KR20110059207A - 노광 장치 - Google Patents

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KR20110059207A KR1020090115864A KR20090115864A KR20110059207A KR 20110059207 A KR20110059207 A KR 20110059207A KR 1020090115864 A KR1020090115864 A KR 1020090115864A KR 20090115864 A KR20090115864 A KR 20090115864A KR 20110059207 A KR20110059207 A KR 20110059207A
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Abstract

노광 장치는 마스크를 홀딩하는 마스크 홀더, 복수의 스테이지부들 -상기 복수의 스테이지부들 각각은 독립적으로 동작하고 셀(cell)을 제1 및 제2 위치들 사이에 왕복시키고 상기 제2 위치에 있는 셀을 정렬시킴, 상기 제2 위치는 상기 마스크의 하부에 위치함-, 상기 제2 위치에 있는 셀이 정렬된 경우에는 상기 마스크의 상부로 이동하여 상기 정렬된 셀을 노광시키는 복수의 조명 광학계 하우스들 -상기 복수의 광학계 하우스들은 상기 복수의 스테이지부들과 일대일 대응하고, 상기 복수의 광학계 하우스들은 독립적으로 동작함- 및 상기 노광 전에 상기 셀을 상기 제1 위치에 로드하는 로드 암(load arm)과 상기 노광 후에 상기 제1 위치에 있는 셀을 언로드하는 언로드 암(unload arm)을 포함하는 운반 로봇을 포함한다.

Description

노광 장치{EXPOSURE APPARATUS}
개시된 기술은 노광 장치에 관한 것으로 특히 복수의 노광 과정을 동시에 수행할 수 있는 노광 장치에 관한 것이다.
디스플레이 장치의 글라스(glass) 또는 반도체 소자를 제조하는 경우에는 감광물질(PR, Photo Resist)을 글라스 또는 기판에 코팅한 후 리소그래피(Lithography) 공정을 수행한다. 리소그래피 공정은 마스크(Mask) 상에 형성된 패턴을 노광 장치를 통해 글라스 또는 기판 상에 전사시키는 공정이다.
실시예들 중에서, 노광 장치는 마스크를 홀딩하는 마스크 홀더, 복수의 스테이지부들 -상기 복수의 스테이지부들 각각은 독립적으로 동작하고 셀(cell)을 제1 및 제2 위치들 사이에 왕복시키고 상기 제2 위치에 있는 셀을 정렬시킴, 상기 제2 위치는 상기 마스크의 하부에 위치함-, 상기 제2 위치에 있는 셀이 정렬된 경우에는 상기 마스크의 상부로 이동하여 상기 정렬된 셀을 노광시키는 복수의 조명 광학계 하우스들 -상기 복수의 광학계 하우스들은 상기 복수의 스테이지부들과 일대일 대응하고, 상기 복수의 광학계 하우스들은 독립적으로 동작함- 및 상기 노광 전에 상기 셀을 상기 제1 위치에 로드하는 로드 암(load arm)과 상기 노광 후에 상기 제1 위치에 있는 셀을 언로드하는 언로드 암(unload arm)을 포함하는 운반 로봇을 포함한다.
개시된 기술에 관한 설명은 구조적 내지 기능적 설명을 위한 실시예에 불과하므로, 개시된 기술의 권리범위는 본문에 설명된 실시예에 의하여 제한되는 것으로 해석되어서는 아니 된다. 즉, 실시예는 다양한 변경이 가능하고 여러 가지 형태를 가질 수 있으므로 개시된 기술의 권리범위는 기술적 사상을 실현할 수 있는 균등물들을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
한편, 본 출원에서 서술되는 용어의 의미는 다음과 같이 이해되어야 할 것이다.
“제1”, “제2” 등의 용어는 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별 하기 위한 것으로 이들 용어들에 의해 권리범위가 한정되어서는 아니 된다. 예를 들어, 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다.
“및/또는”의 용어는 하나 이상의 관련 항목으로부터 제시 가능한 모든 조합을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 예를 들어, “제1 항목, 제2 항목 및/또는 제3 항목”의 의미는 제1, 제2 또는 제3 항목뿐만 아니라 제1, 제2 또는 제3 항목들 중 2개 이상으로부터 제시될 수 있는 모든 항목의 조합을 의미한다.
어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결될 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "직접 연결되어" 있다고 언급된 때에는, 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다. 한편, 구성요소들 간의 관계를 설명하는 다른 표현들, 즉 "~사이에"와 "바로 ~사이에" 또는 "~에 이웃하는"과 "~에 직접 이웃하는" 등도 마찬가지로 해석되어야 한다.
단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한 복수의 표현을 포함하는 것으로 이해되어야 하고, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 설시된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
각 단계들에 있어 식별부호(예를 들어, a, b, c, ...)는 설명의 편의를 위하여 사용되는 것으로 식별부호는 각 단계들의 순서를 설명하는 것이 아니며, 각 단계들은 문맥상 명백하게 특정 순서를 기재하지 않은 이상 명기된 순서와 다르게 일어날 수 있다. 즉, 각 단계들은 명기된 순서와 동일하게 일어날 수도 있고 실질적으로 동시에 수행될 수도 있으며 반대의 순서대로 수행될 수도 있다.
여기서 사용되는 모든 용어들은 다르게 정의되지 않는 한, 개시된 기술이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가진다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미를 지니는 것으로 해석될 수 없다.
도 1a 내지 도 1c는 개시된 기술의 일 실시예에 따른 노광 장치를 설명하기 위한 도면이다. 도 1a는 노광 장치의 평면도이고, 도 1b는 노광 장치의 정면도이며, 도 1c는 노광 장치의 측면도이다.
도 1a 내지 도 1c를 참조하면, 노광 장치는 지지체(100), 제1 운반부(102), 제2 운반부(104), 스테이지부(106), 조명 광학계 하우스(108), 암 로봇(109), 카메라(116), 스테이지 가이드(118), 마스크 홀더(124), 마스크 홀더 이동부(126), 조명 광학계 하우스 가이드(128), 제1 프레임(130) 및 제2 프레임(132)을 포함한다. 암 로봇(109)은 로드 암(load arm)(110), 언로드 암(unload arm)(112) 및 가이드(114)를 포함하고, 로드 암 (110)과 언로드 암 (112)은 각각 수직 운동기(120) 및 로드/언로드부(122)를 포함한다.
제1 운반부(102)는 지지체(100)의 상부에 이격되어 배치되고 일 측면에서 외부로부터 제공된 셀(cell)을 운반하며, 제2 운반부(104)는 제1 운반부(102)와 동일한 높이로 지지체(100)의 상부에 이격되어 배치되고 타 측면에서 외부로 셀을 운반한다. 제1 운반부(102)와 제2 운반부(104)는 동일한 가상의 연장선 상에 배치될 수 있다.
일 실시예에서, 제1 운반부(102)와 제2 운반부(104)는 컨베이어에 상응할 수 있다. 제1 운반부(102)는 암 로봇(109)이 제1 운반부(102)에서 셀을 로드하는 주기에 맞추어 셀을 하나씩 쉬프트시켜 운반할 수 있고, 제2 운반부(104)는 암 로봇(109)이 제2 운반부(104)에 셀을 언로드하는 주기에 맞추어 셀을 하나씩 쉬프트시켜 운반할 수 있다. 일 실시예에서, 셀은 글라스 또는 웨이퍼에 상응할 수 있다.
노광 장치는 복수의 스테이지부들(106)을 포함할 수 있고, 스테이지부들(106)은 제1 운반부(102)와 제2 운반부(104)의 사이에 배치될 수 있다. 스테이지부들(106)은 제1 운반부(102)와 제2 운반부(104) 사이의 제1 운반부(102)와 제2 운반부(104)를 연결하는 가상의 연장선 상(이하, 제1 위치)에서 셀을 로드하고, 해당 셀을 Y축 방향(노광 장치의 정면을 기준으로 수직 방향)으로 이동시킨다.
스테이지부들(106)에 셀이 로드된 경우에는 스테이지부들(106)은 셀을 마스크 홀더(124)의 하부(이하, 제2 위치)로 이동시키고 셀을 정렬시킨다. 일 실시예에서, 스테이지부들(106)은 셀을 마스크 홀더(124)와 이격시켜 위치시키고 마스크 홀더(124)에 홀딩된 마스크를 기초로 셀을 정렬시킬 수 있다. 예를 들어, 스테이지부들(106)은 셀을 X축 방향(노광 장치의 정면을 기준으로 수평 방향)으로 이동시키거 나 또는 Y축 방향(노광 장치의 정면을 기준으로 수직축)으로 이동시켜 셀을 정렬할 수 있다. 또한, 스테이지부들(106)은 셀을 θ각도로 회전(플레이트(100)와 평행하게 회전)시켜 셀을 정렬할 수 있다.
스테이지부들(106)은 제2 프레임(132)의 카메라(116)를 통해 촬영된 영상을 기초로 셀을 정렬시킨다. 카메라(116)는 마스크 홀더(124)에 탑재된 마스크의 상부를 촬영할 수 있도록 마스크 홀더(124)와 이격되어 구비된다. 스테이지부들(106)이 제2 위치로 이동한 경우에는 스테이지부들(106), 마스크 홀더(124) 및 카메라(116)는 일직선 상에 위치할 수 있다.
일 실시예에서, 노광 장치는 4개의 스테이지부들(106)을 포함하고, 스테이지부들 각각은 독립적으로 동작할 수 있다. 또한, 노광 장치는 스테이지부들(106)의 수와 동일한 수의 마스크 홀더(124)를 포함할 수 있다. 예를 들어, 노광 장치가 4개의 스테이지부들(106)을 포함하는 경우에는, 각 스테이지부들(106)에 대한 4개의 마스크 홀더를 포함할 수 있다. 마스크 홀더(124)는 동일한 패턴을 가지는 마스크를 탑재할 수도 있고, 서로 다른 패턴을 가지는 마스크를 탑재할 수도 있다. 마스크 홀더 이동부(126)는 각 마스크 홀더(124)에 장착된 마스크의 위치를 상하로 이동시킨다.
제2 위치에 있는 셀이 정렬된 경우에는 해당 스테이지부들(106)에 상응하는 조명 광학계 하우스들(108)은 마스크의 상부로 이동한다. 일 실시예에서, 조명 광학계 하우스들(108)은 조명 광학계를 마스크 홀더(124)와 이격시켜 위치시킬 수 있다. 조명 광학계 하우스들은(108) 각 조명 광학계 하우스 내에 포함된 조명 광학계 를 통해 마스크에 광을 조사하고 셀을 노광시킨다. 셀을 노광한 후 조명 광학계 하우스들(108)은 원 위치로 복귀한다. 일 실시예에서, 조명 광학계 하우스들(108)은 스테이지부들(106)과 일대일 대응하고, 조명 광학계 하우스들(108) 각각은 독립적으로 동작할 수 있다.
셀이 노광된 후 스테이지부들(106)은 노광된 셀을 제1 위치로 이동시킨다. 즉, 각 스테이지부들(106)은 해당 셀을 제1 위치들 및 제2 위치들 사이를 왕복시킨다.
암 로봇(109)은 언로드 암(112)를 통해 제1 위치에 있는 셀을 언로드하고, 로드 암(110)을 통해 제1 위치에 셀을 로드한다. 언로드 암(112)은 제1 위치에서 언로드한 셀을 제2 운반부(104)로 이동시켜 제2 운반부(104)에 언로드하고, 로드 암(110)은 제1 운반부(102)에서 로드한 셀을 제1 위치로 이동시켜 제1 위치에 셀을 로드한다. 즉, 언로드 암(112)은 제1 위치로 이동한 스테이지부에서 셀을 언로드한 후, 해당 스테이지부에 새로운 셀을 로드할 수 있다.
일 실시예에서, 암 로봇(109)은 제1 운반부(102)와 제2 운반부(104)를 연결하는 가상의 축과 평행하고 제1 운반부(102)와 제2 운반부(104) 사이에서 가상의 축과 이격되어 위치한 가이드(114)를 통해 로드 암(110) 및 언로드 암(112)을 각각 평행 이동시킬 수 있다.
일 실시예에서, 언로드 암(112)을 통해 제1 위치에서 셀을 언로드한 경우에는 암 로봇(109)은 로드 암(110)과 언로드 암(112)을 동시에 평행 이동시킨다. 예를 들어, 암 로봇(109)은 언로드 암(112)을 통해 제1 위치에서 언로드한 셀을 제2 운반부(104)로 이동시키고, 동시에 로드 암(110)을 통해 제1 운반부(102)에서 로드한 셀을 제1 위치로 이동시킨다.
도 2는 도 1의 조명 광학계 하우스들과 제1 프레임을 설명하기 위한 도면이다.
도 2를 참조하면, 노광 장치는 제1 프레임(130) 상에 4개의 조명 광학계 하우스들(108)을 구비한다. 4개의 조명 광학계 하우스들(108) 및 제1 프레임(130)은 노광 장치의 정면을 기준으로 마스크 홀더(124)의 뒤에 배치될 수 있다.
제1 프레임(130)은 지지체(100)의 상부 면에 수직으로 배치된 3개의 수직 지지체(202)와 수직 지지체(202)의 상부에 각 수직 지지체(202)와 수직으로 배치된 수평 지지체(204)를 포함한다. 수직 지지체(202)는 조명 광학계 하우스들(108)과 마스크 홀더(124)를 이격시켜 조명 광학계 하우스들(108)이 마스크 홀더(124)와 이격되어 이동할 수 있도록 한다. 수평 지지체(204)는 각 조명 광학계 하우스들(108)에서 광이 출력되는 광 출력부(134)를 제외한 나머지 부분을 지지할 수 있는 U자 형상의 지지체이다.
조명 광학계 하우스 가이드들(128)은 수평 지지체(204) 상에 배치되고, 조명 광학계 하우스들(108)은 각각 해당 조명 광학계 하우스 가이드(128) 상에 배치된다. 각 조명 광학계 하우스 가이드(128)는 스테이지부들(106)의 수직 이동 선과 동일한 선 상에서 조명 광학계 하우스들(108)을 이동시킨다. 일 실시예에서, 조명 광학계 하우스들(108)은 마스크 홀더(124) 및 카메라(116)와 이격되어 이동할 수 있다.
각 조명 광학계 하우스 가이드(128)는 조명 광학계 하우스들(108)을 노광 장치의 정면 방향으로 이동시켜 조명 광학계 하우스들(108)의 광 출력부(134)를 마스크의 상부에 위치시킨다. 조명 광학계 하우스들(108)은 조명 광학계를 통해 셀을 노광시킨다. 노광 후 각 조명 광학계 하우스 가이드(128) 조명 광학계 하우스들(108)을 다시 원 위치로 복귀시킨다.
도 3a 및 도 3b는 도 1의 카메라와 제2 프레임을 설명하기 위한 도면이다.
도 3a 및 도 3b를 참조하면, 제2 프레임(132)은 거리 조정부(310), 카메라 장착부(312), 수직 지지체(320), 제1 수평 지지체(322), 제2 수평 지지체(324) 및 제3 수평 지지체(326)를 포함한다.
제2 프레임(132)은 제1 프레임(130)의 수평 지지체와 수직으로 배치된 2개의 수직 지지체(320)와 수직 지지체(320)의 상부에 각 수직 지지체(320)와 수직으로 연결된 제1 수평 지지체(322)를 포함한다. 조명 광학계 하우스(108)는 제2 프레임의 각 수직 지지체(320) 및 제1 수평 지지체(322)에 의해 생성된 공간 사이를 이동한다.
제2 프레임(132)은 제1 프레임(130)의 상부에 구비된다. 일 실시예에서, 제2 프레임(132)은 제2 프레임(132)의 수직 지지체(320)의 일 부분이 제1 프레임(130)의 수평 지지체(204)의 일 부분에 의해 지지될 수 있다. 즉, 제2 프레임(132)은 제2 프레임(132)에 장착된 카메라(116)가 마스크 홀더(124) 상의 마스크와 일직선 상에 위치하도록 제1 프레임(130)의 상부에 구비된다.
제1 수평 지지체(322)는 카메라(116)가 장착될 수 있도록 내부에 빈 공간을 포함하는 사각형 형상의 지지체이다. 제1 수평 지지체(322)에서 노광 장치의 정면 방향에 위치한 상부 면에는 제2 수평 지지체(324)가 배치되고, 노광 장치의 후면 방향에 위치한 상부 면에는 제3 수평 지지체(326)가 배치된다. 제2 수평 지지체(324)와 제3 수평 지지체(326)는 일정 거리 간격으로 떨어져 있고, 제2 수평 지지체(324)와 제3 수평 지지체(326)의 사이에 카메라(116)가 위치할 수 있다. 제2 수평 지지체(324)와 제3 수평 지지체(326)의 거리는 거리 조정부(310)를 통해 조정될 수 있다.
제2 수평 지지체(324) 및 제3 수평 지지체(326)는 각각 카메라(116)를 장착할 수 있는 카메라 장착부(312)를 구비한다. 제2 수평 지지체(324)와 제3 수평 지지체(326)는 각각 제1 수평 지지체(322) 내부의 빈 공간 방향으로 돌출된 카메라 장착부(312)를 구비한다. 카메라 장착부(312)는 제1 수평 지지체(322) 내부의 빈 영역을 통해 카메라(116)가 하부를 촬영할 수 있도록 각각 제2 수평 지지체(324)와 제3 수평 지지체(326)에서 돌출되어 있다.
일 실시예에서, 제2 수평 지지체(324)와 제3 수평 지지체(326)는 각각 스테이지(106)와 동일한 수의 카메라 장착부(312)를 구비할 수 있고, 각 카메라 장착부(312)의 간격은 동일할 수 있다. 예를 들어, 제2 수평 지지체(324)와 제3 수평 지지체(326)는 각각 4개의 카메라 장착부(312)를 구비할 수 있고, 제2 수평 지지체(324)의 4개의 카메라 장착부(312)는 동일한 간격으로 떨어져 있으며, 제3 수평 지지체(326)의 4개의 카메라 장착부(312)는 동일한 간격으로 떨어져 있다.
일 실시예에서, 제2 수평 지지체(324)의 카메라 장착부(312)와 제3 수평 지 지체(326)의 카메라 장착부(312)는 서로 엇갈린 위치에 배치될 수 있다. 예를 들어, 제2 수평 지지체(324)의 제3 카메라 장착부(312c)는 제3 수평 지지체(326)의 제2 카메라 장착부(312b) 및 제4 카메라 장착부(312d) 사이에 위치할 수 있다.
각 카메라 장착부(312)는 카메라(116)를 장착한다. 스테이지(106)는 적어도 하나의 카메라를 통해 촬영된 영상을 기초로 마스크와 셀을 정렬할 수 있다. 일 실시예에서, 제1 스테이지(106a)는 제1 카메라(302a)와 제2 카메라(302b)를 통해 촬영된 영상을 기초로 마스크와 셀을 정렬할 수 있다. 다른 실시예에서, 제1 스테이지(106a)는 제1 카메라(302a)와 제2 카메라(302b) 중 하나의 카메라를 통해 촬영된 영상을 기초로 마스크와 셀을 정렬할 수도 있다.
제1 카메라(302a)는 제1 모서리 영역을 촬영하고 제2 카메라(302b)는 대각선 방향의 제2 모서리 영역을 촬영한다. 노광 장치는 촬영된 영상을 기초로 마스크와 셀 사이의 갭(gab)을 측정하고, 제1 스테이지(106a)는 해당 마스크와 셀 사이의 갭을 줄여 셀을 정렬시킬 수 있다. 제2 스테이지(106b)는 제3 카메라(302c)와 제4 카메라(302d)에서 촬영된 영상을 기초로 해당 마스크와 셀을 정렬시키고, 제3 스테이지(106c)는 제5 카메라(302e)와 제6 카메라(302f)에서 촬영된 영상을 기초로 해당 마스크와 셀을 정렬시키며, 제4 스테이지(106d)는 제7 카메라(302g)와 제8 카메라(302h)에서 촬영된 영상을 기초로 해당 마스크와 셀을 정렬시킨다.
도 4는 도 1의 암 로봇을 설명하기 위한 도면이다.
도 4를 참조하면, 암 로봇(109)은 로드 암(110), 언로드 암(112), 가이드(114) 및 암 로봇 지지체(402)를 포함하고 로드 암(110)과 언로드 암(112)은 각 각 수직 운동기(120) 및 로드/언로드부(122)를 포함한다.
암 로봇(109)은 제1 운반부(102)와 제2 운반부(104)를 연결하는 가상의 축과 평행하고 제1 운반부(102)와 제2 운반부(104) 사이에서 가상의 축과 이격되어 위치한 가이드(114)를 통해 로드 암(110) 및 언로드 암(112)을 각각 평행 이동시킨다. 가이드(114)는 암 로봇 지지체(402)에 의해 지지되고 암 로봇 지지체(402)는 노광 장치의 지지체(100) 상에 배치될 수 있다.
수직 운동기(120)는 로드/언로드부(122)를 상하로 이동시킨다. 수직 운동기(120)는 로드/언로드부(122)를 하부로 이동시킨 후 셀을 로드하거나 또는 언로드하고, 로드/언로드부(122)를 상부로 이동시킨 후 로드 암(110) 또는 언로드 암(112)을 이동시킨다.
도 5는 도 1의 노광 장치의 동작을 설명하기 위한 도면이다.
제1 운반부(102)는 제1 공정부(502)로부터 셀(504)을 제공받고, 셀(504)를 하나씩 운반한다. 일 실시예에서, 제1 공정부(502)는 셀에 코팅 공정을 수행하는 코팅장치(laminator)에 상응할 수 있다.
각 스테이지부들(106)은 노광된 셀을 제1 위치들로 이동시키고, 암 로봇(109)은 스테이지부들(106)에서 노광된 셀을 언 로드시킨 후 새로운 셀을 로드시킨다. 일 실시예에서, 스테이지부들(106)은 각각 노광된 셀을 제1 위치들로 3초 차이로 이동시키고, 각 스테이지부들(106)은 12초 주기로 제1 위치들에서 셀을 로드하고 셀을 제1 및 제2 위치들 사이에 왕복시킨다. 예를 들어, 각 스테이지부는 노광된 셀을 제1 위치에서 언로드하고, 제1 위치에서 새로운 셀을 로드하며, 제1 위 치에서 로드된 셀을 제2 위치로 이동시켜 정렬시키고, 노광 후 노광된 셀을 제2 위치로 이동시키는 과정을 12초 주기로 수행할 수 있다.
도 6은 도 5의 스테이지부의 동작을 설명하기 위한 도면이다.
도 6을 참조하면, 도 6의 (a)는 각 스테이지부들(106)에 셀을 로드하는 셀 로딩 과정을 설명하기 위한 도면이다.
복수의 스테이지부들(106) 중 하나의 스테이지부가 노광된 셀을 제1 위치로 이동시킨 경우에는 언로드 암(112)은 제1 위치로 이동하고, 스테이지부에서 노광된 셀을 언로드 시킨다. 언로드 암(112)은 노광된 셀을 제2 운반부(104)로 이동시켜 해당 셀을 제2 운반부(104)에 언로드하고, 동시에 로드 암(110)은 새로운 셀을 제1 위치로 이동시켜 스테이지부에 로드한다. 언로드 암(112)은 제1 스테이지부에서 언로드시킨 셀을 제2 운반부(104)에 언로드한 후 즉시 다른 스테이지부로 이동하여 해당 스테이지부에서 셀을 언로드한다.
도 7은 도 6의 셀 로딩 과정에서 암 로봇의 동작을 설명하기 위한 도면이다.
도 7을 참조하면, 암 로봇(109)은 3초 주기로 각 스테이지부들(106)에서 노광된 셀을 언로드시키고 해당 스테이지부들(106)에 새로운 셀을 로드시킨다.
일 실시예에서, 언로드 암(112)이 제1 위치로 이동하는 경우에는 1초가 걸릴 수 있고, 제1 위치에서 노광된 셀을 언로드시키는 경우에는 0.5초가 걸릴 수 있으며, 로드 암(110)과 언로드 암(112)이 각각 제1 위치 및 제2 운반부(104)로 이동하는 경우에는 1초가 걸릴 수 있고, 로드 암(110)이 제1 위치에 새로운 셀을 로드하는 경우에는 0.5초가 걸릴 수 있다. 즉, 암 로봇(109)이 하나의 스테이지부(106)에 서 노광된 셀을 언로드시키고 새로운 셀을 로드키는 셀 로딩 과정에는 3초가 걸릴 수 있다.
도 6의 (b)는 각 스테이지부들(106)이 로드된 셀을 정렬시키는 셀 정렬 과정을 설명하기 위한 도면이다.
스테이지부는 로드된 셀을 제2 위치로 이동시키고, 마스크(508)를 기초로 셀을 정렬시킨다. 일 실시예에서, 스테이지부는 셀을 제2 위치로 이동시킨 후, 하부 방향(Z축)으로 이동하여 스테이지부의 위치를 안정화시키고 셀을 정렬시킬 수 있다.
일 실시예에서, 스테이지부가 셀을 제2 위치로 이동시키는 경우에는 1초가 걸릴 수 있고, 하부 방향으로 이동하여 스테이지부의 위치를 안정화시키는 경우에는 0.5초가 걸릴 수 있으며, 셀을 정렬시키는 경우에는 2초가 걸릴 수 있다. 즉, 하나의 스테이지부가 셀을 제2 위치로 이동시킨 후 셀을 정렬시키는 셀 정렬 과정에는 3.5초가 걸릴 수 있다.
도 6의 (c)는 각 스테이지부들(106)에 로드된 셀을 노광시키는 셀 노광 과정을 설명하기 위한 도면이다.
셀이 정렬된 경우에는 스테이지부에 대응되는 조명 광학계 하우스가 마스크(508)의 상부로 이동하고 조명 광학계는 마스크(508)로 광을 조사하여 셀을 노광시킨다. 셀이 노광된 후, 스테이지부는 상부 방향(Z축)으로 이동한다.
일 실시예에서, 조명 광학계 하우스가 마스크(508)의 상부로 이동하고 조명 광학계가 마스크(508)의 상부로 광을 조사하여 셀을 노광시키는 경우에는 4초가 걸 릴 수 있다. 그리고 스테이지부가 상부 방향으로 이동하는 경우에는 0.5초가 걸릴 수 있다. 즉, 하나의 스테이지에서 셀이 노광되는 셀 노광 과정에는 4.5초가 걸릴 수 있다.
도 6의 (d)는 각 스테이지부들(108)이 노광된 셀을 제1 위치로 이동시키는 셀 이동 과정을 설명하기 위한 도면이다.
셀이 노광된 후 스테이지부는 노광된 셀을 제1 위치로 이동시키고 조명 광학계 하우스(108)는 원 위치로 복귀한다.
일 실시예에서, 하나의 스테이지부가 노광된 셀을 제1 위치로 이동시키고 스테이지부에 대응되는 조명 광학계 하우스가 원 위치로 복귀하는 경우에는 1초가 걸릴 수 있다.
개시된 기술은 다음의 효과를 가질 수 있다. 다만, 특정 실시예가 다음의 효과를 전부 포함하여야 한다거나 다음의 효과만을 포함하여야 한다는 의미는 아니므로, 개시된 기술의 권리범위는 이에 의하여 제한되는 것으로 이해되어서는 아니 될 것이다.
일 실시예에 따른 노광 장치는 복수의 노광 과정을 동시에 수행하여 셀의 생산 효율을 높일 수 있다. 노광 장치는 셀의 투입에서부터 배출까지 각 노광 과정을 자동으로 수행할 수 있고, 일정 시간 차이로 각 노광 과정을 수행하여 노광 장치에서 노광된 셀이 배출되는 주기를 줄일 수 있다.
또한, 일 실시예에 따른 노광 장치는 각 노광 과정을 개별적으로 수행하여 다른 노광 과정의 영향을 받지 않고 셀을 노광시킬 수 있다. 따라서, 일부의 동작 이 불가능한 경우에도 나머지 부분을 통해 노광된 셀을 생산할 수 있고, 다른 종류의 마스크를 사용하여 셀을 노광시킬 수도 있다.
상기에서는 개시된 기술의 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 기술의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 개시된 기술을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
도 1a 내지 도 1c는 개시된 기술의 일 실시예에 따른 노광 장치를 설명하기 위한 도면이다.
도 2는 도 1의 조명 광학계 하우스들과 제1 프레임을 설명하기 위한 도면이다.
도 3a 및 도 3b는 도 1의 카메라와 제2 프레임을 설명하기 위한 도면이다.
도 4는 도 1의 암 로봇을 설명하기 위한 도면이다.
도 5는 도 1의 노광 장치의 동작을 설명하기 위한 도면이다.
도 6은 도 5의 스테이지부의 동작을 설명하기 위한 도면이다.
도 7은 도 6의 셀 로딩 과정에서 암 로봇의 동작을 설명하기 위한 도면이다.

Claims (7)

  1. 마스크를 홀딩하는 마스크 홀더;
    복수의 스테이지부들 -상기 복수의 스테이지부들 각각은 독립적으로 동작하고 셀(cell)을 제1 및 제2 위치들 사이에 왕복시키고 상기 제2 위치에 있는 셀을 정렬시킴, 상기 제2 위치는 상기 마스크의 하부에 위치함-;
    상기 제2 위치에 있는 셀이 정렬된 경우에는 상기 마스크의 상부로 이동하여 상기 정렬된 셀을 노광시키는 복수의 조명 광학계 하우스들 -상기 복수의 광학계 하우스들은 상기 복수의 스테이지부들과 일대일 대응하고, 상기 복수의 광학계 하우스들은 독립적으로 동작함-; 및
    상기 노광 전에 상기 셀을 상기 제1 위치에 로드하는 로드 암(load arm)과 상기 노광 후에 상기 제1 위치에 있는 셀을 언로드하는 언로드 암(unload arm)을 포함하는 운반 로봇을 포함하는 노광 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    외부로부터 셀을 운반하는 제1 운반부; 및
    노광된 셀을 외부로 운반하는 제2 운반부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 암 로봇은
    상기 제1 운반부와 상기 제2 운반부를 연결하는 가상의 축과 평행하고 상기 제1 운반부와 상기 제2 운반부 사이에서 상기 가상의 축과 이격되어 위치한 가이드를 통해 상기 로드 암 및 상기 언로드 암을 각각 평행 이동시키는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  4. 제3항에 있어서, 상기 암 로봇은
    상기 언로드 암을 통해 상기 제1 위치에 있는 셀을 언로드한 경우에는 상기 로드 암과 상기 언로드 암을 동시에 평행 이동시켜 상기 제1 위치에 셀을 로드하고 상기 제1 위치에서 언로드한 셀을 상기 제2 운반부로 이동시키는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  5. 제1항에 있어서, 상기 스테이지부들은
    상기 마스크 홀더의 상부에 상기 마스크 홀더와 이격되어 위치한 카메라에서 상기 마스크를 촬영한 영상을 기초로 상기 셀을 정렬시키는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  6. 제5항에 있어서, 상기 조명 광학계 하우스들은
    상기 마스크 홀더와 상기 카메라 사이에서 상기 마스크 홀더 및 상기 카메라와 각각 이격되어 이동하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  7. 제1항에 있어서, 상기 노광 장치는
    4개의 스테이지부를 포함하고, 상기 각 스테이지부는 각각 상기 노광된 셀을 3초 차이로 상기 제1 위치로 이동시키며, 상기 각 스테이지부는 12초 주기로 상기 제1 위치에서 셀을 로드하고 상기 셀을 상기 제1 및 제2 위치 사이에 왕복시키는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10284401A (ja) * 1997-04-03 1998-10-23 Nikon Corp 露光装置
JP2003060000A (ja) * 2001-08-17 2003-02-28 Nikon Corp 基板搬送装置及び露光装置、並びにデバイス製造方法
JP2007293376A (ja) * 2007-08-14 2007-11-08 Hitachi High-Technologies Corp 露光装置及び基板製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108169231A (zh) * 2018-01-24 2018-06-15 南京图思灵智能科技有限责任公司 一种大容量的病理切片扫描仪

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