WO2020044525A1 - 防湿材料及び回路基板 - Google Patents

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Definitions

  • the present invention relates to a moisture-proof material and a circuit board.
  • Electronic equipment includes a circuit board in which elements such as semiconductor chips are mounted on a support member such as a wiring board. 2. Description of the Related Art In recent years, there has been an increasing demand for thinner circuit boards in accordance with changes in use methods, use environments, and the like of electronic devices. Therefore, replacement of a conventional substrate made of a semiconductor, glass, or the like with a resin substrate is being studied.
  • Patent Document 1 describes a polyimide film used as a substrate of a flexible device such as an organic EL device.
  • Patent Literature 1 describes that a barrier layer containing an inorganic oxide is formed on a polyimide film by vapor deposition or the like. However, a means that can impart moisture-proof performance to a resin substrate by a simpler method is desired.
  • One embodiment of the present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object to provide a moisture-proof material used for moisture-proof treatment of a circuit board containing a resin, and a circuit board including the moisture-proof material.
  • ⁇ 1> A film-shaped moisture-proof material used for moisture-proof treatment of a circuit board containing a resin.
  • ⁇ 4> The moisture-proof material according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 3>, which has a property of being cured by irradiation with actinic radiation.
  • ⁇ 5> The moisture-proof material according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 4>, wherein the storage elastic modulus at 25 ° C is 500 MPa or less.
  • ⁇ 6> The moisture-proof material according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 5>, wherein the 5% weight loss temperature is 250 ° C or higher.
  • ⁇ 7> The moisture-proof material according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 6>, comprising a resin containing a maleimide group.
  • a circuit board comprising the moisture-proof material according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 7> and containing a resin.
  • ⁇ 9> The circuit board according to claim 8, wherein the thickness of the circuit board is 0.1 mm or less.
  • a moisture-proof material used for moisture-proof treatment of a circuit board containing a resin, and a circuit board including the moisture-proof material are provided.
  • the present invention is not limited to the following embodiments.
  • the components including the element steps and the like
  • the numerical ranges indicated by using “to” include the numerical values described before and after “to” as the minimum value and the maximum value, respectively.
  • the upper limit or lower limit described in one numerical range may be replaced with the upper limit or lower limit of the numerical range described in other stages.
  • the upper limit or the lower limit of the numerical range may be replaced with the value shown in the embodiment.
  • the content of each component in the composition if there are multiple types of substances corresponding to each component in the composition, unless otherwise specified, the total of the plurality of types of substances present in the composition Means content.
  • the particle size of each component in the composition when there are a plurality of particles corresponding to each component in the composition, unless otherwise specified, for a mixture of the plurality of particles present in the composition Means the value of the term "layer" includes, when observing a region where the layer exists, in addition to a case where the layer is formed over the entire region, a case where the layer is formed only on a part of the region. included.
  • the moisture-proof material of the present disclosure is a film-like moisture-proof material to be used for moisture-proof treatment of a circuit board containing a resin (hereinafter, also simply referred to as a circuit board).
  • the moisture-proof material of the present disclosure is formed into a film, the moisture-proof property can be imparted to the resin substrate by a simpler method than when a barrier layer is formed on a circuit board by a method such as vapor deposition.
  • the “film-shaped moisture-proof material” has at least an area corresponding to a region including a region where the moisture-proof performance of the circuit board is to be imparted, and has a thickness (the maximum thickness when the thickness is not constant). (Value) is 100 ⁇ m or less and means a moisture-proof material that is solid at normal temperature (25 ° C.).
  • the method of arranging the moisture-proof material on the circuit board is not particularly limited, and can be performed by a general method such as a lamination method. From the viewpoint of suppressing the influence of moisture on the elements mounted on the circuit board, the moisture-proof material is preferably disposed on the surface of the circuit board opposite to the side on which the elements are disposed.
  • the thickness of the moisture-proof material is not particularly limited, and can be selected according to the size of the circuit board, the required moisture-proof performance, and the like. For example, it may be selected from the range of 1 ⁇ m to 100 ⁇ m.
  • the moisture-proof material preferably has a viscosity at at least a portion of 60 ° C. to 150 ° C. (hereinafter also referred to as a viscosity at heating) of 100 Pa ⁇ s or less, more preferably 50 Pa ⁇ s or less, and 20 Pa ⁇ s or less. It is more preferred that: If the viscosity of the moisture-proof material at the time of heating is 100 Pa ⁇ s or less, the moisture-proof material tends to be softened by heating and the adhesion to the circuit board is further improved.
  • the temperature at which the viscosity of the moisture-proof material at the time of heating is measured may be the temperature at which the moisture-proof material placed on the circuit board is heated when the circuit board is manufactured.
  • the viscosity at 120 ° C. is preferably 100 Pa ⁇ s or less, more preferably 50 Pa ⁇ s or less, even more preferably 20 Pa ⁇ s or less.
  • the lower limit of the viscosity of the moisture-proof material is not particularly limited.
  • the liquid is not liquefied by heating at the time of manufacturing the circuit board.
  • the viscosity is preferably 1 Pa ⁇ s or more in the entire range of 60 ° C. to 150 ° C.
  • the viscosity at 120 ° C. is preferably 1 Pa ⁇ s or more.
  • the viscosity of the moisture-proof material means the viscosity of the moisture-proof material before it is used for the moisture-proof treatment of the circuit board, and is specifically a value measured by a viscoelasticity measurement method (rheometer).
  • the moisture-proof material preferably has low elasticity.
  • the storage elastic modulus at 25 ° C. is preferably 500 MPa or less, more preferably 300 MPa or less, and even more preferably 100 MPa or less.
  • the storage elastic modulus at 25 ° C. is 500 MPa or less, a decrease in adhesion due to a difference in thermal expansion coefficient between the moisture-proof material and the circuit board or the like is suppressed, and good moisture-proof performance tends to be maintained. In addition, the occurrence of warpage of the circuit board tends to be suppressed.
  • the storage elastic modulus of the moisture-proof material means the storage elastic modulus in a state used for the moisture-proof treatment of the circuit board (when cured, the cured state). This is a value measured by a measurement method (DMA).
  • DMA measurement method
  • the moisture-proof material preferably has low moisture permeability.
  • the moisture permeability at 40 ° C. and 90% RH relative humidity
  • the moisture permeability at 40 ° C. and 90% RH is preferably 100 g / m 2 / day or less, more preferably 80 g / m 2 / day or less, and more preferably 50 g / m 2 / day. More preferably, it is not more than m 2 / day.
  • the moisture permeability of the moisture-proof material means the moisture permeability in a state used for the moisture-proof treatment of the circuit board (when cured, when cured), specifically, measured by a moisture-sensitive sensor method. Value.
  • the moisture-proof material preferably has excellent heat resistance.
  • the 5% weight loss temperature is preferably 250 ° C. or higher, more preferably 300 ° C. or higher, and even more preferably 350 ° C. or higher.
  • the 5% weight loss temperature of the moisture-proof material means a 5% weight loss temperature in a state used for the moisture-proof treatment of the circuit board (when cured, the cured state). This is a value measured by thermogravimetric differential thermal analysis (TG-DTA).
  • the moisture-proof material preferably has a property of being cured by irradiation with actinic radiation.
  • the actinic rays include ultraviolet rays (UV).
  • the moisture-proof material may further have a property of being cured by heating.
  • the state of the moisture-proof material before use in the moisture-proof treatment of the circuit board is not particularly limited.
  • it may be a laminated body in which a layer of a moisture-proof material is formed on a substrate such as polyethylene terephthalate (PET).
  • PET polyethylene terephthalate
  • the surface on the moisture-proof material side of the laminate is attached to the circuit board, and then the base material is removed, so that the moisture-proof material can be disposed on the circuit board.
  • the moisture-proof material may be in direct contact with the circuit board, or may have another member interposed between the circuit board and the moisture-proof material. .
  • the type of the resin contained in the moisture-proof material is not particularly limited, and can be selected according to the desired properties of the moisture-proof material (for example, the above-mentioned viscosity at heating, moisture permeability and elastic modulus).
  • the resin contained in the moisture-proof material may be one kind or two or more kinds. Further, it may further contain components such as a polymerization initiator (such as dicumyl peroxide) and a solvent (such as toluene).
  • the moisture barrier material comprises a resin containing a maleimide group.
  • the resin containing a maleimide group include a resin (bismaleimide resin) represented by the following formula (1).
  • R is each independently a divalent hydrocarbon group, and n is an integer of 1 to 10.
  • A is each independently a divalent linking group.
  • R in the formula (1) is preferably a divalent aliphatic hydrocarbon group.
  • the divalent aliphatic hydrocarbon group represented by R may have a cyclic structure or a branched structure.
  • the carbon number of R in the formula (1) is preferably independently 20 to 60, more preferably 30 to 50.
  • a hydrocarbon chain between the adjacent maleimide group and A (or A and A) (when the hydrocarbon chain has a cyclic structure or a branched structure, the adjacent maleimide group and A (or
  • the number of carbon atoms is preferably from 10 to 30, and more preferably from 15 to 25.
  • the number of carbon atoms in the hydrocarbon chain in the following formula (2) is 18.
  • AA in the formula (1) is not particularly limited as long as it can bond to a hydrocarbon group R.
  • Specific examples include a linking group containing a functional group such as an imide group, an amide group, and a urethane group.
  • A may contain an aromatic ring.
  • A may be a linking group represented by the structure:
  • Specific examples of the resin represented by the formula (1) include a resin represented by the following formula (2).
  • n is an integer of 1 to 10.
  • the resin represented by the formula (1) or the formula (2) has a large degree of viscosity decrease due to heating, has UV curability, has low moisture permeability, has low elasticity, and has excellent heat resistance. Since it has properties, it is suitable as a moisture-proof material.
  • the method for producing the moisture-proof material is not particularly limited. For example, it can be produced by forming a layer of a mixture of raw materials (resin, polymerization initiator, solvent, etc.) of a moisture-proof material on a base material such as PET by a known method, and performing a drying treatment or the like as necessary. .
  • a circuit board according to an embodiment of the present disclosure is a circuit board including the above-described moisture-proof material and including a resin.
  • the circuit board on which the moisture-proof material is disposed is not particularly limited as long as it contains a resin.
  • the resin contained in the circuit board include polyimide, polyester, epoxy resin, and phenol resin.
  • a circuit board made of polyimide has a relatively high moisture permeability, so that the effect of performing a moisture-proof treatment using a moisture-proof material is great.
  • the thickness of the circuit board is not particularly limited. Since the moisture permeability of a circuit board containing a resin tends to increase as the thickness of the circuit board decreases, the effect of performing a moisture-proof treatment using a moisture-proof material on a circuit board having a smaller thickness is greater.
  • the thickness of the circuit board may be, for example, 0.1 mm or less, 0.05 mm or less, or 0.025 mm or less.
  • the lower limit of the thickness of the circuit board may be, for example, 0.01 mm or more.
  • the circuit board may have flexibility as needed. Although a flexible circuit board tends to be more warped than a rigid circuit board, appropriate selection of a moisture-proof material can reduce warping even if the circuit board has flexibility. Can be suppressed.
  • the position where the moisture-proof material is provided on the circuit board is not particularly limited. From the viewpoint of moisture-proof performance, it is preferably provided on at least one surface of the circuit board, and more preferably provided on a surface opposite to the surface on which the elements of the circuit board are arranged.
  • the circuit board may include elements as necessary.
  • the element include an active element such as a semiconductor chip, a transistor, a diode, a light emitting diode, and a thyristor, and a passive element such as a capacitor, a resistor, a resistor array, a coil, and a switch.
  • the circuit board manufactured by the above method can be used for various electronic devices. Since the circuit board manufactured by the above method is excellent in moisture proof properties, it can be particularly preferably used for electronic devices requiring moisture proof properties such as smartphones, smart watches, portable computers, image display devices, and electric vehicles. .
  • a method for manufacturing a circuit board including a moisture-proof material is not particularly limited. For example, it can be obtained by arranging a moisture-proof material on at least one surface of the circuit board and bringing the moisture-proof material into close contact with the circuit board (adhesion step).
  • a method for performing the adhesion step include lamination processing and press processing.
  • the adhesion step is preferably performed at a temperature at which the moisture-proof material softens (decreases in viscosity).
  • the temperature of the adhesion step is not particularly limited, and can be selected according to the type of the moisture-proof material.
  • the heat treatment may be performed within the range of 60 ° C. to 150 ° C.
  • a step of curing the moisture-proof material disposed on the circuit board may be further performed.
  • the method for curing the moisture-proof material is not particularly limited. From the viewpoint of production efficiency, treatment by irradiation with active rays such as ultraviolet rays is preferable.
  • the conditions for irradiation with actinic radiation are not particularly limited and can be selected according to the type of moisture-proof material and the like. For example, the irradiation may be performed at an irradiation amount of 1000 mJ / cm 2 to 4000 mJ / cm 2 .
  • the method may further include steps other than the steps described above. For example, after performing a curing treatment by irradiation with actinic rays, a curing treatment by heating may be performed to further increase the degree of curing.
  • Example 1 Production of laminated body> The mixture was obtained by mixing the bismaleimide resin (57 parts by mass) represented by the above formula (2) and toluene (43 parts by mass). The obtained mixture was applied on a PET substrate and dried to prepare a laminate in which a layer of a moisture-proof material was formed on the PET substrate. The thickness (excluding the PET substrate) of the moisture-proof material in the laminate was 25 ⁇ m or 100 ⁇ m.
  • Example 2 Evaluation of viscosity>
  • the laminate having a thickness of 100 ⁇ m (excluding the PET substrate) produced in Example 1 was semi-cured by irradiating ultraviolet rays (100 mJ / cm 2 ) from the PET substrate side, and the PET substrate was removed.
  • Three layers of the moisture-proof material from which the PET base material was removed were laminated, punched into a circular shape having a diameter of 10 mm, and the viscosity of the moisture-proof material at 120 ° C. was measured by a viscoelasticity measurement method (rheometer). The result was 3.0 Pa ⁇ s.
  • Example 3 Evaluation of warpage of circuit board> The surface on the moisture-proof material side of the laminated body having a thickness of 25 ⁇ m (excluding the PET base material) manufactured in Example 1 is attached to one surface of a circuit board made of polyimide (thickness 0.1 mm, length 200 mm, width 200 mm). I attached. Next, the circuit board and the moisture-proof material were brought into close contact with each other by vacuum lamination. The vacuum lamination was performed under the conditions of 120 ° C., 120 seconds (vacuum), and 30 seconds (pressure). After vacuum lamination, the moisture-proof material was cured by irradiating ultraviolet rays (2000 mJ / cm 2 ) from the PET substrate side, and the PET substrate was removed. In this state, when the circuit board was visually checked, no peeling of the moisture-proof material from the circuit board was observed, and no warping of the circuit board occurred.
  • Example 4 Evaluation of heat resistance> Ultraviolet rays were irradiated (2000 mJ / cm 2 ) from the PET substrate side of the laminate having a thickness of 100 ⁇ m (excluding the PET substrate) prepared in Example 1 to cure the moisture-proof material, and the PET substrate was removed. Next, 5 to 10 mg of the moisture-proof material from which the PET substrate was removed was weighed, and the 5% weight loss temperature was measured by thermogravimetric differential thermal analysis (TG-DTA). The result was 430 ° C.
  • TG-DTA thermogravimetric differential thermal analysis
  • Example 5 Evaluation of moisture permeability>
  • the laminate prepared in Example 1 and having a thickness of 25 ⁇ m (excluding the PET substrate) was irradiated with ultraviolet rays (2000 mJ / cm 2 ) from the PET substrate side to cure the moisture-proof material, and the PET substrate was removed.
  • the moisture-proof material from which the PET base material has been removed is cut into a size of 7 cm ⁇ 7 cm and attached to a jig having a window of 5 cm ⁇ 5 cm, and the moisture permeability of the moisture-proof material at 40 ° C. and 90% RH is measured by a moisture-sensitive sensor method.
  • the result was 40 g / m 2 / day.

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Abstract

樹脂を含む回路基板の防湿処理に用いるための、フィルム状の防湿材料。

Description

防湿材料及び回路基板
　本発明は、防湿材料及び回路基板に関する。
　電子機器類は、半導体チップ等の素子を配線基板等の支持部材に搭載した回路基板を備えている。近年、電子機器類の使用方法、使用環境等の変化に伴って回路基板の薄型化に対する要求が高まっている。そこで、従来の半導体、ガラス等からなる基板から樹脂基板への置き換えが検討されている。
　例えば、特許文献１には、有機ＥＬ装置等のフレキシブルデバイスの基板として使用されるポリイミドフィルムが記載されている。
特開２０１８－１０４５２５号公報
　樹脂基板は半導体、ガラス等からなる基板に比べ、薄型化するほど水分を透過しやすくなり、樹脂基板上に実装された素子の劣化を招くおそれがある。特許文献１にはポリイミドフィルムに無機酸化物を含むバリア層を蒸着等により形成することが記載されているが、より簡便な手法で樹脂基板に防湿性能を付与できる手段が望まれている。
　本発明の一態様は、上記事情に鑑みてなされたものであり、樹脂を含む回路基板の防湿処理に用いるための防湿材料、及びこの防湿材料を備える回路基板を提供することを課題とする。
　前記課題を達成するための具体的手段は以下の通りである。
＜１＞樹脂を含む回路基板の防湿処理に用いるための、フィルム状の防湿材料。
＜２＞６０℃～１５０℃の少なくとも一部における粘度が１００Ｐａ・ｓ以下である、＜１＞に記載の防湿材料。
＜３＞４０℃、９０％ＲＨ（相対湿度）における透湿度が１００ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下である、＜１＞又は＜２＞に記載の防湿材料。
＜４＞活性線照射により硬化する性質を有する、＜１＞～＜３＞のいずれか１項に記載の防湿材料。
＜５＞２５℃での貯蔵弾性率が５００ＭＰａ以下である、＜１＞～＜４＞のいずれか１項に記載の防湿材料。
＜６＞５％重量減少温度が２５０℃以上である、＜１＞～＜５＞のいずれか１項に記載の防湿材料。
＜７＞マレイミド基を含有する樹脂を含む、＜１＞～＜６＞のいずれか１項に記載の防湿材料。
＜８＞＜１＞～＜７＞のいずれか１項に記載の防湿材料を備え、かつ樹脂を含む回路基板。
＜９＞前記回路基板の厚みが０．１ｍｍ以下である、請求項８に記載の回路基板。
　本発明の一態様によれば、樹脂を含む回路基板の防湿処理に用いるための防湿材料、及びこの防湿材料を備える回路基板が提供される。
　以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。但し、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。以下の実施形態において、その構成要素（要素ステップ等も含む）は、特に明示した場合を除き、必須ではない。数値及びその範囲についても同様であり、本発明を制限するものではない。
　本開示において「～」を用いて示された数値範囲には、「～」の前後に記載される数値がそれぞれ最小値及び最大値として含まれる。
　本開示中に段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
　本開示において組成物中の各成分の含有率は、組成物中に各成分に該当する物質が複数種存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数種の物質の合計の含有率を意味する。
　本開示において組成物中の各成分の粒径は、組成物中に各成分に該当する粒子が複数種存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数種の粒子の混合物についての値を意味する。
　本開示において「層」との語には、当該層が存在する領域を観察したときに、当該領域の全体に形成されている場合に加え、当該領域の一部にのみ形成されている場合も含まれる。
＜防湿材料＞
　本開示の防湿材料は、樹脂を含む回路基板（以下、単に回路基板ともいう）の防湿処理に用いるための、フィルム状の防湿材料である。
　本開示の防湿材料は、フィルム状に成形されているため、蒸着等の手法で回路基板にバリア層を形成する場合に比べ、簡便な手法で樹脂基板に防湿性を付与することができる。
　本開示において「フィルム状の防湿材料」とは、少なくとも回路基板の防湿性能を付与すべき領域を包含する領域に相当する面積を有し、厚さ（厚さが一定でない場合は厚さの最大値）が１００μｍ以下であり、常温（２５℃）において固体である防湿材料を意味する。
　回路基板に防湿材料を配置する方法は特に制限されず、ラミネート法等の一般的な手法で行うことができる。
　回路基板上に搭載される素子への水分の影響を抑制する観点からは、防湿材料は、回路基板の素子が配置される側と逆側の面に配置されることが好ましい。
　防湿材料の厚さは特に制限されず、回路基板のサイズ、要求される防湿性能等に応じて選択できる。例えば、１μｍ～１００μｍの範囲から選択してもよい。
　防湿材料は、６０℃～１５０℃の少なくとも一部における粘度（以下、加温時粘度ともいう）が１００Ｐａ・ｓ以下であることが好ましく、５０Ｐａ・ｓ以下であることがより好ましく、２０Ｐａ・ｓ以下であることがさらに好ましい。防湿材料の加温時粘度が１００Ｐａ・ｓ以下であると、防湿材料が加温により軟化して回路基板に対する密着性がより向上する傾向にある。
　防湿材料の加温時粘度が測定される温度は、回路基板の製造の際に回路基板上に配置された防湿材料を加温するときの温度であってもよい。ある実施態様では、１２０℃における粘度が１００Ｐａ・ｓ以下であることが好ましく、５０Ｐａ・ｓ以下であることがより好ましく、２０Ｐａ・ｓ以下であることがさらに好ましい。
　防湿材料の粘度の下限値は、特に制限されない。例えば、回路基板の製造の際の加温によって液状化しない程度であることが好ましい。例えば、６０℃～１５０℃の全範囲において粘度が１Ｐａ・ｓ以上であることが好ましい。ある実施態様では、１２０℃における粘度が１Ｐａ・ｓ以上であることが好ましい。
　本開示において防湿材料の粘度は、回路基板の防湿処理に使用する前における防湿材料の粘度を意味し、具体的には粘弾性測定法（レオメーター）により測定される値である。
　防湿材料は、低弾性であることが好ましい。例えば、２５℃での貯蔵弾性率が５００ＭＰａ以下であることが好ましく、３００ＭＰａ以下であることがより好ましく、１００ＭＰａ以下であることがさらに好ましい。２５℃での貯蔵弾性率が５００ＭＰａ以下であると、防湿材料と回路基板の熱膨張率の差等に起因する密着性の低下が抑制され、良好な防湿性能が維持される傾向にある。また、回路基板の反りの発生が抑制される傾向にある。
　本開示において防湿材料の貯蔵弾性率は、回路基板の防湿処理に使用している状態（硬化処理を行う場合は、硬化した状態）における貯蔵弾性率を意味し、具体的には動的粘弾性測定法（ＤＭＡ）により測定される値である。
　充分な防湿性能を得る観点からは、防湿材料は低透湿であることが好ましい。例えば、厚み２５μｍのとき、４０℃、９０％ＲＨ（相対湿度）における透湿度が１００ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であることが好ましく、８０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であることがより好ましく、５０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であることがさらに好ましい。
　本開示において防湿材料の透湿度は、回路基板の防湿処理に使用している状態（硬化処理を行う場合は、硬化した状態）における透湿度を意味し、具体的には感湿センサー法により測定される値である。
　防湿材料は、耐熱性に優れていることが好ましい。具体的には、５％重量減少温度が２５０℃以上であることが好ましく、３００℃以上であることがより好ましく、３５０℃以上であることがさらに好ましい。
　本開示において防湿材料の５％重量減少温度は、回路基板の防湿処理に使用している状態（硬化処理を行う場合は、硬化した状態）における５％重量減少温度を意味し、具体的には熱重量示差熱分析法(ＴＧ－ＤＴＡ)により測定される値である。
　防湿材料は、活性線照射により硬化する性質を有していることが好ましい。活性線としては、紫外線（ＵＶ）が挙げられる。防湿材料は、加熱により硬化する性質をさらに有していてもよい。
　防湿材料の回路基板の防湿処理に使用する前の状態は、特に制限されない。例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等の基材上に防湿材料の層が形成された積層体の状態であってもよい。この場合、積層体の防湿材料側の面を回路基板に貼り付け、その後基材を除去することで、回路基板上に防湿材料を配置することができる。
　防湿材料は、回路基板と直接接していても、回路基板との間に別の部材を介していてもよいが、防湿性能、生産効率等の観点からは回路基板と直接接していることが好ましい。
　防湿材料に含まれる樹脂の種類は特に制限されず、防湿材料の所望の特性（例えば、上述した加温時粘度、透湿度及び弾性率）に応じて選択できる。防湿材料に含まれる樹脂は、１種でも２種以上であってもよい。また、重合開始剤（ジクミルパーオキサイド等）、溶剤（トルエン等）などの成分をさらに含んでもよい。
　ある実施態様では、防湿材料は、マレイミド基を含有する樹脂を含む。マレイミド基を含有する樹脂としては、下記式（１）で表される樹脂（ビスマレイミド樹脂）が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
　式（１）において、Ｒはそれぞれ独立に２価の炭化水素基であり、ｎは１～１０の整数である。Ａはそれぞれ独立に２価の連結基である。
　式（１）におけるＲは、２価の脂肪族炭化水素基であることが好ましい。Ｒで表される２価の脂肪族炭化水素基は、環状構造又は分岐構造を含んでいてもよい。
　式（１）におけるＲの炭素数は、それぞれ独立に２０～６０であることが好ましく、３０～５０であることがより好ましい。
　式（１）におけるＲのうち、隣接するマレイミド基とＡ（又はＡとＡ）の間の炭化水素鎖（炭化水素鎖が環状構造又は分岐構造を含む場合は、隣接するマレイミド基とＡ（又はＡとＡ）を連結する炭素原子数が最小となるときの値）の炭素数は、１０～３０であることが好ましく、１５～２５であることがより好ましい。例えば、下記式（２）における当該炭化水素鎖の炭素数は、１８である。
　式（１）におけるＡは、炭化水素基であるＲを結合できるものであれば特に制限されない。具体的には、イミド基、アミド基、ウレタン基等の官能基を含む連結基が挙げられる。また、Ａには芳香環を含んでもよい。ある実施態様では、Ａは下記構造で表される連結基であってもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
　式（１）で表される樹脂として具体的には、下記式（２）で表される樹脂が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
　式（２）において、ｎは１～１０の整数である。
　式（１）又は式（２）で表される樹脂は、加温による粘度低下の度合いが大きく、ＵＶ硬化性を有し、低透湿性であり、低弾性であり、かつ耐熱性に優れるという性質を備えているため、防湿材料として好適である。
　防湿材料を作製する方法は、特に制限されない。例えば、ＰＥＴ等の基材上に防湿材料の原料（樹脂、重合開始剤、溶剤等）の混合物の層を公知の方法で形成し、必要に応じて乾燥処理等を行って作製することができる。
＜回路基板＞
　本開示の回路基板は、上述した防湿材料を備え、かつ樹脂を含む回路基板である。
　防湿材料が配置される回路基板は、樹脂を含むものであれば特に制限されない。
　回路基板に含まれる樹脂としては、ポリイミド、ポリエステル、エポキシ樹脂、フェノール樹脂等が挙げられる。中でもポリイミド製の回路基板は比較的透湿性が高いため、防湿材料を用いて防湿処理を行う効果が大きい。
　回路基板の厚みは、特に制限されない。樹脂を含む回路基板の透湿性は薄型化するほど高くなる傾向にあるため、厚みの小さい回路基板ほど防湿材料を用いて防湿処理を行う効果が大きい。回路基板の厚みは、例えば、０．１ｍｍ以下であってもよく、０．０５ｍｍ以下であってもよく、０．０２５ｍｍ以下であってもよい。回路基板の厚みの下限値は、例えば、０．０１ｍｍ以上であってもよい。
　回路基板は、必要に応じて可とう性を有していてもよい。可とう性を有する回路基板は剛直な回路基板に比べて反りが生じやすい傾向にあるが、防湿材料の材質を適切に選択することで、回路基板が可とう性を有していても反りを抑制することができる。
　回路基板に対して防湿材料が設けられる位置は、特に制限されない。防湿性能の観点からは、回路基板の少なくとも一方の面に設けられていることが好ましく、回路基板の素子が配置される面と逆側の面に設けられていることがより好ましい。
　回路基板は、必要に応じて素子を備えていてもよい。素子として具体的には、半導体チップ、トランジスタ、ダイオード、発光ダイオード、サイリスタ等の能動素子、コンデンサ、抵抗体、抵抗アレイ、コイル、スイッチ等の受動素子などが挙げられる。
　上記方法により製造される回路基板は、種々の電子機器類に使用できる。上記方法により製造される回路基板は防湿性に優れていることから、スマートフォン、スマートウォッチ、携帯用コンピュータ、画像表示装置、電気自動車等の防湿性が要求される電子機器類に特に好適に使用できる。
　防湿材料を備える回路基板を作製する方法は、特に制限されない。例えば、回路基板の少なくとも一方の面上に防湿材料を配置し、回路基板と防湿材料を密着させる（密着工程）ことで得ることができる。
　密着工程を実施する方法としては、ラミネート処理、プレス処理等が挙げられる。密着工程は、防湿材料が軟化（粘度が低下）する温度で行うことが好ましい。密着工程の温度は特に制限されず、防湿材料の種類等に応じて選択できる。例えば、６０℃～１５０℃の範囲内で行ってもよい。
　必要に応じ、回路基板上に配置された防湿材料を硬化させる工程（硬化工程）をさらに実施してもよい。防湿材料を硬化させる方法は、特に制限されない。生産効率の観点からは、紫外線等の活性線照射による処理が好ましい。活性線照射の条件は特に制限されず、防湿材料の種類等に応じて選択できる。例えば、照射量を１０００ｍＪ／ｃｍ２～４０００ｍＪ／ｃｍ２として行ってもよい。
　上記方法は、上述した工程以外の工程をさらに備えていてもよい。例えば、活性線照射による硬化処理を行った後に、硬化度をさらに高めるために加熱による硬化処理を行ってもよい。
　以下、実施例により本開示をさらに具体的に説明するが、本開示は以下の実施例に限定されるものではない。
＜実施例１　積層体の作製＞
　上記式（２）で表されるビスマレイミド樹脂（５７質量部）及びトルエン（４３質量部）を混合して混合物を得た。得られた混合物をＰＥＴ基材上に塗布し、乾燥して、ＰＥＴ基材上に防湿材料の層が形成された積層体を作製した。積層体における防湿材料の厚さ（ＰＥＴ基材を除く）は、２５μｍ又は１００μｍであった。
＜実施例２　粘度の評価＞
　実施例１で作製した厚さが１００μｍ（ＰＥＴ基材を除く）の積層体に、ＰＥＴ基材側から紫外線を照射（１００ｍＪ／ｃｍ２）して半硬化させ、ＰＥＴ基材を除去した。ＰＥＴ基材を除去した防湿材料を３層積層し、直径１０ｍｍの円形に打ち抜き、防湿材料の１２０℃における粘度を粘弾性測定法(レオメータ)により測定した。結果は３．０Ｐａ・ｓであった。
＜実施例３　回路基板の反りの評価＞
　ポリイミド製の回路基板（厚さ０．１ｍｍ、縦２００ｍｍ、幅２００ｍｍ）の片面に、実施例１で作製した厚さが２５μｍ（ＰＥＴ基材を除く）の積層体の防湿材料側の面を貼り付けた。次いで、真空ラミネート処理により、回路基板と防湿材料とを密着させた。真空ラミネート処理は、１２０℃、１２０秒（真空）、３０秒（加圧）の条件にて実施した。真空ラミネート処理後、ＰＥＴ基材側から紫外線を照射（２０００ｍＪ／ｃｍ２）して防湿材料を硬化させ、ＰＥＴ基材を除去した。この状態で回路基板を目視で確認したところ、防湿材料の回路基板からの剥離等は認められず、回路基板の反りも生じていなかった。
＜実施例４　耐熱性の評価＞
　実施例１で作製した厚さが１００μｍ（ＰＥＴ基材を除く）の積層体のＰＥＴ基材側から紫外線を照射（２０００ｍＪ／ｃｍ２）して防湿材料を硬化させ、ＰＥＴ基材を除去した。次いで、ＰＥＴ基材を除去した防湿材料を５ｍｇ～１０ｍｇ計りとり、熱重量示差熱分析法(ＴＧ－ＤＴＡ)により５％重量減少温度を測定した。結果は４３０℃であった。
＜実施例５　透湿度の評価＞
　実施例１で作製した厚さが２５μｍ（ＰＥＴ基材を除く）の積層体のＰＥＴ基材側から紫外線を照射（２０００ｍＪ／ｃｍ２）して防湿材料を硬化させ、ＰＥＴ基材を除去した。次いで、ＰＥＴ基材を除去した防湿材料を７ｃｍ×７ｃｍのサイズにカットし、５ｃｍ×５ｃｍの窓がついた冶具に貼り付け、防湿材料の４０℃、９０％ＲＨにおける透湿度を感湿センサー法により測定した。結果は４０ｇ／ｍ２／ｄａｙであった。
＜実施例６　弾性率の評価＞
　実施例１で作製した厚さが１００μｍ（ＰＥＴ基材を除く）の積層体の両面に紫外線を照射（２０００ｍＪ／ｃｍ２）して防湿材料を硬化させ、ＰＥＴ基材を除去した。次いで、ＰＥＴ基材を除去した防湿材料を５ｍｍ×２０ｍｍのサイズにカットし、防湿材料の貯蔵弾性率を動的粘弾性測定法(ＤＭＡ)により測定した。２５℃における結果は１５０ＭＰａであった。
　本明細書に記載された全ての文献、特許出願、及び技術規格は、個々の文献、特許出願、および技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。

Claims (9)

  1. 　樹脂を含む回路基板の防湿処理に用いるための、フィルム状の防湿材料。
  2. 　６０℃～１５０℃の少なくとも一部における粘度が１００Ｐａ・ｓ以下である、請求項１に記載の防湿材料。
  3. 　４０℃、９０％ＲＨ（相対湿度）における透湿度が１００ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下である、請求項１又は請求項２に記載の防湿材料。
  4. 　活性線照射により硬化する性質を有する、請求項１～請求項３のいずれか１項に記載の防湿材料。
  5. 　２５℃での貯蔵弾性率が５００ＭＰａ以下である、請求項１～請求項４のいずれか１項に記載の防湿材料。
  6. 　５％重量減少温度が２５０℃以上である、請求項１～請求項５のいずれか１項に記載の防湿材料。
  7. 　マレイミド基を含有する樹脂を含む、請求項１～請求項６のいずれか１項に記載の防湿材料。
  8. 　請求項１～請求項７のいずれか１項に記載の防湿材料を備え、かつ樹脂を含む回路基板。
  9. 　前記回路基板の厚みが０．１ｍｍ以下である、請求項８に記載の回路基板。
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