WO2021036166A1 - 一种显示面板及其制作方法 - Google Patents

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WO2021036166A1
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display panel
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light
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曾宪祥
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Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd
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Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd
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    • G—PHYSICS
    • G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09F—DISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
    • G09F9/00—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements
    • G09F9/30—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements in which the desired character or characters are formed by combining individual elements
    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N23/00—Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof
    • H04N23/57—Mechanical or electrical details of cameras or camera modules specially adapted for being embedded in other devices

Definitions

  • the present invention relates to the field of display technology, in particular to a display panel and a manufacturing method thereof.
  • full screens have become the main research direction of electronic devices. Take a mobile phone as an example.
  • the full screen is that the front of the mobile phone is all screens.
  • the four frame positions of the mobile phone are designed without borders, pursuing a screen-to-body ratio close to 100%.
  • the current full-screen mobile phone in the industry refers to a mobile phone with an ultra-narrow bezel design that can account for more than 80% of the real screen.
  • the camera In order to achieve a full screen, the camera is usually set below the display (display panel). However, since the light transmittance of the substrate of the existing display screen is low, the normal use of the camera is affected, and the clarity of the image is reduced.
  • the purpose of the present invention is to provide a display panel and a manufacturing method thereof, which can increase the light transmittance of the substrate, thereby improving the clarity of the image.
  • the present invention provides a display panel, including:
  • the target light-transmitting portion corresponds to the position of the preset function multiplexing area, the preset function multiplexing area is used to install the camera; the light transmittance of the target light-transmitting portion is greater than the light transmittance of the transparent flexible substrate Overrate; the material of the transparent flexible substrate is photosensitive polyimide;
  • the auxiliary flexible substrate at least partially surrounds the target light-transmitting part.
  • the present invention provides a manufacturing method of a display panel, including:
  • the preset function multiplexing area is used for installing a camera
  • An auxiliary flexible substrate is fabricated on the glass substrate, and the auxiliary flexible substrate is not covered on the target light-transmitting portion.
  • the display panel and the manufacturing method thereof of the present invention include a target light-transmitting portion corresponding to the position of a preset function multiplexing area, the preset function multiplexing area is used to install a camera; the light transmission of the target light-transmitting portion The transmissivity is greater than the light transmittance of the transparent flexible substrate; the auxiliary flexible substrate at least partially surrounds the target light-transmitting portion; because the light transmittance of the target light-transmitting portion is greater than the light transmittance of the transparent flexible substrate Therefore, the light transmittance of the substrate is improved, and the sharpness of the image is also improved.
  • FIG. 1 is a schematic structural diagram of a display panel according to the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a schematic structural diagram of the first step and the second step of the manufacturing method of the display panel according to the second embodiment of the present invention.
  • FIG. 3 is a schematic diagram of the first sub-step structure of the third step of the manufacturing method of the display panel according to the second embodiment of the present invention.
  • FIG. 4 is a schematic diagram of the second sub-step structure of the third step of the manufacturing method of the display panel according to the second embodiment of the present invention.
  • FIG. 5 is a schematic structural diagram of the fourth step of the manufacturing method of the display panel according to the second embodiment of the present invention.
  • FIG. 6 is a schematic structural diagram of the fifth step of the manufacturing method of the display panel according to the second embodiment of the present invention.
  • FIG. 7 is a schematic structural diagram of the sixth step of the manufacturing method of the display panel according to the second embodiment of the present invention.
  • FIG. 8 is a schematic structural diagram of the seventh step of the manufacturing method of the display panel according to the second embodiment of the present invention.
  • FIG. 1 is a schematic structural diagram of a display panel according to Embodiment 1 of the present invention.
  • the display panel of the present invention includes a preset single area 101 and a preset function multiplexing area 102.
  • the preset function multiplexing area 102 is used to install a camera.
  • a transparent flexible substrate 13 is fabricated on the glass substrate 11 corresponding to the preset function multiplexing area 102.
  • the transparent flexible substrate 13 is exposed and developed using the mask 20, and only the transparent flexible substrate 13 corresponding to the preset function multiplexing area 102 is retained, and the rest is All are removed, and the flexible light-transmitting part 131 is obtained.
  • IUV I line-Ultraviolet bleach the flexible light-transmitting part 131
  • the energy range of IUV is 150 ⁇ 500mj/cm3 to remove the yellow color of the flexible light-transmitting part 131, thereby enhancing the light transmittance of the flexible light-transmitting part, and obtain Target light-transmitting part 132.
  • the light transmittance of the target light-transmitting portion 132 is greater than the light transmittance of the flexible light-transmitting portion 131.
  • the method may further include: curing the flexible light-transmitting part.
  • the flexible light-transmitting part can be thermally cured.
  • an auxiliary flexible substrate 30 is fabricated on the glass substrate 11 other than the target light-transmitting portion 132.
  • the target light-transmitting portion 132 is not covered with the auxiliary flexible substrate 30.
  • the height of the auxiliary flexible substrate 30 is less than or equal to the height of the target light-transmitting portion 132. That is, the thickness of the auxiliary flexible substrate 30 cannot exceed the top of the target light-transmitting portion 132.
  • the above step S104 and the step of fabricating an auxiliary flexible substrate on the glass substrate may include:
  • S1041 sequentially fabricating a first flexible substrate, a buffer layer, a second flexible substrate, and a flat layer on the glass substrate.
  • a first flexible substrate 31, a buffer layer 32, a second flexible substrate 33 and a flat layer 34 are sequentially fabricated on the glass substrate 11.
  • the material of the buffer layer 32 may be SiOx or a mixed material of SiOx and a-Si.
  • the material of the buffer layer 32 may be the same as the material of the flat layer 24.
  • the thickness of the first flexible substrate 31 and the thickness of the second flexible substrate 33 are close to each other.
  • the thickness of the first flexible substrate 31 and the thickness of the second flexible substrate 33 are both smaller than the thickness of the target light-transmitting portion 132, and the thickness of the first flexible substrate 31 The sum of the thickness and the thickness of the second flexible substrate 33 is smaller than the thickness of the target light-transmitting portion 132.
  • the film layer above the glass substrate 11 is separated from the glass substrate 11 to obtain a display panel.
  • this embodiment also provides a display panel including: a target light-transmitting portion 132 and an auxiliary flexible substrate 30.
  • the target light-transmitting portion 132 corresponds to the position of the preset function multiplexing area 102, and the preset function multiplexing area 102 is used to install a camera; the light transmittance of the target light-transmitting portion 102 is greater than that of the transparent flexible liner. The transmittance of the bottom light;
  • the auxiliary flexible substrate 30 at least partially surrounds the target light-transmitting portion 132.
  • the auxiliary flexible substrate 30 surrounds the target light-transmitting portion 132.
  • the auxiliary flexible substrate 30 partially surrounds the target light-transmitting portion 132. That is, the positions of the auxiliary flexible substrate 30 and the target light-transmitting portion 132 do not overlap.
  • the auxiliary flexible substrate 30 may include a first flexible substrate 31, a buffer layer 32, a second flexible substrate 33, and a flat layer 34 in order from bottom to top.
  • FIG. 2 is a schematic diagram of the first step and the second step of the manufacturing method of the display panel according to the second embodiment of the present invention.
  • the display panel of this embodiment includes a preset single area 101 and a preset function multiplexing area 102.
  • the preset function multiplexing area 102 is used to install a camera 70.
  • a protective layer 12 is fabricated on the glass substrate 11, and the protective layer 12 is used to protect the target light-transmitting part when the film layer above the glass substrate 11 is peeled from the glass substrate 11.
  • the material of the protective layer 12 may be amorphous silicon.
  • the thickness of the protective layer 12 may range from 10 angstroms to 200 angstroms. It is understandable that the lift-off process can be laser lift-off.
  • S302 Fabricate a flexible substrate on the protective layer corresponding to the preset function multiplexing area.
  • a transparent flexible substrate 13 is fabricated on the protective layer 12.
  • the thickness of the transparent flexible substrate 13 may range from 10 ⁇ m to 20 ⁇ m.
  • the material of the transparent flexible substrate 13 may be photosensitive polyimide, such as PSPI.
  • the transparent flexible substrate 13 is light yellow, resulting in low light transmittance.
  • the transparent flexible substrate 13 is exposed and developed using the mask 20, and only the transparent flexible substrate corresponding to the preset function multiplexing area 102 is retained. 13. The remaining parts are removed, and the flexible light-transmitting part 131 is obtained.
  • the non-transparent part of the mask 20 corresponds to the preset function multiplexing area 102.
  • IUV I line-Ultraviolet bleach the flexible light-transmitting part 131
  • the energy range of IUV is 150 ⁇ 500mj/cm3, to remove the yellow color of the flexible light-transmitting part 131, and obtain the target light-transmitting part 132.
  • the light transmittance of the target light-transmitting portion 132 is greater than the light transmittance of the flexible light-transmitting portion 131.
  • the curing temperature range is 230 ⁇ 270°C, and the curing time can be 30min ⁇ 60min.
  • other curing methods can also be used for curing.
  • the protection layer 12 corresponding to the preset single area 101 is removed, so that the protection layer corresponding to the preset function multiplexing area 102 remains, and the protection part 121 is obtained.
  • the protective layer 12 is etched, and the target light-transmitting portion 132 can also be used to protect it during the etching process.
  • a first flexible substrate 31, a buffer layer 32, a second flexible substrate 33 and a flat layer 34 are sequentially fabricated on the glass substrate 11.
  • the material of the buffer layer 32 may be SiOx or a mixed material of SiOx and a-Si.
  • the material of the buffer layer 32 may be the same as the material of the flat layer 24.
  • the thickness of the first flexible substrate 31 and the thickness of the second flexible substrate 33 are both greater than the thickness of the protection portion 121.
  • the specific manufacturing process of the first flexible substrate 31 may be: coating polyimide (PI) on the glass substrate 11, and then curing and ashing it to ensure that the target light-transmitting portion 132 is not covered with the first The flexible substrate 31 is sufficient.
  • the preparation method of the second flexible substrate 33 is the same as the preparation method of the first flexible substrate 31.
  • the target light-transmitting portion 132 does not cover the first flexible substrate 31, the buffer layer 32, the second flexible substrate 33 and the flat layer 34.
  • the method may also include:
  • a switch array layer 40 and a display layer 50 are fabricated on the target light-transmitting portion 132 and the auxiliary flexible substrate 30.
  • the switch array layer 40 includes a plurality of thin film transistors.
  • the display layer 50 may include an anode, an organic light emitting layer, and a cathode. Then, the film layer above the glass substrate 11 is separated from the glass substrate 11 to obtain a display panel.
  • the camera 70 is disposed under the display panel, wherein the preset function multiplexing area 102 covers the camera 70, and the positions of the two are corresponding.
  • the flexible light-transmitting part is made on the glass substrate corresponding to the preset function multiplexing area; the flexible light-transmitting part is bleached to remove the yellow color of the flexible light-transmitting part, thereby enhancing the light intensity of the flexible light-transmitting part Transmittance; thereby enhancing the light transmittance of the substrate, in addition to improving the clarity of the image.
  • the display panel of this embodiment further includes a protection part.
  • the protection part 121 is provided under the target light-transmitting part 132, that is, The protection part 121 corresponds to the position of the target light-transmitting part 132.
  • the display panel of this embodiment may further include a switch array layer 40 and a display layer 50.
  • the switch array layer 40 and the display layer 50 are sequentially disposed on the target light-transmitting portion 132 and the auxiliary flexible substrate. 30 on.
  • the display panel and the manufacturing method thereof of the present invention include a target light-transmitting portion corresponding to the position of a preset function multiplexing area, the preset function multiplexing area is used to install a camera; the light transmission of the target light-transmitting portion The transmissivity is greater than the light transmittance of the transparent flexible substrate; the auxiliary flexible substrate at least partially surrounds the target light-transmitting portion; because the light transmittance of the target light-transmitting portion is greater than the light transmittance of the transparent flexible substrate Therefore, the light transmittance of the substrate is improved, and the sharpness of the image is also improved.

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Abstract

一种显示面板及其制作方法，该面板包括：目标透光部(132)，与预设功能复用区域(102)的位置对应，预设功能复用区域(102)用于安装摄像头；目标透光部(132)的光线的透过率大于透明柔性衬底(13)的光线的透过率；透明柔性衬底(13)的材料为感光性聚酰亚胺；辅助柔性衬底(30)，至少部分环绕目标透光部(132)。

Description

一种显示面板及其制作方法 技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种显示面板及其制作方法。
 背景技术
随着电子设备的不断发展，全面屏成为电子设备的主要研究方向。以手机为例，全面屏为手机的正面全部都是屏幕，手机的四个边框位置都是采用无边框设计，追求接近100%的屏占比。但由于受限于目前的技术，目前业内所说的全面屏手机是指真实屏占比可以达到80%以上，拥有超窄边框设计的手机。
 技术问题
为了实现全面屏，通常是将摄像头设置在显示屏（显示面板）的下方。但是由于现有的显示屏的衬底的光线透过率较低，从而影响摄像头的正常使用，降低了图像的清晰度。
因此，有必要提供一种显示面板及其制作方法，以解决现有技术所存在的问题。
 技术解决方案
本发明的目的在于提供一种显示面板及其制作方法，能够提高衬底的光线的透过率，进而提高图像的清晰度。
为解决上述技术问题，本发明提供一种显示面板，包括：
目标透光部，与预设功能复用区域的位置对应，所述预设功能复用区域用于安装摄像头；所述目标透光部的光线的透过率大于透明柔性衬底的光线的透过率；所述透明柔性衬底的材料为感光性聚酰亚胺；
辅助柔性衬底，至少部分环绕所述目标透光部。
本发明提供一种显示面板的制作方法，包括：
在玻璃基板上制作透明柔性衬底；
将与预设单一区域对应的透明柔性衬底去除，以保留与预设功能复用区域对应的透明柔性衬底，得到柔性透光部；所述预设功能复用区域用于安装摄像头；
对所述柔性透光部进行漂白，得到目标透光部；
在所述玻璃基板上制作辅助柔性衬底，所述目标透光部上未覆盖所述辅助柔性衬底。
 有益效果
本发明的显示面板及其制作方法，包括目标透光部，与预设功能复用区域的位置对应，所述预设功能复用区域用于安装摄像头；所述目标透光部的光线的透过率大于透明柔性衬底的光线的透过率；辅助柔性衬底，至少部分环绕所述目标透光部；由于目标透光部的光线的透过率大于透明柔性衬底的光线的透过率，从而提高了衬底的光线的透过率，此外还提高了图像的清晰度。
 附图说明
图1为本发明实施例一的显示面板的结构示意图。
图2为本发明实施例二的显示面板的制作方法的第一步和第二步的结构示意图。
图3为本发明实施例二的显示面板的制作方法的第三步的第一分步的结构示意图。
图4为本发明实施例二的显示面板的制作方法的第三步的第二分步的结构示意图。
图5为本发明实施例二的显示面板的制作方法的第四步的结构示意图。
图6为本发明实施例二的显示面板的制作方法的第五步的结构示意图。
图7为本发明实施例二的显示面板的制作方法的第六步的结构示意图。
图8为本发明实施例二的显示面板的制作方法的第七步的结构示意图。
 本发明的实施方式
以下各实施例的说明是参考附加的图式，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。在图中，结构相似的单元是以相同标号表示。
请参照图1，图1为本发明实施例一的显示面板的结构示意图。
本实施例的显示面板的制作方法包括：
S101、在玻璃基板上制作透明柔性衬底；
例如，如图1所示，本发明的显示面板包括预设单一区域101和预设功能复用区域102。所述预设功能复用区域102用于安装摄像头。比如，结合图2，在与预设功能复用区域102对应的玻璃基板11上制作透明柔性衬底13。
S102、将与预设单一区域对应的透明柔性衬底去除，以保留与预设功能复用区域对应的透明柔性衬底，得到柔性透光部；
结合图3和4，在一实施方式中，使用掩膜板20对所述透明柔性衬底13进行曝光、显影，只保留与预设功能复用区域102对应的透明柔性衬底13，其余部分的都去除，得到柔性透光部131。
S103、对所述柔性透光部进行漂白，得到目标透光部；
结合图5，在一实施方式中，可采用IUV(I line-Ultraviolet)对柔性透光部131进行漂白，IUV的能量范围为150~500mj/cm³，以去除柔性透光部131的黄色，从而增强所述柔性透光部的光线的透过率，得到目标透光部132。所述目标透光部132的光线的透过率大于所述柔性透光部131的光线的透过率。
在对所述柔性透光部进行漂白的步骤之后，所述方法还可包括：对柔性透光部进行固化。比如可对柔性透光部进行热固化。
S104、在所述玻璃基板上制作辅助柔性衬底，所述目标透光部上未覆盖所述辅助柔性衬底。
例如，如图1所示，在所述目标透光部132以外的玻璃基板11上制作辅助柔性衬底30。所述目标透光部132上未覆盖所述辅助柔性衬底30。其中，所述辅助柔性衬底30的高度小于或者等于所述目标透光部132的高度。也即所述辅助柔性衬底30的厚度不能超过目标透光部132的顶部。
在一实施方式中，上述步骤S104、所述在所述玻璃基板上制作辅助柔性衬底的步骤可包括：
S1041、在所述玻璃基板上依次制作第一柔性衬底、缓冲层、第二柔性衬底以及平坦层。
例如，如图1所示，在所述玻璃基板11上依次制作第一柔性衬底31、缓冲层32、第二柔性衬底33以及平坦层34。所述缓冲层32的材料可为SiOx或者SiOx和a-Si混合材料。其中所述缓冲层32的材料可与所述平坦层24的材料相同。在一实施方式中，所述第一柔性衬底31的厚度和所述第二柔性衬底33的厚度接近。其中，在一实施方式中，所述第一柔性衬底31的厚度和所述第二柔性衬底33的厚度均小于所述目标透光部132的厚度，所述第一柔性衬底31的厚度和所述第二柔性衬底33的厚度之和小于所述目标透光部132的厚度。
之后再将玻璃基板11上方的膜层从玻璃基板11上分离下来，得到显示面板。
如图1所示，本实施例还提供一种显示面板包括：目标透光部132以及辅助柔性衬底30。
所述目标透光部132与预设功能复用区域102的位置对应，所述预设功能复用区域102用于安装摄像头；所述目标透光部102的光线的透过率大于透明柔性衬底的光线的透过率；
辅助柔性衬底30至少部分环绕所述目标透光部132。当目标透光部132位于中间时，辅助柔性衬底30环绕所述目标透光部132。当目标透光部132位于边缘时，辅助柔性衬底30部分环绕所述目标透光部132。也即辅助柔性衬底30与所述目标透光部132的位置不重叠。其中辅助柔性衬底30由下至上依次可包括第一柔性衬底31、缓冲层32、第二柔性衬底33以及平坦层34。
请参照图2至8，图2为本发明实施例二的显示面板的制作方法的第一步和第二步的结构示意图。
本实施的显示面板的制作方法包括：
S301、在玻璃基板上制作保护层；
例如，如图2至4所示，本实施例的显示面板包括预设单一区域101和预设功能复用区域102。结合图8，所述预设功能复用区域102用于安装摄像头70。
比如在玻璃基板11上制作保护层12，所述保护层12用于将玻璃基板11上方的膜层从玻璃基板11上剥离时，对目标透光部进行保护。为了更好地防止柔性透光部受损，在一实施方式中，所述保护层12的材料可为非晶硅。所述保护层12的厚度范围可为10埃~200埃。可以理解的，剥离工艺可以采用激光剥离。
S302、在与预设功能复用区域对应的保护层上制作柔性衬底。
如图2所示，在所述保护层12上制作透明柔性衬底13。所述透明柔性衬底13的厚度范围可为10μm~20μm。所述透明柔性衬底13的材料可为感光性聚酰亚胺，比如PSPI。透明柔性衬底13呈淡黄色，导致光线的透过率较低。
S303、将与所述预设单一区域对应的透明柔性衬底去除，以保留与所述预设功能复用区域对应的透明柔性衬底，得到柔性透光部。
例如，如图3和4所示，在一实施方式中，使用掩膜板20对所述透明柔性衬底13进行曝光、显影，只保留与预设功能复用区域102对应的透明柔性衬底13，其余部分的都去除，得到柔性透光部131。其中在一实施方式中，掩膜板20的非透光部分与预设功能复用区域102对应。
S304、对所述柔性透光部进行漂白及固化，得到目标透光部；
如图5所示，在一实施方式中，可采用IUV(I line-Ultraviolet)对柔性透光部131进行漂白，IUV的能量范围为150~500mj/cm³，以去除柔性透光部131的黄色，得到目标透光部132。所述目标透光部132的光线的透过率大于所述柔性透光部131的光线的透过率。
可采用烤炉对其进行固化，为了提高固化效果，固化的温度范围为230~270℃，固化的时长可为30min~60min。当然，还可采用其他固化方式进行固化。
S305、将与预设单一区域对应的保护层去除，以使与所述预设功能复用区域对应的保护层保留，得到保护部；
例如，如图6所示，将与预设单一区域101对应的保护层12去除，以使与所述预设功能复用区域102对应的保护层保留，得到保护部121。比如在一实施方式中，对保护层12进行刻蚀，目标透光部132还可用于在蚀刻过程中对其进行保护。
S306、在所述玻璃基板上依次制作第一柔性衬底、缓冲层、第二柔性衬底以及平坦层。
例如，如图7所示，在所述玻璃基板11上依次制作第一柔性衬底31、缓冲层32、第二柔性衬底33以及平坦层34。所述缓冲层32的材料可为SiOx或者SiOx和a-Si混合材料。其中所述缓冲层32的材料可与所述平坦层24的材料相同。
在一实施方式中，所述第一柔性衬底31的厚度和所述第二柔性衬底33的厚度均大于所述保护部121的厚度。
其中第一柔性衬底31具体制作过程可以为：在所述玻璃基板11上涂布聚酰亚胺（PI），然后对其进行固化和灰化，保证目标透光部132上未覆盖第一柔性衬底31即可。其中第二柔性衬底33的制备方法与所述第一柔性衬底31的制备方法相同。其中目标透光部132均未覆盖第一柔性衬底31、缓冲层32、第二柔性衬底33以及平坦层34。
所述方法还可包括：
S307、在所述目标透光部和所述辅助柔性衬底上制作开关阵列层40和显示层50。
如图8所示，在所述目标透光部132和所述辅助柔性衬底30上制作开关阵列层40和显示层50。开关阵列层40包括多个薄膜晶体管。显示层50可包括阳极、有机发光层以及阴极。之后再将玻璃基板11上方的膜层从玻璃基板11上分离下来，得到显示面板。
具体地，摄像头70设于显示面板的下方，其中预设功能复用区域102覆盖摄像头70，且两者位置对应。
由于在与预设功能复用区域对应的玻璃基板上制作柔性透光部；并对所述柔性透光部进行漂白，以去除柔性透光部的黄色，从而增强了柔性透光部的光线的透过率；进而增强了衬底的光线的透过率，此外还提高了图像的清晰度。
本实施例的显示面板与上一实施例的区别在于：本实施例的显示面板还包括保护部，如图8所示，保护部121设于所述目标透光部132的下方，也即所述保护部121与所述目标透光部132的位置对应。
如图8所示，此外本实施例的显示面板还可包括开关阵列层40和显示层50，开关阵列层40和显示层50依次设置在所述目标透光部132和所述辅助柔性衬底30上。
本发明的显示面板及其制作方法，包括目标透光部，与预设功能复用区域的位置对应，所述预设功能复用区域用于安装摄像头；所述目标透光部的光线的透过率大于透明柔性衬底的光线的透过率；辅助柔性衬底，至少部分环绕所述目标透光部；由于目标透光部的光线的透过率大于透明柔性衬底的光线的透过率，从而提高了衬底的光线的透过率，此外还提高了图像的清晰度。
综上所述，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。

Claims (20)

  1. 一种显示面板，其包括：
    目标透光部，与预设功能复用区域的位置对应，所述预设功能复用区域用于安装摄像头；所述目标透光部的光线的透过率大于透明柔性衬底的光线的透过率；所述透明柔性衬底的材料为感光性聚酰亚胺；以及
    辅助柔性衬底，至少部分环绕所述目标透光部。
  2. 根据权利要求1所述的显示面板，其中所述面板还包括：
    保护部，设于所述目标透光部的下方。
  3. 根据权利要求2所述的显示面板，其中所述保护部的材料为非晶硅。
  4. 根据权利要求2所述的显示面板，其中所述保护部的厚度范围为10埃~200埃。
  5. 根据权利要求2所述的显示面板，其中
    所述辅助柔性衬底包括：第一柔性衬底和第二柔性衬底；
    所述第一柔性衬底的厚度和所述第二柔性衬底的厚度均大于所述保护部的厚度。
  6. 根据权利要求1所述的显示面板，其中所述透明柔性衬底的厚度范围为10μm~20μm。
  7. 根据权利要求1所述的显示面板，其中所述辅助柔性衬底的高度小于或者等于所述目标透光部的高度。
  8. 根据权利要求1所述的显示面板，其中所述辅助柔性衬底由下至上依次包括：第一柔性衬底、缓冲层、第二柔性衬底以及平坦层。
  9. 根据权利要求8所述的显示面板，其中所述第一柔性衬底的厚度和所述第二柔性衬底的厚度均小于所述目标透光部的厚度，所述第一柔性衬底的厚度和所述第二柔性衬底的厚度之和小于所述目标透光部的厚度。
  10. 一种显示面板的制作方法，其包括：
    在玻璃基板上制作透明柔性衬底；
    将与预设单一区域对应的透明柔性衬底去除，以保留与预设功能复用区域对应的透明柔性衬底，得到柔性透光部；所述预设功能复用区域用于安装摄像头；
    对所述柔性透光部进行漂白，得到目标透光部；所述目标透光部的光线的透过率大于所述柔性透光部的光线的透过率；以及
    在所述玻璃基板上制作辅助柔性衬底，所述目标透光部上未覆盖所述辅助柔性衬底。
  11. 根据权利要求10所述的显示面板的制作方法，其中所述在玻璃基板上制作透明柔性衬底的步骤之前，所述方法还包括：
    在玻璃基板上制作保护层；
    在所述对所述柔性透光部进行漂白的步骤之后以及在所述玻璃基板上制作辅助柔性衬底的步骤之前，所述方法还包括：
    将与预设单一区域对应的保护层去除，以使与所述预设功能复用区域对应的保护层保留，得到保护部。
  12. 根据权利要求11所述的显示面板的制作方法，其中所述保护层的材料为非晶硅。
  13. 根据权利要求11所述的显示面板的制作方法，其中所述保护层的厚度范围为10埃~200埃。
  14. 根据权利要求10所述的显示面板的制作方法，其中所述在所述玻璃基板上制作辅助柔性衬底的步骤包括：
    在所述玻璃基板上依次制作第一柔性衬底、缓冲层、第二柔性衬底以及平坦层。
  15. 根据权利要求10所述的显示面板的制作方法，其中所述透明柔性衬底的厚度范围为10μm~20μm。
  16. 根据权利要求10所述的显示面板的制作方法，其中所述透明柔性衬底的材料为感光性聚酰亚胺。
  17. 根据权利要求10所述的显示面板的制作方法，其中在所述对所述柔性透光部进行漂白的步骤之后，所述方法还包括：
    对所述柔性透光部进行固化，得到目标透光部。
  18. 根据权利要求17所述的显示面板的制作方法，其中所述固化的温度范围为230℃~270℃。
  19. 根据权利要求10所述的显示面板的制作方法，其中所述辅助柔性衬底的高度小于或者等于所述目标透光部的高度。
  20. 根据权利要求10所述的显示面板的制作方法，其中所述第一柔性衬底的厚度和所述第二柔性衬底的厚度均小于所述目标透光部的厚度，所述第一柔性衬底的厚度和所述第二柔性衬底的厚度之和小于所述目标透光部的厚度。
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