WO2020079985A1 - 洗浄システム - Google Patents

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WO2020079985A1
WO2020079985A1 PCT/JP2019/035037 JP2019035037W WO2020079985A1 WO 2020079985 A1 WO2020079985 A1 WO 2020079985A1 JP 2019035037 W JP2019035037 W JP 2019035037W WO 2020079985 A1 WO2020079985 A1 WO 2020079985A1
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WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
cleaning
liquid
ufb
tank
cleaning system
Prior art date
Application number
PCT/JP2019/035037
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
太田　晶久
輝海 森
太志 吉田
Original Assignee
Ｋｙｂ株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ｋｙｂ株式会社 filed Critical Ｋｙｂ株式会社
Publication of WO2020079985A1 publication Critical patent/WO2020079985A1/ja

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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
    • B08B3/10—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration

Definitions

  • the present invention relates to a cleaning system for cleaning with a liquid containing bubbles.
  • the minute bubbles include ultra fine bubbles (UFB) having a diameter of less than 1 ⁇ m, micro bubbles having a diameter of 10 ⁇ m or less, and millimeter bubbles having a diameter of 1 mm or less.
  • UFB ultra fine bubbles
  • Patent Documents 1 and 2 disclose a cleaning system using a bubble-containing liquid.
  • an object of the present invention is to provide a cleaning system having a high cleaning ability using a bubble-containing liquid.
  • a cleaning system includes an ultra fine bubble generation device, a fine bubble generation device, and a tank.
  • the ultrafine bubble generation device generates ultrafine bubbles in the undiluted solution for washing to generate an ultrafine bubble liquid.
  • the fine bubble generation device generates fine bubbles in the ultra fine bubble liquid to generate a cleaning liquid.
  • the cleaning liquid is supplied to the tank.
  • the cleaning liquid containing ultra fine bubbles (hereinafter, UFB) and fine bubbles (hereinafter, FB) is supplied to the tank.
  • UFB ultra fine bubbles
  • FB fine bubbles
  • the cleaning unit may further include a branch pipe unit that is connected to the fine bubble generation device, branches the cleaning liquid flow path into a plurality of flow paths, and supplies the branched flow path to the tank.
  • the tank includes a liquid surface discharge port provided at the height of the liquid surface of the cleaning liquid, and an extrusion port for extruding the cleaning liquid toward the liquid surface discharge port, One of the plurality of flow paths may be connected to the extrusion port.
  • the cleaning system may further include a bubbling device disposed in the tank and connected to one of the plurality of flow paths.
  • the cleaning system may have a circulation path for supplying the cleaning liquid in the tank to the fine bubble generation device.
  • the above tank may be provided with a partition plate that divides the inside of the above tank into a cleaning section in which the object to be cleaned is immersed and a non-cleaning section provided with an inlet to the circulation path.
  • the non-washing section may be provided with an ultrafine bubble liquid supply port to which the ultrafine bubble liquid is supplied from the ultrafine bubble generator.
  • the non-cleaning section may be provided with a cleaning liquid supply port to which one of the plurality of flow paths is connected.
  • the tank includes a liquid surface discharge port provided at the height of the liquid surface of the cleaning liquid, and an extrusion port for extruding the cleaning liquid toward the liquid surface discharge port, One of the plurality of flow paths is connected to the extrusion port,
  • the liquid surface discharge port may be provided in the cleaning section, and the extrusion port may be provided in the non-cleaning section.
  • the ultrafine bubble liquid is supplied to the ultrafine bubble liquid supply tank from the ultrafine bubble generation device, and is supplied to the tank from the ultrafine bubble liquid supply tank,
  • the cleaning stock solution may be supplied from the ultrafine bubble liquid supply tank.
  • the ultrafine bubble liquid is supplied from the ultrafine bubble generator to the ultrafine bubble liquid supply tank, and is supplied from the ultrafine bubble liquid supply tank to the fine bubble generator,
  • the cleaning stock solution may be supplied from the ultrafine bubble liquid supply tank.
  • the ultrafine bubble liquid is supplied from the ultrafine bubble generator to the fine bubble generator,
  • the above-mentioned ultrafine bubble generation device may be supplied with the above-mentioned cleaning stock solution from the cleaning stock solution supply tank.
  • FIG. 3 is a perspective view of a rotating body included in the ultrafine bubble generation device. It is a schematic diagram of the cleaning system which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. It is a schematic diagram of the cleaning system which concerns on the 3rd Embodiment of this invention.
  • FIG. 1 is a schematic diagram showing the configuration of a cleaning system 100 according to this embodiment.
  • the cleaning system 100 includes a tank 110, a filtration tank 120, a UFB liquid generation unit 130, a cleaning liquid generation unit 140, and a cleaning liquid supply unit 150.
  • Each part of the cleaning system 100 is connected by pipes L1 to L20, and each pipe is provided with an opening / closing valve B, a pressure gauge P, a flowmeter F and a thermometer T.
  • the cleaning system 100 When the cleaning stock solution is supplied, the cleaning system 100 generates ultra fine bubbles (hereinafter, UFB) in the cleaning stock solution to generate the UFB solution. Further, fine bubbles (hereinafter, FB) are generated in the UFB liquid to generate a cleaning liquid.
  • UFB ultra fine bubbles
  • FB fine bubbles
  • Ultrafine bubbles are bubbles formed in a liquid with a diameter of less than 1 ⁇ m.
  • the gas that forms ultrafine bubbles is air, carbon dioxide, hydrogen, carbon dioxide, an inert gas, ozone, or the like, and is not particularly limited.
  • Fine bubbles are bubbles formed in a liquid and having a diameter of 100 ⁇ m or less.
  • the gas that forms fine bubbles is air, carbon dioxide, hydrogen, carbon dioxide, an inert gas, ozone, or the like, and is not particularly limited.
  • Fine bubbles include micro bubbles with a diameter of 1 ⁇ m or more and 100 ⁇ m or less and the above ultra fine bubbles.
  • the undiluted cleaning liquid is various liquids such as water, hypochlorous acid water, electrolyzed water, alkaline cleaning water or polishing coolant, and is not particularly limited as long as it is a liquid capable of generating UFB and FB.
  • the tank 110 is a tank for storing the cleaning liquid W, and the object S to be cleaned is immersed in the cleaning liquid W for cleaning.
  • the tank 110 is provided with a partition plate 111, and the partition plate 111 divides the inside of the tank into a cleaning section 110a and a non-cleaning section 110b.
  • the partition plate 111 is provided up to a certain height from the bottom surface of the tank 110 as shown in FIG. 1, and restricts the movement of the cleaning liquid W between the cleaning section 110a and the non-cleaning section 110b.
  • the cleaning section 110a is a section in which the cleaning target S is cleaned.
  • a bubbling device 112 is arranged on the bottom surface of the cleaning section 110a, and the cleaning target S is bubbled.
  • a liquid surface discharge port 113 is provided at the level of the cleaning liquid W, and a bottom surface discharge port 114 is provided at the bottom surface.
  • the liquid surface outlet 113 is connected to the filtration tank 120 by a pipe L1, and the bottom surface outlet 114 is connected to the filtration tank 120 by a pipe L2.
  • the non-cleaning section 110b is a section used for supplying and circulating the cleaning liquid W.
  • the non-cleaning section 110b is provided with an inflow port 115, a cleaning liquid supply port 116, an extrusion port 117, and a UFB liquid supply port 118.
  • the inflow port 115 is an inflow port to the circulation path (pipe L10) extending from the tank 110 to the cleaning liquid generation unit 140, and is provided on the bottom surface of the tank 110.
  • the cleaning liquid supply port 116 is a supply port to which the cleaning liquid W is supplied from the cleaning liquid supply unit 150 via the pipe L17, and is provided near the inflow port 115.
  • the extrusion port 117 is a supply port from which the cleaning liquid W is supplied from the cleaning liquid supply unit 150 via the pipe L18, and is provided near the surface of the cleaning liquid W.
  • the extrusion port 117 may be a nozzle directed to the liquid surface discharge port 113.
  • the UFB liquid supply port 118 is a supply port to which the UFB liquid is supplied from the UFB liquid generation unit 130 via the pipe L9, and is provided near the inflow port 115.
  • the tank 110 is provided with a liquid surface sensor 119 for detecting the height of the liquid surface of the cleaning liquid W.
  • the filtration tank 120 is a tank into which the cleaning waste liquid flows from the liquid surface discharge port 113 and the bottom surface discharge port 114.
  • a filter 121 is provided in the filtration tank 120, a liquid feed pump 122 is connected to the downstream side of the filter 121 via a pipe L19, and the liquid feed pump 122 is connected to the tank 110 via a pipe L20.
  • the UFB liquid generation unit 130 generates UFB in the undiluted cleaning liquid to generate the UFB liquid.
  • the UFB liquid generation unit 130 includes a UFB liquid supply tank 131, a gas supply unit 132, a liquid supply pump 133, a filter 134, a UFB generation device 135, and a heat exchanger 136.
  • the UFB liquid supply tank 131 is a tank to which the undiluted cleaning liquid G is supplied and a tank to store the generated UFB liquid R.
  • the UFB liquid supply tank 131 is connected to the gas inlet 132 via a pipe L3.
  • the UFB liquid supply tank 131 is connected to the UFB liquid supply port 118 via the pipe L9.
  • the gas feed unit 132 feeds the gas A1 forming UFB into the cleaning stock solution G supplied from the UFB liquid supply tank 131.
  • the gas A1 can be air or the like as described above.
  • the gas inlet 132 may be a Venturi tube that temporarily lowers the pressure of the undiluted cleaning solution G and enables the gas A1 to be introduced.
  • the gas inlet 132 is connected to the liquid delivery pump 133 via the pipe L4.
  • the liquid feed pump 133 pressure-feeds the cleaning stock solution G from the UFB liquid supply tank 131 to the UFB generator 135.
  • the liquid feed pump 133 is connected to the filter 134 via a pipe L5.
  • the filter 134 removes impurities from the cleaning stock solution G flowing in from the pipe L5.
  • the filter 134 is connected to the UFB generation device 135 via the pipe L6.
  • the UFB generation device 135 atomizes the bubbles of the gas A1 contained in the cleaning stock solution G supplied from the pipe L6 to generate UFB, and generates the UFB liquid R.
  • the configuration of the UFB generation device 135 will be described later.
  • the UFB generator 135 is connected to the heat exchanger 136 via the pipe L7.
  • the heat exchanger 136 cools the UFB liquid R supplied from the pipe L6. This is because the UFB liquid R has a high temperature as it passes through the UFB generator 135.
  • the structure of the heat exchanger 136 is not particularly limited, and may be a plate heat exchanger, for example.
  • the heat exchanger 136 is connected to the UFB liquid supply tank 131 by a pipe L8.
  • the cleaning liquid generation unit 140 generates FB in the UFB liquid R and generates the cleaning liquid W.
  • the cleaning liquid generation unit 140 includes a liquid feed pump 141, a filter 142, and an FB generation device 143.
  • the liquid feed pump 141 is connected to the tank 110 via a pipe L10, and pumps the liquid (UFB liquid R or cleaning liquid W) stored in the tank 110 from the tank 110 to the FB generator 143.
  • the liquid feed pump 141 is connected to the filter 142 via the pipe L11.
  • the filter 142 removes impurities from the liquid flowing in from the pipe L11.
  • the filter 142 is connected to the FB generation device 143 via the pipe L12.
  • the FB generation device 143 generates a FB by feeding the gas A2 forming the FB into the liquid (UFB liquid R or cleaning liquid W) supplied from the tank 110.
  • the gas A2 can be air or the like as described above.
  • the gas A2 may be the same as or different from the gas A1.
  • the FB generation device 143 can be an FB nozzle capable of generating the FB by feeding the gas A2 into the liquid. Further, the FB generation device 143 is not limited to the FB nozzle and may be any one that can generate FB. The FB generation device 143 is connected to the cleaning liquid supply unit 150 via the pipe L13.
  • the cleaning liquid supply unit 150 supplies the cleaning liquid W to the bath 110.
  • the cleaning liquid supply unit 150 includes a branch pipe unit 151.
  • the branch pipe unit 151 is connected to the pipe L13 extending from the cleaning liquid generation unit 140 and branches the flow path of the cleaning liquid W.
  • the branch pipe unit 151 can branch the flow path into a pipe L14 extending to the cleaning section 110a, a pipe L15 extending to the bubbling device 112, and a pipe L16 extending to the non-cleaning section 110b.
  • the pipe L14 is connected to an injection port 152 for injecting the cleaning liquid W onto the cleaning object S. It is preferable that the pipe L14 is provided with a plurality of pipes so that the cleaning liquid can be sprayed at different positions of the cleaning object S, but one pipe may be provided.
  • the pipe L16 is further branched into a pipe L17 extending to the cleaning liquid supply port 116 and a pipe L18 extending to the extrusion port 117.
  • the pipe L16 is provided with a flow rate adjusting valve 153
  • the pipe L18 is provided with a flow rate adjusting valve 154.
  • FIG. 2 is a perspective view showing the UFB generation device 135, and FIG. 3 is a schematic sectional view of the UFB generation device 135.
  • the UFB generation device 135 includes a casing 161, a fixed plate 162, a rotating body 163, and a rotation drive source 164.
  • the casing 161 forms an accommodation space that accommodates the rotating body 163 together with the fixed plate 162.
  • the casing 161 is provided with a delivery port 161a communicating with the inside of the casing 161.
  • the delivery pipe 161b is connected to the delivery port 161a, and the delivery pipe 161b is connected to the pipe L7 (see FIG. 1).
  • the fixing plate 162 is a flat plate member fixed to the casing 161.
  • An inlet 162a is provided at the center of the fixed plate 162, and an inlet pipe 162b is connected to the inlet 162a.
  • a pipe L6 (see FIG. 1) is connected to the inlet pipe 162b.
  • FIG. 4 is a perspective view of the rotating body 163. As shown in the figure, the rotating body 163 has a substrate portion 165 and an uneven structure 166. The rotating body 163 is connected to the rotating shaft 167, and is rotatably supported with respect to the casing 161 and the fixed plate 162 with the rotating shaft 167 as the center of rotation.
  • the base plate portion 165 has a disk shape, and the surface of the base plate portion 165 on the side of the fixed plate 162 is provided with a concavo-convex structure 166 including convex portions 166a and concave portions 166b.
  • the concavo-convex structure 166 may be a honeycomb structure including a plurality of hexagonal concave portions 166b as viewed from the rotation axis direction of the rotating body 163 and a convex portion 166a surrounding the plurality of concave portions 166b. Further, the concavo-convex structure 166 is not limited to the honeycomb structure, and the convex portions 166a may have various shapes such as a lattice shape and a radial shape when viewed from the rotation axis direction.
  • the gap between the uneven structure 166 and the fixed plate 162 functions as a flow path through which the gas-containing liquid passes. This flow path is shown as flow path D in FIG.
  • the rotary drive source 164 is connected to the rotary shaft 167 and rotates the rotary body 163.
  • the rotary drive source 164 can be, for example, an electric motor.
  • the liquid into which the gas has been introduced is pressure-fed from the inlet 162a and flows through the flow path D.
  • the rotary body 163 is rotationally driven by the rotary drive source 164, and the liquid flowing through the flow path D flows toward the outer periphery of the rotary body 163 due to the pressure applied to the liquid and the centrifugal force generated by the rotation of the rotary body 163.
  • the configuration of the UFB generation device 135 is not limited to the one shown here, and any device capable of generating UFB in the liquid may be used.
  • the UFB liquid generation unit 130 (see FIG. 1) generates the UFB liquid.
  • the liquid feed pump 133 pressure-feeds the cleaning stock solution G to the UFB generation device 135.
  • the gas feeding unit 132 feeds the gas A1 into the cleaning stock solution G.
  • the UFB generator 135 applies a shear stress to the cleaning stock solution G as described above to generate UFB in the cleaning stock solution G. As a result, the UFB liquid R is generated. The generated UFB liquid R is cooled by the heat exchanger 136 and stored in the UFB liquid supply tank 131.
  • This UFB liquid generation process can be performed until the UFB contained in the UFB liquid R has a desired density.
  • the cleaning liquid W is generated from the UFB liquid R.
  • the UFB liquid R is supplied from the UFB liquid supply tank 131 to the UFB liquid supply port 118 via the pipe L9.
  • the liquid feed pump 141 pressure-feeds the UFB liquid R from the tank 110 to the FB generation device 143.
  • the FB generation device 143 sends the gas A2 into the UFB liquid R to generate FB. As a result, the cleaning liquid W is generated. The generated cleaning liquid W is supplied to the cleaning liquid supply unit 150.
  • the flow path of the cleaning liquid W is branched by the branch pipe unit 151, and the cleaning liquid W is jetted from the jet port 152 to the tank 110.
  • the cleaning target S By arranging the cleaning target S in the cleaning section 110a of the tank 110, the cleaning liquid W is sprayed onto the cleaning target S, and the cleaning target S is cleaned.
  • the cleaning liquid W flows over the partition plate 111 into the non-cleaning section 110b and then into the inflow port 115.
  • the cleaning liquid W is regenerated by the cleaning liquid generation unit 140.
  • the UFB liquid R is continuously supplied from the UFB liquid generation unit 130 to the UFB liquid supply port 118. In this way, the densities of UFB and FB in the cleaning liquid W are maintained, and the cleaning target S is cleaned.
  • the dirt separated from the cleaning object S floats on the surface of the cleaning liquid W in the cleaning section 110a.
  • a part of the cleaning liquid W is branched from the cleaning liquid supply unit 150 to the extrusion port 117, and is supplied from the extrusion port 117 to the vicinity of the liquid surface of the cleaning liquid W.
  • the flow of the cleaning liquid W discharged from the extrusion port 117 pushes the dirt floating on the liquid surface in the cleaning section 110a toward the liquid surface discharge port 113 and discharges it from the liquid surface discharge port 113.
  • a part of the cleaning liquid W is branched from the cleaning liquid supply unit 150 to the cleaning liquid supply port 116 and is supplied from the cleaning liquid supply port 116 to the non-cleaning section 110b.
  • the cleaning liquid supply port 116 is provided near the inflow port 115 and forms an upflow near the inflow port 115. This prevents dirt floating on the liquid surface from flowing into the inflow port 115.
  • the flow rate of the cleaning liquid W supplied to the extrusion port 117 and the cleaning liquid supply port 116 can be adjusted by the flow rate adjusting valve 153 using the output of the liquid level sensor 119. Further, the flow rate between the extrusion port 117 and the cleaning liquid supply port 116 can be adjusted by the flow rate adjustment valve 154.
  • part of the cleaning liquid W is supplied from the cleaning liquid supply unit 150 to the bubbling device 112. Bubbles float from the bubbling device 112 and assist the floating of dirt to the liquid surface.
  • the bubbling device 112 may release UFB and FB contained in the cleaning liquid W as they are, but a device that emits larger bubbles (for example, micro bubbles) is preferable.
  • the bubbling device 112 By providing the bubbling device 112 with a structure such that the UFB and the FB collide with each other, the UFB and the FB can be made into larger bubbles.
  • the cleaning waste liquid containing the cleaning liquid W and the dirt discharged from the liquid surface discharge port 113 is supplied to the filtration tank 120, and the dirt is removed by the filter 121.
  • the cleaning liquid W that has passed through the filter 121 is returned to the tank 110 by the liquid feed pump 122 and is reused.
  • the object S to be cleaned is cleaned as described above.
  • the temperature of the cleaning liquid W may be adjusted by introducing a throwing heater or the like into the cleaning liquid W in the tank 110. After the cleaning is completed, the cleaning liquid W and the cleaning waste liquid containing the dirt are discharged from the bottom surface discharge port 114 to the filtration tank 120.
  • the cleaning liquid W containing UFB and FB is sprayed onto the cleaning target S, and the cleaning target S is cleaned.
  • the UFB collides with dirt on the surface of the cleaning object S, and the dirt is separated from the cleaning object S by the impact pressure when the UFB disappears or the effect of decreasing the contact angle (improving wettability) due to UFB. Since micro bubbles (hereinafter, MB) easily float, dirt is floated on the surface of the cleaning liquid W.
  • MB micro bubbles
  • the cleaning of the cleaning target S is performed at a pH of about 11 to 12, but if the cleaning is repeated many times, the pH concentration will decrease.
  • the UFB liquid supply tank 131 by providing the UFB liquid supply tank 131, it is possible to automatically keep the pH concentration constant.
  • the cleaning liquid W can be sprayed onto the cleaning target S from a plurality of directions, and it is possible to further improve the cleaning performance and FB. It is possible to reduce the required number of generation devices 143.
  • the dirt can be more easily floated, and a flow of the cleaning liquid W is generated from the extrusion port 117 toward the liquid surface discharge port 113, so that the dirt can be quickly discharged and discharged. It is possible to reduce the amount of cleaning liquid W used.
  • the cleaning liquid W can be used with high utilization efficiency.
  • the supply of the cleaning liquid W to the injection port 152, the bubbling device 112, the cleaning liquid supply port 116, and the extrusion port 117 is performed by pressure feeding by one liquid feeding pump 141. Therefore, it is not necessary to separately provide a power source, and labor can be saved.
  • FIG. 5 is a schematic diagram showing the configuration of the cleaning system 200 according to this embodiment.
  • the cleaning system 200 includes a tank 210, a UFB liquid generation unit 230, a cleaning liquid generation unit 240, and a cleaning liquid supply unit 250.
  • Each part of the cleaning system 200 is connected by pipes L1 to L12, and each pipe is provided with an opening / closing valve B, a pressure gauge P, a flowmeter F and a thermometer T.
  • the cleaning system 200 when supplied with the cleaning stock solution, generates UFB in the cleaning stock solution to generate the UFB solution. Further, FB is generated in the UFB liquid to generate a cleaning liquid.
  • the types of gas forming UFB and FB and the cleaning stock solution are the same as those in the first embodiment.
  • the tank 210 is a tank that stores the cleaning liquid W, and the cleaning target S is immersed in the cleaning liquid W to perform cleaning.
  • a bubbling device 212 is arranged on the bottom surface of the bath 210, and the cleaning target S is bubbled.
  • a liquid level discharge port 213 is provided at the height of the liquid level of the cleaning liquid W in the tank 210.
  • the liquid surface outlet 213 can be connected to a filtration tank (not shown) as in the first embodiment.
  • an extrusion port 217 is provided near the surface of the cleaning liquid W.
  • the extrusion port 217 is a supply port to which the cleaning liquid W is supplied from the cleaning liquid supply unit 250 via the pipe L12.
  • the extrusion port 217 can be a nozzle directed to the liquid surface discharge port 213.
  • the UFB liquid generation unit 230 generates UFB liquid in the undiluted cleaning liquid to generate the UFB liquid.
  • the UFB liquid generation unit 230 includes a UFB liquid supply tank 231, a gas supply unit 232, a liquid supply pump 233, a filter 234, a UFB generation device 235, and a heat exchanger 236.
  • the UFB liquid supply tank 231 is a tank to which the cleaning stock solution G is supplied and a tank to store the generated UFB liquid R.
  • the UFB liquid supply tank 231 is connected to the gas inlet 232 via the pipe L1. Further, the UFB liquid supply tank 131 is connected to the cleaning liquid generation unit 240 via the pipe L7.
  • the gas feeding unit 232 feeds the gas A1 forming UFB into the cleaning stock solution G supplied from the UFB liquid supply tank 231.
  • the gas inlet 232 may be a Venturi tube that temporarily lowers the pressure of the stock solution G for cleaning and enables the gas A1 to be introduced. Further, the gas inlet 232 need not be a Venturi tube as long as it is capable of feeding the gas A1.
  • the gas inlet 232 is connected to the liquid delivery pump 233 via the pipe L2.
  • the liquid feed pump 233 pressure-feeds the cleaning stock solution G from the UFB liquid supply tank 231 to the UFB generation device 235.
  • the liquid feed pump 233 is connected to the filter 234 via the pipe L3.
  • the filter 234 removes impurities from the undiluted cleaning solution G flowing from the pipe L3.
  • the filter 234 is connected to the UFB generation device 235 via the pipe L4.
  • the UFB generation device 235 atomizes gas bubbles contained in the undiluted cleaning solution G to generate UFB.
  • the UFB generation device 235 can have the same configuration as the UFB generation device 135 according to the first embodiment.
  • the UFB generation device 235 is connected to the heat exchanger 236 via the pipe L5.
  • the heat exchanger 236 cools the UFB liquid R supplied from the pipe L5.
  • the structure of the heat exchanger 236 is not particularly limited, and may be, for example, a plate heat exchanger.
  • the heat exchanger 236 is connected to the UFB liquid supply tank 231 by a pipe L6.
  • the cleaning liquid generation unit 240 generates FB in the UFB liquid and generates the cleaning liquid W.
  • the cleaning liquid generation unit 240 includes a liquid feed pump 241 and an FB generation device 243.
  • the liquid feed pump 241 is connected to the UFB liquid supply tank 231 via a pipe L7, and pressure-feeds the UFB liquid from the UFB liquid supply tank 231 to the FB generator 243.
  • the liquid feed pump 241 is connected to the FB generation device 243 via the pipe L8.
  • the FB generator 243 feeds the gas A2 forming FB into the UFB liquid R to generate FB.
  • the gas A2 may be the same as or different from the gas A1.
  • the FB generation device 243 can be an FB nozzle capable of generating the FB by feeding the gas A2 into the liquid. Further, the FB generation device 243 is not limited to the FB nozzle, and may be any one that can generate FB.
  • the FB generator 243 is connected to the cleaning liquid supply unit 250 via the pipe L9.
  • the cleaning liquid supply unit 250 supplies the cleaning liquid W to the bath 210.
  • the cleaning liquid supply unit 250 includes a branch pipe unit 251.
  • the branch pipe unit 251 is connected to the pipe L9 and branches the flow path of the cleaning liquid W.
  • the branch pipe unit 251 can branch the flow path into a pipe L10 extending into the tank 210, a pipe L11 extending to the bubbling device 212, and a pipe L12 extending to the extrusion port 217.
  • a flow rate adjusting valve 254 is provided in the pipe L12.
  • the pipe L10 is connected to the injection port 252 for injecting the cleaning liquid W. It is preferable that the pipe L10 is provided with a plurality of pipes so that the cleaning liquid can be jetted to different positions of the cleaning object S, but the pipe L10 may be one pipe.
  • the UFB liquid generation unit 230 generates the UFB liquid R.
  • the liquid feed pump 233 pressure-feeds the cleaning stock solution G to the UFB generation device 235.
  • the gas feed unit 232 feeds the gas A1 into the cleaning stock solution G.
  • the UFB generator 235 applies a shear stress to the cleaning stock solution G to generate UFB in the cleaning stock solution G. As a result, the UFB liquid R is generated. The generated UFB liquid R is cooled by the heat exchanger 236 and stored in the UFB liquid supply tank 231.
  • This UFB liquid generation process can be performed until the UFB contained in the UFB liquid R has a desired density.
  • the cleaning liquid W is generated from the UFB liquid R.
  • the UFB liquid R is supplied from the UFB liquid supply tank 231 to the liquid feed pump 241 through the pipe L7, and the liquid feed pump 241 pressure-feeds the UFB liquid R to the FB generation device 243.
  • FB generator 243 sends gas A2 into UFB liquid R to generate FB. As a result, the cleaning liquid W is generated. The generated cleaning liquid W is supplied to the cleaning liquid supply unit 250.
  • the flow path of the cleaning liquid W is branched by the branch pipe unit 251, and the cleaning liquid W is jetted from the jet port 252 to the tank 210.
  • the cleaning liquid W is ejected to the cleaning target S, and the cleaning target S is cleaned.
  • the dirt separated from the cleaning object S floats on the surface of the cleaning liquid W in the tank 210.
  • a part of the cleaning liquid W is branched from the cleaning liquid supply unit 250 to the extrusion port 217, and is supplied from the extrusion port 217 to the vicinity of the liquid surface of the cleaning liquid W.
  • the flow of the cleaning liquid W discharged from the extrusion port 217 causes dirt floating on the liquid surface to be flushed toward the liquid surface discharge port 213 and discharged from the liquid surface discharge port 213.
  • the flow rate of the cleaning liquid W supplied to the extrusion port 217 can be adjusted by the flow rate adjusting valve 254.
  • a part of the cleaning liquid W is supplied from the cleaning liquid supply unit 250 to the bubbling device 212. Bubbles float from the bubbling device 212 and assist the floating of dirt to the liquid surface.
  • the bubbling device 112 may release UFB and FB contained in the cleaning liquid W as they are, but a device that emits larger bubbles (for example, micro bubbles) is preferable.
  • the bubbling device 212 By providing the bubbling device 212 with a structure such that the UFB and the FB collide with each other, the UFB and the FB can be made into larger bubbles.
  • the object S to be cleaned is cleaned as described above.
  • the temperature of the cleaning liquid W may be adjusted by introducing a throwing heater or the like into the cleaning liquid W in the bath 210. After the cleaning is completed, the cleaning liquid W and the waste liquid containing the dirt are discharged to the filtration tank from the bottom discharge port (not shown).
  • FIG. 6 is a schematic diagram showing the configuration of the cleaning system 300 according to this embodiment.
  • the cleaning system 300 includes a tank 310, a UFB liquid generation unit 330, a cleaning liquid generation unit 340, and a cleaning liquid supply unit 350.
  • Each part of the cleaning system 300 is connected by pipes L1 to L9, and each pipe is provided with an opening / closing valve B, a pressure gauge P, a flowmeter F and a thermometer T.
  • the cleaning system 300 When the cleaning stock solution is supplied, the cleaning system 300 generates UFB in the cleaning stock solution to generate the UFB solution, as in the first embodiment. Further, FB is generated in the UFB liquid to generate a cleaning liquid.
  • the types of gas forming UFB and FB and the cleaning stock solution are the same as those in the first embodiment.
  • the tank 310 is a tank for storing the cleaning liquid W, and the object S to be cleaned is immersed in the cleaning liquid W for cleaning.
  • a bubbling device 312 is arranged on the bottom surface of the bath 310, and the cleaning target S is bubbled.
  • a liquid surface discharge port 313 is provided at the height of the liquid surface of the cleaning liquid W in the tank 310.
  • the liquid surface discharge port 313 can be connected to a filtration tank (not shown) as in the first embodiment.
  • an extrusion port 317 is provided near the surface of the cleaning liquid W.
  • the extrusion port 317 is a supply port to which the cleaning liquid W is supplied from the cleaning liquid supply unit 350 via the pipe L9.
  • the extrusion port 317 can be a nozzle directed to the liquid surface discharge port 313.
  • the UFB liquid generation unit 330 generates UFB in the undiluted cleaning liquid to generate the UFB liquid.
  • the UFB liquid generation unit 330 includes a cleaning stock solution supply tank 331, a gas supply unit 332, a liquid supply pump 333, a filter 334, and a UFB generation device 335.
  • the cleaning stock solution supply tank 331 is a tank to which the cleaning stock solution G is supplied.
  • the cleaning stock solution supply tank 331 is connected to the gas inlet 332 via the pipe L1.
  • the gas feeding unit 332 feeds the gas A1 forming UFB into the cleaning stock solution G supplied from the cleaning stock solution supply tank 331.
  • the gas inlet 332 may be a Venturi tube that temporarily lowers the pressure of the stock solution G for cleaning and allows the gas A1 to be introduced. Further, the gas inlet 332 need not be a Venturi tube as long as the gas A1 can be introduced.
  • the gas inlet 332 is connected to the liquid delivery pump 333 via the pipe L2.
  • the liquid feed pump 333 pressure-feeds the cleaning stock solution G from the cleaning stock solution supply tank 331 to the UFB generation device 335.
  • the liquid feed pump 333 is connected to the filter 334 via the pipe L3.
  • the filter 334 removes impurities from the cleaning stock solution G flowing in from the pipe L3.
  • the filter 334 is connected to the UFB generation device 335 via the pipe L4.
  • the UFB generator 335 atomizes gas bubbles contained in the liquid supplied from the pipe L4 to generate UFB.
  • the UFB generation device 335 can have the same configuration as the UFB generation device 135 according to the first embodiment.
  • the UFB generator 335 is connected to the cleaning liquid generator 340 via the pipe L5.
  • the cleaning liquid generation unit 340 generates FB in the UFB liquid R to generate the cleaning liquid.
  • the cleaning liquid generation unit 340 includes an FB generation device 343.
  • the FB generator 343 feeds the gas A2 forming FB into the UFB liquid R to generate FB.
  • the gas A2 may be the same as or different from the gas A1.
  • the FB generation device 343 can be an FB nozzle capable of generating the FB by feeding the gas A2 into the liquid. Further, the FB generation device 343 is not limited to the FB nozzle and may be any one that can generate FB. The FB generation device 343 is connected to the cleaning liquid supply unit 350 via the pipe L6.
  • the cleaning liquid supply unit 350 supplies the cleaning liquid W to the bath 310.
  • the cleaning liquid supply unit 350 includes a branch pipe unit 351.
  • the branch pipe unit 351 is connected to the pipe L6 and branches the flow path of the cleaning liquid W.
  • the branch pipe unit 351 can branch the flow path into a pipe L7 extending into the bath of the bath 310, a pipe L8 extending to the bubbling device 312, and a pipe L9 extending to the extrusion port 317.
  • a flow rate adjusting valve 354 is provided in the pipe L9.
  • the pipe L7 is connected to the jet port 352 for jetting the cleaning liquid W. It is preferable that the pipe L7 is provided with a plurality of pipes so that the cleaning liquid can be sprayed to different positions of the cleaning object S, but the pipe L7 may be one pipe.
  • the UFB liquid generation unit 330 generates the UFB liquid.
  • the liquid feed pump 333 pressure-feeds the cleaning stock solution G to the UFB generation device 335.
  • the gas feeding unit 332 feeds the gas A1 into the cleaning stock solution G.
  • the UFB generator 335 applies shear stress to the cleaning stock solution G to generate UFB in the cleaning stock solution G. As a result, the UFB liquid R is generated. The generated UFB liquid R is pressure-fed to the cleaning liquid generation unit 340.
  • the cleaning liquid W is generated from the UFB liquid R.
  • the FB generator 343 feeds the gas A2 into the UFB liquid R to generate FB. As a result, the cleaning liquid W is generated.
  • the generated cleaning liquid W is supplied to the cleaning liquid supply unit 350.
  • the flow path of the cleaning liquid W is branched by the branch pipe unit 351, and the cleaning liquid W is jetted from the jet port 352 to the tank 310.
  • the cleaning liquid W is ejected to the cleaning target S, and the cleaning target S is cleaned.
  • the dirt separated from the cleaning object S floats on the surface of the cleaning liquid W in the tank 310.
  • a part of the cleaning liquid W is branched from the cleaning liquid supply unit 350 to the extrusion port 317, and is supplied from the extrusion port 317 to the vicinity of the liquid surface of the cleaning liquid W.
  • the flow of the cleaning liquid W discharged from the extrusion port 317 causes the dirt floating on the liquid surface to flow toward the liquid surface discharge port 313 and is discharged from the liquid surface discharge port 313.
  • a part of the cleaning liquid W is supplied from the cleaning liquid supply unit 350 to the bubbling device 312. Bubbles float from the bubbling device 312 and assist the floating of dirt to the liquid surface.
  • the bubbling device 312 may release UFB and FB contained in the cleaning liquid W as they are, but a device that emits larger bubbles (for example, micro bubbles) is preferable.
  • the bubbling device 312 By providing the bubbling device 312 with a structure such that the UFB and the FB collide with each other, the UFB and the FB can be made into larger bubbles.
  • the object S to be cleaned is cleaned as described above.
  • the temperature of the cleaning liquid W may be adjusted by introducing a throwing heater or the like into the cleaning liquid W in the bath 310. After the cleaning is completed, the cleaning liquid W and the waste liquid containing the dirt are discharged to the filtration tank from the bottom discharge port (not shown).
  • the cleaning liquid is made to flow from the extrusion port provided in the vicinity of the liquid surface of the tank, and the dirt floating on the liquid surface of the cleaning liquid is pushed away, but it is not limited to this.
  • the dirt floating on the surface of the cleaning liquid may be washed away by blowing air toward the liquid surface discharge port on the surface of the cleaning liquid.
  • the cleaning liquid is branched by the branch pipe unit and the cleaning liquid is supplied to the bubbling device, but the invention is not limited to this. Bubbling may be performed by separately connecting a pipe for supplying air or the like to the bubbling device.

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Abstract

【課題】気泡含有液体を用いた高い洗浄能力を有する洗浄システムを提供すること。 【解決手段】本発明に係る洗浄システム１００は、ウルトラファインバブル生成装置１３５と、ファインバブル生成装置１４３と、槽１１０とを具備する。　ウルトラファインバブル生成装置１３５は、洗浄原液中にウルトラファインバブルを発生させ、ウルトラファインバブル液を生成する。ファインバブル生成装置１４３は、ウルトラファインバブル液中にファインバブルを発生させ、洗浄液を生成する。槽１１０は、洗浄液が供給される。

Description

洗浄システム
　本発明は、気泡を含有する液体によって洗浄を行う洗浄システムに関する。
　近年、水等の液体に微小な気泡を含有させた気泡含有液体の普及が進んでいる。微小な気泡には、直径１μｍ未満のウルトラファインバブル（ＵＦＢ：ultra fine bubble)や直径１０μｍ以下のマイクロバブル、直径１ｍｍ以下のミリバブル等がある。
　気泡含有液体の用途の一つに、気泡含有液体を洗浄対象物に接触させ、気泡によって汚れを除去する洗浄システムが挙げられる。例えば特許文献１及び２には、気泡含有液体を利用した洗浄システムが開示されている。
特開２０１１－１７３０８６号公報 特開２０１０－１８９７４２号公報
　上述のような気泡含有液体を用いた洗浄システムにおいては、洗浄能力のさらなる向上が求められている。
　以上のような事情に鑑み、本発明は、気泡含有液体を用いた高い洗浄能力を有する洗浄システムを提供することを目的とする。
　上記目的を達成するため、本技術に係る洗浄システムは、ウルトラファインバブル生成装置と、ファインバブル生成装置と、槽とを具備する。
　上記ウルトラファインバブル生成装置は、洗浄原液中にウルトラファインバブルを発生させ、ウルトラファインバブル液を生成する。
　上記ファインバブル生成装置は、上記ウルトラファインバブル液中にファインバブルを発生させ、洗浄液を生成する。
　上記槽は、上記洗浄液が供給される。
　この構成によれば、槽には、ウルトラファインバブル（以下、ＵＦＢ）とファインバブル（以下、ＦＢ）を含む洗浄液が供給される。この洗浄液によって洗浄対象物の洗浄を行うと、ＵＦＢの消滅時の衝撃圧あるいはＵＦＢによる接触角低下（ぬれ性向上）効果によって洗浄対象物の汚れが剥離される。汚れはＦＢによって包み込まれて洗浄液の液面に浮上し、洗浄対象物から除去される。このため、この洗浄システムは高い洗浄能力を有する。
　上記洗浄ユニットは、上記ファインバブル生成装置に接続され、上記洗浄液の流路を複数の流路に分岐させ、上記槽に供給する分岐管ユニットをさらに具備してもよい。
　上記槽は、上記洗浄液の液面の高さに設けられた液面排出口と、上記液面排出口に向けて上記洗浄液を押出する押出口とを備え、
　上記複数の流路のうちの一つは上記押出口に接続されていてもよい。
　上記洗浄システムは、上記槽に配置され、上記複数の流路のうちの一つが接続されたバブリング装置をさらに具備してもよい。
　上記洗浄システムは、上記槽内の上記洗浄液を上記ファインバブル生成装置に供給する循環経路を有してもよい。
　上記槽は、上記槽の槽内を、洗浄対象物が浸漬される洗浄区画と、上記循環経路への流入口が設けられた非洗浄区画に分ける仕切板を備えてもよい。
　上記非洗浄区画には、上記ウルトラファインバブル生成装置から上記ウルトラファインバブル液が供給されるウルトラファインバブル液供給口が設けられていてもよい。
　上記非洗浄区画には、上記複数の流路のうちの一つが接続された洗浄液供給口が設けられていてもよい。
　上記槽は、上記洗浄液の液面の高さに設けられた液面排出口と、上記液面排出口に向けて上記洗浄液を押出する押出口とを備え、
　上記複数の流路のうちの一つは上記押出口に接続され、
　上記液面排出口は上記洗浄区画に設けられ、上記押出口は上記非洗浄区画に設けられていてもよい。
　上記槽内の上記洗浄液を上記ファインバブル生成装置に供給する循環経路を有し、
　上記ウルトラファインバブル液は上記ウルトラファインバブル生成装置からウルトラファインバブル液供給タンクに供給され、上記ウルトラファインバブル液供給タンクから上記槽へ供給され、
　上記ウルトラファインバブル生成装置は上記ウルトラファインバブル液供給タンクから上記洗浄原液が供給されてもよい。
　上記ウルトラファインバブル液は上記ウルトラファインバブル生成装置からウルトラファインバブル液供給タンクに供給され、上記ウルトラファインバブル液供給タンクから上記ファインバブル生成装置へ供給され、
　上記ウルトラファインバブル生成装置は上記ウルトラファインバブル液供給タンクから上記洗浄原液が供給されてもよい。
　上記ウルトラファインバブル液は上記ウルトラファインバブル生成装置から上記ファインバブル生成装置へ供給され、
　上記ウルトラファインバブル生成装置は洗浄原液供給タンクから上記洗浄原液が供給されてもよい。
　以上のように、本技術によれば、気泡含有液体を用いた高い洗浄能力を有する洗浄システムを提供することが可能である。
本発明の第１の実施形態に係る洗浄システムの模式図である。 同洗浄システムが備えるウルトラファインバブル生成装置の斜視図である。 同ウルトラファインバブル生成装置の断面図である。 同ウルトラファインバブル生成装置が備える回転体の斜視図である。 本発明の第２の実施形態に係る洗浄システムの模式図である。 本発明の第３の実施形態に係る洗浄システムの模式図である。
　（第１の実施形態）
　本発明の第１の実施形態に係る洗浄システムについて説明する。
　［洗浄システムの構成］
　図１は、本実施形態に係る洗浄システム１００の構成を示す模式図である。同図に示すように、洗浄システム１００は、槽１１０、濾過タンク１２０、ＵＦＢ液生成部１３０、洗浄液生成部１４０及び洗浄液供給部１５０から構成されている。
　洗浄システム１００の各部は配管Ｌ１～Ｌ２０によって接続され、各配管には開閉弁Ｂ、圧力計Ｐ、流量計Ｆ及び温度計Ｔが設けられている。
　洗浄システム１００は、洗浄原液が供給されると、洗浄原液中にウルトラファインバブル（以下、ＵＦＢ）を発生させ、ＵＦＢ液を生成する。さらにＵＦＢ液中にファインバブル（以下、ＦＢ）を発生させ、洗浄液を生成する。
　ウルトラファインバブルは、液体中に形成される直径１μｍ未満の気泡である。ウルトラファインバブルを形成する気体は、空気、二酸化炭素、水素、二酸化炭素、不活性ガス又はオゾン等であり、特に限定されない。
　ファインバブルは、液体中に形成される直径１００μｍ以下の気泡である。ファインバブルを形成する気体は空気、二酸化炭素、水素、二酸化炭素、不活性ガス又はオゾン等であり、特に限定されない。
　ファインバブルには直径１μｍ以上１００μｍ以下のマイクロバブルや上記ウルトラファインバブルが含まれる。
　洗浄原液は、水、次亜塩素酸水、電解水、アルカリ洗浄水又は研磨用クーラント等の各種液体であり、ＵＦＢ及びＦＢを発生可能な液体であれば特に限定されない。
　槽１１０は、洗浄液Ｗを貯留する槽であり、洗浄対象物Ｓが洗浄液Ｗに浸漬され、洗浄が行われる。槽１１０には仕切板１１１が設けられ、仕切板１１１によって槽内が洗浄区画１１０ａと非洗浄区画１１０ｂに分けられている。仕切板１１１は、図１に示すように槽１１０の底面から一定の高さまで設けられ、洗浄区画１１０ａと非洗浄区画１１０ｂの間での洗浄液Ｗの移動を制限する。
　洗浄区画１１０ａは、洗浄対象物Ｓの洗浄が行われる区画である。洗浄区画１１０ａの底面にはバブリング装置１１２が配置され、洗浄対象物Ｓにバブリングが行われる。洗浄区画１１０ａにおいて洗浄液Ｗの液面の高さには液面排出口１１３が設けられ、底面には底面排出口１１４が設けられている。
　液面排出口１１３は、配管Ｌ１によって濾過タンク１２０に接続され、底面排出口１１４は配管Ｌ２によって濾過タンク１２０に接続されている。
　非洗浄区画１１０ｂは、洗浄液Ｗの供給及び循環に用いられる区画である。非洗浄区画１１０ｂには、流入口１１５、洗浄液供給口１１６、押出口１１７及びＵＦＢ液供給口１１８が設けられている。
　流入口１１５は、槽１１０から洗浄液生成部１４０に延びる循環経路（配管Ｌ１０）への流入口であり、槽１１０の底面に設けられている。洗浄液供給口１１６は、洗浄液供給部１５０から配管Ｌ１７を介して洗浄液Ｗが供給される供給口であり、流入口１１５の近傍に設けられている。
　押出口１１７は、洗浄液供給部１５０から配管Ｌ１８を介して洗浄液Ｗが供給される供給口であり、洗浄液Ｗの液面近傍に設けられている。押出口１１７は液面排出口１１３に向けられたノズルとすることができる。ＵＦＢ液供給口１１８は、ＵＦＢ液生成部１３０から配管Ｌ９を介してＵＦＢ液が供給される供給口であり、流入口１１５の近傍に設けられている。
　また、槽１１０には、洗浄液Ｗの液面の高さを検出する液面センサ１１９が設けられている。
　濾過タンク１２０は、液面排出口１１３及び底面排出口１１４から洗浄廃液が流入するタンクである。濾過タンク１２０にはフィルタ１２１が設けられ、フィルタ１２１の下流側には配管Ｌ１９を介して送液ポンプ１２２が接続され、送液ポンプ１２２は配管Ｌ２０を介して槽１１０に接続されている。
　ＵＦＢ液生成部１３０は、洗浄原液中にＵＦＢを発生させ、ＵＦＢ液を生成する。ＵＦＢ液生成部１３０は、ＵＦＢ液供給タンク１３１、気体送入部１３２、送液ポンプ１３３、フィルタ１３４、ＵＦＢ生成装置１３５及び熱交換器１３６を備える。
　ＵＦＢ液供給タンク１３１は、洗浄原液Ｇが供給されるタンクであり、かつ生成されたＵＦＢ液Ｒを貯留するタンクである。ＵＦＢ液供給タンク１３１は、配管Ｌ３を介して気体送入部１３２に接続されている。また、ＵＦＢ液供給タンク１３１は、配管Ｌ９を介してＵＦＢ液供給口１１８に接続されている。
　気体送入部１３２は、ＵＦＢ液供給タンク１３１から供給される洗浄原液ＧにＵＦＢを形成する気体Ａ１を送入する。気体Ａ１は、上述したように空気等とすることができる。気体送入部１３２は、洗浄原液Ｇの圧力を一時的に低下させ、気体Ａ１の送入を可能とするベンチュリ管とすることができる。気体送入部１３２は、配管Ｌ４を介して送液ポンプ１３３に接続されている。
　送液ポンプ１３３は、洗浄原液ＧをＵＦＢ液供給タンク１３１からＵＦＢ生成装置１３５に圧送する。送液ポンプ１３３は、配管Ｌ５を介してフィルタ１３４に接続されている。
　フィルタ１３４は、配管Ｌ５から流入する洗浄原液Ｇから不純物を除去する。フィルタ１３４は、配管Ｌ６を介してＵＦＢ生成装置１３５に接続されている。
　ＵＦＢ生成装置１３５は、配管Ｌ６から供給された洗浄原液Ｇに含まれる気体Ａ１の気泡を微細化してＵＦＢを発生させ、ＵＦＢ液Ｒを生成する。ＵＦＢ生成装置１３５の構成については後述する。ＵＦＢ生成装置１３５は配管Ｌ７を介して熱交換器１３６に接続されている。
　熱交換器１３６は、配管Ｌ６から供給されたＵＦＢ液Ｒを冷却する。ＵＦＢ液ＲはＵＦＢ生成装置１３５の通過によって高温となっているためである。熱交換器１３６の構造は特に限定されず、例えばプレート式熱交換器とすることができる。熱交換器１３６は配管Ｌ８によってＵＦＢ液供給タンク１３１に接続されている。
　洗浄液生成部１４０は、ＵＦＢ液Ｒ中にＦＢを発生させ、洗浄液Ｗを生成する。洗浄液生成部１４０は、送液ポンプ１４１、フィルタ１４２及びＦＢ生成装置１４３を備える。
　送液ポンプ１４１は、配管Ｌ１０を介して槽１１０に接続され、槽１１０に貯留されている液体（ＵＦＢ液Ｒ又は洗浄液Ｗ）を槽１１０からＦＢ生成装置１４３に圧送する。送液ポンプ１４１は、配管Ｌ１１を介してフィルタ１４２に接続されている。
　フィルタ１４２は、配管Ｌ１１から流入する液体から不純物を除去する。フィルタ１４２は、配管Ｌ１２を介してＦＢ生成装置１４３に接続されている。
　ＦＢ生成装置１４３は、槽１１０から供給される液体（ＵＦＢ液Ｒ又は洗浄液Ｗ）中にＦＢを形成する気体Ａ２を送入してＦＢを発生させる。気体Ａ２は上述のように空気等とすることができる。気体Ａ２は気体Ａ１と同一であっても良く、異なってもよい。
　ＦＢ生成装置１４３は、液体中に気体Ａ２を送入し、ＦＢを発生させることが可能なＦＢノズルとすることができる。また、ＦＢ生成装置１４３はＦＢノズルに限られず、ＦＢを発生させることが可能なものであればよい。ＦＢ生成装置１４３は、配管Ｌ１３を介して洗浄液供給部１５０に接続されている。
　洗浄液供給部１５０は、洗浄液Ｗを槽１１０に供給する。洗浄液供給部１５０は、分岐管ユニット１５１を備える。
　分岐管ユニット１５１は、洗浄液生成部１４０から延びる配管Ｌ１３に接続され、洗浄液Ｗの流路を分岐させる。分岐管ユニット１５１は、洗浄区画１１０ａに延びる配管Ｌ１４、バブリング装置１１２に延びる配管Ｌ１５、非洗浄区画１１０ｂに延びる配管Ｌ１６に流路を分岐させることができる。
　配管Ｌ１４は洗浄液Ｗを洗浄対象物Ｓに噴射する噴射口１５２に接続されている。配管Ｌ１４は洗浄対象物Ｓの異なる位置に洗浄液を噴射可能なように複数本が設けられているものが好適であるが、一本であってもよい。
　配管Ｌ１６は、洗浄液供給口１１６に延びる配管Ｌ１７と押出口１１７に延びる配管Ｌ１８にさらに分岐されている。配管Ｌ１６には、流量調整弁１５３が設けられ、配管Ｌ１８には流量調整弁１５４が設けられている。
　［ＵＦＢ生成装置の構成］
　図２はＵＦＢ生成装置１３５を示す斜視図であり、図３はＵＦＢ生成装置１３５の模式的断面図である。これら図に示すようにＵＦＢ生成装置１３５は、ケーシング１６１、固定板１６２、回転体１６３及び回転駆動源１６４を備える。
　図３に示すようにケーシング１６１は、固定板１６２と共に回転体１６３を収容する収容空間を形成する。ケーシング１６１にはケーシング１６１内に連通する送出口１６１ａが設けられている。送出口１６１ａには送出管１６１ｂが接続され、送出管１６１ｂは配管Ｌ７（図１参照）に接続されている。
　固定板１６２は、ケーシング１６１に固定された平板状の部材である。固定板１６２の中央部には送入口１６２ａが設けられ、送入口１６２ａには送入管１６２ｂが接続されている。送入管１６２ｂには配管Ｌ６（図１参照）が接続されている。
　回転体１６３は、収容空間に収容されている。図４は回転体１６３の斜視図である。同図に示すように回転体１６３は基板部１６５及び凹凸構造１６６を有する。回転体１６３は回転軸１６７に接続され、回転軸１６７を回転中心としてケーシング１６１及び固定板１６２に対して回転可能に支持されている。
　基板部１６５は円板状であり、基板部１６５の固定板１６２側の面には、凸部１６６ａと凹部１６６ｂから構成された凹凸構造１６６が設けられている。
　凹凸構造１６６は、回転体１６３の回転軸方向からみて六角形形状の複数の凹部１６６ｂと、複数の凹部１６６ｂを囲む凸部１６６ａから構成されるハニカム構造とすることができる。また、凹凸構造１６６はハニカム構造に限られず、凸部１６６ａが回転軸方向からみて格子状や放射状等の各種形状を有するものとすることも可能である。
　凹凸構造１６６と固定板１６２の間隙は気体含有液体が通過する流路として機能する。図３にこの流路を流路Ｄとして示す。
　回転駆動源１６４は、回転軸１６７に接続され、回転体１６３を回転させる。回転駆動源１６４は例えば、電動モーターとすることができる。
　ＵＦＢ生成装置１３５では、気体が送入された液体が送入口１６２ａから圧送され、流路Ｄを流れる。回転体１６３は、回転駆動源１６４によって回転駆動され、流路Ｄを流れる液体は、液体に印加されている圧力及び回転体１６３の回転による遠心力によって回転体１６３の外周に向かって流れる。
　流路Ｄを流れる液体には回転する回転体１６３によって剪断応力が印加され、凹部１６６ｂ内に噴流が発生する。凹部１６６ｂ内においてはこの噴流によって渦が発生し、液体中の気泡に作用する。これにより気泡が微細化され、液体中にＵＦＢが生成する。
　なお、ＵＦＢ生成装置１３５の構成はここに示すものに限られず、液体中にＵＦＢを発生させることが可能なものであればよい。
　［洗浄システムの動作］
　洗浄システム１００の動作について説明する。
　まず、ＵＦＢ液生成部１３０（図１参照）においてＵＦＢ液の生成を行う。ＵＦＢ液供給タンク１３１に洗浄原液Ｇが供給されると、送液ポンプ１３３は洗浄原液ＧをＵＦＢ生成装置１３５に圧送する。この際、気体送入部１３２は、洗浄原液Ｇに気体Ａ１を送入する。
　ＵＦＢ生成装置１３５は、上述のように洗浄原液Ｇに剪断応力を印加し、洗浄原液Ｇ中にＵＦＢを発生させる。これにより、ＵＦＢ液Ｒが生成される。生成したＵＦＢ液Ｒは熱交換器１３６によって冷却され、ＵＦＢ液供給タンク１３１に貯留される。
　このＵＦＢ液の生成プロセスは、ＵＦＢ液Ｒに含まれるＵＦＢが所望の密度になるまで実行することができる。
　続いて、ＵＦＢ液Ｒから洗浄液Ｗを生成する。ＵＦＢ液供給タンク１３１から、配管Ｌ９を介してＵＦＢ液供給口１１８にＵＦＢ液Ｒを供給する。送液ポンプ１４１は、ＵＦＢ液Ｒを槽１１０からＦＢ生成装置１４３に圧送する。
　ＦＢ生成装置１４３は、ＵＦＢ液Ｒに気体Ａ２を送入し、ＦＢを発生させる。これにより洗浄液Ｗが生成される。生成された洗浄液Ｗは洗浄液供給部１５０に供給される。
　洗浄液供給部１５０では、分岐管ユニット１５１によって洗浄液Ｗの流路が分岐され、噴射口１５２から槽１１０に洗浄液Ｗが噴射される。槽１１０の洗浄区画１１０ａに洗浄対象物Ｓを配置することにより、洗浄対象物Ｓに洗浄液Ｗが噴射され、洗浄対象物Ｓが洗浄される。
　この際、洗浄液Ｗに含まれるＵＦＢ及びＦＢは洗浄対象物Ｓの汚れを除去すると共に洗浄液Ｗ中から消失する。
　洗浄液Ｗは仕切板１１１を越えて非洗浄区画１１０ｂに流入し、流入口１１５に流入する。洗浄液Ｗは洗浄液生成部１４０によってＦＢが再生成される。ＵＦＢ液生成部１３０からはＵＦＢ液供給口１１８にＵＦＢ液Ｒが継続的に供給される。このようにして洗浄液Ｗ中のＵＦＢ及びＦＢの密度が維持され、洗浄対象物Ｓの洗浄が行われる。
　洗浄対象物Ｓから剥離された汚れは、洗浄区画１１０ａにおいて洗浄液Ｗの液面に浮上する。ここで、洗浄液Ｗの一部は洗浄液供給部１５０から押出口１１７に分岐され、押出口１１７から洗浄液Ｗの液面近傍に供給される。押出口１１７から放出された洗浄液Ｗの流れは、洗浄区画１１０ａにおいて液面に浮上した汚れを液面排出口１１３に向かって押し流し、液面排出口１１３から排出させる。
　さらに、洗浄液Ｗの一部は洗浄液供給部１５０から洗浄液供給口１１６に分岐され、洗浄液供給口１１６から非洗浄区画１１０ｂに供給される。洗浄液供給口１１６は流入口１１５の近傍に設けられており、流入口１１５の近傍に上昇流を形成する。これにより、液面に浮上した汚れが流入口１１５に流入することが防止されている。
　押出口１１７及び洗浄液供給口１１６へ供給される洗浄液Ｗの流量は、液面センサ１１９の出力を利用して流量調整弁１５３によって調整することができる。また、押出口１１７と洗浄液供給口１１６の間の流量は、流量調整弁１５４によって調整することができる。
　さらに、洗浄液Ｗの一部は洗浄液供給部１５０からバブリング装置１１２に供給される。バブリング装置１１２からは泡が浮上し、汚れの液面への浮上を補助する。なお、バブリング装置１１２は洗浄液Ｗに含まれるＵＦＢ及びＦＢをそのまま放出するものであってもよいが、より大きな泡（例えばマイクロバブル）を放出するものが好適である。バブリング装置１１２にＵＦＢ及びＦＢが衝突するような構造を設けることにより、ＵＦＢ及びＦＢをより大きな泡とすることができる。
　液面排出口１１３から排出された、洗浄液Ｗと汚れを含む洗浄廃液は濾過タンク１２０に供給され、フィルタ１２１によって汚れが除去される。フィルタ１２１を通過した洗浄液Ｗは送液ポンプ１２２によって槽１１０に戻され、再利用される。
　以上のようにして洗浄対象物Ｓの洗浄が行われる。なお、槽１１０において洗浄液Ｗに投込ヒーター等を投入し、洗浄液Ｗの温度を調整してもよい。洗浄終了後には、洗浄液Ｗと汚れを含む洗浄廃液は底面排出口１１４から濾過タンク１２０へ排出される。
　［洗浄システムの効果］
　上記のように、洗浄システム１００では、ＵＦＢとＦＢを含む洗浄液Ｗが洗浄対象物Ｓに噴射され、洗浄対象物Ｓが洗浄される。
　ＵＦＢは洗浄対象物Ｓ表面の汚れに衝突し、ＵＦＢの消滅時の衝撃圧あるいはＵＦＢによる接触角低下（ぬれ性向上）効果によって汚れを洗浄対象物Ｓから剥離させる。マイクロバブル（以下、ＭＢ）は浮上しやすいため、汚れを洗浄液Ｗの液面に浮上させる。
　また、ＦＢはマイナスの電荷を有し、汚れはプラスの電荷を有するため、汚れはＦＢに引き付けられ、ＦＢに包みこまれる。このため、ＦＢはＭＢと共に汚れを洗浄液Ｗの液面に浮上させる。
　このように、ＵＦＢとＦＢを含む洗浄液Ｗによって洗浄を行うことにより高い洗浄能力を発生させることが可能である。また、ＭＢは浮上しやすいため、ＭＢ生成後に短時間で消失するが、ＵＦＢは浮上しにくく、液体中に長時間存在する。したがって、ＵＦＢ液供給タンク１３１にＵＦＢ液Ｒを一定時間貯留しておくことが可能である。
　また、一般に洗浄対象物Ｓの洗浄はｐＨ１１～１２程度で行うが、何度も洗浄を行うとｐＨ濃度が低下する。これに対しＵＦＢ液供給タンク１３１を備えることにより、自動的にｐＨ濃度を一定に保つことが可能である。
　また、洗浄液供給部１５０によって洗浄液Ｗの流路を複数に分岐させることで洗浄対象物Ｓに複数の方向から洗浄液Ｗを噴射することができ、さらに洗浄能力を向上させることが可能であると共にＦＢ生成装置１４３の必要数を削減することが可能である。
　さらに、バブリング装置１１２からバブリングを行うことにより、汚れをより浮上させやすくし、押出口１１７から液面排出口１１３に向かって洗浄液Ｗの流れを発生させることにより、汚れの速やかな排出と排出される洗浄液Ｗの削減が可能である。
　また、洗浄液供給口１１６から洗浄液Ｗを供給することにより、汚れが流入口１１５に流入することが防止されており、高い利用効率で洗浄液Ｗを利用することができる。
　加えて、噴射口１５２、バブリング装置１１２、洗浄液供給口１１６及び押出口１１７への洗浄液Ｗの供給は、一つの送液ポンプ１４１による圧送によってなされている。このため、個別に動力源を設ける必要がなく、省力化が可能である。
　（第２の実施形態）
　本発明の第２の実施形態に係る洗浄システムについて説明する。
　［洗浄システムの構成］
　図５は、本実施形態に係る洗浄システム２００の構成を示す模式図である。同図に示すように、洗浄システム２００は、槽２１０、ＵＦＢ液生成部２３０、洗浄液生成部２４０及び洗浄液供給部２５０から構成されている。
　洗浄システム２００の各部は配管Ｌ１～Ｌ１２によって接続され、各配管には開閉弁Ｂ、圧力計Ｐ、流量計Ｆ及び温度計Ｔが設けられている。
　洗浄システム２００は、第１の実施形態と同様に洗浄原液が供給されると、洗浄原液中にＵＦＢを発生させ、ＵＦＢ液を生成する。さらにＵＦＢ液中に以下、ＦＢを発生させ、洗浄液を生成する。ＵＦＢ及びＦＢを形成する気体と洗浄原液の種類は第１の実施形態と同様である。
　槽２１０は、洗浄液Ｗを貯留する槽であり、洗浄対象物Ｓが洗浄液Ｗに浸漬され、洗浄が行われる。槽２１０の底面にはバブリング装置２１２が配置され、洗浄対象物Ｓにバブリングが行われる。
　槽２１０において洗浄液Ｗの液面の高さには液面排出口２１３が設けられている。液面排出口２１３は、第１の実施形態と同様に図示しない濾過タンクに接続されるものとすることができる。
　また、槽２１０において洗浄液Ｗの液面近傍には押出口２１７が設けられている。押出口２１７は、洗浄液供給部２５０から配管Ｌ１２を介して洗浄液Ｗが供給される供給口である。押出口２１７は液面排出口２１３に向けられたノズルとすることができる。
　ＵＦＢ液生成部２３０は、洗浄原液中にＵＦＢを発生させ、ＵＦＢ液を生成する。ＵＦＢ液生成部２３０は、ＵＦＢ液供給タンク２３１、気体送入部２３２、送液ポンプ２３３、フィルタ２３４、ＵＦＢ生成装置２３５及び熱交換器２３６を備える。
　ＵＦＢ液供給タンク２３１は、洗浄原液Ｇが供給されるタンクであり、かつ生成されたＵＦＢ液Ｒを貯留するタンクである。ＵＦＢ液供給タンク２３１は、配管Ｌ１を介して気体送入部２３２に接続されている。また、ＵＦＢ液供給タンク１３１は、配管Ｌ７を介して洗浄液生成部２４０に接続されている。
　気体送入部２３２は、ＵＦＢ液供給タンク２３１から供給される洗浄原液ＧにＵＦＢを形成する気体Ａ１を送入する。気体送入部２３２は、洗浄原液Ｇの圧力を一時的に低下させ、気体Ａ１の送入を可能とするベンチュリ管とすることができる。また、気体送入部２３２は、気体Ａ１の送入が可能なものであればベンチュリ管でなくてもよい。気体送入部２３２は、配管Ｌ２を介して送液ポンプ２３３に接続されている。
　送液ポンプ２３３は、洗浄原液ＧをＵＦＢ液供給タンク２３１からＵＦＢ生成装置２３５に圧送する。送液ポンプ２３３は、配管Ｌ３を介してフィルタ２３４に接続されている。
　フィルタ２３４は、配管Ｌ３から流入する洗浄原液Ｇから不純物を除去する。フィルタ２３４は、配管Ｌ４を介してＵＦＢ生成装置２３５に接続されている。
　ＵＦＢ生成装置２３５は、洗浄原液Ｇに含まれる気体の気泡を微細化してＵＦＢを発生させる。ＵＦＢ生成装置２３５は第１の実施形態に係るＵＦＢ生成装置１３５と同様の構成とすることができる。ＵＦＢ生成装置２３５は配管Ｌ５を介して熱交換器２３６に接続されている。
　熱交換器２３６は、配管Ｌ５から供給されたＵＦＢ液Ｒを冷却する。熱交換器２３６の構造は特に限定されず、例えばプレート式熱交換器とすることができる。熱交換器２３６は配管Ｌ６によってＵＦＢ液供給タンク２３１に接続されている。
　洗浄液生成部２４０は、ＵＦＢ液体中にＦＢを発生させ、洗浄液Ｗを生成する。洗浄液生成部２４０は、送液ポンプ２４１及びＦＢ生成装置２４３を備える。
　送液ポンプ２４１は、配管Ｌ７を介してＵＦＢ液供給タンク２３１に接続され、ＵＦＢ液をＵＦＢ液供給タンク２３１からＦＢ生成装置２４３に圧送する。送液ポンプ２４１は、配管Ｌ８を介してＦＢ生成装置２４３に接続されている。
　ＦＢ生成装置２４３は、ＵＦＢ液Ｒ中にＦＢを形成する気体Ａ２を送入し、ＦＢを発生させる。気体Ａ２は気体Ａ１と同一であっても良く、異なってもよい。
　ＦＢ生成装置２４３は、液体中に気体Ａ２を送入し、ＦＢを発生させることが可能なＦＢノズルとすることができる。また、ＦＢ生成装置２４３はＦＢノズルに限られず、ＦＢを発生させることが可能なものであればよい。ＦＢ生成装置２４３は、配管Ｌ９を介して洗浄液供給部２５０に接続されている。
　洗浄液供給部２５０は、洗浄液Ｗを槽２１０に供給する。洗浄液供給部２５０は、分岐管ユニット２５１を備える。
　分岐管ユニット２５１は、配管Ｌ９に接続され、洗浄液Ｗの流路を分岐させる。分岐管ユニット２５１は、槽２１０内に延びる配管Ｌ１０、バブリング装置２１２に延びる配管Ｌ１１及び押出口２１７に延びる配管Ｌ１２に流路を分岐させることができる。配管Ｌ１２には、流量調整弁２５４が設けられている。
　配管Ｌ１０は洗浄液Ｗを噴射する噴射口２５２に接続されている。配管Ｌ１０は洗浄対象物Ｓの異なる位置に洗浄液を噴射可能なように複数本が設けられているものが好適であるが、一本であってもよい。
　［洗浄システムの動作］
　洗浄システム２００の動作について説明する。
　まず、ＵＦＢ液生成部２３０においてＵＦＢ液Ｒの生成を行う。ＵＦＢ液供給タンク２３１に洗浄原液Ｇが供給されると、送液ポンプ２３３は洗浄原液ＧをＵＦＢ生成装置２３５に圧送する。この際、気体送入部２３２は、洗浄原液Ｇに気体Ａ１を送入する。
　ＵＦＢ生成装置２３５は、洗浄原液Ｇに剪断応力を印加し、洗浄原液Ｇ中にＵＦＢを発生させる。これにより、ＵＦＢ液Ｒが生成される。生成したＵＦＢ液Ｒは熱交換器２３６によって冷却され、ＵＦＢ液供給タンク２３１に貯留される。
　このＵＦＢ液の生成プロセスは、ＵＦＢ液Ｒ中に含まれるＵＦＢが所望の密度になるまで実行することができる。
　続いて、ＵＦＢ液Ｒから洗浄液Ｗを生成する。ＵＦＢ液供給タンク２３１から配管Ｌ７を介して送液ポンプ２４１にＵＦＢ液Ｒを供給し、送液ポンプ２４１は、ＵＦＢ液ＲをＦＢ生成装置２４３に圧送する。
　ＦＢ生成装置２４３は、ＵＦＢ液Ｒに気体Ａ２を送入し、ＦＢを発生させる。これにより洗浄液Ｗが生成される。生成された洗浄液Ｗは洗浄液供給部２５０に供給される。
　洗浄液供給部２５０では、分岐管ユニット２５１によって洗浄液Ｗの流路が分岐され、噴射口２５２から槽２１０に洗浄液Ｗが噴射される。槽２１０に洗浄対象物Ｓを配置することにより、洗浄対象物Ｓに洗浄液Ｗが出射され、洗浄対象物Ｓが洗浄される。
　洗浄対象物Ｓから剥離された汚れは、槽２１０において洗浄液Ｗの液面に浮上する。ここで、洗浄液Ｗの一部は洗浄液供給部２５０から押出口２１７に分岐され、押出口２１７から洗浄液Ｗの液面近傍に供給される。押出口２１７から放出された洗浄液Ｗの流れは、液面に浮上した汚れを液面排出口２１３に向かって押し流し、液面排出口２１３から排出させる。
　押出口２１７へ供給される洗浄液Ｗの流量は、流量調整弁２５４によって調整することができる。
　また、洗浄液Ｗの一部は洗浄液供給部２５０からバブリング装置２１２に供給される。バブリング装置２１２からは泡が浮上し、汚れの液面への浮上を補助する。なお、バブリング装置１１２は洗浄液Ｗに含まれるＵＦＢ及びＦＢをそのまま放出するものであってもよいが、より大きな泡（例えばマイクロバブル）を放出するものが好適である。バブリング装置２１２にＵＦＢ及びＦＢが衝突するような構造を設けることにより、ＵＦＢ及びＦＢをより大きな泡とすることができる。
　以上のようにして洗浄対象物Ｓの洗浄が行われる。なお、槽２１０において洗浄液Ｗに投込ヒーター等を投入し、洗浄液Ｗの温度を調整してもよい。洗浄終了後には、洗浄液Ｗと汚れを含む廃液は図示しない底面排出口から濾過タンクへ排出される。
　［洗浄システムの効果］
　洗浄システム２００では、第１の実施形態と同様にＵＦＢとＦＢを含む洗浄液Ｗによって洗浄を行うことにより高い洗浄能力を発生させることが可能である。また、洗浄液の効率的な利用と省力化が可能である。
　（第３の実施形態）
　本発明の第３の実施形態に係る洗浄システムについて説明する。
　［洗浄システムの構成］
　図６は、本実施形態に係る洗浄システム３００の構成を示す模式図である。同図に示すように、洗浄システム３００は、槽３１０、ＵＦＢ液生成部３３０、洗浄液生成部３４０及び洗浄液供給部３５０から構成されている。
　洗浄システム３００の各部は配管Ｌ１～Ｌ９によって接続され、各配管には開閉弁Ｂ、圧力計Ｐ、流量計Ｆ及び温度計Ｔが設けられている。
　洗浄システム３００は、第１の実施形態と同様に洗浄原液が供給されると、洗浄原液中にＵＦＢを発生させ、ＵＦＢ液を生成する。さらにＵＦＢ液中にＦＢを発生させ、洗浄液を生成する。ＵＦＢ及びＦＢを形成する気体と洗浄原液の種類は第１の実施形態と同様である。
　槽３１０は、洗浄液Ｗを貯留する槽であり、洗浄対象物Ｓが洗浄液Ｗに浸漬され、洗浄が行われる。槽３１０の底面にはバブリング装置３１２が配置され、洗浄対象物Ｓにバブリングが行われる。
　槽３１０において洗浄液Ｗの液面の高さには液面排出口３１３が設けられている。液面排出口３１３は、第１の実施形態と同様に図示しない濾過タンクに接続されるものとすることができる。
　また、槽３１０において洗浄液Ｗの液面近傍には押出口３１７が設けられている。押出口３１７は、洗浄液供給部３５０から配管Ｌ９を介して洗浄液Ｗが供給される供給口である。押出口３１７は液面排出口３１３に向けられたノズルとすることができる。
　ＵＦＢ液生成部３３０は、洗浄原液中にＵＦＢを発生させ、ＵＦＢ液を生成する。ＵＦＢ液生成部３３０は、洗浄原液供給タンク３３１、気体送入部３３２、送液ポンプ３３３、フィルタ３３４及びＵＦＢ生成装置３３５を備える。
　洗浄原液供給タンク３３１は、洗浄原液Ｇが供給されるタンクである。洗浄原液供給タンク３３１は、配管Ｌ１を介して気体送入部３３２に接続されている。
　気体送入部３３２は、洗浄原液供給タンク３３１から供給される洗浄原液ＧにＵＦＢを形成する気体Ａ１を送入する。気体送入部３３２は、洗浄原液Ｇの圧力を一時的に低下させ、気体Ａ１の送入を可能とするベンチュリ管とすることができる。また、気体送入部３３２は、気体Ａ１の送入が可能なものであればベンチュリ管でなくてもよい。気体送入部３３２は、配管Ｌ２を介して送液ポンプ３３３に接続されている。
　送液ポンプ３３３は、洗浄原液Ｇを洗浄原液供給タンク３３１からＵＦＢ生成装置３３５に圧送する。送液ポンプ３３３は、配管Ｌ３を介してフィルタ３３４に接続されている。
　フィルタ３３４は、配管Ｌ３から流入する洗浄原液Ｇから不純物を除去する。フィルタ３３４は、配管Ｌ４を介してＵＦＢ生成装置３３５に接続されている。
　ＵＦＢ生成装置３３５は、配管Ｌ４から供給された液体に含まれる気体の気泡を微細化し、ＵＦＢを発生させる。ＵＦＢ生成装置３３５は第１の実施形態に係るＵＦＢ生成装置１３５と同様の構成とすることができる。ＵＦＢ生成装置３３５は配管Ｌ５を介して洗浄液生成部３４０に接続されている。
　洗浄液生成部３４０は、ＵＦＢ液Ｒ中にＦＢを発生させ、洗浄液を生成する。洗浄液生成部３４０は、ＦＢ生成装置３４３を備える。
　ＦＢ生成装置３４３は、ＵＦＢ液Ｒ中にＦＢを形成する気体Ａ２を送入し、ＦＢを発生させる。気体Ａ２は気体Ａ１と同一であっても良く、異なってもよい。
　ＦＢ生成装置３４３は、液体中に気体Ａ２を送入し、ＦＢを発生させることが可能なＦＢノズルとすることができる。また、ＦＢ生成装置３４３はＦＢノズルに限られず、ＦＢを発生させることが可能なものであればよい。ＦＢ生成装置３４３は、配管Ｌ６を介して洗浄液供給部３５０に接続されている。
　洗浄液供給部３５０は、洗浄液Ｗを槽３１０に供給する。洗浄液供給部３５０は、分岐管ユニット３５１を備える。
　分岐管ユニット３５１は、配管Ｌ６に接続され、洗浄液Ｗの流路を分岐させる。分岐管ユニット３５１は、槽３１０の槽内に延びる配管Ｌ７、バブリング装置３１２に延びる配管Ｌ８及び押出口３１７に延びる配管Ｌ９に流路を分岐させることができる。配管Ｌ９には、流量調整弁３５４が設けられている。
　配管Ｌ７は洗浄液Ｗを噴射する噴射口３５２に接続されている。配管Ｌ７は洗浄対象物Ｓの異なる位置に洗浄液を噴射可能なように複数本が設けられているものが好適であるが、一本であってもよい。
　［洗浄システムの動作］
　洗浄システム３００の動作について説明する。
　まず、ＵＦＢ液生成部３３０においてＵＦＢ液の生成を行う。洗浄原液供給タンク３３１に洗浄原液Ｇが供給されると、送液ポンプ３３３は洗浄原液ＧをＵＦＢ生成装置３３５に圧送する。この際、気体送入部３３２は、洗浄原液Ｇに気体Ａ１を送入する。
　ＵＦＢ生成装置３３５は、洗浄原液Ｇに剪断応力を印加し、洗浄原液Ｇ中にＵＦＢを発生させる。これにより、ＵＦＢ液Ｒが生成される。生成したＵＦＢ液Ｒは洗浄液生成部３４０に圧送される。
　続いて、ＵＦＢ液Ｒから洗浄液Ｗを生成する。ＦＢ生成装置３４３は、ＵＦＢ液Ｒに気体Ａ２を送入し、ＦＢを発生させる。これにより洗浄液Ｗが生成される。生成された洗浄液Ｗは洗浄液供給部３５０に供給される。
　洗浄液供給部３５０では、分岐管ユニット３５１によって洗浄液Ｗの流路が分岐され、噴射口３５２から槽３１０に洗浄液Ｗが噴射される。槽３１０に洗浄対象物Ｓを配置することにより、洗浄対象物Ｓに洗浄液Ｗが出射され、洗浄対象物Ｓが洗浄される。
　洗浄対象物Ｓから剥離された汚れは、槽３１０において洗浄液Ｗの液面に浮上する。ここで、洗浄液Ｗの一部は洗浄液供給部３５０から押出口３１７に分岐され、押出口３１７から洗浄液Ｗの液面近傍に供給される。押出口３１７から放出された洗浄液Ｗの流れは、液面に浮上した汚れを液面排出口３１３に向かって押し流し、液面排出口３１３から排出させる。
　また、洗浄液Ｗの一部は洗浄液供給部３５０からバブリング装置３１２に供給される。バブリング装置３１２からは泡が浮上し、汚れの液面への浮上を補助する。なお、バブリング装置３１２は洗浄液Ｗに含まれるＵＦＢ及びＦＢをそのまま放出するものであってもよいが、より大きな泡（例えばマイクロバブル）を放出するものが好適である。バブリング装置３１２にＵＦＢ及びＦＢが衝突するような構造を設けることにより、ＵＦＢ及びＦＢをより大きな泡とすることができる。
　以上のようにして洗浄対象物Ｓの洗浄が行われる。なお、槽３１０において洗浄液Ｗに投込ヒーター等を投入し、洗浄液Ｗの温度を調整してもよい。洗浄終了後には、洗浄液Ｗと汚れを含む廃液は図示しない底面排出口から濾過タンクへ排出される。
　［洗浄システムの効果］
　洗浄システム３００では、第１及び第２のの実施形態と同様にＵＦＢとＦＢを含む洗浄液Ｗによって洗浄を行うことにより高い洗浄能力を発生させることが可能である。また、洗浄液の効率的な利用と省力化が可能である。
　（変形例）
　上記各実施形態に係る洗浄システムは槽に浸漬させた洗浄対象物を洗浄するものとしたが、槽自体を洗浄するものであってもよい。
　また、上記各実施形態に係る洗浄システムでは槽の液面近傍に設けた押出口から洗浄液を流し、洗浄液の液面に浮上した汚れを押し流すものとしたが、これに限られない。例えば洗浄液の液面において液面排出口に向けて送風することによって、洗浄液の液面に浮上した汚れを押し流してもよい。
　さらに、上記各実施形態に係る洗浄システムでは分岐管ユニットによって洗浄液を分岐させ、バブリング装置に洗浄液を供給するものとしたがこれに限られない。バブリング装置には、別途空気等を供給する配管を接続し、バブリングを行ってもよい。
　１００、２００、３００…洗浄システム
　１１０、２１０、３１０…槽
　１１１…仕切板
　１１２、２１２、３１２…バブリング装置
　１３０、２３０、３３０…ＵＦＢ液生成部
　１３５、２３５、３３５…ＵＦＢ生成装置
　１４０、２４０、３４０…洗浄液生成部
　１４３、２４３、３４３…ＦＢ生成装置
　１５０、２５０、３５０…洗浄液供給部
　１５１、２５１、３５１…分岐管ユニット

Claims (12)

  1. 　洗浄原液中にウルトラファインバブルを発生させ、ウルトラファインバブル液を生成するウルトラファインバブル生成装置と、
    　前記ウルトラファインバブル液中にファインバブルを発生させ、洗浄液を生成するファインバブル生成装置と、
    　前記洗浄液が供給される槽と
    　を具備する洗浄システム。
  2. 　請求項１に記載の洗浄システムであって、
    　前記ファインバブル生成装置に接続され、前記洗浄液の流路を複数の流路に分岐させ、前記槽に供給する分岐管ユニットをさらに具備する
    　洗浄システム。
  3. 　請求項２に記載の洗浄システムであって、
    　前記槽は、前記洗浄液の液面の高さに設けられた液面排出口と、前記液面排出口に向けて前記洗浄液を押出する押出口とを備え、
    　前記複数の流路のうちの一つは前記押出口に接続されている
    　洗浄システム。
  4. 　請求項２に記載の洗浄システムであって、
    　前記槽に配置され、前記複数の流路のうちの一つが接続されたバブリング装置をさらに具備する
    　洗浄システム。
  5. 　請求項２に記載の洗浄システムであって、
    　前記槽内の前記洗浄液を前記ファインバブル生成装置に供給する循環経路を有する
    　洗浄システム。
  6. 　請求項５に記載の洗浄システムであって、
    　前記槽は、前記槽の槽内を、洗浄対象物が浸漬される洗浄区画と、前記循環経路への流入口が設けられた非洗浄区画に分ける仕切板を備える
    　洗浄システム。
  7. 　請求項６に記載の洗浄システムであって、
    　前記非洗浄区画には、前記ウルトラファインバブル生成装置から前記ウルトラファインバブル液が供給されるウルトラファインバブル液供給口が設けられている
    　洗浄システム。
  8. 　請求項６に記載の洗浄システムであって、
    　前記非洗浄区画には、前記複数の流路のうちの一つが接続された洗浄液供給口が設けられている
    　洗浄システム。
  9. 　請求項６に記載の洗浄システムであって、
    　前記槽は、前記洗浄液の液面の高さに設けられた液面排出口と、前記液面排出口に向けて前記洗浄液を押出する押出口とを備え、
    　前記複数の流路のうちの一つは前記押出口に接続され、
    　前記液面排出口は前記洗浄区画に設けられ、前記押出口は前記非洗浄区画に設けられている
    　洗浄システム。
  10. 　請求項１に記載の洗浄システムであって、
    　前記槽内の前記洗浄液を前記ファインバブル生成装置に供給する循環経路を有し、
    　前記ウルトラファインバブル液は前記ウルトラファインバブル生成装置からウルトラファインバブル液供給タンクに供給され、前記ウルトラファインバブル液供給タンクから前記槽へ供給され、
    　前記ウルトラファインバブル生成装置は前記ウルトラファインバブル液供給タンクから前記洗浄原液が供給される
    　洗浄システム。
  11. 　請求項１に記載の洗浄システムであって、
    　前記ウルトラファインバブル液は前記ウルトラファインバブル生成装置からウルトラファインバブル液供給タンクに供給され、前記ウルトラファインバブル液供給タンクから前記ファインバブル生成装置へ供給され、
    　前記ウルトラファインバブル生成装置は前記ウルトラファインバブル液供給タンクから前記洗浄原液が供給される
    　洗浄システム。
  12. 　請求項１に記載の洗浄システムであって、
    　前記ウルトラファインバブル液は前記ウルトラファインバブル生成装置から前記ファインバブル生成装置へ供給され、
    　前記ウルトラファインバブル生成装置は洗浄原液供給タンクから前記洗浄原液が供給される
    　洗浄システム。
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2002096012A (ja) * 2000-09-26 2002-04-02 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置
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