WO2018009026A1 - 나노 임프린트용 레플리카 몰드, 그 제조방법 및 나노 임프린트용 레플리카 몰드 제조장치 - Google Patents

나노 임프린트용 레플리카 몰드, 그 제조방법 및 나노 임프린트용 레플리카 몰드 제조장치 Download PDF

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구자붕
구황섭
김현제
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Definitions

  • the present invention relates to a replica mold for nanoimprint, a manufacturing method thereof, and a replica mold manufacturing apparatus for nanoimprint.
  • the nanoimprint process is a technique for replacing a photolithography process in which a pattern is formed on an substrate by exposing and developing a photoresist.
  • the stamp mold is a step of forming a pattern on the substrate by transferring the stamp mold to the resin on the substrate.
  • the pattern of the stamp mold used in the nanoimprint process is transferred to the pattern of the replica mold and formed.
  • a stamp mold 2 passes through a roll 5 of a roll to roll equipment to which a replica mold 1 having a pattern PT is attached. ), The pattern PT is transferred to the stamp mold 2 so that the pattern PT is formed in the stamp mold 2.
  • the pattern PT is a replica mold 1, a stamp. It is formed by being transferred to the mold 2 and the substrate 3 sequentially.
  • the conventional replica mold 1 is formed of a metal material such as nickel (Ni) or copper (Cu), there is a problem in that the precision of the pattern is low, the manufacturing process is complicated, and the manufacturing cost is high.
  • An object of the present invention is to provide a replica mold for nanoimprint, a method of manufacturing the same, and a replica mold manufacturing apparatus for nanoimprint, which is formed of resin and has a high pattern accuracy, a simple manufacturing process, and a low manufacturing cost.
  • the base formed of a plastic film; A transfer part formed on the base; And a guide film detachably formed on the base, and having a hollow formed to expose the transfer part, and a particle formed by spreading and hardening of an outer circumferential surface of the transfer part, wherein the transfer part is formed of a resin and has irregularities. It is characterized in that the pattern of the shape is formed.
  • the base formed of a plastic film; A transfer part formed on the base; And a guide film detachably formed on the base, and having a hollow formed to expose the transfer part, and a particle formed by spreading and curing the outer circumferential surface of the transfer part, wherein the transfer part is formed on the guide film. Characterized by filling the resin into the hollow.
  • a cushion layer having elasticity may be formed on one surface of the base.
  • Nano imprint replica mold manufacturing apparatus of the present invention for achieving the above object is formed detachably on the base, the hollow is formed so that the transfer portion formed on the base is exposed, the outer peripheral surface of the transfer portion is spread and cured
  • a filling part for filling the hollow of the guide film in which the formed particles are formed to form the transfer part
  • a pressing part attached to one side of the master mold and transferring the pattern of the master mold to the transfer part by elevating the master mold up and down;
  • an irradiation unit for irradiating light toward the pressing unit.
  • Nano imprint replica mold manufacturing method of the present invention for achieving the above object is formed detachably on the base, the hollow is formed so that the transfer portion formed on the base is exposed, the outer peripheral surface of the transfer portion is spread and cured
  • a filling step of filling the hollow of the guide film in which the formed particles are formed to form the transfer part A pattern forming step of moving the master mold to the transfer unit and pressing the master mold to form a pattern; Curing the transfer unit by irradiating light to the transfer unit; And a removing step of removing the guide film.
  • the manufacturing process has a simple advantage.
  • 1 is a configuration diagram of a roll-to-roll equipment
  • FIG. 2 is a pattern forming flowchart of a replica mold, a stamp mold, and a substrate;
  • FIG. 3 is a configuration diagram of a replica mold for nanoimprint of the present invention.
  • FIG. 4 is a configuration diagram of another embodiment of a replica mold for nanoimprint of the present invention.
  • Figure 6 is a plan view showing the particle removal of the replica mold for nanoimprint of the present invention.
  • the replica mold for nano imprinting of the present invention includes a base 10 and a transfer part 20 formed on the base 10.
  • the base 10 has a function of supporting the transfer unit 20, and may be formed of a substrate, a film, or the like, and a plastic film may be used among the films.
  • PET film polyethylene phthalate film
  • PET film polyethylene phthalate film
  • the transfer part 20 is formed of a resin, and is a photocurable resin that is cured by light such as ultraviolet (UV), electron beam (EB), etc. for a subsequent process. It is preferable to form.
  • UV ultraviolet
  • EB electron beam
  • the transfer part 20 may be formed in a circular shape, and the transfer part 20 is transferred by a master mold to form a pattern corresponding to a pattern formed in the master mold. That is, the uneven pattern formed on one surface of the master mold is transferred to form a concave-convex pattern corresponding to the pattern of the master mold described above in the transfer part 20. It is formed in this replica mold.
  • the pattern of shaping opposite to the pattern of shaping is formed in the transfer portion 20 of the replica mold, and the transfer portion of the replica mold ( 20 is transferred to the stamp mold to form a Y-shaped pattern, and the Y-shaped pattern formed on the stamp mold is transferred to a substrate to form a Y-shaped pattern on the substrate.
  • the pattern of the replica mold is transferred to the stamp mold, and the pattern of the stamp mold is transferred to the substrate, the pattern of the replica mold and the substrate is formed in the same manner and formed in a shape opposite to the pattern of the stamp mold.
  • the master mold may be a silicon wafer (Si wafer), quartz (quartz) and the like.
  • the replica mold is formed of a resin other than a metal such as nickel and copper, there is an advantage in that the precision of the pattern is improved.
  • the replica mold of the present invention is formed through transfer, thereby simplifying the manufacturing process, improving the production speed, and lowering the manufacturing cost. Has an advantage.
  • the replica mold for nanoimprinting of the present invention includes a base 10, a transfer unit 20, a guide film 30, and a cushion layer 40.
  • the outer circumferential surface of the transfer portion 20 of the replica mold may spread to form particles P. That is, before the transfer is transferred to the outer peripheral surface of the transfer portion 20 after the transfer, the outer peripheral surface of the transfer portion 20 is spread and spread, the bleeding portion is hardened to form a particle (P).
  • the replica mold on which the particles P are formed is transferred to the stamp mold, the pattern of the stamp mold is damaged and a defect occurs.
  • the guide film 30 is introduced to remove particles P formed in the transfer part 20. That is, by placing the guide film 30 in which the hollow corresponding to the transfer part 20 is formed in the base 10, it is prevented that particles P are formed on the outer circumferential surface of the transfer part 20.
  • the guide film 30 is formed with a hollow having a shape corresponding to that of the transfer part 20.
  • the hollow of the guide film 30 is also formed in a circular shape to correspond to this.
  • the particles P are formed on the guide film 30 rather than the outer circumferential surface of the transfer part 20.
  • the particles P formed on the guide film 30 can also be removed.
  • the particles P can be prevented from being formed in the transfer part 20. Damage to the mold pattern or occurrence of defects can be prevented.
  • the replica mold is attached to the roll of the roll-to-roll equipment or the substrate of the crimping equipment, and if the surface of the roll or substrate to which the replica mold is attached is uneven or particles are present, Since the transfer part 20 formed of the resin material is affected through the thin base 10, there is a problem in that a defect occurs by damaging the pattern when transferring the stamp mold.
  • the cushion layer 40 is formed on the base 10 to prevent the transfer part 20 of the replica mold from being affected. That is, the above-mentioned problem is solved by forming the cushion layer 40 having elasticity on the back surface opposite to the one surface of the base 10 on which the transfer part 20 is formed.
  • the cushion layer 40 may be thinner than the base 10 and thicker than the guide film 30, and a guide film having no hollow may be attached to one surface of the cushion layer 40.
  • the cushion layer 40 may be silicon (Si), and may be formed by coating the base 10.
  • the elastic cushion layer 40 has an uneven pressure transmitted from the roll or the substrate. Because of the relief, non-uniform pressure is transmitted to the transfer portion 20 through the base 10 to prevent the transfer portion 20 from being affected.
  • the replica mold manufacturing apparatus for nanoimprints of this invention contains a filling part, a press part, and an irradiation part.
  • the filling part fills the transfer part 20 in the base 10.
  • the filling part fills the transfer part 20 in the hollow of the guide film 30. .
  • the filling part may fill the transfer part 20 by spin coating, and may include a nozzle for applying the transfer part 20 and a motor to rotate the transfer part 20.
  • the pressing unit includes a cylinder which can be operated up and down, a linear motor, and the like, and a master mold is attached to one surface thereof. Since the master mold is lifted in conjunction with the pressing unit, the pattern of the master mold is transferred to the transfer unit 20 to form a pattern.
  • the irradiation unit irradiates light such as ultraviolet rays and electron beams toward the pressing unit. That is, the transfer unit 20 is irradiated with light such as ultraviolet rays and electron beams to cure the transfer unit 20 located in the pressing unit.
  • the filling step includes a coating step of applying the transfer part 20 to the guide film 30, a rotating step of rotating the transfer part 20, and a baking step of drying the transfer part 20.
  • the start of the curing step may be started from any one of before, during and after the pressing of the master mold is pressed to the transfer portion 20 of the pattern forming step.

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Abstract

나노 임프린트용 레플리카 몰드, 그 제조방법 및 나노 임프린트용 레플리카 몰드 제조장치가 소개된다. 본 발명의 나노 임프린트용 레플리카 몰드는, 플라스틱 필름으로 형성된 베이스; 상기 베이스에 형성된 전사부; 및 상기 베이스에 분리 가능하게 형성되고, 상기 전사부가 노출될 수 있도록 중공이 형성되며, 상기 전사부의 외주면이 번져서 경화되어 형성된 파티클이 형성되는 가이드 필름을 포함하고, 상기 전사부는 레진으로 형성되되, 요철 형상의 패턴이 형성된 것을 특징으로 한다.

Description

나노 임프린트용 레플리카 몰드, 그 제조방법 및 나노 임프린트용 레플리카 몰드 제조장치
본 발명은 나노 임프린트용 레플리카 몰드, 그 제조방법 및 나노 임프린트용 레플리카 몰드 제조장치에 관한 것이다.
나노 임프린트 공정은 포토레지스트(photoresist)를 노광(expose) 및 현상(develop)하여 기판(substrate) 상부에 패턴(pattern)을 형성하는 포토 리소그래피공정(photo lithography process)을 대체하는 기술로서, 패턴이 형성된 스탬프 몰드를 기판 상부의 레진에 전사(stamping)하여 기판 상부에 패턴을 형성하는 공정이다.
이때, 나노 임프린트 공정에 사용되는 스탬프 몰드의 패턴은 레플리카 몰드의 패턴에 전사되어 형성된다.
도 1에 도시된 바와 같이, 일반적으로 패턴(PT)이 형성된 레플리카 몰드(1)가 부착된 롤투롤(roll to roll) 장비의 롤(5)을 스탬프 몰드(2)가 통과하면서 레플리카 몰드(1)의 패턴(PT)이 스탬프 몰드(2)에 전사되어 스탬프 몰드(2)에 패턴(PT)이 형성되는바, 도 2에 도시된 바와 같이, 패턴(PT)은 레플리카 몰드(1), 스탬프 몰드(2) 및 기판(3)에 순차적으로 전사되어 형성되는 것이다.
그러나, 종래의 레플리카 몰드(1)는 니켈(Ni), 구리(Cu) 등 금속 재질로 형성되므로 패턴의 정밀도가 낮고, 제조 공정이 복잡하며, 제조 단가가 높은 문제점이 있었다.
상기한 배경기술로서 설명된 사항들은 본 발명의 배경에 대한 이해 증진을 위한 것일 뿐, 이 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 이미 알려진 종래기술에 해당함을 인정하는 것으로 받아들여져서는 안 될 것이다.
본 발명은 레진으로 형성되어 패턴의 정밀도가 높고, 제조 공정이 단순하며, 제조 단가가 낮은 나노 임프린트용 레플리카 몰드, 그 제조방법 및 나노 임프린트용 레플리카 몰드 제조장치를 제공하는데 그 목적이 있다.
이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 나노 임프린트용 레플리카 몰드는, 플라스틱 필름으로 형성된 베이스; 상기 베이스에 형성된 전사부; 및 상기 베이스에 분리 가능하게 형성되고, 상기 전사부가 노출될 수 있도록 중공이 형성되며, 상기 전사부의 외주면이 번져서 경화되어 형성된 파티클이 형성되는 가이드 필름을 포함하고, 상기 전사부는 레진으로 형성되되, 요철 형상의 패턴이 형성된 것을 특징으로 한다.
이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 나노 임프린트용 레플리카 몰드는, 플라스틱 필름으로 형성된 베이스; 상기 베이스에 형성된 전사부; 및 상기 베이스에 분리 가능하게 형성되고, 상기 전사부가 노출될 수 있도록 중공이 형성되며, 상기 전사부의 외주면이 번져서 경화되어 형성된 파티클이 형성되는 가이드 필름을 포함하고, 상기 전사부는, 상기 가이드 필름에 형성된 중공에 레진을 충진하여 형성된 것을 특징으로 한다.
상기 베이스의 일면에는 탄성을 갖는 쿠션층이 형성될 수 있다.
이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 나노 임프린트용 레플리카 몰드 제조장치는, 베이스에 분리 가능하게 형성되고, 상기 베이스에 형성되는 전사부가 노출될 수 있도록 중공이 형성되며, 상기 전사부의 외주면이 번져서 경화되어 형성된 파티클이 형성되는 가이드 필름의 중공에 레진을 충진하여 상기 전사부를 형성하는 충진부; 일측에 마스터 몰드가 부착되고, 상기 마스터 몰드를 상하로 승강시켜 상기 마스터 몰드의 패턴을 상기 전사부에 전사시키는 가압부; 및 상기 가압부 방향으로 광을 조사하는 조사부를 포함한다.
이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 나노 임프린트용 레플리카 몰드 제조방법은, 베이스에 분리 가능하게 형성되고, 상기 베이스에 형성되는 전사부가 노출될 수 있도록 중공이 형성되며, 상기 전사부의 외주면이 번져서 경화되어 형성된 파티클이 형성되는 가이드 필름의 중공에 레진을 충진하여 상기 전사부를 형성하는 충진단계; 상기 전사부로 마스터 몰드를 이동시키고, 상기 마스터 몰드를 가압하여 패턴을 형성하는 패턴 형성단계; 상기 전사부에 광을 조사하여 상기 전사부를 경화하는 경화단계; 및 상기 가이드 필름을 제거하는 제거단계를 포함한다.
본 발명에 따르면 아래와 같은 다양한 효과를 구현할 수 있게 된다.
첫째, 패턴의 정밀도가 개선되는 이점이 있다.
둘째, 제조 공정이 단순한 이점이 있다.
셋째, 제조 단가가 낮은 이점이 있다.
도 1은 롤투롤 장비의 구성도,
도 2는 레플리카 몰드, 스탬프 몰드, 기판의 패턴 형성 순서도,
도 3은 본 발명의 나노 임프린트용 레플리카 몰드의 구성도,
도 4는 본 발명의 나노 임프린트용 레플리카 몰드에 대한 다른 실시예의 구성도,
도 5는 본 발명의 나노 임프린트용 레플리카 몰드의 파티클 제거에 대한 구성도,
도 6은 본 발명의 나노 임프린트용 레플리카 몰드의 파티클 제거에 대한 평면도를 나타낸 도면이다.
본 발명의 목적, 특정한 장점들 및 신규한 특징들은 첨부된 도면들과 연관되는 이하의 상세한 설명과 실시 예로부터 더욱 명백해질 것이다. 본 명세서에서 각 도면의 구성 요소들에 참조 번호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 한해서는 비록 다른 도면 상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 번호를 가지도록 하고 있음에 유의하여야 한다. 또한, 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성 요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성 요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다.
도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 나노 임프린트용 레플리카 몰드는, 베이스(10) 및 베이스(10)에 형성되는 전사부(20)를 포함한다.
베이스(10)는 전사부(20)를 지지하는 기능을 하는 것으로, 기판(substrate), 필름(film) 등으로 형성될 수 있는바, 필름(film) 중에서도 플라스틱 필름이 사용될 수 있으며, 본 발명자는 플라스틱 필름의 한 종류인 PET 필름(Polyethylene phthalate film)을 베이스(10)로 사용하였다.
전사부(20)는 레진(resin)으로 형성되며, 후속 공정을 위하여 자외선(ultraviolet, UV), 전자선(electron beam, EB) 등 광(light)에 의해 경화되는 광경화성 레진(light curable resin)으로 형성하는 것이 바람직하다.
전사부(20)는 원형으로 형성될 수 있는바, 전사부(20)는 마스터 몰드에 의해 전사(stamping)되어 마스터 몰드에 형성된 패턴(pattern)에 대응되는 패턴이 형성된다. 즉, 마스터 몰드의 일면에 형성된 요철 형상의 패턴이 전사(stamping)되어 전사부(20)에 상술한 마스터 몰드의 패턴과 대응되는 요철 형상의 패턴이 형성되는바, 마스터 몰드의 패턴과 반대되는 패턴이 레플리카 몰드에 형성되는 것이다.
예를 들어, 마스터 몰드에 형성된 凹 형상의 패턴이 레플리카 몰드에 전사되는 경우, 레플리카 몰드의 전사부(20)에 凹 형상의 패턴과 반대되는 凸 형상의 패턴이 형성되고, 레플리카 몰드의 전사부(20)에 형성된 凸 형상의 패턴이 스탬프 몰드에 전사되어 스탬프 몰드에 凹 형상의 패턴이 형성되며, 스탬프 몰드에 형성된 凹 형상의 패턴이 기판에 전사되어 기판에 凸 형상의 패턴이 형성된다.
레플리카 몰드의 패턴은 스탬프 몰드에 전사되고, 스탬프 몰드의 패턴은 기판에 전사되므로, 레플리카 몰드 및 기판의 패턴은 동일하게 형성되고, 스탬프 몰드의 패턴과는 반대되는 형상으로 형성된다.
한편, 마스터 몰드는 실리콘 웨이퍼(Si wafer), 석영(quartz) 등 일 수 있다.
이와 같이, 레플리카 몰드는 니켈, 구리 등 금속이 아닌 레진으로 형성되므로 패턴의 정밀도가 개선되는 이점이 있다.
또한, 종래의 레플리카 몰드는 니켈, 구리 등 금속을 전기 도금하는 방식으로 제조되는 반면, 본 발명의 레플리카 몰드는 전사를 통해 형성되므로 제조공정이 단순해지고, 생산 속도가 개선되며, 제조 단가가 낮아지는 이점을 갖는다.
도 4 내지 도 6에 도시된 바와 같이, 본 발명의 나노 임프린트용 레플리카 몰드는, 베이스(10), 전사부(20), 가이드 필름(30), 쿠션층(40)을 포함한다.
마스터 몰드를 레플리카 몰드에 전사할 때, 레플리카 몰드의 전사부(20) 외주면이 번져 파티클(P)이 형성될 수 있다. 즉, 전사되기 전 전사부(20)의 외주면보다 전사된 후 전사부(20)의 외주면이 확장되어 번지면서, 번진 부분이 경화되어 파티클(P)이 형성되는 것이다.
파티클(P)이 형성된 레플리카 몰드가 스탬프 몰드에 전사되면, 스탬프 몰드의 패턴이 손상되어 불량이 발생하는 문제점이 있다.
따라서, 스탬프 몰드의 패턴 손상 방지를 위해 레플리카 몰드의 전사부(20)의 파티클(P) 형성을 방지하거나, 제거하는 것은 매우 중요한 요소이다.
본 발명에서는 전사부(20)에 형성되는 파티클(P) 제거를 위해 가이드 필름(30)을 도입하였다. 즉, 베이스(10)에 전사부(20)와 대응되는 중공이 형성된 가이드 필름(30)을 위치시킴으로써, 전사부(20) 외주면에 파티클(P)이 형성되는 것을 방지하였다.
이하에서는 가이드 필름(30)에 대하여 상세히 설명한다.
도 5 및 도 6에 도시된 바와 같이, 가이드 필름(30)에는 전사부(20)와 대응되는 형상의 중공이 형성된다. 전사부(20)가 원형인 경우, 가이드 필름(30)의 중공 역시 이와 대응될 수 있도록 원형으로 형성된다.
따라서, 중공을 통해 전사부(20)가 외부로 노출되고, 마스터 몰드를 레플리카 몰드에 전사할 때, 파티클(P)은 전사부(20)의 외주면이 아닌 가이드 필름(30) 상에 형성된다
이후, 가이드 필름(30)을 제거하면 간단하게 가이드 필름(30)에 형성된 파티클(P)도 함께 제거할 수 있게 된다.
이와 같이, 가이드 필름(30)을 이용하여 파티클(P)을 제거함으로써, 레플리카 몰드를 스탬프 몰드에 전사할 때, 전사부(20)에 파티클(P)이 형성되는 것을 방지할 수 있는바, 스탬프 몰드 패턴 손상 내지 불량 발생을 방지할 수 있게 된다.
한편, 레플리카 몰드를 스탬프 몰드에 전사하기 위해서 레플리카 몰드를 롤투롤 장비의 롤 또는 압착 장비의 기판에 부착하는데, 레플리카 몰드가 부착되는 롤 또는 기판의 면이 불균일하거나, 파티클 등이 존재하면, 두께가 얇은 베이스(10)를 통해 레진 재질로 형성된 전사부(20)가 영향을 받기 때문에, 스탬프 몰드에 전사 시 패턴을 손상시켜 불량이 발생하는 문제점이 있다.
본 발명에서는 베이스(10)에 쿠션층(40)을 형성하여 전사 시 레플리카 몰드의 전사부(20)가 영향을 받는 것을 방지하였다. 즉, 전사부(20)가 형성된 베이스(10)의 일면과 반대되는 이면에 탄성을 갖는 쿠션층(40)을 형성함으로써, 상술한 문제점을 해결한 것이다.
쿠션층(40)은 베이스(10)보다 얇고, 가이드 필름(30)보다 두껍게 형성되는 것이 바람직하고, 쿠션층(40)의 일면에는 중공이 형성되지 않은 가이드 필름이 부착될 수 있다.
또한 쿠션층(40)은 실리콘(Si)일 수 있고, 베이스(10)에 코팅하여 형성될 수 있다.
본 발명의 나노 임프린트용 레플리카 몰드에 따르면, 레플리카 몰드가 부착되는 롤 또는 기판의 면이 불균일하거나, 파티클 등이 존재하더라도, 탄성을 갖는 쿠션층(40)이 롤 또는 기판으로부터 전해지는 불균일한 압력을 완화해주기 때문에, 불균일한 압력이 베이스(10)를 통해 전사부(20)로 전달되어 전사부(20)가 영향을 받는 것을 방지할 수 있게 된다.
이하에서는 본 발명의 나노 임프린트용 레플리카 몰드 제조장치에 대하여 설명한다.
본 발명의 나노 임프린트용 레플리카 몰드 제조장치는, 충진부, 가압부, 조사부를 포함한다.
충진부는 베이스(10)에 전사부(20)를 충진하는데, 베이스(10)에 중공이 형성된 가이드 필름(30)이 존재하는 경우에는 가이드 필름(30)의 중공에 전사부(20)을 충진한다.
이러한 충진부는 스핀 코팅(spin coating) 방식으로 전사부(20)를 충진할 수 있는바, 전사부(20)를 도포하는 노즐 및 전사부(20)를 회전시키는 모터를 포함할 수 있다.
가압부는 상하 작동 가능한 실린더(cylinder), 리니어 모터(linear motor) 등을 포함하고, 그 일면에는 마스터 몰드가 부착된다. 마스터 몰드가 가압부와 연동되어 승강되므로 마스터 몰드의 패턴이 전사부(20)에 전사되어 패턴이 형성된다.
조사부에서는 가압부 방향으로 자외선, 전자선 등 광을 조사한다. 즉, 가압부에 위치하는 전사부(20)에 자외선, 전자선 등 광을 조사하여 전사부(20)를 경화하는 것이다.
상술한 나노 임프린트용 레플리카 몰드 제조장치에 의해 레플리카 몰드를 제조하는 과정을 간략하게 설명한다.
본 발명의 나노 임프린트용 레플리카 몰드 제조방법은, 가이드 필름(30)에 형성된 중공에 전사부(20)를 충진하는 충진단계, 전사부(20)에 마스터 몰드를 가압하여 패턴을 형성하는 패턴 형성단계, 전사부(20)에 자외선, 전자선 등 광을 조사하여 전사부를 경화(20)하는 경화단계, 가이드 필름(30)을 제거하는 제거단계를 포함한다.
충진단계는 가이드 필름(30)에 전사부(20)를 도포하는 도포단계와 전사부(20)를 회전하는 회전단계 및 전사부(20)를 건조하는 베이킹 단계를 포함한다.
한편, 경화단계의 시작은 패턴 형성단계의 전사부(20)에 마스터 몰드가 가압되기 전, 가압되는 중, 가압되는 후 중 어느 하나부터 시작될 수 있다.
이상 본 발명을 구체적인 실시 예를 통하여 상세히 설명하였으나, 이는 본 발명을 구체적으로 설명하기 위한 것으로, 본 발명에 따른 설명에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당해 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 그 변형이나 개량이 가능함은 명백하다고 할 것이다.
본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 모두 본 발명의 영역에 속하는 것으로 본 발명의 구체적인 보호범위는 첨부된 특허청구범위에 의하여 명확해 질 것이다.
[부호의 설명]
10 : 베이스 20 : 전사부
30 : 가이드 필름 40 : 쿠션층

Claims (5)

  1. 플라스틱 필름으로 형성된 베이스;
    상기 베이스에 형성된 전사부; 및
    상기 베이스에 분리 가능하게 형성되고, 상기 전사부가 노출될 수 있도록 중공이 형성되며, 상기 전사부의 외주면이 번져서 경화되어 형성된 파티클이 형성되는 가이드 필름을 포함하고,
    상기 전사부는 레진으로 형성되되, 요철 형상의 패턴이 형성된, 나노 임프린트용 레플리카 몰드.
  2. 플라스틱 필름으로 형성된 베이스;
    상기 베이스에 형성된 전사부; 및
    상기 베이스에 분리 가능하게 형성되고, 상기 전사부가 노출될 수 있도록 중공이 형성되며, 상기 전사부의 외주면이 번져서 경화되어 형성된 파티클이 형성되는 가이드 필름을 포함하고,
    상기 전사부는, 상기 가이드 필름에 형성된 중공에 레진을 충진하여 형성된 것을 특징으로 하는, 나노 임프린트용 레플리카 몰드.
  3. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 베이스의 일면에는 탄성을 갖는 쿠션층이 형성된 것을 특징으로 하는, 나노 임프린트용 레플리카 몰드.
  4. 베이스에 분리 가능하게 형성되고, 상기 베이스에 형성되는 전사부가 노출될 수 있도록 중공이 형성되며, 상기 전사부의 외주면이 번져서 경화되어 형성된 파티클이 형성되는 가이드 필름의 중공에 레진을 충진하여 상기 전사부를 형성하는 충진부;
    일측에 마스터 몰드가 부착되고, 상기 마스터 몰드를 상하로 승강시켜 상기 마스터 몰드의 패턴을 상기 전사부에 전사시키는 가압부; 및
    상기 가압부 방향으로 광을 조사하는 조사부를 포함하는, 나노 임프린트용 레플리카 몰드 제조장치.
  5. 베이스에 분리 가능하게 형성되고, 상기 베이스에 형성되는 전사부가 노출될 수 있도록 중공이 형성되며, 상기 전사부의 외주면이 번져서 경화되어 형성된 파티클이 형성되는 가이드 필름의 중공에 레진을 충진하여 상기 전사부를 형성하는 충진단계;
    상기 전사부로 마스터 몰드를 이동시키고, 상기 마스터 몰드를 가압하여 패턴을 형성하는 패턴 형성단계;
    상기 전사부에 광을 조사하여 상기 전사부를 경화하는 경화단계; 및
    상기 가이드 필름을 제거하는 제거단계를 포함하는, 나노 임프린트용 레플리카 몰드의 제조방법.
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