WO2021177310A1 - 噴霧装置、噴霧方法、及びミスト空間演出システム - Google Patents

噴霧装置、噴霧方法、及びミスト空間演出システム Download PDF

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航太 木村
小林 陽介
雄司 尾形
小川 修
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    • H04N5/00Details of television systems
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Definitions

  • the present disclosure relates to a spraying device for spraying a mist obtained by mixing a liquid and a gas with a two-fluid nozzle and atomizing the liquid into an indoor space, a spraying method, and a mist space production system mainly composed of the spraying device. ..
  • the mist space production system is a mist space production system that can adjust the mist concentration of the mist space in multiple stages by operating from an operation console connected to the outside of the spray device.
  • Patent Document 1 discloses a projection device 1 composed of a projection unit 2 and a screen forming device 3 electrically connected to the projection unit 2.
  • the screen forming device 3 is composed of a generating unit 301 and an ejection unit 303 communicating with the generating unit 301 via a duct 302.
  • the generating portion 301 has a tank 307 provided with an opening 305 on one end surface, and a duct 302 communicates with the other end surface of the tank 307.
  • water 308 is housed in the tank 307, and the ultrasonic vibrator 309 is arranged in the water 308.
  • a light emitting unit 401 and a light receiving unit 402 are provided in the generation unit 301 and the ejection unit 303, respectively.
  • the screen forming apparatus 3 can form a uniform mist screen and can appropriately project an image onto the mist screen.
  • mist which is a atomized liquid
  • the amount of mist sprayed is adjusted in multiple stages, and the indoor space is combined with the mist and other production equipment. It is necessary to adjust the mist concentration of the above to the intended state each time.
  • Patent Document 2 in a spray system using a two-fluid spray nozzle that mixes a liquid and a gas to generate mist, the valve opening is adjusted by pulse control to increase the supply amount in multiple stages.
  • a configuration has been proposed in which a controllable liquid flow rate adjusting valve is mounted to adjust the spray amount.
  • the differential pressure between the gas and the liquid supplied to the nozzle exceeds the allowable differential pressure of the liquid flow rate adjusting valve, and the pressure equal to or higher than the driving torque of the liquid flow rate adjusting valve adjusts the liquid flow rate.
  • the liquid flow rate adjusting valve may malfunction such as opening / closing failure.
  • the present disclosure solves the above-mentioned conventional problems, and is a spraying device capable of adjusting the mist concentration in a mist effect space in multiple stages by spraying a mist obtained by atomizing a liquid into an indoor space using a two-fluid nozzle. It is an object of the present invention to provide a spraying method and a mist space production system.
  • the spraying device of the present disclosure includes a two-fluid nozzle that mixes a liquid and a gas and sprays a mist obtained by atomizing the liquid, a gas flow path on the spraying device side that supplies gas to the two-fluid nozzle, and a gas flow on the spraying device side.
  • a gas valve that opens and closes the path, a gas supply source that supplies gas to the gas flow path on the spray device side, a liquid flow path on the spray device side that supplies liquid to the two-fluid nozzle, and a liquid flow path on the spray device side.
  • a liquid valve and a liquid supply source for supplying a liquid to the liquid flow path on the spraying device side are provided.
  • the spray device of the present disclosure is installed in the fluid flow path on the spray device side between the two-fluid nozzle and the liquid valve, and the valve opening is adjusted by a pulse signal to adjust the flow rate of the liquid in the liquid flow path on the spray device side. It is provided with a pulse-driven liquid flow rate adjusting valve for controlling the flow rate, and a control unit for controlling the valve opening degree of the liquid flow rate adjusting valve with a pulse signal from an operation console outside the spraying device. The control unit adjusts the mist concentration of the mist sprayed from the two-fluid nozzle in multiple stages by controlling the valve opening degree of the liquid flow rate adjusting valve.
  • the mist space production system of the present disclosure includes a spray device and a production device.
  • the control unit adjusts the mist concentration in multiple stages according to the output from the production equipment.
  • the spraying method of the present disclosure includes a step of supplying a gas from a gas supply source to a two-fluid nozzle via a gas flow path on the spraying device side opened and closed by a gas valve, and a liquid from a liquid supply source.
  • the mist of mist sprayed from the two-fluid nozzle by controlling the valve opening adjustment pulse of the pulse-driven liquid flow control valve installed in the It includes a step of adjusting the concentration in multiple stages.
  • the valve opening degree of the liquid flow rate adjusting valve is controlled by the control unit, and the mist obtained by atomizing the liquid using a two-fluid nozzle is sprayed onto the indoor space to increase the mist concentration in the indoor space.
  • the mist space can be produced in various forms by adjusting the mist concentration according to the output of other production equipment combined with the mist, for example, the intensity of sound or luminous flux.
  • the spraying method of the present disclosure includes a step of supplying gas from a gas supply source to a two-fluid nozzle via a gas flow path on the spray device side, and a liquid flow path on the spray device side and a spray device side for liquid from a liquid supply source.
  • the pressure of the liquid detected by the liquid side pressure gauge installed in the liquid flow path on the spraying device side between the liquid flow control valve and the liquid supply source is measured.
  • the pressure difference between the liquid pressure and the gas pressure is higher than the gas pressure detected by the gas side pressure gauge installed in the gas flow path on the spray device side between the two-fluid nozzle and the gas supply source.
  • the on-off valve installed in the spray device side liquid flow path between the liquid flow control valve and the liquid side pressure gauge is closed to close the liquid.
  • the differential pressure between the pressure of the gas and the pressure of the gas is less than the allowable differential pressure, the on-off valve is opened.
  • the spraying method of the present disclosure includes a step of supplying gas from a gas supply source to a two-fluid nozzle via a gas flow path on the spray device side, and a liquid flow path on the spray device side and a spray device side for liquid from a liquid supply source.
  • the gas when the mist is sprayed from the two-fluid nozzle, the gas is discharged from the gas supply source at a pressure lower than the permissible pressure, and the liquid on the spraying device side between the liquid flow rate adjusting valve and the liquid supply source.
  • a pressure reducing valve installed in the flow path for reducing the pressure of the liquid discharged from the liquid supply source allows the difference between the pressure of the gas discharged by the gas supply source and the pressure of the liquid discharged from the liquid supply source as the allowable pressure.
  • a step of reducing the pressure so as to be less than the difference is provided.
  • the spraying method of the present disclosure includes a step of supplying gas from a gas supply source to a two-fluid nozzle via a gas flow path on the spray device side, and a liquid flow path on the spray device side and a spray device side for liquid from a liquid supply source.
  • the spraying method of the present disclosure is installed in the liquid flow path on the spraying device side between the liquid flow rate adjusting valve and the two-fluid nozzle by a check valve when mist is sprayed from the two-fluid nozzle, and is installed from the liquid flow rate adjusting valve side. It is provided with a step that enables flow to the two-fluid nozzle side and prevents flow from the two-fluid nozzle side to the liquid flow rate adjusting valve side.
  • the control unit controls the opening and closing of the liquid flow path on the spraying device side by the on-off valve, or the pressure reducing valve is controlled by the pressure of the gas discharged by the gas supply source and the pressure of the liquid discharged by the liquid supply source. It is configured so that the difference is less than the allowable pressure difference, or it is configured to be provided with a check valve that prevents the flow from the two-fluid nozzle side to the liquid flow rate adjusting valve side. With this configuration, the differential pressure between the liquid pressure and the gas pressure does not exceed the allowable differential pressure preset in the liquid flow rate adjusting valve, so that the occurrence of malfunction of the liquid flow rate adjusting valve can be suppressed.
  • Configuration diagram of mist space production system including the spray device of the present disclosure
  • Section 2B-2B of FIG. 2A of the two-fluid nozzle of the present disclosure Sectional view of the two-fluid nozzle of the present disclosure in FIG. 2A, line 2C-2C.
  • Configuration diagram of mist space production system including the spray device of the present disclosure Configuration diagram of the spraying device of the present disclosure Configuration diagram of the spraying device of the present disclosure Configuration diagram of the spraying device of the present disclosure Configuration diagram of the spraying device of the present disclosure Configuration diagram of the spraying device of the present disclosure Configuration diagram of the spraying device of the present disclosure Configuration diagram of the spraying device of the present disclosure Perspective view showing the overall configuration of a conventional projection device Schematic cross-sectional view of a conventional mist screen forming apparatus
  • FIG. 1 is a configuration diagram of a mist space effect system 101 including a spraying device A that implements a spraying method according to the first embodiment of the present disclosure.
  • the mist space production system 101 includes a spray device A and an operation console 40.
  • the spray device A includes a two-fluid nozzle 11, a gas flow path 12 on the spray device side, a liquid flow path 13 on the spray device side, a liquid flow rate adjusting valve 14, a gas valve 15, a liquid valve 16, and a gas supply.
  • the source 17, the liquid supply source 18, and the control unit 30 form a main unit for spraying the mist 91.
  • the control unit 30 includes an external signal input terminal 33 that receives a pulse signal from the operation console 40 arranged outside the spray device A.
  • the external signal input terminal 33 of the spray device A and the operation console 40 are connected by the signal wiring 32.
  • One or a plurality of two-fluid nozzles 11 are arranged in the indoor space 90.
  • a plurality of two-fluid nozzles 11 are arranged in the indoor space 90.
  • three two-fluid nozzles 11 are connected to one spraying device A to control the operation.
  • the gas supply source 17 supplies gas to the two-fluid nozzle 11 through the gas flow path 12 on the spraying device side.
  • An example of a gas is air.
  • the liquid supply source 18 supplies the liquid to the two-fluid nozzle 11 through the liquid flow path 13 on the spray device side.
  • An example of a liquid is water.
  • the liquid and gas supplied to the two-fluid nozzle 11 are mixed by the two-fluid nozzle 11, and the liquid is made into fine particles.
  • the mist 91 produced as fine particles is sprayed into the indoor space 90 from the bifluid nozzle 11.
  • an internal mixing type nozzle is used in which a compressed gas and a pressurized liquid are supplied to the nozzle and mixed inside the nozzle to atomize the liquid.
  • a metal pipe such as a steel pipe or a stainless steel pipe, a resin tube, or the like is used.
  • the gas supply source 17 for example, a compressor, a pump, a blower or the like capable of supplying a compressed gas having a pressure of 0.1 to 1 MPa is used.
  • the gas supply source 17 may be one that can supply gas to the gas flow path 12 on the spraying device side at a predetermined pressure via a regulator or the like.
  • the liquid supply source 18 for example, a pump capable of supplying a liquid at a pressure of 0.1 to 1 MPa is used.
  • the liquid supply source 18 may be one that can supply the liquid to the liquid flow path 13 on the spraying device side at a predetermined pressure via a regulator or the like. Further, the liquid supply source 18 may be a pressure tank capable of supplying the liquid by pressurizing the liquid in the pressure vessel at a predetermined pressure using a compressed gas.
  • the gas valve 15 is installed between the gas supply source 17 and the two-fluid nozzle 11 on the gas flow path 12 on the spray device side.
  • the gas valve 15 is connected to the control unit 30 by the control wiring 31.
  • the gas valve 15 is opened and closed by energization and de-energization from the control unit 30, and starts and stops the supply of gas from the gas supply source 17 to the bifluid nozzle 11 via the gas flow path 12 on the spray device side.
  • the liquid valve 16 is installed between the liquid supply source 18 and the liquid flow rate adjusting valve 14 on the liquid flow path 13 on the spray device side.
  • the liquid valve 16 is connected to the control unit 30 by the control wiring 31.
  • the liquid valve 16 opens and closes by energization and de-energization from the control unit 30, and starts and stops the supply of liquid from the liquid supply source 18 to the bifluid nozzle 11 via the spray device-side liquid flow path 13.
  • gas valve 15 and the liquid valve 16 for example, a two-way solenoid valve is used.
  • the gas valve 15 and the liquid valve 16 may be normally closed valves in which the valve closes when the power is off and the valve opens when the power is turned on.
  • the liquid flow rate adjusting valve 14 is arranged between the liquid valve 16 of the liquid flow path 13 on the spraying device side and the two-fluid nozzle 11 on the downstream side.
  • the valve opening degree of the liquid flow rate adjusting valve 14 is adjusted in multiple stages by driving a pulse motor (not shown) connected to the liquid flow rate adjusting valve 14 by the control signal of the pulse signal from the control unit 30.
  • the air pressure is constant (that is, fixed) as an example of a gas
  • the flow rate of water is adjusted (that is, the water pressure is indirectly adjusted) as an example of a liquid to control the amount of mist sprayed.
  • the air pressure may be adjusted to keep the flow rate of water constant to control the amount of spray with mistakes.
  • a general-purpose regulator (however, fixed by water pressure) may be used instead of the liquid flow rate adjusting valve 14.
  • a gas pressure adjusting valve a member that is an electropneumatic regulator and has a function of signal control may be arranged downstream of the gas valve 15.
  • the mist spray flow rate can be indirectly controlled by transmitting the signal from the control unit 30 to the gas pressure adjusting valve to control the gas pressure.
  • the spraying of the two-fluid nozzle 11 is started by opening the gas valve 15 to supply the gas to the two-fluid nozzle 11 and then opening the liquid valve 16. (Ii) The spraying of the fluid nozzle 11 is stopped by closing the gas valve 15 after closing the liquid valve 16.
  • the liquid flow path 13 on the spray device side in the vicinity of each of the two-fluid nozzles 11.
  • a check valve is installed in the liquid flow path 13 on the spray device side, and a liquid discharge valve and a liquid for releasing the liquid pressure in the liquid flow path 13 on the spray device side to atmospheric pressure near the downstream side of the liquid valve 16 of the liquid flow path 13 on the spray device side.
  • a discharge path may be provided.
  • a solenoid valve or an air operated valve may be installed in the liquid flow path in the vicinity of each of the two fluid nozzles 11.
  • FIG. 2A is a cross-sectional view showing the two-fluid nozzle 11 of the spray device A according to the first embodiment of the present disclosure.
  • the configuration of the two-fluid nozzle 11 will be described with reference to FIG. 2A.
  • the two-fluid nozzle 11 includes at least a two-fluid nozzle main body 120, a liquid introduction unit 130, a gas introduction unit 140, and a gas-liquid ejection unit 150.
  • the gas-liquid mixing unit 160 is composed of the liquid introduction unit 130, the gas introduction unit 140, and the gas-liquid ejection unit 150.
  • the bifluid nozzle 11 further includes a gas-liquid ejection portion fixing portion 170.
  • the two fluid nozzle main body 120 has a nozzle-side liquid flow path 121 connected to the spray device-side liquid flow path 13 and arranged along the direction of the central axis 124 of the columnar member, and a spray device-side gas flow path 12.
  • Cylindrical nozzle-side gas flow paths 122 that are connected and arranged along the axial direction at intervals around the nozzle-side liquid flow path 121 are formed.
  • the nozzle-side liquid flow path 121 and the nozzle-side gas flow path 122 are separated by a cylindrical portion 123 located at the center as a part of the two-fluid nozzle main body portion 120.
  • the nozzle-side liquid flow path 121 shows only the front end, and the rear-end liquid supply port (not shown) is connected to the spray device-side liquid flow path 13.
  • the nozzle-side gas flow path 122 also shows only the front end side, and the rear-end gas supply port (not shown) is connected to the spray device-side gas flow path 12.
  • the tip of the cylindrical portion 123 projects toward the tip side from the two-fluid nozzle main body 120 other than the cylindrical portion 123.
  • a liquid introduction portion 130 is fixed to the tip of the cylindrical portion 123.
  • the liquid introduction unit 130 is arranged at the tip of the two-fluid nozzle main body 120 and covers the opening of the nozzle-side liquid flow path 121 connected to the spray device-side liquid flow path 13.
  • the liquid introduction portion 130 has a groove-shaped liquid flow path formed on a surface in contact with the end surface of the cylindrical portion 123.
  • a liquid inflow port 131 penetrating the liquid introduction portion 130 in the direction of the central axis 124 is formed at at least one position deviated from the central axis 124 of the liquid introduction portion 130 in the radial direction (vertical direction in FIG. 2A). That is, the liquid inflow port 131 is provided in the liquid introduction unit 130 so as to penetrate at least one position deviated in the radial direction from the central axis 124 of the liquid introduction unit 130.
  • the liquid inflow port 131 is located, for example, on the upstream side of the gas-liquid mixing section 160 and near the inner peripheral surface of the annular gas introduction section 140.
  • the liquid inflow port 131 communicates the nozzle-side liquid flow path 121 and the gas-liquid mixing section 160, and causes the liquid flow flowing through the nozzle-side liquid flow path 121 to flow into the gas-liquid mixing section 160.
  • the tip surface of the liquid introduction portion 130 is provided with a tapered shape protruding from the gas-liquid mixing portion 160, for example, a conical convex portion 132.
  • the convex portion 132 projects along the central axis 124 so that the central axis of the convex portion 132 coincides with the central axis 124.
  • the gas-liquid ejection unit 150 is arranged at the tip of the two-fluid nozzle main body 120, and is arranged so as to cover the liquid introduction unit 130, the gas introduction unit 140, and the opening of the nozzle-side gas flow path 122.
  • the gas-liquid ejection portion 150 is formed so that the cross section has a substantially ⁇ shape.
  • the gas-liquid ejection portion 150 is arranged with a cylindrical gap 133 at a predetermined interval between the gas-liquid ejection portion 150 and the liquid introduction portion 130.
  • a tubular flow path 151 for flowing out the gas-liquid mixed fluid and an ejection port 152 for ejecting the gas-liquid mixed fluid in communication with the tubular flow path 151 are formed.
  • a conical flow path 153 having a taper communicating with the tubular flow path 151 is formed on the inner surface of the tip end portion of the gas-liquid ejection portion 150.
  • the tapered flow path 153 is provided with a rectifying section 154 having a concave-convex opening.
  • the rectifying outlet 155 is formed by the tip of the convex portion 132 provided in the liquid introduction portion 130 and the uneven opening of the rectifying portion 154.
  • the rectifying outlet 155 is formed in a state where the tip of the convex portion 132 is inserted into the concave-convex-shaped opening of the rectifying portion 154.
  • the gas-liquid ejection portion 150 is sandwiched and fixed between the gas-liquid ejection portion fixing portion 170 and the end face of the two-fluid nozzle main body portion 120.
  • the gas-liquid ejection portion 150 may be directly fixed to the end face of the two-fluid nozzle main body portion 120 without the gas-liquid ejection portion fixing portion 170.
  • FIG. 2B shows a cross-sectional view of the two-fluid nozzle 11 in FIG. 2A along the line 2B-2B.
  • a notch or a gap is provided at at least one of the gas introduction portions 140 along the tangential direction of the inner circumference of the annular gas introduction portion 140 to form the gas inflow port 141. ..
  • the gas inflow port 141 communicates with the nozzle-side gas flow path 122 to allow the gas flow to flow inside the gas introduction portion.
  • the gas inflow port 141 is arranged in the vicinity of the liquid inflow port 131, and the inflow direction of the gas flow flowing in from the gas inflow port 141 intersects with the inflow direction of the liquid flow flowing in from the liquid inflow port 131 ( For example, they are arranged so as to be orthogonal to each other.
  • the gas flow flowing in from the gas inflow port 141 collides with the liquid flow flowing in from the liquid inflow port 131, and orbits along the inner peripheral surface of the annular gas introduction portion 140 to atomize the liquid.
  • FIG. 2C shows a cross-sectional view of the two-fluid nozzle 11 taken along the line 2C-2C of FIG. 2A.
  • the rectifying portion 154 has a concave-convex-shaped opening, and a rectifying outlet 155 is formed between the concave-convex-shaped opening and the convex portion 132.
  • the concave-convex opening of the rectifying unit 154 is a triangle in which teeth such as triangles are carved around the axis of the cylinder or conical cylinder at predetermined intervals or evenly like internal tooth gears on the inner peripheral surface of the cylinder or conical cylinder.
  • the shape is such that the teeth such as the above are projected at predetermined intervals or evenly to form a rectifying outlet 155 between adjacent teeth.
  • the rectifying outlet 155 is formed in an annular shape having a concavo-convex shape on the outer periphery in a state where the tip of the convex portion 132 is inserted into the concavo-convex-shaped opening of the rectifying portion 154.
  • the concave-convex shape of the rectifying portion 154 is formed in the same shape or a similar shape that is arranged around the axis of the convex portion 132 at predetermined intervals or evenly, and is symmetrically arranged around the axis, for example, rotationally symmetric. Has been done.
  • rectifying outlet 155 As an example of the rectifying outlet 155, as shown in FIGS. 2A and 2C, a plurality of rectifying portions 154 in which the inner edges of the concave-convex-shaped openings are in contact with the tips of the conical convex portions 132 and are partitioned from each other. It can be formed as a triangular rectified outlet 155.
  • the liquid supplied to the two-fluid nozzle 11 flows through the nozzle-side liquid flow path 121 from the liquid supply port (not shown) to the tip side of the two-fluid nozzle 11 with respect to the two-fluid nozzle main body 120. It becomes a liquid flow.
  • the liquid flow is supplied to the gas-liquid mixing section 160 through the nozzle-side liquid flow path 121 and the liquid inflow port 131.
  • the gas supplied to the two-fluid nozzle 11 flows through the nozzle-side gas flow path 122 from a gas supply port (not shown) to the tip side of the two-fluid nozzle 11 with respect to the two-fluid nozzle main body 120, and becomes a gas flow. ..
  • the gas flow is supplied to the gas-liquid mixing section 160 through the gap 133 and the gas inflow port 141.
  • the gas flow and the liquid flow are supplied to the gas-liquid mixing unit 160, the gas flow and the liquid flow are mixed with each other in the gas-liquid mixing unit 160, and the liquid is atomized. After that, the mixed and atomized liquid is rectified through the rectifying outlet 155 formed by the concave-convex-shaped opening of the rectifying portion 154 and the convex portion 132, and is tubular provided in the gas-liquid ejection portion 150. It is ejected from the ejection port 152 to the outside through the flow path 151.
  • the liquid flow flowing through the nozzle-side liquid flow path 121 passes through the liquid inflow port 131 provided in the liquid introduction section 130, and the liquid flow flows from the vicinity of the inner surface of the annular gas introduction section 140 of the gas-liquid mixing section 160. It is supplied to the gas / liquid ejection unit 150.
  • the gas flow supplied to the gas-liquid mixing section 160 through the gas inflow port 141 collides with the liquid flow and is annular. It orbits along the inner peripheral surface of the gas introduction portion 140 of the above. By colliding in this way, the liquid is spread over the inner peripheral surface of the annular gas introduction portion 140 and becomes a thin film. Further, the liquid changes from a thin film to finer droplets by flowing in the circumferential direction along the inner peripheral surface of the annular gas introduction portion 140 from this state.
  • the gas-liquid mixed fluid containing the droplets is stirred in the gas-liquid mixing unit 160, so that the droplets can be further atomized, and a liquid having a smaller average particle size is sprayed from the ejection port 152. It is possible to do.
  • the annular gas introduction portion 140 forming the gas-liquid mixing portion 160 has an inner diameter of 6.0 mm and a height of 1.9 mm.
  • the inscribed circle 156 of the concave-convex opening of the rectifying portion 154 has a diameter of 1.9 mm
  • the circumscribed circle 157 of the opening has a diameter of 2.8 mm
  • the area of the opening is 4.52 mm 2 .
  • the tubular flow path 151 of the gas-liquid ejection portion 150 has a diameter of 1.0 mm and a flow path cross-sectional area of 0.79 mm 2 .
  • the liquid inlet 131 has a diameter of 0.6 mm.
  • the cross section of the flow path in the direction orthogonal to the axis of the gas inlet 141 is rectangular, has a width of 2.0 mm, and has a height of 1.0 mm.
  • the diameter of the bottom surface of the conical convex portion 132 is 6 mm, and the height of the convex portion 132 is 2.8 mm.
  • the opening area of the rectified outlet 155 is 1.6 mm 2 .
  • Compressed air is supplied to the gas supply port of the two-fluid nozzle 11 at a pressure of 0.5 MPa (gauge pressure) as a gas, and water is supplied to the liquid supply port of the two-fluid nozzle 11 as a liquid, for example, 0.509 MPa (gauge pressure). ) Pressure.
  • the Sauter mean diameter of the liquid atomized under these conditions was evaluated by a laser diffraction method. The measurement distance of the laser diffraction method was 300 mm from the tip of the two-fluid nozzle 11, and the Sauter mean diameter was 6.0 ⁇ m.
  • the operation console 40 is connected to the external signal input terminal 33 arranged in the control unit 30 by using the signal wiring 32.
  • the operation console 40 transmits an output signal to the control unit 30 and controls the valve opening degree of the liquid flow rate adjusting valve 14 via the control unit 30.
  • the output signal of the pulse from the console 40 is transmitted to the control unit 30 via the signal wiring 32.
  • control unit 30 adjusts the spray flow rate of the mist 91 in multiple stages by controlling the valve opening degree of the liquid flow rate adjusting valve 14 in multiple stages based on the received pulse.
  • the mist concentration is adjusted in multiple stages. Therefore, for example, the fader arranged on the console 40 can adjust the mist concentration in the indoor space 90 in multiple stages in conjunction with intuitively changing the output.
  • the control unit 30 can control the bifluid nozzle 11 at about 2 ml / min per pulse for adjusting the valve opening degree of the liquid flow rate adjusting valve 14 based on the received pulse. More specifically, when 15 two-fluid nozzles 11 are connected to one liquid flow rate adjusting valve 14, the overall resolution is about 20 ml / min, and the resolution per one two-fluid nozzle is For example, 256 gradations can be expressed at about 2 ml / min.
  • the number of the two-fluid nozzles 11 connected to one spraying device A is not limited to one, and may be a plurality as shown in FIG.
  • the spray flow rate of each of the plurality of spray devices A can be set by using one console 40 as the master controller. Therefore, the mist concentration in the indoor space 90 can be adjusted in multiple stages for each spray area of the two-fluid nozzle 11 connected to each of the plurality of spray devices A.
  • control unit 30 can automatically adjust the spray flow rate of the mist 91 by controlling the valve opening degree of the liquid flow rate adjusting valve 14 at a preset time.
  • the valve opening degree of the liquid flow rate adjusting valve 14 is controlled by the control unit 30, and the mist obtained by atomizing the liquid is sprayed onto the indoor space 90 by using the two-fluid nozzle 11.
  • the mist concentration of the space 90 can be adjusted in multiple stages, and the mist space can be produced in various forms.
  • the control unit 30 corrects the received pulse signal according to the increase / decrease of the pulse signal received from the operation console 40, and then the liquid flow rate.
  • the adjusting valve 14 may be driven.
  • the pulse signal received by the control unit 30 from the operation console 40 is also referred to as a received pulse signal.
  • control unit 30 corrects the pulse driving the liquid flow rate adjusting valve 14 to be smaller than the received pulse signal when the pulse signal received from the operation console 40 changes from increasing to decreasing.
  • control may be performed to correct the pulse driving the liquid flow rate adjusting valve 14 so as to be larger than the received pulse signal.
  • the reason for this correction is as follows. There is play in the mechanism of the connecting portion between the pulse motor and the valve, and due to this play, the valve opening does not change with a minute pulse. Therefore, when the input pulse signal indicates the valve opening degree in the opposite direction, the pulse signal is corrected to improve the responsiveness to the pulse signal.
  • FIG. 3 shows the flow of the pulse determination operation in the control unit 30.
  • a pulse signal including pulse X is received from the console 40.
  • the pulse X is a pulse of a pulse signal that controls the valve opening degree of the liquid flow rate adjusting valve 14.
  • step S2 it is compared whether or not the pulse X and the current pulse P n indicating the current valve opening degree of the liquid flow rate adjusting valve 14 match. If they match, the process proceeds to step S3, and if they do not match, the process proceeds to step S10.
  • step S3 the current pulse P n is set as pulse X, and the process proceeds to step S4.
  • step S4 the control unit 30 outputs the current pulse Pn to the liquid flow rate adjusting valve 14, and the process proceeds to step S5 without changing the valve opening degree.
  • step S5 the pulse determination is completed.
  • step S10 it is determined whether or not the pulse X is smaller than the current pulse P n indicating the current valve opening degree of the liquid flow rate adjusting valve 14. If the pulse X is smaller than the current pulse P n , the process proceeds to step S11, otherwise the process proceeds to step S21.
  • the pulse X is smaller than the current pulse Pn means that the valve opening degree changes in the closing direction.
  • “Not so” means that the valve opening changes in the opening direction.
  • step S11 it determines the current pulse P n is, one before the current liquid flow rate adjustment valve 14 or pulses P n-1 is smaller than or not. If the current pulse P n is smaller than the previous pulse P n-1 , the process proceeds to step S12, and if not, the process proceeds to step S14.
  • the current pulse P n is smaller than the previous pulse P n-1 means that the valve opening changes in the direction of closing from the pulse one before the present to the current pulse. It means that. Therefore, proceeding to step S12 means that the valve opening changes in the order of the previous pulse P n-1 , the current pulse P n, and the input pulse X in this order.
  • step S14 changed in the direction of closing the valve opening in the order of the previous pulse P n-1 and the current pulse P n.
  • the valve opening changes in the opening direction.
  • step S12 the next pulse P n + 1 is set as pulse X, and the process proceeds to step S13.
  • step S13 the control unit 30 outputs the pulse X as it is as the next pulse P n + 1 to the liquid flow rate adjusting valve 14 to change the valve opening in the closing direction, and the process proceeds to step S5.
  • step S5 the pulse determination is completed.
  • step S14 the next pulse P n + 1 is defined as a value obtained by subtracting 50 from the pulse X, and the process proceeds to step S15.
  • step S15 the control unit 30 outputs the next pulse P n + 1 to the liquid flow rate adjusting valve 14 to change the valve opening in the opening direction, and the process proceeds to step S5.
  • step S5 the pulse determination is completed.
  • subtracting 50 from the pulse X is the correction of the pulse signal with respect to the play amount described above.
  • step S21 it is determined whether or not the current pulse P n is smaller than the previous pulse P n-1. If the current pulse P n is smaller than the previous pulse P n-1 , the process proceeds to step S22, and if not, the process proceeds to step S24.
  • the current pulse P n is smaller than the previous pulse P n-1 means that the valve opening degree is changing in the closing direction. Therefore, proceeding to step S22 changed in the direction of closing the valve opening in the order of the previous pulse P n-1 and the current pulse P n , but the pulse input from the current pulse P n.
  • X means that the valve opening degree changes in the opening direction.
  • “not so”, that is, proceeding to step S24, means that the valve opening opens in the order of the previous pulse P n-1 , the current pulse P n, and the input pulse X. It means to change.
  • step S22 the next pulse P n + 1 is defined as the value obtained by adding 50 to the pulse X, and the process proceeds to step S23.
  • step S23 the control unit 30 outputs the next pulse P n + 1 to the liquid flow rate adjusting valve 14 to change the valve opening direction from the closing direction to the reverse opening direction, and the process proceeds to step S5.
  • step S5 the pulse determination is completed.
  • step S24 the next pulse P n + 1 is set as pulse X, and the process proceeds to step S25.
  • step S25 the control unit 30 outputs the pulse X as it is as the next pulse P n + 1 to the liquid flow rate adjusting valve 14 to change the valve opening in the opening direction, and the process proceeds to step S5.
  • step S5 the pulse determination is completed.
  • control unit 30 corrects the pulse for driving the liquid flow rate adjusting valve 14 to be smaller or larger than the received pulse signal when the received pulse signal changes from an increase to a decrease or a decrease or an increase. Therefore, the responsiveness to the pulse signal can be improved.
  • FIG. 4 is a configuration diagram of the mist space effect system according to the second embodiment of the present disclosure.
  • the mist space effect system according to the first embodiment is different from the mist space effect system according to the first embodiment in that the flow meter 99 is further provided in addition to the mist space effect system described in the first embodiment.
  • the matters described in the first embodiment will be omitted as appropriate, and the differences from the mist space effect system according to the first embodiment will be mainly described. ..
  • the components substantially the same as the components included in the mist space effect system shown in the first embodiment are given the same reference numerals as the components, and the description thereof will be omitted or simplified.
  • the mist space effect system 101 is further provided with a flow meter 99 which is installed in the liquid flow path 13 on the spray device side and detects the flow rate of the liquid flowing through the liquid flow path 13 on the spray device side.
  • the flow meter 99 is arranged at an arbitrary position between the liquid flow rate adjusting valve 14 and the two-fluid nozzle 11 of the liquid flow path 13 on the spraying device side, and the liquid flow on the spraying device side downstream of the liquid flow rate adjusting valve 14.
  • the flow rate of the liquid in the path 13 is detected, and the detection result is sent to the control unit 30.
  • the control unit 30 controls the valve opening degree of the liquid flow rate adjusting valve 14 according to the flow rate detected by the flow meter 99.
  • the flow meter 99 can be used to control an appropriate liquid supply flow rate regardless of the installation height of the two-fluid nozzle 11.
  • FIG. 4 is a configuration diagram of the mist space effect system according to the third embodiment of the present disclosure.
  • the mist space effect system according to the first embodiment is provided with a video projection device 102 as the effect device 100 in addition to the mist space effect system described in the first embodiment. Is different from.
  • the matters described in the first embodiment will be omitted as appropriate, and the differences from the mist space effect system according to the first embodiment will be mainly described. ..
  • the components substantially the same as the components included in the mist space effect system shown in the first embodiment are given the same reference numerals as the components, and the description thereof will be omitted or simplified.
  • the mist space effect system 101 of the third embodiment includes one or more spray devices A and the effect device 100.
  • the mist concentration is adjusted in multiple stages by the control of the control unit 30 according to the output from the effect device 100.
  • a dial switch (not shown) may be used instead of the operation console 40 in adjusting the mist concentration.
  • the effect device 100 includes at least one of a lighting device (not shown) and an image projection device 102, and a control unit 30 is provided according to the intensity of light flux from at least one of the lighting device and the image projection device 102.
  • the mist concentration is adjusted in multiple stages by controlling with. For example, the mist concentration can be increased in multiple steps when the luminous flux is gradually increased, or the mist concentration can be decreased in multiple steps when the luminous flux is gradually weakened.
  • mist from the spraying device A fills the floor surface with a thick fog to produce a sea of clouds, and then irradiates the floor with strong light from at least one of the lighting device and the image projection device 102.
  • the mist space effect system of the present embodiment may be used to adjust and change the flow rate of each two-fluid nozzle 11 in multiple stages with a smaller number of nozzles. It is also possible to produce various aspects as described above.
  • (Embodiment 4) 1 and 4 show a configuration diagram of the mist space effect system according to the fourth embodiment of the present disclosure.
  • the mist space effect system according to the third embodiment is provided with an acoustic device 103 as the effect device 100 in addition to the mist space effect system described in the third embodiment. It's different.
  • the matters described in the third embodiment will be omitted as appropriate, and the differences from the mist space effect system according to the third embodiment will be mainly described. ..
  • the components substantially the same as the components included in the mist space effect system shown in the first embodiment are given the same reference numerals as the components, and the description thereof will be omitted or simplified.
  • the production device 100 includes an audio device 103.
  • the mist concentration is adjusted in multiple stages by the control of the control unit 30 according to the strength of the sound output from the sound device 103. For example, the mist concentration can be increased in multiple steps when the sound is gradually strengthened, or the mist concentration can be reduced in multiple steps when the sound is gradually weakened.
  • the mist spray flow rate from the spray device A is fixed, the mist concentration also changes with respect to the space in a certain time, but by adjusting the mist spray flow rate, the mist concentration can be increased. It is possible to adjust the length of the changing time. At the time of such an effect, by interlocking the change of the mist concentration with the sound output from the sound device 103, the effect of the effect can be enhanced by visually stimulating and feeling the sound felt by the auditory sense.
  • (Embodiment 5) 1 and 4 show a configuration diagram of the mist space effect system according to the fifth embodiment of the present disclosure.
  • the mist space effect system according to the present embodiment is provided with at least one of the scent generator 104 and the deodorant device 105 as the effect device 100 in addition to the mist space effect system described in the third embodiment. It is different from the mist space production system according to the third form.
  • the matters described in the third embodiment will be omitted as appropriate, and the differences from the mist space effect system according to the third embodiment will be mainly described. ..
  • the components substantially the same as the components included in the mist space effect system shown in the first embodiment are given the same reference numerals as the components, and the description thereof will be omitted or simplified.
  • the effect device 100 includes at least one of the scent generator 104 and the deodorant device 105.
  • the mist concentration is adjusted by the control of the control unit 30 according to the intensity of at least one of the scent generated by the scent generator 104 and the scent remaining in the space after deodorization of the deodorant device 105.
  • the mist concentration can be increased in multiple steps when the scent gradually becomes stronger, or the mist concentration can be reduced in multiple steps when the scent gradually weakens.
  • the production effect can be enhanced by visually stimulating and feeling the scent generated from the scent generator 104 and felt by the sense of smell in a part of the space by changing the concentration of mist. ..
  • the effect of the effect can be enhanced by adding the strength of the sound or the image in multiple stages.
  • (Embodiment 6) 1 and 4 show a configuration diagram of the mist space effect system according to the sixth embodiment of the present disclosure.
  • the mist space effect system according to the present embodiment includes at least one of the blower 106 and the air conditioner 107 as the effect device 100 in addition to the mist space effect system described in the third embodiment. It is different from the mist space production system.
  • the matters described in the third embodiment will be omitted as appropriate, and the differences from the mist space effect system according to the third embodiment will be mainly described. ..
  • the components substantially the same as the components included in the mist space effect system shown in the first embodiment are given the same reference numerals as the components, and the description thereof will be omitted or simplified.
  • the effect device 100 includes at least one of the blower 106 and the air conditioner 107.
  • the mist concentration is adjusted in multiple stages by the control of the control unit 30 according to the strength of the wind from at least one of the blower 106 and the air conditioner 107.
  • the mist concentration can be increased in multiple steps when the wind gradually becomes stronger, or the mist concentration can be reduced in multiple steps when the wind gradually weakens.
  • a specific example of various effects in the sixth embodiment is an effect that expresses an invisible wind (for example, a wind felt by touch) so that it can be visually felt.
  • an invisible wind for example, a wind felt by touch
  • the movement of the wind can be visualized with mist to enhance the spatial effect.
  • This is also suitable for multi-step adjustment of the mist in order to express a variety of spot-like scenes in the production space in connection with the sea of clouds or the morning mist of the previous example.
  • FIG. 5A is a block diagram of the spraying device B according to the seventh embodiment of the present disclosure.
  • the spray device B according to the present embodiment is the spray device A described in the first embodiment, which includes a control unit 30A instead of the control unit 30, and includes a gas side pressure gauge 200 and a liquid side pressure gauge 201. However, it is different from the spray device A according to the first embodiment.
  • the matters described in the first embodiment will be omitted as appropriate, and the differences from the spray device A according to the first embodiment will be mainly described.
  • the components substantially the same as the components included in the spraying device A shown in the first embodiment are given the same reference numerals as the components, and the description thereof will be omitted or simplified.
  • the spray device B includes a two-fluid nozzle 11, a gas flow path 12 on the spray device side, a gas supply source 17, a liquid flow path 13 on the spray device side, a liquid supply source 18, a liquid flow rate adjusting valve 14, and a gas side. It includes a pressure gauge 200, a liquid side pressure gauge 201, a liquid valve 16, and a control unit 30A.
  • the liquid valve 16 is also referred to as an on-off valve 16.
  • the two-fluid nozzle 11 sprays a mist that is a mixture of a liquid and a gas and atomized the liquid.
  • the gas flow path 12 on the spray device side supplies gas to the two-fluid nozzle 11.
  • the gas supply source 17 supplies gas to the gas flow path 12 on the spraying device side.
  • the liquid flow path 13 on the spray device side supplies the liquid to the two-fluid nozzle 11.
  • the liquid supply source 18 supplies the liquid to the liquid flow path 13 on the spray device side.
  • the liquid flow rate adjusting valve 14 is installed in the liquid flow path 13 on the spraying device side between the two-fluid nozzle 11 and the liquid supply source 18, and is driven by a pulse, that is, the valve opening degree is adjusted by a pulse signal to adjust the valve opening degree on the spraying device side.
  • the flow rate of the liquid in the liquid flow path 13 is controlled.
  • the gas side pressure gauge 200 is installed in the spray device side gas flow path 12 between the two-fluid nozzle 11 and the gas supply source 17, and detects the gas pressure in the spray device side gas flow path 12.
  • the liquid side pressure gauge 201 is installed in the spray device side liquid flow path 13 between the liquid flow rate adjusting valve 14 and the liquid supply source 18, and detects the liquid pressure in the spray device side liquid flow path 13.
  • the liquid valve 16 is installed in the spray device side liquid flow path 13 between the liquid flow rate adjusting valve 14 and the liquid side pressure gauge 201 to open and close the spray device side liquid flow path 13.
  • the control unit 30A is based on the information of the gas pressure detected by the gas side pressure gauge 200, the liquid pressure detected by the liquid side pressure gauge 201, and the allowable differential pressure set by the liquid flow rate adjusting valve 14. Controls the opening / closing operation of the valve 16.
  • the liquid pressure detected by the liquid side pressure gauge 201 is higher than the gas pressure detected by the gas side pressure gauge 200, and the difference pressure between the liquid pressure and the gas pressure is the liquid flow rate adjusting valve.
  • the liquid valve 16 is controlled to be in a closed state, and the differential pressure between the liquid pressure and the gas pressure is less than the allowable differential pressure of the liquid flow rate adjusting valve 14. In some cases, the liquid valve 16 is controlled to be in the open state.
  • control unit 30A controls the opening and closing of the liquid flow path 13 on the spraying device side by the liquid valve 16, so that the differential pressure between the liquid pressure and the gas pressure is preset in the liquid flow rate adjusting valve 14. It does not exceed the pressure. Therefore, it is possible to suppress the occurrence of a malfunction of the liquid flow rate adjusting valve 14.
  • the liquid valve 16 is controlled by the control unit 30A. Closes and the differential pressure between the liquid pressure and the gas pressure is less than 0.3 MPa, the liquid valve 16 opens under the control of the control unit 30A.
  • liquid valve 16 for example, a two-way solenoid valve can be used, and a normally closed valve that closes when the valve is not energized and opens when the valve is energized is preferable.
  • FIG. 5B as a modification of the seventh embodiment, it is installed in the liquid flow path 13 on the spray device side between the liquid side pressure gauge 201 and the liquid supply source 18, and is discharged from the liquid supply source 18.
  • a pressure reducing valve 202 for reducing the pressure of the liquid liquid can be further provided.
  • the difference between the gas pressure detected by the gas side pressure gauge 200 and the liquid pressure detected by the liquid side pressure gauge 201 is set to be less than the allowable pressure difference of the liquid flow rate adjusting valve 14.
  • the pressure reducing valve 202 is controlled by the control unit 30A.
  • the difference between the pressure of the liquid supplied from the liquid supply source 18 and the pressure of the gas supplied from the gas supply source 17 does not exceed the allowable pressure difference of the liquid flow rate adjusting valve 14, so that the liquid flow rate adjusting valve 14
  • the occurrence of defects can be further suppressed.
  • the pressure reducing valve 202 the liquid flow rate adjusting valve 14 can be protected regardless of the pressure of the liquid supply source 18.
  • a manual pressure reducing valve that can manually adjust the pressure reducing value may be used as the pressure reducing valve 202.
  • FIG. 6A is a block diagram of the spraying device C according to the eighth embodiment of the present disclosure.
  • the spray device C according to the present embodiment includes a control unit 30B instead of the control unit 30A in the spray device B according to the modification of the seventh embodiment described in the seventh embodiment, and includes a liquid valve 16 and a gas. It differs from the spray device B according to the seventh embodiment in that the pressure reducing valve 202 is controlled by the control unit 30B without the side pressure gauge 200 and the liquid side pressure gauge 201.
  • the matters described in the seventh embodiment will be omitted as appropriate, and the differences from the spray device B according to the seventh embodiment will be mainly described.
  • the components substantially the same as the components included in the spraying device B shown in the seventh embodiment are given the same reference numerals as the components, and the description thereof will be omitted or simplified.
  • the spray device C includes a two-fluid nozzle 11, a gas flow path 12 on the spray device side, a gas supply source 17, a liquid flow path 13 on the spray device side, a liquid supply source 18, a liquid flow rate adjusting valve 14, and a pressure reducing valve. It includes 202 and a control unit 30B.
  • the pressure reducing valve 202 is installed in the liquid flow path 13 on the spraying device side between the liquid flow rate adjusting valve 14 and the liquid supply source 18, and the liquid discharged from the liquid supply source 18 is installed in the liquid flow path 13 on the spray device side, as in the modified example of the seventh embodiment. Pressure is reduced.
  • the control unit 30B controls the pressure reducing valve 202 based on the information of the pressure of the gas discharged from the gas supply source 17, the pressure of the liquid discharged from the liquid supply source 18, and the allowable pressure set by the liquid flow rate adjusting valve 14. ..
  • the liquid flow rate adjusting valve 14 has an allowable pressure set with respect to the absolute pressure of the applied pressure and the relative pressure between the primary side and the secondary side, respectively.
  • the "allowable pressure” referred to here is a "allowable pressure” set with respect to the relative pressure between the primary side and the secondary side.
  • the gas supply source 17 is a supply source such as a cylinder capable of discharging gas at a set pressure for gas, and is configured so that the pressure of the discharged gas is less than the allowable pressure of the liquid flow rate adjusting valve 14.
  • the liquid supply source 18 is a supply source such as a pump capable of discharging a liquid at a set pressure for the liquid.
  • the control unit 30B controls the pressure reducing valve 202 so that the pressure of the liquid discharged from the liquid supply source 18 becomes less than the allowable pressure of the liquid flow rate adjusting valve 14.
  • the pressure reducing valve 202 By controlling the pressure reducing valve 202, the pressure of the gas discharged by the gas supply source 17 becomes less than the allowable pressure of the liquid flow rate adjusting valve 14, and the pressure of the gas discharged by the gas supply source 17 and the pressure of the liquid discharged by the liquid supply source 18 The difference from the above is less than the allowable pressure difference of the liquid flow rate adjusting valve 14. Therefore, it is possible to suppress the occurrence of a malfunction of the liquid flow rate adjusting valve 14.
  • the pressure reducing valve 202 may use a manual pressure reducing valve that can manually adjust the pressure reducing value.
  • the spray device C is installed in the gas flow path 12 on the spray device side between the two-fluid nozzle 11 and the gas supply source 17, and sprays.
  • the gas side pressure gauge 200 for detecting the gas pressure in the device side gas flow path 12 and the spray device side liquid flow path 13 between the liquid flow rate adjusting valve 14 and the liquid supply source 18 are installed to spray device side liquid.
  • a liquid side pressure gauge 201 that detects the pressure of the liquid in the flow path 13 may be further provided.
  • the control unit 30B controls the gas pressure from the gas supply source 17 so that the gas pressure detected by the gas side pressure gauge 200 becomes less than the allowable pressure, and the gas pressure and the liquid detected by the gas side pressure gauge 200.
  • the pressure reducing valve 202 so that the difference from the liquid pressure detected by the side pressure gauge 201 is less than the allowable pressure difference, the pressure of the liquid in the liquid supply source 18 is changed to the gas side pressure by the pressure reducing valve 202.
  • the differential pressure between the gas pressure and the liquid pressure which is the measured value, is controlled to be less than the allowable differential pressure of the liquid flow rate adjusting valve 14, and the liquid flow rate is controlled. It is supplied to the regulating valve 14. As a result, it is possible to further suppress the occurrence of malfunction of the liquid flow rate adjusting valve 14.
  • FIG. 7 is a configuration diagram of the spray device D according to the ninth embodiment of the present disclosure.
  • the spraying device D according to the present embodiment is the spraying device B according to the modified example of the seventh embodiment described in the seventh embodiment, in which the liquid valve 16, the gas side pressure gauge 200, the liquid side pressure gauge 201, and the depressurization are performed. It differs from the spray device B according to the seventh embodiment in that the valve 202 and the control unit 30A are eliminated and the check valve 203 is provided.
  • the matters described in the seventh embodiment will be omitted as appropriate, and the differences from the spray device B according to the seventh embodiment will be mainly described.
  • the components substantially the same as the components included in the spraying device B shown in the seventh embodiment are given the same reference numerals as the components, and the description thereof will be omitted or simplified.
  • the spray device D is installed in the liquid flow path 13 on the spray device side between the liquid flow rate adjusting valve 14 and the two-fluid nozzle 11, and enables the flow from the liquid flow rate adjusting valve 14 side to the two-fluid nozzle 11 side.
  • the check valve 203 is provided so that the flow cannot flow in the reverse direction.
  • the pressure of the gas discharged by the gas supply source 17 is equal to or higher than the allowable pressure of the liquid flow rate adjusting valve 14, the pressure of the gas discharged by the gas supply source 17 and the liquid discharged by the liquid supply source 18.
  • the gas flow control valve 14 can be moved to the gas supply source 17 side by disabling the flow from the two-fluid nozzle 11 side to the liquid flow control valve 14 side. , The pressure of the gas discharged from the gas supply source 17 is not applied.
  • the check valve 203 does not apply a back pressure to the liquid flow rate adjusting valve 14, so that the liquid supply source 18 is not supplied and the gas supply source 17 supplies the gas. Even if there is, the liquid flow rate adjusting valve 14 is protected. As a result, it is possible to further suppress the occurrence of malfunction of the liquid flow rate adjusting valve 14.
  • the arrangement of the liquid valve 16 and the pressure reducing valve 202 may be different from each other. Further, in the above-described embodiment or modification, the liquid side pressure gauge 201 may be arranged downstream of the pressure reducing valve 202.
  • the operation console 40 is used when the mist concentration is adjusted in multiple stages according to the strength of the output of another effect device combined with the mist, and when the control unit 30, 30A or 30B controls the mist concentration. It may be controlled by adding the operation information in.
  • the valve opening degree of the liquid flow rate adjusting valve 14 is controlled by the control units 30, 30A or 30B, and the mist obtained by atomizing the liquid using the two-fluid nozzle 11 is placed in the indoor space 90.
  • the mist concentration in the indoor space 90 can be adjusted in multiple stages.
  • the mist concentration can be adjusted in multiple stages by control by the control units 30, 30A or 30B according to the output of another effect device 100 combined with the mist, for example, the intensity of sound or luminous flux.
  • the control units 30, 30A or 30B according to the output of another effect device 100 combined with the mist, for example, the intensity of sound or luminous flux.
  • the spraying device, spraying method, and mist space production system can spray a mist obtained by atomizing a liquid into an indoor space using a two-fluid nozzle, and adjust the mist concentration in the indoor space in multiple stages. ..
  • the mist density can be adjusted according to the output of other production equipment combined with the mist, for example, the intensity of sound or luminous flux, and the mist space can be produced in various forms, which is applicable to applications such as art or entertainment. can.

Abstract

本開示の噴霧装置(A)は、ミスト(91)を噴霧する二流体ノズル(11)と、二流体ノズル(11)に気体を供給する噴霧装置側気体流路(12)と、噴霧装置側気体流路(12)に気体を供給する気体供給源(17)と、二流体ノズル(11)に液体を供給する噴霧装置側液体流路(13)と、噴霧装置側液体流路(13)に液体を供給する液体供給源(18)と、パルス信号で弁開度を調整して噴霧装置側液体流路(13)の液体の流量を制御するパルス駆動の液体流量調整弁(14)と、液体流量調整弁(14)の弁開度を二流体ノズル(11)から噴霧するミスト(91)のミスト濃度を多段階で調整する制御部(30)と、を備える。

Description

噴霧装置、噴霧方法、及びミスト空間演出システム
 本開示は、二流体ノズルを用いて液体と気体とを混合して液体を微粒化したミストを室内空間に噴霧する噴霧装置、噴霧方法、及び、噴霧装置を主体として構成するミスト空間演出システムに関する。詳しくは、ミスト空間演出システムは、噴霧装置の外部に接続された操作卓からの操作により、ミスト空間のミスト濃度を多段階に調整できるミスト空間演出システムである。
 近年、ミストを利用した映像投影方法が開発されており、アート又はエンタテイメントにおける利用可能性が広がっている。
 特許文献1は、図8に示すように、投影部2、及び、投影部2と電気的に接続されたスクリーン形成装置3で構成された投影装置1を開示する。
 図9に示すように、スクリーン形成装置3は、発生部301と、発生部301にダクト302を介して連通された噴出部303とで構成されている。発生部301は、一端面に開口部305が設けられたタンク307を有し、タンク307の他端面にダクト302が連通されている。タンク307内には、例えば、水308が収容され、水308内に超音波振動子309が配置されている。ミストの濃度測定管理のために、発生部301内と噴出部303内に、それぞれ発光部401及び受光部402が設けられている。スクリーン形成装置3は、一様なミストスクリーンを形成し、画像をミストスクリーンに適切に投影することができる。
特開2015-179130号公報 WO2018/179474号公報
 液体を微粒化したミストを室内空間に噴霧し、ミスト空間を多様な形で演出するためには、ミストの噴霧量を多段階に調整し、ミストと他の演出機器との組み合わせにより、室内空間のミスト濃度を都度意図した状態へ調整する必要がある。
 特許文献1の構成では、局所的に高いミスト濃度のミストスクリーンを形成できる。しかし、室内空間のミスト濃度を多段階で調整しようとする思想は無く、構成的にも多段階で調整することができない。
 このため、特許文献2のように、液体と気体とを混合させてミストを生成する二流体噴霧ノズルを使用した噴霧システムにおいて、パルス制御により弁の開度を調節し、供給量を多段階に制御できる液体流量調整弁を搭載して噴霧量を調整する構成が提案されている。
 しかし、特許文献2の構成では、ノズルに供給する気体と液体との圧力の差圧が液体流量調整弁の許容差圧を超えてしまい、液体流量調整弁の駆動トルク以上の圧力が液体流量調整弁に印加されることにより、液体流量調整弁に開閉不良等の動作不良が発生する虞がある。
 本開示は、前記従来の課題を解決するもので、二流体ノズルを用いて液体を微粒化したミストを室内空間に噴霧することにより、ミスト演出空間のミスト濃度を多段階に調整できる噴霧装置、噴霧方法、及びミスト空間演出システムを提供することを目的とする。
 本開示の噴霧装置は、液体と気体とを混合して液体を微粒化したミストを噴霧する二流体ノズルと、二流体ノズルに気体を供給する噴霧装置側気体流路と、噴霧装置側気体流路を開閉する気体用弁と、噴霧装置側気体流路に気体を供給する気体供給源と、二流体ノズルに液体を供給する噴霧装置側液体流路と、噴霧装置側液体流路を開閉する液体用弁と、噴霧装置側液体流路に液体を供給する液体供給源と、を備える。また、本開示の噴霧装置は、二流体ノズルと液体用弁との間の噴霧装置側流体流路に設置されてパルス信号で弁開度を調整して噴霧装置側液体流路の液体の流量を制御するパルス駆動の液体流量調整弁と、噴霧装置外部の操作卓からのパルス信号で液体流量調整弁の弁開度を制御する制御部と、を備える。制御部は、液体流量調整弁の弁開度を制御することにより、二流体ノズルから噴霧するミストのミスト濃度を多段階で調整する。
 また、本開示のミスト空間演出システムは、噴霧装置と、演出機器と、を備える。制御部は、演出機器からの出力に合わせて、ミスト濃度を多段階に調整する。
 また、本開示の噴霧方法は、気体供給源から気体を、気体用弁で開閉される噴霧装置側気体流路を介して、二流体ノズルに供給するステップと、液体供給源から液体を、液体用弁で開閉される噴霧装置側液体流路を介して、前記二流体ノズルに供給するステップと、前記二流体ノズルに供給された液体と気体とを混合して液体を微粒化したミストを二流体ノズルから噴霧するステップと、ミストを二流体ノズルから噴霧した時に、操作卓からのパルス信号を制御部で受信するステップと、二流体ノズルと液体用弁との間の噴霧装置側液体流路に設置されたパルス駆動の液体流量調整弁の弁開度調整用パルスを制御部で制御して噴霧装置側液体流路の液体の流量を制御することにより、二流体ノズルから噴霧するミストのミスト濃度を多段階で調整するステップと、を備える。
 本開示によれば、制御部により液体流量調整弁の弁開度を制御して、二流体ノズルを用いて液体を微粒化したミストを室内空間に噴霧することにより、室内空間のミスト濃度を多段階に調整できる。その結果、ミストと組み合わせる他の演出機器の出力、例えば音響又は光束などの強弱に合わせてミスト濃度を調整して、ミスト空間を多様な形で演出することができる。
 また、本開示の噴霧方法は、気体供給源から気体を、噴霧装置側気体流路を介して二流体ノズルに供給するステップと、液体供給源から液体を噴霧装置側液体流路及び噴霧装置側液体流路に設置されたパルス駆動の液体流量調整弁を介して二流体ノズルに供給するステップと、二流体ノズルに供給された液体と気体とを混合して液体を微粒化したミストを二流体ノズルから噴霧するステップと、を備える。本開示の噴霧方法は、ミストを二流体ノズルから噴霧した時に、液体流量調整弁と液体供給源との間の噴霧装置側液体流路に設置された液体側圧力計で検知した液体の圧力が、二流体ノズルと気体供給源との間の噴霧装置側気体流路に設置された気体側圧力計で検知した気体の圧力よりも高く、かつ、液体の圧力と気体の圧力との差圧が液体流量調整弁に予め設定される許容差圧以上となった場合に、液体流量調整弁と液体側圧力計との間の噴霧装置側液体流路に設置された開閉弁を閉塞状態とし、液体の圧力と気体の圧力との差圧が許容差圧未満である場合に、開閉弁を開放状態とするステップと、を備える。
 また、本開示の噴霧方法は、気体供給源から気体を、噴霧装置側気体流路を介して二流体ノズルに供給するステップと、液体供給源から液体を噴霧装置側液体流路及び噴霧装置側液体流路に設置されたパルス駆動の液体流量調整弁を介して二流体ノズルに供給するステップと、二流体ノズルに供給された液体と気体とを混合して液体を微粒化したミストを二流体ノズルから噴霧するステップと、を備える。本開示の噴霧方法は、ミストを二流体ノズルから噴霧した時に、許容圧力未満となる圧力で気体を気体供給源から吐出するとともに、液体流量調整弁と液体供給源との間の噴霧装置側液体流路に設置され、液体供給源から吐出される液体の圧力を減圧するための減圧弁により、気体供給源が吐出する気体の圧力と液体供給源が吐出する液体の圧力との差が許容圧力差未満となるように減圧するステップと、を備える。
 また、本開示の噴霧方法は、気体供給源から気体を、噴霧装置側気体流路を介して二流体ノズルに供給するステップと、液体供給源から液体を噴霧装置側液体流路及び噴霧装置側液体流路に設置されたパルス駆動の液体流量調整弁を介して二流体ノズルに供給するステップと、二流体ノズルに供給された液体と気体とを混合して液体を微粒化したミストを二流体ノズルから噴霧するステップと、を備える。本開示の噴霧方法は、ミストを二流体ノズルから噴霧した時に、逆止弁により、液体流量調整弁と二流体ノズルとの間の噴霧装置側液体流路に設置され、液体流量調整弁側から二流体ノズル側への通流を可能とし、二流体ノズル側から液体流量調整弁側への通流を不可とするステップと、を備える。
 本開示によれば、制御部により開閉弁で噴霧装置側液体流路を開閉制御し、又は、減圧弁を、気体供給源が吐出する気体の圧力と液体供給源が吐出する液体の圧力との差が許容圧力差未満となるように構成し、又は、二流体ノズル側から液体流量調整弁側への通流を不可とする逆止弁を備えるように構成している。このように構成することにより、液体の圧力と気体の圧力との差圧が液体流量調整弁に予め設定される許容差圧以上とならないため、液体流量調整弁の不具合の発生を抑制できる。
本開示の噴霧装置を備えるミスト空間演出システムの構成図 本開示の噴霧装置の二流体ノズルの断面図 本開示の二流体ノズルの図2Aの2B-2B線での断面図 本開示の二流体ノズルの図2Aの2C-2C線での断面図 本開示の変形例におけるミスト空間演出システムのパルス判定動作のフローチャート 本開示の噴霧装置を備えるミスト空間演出システムの構成図 本開示の噴霧装置の構成図 本開示の噴霧装置の構成図 本開示の噴霧装置の構成図 本開示の噴霧装置の構成図 本開示の噴霧装置の構成図 従来の投影装置の全体構成を示す斜視図 従来のミストスクリーン形成装置の模式断面図
 以下、本開示の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。
 (実施の形態1)
 図1は、本開示の実施の形態1における、噴霧方法を実施する噴霧装置Aを備えるミスト空間演出システム101の構成図である。
 ミスト空間演出システム101は、噴霧装置Aと、操作卓40とを備える。
 噴霧装置Aは、二流体ノズル11と、噴霧装置側気体流路12と、噴霧装置側液体流路13と、液体流量調整弁14と、気体用弁15と、液体用弁16と、気体供給源17と、液体供給源18と、制御部30とにより、ミスト91を噴霧するための主要部を構成している。
 制御部30は、噴霧装置Aの外部に配置された操作卓40からのパルス信号を受信する外部信号入力端子33を備える。信号配線32により、噴霧装置Aの外部信号入力端子33と操作卓40とが接続されている。
 室内空間90には、1個又は複数個の二流体ノズル11が配置されている。一例として、図1に示すように、室内空間90内において、複数個の二流体ノズル11が配置されている。本実施の形態において、1つの噴霧装置Aに対して3個の二流体ノズル11が接続されて動作制御されている。
 気体供給源17は、噴霧装置側気体流路12を通じて、二流体ノズル11に気体を供給する。気体の一例としては空気である。
 液体供給源18は、噴霧装置側液体流路13を通じて、二流体ノズル11に液体を供給する。液体の一例としては水である。
 二流体ノズル11に供給された液体と気体とは、二流体ノズル11で混合され、液体が微粒子化される。微粒子化されて生成されたミスト91は、二流体ノズル11から室内空間90内に噴霧される。
 二流体ノズル11としては、例えば、圧縮気体と加圧した液体とをノズルに供給し、ノズルの内部で混合して、液体を微粒化する内部混合型のノズルが用いられる。
 噴霧装置側気体流路12と噴霧装置側液体流路13としては、例えば、鋼管或いはステンレス管等の金属配管、又は樹脂チューブ等が用いられる。
 気体供給源17としては、例えば、0.1~1MPaの圧力の圧縮気体を供給できるコンプレッサ、ポンプ、又はブロワなどが用いられる。気体供給源17は、レギュレータなどを介して所定の圧力で気体を噴霧装置側気体流路12に供給できるものであってもよい。
 液体供給源18としては、例えば、0.1~1MPaの圧力で液体を供給できるポンプが用いられる。液体供給源18は、レギュレータなどを介して所定の圧力で液体を噴霧装置側液体流路13に供給できるものであってもよい。また、液体供給源18としては、圧力容器内の液体を、圧縮気体を用いて所定の圧力で加圧して、液体を供給できる加圧タンクとしても良い。
 気体用弁15は、噴霧装置側気体流路12上において、気体供給源17と二流体ノズル11との間に設置されている。気体用弁15は、制御配線31により制御部30に接続されている。気体用弁15は、制御部30からの通電及び非通電により開閉し、気体供給源17から噴霧装置側気体流路12を介して二流体ノズル11への気体の供給を開始及び停止する。
 液体用弁16は、噴霧装置側液体流路13上において、液体供給源18と液体流量調整弁14との間に設置されている。液体用弁16は、制御配線31により制御部30に接続されている。液体用弁16は、制御部30からの通電及び非通電により開閉し、液体供給源18からの噴霧装置側液体流路13を介して二流体ノズル11への液体の供給を開始及び停止する。
 なお、液体用弁16の制御条件に噴霧装置側気体流路12の気体の圧力値を追加することで、気体の圧力不足による二流体ノズル11からの液だれを防止することができる。
 気体用弁15及び液体用弁16としては、例えば、二方向電磁弁が用いられる。気体用弁15及び液体用弁16は、非通電時に弁が閉じ、かつ、通電時に弁が開くノーマルクローズの弁であってもよい。
 液体流量調整弁14は、噴霧装置側液体流路13の液体用弁16と下流側の二流体ノズル11との間に配置されている。制御部30からのパルス信号の制御信号により液体流量調整弁14と連結したパルスモータ(図示せず)が駆動することにより、液体流量調整弁14の弁開度が多段階に調整される。液体流量調整弁14の弁開度を多段階に調整することにより、噴霧装置側液体流路13の液体の流量を多段的に制御でき、ミスト91の噴霧流量を多段的に調整できる。したがって、ミスト濃度を多段階に調整することができる。
 本構成は、気体の例として空気圧を一定として(すなわち、固定して)、液体の例として水の流量を調整(すなわち、間接的に水圧を調整)して、ミストの噴霧量を制御している。別の手段としては、例えば、空気圧を調整し、水の流量を一定としてミスとの噴霧量を制御してもよい。
 なお、例えば、液体流量調整弁14の代わりに、汎用レギュレータ(ただし、水圧固定)が用いられてもよい。さらに、気体用弁15の下流に気体用圧力調整弁として、例えば、電空レギュレータでありかつ信号制御できる機能を有した部材が配置されてもよい。これにより、制御部30からの信号を気体用圧力調整弁に送信して気体圧力を制御することで、間接的にミストの噴霧流量を制御することができる。
 二流体ノズル11の噴霧の開始は、気体用弁15を開けて気体を二流体ノズル11に供給した後に、液体用弁16を開けることにより行う。二流体ノズル11の噴霧の停止は、液体用弁16を閉じた後に、気体用弁15を閉じることにより行う。
 二流体ノズル11の噴霧の開始の応答性を高め、かつ噴霧の停止の際に二流体ノズル11からの液だれを防止するために、二流体ノズル11毎に近傍の噴霧装置側液体流路13に逆止弁を設置し、かつ噴霧装置側液体流路13の液体用弁16の下流側近傍に噴霧装置側液体流路13内の液体圧を大気圧に開放するための液体排出弁と液体排出経路とを設置してもよい。また、同様の目的で二流体ノズル11毎に近傍の液体流路に電磁弁又はエアオペレート弁を設置してもよい。
 以下、二流体ノズル11について詳細に説明する。
 図2Aは、本開示の実施の形態1における噴霧装置Aの二流体ノズル11を示す断面図である。以下、この二流体ノズル11の構成について図2Aを参照しながら説明する。
 二流体ノズル11は、二流体ノズル本体部120と、液体導入部130と、気体導入部140と、気液噴出部150とを少なくとも備えている。液体導入部130と気体導入部140と気液噴出部150とにより、気液混合部160が構成されている。二流体ノズル11は、さらに、気液噴出部固定部170を備えている。
 二流体ノズル本体部120には、噴霧装置側液体流路13に接続されかつ円柱状部材の中心軸124の方向沿いに配置されたノズル側液体流路121と、噴霧装置側気体流路12に接続されかつノズル側液体流路121の周囲に間隔をおいて軸方向沿いに配置された円筒状のノズル側気体流路122とが、形成されている。ノズル側液体流路121とノズル側気体流路122とは、二流体ノズル本体部120の一部として中央部に位置する円筒部123で区切られている。
 ノズル側液体流路121は、先端部のみを図示しており、後端部の図示しない液体供給口は、噴霧装置側液体流路13に接続されている。ノズル側気体流路122も、先端側のみを図示しており、後端の図示しない気体供給口は、噴霧装置側気体流路12に接続されている。円筒部123の先端は、円筒部123以外の二流体ノズル本体部120より先端側に突出している。円筒部123の先端には、液体導入部130が固定されている。
 液体導入部130は、二流体ノズル本体部120の先端に配置され、噴霧装置側液体流路13に接続されるノズル側液体流路121の開口を覆っている。液体導入部130は、円筒部123の端面と接する面に溝状の液体流路が形成されている。液体導入部130の中心軸124から半径方向(図2Aにおける上下方向)にずれた少なくとも1箇所には、中心軸124の方向に液体導入部130を貫通する液体流入口131が形成されている。すなわち、液体流入口131は、液体導入部130において、液体導入部130の中心軸124から半径方向にずれた少なくとも1箇所に貫通して設けられる。
 液体流入口131は、例えば、気液混合部160の上流側で、円環状の気体導入部140の内周面近傍に位置している。液体流入口131は、ノズル側液体流路121と気液混合部160とを連通させて、ノズル側液体流路121を流れる液体流を気液混合部160に流入させている。液体導入部130の先端面には、気液混合部160に突出した先細りの形状、例えば、円錐状の凸部132が設けられている。凸部132の中心軸が中心軸124に一致するように、凸部132は、中心軸124沿いに突出している。
 気液噴出部150は、二流体ノズル本体部120の先端に配置され、液体導入部130と気体導入部140とノズル側気体流路122の開口とを覆うように配置されている。気液噴出部150は、断面が略Ω形状となるように形成されている。気液噴出部150は、気液噴出部150と液体導入部130との間に所定間隔の円筒状の隙間133をあけて配置されている。
 気液噴出部150の先端部には、気液混合流体を流出させる管状流路151と、管状流路151と連通して気液混合流体を噴出させる噴出口152とが形成されている。また、気液噴出部150の先端部の内面には、管状流路151と連通したテーパーを有する円錐状の流路153が形成されている。テーパーを有する流路153には、凹凸形状の開口を有する整流部154が設けられている。
 液体導入部130に設けられた凸部132の先端と、整流部154の凹凸形状の開口とにより、整流流出口155が形成されている。凸部132の先端部が整流部154の凹凸形状の開口に入り込んだ状態で、整流流出口155が形成されている。
 気液噴出部150は、気液噴出部固定部170と二流体ノズル本体部120の端面との間に挟持されて固定されている。なお、気液噴出部固定部170を備えず、気液噴出部150が、直接、二流体ノズル本体部120の端面に固定されてもよい。
 図2Bは、二流体ノズル11の図2Aの2B-2B線での断面図を示している。図2Bに示すように、円環状の気体導入部140の内周の接線方向沿いに、気体導入部140の少なくとも1箇所において切り欠き又は隙間が設けられて、気体流入口141が形成されている。気体流入口141は、ノズル側気体流路122と連通し、気体導入部の内側に気体流を流入させる。
 気体流入口141は、液体流入口131の近傍に配置され、かつ、液体流入口131から流入する液体流の流入方向に対して、気体流入口141から流入する気体流の流入方向が交差する(例えば、直交する)ように配置されている。気体流入口141から流入した気体流は、液体流入口131から流入した液体流に衝突し、円環状の気体導入部140の内周面に沿って周回して液体を微粒化する。
 図2Cは、二流体ノズル11の図2Aの2C-2C線での断面図を示している。図2Cに示すように、整流部154は、凹凸形状の開口を有し、凹凸形状の開口と凸部132との間で整流流出口155を形成している。整流部154の凹凸形状の開口は、円筒又は円錐筒の内側の周面に三角形などの歯を円筒又は円錐筒の軸周りに所定間隔毎に又は均等に内歯歯車のように刻んで、三角形などの歯を所定間隔又は均等に突出させて、隣接する歯と歯との間に整流流出口155を形成するような形状となっている。
 ここで、整流流出口155は、凸部132の先端部が整流部154の凹凸形状の開口に入り込んだ状態で、凹凸形状を外周に有する、円環状に形成されている。整流部154の凹凸形状は、凸部132の軸周りに複数個、所定間隔毎に又は均等に配置された同じ形状又は類似する形状で形成され、かつ、軸周りに対称、例えば回転対称に配置されている。
 整流流出口155の一例としては、図2A及び図2Cに示すように、整流部154の凹凸形状の開口の内縁が円錐状の凸部132の先端部に接触して互いに仕切られた複数個の三角形の整流流出口155として形成することができる。
 このような構成において、二流体ノズル11に供給された液体は、二流体ノズル本体部120に対して、図示しない液体供給口から二流体ノズル11の先端側にノズル側液体流路121を流れて液体流となる。その液体流は、ノズル側液体流路121と液体流入口131とを通って、気液混合部160に供給される。また、二流体ノズル11に供給された気体は、二流体ノズル本体部120に対して、図示しない気体供給口から二流体ノズル11の先端側にノズル側気体流路122を流れて気体流となる。その気体流は、隙間133と気体流入口141とを通って、気液混合部160に供給される。
 気液混合部160に対して気体流と液体流とが供給されると、気液混合部160で気体流と液体流とが互いに混合されて、液体が微粒化される。その後に、混合されて微粒化された液体は、整流部154の凹凸形状の開口と凸部132とで形成される整流流出口155を通って整流され、気液噴出部150に設けられた管状流路151を通って、噴出口152から外側に噴出される。
 ここで、気液混合部160での微粒化の機構について以下説明する。
 ノズル側液体流路121を流れてきた液体流は、液体導入部130に設けられた液体流入口131を通り、気液混合部160の円環状の気体導入部140の内面近傍より、液体流が気液噴出部150へ供給される。
 一方、液体流入口131から気液混合部160に供給された液体流に対して、気体流入口141を通って気液混合部160に供給された気体流が、液体流に衝突して円環状の気体導入部140の内周面に沿って周回する。このように衝突することで、液体は、円環状の気体導入部140の内周面に押し広げられ、薄い膜状になる。さらに、液体は、この状態から、円環状の気体導入部140の内周面沿いの周方向に流れることにより、薄い膜状から、さらに細かな液滴へと変化する。
 さらに、この液滴を含む気液混合流体が、気液混合部160内で攪拌されることで、液滴をさらに微粒化することができ、平均粒径のより小さな液体を噴出口152から噴霧することが可能である。具体的には、気液混合部160を形成する円環状の気体導入部140は、内径が6.0mmであり、高さが1.9mmである。整流部154の凹凸形状の開口の内接円156は、直径が1.9mmであり、開口の外接円157は直径が2.8mmであり、開口の面積は4.52mmである。気液噴出部150の管状流路151は直径が1.0mmであり、流路断面積は0.79mmである。液体流入口131は直径が0.6mmである。気体流入口141の軸直交方向の流路断面は矩形であり、幅が2.0mmであり、高さが1.0mmである。円錐状の凸部132の底面の直径は6mmであり、凸部132の高さは2.8mmである。整流流出口155の開口面積は1.6mmである。
 二流体ノズル11の気体供給口へ、例えば気体として圧縮空気を0.5MPa(ゲージ圧)の圧力で供給し、二流体ノズル11の液体供給口へ、例えば液体として水を0.509MPa(ゲージ圧)の圧力で供給する。この条件で微粒化した液体のザウター平均粒径をレーザー回折法にて評価を行った。レーザー回折法の測定距離は、二流体ノズル11の先端から300mmの位置であり、ザウター平均粒径は6.0μmとなった。
 操作卓40は、信号配線32を用いて、制御部30内に配置された外部信号入力端子33へ接続されている。操作卓40は、出力信号を制御部30に送信し、制御部30を介して液体流量調整弁14の弁開度を制御する。
 このとき、まず、操作卓40からのパルスの出力信号は、信号配線32を介して制御部30に送信される。
 次いで、制御部30にて、受信パルスに基づいて液体流量調整弁14の弁開度を多段階に制御することにより、ミスト91の噴霧流量を多段階に調整する。これにより、ミスト濃度が多段階に調整される。このため、例えば操作卓40に配置されたフェーダーにより、直感的に出力を変更することに連動して、室内空間90のミスト濃度を多段階に調整することができる。
 多段階での調整の例として、制御部30にて受信パルスに基づく液体流量調整弁14の弁開度の調整は、1パルス当たり約2ml/minで二流体ノズル11を制御することができる。より具体的には、1つの液体流量調整弁14に対して15個の二流体ノズル11を接続するとき、全体としての分解能は約20ml/minで、1個の二流体ノズル当たりの分解能としては約2ml/minで、例えば256階調を表現することができる。
 なお、1つの操作卓40に接続する噴霧装置Aは複数台数であってもよい。また、1つの噴霧装置Aに接続する二流体ノズル11は、1個に限らず、図1のように複数個であってもよい。これにより、1つの操作卓40をマスターコントローラーとして、複数の噴霧装置Aのそれぞれの噴霧流量を設定することができる。したがって、複数の噴霧装置Aのそれぞれに接続された二流体ノズル11の噴霧エリア毎に、室内空間90のミスト濃度を多段階に調整することができる。
 また別の例として、制御部30は、事前に設定された時間で、液体流量調整弁14の弁開度を制御することにより、ミスト91の噴霧流量を自動で調整することができる。
 実施の形態1によれば、制御部30により液体流量調整弁14の弁開度を制御して、二流体ノズル11を用いて液体を微粒化したミストを室内空間90に噴霧することにより、室内空間90のミスト濃度を多段階に調整でき、ミスト空間を多様な形で演出することができる。
 また、実施の形態1の変形例として、図3に示すように、制御部30は、操作卓40から受信するパルス信号の増減具合に対応して、受信したパルス信号を補正したのち、液体流量調整弁14を駆動するようにしてもよい。なお、制御部30が操作卓40から受信したパルス信号を、受信パルス信号ともいう。
 具体的には、制御部30は、操作卓40から受信するパルス信号が増加から減少に転じた場合に、液体流量調整弁14を駆動するパルスを、受信したパルス信号より小さくするよう補正し、操作卓40から受信するパルス信号が減少から増加に転じた場合に、液体流量調整弁14を駆動するパルスを、受信したパルス信号より大きくするよう補正する制御を行うようにしてもよい。
 このように補正する理由は、以下の通りである。パルスモータと弁との連結部の機構に遊びがあり、この遊びにより、微小なパルスでは弁開度が変化しない。このため、入力されるパルス信号が、弁開度を逆方向に指示する場合、パルス信号に補正をかけて、パルス信号に対する応答性を改善するようにしている。
 これについて、さらに詳しく説明する。
 図3は、制御部30でのパルス判定動作のフローを示す。
 まず、ステップS1で、操作卓40からパルスXを含むパルス信号を受信する。なお、パルスXは、液体流量調整弁14の弁開度を制御するパルス信号のパルスである。
 次いで、ステップS2で、パルスXと、液体流量調整弁14の現在の弁開度を示す現在のパルスPとが一致するか否かを比較する。一致するならばステップS3に進み、一致しないならばステップS10に進む。
 ステップS3では、現在のパルスPをパルスXとし、ステップS4に進む。ステップS4では、制御部30から液体流量調整弁14に現在のパルスPを出力して、弁開度は変化させずに、ステップS5に進む。ステップS5では、パルス判定が終了する。
 一方、ステップS10では、パルスXが、液体流量調整弁14の現在の弁開度を示す現在のパルスPより小さいか否かを判定する。パルスXが現在のパルスPより小さいならば、ステップS11に進み、そのようでないならば、ステップS21に進む。ここで、「パルスXが現在のパルスPより小さい」ことは、弁開度が閉じる方向に変化することを意味している。「そのようでない」ことは、弁開度が開く方向に変化することを意味している。
 ステップS11では、現在のパルスPが、液体流量調整弁14の現在より1つ前のパルスPn-1より小さいか否かを判定する。現在のパルスPが、1つ前のパルスPn-1より小さいならば、ステップS12に進み、そのようでないならば、ステップS14に進む。ここで、「現在のパルスPが、1つ前のパルスPn-1より小さい」ことは、現在より1つ前のパルスから現在のパルスにかけて、弁開度が閉じる方向に変化していることを意味している。よって、ステップS12に進むことは、1つ前のパルスPn-1、現在のパルスP、入力されたパルスXの順に弁開度が閉じる方向に変化することを意味している。これに対して、「そのようでない」こと、すなわちステップS14に進むことは、1つ前のパルスPn-1、現在のパルスPの順に弁開度が閉じる方向に変化していたが、現在のパルスPから、入力されたパルスXでは、逆に、弁開度が開く方向に変化することを意味している。
 ステップS12では、次のパルスPn+1をパルスXとし、ステップS13に進む。ステップS13では、制御部30から液体流量調整弁14に次のパルスPn+1としてパルスXをそのまま出力して弁開度を閉じる方向に変化させ、ステップS5に進む。ステップS5では、パルス判定を終了する。
 ステップS14では、次のパルスPn+1を、パルスXから50を減算した値と定義し、ステップS15に進む。ステップS15では、制御部30から液体流量調整弁14に次のパルスPn+1を出力して弁開度を開く方向に変化させ、ステップS5に進む。ステップS5では、パルス判定を終了する。ここで、パルスXから50を減算するのは、前記した遊び分に対するパルス信号の補正である。
 ステップS21では、現在のパルスPが、1つ前のパルスPn-1より小さいか否かを判定する。現在のパルスPが、1つ前のパルスPn-1より小さいならば、ステップS22に進み、そのようでないならば、ステップS24に進む。ここで、「現在のパルスPが、1つ前のパルスPn-1より小さい」ことは、弁開度が閉じる方向に変化していることを意味している。よって、ステップS22に進むことは、1つ前のパルスPn-1、現在のパルスPの順に弁開度が閉じる方向に変化していたが、現在のパルスPから、入力されたパルスXでは、逆に、弁開度が開く方向に変化することを意味している。これに対して、「そのようでない」こと、すなわちステップS24に進むことは、1つ前のパルスPn-1、現在のパルスP、入力されたパルスXの順に弁開度が開く方向に変化することを意味している。
 ステップS22では、次のパルスPn+1をパルスXに50を加算した値と定義し、ステップS23に進む。ステップS23では、制御部30から液体流量調整弁14に次のパルスPn+1を出力して弁開度を閉じる方向から逆に開く方向に変化させ、ステップS5に進む。ステップS5では、パルス判定を終了する。
 ステップS24では、次のパルスPn+1をパルスXとし、ステップS25に進む。ステップS25では、制御部30から液体流量調整弁14に次のパルスPn+1としてパルスXをそのまま出力して弁開度を開く方向に変化させ、ステップS5に進む。ステップS5では、パルス判定を終了する。
 このように、制御部30は、受信するパルス信号が増加から減少又は減少か増加に転じた場合に、液体流量調整弁14を駆動するパルスを、受信したパルス信号より小さく又は大きくするよう補正して、パルス信号に対する応答性を改善することができる。
 (実施の形態2)
 図4は、本開示の実施の形態2におけるミスト空間演出システムの構成図である。
 本実施の形態に係るミスト空間演出システムは、実施の形態1で説明したミスト空間演出システムに加えて、流量計99をさらに備える点が、実施の形態1に係るミスト空間演出システムと相違する。以下では、本実施の形態に係るミスト空間演出システムについて、実施の形態1で説明した事項については適宜説明を省略し、実施の形態1に係るミスト空間演出システムとの相違点を主に説明する。なお、実施の形態1に示したミスト空間演出システムが備える構成要素と実質的に同じ構成要素については、その構成要素と同じ符号を付与して、その説明を省略または簡略化する。
 図4において、ミスト空間演出システム101は、噴霧装置側液体流路13に設置されて噴霧装置側液体流路13を流れる液体の流量を検出する流量計99をさらに備える。
 流量計99は、噴霧装置側液体流路13の液体流量調整弁14と二流体ノズル11との間の任意の位置に配置されて、液体流量調整弁14よりも下流側の噴霧装置側液体流路13の液体の流量を検出して、制御部30に検出結果を送る。制御部30は、流量計99が検出した流量に合わせて液体流量調整弁14の弁開度を制御する。
 このような構成によれば、流量計99を用いて、二流体ノズル11の設置高さによらず、適切な液体供給流量を制御することができる。
 (実施の形態3)
 図4は、本開示の実施の形態3におけるミスト空間演出システムの構成図である。
 本実施の形態に係るミスト空間演出システムは、実施の形態1で説明したミスト空間演出システムに加えて、演出機器100として映像投影装置102を備える点が、実施の形態1に係るミスト空間演出システムと相違する。以下では、本実施の形態に係るミスト空間演出システムについて、実施の形態1で説明した事項については適宜説明を省略し、実施の形態1に係るミスト空間演出システムとの相違点を主に説明する。なお、実施の形態1に示したミスト空間演出システムが備える構成要素と実質的に同じ構成要素については、その構成要素と同じ符号を付与して、その説明を省略または簡略化する。
 実施の形態3のミスト空間演出システム101は、1つ又は複数個の噴霧装置Aと、演出機器100とを備える。演出機器100からの出力に合わせて、制御部30での制御により、ミスト濃度が多段階に調整される。なお、本実施の形態では、ミスト濃度の調整において、操作卓40の代わりに、ダイアルスイッチ(図示せず)を用いてもよい。
 図4において、演出機器100は、照明装置(図示せず)及び映像投影装置102の少なくとも一方を備えて、照明装置及び映像投影装置102の少なくとも一方からの光束の強弱に合わせて、制御部30での制御により、ミスト濃度を多段階に調整する。例えば、光束が徐々に強くなるときにミスト濃度を多段階的に濃くする、又は、光束が徐々に弱くなるときにミスト濃度を多段階的に薄くすることができる。
 多様な演出の具体的な例として、空間に一様にミストを形成するのではなく、空間の一部にスポット的に霧を作る演出がある。また、噴霧装置Aからのミストで床面に濃い霧を充満させて雲海のような演出をし、そこに、照明装置及び映像投影装置102の少なくとも一方から強い光を当てる演出などが考えられる。また、朝靄のような薄い霧を演出したいときは、噴霧装置Aからのミストの流量を、先の例よりも絞るなどの演出も考えられる。また、対象空間を短時間に霧で充満させたいときは、噴霧装置Aからのミストの流量を先の例よりも増やして対応する演出も考えられる。逆に、時間をかけてじっくり薄い霧を演出したい場合は、先の例よりも流量を絞るなどの演出も考えられる。
 これらの多様な演出は、1つの空間に対して二流体ノズル11の数を通常よりも2倍又は3倍多く設置して、噴霧する二流体ノズル11の数を細かく切り替えれば可能である。ただし、このような構成では、ノズルの数が多くなる。そこで、このノズル数を減らすためには、本実施の形態のミスト空間演出システムを使用して、より少ないノズル数で、個々の二流体ノズル11の流量を多段階に調整して変化させれば、先のような種々の態様の演出も可能となる。
 (実施の形態4)
 図1及び図4は、本開示の実施の形態4におけるミスト空間演出システムの構成図を示している。
 本実施の形態に係るミスト空間演出システムは、実施の形態3で説明したミスト空間演出システムに加えて、演出機器100として音響装置103を備える点が、実施の形態3に係るミスト空間演出システムと相違する。以下では、本実施の形態に係るミスト空間演出システムについて、実施の形態3で説明した事項については適宜説明を省略し、実施の形態3に係るミスト空間演出システムとの相違点を主に説明する。なお、実施の形態1に示したミスト空間演出システムが備える構成要素と実質的に同じ構成要素については、その構成要素と同じ符号を付与して、その説明を省略または簡略化する。
 本実施の形態において、演出機器100は、音響装置103を備える。音響装置103から出力される音の強弱に合わせて、制御部30での制御により、ミスト濃度が多段階に調整される。例えば、音が徐々に強くなるときにミスト濃度を多段階的に濃くする、又は、音が徐々に弱くなるときにミスト濃度を多段階的に薄くすることができる。
 本実施の形態4での多様な演出の具体的な例は、実施の形態3と同じである。さらに、例えば、噴霧装置Aからのミストの噴霧流量が固定であれば、空間に対してミスト濃度も一定の時間で変化することになるが、ミストの噴霧流量を調整することで、ミスト濃度が変化する時間の長短を調整することが可能となる。このような演出時に、ミスト濃度の変化を音響装置103から出力される音と連動させることにより、聴覚で感じる音を視覚でも刺激して感じることで演出効果を高めることができる。
 (実施の形態5)
 図1及び図4は、本開示の実施の形態5におけるミスト空間演出システムの構成図を示している。
 本実施の形態に係るミスト空間演出システムは、実施の形態3で説明したミスト空間演出システムに加えて、演出機器100として香り発生装置104及び消臭装置105の少なくとも一方を備える点が、実施の形態3に係るミスト空間演出システムと相違する。以下では、本実施の形態に係るミスト空間演出システムについて、実施の形態3で説明した事項については適宜説明を省略し、実施の形態3に係るミスト空間演出システムとの相違点を主に説明する。なお、実施の形態1に示したミスト空間演出システムが備える構成要素と実質的に同じ構成要素については、その構成要素と同じ符号を付与して、その説明を省略または簡略化する。
 本実施の形態において、演出機器100は、香り発生装置104及び消臭装置105の少なくとも一方を備える。香り発生装置104で発生した香り及び消臭装置105の消臭後に空間に残留する香りの少なくとも一方の強弱に合わせて、制御部30での制御により、ミスト濃度が調整される。例えば、香りが徐々に強くなるときにミスト濃度を多段階的に濃くする、又は、香りが徐々に弱くなるときにミスト濃度を多段階的に薄くすることができる。
 本実施の形態5での多様な演出の具体的な例は、実施の形態3と同じである。前記した演出において、空間の一部でスポット的に、香り発生装置104から発生しかつ嗅覚で感じる香りを、ミストの濃度変化などにより視覚でも刺激して感じることで、演出効果を高めることができる。また、空間を霧で充満させて視界を遮り、神経を嗅覚に集中させて、香り発生装置104から発生した香りによるアロマテラピー効果(例えば集中力アップなど)を狙う演出もできる。さらに、香りに加えて、音又は映像も合わせて多段階に強弱をつけていくことで、演出効果を高めることもできる。
 (実施の形態6)
 図1及び図4は、本開示の実施の形態6におけるミスト空間演出システムの構成図を示している。
 本実施の形態に係るミスト空間演出システムは、実施の形態3で説明したミスト空間演出システムに加えて、演出機器100として送風機106及び空調装置107の少なくとも一方を備える点が、実施の形態3に係るミスト空間演出システムと相違する。以下では、本実施の形態に係るミスト空間演出システムについて、実施の形態3で説明した事項については適宜説明を省略し、実施の形態3に係るミスト空間演出システムとの相違点を主に説明する。なお、実施の形態1に示したミスト空間演出システムが備える構成要素と実質的に同じ構成要素については、その構成要素と同じ符号を付与して、その説明を省略または簡略化する。
 本実施の形態において、演出機器100は、送風機106及び空調装置107の少なくとも一方を備える。送風機106及び空調装置107の少なくとも一方からの風の強弱に合わせて、制御部30での制御により、ミスト濃度が多段階に調整される。例えば、風が徐々に強くなるときにミスト濃度を多段階的に濃くする、又は、風が徐々に弱くなるときにミスト濃度を多段階的に薄くすることができる。
 本実施の形態6での多様な演出の具体的な例は、目に見えない風(例えば触覚で感じる風)を、視覚でも感じられるように表現する演出がある。例えば、風の動きをミストで可視化して空間演出を高めることができる。これも、先の例の雲海又は朝靄などと絡めて、演出空間におけるスポット的に多様な情景を表現するのに、ミストの多段階の調整が好適である。
 (実施の形態7)
 図5Aは、本開示の実施の形態7における噴霧装置Bの構成図である。
 本実施の形態に係る噴霧装置Bは、実施の形態1で説明した噴霧装置Aにおいて、制御部30の代わりに制御部30Aを備え、気体側圧力計200と液体側圧力計201とを備える点が、実施の形態1に係る噴霧装置Aと相違する。以下では、本実施の形態に係る噴霧装置Bについて、実施の形態1で説明した事項については適宜説明を省略し、実施の形態1に係る噴霧装置Aとの相違点を主に説明する。なお、実施の形態1に示した噴霧装置Aが備える構成要素と実質的に同じ構成要素については、その構成要素と同じ符号を付与して、その説明を省略または簡略化する。
 噴霧装置Bは、二流体ノズル11と、噴霧装置側気体流路12と、気体供給源17と、噴霧装置側液体流路13と、液体供給源18と、液体流量調整弁14と、気体側圧力計200と、液体側圧力計201と、液体用弁16と、制御部30Aと、を備える。なお、液体用弁16は、開閉弁16、ともいう。
 二流体ノズル11は、液体と気体とを混合して液体を微粒化したミストを噴霧する。
 噴霧装置側気体流路12は、二流体ノズル11に気体を供給する。
 気体供給源17は、噴霧装置側気体流路12に気体を供給する。
 噴霧装置側液体流路13は、二流体ノズル11に液体を供給する。
 液体供給源18は、噴霧装置側液体流路13に液体を供給する。
 液体流量調整弁14は、二流体ノズル11と液体供給源18の間の噴霧装置側液体流路13に設置されて、パルス駆動により、すなわち、パルス信号で弁開度を調整して噴霧装置側液体流路13の液体の流量を制御する。
 気体側圧力計200は、二流体ノズル11と気体供給源17との間の噴霧装置側気体流路12に設置されて、噴霧装置側気体流路12の気体の圧力を検知する。
 液体側圧力計201は、液体流量調整弁14と液体供給源18との間の噴霧装置側液体流路13に設置されて、噴霧装置側液体流路13の液体の圧力を検知する。
 液体用弁16は、液体流量調整弁14と液体側圧力計201との間の噴霧装置側液体流路13に設置されて、噴霧装置側液体流路13を開閉する。
 制御部30Aは、気体側圧力計200で検知された気体の圧力と液体側圧力計201で検知された液体の圧力と液体流量調整弁14で設定された許容差圧との情報に基づき、液体用弁16の開閉動作を制御する。
 制御部30Aは、液体側圧力計201で検知した液体の圧力が気体側圧力計200で検知した気体の圧力よりも高く、かつ、液体の圧力と気体の圧力との差圧が液体流量調整弁14に予め設定される許容差圧以上となった場合に、液体用弁16が閉塞状態となるよう制御し、液体圧力と気体圧力との差圧が液体流量調整弁14の許容差圧未満である場合に、液体用弁16が開放状態となるよう制御する。
 これによって、制御部30Aにより液体用弁16で噴霧装置側液体流路13を開閉制御することにより、液体の圧力と気体の圧力との差圧が液体流量調整弁14に予め設定される許容差圧以上とならない。したがって、液体流量調整弁14の不具合の発生を抑制できる。
 例えば、液体流量調整弁14の許容差圧が0.3MPaの場合において、液体の圧力と気体の圧力との差圧が0.3MPa以上である場合は、制御部30Aの制御により液体用弁16が閉じ、液体の圧力と気体の圧力との差圧が0.3MPa未満である場合は、制御部30Aの制御により液体用弁16が開く。
 なお、液体用弁16は、例えば、二方向電磁弁を用いることができ、非通電時に弁が閉じ、かつ、通電時に弁が開くノーマルクローズのものが良い。
 また、図5Bに示すように、実施の形態7の変形例として、液体側圧力計201と液体供給源18との間の噴霧装置側液体流路13に設置され、液体供給源18から吐出される液体の圧力を減圧するための減圧弁202をさらに備えることができる。
 このような変形例の場合、気体側圧力計200で検知した気体の圧力と液体側圧力計201で検知した液体の圧力との差が、液体流量調整弁14の許容圧力差未満となるように、減圧弁202を制御部30Aで制御する。
 これによって、液体供給源18から供給される液体の圧力と気体供給源17から供給される気体の圧力との差が液体流量調整弁14の許容圧力差以上とならないため、液体流量調整弁14の不具合の発生をさらに抑制できる。言い換えれば、減圧弁202を備えることで、液体供給源18の圧力に関わらず液体流量調整弁14を保護することができる。
 なお、気体供給源17の気体の圧力が既知で一定圧力を示す場合、減圧弁202としては、手動で減圧値を調整できる手動減圧弁を用いてもよい。
 (実施の形態8)
 図6Aは、本開示の実施の形態8における噴霧装置Cの構成図である。
 本実施の形態に係る噴霧装置Cは、実施の形態7で説明した実施の形態7の変形例にかかる噴霧装置Bにおいて、制御部30Aの代わりに制御部30Bを備え、液体用弁16と気体側圧力計200と液体側圧力計201とを無くし、制御部30Bにより減圧弁202を制御する点が、実施の形態7に係る噴霧装置Bと相違する。以下では、本実施の形態に係る噴霧装置Bについて、実施の形態7で説明した事項については適宜説明を省略し、実施の形態7に係る噴霧装置Bとの相違点を主に説明する。なお、実施の形態7に示した噴霧装置Bが備える構成要素と実質的に同じ構成要素については、その構成要素と同じ符号を付与して、その説明を省略または簡略化する。
 噴霧装置Cは、二流体ノズル11と、噴霧装置側気体流路12と、気体供給源17と、噴霧装置側液体流路13と、液体供給源18と、液体流量調整弁14と、減圧弁202と、制御部30Bと備える。
 減圧弁202は、実施の形態7の変形例と同様に、液体流量調整弁14と液体供給源18との間の噴霧装置側液体流路13に設置され、液体供給源18から吐出される液体の圧力を減圧する。
 制御部30Bは、気体供給源17から吐出する気体の圧力と液体供給源18から吐出する液体の圧力と液体流量調整弁14で設定された許容圧力との情報に基づき、減圧弁202を制御する。液体流量調整弁14は、印加される圧力の絶対圧と1次側と2次側との相対圧に対してそれぞれ許容圧力が設定されている。ここでいう「許容圧力」は、1次側と2次側との相対圧に対して設定された「許容圧力」である。
 気体供給源17は、気体用の設定圧力で気体を吐出可能なボンベなどの供給源であり、吐出する気体の圧力が液体流量調整弁14の許容圧力未満となるよう構成されている。
 液体供給源18は、液体用の設定圧力で液体を吐出可能なポンプなどの供給源である。
 制御部30Bは、液体供給源18が吐出する液体の圧力が液体流量調整弁14の許容圧力未満となるよう減圧弁202を制御する。減圧弁202の制御によって、気体供給源17が吐出する気体の圧力が液体流量調整弁14の許容圧力未満となり、気体供給源17が吐出する気体の圧力と液体供給源18が吐出する液体の圧力との差が液体流量調整弁14の許容圧力差未満となる。したがって、液体流量調整弁14の不具合の発生を抑制できる。
 なお、気体供給源17の気体の圧力が既知で一定圧力を示す場合、減圧弁202は手動で減圧値を調整できる手動減圧弁を用いてもよい。
 また、図6Bに示すように、前記実施の形態8の変形例として、噴霧装置Cは、二流体ノズル11と気体供給源17との間の噴霧装置側気体流路12に設置されて、噴霧装置側気体流路12の気体の圧力を検知する気体側圧力計200と、液体流量調整弁14と液体供給源18との間の噴霧装置側液体流路13に設置されて、噴霧装置側液体流路13の液体の圧力を検知する液体側圧力計201とをさらに備えてもよい。
 制御部30Bは、気体側圧力計200で検知した気体の圧力が前記許容圧力未満となるよう気体供給源17からの気体の圧力を制御し、気体側圧力計200で検知した気体の圧力と液体側圧力計201で検知した液体圧力との差が前記許容圧力差未満となるように、減圧弁202を制御することで、液体供給源18の液体の圧力は、減圧弁202によって、気体側圧力計200と液体側圧力計201との計測値を用いて、計測値である気体の圧力と液体の圧力との差圧が液体流量調整弁14の許容差圧未満となるよう制御されて液体流量調整弁14に供給される。これによって、液体流量調整弁14の不具合の発生をさらに抑制できる。
 (実施の形態9)
 図7は、本開示の実施の形態9における噴霧装置Dの構成図である。
 本実施の形態に係る噴霧装置Dは、実施の形態7で説明した実施の形態7の変形例にかかる噴霧装置Bにおいて、液体用弁16と気体側圧力計200と液体側圧力計201と減圧弁202と制御部30Aとを無くし、逆止弁203を備える点が、実施の形態7に係る噴霧装置Bと相違する。以下では、本実施の形態に係る噴霧装置Dについて、実施の形態7で説明した事項については適宜説明を省略し、実施の形態7に係る噴霧装置Bとの相違点を主に説明する。なお、実施の形態7に示した噴霧装置Bが備える構成要素と実質的に同じ構成要素については、その構成要素と同じ符号を付与して、その説明を省略または簡略化する。
 噴霧装置Dは、液体流量調整弁14と二流体ノズル11との間の噴霧装置側液体流路13に設置されて、液体流量調整弁14側から二流体ノズル11側への通流を可能とし、逆方向を通流不可とする逆止弁203を備える。
 搭載した逆止弁203によって、気体供給源17が吐出する気体の圧力が液体流量調整弁14の許容圧力以上であり、気体供給源17が吐出する気体の圧力と液体供給源18が吐出する液体の圧力との差が許容圧力差未満である場合に、二流体ノズル11側から液体流量調整弁14側への通流を不可とすることで、液体流量調整弁14の気体供給源17側に、気体供給源17が吐出する気体の圧力がかからない。すなわち、気体の圧力が許容圧よりも高い状態であっても、逆止弁203によって液体流量調整弁14に逆圧がかからないため、液体供給源18の供給がなく、気体供給源17からの供給があっても液体流量調整弁14は保護される。これによって、液体流量調整弁14の不具合の発生をさらに抑制できる。
 なお、逆止弁203を実施の形態7および8に適用しても、実施の形態9と同様の効果が得られる。
 なお、前記実施の形態又は変形例において、液体用弁16と減圧弁202とを備えるとき、液体用弁16と減圧弁202との配置は前後していても構わない。また、前記実施の形態又は変形例において、液体側圧力計201は、減圧弁202の下流に配置されてもよい。
 なお、上述の各実施の形態においては、ミストと組み合わせる他の演出機器の出力の強弱に合わせてミスト濃度を多段階で調整するとき、制御部30,30Aまたは30Bでの制御時に、操作卓40での操作情報も加えて制御するようにしてもよい。
 前記の各実施の形態によれば、制御部30,30Aまたは30Bにより液体流量調整弁14の弁開度を制御して、二流体ノズル11を用いて液体を微粒化したミストを室内空間90に噴霧することにより、室内空間90のミスト濃度を多段階に調整できる。その結果、ミストと組み合わせる他の演出機器100の出力、例えば音響又は光束などの強弱に合わせて、制御部30,30Aまたは30Bでの制御により、ミスト濃度を多段階で調整することができる。例えば、今まで課題として存在しなかったが、アーティストの多様な演出上、ミスト濃度を多段階で調整したいという新たな要望に応えることができる。
 なお、前記の様々な実施の形態又は変形例のうちの任意の実施の形態又は変形例を適宜組み合わせることにより、それぞれの有する効果を奏するようにすることができる。また、実施の形態同士の組み合わせ又は実施例同士の組み合わせ又は実施の形態と実施例との組み合わせが可能であると共に、異なる実施の形態又は実施例の中の特徴同士の組み合わせも可能である。
 本開示の前記態様にかかる噴霧装置、噴霧方法、及びミスト空間演出システムは、二流体ノズルを用いて液体を微粒化したミストを室内空間に噴霧し、室内空間のミスト濃度を多段階に調整できる。その結果、ミストと組み合わせる他の演出機器の出力、例えば音響や光束の強弱に合わせてミスト濃度を調整して、ミスト空間を多様な形で演出することができ、アート又はエンタテイメント等の用途に適用できる。
1 投影装置
2 投影部
3 スクリーン形成装置
11 二流体ノズル
12 噴霧装置側気体流路
13 噴霧装置側液体流路
14 液体流量調整弁
15 気体用弁
16 液体用弁
17 気体供給源
18 液体供給源
30,30A,30B 制御部
31 制御配線
32 信号配線
33 外部信号入力端子
40 操作卓
90 室内空間
91 ミスト
99 流量計
100 演出機器
101 ミスト空間演出システム
102 映像投影装置
103 音響装置
104 香り発生装置
105 消臭装置
106 送風機
107 空調装置
120 二流体ノズル本体部
121 ノズル側液体流路
122 ノズル側気体流路
123 円筒部
124 中心軸
130 液体導入部
131 液体流入口
132 凸部
133 隙間
140 気体導入部
141 気体流入口
150 気液噴出部
151 管状流路
152 噴出口
153 流路
154 整流部
155 整流流出口
156 内接円
157 外接円
160 気液混合部
170 気液噴出部固定部
200 気体側圧力計
201 液体側圧力計
202 減圧弁
203 逆止弁
301 発生部
302 ダクト
303 噴出部
305 開口部
307 タンク
308 水
309 超音波振動子
401 発光部
402 受光部
A,B,C,D 噴霧装置

Claims (17)

  1.  液体と気体とを混合して前記液体を微粒化したミストを噴霧する二流体ノズルと、
     前記二流体ノズルに前記気体を供給する噴霧装置側気体流路と、
     前記噴霧装置側気体流路に前記気体を供給する気体供給源と、
     前記二流体ノズルに前記液体を供給する噴霧装置側液体流路と、
     前記噴霧装置側液体流路に前記液体を供給する液体供給源と、
     前記二流体ノズルと前記液体供給源との間の前記噴霧装置側液体流路に設置されてパルス信号で弁開度を調整して前記噴霧装置側液体流路の前記液体の流量を制御するパルス駆動の液体流量調整弁と、
     前記液体流量調整弁の前記弁開度を前記二流体ノズルから噴霧する前記ミストのミスト濃度を多段階で調整する制御部と、を備える、
     噴霧装置。
  2.  前記制御部は、受信するパルス信号である受信パルス信号が増加から減少に転じた場合に、前記液体流量調整弁を駆動するパルスを、前記受信パルス信号より小さくするよう補正し、前記受信パルス信号が減少から増加に転じた場合に、前記液体流量調整弁を駆動するパルスを、前記受信パルス信号より大きくするよう補正する制御を行う、
     請求項1に記載の噴霧装置。
  3.  前記噴霧装置側液体流路に設置されて前記噴霧装置側液体流路を流れる前記液体の流量を検出する流量計をさらに備え、
     前記制御部は、前記流量計が検出した前記流量に合わせて前記液体流量調整弁の前記弁開度を制御する、
     請求項1又は2に記載の噴霧装置。
  4.  請求項1~3のいずれか1つに記載の前記噴霧装置と、
     演出機器とを備えて、
     前記制御部は、前記演出機器からの出力に合わせて、前記ミスト濃度を多段階に調整する、
    ミスト空間演出システム。
  5.  前記演出機器は、照明装置及び映像投影装置の少なくとも一方を含み、
     前記制御部は、前記照明装置及び前記映像投影装置の少なくとも一方からの光束の強弱に合わせて前記ミスト濃度を調整する、
     請求項4に記載のミスト空間演出システム。
  6.  前記演出機器は、音響装置を含み、
     前記制御部は、前記音響装置から出力される音の強弱に合わせて前記ミスト濃度を調整する、
     請求項4または5に記載のミスト空間演出システム。
  7.  前記演出機器は、香り発生装置及び消臭装置の少なくとも一方を含み、
     前記制御部は、前記香り発生装置で発生した香り及び前記消臭装置の消臭後に空間に残留する香りの少なくとも一方の強弱に合わせて前記ミスト濃度を調整する、
     請求項4~6のいずれか1項に記載のミスト空間演出システム。
  8.  前記演出機器は、送風機及び空調装置の少なくとも一方を含み、
     前記制御部は、前記送風機及び前記空調装置の少なくとも一方からの風の強弱に合わせて前記ミスト濃度を調整する、
     請求項4~7のいずれか1項に記載のミスト空間演出システム。
  9.  気体供給源から気体を、気体用弁で開閉される噴霧装置側気体流路を介して、二流体ノズルに供給するステップと、
     液体供給源から液体を、液体用弁で開閉される噴霧装置側液体流路を介して、前記二流体ノズルに供給するステップと、
     前記二流体ノズルに供給された前記液体と前記気体とを混合して前記液体を微粒化したミストを前記二流体ノズルから噴霧するステップと、
     前記ミストを前記二流体ノズルから噴霧した時に、パルス信号を制御部で受信するステップと、
     前記二流体ノズルと前記液体用弁との間の前記噴霧装置側液体流路に設置されたパルス駆動の液体流量調整弁の弁開度調整用パルスを前記制御部で制御して前記噴霧装置側液体流路の前記液体の流量を制御することにより、前記二流体ノズルから噴霧する前記ミストのミスト濃度を多段階で調整するステップと、を備える、
     噴霧方法。
  10.  前記二流体ノズルと前記気体供給源との間の前記噴霧装置側気体流路に設置されて前記噴霧装置側気体流路の前記気体の圧力を検知する気体側圧力計と、
     前記液体流量調整弁と前記液体供給源との間の前記噴霧装置側液体流路に設置されて前記噴霧装置側液体流路の前記液体の圧力を検知する液体側圧力計と、
     前記液体流量調整弁と前記液体側圧力計との間の前記噴霧装置側液体流路に設置されて前記噴霧装置側液体流路を開閉する開閉弁と、をさらに備え、
     前記制御部は、前記液体側圧力計で検知した前記液体の圧力が前記気体側圧力計で検知した前記気体の圧力よりも高く、かつ、前記液体の圧力と前記気体の圧力との差圧が前記液体流量調整弁に予め設定される許容差圧以上となった場合に、前記開閉弁が閉塞状態となるよう制御し、前記液体の圧力と前記気体の圧力との差圧が前記許容差圧未満である場合に、前記開閉弁が開放状態となるよう制御する、
     請求項1に記載の噴霧装置。
  11.  前記液体側圧力計と前記液体供給源との間の前記噴霧装置側液体流路に設置され、前記液体供給源から吐出される前記液体の圧力を減圧するための減圧弁をさらに備え、
     前記減圧弁は、前記気体側圧力計で検知した前記気体の圧力と前記液体側圧力計で検知した前記液体の圧力との差が前記許容圧力差未満となるように構成された、
     請求項10に記載の噴霧装置。
  12.  前記液体流量調整弁と前記液体供給源との間の前記噴霧装置側液体流路に設置され、前記液体供給源から吐出される前記液体の圧力を減圧するための減圧弁をさらに備え、
     前記気体供給源は、吐出する前記気体の圧力が前記許容圧力未満となるよう構成され、
     前記減圧弁は、前記気体供給源が吐出する前記気体の圧力と前記液体供給源が吐出する前記液体の圧力との差が前記許容圧力差未満となるように構成された、
     請求項1に記載の噴霧装置。
  13.  前記二流体ノズルと前記気体供給源との間の前記噴霧装置側気体流路に設置されて前記噴霧装置側気体流路の前記気体の圧力を検知する気体側圧力計と、
     前記液体流量調整弁と前記液体供給源との間の前記噴霧装置側液体流路に設置されて前記噴霧装置側液体流路の前記液体の圧力を検知する液体側圧力計と、
     前記気体側圧力計で検知した気体の圧力と前記液体側圧力計で検知した液体の圧力との差が前記許容圧力差未満となるよう前記減圧弁を制御する制御部と、をさらに備える、
     請求項12に記載の噴霧装置。
  14.  前記液体流量調整弁と前記二流体ノズルとの間の前記噴霧装置側液体流路に設置され、液体流量調整弁側から二流体ノズル側への通流を可能とし、前記二流体ノズル側から前記液体流量調整弁側への通流を不可とする逆止弁と、をさらに備える、
     請求項1に記載の噴霧装置。
  15.  気体供給源から気体を、噴霧装置側気体流路を介して二流体ノズルに供給するステップと、
     液体供給源から液体を噴霧装置側液体流路及び前記噴霧装置側液体流路に設置されたパルス駆動の液体流量調整弁を介して前記二流体ノズルに供給するステップと、
     前記二流体ノズルに供給された前記液体と前記気体とを混合して前記液体を微粒化したミストを前記二流体ノズルから噴霧するステップと、
     前記ミストを前記二流体ノズルから噴霧した時に、前記液体流量調整弁と前記液体供給源との間の前記噴霧装置側液体流路に設置された液体側圧力計で検知した液体の圧力が、前記二流体ノズルと前記気体供給源との間の前記噴霧装置側気体流路に設置された気体側圧力計で検知した気体の圧力よりも高く、かつ、前記液体の圧力と前記気体の圧力との差圧が前記液体流量調整弁に予め設定される許容差圧以上となった場合に、前記液体流量調整弁と前記液体側圧力計との間の前記噴霧装置側液体流路に設置された開閉弁を閉塞状態とし、前記液体の圧力と前記気体の圧力との差圧が前記許容差圧未満である場合に、前記開閉弁を開放状態とするステップと、を備える
     噴霧方法。
  16.  気体供給源から気体を、噴霧装置側気体流路を介して二流体ノズル供給するステップと、
     液体供給源から液体を噴霧装置側液体流路及び前記噴霧装置側液体流路に設置されたパルス駆動の液体流量調整弁を介して前記二流体ノズルに供給するステップと、
     前記二流体ノズルに供給された前記液体と前記気体とを混合して前記液体を微粒化したミストを前記二流体ノズルから噴霧するステップと、
     前記ミストを前記二流体ノズルから噴霧した時に、前記許容圧力未満となる圧力で前記気体を前記気体供給源から吐出するとともに、前記液体流量調整弁と前記液体供給源との間の前記噴霧装置側液体流路に設置され、前記液体供給源から吐出される前記液体の圧力を減圧するための減圧弁により、前記気体供給源が吐出する前記気体の圧力と前記液体供給源が吐出する前記液体の圧力との差が前記許容圧力差未満となるように減圧するステップと、を備える、
     噴霧方法。
  17.  気体供給源から気体を、噴霧装置側気体流路を介して二流体ノズルに供給するステップと、
     液体供給源から液体を噴霧装置側液体流路及び前記噴霧装置側液体流路に設置されたパルス駆動の液体流量調整弁を介して前記二流体ノズルに供給するステップと、
     前記二流体ノズルに供給された前記液体と前記気体とを混合して前記液体を微粒化したミストを前記二流体ノズルから噴霧するステップと、
     前記ミストを前記二流体ノズルから噴霧した時に、逆止弁により、前記液体流量調整弁と前記二流体ノズルとの間の前記噴霧装置側液体流路に設置され、液体流量調整弁側から二流体ノズル側への通流を可能とし、前記二流体ノズル側から前記液体流量調整弁側への通流を不可とするステップと、を備える、
     噴霧方法。
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