WO2017187630A1 - タンク、ターゲット生成装置、及び、極端紫外光生成装置 - Google Patents

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tank body
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俊行 平下
敏博 西坂
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Gigaphoton Inc
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Gigaphoton Inc
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    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05G—X-RAY TECHNIQUE
    • H05G2/00—Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
    • H05G2/001—Production of X-ray radiation generated from plasma
    • H05G2/002—Supply of the plasma generating material
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70008—Production of exposure light, i.e. light sources
    • G03F7/70033—Production of exposure light, i.e. light sources by plasma extreme ultraviolet [EUV] sources

Definitions

  • the present disclosure relates to a tank, a target generation device, and an extreme ultraviolet light generation device.
  • an LPP Laser Produced Plasma
  • DPP discharge Produced Plasma
  • a tank according to an aspect of the present disclosure includes a tank body having an opening therein and an opening that communicates with the space, a lid body that covers the opening of the tank body and a peripheral edge portion of the opening, and the tank body and the lid body at the peripheral edge portion.
  • Bolts to be fixed a first support portion that surrounds the opening in a region closer to the opening than the bolt and supports the lid, and an opening in a region closer to the opening than the first support between the tank body and the lid
  • a second support portion having a height lower than that of the first support portion, and an opening in a region on the opening side of the first support portion between the tank body and the lid.
  • a sealing member is provided.
  • a target generation device includes a tank main body having a space filled with a molten metal and having an opening communicating with the space, a cover that covers the opening of the tank main body and a peripheral edge of the opening, and a peripheral edge
  • a second support portion that is disposed so as to surround the opening in a region closer to the opening than the first portion and has a height lower than the height of the first support portion, and is more open than the first support portion between the tank body and the lid.
  • an extreme ultraviolet light generation device includes a tank body having a space filled with molten metal and having an opening communicating with the space, and a lid body that covers the opening of the tank body and a peripheral portion of the opening. And a bolt for fixing the tank body and the lid at the peripheral edge, a first support part that surrounds the opening in the region closer to the opening than the bolt and supports the lid, and between the tank body and the lid A second support portion disposed surrounding the opening in a region closer to the opening than the first support portion and having a height lower than the height of the first support portion; and the first support portion between the tank body and the lid body A sealing member that surrounds the opening in a region closer to the opening, a nozzle that is connected to the tank body and discharges a target made of molten metal in the space in the chamber, and a target that is output from the nozzle.
  • FIG. 1 is a schematic diagram illustrating a schematic configuration example of an EUV light generation apparatus according to a comparative example.
  • FIG. 2 is a diagram illustrating the target generation device of FIG.
  • FIG. 3 is an enlarged view of a region surrounded by a broken line in FIG.
  • FIG. 4 is a diagram illustrating the target generation device according to the first embodiment.
  • FIG. 5 is an enlarged view of a region surrounded by a broken line in FIG.
  • FIG. 6 is a diagram showing the color of FIG.
  • FIG. 7 is a cross-sectional view of the collar taken along line VV in FIG.
  • FIG. 8 is a diagram illustrating the target generation device according to the second embodiment.
  • FIG. 1 is a schematic diagram illustrating a schematic configuration example of an EUV light generation apparatus according to a comparative example.
  • FIG. 2 is a diagram illustrating the target generation device of FIG.
  • FIG. 3 is an enlarged view of a region surrounded by a broken line in FIG.
  • FIG. 9 is an enlarged view of a region surrounded by a broken line in FIG.
  • FIG. 10 is a diagram illustrating the target generation device according to the third embodiment.
  • FIG. 11 is an enlarged view of a region surrounded by a broken line in FIG.
  • FIG. 12A is a diagram illustrating an example of a cross section of a gasket that can be used as a sealing member.
  • FIG. 12B is a diagram illustrating an example of a cross section of another gasket that can be used as a sealing member.
  • FIG. 12C is a diagram illustrating an example of a cross section of still another gasket that can be used as a sealing member.
  • FIG. 12D is a view showing an example of a cross section of still another gasket that can be used as a sealing member.
  • Embodiments of the present disclosure relate to a tank, a target generation device, and an extreme ultraviolet light generation device.
  • the present invention relates to a tank, a target generation device, and an extreme ultraviolet light generation device that can suppress the occurrence of damage such as cracks in the tank.
  • extreme ultraviolet light may be referred to as EUV light. Therefore, the extreme ultraviolet light generation device may be referred to as an EUV light generation device.
  • FIG. 1 is a schematic diagram illustrating a schematic configuration example of an EUV light generation apparatus according to a comparative example.
  • the EUV light generation apparatus 1 includes a chamber 2, a laser beam traveling direction controller 34, and a control unit 5.
  • the EUV light generation apparatus 1 is normally used with a laser apparatus 3 added.
  • the chamber 2 includes a target generation device 20, a laser condensing optical system 220, an EUV condensing mirror 23, a target recovery unit 28, and an exhaust device 210.
  • the laser focusing optical system 220 includes a moving plate 221 on which the laser beam focusing mirror 22 and the high reflection mirror 222 are mounted, and a laser beam manipulator 223.
  • the target generation device 20 is provided in a sub-chamber 201 connected to the chamber 2.
  • the target generation device 20 includes a tank 40 and a nozzle 50.
  • the tank 40 stores therein a target material 271 made of molten metal. Examples of the target material 271 include tin, terbium, gadolinium, lithium, xenon, or a combination of any two or more thereof.
  • the nozzle 50 outputs the target material 271 as a droplet-like target 27.
  • the inside of the tank 40 communicates with a pressure regulator 120 that adjusts the gas pressure via a pipe 121.
  • the gas pressure inside the tank 40 may be referred to as tank internal pressure.
  • the piezo element 111 is installed in the nozzle 50.
  • the piezo element 111 is connected to the piezo power source 112, and the heater 141 is connected to the heater power source 143.
  • the temperature sensor 142 and the heater 141 are arranged in the tank body.
  • the piezo power source 112, the pressure regulator 120, the temperature sensor 142, and the heater power source 143 are each connected to the control unit 5.
  • the laser beam traveling direction controller 34 includes an optical element for defining the traveling direction of the laser beam and an actuator for adjusting the position, posture, and the like of the optical element.
  • a window 21 is provided on the wall of the chamber 2.
  • the window 21 is output from the laser device 3, and a pulse laser beam 32 whose traveling direction is adjusted by a laser beam traveling direction controller 34 is transmitted therethrough.
  • the laser condensing optical system 220 is arranged so that the pulsed laser light 32 emitted from the laser light traveling direction controller 34 is incident thereon.
  • the laser beam manipulator 223 moves the moving plate 221 on which the laser beam focusing mirror 22 and the high reflection mirror 222 are fixed to the X axis so that the laser focusing position in the chamber 2 is a position designated by the control unit 5. , Move in the Y-axis and Z-axis directions.
  • the EUV collector mirror 23 has first and second focal points. On the surface of the EUV collector mirror 23, for example, a multilayer reflective film in which molybdenum and silicon are alternately laminated is formed.
  • the EUV collector mirror 23 is preferably arranged such that, for example, the first focal point thereof is located in the plasma generation region 25 and the second focal point thereof is located at the intermediate focal point (IF) 292.
  • IF intermediate focal point
  • a through hole 24 through which the pulse laser beam 33 passes is provided at the center of the EUV collector mirror 23.
  • the EUV light generation apparatus 1 includes a control unit 5, a target sensor 4, and the like.
  • the target sensor 4 has an imaging function and is configured to detect the presence, trajectory, position, speed, and the like of the target 27.
  • the EUV light generation apparatus 1 includes a connection portion 29 that allows the inside of the chamber 2 and the inside of the exposure apparatus 6 to communicate with each other.
  • a wall 291 in which an aperture 293 is formed is provided inside the connection portion 29.
  • the wall 291 is preferably arranged so that its aperture 293 is located at the second focal position of the EUV collector mirror 23.
  • the target collection unit 28 collects unnecessary targets 27.
  • the EUV light generation apparatus 1 includes a hydrogen gas supply unit 301, a flow rate controller 302, a gas nozzle 303, and a gas pipe 304.
  • the EUV light generation apparatus 1 further includes a pressure sensor 305.
  • the hydrogen gas supply unit 301 is connected to a gas nozzle 303 via a gas pipe 304.
  • the hydrogen gas supply unit 301 supplies, for example, a balance gas having a hydrogen gas concentration of about 3% to the gas pipe 304.
  • the balance gas may contain nitrogen (N 2 ) gas or argon (Ar) gas.
  • the gas nozzle 303 is provided in the sub-chamber 201 so that the blown-out hydrogen gas flows in the vicinity of the nozzle 50 of the target generation device 20.
  • a flow rate regulator 302 is provided in a gas pipe 304 between the hydrogen gas supply unit 301 and the gas nozzle 303.
  • the pressure sensor 305 For the pressure sensor 305, a cold cathode ionization gauge, a Pirani gauge, a capacitance manometer, or the like is used.
  • the exhaust device 210 is used as a removal device that removes moisture in the chamber 2.
  • the pressure sensor 305 and the flow rate regulator 302 are connected to the control unit 5.
  • FIG. 2 is an enlarged view of the target generation device 20 of FIG.
  • the heater 141, the temperature sensor 142, and the piezo element 111 described in FIG. 1 are omitted.
  • the tank 40 includes a tank body 41 and a lid body 42.
  • the tank body 41 is a cylindrical member having a space 41S inside and having an opening 41A communicating with the space 41S above, and is generally cylindrical in this example.
  • the tank body 41 is preferably made of, for example, molybdenum, tantalum, or tungsten, which hardly reacts with tin.
  • a peripheral edge portion 41R of the opening 41A which is an end portion of the tank main body 41, is a portion that supports the lid body 42.
  • the lid body 42 is a plate-like member having a substantially flat bottom surface, and covers the opening 41A of the tank body 41 and the peripheral edge portion 41R of the opening 41A.
  • the lid 42 covers the opening 41 ⁇ / b> A of the tank body 41 and the opening of the chamber 2.
  • the lid body 42 is fixed to the tank body 41 by screwing a plurality of bolts 43 into the tank body 41 at the peripheral edge portion 41R.
  • the number of bolts 43 is, for example, 16.
  • the lid body 42 is made of, for example, stainless steel.
  • bolt 43 consists of the same material as the cover body 42, for example, is formed from stainless steel.
  • FIG. 3 is an enlarged view of a region surrounded by a broken line in FIG. 2, and shows a state where the lid body 42 is fixed on the peripheral edge portion 41 ⁇ / b> R of the tank main body 41 with bolts 43.
  • a groove 41G for disposing a sealing member is provided in the peripheral portion 41R of the tank body 41 so as to surround the opening 41A on the opening 41A side of the bolt 43, that is, on the inner peripheral side of the bolt 43. Is formed.
  • An inner O-ring 44 as a sealing member is disposed in the groove 41G over the entire circumference.
  • the inner O-ring 44 is a tubular member formed in a ring shape.
  • the inner O-ring 44 is made of a metal, for example, a tube-shaped stainless steel whose outer surface is silver-plated.
  • the width 41Gw of the groove 41G is made larger than the diameter of the tube of the inner O-ring 44, and the depth of the groove 41G is made smaller than the diameter of the tube of the inner O-ring 44.
  • the depth of the groove 41G is 1.25 mm, and the diameter of the inner O-ring tube is 1.6 mm. For this reason, when the lid 42 is not disposed, a part of the inner O-ring 44 disposed in the groove 41G protrudes upward from the groove 41G.
  • the inner O-ring 44 is deformed so as to be crushed by the pressing force from the lid body 42 in a state where the lid body 42 is disposed on the peripheral edge portion 41R and the bolt 43 is tightened.
  • the tank 40 is sealed inside the bolt 43 by filling a gap with the body 42.
  • the silver plating is preferably deformed to fill a fine gap.
  • the outer peripheral surface of the inner O-ring 44 is in contact with the outer wall of the groove 41G, and the inner O-ring 44 and the groove 41G are in contact with each other.
  • a gap is formed between the inner wall and the inner wall.
  • the inner O-ring 44 can generate a sufficient repulsive force.
  • the thickness of the tube is, for example, 0.35 mm. Is done.
  • a groove 41N for disposing a sealing member is formed in the peripheral edge portion 41R of the tank body 41 so as to surround the opening 41A on the side opposite to the opening 41A with respect to the bolt 43, that is, on the outer peripheral side of the bolt 43.
  • An outer O-ring 45 as a sealing member is disposed in the groove 41N.
  • the configuration of the outer O-ring 45 is the same as that of the inner O-ring 44 except for the diameter, for example.
  • the depth of the groove 41N is the same as that of the groove 41G, for example. Accordingly, the outer O-ring 45 is deformed so as to be crushed in a state in which the lid body 42 is disposed and the bolt 43 is tightened, and the gap between the tank body 41 and the lid body 42 is filled. On the outside, the tank 40 is sealed.
  • a through hole is formed in the approximate center of the lid body 42, and a pipe 121 communicates with the through hole to form a gas passage.
  • the diameter of this gas passage is 8 mm, for example.
  • the nozzle 50 is fixed to the tank body 41 with a plurality of bolts 51 below the tank body 41 as shown in FIG.
  • a nozzle hole is formed in the nozzle 50, and the nozzle hole communicates with an opening below the tank body 41 so that the target material in the tank body 41 can be output from the nozzle hole.
  • a groove 2 ⁇ / b> G for disposing a sealing member is formed in the peripheral portion 2 ⁇ / b> R in contact with the lid body 42 of the chamber 2.
  • a chamber O-ring 204 as a sealing member is disposed over the entire circumference.
  • the chamber O-ring 204 has the same shape as the inner O-ring 44 except for the diameter, and the material of the chamber O-ring 204 is made of the same material as the inner O-ring 44, for example. Or you may be comprised with resin.
  • the chamber O-ring 204 is deformed so as to be crushed when the lid 42 is disposed on the peripheral edge 2R of the chamber 2 and the bolt 43 is tightened, so that the space between the chamber 2 and the lid 42 is reduced.
  • the chamber 2 is sealed by filling the gap.
  • the inside of the chamber 2 having the above configuration is generally evacuated, and a gas such as hydrogen remains slightly as will be described later. Further, an area not filled with the target material 271 in the space 41S in the tank 40 is filled with an inert gas such as argon.
  • the pressure in the tank 40 is 40 MPa, for example. Since the inside of the tank 40 is set to a high pressure in this way, the inner O-ring 44 is high so that the gas in the tank 40 does not leak when it is crushed by the pressing force from the lid 42 by tightening the bolts 43. The tank body 41 and the lid body 42 are pushed back by the repulsive force.
  • the target generation device 20 is assembled to the chamber 2 by tightening the respective bolts 43 during maintenance, for example.
  • the control unit 5 operates the exhaust device 210 to exhaust the atmosphere in the chamber 2.
  • purging and exhausting in the chamber 2 may be repeated for exhausting atmospheric components.
  • an inert gas such as nitrogen (N 2 ) or argon (Ar) is preferably used as the purge gas.
  • the control unit 5 starts introducing hydrogen gas from the hydrogen gas supply unit 301 into the chamber 2.
  • Hydrogen gas is preferably introduced into the chamber 2 at a low flow rate.
  • the control unit 5 may control the flow rate regulator 302 so that the value of the pressure sensor 305 is maintained at the second predetermined pressure. Thereafter, the control unit 5 stands by until a predetermined time elapses from the start of hydrogen gas introduction.
  • the controller 5 supplies a current from the heater power supply 143 to raise the temperature of the heater 141 in order to heat and maintain the target material 271 in the tank 40 at a predetermined temperature equal to or higher than the melting point. Further, the control unit 5 adjusts the amount of current supplied from the heater power supply 143 to the heater 141 based on the output from the temperature sensor 142, and controls the temperature of the target material 271 to a predetermined temperature.
  • the predetermined temperature is, for example, a temperature within a temperature range of 250 ° C. to 290 ° C. when tin is used as the target material 271.
  • the control unit 5 controls the pressure in the tank to a predetermined pressure by the pressure regulator 120 so that the target material 271 melted from the nozzle hole of the nozzle 50 is output at a predetermined speed.
  • the target material 271 discharged from the nozzle hole may take the form of a jet.
  • the control unit 5 applies a voltage having a predetermined waveform to the piezo element 111 via the piezo power source 112 in order to generate the target 27 of the target material 271.
  • the vibration of the piezo element 111 can propagate through the nozzle 50 to the jet of the target material 271 output from the nozzle hole.
  • the jet of the target material 271 is divided at a predetermined period by this vibration. Thereby, the target 27 of the target material 271 is generated, and the generated target 27 becomes a droplet.
  • Control unit 5 outputs a light emission trigger to laser device 3.
  • the laser device 3 When a light emission trigger is input, the laser device 3 outputs a pulse laser beam 31.
  • the output pulsed laser light 31 is incident on the laser focusing optical system 220 as the pulsed laser light 32 via the laser light traveling direction controller 34 and the window 21.
  • the control unit 5 controls the laser light manipulator 223 so that the pulsed laser light 32 is condensed in the plasma generation region 25.
  • the pulsed laser light 33 converted into convergent light by the laser light collecting mirror 22 is irradiated to the target 27 in the plasma generation region 25.
  • EUV light 252 is generated from the plasma generated by this irradiation.
  • EUV light 252 is periodically generated.
  • the EUV light 252 generated from the plasma generation region 25 is condensed at the intermediate condensing point 292 by the EUV condensing mirror 23 and then input to the exposure apparatus 6 as described with reference to FIG.
  • the pressure in the tank 40 is, for example, 40 MPa.
  • the inner O-ring 44 sealing the inside of the tank 40 having such a high pressure can generate a large repulsive force due to the tube being crushed and deformed. For this reason, when the inner O-ring 44 is crushed, the force to spread outward is also increased.
  • the outer peripheral surface of the inner O-ring 44 comes into contact with the outer wall of the groove 41G which is a part of the tank body 41. Therefore, not only the repulsive force that the tube of the inner O-ring 44 tries to return to the original but also the force that tries to spread outward due to the deformation of the inner O-ring 44 is directly applied to the tank body 41. . Therefore, there is a concern that the tank body 41 may be deformed or cracked unless the strength of the tank body 41 is increased.
  • Embodiment 1 Next, a tank, a target generation device, and an EUV light generation device according to Embodiment 1 will be described in detail with reference to the drawings.
  • the same components as those described above are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted unless specifically described.
  • FIG. 4 is a diagram illustrating the target generation device 20 according to the present embodiment.
  • FIG. 5 is an enlarged view of a region surrounded by a broken line in FIG. 4, and shows a state where the lid body 42 is fixed on the peripheral edge portion 41 ⁇ / b> R of the tank main body 41 with the bolts 43.
  • the width 41Gw of the groove 41G formed in the peripheral portion 41R of the tank body 41 of the present embodiment is formed larger than the width 41Gw of the groove 41G in the comparative example.
  • the collar 60 is disposed on the outer peripheral side in the groove 41G.
  • FIG. 6 shows a color.
  • the collar 60 is a circular ring-shaped member, and the thickness of the collar 60 is slightly thinner than the depth of the groove 41G.
  • the collar 60 is formed to be about 0.1 mm thinner than the depth of the groove 41G.
  • the thickness of the collar 60 is 1.15 mm. It is said.
  • the depth of the groove 41G is made smaller than the diameter of the tube of the inner O-ring 44 as in the comparative example. Therefore, the inner O-ring 44 is deformed so as to be crushed by the pressing force from the lid body 42 in a state where the bolt 43 is tightened and the lid body 42 is fixed to the tank body 41. In this state, the outer peripheral surface of the inner O-ring 44 is in contact with the inner peripheral surface of the collar 60, and a gap is formed between the inner O-ring 44 and the inner wall of the groove 41G. .
  • the width of this gap is, for example, about 0.2 mm.
  • the height of the first support portion 46 is the groove 41G. It is equivalent to the depth of.
  • the first support 46 integrated with the tank main body 41 is disposed so as to surround the opening 41 ⁇ / b> A in a region closer to the opening 41 ⁇ / b> A than the bolt 43, and supports the lid 42.
  • the width 46w of the first support portion 46 is, for example, 25 mm.
  • the second support portion which is a separate body from the tank main body 41, is an area between the tank main body 41 and the lid body 42 on the opening 41A side than the first support portion 46.
  • the inner O-ring 44 as a sealing member is disposed in a region closer to the opening 41A than the second support portion.
  • the thickness of the collar 60 is the height of the second support portion, and the thickness of the collar 60 is made thinner than the depth of the groove 41G as described above, so the second support portion is the first support portion 46. It will have a height lower than the height.
  • the width 60w of the collar 60 which is the second support portion is larger than the thickness of the collar 60, for example, 4.8 to 11.2 mm.
  • the width 60w of the collar 60 is, for example, the diameter of the tube of the inner O-ring 44 before being deformed to be crushed. 3 times to 7 times.
  • the width 60 w of the collar 60 that is the second support portion is smaller than the width 46 w of the first support portion 46.
  • the height of the third support portion 47 is equal to the height of the first support portion 46. Accordingly, the third support portion 47 supports the lid body 42 together with the first support portion 46.
  • the width 47w of the third support portion 47 is, for example, 1 to 1.15 mm. In this embodiment, the width 47w of the third support portion 47 is larger than the width 46w of the first support portion 46 and the width 60w of the collar 60. It is made smaller.
  • FIG. 7 is a cross-sectional view of the collar 60 taken along line VV in FIG.
  • the collar 60 has a front surface 61 and a back surface 62.
  • the thickness of the inner peripheral portion 63 is larger than the thickness of the outer peripheral portion 64, and on the front surface 61, the inner peripheral portion 63 is more convex than the outer peripheral portion 64, and the back surface 62 has a substantially flat structure. .
  • a plurality of grooves 61G are formed from the inner peripheral side toward the outer peripheral side in the inner peripheral portion 63 that is convex on the front surface, and grooves 62G are formed on the back surface 62 at positions corresponding to the grooves 61G. Yes. Further, a through hole 60H that connects the groove 61G and the groove 62G is formed.
  • the collar 60 is preferably made of a material having a thermal expansion coefficient equivalent to that of the bolt 43. When the bolt 43 is made of stainless steel as described above, the bolt 43 is also preferably made of stainless steel. Further, when the target material 271 is made of tin, the collar 60 is preferably made of molybdenum, tantalum, or tungsten, which hardly reacts with tin.
  • the front surface 61 faces the lid 42 side
  • the back surface 62 faces the bottom side of the groove 41G.
  • the groove 61G of the collar 60 forms a passage with the lid 42
  • the groove 62G forms a passage with the tank body 41.
  • the thickness of the inner peripheral portion 63 of the collar 60 is larger than the thickness of the outer peripheral portion 64 as described above, a gap is formed between the outer peripheral portion 64 and the lid 42 on the surface 61 of the collar 60.
  • the lid 42 is formed with a leak check through hole 42R.
  • the leak confirmation through hole 42R is formed at a position where at least a portion thereof overlaps the collar 60 in the thickness direction of the lid body 42, and at least a portion thereof overlaps the outer peripheral portion 64 in the present embodiment. Accordingly, the leak check through hole 42R is connected to the gap between the outer peripheral portion 64 and the lid body 42, and the groove 61G is connected to the leak check through hole 42R through the gap. As described above, since the groove 61G and the groove 62G are connected by the through-hole 60H, the passage made of the groove 61G, the passage made of the through-hole 60H, and the passage made of the groove 62G are checked for leakage of the lid 42. The through hole 42R for use and the space on the inner peripheral surface side of the collar 60 are connected.
  • the tank 40 of this embodiment has a different structure from the tank 40 of the comparative example as described above.
  • the configurations of the target generation device 20 and the EUV light generation device 1 of the present embodiment are the same as those of the comparative example except for the difference in the structure of the tank 40.
  • the outer peripheral surface of the inner O-ring 44 is directly applied to the tank main body 41 when the inner O-ring 44 is deformed so that the lid 42 is fixed to the tank main body 41. Abut. Therefore, in the tank 40 of the comparative example, the stress from the inner O-ring 44 is directly transmitted to the tank body 41, and the tank body 41 may be damaged.
  • the collar 60 which is a separate body from the tank body 41, receives a force from the inner O-ring 44, thereby suppressing the tank body 41 from being damaged such as cracks. be able to.
  • the tank 40 includes a tank body 41 having a space 41S therein and an opening 41A communicating with the space 41S, and an opening 41A and an opening of the tank body 41.
  • a lid 42 covering the peripheral edge of 41A, an inner O-ring 44 as a sealing member disposed so as to surround the opening 41A between the tank body 41 and the lid 42, and an outer periphery of the inner O-ring 44
  • a tank main body 41 and a separate collar 60 with which the outer peripheral surface of the surrounding inner O-ring 44 abuts are provided.
  • the width 60 w of the collar 60 is set to be not less than 3 times and not more than 7 times the diameter of the tube of the inner O-ring 44. Accordingly, the force received by the collar 60 from the inner O-ring 44 can be further reduced from being transmitted to the tank body 41.
  • the first support portion 46 is disposed so as to surround the opening 41 ⁇ / b> A in the region on the opening 41 ⁇ / b> A side from the bolt 43 and supports the lid body 42.
  • the collar 60 as the second support portion having a height lower than the height of the first support portion 46 is located in the region closer to the opening 41A than the first support portion 46 between the tank body 41 and the lid body 42. It is arranged so as to surround the opening 41A.
  • an inner O-ring 44 as a sealing member is disposed between the tank body 41 and the lid body 42 so as to surround the opening 41A in a region closer to the opening 41A than the first support portion 46.
  • the lid body 42 can be supported by the first support section 46 closer to the bolt 43 than when the collar 60 as the second support section supports the lid body 42. For this reason, it can suppress that the cover body 42 deform
  • the lid 42 has the leak check through hole 42R as described above, and the collar 60 has the leak check through hole 42R and the space on the inner peripheral surface side of the collar 60. A passage connecting the two is formed.
  • the inner O-ring 44 as a sealing member is arranged on the inner peripheral side with respect to the collar 60. Therefore, the inside of the tank 40 is evacuated, a gas such as helium is injected from the leak confirmation through hole 42R, and the state of sealing by the inner O-ring 44 can be grasped by observing with a detector of the gas. .
  • the position where this detector is provided is not particularly limited as long as it is a position connected to the space 41S of the tank 40.
  • the thickness of the outer peripheral portion 64 of the collar 60 is smaller than the thickness of the inner peripheral portion 63, and a gap is formed between the outer peripheral portion 64 and the lid body 42. . For this reason, even if the leak confirmation through hole 42R and the passage are not aligned in the radial direction of the collar 60, the passage connects the leak confirmation through hole 42R and the space on the inner peripheral surface side of the collar 60. obtain.
  • a third support portion 47 is provided.
  • the third support portion 47 suppresses contact between the target material 271 made of molten metal and the inner O-ring 44. Accordingly, even when the target material 271 and the inner O-ring 44 are chemically reacted with each other, the inner O-ring 44 can be prevented from chemically reacting with the target material 271.
  • the third support portion 47 has a height that is higher than the height of the collar 60 that is the second support portion. Accordingly, contact between the target material 271 and the inner O-ring 44 is further suppressed.
  • the height of the third support portion 47 is the same as that of the first support portion 46, and the third support portion 47 is in contact with the lid body 42. Accordingly, contact between the target material 271 and the inner O-ring 44 is further suppressed.
  • Embodiment 2 Next, a tank, a target generation device, and an EUV light generation device 1 according to Embodiment 2 will be described in detail with reference to the drawings. In the following description, the same components as those described above are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted unless specifically described.
  • FIG. 8 is a diagram illustrating the target generation device 20 according to the present embodiment.
  • FIG. 9 is an enlarged view of a region surrounded by a broken line in FIG. 8, and shows a state where the lid body 42 is fixed on the peripheral edge portion 41 ⁇ / b> R of the tank body 41 with the bolts 43.
  • the peripheral portion 41R of the tank body 41 of the present embodiment is planar, and the groove 41G formed in the peripheral portion 41R in the comparative example and the first embodiment is not formed.
  • the collar 60a is disposed on the peripheral edge portion 41R.
  • the collar 60a of the present embodiment is provided from the inner side to the outer side of the bolt 43, and is different from the collar 60 of the first embodiment in that a through hole 65H is formed at a position where the bolt 43 is inserted.
  • the lid body 42 is supported by the collar 60a.
  • the thickness of the collar 60a is made smaller than the diameter of the tube of the inner O-ring 44.
  • the inner O-ring 44 is crushed by the pressing force from the lid body 42 with the bolts 43 tightened and the lid body 42 fixed to the tank main body 41 as in the first embodiment. It is deformed. In this state, the outer peripheral surface of the inner O-ring 44 is in contact with the inner peripheral surface of the collar 60a.
  • the leak confirmation through hole 42R in the present embodiment is formed at a position at least partially overlapping the collar 60a in the thickness direction of the lid body 42. More specifically, the leak confirmation through hole 42R is formed at a position at least partially overlapping with the through hole 60H in the thickness direction of the lid body 42.
  • the bolt 43 is inserted into the through hole 65H as described above, the collar 60 is prevented from rotating in the circumferential direction. Accordingly, the relative position between the leak check through hole 42R and the through hole 60H of the collar 60a is prevented from shifting.
  • a cover 70 is further provided.
  • the cover 70 includes a holding part 71, a hanging part 72, and a cover part 73.
  • the holding part 71 is a part on the outermost periphery of the cover 70 and is arranged on the peripheral part 41R to hold the cover 70 so that it does not fall.
  • the thickness of the holding portion 71 is made smaller than the thickness of the collar 60a, and is made thinner by, for example, about 0.1 mm than the thickness of the collar 60a. Further, a gap is formed between the outer peripheral surface of the holding portion 71 and the inner surface of the inner O-ring 44.
  • the hanging portion 72 is connected to the holding portion 71, extends in a direction perpendicular to the radial direction of the lid body 42, and enters the space 41 ⁇ / b> S of the tank body 41.
  • the cover 73 covers the space 41S.
  • a gas passage through hole 70H is formed at a position shifted from the center of the opening 41A.
  • the lid body 42 is formed with a through-hole through which the pipe 121 serving as a gas passage communicates substantially in the center, and the position of this gas passage overlaps with the substantially center of the opening 41A. Therefore, the gas passage through hole 70 ⁇ / b> H formed in the cover 70 is positioned so as not to overlap the gas passage formed in the lid 42.
  • the size of the gas passage through hole 70 ⁇ / b> H is equal to or larger than the size of the gas passage formed in the lid 42.
  • the diameter of the gas passage in the lid 42 is 8 mm
  • the diameter of the gas passage through hole 70 ⁇ / b> H formed in the cover 70 is 10 mm.
  • the cover 70 having such a configuration is made of a material that does not react with the target material 271 made of molten metal.
  • the cover 70 is preferably made of molybdenum, tantalum, or tungsten.
  • the first support portion which is a separate body from the tank body 41, is disposed so as to surround the opening 41A in the region closer to the opening 41A than the bolt 43.
  • the lid 42 is supported.
  • the second support portion which is a separate body from the tank main body 41, is closer to the opening 41 ⁇ / b> A than the first support portion between the tank main body 41 and the lid body 42. In the region, the opening 41A is disposed.
  • the inner O-ring 44 as a sealing member is disposed in a region between the first support portion and the second support portion.
  • the second support portion is the first support portion. It will have a height lower than the height.
  • the width 60aw from the inner peripheral surface of the collar 60a to the through hole 65H for inserting the bolt 43 is larger than the thickness of the collar 60a, and is not less than 3 times and not more than 7 times the diameter of the tube of the inner O-ring 44.
  • the collar 60a which is a separate body from the tank body 41, receives a force from the inner O-ring 44, so that the stress transmitted from the inner O-ring 44 to the tank body 41 is relieved. Can do.
  • the peripheral edge portion 41R of the tank body 41 in which the collar 60a is disposed is planar, even if the collar 60a spreads to the outer peripheral side due to the force that the inner O-ring 44 spreads, It can be suppressed that 60a gives a stress to tank body 41 more. For this reason, according to the tank 40 of this embodiment, it can suppress more that damage, such as a crack, arises in the tank main body 41.
  • the collar 60 a that is the first support portion is disposed so as to surround the opening 41 ⁇ / b> A in the region closer to the opening 41 ⁇ / b> A than the bolt 43 to support the lid body 42.
  • the holding portion 71 of the cover 70 as the second support portion having a height lower than the height of the collar 60 a that is the first support portion is the first support portion between the tank body 41 and the lid body 42.
  • the opening 41A is surrounded.
  • an inner O-ring 44 as a sealing member is disposed between the tank main body 41 and the lid 42 so as to surround the opening 41A in a region closer to the opening 41A than the collar 60a.
  • the lid body 42 can be supported by the collar 60 a as the first support portion closer to the bolt 43 than when the holding portion 71 as the second support portion supports the lid body 42. For this reason, it can suppress that the cover body 42 deform
  • FIG. 1
  • the inner O-ring 44 as a sealing member is disposed between the collar 60a that is the first support portion that supports the lid 42 and the holding portion 71 that is the second support portion. Accordingly, the target material 271 made of molten metal can be prevented from coming into contact with the inner O-ring 44 by the second support portion without having the third support portion as in the first embodiment.
  • the cover portion 73 of the cover 70 covers the space 41 ⁇ / b> S of the tank body 41. Therefore, even when the target material 271 made of molten metal scatters, the cover 73 can prevent the molten metal from exceeding the cover 73 and the molten metal comes into contact with the inner O-ring 44. Can be more effectively suppressed.
  • the gas passage through hole 70H formed in the cover portion 73 as described above is formed at a position shifted from the center position of the opening 41A of the tank body 41.
  • the tank 40 can be tilted with respect to the vertical direction so that the gas passage through hole 70H is above the axis passing through the center of the opening 41A, that is, opposite to the direction of gravity.
  • the liquid level of the target material 271 that is a molten metal can be kept away from the gas passage through hole 70H.
  • the target material 271 can be prevented from passing through the gas passage through hole 70H, and the molten metal can be more effectively brought into contact with the inner O-ring 44. Can be suppressed.
  • the gas passage through hole 70 ⁇ / b> H formed in the cover portion 73 is formed at a position that does not overlap with the gas passage formed in the lid 42. Therefore, when a gas such as argon or nitrogen is filled from the gas passage, the cover portion 73 suppresses the gas from entering the space 41S of the tank 40 straight from the gas passage. That is, the momentum of the gas flow is suppressed by the cover portion 73. For this reason, it is possible to prevent the target material 271 made of molten metal from being scattered by the gas introduced into the space 41S.
  • the cross-sectional area of the gas passage through hole 70H is larger than the cross-sectional area of the gas passage formed in the lid body 42.
  • Embodiment 3 Next, a tank, a target generation device, and an EUV light generation device 1 according to Embodiment 3 will be described in detail with reference to the drawings. In the following description, the same components as those described above are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted unless specifically described.
  • FIG. 10 is a diagram illustrating the target generation device 20 according to the present embodiment.
  • FIG. 11 is an enlarged view of a region surrounded by a broken line in FIG. 10, and shows a state where the lid body 42 is fixed on the peripheral edge portion 41 ⁇ / b> R of the tank main body 41 with the bolts 43.
  • the tank 40 of the present embodiment is different from the tank 40 of the second embodiment in that the cover 70 is not provided. Therefore, in the tank 40 of the present embodiment, the target material 271 made of molten metal is likely to come into contact with the inner O-ring 44 as a sealing member, as compared with the tank 40 of the second embodiment. For this reason, the surface of the inner O-ring 44 of this embodiment is made of a material that does not chemically react with the target material 271. For example, when the target material 271 is tin, the surface of the inner O-ring 44 is made of molybdenum, tantalum, or tungsten. More preferably, the entire inner O-ring 44 is made of a material that does not chemically react with the target material 271.
  • the tank 40 of this embodiment a member that suppresses contact between the inner O-ring 44 that is a sealing member and the target material 271 can be omitted. Therefore, the configuration of the tank 40 can be simplified.
  • the sealing member of the said Embodiment 1 and 2 also consists of a material which does not chemically react with the target material 271 similarly to this embodiment.
  • FIG. 12A is a diagram illustrating an example of a cross section of a gasket that can be used as a sealing member.
  • a metal gasket having such a cross section may be formed in a ring shape and used as a sealing member.
  • FIG. 12B is a diagram illustrating an example of a cross section of another gasket that can be used as a sealing member.
  • a metal gasket having such a cross section may be formed in a ring shape and used as a sealing member.
  • FIG. 12C is a diagram illustrating an example of a cross section of still another gasket that can be used as a sealing member.
  • a metal gasket having such a cross section may be formed in a ring shape and used as a sealing member.
  • FIG. 12D is a view showing an example of a cross section of still another gasket that can be used as a sealing member.
  • a metal gasket having such a cross section may be formed in a ring shape and used as a sealing member.
  • the surface of the gasket shown in FIGS. 12A to 12D is preferably made of a material that does not chemically react with the target material 271.
  • the target material 271 is tin
  • the surface of the gasket is preferably made of any one of molybdenum, tantalum, and tungsten.
  • a member other than the O-ring can be used as the sealing member.

Landscapes

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Abstract

タンク（４０）は、内部に空間（４１Ｓ）を有し空間（４１Ｓ）と通じる開口（４１Ａ）を有するタンク本体（４１）と、タンク本体（４１）の開口（４１Ａ）及び開口（４１Ａ）の周縁部（４１Ｒ）を覆う蓋体（４２）と、周縁部（４１Ｒ）においてタンク本体（４１）と蓋体（４２）とを固定するボルト（４３）と、ボルト（４３）よりも開口（４１Ａ）側の領域において開口（４１Ａ）を囲んで配置され蓋体（４２）を支える第１支持部と、タンク本体（４１）と蓋体（４２）との間における第１支持部よりも開口（４１Ａ）側の領域において開口（４１Ａ）を囲んで配置され、第１支持部の高さよりも低い高さを有する第２支持部と、タンク本体（４１）と蓋体（４２）との間における第１支持部よりも開口（４１Ａ）側の領域において開口（４１Ａ）を囲んで 配置される封止部材と、を備えてもよい。

Description

タンク、ターゲット生成装置、及び、極端紫外光生成装置
　本開示は、タンク、ターゲット生成装置、及び、極端紫外光生成装置に関する。
　近年、半導体プロセスの微細化に伴って、半導体プロセスの光リソグラフィにおける転写パターンの微細化が急速に進展している。次世代においては、２０ｎｍ以下の微細加工が要求されるようになる。このため、波長１３ｎｍ程度の極端紫外（ＥＵＶ：ｅｘｔｒｅｍｅ　ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ）光を生成するための装置と縮小投影反射光学系（ｒｅｄｕｃｅｄ　ｐｒｏｊｅｃｔｉｏｎ　ｒｅｆｌｅｃｔｉｖｅ　ｏｐｔｉｃｓ）とを組み合わせた露光装置の開発が期待されている。
　ＥＵＶ光生成装置としては、ターゲット物質にレーザ光を照射することによって生成されるプラズマが用いられるＬＰＰ（Ｌａｓｅｒ　Ｐｒｏｄｕｃｅｄ　Ｐｌａｓｍａ）式の装置と、放電によって生成されるプラズマが用いられるＤＰＰ（Ｄｉｓｃｈａｒｇｅ　Ｐｒｏｄｕｃｅｄ　Ｐｌａｓｍａ）式の装置と、軌道放射光が用いられるＳＲ（Ｓｙｎｃｈｒｏｔｒｏｎ　Ｒａｄｉａｔｉｏｎ）式の装置との３種類の装置が提案されている。
特開２０１３－１９１６９９号公報 特開２０１１－　３１３６４号公報 特開２００９－５００５８０号公報 特開２０１５－　３９０４０号公報
概要
　本開示の一態様によるタンクは、内部に空間を有し空間と通じる開口を有するタンク本体と、タンク本体の開口及び開口の周縁部を覆う蓋体と、周縁部においてタンク本体と蓋体とを固定するボルトと、ボルトよりも開口側の領域において開口を囲んで配置され蓋体を支える第１支持部と、タンク本体と蓋体との間における第１支持部よりも開口側の領域において開口を囲んで配置され、第１支持部の高さよりも低い高さを有する第２支持部と、タンク本体と蓋体との間における第１支持部よりも開口側の領域において開口を囲んで配置される封止部材と、を備えてもよい。
　本開示の一態様によるターゲット生成装置は、内部に溶融金属が充填される空間を有し空間と通じる開口を有するタンク本体と、タンク本体の開口及び開口の周縁部を覆う蓋体と、周縁部においてタンク本体と前記蓋体とを固定するボルトと、ボルトよりも開口側の領域において開口を囲んで配置され蓋体を支える第１支持部と、タンク本体と蓋体との間における第１支持部よりも開口側の領域において開口を囲んで配置され、第１支持部の高さよりも低い高さを有する第２支持部と、タンク本体と蓋体との間における第１支持部よりも開口側の領域において開口を囲んで配置される封止部材と、タンク本体に接続されチャンバ内において空間内の溶融金属からなるターゲットを吐出するノズルと、を備えてもよい。
　また、本開示の一態様による極端紫外光生成装置は、内部に溶融金属が充填される空間を有し空間と通じる開口を有するタンク本体と、タンク本体の開口及び開口の周縁部を覆う蓋体と、周縁部においてタンク本体と蓋体とを固定するボルトと、ボルトよりも開口側の領域において開口を囲んで配置され蓋体を支える第１支持部と、タンク本体と蓋体との間における第１支持部よりも開口側の領域において開口を囲んで配置され、第１支持部の高さよりも低い高さを有する第２支持部と、タンク本体と蓋体との間における第１支持部よりも開口側の領域において開口を囲んで配置される封止部材と、タンク本体に接続されチャンバ内において空間内の溶融金属からなるターゲットを吐出するノズルと、ノズルから出力されたターゲットへレーザ光を照射するレーザ装置と、レーザ光が照射されることで生成されるターゲットのプラズマから放射した極端紫外光を集光して出力する集光ミラーと、を備えてもよい。
　本開示のいくつかの実施形態を、単なる例として、添付の図面を参照して以下に説明する。
図１は、比較例にかかるＥＵＶ光生成装置の概略構成例を示す模式図である。 図２は、図１のターゲット生成装置を示す図である。 図３は、図２の破線で囲まれた領域の拡大図である。 図４は、実施形態１にかかるターゲット生成装置を示す図である。 図５は、図４の破線で囲まれた領域の拡大図である。 図６は、図５のカラーを示す図である。 図７は、図６におけるＶ－Ｖ線でのカラーの断面図である。 図８は、実施形態２にかかるターゲット生成装置を示す図である。 図９は、図８の破線で囲まれた領域の拡大図である。 図１０は、実施形態３にかかるターゲット生成装置を示す図である。 図１１は、図１０の破線で囲まれた領域の拡大図である。 図１２Ａは、封止部材として用いることができるガスケットの断面の例を示す図である。 図１２Ｂは、封止部材として用いることができる他のガスケットの断面の例を示す図である。 図１２Ｃは、封止部材として用いることができる更に他のガスケットの断面の例を示す図である。 図１２Ｄは、封止部材として用いることができるまた更に他のガスケットの断面の例を示す図である。
実施形態
１．概要
２．比較例
　２．１ 構成
　２．２ 動作
３．実施形態１
　３．１ 構成
　３．２ 作用・効果
４．実施形態２
　４．１ 構成
　４．２ 作用・効果
５．実施形態３
　５．１ 構成
　５．２ 作用・効果
　以下、本開示の実施形態について、図面を参照しながら詳しく説明する。
　以下に説明される実施形態は、本開示のいくつかの例を示すものであって、本開示の内容を限定するものではない。また、各実施形態で説明される構成及び動作の全てが本開示の構成及び動作として必須であるとは限らない。
　なお、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。
　１．概要
　本開示の実施形態は、タンク、ターゲット生成装置、及び、極端紫外光生成装置に関するものである。例えば、タンクにクラック等の損傷が生じることを抑制し得るタンク、ターゲット生成装置、及び、極端紫外光生成装置に関するものである。以下、極端紫外光をＥＵＶ光と呼ぶ場合がある。従って、極端紫外光生成装置をＥＵＶ光生成装置という場合がある。
　２．比較例
　まず、タンク、ターゲット生成装置、及び、ＥＵＶ光生成装置の比較例を、図面を参照して詳細に説明する。
２．１　構成
　図１は、比較例にかかるＥＵＶ光生成装置の概略構成例を示す模式図である。図１に示すように、ＥＵＶ光生成装置１は、チャンバ２、レーザ光進行方向コントローラ３４および制御部５を含んでいる。このＥＵＶ光生成装置１には、通常、レーザ装置３が追加されて使用される。
　チャンバ２は、ターゲット生成装置２０と、レーザ集光光学系２２０と、ＥＵＶ集光ミラー２３と、ターゲット回収部２８と、排気装置２１０とを含む。レーザ集光光学系２２０は、レーザ光集光ミラー２２および高反射ミラー２２２を搭載する移動プレート２２１とレーザ光マニュピレータ２２３とを含む。
　ターゲット生成装置２０は、チャンバ２に連設されたサブチャンバ２０１に設けられている。ターゲット生成装置２０は、タンク４０と、ノズル５０とを含む。タンク４０は、その内部に溶融金属からなるターゲット材料２７１を貯蔵する。ターゲット材料２７１としては、例えば、錫、テルビウム、ガドリニウム、リチウム、キセノン、又は、それらの内のいずれか２つ以上の組合せを挙げることができる。ノズル５０は、ターゲット材料２７１をドロップレット状のターゲット２７として出力する。また、タンク４０の内部は、ガス圧を調整する圧力調節器１２０と配管１２１を介して連通している。なお、以下、タンク４０の内部のガス圧をタンク内圧力という場合がある。
　ピエゾ素子１１１はノズル５０に設置されている。ピエゾ素子１１１はピエゾ電源１１２に、ヒータ１４１はヒータ電源１４３に、それぞれ接続されている。温度センサ１４２およびヒータ１４１はタンク本体に配置されている。ピエゾ電源１１２、圧力調節器１２０、温度センサ１４２およびヒータ電源１４３は、それぞれ制御部５に接続されている。
　レーザ光進行方向コントローラ３４は、レーザ光の進行方向を規定するための光学素子と、この光学素子の位置、姿勢等を調整するためのアクチュエータとを備えている。チャンバ２の壁には、ウィンドウ２１が設けられており、ウィンドウ２１をレーザ装置３から出力され、レーザ光進行方向コントローラ３４で進行方向が調整されたパルスレーザ光３２が透過する。レーザ集光光学系２２０は、レーザ光進行方向コントローラ３４から出射されるパルスレーザ光３２が入射されるように配置されている。レーザ光マニュピレータ２２３は、チャンバ２内でのレーザ集光位置が制御部５から指定された位置となるように、レーザ光集光ミラー２２および高反射ミラー２２２が固定された移動プレート２２１をＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸方向に移動する。
　ＥＵＶ集光ミラー２３は、第１及び第２の焦点を有する。ＥＵＶ集光ミラー２３の表面には、例えば、モリブデンとシリコンとが交互に積層された多層反射膜が形成されている。ＥＵＶ集光ミラー２３は、例えば、その第１の焦点がプラズマ生成領域２５に位置し、その第２の焦点が中間集光点（ＩＦ）２９２に位置するように配置されるのが好ましい。ＥＵＶ集光ミラー２３の中央部には、パルスレーザ光３３が通過する貫通孔２４が設けられている。
　ＥＵＶ光生成装置１は、制御部５、ターゲットセンサ４等を含んでいる。ターゲットセンサ４は、撮像機能を有しており、ターゲット２７の存在、軌跡、位置、速度等を検出するよう構成される。
　また、ＥＵＶ光生成装置１は、チャンバ２の内部と露光装置６の内部とを連通させる接続部２９を含んでいる。接続部２９内部には、アパーチャ２９３が形成された壁２９１が設けられている。壁２９１は、そのアパーチャ２９３がＥＵＶ集光ミラー２３の第２の焦点位置に位置するように配置されることが好ましい。
　また、ターゲット回収部２８は不要なターゲット２７を回収する。
　また、ＥＵＶ光生成装置１は、水素ガス供給部３０１と、流量調節器３０２と、ガスノズル３０３と、ガス管３０４とを備える。また、ＥＵＶ光生成装置１は、圧力センサ３０５をさらに備える。
　水素ガス供給部３０１は、ガス管３０４を介してガスノズル３０３に接続されている。水素ガス供給部３０１は、たとえば水素ガス濃度が３％程度のバランスガスをガス管３０４に供給する。バランスガスには、窒素（Ｎ２）ガスやアルゴン（Ａｒ）ガスが含まれていてもよい。
　ガスノズル３０３は、吹出した水素ガスがターゲット生成装置２０のノズル５０付近を流れるように、サブチャンバ２０１に設けられている。水素ガス供給部３０１とガスノズル３０３との間のガス管３０４には、流量調節器３０２が設けられている。
　圧力センサ３０５には、冷陰極電離真空計、ピラニ真空計、キャパシタンスマノメータなどが用いられている。また、排気装置２１０は、チャンバ２内の水分を除去する除去装置として使用されている。圧力センサ３０５および流量調節器３０２は制御部５に接続されている。
　次に、タンク４０について詳述する。図２は、図１のターゲット生成装置２０の拡大図である。なお、以下の図では、図１に記載のヒータ１４１、温度センサ１４２、ピエゾ素子１１１が省略されている。タンク４０は、タンク本体４１と蓋体４２とを備える。
　タンク本体４１は、内部に空間４１Ｓを有し上方に当該空間４１Ｓと通じる開口４１Ａを有する筒状の部材であり、本例では概ね円筒形とされる。タンク本体４１は、ターゲット材料２７１が錫である場合は、例えば、錫と化学反応しにくいモリブデン、タンタル、タングステンからなることが好ましい。タンク本体４１の端部である開口４１Ａの周縁部４１Ｒは蓋体４２を支える部位となる。蓋体４２は、下面が概ね平面の板状の部材であり、タンク本体４１の開口４１Ａ、及び、開口４１Ａの周縁部４１Ｒを覆う。本例では、蓋体４２は、タンク本体４１の開口４１Ａを覆うと共にチャンバ２の開口を覆っている。蓋体４２は、複数のボルト４３が周縁部４１Ｒにおいてタンク本体４１に螺入されることで、タンク本体４１に固定されている。ボルト４３の数は例えば１６本とされる。蓋体４２は、例えばステンレススチールから形成されている。また、ボルト４３は、蓋体４２と同じ材料から成ることが好ましく、例えばステンレススチールから形成されている。
　図３は、図２の破線で囲まれた領域の拡大図であり、タンク本体４１の周縁部４１Ｒ上に蓋体４２がボルト４３で固定されている様子を示す。図３に示すように、タンク本体４１の周縁部４１Ｒには、ボルト４３よりも開口４１Ａ側、すなわちボルト４３よりも内周側において、開口４１Ａを取り囲むように封止部材配置用の溝４１Ｇが形成されている。この溝４１Ｇ内には、全周に渡って、封止部材としての内側Ｏ－リング４４が配置されている。内側Ｏ－リング４４は、チューブ状の部材がリング状に形成されたものである。本例では、内側Ｏ－リング４４は金属からなっており、例えば、チューブ状のステンレススチールの外表面に銀めっきが施されたものからなる。溝４１Ｇの幅４１Ｇｗは内側Ｏ－リング４４のチューブの直径よりも大きくされており、溝４１Ｇの深さは内側Ｏ－リング４４のチューブの直径よりも小さくされている。例えば、溝４１Ｇの深さが１．２５ｍｍとされ、内側Ｏ－リングのチューブの直径が１．６ｍｍとされる。このため、蓋体４２が配置されない状態では、溝４１Ｇ内に配置された内側Ｏ－リング４４の一部が溝４１Ｇから上方にはみ出ている。そして、蓋体４２が周縁部４１Ｒ上に配置され、ボルト４３が締められた状態で、内側Ｏ－リング４４は、蓋体４２からの押圧力により潰れるように変形して、タンク本体４１と蓋体４２との間の隙間を埋めて、ボルト４３の内側においてタンク４０を封止する。このとき、上記のように内側Ｏ－リング４４がステンレススチールの外表面に銀めっきが施されているものである場合、銀めっきが微小変形して細かい隙間を埋めるため好ましい。また、ボルト４３が締められて内側Ｏ－リング４４が変形した状態で、内側Ｏ－リング４４の外周側の面は溝４１Ｇの外側の壁に当接しており、内側Ｏ－リング４４と溝４１Ｇの内側の壁との間には隙間が形成されている。このように内側Ｏ－リング４４の外周側の面が溝４１Ｇの外側の壁に当接することで、内側Ｏ－リング４４が潰れるように変形する際、内側Ｏ－リング４４の広がりが抑制され、内側Ｏ－リング４４が十分な反発力を生じ得る。内側Ｏ－リング４４が十分な反発力を発生するために、上記のように例えば内側Ｏ－リング４４のチューブの直径が１．６ｍｍとされる場合に、チューブの肉厚は例えば０．３５ｍｍとされる。
　また、タンク本体４１の周縁部４１Ｒには、ボルト４３を基準として開口４１Ａ側と反対側、すなわちボルト４３よりも外周側において、開口４１Ａを取り囲むように封止部材配置用の溝４１Ｎが形成されている。この溝４１Ｎには封止部材としての外側Ｏ－リング４５が配置されている。外側Ｏ－リング４５の構成は、例えば、直径を除き内側Ｏ－リング４４と同様の構成とされる。溝４１Ｎの深さは、例えば溝４１Ｇと同様とされる。従って、外側Ｏ－リング４５は、蓋体４２が配置されボルト４３が締められた状態で、潰れるように変形して、タンク本体４１と蓋体４２との間の隙間を埋めて、ボルト４３の外側において、タンク４０を封止する。
　また、蓋体４２の概ね中央には貫通孔が形成されており、この貫通孔に配管１２１が連通しており、ガス通路が形成されている。このガス通路の直径は、例えば８ｍｍとされる。こうして上記のようにタンク４０の内部が圧力調節器１２０と連通し、圧力調節器１２０により、タンク本体４１の空間４１Ｓの圧力が調整される。
　なお、ノズル５０は、図２に示すようにタンク本体４１における下方において、複数のボルト５１によりタンク本体４１に固定されている。ノズル５０にはノズル孔が形成されており、当該ノズル孔とタンク本体４１の下方の開口とが連通しており、ノズル孔からタンク本体４１内のターゲット材料を出力可能とされる。
　また、図２に示すように、チャンバ２の蓋体４２と接する周縁部２Ｒには、封止部材配置用の溝２Ｇが形成されている。この溝２Ｇ内には、全周に渡って、封止部材としてのチャンバ用Ｏ－リング２０４が配置されている。チャンバ用Ｏ－リング２０４は、例えば、直径を除いて内側Ｏ－リング４４と同様の形状とされ、チャンバ用Ｏ－リング２０４の材料は、例えば、内側Ｏ－リング４４と同様の材料から構成されても樹脂で構成されてもよい。このチャンバ用Ｏ－リング２０４は、蓋体４２がチャンバ２の周縁部２Ｒ上に配置され、ボルト４３が締められた状態で、潰れるように変形して、チャンバ２と蓋体４２との間の隙間を埋めてチャンバ２を封止する。
　以上の構成のチャンバ２内は概ね真空とされ、後述のように僅かに水素等のガスが残存している程度とされる。また、タンク４０内の空間４１Ｓにおけるターゲット材料２７１が充填されていない領域には、アルゴン等の不活性ガスが充填されている。タンク４０内の圧力は、例えば４０ＭＰａとされる。この様にタンク４０の内部は高圧とされるため、内側Ｏ－リング４４は、ボルト４３の締め付けによる蓋体４２からの押圧力により潰れた状態で、タンク４０内のガスがリークしないよう、高い反発力でタンク本体４１と蓋体４２とを押し返す。
２．２ 動作
　ターゲット生成装置２０は、例えば、メンテナンス時等において、それぞれのボルト４３が締めつけられることで、チャンバ２に組付けられる。ターゲット生成装置２０が組みつけられた状態で、制御部５は、チャンバ２内の大気を排気するために排気装置２１０を動作させる。その際、大気成分の排気のために、チャンバ２内のパージと排気とを繰り返してもよい。パージガスには、例えば、窒素（Ｎ２）やアルゴン（Ａｒ）などの不活性ガスが用いられることが好ましい。また、排気装置２１０による排気の結果、チャンバ内圧力が第１の所定圧力以下になると、制御部５は、水素ガス供給部３０１からチャンバ２内への水素ガスの導入を開始する。水素ガスは、低流量でチャンバ２内に導入されることが好ましい。このとき制御部５は、圧力センサ３０５の値が第２の所定圧力に維持されるように、流量調節器３０２を制御してもよい。その後、制御部５は、水素ガスの導入開始から所定時間が経過するまで待機する。
　制御部５は、タンク４０内のターゲット材料２７１を融点以上の所定温度に加熱および維持するために、ヒータ電源１４３から電流を供給してヒータ１４１を昇温する。また、制御部５は、温度センサ１４２からの出力に基づいて、ヒータ電源１４３からヒータ１４１へ供給する電流量を調整し、ターゲット材料２７１の温度を所定温度に制御する。なお、所定温度は、ターゲット材料２７１に錫を用いた場合、例えば２５０℃～２９０℃の温度範囲内の温度とされる。
　制御部５は、ノズル５０のノズル孔から溶融したターゲット材料２７１が所定の速度で出力するように、圧力調節器１２０によってタンク内圧力を所定圧力に制御する。ノズル孔から吐出するターゲット材料２７１はジェットの形態をとってもよい。
　制御部５は、ターゲット材料２７１のターゲット２７を生成するために、ピエゾ電源１１２を介してピエゾ素子１１１に所定波形の電圧を印加する。ピエゾ素子１１１の振動は、ノズル５０を経由してノズル孔から出力されるターゲット材料２７１のジェットへと伝搬し得る。ターゲット材料２７１のジェットは、この振動により所定周期で分断される。それにより、ターゲット材料２７１のターゲット２７が生成され、生成されたターゲット２７は液滴となる。
　制御部５は、発光トリガをレーザ装置３に出力する。発光トリガが入力されると、レーザ装置３は、パルスレーザ光３１を出力する。出力されたパルスレーザ光３１は、レーザ光進行方向コントローラ３４とウィンドウ２１とを経由して、レーザ集光光学系２２０にパルスレーザ光３２として入射される。
　制御部５は、パルスレーザ光３２がプラズマ生成領域２５で集光するように、レーザ光マニュピレータ２２３を制御する。レーザ光集光ミラー２２で収束光に変換されたパルスレーザ光３３は、プラズマ生成領域２５でターゲット２７に照射される。この照射により生成したプラズマから、ＥＵＶ光２５２が発生する。所定周期でプラズマ生成領域２５に供給されるターゲット２７にパルスレーザ光３３が照射されることにより、ＥＵＶ光２５２が周期的に発生する。
　プラズマ生成領域２５から発生したＥＵＶ光２５２は、図１を用いて説明したように、ＥＵＶ集光ミラー２３によって中間集光点２９２で集光された後、露光装置６に入力する。
２．３ 課題
　上記のようにタンク４０内の圧力は、例えば４０ＭＰａとされる。この様に高い圧力のタンク４０内を封止する内側Ｏ－リング４４は、チューブが潰れて変形することによる大きな反発力が生じ得る。このため、内側Ｏ－リング４４が潰れる際に外側に広がろうとする力も大きくなる。しかし、本例では内側Ｏ－リング４４の外周面は、タンク本体４１の一部である溝４１Ｇの外側の壁に当接する。従って、タンク本体４１には、内側Ｏ－リング４４のチューブが元に戻ろうとする反発力のみならず、内側Ｏ－リング４４が変形することで外側に広がろうとする力が直接加わることになる。従って、タンク本体４１の強度を高くしなければ、タンク本体４１が変形したりクラックが生じたりする可能性があるという懸念がある。
３．実施形態１
　次に実施形態１にかかるタンク、ターゲット生成装置およびＥＵＶ光生成装置を、図面を参照して詳細に説明する。なお、以下の説明では、上述において説明した構成と同様の構成については、同一の符号を付し、特に説明する場合を除き、重複する説明を省略する。
３．１　構成
　図４は、本実施形態にかかるターゲット生成装置２０を示す図である。また、図５は、図４の破線で囲まれた領域の拡大図であり、タンク本体４１の周縁部４１Ｒ上に蓋体４２がボルト４３で固定されている様子を示す。
　図４、図５に示すように、本実施形態のタンク本体４１の周縁部４１Ｒに形成される溝４１Ｇの幅４１Ｇｗは、上記比較例における溝４１Ｇの幅４１Ｇｗよりも大きく形成されている。さらに、本実施形態では、溝４１Ｇ内における外周側にはカラー６０が配置されている。図６はカラーを示す図である。図６に示すようにカラー６０は円形のリング状の部材とされ、カラー６０の厚さは、溝４１Ｇの深さよりも僅かに薄くされている。例えば、カラー６０は溝４１Ｇの深さよりも０．１ｍｍ程度薄く形成され、例えば、上記のように溝４１Ｇの深さが１．２５ｍｍとされるのであれば、カラー６０の厚さは１．１５ｍｍとされる。本実施形態においても、上記比較例と同様に溝４１Ｇの深さは内側Ｏ－リング４４のチューブの直径よりも小さくされる。従って、ボルト４３が締められて蓋体４２がタンク本体４１に固定された状態で、内側Ｏ－リング４４は蓋体４２からの押圧力により潰れるように変形している。この状態において、内側Ｏ－リング４４の外周側の面はカラー６０の内周面に当接しており、内側Ｏ－リング４４と溝４１Ｇの内側の壁との間には隙間が形成されている。この隙間の幅は、例えば概ね０．２ｍｍ程度とされる。
　このような構成を有するタンク４０において、溝４１Ｇと複数のボルト４３との間のタンク本体４１の周回状の部位を第１支持部４６とすると、第１支持部４６の高さは、溝４１Ｇの深さと同等となる。このタンク本体４１と一体とされる第１支持部４６は、ボルト４３よりも開口４１Ａ側の領域において開口４１Ａを囲んで配置され、蓋体４２を支える。第１支持部４６の幅４６ｗは、例えば２５ｍｍとされる。
　また、カラー６０を第２支持部とすると、タンク本体４１と別体とされる第２支持部は、タンク本体４１と蓋体４２との間における第１支持部４６よりも開口４１Ａ側の領域において開口４１Ａを囲んで配置される。また、封止部材である内側Ｏ－リング４４は、第２支持部よりも開口４１Ａ側の領域に配置される。また、カラー６０の厚さは第２支持部の高さであり、上記のようにカラー６０の厚さは溝４１Ｇの深さよりも薄くされているため、第２支持部は第１支持部４６の高さよりも低い高さを有することとなる。第２支持部であるカラー６０の幅６０ｗは、カラー６０の厚さよりも大きく、例えば４．８～１１．２ｍｍとされる。従って、例えば上記のように内側Ｏ－リング４４のチューブの直径が１．６ｍｍとされる場合、カラー６０の幅６０ｗは、例えば潰れるように変形される前における内側Ｏ－リング４４のチューブの直径の３倍以上７倍以下とされる。また、本実施形態では、第２支持部であるカラー６０の幅６０ｗは、第１支持部４６の幅４６ｗより小さくされる。
　また、開口４１Ａと溝４１Ｇとの間のタンク本体４１の周回状の部位を第３支持部４７とすると、第３支持部４７の高さは第１支持部４６の高さと同等となる。従って、第３支持部４７は、第１支持部４６と共に蓋体４２を支える。第３支持部４７の幅４７ｗは、例えば１～１．１５ｍｍとされ、本実施形態では、第３支持部４７の幅４７ｗは、第１支持部４６の幅４６ｗ、カラー６０の幅６０ｗよりも小さくされる。
　次にカラー６０についてより詳しく説明する。図７は、図６におけるＶ－Ｖ線でのカラー６０の断面図である。図６、図７に示すようにカラー６０は、表面６１、裏面６２を有する。カラー６０は、内周部６３の厚さが外周部６４の厚さよりも大きく、表面６１において、内周部６３が外周部６４よりも凸状とされ、裏面６２は概ね平坦な構造とされる。また、表面において凸状とされる内周部６３には、複数の溝６１Ｇが内周側から外周側に向かって形成され、裏面６２においても溝６１Ｇと対応する位置に溝６２Ｇが形成されている。また、溝６１Ｇと溝６２Ｇを繋ぐ貫通孔６０Ｈが形成されている。また、カラー６０は、ボルト４３と同等の熱膨張係数をもつ材料から成ることが好ましい。上記のようにボルト４３がステンレススチールから成る場合、ボルト４３もステンレススチールから成ることが好ましい。また、ターゲット材料２７１が錫から成る場合、カラー６０は錫と化学反応しにくいモリブデン、タンタル、タングステンから成ることが好ましい。
　図５に示すように、カラー６０がタンク本体４１の溝４１Ｇ内に配置された状態で、表面６１が蓋体４２側を向き、裏面６２が溝４１Ｇの底側を向く。この状態で、カラー６０の溝６１Ｇは蓋体４２との間に通路を形成し、溝６２Ｇはタンク本体４１との間に通路を形成する。また、上記のようにカラー６０の内周部６３の厚さは外周部６４の厚さよりも大きいため、カラー６０の表面６１における外周部６４と蓋体４２との間には隙間が形成される。また、図５に示すように蓋体４２には、リーク確認用貫通孔４２Ｒが形成されている。リーク確認用貫通孔４２Ｒは、蓋体４２の厚さ方向においてカラー６０と少なくとも一部が重なる位置に形成され、本実施形態では上記外周部６４と少なくとも一部が重なっている。従って、リーク確認用貫通孔４２Ｒは、外周部６４と蓋体４２との間の隙間と接続されており、当該隙間を介して溝６１Ｇがリーク確認用貫通孔４２Ｒと接続されている。上記のように、貫通孔６０Ｈにより、溝６１Ｇと溝６２Ｇとが繋がっているため、溝６１Ｇからなる通路、貫通孔６０Ｈからなる通路、及び、溝６２Ｇからなる通路は、蓋体４２のリーク確認用貫通孔４２Ｒとカラー６０の内周面側の空間とを接続している。
　本実施形態のタンク４０は、上記のように比較例のタンク４０と異なる構造を有する。また、本実施形態のターゲット生成装置２０およびＥＵＶ光生成装置１の構成は、タンク４０の構造上の違いを除けば、比較例と同様とされる。
３．２ 作用・効果
　本実施形態では、蓋体４２がボルト４３によりタンク本体４１に固定される際に、蓋体４２からの押圧力で封止部材である内側Ｏ－リング４４が潰れるように変形する。このとき内側Ｏ－リング４４の外周側の面がカラー６０の内周面に当接し、内側Ｏ－リング４４はカラー６０により外側に広がることが抑制される。従って、カラー６０は、内側Ｏ－リング４４から外側に広がる力を受ける。しかし、本実施形態ではタンク本体４１と別体であるカラー６０が内側Ｏ－リング４４から力を受けるため、タンク本体４１に内側Ｏ－リング４４から伝わる応力を緩和し得る。これに対し、比較例のタンク４０では、蓋体４２をタンク本体４１に固定する際に内側Ｏ－リング４４が潰れるように変形する際、内側Ｏ－リング４４の外周面がタンク本体４１に直接当接する。従って、比較例のタンク４０では、内側Ｏ－リング４４からの応力が直接タンク本体４１に伝わり、タンク本体４１に損傷を与える可能性がある。この様に、本実施形態のタンク４０によれば、タンク本体４１と別体であるカラー６０が内側Ｏ－リング４４から力を受けるため、タンク本体４１にクラック等の損傷が生じることを抑制することができる。
　なお、このような効果を有するタンク４０の構成を簡潔に述べれば、タンク４０は、内部に空間４１Ｓを有し空間４１Ｓと通じる開口４１Ａを有するタンク本体４１と、タンク本体４１の開口４１Ａ及び開口４１Ａの周縁部を覆う蓋体４２と、タンク本体４１と蓋体４２との間において開口４１Ａを囲んで配置される封止部材としての内側Ｏ－リング４４と、内側Ｏ－リング４４の外周を囲み内側Ｏ－リング４４の外周側の面が当接するタンク本体４１と別体のカラー６０と、を備えるものである。
　また、本実施形態では、カラー６０の幅６０ｗが内側Ｏ－リング４４のチューブの直径の３倍以上７倍以下とされる。従って、内側Ｏ－リング４４からカラー６０が受ける力がタンク本体４１に伝わることをより低減し得る。
　また、本実施形態のタンク４０では、第１支持部４６が、ボルト４３よりも開口４１Ａ側の領域において開口４１Ａを囲んで配置されて蓋体４２を支える。さらに、第１支持部４６の高さよりも低い高さを有する第２支持部としてのカラー６０が、タンク本体４１と蓋体４２との間における第１支持部４６よりも開口４１Ａ側の領域において開口４１Ａを囲んで配置される。またさらに、封止部材である内側Ｏ－リング４４がタンク本体４１と蓋体４２との間における第１支持部４６よりも開口４１Ａ側の領域において開口４１Ａを囲んで配置される。この様な構成により、第２支持部としてのカラー６０が蓋体４２を支える場合よりも、ボルト４３に近い側の第１支持部４６で蓋体４２を支持することができる。このため、ボルト４３による締め力により蓋体４２にかかる応力により、蓋体４２が変形することを抑制し得る。
　また、本実施形態のタンク４０では、蓋体４２には上記のようにリーク確認用貫通孔４２Ｒが形成され、カラー６０にはリーク確認用貫通孔４２Ｒとカラー６０の内周面側の空間とを接続する通路が形成されている。また、封止部材である内側Ｏ－リング４４はカラー６０よりも内周側に配置されている。そこで、タンク４０内を真空として、リーク確認用貫通孔４２Ｒから、例えばヘリウム等のガスを注入し、当該ガスのディテクタにより観測することで、内側Ｏ－リング４４による封止の状況を把握し得る。このディテクタが設けられる位置は、タンク４０の空間４１Ｓと繋がる位置であれば特に限定されない。なお、本実施形態では、上記のように、カラー６０の外周部６４の厚さが内周部６３の厚さ比べて小さく、外周部６４と蓋体４２との間には隙間が形成される。このため、リーク確認用貫通孔４２Ｒと上記通路とがカラー６０の径方向に並んでいなくても、通路は、リーク確認用貫通孔４２Ｒとカラー６０の内周面側の空間とを接続し得る。
　また、本実施形態では、第３支持部４７が設けられている。この第３支持部４７が、溶融金属からなるターゲット材料２７１と内側Ｏ－リング４４との接触を抑制している。従って、ターゲット材料２７１と内側Ｏ－リング４４とが化学反応する材料同士であっても、内側Ｏ－リング４４がターゲット材料２７１と化学反応することを抑制し得る。しかも、本実施形態では、第３支持部４７は、第２支持部であるカラー６０の高さよりも高い高さを有している。従って、ターゲット材料２７１と内側Ｏ－リング４４との接触がより抑制されている。また、さらに、第３支持部４７の高さは第１支持部４６と同じ高さとされ、第３支持部４７は、蓋体４２に当接している。従って、ターゲット材料２７１と内側Ｏ－リング４４との接触がより一層抑制されている。
４．実施形態２
　次に実施形態２にかかるタンク、ターゲット生成装置およびＥＵＶ光生成装置１を、図面を参照して詳細に説明する。なお、以下の説明では、上述において説明した構成と同様の構成については、同一の符号を付し、特に説明する場合を除き、重複する説明を省略する。
４．１　構成
　図８は、本実施形態にかかるターゲット生成装置２０を示す図である。また、図９は、図８の破線で囲まれた領域の拡大図であり、タンク本体４１の周縁部４１Ｒ上に蓋体４２がボルト４３で固定されている様子を示す。
　図８、図９に示すように、本実施形態のタンク本体４１の周縁部４１Ｒは平面状とされ、比較例や実施形態１で周縁部４１Ｒに形成される溝４１Ｇが形成されていない。更に本実施形態では、カラー６０ａが周縁部４１Ｒ上に配置されている。本実施形態のカラー６０ａは、ボルト４３の内側から外側にかけて設けられ、ボルト４３が挿入される位置に貫通孔６５Ｈが形成される点において、実施形態１のカラー６０と異なる。また、平面状の周縁部４１Ｒ上にカラー６０ａが配置されるため、蓋体４２をカラー６０ａで支えている。また、カラー６０ａの厚さは、内側Ｏ－リング４４のチューブの直径よりも小さくされる。従って、本実施形態においても実施形態１と同様にボルト４３が締められて蓋体４２がタンク本体４１に固定された状態で、内側Ｏ－リング４４は蓋体４２からの押圧力により潰れるように変形している。この状態において、内側Ｏ－リング４４の外周側の面はカラー６０ａの内周面に当接している。
　また、本実施形態におけるリーク確認用貫通孔４２Ｒは、蓋体４２の厚さ方向においてカラー６０ａと少なくとも一部が重なる位置に形成されている。より具体的にはリーク確認用貫通孔４２Ｒは、蓋体４２の厚さ方向において貫通孔６０Ｈと少なくとも一部が重なる位置に形成されている。本実施形態では、上記のようにボルト４３が貫通孔６５Ｈに挿入されるため、カラー６０が周方向に回転することが抑制される。従って、リーク確認用貫通孔４２Ｒとカラー６０ａの貫通孔６０Ｈとの相対的な位置がずれることが抑制されている。
　また、本実施形態では、カバー７０を更に備える。カバー７０は、保持部７１と、垂下部７２と、カバー部７３とを含んで成る。保持部７１は、カバー７０の最外周の部位であり、周縁部４１Ｒ上に配置され、カバー７０が落ちないように保持する。保持部７１の厚さは、カラー６０ａの厚さよりも小さくされ、カラー６０ａの厚さよりも例えば０．１ｍｍ程度薄くされる。また、保持部７１の外周面と内側Ｏ－リング４４の内側面との間には隙間が形成されている。垂下部７２は、保持部７１に連結されて、蓋体４２の径方向と垂直な方向に延在し、タンク本体４１の空間４１Ｓ内に入り込んでいる。また、カバー部７３は、空間４１Ｓを覆っている。カバー部７３には、開口４１Ａの中心からずれた位置にガス通過用貫通孔７０Ｈが形成されている。上記のように蓋体４２には、概ね中央にガス通路となる配管１２１が連通する貫通孔が形成されて、このガス通路の位置は、開口４１Ａの概ね中心と重なる。従って、カバー７０に形成されるガス通過用貫通孔７０Ｈは、蓋体４２に形成されるガス通路と重ならない位置とされる。また、このガス通過用貫通孔７０Ｈの大きさは、蓋体４２に形成されるガス通路の大きさ以上とされる。例えば、蓋体４２におけるガス通路の直径が８ｍｍとされる場合、カバー７０に形成されるガス通過用貫通孔７０Ｈの直径は１０ｍｍとされる。この様な構成のカバー７０は、溶融金属から成るターゲット材料２７１と反応しない材料から形成されている。例えば、ターゲット材料２７１が錫である場合、カバー７０はモリブデン、タンタル、タングステンのいずれから成ることが好ましい。
　このような構成を有するタンク４０において、カラー６０ａを第１支持部とすると、タンク本体４１と別体である第１支持部は、ボルト４３よりも開口４１Ａ側の領域において開口４１Ａを囲んで配置され、蓋体４２を支える。
　また、カバー７０の保持部７１を第２支持部とすると、タンク本体４１と別体である第２支持部は、タンク本体４１と蓋体４２との間における第１支持部よりも開口４１Ａ側の領域において開口４１Ａを囲んで配置される。この場合、本実施形態では、封止部材である内側Ｏ－リング４４は、第１支持部と第２支持部との間の領域に配置される。また、カラー６０ａの厚さは第１支持部の高さであり、上記のように保持部７１の厚さはカラー６０ａの厚さよりも薄くされているため、第２支持部は第１支持部の高さよりも低い高さを有することとなる。また、カラー６０ａの内周面からボルト４３挿入用の貫通孔６５Ｈまでの幅６０ａｗは、カラー６０ａの厚さよりも大きくされ、内側Ｏ－リング４４のチューブの直径の３倍以上７倍以下とされる。
４．２ 作用・効果
　上記のように、本実施形態においても実施形態１と同様に蓋体４２がボルト４３によりタンク本体４１に固定される際に、蓋体４２からの押圧力で封止部材であるＯ－リング４４が潰れるように変形する。このとき内側Ｏ－リング４４の外周側の面がカラー６０ａの内周面に当接し、内側Ｏ－リング４４はカラー６０ａにより外側に広がることが抑制される。従って、カラー６０ａは、内側Ｏ－リング４４から外側に広がる力を受ける。しかし、本実施形態においても実施形態１と同様に、タンク本体４１と別体であるカラー６０ａが内側Ｏ－リング４４から力を受けるため、タンク本体４１に内側Ｏ－リング４４から伝わる応力を緩和し得る。しかも、本実施形態では、カラー６０ａが配置されるタンク本体４１の周縁部４１Ｒが平面状であるため、内側Ｏ－リング４４が広がる力でカラー６０ａが外周側に広がる場合であっても、カラー６０ａがタンク本体４１に応力を付与することがより抑制され得る。このため、本実施形態のタンク４０によれば、タンク本体４１にクラック等の損傷が生じることをより抑制することができる。
　また、本実施形態のタンク４０では、第１支持部であるカラー６０ａが、ボルト４３よりも開口４１Ａ側の領域において開口４１Ａを囲んで配置されて蓋体４２を支える。さらに、第１支持部であるカラー６０ａの高さよりも低い高さを有する第２支持部としてのカバー７０の保持部７１が、タンク本体４１と蓋体４２との間における第１支持部であるカラー６０ａよりも開口４１Ａ側の領域において開口４１Ａを囲んで配置される。またさらに、封止部材である内側Ｏ－リング４４がタンク本体４１と蓋体４２との間におけるカラー６０ａよりも開口４１Ａ側の領域において開口４１Ａを囲んで配置される。この様な構成により、第２支持部としての保持部７１が蓋体４２を支える場合よりも、ボルト４３に近い側の第１支持部としてのカラー６０ａで蓋体４２を支持することができる。このため、実施形態１と同様にして、ボルト４３による締め力により蓋体４２にかかる応力で、蓋体４２が変形することを抑制し得る。
　また、本実施形態では、蓋体４２を支える第１支持部であるカラー６０ａと、第２支持部である保持部７１との間に封止部材である内側Ｏ－リング４４が配置される。従って、第１実施形態のように第３支持部を有さずとも、第２支持部により溶融金属から成るターゲット材料２７１が内側Ｏ－リング４４と接触することを抑制することができる。しかも、本実施形態では、カバー７０のカバー部７３がタンク本体４１の空間４１Ｓを覆っている。従って、溶融金属から成るターゲット材料２７１が飛散する場合であっても、カバー部７３が溶融金属のカバー部７３を超える飛散を抑制することができ、溶融金属が内側Ｏ－リング４４と接触することをより効果的に抑制することができる。
　また更に、本実施形態では、上記のようにカバー部７３に形成されるガス通過用貫通孔７０Ｈは、タンク本体４１の開口４１Ａの中心位置からずれた位置に形成される。このため、ガス通過用貫通孔７０Ｈが開口４１Ａの中心を通る軸よりも上側、すなわち重力方向と逆側となるように、タンク４０を鉛直方向に対して傾けることができる。このようにタンク４０を傾ける場合、溶融金属であるターゲット材料２７１の液面とガス通過用貫通孔７０Ｈとを遠ざけることができる。この場合、ターゲット材料２７１が飛散する場合であっても、ターゲット材料２７１がガス通過用貫通孔７０Ｈを通過することを抑制でき、溶融金属が内側Ｏ－リング４４と接触することをより効果的に抑制することができる。
　また、本実施形態では、カバー部７３に形成されるガス通過用貫通孔７０Ｈは、蓋体４２に形成されるガス通路と重ならない位置に形成される。従って、ガス通路からアルゴンや窒素等のガスが充填される場合に、当該ガスは、カバー部７３により、ガス通路から直進的にタンク４０の空間４１Ｓ内に侵入することが抑制される。つまり、ガス流の勢いがカバー部７３で抑制される。このため、空間４１Ｓ内に導入されるガスにより、溶融金属から成るターゲット材料２７１が飛散することを抑制することができる。
　また、本実施形態では、ガス通過用貫通孔７０Ｈの断面積は、蓋体４２に形成されるガス通路の断面積よりも大きい。このため、上記のように空間４１Ｓ内に導入されるガスの勢いを抑制できるにもかかわらず、ガスの導入の抵抗が上がることを抑制することができる。
５．実施形態３
　次に実施形態３にかかるタンク、ターゲット生成装置およびＥＵＶ光生成装置１を、図面を参照して詳細に説明する。なお、以下の説明では、上述において説明した構成と同様の構成については、同一の符号を付し、特に説明する場合を除き、重複する説明を省略する。
５．１　構成
　図１０は、本実施形態にかかるターゲット生成装置２０を示す図である。また、図１１は、図１０の破線で囲まれた領域の拡大図であり、タンク本体４１の周縁部４１Ｒ上に蓋体４２がボルト４３で固定されている様子を示す。
　図１０、図１１に示すように、本実施形態のタンク４０は、カバー７０を備えない点において、実施形態２のタンク４０と異なる。従って、本実施形態のタンク４０では、実施形態２のタンク４０と比べて、溶融金属から成るターゲット材料２７１が封止部材である内側Ｏ－リング４４に接触し易い。このため、本実施形態の内側Ｏ－リング４４の表面は、ターゲット材料２７１と化学反応しない材料から成る。例えば、ターゲット材料２７１が錫である場合、内側Ｏ－リング４４の表面は、モリブデン、タンタル、タングステンのいずれかから成る。また、内側Ｏ－リング４４全体がターゲット材料２７１と化学反応しない材料から成ることがより好ましい。
５．２ 作用・効果
　本例においてもカラー６０ａからタンク本体４１に応力を付与されることが抑制され得る。このため、本実施形態のタンク４０によれば、タンク本体４１にクラック等の損傷が生じることを抑制することができる。
　本実施形態のタンク４０によれば、封止部材である内側Ｏ－リング４４とターゲット材料２７１との接触を抑制する部材を省略することができる。従って、タンク４０の構成を簡易にすることができる。
　なお、上記実施形態１、２の封止部材も本実施形態と同様にターゲット材料２７１と化学反応しない材料から成ることが好ましい。
　以上、本発明について、上記実施形態を例に説明したが、本発明はこれらに限定されるものではない。
　例えば、上記実施形態では、チューブがリング状に形成されたＯ－リングを封止部材として用いた。しかし、本発明はこれに限らない。図１２Ａは、封止部材として用いることができるガスケットの断面の例を示す図である。この様な断面を有する金属のガスケットをリング状に形成して、封止部材として用いても良い。図１２Ｂは、封止部材として用いることができる他のガスケットの断面の例を示す図である。この様な断面を有する金属のガスケットをリング状に形成して、封止部材として用いても良い。図１２Ｃは、封止部材として用いることができる更に他のガスケットの断面の例を示す図である。この様な断面を有する金属のガスケットをリング状に形成して、封止部材として用いても良い。図１２Ｄは、封止部材として用いることができるまた更に他のガスケットの断面の例を示す図である。この様な断面を有する金属のガスケットをリング状に形成して、封止部材として用いても良い。なお、図１２Ａから図１２Ｄに示すガスケットの表面は、ターゲット材料２７１と化学反応しない材料から成ることが好ましい。例えば、ターゲット材料２７１が錫である場合、上記ガスケットの表面は、モリブデン、タンタル、タングステンのいずれかから成ることが好ましい。このように、封止部材として、Ｏ－リング以外の部材を用いることができる。
　上記の説明は、制限ではなく単なる例示を意図したものである。従って、添付の特許請求の範囲を逸脱することなく本開示の実施形態に変更を加えることができることは、当業者には明らかであろう。
　本明細書及び添付の特許請求の範囲全体で使用される用語は、「限定的でない」用語と解釈されるべきである。例えば、「含む」又は「含まれる」という用語は、「含まれるものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。「有する」という用語は、「有するものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。また、本明細書、及び添付の特許請求の範囲に記載される不定冠詞「１つの」は、「少なくとも１つ」又は「１又はそれ以上」を意味すると解釈されるべきである。
１…極端紫外光生成装置、２…チャンバ、３…レーザ装置、５…制御部、２５…プラズマ生成領域、２０…ターゲット生成装置、２７…ターゲット、３４…レーザ光進行方向コントローラ、４０…タンク、４１…タンク本体、４２…蓋体、５０…ノズル、６０…カラー、６０ａ…カラー、７０…カバー

 

Claims (20)

  1. 　内部に空間を有し前記空間と通じる開口を有するタンク本体と、
    　前記タンク本体の前記開口及び前記開口の周縁部を覆う蓋体と、
    　前記周縁部において前記タンク本体と前記蓋体とを固定するボルトと、
    　前記ボルトよりも前記開口側の領域において前記開口を囲んで配置され前記蓋体を支える第１支持部と、
    　前記タンク本体と前記蓋体との間における前記第１支持部よりも前記開口側の領域において前記開口を囲んで配置され、前記第１支持部の高さよりも低い高さを有する第２支持部と、
    　前記タンク本体と前記蓋体との間における前記第１支持部よりも前記開口側の領域において前記開口を囲んで配置される封止部材と、
    を備えるタンク。
  2. 　前記封止部材は、前記第２支持部よりも前記開口側の領域に配置される
    請求項１に記載のタンク。
  3. 　前記第１支持部は前記タンク本体と一体とされる
    請求項２に記載のタンク。
  4. 　前記第２支持部は前記タンク本体と別体とされる
    請求項３に記載のタンク。
  5. 　前記封止部材はＯ－リングであって、
    　前記Ｏ－リングの外周部は前記第２支持部の内周部に当接する
    請求項４に記載のタンク。
  6. 　前記第２支持部の外周部は前記第１支持部の内周部に当接する
    請求項５に記載のタンク。
  7. 　前記タンク本体と前記蓋体との間における前記封止部材よりも前記開口側の領域において前記開口を囲んで配置される第３支持部を更に備える
    請求項４に記載のタンク。
  8. 　前記第３支持部は、前記第２支持部の高さよりも高い高さを有する
    請求項７に記載のタンク。
  9. 　前記第３支持部と前記封止部材との間に隙間が形成される
    請求項７に記載のタンク。
  10. 　前記蓋体には貫通孔が形成され、
    　前記第２支持部には、前記貫通孔と前記第２支持部の内周面側の空間とを接続する通路が形成される
    請求項４に記載のタンク。
  11. 　前記封止部材は、前記第１支持部と前記第２支持部との間の領域に配置される
    請求項１に記載のタンク。
  12. 　前記第１支持部は前記タンク本体と別体とされる
    請求項１１に記載のタンク。
  13. 　前記第２支持部は前記タンク本体と別体とされる
    請求項１２に記載のタンク。
  14. 　前記蓋体には貫通孔が形成され、
    　前記第１支持部には、前記貫通孔と前記第１支持部の内周面側の空間とを接続する通路が形成される
    請求項１２に記載のタンク。
  15. 　前記蓋体には前記空間内に充填されるガスが通るガス通路が形成され、
    　前記開口を覆い、前記ガス通路と重ならない位置に前記ガスが通るガス通過用貫通孔が形成されるカバーを更に備え、
    　前記第２支持部と前記カバーとが接続される
    請求項１３に記載のタンク。
  16. 　前記ガス通過用貫通孔は、前記開口の中心位置からずれた位置に形成される
    請求項１５に記載のタンク。
  17. 　前記ガス通過用貫通孔の断面積は、前記ガス通路の断面積よりも大きい
    請求項１５に記載のタンク。
  18. 　前記封止部材の表面は、前記空間内に充填される溶融金属と化学反応しない材料からなる
    請求項１に記載のタンク。
  19. 　内部に溶融金属が充填される空間を有し前記空間と通じる開口を有するタンク本体と、
    　前記タンク本体の前記開口及び前記開口の周縁部を覆う蓋体と、
    　前記周縁部において前記タンク本体と前記蓋体とを固定するボルトと、
    　前記ボルトよりも前記開口側の領域において前記開口を囲んで配置され前記蓋体を支える第１支持部と、
    　前記タンク本体と前記蓋体との間における前記第１支持部よりも前記開口側の領域において前記開口を囲んで配置され、前記第１支持部の高さよりも低い高さを有する第２支持部と、
    　前記タンク本体と前記蓋体との間における前記第１支持部よりも前記開口側の領域において前記開口を囲んで配置される封止部材と、
    　前記タンク本体に接続されチャンバ内において前記空間内の前記溶融金属からなるターゲットを吐出するノズルと、
    を備えるターゲット生成装置。
  20. 　内部に溶融金属が充填される空間を有し前記空間と通じる開口を有するタンク本体と、
    　前記タンク本体の前記開口及び前記開口の周縁部を覆う蓋体と、
    　前記周縁部において前記タンク本体と前記蓋体とを固定するボルトと、
    　前記ボルトよりも前記開口側の領域において前記開口を囲んで配置され前記蓋体を支える第１支持部と、
    　前記タンク本体と前記蓋体との間における前記第１支持部よりも前記開口側の領域において前記開口を囲んで配置され、前記第１支持部の高さよりも低い高さを有する第２支持部と、
    　前記タンク本体と前記蓋体との間における前記第１支持部よりも前記開口側の領域において前記開口を囲んで配置される封止部材と、
    　前記タンク本体に接続されチャンバ内において前記空間内の前記溶融金属からなるターゲットを吐出するノズルと、
    　前記ノズルから出力された前記ターゲットへレーザ光を照射するレーザ装置と、
    　前記レーザ光が照射されることで生成される前記ターゲットのプラズマから放射した極端紫外光を集光して出力する集光ミラーと、
    を備える極端紫外光生成装置。

     
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