WO2020161876A1 - 機能性細線パターン前駆体の形成方法及び機能性細線パターンの形成方法 - Google Patents

機能性細線パターン前駆体の形成方法及び機能性細線パターンの形成方法 Download PDF

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    • H05K3/10—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
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    • H05K3/10—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
    • H05K3/18—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material

Definitions

  • the present invention relates to a method for forming a functional fine line pattern precursor and a method for forming a functional fine line pattern, and more specifically, to reduce spatial frequency interference and reduce moire (interference fringes) in an electronic device having a functional fine line pattern.
  • the present invention relates to a method for forming a functional thin line pattern precursor and a method for forming a functional thin line pattern.
  • Patent Document 1 a plurality of geometric figures closed by a linear liquid containing a functional material (conductive material) are formed on a base material, and a coffee stain phenomenon is used when the linear liquid is dried. Then, the functional material is deposited on the inner edge and the outer edge of the linear liquid to form the outer thin lines and the inner thin lines of the functional pattern precursor, and the outer thin lines are crossed and connected to each other, and the inner thin lines are connected to each other. There is disclosed a technique of forming a functional pattern so as not to occur.
  • a functional material conductive material
  • a closed intersecting region G surrounded by the outer thin lines is formed between the outer thin lines that are intersected with each other.
  • a functional pattern is formed by arranging a plurality of geometric figures side by side at a predetermined pitch, an intersection area G is formed at a corner of the geometric figure. It is installed side by side.
  • quadrangle figures are arranged in parallel at a predetermined pitch, and the plurality of quadrangle figures are repeated, so that they have a constant spatial frequency.
  • the outer thin lines are crossed with each other to form a crossing region G.
  • the base material on which the functional pattern is formed is used for electronic devices such as LCD (liquid crystal display) and touch panel sensors.
  • LCD liquid crystal display
  • touch panel sensors As an example of an electronic device, when a base material having a functional pattern is used for an LCD (liquid crystal display), the base material and the base material having the LCD pixel pattern are combined.
  • the LCD pixel pattern overlapping the functional pattern is specifically a dot matrix pattern (pattern) in which LCD pixels are arranged in a grid pattern.
  • the LCD pixel pattern which is a dot matrix pattern, also has a specific spatial frequency.
  • the frequency is increased along these angles. It will have a component, namely the spatial frequency.
  • the LCD pixel pattern has strong spatial frequencies in the 0° and 90° directions.
  • the present invention provides a method of forming a functional fine line pattern precursor and a method of forming a functional fine line pattern, which can reduce spatial frequency interference and reduce moire (interference fringes) in an electronic device having a functional fine line pattern.
  • the task is to do.
  • the first line-shaped liquid containing the functional material on the base material has a closed substantially multi-sided inner edge and an outer edge which are independent from each other by including a region to which the liquid is not applied.
  • a polygonal figure is formed, the first line-shaped liquid is dried, and the functional material is deposited along the inner edge and the outer edge to form an inner thin line and an outer thin line containing the functional material.
  • 1 form a functional thin line pattern precursor, Then, the second line-shaped liquid containing the functional material is closed on the base material so as to have an inner edge and an outer edge which are independent from each other as an edge portion by including a region to which the liquid is not applied.
  • the second functional thin line pattern precursor consisting of In at least one set of the first functional thin line pattern precursor and the second functional thin line pattern precursor, the outer thin line of the first functional thin line pattern precursor and the second functional thin line pattern precursor.
  • the first functional thin line pattern precursor and the inner thin line of the second functional thin line pattern precursor are not connected to each other, and the first functionality is connected to the outer thin line of the first functional thin line pattern precursor.
  • Forming a fine line pattern precursor and the second functional fine line pattern precursor The maximum curvature portion of the outer thin wire of the first functional thin wire pattern precursor and the maximum curvature portion of the outer thin wire of the second functional thin wire pattern precursor are brought into contact with each other, or overlapped, in the case of overlapping,
  • the length in the longitudinal direction of the overlapping region is set to the first functionality. 3.
  • the reference line size of the substantially polygonal figure formed by the first line-shaped liquid and the substantially polygonal figure formed by the second line-shaped liquid is set, and the first line-shaped liquid and the second line are set. In the case of forming a substantially polygonal figure smaller than the substantially polygonal figure of the reference size by at least one of the liquids, the amount of liquid applied to the maximum curvature portion is increased.
  • At least a part of the inner thin lines of the functional thin line pattern precursor formed by the method for forming a functional thin line pattern precursor according to any one of 1 to 10 above is removed, and is left without being removed.
  • a method for forming a functional fine line pattern precursor and a method for forming a functional fine line pattern which can reduce spatial frequency interference and reduce moire (interference fringes) in an electronic device having a functional fine line pattern. can do.
  • FIG. 3A is a perspective view illustrating a state in which a functional fine line pattern precursor is formed
  • FIG. 3A is a diagram showing a state in which a linear liquid is applied onto a base material
  • FIG. Diagram showing the liquid dried It is a figure explaining the flow which conveys a functional material to the edge of liquid
  • (a) is a figure showing the case of a line-like liquid which consists of a closed polygonal figure
  • (b) is a reference example.
  • a diagram showing the case of a liquid which is not a closed substantially polygonal figure The figure which shows the functional thin wire pattern precursor in this embodiment.
  • (a) is a figure showing the state where the 1st line-like liquid was given to a substrate.
  • (B) is a diagram showing a state in which the first linear liquid on the substrate is dried It is a figure explaining formation of the 2nd functional fine line pattern precursor when a substantially polygonal figure is a substantially quadrangle figure, and (a) is a figure showing the state where the 2nd line-like liquid was given on a substrate.
  • (B) is a diagram showing a state in which the second line-shaped liquid on the substrate is dried.
  • FIG. 1 Optical micrograph of the state in which the first functional thin line pattern precursor and the second functional thin line pattern precursor are formed on the substrate
  • FIG. Diagram illustrating an example of electrolytic plating treatment
  • Figure explaining the functional thin line pattern with some thin lines removed The figure explaining an example at the time of forming a functional thin wire pattern on both surfaces of a base material.
  • FIG. 4A is a diagram illustrating an application amount of a liquid when forming functional thin line pattern precursors having different sizes, in which (a) is a diagram showing a functional thin line pattern precursor having a standard size, and (b) is a small size.
  • FIG. 3A is a diagram for explaining the functional thin line pattern formation in the case where the substantially polygonal shape is a substantially triangular shape
  • FIG. 6A shows a state in which the linear liquid is applied so as to form the substantially triangular shape on the base material.
  • FIG. 1B is a diagram showing a state in which a functional thin line pattern having a substantially triangular shape is formed.
  • FIG. 6A is a diagram illustrating functional thin line pattern formation in the case where a substantially polygonal figure is a substantially hexagonal figure, and (a) is a state in which a linear liquid is applied so as to form a substantially hexagonal figure on a substrate. And (b) is a diagram showing a state in which a functional thin line pattern of a substantially hexagonal figure is formed. The figure explaining the Example of a functional thin line pattern.
  • FIG. 1A and 1B are perspective views illustrating a state in which a functional fine line pattern precursor is formed, where FIG. 1A is a diagram showing a state in which a linear liquid is applied onto a base material, and FIG. 1B is a base material. It is a figure which shows the state which the upper linear liquid dried. A process of forming a functional fine line pattern precursor from a linear liquid will be described with reference to FIG.
  • a closed substantially polygonal figure is formed on the base material 1 by the first linear liquid 2.
  • the substantially polygonal figure composed of the first line-shaped liquid 2 has an inner edge 21 and an outer edge 22 independent from each other as an edge portion by including the region 20 to which the liquid is not applied inside.
  • the inner edge 21 is an inner edge of the closed substantially polygonal figure formed by the first line-shaped liquid 2, and is an edge adjacent to the region 20 to which the liquid is not applied.
  • the outer edge 22 is an outer edge of the closed substantially polygonal figure formed by the first linear liquid 2, and is not connected to the inner edge 21.
  • the coffee stain phenomenon is used to selectively deposit the functional material along the inner edge 21 and the outer edge 22, which are the edges, as shown in FIG. As shown in b), an inner thin wire 31 is formed at a position corresponding to the inner edge 21, and an outer thin wire 32 is formed at a position corresponding to the outer edge 22.
  • the functional thin wire pattern precursor 3 including the inner thin wire 31 containing the functional material and the outer thin wire 32 surrounding the inner thin wire 31 is formed.
  • the inner thin wire 31 and the outer thin wire 32 which constitute the functional thin wire pattern precursor 3 are not connected to each other but are independent.
  • the inner thin wire 31 and the outer thin wire 32 are sufficiently thinner than the line width (line thickness) of the first linear liquid 2.
  • the first linear liquid 2 has one inner edge 21 and one outer edge 22, so that the first functional fine line pattern precursor 3 including the pair of inner fine lines 31 and outer fine lines 32 is formed. Is forming.
  • FIG. 2A and 2B are diagrams for explaining a flow of carrying a functional material to an edge portion of a liquid
  • FIG. 2A is a diagram showing a case of a linear liquid having a closed substantially polygonal shape
  • FIG. It is a figure which is an example and shows the case of the liquid which is not a closed substantially polygonal figure. The effect of forming the first functional thin line pattern precursor 3 from the first linear liquid 2 will be described with reference to FIG.
  • the drying of the first line-shaped liquid 2 applied on the base material 1 is faster at the inner edge 21 and the outer edge 22 than at the central portion, so that the inner edge 21 and the outer portion are first dried.
  • Local deposition of functional material occurs along edge 22.
  • the accumulated functional material causes the liquid edge to be fixed (fixation of the contact line), and the contraction in the thickness direction of the first line-shaped liquid 2 due to subsequent drying is suppressed.
  • the direction of flow is conceptually indicated by an arrow. This flow carries additional functional material to the inner and outer edges 21 and 22 for deposition.
  • the inner thin wires 31 and the outer thin wires 32 containing the functional material are formed at the positions corresponding to the inner edge 21 and the outer edge 22, respectively.
  • the first line-shaped liquid 2 includes the region 20 to which the liquid is not applied inside, so that the applied amount of the liquid can be reduced and the drying load can be reduced. Thereby, the takt time can be shortened and the production efficiency can be improved.
  • the first line-shaped liquid 2 includes the region 20 to which the liquid is not applied inside, the total amount of heat of vaporization accompanying the drying of the liquid becomes relatively small. Therefore, changes in the substrate temperature and non-uniformity due to drying are suppressed, and the above-described liquid flow can be stably formed.
  • the first linear liquid 2 can shorten the average moving distance until the functional material reaches the edge by flowing by including the region 20 to which the liquid is not applied inside.
  • the coffee stain phenomenon can be stably expressed, and the formation of the inner thin wire 31 and the outer thin wire 32 can be stabilized. ..
  • the effect that the inner thin wire 31 and the outer thin wire 32, which are functional thin wires, can be stably formed with a high degree of freedom is obtained.
  • Promoting the formation of flows that carry the functional material to the rim is preferable.
  • conditions such as the solid content concentration, the contact angle between the liquid and the substrate, the amount of the liquid, the heating temperature of the substrate, the arrangement density of the liquid, or environmental factors such as temperature, humidity, and atmospheric pressure
  • the edge of the liquid can be adjusted. Can be fixed at an early stage, and the difference in evaporation amount between the central portion of the liquid and the edge can be increased. This can facilitate the formation of flows that carry the functional material to the edges.
  • the application of the first line-shaped liquid 2 onto the base material 1 can be performed by an inkjet method. Specifically, while moving an inkjet head included in a droplet discharge device (not shown) relative to a substrate, ink containing a functional material is discharged from a nozzle of the inkjet head, and the discharged ink droplets are discharged onto the substrate. It is possible to form the line-shaped liquid 2 by coalescing.
  • the droplet discharge method of the inkjet head is not particularly limited, and for example, a piezo method or a thermal method can be used.
  • the closed substantially polygonal figure can be freely formed in a desired shape by the first line-shaped liquid 2.
  • the shapes of the inner edge 21 and the outer edge 22 of the first linear liquid 2 are respectively closed as desired.
  • a conductive material is preferably used as the functional material
  • a transparent base material is preferably used as the base material.
  • the polygonal figure refers to one having a vertex in a state before the liquid is applied on the base material 1, and the substantially polygonal figure means that the polygonal liquid is dried and It means that the vertex of a polygonal figure is changed to the maximum curvature.
  • each vertex of the quadrangular figure is formed, and when the drying of the first line-shaped liquid 2 progresses, each vertex has the maximum curvature. And formed into a substantially quadrangular shape.
  • the first linear liquid 2 may be applied onto the base material 1 so as to form a substantially quadrangular figure having a maximum curvature portion from the beginning.
  • FIG. 3 is a diagram showing a functional thin line pattern precursor in the present embodiment.
  • the maximum curvature portion of the functional thin line pattern precursor will be described by taking the first functional thin line pattern precursor 3 as an example.
  • the first linear liquid 2 is dried in the first functional thin line pattern precursor 3, the inner thin line 31 and the outer thin line 32 are formed.
  • the liquid of the first line-shaped liquid 2 remains in the position where the inner thin line 31 is formed and the position where the outer thin line 32 is formed.
  • the liquid located at each vertex of the quadrangle is pulled in the side direction of the quadrangle extending from each vertex.
  • the liquid remaining at each apex is recessed from the state where the corner is formed in the central direction of the quadrangle, and is formed in an arc shape, and becomes the maximum curvature part 311 and the maximum curvature part 321.
  • the second functional thin line pattern precursor 5 to be described later is also formed in the same manner as the first functional thin line pattern precursor 3, and the maximum curvature portion 511 and the maximum curvature are obtained by drying the liquid located at each vertex of the quadrangle. It becomes the part 521.
  • FIG. 4 is a diagram for explaining the formation of the first functional fine line pattern precursor when the substantially polygonal figure is a substantially quadrangle figure, and (a) shows the first line-shaped liquid applied on the substrate.
  • a quadrangle shape is formed as a closed substantially polygonal shape on the base material 1 by the first linear liquid 2 containing a conductive material.
  • a plurality of quadrangular first linear liquids 2 are arranged on the base material 1 side by side at a predetermined pitch in the longitudinal direction (vertical direction in the drawing) and width direction (horizontal direction in the drawing) of the base material.
  • first line-shaped liquids 2 are shown.
  • the first line-shaped liquid 2 applied on the base material 1 has an inner edge 21 and an outer edge 22 independent from each other by including the region 20 to which the liquid is not applied inside.
  • the coffee stain phenomenon is caused when the first linear liquid 2 is dried, and the conductive material is selectively deposited along the inner edge 21 and the outer edge 22 of the first linear liquid 2.
  • the first functional thin wire pattern precursor 3 including the inner thin wires 31 and the outer thin wires 32 is formed.
  • the thin lines 31 and 32 forming the first functional thin line pattern precursor 3 are formed in a substantially rectangular shape.
  • Four maximum curvature portions 311 and maximum curvature portions 321 are formed on the thin line 31 and the thin line 32 formed in the substantially quadrangle shape, respectively.
  • FIG. 5 is a diagram for explaining the formation of the second functional fine line pattern precursor in the case where the substantially polygonal figure is a substantially quadrangle figure, and (a) shows the second line-shaped liquid applied on the substrate.
  • the figure which shows a state (b) is a figure which shows the state in which the 2nd linear liquid on the base material was dried.
  • FIG. 6 is an optical micrograph showing a state in which the first functional thin line pattern precursor and the second functional thin line pattern precursor are formed on the substrate.
  • a quadrangle figure is formed on the base material 1 as a closed substantially polygonal figure by the second linear liquid 4 containing the conductive material.
  • a plurality of second line-shaped liquids 4 each having a quadrangle are arranged in parallel on the base material 1 at a predetermined pitch in the longitudinal direction and the width direction of the base material.
  • five second line-shaped liquids 4 are shown.
  • the second linear liquid 4 applied on the base material 1 has an inner edge 41 and an outer edge 42 which are independent of each other as an edge by including the region 40 to which the liquid is not applied inside.
  • the second linear liquid 4 is formed at the position sandwiched between the four first functional thin line pattern precursors 3.
  • the vicinity of each vertex of the quadrangle formed of the second linear liquid 4 is arranged so as to contact the maximum curvature portion 321 of the outer thin wire 32 of the adjacent first functional thin wire pattern precursor 3.
  • the vertices of the quadrangle formed of the second linear liquid 4 are arranged in the region between the inner thin line 31 and the outer thin line 32 of the adjacent first functional thin line pattern precursor 3.
  • the second functional thin line pattern precursor 5 including the inner thin line 51 and the outer thin line 52 can be formed.
  • the thin lines 51 and 52 forming the second functional thin line pattern precursor 5 are formed in a substantially rectangular shape.
  • Four maximum curvature portions 511 and maximum curvature portions 521 are formed on the thin line 51 and the thin line 52, which are formed in a substantially quadrangular shape, respectively.
  • the first functional thin line pattern precursor 3 and the second functional thin line pattern precursor 5 are provided on the substrate 1 in the longitudinal direction of the substrate. They are formed alternately in the width direction.
  • the maximum curvature portion 321 of the outer thin wire 32 of the first functional thin wire pattern precursor 3 and the maximum curvature portion 521 of the outer thin wire 52 of the second functional thin wire pattern precursor 5 are connected to each other, and the first functional thin wire pattern precursor
  • the first functional thin wire pattern precursor 3 and the second functional thin wire pattern precursor 5 are formed so that the inner thin wires 31 of the body 3 and the inner thin wires 51 of the second functional thin wire pattern precursor 5 are not connected to each other. doing.
  • the inner thin wires 31 and the inner thin wires 51 are not connected to the other inner thin wires 31 and the inner thin wires 51, and are also not connected to the other outer thin wires 32 and the outer thin wires 52.
  • the functional thin wire pattern precursor including the first functional thin wire pattern precursor 3 and the second functional thin wire pattern precursor 5 which are connected to each other by the outer thin wires 32 and the outer thin wires 52 on the substrate 1.
  • a body pattern is formed.
  • FIG. 7 is a diagram showing a connection state between the first functional thin line pattern precursor and the second functional thin line pattern precursor in the present embodiment.
  • the relationship between the maximum curvature portion 321 of the outer thin wire 32 of the first functional thin wire pattern precursor 3 and the maximum curvature portion 521 of the outer thin wire 52 of the second functional thin wire pattern precursor 5 will be described.
  • the functional thin-line pattern precursor comprising the first functional thin-line pattern precursor 3 and the second functional thin-line pattern precursor 5 connected to each other by the outer thin line 32 and the outer thin line 52 on the substrate 1.
  • the first functional thin line pattern precursor 3 and the second functional thin line pattern precursor 5 are contacted with the maximum curvature portion 321 of the outer thin wire 32 and the maximum curvature portion 521 of the outer thin wire 52. It is located in.
  • FIG. 8 is an enlarged view of part A in FIG.
  • the outer thin wire 32 and the outer thin wire 52 are each formed with a line width W1.
  • the point labeled C1 is the center of curvature of the maximum curvature portion 321
  • the point labeled C2 is the center of curvature of the maximum curvature portion 521.
  • the maximum curvature portion 321 is formed with a curvature radius of 1/R, where the radius R is a distance R from the curvature center C1 to an imaginary line passing through the center of the outer thin wire 32.
  • the maximum curvature part 521 is formed with a curvature radius of 1/R, with the radius of curvature being the distance R from the center of curvature C2 to an imaginary line passing through the center of the outer thin wire 52.
  • the maximum curvature portion 321 and the maximum curvature portion 521 are formed with the same curvature, but they may be formed with different curvatures. 7 and 8, for the sake of convenience of description, only a pair of adjacent substantially square-shaped functional thin line pattern precursors (outer thin line 32 and outer thin line 52) are shown, but in FIG. 5(b). As shown, other adjacent substantially square-shaped functional thin line pattern precursors are similarly connected.
  • the maximum curvature portion 321 of the outer thin wire 32 and the maximum curvature portion 521 of the outer thin wire 52 are arranged so as to partially overlap each other.
  • One overlapping region H is formed in a portion where the maximum curvature portion 321 and the maximum curvature portion 521 overlap.
  • the length L1 in the longitudinal direction (vertical direction in FIG. 8) of the overlapping region H is longer than the line width W1 of the outer thin wire 32 and the outer thin wire 52.
  • FIG. 9 is a diagram illustrating an example of electrolytic plating processing. Here, a method for forming a functional thin line pattern composed of the first functional thin line pattern precursor 3 and the second functional thin line pattern precursor 5 formed on the substrate 1 will be described.
  • electrolytic plating is performed on the pattern of the functional thin wire pattern precursor consisting of the first functional thin wire pattern precursor 3 and the second functional thin wire pattern precursor 5.
  • An example of the electrolytic plating process will be described with reference to FIG.
  • the power feeding member 6 is brought into contact with the pattern of the functional thin wire pattern precursor consisting of the first functional thin wire pattern precursor 3 and the second functional thin wire pattern precursor 5 to perform electrolytic plating.
  • the outer thin wires 32 of the first functional thin wire pattern precursor 3 and the outer thin wires 52 of the second functional thin wire pattern precursor 5 are connected to each other in the maximum curvature portion 321 and the overlapping region H of the maximum curvature portion 521.
  • the energization path including the plurality of outer thin wires 32 and the outer thin wires 52 is formed in a mesh shape.
  • the outer thin wires 32 and the outer thin wires 52 in the energizing path are electroplated.
  • the inner thin wires 31 and the inner thin wires 51 are not connected to the other inner thin wires 31 and the inner thin wires 51, and are not connected to the other outer thin wires 32 and the outer thin wires 52, and each of them is independent. Since it is formed, the energization path such as the outer thin wire 32 and the outer thin wire 52 described above is not formed.
  • the inner thin wire 31 and the inner thin wire 51 that are in direct contact with the power feeding member 6 are present, the inner thin wire 31 and the inner thin wire 51 may be electroplated, but the other inner thin wires 31 and 51 are energized. No, no electrolytic plating is applied.
  • the power supply member 6 is not brought into contact with the inner thin wires 31 and the inner thin wires 51, neither of the inner thin wires 31 and the inner thin wires 51 is electrolytically plated.
  • the outer thin wires 32 and the outer thin wires 52 can be selectively electroplated.
  • selective means that at least the number of outer thin wires 32 and outer thin wires 52 to be electrolytically plated is larger than the number of inner thin wires 31 and inner thin wires 51 to be electrolytically plated.
  • FIG. 10 is a diagram for explaining the pattern of the electrolytically plated functional thin wire pattern precursor.
  • the film thickness of the outer thin wire 32 and the outer thin wire 52 that are electrolytically plated can be increased compared to the inner thin wire 31 and the inner thin wire 51 that are not electrolytically plated.
  • the outer thin wires 32 and the outer thin wires 52 have lower electrical resistance than the inner thin wires 31 and the inner thin wires 51, and the durability is further improved.
  • the plating metal used for electrolytic plating is not particularly limited, but it is preferable to use copper or nickel, for example. It is also preferable to stack a plurality of plating layers on the thin wire. In this case, electrolytic plating is performed a plurality of times with different plating metals. For example, preferred is a method of providing a copper plating layer on a fine wire as the first electrolytic plating to improve conductivity, and then providing a nickel plating layer on the copper plating layer as the second electrolytic plating to improve weather resistance. be able to.
  • electroless plating instead of electrolytic plating.
  • the plating layer can be provided on the thin wire.
  • FIG. 11 is a diagram illustrating a functional thin line pattern in which some thin lines are removed.
  • the first functional thin line pattern precursor 3 and the second functional thin line pattern precursor 5 are used as precursors to form a functional thin line pattern.
  • the outer thin wires 32 and the outer thin wires 52 are electrolytically plated to increase the film thickness, so that the outer thin wires 32 and the outer thin wires 52 are hard to be removed, and the inner thin wires 31 not electrolytically plated. Also, the inner thin wire 51 can be removed relatively easily.
  • the method of removing the fine line is not particularly limited, but it is preferable to use a method of irradiating an energy ray such as a laser beam or a method of chemically etching, for example.
  • a method of removing the inner thin wires 31 and the inner thin wires 51 with a plating solution when electrolytically plating the outer thin wires 32 and the outer thin wires 52 can be used.
  • the plating liquid a liquid capable of dissolving or decomposing the conductive material forming the thin wire to be removed can be used.
  • a fine line pattern precursor 5 is formed.
  • a copper plating layer is selectively provided on the outer thin wires 32 and 52 as the first electrolytic plating, and then a nickel plating layer is provided on the copper plating layer as the second electrolytic plating.
  • the inner thin wire 31 and the inner thin wire 51 made of silver not subjected to the first electrolytic plating can be dissolved or decomposed and removed by the plating solution of the second electrolytic plating (electrolytic nickel plating).
  • a time sufficient for removing the thin wires to be removed preferably the inner thin wires 31 and the inner thin wires 51, preferably 1 minute to 30 minutes, It is also preferable to immerse the material 1 in the plating solution.
  • the inner thin wires 31 and the inner thin wires 51 it is possible to adjust the arrangement intervals of the thin wires in the functional thin wire pattern including the outer thin wires 32 and the outer thin wires 52 that remain without being removed with a high degree of freedom. ..
  • the adjustment of the arrangement interval by removing a part of the thin line is advantageous especially when the arrangement interval is increased.
  • the functional thin wire pattern shown in FIG. 11 has a plurality of thin wires consisting of the outer thin wires 32 and the outer thin wires 52, that is, a plurality of substantially quadrangular thin wires containing a functional material, arranged in a two-dimensional array on the base material 1.
  • a plurality of substantially quadrangular thin wires are arranged in parallel at a predetermined pitch in each of the longitudinal direction and the width direction of the base material 1.
  • the functional thin line pattern of the present embodiment forms the overlapping region H by overlapping a part of the outer thin line 32 and the outer thin line 52, thereby forming the intersecting regions that are intersected and connected. I don't have it. Therefore, in the functional pattern formed of the substantially quadrangular figure of the maximum curvature portion 321 and the maximum curvature portion 521, the intensity of the spatial frequency of the portion where the overlapping region H of the substantially quadrangle shape is formed can be weakened. As a result, as shown in FIG. 11, the intensity of the spatial frequency in the 0° direction, the 45° direction, the 90° direction, and the 315° direction can be weakened. As a result, in the spatial frequency of the LCD pixel pattern, it is possible to weaken the interference between the spatial frequencies in the 0° direction and the 90° direction, which have a particularly strong intensity, and reduce the occurrence of moire.
  • the LCD pixel pattern also has spatial frequencies in the 45° direction and the 315° direction, moire occurs even when the mesh angle (bias angle) of the functional thin line pattern of this embodiment is 45° or 315°. There are cases. In that case, the occurrence of moire can be minimized by adjusting the mesh pitch, which is the fine line interval of the functional fine line pattern, to the LCD pixel pattern.
  • the mesh angle (bias angle) can be set to 30° and 60°, or 15° and 75°. Thereby, it is possible to further prevent moire. Particularly, by setting the mesh angle (bias angle) to 30° or 120°, it is possible to minimize the occurrence of moire with the LCD pixel pattern.
  • a closed substantially polygonal figure is formed and a part of the fine line is removed to form a functional fine line pattern of the substantially polygonal figure. Therefore, the functional fine line pattern can be stabilized with high flexibility. Can be formed.
  • the outer thin wire 32 and the outer thin wire 52 form the overlapping area H.
  • the overlapping region H functions as a connecting portion between the outer thin wire 32 and the outer thin wire 52, as shown in FIG.
  • the overlapping area H serves as a connecting portion. Since it functions, the electric resistance between the outer thin wire 32 and the outer thin wire 52 can be reduced. As a result, the electrical connection between the outer thin wires 32 and the outer thin wires 52 is ensured, and the electrical resistance of the transparent conductive film can be reduced. Further, since it is possible to preferably prevent the nonuniformity of the electric resistance, it is possible to obtain the effect of improving the stability of the electric resistance.
  • the contact length between the outer thin wire 32 and the outer thin wire 52 is also preferable to make the contact length between the outer thin wire 32 and the outer thin wire 52 longer by making the length L1 in the longitudinal direction in the overlapping region H longer than the line width W1 of the outer thin wire 32 and the outer thin wire 52.
  • the electrical resistance between the outer thin wire 32 and the outer thin wire 52 can be further reduced, and the stability of the electrical resistance can be further improved.
  • the outer thin wire 32 and the outer thin wire 52 are reliably connected. It is possible to prevent the occurrence of short circuit and short circuit.
  • FIG. 12 is a diagram illustrating an example of forming a functional thin line pattern on both surfaces of a base material.
  • the functional thin wire pattern is formed on one surface (front surface) of the base material 1, and further, the functional thin wire pattern is formed on the other surface (back surface) of the base material 1.
  • the functional thin line pattern on each surface is the same as that shown in FIG. 11, in which the inner thin line 31 of the first functional thin line pattern precursor 3 and the inner thin line 51 of the second functional thin line pattern precursor 5 are formed. It is constituted by the outer thin wires 32 of the first functional thin wire pattern precursor 3 and the outer thin wires 52 of the second functional thin wire pattern precursor 5 which are left without being removed by the removal.
  • a part of the thin wires constituting the functional thin wire pattern precursor on one surface and/or the other surface is removed to increase the arrangement interval of the thin wires. Is particularly preferable.
  • a transparent base material is used as the base material, and a conductive material is used as the functional material to be contained in the functional fine line patterns on both sides, thereby forming the transparent conductive film having the functional fine line patterns on both sides of the transparent base material.
  • a transparent base material is used as the base material
  • a conductive material is used as the functional material to be contained in the functional fine line patterns on both sides, thereby forming the transparent conductive film having the functional fine line patterns on both sides of the transparent base material. be able to.
  • the transparent base material provided with the transparent conductive films on both sides can be suitably used as, for example, a touch panel sensor or the like.
  • FIGS. 13A and 13B are diagrams illustrating an example of a touch panel sensor including a transparent conductive film formed of a functional thin line pattern
  • FIG. 13A is a diagram showing a state where the base material 1 is viewed from the front surface side
  • FIG. FIG. 3 is a diagram showing a state where the base material 1 is viewed from the back surface side.
  • a plurality of strip-shaped X electrodes 7 are arranged in parallel on the surface of the transparent base material 1.
  • Each of the plurality of X electrodes 7 is formed of a transparent conductive film 8 formed of a functional thin wire pattern including outer thin wires 32 and outer thin wires 52.
  • each transparent conductive film 8 the outer thin wires 32 and the outer thin wires 52 adjacent to each other are connected to each other in the overlapping region H.
  • the outer thin wires 32 and the outer thin wires 52 forming one transparent conductive film 8 are not connected to the outer thin wires 32 and the outer thin wires 52 forming the other transparent conductive film 8.
  • the presence of the outer thin wires 32 and the outer thin wires 52 that are not connected to each other allows the plurality of independent X electrodes 7 that are not electrically connected to each other to be formed on the surface of the base material 1. ..
  • Each X electrode 7 is composed of an assembly of a plurality of outer thin wires 32 and outer thin wires 52 electrically connected to each other.
  • reference numeral 9 is a lead wire, and each X electrode 7 is connected to a control circuit (not shown) by the lead wire 9.
  • a plurality of strip-shaped Y electrodes 10 are arranged side by side on the back surface of the transparent base material 1.
  • Each of the plurality of Y electrodes 10 is configured by the transparent conductive film 8 configured by the functional thin wire pattern including the outer thin wires 32 and the outer thin wires 52, similarly to the X electrode 7 described above.
  • the strip-shaped Y electrode 10 is formed so that its longitudinal direction intersects the longitudinal direction of the X electrode described above.
  • Each Y electrode 10 is connected to a control circuit (not shown) by a lead wiring 9.
  • the X electrode 7 and the Y electrode 10 are provided so as to intersect (overlap) with the transparent base material 1 interposed therebetween. At this time, due to the partial removal of the thin wires described above, the arrangement interval of the thin wires in the functional thin wire pattern forming the transparent conductive film forming the X electrode 7 and the Y electrode 10 is increased. As described above, it is possible to alleviate the requirement for high alignment accuracy of the front and back patterns.
  • the touch panel sensor having the above configuration can be suitably used as a touch panel sensor of, for example, a capacitance type.
  • a capacitance type touch panel an induced current based on a capacitance change generated when a user's finger, a conductor, or the like approaches or contacts the X electrode 7 and the Y electrode 10 during operation, It is possible to detect the position coordinates of a finger, a conductor, or the like.
  • the present invention is not limited to this.
  • one or more additional functional thin line pattern precursors may be formed.
  • the further one or more functional thin line pattern precursors can be formed in one or more times. That is, when a plurality of functional fine line pattern precursors are formed on the substrate, they can be formed appropriately in a plurality of times. Further, for example, when the functional thin line pattern precursors are not connected to each other, it is also preferable to form a plurality of functional thin line pattern precursors once.
  • FIG. 14 is a diagram for explaining the applied amount of the liquid in the case of forming functional thin line pattern precursors of different sizes
  • (a) is a diagram showing the functional thin line pattern precursor of the standard size
  • (b) [Fig. 3] is a diagram showing a small-sized functional fine line pattern precursor.
  • the broken line in FIG. 14 indicates the liquid before drying, which is applied to the apex portion of each rectangular figure drawn by the liquid.
  • the liquid applied onto the base material 1 After the quadrangle figure is drawn by the liquid applied onto the base material 1, the liquid is dried, so that the vertexes of the quadrangle figure have the maximum curvature portion 311, the maximum curvature portion 321, the maximum curvature portion 511, and the maximum curvature portion 511. It changes to the part 521, and the first functional thin line pattern precursor 3 and the second functional thin line pattern precursor 5 having a substantially rectangular shape are formed.
  • the liquid applied to the apex portion of the quadrangle graphic is pulled in each side direction as the liquid dries. As a result, the liquid applied to the apex is drawn toward the center of the quadrangle to form the maximum curvature portion 311, the maximum curvature portion 321, the maximum curvature portion 511, and the maximum curvature portion 521.
  • the reference size is set based on the interval between a pair of opposing sides of the quadrangle figure, and the interval is set to 0.7 mm as an example.
  • the maximum curvature portions 114 of the outer thin wire 112 can be connected to each other.
  • the outer thin wires 112 of the plurality of functional thin wire pattern precursors 11 are reliably connected to each other, and it is possible to prevent a decrease in the stability of electrical resistance such as a short circuit or a short circuit.
  • the functional thin line pattern When forming a functional thin line pattern having a size larger than that of the first functional thin line pattern precursor 3 and the second functional thin line pattern precursor 5 which are the functional thin line patterns of the reference size, the functional thin line pattern is formed. It is also preferable to reduce the application amount of the liquid applied to the apex of the quadrangle figure. When the size of the quadrangle figure drawn with the liquid that forms the functional thin line pattern increases, the distance between each side also increases, and the effect of heat of vaporization when the liquid on each side dries is This is because it is less likely to affect the drying of the liquid, and the drying of the entire quadrangle figure becomes faster.
  • FIG. 15 is a diagram for explaining the functional thin line pattern in the case where the line width in the maximum curvature portion is made wider than the line width in the portion other than the maximum curvature portion.
  • the line width W1 of the first functional thin line pattern precursor 3 and the second functional thin line pattern precursor 5 having a substantially rectangular shape is set to be a uniform width, but instead of this, the maximum curvature portion 321 and the maximum curvature portion 321 are formed.
  • the line width in the curved portion 521 may be set to a line width W2 wider than the line width W1.
  • FIG. 16 is a diagram showing an overlapping area of outer thin lines in the second embodiment.
  • the outer thin lines are configured to form one overlapping region H, but in the second embodiment, the outer thin lines are intersected with each other, but the intersecting regions G are not formed.
  • the configurations of the first functional thin line pattern precursor 3 and the second functional thin line pattern precursor 5 in the first embodiment will be described. Note that, in FIG. 16, for convenience of description, only a pair of adjacent functional thin line pattern precursors having substantially rectangular shapes (outer thin lines 32 and outer thin lines 52) are shown, but as shown in FIG. Adjacent, substantially square-shaped, functional thin-line pattern precursors are similarly connected.
  • the outer thin wire 32 of the first functional thin wire pattern precursor 3 and the outer thin wire 52 of the second functional thin wire pattern precursor 5 are formed to have a line width W1.
  • a maximum curvature portion 321 and a maximum curvature portion 521 are formed on the outer thin wire 32 and the outer thin wire 52, respectively.
  • the maximum curvature portion 321 of the outer thin wire 32 and the maximum curvature portion 521 of the outer thin wire 52 are arranged so as to intersect with each other.
  • the insides of the maximum curvature portion are formed to contact each other at a contact point P1.
  • two overlapping regions H1 and H2 that are in contact with each other at the contact point P1 are formed in the maximum curvature portion 321 and the maximum curvature portion 521.
  • an intersection P2 is a point where the outer edge of the outer thin wire 32 and the outer edge of the outer thin wire 52 intersect, and is located at the upper end of the overlapping area H1 in the vertical direction of FIG.
  • the intersection P3 is a point where the outer edge of the outer thin wire 32 and the outer edge of the outer thin wire 52 intersect, and is located at the lower end of the overlapping region H2 in the vertical direction of FIG.
  • the length L2 is the length in the longitudinal direction from the overlapping region H1 to the overlapping region H2 through the contact point P1. In this embodiment, the length L2 is longer than the line width W1.
  • the outer thin wires 32 and the outer thin wires 52 are intersected to form the two overlapping regions H1 and H2, the outer thin wires 32 and the outer thin wires 32 and the outer portions are formed in comparison with the case where the functional thin wire patterns are formed in a grid pattern.
  • the area of the region where the thin wire 52 overlaps can be increased, and the electrical connection between the outer thin wire 32 and the outer thin wire 52 can be ensured.
  • the electric resistance of the transparent conductive film can be further reduced, and the electric resistance can be stabilized.
  • the outer thin line 32 and the outer thin line 52 are intersected to form two overlapping regions H1 and H2, but the intersecting region G shown in FIG. 21 is not formed.
  • the functional thin line pattern in the second embodiment does not form the intersecting region G, so that the intensity of the spatial frequency can be weakened in the portion where the two overlapping regions H1 and H2 of the substantially rectangular figure are formed.
  • the interference between the spatial frequency of the functional thin line pattern of the present embodiment and the spatial frequency of the LCD pixel pattern in the 0° direction and the 90° direction can be weakened, and the occurrence of moire can be reduced.
  • FIG. 17 is a diagram showing a connected state of the functional thin line pattern precursor in the third embodiment.
  • the outer thin wires 32 and the outer thin wires 52 do not overlap with each other, but the outer thin wires 32 and the outer thin wires 52 are in contact with each other to form a contact point.
  • the configurations of the first functional thin line pattern precursor 3 and the second functional thin line pattern precursor 5 in the first embodiment will be described.
  • FIG. 17 shows only a pair of adjacent functional thin line pattern precursors (outer thin line 32 and outer thin line 52) in a substantially rectangular shape, but as shown in FIG. Adjacent substantially rectangular thin wires are similarly connected.
  • the functional thin line pattern precursors (outer thin lines 32 and outer thin lines 52) of the substantially rectangular shapes adjacent to each other can be connected at the contact points P, so that the functional thin line pattern precursors of both rectangular shapes can be connected.
  • a conductive material is used as, electrical connection can be realized.
  • the outer thin wire 32 and the outer thin wire 52 are brought into contact with each other at the maximum curvature portion 321 and the maximum curvature portion 521 to form the contact point P, but the intersection area G shown in FIG. 21 is not formed.
  • the functional thin line pattern in the third embodiment does not form the intersecting region G, so that the intensity of the spatial frequency can be weakened in the portion where the contact point P of the substantially quadrangular shape is formed.
  • the interference between the spatial frequency of the functional thin line pattern of the present embodiment and the spatial frequency of the LCD pixel pattern in the 0° direction and the 90° direction can be weakened, and the occurrence of moire can be reduced.
  • the closed polygonal figure made of the linear liquid is made into a quadrangle figure, and the functional thin line pattern made of the quadrangle figure is formed.
  • the closed substantially polygonal figure made of the line-shaped liquid may be a triangle, a pentagon, a hexagon, etc. to form a functional fine line pattern made of a substantially polygonal fine line.
  • FIG. 18 is a diagram for explaining the functional thin line pattern formation in the case where the substantially polygonal figure is a substantially triangular figure.
  • FIG. 18A is a diagram in which the linear liquid is applied so as to form a substantially triangular figure on the base material.
  • FIG. 3B is a diagram showing a state, and FIG. 3B is a diagram showing a state in which a functional thin line pattern having a substantially triangular shape is formed.
  • a substantially triangular figure composed of an inner thin line 31 and an outer thin line 32 respectively formed in a triangular shape is formed.
  • the first functional thin line pattern precursor 3 can be formed. Adjacent outer thin wires 32 are connected at the maximum curvature portion.
  • the outer thin wire 32 that is left without being removed, that is, a substantially triangular shape. It is possible to form a functional thin line pattern composed of a graphic functional thin line pattern precursor.
  • FIG. 19 is a diagram for explaining the functional thin line pattern formation in the case where the substantially polygonal figure is a substantially hexagonal figure, and (a) shows a linear liquid so as to form a substantially hexagonal figure on a substrate.
  • FIG. 6B is a diagram showing a state in which the functional thin line pattern having a substantially hexagonal shape is formed.
  • the closed polygonal shape made of the line-shaped liquid is made into a hexagon, and as shown in FIG. 19A, the hexagonal shape has an inner thin line 31 and an outer thin line 32 formed in hexagonal shapes.
  • the first functional thin line pattern precursor 3 can be formed. Adjacent outer thin wires 32 are connected at the maximum curvature portion.
  • the outer thin wires 32 By removing the inner thin wires 31 of the functional thin wire pattern precursor composed of the first functional thin wire pattern precursor 3, as shown in FIG. 19(b), the outer thin wires 32 to be left without being removed, that is, approximately six It is possible to form a functional fine line pattern formed by arranging a plurality of functional fine line pattern precursors each having a rectangular shape in a two-dimensional manner.
  • the length of one side of the substantially polygonal figure can be freely adjusted.
  • the length of one side is preferably 50 ⁇ m or more, 100 ⁇ m or more, 200 ⁇ m or more, 300 ⁇ m or more, 400 ⁇ m or more, 500 ⁇ m or more, and more preferably 1 mm or more.
  • stable thin line formation can be realized by applying the line-shaped liquid as a closed substantially polygonal figure. Since stable thin line formation can be realized regardless of the size, the upper limit of the length of one side is not particularly limited and can be appropriately set according to the application. At least one side forming the substantially polygonal figure is preferably within the above range, and more preferably all sides are within the above range.
  • the substantially polygonal figure is not limited to the regular polygonal figure, and the lengths of the respective sides and the angles of the interior angles forming the substantially polygonal figure may be different from each other.
  • the substantially polygonal figure is configured as a quadrangle figure in which each side is inclined at 45° with respect to the longitudinal direction of the base material, but a combination of 30° and 60° Alternatively, it may be a combination of 15° and 75°.
  • a plurality of different substantially polygonal figures may be formed by a plurality of line-shaped liquids provided on the base material.
  • a functional thin line pattern that is a combination of a plurality of types of functional thin line pattern precursors each having a different polygonal shape.
  • the above-described first line-shaped liquid and second line-shaped liquid preferably have the same shape, but the present invention is not limited to this and may be similar, for example, a combination of a quadrangle graphic and a hexagonal graphic. It may have a different shape.
  • the functional material contained in the liquid (ink) for forming the linear liquid is not particularly limited as long as it is a material for imparting a specific function to the base material. Giving a specific function means, for example, imparting conductivity to a base material using a conductive material, or imparting insulating properties to a base material using an insulating material.
  • the functional material is preferably a material different from the material forming the surface of the base material to which the functional material is applied.
  • Preferred examples of the functional material include a conductive material, an insulating material, a semiconductor material, an optical filter material, and a dielectric material.
  • the functional material is preferably a conductive material or a conductive material precursor.
  • the conductive material precursor refers to a material that can be converted into a conductive material by performing an appropriate treatment.
  • conductive fine particles and conductive polymers can be preferably exemplified.
  • the conductive fine particles are not particularly limited, but include Au, Pt, Ag, Cu, Ni, Cr, Rh, Pd, Zn, Co, Mo, Ru, W, Os, Ir, Fe, Mn, Ge, Sn, Ga, Fine particles of In or the like can be preferably exemplified, and among them, the use of metal fine particles such as Au, Ag, and Cu is preferable because fine wires having low electric resistance and corrosion resistance can be formed. From the viewpoint of cost and stability, metal fine particles containing Ag are most preferable.
  • the average particle size of these metal fine particles is preferably in the range of 1 to 100 nm, more preferably in the range of 3 to 50 nm.
  • the average particle diameter is a volume average particle diameter and can be measured by Zetasizer 1000HS manufactured by Malvern Instruments.
  • carbon fine particles as the conductive fine particles.
  • the carbon fine particles include graphite fine particles, carbon nanotubes and fullerenes.
  • the conductive polymer is not particularly limited, but a ⁇ -conjugated conductive polymer can be preferably mentioned.
  • Examples of the ⁇ -conjugated conductive polymer include polythiophenes, polypyrroles, polyindoles, polycarbazoles, polyanilines, polyacetylenes, polyfurans, polyparaphenylenes, polyparaphenylenevinylenes, polyparaphenylene sulfides. Chain-like conductive polymers such as compounds, polyazulenes, polyisothianaphthenes and polythiazyl can be used. Among them, polythiophenes and polyanilines are preferable because high conductivity can be obtained. Most preferably it is polyethylenedioxythiophene.
  • the conductive polymer more preferably comprises the above-mentioned ⁇ -conjugated conductive polymer and a polyanion.
  • a conductive polymer can be easily produced by chemically oxidatively polymerizing a precursor monomer forming a ⁇ -conjugated conductive polymer in the presence of a suitable oxidant, an oxidation catalyst and a polyanion.
  • a conductive polymer (abbreviated as PEDOT/PSS) composed of poly(3,4-ethylenedioxythiophene) and polystyrene sulfonic acid is described in H.264. C. It is marketed as CLEVIOS series by Starck, PEDOT-PASS 483095 and 560598 by Aldrich, and Denatron series by Nagase Chemtex.
  • PEDOT/PSS conductive polymer
  • polyaniline is commercially available as the ORMECON series from Nissan Kagaku.
  • the content of the functional material in the linear liquid 2 applied on the base material 1 is preferably 0.01% by weight or more and 1% by weight or less based on the total amount of the linear liquid 2.
  • the content is a value immediately after the line-shaped liquid 2 is applied onto the substrate 1 and before being dried.
  • the content of the functional material is in the range of 0.01% by weight or more and 1% by weight or less, fine line formation due to the coffee stain phenomenon is further stabilized.
  • the liquid containing the functional material it is possible to use one kind or a combination of two or more kinds such as water and an organic solvent.
  • the organic solvent is not particularly limited, but examples thereof include alcohols such as 1,2-hexanediol, 2-methyl-2,4-pentanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol and propylene glycol, Examples thereof include ethers such as diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether and dipropylene glycol monoethyl ether.
  • the liquid containing the functional material may contain various additives such as a surfactant within a range that does not impair the effects of the present invention.
  • a surfactant for example, when the line-shaped liquid 2 is formed on the substrate 1 by using a droplet discharge device, the surface tension is adjusted to stabilize the discharge, etc. Will be possible.
  • the surfactant is not particularly limited, but a silicon-based surfactant or the like can be used.
  • the silicone-based surfactant is a dimethylpolysiloxane whose side chain or terminal is modified with polyether.
  • KF-351A and KF-642 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. and BYK347 and BYK348 manufactured by Big Chemie are commercially available.
  • the content of the surfactant is preferably 1% by weight or less based on the total amount of the linear liquid 2.
  • the substrate to which the liquid containing the functional material is applied is not particularly limited, and examples thereof include glass, plastic (polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene, polypropylene, acrylic, polyester, polyamide, etc.), metal (copper, nickel, Examples thereof include aluminum, iron, etc., or alloys), ceramics, etc. These may be used alone or may be used in a state of being bonded. Among them, plastic is preferable, and polyethylene terephthalate, polyolefins such as polyethylene and polypropylene are preferable.
  • the functional material contained in the thin wire is preferably a conductive material.
  • a conductive material By using a conductive material, the pattern formed by the aggregate of the fine wires can be suitably used as a transparent conductive film (also referred to as an electrode film or a transparent electrode).
  • the use of the substrate with a transparent conductive film is not particularly limited, but it can be used for various devices included in various electronic devices. From the viewpoint of remarkably exerting the effect of the present invention, for example, as a transparent electrode for a display of various systems such as liquid crystal, plasma, organic electroluminescence, and field emission, or a touch panel, a mobile phone, electronic paper, various solar cells, various electros. It can be suitably used as a transparent electrode used in a luminescence light control device or the like. It is particularly preferable to use a substrate with a transparent conductive film as a touch panel sensor for electronic devices such as smartphones and tablet terminals. When used as a touch panel sensor, it is preferable to use the above-described functional thin line pattern as the transparent conductive films (X electrodes and Y electrodes) on both surfaces of the transparent substrate.
  • Example 1 Formation of functional fine line pattern (1) ⁇ Ink composition> An ink (liquid containing a functional material) having the following composition was prepared. -Silver nanoparticles (average particle diameter: 20 nm): 0.23% by weight ⁇ Surfactant ("BYK348" manufactured by Big Chemie): 0.05% by weight -Diethylene glycol monobutyl ether (abbreviation: DEGBE) (dispersion medium): 20% by weight ⁇ Water (dispersion medium): Remaining amount
  • ⁇ Substrate> As the base material, a PET base material which was surface-treated so that the contact angle of the liquid containing the functional material was 20.3° was prepared. As the surface treatment, "PS-1M” manufactured by Shinko Denki Keiso Co., Ltd. was used for corona discharge treatment.
  • Ink is ejected from the inkjet head while moving the inkjet head (“KM1024iLHE-30” (standard droplet volume 30 pL) manufactured by Konica Minolta Co., Ltd.) relative to the substrate, and as shown in FIG.
  • a plurality of closed substantially polygonal figures each having an inner edge and an outer edge were formed on the base material by the first line-shaped liquid 2 containing the functional material.
  • the substantially polygonal figure is a quadrangle whose sides are inclined at 45° with respect to the longitudinal direction of the substrate.
  • the functional material is selectively deposited on the inner edge 21 and the outer edge 22 of the first line-shaped liquid 2, and as shown in FIG.
  • a plurality of first functional fine line pattern precursors 3 each including the inner fine line 31 and the outer fine line 32 were formed.
  • the inner thin wires 31 and the outer thin wires 32 of each of the obtained first functional thin wire pattern precursors 3 are quadrangles whose sides are inclined at 45° with respect to the longitudinal direction of the base material. In this quadrangle, the interval (mesh pitch) MP between the outer thin wires 32 that form a pair facing each other is 1.43 mm.
  • the ink is ejected from the inkjet head while moving the inkjet head relative to the base material, and as shown in FIG. 5A, the second linear liquid 4 containing the functional material is formed on the base material.
  • the substantially polygonal figure is a quadrangle figure in which each side is inclined at 45° with respect to the longitudinal direction of the base material.
  • the formation position of the second linear liquid 4 is a region where the vertices of the quadrangle of the second linear liquid 4 intersect with the maximum curvature portion 321 of the outer thin wire 32 of the first functional thin wire pattern precursor 3 previously formed. It was set so as to be in contact with each other so as not to form G or overlap with each other.
  • the functional material is selectively deposited on the inner edge 41 and the outer edge 42 of the second line-shaped liquid 4, and as shown in FIG.
  • a plurality of second functional thin line pattern precursors 5 each including the inner thin line 51 and the outer thin line 52 were formed.
  • the inner thin wires 51 and the outer thin wires 52 of each of the obtained second functional thin wire pattern precursors 5 are quadrangles whose sides are inclined at 45° with respect to the longitudinal direction of the base material. In this quadrangle, the interval (mesh pitch) MP between the outer thin wires 32 that form a pair facing each other is 1.43 mm.
  • the outer thin wire 32 of the first functional thin wire pattern precursor 3 and the outer thin wire 52 of the second functional thin wire pattern precursor 5 are connected to each other, and the inner thin wire 31 of the first functional thin wire pattern precursor 3 and The inner thin wires 51 of the second functional thin wire pattern precursor 5 are independent of each other and are not connected to each other.
  • the drying of the linear liquid is promoted by patterning the linear liquid on the base material placed on the stage heated to 70°C.
  • the formed thin wire was subjected to a firing treatment for 10 minutes in an oven at 130°C.
  • the outer thin wires 32 and 52 of the functional thin wire pattern precursors 3 and 5 forming the functional thin wire pattern (1) are selectively subjected to copper electrolytic plating.
  • a functional fine line pattern (2) similar to the one obtained was obtained. Copper electrolytic plating was performed under the following plating conditions.
  • the anode was connected to a copper plate for plating, and the substrate was placed in the plating bath at a position 30 mm away from the copper plate.
  • the plating treatment was performed at a constant current of 0.2 A for 1 minute. After the plating was completed, the base material was washed with water and dried.
  • ⁇ Plating bath 20 g of copper sulfate pentahydrate, 1.3 g of 1N hydrochloric acid, and 5 g of a gloss-imparting agent (“ST901C” manufactured by Meltex Co.) were prepared with ion-exchanged water so as to be 1000 mL.
  • the anode was connected to a nickel plate for plating, and the substrate was placed in the plating bath at a position 30 mm away from the nickel plate.
  • the plating treatment was performed at a constant current of 0.2 A for 30 seconds.
  • the substrate was left in the plating bath for 10 minutes, washed with water and dried.
  • Examples 2 to 10 Comparative Example 1
  • Table 1 As shown in Table 1, in Examples 2 to 5, the length L in the longitudinal direction was changed from Example 1 as a parameter.
  • Example 6 is different from Example 1 in that the length L in the longitudinal direction and the line width of the maximum curvature portion are changed as parameters.
  • the seventh to tenth embodiments are different from the first embodiment in that the length L in the longitudinal direction and the radius of curvature R of the maximum curvature portion are changed as parameters.
  • Comparative Example 1 is a functional thin line pattern in which the intersecting area G shown in FIG. 21 is formed.
  • the mesh pitch MP in Table 1 described later is the interval between the outer thin lines facing each other and is denoted by the reference symbol MP in FIG. 20, the line width W1 is the line width of the outer thin lines, and the length L in the longitudinal direction is the maximum curvature portion. Is the length of the overlap region, the maximum curvature portion line width is the line width of the outer thin line in the maximum curvature portion, and the maximum curvature portion curvature radius R is the curvature radius in the maximum curvature portion.
  • ⁇ Evaluation criteria> ⁇ : Relative standard deviation of resistance is 30% or less ⁇ : Relative standard deviation of resistance is more than 30% and less than 41% ⁇ : Relative standard deviation of resistance is 41% or more
  • the transparent base material on which the functional fine line pattern (3) is formed is placed on a 55-inch Full-HD LCD display, visually observed from a position 30 cm away, and the moire is evaluated according to the following evaluation criteria. The visibility was evaluated.

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Abstract

モアレ（干渉縞）を低減できる機能性細線パターン前駆体の形成方法であって、該機能性細線パターン前駆体の形成方法は、基材上に、機能性材料を含むライン状液体によって、液体が付与されていない領域を内部に包含することにより縁部として互いに独立した内側縁と外側縁とを有する閉じられた略多角形図形を形成し、ライン状液体を乾燥させ、機能性材料を内側縁及び外側縁に沿って堆積させることにより、機能性材料を含む内側細線と外側細線からなる複数の機能性細線パターン前駆体３、５を形成し、複数の機能性細線パターン前駆体３、５を並設させ、各機能性細線パターン前駆体３、５の外側細線に設けられた最大曲率部を互いに接しさせ、又は重複させ、重複させる場合には、重複領域を１つの領域又は互いに接した２つの領域とする。

Description

機能性細線パターン前駆体の形成方法及び機能性細線パターンの形成方法
　本発明は、機能性細線パターン前駆体の形成方法及び機能性細線パターンの形成方法に関し、詳しくは、機能性細線パターンを備える電子デバイスにおいて空間周波数の干渉を低減し、モアレ（干渉縞）を低減できる機能性細線パターン前駆体の形成方法及び機能性細線パターンの形成方法に関する。
　特許文献１には、基材上に機能性材料（導電材料）を含有するライン状液体により閉じられた複数の幾何学図形を形成し、ライン状液体を乾燥させる際に、コーヒーステイン現象を利用して、ライン状液体の内側縁及び外側縁に機能性材料を堆積させて機能性パターン前駆体の外側細線及び内側細線を形成し、外側細線同士を交錯させて接続し、内側細線同士を接続されないように機能性パターンを形成する技術が開示されている。
特許第６４１３９７８号
　特許文献１に記載の発明では、図２１に示すようにライン状に付与した液体により形成した複数の幾何学図形を所定のピッチで並設し、幾何学図形の角部の外側細線同士を交錯させて接続し、電解めっき処理を行い、通電路を形成している。これにより、機能性細線を自由度高く安定に形成できる効果を得られる。加えて、外側細線同士を交錯させることで線の重なり面積を増加させることができるので、抵抗値を低下させることができる。
　しかしながら、特許文献１記載の発明は、図２１に示すように、交錯させた外側細線同士の間で、外側細線に囲まれた、閉じられた交錯領域Ｇが形成される。複数の幾何学図形を所定のピッチで並設させることにより機能性パターンを形成させる場合には、幾何学図形の角部に交錯領域Ｇが形成されるので、交錯領域Ｇも、所定のピッチで並設される。
　ここで、図２１に示す複数の幾何学図形は、所定のピッチで四角形図形を並設しており、複数の四角形図形が繰り返されるので一定の空間周波数を有している。図２１の複数の四角形形状では、外側細線同士を交錯させて交錯領域Ｇを形成している。
　機能性パターンを形成した基材は、例えば、ＬＣＤ（液晶表示ディスプレイ）やタッチパネルセンサ等の電子デバイスに使用される。電子デバイスの一例として、ＬＣＤ（液晶表示ディスプレイ）に機能性パターンを形成した基材を使用する場合、この基材とＬＣＤ画素パターンが形成された基材とを組み合わせる。
　ここで、機能性パターンに重なるＬＣＤ画素パターンは、具体的にはＬＣＤの画素を格子状に配列したドットマトリクス模様（パターン）である。ドットマトリクス模様であるＬＣＤ画素パターンも特定の空間周波数を有している。
　図２１に示す交錯領域Ｇを有する機能性パターンは、交錯領域Ｇが０°方向、４５°方向、９０°方向及び３１５°方向に周期的に形成されることから、これらの角度に沿って周波数成分、つまり空間周波数を有することになる。一方、ＬＣＤ画素パターンは、０°方向及び９０°方向に強い強度の空間周波数を有している。
　図２１に示す交錯領域Ｇを有する機能性パターンとＬＣＤ画素パターンとを組み合わせた場合、機能性パターンにおける０°方向及び９０°方向における空間周波数とＬＣＤ画素パターンの０°方向及び９０°方向における強い強度の空間周波数とが干渉することになる。その結果、図２２に示すように、モアレ（干渉縞）と呼ばれる目視可能な縞模様が表れる虞がある。
　そこで、本発明は、機能性細線パターンを備える電子デバイスにおいて空間周波数の干渉を低減し、モアレ（干渉縞）を低減できる機能性細線パターン前駆体の形成方法及び機能性細線パターンの形成方法を提供することを課題とする。
　本発明の他の課題は、以下の記載により明らかとなる。
　上記課題は、以下の各発明によって解決される。
１.
　基材上に、機能性材料を含む第１ライン状液体によって、液体が付与されていない領域を内部に包含することにより縁部として互いに独立した内側縁と外側縁とを有する閉じられた略多角形図形を形成し、前記第１ライン状液体を乾燥させ、前記機能性材料を前記内側縁及び前記外側縁に沿って堆積させることにより、前記機能性材料を含む内側細線と外側細線からなる第１機能性細線パターン前駆体を形成し、
　次いで、前記基材上に、機能性材料を含む第２ライン状液体によって、液体が付与されていない領域を内部に包含することにより縁部として互いに独立した内側縁と外側縁とを有する閉じられた略多角形図形を形成し、前記第２ライン状液体を乾燥させ、前記機能性材料を前記内側縁及び前記外側縁に沿って堆積させることにより、前記機能性材料を含む内側細線と外側細線からなる第２機能性細線パターン前駆体を形成する際に、
　少なくとも一組の前記第１機能性細線パターン前駆体と前記第２機能性細線パターン前駆体とにおいて、前記第１機能性細線パターン前駆体の前記外側細線と、前記第２機能性細線パターン前駆体の前記外側細線とが接続され、且つ前記第１機能性細線パターン前駆体の前記内側細線と、前記第２機能性細線パターン前駆体の前記内側細線とが接続されないように、前記第１機能性細線パターン前駆体及び前記第２機能性細線パターン前駆体を形成し、
　前記第１機能性細線パターン前駆体の前記外側細線の最大曲率部と前記第２機能性細線パターン前駆体の前記外側細線の最大曲率部とを接しさせ、又は重複させ、重複させる場合には、重複領域を１つの領域又は互いに接した２つの領域とする機能性細線パターン前駆体の形成方法。
２．
　前記機能性材料を導電性材料とする前記１記載の機能性細線パターン前駆体の形成方法。
３．
　前記第１機能性細線パターン前駆体の前記外側細線と前記第２機能性細線パターン前駆体の前記外側細線とを重複させる場合には、前記重複領域の長手方向の長さを前記第１機能性細線パターン前駆体の前記外側細線及び前記第２機能性細線パターン前駆体の前記外側細線の線幅より長くする前記１又は２記載の機能性細線パターン前駆体の形成方法。
４．
　前記重複領域の長手方向の長さを３５μｍ以上８５μｍ以下とする前記３記載の機能性細線パターン前駆体の形成方法。
５．
　前記第１機能性細線パターン前駆体の前記最大曲率部及び前記第２機能性細線パターン前駆体の前記最大曲率部の少なくとも一方の線幅を、前記最大曲率部以外の部位の線幅よりも広くする前記１～４のいずれかに記載の機能性細線パターン前駆体の形成方法。
６．
　前記略多角形図形を四角形図形とする前記１～５のいずれかに記載の機能性細線パターン前駆体の形成方法。
７．
　前記最大曲率部の曲率半径を７０μｍ以上１８０μｍ以下とする前記１～６のいずれかに記載の機能性細線パターン前駆体の形成方法。
８．
　前記第１ライン状液体により形成される略多角形図形及び前記第２ライン状液体により形成される略多角形図形の基準となる大きさを設定し、前記第１ライン状液体及び前記第２ライン状液体の少なくとも一方により前記基準となる大きさの略多角形図形より小さい略多角形図形を形成する場合には、前記最大曲率部における液体の付与量を増加させる前記１～７のいずれかに記載の機能性細線パターン前駆体の形成方法。
９．
　前記略多角形図形は四角形図形であって、前記基準となる大きさは前記四角形図形の対向する一対の辺の間隔で設定され、前記間隔が０．７ｍｍである前記８に記載の機能性細線パターン前駆体の形成方法。
１０．
　互いに接続された前記第１機能性細線パターン前駆体の前記外側細線と前記第２機能性細線パターン前駆体の前記外側細線とからなる通電経路に通電することによって、前記外側細線に電解メッキを施す前記１～９のいずれかに記載の機能性細線パターン前駆体の形成方法。
１１．
　前記１～１０のいずれかに記載の機能性細線パターン前駆体の形成方法により形成された前記機能性細線パターン前駆体の前記内側細線の少なくとも一部を除去することにより、除去せず残留させる前記外側細線によって機能性細線パターンを形成する機能性細線パターンの形成方法。
　本発明によれば、機能性細線パターンを備える電子デバイスにおいて空間周波数の干渉を低減し、モアレ（干渉縞）を低減できる機能性細線パターン前駆体の形成方法及び機能性細線パターンの形成方法を提供することができる。
機能性細線パターン前駆体が形成される様子を説明する斜視図であって、（ａ）は基材上にライン状液体を付与した状態を示す図、（ｂ）は、基材上のライン状液体が乾燥した状態を示す図 液体の縁部に機能性材料を運ぶ流動を説明する図であって、（ａ）は閉じられた略多角形図形からなるライン状液体の場合を示す図、（ｂ）は、参考例であり、閉じられた略多角形図形ではない液体の場合を示す図 本実施形態における機能性細線パターン前駆体を示す図 略多角形図形が略四角形図形である場合の第１機能性細線パターン前駆体の形成を説明する図であって、（ａ）は基材上に第１ライン状液体を付与した状態を示す図、（ｂ）は基材上の第１ライン状液体が乾燥した状態を示す図 略多角形図形が略四角形図形である場合の第２機能性細線パターン前駆体の形成を説明する図であって、（ａ）は基材上に第２ライン状液体を付与した状態を示す図、（ｂ）は基材上の第２ライン状液体が乾燥した状態を示す図 基材上に第１機能性細線パターン前駆体及び第２機能性細線パターン前駆体を形成した状態の光学顕微鏡写真 本実施形態における第１機能性細線パターン前駆体と第２機能性細線パターン前駆体との接続状態を示す図 図７におけるＡ部の拡大図 電解メッキ処理の一例について説明する図 電解メッキされた機能性細線パターン前駆体のパターンを説明する図 一部の細線が除去された機能性細線パターンを説明する図 基材の両面に機能性細線パターンを形成する場合の一例について説明する図 機能性細線パターンにより構成された透明導電膜を備えるタッチパネルセンサの一例を説明する図であって、（ａ）は基材を表面側から見た様子を示す図、（ｂ）は基材を裏面側から見た様子を示す図 異なる大きさの機能性細線パターン前駆体を形成する場合における液体の付与量を説明する図であって、（ａ）は基準サイズの機能性細線パターン前駆体を示す図、（ｂ）は小さいサイズの機能性細線パターン前駆体を示す図 最大曲率部における線幅を最大曲率部以外の部位の線幅より広くした場合の機能性細線パターン前駆体を説明する図 第２実施形態における機能性細線パターン前駆体の重複領域を示す図 第３実施形態における機能性細線パターン前駆体の接続状態を示す図 略多角形図形が略三角形図形である場合の機能性細線パターン形成を説明する図であって、（ａ）は基材上に略三角形図形を形成するようにライン状液体を付与した状態を示す図、（ｂ）は略三角形図形の機能性細線パターンが形成された状態を示す図 略多角形図形が略六角形図形である場合の機能性細線パターン形成を説明する図であって、（ａ）は基材上に略六角形図形を形成するようにライン状液体を付与した状態を示す図、（ｂ）は略六角形図形の機能性細線パターンが形成された状態を示す図 機能性細線パターンの実施例を説明する図 交錯領域Ｇを有する機能性細線パターンの光学顕微鏡写真 交錯領域Ｇを有する機能性細線パターンにおいてモアレが発生した場合の写真
　以下、本発明の実施の形態について図面を用いて説明する。
〔第１実施形態〕
　図１は、機能性細線パターン前駆体が形成される様子を説明する斜視図であって、（ａ）は基材上にライン状液体を付与した状態を示す図、（ｂ）は、基材上のライン状液体が乾燥した状態を示す図である。ライン状液体から機能性細線パターン前駆体が形成されるプロセスについて、図１を参照して説明する。
　図１（ａ）に示すように、基材１上に、第１ライン状液体２によって、閉じられた略多角形図形を形成する。第１ライン状液体２からなる略多角形図形は、液体が付与されていない領域２０を内部に包含することにより、縁部として互いに独立した内側縁２１と外側縁２２とを有する。内側縁２１は、第１ライン状液体２によって形成される閉じられた略多角形図形の内側の縁部であり、液体が付与されていない領域２０に隣接する縁部である。外側縁２２は、第１ライン状液体２によって形成される閉じられた略多角形図形の外側の縁部であり、内側縁２１とは接続されていない。かかる第１ライン状液体２を乾燥させる際に、コーヒーステイン現象を利用して、縁部である内側縁２１及び外側縁２２に沿って機能性材料を選択的に堆積させることによって、図１（ｂ）に示すように、内側縁２１に対応する位置に内側細線３１が、外側縁２２に対応する位置に外側細線３２が、それぞれ形成される。
　このようにして、機能性材料を含む内側細線３１と該内側細線３１を取り囲む外側細線３２からなる機能性細線パターン前駆体３が形成される。機能性細線パターン前駆体３を構成する内側細線３１と外側細線３２は互いに接続されておらず独立している。内側細線３１と外側細線３２は、第１ライン状液体２の線幅（線の太さ）に比べて十分に細いものになる。図示の例では、第１ライン状液体２が、１つの内側縁２１と１つの外側縁２２を有することにより、一対の内側細線３１及び外側細線３２からなる第１機能性細線パターン前駆体３を形成している。
　図２は液体の縁部に機能性材料を運ぶ流動を説明する図であって、（ａ）は閉じられた略多角形図形からなるライン状液体の場合を示す図、（ｂ）は、参考例であり、閉じられた略多角形図形ではない液体の場合を示す図である。第１ライン状液体２から第１機能性細線パターン前駆体３を形成することによる効果について、図２を参照して説明する。
　図２（ａ）に示すように、基材１上に付与された第１ライン状液体２の乾燥は、中央部に比べて内側縁２１及び外側縁２２において速いため、まず内側縁２１及び外側縁２２に沿って機能性材料の局所的な堆積が起こる。堆積した機能性材料により液体の縁が固定化された状態（接触線の固定化）となり、それ以降の乾燥に伴う第１ライン状液体２の太さ方向の収縮が抑制される。第１ライン状液体２中では、内側縁２１及び外側縁２２での蒸発により失った分の液体を補うように、中央部から内側縁２１に向かう流動と、中央部から外側縁２２に向かう流動とが形成される。図中、流動の方向を矢印により概念的に示した。この流動によって更なる機能性材料が内側縁２１及び外側縁２２に運ばれて堆積する。その結果、内側縁２１及び外側縁２２に対応する位置に、機能性材料を含む内側細線３１及び外側細線３２がそれぞれ形成される。
　図２（ｂ）の参考例に示すような、閉じられた略多角形図形ではない液体１００の縁１０１に機能性材料を選択的に堆積させる場合との対比では、図２（ａ）に示した第１ライン状液体２は、液体が付与されていない領域２０を内部に包含することにより、液体の付与量を削減でき、乾燥負荷を低減することができる。これにより、タクトタイムを短縮して生産効率を向上することができる。
　更に、第１ライン状液体２は、液体が付与されていない領域２０を内部に包含することにより、液体の乾燥に伴う気化熱の総量が比較的小さくなる。そのため、乾燥に伴う基材温度の変化や不均一化が抑制され、上述した液流を安定に形成することができる。
　また更に、第１ライン状液体２は、液体が付与されていない領域２０を内部に包含することにより、流動によって機能性材料が縁に到達するまでの平均移動距離を短縮することができる。
　これらの結果、比較的大きい径で第１ライン状液体２を形成する場合においても、コーヒーステイン現象を安定に発現することができ、内側細線３１及び外側細線３２の形成を安定化することができる。これにより、機能性細線である内側細線３１及び外側細線３２を自由度高く安定に形成できる効果が得られる。
　機能性材料を縁に運ぶ流動の形成を促進することは好ましいことである。例えば、固形分濃度、液体と基材の接触角、液体の量、基材の加熱温度、液体の配置密度、または温度、湿度、気圧といった環境因子などの条件を調整することによって、液体の縁を早期に固定化することができ、また液体中央部と縁の蒸発量の差を大きくすることができる。これにより、機能性材料を縁に運ぶ流動の形成を促進することができる。
　基材１上への第１ライン状液体２の付与は、インクジェット法により行うことができる。具体的には、図示しない液滴吐出装置が備えるインクジェットヘッドを基材に対して相対移動させながら、インクジェットヘッドのノズルから機能性材料を含むインクを吐出し、吐出されたインク滴を基材上で合一させて、ライン状液体２を形成することができる。インクジェットヘッドの液滴吐出方式は格別限定されず、例えば、ピエゾ方式やサーマル方式などを用いることができる。
　インクジェット法を用いることにより、第１ライン状液体２によって、閉じられた略多角形図形を所望の形状で自在に形成することができる。第１ライン状液体２の内側縁２１及び外側縁２２の形状に対応して、得られる第１機能性細線パターン前駆体３を構成する内側細線３１及び外側細線３２の形状を、それぞれ所望の閉じられた略多角形図形となるように形成することができる。そのため、インクジェット法を用いることにより、機能性細線を更に自由度高く形成することができる。
　以下に、基材１上に第１機能性細線パターン前駆体３を複数形成することによって、機能性細線パターンからなる透明導電膜を形成する方法の具体例を挙げて、本発明について更に詳しく説明する。ここでは、機能性材料として導電性材料が好ましく用いられ、基材として透明基材が好ましく用いられる。
　以下、図３～図１０を参照して、ライン状液体からなる閉じられた略多角形図形を四角形図形にする態様について説明する。本明細書において、多角形図形とは、基材１上に液体が付与された乾燥前の状態において頂点部を有するものをいい、略多角形図形とは多角形図形の液体が乾燥し、多角形図形の頂点部が最大曲率部に変化したものをいう。
　本実施形態においては、第１ライン状液体２を基材１上に付与した状態では、四角形図形の各頂点部が形成され、第１ライン状液体２の乾燥が進むと各頂点部が最大曲率部へと変化し、略四角形図形となるように形成した。この構成に代え、最初から最大曲率部を有する略四角形図形を形成するように第１ライン状液体２を基材１上に付与してもよい。
　図３は本実施形態における機能性細線パターン前駆体を示す図である。図３を参照して、機能性細線パターン前駆体の最大曲率部について、第１機能性細線パターン前駆体３を一例として説明する。第１機能性細線パターン前駆体３において第１ライン状液体２を乾燥させると、内側細線３１と外側細線３２とが形成される。ここで、第１ライン状液体２の乾燥が進むと、内側細線３１が形成される位置及び外側細線３２が形成される位置に第１ライン状液体２の液体が残った状態となる。
　この状態で、さらに第１ライン状液体２の乾燥が進むと、四角形の各頂点部に位置する液体が、各頂点部から延びる四角形の辺方向に引っ張られる。その結果、各頂点部における残る液体が角部を形成している状態から四角形の中心方向に凹んで円弧状に形成され、最大曲率部３１１及び最大曲率部３２１となる。後述する第２機能性細線パターン前駆体５も、上記第１機能性細線パターン前駆体３と同様に形成され、四角形の各頂点部に位置する液体が乾燥することで最大曲率部５１１及び最大曲率部５２１となる。
　図４は、略多角形図形が略四角形図形である場合の第１機能性細線パターン前駆体の形成を説明する図であって、（ａ）は基材上に第１ライン状液体を付与した状態を示す図、（ｂ）は基材上の第１ライン状液体が乾燥した状態を示す図である。
　まず、図４（ａ）に示すように、基材１上に、導電性材料を含む第１ライン状液体２によって、閉じられた略多角形図形として四角形図形を形成する。ここでは、基材１上に、四角形である第１ライン状液体２を基材の長手方向（図中、上下方向）及び幅方向（図中、左右方向）に所定ピッチで複数並設している。ここでは、便宜上、４つの第１ライン状液体２を図示している。
　基材１上に付与された第１ライン状液体２は、液体が付与されていない領域２０を内部に包含することにより、縁として、互いに独立した内側縁２１と外側縁２２とを有する。
　次いで、第１ライン状液体２を乾燥させる際にコーヒーステイン現象を生起させて、導電性材料を第１ライン状液体２の内側縁２１及び外側縁２２に沿って選択的に堆積させる。
　これにより、図４（ｂ）に示すように、内側細線３１と外側細線３２からなる第１機能性細線パターン前駆体３が形成される。第１機能性細線パターン前駆体３を構成する細線３１及び細線３２は、略四角形図形に形成されている。略四角形図形に形成された細線３１及び細線３２には、それぞれ４つの最大曲率部３１１及び最大曲率部３２１が形成されている。
　図５は、略多角形図形が略四角形図形である場合の第２機能性細線パターン前駆体の形成を説明する図であって、（ａ）は基材上に第２ライン状液体を付与した状態を示す図、（ｂ）は基材上の第２ライン状液体が乾燥した状態を示す図である。図６は基材上に第１機能性細線パターン前駆体及び第２機能性細線パターン前駆体を形成した状態の光学顕微鏡写真である。
　図５（ａ）に示すように、基材１上に、導電性材料を含む第２ライン状液体４によって、閉じられた略多角形図形として四角形図形を形成する。ここでは、基材１上に、四角形である第２ライン状液体４を基材の長手方向及び幅方向に所定ピッチで複数並設している。ここでは、便宜上、５つの第２ライン状液体４を図示している。
　基材１上に付与された第２ライン状液体４は、液体が付与されていない領域４０を内部に包含することにより、縁として、互いに独立した内側縁４１と外側縁４２とを有する。
　本実施形態では、第２ライン状液体４を、４つの第１機能性細線パターン前駆体３の間に挟まれる位置に形成している。第２ライン状液体４からなる四角形の各頂点近傍は、隣接する第１機能性細線パターン前駆体３の外側細線３２の最大曲率部３２１と接触するように配置されている。第２ライン状液体４からなる四角形の各頂点は、隣接する第１機能性細線パターン前駆体３の内側細線３１と外側細線３２の間の領域に配置されている。
　次いで、第２ライン状液体４を乾燥させる際にコーヒーステイン現象を生起させて、導電性材料を第２ライン状液体４の内側縁４１及び外側縁４２に沿って選択的に堆積させる。
　これにより、図５（ｂ）に示すように、内側細線５１と外側細線５２からなる第２機能性細線パターン前駆体５を形成することができる。第２機能性細線パターン前駆体５を構成する細線５１及び細線５２は、略四角形図形に形成されている。略四角形図形に形成された細線５１及び細線５２には、それぞれ４つの最大曲率部５１１及び最大曲率部５２１が形成されている。
　本実施形態では、図５（ｂ）及び図６に示すように基材１上に、第１機能性細線パターン前駆体３と第２機能性細線パターン前駆体５を、基材の長手方向及び幅方向に交互に形成している。第１機能性細線パターン前駆体３の外側細線３２の最大曲率部３２１と第２機能性細線パターン前駆体５の外側細線５２の最大曲率部５２１とは互いに接続され、第１機能性細線パターン前駆体３の内側細線３１と、第２機能性細線パターン前駆体５の内側細線５１とは互いに接続されないように、第１機能性細線パターン前駆体３及び第２機能性細線パターン前駆体５を形成している。内側細線３１及び内側細線５１は、他の内側細線３１及び内側細線５１と接続されていないだけでなく、他の外側細線３２及び外側細線５２とも接続されていない。
　以上のようにして、基材１上に、外側細線３２及び外側細線５２によって互いに接続された第１機能性細線パターン前駆体３及び第２機能性細線パターン前駆体５からなる機能性細線パターン前駆体のパターンが形成される。
　図７は本実施形態における第１機能性細線パターン前駆体と第２機能性細線パターン前駆体との接続状態を示す図である。図７を参照して、第１機能性細線パターン前駆体３の外側細線３２の最大曲率部３２１と、第２機能性細線パターン前駆体５の外側細線５２の最大曲率部５２１との関係について説明する
　図７より、基材１上に、外側細線３２及び外側細線５２によって互いに接続された第１機能性細線パターン前駆体３及び第２機能性細線パターン前駆体５からなる機能性細線パターン前駆体のパターンが形成された場合、第１機能性細線パターン前駆体３と第２機能性細線パターン前駆体５とは、外側細線３２の最大曲率部３２１及び外側細線５２の最大曲率部５２１が接触するように配置されている。
　図８は図７におけるＡ部の拡大図である。
　外側細線３２及び外側細線５２はそれぞれ線幅Ｗ１で形成されている。図８において、符号Ｃ１が付された点は最大曲率部３２１の曲率中心であり、符号Ｃ２が付された点は、最大曲率部５２１の曲率中心である。最大曲率部３２１は、曲率中心Ｃ１から外側細線３２の中央を通る仮想線までの距離Ｒを曲率半径とし、曲率１／Ｒで形成されている。最大曲率部５２１は、曲率中心Ｃ２から外側細線５２の中央を通る仮想線までの距離Ｒを曲率半径とし、曲率１／Ｒで形成されている。この実施形態では、最大曲率部３２１と最大曲率部５２１とを同じ曲率で形成しているが、異なる曲率で形成してもよい。なお、図７及び図８では、説明の便宜上、隣接する１組の略四角形図形の機能性細線パターン前駆体（外側細線３２及び外側細線５２）のみを示しているが、図５（ｂ）に示されるように、他の隣接する略四角形図形の機能性細線パターン前駆体も同様に接続されている。
　図８において、外側細線３２の最大曲率部３２１と外側細線５２の最大曲率部５２１とはその一部が重なるように配置されている。最大曲率部３２１と最大曲率部５２１とが重なった部分には１つの重複領域Ｈが形成される。重複領域Ｈの長手方向（図８における上下方向）の長さＬ１は、外側細線３２及び外側細線５２の線幅Ｗ１より長くなっている。
　図９は電解メッキ処理の一例について説明する図である。ここでは、基材１上に形成された第１機能性細線パターン前駆体３及び第２機能性細線パターン前駆体５からなる機能性細線パターンの形成方法について説明する。
　まず、第１機能性細線パターン前駆体３及び第２機能性細線パターン前駆体５からなる機能性細線パターン前駆体のパターンに電解メッキを施す。かかる電解メッキ処理の一例について図９を参照して説明する。図示しないメッキ浴内において、第１機能性細線パターン前駆体３及び第２機能性細線パターン前駆体５からなる機能性細線パターン前駆体のパターンに給電部材６を接触させて電解メッキを施す。このとき、第１機能性細線パターン前駆体３の外側細線３２と第２機能性細線パターン前駆体５の外側細線５２とが最大曲率部３２１及び最大曲率部５２１の重複領域Ｈで互いに接続されていることにより、複数の外側細線３２及び外側細線５２からなる通電経路が網目状に形成される。給電部材６から該通電経路を通して通電することで、該通電経路内の外側細線３２及び外側細線５２に電解メッキが施される。
　一方、内側細線３１及び内側細線５１は、他の内側細線３１及び内側細線５１と接続されていないだけでなく、他の外側細線３２及び外側細線５２とも接続されておらず、各々が独立して形成されているため、上述した外側細線３２及び外側細線５２のような通電経路が形成されない。給電部材６と直接接触する内側細線３１及び内側細線５１が存在する場合は、内側細線３１及び内側細線５１に電解メッキが施され得るが、それ以外の内側細線３１及び内側細線５１には通電されず、電解メッキが施されない。給電部材６を内側細線３１及び内側細線５１に接触させない場合は、何れの内側細線３１及び内側細線５１にも電解メッキが施されない。
　このようにして、外側細線３２及び外側細線５２に対して通電経路を通して通電することで、外側細線３２及び外側細線５２に対して選択的に電解メッキを施すことができる。ここで、「選択的」というのは、少なくとも、電解メッキが施される外側細線３２及び外側細線５２の本数が、電解メッキが施される内側細線３１及び内側細線５１の本数よりも多いことをいう。
　図１０は電解メッキされた機能性細線パターン前駆体のパターンを説明する図である。
　図１０に示すように、電解メッキが施された外側細線３２及び外側細線５２の膜厚を、電解メッキが施されていない内側細線３１及び内側細線５１と比較して増大させることができる。これにより、外側細線３２及び外側細線５２は内側細線３１及び内側細線５１よりも電気抵抗が低下し、更に耐久性が向上する。
　電解メッキに用いるメッキ金属は格別限定されないが、例えば銅やニッケル等を用いることが好ましい。細線に対して複数層のメッキ層を積層することも好ましい。この場合、メッキ金属を異ならせた複数回の電解メッキを施す。例えば、第１電解メッキとして細線上に銅メッキ層を設けて導電性を向上させ、次いで、第２電解メッキとして銅メッキ層上にニッケルメッキ層を設けて耐候性を向上させる方法等を好ましく挙げることができる。
　また、電解メッキに限らず、無電解メッキを用いることも好ましいことである。これにより、機能性材料が導電性材料ではない場合においても、細線上にメッキ層を設けることができる。
　図１１は、一部の細線が除去された機能性細線パターンを説明する図である。ここでは、第１機能性細線パターン前駆体３及び第２機能性細線パターン前駆体５を前駆体として用い、機能性細線パターンを形成する。
　本実施形態では、第１機能性細線パターン前駆体３の内側細線３１及び第２機能性細線パターン前駆体５の内側細線５１を除去することによって、図１１に示すように、除去せず残留させる互いに接続された第１機能性細線パターン前駆体３の外側細線３２及び第２機能性細線パターン前駆体５の外側細線５２によって、機能性細線パターンを形成している。
　上述したように外側細線３２及び外側細線５２に電解メッキを施して膜厚を増大させておくことにより、外側細線３２及び外側細線５２は除去されにくくなり、電解メッキが施されていない内側細線３１及び内側細線５１は比較的容易に除去できる効果が得られる。
　細線を除去する方法は格別限定されないが、例えば、レーザー光等のようなエネルギー線を照射する方法や、化学的にエッチング処理する方法等を用いることが好ましい。
　また、細線を除去する好ましい方法として、外側細線３２及び外側細線５２に電解メッキを施す際に、内側細線３１及び内側細線５１をメッキ液によって除去する方法を用いることもできる。この場合、メッキ液として、除去対象となる細線を構成する導電性材料を溶解又は分解可能なものを用いることができる。
　具体例として、まず、導電性材料として銀ナノ粒子を用いて、内側細線３１及び外側細線３２からなる第１機能性細線パターン前駆体３と、内側細線５１及び外側細線５２からなる第２機能性細線パターン前駆体５とを形成する。そして、第１電解メッキとして外側細線３２及び外側細線５２に選択的に銅メッキ層を設け、次いで、第２電解メッキとして該銅メッキ層上にニッケルメッキ層を設ける。このとき、第２電解メッキ（電解ニッケルメッキ）のメッキ液によって、第１電解メッキが施されていない銀からなる内側細線３１及び内側細線５１を溶解又は分解して除去することができる。このように、外側細線３２及び外側細線５２に対する電解メッキと、内側細線３１及び内側細線５１の除去を同時に進行させることは好ましいことである。
　また、例えば、電解メッキのための給電を停止した後、除去対象となる細線、好ましくは内側細線３１及び内側細線５１を除去するのに十分な時間、好ましくは１分～３０分の時間、基材１をメッキ液に浸漬させておくことも好ましいことである。
　以上のように、内側細線３１及び内側細線５１を除去することによって、除去せず残留させる外側細線３２及び外側細線５２からなる機能性細線パターンにおける細線の配置間隔を自由度高く調整することができる。細線の一部除去による配置間隔の調整は、特に配置間隔を大きくする場合に有利である。
　細線の一部を除去して細線の配置間隔を大きくすることにより、機能性細線パターンからなる透明導電膜の透過率や低視認性を好適に向上できる効果が得られる。
　以上のようにして得られた機能性細線パターンについてさらに詳しく説明する。
　図１１に示した機能性細線パターンは、基材１上に、外側細線３２及び外側細線５２からなる細線、即ち、機能性材料を含む略四角形状細線を、二次元的に複数並設してなる。略四角形状細線（外側細線３２及び外側細線５２）は、該基材１の長手方向及び幅方向のそれぞれに所定のピッチで複数並設されている。
　導電性細線の集合体からなる透明導電膜付き基材１をＬＣＤ（液晶表示ディスプレイ）に組み込んだ際に、基材１の導電性細線のパターンとＬＣＤ画素パターンとの重なりに由来するモアレ（目視可能な縞模様）が視認されることがある。モアレ（干渉縞）は、透明導電膜を構成する導電性細線の空間周波数と、ＬＣＤ画素パターンのドットマトリクス模様が有する特定の空間周波数との干渉によって生じ得る。
　本実施形態の機能性細線パターンは、図８に示すように、外側細線３２と外側細線５２との一部を重ねることで重複領域Ｈを形成することで、交錯して接続された交錯領域を有していない。このため、最大曲率部３２１と最大曲率部５２１との略四角形図形からなる機能性パターンにおいて、略四角形図形の重複領域Ｈが形成された部分の空間周波数の強度を弱めることができる。これにより、図１１に示すように、０°方向、４５°方向、９０°方向及び３１５°方向における空間周波数の強度を弱めることができる。その結果、ＬＣＤ画素パターンの空間周波数において、特に強い強度を有する０°方向及び９０°方向における空間周波数同士の干渉を弱めることができ、モアレが発生することを低減できる。
　ＬＣＤ画素パターンには、４５°方向及び３１５°方向の空間周波数もあるので、本実施形態の機能性細線パターンのメッシュ角度（バイアス角度）が４５°、３１５°の場合であってもモアレが生じる場合がある。その場合には、機能性細線パターンの細線間隔であるメッシュピッチをＬＣＤ画素パターンに合わせることでモアレの発生を最小化できる。本実施形態の機能性細線パターンは、メッシュ角度（バイアス角度）を３０°及び６０°、あるいは１５°及び７５°とすることができる。これによりさらにモアレを生じにくくさせることができる。特にメッシュ角度（バイアス角度）を３０°、１２０°とすることでＬＣＤ画素パターンとのモアレの発生を最小化できる。また、本実施形態では、閉じられた略多角形図形を形成し、細線の一部を除去して略多角形図形の機能性細線パターンを形成することから、機能性細線パターンを自由度高く安定して形成することができる。
　第１実施形態では、外側細線３２と外側細線５２とが重複領域Ｈを形成している。重複領域Ｈは、図８に示すように、外側細線３２と外側細線５２との接続部として機能する。また、外側細線３２と外側細線５２とが重複領域Ｈを形成するように基材１上に第１ライン状液体２及び第２ライン状液体４を付与することで、重複領域Ｈが接続部として機能するので、外側細線３２と外側細線５２との電気抵抗を低下させることができる。これにより、外側細線３２と外側細線５２との電気的接続が確実になされ、透明導電膜の電気抵抗の低下を実現できる。また、電気抵抗の不均一化を好適に防止できるので、電気抵抗の安定性を向上させる効果も得られる。
　また、重複領域Ｈにおいて長手方向の長さＬ１を外側細線３２及び外側細線５２の線幅Ｗ１より長くすることで、外側細線３２と外側細線５２との接触長さを長くすることも好ましい。これにより、外側細線３２と外側細線５２との電気抵抗をさらに低下させることができ、電気抵抗の安定性を更に向上させることができる。さらに言えば、重複領域Ｈにおいて長手方向の長さＬ１を外側細線３２及び外側細線５２の線幅Ｗ１より長くするように形成しようとすることで、外側細線３２と外側細線５２との接続を確実に達成することができ、短絡やショートの発生を防止できる。
　以上の説明では、基材の一面に機能性細線パターンを形成する場合について示したが、基材の両面に機能性細線パターンを形成することも好ましいことである。
　図１２は、基材の両面に機能性細線パターンを形成する場合の一例について説明する図である。
　図１２の例では、基材１の一面（表面）に機能性細線パターンを形成し、更に、基材１の他面（裏面）にも機能性細線パターンを形成している。
　ここでは、各面の機能性細線パターンは、図１１に示したものと同様に、第１機能性細線パターン前駆体３の内側細線３１及び第２機能性細線パターン前駆体５の内側細線５１を除去することにより、除去せず残留させた第１機能性細線パターン前駆体３の外側細線３２及び第２機能性細線パターン前駆体５の外側細線５２により構成されている。
　このように、基材１の両面に機能性細線パターンを形成する場合において、一面及び又は他面の機能性細線パターン前駆体を構成する細線の一部を除去して細線の配置間隔を大きくすることは特に好ましい。
　例えば、基材として透明基材を用い、両面の機能性細線パターンに含有させる機能性材料として導電性材料を用いることで、機能性細線パターンからなる透明導電膜を透明基材の両面に形成することができる。この場合、細線の一部除去によって細線の配置間隔を大きくすることで、表裏のパターンの位置合わせ精度の高い要求を緩和することができる。即ち、表裏のパターンの位置合わせに多少のずれが生じても、細線間隔が大きいことによって、表裏のパターンの干渉による骨見えを好適に防止できる。両面に透明導電膜を設けた透明基材は、例えばタッチパネルセンサ等として好適に用いることができる。
　図１３は、機能性細線パターンにより構成された透明導電膜を備えるタッチパネルセンサの一例を説明する図であって、（ａ）は基材１を表面側から見た様子を示す図、（ｂ）は基材１を裏面側から見た様子を示す図である。
　図示のタッチパネルセンサは、図１３（ａ）に示すように、透明な基材１の表面に、帯状のＸ電極７が複数並設されている。複数のＸ電極７は、それぞれ、外側細線３２及び外側細線５２からなる機能性細線パターンにより構成された透明導電膜８により構成されている。
　各透明導電膜８を構成する機能性細線パターンにおいて、隣接する外側細線３２及び外側細線５２は重複領域Ｈで互いに接続されている。一方、一つの透明導電膜８を構成する外側細線３２及び外側細線５２は、他の透明導電膜８を構成する外側細線３２及び外側細線５２とは接続されていない。このように、互いに接続されていない外側細線３２及び外側細線５２が存在することによって、基材１の表面に、互いに電気的に接続されていない独立した複数のＸ電極７を形成することができる。各Ｘ電極７は、互いに電気的に接続された複数の外側細線３２及び外側細線５２からなる集合体によって構成されている。図中、符号９は引出し配線であり、各Ｘ電極７は引出し配線９によって図示しない制御回路に接続される。
　一方、図１３（ｂ）に示すように、透明な基材１の裏面には、帯状のＹ電極１０が複数並設されている。複数のＹ電極１０は、それぞれ、上述したＸ電極７と同様に、外側細線３２及び外側細線５２からなる機能性細線パターンにより構成された透明導電膜８により構成されている。帯状のＹ電極１０は、その長手方向が、上述したＸ電極の長手方向と交差するように形成されている。各Ｙ電極１０は引出し配線９によって図示しない制御回路に接続される。
　これらＸ電極７及びＹ電極１０は、透明な基材１を介して交差する（重なり合う）ように設けられる。このとき、上述した細線の一部除去によって、Ｘ電極７及びＹ電極１０を構成する透明導電膜を構成する機能性細線パターンにおける細線の配置間隔が大きくなっていることによって、図１２を参照して説明したように、表裏のパターンの位置合わせ精度の高い要求を緩和することができる。
　以上のような構成を備えたタッチパネルセンサは、例えば静電容量方式等のタッチパネルセンサとして好適に用いることができる。静電容量方式のタッチパネルであれば、操作時において、これらＸ電極７及びＹ電極１０にユーザーの指や導体等が接近、接触した際に生じる静電容量変化に基づく誘導電流を利用して、指や導体等の位置座標を検知することができる。
　以上の説明では、第１ライン状液体２の形成から第１機能性細線パターン前駆体３の形成までの工程と、第２ライン状液体４の形成から第２機能性細線パターン前駆体５の形成までの工程と、を設けて、２回に分けて複数の機能性細線パターン前駆体を形成したが、これに限定されるものではない。第２機能性細線パターン前駆体５を形成した後に、更なる１又は複数の機能性細線パターン前駆体を形成してもよい。更なる１又は複数の機能性細線パターン前駆体は、１又は複数回に分けて形成することができる。即ち、基材上に複数の機能性細線パターン前駆体を形成する場合は、適宜、複数回に分けて形成することができる。また、例えば、機能性細線パターン前駆体同士を接続しない場合は、複数の機能性細線パターン前駆体を１回で形成することも好ましい。
　図１４は、異なる大きさの機能性細線パターン前駆体を形成する場合における液体の付与量を説明する図であって、（ａ）は基準サイズの機能性細線パターン前駆体を示す図、（ｂ）は小さいサイズの機能性細線パターン前駆体を示す図である。図１４における破線は液体により描かれた各四角形図形における頂点部に付与された乾燥前の液体を示している。
　基材１上に付与された液体により四角形図形が描かれた後、前記液体が乾燥することで、前記四角形図形の頂点部が最大曲率部３１１、最大曲率部３２１、最大曲率部５１１及び最大曲率部５２１へと変化し、略四角形図形の第１機能性細線パターン前駆体３及び第２機能性細線パターン前駆体５が形成される。ここで、基材１上に付与された液体により四角形図形が描かれた状態において、四角形図形の頂点部に付与された液体が乾燥に伴って、各辺方向に引っ張られる。その結果、頂点部に付与された液体は、四角形の中心方向に引き込まれて最大曲率部３１１、最大曲率部３２１、最大曲率部５１１及び最大曲率部５２１を形成する。
　本実施形態では、例えば、第１機能性細線パターン前駆体３及び第２機能性細線パターン前駆体５のサイズを基準サイズに設定し、基準サイズより小さい機能性細線パターン前駆体１１を形成する場合には、機能性細線パターン前駆体１１となる四角形図形の頂点部に付与する液体の付与量を増加させる。本実施形態において、基準サイズは四角形図形の対向する一対の辺の間隔に基づいて設定され、間隔は一例として０．７ｍｍに設定されている。
　小さいサイズの機能性細線パターン前駆体１１を形成する場合、四角形図形の各辺の長さが短くなり、各辺同士の間隔が小さくなる。これにより、１辺の液体が乾燥する際に生じる気化熱が、他の３辺の乾燥状況に影響を及ぼしやすくなる。その結果、四角形図形全体の液体の乾燥が遅くなり、機能性細線パターン前駆体１１の頂点部に付与された液体が、四角形の中心方向に引き込まれる量が増大する。小さいサイズの機能性細線パターン前駆体１１となる四角形図形の頂点部における液体の付与量を増加させることで、頂点部における引き込まれる量が増大したとしても、確実に機能性細線パターン前駆体１１の外側細線１１２の最大曲率部１１４同士を接続することができる。これにより、複数の機能性細線パターン前駆体１１の外側細線１１２同士が確実に接続され、短絡やショート等の電気抵抗の安定性の低下を防止することができる。
　また、基準サイズの機能性細線パターンである第１機能性細線パターン前駆体３及び第２機能性細線パターン前駆体５よりもサイズが大きい機能性細線パターンを形成する場合には、機能性細線パターンとなる四角形図形の頂点部に付与する液体の付与量を減少させることも好ましい。機能性細線パターンを形成する液体で描かれた四角形図形の大きさが大きくなると、各辺同士の間隔も離れることになり、各辺の液体が乾燥する際の気化熱の影響が他の辺の液体の乾燥に影響を及ぼしにくくなり、四角形図形全体での乾燥が早くなるからである。
　図１５は最大曲率部における線幅を最大曲率部以外の部位の線幅より広くした場合の機能性細線パターンを説明する図である。
　本実施形態では略四角形図形の第１機能性細線パターン前駆体３及び第２機能性細線パターン前駆体５の線幅Ｗ１を均一な幅としたが、これに代えて、最大曲率部３２１及び最大曲率部５２１における線幅を線幅Ｗ１より広い線幅Ｗ２としてもよい。このように構成することで、最大曲率部３２１及び最大曲率部５２１における重複領域Ｈの短手方向（図１５における左右方向）の長さが長くなり、重複領域Ｈの面積が増大するので、電気抵抗が低くなり、第１機能性細線パターン前駆体３と第２機能性細線パターン前駆体５との電気的接続性を向上させることができる。
〔第２実施形態〕
　図１６は第２実施形態における外側細線の重複領域を示す図である。
　第１実施形態では外側細線同士が1つの重複領域Ｈを形成するように構成したが、第２実施形態では、外側細線を交差させつつも、交錯領域Ｇを形成しないように構成する。以下の説明では、第１実施形態における第１機能性細線パターン前駆体３及び第２機能性細線パターン前駆体５の構成を援用して説明する。なお、図１６では、説明の便宜上、隣接する１組の略四角形図形の機能性細線パターン前駆体（外側細線３２及び外側細線５２）のみを示しているが、図１１に示されるように、他の隣接する略四角形図形の機能性細線パターン前駆体も同様に接続されている。
　第２実施形態においても、第１機能性細線パターン前駆体３の外側細線３２及び第２機能性細線パターン前駆体５の外側細線５２は線幅Ｗ１で形成されている。外側細線３２及び外側細線５２にはそれぞれ最大曲率部３２１及び最大曲率部５２１が形成されている。
　図１６に示すように、外側細線３２の最大曲率部３２１と外側細線５２の最大曲率部５２１とが互いに交差するように配置されている。互いに交差した最大曲率部３２１と最大曲率部５２１とにおいて、最大曲率部の内側同士が接点Ｐ１で接するように形成されている。これにより、最大曲率部３２１及び最大曲率部５２１において接点Ｐ１で互いに接する２つの重複領域Ｈ１、Ｈ２が形成される。
　第２実施形態では、交差する最大曲率部の内側同士を接点Ｐ１で接するように構成したことから、図２１に示すような交錯領域Ｇは形成されない。
　図１６において交点Ｐ２は、外側細線３２の外縁と外側細線５２の外縁とが交差する点であり、図１６の上下方向において重複領域Ｈ１の上端に位置する点である。交点Ｐ３は、外側細線３２の外縁と外側細線５２の外縁とが交差する点であり、図１６の上下方向において重複領域Ｈ２の下端に位置する点である。長さＬ２は、重複領域Ｈ１から接点Ｐ１を通って重複領域Ｈ２までの長手方向の長さである。本実施形態において長さＬ２は、線幅Ｗ１より長い。
　本実施形態では、外側細線３２と外側細線５２とを交差させて２つの重複領域Ｈ１、Ｈ２を形成しているため、機能性細線パターンを格子状に形成した場合に比べて外側細線３２と外側細線５２とが重複する領域の面積を大きくすることができ、外側細線３２と外側細線５２との電気的接続を確実にすることができる。その結果、透明導電膜の電気抵抗の更なる低下を実現でき、電気抵抗性を安定させることができる。
　また、外側細線３２と外側細線５２とを交差させて２つの重複領域Ｈ１、Ｈ２を形成するが、図２１に示す交錯領域Ｇを形成しない。その結果、第２実施形態における機能性細線パターンは、交錯領域Ｇを形成しないので、略四角形図形の２つの重複領域Ｈ１、Ｈ２が形成された部分の空間周波数の強度を弱くすることができる。これにより、０°方向及び９０°方向における本実施形態の機能性細線パターンの空間周波数と、ＬＣＤ画素パターンの空間周波数との干渉を弱めることができ、モアレが発生することを低減できる。
〔第３実施形態〕
　図１７は第３実施形態における機能性細線パターン前駆体の接続状態を示す図である。
　本実施形態では、第１実施形態及び第２実施形態のように外側細線３２と外側細線５２と重複させず、外側細線３２と外側細線５２とを接しさせて接点を形成している。以下の説明では、第１実施形態における第１機能性細線パターン前駆体３及び第２機能性細線パターン前駆体５の構成を援用して説明する。
　かかる機能性細線パターンにおいて、隣接する略四角形図形の外側細線３２及び外側細線５２は、図１７に示すように最大曲率部３２１及び最大曲率部５２１で接し、接点Ｐを形成する。なお、図１７では、説明の便宜上、隣接する１組の略四角形図形の機能性細線パターン前駆体（外側細線３２及び外側細線５２）のみを示しているが、図１１に示されるように、他の隣接する略四角形状細線も同様に接続されている。
　このように隣接する略四角形図形の機能性細線パターン前駆体（外側細線３２及び外側細線５２）を接点Ｐで接続することによって両四角形図形の機能性細線パターン前駆体を接続でき、特に機能性材料として導電性材料を用いる場合には、電気的接続を実現できる。
　また、第３実施形態では、外側細線３２と外側細線５２とを最大曲率部３２１及び最大曲率部５２１で接しさせて、接点Ｐを形成するが、図２１に示す交錯領域Ｇを形成しない。これにより、第３実施形態における機能性細線パターンは、交錯領域Ｇを形成しないので、略四角形図形の接点Ｐが形成された部分の空間周波数の強度を弱くすることができる。これにより、０°方向及び９０°方向における本実施形態の機能性細線パターンの空間周波数と、ＬＣＤ画素パターンの空間周波数との干渉を弱めることができ、モアレが発生することを低減できる。
　第１実施形態から第３実施形態までの説明では、ライン状液体からなる閉じられた略多角形図形を四角形図形とし、略四角形図形からなる機能性細線パターンを形成する場合について示したが、これに限定されるものではなく、ライン状液体からなる閉じられた略多角形図形を三角形、五角形、六角形等とし、略多角形状細線からなる機能性細線パターンを形成することができる。
〔第４実施形態〕
　図１８は略多角形図形が略三角形図形である場合の機能性細線パターン形成を説明する図であって、（ａ）は基材上に略三角形図形を形成するようにライン状液体を付与した状態を示す図、（ｂ）は略三角形図形の機能性細線パターンが形成された状態を示す図である。
　ライン状液体からなる閉じられた略多角形図形を三角形図形とすることにより、図１８（ａ）に示すように、それぞれ三角形状に形成された内側細線３１と外側細線３２からなる略三角形図形の第１機能性細線パターン前駆体３を形成することができる。隣接する外側細線３２は、最大曲率部で接続されている。
　かかる第１機能性細線パターン前駆体３からなる機能性細線パターン前駆体の内側細線３１を除去することにより、図１８（ｂ）に示すように、除去せず残留させる外側細線３２、即ち略三角形図形の機能性細線パターン前駆体からなる機能性細線パターンを形成することができる。
〔第５実施形態〕
　図１９は略多角形図形が略六角形図形である場合の機能性細線パターン形成を説明する図であって、（ａ）は基材上に略六角形図形を形成するようにライン状液体を付与した状態を示す図、（ｂ）は略六角形図形の機能性細線パターンが形成された状態を示す図である。
　ライン状液体からなる閉じられた略多角形図形を六角形とすることにより、図１９（ａ）に示すように、それぞれ六角形状に形成された内側細線３１と外側細線３２からなる略六角形図形の第１機能性細線パターン前駆体３を形成することができる。隣接する外側細線３２は、最大曲率部で接続されている。
　かかる第１機能性細線パターン前駆体３からなる機能性細線パターン前駆体の内側細線３１を除去することにより、図１９（ｂ）に示すように、除去せず残留させる外側細線３２、即ち略六角形図形の機能性細線パターン前駆体を二次元的に複数並設してなる機能性細線パターンを形成することができる。
　以下に、第１実施形態ないし第５実施形態の各態様に適用可能な構成について説明する。
　機能性細線パターンを略多角形状細線（外側細線３２）によって構成する場合、略多角形図形の１辺の長さは、自在に調整することができる。例えば、１辺の長さは、５０μｍ以上、１００μｍ以上、２００μｍ以上、３００μｍ以上、４００μｍ以上、５００μｍ以上、更には１ｍｍ以上であることが好ましい。このような比較的大きい略多角形図形を形成する場合であっても、ライン状液体を閉じられた略多角形図形として付与することで、安定な細線形成を実現できる。大きさによらず安定な細線形成を実現できるため、１辺の長さの上限は格別限定されず、用途に応じて適宜設定できる。略多角形図形を構成する少なくとも１つの辺が上記の範囲であることが好ましく、全ての辺が上記の範囲であることが更に好ましい。
　また、略多角形図形は正多角形図形に限定されず、略多角形図形を構成する各辺の長さや、各内角の角度は、互いに異なってもよい。また、第１実施形態ないし第３実施形態において、略多角形図形を基材の長手方向に対して各辺が４５°で傾斜する四角形図形として構成したが、３０°と６０°との組み合わせ、あるいは１５°と７５°との組み合わせであってもよい。
　第１実施形態ないし第５実施形態の説明では、基材上に機能性細線パターン前駆体を複数形成する際に、これら複数の機能性細線パターン前駆体を所定のピッチで形成する場合について主に説明したが、これに限定されるものではない。
　また、基材上に設けられる複数のライン状液体によって、複数種の互いに異なる略多角形図形を形成してもよい。これにより、複数種の互いに異なる略多角形図形からなる機能性細線パターン前駆体を組み合わせた機能性細線パターンを形成することができる。例えば、上述した第１ライン状液体と第２ライン状液体は、同一形状であることが好ましいが、これに限定されず、相似であってもよいし、例えば四角形図形と六角形図形の組み合わせのように異なる形状であってもよい。
　ライン状液体を形成するための液体（インク）に含有される機能性材料は、基材に特定の機能を付与するための材料であれば格別限定されない。特定の機能を付与するとは、例えば、導電性材料を用いて基材に導電性を付与することや、絶縁性材料を用いて基材に絶縁性を付与することをいう。機能性材料は、該機能性材料が付与される基材表面を構成する材料とは異なる材料であることが好ましい。機能性材料として、例えば導電性材料、絶縁性材料、半導体材料、光学フィルター材料、誘電体材料等を好ましく例示できる。特に機能性材料は導電性材料または導電性材料前駆体であることが好ましい。導電性材料前駆体は、適宜処理を施すことによって導電性材料に変化させることができるものを指す。
　導電性材料としては、例えば、導電性微粒子、導電性ポリマー等を好ましく例示できる。
　導電性微粒子としては格別限定されないが、Ａｕ、Ｐｔ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｚｎ、Ｃｏ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｗ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｇａ、Ｉｎ等の微粒子を好ましく例示でき、中でも、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕのような金属微粒子を用いると、電気抵抗が低く、且つ腐食に強い細線を形成することができるので好ましい。コスト及び安定性の観点から、Ａｇを含む金属微粒子が最も好ましい。これらの金属微粒子の平均粒子径は、好ましくは１～１００ｎｍの範囲、より好ましくは３～５０ｎｍの範囲である。平均粒子径は、体積平均粒子径であり、マルバーン社製ゼータサイザ１０００ＨＳにより測定することができる。
　また、導電性微粒子として、カーボン微粒子を用いることも好ましい。カーボン微粒子としては、グラファイト微粒子、カーボンナノチューブ、フラーレン等を好ましく例示できる。
　導電性ポリマーとしては格別限定されないが、π共役系導電性高分子を好ましく挙げることができる。
　π共役系導電性高分子としては、例えば、ポリチオフェン類、ポリピロール類、ポリインドール類、ポリカルバゾール類、ポリアニリン類、ポリアセチレン類、ポリフラン類、ポリパラフェニレン類、ポリパラフェニレンビニレン類、ポリパラフェニレンサルファイド類、ポリアズレン類、ポリイソチアナフテン類、ポリチアジル類等の鎖状導電性ポリマーを利用することができる。中でも、高い導電性が得られる点で、ポリチオフェン類やポリアニリン類が好ましい。ポリエチレンジオキシチオフェンであることが最も好ましい。
　導電性ポリマーは、より好ましくは、上述したπ共役系導電性高分子とポリアニオンとを含んで成ることである。こうした導電性ポリマーは、π共役系導電性高分子を形成する前駆体モノマーを、適切な酸化剤と酸化触媒と、ポリアニオンの存在下で化学酸化重合することによって容易に製造できる。
　導電性ポリマーは市販の材料も好ましく利用できる。例えば、ポリ（３，４－エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸からなる導電性ポリマー（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳと略す）が、Ｈ．Ｃ．Ｓｔａｒｃｋ社からＣＬＥＶＩＯＳシリーズとして、Ａｌｄｒｉｃｈ社からＰＥＤＯＴ－ＰＡＳＳ４８３０９５、５６０５９８として、Ｎａｇａｓｅ　Ｃｈｅｍｔｅｘ社からＤｅｎａｔｒｏｎシリーズとして市販されている。また、ポリアニリンが、日産化学社からＯＲＭＥＣＯＮシリーズとして市販されている。
　基材１上に付与されるライン状液体２中における機能性材料の含有率は、ライン状液体２の全量に対して０．０１重量％以上１重量％以下の範囲であることが好ましい。含有率は、ライン状液体２が基材１上に付与された直後の乾燥される前の値である。機能性材料の含有率が、０．０１重量％以上１重量％以下の範囲であることにより、コーヒーステイン現象による細線形成が更に安定化される。
　機能性材料を含有させる液体としては、例えば水や有機溶剤等の１種又は２種以上を組み合わせて用いることができる。有機溶剤は、格別限定されないが、例えば、１，２－ヘキサンジオール、２－メチル－２，４－ペンタンジオール、１，３－ブタンジオール、１，４－ブタンジオール、プロピレングリコールなどのアルコール類、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテル類等を例示できる。
　また、機能性材料を含有させる液体は、本発明の効果を損なわない範囲で、界面活性剤など種々の添加剤を含んでもよい。界面活性剤を用いることで、例えば、液滴吐出装置を用いて基材１上にライン状液体２を形成するような場合などに、表面張力等を調整して吐出の安定化を図ること等が可能になる。界面活性剤としては、格別限定されないが、シリコン系界面活性剤等を用いることができる。シリコン系界面活性剤とはジメチルポリシロキサンの側鎖または末端をポリエーテル変性したものであり、例えば、信越化学工業製のＫＦ－３５１Ａ、ＫＦ－６４２やビッグケミー社製のＢＹＫ３４７、ＢＹＫ３４８などが市販されている。界面活性剤の含有率は、ライン状液体２の全量に対して１重量％以下であることが好ましい。
　機能性材料を含む液体が付与される基材は、格別限定されないが、例えば、ガラス、プラスチック（ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、アクリル、ポリエステル、ポリアミド等）、金属（銅、ニッケル、アルミ、鉄等や、あるいは合金）、セラミックなどを挙げることができ、これらは単独で用いてもよいし、貼り合せた状態で用いてもよい。中でも、プラスチックが好ましく、ポリエチレンテレフタレートや、ポリエチレン、ポリプロピレンのようなポリオレフィンなどが好適である。
　細線に含まれる機能性材料は、導電性材料であることが好ましい。導電性材料を用いることで、該細線の集合体により構成されるパターンを透明導電膜（電極膜あるいは透明電極ともいう）として好適に用いることができる。
　透明導電膜付き基材の用途は、格別限定されないが、種々の電子機器が備える種々のデバイスに用いることができる。本発明の効果を顕著に奏する観点で、例えば、液晶、プラズマ、有機エレクトロルミネッセンス、フィールドエミッション等の各種方式のディスプレイ用透明電極として、あるいは、タッチパネルや携帯電話、電子ペーパー、各種太陽電池、各種エレクトロルミネッセンス調光素子等に用いられる透明電極として好適に用いることができる。スマートフォン、タブレット端末等のような電子機器のタッチパネルセンサとして透明導電膜付き基材を用いることは特に好ましい。タッチパネルセンサとして用いる場合は、透明基材の両面の透明導電膜（Ｘ電極及びＹ電極）として、上述した機能性細線パターンを用いることが好ましい。
　以下に、本発明の実施例について説明するが、本発明はかかる実施例により限定されない。
１．パターンの形成
〔実施例１〕
機能性細線パターン（１）の形成
＜インクの組成＞
　インク（機能性材料を含む液体）として、以下の組成のものを調製した。
・銀ナノ粒子（平均粒子径：２０ｎｍ）：０．２３重量％
・界面活性剤（ビッグケミー社製「ＢＹＫ３４８」）：０．０５重量％
・ジエチレングリコールモノブチルエーテル（略称：ＤＥＧＢＥ）（分散媒）：２０重量％
・水（分散媒）：残量
＜基材＞
　基材として、機能性材料を含む液体の接触角が２０．３°となるように表面処理が施されたＰＥＴ基材を用意した。表面処理としては、信光電気計装社製「ＰＳ－１Ｍ」を用いてコロナ放電処理を行った。
＜パターニング＞
　インクジェットヘッド（コニカミノルタ社製「ＫＭ１０２４ｉＬＨＥ－３０」（標準液滴容量３０ｐＬ））を基材に対して相対移動させながら該インクジェットヘッドからインクを吐出して、図４（ａ）に示すように、基材上に、機能性材料を含む第１ライン状液体２によって内側縁と外側縁を有する閉じられた略多角形図形を複数形成した。略多角形図形は、基材の長手方向に対して各辺が４５°で傾斜する四角形である。
　これらの第１ライン状液体２を乾燥させることにより、該第１ライン状液体２の内側縁２１及び外側縁２２に機能性材料を選択的に堆積させて、図４（ｂ）に示すように、内側細線３１及び外側細線３２からなる第１機能性細線パターン前駆体３を複数形成した。得られた各第１機能性細線パターン前駆体３の内側細線３１及び外側細線３２は、基材の長手方向に対して各辺が４５°で傾斜する四角形である。この四角形は、対向して対となる外側細線３２の間隔（メッシュピッチ）ＭＰが１．４３ｍｍである。
　次いで、インクジェットヘッドを基材に対して相対移動させながら該インクジェットヘッドからインクを吐出して、図５（ａ）に示すように、基材上に、機能性材料を含む第２ライン状液体４によって内側縁と外側縁を有する閉じられた略多角形図形を複数形成した。略多角形図形は、基材の長手方向に対して各辺が４５°で傾斜する四角形図形である。第２ライン状液体４の形成位置は、第２ライン状液体４の四角形の頂点部を、先に形成された第１機能性細線パターン前駆体３の外側細線３２の最大曲率部３２１と交錯領域Ｇを形成しないように接しさせ、あるいは重複させるように設定した。
　これらの第２ライン状液体４を乾燥させることにより、該第２ライン状液体４の内側縁４１及び外側縁４２に機能性材料を選択的に堆積させて、図５（ｂ）に示すように、内側細線５１及び外側細線５２からなる第２機能性細線パターン前駆体５を複数形成した。得られた各第２機能性細線パターン前駆体５の内側細線５１及び外側細線５２は、基材の長手方向に対して各辺が４５°で傾斜する四角形である。この四角形は、対向して対となる外側細線３２の間隔（メッシュピッチ）ＭＰが１．４３ｍｍである。
　第１機能性細線パターン前駆体３の外側細線３２と、第２機能性細線パターン前駆体５の外側細線５２は互いに接続されており、第１機能性細線パターン前駆体３の内側細線３１と、第２機能性細線パターン前駆体５の内側細線５１は、互いに接続されず独立している。
　以上の工程では、７０℃に加熱されたステージ上に配置した基材にライン状液体をパターニングすることにより、ライン状液体の乾燥を促進させている。また、形成された細線には、１３０℃のオーブンで、１０分間の焼成処理を施した。
機能性細線パターン（２）の形成
　機能性細線パターン（１）を構成する機能性細線パターン前駆体３、５の外側細線３２、５２に選択的に銅電解メッキを施して、図１０に示したものと同様の機能性細線パターン（２）を得た。銅電解メッキは下記メッキ条件により行った。
＜メッキ条件＞
　機能性細線パターン（１）が形成された基材の導電面から給電し、下記メッキ浴内で電解メッキを行った。アノードをメッキ用銅板と接続し、メッキ浴内で銅板から３０ｍｍ離れた位置に基材を設置した。０．２Ａの定電流で１分間メッキ処理した。メッキ終了後、基材を水洗し、乾燥させた。
＜メッキ浴＞
　硫酸銅五水和物２０ｇ、１Ｎ塩酸１．３ｇ、光沢付与剤（メルテックス社製「ＳＴ９０１Ｃ」）５ｇを、イオン交換水で１０００ｍＬとなるように調製した。
機能性細線パターン（３）の形成
　機能性細線パターン（２）を構成する外側細線３２及び外側細線５２に選択的にニッケル電解メッキを施すと共に、メッキ液により内側細線３１及び内側細線５１を除去して、図１１に示したものと同様の機能性細線パターン（３）を得た。ニッケル電解メッキは下記メッキ条件により行った。
＜メッキ条件＞
　機能性細線パターン（２）が形成された基材の導電面から給電し、下記メッキ浴内で電解メッキを行った。アノードをメッキ用ニッケル板と接続し、メッキ浴内でニッケル板から３０ｍｍ離れた位置に基材を設置した。０．２Ａの定電流で３０秒間メッキ処理した。メッキ液により内側細線３１及び内側細線５１を十分に除去するために、メッキ終了後、基材をメッキ浴内で１０分間放置した後、水洗し、乾燥させた。
＜メッキ浴＞
　硫酸ニッケル２４０ｇ、塩化ニッケル４５ｇ、ホウ酸３０ｇを、イオン交換水で１０００ｍＬとなるように調製した。
〔実施例２～１０、比較例１〕
　表１に示すように、実施例２から実施例５までは、実施例１に対して長手方向長さＬをパラメータとして変更した。実施例６は、実施例１に対して長手方向長さＬ及び最大曲率部線幅をパラメータとして変更した。実施例７ないし実施例１０は実施例１に対して長手方向長さＬ及び最大曲率部曲率半径Ｒをパラメータとして変更した。比較例１は、図２１に示す交錯領域Ｇが形成された機能性細線パターンである。
２．評価方法
　得られた機能性細線パターン（３）を使用して電気抵抗の安定性とモアレの評価を行った。
　後述する表１におけるメッシュピッチＭＰは図２０における符号ＭＰが付された対向する外側細線の間隔であり、線幅Ｗ１は外側細線の線幅であり、長手方向長さＬは、最大曲率部同士の重複領域の長さであり、最大曲率部線幅は最大曲率部における外側細線の線幅であり、最大曲率部曲率半径Ｒは、最大曲率部における曲率半径である。
（１）電気抵抗の安定性
　７．４ｍｍ×１５０ｍｍの短冊状に機能性細線パターン（３）が形成された透明基材を３０部用意し、１２０℃で１０分間の焼成処理を行った後、各短冊状のパターンの端子間抵抗値を測定し、その相対標準偏差から抵抗安定性を評価した。
＜評価基準＞
　◎：抵抗値の相対標準偏差値が３０％以下
　〇：抵抗値の相対標準偏差値が３０％を超え、４１％未満
　△：抵抗値の相対標準偏差値が４１％以上
（２）モアレ
　メッキ処理後の機能性細線パターン（３）が形成された透明基材を５５インチＦｕｌｌ－ＨＤのＬＣＤディスプレイ上に配置し、３０ｃｍ離れた位置から目視し、以下の評価基準によりモアレの視認性を評価した。
　〇：モアレは視認できない
　△：モアレが若干視認できる
　×：モアレがはっきり視認できる
　以下、評価の結果を表１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
３．評価
　表１から、実施例１～実施例１０は比較例１に対して電気抵抗の安定性を有し、モアレが視認されにくいことを確認した。
１　基材
２　第１ライン状液体
３　第１機能性細線パターン前駆体
４　第２ライン状液体
５　第２機能性細線パターン前駆体
６　給電部材
７　Ｘ電極
８　透明導電膜
９　引出し配線
１０　Ｙ電極
１１　機能性細線パターン前駆体
２０　液体が付与されていない領域
２１　内側縁
２２　外側縁
３１　内側細線
３２　外側細線
４０　液体が付与されていない領域
４１　内側縁
４２　外側縁
５１　内側細線
５２　外側細線
１００　液体
１０１　縁
１１１　内側細線
１１２　外側細線
１１３　最大曲率部
１１４　最大曲率部
３１１　最大曲率部
３２１　最大曲率部
５１１　最大曲率部
５２１　最大曲率部

Claims (11)

  1. 　基材上に、機能性材料を含む第１ライン状液体によって、液体が付与されていない領域を内部に包含することにより縁部として互いに独立した内側縁と外側縁とを有する閉じられた略多角形図形を形成し、前記第１ライン状液体を乾燥させ、前記機能性材料を前記内側縁及び前記外側縁に沿って堆積させることにより、前記機能性材料を含む内側細線と外側細線からなる第１機能性細線パターン前駆体を形成し、
    　次いで、前記基材上に、機能性材料を含む第２ライン状液体によって、液体が付与されていない領域を内部に包含することにより縁部として互いに独立した内側縁と外側縁とを有する閉じられた略多角形図形を形成し、前記第２ライン状液体を乾燥させ、前記機能性材料を前記内側縁及び前記外側縁に沿って堆積させることにより、前記機能性材料を含む内側細線と外側細線からなる第２機能性細線パターン前駆体を形成する際に、
    　少なくとも一組の前記第１機能性細線パターン前駆体と前記第２機能性細線パターン前駆体とにおいて、前記第１機能性細線パターン前駆体の前記外側細線と、前記第２機能性細線パターン前駆体の前記外側細線とが接続され、且つ前記第１機能性細線パターン前駆体の前記内側細線と、前記第２機能性細線パターン前駆体の前記内側細線とが接続されないように、前記第１機能性細線パターン前駆体及び前記第２機能性細線パターン前駆体を形成し、
    　前記第１機能性細線パターン前駆体の前記外側細線の最大曲率部と前記第２機能性細線パターン前駆体の前記外側細線の最大曲率部とを接しさせ、又は重複させ、重複させる場合には、重複領域を１つの領域又は互いに接した２つの領域とする機能性細線パターン前駆体の形成方法。
  2. 　前記機能性材料を導電性材料とする請求項１記載の機能性細線パターン前駆体の形成方法。
  3. 　前記第１機能性細線パターン前駆体の前記外側細線と前記第２機能性細線パターン前駆体の前記外側細線とを重複させる場合には、前記重複領域の長手方向の長さを前記第１機能性細線パターン前駆体の前記外側細線及び前記第２機能性細線パターン前駆体の前記外側細線の線幅より長くする請求項１又は２記載の機能性細線パターン前駆体の形成方法。
  4. 　前記重複領域の長手方向の長さを３５μｍ以上８５μｍ以下とする請求項３記載の機能性細線パターン前駆体の形成方法。
  5. 　前記第１機能性細線パターン前駆体の前記最大曲率部及び前記第２機能性細線パターン前駆体の前記最大曲率部の少なくとも一方の線幅を、前記最大曲率部以外の部位の線幅よりも広くする請求項１～４のいずれかに記載の機能性細線パターン前駆体の形成方法。
  6. 　前記略多角形図形を四角形図形とする請求項１～５のいずれかに記載の機能性細線パターン前駆体の形成方法。
  7. 　前記最大曲率部の曲率半径を７０μｍ以上１８０μｍ以下とする請求項１～６のいずれかに記載の機能性細線パターン前駆体の形成方法。
  8. 　前記第１ライン状液体により形成される略多角形図形及び前記第２ライン状液体により形成される略多角形図形の基準となる大きさを設定し、前記第１ライン状液体及び前記第２ライン状液体の少なくとも一方により前記基準となる大きさの略多角形図形より小さい略多角形図形を形成する場合には、前記最大曲率部における液体の付与量を増加させる請求項１～７のいずれかに記載の機能性細線パターン前駆体の形成方法。
  9. 　前記略多角形図形は四角形図形であって、前記基準となる大きさは前記四角形図形の対向する一対の辺の間隔で設定され、前記間隔が０．７ｍｍである請求項８に記載の機能性細線パターン前駆体の形成方法。
  10. 　互いに接続された前記第１機能性細線パターン前駆体の前記外側細線と前記第２機能性細線パターン前駆体の前記外側細線とからなる通電経路に通電することによって、前記外側細線に電解メッキを施す請求項１～９のいずれかに記載の機能性細線パターン前駆体の形成方法。
  11. 　請求項１～１０のいずれかに記載の機能性細線パターン前駆体の形成方法により形成された前記機能性細線パターン前駆体の前記内側細線の少なくとも一部を除去することにより、除去せず残留させる前記外側細線によって機能性細線パターンを形成する機能性細線パターンの形成方法。
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