WO2018131665A1 - 発色構造体、表示体、発色シート、成形体、および、発色構造体の製造方法 - Google Patents

Abstract

発色構造体は、表面に凹凸構造を有する凹凸層と、この凹凸構造上に位置して当該凹凸構造に追従した表面形状を有する多層膜層と、多層膜層の表面を覆う保護層とを備える。凹凸構造を構成する凸部は１段以上の形状を有し、凹凸層の厚さ方向に凹凸構造が投影される仮想平面において凸部の投影像が構成するパターンは、第２方向に沿った長さが第１方向に沿った長さ以上である複数の矩形の集合からなるパターンを含み、矩形の第１方向に沿った長さはサブ波長以下であり、複数の矩形において、第２方向に沿った長さの標準偏差は、第１方向に沿った長さの標準偏差よりも大きい。

Description

発色構造体、表示体、発色シート、成形体、および、発色構造体の製造方法

　本発明は、構造色を呈する発色構造体、発色構造体を備える表示体、発色シート、発色シートを備える成形体、および、発色構造体の製造方法に関する。

　モルフォ蝶等の自然界の生物の色として多く観察される構造色は、色素が呈する色のように分子における電子遷移に起因して視認される色とは異なり、光の回折や干渉や散乱といった、物体の微細な構造に起因した光学現象の作用によって視認される色である。

　例えば、多層膜干渉による構造色は、相互に隣り合う薄膜の屈折率が相互に異なる多層膜層において、多層膜の各界面で反射した光が干渉することによって生じる。多層膜干渉は、モルフォ蝶の翅の発色原理の１つである。モルフォ蝶の翅では、多層膜干渉に加えて、翅の表面の微細な凹凸構造によって光の散乱や回折が生じる結果、鮮やかな青色が広い観察角度において視認される。

　モルフォ蝶の翅のような構造色を人工的に再現する構造として、特許文献１に記載のように、不均一に配列された微細な凹凸を有する基材の表面に、多層膜層が積層された構造が提案されている。

　多層膜層において、干渉によって強められる光の波長は、多層膜層の各層にて生じる光路差によって変わり、光路差は各層の膜厚および屈折率に応じて決まる。そして、干渉によって強められた光の出射方向は、入射光の入射角度に依存した特定の方向に限定される。したがって、平面に多層膜層が積層された構造では、視認される反射光の波長が観察角度によって大きく変化するため、視認される色が観察角度によって大きく変化する。

　これに対し、特許文献１の構造では、不規則な凹凸の上に多層膜層が積層されて、干渉によって強められた反射光が多方向に広がるため、観察角度による色の変化が緩やかになる。その結果、モルフォ蝶の翅のように広い観察角度で特定の色を呈する構造体が実現される。

特開２００５－１５３１９２号公報

　ところで、特許文献１に記載の構造体においては、多層膜層は基材の凹凸に追従した凹凸を有し、この凹凸が構造体の表面を構成している。そのため、外部から構造体に物理的な衝撃や化学的な衝撃が加わると、多層膜層の凹凸構造の変形や変質が生じる場合がある。また、凹凸構造に汚れや異物が詰まることも起こり得る。こうした凹凸構造の崩れが生じると、多層膜層にて反射される光の光路長が変化したり、反射光を多方向に拡散させる効果が低下したりするため、構造体において所望の発色が得られ難くなる。

　本発明は、多層膜層が有する凹凸構造を保護することのできる発色構造体、表示体、発色シート、成形体、および、発色構造体の製造方法を提供することを目的とする。

　上記課題を解決する発色構造体は、表面に凹凸構造を有する凹凸層と、前記凹凸構造上に位置して当該凹凸構造の形状に追従した表面形状を有する多層膜層であって、当該多層膜層において相互に隣接する層の屈折率が相互に異なり、当該多層膜層に入射する入射光のうちの特定の波長域での光の反射率が前記特定の波長域以外の他の波長域での光の反射率よりも高い前記多層膜層を含む光学機能層であって、当該光学機能層における前記凹凸層とは反対側の最外層が、当該最外層よりも下層に対する保護機能を有する前記光学機能層と、を備え、第１方向と、前記第１方向と直交する第２方向とは、前記凹凸層の厚さ方向に前記凹凸構造が投影される仮想的な面である仮想平面に沿う方向であり、前記凹凸構造を構成する凸部は１段以上の形状を有し、前記仮想平面において前記凸部の投影像が構成するパターンは、前記第２方向に沿った長さが前記第１方向に沿った長さ以上である図形要素の集合からなるパターンを含み、前記図形要素の前記第１方向に沿った長さはサブ波長以下であり、前記図形要素の集合において、前記第２方向に沿った長さの標準偏差は、前記第１方向に沿った長さの標準偏差よりも大きい。
　上記構成によれば、光学機能層の最外層によって下層が保護されるため、多層膜層の凹凸構造を保護することができる。

　上記発色構造体において、前記凹凸層は、前記入射光に対する光透過性を有し、前記最外層として前記多層膜層の表面を覆う保護層は、前記入射光のうち前記多層膜層を透過する光の少なくとも一部を吸収する光吸収性を有してもよい。

　上記構成によれば、凹凸層の位置する側から発色構造体を観察した場合に、凹凸層側から多層膜層を透過した光の少なくとも一部は保護層によって吸収され、透過光が凹凸層側に返ってくることが抑えられる。したがって、多層膜層からの反射光とは異なる波長域の光が視認されることが抑えられるため、反射光による色の視認性が低下することが抑えられる。

　上記発色構造体において、前記発色構造体を構成する層には、紫外線吸収剤を含む層が含まれてもよい。上記構成によれば、発色構造体を構成する材料が紫外線によって劣化することが抑えられる。

　上記発色構造体において、前記最外層として前記多層膜層の表面を覆う保護層は、２以上の層から構成されてもよい。上記構成によれば、保護層を構成する層が有する機能の組み合わせによって、保護層の多機能化や保護層の機能の増強が可能である。

　上記発色構造体において、前記発色構造体の最外面から測定した硬度は、０．０３ＧＰａ以上であってもよい。上記構成によれば、発色構造体の耐擦過性が高められる。

　上記発色構造体において、前記発色構造体の最外面における算術平均粗さは、２μｍ以下であってもよい。上記構成によれば、発色構造体の最外面における光の乱反射を抑えることができるため、多層膜層からの反射光による色の視認性が低下することが抑えられる。

　上記発色構造体において、前記発色構造体の最外面における水接触角は、６０度以上であってもよい。上記構成によれば、最外面への水の付着に起因して発色構造体が劣化することが抑えられる。

　上記発色構造体において、前記仮想平面において前記凸部の投影像が構成するパターンは、前記図形要素の集合からなるパターンであり、前記凹凸構造を構成する前記凸部の高さは一定であってもよい。上記構成によれば、凹凸構造を構成する凸部によって反射光の拡散効果が得られ、多層膜層からの反射光として特定の波長域の光が広い角度で観察される。

　上記発色構造体において、前記仮想平面において前記凸部の投影像が構成するパターンは、前記図形要素の集合からなる第１パターンと、前記第２方向に沿って延び、前記第１方向に沿って並ぶ複数の帯状領域からなる第２パターンとが重ねられたパターンであり、前記第１方向に沿った前記帯状領域の配列間隔は、前記複数の帯状領域において一定ではなく、前記配列間隔の平均値が前記入射光に含まれる波長域における最小波長の１／２以上であり、前記凹凸構造を構成する前記凸部は、前記仮想平面における投影像が前記第１パターンを構成する要素であって所定の高さを有する凸部要素と、前記仮想平面における投影像が前記第２パターンを構成する要素であって所定の高さを有する凸部要素とが高さ方向に重ねられた多段形状を有してもよい。

　上記構成によれば、凸部によって反射光の拡散効果と回折効果とが得られ、多層膜層からの反射光として特定の波長域の光が広い観察角度で観察可能であるとともに、この反射光の強度が高められることにより光沢感のある鮮やかな色が視認される。

　上記発色構造体において、前記凹凸層は、前記多層膜層に対して剥離可能に構成されてもよい。上記構成によれば、発色構造体から凹凸層を剥離することが可能となるため、発色構造体の用途を拡張することが可能ともなる。

　上記発色構造体において、前記光学機能層における前記凹凸層とは反対側の面を覆う接着層をさらに備えてもよい。上記構成によれば、発色構造体を被着体に取り付けることが可能ともなる。

　上記課題を解決する表示体は、複数の表示要素を備え、表面と裏面とを有する表示体であって、前記表示要素が、上記発色構造体から構成されている。上記構成によれば、多層膜層の凹凸構造が保護された表示体が実現され、表示体にて、所望の発色が好適に得られやすい。

　上記課題を解決する発色シートは、上記発色構造体から構成された発色シートである。上記構成によれば、多層膜層の凹凸構造が保護された発色シートが実現され、発色シートにて、所望の発色が好適に得られやすい。

　上記課題を解決する成形体は、上記発色シートと、前記発色シートが固定された被着体と、を備え、前記凹凸層に対して前記光学機能層が位置する側に、前記被着体が位置する。上記構成によれば、成形体が、多層膜層の凹凸構造が保護された発色シートを備えるため、発色シートにて所望の発色が好適に得られやすく、成形体の装飾性が高められる。

　上記課題を解決する発色構造体の製造方法は、凹版の有する凹凸を、ナノインプリント法を用いて樹脂に転写することにより、表面に凹凸構造を有する凹凸層を形成する工程と、前記凹凸構造上に、多層膜層を含む光学機能層を、当該多層膜層において相互に隣接する層の屈折率が相互に異なり、当該多層膜層に入射する入射光のうちの特定の波長域での光の反射率が他の波長域での光の反射率よりも高くなるとともに、前記光学機能層における前記凹凸層とは反対側の最外層が、当該最外層よりも下層の保護機能を有するように形成する工程と、を含み、第１方向と、前記第１方向と直交する第２方向とは、前記凹凸層の厚さ方向に前記凹凸構造が投影される仮想的な面である仮想平面に沿う方向であり、前記凹凸層を形成する工程では、前記凹凸構造を構成する１段以上の凸部の投影像が前記仮想平面において構成するパターンが、前記第２方向に沿った長さが前記第１方向に沿った長さ以上である図形要素の集合からなるパターンを含むように前記凹凸構造を形成し、前記図形要素の前記第１方向に沿った長さはサブ波長以下であり、前記図形要素の集合において、前記第２方向に沿った長さの標準偏差は、前記第１方向に沿った長さの標準偏差よりも大きい。

　上記製法によれば、保護機能を有する光学機能層を備える発色構造体の製造に際して、ナノインプリント法を用いて凹凸層の凹凸構造が形成されるため、微細な凹凸構造を好適に、かつ、簡便に形成することができる。

　本発明によれば、発色構造体が備える多層膜層の凹凸構造を保護することができる。

発色構造体の一実施形態について、第１の構造を有する発色構造体の断面構造を示す図。 第１の構造における凹凸構造の平面構造を示す図。 第１の構造における凹凸構造の断面構造を示す図。 第２の構造を有する発色構造体の断面構造を示す図。 第２の構造における第２凸部要素のみからなる凹凸構造の平面構造を示す図。 第２の構造における第２凸部要素のみからなる凹凸構造の断面構造を示す図。 第２の構造における凹凸構造の平面構造を示す図。 第２の構造における凹凸構造の断面構造を示す図。 発色構造体の一実施形態について、変形例の発色構造体の断面構造を示す図。 表示体の一実施形態について、表示体の平面構造を示す図。 表示体の一実施形態について、表示体の断面構造を示す図。 発色シートの一実施形態について、発色シートの断面構造を示す図。 成形体の一実施形態について、成形体の断面構造を示す図。 転写箔の一実施形態について、転写箔の断面構造を示す図。 転写箔を被着体に貼り付けた状態を示す模式図。 発色シートが転写された被着体である成形体を示す模式図。 転写された発色シートの断面構造を示す図。 転写された他の例における発色シートの断面構造を示す図。 転写箔の他の実施形態について、転写箔の断面構造を示す図。 他の実施形態の転写箔における発色シートの断面構造を示す図。

　図１～図１０を参照して、発色構造体、表示体、発色シート、成形体、および、発色構造体の製造方法の実施形態を説明する。

　［発色構造体］
　本実施形態の発色構造体は、多層膜層を有する凹凸構造体と、凹凸構造体における多層膜層の表面を覆う保護層とを備えている。凹凸構造体が有する凹凸構造としては、第１の構造と第２の構造とのいずれもが適用可能であり、まず、これらの２つの構造の各々について説明する。

　なお、発色構造体に対する入射光および反射光の波長域は特に限定されないが、以下の説明においては、一例として、可視領域の光を対象とした発色構造体について説明する。本実施形態においては、３６０ｎｍ以上８３０ｎｍ以下の波長域の光が可視領域の光である。
　図１は、第１の構造を有する凹凸構造体１０と保護層２０とを備える発色構造体３０を示す。

　＜第１の構造＞
　凹凸構造体１０は、基材１５と多層膜層１６とを備える。基材１５は、可視領域の光を透過する材料から形成されており、表面に凹凸構造を有する凹凸層の一例である。多層膜層１６は、基材１５の表面に積層されている。すなわち、多層膜層１６は、基材１５における凹凸の形成されている面を覆っている。基材１５の有する凹凸構造は、複数の凸部１５ａと、複数の凸部１５ａの間の領域である凹部１５ｂとから構成されている。凸部１５ａは、不規則な長さを有して略帯状に延びる。

　多層膜層１６は、高屈折率層１６ａと低屈折率層１６ｂとが交互に積層された構造を有する。高屈折率層１６ａの屈折率は、低屈折率層１６ｂの屈折率よりも大きい。例えば、基材１５の表面には、高屈折率層１６ａが接し、多層膜層１６における基材１５とは反対側の面を、低屈折率層１６ｂが構成する。

　基材１５における凸部１５ａ上と、基材１５における凹部１５ｂ上とにおいて、多層膜層１６の構成、すなわち、多層膜層１６を構成する各層の材料や膜厚や積層順序は、相互に一致している。そして、多層膜層１６における基材１５と接する面（裏面）とは反対側の面である表面は、基材１５の凹凸構造に追従した表面形状を有している。表面形状は、基材１５に形成された凹凸の配置に対応する配置の凹凸を有している。保護層２０は、多層膜層１６の表面を覆っている。保護層２０と多層膜層１６とから光学機能層が構成される。

　こうした構造においては、保護層２０に対する多層膜層１６の側とは反対側から発色構造体３０に光が入射すると、多層膜層１６における高屈折率層１６ａと低屈折率層１６ｂとの各界面で反射した光が、相互に干渉を起こすとともに、多層膜層１６の表面における不規則な凹凸に起因して進行方向を変える。その結果、特定の波長域の光が広い角度に出射される。この反射光として強く出射される特定の波長域は、高屈折率層１６ａと低屈折率層１６ｂとの材料および膜厚、ならびに、凸部１５ａの幅、高さおよび配置によって決まる。

　そして、多層膜層１６の表面が保護層２０によって覆われているため、多層膜層１６が有する凹凸構造の崩れ、具体的には、凹凸構造の変形や、凹凸構造に汚れや異物が詰まることが抑えられる。

　なお、多層膜層１６における基材１５と接する面（裏面）も、多層膜層１６の表面と同様の凹凸を有する。そのため、基材１５に対する多層膜層１６の側とは反対側から発色構造体３０に光が入射した場合にも、同様に、特定の波長域の反射光が広い角度に出射される。すなわち、発色構造体３０は、保護層２０に対する多層膜層１６の側とは反対側と、基材１５に対する多層膜層１６の側とは反対側とから観察されてもよい。

　図２を参照して、凹凸層である基材１５が有する凹凸構造の詳細について説明する。図２（ａ）は、基材１５を、基材１５の表面と対向する方向から見た平面図であり、図２（ｂ）は、図２（ａ）の２－２線に沿った基材１５の断面構造を示す断面図である。図２（ａ）においては、凹凸構造を構成する凸部１５ａの表面にドットを付して示している。

　図２（ａ）が示すように、第１方向Ｄｘと第２方向Ｄｙとは、仮想平面に含まれる方向である。仮想平面は、基材１５の厚さ方向に凹凸構造（凸部１５ａと凹部１５ｂとの境界）が投影される仮想的な面である。第１方向Ｄｘと第２方向Ｄｙとは相互に直交する。仮想平面は、基材１５の広がる方向に沿った面であり、基材１５の厚さ方向と直交する面である。

　仮想平面において、凸部１５ａの投影像が構成するパターンは、破線によって示す複数の矩形Ｒが集合したパターンである。矩形Ｒは、図形要素の一例である。矩形Ｒは、第２方向Ｄｙに延びる形状を有する。矩形Ｒにおいて、第２方向Ｄｙの長さｄ２は、第１方向Ｄｘの長さｄ１以上の大きさを有する。各矩形Ｒは、一例として、第１方向Ｄｘおよび第２方向Ｄｙのいずれにおいても他の矩形Ｒと重ならないように配置されている。

　複数の矩形Ｒにおいて、第１方向Ｄｘの長さｄ１は一定である。複数の矩形Ｒにおいて、第１方向Ｄｘに、長さｄ１の配列間隔、すなわち、長さｄ１の周期で矩形Ｒは配置されている。

　一方、複数の矩形Ｒにおいて、第２方向Ｄｙの長さｄ２は不規則であって、各矩形Ｒにおける長さｄ２は、所定の標準偏差を有する母集団から選択された値である。この母集団は、正規分布に従うことが好ましい。

　複数の矩形Ｒからなるパターンは、例えば、以下の方法で設定される。例えば、所定の標準偏差で分布する長さｄ２を有する複数の矩形Ｒが、所定の領域内に仮に敷き詰められる。次いで、仮に敷き詰められた各矩形Ｒに対する配置の有無を一定の確率に従って決定する。そして、実際に矩形Ｒの配置される領域と、実際には矩形Ｒの配置されない領域とを設定する。多層膜層１６からの反射光を効率よく散乱させるためには、長さｄ２は、平均値が４．１５μｍ以下、かつ、標準偏差が１μｍ以下の分布を有することが好ましい。

　矩形Ｒの配置されている領域が、凸部１５ａの配置される領域である。相互に隣接する矩形Ｒが接する場合には、各矩形Ｒの配置されている領域が相互に結合された１つの領域に１つの凸部１５ａが配置される。こうした構成においては、凸部１５ａの第１方向Ｄｘの長さは、矩形Ｒの長さｄ１の整数倍である。

　凹凸の分光によって虹色の光が生じることを抑えるために、矩形Ｒにおける第１方向Ｄｘの長さｄ１は可視領域の光の波長以下とされる。換言すれば、長さｄ１は、サブ波長以下、すなわち、入射光の波長域以下の長さを有する。すなわち、長さｄ１は８３０ｎｍ以下であることが好ましく、７００ｎｍ以下であることがより好ましい。

　さらに、長さｄ１は、多層膜層１６から反射される上記特定の波長域の光が有するピーク波長よりも小さいことが好ましい。例えば、発色構造体３０にて青色を発色させる場合は、長さｄ１は３００ｎｍ程度であることが好ましく、発色構造体３０にて緑色を発色させる場合は、長さｄ１は４００ｎｍ程度であることが好ましく、発色構造体３０にて赤色を発色させる場合は、長さｄ１は４６０ｎｍ程度であることが好ましい。

　多層膜層１６からの反射光の空間的な広がりを大きくするためには、すなわち、反射光の散乱効果を高めるためには、凹凸構造の起伏が多いことが好ましく、基材１５の表面と対向する方向から見て、単位面積あたりにおいて凸部１５ａが占める面積の比率は４０％以上６０％以下であることが好ましい。例えば、基材１５の表面と対向する方向から見て、単位面積あたりにおける凸部１５ａの面積と凹部１５ｂとの面積の比率は、１：１であることが好ましい。

　図２（ｂ）が示すように、各凸部１５ａの高さｈ１は一定である。凸部１５ａの高さは、発色構造体３０にて発色させる所望の色、すなわち、発色構造体３０から反射させることの望まれる波長域に応じて設定されればよい。凸部１５ａ上や凹部１５ｂ上における多層膜層１６の表面粗さよりも、凸部１５ａの高さｈ１が大きければ、反射光の散乱効果は得られる。

　ただし、多層膜層１６の表面の凹凸での反射に起因した光の干渉を抑えるために、高さｈ１は可視領域の光の波長の１／２以下であることが好ましく、すなわち、４１５ｎｍ以下であることが好ましい。さらに、上記光の干渉を抑えるために、高さｈ１は、多層膜層１６から反射される上記特定の波長域の光が有するピーク波長の１／２以下であることがより好ましい。

　また、高さｈ１が過剰に大きいと、反射光の散乱効果が高くなりすぎて、反射光の強度が低くなりやすい。そのため、反射光が可視領域の光である場合、高さｈ１は１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましい。例えば、青色を呈する発色構造体３０では、効果的な光の広がりを得るためには、高さｈ１は４０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の程度であることが好ましく、散乱効果が高くなりすぎることを抑えるためには、高さｈ１は１００ｎｍ以下であることが好ましい。

　なお、矩形Ｒは、第１方向Ｄｘに隣り合う２つの矩形Ｒの一部が相互に重なるように配置され、仮想平面における凸部１５ａのパターンを構成することも可能である。すなわち、複数の矩形Ｒは、第１方向Ｄｘに、長さｄ１よりも小さい配列間隔で配置されてもよいし、矩形Ｒの配列間隔は一定でなくてもよい。相互に重なる矩形Ｒに対応する領域では、各矩形Ｒの配置されている領域が結合された１つの領域に１つの凸部１５ａが位置する。この場合、凸部１５ａの第１方向Ｄｘの長さは、矩形Ｒの長さｄ１の整数倍とは異なる長さとなる。また、矩形Ｒの長さｄ１は、一定でなくてもよく、各矩形Ｒにおいて、長さｄ２が長さｄ１以上であって、複数の矩形Ｒにおける長さｄ２の標準偏差が、複数の矩形Ｒにおける長さｄ１の標準偏差よりも大きければよい。こうした構成によっても、反射光の散乱効果は得られる。

　＜第２の構造＞
　図３は、第２の構造を有する凹凸構造体１１と保護層２０とを備える発色構造体３１を示す。
　第２の構造を有する凹凸構造体１１は、第１の構造を有する凹凸構造体１０と比較して、基材１５における凹凸構造の構成、すなわち、多層膜層１６の表面における凹凸構造の構成が異なり、こうした凹凸構造の構成以外については、上述の第１の構造を有する凹凸構造体１０と同様の構成を有する。以下では、発色構造体３１について、上述の発色構造体３０との相違点を中心に説明し、発色構造体３０と同様の構成については同じ符号を付してその説明を省略する。

　凹凸構造体１１における基材１５の凹凸構造を構成する凸部１５ｃは、第１の構造における凸部１５ａと同様の構成を有する第１凸部要素と、帯状に延びる第２凸部要素とが、基材１５の厚さ方向に重畳された構造を有する。

　第１の構造の発色構造体３０によれば、反射光の散乱効果によって、視認される色の観察角度による変化は緩やかになるものの、散乱に起因した反射光の強度の低下によって、視認される色の鮮やかさは低下する。発色構造体の用途等によっては、より鮮やかな色を広い観察角度で観察可能な構造体が求められる場合もある。第２の構造において、第２凸部要素は、入射光が特定の方向へ強く回折されるように配置されており、第１凸部要素による光の散乱効果と第２凸部要素による光の回折効果とによって、より鮮やかな色を広い観察角度で観察可能な発色構造体３１が実現される。

　図４を参照して、第２凸部要素の構成について説明する。図４（ａ）は、第２凸部要素のみからなる凹凸構造の平面図であり、図４（ｂ）は、図４（ａ）の４－４線に沿った断面構造を示す断面図である。図４（ａ）においては、第２凸部要素の表面にドットを付して示している。

　図４（ａ）が示すように、平面視において、すなわち、上記仮想平面において、第２凸部要素１５Ｅｂは、第２方向Ｄｙに沿って一定の幅で延びる帯状を有し、複数の第２凸部要素１５Ｅｂは、第１方向Ｄｘに沿って、間隔をあけて並んでいる。換言すれば、仮想平面において第２凸部要素１５Ｅｂの投影像が構成するパターンは、第２方向Ｄｙに沿って延び、第１方向Ｄｘに沿って並ぶ複数の帯状領域からなるパターンである。第２凸部要素１５Ｅｂにおける第１方向Ｄｘの長さｄ３は、第１凸部要素のパターンを決定する上記矩形Ｒの長さｄ１と一致していてもよいし、異なっていてもよい。

　第１方向Ｄｘにおける第２凸部要素１５Ｅｂの配列間隔ｄｅ、すなわち、第１方向Ｄｘにおける帯状領域の配列間隔は、第２凸部要素１５Ｅｂが構成する凹凸構造の表面での反射光の少なくとも一部が、一次回折光として観測されるように設定される。一次回折光は、回折次数ｍが１または－１である回折光である。

　すなわち、第２凸部要素１５Ｅｂに対する入射光の入射角度をθ、第２凸部要素１５Ｅｂによる反射光の反射角度をφ、回折する光の波長をλとした場合、配列間隔ｄｅは、ｄｅ≧λ／（ｓｉｎθ＋ｓｉｎφ）を満たす。例えば、λ＝３６０ｎｍである可視光線を対象とするとき、第２凸部要素１５Ｅｂの配列間隔ｄｅは１８０ｎｍ以上であればよく、すなわち、配列間隔ｄｅは、入射光に含まれる波長域における最小波長の１／２以上であればよい。なお、配列間隔ｄｅは、相互に隣り合う２つの第２凸部要素１５Ｅｂの端部間の第１方向Ｄｘに沿った距離である。相互に隣り合う２つの第２凸部要素１５Ｅｂの端部は、各第２凸部要素１５Ｅｂに対して第１方向Ｄｘにて相互に同一の側（図中の右側）に位置する。

　第２凸部要素１５Ｅｂが構成するパターンの周期性は、基材１５が有する凹凸構造の周期性、すなわち、多層膜層１６の表面における凹凸構造の周期性に反映される。複数の第２凸部要素１５Ｅｂにおいて配列間隔ｄｅが一定である場合、多層膜層１６の表面での回折現象によって、多層膜層１６からは、特定の波長の反射光が特定の角度に出射される。この回折による光の反射強度は、上述の第１の構造にて説明した第１凸部要素による光の散乱効果によって生じる反射光の反射強度と比較して非常に高い。そのため、金属光沢のような輝きを有する光が視認されるが、一方で、回折による分光が生じ、観察角度の変化に応じて視認される色が変化してしまう。

　したがって、例えば、青色を呈する発色構造体３１が得られるように第１凸部要素が配置されるとしても、第２凸部要素１５Ｅｂの配列間隔ｄｅが４００ｎｍ以上５μｍ以下の一定値であると、観察角度によっては、強い緑色から赤色の表面反射による光が回折に起因して観察されてしまう。これに対し、例えば、第２凸部要素１５Ｅｂの配列間隔ｄｅが５０μｍ程度に大きければ、可視領域の光が回折される角度の範囲が狭くなるため、回折に起因した色の変化が視認されにくくなるが、金属光沢のような輝きを有する光は特定の観察角度でのみしか観察されない。

　この点、配列間隔ｄｅが一定値でない構成、すなわち、第２凸部要素１５Ｅｂのパターンが、周期が異なる複数の周期構造を重ね合わされたパターンでは、回折による反射光に複数の波長の光が混じり合うため、分光された単色性の高い光は視認されにくくなる。そして、光沢感のある鮮やかな色が広い観察角度で観察される。この場合、配列間隔ｄｅは、例えば、３６０ｎｍ以上５μｍ以下の範囲から選択され、複数の第２凸部要素１５Ｅｂの配列間隔ｄｅの平均値が、入射光に含まれる波長域における最小波長の１／２以上であればよい。

　なお、配列間隔ｄｅの標準偏差が大きくなるにつれ、第２凸部要素１５Ｅｂの配列が不規則となって散乱効果が支配的になり、回折による強い反射が得られにくくなる。そのため、第２凸部要素１５Ｅｂの配列間隔ｄｅは、第１凸部要素による光の散乱効果によって光が広がる角度に基づき、この光が広がる範囲と同程度の範囲に回折による反射光が出射されるように決定することが好ましい。例えば、青色の反射光が、入射角度に対して±４０°の範囲に広がって出射される場合、第２凸部要素１５Ｅｂのパターンにおいて、配列間隔ｄｅは、その平均値が１μｍ以上５μｍ以下の程度であり、標準偏差が１μｍ程度である。これにより、第１凸部要素の光の散乱効果によって光が広がる角度と同程度の角度に回折による反射光が生じる。

　すなわち、複数の第２凸部要素１５Ｅｂからなる構造は、特定の波長域の光を回折させて取り出すための構造とは異なり、配列間隔ｄｅの分散により、回折を利用して所定の角度範囲に様々な波長域の光を射出させるための構造である。

　さらに、より長周期の回折現象を生じさせるために、一辺が１０μｍ以上１００μｍ以下の正方形領域を単位領域とし、単位領域ごとの第２凸部要素１５Ｅｂのパターンにおいて、配列間隔ｄｅを、平均値が１μｍ以上５μｍ以下の程度、かつ、標準偏差が１μｍ程度としてもよい。なお、複数の単位領域のなかには、配列間隔ｄｅが１μｍ以上５μｍ以下の範囲に含まれる一定の値である領域が含まれてもよい。配列間隔ｄｅが一定である単位領域が存在したとしても、この単位領域と隣接する他の単位領域のいずれかにおいて、配列間隔ｄｅが標準偏差１μｍ程度のばらつきを有していれば、人の目の解像度においては、すべての単位領域で配列間隔ｄｅがばらつきを有している構成と同等の効果が期待できる。

　なお、図４に示した第２凸部要素１５Ｅｂは、第１方向Ｄｘのみに、配列間隔ｄｅに起因した周期性を有している。第１凸部要素による光の散乱効果は、主として、基材１５の表面と対向する方向から見た場合での第１方向Ｄｘに沿った方向への反射光に作用するが、第２方向Ｄｙに沿った方向への反射光にも一部影響し得る。したがって、第２凸部要素１５Ｅｂは、第２方向Ｄｙにも周期性を有してもよい。すなわち、第２凸部要素１５Ｅｂのパターンは、第２方向Ｄｙに延びる複数の帯状領域が、第１方向Ｄｘと第２方向Ｄｙとの各々に沿って並ぶパターンであってもよい。

　こうした第２凸部要素１５Ｅｂのパターンにおいて、例えば、帯状領域の第１方向Ｄｘに沿った配列間隔と、帯状領域の第２方向Ｄｙに沿った配列間隔との各々は、配列間隔の平均値が１μｍ以上１００μｍ以下であるようにばらつきを有していればよい。

　また、第１凸部要素による光の散乱効果の第１方向Ｄｘへの影響と、第１凸部要素による光の散乱効果の第２方向Ｄｙへの影響との違いに応じて、第１方向Ｄｘに沿った配列間隔の平均値と、第２方向Ｄｙに沿った配列間隔の平均値とは相互に異なっていてもよい。また、第１凸部要素による光の散乱効果の第１方向Ｄｘへの影響と、第１凸部要素による光の散乱効果の第２方向Ｄｙへの影響との違いに応じて、第１方向Ｄｘに沿った配列間隔の標準偏差と、第２方向Ｄｙに沿った配列間隔の標準偏差とは相互に異なっていてもよい。

　図４（ｂ）が示すように、第２凸部要素１５Ｅｂの高さｈ２は、凸部１５ｃ上や凹部１５ｂ上における多層膜層１６の表面粗さよりも大きければよい。ただし、高さｈ２が大きくなるほど、凹凸構造が反射光に与える効果において第２凸部要素１５Ｅｂによる回折効果が支配的となって、第１凸部要素による光の散乱効果が得られにくくなる。そのため、高さｈ２は、第１凸部要素の高さｈ１と同程度であることが好ましく、高さｈ２は高さｈ１と一致していてもよい。例えば、第１凸部要素の高さｈ１と第２凸部要素１５Ｅｂの高さｈ２とは、１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の範囲に含まれていることが好ましく、青色を呈する発色構造体３１では、第１凸部要素の高さｈ１と第２凸部要素１５Ｅｂの高さｈ２とは、１０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の範囲に含まれていることが好ましい。

　図５を参照して、第２の構造の凹凸構造体１１が有する凹凸構造の詳細について説明する。図５（ａ）は、基材１５を基材１５の表面と対向する方向から見た平面図であり、図５（ｂ）は、図５（ａ）の５－５線に沿った基材１５の断面構造を示す断面図である。図５（ａ）においては、第１凸部要素が構成するパターンにドットを付し、第２凸部要素が構成するパターンに第１凸部要素が構成するパターンとは異なる密度のドットを付して示している。

　図５（ａ）が示すように、上記仮想平面にて、凸部１５ｃの投影像が構成するパターンは、第１凸部要素１５Ｅａの投影像が構成するパターンである第１パターンと、第２凸部要素１５Ｅｂの投影像が構成するパターンである第２パターンとが重ねられたパターンである。すなわち、凸部１５ｃが位置する領域は、第１凸部要素１５Ｅａのみから構成される領域Ｓ１と、第１凸部要素１５Ｅａと第２凸部要素１５Ｅｂとが重なる領域Ｓ２と、第２凸部要素１５Ｅｂのみから構成される領域Ｓ３とを含む。なお、図５においては、第１凸部要素１５Ｅａと第２凸部要素１５Ｅｂとが、第１方向Ｄｘにおいて相互に端部が揃うように重ねられているが、こうした構成に限らず、第１凸部要素１５Ｅａの端部と第２凸部要素１５Ｅｂの端部とはずれていてもよい。

　図５（ｂ）が示すように、領域Ｓ１では、凸部１５ｃの高さは、第１凸部要素１５Ｅａの高さｈ１である。また、領域Ｓ２では、凸部１５ｃの高さは、第１凸部要素１５Ｅａの高さｈ１と第２凸部要素１５Ｅｂの高さｈ２との和である。また、領域Ｓ３では、凸部１５ｃの高さは、第２凸部要素１５Ｅｂの高さｈ２である。このように、凸部１５ｃは、第１凸部要素１５Ｅａと、第２凸部要素１５Ｅｂとを高さ方向で重ねた多段形状を有する。第１凸部要素１５Ｅａは、第１凸部要素１５Ｅａの仮想平面での投影像が第１パターンを構成し、かつ、所定の高さｈ１を有する。第２凸部要素１５Ｅｂは、第２凸部要素１５Ｅｂの仮想平面での投影像が第２パターンを構成し、かつ、所定の高さｈ２を有する。凸部１５ｃは、第１凸部要素１５Ｅａに第２凸部要素１５Ｅｂが重ねられた構造と捉えることも可能であり、第２凸部要素１５Ｅｂに第１凸部要素１５Ｅａが重ねられた構造と捉えることも可能である。

　こうした構造においては、第１の構造と比較して、多層膜層１６の表面における凹凸構造が複雑であるため、凹凸構造が変形しやすい。したがって、保護層２０によって多層膜層１６の凹凸構造を保護することの有益性が高い。

　以上のように、第２の構造を有する発色構造体３１によれば、凸部１５ｃにおいて第１凸部要素１５Ｅａが構成する部分に起因した光の拡散現象と、凸部１５ｃにおいて第２凸部要素１５Ｅｂが構成する部分に起因した光の回折現象との相乗による色が視認される。すなわち、第２の構造を有する発色構造体３１によれば、特定の波長域の反射光が広い観察角度で観察可能であるとともに、この反射光の強度が高められることによる光沢感のある鮮やかな色が視認される。換言すれば、第２の構造においては、１つの構造体である凸部１５ｃが、光の拡散機能と光の回折機能との２つの機能を兼ね備えている。

　なお、仮想平面にて、第１凸部要素１５Ｅａが構成するパターンと、第２凸部要素１５Ｅｂが構成するパターンとは、第１凸部要素１５Ｅａと第２凸部要素１５Ｅｂとが相互に重ならないように配置されてもよい。こうした構造によっても、第１凸部要素１５Ｅａによる光の拡散効果と第２凸部要素１５Ｅｂによる光の回折効果とは得られる。ただし、第１凸部要素１５Ｅａと第２凸部要素１５Ｅｂとを相互に重ならないように配置しようとすれば、第１の構造と比較して、単位面積あたりにおける第１凸部要素１５Ｅａの配置可能な面積が小さくなり、光の拡散効果が低下する。したがって、凸部要素１５Ｅａ，１５Ｅｂによる光の拡散効果と回折効果とを高めるためには、図５に示したように、第１凸部要素１５Ｅａと第２凸部要素１５Ｅｂとを重ねて凸部１５ｃを多段形状とすることが好ましい。

　［発色構造体の製造方法］
　発色構造体３０，３１を構成する各層の材料、および、発色構造体３０，３１の製造方法を説明する。
　基材１５は、可視領域の光に対して光透過性を有する材料、すなわち、可視領域の光に対して透明な材料から構成される。例えば、基材１５としては、合成石英基板や、ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）等の樹脂からなるフィルムが用いられる。基材１５の表面の凹凸構造は、例えば、光または荷電粒子線を照射するリソグラフィやドライエッチング等の公知の微細加工技術を利用して形成される。

　第２の構造の凹凸構造は、例えば、上記第１パターンのレジストパターンを用いたエッチングと、上記第２パターンのレジストパターンを用いたエッチングとを順に行うことにより形成される。このとき、第１パターンのエッチングと第２パターンのエッチングとは、いずれが先に行われてもよい。すなわち、第１凸部要素１５Ｅａと第２凸部要素１５Ｅｂとは、いずれが先に形成されてもよい。

　多層膜層１６を構成する高屈折率層１６ａと低屈折率層１６ｂとは、可視領域の光に対して光透過性を有する材料、すなわち、可視領域の光に対して透明な材料から構成される。高屈折率層１６ａの屈折率が、低屈折率層１６ｂの屈折率よりも高い構成であれば、これらの層の材料は限定されないが、高屈折率層１６ａと低屈折率層１６ｂとの屈折率の差が大きいほど、少ない積層数で高い強度の反射光が得られる。こうした観点から、例えば、高屈折率層１６ａと低屈折率層１６ｂとを無機材料から構成する場合、高屈折率層１６ａを二酸化チタン（ＴｉＯ_２）から構成し、低屈折率層１６ｂを二酸化珪素（ＳｉＯ_２）から構成することが好ましい。こうした無機材料からなる高屈折率層１６ａおよび低屈折率層１６ｂの各々は、スパッタリング、真空蒸着、あるいは、原子層堆積法等の公知の薄膜形成技術を用いて形成される。また、高屈折率層１６ａおよび低屈折率層１６ｂの各々は有機材料から構成されてもよく、この場合、高屈折率層１６ａおよび低屈折率層１６ｂの形成には、自己組織化等の公知の技術が用いられればよい。

　高屈折率層１６ａおよび低屈折率層１６ｂの各々の膜厚は、発色構造体３０，３１にて発色させる所望の色に応じて、転送行列法等を用いて設計されればよい。例えば、青色を呈する発色構造体３０，３１を形成する場合は、ＴｉＯ_２からなる高屈折率層１６ａの膜厚は４０ｎｍ程度であることが好ましく、ＳｉＯ_２からなる低屈折率層１６ｂの膜厚は７５ｎｍ程度であることが好ましい。

　なお、図１および図３では、多層膜層１６として、基材１５に近い位置から高屈折率層１６ａと低屈折率層１６ｂとがこの順に交互に積層された１０層からなる多層膜層１６を例示したが、多層膜層１６が有する層数や積層の順序はこれに限られず、所望の波長域の反射光が得られるように積層されていればよい。例えば、基材１５の表面に低屈折率層１６ｂが接し、その上に高屈折率層１６ａと低屈折率層１６ｂとが交互に積層されている構成でもよい。また、多層膜層１６における基材１５とは反対側の表面である最表面を構成する層も、高屈折率層１６ａと低屈折率層１６ｂとのいずれであってもよい。さらに、低屈折率層１６ｂと高屈折率層１６ａとが交互に積層されていれば、基材１５の表面に接する層と、上記最表面を構成する層とを構成する材料が同じであってもよい。さらに、多層膜層１６は、相互に異なる３種類以上の層の組み合わせであって、各層の屈折率が相互に異なる構成であってもよい。

　要は、多層膜層１６は、相互に隣接する層の屈折率が相互に異なり、多層膜層１６に入射する入射光のうち特定の波長域での光の反射率が他の波長域での反射率よりも高いように構成されていればよい。

　保護層２０は、発色構造体３０，３１が保護層２０の位置する側から観察される場合には、可視領域の光に対して光透過性を有する材料、すなわち、可視領域の光に対して透明な材料から構成される。こうした材料としては、例えば、アクリル、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリプロピレンやポリエチレン等のポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリスチレン、ポリアミド等の樹脂が用いられる。

　ここで、凹凸構造体１０，１１は可視領域の光に対して透明な材料から形成されている。そのため、入射光に含まれる波長域のうち、多層膜層１６にて反射される特定の波長域以外の波長域の光の一部は、多層膜層１６、さらには、凹凸構造体１０，１１を透過する。凹凸構造体１０，１１をその表裏の一方側から観察するとき、凹凸構造体１０，１１の他方側に、光源や、白色板等の透過光をはね返す構造物が存在すると、上記一方側では、多層膜層１６からの特定の波長域の反射光とともに、他方側から多層膜層１６を透過した透過光が視認される。上述のように、この透過光の波長域は、反射光の波長域とは異なり、透過光の色は、主として、反射光の色の補色である。そのため、こうした透過光が視認されると、反射光による色の視認性が低下する。

　そこで、反射光による色の視認性が保護層２０によって低下することを抑える観点では、保護層２０は、多層膜層１６を透過した透過光を吸収する材料から構成することが好ましい。この場合、発色構造体３０，３１は、基材１５に対する多層膜層１６側とは反対側から観察される態様で用いられる。こうした構成によれば、多層膜層１６に対する基材１５側から多層膜層１６を透過した光は、保護層２０によって吸収され、多層膜層１６に対する基材１５側に透過光が返ってくることが抑えられる。そのため、基材１５に対する多層膜層１６側とは反対側から発色構造体３０，３１を観察した場合に、多層膜層１６からの反射光とは異なる波長域の光が視認されることが抑えられる。したがって、反射光による色の視認性が保護層２０によって低下することが抑えられ、発色構造体３０，３１において所望の発色が好適に得られる。

　例えば、保護層２０は、光吸収剤や黒色顔料等の可視領域の光を吸収する材料を含む層であればよい。具体的には、保護層２０は、カーボンブラック、チタンブラック、黒色酸化鉄、黒色複合酸化物等の黒色の無機顔料が樹脂に混合された層であることが好ましい。

　なお、保護層２０は、可視領域の光のすべてを吸収せずとも、多層膜層１６を透過する光の少なくとも一部を吸収する光吸収性を有する構成であれば、こうした光吸収性を有する層が設けられない構成と比較して、反射光による色の視認性が保護層２０によって低下することを抑える効果は得られる。したがって、保護層２０は、多層膜層１６を透過する光の波長域に応じた色の顔料を含む層であってもよい。なお、保護層２０が黒色顔料を含む黒色の層であれば、透過光の波長域に応じた保護層２０の色の調整等が不要である。また、保護層２０が広い波長域の光を吸収するため、簡便に、かつ、好適に、反射光による色の視認性の低下が抑えられる。

　保護層２０は、紫外線吸収剤を含んでいてもよい。紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾエート系、サリシレート系、トリアジン系、シアノアクリルレート系等の公知の紫外線吸収剤が使用できる。

　保護層２０が紫外線吸収剤を含む構成であれば、発色構造体３０，３１が、直射日光等に因る紫外線に長時間さらされる場合に、保護層２０が紫外線を吸収し続ける。そのため、発色構造体３０，３１を構成する材料が紫外線によって劣化することが抑えられる。こうした効果は、発色構造体３０，３１が、保護層２０に対する多層膜層１６側とは反対側から観察される場合、すなわち、保護層２０に対する多層膜層１６側とは反対側から入射光が発色構造体３０，３１に入る態様で発色構造体３０，３１が用いられる場合に、特に高く得られる。

　保護層２０は、例えば、インクジェット法、スプレー法、バーコート法、ロールコート法、スリットコート法、グラビアコート法等の公知の塗工法を用いて、多層膜層１６の表面に形成される。保護層２０の膜厚は特に限定されないが、例えば、１μｍ以上１００μｍ以下の程度であることが好ましい。

　保護層２０の形成のための塗布液であるインクには、必要に応じて、溶媒が混合されてもよい。溶媒としては、保護層２０を構成する樹脂と相性のよい溶媒が選択される。溶媒としては、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールモノメチルエーテル、トルエン、キシレン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン等が挙げられる。

　なお、保護層２０は、複数の層から構成されていてもよい。例えば、保護層２０が、物理的もしくは化学的な刺激に対する耐性が相互に異なる複数の層を備える構成であれば、複数の耐性を有する保護層２０が実現できる。また例えば、保護層２０が、類似した耐性を有する複数の層を備える構成であれば、複数の層で共通する上記耐性を保護層２０にて増強することができる。こうした耐性としては、例えば、耐擦過性や耐水性等が挙げられる。

　［保護層の特性］
　保護層２０が有する各種の特性の一例を示す。なお、以下の形態は、発色構造体３０，３１が、保護層２０に対する多層膜層１６側とは反対側から観察される場合等、保護層２０が発色構造体３０，３１の最外面で外気に曝される態様で用いられる場合に、特に高い効果を発揮する。なお、以下において、保護層２０の表面は、保護層２０における多層膜層１６に接する面とは反対側の面であって、発色構造体３０，３１の最外面を構成する面である。

　発色構造体３０，３１において、保護層２０の表面から測定した硬度は、０．０３ＧＰａ以上である。この硬度は、押し込み硬さであって、ナノインデンテーション法を利用して、押し込み深さを１００ｎｍとした場合に計測される硬度である。この硬度は、例えば、ＭＴＳ社製のナノインデンターを用いて測定することができる。上記硬度が０．０３ＧＰａ以上であれば、保護層２０が十分に硬いため、発色構造体３０，３１の耐擦過性が高められる。

　発色構造体３０，３１において、保護層２０の表面における表面粗さＲａは、２μｍ以下である。表面粗さＲａは、算術平均粗さであり、ＪＩＳ　Ｂ　０６０１：２０１３に従って算出される。表面粗さＲａは、例えば、菱化システム社製の非接触式表面粗さ計（非接触式表面・層断面計測システム）を用いて測定することができる。表面粗さＲａが２μｍ以下であれば、保護層２０の表面が十分に平滑であるため、保護層２０の表面における光の乱反射を抑えることができる。その結果、多層膜層１６からの反射光による色の視認性が保護層２０によって低下することが抑えられる。

　発色構造体３０，３１において、保護層２０の表面における水接触角は、６０度以上である。この水接触角は、保護層２０の表面に水の液滴が着滴してから５秒後に測定した接触角である。接触角は接触角計を用いて公知の手順によって測定できる。上記水接触角が６０度以上であれば、保護層２０と水との親和性が低く抑えられる。そのため、発色構造体３０，３１が水に濡れた場合に、保護層２０が水分を吸収して劣化することが抑えられる。

　なお、発色構造体３０，３１が、基材１５に対する多層膜層１６側とは反対側から観察される場合等、多層膜層１６に対する保護層２０側とは反対側に位置する最外層の最外面が外気に曝される態様で用いられる場合には、上述した各種の特性は、以下のように適用される。すなわち、上記最外層の上記最外面、例えば基材１５における多層膜層１６とは反対側の面において、上記硬度が０．０３ＧＰａ以上であり、上記表面粗さＲａが２μｍ以下であり、上記水接触角が６０度以上である。

　［発色構造体の変形例］
　発色構造体は、図６が示す構成を有することも可能である。図６が示す発色構造体３２が備える凹凸構造体１２は、基材１５と、基材１５の表面を覆う樹脂層１７と、樹脂層１７に積層された多層膜層１６とを備える。基材１５の表面は平坦であり、樹脂層１７がその表面に凹凸を有する。図６に示す形態においては、基材１５と樹脂層１７との積層体が凹凸層である。樹脂層１７の表面における凹凸構造には、上述の第１の構造の凹凸構造と第２の構造の凹凸構造とのいずれもが適用可能である。

　樹脂層１７の凹凸構造の形成方法としては、例えば、ナノインプリント法が用いられる。例えば、光ナノインプリント法によって樹脂層１７の凹凸構造を形成する場合、まず、形成対象の凹凸の反転された凹凸を有する凹版であるモールドの凹凸が形成された面に、樹脂層１７を構成する樹脂として、光硬化性樹脂が塗布される。光硬化性樹脂の塗布方法は特に限定されず、インクジェット法、スプレー法、バーコート法、ロールコート法、スリットコート法、グラビアコート法等の公知の塗布法が用いられればよい。

　次いで、光硬化性樹脂からなる塗布層の表面に、基材１５が重ねられる。そして、塗布層とモールドとが相互に押し付けられた状態で、塗布層に対する基材１５側、もしくは、塗布層に対するモールド側から光が照射される。続いて、硬化した光硬化性樹脂および基材１５からモールドが離型される。これによって、モールドの有する凹凸が光硬化性樹脂に転写されて、表面に凹凸を有する樹脂層１７が形成される。モールドは、例えば、合成石英やシリコンから構成され、光または荷電粒子線を照射するリソグラフィやドライエッチング等の公知の微細加工技術を利用して形成される。

　なお、光硬化性樹脂は、基材１５の表面に塗布され、基材１５上の塗布層にモールドが押し当てられた状態で、光の照射が行われてもよい。
　また、光ナノインプリント法に代えて、熱ナノインプリント法が用いられてもよく、この場合、樹脂層１７の樹脂としては、熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂等の、製造方法に応じた樹脂が用いられる。

　［発色構造体の適用例］
　上述した発色構造体の具体的な適用例について説明する。以下で説明する適用例には、第１の構造を有する発色構造体３０、第２の構造を有する発色構造体３１、および、上述の変形例で説明した発色構造体３２のいずれもが適用可能である。

　＜表示体＞
　発色構造体の第１の適用例は、発色構造体を表示体に用いる形態である。表示体は、物品の偽造の困難性を高める目的で用いられてもよいし、物品の意匠性を高める目的で用いられてもよいし、これらの目的を兼ねて用いられてもよい。物品の偽造の困難性を高める目的としては、表示体は、例えば、パスポートや免許証等の認証書類、商品券や小切手等の有価証券類、クレジットカードやキャッシュカード等のカード類、紙幣等に貼り付けられる。また、物品の意匠性を高める目的としては、表示体は、例えば、身に着けられる装飾品や、使用者に携帯される物品、家具や家電等のように据え置かれる物品、壁や扉等の構造物、自動車の内装や外装等に取り付けられる。

　図７が示すように、表示体４０は、表面４０Ｆと、表面４０Ｆとは反対側の面である裏面４０Ｒとを有し、表面４０Ｆと対向する方向から見て、表示体４０は、第１表示領域４１Ａと第２表示領域４１Ｂとを含んでいる。第１表示領域４１Ａは、複数の第１画素４２Ａが配置されている領域であり、第２表示領域４１Ｂは、複数の第２画素４２Ｂが配置されている領域である。換言すれば、第１表示領域４１Ａは、複数の第１画素４２Ａの集合から構成されており、第２表示領域４１Ｂは、複数の第２画素４２Ｂの集合から構成されている。第１画素４２Ａと第２画素４２Ｂとの各々には、発色構造体の構成が適用されており、第１画素４２Ａと第２画素４２Ｂとは、相互に異なる色相の色を呈する。すなわち、表示体４０の表面４０Ｆと対向する方向から見て、第１表示領域４１Ａと第２表示領域４１Ｂとには、相互に異なる色相の色が視認される。

　第１表示領域４１Ａと第２表示領域４１Ｂとの各々は、これらの領域単独、もしくは、これらの領域の２以上の組み合わせによって、文字、記号、図形、模様、絵柄、これらの背景等を表現する。一例として、図７に示す構成では、第１表示領域４１Ａによって円形の図形が表現され、第２表示領域４１Ｂによって三角形の図形が表現されている。

　なお、表示体４０は、表示領域４１Ａ，４１Ｂの周囲等に、発色構造体の構成とは異なる構成を有する領域、例えば、表面が平坦な基材に多層膜層が積層された構造を有する領域や、基材に金属薄膜が積層された構造を有する領域等を有していてもよい。

　図８は、第１画素４２Ａと第２画素４２Ｂとの断面構造を示す図である。図８においては、これらの画素４２Ａ，４２Ｂを構成する発色構造体３３が、第１の構造を有する発色構造体である例を示している。

　第１画素４２Ａと第２画素４２Ｂとでは、凸部１５ａの高さｈ１が相互に異なっている。一方、第１画素４２Ａと第２画素４２Ｂとにおいて、多層膜層１６の構成は共通している。すなわち、第１画素４２Ａと第２画素４２Ｂとにおいて、高屈折率層１６ａの材料や膜厚、低屈折率層１６ｂの材料や膜厚、および、これらの層の層数は、共通している。第１画素４２Ａと第２画素４２Ｂとで、凸部１５ａの高さｈ１が相互に異なることによって、第１画素４２Ａと第２画素４２Ｂとは相互に異なる色相の色を呈する。各画素４２Ａ，４２Ｂにおける凸部１５ａの高さｈ１は、各画素４２Ａ，４２Ｂに対する所望の色相に応じて設定されればよい。

　ここで、第１画素４２Ａの凸部１５ａの高さｈ１ａと、第２画素４２Ｂの凸部１５ａの高さｈ１ｂとの差が大きいほど、第１画素４２Ａの呈する色相と、第２画素４２Ｂの呈する色相との差が大きくなり、その色相の差が人の目によって認識されやすくなる。例えば、高さｈ１ａと高さｈ１ｂとの差は５ｎｍ以上であり、多層膜層１６が平坦面に積層されている場合における多層膜層１６からの反射光のピーク波長の１％以上である。

　例えば、多層膜層１６が平坦面に積層されている場合における多層膜層１６からの反射光のピーク波長が５００ｎｍであり、画素によって緑色を発色させたい場合は、凸部１５ａの高さｈ１は１００ｎｍ程度であり、画素によって赤色を発色させたい場合は、凸部１５ａの高さｈ１は２００ｎｍ程度である。

　上記構成においては、第１表示領域４１Ａと第２表示領域４１Ｂとで、多層膜層１６の表面における凹凸構造の高さが相互に異なり、こうした高さが一定である場合と比較して表示体４０の全体における凹凸構造が複雑であるため、凹凸構造が変形しやすい。したがって、保護層２０によって多層膜層１６の凹凸構造を保護することの有益性が高い。

　なお、画素４２Ａ，４２Ｂに適用される発色構造体が、第２の構造を有する発色構造体である場合、以下のような色相の調整が可能である。すなわち、上記仮想平面にて凸部１５ｃの投影像が構成するパターンにおいて、第１凸部要素１５Ｅａが占める割合よりも第２凸部要素１５Ｅｂが占める割合が小さい構成では、第２凸部要素１５Ｅｂの高さｈ２が画素４２Ａ，４２Ｂの呈する色相に与える影響は微小である。したがって、第２の構造を有する発色構造体においても、第１の構造の凸部１５ａに相当する第１凸部要素１５Ｅａの高さｈ１の調整によって、画素４２Ａ，４２Ｂの呈する色相の調整が可能である。

　凸部１５ａのパターンは、例えば、第１画素４２Ａごと、および、第２画素４２Ｂごとに設定される。すなわち、凸部１５ａの投影像のパターンを構成する複数の矩形Ｒにおける長さｄ１や長さｄ２の平均値や標準偏差は、画素４２Ａ，４２Ｂごとに設定される。凸部１５ａのパターンは、画素４２Ａ，４２Ｂごとに相互に異なっていてもよいし、画素４２Ａ，４２Ｂ間で一致していてもよい。画素４２Ａ，４２Ｂの大きさは、表示領域４１Ａ，４１Ｂが構成する像についての所望の解像度に応じて設定されればよい。より高精度な像を表示するためには、画素４２Ａ，４２Ｂの一辺は１０μｍ以上であることが好ましい。

　なお、画素４２Ａ，４２Ｂの製造の際には、例えば、複数の矩形Ｒからなるパターンに従った凸部を一括して大面積の領域に形成後、このパターンを分割するように凸部を切断等により分割することで、各画素４２Ａ，４２Ｂの凹凸構造を形成することも可能である。こうした製造方法は、製造工程が容易となるため好ましい。ここで、凸部の分割によって、複数の画素４２Ａ，４２Ｂの一部には、画素４２Ａ，４２Ｂの端部に、第２方向Ｄｙの長さｄ２が、第１方向Ｄｘの長さｄ１よりも小さい矩形Ｒを構成する凸部が形成される場合がある。しかし、凸部１５ａのパターンにこうした矩形Ｒが含まれたとしても、その割合が十分に小さい場合は当該矩形Ｒによる光学的影響は無視できるほど小さい。

　保護層２０としては、多層膜層１６の透過光の吸収性を有する保護層２０が用いられる。さらに、画素４２Ａ，４２Ｂを構成する発色構造体３３は、反射防止層２１を備えている。反射防止層２１は、基材１５における多層膜層１６と接する面とは反対側の面、すなわち、凹凸層における多層膜層１６とは反対側の面を覆っている。

　画素４２Ａ，４２Ｂは、保護層２０に対する反射防止層２１の側が、表示体４０の裏面４０Ｒに対する表面４０Ｆの側となるように配置されている。すなわち、保護層２０は表示体４０の裏面４０Ｒを構成し、反射防止層２１が表面４０Ｆを構成する。そして、表示体４０は、表面４０Ｆ側、すなわち、反射防止層２１の位置する側から観察される。

　反射防止層２１は、基材１５における凹凸を有する面とは反対側の面の表面反射を低減する機能を有する。すなわち、反射防止層２１の膜厚は可視領域の光の波長以下であり、表面反射を抑える機能を高めるためには、反射防止層２１の膜厚は、２００ｎｍ以下であることが好ましい。反射防止層２１を構成する材料としては、例えば、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ_２）や二酸化珪素（ＳｉＯ_２）等が挙げられる。基材１５の表面反射を抑える機能を高めるためには、反射防止層２１の屈折率は、基材１５の屈折率以下であることが好ましい。なお、反射防止層２１は、高屈折率層と低屈折率層とが交互に積層された多層膜からなる層であってもよい。

　表面４０Ｆ側から表示体４０を観察した場合に、基材１５の表面反射が大きいと、多層膜層１６からの特定の波長域の反射光による色の視認性が低くなる。これに対し、反射防止層２１が設けられていることによって、基材１５の表面反射が低減されるため、多層膜層１６からの反射光による色の視認性が低下することが抑えられ、表示体４０において所望の発色が好適に得られる。
　第１画素４２Ａと第２画素４２Ｂとの間で、基材１５は連続しており、すなわち、これらの画素４２Ａ，４２Ｂは、共通した１つの基材１５を有している。

　基材１５における凹凸構造は、例えば、第１画素４２Ａの位置する第１表示領域４１Ａに対応する部分と、第２画素４２Ｂの位置する第２表示領域４１Ｂに対応する部分との各々に対して、リソグラフィやドライエッチングを行うことによって形成される。凸部１５ａの高さｈ１を変えるためには、エッチング時間を変更すればよい。

　第１表示領域４１Ａに対応する部分と第２表示領域４１Ｂに対応する部分とに対し、多層膜層１６は、同一の工程によって、同時に形成される。同様に、各表示領域４１Ａ，４１Ｂに対応する部分に対し、保護層２０は同時に形成され、反射防止層２１もまた同時に形成される。反射防止層２１は、例えば、多層膜層１６の形成の前もしくは後に、スパッタリングや真空蒸着によって形成される。

　第１表示領域４１Ａと第２表示領域４１Ｂとが相互に接している場合、第１画素４２Ａと第２画素４２Ｂとの間で、多層膜層１６、保護層２０、および、反射防止層２１の各々は連続している。

　なお、第１画素４２Ａと第２画素４２Ｂとの呈する色相を相互に異ならせることは、第１画素４２Ａと第２画素４２Ｂとで、多層膜層１６を構成する層の材料や膜厚等の構成を相互に異ならせることによっても実現可能ではある。しかしながら、表示領域４１Ａ，４１Ｂごとに多層膜層１６の構成が相互に異なると、表示領域４１Ａ，４１Ｂごとに、領域のマスキングや高屈折率層１６ａと低屈折率層１６ｂとの成膜を繰り返すことが必要であり、製造工程が複雑になる。結果として、製造コストの増加や歩留まりの低下が引き起こされる。また、微小な領域にマスキングを行うことは困難であるため、精細な像の形成には限界がある。

　これに対し、上記表示体４０の構成であれば、第１表示領域４１Ａに対応する部分と第２表示領域４１Ｂに対応する部分とに対し、多層膜層１６を同時に形成することが可能であるため、表示体４０の製造に要する負荷が軽減される。また、微小な領域へのマスキングと比較して、微小な領域ごとに凸部１５ａの高さｈ１を異ならせることは容易であるため、表示領域４１Ａ，４１Ｂを小さくして、より精細な像を形成することもできる。

　なお、第１画素４２Ａと第２画素４２Ｂとで、多層膜層１６の構成を同一として、凸部１５ａの高さｈ１を相互に変えることによって色相を相互に異ならせるためには、多層膜層１６を以下のように構成することが好ましい。すなわち、平坦面に多層膜層１６を積層した場合における多層膜層１６からの反射光のピーク波長が、第１画素４２Ａにて発色させる色相の光の波長と、第２画素４２Ｂにて発色させる色相の光の波長との間に位置するように、多層膜層１６を構成することが好ましい。

　凸部１５ａの高さｈ１を変えることにより、多層膜層１６を構成する各層の形状が変わって光路長が変化することや、凹凸構造が効率的に散乱させる光の波長域が変化することが起こり、こうした現象等に起因して、発色構造体に視認される色相が変化すると考えられる。

　また、画素４２Ａ，４２Ｂの構成に、発色構造体３２の構成、すなわち、基材１５に積層された樹脂層１７が凹凸構造を有している構成が適用される場合、この凹凸構造は、例えば、以下のように形成される。すなわち、ナノインプリント法を利用して、各表示領域４１Ａ，４１Ｂに対応する部分で凹凸の高さを変えたモールドが用いられ、各画素４２Ａ，４２Ｂの樹脂層１７の凹凸構造が同時に形成される。

　こうしたモールドは、表示領域４１Ａ，４１Ｂに対応する部分ごとに、リソグラフィやドライエッチングを行うことにより形成されてもよい。また例えば、以下の方法によれば、より簡便にモールドの形成が可能である。すなわち、荷電粒子線リソグラフィに用いられるレジストに対して照射する荷電粒子線の線量を表示領域４１Ａ，４１Ｂごとに変え、各表示領域４１Ａ，４１Ｂについて所望の高さの凹凸が形成されるように現像時間を調整してレジストパターンを形成する。レジストパターンの表面に例えばニッケル等の金属層を電鋳によって形成した後、レジストを溶解することによって、ニッケル製のモールドが得られる。

　なお、表示体４０が含む表示領域の数、すなわち、発色構造体から構成される画素が配置されて、相互に異なる色相の色を呈する表示領域の数は、特に限定されず、表示領域の数は、１つであってもよいし、３つ以上であってもよい。さらに、表示領域には、発色構造体から構成された表示要素が含まれればよく、表示要素は、ラスタ画像を形成するための繰返しの最小単位である画素に限らず、ベクタ画像を形成するためのアンカを結んだ領域であってもよい。

　また、表示要素の構成としては、上述した発色構造体の構成であればいずれの構成であっても適用可能であり、例えば、保護層２０は、多層膜層１６の透過光の吸収性を有さず、多層膜層１６における凹凸構造の保護機能のみを有していてもよいし、紫外線吸収剤の含有により紫外線の吸収機能を有していてもよい。これらの場合、保護層２０が表示体４０の表面４０Ｆを構成し、反射防止層２１が裏面４０Ｒを構成し、表示体４０は、表面４０Ｆ側、すなわち、保護層２０の位置する側から観察されることが好ましい。また、反射防止層２１は設けられていなくてもよい。

　＜発色シートおよび成形体＞
　発色構造体の第２の適用例は、発色構造体を発色シートに用いる形態である。発色シートは、発色構造体から構成されたシートであり、装飾等のために被着体に固定される。発色シートと被着体とから、成形体が構成される。

　被着体の形状や材料は特に限定されないが、例えば、樹脂製の被着体に発色シートが取り付けられるとき、発色シートは、例えば、フィルムインサート工法、インモールドラミネーション工法、三次元オーバーレイラミネーション工法（ＴＯＭ）等のラミネート加飾工法を用いて、被着体の表面へ固定される。

　フィルムインサート工法とは、熱真空成形により成形された発色シートを金型に配置した状態で射出成形を行うことによって、被着体と発色シートとを一体化する方法である。インモールドラミネーション工法とは、発色シートの熱真空成形から射出成形による被着体の形成および発色シートとの一体化までを、すべて同じ金型内で行う方法である。三次元オーバーレイラミネーション工法とは、発色シートで上下に隔離した気密空間の気圧差を利用して、被着体と発色シートとを一体化する方法である。

　こうしたラミネート加飾工法では、加熱処理や加圧処理や真空処理が行われるため、発色構造体にかかる物理的あるいは化学的な負荷が大きい。したがって、保護層２０によって多層膜層１６の凹凸構造が保護されることの有益性が高い。

　発色シートを構成する発色構造体としては、上述した発色構造体のいずれの構成も適用可能である。ただし、発色シートは、被着体の表面に沿って配置されるように用いられるため、発色構造体は、被着体の表面に追従した形状に変形しやすい性質を有することが好ましい。こうした観点においては、発色構造体３２の構成、すなわち、基材１５に積層された樹脂層１７が凹凸構造を有している構成は、基材１５として用いることのできる材料についての自由度が高いため好ましい。

　発色シートが、ラミネート加飾工法を用いて樹脂製の被着体に固定される場合、被着体との一体化のための加熱の際に基材１５が被着体に追従して変形するように、基材１５は、熱可塑性樹脂から構成される。熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ナイロン（ＰＡ）等が挙げられる。基材１５の膜厚は、発色シートが被着体に追従しやすい観点から、薄いほど好ましく、例えば、２０μｍ以上３００μｍ以下の程度であることが好ましい。

　保護層２０としては、多層膜層１６の透過光の吸収性を有する保護層２０が用いられる。発色シートが、ラミネート加飾工法を用いて樹脂製の被着体に固定される場合、保護層２０は、被着体との一体化のための加熱の際における多層膜層１６の凹凸構造への追従性が高いことが好ましく、こうした観点から、保護層２０は熱可塑性を有していることが好ましい。具体的には、保護層２０が、１００℃以上１６０℃以下の温度において熱可塑性を有している構成であれば、ラミネート加飾工法における加熱の際に、多層膜層１６の凹凸構造への追従性が好適に得られる。こうした構成の実現のためには、保護層２０が黒色顔料と樹脂とを含む構成において、樹脂として熱可塑性樹脂が用いられればよい。熱可塑性樹脂としては、例えば、上述の基材１５の材料として例示した熱可塑性樹脂が挙げられる。

　図９が示すように、発色シート５０を構成する発色構造体３４は、保護層２０における多層膜層１６と接する面とは反対側の面を覆う接着層２２を備えている。接着層２２は、発色シート５０と被着体とを接着する機能を有する。なお、図９においては、発色シート５０を構成する発色構造体３４として、基材１５に積層された樹脂層１７が第２の構造の凹凸構造を有している構成の発色構造体が適用された例を示している。

　発色シートが、ラミネート加飾工法を用いて樹脂製の被着体に固定される場合、被着体との一体化のための加熱の際に接着層２２が接着機能を発現するように、接着層２２はヒートシール性を有することが好ましい。こうした接着層２２を構成するヒートシール剤としては、例えば、ポリエチレン、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹脂、ポリアミド、ポリエステル、ポリプロピレン、ポリウレタン等の熱可塑性樹脂が挙げられる。

　接着層２２は、例えば、インクジェット法、スプレー法、バーコート法、ロールコート法、スリットコート法、グラビアコート法等の公知の塗布法を用いて形成される。接着層２２の膜厚は特に限定されないが、例えば、２μｍ以上２００μｍ以下の程度であることが好ましい。

　図１０が示すように、上記構成の発色シート５０は、接着層２２が被着体７１と接するように、被着体７１に固定される。すなわち、発色シート５０が被着体７１に固定された成形体５５において、基材１５が外側に向けられ、基材１５に対して保護層２０の位置する側に、被着体７１が位置する。そして、発色シート５０は、基材１５側から観察される。

　なお、発色シート５０を構成する発色構造体３４は、上述の表示体４０と同様の反射防止層を備えていてもよい。また、発色シートの構成としては、上述した発色構造体の構成であればいずれの構成であっても適用可能であり、例えば、保護層２０は、多層膜層１６の透過光の吸収性を有さず、多層膜層１６における凹凸構造の保護機能のみを有していてもよいし、紫外線吸収剤の含有により紫外線の吸収機能を有していてもよい。これらの場合、保護層２０が外側に向けられて発色シートの最外面を構成し、保護層２０に対して基材１５の位置する側に、被着体７１が位置するように、発色シートが被着体７１に固定され、発色シートは、保護層２０側から観察されることが好ましい。

　以上説明したように、上記実施形態によれば、以下の効果を得ることができる。
　（１）発色構造体において、多層膜層１６の表面が保護層２０によって覆われるため、多層膜層１６における凹凸構造の変形や、凹凸構造の詰まりを抑えることができる。したがって、多層膜層１６にて反射される光の光路長が変化することや、凹凸構造による反射光の拡散効果や回折効果が低下することが抑えられるため、発色構造体において所望の発色が好適に得られる。また、多層膜層１６に直接に保護層２０が積層されているため、接着層等を介して保護層が設けられる構成と比較して、製造工程が簡素になり、製造コストの増大や歩留まりの低下が抑えられる。そして、こうした発色構造体から構成される画素を備える表示体４０や、こうした発色構造体から構成される発色シート５０であれば、所望の発色が好適に得られる表示体４０や発色シート５０が実現される。さらに、こうした発色シート５０を備える成形体において、装飾性が高められる。

　（２）保護層２０が、多層膜層１６の透過光の吸収性を有する構成であれば、凹凸層の位置する側から発色構造体を観察した場合に、多層膜層１６に対する凹凸層側から多層膜層１６を透過した光は保護層２０によって吸収され、透過光が凹凸層側に返ってくることが抑えられる。したがって、多層膜層１６からの反射光とは異なる波長域の光が視認されることが抑えられるため、反射光による色の視認性が低下することが抑えられ、発色構造体において所望の発色が好適に得られる。

　そして、保護層２０が、黒色顔料を含む構成であれば、保護層２０が可視領域において広い波長域の光を吸収可能であるため、多層膜層１６を透過する光の波長域に関わらず、透過光を吸収する保護層２０が好適に実現できる。

　（３）凹凸層における多層膜層１６と接する面とは反対側の面に反射防止層２１が設けられている構成によれば、凹凸層の位置する側から発色構造体を観察した場合に、凹凸層の表面反射が低減されるため、多層膜層１６からの反射光による色の視認性が低下することが抑えられ、発色構造体において所望の発色が好適に得られる。

　（４）保護層２０における多層膜層１６とは反対側の面に接着層２２が設けられている構成では、発色構造体を装飾等のために被着体に好適に取り付けることができる。そして、凹凸層の位置する側から発色構造体を観察させる用途に適した構造が実現される。

　（５）保護層２０が紫外線吸収剤を含む構成であれば、保護層２０が紫外線を吸収するため、発色構造体３０，３１を構成する材料が紫外線によって劣化することが抑えられる。

　（６）保護層２０が２以上の層から構成される形態であれば、これらの層が有する機能の組み合わせによって、保護層２０の多機能化や保護層２０の機能の増強が可能である。
　（７）発色構造体の最外面から測定した硬度が０．０３ＧＰａ以上であれば、発色構造体の耐擦過性が高められる。

　（８）発色構造体の最外面における算術平均粗さが２μｍ以下であれば、発色構造体の最外面における光の乱反射を抑えることができる。その結果、多層膜層１６からの反射光による色の視認性が低下することが抑えられる。
　（９）発色構造体の最外面における水接触角が６０度以上であれば、最外面への水の付着に起因して発色構造体が劣化することが抑えられる。

　（１０）発色構造体が第１の構造の凹凸構造を有する構成であれば、凸部によって反射光の拡散効果が得られ、多層膜層１６からの反射光として特定の波長域の光が広い角度で観察される。

　（１１）発色構造体が第２の構造の凹凸構造を有する構成であれば、凸部によって反射光の拡散効果と回折効果とが得られ、多層膜層１６からの反射光として特定の波長域の光が広い観察角度で観察可能であるとともに、この反射光の強度が高められることにより光沢感のある鮮やかな色が視認される。

　（１２）発色構造体が第２の構造の凹凸構造を有する構成では、第２凸部要素１５Ｅｂの投影像が構成する第２パターンにて、以下の形態を実現できる。すなわち、複数の帯状領域が第１方向Ｄｘと第２方向Ｄｙとの各々に沿って並び、帯状領域の配列間隔の平均値および標準偏差の少なくとも一方が、第１方向Ｄｘに沿った配列間隔と第２方向Ｄｙに沿った配列間隔とで相互に異なる。この構成によれば、第１凸部要素１５Ｅａによる反射光の散乱効果の第１方向Ｄｘへの影響と第２方向Ｄｙへの影響との違いに応じて、第２凸部要素１５Ｅｂによる反射光の回折効果を調整することができる。また、帯状領域における第１方向Ｄｘの配列間隔の平均値と第２方向Ｄｙの配列間隔の平均値との各々が１μｍ以上１００μｍ以下である構成では、反射光の回折効果が好適に発現される範囲で上記反射光の回折効果の調整を行うことができる。

　（１３）発色構造体から構成される画素を備える表示体４０にて、第１画素４２Ａと第２画素４２Ｂとにおいて、多層膜層１６を構成する各層の材料および膜厚は一致し、凹凸層における凸部の高さが異なる構成を実現できる。この構成であれば、第１画素４２Ａの位置する領域と第２画素４２Ｂの位置する領域とに相互に異なる色相の色が視認される。そして、第１画素４２Ａと第２画素４２Ｂとにおいては多層膜層１６の構成が一致しているため、各画素４２Ａ，４２Ｂの位置する領域ごとに多層膜層１６を形成する必要がない。結果として、相互に異なる色相を呈する画素４２Ａ，４２Ｂを有する表示体４０を簡便な製造工程によって形成することができる。

　（１４）発色構造体から構成される発色シート５０において、保護層２０が熱可塑性を有している構成であれば、発色シート５０がラミネート加飾工法を用いて被着体７１の表面へ固定される際に、多層膜層１６の凹凸構造への保護層２０の追従性が好適に得られる。したがって、ラミネート加飾工法を用いて被着体の表面へ固定される発色シート５０として好適な構成が実現される。

　（１５）発色構造体から構成される発色シート５０において、接着層２２がヒートシール性を有している構成であれば、発色シート５０がラミネート加飾工法を用いて被着体７１の表面へ固定される際に、接着層２２を被着体７１に接触させて発色シート５０と被着体７１とを一体化することが可能である。これにより、発色シート５０と被着体７１とが好適に接着される。したがって、ラミネート加飾工法を用いて被着体７１の表面へ固定される発色シート５０として好適な構成が実現される。また、発色シート５０における基材１５側の面が被着体７１に固定される場合、被着体７１の表面で基材１５が多層膜層１６や保護層２０を支持する構成となるため、基材１５に製造工程において加えられる熱で強度が低下しない程度の高い耐熱性が必要とされる。これに対し、保護層２０側の面が被着体７１に固定される構成であれば、基材１５の材料の選択についての自由度が高まる。

　（１６）発色シート５０を備える成形体５５において、保護層２０が多層膜層１６の透過光の吸収性を有し、凹凸層に対して保護層２０が位置する側に、被着体７１が位置する構成であれば、凹凸層の位置する側から発色シート５０が観察され、多層膜層１６を透過した光は保護層２０によって吸収される。そのため、発色シート５０において所望の発色が好適に得られる。すなわち、発色シート５０が、その発色性を好適に発揮可能な態様で用いられるため、成形体の装飾性が高められる。

　（１７）基材１５の表面を覆う樹脂層１７に凹凸構造が形成されている構成であれば、基材１５の材料の選択についての自由度が高まり、また、凹凸構造の形成に、微細な凹凸の形成に適したナノインプリント法の適用が可能である。

　（１８）ナノインプリント法を用いて凹凸層の凹凸構造が形成される製造方法によれば、微細な凹凸構造を好適に、かつ、簡便に形成することができる。そして、ナノインプリント法として、光ナノインプリント法もしくは熱ナノインプリント法が用いられる製造方法であれば、ナノインプリント法による凹凸構造の形成が、好適、かつ、簡便に実現される。

　［変形例］
　上記実施形態は、以下のように変更して実施することが可能である。
　・多層膜層１６の透過光の吸収性を有する層が、多層膜層１６に対して保護層２０とは反対側に設けられてもよい。例えば、基材１５や樹脂層１７を黒色の層とすることや、基材１５における多層膜層１６とは反対側の面に黒色の層を配置することによって、こうした構成が実現できる。この場合、保護層２０は、可視領域の光に対して透明な材料から構成され、発色構造体は、保護層２０の位置する側から観察される。この際、反射防止層２１を備える構成では、反射防止層２１は保護層２０上に設けられればよく、接着層２２は、発色構造体における基材１５側の最外面を構成するように設けられていればよい。

　なお、例えば、光ナノインプリント法を用いて凹凸構造を形成しようとすれば、樹脂層１７として光硬化性を有する黒色の樹脂を用いる必要があり、黒色の基材１５や黒色の樹脂層１７を用いることは、材料についての制約が大きい。また、多層膜層１６と透過光を吸収する層との間に、基材１５等の透明な層が挟まれている構成よりも、多層膜層１６に透過光を吸収する層が直接に接している構成の方が、この層に、多層膜層１６からの透過光がより効率的に吸収されるため、反射光による色の視認性が低下することが好適に抑えられる。

　・発色構造体は、保護層２０とは別の層として、紫外線吸収性を有する層を備えていてもよい。例えば、発色構造体は、基材１５に対して多層膜層１６とは反対側に、紫外線吸収剤を含む層を備えていてもよい。こうした構成であれば、特に、発色構造体が、基材１５の位置する側から観察される場合、すなわち、基材１５の位置する側から入射光が発色構造体に入る態様で用いられる場合に、発色構造体を構成する材料が紫外線によって劣化することを抑える効果を高く得られる。

　・表示体４０が含む画素には、上記仮想平面にて凹凸層における凹凸構造の延びる方向が相互に異なる画素が含まれてもよい。具体的には、任意の画素での凸部の延びる方向である第２方向Ｄｙと、この画素とは異なる画素での凸部の延びる方向である第２方向Ｄｙとが、異なる方向であり、例えばこれらの方向が直交する構成であってもよい。こうした構成によれば、画素によって、多層膜層１６からの反射光が拡散される方向を変えることが可能であり、多彩な像の表現が可能である。

　なお、多層膜層１６は、凹凸層における凸部の側面にも成膜されるため、多層膜層１６における凹凸構造の凸部の幅は、凹凸層における凸部の幅よりもやや広がる。凹凸構造の延びる方向が相互に異なる画素が相互に隣接する部分において、延びる方向の異なる凸部の間で多層膜層１６における上述のように広がった部分が連なり、多層膜層１６における凹凸構造に崩れが生じると、各画素から所望の発色が所望の方向に得られ難くなる。そのため、凹凸構造の延びる方向が相互に異なる画素の間には、凹凸層に凹凸が形成されていない領域が設けられていることが好ましい。また、延びる方向が同一の凹凸構造を有する画素間においても、凹凸層に凹凸が形成されていない領域が設けられていてもよく、こうした構成によれば、多層膜層１６の広がりに起因した凹凸構造の崩れが画素の端部にて抑えられ、各画素の全体から所望の発色が得られやすくなる。画素間に設けられる凹凸が形成されていない領域の幅は、例えば、多層膜層１６の膜厚の１／２以上であることが好ましい。

　・凹凸層の凹凸構造を構成する凸部は、基部から頂部に向かって第１方向Ｄｘの幅が徐々に小さくなる構成を有していてもよい。こうした構成によれば、凸部に多層膜層１６が成膜されやすくなる。この場合、第１方向Ｄｘの長さｄ１や長さｄ３は、凸部の底面が構成するパターンにて規定される。

　・凹凸層における凹凸構造の第１の構造にて凸部１５ａの投影像が構成するパターン、および、第２の構造にて第１凸部要素１５Ｅａの投影像が構成するパターンを構成する図形は、矩形に限られない。これらのパターンを構成する図形は、長円等であってもよく、要は、第２方向Ｄｙに沿った長さが第１方向Ｄｘに沿った長さ以上である形状を有する図形要素であればよい。そして、図形要素における第１方向Ｄｘの長さｄ１と第２方向Ｄｙの長さｄ２とが、第１の構造の説明にて述べた各種の条件を満たしていればよい。

　・多層膜層１６における最外層、すなわち、多層膜層１６における凹凸層とは反対側の最表面を構成する層が、保護層として機能してもよい。この場合、多層膜層１６が光学機能層である。そして、保護層として機能する層は、保護層よりも下層における凹凸構造の変形や変質等の、発色構造体において所望の発色を得られ難くする変化を、少なくとも１つの観点において抑えることができればよい。

　具体的には、多層膜層１６における最外層は、多層膜層１６における最外層以外の層とは異なる特性を有することによって、保護層として機能する。こうした特性は、構造的な特性であっても化学的な特性であっても物理的な特性であってもよく、例えば、硬さ、厚さ、凹凸の高さ、撥水性等である。例えば、最外層における硬さが他の層よりも大きい構成や、最外層における厚さが他の層よりも大きい構成であれば、最外層は他の層よりも衝撃に強くなるため、最外層よりも下層の凹凸構造が保護される。また、最外層における凹凸の高さが他の層よりも小さく、すなわち、最外層における平坦性が他の層よりも高い構成であれば、多層膜層１６の表面の凹凸の高さが小さくなることにより衝撃が凹凸の変形を引き起こし難くなるため、最外層よりも下層の凹凸構造が保護される。

　なお、多層膜層１６における最外層が最外層以外の層と異なる特性を有する場合であっても、多層膜層１６全体としては、凹凸層の凹凸構造に追従した表面形状、すなわち、凹凸層の凹凸構造における凹凸の配置に対応する配置の凹凸を有し、多層膜層１６は、多層膜層１６に入射する入射光のうちの特定の波長域での光の反射率が他の波長域での光の反射率よりも高いように構成される。

　［実施例］
　上述した発色構造体およびその製造方法について、具体的な実施例を用いて説明する。
　＜実施例１＞
　実施例１は、発色構造体が画素に適用された表示体である。実施例１の表示体が有する画素は、基材に第１の構造の凹凸構造が形成された発色構造体から構成される。

　まず、光ナノインプリント法で用いる凹版であるモールドを用意した。具体的には、光ナノインプリント法において照射する光として、３６５ｎｍの波長の光を用いたため、この波長の光を透過する合成石英をモールドの材料として用いた。モールドの形成に際しては、まず、合成石英基板の表面に、クロム（Ｃｒ）からなる膜をスパッタリングによって成膜し、電子線リソグラフィによって電子線レジストパターンをＣｒ膜上に形成した。形成したパターンは、図２に示した複数の矩形の集合からなるパターンである。画素となる領域は、一辺が１３０ｍｍの正方形であり、第１方向における上記矩形の長さは３８０ｎｍであり、第２方向における上記矩形の長さは、平均値が２４００ｎｍ、標準偏差が５８０ｎｍの正規分布から選択される長さである。上記パターンにおいて、複数の矩形は第１方向に重ならないように配列されている。使用したレジストはポジ型であり、膜厚は２００ｎｍとした。

　次に、塩素（Ｃｌ_２）と酸素（Ｏ_２）との混合ガスに高周波を印加して発生させたプラズマにより、レジストから露出した領域のＣｒ膜をエッチングした。続いて、六弗化エタンガスに高周波を印加して発生させたプラズマによりレジストおよびＣｒ膜から露出した領域の合成石英基板をエッチングした。これによりエッチングした合成石英基板の深さは７０ｎｍであった。残存したレジストおよびＣｒ膜を除去することにより、凹凸構造が形成されたモールドを得た。

　続いて、モールドの表面に、離型剤としてオプツールＨＤ－１１００（ダイキン工業製）を塗布した。そして、基材として用いる合成石英ウエハの表面に、光硬化性樹脂（ＰＡＫ－０２、東洋合成製）を塗布し、この樹脂にモールドの凹凸が形成されている面を押し当てて、モールドの裏面側から３６５ｎｍの光を照射した。この光の照射によって光硬化性樹脂を硬化した後、合成石英ウエハおよび樹脂層をモールドから剥離した。これにより、凹凸構造を有する樹脂層が積層された合成石英ウエハが得られた。

　続いて、合成石英ウエハに対してＯ_２ガスを用いたプラズマによるエッチングを実施し、凹凸構造の凹部に残存している光硬化性樹脂を除去した。この工程では、Ｏ_２ガスを４０ｓｃｃｍ導入し、プラズマ放電させた。次に、オクタフルオロシクロブタン（Ｃ_４Ｆ_８）とアルゴン（Ａｒ）との混合ガスを用いたプラズマによるエッチングを実施し、樹脂層の有する凹凸構造を合成石英ウエハに転写した。この工程では、Ｃ_４Ｆ_８ガスを４０ｓｃｃｍ、Ａｒガスを６０ｓｃｃｍ導入し、プラズマチャンバー内の圧力を５ｍＴｏｒｒに設定後、ＲＩＥパワー７５Ｗ、ＩＣＰパワー４００Ｗを印加して、プラズマ放電させた。合成石英ウエハに形成された凹凸構造における凸部の高さは１００ｎｍとした。

　次に、ジメチルスルホキシド：モノエタノールアミン＝７：３の混合液（ＳＴ－１０５、関東化学製）を用いた有機洗浄、および、硫酸および過酸化水素水を基本成分とする混合水溶液（ＳＨ－３０３、関東化学製）を用いた酸洗浄を行い、第１の構造である凹凸構造を有する基材である合成石英ウエハを得た。

　次に、上記合成石英ウエハの凹凸を有する表面に、真空蒸着によって、膜厚が２０５ｎｍである高屈折率層としてのＴｉＯ_２膜と、膜厚が１００ｎｍである低屈折率層としてのＳｉＯ_２膜とを交互に成膜し、高屈折率層と低屈折率層との組を５組、すなわち、１０層の層を有する多層膜層を形成した。
　次に、合成石英ウエハにおける多層積層を積層した面とは反対側の面に、真空蒸着によって、反射防止層として、膜厚が１００ｎｍのＳｉＯ_２膜を成膜した。

　さらに、アクリル系ＵＶ硬化樹脂に、４質量％程度のカーボンナノチューブ粉末を混合して黒色インクを調整し、多層膜層の表面に、バーコート法を用いて黒色インクを塗布し、塗布層を乾燥させて保護層を形成した。これにより、実施例１の表示体が得られた。
　実施例１の表示体を反射防止層の位置する側から観察したところ、画素の位置する領域に、緑色が視認性よく確認された。

　＜実施例２＞
　実施例２は、発色構造体が適用された発色シート、および、この発色シートを用いた成形体である。実施例２の発色シートは、基材上の樹脂層に第２の構造の凹凸構造が形成された発色構造体から構成される。

　まず、光ナノインプリント法で用いる凹版であるモールドを用意した。具体的には、光ナノインプリント法において照射する光として、３６５ｎｍの波長の光を用いたため、この波長の光を透過する合成石英をモールドの材料として用いた。モールドの形成に際しては、まず、合成石英基板の表面に、クロム（Ｃｒ）からなる膜をスパッタリングによって成膜し、電子線リソグラフィによって電子線レジストパターンをＣｒ膜上に形成した。形成したパターンは、図２に示した複数の矩形の集合からなるパターンである。第１方向における上記矩形の長さは３００ｎｍであり、第２方向における上記矩形の長さは、平均値が２０００ｎｍ、標準偏差が５００ｎｍの正規分布から選択される長さである。上記パターンにおいて、複数の矩形は第１方向に重ならないように配列されている。使用したレジストはポジ型であり、膜厚は２００ｎｍとした。

　続いて、塩素（Ｃｌ_２）と酸素（Ｏ_２）との混合ガスに高周波を印加して発生させたプラズマにより、レジストから露出した領域のＣｒ膜をエッチングした。続いて、六弗化エタンガスに高周波を印加して発生させたプラズマによりレジストおよびＣｒ膜から露出した領域の合成石英基板をエッチングした。これによりエッチングした合成石英基板の深さは７０ｎｍであった。残存したレジストおよびＣｒ膜を除去することにより、第１構造に対応する凹凸構造が形成された合成石英基板を得た。

　次に、上記凹凸構造が形成された合成石英基板の表面に、Ｃｒからなる膜をスパッタリングによって成膜し、電子線リソグラフィによって電子線レジストパターンをＣｒ膜上に形成した。形成したパターンは、図４に示した複数の帯状領域からなるパターンである。第１方向における上記帯状領域の長さは２００ｎｍであり、第２方向における上記帯状領域の長さは９４μｍであり、第１方向の長さが４０μｍかつ第２方向の長さが９４μｍである矩形領域ごとに、第１方向における配列間隔を、平均値が１．５μｍ、標準偏差が０．５μｍとして上記帯状領域が配列されている。使用した電子線レジストはポジ型であり、膜厚は２００ｎｍとした。

　続いて、塩素（Ｃｌ_２）と酸素（Ｏ_２）との混合ガスに高周波を印加して発生させたプラズマにより、レジストから露出した領域のＣｒ膜をエッチングした。続いて、六弗化エタンガスに高周波を印加して発生させたプラズマによりレジストおよびＣｒ膜から露出した領域の合成石英基板をエッチングした。これによりエッチングした合成石英基板の深さは６５ｎｍであった。残存したレジストおよびＣｒ膜を除去した後、合成石英基板の表面に、離型剤としてオプツールＨＤ－１１００（ダイキン工業製）を塗布した。これにより、第２構造に対応する凹凸構造が形成されたモールドを得た。

　次に、片面に易接着処理が施されたポリエステルフィルム（コスモシャインＡ４１００、東洋紡製）の易接着処理が施された面に、光硬化性樹脂（ＰＡＫ－０２、東洋合成製）を塗布し、この樹脂にモールドの凹凸が形成されている面を押し当てて、モールドの裏面側から３６５ｎｍの光を照射した。この光の照射によって光硬化性樹脂を硬化した後、ポリエステルフィルムおよび樹脂層をモールドから剥離した。これにより、第２の構造の凹凸構造を有する樹脂層が積層された基材であるポリエステルフィルムが得られた。

　次に、得られた基材と樹脂層との積層体の凹凸を有する面に、真空蒸着によって、膜厚が４０ｎｍである高屈折率層としてのＴｉＯ_２膜と、膜厚が７５ｎｍである低屈折率層としてのＳｉＯ_２膜とを交互に成膜し、高屈折率層と低屈折率層との組を５組、すなわち、１０層の層を有する多層膜層を形成した。

　次に、アクリル系ＵＶ硬化樹脂に、４質量％程度のカーボンナノチューブ粉末を混合して黒色インクを調整し、多層膜層の表面に、バーコート法を用いて黒色インクを塗布した。塗布層を８０℃で２分間乾燥させた後、３６５ｎｍの光を照射して、膜厚が１０μｍの保護層を形成した。

　続いて、保護層の表面に、バーコート法を用いてアクリル系樹脂を塗布し、塗布層を８０℃で２分間乾燥させて、膜厚が５０μｍ程度の接着層を形成した。これにより、実施例２の発色シートが得られた。

　実施例２の発色シートを、三次元オーバーレイラミネーション工法を用いて、ポリカーボネート製の被着体と一体化させることによって、実施例２の成形体を得た。詳細には、発色シートの接着層を被着体に向けて成形機に設置して、成形機内を真空引きした後に１６０℃まで加熱し、発色シートと被着体とを接触させた。この状態で、発色シート側から大気圧まで加圧を行うことにより、発色シートと被着体とを一体化した。その後、発色シートのうちの不要な部分を切り取ることによって、発色シートで加飾された実施例２の成形体が得られた。
　実施例２の成形体を観察したところ、発色シートの位置する部分に、光沢感のある青色が視認性よく確認された。

　＜転写箔＞
　図１１～図１４を参照して、上述した発色構造体の第３の適用例である転写箔、および、転写箔の製造方法を説明する。転写箔が備える発色構造体は、上述した発色構造体３１を用いることができる。

　［転写箔の構成］
　まず、転写箔の構成を説明する。転写箔は、物品等の被着体に発色構造体を貼り付けるために用いられるシートである。詳細には、転写箔は、転写箔が備える発色構造体を被着体に転写するために用いられる。以下では、発色構造体が備える多層膜層以外の構成を中心に説明し、上述した多層膜層と同様の構成については同じ符号を付してその説明を省略する。

　図１１が示すように、転写箔６０は、凹凸層の一例である剥離層６５と、多層膜層１６と、アンカー層６７と、吸収層６８と、接着層６９とを備えている。このうち、多層膜層１６、アンカー層６７、吸収層６８、および、接着層６９が、発色シート６１を構成する。アンカー層６７、および、吸収層６８が、保護層（最外層）の一例である。すなわち、転写箔６０は、剥離層６５と発色シート６１との積層体である。

　剥離層６５は、平坦な層である基材６２と、基材６２の表面に位置する樹脂層６３とを備える。樹脂層６３は、基材６２と接する面とは反対側の面である表面に、凹凸構造を有する。樹脂層１３の有する凹凸構造は、複数の凸部１５ａと、複数の凸部１５ａの間の領域である凹部１５ｂとから構成され、凸部１５ａは、不規則な長さを有して略帯状に延びる部分から構成される。

　剥離層６５は可視領域の光を透過する材料から形成されていることが好ましい。基材６２としては、例えば、合成石英基板や、ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）等の樹脂からなるフィルムが用いられる。転写箔６０の可撓性が高められる観点では、基材６２は樹脂から構成されていることが好ましい。樹脂層６３を構成する樹脂としては、例えば、光硬化性樹脂が用いられる。基材６２の膜厚は、例えば、１０μｍ以上１００μｍ以下である。

　剥離層６５は、発色シート６１の多層膜層１６から剥離可能に構成されている。例えば、樹脂層６３は、シリコーンオイルやフッ素化合物等の離型剤として機能する成分を含有している。

　多層膜層１６は、樹脂層６３の表面を覆い、樹脂層６３の凹凸構造に追従した表面形状を有している。多層膜層１６は、樹脂層６３に接する面である第１面１６Ｆと、第１面１６Ｆとは反対側の面である第２面１６Ｓとを有している。第１面１６Ｆは、樹脂層６３の凹凸構造における凸部１５ａと凹部１５ｂとが反転された凹凸からなる凹凸構造を有している。第２面１６Ｓは、樹脂層１３の凹凸構造に追従した凹凸構造を有している。樹脂層６３における凸部１５ａ上と凹部１５ｂ上とで、多層膜層１６の構成、すなわち、多層膜層１６を構成する各層の材料や膜厚や積層順序は一致している。
　アンカー層６７、吸収層６８、および、接着層６９は、多層膜層１６に対して、第２面１６Ｓと対向する側に位置する。

　アンカー層６７は、多層膜層１６の第２面１６Ｓを覆い、多層膜層１６と吸収層６８とに挟まれている。アンカー層６７は、吸収層６８における下層に対する接着性を高める機能を有する。換言すれば、アンカー層６７は、多層膜層１６に対する吸収層６８の固定の強度を高めている。アンカー層６７を構成する材料としては、例えば、ビニル樹脂等が用いられる。アンカー層６７の膜厚は、例えば、１μｍ以上１０μｍ以下である。

　吸収層６８は、アンカー層６７に対して多層膜層１６と反対側でアンカー層６７に接し、多層膜層１６を透過した光を吸収する光吸収性を有する。例えば、吸収層６８は、光吸収剤や黒色顔料等の可視領域の光を吸収する材料を含む層である。具体的には、吸収層６８は、カーボンブラック、チタンブラック、黒色酸化鉄、黒色複合酸化物等の黒色の無機顔料が樹脂に混合された層であることが好ましい。吸収層６８の膜厚は、例えば、１μｍ以上１０μｍ以下である。

　接着層６９は、吸収層６８に対して多層膜層１６と反対側で吸収層６８に接し、接着性を有する。接着層６９を構成する材料としては、例えば、アクリル系樹脂等が用いられる。接着層１９の膜厚は、例えば、１０μｍ以上１００μｍ以下である。

　なお、接着層６９において接着層６９に対する多層膜層１６とは反対側の表面は、接着層６９を保護して接着性の低下を抑えるための保護シートで覆われていてもよい。

　［転写箔の製造方法］
　上記転写箔６０の製造方法を説明する。
　まず、剥離層６５が形成される。樹脂層６３の凹凸構造の形成方法としては、例えば、ナノインプリント法が用いられる。例えば、光ナノインプリント法によって樹脂層６３の凹凸構造を形成する場合、まず、形成対象の凹凸の反転された凹凸を有する凹版であるモールドの凹凸が形成された面に、樹脂層１３の材料である光硬化性樹脂を含む塗布液が塗布される。塗布液には離型剤も含まれる。塗布液の塗布方法は特に限定されず、インクジェット法、スプレー法、バーコート法、ロールコート法、スリットコート法、グラビアコート法等の公知の塗布法が用いられればよい。

　次いで、塗布液からなる層の表面に、基材６２が樹脂層６３に重ねられ、基材６２とモールドとが相互に押し付けられた状態で、樹脂層６３に対する基材６２側もしくはモールド側から樹脂層６３に光が照射される。続いて、硬化した光硬化性樹脂を含む層および基材６２からモールドが離型される。これによって、モールドの有する凹凸が光硬化性樹脂に転写されて、表面に凹凸を有する樹脂層６３が形成され、基材６２と樹脂層６３とからなる剥離層６５が形成される。モールドは、例えば、合成石英やシリコンから構成され、光または荷電粒子線を照射するリソグラフィやドライエッチング等の公知の微細加工技術を利用して形成される。
　なお、塗布液は、基材６２の表面に塗布され、基材６２上の塗布液からなる層にモールドが押し当てられた状態で、光の照射が行われてもよい。

　また、光ナノインプリント法に代えて、熱ナノインプリント法が用いられてもよく、この場合、樹脂層６３を構成する樹脂としては、熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂等の、製造方法に応じた樹脂が用いられる。
　続いて、剥離層６５の凹凸を有する表面に、多層膜層１６を構成する層が順に積層される。

　続いて、多層膜層１６の上面である第２面１６Ｓに、アンカー層６７が形成される。アンカー層６７は、例えば、インクジェット法、スプレー法、バーコート法、ロールコート法、スリットコート法、グラビアコート法等の公知の塗布法を用いて形成される。

　続いて、アンカー層６７の表面に、吸収層６８が形成される。吸収層６８は、例えば、インクジェット法、スプレー法、バーコート法、ロールコート法、スリットコート法、グラビアコート法等の公知の塗布法を用いて形成される。吸収層６８の形成のための塗布液であるインクには、必要に応じて、溶媒が混合されてもよい。溶媒としては、吸収層１８を構成する樹脂と相性のよい溶媒が選択されればよく、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールモノメチルエーテル、トルエン、キシレン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン等が挙げられる。

　続いて、吸収層６８の表面に、接着層６９が形成される。接着層６９は、例えば、インクジェット法、スプレー法、バーコート法、ロールコート法、スリットコート法、グラビアコート法等の公知の塗布法を用いて形成される。
　これにより、転写箔６０が形成される。

　上記転写箔６０から被着体への発色シート６１の転写方法を説明しつつ、発色シート６１および成形体の構成について説明する。なお、発色シート６１は、例えば、被着体である物品の意匠性を高める目的で用いられてもよいし、物品の偽造の困難性を高める目的で用いられてもよいし、これらの目的を兼ねて用いられてもよい。

　図１２が示すように、転写箔６０は、接着層６９が被着体７１と接するように、被着体７１に貼り付けられる。すなわち、転写箔６０が被着体７１に固定されている状態において、剥離層６５の基材６２が外側に向けられている。被着体７１の形状や材料は特に限定されず、被着体７１は、接着層６９の接着可能な表面を有していればよい。

　図１３が示すように、転写箔６０が被着体７１に固定された後、発色シート６１から剥離層６５が剥離される。例えば、剥離層６５を被着体７１と反対側に引っ張る力が剥離層６５に加えられることにより、剥離層６５が引き剥がされる。

　これにより、転写箔６０から被着体７１に発色シート６１が転写され、発色シート６１が被着体７１の表面に固定される。そして、発色シート６１と被着体７１とから構成される成形体８０が得られる。

　図１４が示すように、被着体７１に転写された後において、発色シート６１における多層膜層１６の第１面１６Ｆは発色シート６１の最外面を構成し、外気に露出されている。また、接着層６９は、発色シート６１における第１面１６Ｆと反対側の最外面を構成する。

　上述のように、第１面１６Ｆが有する凹凸構造は、剥離層６５の有する凹凸の凸部１５ａと凹部１５ｂとが反転された凹凸から構成される。すなわち、第１面１６Ｆと対向する方向から見たとき、第１面１６Ｆが有する凹部１１ａが構成するパターンは、複数の矩形Ｒの集合からなるパターンであり、矩形Ｒの幅の分布や矩形Ｒの配置について、樹脂層１３の表面と対向する方向から見た凸部１５ａの構成するパターンと同様の特徴を有する。

　また、凹部１１ａの深さｋ１は、凸部１５ａの高さｈ１と一致し、凹部１１ａの深さｋ１は、一定である。すなわち、凹部１１ａは、凹部１１ａの開口する平面から１段に窪む形状を有している。

　［作用］
　転写箔の作用について説明する。上述のように、発色シート６１の製造時に、多層膜層１６の凹凸構造を形成するために用いられた基材６２および樹脂層６３からなる層は、多層膜層１６に対して剥離可能に構成されており、発色シート６１が被着体７１に貼り付けられた後に、剥離される。このように、発色シート６１は製造時の基材を有さないため、発色シート６１の柔軟性が高められる。

　例えば、基材６２および樹脂層６３を含めた構造体から発色シートが構成され、多層膜層１６に加えて、基材６２および樹脂層６３も被着体７１に固定される場合、発色シートが被着体７１の曲面に固定された状態を保つためには、多層膜層１６だけでなく、基材６２および樹脂層６３も曲面に沿う形状に変形させる必要がある。そのためには、例えば、被着体７１が樹脂から構成される場合、ラミネート加飾工法等を用いて、被着体７１と発色シートを一体化させることが行われる。しかしながら、ラミネート加飾工法では、加熱処理や加圧処理や真空処理が行われるため、発色シートにかかる物理的あるいは化学的な負荷が大きい。結果として、多層膜層１６の有する凹凸構造が崩れて、所望の発色が得られ難くなる場合がある。また、発色シートの取り付け対象として用いることのできる被着体７１の材質や表面形状にも制約が生じる。

　また、ラミネート加飾工法が用いられる場合に限らず、基材６２および樹脂層６３における被着体７１の表面への形状の追従性が低いと、発色シートが被着体７１から剥がれやすくなる。

　これに対し、上記転写箔によれば、基材６２および樹脂層６３は剥離されるため、これらの層を塑性変形として被着体７１の表面に沿う形状に変形させる必要はない。基材６２および樹脂層６３は、転写箔６０が被着体７１に貼り付けられてから剥離層６５が剥離されるまでの短期間において被着体７１の表面に沿う程度の可撓性は有している。そのため、加熱や加圧等の大きな負荷を発色シート６１にかけずとも、転写箔６０を用いて発色シート６１を被着体７１に固定することができる。そして、被着体７１に固定された発色シート６１は、製造時の基材を有さないが故に柔軟性が高いため、発色シート６１と被着体７１の表面との密着性が高くなる結果、発色シートが被着体７１から剥がれることも抑えられる。

　さらに、製造時の基材を有している場合と比較して、発色シート６１の厚さが薄くなる。したがって、成形体８０において発色シート６１が貼り付けられている部分が盛り上がることが抑えられる。それゆえ、発色シート６１が装飾のために用いられる場合には、その装飾性を高めることも可能である。

　また、多層膜層１６は可視領域の光に対して透明な材料から形成されているため、入射光に含まれる波長域のうち、多層膜層１６にて反射される特定の波長域以外の波長域の光の一部は、多層膜層１６を透過する。この透過光の波長域は多層膜層１６における反射光の波長域とは異なり、透過光の色は、主として、反射光の色の補色である。そのため、こうした透過光が視認されると、反射光による色の視認性が低下する。

　上記転写箔では、発色シート６１が吸収層６８を備えていることにより、多層膜層１６の透過光は吸収層６８に吸収され、この透過光が被着体７１の表面等で反射されて多層膜層１６の第１面１６Ｆ側に射出されることが抑えられる。したがって、第１面１６Ｆ側から見て、多層膜層１６からの反射光とは異なる波長域の光が視認されることが抑えられるため、反射光による色の視認性が低下することが抑えられ、発色シート６１において所望の発色が好適に得られる。

　なお、上記実施形態では転写箔６０を被着体７１に貼り付けて固定した後、剥離層６５を多層膜層１６から剥離する例について説明した。発色シート６１の被着体７１への固定の手順はこの順に限定されず、例えば、被着体７１に貼り付ける前に転写箔６０にて剥離層６５を剥離し、その後に発色シート６１を被着体７１に貼り付けてもよい。これにより、柔軟性が高められた状態で発色シート６１が被着体７１に貼り付けられるため、被着体７１における発色シート６１の固定される面の形状の自由度がより高まる。この場合、転写箔６０は、剥離層６５の剥離の際に接着層６９を保護して接着性の低下を抑えるための保護シートを備えていることがさらに好ましい。

　発色シート６１の変形例について説明する。
　図１５が示すように、発色シート６１は、多層膜層１６の第１面１６Ｆを覆う保護層９０を備えていてもよい。この場合、保護層９０が、発色シート６１の最外面を構成する。保護層９０は、樹脂を含む塗布層であり、可視領域の光に対して光透過性を有する材料、すなわち、可視領域の光に対して透明な材料から構成される。保護層９０を構成する材料としては、例えば、アクリル系樹脂等が用いられる。例えば、保護層９０が、フッ素を含む樹脂から構成される形態であれば、発色シート６１の表面に皮脂などの汚れが付着することが抑えられる。保護層９０の膜厚は、例えば、１μｍ以上１００μｍ以下である。

　保護層９０は、剥離層６５が剥離された後に、形成される。保護層９０は、例えば、インクジェット法、スプレー法、バーコート法、ロールコート法、スリットコート法、グラビアコート法等の公知の塗工法を用いて形成される。

　発色シート６１が保護層９０を備える場合であっても、発色シートが製造時の基材である基材６２および樹脂層６３を備える構成と比較して、発色シート６１全体の厚さを薄くすることが可能であり、発色シート６１の柔軟性は高められる。
　以上説明したように、上記転写箔によれば、以下の効果を得ることができる。

　（２－１）発色シート６１が、多層膜層１６の凹凸構造の形成に用いられた基材を備えていないため、発色シート６１の柔軟性が高められる。したがって、被着体７１の表面に発色シート６１が沿いやすくなるため、発色シート６１を被着体７１に固定する際に発色シート６１にかかる加熱や加圧等の負荷の低減が可能である。また、発色シート６１と被着体７１との密着性が高められるため、発色シート６１が被着体７１から剥がれにくくなる。

　また、多層膜層１６が発色シート６１の最外面を構成する形態であれば、特に発色シート６１の厚さを小さく抑えることが可能である。また、多層膜層１６が保護層９０に覆われ、保護層９０が発色シート６１の最外面を構成する形態であれば、多層膜層１６が有する凹凸構造の保護が可能であり、凹凸構造の変形を抑えられる。そのため、発色シート６１において所望の発色が好適に得られる。

　（２－２）発色シート６１が、吸収層６８を備えているため、多層膜層１６を透過した光は吸収層６８によって吸収され、透過光が第１面１６Ｆ側に返ってくることが抑えられる。したがって、第１面１６Ｆ側から発色シート６１を観察した場合に、多層膜層１６からの反射光とは異なる波長域の光が視認されることが抑えられるため、反射光による色の視認性が低下することが抑えられる。そして、発色シート６１が接着層６９とは別に吸収層６８を備えるため、接着層６９が光吸収性を有する構成と比較して、接着層６９の材料の選択や吸収層６８の材料の選択の自由度が高まる。したがって、接着層６９の接着性や吸収層１８の光吸収性の調整の自由度が高く得られる。

　（２－３）吸収層６８が黒色顔料を含む層であれば、吸収層６８が可視領域において広い波長域の光を吸収可能である。したがって、入射光が可視領域の光である構成において、多層膜層１６の透過光が好適に吸収される。そして、アンカー層６７によって、顔料を含む吸収層６８を多層膜層１６の上に好適に固定することができる。
　（２－４）多層膜層１６の凹凸構造によって反射光の拡散効果が得られ、多層膜層１６からの反射光として特定の波長域の光が広い角度で観察される。

　（２－５）上記発色シート６１を備える成形体８０によれば、発色シート６１の柔軟性が高められているため、被着体７１における発色シート６１の固定される面の形状の自由度が高まり、また、発色シート６１が被着体７１から剥がれにくい成形体８０が実現される。

　（２－６）転写箔６０において、剥離層６５が多層膜層１６に対して剥離可能に構成されているため、接着層６９を被着体７１に貼り付けて転写箔６０を被着体７１に固定した後、剥離層６５を多層膜層１６から剥離することができる。それゆえ、転写箔６０を用いることによって、多層膜層１６の凹凸構造の形成に用いられた基材を備えていない、柔軟性の高い発色シート６１を被着体７１上に配置することができる。

　（２－７）剥離層６５において、基材６２の表面を覆う樹脂層６３に凹凸構造が形成されている構成であれば、凹凸構造の形成に、微細な凹凸の形成に適したナノインプリント法の適用が可能である。そして、樹脂層６３に離型剤が含まれる構成であれば、多層膜層１６に対して剥離可能な剥離層６５が好適に実現される。
　（２－８）ナノインプリント法を用いて剥離層６５の凹凸構造が形成される製造方法によれば、微細な凹凸構造を好適に、かつ、簡便に形成することができる。
　なお、転写箔が備える発色構造体は、上述した発色構造体３２を用いることができる。

　図１６が示すように、転写箔１００にて剥離層６５が有する凹凸構造、すなわち、多層膜層１６の第１面１６Ｆが有する凹凸構造の構成は、上述した転写箔６０の凹凸構造の構成とは異なる。こうした凹凸構造の構成以外については、転写箔１００および発色シート１１０は、上述した転写箔６０および発色シート６１と同様の構成を有する。

　図１７が示すように、発色シート１１０において多層膜層１６の第１面１６Ｆが有する凹凸構造は、剥離層６５の有する凹凸の凸部１５ｃと凹部１５ｂとが反転された凹凸から構成される。すなわち、第１面１６Ｆと対向する方向から見たとき、第１面１６Ｆが有する凹部３１ａが構成するパターンは、第１凸部要素１５Ｅａの反転された第１凹部要素が構成するパターンと、第２凸部要素１５Ｅｂの反転された第２凹部要素が構成するパターンとが重ね合わされたパターンである。第１凹部要素が構成するパターン、すなわち、第１面１６Ｆと対向する方向への第１凹部要素の投影像が構成するパターンは、矩形Ｒの幅の分布や矩形Ｒの配置について上記第１パターンと同様の特徴を有する。第２凹部要素が構成するパターン、すなわち、第１面１６Ｆと対向する方向への第２凹部要素の投影像が構成するパターンは、帯状領域の幅や配置について上記第２パターンと同様の特徴を有する。

　そして、凹部３１ａは、第１凹部要素と第２凹部要素とが深さ方向に並んだ多段形状を有する。第１凹部要素のみから構成される領域では、凹部３１ａの深さｋ１は、第１凸部要素１５Ｅａの高さｈ１と一致する。また、第１凹部要素と第２凹部要素とが重なっている領域では、凹部３１ａの深さｋ３は、第１凸部要素１５Ｅａの高さｈ１と第２凸部要素１５Ｅｂの高さｈ２との和と一致する。また、第２凹部要素のみから構成される領域では、凹部３１ａの深さｋ２は、第２凸部要素１５Ｅｂの高さｈ２と一致する。
　なお、発色シート１１０は、多層膜層１６の第１面１６Ｆを覆う保護層２０を備えていてもよい。

　以上のように、発色シート１１０によれば、凹部３１ａにおける第１凹部要素が構成する部分に起因した光の拡散現象と、第２凹部要素が構成する部分に起因した光の回折現象との相乗によって、特定の波長域の反射光が広い観察角度で観察可能であるとともに、この反射光の強度が高められることにより光沢感のある鮮やかな色が視認される。

　発色構造体３２を備えた転写箔１００によれば、上記（２－１）～（２－８）の効果に加えて、以下の効果を得ることができる。
　（２－９）多層膜層１６の凹凸構造によって反射光の拡散効果と回折効果とが得られ、多層膜層１６からの反射光として特定の波長域の光が広い観察角度で観察可能であるとともに、この反射光の強度が高められることにより光沢感のある鮮やかな色が視認される。

　上述した転写箔６０，１００は、以下のように変更して実施することが可能である。
　・剥離層６５の樹脂層６３が離型剤を含むことにより、剥離層６５が多層膜層１６から剥離可能に構成されている。これに代えて、転写箔６１，１００は、剥離層６５と多層膜層１６との間に、剥離層６５の凹凸構造に沿った層であって、離型剤を含む層である離型層をさらに備えていてもよい。離型層は、例えば、多層膜層１６の形成前に、樹脂層６３に離型剤が塗布されることによって形成される。そして、剥離層６５と離型層との界面、もしくは、離型層と多層膜層１６との界面にて剥離が生じることにより、剥離層６５が多層膜層１６から剥離される。剥離層６５と離型層との界面にて剥離が生じる場合には、発色シート６１，１１０は、離型層を保護層９０として備える。例えば、離型層がフッ素を含む樹脂から構成される形態であれば、離型層によって剥離層６５が多層膜層１６から剥離可能とされるとともに、剥離層６５の剥離後には、離型層は、保護層９０として発色シート６１，１１０の表面に皮脂などの汚れが付着することを抑える効果を発揮する。

　・剥離層６５は、基材６２のみを備え、基材６２の表面に凹凸構造を有していてもよい。基材６２の表面の凹凸構造は、例えば、光または荷電粒子線を照射するリソグラフィやドライエッチング等の公知の微細加工技術を利用して形成される。こうした基材６２に対しては、例えば、上述の離型層を設けることによって、剥離層６５を多層膜層１６から剥離可能に構成することができる。

　・剥離層６５は、加熱あるいは冷却等の物理的な外部刺激を受けることに基づいて、多層膜層１６に対する剥離性を発現するように構成されていてもよい。こうした構成によれば、外部刺激の有無や外部刺激を与えるタイミングによって、剥離層６５の剥離を制御することができる。すなわち、意図しないときに剥離層６５が剥離されることが抑えられる。

　・吸収層６８は、可視領域の光のすべてを吸収せずとも、多層膜層１６を透過する光の少なくとも一部を吸収する光吸収性を有する構成であれば、こうした光吸収性を有する層が設けられない構成と比較して、反射光による色の視認性が低下することを抑える効果は得られる。例えば、吸収層６８は、多層膜層１６を透過する光の波長域に応じた色の顔料を含む層であってもよい。ただし、吸収層６８が黒色顔料を含む黒色の層であれば、透過光の波長域に応じた吸収層６８の色の調整等が不要であり、また、吸収層６８が広い波長域の光を吸収するため、簡便に、かつ、好適に、反射光による色の視認性の低下が抑えられる。

　・発色シート６１，１１０は、接着層６９と別体の吸収層６８を有さず、接着層６９が、多層膜層１６を透過する光の少なくとも一部を吸収する光吸収性を有していてもよい。こうした構成によっても、第１面１６Ｆ側から観察した場合に、多層膜層１６からの反射光とは異なる波長域の光が視認されることが抑えられる。そのため、反射光による色の視認性が低下することが抑えられる。接着層６９が光吸収性を有している構成であれば、発色シート６１，１１０が接着層６９とは別に光吸収性を有する層を備える構成と比較して、発色シート６１，１１０の層構成が簡易になり、発色シート６１，１１０を薄くすることが可能である。なお、吸収層６８が設けられない場合には、発色シート６１，１１０はアンカー層６７を備えなくてよい。すなわち、接着層６９が多層膜層１６の第２面１６Ｓを覆っていればよい。

　・発色シート６１，１１０は、多層膜層１６を透過する光の少なくとも一部を吸収する層を備えていなくてもよい。こうした発色シート６１，１１０が利用される場合としては、例えば、反射光による色の視認性が高いことが求められない用途に発色シート６１，１１０が利用される場合が想定される。また、こうした発色シート６１，１１０が利用される場合としては、発色シート６１，１１０が被着体７１における黒色の面に貼り付けられる形態等、多層膜層１６の透過光が第１面１６Ｆ側に返ってくることが抑えられる態様で発色シート６１，１１０が利用される場合が想定される。
　・保護層９０は塗布層でなくてもよく、また、保護層９０は複数の層から構成されてもよい。

　・剥離層６５の凸部１５ａが構成するパターン、すなわち、多層膜層１６の凹部１１ａが構成するパターンを構成する図形は、矩形に限られない。換言すれば、第１凸部要素または第１凹部要素が構成するパターンを構成する図形は、矩形に限られない。これらのパターンを構成する図形は、長円等であってもよく、要は、第２方向Ｄｙに沿った長さが第１方向Ｄｘに沿った長さ以上である形状を有する図形要素であればよい。そして、図形要素における第１方向Ｄｘの長さｄ１と第２方向Ｄｙの長さｄ２とが、上記第１の構造で説明した条件を満たしていればよい。

　・剥離層６５の凹凸構造を構成する凸部は、基部から頂部に向かって第１方向Ｄｘの幅が徐々に小さくなる構成を有していてもよい。こうした構成によれば、凸部に多層膜層１６が成膜されやすくなる。この場合、第１方向Ｄｘの長さｄ１や長さｄ３は、凸部の底面が構成するパターンにて規定される。すなわち、多層膜層１６の第１面１６Ｆの凹凸構造を構成する凹部は、底部から開口部に向かって第１方向Ｄｘの幅が徐々に大きくなる構成を有していてもよい。凹部における第１方向Ｄｘの長さは、凹部の開口部が構成するパターンにて規定される。

　・アンカー層６７、および、吸収層６８は、表示体に適用される上述した保護層２０に変更することも可能である。すなわち、多層膜層１６と接着層６９との間に位置する保護層は、紫外線吸収剤を含んでいてもよい。また、多層膜層１６と接着層６９との間に位置する保護層では、当該保護層の表面から測定した硬度が、上述した保護層２０と同じく、０．０３ＧＰａ以上とすることも可能である。また、多層膜層１６と接着層６９との間に位置する保護層では、上述した保護層２０と同じく、保護層の表面における表面粗さＲａが、２μｍ以下とすることも可能である。さらに、多層膜層１６と接着層６９との間に位置する保護層では、保護層２０の表面における水接触角が、６０度以上とすることも可能である。

　Ｄｘ…第１方向、Ｄｙ…第２方向、１０，１１，１２…凹凸構造体、１５…基材、１５ａ，１５ｃ…凸部、１５ｂ…凹部、１５Ｅａ…第１凸部要素、１５Ｅｂ…第２凸部要素、１６…多層膜層、１６ａ…高屈折率層、１６ｂ…低屈折率層、１７…樹脂層、２０…保護層、２１…反射防止層、２２…接着層、３０，３１，３２，３３，３４…発色構造体、４０…表示体、４０Ｆ…表面、４０Ｒ…裏面、４１Ａ，４１Ｂ…表示領域、４２Ａ，４２Ｂ…画素、５０…発色シート、６０…成形体、６１…被着体。

Claims (15)

1. 　表面に凹凸構造を有する凹凸層と、
   　前記凹凸構造上に位置して当該凹凸構造の形状に追従した表面形状を有する多層膜層であって、当該多層膜層において相互に隣接する層の屈折率が相互に異なり、当該多層膜層に入射する入射光のうちの特定の波長域での光の反射率が前記特定の波長域以外の他の波長域での光の反射率よりも高い前記多層膜層を含む光学機能層であって、当該光学機能層における前記凹凸層とは反対側の最外層が、当該最外層よりも下層に対する保護機能を有する前記光学機能層と、を備え、
   　第１方向と、前記第１方向と直交する第２方向とは、前記凹凸層の厚さ方向に前記凹凸構造が投影される仮想的な面である仮想平面に沿う方向であり、
   　前記凹凸構造を構成する凸部は１段以上の形状を有し、前記仮想平面において前記凸部の投影像が構成するパターンは、前記第２方向に沿った長さが前記第１方向に沿った長さ以上である図形要素の集合からなるパターンを含み、
   　前記図形要素の前記第１方向に沿った長さはサブ波長以下であり、前記図形要素の集合において、前記第２方向に沿った長さの標準偏差は、前記第１方向に沿った長さの標準偏差よりも大きい
   　発色構造体。
2. 　前記凹凸層は、前記入射光に対する光透過性を有し、
   　前記最外層として前記多層膜層の表面を覆う保護層は、前記入射光のうち前記多層膜層を透過する光の少なくとも一部を吸収する光吸収性を有する
   　請求項１に記載の発色構造体。
3. 　前記発色構造体を構成する層には、紫外線吸収剤を含む層が含まれる
   　請求項１または２に記載の発色構造体。
4. 　前記最外層として前記多層膜層の表面を覆う保護層は、２以上の層から構成される
   　請求項１～３のいずれか一項に記載の発色構造体。
5. 　前記発色構造体の最外面から測定した硬度は、０．０３ＧＰａ以上である
   　請求項１～４のいずれか一項に記載の発色構造体。
6. 　前記発色構造体の最外面における算術平均粗さは、２μｍ以下である
   　請求項１～５のいずれか一項に記載の発色構造体。
7. 　前記発色構造体の最外面における水接触角は、６０度以上である
   　請求項１～６のいずれか一項に記載の発色構造体。
8. 　前記仮想平面において前記凸部の投影像が構成するパターンは、前記図形要素の集合からなるパターンであり、
   　前記凹凸構造を構成する前記凸部の高さは一定である
   　請求項１～７のいずれか一項に記載の発色構造体。
9. 　前記仮想平面において前記凸部の投影像が構成するパターンは、前記図形要素の集合からなる第１パターンと、前記第２方向に沿って延び、前記第１方向に沿って並ぶ複数の帯状領域からなる第２パターンとが重ねられたパターンであり、
   　前記第１方向に沿った前記帯状領域の配列間隔は、前記複数の帯状領域において一定ではなく、前記配列間隔の平均値が前記入射光に含まれる波長域における最小波長の１／２以上であり、
   　前記凹凸構造を構成する前記凸部は、前記仮想平面における投影像が前記第１パターンを構成する要素であって所定の高さを有する凸部要素と、前記仮想平面における投影像が前記第２パターンを構成する要素であって所定の高さを有する凸部要素とが高さ方向に重ねられた多段形状を有する
   　請求項１～８のいずれか一項に記載の発色構造体。
10. 　前記凹凸層は、前記多層膜層に対して剥離可能に構成されている
    　請求項１～９のいずれか一項に記載の発色構造体。
11. 　前記光学機能層における前記凹凸層とは反対側の面を覆う接着層をさらに備える
    　請求項１～１０のいずれか一項に記載の発色構造体。
12. 　複数の表示要素を備え、表面と裏面とを有する表示体であって、
    　前記表示要素が、請求項１～１１のいずれか一項に記載の発色構造体から構成されている
    　表示体。
13. 　請求項１～１１のいずれか一項に記載の発色構造体から構成された発色シート。
14. 　請求項１～１１のいずれか一項に記載の発色構造体から構成された発色シートと、
    　前記発色シートが固定された被着体と、を備え、
    　前記凹凸層に対して前記光学機能層が位置する側に、前記被着体が位置する
    　成形体。
15. 　凹版の有する凹凸を、ナノインプリント法を用いて樹脂に転写することにより、表面に凹凸構造を有する凹凸層を形成する工程と、
    　前記凹凸構造上に、多層膜層を含む光学機能層を、当該多層膜層において相互に隣接する層の屈折率が相互に異なり、当該多層膜層に入射する入射光のうちの特定の波長域での光の反射率が前記特定の波長域以外の他の波長域での光の反射率よりも高くなるとともに、前記光学機能層における前記凹凸層とは反対側の最外層が、当該最外層よりも下層に対する保護機能を有するように形成する工程と、を含み、
    　第１方向と、前記第１方向と直交する第２方向とは、前記凹凸層の厚さ方向に前記凹凸構造が投影される仮想的な面である仮想平面に沿う方向であり、
    　前記凹凸層を形成する工程では、前記凹凸構造を構成する１段以上の凸部の投影像が前記仮想平面において構成するパターンが、前記第２方向に沿った長さが前記第１方向に沿った長さ以上である図形要素の集合からなるパターンを含むように前記凹凸構造を形成し、
    　前記図形要素の前記第１方向に沿った長さはサブ波長以下であり、前記図形要素の集合において、前記第２方向に沿った長さの標準偏差は、前記第１方向に沿った長さの標準偏差よりも大きい
    　発色構造体の製造方法。

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