本願発明では、前記フィールドエミッション電子銃チャンバーを含む、電子銃及び走査型電子顕微鏡を提供し、これにより、電子銃及び走査型電子顕微鏡の製造コスト削減を図ることを目的とする。
 因みに、フィールドエミッション電子源を使用する従来の走査型電子顕微鏡に関し、高真空を得るための行程についても、参考のため、以下に説明しておく。
 図1や2に示すとおり、スパッタイオンポンプ(電子源チャンバー排気用イオンポンプ4と中間室排気用イオンポンプ4)を閉(off)、2つの粗引バルブ6(すなわち、電子源チャンバー2と電子源チャンバー排気用イオンポンプ4をつなぐ配管につなげられた配管に設けられた粗引バルブ6と、中間室1と中間室排気用イオンポンプ4をつなぐ配管につなげられた配管に設けられた粗引バルブ6)とエアロックバルブ3を開(on)とし、ロータリーポンプ(図1と2のいずれにも図示せず)で大気圧から真空排気(すなわち、一次真空引き)する。その後、本引き(すなわち、二次真空引き)としてディフュージョンポンプ又はターボモレキュラーポンプで10-4Paオーダー程度まで真空排気する。次の工程として加熱ヒーターにより、電子源チャンバー2内に設置された電子源部を150~200℃に保持するベーキングを行う。ベーク時間は通常、数日に及ぶ。ベーク終了後2つの粗引バルブ6とエアロックバルブ3を閉(off)にし、スパッタイオンポンプ(電子源チャンバー排気用イオンポンプ4と中間室排気用イオンポンプ4)を開(on)にし、高真空領域の真空排気を行って目的とする高真空を得る。
 フィールドエミッション電子銃チャンバー8には、電子源チャンバー2と中間室1部分の真空を電子顕微鏡鏡筒部7内の真空から遮断するためにエアロックバルブ3が設けられている。このバルブは、電子源を電子源チャンバー2に取り付ける時や通常の観察時に行う観察試料交換時に、電子源チャンバー2内の真空度低下を避けるために閉める。他方、電子顕微鏡鏡筒部7内の真空が良くなった後で再び電子線を通すときに開ける。
 本願発明者は鋭意研究した結果、走査型電子顕微鏡用のフィールドエミッション電子銃チャンバーを構成する電子源チャンバーと中間室に設置される予備排気バルブの従来の設置手段を新規な手段とすること、及び/又は従来のエアロックバルブの設置手段や構造を新規な手段とすること等により、上記課題が解決されることを見出し、本願発明を完成するに至った。
 本願発明は、具体的には以下の構成を有する。
 [1] 以下を備える、走査型電子顕微鏡用の電子銃チャンバー:
 (a)フィールドエミッション電子源を脱着する部位を備える電子源チャンバー;
 (b)前記部位に設置される前記電子源から放出される電子線の方向に電子線が通過する、前記電子源チャンバーに隣接して設けられた中間室;
 (c)前記中間室に設けられるエアロックバルブ設置部;
 (d)前記電子源チャンバー及び前記中間室の連続する面のそれぞれに設けられた、予備真空排気用ポンプ用の排気孔;並びに
 (e)前記電子源チャンバーと前記中間室に備えられている、前記予備真空排気用ポンプ用の排気孔を直接開閉する開閉手段。
 [2] 前記電子銃チャンバーが略立方体形状を有する、
[1]記載の電子銃チャンバー。
 [3] 前記電子源チャンバー及び前記中間室が溶接加工を必要としない、同一のステンレス鋼ブロックの穴加工のみによって制作される、
[1]又は[2]記載の電子銃チャンバー。
 [4] 前記開閉手段が、前記電子源チャンバーと前記中間室の前記排気孔のそれぞれを、ピストンの摺動に連動する蓋体の押し付けと解放により開閉する構成を有する、
[1]乃至[3]のいずれかに記載の電子銃チャンバー。
 [5] 前記電子源チャンバーの前記排気孔は、前記電子源チャンバーの側面に設けた円筒状の凹みの底面に配置され、この凹みは、前記電子源チャンバーの該排気孔を開閉する前記蓋体と篏合し、
 前記中間室の前記排気孔は、前記中間室の側面に設けた円筒状の凹みの底面に配置され、この凹みは、前記中間室の前記排気孔を開閉する前記蓋体と篏合する、
[4]記載の電子銃チャンバー。
 [6] 前記電子源チャンバーの前記排気孔を開閉する前記蓋体と、前記中間室の前記排気孔を開閉する前記蓋体が、同一の1つの蓋体である、
[4]記載の電子銃チャンバー。
 [7] 前記電子源チャンバーと前記中間室の前記排気孔はいずれも、前記電子源チャンバーと前記中間室に連続し、両者に跨る側面に設けた1つの円筒状の凹みの底面に配置され、この凹みは前記蓋体と篏合する、
[6]記載の電子銃チャンバー。
 [8] 前記電子源チャンバーと前記中間室はそれぞれ、フィールドエミッション電子源が動作する真空度に排気する高真空排気用ポンプ用の排気孔を備える、
[1]乃至[7]のいずれかに記載の電子銃チャンバー。
 [9] 前記電子源チャンバーと前記中間室の前記高真空排気用ポンプ用の排気孔がそれぞれ、互いに左右対称となる位置に配置されている、
[8]記載の電子銃チャンバー。
 [10] 以下を備える、略立方体形状を有する、走査型電子顕微鏡用の電子銃チャンバー:
 (a)フィールドエミッション電子源を脱着する部位を備える電子源チャンバー;
 (b)前記部位に設置される前記電子源から放出される電子線の方向に電子線が通過する、前記電子源チャンバーに隣接して設けられた第一中間室、及び前記第一中間室の下方に隣接する第二中間室;
 (c’)前記第二中間室内にエアロックバルブが設置され、
 該エアロックバルブは、
  (i)前記第一中間室と前記第二中間室の隣接面に対して60°以上80°以下の傾斜軸を有するОリング設置面と、
  (ii)前記Оリング設置面上、前記傾斜軸の垂直方向に、上方に延伸する略円柱形の凸部で、前記電子線を通過及び遮断する手段を備える該凸部、
とを具備する。
 [11] 前記電子線を通過する手段は、
 前記第二中間室を通過する電子線方向に設けられた前記凸部の貫通孔に電子線を通過する構成を有し、
 前記電子線を遮断する手段は、
 前記凸部を前記傾斜軸に対して垂直方向へスライドさせることによって前記貫通孔をずらして電子線の通過を遮断する構成を有する、
[10]記載の電子銃チャンバー。
 [12] 前記エアロックバルブは、前記Оリング設置面のうち電子線に曝される部位に該電子線の遮蔽手段を備える、
[10]又は[11]記載の電子銃チャンバー。
 [13] [1]乃至[12]のいずれかに記載の電子銃チャンバーを含む、走査型電子顕微鏡用の電子銃。
 [14] [1]乃至[12]のいずれかに記載の電子銃チャンバーを含む、走査型電子顕微鏡。
 本願発明によれば、以下に述べる効果を奏することができるので、電子源としてフィールドエミッション電子源を使用することが可能で、当該電子源からの電子線の最大加速電圧を15kVとする走査型電子顕微鏡用のフィールドエミッション電子銃チャンバーでありながら、これまでにない、簡単で小型化可能な構造を有するものを提供することができる。その結果、製造コストにも優れる当該フィールドエミッション電子銃チャンバーを提供することが可能になる。
 また、本願発明によれば、前記フィールドエミッション電子銃チャンバーを含む、電子銃及び走査型電子顕微鏡を提供することにより、電子銃及び走査型電子顕微鏡の製造コスト削減を図ることができる。
 本願発明が奏する効果は、具体的には以下のとおりである。
 1.本願発明によれば、これまでにない、簡単で小型化可能な構造を有するという効果を奏する。
 本願発明によれば、そのフィールドエミッション電子銃チャンバーを構成する、電子源チャンバー、中間室、エアロックバルブ、及び予備排気バルブを、小型の略立方体形状(例えば、略70mm立方のステンレスブロック)の機械加工によって、複雑な溶接作業を行うことなく簡単に製作することが可能である。そのため、その構造は、これまでにないもので、また、フィールドエミッション電子源を使用する従来の走査型電子顕微鏡において必要不可欠であった配管(具体的には、真空排気用配管)とフランジを溶接する構造に比べて、格段に小型でコンパクトな構造になる。従って、本願発明によれば上記効果を奏することができる。その結果、製造コストに優れるという効果も奏する。
 この点について詳述すると、フィールドエミッション電子源を使用する従来の走査型電子顕微鏡におけるフィールドエミッション電子銃チャンバーとその真空排気系部の構造は、フランジと配管をつなぎ合せることが必要であったのに対し、本願発明のフィールドエミッション電子銃チャンバーは、小型の略立方体形状のステンレスブロック(塊)に対して、溶接作業を行うことなく穴加工を行うことにより簡単に制作することができる。その結果、非常に小型でコンパクトな合理性に富んだ構造が得られる。しかも、ブロック構造なので、ベーク用の加熱ヒーターとして、帯状のヒーターを電子源に巻き付けて加熱するヒーターや電子源を完全に囲った高価な専用ヒーターの代わりに、ブロック内にカートリッジヒーターを取り付けて使用することが可能になるので、加熱効率の向上を図ることができる。例えば、本願発明のフィールドエミッション電子銃チャンバーは、上述のとおり、金属ブロック構造なので、このブロックに穴(例えば、直径(φ)約8mm×長さ(L)約50mm)の穴を加工し、安価なシースヒーターを埋め込んで使用することが可能である。溶接箇所がない小型の一体構造のため、このような埋め込み型ヒーターにより効率よく充分に加熱することができる。
 2.本願発明によれば、電子源としてフィールドエミッション電子源を使用する、最大加速電圧が15kVの走査型電子顕微鏡用のフィールドエミッション電子銃チャンバーとして使用できるという効果を奏する。
 本願発明によれば、上述のとおり、小型の略立方体形状(例えば、略70mm立方のステンレスブロック)の機械加工によって、フィールドエミッション電子源を使用する従来の走査型電子顕微鏡におけるフィールドエミッション電子銃チャンバーとその真空排気系部を構成する、予備排気バルブ、真空排気用配管、及びエアロックバルブが全て備わっているフィールドエミッション電子銃チャンバーを提供できるので、これをそのまま、電子源としてフィールドエミッション電子源を使用する、最大加速電圧が15kVの走査型電子顕微鏡用のフィールドエミッション電子銃チャンバーとして使用できる。従って、本願発明によれば上記効果を奏することができる。
 3.本願発明によれば、高価な市販の外付けの予備排気バルブが不要になるという効果を奏することができる。
 本願発明によれば、フィールドエミッション電子源を使用する従来の走査型電子顕微鏡において使用されていた高価な市販の外付けの予備排気バルブ(具体的には、図1及び2の粗引バルブ6)も、エアロックバルブ(図1及び2のエアロックバルブ3)とともに本体の中に納まるコンパクトな設計になるため、当該予備排気バルブを取り付ける必要がなくなる。従って、本願発明によれば上記効果を奏することができる。その結果、製造コストに優れるという効果も奏する。
 4.本願発明によれば、操作や設計が簡単になるという効果を奏することができる。
 本願発明によれば、フィールドエミッション電子源を使用する従来の走査型電子顕微鏡において使用されていた予備排気バルブ(具体的には、図1及び2の粗引バルブ6)が1つの弁構造で開閉することが可能になるので、操作や設計が簡単になる。従って、本願発明によれば上記効果を奏することができる。
 5.本願発明によれば、予備排気バルブのシールとして安価なポリイミドシートを使用できるという効果を奏することができる。
 6.本願発明によれば、走査型電子顕微鏡としての信頼性向上や真空排気負荷の軽減を図ることができるという効果を奏する。
 本願発明によれば、傾斜面を開閉するエアロックバルブを、閉めるときの面圧が、Оリングの設置面(以下、「Оリング面」と称することもある)と垂直になるように駆動させることにより、その駆動力がシールするОリング面に直接かかることになる。そのため、シール性が向上し、フィールドエミッション電子源を使用する従来の走査型電子顕微鏡に比べ、走査型電子顕微鏡としての信頼性が向上する。従って、本願発明によれば上記効果を奏することができる。
 その際、当該エアロックバルブの構造を、傾斜面を開閉するエアロックバルブのОリング面のОリングの内側を凹み穴とし、この凹み穴にはめ込むように円筒状の凸部を設ける構造とすることにより(図5、図6A及びB参照)、Оリング表面への電子ビーム照射を回避することができる。
 さらに、傾斜面を開閉するエアロックバルブにおいて、シールするОリング面で電子線に露出している部分に対して当該電子線を遮蔽するための開閉式の遮蔽板を上記凸部に設けることにより(図6A及びB参照)、Оリング表面を電子ビーム経路から完全に隠すことができ、これにより照射をОリング表面への電子ビーム照射を完全に回避することが可能になる。
 このように、本願発明におけるエアロックバルブは、簡単な構造であるにもかかわらず、Оリングの電子ビーム照射を回避することができ、且つビーム経路への露出も避けることができ、更に中間室(図5、図6A及びBによれば、中間室1)の外に設けることができるので、真空排気負荷の軽減などが可能である。従って、本願発明によれば上記効果を奏することができる。
 また、本願発明におけるエアロックバルブの駆動部は、中間室(図5、図6A及びBによれば、中間室1)の外に設置することができるので、Оリングによる摺動シールを採用することが可能である。これは、従来の方法では、エアロックバルブの駆動シャフトの移動部の真空シールに、高価な真空ベローズ(例えば、溶接ベローや成型ベロー)が必要とされることを考えると、大きなコストダウンになるため、製造コストに優れる。
 7.本願発明によれば、電子源としてフィールドエミッション電子源を使用する走査型電子顕微鏡用の高加速電圧フィールドエミッション電子銃チャンバーとしても使用することが可能という効果を奏する。
 具体的には、本願発明によれば、電子源としてフィールドエミッション電子源を使用する走査型電子顕微鏡用のフィールドエミッション電子銃チャンバーとして、最大加速電圧が15kV以上の加速度(例えば、30~60kVの高加速電圧)でも使用することが可能である。
 本願発明では、フィールドエミッション電子源を使用する、最大加速電圧を15kV以上の30~60kVとする高加速電圧の走査型電子顕微鏡用のフィールドエミッション電子銃チャンバーを考えた場合、最大加速電圧が15kVの場合よりも高圧碍子が大きくなるため、小型の略立方体形状(例えば、略70mm立方のステンレスブロック)の機械加工によって作ることができる、最大加速電圧が15kVの走査型電子顕微鏡用のフィールドエミッション電子銃チャンバーには入らなくなってしまう。このような場合は、本願発明の略立方体形状(キュービック)のフィールドエミッション電子銃チャンバーの上部に、ステンレス製の円筒形電子源室をつなぎ、大型のスパッタイオンポンプ(SIP)を装備することによってこの問題を解決できる。また、予備排気バルブ、真空排気用配管、及びエアロックバルブはそのまま機能するので変える必要はない。側面にあるコンフラット真空フランジ(例えば、規格サイズ:ICF70)の真空チャンバーを高真空に排気するためのスパッタイオンポンプ(SIP)は、上部の円筒形電子源室に付けられた大型スパッタイオンポンプ(SIP)に取って代わるので必要なくなる。そのため、本願発明によれば、高加速電圧の走査型電子顕微鏡用のフィールドエミッション電子銃チャンバーを製作する場合でも、容易に製作することができる。従って、本願発明によれば上記効果を奏することができる。
 このように、本願発明では、予備排気バルブ、真空排気用配管、及びエアロックバルブが備わっている略立方体形状(キュービック)のフィールドエミッション電子銃チャンバーの上方向に高加速電圧に適応した大きさの真空チャンバーを結合することで、高加速電圧フィールドエミッション電子銃チャンバーとしても採用することができる。この場合、チャンバーの大きさに対応してスパッタイオンポンプ(SIP)の大型化が必要になるが、従来のフィールドエミッション電子銃チャンバーで必要とされる外付けの予備排気バルブや配管(パイプ)を無くすことができるので、コンパクトなすっきりした形になる。このように構造が単純化されるので、焼出しベークヒーター、及び磁気シールドなどの外付け構造物の設計が容易になるという効果が得られる。
 8.本願発明によれば、上述のとおり、これまでにない、簡単で小型化可能な構造を有するフィールドエミッション電子銃チャンバーを低コストで提供することができるので、電子銃及び走査型電子顕微鏡の製造コスト削減を図ることができるという効果を奏する。
一般的なフィールドエミッション電子銃チャンバーとその真空排気系部の外観図である。 一般的なフィールドエミッション電子銃チャンバーとその真空排気系部の断面図(概略図)である。 本願発明の一実施態様の正面図と側面図(ともに概略図)である。 本願発明の一実施態様の正面図と側面図(ともに概略図)である。 一般的なフィールドエミッション電子銃チャンバーに設置されるエアロックバルブ(当該バルブのОリング設置面が駆動方向に対して水平のもの)の開閉時の概略図である。 一般的なフィールドエミッション電子銃チャンバーに設置されるエアロックバルブ(当該バルブのОリング設置面が駆動方向に対して5~15°で傾斜しているもの)の開閉時の概略図である。 本願発明の一実施態様であるフィールドエミッション電子銃チャンバーに設置される遮蔽板付きエアロックバルブの開閉時の概略図である。 本願発明の一実施態様であるフィールドエミッション電子銃チャンバーに設置される遮蔽板付きエアロックバルブ部分(すなわち、図5のエアロックバルブ部分)の一実施態様の拡大図(概略図)である。 本願発明の一実施態様であるフィールドエミッション電子銃チャンバーに設置される遮蔽板付きエアロックバルブ部分(すなわち、図5のエアロックバルブ部分)の一実施態様の拡大図(概略図)である。 本願発明の一実施態様である走査型電子顕微鏡の概略図である。 本願発明の一実施態様である走査型電子顕微鏡(すなわち、図7A)の作動時の電子源チャンバーの圧力(P)、中間室の圧力(P)、試料室の圧力(P)の各圧力(単位:Pa)と経過時間(単位:hr)との関係を示すグラフである。 以下の条件下でのLaBをエミッターとして使用するフィールドエミッション電子源の全エミッションプロファイルを示すグラフである(条件:電子源チャンバーの圧力(P)=2.5×10-7Pa、中間室の圧力(P)=1×10-5Pa、試料室の圧力(P)=3×10-3Pa、エアロックバルブは開いた状態である。)。
 以下、本願発明を実施するための形態について詳細に説明する。尚、本願発明は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができることに留意すべきである。なお、図4A及びB、図5では、フィールドエミッション電子銃チャンバーに設置される真空排気系統部(例えば、図3A及びBに示されている、電子源チャンバーを高真空排気するためのイオンポンプや中間室を高真空排気するためのイオンポンプなど)は、便宜上、図示していない。
 本願発明において、「走査型電子顕微鏡用の電子銃チャンバー」(本願では、「フィールドエミッション電子銃チャンバー」とも称する)とは、走査型電子顕微鏡における電子顕微鏡鏡筒部の上に載せる部分の総称である。
 ここで、「電子顕微鏡鏡筒部」とは、走査型電子顕微鏡において装填・設置される、一般的に「集束レンズ」や「対物レンズ」と称される走査型電子顕微鏡用のレンズを備える筒部のことである。
 「走査型電子顕微鏡用の電子銃チャンバー」は、具体的には、走査型電子顕微鏡における、高圧ケーブルと、電子源と、電子源チャンバーと走査型電子顕微鏡の電子顕微鏡鏡筒部との間に設けられる中間室と、当該中間室と当該鏡筒部との間に設置されるエアロックバルブと、を備える部分である。
 ここで、「高圧ケーブル」とは、電子源を構成するカソード電極に高電圧を印加するためのケーブルのことである。
 「電子源」とは、電子線を発生させて加速するもので、具体的には、高圧碍子と、エミッター及びカソード電極からなる部分と、アノード電極(これは一般的に「引出電極」及び「加速電極」と称する)とを備える。その中で、フィールドエミッション電子源とは、真空チャンバー内のカソード電極の先端に設けられたタングステン単結晶などの針先端部に、室温、高真空中(約10-7Pa以上)で高い電界を印可し、強電界で電子を引き出すものである。フィールドエミッション電子源のエミッターとしては、タングステン単結晶のほか、熱電子源としても知られるLaB(例えば、LaBのナノワイヤ)を用いることもできる。仕事関数が低いため電子のトンネル確率が大きく、放出される電流量が多いという点で、LaBを用いることが好ましい。
 「電子源チャンバー」とは、電子源を収容する真空容器のことであるが、本願では、上記高圧ケーブルを含む。
 「フィールドエミッション電子源を脱着する部位」とは、フィールドエミッション電子源を取り付けたり、取り外したりすることができる部分(場所)のことで、一般的には、そのためのフランジを備える。但し、その目的が達成することができるものであれば、特に制限はない。また、電子源は、通常、電子源チャンバー内の上面に取り付ける。
 走査型電子顕微鏡用の電子銃チャンバーを構成する電子源チャンバーと中間室は、電子源から放出される電子線の方向に電子線が通過する、前記電子源チャンバーに隣接して設けられた中間室である。電子源は、通常、電子源チャンバー内の上面に取り付けるので、当該電子源チャンバー内の上面から底面に向かって(すなわち、下方に向かって)電子線が進むことになる。
 中間室は、その上面が電子源チャンバーの底面と隣接して設置されている。中間室内の上面と電子源チャンバー内の底面との間(すなわち、電子チャンバーの仕切り面とそれに隣接する中間室の仕切り面との間)には、電子源から発生する(すなわち、放出される)電子線を通過させるための、一般的に「絞り」または「差動排気用絞り」と呼ばれる孔が設けられている。当該絞りは、直結する空間(部屋)の間で、電子ビームを通し且つ圧力の差を保つための小孔であり、「オリフィス」と呼ばれることもある。
 中間室は、電子源チャンバーと走査型電子顕微鏡の電子顕微鏡鏡筒部との間に設けられる真空室であり、その底面にも、上記電子源をさらに当該鏡筒部に通過させるための絞りが設けられている。
 電子源チャンバー内の真空度(通常、約10-7Paオーダー)と電子顕微鏡鏡筒部内の真空度(通常、10-3Paオーダー)との間には、3~4桁にも及ぶ真空度の差が生じてしまうため、電子源チャンバーと電子顕微鏡鏡筒部の間に小さな空間である中間室を設けて、個別に連なる真空室の真空度の差(すなわち、電子源チャンバーと中間室の間の真空度の差と、中間室と電子顕微鏡鏡筒部の間の真空度の差)が2桁以下となるようにしている。
 また、中間室には、その底面に設けられた絞りを開閉するためのエアロックバルブを設置する。そのため、中間室は、その底面にエアロックバルブの設置部位を持つ。
 エアロックバルブは、通常、フィールドエミッション電子源からの電子線は容易にオン/オフ(on/off)ができず、電子線は常に放出されている。エアロックバルブは、高真空に保たれたフィールドエミッション電子銃チャンバーと当該チャンバーに設置される電子顕微鏡鏡筒部との間にあり、電子顕微鏡の試料交換時に生じる当該電子顕微鏡鏡筒部の真空度低下を実施する時に閉めるという重要な役割を担うバルブである。また、フィールドエミッション電子源を単独で保管や交換する時には、電子源チャンバーと大気圧の間を閉じる重要なバルブとしての役割を担う。
 エアロックバルブの具体例としては、図4AやBに示すものが挙げられる。
 図4Aに示すエアロックバルブは、Oリングシール面が水平面で、バルブシール用Oリングの弁の部分がカムで下に押し下げられてOリング面を真空シール面に押し当てることで閉じる構造を有するバルブである。
 図4Bに示すエアロックバルブは、水平方向の動きによってOリングを真空シール面に押しつけるため、Oリング面は5~15°程度の傾斜した形で水平方向に駆動して弁座に圧力を加える構造を有するバルブである。
 いずれも、開閉時に、フィールドエミッション電子源からの電子線による、エアロックバルブに設置されるOリングの被爆を避けるため、電子源に露出させないようにOリング設置面を下面、シール面を上面とする構造になっている。
 但し、エアロックバルブは、その目的が達成することができるものであれば、図4AやBに示すものに限らない。
 電子源チャンバーと中間室にはそれぞれ、各内部を高真空にするための排気孔を設置する。具体的には、電子源チャンバーと中間室にはそれぞれ、電子源チャンバーと中間室には、高真空排気用のポンプ(例えば、スパッタイオンポンプ(SIP))とつながる高真空排気用ポンプ用排気孔と予備真空排気用ポンプ(例えば、ディフュージョンポンプ(DP)やターボモレキュラーポンプ(TMP))とつながる予備真空排気用ポンプ用排気孔とが設置されている。予備真空排気用ポンプは、高真空排気用のポンプが作動できる真空度まで予備真空排気(粗引き)するために使用するものである。通常、ディフュージョンポンプ(DP)やターボモレキュラーポンプ(TMP)のような予備真空排気用ポンプはさらにロータリーポンプ(RP)へとつなげ、前者を二次真空引き用として使用し、後者を一次真空引きとして使用する。但し、その目的が達成することができるものであれば、特に制限はない。なお、本願では、予備真空排気用ポンプ用排気孔を「予備真空排気孔」と称することもある。
 電子源チャンバーと中間室のそれぞれに設置する予備真空排気用ポンプ用排気孔は、当該電子源チャンバーと当該中間室の連続する面に設置する。つまり、電子源チャンバーの予備真空排気用ポンプ用排気孔と中間室の予備真空排気用ポンプ用排気孔は、同じ面にある。本願では、この面側(すなわち、当該予備真空排気用ポンプ用排気孔が設置されている面)を便宜上、側面と称することもある。
 電子源チャンバーと中間室は、それぞれに設置される予備真空排気用ポンプ用排気孔を直接開閉する開閉手段を有する。当該開閉手段は、予備真空排気用ポンプ用排気孔を直接開閉することによってその目的を達成するものであればよい。
 例えば、電子源チャンバーと中間室の連続する面に円筒状の凹みを作り、その凹みの底面に当該電子源チャンバーへとつながる排気孔と当該中間室へとつながる排気孔とを設け、これら排気孔を電子源チャンバーと中間室の各予備真空排気用ポンプ用排気孔とする。つまり、この凹みは、電子源チャンバーの予備真空排気用ポンプ用排気孔と中間室の予備真空排気用ポンプ用排気孔に跨っている。
 これら予備真空排気用ポンプ用排気孔は、上記円筒状の凹みに嵌合するもの(いわゆる、蓋体)をピストンの摺動に連動してその凹みに直接嵌合させる(すなわち、蓋をする)ことによって閉じ、取り外す(すなわち、蓋を外す)ことによって開ける。このような開閉手段によって予備真空排気用ポンプ用排気孔を直接開閉する。蓋体で蓋をする方法や取り外す方法は、その目的を達成できるものであれば、押圧によるパッキングによるものや噛み合わせによるもの等でもよく、特に制限はない。本願では、このような予備真空排気用ポンプ用排気孔の開閉を蓋体の押し付けと開放とも称する。
 上記例として、より具体的には以下のようなものが挙げられる。
 電子源チャンバーと中間室の連続する背面をフランジ面とし、その中に穴(凹み)を施し、その底面に当該電子源チャンバーへとつながる排気孔と当該中間室へとつながる排気孔とを設ける。これら排気孔を電子源チャンバーと中間室の各予備真空排気用ポンプ用排気孔とする。これら2つの予備真空排気用ポンプ用排気孔は、当該排気孔を開閉するOリングシールをバルブシールとして取り付けたピストン構造を有するフランジで開閉する。ピストンの摺動に合わせて前後に駆動する前記バルブシール部は、上記穴(凹み)の底面をシール面、側面をガイドとする構造である。また、Oリングシールとして、バイトンOリングや耐熱性樹脂のポリイミドシートなどが挙げられる。
 このように、予備真空排気用ポンプ用排気孔を直接開閉する開閉手段は、前記2つの予備真空排気用ポンプ用排気孔に対して直接、蓋(シール)をするものである。そして、この蓋(シール)は、シリンダーとピストン機構のピストン頭頂部の円形平面(いわゆるディスク)と、この円形平面(ディスク)の端ぎりぎり(すなわち、末端)に溝を円形に一周するように設けてOリングを保持する、いわゆるディスクとOリングが一体となった1つのもの(すなわち、蓋体)である。そのため、本願発明における予備真空排気用ポンプ用排気孔を直接開閉する開閉手段は、前記2つの予備真空排気用ポンプ用排気孔の開閉に対して非常に簡単な構造を有するものである。
 予備真空排気用ポンプ用排気孔を直接開閉する開閉手段は、上記例のように、電子源チャンバーと中間室の各予備真空排気用ポンプ用排気孔を同時に開閉する構造とすることができる。つまり、前記2つの予備真空排気用ポンプ用排気孔を同時に同一の1つの蓋体で直接開閉することができる。しかしながら、これを別途に行う構造にしてもよい。この場合、前記2つの予備真空排気用ポンプ用排気孔を別々の蓋体で直接開閉すればよい。上記例を使用すると、電子源チャンバーの背面をフランジ面とし、その中に穴(凹み)を施し、その底面に当該電子源チャンバーへとつながる排気孔(すなわち、予備真空排気用ポンプ用排気孔)を設け、中間室の背面にも同様にしてその底面に当該中間室へとつながる排気孔(予備真空排気用ポンプ用排気孔)を別に設け、それぞれ個別に、当該排気孔を開閉するOリングシールをバルブシールとして取り付けたピストン構造を有するフランジで開閉すればよい。つまり、前記2つの予備真空排気用ポンプ用排気孔を、それぞれ異なる蓋体で直接開閉すればよい。
 本願発明において、走査型電子顕微鏡用の電子銃チャンバーを構成する前記電子源チャンバー及び前記中間室は、小型の略立方体形状の同一ステンレスブロック(塊)に対して、溶接加工をせずに穴加工だけで製作してもよい。この場合、本願発明の走査型電子顕微鏡用の電子銃チャンバーは略立方体形状を有する。ベーク用の加熱ヒーターとしてカートリッジヒーターを取り付けてもよい。
 電子源チャンバーと中間室の各々に設置される真空排気用ポンプ用排気孔は、本願発明の目的を達成できる限り、どの位置(場所)に設置してもよいが、内部の効率的な高真空排気やコンパクトな構造設計等の観点から、互いに左右対称となる位置に設置することが好ましい。
 本願発明においては、前記中間室と前記電子顕微鏡鏡筒部の間に更に別の中間室を設けてもよい。便宜上、本願では、前記中間室を第一中間室、別に設けられる中間室を第二中間室と称する。
 この場合、走査型電子顕微鏡用の電子銃チャンバーは、具体的には、走査型電子顕微鏡における、電子源(高圧ケーブルも含む)と、電子源チャンバーと、電子源チャンバーと走査型電子顕微鏡の電子顕微鏡鏡筒部との間に設けられる、当該電子源チャンバーに隣接する第一中間室及び当該第一中間室に隣接する第二中間室と、当該第二中間室と当該鏡筒部との間に設置されるエアロックバルブと、を備える部分である。
 走査型電子顕微鏡用の電子銃チャンバーを構成する、電子源チャンバーと第一中間室と第二中間室は、電子源から放出される電子線の方向に電子線が通過する、電子源チャンバーに隣接して設けられた第一中間室、及び前記第一中間室の下方に隣接する第二中間室である。電子源は、通常、電子源チャンバー内の上面に取り付けるので、当該電子源チャンバー内の上面から底面に向かって(すなわち、下方に向かって)電子線が進むことになる。
 第一中間室は、その上面が電子源チャンバーの底面と隣接して設置されている。第一中間室内の上面と電子源チャンバー内の底面との間(すなわち、電子チャンバーの仕切り面とそれに隣接する中間室の仕切り面との間)、並びに、第二中間室内の上面と第一中間室内の底面との間(すなわち、第一中間室の仕切り面とそれに隣接する第二中間室の仕切り面との間)には、電子源から発生する(すなわち、放出される)電子線を通過させるための絞りが設けられている。
 第二中間室はエアロックバルブの設置部位を持つ。
 第二中間室には、中間室1の下部との間に設けられた絞りを中心とする円筒状の小径の貫通孔を、第二中間室の上面から底面にかけて設ける。但し、この貫通孔は、第二中間室の上面に隣接する第一中間室底面は貫通しないが、第二中間室の底面は貫通するように設けられている。つまり、上記貫通孔は、第一中間室と第二中間室との間の仕切り面を貫通するものではないが、第二中間室に設置する電子顕微鏡鏡筒部との間の仕切り面は貫通している。また、上記貫通孔は、エアロックバルブにも、第二中間室に設置するエアロックバルブを設置し、開いた状態でのみ電子線がエアロックバルブ内を通過するように貫通孔を設ける。
 貫通孔の大きさは、電子線の通過路としての機能を発揮でき、本願発明の目的と達成できる大きさであればよい。
 エアロックバルブは、それを構成するОリングを設置する面(すなわち、Оリング面)が、第一中間室と第二中間室の隣接面(仕切り面)に対して60°以上80°以下の傾斜軸で上向きに傾斜している。つまり、設置したエアロックバルブが駆動して前後方向に動く際の面方向に対して垂直方向の面から60°以上80°以下の傾斜軸で上向きに傾斜している。
 このように大きく上向きに傾斜したОリング面シール面と、Оリング面の内側に凹み穴を作り、この凹み部に嵌め込む凸部をシール用Оリングの内側に設け、嵌め込みとする。この凸部は、通常、円筒状(上方に延伸する略円柱形)である。エアロックバルブに設けられる上記貫通孔は、この凸部に作られることになる。
 このような構造を有しているので、エアロックバルブを設置したときに、Оリングは中央部の凸部の陰になり、これにより、Оリング表面は、エアロックバルブが開いた状態でも、電子線が直接当たることがない。
 エアロックバルブはこのような構造を有するので、設置するエアロックバルブ自体は真空にする第一中間室の外に置くことになる。そのため、従来のような室内にエアロックバルブを備えた中間室を真空排気する場合に比べ、中間室の真空排気の負荷は非常に小さい。
 また、エアロックバルブの駆動は、凸部を傾斜軸に対して垂直方向へスライドさせることになるので、駆動軸とОリングシール面が垂直となり、駆動力が直接Оリングシール面にかかる。そのため、エアロックバルブは従来のものよりも簡単な構造といえる。
 上述のとおり、エアロックバルブを開く時は、電子線はОリング内の凸部の円筒状の貫通孔を通るので、Оリングに散乱した電子線が当たることは略避けられる。但し、その構造上厳密には、エアロックバルブを開く時にОリング表面の一部が上記貫通孔に直接露出するため、その露出部分は電子線経路に露出することになる。そこで、エアロックバルブにおいて、完全にОリング面を電子線経路に露出しない状態にするために、その露出部分に対応する箇所に開閉型の遮閉板を凸部に設置してもよい。例えば、図5、図6A及びBに示す構造が挙げられる。
 フィールドエミッション電子銃チャンバーを構成する従来のエアロックバルブは、開閉時に、フィールドエミッション電子源からの電子線による、エアロックバルブに設置されるOリングの被爆を避けるため、電子源に露出させないようにOリング設置面を下面、シール面を上面とする構造になっている(図4AとB参照)。このため、従来のエアロックバルブは、中間室内に設けられている。その開閉は水平方向から出し入れされるシャフトにより開閉駆動される。水平方向の動きによってOリングを真空シール面に押しつけるため、図4Bに示すとおり、Oリング面は5~15°程度の傾斜した形で水平方向に駆動して弁座に圧力を加える構造になっている。或いは、図4Aに示すとおり、Oリングシール面が水平面で、バルブシール用Oリングの弁の部分がカムで下に押し下げられてOリング面を真空シール面に押し当てることで閉じることになる構造である。駆動部とシール面がほぼ90°の角度を持つため、複雑な構造となる。この構造ではエアロックバルブ及び駆動部が内部を真空にする中間室内に設置されることになるため、構造が複雑で、中間室の真空排気の負荷が大きい。
 しかし、第二中間室に設置するエアロックバルブは、上述のとおりの構造を有するため、従来のエアロックバルブを使用するフィールドエミッション電子銃チャンバーで生じる上記課題を解決することができる。
 本願発明の走査型電子顕微鏡用の電子銃チャンバーは、それを用いて電子銃又は走査電子顕微鏡としてもよい。
 次に、実施例を挙げて本願発明の実施の形態をより具体的に説明するが、本実施の形態はその要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。
 <実施態様1>
 本願発明のフィールドエミッション電子銃チャンバーの一実施態様の構造を正面図と側面図にして図3Aに示す。
 図3Aの正面図は、エアロックバルブ3を閉じた状態を示す。また、図3Aの側面図は、エアロックバルブ3及び予備排気バルブ(粗引バルブ)6を矢印方向にスライドさせることによって開閉させることを示す。
 [フィールドエミッション電子銃チャンバーの構造]
 本実施態様1のフィールドエミッション電子銃チャンバーは、図3Aに示すとおり、電子源チャンバー2、中間室1、エアロックバルブ3、及び予備排気バルブ(粗引バルブ)6を一体のブロック(特に、略立方体形状を有する一体のブロック)で構成することを特徴とする。そのため、本実施態様1のフィールドエミッション電子銃チャンバーは、略立方体形状(キュービック)を有することが可能である。なお、予備排気バルブ(粗引バルブ)6は、別途に設けられた粗引き用の真空排気用配管5とつながっている。
 ここで、寸法としては、例えば、コンフラット真空フランジ(規格サイズ:ICF70)の寸法を規準とし、70mm立方を基本とする。立方体の上半分に、直径(φ)40mm×長さ(L)35mmの穴を設け、電子源チャンバー2とし、その下に、直径(φ)7mm×長さ(L)20mm程度の筒状の空間を設け、高真空に排気する中間室1とする。円筒形の中間室1の上面と底面には、直径(φ)0.5mm~直径(φ)1mmの絞り(すなわち、差動排気用絞り)を設ける。当該絞りは、直結する空間(部屋)の間で、電子ビームを通し且つ圧力の差を保つための小孔であり、「オリフィス」と称することもある。
 本実施態様1のフィールドエミッション電子銃チャンバーの上面、背面、左右面の4面は、コンフラット真空フランジ(規格サイズ:ICF70)のフランジ面とする。上面には電子源を設置する。具体的には、上面は電子源を構成する高圧碍子とカソード電極を結合することになる。
 背面は、図3Aの側面図に示すとおり、電子源チャンバー2と中間室1のそれぞれに外部へ通じる孔(すなわち、排気孔)を設け、電子源チャンバー2と中間室1の各内部を真空排気する構造、いわゆる「真空排気用バルブ構造」とする。
 背面のコンフラット真空フランジ(規格サイズ:ICF70)には、この2つの孔(すなわち、電子源チャンバー2と中間室1に設けられた各排気孔)を開閉するOリングを付けたピストン状のフランジを設け、予備排気バルブ6を構成する。
 左右のコンフラット真空フランジ(規格サイズ:ICF70)のフランジ面には、図3Aの正面図に示すとおり、2つのイオンポンプがそれぞれ、電子銃室2と中間室1とつながっており、これにより各内部の高真空排気を行う。
 エアロックバルブ3は、図3Aに示すとおり、中間室1の底面に設ける。エアロックバルブ3は、電子源チャンバー2と中間室1部分の真空を、走査電子顕微鏡を使用する際にフィールドエミッション電子銃チャンバーと設置する電子顕微鏡鏡筒部内の真空から真空隔離するためのバルブであり、これにより、各真空室を真空隔離するとともに、像観察する時のみ、そのバルブを開くことによって中間室1の底面に設けられた上記差動排気用絞りに電子線を通ずる。
 エアロックバルブ3は、図3Aのように中間室1の底面に設ける。
 エアロックバルブは、フィールドエミッション電子銃チャンバーにおいて次のような重要な役割を担っている。
 通常、フィールドエミッション電子源からの電子線は容易にオン/オフ(on/off)ができず、電子線は常に放出されている。エアロックバルブは、高真空に保たれたフィールドエミッション電子銃チャンバーと当該チャンバーに設置される電子顕微鏡鏡筒部との間にあり、電子顕微鏡の試料交換時に生じる当該電子顕微鏡鏡筒部の真空度低下を実施する時に閉めるという重要な役割を担っている。また、フィールドエミッション電子源を単独で保管や交換する時には、電子源チャンバーと大気圧の間を閉じる重要なバルブとしての役割を担っている。
 図3Aに示すエアロックバルブ3の具体的実施態様を、図4AとBに示す。但し、当該エアロックバルブ3は、上記役割を果たすものであればよく、これらに制限されるものではない。
 図4Aは、水平方向の動きによってOリングを真空シール面に押しつけるため、Oリングシール面が水平面で、バルブシール用Oリングの弁の部分がカムで下に押し下げられてOリング面を真空シール面に押し当てることで閉じることになる構造である。
 図4Bは、Oリング面は5~15°程度の傾斜した形で水平方向に駆動して弁座に圧力を加える構造になっている。
 いずれも、これらの図に示すとおり、フィールドエミッション電子銃チャンバーを構成する従来のエアロックバルブは、開閉時に、フィールドエミッション電子源からの電子線による、エアロックバルブに設置されるOリングの被爆を避けるため、電子源に露出させないようにOリング設置面を下面、シール面を上面とする構造になっている。このため、従来のエアロックバルブは、中間室内に設けられる。その開閉は水平方向から出し入れされるシャフトにより開閉駆動される。
 中間室1は、上述のとおり、エアロックバルブ3により、走査電子顕微鏡を使用する際にフィールドエミッション電子銃チャンバーと接続する電子顕微鏡鏡筒部の真空と隔離される。つまり、フィールドエミッション電子銃チャンバーに電子顕微鏡鏡筒部を接続して走査電子顕微鏡として使用する場合、エアロックバルブ3の設置面(換言すると、中間室1の底面)の下は、真空室になっている。略立方体形状(キュービック)のフィールドエミッション電子銃チャンバーの底面には、電子顕微鏡鏡筒部との接続のため、バイトンOリングによる接続ができる構造が用意されている。
 [予備排気バルブ(粗引バルブ)6の構造]
 以上のとおりであるから、図3Aに示す、本願発明のフィールドエミッション電子銃チャンバーは、電子源チャンバー2、中間室1、エアロックバルブ3、及び予備排気バルブ(粗引バルブ)6を一体のブロックで構成することを特徴とするものであり、この特徴は主として、図3Aの側面図に示される、当該フィールドエミッション電子銃チャンバーを構成する予備排気バルブ(粗引バルブ)6を使用することによりもたらされる。この予備排気バルブ(粗引バルブ)6は、フィールドエミッション電子銃チャンバーの予備排気バルブ(粗引バルブ)としてこれまでに使用されたことがなかったものである。
 そこで、この図3Aの側面図に示される、予備排気バルブ(粗引バルブ)6の構造についてさらに詳述する。
 予備排気バルブ(粗引バルブ)6は、電子源チャンバー2と中間室1の真空経路(具体的には、粗引き経路)を確保し、各内部の真空を調整する。
 フィールドエミッション電子銃チャンバーの背面は、コンフラット真空フランジ(例えば、規格サイズ:ICF70)のフランジ面となっていて、その中には直径(φ)36mm×長さ(L)12mmの穴(凹み)が設けられている。この穴(凹み)の底面に、電子源チャンバー2につながる排気孔と中間室1につながる排気孔とを設ける。これら2つの排気孔は、当該排気孔を開閉するOリングシールをバルブシールとして取り付けたピストン構造を有するフランジ(これを本願では「バルブシール部」とも称する)で開閉する。ピストンの摺動に合わせて前後に駆動する前記バルブシール部は、上記穴(凹み)の底面をシール面、側面をガイドとする構造である。このようにして、本実施態様1における真空バルブ(すなわち、図3Aの側面図の予備排気バルブ6)は構成されている。この真空バルブはベーク時(真空ベーク時)には開く。具体的には、真空ベーク時は、前記バルブシールは後方に移動し、これにより前記2つの排気孔が、別途設けられた真空排気用配管5(真空排気)につながる構成(図3Aの側面図に示す、予備排気バルブ6と真空排気用配管5)とすることにより、電子源チャンバー2と中間室1の内部は粗引きされる。真空排気用配管5による真空排気方法は、図1や2で既述した従来技術を適用すればよい。
 なお、Oリングシールとして、バイトンOリングを使用するが、構造上、Oリングの代わりに耐熱性樹脂のポリイミドシートを使用することも可能である。
 このように、予備排気バルブ(粗引バルブ)6は、前記2つの排気孔に対してシール・蓋をする部分が、いわゆる一つのディスク/Oリングで閉める簡単な構造となっている。つまり、一つの弁構造で開閉できる簡単な構造となっている。
 また、本実施態様1では、2つの予備排気バルブの開閉を同時に行う構成となっているので、粗引き手段としてより合理的である。
 以上より、従来のフィールフィールドエミッション電子銃チャンバー(図1及び2を参照)と比較すると、従来のものは、粗引き経路を確保するために2つの予備排気バルブ(粗引バルブ)とそれをつなぐ複雑な真空排気用配管を備えるため、全体として大型になるが、本実施態様1における略立方体形状(キュービック)を有するフィールフィールドエミッション電子銃チャンバーは、その予備排気バルブとして上述する予備排気バルブ(粗引バルブ)6を使用することにより、粗引き経路とバルブとチャンバーがその内部に略収まる構造になり、全体としてコンパクトで小型になる。
 また、本実施態様1では、上述のとおり、従来2つの予備排気バルブに相当する予備排気バルブが1つで済み、しかも、当該予備バルブは、前記2つの排気孔に対してシール・蓋をする部分が、一つのディスク/Oリングで閉める簡単な構造で、さらに、従来別々に行っていた2つの予備排気バルブの開閉が同時に行える構成でもあるので粗引き手段としてより合理的である。
 <実施態様2>
 本願発明のフィールドエミッション電子銃チャンバーの別の一実施態様の構造を正面図と側面図にして図3Bに示す。なお、本実施態様における構成に関し、ここで特に記載や示唆のない構成であって実施態様1で述べたものについては、本実施態様でも同様に適用される。
 [フィールドエミッション電子銃チャンバーの構造]
 図3Bに示す本実施態様2のフィールドエミッション電子銃チャンバーは、実施態様1(図3A)と比較すると、当該チャンバーを構成するエアロックバルブ3の構造及び配置手段、並びにそれに伴い真空排気系統部の一部が異なる以外は、全て同じである。
 図3Bの正面図は、エアロックバルブ3を閉じた状態を示す。また、図3Bの側面図は、エアロックバルブ3を開けた状態を示し、当該エアロックバルブ及び予備排気バルブ(粗引バルブ)6は矢印方向にスライドさせることによって開閉させることを示す。
 また、図3Bに示すエアロックバルブ3の構造及び配置手段に関する具体的な実施態様は、図5、図6A及びBに詳細に示す。この点については後述する。
 図3Bに示す本実施態様2のフィールドエミッション電子銃チャンバーでは、図3Aに示す本実施態様2とは異なり、中間室1(本願では、第一中間室と称することもある)にはエアロックバルブ3が無い。中間室1の底面に隣接する別の中間室1’(本願では、第二中間室と称することもある。)に設置する。フィールドエミッション電子銃チャンバーにおける、電子源チャンバー2、中間室1、エアロックバルブ3、及び中間室1’の各構成の概略は、図5に示すとおりである。
 本実施態様2のフィールドエミッション電子銃チャンバーに関し、寸法として、実施態様1と同様、例えば、コンフラット真空フランジ(規格サイズ:ICF70)の寸法を規準とし、70mm立方を基本とする。立方体の上半分に、直径(φ)40mm×長さ(L)35mmの穴を設け、電子源チャンバー2とし、その下に、直径(φ)7mm×長さ(L)20mm程度の筒状の空間を設け、高真空に排気する中間室1とする。円筒形の中間室1の上面と底面には、直径(φ)0.5mm~直径(φ)1mmの絞り(すなわち、差動排気用絞り)を設ける。
 中間室1’の上面には、中間室1の下部との間に設けられた差動排気用絞り(直径(φ)0.5mm~直径(φ)1mmの絞り)を設け、さらにその差動排気用絞りを中心とする直径(φ)が1.5mm~2mmの小さな円筒状の貫通孔を、中間室1’の上面から底面にかけて設ける(但し、この貫通孔は、中間室1’の上面に隣接する中間室1の底面は貫通しないが、中間室1’の底面は貫通するように設けられている。)。これを電子線の通過路とする。その際、中間室1’内に設置するエアロックバルブ3のシール面も貫通するように設ける(この状態は、図5、図6A及びBに示す開いた状態になる。)。
 エアロックバルブ3には、バイトンゴムОリングを使用する。200℃のベーク時は開いているのでベーキング加熱によるОリングの変形は避けられる。
 エアロックバルブ3のシール面は、光軸垂直面(具体的には、エアロックバルブ3が駆動して前後方向に動く際の面方向に対して垂直方向の面)から75°と大きく上向きに傾斜した面となっている。この角度に沿って正面に取付けた駆動部により、エアロックバルブ3は開閉される。中間室1’の外側の底面(すなわち、本実施態様2の(略立方体形状(キュービック)の)フィールドエミッション電子銃チャンバーの外側の底面)は、フランジ構造によって電子顕微鏡鏡筒部と接続する構造になっている。
 本実施態様2のフィールドエミッション電子銃チャンバーでも、実施態様1と同様の予備排気バルブ(粗引バルブ)6を使用するが、中間室1とは別に中間室1’を備えるため、真空排気系統部が一部異なる。具体的には、エアロックバルブ3を設置する中間室1’は、図3Bの側面図に示すとおり、その背面の予備排気バルブ6(すなわち、電子源チャンバー2と中間室1の粗引き経路を確保し、各内部の真空を調整するバルブ)と接続する構造を有していて、別途に設けられた予備真空排気管(真空排気用配管5)接続フランジにつながっている。
 本実施態様2でも、実施態様1(図3A)と同様、そのフィールドエミッション電子銃チャンバーの背面は、コンフラット真空フランジ(例えば、規格サイズ:ICF70)のフランジ面となっていて、その中には直径(φ)36mm×長さ(L)12mmの穴(凹み)が設けられている。この穴(凹み)の底面に、電子源チャンバー2につながる排気孔と中間室1につながる排気孔とを設ける。これら2つの排気孔は、当該排気孔を開閉するOリングシールをバルブシールとして取り付けたピストン構造を有するフランジ(これを本願では「バルブシール部」とも称する)で開閉する。ピストンの摺動に合わせて前後に駆動する前記バルブシール部は、上記穴(凹み)の底面をシール面、側面をガイドとする構造である。このようにして、本実施態様2における真空バルブ(具体的には、予備排気バルブ6)は構成されている。この真空バルブはベーク時(真空ベーク時)には開く。ここで、本実施態様2では、図3Bの側面図に示すとおり、真空ベーク時に前記バルブシールが後方に移動すると、前記2つの排気孔が、エアロックバルブ3が設置される中間室1’に設けられた粗引き経路を確保するための予備真空排気孔(すなわち、図3Bの側面図に示す、直径(φ)36mm×長さ(L)12mmの穴(凹み)の下の側面に設けられた予備真空排気孔)につながる。この予備真空排気孔は、別途設けられた真空排気用配管5(真空排気)につながっているので、その粗引きにより、電子源チャンバー2と中間室1に加えて中間室1’の内部も真空排気される。
 このように、本実施態様2は、実施態様1(図3A)と比較すると、当該チャンバーを構成するエアロックバルブ3の構造及び配置手段、並びにそれに伴い真空排気系統部の一部が異なる。
 しかしながら、従来のフィールフィールドエミッション電子銃チャンバー(図1及び2を参照)と比較すると、本実施態様2も、実施態様1と同様の予備排気バルブ(粗引バルブ)6を使用するため、粗引き経路とバルブとチャンバーが、その内部に略収まる構造になり、全体としてコンパクトで小型になる。
 また、本実施態様2でも、実施態様1と同様、従来2つの予備排気バルブに相当する予備排気バルブが1つで済み、しかも、当該予備バルブは、前記2つの排気孔に対してシール・蓋をする部分が、一つのディスク/Oリングで閉める簡単な構造で、さらに、従来別々に行っていた2つの予備排気バルブの開閉が同時に行える構成でもあるので粗引き手段としてより合理的である。
 <実施態様3>
 本願発明のフィールドエミッション電子銃チャンバーの別の一実施態様の構造を正面図と側面図にして図5、図6A及びBに示す。なお、本実施態様における構成に関し、ここで特に記載や示唆のない構成であって実施態様1や2で述べたものについては、本実施態様でも同様に適用される。
 [フィールドエミッション電子銃チャンバーの構造]
 本実施態様3のフィールドエミッション電子銃チャンバーは、図5、図6A及びBに示すとおり、実施態様2(図3B参照)と同様、電子源チャンバー2、中間室1、エアロックバルブ3、及び中間室1’を用いて構成することを特徴とする。ここで、予備排気バルブ(粗引バルブ)には、図3Bの側面図に示す、実施態様2と同様の予備排気バルブ(粗引バルブ)6を用いるのが好ましいが、図1及び図2に示す従来の予備排気バルブ(粗引バルブ)6を用いることもできる。但し、図1及び図2に示す従来の予備排気バルブ(粗引バルブ)6を用いる場合、エアロックバルブ3が設置される中間室1’に設けられた粗引き経路を確保するための予備真空排気孔(すなわち、図3Bの側面図に示す、直径(φ)36mm×長さ(L)12mmの穴(凹み)の下の側面に設けられた予備真空排気孔)は、図1及び図2において別途設けられている真空排気用配管5(真空排気)につなげ、その粗引きにより、電子源チャンバー2と中間室1に加えて中間室1’の内部も真空排気されることになる。
 [エアロックバルブ3の構造及び配置手段]
 本実施態様3のフィールドエミッション電子銃チャンバーを構成するエアロックバルブ3は、図5、図6A及びBに示すように、中間室1’内 に設置する。具体的には、中間室1の底面と隣接し、フィールドエミッション電子銃チャンバーに設置する電子顕微鏡鏡筒部との間の中間室1’内に設置する。
 本実施態様3のフィールドエミッション電子銃チャンバーに関し、寸法として、実施態様1と同様、例えば、コンフラット真空フランジ(規格サイズ:ICF70)の寸法を規準とし、70mm立方を基本とする。立方体の上半分に、直径(φ)40mm×長さ(L)35mmの穴を設け、電子源チャンバー2とし、その下に、直径(φ)7mm×長さ(L)20mm程度の筒状の空間を設け、高真空に排気する中間室1とする。円筒形の中間室1の上面と底面には、直径(φ)0.5mm~直径(φ)1mmの絞り(すなわち、差動排気用絞り)を設ける。
 中間室1’の上面には、中間室1の下部との間に設けられた差動排気用絞り(直径(φ)0.5mm~直径(φ)1mmの絞り)を設け、さらにその差動排気用絞りを中心とする直径(φ)が1.5mm~2mmの小さな円筒状の貫通孔を、中間室1’の上面から底面にかけて設ける(但し、この貫通孔は、中間室1’の上面に隣接する中間室1の底面は貫通しないが、中間室1’の底面は貫通するように設けられている。)。これを電子線の通過路とする。その際、中間室1’内に設置するエアロックバルブ3のシール面も貫通するように設ける(この状態は、図5、図6A及びBに示す開いた状態になる。)。
 このエアロックバルブ3に設置するОリングの設置面(Оリング面)は、光軸垂直面から75°と大きく上向きに傾斜している。Оリングは上面になり電子ビームの照射を受ける恐れがあるが、75°と大きく上向きに傾斜したОリングシール面と、Оリング面の内側に凹み穴を作り、この凹み部に嵌め込む円筒状の凸部をシール用Оリングの内側に設け、嵌め込みとする。そのため、エアロックバルブ3の上記貫通孔は、図5、図6A及びBに示すとおり、この凸部に作られることになる。Оリングは中央部の凸部の陰になり、これにより、当該図に記載の遮蔽板を取り付けていない状態でも、Оリング表面は電子線が直接当たることのない構造になっている。
 エアロックバルブ3はこのような構造を有するので、エアロックバルブ3自体は真空にする中間室1の外に置くことになる。そのため、従来のように室内にエアロックバルブ3を備えた中間室を真空排気する場合に比べ、中間室の真空排気の負荷は非常に小さくなる。
 また、駆動軸とОリングシール面が垂直となり、駆動力が直接Оリングシール面にかかり、エアロックバルブの構造は簡単になる。
 エアロックバルブ3を開く時は、電子線はОリング内の凸部の円筒状の貫通孔を通るので、Оリングに散乱した電子線が当たることは略避けられる。但し、図5、図6A及びBに示すとおり、当該図の遮蔽板を取り付けていない状態では、構造上厳密には、Оリング表面の一部は上記貫通孔に露出する。つまり、その露出部分は、電子線経路に露出することになる。この状態を避けることを所望する場合には、図5、図6A及びBに示すとおり、凸部に開閉型の遮閉板を設けることで、完全にОリング面を電子線経路に露出しない状態にすることができる。具体的には、例えば、図6A及びBに示す構造の遮蔽板を設けることができる。図6Aではそこに示すとおり、板バネ付きの遮蔽板を、電子線が貫通孔を通り抜けていく(すなわち、開いた状態)際に、貫通孔に露出しているОリング表面を完全に遮蔽するように中間室1’内の貫通孔の内側面に設置し、電子線の通り抜けを遮断する(すなわち、閉じた状態)際に、板バネの接合部を支点に屈曲して貫通孔を塞ぐように倒れる簡単な構造となっている。図6Bではそこに示すとおり、遮蔽板を、電子線が貫通孔を通り抜けていく(すなわち、開いた状態)際に、貫通孔に露出しているОリング表面を完全に遮蔽するように凸部に設置し、電子線の通り抜けを遮断する(すなわち、閉じた状態)際に、凸部内の貫通孔を塞ぐように凸部内部に仕舞い込む構造となっている。
 但し、これらの遮蔽板の構造は例示であり、遮蔽板としては、上記遮蔽の目的が達成することができ、また、本願発明の目的を達成できるものであれば、その構造や設置方法に特に制限はない。
 本実施態様3のフィールドエミッション電子銃チャンバーを構成するエアロックバルブ3は、Оリングへの直接の電子線照射を避けることができ、しかも電子線経路への露出も避けられ、そのうえ、中間室1の外に設けられるので、本実施態様3のフィールドエミッション電子銃チャンバーを簡単な構造にすることができ、また、真空排気負荷を大きく軽減するなどの大きな長所を有する。
 また、バルブ駆動シャフトの移動部の真空シールには、従来高価な真空ベローズ(溶接ベロー、成型ベロー)が必要とされたが、本実施態様のエアロックバルブ3の駆動部は、真空にする中間室1の外に設けられるので、大きなコストダウンとなる。
 また、本実施態様3のフィールドエミッション電子銃チャンバーを構成するエアロックバルブ3は、当該エアロックバルブを備える中間室1’に設置する電子顕微鏡鏡筒部を真空にするための摺動シールとしてОリングの採用も可能であるので、大きなコストダウンとなる。
 <実施態様4>
 本願発明のフィールドエミッション電子銃チャンバーを含む走査型電子顕微鏡の一実施態様の構造の概略図を図7Aに示す。ここでは、本願発明のフィールドエミッション電子銃チャンバーとして実施態様2のフィールドエミッション電子銃チャンバーを使用するため、図7Aにおける、フィールドエミッション電子銃チャンバーの概要は、図3Bに記載されているとおりである。つまり、図7Aにおいて、フィールドエミッション電子銃チャンバーを構成する、電子源チャンバー2、中間室1、エアロックバルブ3、IP(すなわち、イオンポンプ)はそれぞれ、図3における、電子源チャンバー2、中間室1、エアロックバルブ3、IPに対応している。
 なお、図7Aでは、便宜上、エアロックバルブ3や電子顕微鏡鏡筒部7を簡略化しているが、その具体的な構造や配置は、図5、図6A及びBに記載されているとおりである。つまり、図5、図6A及びBに記載されているとおり、実際には、中間室1の底面に隣接する中間室1’にエアロックバルブ3が設置され、さらに中間室1’とフランジによって電子顕微鏡鏡筒部7が接続されている。
 図7Aに示すとおり、走査型電子顕微鏡は、フィールドエミッション電子銃チャンバーを載せた電子顕微鏡鏡筒部7を試料室10と接続させることによって構成される。なお、図示はしていないが、試料室10にはリークバルブ(すなわち、真空バルブ)が取り付けられている。
 この場合、フィールドエミッション電子源から放出される電子線は、電子源チャンバー2の底面と中間室1の上面との間に設けられたオリフィスと、中間室1の底面に設けられた差動排気用絞りと、中間室1の底面に隣接する、エアロックバルブ3が設置されている中間室1’に設けられた電子線の通過路を、エアロックバルブ3が開いた状態で、通過し、さらに中間室1’とフランジによって接続されている電子顕微鏡鏡筒部内部を通り抜けて試料室10に設置された試料台11の試料へ到達する。この概略が、図7Aにおいて破線で示されている。
 図7Aに示すとおり、電子源チャンバー2の圧力はP、中間室1の圧力はP、試料室10の圧力はPで表記されている。
 また、フィールドエミッション電子源のエミッターとしては、LaBをエミッターとして使用する。
 図7Bは、本願発明の一実施態様である走査型電子顕微鏡(すなわち、図7A)を作動させたときの電子源チャンバー2の圧力(P)、中間室1の圧力(P)、試料室10の圧力(P)の各圧力(単位:Pa)と経過時間(単位:hr)との関係を示すグラフである。
 電子源チャンバー2の圧力(P)と中間室1の圧力(P)は、同じ真空計(Gamma Vacuum社製のTiTan 5s ion pump)を使用し、自家製電源による動作電流を測定し、イオンポンプ電流(単位:nA)と圧力(単位:Pa)の関係を示すGamma Vacuum社製の換算表を使用して決定した。図7Bでは、電子源チャンバー2の圧力(P)と中間室1の圧力(P)に関し、測定されるイオンポンプ電流(単位:nA)が左軸に表記され、当該電流から上記換算表を使用して得られた主要な圧力(単位:Pa)が右軸に表記されている。
 試料室10の圧力(P)は、広範囲の真空計(Pfeiffer Vacuum製のPKR251)を使用し、ゲージコントローラーのDCU(ドージングコントロールユニット)から直接読み取ることによって測定した。
 また、図7Bにおける(a)~(d)の時点は、以下を示す。
 (a)の時点:エアロックバルブ3を開いた時点、
 (b)の時点:エアロックバルブ3を閉じた時点、
 (c)の時点:試料交換を完了して試料室10の真空引きを開始した時点、
 (d)の時点:エアロックバルブ3を再び開いた時点。
 図7Bの結果は以下のことを示す。
 [1] (a)の時点は、エアロックバルブ3を開いた時点を示す。試料室10の圧力(P)は10-3オーダーで、試料室10の圧力(P)と電子源チャンバー2の圧力(P)との真空度の差が3桁以上あり、また、電子源チャンバー2の圧力(P)と中間室1の圧力(P)の真空度の差も2桁以下である。そのため、走査型電子顕微鏡(特に、LaBをフィールドエミッション電子源のエミッターとして使用する走査型電子顕微鏡)で要求される作動排気を満たす。
 [2] (a)の時点から(b)の時点までの期間は、エアロックバルブ3を開いてから閉じるまでの期間を示す。エアロックバルブ3を開くと電子源チャンバー2の圧力(P)はいったん急激に上がるために真空度は下がるものの約3×10-7Pa以上の真空度にはならない。つまり、上記期間において、真空度を約3×10-7Pa未満に維持することができる。これは重要なことである。LaBをフィールドエミッション電子源のエミッターとして使用する場合、電子ビームを安定して放出するためには、真空度の上限値を3×10-7Paまでとする必要があると一般的に考えられているからである。
 図7Bの結果は、上記期間において、約3×10-7Pa未満の真空度を定常状態で2時間以上維持できることができることを示しているため、安定した電子ビーム電流が得られることになり、試料測定が安定して行える。図8は、この定常状態の一部期間(60分間)での電子源の全エミッション電流の変化を示すグラフ、すなわち、LaBをエミッターとして使用するフィールドエミッション電子源の全エミッションプロファイルを示すグラフである。この条件は、エアロックバルブ3が開いた状態であり、電子源チャンバー2の圧力(P)は2.5×10-7Pa、中間室1の圧力(P)は1×10-5Pa、試料室10の圧力(P)は3×10-3Paである。図8は、安定した電子ビーム電流、すなわち、電子ビームが安定して得られることを示している。
 [3] (b)の時点は、エアロックバルブ3を閉じた時点を示すが、これは、エアロックバルブ3を閉じて試料交換のために試料室10の圧力(P)を大気圧にした時点を意味する。また、(c)の時点は、この試料交換を完了して試料室10の真空引きを開始した時点を示す。そのため、(b)の時点から(c)の時点までの期間では、(b)の時点で、試料室10の圧力(P)は大気圧に戻ることになるが、重要なことは、上記期間において、電子源チャンバー2の圧力(P)と中間室1の圧力(P)の両方が、真空度が下がっても電子ビーム電流が得られる真空度を維持しているということであり、特に、電子源チャンバー2の圧力(P)が3×10-7Paをはるかに下回る真空度となっているということである。これは、エアロックバルブ3からの漏れがないことを意味する。
 また、上記期間において、電子源チャンバー2の圧力(P)と中間室1の圧力(P)はいずれも、(b)の時点で下がった真空度がすぐに回復しており、(c)の時点では、それぞれ、7×10-7Pa付近と8×10-8Pa付近にまで真空度が上がっており、ともに良好な真空度に戻っている。
 [4] (c)の時点は、上述のとおり、試料交換を完了して試料室10の真空引きを開始した時点を示し、(d)の時点は、エアロックバルブ3を再び開いた時点を示す。この(d)の時点は、具体的には、試料室10の圧力(P)を下げて真空度を1×10-2Pa未満の1×10-3Pa付近の領域までに上げた時点になる。この際、試料室10のリークバルブは完全に閉じている。重要なことは、(c)の時点と(d)の時点との間の時間である。この時間はわずか5分であり、これは、試料測定に必要な作動排気(すなわち、電子ビーム電流が流れる状態)を5分という短時間で達成できることを意味する。つまり、試料交換後の試料室10の排気待機時間が極めて短くなることを意味する。
 [5] エアロックバルブ3を再び開いた時点を示す(d)の時点を経過すると、エアロックバルブ3を再び開いた(d)の時点では、電子源チャンバー2の圧力(P)と中間室1の圧力(P)と試料室10の圧力(P)はいずれも急激に上がり真空度が下がるものの、その後すぐに真空度が上がり始めて良好な高真空度を達成する。ここで重要なことは、電子源チャンバー2の圧力(P)は3×10-7Paをはるかに下回る圧力を維持しながら、単調に減少していくことである。これは、上述のとおり、LaBをフィールドエミッション電子源のエミッターとして使用する場合、電子ビームを安定して放出するのに十分に良好な状態が維持されていることを意味するからである。つまり、エアロックバルブ3を再び開いても走査型電子顕微鏡で要求される作動排気が維持されていることを示す。
 本願発明は、走査型電子顕微鏡用のフィールドエミッション電子銃チャンバーを提供するものであるため、フィールドエミッション電子源を使用する走査型電子顕微鏡に関する分野でありさえすれば利用可能性がある。中でも、本願発明は簡単で小型化可能な構造を有するので、広く普及している最大加速電圧が15kVの走査型電子顕微鏡においてフィールドエミッション電子源を使用することが期待されている分野での利用可能性が大いに期待される。
1 中間室
2 電子源チャンバー
3 エアロックバルブ
4 電子源チャンバー排気用イオンポンプ又は中間室排気用イオンポンプ
5 真空排気用配管又は真空排気(粗引き)
6 予備排気バルブ(粗引バルブ)
7 電子顕微鏡鏡筒部
8 フィールドエミッション電子源チャンバー
9 真空排気系統部
10 試料室
11 試料台
 

Claims (14)

  1.  以下を備える、走査型電子顕微鏡用の電子銃チャンバー:
     (a)フィールドエミッション電子源を脱着する部位を備える電子源チャンバー;
     (b)前記部位に設置される前記電子源から放出される電子線の方向に電子線が通過する、前記電子源チャンバーに隣接して設けられた中間室;
     (c)前記中間室に設けられるエアロックバルブ設置部;
     (d)前記電子源チャンバー及び前記中間室の連続する面のそれぞれに設けられた、予備真空排気用ポンプ用の排気孔;並びに
     (e)前記電子源チャンバーと前記中間室に備えられている、前記予備真空排気用ポンプ用の排気孔を直接開閉する開閉手段。
  2.  前記電子銃チャンバーが略立方体形状を有する、
    請求項1記載の電子銃チャンバー。
  3.  前記電子源チャンバー及び前記中間室が溶接加工を必要としない、同一のステンレス鋼ブロックの穴加工のみによって制作される、
    請求項1又は2記載の電子銃チャンバー。
  4.  前記開閉手段が、前記電子源チャンバーと前記中間室の前記排気孔のそれぞれを、ピストンの摺動に連動する蓋体の押し付けと解放により開閉する構成を有する、
    請求項1乃至3のいずれかに記載の電子銃チャンバー。
  5.  前記電子源チャンバーの前記排気孔は、前記電子源チャンバーの側面に設けた円筒状の凹みの底面に配置され、この凹みは、前記電子源チャンバーの該排気孔を開閉する前記蓋体と篏合し、
     前記中間室の前記排気孔は、前記中間室の側面に設けた円筒状の凹みの底面に配置され、この凹みは、前記中間室の前記排気孔を開閉する前記蓋体と篏合する、
    請求項4に記載の電子銃チャンバー。
  6.  前記電子源チャンバーの前記排気孔を開閉する前記蓋体と、前記中間室の前記排気孔を開閉する前記蓋体が、同一の1つの蓋体である、
    請求項4記載の電子銃チャンバー。
  7.  前記電子源チャンバーと前記中間室の前記排気孔はいずれも、前記電子源チャンバーと前記中間室に連続し、両者に跨る側面に設けた1つの円筒状の凹みの底面に配置され、この凹みは前記蓋体と篏合する、
    請求項6記載の電子銃チャンバー。
  8.  前記電子源チャンバーと前記中間室はそれぞれ、フィールドエミッション電子源が動作する真空度に排気する高真空排気用ポンプ用の排気孔を備える、
    請求項1乃至7のいずれかに記載の電子銃チャンバー。
  9.  前記電子源チャンバーと前記中間室の前記高真空排気用ポンプ用の排気孔がそれぞれ、互いに左右対称となる位置に配置されている、
     請求項8記載の電子銃チャンバー。
  10.  以下を備える、略立方体形状を有する、走査型電子顕微鏡用の電子銃チャンバー:
     (a)フィールドエミッション電子源を脱着する部位を備える電子源チャンバー;
     (b)前記部位に設置される前記電子源から放出される電子線の方向における前記電子源の下方に電子線が通過する、前記電子源チャンバーに隣接して設けられた第一中間室、及び前記第一中間室の下方に隣接する第二中間室;
     (c’)前記第二中間室内にエアロックバルブが設置され、
     該エアロックバルブは、
      (i)前記第一中間室と前記第二中間室の隣接面に対して60°以上80°以下の傾斜軸を有するОリング設置面と、
      (ii)前記Оリング設置面上、前記傾斜軸の垂直方向に、上方に延伸する略円柱形の凸部で、前記電子線を通過及び遮断する手段を備える該凸部、
    とを具備する。
  11.  前記電子線を通過する手段は、
     前記第二中間室を通過する電子線方向に設けられた前記凸部の貫通孔に電子線を通過する構成を有し、
     前記電子線を遮断する手段は、
     前記凸部を前記傾斜軸に対して垂直方向へスライドさせることによって前記貫通孔をずらして電子線の通過を遮断する構成を有する、
    請求項10記載の電子銃チャンバー。
  12.  前記エアロックバルブは、前記Оリング設置面のうち電子線に曝される部位に該電子線の遮蔽手段を備える、
    請求項10又は11記載の電子銃チャンバー。
  13.  請求項1乃至12のいずれかに記載の電子銃チャンバーを含む、走査型電子顕微鏡用の電子銃。
  14.  請求項1乃至12のいずれかに記載の電子銃チャンバーを含む、走査型電子顕微鏡。
     
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