WO2018074524A1 - ガスバリア性光学フィルム及び有機ｅｌディスプレイ - Google Patents

ガスバリア性光学フィルム及び有機ｅｌディスプレイ Download PDF

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WO2018074524A1
WO2018074524A1 PCT/JP2017/037725 JP2017037725W WO2018074524A1 WO 2018074524 A1 WO2018074524 A1 WO 2018074524A1 JP 2017037725 W JP2017037725 W JP 2017037725W WO 2018074524 A1 WO2018074524 A1 WO 2018074524A1
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WO
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film
gas barrier
substrate
layer
optical film
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Application number
PCT/JP2017/037725
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English (en)
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Inventor
菜穂 ▲高▼島
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凸版印刷株式会社
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B9/00—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00—Electroluminescent light sources
    • H05B33/02—Details

Definitions

  • the present invention relates to a gas barrier optical film and an organic EL display, and more particularly to a gas barrier optical film having an atomic layer deposition layer and an organic EL display using the gas barrier optical film.
  • next-generation devices such as organic EL displays, organic EL lighting, organic solar cells, and electronic paper using organic semiconductor technology
  • the element that is the basic configuration of these devices is formed of a material that has a precise structure and is easily affected by the outside. For this reason, for example, a structure or material may be deteriorated by the influence of a trace amount or a trace amount of moisture or oxygen, and the function of the device may be lowered.
  • a structure in which an organic EL element is deteriorated by a glass substrate that has an excellent sealing effect for blocking the element from air, has high moisture resistance, and is light transmissive is adopted. ing.
  • Patent Document 1 discloses a gas barrier film including a first barrier layer containing an inorganic substance from the film substrate side and a second barrier layer formed by applying polysilazane.
  • requirement of thickness reduction is increasing with the high-intensity and high definition of an image.
  • the design can be improved.
  • flexibility can be enhanced by reducing the thickness.
  • the application destination of the organic EL display increases, which may lead to further expansion of demand.
  • COP cycloolefin polymer
  • COP cycloolefin polymer
  • this invention is made
  • the gas barrier optical film which concerns on 1 aspect of this invention is a base material whose in-plane retardation exists in the range of 4000 nm or more and 30000 nm or less, and the said base material And an atomic layer deposition film formed on one of the front surface and the back surface.
  • the organic EL display which concerns on 1 aspect of this invention is equipped with said gas barrier optical film, an adhesion layer, and the organic EL element to which the sealing layer was attached.
  • FIG. 10 It is sectional drawing which shows the 1st structural example of the gas barrier optical film 10 which concerns on 1st Embodiment of this invention, (a) is sectional drawing of the gas barrier optical film 10 which has a base material and an atomic layer deposition film, (B) is sectional drawing of the gas barrier optical film 10 which has a base material, an atomic layer deposition film, and an undercoat layer. It is sectional drawing which shows the 2nd structural example of the gas barrier optical film 10, (a) is sectional drawing of the gas barrier optical film 10 which has a base material, an atomic layer deposition film, and a circularly-polarizing plate, (b) is basic
  • FIG. 10 It is sectional drawing of the gas barrier optical film 10 which has a material, an atomic layer deposition film, an undercoat layer, and a circularly-polarizing plate.
  • 4 is a cross-sectional view showing a third configuration example of the gas barrier optical film 10.
  • FIG. 6 is a cross-sectional view showing a fourth configuration example of the gas barrier optical film 10.
  • FIG. 6 is a cross-sectional view showing a fifth configuration example of the gas barrier optical film 10.
  • FIG. It is sectional drawing which shows the 1st structural example of the gas barrier optical film 20 which concerns on 2nd Embodiment of this invention.
  • 3 is a cross-sectional view showing a second configuration example of the gas barrier optical film 20.
  • FIG. 4 is a cross-sectional view showing a third configuration example of the gas barrier optical film 20.
  • FIG. 6 is a cross-sectional view showing a fourth configuration example of the gas barrier optical film 20.
  • FIG. 6 is a cross-sectional view showing a fifth configuration example of the gas barrier optical film 20.
  • FIG. It is sectional drawing which shows the 1st structural example of the organic electroluminescent display 50 which concerns on 3rd Embodiment of this invention.
  • 4 is a cross-sectional view showing a second configuration example of an organic EL display 50.
  • FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a third configuration example of an organic EL display 50.
  • FIG. It is sectional drawing which shows the structural example of the organic electroluminescent display which concerns on Example 1 of this invention. It is sectional drawing which shows the structural example of the organic electroluminescent display which concerns on a reference example.
  • FIG. 1A is a cross-sectional view showing a first configuration example of the gas barrier optical film 10 according to the first embodiment of the present invention.
  • the gas barrier optical film 10 includes a base material 11 and an atomic layer deposition film 12 (ALD film).
  • ALD film atomic layer deposition film
  • a coat layer such as a hard coat may be provided on one side or both sides of the substrate 11. By providing the coat layer, the scratching property of the surface of the substrate 11 is eliminated, and the workability is improved.
  • the hard coat layer may have the composition described in the fourth configuration example.
  • the base material 11 has in-plane retardation in the range of 4000 nm or more and 30000 nm or less by extending
  • This in-plane retardation is an in-plane retardation within a wavelength range of 450 nm to 650 nm. This is because when the retardation is less than 4000 nm, an interference color is exhibited when the organic EL display is observed from an oblique direction, and thus good visibility cannot always be ensured.
  • the preferred retardation of the oriented polyester film is 4500 nm or more, then preferably 5000 nm or more, more preferably 6000 nm or more, still more preferably 8000 nm or more, and even more preferably 10,000 nm or more.
  • the upper limit of the in-plane retardation of the substrate 11 is 30000 nm. Even if a substrate having a retardation higher than that is used, the effect of improving the visibility is not substantially obtained, and as the retardation increases, the thickness of the film becomes considerably thicker, and the handleability as an industrial material decreases. It is to do.
  • the retardation value of the substrate 11 can be determined by measuring the biaxial refractive index and thickness according to a known method. Further, for example, measurement can be performed using a commercially available automatic birefringence measuring apparatus such as KOBRA-21ADH (Oji Scientific Instruments).
  • the substrate 11 preferably has an Nz coefficient represented by
  • the Nz coefficient can be obtained as follows.
  • the orientation axis direction of the substrate 11 is determined using a molecular orientation meter (MOA-6004 type molecular orientation meter, manufactured by Oji Scientific Instruments Co., Ltd.), and the biaxial refractive index of the orientation axis direction and the direction perpendicular thereto (ny, nx, where ny> nx), and the refractive index (nz) in the thickness direction are determined by an Abbe refractometer (NAGO-4T, measurement wavelength 589 nm, manufactured by Atago Co., Ltd.).
  • the Nz coefficient can be obtained by substituting nx, ny, and nz obtained in this way into an expression represented by
  • the Nz coefficient of the substrate 11 exceeds 1.7, rainbow spots may occur depending on the angle when the organic EL display is observed from an oblique direction.
  • the Nz coefficient is more preferably 1.65 or less, and still more preferably 1.63 or less.
  • the lower limit value of the Nz coefficient is 1.2. This is because it is difficult in terms of manufacturing technology to obtain a film of less than 1.2, the thickness unevenness of the film becomes large, and the retardation value may be non-uniform in the film plane.
  • the lower limit value of the Nz coefficient is preferably 1.3 or more, more preferably 1.4 or more, and further preferably 1.45 or more.
  • (1.1.3) In-plane orientation degree By setting the in-plane orientation degree represented by (nx + ny) / 2-nz of the base material 11 to a specific value or less, polyester can be used more reliably as a substrate for a gas barrier optical film. Iridescence can be completely eliminated when a film is used.
  • the values of nx, ny, and nz are obtained by the same method as for the Nz coefficient.
  • the in-plane orientation degree of the substrate 11 is preferably 0.13 or less, more preferably 0.125 or less, and further preferably 0.12 or less. By setting the in-plane orientation degree to 0.13 or less, it is possible to completely eliminate rainbow spots observed depending on the angle when the organic EL display is observed from an oblique direction.
  • the in-plane orientation degree is preferably 0.08 or more, and more preferably 0.10 or more.
  • the in-plane orientation degree is less than 0.08, the thickness unevenness of the film increases, and the values of retardation, Re / Rth, and Nz coefficient may be non-uniform in the film plane.
  • the base material 11 preferably has a ratio (Re / Rth) of in-plane retardation (Re) to thickness direction retardation (Rth) of 0.83 or more. 86 or more is more preferable, and 0.88 or more is more preferable. This is because as the ratio of the retardation to the retardation in the thickness direction (Re / Rth) is larger, the birefringence action is more isotropic, and the occurrence of rainbow-like color spots due to the observation angle is less likely to occur. In a complete uniaxial (uniaxial symmetry) film, the ratio of the retardation to the retardation in the thickness direction (Re / Rth) is 2. However, as will be described later, the mechanical strength in the direction orthogonal to the orientation direction is significantly lowered as the film approaches a complete uniaxial (uniaxial symmetry) film.
  • the upper limit of the ratio of retardation to retardation in the thickness direction is preferably 1.25 or less, more preferably 1.05 or less.
  • the ratio of retardation to thickness direction retardation (Re / Rth) does not have to be 2, and 1.25 or less is sufficient. Further, even if the ratio is 1.05 or less, it is possible to satisfy the viewing angle characteristics required for the organic EL display.
  • the Re / Rth variation of the substrate 11 is preferably 15% or less.
  • Re / Rth variation is 12% or less, and further preferably 10% or less.
  • the thickness of the substrate 11 is not particularly limited as long as it does not hinder the effects of the present invention, but is usually 15 to 300 ⁇ m, preferably 15 to 200 ⁇ m. When the film thickness is less than 15 ⁇ m, the anisotropy of the mechanical properties of the film becomes remarkable, and tearing, tearing, and the like may occur. A particularly preferable lower limit of the thickness is 25 ⁇ m.
  • the base material 11 is preferably an oriented polyester film, and can be obtained from any polyester resin.
  • the type of the polyester resin is not particularly limited, and any polyester resin obtained by condensing dicarboxylic acid and diol can be used.
  • the dicarboxylic acid component that can be used in the production of the polyester resin include terephthalic acid, isophthalic acid, orthophthalic acid, 2,5-naphthalenedicarboxylic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 1,4-naphthalenedicarboxylic acid, , 5-Naphthalenedicarboxylic acid, diphenylcarboxylic acid, diphenoxyethanedicarboxylic acid, diphenylsulfonecarboxylic acid, anthracene dicarboxylic acid, 1,3-cyclopentanedicarboxylic acid, 1,3-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid ,
  • diol component examples include ethylene glycol, propylene glycol, hexamethylene glycol, neopentyl glycol, 1,2-cyclohexanedimethanol, 1,4-cyclohexanedimethanol, decamethylene glycol, 1 , 3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexadiol, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, bis (4-hydroxyphenyl) sulfone, etc. Can be mentioned.
  • the dicarboxylic acid component and the diol component constituting the polyester resin can be used alone or in combination of two or more.
  • Suitable polyester resins constituting the polyester film include, for example, polyethylene terephthalate, polypropylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, and more preferably polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate. Furthermore, other copolymer components may be included. These resins are excellent in transparency and excellent in thermal and mechanical properties, and the retardation can be easily controlled by stretching. In particular, polyethylene terephthalate is the most suitable material because it has a large intrinsic birefringence and a large retardation can be obtained relatively easily even if the film is thin.
  • the oriented polyester film as the base material 11 can be manufactured according to the manufacturing method of a general polyester film.
  • the polyester resin is melted and the non-oriented polyester extruded and formed into a sheet shape is stretched in the longitudinal direction by utilizing the speed difference of the roll at a temperature equal to or higher than the glass transition temperature, and then stretched in the transverse direction by a tenter.
  • the method of performing heat processing is mentioned.
  • the oriented polyester film as the base material 11 may be a uniaxially stretched film or a biaxially stretched film. However, when the biaxially stretched film is used as the base material 11, even if it is observed from directly above the film surface, rainbow-like color spots Although rainbow-like color spots may be observed when observed from an oblique direction, attention should be paid.
  • This phenomenon is that a biaxially stretched film is composed of refractive index ellipsoids having different refractive indexes in the running direction, width direction, and thickness direction, and the retardation becomes zero depending on the light transmission direction inside the film (refractive index ellipse). This is because there is a direction in which the body appears to be a perfect circle. Therefore, when the screen of the organic EL display is observed from a specific oblique direction, a point where the retardation becomes zero may be generated, and a rainbow-like color spot is generated concentrically around that point.
  • the angle ⁇ increases as the birefringence in the film increases, and the rainbow-like color increases. Spots are difficult to see.
  • the biaxially stretched film tends to reduce the angle ⁇ , and therefore the uniaxially stretched film is more preferable because rainbow-like color spots are less visible.
  • biaxiality (biaxial subjectivity) is obtained in a range in which rainbow-like color spots are not substantially generated or in a range in which rainbow-like color spots are not generated in a viewing angle range required for an organic EL display. It is preferable to have.
  • Such biaxial objectivity is obtained by producing an oriented polyester film under the following conditions.
  • the base material 11 (orientated polyester film) having the specific in-plane retardation described above can be obtained by adjusting the conditions during film formation (for example, stretching ratio, stretching temperature, film thickness, etc.). For example, the higher the stretching ratio, the lower the stretching temperature, and the thicker the film, the higher the retardation. On the other hand, the lower the stretching ratio, the higher the stretching temperature, and the thinner the film, the lower the retardation.
  • the longitudinal stretching temperature and the transverse stretching temperature are preferably 80 to 145 ° C., and particularly preferably 90 to 140 ° C.
  • the longitudinal draw ratio is preferably 1.0 to 3.5 times, particularly preferably 1.0 to 3.0 times.
  • the transverse draw ratio is preferably 2.5 to 6.0 times, particularly preferably 3.0 to 5.5 times. In order to control the retardation within the specific range described above, it is preferable to control the ratio of the longitudinal draw ratio and the transverse draw ratio.
  • the temperature of the subsequent heat treatment is preferably 100 to 250 ° C, particularly preferably 180 to 245 ° C.
  • the atomic layer deposition film 12 is a film formed on the surface of the base material 11 by an ALD (Atomic Layer Deposition) method.
  • the ALD method is a method in which a surface-adsorbed substance is formed one layer at a time by a chemical reaction on the surface.
  • an active gas called a precursor or a precursor and a reactive gas are alternately used to alternately perform adsorption on the surface of the substrate 11 and subsequent chemical reaction.
  • the atomic layer is grown on the surface of the substrate 11 one by one.
  • the ALD method can form a dense film with fewer film formation defects (that is, a film with excellent gas barrier properties) as compared with a vacuum deposition method, a sputtering method, or a general CVD method.
  • a specific film formation method of the ALD method is performed by the following method.
  • the self-limiting effect refers to a phenomenon in which, when the surface is adsorbed on the substrate 11, if the surface is covered with a certain gas, the gas is not further adsorbed.
  • a reactive gas is introduced into the chamber to oxidize the precursor adsorbed on the surface of the substrate 11 to form a single layer having a desired composition. Thereafter, the reactive gas is exhausted (second step).
  • the first and second steps are defined as one cycle, and this cycle is repeated to form a thin film on the substrate 11 one by one at the atomic level.
  • the atomic layer deposition film 12 is a precursor (for example, TMA: Tri-Methyl Aluminum or Tris-di) that is a raw material for the atomic layer deposition film 12.
  • metal-containing precursors such as methylaminosilane
  • the precursor located on the surface of the substrate 11 and the adsorption site of the substrate 11 are combined.
  • an inorganic oxide film containing an element such as Al, Ti, Si, Zn, Sn, Ta, Nb, a nitride film or an oxynitride film containing these elements, or a mixed compound thereof is used. Can be used.
  • the atomic layer deposition film 12 is made of AlSiOx, TiAlOx, TiOx, TaOx, or NbOx. Further, as the atomic layer deposition film 12, for example, an oxide film, a nitride film, an oxynitride film, a mixed compound thereof, or the like containing other elements (for example, Zr, Hf) can be used.
  • the atomic layer deposition film 12 a film containing at least one element of Al, Si, and Ti (for example, a film as described above) is used from the viewpoints of water vapor barrier properties, durability, and cost. Good. By using a film containing such an element as the atomic layer deposition film 12, high water vapor barrier properties and high durability can be obtained, and costs can be reduced.
  • the thickness of the atomic layer deposition film 12 is preferably not less than 0.5 nm and not more than 200 nm, for example. If the thickness of the atomic layer deposition film is less than 0.5 nm, an atomic layer deposition film having a sufficient water vapor barrier property cannot be formed from the viewpoint of manufacturing technology. If the thickness of the atomic layer deposition film exceeds 200 nm, it is not preferable because it requires cost and film formation time.
  • the gas barrier optical film 10 may further include an undercoat layer 15 made of an inorganic material formed between the base material 11 and the atomic layer deposition film 12. Good.
  • the undercoat layer 15 may be disposed so as to cover the back surface of the substrate 11.
  • the undercoat layer 15 is made of, for example, only an inorganic material.
  • the undercoat layer 15 include SiOx, TiOx, AlOx, TaOx, and NbOx.
  • Examples of the method for forming the undercoat layer 15 include a PVD method, a CVD method, and a sol-gel method. Here, the ALD method is included in the CVD method.
  • the inorganic material contained in the undercoat layer 15 has a larger number of adsorption sites (portions to which precursors that are raw materials for the atomic layer deposition film 12 are bonded) than the organic material. This shortens the period from the start of the formation process of the atomic layer deposition film 12 to the formation of a dense film by two-dimensional growth.
  • the thickness of the undercoat layer 15 is preferably, for example, 1 nm or more and 1000 nm or less. If the thickness of the undercoat layer is less than 1 nm, the substrate surface cannot be completely covered, and the density of the adsorption sites is insufficient. There is a possibility that the period until a dense film is formed by growth cannot be shortened. That is, the atomic layer deposition film 12 having a sufficient water vapor barrier property cannot be formed. On the other hand, if the thickness of the undercoat layer exceeds 1000 nm, cost and film formation time are required, and cracks and defects may occur in the undercoat layer. Further, as a method for increasing the density of the adsorption sites, it is possible to increase the density of the adsorption sites by performing plasma treatment or hydrolysis treatment on the surface of the substrate 11 instead of the undercoat layer 15.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view showing a second configuration example of the gas barrier optical film 10.
  • the gas barrier optical film 10 includes a substrate 11, an atomic layer deposition film 12 (ALD film), an adhesive layer (first adhesive layer) 13, and a circularly polarizing plate 14.
  • ALD film atomic layer deposition film
  • first adhesive layer first adhesive layer
  • circularly polarizing plate 14.
  • a display panel is designed by combining with a phase difference plate or a polarizing plate that gives a predetermined polarization to incident light.
  • Adhesive layer 13 The adhesive layer 13 is provided between the base material 11 and the circularly polarizing plate 14 and has a function of bonding the base material 11 and the circularly polarizing plate 14.
  • a photo-curing adhesive resin a thermosetting adhesive resin, a two-component curable adhesive resin made of an epoxy resin, an acrylic resin, a silicone resin, or the like, or an acid-modified product such as polyethylene or polypropylene
  • a method of curing a thermoplastic adhesive resin composed of a main component having a hydroxyl group such as rubber, silicone, acrylic and urethane with an isocyanate curing agent is used.
  • the laminating method is desirable for the processing, and as the coating method, a gravure coater, a dip coater, a reverse coater, a wire bar coater, a die coater, or the like can be used.
  • the adhesion layer 13 may contain the curable moisture absorbent, respectively.
  • the content ratio of the curable hygroscopic agent in the adhesive layer 13 is preferably 5% by mass or more and 60% by mass or less, more preferably 10% by mass or more and 45% by mass or less, when the total mass is 100% by mass. It is.
  • the curable moisture absorbent is a mixture of a moisture absorbent and a curing agent.
  • the content of the hygroscopic agent (compound) in the curable hygroscopic agent is preferably 20% by mass or more and 80% by mass or less, more preferably 25% by mass or more and 60% by mass or less when the total mass is 100% by mass. is there. When the content of the hygroscopic agent is within this range, the action of capturing moisture can be effectively expressed in the curable hygroscopic agent.
  • the circularly polarizing plate 14 is a transparent film that is laminated on the surface side of the base material 11 via the adhesive layer 13.
  • the circularly polarizing plate 14 has a function of preventing reflection of external light, reflection of a background, and the like.
  • the circularly polarizing plate 14 is provided on the viewing side with respect to the substrate 11.
  • An organic EL display is provided with a highly reflective metal layer (for example, an anode positioned between the TFT element and the organic EL layer). It is possible to prevent the light reflected and scattered inside the light from being emitted to the outside (that is, the viewing side).
  • the circularly polarizing plate 14 is formed by laminating a polarizing plate (polarizer) and a retardation plate via an adhesive layer or the like (not shown), and the polarizing plate is provided on the viewing side with respect to the retardation plate.
  • the phase difference plate is a transparent film that gives a predetermined phase difference to incident light. Examples of the retardation plate include a quarter wavelength plate or a combination of a quarter wavelength plate and a half wavelength plate.
  • a transparent uniaxially stretched polymer film such as polyvinyl alcohol, polycarbonate (PC), polysulfone, polystyrene, polyarylate, cycloolefin polymer (COP), cyclic olefin copolymer (COC), norbornene resin, etc.
  • PC polycarbonate
  • COP cycloolefin polymer
  • COC cyclic olefin copolymer
  • norbornene resin etc.
  • the polymer film constituting the retardation plate has a wavelength dependency of the refractive index, sufficient performance may not be obtained with one type of retardation plate for light having a wide wavelength region. For this reason, retardation films having different retardation values may be bonded to each other by shifting their optical axes to form a retardation plate in which a half-wave plate and a quarter-wave plate are combined in a wide wavelength range.
  • the polarizing plate is a film that converts incident light into linearly polarized light, and cannot pass through the polarizing plate when incident light is reflected inside the organic EL display due to the combination with the retardation plate. That is, the reflected light is not visually recognized.
  • the polarizing plate for example, a film obtained by uniaxially stretching a film such as polyvinyl alcohol (PVA) on which a dichroic dye such as iodine is adsorbed and imparting polarization can be used.
  • PVA polyvinyl alcohol
  • the protective layer a structure sandwiched between optically isotropic films such as triacetyl cellulose (TAC) is used.
  • the atomic layer deposition film 12 is formed on the back surface of the substrate 11 (the lower surface in FIG. 2A).
  • the circularly polarizing plate 14 is bonded to the surface of the base material 11 (the upper surface in FIG. 2A) via the adhesive layer 13.
  • the gas barrier optical film 10 includes a substrate 11, an atomic layer deposition film 12 (ALD film), an adhesive layer 13, a circularly polarizing plate 14, and an undercoat layer. 15 may be provided.
  • the undercoat layer 15 is disposed so as to cover the entire back surface of the substrate 11.
  • the undercoat layer 15 may be arrange
  • the undercoat layer 15 is arranged so that the back surface of the substrate 11 and the undercoat layer 15 are in contact with each other has been described as an example.
  • an adhesion layer (not shown) may be disposed between the base material 11 and the undercoat layer 15.
  • the adhesion layer is made of, for example, a resin layer containing an organic polymer.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view showing a third configuration example of the gas barrier optical film 10.
  • the gas barrier optical film 10 includes an overcoat layer 16 formed on the surface opposite to the surface facing the substrate 11 of the atomic layer deposition film 12 (the lower surface in FIG. 3). May be further provided.
  • the gas barrier optical film further includes a release film formed to be peelable on the surface opposite to the surface facing the substrate 11 of the atomic layer deposition film 12 (the lower surface in FIG. 3). May be.
  • FIG. 3 illustrates the case where the surface of the overcoat layer 16 is covered with the release film 17.
  • the overcoat layer 16 is a protective film that protects the atomic layer deposition film 12. It is possible to prevent the atomic layer deposited film from being damaged during the processing or transportation of the gas barrier optical film, thereby impairing the barrier property.
  • the overcoat layer 16 may be a layer containing an inorganic material similar to the undercoat layer 15 or may be a layer containing an organic material.
  • the overcoat layer 16 can be formed by a PVD method or a CVD method when an inorganic material is included, and a bar coat method, a spin coat method, a spray coat method, or a die coat method when an organic material is included. Or the like.
  • a sheet-like overcoat layer may be laminated.
  • the overcoat layer 16 may be a layer obtained by dry laminating a plastic film.
  • the overcoat layer 16 is formed from an uncured thermosetting resin or an active energy ray curable resin. It is possible to directly form an uncured thermosetting resin or active energy ray curable resin on the atomic layer deposition film 12, and an overcoat produced in a separate process may be bonded by dry lamination or the like.
  • the release film 17 is a protective film that protects the surface of the atomic layer deposition film 12 opposite to the surface facing the substrate 11. It is possible to prevent the atomic layer deposited film from being damaged during the processing or transportation of the gas barrier optical film and the barrier property from being impaired, or the overcoat layer from being damaged and the optical properties from being impaired.
  • the release film 17 covers and protects the surface of the overcoat layer 16.
  • the release film 17 has a base material and an adhesive provided on one surface of the base material. The adhesive of the release film 17 is adhered to a film to be protected such as the atomic layer deposition film 12 or the overcoat layer 16.
  • the substrate may be paper or a resin film.
  • the paper include fine paper and kraft paper.
  • the resin film include a polyethylene terephthalate (PET) film.
  • the pressure-sensitive adhesive may be a silicone-based pressure-sensitive adhesive containing silicone or a non-silicone-based pressure-sensitive adhesive not containing silicone.
  • the atomic layer deposition film 12 is formed on the back surface of the substrate 11 (the lower surface in FIG. 3), and then the overcoat layer 16 is formed. Further, a release film 17 is attached to the overcoat layer 16. Before and after this, the circularly polarizing plate 14 is attached to the surface of the base material 11 (the upper surface in FIG. 3) via the adhesive layer 13.
  • FIG. 4 is a cross-sectional view showing a fourth configuration example of the gas barrier optical film 10.
  • Hard coat layer 18 As shown in FIG. 4, the gas barrier optical film 10 further includes a hard coat layer 18 formed on the surface opposite to the surface facing the substrate 11 of the circularly polarizing plate 14 (upper surface in FIG. 4). It may be. The upper surface of the circularly polarizing plate 14 is protected by the hard coat layer 18 formed on the upper surface of the circularly polarizing plate 14.
  • a material used for the hard coat layer 18 a material having visible light permeability can be used.
  • various transparent resins such as acrylic resins such as acrylic esters, acrylamides, methacrylic esters, and methacrylamides, organic silicon resins, and thermosetting polysiloxane resins are used as the material of the hard coat layer 18. It's okay.
  • the formation method of the hard coat layer 18 can be performed by a thin film formation method corresponding to the formation material of the hard coat layer 18.
  • the hard coat layer 18 is prepared by, for example, dissolving a resin as described above, which is a main component, and a material that absorbs ultraviolet rays in a solvent to prepare a coating solution, and using this coating solution as a die coater, curtain flow coater, or roll coater.
  • a reverse roll coater, a gravure coater, a knife coater, a bar coater, a spin coater, a micro gravure coater or the like may be applied to the substrate 11 and the coating film may be cured by irradiation with ultraviolet rays or the like.
  • the thickness of the hard coat layer 18 is, for example, 1 ⁇ m or more and 10 ⁇ m or less. However, the thickness of the hard coat layer 18 is not limited to this range. Further, the hard coat layer 18 may be provided on both surfaces of the circularly polarizing plate 14. Although not shown, the gas barrier optical film 10 may further include a release film that covers the upper surface of the hard coat layer 18. This release film may have the same composition as the release film 17 shown in FIG.
  • FIG. 5 is a cross-sectional view showing a fifth configuration example of the gas barrier optical film 10.
  • the gas barrier optical film 10 may further include a hard coat layer 19 formed between the base material 11 and the undercoat layer 15.
  • the hard coat layer 19 is formed on the back surface (the lower surface in FIG. 5) of the base material 11 to improve the mechanical strength, abrasion resistance, etc. of the base material 11, during processing and during transportation. The substrate can be prevented from being damaged.
  • the hard coat layer 19 may have the same composition as the hard coat of the circularly polarizing plate 14 or a different composition. Moreover, the formation method may be the same or different.
  • the hard coat layer 19 may be provided with antiglare properties and low reflectivity. It may be formed on both surfaces of the substrate 11.
  • the atomic layer deposition film 12 is formed on the back surface of the substrate 11 (the lower surface in FIG. 5), and then the overcoat layer 16 is formed. Also good. Further, before and after this, the circularly polarizing plate 14 may be attached to the surface of the base material 11 (the upper surface in FIG. 5) via the adhesive layer 13.
  • the first embodiment of the present invention has the following effects.
  • the atomic layer deposition film 12 is a thin single layer and has a high barrier property (10 ⁇ 4 to 10 ⁇ 6 g / (m 2 ⁇ day)). For this reason, the gas barrier layer in the gas barrier optical film can be made thinner (or the number of layers can be reduced), leading to process reduction and cost reduction.
  • the undercoat layer 15 has the effect of increasing the adsorption sites of the precursor that forms the atomic layer deposition film 12. Efficient and dense film formation is possible compared to direct film formation on the hard coat layer. It is preferable to adjust the difference in refractive index with the atomic layer deposition film 12, and in that case, the optical characteristics can be maintained high. However, if the hard coat layer 19 has sufficient adsorption sites for the precursor that forms the atomic layer deposition film 12, the undercoat layer 15 need not be provided.
  • the water vapor transmission rate of the gas barrier optical film 10 can be, for example, 0.01 g / (m 2 ⁇ day) or less.
  • the gas barrier optical film 10 can be used as a protective film for an electronic member such as an organic EL element.
  • the atomic layer deposition film 12 As a gas barrier layer, it is not necessary to form a multilayer film so that the water vapor transmission rate of the barrier film is, for example, 0.01 g / (m 2 ⁇ day) or less.
  • the number of laminated gas barrier optical films can be reduced. Thereby, the process reduction of a gas barrier optical film, cost reduction, and the improvement of a light transmittance can be aimed at.
  • FIG. 6 is a cross-sectional view showing a first configuration example of the gas barrier optical film 20 according to the second embodiment of the present invention.
  • the gas barrier optical film 20 includes a substrate 11, an atomic layer deposition film 12 (ALD film), an adhesive layer 13, a circularly polarizing plate 14, and a substrate of the atomic layer deposition film 12.
  • ALD film atomic layer deposition film
  • an adhesive layer 13 a circularly polarizing plate 14
  • 11 and a pressure-sensitive adhesive layer (second pressure-sensitive adhesive layer) 21 formed on the opposite surface (the lower surface in FIG. 6) side of the surface facing 11.
  • FIG. 6 illustrates the case where the adhesive layer 21 is directly formed on the lower surface of the atomic layer deposition film 12, the adhesive layer is interposed on the sealing layer when bonded to the organic EL element. If the gas barrier optical film can be bonded, an adhesive layer may be formed on the sealing layer side.
  • the pressure-sensitive adhesive layer 21 may be a pressure-sensitive adhesive sheet or a layer coated with a pressure-sensitive adhesive. Moreover, although the kind of the adhesion layer 21 is not particularly limited, for example, an adhesive or an adhesive sheet described below can be used as the adhesion layer 21.
  • the pressure-sensitive adhesive used as pressure-sensitive adhesive layer 21 is a photocurable adhesive resin or a thermosetting adhesive resin made of epoxy resin, acrylic resin, silicone resin, or the like. Cured with isocyanate curing agents to two-component curable adhesive resins, thermoplastic adhesive resins made of acid-modified products such as polyethylene and polypropylene, and main components with hydroxyl groups such as rubber, silicone, acrylic and urethane. The method to make is mentioned. Of these, one obtained by polymerizing and curing one-component or two-component reactive polyurethane resin and trifunctional isocyanate is preferable.
  • the processing is preferably a dry laminating method, and as a coating method, a gravure coater, a dip coater, a reverse coater, a wire bar coater, a die coater or the like can be used.
  • the pressure-sensitive adhesive used for the pressure-sensitive adhesive layer 21 may contain a hygroscopic agent or a curable hygroscopic agent.
  • the curable moisture absorbent is a mixture of a moisture absorbent and a curing agent.
  • the content of the hygroscopic agent (compound) in the curable hygroscopic agent is preferably 20% by mass or more and 80% by mass or less, more preferably 25% by mass or more and 60% by mass or less when the total mass is 100% by mass. is there. When the content of the hygroscopic agent is in the above range, the action of capturing moisture can be effectively expressed in the curable hygroscopic agent.
  • the hygroscopic agent may contain an organometallic compound having a structural unit represented by the following general formula (i). -[Al (OR) -O] n- (i)
  • R represents a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group or alkylcarbonyl group.
  • n represents an integer of 2 to 6.
  • a plurality of R may be the same or different, and may have a linear, cyclic or branched chain.
  • the carbon number of R is preferably 5 to 30, more preferably 6 to 20, and particularly preferably 7 to 18.
  • One of the functions of the compound having the structural unit represented by the general formula (1) is that the Al—OR bond present in the compound reacts with moisture to absorb moisture. By using such a compound, a hygroscopic agent excellent in hygroscopic performance can be obtained.
  • thermosetting agent a thermosetting agent or an ultraviolet curing agent can be used.
  • the thermosetting agent contains a curable monomer and an initiator.
  • the curable monomer is not particularly limited as long as it is a compound having translucency and having one or more polymerizable reactive groups in the molecule. Examples of such a polymerizable reactive group include a (meth) acryloyl group, a vinyl group, and a vinyl ether group, and a (meth) acryloyl group is more preferable.
  • the initiator is not particularly limited as long as it can be decomposed by heating to generate active species capable of polymerizing the above curable monomer.
  • the ultraviolet curing agent includes a translucent monomer and a photopolymerization initiator.
  • a monofunctional to trifunctional or higher polyfunctional acrylate (acrylic ester) or a monofunctional to trifunctional or higher polyfunctional methacrylate (methacrylic ester) can be used.
  • about an acrylate and a methacrylate only any one may be used and it is also possible to mix and use it suitably.
  • the photopolymerization initiator is preferably colorless and transparent, but it may be added in an amount of 1 to 3% by mass. Therefore, even if there is a color, there is no particular problem because the cured product obtained after ultraviolet irradiation becomes transparent.
  • the pressure-sensitive adhesive sheet used as the pressure-sensitive adhesive layer 21 may be either a single layer or a laminated structure.
  • an adhesive sheet having a structure in which a first organic sheet layer, a hygroscopic substance, and a second organic sheet layer are laminated may be used as the adhesive layer 21.
  • each of the 1st organic sheet layer and the 2nd organic sheet layer may be formed with the hardened
  • the thicknesses of the first organic sheet layer and the second organic sheet layer are preferably thicker (larger) than the particle diameter (average particle diameter) of the hygroscopic substance.
  • each of the values of the film thickness of the first organic sheet layer and the film thickness of the second organic sheet layer is preferably set to a value equal to or greater than the average particle diameter of the hygroscopic substance. If each value of the film thickness of the first organic sheet layer and the film thickness of the second organic sheet layer is a value equal to or larger than the average particle diameter of the hygroscopic substance, the hygroscopic property is produced during the production of the organic EL display described later. The possibility that the substance presses the cathode of the organic EL element can be reduced, and the possibility that a part of the cathode is pushed by the hygroscopic substance to come into contact with the anode (that is, short-circuit) can be reduced.
  • the first organic sheet layer and the second organic sheet layer may have the same thickness or different thicknesses.
  • the thickness of the first organic sheet layer is thicker than the thickness of the second organic sheet layer ( That is, it is desirable that the thickness of the first organic sheet layer> the thickness of the second organic sheet layer). This is likely to further reduce the possibility that the hygroscopic substance presses the cathode of the organic EL element.
  • a chemical hygroscopic substance or a physical hygroscopic substance can be used as the hygroscopic substance sandwiched between the first organic sheet layer and the second organic sheet layer. More specifically, the hygroscopic substance may be a hygroscopic substance containing at least one of a chemical hygroscopic substance and a physical hygroscopic substance.
  • Examples of the chemical hygroscopic substance include diphosphorus pentoxide (P 2 O 5 ), calcium oxide (CaO), and barium oxide (BaO).
  • Examples of the physical hygroscopic substance include aluminum oxide (Al 2 O 3 ), zeolite (alumina silicate), silica gel, activated alumina, and the like.
  • the particle diameter (average particle diameter) of the hygroscopic substance is 0.01 to 1000 ⁇ m, desirably 0.1 to 100 ⁇ m.
  • the content of the hygroscopic substance is 1 to 90% by mass, preferably 15 to 65% by mass.
  • One or several types of chemical hygroscopic substances can be used.
  • one or several physical hygroscopic substances can be used.
  • the first organic sheet layer and the second organic sheet layer preferably do not transmit water vapor as much as possible, and the water vapor transmission rate is desirably less than 10 g / (m 2 ⁇ day). Even if water vapor enters the first organic sheet layer and the second organic sheet layer, the water vapor is embedded in the first organic sheet layer and the second organic sheet layer. To absorb moisture.
  • a product that can be used as the adhesive layer 21 is illustrated below.
  • the adhesion layer 21 is not limited to the following commercial items. ⁇ Siden Chemical Co., Ltd. “OC-3405” ⁇ Mitsui Chemicals Co., Ltd. “XMF-T” ⁇ Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd. “Maxive” ⁇ Tesa “61500 ⁇ 61501” -Daicel Corporation “CELVENUS” ⁇ Sekisui Chemical Co., Ltd. “Photorec E” ⁇ DIC Corporation "PASLIM"
  • the atomic layer deposition film 12 is formed on the back surface of the substrate 11 (the lower surface in FIG. 6), and then the adhesive layer 21 is formed. Further, before and after this, the circularly polarizing plate 14 is bonded to the surface of the base material 11 (the upper surface in FIG. 6) via the adhesive layer 13.
  • FIG. 7 is a cross-sectional view showing a second configuration example of the gas barrier optical film 20.
  • the gas barrier optical film 20 may further include an undercoat layer 15 made of an inorganic material formed between the base material 11 and the atomic layer deposition film 12.
  • the undercoat layer 15 is formed on the back surface of the substrate 11 (the lower surface in FIG. 7), then the atomic layer deposition film 12 is formed, and then the adhesive layer 21 is formed.
  • the circularly polarizing plate 14 is bonded to the surface of the base material 11 (the upper surface in FIG. 7) via the adhesive layer 13.
  • FIG. 8 is a cross-sectional view showing a third configuration example of the gas barrier optical film 20.
  • the gas barrier optical film 20 includes an overcoat layer 16 formed on the surface opposite to the surface facing the substrate 11 of the atomic layer deposition film 12 (the lower surface in FIG. 8), May be further provided.
  • the gas barrier optical film 20 includes a release film 17 formed so as to be peelable on the surface opposite to the surface facing the substrate 11 of the atomic layer deposition film 12 (the lower surface in FIG. 8). Further, it may be provided.
  • the peeling film 17 has covered the surface of the adhesion layer 21 is illustrated.
  • the atomic layer deposition film 12 is formed on the back surface of the base material 11 (the lower surface in FIG. 8), then the overcoat layer 16 is formed, and the adhesive layer 21 is further formed. Then, the release film 17 is attached to the adhesive layer 21. Before and after this, the circularly polarizing plate 14 is attached to the surface of the base material 11 (the upper surface in FIG. 8) via the adhesive layer 13.
  • FIG. 9 is a cross-sectional view showing a fourth configuration example of the gas barrier optical film 20.
  • the gas barrier optical film 20 further includes a hard coat layer 18 formed on the surface opposite to the surface facing the substrate 11 of the circularly polarizing plate 14 (the upper surface in FIG. 9). It may be.
  • the upper surface of the circularly polarizing plate 14 is protected by the hard coat layer 18 formed on the upper surface of the circularly polarizing plate 14.
  • the hard coat layer 18 may have hard coat properties, antiglare properties, low reflectivity, and the like.
  • the gas barrier optical film 20 may further include a release film that covers the upper surface of the hard coat layer 18.
  • the atomic layer deposition film 12 is formed on the back surface of the substrate 11 (the lower surface in FIG. 9), and the adhesive layer 21 is further formed. Also, before and after this, a circularly polarizing plate 14 was attached to the surface of the base material 11 (the upper surface in FIG. 9) via an adhesive layer 13, and a hard coat layer 18 was formed on the circularly polarizing plate 14. Form.
  • FIG. 10 is a cross-sectional view illustrating a fifth configuration example of the gas barrier optical film 20.
  • the gas barrier optical film 20 may further include a hard coat layer 19 formed between the base material 11 and the undercoat layer 15.
  • the hard coat layer 19 is formed on the lower surface of the substrate 11 and improves the mechanical strength, abrasion resistance, and the like of the substrate 11.
  • the hard coat layer 19 is formed on the back surface of the substrate 11 (the lower surface in FIG. 10), then the undercoat layer 15 is formed, and then the atomic layer deposition film 12 is formed.
  • an adhesive layer 21 is formed. Before and after this, the circularly polarizing plate 14 is attached to the surface of the base material 11 (the upper surface in FIG. 10) via the adhesive layer 13.
  • the second embodiment has the same effects as the first embodiment. Moreover, in addition to the effect of 1st Embodiment, there exist the following effects.
  • (6.1) The pressure-sensitive adhesive layer 21 is already formed on the gas barrier optical film 20. For this reason, it is not necessary for a panel manufacturer or the like to apply an adhesive or attach an adhesive sheet in order to bond the gas barrier optical film 20 to the organic EL element.
  • the pressure-sensitive adhesive layer 21 functions as a protective layer for protecting the atomic layer deposition film 12 until immediately before bonding to the organic EL element (for example, during transportation), and also functions as an adhesive layer when bonding the organic EL element. . Therefore, it is possible to reduce processes in panel manufacturers and the like.
  • the pressure-sensitive adhesive layer 21 has a barrier property, end face leakage from the side surface side of the organic EL element can be suppressed.
  • the organic EL element is likely to be deteriorated due to the influence of moisture and oxygen in the atmosphere, but the adhesion layer 21 covers the organic EL element, so that entry of moisture from the outside can be blocked.
  • FIG. 11 is a cross-sectional view showing a first configuration example of an organic EL display 50 according to the third embodiment of the present invention.
  • the organic EL display 50 includes the gas barrier optical film 10 (excluding the release film) described in the first embodiment, the organic EL element 30, the organic EL element 30, and the gas barrier optical.
  • An adhesive layer 21 that bonds the film 10 is provided.
  • the organic EL display 50 may be configured to include the gas barrier optical film 20 described in the second embodiment and the organic EL element 30 attached to the adhesive layer 21 side of the gas barrier optical film 20.
  • the organic EL element 30 includes a support substrate 31, an element body 32 formed on one surface of the support substrate 31 (upper surface in FIG. 11), and an element body 32 formed on one surface of the support substrate 31. And a sealing layer 33 that seals.
  • the sealing layer 33 is made of an inorganic film, for example.
  • the element body 32 has a structure in which a TFT element, an anode, an organic EL layer, and a cathode are laminated in this order from the support substrate 31 side.
  • the sealing layer 33 of the organic EL element 30 is attached to the surface side closer to the base material 11 than the circularly-polarizing plate 14 among both surfaces of the gas barrier optical film. It has been.
  • the surface and side surfaces of the sealing layer 33 are covered with the adhesive layer 21.
  • the organic EL display 50 may further include a cover glass 42 attached to the circularly polarizing plate 14 via the adhesive layer 41, for example, as a part of the gas barrier optical film. Moreover, although not shown in figure, this organic EL display 50 may further be provided with the touchscreen layer provided in the surface side facing the adhesion layer 41 of the cover glass 42, for example as a part of gas-barrier optical film. Below, the adhesion layer 41, the cover glass 42, and a touch panel layer are demonstrated.
  • Adhesive layer 41 The adhesive layer 41 is provided between the circularly polarizing plate 14 and the cover glass 42, and has a function of bonding the circularly polarizing plate 14 and the cover glass 42.
  • a photo-curing adhesive resin, a thermosetting adhesive resin, a two-component curable adhesive resin made of an epoxy resin, an acrylic resin, a silicone resin, or the like, or an acid-modified product such as polyethylene or polypropylene A method of curing a thermoplastic adhesive resin composed of a main component having a hydroxyl group such as rubber, silicone, acrylic and urethane with an isocyanate curing agent is used.
  • the processing is preferably a dry laminating method, and as a coating method, a gravure coater, a dip coater, a reverse coater, a wire bar coater, a die coater or the like can be used.
  • the adhesive layer 41 may contain a curable hygroscopic agent.
  • the content of the curable hygroscopic agent in the adhesive layer 41 is preferably 5% by mass or more and 60% by mass or less, more preferably 10% by mass or more and 45% by mass or less, when the total mass is 100% by mass. It is.
  • the curable moisture absorbent is a mixture of a moisture absorbent and a curing agent.
  • the content of the hygroscopic agent (compound) in the curable hygroscopic agent is preferably 20% by mass or more and 80% by mass or less, more preferably 25% by mass or more and 60% by mass or less when the total mass is 100% by mass. is there. When the content of the hygroscopic agent is within this range, the action of capturing moisture can be effectively expressed in the curable hygroscopic agent.
  • the cover glass 42 is a front plate serving as the outermost surface, and is reinforced with aluminosilicate glass containing at least one kind of alkali metal oxide selected from SiO 2 , Al 2 O 3 , Li 2 O and Na 2 O. The processed one is used. Moreover, the cover glass 42 may be comprised with the resin base material.
  • the touch panel sensor (touch panel layer) includes a lead-out wiring, two transparent electrodes for the X direction and Y direction, and an insulating layer between the two transparent electrodes.
  • the touch panel sensor is attached to the cover glass 42 via a transparent pressure-sensitive adhesive sheet (Optical Clear Adhesive; OCA) or the like.
  • OCA Optical Clear Adhesive
  • the arrangement position of the touch panel sensor is not limited to the above, and may be provided anywhere on the sealing layer 33 (FIGS. 11 to 13) and below the cover glass.
  • FIG. 12 is a cross-sectional view showing a second configuration example of the organic EL display 50.
  • the atomic layer deposition film 12 may be formed between the base material 11 and the adhesive layer 13 instead of between the base material 11 and the adhesive layer 21. That is, the atomic layer deposition film 12 may be formed not on the back surface of the substrate 11 but on the front surface.
  • FIG. 13 is a cross-sectional view showing a third configuration example of the organic EL display 50.
  • the atomic layer deposition film 12 may be formed between the base material 11 and the adhesive layer 21 and between the base material 11 and the adhesive layer 13. That is, the atomic layer deposition film 12 may be formed on both surfaces of the substrate 11.
  • the third embodiment has the same effects as the first and second embodiments. In addition to the effects of the first and second embodiments, the following effects are achieved.
  • (4.1) In order to further promote the spread of the organic EL display 50, there is a demand for a reduction in production cost and a reduction in the number of processes. For example, when the sealing layer 33 has a laminated structure, the greater the number of laminated layers, the larger the number of steps, which increases the manufacturing cost. For example, when the sealing layer 33 has a three-layer structure of inorganic layer (SiN) / organic layer / inorganic layer (SiN), it is necessary to form these three layers by the CVD method or the like, and the number of steps is large.
  • the atomic layer deposition film 12 having a high gas barrier property even though it is thin is used for the gas barrier optical film covering the sealing layer 33.
  • the number of layers of the sealing layer 33 can be reduced, and the number of steps can be reduced.
  • the number of steps of the organic EL display 50 can be reduced, and the production cost can be reduced.
  • the organic EL display 50 requires the base material 11 and the circularly polarizing plate 14.
  • the organic EL display 50 in which these layers are laminated tends to be thick.
  • each embodiment of the present invention has the atomic layer deposition film 12 as a gas barrier layer of a gas barrier optical film. For this reason, it is possible to reduce the number of laminated sealing layers while maintaining the gas barrier property of the organic EL display, and it is possible to shorten the passage distance of light emitted from the organic EL element. Therefore, the organic EL display 50 can be thinned and the light transmittance can be improved.
  • FIG. 14 is a cross-sectional view showing a configuration example of an organic EL display according to Example 1 of the invention.
  • the organic EL display according to Example 1 includes an organic EL element (support substrate 31, element body 32, and sealing layer 33) and a gas barrier optical film (base material 11, atomic layer deposition film 12). , Adhesive layer 13 and circularly polarizing plate 14), and adhesive layer 21 for joining the organic EL element and the gas barrier optical film.
  • FIG. 15 is a cross-sectional view illustrating a configuration example of an organic EL display according to a reference example.
  • the organic EL display includes an organic EL element (support substrate 31, element body 32 and sealing layer 330), a gas barrier optical film (base material 11, atomic layer deposition film 12, adhesive layer 13 and A circularly polarizing plate 14), and an adhesive layer 21 for joining the organic EL element and the gas barrier optical film.
  • the sealing layer 330 is a film having a three-layer structure in which an inorganic layer 331, an organic layer 332, and an inorganic layer 333 are stacked in this order.
  • Example 1 ⁇ Production of gas barrier optical film> [Production of Substrate 11] -Production of resin pellet A-
  • the temperature of the esterification reactor was raised to 200 ° C.
  • 86.4 parts by mass of terephthalic acid and 64.6 parts by mass of ethylene glycol were charged and 0.017 parts by mass of antimony trioxide as a catalyst while stirring.
  • 0.064 parts by mass of magnesium acetate tetrahydrate and 0.16 parts by mass of triethylamine were charged.
  • the pressure was raised and the pressure esterification reaction was carried out under the conditions of gauge pressure 0.34 MPa and 240 ° C., then the esterification reaction can was returned to normal pressure, and 0.014 parts by mass of phosphoric acid was added.
  • the obtained polyethylene terephthalate resin had an intrinsic viscosity of 0.62 dl / g and contained substantially no inert particles and internally precipitated particles. (Hereinafter referred to as PET resin pellet A)
  • resin pellet B Production of resin pellet B- Mix 10 parts by weight of the dried UV absorber (2,2 ′-(1,4-phenylene) bis (4H-3,1-benzoxazinon-4-one) and 90 parts by weight of PET resin A containing no particles. Using a kneading extruder, polyethylene terephthalate resin B containing an ultraviolet absorber was obtained (hereinafter referred to as PET resin pellet B).
  • the unstretched film on which this coating layer was formed was guided to a tenter stretching machine, and the film was guided to a hot air zone at a temperature of 125 ° C. while being gripped by a clip, and stretched 4.0 times in the width direction.
  • the substrate is treated at a temperature of 225 ° C. for 30 seconds and further subjected to a relaxation treatment of 3% in the width direction to be a uniaxially oriented PET film having a film thickness of about 40 ⁇ m. 11 was obtained.
  • the biaxial refractive index anisotropy ( ⁇ Nxy) was determined by the following method.
  • the orientation axis direction of the film is obtained, and a 4 cm ⁇ 2 cm rectangle is cut out so that the orientation axis direction becomes the long side, for measurement
  • a sample was used.
  • the biaxial refractive index (nx, ny) perpendicular to each other and the refractive index (Nz) in the thickness direction were measured using an Abbe refractometer (NAR-4T, manufactured by Atago Co., Ltd., measurement wavelength 589 nm).
  • ) of the difference between the biaxial refractive indexes was defined as the refractive index anisotropy ( ⁇ Nxy).
  • the thickness d (nm) of the film was measured using an electric micrometer (manufactured by Fine Reef, Millitron 1245D), and the unit was converted to nm.
  • Retardation (Re) was determined from the product ( ⁇ Nxy ⁇ d) of refractive index anisotropy ( ⁇ Nxy) and film thickness d (nm). The results are shown in Table 1. Thereafter, using an ALD method, an atomic layer was grown on the surface of the substrate 11 one by one to form an ALD layer 12 having a thickness of 15 nm, whereby the gas barrier optical film of Example 1 was obtained.
  • Example 2 A gas barrier optical film of Example 2 was produced in the same manner as in Example 1 except that the undercoat layer 15 was formed between the substrate 11 and the ALD layer 12.
  • Example 3 A gas barrier optical film of Example 3 was produced in the same manner as in Example 1 except that a substrate 11 having a retardation of 4000 was prepared.
  • Example 4 A gas barrier optical film of Example 4 was produced in the same manner as in Example 1 except that a substrate 11 having a thickness of 150 ⁇ m and a retardation of 30000 was prepared.
  • Example 5 A gas barrier optical film of Example 5 was produced in the same manner as in Example 1 except that a substrate 11 having a thickness of 100 ⁇ m and a retardation of 7000 was prepared.
  • Example 6 A gas barrier optical film of Example 6 was produced in the same manner as in Example 1 except that the substrate 11 described in Example 2 was processed so that the Nz coefficient was 1.7.
  • Example 7 A gas barrier optical film of Example 7 was produced in the same manner as in Example 1 except that the substrate 11 described in Example 2 was processed so that the Nz coefficient was 1.3.
  • Example 8 A gas barrier optical film of Example 8 was produced in the same manner as in Example 1 except that a substrate 11 having a thickness of 100 ⁇ m and a retardation of 20000 was prepared.
  • Comparative Example 1 A gas barrier optical film of Comparative Example 1 was produced in the same manner as in Example 1 except that a COP film was used as the substrate 11 instead of a PET film.
  • the gas barrier optical films of Examples 1 and 2 have a gas barrier property secured as compared with the gas barrier optical film of Comparative Example 1, while “stretch resistance” and “flex resistance”. It was confirmed that the mechanical strength such as “ability” was greatly inferior. Therefore, according to the present invention, it is possible to provide a gas barrier optical film and an organic EL display with favorable visibility and mechanical strength while maintaining high gas barrier properties.

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Abstract

ガスバリア性を高く保持しつつ、視認性及び機械的強度が好適なガスバリア性光学フィルム及び有機ＥＬディスプレイを提供する。本実施形態に係るガスバリア性光学フィルム（１０）は、面内リタデーションが４０００ｎｍ以上、３００００ｎｍ以下である基材（１１）と、基材（１１）の一方の面に形成された原子層堆積膜（１２）と、を備える。また、基材（１１）の原子層堆積膜（１２）と向かい合う面とは反対の面側に積層された円偏光板（１４）や、基材（１１）と原子層堆積膜（１２）との間に形成された無機材料からなるアンダーコート層（１５）や、原子層堆積膜（１２）の基材（１１）と向かい合う面とは反対の面側に形成されたオーバーコート層（１６）や、原子層堆積膜（１２）の基材（１１）と向かい合う面とは反対の面側に剥離可能に形成された剥離フィルム（１７）、をさらに備えてもよい。

Description

ガスバリア性光学フィルム及び有機ＥＬディスプレイ
　本発明は、ガスバリア性光学フィルム及び有機ＥＬディスプレイに関し、特に、原子層堆積層を備えるガスバリア性光学フィルムと、このガスバリア性光学フィルムを用いた有機ＥＬディスプレイに関する。
　近年、有機半導体技術を利用した有機ＥＬディスプレイ、有機ＥＬ照明、有機太陽電池、電子ペーパーなどの次世代デバイスの開発が進められ、一部では実用化されている。これらのデバイスの基本構成となる素子は、精密な構造を有しかつ外部から影響の受けやすい材料で形成される。このため、例えば微量あるいは極微量の水分や酸素の影響で構造や材料の劣化が生じ、デバイスの機能が低下することがある。これに対応するため、例えば、有機ＥＬ素子の劣化に対しては、素子を空気から遮断する封止効果に優れ、防湿性が高く、光透過性を有するガラス基材により挟持する構造が採用されている。
　しかし、ガラス基材を用いた構造は、ガラスの取扱い難さ、その厚さや重さが課題となる。それゆえ、急速に市場拡大しているモバイル機器等への展開に対する要求から、ガラス基材等に代わって、透明ガスバリア性フィルムを用いることが検討されてきている。例えば、高い水蒸気バリア性を達成するために、プラスチックフィルム基材上に緻密な無機材料の薄膜からなるガスバリア層を形成したガスバリア性フィルムや、無機材料の脆弱性を補うために有機材料と無機材料とを積層形成した複合ガスバリア層を持つガスバリア性フィルムなどが開発されてきた。
　例えば、特許文献１には、フィルム基材の側から無機物を含む第１のバリア層と、ポリシラザンを塗布して形成される第２のバリア層と、を含むガスバリア性フィルムが開示されている。
国際公開第２０１３／１６１８９４号
　ところで、有機ＥＬディスプレイにおいても、画像の高輝度・高精細化と合わせて、薄型化の要求が高まっている。有機ＥＬディスプレイを薄型化することにより、デザイン性を向上させることが可能となる。また、薄型化により、フレキシブル性を高めることも可能となる。その場合は、有機ＥＬディスプレイの応用先が増えて、さらなる需要の拡大にもつながる可能性がある。
　ここで、ガスバリア性フィルムの基材には、視認性の確保のために低い面内リタデーションを呈するＣＯＰ（シクロオレフィンポリマー）が主に用いられる。しかし、ＣＯＰは脆いため、フレキシブル性を含めた高い機械的強度が有機ＥＬディスプレイに求められた場合にはガスバリア性フィルムに改善の余地があった。
　そこで本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、ガスバリア性を高く保持しつつ、視認性及び機械的強度が好適なガスバリア性光学フィルム及び有機ＥＬディスプレイを提供することを目的とする。
　上記課題を解決するため、本発明者が鋭意検討を重ねた結果、ガスバリア性光学フィルムの基材としては、少なくとも延伸されて高い面内リタデーションを呈するフィルムが視認性の点でも機械的強度の点でも好適であることを知見した。
　本発明は、本発明者による上記知見に基づくものであり、本発明の一態様に係るガスバリア性光学フィルムは、面内リタデーションが４０００ｎｍ以上３００００ｎｍ以下の範囲内である基材と、上記基材の表面及び裏面の一方に形成された原子層堆積膜と、を備える。
　また、本発明の一態様に係る有機ＥＬディスプレイは、上記のガスバリア性光学フィルムと、粘着層と、封止層が取り付けられた有機ＥＬ素子と、を備える。
　本発明の一態様によれば、ガスバリア性を高く保持しつつ、視認性及び機械的強度が好適なガスバリア性光学フィルム及び有機ＥＬディスプレイを提供することができる。
本発明の第１実施形態に係るガスバリア性光学フィルム１０の第１の構成例を示す断面図であり、（ａ）は基材と原子層堆積膜とを有するガスバリア性光学フィルム１０の断面図、（ｂ）は基材と原子層堆積膜とアンダーコート層とを有するガスバリア性光学フィルム１０の断面図である。 ガスバリア性光学フィルム１０の第２の構成例を示す断面図であり、（ａ）は基材と原子層堆積膜と円偏光板とを有するガスバリア性光学フィルム１０の断面図、（ｂ）は基材と原子層堆積膜とアンダーコート層と円偏光板とを有するガスバリア性光学フィルム１０の断面図である。 ガスバリア性光学フィルム１０の第３の構成例を示す断面図である。 ガスバリア性光学フィルム１０の第４の構成例を示す断面図である。 ガスバリア性光学フィルム１０の第５の構成例を示す断面図である。 本発明の第２実施形態に係るガスバリア性光学フィルム２０の第１の構成例を示す断面図である。 ガスバリア性光学フィルム２０の第２の構成例を示す断面図である。 ガスバリア性光学フィルム２０の第３の構成例を示す断面図である。 ガスバリア性光学フィルム２０の第４の構成例を示す断面図である。 ガスバリア性光学フィルム２０の第５の構成例を示す断面図である。 本発明の第３実施形態に係る有機ＥＬディスプレイ５０の第１の構成例を示す断面図である。 有機ＥＬディスプレイ５０の第２の構成例を示す断面図である。 有機ＥＬディスプレイ５０の第３の構成例を示す断面図である。 本発明の実施例１に係る有機ＥＬディスプレイの構成例を示す断面図である。 参考例に係る有機ＥＬディスプレイの構成例を示す断面図である。
　以下、本発明の実施形態について、図面を用いて説明する。ただし、以下に説明する各図において相互に対応する部分には同一符号を付し、重複部分においては後述での説明を適宜省略する。また、本発明の実施形態は、本発明の技術的思想を具体化するための構成を例示するものであって、各部の材質、形状、構造、配置、寸法等を下記のものに特定するものでない。本発明の技術的思想は、請求の範囲に記載された請求項が規定する技術的範囲内において、種々の変更を加えることができる。
＜第１実施形態＞
　本発明の第１実施形態に係るガスバリア性光学フィルム１０について、複数の構成例を挙げて説明する。
（１）第１の構成例
　図１（ａ）は、本発明の第１実施形態に係るガスバリア性光学フィルム１０の第１の構成例を示す断面図である。図１（ａ）に示すように、このガスバリア性光学フィルム１０は、基材１１と、原子層堆積膜１２（ＡＬＤ膜）とを備える。
　また、基材１１の片面もしくは両面にハードコートなどのコート層を設けても良い。コート層を設けることで基材１１の表面の傷つき性が解消され、加工性が向上する。例えば、ハードコート層は第４の構成例で記述される組成であってもよい。
（１．１）基材１１
（１．１．１）リタデーション
　基材１１は、少なくとも延伸されることによる４０００ｎｍ以上３００００ｎｍ以下の範囲内の面内リタデーションを有する。この面内リタデーションは、波長４５０ｎｍ以上６５０ｎｍ以下の範囲内における面内リタデーションである。リタデーションが４０００ｎｍ未満では、有機ＥＬディスプレイを斜め方向から観察した時に干渉色を呈するため、良好な視認性を常に確保することができないためである。配向ポリエステルフィルムの好ましいリタデーションは４５００ｎｍ以上、次に好ましくは５０００ｎｍ以上、より好ましくは６０００ｎｍ以上、更に好ましくは８０００ｎｍ以上、より更に好ましくは１００００ｎｍ以上である。
　基材１１の面内リタデーションの上限は３００００ｎｍである。それ以上のリタデーションを有する基材を用いても更なる視認性の改善効果は実質的に得られず、リタデーションの上昇に伴ってフィルムの厚みも相当に厚くなり、工業材料としての取り扱い性が低下するためである。
　基材１１のリタデーションの値は、公知の方法に従って、２軸方向の屈折率と厚みを測定して求めることができる。また、例えば、ＫＯＢＲＡ－２１ＡＤＨ（王子計測機器株式会社）等の市販の自動複屈折測定装置を用いて測定することもできる。
（１．１．２）Ｎｚ係数
　基材１１は、｜ｎｙ－ｎｚ｜／｜ｎｙ－ｎｘ｜で表されるＮｚ係数が１．７以下であることが好ましい。Ｎｚ係数は次のようにして求めることができる。分子配向計（王子計測器株式会社製、ＭＯＡ－６００４型分子配向計）を用いて基材１１の配向軸方向を求め、配向軸方向とこれに直交する方向の二軸の屈折率（ｎｙ、ｎｘ、但しｎｙ＞ｎｘ）、及び厚さ方向の屈折率（ｎｚ）をアッベ屈折率計（アタゴ社製、ＮＡＲ－４Ｔ、測定波長５８９ｎｍ）によって求める。こうして求めたｎｘ、ｎｙ、ｎｚを、｜ｎｙ－ｎｚ｜／｜ｎｙ－ｎｘ｜で表される式に代入して、Ｎｚ係数を求めることができる。
　基材１１のＮｚ係数が１．７を超えると、有機ＥＬディスプレイを斜め方向から観察した際に、角度によっては虹斑が生じ得る場合がある。Ｎｚ係数はより好ましくは１．６５以下、さらに好ましくは１．６３以下である。Ｎｚ係数の下限値は、１．２である。これは、１．２未満のフィルムを得ることは製造技術的に難しく、フィルムの厚み斑が大きくなり、リタデーションの値がフィルム面内で不均一になる場合がある。また、フィルムの機械的強度を保つためには、Ｎｚ係数の下限値は１．３以上が好ましく、より好ましくは１．４以上、さらに好ましくは１．４５以上である。
（１．１．３）面内配向度
　基材１１の（ｎｘ＋ｎｙ）／２－ｎｚで表される面内配向度を特定値以下にすることにより、より確実にガスバリア性光学フィルムの基板としてポリエステルフィルムを用いた場合の虹斑を完全に解消することができる。ここで、ｎｘ、ｎｙ及びｎｚの値は、Ｎｚ係数と同様の方法で求められる。基板１１の面内配向度は０．１３以下が好ましく、より好ましくは０．１２５以下、さらの好ましくは０．１２以下である。面内配向度が０．１３以下にすることで、有機ＥＬディスプレイを斜め方向から観察した場合に角度によって観察される虹斑を完全に解消することができる。面内配向度は０．０８以上が好ましく、より好ましくは０．１０以上である。面内配向度が０．０８未満では、フィルムの厚み斑が大きくなり、リタデーション、Ｒｅ／Ｒｔｈ、及びＮｚ係数の値がフィルム面内で不均一になる場合がある。
（１．１．４）リタデーション比
　基材１１は、その面内リタデーション（Ｒｅ）と厚さ方向リタデーション（Ｒｔｈ）の比（Ｒｅ／Ｒｔｈ）が、０．８３以上であることが好ましく、０．８６以上がより好ましく、０．８８以上がさらに好ましい。上記リタデーションと厚さ方向リタデーションの比（Ｒｅ／Ｒｔｈ）が大きいほど、複屈折の作用は等方性を増し、観察角度による虹状の色斑の発生が生じ難くなるためである。完全な１軸性（１軸対称）フィルムでは上記リタデーションと厚さ方向リタデーションの比（Ｒｅ／Ｒｔｈ）は２となる。しかし、後述するように完全な１軸性（１軸対称）フィルムに近づくにつれ配向方向と直行する方向の機械的強度が著しく低下する。
　そこで、リタデーションと厚さ方向のリタデーションの比（Ｒｅ／Ｒｔｈ）の上限は、好ましくは１．２５以下、より好ましくは１．０５以下である。観察角度による虹状の色斑発生を完全に抑制するためには、上記リタデーションと厚さ方向位相差の比（Ｒｅ／Ｒｔｈ）が２である必要は無く、１．２５以下で十分である。また、上記比率が１．０５以下であっても、有機ＥＬディスプレイに求められる視野角特性を満足することは十分可能である。
　ここで、基材１１のＲｅ／Ｒｔｈのバラツキは１５％以下であることが好ましい。Ｒｅ／Ｒｔｈのバラツキが大きいと、円偏光板を作成したときに、円偏光板の偏光斑が生じる傾向にあることから好ましくない。より好ましいＲｅ／Ｒｔｈのバラツキは１２％以下であり、更に好ましくは１０％以下である。
（１．１．５）厚み
　基材１１の厚みは、本発明の効果を妨げない限り特に制限されないが、通常１５～３００μｍであり、好ましくは１５～２００μｍである。フィルム厚みが１５μｍ未満では、フィルムの力学特性の異方性が顕著となり、裂け、破れ等を生じる場合がある。特に好ましい厚みの下限は２５μｍである。
（１．１．６）材料
　基材１１は、配向ポリエステルフィルムであることが好ましく、任意のポリエステル樹脂から得ることができる。ポリエステル樹脂の種類は、特に制限されず、ジカルボン酸とジオールとを縮合させて得られる任意のポリエステル樹脂を使用することができる。
　ポリエステル樹脂の製造に使用可能なジカルボン酸成分としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、オルトフタル酸、２，５－ナフタレンジカルボン酸、２，６－ナフタレンジカルボン酸、１，４－ナフタレンジカルボン酸、１，５－ナフタレンジカルボン酸、ジフェニルカルボン酸、ジフェノキシエタンジカルボン酸、ジフェニルスルホンカルボン酸、アントラセンジカルボン酸、１，３－シクロペンタンジカルボン酸、１，３－シクロヘキサンジカルボン酸、１，４－シクロヘキサンジカルボン酸、ヘキサヒドロテレフタル酸、ヘキサヒドロイソフタル酸、マロン酸、ジメチルマロン酸、コハク酸、３，３－ジエチルコハク酸、グルタル酸、２，２－ジメチルグルタル酸、アジピン酸、２－メチルアジピン酸、トリメチルアジピン酸、ピメリン酸、アゼライン酸、ダイマー酸、セバシン酸、スベリン酸、ドデカジカルボン酸等が挙げられる。
　ポリエステル樹脂の製造に使用可能なジオール成分としては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキサメチレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，２－シクロヘキサンジメタノール、１，４－シクロヘキサンジメタノール、デカメチレングリコール、１，３－プロパンジオール、１，４－ブタンジオール、１，５－ペンタンジオール、１，６－ヘキサジオール、２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）プロパン、ビス（４－ヒドロキシフェニル）スルホン等が挙げられる。
　ポリエステル樹脂を構成するジカルボン酸成分とジオール成分は、いずれも１種又は２種以上を用いることができる。ポリエステルフィルムを構成する好適なポリエステル樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどが挙げられ、より好ましくはポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートを挙げることができるが、これらは更に他の共重合成分を含んでも良い。これらの樹脂は透明性に優れるとともに、熱的、機械的特性にも優れており、延伸加工によって容易にリタデーションを制御することができる。特に、ポリエチレンテレフタレートは固有複屈折が大きく、フィルムの厚みが薄くても比較的容易に大きなリタデーションが得られるので、最も好適な素材である。
（１．１．７）基材の製造方法
　基材１１としての配向ポリエステルフィルムは、一般的なポリエステルフィルムの製造方法に従って製造することができる。例えば、ポリエステル樹脂を溶融し、シート状に押出し成形された無配向ポリエステルをガラス転移温度以上の温度において、ロールの速度差を利用して縦方向に延伸した後、テンターにより横方向に延伸し、熱処理を施す方法が挙げられる。
　基材１１としての配向ポリエステルフィルムは一軸延伸フィルムでも、二軸延伸フィルムでも良いが、二軸延伸フィルムを基材１１として用いた場合、フィルム面の真上から観察しても虹状の色斑が見られないが、斜め方向から観察した時に虹状の色斑が観察される場合があるので注意が必要である。
　この現象は、二軸延伸フィルムが、走行方向、幅方向、厚さ方向で異なる屈折率を有する屈折率楕円体からなり、フィルム内部での光の透過方向によりリタデーションがゼロになる（屈折率楕円体が真円に見える）方向が存在するためである。従って、有機ＥＬディスプレイの画面を斜め方向の特定の方向から観察すると、リタデーションがゼロになる点を生じる場合があり、その点を中心として虹状の色斑が同心円状に生じることとなる。そして、フィルム面の真上（法線方向）から虹状の色斑が見える位置までの角度をθとすると、この角度θは、フィルム面内の複屈折が大きいほど大きくなり、虹状の色斑は見え難くなる。二軸延伸フィルムでは角度θが小さくなる傾向があるため、一軸延伸フィルムのほうが虹状の色斑は見え難くなり好ましい。
　しかしながら、完全な１軸性（１軸対称）フィルムでは配向方向と直交する方向の機械的強度が著しく低下するので好ましくない。本実施形態では、実質的に虹状の色斑を生じない範囲、又は有機ＥＬディスプレイに求められる視野角範囲において虹状の色斑を生じない範囲で、２軸性（２軸対象性）を有していることが好ましい。このような２軸対象性は、下記のような条件で配向ポリエステルフィルムを製造することで得られる。
　上述する特定の面内リタデーションを有する基材１１（配向ポリエステルフィルム）は、製膜時の条件（例えば、延伸倍率、延伸温度、フィルムの厚み等）を調節することにより得ることができる。例えば、延伸倍率が高いほど、延伸温度が低いほど、フィルムの厚みが厚いほど高いリタデーションが得られ易い。一方、延伸倍率が低いほど、延伸温度が高いほど、フィルムの厚みが薄いほど、低いリタデーションが得られ易い。
　具体的な製膜条件としては、例えば、縦延伸温度及び横延伸温度は、８０～１４５℃が好ましく、特に好ましくは９０～１４０℃である。縦延伸倍率は１．０～３．５倍が好ましく、特に好ましくは１．０倍～３．０倍である。ただし、縦延伸倍率が１．５倍～２．３倍の範囲は延伸斑が発生しやすく、フィルム厚み斑やリタデーション、Ｒｅ／Ｒｔｈのバラツキが悪化しやすくなることから、好ましくない。横延伸倍率は２．５～６．０倍が好ましく、特に好ましくは３．０～５．５倍である。
　リタデーションを上述する特定の範囲に制御するためには、縦延伸倍率と横延伸倍率の比率を制御することが好ましい。縦横の延伸倍率の差が小さすぎるとリタデーションを高くすることが難しくなり好ましくない。また、延伸温度を低く設定することもリタデーションを高くする上では好ましい。続く熱処理の温度は、１００～２５０℃が好ましく、特に好ましくは１８０～２４５℃である。
（１．２）原子層堆積膜１２
　原子層堆積膜１２は、ＡＬＤ（Ａｔｏｍｉｃ　Ｌａｙｅｒ　Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法によって基材１１の表面に形成された膜である。ここで、ＡＬＤ法は、表面吸着した物質を表面における化学反応によって原子レベルで一層ずつ成膜していく方法である。具体的には、ＡＬＤ法は、前駆体またはプリカーサともいわれる活性に富んだガスと、反応性ガスとを交互に用い、基材１１の表面における吸着とこれに続く化学反応とを交互に行うことによって、基材１１の表面に原子層を一層ずつ成長させていく成膜方法である。ＡＬＤ法は、真空蒸着法やスパッタリング法や一般的なＣＶＤ法と比較して、緻密であり成膜欠陥が少ない膜（つまり、ガスバリア性に優れた膜）を形成することができる。
　ＡＬＤ法の具体的な成膜方法は、以下のような手法で行われる。
　始めに、いわゆるセルフ・リミッティング効果を利用し、基材１１上に前駆体が一層のみ吸着したところで未反応の前駆体を排気する（第１のステップ）。ここで、セルフ・リミッティング効果とは、基材１１上の表面吸着において、表面がある種のガスで覆われると、それ以上、そのガスの吸着が生じない現象のことをいう。
　次いで、チャンバー内に反応性ガスを導入して、基材１１の表面に吸着している前駆体を酸化させて所望の組成を有する薄膜を一層のみ形成する。その後、反応性ガスを排気する（第２のステップ）。ＡＬＤ法では、上記第１及び第２のステップを１サイクルとし、このサイクルを繰り返し行うことで、基材１１上に薄膜を原子レベルで一層ずつ成膜する。
　本発明の各実施形態において、原子層堆積膜１２は、原子層堆積膜１２の成膜原料となる前駆体（例えば、ＴＭＡ：Ｔｒｉ－Ｍｅｔｈｙｌ　ＡｌｕｍｉｎｕｍやＴｒｉｓ-ｄｉ
ｍｅｔｈｙｌａｍｉｎｏｓｉｌａｎｅ等の金属含有前駆体）を含有すると共に、基材１１の表面に位置する前駆体と基材１１の吸着サイトとが結合されている。
　原子層堆積膜１２としては、例えば、Ａｌ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｔａ、Ｎｂなどの元素を含む無機酸化膜や、これらの元素を含む窒化膜や酸窒化膜、それらの混合化合物を用いることができる。例えば、原子層堆積膜１２は、ＡｌＳｉＯｘ、ＴｉＡｌＯｘ、ＴｉＯｘ、ＴａＯｘ又はＮｂＯｘからなる。また、原子層堆積膜１２としては、例えば、他元素（例えば、Ｚｒ、Ｈｆ）を含む酸化膜、窒化膜、酸窒化膜、それらの混合化合物等を用いることもできる。
　原子層堆積膜１２としては、水蒸気バリア性、耐久性、及びコストの観点から、Ａｌ、Ｓｉ、及びＴｉのうち、少なくとも１種の元素を含む膜（例えば、上記説明したような膜）を用いるとよい。このような元素を含む膜を原子層堆積膜１２として用いることで、高い水蒸気バリア性、及び高い耐久性を得ることができると共に、コストを低減することができる。
　原子層堆積膜１２の厚さは、例えば、０．５ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましい。原子層堆積膜の厚さが０．５ｎｍ未満であると、製造技術の観点から十分な水蒸気バリア性を有した原子層堆積膜を形成することができない。原子層堆積膜の厚さが２００ｎｍを超えると、コスト及び成膜時間を要するため好ましくない。
　したがって、原子層堆積膜１２の厚さを０．５ｎｍ以上２００ｎｍ以下の範囲内とすることで、短時間で、かつ十分な水蒸気バリア性を有した原子層堆積膜１２を得ることができる。
　ここで、図１（ｂ）に示すように、ガスバリア性光学フィルム１０は、基材１１と原子層堆積膜１２との間に形成された無機材料からなるアンダーコート層１５をさらに備えていてもよい。
（１．３）アンダーコート層１５
　すなわち、ガスバリア性光学フィルム１０では、基材１１の裏面を覆うようにアンダーコート層１５が配置されていてもよい。アンダーコート層１５は、例えば、無機材料のみで構成されている。アンダーコート層１５として、ＳｉＯｘ、ＴｉＯｘ、ＡｌＯｘ、ＴａＯｘ又はＮｂＯｘが例示される。また、アンダーコート層１５の形成方法として、ＰＶＤ法、ＣＶＤ法、ゾルゲル法が例示される。ここで、ＣＶＤ法にＡＬＤ法は含まれる。
　アンダーコート層１５に含まれる無機材料は、有機材料と比較して多くの吸着サイト（原子層堆積膜１２の成膜原料となる前駆体が結合される部分）を有している。これにより、原子層堆積膜１２の形成処理開始時から二次元成長による緻密な膜が形成されるまでの期間が短くなる。
　アンダーコート層１５の厚さは、例えば、１ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であることが好ましい。アンダーコート層の厚さが１ｎｍ未満であると、基材表面を完全に被覆することができず、吸着サイトの密度が不十分であるため、原子層堆積膜１２の形成処理開始時から二次元成長による緻密な膜が形成されるまでの期間を短く出来ない可能性がある。つまり十分な水蒸気バリア性を有した原子層堆積膜１２を形成できない。また、アンダーコート層の厚さが１０００ｎｍを超えると、コスト及び成膜時間を要し、さらにアンダーコート層に割れや欠陥が生じるため好ましくない場合がある。
　また、吸着サイトの密度を上げる方法として、アンダーコート層１５の替わりに、基材１１の表面をプラズマ処理または加水分解処理することで、吸着サイトを高密度化させることが可能となる。
（２）第２の構成例
　図２は、ガスバリア性光学フィルム１０の第２の構成例を示す断面図である。
　図２（ａ）に示すように、このガスバリア性光学フィルム１０は、基材１１と、原子層堆積膜１２（ＡＬＤ膜）と、粘着層（第１の粘着層）１３と、円偏光板１４とを備える。
　一般的にディスプレイパネルは入射光に所定の偏光を与える位相差板や偏光板と組み合わせることで設計される。
（２．１）粘着層１３
　粘着層１３は、基材１１と円偏光板１４との間に設けられており、基材１１と円偏光板１４とを接着する機能を有する。粘着層１３としては、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、シリコーン樹脂などからなる光硬化型接着性樹脂、熱硬化型接着性樹脂、２液硬化型接着性樹脂や、ポリエチレン、ポリプロピレンなどの酸変性物からなる熱可塑性接着性樹脂や、ゴム系、シリコーン系、アクリル系、ウレタン系などの水酸基を持つ主剤にイソシアネート硬化剤で硬化させる方式が用いられる。中でも、１液または２液反応型のポリウレタン樹脂と３官能イソシアネートとを重合硬化させたものが好ましい。加工はラミネート法が望ましく、塗工方式としてはグラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター等を用いることができる。
　また、粘着層１３は、硬化型吸湿剤をそれぞれ含有していてもよい。その場合、粘着層１３における硬化型吸湿剤の含有割合は、全質量を１００質量％とした場合、好ましくは５質量％以上６０質量％以下であり、より好ましくは１０質量％以上４５質量％以下である。
　硬化型吸湿剤は、吸湿剤と硬化剤を混合したものである。硬化型吸湿剤における吸湿剤（化合物）の含有割合は、全質量を１００質量％とした場合、好ましくは２０質量％以上８０質量％以下であり、より好ましくは２５質量％以上６０質量％以下である。吸湿剤の含有割合がこの範囲にあると、水分を捕水する作用を硬化型吸湿剤において効果的に発現させることができる。
（２．２）円偏光板１４
　円偏光板１４は、基材１１の表面側に粘着層１３を介して積層された透明フィルムである。円偏光板１４は、外光の反射や背景の映り込み等を防ぐ機能を有する。例えば、後述の図１１～１３に示す有機ＥＬディスプレイでは、円偏光板１４は基材１１よりも視認側に設けられている。有機ＥＬディスプレイの内部には反射性の高い金属層（例えば、ＴＦＴ素子と有機ＥＬ層との間に位置する陽極等）が設けられているが、円偏光板１４があることにより、有機ＥＬディスプレイの内部で反射散乱した光を外部（すなわち、視認側）に出さないようにすることができる。
　円偏光板１４は、偏光板（偏光子）と位相差板を、粘着層などを介して積層されたもので（図示せず）、偏光板は位相差板よりも視認側に設けられている。
　位相差板は、入射光に所定の位相差を与える透明フィルムである。位相差板として、１／４波長板又は１／４波長板および１／２波長板を組み合わせたものが例示される。位相差板には、透明な一軸延伸した高分子フィルム、例えばポリビニルアルコール、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリサルフォン、ポリスチレン、ポリアリレート、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、環状オレフィン・コポリマー（ＣＯＣ）、ノルボルネン系樹脂等を用いることができる。また、位相差板を構成する高分子フィルムには屈折率の波長依存性があるため、波長領域が広い光に対しては一種類の位相差板では十分な性能が得られない場合がある。このため、位相差値の異なる位相差フィルムをその光学軸をずらして張り合わせ、広い波長範囲で１／２波長板及び１／４波長板を組み合わせた位相差板を構成するようにしてもよい。
　偏光板は、入射光を直線偏光にするフィルムであり、上記位相差板との組合せにより、入射した光が有機ＥＬディスプレイ内部で反射した際に偏光板を通過することができない。つまり、反射光は視認されない。
　偏光板には、例えば、ヨウ素などの二色性色素を吸着させたポリビニルアルコール（ＰＶＡ）などのフィルムを一軸延伸し、偏光性を付与したものを用いることができる。保護層としてトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）などの光学的に等方性なフィルムで挟み込んだ構成が使われている。
（２．３）工程順の一例
　図２（ａ）に示す第２の構成例では、基材１１の裏面（図２（ａ）では、下側の面）に原子層堆積膜１２を形成する。また、これと前後して、基材１１の表面（図２（ａ）では、上側の面）に、粘着層１３を介して円偏光板１４を接着する。
　また、図２（ｂ）に示すように、このガスバリア性光学フィルム１０は、基材１１と、原子層堆積膜１２（ＡＬＤ膜）と、粘着層１３と、円偏光板１４と、アンダーコート層１５とを備えた構成としてもよい。具体的には、図２（ｂ）に示す構成において、基材１１の裏面の全面を覆うように、アンダーコート層１５を配置させた構成である。なお、アンダーコート層１５は、基材１１の裏面の少なくとも一部に配置されていてもよく、図２（ｂ）に示す構成に限定されない。
　なお、図２（ｂ）では、基材１１の裏面とアンダーコート層１５とが接触するように、アンダーコート層１５を配置させた場合を例に挙げて説明した。しかし、例えば、基材１１とアンダーコート層１５との間に、図示していない密着層を配置させてもよい。密着層は、例えば、有機高分子を含有した樹脂層からなる。このように、基材１１とアンダーコート層１５との間に密着層を設けると、基材１１とアンダーコート層１５との密着強度を向上させることができる。
（２．４）工程順の一例
　図２（ｂ）に示す第２の構成例では、基材１１の裏面（図２（ｂ）では、下側の面）にアンダーコート層１５を形成し、次いで原子層堆積膜１２を形成する。また、これと前後して、基材１１の表面（図２（ｂ）では、上側の面）に、粘着層１３を介して円偏光板１４を接着する。
（３）第３の構成例
　図３は、ガスバリア性光学フィルム１０の第３の構成例を示す断面図である。
　図３に示すように、ガスバリア性光学フィルム１０は、原子層堆積膜１２の基材１１と向かい合う面の反対側の面（図３では、下側の面）に形成されたオーバーコート層１６、をさらに備えてもよい。また、このガスバリア性光学フィルムは、原子層堆積膜１２の基材１１と向かい合う面の反対側の面（図３では、下側の面）側に剥離可能に形成された剥離フィルム、をさらに備えてもよい。図３では、オーバーコート層１６の表面を剥離フィルム１７が覆っている場合を例示している。
（３．１）オーバーコート層１６
　図３において、オーバーコート層１６は、原子層堆積膜１２を保護する保護膜である。ガスバリア性光学フィルムの加工中や輸送中に原子層堆積膜が傷つきバリア性が損なわれるのを防ぐことができる。オーバーコート層１６は、アンダーコート層１５と同様の無機材料を含む層であってもよく、有機材料を含む層であってよい。オーバーコート層１６は、例えば、無機材料を含む場合には、ＰＶＤ法、ＣＶＤ法により形成することができ、有機材料を含む場合には、バーコート法、スピンコート法、スプレーコート法、ダイコート法などにより形成することができる。シート状のオーバーコート層をラミネートしてもよい。また、オーバーコート層１６は、プラスチックフィルムをドライラミネートした層であってもよい。
　例えば、オーバーコート層１６は、未硬化の熱硬化性樹脂または活性エネルギー線硬化性樹脂から形成される。原子層堆積膜１２上に未硬化の熱硬化性樹脂または活性エネルギー線硬化性樹脂を直接形成することも可能であり、別工程で作製したオーバーコートをドライラミネートなどで張合わせても良い。
（３．２）剥離フィルム１７
　剥離フィルム１７は、原子層堆積膜１２の基材１１と向かい合う面の反対側の面側を保護する保護膜である。ガスバリア性光学フィルムの加工中や輸送中に原子層堆積膜が傷つきバリア性が損なわれたり、オーバーコート層が傷つき光学特性が損なわれるのを防ぐことができる。図３では、剥離フィルム１７は、オーバーコート層１６の表面を覆って保護している。図示しないが、剥離フィルム１７は、基材と、基材の一方の面に設けられた粘着剤とを有する。剥離フィルム１７の粘着剤が、原子層堆積膜１２やオーバーコート層１６などの被保護膜に接着される。また、粘着剤の基材に対する接着力は、粘着剤の被保護膜に対する接着力よりも大きい。このため、剥離フィルム１７を被保護膜から剥がすと、粘着剤は被保護膜から離れて基材と共に取り除かれる。
　基材は、紙でもよいし、樹脂フィルムであってもよい。紙として、上質紙やクラフト紙等が例示される。樹脂フィルムとして、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム等が例示される。また、粘着剤は、シリコーンを含むシリコーン系粘着剤であってもよいし、シリコーンを含まない非シリコーン系粘着剤であってもよい。
（３．３）工程順の一例
　第３の構成例では、基材１１の裏面（図３では、下側の面）に原子層堆積膜１２を形成し、次いでオーバーコート層１６を形成し、さらにオーバーコート層１６に剥離フィルム１７を貼付する。また、これと前後して、基材１１の表面（図３では、上側の面）に、粘着層１３を介して円偏光板１４を貼付する。
（４）第４の構成例
　図４は、ガスバリア性光学フィルム１０の第４の構成例を示す断面図である。
（４．１）ハードコート層１８
　図４に示すように、ガスバリア性光学フィルム１０は、円偏光板１４の基材１１と向かい合う面の反対側の面（図４では、上側の面）に形成されたハードコート層１８をさらに備えていてもよい。この円偏光板１４の上側の面に形成されたハードコート層１８によって、円偏光板１４の上側の面は保護される。
　ハードコート層１８に用いる材料としては、可視光の透過性を有する材料を利用できる。例えば、アクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリル酸エステル類、メタクリルアミド類等のアクリル系樹脂、有機珪素系樹脂、熱硬化型ポリシロキサン樹脂など、各種の透明樹脂をハードコート層１８の材料として用いてよい。
　ハードコート層１８の形成方法としては、ハードコート層１８の形成材料に応じた薄膜形成方法により行うことができる。ハードコート層１８は、例えば、主成分となる上述したような樹脂と紫外線を吸収する材料とを溶剤に溶解させて塗液を調整し、この塗液を、ダイコーター、カーテンフローコータ、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、スピンコーター、マイクログラビアコーターなどを用いて基材１１に塗布し、塗膜を紫外線の照射等によって硬化させることにより形成してもよい。
　ハードコート層１８の厚みは、例えば、１μｍ以上１０μｍ以下である。ただし、ハードコート層１８の厚みはこの範囲に限定されるものではない。また、ハードコート層１８は、円偏光板１４の両面に設けてもよい。
　また、図示しないが、ガスバリア性光学フィルム１０は、ハードコート層１８の上側の面を覆う剥離フィルムをさらに備えていてもよい。この剥離フィルムは、図３に示した剥離フィルム１７と同様の組成であってもよい。
（４．２）工程順の一例
　第４の構成例では、基材１１の裏面（図４では、下側の面）に原子層堆積膜１２を形成し、次いでオーバーコート層１６を形成する。また、これと前後して、基材１１の表面（図４では、上側の面）に、粘着層１３を介して円偏光板１４を貼付し、円偏光板１４の上にハードコート層１８を形成する。
（５）第５の構成例
　図５は、ガスバリア性光学フィルム１０の第５の構成例を示す断面図である。
（５．１）ハードコート層１９
　図５に示すように、ガスバリア性光学フィルム１０は、基材１１とアンダーコート層１５との間に形成されたハードコート層１９をさらに備えていてもよい。図５において、ハードコート層１９は、基材１１の裏面（図５では、下側の面）に形成され、基材１１の機械的強度、耐擦性などを向上させ、加工中や輸送時に基材が傷つくのを防ぐことができる。なお、このハードコート層１９の構成は、円偏光板１４のハードコートと同一の組成であってもよく、異なる組成であってもよい。また、その形成方法も同一であってよいし、異なっていてもよい。ハードコート層１９に防眩性、低反射性が付与されていてもよい。基材１１の両面に形成されていてもよい。
（５．２）工程順の一例
　第５の構成例では、基材１１の裏面（図５では、下側の面）に原子層堆積膜１２を形成し、次いでオーバーコート層１６を形成してもよい。また、これと前後して、基材１１の表面（図５では、上側の面）に、粘着層１３を介して円偏光板１４を貼付してもよい。
（６）第１実施形態の効果
　本発明の第１実施形態は、以下の効果を奏する。
（６．１）原子層堆積膜１２は、薄膜単層で高いバリア性（１０－４～１０－６ｇ/（ｍ２・ｄａｙ））を持つ。このため、ガスバリア性光学フィルムにおけるガスバリア層の薄膜化（又は、層数を減らすこと）が可能になり、工程削減・コスト削減につながる。
（６．２）アンダーコート層１５は、原子層堆積膜１２を形成する前駆体の吸着サイトを増やす効果がある。ハードコート層に直接成膜するよりも、効率的かつ緻密な膜形成が可能になる。原子層堆積膜１２との屈折率差を調整することが好ましく、その場合は光学特性を高く維持することができる。ただし、ハードコート層１９が原子層堆積膜１２を形成する前駆体の吸着サイトを十分有している場合は、アンダーコート層１５を設けなくてもよい。
（６．３）ガスバリア層として原子層堆積膜１２を１層有することにより、ガスバリア性光学フィルム１０の水蒸気透過率を、例えば、０．０１ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）以下にすることができる。これにより、ガスバリア性光学フィルム１０を有機ＥＬ素子等の電子部材の保護膜として用いることができる。
（６．４）ガスバリア層として原子層堆積膜１２を用いることにより、バリアフィルムの水蒸気透過率を、例えば０．０１ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）以下にするために多層膜を形成する必要がなくなり、ガスバリア性光学フィルムの積層数を減らすことができる。これにより、ガスバリア性光学フィルムの工程削減、コスト削減、光線透過率の向上を図ることができる。
＜第２実施形態＞
　本発明の第２実施形態に係るガスバリア性光学フィルム２０について、複数の構成例を挙げて説明する。
（１）第１の構成例
　図６は、本発明の第２実施形態に係るガスバリア性光学フィルム２０の第１の構成例を示す断面図である。図６に示すように、このガスバリア性光学フィルム２０は、基材１１と、原子層堆積膜１２（ＡＬＤ膜）と、粘着層１３と、円偏光板１４と、原子層堆積膜１２の基材１１と向かい合う面の反対側の面（図６では、下側の面）側に形成された粘着層（第２の粘着層）２１と、を備える。図６では、原子層堆積膜１２の下側の面に粘着層２１が直接形成されている場合を例示しているが、有機ＥＬ素子との貼り合わせに際し、封止層上に粘着層を介してガスバリア性光学フィルムを貼り合せることができれば、封止層側に粘着層を形成してもよい。
（１．１）粘着層２１
　粘着層２１は、粘着シートでもよいし、粘着剤を塗布した層であってもよい。また、粘着層２１の種類も特に限定はないが、粘着層２１として例えば以下で説明する粘着剤又は粘着シートを用いることができる。
（１．２）粘着層２１として用いられる粘着剤
　粘着層２１として用いられる粘着剤としては、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、シリコーン樹脂などからなる光硬化型接着性樹脂、熱硬化型接着性樹脂、２液硬化型接着性樹脂や、ポリエチレン、ポリプロピレンなどの酸変性物からなる熱可塑性接着性樹脂や、ゴム系、シリコーン系、アクリル系、ウレタン系などの水酸基を持つ主剤にイソシアネート硬化剤で硬化させる方式が挙げられる。中でも、１液または２液反応型のポリウレタン樹脂と３官能イソシアネートとを重合硬化させたものが好ましい。加工はドライラミネート法が望ましく、塗工方式としてはグラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター等を用いることができる。
　また、粘着層２１に用いられる粘着剤は、吸湿剤や、硬化型吸湿剤を含んでいてもよい。
　硬化型吸湿剤は、吸湿剤と硬化剤を混合したものである。硬化型吸湿剤における吸湿剤（化合物）の含有割合は、全質量を１００質量％とした場合、好ましくは２０質量％以上８０質量％以下であり、より好ましくは２５質量％以上６０質量％以下である。吸湿剤の含有割合が上記範囲にあると、水分を捕水する作用を硬化型吸湿剤において効果的に発現させることができる。
　上記吸湿剤は、下記一般式（ｉ）で表される構成単位を有する有機金属化合物を含有していてもよい。
　　－［Ａｌ（ＯＲ）－Ｏ］ｎ－　…（ｉ）
　式（ｉ）中、Ｒは、それぞれ置換もしくは非置換の、アルキル基、アリール基またはアルキルカルボニル基を表す。ｎは２～６の整数を表す。ここで、複数存在するＲは同一または異なっていてもよく、直鎖状、環状または分岐鎖を有していてもよい。Ｒの炭素数は、好ましくは５～３０であり、より好ましくは６～２０であり、特に好ましくは７～１８である。上記一般式（１）で表される構成単位を有する化合物の機能の一つとしては、化合物中に存在するＡｌ－ＯＲ結合が水分と反応することにより吸湿することが挙げられる。このような化合物を用いることにより、吸湿性能に優れた吸湿剤を得ることができる。
　硬化剤としては、熱硬化剤や紫外線硬化剤を使用することができる。熱硬化剤は、硬化性モノマーと開始剤を含有する。硬化性モノマーとしては、透光性を有し、分子中に１個以上の重合性反応基を有する化合物であれば特に制限されない。このような重合性反応基としては、例えば（メタ）アクリロイル基、ビニル基、ビニルエーテル基等が挙げられるが、（メタ）アクリロイル基がより好ましい。（メタ）アクリロイル基を有する化合物としては、分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能（メタ）アクリレートや、分子中に１個の（メタ）アクリロイル基を有する単官能（メタ）アクリレートが挙げられる。これら単官能（メタ）アクリレートや多官能（メタ）アクリレートは併用してもよい。
　開始剤は加熱により分解して上述の硬化性モノマーを重合し得る活性種を発生させることができれば特に制限されない。紫外線硬化剤には、透光性のあるモノマーと、光重合開始剤とが含まれる。透光性のあるモノマーとしては１官能乃至３官能以上の多官能アクリレート（アクリル酸エステル）又は１官能乃至３官能以上の多官能メタクリレート（メタクリル酸エステル）等が使用可能である。なお、アクリレートとメタクリレートについては、いずれか一方のみを使用しても良いし、適宜混合して使用することも可能である。光重合開始剤は、無色透明であることが好ましいが、１～３質量％添加すればよいので、色があっても紫外線照射後に得られる硬化物が透明になるので特に問題はない。
（１．３）粘着層２１として用いられる粘着シート
　粘着層２１として用いられる粘着シートは、単層又は積層構造の何れでもよい。例えば、第１の有機シート層と吸湿性物質と第２の有機シート層とが積層された構造の粘着シートを粘着層２１として用いてもよい。また、第１の有機シート層及び第２の有機シート層のそれぞれは、熱硬化性もしくは光硬化性を有する硬化物または粘着性を有する未硬化物で形成されていてもよい。
　第１の有機シート層及び第２の有機シート層の厚みは、吸湿性物質の粒径（平均粒子径）より厚い（大きい）ことが好ましい。換言すると、第１の有機シート層の膜厚と第２の有機シート層の膜厚のそれぞれの値は、吸湿性物質の平均粒子径以上の値とすることが好ましい。第１の有機シート層の膜厚と第２の有機シート層の膜厚のそれぞれの値が、吸湿性物質の平均粒子径以上の値であれば、後述する有機ＥＬディスプレイの製造時に、吸湿性物質が有機ＥＬ素子の陰極を押圧する可能性を低減でき、陰極の一部が吸湿性物質に押されて陽極と接触する（すなわち、ショートする）可能性を低減することができる。
　また、第１の有機シート層と第２の有機シート層は互いに同じ厚みでもよいし、異なる厚みでもよい。ただし、第１の有機シート層よりも第２の有機シート層が原子層堆積層側に位置する場合は、第１の有機シート層の厚みは、第２の有機シート層の厚みよりも厚い（つまり、第１の有機シート層の厚み＞第２の有機シート層の厚み）であることが望ましい。このほうが、吸湿性物質が有機ＥＬ素子の陰極を押圧する可能性をさらに低減できる可能性が高くなる。
　第１の有機シート層と第２の有機シート層とに挟まれた吸湿性物質として、化学吸湿性物質または物理吸湿性物質を用いることができる。より詳しくは、吸湿性物質は、化学吸湿性物質と物理吸湿性物質の少なくともいずれか一方を含んだ吸湿性物質であればよい。
　化学吸湿性物質としては、例えば五酸化二リン（Ｐ２Ｏ５）、酸化カルシウム（ＣａＯ）、酸化バリウム（ＢａＯ）などが挙げられる。また、物理吸湿性物質としては、例えば酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、ゼオライト（アルミナ珪酸塩）、シリカゲル、活性アルミナなどが挙げられる。
　吸湿性物質の粒径（平均粒子径）は、０．０１～１０００μｍ、望ましくは０．１～１００μｍである。また、吸湿性物質の含有量は、１～９０質量％、望ましくは１５～６５質量％である。化学吸湿性物質は、１種類または数種類用いることができる。また、物理吸湿性物質も同様に、１種類または数種類用いることができる。
　第１の有機シート層及び第２の有機シート層は、水蒸気をなるべく透過させない方が好ましく、水蒸気透過率は１０ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）未満が望ましい。仮に第１の有機シート層及び第２の有機シート層に水蒸気が侵入した場合であっても、その水蒸気は、第１の有機シート層及び２の有機シート層に埋入している吸湿性物質で吸湿される。
（１．４）粘着層２１として使用可能な製品の一例
　粘着層２１として使用可能な製品を以下に例示する。なお、粘着層２１は以下の市販品に限定されるものではない。
・サイデン化学株式会社「ＯＣ－３４０５」
・三井化学株式会社「ＸＭＦ－Ｔ」
・三菱ガス化学株式会社「マクシーブ」
・ｔｅｓａ「６１５００・６１５０１」
・株式会社ダイセル「ＣＥＬＶＥＮＵＳ」
・積水化学工業株式会社「フォトレックＥ」
・ＤＩＣ株式会社「ＰＡＳＬＩＭ」
（１．５）工程順の一例
　第１の構成例では、基材１１の裏面（図６では、下側の面）に原子層堆積膜１２を形成し、次いで粘着層２１を形成する。また、これと前後して、基材１１の表面（図６では、上側の面）に、粘着層１３を介して円偏光板１４を接着する。
（２）第２の構成例
　図７は、ガスバリア性光学フィルム２０の第２の構成例を示す断面図である。
　図７に示すように、ガスバリア性光学フィルム２０は、基材１１と原子層堆積膜１２との間に形成された無機材料からなるアンダーコート層１５、をさらに備えていてもよい。
　第２の構成例では、基材１１の裏面（図７では、下側の面）にアンダーコート層１５を形成し、次いで原子層堆積膜１２を形成し、その後粘着層２１を形成する。また、これと前後して、基材１１の表面（図７では、上側の面）に、粘着層１３を介して円偏光板１４を接着する。
（３）第３の構成例
　図８は、ガスバリア性光学フィルム２０の第３の構成例を示す断面図である。
　図８に示すように、ガスバリア性光学フィルム２０は、原子層堆積膜１２の基材１１と向かい合う面の反対側の面（図８では、下側の面）に形成されたオーバーコート層１６、をさらに備えてもよい。また、このガスバリア性光学フィルム２０は、原子層堆積膜１２の基材１１と向かい合う面の反対側の面（図８では、下側の面）側に剥離可能に形成された剥離フィルム１７、をさらに備えてもよい。図８では、粘着層２１の表面を剥離フィルム１７が覆っている場合を例示している。
　第３の構成例では、基材１１の裏面（図８では、下側の面）に原子層堆積膜１２を形成し、次いでオーバーコート層１６を形成し、さらに粘着層２１を形成し、その後、粘着層２１に剥離フィルム１７を貼付する。また、これと前後して、基材１１の表面（図８では、上側の面）に、粘着層１３を介して円偏光板１４を貼付する。
（４）第４の構成例
　図９は、ガスバリア性光学フィルム２０の第４の構成例を示す断面図である。
　図９に示すように、ガスバリア性光学フィルム２０は、円偏光板１４の基材１１と向かい合う面の反対側の面（図９では、上側の面）に形成されたハードコート層１８をさらに備えていてもよい。この円偏光板１４の上側の面に形成されたハードコート層１８によって、円偏光板１４の上側の面は保護される。ハードコート層１８はハードコート性や防眩性、低反射性などを有していてもよい。また、図示しないが、ガスバリア性光学フィルム２０は、ハードコート層１８の上側の面を覆う剥離フィルムをさらに備えていてもよい。
　第４の構成例では、基材１１の裏面（図９では、下側の面）に原子層堆積膜１２を形成し、さらに粘着層２１を形成する。また、これと前後して、基材１１の表面（図９では、上側の面）に、粘着層１３を介して円偏光板１４を貼付し、円偏光板１４の上にハードコート層１８を形成する。
（５）第５の構成例
　図１０は、ガスバリア性光学フィルム２０の第５の構成例を示す断面図である。
　図１０に示すように、ガスバリア性光学フィルム２０は、基材１１とアンダーコート層１５との間に形成されたハードコート層１９をさらに備えていてもよい。図１０において、ハードコート層１９は、基材１１の下側の面に形成され、基材１１の機械的強度、耐擦性などを向上させる。
　第５の構成例では、基材１１の裏面（図１０では、下側の面）にハードコート層１９を形成し、次いでアンダーコート層１５を形成し、次いで原子層堆積膜１２を形成し、さらに粘着層２１を形成する。また、これと前後して、基材１１の表面（図１０では、上側の面）に、粘着層１３を介して円偏光板１４を貼付する。
（６）第２実施形態の効果
　第２実施形態は、第１実施形態と同様の効果を奏する。また、第１実施形態の効果に加えて、以下の効果を奏する。
（６．１）ガスバリア性光学フィルム２０には粘着層２１が既に形成されている。このため、パネルメーカー等において、ガスバリア性光学フィルム２０を有機ＥＬ素子に貼り合わせるために、接着剤を塗布したり、接着シートを貼付したりする必要がない。この粘着層２１は、有機ＥＬ素子に貼り合わせる直前まで（例えば、輸送時も含めて）原子層堆積膜１２を保護する保護層として機能すると共に、有機ＥＬ素子を貼り合わせる時には接着層として機能する。したがって、パネルメーカー等における工程の削減が可能である。
（６．２）粘着層２１にバリア性がある場合、有機ＥＬ素子の側面側からの端面リークを抑えることができる。例えば、有機ＥＬ素子には、大気中の水分や酸素の影響により劣化しやすいが、粘着層２１が有機ＥＬ素子を覆うことにより、外部からの水分の侵入を遮断することができる。
＜第３実施形態＞
　本発明の第３実施形態に係る有機ＥＬディスプレイ５０について、複数の構成例を挙げて説明する。
（１）第１の構成例
　図１１は、本発明の第３実施形態に係る有機ＥＬディスプレイ５０の第１の構成例を示す断面図である。図１１に示すように、この有機ＥＬディスプレイ５０は、第１実施形態で説明したガスバリア性光学フィルム１０（ただし、剥離フィルムを除く）と、有機ＥＬ素子３０と、有機ＥＬ素子３０とガスバリア性光学フィルム１０とを接着する粘着層２１とを備える。または、この有機ＥＬディスプレイ５０は、第２実施形態で説明したガスバリア性光学フィルム２０と、ガスバリア性光学フィルム２０の粘着層２１側に取り付けられた有機ＥＬ素子３０と、を備える構成でもよい。
　有機ＥＬ素子３０は、支持基板３１と、支持基板３１の一方の面（図１１では、上側の面）に形成された素子本体３２と、支持基板３１の一方の面に形成されて素子本体３２を封止する封止層３３と、を備える。封止層３３は、例えば無機膜からなる。また、図示しないが、素子本体３２は、支持基板３１の側から、ＴＦＴ素子、陽極、有機ＥＬ層、陰極がこの順で積層された構造を有する。
　そして、図１１に示すように、この有機ＥＬディスプレイ５０では、ガスバリア性光学フィルムの両面のうち、円偏光板１４よりも基材１１に近い面側に有機ＥＬ素子３０の封止層３３が取り付けられている。封止層３３の表面及び側面は粘着層２１で覆われている。
　また、図１１に示すように、この有機ＥＬディスプレイ５０は、例えばガスバリア性光学フィルムの一部として、粘着層４１を介して円偏光板１４に取り付けられたカバーガラス４２をさらに備えていてもよい。また、図示しないが、この有機ＥＬディスプレイ５０は、例えばガスバリア性光学フィルムの一部として、カバーガラス４２の粘着層４１と向かい合う面側に設けられたタッチパネル層をさらに備えていてもよい。以下に、粘着層４１、カバーガラス４２、タッチパネル層について説明する。
（１．１）粘着層４１
　粘着層４１は、円偏光板１４とカバーガラス４２との間に設けられており、円偏光板１４とカバーガラス４２とを接着する機能を有する。
　粘着層４１としては、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、シリコーン樹脂などからなる光硬化型接着性樹脂、熱硬化型接着性樹脂、２液硬化型接着性樹脂や、ポリエチレン、ポリプロピレンなどの酸変性物からなる熱可塑性接着性樹脂や、ゴム系、シリコーン系、アクリル系、ウレタン系などの水酸基を持つ主剤にイソシアネート硬化剤で硬化させる方式が用いられる。中でも、１液または２液反応型のポリウレタン樹脂と３官能イソシアネートとを重合硬化させたものが好ましい。加工はドライラミネート法が望ましく、塗工方式としてはグラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター等を用いることができる。
　また、粘着層４１は、硬化型吸湿剤を含有していてもよい。その場合、粘着層４１における硬化型吸湿剤の含有割合は、全質量を１００質量％とした場合、好ましくは５質量％以上６０質量％以下であり、より好ましくは１０質量％以上４５質量％以下である。
　硬化型吸湿剤は、吸湿剤と硬化剤を混合したものである。硬化型吸湿剤における吸湿剤（化合物）の含有割合は、全質量を１００質量％とした場合、好ましくは２０質量％以上８０質量％以下であり、より好ましくは２５質量％以上６０質量％以下である。吸湿剤の含有割合がこの範囲にあると、水分を捕水する作用を硬化型吸湿剤において効果的に発現させることができる。
（１．２）カバーガラス４２
　カバーガラス４２は、最表面となる前面板であり、ＳｉＯ２と、Ａｌ２Ｏ３と、Ｌｉ２Ｏ及びＮａ２Ｏから選択される少なくとも１種類のアルカリ金属酸化物を含むアルミノシリケートガラスを強化処理したものが用いられる。また、カバーガラス４２は、樹脂基材で構成されていてもよい。
（１．３）タッチパネル層
　タッチパネルセンサー（タッチパネル層）は、引き出し配線、Ｘ方向用及びＹ方向用の２層の透明電極、２層の透明電極間の絶縁層とを有する。タッチパネルセンサーは、透明粘着シート（Ｏｐｔｉｃａｌ　Ｃｌｅａｒ　Ａｄｈｅｓｉｖｅ；ＯＣＡ）等を介して、カバーガラス４２に添付されている。
　なお、タッチパネルセンサーの配設位置は上記に限定されず、封止層３３（図１１～１３）の上でカバーガラス４２の下であればどこに設けてもよい。
（２）第２の構成例
　図１２は、有機ＥＬディスプレイ５０の第２の構成例を示す断面図である。
　図１２に示すように、原子層堆積膜１２は、基材１１と粘着層２１との間ではなく、基材１１と粘着層１３との間に形成されていてもよい。すなわち、原子層堆積膜１２は、基材１１の裏面ではなく、表面に形成されていてもよい。
（３）第３の構成例
　図１３は、有機ＥＬディスプレイ５０の第３の構成例を示す断面図である。
　図１３に示すように、原子層堆積膜１２は、基材１１と粘着層２１との間と、基材１１と粘着層１３との間にそれぞれ形成されていてもよい。すなわち、原子層堆積膜１２は、基材１１の両面にそれぞれ形成されていてもよい。
（４）第３実施形態の効果
　第３実施形態は、第１、第２実施形態と同様の効果を奏する。また、第１、第２実施形態の効果に加えて、以下の効果を奏する。
（４．１）有機ＥＬディスプレイ５０の普及をさらに促進させるために、生産コストの低減、工程数の削減の要求がある。例えば、封止層３３が積層構造の場合、積層数が多いほど、工程数が増え、製造コストの増大要因となる。例えば、封止層３３が、無機層（ＳｉＮ）／有機層／無機層（ＳｉＮ）の３層構造の場合、これら３層をそれぞれＣＶＤ法等で形成する必要があり、工程数が多い。しかしながら、本発明の各実施形態では、封止層３３を覆うガスバリア性光学フィルムに、薄くてもガスバリア性が高い原子層堆積膜１２を用いている。このため、封止層３３の積層数を減らすことが可能であり、その工程数を減らすことが可能である。これにより、有機ＥＬディスプレイ５０の工程数を削減することが可能であり、生産コストを低減することが可能である。
（４．２）有機ＥＬディスプレイ５０には基材１１や円偏光板１４が必要である。これらを積層した有機ＥＬディスプレイ５０は厚くなりがちである。これに対し、本発明の各実施形態では、ガスバリア性光学フィルムのガスバリア層として原子層堆積膜１２を有する。このため、有機ＥＬディスプレイのガスバリア性を保ったまま封止層の積層数を減らすことが可能であり、有機ＥＬ素子から発せられる光の通過距離を短くすることが可能である。したがって、有機ＥＬディスプレイ５０の薄型化が可能であると共に、光線透過率を向上させることが可能である。
　図１４は、本発明の実施例１に係る有機ＥＬディスプレイの構成例を示す断面図である。
　図１４に示すように、実施例１に係る有機ＥＬディスプレイは、有機ＥＬ素子（支持基板３１、素子本体３２及び封止層３３）と、ガスバリア性光学フィルム（基材１１、原子層堆積膜１２、粘着層１３及び円偏光板１４）と、有機ＥＬ素子とガスバリア性光学フィルムとを接合する粘着層２１と、を備える。
　図１５は、参考例に係る有機ＥＬディスプレイの構成例を示す断面図である。
　図１５に示すように、有機ＥＬディスプレイは、有機ＥＬ素子（支持基板３１、素子本体３２及び封止層３３０）と、ガスバリア性光学フィルム（基材１１、原子層堆積膜１２、粘着層１３及び円偏光板１４）と、有機ＥＬ素子とガスバリア性光学フィルムとを接合する粘着層２１と、を備える。封止層３３０は、無機層３３１と、有機層３３２と、無機層３３３とがこの順で積層された、３層構造の膜である。
　本発明者は、実施例１、２に係るガスバリア性光学フィルムと、比較例１に係るガスバリア性光学フィルムとを用意した。そして、これらの各ガスバリア性光学フィルムについて、「耐延伸性」及び「耐屈曲性」の評価を行った。なお、図示しないが、実施例２における実施例１との相違点は、基材１１と原子層堆積膜１２との間にアンダーコート層１５を有する点である。また、比較例１における実施例１との相違点は、基材１１に高リタデーションフィルムではなく、ＣＯＰフィルムを用いた点である。また、上記実施例１，２及び比較例１のガスバリア性光学フィルムのそれぞれの評価は、それぞれのガスバリア性光学フィルムを用いた有機ＥＬディスプレイの評価に及ぶ。
　本発明者が行った実施例１、２及び比較例１の評価結果を表１に示す。
（実施例１）
＜ガスバリア性光学フィルムの作製＞
［基材１１の作製］
－樹脂ペレットＡの作製－
　エステル化反応缶を昇温し２００℃に到達した時点で、テレフタル酸を８６．４質量部及びエチレングリコール６４．６質量部を仕込み、撹拌しながら触媒として三酸化アンチモンを０．０１７質量部、酢酸マグネシウム４水和物を０．０６４質量部、トリエチルアミン０．１６質量部を仕込んだ。ついで、加圧昇温を行いゲージ圧０．３４ＭＰａ、２４０℃の条件で加圧エステル化反応を行った後、エステル化反応缶を常圧に戻し、リン酸０．０１４質量部を添加した。さらに、１５分かけて２６０℃に昇温し、リン酸トリメチル０．０１２質量部を添加した。次いで１５分後に、高圧分散機で分散処理を行い、１５分後、得られたエステル化反応生成物を重縮合反応缶に移送し、２８０℃で減圧下重縮合反応を行った。
　重縮合反応終了後、９５％カット径が５μｍのナスロン製フィルターで濾過処理を行い、ノズルからストランド状に押出し、予め濾過処理（孔径：１μｍ以下）を行った冷却水を用いて冷却、固化させ、ペレット状にカットした。得られたポリエチレンテレフタレート樹脂の固有粘度は０．６２ｄｌ／ｇであり、不活性粒子及び内部析出粒子は実質上含有していなかった。（以下、ＰＥＴ樹脂ペレットＡとする。）
－樹脂ペレットＢの作製－
　乾燥させた紫外線吸収剤（２，２’－（１，４－フェニレン）ビス（４Ｈ－３，１－ベンズオキサジノン－４－オン）１０質量部、粒子を含有しないＰＥＴ樹脂Ａ９０質量部を混合し、混練押出機を用い、紫外線吸収剤を含有するポリエチレンテレフタレート樹脂Ｂを得た。（以下、ＰＥＴ樹脂ペレットＢとする。）
－未延伸フィルムの作製－
　ＰＥＴ樹脂ペレットＡを９０質量部と、ＰＥＴ樹脂ペレットＢを１０質量部とを１３５℃で６時間減圧乾燥（１Ｔｏｒｒ）した後、押出機２（中間層ＩＩ層用）に供給し、また、ＰＥＴ樹脂ペレットＡを常法により乾燥して押出機１（外層Ｉ層及び外層ＩＩＩ用）にそれぞれ供給し、２８５℃で溶解した。この２種のポリマーを、それぞれステンレス焼結体の濾材（公称濾過精度１０μｍ粒子９５％カット）で濾過し、２種３層合流ブロックにて、積層し、口金よりシート状にして押し出した後、静電印加キャスト法を用いて表面温度３０℃のキャスティングドラムに巻きつけて冷却固化し、未延伸フィルムを作った。この時、Ｉ層、ＩＩ層、ＩＩＩ層の厚さの比は１０：８０：１０となるように各押し出し機の吐出量を調整した。
　次いで、リバースロール法によりこの未延伸ＰＥＴフィルムの両面に乾燥後の塗布量が０．０８ｇ／ｍ２になるように、上記接着性改質塗布液を塗布した後、８０℃で２０秒間乾燥した。
―延伸―
　この塗布層を形成した未延伸フィルムをテンター延伸機に導き、フィルムの端部をクリップで把持しながら、温度１２５℃の熱風ゾーンに導き、幅方向に４．０倍に延伸した。次に、幅方向に延伸された幅を保ったまま、温度２２５℃、３０秒間で処理し、さらに幅方向に３％の緩和処理を行い、フィルム厚み約４０μｍの一軸配向ＰＥＴフィルムである基材１１を得た。
―面内リタデーション（Ｒｅ）－
　リタデーションとは、フィルム上の直交する二軸の屈折率の異方性（△Ｎｘｙ＝｜ｎｘ－ｎｙ｜）とフィルム厚みｄ（ｎｍ）との積（△Ｎｘｙ×ｄ）で定義されるパラメーターであり、光学的等方性及び異方性を示す尺度である。二軸の屈折率の異方性（△Ｎｘｙ）は、以下の方法により求めた。分子配向計（王子計測器株式会社製、ＭＯＡ－６００４型分子配向計）を用いてフィルムの配向軸方向を求め、配向軸方向が長辺となるように４ｃｍ×２ｃｍの長方形を切り出し、測定用サンプルとした。このサンプルについて、直交する二軸の屈折率（ｎｘ，ｎｙ）、及び厚さ方向の屈折率（Ｎｚ）をアッベ屈折率計（アタゴ社製、ＮＡＲ－４Ｔ、測定波長５８９ｎｍ）を用いて測定し、上記二軸の屈折率の差の絶対値（｜ｎｘ－ｎｙ｜）を屈折率の異方性（△Ｎｘｙ）とした。フィルムの厚みｄ（ｎｍ）は電気マイクロメータ（ファインリューフ社製、ミリトロン１２４５Ｄ）を用いて測定し、単位をｎｍに換算した。屈折率の異方性（△Ｎｘｙ）とフィルムの厚みｄ（ｎｍ）の積（△Ｎｘｙ×ｄ）より、リタデーション（Ｒｅ）を求めた。結果を表１に示す。
　その後、ＡＬＤ法を用いて、基材１１の表面に原子層を一層ずつ成長させて厚み１５ｎｍのＡＬＤ層１２を成膜して、実施例１のガスバリア性光学フィルムを得た。
（実施例２）
　基材１１とＡＬＤ層１２との間にアンダーコート層１５を形成した以外は、実施例１と同様にして、実施例２のガスバリア性光学フィルムを作製した。
（実施例３）
　基材１１のリタデーションが４０００となるものを準備した以外は実施例１と同様にして、実施例３のガスバリア性光学フィルムを作製した。
（実施例４）
　基材１１の厚みが１５０μｍであり、リタデーションが３００００となるものを準備した以外は実施例１と同様にして、実施例４のガスバリア性光学フィルムを作製した。
（実施例５）
　基材１１の厚みが１００μｍであり、リタデーションが７０００となるものを準備した以外は実施例１と同様にして、実施例５のガスバリア性光学フィルムを作製した。
（実施例６）
　実施例２に記載の基材１１をＮｚ係数が１．７となるように加工した以外は実施例１と同様にして、実施例６のガスバリア性光学フィルムを作製した。
（実施例７）
　実施例２に記載の基材１１をＮｚ係数が１．３となるように加工した以外は実施例１と同様にして、実施例７のガスバリア性光学フィルムを作製した。
（実施例８）
　基材１１の厚みが１００μｍであり、リタデーションが２００００となるものを準備した以外は実施例１と同様にして、実施例８のガスバリア性光学フィルムを作製した。
（比較例１）
　基材１１として、ＰＥＴフィルムではなく、ＣＯＰフィルムを用いた以外は、実施例１と同様にして、比較例１のガスバリア性光学フィルムを作製した。
＜評価＞
［ガスバリア性］
　作製した実施例１、２及び比較例１のガスバリア性光学フィルムについてはＪＩＳ－Ｋ－７１２９－１９９２に準じて水蒸気透過率［ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）］を測定した。測定結果を表１に示す。
［視認性］
　実施例１、２及び比較例１のガスバリア性光学フィルムについて、簡易的なＥＬ素子を作製しＪＩＳ－Ｃ－７６１４に基づいて視認性を評価した。視認性の評価基準としては、輝度１００カンデラ以上を「○（良好）」、輝度１００カンデラ未満を「×（不可）」として判定した。判定結果を表１に示す。
［耐延伸性］
　実施例１、２及び比較例１のガスバリア性光学フィルムについて、ＪＩＳ－Ｋ－７１２７に基づく耐延伸性を評価した。耐延伸性の評価基準としては、１０％伸び後に破断しないことを「○（良好）」、破断を「×（不可）」として判定した。判定結果を表１に示す。
［耐屈曲性］
　実施例１、２及び比較例１のガスバリア性光学フィルムについて、ＪＩＳ－Ｃ－５０１６に基づく耐屈曲性を評価した。耐屈曲性の評価基準としては、外観変化なしを「○（良好）」、外観変化あり（傷、割れなど）を「×（不可）」として判定した。判定結果を表１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　表１に示すように、実施例１、２のガスバリア性光学フィルムは、比較例１のガスバリア性光学フィルムと比較して、ガスバリア性は確保されている一方、「耐延伸性」及び「耐屈曲性」等の機械的強度が大きく劣ることを確認した。
　したがって、本発明によれば、ガスバリア性を高く保持しつつ、視認性及び機械的強度が好適なガスバリア性光学フィルム及び有機ＥＬディスプレイを提供することができる。
１０　ガスバリア性光学フィルム
１１　基材
１２　原子層堆積膜
１３　粘着層
１４　円偏光板
１５　アンダーコート層
１６　オーバーコート層
１７　剥離フィルム
１８　ハードコート層
１９　ハードコート層
２０　ガスバリア性光学フィルム
２１　粘着層
３０　有機ＥＬ素子
３１　支持基板
３２　素子本体
３３、３３０　封止層
４１　粘着層
４２　カバーガラス
５０　有機ＥＬディスプレイ
３３１、３３３　無機層
３３２　有機層

Claims (14)

  1. 　面内リタデーションが４０００ｎｍ以上３００００ｎｍ以下の範囲内である基材と、
    　前記基材の一方の面側に形成された原子層堆積膜とを備えることを特徴とするガスバリア性光学フィルム。
  2. 　前記基材が配向ポリエステルフィルムである請求項１に記載のガスバリア性光学フィルム。
  3. 　前記基材と前記原子層堆積膜との層間に形成された、無機材料からなるアンダーコート層を、さらに備える請求項１又は２に記載のガスバリア性光学フィルム。
  4. 　前記基材の前記原子層堆積膜と向かい合う面とは反対の面側に形成された、又は前記原子層堆積膜の前記基材と向かい合う面とは反対の面側に形成された、第１の粘着層を介して積層された円偏光板を、さらに備える請求項１～３の何れか一項に記載のガスバリア性光学フィルム。
  5. 　前記原子層堆積膜の前記基材と向かい合う面とは反対の面側に形成されたオーバーコート層を、さらに備える請求項１～４の何れか一項に記載のガスバリア性光学フィルム。
  6. 　前記オーバーコート層の前記原子層堆積膜と向かい合う面とは反対の面側に剥離可能に形成された剥離フィルムを、さらに備える請求項５に記載のガスバリア性光学フィルム。
  7. 　前記基材の他方の面側に形成された原子層堆積膜を、さらに備える請求項１～６の何れか一項に記載のガスバリア性光学フィルム。
  8. 　前記基材は、｜ｎｙ－ｎｚ｜／｜ｎｙ－ｎｘ｜で表されるＮｚ係数が１．２以上１．７以下の範囲内である請求項１～７の何れか一項に記載のガスバリア性光学フィルム。
    （ここで、ｎｙ、ｎｘは、基材の配向軸方向とこれに直交する方向の二軸の屈折率をそれぞれ示し、ｎｚは、基材の厚さ方向の屈折率を示す）
  9. 　前記基材は、（ｎｘ＋ｎｙ）／２－ｎｚで表される面内配向度が０．０８以上０．１３以下の範囲内である請求項１～８の何れか一項に記載のガスバリア性光学フィルム。
    （ここで、ｎｙ、ｎｘは、基材の配向軸方向とこれに直交する方向の二軸の屈折率をそれぞれ示し、ｎｚは、基材の厚さ方向の屈折率を示す）
  10. 　前記原子層堆積膜は、Ａｌ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｚｒ及びＨｆの少なくとも一種を含む酸化膜、窒化膜、酸窒化膜又はそれらの混合化合物等を含有していることを特徴とする請求項１～９の何れか一項に記載のガスバリア性光学フィルム。
  11. 　前記基材の前記原子層堆積膜と向かい合う面とは反対の面側に形成された、又は前記原子層堆積膜の前記基材と向かい合う面とは反対の面側に形成された第１の粘着層を、さらに備え、
    　前記第１の粘着層は、硬化型吸湿剤を含有していることを特徴とする請求項１～１０の何れか一項に記載のガスバリア性光学フィルム。
  12. 　前記第１の粘着層における前記硬化型吸湿剤の含有割合は、全質量を１００質量％とした場合、５質量％以上６０質量％以下の範囲内であることを特徴とする請求項１１に記載のガスバリア性光学フィルム。
  13. 　前記硬化型吸湿剤は、吸湿剤と硬化剤とを含有し、
    　前記硬化型吸湿剤における前記吸湿剤の含有割合は、全質量を１００質量％とした場合、２０質量％以上８０質量％以下の範囲内であることを特徴とする請求項１１又は１２に記載のガスバリア性光学フィルム。
  14. 　素子本体、粘着層、封止層および支持基板を備えた有機ＥＬ素子と、請求項１～１３の何れか一項に記載のガスバリア性光学フィルムと、が第２の粘着層を介して接合されることを特徴とする有機ＥＬディスプレイ。
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