WO2021039483A1 - 超音波検査装置および超音波検査方法 - Google Patents

超音波検査装置および超音波検査方法 Download PDF

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WO2021039483A1
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reflected
ultrasonic
ultrasonic inspection
gate
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薫 酒井
昌幸 小林
菊池 修
大野 茂
耕太郎 菊川
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株式会社日立パワーソリューションズ
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Definitions

  • the present invention relates to an ultrasonic inspection device and an ultrasonic inspection method.
  • the reflected echo U2 that sends U1 and returns from the subject is received, the received waveform data generated from the reflected echo is processed by the arithmetic processing means (waveform arithmetic processing program 37), and the internal defect 51 of the subject is inspected.
  • the arithmetic processing means has a waveform feature extraction means that performs wavelet conversion processing on received waveform data in which a plurality of reflected echoes interfere with each other to extract waveform features of internal defects and visualize them. " ing.
  • an object of the present invention is to provide an ultrasonic inspection apparatus and an ultrasonic inspection method capable of appropriately detecting the internal state of an inspection object.
  • the ultrasonic inspection apparatus of the present invention An ultrasonic probe that generates ultrasonic waves, transmits them to the inspection object, and receives the reflected waves reflected from the inspection object.
  • Arithmetic processing unit and The arithmetic processing unit is: (A) A gate indicating the start time and time width of the analysis target of the reflected wave is set. (B) Regarding each of the plurality of measurement points: (B1) Obtain a reflected signal indicating the intensity of the reflected wave for each time, (B2) A difference signal, which is the difference between the reflected signal and the reference signal, is calculated. (B3) A feature amount is calculated for the difference signal in the gate, and the feature amount is calculated. (C) Defects are detected based on the feature quantities for the plurality of measurement points. (D) It is characterized in that it outputs information indicating the depth of the defect along the transmission direction of the ultrasonic wave.
  • the internal state of the inspection object can be appropriately detected.
  • the gate (time width) is set assuming a time zone in which the irradiated ultrasonic waves are reflected and received at a desired boundary surface. Then, by imaging the intensity of the reflected wave in the gate, defects such as peeling existing at the junction interface in the inspection object can be made apparent in the inspection image.
  • the gate has a start time other than the time width, as will be described later.
  • inspection objects such as LSIs (Large Scale Integration) have a structure in which thin film layers are laminated, so that the reception time of reflected waves from the boundary surface of each layer is close.
  • This causes a problem that the reflected waves interfere with each other, and it is becoming difficult to clearly distinguish the reflected waves from the desired boundary surface from the reflected waves from other boundary surfaces. Therefore, even when the inspection object has a defect, the signal corresponding to the defect is distorted or buried due to interference, and it becomes difficult to detect the defect.
  • the "reflected wave” refers to an ultrasonic wave reflected from each boundary surface or the like.
  • the "reflected signal” is a signal indicating the intensity of the reflected wave for each time.
  • signal refers to a signal in analog format, and also includes digitized data.
  • the main inspection target is an electronic component having a plurality of junction interfaces, such as an integrated circuit in which chips that are becoming extremely thin are laminated. Even when the generation time of the reflected wave from each interface is close and it is received as a combined reflected signal, the reflected wave from the defect is detected separately from the reflected wave from the other junction interface. , It becomes possible to specify the depth of occurrence. That is, in the present embodiment, the reflected waves from the plurality of junction interfaces are close to each other in the time direction, and the difference from the reference signal is calculated for the reflected signal obtained as a composite signal thereof to obtain a difference signal. The difference between the reference signal and the reflected signal becomes apparent by this difference signal.
  • FIG. 1 is a block diagram of an ultrasonic inspection device 100 according to the first embodiment of the present invention.
  • the ultrasonic inspection device 100 includes a detection unit 1, an A / D converter 6, a signal processing unit 7 (arithmetic processing unit), an overall control unit 8 (arithmetic processing unit), and a mechanical controller 16. , Is equipped.
  • the coordinate system 10 shown in FIG. 1 is a coordinate system of three orthogonal axes of X, Y, and Z.
  • the detection unit 1 includes a scanner stand 11, a water tank 12, and a scanner 13.
  • the scanner base 11 is a base installed substantially horizontally.
  • the water tank 12 is placed on the upper surface of the scanner stand 11.
  • the scanner 13 is provided on the upper surface of the scanner stand 11 so as to straddle the water tank 12.
  • the mechanical controller 16 drives the scanner 13 in the X, Y, and Z directions.
  • Water 14 is injected into the water tank 12 to the height of level LV1, and sample 5 (inspection target), which is an inspection target, is placed on the bottom (underwater) of the water tank 12.
  • Sample 5 generally has a multilayer structure. When the transmitted ultrasonic wave is incident on the sample 5, a reflected wave is generated from the surface of the sample 5 or a different boundary surface.
  • the reflected wave of each part is received by the ultrasonic probe 2 and synthesized, and output as a reflected signal.
  • the ultrasonic probe 2 When used, the ultrasonic probe 2 is immersed in water 14.
  • the water 14 functions as a medium for efficiently propagating the ultrasonic waves emitted from the ultrasonic probe 2 into the sample 5.
  • the ultrasonic probe 2 transmits ultrasonic waves to the sample 5 from the lower end thereof, and receives the reflected wave returned from the sample 5.
  • the ultrasonic probe 2 is mounted on the holder 15 and can be freely moved in the X, Y, and Z directions by the scanner 13 driven by the mechanical controller 16.
  • the overall control unit 8 causes the ultrasonic probe 2 to transmit ultrasonic waves at a plurality of preset measurement points while moving the ultrasonic probe 2 in the X and Y directions.
  • the transmission direction of the ultrasonic waves of the ultrasonic probe 2 may be changed to another method.
  • the flaw detector 3 filters the reflected signal and the like.
  • the A / D converter 6 converts the output signal of the flaw detector 3 into a digital signal and supplies it to the signal processing unit 7.
  • the signal processing unit 7 acquires a two-dimensional image of the joint surface of the sample 5 in the measurement region on the XY plane based on the digitized reflected signal, and inspects the defect in the sample 5.
  • the signal processing unit 7 processes the reflected signal converted into a digital signal by the A / D converter 6 to detect the internal state of the sample 5.
  • the signal processing unit 7 is provided with hardware as a general computer such as a CPU (Central Processing Unit), a DSP (Digital Signal Processor), a RAM (Random Access Memory), and a ROM (Read Only Memory). Stores a control program executed by the CPU, a microprogram executed by the DSP, various data, and the like.
  • the inside of the signal processing unit 7 shows a function realized by a control program, a micro program, or the like as a block. That is, the signal processing unit 7 includes an image generation unit 7-1, a defect detection unit 7-2, a data output unit 7-3, and a parameter setting unit 7-4.
  • the image generation unit 7-1 converts the reflected signal into a luminance value, arranges the luminance value on the XY plane, and generates an image.
  • the defect detection unit 7-2 processes the image generated by the image generation unit 7-1 to detect an internal state such as an internal defect of the sample 5.
  • the data output unit 7-3 outputs inspection results such as internal defects detected by the defect detection unit 7-2 to the overall control unit 8.
  • the parameter setting unit 7-4 receives parameters such as measurement conditions input from the overall control unit 8 and sets them in the defect detection unit 7-2 and the data output unit 7-3. Then, the parameter setting unit 7-4 stores these parameters in the storage device 30.
  • the overall control unit 8 is equipped with hardware as a general computer such as a CPU, RAM, ROM, SSD (Solid State Drive), and the SSD contains an OS (Operating System), an application program, various data, and the like. It is stored. The OS and application programs are expanded in RAM and executed by the CPU. Further, the overall control unit 8 is connected to the GUI unit 17 and the storage device 18.
  • a general computer such as a CPU, RAM, ROM, SSD (Solid State Drive)
  • the SSD contains an OS (Operating System), an application program, various data, and the like. It is stored. The OS and application programs are expanded in RAM and executed by the CPU. Further, the overall control unit 8 is connected to the GUI unit 17 and the storage device 18.
  • the GUI unit 17 includes an input device (unsigned) that receives input of parameters and the like from the user, and a display (unsigned) that displays various information to the user. Further, the overall control unit 8 outputs a control command for driving the scanner 13 to the mechanical controller 16. Further, the overall control unit 8 also outputs a control command for controlling the flaw detector 3, the signal processing unit 7, and the like.
  • the arithmetic processing unit may be a general computer such as a CPU, RAM, ROM, SSD (Solid State Drive), etc. It can be said that the SSD is equipped with the above hardware and stores the OS (Operating System), application programs, various data, and the like.
  • the OS and the application program are expanded in the RAM and executed by the CPU.
  • the arithmetic processing unit may be connected to the GUI unit 17 and the storage device 18.
  • the arithmetic processing unit may realize the signal processing unit 7 and the overall control unit 8 by executing a program on common hardware, and the signal processing unit 7 and the overall control unit 8 may be realized by separate hardware. May be realized. Further, a part of the arithmetic processing unit may be realized by hardware such as ASIC or FPGA.
  • FIG. 2 is a schematic view showing the operating principle of the ultrasonic inspection device 100.
  • the flaw detector 3 drives the ultrasonic probe 2 by supplying a pulse signal to the ultrasonic probe 2, and the ultrasonic probe 2 generates ultrasonic waves. As a result, the ultrasonic waves are transmitted to the sample 5 via the water 14 (see FIG. 1).
  • Sample 5 generally has a multilayer structure.
  • the reflected wave 4 is generated from the surface of the sample 5 or a different boundary surface.
  • the reflected wave 4 is received by the ultrasonic probe 2 and synthesized, and is supplied to the flaw detector 3 as a reflected signal.
  • the reflected signal is filtered or the like.
  • the reflected signal that has been filtered or the like is converted into a digital signal by the A / D converter 6 and input to the signal processing unit 7.
  • a measurement region that is a range for scanning the ultrasonic probe 2 is predetermined above the sample 5 (not shown).
  • the overall control unit 8 repeatedly executes the above-mentioned transmission of ultrasonic waves and reception of reflected signals while scanning the ultrasonic probe 2 in the measurement region.
  • the ultrasonic wave generated by the ultrasonic probe 2 may be referred to as a "transmitted wave".
  • the image generation unit 7-1 performs a process of converting the reflected signal into a luminance value, and generates a cross-sectional image (feature image) of one or a plurality of joint surfaces of the sample 5.
  • the defect detection unit 7-2 detects defects such as peeling, voids, and cracks based on the cross-sectional image of the generated joint surface.
  • the data output unit 7-3 generates data to be output as an inspection result, such as information on each defect detected by the defect detection unit 7-2 and a cross-sectional image, and outputs the data to the overall control unit 8.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view of sample 400, which is an example of sample 5.
  • the sample 400 is formed by joining substrates 401 and 402 made of different materials.
  • a void 406, which is a defect is formed on the boundary surface 404 of the substrates 401 and 402.
  • the ultrasonic probe 2 is arranged above the surface 408 of the sample 400 and the ultrasonic wave 49 is transmitted, the ultrasonic wave 49 is propagated inside the sample 400. Further, the ultrasonic wave 49 is reflected at a place where a difference in acoustic impedance appears, such as the surface 408 of the sample 400 and the boundary surface 404, and the reflected wave is received by the ultrasonic probe 2.
  • Each reflected wave is received by the ultrasonic probe 2 at a timing according to the distance between the reflected point and the ultrasonic probe 2 and the propagation speed, and the ultrasonic probe 2 synthesizes each reflected wave. Receive the reflected signal.
  • FIG. 4 is a diagram showing an example of the reflected signal S40 received by the ultrasonic probe 2 in FIG.
  • the vertical axis of FIG. 4 is the reflection intensity of the reflection signal S40, that is, the peak value.
  • the horizontal axis of FIG. 4 is the reception time, which can be converted into the depth of the sample 400 and corresponds to the path of the reflected signal S40.
  • the reflection intensity on the vertical axis has a median value of 0, from which the upward value is a positive value and the downward value is a negative value. Peaks having different polarities appear alternately in the reflected signal S40. Hereinafter, each peak is referred to as a local peak.
  • the reception time on the horizontal axis for example, the time when the ultrasonic wave is transmitted may be set to zero, but other timings may be set to zero.
  • the S gate 41 which is a gate (that is, time width) for detecting the reflected wave from the surface 408 (see FIG. 3), is set. Then, in the time range (within the width range) set by the S gate 41, the timing at which "S40 ⁇ -Th1" or "Th1 ⁇ S40" is first established is called a trigger point 43.
  • Th1 is a predetermined threshold value.
  • the image generation unit 7-1 of the signal processing unit 7 first detects the trigger point 43.
  • the period from the timing delayed by the predetermined time T2 from the trigger point 43 to the timing further delayed by the predetermined time T3 is called the visualization gate 42.
  • the signal processing unit 7 identifies the local peak at which the absolute value of the reflected signal 40 is maximum in the visualization gate 42 as the local peak due to the reflected wave from the boundary surface 404 (see FIG. 3).
  • the local peak 44 is identified as a local peak due to the reflected wave from the interface 404.
  • the overall control unit 8 causes the ultrasonic probe 2 to transmit ultrasonic waves at a plurality of measurement points while moving the ultrasonic probe 2 in the X and Y directions (see FIG. 1). ..
  • the image generation unit 7-1 of the signal processing unit 7 identifies the local peak 44 at each measurement point, acquires the peak value I44 at each local peak 44, and converts this into a luminance value.
  • the image generation unit 7-1 images the joint state of the boundary surface 404 as a cross-sectional image by arranging the luminance values obtained in this manner on the X and Y planes. At that time, the absolute value of the peak value I44 becomes high at the place where a defect such as void 406 exists. As a result, defects such as voids 406 and boundary surfaces 404 can be made apparent in the cross-sectional image.
  • FIG. 5 is a cross-sectional view of sample 500, which is another example of sample 5.
  • the sample 500 includes a micro bump 51, a resin package 52, a chip 53, a package substrate 55, and a ball grid array 56.
  • the micro bump 51 connects each part of the chip 53 and each part of the package substrate 55.
  • a defect 54 due to a crack is generated in a part of the micro bump 51.
  • the resin package 52 is formed of a resin that covers the package substrate 55 and the chip 53, and protects the chip 53 and the like from the outside.
  • An ultrasonic probe 2 is arranged above the surface 508 of the sample 500. When the ultrasonic probe 2 transmits the ultrasonic wave 59 to the sample 500 in water, the ultrasonic wave 59 is propagated inside the sample 500.
  • the ultrasonic wave 59 is reflected at a place where a difference in acoustic impedance appears, such as the surface 508 of the sample 500, the upper surface of the chip 53, the lower surface of the chip 53, and the micro bump 51. These reflected waves are combined and received by the ultrasonic probe 2 as a reflected signal.
  • FIG. 6 is a diagram showing an example of the reflected signal S50 received by the ultrasonic probe 2 in FIG.
  • the vertical axis of FIG. 6 is the reflection intensity of the reflection signal S50, that is, the peak value.
  • the horizontal axis of FIG. 6 is the reception time, which can be converted into the depth of the sample 500 and corresponds to the path of the reflected signal S50.
  • the reflection intensity on the vertical axis has a median value of 0, from which the upward value is a positive value and the downward value is a negative value. Local peaks having different polarities appear alternately in the reflected signal S50.
  • the reception time on the horizontal axis of FIG. 6 and FIG. 7 to be described later for example, the time when the ultrasonic wave is transmitted may be set to zero, but other timings may be set to zero.
  • the S gate 510 which is a gate for detecting the reflected wave from the surface 508 of the sample 500, is set. That is, the reflected signal S50 at the S gate 510 is mainly due to the reflected wave from the surface 508.
  • the reflected signal S50 at the visualization gates 502, 503, and 504 is due to reflected waves from the upper surface of the chip 53, the lower surface of the chip 53, and the upper surface of the package substrate 55, respectively.
  • the generation timings of the reflected waves of each part are close to each other, and it is necessary to set the time width of the visualization gates 502, 503, 504 to be narrow. Therefore, it is expected that it will be difficult to separate and extract the reflected signals at each interface as the electronic components become thinner in the future.
  • FIG. 7 is a diagram showing examples of various signals when the difference in reception time of reflected signals from each interface is smaller than that in FIG.
  • the reflected waves 632 and 634 shown at the top of FIG. 7 are reflected waves from two interface surfaces (not shown). Then, the interval between the peak of the reflected wave 632 (time t632) and the peak of the reflected wave 634 (time t634) is defined as ⁇ t.
  • the waveform of the transmitted wave is substantially equal to, for example, a similar figure of the reflected wave 632.
  • a “transmission wavelength T” is defined for this transmitted wave.
  • the transmission wavelength T is defined as "the length of 1.5 cycles including the peak time”. As shown in the figure, the transmission wavelength T is equal to the "length of 1.5 cycles including the peak time" of the reflected wave 632. Further, in the illustrated example, the interval ⁇ t is equal to twice the transmission wavelength T.
  • the reflected signal 630 shown second from the top of FIG. 7 is a signal obtained by synthesizing the reflected waves 632 and 634, and is a signal actually obtained by the ultrasonic probe 2.
  • the reflected signal 630 can be divided into a portion substantially caused by the reflected wave 632 and a portion substantially caused by the reflected wave 634. Therefore, for example, by setting the illustrated visualization gates 601, 602, the features of the reflected waves 632 and 634 can be separated and extracted.
  • the reflected waves 642 and 644 shown third from the top in FIG. 7 have the same waveforms as the above-mentioned reflected waves 632 and 634, respectively.
  • the interval ⁇ t between the peak of the reflected wave 642 (time t642) and the peak of the reflected wave 644 (time t644) is 0.9T.
  • the reflected signal 640 shown at the bottom of FIG. 7 is a signal obtained by synthesizing the reflected waves 642 and 644, and is a signal actually obtained by the ultrasonic probe 2.
  • FIG. 8 is a flowchart of an ultrasonic inspection processing program executed by the signal processing unit 7 and the overall control unit 8.
  • the overall control unit 8 performs a predetermined initial setting for the signal processing unit 7.
  • the initial setting means to specify the following conditions (1) to (3), and for example, the user inputs these conditions (1) to (3) via the GUI unit 17.
  • the overall control unit 8 causes the ultrasonic probe 2 to transmit ultrasonic waves at a plurality of preset measurement points.
  • the user designates any one of these measurement points as a "reference point".
  • the measurement point used as the reference point may omit some or all of the processing from step S103 to step S107.
  • Gate start position and width For example, as in the S gate 510 and the visualization gates 502, 503 and 504 shown in FIG. 6, in the present embodiment, a plurality of gates are defined and reflected signals (FIG. 6). S50) is analyzed. The user specifies the starting position and width of each of these gates according to the vertical structure of the sample 5.
  • the fundamental wave refers to the waveform of the transmission wavelength including the timing at which the absolute value becomes maximum among the transmitted waves.
  • the waveform of the fundamental wave is, for example, substantially equal to the similar figure of the reflected wave 632 in the range of the transmission wavelength T shown in FIG. Since the fundamental wave is determined by the type of the ultrasonic probe 2, the user sets the fundamental wave according to the type of the ultrasonic probe 2 to be applied.
  • An example of the fundamental wave is the fundamental wave 81 shown in FIG.
  • the signal processing unit 7 and the overall control unit 8 store the fundamental wave as a “signal” in order to compare and calculate the reflected signal and the like. Therefore, in the following description, the fundamental wave stored as a signal is also simply referred to as a "fundamental wave". However, when it is desired to clarify that it is a "signal”, it may be called a "fundamental wave signal”.
  • the overall control unit 8 causes the signal processing unit 7 to acquire the reference signal. That is, the overall control unit 8 drives the mechanical controller 16 to move the ultrasonic probe 2 to the reference point. Then, the transmitted wave is output from the ultrasonic probe 2. Then, the reflected wave of each part returns to the ultrasonic probe 2, and the reflected signal obtained by synthesizing these is output from the ultrasonic probe 2. The reflected signal is filtered through the flaw detector 3, converted into a digital signal by the A / D converter 6, and supplied to the signal processing unit 7. The overall control unit 8 causes the image generation unit 7-1 to store the reflected signal at this reference point as a reference signal in the image generation unit 7-1.
  • the overall control unit 8 causes the signal processing unit 7 to acquire the reflected signal at one measurement point. That is, the overall control unit 8 drives the mechanical controller 16 to move the ultrasonic probe 2 to a measurement point where the reflected signal has not yet been acquired. Then, the transmitted wave is output from the ultrasonic probe 2. Then, the reflected signal is output from the ultrasonic probe 2, and the reflected signal converted into a digital signal is supplied to the signal processing unit 7. The overall control unit 8 causes the image generation unit 7-1 to store this reflected signal in the image generation unit 7-1 as a reflection signal at the measurement point.
  • step S104 the image generation unit 7-1 performs a differential calculation between the reference signal and the reflected signal.
  • the outline of the differential calculation in step S104 will be described.
  • FIG. 9 is an example of a waveform diagram of the reflected signal 70 at one measurement point and the reference signal 71 at the reference point.
  • the reflection signal 70 and reference signal 71 may be referred to as a reflected signal I B (t) and the reference signal I A (t) as a function of time t.
  • the reflected signal 70 has a local peak 701, and the reference signal 71 has a local peak 711.
  • the peak value (maximum value) and peak timing (time when the maximum value occurs) of the local peaks 701 and 711 are slightly different.
  • the image generation unit 7-1 normalizes (transforms) the waveform of the reflected signal 70 so that the peak values and peak timings of the local peaks 701 and 711 match. That is, the reflected signal 70 is expanded and contracted in the vertical axis direction so that the peak values of the local peaks 701 and 711 match, and the reflected signal 70 is shifted in the horizontal axis direction so that the peak timings match.
  • the normalized reflected signals I B and (t) referred to as the normalized reflectance signal I 'B (t).
  • the normalized reflectance signal I 'B (t) sometimes referred 'to collectively B (t) "reflected signal (I B (t), I' reflected signal I B (t) and the normalized reflectance signal I and B (t))".
  • it may be deformed so that only the peak timings match, or it may be deformed so that only the peak values match.
  • the normalized reflected signal I 'B (t) it is necessary to perform the association of the local peaks 701, 711 serving as a reference for normalization.
  • Various methods such as surface trigger point method, belief propagation method, normalized cross-correlation method, and DP matching method are known, but any method may be applied as long as it can collate local peaks. ..
  • the normalized reflected signal I 'B (t) is obtained, the image generating unit 7-1, based on the following equation (1), and calculates the difference signal m (t).
  • FIG. 10 is a waveform diagram showing an example of the difference signal m (t) and the correlation coefficient R (t).
  • the waveform 80 shown in FIG. 10 is an example of the difference signal m (t), and the vertical axis of the waveform 80 is the difference value.
  • the fundamental wave 81 corresponds to the unique transmission waveform of the ultrasonic probe 2, and is set in step S101 according to the type of the ultrasonic probe 2.
  • the waveform 82 is an example of the correlation coefficient R (t).
  • the correlation coefficient R (t) is calculated based on the following equation (2) while scanning the fundamental wave 81 in the X-axis direction with respect to the difference signal m (t).
  • f (n) is the reflection intensity of the fundamental wave 81
  • n is the time length (data points) of the fundamental wave 81.
  • the image generation unit 7-1 performs the correlation analysis based on the correlation coefficient R (t) (see FIG. 10). That is, the image generation unit 7-1 calculates at least one feature amount in the range of the feature calculation gate 83 (gate) shown in FIG.
  • the feature calculation gate 83 can be defined by setting a start time and a time width with respect to the reference signal obtained in S102.
  • the ultrasonic inspection device may be provided with the feature calculation gate 83 without the visualization gate 42, or may be provided with both.
  • the visualization gate and the feature calculation gate may have the following relationship.
  • -The feature calculation gate 83 and the visualization gate 42 are the same.
  • the feature calculation gate 83 partially overlaps or includes the visualization gate 42.
  • -The feature calculation gate 83 and the visualization gate 42 do not overlap.
  • the normalized reflected signal I 'B (t), the reference signal I A (t), is a waveform diagram showing an example of the difference signal m (t) and the partial correlation coefficient Rp (t).
  • waveform 901 is an example of a normalized reflectance signal I 'B (t)
  • the waveform 902 is an example of a reference signal I A (t)
  • the waveform 903 the difference signal m of (t) This is an example.
  • the difference signal m (t) is expanded in the vertical direction.
  • the feature calculation gate 911 (gate) is a feature calculation gate having a narrower range than the feature calculation gate 83 (see FIG. 10).
  • the waveform 91 is an example of a waveform having a partial correlation coefficient Rp (t) that matches the correlation coefficient R (t) (see FIG. 10) in the feature calculation gate 911 and becomes “0” in other parts.
  • the image generation unit 7-1 calculates the feature amount based on the waveform 91 in the feature calculation gate 911, that is, the partial correlation coefficient Rp (t).
  • the image generation unit 7-1 detects one or more of the feature quantities listed below based on the partial correlation coefficient Rp (t) in the feature calculation gate 911. Whether or not there is a portion where the partial correlation coefficient Rp (t) is less than the predetermined threshold value ThC.
  • the defect detection unit 7-2 determines the defect based on the feature amount detected in the correlation analysis (S106). For example, in the feature calculation gate 911, it can be determined that "there is a defect” if "the minimum value of the partial correlation coefficient Rp (t) ⁇ threshold value ThC" is satisfied, and "there is no defect” if it is not satisfied. Further, when the defect detection unit 7-2 determines that there is a defect, the defect detection unit 7-2 also calculates the “occurrence depth” of the defect based on the time ct1 of FIG.
  • step S108 the overall control unit 8 determines whether or not the reflected signals have been acquired for all the measurement points in the measurement region. If "No" is determined here, the process returns to step S103, and the processes of steps S103 to S107 are repeated for the measurement points for which the reflected signal has not yet been acquired. Then, when the reflected signals are acquired at all the measurement points, it is determined as "Yes” in step S108, and the process proceeds to step S109.
  • step S109 the image generation unit 7-1 generates a cross-sectional image (feature image) by arranging the feature quantities at each measurement point in the X and Y directions. Further, the data output unit 7-3 outputs the following information to the overall control unit 8.
  • Cross-sectional image used for defect judgment -Whether or not there are defects in the cross-sectional image, and if there are defects, the number of defects, -The film thickness and film thickness distribution of each part in sample 5.
  • -Graph of difference signal m (t) -Graph of correlation coefficient R (t) or partial correlation coefficient Rp (t)
  • the above-mentioned cross-sectional image shows the defect occurrence position (coordinates) in the X and Y directions. Includes the dimensions of the individual defects and information indicating the location or depth of the defect in the time direction (Z direction in FIG. 1).
  • the overall control unit 8 displays the data supplied from the data output unit 7-3 on the display of the GUI unit 17. This completes the processing of this routine.
  • FIG. 12 is a diagram showing examples of various feature calculation gates and corresponding cross-sectional images.
  • the "cross-sectional image" as used in the present specification refers to an image in which the feature amount detected in the present specification is two-dimensionalized.
  • the two-dimensional surface may be a surface along the X and Y directions (that is, a surface along the scanning surface of the probe), but may be a surface along another reference surface.
  • the reference surface is, for example, a surface having a normal line along the traveling direction of ultrasonic waves, or a surface of an object to be inspected, that is, a surface on which ultrasonic waves are incident.
  • the feature calculation gate 110 has a width of about one transmission wavelength, that is, a width such that positive and negative local peaks are included once.
  • the cross-sectional image 118 (feature image) is an image acquired corresponding to the feature calculation gate 110, and has six circular defect regions 121 to 126.
  • the width of the feature calculation gate 110 is set to about one transmission wavelength, a situation may occur in which the cross-sectional image 118 simultaneously contains defects of different joint surfaces.
  • the defect regions 121 to 126 shown in the figure are also actually any one of a plurality of different joint surfaces, but it is difficult to identify the joint surface in which the defect occurs only from the cross-sectional image 118.
  • the feature calculation gate 130 shown second from the top of FIG. 12 has a width of about 1/2 transmission wavelength.
  • the Features calculate gate 130, the local peak of the reference signal I A (t) or normalized reflected signal I 'B (t) are not included. According to the present embodiment, defects can be detected even in a feature calculation gate that does not include a local peak, such as the feature calculation gate 130.
  • the cross-sectional image 138 (feature image) is an image acquired corresponding to the feature calculation gate 130, and has three circular defect regions 141, 143, and 144. These defect regions 141, 143, and 144 correspond to the same defects as the defect regions 121, 123, and 124 in the cross-sectional image 118, respectively.
  • the feature calculation gate 150 shown third from the top in FIG. 12 has the same width as the feature calculation gate 130, but is set at a position shifted rearward in the horizontal axis (time axis) direction.
  • the cross-sectional image 158 (feature image) is an image acquired corresponding to the feature calculation gate 150, and has three circular defect regions 162, 165, and 166. These defect regions 162, 165, and 166 correspond to the same defects as the defect regions 122, 125, and 126 in the cross-sectional image 118, respectively. In this way, the narrow feature calculation gates 130 and 150 can distinguish and detect defects existing at different depths.
  • the feature calculation gate 170 shown at the bottom of FIG. 12 has the same width as the feature calculation gate 110, and is divided into a plurality of divisions with timings 172 and 174 as boundaries in the horizontal axis (time axis) direction. ing. Then, in the feature calculation gate 170, it is distinguished which category the feature amount detected in the correlation analysis (S106) is included in.
  • the cross-sectional image 178 (feature image) is an image acquired corresponding to the feature calculation gate 170, and has six circular defect regions 181 to 186.
  • defect regions 181 to 186 correspond to the same defects as the defect regions 121 to 126 in the cross-sectional image 118, respectively.
  • the defect regions 181 to 186 have different display modes depending on the classification in the feature calculation gate 170.
  • the display mode is represented by hatching, mesh, dots, or the like, but different "display colors" may be given to the defect areas 181 to 186 depending on the classification in the feature calculation gate 170.
  • the depth accuracy is finer than the time width between the local peaks of the reflected signal. In other words, it is possible to achieve finer accuracy than the path obtained by the time width between the local peaks of the reflected signal.
  • the ultrasonic inspection device 100 of the present embodiment is an ultrasonic probe that generates ultrasonic waves, transmits the ultrasonic waves to the inspection target object (5), and receives the reflected waves reflected from the inspection target object (5).
  • (2) and an arithmetic processing unit (7, 8) are provided, and the arithmetic processing unit (7, 8) has: (A) a gate (911) indicating the start time and time width of the reflected wave to be analyzed.
  • (B) relates to each of a plurality of measuring points: get the (B1) reflection signal indicating the intensity for every time of the reflected wave (I B (t), I 'B (t)), (B2) reflected signal to calculate a difference signal which is a difference between (I B (t), I 'B (t)) and the reference signal (I a (t)) ( m (t)), (B3) a gate (911) in The feature amount is calculated for the difference signal (m (t)) of (C), a defect is detected based on the feature amount for a plurality of measurement points, and (D) the depth of the defect along the ultrasonic transmission direction. Outputs information indicating.
  • internal defects of the sample can be appropriately detected. More specifically, the depth of defects detected in the set gate can be accurately grasped.
  • the ultrasonic inspection apparatus 100 of the present embodiment generates ultrasonic waves, transmits the ultrasonic waves to the inspection target object (5), and receives the reflected waves reflected from the inspection target object (5).
  • the probe (2) and the arithmetic processing unit (7,8) that outputs a two-dimensional image based on the feature amount calculated based on the reflected wave are provided, and the arithmetic processing unit (7,8) is provided.
  • a two-dimensional image including information indicating the depth of the defect along the transmission direction of the ultrasonic wave is generated based on the above.
  • the depth of the defect can be accurately grasped based on the generated two-dimensional image.
  • the feature amount has a portion where the correlation coefficient (R (t)) between the predetermined fundamental wave signal (81) and the difference signal (m (t)) is (for example, Rp (t) ⁇ ThC). Whether or not to do so), the reception timing (tk1, tk2) of the reflected wave calculated based on the correlation coefficient (R (t)), or the difference signal (m (tk1)) at the reception timing (tk1, tk2). m (tc2)), whichever is included. As a result, it appears in the state of the correlation coefficient (R (t)), the reception timing of the reflected wave (tk1, tk2), or the difference signal (m (tk1), m (tk2)) at the reception timing (tk1, tk2). The feature amount can be extracted accurately.
  • the correlation coefficient (R (t)) between the predetermined fundamental wave signal (81) and the difference signal (m (t)) is (for example, Rp (t) ⁇ ThC).
  • the fundamental wave signal (81) is a signal defined in response to the characteristics of the ultrasonic probe (2). As a result, it is possible to extract an accurate feature amount according to the characteristics of the ultrasonic probe (2).
  • the reference signal in the present embodiment (I A (t)) is the reflected signal obtained at the reference point is (I B (t), I 'B (t)).
  • the reference signal (I A (t)) can be easily determined.
  • the set gate (130, 150) is in the time range from the start time to go through the time width, the reflected signal so as not to include the local peak of the (I B (t), I 'B (t)) Can be set. This makes it possible to distinguish and detect defects existing at different depths with high accuracy based on the reflected signal in a narrow time range that does not include a local peak.
  • the reflected signal has an accuracy finer than the time width of the local peaks between the (I B (t), I 'B (t)), or , It has finer accuracy than the path obtained by the time width between the local peaks of the reflected signal.
  • step S102 for acquiring a reference signal are the first. It is different from that of one embodiment.
  • the reference point for acquiring the reference signal is preferably selected from the measurement points of the sample 5 in which no defect has occurred. However, it may be difficult to grasp the “measurement point without defects” in advance. Therefore, in step S102 of the present embodiment, the reference signal is acquired by the procedure described below.
  • FIG. 13 is an operation explanatory diagram for acquiring a reference signal in the second embodiment.
  • the cross-sectional image 200 shown at the top of FIG. 13 is assumed to be a cross-sectional image generated in this way.
  • the overall control unit 8 and the signal processing unit 7 divide the cross-sectional image 200 into a plurality of partial regions having the same (for example, the same) pattern structure.
  • the N partial regions 202-1 to 202-N shown at the top of FIG. 13 are the partial regions obtained by the division.
  • the values of "1" to "N" may be referred to as shot numbers.
  • the overall control unit 8 and the signal processing unit 7 extract measurement points having the same (for example, the same) pattern in each of the subregions 202-1 to 202-N.
  • N measurement points 204-1 to 204-N are extracted measurement points.
  • the overall control unit 8 and the signal processing unit 7 sequentially move the ultrasonic probes 2 to these N measurement points 204-1 to 204-N, and N of them at these measurement points.
  • the image generation unit 7-1 is made to acquire the reflected signal.
  • these N reflected signals there may be a signal including a reflected wave due to a defect.
  • the waveform group 210 shown second from the top of FIG. 13 is a superposition of N acquired reflected signals with reference to a specific local peak.
  • the overall control unit 8 and the signal processing unit 7 calculate the median value of the intensity of the reflected signal at each time t of the waveform group 210.
  • Lines 212 and 214 shown by broken lines at the bottom of FIG. 13 represent upper and lower limit values of each waveform belonging to the waveform group 210.
  • the waveform 220 is a waveform connecting the medians of the waveforms belonging to the waveform group 210 at each time t. In this embodiment, this waveform 220 is applied as the reference signal I A (t).
  • the start position and width of each gate are specified according to the vertical structure of the sample 5.
  • the user inputs the "vertical structure information" of the sample 5 to the overall control unit 8.
  • the vertical structure information is a list of "layer number”, “material”, and “thickness” of each layer of the sample 5.
  • the "layer number” is a number assigned in ascending order from "1" in the order closer to the ultrasonic probe 2 in FIG.
  • the vertical structure information is such as "1: Epoxy resin encapsulant, 500 ⁇ m, 2: Si (silicon), 20 ⁇ m, 3: Al (aluminum), 7 ⁇ m, 4: Cu (copper), 7 ⁇ m, " It becomes information.
  • the overall control unit 8 calculates the time from the output of the transmitted wave from the ultrasonic probe 2 to the return of the reflected wave from the boundary surface of each layer to the ultrasonic probe 2, and starts each gate. Determine the position and width.
  • the vertical structure information described above may be obtained by the overall control unit 8 based on the CAD (Computer Aided Design) data of the sample 5.
  • the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications are possible.
  • the above-described embodiments are exemplified for easy understanding of the present invention, and are not necessarily limited to those having all the configurations described. Further, it is possible to replace a part of the configuration of one embodiment with the configuration of another embodiment, and it is also possible to add the configuration of another embodiment to the configuration of one embodiment. Further, it is possible to delete a part of the configuration of each embodiment, or add / replace another configuration.
  • the control lines and information lines shown in the figure show what is considered necessary for explanation, and do not necessarily show all the control lines and information lines necessary for the product. In practice, it can be considered that almost all configurations are interconnected. Possible modifications to the above embodiment are, for example, as follows.
  • the obtained cross-sectional image 200 is divided into measurement points 204-1 to 204-N, and a plurality of measurement points 204-1 to 204-N applied to statistical processing.
  • the measurement points applied to the statistical processing may be automatically selected from the sample layout information, design data, and the like.
  • a plurality of measurement points 204-1 to 204-N may be randomly selected from the measurement area.
  • the portion that generates the reflected signal based on the reflected wave may be other than the flaw detector 3 and the A / D converter 6.
  • the ultrasonic probe 2 may generate a reflected signal. In this case, it can be said that the ultrasonic probe 2 has a flaw detector 3 and an A / D converter 6 built-in.
  • a two-dimensional image is generated on the surface along the other reference surface.
  • I hope I can. That is, for each pixel (for example, a dot, a point, or a minute area) included in the cross-sectional image, ultrasonic waves are transmitted to different positions on the inspection target surface, the reflected wave is received, and the reflected wave is acquired.
  • the processing described in the present specification may be performed on the reflected signal that can be produced. Further, the image may include only one pixel.
  • the arithmetic processing unit (7, 8) (1) sets a gate (for example, the feature calculation gate 83 shown in FIG. 10) indicating the start time and time width of the reflected wave analysis target, and (2).
  • a gate for example, the feature calculation gate 83 shown in FIG. 10.
  • the two-dimensional image which includes information indicating the depth of the image, may be generated.

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Abstract

検査対象物の内部欠陥を適切に検出できる超音波検査装置を提供する。そのため、超音波検査装置は、超音波を発生して検査対象物に送信し、前記検査対象物から反射した反射波を受信する超音波探触子と、演算処理部と、を備え、前記演算処理部は:(A)前記反射波の解析対象の開始時間と時間幅とを示すゲートを設定し、(B)複数の測定点の各々に関し:(B1)前記反射波の時間毎の強度を示す反射信号を取得し、(B2)前記反射信号と参照信号との差分である差分信号を算出し、(B3)前記ゲート内の前記差分信号に対し特徴量を算出し、(C)複数の前記測定点に対する前記特徴量に基づいて欠陥を検出し、(D)前記超音波の送信方向に沿った前記欠陥の深さを示す情報を出力する。

Description

超音波検査装置および超音波検査方法
 本発明は、超音波検査装置および超音波検査方法に関する。
 検査対象物の画像から検査対象物の欠陥を検査する非破壊検査方法として、検査対象物に超音波を照射し、その反射波を検出して生成した超音波画像を用いる方法が知られている。例えば、下記特許文献1の要約には、「[課題]複数の反射信号が時間領域で近接し波形が干渉する場合に、内部欠陥の情報を正確に再現性よく安定して抽出し、明瞭に画像化できる超音波計測装置を提供する。[解決手段]超音波計測装置は、超音波探触子16で被検体15の表面を走査し、超音波探触子から被検体に向けて超音波U1を送出しかつ被検体から戻る反射エコーU2を受信し、反射エコーから生成される受信波形データを演算処理手段(波形演算処理プログラム37)で処理し、被検体の内部欠陥51を検査する。演算処理手段は、複数の反射エコーが干渉し合う状態にある受信波形データに対してウェーブレット変換処理を行い内部欠陥の波形特徴を抽出し、映像化する波形特徴抽出手段を有する。」と記載されている。
特開2010-169558号公報
 ところで、受信波形データにおいて複数の反射エコーが干渉し合う状態になると、検査対象物の欠陥を精度良く検出できなくなる場合がある。
 この発明は上述した事情に鑑みてなされたものであり、検査対象物の内部状態を適切に検出できる超音波検査装置および超音波検査方法を提供することを目的とする。
 上記課題を解決するため本発明の超音波検査装置は、
 超音波を発生して検査対象物に送信し、前記検査対象物から反射した反射波を受信する超音波探触子と、
 演算処理部と、
 を備え、前記演算処理部は:
 (A)前記反射波の解析対象の開始時間と時間幅とを示すゲートを設定し、
 (B)複数の測定点の各々に関し:
  (B1)前記反射波の時間毎の強度を示す反射信号を取得し、
  (B2)前記反射信号と参照信号との差分である差分信号を算出し、
  (B3)前記ゲート内の前記差分信号に対し特徴量を算出し、
 (C)複数の前記測定点に対する前記特徴量に基づいて欠陥を検出し、
 (D)前記超音波の送信方向に沿った前記欠陥の深さを示す情報を出力する
 ことを特徴とする。
 本発明によれば、検査対象物の内部状態を適切に検出できる。
本発明の第1実施形態による超音波検査装置のブロック図である。 超音波検査装置の動作原理を示す模式図である。 試料の一例の断面図である。 反射信号の一例を示す図である。 試料の他の例の断面図である。 反射信号の他の例を示す図である。 反射信号の他の例を示す図である。 超音波検査処理プログラムのフローチャートである。 反射信号および参照信号の波形図の例である。 差分信号および相関係数の一例を示す波形図である。 正規化反射信号、参照信号、差分信号および部分相関係数の一例を示す波形図である。 特徴算出ゲートと、対応する断面画像の例を示す図である。 第2実施形態において参照信号を取得する動作説明図である。
[第1実施形態]
〈第1実施形態の概要〉
 一般的に、多層構造を有する検査対象物の内部に存在する欠陥を超音波で検出するには、音響インピーダンスの違いによる反射特性を利用することが多い。超音波が液体や固体物質中を伝搬すると、音響インピーダンスの異なる物質の境界面や空隙の箇所で、反射波(エコー)が生じる。ここで、剥離、ボイド、クラック等の欠陥で生じた反射波は、欠陥の無い箇所からの反射波と比較して、その強度が高くなる傾向がある。そこで、超音波による検査装置では、照射した超音波が所望の境界面において反射して受信される時間帯を想定して、ゲート(時間幅)を設定する。そして、ゲート内の反射波の強度を画像化すると、検査対象物内の接合界面に存在する剥離等の欠陥を、検査画像において顕在化させることができる。なお、ゲートは、後述する通り、時間幅以外にも開始時間を持つ。
 しかし、近年のLSI(Large Scale Integration)等の検査対象物は、薄膜層を何層にも積層した構造を有するため、各層の境界面からの反射波の受信時間が近接する。これにより、反射波が干渉するという問題が生じ、所望の境界面からの反射波を、他の境界面からの反射波と明確に区別することが困難になりつつある。このため、検査対象物が欠陥を有する場合にも、その欠陥に対応する信号が干渉により歪み、または埋もれてしまい、欠陥を検出することが困難になる。なお、以下の説明において、「反射波」とは、各境界面等から反射された超音波を指す。また、「反射信号」とは、反射波の時間毎の強度を示す信号である。なお、本明細書では「信号」はアナログ形式の信号を指すほか、デジタル化されたデータも含むものとする。
 本実施形態は、極薄化が進むチップが積層された集積回路等、複数の接合界面を有する電子部品を主な検査対象とする。各界面からの反射波の発生時間が近接し、合成された反射信号となって受信される場合であっても、欠陥からの反射波を他の接合界面からの反射波と分離して検出し、その発生深さを特定することが可能になる。すなわち、本実施形態では、複数の接合界面からの反射波が時間方向に近接し、それらの合成信号となって得られる反射信号に対し、参照信号との差を演算し、差分信号を得る。この差分信号によって、参照信号および反射信号の違いを顕在化させる。
〈第1実施形態の構成〉
(全体構成)
 図1は、本発明の第1実施形態による超音波検査装置100のブロック図である。
 図1において、超音波検査装置100は、検出部1と、A/D変換器6と、信号処理部7(演算処理部)と、全体制御部8(演算処理部)と、メカニカルコントローラ16と、を備えている。なお、図1に示す座標系10は、X,Y,Zの直交3軸の座標系である。
 検出部1は、スキャナ台11と、水槽12と、スキャナ13と、を備えている。スキャナ台11はほぼ水平に設置された基台である。水槽12は、スキャナ台11の上面に載置されている。スキャナ13は、スキャナ台11の上面において、水槽12を跨ぐように設けられている。メカニカルコントローラ16は、スキャナ13をX,Y,Z方向に駆動する。水槽12には、水14がレベルLV1の高さまで注入されており、水槽12の底部(水中)に検査対象物である試料5(検査対象物)が載置されている。試料5は、一般的に多層構造を有している。送信された超音波が試料5に入射すると、試料5の表面、あるいは異種境界面から反射波が発生する。各部の反射波は、超音波探触子2に受信されるとともに合成され、反射信号として出力される。超音波探触子2は、使用される際には、水14に漬けられる。水14は、超音波探触子2から出射された超音波を、試料5の内部に効率的に伝搬させる媒体として機能する。
 超音波探触子2は、その下端から試料5に対して超音波を送信し、試料5から戻ってきた反射波を受信する。超音波探触子2は、ホルダ15に装着されており、メカニカルコントローラ16で駆動されるスキャナ13によって、X,Y,Z方向に自在に移動可能になっている。全体制御部8は、超音波探触子2をX,Y方向に移動させながら、事前に設定された複数の測定点で、超音波探触子2に超音波を送信させる。なお、超音波探触子2の超音波の送信方向はほかの方法に変えてもよい。
 超音波探触子2が、ケーブル22を介して、探傷器3に受信した反射波の反射信号を供給すると、探傷器3は反射信号に対してフィルタ処理等を施す。A/D変換器6は、探傷器3の出力信号をデジタル信号に変換し、信号処理部7に供給する。信号処理部7は、デジタル化された反射信号に基づいて、XY平面上の測定領域における試料5の接合面の二次元画像を取得し、試料5における欠陥を検査する。
(信号処理部7)
 信号処理部7は、A/D変換器6によってデジタル信号に変換された反射信号を処理して試料5の内部状態を検出するものである。信号処理部7は、CPU(Central Processing Unit)、DSP(Digital Signal Processor)、RAM(Random Access Memory)、ROM(Read Only Memory)等、一般的なコンピュータとしてのハードウエアを備えており、ROMには、CPUによって実行される制御プログラム、DSPによって実行されるマイクロプログラムおよび各種データ等が格納されている。
 図1において、信号処理部7の内部は、制御プログラムやマイクロプログラム等によって実現される機能を、ブロックとして示している。すなわち、信号処理部7は、画像生成部7-1と、欠陥検出部7-2と、データ出力部7-3と、パラメータ設定部7-4と、を備えている。
 画像生成部7-1は、反射信号を輝度値に変換し、XY平面上に輝度値を配置して画像を生成する。欠陥検出部7-2は、画像生成部7-1で生成した画像を処理して、試料5の内部欠陥等の内部状態を検出する。データ出力部7-3は、欠陥検出部7-2によって検出された内部欠陥等、検査結果を全体制御部8に出力する。パラメータ設定部7-4は、全体制御部8から入力される測定条件等のパラメータを受け付け、欠陥検出部7-2およびデータ出力部7-3へセットする。そして、パラメータ設定部7-4は、これらパラメータを記憶装置30に記憶させる。
(全体制御部8)
 全体制御部8は、CPU、RAM、ROM、SSD(Solid State Drive)等、一般的なコンピュータとしてのハードウエアを備えており、SSDには、OS(Operating System)、アプリケーションプログラム、各種データ等が格納されている。OSおよびアプリケーションプログラムは、RAMに展開され、CPUによって実行される。
 また、全体制御部8は、GUI部17と、記憶装置18と、に接続されている。
 GUI部17は、ユーザからのパラメータ等の入力を受け付ける入力装置(符号なし)と、ユーザに各種情報を表示するディスプレイ(符号なし)と、を備えている。また、全体制御部8は、メカニカルコントローラ16に対して、スキャナ13を駆動するための制御指令を出力する。さらに、全体制御部8は、探傷器3、信号処理部7等を制御する制御指令も出力する。以上の説明の通り、信号処理部7および全体制御部8をまとめて演算処理部として扱った場合、演算処理部は、CPU、RAM、ROM、SSD(Solid State Drive)等、一般的なコンピュータとしてのハードウエアを備えており、SSDには、OS(Operating System)、アプリケーションプログラム、各種データ等が格納されているといえる。また、OSおよびアプリケーションプログラムは、RAMに展開され、CPUによって実行されるといえる。また、演算処理部は、GUI部17と、記憶装置18と、に接続されてもよい。なお、演算処理部は、共通のハードウエアにプログラムを実行することで信号処理部7と全体制御部8とを実現してもよく、別々なハードウエアで信号処理部7と全体制御部8とを実現してもよい。また、演算処理部の一部をASICやFPGA等のハードウエアで実現してもよい。
 図2は、超音波検査装置100の動作原理を示す模式図である。
 図2において探傷器3は、超音波探触子2にパルス信号を供給することで超音波探触子2を駆動し、超音波探触子2は超音波を発生する。これにより、該超音波は、水14(図1参照)を媒介にして、試料5に送信される。試料5は、一般的に多層構造を有している。超音波が試料5に入射すると、試料5の表面、あるいは異種境界面から反射波4が発生する。反射波4は、超音波探触子2に受信されるとともに合成され、反射信号として探傷器3に供給される。探傷器3においては、反射信号に対してフィルタ処理等が施される。
 次に、フィルタ処理等が施された反射信号はA/D変換器6においてデジタル信号に変換され、信号処理部7に入力される。図1において、試料5の上方には、超音波探触子2を走査する範囲である測定領域が予め定められている(図示せず)。全体制御部8は、測定領域において超音波探触子2を走査させつつ、上述した超音波の送信と、反射信号の受信とを繰り返し実行する。なお、説明の便宜上、超音波探触子2が発生する超音波を「送信波」と称することがある。
 画像生成部7-1は、反射信号を輝度値に変換する処理を行い、試料5の一または複数の接合面の断面画像(特徴画像)を生成する。欠陥検出部7-2は、生成された接合面の断面画像に基づいて、剥離、ボイド、クラック等の欠陥を検出する。また、データ出力部7-3では、欠陥検出部7-2で検出された欠陥個々の情報や断面画像等、検査結果として出力するデータを生成し、全体制御部8に出力する。
(試料400)
 図3は、試料5の一例である試料400の断面図である。図示の例において、試料400は、異なる材質の基板401,402を接合したものである。また、図示の例では、基板401,402の境界面404に欠陥であるボイド406が形成されている。試料400の表面408の上方に超音波探触子2が配置され、超音波49が送信されると、超音波49は、試料400の内部に伝搬される。また、超音波49は、試料400の表面408、境界面404等、音響インピーダンスの相違が現れる箇所で反射し、反射波が超音波探触子2に受信される。各反射波は、反射箇所と超音波探触子2との距離や、伝搬速度に応じたタイミングで超音波探触子2に受信され、超音波探触子2は、各反射波を合成した反射信号を受信する。
 図4は、図3において超音波探触子2に受信される反射信号S40の一例を示す図である。
 図4の縦軸は、反射信号S40の反射強度すなわち波高値である。図4の横軸は、受信時刻であるが、これは試料400の深さに換算可能であり、反射信号S40の路程に対応する。縦軸の反射強度は、中央値を0として、そこから上方向は正値、下方向は負値になっている。反射信号S40には、極性の異なるピークが交互に現れる。以下、個々のピークを局所ピークと呼ぶ。なお、横軸の受信時刻は、例えば超音波を送信した時刻をゼロとすることが考えられるが、ほかのタイミングをゼロとしてもよい。
 図示の例においては、表面408(図3参照)からの反射波を検出するためのゲート(すなわち時間幅)であるSゲート41が設定されている。そして、Sゲート41で設定された時間範囲(横幅の範囲内)において、最初に「S40<-Th1」または「Th1<S40」が成立するタイミングを、トリガポイント43と呼ぶ。ここで、Th1は所定の閾値である。信号処理部7の画像生成部7-1は、まずトリガポイント43を検出する。
 また、トリガポイント43から所定時間T2だけ遅れたタイミングから、さらに所定時間T3だけ遅れたタイミングまでの期間を映像化ゲート42と呼ぶ。信号処理部7は、この映像化ゲート42の中で反射信号40の絶対値が最大となる局所ピークを、境界面404(図3参照)からの反射波による局所ピークとして同定する。図示の例では、局所ピーク44が、境界面404からの反射波による局所ピークとして同定される。
 上述したように、全体制御部8は、超音波探触子2をX,Y方向(図1参照)に移動させながら、複数の測定点で、超音波探触子2に超音波を送信させる。信号処理部7の画像生成部7-1は、各測定点において、局所ピーク44を同定し、各局所ピーク44におけるピーク値I44を取得し、これを輝度値に変換する。画像生成部7-1は、このようにして得られた輝度値をX,Y平面上に配置することにより、境界面404の接合状態を断面画像として画像化する。その際、ボイド406等の欠陥が存在する箇所では、ピーク値I44の絶対値が高くなる。これにより、断面画像においては、ボイド406等、境界面404等の欠陥を顕在化できる。
(試料500)
 図5は、試料5の他の例である試料500の断面図である。近年主流となっている電子部品においては、縦構造の複雑化,薄型化が進んでいる。試料500は、そのような電子部品の一例である。
 試料500は、マイクロバンプ51と、樹脂パッケージ52と、チップ53と、パッケージ基板55と、ボールグリッドアレイ56と、を備えている。
 マイクロバンプ51は、チップ53の各部とパッケージ基板55の各部とを接続する。また、マイクロバンプ51の一部には、クラックによる欠陥54が生じている。樹脂パッケージ52は、パッケージ基板55およびチップ53を覆う樹脂によって形成され、チップ53等を外部から保護する。試料500の表面508の上方には、超音波探触子2が配置されている。超音波探触子2が超音波59を水中の試料500へと送信すると、超音波59は試料500の内部に伝搬される。
 超音波59は、試料500の表面508、チップ53の上面、チップ53の下面、マイクロバンプ51等、音響インピーダンスの相違が現れる箇所で反射する。これらの反射波は合成され、反射信号として超音波探触子2に受信される。
 図6は、図5において超音波探触子2に受信される反射信号S50の一例を示す図である。
 図6の縦軸は、反射信号S50の反射強度すなわち波高値である。図6の横軸は、受信時刻であるが、これは試料500の深さに換算可能であり、反射信号S50の路程に対応する。縦軸の反射強度は、中央値を0として、そこから上方向は正値、下方向は負値になっている。反射信号S50には、極性の異なる局所ピークが交互に現れる。なお、図6および後述する図7の横軸の受信時刻は、例えば超音波を送信した時刻をゼロとすることが考えられるが、ほかのタイミングをゼロとしてもよい。
 図示の例では、試料500の表面508からの反射波を検出するためのゲートであるSゲート510が設定されている。すなわち、Sゲート510における反射信号S50は、主として表面508からの反射波によるものである。また、映像化ゲート502,503,504における反射信号S50は、それぞれチップ53の上面、チップ53の下面、およびパッケージ基板55の上面からの反射波によるものである。図示のように、各部の反射波の発生タイミングは接近しており、映像化ゲート502,503,504の時間幅を狭く設定する必要がある。従って、今後、電子部品の更なる薄型化が進めば、各界面の反射信号を分離して抽出することが困難になると予想される。
 図7は、各界面からの反射信号の受信時間差が、図6よりもさらに小さくなった場合の各種信号の例を示す図である。
 図7の一番上に示す反射波632,634は、2つの境界面(図示せず)からの反射波である。そして反射波632のピーク(時刻t632)と、反射波634のピーク(時刻t634)との間隔をΔtとする。ここで、送信波については図示を省略するが、送信波の波形は、例えば、反射波632の相似形に略等しい。この送信波について、「送信波長T」を定義する。送信波長Tには、様々な定義の仕方があるが、ここでは、「ピーク時刻を含んだ1.5周期の長さ」と定義する。この送信波長Tは、図示のように、反射波632の「ピーク時刻を含んだ1.5周期の長さ」と等しい。また、図示の例において、間隔Δtは、送信波長Tの2倍に等しくなっている。
 また、図7の上から2番目に示す反射信号630は、反射波632,634を合成した信号であり、実際に超音波探触子2において得られる信号である。反射信号630は、ほぼ反射波632に起因する部分と、ほぼ反射波634に起因する部分とに、分割することができる。従って、例えば図示の映像化ゲート601,602を設定することにより、反射波632,634の特徴を分離して抽出することができる。
 また、図7の上から3番目に示す反射波642,644は、それぞれ上述した反射波632,634と同一形状の波形である。反射波642のピーク(時刻t642)と、反射波644のピーク(時刻t644)との間隔Δtは、0.9Tである。また、図7の一番下に示す反射信号640は、反射波642,644を合成した信号であり、実際に超音波探触子2において得られる信号である。
 この反射信号640の波形から、反射波642,644の特徴を分離して抽出することは、単純な解析では困難になる。そこで、本実施形態では、このように短い時間差で受信された反射波が合成されて反射信号が得られた場合に、各接合界面から発生する反射波の特徴を分離して抽出することで欠陥を顕在化するものである。
〈第1実施形態の動作〉
 図8は、信号処理部7および全体制御部8において実行される、超音波検査処理プログラムのフローチャートである。
 図8において処理がステップS101に進むと、全体制御部8によって、信号処理部7に対する所定の初期設定が行われる。ここで初期設定とは、以下の条件(1)~(3)を指定することを指し、例えば、GUI部17を介して、ユーザがこれらの条件(1)~(3)を入力する。
(1)参照点:上述したように、全体制御部8は、事前に設定された複数の測定点で、超音波探触子2に超音波を送信させる。ユーザは、これら測定点のうち任意の一つを、「参照点」として指定する。なお、参照点とした測定点は、ステップS103からステップS107の一部またはすべての処理を省略してもよい。
(2)ゲートの開始位置および幅:例えば、図6に示したSゲート510、映像化ゲート502,503,504のように、本実施形態においては、複数のゲートを定めて反射信号(図6のS50)を解析する。ユーザは、試料5の縦構造に応じて、これら各ゲートの開始位置および幅を指定する。
(3)基本波:基本波は、送信波のうち、絶対値が最大となるタイミングを含む、送信波長の波形を指す。基本波の波形は、例えば、図7に示した送信波長Tの範囲における反射波632の相似形に略等しいものになる。基本波は、超音波探触子2の種類によって決定されるため、適用する超音波探触子2の種類に応じて、ユーザが基本波を設定する。なお、基本波の一例は図10に示す基本波81である。また、信号処理部7および全体制御部8では、基本波と反射信号等との比較や演算を行うため、「信号」として記憶している。従って、以後の説明では信号として記憶している基本波も単に「基本波」という。ただし、より「信号」であることを明示したい場合は「基本波信号」と呼ぶこともある。
 図8において、次に処理がステップS102に進むと、全体制御部8は、信号処理部7に対して参照信号を取得させる。すなわち、全体制御部8は、メカニカルコントローラ16を駆動して、超音波探触子2を参照点に移動させる。そして、超音波探触子2から送信波を出力させる。すると、各部の反射波が超音波探触子2に戻り、これらを合成した反射信号が超音波探触子2から出力される。反射信号は探傷器3を介してフィルタ処理され、A/D変換器6によってデジタル信号に変換され、信号処理部7に供給される。全体制御部8は、画像生成部7-1に対して、この参照点における反射信号を参照信号として、画像生成部7-1に記憶させる。
 次に、処理がステップS103に進むと、全体制御部8は、信号処理部7に対して、一つの測定点における反射信号を取得させる。すなわち、全体制御部8は、メカニカルコントローラ16を駆動して、超音波探触子2を、未だ反射信号を取得していない測定点に移動させる。そして、超音波探触子2から送信波を出力させる。すると、反射信号が超音波探触子2から出力され、デジタル信号に変換された反射信号が信号処理部7に供給される。全体制御部8は、画像生成部7-1に対して、この反射信号を、該測定点における反射信号として、画像生成部7-1に記憶させる。
 次に、処理がステップS104に進むと、画像生成部7-1は、参照信号と反射信号との差分演算を行う。ここで、図9を参照し、ステップS104における差分演算の概要を説明する。
 図9は、一つの測定点における反射信号70および参照点における参照信号71の波形図の例である。なお、反射信号70および参照信号71は、時刻tの関数として反射信号IB(t)および参照信号IA(t)と呼ぶことがある。反射信号70には、局所ピーク701が生じており、参照信号71には、局所ピーク711が生じている。局所ピーク701,711のピーク値(最大値)およびピークタイミング(最大値が生じる時刻)は若干異なっている。
 そこで、画像生成部7-1は、局所ピーク701,711のピーク値およびピークタイミングが一致するように、反射信号70の波形を正規化(変形)する。すなわち、局所ピーク701,711のピーク値が一致するように、反射信号70を縦軸方向に伸縮し、ピークタイミングが一致するように、反射信号70を横軸方向にシフトする。このように、正規化された反射信号IB(t)を、正規化反射信号I’B(t)と呼ぶ。また、反射信号IB(t)および正規化反射信号I’B(t)を総称して「反射信号(IB(t),I’B(t))」と称することもある。なお、正規化ではピークタイミングだけ一致するように変形してもよく、ピーク値だけが一致するように変形してもよい。
 正規化反射信号I’B(t)を得るためには、正規化の基準となる局所ピーク701,711の対応付けを行う必要がある。これは、表面トリガポイント法、確率伝播法、正規化相互相関法、DPマッチング法等、各種の手法が知られているが、局所ピークを照合できる手法であれば、何れを適用してもよい。このように、正規化反射信号I’B(t)が得られると、画像生成部7-1は、下式(1)に基づいて、差分信号m(t)を算出する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000001
 図8において、次に処理がステップS105に進むと、画像生成部7-1は、基本波と、差分信号m(t)との相関演算を行う。図10を参照して、その詳細を説明する。
 ここで、図10は、差分信号m(t)および相関係数R(t)の一例を示す波形図である。図10に示す波形80は、差分信号m(t)の一例であり、波形80の縦軸は差分値である。上述したように、基本波81は、超音波探触子2の固有の送信波形に対応するものであり、超音波探触子2の種類に応じて、ステップS101において設定されている。
 また、図10において波形82は、相関係数R(t)の一例である。相関係数R(t)は、差分信号m(t)に対し、基本波81をX軸方向に走査しながら下式(2)に基づいて算出したものである。下式(2)において、f(n)は基本波81の反射強度であり、nは基本波81の時間長(データ点数)である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000002
 図8において、次に処理がステップS106に進むと、画像生成部7-1は、相関係数R(t)(図10参照)に基づく相関解析を行う。すなわち、画像生成部7-1は、図10に示す特徴算出ゲート83(ゲート)の範囲において、少なくとも一つの特徴量を算出する。ここで、特徴算出ゲート83は、S102において得た参照信号に対して、開始時刻と時間幅とを設定することで定義できる。なお、超音波検査装置はは、映像化ゲート42を備えずに、特徴算出ゲート83を備えてもよく、両方とも備えてもよい。当該装置が両方を備える場合、例えば映像化ゲートと特徴算出ゲートは以下の関係であってもよい。
・特徴算出ゲート83と、映像化ゲート42と、は同じである。
・特徴算出ゲート83は、映像化ゲート42と一部重複または包含関係にある。
・特徴算出ゲート83と、映像化ゲート42と、は重複していない。
 図11は、正規化反射信号I’B(t)、参照信号IA(t)、差分信号m(t)および部分相関係数Rp(t)の一例を示す波形図である。
 図11において、波形901は、正規化反射信号I’B(t)の一例であり、波形902は、参照信号IA(t)の一例であり、波形903は、差分信号m(t)の一例である。但し、差分信号m(t)は、縦方向に拡大している。
 また、特徴算出ゲート911(ゲート)は、特徴算出ゲート83(図10参照)よりも狭い範囲の特徴算出ゲートである。波形91は、特徴算出ゲート911内で相関係数R(t)(図10参照)に一致し、他の部分で「0」になる部分相関係数Rp(t)の波形の一例である。画像生成部7-1は、この特徴算出ゲート911内の波形91、すなわち部分相関係数Rp(t)に基づいて特徴量を算出する。
 すなわち、画像生成部7-1は、以下列挙する特徴量のうち一または複数のものを、特徴算出ゲート911内の部分相関係数Rp(t)に基づいて検出する。
・部分相関係数Rp(t)が所定の閾値ThC未満になる部分が存在するか否か、
・部分相関係数Rp(t)が閾値ThC未満になった時刻tc1(受信タイミング)、
・時刻tc1における差分信号m(tc1)
・部分相関係数Rp(t)の絶対値の最大値Rpmax、
・最大値Rpmaxが検出された時刻tc2(受信タイミング)、
・時刻tc2における部分相関係数Rp(t)の極性、
・時刻tc2における差分信号m(tc2)
 上述した時刻tc1,tc2は、特徴算出ゲート911に対応する反射波の受信タイミングに相当する。
 図8において、次に処理がステップS107に進むと、欠陥検出部7-2は、相関解析(S106)において検出した特徴量に基づいて、欠陥判定を行う。例えば、特徴算出ゲート911内で、「部分相関係数Rp(t)の最小値<閾値ThC」が成立すれば「欠陥あり」、成立しなければ「欠陥なし」と判定することができる。また、欠陥検出部7-2は、「欠陥あり」と判定した場合には、図11の時刻tc1に基づいて、その欠陥の「発生深さ」も算出する。
 次に、処理がステップS108に進むと、全体制御部8は、測定領域内の全ての測定点について、反射信号を取得したか否かを判定する。ここで「No」と判定されると、処理はステップS103に戻り、未だ反射信号を取得していない測定点について、ステップS103~S107の処理が繰り返される。
 そして、全ての測定点において反射信号が取得された場合、ステップS108において「Yes」と判定され、処理はステップS109に進む。
 ステップS109において、画像生成部7-1は、各測定点における特徴量をX,Y方向に配列することによって断面画像(特徴画像)を生成する。また、データ出力部7-3は、以下の情報を全体制御部8に出力する。
・欠陥判定に用いた断面画像、
・断面画像中に欠陥が存在するか否か、および、欠陥が存在する場合には欠陥数、
・試料5における各部の膜厚と膜厚分布。
・差分信号m(t)のグラフ
・相関係数R(t)または部分相関係数Rp(t)のグラフ
 ここで、上述した断面画像は、X,Y方向における欠陥の発生位置(座標)と、個々の欠陥の寸法と、時間方向(図1におけるZ方向)における発生位置すなわち欠陥の深さを示す情報と、を含む。全体制御部8は、データ出力部7-3から供給されたデータをGUI部17のディスプレイに対して表示させる。以上により、本ルーチンの処理が終了する。
 図12は、様々な特徴算出ゲートと、対応する断面画像の例を示す図である。なお、本明細書で言うところの「断面画像」とは、本明細書にて検出した特徴量を二次元化した画像を指す。なお、二次元化する面は、X,Y方向(つまり、探触子の走査面に沿った面)に沿った面であることが考えられるが、他の基準面に沿った面でもよい。当該基準面は、例えば、超音波の進行方向に沿った法線を持つ面や、検査対象物の表面すなわち超音波が入射する面である。
 図12の一番上に示す参照信号IA(t)および正規化反射信号I’B(t)に対して、図示の特徴算出ゲート110を設定したとする。この特徴算出ゲート110は、一送信波長程度、すなわち正負の局所ピークが1回ずつ含まれる程度の幅を有している。また、断面画像118(特徴画像)は、特徴算出ゲート110に対応して取得した画像であり、円形の6個の欠陥領域121~126を有している。特に、試料5(図1参照)を構成する各層が薄い場合には、特徴算出ゲート110の幅を一送信波長程度にすると、断面画像118が異なる接合面の欠陥を同時に含む事態が起こり得る。図示の欠陥領域121~126も、実際は複数の異なる接合面のうち何れかであるが、断面画像118のみでは、欠陥が生じている接合面を特定することは困難である。
 また、図12の上から2番目に示す特徴算出ゲート130は、幅が1/2送信波長程度である。この特徴算出ゲート130には、参照信号IA(t)または正規化反射信号I’B(t)の局所ピークは含まれていない。本実施形態によれば、この特徴算出ゲート130のように、局所ピークを含まない特徴算出ゲートにおいても欠陥を検出することができる。断面画像138(特徴画像)は、特徴算出ゲート130に対応して取得した画像であり、円形の3個の欠陥領域141,143,144を有している。これら欠陥領域141,143,144は、それぞれ、断面画像118における欠陥領域121,123,124と同一の欠陥に対応するものである。
 また、図12の上から3番目に示す特徴算出ゲート150は、特徴算出ゲート130と同一の幅を有するが、横軸(時間軸)方向で後方にシフトした位置に設定されている。断面画像158(特徴画像)は、特徴算出ゲート150に対応して取得した画像であり、円形の3個の欠陥領域162,165,166を有している。これら欠陥領域162,165,166は、それぞれ、断面画像118における欠陥領域122,125,126と同一の欠陥に対応するものである。このように、幅の狭い特徴算出ゲート130,150によって、異なる深さに存在する欠陥を区別して検出することができる。
 また、図12の一番下に示す特徴算出ゲート170は、特徴算出ゲート110と同一の幅を有し、横軸(時間軸)方向にタイミング172,174を境界とする複数の区分に区切られている。そして、特徴算出ゲート170内では、相関解析(S106)において検出した特徴量が、何れの区分に含まれるか区別している。断面画像178(特徴画像)は、特徴算出ゲート170に対応して取得した画像であり、円形の6個の欠陥領域181~186を有している。
 これら欠陥領域181~186は、それぞれ、断面画像118における欠陥領域121~126と同一の欠陥に対応するものである。但し、欠陥領域181~186は、特徴算出ゲート170内の区分に応じて、表示態様が異なっている。図示の例では、ハッチング、メッシュ、ドット等によって表示態様を表しているが、特徴算出ゲート170内の区分に応じて、欠陥領域181~186に異なる「表示色」を付与してもよい。このように、特徴算出ゲート170を適用した例では、発生深さの異なる複数の欠陥を区別して検出することができ、これらを区別して表示できる断面画像178を生成することができる。なお、深さの精度は前述の通り、前記反射信号の局所ピーク同士の時間幅よりも細かい精度を有している。換言すれば、前記反射信号の局所ピーク同士の時間幅で得られる路程よりも細かい精度を実現できる。
〈第1実施形態の効果〉
 以上のように本実施形態の超音波検査装置100は、超音波を発生して検査対象物(5)に送信し、検査対象物(5)から反射した反射波を受信する超音波探触子(2)と、演算処理部(7,8)と、を備え、演算処理部(7,8)は:(A)反射波の解析対象の開始時間と時間幅とを示すゲート(911)を設定し、(B)複数の測定点の各々に関し:(B1)反射波の時間毎の強度を示す反射信号(IB(t),I’B(t))を取得し、(B2)反射信号(IB(t),I’B(t))と参照信号(IA(t))との差分である差分信号(m(t))を算出し、(B3)ゲート(911)内の差分信号(m(t))に対し特徴量を算出し、(C)複数の測定点に対する特徴量に基づいて欠陥を検出し、(D)超音波の送信方向に沿った欠陥の深さを示す情報を出力する。
 これにより、本実施形態によれば、試料の内部欠陥を適切に検出できる。より具体的には、設定したゲート内で検出した欠陥の深さを精度よく把握することができる。
 また、他の観点において、本実施形態の超音波検査装置100は、超音波を発生して検査対象物(5)に送信し、検査対象物(5)から反射した反射波を受信する超音波探触子(2)と、反射波に基づいて算出される特徴量に基づいて、二次元画像を出力する、演算処理部(7,8)と、を備え、演算処理部(7,8)は:(1)反射波の解析対象の開始時間と時間幅を示すゲート(911)を設定し、(2)二次元画像に含まれる1以上の画素について:(2A)反射波の時間ごとの強度を示す反射信号(IB(t),I’B(t))を取得し、(2B)反射信号(IB(t),I’B(t))と参照信号(IA(t))との差分である差分信号(m(t))を算出し、(2C)ゲート(911)内の差分信号(m(t))に対し、特徴量を算出し、(3)特徴量に基づいて、欠陥を検出し、(4)超音波の送信方向に沿った欠陥の深さを示す情報を含む二次元画像を生成する。
 これにより、本実施形態によれば、生成された二次元画像に基づいて、欠陥の深さを精度よく把握することができる。
 また、特徴量は、所定の基本波信号(81)と差分信号(m(t))との相関係数(R(t))の状態(例えば、Rp(t)<ThCになる部分が存在するか否か)、相関係数(R(t))に基づいて算出される反射波の受信タイミング(tc1,tc2)、または、受信タイミング(tc1,tc2)における差分信号(m(tc1),m(tc2))、のうち何れかを含む。
 これにより、相関係数(R(t))の状態、反射波の受信タイミング(tc1,tc2)、または受信タイミング(tc1,tc2)における差分信号(m(tc1),m(tc2))に現れる特徴量を的確に抽出することができる。
 また、基本波信号(81)は、超音波探触子(2)の特性に対応して定められた信号である。これにより、超音波探触子(2)の特性に応じた、正確な特徴量を抽出することができる。
 また、本実施形態における参照信号(IA(t))は、参照点で得られる反射信号(IB(t),I’B(t))である。これにより、参照信号(IA(t))を容易に求めることができる。
 また、設定されたゲート(130,150)は、開始時間から時間幅を経るまでの時間範囲に、反射信号(IB(t),I’B(t))の局所ピークを含まないように設定できる。
 これにより、局所ピークを含まない狭い時間範囲の反射信号に基づいて、異なる深さに存在する欠陥を、高い精度で区別して検出することができる。
 また、超音波の送信方向に沿った欠陥の深さの情報は:反射信号(IB(t),I’B(t))の局所ピーク同士の時間幅よりも細かい精度を有し、または、反射信号の局所ピーク同士の時間幅で得られる路程よりも細かい精度を有する。
 これにより、局所ピーク同士の時間幅に対応する深さの差よりも狭い範囲に存在する欠陥を、高い精度で区別して検出することができる。
[第2実施形態]
 次に、本発明の第2実施形態による超音波検査装置について説明する。本実施形態のハードウエア構成およびソフトウエアの内容は、第1実施形態のもの(図1~図12)と同様であるが、参照信号を取得するステップS102(図8参照)の内容は、第1実施形態のものとは異なる。上述の第1実施形態において、参照信号を取得する参照点は、試料5のうち欠陥が生じていない測定点の中から選択することが好ましい。しかし、「欠陥が生じていない測定点」を事前に把握することが困難な場合もある。そこで、本実施形態のステップS102では、以下説明する手順で、参照信号を取得する。
(1)まず、全体制御部8および信号処理部7(図1参照)は、試料5の所望の境界面に対応する映像化ゲートを画像生成部7-1(図2参照)に設定し、各測定点において反射信号を取得させる。これにより、画像生成部7-1においては、映像化ゲートに対応する断面画像が生成される。
 図13は、第2実施形態において参照信号を取得する動作説明図である。図13の一番上に示す断面画像200は、このようにして生成された断面画像であるとする。
(2)次に、全体制御部8および信号処理部7は、断面画像200を、同様の(例えば同一の)パターン構造を有する複数の部分領域に分割する。図13の一番上に示すN個の部分領域202-1~202-Nが、分割によって得られた部分領域である。ここで、「1」~「N」の値をショット番号と呼ぶことがある。
(3)次に、全体制御部8および信号処理部7は、各部分領域202-1~202-Nにおいて、同様の(例えば同一の)パターンを有する測定点を抽出する。図13においては、N個の測定点204-1~204-Nが抽出された測定点であるとする。
(4)次に、全体制御部8および信号処理部7は、これらN個の測定点204-1~204-Nに超音波探触子2を順次移動させながら、これら測定点におけるN個の反射信号を画像生成部7-1に取得させる。これらN個の反射信号の中には、欠陥による反射波を含んでいる信号も存在し得る。図13の上から2番目に示す波形群210は、特定の局所ピークを基準として、取得したN個の反射信号を重ね合わせたものである。
(5)次に、全体制御部8および信号処理部7は、波形群210の各時刻tにおいて、反射信号の強度の中央値を算出する。図13の一番下に破線で示すライン212,214は、波形群210に属する各波形の上限値および下限値を表している。また、波形220は、波形群210に属する各波形の、各時刻tにおける中央値を結んだ波形である。本実施形態においては、この波形220が参照信号IA(t)として適用される。
 以上のように本実施形態によれば、演算処理部(7,8)は、(E)複数の測定点について、反射信号(IB(t),I’B(t))に対し、所定の統計処理を施すことによって、参照信号(IA(t))を取得する。
 これにより、一部の反射信号に欠陥による影響が含まれていたとしても、欠陥による影響を抑制した参照信号IA(t)を取得することができる。
[第3実施形態]
 次に、本発明の第3実施形態による超音波検査装置について説明する。本実施形態のハードウエア構成およびソフトウエアの内容は、第1実施形態のもの(図1~図12)と同様である。但し、本実施形態の初期設定(図8,ステップS101)において、「各ゲートの開始位置および幅」を指定する動作は、第1実施形態のものとは異なる。
 第1実施形態においては、上述したように、試料5の縦構造に応じて、各ゲートの開始位置および幅を指定した。しかし、本実施形態においては、ユーザは、試料5の「縦構造情報」を全体制御部8に入力する。ここで、縦構造情報とは、試料5の各層の「層番号」と「材質」と「厚さ」とを列挙したものである。なお、層番号」とは、図1において超音波探触子2から見て近い順に、「1」から昇順に付与した番号である。例えば、縦構造情報は、「1:エポキシ樹脂封止材,500μm、2:Si(シリコン),20μm、3:Al(アルミニウム),7μm、4:Cu(銅),7μm、…」のような情報になる。
 各材質における超音波の伝搬速度は既知であるため、材質と厚さが特定されると、各層における超音波の伝搬時間を求めることができる。これにより、全体制御部8は、超音波探触子2から送信波を出力した後、各層の境界面から超音波探触子2に反射波が戻るまでの時間を計算し、各ゲートの開始位置および幅を決定する。なお、上述した縦構造情報は、試料5のCAD(Computer Aided Design)データに基づいて全体制御部8が求めるようにしてもよい。
 以上のように本実施形態の超音波検査装置によれば、演算処理部(7,8)は:(F)検査対象物(5)の縦構造情報を取得し、(G)縦構造情報に基づき、ゲート(911)を設定し、(H)欠陥の深さを示す情報を、差分信号(m(t))とともにディスプレイに表示する。
 これにより、縦構造情報に基づいたゲートを自動的に設定できるため、ユーザの手間を省くことができる。
[変形例]
 本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。上述した実施形態は本発明を理解しやすく説明するために例示したものであり、必ずしも説明した全ての構成を備えるものに限定されるものではない。また、ある実施形態の構成の一部を他の実施形態の構成に置き換えることが可能であり、ある実施形態の構成に他の実施形態の構成を加えることも可能である。また、各実施形態の構成の一部について削除し、もしくは他の構成の追加・置換をすることが可能である。また、図中に示した制御線や情報線は説明上必要と考えられるものを示しており、製品上で必要な全ての制御線や情報線を示しているとは限らない。実際には殆ど全ての構成が相互に接続されていると考えてもよい。上記実施形態に対して可能な変形は、例えば以下のようなものである。
(1)上述した第2実施形態においては、統計処理によって参照信号を求める際に、複数の反射信号の「中央値」を適用した例を説明した。しかし、統計処理は、中央値を求める処理に限られず、平均値等、他の統計的な演算処理を適用することができる。
(2)また、第2実施形態においては、得られた断面画像200を測定点204-1~204-Nに分割して、統計処理に適用される複数の測定点204-1~204-Nを選択した。しかし、統計処理に適用される測定点は、試料のレイアウト情報や、設計データ等から自動的に選択してもよい。また、第2実施形態において、複数の測定点204-1~204-Nを、測定領域から無作為に選択してもよい。
(3)上記実施形態における信号処理部7および全体制御部8のハードウエアは一般的なコンピュータによって実現できるため、図8に示したフローチャート、その他上述した各種処理を実行するプログラム等を記憶媒体に格納し、または伝送路を介して頒布してもよい。
(4)図8に示した処理、その他上述した各処理は、上記実施形態ではプログラムを用いたソフトウエア的な処理として説明したが、その一部または全部をASIC(Application Specific Integrated Circuit;特定用途向けIC)、あるいはFPGA(Field Programmable Gate Array)等を用いたハードウエア的な処理に置き換えてもよい。
(5)反射波に基づいて反射信号を生成する部位は、探傷器3やA/D変換器6以外でもよい。例えば、超音波探触子2が反射信号を生成してもよい。この場合は、超音波探触子2が探傷器3やA/D変換器6を内蔵しているとも言える。
(6)前述の通り、断面画像の二次元面は必ずしも超音波探触子2の測定点(位置)に対応してなくても、他の基準面に沿った面で二次元の画像を生成できればよい。つまり、断面画像に含まれる各画素(例えばドットや、点や、微小領域)毎に、検査対象面の異なる位置に向けて超音波を送信して、反射波を受信し、当該反射波で取得できる反射信号を対象に本明細書に記載の処理を行ってもよい。また、画像は一つの画素だけを含むものでもよい。換言すれば、前記演算処理部(7,8)は:(1)反射波の解析対象の開始時間と時間幅を示すゲート(例えば図10に示す特徴算出ゲート83)を設定し、(2)前記二次元画像に含まれる1以上の画素について:(2A)前記反射波の時間ごとの強度を示す反射信号を取得し、(2B)前記反射信号と参照信号との差分である差分信号を算出し、(2C)前記ゲート内の前記差分信号に対し、前記特徴量を算出し、(3)前記特徴量に基づいて欠陥を検出し、(4)前記超音波の送信方向に沿った前記欠陥の深さを示す情報を含む前記二次元画像、を生成してもよい、ということである。
2 超音波探触子
5 試料(検査対象物)
7 信号処理部(演算処理部)
8 全体制御部(演算処理部)
81 基本波(基本波信号)
83,130,150,911 特徴算出ゲート(ゲート)
100 超音波検査装置
118,138,158,178 断面画像(特徴画像)
tc1,tc2 時刻(受信タイミング)
A(t) 参照信号
B(t) 反射信号
I’B(t) 正規化反射信号(反射信号)
m(t) 差分信号
R(t) 相関係数
Rp(t) 部分相関係数(相関係数)

Claims (16)

  1.  超音波を発生して検査対象物に送信し、前記検査対象物から反射した反射波を受信する超音波探触子と、
     演算処理部と、
     を備え、
     前記演算処理部は:
     (A)前記反射波の解析対象の開始時間と時間幅とを示すゲートを設定し、
     (B)複数の測定点の各々に関し:
      (B1)前記反射波の時間毎の強度を示す反射信号を取得し、
      (B2)前記反射信号と参照信号との差分である差分信号を算出し、
      (B3)前記ゲート内の前記差分信号に対し特徴量を算出し、
     (C)複数の前記測定点に対する前記特徴量に基づいて欠陥を検出し、
     (D)前記超音波の送信方向に沿った前記欠陥の深さを示す情報を出力する
     ことを特徴とする超音波検査装置。
  2.  請求項1に記載の超音波検査装置において、
     前記特徴量は、所定の基本波信号と前記差分信号との相関係数の状態、前記相関係数に基づいて算出される前記反射波の受信タイミング、または、前記受信タイミングにおける前記差分信号、のうち何れかを含む
     ことを特徴とする超音波検査装置。
  3.  請求項2に記載の超音波検査装置において、
     前記基本波信号は、前記超音波探触子の特性に対応して定められた信号である
     ことを特徴とする超音波検査装置。
  4.  請求項1に記載の超音波検査装置において、
     前記参照信号は、参照点で得られる反射信号である
     ことを特徴とする超音波検査装置。
  5.  請求項1に記載の超音波検査装置において、
     前記演算処理部は:
     (E)複数の前記測定点について、前記反射信号に対し、所定の統計処理を施すことによって、前記参照信号を取得する
     ことを特徴とする超音波検査装置。
  6.  請求項2に記載の超音波検査装置において、
     前記演算処理部は:
     (F)前記検査対象物の縦構造情報を取得し、
     (G)前記縦構造情報に基づき、前記ゲートを設定し、
     (H)前記欠陥の深さを示す情報を、前記差分信号とともにディスプレイに表示する
     ことを特徴とする超音波検査装置。
  7.  請求項1に記載の超音波検査装置において、
     設定された前記ゲートは、前記開始時間から前記時間幅を経るまでの時間範囲に、前記反射信号の局所ピークを含まないように設定できる
     ことを特徴とする超音波検査装置。
  8.  請求項1に記載の超音波検査装置において、
     前記超音波の送信方向に沿った前記欠陥の深さの情報は:
      前記反射信号の局所ピーク同士の時間幅よりも細かい精度を有し、または、
      前記反射信号の前記局所ピーク同士の時間幅で得られる路程よりも細かい精度を有する、
     ことを特徴とする超音波検査装置。
  9.  超音波を発生して検査対象物に送信し、前記検査対象物から反射した反射波を受信する超音波探触子を用い、演算処理部において前記反射波を解析する超音波検査方法であって、
     (A)前記反射波の解析対象の開始時間と時間幅とを示すゲートを設定するステップと、
     (B)複数の測定点の各々に関し:
      (B1)前記反射波の時間毎の強度を示す反射信号を取得するステップと、
      (B2)前記反射信号と参照信号との差分である差分信号を算出するステップと、
      (B3)前記ゲート内の前記差分信号に対し特徴量を算出するステップと、
     (C)複数の前記測定点に対する前記特徴量に基づいて欠陥を検出するステップと、
     (D)前記超音波の送信方向に沿った前記欠陥の深さを示す情報を出力するステップと、を有する
     ことを特徴とする超音波検査方法。
  10.  請求項9に記載の超音波検査方法において、
     前記特徴量は、所定の基本波信号と前記差分信号との相関係数の状態、前記相関係数に基づいて算出される前記反射波の受信タイミング、または、前記受信タイミングにおける前記差分信号、のうち何れかを含む
     ことを特徴とする超音波検査方法。
  11.  請求項10に記載の超音波検査方法において、
     前記基本波信号は、前記超音波探触子の特性に対応して定められた信号である
     ことを特徴とする超音波検査方法。
  12.  請求項9に記載の超音波検査方法において、
     前記参照信号は、参照点で得られる反射信号である
     ことを特徴とする超音波検査方法。
  13.  請求項9に記載の超音波検査方法において、
     (E)複数の前記測定点について、前記反射信号に対し、所定の統計処理を施すことによって、前記参照信号を取得するステップ、をさらに有する
     ことを特徴とする超音波検査方法。
  14.  請求項10に記載の超音波検査方法において、
     (F)前記検査対象物の縦構造情報を取得するステップと、
     (G)前記縦構造情報に基づき、前記ゲートを設定するステップと、
     (H)前記欠陥の深さを示す情報を、前記差分信号とともにディスプレイに表示するステップと、をさらに有する
     ことを特徴とする超音波検査方法。
  15.  請求項9に記載の超音波検査方法において、
     設定された前記ゲートは、前記開始時間から前記時間幅を経るまでの時間範囲に、前記反射信号の局所ピークを含まないように設定できる
     ことを特徴とする超音波検査方法。
  16.  超音波を発生して検査対象物に送信し、前記検査対象物から反射した反射波を受信する超音波探触子と、
     前記反射波に基づいて算出される特徴量に基づいて、二次元画像を出力する、演算処理部と、
     を備え、前記演算処理部は:
     (1)前記反射波の解析対象の開始時間と時間幅を示すゲートを設定し、
     (2)前記二次元画像に含まれる1以上の画素について:
      (2A)前記反射波の時間ごとの強度を示す反射信号を取得し、
      (2B)前記反射信号と参照信号との差分である差分信号を算出し、
      (2C)前記ゲート内の前記差分信号に対し、前記特徴量を算出し、
     (3)前記特徴量に基づいて、欠陥を検出し、
     (4)前記超音波の送信方向に沿った前記欠陥の深さを示す情報を含む前記二次元画像を生成する
     ことを特徴とする超音波検査装置。
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102497000B1 (ko) 2021-05-03 2023-02-08 한국표준과학연구원 딥러닝을 이용한 초음파 비파괴 검사방법 및 시스템과 이에 사용되는 오토 인코더 기반의 예측모델 학습방법
JP2023008629A (ja) * 2021-07-06 2023-01-19 株式会社日立パワーソリューションズ 超音波検査装置及び超音波検査方法
JP2023034037A (ja) * 2021-08-30 2023-03-13 三菱重工業株式会社 超音波検査方法、超音波検査装置およびプログラム
JP7454740B1 (ja) 2023-11-30 2024-03-22 株式会社日立パワーソリューションズ 波形シミュレータ及び超音波映像装置

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009264768A (ja) * 2008-04-22 2009-11-12 Hitachi Constr Mach Co Ltd 超音波映像装置および超音波映像方法
JP2010169558A (ja) * 2009-01-23 2010-08-05 Hitachi Constr Mach Co Ltd 超音波計測装置
JP2016045076A (ja) * 2014-08-22 2016-04-04 株式会社日立パワーソリューションズ 画像処理方法並びにそれを用いた超音波検査方法及びその装置
JP2017129444A (ja) * 2016-01-20 2017-07-27 株式会社日立パワーソリューションズ 超音波検査方法及び装置
US20180011031A1 (en) * 2016-07-05 2018-01-11 Alexei Maznev Systems and Methods for Quality Control of a Periodic Structure
JP2018084416A (ja) * 2016-11-21 2018-05-31 株式会社日立パワーソリューションズ 超音波検査装置及び超音波検査方法
JP2018189550A (ja) * 2017-05-09 2018-11-29 株式会社日立パワーソリューションズ 超音波映像装置及び超音波映像生成方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6089095A (en) * 1997-12-19 2000-07-18 Texas Instruments Incorporated Method and apparatus for nondestructive inspection and defect detection in packaged integrated circuits
JP3669588B2 (ja) * 2003-05-06 2005-07-06 学校法人慶應義塾 超音波流速分布計及び流量計、超音波流速分布及び流量測定方法並びに超音波流速分布及び流量測定処理プログラム
JP4564286B2 (ja) * 2004-06-14 2010-10-20 株式会社東芝 3次元超音波画像化装置
JP5154422B2 (ja) * 2007-03-29 2013-02-27 パナソニック株式会社 超音波測定方法及び装置
JP5221314B2 (ja) * 2007-12-26 2013-06-26 パナソニック株式会社 超音波測定方法、及び、電子部品製造方法
EP2270489B1 (en) * 2009-07-02 2018-09-05 HITACHI RAIL ITALY S.p.A. Fault detection method and system
JP6161161B2 (ja) * 2013-12-25 2017-07-12 国立大学法人京都大学 複合材料内のポロシティ評価方法およびポロシティ評価装置
CN104698035B (zh) * 2015-03-22 2018-02-23 何赟泽 一种微波阶跃热成像检测和层析成像方法及系统
JP6546826B2 (ja) * 2015-10-08 2019-07-17 株式会社日立パワーソリューションズ 欠陥検査方法、及びその装置
JP6926011B2 (ja) * 2018-02-07 2021-08-25 株式会社東芝 超音波探傷装置および超音波探傷方法
CN110031552B (zh) * 2019-05-27 2021-10-22 嘉兴博传科技有限公司 一种结构健康监测损伤特征值计算方法
CN110146521B (zh) * 2019-06-17 2020-10-09 电子科技大学 基于微波无损检测的管道表面腐蚀缺陷检测方法及装置

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009264768A (ja) * 2008-04-22 2009-11-12 Hitachi Constr Mach Co Ltd 超音波映像装置および超音波映像方法
JP2010169558A (ja) * 2009-01-23 2010-08-05 Hitachi Constr Mach Co Ltd 超音波計測装置
JP2016045076A (ja) * 2014-08-22 2016-04-04 株式会社日立パワーソリューションズ 画像処理方法並びにそれを用いた超音波検査方法及びその装置
JP2017129444A (ja) * 2016-01-20 2017-07-27 株式会社日立パワーソリューションズ 超音波検査方法及び装置
US20180011031A1 (en) * 2016-07-05 2018-01-11 Alexei Maznev Systems and Methods for Quality Control of a Periodic Structure
JP2018084416A (ja) * 2016-11-21 2018-05-31 株式会社日立パワーソリューションズ 超音波検査装置及び超音波検査方法
JP2018189550A (ja) * 2017-05-09 2018-11-29 株式会社日立パワーソリューションズ 超音波映像装置及び超音波映像生成方法

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