WO2018164083A1 - 成膜方法 - Google Patents
成膜方法 Download PDFInfo
- Publication number
- WO2018164083A1 WO2018164083A1 PCT/JP2018/008442 JP2018008442W WO2018164083A1 WO 2018164083 A1 WO2018164083 A1 WO 2018164083A1 JP 2018008442 W JP2018008442 W JP 2018008442W WO 2018164083 A1 WO2018164083 A1 WO 2018164083A1
- Authority
- WO
- WIPO (PCT)
- Prior art keywords
- long
- chamber
- thin tube
- long tubule
- discharge electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/26—Deposition of carbon only
- C23C16/27—Diamond only
- C23C16/272—Diamond only using DC, AC or RF discharges
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61F—FILTERS IMPLANTABLE INTO BLOOD VESSELS; PROSTHESES; DEVICES PROVIDING PATENCY TO, OR PREVENTING COLLAPSING OF, TUBULAR STRUCTURES OF THE BODY, e.g. STENTS; ORTHOPAEDIC, NURSING OR CONTRACEPTIVE DEVICES; FOMENTATION; TREATMENT OR PROTECTION OF EYES OR EARS; BANDAGES, DRESSINGS OR ABSORBENT PADS; FIRST-AID KITS
- A61F2/00—Filters implantable into blood vessels; Prostheses, i.e. artificial substitutes or replacements for parts of the body; Appliances for connecting them with the body; Devices providing patency to, or preventing collapsing of, tubular structures of the body, e.g. stents
- A61F2/02—Prostheses implantable into the body
- A61F2/04—Hollow or tubular parts of organs, e.g. bladders, tracheae, bronchi or bile ducts
- A61F2/06—Blood vessels
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
- A61L27/00—Materials for grafts or prostheses or for coating grafts or prostheses
- A61L27/28—Materials for coating prostheses
- A61L27/30—Inorganic materials
- A61L27/303—Carbon
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
- A61L27/00—Materials for grafts or prostheses or for coating grafts or prostheses
- A61L27/50—Materials characterised by their function or physical properties, e.g. injectable or lubricating compositions, shape-memory materials, surface modified materials
- A61L27/507—Materials characterised by their function or physical properties, e.g. injectable or lubricating compositions, shape-memory materials, surface modified materials for artificial blood vessels
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
- A61L27/00—Materials for grafts or prostheses or for coating grafts or prostheses
- A61L27/50—Materials characterised by their function or physical properties, e.g. injectable or lubricating compositions, shape-memory materials, surface modified materials
- A61L27/56—Porous materials, e.g. foams or sponges
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
- A61L29/00—Materials for catheters, medical tubing, cannulae, or endoscopes or for coating catheters
- A61L29/08—Materials for coatings
- A61L29/10—Inorganic materials
- A61L29/103—Carbon
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
- A61L29/00—Materials for catheters, medical tubing, cannulae, or endoscopes or for coating catheters
- A61L29/14—Materials characterised by their function or physical properties, e.g. lubricating compositions
- A61L29/146—Porous materials, e.g. foams or sponges
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61M—DEVICES FOR INTRODUCING MEDIA INTO, OR ONTO, THE BODY; DEVICES FOR TRANSDUCING BODY MEDIA OR FOR TAKING MEDIA FROM THE BODY; DEVICES FOR PRODUCING OR ENDING SLEEP OR STUPOR
- A61M25/00—Catheters; Hollow probes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B32/00—Carbon; Compounds thereof
- C01B32/05—Preparation or purification of carbon not covered by groups C01B32/15, C01B32/20, C01B32/25, C01B32/30
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C16/045—Coating cavities or hollow spaces, e.g. interior of tubes; Infiltration of porous substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/26—Deposition of carbon only
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/50—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges
- C23C16/503—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges using DC or AC discharges
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/50—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges
- C23C16/505—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges using radio frequency discharges
- C23C16/509—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges using radio frequency discharges using internal electrodes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/50—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges
- C23C16/515—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges using pulsed discharges
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32018—Glow discharge
- H01J37/32036—AC powered
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32394—Treating interior parts of workpieces
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/32532—Electrodes
- H01J37/32568—Relative arrangement or disposition of electrodes; moving means
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
- A61L2420/00—Materials or methods for coatings medical devices
- A61L2420/02—Methods for coating medical devices
Definitions
- the present disclosure relates to a film forming method, and more particularly to a film forming method, a film forming apparatus, and a medical material for forming a diamond-like carbon film on an inner wall surface of a long thin tube.
- An artificial blood vessel is a medical material for which demand is increasing in recent years.
- a commonly used artificial blood vessel is made of ePTFE (expanded-polytetrafluoroethylene) obtained by stretching polytetrafluoroethylene (PTFE) to make it porous.
- ePTFE expanded-polytetrafluoroethylene
- PTFE polytetrafluoroethylene
- ePTFE is a material with excellent biocompatibility, it is not sufficient in terms of occlusive properties. For this reason, the use of an artificial blood vessel made of ePTFE having a diameter of less than 6 mm is extremely risky.
- a diamond-like carbon (DLC) film which is an amorphous carbon film containing sp 2 carbon, sp 3 carbon, and hydrogen, is excellent in biocompatibility. For this reason, it is expected that by forming a DLC film on the inner wall surface of the artificial blood vessel, the artificial blood vessel can be hardly blocked. However, it is not easy to form a DLC film on the inner wall surface of a long tubule such as an artificial blood vessel.
- a method for forming a DLC film on the inner wall surface of a tubular body for example, there is a method of inserting a discharge electrode into the tubular body (see, for example, Patent Document 1).
- a method of forming a film by generating plasma inside a tube by sandwiching the tube between two electrode plates instead of inserting an electrode inside the tube See reference 2.
- the conventional film formation method has the following problems.
- a discharge electrode that is longer than the tube body to be deposited and thinner than the inner diameter of the tube body is required.
- the discharge electrode to which high pressure is applied needs to have a certain thickness or more, and it is practically impossible to form a film on the inner wall surface of a thin tube of 6 mm or less.
- the distance between the discharge electrode and the inner wall surface becomes small, there is a possibility that the metal component desorbed from the discharge electrode adheres to the inner wall surface. If the discharge electrode is a carbon electrode, metal adhesion does not occur, but it is difficult to form a thin and long carbon electrode.
- the problem of the present disclosure is to make it possible to easily form a DLC film on the inner wall surface of a medical material for long tubules.
- a non-conductive long thin tube is disposed in a chamber in which the internal pressure can be adjusted, and a raw material gas containing hydrocarbon is supplied to the inside of the long thin tube.
- the AC bias is intermittently applied between the discharge electrode and the counter electrode provided apart from the long thin tube.
- the long tubule is porous and can be accommodated in an outer cylinder having an inner diameter larger than that of the long tubule and disposed in the chamber.
- the long tubule can be an artificial blood vessel.
- the long tubule can be a catheter.
- the counter electrode can be an inner wall surface of the chamber.
- One aspect of the film forming apparatus of the present disclosure includes a chamber in which an internal pressure can be adjusted, a gas supply unit that supplies a hydrocarbon gas into the chamber, a discharge electrode and a counter electrode that are provided in the chamber, a discharge electrode, A power supply unit that intermittently applies an AC voltage to the counter electrode, and the discharge electrode is attached to one end of the non-conductive long tubule so that the counter electrode is separated from the long tubule By discharging, plasma is generated in the long tubule and a diamond-like carbon film is formed on the inner wall surface of the long tubule.
- One embodiment of the film forming apparatus may further include an outer cylinder that accommodates the long tubule, and the long tubule may be porous.
- One aspect of the medical material of the present disclosure is a non-conductive long thin tube having an inner diameter of 0.1 mm or more and 6 mm or less, a length of 2 cm or more, and a diamond-like carbon film formed on the inner wall surface.
- the long tubule can be an artificial blood vessel or a catheter.
- the DLC film can be easily formed on the inner wall surface of the medical material of the long tubule.
- FIG. 1 is a schematic view showing a film forming apparatus according to an embodiment.
- FIG. 2 is a cross-sectional view showing a connection portion of the discharge electrode.
- FIG. 3 is a cross-sectional view showing a modification of the connection portion of the discharge electrode.
- FIG. 4 is a cross-sectional view showing a modification of the discharge electrode.
- FIG. 5 is a cross-sectional view showing a modification using an outer cylinder.
- FIG. 6 is a cross-sectional view showing a modification of the counter electrode.
- FIG. 7 is a Raman spectrum of the sample.
- FIG. 1 shows a film forming apparatus used in this embodiment.
- the film forming apparatus includes a chamber 101 that houses a long thin tube 102 to be formed.
- a vacuum exhaust unit 110 and a gas supply unit 115 that supplies a film forming gas into the chamber 101 are connected to the chamber 101, and the internal pressure can be adjusted.
- a power supply unit 120 that supplies electric power is connected, and plasma can be generated in the chamber 101.
- the vacuum exhaust unit 110 includes a vacuum pump 112 and a valve 113.
- the gas supply unit 115 includes a cylinder 116 and a mass flow controller 117.
- the gas supply unit 115 can supply a plurality of gases.
- the power supply unit 120 includes a voltage generator 121 and an amplifier 122, and applies an AC voltage between the discharge electrode 125 and the counter electrode.
- the counter electrode is a ground electrode and is an inner wall of the chamber 101.
- One end of the long narrow tube 102 disposed in the chamber 101 is disposed at the position of the discharge electrode 125, and the other end is opened.
- a source gas containing hydrocarbon is supplied from the gas supply unit 115, and an alternating voltage is applied between the discharge electrode 125 and the inner wall of the chamber 101 which is a counter electrode.
- the temperature rises around the discharge electrode 125 due to the application of the AC voltage.
- the pressure in the long thin tube 102 is slightly lower than that outside the long thin tube 102, and hydrocarbon plasma is generated in the vicinity of the discharge electrode 125.
- the inside of the chamber is once depressurized to about 1 ⁇ 10 ⁇ 3 Pa to 5 ⁇ 10 ⁇ 3 Pa before film formation.
- the hydrocarbon contained in the raw material gas methane, ethane, propane, butane, ethylene, acetylene, benzene, and the like used in a normal CVD method can be used, and methane is preferable from the viewpoint of handling.
- an organic silicon compound such as tetramethylsilane or an oxygen-containing organosilicon compound such as hexamethyldisiloxane can be vaporized and used as the source gas.
- the raw material gas can be supplied after being diluted with an inert gas such as argon, neon, or helium as necessary, and is preferably diluted with argon from the viewpoint of handling.
- an inert gas such as argon, neon, or helium
- the ratio of hydrocarbon to inert gas is preferably about 10: 1 to 10: 5.
- the pressure in the chamber 101 is about 5 Pa to 200 Pa in a state where the source gas is supplied.
- the flow rate of the source gas can be about 50 sccm to 200 sccm.
- the bias voltage applied to the discharge electrode 125 during film formation can be about 1 kV to 20 kV. From the viewpoint of avoiding damage to the discharge electrode and temperature rise, it is preferably 10 kV or less.
- the frequency of the AC voltage is preferably about 1 kHz to 50 kHz.
- the AC voltage is preferably a pulse bias applied intermittently from the viewpoint of suppressing temperature rise. When alternating current is a burst wave, the pulse repetition frequency is preferably about 3 pps to 50 pps.
- the tube temperature can be reduced to 200 ° C. or less by setting the pulse repetition frequency to about 30 pps or less. When it is desired to increase the deposition rate, the pulse repetition frequency is increased. When the temperature rise is to be suppressed, the pulse repetition frequency may be decreased.
- the offset voltage can be about 0 to 3 kV.
- the long thin tube 102 may be made of any material as long as it is non-conductive.
- non-conductive means that the specific resistance is about 1 ⁇ 10 8 ⁇ / cm or more.
- a fluorine resin such as PTFE, a vinyl chloride resin, a polyurethane resin, a polyethylene resin, a polyolefin resin, and a silicone resin can be used.
- a long tubule is not specifically limited, The medical material used for the medical equipment which contacts blood, such as a catheter and an artificial blood vessel, is mentioned.
- the inner diameter of the long thin tube 102 is not particularly limited, but in the case of an artificial blood vessel or a catheter, it is preferably 10 mm or less, more preferably 6 mm or less, still more preferably 4 mm or less, preferably 0.1 mm or more, more preferably 0. 2 mm or more.
- the length of the long thin tube 102 is not particularly limited, but in the case of an artificial blood vessel or a catheter, it is preferably 2 cm or more, more preferably 4 cm or more, and further preferably 10 cm or more. From the viewpoint of forming a uniform film, it is preferably 5 m or less, more preferably 3 m or less, and even more preferably 1.5 m or less. However, it is also possible to form a film on the inner wall of a thin tube of 5 m or more by adjusting the film forming conditions.
- the discharge electrode 125 may be disposed at one end of the long thin tube 102.
- the state in which the discharge electrode 125 is disposed at the end of the long thin tube 102 may be any of the following states.
- the electrode connector 103 is connected to the end of the long thin tube 102, and at least the tip of the discharge electrode 125 can be in a state of being located inside the electrode connector 103.
- the electrode connector 103 can be formed of an insulating tube or the like.
- the electrode connector 103 is a tube that is externally fitted to the long thin tube 102, but the electrode connector 103 may be a tube that is internally fitted to the long thin tube 102.
- the electrode connector 103 can be formed by combining a plurality of tubes. In this case, if a hard material is used for the connection portion with the long thin tube 102 and a flexible material is used for the other portion, handling becomes easy.
- the discharge electrode 125 can have an outer shape smaller than the inner diameter of the long thin tube 102 or the electrode connector 103 so that the source gas can be supplied into the long thin tube 102 from the end on the discharge electrode 125 side.
- the discharge gas 125 can be made hollow and the raw material gas can be supplied into the long thin tube 102.
- the discharge electrode 125 may be conductive, for example, metal.
- metal stainless steel is preferable from the viewpoint of corrosion resistance and the like.
- the discharge electrode 125 is preferably a carbon electrode. In the case of the film forming apparatus of this embodiment, the carbon electrode can also be easily formed.
- film formation can be performed by accommodating the long thin tube 102 in the outer cylinder 104 and creating a pressure difference between the inner side and the outer side of the outer cylinder 104. .
- the outer cylinder 104 is made non-conductive like the long thin tube 102 in order to generate plasma inside. Specifically, plastic or the like is used.
- the outer cylinder 104 can be formed of a flexible soft material or a hard material. By making it transparent or translucent, the advantage that the generation of plasma can be visually confirmed is obtained.
- the outer cylinder 104 one having no pores or the like on the wall surface is used so that a pressure difference is generated between the inner side and the outer side due to a temperature rise when an AC voltage is applied to the discharge electrode 125.
- the inner diameter of the outer cylinder 104 is thicker than the outer shape of the long thin tube 102, and the length may be longer than the length that can accommodate the entire long thin tube 102.
- the opposite end of the outer cylinder 104 is open.
- the long tube 102 is substantially long.
- Plasma exists only inside the narrow tube 102, and film formation can be performed only on the inner wall surface.
- the plasma is also present outside the long thin tube 102, and not only the inner wall surface of the long thin tube 102 but also the outer wall surface. Also, a film can be formed.
- FIG. 5 shows an example in which the discharge electrode 125 is arranged at the end of the long thin tube 102 using the electrode connector 103 fitted in the outer cylinder 104, but the electrode connector 103 is fitted on the outer cylinder 104. You can also. Further, the tip of the discharge electrode 125 may be positioned inside the outer cylinder 104 without using the electrode connector 103. In this case, the tip of the discharge electrode 125 may be located inside the long tubule 102.
- the long thin tube 102 is a catheter or the like and is not porous, the long thin tube 102 can be accommodated in the outer cylinder 104 to form a film.
- the counter electrode is the inner wall of the chamber 101.
- the counter electrode 126 may be disposed to face the discharge electrode 125 with the long thin tube 102 interposed therebetween. By disposing the counter electrode 126 in this way, plasma can be stably generated even when the AC voltage is lowered.
- the counter electrode 126 is not limited to this, and may be provided at any position in the chamber. Even if the counter electrode 126 is in contact with the long thin tube 102, plasma can be generated. However, in the case of the counter electrode 126 made of metal, the metal contamination of the long thin tube 102 can be made difficult to occur by being provided apart from the long thin tube 102.
- the thickness of the DLC film formed on the inner wall of the long tubule 102 is not particularly limited, but from the viewpoint of improving the occlusion of the artificial blood vessel and reducing the friction coefficient of the inner surface of the catheter, it is preferably 3 nm or more. Preferably it is 10 nm or more. Moreover, from a viewpoint of preventing peeling etc., Preferably it is 50 nm or less, More preferably, it is 30 nm or less.
- the film formation time should be such that the required film thickness is obtained, and an optimum value may be selected according to the film formation conditions such as the inner diameter of the long tubule, AC voltage, pulse repetition frequency, etc. From this viewpoint, it is preferably 60 minutes or less, more preferably 30 minutes or less, and still more preferably 10 minutes or less.
- the chamber 101 was a stainless steel container having a diameter of 200 mm and a length of 500 mm.
- a vacuum exhaust unit 110 and a gas supply unit 115 are connected to the chamber 101, and the power source unit 120 is configured by a voltage generator 121 (SG-4104 manufactured by IWATSU) and an amplifier 122 (HVA4321 manufactured by NF Corporation).
- the discharge electrode 125 was a stainless steel electrode having a diameter of 6 mm and a length of 70 mm.
- the gas supply unit 115 is configured to supply the source gas from the methane gas cylinder 116 via the mass flow controller 117.
- the pressure in the chamber 110 was adjusted by controlling the opening degree of the valve and the gas supply amount.
- ⁇ DLC film evaluation> Confirmation of film formation was performed using a Raman spectrometer (RAMAN11 manufactured by nano photon).
- the measurement conditions were a light source wavelength of 532 nm, an objective lens of 50 times, a numerical aperture (Numerical Aperture) of 0.8, and a diffraction grating of 600 gr / mm.
- DLC films were formed on the inner walls of nine types of silicon tubes having inner diameters of 2 mm, 3 mm and 4 mm and lengths of 500 mm, 1000 mm and 1500 mm.
- the source gas was CH 4
- the flow rate was 96.2 ccm (room temperature)
- the pressure in the chamber was 39.06 Pa.
- the bias voltage during film formation was 5 kV
- the frequency was 10 kHz.
- the AC voltage was applied intermittently for 5 minutes so that the pulse repetition frequency was 10 pps or 30 pps. In the film formation, an offset of 2 kV was applied by an amplifier.
- thermo-label manufactured by Wahl
- the temperature in the tube was measured.
- the pulse repetition frequency was 10 pps
- the temperature was 132 ° C. to 154 ° C. and 30 pps. In this case, the temperature was 171 ° C to 193 ° C.
- ePTFE artificial blood vessel manufactured by Gore-Tex, SGTW-0415BT
- An outer cylinder made of a silicon tube having an inner diameter of 5 mm and a length of 150 mm.
- Film formation was performed. The film forming conditions were the same as those for the silicon tube. The film formation time was 5 minutes, 20 minutes and 40 minutes.
- FIG. 7 shows an example of Raman spectrum measurement. According deposition time increases, weakened specific peak in PTFE, the peak of G-band of the carbon in the vicinity of the peak and 1550 cm -1 of the D band of the carbon in the vicinity of 1330 cm -1 have emerged.
- the 100 mm from the open end side of the sample was cut into 20 mm, and the film adhesion was evaluated for each test piece.
- Each test piece had a dumbbell shape with a parallel part width of 3 mm, a length of 10 mm, and a grip part width of 10 mm.
- a tensile test was performed with a tensile tester (manufactured by IMADA, forceNgauge MX-500N) so that the strain rate was 20%, 40%, 60, 80%, and 80%. The presence or absence of peeling was confirmed. Even if each specimen was subjected to a tensile test up to a strain rate of 80%, no peeling of the DLC film was observed.
- the film forming method of the present disclosure can easily form a DLC film on the inner wall surface of a long tubule, and is useful as a method for manufacturing a medical material.
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Public Health (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Oral & Maxillofacial Surgery (AREA)
- Transplantation (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Dermatology (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Vascular Medicine (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Heart & Thoracic Surgery (AREA)
- Pulmonology (AREA)
- Biomedical Technology (AREA)
- Gastroenterology & Hepatology (AREA)
- Cardiology (AREA)
- Biophysics (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Anesthesiology (AREA)
- Hematology (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Media Introduction/Drainage Providing Device (AREA)
- Carbon And Carbon Compounds (AREA)
- Materials For Medical Uses (AREA)
- Prostheses (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
成膜方法は、内部圧力を調整可能なチャンバ101内に、非導電性の長尺細管102を配置し、炭化水素を含む原料ガスを供給した状態において、長尺細管102の内部にプラズマを発生させて、長尺細管102の内壁面にダイヤモンドライクカーボン膜を形成する工程を備えている。長尺細管102は、一方の端部に放電電極125が配置され、他方の端部は開放された状態で、チャンバ101内に配置する。放電電極125と、長尺細管102から離間して設けられた対向電極126との間に断続的に交流バイアスを印加する。
Description
本開示は成膜方法に関し、特に長尺細管の内壁面にダイヤモンドライクカーボン膜を形成する成膜方法、成膜装置及び医療用材料に関する。
近年需要が増大している医療用材料に、人工血管がある。一般的に用いられている人工血管は、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)を延伸して多孔質化したePTFE(expanded-polytetrafluoroethylene)からなる。ePTFEは生体適合性に優れた材料であるが、閉塞性の面では十分ではない。このため、直径6mm未満のePTFE製人工血管の使用は非常にリスクが高い。
細い人工血管として、ヒトや動物由来の材料を用いたものが存在するが、安全性や安定供給の面で問題がある。このため、生体由来ではない閉塞しにくい細い人工血管が求められている。
sp2炭素、sp3炭素及び水素を含む非晶質炭素膜であるダイヤモンドライクカーボン(DLC)膜は、生体適合性に優れている。このため、人工血管の内壁面にDLC膜を形成することにより、人工血管の閉塞を生じにくくできると期待される。しかし、人工血管のような長尺細管の内壁面にDLC膜を形成することは容易ではない。
管体の内壁面にDLC膜を形成する方法として、例えば管体の内部に放電電極を挿入する方法がある(例えば、特許文献1を参照。)。また、管体の内部に電極を挿入するのではなく、2枚の電極板の間に管体を挟み込むことにより管体の内部にプラズマを発生させて成膜する方法も検討されている(例えば、特許文献2を参照。)。
しかしながら、従来の成膜方法には以下のような問題がある。管体の内部に放電電極を挿入する場合には、成膜対象の管体よりも長く且つ管体の内径よりも細い放電電極が必要となる。高圧がかかる放電電極にはある程度以上の太さが必要であり、6mm以下の細管の内壁面に成膜することは事実上不可能である。また、放電電極と内壁面との距離が小さくなると、放電電極から脱離した金属成分が内壁面に付着してしまうおそれもある。放電電極を炭素電極とすれば、金属付着は生じないが、細く長い炭素電極を形成することは困難である。
2枚の電極の間に管体を挟み込む場合には、長尺の管体全体に成膜しようとすると大きな電極板が必要となる。電極の間を管体が移動するようにしたり、管体に沿って電極を移動させたりする方法もあるが、この場合には移動させるための機構が必要となる。また、管体の内部に炭化水素ガスを封じ込める必要があるため、多孔性の人工血管の場合、直接電極の間に配置してもうまく成膜することができない。
カテーテル等においても、生体適合性及び内面の摩擦低減等の効果が得られるため、内壁面にDLC膜を形成することは有用であると期待される。しかし、カテーテル等に用いる長尺細管の医療用材料についても、人工血管の場合と同様の問題が発生する。
本開示の課題は、長尺細管の医療用材料の内壁面にDLC膜を容易に形成できるようにすることである。
本開示の成膜方法の一態様は、内部圧力を調整可能なチャンバ内に、非導電性の長尺細管を配置し、炭化水素を含む原料ガスを供給した状態において、長尺細管の内部にプラズマを発生させて、長尺細管の内壁面にダイヤモンドライクカーボン膜を形成する工程を備え、長尺細管は、一方の端部に放電電極が配置され、他方の端部は開放された状態で、チャンバ内に配置し、放電電極と、長尺細管から離間して設けられた対向電極との間に断続的に交流バイアスを印加する。
成膜方法の一態様において、長尺細管は、多孔性であり、長尺細管の外形よりも内径が大きい外筒内に収容されてチャンバ内に配置されるようにできる。
この場合において、長尺細管は、人工血管とすることができる。
成膜方法の一態様において、長尺細管は、カテーテルとすることができる。
成膜方法の一態様において、対向電極は、チャンバの内壁面とすることができる。
本開示の成膜装置の一態様は、内部圧力を調整可能なチャンバと、チャンバ内に炭化水素ガスを供給するガス供給部と、チャンバ内に設けられた放電電極及び対向電極と、放電電極と対向電極との間に断続的に交流電圧を印加する電源部とを備え、放電電極を、非導電性の長尺細管の一方の端部に取り付け、対向電極を長尺細管から離間した状態として放電させることにより、長尺細管内にプラズマを発生させて、長尺細管の内壁面にダイヤモンドライクカーボン膜を形成する。
成膜装置の一態様は、長尺細管を収容する外筒をさらに備え、長尺細管は多孔性とすることができる。
本開示の医療用材料の一態様は、内径が0.1mm以上、6mm以下で、長さが2cm以上であり、内壁面にダイヤモンドライクカーボン膜が形成されている非導電性の長尺細管を有する。
医療用材料の一態様において、長尺細管は、人工血管又はカテーテルとすることができる。
本開示の成膜方法によれば、長尺細管の医療用材料の内壁面にDLC膜を容易に形成することができる。
図1は、本実施形態において用いる成膜装置を示している。成膜装置は、内部に成膜対象の長尺細管102を収容するチャンバ101を有している。チャンバ101には、真空排気部110と、チャンバ101内に成膜用のガスを供給するガス供給部115とが接続されており、内部の圧力を調整することができる。また、電力を供給する電源部120が接続されており、チャンバ101内にプラズマを発生させることができる。
本実施形態において、真空排気部110は、真空ポンプ112とバルブ113とを有している。本実施形態において、ガス供給部115は、ボンベ116とマスフローコントローラ117とを有している。ガス供給部115は、複数のガスを供給するようにもできる。本実施形態において、電源部120は、電圧発生器121と増幅器122とを有しており、放電電極125と対向電極との間に交流電圧を印加する。対向電極は、接地電極であり、チャンバ101の内壁となっている。
チャンバ101内に配置された長尺細管102の一方の端部を、放電電極125の位置に配置し、他方の端部は開放状態とする。チャンバ内を減圧した後、ガス供給部115から炭化水素を含む原料ガスを供給し、交流電圧を放電電極125と対向電極であるチャンバ101の内壁との間に印加する。交流電圧の印加により放電電極125の周囲において温度が上昇する。これにより長尺細管102内の圧力が、長尺細管102外よりも若干低くなり、放電電極125付近において炭化水素のプラズマが発生する。長尺細管102の他端は解放されているため、生成したプラズマは長尺細管102内を解放端側へ移動し、長尺細管102内の全体にプラズマが発生する。これによって、長尺細管102の内壁面にDLC膜が形成される。
チャンバ101内を原料ガスで十分に置換する観点から、成膜前にチャンバ内を一旦1×10-3Pa~5×10-3Pa程度まで減圧することが好ましい。原料ガスに含まれる炭化水素は、通常のCVD法において用いられる、メタン、エタン、プロパン、ブタン、エチレン、アセチレン及びベンゼン等を用いることができ、取り扱いの観点からメタンが好ましい。また、原料ガスには、テトラメチルシラン等の有機ケイ素化合物や、ヘキサメチルジシロキサン等の酸素含有有機ケイ素系化合物を気化させて用いることもできる。原料ガスは、必要に応じてアルゴン、ネオン及びヘリウム等の不活性ガスにより希釈して供給することができ、取り扱いの観点からアルゴンにより希釈することが好ましい。希釈する場合、炭化水素と不活性ガスとの比率は、10:1~10:5程度とすることが好ましい。
長尺細管102内に均一にDLC膜を形成する観点から、原料ガスを供給した状態で、チャンバ101内の圧力は5Pa~200Pa程度とすることが好ましい。また、原料ガスのフローレートは50sccm~200sccm程度とすることができる。
成膜の際に放電電極125に印加するバイアス電圧は、1kV~20kV程度とすることができる。放電電極の損傷や温度上昇を避ける観点から10kV以下とすることが好ましい。交流電圧の周波数は、1kHz~50kHz程度とすることが好ましい。交流電圧は、温度上昇を抑える観点から、断続的に加えるパルスバイアスとすることが好ましい。交流をバースト波とする場合には、パルス繰り返し周波数を3pps~50pps程度とすることが好ましい。長尺細管102の内径、成膜時間、交流印加電圧等にもよるが、パルス繰り返し周波数を30pps程度以下とすることによりチューブ温度を200℃以下とすることができる。成膜速度を高くしたい場合には、パルス繰り返し周波数を高くし、温度上昇を抑えたい場合はパルス繰り返し周波数を低くすればよい。
放電を安定させ、DLC膜の密着性を得るために、放電電極125にオフセット負電圧を印加することが好ましい。オフセット電圧は0~3kV程度とすることができる。
長尺細管102の材質は、非導電性であればどのようなものであってもよい。本開示において、非導電性とは、比抵抗が1×108Ω/cm以上程度であることである。具体的には、PTFE等のフッ素樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリオレフィン樹脂及びシリコーン樹脂等とすることができる。長尺細管の具体的な用途は特に限定されないが、カテーテル及び人工血管等の血液と接触する医療用機器に用いる医療用材料が挙げられる。
長尺細管102の内径は特に限定されないが、人工血管又はカテーテル等の場合は、好ましくは10mm以下、より好ましくは6mm以下、さらに好ましくは4mm以下、好ましくは0.1mm以上、より好ましくは0.2mm以上である。長尺細管102の長さも特に限定されないが、人工血管又はカテーテル等の場合には好ましくは2cm以上、より好ましくは4cm以上、さらに好ましくは10cm以上である。均一に成膜する観点から好ましくは5m以下、より好ましくは3m以下、さらに好ましくは1.5m以下である。但し、成膜条件を調整することにより5m以上の細管の内壁に成膜することも可能である。
放電電極125は、長尺細管102の一方の端部に配置されていればよい。本実施形態において、放電電極125が長尺細管102の端部に配置されている状態は、以下のいずれの状態であってもよい。まず、図2に示すように、放電電極125の少なくとも先端が長尺細管102の内部に位置している状態とすることができる。また、図3に示すように、長尺細管102の端部に電極コネクタ103が接続されており、放電電極125の少なくとも先端が電極コネクタ103の内部に位置している状態とすることができる。電極コネクタ103は絶縁性のチューブ等により形成することができる。図3において、電極コネクタ103を、長尺細管102に外嵌するチューブとしたが、電極コネクタ103を長尺細管102に内嵌するチューブとすることもできる。また、複数のチューブを組み合わせて電極コネクタ103を形成することもできる。この場合、長尺細管102との接続部分には硬質の材料を用い、それ以外の部分には可撓性を有する材料を用いれば、取り扱いが容易となる。
放電電極125は、長尺細管102又は電極コネクタ103の内径よりも外形を小さくして、放電電極125側の端部から長尺細管102内に原料ガスが供給されるようにすることができる。また、図4に示すように、放電電極125を中空として長尺細管102内に原料ガスが供給されるようにすることもできる。
放電電極125は、導電性であればよく、例えば金属とすることができる。金属の場合、耐食性等の観点からステンレス鋼が好ましい。細管を貫通するように金属の電極を挿入すると、電極から細管への金属の移行が生じるおそれがある。しかし、本実施形態の成膜装置の場合、電極コネクタ103を用いれば金属の影響はほとんど生じない。電極コネクタ103を用いない場合においても、放電電極125から5cm程度以上離れた位置においては、金属の影響はほとんど生じない。金属の影響を避ける観点からは、放電電極125を炭素電極とすることが好ましい。本実施形態の成膜装置の場合、炭素電極も容易に形成することができる。
長尺細管102が多孔性であり、長尺細管102の内側と外側とに圧力差が生じない場合は、そのままの状態では長尺細管102内にプラズマを発生させることができない。この場合には、図5に示すように、長尺細管102を外筒104内に収容し、外筒104の内側と外側とに圧力差が生じるようにすることにより成膜を行うことができる。
外筒104は、内部にプラズマを発生させるために、長尺細管102と同様に非導電性とする。具体的には、プラスチック等とする。外筒104は可撓性を有する軟質の材料により形成することも、硬質の材料により形成することもできる。透明又は半透明とすることによりプラズマの発生を目視により確認できるという利点が得られる。
外筒104は、放電電極125に交流電圧を印加した際の温度上昇により、内側と外側との間に圧力差が生じるように、壁面に細孔等が存在しないものを用いる。外筒104の内径は長尺細管102の外形よりも太く、長さは長尺細管102の全体を収容できる長さ以上であればよい。外筒104の反対側の端部は開放状態とする。
外筒104の内径を長尺細管102の外形とほぼ一致させ、長尺細管102の外壁面と外筒104の内壁面との間にほぼ隙間がない状態とすることにより、実質的に長尺細管102の内側にのみプラズマが存在し、内壁面のみに成膜することができる。長尺細管102の外壁面と外筒104の内壁面との隙間を大きくすることにより、長尺細管102の外側にもプラズマが存在する状態となり、長尺細管102の内壁面だけでなく外壁面にも成膜することができる。
図5においては、外筒104に内嵌する電極コネクタ103を用いて、放電電極125を長尺細管102の端部に配置する例を示したが、電極コネクタ103を外筒104に外嵌させることもできる。また、電極コネクタ103を用いずに、放電電極125の先端が、外筒104の内部に位置するようにしてもよい。この場合、放電電極125の先端が、長尺細管102の内部に位置していてもよい。
長尺細管102がカテーテル等であり多孔性でない場合においても、長尺細管102を外筒104内に収容して成膜することができる。
本実施形態において、対向電極をチャンバ101の内壁としたが、図6に示すように対向電極126を長尺細管102を挟んで放電電極125と対向するように配置することもできる。対向電極126をこのように配置することにより、交流電圧を低くしても安定してプラズマを発生させることができる。これに限らず対向電極126はチャンバ内のどの位置に設けてもよい。対向電極126が長尺細管102と接していてもプラズマを発生させることができる。但し、金属製の対向電極126の場合、長尺細管102と離間して設けることにより、長尺細管102の金属汚染を生じにくくすることができる。
長尺細管102の内壁に形成するDLC膜の膜厚は特に限定されないが、人工血管の閉塞性を改善する観点、及びカテーテルの内面の摩擦係数を低減する観点からは、好ましくは3nm以上、より好ましくは10nm以上である。また、剥離等を防止する観点からは好ましくは50nm以下、より好ましくは30nm以下である。
成膜時間は、必要な膜厚が得られるようにすればよく、長尺細管の内径、交流電圧、パルス繰り返し周波数等の成膜条件に応じて最適な値を選択すればよいが、生産性の観点からは好ましくは60分以下、より好ましくは30分以下、さらに好ましくは10分以下である。
<成膜装置>
図1に示す成膜装置により、試料の内壁面にDLC膜を形成した。チャンバ101は、直径が200mmで、長さが500mmのステンレス容器とした。チャンバ101には真空排気部110及びガス供給部115が接続されており、電源部120は、電圧発生器121(IWATSU製SG-4104)と増幅器122(NF Corporation製HVA4321)とにより構成した。放電電極125は、直径6mm、長さ70mmのステンレス電極とした。ガス供給部115は、メタンガスのボンベ116からマスフローコントローラ117を介して原料ガスを供給する構成とした。バルブの開度及びガス供給量を制御することにより、チャンバ110内の圧力を調整した。
図1に示す成膜装置により、試料の内壁面にDLC膜を形成した。チャンバ101は、直径が200mmで、長さが500mmのステンレス容器とした。チャンバ101には真空排気部110及びガス供給部115が接続されており、電源部120は、電圧発生器121(IWATSU製SG-4104)と増幅器122(NF Corporation製HVA4321)とにより構成した。放電電極125は、直径6mm、長さ70mmのステンレス電極とした。ガス供給部115は、メタンガスのボンベ116からマスフローコントローラ117を介して原料ガスを供給する構成とした。バルブの開度及びガス供給量を制御することにより、チャンバ110内の圧力を調整した。
<DLC膜の評価>
膜形成の確認は、ラマン分光測定装置(nano photon製 RAMAN11)により行った。測定条件は光源波長532nm、対物レンズ50倍、開口数(Numerical Aperture)0.8、回折格子600gr/mmとした。
膜形成の確認は、ラマン分光測定装置(nano photon製 RAMAN11)により行った。測定条件は光源波長532nm、対物レンズ50倍、開口数(Numerical Aperture)0.8、回折格子600gr/mmとした。
<シリコンチューブへの成膜>
内径が2mm、3mm及び4mmで、長さが500mm、1000mm及び1500mmの9種類のシリコンチューブの内壁にDLC膜を形成した。原料ガスはCH4とし、流量は96.2ccm(室温)とし、チャンバ内の圧力は39.06Paとした。成膜の際のバイアス電圧は5kVとし、周波数は10kHzとした。交流電圧の印加は、パルス繰り返し周波数が10pps又は30ppsとなるように断続的に、5分間行った。なお、成膜の際には増幅器により2kVのオフセットを印加した。
内径が2mm、3mm及び4mmで、長さが500mm、1000mm及び1500mmの9種類のシリコンチューブの内壁にDLC膜を形成した。原料ガスはCH4とし、流量は96.2ccm(室温)とし、チャンバ内の圧力は39.06Paとした。成膜の際のバイアス電圧は5kVとし、周波数は10kHzとした。交流電圧の印加は、パルス繰り返し周波数が10pps又は30ppsとなるように断続的に、5分間行った。なお、成膜の際には増幅器により2kVのオフセットを印加した。
いずれの試料においても、チューブ内に電極側から解放端側までプラズマが発生し、チューブ内壁面にDLC膜が形成された。
成膜の際に、電極から5cmの位置にサーモラベル(Wahl社製)を設置し、チューブ内の温度を測定したところ、パルス繰り返し周波数が10ppsの場合は、132℃~154℃であり、30ppsの場合は、171℃~193℃であった。
<人工血管への成膜>
内径が5mmで長さが150mmのシリコンチューブ製の外筒内に、内径が4mm、外径が5mmで、長さが150mmのePTFE製人工血管(ゴアテックス社製、SGTW-0415BT)を入れて成膜を行った。成膜の条件はシリコンチューブの場合と同様にした。成膜時間は5分、20分及び40分とした。
内径が5mmで長さが150mmのシリコンチューブ製の外筒内に、内径が4mm、外径が5mmで、長さが150mmのePTFE製人工血管(ゴアテックス社製、SGTW-0415BT)を入れて成膜を行った。成膜の条件はシリコンチューブの場合と同様にした。成膜時間は5分、20分及び40分とした。
人工血管内にプラズマが発生し、DLC膜が形成された。図7にラマンスペクトルの測定例を示す。成膜時間が長くなるに従い、PTFEに特異的なピークが弱くなり、1330cm-1付近の炭素のDバンドのピーク及び1550cm-1付近の炭素のGバンドのピークが出現している。
試料の解放端側から100mmについて、20mmずつに切り分け、それぞれの試験片について膜の密着性を評価した。各試験片は、平行部の幅が3mm、長さが10mmで、つかみ部の幅が10mmのダンベル形状とした。各測定片について、引張試験機(IMADA製、force gauge MX-500N)により歪み率が20%、40%、60、80%、80%となるように引張試験を行い、各歪み率において膜の剥離の有無を確認した。各試験片について、歪み率が80%まで引張試験を行っても、DLC膜の剥離は認められなかった。
本開示の成膜方法は、長尺細管の内壁面にDLC膜を容易に形成することができ、医療用材料の製造方法等として有用である。
101 チャンバ
102 長尺細管
103 電極コネクタ
104 外筒
110 真空排気部
112 真空ポンプ
113 バルブ
115 ガス供給部
116 ボンベ
117 マスフローコントローラ
120 電源部
121 電圧発生器
122 増幅器
125 放電電極
126 対向電極
102 長尺細管
103 電極コネクタ
104 外筒
110 真空排気部
112 真空ポンプ
113 バルブ
115 ガス供給部
116 ボンベ
117 マスフローコントローラ
120 電源部
121 電圧発生器
122 増幅器
125 放電電極
126 対向電極
Claims (9)
- 内部圧力を調整可能なチャンバ内に、非導電性の長尺細管を配置し、炭化水素を含む原料ガスを供給した状態において、前記長尺細管の内部にプラズマを発生させて、前記長尺細管の内壁面にダイヤモンドライクカーボン膜を形成する工程を備え、
前記長尺細管は、一方の端部に放電電極が配置され、他方の端部は開放された状態で、前記チャンバ内に配置し、
前記放電電極と、前記長尺細管から離間して設けられた対向電極との間に断続的に交流バイアスを印加する、成膜方法。 - 前記長尺細管は、多孔性であり、前記長尺細管の外形よりも内径が大きい外筒内に収容されて前記チャンバ内に配置される、請求項1に記載の成膜方法。
- 前記長尺細管は、人工血管である請求項2に記載の成膜方法。
- 前記長尺細管は、カテーテルである請求項1に記載の成膜方法。
- 前記対向電極は、前記チャンバの内壁面である、請求項1~4のいずれか1項に記載の成膜方法。
- 内部圧力を調整可能なチャンバと、
前記チャンバ内に炭化水素ガスを供給するガス供給部と、
前記チャンバ内に設けられた放電電極及び対向電極と、
前記放電電極と前記対向電極との間に断続的に交流電圧を印加する電源部とを備え、
前記放電電極を、非導電性の長尺細管の一方の端部に取り付け、前記対向電極を前記長尺細管から離間した状態として放電させることにより、前記長尺細管内にプラズマを発生させて、前記長尺細管の内壁面にダイヤモンドライクカーボン膜を形成する、成膜装置。 - 前記長尺細管を収容する外筒をさらに備え、
前記長尺細管は多孔性である、請求項6に記載の成膜装置。 - 内径が0.1mm以上、6mm以下で、長さが2cm以上であり、内壁面にダイヤモンドライクカーボン膜が形成されている非導電性の長尺細管を含む医療用材料。
- 前記長尺細管は、人工血管又はカテーテルである、請求項8に記載の医療用材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US16/491,684 US11401604B2 (en) | 2017-03-06 | 2018-03-06 | Film formation method |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2017042037A JP6506787B2 (ja) | 2017-03-06 | 2017-03-06 | 成膜方法 |
| JP2017-042037 | 2017-03-06 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| WO2018164083A1 true WO2018164083A1 (ja) | 2018-09-13 |
Family
ID=63447598
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PCT/JP2018/008442 Ceased WO2018164083A1 (ja) | 2017-03-06 | 2018-03-06 | 成膜方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US11401604B2 (ja) |
| JP (1) | JP6506787B2 (ja) |
| TW (1) | TWI817940B (ja) |
| WO (1) | WO2018164083A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020036784A (ja) * | 2018-09-05 | 2020-03-12 | 国立大学法人 岡山大学 | 人工血管 |
| JP7453637B2 (ja) * | 2020-03-03 | 2024-03-21 | ストローブ株式会社 | 内面被覆チューブ |
| JP2024003423A (ja) * | 2022-06-27 | 2024-01-15 | 国立大学法人 岡山大学 | マルチルーメンカテーテルの製造方法 |
| CN117448779B (zh) * | 2023-10-27 | 2026-04-17 | 杭州盾源聚芯半导体科技有限公司 | 一种硅制喷射管的立式氧化治具及氧化工艺 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006216468A (ja) * | 2005-02-04 | 2006-08-17 | Toyohashi Univ Of Technology | プラズマ表面処理方法、プラズマ生成装置及びプラズマ表面処理装置 |
| JP2008192567A (ja) * | 2007-02-07 | 2008-08-21 | Tohoku Univ | 細管内プラズマ発生法とこれを用いた薄膜堆積方法及び細管内壁面改質方法 |
| WO2009123243A1 (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-08 | 国立大学法人琉球大学 | プラズマ生成装置及び方法 |
| JP2015147974A (ja) * | 2014-02-06 | 2015-08-20 | 国立大学法人東京工業大学 | 管状体内にプラズマを発生させる発生装置 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05237141A (ja) * | 1992-02-27 | 1993-09-17 | Jinkou Ketsukan Gijutsu Kenkyu Center:Kk | 人工血管およびその製造方法 |
| JPH06246142A (ja) * | 1993-02-19 | 1994-09-06 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 管状四弗化エチレン樹脂多孔質体とその製造方法 |
| IT1294205B1 (it) | 1997-07-23 | 1999-03-24 | Farmigea Spa | Procedimento per la solubilizzazione in acqua e in veicoli acquosi di sostanze farmacologicamente attive |
-
2017
- 2017-03-06 JP JP2017042037A patent/JP6506787B2/ja active Active
-
2018
- 2018-03-06 US US16/491,684 patent/US11401604B2/en active Active
- 2018-03-06 WO PCT/JP2018/008442 patent/WO2018164083A1/ja not_active Ceased
- 2018-03-06 TW TW107107408A patent/TWI817940B/zh not_active IP Right Cessation
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006216468A (ja) * | 2005-02-04 | 2006-08-17 | Toyohashi Univ Of Technology | プラズマ表面処理方法、プラズマ生成装置及びプラズマ表面処理装置 |
| JP2008192567A (ja) * | 2007-02-07 | 2008-08-21 | Tohoku Univ | 細管内プラズマ発生法とこれを用いた薄膜堆積方法及び細管内壁面改質方法 |
| WO2009123243A1 (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-08 | 国立大学法人琉球大学 | プラズマ生成装置及び方法 |
| JP2015147974A (ja) * | 2014-02-06 | 2015-08-20 | 国立大学法人東京工業大学 | 管状体内にプラズマを発生させる発生装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW201840295A (zh) | 2018-11-16 |
| US20200002809A1 (en) | 2020-01-02 |
| TWI817940B (zh) | 2023-10-11 |
| JP6506787B2 (ja) | 2019-04-24 |
| JP2018145478A (ja) | 2018-09-20 |
| US11401604B2 (en) | 2022-08-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| WO2018164083A1 (ja) | 成膜方法 | |
| US20010002284A1 (en) | Jet plasma process and apparatus for deposition of coatings and the coatings thereof | |
| US20090110627A1 (en) | Graphene sheet and method of preparing the same | |
| US20120231177A1 (en) | Depositing Coatings In Long Hollow Substrates Using A Heated Center Electrode | |
| Mozetic et al. | Oxygen atom loss coefficient of carbon nanowalls | |
| KR20130029762A (ko) | 양파 모양 카본의 제작 방법 | |
| Watanabe et al. | Control of super hydrophobic and super hydrophilic surfaces of carbon nanowalls using atmospheric pressure plasma treatments | |
| US11969334B2 (en) | Artificial blood vessel | |
| JP4134315B2 (ja) | 炭素薄膜及びその製造方法 | |
| JP5122386B2 (ja) | 半導体用ケース | |
| JP6063042B2 (ja) | 炭素被覆部材及びその製造方法 | |
| JP7453637B2 (ja) | 内面被覆チューブ | |
| US20160281219A1 (en) | Dlc film film-forming method | |
| WO2007007395A1 (ja) | 容器内面へのコーティング膜形成装置および内面コーティング膜容器の製造方法 | |
| JP2007213715A (ja) | フッ素化ダイヤモンドライクカーボン薄膜の製造方法およびそれにより得られたフッ素化ダイヤモンドライクカーボン薄膜 | |
| JP2020066797A (ja) | 保護膜、保護膜付き容器、その製造方法及びプラズマcvd装置 | |
| FR2922559A1 (fr) | Procede de realisation d'un revetement en carbone amorphe hydrogene | |
| JP2008192567A (ja) | 細管内プラズマ発生法とこれを用いた薄膜堆積方法及び細管内壁面改質方法 | |
| US11133159B1 (en) | Plasma polymerization apparatus and plasma polymerization method using the same | |
| JP6020987B2 (ja) | 炭素膜、高分子製品、炭素膜被覆材の製造方法、成膜方法、及び、成膜装置 | |
| JPH09208726A (ja) | プラズマを利用した基材の表面処理方法 | |
| JP2005281844A (ja) | 成膜装置及び方法 | |
| KAMADA et al. | Effect of the Substrate Position and Flow Rate Ratio on the Properties of aC: H Films Deposited by Pseudo-Spark Discharge Plasma CVD Using Acetylene and Ar | |
| Santos et al. | Diverse amorphous carbonaceous thin films obtained by plasma enhanced chemical vapor deposition and plasma immersion ion implantation and deposition | |
| Djerourou et al. | The Effect of a Multihollow Cathode on the Self-Bias Voltage of Methane RF Discharge Used for aC: H Deposition |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| 121 | Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application |
Ref document number: 18764192 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |
|
| NENP | Non-entry into the national phase |
Ref country code: DE |
|
| 122 | Ep: pct application non-entry in european phase |
Ref document number: 18764192 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |