WO2021060240A1 - ７－オキサ－３，４－ジアザビシクロ［４．１．０］ヘプタ－４－エン－２－オン化合物および除草剤 - Google Patents

Abstract

式（I）で表される化合物またはその塩、およびそれらから選ばれる少なくともひとつを有効成分として含有する除草剤に関する。 式（I）中、Ｒ1は、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基などを示し、Ｒ2は、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基などを示し、Ｒ3は、水素原子、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基などを示し、且つＱは、置換若しくは無置換のフェニル基などを示す。

Description

７－オキサ－３，４－ジアザビシクロ［４．１．０］ヘプタ－４－エン－２－オン化合物および除草剤

　本発明は、７－オキサ－３，４－ジアザビシクロ［４．１．０］ヘプタ－４－エン－２－オン化合物およびそれを有効成分として含有する除草剤に関する。
　本願は、２０１９年９月２５日に、日本に出願された特願２０１９－１７４５３１号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。

　農園芸作物の栽培において、雑草の防除のために、除草剤を使用することがある。除草剤の有効成分としてこれまでに種々の化合物が提案されている。

　例えば、特許文献１は式（Ａ）で表される化合物などを開示している。

ＷＯ２０１３／０５０４２１Ａ１

　除草剤は、雑草の防除効果に優れているだけでなく、作物に対して薬害が少ないこと、環境に残留し難く且つ環境を汚染しないことなどが要求される。
　本発明の課題は、低薬量でも確実な雑草防除効果を奏し、作物に対する薬害が少なく、且つ環境への安全性が高い、除草剤の有効成分として有用な新規７－オキサ－３，４－ジアザビシクロ［４．１．０］ヘプタ－４－エン－２－オン化合物および除草剤を提供することである。

　上記課題を達成すべく検討した結果、以下の形態を包含する本発明を完成するに至った。

［１］式（I）で表される化合物またはその塩。

　式（I）中、
　Ｒ^１は、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、または５～６員環状エーテル基を示し、
　Ｒ^２は、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、または置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基を示し、
　Ｒ^３は、水素原子、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、置換若しくは無置換のＣ１～６アルコキシ基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、または置換若しくは無置換のフェニル基を示し、且つ
　Ｑは、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示す。

［２］式（I-1）で表される、前記［１］に記載の式（I）で表される化合物またはその塩。

　式（I-1）中、Ｒ^１、Ｒ^２、およびＲ^３は、請求項１におけるそれらの定義と同じであり、
　Ｘは、ハロゲノ基、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、水酸基、置換若しくは無置換のＣ１～６アルコキシ基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニルオキシ基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニルオキシ基、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキルチオ基、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキルスルフィニル基、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキルスルホニル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキルオキシ基、置換若しくは無置換のフェニル基、フェノキシ基、置換若しくは無置換の５～６員ヘテロシクリル基、置換若しくは無置換の５～６員ヘテロシクリルオキシ基、置換若しくは無置換のフェニルスルホニル基、Ｒ－ＣＯ－で表される基、ＲＯ－ＣＯ－で表される基、Ｒ－ＣＯＮＲ^ａ－で表される基、ＲＮＨ－ＣＯ－で表される基、Ｒ_２Ｎ－ＣＯ－で表される基、ＲＯ－ＣＯ－ＮＲ^ａ－で表される基、ＲＮＨ－ＣＯ－ＮＨ－で表される基、Ｒ_２Ｎ－ＣＯ－ＮＨ－で表される基、ＲＮＨ－ＣＯ－ＣＯ－ＮＨ－で表される基、Ｒ_２Ｎ－ＣＯ－ＣＯ－ＮＨ－で表される基、Ｒ－Ｓ（Ｏ）_２－ＮＨ－で表される基、Ｒ_２Ｎ－Ｓ（Ｏ）_２－で表される基、Ｒ_２Ｓ（Ｏ）＝Ｎ－で表される基、Ｒ－Ｓ（Ｏ）（＝Ｎ－Ｒ^ｂ）－で表される基、ＲＯ－Ｎ＝Ｃ（Ｒ^ｃ）－で表される基、ニトロ基、またはシアノ基を示し；
　Ｒは、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基または置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基を示し、
　Ｒ^ａは、それぞれ独立に、水素原子、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、または置換若しくは無置換のＣ１～６アルコキシ基を示し、
　Ｒ^ｂは、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基または置換若しくは無置換のフェニル基を示し、
　Ｒ^ｃは、水素原子または置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基を示し；
　上記のＲ_２Ｎ－ＣＯ－で表される基、Ｒ_２Ｎ－ＣＯ－ＮＨ－で表される基、Ｒ_２Ｎ－ＣＯ－ＣＯ－ＮＨ－で表される基、またはＲ_２Ｎ－Ｓ（Ｏ）_２－で表される基において、ＲとＲとが結合してそれらが結合する窒素原子と共に４～６員環を形成してもよく；
　上記のＲ_２Ｓ（Ｏ）＝Ｎ－で表される基において、ＲとＲとが結合してそれらが結合する硫黄原子と共に５～６員環を形成してもよく；
　ｎは、０～５の整数を示し、ｎが２以上である場合Ｘは同一であっても異なっていてもよく、ｎが２以上ある場合そのうちの２つのＸが一緒になって二価の有機基を形成してもよい。

［３］式（I-3）で表される、前記［１］に記載の式（I）で表される化合物またはその塩。

　式（I-1）中、Ｒ^１、Ｒ^２、およびＲ^３は、請求項１におけるそれらの定義と同じであり、Ｘ^１は、ハロゲノ基、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、置換若しくは無置換のＣ１～６アルコキシ基、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキルチオ基、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキルスルフィニル基、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキルスルホニル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、置換若しくは無置換のフェニル基、置換若しくは無置換の５～６員ヘテロシクリル基、ニトロ基、またはシアノ基を示し；
　ｍは、０～３の整数を示し、ｍが２以上である場合Ｘ^１は同一であっても異なっていてもよい。
［４］Ｒ^２におけるＣ１～６アルキル基上の置換基が、ハロゲノ基、水酸基、Ｃ１～６アルコキシ基、Ｃ１～６アルコキシＣ１～６アルコキシ基、Ｃ１～６ハロアルコキシ基、Ｃ１～６アルキルチオ基、Ｃ１～６アルキルスルフィニル基、Ｃ１～６アルキルスルホニル基、Ｃ３～６シクロアルキル基、フェニル基、５員ヘテロアリール基、Ｃ１～６アルキルカルボニル基、ベンゾイル基、Ｃ１～６アルコキシカルボニル基、Ｃ１～６アルキルカルボキシアミド基、（（１，３－ジオキソイソインドリン－２－イル）オキシ基、トリメチルシリル基、シアノ基からなる群、
　並びに、Ｃ１～６アルキル基置換、ハロゲノ基置換、Ｃ１～６ハロアルキル基置換若しくはＣ１～６ハロアルコキシ基置換のフェニル基；Ｃ１～６アルキル基置換、ハロゲノ基置換、Ｃ１～６ハロアルキル基置換若しくはＣ１～６ハロアルコキシ基置換のフェノキシ基；およびＣ１～６アルキル基置換、ハロゲノ基置換、Ｃ１～６ハロアルキル基置換若しくはＣ１～６ハロアルコキシ基置換の５員ヘテロアリール基からなる群；
　より選択される少なくともひとつである前記［１］に記載の化合物またはその塩。

［５］前記［１］～［４］のいずれかに記載の化合物およびその塩からなる群から選ばれる少なくともひとつを有効成分として含有する除草剤。

［６］有用植物における単子葉類および／または双子葉類の雑草を防除する方法であって、前記［１］～［４］のいずれかに記載の化合物若しくはその塩、または前記化合物を含有する除草剤を、前記雑草および／または前記植物および／またはその場所に施用する工程を含む、方法。

　本発明の７－オキサ－３，４－ジアザビシクロ［４．１．０］ヘプタ－４－エン－２－オン化合物は、低薬量でも確実な雑草防除効果を奏し、作物に対する薬害が少なく、且つ環境への安全性が高いので、除草剤の有効成分として有用である。本発明の除草剤は、農園芸作物の栽培において、雑草の防除のために安心して使用することができる。

　本発明の７－オキサ－３，４－ジアザビシクロ［４．１．０］ヘプタ－４－エン－２－オン化合物（以下、簡単のために「本発明化合物」ということがある。）は、式（I）で表される化合物（化合物（I）ということがある。）または化合物（I）の塩である。化合物（I）は、水和物、各種溶媒和物、結晶多形等も含まれる。化合物（I）は、不斉炭素、二重結合などに基づく立体異性体や、互変異性体が存在し得る。このような異性体及びそれらの混合物は全て本発明の技術的範囲に包含される。

　本明細書において使われる「無置換（unsubstituted）」の用語は、母核となる基のみであることを意味する。「置換」との記載がなく母核となる基の名称のみで記載しているときは、別段の断りがない限り「無置換」の意味である。
　一方、「置換（substituted）」の用語は、母核となる基のいずれかの水素原子が、母核と同一または異なる構造の基（置換基）で置換されていることを意味する。従って、「置換基」は、母核となる基に結合した他の基である。置換基は１つであってもよいし、２つ以上であってもよい。２つ以上の置換基は同じでもよいし、異なってもよい。
　「Ｃ１～６」などの用語は、母核となる基の炭素原子数が１～６個などであることを表している。この炭素原子数には、置換基の中にある炭素原子の数を含まない。例えば、置換基としてエトキシ基を有するブチル基は、Ｃ２アルコキシＣ４アルキル基に分類する。

　「置換基」は化学的に許容され、本発明の効果を有する限りにおいて特に制限されない。以下に「置換基」となり得る基を例示する。
　メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｉ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｓ－ブチル基、ｉ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基などのＣ１～６アルキル基；
　ビニル基、１－プロペニル基、２－プロペニル基（アリル基）、１－ブテニル基、２－ブテニル基、３－ブテニル基、１－メチル－２－プロペニル基、２－メチル－２－プロペニル基などのＣ２～６アルケニル基；
　エチニル基、１－プロピニル基、２－プロピニル基、１－ブチニル基、２－ブチニル基、３－ブチニル基、１－メチル－２－プロピニル基などのＣ２～６アルキニル基；

　シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などのＣ３～６シクロアルキル基；
　フェニル基、ナフチル基；
　ベンジル基、フェネチル基などのフェニルＣ１～６アルキル基；
　３～６員ヘテロシクリル基；
　３～６員へテロシクリルＣ１～６アルキル基；

　水酸基；
　メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、ｉ－プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｓ－ブトキシ基、ｉ－ブトキシ基、ｔ－ブトキシ基などのＣ１～６アルコキシ基；
　ビニルオキシ基、アリルオキシ基、プロペニルオキシ基、ブテニルオキシ基などのＣ２～６アルケニルオキシ基；
　エチニルオキシ基、プロパルギルオキシ基などのＣ２～６アルキニルオキシ基；
　フェノキシ基、ナフトキシ基；
　ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基；
　チアゾリルオキシ基、ピリジルオキシ基などの５～６員ヘテロアリールオキシ基；
　チアゾリルメチルオキシ基、ピリジルメチルオキシ基などの５～６員ヘテロアリールＣ１～６アルキルオキシ基；

　ホルミル基；
　アセチル基、プロピオニル基などのＣ１～６アルキルカルボニル基；
　ホルミルオキシ基；
　アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基などのＣ１～６アルキルカルボニルオキシ基；
　ベンゾイル基；
　メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ－プロポキシカルボニル基、ｉ－プロポキシカルボニル基、ｎ－ブトキシカルボニル基、ｔ－ブトキシカルボニル基などのＣ１～６アルコキシカルボニル基；
　メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｎ－プロポキシカルボニルオキシ基、ｉ－プロポキシカルボニルオキシ基、ｎ－ブトキシカルボニルオキシ基、ｔ－ブトキシカルボニルオキシ基などのＣ１～６アルコキシカルボニルオキシ基；
　カルボキシル基；

　フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、イオド基などのハロゲノ基；
　クロロメチル基、クロロエチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２，２，２－トリフルオロエチル基、１，２－ジクロロ－ｎ－プロピル基、１－フルオロ－ｎ－ブチル基などのＣ１～６ハロアルキル基；
　２－クロロ－１－プロペニル基、２－フルオロ－１－ブテニル基などのＣ２～６ハロアルケニル基；
　４，４－ジクロロ－１－ブチニル基、４－フルオロ－１－ペンチニル基、５－ブロモ－２－ペンチニル基などのＣ２～６ハロアルキニル基；
　ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２，２－トリフルオロエトキシ基、２，３－ジクロロブトキシ基などのＣ１～６ハロアルコキシ基；
　２－クロロプロペニルオキシ基、３－ブロモブテニルオキシ基などのＣ２～６ハロアルケニルオキシ基；
　クロロアセチル基、トリフルオロアセチル基、トリクロロアセチル基などのＣ１～６ハロアルキルカルボニル基；

　アミノ基；
　メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基などのＣ１～６アルキル置換アミノ基；
　アニリノ基、ナフチルアミノ基；
　ベンジルアミノ基、フェネチルアミノ基などのフェニルＣ１～６アルキルアミノ基；
　ホルミルアミノ基；
　アセチルアミノ基、プロパノイルアミノ基、ブチリルアミノ基、ｉ－プロピルカルボニルアミノ基などのＣ１～６アルキルカルボニルアミノ基；
　メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｎ－プロポキシカルボニルアミノ基、ｉ－プロポキシカルボニルアミノ基などのＣ１～６アルコキシカルボニルアミノ基；
　アミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、Ｎ－フェニル－Ｎ－メチルアミノカルボニル基などの無置換若しくは置換基を有するアミノカルボニル基；
　イミノメチル基、（１－イミノ）エチル基、（１－イミノ）－ｎ－プロピル基などのイミノＣ１～６アルキル基；
　Ｎ－ヒドロキシ－イミノメチル基、（１－（Ｎ－ヒドロキシ）－イミノ）エチル基、（１－（Ｎ－ヒドロキシ）－イミノ）プロピル基、Ｎ－メトキシ－イミノメチル基、（１－（Ｎ－メトキシ）－イミノ）エチル基などの置換若しくは無置換のＮ－ヒドロキシイミノＣ１～６アルキル基；
　アミノカルボニルオキシ基；
　エチルアミノカルボニルオキシ基、ジメチルアミノカルボニルオキシ基などのＣ１～６アルキル置換アミノカルボニルオキシ基；

　メルカプト基；
　メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ－プロピルチオ基、ｉ－プロピルチオ基、ｎ－ブチルチオ基、ｉ－ブチルチオ基、ｓ－ブチルチオ基、ｔ－ブチルチオ基などのＣ１～６アルキルチオ基；
　トリフルオロメチルチオ基、２，２，２－トリフルオロエチルチオ基などのＣ１～６ハロアルキルチオ基；
　フェニルチオ基；
　チアゾリルチオ基、ピリジルチオ基などの５～６員ヘテロアリールチオ基；

　メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ｔ－ブチルスルフィニル基などのＣ１～６アルキルスルフィニル基；
　トリフルオロメチルスルフィニル基、２，２，２－トリフルオロエチルスルフィニル基などのＣ１～６ハロアルキルスルフィニル基；
　フェニルスルフィニル基；
　チアゾリルスルフィニル基、ピリジルスルフィニル基などの５～６員ヘテロアリールスルフィニル基；
　メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ｔ－ブチルスルホニル基などのＣ１～６アルキルスルホニル基；
　トリフルオロメチルスルホニル基、２，２，２－トリフルオロエチルスルホニル基などのＣ１～６ハロアルキルスルホニル基；
　フェニルスルホニル基；
　チアゾリルスルホニル基、ピリジルスルホニル基などの５～６員ヘテロアリールスルホニル基；
　メチルスルホニルオキシ基、エチルスルホニルオキシ基、ｔ－ブチルスルホニルオキシ基などのＣ１～６アルキルスルホニルオキシ基；
　トリフルオロメチルスルホニルオキシ基、２，２，２－トリフルオロエチルスルホニルオキシ基などのＣ１～６ハロアルキルスルホニルオキシ基；

　トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔ－ブチルジメチルシリル基などのトリＣ１～６アルキル置換シリル基；
　トリフェニルシリル基；
　ペンタフルオロスルファニル基；
　シアノ基；ニトロ基；

　また、これらの「置換基」は、前記置換基中のいずれかの水素原子が、異なる構造の基で置換されていてもよい。その場合の「置換基」としては、Ｃ１～６アルキル基、Ｃ１～６ハロアルキル基、Ｃ１～６アルコキシ基、Ｃ１～６ハロアルコキシ基、ハロゲノ基、シアノ基、ニトロ基などを挙げることができる。

　また、上記の「３～６員ヘテロシクリル基」とは、窒素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群から選ばれる１～４個のヘテロ原子を環の構成原子として含む、３員環、４員環、５員環または６員環の基をいう。ヘテロシクリル基は、単環および多環のいずれであってもよい。多環ヘテロシクリル基は、少なくとも一つの環がヘテロ環であれば、残りの環が飽和脂環、不飽和脂環または芳香環のいずれであってもよい。「３～６員ヘテロシクリル基」としては、３～６員飽和ヘテロシクリル基、５～６員不飽和ヘテロシクリル基、５～６員ヘテロアリール基などを挙げることができる。

　３～６員飽和ヘテロシクリル基としては、アジリジニル基、エポキシ基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、テトラヒドロフラニル基、ジオキソラニル基、テトラヒドロピラニル基、ピペリジル基、ピペラジニル基、モルホリニル基、ジオキサニル基などを挙げることができる。
　５～６員不飽和ヘテロシクリル基としては、ピロリニル基、ジヒドロフラニル基、イミダゾリニル基、ピラゾリニル基、オキサゾリニル基、イソオキサゾリニル基、チアゾリニル基、イソチアゾリニル基、ジヒドロピラニル基、ジヒドロオキサジニル基などを挙げることができる。

　５員ヘテロアリール基としては、ピロリル基、フリル基、チエニル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、トリアゾリル基、オキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、テトラゾリル基などを挙げることができる。
　６員ヘテロアリール基としては、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、トリアジニル基などを挙げることができる。

〔Ｒ^１〕
　Ｒ^１は、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、または５～６員環状エーテル基を示す。

　Ｒ^１における「Ｃ１～６アルキル基」は、直鎖であってもよいし、分岐鎖であってもよい。Ｒ^１における「Ｃ１～６アルキル基」としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｉ－プロピル基、ｉ－ブチル基、ｓ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ｉ－ペンチル基、ネオペンチル基、２－メチルブチル基、ｉ－ヘキシル基などを挙げることができる。

　Ｒ^１における「Ｃ２～６アルケニル基」としては、ビニル基、１－プロペニル基、２－プロペニル基、１－ブテニル基、２－ブテニル基、３－ブテニル基、１－メチル－２－プロペニル基、２－メチル－２－プロペニル基、１－ペンテニル基、２－ペンテニル基、３－ペンテニル基、４－ペンテニル基、１－メチル－２－ブテニル基、２－メチル－２－ブテニル基、１－ヘキセニル基、２－ヘキセニル基、３－ヘキセニル基、４－ヘキセニル基、５－ヘキセニル基などを挙げることができる。

　Ｒ^１における「Ｃ２～６アルキニル基」としては、エチニル基、１－プロピニル基、２－プロピニル基、１－ブチニル基、２－ブチニル基、３－ブチニル基、１－メチル－２－プロピニル基、２－メチル－３－ブチニル基、１－ペンチニル基、２－ペンチニル基、３－ペンチニル基、４－ペンチニル基、１－メチル－２－ブチニル基、２－メチル－３－ペンチニル基、１－ヘキシニル基、１，１－ジメチル－２－ブチニル基などを挙げることができる。

　Ｒ^１における「Ｃ１～６アルキル基」、「Ｃ２～６アルケニル基」、または「Ｃ２～６アルキニル基」上の置換基は、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、イオド基などのハロゲノ基；　水酸基；　メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、ｉ－プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｓ－ブトキシ基、ｉ－ブトキシ基、ｔ－ブトキシ基などのＣ１～６アルコキシ基；　２，３－ジクロロブトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２，２－トリフルオロエトキシ基などのＣ１～６ハロアルコキシ基；　メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ－プロピルチオ基、ｉ－プロピルチオ基、ｎ－ブチルチオ基、ｉ－ブチルチオ基、ｓ－ブチルチオ基、ｔ－ブチルチオ基などのＣ１～６アルキルチオ基；　メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ｔ－ブチルスルフィニル基などのＣ１～６アルキルスルフィニル基；　メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ｔ－ブチルスルホニル基などのＣ１～６アルキルスルホニル基；　シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などのＣ３～６シクロアルキル基；　フェニル基；　４－メチルフェニル基、４－クロロフェニル基、４－トリフルオロメチルフェニル基、４－トリフルオロメトキシフェニル基などの、Ｃ１～６アルキル基置換、ハロゲノ基置換、Ｃ１～６ハロアルキル基置換若しくはＣ１～６ハロアルコキシ基置換のフェニル基；　またはシアノ基；　が好ましい。

　Ｒ^１における「Ｃ３～６シクロアルキル基」としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる。

　Ｒ^１における「５～６員環状エーテル基」としては、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基などを挙げることができる。

　Ｒ^１における「Ｃ３～８シクロアルキル基」上の置換基は、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、イオド基などのハロゲノ基；　メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｉ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｓ－ブチル基、ｉ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基などのＣ１～６アルキル基；　ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、１，２－ジクロロ－ｎ－プロピル基、１－フルオロ－ｎ－ブチル基などのＣ１～６ハロアルキル基；　水酸基；　メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、ｉ－プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｓ－ブトキシ基、ｉ－ブトキシ基、ｔ－ブトキシ基などのＣ１～６アルコキシ基；　２，３－ジクロロブトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２，２－トリフルオロエトキシ基などのＣ１～６ハロアルコキシ基；　またはシアノ基；　が好ましい。

　本発明においては、Ｒ¹は、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基または５～６員環状エーテル基であることが好ましい。
　Ｒ^１における「Ｃ１～６アルキル基」上の置換基は、ハロゲノ基、Ｃ１～６アルコキシ基、Ｃ１～６ハロアルコキシ基、Ｃ１～６アルキルチオ基、Ｃ１～６アルキルスルフィニル基、Ｃ１～６アルキルスルホニル基、またはＣ３～６シクロアルキル基が好ましい。

〔Ｒ^２〕
　Ｒ^２は、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、または置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基を示す。
　Ｒ^２における「無置換のＣ１～６アルキル基」、「置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基」、または「置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基」の具体例としては、Ｒ^１において例示したものと同じものを挙げることができる。

　Ｒ^２における「Ｃ１～６アルキル基」上の置換基は、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、イオド基などのハロゲノ基；　メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、ｉ－プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｓ－ブトキシ基、ｉ－ブトキシ基、ｔ－ブトキシ基などのＣ１～６アルコキシ基；　メトキシエトキシ基などのＣ１～６アルコキシＣ１～６アルコキシ基；　２，３－ジクロロブトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２，２－トリフルオロエトキシ基などのＣ１～６ハロアルコキシ基；　メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ－プロピルチオ基、ｉ－プロピルチオ基、ｎ－ブチルチオ基、ｉ－ブチルチオ基、ｓ－ブチルチオ基、ｔ－ブチルチオ基などのＣ１～６アルキルチオ基；　メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ｔ－ブチルスルフィニル基などのＣ１～６アルキルスルフィニル基；　メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ｔ－ブチルスルホニル基などのＣ１～６アルキルスルホニル基；　シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などのＣ３～６シクロアルキル基；　フェニル基；　４－メチルフェニル基、４－クロロフェニル基、４－トリフルオロメチルフェニル基、４－トリフルオロメトキシフェニル基などの、Ｃ１～６アルキル基置換、ハロゲノ基置換、Ｃ１～６ハロアルキル基置換若しくはＣ１～６ハロアルコキシ基置換のフェニル基；　Ｃ１～６アルキル基置換、ハロゲノ基置換、Ｃ１～６ハロアルキル基置換若しくはＣ１～６ハロアルコキシ基置換のフェノキシ基；　５員ヘテロアリール基；　Ｃ１～６アルキル基置換、ハロゲノ基置換、Ｃ１～６ハロアルキル基置換若しくはＣ１～６ハロアルコキシ基置換の５員ヘテロアリール基；　アセチル基などのＣ１～６アルキルカルボニル基；　ベンゾイル基；　メトキシカルボニル基などのＣ１～６アルコキシカルボニル基；　アセトアミド基などのＣ１～６アルキルカルボキシアミド基；　（（１，３－ジオキソイソインドリン－２－イル）オキシ基、トリメチルシリル基、またはシアノ基；　が好ましい。

　Ｒ^２における「Ｃ１～６アルキル基」上の置換基のひとつとして挙げた「５員ヘテロアリール基」とは、窒素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群から選ばれる１～４個のヘテロ原子を環の構成原子として含む、５員の芳香環の基である。
　５員ヘテロアリール基としては、ピロリル基、フリル基、チエニル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、トリアゾリル基、オキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、テトラゾリル基などを挙げることができる。

〔Ｒ^３〕
　Ｒ^３は、水素原子、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、置換若しくは無置換のＣ１～６アルコキシ基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、または置換若しくは無置換のフェニル基を示す。
　Ｒ^３におけるこれらの基の具体例としては、Ｒ¹において例示したものと同じものを挙げることができる。

　Ｒ^３における「Ｃ１～６アルコキシ基」としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｎ－ペンチルオキシ基、ｎ－ヘキシルオキシ基、ｉ－プロポキシ基、ｉ－ブトキシ基、ｓ－ブトキシ基、ｔ－ブトキシ基、ｉ－ヘキシルオキシ基などを挙げることができる。

　Ｒ^３における「Ｃ１～６アルコキシ基」上の置換基は、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、イオド基などのハロゲノ基；　水酸基；　メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、ｉ－プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｓ－ブトキシ基、ｉ－ブトキシ基、ｔ－ブトキシ基などのＣ１～６アルコキシ基；　２，３－ジクロロブトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２，２－トリフルオロエトキシ基などのＣ１～６ハロアルコキシ基；　メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ－プロピルチオ基、ｉ－プロピルチオ基、ｎ－ブチルチオ基、ｉ－ブチルチオ基、ｓ－ブチルチオ基、ｔ－ブチルチオ基などのＣ１～６アルキルチオ基；　メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ｔ－ブチルスルフィニル基などのＣ１～６アルキルスルフィニル基；　メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ｔ－ブチルスルホニル基などのＣ１～６アルキルスルホニル基；　シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などのＣ３～６シクロアルキル基；　フェニル基；　４－メチルフェニル基、４－クロロフェニル基、４－トリフルオロメチルフェニル基、４－トリフルオロメトキシフェニル基などの、Ｃ１～６アルキル基置換、ハロゲノ基置換、Ｃ１～６ハロアルキル基置換若しくはＣ１～６ハロアルコキシ基置換のフェニル基；　またはシアノ基；　が好ましい。

　Ｒ^３における「フェニル基」上の置換基は、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、イオド基などのハロゲノ基；　メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｉ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｓ－ブチル基、ｉ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基などのＣ１～６アルキル基；　ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、１，２－ジクロロ－ｎ－プロピル基、１－フルオロ－ｎ－ブチル基などのＣ１～６ハロアルキル基；　水酸基；　メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、ｉ－プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｓ－ブトキシ基、ｉ－ブトキシ基、ｔ－ブトキシ基などのＣ１～６アルコキシ基；　２，３－ジクロロブトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２，２－トリフルオロエトキシ基などのＣ１～６ハロアルコキシ基；　またはシアノ基；　が好ましい。

　本発明においては、Ｒ^３は、水素原子、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、または置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基であることが好ましい。
　Ｒ^３における「Ｃ１～６アルキル基」、「Ｃ２～６アルケニル基」、または「Ｃ２～６アルキニル基」上の置換基は、ハロゲノ基が好ましい。「Ｃ３～６シクロアルキル基」上の置換基は、ハロゲノ基またはＣ１～６アルキル基が好ましい。

〔Ｑ〕
　Ｑは、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示す。

　Ｑにおける「フェニル基」、または「ナフチル基」上の置換基（置換基（Ｘ）ということがある。）は、ハロゲノ基、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、水酸基、置換若しくは無置換のＣ１～６アルコキシ基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニルオキシ基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニルオキシ基、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキルチオ基、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキルスルフィニル基、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキルスルホニル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキルオキシ基、置換若しくは無置換のフェニル基、フェノキシ基、置換若しくは無置換の５～６員ヘテロシクリル基、置換若しくは無置換の５～６員ヘテロシクリルオキシ基、置換若しくは無置換のフェニルスルホニル基、Ｒ－ＣＯ－で表される基、ＲＯ－ＣＯ－で表される基、Ｒ－ＣＯＮＲ^ａ－で表される基、ＲＮＨ－ＣＯ－で表される基、Ｒ_２Ｎ－ＣＯ－で表される基、ＲＯ－ＣＯ－ＮＲ^ａ－で表される基、ＲＮＨ－ＣＯ－ＮＨ－で表される基、Ｒ_２Ｎ－ＣＯ－ＮＨ－で表される基、ＲＮＨ－ＣＯ－ＣＯ－ＮＨ－で表される基、Ｒ_２Ｎ－ＣＯ－ＣＯ－ＮＨ－で表される基、Ｒ－Ｓ（Ｏ）_２－ＮＨ－で表される基、Ｒ_２Ｎ－Ｓ（Ｏ）_２－で表される基、Ｒ_２Ｓ（Ｏ）＝Ｎ－で表される基、Ｒ－Ｓ（Ｏ）（＝Ｎ－Ｒ^ｂ）－で表される基、ＲＯ－Ｎ＝Ｃ（Ｒ^ｃ）－で表される基、ニトロ基、およびシアノ基からなる群より選択される少なくともひとつである。
　ここで、Ｒは、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基または置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基を示す。
　Ｒ^ａは、それぞれ独立に、水素原子、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、または置換若しくは無置換のＣ１～６アルコキシ基を示す。
　Ｒ^ｂは、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基または置換若しくは無置換のフェニル基を示す。
　Ｒ^ｃは、水素原子または置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基を示す。
　また、上記のＲ_２Ｎ－ＣＯ－で表される基、Ｒ_２Ｎ－ＣＯ－ＮＨ－で表される基、Ｒ_２Ｎ－ＣＯ－ＣＯ－ＮＨ－で表される基、またはＲ_２Ｎ－Ｓ（Ｏ）_２－で表される基において、ＲとＲとが結合してそれらが結合する窒素原子と共に４～６員環を形成してもよい。
　また、上記のＲ_２Ｓ（Ｏ）＝Ｎ－で表される基において、ＲとＲとが結合してそれらが結合する硫黄原子と共に５～６員環を形成してもよい。
　Ｑにおける「フェニル基」、または「ナフチル基」の置換基（Ｘ）は２以上ある場合、そのうちの２つが一緒になって二価の有機基を形成してもよい。

〔Ｘ〕
　Ｘは、ハロゲノ基、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、水酸基、置換若しくは無置換のＣ１～６アルコキシ基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニルオキシ基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニルオキシ基、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキルチオ基、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキルスルフィニル基、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキルスルホニル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキルオキシ基、置換若しくは無置換のフェニル基、フェノキシ基、置換若しくは無置換の５～６員ヘテロシクリル基、置換若しくは無置換の５～６員ヘテロシクリルオキシ基、置換若しくは無置換のフェニルスルホニル基、Ｒ－ＣＯ－で表される基、ＲＯ－ＣＯ－で表される基、Ｒ－ＣＯＮＲ^ａ－で表される基、ＲＮＨ－ＣＯ－で表される基、Ｒ_２Ｎ－ＣＯ－で表される基、ＲＯ－ＣＯ－ＮＲ^ａ－で表される基、ＲＮＨ－ＣＯ－ＮＨ－で表される基、Ｒ_２Ｎ－ＣＯ－ＮＨ－で表される基、ＲＮＨ－ＣＯ－ＣＯ－ＮＨ－で表される基、Ｒ_２Ｎ－ＣＯ－ＣＯ－ＮＨ－で表される基、Ｒ－Ｓ（Ｏ）_２－ＮＨ－で表される基、Ｒ_２Ｎ－Ｓ（Ｏ）_２－で表される基、Ｒ_２Ｓ（Ｏ）＝Ｎ－で表される基、Ｒ－Ｓ（Ｏ）（＝Ｎ－Ｒ^ｂ）－で表される基、ＲＯ－Ｎ＝Ｃ（Ｒ^ｃ）－で表される基、ニトロ基、またはシアノ基を示す。

　Ｘにおける「ハロゲノ基」としては、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、イオド基などを挙げることができる。

　Ｘにおける「Ｃ１～６アルキル基」は、直鎖であってもよいし、分岐鎖であってもよい。Ｘにおける「Ｃ１～６アルキル基」としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｉ－プロピル基、ｉ－ブチル基、ｓ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ｉ－ペンチル基、ネオペンチル基、２－メチルブチル基、ｉ－ヘキシル基などを挙げることができる。

　Ｘにおける「Ｃ２～６アルケニル基」としては、ビニル基、１－プロペニル基、２－プロペニル基、１－ブテニル基、２－ブテニル基、３－ブテニル基、１－メチル－２－プロペニル基、２－メチル－２－プロペニル基、１－ペンテニル基、２－ペンテニル基、３－ペンテニル基、４－ペンテニル基、１－メチル－２－ブテニル基、２－メチル－２－ブテニル基、１－ヘキセニル基、２－ヘキセニル基、３－ヘキセニル基、４－ヘキセニル基、５－ヘキセニル基などを挙げることができる。

　Ｘにおける「Ｃ２～６アルキニル基」としては、エチニル基、１－プロピニル基、２－プロピニル基、１－ブチニル基、２－ブチニル基、３－ブチニル基、１－メチル－２－プロピニル基、２－メチル－３－ブチニル基、１－ペンチニル基、２－ペンチニル基、３－ペンチニル基、４－ペンチニル基、１－メチル－２－ブチニル基、２－メチル－３－ペンチニル基、１－ヘキシニル基、１，１－ジメチル－２－ブチニル基などを挙げることができる。

　Ｘにおける「Ｃ１～６アルコキシ基」としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｎ－ペンチルオキシ基、ｎ－ヘキシルオキシ基、ｉ－プロポキシ基、ｉ－ブトキシ基、ｓ－ブトキシ基、ｔ－ブトキシ基、ｉ－ヘキシルオキシ基などを挙げることができる。

　Ｘにおける「Ｃ２～６アルケニルオキシ基」としては、ビニルオキシ基、アリルオキシ基、プロペニルオキシ基、ブテニルオキシ基などを挙げることができる。

　Ｘにおける「Ｃ２～６アルキニルオキシ基」としては、エチニルオキシ基、プロパルギルオキシ基などを挙げることができる。

　Ｘにおける「Ｃ１～６アルキルチオ基」は、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ－プロピルチオ基、ｎ－ブチルチオ基、ｎ－ペンチルチオ基、ｎ－ヘキシルチオ基、ｉ－プロピルチオ基などを挙げることができる。

　Ｘにおける「Ｃ１～６アルキルスルフィニル基」としては、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ｔ－ブチルスルフィニル基などを挙げることができる。

　Ｘにおける「Ｃ１～６アルキルスルホニル基」としては、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ｔ－ブチルスルホニル基などを挙げることができる。

　Ｘにおける「Ｃ１～６アルキル基」または「Ｃ１～６アルコキシ基」上の置換基は、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、イオド基などのハロゲノ基；　水酸基；　メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、ｉ－プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｓ－ブトキシ基、ｉ－ブトキシ基、ｔ－ブトキシ基などのＣ１～６アルコキシ基；　メトキシエトキシ基などのＣ１～６アルコキシＣ１～６アルコキシ基；　シクロプロピルメトキシ基などのＣ３～６シクロアルキルＣ１～６アルコキシ基；　２，３－ジクロロブトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２，２－トリフルオロエトキシ基、３，３，３－トリフルオロプロポキシ基などのＣ１～６ハロアルコキシ基；　メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ－プロピルチオ基、ｉ－プロピルチオ基、ｎ－ブチルチオ基、ｉ－ブチルチオ基、ｓ－ブチルチオ基、ｔ－ブチルチオ基などのＣ１～６アルキルチオ基；　メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ｔ－ブチルスルフィニル基などのＣ１～６アルキルスルフィニル基；　メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ｔ－ブチルスルホニル基などのＣ１～６アルキルスルホニル基；　シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などのＣ３～６シクロアルキル基；　フェニル基；　４－メチルフェニル基、４－クロロフェニル基、４－トリフルオロメチルフェニル基、４－トリフルオロメトキシフェニル基などの、Ｃ１～６アルキル基置換、ハロゲノ基置換、Ｃ１～６ハロアルキル基置換若しくはＣ１～６ハロアルコキシ基置換のフェニル基；　モルホリニル基；　トリアゾリル基などの５員ヘテロアリール基；　Ｃ１～６アルキル基置換、ハロゲノ基置換、Ｃ１～６ハロアルキル基置換若しくはＣ１～６ハロアルコキシ基置換の５員ヘテロアリール基；　メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基などのＣ１～６アルキル基置換アミノカルボニル基；　（プロパン－２－イリデンアミド）オキシ基；　またはシアノ基；　が好ましい。

　Ｘにおける「Ｃ２～６アルケニル基」、「Ｃ２～６アルキニル基」、「Ｃ２～６アルキニルオキシ基」、「Ｃ１～６アルキルチオ基」、「Ｃ１～６アルキルスルフィニル基」、または「Ｃ１～６アルキルスルホニル基」上の置換基は、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、イオド基などのハロゲノ基；　水酸基；　メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、ｉ－プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｓ－ブトキシ基、ｉ－ブトキシ基、ｔ－ブトキシ基などのＣ１～６アルコキシ基；　２，３－ジクロロブトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２，２－トリフルオロエトキシ基などのＣ１～６ハロアルコキシ基；　メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ｔ－ブチルスルホニル基などのＣ１～６アルキルスルホニル基；　シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などのＣ３～６シクロアルキル基；　フェニル基；　４－メチルフェニル基、４－クロロフェニル基、４－トリフルオロメチルフェニル基、４－トリフルオロメトキシフェニル基などの、Ｃ１～６アルキル基置換、ハロゲノ基置換、Ｃ１～６ハロアルキル基置換若しくはＣ１～６ハロアルコキシ基置換のフェニル基；　またはシアノ基；　が好ましい。

　Ｘにおける「Ｃ３～６シクロアルキル基」としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる。
　Ｘにおける「Ｃ３～６シクロアルキルオキシ基」としては、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロヘプチルオキシ基などを挙げることができる。

　Ｘにおける「５～６員ヘテロシクリル基」は、窒素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群から選ばれる１、２，３または４個のヘテロ原子を環の構成原子として含む５員環または６員環の基である。ヘテロ原子が２個以上であるとき、それらは同じでもよいし、異なってもよい。「５～６員ヘテロシクリル基」としては、５～６員飽和ヘテロシクリル基、５～６員不飽和ヘテロシクリル基、５～６員ヘテロアリール基などを挙げることができる。

　５～６員飽和ヘテロシクリル基としては、ピロリジニル基、テトラヒドロフラニル基、ジオキソラニル基、テトラヒドロピラニル基、ピペリジル基、ピペラジニル基、モルホリニル基、ジオキサニル基などを挙げることができる。
　５～６員不飽和ヘテロシクリル基としては、ピロリニル基、ジヒドロフラニル基、イミダゾリニル基、ピラゾリニル基、オキサゾリニル基、イソオキサゾリニル基、チアゾリニル基、イソチアゾリニル基、ジヒドロピラニル基、ジヒドロオキサジニル基などを挙げることができる。
　５員ヘテロアリール基としては、ピロリル基、フリル基、チエニル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、トリアゾリル基、オキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、テトラゾリル基などを挙げることができる。
　６員ヘテロアリール基としては、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、トリアジニル基などを挙げることができる。

　Ｘにおける「５～６員ヘテロシクリルオキシ基」は、５～６員ヘテロシクリル基とオキシ基が結合した構造を有する。具体例としては、チアゾリルオキシ基、ピリジルオキシ基などを挙げることができる。

　Ｘにおける「Ｃ３～６シクロアルキル基」、「Ｃ３～６シクロアルキルオキシ基」、「フェニル基」、「フェノキシ基」、「５～６員ヘテロシクリル基」、「５～６員ヘテロシクリルオキシ基」、または「フェニルスルホニル基」上の置換基は、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、イオド基などのハロゲノ基；　メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｉ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｓ－ブチル基、ｉ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基などのＣ１～６アルキル基；　ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、１，２－ジクロロ－ｎ－プロピル基、１－フルオロ－ｎ－ブチル基などのＣ１～６ハロアルキル基；　水酸基；　メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、ｉ－プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｓ－ブトキシ基、ｉ－ブトキシ基、ｔ－ブトキシ基などのＣ１～６アルコキシ基；　２，３－ジクロロブトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２，２－トリフルオロエトキシ基などのＣ１～６ハロアルコキシ基；　オキソ基；　またはシアノ基；　が好ましい。

　Ｒ、Ｒ^ａ、Ｒ^ｂ、またはＲ^ｃにおけるこれらの基の具体例としては、Ｘにおけて例示したものと同じものを挙げることができる。
　Ｘにおける「Ｒ－ＣＯ－で表される基」としては、アセチル基、シクロプロピルカルボニル基などを挙げることができる。
　Ｘにおける「ＲＯ－ＣＯ－で表される基」としては、メトキシカルボニル基などを挙げることができる。

　Ｘにおける「Ｒ－ＣＯＮＲ^ａ－で表される基」としては、アセトアミド基、シクロプロパンカルボキシアミド基などを挙げることができる。
　Ｘにおける「ＲＮＨ－ＣＯ－で表される基」としては、メチルアミノカルボニル基などを挙げることができる。

　Ｘにおける「Ｒ_２Ｎ－ＣＯ－で表される基」としては、ジメチルアミノカルボニル基などを挙げることができる。
　ここで、ＲとＲとが結合してそれらが結合する窒素原子と共に４～６員環を形成してもよく、形成する４～６員環としては、アゼチジン環、ピロリジン環、ピペリジン基、ピペラジン環、モルホリン環などを挙げることできる。
　４～６員環を形成後の「Ｒ_２Ｎ－ＣＯ－で表される基」としては、アゼチジン－１－カルボニル基、ピロリジン－１－カルボニル基、モルホリン－４－カルボニル基などを挙げることができる。

　Ｘにおける「ＲＯ－ＣＯ－ＮＲ^ａ－で表される基」としては、（ｔ－ブトキシカルボニル）アミノ基、メトキシ（ｔ－ブトキシカルボニル）アミノ基などを挙げることができる。

　Ｘにおける「ＲＮＨ－ＣＯ－ＮＨ－で表される基」としては、メチルアミノカルボキシアミドなどを挙げることができる。
　Ｘにおける「Ｒ_２Ｎ－ＣＯ－ＮＨ－で表される基」としては、ジメチルアミノカルボキシアミドなどを挙げることができる。
　ここで、ＲとＲとが結合してそれらが結合する窒素原子と共に４～６員環を形成してもよく、形成する４～６員環の具体例としては、上記の「Ｒ_２Ｎ－ＣＯ－で表される基」において例示したものと同じものを挙げることができる。
　４～６員環を形成後の「Ｒ_２Ｎ－ＣＯ－ＮＨ－で表される基」としては、アゼチジン－１－カルボキシアミド基、ピロリジン－１－カルボキシアミド基、モルホリン－４－カルボキシアミドなどを挙げることができる。

　Ｘにおける「ＲＮＨ－ＣＯ－ＣＯ－ＮＨ－で表される基」としては、メチルアミノカルボニルカルボキシアミドなどを挙げることができる。
　Ｘにおける「Ｒ_２Ｎ－ＣＯ－ＣＯ－ＮＨ－で表される基」としては、ジメチルアミノカルボニルカルボキシアミドなどを挙げることができる。
　ここで、ＲとＲとが結合してそれらが結合する窒素原子と共に４～６員環を形成してもよく、形成する４～６員環の具体例としては、上記の「Ｒ_２Ｎ－ＣＯ－で表される基」において例示したものと同じものを挙げることができる。
　４～６員環を形成後の「Ｒ_２Ｎ－ＣＯ－ＮＨ－で表される基」としては、アゼチジン－１－カルボニルカルボキシアミド基、ピロリジン－１－カルボニルカルボキシアミド基、モルホリン－４－カルボニルカルボキシアミドなどを挙げることができる。

　Ｘにおける「Ｒ－Ｓ（Ｏ）_２－ＮＨ－で表される基」としては、メチルスルホンアミドなどを挙げることができる。
　Ｘにおける「Ｒ_２Ｎ－Ｓ（Ｏ）_２－で表される基」としては、メチルスルホンアミドなどを挙げることができる。
　ここで、ＲとＲとが結合してそれらが結合する窒素原子と共に４～６員環を形成してもよく、形成する４～６員環の具体例としては、上記の「Ｒ_２Ｎ－ＣＯ－で表される基」において例示したものと同じものを挙げることができる。
　４～６員環を形成後の「Ｒ_２Ｎ－Ｓ（Ｏ）_２－で表される基」としては、アゼチジン－１－スルホニル基、ピロリジン－１－スルホニル基、モルホリノスルホニル基などを挙げることができる。

　Ｘにおける「Ｒ_２Ｓ（Ｏ）＝Ｎ－で表される基」としては、（ジメチルオキシド－λ^４－スルファニリデン）アミノ基（Ｍｅ_２Ｓ（Ｏ）＝Ｎ－）などを挙げることができる。
　ここで、ＲとＲとが結合してそれらが結合する硫黄原子と共に５～６員環を形成してもよく、形成する５～６員環としては、テトラヒドロチオフェン環、テトラヒドロ－２Ｈ－チオピラン環などを挙げることできる。
　５～６員環を形成後の「Ｒ_２Ｓ（Ｏ）＝Ｎ－で表される基」としては、（テトラヒドロ－１－オキシド－２Ｈ－チオピラン－１－イリデン）アミノ基などを挙げることができる。

　Ｘにおける「Ｒ－Ｓ（Ｏ）（＝Ｎ－Ｒ^ｂ）－で表される基」としては、Ｓ－メチル－Ｎ－メチルスルホンイミドイル基、Ｓ－メチル－Ｎ－（ｐ－クロロフェニル）スルホンイミドイル基などを挙げることができる。

　Ｘにおける「ＲＯ－Ｎ＝Ｃ（Ｒ^ｃ）－で表される基」としては、（メトキシイミノ）メチル基、１－（メトキシイミノ）エチル基などを挙げることができる。

　「２つのＸが一緒になって形成しうる二価の有機基」は、置換若しくは無置換の飽和の炭素原子数が１～４個の二価炭化水素基；またはＯ、Ｎ、およびＳからなる群より選択される１または２以上のヘテロ原子を含有する基と、置換若しくは無置換の飽和の炭素原子数が１～４個の二価炭化水素基とが結合して成る二価の基である。
　さらに、２つのＸが一緒になって形成しうる二価の有機基は、置換若しくは無置換の不飽和の炭素原子数が２～３個の二価炭化水素基；またはＯ、Ｎ、およびＳからなる群より選択される１または２以上のヘテロ原子を含有する基と、置換若しくは無置換の不飽和の炭素原子数が２～３個の二価炭化水素基とが結合して成る二価の基である。

　飽和の炭素原子数が１～４個の二価炭化水素基としては、メチレン基、ジメチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基などの「Ｃ１～４アルキレン基」を挙げることができる。
　不飽和の炭素原子数が２～３個の二価炭化水素基としては、ビニレン基（－ＣＨ＝ＣＨ－）、プロペニレン基（－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＨ₂－、－ＣＨ₂－ＣＨ＝ＣＨ－）などの「Ｃ２～３アルケニレン基」を挙げることができる。
　「飽和若しくは不飽和の二価炭化水素基」上の置換基は、ハロゲン基、Ｃ１～６アルキル基、またはＣ１～６ハロアルキル基が好ましい。

　酸素原子（Ｏ）を含有する基としては、オキシ（－Ｏ－）基、カルボニル（－Ｃ（Ｏ）－）基、カルボキシ（－ＣＯＯ－）基などを挙げることができる。
　酸素原子（Ｏ）を含有する基と飽和二価炭化水素基とが結合して成る２価の基としては、オキシジメチレン基（－Ｏ－ＣＨ₂ＣＨ₂－）などの「オキシＣ２～３アルキレン基」、ジメチレンオキシ基（－ＣＨ₂ＣＨ₂－Ｏ－）などの「Ｃ２～３アルキレンオキシ基」、オキシメチレンオキシ基（－Ｏ－ＣＨ₂－Ｏ－）などの「オキシＣ１～２アルキレンオキシ基」、メチレンオキシメチレン基（－ＣＨ₂－Ｏ－ＣＨ₂－）、メチレンオキシジメチレン基（－ＣＨ₂－Ｏ－ＣＨ₂ＣＨ₂－）、ジメチレンオキシメチレン基（－ＣＨ₂ＣＨ₂－Ｏ－ＣＨ₂－）などの「Ｃ１～２アルキレンオキシＣ１～Ｃ２アルキレン基」などを挙げることができる。

　窒素原子（Ｎ）を含有する基としては、イミノ（－ＮＨ－）基、Ｎ－置換イミノ基、イミノオキシ（－ＮＨ－О－）基、Ｎ－置換イミノオキシ基、オキシイミノ（－О－ＮＨ－）基、Ｎ－置換オキシイミノ基などを挙げることができる。
　窒素原子（Ｎ）を含有する基と飽和二価炭化水素基とが結合して成る２価の基としては、イミノジメチレン基（－ＮＨ－ＣＨ₂ＣＨ₂－）などの「イミノＣ２～３アルキレン基」、ジメチレンイミノ基（－ＣＨ₂ＣＨ₂－ＮＨ－）などの「Ｃ２～３アルキレンイミノ基」、イミノメチレンイミノ基（－ＮＨ－ＣＨ₂－ＮＨ－）などの「イミノＣ１～２アルキレンイミノ基」、メチレンイミノメチレン基（－ＣＨ₂－ＮＨ－ＣＨ₂－）、メチレンイミノジメチレン基（－ＣＨ₂－ＮＨ－ＣＨ₂ＣＨ₂－）、ジメチレンイミノメチレン基（－ＣＨ₂ＣＨ₂－ＮＨ－ＣＨ₂－）などの「Ｃ１～２アルキレンイミノＣ１～Ｃ２アルキレン基」などを挙げることができる。

　硫黄原子（Ｓ）を含有する基として、チオ（－Ｓ－）基、スルフィニル（－Ｓ（Ｏ）－）基、スルホニル（－Ｓ（Ｏ）₂－）基を挙げることができる。
　硫黄原子（Ｓ）を含有する基と飽和二価炭化水素基とが結合して成る２価の基としては、チオジメチレン基（－Ｓ－ＣＨ₂ＣＨ₂－）、チオトリメチレン基（－Ｓ－ＣＨ_２ＣＨ₂ＣＨ₂－）などの「チオＣ２～４アルキレン基」、ジメチレンチオ基（－ＣＨ₂ＣＨ₂－Ｓ－）などの「Ｃ２～４アルキレンチオ基」、「スルフィニル－Ｃ２～４アルキレン基」、「スルホニル－Ｃ２～４アルキレン基」、「Ｃ２～４アルキレン－スルフィニル基」、「Ｃ２～４アルキレン－スルホニル基」などを挙げることができる。

　その他にも、「オキシＣ１～２アルキレンチオ基」、「チオＣ１～２アルキレンオキシ基」、「オキシＣ１～２アルキレンスルホニル基」、「スルホニルＣ１～２アルキレンオキシ基」などを挙げることができる。

　本発明においては、「２つのＸが一緒になって形成しうる二価の有機基」は、置換若しくは無置換の飽和の炭素原子数が１～４個の二価炭化水素基；またはＯおよびＳからなる群より選択される１または２以上のヘテロ原子を含有する基と、置換若しくは無置換の飽和の炭素原子数が１～４個の二価炭化水素基とが結合して成る二価の基であることが好ましい。酸素原子（Ｏ）を含有する基としては、オキシ（－Ｏ－）基が好ましく、硫黄原子（Ｓ）を含有する基として、チオ（－Ｓ－）基、またはスルホニル（－Ｓ（Ｏ）₂－）基が好ましい。

　本発明において、Ｑは置換若しくは無置換のフェニル基であることが好ましい。Ｑが置換若しくは無置換のフェニル基である場合の化合物（I）を、式（I-1）に示す。

　式（I-1）中、Ｒ^１～Ｒ^３は、式（I）中のそれらと同じ意味を示す。Ｘは先に挙げたフェニル基上の置換基を示す。ｎは、０～５の整数を示す。ｎが２以上である場合、Ｘは同一であっても異なっていてもよい。ｎが２以上ある場合、そのうちの２つのＸが一緒になって二価の有機基を形成してもよい。

　本発明において、上記の式（I-1）で表される化合物は、以下の式（I-3）で表される化合物であることが好ましい。

　式（I-3）中、Ｒ^１～Ｒ^３は、式（I）中のそれらと同じ意味を示す。
　Ｘ^１は、ハロゲノ基、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、置換若しくは無置換のＣ１～６アルコキシ基、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキルチオ基、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキルスルフィニル基、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキルスルホニル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、置換若しくは無置換のフェニル基、置換若しくは無置換の５～６員ヘテロシクリル基、ニトロ基、またはシアノ基を示す。
　ｍは、０～３の整数を示す。ｍが２以上である場合、Ｘ^１は同一であっても異なっていてもよい。
　Ｘ^１におけるこれらの基の具体例としては、Ｘにおいて例示したものと同じものを挙げることができる。

　Ｘ^１における「Ｃ１～６アルキル基」、「Ｃ２～６アルケニル基」、「Ｃ２～６アルキニル基」、「Ｃ１～６アルコキシ基」、「Ｃ１～６アルキルチオ基」、「Ｃ１～６アルキルスルフィニル基」、または「Ｃ１～６アルキルスルホニル基」上の置換基は、ハロゲノ基が好ましい。「Ｃ３～６シクロアルキル基」上の置換基は、ハロゲノ基またはＣ１～６アルキル基が好ましい。「フェニル基」または「５～６員ヘテロシクリル基」上の置換基は、ハロゲノ基、Ｃ１～６アルキル基、Ｃ１～６ハロアルキル基、Ｃ１～６アルコキシ基、Ｃ１～６ハロアルコキシ基、またはシアノ基が好ましい。

〔塩〕
　化合物（I）の塩としては、リチウム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属の塩；カルシウム、マグネシウム等のアルカリ土類金属の塩；鉄、銅等の遷移金属の塩；アンモニウム塩；トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、ヒドラジン等の有機塩基の塩；等を挙げることができる。

　化合物（I）または化合物（I）の塩の構造は、ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトル、ＭＳスペクトル等で決定することができる。

　化合物（I）は、その製造方法によって特に限定されない。また、化合物（I）の塩は、化合物（I）から公知の手法によって得ることができる。化合物（I）は、例えば、特許文献１に記載の製法によって得られる化合物をその製造中間体として用い、実施例等に記載した方法により製造することができる。

（反応スキーム１）
　例えば、化合物（Ｉ）は、以下の反応スキーム１に示されるように、式（２）の化合物から調製され得る。式（２）中の記号は式（Ｉ）中のそれらと同様の意味を示す。

　式（Ｉ）の化合物は、式（２）の化合物をハロゲン化剤と反応させて、分子内にα－ハロケトン構造を構築し、式（２Ｘａ）の化合物を調製し、続いて、Ｒ^２ＯＮａなどのアルコキシド（Ｒ^２がメチル基ならば、ナトリウムメトキシドが該当する。）と反応させることで調製され得る。式（２Ｘａ）中のＸａは、クロロ基、ブロモ基などのハロゲノ基を示す。式（２Ｘａ）の化合物は不安定である場合があり、単離せずに続く反応を行うことが好ましい。

（反応スキーム２）
　式（２）の化合物は、以下の反応スキーム２に示されるように、式（３）の化合物から調製され得る。式（３）中の記号は式（Ｉ）中のそれらと同様の意味を示す。Ｒ^ｘは、低級アルキル基、例えばメチル基を示す。以下Ｒ^ｘは、同じ意味を示す。

　式（２）の化合物は、式（３）の化合物をモルホリンと共に加熱することで調製され得る。

（反応スキーム３）
　式（３）の化合物は、以下の反応スキーム３に示すように、式（４）の化合物と式（５）の化合物を縮合させることで調製され得る。
　式（４）中の記号は式（Ｉ）中のそれらと同様の意味を示す。Ｒ^ｙは、低級アルキル基、例えばメチル基、エチル基などを示す。また、Ｒ^ｙ同士が結合して、１，３，２－ジオキサボロラン環を形成してもよい。式（５）中のＱは式（Ｉ）中のＱと同じ意味を示す。Ｘ^ｂはハロゲノ基を示す。

　式（３）の化合物は、好適な塩基（例えば、リン酸カリウムまたはフッ化セシウムなどの無機塩基）、金属触媒（例えば、Ｐｄ（ＯＡｃ）₂などのパラジウム触媒）および場合により、リガンド（例えばホスフィンリガンド）の存在下、式（４）の化合物と式（５）の化合物を反応させることで調製され得る。
　金属触媒およびリガンドは、予め形成された錯体（ 例えば、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウムジクロリドまたは［１，１－ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウムジクロリドジクロロメタン付加物などのパラジウム／ホスフィン錯体） として加えられ得る。
　式（５）の化合物中のＱは、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示すが、フェニル基、ナフチル基上の置換基は反応後も適宜変換してもよい。

（反応スキーム４）
　式（４）の化合物は、以下の反応スキーム４に示すように、式（６）の化合物から調製され得る。式（６）中の記号は式（Ｉ）中のそれらと同様の意味を示す。

　式（４）の化合物は、好適な塩基（例えば、リン酸カリウムまたはフッ化セシウムなどの無機塩基）、金属触媒（例えば、Ｐｄ_２（ｄｂａ）_３、（Ｐｄ（ＯＡｃ）₂などのパラジウム触媒）および場合により、リガンド（例えばホスフィンリガンド）の存在下、式（６）の化合物と、ボロン酸またはボロン酸のエステル、例えば、ビス（ピナコラト）ジボロンを反応させることで調製され得る。
　金属触媒およびリガンドは、予め形成された錯体（ 例えば、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウムジクロリドまたは［１，１－ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウムジクロリドジクロロメタン付加物などのパラジウム／ホスフィン錯体） として加えられ得る。

（反応スキーム５）
　式（６）の化合物は、以下の反応スキーム５に示すように、式（７）の化合物から調製され得る。式（７）中の記号は式（Ｉ）中のそれらと同様の意味を示す。

　式（６）の化合物は、式（７）の化合物を、好適な金属アルコキシド、例えばナトリウムメトキシドとの反応させることで調製され得る。
　式（７）の化合物は、公知の方法により調製され得る。

（反応スキーム３Ａ）
　式（３）の化合物は、以下の反応スキーム３Ａに示すように、式（６）の化合物と式（８）の化合物を縮合させることで調製され得る。
　式（８）中のＱは式（Ｉ）中のＱと同じ意味を示す。Ｒ^ｙは、低級アルキル基、例えばメチル基、エチル基などを示す。また、Ｒ^ｙ同士が結合して、１，３，２－ジオキサボロラン環を形成してもよい。

　式（３）の化合物は、好適な塩基（例えば、リン酸カリウムまたはフッ化セシウムなどの無機塩基）、金属触媒（例えば、Ｐｄ（ＯＡｃ）₂などのパラジウム触媒）および場合により、リガンド（例えばホスフィンリガンド）の存在下、式（６）の化合物と式（８）の化合物を反応させることで調製され得る。
　金属触媒およびリガンドは、予め形成された錯体（ 例えば、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウムジクロリドまたは［１，１－ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウムジクロリドジクロロメタン付加物などのパラジウム／ホスフィン錯体） として加えられ得る。
　式（８）の化合物中のＱは、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示すが、フェニル基、ナフチル基上の置換基は反応後も適宜変換してもよい。

　本発明化合物は、畑作条件で、土壌処理、茎葉処理のいずれの方法でも高い除草活性を示す。
　本発明化合物は、各種畑雑草に有効で、トウモロコシ、コムギ等の作物に選択性を示すことがある。
　また、本発明化合物は、作物、観賞用植物、果樹等の有用植物に対し、生育抑制作用等の植物成長調節作用を示すことがある。
　また、本発明化合物は、水田雑草に対し、優れた殺草効力を有し、イネに選択性を示すことがある。

　本発明の除草剤は、化合物（I）および化合物（I）の塩からなる群から選ばれる少なくともひとつを有効成分として含有する。
　すなわち、本発明の態様のひとつは、化合物（I）およびその塩からなる群から選ばれる少なくともひとつを有効成分として含有する除草剤である。
　本発明の除草剤は、畑作条件で、土壌処理、茎葉処理のいずれの方法でも高い除草活性を示す。
　また、本発明の除草剤は、水田雑草のノビエ、タマガヤツリ、オモダカ、ホタルイ等に対し、優れた殺草効力を有し、イネに選択性を示すことがある。
　更に本発明の除草剤は、果樹園、芝生、線路端、空き地等の雑草の防除にも適用することができる。

　本発明の除草剤が使用され得る有用植物は、穀物、例えば大麦および小麦、綿花、アブラナ、ヒマワリ、トウモロコシ、米、ダイズ、テンサイ、サトウキビおよび芝生などの作物を含む。
　作物は、果樹、ヤシの木、ココヤシの木または他の木の実などの木も含み得る。ブドウ、果実の低木、果実植物および野菜などのつる植物も含まれる。

　防除対象となる畑雑草としては、以下に示す雑草が挙げられる。
（Ａ）単子葉類の雑草
（１）カヤツリグサ科（Cyperaceae）の雑草
カヤツリグサ属（Cyperus）の雑草、例えばショクヨウガヤツリ（Cyperus esculentus）、コゴメガヤツリ（Cyperus iria）、カヤツリグサ（Cyperus microiria）、ハマスゲ（Cyperus rotundus）。
（２）イネ科（Poaceae）の雑草
スズメノテッポウ属（Alopecurus）の雑草、例えばスズメノテッポウ（Alopecurus aequalis）、ブラックグラス（ノスズメノテッポウ（Alopecurus myosuroides））；
セイヨウヌカボ属（Apera）の雑草、例えばセイヨウヌカボ（Apera spica-venti）；
カラスムギ属（Avena）の雑草、例えばエンバク（Avena sativa）；
スズメノチャヒキ属（Bromus）の雑草、例えばスズメノチャヒキ（Bromus japonicus）、アレチノチャヒキ（Bromus sterilis）；
メヒシバ属（Digitaria）の雑草、例えばメヒシバ（Digitaria ciliaris）、オニメヒシバ（Digitaria sanguinalis）；
ヒエ属（Echinochloa）の雑草、例えばイヌビエ（Echinochloa crus-galli）；
オヒシバ属（Eleusine）の雑草、例えばオヒシバ（Eleusine indica）；
ドクムギ属（Lolium）の雑草、例えばイタリアンライグラス（ネズミムギ（Lolium multiflorum Lam.））；
キビ属（Panicum）の雑草、例えばオオクサキビ（Panicum dichotomiflorum）；
イチゴツナギ属（Poa）の雑草、例えばスズメノカタビラ（Poa annua）；
エノコログサ属（Setaria）の雑草、例えばアキノエノコログサ（Setaria faberi）、キンエノコロ（Setaria pumila）、エノコログサ（Setaria viridis）；
モロコシ属（Sorghum）の雑草、例えばモロコシ（Sorghum bicolor）；
ニクキビモドキ属（Urochloa）の雑草、例えばメリケンニクキビ（Urochloa platyphylla）。

（Ｂ）双子葉類の雑草
（１）ヒユ科（Amaranthaceae）の雑草
ヒユ属（Amaranthus blitum）の雑草、例えばイヌビユ（Amaranthus blitum）、オオホナガアオゲイトウ（Amaranthus palmeri）、アオゲイトウ（Amaranthus retroflexus）、ホソバイヌビユ（Amaranthus rudis）；
アカザ属（Chenopodium）の雑草、例えばシロザ（Chenopodium album）；
バッシア属（Bassia）の雑草、例えばホウキギ（Bassia scoparia）。
（２）キク科（Asteraceae）の雑草
ブタクサ属（Ambrosia）の雑草、例えばブタクサ（Ambrosia artemisiifolia）、オオブタクサ（Ambrosia trifida）；
イズハハコ属（Conyza）の雑草、例えばヒメムカシヨモギ（Conyza canadensis）、オオアレチノギク（Conyza sumatrensis）；
ムカシヨモギ属（Erigeron）の雑草、例えばヒメジョオン（Erigeron annuus）；
シカギク属（Matricaria）の雑草、例えばイヌカミツレ（Matricaria inodora）、カミツレ（Matricaria recutita）；
オナモミ属（Xanthium）の雑草、例えばオオオナモミ（Xanthium occidentale）。
（３）ナデシコ科（Caryophyllaceae）の雑草  
ツメクサ属（Sagina）の雑草、例えば ツメクサ（Sagina japonica）；
ハコベ属（Stellaria）の雑草、例えばコハコベ（Stellaria media）。
（４）ヒルガオ科（Convolvulaceae）の雑草
ヒルガオ属（Calystegia）の雑草、例えばヒルガオ（Calystegia japonica）；
サツマイモ属（Ipomoea）の雑草、例えばマルバルコウ（Ipomoea coccinea）、アメリカアサガオ（Ipomoea hederacea）、マメアサガオ（Ipomoea lacunosa）、ホシアサガオ（Ipomoea triloba）。
（５）シソ科（Lamiaceae）の雑草
オドリコソウ属（Lamium）の雑草、例えばオドリコソウ（Lamium album var. barbatum）、ホトケノザ（Lamium amplexicaule）、ヒメオドリコソウ（Lamium purpureum）。
（６）アオイ科（Malvaceae）の雑草  
イチビ属（Abutilon）の雑草、例えばイチビ（Abutilon theophrasti）；
キンゴジカ属（Sida）の雑草、例えばアメリカキンゴジカ（Sida spinosa）。
（７）オオバコ科（Plantaginaceae）の雑草
クワガタソウ属（Veronica）の雑草、例えばオオイヌノフグリ（Veronica persica）。
（８）タデ科（Polygonaceae）の雑草
ソバカズラ属（Fallopia）の雑草、例えばソバカズラ（Fallopia convolvulus）。
イヌタデ属（Persicaria）の雑草、例えばオオイヌタデ（Persicaria lapathifolia）、イヌタデ（Persicaria longiseta）。
（９）アカネ科（Rubiaceae）の雑草
ヤエムグラ属（Galium）の雑草、例えばヤエムグラ（Galium spurium var. echinospermon）。

　防除対象となる水田雑草としては、以下に示す雑草が挙げられる。
（Ａ）単子葉類の雑草
（１）オモダカ科（Alismataceae）の雑草  
オモダカ属（Sagittaria）の雑草、例えばウリカワ（Sagittaria pygmaea Miq.）、オモダカ（Sagittaria trifolia）。
（２）カヤツリグサ科（Cyperaceae）の雑草の雑草
カヤツリグサ属（Cyperus）の雑草、例えばミズガヤツリ（Cyperus serotinus）、タマガヤツリ（Cyperus difforis）；
ハリイ属（Eleocharis）の雑草、例えばクログワイ（Eleocharis kuroguwai Ohwi）；
ホソガタホタルイ属（Schoenoplectiella）の雑草、例えばホタルイ（Schoenoplectiella hotarui）、イヌホタルイ（Schoenoplectiella juncoides Roxb.）。
アブラガヤ属（Scirpus）の雑草、例えばコウキヤガラ（Scirpus martimus）、シズイ（Scirpus nipponicus）。
（３）イネ科（Poaceae）の雑草
ヒエ属（Echinochloa）の雑草（いわゆるノビエ）の雑草、例えばタイヌビエ（Echinochloa oryzoides）、イヌビエ（Echinochloa crus-galli）；
サヤヌカグサ属（Leersia）の雑草、例えばアシカキ（Leersia japonica）；
スズメノヒエ属（Paspalum）の雑草、例えばキシュウスズメノヒエ（Paspalum distichum）。
（４）ミズアオイ科（Pontederiaceae）の雑草
ミズアオイ属（Monochoria）の雑草、例えばミズアオイ（Monochoria korsakowii）、
コナギ（Monochoria vaginalis var. plantaginea）。

（Ｂ）双子葉類の雑草
（１）セリ科（Apiaceae）の雑草
セリ属（Oenanthe）の雑草、例えばセリ（Oenanthe javanica）。
（２）ミゾハコベ科（Elatinaceae）の雑草  
ミゾハコベ属（Elatine）の雑草、例えばミゾハコベ（Elatine triandra）。
（３）アゼナ科（Linderniaceae）の雑草  
アゼナ属（Lindernia）の雑草、例えば アメリカアゼナ（Lindernia dubia subsp. major）、タケトアゼナ（Lindernia dubia subsp. dubia）、アゼナ（Lindernia procumbens）。
（４）ミソハギ科（Lythraceae）の雑草
キカシグサ属（Rotala）の雑草、例えばキカシグサ（Rotala indica var. uliginosa）。

　本発明の除草剤は、本発明化合物のみからなるものであってもよいし、農薬として一般にとり得る剤形、例えば、水和剤、粒剤、粉剤、乳剤、水溶剤、懸濁剤、フロアブル等に製剤化したものであってもよい。

　製剤化に当たって公知の添加剤または担体を用いることができる。
　すなわち、本発明の態様のひとつは、農芸化学的に許容できる固体担体、および／または液体担体を含む、除草剤である。
　固体の剤形を目的とする場合は、大豆粉、小麦粉等の植物性粉末、珪藻土、燐灰石、石こう、タルク、ベントナイト、パイロフィライト、クレイ等の鉱物性微粉末、安息香酸ソーダ、尿素、芒硝等の有機及び無機化合物などの固体担体を用いることができる。
　液体の剤形を目的とする場合は、ケロシン、キシレン及びソルベントナフサ等の石油留分、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アルコール、アセトン、トリクロルエチレン、メチルイソブチルケトン、鉱物油、植物油、水などの液体担体を用いることができる。

　製剤化において、必要に応じて、界面活性剤を添加することができる。界面活性剤としては、ポリオキシエチレンが付加したアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンが付加したアルキルエーテル、ポリオキシエチレンが付加した高級脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンが付加したソルビタン高級脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンが付加したトリスチリルフェニルエーテル等の非イオン性界面活性剤、ポリオキシエチレンが付加したアルキルフェニルエーテルの硫酸エステル塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、ポリカルボン酸塩、リグニンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩のホルムアルデヒド縮合物、イソブチレン-無水マレイン酸の共重合体等を挙げることができる。

　本発明の除草剤は、剤形に応じて、有効成分濃度を適宜設定することができる。例えば、水和剤における有効成分濃度は、好ましくは５～９０重量％、より好ましくは１０～８５重量％である。乳剤における有効成分濃度は、好ましくは３～７０重量％、より好ましくは５～６０重量％である。粒剤における有効成分濃度は、好ましくは０．０１～５０重量％、より好ましくは０．０５～４０重量％である。

　このようにして得られた水和剤若しくは乳剤は水で所定の濃度に希釈して懸濁液或いは乳濁液として、粒剤はそのまま雑草の発芽前又は発芽後に土壌に散布処理もしくは混和処理することができる。本発明の除草剤を圃場に適用するに当たっては１ヘクタール当たり有効成分０．１ｇ以上の適当量を施用することができる。

　また、本発明の除草剤は、公知の殺菌剤、殺菌活性成分、殺虫剤、殺虫活性成分、殺ダニ剤、殺ダニ活性成分、除草剤、除草活性成分、植物成長調整剤、肥料、薬害軽減剤（セーフナー）などと混合して使用することもできる。特に、除草剤と混合使用することにより、使用薬量を減少させることが可能である。また、省力化をもたらすのみならず、混合薬剤の相乗作用により一層高い効果も期待できる。その場合、複数の公知除草剤との組合せも可能である。
　すなわち、本発明の態様のひとつは、１つ以上のさらなる除草活性成分を含む除草剤である。
　また、本発明の態様のひとつは、１つ以上のさらなる薬害軽減剤を含む除草剤である。

　本発明に用いられるその他の除草活性成分としては、特に制約されないが、例えば、次のようなものを挙げることができる。
　(a)　クロジナホッププロパルギル（clodinafop-propargyl）、シハロホップブチル（cyhalofop-butyl）、ジクロホップメチル（diclofop-methyl）、フェノキサプロップ－P－エチル（fenoxaprop-P-ethyl）、フルアジホップP（fluazifop-P）、フルアジホップ－P－ブチル（fluazifop-P-butyl）、ハロキシホップメチル（haloxyfop-methyl）、ピリフェノップナトリウム（pyriphenop-sodium）、プロパキザホップ（propaquizafop）、キザロホップ－P－エチル（quizalofop-P-ethyl）、メタミホップ（metamifop）等のアリ－ルオキシフェノキシプロピオン酸エステル系；アロキシジム（alloxydim）、ブトロキシジム（butroxydim）、クレトジム（clethodim）、シクロキシジム（cycloxydim）、プロホキシジム（profoxydim）、セトキシジム（sethoxydim）、テプラロキシジム（tepraloxydim）、トラルコキシジム（tralkoxydim）等のシクロヘキサンジオン系；ピノキサデン（pinoxaden）等のフェニルピラゾリン系；その他の植物のアセチルＣｏＡカルボキシラーゼを阻害することで除草効力を示すとされているもの。

　(b)　アミドスルフロン（amidosulfuron）、アジムスルフロン（azimsulfuron）、ベンスルフロンメチル（bensulfuron-methyl）、クロリムロンエチル（chlorimuron-ethyl）、クロルスルフロン（chlorsulfuron）、シノスルフロン（cinosulfuron）、シクロスルファムロン（cyclosulfamuron）、エタメトスルフロンメチル（ethametsulfuron-methyl）、エトキシスルフロン（ethoxysulfuron）、フラザスルフロン（flazasulfuron）、フルピルスルフロン（flupyrsulfuron）、ホラムスルフロン（foramsulfuron）、ハロスルフロンメチル（halosulfuron-methyl）、イマゾスルフロン（imazosulfuron）、ヨードスルフロン（iodosulfuron-methyl）、メソスルフロン（mesosulfuron）、メソスルフロンメチル（mesosulfuron-methyl）、メトスルフロンメチル（metsulfuron-methyl）、ニコスルフロン（nicosulfuron）、オキサスルフロン（oxasulfuron）、プリミスルフロン（primisulfuron）、プロスルフロン（prosulfuron）、ピラゾスルフロンエチル（pyrazosulfuron-ethyl）、リムスルフロン（rimsulfuron）、スルホメツロンメチル（sulfometuron-methyl）、スルホスルフロン（sulfosulfuron）、チフェンスルフロンメチル（thifensulfuron-methyl）、トリアスルフロン（triasulfuron）、トリベヌロンメチル（tribenuron-methyl）、トリフルオキシスルフロン（trifloxysulfuron）、トリフルスルフロンメチル（triflusulfuron-methyl）、トリトスルフロン（tritosulfuron）、オルソスルファムロン（orthosulfamuron）、プロピリスルフロン（propyrisulfuron）、フルセトスルフロン（flucetosulfuron）、メタゾスルフロン（metazosulfuron）、メチオピルスルフロン(methiopyrsulfuron)、モノスルフロンメチル（monosulfuron-methyl)、オルソスルフロン(orsosulfuron)、イオフェンスルフロン（iofensulfuron）等のスルホニルウレア系；イマザピック（imazapic）、イマザメタベンズ（imazamethabenz）、イマザモックスアンモニウム（imazamox-ammonium）、イマザピル（imazapyr）、イマザキン（imazaquin）、イマゼタピル（imazethapyr）等のイミダゾリノン系；クロランスラムメチル（cloransulam-methyl）、ジクロスラム（diclosulam）、フロラスラム（florasulam）、フルメツラム（flumetsulam）、メトスラム（metosulam）、ペノキススラム（penoxsulam）、ピロキスラム（pyroxsulam）、メトスルファム（metosulfam）等のトリアゾロピリミジンスルホンアミド系；ビスピリバック-ナトリウム（bispyribac-sodium）、ピリベンゾキシム（pyribenzoxim）、ピリフタリド（pyriftalid）、ピリチオバック-ナトリウム（pyrithiobac-sodium）、ピリミノバックメチル（pyriminobac-methyl）、ピリミスルファン（pyrimisulfan）等のピリミジニル(チオ)ベンゾエート系；フルカルバゾン（flucarbazone）、プロポキシカルバゾン（propoxycarbazone）、チエンカルバゾンメチル（thiencarbazone-methyl）等のスルホニルアミノカルボニルトリアゾリノン系；トリアファモン（triafamone）等のスルホンアニリド系；その他の植物のアセト乳酸合成酵素(ALS) (アセトヒドロキシ酸合成酵素(AHAS)) を阻害することで除草効力を示すとされているもの。

　(c)　アメトリン（ametryn）、アトラジン（atrazine）、シアナジン（cyanazine）、デスメトリン（desmetryne）、ジメタメトリン（dimethametryn）、プロメトン（prometon）、プロメトリン（prometryn）、プロパジン系(プロパジン（propazine）)、CAT(シマジン（simazine）)、シメトリン（simetryn）、テルブメトン（terbumeton）、テルブチラジン（terbuthylazine）、テルブトリン（terbutryne）、トリエタジン（trietazine）、アトラトン（atratone）、シブトリン（cybutryne）等のトリアジン系；ヘキサジノン（hexazinone）、メタミトロン（metamitron）、メトリブジン（metribuzin）等のトリアジノン系；アミカルバゾン（amicarbazone）等のトリアゾリノン系；ブロマシル（bromacil）、レナシル（lenacil）、ターバシル（terbacil）等のウラシル系；PAC(クロリダゾン（chloridazon）)等のピリダジノン系；デスメディファム（desmedipham）、フェンメディファム（phenmedipham）、スエップ（swep）等のカーバメート系；クロルブロムロン（chlorobromuron）、クロロトルロン（chlorotoluron）、クロロクスロン（chloroxuron）、ジメフロン（dimefuron）、DCMU(ジウロン（diuron）)、エチジムロン（ethidimuron）、フェニュロン（fenuron）、フルオメツロン（fluometuron）、イソプロツロン（isoproturon）、イソウロン（isouron）、リニュロン（linuron）、メタベンズチアズロン（methabenzthiazuron）、メトブロムロン（metobromuron）、メトキスロン（metoxuron)、モノリニュロン（monolinuron）、ネブロン（neburon）、シデュロン（siduron）、テブチウロン（tebuthiuron）、メトベンズロン（metobenzuron）、カルブチレート（karbutilate）等の尿素系；DCPA(プロパニル（propanil）)、CMMP(ペンタノクロール（pentanochlor）)等のアミド系；シプロミッド（cypromid）等のアニリド系；ブロモフェノキシム（bromofenoxim）、ブロモキシニル（bromoxynil）、アイオキシニル（ioxynil）等のニトリル系；ベンタゾン（bentazone）等のベンゾチアジアジノン系；ピリデート（pyridate）、ピリダフォル（pyridafol）等のフェニルピリダジン系；その他メタゾール（methazole）等の植物の光合成を阻害することで除草効力を示すとされているもの。

　(d)　ジクワット（diquat）、パラコート（paraquat）等のビピリジリウム系；その他のそれ自身が植物体中でフリーラジカルとなり、活性酸素を生成させて速効的な除草効力を示すとされているもの。

　(e)　アシフルオルフェンナトリウム（acifluorfen-sodium）、ビフェノックス（bifenox）、クロメトキシニル(クロメトキシフェン（chlomethoxyfen）)、フルオログリコフェン（fluoroglycofen）、ホメサフェン（fomesafen）、ハロサフェン（halosafen）、ラクトフェン（lactofen）、オキシフローフェン（oxyfluorfen）、ニトロフェン（nitrofen）、エトキシフェンエチル（ethoxyfen-ethyl）等のジフェニルエーテル系；フルアゾレート（fluazolate）、ピラフルフェンエチル（pyraflufen-ethyl）等のフェニルピラゾール系；シニドンエチル（cinidon-ethyl）、フルミオキサジン（flumioxazin）、フルミクロラックペンチル（flumiclorac-pentyl）、クロルフタリム（chlorphthalim）等のN-フェニルフタルイミド系；フルチアセットメチル（fluthiacet-methyl）、チジアジミン（thidiazimin）等のチアジアゾール系；オキサジアゾン（oxadiazon）、オキサジアルギル（oxadiargyl）等のオキサジアゾール系；アザフェニジン（azafenidin）、カルフェントラゾンエチル（carfentrazone-ethyl）、スルフェントラゾン（sulfentrazone）、ベンカルバゾン（bencarbazone）等のトリアゾリノン系；ペントキサゾン（pentoxazone）等のオキサゾリジンジオン系；ベンズフェンジゾン（benzfendizone）、ブタフェナシル（butafenacil）等のピリミジンジオン系；サフルフェナシル（saflufenacil）等のスルホニルアミド系；フルフェンピルエチル（flufenpyr-ethyl）等のピリダジン系；その他ピラクロニル（pyrachlonil）、プロフルアゾール（profluazol）、チアフェナシル(tiafenacil)、トリフルジモキサジン（trifludimoxazin）等の植物のクロロフィル生合成を阻害し、光増感過酸化物質を植物体中に異常蓄積させることで除草効力を示すとされているもの。

　(f)　ノルフルラゾン（norflurazon）、メトフルラゾン（metflurazon）等のピリダジノン系；ジフルフェニカン（diflufenican）、ピコリナフェン（picolinafen）等のピリジンカルボキサミド系；メソトリオン（mesotrione）、スルコトリオン（sulcotrione）、テフリルトリオン（tefuryltrione）、テンボトリオン（tembotrione）、ビシクロピロン（bicyclopyrone）、フェンキノトリオン(fenquinotrione)等のトリケトン系；イソキサクロルトール（isoxachlortole）、イソキサフルトール（isoxaflutole）等のイソオキサゾール系；ベンゾフェナップ（benzofenap）、ピラゾレート(ピラゾリネート（pyrazolynate）)、ピラゾキシフェン（pyrazoxyfen）、トプラメゾン（topramezone）、ピラスルフォトール（pyrasulfotole）、トルピラレート（tolpyralate）等のピラゾール系；ATA(アミトロール（amitrol）)等のトリアゾール系；クロマゾン（clomazone）等のイソオキサゾリジノン系；アクロニフェン（aclonifen）等のジフェニルエーテル系；その他ベフルブタミド（beflubutamid）、フルリドン（fluridone）、フルロクロリドン（flurochloridone）、フルルタモン（flurtamone）、ベンゾビシクロン（benzobicyclone）、メトキシフェノン（methoxyphenone）、ケトスピラドックス（ketospiradox）等のカロチノイド等の植物の色素生合成を阻害し、白化作用を特徴とする除草効力を示すとされているもの。

　(g)　グリホサート（glyphosate）、グリホサートアンモニウム（glyphosate-ammonium）、グリホサートイソプロピルアミン（glyphosate-isopropylamine）、グリホサートトリメシウム(スルホサート（sulfosate）)等のグリシン系；その他のEPSP 合成酵素阻害
　(h)　グルホシネート（glufosinate）、グルホシネートアンモニウム（glufosinate-ammonium）、ビアラホス(ビラナホス（bilanafos）)等のホスフィン酸系等のグルタミン合成酵素阻害
その他の植物のアミノ酸生合成を阻害することで除草効力を示すとされているもの。

　(i)　アシュラム（asulam）等のカーバメート系；その他のDHP(ジヒドロプテロイン酸)合成酵素阻害

　(j)　ベスロジン(ベンフルラリン（benfluralin）)、ブトルアリン（butralin）、ジニトラミン（dinitramine）、エタルフルラリン（ethalfluralin）、オリザリン（oryzalin）、ペンディメタリン（pendimethalin）、トリフルラリン（trifluralin）、ニトラリン（nitralin）、プロジアミン（prodiamine）等のジニトロアニリン系；アミプロホスメチル（amiprofos-methyl）、ブタミホス（butamifos）等のホスホロアミデート系；ジチオピル（dithiopyr）、チアゾピル（thiazopyr）等のピリジン系；プロピザミド（propyzamide）、テブタム（tebutam）等のベンズアミド系；クロルタール（chlorthal）、TCTP(クロルタールジメチル（chlorthal-dimethyl）)等の安息香酸系；IPC(クロルプロファム) （chlorpropham）、プロファム（propham）、カルベタミド（carbetamide）、バーバン（barban）等のカーバメート系；フラムプロップ－Ｍ（flamprop-M）、フラムプロップ－Ｍ－イソプロピル（flamprop-M-isopropyl）等のアリールアラニン系；　アセトクロール（acetochlor）、アラクロール（alachlor）、ブタクロール（butachlor）、ジメタクロール（dimethachlor）、ジメテナミド（dimethenamid）、ジメテナミド－Ｐ（dimethenamid-P）、メタザクロール（metazachlor）、メトラクロール（metolachlor）、Ｓ－メトラクロール（S-metolachlor）、ペトキサミド（pethoxamid）、プレチラクロール（pretilachlor）、プロパクロール（propachlor）、プロピソクロール（propisochlor）、テニルクロール（thenylchlor）等のクロロアセトアミド系；ジフェナミド（diphenamid）、ナプロパミド（napropamide)、ナプロアニリド（naproanilide）等のアセトアミド系；フルフェナセット（flufenacet）、メフェナセット（mefenacet）等のオキシアセトアミド系；フェントラザミド（fentrazamide）等のテトラゾリノン系；その他アニロホス（anilofos）、インダノファン（indanofan）、カフェンストロール（cafenstrole）、ピペロホス（piperophos）、メチオゾリン（methiozolin）、フェノキサスルフォン（fenoxasulfone）、ピロキサスルホン（pyroxasulfone）、イプフェンカルバゾン(ipfencarbazone)等の植物の微小管重合や微小管形成、細胞分裂を阻害することあるいは超長鎖脂肪酸（Very Long Chain Fatty Acid：VLCFA）生合成を阻害することで除草効力を示すとされているもの。

　(k)　DBN(ジクロベニル（dichlobenil）)、DCBN(クロルチアミド（chlorthiamid）)等のニトリル系；イソキサベン（isoxaben）等のベンズアミド系；フルポキサム（flupoxam）等のトリアゾロカルボキサミド系；キンクロラック（quinclorac）等のキノリンカルボン酸系；その他トリアジフラム（triaziflam）、インダジフラム（indaziflam）等の細胞壁(セルロース)合成を阻害することで除草効力を示すとされているもの。

　(l)　DNOC、DNBP(ジノセブ（dinoseb）)、ジノテルブ（dinoterb）等のジニトロフェノール系；その他のアンカップリング(膜破壊) により除草効力を示すとされているもの。

　(m)　ブチレート（butylate）、ヘキシルチオカルバム(シクロエート（cycloate）)、ジメピペレート（dimepiperate）、EPTC、エスプロカルブ（esprocarb）、モリネート（molinate）、オルベンカルブ（orbencarb）、ペブレート（pebulate）、プロスルホカルブ（prosulfocarb）、ベンチオカーブ(チオベンカルブ（thiobencarb）)、チオカルバジル（tiocarbazil）、トリアレート（triallate）、バーナレート（vernolate）、ジアレート（diallate）等のチオカーバメート系；SAP(ベンスリド（bensulide）)等のホスホロジチオエート系；ベンフレセート（benfuresate）、エトフメセート（ethofumesate）等のベンゾフラン系；TCA、DPA(ダラポン（dalapon）)、テトラピオン(フルプロパネート（flupropanate）)等のクロロ炭酸系；　その他の植物の脂質生合成を阻害することで除草効力を示すとされているもの。

　(n)　クロメプロップ（clomeprop）、2,4－PA(２，４-Ｄ)、2,4－DB、ジクロルプロップ（dichlorprop）、MCPA、MCPB、MCPP(メコプロップ（mecoprop）)等のフェノキシカルボン酸系；クロランベン（chloramben）、MDBA(ジカンバ（dicamba）)、TCBA(2,3,6－TBA)等の安息香酸系；クロピラリド（clopyralid）、アミノピラリド（aminopyralid）、フルロキシピル（fluroxypyr）、ピクロラム（picloram）、トリクロピル（triclopyr）、ハロウキシフェン（halauxifen）等のピリジンカルボン酸系；キンクロラック（quinclorac）、キンメラック（quinmerac）等のキノリンカルボン酸系；NPA(ナプタラム（naptalam）)、ジフルフェンゾピル（diflufenzopyr）等のフタラメートセミカルバゾン系；その他ベナゾリン（benazolin）、ダイフルフェンゾピル（diflufenzopyr）、フルオキシピル（fluroxypyr）、クロロフルレノール（chlorflurenol）、アミノシクロピラクロール（aminocyclopyrachlor）、DAS534等の植物のホルモン作用を攪乱することで除草効力を示すとされているもの。

　(o)　フランプロップＭメチル/イソプロピル（flamprop-isopropyl）等のアリールアミノプロピオン酸系；ジフェンゾコート（difenzoquat）等のピラゾリウム系；DSMA、MSMA等の有機ヒ素系；その他ブロモブチド（bromobutide）、(クロル)-フルレノール（chlorflurenol）、シンメチリン（cinmethylin）、クミルロン（cumyluron）、ダゾメット（dazomet）、ダイムロン（daimuron）、メチルダイムロン（methyl-dymron）、エトベンザニド（etobenzanid）、ホサミン（fosamine）、オキサジクロメホン（oxaziclomefone）、オレイン酸（oleic acid）、ペラルゴン酸（pelargonicacid）、ピリブチカルブ（pyributicarb）、エンドタール（endothall）、塩素酸塩（sodiumchlorate）、メタム（metam）、キノクラミン（quinoclamine）、シクロピリモレート（cyclopyrimorate）、トリディファン（tridiphane）、クラシフォス（clacyfos）等の除草剤。

　本発明に用いることができる薬害軽減剤（セーフナー）としては、例えば、ベノキサコール（benoxacor）、クロキントセット（cloquintocet）、クロキントセットメキシル（cloquintocet-mexyl）、シオメトリニル（cyometrinil）、シプロスルファミド（cyprosulfamide）、ジクロルミド（dichlormid）、ジシクロノン（dicyclonon）、ジエトレート（dietholate）、フェンクロラゾール（fenchlorazole）、フェンクロラゾールエチル（fenchlorazole-ethyl）、フェンクロリム（fenclorim）、フルラゾール（flurazole）、フルキソフェニム（fluxofenim）、フリラゾール（furilazole）、イソキサジフェン（isoxadifen）、イソキサジフェンエチル（isoxadifen-ethyl）、メフェンピル（mefenpyr）、メフェンピルジエチル（mefenpyr-diethyl）、メフェナート（mephenate）、ナフタリックアンヒドライド（naphthalic anhydride）、オキサベトリニル（oxabetrinil）等を挙げることができる。

〔製剤例〕
　本発明の除草剤に関する製剤例を若干示すが、本発明化合物（有効成分）、添加物及び添加割合は、本実施例にのみ限定されることなく、広い範囲で変更可能である。製剤実施例中の部は重量部を示す。

（製剤実施例１）水和剤
　　本発明化合物　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２０部
　　ホワイトカーボン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２０部
　　ケイソウ土　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５２部
　　アルキル硫酸ソーダ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　８部
　以上を均一に混合、微細に粉砕して、有効成分２０％の水和剤を得る。

（製剤実施例２）乳剤
　　本発明化合物　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２０部
　　キシレン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５５部
　　ジメチルホルムアミド　　　　　　　　　　　　　　　　　１５部
　　ポリオキシエチレンフェニルエーテル　　　　　　　　　　１０部
　以上を混合、溶解して有効成分２０％の乳剤を得る。

（製剤実施例３）粒剤
　　本発明化合物　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５部
　　タルク　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４０部
　　クレイ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３８部
　　ベントナイト　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１０部
　　アルキル硫酸ソーダ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　７部
　以上を均一に混合して微細に粉砕後、直径０．５～１．０ｍｍの粒状に造粒して有効成分５％の粒剤を得る。

　次に、合成実施例を示す。ただし、本発明は下記の実施例に限定されない。

（実施例１）
　１－メトキシ－３－メチル－６－（２－（メチルスルホニル）－４－（トリフルオロメチル）フェニル）－７－オキサ－３，４－ジアザビシクロ［４．１．０］ヘプタ－４－エン－２－オン〔1-methoxy-3-methyl-6-(2-(methylsulfonyl)-4-(trifluoromethyl)phenyl)-7-oxa-3,4-diazabicyclo[4.1.0]hept-4-en-2-one〕（化合物番号A-1）の製造

　４－ヒドロキシ－２－メチル－５－（２－（メチルスルホニル）－４－（トリフルオロメチル）フェニル）ピリダジン－３（２Ｈ）－オン（０．０９ｇ）をアセトニトリル（２．５ｍＬ）に溶解させて、室温で撹拌した。これにＮ－クロロスクシンイミド（０．１０ｇ）を加え、８０℃で３時間撹拌した。室温まで冷却した。その後、メタノール（２．５ｍＬ）およびナトリウムメトキシド（０．０５ｇ）を加え、同温度で１時間撹拌した。
　反応溶液を減圧濃縮した。得られた濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することによって目的化合物０．０５ｇを得た。

（実施例２）
　１－メトキシ－３－メチル－６－（１，１－ジオキサド－８－（トリフルオロメチル）チオクロマン－５－イル）－７－オキサ－３，４－ジアザビシクロ［４．１．０］ヘプタ－４－エン－２－オン〔1-methoxy-3-methyl-6-(1,1-dioxido-8-(trifluoromethyl)thiochroman-5-yl)-7-oxa-3,4-diazabicyclo[4.1.0]hept-4-en-2-one〕の合成：（化合物番号B-1）

　５－（１，１－ジオキシド－８－（トリフルオロメチル）チオクロマン－５－イル）－４－ヒドロキシ－２－メチルピリダジン－３（２Ｈ）－オン（０．３７ｇ）をＮ,Ｎ-ジメチルホルムアミド（２ｍＬ）に溶解させて、室温で撹拌した。これにＮ－クロロスクシンイミド（０．１０ｇ）を加え、室温で２時間撹拌した。その後、メタノール（１０ｍＬ）およびナトリウムメトキシド（０．２２ｇ）を加え、同温度で１時間撹拌した。
　反応溶液を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することによって目的物０．２３ｇを得た。

（参考例１）
　５－（１，１－ジオキサド－８－（トリフルオロメチル）チオクロマン－５－イル）－４－ヒドロキシ－２－メチルピリダジン－３（２Ｈ）－オンの合成

　５－（１，１－ジオキシド－８－（トリフルオロメチル）チオクロマン－５－イル）－４メトキシ－２－メチルピリダジン－３（２Ｈ）－オン（０．３９ｇ）をモルホリン（２ｍＬ）に溶解させた後、１１０℃で１時間加熱還流した。
　反応溶液を塩酸に注ぎ、次いで酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、ろ過した。ろ液を減圧濃縮することで目的物０．３１ｇを得た。

（参考例２）
　５－（１，１－ジオキサド－８－（トリフルオロメチル）チオクロマン－５－イル）－４－メトキシ－２－メチルピリダジン－３（２Ｈ）－オンの合成

　５－ブロモ－８－（トリフルオロメチル）チオクロマン　１，１－ジオキシド（０．３６ｇ）をジオキサン（１０ｍＬ）に溶解させて、室温で撹拌した。これに、４－メトキシ－２－メチル－５－（４，４，５，５－テトラメチル－１，３，２－ジオキサボロラン－２－イル）ピリダジン－３（２Ｈ）－オン（０．２７ｇ）、炭酸カリウム（０．４１ｇ）、および[１,１'-ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウム(II)ジクロリド－ジクロロメタン付加物（０．０４ｇ）を順次加え、９０℃にて一晩撹拌した。
　得られた液をろ過した。ろ液を減圧濃縮した。得られた濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することによって目的化合物０．２２ｇを得た。
　得られた化合物のNMRデータを示す。
¹H-NMR(400 MHz, CDCl₃): δ 2.40-2.48(m, 2H), 2.72-2.80(m, 1H), 2.86-2.95(m, 1H), 3.40(t, 2H), 3.83(s, 3H), 4.12(s, 3H), 7.41(d, 1H), 7.44(s, 1H), 7.84(d, 1H).

（参考例３）
　５－ブロモ－８－（トリフルオロメチル）チオクロマン　１，１－ジオキシドの合成
（工程１）
　３－（６－ブロモ－２－トリフルオロ－３－（トリフルオロメチル）フェニル）プロピオン酸の合成

　５００ｍＬの四つ口フラスコにギ酸（５８．２ｇ）、トリエチルアミン（１８．３ｇ）、６－ブロモ－２－フルオロ－３－（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒド４８．７ｇ）およびメルドラム酸（２６．０ｇ）を０℃にて順次加えた。その後、４時間加熱還流した。
　得られた液に塩酸を加え、析出固形物を濾別した。得られた固形物を乾燥させることによって目的化合物５３．８ｇを得た。

（工程２）
　３－（６－ブロモ－２－フルオロ－３－（トリフルオロメチル）フェニル）プロパン－１－オールの合成

　３－（６－ブロモ－２－トリフルオロ－３－（トリフルオロメチル）フェニル）プロピオン酸（３０ｇ）をテトラヒドロフラン（１９１ｍＬ）に溶解させて、室温で撹拌した。これにボラン・テトラヒドロフラン錯体（０．９Ｍ, １２７ｍＬ）を加え、０℃で１時間撹拌した。
　得られた液を塩酸に注ぎ、次いで酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、ろ過した。ろ液を減圧濃縮した。得られた濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することによって目的化合物２８．９ｇを得た。

（工程３）
　１－ブロモ－２－（３－クロロプロピル）－３－フルオロ－４－（トリフルオロメチル）ベンゼンの合成

　３－（６－ブロモ－２－フルオロ－３－（トリフルオロメチル）フェニル）プロパン－１－オール（１５．３ｇ）をジクロロエタン（１０２ｍＬ）に溶解させて、室温で撹拌した。これに塩化チオニル（９．１ｇ）およびＮ,Ｎ-ジメチルホルムアミド（０．２ｇ）を加え、２時間加熱還流した。
　得られた液を減圧濃縮した。得られた濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することによって目的化合物１６.４ｇを得た。

（工程４）
　５－ブロモ－８－（トリフルオロメチル）チオクロマンの合成

　１－ブロモ－２－（３－クロロプロピル）－３－フルオロ－４－（トリフルオロメチル）ベンゼン（１４．４ｇ）をＮ,Ｎ-ジメチルホルムアミド（１５８ｍＬ）に溶解させて、室温で撹拌した。これに硫化ナトリウム（４．２ｇ）を加え、６０℃で一晩加熱還流した。
　得られた液を水に注ぎ、次いで酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、ろ過した。ろ液を減圧濃縮した。得られた濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することによって目的化合物６．８ｇを得た。

（工程５）
　５－ブロモ－８－（トリフルオロメチル）チオクロマン　１，１－ジオキシドの合成

　５－ブロモ－８－（トリフルオロメチル）チオクロマン（２．０ｇ）をメタノール２７ｍＬ、水７ｍＬに溶解させて、室温で撹拌した。これにオキソン（８．３ｇ）を加え、４８時間室温で撹拌した。
　得られた液をろ過した。ろ液を減圧濃縮した。これに水を注ぎ、次いで酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、ろ過した。ろ液を減圧濃縮した。得られた濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することによって目的化合物２．０ｇを得た。

（参考例４）
　５－（１，１－ジオキサド－８－（トリフルオロメチル）チオクロマン－５－イル）－４－メトキシ－２－メチルピリダジン－３（２Ｈ）－オンの合成
（工程１）
　５－（８－（トリフルオロメチル）チオクロマン－５－イル）－４－メトキシ－２－メチルピリダジン－３（２Ｈ）－オンの合成

　（８－（トリフルオロメチル）チオクロマン－５－イル）ボロン酸（９．６ｇ）をトルエン（２００ｍＬ）、水（５０ｍＬ）に溶解させ、室温で撹拌した。これに、５－クロロ－４－メトキシ－２メチルピリダジン－３（２Ｈ）－オン（１３．１ｇ）、炭酸カリウム（１７．３ｇ）およびテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム(0)（４．０ｇ）を順次加え一晩加熱還流した。
　これに水を注ぎ、次いで酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、ろ過した。ろ液を減圧濃縮した。得られた濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することによって目的化合物１６．８ｇを得た。

（工程２）
　５－（１，１－ジオキサド－８－（トリフルオロメチル）チオクロマン－５－イル）－４－メトキシ－２－メチルピリダジン－３（２Ｈ）－オンの合成

　４－メトキシ－２－メチル－５－（８－（トリフルオロメチル）チオクロマン－５－イル）ピリダジン－３（２Ｈ）－オン（１．５ｇ）をクロロホルム（１６ｍＬ）に溶解させ、０℃で撹拌した。この溶液にメタクロロ過安息香酸（２．４ｇ）を加え、室温で２時間撹拌した。
　これに、水、チオ酢酸ナトリウム水溶液、飽和重曹水を順次加え、減圧濃縮した。この濃縮液を酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、ろ過した。ろ液を減圧濃縮した。得られた結晶を乾燥させることによって目的物１．６ｇを得た。

（参考例５）
　８－（トリフルオロメチル）チオクロマン－５－イル）ボロン酸の合成

　５－ブロモ－８－（トリフルオロメチル）チオクロマン（４．５ｇ）をエーテル（３０ｍＬ）に溶解させ、－７８℃で撹拌した。この溶液に、ｎ－ブチルリチウム－ヘキサン溶液（２．８Ｍ，５．９ｍＬ）を加え、１時間同温度で撹拌した。トリメチルボレート（２．０ｍＬ）を加え、徐々に室温まで昇温した。
　これに塩酸を注ぎ、次いで酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、ろ過した。ろ液を減圧濃縮した。析出固形物を濾別し、得られた固形物を乾燥させることによって目的化合物２．８ｇを得た。

　前記の合成実施例と同様の方法で製造した本発明化合物の一例を第１表に示す。第１表は式（I-2）で表される化合物中の置換基を示す。併せて物性値として融点も示す。Ｍｅはメチル基を表わし、Ｅｔはエチル基を表し、^ｎＰｒはｎ－プロピル基を表し、^ｉＰｒはｉ－プロピル基を表し、^ｃＰｒはシクロプロピル基を表し、^ｔＢｕはｔ－ブチル基を表し、^ｎＨｅｘは、ｎ－ヘキシル基を表し、Ｐｈはフェニル基を表す。以下、第２表および第３表において同じ意味を表す。

　さらに同様の方法で製造した本発明化合物の一例を第２表に示す。

　さらに同様の方法で製造した本発明化合物の一例を第３表に示す。第３表は式（I-4）で表される化合物中の置換基を示す。

　第１表～第３表に記載した化合物のうち、融点の欄に＊を付した化合物は、非晶または粘性オイルの性状を有する化合物であった。その¹Ｈ－ＮＭＲデータを以下に示す。
　化合物A-10：¹H-NMR(400MHz, CDCl₃): δ 3.08(s, 3H), 3.50(s, 3H), 3.76(s, 3H), 4.03(s, 3H), 7.97(d, 1H), 7.65-7.68(m, 2H), 7.74(t, 1H), 7.82(d, 1H), 8.01(d, 1H).
　化合物A-11：¹H-NMR(400MHz,CDCl₃): δ1.59 (s, 9H), 3.54(s, 3H), 3.72(s, 3H), 3.91(s, 3H), 7.31(s, 1H), 7.73(m, 2H).
化合物A-15：¹H-NMR(400MHz,CDCl₃):　δ 2.78(s, 3H), 3.14(s, 3H), 3.25(s, 3H), 3.52(s, 3H), 3.70(s, 3H), 7.21(s, 1H), 7.76(d, 1H), 8.07(d, 1H).
　化合物A-17：¹H-NMR(400MHz,CDCl₃):　δ 3.28(s, 3H), 3.42(s, 3H), 3.49(s, 3H), 3.66(s, 3H), 3.77-3.81(m, 2H), 4.36-4.40(m, 2H), 7.20(s, 1H), 7.48(d, 1H), 7.93(d, 1H).
　化合物A-20：¹H-NMR(400MHz,CDCl₃):　δ2.44-2.56(m, 2H), 3.10(s, 3H), 3.75(s, 3H), 3.79(t, 2H), 4.64(s, 2H), 7.19(s, 1H), 7.72(dd, 1H), 7.82(d, 1H), 7.97(d, 1H).
　化合物A-24：¹H-NMR(400MHz,CDCl₃):　δ 2.97(s, 3H), 3.49(s, 3H), 3.72(s, 3H), 6.54(s, 1H), 7.24(s, 1H), 7.72(s, 1H), 7.80(s, 1H), 7.87(d, 1H), 8.21(d, 1H).
　化合物A-25：¹H-NMR(400MHz,CDCl₃):　δ2.52-2.63(m, 4H), 3.45-3.67(m, 15H), 7.19(s, 1H), 7.70(d, 1H), 8.16(d, 1H).
　化合物A-26：¹H-NMR(400MHz,CDCl₃):　δ3.14(s, 3H), 3.53(s, 3H), 3.79(s, 3H), 7.42-7.53(m, 4H), 7.63-7.65(m, 2H), 7.89(d, 1H), 7.95(dd, 1H), 8.22(d, 1H).
　化合物A-28：¹H-NMR(400MHz,CDCl₃):　δ3.10(s, 3H), 3.49(s, 3H), 3.51(s, 3H), 3.74(s, 3H), 4.56(s, 2H),  7.20(s, 1H), 7.71(dd, 1H), 7.81(d, 1H), 7.98(d, 1H).
　化合物A-31：¹H-NMR(400MHz,CDCl₃):　δ3.50(s, 3H), 3.68-3.77(m, 10H), 4.01-4.14(m, 4H), 7.20(s, 1H), 7.61-7.63(m, 2H), 8.97(s, 1H).
　化合物A-32：¹H-NMR(400MHz,CDCl₃):　δ2.10(s, 3H), 3.42-3.50(m, 7H), 3.66-3.74(m, 7H), 6.28(s, 1H), 7.23(s, 3H), 7.52-7.58(m, 2H).
　化合物A-33：¹H-NMR(400MHz,CDCl₃):　δ2.21-2.46(m, 2H), 2.52-2.58(m, 2H), 3.14(s, 3H), 3.50(s, 3H), 3.67-3.88(m, 5H), 7.25(s, 1H), 7.75(d, 1H), 8.06-8.11(m, 1H).
　化合物A-35：¹H-NMR(400MHz,CDCl₃):　δ2.28(s, 3H), 3.17(s, 3H), 3.53(s, 3H), 3.71(s, 3H), 3.96-4.05(m, 2H), 5.10-5.31(m, 2H), 7.17(s, 1H), 7.73(d, 1H), 8.08(d, 1H).
　化合物A-38：¹H-NMR(400MHz,CDCl₃):　δ2.72(s, 3H), 3.23(s, 3H), 3.50(s, 3H), 3.67(s, 3H), 4.74-4.75(m, 2H), 6.93(s, 1H), 7.20(s, 1H), 7.55(d, 1H), 7.97(d, 1H).
　化合物A-40：¹H-NMR(400MHz,CDCl₃):　δ3.52(s, 3H), 3.70(s, 3H), 3.73-3.81(m, 6H), 4.25(dd, 2H), 7.27(s, 1H), 7.51(s, 2H), 9.05(s, 1H).
　化合物A-41：¹H-NMR(400MHz,CDCl₃):　δ2.05(br, 3H), 2.11(s, 3H), 2.28(s, 3H), 3.51(s, 3H), 3.68(s, 3H), 3.96(s, 3H), 7.13(br, 1H), 7.19(s, 1H), 7.39(br, 1H).
　化合物A-42：¹H-NMR(400MHz,CDCl₃):　δ3.34(s, 3H), 3.49(s, 3H), 3.74(s, 3H), 7.21(s, 1H), 7.90(d, 1H), 8.05(d, 1H).
　化合物A-43：¹H-NMR(400MHz,CDCl₃):　δ2.55-2.68(m, 6H), 3.15(s, 3H), 3.65-3.67(m, 6H), 7.28(s, 1H), 7.60(d, 1H), 7.96(d, 1H).
　化合物A-45：¹H-NMR(400MHz,CDCl₃):　δ1.78(s, 3H), 1.80(s, 3H), 3.33(s, 3H), 3.51(s, 3H), 3.66(s, 3H), 5.62(d, 1H), 5.72(d, 1H), 7.25(s, 1H), 7.73(d, 1H), 8.15(d, 1H).
　化合物A-47：¹H-NMR(400MHz,CDCl₃):　δ3.11(s, 3H), 3.74(s, 3H), 4.15-4.26(m, 1H), 4.70-4.80(m, 1H), 7.25(s, 1H), 7.96-8.03(m, 2H), 8.25(s, 1H).
　化合物A-49：¹H-NMR(400MHz,CDCl₃):　δ1.82(s, 3H), 2.69(s, 3H), 3.51(s, 3H), 3.74(s, 3H), 7.18-7.29(m, 3H), 7.45-7.49(m, 2H), 7.75(d, 1H), 8.17(d, 1H).
　化合物A-50：¹H-NMR(400MHz,CDCl₃):　δ0.76(t, 3H), 0.87-0.95(m, 2H), 1.02-1.15(m, 4H), 1.36-1.48(m, 2H), 3.17(s, 3H), 3.52(s, 3H), 3.75-3.86(m, 2H), 4.46-4.56(m, 2H), 7.21(s, 1H), 7.98-8.02(m, 2H), 8.29(s, 1H).
　化合物A-52：¹H-NMR(400MHz,CDCl₃):　δ3.54(s, 3H), 3.71(s, 3H), 7.31(s, 1H), 7.68-7.75(m, 2H), 7.85-7.89(m, 1H), 8.14(s, 1H), 8.61(s, 1H).
　化合物A-53：¹H-NMR(400 MHz,CDCl₃):　δ3.30(s, 3H), 3.43(s, 3H), 3.80(s, 3H), 7.36(dd, 1H), 7.49(s, 1H), 7.54-7.60(m, 1H), 7.91(dd, 1H).
　化合物A-54：¹H-NMR(400 MHz,CDCl₃):　δ0.70(t, 3H), 1.45-1.54(m, 2H), 3.10(s, 3H), 3.38(s, 3H), 3.77(s, 3H), 3.93(t, 2H), 7.90-7.97(m, 2H), 8.21(s, 1H).
　化合物A-56：¹H-NMR(400MHz,CDCl₃):　δ3.54(s, 3H), 3.69(s, 3H), 7.30(s, 1H), 7.60-7.70(m, 3H), 7.81(d, 1H), 7.94(s, 1H).
　化合物A-60：¹H-NMR(400MHz,CDCl₃):　δ1.08(t, 3H), 3.17(s, 3H), 3.52(s, 3H), 3.86-3.94(m, 1H), 4.46-4.54(m, 1H), 5.21(d, 1H), 5.25(d, 1H), 7.20(s, 1H), 7.94-8.03(m, 2H), 8.29(s, 1H).
　化合物A-61：¹H-NMR(400MHz,CDCl₃):　δ0.32-0.37(m, 2H), 0.50-0.56(m, 2H), 1.19-1.25(m, 1H), 3.14(s, 3H), 3.66-3.87(m, 5H), 7.20(s, 1H), 7.97-8.01(m, 2H), 8.27(s, 1H).
　化合物A-62：¹H-NMR(400MHz,CDCl₃):　δ3.13(s, 3H), 3.58(s, 3H), 4.23-4.32(m, 1H), 4.81-4.90(m, 1H), 7.24(s, 1H), 7.95-8.05(m, 2H), 8.28(s, 1H).
　化合物A-63：¹H-NMR(400MHz,CDCl₃):　δ1.08(t, 3H), 3.18(s, 3H), 3.43(s, 3H), 3.87-3.95(m, 1H), 4.46-4.54(m, 1H), 5.21(d, 1H), 5.25(d, 1H), 7.26(s, 1H), 7.98-8.04(m, 2H), 8.29(s, 1H).
　化合物A-64：¹H-NMR(400MHz,CDCl₃):　δ3.16(s, 3H), 3.43(s, 3H), 3.80(s, 3H), 5.20(d, 1H), 5.27(d, 1H), 7.27(s, 1H), 7.99-8.07(m, 2H), 8.29(s, 1H).
　化合物A-69：¹H-NMR(400MHz,CDCl₃):　δ2.86-3.02(m, 3H), 3.10-3.44(m, 4H), 3.53(s, 3H), 3.76(s, 3H), 7.21(s, 1H), 7.55-7.74(m, 3H).
　化合物A-70：¹H-NMR(400MHz,CDCl₃):　δ3.02(s, 3H), 3.54(s, 3H), 3.76(s, 3H), 6.86-6.96(m, 1H), 7.15(s, 1H), 7.50-7.82(m, 4H).
　化合物A-71：¹H-NMR(400MHz,CDCl₃):　δ1.45(t, 3H), 3.20(q, 2H), 3.35(s, 3H), 3.48(s, 3H), 3.65(s, 3H), 4.98-5.85(m, 1H), 7.25(s, 1H), 7.79(d, 1H), 8.12(d, 1H).
　化合物A-74：¹H-NMR(400MHz,CDCl₃):　δ3.19-3.30(m, 4H), 3.52(s, 3H), 3.69-3.79(m, 7H), 7.25(s, 1H), 7.92-8.09(m, 3H).
　化合物A-75：¹H-NMR(400MHz,CDCl₃):　δ3.13(s, 3H), 3.51(s, 3H), 3.78(s, 3H), 7.20(s, 1H), 7.59(dd, 1H), 7.86(d, 1H), 7.89(d, 1H).
　化合物B-2：¹H-NMR(400MHz,CDCl₃):　δ 2.49-2.63(m, 2H), 2.80-2.89(m, 1H), 3.09-3.18(m, 1H), 3.35-3.40(m, 1H), 3.55(s, 3H), 3.69-3.73(m, 1H), 4.07-4.16(m, 2H), 4.29-4.34(m, 1H), 4.61-4.68(m, 1H), 7.19(s, 1H), 7.60-7.99(m, 6H).
　化合物B-9：¹H-NMR(400MHz,CDCl₃):　δ1.79(m, 2H), 2.09-2.23(m, 2H), 3.30-3.45(m, 4H), 3.54(s, 3H), 3.74(s, 3H), 7.16(s, 1H), 7.89(s, 2H).
　化合物B-11：¹H-NMR(400MHz,CDCl₃):　δ2.15(s, 3H), 2.50-2.78(m, 5H), 3.41-3.56(m, 5H), 3.69(s, 3H), 4.12-4.28(m, 4H), 7.13(s, 1H), 7.49(s, 1H).
　化合物B-12：¹H-NMR(400MHz,CDCl₃):　δ1.41(s, 6H), 2.22-2.40(m, 4H), 2.56(s, 3H), 3.39-3.45(m, 2H), 3.51(s, 3H), 3.68(s, 3H), 7.15(s, 1H), 7.36(d, 1H), 7.62(d, 1H).
　化合物B-13：¹H-NMR(400MHz,CDCl₃):　δ3.51(s, 3H), 3.59(dt, 2H), 3.73(s, 3H), 4.83-4.95(m, 2H), 7.18(s, 1H), 7.56(d, 1H), 7.76(d, 1H).
　化合物B-15：¹H-NMR(400MHz,CDCl₃):　δ2.46-2.49(m, 3H), 3.45-3.46(m, 3H), 3.78-3.79(m, 3H), 4.10-4.13(m, 3H), 6.76-6.80(m, 2H), 7.00-7.05(m, 3H), 7.38-7.44(m, 1H), 7.85-7.95(m, 1H).
　化合物C-6：¹H-NMR(400MHz,CDCl₃):　δ1.67-1.86(m, 4H), 1.97(s, 3H), 2.52-2.61(m, 2H), 2.80-2.84(m, 2H), 3.40-3.47(m, 2H), 3.53(s, 3H), 3.79-3.82(m, 1H), 4.35-4.39(m, 1H), 7.15(s, 1H), 7.85-7.88(m, 2H).
　化合物C-11：¹H-NMR(400MHz,CDCl₃):　δ2.49-2.52(m, 2H), 2.82-2.88(m, 2H), 3.12(s, 3H), 3.21(s, 3H), 3.36-3.46(m, 2H), 3.54(s, 3H), 3.78-3.82(m, 1H), 4.15-4.30(m, 2H), 7.16(s, 1H), 7.89(s, 2H).
　化合物C-12：¹H-NMR(400MHz,CDCl₃):　δ2.50-2.55(m, 2H), 2.83-2.96(m, 2H), 3.36-3.43(m, 2H), 3.54(s, 3H), 3.66(s, 3H), 4.74(s, 2H), 7.17(s, 1H), 7.86-7.91(m, 2H).
　化合物C-23：¹H-NMR(400MHz,CDCl₃):　δ1.52(s, 9H), 2.46-2.50(m, 2H), 2.74-2.88(m, 2H), 3.34-3.37(m, 2H), 3.67(s, 3H), 7.05(s, 1H), 7.83-7.86(m, 2H).
　化合物C-26：¹H-NMR(400MHz,CDCl₃):　δ2.37-2.42(m, 2H), 2.62-2.78(m, 2H), 2.80(s, 3H), 3.37-3.40(m, 2H), 3.52(s, 3H), 3.70(s, 3H), 7.14(s, 1H), 7.28(d, 1H), 7.58(d, 1H).
　化合物C-30：¹H-NMR(400MHz,CDCl₃):　δ1.87(s, 3H), 2.44-2.65(m, 2H), 3.06-3.15(m, 2H), 3.38-3.53(m, 5H), 3.72(s, 3H), 7.38(d, 1H), 7.80(d, 1H).
　化合物C-31：¹H-NMR(400MHz,CDCl₃):　δ2.48-2.98(m, 4H), 3.36-3.45(m, 5H), 3.74(s, 3H), 5.10(d, 1H), 5.34(d, 1H), 7.21(d, 1H), 7.83-7.90(m, 2H).
　化合物C-35：¹H-NMR(400MHz,CDCl₃):　δ2.45-2.52(m, 2H), 2.67-2.83(m, 2H), 3.29-3.42(m, 2H), 3.54(s, 3H), 4.31(dt, 1H), 4.86-4.95(m, 1H), 7.21(s, 1H), 7.79-7.96(m, 2H).
　化合物C-36：¹H-NMR(400MHz,CDCl₃):　δ2.49-2.51(m, 2H), 2.79-2.83(m, 1H), 2.93-2.99(m, 1H), 3.32-3.37(m, 2H), 3.54(s, 3H), 5.01-5.17(m, 1H), 5.47-5.53(m, 1H), 7.16(s, 1H), 7.30-7.36(m, 2H), 7.51-7.77(m, 5H).

（除草効果の評価）
　次に本発明化合物が除草剤の有効成分として有用であることを以下の試験例で示す。
（試験例１）
（１）試験用乳剤の調製
　ＰＯＡアリルフェニルエーテル（４．１重量部）、ＰＯＥ－ＰＯＰグリコール（１重量部）、ＰＯＥソルビタンラウレート（０．８重量部）、グリセリン（２．６重量部）、ジメチルホルムアミド（６５．９重量部）、Ｎ－メチルピロリドン（５．１重量部）、シクロヘキサノン（１５．４重量部）、および芳香族炭化水素（５．１重量部）を混合し溶解させて、乳剤を調製した。この乳剤（１００μＬ）に対し、本発明化合物（４ｍｇ）を溶解させて、試験用乳剤を調製した。ＰＯＡは「ポリオキシアルキレン」を、ＰＯＥは「ポリオキシエチレン」を、ＰＯＰは「ポリオキシプロピレン」を意味する。
（２）茎葉散布処理
　１５０ｃｍ²のポットに土壌を充填し、表層にエンバク（Avena sativa）、カミツレ（Matricaria chamomilla）、アキノエノコログサ（Setaria faberi）、メヒシバ（Digitaria ciliaris）、イチビ（Abutilon theophrasti）およびアオゲイトウ（Amaranthus retroflexus）の種子を播き、軽く覆土した。その後、温室内で生育させた。各植物が２～４ｃｍの草丈に生育した時点で、所定の有効成分量になるように上記の試験用乳剤を希釈し、ヘクタール当たり２５０Ｌの散布水量にて小型噴霧器で茎葉部に散布した。
（３）評価
　３週間後、雑草ごとに無処理区および処理区の地上部生草重を測定し、下記の算出式によって殺草率を算出した。
（４）殺草率の算出式
　殺草率 (％) = 〔(無処理区の地上部生草重 - 処理区の地上部生草重) /（無処理区の地上部生草重）〕×１００

　A-1、A-2、A-3、A-4、A-5、A-6、A-9、A-10、およびB-1の化合物を、ヘクタール当たり１０００ｇの散布量になるように散布した。結果、いずれの化合物もイチビに対し、殺草率が８０％以上であった。
　A-1、A-2、A-3、A-4、A-5、A-6、A-10、およびB-1の化合物を、ヘクタール当たり１０００ｇの散布量になるように散布した。結果、いずれの化合物もカミツレに対し、殺草率が８０％以上であった。

　評価結果をさらに続けて示す。
（ａ）イチビ
　第４表に示す化合物を、ヘクタール当たり１０００ｇの散布量になるように散布した。結果、いずれの化合物もイチビに対し、８０％以上の殺草活性を示した。

　第５表に示す化合物を、ヘクタール当たり２５０ｇの散布量になるように散布した。結果、いずれの化合物もイチビに対し、８０％以上の殺草活性を示した。

（ｂ）カミツレ
　第６表に示す化合物を、ヘクタール当たり１０００ｇの散布量になるように散布した。結果、いずれの化合物もカミツレに対し、８０％以上の殺草活性を示した。

　第７表に示す化合物を、ヘクタール当たり２５０ｇの散布量になるように散布した。結果、いずれの化合物もカミツレに対し、８０％以上の殺草活性を示した。

（ｃ）エンバク
　第８表に示す化合物を、ヘクタール当たり１０００ｇの散布量になるように散布した。結果、いずれの化合物もエンバクに対し、８０％以上の殺草活性を示した。

　第９表に示す化合物を、ヘクタール当たり２５０ｇの散布量になるように散布した。結果、いずれの化合物もエンバクに対し、８０％以上の殺草活性を示した。

（ｄ）アキノエノコログサ
　第１０表に示す化合物を、ヘクタール当たり１０００ｇの散布量になるように散布した。結果、いずれの化合物もアキノエノコログサに対し、８０％以上の殺草活性を示した。

　第１１表に示す化合物を、ヘクタール当たり２５０ｇの散布量になるように散布した。結果、いずれの化合物もアキノエノコログサに対し、８０％以上の殺草活性を示した。

（ｅ）メヒシバ
　第１２表に示す化合物を、ヘクタール当たり１０００ｇの散布量になるように散布した。結果、いずれの化合物もメヒシバに対し、８０％以上の殺草活性を示した。

　第１３表に示す化合物を、ヘクタール当たり２５０ｇの散布量になるように散布した。結果、いずれの化合物もメヒシバに対し、８０％以上の殺草活性を示した。

（ｆ）アオゲイトウ
　第１４表に示す化合物を、ヘクタール当たり１０００ｇの散布量になるように散布した。結果、いずれの化合物もアオゲイトウに対し、８０％以上の殺草活性を示した。

　第１５表に示す化合物を、ヘクタール当たり２５０ｇの散布量になるように散布した。結果、いずれの化合物もアオゲイトウに対し、８０％以上の殺草活性を示した。

　本発明化合物の中から無作為に選択したものが、いずれも上記のような効果を奏することから、本発明化合物は、例示しきれなかった化合物を含め、高い除草効果を奏する化合物であることが理解できる。

　低薬量でも確実な雑草防除効果を奏し、作物に対する薬害が少なく、且つ環境への安全性が高い、除草剤の有効成分として有用な新規７－オキサ－３，４－ジアザビシクロ［４．１．０］ヘプタ－４－エン－２－オン化合物および除草剤を提供することができる。

Claims (6)

1. 　式（I）で表される化合物またはその塩。
   

   

   　式（I）中、
   　Ｒ^１は、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、または５～６員環状エーテル基を示し、
   　Ｒ^２は、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、または置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基を示し、
   　Ｒ^３は、水素原子、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、置換若しくは無置換のＣ１～６アルコキシ基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、または置換若しくは無置換のフェニル基を示し、且つ
   　Ｑは、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のナフチル基を示す。
2. 　式（I-1）で表される、請求項１に記載の式（I）で表される化合物またはその塩。
   

   

   　式（I-1）中、Ｒ^１、Ｒ^２、およびＲ^３は、請求項１におけるそれらの定義と同じであり、
   　Ｘは、ハロゲノ基、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、水酸基、置換若しくは無置換のＣ１～６アルコキシ基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニルオキシ基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニルオキシ基、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキルチオ基、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキルスルフィニル基、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキルスルホニル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキルオキシ基、置換若しくは無置換のフェニル基、フェノキシ基、置換若しくは無置換の５～６員ヘテロシクリル基、置換若しくは無置換の５～６員ヘテロシクリルオキシ基、置換若しくは無置換のフェニルスルホニル基、Ｒ－ＣＯ－で表される基、ＲＯ－ＣＯ－で表される基、Ｒ－ＣＯＮＲ^ａ－で表される基、ＲＮＨ－ＣＯ－で表される基、Ｒ_２Ｎ－ＣＯ－で表される基、ＲＯ－ＣＯ－ＮＲ^ａ－で表される基、ＲＮＨ－ＣＯ－ＮＨ－で表される基、Ｒ_２Ｎ－ＣＯ－ＮＨ－で表される基、ＲＮＨ－ＣＯ－ＣＯ－ＮＨ－で表される基、Ｒ_２Ｎ－ＣＯ－ＣＯ－ＮＨ－で表される基、Ｒ－Ｓ（Ｏ）_２－ＮＨ－で表される基、Ｒ_２Ｎ－Ｓ（Ｏ）_２－で表される基、Ｒ_２Ｓ（Ｏ）＝Ｎ－で表される基、Ｒ－Ｓ（Ｏ）（＝Ｎ－Ｒ^ｂ）－で表される基、ＲＯ－Ｎ＝Ｃ（Ｒ^ｃ）－で表される基、ニトロ基、またはシアノ基を示し；
   　Ｒは、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基または置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基を示し、
   　Ｒ^ａは、それぞれ独立に、水素原子、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、または置換若しくは無置換のＣ１～６アルコキシ基を示し、
   　Ｒ^ｂは、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基または置換若しくは無置換のフェニル基を示し、
   　Ｒ^ｃは、水素原子または置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基を示し；
   　上記のＲ_２Ｎ－ＣＯ－で表される基、Ｒ_２Ｎ－ＣＯ－ＮＨ－で表される基、Ｒ_２Ｎ－ＣＯ－ＣＯ－ＮＨ－で表される基、またはＲ_２Ｎ－Ｓ（Ｏ）_２－で表される基において、ＲとＲとが結合してそれらが結合する窒素原子と共に４～６員環を形成してもよく；
   　上記のＲ_２Ｓ（Ｏ）＝Ｎ－で表される基において、ＲとＲとが結合してそれらが結合する硫黄原子と共に５～６員環を形成してもよく；
   　ｎは、０～５の整数を示し、ｎが２以上である場合Ｘは同一であっても異なっていてもよく、ｎが２以上ある場合そのうちの２つのＸが一緒になって二価の有機基を形成してもよい。
3. 　式（I-3）で表される、請求項１に記載の式（I）で表される化合物またはその塩。
   

   

   　式（I-1）中、Ｒ^１、Ｒ^２、およびＲ^３は、請求項１におけるそれらの定義と同じであり、Ｘ^１は、ハロゲノ基、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルケニル基、置換若しくは無置換のＣ２～６アルキニル基、置換若しくは無置換のＣ１～６アルコキシ基、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキルチオ基、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキルスルフィニル基、置換若しくは無置換のＣ１～６アルキルスルホニル基、置換若しくは無置換のＣ３～６シクロアルキル基、置換若しくは無置換のフェニル基、置換若しくは無置換の５～６員ヘテロシクリル基、ニトロ基、またはシアノ基を示し；
   　ｍは、０～３の整数を示し、ｍが２以上である場合Ｘ^１は同一であっても異なっていてもよい。
4. 　Ｒ^２におけるＣ１～６アルキル基上の置換基が、ハロゲノ基、水酸基、Ｃ１～６アルコキシ基、Ｃ１～６アルコキシＣ１～６アルコキシ基、Ｃ１～６ハロアルコキシ基、Ｃ１～６アルキルチオ基、Ｃ１～６アルキルスルフィニル基、Ｃ１～６アルキルスルホニル基、Ｃ３～６シクロアルキル基、フェニル基、５員ヘテロアリール基、Ｃ１～６アルキルカルボニル基、ベンゾイル基、Ｃ１～６アルコキシカルボニル基、Ｃ１～６アルキルカルボキシアミド基、（（１，３－ジオキソイソインドリン－２－イル）オキシ基、トリメチルシリル基、シアノ基からなる群、
   　並びに、Ｃ１～６アルキル基置換、ハロゲノ基置換、Ｃ１～６ハロアルキル基置換若しくはＣ１～６ハロアルコキシ基置換のフェニル基；Ｃ１～６アルキル基置換、ハロゲノ基置換、Ｃ１～６ハロアルキル基置換若しくはＣ１～６ハロアルコキシ基置換のフェノキシ基；およびＣ１～６アルキル基置換、ハロゲノ基置換、Ｃ１～６ハロアルキル基置換若しくはＣ１～６ハロアルコキシ基置換の５員ヘテロアリール基からなる群；
   　より選択される少なくともひとつである請求項１に記載の化合物またはその塩。
5. 　請求項１～４のいずれかに記載の化合物およびその塩からなる群から選ばれる少なくともひとつを有効成分として含有する除草剤。
6. 有用植物における単子葉類および／または双子葉類の雑草を防除する方法であって、請求項１～４のいずれかに記載の化合物若しくはその塩、または前記化合物を含有する除草剤を、前記雑草および／または前記植物および／またはその場所に施用する工程を含む、方法。