WO2020017405A1

WO2020017405A1 - 造形システム

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Publication number: WO2020017405A1
Application number: PCT/JP2019/027295
Authority: WO
Inventors: 壮史松田
Original assignee: 株式会社ニコン
Priority date: 2018-07-19
Filing date: 2019-07-10
Publication date: 2020-01-23
Also published as: TW202012149A

Abstract

造形システムは、物体の造形対象面の少なくとも一部にエネルギビームを照射する照射装置と、エネルギビームの照射位置に材料を供給する供給装置と、物体の姿勢を変更する変更装置とを備え、造形対象面の第１部分にエネルギビームを照射し、物体の姿勢を変えて造形対象面の第２部分にエネルギビームを照射して構造物を形成する。

Description

造形システム

　本発明は、例えば、構造物を形成するための造形システムの技術分野に関する。

　特許文献１には、粉状の材料をエネルギビームで溶融した後に、溶融した材料を固化させることで構造物を形成する造形システムが記載されている。このような造形システムでは、構造物を適切に形成することが技術的課題となる。

米国特許出願公開第２０１７／０１４９０９号明細書

　第１の態様によれば、物体の造形対象面の少なくとも一部にエネルギビームを照射する照射装置と、前記エネルギビームの照射位置に材料を供給する供給装置と、前記物体の姿勢を変更する変更装置とを備え、前記造形対象面の第１部分に前記エネルギビームを照射し、前記物体の前記姿勢を変えて前記造形対象面の第２部分に前記エネルギビームを照射して構造物を形成する造形システムが提供される。

　本発明の作用及び他の利得は次に説明する実施するための形態から明らかにされる。

図１は、本実施形態の造形システムの構造を示すブロック図である。図２（ａ）及び図２（ｂ）のそれぞれは、本実施形態の造形システムが備える造形装置の構造を示す側面図である（但し、説明の便宜上、一部は断面図である）。図３（ａ）から図３（ｅ）のそれぞれは、ワーク上のある領域において光を照射し且つ造形材料を供給した場合の様子を示す断面図である。図４（ａ）から図４（ｃ）のそれぞれは、第１の造形動作によって３次元構造物を形成する過程を示す断面図である。図５は、表面が曲面を含むワークを示す断面図である。図６（ａ）は、表面が曲面を含むワークを示す断面図であり、図６（ｂ）は、曲面を含む造形面を示す断面図である。図７（ａ）及び図７（ｂ）のそれぞれは、曲面を含む造形面に沿った形状を有する構造層を示す断面図である。図８（ａ）から図８（ｃ）のそれぞれは、造形ヘッドを移動して曲面を含む造形面に沿った形状を有する構造層を形成する工程を示す断面図である。図９（ａ）から図９（ｄ）のそれぞれは、ステージの姿勢を変更して曲面を含む造形面に沿った形状を有する構造層を形成する工程を示す断面図である。図１０は、曲面を含む造形面に沿った形状を有する複数の構造層を示す断面図である。図１１は、複数の構造層から構成される造形物の上部の外形を３次元構造物の外形に合わせるための構造層を示す断面図である。図１２は、複数の構造層から構成される造形物の上部の外形を３次元構造物の外形に合わせるための構造層を示す断面図である。図１３は、曲面を含む造形面に沿った形状を有する構造層から構成される３次元構造物を示す断面図である。図１４（ａ）から図１４（ｄ）のそれぞれは、造形面の形状に応じて厚みが変わる構造層を形成して３次元構造物を形成する工程を示す断面図である。図１５（ａ）及び図１５（ｂ）のそれぞれは、表面が曲面を含むワークに形成された３次元構造物を示す断面図である。図１６（ａ）から図１６（ｄ）のそれぞれは、表面が交差する２つの平面を含むワークに形成された３次元構造物を示す断面図である。図１７は、第３の造形動作によって形成される３次元構造物を示す斜視図である。図１８（ａ）から図１８（ｆ）のそれぞれは、第３の造形動作によって３次元構造物を形成する工程を示す断面図である。図１９（ａ）から図１９（ｆ）のそれぞれは、第３の造形動作によって３次元構造物を形成する工程を示す断面図である。図２０（ａ）から図２０（ｃ）のそれぞれは、第３の造形動作によって３次元構造物を形成する工程を示す断面図である。図２１（ａ）から図２１（ｃ）のそれぞれは、第３の造形動作によって３次元構造物を形成する工程を示す断面図である。図２２（ａ）から図２２（ｃ）のそれぞれは、第３の造形動作によって３次元構造物を形成する工程を示す断面図である。図２３（ａ）から図２３（ｃ）のそれぞれは、第３の造形動作によって３次元構造物を形成する工程を示す断面図である。図２４（ａ）から図２４（ｃ）のそれぞれは、第３の造形動作によって３次元構造物を形成する工程を示す断面図である。図２５（ａ）から図２５（ｃ）のそれぞれは、第３の造形動作によって３次元構造物を形成する工程を示す断面図である。図２６は、第３の造形動作によって形成される３次元構造物を示す斜視図である。図２７（ａ）から図２７（ｅ）のそれぞれは、第３の造形動作によって３次元構造物を形成する工程を示す断面図である。図２８は、第３の造形動作によって形成される３次元構造物を示す斜視図である。図２９（ａ）から図２９（ｅ）のそれぞれは、第３の造形動作によって３次元構造物を形成する工程を示す断面図である。図３０（ａ）から図３０（ｄ）のそれぞれは、第３の造形動作によって３次元構造物を形成する工程を示す断面図である。図３１（ａ）から図３１（ｄ）のそれぞれは、第３の造形動作によって３次元構造物を形成する工程を示す断面図である。図３２（ａ）は、第４の造形動作によって形成される３次元構造物を示す側面図であり、図３２（ｂ）は、第４の造形動作によって形成される３次元構造物を示す断面図である。図３３（ａ）から図３３（ｄ）のそれぞれは、第４の造形動作によって３次元構造物を形成する工程を示す断面図である。図３４（ａ）から図３４（ｄ）のそれぞれは、第４の造形動作によって３次元構造物を形成する工程を示す断面図である。図３５（ａ）から図３５（ｄ）のそれぞれは、第５の造形動作によって３次元構造物を形成する工程を示す断面図である。図３６（ａ）から図３６（ｃ）のそれぞれは、第５の造形動作によって３次元構造物を形成する工程を示す断面図である。図３７（ａ）は、３次元構造物を示す側面図であり、図３７（ｂ）は、積層断面が外部に露出している３次元構造物を示す断面図であり、図３７（ｃ）は、積層断面が外部に露出していない３次元構造物を示す断面図である。図３８（ａ）は、第６の造形動作によって形成される３次元構造物における３次元構造物の外面の延びる方向と複数の構造層の積層方向との関係を示す断面図であり、図３８（ｂ）は、第６の造形動作によって形成される３次元構造物における複数の構造層の端部がワークの表面に接触する様子を示す断面図である。図３９（ａ）は、３次元構造物にかかる引張力を示す側面図であり、図３９（ｂ）は、引張力の方向に沿って積層された複数の構造層から構成される３次元構造物を示す断面図であり、図３９（ｃ）は、引張力の方向に交差する方向に沿って積層された複数の構造層から構成される３次元構造物を示す断面図であり、図３９（ｄ）は、引張力の方向に交差する方向に沿って積層される複数の構造層を示す断面図である。図４０（ａ）は、３次元構造物にかかる圧縮力を示す側面図であり、図４０（ｂ）は、圧縮力の方向に交差する方向に沿って積層された複数の構造層から構成される３次元構造物を示す断面図であり、図４０（ｃ）は、圧縮力の方向に沿って積層された複数の構造層から構成される３次元構造物を示す断面図であり、図４０（ｄ）は、圧縮力の方向に沿って積層される複数の構造層を示す断面図である。図４１は、造形対象領域の温度を調整するために光が照射される様子を示す断面図である。図４２は、温度が調整された造形対象領域に３次元構造物を形成するために光が照射される様子を示す断面図である。図４３は、温度が異なる複数の部分を含む造形対象領域を示す断面図である。図４４（ａ）は、造形対象領域からはがしたい構造部及び造形対象領域と結合したままにしておきたい構造部を含むように形成された３次元構造物を示す断面図であり、図４４（ｂ）は、一部の構造部が造形対象領域からはがされた３次元構造物を示す断面図である。図４５は、厚みが均一でないワークを示す断面図である。図４６は、熱が相対的に拡散しやすい領域部分と、熱が相対的に拡散しにくい領域部分とを含む造形対象領域を示す斜視図である。図４７は、加熱装置を備える造形システムを示すブロック図である。図４８は、冷却装置を備える造形システムを示すブロック図である。図４９（ａ）は、造形動作を行うために造形面に照射される光を示す断面図であり、図４９（ｂ）は、初期設定動作を行うために造形面に照射される光を示す断面図である。

　以下、図面を参照しながら、造形システム及び造形方法の実施形態について説明する。以下では、レーザ肉盛溶接法（ＬＭＤ：Ｌａｓｅｒ　Ｍｅｔａｌ　Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）により、造形材料Ｍを用いた付加加工を行うことで３次元構造物ＳＴを形成可能な造形システム１を用いて、造形システム及び造形方法の実施形態を説明する。尚、レーザ肉盛溶接法（ＬＭＤ）は、ダイレクト・メタル・デポジション、ダイレクト・エナジー・デポジション、レーザクラッディング、レーザ・エンジニアード・ネット・シェイピング、ダイレクト・ライト・ファブリケーション、レーザ・コンソリデーション、シェイプ・デポジション・マニュファクチャリング、ワイヤ－フィード・レーザ・デポジション、ガス・スルー・ワイヤ、レーザ・パウダー・フージョン、レーザ・メタル・フォーミング、セレクティブ・レーザ・パウダー・リメルティング、レーザ・ダイレクト・キャスティング、レーザ・パウダー・デポジション、レーザ・アディティブ・マニュファクチャリング、レーザ・ラピッド・フォーミングと称してもよい。

　また、以下の説明では、互いに直交するＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸から定義されるＸＹＺ直交座標系を用いて、造形システム１を構成する各種構成要素の位置関係について説明する。尚、以下の説明では、説明の便宜上、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれが水平方向（つまり、水平面内の所定方向）であり、Ｚ軸方向が鉛直方向（つまり、水平面に直交する方向であり、実質的には上下方向或いは重力方向）であるものとする。また、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸周りの回転方向（言い換えれば、傾斜方向）を、それぞれ、θＸ方向、θＹ方向及びθＺ方向と称する。ここで、Ｚ軸方向を重力方向としてもよい。また、ＸＹ平面を水平方向としてもよい。

　（１）造形システム１の構造
　初めに、図１及び図２（ａ）から図２（ｂ）を参照しながら、本実施形態の造形システム１の全体構造について説明する。図１は、本実施形態の造形システム１の構造の一例を示すブロック図である。図２（ａ）及び図２（ｂ）のそれぞれは、本実施形態の造形システム１が備える造形装置４の構造を示す側面図である（但し、説明の便宜上、一部は断面図である）。

　造形システム１は、３次元構造物（つまり、３次元方向のいずれの方向においても大きさを持つ３次元の物体であり、立体物、言い換えると、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向及びＺ軸方向において大きさを持つ物体）ＳＴを形成可能である。造形システム１は、３次元構造物ＳＴを形成するための基礎（つまり、母材）となるワークＷ上に、３次元構造物ＳＴを形成可能である。造形システム１は、ワークＷに付加加工を行うことで、３次元構造物ＳＴを形成可能である。ワークＷが後述するステージ４３である場合には、造形システム１は、ステージ４３上に、３次元構造物ＳＴを形成可能である。ワークＷがステージ４３に載置されている既存構造物（尚、既存構造物は、造形システム１が形成した別の３次元構造物ＳＴであってもよい）である場合には、造形システム１は、既存構造物上に、３次元構造物ＳＴを形成可能である。この場合、造形システム１は、既存構造物と一体化された３次元構造物ＳＴを形成してもよい。既存構造物と一体化された３次元構造物ＳＴを形成する動作は、既存構造物に新たな構造物を付加する動作と等価である。或いは、造形システム１は、既存構造物と分離可能な３次元構造物ＳＴを形成してもよい。尚、以下では、ワークＷがステージ４３に載置されている既存構造物である例を用いて説明を進める。

　上述したように、造形システム１は、レーザ肉盛溶接法により造形物を形成可能である。つまり、造形システム１は、積層造形技術を用いて物体を形成する３Ｄプリンタであるとも言える。尚、積層造形技術は、ラピッドプロトタイピング（Ｒａｐｉｄ　Ｐｒｏｔｏｔｙｐｉｎｇ）、ラピッドマニュファクチャリング（Ｒａｐｉｄ　Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇ）、又は、アディティブマニュファクチャリング（Ａｄｄｉｔｉｖｅ　Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇ）とも称される。

　造形システム１は、造形材料Ｍを光ＥＬで加工して造形物を形成する。このような光ＬＥとして、例えば、赤外光、可視光及び紫外光のうちの少なくとも一つが使用可能であるが、その他の種類の光が用いられてもよい。光ＥＬは、レーザ光である。更に、造形材料Ｍは、所定強度以上の光ＥＬの照射によって溶融可能な材料である。このような造形材料Ｍとして、例えば、金属性の材料及び樹脂性の材料の少なくとも一方が使用可能である。但し、造形材料Ｍとして、金属性の材料及び樹脂性の材料とは異なるその他の材料が用いられてもよい。造形材料Ｍは、粉状の又は粒状の材料である。つまり、造形材料Ｍは、粉粒体である。但し、造形材料Ｍは、粉粒体でなくてもよく、例えばワイヤ状の造形材料やガス状の造形材料が用いられてもよい。尚、後述するように、造形システム１は、造形材料Ｍを荷電粒子線等のエネルギビームで加工して造形物を形成してもよい。

　３次元構造物ＳＴを形成するために、造形システム１は、図１に示すように、材料供給装置３と、造形装置４と、光源５と、ガス供給装置６と、制御装置７とを備える。材料供給装置３と、造形装置４と、光源５と、ガス供給装置６と、制御装置７とは、筐体Ｃ内に収容されている。図１に示す例では、造形装置４が、筐体Ｃの上部空間ＵＣに収容され、材料供給装置３、光源５、ガス供給装置６及び制御装置７が、上部空間ＵＣの下方に位置する筐体Ｃの下部空間ＬＣに収容される。但し、材料供給装置３、造形装置４、光源５、ガス供給装置６及び制御装置７のそれぞれの筐体Ｃ内での配置が図１に示す配置に限定されることはない。

　材料供給装置３は、造形装置４に造形材料Ｍを供給する。材料供給装置３は、３次元構造物ＳＴを形成するために単位時間あたりに必要とする分量の造形材料Ｍが造形装置４に供給されるように、当該必要な分量に応じた所望量の造形材料Ｍを供給する。

　造形装置４は、材料供給装置３から供給される造形材料Ｍを加工して３次元構造物ＳＴを形成する。３次元構造物を形成するために、造形装置４は、図２（ａ）及び図２（ｂ）に示すように、造形ヘッド４１と、ヘッド駆動系４２と、ステージ４３と、ステージ駆動系４４と、計測装置４５とを備える。更に、造形ヘッド４１は、照射系４１１と、材料ノズル（つまり造形材料Ｍを供給する供給系）４１２とを備えている。造形ヘッド４１と、ヘッド駆動系４２と、ステージ４３と、ステージ駆動系４４と、計測装置４５とは、チャンバ４６内に収容されている。

　照射系４１１は、射出部４１３から光ＥＬを射出するための光学系（例えば、集光光学系）である。具体的には、照射系４１１は、光ＥＬを発する光源５と光学的に接続されている。光源５と照射系４１１との間に、光ファイバやライトパイプ等の不図示の光伝送部材が介在してもよい。照射系４１１は、光源５から光伝送部材を介して送られてくる光ＥＬを射出する。照射系４１１は、照射系４１１から下方（つまり、－Ｚ側）に向けて光ＥＬを照射する。照射系４１１の下方には、ステージ４３が配置されている。ステージ４３にワークＷが搭載されている場合には、照射系４１１は、ワークＷに向けて光ＥＬを照射可能である。具体的には、照射系４１１は、光ＥＬが照射される（典型的には、集光される）領域としてワークＷ上に設定される円形の（或いは、その他任意の形状の）照射領域ＥＡに光ＥＬを照射する。更に、照射系４１１の状態は、制御装置７の制御下で、照射領域ＥＡに光ＥＬを照射する状態と、照射領域ＥＡに光ＥＬを照射しない状態との間で切替可能である。尚、照射系４１１から射出される光ＥＬの進行方向はＺ軸方向に対して所定の角度（一例として鋭角）だけ傾いた方向であるが、－Ｚ側（つまり、真下）であってもよい。

　材料ノズル４１２は、造形材料Ｍを供給する供給アウトレット４１４を有する。材料ノズル４１２は、供給アウトレット４１４から造形材料Ｍを供給（具体的には、噴射、噴出、吹き付ける）する。材料ノズル４１２は、造形材料Ｍの供給源である材料供給装置３と物理的に接続されている。材料供給装置３と材料ノズル４１２との間に、不図示のパイプ等の粉体伝送部材が介在してもよい。材料ノズル４１２は、粉体伝送部材を介して材料供給装置３から供給される造形材料Ｍを供給する。尚、図２（ａ）から図２（ｂ）において材料ノズル４１２は、チューブ状に描かれているが、材料ノズル４１２の形状は、この形状に限定されない。材料ノズル４１２は、材料ノズル４１２から下方（つまり、－Ｚ側）に向けて造形材料Ｍを供給する。材料ノズル４１２の下方には、ステージ４３が配置されている。ステージ４３にワークＷが搭載されている場合には、材料ノズル４１２は、ワークＷに向けて造形材料Ｍを供給する。尚、材料ノズル４１２から供給される造形材料Ｍの進行方向はＺ軸方向に対して所定の角度（一例として鋭角）だけ傾いた方向であるが、－Ｚ側（つまり、真下）であってもよい。尚、造形ヘッド４１は、複数の材料ノズル４１２を備えていてもよい。

　本実施形態では、材料ノズル４１２は、照射系４１１が光ＥＬを照射する照射領域ＥＡに向けて造形材料Ｍを供給するように、照射系４１１に対して位置合わせされている。つまり、材料ノズル４１２が造形材料Ｍを供給する領域としてワークＷ上に設定される供給領域ＭＡと照射領域ＥＡとが一致する（或いは、少なくとも部分的に重複する）ように、材料ノズル４１２と照射系４１１とが位置合わせされている。尚、照射系４１１から射出された光ＥＬによってワークＷに形成される溶融池ＭＰに、材料ノズル４１２が造形材料Ｍを供給するように位置合わせされていてもよい。また、材料ノズル４１２が造形材料Ｍを供給する供給領域ＭＡと、溶融池ＭＰの領域とが部分的に重畳するように位置合わせされてもよい。

　ヘッド駆動系４２は、造形ヘッド４１を移動させる。造形ヘッド４１を移動させるために、ヘッド駆動系４２は、ヘッド駆動系４２Ｘと、ヘッド駆動系４２Ｙと、ヘッド駆動系４２Ｚとを備える。ヘッド駆動系４２Ｘは、Ｘ軸に沿って造形ヘッド４１を移動させる。ヘッド駆動系４２Ｙは、Ｙ軸に沿って造形ヘッド４１を移動させる。ヘッド駆動系４２Ｚは、Ｚ軸に沿って造形ヘッド４１を移動させる。つまり、ヘッド駆動系４２は、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸のそれぞれに沿って造形ヘッド４１を移動させる。造形ヘッド４１がＸ軸及びＹ軸のそれぞれに沿って移動すると、照射領域ＥＡ（更には、供給領域ＭＡ）は、ワークＷ上をＸ軸及びＹ軸のそれぞれに沿って移動する。尚、ヘッド駆動系４２は、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸の少なくとも一つに沿って造形ヘッド４１を移動させることに加えて又は代えて、θＸ方向、θＹ方向及びθＺ方向の少なくとも一つに沿って造形ヘッド４１を移動させてもよい。つまり、ヘッド駆動系４２は、Ｘ軸回りの回転軸、Ｙ軸回りの回転軸及びＺ軸周りの回転軸の少なくとも一つに沿って造形ヘッド４１を回転させてもよい。

　ヘッド駆動系４２Ｘ、ヘッド駆動系４２Ｙ及びヘッド駆動系４２Ｚのそれぞれは、例えば、回転モータを含む駆動系であるが、その他のモータ（或いは、駆動源）を含む駆動系であってもよい。例えば、ヘッド駆動系４２Ｘ、４２Ｙまたは４２Ｚはリニアモータを含む駆動系であってもよい。ヘッド駆動系４２Ｘは、チャンバ４６の底面に空気ばね等の防振装置を介して設置される支持フレーム４２３に固定され且つＸ軸に沿って延びるＸガイド部４２１Ｘと、回転モータ４２２Ｘとを備える。ヘッド駆動系４２Ｙは、Ｙ軸に沿って延びるＹガイド部４２１Ｙと回転モータ４２２Ｙとを備える。ヘッド駆動系４２Ｚは、Ｚ軸に沿って延びるＺガイド部４２１Ｚと、回転モータ４２２Ｚとを備える。回転モータ４２２Ｘが駆動されると、Ｘガイド部４２１Ｘに沿って（つまり、Ｘ軸に沿って）Ｙガイド部４２１Ｙ（更には、Ｚガイド部４２１Ｚを介してＹガイド部４２１Ｙに連結されている造形ヘッド４１）が移動する。回転モータ４２２Ｙが駆動されると、Ｙガイド部４２１Ｙに沿って（つまり、Ｙ軸に沿って）Ｚガイド部４２１Ｚ（更には、Ｚガイド部４２１Ｚに連結されている造形ヘッド４１）が移動する。回転モータ４２２Ｚが駆動されると、Ｚガイド部４２１Ｚに沿って（つまり、Ｚ軸に沿って）造形ヘッド４１が移動する。尚、支持フレーム４２３は、造形システム１が設置される床からの振動、或いは造形システム１内であってチャンバ４６の外からの振動（例えば、造形システム１の筐体とチャンバ４６との間からの振動）を低減するための防振装置を介してチャンバ４６に設置されている。但し、例えば、造形システム１内であってチャンバ４６の外からの振動が無視できれば、造形システム１と床との間に防振装置を設けてもよく、この床の振動条件が良好（低い振動）である場合には、防振装置はなくてもよい。

　造形ヘッド４１がＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸の少なくとも一つに沿って移動すると、造形ヘッド４１１とステージ４３（更には、ステージ４３に載置されるワークＷ及び３次元造形物ＳＴの少なくとも一方）との相対的な位置が変わる。従って、ヘッド駆動系４２は、造形ヘッド４１１とステージ４３（更には、ステージ４３に載置されるワークＷ及び３次元造形物ＳＴの少なくとも一方）との相対的な位置を変更可能な装置として機能してもよい。

　ステージ４３は、ワークＷを載置可能である。尚、ステージ４３はワークＷを保持可能であってもよい。この場合、ステージ４３は、保持したワークＷをリリース可能であってもよい。上述した照射系４１１は、ステージ４３にワークＷが載置されている期間の少なくとも一部において光ＥＬを照射する。更に、上述した材料ノズル４１２は、ステージ４３にワークＷが載置されている期間の少なくとも一部において造形材料Ｍを供給する。尚、材料ノズル４１２が供給した造形材料Ｍの一部は、ワークＷの表面からワークＷの外部へと（例えば、ステージ４３の周囲へと）散乱する又はこぼれる可能性がある。このため、造形システム１は、ステージ４３の周囲に、散乱した又はこぼれた造形材料Ｍを回収する回収装置を備えていてもよい。尚、ステージ４３がワークＷを保持可能である場合には、ステージ４３は、ワークＷを保持するために、機械的なチャックや真空吸着チャック等を備えていてもよい。

　ステージ駆動系４４は、ステージ４３を移動させる。ステージ４３を移動させるために、ステージ駆動系４４は、ステージ駆動系４４θＹと、ステージ駆動系４４θＺとを備える。ステージ駆動系４４θＹは、θＹ方向に沿ってステージ４３を移動させる。言い換えれば、ステージ駆動系４４θＹは、Ｙ軸周りにステージ４３を回転させる。ステージ駆動系４４θＺは、θＺ方向に沿ってステージ４３を移動させる。言い換えれば、ステージ駆動系４４θＺは、Ｚ軸周りにステージ４３を回転させる。つまり、ステージ駆動系４４は、θＹ方向及びθＺ方向のそれぞれに沿ってステージ４３を移動させる。尚、図２（ａ）及び図２（ｂ）に示した例では、θＹ方向におけるステージ４３の回転軸がワークＷを貫通するように（ステージ４３の回転軸がステージ４３の上面とほぼ一致するように）設けられているが、それに限定されず、回転軸がワークＷの上方或いは下方（ステージ４３の上面に対して上方（＋Ｚ側）、或いはステージ４３の上面に対して下方（－Ｚ側））に設けられていてもよい。また、ステージ駆動系４４は、θＹ方向及びθＺ方向の少なくとも一つに沿ってステージ４３を移動させることに加えて又は代えて、θＸ方向、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸の少なくとも一つに沿ってステージ４３を移動させてもよい。

　ステージ駆動系４４θＹ及びステージ駆動系４４θＺのそれぞれは、例えば、回転モータを含む駆動系であるが、その他のモータ（或いは、駆動源）を含む駆動系であってもよい。ステージ駆動系４４θＹは、ステージ４３を保持する板状の保持部材４４１θＹ、保持部材４４１θＹの＋Ｙ側の端部及び－Ｙ側の端部から＋Ｚ側に突き出る板状の壁部材４４２θＹと、Ｙ軸周りに回転可能な回転子を有する回転モータ４４３θＹと、回転モータ４４３θＹの回転子と壁部材４４２θＹとを連結する連結部材４４４θＹとを備える。回転モータ４４３θＹは、チャンバ４６の底面に空気ばね等の防振装置を介して設置される支持フレーム４４５に固定されている。ステージ駆動系４４θＺは、Ｚ軸周りに回転可能であって且つステージ４３に連結された回転子を有する回転モータ４４３θＺを備える。回転モータ４４３θＺは、保持部材４４１θＹに固定されている。回転モータ４４３θＹが駆動すると、Ｙ軸周りに保持部材４４１θＹ（更には、保持部材４４１θＹが保持するステージ４３）が回転する。回転モータ４４３θＺが駆動すると、Ｚ軸周りにステージ４３が回転する。尚、支持フレーム４４５は、造形システム１が設置される床からの振動、或いは造形システム１内であってチャンバ４６外からの振動を低減するための防振装置を介してチャンバに設置されているが、例えば、造形システム１内であってチャンバ４６外からの振動が無視できれば、造形システム１と床との間に設けてもよく、この床の振動条件が良好（低い振動）である場合には、防振装置はなくてもよい。

　ステージ４３がθＹ方向及びθＺ方向のそれぞれに沿って移動する（Ｙ軸及びＺ軸のそれぞれの回りに回転する）と、照射系４１１に対するステージ４３（更には、ステージ４３に載置されるワークＷ及び３次元造形物ＳＴの少なくとも一方）の相対的な位置が変わる。より具体的には、ステージ４３がθＹ方向及びθＺ方向の少なくとも一方に沿って移動すると、照射系４１１に対するステージ４３（更には、ステージ４３に載置されるワークＷ及び３次元構造物ＳＴの少なくとも一方）の姿勢が変わる。照射系４１１からの光ＥＬの射出方向に対するステージ４３（更には、ステージ４３に載置されるワークＷ及び３次元造形物ＳＴの少なくとも一方）の姿勢が変わる。照射系４１１からの照射領域ＥＡへと向かう光ＥＬの軸線に対するステージ４３（更には、ステージ４３に載置されるワークＷ及び３次元造形物ＳＴの少なくとも一方）の姿勢が変わる。従って、ステージ駆動系４４は、照射系４１１に対するステージ４３（更には、ステージ４３に載置されるワークＷ及び３次元構造物ＳＴの少なくとも一方）の姿勢を変更可能な装置として機能してもよい。尚、本実施形態では、「姿勢」は、θＸ方向、θＹ方向及びθＺ方向のそれぞれにおける位置を意味していてもよい。

　計測装置４５は、計測対象のパラメータを計測可能な装置である。本実施形態では特に、計測装置４５は、計測対象としての物体のパラメータである形状を計測する。計測装置４５は、例えば、物体の表面の形状を測定する。計測装置４５による計測対象となる物体の一例として、ワークＷ、ワークＷ上の既存構造物、３次元構造物ＳＴ及び３次元構造物ＳＴを構成する後述する構造層ＳＬの少なくとも一つがあげられる。計測装置４５は、例えば、物体の表面に光パターンを投影し、投影されたパターンの形状を計測するパターン投影法や光切断法、物体の表面に光を投射し、投射された光が戻ってくるまでの時間から物体までの距離を測定し、これを物体上の複数の位置で行うタイム・オブ・フライト法、モアレトポグラフィ法（具体的には、格子照射法若しくは格子投影法）、ホログラフィック干渉法、オートコリメーション法、ステレオ法、非点収差法、臨界角法、又はナイフエッジ法を用いて、物体の形状を計測してもよい。

　再び図１において、光源５は、例えば、赤外光、可視光及び紫外光のうちの少なくとも一つを、光ＥＬとして射出する。但し、光ＥＬとして、その他の種類の光が用いられてもよい。光ＥＬは、レーザ光である。この場合、光源５は、レーザ光源（例えば、レーザダイオード（ＬＤ：Ｌａｓｅｒ　Ｄｉｏｄｅ）等の半導体レーザを含んでいてもよい。レーザ光源としては、ファイバ・レーザやＣＯ_２レーザ、ＹＡＧレーザ、エキシマレーザ等であってもよい。但し、光ＥＬはレーザ光でなくてもよいし、光源５は任意の光源（例えば、ＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ　Ｅｍｉｔｔｉｎｇ　Ｄｉｏｄｅ）及び放電ランプ等の少なくとも一つ）を含んでいてもよい。

　ガス供給装置６は、不活性ガスの供給源である。不活性ガスの一例として、窒素ガス又はアルゴンガスがあげられる。ガス供給装置６は、造形装置４のチャンバ４６内に不活性ガスを供給する。その結果、チャンバ４６の内部空間は、不活性ガスによってパージされた空間となる。尚、ガス供給装置６は、窒素ガスやアルゴンガス等の不活性ガスが格納されたボンベであってもよく、大気を原料として窒素ガスを発生する窒素ガス発生装置や、大気を原料としてアルゴンガスを発生するアルゴンガス発生装置であってもよい。

　制御装置７は、造形システム１の動作を制御する。制御装置７は、例えば、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ　Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ　Ｕｎｉｔ）やＧＰＵ（Ｇｒａｐｈｉｃｓ　Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ　Ｕｎｉｔ）等の演算装置と、メモリ等の記憶装置とを含んでいてもよい。制御装置７は、演算装置がコンピュータプログラムを実行することで、造形システム１の動作を制御する装置として機能する。このコンピュータプログラムは、制御装置７が行うべき後述する動作を制御装置７（例えば、演算装置）に行わせる（つまり、実行させる）ためのコンピュータプログラムである。つまり、このコンピュータプログラムは、造形システム１に後述する動作を行わせるように制御装置７を機能させるためのコンピュータプログラムである。演算装置が実行するコンピュータプログラムは、制御装置７が備えるメモリ（つまり、記録媒体）に記録されていてもよいし、制御装置７に内蔵された又は制御装置７に外付け可能な任意の記憶媒体（例えば、ハードディスクや半導体メモリ）に記録されていてもよい。或いは、演算装置は、実行するべきコンピュータプログラムを、ネットワークインタフェースを介して、制御装置７の外部の装置からダウンロードしてもよい。

　制御装置７は、造形システム１の内部に設けられていなくてもよく、例えば、造形システム１外にサーバ等として設けられていてもよい。この場合、制御装置７と造形システム１とは、有線及び／又は無線のネットワーク（或いは、データバス及び／又は通信回線）で接続されていてもよい。有線のネットワークとして、例えばＩＥＥＥ１３９４、ＲＳ－２３２ｘ、ＲＳ－４２２、ＲＳ－４２３、ＲＳ－４８５及びＵＳＢの少なくとも一つに代表されるシリアルバス方式のインタフェースを用いるネットワークが用いられてもよい。有線のネットワークとして、パラレルバス方式のインタフェースを用いるネットワークが用いられてもよい。有線のネットワークとして、１０ＢＡＳＥ－Ｔ、１００ＢＡＳＥ－ＴＸ及び１０００ＢＡＳＥ－Ｔの少なくとも一つに代表されるイーサネット（登録商標）に準拠したインタフェースを用いるネットワークが用いられてもよい。無線のネットワークとして、電波を用いたネットワークが用いられてもよい。電波を用いたネットワークの一例として、ＩＥＥＥ８０２．１ｘに準拠したネットワーク（例えば、無線ＬＡＮ及びＢｌｕｅｔｏｏｔｈ（登録商標）の少なくとも一方）があげられる。無線のネットワークとして、赤外線を用いたネットワークが用いられてもよい。無線のネットワークとして、光通信を用いたネットワークが用いられてもよい。この場合、制御装置７と造形システム１とはネットワークを介して各種の情報の送受信が可能となるように構成されていてもよい。また、制御装置７は、ネットワークを介して造形システム１にコマンドや制御パラメータ等の情報を送信可能であってもよい。造形システム１は、制御装置７からのコマンドや制御パラメータ等の情報を、上記ネットワークを介して受信する受信装置を備えていてもよい。或いは、制御装置７が行う処理のうちの一部を行う第１制御装置が造形システム１の内部に設けられている一方で、制御装置７が行う処理のうちの他の一部を行う第２制御装置が造形システム１の外部に設けられていてもよい。

　尚、演算装置が実行するコンピュータプログラムを記録する記録媒体としては、ＣＤ－ＲＯＭ、ＣＤ－Ｒ、ＣＤ－ＲＷやフレキシブルディスク、ＭＯ、ＤＶＤ－ＲＯＭ、ＤＶＤ－ＲＡＭ、ＤＶＤ－Ｒ、ＤＶＤ＋Ｒ、ＤＶＤ－ＲＷ、ＤＶＤ＋ＲＷ及びＢｌｕ－ｒａｙ（登録商標）等の光ディスク、磁気テープ等の磁気媒体、光磁気ディスク、ＵＳＢメモリ等の半導体メモリ、及び、その他プログラムを格納可能な任意の媒体の少なくとも一つが用いられてもよい。記録媒体には、コンピュータプログラムを記録可能な機器（例えば、コンピュータプログラムがソフトウェア及びファームウェア等の少なくとも一方の形態で実行可能な状態に実装された汎用機器又は専用機器）が含まれていてもよい。更に、コンピュータプログラムに含まれる各処理や機能は、制御装置７（つまり、コンピュータ）がコンピュータプログラムを実行することで制御装置７内に実現される論理的な処理ブロックによって実現されてもよいし、制御装置７が備える所定のゲートアレイ（ＦＰＧＡ、ＡＳＩＣ）等のハードウェアによって実現されてもよいし、論理的な処理ブロックとハードウェアの一部の要素を実現する部分的ハードウェアモジュールとが混在する形式で実現してもよい。

　特に、本実施形態では、制御装置７は、照射系４１１による光ＥＬの照射態様を制御する。照射態様は、例えば、光ＥＬの強度、光ＥＬの照射位置（つまり、後述する照射領域ＥＡの位置）、光ＥＬによる照射領域ＥＡの強度分布、光ＥＬによる照射領域ＥＡの形状及び光ＥＬの射出タイミングの少なくとも一つを含む。光ＥＬがパルス光である場合には、照射態様は、例えば、光ＥＬの射出タイミング、パルス光の発光時間の長さ及びパルス光の発光時間と消光時間との比（いわゆる、デューティ比）の少なくとも一つを含んでいてもよい。更に、制御装置７は、ヘッド駆動系４２による造形ヘッド４１の移動態様及びステージ駆動系４４によるステージ４３の移動態様を制御する。移動態様は、例えば、移動量、移動速度、移動方向及び移動タイミングの少なくとも一つを含む。更に、制御装置７は、材料ノズル４１２による造形材料Ｍの供給態様を制御する。供給態様は、例えば、供給量（特に、単位時間当たりの供給量）及び供給タイミングの少なくとも一方を含む。尚、制御装置７は、照射系４１１による光ＥＬの射出態様と、材料ノズル４１２による造形材料Ｍの供給態様とを同時に制御してもよい。

　尚、制御装置７は、造形システム１の内部に設けられていなくてもよく、例えば、造形システム１外にサーバ等として設けられていてもよい。制御装置７が造形システム１外に設けられている場合、制御装置７と造形システム１とは有線または無線の通信回線で接続されていてもよい。また、制御装置７に代えて、造形システム１の動作手順を表す信号を予め記録した記録媒体を用いて造形システム１を動作させてもよい。また、制御装置７の一部の機能を、別の部分（一例としてヘッド駆動系４２）が担うようにしてもよい。

　（２）造形システム１が行う造形動作
　続いて、３次元構造物ＳＴを形成するために造形システム１によって行われる造形動作について説明する。本実施形態では、造形システム１は、第１の造形動作から第７の造形動作の少なくとも一つを行うことができる。具体的には、造形システム１は、第１の造形動作から第７の造形動作のいずれか一つを単独で行ってもよい。或いは、造形システム１は、第１の造形動作から第７の造形動作の少なくとも２つを組み合わせた造形動作を行ってもよい。以下、第１の造形動作から第７の造形動作について順に説明する。

　（２－１）第１の造形動作
　初めに、第１の造形動作について説明する。第１の造形動作は、表面ＷＳが平面（特に、単一の平面）となるワークＷ上に３次元構造物ＳＴを形成する造形動作である。尚、上述したように、造形システム１は、レーザ肉盛溶接法により３次元構造物ＳＴを形成する。このため、造形システム１は、レーザ肉盛溶接法に準拠した既存の造形動作を行うことで、３次元構造物ＳＴを形成してもよい。以下、レーザ肉盛溶接法を用いた第１の造形動作の一例について簡単に説明する。

　造形システム１は、形成するべき３次元構造物ＳＴの３次元モデルデータ（例えば、ＣＡＤ（Ｃｏｍｐｕｔｅｒ　Ａｉｄｅｄ　Ｄｅｓｉｇｎ）データ）等に基づいて、ワークＷ上に３次元構造物ＳＴを形成する。３次元モデルデータは、３次元構造物ＳＴの形状（特に、３次元形状）を表すデータを含む。３次元モデルデータとして、造形システム１内に設けられた計測装置で計測された立体物の計測データが用いられてもよい。３次元モデルデータとして、造形システム１とは別に設けられた３次元形状計測機の計測データが用いられてもよい。このような３次元形状計測機の一例として、ワークＷに対して移動可能であって且つワークＷに接触可能なプローブを有する接触型の３次元測定機及び非接触型の３次元計測機の少なくとも一方があげられる。非接触型の３次元計測機の一例として、パターン投影方式の３次元計測機、光切断方式の３次元計測機、タイム・オブ・フライト方式の３次元計測機、モアレトポグラフィ方式の３次元計測機、ホログラフィック干渉方式の３次元計測機、ＣＴ（ＣｏｍｐｕｔｅｄＴｏｍｏｇｒａｐｈｙ）方式の３次元計測機、及び、ＭＲＩ（Ｍａｇｎｅｔｉｃ　Ｒｅｓｏｎａｎｃｅ　Ｉｍａｇｉｎｇ）方式の３次元計測機の少なくとも一つがあげられる。３次元モデルデータとして、３次元構造物ＳＴの設計データが用いられてもよい。尚、３次元モデルデータとしては、例えばＳＴＬ（Ｓｔｅｒｅｏ　Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ）フォーマット、ＶＲＭＬ（Ｖｉｒｔｕａｌ　Ｒｅａｌｉｔｙ　Ｍｏｄｅｌｉｎｇ　Ｌａｎｇｕａｇｅ）フォーマット、ＡＭＦ（Ａｄｄｉｔｉｖｅ　Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇ　Ｆｉｌｅ　Ｆｏｒｍａｔ）、ＩＧＥＳ（Ｉｎｉｔｉａｌ　Ｇｒａｐｈｉｃｓ　Ｅｘｃｈａｎｇｅ　Ｓｐｅｃｉｆｉｃａｔｉｏｎ）フォーマット、ＶＤＡ－ＦＳ（Ａｓｓｏｃｉａｔｉｏｎ　ｏｆ　Ｇｅｒｍａｎ　Ａｕｔｏｍｏｔｉｖｅ　Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｅｓ－Ｓｕｒｆａｃｅｓ　Ｉｎｔｅｒｆａｃｅ）フォーマット、ＨＰ／ＧＬ（Ｈｅｗｌｅｔｔ－Ｐａｃｋａｒｄ　Ｇｒａｐｈｉｃｓ　Ｌａｎｇｕａｇｅ）フォーマット、ビットマップフォーマット等を用いることができる。

　造形システム１は、３次元構造物ＳＴを形成するために、例えば、Ｚ軸方向に沿って並ぶ複数の層状造形物（以下、“構造層”と称する）ＳＬを順に形成していく。例えば、造形システム１は、複数の構造層ＳＬを１層ずつ順に形成していく。その結果、複数の構造層ＳＬが積層された積層構造体である３次元構造物ＳＴが形成される。以下、複数の構造層ＳＬを１層ずつ順に形成していくことで３次元構造物ＳＴを形成する動作の流れについて説明する。

　まず、図３（ａ）から図３（ｅ）を参照しながら、各構造層ＳＬを形成する動作について説明する。図３（ａ）から図３（ｅ）のそれぞれは、ワークＷ上のある領域において光ＥＬを照射し且つ造形材料Ｍを供給した場合の様子を示す断面図である。

　造形システム１は、制御装置７の制御下で、ワークＷの表面ＷＳ又は形成済みの構造層ＳＬの表面に相当する造形面ＭＳ上の所望領域に照射領域ＥＡを設定し、当該照射領域ＥＡに対して照射系４１１から光ＥＬを照射する。ここで、造形面ＭＳを造形対象面と称してもよい。尚、造形システム１は、造形面ＭＳ上の所望領域に照射領域ＥＡを設定しなくてもよい。このときには、照射系４１１から照射される光ＥＬが造形面ＭＳ上に占める領域を照射領域ＥＡと称してもよい。本実施形態においては、光ＥＬのフォーカス位置ＦＰ（つまり、集光位置、言い換えると、Ｚ軸方向或いは光ＥＬの進行方向において、光ＥＬが最も収斂している位置）が造形面ＭＳに一致している。但し、光ＥＬのフォーカス位置ＦＰは、Ｚ軸方向に造形面ＭＳからずれた位置に設定されてもよい。その結果、図３（ａ）に示すように、照射系４１１から射出された光ＥＬによって造形面ＭＳ上の所望領域に溶融池（つまり、光ＥＬによって溶融した、液状の造形材料Ｍ（或いは、その他の種類の金属又は樹脂等）のプール）ＭＰが形成される。

　このとき、上述したように光ＥＬの進行方向がＺ軸方向に対して所定の角度だけ傾いた方向であるため、光ＥＬは、造形面ＭＳに対して斜入射する。このため、光ＥＬが照射された造形面ＭＳからの反射光ＥＬ＿Ｒは、照射系４１１とは異なる方向に向かう。つまり、反射光ＥＬ＿Ｒが照射系４１１に戻ることはない。その結果、造形面ＭＳからの反射光ＥＬ＿Ｒが照射系４１１の動作に影響を与えることはない。但し、光ＥＬの進行方向がＺ軸方向に平行な方向である場合（つまり、光ＥＬが真下に向かって造形面ＭＳに垂直入射する場合）であっても、光ＥＬが造形面ＭＳに対して斜入射するように（つまり、反射光ＥＬ＿Ｒが照射系４１１とは異なる方向に向かうように）、ステージ駆動系４４がステージ４３の姿勢を変更して造形面ＭＳに対する光ＥＬの照射方向（つまり、造形面ＭＳに対する光ＥＬの入射角）を変更してもよい。更に、ヘッド駆動系４２が造形ヘッド４１の姿勢を変更することができる（つまり、造形ヘッド４１をθＸ方向、θＹ方向及びθＺ方向の少なくとも一つに沿って移動させることができる）場合には、光ＥＬが造形面ＭＳに対して斜入射するように、ヘッド駆動系４２が造形ヘッド４１の姿勢を変更して造形面ＭＳに対する光ＥＬの照射方向（つまり、造形面ＭＳに対する光ＥＬの入射角）を変更してもよい。尚、「光ＥＬが造形面ＭＳに対して斜入射する」ことは、造形面ＭＳ上における照射領域ＥＡの位置での造形面ＭＳの法線方向に対して、光ＥＬの進行方向又は照射系４１１の光軸方向が傾いている（非平行である）ことを指してもよい。

　更に、造形システム１は、制御装置７の制御下で、造形面ＭＳ上の所望領域に供給領域ＭＡを設定し、当該供給領域ＭＡに対して材料ノズル４１２から造形材料Ｍを供給する。尚、造形システム１は、造形面ＭＳ上の所望領域に供給領域ＭＡを設定しなくてもよい。このときには、材料ノズル４１２から造形材料Ｍが供給される領域を供給領域ＭＡと称してもよい。ここで、上述したように照射領域ＥＡと供給領域ＭＡとが一致しているため、供給領域ＭＡは、溶融池ＭＰが形成された領域に設定されている。言い換えると、供給領域ＭＡは、溶融池ＭＰが形成された領域と一致する。このため、造形システム１は、図３（ｂ）に示すように、溶融池ＭＰに対して、材料ノズル４１２から造形材料Ｍを供給することになる。その結果、溶融池ＭＰに供給された造形材料Ｍが溶融して、造形面ＭＳ上に、溶融した造形材料Ｍを含んで造形面ＭＳから盛り上がった溶融池ＭＰが形成される。このとき、造形材料Ｍが溶融池ＭＰに供給されない場合と比較して、溶融池ＭＰは、造形面ＭＳに沿って及び／又は造形面ＭＳに交差する方向に沿って拡大してもよい。

　この際、造形システム１は、造形面ＭＳが上方を向くように、ステージ４３の姿勢を制御してもよい。つまり、造形システム１は、造形面ＭＳが向けられている方向が上向きの方向（つまり、＋Ｚ側に向かう方向）となるように、ステージ４３の姿勢を制御してもよい。その結果、造形面ＭＳのうち照射領域ＥＡが設定される部分（つまり、溶融池ＭＰが形成される部分）もまた、上方を向いている。更には、溶融池ＭＰもまた、上方を向くことになる。つまり、溶融池ＭＰの底面から上面に向かう方向（つまり、造形面ＭＳ上のある部分から当該ある部分に形成されている溶融池ＭＰの上面に向かう方向）が、上向きの方向（つまり、＋Ｚ側に向かう方向）となる。このため、溶融池ＭＰにおいて溶融した造形材料Ｍが溶融池ＭＰの外部へこぼれにくくなる。つまり、所望の大きさを有する溶融池ＭＰを維持しやすくなる。

　本実施形態における「造形面ＭＳ上のある部分が上方を向く」状態は、造形面ＭＳ上のある部分が向けられている方向を通る軸が、重力方向に平行になる（つまり、Ｚ軸に平行になる）状態及び重力方向を通る軸（つまり、Ｚ軸）に対して所定角度（例えば、４５度）未満の角度で交差する状態の少なくとも一方を含んでいてもよい。尚、「造形面ＭＳ上のある部分が上方を向く」状態は、造形面ＭＳ上のある部分の法線が、重力方向に平行になる（つまり、Ｚ軸に平行になる）状態及び重力方向を通る軸（つまり、Ｚ軸）に対して所定角度（例えば、４５度）未満の角度で交差する状態の少なくとも一方を含んでいてもよい。同様に、本実施形態における「溶融池ＭＰが上方を向く」状態は、溶融池ＭＰの底面から上面に向かう方向を通る軸が、重力方向に平行になる状態及び重力方向を通る軸に対して所定角度（例えば、４５度）未満の角度で交差する状態の少なくとも一方を含んでいてもよい。

　造形ヘッド４１の移動に伴って溶融池ＭＰに光ＥＬが照射されなくなると、溶融池ＭＰにおいて溶融した造形材料Ｍは、冷却されて固化（つまり、凝固）する。その結果、図３（ｃ）に示すように、固化した造形材料Ｍが造形面ＭＳ上に堆積される。言い換えると、固化した造形材料Ｍの堆積物による造形物が形成される。このように、造形面ＭＳに造形材料Ｍの堆積物を付加する付加加工が行われることで、造形物が形成される。

　このような光の照射ＥＬによる溶融池ＭＰの形成、溶融池ＭＰへの造形材料Ｍの供給、供給された造形材料Ｍの溶融及び溶融した造形材料Ｍの固化を含む一連の造形処理が、図３（ｄ）に示すように、造形面ＭＳに対する造形ヘッド４１のＸＹ平面内の位置を変えながら繰り返される。言い換えると、造形システム１は、造形面ＭＳに対して造形ヘッド４１をＸＹ平面内に沿って移動させながら、溶融池ＭＰの形成、造形材料Ｍの供給、造形材料Ｍの溶融及び溶融した造形材料Ｍの固化を含む一連の造形処理を繰り返す。造形面ＭＳに対して造形ヘッド４１が移動すると、造形面ＭＳに対して照射領域ＥＡもまた移動する。従って、一連の造形処理が、造形面ＭＳに対して照射領域ＥＡをＸＹ平面に沿って移動させながら繰り返されるとも言える。この際、光ＥＬは、造形物を形成すべき領域に設定された照射領域ＥＡに対して選択的に照射される一方で、造形物を形成すべきでない領域に設定された照射領域ＥＡに対して選択的に照射されない。尚、造形物を形成すべきでない領域に照射領域ＥＡは設定されなくてもよい。造形システム１は、造形面ＭＳ上で所定の移動軌跡に沿って照射領域ＥＡを移動させながら、造形物を形成すべき領域の分布（つまり、構造層ＳＬの形状）に応じたタイミングで光ＥＬを造形面ＭＳに照射する。言い換えると、造形システム１は、所定の移動軌跡に沿って光ＥＬが照射される予定の領域を造形面ＭＳ上で移動させながら、当該領域が造形物を形成すべき領域に位置した場合に光ＥＬを造形面ＭＳに照射する。その結果、図３（ｅ）に示すように、造形面ＭＳ上に、固化した造形材料Ｍによる造形物の集合体に相当する構造層ＳＬが形成される。尚、上述した説明では、造形面ＭＳに対して照射領域ＥＡを移動させた（つまり、造形ヘッド４１を移動させた）が、照射領域ＥＡに対して造形面ＭＳを移動させてもよい。

　造形システム１は、このような構造層ＳＬを形成するための動作を、制御装置７の制御下で、３次元モデルデータに基づいて繰り返し行う。以下、図４（ａ）から図４（ｃ）を参照しながら、構造層ＳＬを形成するための動作の繰り返しについて説明する。尚、図４（ａ）から図４（ｃ）のそれぞれは、第１の造形動作によって３次元構造物ＳＴを形成する過程を示す断面図である。

　まず、制御装置７は、３次元モデルデータを積層ピッチでスライス処理してスライスデータを作成する。このスライスデータは、照射領域ＥＡ及び／又は供給領域ＭＡの移動軌跡に関する情報を含んでいてもよい。尚、制御装置７は、造形システム１の特性に応じて、スライスデータを少なくとも部分的に修正してもよい。造形システム１は、制御装置７の制御下で、ワークＷの表面ＷＳに相当する造形面ＭＳ上に１層目の構造層ＳＬ＃１を形成するための動作を、構造層ＳＬ＃１に対応する３次元モデルデータ（つまり、構造層ＳＬ＃１に対応するスライスデータ）に基づいて行う。その結果、造形面ＭＳ上には、図４（ａ）に示すように、構造層ＳＬ＃１が形成される。その後、造形システム１は、構造層ＳＬ＃１の表面（特に、＋Ｚ側を向いた上面）に新たな造形面ＭＳを設定した上で、当該新たな造形面ＭＳ上に２層目の構造層ＳＬ＃２を形成する。構造層ＳＬ＃２を形成するために、制御装置７は、まず、造形ヘッド４１がＺ軸に沿って移動するようにヘッド駆動系４２を制御する。具体的には、制御装置７は、ヘッド駆動系４２を制御して、照射領域ＥＡ及び供給領域ＭＡが構造層ＳＬ＃１の表面（つまり、新たな造形面ＭＳ）に設定されるように、＋Ｚ側に向かって造形ヘッド４１を移動させる。これにより、光ＥＬのフォーカス位置ＦＰが新たな造形面ＭＳに一致する。その後、造形システム１は、制御装置７の制御下で、構造層ＳＬ＃１を形成する動作と同様の動作で、構造層ＳＬ＃２に対応するスライスデータに基づいて、構造層ＳＬ＃１上に構造層ＳＬ＃２を形成する。その結果、図４（ｂ）に示すように、構造層ＳＬ＃２が形成される。以降、同様の動作が、ワークＷ上に形成するべき３次元構造物ＳＴを構成する全ての構造層ＳＬが形成されるまで繰り返される。その結果、図４（ｃ）に示すように、Ｚ軸に沿って（つまり、溶融池ＭＰの底面から上面へと向かう方向に沿って）複数の構造層ＳＬが積層された積層構造物によって、３次元構造物ＳＴが形成される。ここで、Ｚ軸方向を複数の構造層ＳＬが積層された積層構造物の積層方向と称してもよい。尚、光ＥＬのフォーカス位置ＦＰは造形面ＭＳ（或いは、新たな造形面ＭＳ）と一致していなくてもよい。例えば、光ＥＬのフォーカス位置ＦＰを造形面ＭＳ（或いは、新たな造形面ＭＳ）からデフォーカスさせてもよい。

　（２－２）第２の造形動作
　続いて、第２の造形動作について説明する。第２の造形動作は、図５に示すように、表面ＷＳが曲面を含むワークＷ上に３次元構造物ＳＴを形成する造形動作であるという点で、表面ＷＳが平面（特に、単一の平面）となるワークＷ上に３次元構造物ＳＴを形成する上述した第１の造形動作とは異なる。尚、図５は、ワークＷの表面ＷＳが、３次元構造物ＳＴが形成される側（図５に示す例では、＋Ｚ側）に向けられた凸面を含む例を示している。つまり、図５は、ワークＷの表面ＷＳが、３次元構造物ＳＴが形成される側に向かって張り出された曲面を含む例を示している。但し、後述するように、ワークＷの表面ＷＳは、凸面に加えて又は代えて、３次元構造物ＳＴが形成される側に向けられた凹面を含んでいてもよい。

　ワークＷの表面ＷＳに造形面ＭＳが設定されるため、第２の造形動作は、曲面を含む造形面ＭＳに構造層ＳＬを形成して３次元構造物ＳＴを形成する造形動作であるという点で、平面である造形面ＭＳに構造層ＳＬを形成して３次元構造物ＳＴを形成する第１の造形動作とは異なっていてもよい。この場合、造形面ＭＳは、３次元構造物ＳＴが形成される側（つまり、構造層ＳＬが形成される側）に向けられた凸面及び凹面の少なくとも一方を含んでいてもよい。

　ワークＷの表面ＷＳが曲面を含む場合、図６（ａ）に示すように、表面ＷＳ上のある位置Ｐｗｓ＃１は、位置Ｐｗｓ＃１とは異なる表面ＷＳ上の３つの位置（図６（ａ）に示す例では、位置Ｐｗｓ＃２１、位置Ｐｗｓ＃２２及び位置Ｐｗｓ＃２３）を含む平面ＰＬｗｓから外れた位置となる。つまり、位置Ｐｗｓ＃１は、平面ＰＬｗｓに含まれなくなる。尚、図６（ａ）に示した位置Ｐｗｓ＃２３は、位置Ｐｗｓ＃２１及び位置Ｐｗｓ＃２２によりも－Ｘ方向側の位置であるため、図中破線で示してある。造形面ＭＳが曲面を含む場合、図６（ｂ）に示すように、造形面ＭＳ上のある位置Ｐｍｓ＃１は、位置Ｐｍｓ＃１とは異なる造形面ＭＳ上の３つの位置（図６（ｂ）に示す例では、位置Ｐｍｓ＃２１、位置Ｐｍｓ＃２２及び位置Ｐｍｓ＃２３）を含む平面ＰＬｍｓから外れた位置となる。つまり、位置Ｐｍｓ＃１は、平面ＰＬｍｓに含まれなくなる。尚、図６（ｂ）に示した位置Ｐｍｓ＃２３は、位置Ｐｍｓ＃２１及び位置Ｐｍｓ＃２２よりも－Ｘ方向側の位置であるため、図中破線で示してある。

　このような曲面を含む表面ＷＳを有するワークＷに３次元構造物ＳＴを形成する場合においても、表面ＷＳが平面となるワークＷに３次元構造物ＳＴを形成する場合と同様に、造形システム１は、Ｚ軸方向に沿って並ぶ複数の構造層ＳＬを順に形成する。別の言い方をすると、このような曲面を含む造形面ＭＳに構造層ＳＬを形成して３次元構造物ＳＴを形成する場合においても、平面となる造形面ＭＳに構造層ＳＬを形成して３次元構造物ＳＴを形成する場合と同様に、造形システム１は、Ｚ軸方向に沿って並ぶ複数の構造層ＳＬを順に形成する。但し、造形システム１は、曲面を含む造形面ＭＳ上に形成される構造層ＳＬが、造形面ＭＳの形状（特に、造形面ＭＳに含まれる曲面の形状）に応じて定まる形状を有するように、複数の構造層ＳＬを順に形成する。具体的には、造形システム１は、曲面を含む造形面ＭＳ上に形成される構造層ＳＬが造形面ＭＳに沿った形状を有するように、複数の構造層ＳＬを順に形成してもよい。或いは、造形システム１は、造形面ＭＳの形状に応じて、曲面を含む造形面ＭＳ上に形成される構造層ＳＬの厚み（つまり、構造層ＳＬの積層方向に沿った寸法）が構造層ＳＬ上での位置ごとに異なる形状を有するように、複数の構造層ＳＬを順に形成してもよい。以下、造形面ＭＳに沿った形状を有する構造層ＳＬを形成して３次元構造物ＳＴを形成する第２の造形動作、及び、造形面ＭＳの形状に応じて厚みが異なる構造層ＳＬを形成して３次元構造物ＳＴを形成する第２の造形動作について順に説明する。尚、以下では、説明の便宜上、造形システム１が、曲面を含む表面ＷＳを有するワークＷ上に３次元構造物ＳＴを形成する場合の第２の造形動作について説明する。

　（２－２－１）造形面ＭＳに沿った形状を有する構造層ＳＬを形成して３次元構造物ＳＴを形成する第２の造形動作
　初めに、図７から図１３を参照しながら、造形面ＭＳに沿った形状を有する構造層ＳＬを形成して３次元構造物ＳＴを形成する第２の造形動作について説明する。

　造形システム１は、まず、図７（ａ）に示すように、ワークＷの表面ＷＳに造形面ＭＳを設定した上で、造形面ＭＳ上に、造形面ＭＳに沿った形状を有する構造層ＳＬ（この場合、１層目の構造層ＳＬ＃１）を形成する。構造層ＳＬが造形面ＭＳに沿った形状を有する場合には、造形面ＭＳに沿った形状を有する構造層ＳＬを拡大して示す図７（ｂ）に示すように、構造層ＳＬの表面のうち造形面ＭＳ側に向けられた面Ｓ１（図７（ｂ）では、－Ｚ側の面）は、曲面を有する造形面ＭＳに沿った形状を有していてもよい。つまり、面Ｓ１は、曲面を含んでいてもよい。図７（ａ）及び図７（ｂ）に示す例では、面Ｓ１は、造形面ＭＳ側に向けられた凹面を含んでいる。更に、図７（ｂ）に示すように、構造層ＳＬの表面のうち造形面ＭＳとは反対側に向けられた面Ｓ２（図７（ｂ）では、＋Ｚ側の面）は、曲面を有する造形面ＭＳに沿った形状を有していてもよい。つまり、面Ｓ２は、曲面を含んでいてもよい。図７（ａ）及び図７（ｂ）に示す例では、面Ｓ２は、造形面ＭＳとは反対側に向けられた凸面を含んでいる。但し、面Ｓ２は、造形面ＭＳに沿った形状とは異なる形状を有していてもよく、造形面ＭＳの形状と異なる形状を有していてもよい。面Ｓ１及びＳ２の双方が造形面ＭＳに沿った形状を有している場合には、構造層ＳＬの各部の厚み（つまり、構造層ＳＬの積層方向に沿った寸法であり、図７（ｂ）では、Ｚ軸方向の寸法）は、構造層ＳＬの積層方向に交差する方向（図７（ｂ）では、Ｘ軸方向及びＹ軸方向の少なくとも一方）における構造層ＳＬの各部の位置に関わらず一定であってもよい。但し、構造層ＳＬの各部の厚みは、構造層ＳＬの積層方向に交差する方向における構造層ＳＬの各部の位置に応じて変わってもよい。

　面Ｓ１が曲面を含む場合には、図７（ｂ）に示すように、面Ｓ１上のある位置Ｐｓ１＃１は、位置Ｐｓ１＃１とは異なる面Ｓ１上の３つの位置（図７（ｂ）に示す例では、位置Ｐｓ１＃２１、位置Ｐｓ１＃２２及び位置Ｐｓ１＃２３）を含む平面ＰＬｓ１から外れた位置となる。つまり、位置Ｐｓ１＃１は、平面ＰＬｓ１に含まれなくなる。同様に、面Ｓ２が曲面を含む場合には、図７（ｂ）に示すように、面Ｓ２上のある位置Ｐｓ２＃１は、位置Ｐｓ２＃１とは異なる面Ｓ２上の３つの位置（図７（ｂ）に示す例では、位置Ｐｓ２＃２１、位置Ｐｓ２＃２２及び位置Ｐｓ２＃２３）を含む平面ＰＬｓ２から外れた位置となる。つまり、位置Ｐｓ２＃１は、平面ＰＬｓ２に含まれなくなる。尚、図７（ｂ）において、位置Ｐｓ１＃２３は、位置Ｐｓ１＃２１及び位置Ｐｓ１＃２２の－Ｘ方向側に位置するため、図中破線で示してある。また、位置Ｐｓ２＃２３は、位置Ｐｓ２＃２１及び位置Ｐｓ２＃２２の－Ｘ方向側に位置するため、図中破線で示してある。

　造形システム１は、構造層ＳＬの面Ｓ２の平面度が造形面ＭＳの平面度と同じになるように、構造層ＳＬを形成してもよい。つまり、造形システム１は、面Ｓ２を挟む２つの平行な平面の間の距離が、造形面ＭＳを挟む２つの平行な平面の間の距離と同じになるように、構造層ＳＬを形成してもよい。このとき、面Ｓ２を挟む２つの平行な平面と、造形面ＭＳを挟む２つの平行な平面とは互いに平行であってもよい。また、造形システム１は、平面ＰＬｓ２から位置Ｐｓ２＃１までの距離の最大値（図７（ｂ）参照）が、平面ＰＬｍｓからＰｍｓ＃１までの距離の最大値（図６（ｂ）参照）と同じになるように、構造層ＳＬを形成してもよい。このとき、平面ＰＬｓ２と平面ＰＬｍｓとは互いに平行であってもよい。或いは、造形システム１は、構造層ＳＬの面Ｓ２の平面度が造形面ＭＳの平面度よりも高くなるように（つまり、構造層ＳＬの面Ｓ２の方が造形面ＭＳよりも平面に近づくように）、構造層ＳＬを形成してもよい。造形システム１は、面Ｓ２を挟む２つの平行な平面の間の距離が、造形面ＭＳを挟む２つの平行な平面の間の距離よりも短くなるように、構造層ＳＬを形成してもよい。このとき、面Ｓ２を挟む２つの平行な平面と、造形面ＭＳを挟む２つの平行な平面とは互いに平行であってもよい。造形システム１は、平面ＰＬｓ２からＰｓ２＃１までの距離の最大値（図７（ｂ）参照）が、平面ＰＬｍｓからＰｍｓ＃１までの距離の最大値（図６（ｂ）参照）よりも短くなるように、構造層ＳＬを形成してもよい。このとき、平面ＰＬｓ２と平面ＰＬｍｓとは互いに平行であってもよい。

　造形面ＭＳに沿った形状を有する構造層ＳＬを形成するために、造形システム１は、照射系４１１から光ＥＬを照射し（更には、材料ノズル４１２から造形材料Ｍを供給し、以下同じ）、造形ヘッド４１をＸ軸及びＹ軸の少なくとも一方に加えてＺ軸に沿って移動させてもよい。この場合、第２の造形動作は、光ＥＬを照射し、造形ヘッド４１をＺ軸に沿って（つまり、造形面ＭＳを横切る又は交差する方向に沿って）移動させるという点で、光ＥＬを照射し且つ造形ヘッド４１をＺ軸に沿って移動させなくてもよい第１の造形動作とは異なっていてもよい。尚、造形面ＭＳに沿った形状を有する構造層ＳＬを形成するために、造形システム１は、照射系４１１から光ＥＬを照射する期間の少なくとも一部において、ワークＷと照射領域ＥＡとの相対位置を、Ｘ軸及びＹ軸の少なくとも一方に沿って変更し且つＺ軸に沿っても変更する。

　造形ヘッド４１が移動している期間中は、造形システム１は、ステージ４３を移動しなくてもよい。造形ヘッド４１が移動している期間中は、造形システム１は、ステージ駆動系４４を用いてステージ４３の姿勢（つまり、ステージ４３に載置されるワークＷの姿勢であって、特に造形面ＭＳの姿勢）を変更しなくてもよい。但し、必要に応じて、造形システム１は、造形ヘッド４１が移動している期間の少なくとも一部において、ステージ駆動系４４を用いてステージ４３の姿勢を変更してもよい。

　光ＥＬを照射し造形ヘッド４１をＺ軸に沿って移動させる場合の造形システム１の動作の一例を、図８を参照して説明する。まず、図８（ａ）に示すように、造形システム１は、造形面ＭＳ上において一連の造形物の形成を開始する造形開始部分Ｐ＿ｓｔａｒｔ（或いは、その他任意の部分、この任意の部分を第１部分と称してもよい）に光ＥＬを照射し且つ造形材料Ｍを供給する。その後、図８（ｂ）に示すように、造形システム１は、照射領域ＥＡが造形開始部分Ｐ＿ｓｔａｒｔから一連の造形物の形成を終了する造形終了部分Ｐ＿ｅｎｄ（或いは、その他任意の部分、この任意の部分を第２部分と称してもよい）に向かって移動するように、光ＥＬを照射し且つ造形ヘッド４１をＸ軸及びＹ軸の少なくとも一方に沿って移動させる。更に、造形システム１は、照射領域ＥＡが造形開始部分Ｐ＿ｓｔａｒｔから造形終了部分Ｐ＿ｅｎｄまで移動する期間中の少なくとも一部において、造形ヘッド４１をＺ軸に沿って（言い換えれば、造形開始部分Ｐ＿ｓｔａｒｔから造形終了部分Ｐ＿ｅｎｄに向かう方向に交差する方向に沿って）移動させる。その結果、図８（ｃ）に示すように、造形開始部分Ｐ＿ｓｔａｒｔから造形終了部分Ｐ＿ｅｎｄに向かって延びると共に造形面ＭＳに沿った形状を有する造形物が、構造層ＳＬの少なくとも一部として造形面ＭＳ上に形成される。

　造形ヘッド４１は、照射領域ＥＡが造形開始部分Ｐ＿ｓｔａｒｔから造形終了部分Ｐ＿ｅｎｄまで移動する期間中において、Ｚ軸方向における光ＥＬのフォーカス位置ＦＰと造形面ＭＳとの相対位置が固定される（例えば、フォーカス位置ＦＰが造形面ＭＳ上に設定され続ける）ように、Ｚ軸に沿って移動してもよい。一例として、光ＥＬのフォーカス位置ＦＰが固定されたまま（つまり、造形ヘッド４１とフォーカス位置ＦＰとの相対位置が固定されたまま）造形面ＭＳに沿った移動軌跡に沿って造形ヘッド４１が移動すれば、Ｚ軸方向における光ＥＬのフォーカス位置ＦＰと造形面ＭＳとの相対位置が固定される。言い換えれば、光ＥＬのフォーカス位置ＦＰが造形ヘッド４１に対して固定されたままＺ軸方向における造形ヘッド４１と造形面ＭＳ上の照射領域ＥＡとの相対位置が固定される（例えば、Ｚ軸方向における造形ヘッド４１と造形面ＭＳ上の照射領域ＥＡとの間の距離が一定になる）ように造形ヘッド４１が移動すれば、Ｚ軸方向における光ＥＬのフォーカス位置ＦＰと造形面ＭＳとの相対位置が固定される。その結果、照射領域ＥＡが造形開始部分Ｐ＿ｓｔａｒｔから造形終了部分Ｐ＿ｅｎｄまで移動する期間中にＺ軸方向における光ＥＬのフォーカス位置ＦＰと造形面ＭＳとの相対位置が変わる場合と比較して、造形システム１は、造形面ＭＳに沿った形状を有する構造層ＳＬを形成しやすくなる。

　尚、ステージ駆動系４４がステージ４３をＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸の少なくとも一つに沿って移動させることができる場合には、造形システム１は、造形面ＭＳに沿った形状を有する構造層ＳＬを形成するために、造形ヘッド４１を移動させることに加えて又は代えて、ステージ４３を移動させてもよい。

　或いは、造形面ＭＳに沿った形状を有する構造層ＳＬを形成するために、造形システム１は、照射系４１１から光ＥＬを照射し且つ造形ヘッド４１を移動させることに加えて又は代えて、ステージ４３の姿勢（つまり、ステージ４３に載置されるワークＷの姿勢であって、特に造形面ＭＳの姿勢）を変更してもよい。この場合、第２の造形動作は、光ＥＬを照射し且つ造形面ＭＳの姿勢を変更するという点で、光ＥＬの照射時に造形面ＭＳの姿勢を変更しなくてもよい第１の造形動作とは異なっていてもよい。

　光ＥＬの照射中にステージ４３の姿勢を変更する場合の造形システム１の動作の一例を、図９を参照して説明する。まず、図９（ａ）に示すように、造形システム１は、造形開始部分Ｐ＿ｓｔａｒｔ（或いは、その他任意の部分、この任意の部分を第１部分と称してもよい）に光ＥＬを照射し且つ造形材料Ｍを供給する。この場合、造形システム１は、ステージ４３の姿勢が、造形開始部分Ｐ＿ｓｔａｒｔが上方を向く（つまり、＋Ｚ側を向く）ことが可能な所望の姿勢となるように、ステージ４３の姿勢を変更してもよい。その結果、造形開始部分Ｐ＿ｓｔａｒｔに形成される溶融池ＭＰ（特に、造形材料Ｍが供給されて拡大した溶融池ＭＰ）もまた、上方を向くことになる。つまり、造形開始部分Ｐ＿ｓｔａｒｔから溶融池ＭＰの上面に向かう方向が、上向きの方向（つまり、＋Ｚ側に向かう方向）となる。このため、溶融池ＭＰにおいて溶融した造形材料Ｍが溶融池ＭＰの外部へこぼれにくくなる。つまり、所望の大きさを有する溶融池ＭＰを維持しやすくなる。

　尚、造形面ＭＳ（特に、造形面ＭＳのうち照射領域ＥＡが設定される部分）が上方を向くようにステージ４３の姿勢が変更されない場合には、造形面ＭＳが向けられた方向を通る軸が、重力方向を通る軸に対して所定角度以上の角度で交差する可能性がある。造形面ＭＳが向けられた方向に沿って複数の構造層ＳＬが積層されることから、この場合には、複数の構造層ＳＬが、その下に存在する既存の構造物（例えば、ワークＷ及び／又は形成済みの構造層ＳＬ）に対してオーバーハングする状態（張り出された状態又は出っ張った状態）で形成される可能性がある。つまり、複数の構造層ＳＬが、下方から（特に、真下から）複数の構造層ＳＬを支える既存の構造物が存在しない状態で形成される可能性がある。複数の構造層ＳＬに重力が作用することから、下方から複数の構造層ＳＬを支える既存の構造物が存在しない状態で複数の構造層ＳＬを安定的に形成することは、下方から複数の構造層ＳＬを支える既存の構造物が存在する状態で複数の構造層ＳＬを安定的に形成することよりも難しい。また、この場合、下方から溶融池ＭＰを支える既存の構造物が存在しない状態となるため、下方から溶融池ＭＰを支える既存の構造物が存在する場合と比較して、構造層ＳＬを安定的に形成することが難しくなる。一方で、造形面ＭＳが上方を向くようにステージ４３の姿勢が変更される場合には、複数の構造層ＳＬが、既存の構造物に対してオーバーハングする状態で形成される可能性は低い。従って、造形面ＭＳが上方を向くようにステージ４３の姿勢を変更する動作は、複数の構造層ＳＬが既存の構造物に対してオーバーハングする状態で形成される可能性を低減する動作を含んでいてもよい。つまり、造形面ＭＳが上方を向くようにステージ４３の姿勢を変更する動作は、複数の構造層ＳＬをより一層安定的に形成するための動作を含んでいてもよい。

　その後、図９（ｂ）に示すように、造形システム１は、照射領域ＥＡが造形開始部分Ｐ＿ｓｔａｒｔから造形終了部分Ｐ＿ｅｎｄ（或いは、その他任意の部分、この任意の部分を第２部分と称してもよい）に向かって移動するように、光ＥＬの照射中にステージ４３の姿勢を変更する。ここで、ステージ４３の姿勢変更動作における原点（典型的にはステージ４３の回転動作時の回転中心）が造形面ＭＳから離れた位置であるため、ステージ４３の姿勢変更に伴い、造形面ＭＳの姿勢が変更され且つ照射領域ＥＡに対する造形面ＭＳの位置が変更されることになる。照射領域ＥＡが造形開始部分Ｐ＿ｓｔａｒｔから造形終了部分Ｐ＿ｅｎｄに移動する期間中においても、造形システム１は、ステージ４３の姿勢を、造形面ＭＳのうち照射領域ＥＡが設定されている部分が上方を向くことが可能な所望の姿勢とするように、ステージ４３の姿勢を変更してもよい。つまり、造形システム１は、ステージ４３の姿勢を変更する前に照射領域ＥＡが設定されていた造形面ＭＳ上の部分が上方を向くことが可能な姿勢から、ステージ４３の姿勢を変更した後に照射領域ＥＡが設定されている造形面ＭＳ上の部分が上方を向くことが可能な姿勢へと、ステージ４３の姿勢を変更してもよい。この場合、造形システム１は、ステージ４３の姿勢の変更の前後において造形面ＭＳのうち照射領域ＥＡが設定されている部分が同じ方向を向くように、ステージ４３の姿勢を変更してもよい。また、造形システム１は、ステージ４３の姿勢が、溶融池ＭＰが上方を向くことが可能な姿勢となるように、ステージ４３の姿勢を変更してもよい。つまり、造形システム１は、ステージ４３の姿勢を変更する前に形成されていた溶融池ＭＰが上方を向くことが可能な姿勢から、ステージ４３の姿勢を変更した後に形成されている溶融池ＭＰが上方を向くことが可能な姿勢へと、ステージ４３の姿勢を変更してもよい。この場合、造形システム１は、ステージ４３の姿勢の変更の前後において溶融池ＭＰが同じ方向に向くように、ステージ４３の姿勢を変更してもよい。また、造形システム１は、ステージ４３の姿勢の変更の前後において、溶融池ＭＰが異なる方向に向き且つ溶融池ＭＰが上方に向くように、ステージ４３の姿勢を変更してもよい。

　尚、ステージ４３の姿勢の変更だけでは照射領域ＥＡを造形開始部分Ｐ＿ｓｔａｒｔから造形終了部分Ｐ＿ｅｎｄに移動させることが困難である場合には、造形システム１は、ステージ４３の姿勢を変更し且つ造形ヘッド４１を移動させる（つまり、照射領域ＥＡをＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸の少なくとも一つに沿って移動させる）ことで、照射領域ＥＡを造形開始部分Ｐ＿ｓｔａｒｔから造形終了部分Ｐ＿ｅｎｄに移動させてもよい。また、ステージ４３の姿勢の変更だけでは照射領域ＥＡを造形開始部分Ｐ＿ｓｔａｒｔから造形終了部分Ｐ＿ｅｎｄに移動させることが困難でない場合であっても、造形システム１は、ステージ４３の姿勢を変更し且つ造形ヘッド４１を移動させることで、照射領域ＥＡを造形開始部分Ｐ＿ｓｔａｒｔから造形終了部分Ｐ＿ｅｎｄに移動させてもよい。

　その後、図９（ｃ）に示すように、造形システム１は、照射領域ＥＡが造形終了部分Ｐ＿ｅｎｄに到達するように、光ＥＬの照射中にステージ４３の姿勢を変更する。この場合においても、造形システム１は、造形終了部分Ｐ＿ｅｎｄが上方を向くように、ステージ４３の姿勢を変更してもよい。言い換えれば、造形システム１は、ステージ４３の姿勢が、造形終了部分Ｐ＿ｅｎｄに形成されている溶融池ＭＰが上方を向くことが可能な姿勢となるように、ステージ４３の姿勢を変更してもよい。その結果、図９（ｄ）に示すように、ステージ４３の姿勢を変更して構造層ＳＬを形成する場合においても、造形ヘッド４１を移動して構造層ＳＬを形成する場合と同様に、造形開始部分Ｐ＿ｓｔａｒｔから造形終了部分Ｐ＿ｅｎｄに向かって延びると共に造形面ＭＳに沿った形状を有する構造層ＳＬが造形面ＭＳ上に形成される。

　ステージ４３の姿勢を変更して構造層ＳＬを形成する場合においても、造形ヘッド４１を移動して構造層ＳＬを形成する場合と同様に、造形システム１は、照射領域ＥＡが造形開始部分Ｐ＿ｓｔａｒｔから造形終了部分Ｐ＿ｅｎｄまで移動する期間中において、光ＥＬのフォーカス位置ＦＰと造形面ＭＳとのＺ軸方向における相対位置が固定されるように、ステージ４３の姿勢を変更してもよい。尚、ステージ４３の姿勢の変更だけでは光ＥＬのフォーカス位置ＦＰと造形面ＭＳとのＺ軸方向における相対位置を固定することが困難である場合には、造形システム１は、ステージ４３の姿勢を変更し且つ造形ヘッド４１を移動させることで、光ＥＬのフォーカス位置ＦＰと造形面ＭＳとの相対位置を固定してもよい。

　尚、ヘッド駆動系４２が造形ヘッド４１の姿勢を変更できる（つまり、造形ヘッド４１をθＸ方向、θＹ方向及びθＺ方向の少なくとも一つに沿って移動させることができる）場合には、造形システム１は、造形面ＭＳに沿った形状を有する構造層ＳＬを形成するために、ステージ４３の姿勢を変更することに加えて又は代えて、造形ヘッド４１の姿勢を変更してもよい。

　また、造形ヘッド４１及びステージ４３の少なくとも一方の姿勢が変わると、造形面ＭＳに対する光ＥＬの照射方向（つまり、造形面ＭＳから見た光ＥＬの照射方向）が変わる。つまり、造形ヘッド４１及びステージ４３の少なくとも一方の姿勢が第１の姿勢になっている（つまり、造形面ＭＳに対する光ＥＬの照射方向が第１の姿勢に対応する第１の方向になっている）状況において、造形ヘッド４１及びステージ４３の少なくとも一方の姿勢が、第１の姿勢とは異なる第２の姿勢に変わると、造形面ＭＳに対する光ＥＬの照射方向は、第２の姿勢に対応し且つ第１の方向とは異なる第２の方向に変わる。従って、造形ヘッド４１及びステージ４３の少なくとも一方の姿勢を変更して構造層ＳＬを形成する動作は、造形面ＭＳに対する光ＥＬの照射方向を変更して構造層ＳＬを形成する動作と実質的に等価と見なせる。このため、造形システム１が光ＥＬの照射方向を変更することができる場合には、造形システム１は、造形ヘッド４１及びステージ４３の少なくとも一方の姿勢を変更することに加えて又は変えて、光ＥＬの照射方向を変えてもよい。尚、光ＥＬの照射方向を変更する装置の一例として、光ＥＬを偏向可能な光学素子（例えば、可動式、可倒式及び／又は回転式のミラー）があげられる。

　その後、第２の造形動作においても、第１の造形動作と同様に、造形システム１は、形成した構造層ＳＬの上面に新たな造形面ＭＳを設定した上で、当該新たな造形面ＭＳ上に、新たな構造層ＳＬを形成する動作を繰り返す。つまり、造形システム１は、新たな造形面ＭＳに沿った構造層ＳＬを形成する動作を繰り返す。その結果、図１０に示すように、造形面ＭＳに沿った形状を有する複数の構造層ＳＬがワークＷ上に形成される。

　その後、造形面ＭＳに沿った形状を有する複数の構造層ＳＬから構成される造形物の上部の形状が、形成すべき３次元構造物ＳＴの形状と異なっている場合には、造形システム１は、複数の構造層ＳＬから構成される造形物の上部の形状を、形成すべき３次元構造物ＳＴの形状に合わせるための動作を行う。具体的には、造形システム１は、造形面ＭＳに沿った形状を有する複数の構造層ＳＬのうちの最上層の構造層ＳＬの上面に新たな造形面ＭＳを設定する。その後、造形システム１は、新たな造形面ＭＳ上に、複数の構造層ＳＬから構成される造形物の上部の形状を形成すべき３次元構造物ＳＴの形状に合わせるための構造層ＳＬ（以降、適宜“構造層ＳＬｘ”と称する）を形成する。

　図１１に示すように、構造層ＳＬｘは、上面が平面（特に、単一の平面）となる構造層ＳＬであってもよい。構造層ＳＬｘが形成される造形面ＭＳが曲面を含んでいることから、構造層ＳＬｘは、造形面ＭＳ側に向けられた面（つまり、下面）が曲面を含む一方で、造形面ＭＳとは反対側に向けられた面（つまり、上面）が平面となる構造層であってもよい。この場合、図１１に示すように、構造層ＳＬｘの厚みは、構造層ＳＬｘが形成される造形面ＭＳの形状に応じて変わる。つまり、構造層ＳＬｘの各部の厚み（つまり、Ｚ軸に沿った寸法）は、Ｚ軸に交差する方向（典型的には、Ｘ軸及びＹ軸の少なくとも一方）における各部の位置に応じて変わる。つまり、造形システム１は、Ｚ軸に交差する方向における位置に応じて厚みが変わる構造層ＳＬｘを形成する。

　位置が変わると厚みが変わる構造層ＳＬｘを形成するために、造形システム１は、光ＥＬの照射中に光ＥＬの特性を制御してもよい。光ＥＬの特性は、造形面ＭＳ上での単位面積当たりの光ＥＬの強度を含んでいてもよい。光ＥＬの強度が小さくなればなるほど、造形面ＭＳにおいて溶融する造形材料Ｍの量が少なくなる。造形面ＭＳにおいて溶融する造形材料Ｍの量が少なくなるほど、構造層ＳＬｘの厚みが薄くなる。或いは、光ＥＬの特性は、造形面ＭＳに対する単位面積当たりの又は単位時間当たりの光ＥＬの照射時間を含んでいてもよい。光ＥＬの照射時間が短くなればなるほど、造形材料Ｍに光ＥＬが照射される時間が短くなるがゆえに、造形面ＭＳにおいて溶融する造形材料Ｍの量が少なくなる。造形面ＭＳにおいて溶融する造形材料Ｍの量が少なくなるほど、構造層ＳＬｘの厚みが薄くなる。従って、造形システム１は、造形面ＭＳ上での照射領域ＥＡ（或いは、供給領域ＭＡ又は溶融池ＭＰ）の位置に応じて光ＥＬの特性を変更することで、造形面ＭＳ上での位置に応じて厚みが変わる構造層ＳＬｘを形成することができる。つまり、造形システム１は、造形面ＭＳと照射領域ＥＡとの相対位置（特に、Ｚ軸に交差する方向における相対位置）を変更しながら当該相対位置に応じて光ＥＬの特性を変更することで、造形面ＭＳ上での位置に応じて厚みが変わる構造層ＳＬｘを形成することができる。

　位置が変わると厚みが変わる構造層ＳＬｘを形成するために、造形システム１は、光ＥＬの照射中に材料ノズル４１２からの造形材料Ｍの供給態様を制御してもよい。造形材料Ｍの供給態様は、単位時間当たりの又は単位面積当たりの造形材料Ｍの供給量（つまり、供給レート）を含んでいてもよい。造形材料Ｍの供給量が少なくなればなるほど、造形面ＭＳにおいて溶融する造形材料Ｍの量が少なくなるため、構造層ＳＬｘの厚みが薄くなる。従って、造形システム１は、造形面ＭＳ上での照射領域ＥＡ（或いは、供給領域ＭＡ又は溶融池ＭＰ）の位置に応じて造形材料Ｍの供給態様を変更することで、造形面ＭＳ上での位置に応じて厚みが変わる構造層ＳＬｘを形成することができる。つまり、造形システム１は、造形面ＭＳと照射領域ＥＡとの相対位置（特に、Ｚ軸に交差する方向における相対位置）を変更しながら当該相対位置に応じて造形材料Ｍの供給態様を変更することで、造形面ＭＳ上での位置に応じて厚みが変わる構造層ＳＬｘを形成することができる。

　位置が変わると厚みが変わる構造層ＳＬｘを形成するために、造形システム１は、造形面ＭＳ上での照射領域ＥＡの移動速度を制御してもよい。照射領域ＥＡの移動速度が速くなればなるほど、造形面ＭＳのある部分に光ＥＬが照射される時間が短くなるため、その部分で溶融する造形材料Ｍの量が少なくなる。その結果、その部分に形成される構造層ＳＬｘの厚みが薄くなる。従って、造形システム１は、造形面ＭＳ上での照射領域ＥＡ（或いは、供給領域ＭＡ又は溶融池ＭＰ）の位置に応じて照射領域ＥＡの移動速度を変更することで、造形面ＭＳ上での位置に応じて厚みが変わる構造層ＳＬｘを形成することができる。つまり、造形システム１は、造形面ＭＳと照射領域ＥＡとの相対位置（特に、Ｚ軸に交差する方向における相対位置）を変更しながら当該相対位置に応じて照射領域ＥＡの移動速度を変更することで、造形面ＭＳ上での位置に応じて厚みが変わる構造層ＳＬｘを形成することができる。尚、造形システム１は、照射領域ＥＡの移動速度を変更するために、造形ヘッド４１及びステージ４３の少なくとも一方の移動速度を変更してもよい。或いは、照射系４１１が光ＥＬを偏向可能な光学系（例えば、ガルバノミラー等の可倒式ミラー）を備えている場合には、造形システム１は、造形ヘッド４１及びステージ４３の少なくとも一方の移動速度の変更に加えて又は代えて、光学系を制御して（例えば、ガルバノミラーの走査速度を制御して）照射領域ＥＡの移動速度を変更してもよい。

　構造層ＳＬｘの上面が平面であるため、構造層ＳＬｘの上面（つまり、図７（ｂ）に示す面Ｓ２に相当する面）の平面度は、構造層ＳＬｘが形成される造形面ＭＳの平面度よりも高くなる。尚、「構造層ＳＬｘの上面が平面となる」状態は、構造層ＳＬｘの上面が完全な（言い換えれば、理想的な）平面となる状態のみならず、構造層ＳＬｘの上面が構造層ＳＬの形成の点から見れば実質的に平面であるとみなすことができる状態をも含んでいてもよい。構造層ＳＬｘの上面が実質的に平面であるとみなすことができる状態は、構造層ＳＬｘの上面上の３つの位置を通る平面と構造層ＳＬｘの上面上の別の位置との間の距離（つまり、偏差であり、図７（ｂ）に示す平面ＰＬｓ２から位置Ｐｓ２＃１までの距離）の最大値が、所定の許容量以下になる状態を含んでいてもよい。

　尚、一つの構造層ＳＬの厚みには限界がある。つまり、造形システム１は、一定以上の厚みを有する構造層ＳＬを形成することは困難である。このため、曲面を含む造形面ＭＳに上面が平面となる構造層ＳＬを形成する場合において、造形面ＭＳの形状（特に、曲率）によっては、造形面ＭＳの一部に一定以上の厚みを有する造形物を形成しなければ、上面が平面となる構造層ＳＬを形成することができない可能性がある。この場合には、図１２に示すように、造形システム１は、複数の構造層ＳＬｘを形成してもよい。具体的には、造形システム１は、まず、厚みの制約を満たした構造層ＳＬｘ（図１２では、構造層ＳＬｘａと表記）を、造形面ＭＳの一部の上に形成してもよい。その後、造形システム１は、厚みの制約を満たした別の構造層ＳＬｘ（図１２では、構造層ＳＬｘｂと表記）を、形成済みの構造層ＳＬｘ及び構造層ＳＬｘが未だ形成されていない造形面ＭＳの他の一部の上に形成してもよい。つまり、造形システム１は、厚みの制約を満たした別の構造層ＳＬｘを、形成済みの構造層ＳＬｘと造形面ＭＳの他の一部とに跨るように形成してもよい。ここで、厚みの制約とは、造形システム１が形成することができる構造層ＳＬの厚みの最大値以下の厚みとしてもよい。

　その後、造形システム１は、必要に応じて、構造層ＳＬｘの上面に新たな造形面ＭＳを設定した上で、構造層ＳＬｘ上に少なくとも一つの新たな構造層ＳＬを形成してもよい。尚、構造層ＳＬｘの上面が平面であるため、造形システム１は、上述した第１の造形動作を行って、構造層ＳＬｘ上に少なくとも一つの新たな構造層ＳＬを形成してもよい。その結果、図１３に示すように、所望の外形を有する３次元構造物ＳＴが形成される。

　このような手順で３次元構造物ＳＴを形成するために、造形システム１は、計測装置４５を用いて、ワークＷの表面ＷＳ（或いは、曲面を含む任意の造形面ＭＳ）の形状を計測してもよい。その上で、造形システム１は、造形面ＭＳの形状に応じたスライス処理を３次元モデルデータに対して行うことで、造形面ＭＳに沿った形状を有する構造層ＳＬを形成するためのスライスデータを作成してもよい。

　（２－２－２）造形面ＭＳの形状に応じて厚みが異なる構造層ＳＬを形成して３次元構造物ＳＴを形成する第２の造形動作
　続いて、図１４を参照しながら、造形面ＭＳの形状に応じて厚みが変わる構造層ＳＬを形成して３次元構造物ＳＴを形成する第２の造形動作について説明する。

　図１４（ａ）及び図１４（ｂ）に示すように、まず、造形システム１は、ワークＷの表面ＷＳに造形面ＭＳを設定した上で、造形面ＭＳ上に、造形面ＭＳの形状に応じて厚みが変わる構造層ＳＬ（以降、“構造層ＳＬｙ”と称する）を形成する。言い換えると、造形システム１は、造形面ＭＳ上での位置に応じて厚みが変わる構造層ＳＬを造形面ＭＳ上に形成する。特に、造形システム１は、上面が平面となるように厚みが変わる構造層ＳＬｙを、曲面を含む造形面ＭＳ上に形成する。つまり、造形システム１は、造形面ＭＳ上での位置に応じて構造層ＳＬｙの厚みを変えることで上面が平面となる構造層ＳＬｙを形成する。尚、構造層ＳＬｙを形成する動作は、上述した構造層ＳＬｘを形成するための動作と同一であってもよい。つまり、上述した構造層ＳＬｘに関する説明は、「構造層ＳＬｘ」という文言を「構造層ＳＬｙ」という文言に置き換えれば、構造層ＳＬｙに関する説明となる。このため、構造層ＳＬｙを形成する動作の詳細な説明は省略する。

　尚、図１４（ａ）は、単一の構造層ＳＬｙが形成される例を示しており、図１４（ｂ）は、複数の構造層ＳＬｙが形成される例を示す。複数の構造層ＳＬｙが形成される理由は、複数の構造層ＳＬｘが形成される理由と同一である。

　図１４（ｃ）に示すように、その後、造形システム１は、形成した構造層ＳＬｙの上面に新たな造形面ＭＳを設定した上で、形成した構造層ＳＬｙ上に新たな構造層ＳＬを形成する。更に、造形システム１は、必要に応じて、形成した構造層ＳＬの上面に新たな造形面ＭＳを設定した上で、形成した構造層ＳＬ上に新たな構造層ＳＬを形成する動作を繰り返す。尚、構造層ＳＬｙの上面が平面であるため、造形システム１は、上述した第１の造形動作を行って、新たな構造層ＳＬを形成してもよい。その結果、図１４（ｄ）に示すように、所望の外形を有する３次元構造物ＳＴが形成される。

　このような手順で３次元構造物ＳＴを形成するために、造形システム１は、計測装置４５を用いて、ワークＷの表面ＷＳ（或いは、曲面を含む任意の造形面ＭＳ）の形状を計測してもよい。その上で、造形システム１は、造形面ＭＳの形状に応じたスライス処理を３次元モデルデータに対して行うことで、造形面ＭＳの形状に応じて厚みが変わる構造層ＳＬを形成するためのスライスデータを作成してもよい。

　（２－２－３）第２の造形動作の変形例
　上述した説明において、造形面ＭＳ（例えば、ワークＷの表面ＷＳ及び形成済みの構造層ＳＬの表面）は、構造層ＳＬが形成される側に向けられた凸面を含んでいる。しかしながら、図１５（ａ）及び図１５（ｂ）に示すように、造形面ＭＳは、構造層ＳＬが形成される側に向けられた凹面を含んでいてもよい。つまり、造形面ＭＳの少なくとも一部が、構造層ＳＬが形成される側とは反対側に向かって窪んだ面となっていてもよい。この場合であっても、図１５（ａ）に示すように、造形システム１は、造形面ＭＳに沿った形状を有する構造層ＳＬを形成し３次元構造物ＳＴを形成してもよい。この場合、造形面ＭＳに沿った形状を有する構造層ＳＬの表面のうち造形面ＭＳ側に向けられた面Ｓ１は、造形面ＭＳ側に向けられた凸面を含んでいてもよい。或いは、図１５（ｂ）に示すように、造形システム１は、造形面ＭＳの形状に応じて厚みが変わる構造層ＳＬｙを形成し３次元構造物ＳＴを形成してもよい。

　上述した説明では、造形面ＭＳが曲面を含んでいる。しかしながら、図１６（ａ）から図１６（ｄ）に示すように、造形面ＭＳが、互いに交差する少なくとも二つの平面を含んでいてもよい。この場合であっても、造形システム１は、造形面ＭＳが曲面を含んでいる場合と同様に、造形面ＭＳに沿った形状を有する構造層ＳＬを形成することによって、又は造形面ＭＳの形状に応じて厚みが変わる構造層ＳＬｙ（ＳＬｘ）を形成することによって３次元構造物ＳＴを形成してもよい。尚、図１６（ａ）は、構造層ＳＬが形成される側に向けられた凸面を含む造形面ＭＳに、造形面ＭＳに沿った形状を有する構造層ＳＬを形成して３次元構造物ＳＴを形成する例を示している。図１６（ｂ）は、構造層ＳＬが形成される側に向けられた凸面を含む造形面ＭＳに、造形面ＭＳの形状に応じて厚みが変わる構造層ＳＬｙを形成して３次元構造物ＳＴを形成する例を示している。図１６（ｃ）は、構造層ＳＬが形成される側に向けられた凹面を含む造形面ＭＳに、造形面ＭＳに沿った形状を有する構造層ＳＬを形成して３次元構造物ＳＴを形成する例を示している。図１６（ｄ）は、構造層ＳＬが形成される側に向けられた凹面を含む造形面ＭＳに、造形面ＭＳの形状に応じて厚みが変わる構造層ＳＬｙを形成して３次元構造物ＳＴを形成する例を示している。

　尚、造形面ＭＳが互いに交差する少なくとも二つの平面を含む場合には、造形面ＭＳが曲面を含む場合と同様に、造形面ＭＳ上の位置Ｐｍｓ＃１は、位置Ｐｍｓ＃１とは異なる造形面ＭＳ上の３つの位置Ｐｍｓ＃２１からＰｍｓ＃２３を含む平面ＰＬｍｓから外れた位置となる。従って、第２の造形動作の対象となる造形面ＭＳは、造形面ＭＳ上の位置Ｐｍｓ＃１が、位置Ｐｍｓ＃１とは異なる造形面ＭＳ上の３つの位置Ｐｍｓ＃２１からＰｍｓ＃２３を含む平面ＰＬｍｓから外れた位置となる任意の造形面ＭＳ（典型的には、非平面状の造形面ＭＳ）であってもよい。

　上述した説明では、ワークＷの表面ＷＳ及び造形面ＭＳが一つの曲面を含んでいる。言い換えると、ワークＷの表面ＷＳ及び造形面ＭＳが特異点を有していない。しかしながら、ワークＷの表面ＷＳ及び造形面ＭＳが互いに交差する複数の曲面を含んでいてもよい。言い換えると、ワークＷの表面ＷＳ及び造形面ＭＳが特異点を有していてもよい。尚、特異点は、曲面上で接平面が存在しない点又は接平面が複数存在する点とすることができる。

　（２－３）第３の造形動作
　続いて、図１７から図３１を参照して、第３の造形動作について説明する。上述した第１及び第２の造形動作は、積層方向が固定されている（つまり、一方向に揃っている）複数の構造層ＳＬを形成して３次元構造物ＳＴを形成する造形動作である。一方、第３の造形動作は、複数の構造層ＳＬを形成する期間中のある時点で積層方向を変更して３次元構造物ＳＴを形成する造形動作であるという点で、上述した第１及び第２の造形動作とは異なる。その結果、第３の造形動作により、第１の方向ｄ１（１）に沿って積層される少なくとも一つの構造層ＳＬを含む構造物と、第１の方向ｄ１（１）とは異なる第２の方向ｄ１（２）に沿って積層される少なくとも一つの構造層ＳＬを含む構造物と、・・・、第１の方向ｄ１（１）から第ｎ－１の方向ｄ１（ｎ－１）とは異なる第ｎの方向ｄ１（ｎ（但し、ｎは２以上の整数））に沿って積層される少なくとも一つの構造層ＳＬを含む構造物とから構成される３次元構造物ＳＴが形成される。

　各構造層ＳＬは、層状造形物であるがゆえに、各構造層ＳＬの積層方向に交差する方向に沿って延びる（或いは、広がる）形状を有している。このため、第３の造形動作は、複数の構造層ＳＬを形成する期間中のある時点で構造層ＳＬの延びる方向を変更して３次元構造物ＳＴを形成する造形動作であってもよい。この場合、第３の造形動作により、第１の方向ｄ２（１）に沿って延びる少なくとも一つの構造層ＳＬを含む構造物と、第１の方向ｄ２（１）とは異なる第２の方向ｄ２（２）に沿って延びる少なくとも一つの構造層ＳＬを含む構造物と、・・・、第１の方向ｄ２（２）から第ｍ－１の方向ｄ２（ｍ－１）とは異なる第ｍの方向ｄ２（ｍ（但し、ｍは２以上の整数））に沿って延びる少なくとも一つの構造層ＳＬを含む構造物とから構成される３次元構造物ＳＴが形成される。

　積層方向が異なる（つまり、延びる方向が異なる）２つの構造層ＳＬは、互いに交差する関係にあってもよい。このため、第３の造形動作は、互いに交差する２つの構造層ＳＬを含む複数の構造層ＳＬを形成して３次元構造物ＳＴを形成する造形動作であってもよい。

　第３の造形動作によって形成される３次元構造物ＳＴの一例が図１７に示されている。図１７は、第１の方向ｄ１（１）（図１７では、Ｚ軸方向）に沿って積層される複数の構造層ＳＬ３１を含む円筒状の構造物ＳＴ３１と、第２の方向ｄ１（２）（図１７では、Ｙ軸方向）に沿って積層される複数の構造層ＳＬ３２を含む角筒状の構造物ＳＴ３２とから構成される３次元構造物ＳＴを示している。言いかえれば、図１７は、第１の方向ｄ２（１）（図１７では、ＸＹ平面に沿った方向）に沿って広がる複数の構造層ＳＬ３１を含む構造物ＳＴ３１と、第２の方向ｄ２（２）（図１７では、ＸＺ平面に沿った方向）に沿って広がる複数の構造層ＳＬ３２を含む構造物ＳＴ３２とから構成される３次元構造物ＳＴを示している。以下、図１７に示す３次元構造物ＳＴを形成するための第３の造形動作の流れについて説明する。

　まず、図１８（ａ）及び図１８（ｂ）に示すように、造形システム１は、構造層ＳＬ３１を形成するために、ワークＷの表面ＷＳに造形面ＭＳを設定した上で、造形面ＭＳに光ＥＬを照射すると共に造形材料Ｍを供給する。その結果、造形面ＭＳ上に溶融池ＭＰが形成される。その後、造形システム１は、造形面ＭＳ上に形成するべき構造層ＳＬ３１の形状に応じて、造形ヘッド４１を移動させる及び／又はステージ４３の姿勢を変更する。このとき、造形システム１は、造形面ＭＳのうち照射領域ＥＡが設定されている部分が上方を向く（つまり、溶融池ＭＰが上方を向く）ように、ステージ４３の姿勢を変更してもよい。その結果、造形面ＭＳ上において、照射領域ＥＡが構造層ＳＬ３１の形状に応じて移動する。構造層ＳＬ３１が平面視においてリング状の形状を有しているため、造形システム１は、造形面ＭＳ上において照射領域ＥＡが円形の移動軌跡に沿って移動するように、造形ヘッド４１を移動させてもよい及び／又はステージ４３の姿勢を変更してもよい。ステージ４３の姿勢を変更する場合には、ステージ４３をＺ軸に平行な回転軸に沿って回転するように姿勢を変更して、造形面ＭＳ上において照射領域ＥＡを円形の移動軌跡に沿って移動させる。造形ヘッド４１の移動及び／又はステージ４３の姿勢変更の結果、図１８（ｃ）及び図１８（ｄ）に示すように、照射領域ＥＡの移動に伴って、構造層ＳＬ３１を構成する造形物が形成されていく。その後、円形の移動軌跡に沿った照射領域ＥＡの移動が終了すると、図１８（ｅ）及び図１８（ｆ）に示すように、構造層ＳＬ３１の形成が完了する。以降、造形システム１は、形成した構造層ＳＬ３１の上面に新たな造形面ＭＳを設定した上で、当該新たな造形面ＭＳ上に新たな構造層ＳＬ３１を形成する動作を繰り返す。その結果、図１９（ａ）及び図１９（ｂ）に示すように、Ｚ軸方向に沿って積層される複数の構造層ＳＬ３１を含む構造物ＳＴ３１が形成される。つまり、ＸＹ平面に沿った方向に沿って広がる複数の構造層ＳＬ３１を含む構造物ＳＴ３１が形成される。尚、図１９（ａ）は構造物ＳＴ３１のＹＺ平面図であり、図１９（ｂ）は構造物ＳＴ３１のＸＹ平面図である。

　尚、造形面ＭＳが平面である場合には、造形システム１は、上述した第１の造形動作を行うことで、構造物ＳＴ３１を形成してもよい。造形面ＭＳが曲面を含む場合には、造形システム１は、上述した第２の造形動作を行うことで、構造物ＳＴ３１を形成してもよい。

　その後、造形システム１は、構造層ＳＬ３２を形成するために、構造物ＳＴ３１の表面の少なくとも一部に新たな造形面ＭＳを設定する。この際、図１９（ｃ）に示すように、造形システム１は、少なくとも２つの構造層ＳＬ３１に跨る造形面ＭＳを設定してもよい。この場合、造形システム１は、少なくとも２つの構造層ＳＬ３１に跨る構造層ＳＬ３２を形成することになる。或いは、図１９（ｄ）に示すように、造形システム１は、少なくとも２つの構造層ＳＬ３１に跨ることのない（つまり、単一の構造層ＳＬ３１の表面内で分布する）造形面ＭＳを設定してもよい。この場合、造形システム１は、少なくとも２つの構造層ＳＬ３１に跨らない構造層ＳＬ３２を形成する（つまり、単一の構造層ＳＬ３１上に構造層ＳＬ３２を形成する）ことになる。以下では、図１９（ｃ）に示したように少なくとも２つの構造層ＳＬ３１に跨る造形面ＭＳを設定した場合について説明する。

　構造物ＳＴ３１の表面の少なくとも一部に新たな造形面ＭＳを設定した後、図１９（ｅ）及び図１９（ｆ）に示すように、造形システム１は、新たな造形面ＭＳ（特に、新たな造形面ＭＳのうち構造層ＳＬ３２を形成するために最初に照射領域ＥＡが設定される部分）が上方を向くように、ステージ４３の姿勢（つまり、構造物ＳＴ３１の姿勢）を変更する。尚、図１９（ｅ）は、ステージ４３の姿勢が変更された後の構造物ＳＴ３１のＹＺ平面図であり、図１９（ｆ）は、ステージ４３の姿勢が変更された後の構造物ＳＴ３１のＸＹ平面図である。但し、造形システム１は、ステージ４３の姿勢（つまり、構造物ＳＴ３１の姿勢）を変更しなくてもよい。この場合、造形システム１は、上方を向いていない造形面ＭＳに構造層ＳＬ３２を形成してもよい。

　その後、図２０（ａ）から図２０（ｃ）に示すように、造形システム１は、構造物ＳＴ３１の表面に設定された造形面ＭＳに光ＥＬを照射すると共に造形材料Ｍを供給する。ここで、図２０（ａ）は構造物ＳＴ３１のＹＺ平面図、図２０（ｂ）は構造物ＳＴ３１のＸＹ平面図、そして図２０（ｃ）は構造物ＳＴ３１のＸＺ平面図である。その結果、溶融池ＭＰが形成される。その後、造形システム１は、造形面ＭＳ上に形成するべき構造層ＳＬ３２の形状に応じて、造形ヘッド４１を移動させる及び／又はステージ４３の姿勢を変更する。その結果、造形面ＭＳ上において、照射領域ＥＡが構造層ＳＬ３２の形状に応じて移動する。構造層ＳＬ３２を形成する場合にも、構造層ＳＬ３１を形成する場合と同様に、造形システム１は、造形面ＭＳのうち照射領域ＥＡが設定されている部分が上方を向く（つまり、溶融池ＭＰが上方を向く）ように、ステージ４３の姿勢を変更してもよい。つまり、造形システム１は、構造層ＳＬ３２を形成する場合及び構造層ＳＬ３１を形成する場合の双方において、造形面ＭＳのうち照射領域ＥＡが設定されている部分が同じ方向を向く（つまり、溶融池ＭＰが同じ方向を向く）ように、ステージ４３の姿勢を変更してもよい。

　構造層ＳＬ３２が平面視において角筒状の形状（つまり、四角形の枠状の形状）を有しているため、例えば、図２１（ａ）から図２１（ｃ）に示すように、造形システム１は、構造層ＳＬ３２の形状に応じて、Ｙ軸に沿って照射領域ＥＡが造形面ＭＳ上を移動するように、造形ヘッド４１を移動させてもよい及び／又はステージ４３の姿勢を変更してもよい。ここで、図２１（ａ）は、構造物ＳＴ３１及び造形途中の構造物ＳＴ３２を示すＹＺ平面図であり、図２１（ｂ）は、構造物ＳＴ３１及び造形途中の構造物ＳＴ３２を示すＸＹ平面図であり、図２１（ｃ）は、構造物ＳＴ３１及び造形途中の構造物ＳＴ３２を示すＸＺ平面図である。その結果、Ｙ軸方向に沿って延びる構造層ＳＬ３２ｙ（つまり、構造層ＳＬ３２の一部を構成する層状造形物）が形成される。つまり、Ｙ軸に沿った照射領域ＥＡの移動軌跡の開始部分から終了部分に向かって延びる構造層ＳＬ３２ｙが形成される。構造層ＳＬ３２ｙの形成に続けて又は構造層ＳＬ３２ｙの形成の前に、例えば、図２２（ａ）から図２２（ｃ）に示すように、造形システム１は、構造層ＳＬ３２の形状に応じて、Ｘ軸に沿って照射領域ＥＡが造形面ＭＳ上を移動するように、造形ヘッド４１を移動させてもよい及び／又はステージ４３の姿勢を変更してもよい。ここで、図２２（ａ）は、構造物ＳＴ３１及び造形途中の構造物ＳＴ３２を示すＹＺ平面図であり、図２２（ｂ）は、構造物ＳＴ３１及び造形途中の構造物ＳＴ３２を示すＸＹ平面図であり、図２２（ｃ）は、構造物ＳＴ３１及び造形途中の構造物ＳＴ３２を示すＸＺ平面図である。その結果、Ｘ軸方向に沿って延びる構造層ＳＬ３２ｘ（つまり、構造層ＳＬ３２の一部を構成する層状造形物）が形成される。つまり、Ｘ軸に沿った照射領域ＥＡの移動軌跡の開始部分から終了部分に向かって延びる構造層ＳＬ３２ｘが形成される。

　このとき、構造物ＳＴ３１の表面に設定された造形面ＭＳが曲面を含むため、造形システム１は、上述した第２の造形動作を行うことで、構造層ＳＬ３２を形成してもよい。図２２（ａ）から図２２（ｃ）に示す例では、造形システム１は、造形面ＭＳの形状に応じて厚みが変わる構造層ＳＬ３２（特に、構造層ＳＬ３２ｘ）を形成している。但し、構造物ＳＴ３１の表面に設定された造形面ＭＳが平面である場合には、造形システム１は、上述した第１の造形動作を行うことで、構造層ＳＬ３２を形成してもよい。また、造形面ＭＳ上での照射領域ＥＡの移動軌跡が直線状である場合（一例として構造層ＳＬ３２ｙを形成した際の移動軌跡）には、造形システム１は、上述した第１の造形動作を行うことで、構造層ＳＬ３２を形成してもよい。

　構造層ＳＬ３１を形成する場合及び構造層ＳＬ３２を形成する場合の双方において、照射領域ＥＡは、見かけ上は、造形面ＭＳ上をＸＹ平面内の方向に沿って移動する。しかしながら、構造層ＳＬ３１を形成する場合と比較して、構造層ＳＬ３２を形成する場合には、ステージ４３の姿勢が異なっている。このため、構造層ＳＬ３２を形成する場合には、構造層ＳＬ３１が広がる方向（図２０（ａ）から図２２（ｃ）に示す例では、ＸＺ平面に沿った方向）に交差する方向（図２０（ａ）から図２２（ｃ）に示す例では、ＸＹ平面に沿った方向）に沿って照射領域ＥＡが移動して、構造層ＳＬ３１が広がる方向に交差する方向に広がる構造層ＳＬ３２が形成される。つまり、構造層ＳＬ３２の積層方向は、構造層ＳＬ３１の積層方向とは異なる。

　このような動作により、図２３（ａ）から図２３（ｃ）に示すように、構造層ＳＬ３２ｘ及びＳＬ３２ｙを含む構造層ＳＬ３２が形成される。ここで、図２３（ａ）は、構造物ＳＴ３１及び造形途中の構造物ＳＴ３２を示すＹＺ平面図であり、図２３（ｂ）は、構造物ＳＴ３１及び造形途中の構造物ＳＴ３２を示すＸＹ平面図であり、図２３（ｃ）は、構造物ＳＴ３１及び造形途中の構造物ＳＴ３２を示すＸＺ平面図である。以降、造形システム１は、形成した構造層ＳＬ３２の上面に新たな造形面ＭＳを設定した上で、当該新たな造形面ＭＳ上に新たな構造層ＳＬ３２を形成する動作を繰り返す。その結果、図２４（ａ）から図２４（ｃ）に示すように、複数の構造層ＳＬ３１の積層方向とは異なる方向に沿って積層される複数の構造層ＳＬ３２を含む構造物ＳＴ３２が形成される。つまり、複数の構造層ＳＬ３１が広がる方向とは異なる方向に沿って広がる複数の構造層ＳＬ３２を含む構造物ＳＴ３２が形成される。ここで、図２４（ａ）は、構造物ＳＴ３１及びＳＴ３２を示すＹＺ平面図であり、図２４（ｂ）は、構造物ＳＴ３１及びＳＴ３２を示すＸＹ平面図であり、図２４（ｃ）は、構造物ＳＴ３１及びＳＴ３２を示すＸＺ平面図である。このように図２４（ａ）から図２４（ｃ）に示した例では、構造物ＳＴ３１及びＳＴ３２から構成される３次元構造物ＳＴが形成される。

　尚、上述した説明では、造形システム１は、曲面を含む造形面ＭＳ上に、造形面ＭＳの形状に応じて厚みが異なる構造層ＳＬ３２（特に、構造層ＳＬ３２ｘ）を形成している。しかしながら、第２の造形動作において説明したように、造形システム１は、図２５（ａ）から図２５（ｃ）に示すように、造形面ＭＳに沿った形状を有する構造層ＳＬ３２（特に、構造層ＳＬ３２ｘ）を形成してもよい。ここで、図２５（ａ）は、構造物ＳＴ３１及び造形途中の構造物ＳＴ３２を示すＹＺ平面図であり、図２５（ｂ）は、構造物ＳＴ３１及び造形途中の構造物ＳＴ３２を示すＸＹ平面図であり、図２５（ｃ）は、構造物ＳＴ３１及び造形途中の構造物ＳＴ３２を示すＸＺ平面図である。この場合、造形面ＭＳが円筒状の構造物ＳＴ３１の表面（特に、円周面）に設定されているため、造形システム１は、円筒状の構造物ＳＴ３１の円周面を構成する円の中心を通る回転軸Ｒ０（図２５（ｃ）に示す例では、Ｙ軸に平行な回転軸）に沿って構造物ＳＴ３１が回転するように、ステージ４３の姿勢を変更してもよい。つまり、造形システム１は、構造物ＳＴ３１の円周方向に沿って造形面ＭＳが移動する（言い換えれば、照射領域ＥＡが造形面ＭＳに対して移動する）ように、ステージ４３の姿勢を変更してもよい。その結果、構造物ＳＴ３１及びＳＴ３２を示すＸＺ平面図である図２５（ｄ）に示すように、造形面ＭＳに沿った形状（つまり、曲面を含む形状）を有する構造層ＳＬ３２を含む構造物ＳＴ３２が形成される。つまり、回転軸Ｒ０に沿って構造物ＳＴ３１が回転し始めた時点で光ＥＬが照射されていた部分から、回転軸Ｒ０に沿って構造物ＳＴ３１が回転し終えた時点で光ＥＬが照射されていた部分に向かって延びる、構造物ＳＴ３１の円周面に沿った形状を有する構造層ＳＬ３２ｘを含む構造物ＳＴ３２が形成される。

　また、上述した説明において、造形システム１は、構造物ＳＴ３１の表面のうち曲面を含む造形面ＭＳ上に、構造層ＳＬ３２を形成している。しかしながら、造形システム１は、構造物ＳＴ３１の表面のうち互いに交差する２つの平面を含む造形面ＭＳ（或いは、任意の非平面状の造形面ＭＳ）上に、構造層ＳＬ３２を形成してもよい。

　第３の造形動作によって形成される３次元構造物ＳＴの他の一例が図２６に示されている。図２６は、上述した第１の方向ｄ１（１）に沿って積層される複数の構造層ＳＬ３１を含む円筒状の構造物ＳＴ３１と、第１の方向ｄ１（１）とは異なる第３の方向ｄ１（３）（図２６では、Ｙ軸方向）に沿って積層される複数の構造層ＳＬ３３を含む円筒状の構造物ＳＴ３３とから構成される３次元構造物ＳＴを示している。言いかえれば、図２６は、上述した構造物ＳＴ３１と、第３の方向ｄ２（３）（図２６では、ＸＺ平面に沿った方向）に沿って広がる複数の構造層ＳＬ３３を含む構造物ＳＴ３３とから構成される３次元構造物ＳＴを示している。このような図２６に示す３次元構造物ＳＴもまた、上述した図１７に示す３次元構造物ＳＴと同様の流れで形成可能である。

　以下、構造物ＳＴ３１及びＳＴ３３から構成される３次元構造物ＳＴの形成手順を示す図２７（ａ）から図２７（ｅ）を用いて具体的に説明する。造形システム１は、まず、図２７（ａ）に示すように、複数の構造層ＳＬ３１を含む構造物ＳＴ３１を形成する。尚、構造物ＳＴ３１を形成する流れについては既に説明済みであるため、ここでの詳細な説明は省略する。

　その後、造形システム１は、構造層ＳＬ３２を形成して構造物ＳＴ３２を形成する場合と同様の流れで、構造層ＳＬ３３を形成して構造物ＳＴ３３を形成する。具体的には、造形システム１は、構造層ＳＬ３３を形成するために、構造物ＳＴ３１の表面の少なくとも一部に新たな造形面ＭＳを設定した上で、図２７（ｂ）に示すように、設定した造形面ＭＳのうちの少なくとも一部が上方を向くように、ステージ４３の姿勢（つまり、構造物ＳＴ３１の姿勢）を変更する。図２７（ｂ）に示す例では、造形システム１は、ステージ４３をＹ軸周りに約９０度だけ回転させている。その後、造形システム１は、図２７（ｃ）に示すように、構造物ＳＴ３１の表面に設定された造形面ＭＳに光ＥＬを照射すると共に造形材料Ｍを供給し、造形ヘッド４１を移動させる及び／又はステージ４３の姿勢を変更する。その結果、図２７（ｃ）に示すように、造形面ＭＳ上に、構造層ＳＬ３３が形成される。尚、図２７（ｃ）に示す例では、構造層ＳＬ３３は、Ｘ軸方向に沿って延びる（つまり、広がる）構造層ＳＬであり、構造層ＳＬ３３の下に位置する複数の構造層ＳＬ３１が広がる方向であるＹＺ平面に交差する構造層ＳＬである。従って、典型的には、構造層ＳＬ３３は、複数の構造層ＳＬ３１に跨って形成されてもよい。

　その後、造形システム１は、形成した構造層ＳＬ３３の表面（更には、必要に応じて、構造物ＳＴ３１の表面の少なくとも一部）に新たな造形面ＭＳを設定した上で、図２７（ｄ）に示すように、設定した造形面ＭＳのうちの少なくとも一部が上方を向くように、ステージ４３の姿勢を変更する。図２７（ｄ）に示す例では、造形システム１は、ステージ４３をＸ軸周りに約９０度だけ回転させている。その後、造形システム１は、図２７（ｄ）に示すように、新たな造形面ＭＳに光ＥＬを照射すると共に造形材料Ｍを供給し、造形ヘッド４１を移動させる及び／又はステージ４３の姿勢を変更する。その結果、形成済みの構造層ＳＬ３３上に、新たな構造層ＳＬ３３が形成される。この際、ステージ４３の姿勢が変更されているため、形成済みの構造層ＳＬ３３を形成した場合の構造物ＳＴ３１に対する光の照射方向は、新たに構造層ＳＬ３３を形成した場合の構造物ＳＴ３１に対する光の照射方向とは異なる。以降、造形システム１は、同様の動作を繰り返す。その結果、図２７（ｅ）に示すように、構造物ＳＴ３１及びＳＴ３３から構成される３次元構造物ＳＴが形成される。

　第３の造形動作によって形成される３次元構造物ＳＴの他の一例が図２８に示されている。図２８は、第１の方向ｄ１（１）に沿って積層される複数の構造層ＳＬ３４を含む角筒状の構造物ＳＴ３４と、上述した第２の方向ｄ１（２）に沿って積層される複数の構造層ＳＬ３２を含む各筒状の構造物ＳＴ３２とから構成される３次元構造物ＳＴを示している。このような図２８に示す３次元構造物ＳＴもまた、上述した図１７に示す３次元構造物ＳＴと同様の流れで形成可能である。

　図２９（ａ）から図２９（ｆ）、図３０（ａ）から図３０（ｄ）及び図３１（ａ）から図３１（ｄ）を参照して、図２８に示す３次元構造物ＳＴの形成方法について具体的に説明する。ここで、図２９（ａ）、図２９（ｃ）、図２９（ｅ）、図３０（ａ）から図３０（ｃ）及び図３１（ａ）は、造形途中の３次元構造物ＳＴを示すＹＺ平面図であり、図２９（ｂ）、図２９（ｄ）、図２９（ｆ）、図３０（ｄ）及び図３１（ｂ）は、造形途中の３次元構造物ＳＴを示すＸＹ平面図であり、図３１（ｃ）は、３次元構造物ＳＴを示すＹＺ平面図であり、図３１（ｄ）は、３次元構造物ＳＴを示すＸＹ平面図である。造形システム１は、構造層ＳＬ３４を形成するために、ワークＷの表面ＷＳに造形面ＭＳを設定した上で、造形面ＭＳに光ＥＬを照射すると共に造形材料Ｍを供給する。その後、造形システム１は、造形面ＭＳ上に形成するべき構造層ＳＬ３４の形状に応じて、造形ヘッド４１を移動させる及び／又はステージ４３の姿勢を変更する。構造層ＳＬ３４が平面視において角筒状の形状（つまり、四角形の枠状の形状）を有しているため、例えば、図２９（ａ）から図２９（ｂ）に示すように、造形システム１は、構造層ＳＬ３４の形状に応じて、Ｙ軸に沿って照射領域ＥＡが造形面ＭＳ上を移動するように、造形ヘッド４１を移動させてもよい及び／又はステージ４３の姿勢を変更してもよい。その結果、Ｙ軸方向に沿って延びる構造層ＳＬ３４ｙ（つまり、構造層ＳＬ３４の一部を構成する層状造形物）が形成される。つまり、Ｙ軸に沿った照射領域ＥＡの移動軌跡の開始部分から終了部分に向かって延びる構造層ＳＬ３４ｙが形成される。構造層ＳＬ３４ｙの形成に続けて又は構造層ＳＬ３４ｙの形成の前に、例えば、図２９（ｃ）から図２９（ｄ）に示すように、造形システム１は、構造層ＳＬ３４の形状に応じて、Ｘ軸に沿って照射領域ＥＡが造形面ＭＳ上を移動するように、造形ヘッド４１を移動させてもよい及び／又はステージ４３の姿勢を変更してもよい。その結果、Ｘ軸方向に沿って延びる構造層ＳＬ３４ｘ（つまり、構造層ＳＬ３４の一部を構成する層状造形物）が形成される。つまり、Ｘ軸に沿った照射領域ＥＡの移動軌跡の開始部分から終了部分に向かって延びる構造層ＳＬ３４ｘが形成される。このような動作により、図２９（ｅ）及び図２９（ｆ）に示すように、構造層ＳＬ３４ｘ及び３４ｙを含む構造層ＳＬ３４が形成される。

　以降、造形システム１は、形成した構造層ＳＬ３４の上面に新たな造形面ＭＳを設定した上で、当該新たな造形面ＭＳ上に新たな構造層ＳＬ３４を形成する動作を繰り返す。その結果、図３０（ａ）に示すように、複数の構造層ＳＬ３４を含む構造物ＳＴ３４が形成される。

　その後、造形システム１は、図３０（ｂ）に示すように、構造層ＳＬ３２を形成するために、構造物ＳＴ３４の表面の少なくとも一部に新たな造形面ＭＳを設定した上で、新たな造形面ＭＳ（特に、造形面ＭＳのうち構造層ＳＬ３２を形成するために最初に照射領域ＥＡが設定される部分）が上方を向くように、ステージ４３の姿勢（つまり、構造物ＳＴ３４の姿勢）を変更する。尚、図３０（ｂ）に示す例では、造形面ＭＳは、複数の構造層ＳＬ３４ｘの表面の少なくとも一部に設定されている。その後、造形システム１は、造形面ＭＳ上に、複数の構造層ＳＬ３２を含む構造物ＳＴ３２を形成する。尚、構造物ＳＴ３２を形成する流れについては既に説明済みであるため、ここでは説明を簡略化する。例えば、図３０（ｃ）から図３０（ｄ）に示すように、造形システム１は、構造層ＳＬ３２の形状に応じて、Ｙ軸に沿って照射領域ＥＡが造形面ＭＳ上を移動するように、造形ヘッド４１を移動させてもよい及び／又はステージ４３の姿勢を変更してもよい。その結果、Ｙ軸方向に沿って延びる構造層ＳＬ３２ｙが形成される。例えば、図３１（ａ）から図３１（ｂ）に示すように、造形システム１は、構造層ＳＬ３２の形状に応じて、Ｘ軸に沿って照射領域ＥＡが造形面ＭＳ上を移動するように、造形ヘッド４１を移動させてもよい及び／又はステージ４３の姿勢を変更してもよい。その結果、Ｘ軸方向に沿って延びる構造層ＳＬ３２ｘが形成される。尚、図３０（ｃ）から図３１（ｂ）に示す例では、構造層ＳＬ３２ｘが延びる方向は、構造層ＳＬ３２ｘの下に位置する構造層ＳＬ３４ｘが延びる方向と同じであり、構造層ＳＬ３２ｙが延びる方向は、構造層ＳＬ３２ｙの下に位置する構造層ＳＬ３４ｘが延びる方向に交差する。その結果、図３１（ｃ）から図３１（ｄ）に示すように、Ｚ軸方向に沿って積層される複数の構造層ＳＬ３２を含む構造物ＳＴ３２が形成される。

　（２－４）第４の造形動作
　続いて、第４の造形動作について、図３２から図３４を参照して説明する。第４の造形動作は、相対的に下層の構造層ＳＬに対して相対的に上層の構造層ＳＬがオーバーハングしている３次元構造物ＳＴを形成する造形動作である。ここでは、複数の構造層ＳＬのうち、ある構造層ＳＬよりもワークＷ（或いはステージ４３）に近い側に位置する構造層ＳＬを下層の構造層ＳＬと称し、当該下層の構造層ＳＬよりもワークＷ（或いはステージ４３）から離れる側に位置する構造層ＳＬを上層の構造層ＳＬと称する。尚、複数の構造層ＳＬのうち、ワークＷ（或いはステージ４３）側から数えて２層目以降の構造層ＳＬを上層の構造層ＳＬと称してもよい。下層の構造層ＳＬに対して上層の構造層ＳＬがオーバーハングしている３次元構造物ＳＴは、上層の構造層ＳＬの少なくとも一部の下方（特に、真下）に下層の構造層ＳＬが存在しない３次元構造物ＳＴであってもよい。下層の構造層ＳＬに対して上層の構造層ＳＬがオーバーハングしている３次元構造物ＳＴは、上層の構造層ＳＬの少なくとも一部を下方から（特に、真下から）支える下層の構造層ＳＬが存在しない３次元構造物ＳＴであってもよい。このような３次元構造物ＳＴの一例が、図３２（ａ）及び図３２（ｂ）に示されている。尚、図３２（ａ）は、３次元構造物ＳＴの側面を示す側面図であり、図３２（ｂ）は、３次元構造物ＳＴの断面を示す断面図である。図３２（ａ）及び図３２（ｂ）は、下層の構造層ＳＬ４１に対して上層の構造層ＳＬ４２がオーバーハングしているゴブレット形状の（言い換えれば、盃形状の）３次元構造物ＳＴを示している。構造層ＳＬ４１は、ゴブレットの柄の部分に相当し、構造層ＳＬ４２は、ゴブレットの容器部分に相当していてもよい。尚、図３２（ａ）及び図３２（ｂ）は、構造層ＳＬ４１の下に、ゴブレットの土台に相当する構造層ＳＬ４３が形成される３次元構造物ＳＴを示している。以下、図３２（ａ）及び図３２（ｂ）に示す３次元構造物ＳＴを形成するための第４の造形動作の流れについて説明する。

　まず、図３３（ａ）に示すように、造形システム１は、ワークＷの表面ＷＳに造形面ＭＳを設定した上で、造形面ＭＳに光ＥＬを照射すると共に造形材料Ｍを供給する。その結果、溶融池ＭＰが形成される。その後、造形システム１は、造形面ＭＳ上に形成するべき構造層ＳＬ４３の形状に応じて、造形ヘッド４１を移動させる及び／又はステージ４３の姿勢を変更する。例えば、構造層ＳＬ４３の平面視の形状が円形である場合において、造形システム１は、Ｚ軸に沿った回転軸Ｒ１周りにステージ４３が回転するように、ステージ４３の姿勢を変更してもよい。その結果、図３３（ｂ）に示すように、構造層ＳＬ４３が形成される。以降、造形システム１は、形成した構造層ＳＬ（図３３（ｂ）に示す例では、構造層ＳＬ４３）の上面に新たな造形面ＭＳを設定した上で、当該新たな造形面ＭＳ上に新たな構造層ＳＬを形成する動作を繰り返す。その結果、図３３（ｃ）に示すように、複数の構造層ＳＬ４３の上に複数の構造層ＳＬ４１が積層された造形物（つまり、３次元構造物ＳＴの一部に相当する造形物）が形成される。尚、ここまでの動作は、上述した第１又は第２の造形動作と同一であってもよい。

　その後、造形システム１は、図３３（ｄ）に示すように、構造層ＳＬ４１及びＳＬ４３の積層方向が、重力方向に対して傾斜するように、ステージ４３の姿勢を変更する。別の言い方をすると、これから形成しようとする複数の構造層ＳＬ４２の積層方向が重力方向と一致する（或いは、平行となる）ように、ステージ４３の姿勢を変更する。図３３（ｄ）に示す例では、造形システム１は、構造層ＳＬ４１及びＳＬ４３の積層方向が、重力方向に対して４５度の角度で交差するように、ステージ４３の姿勢を変更している。その後、造形システム１は、図３４（ａ）に示すように、最上層の構造層ＳＬ４１の上面に造形面ＭＳを設定する。ここで、最上層の構造層ＳＬ４１の側面、又は上面と側面との境界部に造形面ＭＳを設定してもよい。その後、造形面ＭＳのうち構造層ＳＬ４１の外縁に相当する部分に光ＥＬを照射すると共に造形材料Ｍを供給する。この際、造形システム１は、構造層ＳＬ４１及びＳＬ４３の積層方向に平行であって且つ構造層ＳＬ４１及びＳＬ４３の中心を通る回転軸Ｒ２周りにステージ４３が回転するように、ステージ４３の姿勢を変更する。つまり、造形システム１は、重力方向に対して傾斜している回転軸Ｒ２周りにステージ４３が回転するように、ステージ４３の姿勢を変更する。その結果、図３４（ｂ）に示すように、構造層ＳＬ４１上に、構造層ＳＬ４１に対してオーバーハングしている構造層ＳＬ４２が形成される。

　以降、造形システム１は、図３４（ｃ）に示すように、形成した構造層ＳＬ４２の上面に新たな造形面ＭＳを設定した上で、当該新たな造形面ＭＳ上に新たな構造層ＳＬ４２を形成する動作を繰り返す。このとき、複数の構造層ＳＬ４２の積層方向は重力方向と一致する（又は平行となる）。その結果、図３４（ｄ）に示すように、下層の構造層ＳＬ４１に対して上層の構造層ＳＬ４２がオーバーハングしている３次元構造物ＳＴが形成される。

　尚、上述したように、造形システム１は、下層の構造層ＳＬに対して上層の構造層ＳＬが相対的にオーバーハングしている３次元構造物ＳＴを形成するために、重力方向に対して傾斜した回転軸周りにステージ４３が回転する（その結果、ワークＷ、既存の構造物及び造形対象面ＭＳの少なくとも一つが回転する）ように、ステージ４３の姿勢を変更している。このため、第４の造形動作は、重力方向に対して傾斜した回転軸周りにステージ４３が回転するようにステージ４３の姿勢を変更して３次元構造物ＳＴを形成する動作であってもよい。この場合、重力方向に対して傾斜した回転軸周りにステージ４３が回転するようにステージ４３の姿勢を変更して形成される３次元構造物ＳＴは、必ずしも下層の構造層ＳＬに対して上層の構造層ＳＬがオーバーハングしている３次元構造物ＳＴでなくてもよい。

　回転軸周りにステージ４３が回転するようにステージ４３の姿勢を変更することで形成される３次元構造物ＳＴは、回転軸に対して回転対称な形状を有する３次元構造物ＳＴとなる。このため、第４の造形動作は、回転対称な形状を有する３次元構造物ＳＴを形成する動作であってもよい。この場合、回転対称な形状を有する３次元構造物ＳＴは、必ずしも下層の構造層ＳＬに対して上層の構造層ＳＬがオーバーハングしている３次元構造物ＳＴでなくてもよい。

　尚、回転軸周りにステージ４３を回転させる動作に加えて、造形ヘッド４１を回転軸と交差する平面内で移動させる動作を組み合わせてもよい。これにより、回転軸に関してｎ回回転対称（ここでｎは自然数）な形状を有する３次元構造物ＳＴや、回転軸に関して０回回転対称な形状（つまり、回転非対称な形状）を有する３次元構造物ＳＴを形成することができる。

　また、上述した例では、下層の構造層ＳＬ４１に対してオーバーハングしている複数の構造層ＳＬ４２を形成する際に、複数の構造層ＳＬ４２の積層方向が重力方向と一致する、或いは平行となっている。しかしながら、複数の構造層ＳＬ４２の積層方向が重力方向に対して傾斜していてもよい。この場合、複数の構造層ＳＬ４２の積層方向に沿った軸と重力方向に沿った軸とのなす角度が鋭角であってもよい。

　尚、造形システム１は、第４の造形動作を用いて複数の構造層ＳＬ４３を造形してもよい。

　（２－５）第５の造形動作
　続いて、第５の造形動作について、図３５及び図３６を参照して説明する。第５の造形動作は、上述した第１から第４の造形動作のうち少なくとも一つの造形動作を行って３次元構造物ＳＴを形成した後に、３次元構造物ＳＴを構成する複数の構造層ＳＬの少なくとも一部の表面のうち積層断面部分（つまり、複数の構造層ＳＬの積層の痕跡が外部に露出している表面、別の表現をすると、複数の構造層ＳＬ同士の境界部分が外部に露出している表面）上に新たな構造層ＳＬを形成する造形動作である。積層断面部分は、複数の構造層ＳＬの表面同士に跨るように現れる。このため、第５の造形動作は、上述した第１から第４の造形動作を行って３次元構造物ＳＴを形成した後に、３次元構造物ＳＴの積層断面部分上に、複数の構造層ＳＬの表面同士に跨る新たな構造層ＳＬを形成する造形動作であってもよい。

　積層断面部分に新たな構造層ＳＬが形成されると、積層断面部分が新たな構造層ＳＬによって覆われる。従って、積層断面部分が３次元構造物ＳＴの外観に露出しなくなる。従って、第５の造形動作は、上述した第１から第４の造形動作を行って３次元構造物ＳＴを形成した後に、３次元構造物ＳＴの積層断面部分を覆う（つまり、隠す）ための新たな構造層ＳＬを形成する造形動作であってもよい。

　以下、図３５（ａ）から図３５（ｃ）及び図３６（ａ）から図３６（ｃ）を用いて第５の造形動作を説明する。ここでは一例として、図３５（ａ）に示す３次元構造物ＳＴ（つまり、Ｚ軸方向に沿って積層された複数の構造層ＳＬから構成される円筒状の３次元構造物ＳＴ）の積層断面部分上に構造層ＳＬを形成する第５の造形動作の流れについて説明する。図３５（ａ）に示す例では、３次元構造物ＳＴの側面が積層断面部分となっている。尚、図３５（ａ）に示す３次元構造物ＳＴを形成する方法は、第３の造形動作において構造物ＳＴ３１を形成する方法と同一であってもよいため、その詳細な説明は省略する。また、以下では、説明の便宜上、積層断面部分上に形成される構造層ＳＬを、“構造層ＳＬｈ”と称して、その他の構造層ＳＬと区別する。

　この場合、造形システム１は、まず、積層断面部分に新たな造形面ＭＳを設定した上で、図３５（ｂ）に示すように、設定した造形面ＭＳのうちの少なくとも一部が上方を向くように、ステージ４３の姿勢（つまり、３次元構造物ＳＴの姿勢）を変更する。図３５（ｂ）に示す例では、造形システム１は、ステージ４３をＹ軸周りに約９０度だけ回転させている。

　その後、造形システム１は、図３５（ｃ）に示すように、積層断面部分に設定された造形面ＭＳに光ＥＬを照射すると共に造形材料Ｍを供給しながら、造形ヘッド４１を移動させる及び／又はステージ４３の姿勢を変更する。このとき、造形システム１は、積層断面部分（つまり、造形面ＭＳ）に光ＥＬが順次照射され且つ造形材料Ｍが順次供給されるように、造形ヘッド４１を移動させる及び／又はステージ４３の姿勢を変更する。例えば、３次元構造物ＳＴが円筒状の構造物であるため、造形システム１は、図３５（ｄ）に示すように、積層断面部分上において、３次元構造物ＳＴの円周に交差する方向（図３５（ｄ）に示す例では、Ｘ軸方向）に沿って照射領域ＥＡが移動するように、造形ヘッド４１を移動させてもよい及び／又はステージ４３の姿勢を変更してもよい。その結果、図３５（ｄ）に示すように、積層断面部分上において、３次元構造物ＳＴの円周に交差する方向に沿って延びる層状造形物（つまり、構造層ＳＬｈの一部を構成する造形物）が形成される。その後、造形システム１は、図３６（ａ）に示すように、３次元構造物ＳＴの円周の中心を通る回転軸Ｒ３周りにステージ４３が所定角度だけ回転するようにステージ４３の姿勢を変更した上で、積層断面部分のうち最後に形成した層状造形物に隣接する領域において、照射領域ＥＡが３次元構造物ＳＴの円周に交差する方向に沿って移動するように、造形ヘッド４１を移動させてもよい及び／又はステージ４３の姿勢を変更してもよい。その結果、図３６（ｂ）に示すように、積層断面部分上において、３次元構造物ＳＴの円周に交差する方向に沿って延びる新たな層状造形物（つまり、構造層ＳＬｈの一部を構成する造形物）が、既に形成された層状造形物と一体化された状態で形成される。

　以降、造形システム１は、３次元構造物ＳＴの円周の中心を通る回転軸Ｒ３周りにステージ４３が所定角度だけ回転するようにステージ４３の姿勢を変更した上で、積層断面部分のうち最後に形成した層状造形物に隣接する領域において、照射領域ＥＡが３次元構造物ＳＴの円周に交差する方向に沿って移動するように、造形ヘッド４１を移動させる及び／又はステージ４３の姿勢を変更する動作を繰り返す。その結果、図３６（ｃ）に示すように、順次形成される層状造形物により、積層断面部分を覆う構造層ＳＬｈが形成される。

　ここで、構造層ＳＬｈ自体はθｘ方向に沿った複数の層状造形物を有するが、それぞれの層状造形物が形成されるタイミング（特に、隣接する層状構造物が形成されるタイミング）が近接しているため、複数の層状造形物同士の境界部分が現れにくい。従って、３次元構造物ＳＴの外観よりも、構造層ＳＬｈの外観の方が滑らかになる。

　（２－６）第６の造形動作
　続いて、第６の造形動作について、図３７及び図３８を参照して説明する。第６の造形動作は、積層断面部分が外部に露出しないように複数の構造層ＳＬを形成して３次元構造物ＳＴを形成する造形動作である。具体的には、造形システム１は、複数の構造層ＳＬのそれぞれが延びる方向（つまり、広がる方向）を、積層断面部分を外部から隠すことが可能な特定の方向に設定した上で、複数の構造層ＳＬを形成する。

　造形システム１は、３次元構造物ＳＴの外面ＯＳが延びる又は広がる方向に基づいて、積層断面部分を外部から隠すことが可能な特定の方向を決定してもよい。具体的には、造形システム１は、特定の方向に沿って延びる少なくとも一つの構造層ＳＬが、３次元構造物ＳＴの外面ＯＳに沿った形状を有するように、特定の方向を決定してもよい。つまり、造形システム１は、複数の構造層ＳＬのうちの少なくとも一つ（特に、複数の構造層ＳＬのうち、ある構造層ＳＬよりも３次元構造物ＳＴの外面ＯＳに近い少なくとも一つの構造層ＳＬ）の延びる方向が、３次元構造物ＳＴの外面ＯＳが延びる又は広がる方向に近づく又は揃うように、特定の方向を決定してもよい。

　一例として、図３７（ａ）に示す３次元構造物ＳＴを形成する場合を想定する。この場合、図３７（ｂ）に示すように、複数の構造層ＳＬの延びる方向が、３次元構造物ＳＴの外面ＯＳの延びる方向に対して大きく乖離していると、積層断面部分が３次元構造物ＳＴの外部に露出しやすくなる。一方で、図３７（ｃ）に示すように、複数の構造層ＳＬの延びる方向が、３次元構造物ＳＴの外面ＯＳの延びる方向に近づくほど（つまり、両方向の乖離度がさくなるほど）と、積層断面部分が３次元構造物ＳＴの外部に露出しにくくなる。

　図３７（ａ）に示す例では、３次元構造物ＳＴの外面ＯＳの延びる方向は、３次元構造物ＳＴの外面ＯＳ上における位置（特に、Ｘ軸方向及びＹ軸方向の少なくとも一方における位置）に応じて変わる。このため、３次元構造物ＳＴの外面ＯＳの延びる方向に応じて決定される特定の方向もまた、３次元構造物ＳＴの外面ＯＳ上における位置に応じて変わってもよい。つまり、造形システム１は、３次元構造物ＳＴにおける位置に応じて変化する方向を、特定の方向として決定してもよい。但し、３次元構造物ＳＴの外面ＯＳの延びる方向が３次元構造物ＳＴにおける位置に応じて変わらない場合には、造形システム１は、３次元構造物ＳＴにおける位置によらずに固定された一の方向を、特定の方向として決定してもよい。

　造形システム１は、複数の構造層ＳＬがそれぞれ延びる複数の特定の方向を個別に決定してもよい。つまり、造形システム１は、第１の構造層ＳＬが延びる第１の特定の方向、第２の構造層ＳＬが延びる第２の特定の方向、・・・を個別に決定してもよい。この場合、造形システム１は、複数の特定の方向のうちの少なくとも２つが異なる方向となるように、複数の特定の方向を決定してもよい。或いは、造形システム１は、複数の構造層ＳＬが共通して延びる共通の特定の方向を決定してもよい。この場合、複数の構造層ＳＬは同じ方向に沿って延びることになる。

　このような３次元構造物ＳＴの外面ＯＳの方向に応じて決定される特定の方向に延びる構造層ＳＬは、その表面が平面である構造層ＳＬとなることもあれば、その表面が曲面等を含む構造層ＳＬとなることもある。表面が平面となる構造層ＳＬは、上述した第１の造形動作によって形成可能である。表面が曲面を含む構造層ＳＬは、上述した第２の造形動作によって形成可能である。従って、複数の構造層ＳＬのそれぞれを、３次元構造物ＳＴの外面の方向に応じて決定される特定の方向に延びるように形成する動作自体は、上述した第１の造形動作から第５の造形動作の少なくとも一つと同一であってもよい。

　決定された特定の方向に延びるように構造層ＳＬが形成される場合には、特定の方向とは異なる方向に延びるように構造層ＳＬが形成される場合と比較して、３次元構造物ＳＴの外面ＯＳが延びる方向と複数の構造層ＳＬの積層方向との交差する角度が９０度に近づく可能性が高くなる。より具体的には、図３８（ａ）に示すように、３次元構造物ＳＴの外面ＯＳの第１部分ＯＳ１における複数の構造層ＳＬの積層方向は、第１部分ＯＳ１とは異なる外面ＯＳの第２部分ＯＳ２に直交する方向よりも、第１部分ＯＳ１に直交する方向に近くなる。同様に、３次元構造物ＳＴの外面ＯＳの第２部分ＯＳ２における複数の構造層ＳＬの積層方向は、第１部分ＯＳ１に直交する方向よりも、第２部分ＯＳ２に直交する方向に近くなる。従って、造形システム１は、複数の構造層ＳＬの積層方向と３次元構造物ＳＴの外面ＯＳが延びる方向との関係に基づいて、構造層ＳＬが延びる特定の方向を決定してもよい。

　決定された特定の方向に延びる構造層ＳＬの端部（言い換えれば、端面）ＬＳ＿ｅｄｇｅは、図３８（ｂ）に示すように、ワークＷの表面ＷＳ（或いは、造形面ＭＳが設定される既存構造物の表面）に接触していてもよい。つまり、構造層ＳＬの特定の方向に向けられた表面（典型的には、側面）に相当する端部ＬＳ＿ｅｄｇｅは、ワークＷの表面ＷＳに接触していてもよい。構造層ＳＬの端部ＬＳ＿ｅｄｇｅが積層断面部分を構成することを考慮すれば、構造層ＳＬの端部ＬＳ＿ｅｄｇｅがワークＷの表面ＷＳに接触している場合には、積層断面部分が３次元構造物ＳＴの外部に露出しにくくなる。このため、造形システム１は、３次元構造物ＳＴの外面ＯＳの方向に基づいて構造層ＳＬが延びる特定の方向を決定することに加えて又は代えて、構造層ＳＬが延びる方向における構造層ＳＬの端部ＬＳ＿ｅｄｇｅがワークＷの表面ＷＳ（或いは、造形面ＭＳが設定される既存構造物の表面）に接触するように特定の方向を決定してもよい。尚、造形面ＭＳが設定される既存構造物の表面は、積層構造物の表面であってもよい。

　（２－７）第７の造形動作
　続いて、第７の造形動作について、図３９及び図４０を参照して説明する。第７の造形動作は、３次元構造物ＳＴにかかる力の方向に応じて決定される積層方向に沿って複数の構造層ＳＬが積層された３次元構造物ＳＴを形成する造形動作である。

　具体的には、３次元構造物ＳＴにかかる力の一例として、図３９（ａ）に示すように、３次元構造物ＳＴを引くように作用する力（以降、適宜“引張力”と称する）があげられる。この場合、仮に図３９（ｂ）に示すように引張力の方向に沿って複数の構造層ＳＬが積層されると、引張力によって複数の構造層ＳＬの少なくとも一つが他の構造層ＳＬから剥がれてしまう可能性がある。つまり、３次元構造物ＳＴの破壊耐性が相対的に小さくなる。一方で、図３９（ｃ）に示すように引張力の方向に交差する方向に沿って複数の構造層ＳＬが積層される場合、引張力の方向に沿って複数の構造層ＳＬが積層される場合と比較して、引張力によって複数の構造層ＳＬの少なくとも一つが他の構造層ＳＬから剥がれてしまう可能性が小さくなる。このため、３次元構造物ＳＴに引張力がかかる場合には、造形システム１は、図３９（ｄ）に示すように、引張力の方向に交差する方向に沿って複数の構造層ＳＬが積層されるように、上述した第１の造形動作から第６の造形動作を行って複数の構造層ＳＬを形成してもよい。この場合、複数の構造層ＳＬは、引張力の方向に沿って延びる構造層ＳＬとなる。

　造形システム１は、引張力の方向に直交する方向に沿って複数の構造層ＳＬが積層されるように、複数の構造層ＳＬを形成してもよい。この場合、引張力の方向に直交しないものの引張力の方向に交差する方向に沿って複数の構造層ＳＬが積層される場合と比較して、引張力によって複数の構造層ＳＬの少なくとも一つが他の構造層ＳＬから剥がれてしまう可能性が小さくなる。つまり、３次元構造物ＳＴの破壊耐性がより大きくなる。

　３次元構造物ＳＴにかかる力の他の一例として、図４０（ａ）に示すように、３次元構造物を押すように作用する力（以降、適宜“圧縮力”と称する）があげられる。この場合、仮に図４０（ｂ）に示すように圧縮力の方向に交差する方向に沿って複数の構造層ＳＬが積層されると、圧縮力によって複数の構造層ＳＬの少なくとも一つが隣接する構造層ＳＬから離れるように変形して、複数の構造層ＳＬの少なくとも一つが他の構造層ＳＬから剥がれてしまう可能性がある。一方で、図４０（ｃ）に示すように圧縮力の方向に沿って複数の構造層ＳＬが積層される場合、圧縮力の方向に沿って複数の構造層ＳＬが積層される場合と比較して、圧縮力によって複数の構造層ＳＬの少なくとも一つが他の構造層ＳＬから剥がれてしまう可能性が小さくなる。特に、複数の構造層ＳＬの積層方向に沿って圧縮力がかかる場合には、圧縮力がかからない場合と比較して、複数の構造層ＳＬがより強く接触しあうがゆえに、複数の構造層ＳＬの少なくとも一つが他の構造層ＳＬから剥がれてしまう可能性が小さくなる。このため、３次元構造物ＳＴに圧縮力がかかる場合には、造形システム１は、図４０（ｄ）に示すように、圧縮力の方向に沿って複数の構造層ＳＬが積層されるように、上述した第１の造形動作から第６の造形動作を行って複数の構造層ＳＬを形成する。この場合、複数の構造層ＳＬは、圧縮力の方向に交差する方向に沿って延びる構造層ＳＬとなる。

　造形システム１は、圧縮力の方向に平行に複数の構造層ＳＬが積層されるように、複数の構造層ＳＬを形成してもよい。この場合、圧縮力によって複数の構造層ＳＬの少なくとも一つが他の構造層ＳＬから剥がれてしまう可能性が特に小さくなる。つまり、３次元構造物ＳＴの破壊耐性がより大きくなる。

　（３）造形システム１が行う温度調整動作
　続いて、３次元構造物ＳＴを形成するために造形システム１によって行われる温度調整動作について、図４１から図４８を参照して説明する。温度調整動作は、上述した造形動作（つまり、第１の造形動作から第７の造形動作の少なくとも一つ）が行われる前に、ワークＷの表面ＷＳのうち造形動作によって３次元構造物ＳＴが形成される領域（つまり、造形面ＭＳであり、以下の説明では、構造層ＳＬが形成される都度新たに設定される造形面ＭＳと区別するために、“造形対象領域ＭＴＡ”と称する）の少なくとも一部の温度を調整する動作である。従って、造形システム１が温度調整動作を行う場合には、造形システム１は、温度調整動作を行った後に造形動作を行う。尚、造形システム１は、造形動作を行う前に温度調整動作を必ずしも行わなくてもよい。また、造形システム１は、造形動作を行った後に温度調整動作を行い、引き続いて次の造形動作を行ってもよい。例えば、造形システム１は、造形動作を行った後に、当該造形動作によって形成された造形物（或いは、構造層ＳＬ又は３次元構造物ＳＴ）の表面に造形対象領域ＭＴＡを設定した上で当該造形対象領域ＭＴＡの少なくとも一部の温度を調整する温度調整動作を行い、引き続いて造形物（或いは、構造層ＳＬ又は３次元構造物ＳＴ）に新たな造形物を形成するために次の造形動作を行ってもよい。

　造形システム１は、造形対象領域ＭＴＡの少なくとも一部の温度を計測した上で、計測結果に基づいて造形対象領域ＭＴＡの少なくとも一部の温度を調整してもよい。例えば、造形システム１は、造形対象領域ＭＴＡの少なくとも一部の温度が所望の温度となるように、計測結果に基づいて造形対象領域ＭＴＡの少なくとも一部の温度を調整してもよい。この場合、造形システム１が備える計測装置４５が造形対象領域ＭＴＡの少なくとも一部の温度を計測するための温度計測装置を含んでいてもよい。或いは、造形システム１は、計測装置４５とは別に、造形対象領域ＭＴＡの少なくとも一部の温度を計測するための温度計測装置を含んでいてもよい。また、造形システム１は、造形対象領域ＭＴＡの温度を計測しなくてもよい。例えば造形対象領域ＭＴＡが造形動作によって形成された構造層ＳＬ上の表面である場合、造形システム１は、当該造形動作を行った時点からの時間を計測し、当該計測した時間を用いて造形対象領域ＭＴＡの温度を予測してもよい。尚、造形システム１は、造形対象領域ＭＴＡ内の少なくとも一部の温度を計測することに加えて又は代えて、造形対象領域ＭＴＡの周囲の少なくとも一部の温度を計測してもよい。

　造形システム１は、造形対象領域ＭＴＡの少なくとも一部の温度を調整するために、造形対象領域ＭＴＡの少なくとも一部を加熱してもよい。つまり、造形システム１は、造形対象領域ＭＴＡの少なくとも一部を加熱して、造形対象領域ＭＴＡの少なくとも一部の温度を加熱前の温度に対して上げてもよい。この場合、造形システム１は、造形対象領域ＭＴＡが溶融しない温度の範囲内で、造形対象領域ＭＴＡの少なくとも一部を加熱してもよい。造形対象領域ＭＴＡがワークＷの表面ＷＳに設定される場合、造形システム１は、ワークＷが溶融しない温度の範囲内で、造形対象領域ＭＴＡの少なくとも一部を加熱してもよい。或いは、上述したように造形システム１によって形成された別の３次元構造物ＳＴがワークＷとして用いられる場合には、造形システム１は、３次元構造物ＳＴが溶融しない温度（つまり、造形材料Ｍが溶融しない温度）の範囲内で、造形対象領域ＭＴＡの少なくとも一部を加熱してもよい。但し、造形システム１は、造形対象領域ＭＴＡが溶融してしまう温度の範囲内で、造形対象領域ＭＴＡの少なくとも一部を加熱してもよい。尚、造形システム１は、造形対象領域ＭＴＡ内の少なくとも一部を加熱することに加えて又は代えて、造形対象領域ＭＴＡの周囲の少なくとも一部を加熱してもよい。

　造形システム１は、図４１に示すように、造形対象領域ＭＴＡを加熱するために、照射系４１１から造形対象領域ＭＴＡに対して光ＥＬを照射してもよい。造形対象領域ＭＴＡを加熱する場合においても、構造層ＳＬを形成する（つまり、３次元構造物ＳＴを形成する）場合と同様に、造形システム１は、光ＥＬの照射中に照射領域ＥＡが造形対象領域ＭＴＡ上を（特に、造形対象領域ＭＴＡのうち加熱するべき領域部分上を）移動するように、造形ヘッド４１を移動させてもよい及び／又はステージ４３の姿勢を変更してもよい。その結果、造形対象領域ＭＴＡのうち光ＥＬが照射された領域部分に対して、光ＥＬの照射に起因したエネルギが伝達される。その結果、光ＥＬから造形対象領域ＭＴＡに伝達されるエネルギによって造形対象領域ＭＴＡ（特に、造形対象領域ＭＴＡのうち光ＥＬが照射された領域部分）が加熱される。尚、造形システム１は、造形対象領域ＭＴＡを加熱するために光ＥＬを照射する期間中、造形対象領域ＭＴＡに対して造形材料Ｍを供給しなくてもよい。

　光ＥＬを照射して造形対象領域ＭＴＡを加熱する場合には、造形システム１は、上述したように造形対象領域ＭＴＡが溶融しない温度の範囲内で造形対象領域ＭＴＡを加熱するように、光ＥＬの特性を調整してもよい。例えば、造形システム１は、造形対象領域ＭＴＡ上での光ＥＬの単位面積当たりの強度（つまり、エネルギ量）を調整して、造形対象領域ＭＴＡが溶融しない温度の範囲内で光ＥＬによって造形対象領域ＭＴＡを加熱してもよい。尚、温度調整動作の後に行われる造形動作では、溶融池ＭＰを形成するために光ＥＬの照射によってワークＷ及び造形材料Ｍが溶融する。このため、造形システム１は、温度調整動作では、造形対象領域ＭＴＡ上での光ＥＬの単位面積当たりの強度（つまり、造形面ＭＳ上での光ＥＬの単位面積当たりの強度）が造形動作時の強度よりも小さい光ＥＬを照射して、造形対象領域ＭＴＡが溶融しない温度の範囲内で造形対象領域ＭＴＡを加熱してもよい。尚、造形システム１は、造形対象領域ＭＴＡ内の少なくとも一部に対して光ＥＬを照射することに加えて又は代えて、造形対象領域ＭＴＡの周囲の少なくとも一部に対して光ＥＬを照射してもよい。

　造形システム１は、上述したように造形対象領域ＭＴＡが溶融しない温度の範囲内で造形対象領域ＭＴＡを加熱するように、光ＥＬの特性を調整することに加えて又は変えて、造形面ＭＳ上での照射領域ＥＡの移動速度を制御してもよい。例えば、造形システム１は、温度調整動作では、照射領域ＥＡの移動速度が造形動作時の移動速度よりも速くなるように、照射領域ＥＡの移動速度を制御してもよい。位置が変わると厚みが変わる構造層ＳＬｘの形成に関する説明時に既に説明したように、照射領域ＥＡの移動速度が速くなればなるほど、造形面ＭＳのある部分に光ＥＬが照射される時間が短くなる。このため、その部分に対して光ＥＬから伝達されるエネルギ量（例えば、単位面積当たり又は単位時間当たりのエネルギ量）が少なくなるがゆえに、造形対象領域ＭＴＡが溶融しない温度の範囲内で造形対象領域ＭＴＡを加熱しやすくなる。

　造形対象領域ＭＴＡが加熱された後に、造形システム１は、図４２に示すように、上述した第１から第７の造形動作の少なくとも一つを行って、加熱された造形対象領域ＭＴＡ上に３次元構造物ＳＴを形成する。加熱された（つまり、加熱されていない場合に比べて温度が高い）造形対象領域ＭＴＡ上に３次元構造物ＳＴが形成される場合には、加熱されていない（つまり、加熱された場合に比べて温度が低い）造形対象領域ＭＴＡ上に３次元構造物ＳＴが形成される場合と比較して、造形対象領域ＭＴＡ上に形成される構造層ＳＬ（つまり、最下層の構造層ＳＬ）の色調と、形成済みの構造層ＳＬの上に新たに形成される構造層ＳＬの色調とが大きく変わってしまう可能性が小さくなる。というのも、構造層ＳＬの色調は、構造層ＳＬが形成される造形面ＭＳの温度に影響を受ける可能性があるところ、形成済みの構造層ＳＬの上に新たに構造層ＳＬを形成する際の造形面ＭＳの温度と加熱された造形対象領域ＭＴＡ上に構造層ＳＬを形成する際の造形面ＭＳの温度との差が少なくなるからである。つまり、仮に造形対象領域ＭＴＡが加熱されていなければ、形成済みの構造層ＳＬの上に新たに構造層ＳＬを形成する動作が、温度が高い造形面ＭＳ上に構造層ＳＬを形成する動作になる一方で、加熱されていない造形対象領域ＭＴＡの上に構造層ＳＬを形成する動作が、温度が低い造形面ＭＳ上に構造層ＳＬを形成する動作になるという違いが出てくるからである。従って、造形システム１は、造形対象領域ＭＴＡを加熱することで、色調が揃った（つまり、色調のばらつきが相対的に少ない）複数の構造層ＳＬから構成される３次元構造物ＳＴを形成することができる。

　また、加熱された（つまり、加熱されていない場合に比べて温度が高い）造形対象領域ＭＴＡ上に３次元構造物ＳＴが形成される場合には、加熱されていない（つまり、加熱された場合に比べて温度が低い）造形対象領域ＭＴＡ上に３次元構造物ＳＴが形成される場合と比較して、造形対象領域ＭＴＡと３次元構造物ＳＴ（特に、最下層の構造層ＳＬ）との間の結合力が強くなる。なぜならば、造形対象領域ＭＴＡが加熱されている場合には、造形対象領域ＭＴＡが加熱されていない場合と比較して、造形動作において造形対象領域ＭＴＡ及び造形対象領域ＭＴＡに供給される造形材料Ｍが溶融しやすくなって造形対象領域ＭＴＡとその上に形成される構造層ＳＬとが強固に結合しやすくしなるからである。その結果、造形システム１は、造形対象領域ＭＴＡから分離しにくい３次元構造物ＳＴを形成することができる。従って、造形対象領域ＭＴＡから分離する必要がない３次元構造物ＳＴ（例えば、図１７に示すように、構造物ＳＴ３１の表面の一部に相当する造形対象領域ＭＴＡと一体化された構造物ＳＴ３２）を形成する場合においては、造形システム１は、造形対象領域ＭＴＡを加熱して、造形対象領域ＭＴＡから分離しにくい３次元構造物ＳＴを適切に形成することができる。

　造形システム１は、造形対象領域ＭＴＡの温度分布が均一になるように、造形対象領域ＭＴＡを加熱してもよい。この場合、構造層ＳＬの色調が造形面ＭＳの温度に影響を受ける可能性があることを考慮すれば、造形システム１は、造形対象領域ＭＴＡ上に形成される構造層ＳＬの色調が構造層ＳＬ内での位置に応じてばらつくことを抑制することができる。更に、構造層ＳＬと造形対象領域ＭＴＡとの結合力が造形対象領域ＭＴＡの温度に影響を受ける可能性があることを考慮すれば、造形システム１は、構造層ＳＬと造形対象領域ＭＴＡとの結合力が構造層ＳＬ内での位置に応じてばらつくことを抑制することができる。

　或いは、造形システム１は、造形対象領域ＭＴＡの温度分布が不均一になるように、造形対象領域ＭＴＡの少なくとも一部を加熱してもよい。つまり、造形システム１は、造形対象領域ＭＴＡ内に温度の異なる少なくとも２つの領域部分が存在するように、造形対象領域ＭＴＡの少なくとも一部を加熱してもよい。例えば、図４３に示すように、造形システム１は、造形対象領域ＭＴＡのうちの領域部分ＭＴＡ＃１の温度が、造形対象領域ＭＴＡのうちの領域部分ＭＴＡ＃１とは異なる領域部分ＭＴＡ＃２の温度と異なるものとなるように、造形対象領域ＭＴＡの少なくとも一部を加熱してもよい。

　造形システム１は、造形対象領域ＭＴＡの温度分布を不均一にするために、造形対象領域ＭＴＡのある領域部分（例えば、領域部分ＭＴＡ＃１）を加熱する一方で、造形対象領域ＭＴＡの別の領域部分（例えば、領域部分ＭＴＡ＃２）を加熱しなくてもよい。その結果、造形対象領域ＭＴＡのうちの加熱された領域部分の温度が、造形対象領域ＭＴＡのうちの加熱されていない領域部分の温度よりも高くなって、造形対象領域ＭＴＡの温度分布が不均一になる。或いは、造形システム１は、造形対象領域ＭＴＡの温度分布を不均一にするために、造形対象領域ＭＴＡのある領域部分（例えば、領域部分ＭＴＡ＃１）を、造形対象領域ＭＴＡ上での単位面積当たりの強度が大きい光ＥＬで加熱する一方で、造形対象領域ＭＴＡの別の領域部分（例えば、領域部分ＭＴＡ＃２）を、造形対象領域ＭＴＡ上での単位面積当たりの強度が小さい（つまり、領域部分ＭＴＡ＃１を加熱する光ＥＬよりも強度が小さい）光ＥＬで加熱してもよい。その結果、造形対象領域ＭＴＡのうちの強度が大きい光ＥＬで加熱された領域部分の温度が、造形対象領域ＭＴＡのうちの強度が小さい光ＥＬで加熱された領域部分の温度よりも高くなって、造形対象領域ＭＴＡの温度分布が不均一になる。尚、造形システム１は、造形対象領域ＭＴＡのある領域部分（例えば、領域部分ＭＴＡ＃１）を加熱する一方で、造形対象領域ＭＴＡの別の領域部分（例えば、領域部分ＭＴＡ＃２）を冷却してもよい。

　造形対象領域ＭＴＡの温度分布が不均一になっている場合には、造形対象領域ＭＴＡと３次元構造物ＳＴとの結合力が、造形対象領域ＭＴＡ内での位置（つまり、造形対象領域ＭＴＡに沿った方向における位置）によって変わる。つまり、造形対象領域ＭＴＡのうちのある領域部分と３次元構造物ＳＴとの結合力が、造形対象領域ＭＴＡのうちの別の領域部分と３次元構造物ＳＴとの結合力よりも弱くなる。従って、造形システム１は、造形対象領域ＭＴＡと３次元構造物ＳＴとの結合力が造形対象領域ＭＴＡ内での各位置において適切な大きさとなるように、造形対象領域ＭＴＡの温度分布を不均一にしてもよい。つまり、造形システム１は、造形対象領域ＭＴＡとの結合力（つまり、造形対象領域ＭＴＡからの分離しやすさ（言い換えれば、除去しやすさ））という３次元構造物ＳＴの特性が位置に応じて変わるように、造形対象領域ＭＴＡの温度分布を不均一にしてもよい。具体的には、例えば、造形システム１は、３次元構造物ＳＴのうち造形対象領域ＭＴＡから分離させたい構造部ＳＴｐ１と造形対象領域ＭＴＡとの結合力が、３次元構造物ＳＴのうち造形対象領域ＭＴＡと結合したままにしておきたい構造部ＳＴｐ２と造形対象領域ＭＴＡとの結合力よりも弱くなるように、造形対象領域ＭＴＡの温度分布を不均一にしてもよい。この場合、造形システム１は、図４４（ａ）に示すように、造形対象領域ＭＴＡのうち構造部ＳＴｐ１が形成される領域部分ＭＴＡｐ１の温度を、造形対象領域ＭＴＡのうち構造部ＳＴｐ２が形成される領域部分ＭＴＡｐ２の温度よりも高くするように、造形対象領域ＭＴＡの温度を調整してもよい。その結果、３次元構造物ＳＴを形成した後に、図４４（ｂ）に示すように、構造部ＳＴｐ１を造形対象領域ＭＴＡに結合させたまま、構造部ＳＴｐ２を造形対象領域ＭＴＡから分離しやすくなる。尚、造形対象領域ＭＴＡから分離させたい構造部ＳＴｐ２の一例として、３次元構造物ＳＴを形成する過程で３次元構造物ＳＴの一部を構成する造形物を支えるためのサポート材があげられる。

　或いは、造形システム１は、３次元構造物ＳＴの特性が変わるように造形対象領域ＭＴＡの温度分布を不均一にすることに加えて又は代えて、造形対象領域ＭＴＡの特性に基づいて造形対象領域ＭＴＡの温度分布を不均一にしてもよい。例えば、造形システム１は、造形対象領域ＭＴＡのうち特性が異なる少なくとも２つの部分の温度が異なるものとなるように、造形対象領域ＭＴＡの温度分布を不均一にしてもよい。

　造形対象領域ＭＴＡの特性は、造形対象領域ＭＴＡが表面に設定されている物体の厚みを含んでいてもよい。例えば、図４５は、造形対象領域ＭＴＡが表面に設定されている物体が、厚みが均一でないワークＷである例を示している。この場合、造形システム１は、造形対象領域ＭＴＡのうちワークＷの厚みが薄くなる領域部分ＭＴＡｐ４の温度を、造形対象領域ＭＴＡのうちワークＷの厚みが厚くなる領域部分ＭＴＡｐ３の温度よりも低くするように、造形対象領域ＭＴＡの温度分布を不均一にしてもよい。その結果、造形対象領域ＭＴＡのうち領域部分ＭＴＡｐ４の温度が過度に増加して、ワークＷのうちの厚みが薄い部分を貫通してしまうほどにワークＷが溶融してしまうという技術的不都合が適切に防止される。

　造形対象領域ＭＴＡの特性は、造形対象領域ＭＴＡに伝達された熱の拡散しやすさ（つまり、造形対象領域ＭＴＡの熱特性）を含んでいてもよい。例えば、図４６に示すように、造形対象領域ＭＴＡは、熱が相対的に拡散しやすい（つまり、領域部分ＭＴＡｐ６よりも拡散しやすい）領域部分ＭＴＡｐ５と、熱が相対的に拡散しにくい（つまり、領域部分ＭＴＡｐ５よりも拡散しにくい）領域部分ＭＴＡｐ６とを含むことがある。尚、図４６は、ワークＷ上に形成された３次元構造物ＳＴの表面に造形対象領域ＭＴＡが設定されている例を示しているが、この例に限らず、造形対象領域ＭＴＡがどのような面に対して設定される場合であっても、造形対象領域ＭＴＡは、領域部分ＭＴＡｐ５と領域部分ＭＴＡｐ６とを含む可能性があることに変わりはない。この場合、造形システム１は、熱が相対的に拡散しやすい領域部分ＭＴＡｐ５の温度が、熱が相対的に拡散しにくい領域部分ＭＴＡｐ６の温度よりも高くなるように、造形対象領域ＭＴＡの温度分布を不均一にしてもよい。ここで、造形対象領域ＭＴＡのうちの領域部分ＭＴＡｐ５では、温度調整動作が行われてから実際に造形動作が開始されるまでに、相対的に多くの熱が拡散していく。一方で、造形対象領域ＭＴＡのうちの領域部分ＭＴＡｐ６では、温度調整動作が行われてから実際に造形動作が開始されるまでに、相対的に少ない（つまり、領域部分ＭＴＡｐ５よりも少ない）熱が拡散していく。このため、仮に造形動作の開始前に造形対象領域ＭＴＡの温度分布が均一になるように造形対象領域ＭＴＡが加熱されると、造形動作が開始される時点において、熱の拡散量の違いに起因して、領域部分ＭＴＡｐ５の温度が、領域部分ＭＴｐ６の温度よりも低くなってしまう可能性がある。その結果、上述したように、３次元構造物ＳＴと造形対象領域ＭＴＡとの間の結合力及び／又は３次元構造物ＳＴの色調にばらつきが生ずる可能性がある。一方で、造形動作の開始前に領域部分ＭＴＡｐ５の温度が領域部分ＭＴＡｐ６の温度よりも高くなるように造形対象領域ＭＴＡが加熱される場合には、造形動作の開始前に領域部分ＭＴＡｐ５の温度が領域部分ＭＴＡｐ６の温度と同じになるように造形対象領域ＭＴＡが加熱される場合と比較して、造形動作が開始される時点における領域部分ＭＴＡｐ５の温度と領域部分ＭＴｐ６の温度との差分が小さくなる。従って、造形対象領域ＭＴＡ上に形成される構造層ＳＬの色調のばらつき及び／又は構造層ＳＬと造形対象領域ＭＴＡとの結合力のばらつきが生ずる可能性が小さくなる。特に、造形システム１は、造形動作が開始される時点において領域部分ＭＴＡｐ５の温度と領域部分ＭＴｐ６の温度とが同じになるように、造形動作の開始前の温度調整動作によって造形対象領域ＭＴＡの温度分布を不均一にしてもよい。その結果、造形対象領域ＭＴＡ上に形成される構造層ＳＬの色調のばらつき及び／又は構造層ＳＬと造形対象領域ＭＴＡとの結合力のばらつきを適切に抑制することができる。

　尚、上述した説明では、造形システム１は、照射系４１１から造形対象領域ＭＴＡに光ＥＬを照射して造形対象領域ＭＴＡの温度を調整している。しかしながら、造形システム１は、照射系４１１とは異なる光照射装置から造形対象領域ＭＴＡに光を照射して造形対象領域ＭＴＡの温度を調整してもよい。或いは、造形システム１は、光を照射して造形対象領域ＭＴＡの温度を調整することに加えて又は代えて、任意の加熱装置４７ｂを用いて造形対象領域ＭＴＡの温度を調整してもよい。この場合、図４７に示すように、造形システム１自身が加熱装置４７ｂを備えていてもよい。或いは、加熱装置４７ｂは、造形システム１の外部に設けられていてもよい。尚、加熱装置４７ｂの一例として、ジュール熱を用いて造形対象領域ＭＴＡを加熱する加熱装置、誘導加熱を利用して造形対象領域ＭＴＡを加熱する加熱装置及び任意のエネルギビーム（例えば、荷電粒子ビームや電磁波）を造形対象領域ＭＴＡに照射して造形対象領域ＭＴＡを加熱する加熱装置の少なくとも一つがあげられる。

　上述した説明では、造形システム１は、造形対象領域ＭＴＡを加熱して造形対象領域ＭＴＡの温度を調整している。しかしながら、造形システム１は、造形対象領域ＭＴＡを加熱することに加えて又は代えて、造形対象領域ＭＴＡを冷却して造形対象領域ＭＴＡの温度を調整してもよい。つまり、造形システム１は、任意の冷却装置４８ｂを用いて造形対象領域ＭＴＡの温度を調整してもよい。この場合、図４８に示すように、造形システム１自身が冷却装置４８ｂを備えていてもよい。或いは、冷却装置４８ｂは、造形システム１の外部に設けられていてもよい。尚、冷却装置４８ｂの一例として、水冷式又は空冷式の冷却器があげられる。冷却された（つまり、相対的に温度が低い）造形対象領域ＭＴＡ上に３次元構造物ＳＴが形成される場合には、冷却されていない（つまり、相対的に温度が高い）造形対象領域ＭＴＡ上に３次元構造物ＳＴが形成される場合と比較して、造形対象領域ＭＴＡと３次元構造物ＳＴ（特に、最下層の構造層ＳＬ）との間の結合力が弱くなる。なぜならば、造形対象領域ＭＴＡが冷却されている場合には、造形対象領域ＭＴＡが冷却されていない場合と比較して、造形動作において造形対象領域ＭＴＡ及び造形対象領域ＭＴＡに供給される造形材料Ｍが溶融しにくくなって造形対象領域ＭＴＡとその上に形成される構造層ＳＬとが強固に結合しにくくなるからである。その結果、造形システム１は、造形対象領域ＭＴＡから分離しやすい３次元構造物ＳＴを形成することができる。従って、造形対象領域ＭＴＡから分離する必要がある３次元構造物ＳＴを形成する場合においては、造形システム１は、造形対象領域ＭＴＡを冷却して、造形対象領域ＭＴＡから分離しやすい３次元構造物ＳＴを適切に形成することができる。

　造形システム１が照射系４１１とは異なる光照射装置、加熱装置４７ｂ及び冷却装置４８ｂの少なくとも一つを備えている場合には、造形システム１は、造形動作を実施している期間のうち少なくとも一部の期間に温度調整動作を行ってもよい。例えば、造形システム１は、造形対象領域ＭＴＡのうちの未だ構造層ＳＬを形成していない領域部分の温度を光照射装置、加熱装置４７ｂ及び冷却装置４８ｂの少なくとも一つを用いて調整しながら、造形対象領域ＭＴＡのうち既に温度が調整された領域部分に造形ヘッド４１を用いて造形物を形成してもよい。その結果、３次元構造物ＳＴの形成に関するスループットが向上する。

　（４）造形システム１が行う初期設定動作
　続いて、３次元構造物ＳＴを形成するために造形システム１によって行われる初期設定動作について、図４９を参照して説明する。初期設定動作は、上述した造形動作（つまり、第１の造形動作から第７の造形動作の少なくとも一つ）が行われる前に、造形システム１の状態を設定するために行う動作である。つまり、初期設定動作は、造形システム１の状態を、造形動作を行うことが可能な所望の状態に設定するために行われる動作（つまり、造形動作を行うための予備的動作）である。従って、造形システム１が初期設定動作を行う場合には、造形システム１は、初期設定動作を行った後に造形動作を行う。尚、造形システム１は、造形動作を行う前に初期設定動作を必ずしも行わなくてもよい。或いは、造形システム１は、造形動作を行った後に初期設定動作を行い、その後に次の造形動作を行ってもよい。

　初期設定動作は、照射系４１１の状態を設定するための動作を含んでいてもよい。初期設定動作によって設定される照射系４１１の状態は、例えば、ヘッド駆動系４２による移動時に参照される座標空間内での照射系４１１の位置、照射系４１１の姿勢及び照射系４１１が照射する光ＥＬの照射態様の少なくとも一つを含んでいてもよい。初期設定動作は、材料ノズル４１２の状態を設定するための動作を含んでいてもよい。初期設定動作によって設定される材料ノズル４１２の状態は、例えば、ヘッド駆動系４２による移動時に参照される座標空間内での材料ノズル４１２の位置、材料ノズル４１２の姿勢及び材料ノズル４１２による造形材料Ｍの供給態様の少なくとも一つを含んでいてもよい。初期設定動作は、ヘッド駆動系４２の状態を設定するための動作を含んでいてもよい。初期設定動作によって設定されるヘッド駆動系４２の状態は、例えば、ヘッド駆動系４２による造形ヘッド４１の移動態様を含んでいてもよい。初期設定動作は、ステージ４３の状態を設定するための動作を含んでいてもよい。初期設定動作によって設定されるステージ４３の状態は、例えば、ステージ駆動系４４による移動時に参照される座標空間内でのステージ４３の位置及びステージ４３の姿勢の少なくとも一つを含んでいてもよい。初期設定動作は、ステージ駆動系４４の状態を設定するための動作を含んでいてもよい。初期設定動作によって設定されるステージ駆動系４４の状態は、例えば、ステージ駆動系４４によるステージ４３の移動態様を含んでいてもよい。

　初期設定動作を行うために、造形システム１は、ステージ４３に載置されるワークＷ（或いは、初期設定動作を行うために用いられる状態計測用の基板）に対して光ＥＬを照射してもよい。具体的には、造形システム１は、ワークＷに対して光ＥＬを照射し、光ＥＬの状態を計測装置４５（或いは、計測装置４５とは異なる他の計測装置）を用いて計測し、計測結果に基づいて照射系４１１の状態等を設定してもよい。この場合、例えば、造形システム１は、このような光ＥＬの状態の計測結果に基づいて照射系４１１の状態等を設定して、ワークＷと光ＥＬの照射領域ＥＡとの位置合わせ（この位置合わせを、アライメントと称してもよい）を行ってもよい。例えば、造形システム１は、このような光ＥＬの状態の計測結果に基づいて材料ノズル４１２の状態等を設定して、ワークＷと造形材料Ｍの供給領域ＭＡとの位置合わせを行ってもよい。つまり、造形システム１は、ワークＷ上の所望の位置に溶融池ＭＰを適切に形成することができるように、ワークＷと造形ヘッド４１との位置合わせを行ってもよい。

　ここで、造形動作を行うためにワークＷ（或いは、造形面ＭＳ）に光ＥＬを照射する場合には、図４９（ａ）に示すように、光ＥＬが造形面ＭＳに対して斜入射するように造形システム１がステージ４３の姿勢を変更してもよい。一方で、初期設定動作を行うためにワークＷに対して光ＥＬを照射する場合には、造形システム１は、図４９（ｂ）に示すように、光ＥＬがワークＷの表面ＷＳに対して垂直入射するように、ステージ４３の姿勢を変更してもよい。つまり、造形システム１は、初期設定動作を行う場合には、ワークＷの表面ＷＳ（或いは、造形面ＭＳ）に対する光ＥＬの入射角度が０度（或いは、光ＥＬが垂直入射しているものと見なせる角度）になり、且つ、造形動作を行う場合には、ワークＷの表面ＷＳ（或いは、造形面ＭＳ）に対する光ＥＬの入射角度が０度よりも大きくなる（或いは、光ＥＬが斜入射しているものと見なせる角度となる）ように、ステージ４３の姿勢を変更してもよい。

　造形動作を行う際に光ＥＬが造形面ＭＳに対して斜入射するようにステージ４３の姿勢を変更する理由は、上述したように、光ＥＬが照射された造形面ＭＳからの反射光ＥＬ＿Ｒを、照射系４１１とは異なる方向に向かわせるためである（図４９（ａ）参照）。一方で、光ＥＬが造形面ＭＳに対して斜入射する場合には、照射系４１１の光軸が造形面ＭＳに対して傾斜した状態にあるがゆえに、造形面ＭＳ上での光ＥＬのスポット形状が、理想的な形状（例えば、円形又は矩形）から変化して歪んだ形状になる。このため、初期設定動作を行う際に光ＥＬがワークＷの表面ＷＳに対して斜入射する場合には、造形システム１は、歪んだスポット形状を有する光ＥＬの状態を計測して照射系４１１等の状態を設定する必要がある。その結果、理想的なスポット形状を有する光ＥＬの状態を計測して照射系４１１等の状態を設定する場合と比較して、光ＥＬの計測結果に基づく照射系４１１等の状態の設定が難しくなる可能性がある。それに対して、本実施形態では、初期設定動作を行う際に光ＥＬが造形面ＭＳに対して垂直入射するようにステージ４３の姿勢が変更可能であるがゆえに、造形システム１は、理想的なスポット形状を有する光ＥＬの状態を計測して照射系４１１等の状態を設定することができる。このため、造形システム１は、光ＥＬの計測結果に基づいて照射系４１１等の状態を相対的に容易に設定することができる。

　尚、ワークＷの表面ＷＳに対する光ＥＬの入射角度が小さくなればなるほど、表面ＷＳにおける光ＥＬのスポット形状は、理想的な形状に近づいていく。このため、ワークＷの表面ＷＳに対する光ＥＬの入射角度が小さくなればなるほど、ＥＬの計測結果に基づいて照射系４１１等の状態を設定することが容易になる可能性がある。このため、造形システム１は、初期設定動作を行う場合には、ワークＷの表面ＷＳに対する光ＥＬの入射角度を所定の第１角度とし、造形動作を行う場合には、ワークＷの表面ＷＳに対する光ＥＬの入射角度を第１角度よりも大きい第２角度とするように、ステージ４３の姿勢を変更してもよい。つまり、造形システム１は、初期設定動作を行う場合には、造形動作を行う場合と比較して、ワークＷの表面ＷＳ（或いは、造形面ＭＳ）に対する光ＥＬの入射角度が小さくなるように、ステージ４３の姿勢を変更してもよい。この場合、第２角度は、反射光ＥＬ＿Ｒを照射系４１１とは異なる方向に向かわせることが可能な角度であってもよい。

　（５）変形例
　上述した説明では、造形システム１は、造形ヘッド４１を移動させること及び／又はステージ４３の姿勢を変更することで、造形面ＭＳに対して照射領域ＥＡを移動させている。しかしながら、造形システム１は、造形ヘッド４１を移動させること及び／又はステージ４３の姿勢を変更することに加えて又は代えて、光ＥＬを偏向させることで造形面ＭＳに対して照射領域ＥＡを移動させてもよい。この場合、照射系４１１は、例えば、光ＥＬを偏向可能な光学系（例えば、ガルバノミラー等）を備えていてもよい。また、造形システム１は、光ＥＬを偏向することに加えて又は代えて、光ＥＬが進行する経路を平行移動させてもよい。

　上述した説明では、造形システム１は、造形材料Ｍに光ＥＬを照射することで、造形材料Ｍを溶融させている。しかしながら、造形システム１は、任意のエネルギビームを造形材料Ｍに照射することで、造形材料Ｍを溶融させてもよい。この場合、造形システム１は、照射系４１１に加えて又は代えて、任意のエネルギビームを照射可能なビーム照射装置を備えていてもよい。任意のエネルギビームは、限定されないが、電子ビーム、イオンビーム等の荷電粒子ビーム又は電磁波を含んでいてもよい。

　上述した説明では、造形システム１は、レーザ肉盛溶接法により３次元構造物ＳＴを形成可能である。しかしながら、造形システム１は、３次元構造物ＳＴを形成可能なその他の方式により造形材料Ｍから３次元構造物ＳＴを形成してもよい。その他の方式の一例として、例えば、粉末焼結積層造形法（ＳＬＳ：Ｓｅｌｅｃｔｉｖｅ　Ｌａｓｅｒ　Ｓｉｎｔｅｒｉｎｇ）等の粉末床溶融結合法（Ｐｏｗｄｅｒ　Ｂｅｄ　Ｆｕｓｉｏｎ）があげられる。粉末床溶融結合法は、光ＥＬを照射しながら光ＥＬの照射領域ＥＡに造形材料Ｍを供給するレーザ肉盛溶接法とは異なり、予め供給しておいた造形材料Ｍに光ＥＬ等を照射して３次元構造物ＳＴを形成する。その他の方式の他の一例として、結合材噴射法（Ｂｉｎｄｅｒ　Ｊｅｔｔｉｎｇ）又は、レーザメタルフュージョン法（ＬＭＦ：Ｌａｓｅｒ　Ｍｅｔａｌ　Ｆｕｓｉｏｎ）があげられる。

　上述した説明では、ヘッド駆動系４２が造形ヘッド４１をＸ軸方向、Ｙ軸方向及びＺ軸方向のそれぞれに沿って移動させ、且つ、ステージ駆動系４４がステージ４３をθＹ方向及びθＺ方向のそれぞれに沿って移動させている。しかしながら、造形ヘッド４１とステージ４３との相対位置及び造形ヘッド４１に対するステージ４３の相対的な姿勢の少なくとも一方を変更することができる限りは、造形ヘッド４１及びステージ４３の移動態様がこの例に限定されることはない。例えば、米国特許出願公開第２０１７／０３０４９４６号明細書に記載されているように、造形ヘッド４１が固定であり且つステージ駆動系４４がステージ４３をＸ軸方向、Ｙ軸方向、Ｚ軸方向、θＸ方向、θＹ方向及びθＺ方向のそれぞれに沿って移動させてもよい。例えば、ステージ４３が固定であり且つヘッド駆動系４１が造形ヘッド４１をＸ軸方向、Ｙ軸方向、Ｚ軸方向、θＸ方向及びθＹ方向のそれぞれに沿って（更には、必要に応じて、θＺ方向に沿って）移動させてもよい。例えば、ヘッド駆動系４２が造形ヘッド４１をθＸ方向及びθＹ方向のそれぞれに沿って（更には、必要に応じてθＺ方向）移動させ且つステージ駆動系４４がステージ４３をＸ軸方向、Ｙ軸方向及びＺ軸方向のそれぞれに沿って移動させてもよい。例えば、ヘッド駆動系４２が造形ヘッド４１をＺ軸方向、θＸ方向及びθＹ方向のそれぞれに沿って（更には、必要に応じてθＺ方向）移動させ且つステージ駆動系４４がステージ４３をＸ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれに沿って移動させてもよい。

　（６）付記
　以上説明した実施形態に関して、更に以下の付記を開示する。
［付記１］
　物体の造形対象面の少なくとも一部にエネルギビームを照射する照射装置と、
　前記エネルギビームの照射位置に材料を供給する供給装置と、
　前記物体の姿勢を変更する変更装置と
　を備え、
　前記物体を第１姿勢にして前記物体上の第１部分に前記エネルギビームを照射し、前記物体を前記第１姿勢と異なる第２姿勢にして前記物体上の第２部分に前記エネルギビームを照射して、構造物を形成する
　造形システム。
［付記２］
　前記変更装置は、第１軸を中心とした回転方向に沿って前記物体の姿勢を変更する
　付記１に記載の造形システム。
［付記３］
　前記第１軸は、重力方向に対して傾斜している
　付記２に記載の造形システム。
［付記４］
　前記第１部分が向けられている第２方向は上向きであり、
　前記第２部分が向けられている第３方向は上向きである
　付記１から３いずれかに記載の造形システム。
［付記５］
　前記第２方向を通る軸及び前記第３方向を通る軸は、重力方向に平行又は前記重力方向を通る軸に対して４５度未満で交差する
　付記４に記載の造形システム。
［付記６］
　前記第１部分が向けられている第２方向と、前記第２部分が向けられている第３方向とは同じ向きである
　付記１から５のいずれかに記載の造形システム。
［付記７］
　前記変更装置は、前記エネルギビームが照射された前記物体からの反射ビームが前記照射装置と異なる方向に向かうように前記物体の前記姿勢を変更する
　付記１から６のいずれかに記載の造形システム。
［付記８］
　前記物体からの反射ビームが前記照射装置と異なる方向に向かう状態で、前記物体に前記エネルギビームを照射して前記物体上に構造物を形成する
　付記７に記載の造形システム。
［付記９］
　前記造形対象面の前記第１部分に前記エネルギビームを照射して前記第１部分に第１溶融池を形成し、前記第１溶融池に前記材料を供給することにより前記第１溶融池を拡大させ、
　前記物体の前記姿勢を変えて前記造形対象面の前記第２部分に前記エネルギビームを照射して前記第２部分に溶融池を形成し、前記第２溶融池に前記材料を供給することにより前記第２溶融池を拡大させ、
　前記第１部分から前記拡大した第１溶融池の上面に向かう第４方向は上向きであり、
　前記第２部分から前記拡大した第２溶融池の上面に向かう第５方向は上向きである
　付記１から８のいずれかに記載の造形システム。
［付記１０］
　物体の造形対象面の少なくとも一部にエネルギビームを照射する照射装置と、
　前記エネルギビームの照射位置に材料を供給する供給装置と、
　前記物体の姿勢を変更する変更装置と
　を備え、
　前記造形対象面の第１部分に前記エネルギビームを照射して前記第１部分に第１溶融池を形成し、前記第１溶融池に前記材料を供給することにより前記第１溶融池を拡大させ、
　前記物体の前記姿勢を変えて前記造形対象面の前記第１部分と少なくとも一部が異なる第２部分に前記エネルギビームを照射して前記第２部分に第２溶融池を形成し、前記第２溶融池に前記材料を供給することにより前記第２溶融池を拡大させて構造物を形成し、
　前記第１部分から前記拡大した第１溶融池の上面に向かう第４方向は上向きであり、
　前記第２部分から前記拡大した第２溶融池の上面に向かう第５方向は上向きである
　造形システム。
［付記１１］
　前記第４方向を通る軸及び前記第５方向を通る軸は、重力方向に平行又は前記重力方向を通る軸に対して４５度未満で交差する
　付記９又は１０に記載の造形システム。
［付記１２］
　前記第４方向と前記第５方向とは同じ方向である
　付記９から１１のいずれかに記載の造形システム。
［付記１３］
　前記構造物は、前記第１部分から前記第２部分に延ばされた形状を有する
　付記１から１２のいずれかに記載の造形システム。
［付記１４］
　前記変更装置は、前記物体と前記照射位置との相対位置を変更する
　付記１から１３のいずれかに記載の造形システム。
［付記１５］
　前記第１部分に前記エネルギビームを照射し、前記物体と前記照射位置との相対位置及び前記物体の姿勢を変更して前記第２部分に前記エネルギビームを照射する
　付記１４に記載の造形システム。
［付記１６］
　前記相対位置は、前記第１部分から前記第２部分に向かう方向と交差する方向において変更される
　付記１５に記載の造形システム。
［付記１７］
　前記エネルギビームを前記物体に照射しつつ前記物体と前記照射位置との前記相対位置を、前記造形対象面を横切る第６方向と交差する第７方向に沿って変更して、第５位置における前記第６方向に沿った第１寸法と、前記第７方向において前記第５位置と異なる第６位置における前記第６方向に沿った第２寸法とが互いに異なる層を形成する
　付記１４から１６のいずれかに記載の造形システム。
［付記１８］
　前記エネルギビームを前記物体に照射しつつ前記物体と前記照射位置との前記相対位置を第８方向に沿って変更して、前記第８方向に延びた造形物を形成し、
　前記造形物の端部のうち少なくとも一方の端部における前記第８方向に向けられた側面は、前記造形対象面に接触している
　付記１４から１７のいずれかに記載の造形システム。
［付記１９］
　前記エネルギビームを前記物体に照射しつつ前記物体と前記照射位置との前記相対位置を第９方向に沿って変更して、前記第９方向に延びた第１構造物を形成し、
　前記エネルギビームを前記第１構造物に照射しつつ前記第１構造物と前記照射位置との前記相対位置を前記第９方向に沿って変更して、前記第９方向に延びた第２構造物を前記第１構造物の第１０方向側に形成し、
　前記第１０方向は、前記３次元構造物にかかる力の方向に応じて決定される
　付記１４から１８のいずれかに記載の造形システム。
［付記２０］
　前記構造物を形成しているとき、前記照射装置からの前記エネルギビームの集光位置は変化しない
　付記１から１９のいずれかに記載の造形システム。
［付記２１］
　前記物体の前記造形対象面の少なくとも一部の温度を調整した後に、前記造形対象面の前記少なくとも一部に前記エネルギビームを照射して前記構造物を形成する
　付記１から２０のいずれかに記載の造形システム。
［付記２２］
　前記エネルギビームを前記物体に照射して第１１方向に延びた第１構造物を形成し、前記エネルギビームを前記第１構造物に照射して前記第１１方向と異なる第１２方向に延びた第２構造物を形成する
　付記１から２１のいずれかに記載の造形システム。
［付記２３］
　前記エネルギビームを前記物体に照射して第１１方向に延びた第１構造物を有する第１造形物を形成し、前記エネルギビームを前記第１造形物に照射して前記第１１方向と異なる第１２方向に延びた第２構造物を有する第２造形物を形成する
　付記１から２２のいずれかに記載の造形システム。
［付記２４］
　前記エネルギビームを前記物体に照射して第１１方向に延びた第１構造物を有する第１造形物を形成し、
　前記エネルギビームを前記第１構造物に照射して前記第１１方向に延びた第３構造物を形成し、
　前記エネルギビームを前記第１及び第３構造物を含む造形物に照射して、前記第１１方向と異なる第１２方向に延びた第２構造物を形成する
　付記１から２３のいずれかに記載の造形システム。
［付記２５］
　前記エネルギビームを前記造形対象面に対して第１３方向から照射し、前記照射位置を前記造形対象面に沿った第１４方向に移動させつつ前記材料を供給して、前記第１４方向に沿った第１構造物を形成し、
　前記エネルギビームを前記第１３方向と異なる第１５方向から前記第１構造物に照射して、前記第１構造物上に第２構造物を形成する
　付記１から２４のいずれかに記載の造形システム。
［付記２６］
　物体の造形対象面の少なくとも一部にエネルギビームを照射する照射装置と、
　前記エネルギビームの照射位置に材料を供給する供給装置と、
　前記物体の姿勢を変更する変更装置と
　を備え、
　前記エネルギビームを前記造形対象面に対して第１方向から照射し、前記照射位置を前記造形対象面に沿った第２方向に移動させつつ前記材料を供給して、前記第２方向に沿った第１構造物を形成し、
　前記エネルギビームを造形対象面に対して第３方向から前記第１構造物に照射して、前記第１構造物上に第２構造物を形成し、
　前記第１方向と前記第３方向とは前記造形対象面に対して異なる方向である
　造形システム。
［付記２７］
　前記エネルギビームを前記第３方向から前記第１構造物に照射して前記エネルギビームを前記第１構造物に照射し、前記照射位置を前記第２方向又は前記第２方向と平行な第４方向に移動させつつ前記材料を供給して、前記第２又は第４方向に沿った前記第２構造物を形成する
　付記２６又は２７に記載の造形システム。
［付記２８］
　前記物体は、第５方向に沿って複数の層を有する構造物であり、
　前記第２方向は、前記第５方向と交差する
　付記２５から２７のいずれかに記載の造形システム。
［付記２９］
　物体の造形対象面の第１部分にエネルギビームを照射することと、
　前記物体の姿勢を変えて前記造形対象面の前記第１部分と少なくとも一部が異なる第２部分に前記エネルギビームを照射して構造物を形成することと
　を含む造形方法。
［付記３０］
　物体を第１姿勢にして前記物体上の第１部分にエネルギビームを照射することと、
　前記物体を前記第１姿勢と異なる第２姿勢にして前記物体上の第２部分に前記エネルギビームを照射して、構造物を形成することと
　を含む造形方法。
［付記３１］
　物体の造形対象面の第１部分にエネルギビームを照射して前記第１部分に第１溶融池を形成し前記第１溶融池に材料を供給することにより前記第１溶融池を拡大させることと、
　前記物体の姿勢を変えて前記造形対象面の前記第１部分と少なくとも一部が異なる第２部分にエネルギビームを照射して前記第２部分に第２溶融池を形成し前記第２溶融池に前記材料を供給することにより前記第２溶融池を拡大させることと
　を含み、
　前記第１部分から前記拡大した第１溶融池の上面に向かう方向は上向きであり、
　前記第２部分から前記拡大した第２溶融池の上面に向かう方向は上向きである
　造形方法。
［付記３２］
　エネルギビームを物体の造形対象面に対して第１方向から照射し、前記エネルギビームの照射位置を前記造形対象面に沿った第２方向に移動させつつ材料を供給して、前記第２方向に沿った第１構造物を形成することと、
　前記エネルギビームを造形対象面に対して第３方向から前記第１構造物に照射して、前記第１構造物上に第２構造物を形成することと
　を含み、
　前記造形対象面に対して前記第１方向と前記第３方向とは異なる方向である造形方法。
［付記３３］
　物体の造形対象面の少なくとも一部にエネルギビームを照射する照射装置と、
　前記エネルギビームの照射位置に材料を供給する供給装置と、
　前記物体と前記照射位置との相対位置を変更する変更装置と
　を備え、
　前記エネルギビームを前記物体に照射しつつ第１方向に沿って前記物体と前記照射位置との前記相対位置を変更して前記第１方向に延びた第１構造物を形成し、
　前記エネルギビームを前記第１構造物に照射しつつ前記第１方向と異なる第２方向に沿って前記第１構造物と前記照射位置との前記相対位置を変更して前記第２方向に延びた第２構造物を形成する
　造形システム。
［付記３４］
　前記エネルギビームを前記物体に照射して前記第１方向に延びた前記第１構造物を有する第１造形物を形成し、前記エネルギビームを前記第１造形物に照射して前記第１方向と異なる第２方向に延びた前記第２構造物を有する第２造形物を形成する
　付記３３に記載の造形システム。
［付記３５］
　前記第１構造物を形成するときに、前記エネルギビームが照射される前記物体の部分は上向きとなり、
　前記第２構造物を形成するときに、前記エネルギビームが照射される前記第１構造物の部分は上向きとなる
　付記３３又は３４に記載の造形システム。
［付記３６］
　前記第１構造物を形成するときに、前記エネルギビームが照射される前記物体の部分が向けられる方向を通る軸と、前記第２構造物を形成するときに、前記エネルギビームが照射される前記第１構造物の部分が向けられる方向を通る軸とは、重力方向に平行又は前記重力方向を通る軸に対して４５度未満で交差する
　付記３５に記載の造形システム。
［付記３７］
　前記第１構造物を形成するときに、前記エネルギビームが照射される前記物体の部分が向けられる方向と、前記第２構造物を形成するときに、前記エネルギビームが照射される前記第１構造物の部分が向けられる方向とは、同じ向きである
　付記３３から３６のいずれかに記載の造形システム。
［付記３８］
　前記第２構造物の前記第１構造物と反対側の面における第１位置は、前記反対側の面における前記第１位置と異なる３つの第２位置を含む平面から外れた位置である
　付記３３から３７のいずれかに記載の造形システム。
［付記３９］
　前記第１構造物は、前記第２構造物が形成される側に向けられた凸面又は凹面を有する
　付記３３から３８のいずれかに記載の造形システム。
［付記４０］
　前記第１構造物は、第１平面と、前記第１平面と交差する第２平面とを含む
　付記３３から３９のいずれかに記載の造形システム。
［付記４１］
　前記第１構造物は曲面を有する
　付記３３から４０のいずれかに記載の造形システム。
［付記４２］
　前記第２構造物は、前記第１構造物の表面に沿った形状を有する
　付記３３から４１のいずれかに記載の造形システム。
［付記４３］
　前記第１構造物の第１表面上の第３位置は、前記第１表面における前記第３位置と異なる３つの第４位置を含む第３平面から外れた位置であり、
　前記第２構造物における前記第１表面と反対側の第２表面における第５位置は、前記第２表面における前記第５位置と異なる３つの第６位置を含む第４平面から外れた位置であり、
　前記第２方向と交差する第３方向に沿った前記第３平面から前記第３位置までの第１距離は、前記第３方向に沿った前記第４平面から前記第５位置までの第２距離よりも大きい
　付記３３から４２のいずれかに記載の造形システム。
［付記４４］
　物体の造形対象面の少なくとも一部にエネルギビームを照射する照射装置と、
　前記エネルギビームの照射位置に材料を供給する供給装置と、
　前記物体と前記照射位置との相対位置を変更する変更装置と
　を備え、
　前記エネルギビームを前記物体に照射しつつ第１方向に沿って前記物体と前記照射位置との前記相対位置を変更して前記第１方向に延びた第１構造物を有する第１造形物を形成し、
　前記エネルギビームを前記第１造形物に照射しつつ前記第１方向と異なる第２方向に沿って前記第１造形物と前記照射位置との前記相対位置を変更して前記第２方向に延びた第２構造物を有する第２造形物を形成する
　造形システム。
［付記４５］
　前記第１造形物を形成するときに、前記エネルギビームが照射される前記物体の部分は上向きとなり、
　前記第２造形物を形成するときに、前記エネルギビームが照射される前記第１造形物の部分は上向きとなる
　付記４４に記載の造形システム。
［付記４６］
　前記第１造形物を形成するときに、前記エネルギビームが照射される前記物体の部分が向けられる方向を通る軸と、前記第２造形物を形成するときに、前記エネルギビームが照射される前記第１造形物の部分が向けられる方向を通る軸とは、重力方向に平行又は前記重力方向を通る軸に対して４５度未満で交差する
　付記４５に記載の造形システム。
［付記４７］
　前記第１造形物を形成するときに、前記エネルギビームが照射される前記物体の部分が向けられる方向と、前記第２造形物を形成するときに、前記エネルギビームが照射される前記第１造形物の部分が向けられる方向とは、同じ向きである
　付記４４から４６のいずれかに記載の造形システム。
［付記４８］
　前記第２造形物の前記第１造形物と反対側の面における第１位置は、前記反対側の面における前記第１位置と異なる３つの第２位置を含む平面から外れた位置である
　付記４４から４６のいずれかに記載の造形システム。
［付記４９］
　前記第１造形物は、前記第２構造物が形成される側に向けられた凸面又は凹面を有する
　付記４４から４８のいずれかに記載の造形システム。
［付記５０］
　前記第１造形物は、第１平面と、前記第１平面と交差する第２平面とを含む
　付記４４から４９のいずれかに記載の造形システム。
［付記５１］
　前記第１造形物は曲面を有する
　付記４４から５０のいずれかに記載の造形システム。
［付記５２］
　前記第２構造物は、前記第１造形物の表面に沿った形状を有する
　付記４４から５１のいずれかに記載の造形システム。
［付記５３］
　前記第２造形物の前記第１造形物と反対側の第１表面における第１位置は、前記第１表面における前記第１位置と異なる３つの第２位置を含む第１平面から外れた位置であり、
　前記第１造形物の第２表面上の第３位置は、前記第２表面における前記第３位置と異なる３つの第４位置を含む第２平面から外れた位置であり、
　前記第２方向と交差する第３方向に沿った前記第２平面から前記第３位置までの第１距離は、前記第３方向に沿った前記第１平面から前記第１位置までの第２距離よりも大きい
　付記４４から５２のいずれかに記載の造形システム。
［付記５４］
　前記第１造形物の少なくとも一部の温度を調整した後に、前記第１造形物の前記少なくとも一部に前記エネルギビームを照射して前記第２造形物を形成する
　付記４４から５３のいずれかに記載の造形システム。
［付記５５］
　前記第１構造物と前記第２構造物とは互いに交差する
　付記３３から５４のいずれかに記載の造形システム。
［付記５６］
　前記エネルギビームを前記物体に照射して前記第１方向に延びた前記第１構造物を形成し、
　前記エネルギビームを前記第１構造物に照射して前記第１方向に延びた第３構造物を形成し、
　前記エネルギビーム前記第１及び第３構造物を含む第１造形物に照射して、前記第２方向に延びた前記第２構造物を形成する
　付記３３から５５のいずれかに記載の造形システム。
［付記５７］
　前記第１及び第２方向は、前記第１及び第２構造物を含む造形物にかかる力の方向に応じて決定される
　付記３３から５６のいずれかに記載の造形システム。
［付記５８］
　物体の造形対象面の少なくとも一部にエネルギビームを照射する照射装置と、
　前記エネルギビームの照射位置に材料を供給する供給装置と、
　前記物体と前記照射位置との相対位置を変更する変更装置と
　を備え、
　前記エネルギビームを前記物体に照射しつつ第１方向に沿って前記物体と前記照射位置との前記相対位置を変更して前記第１方向に延びた第１構造物を形成し、
　前記エネルギビームを前記第１構造物に照射しつつ前記第１方向に沿って前記第１構造物と前記照射位置との前記相対位置を変更して前記第１方向に延びた第２構造物を形成し、
　前記エネルギビームを前記第１及び第２構造物を含む造形物に照射しつつ前記第１方向と異なる第２方向に沿って前記造形物と前記照射位置との前記相対位置を変更して前記第２方向に延びた第３構造物を形成する
　造形システム。
［付記５９］
　前記第１構造物を形成するときに、前記エネルギビームが照射される前記物体の部分は上向きとなり、
　前記第３構造物を形成するときに、前記エネルギビームが照射される前記造形物の部分は上向きとなる
　付記５８に記載の造形システム。
［付記６０］
　前記第１構造物を形成するときに、前記エネルギビームが照射される前記物体の部分が向けられる方向を通る軸と、前記第３構造物を形成するときに、前記エネルギビームが照射される前記造形物の部分が向けられる方向を通る軸とは、重力方向に平行又は前記重力方向を通る軸に対して４５度未満で交差する
　付記５８又は５９に記載の造形システム。
［付記６１］
　前記第１構造物を形成するときに、前記エネルギビームが照射される前記物体の部分が向けられる方向と、前記第３構造物を形成するときに、前記エネルギビームが照射される前記造形物の部分が向けられる方向とは、同じ向きである
　付記５８から６０のいずれかに記載の造形システム。
［付記６２］
　前記第３構造物の前記造形物と反対側の面における第１位置は、前記反対側の面における前記第１位置と異なる３つの第２位置を含む平面から外れた位置である
　付記５８から６１のいずれかに記載の造形システム。
［付記６３］
　前記造形物は、前記第３構造物が形成される側に向けられた凸面又は凹面を有する
　付記５８から６２のいずれかに記載の造形システム。
［付記６４］
　前記造形物は、第１平面と、前記第１平面と交差する第２平面とを含む
　付記５８から６３のいずれかに記載の造形システム。
［付記６５］
　前記造形物は曲面を有し、
　前記第３構造物を形成するとき、前記造形物の前記曲面に前記エネルギビームが照射される
　付記５８から６３のいずれかに記載の造形システム。
［付記６６］
　前記第３構造物は、前記造形物の表面に沿った形状を有する
　付記５８から６４のいずれかに記載の造形システム。
［付記６７］
　前記第３構造物の前記造形物と反対側の第１表面における第１位置は、前記第１表面における前記第１位置と異なる３つの第２位置を含む第１平面から外れた位置であり、
　前記造形物の第２表面上の第３位置は、前記第２表面における前記第３位置と異なる３つの第４位置を含む第２平面から外れた位置であり、
　前記第２方向と交差する第３方向に沿った前記第２平面から前記第３位置までの第１距離は、前記第３方向に沿った前記第１平面から前記第１位置までの第２距離よりも大きい
　付記５８から６６のいずれかに記載の造形システム。
［付記６８］
　前記第１及び第２方向は、前記第１から第３構造物にかかる力の方向に応じて決定される
　付記５８から６７のいずれかに記載の造形システム。
［付記６９］
　前記造形物の少なくとも一部の温度を調整した後に、前記造形物の前記少なくとも一部に前記エネルギビームを照射して前記第３構造物を形成する
　付記５８から６８のいずれかに記載の造形システム。
［付記７０］
　前記物体上の第５位置から前記第５位置と異なる前記物体上の第６位置に向かう方向と交差する方向に沿って前記物体と前記照射位置との前記相対位置が変更される
　付記３３から６９のいずれかに記載の造形システム。
［付記７１］
　前記エネルギビームを前記物体に照射しつつ前記物体と前記照射位置との前記相対位置を、前記造形対象面を横切る第４方向と交差する第５方向に沿って変更して、第７位置における前記第４方向に沿った第１寸法と、前記第５方向において前記第７位置と異なる第８位置における前記第４方向に沿った第２寸法とが互いに異なる層を形成する
　付記６３から７０のいずれかに記載の造形システム。
［付記７２］
　前記第１構造物の端部のうち少なくとも一方の端部における前記第１方向に向けられた側面は、前記造形対象面に接触している
　付記６３から７１のいずれか一項に記載の造形システム。
［付記７３］
　前記物体の前記造形対象面の少なくとも一部の温度を調整した後に、前記造形対象面の前記少なくとも一部に前記エネルギビームを照射して前記構造物を形成する
　付記３３から７２のいずれか一項に記載の造形システム。
［付記７４］
　エネルギビームを物体に照射しつつ第１方向に沿って前記物体と前記エネルギビームの照射位置との相対位置を変更して前記第１方向に延びた第１構造物を形成することと、
　前記エネルギビームを前記第１構造物に照射しつつ前記第１方向と異なる第２方向に沿って前記第１構造物と前記照射位置との相対位置を変更して前記第２方向に延びた第２構造物を形成することと
　を含む造形方法。
［付記７５］
　エネルギビームを物体に照射しつつ第１方向に沿って前記物体と前記エネルギビームの照射位置との相対位置を変更して前記第１方向に延びた第１構造物を有する第１造形物を形成することと、
　前記エネルギビームを前記第１造形物に照射しつつ前記第１方向と異なる第２方向に沿って前記第１造形物と前記照射位置との前記相対位置を変更して前記第２方向に延びた第２構造物を有する第２造形物を形成することと
　を含む造形方法。
［付記７６］
　エネルギビームを物体に照射しつつ第１方向に沿って前記物体と前記エネルギビームの照射位置との相対位置を変更して前記第１方向に延びた第１構造物を形成することと、
　前記エネルギビームを前記第１構造物に照射しつつ前記第１方向に沿って前記第１構造物と前記照射位置との相対位置を変更して前記第１方向に延びた第２構造物を形成することと、
　前記エネルギビームを前記第１及び第２構造物を含む造形物に照射しつつ前記第１方向と異なる第２方向に沿って前記造形物と前記照射位置との相対位置を変更して前記第２方向に延びた第３構造物を形成することと
　を含む造形方法。
［付記７７］
　物体における非平面状の造形対象面の少なくとも一部にエネルギビームを照射する照射装置と、
　前記エネルギビームの照射位置に材料を供給する供給装置と、
　前記物体と前記照射位置との相対位置を変更する変更装置と
　を備え、
　前記エネルギビームを前記物体に照射しつつ前記物体と前記照射位置との前記相対位置を変更して前記造形対象面に沿った層を形成する
　造形システム。
［付記７８］
　前記層の前記物体と反対側の面における第１位置は、前記反対側の面における前記第１位置と異なる３つの第２位置を含む平面上の位置又は前記平面から外れた位置である
　付記７７に記載の造形システム。
［付記７９］
　前記造形対象面は、前記層が形成される側に向けられた凸面又は凹面を有する
　付記７７又は７８に記載の造形システム。
［付記８０］
　前記層は、前記造形対象面側に向けられた凹面又は凸面を有する
　付記７７から７９のいずれかに記載の造形システム。
［付記８１］
　前記造形対象面は、第１平面と、前記第１平面と交差する第２平面とを含む
　付記７７から８０のいずれかに記載の造形システム。
［付記８２］
　前記層は、第３平面と、前記第３平面と交差する第４平面とを含む
　付記７７から８１のいずれかに記載の造形システム。
［付記８３］
　前記造形対象面は曲面を有する
　付記７７から８２のいずれかに記載の造形システム。
［付記８４］
　前記層は、前記造形対象面側又は前記造形対象面と反対側に向けられた曲面を有する
　付記７７から８３のいずれかに記載の造形システム。
［付記８５］
　前記層の前記造形対象面と反対側の面における第１位置は、前記層の前記反対側の面における前記第１位置と異なる３つの第２位置を含む第５平面上の位置又は前記第５平面から外れた位置であり、
　前記造形対象面上の第３位置は、前記造形対象面における前記第３位置と異なる３つの第４位置を含む第６平面から外れた位置であり、
　第１方向に沿った前記第６平面から前記第３位置までの第１距離は、前記第１方向に沿った前記第５平面から前記第１位置までの第２距離よりも大きい
　付記７７から８４のいずれかに記載の造形システム。
［付記８６］
　前記エネルギビームを前記物体に照射しつつ前記物体と前記照射位置との前記相対位置を、前記造形対象面を横切る第２方向と交差する第３方向に沿って変更して、第６位置における前記第２方向に沿った第１寸法と、前記第３方向において前記第６位置と異なる第７位置における前記第２方向に沿った第２寸法とが互いに異なる層を形成する
　付記７７から８５のいずれかに記載の造形システム。
［付記８７］
　前記物体上の第１部分に前記エネルギビームを照射し、前記物体と前記照射位置との相対位置を変更して前記物体上の前記第１部分と異なる第２部分に前記エネルギビームを照射し、
　前記相対位置は、前記第１部分から前記第２部分に向かう方向と交差する方向において変更される
　付記７７から８６のいずれかに記載の造形システム。
［付記８８］
　前記変更装置は、前記物体の姿勢を変更し、
　前記造形対象面の第１部分に前記エネルギビームを照射し、
　前記物体の前記姿勢を変えて前記造形対象面の前記第１部分と異なる第２部分に前記エネルギビームを照射して前記層を形成する
　付記７７から８７のいずれかに記載の造形システム。
［付記８９］
　前記造形対象面上で前記第１部分から前記第２部分までの領域に前記エネルギビームを照射し、
　前記第１部分から前記第２部分までの前記領域に前記エネルギビームを照射している間において前記姿勢を変える
　付記８８に記載の造形システム。
［付記９０］
　前記物体を第１姿勢にして前記物体上の第１部分に前記エネルギビームを照射し、前記物体を前記第１姿勢と異なる第２姿勢にして前記物体上の第２部分に前記エネルギビームを照射して、前記層を形成する
　付記７７から８９のいずれかに記載の造形システム。
［付記９１］
　前記物体上で前記第１部分から前記第２部分までの領域に前記エネルギビームを照射し、
　前記第１部分から前記第２部分までの前記領域に前記エネルギビームを照射している間において前記姿勢を変える
　付記９０に記載の造形システム。
［付記９２］
　前記第１部分が向けられている方向と、前記第２部分が向けられている方向とは同じ向きである
　付記８８から９１のいずれかに記載の造形システム。
［付記９３］
　前記第１部分が向けられている方向は上向きであり、
　前記第２部分が向けられている方向は上向きである
　付記８８から９２のいずれかに記載の造形システム。
［付記９４］
　前記造形対象面の第１部分に前記エネルギビームを照射して前記第１部分に第１溶融池を形成し、前記第１溶融池に前記材料を供給することにより前記第１溶融池を拡大させ、
　前記物体の前記姿勢を変えて前記造形対象面の前記第１部分と異なる第２部分に前記エネルギビームを照射して前記第２部分に第２溶融池を形成し、前記第２溶融池に前記材料を供給することにより前記第２溶融池を拡大させ、
　前記第１部分から前記拡大した第１溶融池の上面に向かう第４方向は上向きであり、
　前記第２部分から前記拡大した第２溶融池の上面に向かう第５方向は上向きである
　付記７７から９３のいずれかに記載の造形システム。
［付記９５］
　前記造形対象面上で前記第１部分から前記第２部分までの領域に前記エネルギビームを照射し、
　前記第１部分から前記第２部分までの前記領域に前記エネルギビームを照射している間において前記姿勢を変える
　付記９４に記載の造形システム。
［付記９６］
　前記第４方向と前記第５方向とは同じ方向である
　付記９４又は９５に記載の造形システム。
［付記９７］
　前記第４方向を通る軸及び前記第５方向を通る軸は、重力方向に平行又は前記重力方向を通る軸に対して４５度未満で交差する
　付記９４から９６のいずれかに記載の造形システム。
［付記９８］
　前記層は、前記第１部分から前記第２部分に延ばされた形状を有する
　付記８７から９７のいずれかに記載の造形システム。
［付記９９］
　前記エネルギビームを前記物体に照射しつつ第６方向に沿って前記物体と前記照射位置との前記相対位置を変更して前記第６方向に延びた第１造形物を造形し、
　前記エネルギビームを前記第１造形物に照射しつつ前記第６方向と異なる第７方向に沿って前記第１造形物と前記照射位置との前記相対位置を変更して前記第７方向に延びた第２造形物を造形する
　付記７７から９８のいずれかに記載の造形システム。
［付記１００］
　前記エネルギビームを前記物体に照射しつつ第６方向に沿って前記物体と前記照射位置との前記相対位置を変更して前記第６方向に延びた第１層を有する第１造形物を造形し、
　前記エネルギビームを前記第１造形物に照射しつつ前記第６方向と異なる第７方向に沿って前記第１造形物と前記照射位置との前記相対位置を変更して前記第７方向に延びた第２層を有する第２造形物を造形する
　付記７７から９９のいずれかに記載の造形システム。
［付記１０１］
　前記エネルギビームを前記物体に照射しつつ第６方向に沿って前記物体と前記照射位置との前記相対位置を変更して前記第６方向に延びた第１層を形成し、
　前記エネルギビームを前記第１層に照射しつつ第６方向に沿って前記第１層と前記照射位置との前記相対位置を変更して前記第６方向に延びた第２層を形成し、
　前記エネルギビームを前記第１及び第２層を含む造形物に照射しつつ前記第６方向と異なる第７方向に沿って前記造形物と前記照射位置との前記相対位置を変更して前記第７方向に延びた第３層を形成する
　付記７７から１００のいずれかに記載の造形システム。
［付記１０２］
　前記エネルギビームを照射しつつ前記造形対象面を横切る第８方向及び前記第８方向と交差する第９方向に沿って前記相対位置を変更する
　付記７７から１０１のいずれかに記載の造形システム。
［付記１０３］
　物体における非平面状の造形対象面の少なくとも一部にエネルギビームを照射しつつ前記物体と前記エネルギビームの照射位置との相対位置を変更して前記造形対象面に沿った層を形成する造形方法。
［付記１０４］
　物体の造形対象面の少なくとも一部にエネルギビームを照射する照射装置と、
　前記エネルギビームの照射位置に材料を供給する供給装置と、
　前記物体と前記照射位置との相対位置を変更する変更装置と
　を備え、
　前記エネルギビームを照射しつつ前記造形対象面を横切る第１方向及び前記第１方向と交差する第２方向に沿って前記相対位置を変更して、前記造形対象面に層を形成する
　造形システム。
［付記１０５］
　前記造形対象面上の第１位置は、前記造形対象面における前記第１位置と異なる３つの第２位置を含む平面から外れた位置であり、
　前記エネルギビームを前記物体に照射しつつ前記物体と前記照射位置との前記相対位置を変更して前記造形対象面に沿った前記層を形成する
　付記１０４に記載の造形システム。
［付記１０６］
　前記造形対象面上に形成される前記層の前記物体と反対側の面における第３位置は、前記反対側の面における前記第３位置と異なる３つの第４位置を含む平面上の位置又は前記平面から外れた位置である
　付記１０４又は１０５に記載の造形システム。
［付記１０７］
　前記造形対象面は、前記層が形成される側に向けられた凸面又は凹面を有する
　付記１０４から１０６のいずれかに記載の造形システム。
［付記１０８］
　前記造形対象面上に形成される前記層は、前記造形対象面側に向けられた凹面又は凸面を有する
　付記１０４から１０７のいずれかに記載の造形システム。
［付記１０９］
　前記造形対象面は、第１平面と、前記第１平面と交差する第２平面とを含む
　付記１０４から１０８のいずれかに記載の造形システム。
［付記１１０］
　前記造形対象面上に形成される前記層は、第３平面と、前記第３平面と交差する第４平面とを含む
　付記１０４から１０９のいずれかに記載の造形システム。
［付記１１１］
　前記造形対象面は曲面を有する
　付記１０４から１１０のいずれかに記載の造形システム。
［付記１１２］
　前記造形対象面上に形成される前記層は、前記造形対象面側又は前記造形対象面と反対側に向けられた曲面を有する
　付記１０４から１１１のいずれかに記載の造形システム。
［付記１１３］
　前記造形対象面上の第１位置は、前記造形対象面における前記第１位置と異なる３つの第２位置を含む第５平面から外れた位置であり、
　前記層の前記造形対象面と反対側の面における第３位置は、前記層の前記反対側の面における前記第３位置と異なる３つの第４位置を含む第６平面上の位置又は前記第６平面から外れた位置であり、
　前記第１方向に沿った前記第５平面から前記第１位置までの第１距離は、前記第１方向に沿った前記第６平面から前記第３位置までの第２距離よりも大きい
　付記１０４から１１２のいずれかに記載の造形システム。
［付記１１４］
　前記物体上の第１部分に前記エネルギビームを照射し、前記物体と前記照射位置との相対位置を変更して前記物体上の前記第１部分と異なる第２部分に前記エネルギビームを照射し、
　前記相対位置は、前記第１部分から前記第２部分に向かう方向と交差する方向において変更される
　付記１０４から１１３のいずれかに記載の造形システム。
［付記１１５］
　前記第１部分における前記第１方向に沿った第１寸法と、前記第２部分における第２寸法とが互いに異なる前記層を形成する
　付記１１４に記載の造形システム。
［付記１１６］
　前記層は、前記第１部分から前記第２部分に延ばされた形状を有する
　付記１１４又は１１５に記載の造形システム。
［付記１１７］
　前記相対位置を変更している間において前記物体の姿勢は変わらない
　付記１０４から１１６のいずれかに記載の造形システム。
［付記１１８］
　前記変更装置は、前記物体の姿勢を変更し、
　前記造形対象面の第１部分に前記エネルギビームを照射し、
　前記物体の前記姿勢を変えて前記造形対象面の前記第１部分と異なる第２部分に前記エネルギビームを照射して前記層を形成する
　付記１０４から１１６のいずれかに記載の造形システム。
［付記１１９］
　前記物体を第１姿勢にして前記物体上の第１部分に前記エネルギビームを照射し、前記物体を前記第１姿勢と異なる第２姿勢にして前記物体上の第２部分に前記エネルギビームを照射して、前記層を形成する
　付記１０４から１１６及び１１８のいずれかに記載の造形システム。
［付記１２０］
　前記第１部分が向けられている方向と、前記第２部分が向けられている方向とは同じ向きである
　付記１１８又は１１９に記載の造形システム。
［付記１２１］
　前記第１部分が向けられている方向は上向きであり、
　前記第２部分が向けられている方向は上向きである
　付記１１８から１２０のいずれかに記載の造形システム。
［付記１２２］
　前記造形対象面の第１部分に前記エネルギビームを照射して前記第１部分に第１溶融池を形成し、前記第１溶融池に前記材料を供給することにより前記第１溶融池を拡大させ、
　前記物体の前記姿勢を変えて前記造形対象面の前記第１部分と異なる第２部分に前記エネルギビームを照射して前記第２部分に第２溶融池を形成し、前記第２溶融池に前記材料を供給することにより前記第２溶融池を拡大させ、
　前記第１部分から前記拡大した第１溶融池の上面に向かう第３方向は上向きであり、
　前記第２部分から前記拡大した第２溶融池の上面に向かう第４方向は上向きである
　付記１０４から１１６及び１１８から１２１のいずれかに記載の造形システム。
［付記１２３］
　前記第３方向と前記第４方向とは同じ方向である
　付記１２２に記載の造形システム。
［付記１２４］
　前記第３方向を通る軸及び前記第４方向を通る軸は、重力方向に平行又は前記重力方向を通る軸に対して４５度未満で交差する
　付記１２１又は１２２に記載の造形システム。
［付記１２５］
　エネルギビームを照射しつつ物体の造形対象面を横切る第１方向及び前記第１方向と交差する第２方向に沿って前記物体と前記エネルギビームの照射位置との相対位置を変更して、前記造形対象面に層を形成する
　造形方法。
［付記１２６］
　物体における非平面状の造形対象面の少なくとも一部にエネルギビームを照射する照射装置と、
　前記エネルギビームの照射位置に材料を供給する供給装置と、
　前記物体と前記照射位置との相対位置を変更する変更装置と
　を備え、
　前記エネルギビームを前記物体に照射しつつ前記物体と前記照射位置との前記相対位置を、前記造形対象面を横切る第１方向と交差する第２方向に沿って変更して、第１位置における前記第１方向に沿った第１寸法と、前記第２方向において前記第１位置と異なる第２位置における前記第１方向に沿った第２寸法とが互いに異なる層を形成する
　造形システム。
［付記１２７］
　前記造形対象面上の第３位置は、前記造形対象面における前記第３位置と異なる３つの第４位置を含む平面から外れた位置である
　付記１２６に記載の造形システム。
［付記１２８］
　前記層の前記物体と反対側の面における第５位置は、前記反対側の面における前記第５位置と異なる３つの第６位置を含む平面上の位置又は前記平面から外れた位置である
　付記１２６又は１２７に記載の造形システム。
［付記１２９］
　前記造形対象面は、前記構造物が形成される側に向けられた凸面又は凹面を有する
　付記１２６から１２８のいずれかに記載の造形システム。
［付記１３０］
　前記構造物は、前記造形対象面側に向けられた凹面又は凸面を有する
　付記１２６から１２９のいずれかに記載の造形システム。
［付記１３１］
　前記造形対象面は、第１平面と、前記第１平面と交差する第２平面とを含む
　付記１２６から１３０のいずれかに記載の造形システム。
［付記１３２］
　前記構造物は、第３平面と、前記第３平面と交差する第４平面とを含む
　付記１２６から１３１のいずれかに記載の造形システム。
［付記１３３］
　前記造形対象面は曲面を有する
　付記１２６から１３２のいずれかに記載の造形システム。
［付記１３４］
　前記構造物は、前記造形対象面側又は前記造形対象面と反対側の面に向けられた曲面を有する
　付記１２６から１３３のいずれかに記載の造形システム。
［付記１３５］
　前記造形対象面上の第３位置は、前記造形対象面における前記第３位置と異なる３つの第４位置を含む第５平面から外れた位置であり、
　前記層の前記造形対象面と反対側の面における第５位置は、前記層の前記反対側の面における前記第５位置と異なる３つの第６位置を含む第６平面から外れた位置であり、
　前記第１方向に沿った前記第５平面から前記第３位置までの第１距離は、前記第１方向に沿った前記第６平面から前記第５位置までの第２距離よりも大きい
　付記１２６から１３４のいずれかに記載の造形システム。
［付記１３６］
　前記変更装置は、前記物体の姿勢を変更し、
　前記造形対象面の第１部分に前記エネルギビームを照射し、
　前記物体の前記姿勢を変えて前記造形対象面の前記第１部分と異なる第２部分に前記エネルギビームを照射して前記層を形成する
　付記１２６から１３５のいずれかに記載の造形システム。
［付記１３７］
　前記変更装置は、前記物体の姿勢を変更し、
　前記物体を第１姿勢にして前記物体上の第１部分に前記エネルギビームを照射し、前記物体を前記第１姿勢と異なる第２姿勢にして前記物体上の第２部分に前記エネルギビームを照射して、前記層を形成する
　付記１２６から１３６のいずれかに記載の造形システム。
［付記１３８］
　前記第１部分が向けられている方向と、前記第２部分が向けられている方向とは同じ向きである
　付記１３６又は１３７に記載の造形システム。
［付記１３９］
　前記第１部分が向けられている方向は上向きであり、
　前記第２部分が向けられている方向は上向きである
　付記１３６から１３８のいずれか一項に記載の造形システム。
［付記１４０］
　前記造形対象面の第１部分に前記エネルギビームを照射して前記第１部分に第１溶融池を形成し、前記第１溶融池に前記材料を供給することにより前記第１溶融池を拡大させ、
　前記物体の前記姿勢を変えて前記造形対象面の前記第１部分と異なる第２部分に前記エネルギビームを照射して前記第２部分に第２溶融池を形成し、前記第２溶融池に前記材料を供給することにより前記第２溶融池を拡大させ、
　前記第１部分から前記拡大した第１溶融池の上面に向かう第３方向は上向きであり、
　前記第２部分から前記拡大した第２溶融池の上面に向かう第４方向は上向きである
　付記１３６から１３９のいずれかに記載の造形システム。
［付記１４１］
　前記第３方向と前記第４方向とは同じ方向である
　付記１４０に記載の造形システム。
［付記１４２］
　前記第３方向を通る軸及び前記第４方向を通る軸は、重力方向と平行又は前記重力方向を通る軸に対して４５度未満で交差する
　付記１４０又は１４１のいずれか一項に記載の造形システム。
［付記１４３］
　前記層は、前記第１部分から前記第２部分に延ばされた形状を有する
　付記１４０から１４２のいずれかに記載の造形システム。
［付記１４４］
　エネルギビームを物体に照射しつつ前記物体と前記エネルギビームの照射位置との相対位置を、前記物体の造形対象面を横切る第１方向と交差する第２方向に沿って変更して、第１位置における前記第１方向に沿った第１寸法と、前記第２方向において前記第１位置と異なる第２位置における第２寸法とが互いに異なる層を形成する
　造形方法。
［付記１４５］
　物体の造形対象面の少なくとも一部にエネルギビームを照射する照射装置と、
　前記エネルギビームの照射位置に材料を供給する供給装置と、
　前記物体と前記照射位置との相対位置を変更する変更装置と
　を備え、
　前記エネルギビームを前記物体に照射しつつ前記物体と前記照射位置との前記相対位置を第１方向に沿って変更して、前記第１方向に延びた第１層を形成し、
　前記エネルギビームを前記第１層に照射しつつ前記第１層と前記照射位置との前記相対位置を第２方向に沿って変更して、前記第２方向に延びた第２層を形成し、
　前記第１及び第２方向は、前記第１及び第２層を含む造形物の外面の方向に基づいて決定される
　造形システム。
［付記１４６］
　前記第１及び第２方向は、前記造形物における位置によって異なる
　付記１４５に記載の造形システム。
［付記１４７］
　前記造形物の第３部分における前記第１及び第２層の積層方向が、前記造形物の前記第３部分とは異なる第４部分における外面に直交する方向よりも、前記第３部分における前記外面に直交する方向に近づくように、前記第１及び第２方向が決定される
　付記１４５又は１４６に記載の造形システム。
［付記１４８］
　前記第２層上の第１部分は、前記第２層上の前記第１部分と異なる３つの第２部分を通る平面から外れている
　付記１４５から１４７のいずれかに記載の造形システム。
［付記１４９］
　前記第２層は、前記造形対象面側と反対側に向けられた凸面を有する
　付記１４５から１４８のいずれかに記載の造形システム。
［付記１５０］
　物体の造形対象面の少なくとも一部にエネルギビームを照射する照射装置と、
　前記エネルギビームの照射位置に材料を供給する供給装置と、
　前記物体と前記照射位置との相対位置を変更する変更装置と
　を備え、
　前記エネルギビームを前記物体に照射しつつ前記物体と前記照射位置との前記相対位置を第１方向に沿って変更して、前記第１方向に延びた造形物を形成し、
　前記造形物の少なくとも一方の端部における前記第１方向に向けられた側面は、前記造形対象面に接触している
　造形システム。
［付記１５１］
　エネルギビームを物体に照射しつつ前記物体と前記エネルギビームの照射位置との相対位置を第１方向に沿って変更して、前記第１方向に延びた第１層を形成することと、
　前記エネルギビームを前記第１層に照射しつつ前記第１層と前記照射位置との相対位置を第２方向に沿って変更して、前記第２方向に延びた第２層を形成することと
　を含み、
　前記第１及び第２方向は、前記第１及び第２層を含む造形物の外面の方向に基づいて決定される
　造形方法。
［付記１５２］
　エネルギビームを物体に照射しつつ前記物体と前記エネルギビームの照射位置との前記相対位置を第１方向に沿って変更して、前記第１方向に延びた造形物を形成することを含み、
　前記造形物の少なくとも一方の端部における前記第１方向に向けられた側面は、前記造形対象面に接触している
　造形方法。
［付記１５３］
　物体の造形対象面の少なくとも一部にエネルギビームを照射する照射装置と、
　前記エネルギビームの照射位置に材料を供給する供給装置と、
　前記物体と前記照射位置との相対位置を変更する変更装置と
　を備え、
　前記エネルギビームを前記物体に照射しつつ前記物体と前記照射位置との前記相対位置を第１方向に沿って変更して、前記第１方向に延びた第１構造物を形成し、
　前記エネルギビームを前記第１構造物に照射しつつ前記第１構造物と前記照射位置との前記相対位置を前記第１方向又は前記第１方向と平行な第２方向に沿って変更して、前記第１又は前記第２方向に延びた第２構造物を前記第１構造物の第３方向側に形成し、
　前記第３方向は、前記第１及び第２構造物を有する造形物にかかる力の方向に応じて決定される
　造形システム。
［付記１５４］
　前記造形物にかかる力は、前記造形物を引っ張る引張力を含み、
　前記第３方向は、前記引張力の方向と交差する
　付記１５３に記載の造形システム。
［付記１５５］
　前記第３方向は、前記引張力の方向と直交する
　付記１５４に記載の造形システム。
［付記１５６］
　前記第１方向は、前記引張力の方向と平行である
　付記１５４又は１５５に記載の造形システム。
［付記１５７］
　前記造形物にかかる力は、前記造形物を押す圧縮力を含み、
　前記第１方向は、前記押す力の方向と交差する
　付記１５３から１５６のいずれかに記載の造形システム。
［付記１５８］
　前記第１方向は、前記圧縮力の方向と直交する
　付記１５７に記載の造形システム。
［付記１５９］
　前記第３方向は、前記圧縮力の方向と平行である
　付記１５７又は１５８に記載の造形システム。
［付記１６０］
　エネルギビームを物体に照射しつつ前記物体と前記エネルギビームの照射位置との相対位置を第１方向に沿って変更して、前記第１方向に延びた第１構造物を形成することと、
　前記エネルギビームを前記第１構造物に照射しつつ前記第１構造物と前記照射位置との相対位置を前記第１方向又は前記第１方向と平行な第２方向に沿って変更して、前記第１又は前記第２方向に延びた第２構造物を前記第１構造物の第３方向側に形成することと
　を含み、
　前記第３方向は、前記第１及び第２構造物を有する造形物にかかる力の方向に応じて決定される
　造形方法。
［付記１６１］
　物体にエネルギビームを照射する照射装置と、
　前記エネルギビームの照射位置に材料を供給する供給装置と、
　前記物体の表面の少なくとも一部の温度を調整する温度調整装置と
　を備え、
　物体の表面の少なくとも一部の温度を調整した後に、前記物体に前記エネルギビームを照射して前記物体に３次元構造物を形成する
　造形システム。
［付記１６２］
　前記温度調整装置は、前記照射装置を含み、前記照射装置を用いて前記表面の少なくとも一部の温度を調整する
　付記１６１に記載の造形システム。
［付記１６３］
　前記温度調整装置は、前記表面の少なくとも一部を加熱して温度を調整する
　付記１６１又は１６２に記載の造形システム。
［付記１６４］
　前記温度調整装置は、前記照射装置を含み、前記照射装置を用いて前記表面の少なくとも一部を加熱する
　付記１６３に記載の造形システム。
［付記１６５］
　前記温度調整装置は、前記表面の少なくとも一部に前記エネルギビームを照射して、前記表面の少なくとも一部を加熱する
　付記１６４に記載の造形システム。
［付記１６６］
　前記表面の少なくとも一部を加熱するための前記エネルギビームの特性は、前記３次元構造物を形成するための前記エネルギビームの特性とは異なる
　付記１６５に記載の造形システム。
［付記１６７］
　前記エネルギビームの特性は、前記エネルギビームの単位面積当たりの強度又はエネルギを含む
　付記１６６に記載の造形システム。
［付記１６８］
　前記表面の少なくとも一部を加熱するための前記エネルギビームの単位面積当たりの強度又はエネルギは、前記３次元構造物を形成するための前記エネルギビームの単位面積当たりの強度又はエネルギよりも小さい
　付記１６７に記載の造形システム。
［付記１６９］
　前記温度調整装置は、前記表面の少なくとも一部を冷却して温度を調整する
　付記１６１から１６８のいずれかに記載の造形システム。
［付記１７０］
　前記温度調整装置は、前記表面の少なくとも一部を冷却する冷却装置を更に備える
　付記１６１から１６９のいずれかに記載の造形システム。
［付記１７１］
　前記温度調整装置は、前記表面のうち前記３次元構造物が形成される造形対象面の少なくとも一部の温度を調整する
　付記１６１から１７０のいずれかに記載の造形システム。
［付記１７２］
　前記造形対象面は、前記表面のうち前記３次元構造物が形成されるために前記エネルギビームが照射される部分である
　付記１７１に記載の造形システム。
［付記１７３］
　前記造形対象面の少なくとも一部の温度を調整して、前記造形対象面の温度分布を均一にする
　付記１７１又は１７２に記載の造形システム。
［付記１７４］
　前記造形対象面の少なくとも一部の温度を調整して、前記造形対象面のうちの第１部分の温度と、前記造形対象面のうちの前記第１部分と異なる第２部分の温度とを変える
　付記１７１又は１７２に記載の造形システム。
［付記１７５］
　前記造形対象面のうちの第１部分の温度を調整する一方で、前記造形対象面のうちの前記第１部分と異なる第２部分の温度を調整しない
　付記１７１から１７４のいずれかに記載の造形システム。
［付記１７６］
　前記第１部分の温度と前記第２部分の温度とを変える
　付記１７５に記載の造形システム。
［付記１７７］
　前記造形対象面の少なくとも一部の温度を調整して、前記３次元構造物のうち前記第１部分上に形成される第３部分の特性と、前記３次元構造物のうち前記第２部分上に形成される第４部分の特性とを変える
　付記１７４から１７６のいずれかに記載の造形システム。
［付記１７８］
　前記第３及び第４部分の特性は、前記第３及び第４部分の前記物体からの除去しやすさをそれぞれ含む
　付記１７７に記載の造形システム。
［付記１７９］
　前記第１部分の温度を前記第２部分の温度よりも高くして、前記第１部分に前記第３部分を付着させたまま前記第２部分から前記第４部分を除去しやすくする
　付記１７８に記載の造形システム。
［付記１８０］
　前記第１部分の温度を前記第２部分の温度よりも低くして、前記第２部分に前記第４部分を付着させたまま前記第１部分から前記第３部分を除去しやすくする
　付記１７８に記載の造形システム。
［付記１８１］
　前記第１部分は、前記第２部分とは特性が異なる部分を含む
　付記１７４から１８０のいずれかに記載の造形システム。
［付記１８２］
　前記第１及び第２部分の特性は、前記第１及び第２部分の熱特性をそれぞれ含む
　付記１８１に記載の造形システム。
［付記１８３］
　前記第１部分は、前記第２部分と比較して熱が拡散しやすい部分を含む
　付記１８２に記載の造形システム。
［付記１８４］
　前記物体に前記３次元構造物を形成する時点で前記第１部分の温度と前記第２部分の温度とが揃うように、前記造形対象面の少なくとも一部の温度を調整する
　付記１８３に記載の造形システム。
［付記１８５］
　前記第１及び第２部分の特性は、前記第１及び第２部分の位置における前記物体の厚みをそれぞれ含む
　付記１８２又は１８３に記載の造形システム。
［付記１８６］
　前記第２部分における前記物体の厚みは、前記第１部分における前記物体の厚みよりも薄い
　付記１８５に記載の造形システム。
［付記１８７］
　前記第１部分の温度を調整するために前記第１部分に単位時間当たりに又は単位面積当たりに加えられる熱量を、前記第２部分の温度を調整するために前記第２部分に単位時間当たりに又は単位面積当たりに加えられる熱量よりも多くする
　付記１８１から１８６のいずれかに記載の造形システム。
［付記１８８］
　前記表面の少なくとも一部の温度を、前記物体が溶融しない温度範囲内で調整する
　付記１６１から１８７のいずれかに記載の造形システム。
［付記１８９］
　前記表面の少なくとも一部の温度を、前記材料が溶融しない温度範囲内で調整する
　付記１６１から１８８のいずれかに記載の造形システム。
［付記１９０］
　前記供給装置が前記材料を供給する前に前記表面の少なくとも一部の温度を調整し、温度が調整された前記表面に前記材料を供給すると共に前記物体に前記エネルギビームを照射して、前記３次元構造物を形成する
　付記１６１から１８９のいずれかに記載の造形システム。
［付記１９１］
　前記表面の少なくとも一部の温度を計測する計測装置を更に備え、
　前記計測装置の計測結果を用いて、前記表面の少なくとも一部の温度を調整する
　付記１６１から１９０のいずれかに記載の造形システム。
［付記１９２］
　物体の表面の少なくとも一部の温度を調整することと、
　前記物体の表面の少なくとも一部の温度が調整された後に、前記物体にエネルギビームを照射して前記物体に３次元構造物を形成することと
　を含む造形方法。
［付記１９３］
　物体にエネルギビームを照射する照射装置と、
　前記エネルギビームの照射位置に材料を供給する供給装置と
　を備え、
　前記エネルギビームが前記物体の表面に第１角度で入射可能な状態で第１動作を行い、
　前記エネルギビームが前記表面に前記第１角度とは異なる第２角度で入射可能な状態で前記第１動作とは異なる第２動作を行って、前記物体に３次元構造物を形成する
　造形システム。
［付記１９４］
　前記第１角度は、前記第２角度よりも小さい
　付記１９３に記載の造形システム。
［付記１９５］
　前記第１角度は、前記エネルギビームが前記表面に垂直入射可能な角度であり、
　前記第２角度は、前記エネルギビームが前記表面に斜入射可能な角度である
　付記１９３又は１９４に記載の造形システム。
［付記１９６］
　前記エネルギビームが前記表面に垂直入射可能な状態で前記第１動作を行い、
　前記エネルギビームが前記表面に斜入射可能な状態で前記第２動作を行って、前記物体に３次元構造物を形成する
　付記１９３から１９５のいずれかに記載の造形システム。
［付記１９７］
　前記第１角度は、０度であり、
　前記第２角度は、０度よりも大きい
　付記１９３から１９６４のいずれかに記載の造形システム。
［付記１９８］
　前記エネルギビームが前記表面に前記第２角度で斜入射可能な状態は、前記エネルギビームが照射された前記表面からの反射ビームが、前記照射装置と異なる方向に向かう状態を含む
　付記１９３から１９７のいずれかに記載の造形システム。
［付記１９９］
　前記第１動作を行った後に前記第２動作を行って、前記物体に前記３次元構造物を形成する
　付記１９３から１９８のいずれかに記載の造形システム。
［付記２００］
　前記第１動作は、前記第２動作を行うための予備的動作を含む
　付記１９３から１９９のいずれか一項に記載の造形システム。
［付記２０１］
　前記第１動作は、前記照射装置及び前記供給装置の少なくとも一方の状態を設定する動作を含む
　付記１９３から２００のいずれかに記載の造形システム。
［付記２０２］
　前記第１動作は、前記物体と前記エネルギビームの照射位置との位置合わせを行う動作を含む
　付記１９３から２０１のいずれかに記載の造形システム。
［付記２０３］
　前記第１動作は、前記物体と前記材料の供給位置との位置合わせを行う動作を含む
　付記１９３から２０２のいずれかに記載の造形システム。
［付記２０４］
　前記第２動作は、前記照射装置及び前記供給装置を用いて前記３次元構造物を形成する動作を含む
　付記１９３から２０３のいずれかに記載の造形システム。
［付記２０５］
　前記物体と前記照射装置との相対的な姿勢を変更する変更装置を更に備え、
　前記第１動作を行った後に前記相対的な姿勢を変更して、前記エネルギビームが前記表面に前記第２角度で入射可能にして前記第２動作を行って、前記物体に３次元構造物を形成する
　付記１９３から２０４のいずれかに記載の造形システム。
［付記２０６］
　物体の表面にエネルギビームを照射する照射装置と、
　前記エネルギビームの照射位置に材料を供給する供給装置と、
　前記物体と前記照射装置との相対的な姿勢を変更する変更装置と
　を備え、
　前記変更装置は、前記エネルギビームが照射された前記表面からの反射ビームが前記照射装置と異なる方向に向かうように前記相対的な姿勢を変更する
　造形システム。
［付記２０７］
　前記表面からの反射ビームが前記照射装置と異なる方向に向かう状態で、前記物体上に前記エネルギビームを照射して前記物体上に構造物を形成する
　付記２０６に記載の造形システム。
［付記２０８］
　前記変更装置は、前記照射装置の姿勢を変更する
　付記２０６又は２０７に記載の造形システム。
［付記２０９］
　前記変更装置は、前記物体の姿勢を変更する
　付記２０６から２０８のいずれかに記載の造形システム。
［付記２１０］
　前記変更装置は、前記表面に対する前記エネルギビームの入射角を変更するように前記相対的な姿勢を変更する
　付記２０５から２０９のいずれか一項に記載の造形システム。
［付記２１１］
　エネルギビームが物体の表面に第１角度で入射可能な状態で第１動作を行うことと、
　前記エネルギビームが前記表面に前記第１角度とは異なる第２角度で入射可能な状態で前記第１動作とは異なる第２動作を行って、前記物体に３次元構造物を形成することと
　を含む造形方法。
［付記２１２］
　物体の表面にエネルギビームを照射することと、
　前記エネルギビームの照射位置に材料を供給することと、
　前記エネルギビームが照射された前記表面からの反射ビームが前記照射装置と異なる方向に向かうように、前記物体と前記照射装置との相対的な姿勢を変更することと
　を含む造形方法。
[付記２１３]
　物体の造形対象面の少なくとも一部にエネルギビームを照射する照射装置と、前記エネルギビームの照射位置に材料を供給する供給装置と、前記物体の姿勢を変更する変更装置とを備える造形システムを制御する制御装置であって、
　前記造形対象面の第１部分に前記エネルギビームを照射する処理と、
　前記物体の前記姿勢を変えて前記造形対象面の前記第１部分と少なくとも一部が異なる第２部分に前記エネルギビームを照射して構造物を形成する処理と
　が前記造形システムによって実行されるように前記造形システムを制御する
　制御装置。
［付記２１４］
　物体の造形対象面の少なくとも一部にエネルギビームを照射する照射装置と、前記エネルギビームの照射位置に材料を供給する供給装置と、前記物体の姿勢を変更する変更装置とを備える造形システムを制御する制御装置であって、
　前記物体を第１姿勢にして前記物体上の第１部分に前記エネルギビームを照射する処理と、
　前記物体を前記第１姿勢と異なる第２姿勢にして前記物体上の第２部分に前記エネルギビームを照射して、構造物を形成する処理と
　が前記造形システムによって実行されるように前記造形システムを制御する
　制御装置。
［付記２１５］
　物体の造形対象面の少なくとも一部にエネルギビームを照射する照射装置と、前記エネルギビームの照射位置に材料を供給する供給装置と、前記物体の姿勢を変更する変更装置とを備える造形システムを制御する制御装置であって、
　前記造形対象面の第１部分に前記エネルギビームを照射して前記第１部分に第１溶融池を形成する処理と、
　前記第１溶融池に前記材料を供給することにより前記第１溶融池を拡大させる処理と、
　前記物体の前記姿勢を変えて前記造形対象面の前記第１部分と少なくとも一部が異なる第２部分に前記エネルギビームを照射して前記第２部分に第２溶融池を形成する処理と、
　前記第２溶融池に前記材料を供給することにより前記第２溶融池を拡大させて構造物を形成する処理と
　が前記造形システムによって実行されるように前記造形システムを制御し、
　前記第１部分から前記拡大した第１溶融池の上面に向かう第４方向は上向きであり、
　前記第２部分から前記拡大した第２溶融池の上面に向かう第５方向は上向きである
　制御装置。
［付記２１６］
　物体の造形対象面の少なくとも一部にエネルギビームを照射する照射装置と、前記エネルギビームの照射位置に材料を供給する供給装置と、前記物体の姿勢を変更する変更装置とを備える造形システムを制御する制御装置であって、
　前記エネルギビームを前記造形対象面に対して第１方向から照射する処理と、
　前記照射位置を前記造形対象面に沿った第２方向に移動させつつ前記材料を供給して、前記第２方向に沿った第１構造物を形成する処理と、
　前記エネルギビームを造形対象面に対して第３方向から前記第１構造物に照射して、前記第１構造物上に第２構造物を形成する処理と
　が前記造形システムによって実行されるように前記造形システムを制御し、
　前記第１方向と前記第３方向とは前記造形対象面に対して異なる方向である
　制御装置。
［付記２１７］
　物体の造形対象面の少なくとも一部にエネルギビームを照射する照射装置と、前記エネルギビームの照射位置に材料を供給する供給装置と、前記物体と前記照射位置との相対位置を変更する変更装置とを備える造形システムを制御する制御装置であって、
　前記エネルギビームを前記物体に照射しつつ第１方向に沿って前記物体と前記照射位置との前記相対位置を変更して前記第１方向に延びた第１構造物を形成する処理と、
　前記エネルギビームを前記第１構造物に照射しつつ前記第１方向と異なる第２方向に沿って前記第１構造物と前記照射位置との前記相対位置を変更して前記第２方向に延びた第２構造物を形成する処理と
　が前記造形システムによって実行されるように前記造形システムを制御する
　制御装置。
［付記２１８］
　物体の造形対象面の少なくとも一部にエネルギビームを照射する照射装置と、前記エネルギビームの照射位置に材料を供給する供給装置と、前記物体と前記照射位置との相対位置を変更する変更装置とを備える造形システムを制御する制御装置であって
　前記エネルギビームを前記物体に照射しつつ第１方向に沿って前記物体と前記照射位置との前記相対位置を変更して前記第１方向に延びた第１構造物を有する第１造形物を形成する処理と、
　前記エネルギビームを前記第１造形物に照射しつつ前記第１方向と異なる第２方向に沿って前記第１造形物と前記照射位置との前記相対位置を変更して前記第２方向に延びた第２構造物を有する第２造形物を形成する処理と
　が前記造形システムによって実行されるように前記造形システムを制御する
　制御装置。
［付記２１９］
　物体の造形対象面の少なくとも一部にエネルギビームを照射する照射装置と、前記エネルギビームの照射位置に材料を供給する供給装置と、前記物体と前記照射位置との相対位置を変更する変更装置とを備える造形システムを制御する制御装置であって、
　前記エネルギビームを前記物体に照射しつつ第１方向に沿って前記物体と前記照射位置との前記相対位置を変更して前記第１方向に延びた第１構造物を形成する処理と、
　前記エネルギビームを前記第１構造物に照射しつつ前記第１方向に沿って前記第１構造物と前記照射位置との前記相対位置を変更して前記第１方向に延びた第２構造物を形成する処理と、
　前記エネルギビームを前記第１及び第２構造物を含む造形物に照射しつつ前記第１方向と異なる第２方向に沿って前記造形物と前記照射位置との前記相対位置を変更して前記第２方向に延びた第３構造物を形成する処理と
　が前記造形システムによって実行されるように前記造形システムを制御する
　制御装置。
［付記２２０］
　物体における非平面状の造形対象面の少なくとも一部にエネルギビームを照射する照射装置と、前記エネルギビームの照射位置に材料を供給する供給装置と、前記物体と前記照射位置との相対位置を変更する変更装置とを備える造形システムを制御する制御装置であって、
　前記エネルギビームを前記物体に照射しつつ前記物体と前記照射位置との前記相対位置を変更して前記造形対象面に沿った層を形成する処理が前記造形システムによって実行されるように前記造形システムを制御する
　制御装置。
［付記２２１］
　物体の造形対象面の少なくとも一部にエネルギビームを照射する照射装置と、前記エネルギビームの照射位置に材料を供給する供給装置と、前記物体と前記照射位置との相対位置を変更する変更装置とを備える造形システムを制御する制御装置であって、
　前記エネルギビームを照射しつつ前記造形対象面を横切る第１方向及び前記第１方向と交差する第２方向に沿って前記相対位置を変更して、前記造形対象面に層を形成する処理が前記造形システムによって実行されるように前記造形システムを制御する
　制御装置。
［付記２２２］
　物体における非平面状の造形対象面の少なくとも一部にエネルギビームを照射する照射装置と、前記エネルギビームの照射位置に材料を供給する供給装置と、前記物体と前記照射位置との相対位置を変更する変更装置とを備える造形システムを制御する制御装置であって、
　前記エネルギビームを前記物体に照射しつつ前記物体と前記照射位置との前記相対位置を、前記造形対象面を横切る第１方向と交差する第２方向に沿って変更して、第１位置における前記第１方向に沿った第１寸法と、前記第２方向において前記第１位置と異なる第２位置における前記第１方向に沿った第２寸法とが互いに異なる層を形成する処理が前記造形システムによって実行されるように前記造形システムを制御する
　制御装置。
［付記２２３］
　物体の造形対象面の少なくとも一部にエネルギビームを照射する照射装置と、前記エネルギビームの照射位置に材料を供給する供給装置と、前記物体と前記照射位置との相対位置を変更する変更装置とを備える造形システムを制御する制御装置であって、
　前記エネルギビームを前記物体に照射しつつ前記物体と前記照射位置との前記相対位置を第１方向に沿って変更して、前記第１方向に延びた第１層を形成する処理と、
　前記エネルギビームを前記第１層に照射しつつ前記第１層と前記照射位置との前記相対位置を第２方向に沿って変更して、前記第２方向に延びた第２層を形成する処理と
　が前記造形システムによって実行されるように前記造形システムを制御し、
　前記第１及び第２方向は、前記第１及び第２層を含む造形物の外面の方向に基づいて決定される
　制御装置。
［付記２２４］
　物体の造形対象面の少なくとも一部にエネルギビームを照射する照射装置と、前記エネルギビームの照射位置に材料を供給する供給装置と、前記物体と前記照射位置との相対位置を変更する変更装置とを備える造形システムを制御する制御装置であって、
　前記エネルギビームを前記物体に照射しつつ前記物体と前記照射位置との前記相対位置を第１方向に沿って変更して、前記第１方向に延びた造形物を形成する処理が前記造形システムによって実行されるように前記造形システムを制御し、
　前記造形物の少なくとも一方の端部における前記第１方向に向けられた側面は、前記造形対象面に接触している
　制御装置。
［付記２２５］
　物体の造形対象面の少なくとも一部にエネルギビームを照射する照射装置と、前記エネルギビームの照射位置に材料を供給する供給装置と、前記物体と前記照射位置との相対位置を変更する変更装置とを備える造形システムを制御する制御装置であって、
　前記エネルギビームを前記物体に照射しつつ前記物体と前記照射位置との前記相対位置を第１方向に沿って変更して、前記第１方向に延びた第１構造物を形成する処理と、
　前記エネルギビームを前記第１構造物に照射しつつ前記第１構造物と前記照射位置との前記相対位置を前記第１方向又は前記第１方向と平行な第２方向に沿って変更して、前記第１又は前記第２方向に延びた第２構造物を前記第１構造物の第３方向側に形成する処理と
　が前記造形システムによって実行されるように前記造形システムを制御し、
　前記第３方向は、前記第１及び第２構造物を有する造形物にかかる力の方向に応じて決定される
　制御装置。
［付記２２６］
　物体にエネルギビームを照射する照射装置と、前記エネルギビームの照射位置に材料を供給する供給装置と、前記物体の表面の少なくとも一部の温度を調整する温度調整装置とを備える造形システムを制御する制御装置であって、
　物体の表面の少なくとも一部の温度を調整した後に、前記物体に前記エネルギビームを照射して前記物体に３次元構造物を形成する処理が前記造形システムによって実行されるように前記造形システムを制御する
　制御装置。
［付記２２７］
　物体にエネルギビームを照射する照射装置と、前記エネルギビームの照射位置に材料を供給する供給装置とを備える造形システムを制御する制御装置であって、
　前記エネルギビームが前記物体の表面に第１角度で入射可能な状態で第１動作を行う処理と、
　前記エネルギビームが前記表面に前記第１角度とは異なる第２角度で入射可能な状態で前記第１動作とは異なる第２動作を行って、前記物体に３次元構造物を形成する処理と
　が前記造形システムによって実行されるように前記造形システムを制御する
　制御装置。
［付記２２８］
　物体の表面にエネルギビームを照射する照射装置と、前記エネルギビームの照射位置に材料を供給する供給装置と、前記物体と前記照射装置との相対的な姿勢を変更する変更装置とを備える造形システムを制御する制御装置であって、
　前記エネルギビームが照射された前記表面からの反射ビームが前記照射装置と異なる方向に向かうように前記相対的な姿勢を変更する処理が前記造形システムによって実行されるように前記造形システムを制御する
　制御装置。
[付記２２９]
　物体の造形対象面の少なくとも一部にエネルギビームを照射する照射装置と、前記エネルギビームの照射位置に材料を供給する供給装置と、前記物体の姿勢を変更する変更装置とを備える造形システムを制御するコンピュータに実行させるプログラムであって、
　前記造形対象面の第１部分に前記エネルギビームを照射する処理と、
　前記物体の前記姿勢を変えて前記造形対象面の前記第１部分と少なくとも一部が異なる第２部分に前記エネルギビームを照射して構造物を形成する処理と
　をコンピュータに実行させるプログラム。
［付記２３０］
　物体の造形対象面の少なくとも一部にエネルギビームを照射する照射装置と、前記エネルギビームの照射位置に材料を供給する供給装置と、前記物体の姿勢を変更する変更装置とを備える造形システムを制御するコンピュータに実行させるプログラムであって、
　前記物体を第１姿勢にして前記物体上の第１部分に前記エネルギビームを照射する処理と、
　前記物体を前記第１姿勢と異なる第２姿勢にして前記物体上の第２部分に前記エネルギビームを照射して、構造物を形成する処理と
　をコンピュータに実行させるプログラム。
［付記２３１］
　物体の造形対象面の少なくとも一部にエネルギビームを照射する照射装置と、前記エネルギビームの照射位置に材料を供給する供給装置と、前記物体の姿勢を変更する変更装置とを備える造形システムを制御するコンピュータに実行させるプログラムであって、
　前記造形対象面の第１部分に前記エネルギビームを照射して前記第１部分に第１溶融池を形成する処理と、
　前記第１溶融池に前記材料を供給することにより前記第１溶融池を拡大させる処理と、
　前記物体の前記姿勢を変えて前記造形対象面の前記第１部分と少なくとも一部が異なる第２部分に前記エネルギビームを照射して前記第２部分に第２溶融池を形成する処理と、
　前記第２溶融池に前記材料を供給することにより前記第２溶融池を拡大させて構造物を形成する処理と
　をコンピュータに実行させ、
　前記第１部分から前記拡大した第１溶融池の上面に向かう第４方向は上向きであり、
　前記第２部分から前記拡大した第２溶融池の上面に向かう第５方向は上向きである
　プログラム。
［付記２３２］
　物体の造形対象面の少なくとも一部にエネルギビームを照射する照射装置と、前記エネルギビームの照射位置に材料を供給する供給装置と、前記物体の姿勢を変更する変更装置とを備える造形システムを制御するコンピュータに実行させるプログラムであって、
　前記エネルギビームを前記造形対象面に対して第１方向から照射する処理と、
　前記照射位置を前記造形対象面に沿った第２方向に移動させつつ前記材料を供給して、前記第２方向に沿った第１構造物を形成する処理と、
　前記エネルギビームを造形対象面に対して第３方向から前記第１構造物に照射して、前記第１構造物上に第２構造物を形成する処理と
　をコンピュータに実行させ、
　前記第１方向と前記第３方向とは前記造形対象面に対して異なる方向である
　プログラム。
［付記２３３］
　物体の造形対象面の少なくとも一部にエネルギビームを照射する照射装置と、前記エネルギビームの照射位置に材料を供給する供給装置と、前記物体と前記照射位置との相対位置を変更する変更装置とを備える造形システムを制御するコンピュータに実行させるプログラムであって、
　前記エネルギビームを前記物体に照射しつつ第１方向に沿って前記物体と前記照射位置との前記相対位置を変更して前記第１方向に延びた第１構造物を形成する処理と、
　前記エネルギビームを前記第１構造物に照射しつつ前記第１方向と異なる第２方向に沿って前記第１構造物と前記照射位置との前記相対位置を変更して前記第２方向に延びた第２構造物を形成する処理と
　をコンピュータに実行させるプログラム。
［付記２３４］
　物体の造形対象面の少なくとも一部にエネルギビームを照射する照射装置と、前記エネルギビームの照射位置に材料を供給する供給装置と、前記物体と前記照射位置との相対位置を変更する変更装置とを備える造形システムを制御するコンピュータに実行させるプログラムであって、
　前記エネルギビームを前記物体に照射しつつ第１方向に沿って前記物体と前記照射位置との前記相対位置を変更して前記第１方向に延びた第１構造物を有する第１造形物を形成する処理と、
　前記エネルギビームを前記第１造形物に照射しつつ前記第１方向と異なる第２方向に沿って前記第１造形物と前記照射位置との前記相対位置を変更して前記第２方向に延びた第２構造物を有する第２造形物を形成する処理と
　をコンピュータに実行させるプログラム。
［付記２３５］
　物体の造形対象面の少なくとも一部にエネルギビームを照射する照射装置と、前記エネルギビームの照射位置に材料を供給する供給装置と、前記物体と前記照射位置との相対位置を変更する変更装置とを備える造形システムを制御するコンピュータに実行させるプログラムであって、
　前記エネルギビームを前記物体に照射しつつ第１方向に沿って前記物体と前記照射位置との前記相対位置を変更して前記第１方向に延びた第１構造物を形成する処理と、
　前記エネルギビームを前記第１構造物に照射しつつ前記第１方向に沿って前記第１構造物と前記照射位置との前記相対位置を変更して前記第１方向に延びた第２構造物を形成する処理と、
　前記エネルギビームを前記第１及び第２構造物を含む造形物に照射しつつ前記第１方向と異なる第２方向に沿って前記造形物と前記照射位置との前記相対位置を変更して前記第２方向に延びた第３構造物を形成する処理と
　をコンピュータに実行させるプログラム。
［付記２３６］
　物体における非平面状の造形対象面の少なくとも一部にエネルギビームを照射する照射装置と、前記エネルギビームの照射位置に材料を供給する供給装置と、前記物体と前記照射位置との相対位置を変更する変更装置とを備える造形システムを制御するコンピュータに実行させるプログラムであって、
　前記エネルギビームを前記物体に照射しつつ前記物体と前記照射位置との前記相対位置を変更して前記造形対象面に沿った層を形成する処理をコンピュータに実行させる
　プログラム。
［付記２３７］
　物体の造形対象面の少なくとも一部にエネルギビームを照射する照射装置と、前記エネルギビームの照射位置に材料を供給する供給装置と、前記物体と前記照射位置との相対位置を変更する変更装置とを備える造形システムを制御するコンピュータに実行させるプログラムであって、
　前記エネルギビームを照射しつつ前記造形対象面を横切る第１方向及び前記第１方向と交差する第２方向に沿って前記相対位置を変更して、前記造形対象面に層を形成する処理をコンピュータに実行させる
　プログラム。
［付記２３８］
　物体における非平面状の造形対象面の少なくとも一部にエネルギビームを照射する照射装置と、前記エネルギビームの照射位置に材料を供給する供給装置と、前記物体と前記照射位置との相対位置を変更する変更装置とを備える造形システムを制御するコンピュータに実行させるプログラムであって、
　前記エネルギビームを前記物体に照射しつつ前記物体と前記照射位置との前記相対位置を、前記造形対象面を横切る第１方向と交差する第２方向に沿って変更して、第１位置における前記第１方向に沿った第１寸法と、前記第２方向において前記第１位置と異なる第２位置における前記第１方向に沿った第２寸法とが互いに異なる層を形成する処理をコンピュータに実行させる
　プログラム。
［付記２３９］
　物体の造形対象面の少なくとも一部にエネルギビームを照射する照射装置と、前記エネルギビームの照射位置に材料を供給する供給装置と、前記物体と前記照射位置との相対位置を変更する変更装置とを備える造形システムを制御するコンピュータに実行させるプログラムであって、
　前記エネルギビームを前記物体に照射しつつ前記物体と前記照射位置との前記相対位置を第１方向に沿って変更して、前記第１方向に延びた第１層を形成する処理と、
　前記エネルギビームを前記第１層に照射しつつ前記第１層と前記照射位置との前記相対位置を第２方向に沿って変更して、前記第２方向に延びた第２層を形成する処理と
　をコンピュータに実行させ、
　前記第１及び第２方向は、前記第１及び第２層を含む造形物の外面の方向に基づいて決定される
　プログラム。
［付記２４０］
　物体の造形対象面の少なくとも一部にエネルギビームを照射する照射装置と、前記エネルギビームの照射位置に材料を供給する供給装置と、前記物体と前記照射位置との相対位置を変更する変更装置とを備える造形システムを制御するコンピュータに実行させるプログラムであって、
　前記エネルギビームを前記物体に照射しつつ前記物体と前記照射位置との前記相対位置を第１方向に沿って変更して、前記第１方向に延びた造形物を形成する処理をコンピュータに実行させ、
　前記造形物の少なくとも一方の端部における前記第１方向に向けられた側面は、前記造形対象面に接触している
　プログラム。
［付記２４１］
　物体の造形対象面の少なくとも一部にエネルギビームを照射する照射装置と、前記エネルギビームの照射位置に材料を供給する供給装置と、前記物体と前記照射位置との相対位置を変更する変更装置とを備える造形システムを制御するコンピュータに実行させるプログラムであって、
　前記エネルギビームを前記物体に照射しつつ前記物体と前記照射位置との前記相対位置を第１方向に沿って変更して、前記第１方向に延びた第１構造物を形成する処理と、
　前記エネルギビームを前記第１構造物に照射しつつ前記第１構造物と前記照射位置との前記相対位置を前記第１方向又は前記第１方向と平行な第２方向に沿って変更して、前記第１又は前記第２方向に延びた第２構造物を前記第１構造物の第３方向側に形成する処理と
　をコンピュータに実行させ、
　前記第３方向は、前記第１及び第２構造物を有する造形物にかかる力の方向に応じて決定される
　プログラム。
［付記２４２］
　物体にエネルギビームを照射する照射装置と、前記エネルギビームの照射位置に材料を供給する供給装置と、前記物体の表面の少なくとも一部の温度を調整する温度調整装置とを備える造形システムを制御するコンピュータに実行させるプログラムであって、
　物体の表面の少なくとも一部の温度を調整した後に、前記物体に前記エネルギビームを照射して前記物体に３次元構造物を形成する処理をコンピュータに実行させる
　プログラム。
［付記２４３］
　物体にエネルギビームを照射する照射装置と、前記エネルギビームの照射位置に材料を供給する供給装置とを備える造形システムを制御するコンピュータに実行させるプログラムであって、
　前記エネルギビームが前記物体の表面に第１角度で入射可能な状態で第１動作を行う処理と、
　前記エネルギビームが前記表面に前記第１角度とは異なる第２角度で入射可能な状態で前記第１動作とは異なる第２動作を行って、前記物体に３次元構造物を形成する処理と
　をコンピュータに実行させるプログラム。
［付記２４４］
　物体の表面にエネルギビームを照射する照射装置と、前記エネルギビームの照射位置に材料を供給する供給装置と、前記物体と前記照射装置との相対的な姿勢を変更する変更装置とを備える造形システムを制御するコンピュータに実行させるプログラムであって、
　前記エネルギビームが照射された前記表面からの反射ビームが前記照射装置と異なる方向に向かうように前記相対的な姿勢を変更する処理をコンピュータに実行させる
　プログラム。

　上述の各実施形態の構成要件の少なくとも一部は、上述の各実施形態の構成要件の少なくとも他の一部と適宜組み合わせることができる。上述の各実施形態の構成要件のうちの一部が用いられなくてもよい。また、法令で許容される限りにおいて、上述の各実施形態で引用した全ての公開公報及び米国特許の開示を援用して本文の記載の一部とする。

　本発明は、上述した実施例に限られるものではなく、特許請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う造形システム及び造形方法もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。

　１　造形システム
　４　造形装置
　４１　造形ヘッド
　４１１　照射系
　４１２　材料ノズル
　４２　ヘッド駆動系
　４３　ステージ
　４４　ステージ駆動系
　Ｗ　ワーク
　Ｍ　造形材料
　ＳＬ　構造層
　ＳＴ　３次元構造物
　ＥＬ　光
　ＥＡ　照射領域
　ＭＡ　供給領域
　ＭＰ　溶融池
　ＭＳ　造形面

Claims

　物体の造形対象面の少なくとも一部にエネルギビームを照射する照射装置と、
　前記エネルギビームの照射位置に材料を供給する供給装置と、
　前記物体の姿勢を変更する変更装置と
　を備え、
　前記造形対象面の第１部分に前記エネルギビームを照射し、
　前記物体の前記姿勢を変えて前記造形対象面の第２部分に前記エネルギビームを照射して構造物を形成する
　造形システム。
　前記構造物の前記物体と反対側の面における第１位置は、前記反対側の面における前記第１位置と異なる３つの第２位置を含む平面上の位置又は前記平面から外れた位置である
　請求項１に記載の造形システム。
　前記造形対象面は、前記構造物が形成される側に向けられた凸面又は凹面を有する
　請求項１又は２に記載の造形システム。
　前記造形対象面は、第１平面と、前記第１平面と交差する第２平面とを含む
　請求項１から３のいずれか一項に記載の造形システム。
　前記造形対象面は曲面を有する
　請求項１から４のいずれか一項に記載の造形システム。
　前記構造物は、前記造形対象面に沿った形状を有する
　請求項１から５のいずれか一項に記載の造形システム。
　前記構造物の前記造形対象面と反対側の面における第１位置は、前記反対側の面における前記第１位置と異なる３つの第２位置を含む第３平面上の位置又は前記第３平面から外れた位置であり、
　前記造形対象面上の第３位置は、前記造形対象面における前記第３位置と異なる３つの第４位置を含む第４平面から外れた位置であり、
　第１方向に沿った前記第４平面から前記第３位置までの第１距離は、前記第１方向に沿った前記第３平面から前記第１位置までの第２距離よりも大きい
　請求項１から６のいずれか一項に記載の造形システム。
　前記物体を第１姿勢にして前記物体上の前記第１部分に前記エネルギビームを照射し、前記物体を前記第１姿勢と異なる第２姿勢にして前記物体上の前記第２部分に前記エネルギビームを照射して、構造物を形成する
　請求項１から７のいずれか一項に記載の造形システム。
　前記第２部分は、前記造形対象面の前記第１部分と異なる部分を含む
　請求項１から８のいずれか一項に記載の造形システム。
　前記変更装置は、第１軸を中心とした回転方向に沿って前記物体の姿勢を変更する
　請求項１から９のいずれか一項に記載の造形システム。
　前記第１軸は、重力方向に対して傾斜している
　請求項１０に記載の造形システム。
　前記第１部分が向けられている第２方向は上向きであり、
　前記第２部分が向けられている第３方向は上向きである
　請求項１から１１のいずれか一項に記載の造形システム。
　前記第２方向を通る軸及び前記第３方向を通る軸は、重力方向に平行又は前記重力方向を通る軸に対して４５度未満で交差する
　請求項１２に記載の造形システム。
　前記第１部分が向けられている第２方向と、前記第２部分が向けられている第３方向とは同じ向きである
　請求項１から１３のいずれか一項に記載の造形システム。
　前記変更装置は、前記エネルギビームが照射された前記物体からの反射ビームが前記照射装置と異なる方向に向かうように前記物体の前記姿勢を変更する
　請求項１から１４のいずれか一項に記載の造形システム。
　前記物体からの反射ビームが前記照射装置と異なる方向に向かう状態で、前記物体に前記エネルギビームを照射して前記物体上に構造物を形成する
　請求項１５に記載の造形システム。
　前記造形対象面の前記第１部分に前記エネルギビームを照射して前記第１部分に第１溶融池を形成し、前記第１溶融池に前記材料を供給することにより前記第１溶融池を拡大させ、
　前記物体の前記姿勢を変えて前記造形対象面の前記第２部分に前記エネルギビームを照射して前記第２部分に溶融池を形成し、前記第２溶融池に前記材料を供給することにより前記第２溶融池を拡大させ、
　前記第１部分から前記拡大した第１溶融池の上面に向かう第４方向は上向きであり、
　前記第２部分から前記拡大した第２溶融池の上面に向かう第５方向は上向きである
　請求項１から１６のいずれか一項に記載の造形システム。
　前記第４方向を通る軸及び前記第５方向を通る軸は、重力方向に平行又は前記重力方向を通る軸に対して４５度未満で交差する
　請求項１７に記載の造形システム。
　前記第４方向と前記第５方向とは同じ方向である
　請求項１７又は１８に記載の造形システム。
　前記構造物は、前記第１部分から前記第２部分に延ばされた形状を有する
　請求項１から１９のいずれか一項に記載の造形システム。
　前記変更装置は、前記物体と前記照射位置との相対位置を変更する
　請求項１から２０のいずれか一項に記載の造形システム。
　前記第１部分に前記エネルギビームを照射し、前記物体と前記照射位置との相対位置及び前記物体の姿勢を変更して前記第２部分に前記エネルギビームを照射する
　請求項２１に記載の造形システム。
　前記相対位置は、前記第１部分から前記第２部分に向かう方向と交差する方向において変更される
　請求項２２に記載の造形システム。
　前記エネルギビームを前記物体に照射しつつ前記物体と前記照射位置との前記相対位置を、前記造形対象面を横切る第６方向と交差する第７方向に沿って変更して、第５位置における前記第６方向に沿った第１寸法と、前記第７方向において前記第５位置と異なる第６位置における前記第６方向に沿った第２寸法とが互いに異なる層を形成する
　請求項２１から２３のいずれか一項に記載の造形システム。
　前記エネルギビームを前記物体に照射しつつ前記物体と前記照射位置との前記相対位置を第８方向に沿って変更して、前記第８方向に延びた造形物を形成し、
　前記造形物の端部のうち少なくとも一方の端部における前記第８方向に向けられた側面は、前記造形対象面に接触している
　請求項２１から２４のいずれか一項に記載の造形システム。
　前記エネルギビームを前記物体に照射しつつ前記物体と前記照射位置との前記相対位置を第９方向に沿って変更して、前記第９方向に延びた第１構造物を形成し、
　前記エネルギビームを前記第１構造物に照射しつつ前記第１構造物と前記照射位置との前記相対位置を前記第９方向に沿って変更して、前記第９方向に延びた第２構造物を前記第１構造物の第１０方向側に形成し、
　前記第１０方向は、前記３次元構造物にかかる力の方向に応じて決定される
　請求項２１から２５のいずれか一項に記載の造形システム。
　前記構造物を形成しているとき、前記照射装置からの前記エネルギビームの集光位置は変化しない
　請求項１から２６のいずれか一項に記載の造形システム。
　前記物体の前記造形対象面の少なくとも一部の温度を調整した後に、前記造形対象面の前記少なくとも一部に前記エネルギビームを照射して前記構造物を形成する
　請求項１から２７のいずれか一項に記載の造形システム。
　前記エネルギビームを前記物体に照射して第１１方向に延びた第１構造物を形成し、前記エネルギビームを前記第１構造物に照射して前記第１１方向と異なる第１２方向に延びた第２構造物を形成する
　請求項１から２８のいずれか一項に記載の造形システム。
　前記エネルギビームを前記物体に照射して第１１方向に延びた第１構造物を有する第１造形物を形成し、前記エネルギビームを前記第１造形物に照射して前記第１１方向と異なる第１２方向に延びた第２構造物を有する第２造形物を形成する
　請求項１から２９のいずれか一項に記載の造形システム。
　前記エネルギビームを前記物体に照射して第１１方向に延びた第１構造物を有する第１造形物を形成し、
　前記エネルギビームを前記第１構造物に照射して前記第１１方向に延びた第３構造物を形成し、
　前記エネルギビームを前記第１及び第３構造物を含む造形物に照射して、前記第１１方向と異なる第１２方向に延びた第２構造物を形成する
　請求項１から３０のいずれか一項に記載の造形システム。
　前記エネルギビームを前記造形対象面に対して第１３方向から照射し、前記照射位置を前記造形対象面に沿った第１４方向に移動させつつ前記材料を供給して、前記第１４方向に沿った第１構造物を形成し、
　前記エネルギビームを前記第１３方向と異なる第１５方向から前記第１構造物に照射して、前記第１構造物上に第２構造物を形成する
　請求項１から３１のいずれか一項に記載の造形システム。
　前記エネルギビームを前記第３方向から前記第１構造物に照射して前記エネルギビームを前記第１構造物に照射し、前記照射位置を前記第２方向又は前記第２方向と平行な第４方向に移動させつつ前記材料を供給して、前記第２又は第４方向に沿った前記第２構造物を形成する
　請求項３２に記載の造形システム。
　前記物体は、第５方向に沿って複数の層を有する構造物であり、
　前記第２方向は、前記第５方向と交差する
　請求項３２又は３３に記載の造形システム。