WO2020019652A1 - 一种高效的双台面双面数字化曝光系统及工作流程 - Google Patents
一种高效的双台面双面数字化曝光系统及工作流程 Download PDFInfo
- Publication number
- WO2020019652A1 WO2020019652A1 PCT/CN2018/122483 CN2018122483W WO2020019652A1 WO 2020019652 A1 WO2020019652 A1 WO 2020019652A1 CN 2018122483 W CN2018122483 W CN 2018122483W WO 2020019652 A1 WO2020019652 A1 WO 2020019652A1
- Authority
- WO
- WIPO (PCT)
- Prior art keywords
- exposure
- loading
- exposed
- component
- double
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
- G03F7/70725—Stages control
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70758—Drive means, e.g. actuators, motors for long- or short-stroke modules or fine or coarse driving
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70775—Position control, e.g. interferometers or encoders for determining the stage position
Definitions
- FIG. 2 is a front view of the overall structure of a double-sided exposure machine in the embodiment
- the loading stage 300 can move along the workbench 100 and make The first loading part 310 or the second loading part 320 moves to the exposure area 110, and the first exposure component 210 and the second exposure component 220 move to expose the first to-be-exposed or second-to-be-exposed member in the exposure area 110.
- the first exposure module 210 and the second exposure module 220 are respectively disposed on the upper and lower sides of the workbench 100 and are arranged correspondingly.
- the corresponding settings refer to the ability to form the exposure area 110 and perform double exposure.
- the corresponding setting of the surface exposure may be set by a person skilled in the art according to a specific corresponding setting method in the prior art, and details are not described herein again.
- the exposure mechanism further includes a first mounting frame 121, a second mounting frame 122, a first driver, and a second driver.
- the first exposure module 210 is disposed on the first mounting frame 121.
- the two exposure units 220 are disposed on the second mounting frame 122.
- the first driver is used to drive the first mounting frame 121 to move along the workbench 100
- the second driver is used to drive the second mounting frame 122 to move along the worktable 100.
- those skilled in the art can match the first driver and the second driver in a controlled manner according to needs, so that the first exposure component 210 and the second exposure component 220 achieve synchronization of the moving direction and the moving speed.
- the loading mechanism further includes a loading driver, which is used to drive the loading platform 300 and move the loading platform 300 along the work platform 100.
- a sensing mechanism is further included.
- the sensing mechanism includes a first sensing component and a second sensing component.
- the first sensing component is configured to detect a moving position of the first exposure component 210 and a first sensing component.
- the moving position of the two exposure components 220 and the second sensing component are used to detect the moving position of the loading platform 300.
- the first exposure module 210 and the second exposure module 220 both move along the workbench 100 in the first direction, and the loading stage 300 moves along the workbench 100 in the first direction.
- the first loading section 310 loads the first to-be-exposed piece, and the loading stage 300 moves to the left so that the first to-be-exposed piece is located in the exposure area 110, and the first exposure unit 210 and the second exposure unit 220 both move to the right, and At the same time, the first to-be-exposed part is exposed, and at the same time, the second loading part 320 loads the second to-be-exposed part.
- the loading table 300 is moved to the right so that the second to-be-exposed part is located in the exposure area 110. Both the exposure module 210 and the second exposure module 220 are moved to the left, and the second to-be-exposed part is exposed. At the same time, the exposed first finished exposure product is unloaded, and the next first to-be-exposed part is loaded.
- the first loading section 310 loads the first to-be-exposed part
- the loading table 300 moves to the left so that the first to-be-exposed part is located in the exposure area 110, and the first exposure module 210 and the second exposure module 220 are moved forward synchronously, and At the same time, the first to-be-exposed part is exposed, and at the same time, the second loading part 320 loads the second to-be-exposed part.
- the loading table 300 is moved to the right so that the second to-be-exposed part is located in the exposure area 110.
- Both the exposure module 210 and the second exposure module 220 move backward synchronously and expose the second to-be-exposed part, and at the same time unload the exposed first finished exposure product, and load the next first to-be-exposed part, and the cycle can be performed in this way.
- the loading platform 300 is provided with a first guide rail, and the workbench 100 is provided with a first chute that cooperates with the first guide rail.
- first picker and the second picker use robots, and are respectively disposed on the left and right sides of the workbench 100, so as to cooperate with the left and right movement of the loading table 300 to realize automatic operation and improve the level of automatic operation.
- the first exposure module 210 includes a first exposure member and a second exposure member.
- the first exposure member is provided with a plurality of first light source devices.
- the first light source devices are arranged at a distance and are set to In a row
- the second exposure element is provided with a plurality of second light source elements.
- the second light source elements are arranged at a distance and arranged in a row.
- the first light source element and the second light source element are arranged side by side and are staggered.
- the setting position of one light source device corresponds to the position of the gap between the two second light source devices; the second exposure component 220 can be set in the same way, and will not be repeated here.
- the second loading part 320 may also load the second to-be-exposed piece at the initial time;
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
一种双面曝光机及双面曝光方法，双面曝光机包括工作台（100）；曝光机构包括均能够沿工作台移动的第一曝光组件（210）和第二曝光组件（220）、并在工作台形成曝光区；装载机构包括装载台（300），装载台设有第一装载部（310）和第二装载部（320），第一装载部和第二装载部呈间距设置，装载台能够沿工作台移动、并使第一装载部或第二装载部移动至曝光区。通过可移动的第一曝光组件和第二曝光组件的设置，曝光时，装载台移动到预设位置，使第一装载部或第二装载部位于曝光区，之后第一曝光组件和第二曝光组件移动、从而对对应的第一待曝光件或第二待曝光件进行曝光，由于同时双面曝光，避免了翻转等操作，减少了曝光流程及对位等问题，提高了曝光效率和曝光精度。
Description
本发明涉及双面曝光技术领域，特别是涉及一种双面曝光机及双面曝光方法。
传统的双面曝光机，通常采用菲林转印进行双面电路板的曝光。曝光前，需要先制作待转印图案的菲林；然后，将带有两面图案的菲林分别固定在上下两面玻璃上；接着，将待转印图案的电路板夹在上下两块玻璃之间，使用蓝紫色高亮度光源进行曝光，将线路图案转印到线路板上，完成双面曝光。而对于激光直写曝光机，通常采用单面曝光。先对电路板的其中一面进行曝光，待曝光完成后进行翻转，然后再对电路板的另一面进行曝光，最后完成对电路板的双面曝光。
然而，激光直写曝光机进行双面曝光时，需进行翻转操作，而翻转操作必然会产生翻转后进行对位的问题，不仅增加了曝光流程，同时也会因对位精度问题影响曝光精度，从而影响最终的曝光效果。
发明内容
基于此，有必要提供一种双面曝光机及双面曝光方法。该双面曝光机在进行曝光时无需翻转，减少曝光流程，提高曝光精度，进而提升曝光成像质量；该双面曝光方法应用于前述的双面曝光机，曝光效率更高，且便于实现自动化操作。
其技术方案如下：
一方面，提供了一种双面曝光机，包括工作台，工作台设有曝光通孔；曝光机构，曝光机构包括第一曝光组件和第二曝光组件，第一曝光组件和第二曝光组件分别设于工作台的两侧、并均能够沿工作台移动，第一曝光组件和第二曝光组件均移动、并在工作台形成曝光区，曝光区与曝光通孔对应设置；及装 载机构，装载机构包括装载台，装载台设有第一装载部和第二装载部，第一装载部用于装载第一待曝光件，第二装载部用于装载第二待曝光件，第一装载部和第二装载部呈间距设置，装载台能够沿工作台移动、并使第一装载部或第二装载部移动至曝光区，第一曝光组件和第二曝光组件移动、并对曝光区的第一待曝光件或第二待曝光件进行曝光。
上述双面曝光机，通过可移动的第一曝光组件和第二曝光组件的设置，曝光时，装载台移动到预设位置，使第一装载部或第二装载部位于曝光区，之后第一曝光组件和第二曝光组件移动、从而对对应的第一待曝光件或第二待曝光件进行曝光，由于同时双面曝光，避免了翻转等操作，减少了曝光流程及对位等问题，提高了曝光效率和曝光精度。
下面进一步对技术方案进行说明：
在其中一个实施例中，曝光机构还包括曝光安装架和曝光驱动器，第一曝光组件和第二曝光组件均设于曝光安装架，曝光驱动器用于驱动曝光安装架、并使曝光安装架沿工作台移动。
在其中一个实施例中，曝光机构还包括第一安装架、第二安装架、第一驱动器和第二驱动器，第一曝光组件设于第一安装架，第二曝光组件设于第二安装架，第一驱动器用于驱动第一安装架沿工作台移动，第二驱动器用于驱动第二安装架沿工作台移动。
在其中一个实施例中，装载机构还包括装载驱动器，装载驱动器用于驱动装载台、并使装载台沿工作台移动。
在其中一个实施例中，装载机构还包括锁定器，锁定器用于锁定装载台、并使第一装载部或第二装载部位于曝光区。
在其中一个实施例中，还包括传感机构，传感机构包括第一传感组件和第二传感组件，第一传感组件用于检测第一曝光组件的移动位置和第二曝光组件的移动位置，第二传感组件用于检测装载台的移动位置。
在其中一个实施例中，第一曝光组件和第二曝光组件均沿工作台在第一方向移动，装载台沿工作台在第一方向移动；或第一曝光组件和第二曝光组件均沿工作台在第二方向移动，装载台沿工作台在第三方向移动。
在其中一个实施例中，装载台设有第一导轨，工作台设有与第一导轨配合的第一滑槽。
在其中一个实施例中，还包括物料取放机构，物料取放机构包括第一取放器和第二取放器，第一取放器用于取放第一装载部的第一待曝光件，第二取放器用于取放第二装载部的第二待曝光件。
另一方面，还提供了一种双面曝光方法，能够应用于如上述任一个技术方案所述的双面曝光机，包括以下步骤：
(S1)、第一曝光组件位于第一初始位置，第二曝光组件位于第二初始位置，装载台位于第二曝光位置，在装载台的第一装载部装载第一待曝光件；
(S2)、装载台移动至第一曝光位置、并使第一待曝光件位于曝光区；
(S3)、第一曝光组件移动至第一预设位置、且第二曝光组件移动至第二预设位置、并对第一待曝光件进行曝光、得到第一曝光成品；同时在第二装载部装载第二待曝光件；
(S4)、装载台移动至第二曝光位置、并使第二待曝光件位于曝光区；
(S5)、第一曝光组件移动至第一初始位置、且第二曝光组件移动至第二初始位置、并对第二待曝光件进行曝光、得到第二曝光成品；同时卸载第一装载部的第一曝光成品、并装载下一个第一待曝光件；
(S6)、装载台移动至第一曝光位置，并卸载第二装载部的第二曝光成品。
上述双面曝光方法，能够同时对第一待曝光件或第二待曝光件的正反两面进行曝光，且第一待曝光件曝光的同时进行第二待曝光件的装载或已完成曝光的第二曝光成品进行卸载，提高了时间利用率，提高了曝光效率，且便于实现自动化操作。
图1为实施例中双面曝光方法的曝光流程图；
图2为实施例中双面曝光机的整体结构主视图；
图3为实施例中双面曝光机的整体结构俯视图。
附图标注说明：
100、工作台，110、曝光区，121、第一安装架，122、第二安装架，210、第一曝光组件，220、第二曝光组件，300、装载台，310、第一装载部，320、第二装载部。
下面结合附图对本发明的实施例进行详细说明：
需要说明的是，文中所称元件与另一个元件“固定”时，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是与另一个元件“连接”时，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。相反，当元件被称作“直接在”另一元件“上”时，不存在中间元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。
除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
如图1至图3所示的实施例，提供了一种双面曝光机，包括工作台100，工作台100设有曝光通孔；曝光机构，曝光机构包括第一曝光组件210和第二曝光组件220，第一曝光组件210和第二曝光组件220分别设于工作台100的两侧、并均能够沿工作台100移动，第一曝光组件210和第二曝光组件220均移动、并在工作台100形成曝光区110，曝光区110与曝光通孔对应设置；及装载机构，装载机构包括装载台300，装载台300设有第一装载部310和第二装载部320，第一装载部310用于装载第一待曝光件，第二装载部320用于装载第二待曝光件，第一装载部310和第二装载部320呈间距设置，装载台300能够沿工作台100移动、并使第一装载部310或第二装载部320移动至曝光区110，第一曝光组件210和第二曝光组件220移动、并对曝光区110的第一待曝光件或第二待曝光件进行曝光。
通过可移动的第一曝光组件210和第二曝光组件220的设置，曝光时，装 载台300移动到预设位置，使第一装载部310或第二装载部320位于曝光区110，之后第一曝光组件210和第二曝光组件220移动、从而对对应的第一待曝光件或第二待曝光件进行曝光，由于同时双面曝光，避免了翻转等操作，减少了曝光流程及对位等问题，提高了曝光效率和曝光精度。
传统的激光直写曝光机只能单面曝光，不能同时双面曝光，在曝光完一面后还需要翻转，以进行另一面的曝光，由于需要翻转，不仅工艺流程多，且翻转占用时间浪费，曝光效率低，且翻转后还需要进行对位，容易因对位精度问题影响曝光精度；同时，传统双面曝光多采用菲林转印，菲林制作同样增加工艺流程，且菲林制作成本高，菲林使用一段时间后还必须更换。
本实施例中，第一曝光组件210和第二曝光组件220分别设在工作台100的两侧，工作台100设置的曝光通孔使第一曝光组件210和第二曝光组件220发出的光能够通过、并在工作台100的特定区域形成曝光区110，从而使第一装载部310上的第一待曝光件或第二装载部320上的第二待曝光件位于曝光区110时能够进行曝光；同时，由于第一曝光组件210和第二曝光组件220均能够在工作台100移动，从而使装载台300在移动至第一曝光位置或第二曝光位置时，通过第一曝光组件210和第二曝光组件220的移动实现对第一待曝光件或第二待曝光件的双面曝光，曝光效率更高，且曝光精度也更高。
进一步地，如图2所示，第一曝光组件210和第二曝光组件220分别设在工作台100的上下两侧、并呈对应设置，这里的对应设置指能够形成曝光区110、且进行双面曝光的对应设置，本领域技术人员可根据现有技术中具体对应设置方式进行相应设置，这里不再赘述。
另外，需要说明的是，由于第一待曝光件或第二待曝光件在曝光区110进行曝光时需使第一曝光组件210发出的光和第二曝光组件220发出的光均到达第一待曝光件或第二待曝光件，因此，第一装载部310或第二装载部320应当设有使第一待曝光件的曝光正反面区域或第二待曝光件的正反面曝光区110域外漏，从而满足曝光的要求。如第一装载部310呈框体结构设置，第一待曝光件设在第一装载部310的外框，从而框的中部无遮挡，使光能够照射至第一待曝光件的正反面区域进行正常的正反面曝光；又如第一装载部310为装载通槽 等设置方式，这是本领域技术人员根据需要必须进行设置的结构，可采用能够满足设置要求的任何现有技术进行具体设置，这里不再赘述。
更进一步地，装载台300可一体设置，也可设有两部分，一部分用于设置第一装载部310，另一部分设置第二装载部320，而两部分固定在一起形成装载台300，从而实现第一装载部310和第二装载部320的同步移动。
如图2和图3所示的实施例，曝光机构还包括曝光安装架和曝光驱动器，第一曝光组件210和第二曝光组件220均设于曝光安装架，曝光驱动器用于驱动曝光安装架、并使曝光安装架沿工作台100移动。
该实施例中，第一曝光组件210和第二曝光组件220均设在曝光安装架上，当曝光驱动器驱动曝光安装架移动时，曝光安装架同时带动第一曝光组件210和第二曝光组件220进行移动，提高第一曝光组件210和第二曝光组件220的移动同步精度，提高曝光精度。
如图2和图3所示的实施例，曝光机构还包括第一安装架121、第二安装架122、第一驱动器和第二驱动器，第一曝光组件210设于第一安装架121，第二曝光组件220设于第二安装架122，第一驱动器用于驱动第一安装架121沿工作台100移动，第二驱动器用于驱动第二安装架122沿工作台100移动。
如图2和图3所示，该实施例中，第一安装架121和第二安装架122独立设置，第一驱动器驱动第一安装架121移动、并带动第一曝光组件210移动，第二驱动器驱动第二安装架122移动、并带动第二曝光组件220移动。
这里，本领域技术人员可根据需要采用控制的方式使第一驱动器和第二驱动器进行匹配，以使第一曝光组件210和第二曝光组件220实现移动方向和移动速度的同步。
当然，根据需要，本领域技术人员还可以通过控制的方式使第一驱动器和第二驱动器进行匹配，以使第一曝光组件210和第二曝光组件220的移动方向相反，如上部的第一曝光组件210朝右移动，对第一待曝光件的上板面从左到右进行曝光；而下部的第二曝光组件220朝左移动，对第一待曝光件的下板面从右到左进行曝光，以满足实际的需要，这里不再赘述。
另外，曝光安装架、第一安装架121和第二安装架122在具体选用时可选 用大理石横梁结构。
在上述任一个实施例的基础上，装载机构还包括装载驱动器，装载驱动器用于驱动装载台300、并使装载台300沿工作台100移动。
在上述任一个实施例的基础上，装载机构还包括锁定器，锁定器用于锁定装载台300、并使第一装载部310或第二装载部320位于曝光区110。
当装载台300移动至第一曝光位置时，第一装载部310位于曝光区110，后续第一曝光组件210和第二曝光组件220移动、并对第一装载部310的第一待曝光件进行曝光，而第一装载部310位置不变，此时设置锁定器锁定装载台300使装载台300无法移动，从而保证第一装载部310的位置不变，即第一装载部310上的第一待曝光件不动，从而在后续曝光过程中避免第一待曝光件发生晃动影响曝光精度；当第一待曝光件曝光完成后，锁定器松开装载台300，从而使装载台300继续下一步动作。
进一步地，锁定器可以是抱紧器，也可以是其他锁紧装置。
在上述任一个实施例的基础上，还包括传感机构，传感机构包括第一传感组件和第二传感组件，第一传感组件用于检测第一曝光组件210的移动位置和第二曝光组件220的移动位置，第二传感组件用于检测装载台300的移动位置。
在上述任一个实施例的基础上，第一曝光组件210和第二曝光组件220均沿工作台100在第一方向移动，装载台300沿工作台100在第一方向移动。
如图2和图3所示，第一曝光组件210和第二曝光组件220同步移动、且左右方向移动，而装载台300也同样在左右方向移动。
曝光时，第一装载部310装载第一待曝光件，装载台300左移，使第一待曝光件位于曝光区110，第一曝光组件210和第二曝光组件220均朝右移动、并对第一待曝光件进行曝光，同时，第二装载部320装载第二待曝光件，第一待曝光件曝光完成后，装载台300右移、使第二待曝光件位于曝光区110，第一曝光组件210和第二曝光组件220均朝左移动、并对第二待曝光件进行曝光，同时卸载曝光完成的第一曝光成品，并装载下一个第一待曝光件，如此循环进行即可。
当然，还可以是：第一曝光组件210和第二曝光组件220均沿工作台100 在第二方向移动，装载台300沿工作台100在第三方向移动。
可选地：第一曝光组件210和第二曝光组件220均沿工作台100前后同步移动，而装载台300沿工作台100左右移动。
曝光时，第一装载部310装载第一待曝光件，装载台300左移，使第一待曝光件位于曝光区110，第一曝光组件210和第二曝光组件220均同步前移、并对第一待曝光件进行曝光，同时，第二装载部320装载第二待曝光件，第一待曝光件曝光完成后，装载台300右移、使第二待曝光件位于曝光区110，第一曝光组件210和第二曝光组件220均同步后移、并对第二待曝光件进行曝光，同时卸载曝光完成的第一曝光成品，并装载下一个第一待曝光件，如此循环进行即可。
在上述任一个实施例的基础上，装载台300设有第一导轨，工作台100设有与第一导轨配合的第一滑槽。
第一导轨和第一滑槽不仅起到便于实现装载台300与工作台100配合移动的作用，还能够进一步提高装载台300的运动稳定性并保证第一待曝光件和第二待曝光件的位置稳定性，从而提高曝光精准度。
在上述任一个实施例的基础上，还包括物料取放机构，物料取放机构包括第一取放器和第二取放器，第一取放器用于取放第一装载部310的第一待曝光件，第二取放器用于取放第二装载部320的第二待曝光件。
进一步地，第一取放器和第二取放器选用机械手，且分别设于工作台100的左右两侧，以配合装载台300的左右移动实现自动化操作，提高自动化操作水平。
在上述任一个实施例的基础上，第一曝光组件210包括第一曝光件和第二曝光件，第一曝光件设有多个第一光源件，第一光源件呈间距设置、并设成一排，第二曝光件设有多个第二光源件，第二光源件呈间距设置、并设成一排，第一光源件与第二光源件并列设置、并呈错开设置、使一个第一光源件的设置位置与两个第二光源件之间的间隙所在位置对应；第二曝光组件220可同理设置，这里不再赘述。
如图3所示，第一曝光组件210包括第一曝光件和第二曝光件，第一曝光 件和第二曝光件呈左右并列设置，第一曝光件上设有六个第一光源件、并设成一排，第二曝光件上设有六个第二光源件、并设成一排，第一曝光件和第二曝光件呈错开设置即第一曝光件的设置高度高于第二曝光件的设置高度，从而使第一曝光件上的第一光源件分别与第二曝光件上相邻两个第二光源件之间的设置位置对应，在曝光时，第一曝光件上的第一光源件曝光部分与第二光源件之间的曝光部分拼接共同形成曝光图形，从而实现一次曝光即可完成，无需多次曝光拼接，提高曝光效率。
可选地，第一曝光组件210和第二曝光组件220形成无掩模曝光系统(Digital Micromirror Device，简称DMD曝光系统)，无掩模曝光系统通过投影物镜将图像放大，实现一次性曝光，DMD曝光系统的第一光源件和第二光源件的排布数量根据曝光图案的尺寸决定，曝光精度更高。
如图1所示的实施例，还提供了一种双面曝光方法，能够应用于如上述任一个实施例所述的双面曝光机，包括以下步骤：
(S1)、第一曝光组件210位于第一初始位置，第二曝光组件220位于第二初始位置，装载台300位于第二曝光位置，在装载台300的第一装载部310装载第一待曝光件；
(S2)、装载台300移动至第一曝光位置、并使第一待曝光件位于曝光区110；
(S3)、第一曝光组件210移动至第一预设位置、且第二曝光组件220移动至第二预设位置、并对第一待曝光件进行曝光、得到第一曝光成品；同时在第二装载部320装载第二待曝光件；
(S4)、装载台300移动至第二曝光位置、并使第二待曝光件位于曝光区110；
(S5)、第一曝光组件210移动至第一初始位置、且第二曝光组件220移动至第二初始位置、并对第二待曝光件进行曝光、得到第二曝光成品；同时卸载第一装载部310的第一曝光成品、并装载下一个第一待曝光件；
(S6)、装载台300移动至第一曝光位置，并卸载第二装载部320的第二曝光成品。
能够同时对第一待曝光件或第二待曝光件的正反两面进行曝光，且第一待曝光件曝光的同时进行第二待曝光件的装载或已完成曝光的第二曝光成品进行 卸载，提高了时间利用率，提高了曝光效率，且便于实现自动化操作。
需要说明的是，这里的步骤(S1)至步骤(S6)是为了说明的方便，具体操作时，本领域技术人员可根据需要进行适当调整，满足实际的操作需要。
如初始时刻第二装载部320也可装载第二待曝光件；
如第一曝光成品的卸载和下一个第一待曝光件的装载可以在第二待曝光件曝光时同时进行；也可以在曝光时只进行下一个第一待曝光件的装载，而在前一步完成第一曝光成品的卸载；当然，还可以是曝光时进行第一曝光成品的卸载，之后再进行下一个第一待曝光件的装载；
本领域技术人员可根据需要确定合理的操作步骤，以便于生产和操作为准，以合理利用曝光时间进行同步的其他操作，提高曝光效率。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (10)
- 一种双面曝光机，其特征在于，包括：工作台，所述工作台设有曝光通孔；曝光机构，所述曝光机构包括第一曝光组件和第二曝光组件，所述第一曝光组件和所述第二曝光组件分别设于所述工作台的两侧、并均能够沿所述工作台移动，所述第一曝光组件和所述第二曝光组件均移动、并在所述工作台形成曝光区，所述曝光区与所述曝光通孔对应设置；及装载机构，所述装载机构包括装载台，所述装载台设有第一装载部和第二装载部，所述第一装载部用于装载第一待曝光件，所述第二装载部用于装载第二待曝光件，所述第一装载部和所述第二装载部呈间距设置，所述装载台能够沿所述工作台移动、并使所述第一装载部或所述第二装载部移动至所述曝光区，所述第一曝光组件和所述第二曝光组件移动、并对所述曝光区的所述第一待曝光件或所述第二待曝光件进行曝光。
- 根据权利要求1所述的双面曝光机，其特征在于，所述曝光机构还包括曝光安装架和曝光驱动器，所述第一曝光组件和所述第二曝光组件均设于所述曝光安装架，所述曝光驱动器用于驱动所述曝光安装架、并使所述曝光安装架沿所述工作台移动。
- 根据权利要求1所述的双面曝光机，其特征在于，所述曝光机构还包括第一安装架、第二安装架、第一驱动器和第二驱动器，所述第一曝光组件设于所述第一安装架，所述第二曝光组件设于所述第二安装架，所述第一驱动器用于驱动所述第一安装架沿所述工作台移动，所述第二驱动器用于驱动所述第二安装架沿所述工作台移动。
- 根据权利要求1所述的双面曝光机，其特征在于，所述装载机构还包括装载驱动器，所述装载驱动器用于驱动所述装载台、并使所述装载台沿所述工作台移动。
- 根据权利要求1所述的双面曝光机，其特征在于，所述装载机构还包括锁定器，所述锁定器用于锁定所述装载台、并使所述第一装载部或所述第二装 载部位于所述曝光区。
- 根据权利要求1所述的双面曝光机，其特征在于，还包括传感机构，所述传感机构包括第一传感组件和第二传感组件，所述第一传感组件用于检测所述第一曝光组件的移动位置和所述第二曝光组件的移动位置，所述第二传感组件用于检测所述装载台的移动位置。
- 根据权利要求1所述的双面曝光机，其特征在于，所述第一曝光组件和所述第二曝光组件均沿所述工作台在第一方向移动，所述装载台沿所述工作台在所述第一方向移动；或所述第一曝光组件和所述第二曝光组件均沿所述工作台在第二方向移动，所述装载台沿所述工作台在第三方向移动。
- 根据权利要求1所述的双面曝光机，其特征在于，所述装载台设有第一导轨，所述工作台设有与所述第一导轨配合的第一滑槽。
- 根据权利要求1-8任一项所述的双面曝光机，其特征在于，还包括物料取放机构，所述物料取放机构包括第一取放器和第二取放器，所述第一取放器用于取放所述第一装载部的所述第一待曝光件，所述第二取放器用于取放所述第二装载部的所述第二待曝光件。
- 一种双面曝光方法，能够应用于如权利要求1-9任一项所述的双面曝光机，其特征在于，包括以下步骤：(S1)、第一曝光组件位于第一初始位置，第二曝光组件位于第二初始位置，装载台位于第二曝光位置，在所述装载台的第一装载部装载第一待曝光件；(S2)、所述装载台移动至第一曝光位置、并使所述第一待曝光件位于曝光区；(S3)、所述第一曝光组件移动至第一预设位置、且所述第二曝光组件移动至第二预设位置、并对所述第一待曝光件进行曝光、得到第一曝光成品；同时在第二装载部装载第二待曝光件；(S4)、所述装载台移动至所述第二曝光位置、并使所述第二待曝光件位于所述曝光区；(S5)、所述第一曝光组件移动至所述第一初始位置、且所述第二曝光组件 移动至所述第二初始位置、并对所述第二待曝光件进行曝光、得到第二曝光成品；同时卸载所述第一装载部的所述第一曝光成品、并装载下一个第一待曝光件；(S6)、所述装载台移动至所述第一曝光位置，并卸载所述第二装载部的所述第二曝光成品。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201810836043.1 | 2018-07-26 | ||
| CN201810836043.1A CN108873622B (zh) | 2018-07-26 | 2018-07-26 | 双装载部的双面曝光机及双面曝光方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| WO2020019652A1 true WO2020019652A1 (zh) | 2020-01-30 |
Family
ID=64305565
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PCT/CN2018/122483 WO2020019652A1 (zh) | 2018-07-26 | 2018-12-20 | 一种高效的双台面双面数字化曝光系统及工作流程 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN108873622B (zh) |
| WO (1) | WO2020019652A1 (zh) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108873622B (zh) * | 2018-07-26 | 2020-03-31 | 中山新诺科技股份有限公司 | 双装载部的双面曝光机及双面曝光方法 |
| CN108983556A (zh) * | 2018-07-26 | 2018-12-11 | 中山新诺科技股份有限公司 | 双面曝光机及双面曝光方法 |
| CN111965944A (zh) * | 2019-05-20 | 2020-11-20 | 中山新诺科技股份有限公司 | 一种新型双面双载板机构数字化直写曝光机及曝光方法 |
| CN110308621B (zh) * | 2019-06-20 | 2021-09-17 | 合肥芯碁微电子装备股份有限公司 | 一种激光直写成像设备内层基板的对准定位方法 |
| CN112631087B (zh) * | 2021-01-25 | 2022-04-22 | 苏州源卓光电科技有限公司 | 一种双面加工系统及加工方法 |
Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013186291A (ja) * | 2012-03-08 | 2013-09-19 | Seiko Epson Corp | 露光装置 |
| CN103913955A (zh) * | 2013-01-06 | 2014-07-09 | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 | 双面光刻机及双面光刻方法 |
| CN206557525U (zh) * | 2016-11-07 | 2017-10-13 | 俞庆平 | 一种双面直写式曝光机系统 |
| CN206920817U (zh) * | 2017-03-31 | 2018-01-23 | 苏州微影激光技术有限公司 | 一种兼具独立和合并两种模式的双台面直写曝光机 |
| CN207164466U (zh) * | 2017-09-20 | 2018-03-30 | 浙江欧视达科技有限公司 | 一种用于双面曝光机的台框传动机构 |
| CN108073044A (zh) * | 2016-11-07 | 2018-05-25 | 俞庆平 | 一种柔性材料的双面曝光方法及装置 |
| CN108873621A (zh) * | 2018-07-26 | 2018-11-23 | 中山新诺科技股份有限公司 | 双面曝光机及双面曝光方法 |
| CN108873622A (zh) * | 2018-07-26 | 2018-11-23 | 中山新诺科技股份有限公司 | 双面曝光机及双面曝光方法 |
| CN108897197A (zh) * | 2018-07-26 | 2018-11-27 | 中山新诺科技股份有限公司 | 双面曝光机及双面曝光方法 |
| CN108983556A (zh) * | 2018-07-26 | 2018-12-11 | 中山新诺科技股份有限公司 | 双面曝光机及双面曝光方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN205862101U (zh) * | 2016-08-02 | 2017-01-04 | 无锡影速半导体科技有限公司 | 一种双台面直写式曝光机的曝光系统 |
-
2018
- 2018-07-26 CN CN201810836043.1A patent/CN108873622B/zh active Active
- 2018-12-20 WO PCT/CN2018/122483 patent/WO2020019652A1/zh active Application Filing
Patent Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013186291A (ja) * | 2012-03-08 | 2013-09-19 | Seiko Epson Corp | 露光装置 |
| CN103913955A (zh) * | 2013-01-06 | 2014-07-09 | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 | 双面光刻机及双面光刻方法 |
| CN206557525U (zh) * | 2016-11-07 | 2017-10-13 | 俞庆平 | 一种双面直写式曝光机系统 |
| CN108073044A (zh) * | 2016-11-07 | 2018-05-25 | 俞庆平 | 一种柔性材料的双面曝光方法及装置 |
| CN206920817U (zh) * | 2017-03-31 | 2018-01-23 | 苏州微影激光技术有限公司 | 一种兼具独立和合并两种模式的双台面直写曝光机 |
| CN207164466U (zh) * | 2017-09-20 | 2018-03-30 | 浙江欧视达科技有限公司 | 一种用于双面曝光机的台框传动机构 |
| CN108873621A (zh) * | 2018-07-26 | 2018-11-23 | 中山新诺科技股份有限公司 | 双面曝光机及双面曝光方法 |
| CN108873622A (zh) * | 2018-07-26 | 2018-11-23 | 中山新诺科技股份有限公司 | 双面曝光机及双面曝光方法 |
| CN108897197A (zh) * | 2018-07-26 | 2018-11-27 | 中山新诺科技股份有限公司 | 双面曝光机及双面曝光方法 |
| CN108983556A (zh) * | 2018-07-26 | 2018-12-11 | 中山新诺科技股份有限公司 | 双面曝光机及双面曝光方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN108873622A (zh) | 2018-11-23 |
| CN108873622B (zh) | 2020-03-31 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| WO2020019652A1 (zh) | 一种高效的双台面双面数字化曝光系统及工作流程 | |
| WO2020019653A1 (zh) | 一种悬臂式双台面的双面数字化曝光系统及曝光方法 | |
| WO2020019654A1 (zh) | 一种并行式双台面的双面数字化曝光系统及曝光方法 | |
| JP6139815B2 (ja) | ワークピース処理システム及び方法 | |
| JP5333063B2 (ja) | 両面露光装置 | |
| WO2020019651A1 (zh) | 一种新型双面数字化曝光系统及工作流程 | |
| CN110187608A (zh) | 一种直写式曝光机的曝光方法 | |
| JP2007294594A (ja) | 露光装置及び露光方法 | |
| TW201915614A (zh) | 曝光裝置及曝光方法 | |
| CN109143797A (zh) | 一种双台面直写式曝光机及其曝光方法 | |
| CN107852858A (zh) | 元件安装机、元件保持部件拍摄方法 | |
| JP5338576B2 (ja) | 露光装置 | |
| KR20110059831A (ko) | 노광 장치 | |
| JP4317488B2 (ja) | 露光装置、露光方法および露光処理プログラム | |
| CN209962089U (zh) | 一种直写式曝光机 | |
| TW201904377A (zh) | 真空吸附晶片黏貼之方法 | |
| CN112631087B (zh) | 一种双面加工系统及加工方法 | |
| JP7364754B2 (ja) | 露光方法 | |
| JP7052030B2 (ja) | 印刷装置および印刷装置の使用方法 | |
| WO1991016662A1 (en) | Step and repeat camera/projector machine | |
| JP2000066418A (ja) | 露光装置及び露光方法 | |
| US6249337B1 (en) | Alignment mechanism and process for light exposure | |
| KR20110059207A (ko) | 노광 장치 | |
| JP2013258322A (ja) | 表面実装機 | |
| WO2021059445A1 (ja) | 画像処理装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| 121 | Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application |
Ref document number: 18927796 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |
|
| NENP | Non-entry into the national phase |
Ref country code: DE |
|
| 122 | Ep: pct application non-entry in european phase |
Ref document number: 18927796 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |