WO2018179263A1

WO2018179263A1 - 表示装置の製造方法、蒸着用マスク及びアクティブマトリクス基板

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Publication number: WO2018179263A1
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Inventors: 勇毅小林; 学二星; 井上　智; 井上　毅
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Abstract

アクティブマトリクス基板（２０）の表示領域（ＤＡ）内に積層膜２２を形成するとともに、アクティブマトリクス基板（２０）の表示領域（ＤＡ）外に、単一層の蒸着膜（２１）とは少なくとも一部で重ならないように、単一層の蒸着膜（２３）を形成する。

Description

表示装置の製造方法、蒸着用マスク及びアクティブマトリクス基板

　本発明は、表示装置の製造方法と、蒸着用マスクと、アクティブマトリクス基板とに関するものである。

　近年、さまざまなフラットパネルディスプレイが開発されており、特に、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ　ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示装置は、低消費電力化、薄型化および高画質化などを実現できる点から、優れたフラットパネルディスプレイとして高い注目を浴びている。

　このような有機ＥＬ表示装置の製造工程には、蒸着用マスクを用いた複数の蒸着膜の形成工程が含まれており、蒸着膜の形成工程において、膜厚バラツキや成膜位置ズレが発生した場合、有機ＥＬ表示装置の品質不良につながるので問題となる。

　そこで、蒸着用マスクの開口の精度を向上させるための試みが多数なされている。例えば、特許文献１から５には、蒸着用マスクの開口の精度を向上させるため、蒸着用マスクにダミー開口部を設けることについて記載されている。

日本国公開特許公報「特開２００４‐１８５８３２号」公報（２００４年７月２日公開）日本国公開特許公報「特開２００４‐２９６４３６号」公報（２００４年１０月２１日公開）日本国公開特許公報「特開２０１４‐１２５６７１号」公報（２０１４年７月７日公開）日本国公開特許公報「特開２００５‐３０２４５７号」公報（２００５年１０月２７日公開）日本国公開特許公報「特開２０１５‐１０３４２７号」公報（２０１５年６月４日公開）

　しかしながら、特許文献１から５に記載されているように、蒸着用マスクの開口の精度を向上させたとしても、蒸着用マスクの開口の精度以外の問題に基因して、蒸着膜の形成工程において、膜厚バラツキや成膜位置ズレが発生し得る。

　蒸着膜の形成工程において、膜厚バラツキや成膜位置ズレが発生した場合、有機ＥＬ表示装置の品質不良につながるので、上記工程において、膜厚バラツキや成膜位置ズレが発生していることを検出する必要がある。

　このように、膜厚バラツキや成膜位置ズレが発生していることを検出するためには、蒸着膜を形成したアクティブマトリクス基板を定期的に抜き取り、アクティブマトリクス基板の非表示領域に、別途成膜された蒸着膜の膜厚バラツキや成膜位置ズレを検査する必要がある。

　アクティブマトリクス基板の非表示領域に、蒸着膜の膜厚バラツキや成膜位置ズレを検査するための蒸着膜を、別途成膜するためには、蒸着用マスク側に、別途、検査用蒸着膜を成膜するための開口を設ける必要があるが、上記特許文献１から５に記載されている蒸着用マスクの何れにも、検査用蒸着膜を成膜するための開口は設けられていない。

　また、有機ＥＬ表示装置などの表示装置の製造工程における蒸着膜の形成工程においては、アクティブマトリクス基板上に、同一パターンの複数の異なる蒸着膜を形成する場合、蒸着用マスクの開口パターンが同一である複数の蒸着用マスクを用いる。

　したがって、検査用蒸着膜を成膜するための開口は設けられてなく、蒸着用マスクの開口パターンが同一である複数の蒸着用マスクを用いて、アクティブマトリクス基板上に、同一パターンの複数の異なる蒸着膜を積層形成した場合には、アクティブマトリクス基板の表示領域に、積層された状態で成膜された蒸着膜を用いて、膜厚バラツキや成膜位置ズレを検査する必要があり、満足できる精度に膜厚バラツキや成膜位置ズレの検査をできないという問題がある。

　本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、膜厚バラツキや成膜位置ズレを精度高く検査できる蒸着膜を形成できる、表示装置の製造方法と、蒸着用マスクと、アクティブマトリクス基板とを提供することを目的とする。

　本発明の表示装置の製造方法は、上記の課題を解決するために、一定の規則に沿って配置された蒸着粒子を通す複数の開口を含む蒸着用マスクを用いた積層膜の形成工程を含む表示装置の製造方法であって、上記蒸着用マスクにおいて上記複数の開口が形成された開口群形成領域の大きさは、アクティブマトリクス基板の表示領域より大きく、上記アクティブマトリクス基板上に第１の蒸着膜を形成する第１工程においては、上記蒸着用マスクの上記複数の開口の一部である複数の第１の開口からなる第１の開口群を介して、上記アクティブマトリクス基板の表示領域内に第１の蒸着膜を形成するとともに、上記蒸着用マスクの上記複数の開口の残りの一部である複数の第２の開口からなる第２の開口群を介して、上記アクティブマトリクス基板の表示領域外に第１の蒸着膜を形成し、上記アクティブマトリクス基板上に第２の蒸着膜を形成する第２工程においては、上記蒸着用マスクを、上記第２の開口群の少なくとも一部が上記アクティブマトリクス基板の表示領域内に配置される方向にずらし、上記アクティブマトリクス基板の表示領域内に上記第１の蒸着膜と第２の蒸着膜との積層膜を形成するとともに、上記アクティブマトリクス基板の表示領域外に、上記第１工程において上記アクティブマトリクス基板の表示領域外に形成された上記第１の蒸着膜とは少なくとも一部で重ならないように、第２の蒸着膜を形成することを特徴としている。

　上記方法によれば、上記アクティブマトリクス基板の表示領域外に、上記第１工程において上記アクティブマトリクス基板の表示領域外に形成された上記第１の蒸着膜とは少なくとも一部で重ならないように、第２の蒸着膜を形成できるので、上記第１の蒸着膜と上記第２の蒸着膜とを用いて膜厚バラツキや成膜位置ズレを精度高く検査できる。

　なお、上記開口群形成領域とは、上記複数の開口を含み、かつ、アクティブマトリクス基板の表示領域より大きい、蒸着用マスクにおける領域である。

　本発明の表示装置の製造方法は、上記の課題を解決するために、蒸着粒子を通す一つの開口を含む蒸着用マスクを用いた積層膜の形成工程を含む表示装置の製造方法であって、上記蒸着用マスクの上記一つの開口は、アクティブマトリクス基板の表示領域より大きく、上記アクティブマトリクス基板上に第３の蒸着膜を形成する第３工程においては、上記蒸着用マスクの上記一つの開口の第１の部分を介して、上記アクティブマトリクス基板の表示領域内に第３の蒸着膜を形成するとともに、上記蒸着用マスクの上記一つの開口の上記第１の部分とは異なる残りの第２の部分を介して、上記アクティブマトリクス基板の表示領域外に第３の蒸着膜を形成し、上記アクティブマトリクス基板上に第４の蒸着膜を形成する第４工程においては、上記蒸着用マスクを一方向にずらし、上記アクティブマトリクス基板の表示領域内に上記第３の蒸着膜と第４の蒸着膜とを含む積層膜を形成するとともに、上記アクティブマトリクス基板の表示領域外に、上記第３工程において上記アクティブマトリクス基板の表示領域外に形成された上記第３の蒸着膜とは重ならないように、第４の蒸着膜を形成することを特徴としている。

　上記方法によれば、上記アクティブマトリクス基板の表示領域外に、上記第３工程において上記アクティブマトリクス基板の表示領域外に形成された上記第３の蒸着膜とは重ならないように、第４の蒸着膜を形成できるので、上記第３の蒸着膜と上記第４の蒸着膜とを用いて膜厚バラツキや成膜位置ズレを精度高く検査できる。

　本発明の蒸着用マスクは、上記の課題を解決するために、一定の規則に沿って配置された蒸着粒子を通す複数の開口を含む蒸着用マスクであって、上記蒸着用マスクにおいて上記複数の開口が形成された開口群形成領域の大きさは、アクティブマトリクス基板の表示領域より大きいことを特徴としている。

　上記構成によれば、上記蒸着用マスクにおいて上記複数の開口が形成された領域の大きさは、アクティブマトリクス基板の表示領域より大きいので、上記蒸着用マスクを一方向にずらして複数の蒸着膜を形成することで、上記アクティブマトリクス基板の表示領域外に、積層されていない状態の蒸着膜を形成できる。したがって、膜厚バラツキや成膜位置ズレを精度高く検査できる蒸着膜を形成できる。

　本発明の蒸着用マスクは、上記の課題を解決するために、蒸着粒子を通す一つの開口を含む蒸着用マスクであって、上記蒸着用マスクにおいて上記一つの開口の大きさは、アクティブマトリクス基板の表示領域より大きいことを特徴としている。

　上記構成によれば、上記蒸着用マスクにおいて上記一つの開口の大きさは、アクティブマトリクス基板の表示領域より大きいので、上記蒸着用マスクを一方向にずらして複数の蒸着膜を形成することで、上記アクティブマトリクス基板の表示領域外に、積層されていない状態の蒸着膜を形成できる。したがって、膜厚バラツキや成膜位置ズレを精度高く検査できる蒸着膜を形成できる。

　本発明のアクティブマトリクス基板は、上記の課題を解決するために、基板と、上記基板上に、複数のアクティブ素子と、上記複数のアクティブ素子の各々に電気的に接続された複数の第１電極とを備えたアクティブマトリクス基板であって、上記複数の第１電極が形成された領域が表示領域であり、上記表示領域の上記複数の第１電極の各々の上には、正孔輸送層と、発光層とを含む積層膜が形成されており、上記表示領域外には、上記正孔輸送層と上記発光層とが、単一層として形成されていることを特徴としている。

　上記構成によれば、上記アクティブマトリクス基板の上記表示領域外には、上記正孔輸送層と上記発光層とが、単一層として形成されているので、上記正孔輸送層及び上記発光層の膜厚バラツキや成膜位置ズレを精度高く検査できる。

　本発明の一態様によれば、膜厚バラツキや成膜位置ズレを精度高く検査できる蒸着膜を形成できる、表示装置の製造方法と、蒸着用マスクと、アクティブマトリクス基板とを提供できる。

有機ＥＬ表示装置の概略構成を示す図である。蒸着用マスクの概略構成を示す図である。正孔輸送層を形成する工程における蒸着用マスクの配置位置と、赤色発光層を形成する工程における蒸着用マスクの配置位置との差を示す図である。正孔輸送層を形成する工程と赤色発光層を形成する工程とにおける、蒸着用マスクのアクティブマトリクス基板に対する配置位置の差を示す図である。アクティブマトリクス基板上に形成された正孔輸送層と赤色発光層との膜厚バラツキや成膜位置ズレを検査する工程を説明する図である。図２に図示した蒸着用マスクの変形例を示す図である。第３の開口を備えた蒸着用マスクの概略構成を示す図である。図７に図示した蒸着用マスクを用いる場合において、正孔輸送層を形成する工程における蒸着用マスクの配置位置と、赤色発光層を形成する工程における蒸着用マスクの配置位置との差を示す図である。図７に図示した蒸着用マスクを用いて、アクティブマトリクス基板上に、正孔輸送層と赤色発光層とを形成した場合を示す図である。複数のディバイデッドマスクを含む蒸着用マスクを示す図である。正孔輸送層と緑色発光層とを形成するための他の蒸着用マスクの概略構成を示す図である。正孔輸送層と青色発光層とを形成するためのさらに他の蒸着用マスクの概略構成を示す図である。図９に図示したアクティブマトリクス基板上に、さらに、正孔輸送層、緑色発光層及び青色発光層を形成した場合を示す図である。正孔注入層と電子輸送層とを形成する工程に用いられる蒸着用マスクの概略構成を示す図である。図１４に図示した蒸着用マスクを用いて、正孔注入層と電子輸送層とを形成したアクティブマトリクス基板を示す図である。

　本発明の実施の形態について図１から図１５に基づいて説明すれば、次の通りである。以下、説明の便宜上、特定の実施形態にて説明した構成と同一の機能を有する構成については、同一の符号を付記し、その説明を省略する場合がある。

　なお、以下の各実施形態においては、表示装置の一例として、有機ＥＬ表示装置を挙げて説明するが、複数の蒸着膜を備えている表示装置であれば、有機ＥＬ表示装置に限定されることはない。

　〔実施形態１〕
　図１から図６に基づき、本発明の実施形態１について説明する。

　図１は、有機ＥＬ表示装置１の概略構成を示す図である。

　図示されているように、有機ＥＬ表示装置１は、基板２と、基板２の一方側の面に形成されたアクティブ素子３（例えばＴＦＴ素子）と、アクティブ素子３を覆う絶縁膜４と、絶縁膜４に形成されたコンタクトホールを介して、アクティブ素子３と電気的に接続された第１の電極５（例えば、ＩＴＯなど）と、第１の電極５の端部と隣接する２つの第１の電極５の間で露出している絶縁膜４とを覆うように形成されたエッジカバー１０とを備えている。

　さらに、有機ＥＬ表示装置１は、第１の電極５及びエッジカバー１０を覆うように、基板２における表示領域（図示せず）のほぼ全面に形成された正孔注入層６（ＨｏｌｅＩｎｊｅｃｔｉｏｎＬａｙｅｒ；ＨＩＬ層）と、第１の電極５が形成されている領域の上層であって、正孔注入層６上に形成された正孔輸送層７Ｒ・７Ｇ・７Ｂ（ＨｏｌｅＴｒａｎｓｐｏｒｔＬａｙｅｒ；ＨＴＬ層）と、正孔輸送層７Ｒ上に形成された赤色発光層８Ｒ（ＥｍｉｔｔｉｎｇＬａｙｅｒ；ＥＭＬ層）、正孔輸送層７Ｇ上に形成された緑色発光層８Ｇ（ＥｍｉｔｔｉｎｇＬａｙｅｒ；ＥＭＬ層）及び正孔輸送層７Ｂ上に形成された青色発光層８Ｂ（ＥｍｉｔｔｉｎｇＬａｙｅｒ；ＥＭＬ層）と、正孔注入層６、赤色発光層８Ｒ、緑色発光層８Ｇ及び青色発光層８Ｂを覆うように、基板２における表示領域（図示せず）のほぼ全面に形成された電子輸送層９（ＥｌｅｃｔｒｏｎＴｒａｎｓｐｏｒｔＬａｙｅｒ；ＥＴＬ層）と、電子輸送層９を覆うように、基板２における表示領域（図示せず）のほぼ全面に形成された第２の電極（例えば、金属層）とを備えている。

　本実施形態においては、複数の開口が同一パターンで形成された蒸着用マスク１１を用いて、正孔輸送層７Ｒと、正孔輸送層７Ｒ上に赤色発光層８Ｒとを形成する場合を一例に挙げて説明するが、後述する他の実施形態で説明するように、複数の開口が同一パターンで形成された蒸着用マスクを用いて、正孔輸送層７Ｇと、正孔輸送層７Ｇ上に緑色発光層８Ｇとを形成してもよく、複数の開口が同一パターンで形成された蒸着用マスクを用いて、正孔輸送層７Ｂと、正孔輸送層７Ｂ上に青色発光層８Ｂとを形成してもよい。

　複数の開口が同一パターンで形成された蒸着用マスク１１は、塗り分け蒸着膜形成用マスク（ＦＭＭ（Fine Metal Mask）マスクともいう）である。

　図２は、蒸着用マスク１１の概略構成を示す図である。

　図示されているように、蒸着用マスク１１は、３つの開口群形成領域１２を備えている。有機ＥＬ表示装置１を製造するとき、より低コストで製造するために、大きな母基板にサブ基板（例えば５インチ）を複数同時に作成し、それを切り出して個々のサブ基板を作成する方法が用いられる場合ある。開口群形成領域１２は、そのサブ基板に対応するマスク領域のことである。

　３つの開口群形成領域１２の各々には、蒸着粒子を通す複数の開口１３Ｒ・１４Ｒが含まれている。開口群形成領域１２の各々は、複数の第１の開口１３Ｒが一定の規則に沿って繰り返し配置された第１の開口群１３Ｒ’と、複数の第１の開口１３Ｒが配置された一定の規則と同一の規則に沿って、第１の開口群１３Ｒ’と隣接するように配置された、第１の開口１３Ｒと同一形状の複数の第２の開口１４Ｒからなる第２の開口群１４Ｒ’とを含む。

　なお、開口群形成領域１２は、蒸着粒子を通す複数の開口１３Ｒ・１４Ｒを含み、かつ、アクティブマトリクス基板２０の表示領域より大きい、蒸着用マスク１１における領域である。

　図中において、点線で図示した複数の第１の開口１３Ｇ・１３Ｂは、蒸着用マスク１１には実際には存在しない仮想の開口であり、第１の開口１３Ｒ間の間隔の参考のために図示したものであり、点線で図示した複数の第２の開口１４Ｇ・１４Ｂは、蒸着用マスク１１には実際には存在しない仮想の開口であり、第２の開口１４Ｒ間の間隔の参考のために図示したものであり、３つの開口群形成領域１２の各々には、仮想の開口である第１の開口１３Ｇ・１３Ｂ及び第２の開口１４Ｇ・１４Ｂも含まれる。

　蒸着用マスク１１において、複数の開口１３Ｒ・１４Ｒが形成された領域である開口群形成領域１２の各々の大きさは、アクティブマトリクス基板（図示せず）の表示領域より大きい。

　第１の開口群１３Ｒ’に含まれる開口１３Ｒの数は、アクティブマトリクス基板の表示領域における赤色の階調を示す画素の数であり、第２の開口１４Ｒは、アクティブマトリクス基板の表示領域外に、蒸着膜を形成するための開口である。

　図３は、正孔輸送層７Ｒを形成する工程における蒸着用マスク１１の配置位置と、赤色発光層８Ｒを形成する工程における蒸着用マスク１１の配置位置との差を示す図である。なお、図３においては、図２に図示した蒸着用マスク１１の３つの開口群形成領域１２中、一つのみを図示している。

　図示されているように、赤色発光層８Ｒを形成する工程における蒸着用マスク１１の配置位置は、正孔輸送層７Ｒを形成する工程における蒸着用マスク１１の配置位置より図中上側に、画素ピッチ分、例えば、３０μｍオフセットされている。

　なお、本実施形態においては、図示されているように、第１の開口１３Ｒまたは、第２の開口１４Ｒの各々における図中上下方向の幅と、隣接する第１の開口１３Ｒと第２の開口１４Ｒとの間の図中上下方向の幅または、隣接する第１の開口１３Ｒと第１の開口１３Ｒとの間の図中上下方向の幅とを合わせた幅が、３０μｍとなっている場合、すなわち、蒸着用マスク１１をずらす方向（図中上下方向）において隣接する第１の開口１３Ｒ間のピッチは、蒸着用マスク１１をずらす方向において隣接する第１の開口１３Ｒと第２の開口１４Ｒとの間のピッチと、同じであるため、蒸着用マスク１１を３０μｍオフセットさせているが、蒸着用マスクに形成された開口の形状によって、オフセット量が変わることは言うまでもない。

　図３における左側の図のような蒸着用マスク１１の配置位置で、アクティブマトリクス基板（図示せず）上に正孔輸送層７Ｒを形成した後に、図３における右側の図のような蒸着用マスク１１の配置位置で、アクティブマトリクス基板（図示せず）上に赤色発光層８Ｒを形成した。

　図４は、正孔輸送層７Ｒを形成する工程と赤色発光層８Ｒを形成する工程とにおける、蒸着用マスク１１のアクティブマトリクス基板２０に対する配置位置の差を示す図である。

　図示されているように、蒸着用マスク１１において、複数の開口が形成された開口群形成領域１２は、アクティブマトリクス基板２０の表示領域ＤＡより大きい。

　正孔輸送層７Ｒを形成する工程においては、蒸着用マスク１１における図示していない第１の開口１３Ｒの各々は、アクティブマトリクス基板２０の表示領域ＤＡ内における第１の電極（図示せず）の各々と、平面視において重なるようにするとともに、蒸着用マスク１１における図示していない第２の開口１４Ｒの各々は、アクティブマトリクス基板２０の表示領域ＤＡ外に、配置されるように、蒸着用マスク１１をアクティブマトリクス基板２０に対して、セット・アライメント（位置合わせ）した。

　このように、蒸着用マスク１１をアクティブマトリクス基板２０に対して、セット・アライメントした状態で、正孔輸送層７Ｒを形成することにより、アクティブマトリクス基板２０の表示領域ＤＡ内と表示領域ＤＡ外とに、正孔輸送層７Ｒである島状の蒸着膜２１を形成することができる。

　その後、赤色発光層８Ｒを形成する工程においては、蒸着用マスク１１を、図３に図示したように、画素ピッチ分、上側にオフセットさせ、蒸着用マスク１１における図示していない第１の開口１３Ｒの一部（最上行の第１の開口以外の第１の開口）と、図示していない第２の開口１４Ｒの各々は、アクティブマトリクス基板２０の表示領域ＤＡ内における第１の電極（図示せず）の各々と、平面視において重なるようにするとともに、蒸着用マスク１１における図示していない第１の開口１３Ｒ中の最上行の第１の開口は、アクティブマトリクス基板２０の表示領域ＤＡ外であって、正孔輸送層７Ｒを形成する工程においてアクティブマトリクス基板２０の表示領域ＤＡ外に形成された島状の蒸着膜２１と平面視において重ならないように、蒸着用マスク１１をアクティブマトリクス基板２０に対して、セット・アライメント（位置合わせ）した。

　このように、蒸着用マスク１１をアクティブマトリクス基板２０に対して、セット・アライメントした状態で、赤色発光層８Ｒを形成することにより、アクティブマトリクス基板２０の表示領域ＤＡ内に正孔輸送層７Ｒと赤色発光層８Ｒとの積層膜２２を形成するとともに、アクティブマトリクス基板２０の表示領域ＤＡ外に、単一膜として、正孔輸送層７Ｒである島状の蒸着膜２１と赤色発光層８Ｒである島状の蒸着膜２３とを形成することができる。

　本実施形態においては、アクティブマトリクス基板２０の表示領域ＤＡ外の下側に、単一膜として、正孔輸送層７Ｒである島状の蒸着膜２１を形成し、アクティブマトリクス基板２０の表示領域ＤＡ外の上側に、単一膜として、赤色発光層８Ｒである島状の蒸着膜２３を形成した場合を一例に挙げて説明したが、これに限定されることはなく、正孔輸送層７Ｒを形成する工程におけるアクティブマトリクス基板２０に対する蒸着用マスク１１の配置位置と、赤色発光層８Ｒを形成する工程における蒸着用マスク１１のオフセット方向を変えることによって、アクティブマトリクス基板２０の表示領域ＤＡ外の上側に、単一膜として、正孔輸送層７Ｒである島状の蒸着膜２１を形成し、アクティブマトリクス基板２０の表示領域ＤＡ外の下側に、単一膜として、赤色発光層８Ｒである島状の蒸着膜２３を形成してもよい。

　また、本実施形態においては、第２の開口群１４Ｒ’が、第１の開口群１３Ｒ’の下側に配置された場合を一例に挙げて説明したが、これに限定されることはなく、第２の開口群１４Ｒ’は、第１の開口群１３Ｒ’の上側に配置されていてもよく、さらには、第２の開口群１４Ｒ’は、第１の開口群１３Ｒ’の右側や左側に配置されていてもよい。なお、第２の開口群１４Ｒ’が、第１の開口群１３Ｒ’の右側や左側に配置されている場合には、アクティブマトリクス基板２０の表示領域ＤＡ外の右側や左側に、単一膜としての、蒸着膜２１及び蒸着膜２３が形成されることとなる。

　図５は、アクティブマトリクス基板２０上に形成された正孔輸送層７Ｒと赤色発光層８Ｒとの膜厚バラツキや成膜位置ズレを検査する工程を説明する図である。

　先ず、アクティブマトリクス基板２０を蒸着装置に搬入し（Ｓ１）、図３及び図４に図示したように、蒸着用マスク１１における図示していない第１の開口１３Ｒの各々は、アクティブマトリクス基板２０の表示領域ＤＡ内における第１の電極（図示せず）の各々と、平面視において重なるようにするとともに、蒸着用マスク１１における図示していない第２の開口１４Ｒの各々は、アクティブマトリクス基板２０の表示領域ＤＡ外に、配置されるように、蒸着用マスク１１をアクティブマトリクス基板２０に対して、セット・アライメント（位置合わせ）する（Ｓ２）。

　そして、蒸着用マスク１１をアクティブマトリクス基板２０に対して、このようにセット・アライメントした状態で、正孔輸送層７Ｒを形成する（Ｓ３）。

　それから、蒸着用マスク１１をアクティブマトリクス基板２０から外し（Ｓ４）、蒸着装置からアクティブマトリクス基板２０を搬出する（Ｓ５）。

　その後、観察装置を用いて、アクティブマトリクス基板２０の表示領域ＤＡ外に形成された、単一層としての正孔輸送層７Ｒである島状の蒸着膜２１の膜厚や位置ずれを観察した（Ｓ６）。

　観察後、再び、アクティブマトリクス基板２０を蒸着装置に搬入し（Ｓ７）、図３及び図４に図示したように、蒸着用マスク１１を、画素ピッチ分、上側にオフセットさせ、蒸着用マスク１１における図示していない第１の開口１３Ｒの一部（最上行の第１の開口以外の第１の開口）と、図示していない第２の開口１４Ｒの各々は、アクティブマトリクス基板２０の表示領域ＤＡ内における第１の電極（図示せず）の各々と、平面視において重なるようにするとともに、蒸着用マスク１１における図示していない第１の開口１３Ｒ中の最上行の第１の開口は、アクティブマトリクス基板２０の表示領域ＤＡ外であって、正孔輸送層７Ｒを形成する工程においてアクティブマトリクス基板２０の表示領域ＤＡ外に形成された島状の蒸着膜２１と平面視において重ならないように、蒸着用マスク１１をアクティブマトリクス基板２０に対して、セット・アライメント（位置合わせ）した（Ｓ８）。

　そして、蒸着用マスク１１をアクティブマトリクス基板２０に対して、このようにセット・アライメントした状態で、赤色発光層８Ｒを形成する（Ｓ９）。

　それから、蒸着用マスク１１をアクティブマトリクス基板２０から外し（Ｓ１０）、蒸着装置からアクティブマトリクス基板２０を搬出する（Ｓ１１）。

　その後、観察装置を用いて、アクティブマトリクス基板２０の表示領域ＤＡ外に形成された単一層としての赤色発光層８Ｒである島状の蒸着膜２３の膜厚や位置ずれを観察した（Ｓ１２）。

　以上のように、膜厚バラツキや成膜位置ズレを精度高く検査できる蒸着膜を形成できる、有機ＥＬ表示装置１の製造方法を実現できる。

　本実施形態においては、図５に図示しているように、アクティブマトリクス基板２０の表示領域ＤＡ外に形成された、単一層としての正孔輸送層７Ｒである島状の蒸着膜２１の膜厚や位置ずれを観察した後に、アクティブマトリクス基板２０に赤色発光層８Ｒを形成し、再び、アクティブマトリクス基板２０の表示領域ＤＡ外に形成された単一層としての赤色発光層８Ｒである島状の蒸着膜２３の膜厚や位置ずれを観察した場合を一例に挙げて説明したが、これに限定されることはなく、アクティブマトリクス基板２０上に、先ず、正孔輸送層７Ｒと、赤色発光層８Ｒとを形成した後、アクティブマトリクス基板２０の表示領域ＤＡ外に形成された、単一層としての正孔輸送層７Ｒである島状の蒸着膜２１及び赤色発光層８Ｒである島状の蒸着膜２３の膜厚や位置ずれを観察してもよい。

　図６は、図２に図示した蒸着用マスク１１の変形例を示す図であり、図６の（ａ）は、複数の第２の開口１４Ｒを、複数の第１の開口１３Ｒの上側及び下側に備えた蒸着用マスク３０ａの概略構成を示す図であり、図６の（ｂ）は、複数の第２の開口１４Ｒを、複数の第１の開口１３Ｒの上側、右側、下側及び左側に設けた蒸着用マスク３０ｂの概略構成を示す図である。

　図６の（ａ）に図示した蒸着用マスク３０ａの場合、蒸着用マスク３０ａをずらす方向を上方向及び下方向の何れにもできるので、オフセットさせる方向の自由度が高い。

　また、図６の（ｂ）に図示した蒸着用マスク３０ｂの場合、蒸着用マスク３０ｂをずらす方向を上方向、下方向、右方向及び左方向の何れにもできるので、オフセットさせる方向の自由度が高い。

　なお、図６の（ａ）及び図６の（ｂ）に図示した蒸着用マスク３０ａ・３０ｂの場合、アクティブマトリクス基板２０の表示領域ＤＡ外に、単一層としての正孔輸送層７Ｒである島状の蒸着膜２１と、単一層としての赤色発光層８Ｒである島状の蒸着膜２３と、正孔輸送層７Ｒと赤色発光層８Ｒとの島状の積層膜２２とが形成され、単一層としての正孔輸送層７Ｒである島状の蒸着膜２１と、単一層としての赤色発光層８Ｒである島状の蒸着膜２３との膜厚や位置ずれを観察することで、蒸着膜の膜厚バラツキや成膜位置ズレを精度高く検査できる。

　なお、本実施形態においては、蒸着用マスク１１をアクティブマトリクス基板２０に対して、固定して蒸着を行う場合を一例に挙げて説明したが、これに限定されることはなく、蒸着用マスク１１をアクティブマトリクス基板２０に対して、段階的に移動させながら、アクティブマトリクス基板２０の所定領域毎に蒸着を行ってもよく（ステップ蒸着ともいう）、アクティブマトリクス基板２０を蒸着用マスク１１に対して、段階的に移動させながら、アクティブマトリクス基板２０の所定領域毎に蒸着を行ってもよい（ステップ蒸着ともいう）。

　また、蒸着用マスク１１をアクティブマトリクス基板２０に対して固定した上で、蒸着材料を加熱して蒸発（蒸着材料が液体材料である場合）または昇華（蒸着材料が固体材料である場合）させることで気体状の蒸着粒子を発生させ、複数のスリットノズルから外部に射出する蒸着源としてのラインソース（図示せず）を一方向に移動させながら、蒸着を行ってもよい。このような場合には、ラインソース（図示せず）を一方向に移動させる方向において、複数の第２の開口１４Ｒを設けることが好ましい。これは、ラインソース（図示せず）を移動させる一方向に沿って、蒸着用マスク１１をずらせばよいからである。

　以上のように、同一の開口パターンを有する蒸着用マスク１１を用いて、正孔輸送層７Ｒ及び赤色発光層８Ｒを形成できるとともに、正孔輸送層７Ｒ及び赤色発光層８Ｒの膜厚バラツキや成膜位置ズレを精度高く検査できるので、マスクの製造コストを増大させることがなく、膜厚バラツキや成膜位置ズレを精度高く検査できる蒸着膜を形成できる、有機ＥＬ表示装置１の製造方法と、蒸着用マスク１１と、アクティブマトリクス基板２０とを実現できる。

　また、生産に用いられるアクティブマトリクス基板２０をそのまま使用して、正孔輸送層７Ｒ及び赤色発光層８Ｒの膜厚バラツキや成膜位置ズレを精度高く検査できるので、検査用基板を別途作製する必要もなく、検査後には、生産ラインへ戻すこともできるので歩留まりを悪化させることもない。

　〔実施形態２〕
　次に、図７から図１０に基づき、本発明の実施形態２について説明する。本実施形態においては、複数の第２の開口１４Ｒを、複数の第１の開口１３Ｒの上側及び下側に備えているとともに、第３の開口１５をさらに備えた蒸着用マスク３１を用いている点において、実施形態１とは異なり、その他については実施形態１において説明したとおりである。説明の便宜上、実施形態１の図面に示した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付し、その説明を省略する。

　図７は、第３の開口１５を備えた蒸着用マスク３１の概略構成を示す図である。

　図示されているように、３つの開口群形成領域１２の各々には、蒸着粒子を通す複数の開口１３Ｒ・１４Ｒ・１５が含まれている。すなわち、開口群形成領域１２の各々は、複数の第１の開口１３Ｒが一定の規則に沿って繰り返し配置された第１の開口群１３Ｒ’と、複数の第１の開口１３Ｒが配置された一定の規則と同一の規則に沿って、第１の開口群１３Ｒ’の境界の対向する二辺（図中点線ＬとＬ’）と隣接するように配置された、第１の開口１３Ｒと同一形状の複数の第２の開口１４Ｒからなる２つの第２の開口群１４Ｒ’と、第３の開口１５とを含む。

　図中において、点線で図示した複数の第１の開口１３Ｇ・１３Ｂは、蒸着用マスク１１には実際には存在しない仮想の開口であり、第１の開口１３Ｒ間の間隔及び第２の開口１４Ｒ間の間隔の参考のために図示したものである。

　なお、開口群形成領域１２は、蒸着粒子を通す複数の開口１３Ｒ・１４Ｒ・１５を含み、かつ、アクティブマトリクス基板２０の表示領域より大きい、蒸着用マスク３１における領域である。

　図中において、点線で図示した複数の第１の開口１３Ｇ・１３Ｂは、蒸着用マスク３１には実際には存在しない仮想の開口であり、第１の開口１３Ｒ間の間隔の参考のために図示したものであり、点線で図示した複数の第２の開口１４Ｇ・１４Ｂは、蒸着用マスク３１には実際には存在しない仮想の開口であり、第２の開口１４Ｒ間の間隔の参考のために図示したものであり、３つの開口群形成領域１２の各々には、仮想の開口である第１の開口１３Ｇ・１３Ｂ及び第２の開口１４Ｇ・１４Ｂも含まれる。

　第１の開口群１３Ｒ’に含まれる開口１３Ｒの数は、アクティブマトリクス基板の表示領域における赤色の階調を示す画素の数であり、第２の開口１４Ｒは、アクティブマトリクス基板の表示領域外に、蒸着膜を形成するための開口であり、第３の開口１５は、アクティブマトリクス基板の表示領域外であって、アクティブマトリクス基板の表示領域から離れた領域に検査用蒸着膜を成膜するための開口である。

　図８は、正孔輸送層７Ｒを形成する際における蒸着用マスク３１の配置位置と、赤色発光層８Ｒを形成する際における蒸着用マスク３１の配置位置との差を示す図である。なお、図８においては、図７に図示した蒸着用マスク３１の３つの開口群形成領域１２中、一つのみを図示している。

　図示されているように、赤色発光層８Ｒを形成する際における蒸着用マスク３１の配置位置は、正孔輸送層７Ｒを形成する際における蒸着用マスク３１の配置位置より図中上側に画素ピッチ分、例えば、３０μｍオフセットされている。

　図８における左側の図のような蒸着用マスク３１の配置位置で、アクティブマトリクス基板（図示せず）上に正孔輸送層７Ｒを形成した後に、図８における右側の図のような蒸着用マスク３１の配置位置で、アクティブマトリクス基板（図示せず）上に赤色発光層８Ｒを形成した。

　図９は、図７に図示した蒸着用マスク３１を用いて、アクティブマトリクス基板２０上に、正孔輸送層７Ｒと赤色発光層８Ｒとを形成した場合を示す図である。

　図示されているように、アクティブマトリクス基板２０の表示領域ＤＡ内には、正孔輸送層７Ｒと赤色発光層８Ｒとが積層された島状の積層膜４１が形成され、アクティブマトリクス基板２０の表示領域ＤＡ外には、正孔輸送層７Ｒと赤色発光層８Ｒとが積層された積層膜４１’と、単一層である赤色発光層８Ｒからなる蒸着膜４２と、単一層である正孔輸送層７Ｒからなる蒸着膜４３と、単一層である正孔輸送層７Ｒからなる検査用蒸着膜４４と、単一層である赤色発光層８Ｒからなる検査用蒸着膜４５とが形成されている。

　そして、図示されているように、単一層である正孔輸送層７Ｒからなる検査用蒸着膜４４と、単一層である赤色発光層８Ｒからなる検査用蒸着膜４５とは、アクティブマトリクス基板２０の表示領域ＤＡ外であって、保護膜が形成される領域ＰＡよりも外側に形成されている。

　したがって、保護膜を形成する前には、アクティブマトリクス基板２０の表示領域ＤＡ外に形成された単一層である赤色発光層８Ｒからなる蒸着膜４２と、単一層である正孔輸送層７Ｒからなる蒸着膜４３とを用いて、正孔輸送層７Ｒ及び赤色発光層８Ｒの膜厚バラツキや成膜位置ズレを精度高く検査できる。

　そして、保護膜を形成した後には、アクティブマトリクス基板２０の表示領域ＤＡ外であって、保護膜が形成される領域ＰＡよりも外側に形成された単一層である正孔輸送層７Ｒからなる検査用蒸着膜４４と、単一層である赤色発光層８Ｒからなる検査用蒸着膜４５とを用いて、正孔輸送層７Ｒ及び赤色発光層８Ｒの膜厚バラツキや成膜位置ズレを精度高く検査できる。

　図１０は、複数のディバイデッドマスク５３を含む蒸着用マスク５１を示す図である。

　図示されているように、ディバイデッドマスク５３の各々には、図７に図示した開口群形成領域１２が５個ずつ含まれている。

　蒸着用マスク５１は、中央部分に大きな開口５２ａを有するフレーム５２に、複数のディバイデッドマスク５３が、張力がかかった状態で固定（架張）されており、複数のディバイデッドマスク５３の各々における開口群形成領域１２が、平面視において、フレーム５２における大きな開口５２ａと重なるように配置されている。

　複数のディバイデッドマスク５３の各々は、例えば、インバー材などの金属板で構成され、ディバイデッドマスク５３の一方側の面は、アクティブマトリクス基板と対向する面である。

　図１０に図示した複数のディバイデッドマスク５３を含む蒸着用マスク５１の場合においても、図８に図示する場合と同様に、赤色発光層８Ｒを形成する際における蒸着用マスク５１の配置位置を、正孔輸送層７Ｒを形成する際における蒸着用マスク５１の配置位置より図中上側に画素ピッチ分オフセットすることで、アクティブマトリクス基板２０の表示領域ＤＡ外に単一層である赤色発光層８Ｒからなる蒸着膜４２と、単一層である正孔輸送層７Ｒからなる蒸着膜４３とを形成できるので、保護膜を形成する前には、蒸着膜４２と蒸着膜４３とを用いて、正孔輸送層７Ｒ及び赤色発光層８Ｒの膜厚バラツキや成膜位置ズレを精度高く検査できる。

　そして、アクティブマトリクス基板２０の表示領域ＤＡ外であって、保護膜が形成される領域ＰＡよりも外側に、単一層である正孔輸送層７Ｒからなる検査用蒸着膜４４と、単一層である赤色発光層８Ｒからなる検査用蒸着膜４５とを形成できるので、保護膜を形成した後には、検査用蒸着膜４４と、検査用蒸着膜４５とを用いて、正孔輸送層７Ｒ及び赤色発光層８Ｒの膜厚バラツキや成膜位置ズレを精度高く検査できる。

　なお、本実施形態においては、第３の開口１５を備えた複数のディバイデッドマスク５３を含む蒸着用マスク５１を一例に挙げたが、これに限定されることはなく、複数のディバイデッドマスク５３は、上述した実施形態１の場合のように、第３の開口１５を備えてなくてもよい。

　本実施形態においては、第３の開口１５の形状が円形である場合を一例に挙げて説明したが、これに限定されることはなく、膜厚バラツキや成膜位置ズレをより精度高く検査するため、第３の開口１５の形状は、第１の開口１３Ｒ及び第２の開口１４Ｒの形状と同一形状であることが好ましい。

　〔実施形態３〕
　次に、図１１から図１３に基づき、本発明の実施形態３について説明する。本実施形態においては、複数の開口が同一パターンで形成された蒸着用マスク３１ｂを用いて、正孔輸送層７Ｇと、緑色発光層８Ｇとを形成し、複数の開口が同一パターンで形成された蒸着用マスク３１ｃを用いて、正孔輸送層７Ｂと、青色発光層８Ｂとを形成している点において、実施形態１及び２とは異なり、その他については実施形態１及び２において説明したとおりである。説明の便宜上、実施形態１及び２の図面に示した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付し、その説明を省略する。

　図１１は、蒸着用マスク３１ｂの概略構成を示す図である。

　図示しているように、蒸着用マスク３１ｂにおける第１の開口１３Ｇ、第２の開口１４Ｇ及び第３の開口１５の位置は、図７に図示した蒸着用マスク３１における第１の開口１３Ｒ、第２の開口１４Ｒ及び第３の開口１５の位置とは異なる。

　図１２は、蒸着用マスク３１ｃの概略構成を示す図である。

　図示しているように、蒸着用マスク３１ｃにおける第１の開口１３Ｂ、第２の開口１４Ｂ及び第３の開口１５の位置は、図７に図示した蒸着用マスク３１における第１の開口１３Ｒ、第２の開口１４Ｒ及び第３の開口１５及び図１１に図示した蒸着用マスク３１ｂにおける第１の開口１３Ｇ、第２の開口１４Ｇ及び第３の開口１５の位置とは異なる。

　図１３は、正孔輸送層７Ｒ及び赤色発光層８Ｒが形成された図９に図示したアクティブマトリクス基板２０上に、さらに、蒸着用マスク３１ｂ及び蒸着用マスク３１ｃを用いて、正孔輸送層７Ｇ、緑色発光層８Ｇ、正孔輸送層７Ｂ及び青色発光層８Ｂを形成した場合を示す図である。

　図示されているように、アクティブマトリクス基板２０の表示領域ＤＡ内には、正孔輸送層７Ｒと赤色発光層８Ｒとが積層された島状の積層膜４１と、正孔輸送層７Ｇと緑色発光層８Ｇとが積層された島状の積層膜５１と、正孔輸送層７Ｂと青色発光層８Ｂとが積層された島状の積層膜６１と、が形成され、アクティブマトリクス基板２０の表示領域ＤＡ外には、正孔輸送層７Ｒと赤色発光層８Ｒとが積層された積層膜４１’と、正孔輸送層７Ｇと緑色発光層８Ｇとが積層された積層膜５１’と、正孔輸送層７Ｂと青色発光層８Ｂとが積層された積層膜６１’と、単一層である赤色発光層８Ｒからなる蒸着膜４２と、単一層である正孔輸送層７Ｒからなる蒸着膜４３と、単一層である緑色発光層８Ｇからなる蒸着膜５２と、単一層である正孔輸送層７Ｇからなる蒸着膜５３と、単一層である青色発光層８Ｂからなる蒸着膜６２と、単一層である正孔輸送層７Ｂからなる蒸着膜６３と、単一層である正孔輸送層７Ｒからなる検査用蒸着膜４４と、単一層である赤色発光層８Ｒからなる検査用蒸着膜４５と、単一層である正孔輸送層７Ｇからなる検査用蒸着膜５４と、単一層である緑色発光層８Ｇからなる検査用蒸着膜５５と、単一層である正孔輸送層７Ｂからなる検査用蒸着膜６４と、単一層である青色発光層８Ｂからなる検査用蒸着膜６５と、が形成されている。

　そして、図示されているように、検査用蒸着膜４４・４５・５４・５５・６４・６５は、アクティブマトリクス基板２０の表示領域ＤＡ外であって、保護膜が形成される領域ＰＡよりも外側に形成されている。

　したがって、保護膜を形成する前には、アクティブマトリクス基板２０の表示領域ＤＡ外に形成された単一層である蒸着膜４２・４３・５２・５３・６２・６３を用いて、正孔輸送層７Ｒ、赤色発光層８Ｒ、正孔輸送層７Ｇ、緑色発光層８Ｇ、正孔輸送層７Ｂ及び青色発光層８Ｂの膜厚バラツキや成膜位置ズレを精度高く検査できる。

　そして、保護膜を形成した後には、アクティブマトリクス基板２０の表示領域ＤＡ外であって、保護膜が形成される領域ＰＡよりも外側に形成された単一層である検査用蒸着膜４４・４５・５４・５５・６４・６５を用いて、正孔輸送層７Ｒ、赤色発光層８Ｒ、正孔輸送層７Ｇ、緑色発光層８Ｇ、正孔輸送層７Ｂ及び青色発光層８Ｂの膜厚バラツキや成膜位置ズレを精度高く検査できる。

　〔実施形態４〕
　次に、図１４及び図１５に基づき、本発明の実施形態４について説明する。本実施形態においては、蒸着粒子を通す一つの開口７１を含む蒸着用マスク７０を用いて、アクティブマトリクス基板における表示領域のほぼ全面に形成される正孔注入層６と電子輸送層９とを形成している点において、実施形態１から３とは異なり、その他については実施形態１から３において説明したとおりである。説明の便宜上、実施形態１から３の図面に示した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付し、その説明を省略する。

　図１４は、蒸着用マスク７０の概略構成を示す図である。

　蒸着粒子を通す一つの開口７１を含む蒸着用マスク７０は、共通蒸着膜形成用マスク（ＣＭＭ（Common Metal Mask）マスクともいう）である。

　図示されているように、蒸着用マスク７０は、蒸着粒子を通す一つの開口７１とともに、アクティブマトリクス基板の表示領域から離れた領域に検査用蒸着膜を成膜するための開口である第３の開口７２を備えている。

　図１５は、正孔注入層６を形成する工程と電子輸送層９を形成する工程とにおける、蒸着用マスク７０のアクティブマトリクス基板２０に対する配置位置の差を示す図である。

　図示されているように、蒸着用マスク７０における開口７１の大きさは、アクティブマトリクス基板２０の表示領域ＤＡより大きい。

　正孔注入層６を形成する工程においては、蒸着用マスク７０の開口７１を、アクティブマトリクス基板２０の表示領域ＤＡの上側にずらし、単一層である正孔注入層６からなる蒸着膜７３を、アクティブマトリクス基板２０の表示領域ＤＡとともに、アクティブマトリクス基板２０の表示領域ＤＡの上側に形成した。そして、アクティブマトリクス基板２０の表示領域ＤＡの下側には、第３の開口７２を介して、アクティブマトリクス基板２０の表示領域ＤＡから離れた領域に検査用蒸着膜として、単一層である正孔注入層６からなる蒸着膜７３を形成した。

　それから、電子輸送層９を形成する工程においては、蒸着用マスク７０を、下側にオフセットし、アクティブマトリクス基板２０の表示領域ＤＡには、正孔注入層６と電子輸送層９とを含む積層膜を形成し、アクティブマトリクス基板２０の表示領域ＤＡの下側には、単一層である電子輸送層９からなる蒸着膜（図示せず）を形成した。そして、アクティブマトリクス基板２０の表示領域ＤＡの下側には、第３の開口７２を介して、アクティブマトリクス基板２０の表示領域ＤＡから離れた領域に検査用蒸着膜として、単一層である電子輸送層９からなる蒸着膜（図示せず）を形成した。

　以上のように、アクティブマトリクス基板２０の表示領域ＤＡの上側には、電子輸送層９によって覆われていない、単一層である正孔注入層６からなる蒸着膜７３が形成されており、アクティブマトリクス基板２０の表示領域ＤＡの下側には、正孔注入層６と重なっていない単一層である電子輸送層９からなる蒸着膜が形成されている。したがって、保護膜を形成する前には、これらの単一膜を用いて、正孔注入層６及び電子輸送層９の膜厚バラツキや成膜位置ズレを精度高く検査できる。

　そして、保護膜を形成された後には、アクティブマトリクス基板２０の表示領域ＤＡから離れた領域に検査用蒸着膜として形成された、単一層を用いて、正孔注入層６及び電子輸送層９の膜厚バラツキや成膜位置ズレを精度高く検査できる。

　〔まとめ〕
　本発明の態様１に係る表示装置の製造方法は、一定の規則に沿って配置された蒸着粒子を通す複数の開口を含む蒸着用マスクを用いた積層膜の形成工程を含む表示装置の製造方法であって、上記蒸着用マスクにおいて上記複数の開口が形成された開口群形成領域の大きさは、アクティブマトリクス基板の表示領域より大きく、上記アクティブマトリクス基板上に第１の蒸着膜を形成する第１工程においては、上記蒸着用マスクの上記複数の開口の一部である複数の第１の開口からなる第１の開口群を介して、上記アクティブマトリクス基板の表示領域内に第１の蒸着膜を形成するとともに、上記蒸着用マスクの上記複数の開口の残りの一部である複数の第２の開口からなる第２の開口群を介して、上記アクティブマトリクス基板の表示領域外に第１の蒸着膜を形成し、上記アクティブマトリクス基板上に第２の蒸着膜を形成する第２工程においては、上記蒸着用マスクを、上記第２の開口群の少なくとも一部が上記アクティブマトリクス基板の表示領域内に配置される方向にずらし、上記アクティブマトリクス基板の表示領域内に上記第１の蒸着膜と第２の蒸着膜との積層膜を形成するとともに、上記アクティブマトリクス基板の表示領域外に、上記第１工程において上記アクティブマトリクス基板の表示領域外に形成された上記第１の蒸着膜とは少なくとも一部で重ならないように、第２の蒸着膜を形成することを特徴としている。

　本発明の態様２に係る表示装置の製造方法は、蒸着粒子を通す一つの開口を含む蒸着用マスクを用いた積層膜の形成工程を含む表示装置の製造方法であって、上記蒸着用マスクの上記一つの開口は、アクティブマトリクス基板の表示領域より大きく、上記アクティブマトリクス基板上に第３の蒸着膜を形成する第３工程においては、上記蒸着用マスクの上記一つの開口の第１の部分を介して、上記アクティブマトリクス基板の表示領域内に第３の蒸着膜を形成するとともに、上記蒸着用マスクの上記一つの開口の上記第１の部分とは異なる残りの第２の部分を介して、上記アクティブマトリクス基板の表示領域外に第３の蒸着膜を形成し、上記アクティブマトリクス基板上に第４の蒸着膜を形成する第４工程においては、上記蒸着用マスクを一方向にずらし、上記アクティブマトリクス基板の表示領域内に上記第３の蒸着膜と第４の蒸着膜とを含む積層膜を形成するとともに、上記アクティブマトリクス基板の表示領域外に、上記第３工程において上記アクティブマトリクス基板の表示領域外に形成された上記第３の蒸着膜とは重ならないように、第４の蒸着膜を形成することを特徴としている。

　本発明の態様３に係る表示装置の製造方法は、上記態様１において、上記蒸着用マスクをずらす方向において隣接する上記第１の開口間のピッチは、上記蒸着用マスクをずらす方向において隣接する上記第１の開口と上記第２の開口との間のピッチと、同じであることが好ましい。

　上記方法によれば、膜厚バラツキや成膜位置ズレを精度高く検査できる。

　本発明の態様４に係る表示装置の製造方法は、上記態様１または３において、上記第２の開口群は、上記第１の開口群を間に挟むように、少なくとも、上記第１の開口群の対向する両辺に配置されていてもよい。

　上記方法によれば、蒸着用マスクをずらす方向、すなわち、オフセットさせる方向の自由度が高くできる。

　本発明の態様５に係る表示装置の製造方法は、上記態様１、３、４の何れかにおいて、上記蒸着用マスクは第３の開口を含み、上記第３の開口は、上記第１の開口群及び上記第２の開口群より外側に配置されており、上記第１工程においては、上記第３の開口を介して、上記アクティブマトリクス基板の表示領域外に第１の蒸着膜を形成し、上記第２工程においては、上記第３の開口を介して、上記アクティブマトリクス基板の表示領域外に、上記第１工程において上記アクティブマトリクス基板の表示領域外に第１の蒸着膜とは重ならないように、第２の蒸着膜を形成してもよい。

　上記方法によれば、例えば、上記表示領域の近方に保護膜を形成した後においても、膜厚バラツキや成膜位置ズレを精度高く検査できる。

　本発明の態様６に係る表示装置の製造方法は、上記態様２において、上記蒸着用マスクは第３の開口を含み、上記第３の開口は、上記一つの開口より外側に配置されており、上記第３工程においては、上記第３の開口を介して、上記アクティブマトリクス基板の表示領域外に第３の蒸着膜を形成し、上記第４工程においては、上記第３の開口を介して、上記アクティブマトリクス基板の表示領域外に、上記第３工程において上記アクティブマトリクス基板の表示領域外に第３の蒸着膜とは重ならないように、第４の蒸着膜を形成してもよい。

　本発明の態様７に係る表示装置の製造方法は、上記態様１、３、４、５の何れかにおいて、上記第１工程と上記第２工程との間に、上記アクティブマトリクス基板の表示領域外に形成された上記第１の蒸着膜を用いて、蒸着膜の膜厚または位置ずれを測定する工程を含んでいてもよい。

　上記方法によれば、上記第１工程と上記第２工程との間に、膜厚バラツキや成膜位置ズレを精度高く検査できる。

　本発明の態様８に係る表示装置の製造方法は、上記態様１、３、４、５、７の何れかにおいて、上記第２工程の後に、上記アクティブマトリクス基板の表示領域外に形成された上記第２の蒸着膜を用いて、蒸着膜の膜厚または位置ずれを測定する工程を含んでいてもよい。

　上記方法によれば、上記第２工程の後に、膜厚バラツキや成膜位置ズレを精度高く検査できる。

　本発明の態様９に係る表示装置の製造方法は、上記態様１、３、４、５の何れかにおいて、上記第２工程の後に、上記アクティブマトリクス基板の表示領域外に形成された上記第１の蒸着膜と及び上記第２の蒸着膜を用いて、蒸着膜の膜厚または位置ずれを測定する工程を含んでいてもよい。

　本発明の態様１０に係る表示装置の製造方法は、上記態様２または６において、上記第３工程と上記第４工程との間に、上記アクティブマトリクス基板の表示領域外に形成された上記第３の蒸着膜を用いて、蒸着膜の膜厚または位置ずれを測定する工程を含んでいてもよい。

　上記方法によれば、上記第３工程と上記第４工程との間に、膜厚バラツキや成膜位置ズレを精度高く検査できる。

　本発明の態様１１に係る表示装置の製造方法は、上記態様２、６、１０の何れかにおいて、上記第４工程の後に、上記アクティブマトリクス基板の表示領域外に形成された上記第４の蒸着膜を用いて、蒸着膜の膜厚または位置ずれを測定する工程を含んでいてもよい。

　上記方法によれば、上記第４工程の後に、膜厚バラツキや成膜位置ズレを精度高く検査できる。

　本発明の態様１２に係る表示装置の製造方法は、上記態様２または６において、上記第４工程の後に、上記アクティブマトリクス基板の表示領域外に形成された上記第３の蒸着膜と及び上記第４の蒸着膜を用いて、蒸着膜の膜厚または位置ずれを測定する工程を含んでいてもよい。

　本発明の態様１３に係る表示装置の製造方法は、上記態様１、３、４、５、７、８、９の何れかにおいて、上記第１の蒸着膜は正孔輸送層であり、上記第２の蒸着膜は発光層であってもよい。

　上記方法によれば、正孔輸送層及び発光層の膜厚バラツキや成膜位置ズレを精度高く検査できる。

　本発明の態様１４に係る表示装置の製造方法は、上記態様２、６、１０、１１、１２の何れかにおいて、上記第３の蒸着膜は正孔注入層であり、上記第４の蒸着膜は電子輸送層であってもよい。

　上記方法によれば、正孔注入層及び電子輸送層の膜厚バラツキや成膜位置ズレを精度高く検査できる。

　本発明の態様１５に係る蒸着用マスクは、一定の規則に沿って配置された蒸着粒子を通す複数の開口を含む蒸着用マスクであって、上記蒸着用マスクにおいて上記複数の開口が形成された開口群形成領域の大きさは、アクティブマトリクス基板の表示領域より大きいことを特徴としている。

　本発明の態様１６に係る蒸着用マスクは、蒸着粒子を通す一つの開口を含む蒸着用マスクであって、上記蒸着用マスクにおいて上記一つの開口の大きさは、アクティブマトリクス基板の表示領域より大きいことを特徴としている。

　本発明の態様１７に係る蒸着用マスクは、上記態様１５において、上記蒸着用マスクの上記複数の開口中、上記アクティブマトリクス基板の表示領域内に配置される開口が、第１の開口群であり、上記蒸着用マスクの上記複数の開口中、上記アクティブマトリクス基板の表示領域外に配置される開口が、第２の開口群であり、上記第２の開口群は、上記第１の開口群を間に挟むように、少なくとも、上記第１の開口群の対向する両辺に配置されていてもよい。

　上記構成によれば、蒸着用マスクをずらす方向、すなわち、オフセットさせる方向の自由度が高くできる。

　本発明の態様１８に係る蒸着用マスクは、上記態様１５または１７において、上記蒸着用マスクの上記複数の開口中、上記アクティブマトリクス基板の表示領域内に配置される開口が、第１の開口群であり、上記蒸着用マスクの上記複数の開口中、上記アクティブマトリクス基板の表示領域外に配置される開口が、第２の開口群であり、上記第１の開口群の一方向において隣接する第１の開口間のピッチは、上記一方向において隣接する上記第１の開口群の第１の開口と上記第２の開口群の第２の開口との間のピッチと、同じであることが好ましい。

　上記構成によれば、膜厚バラツキや成膜位置ズレを精度高く検査できる蒸着膜を形成できる。

　本発明の態様１９に係る蒸着用マスクは、上記態様１５、１７、１８の何れかにおいて、上記蒸着用マスクは第３の開口を含み、上記第３の開口は、上記複数の開口より外側に配置されていてもよい。

　上記構成によれば、例えば、上記表示領域の近方に保護膜を形成した後においても、膜厚バラツキや成膜位置ズレを精度高く検査できる。

　本発明の態様２０に係る蒸着用マスクは、上記態様１６において、上記蒸着用マスクは第３の開口を含み、上記第３の開口は、上記一つの開口より外側に配置されていてもよい。

　本発明の態様２１に係るアクティブマトリクス基板は、基板と、上記基板上に、複数のアクティブ素子と、上記複数のアクティブ素子の各々に電気的に接続された複数の第１電極とを備えたアクティブマトリクス基板であって、上記複数の第１電極が形成された領域が表示領域であり、上記表示領域の上記複数の第１電極の各々の上には、正孔輸送層と、発光層とを含む積層膜が形成されており、上記表示領域外には、上記正孔輸送層と上記発光層とが、単一層として形成されていることを特徴としている。

　本発明の態様２２に係るアクティブマトリクス基板は、上記態様２１において、上記積層膜には、正孔注入層と、電子輸送層とが含まれており、上記表示領域外には、上記正孔注入層と、上記電子輸送層とが単一層として形成されていてもよい。

　上記構成によれば、正孔注入層及び電子輸送層の膜厚バラツキや成膜位置ズレを精度高く検査できる。

　〔付記事項〕
　本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。さらに、各実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を組み合わせることにより、新しい技術的特徴を形成することができる。

　本発明は、有機ＥＬ表示装置などの表示装置の製造方法と、蒸着用マスクと、アクティブマトリクス基板とに利用することができる。

　１　　　　　有機ＥＬ表示装置
　２　　　　　基板
　３　　　　　アクティブ素子
　４　　　　　絶縁膜
　５　　　　　第１の電極
　６　　　　　正孔注入層
　７Ｒ　　　　正孔輸送層
　７Ｇ　　　　正孔輸送層
　７Ｂ　　　　正孔輸送層
　８Ｒ　　　　赤色発光層
　８Ｇ　　　　緑色発光層
　８Ｂ　　　　青色発光層
　９　　　　　電子輸送層
　１０　　　　エッジカバー
　１１　　　　蒸着用マスク
　１１ａ　　　蒸着用マスク
　１１ｂ　　　蒸着用マスク
　１２　　　　開口群形成領域
　１３Ｒ　　　第１の開口
　１３Ｒ’　　第１の開口群
　１３Ｇ　　　第１の開口
　１３Ｇ’　　第１の開口群
　１３Ｂ　　　第１の開口
　１３Ｂ’　　第１の開口群
　１４Ｒ　　　第２の開口
　１４Ｒ’　　第２の開口群
　１４Ｇ　　　第２の開口
　１４Ｇ’　　第２の開口群
　１４Ｂ　　　第２の開口
　１４Ｂ’　　第２の開口群
　１５　　　　第３の開口
　２０　　　　アクティブマトリクス基板
　２１　　　　単一層の蒸着膜
　２２　　　　積層膜
　２３　　　　単一層の蒸着膜
　２４　　　　検査用蒸着膜
　２５　　　　検査用蒸着膜
　３０ａ　　　蒸着用マスク
　３０ｂ　　　蒸着用マスク
　３１　　　　蒸着用マスク
　３１ｂ　　　蒸着用マスク
　３１ｃ　　　蒸着用マスク
　４１　　　　積層膜
　４１’　　　積層膜
　４２　　　　単一層の蒸着膜
　４３　　　　単一層の蒸着膜
　４４　　　　検査用蒸着膜
　４５　　　　検査用蒸着膜
　５１　　　　蒸着用マスク
　５２　　　　フレーム
　５２ａ　　　開口
　５３　　　　ディバイデッドマスク
　５１　　　　積層膜
　５１’　　　積層膜
　５２　　　　単一層の蒸着膜
　５３　　　　単一層の蒸着膜
　５４　　　　検査用蒸着膜
　５５　　　　検査用蒸着膜
　６１　　　　積層膜
　６１’　　　積層膜
　６２　　　　単一層の蒸着膜
　６３　　　　単一層の蒸着膜
　６４　　　　検査用蒸着膜
　６５　　　　検査用蒸着膜
　７０　　　　蒸着用マスク
　７１　　　　開口
　７２　　　　第３の開口
　７３　　　　単一層の蒸着膜
　９１　　　　蒸着用マスク
　９２　　　　フレーム
　９２ａ　　　開口
　９３　　　　ディバイデッドマスク
　Ｌ　　　　　第１の開口群の境界の一辺
　Ｌ’　　　　第１の開口群の境界の一辺
　ＤＡ　　　　表示領域
　ＰＡ　　　　保護膜が形成される領域

Claims

　一定の規則に沿って配置された蒸着粒子を通す複数の開口を含む蒸着用マスクを用いた積層膜の形成工程を含む表示装置の製造方法であって、
　上記蒸着用マスクにおいて上記複数の開口が形成された開口群形成領域の大きさは、アクティブマトリクス基板の表示領域より大きく、
　上記アクティブマトリクス基板上に第１の蒸着膜を形成する第１工程においては、上記蒸着用マスクの上記複数の開口の一部である複数の第１の開口からなる第１の開口群を介して、上記アクティブマトリクス基板の表示領域内に第１の蒸着膜を形成するとともに、上記蒸着用マスクの上記複数の開口の残りの一部である複数の第２の開口からなる第２の開口群を介して、上記アクティブマトリクス基板の表示領域外に第１の蒸着膜を形成し、
　上記アクティブマトリクス基板上に第２の蒸着膜を形成する第２工程においては、上記蒸着用マスクを、上記第２の開口群の少なくとも一部が上記アクティブマトリクス基板の表示領域内に配置される方向にずらし、上記アクティブマトリクス基板の表示領域内に上記第１の蒸着膜と第２の蒸着膜との積層膜を形成するとともに、上記アクティブマトリクス基板の表示領域外に、上記第１工程において上記アクティブマトリクス基板の表示領域外に形成された上記第１の蒸着膜とは少なくとも一部で重ならないように、第２の蒸着膜を形成することを特徴とする表示装置の製造方法。
　蒸着粒子を通す一つの開口を含む蒸着用マスクを用いた積層膜の形成工程を含む表示装置の製造方法であって、
　上記蒸着用マスクの上記一つの開口は、アクティブマトリクス基板の表示領域より大きく、
　上記アクティブマトリクス基板上に第３の蒸着膜を形成する第３工程においては、上記蒸着用マスクの上記一つの開口の第１の部分を介して、上記アクティブマトリクス基板の表示領域内に第３の蒸着膜を形成するとともに、上記蒸着用マスクの上記一つの開口の上記第１の部分とは異なる残りの第２の部分を介して、上記アクティブマトリクス基板の表示領域外に第３の蒸着膜を形成し、
　上記アクティブマトリクス基板上に第４の蒸着膜を形成する第４工程においては、上記蒸着用マスクを一方向にずらし、上記アクティブマトリクス基板の表示領域内に上記第３の蒸着膜と第４の蒸着膜とを含む積層膜を形成するとともに、上記アクティブマトリクス基板の表示領域外に、上記第３工程において上記アクティブマトリクス基板の表示領域外に形成された上記第３の蒸着膜とは重ならないように、第４の蒸着膜を形成することを特徴とする表示装置の製造方法。
　上記蒸着用マスクをずらす方向において隣接する上記第１の開口間のピッチは、上記蒸着用マスクをずらす方向において隣接する上記第１の開口と上記第２の開口との間のピッチと、同じであることを特徴とする請求項１に記載の表示装置の製造方法。
　上記第２の開口群は、上記第１の開口群を間に挟むように、少なくとも、上記第１の開口群の対向する両辺に配置されていることを特徴とする請求項１または３に記載の表示装置の製造方法。
　上記蒸着用マスクは第３の開口を含み、
　上記第３の開口は、上記第１の開口群及び上記第２の開口群より外側に配置されており、
　上記第１工程においては、上記第３の開口を介して、上記アクティブマトリクス基板の表示領域外に第１の蒸着膜を形成し、
　上記第２工程においては、上記第３の開口を介して、上記アクティブマトリクス基板の表示領域外に、上記第１工程において上記アクティブマトリクス基板の表示領域外に第１の蒸着膜とは重ならないように、第２の蒸着膜を形成することを特徴とする請求項１、３、４の何れか１項に記載の表示装置の製造方法。
　上記蒸着用マスクは第３の開口を含み、
　上記第３の開口は、上記一つの開口より外側に配置されており、
　上記第３工程においては、上記第３の開口を介して、上記アクティブマトリクス基板の表示領域外に第３の蒸着膜を形成し、
　上記第４工程においては、上記第３の開口を介して、上記アクティブマトリクス基板の表示領域外に、上記第３工程において上記アクティブマトリクス基板の表示領域外に第３の蒸着膜とは重ならないように、第４の蒸着膜を形成することを特徴とする請求項２に記載の表示装置の製造方法。
　上記第１工程と上記第２工程との間に、上記アクティブマトリクス基板の表示領域外に形成された上記第１の蒸着膜を用いて、蒸着膜の膜厚または位置ずれを測定する工程を含むことを特徴とする請求項１、３、４、５の何れか１項に記載の表示装置の製造方法。
　上記第２工程の後に、上記アクティブマトリクス基板の表示領域外に形成された上記第２の蒸着膜を用いて、蒸着膜の膜厚または位置ずれを測定する工程を含むことを特徴とする請求項１、３、４、５、７の何れか１項に記載の表示装置の製造方法。
　上記第２工程の後に、上記アクティブマトリクス基板の表示領域外に形成された上記第１の蒸着膜と及び上記第２の蒸着膜を用いて、蒸着膜の膜厚または位置ずれを測定する工程を含むことを特徴とする請求項１、３、４、５の何れか１項に記載の表示装置の製造方法。
　上記第３工程と上記第４工程との間に、上記アクティブマトリクス基板の表示領域外に形成された上記第３の蒸着膜を用いて、蒸着膜の膜厚または位置ずれを測定する工程を含むことを特徴とする請求項２または６に記載の表示装置の製造方法。
　上記第４工程の後に、上記アクティブマトリクス基板の表示領域外に形成された上記第４の蒸着膜を用いて、蒸着膜の膜厚または位置ずれを測定する工程を含むことを特徴とする請求項２、６、１０の何れか１項に記載の表示装置の製造方法。
　上記第４工程の後に、上記アクティブマトリクス基板の表示領域外に形成された上記第３の蒸着膜と及び上記第４の蒸着膜を用いて、蒸着膜の膜厚または位置ずれを測定する工程を含むことを特徴とする請求項２または６に記載の表示装置の製造方法。
　上記第１の蒸着膜は正孔輸送層であり、
　上記第２の蒸着膜は発光層であることを特徴とする請求項１、３、４、５、７、８、９の何れか１項に記載の表示装置の製造方法。
　上記第３の蒸着膜は正孔注入層であり、
　上記第４の蒸着膜は電子輸送層であることを特徴とする請求項２、６、１０、１１、１２の何れか１項に記載の表示装置の製造方法。
　一定の規則に沿って配置された蒸着粒子を通す複数の開口を含む蒸着用マスクであって、
　上記蒸着用マスクにおいて上記複数の開口が形成された開口群形成領域の大きさは、アクティブマトリクス基板の表示領域より大きいことを特徴とする蒸着用マスク。
　蒸着粒子を通す一つの開口を含む蒸着用マスクであって、
　上記蒸着用マスクにおいて上記一つの開口の大きさは、アクティブマトリクス基板の表示領域より大きいことを特徴とする蒸着用マスク。
　上記蒸着用マスクの上記複数の開口中、上記アクティブマトリクス基板の表示領域内に配置される開口が、第１の開口群であり、
　上記蒸着用マスクの上記複数の開口中、上記アクティブマトリクス基板の表示領域外に配置される開口が、第２の開口群であり、
　上記第２の開口群は、上記第１の開口群を間に挟むように、少なくとも、上記第１の開口群の対向する両辺に配置されていることを特徴とする請求項１５に記載の蒸着用マスク。
　上記蒸着用マスクの上記複数の開口中、上記アクティブマトリクス基板の表示領域内に配置される開口が、第１の開口群であり、
　上記蒸着用マスクの上記複数の開口中、上記アクティブマトリクス基板の表示領域外に配置される開口が、第２の開口群であり、
　上記第１の開口群の一方向において隣接する第１の開口間のピッチは、上記一方向において隣接する上記第１の開口群の第１の開口と上記第２の開口群の第２の開口との間のピッチと、同じであることを特徴とする請求項１５または１７に記載の蒸着用マスク。
　上記蒸着用マスクは第３の開口を含み、
　上記第３の開口は、上記複数の開口より外側に配置されていることを特徴とする請求項１５、１７、１８の何れか１項に記載の蒸着用マスク。
　上記蒸着用マスクは第３の開口を含み、
　上記第３の開口は、上記一つの開口より外側に配置されていることを特徴とする請求項１６に記載の蒸着用マスク。
　基板と、上記基板上に、複数のアクティブ素子と、上記複数のアクティブ素子の各々に電気的に接続された複数の第１電極とを備えたアクティブマトリクス基板であって、
　上記複数の第１電極が形成された領域が表示領域であり、
　上記表示領域の上記複数の第１電極の各々の上には、正孔輸送層と、発光層とを含む積層膜が形成されており、
　上記表示領域外には、上記正孔輸送層と上記発光層とが、単一層として形成されていることを特徴とするアクティブマトリクス基板。
　上記積層膜には、正孔注入層と、電子輸送層とが含まれており、
　上記表示領域外には、上記正孔注入層と、上記電子輸送層とが単一層として形成されていることを特徴とする請求項２１に記載のアクティブマトリクス基板。