JP2000232246A - 真空紫外レーザ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 Ｏリングがレーザ光に照射されるのを防止可
能な真空紫外レーザを提供する。 【解決手段】 真空紫外領域のレーザ光１１を発振させ
る真空紫外レーザ１において、レーザガスを封止するた
めにレーザチャンバ２に設けられたＯリング１７、又は
レーザ光１１の光路を密封するために光路カバー１３，
１４，２２に設けられたＯリング２５の少なくともいず
れか一方を、真空紫外光１１，１１Ａ，１１Ｂから遮光
するための遮光手段として、遮光突起２７や遮光板２９
を備えている。これにより、Ｏリングの劣化や有機物の
発生を防止している。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、真空紫外領域のレ
ーザ光を発振する真空紫外レーザに関する。

【０００２】

【従来の技術】従来から、真空紫外領域と呼ばれる約２
０nm〜２００nm程度の波長を有する真空紫外光を発振さ
せる真空紫外レーザが知られており、例えばＡｒＦレー
ザ（１９３nm）やＦ2レーザ（１５７nm）等がある。こ
のような真空紫外レーザは、主としてレーザリソグラフ
ィ等の精密加工に使用される。

【０００３】図８に、従来技術に係る真空紫外レーザの
一例として、Ｆ2レーザの構成図を示す。同図におい
て、Ｆ2レーザ１は、レーザガスを封入してその内部で
放電を起こし、真空紫外領域のレーザ光１１を発振させ
るレーザチャンバ２と、このレーザチャンバ２から発振
されるレーザ光１１を狭帯域化する（即ち、レーザ光１
１の中心波長を安定させ、かつ波長のスペクトル幅を狭
くする）狭帯域化ユニット１０と、狭帯域化されたレー
ザ光１１の波長特性（中心波長及びスペクトル幅）及び
パワーを測定する波長測定装置３とを備えている。

【０００４】レーザチャンバ２の内部には、レーザガス
として例えばフッ素（Ｆ2）とヘリウム（Ｈｅ）とが所
定の圧力比で封入されており、その所定位置には１組の
放電電極５，５が設置されている。この放電電極５，５
間に図示しない高圧電源より高電圧を印加することによ
り、約１５７nmの波長を有するレーザ光１１を発振させ
ている。このとき、レーザチャンバ２の上端面には上面
開口部１２が設けられ、放電電極５，５と接続した放電
回路４が上面開口部１２を封止している。そして、レー
ザチャンバ２の上端面には、上面開口部１２の外周に全
周にわたってＯリング溝１６が設けられており、その内
部にはＯリング１７が嵌挿されて、レーザチャンバ２内
部のレーザガスを封止している。

【０００５】また、レーザチャンバ２は、その前端部
（図中右端部）と後端部に、フロントウィンドウ７及び
リアウィンドウ９（以後ウィンドウ７，９と総称する）
を備えている。発振したレーザ光１１は、リアウィンド
ウ９を透過してレーザチャンバ２から出射し、レーザチ
ャンバ２の外部後方（図中左方）に配置された狭帯域化
ユニット１０に入射して狭帯域化される。狭帯域化され
たレーザ光１１は、レーザチャンバ２を通過し、その一
部が外部前方に設けられたフロントミラー８を部分透過
して、加工機１５に入射する。このとき、フロントミラ
ー８から出射したレーザ光１１は、波長測定装置３でそ
の一部をサンプリングされ、波長特性及びパワーを計測
されている。尚、一般にこのようなＦ2レーザ１におい
て、高電圧はパルス状に印加され、レーザ光１１はパル
ス発振する。

【０００６】このとき、出射したレーザ光１１は真空紫
外光であり、空気中の酸素や水蒸気等に非常によく吸収
されるため、空気中を通ることによってパワーが減衰す
る。このようなパワーの減衰を防止するため、レーザチ
ャンバ２から出射したレーザ光１１の光路は密封されて
いる。即ち、同図に示すように、レーザ光１１の光路
は、波長測定装置３を覆う波長ボックス１３、狭帯域化
ユニット１０を覆う狭帯域化ボックス１４、及びこれら
を接続する密封カバー２２，２２等の光路カバー１３，
１４，２２で覆われている。そして、これらの光路カバ
ー１３，１４，２２の接続部を、Ｏリング溝２４の内部
に嵌挿されたＯリング２５によって密封し、その内部に
例えば不活性ガスをパージして光路から空気を遮断して
いる。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来技術には、次に述べるような問題点がある。

【０００８】即ち、レーザチャンバ２内で発振したレー
ザ光１１の一部は、ウィンドウ７，９や放電電極５，５
等で反射され、乱反射光１１Ｂとなってレーザチャンバ
２の内部で乱反射を繰り返している。そして、図８に示
すように、この乱反射光１１Ｂが例えば放電回路４とレ
ーザチャンバ２との隙間に入り込み、レーザガスを封止
するＯリング１７を照射するため、Ｏリング１７から有
機物が発生する。この有機物がレーザガス内に混入し、
レーザガスを汚染してその寿命を縮めたり、ウィンドウ
７，９等のレーザチャンバ２中の光学部品に付着して光
学部品を汚損したりするという問題がある。

【０００９】また、レーザチャンバ２から出射したレー
ザ光１１は、例えば光路上に配置されたミラー等の光学
部品（図示せず）に反射してその一部が乱反射光１１Ｂ
となる。そして、同図に示すように、前記光路カバー１
３，１４，２２の隙間に入り込み、光路を密封するため
のＯリング２５を照射する。これにより、上述したよう
にＯリング２５が劣化し、光路に空気等の不純物が入り
込み、この不純物（特に酸素）によってレーザ光１１が
吸収されて、レーザ光１１のパワーが低下するという問
題がある。さらに、上述したようにＯリング２５から有
機物が発生することにより、この有機物が光路内の光学
部品に付着して光学部品を汚損するという問題がある。

【００１０】本発明は、上記の問題点に着目してなされ
たものであり、Ｏリングがレーザ光に照射されるのを防
止可能な真空紫外レーザを提供することを目的としてい
る。

【００１１】

【課題を解決するための手段、作用及び効果】上記の目
的を達成するために、請求項１の発明は、真空紫外領域
のレーザ光を発振させる真空紫外レーザにおいて、レー
ザガスを封止するためにレーザチャンバに設けられたＯ
リング、又はレーザ光の光路を密封するために光路カバ
ーに設けられたＯリングの少なくともいずれか一方を、
真空紫外光から遮光する遮光手段を備えている。

【００１２】請求項１に記載の発明によれば、レーザガ
スを封止するためのＯリングに真空紫外光が照射しない
ような遮光手段を有している。これにより、レーザチャ
ンバのＯリングに真空紫外光が照射されないので、Ｏリ
ングから有機物が発生することが少ない。従って、レー
ザガスに有機物が混入してレーザ光のパワーや波長特性
が低下したり、有機物がレーザチャンバ内の光学素子に
付着して光学素子が汚損したりすることが少ない。その
ため、真空紫外レーザを長期にわたって安定に稼働する
ことが可能である。

【００１３】また、光路を密封するためのＯリングに、
真空紫外光が照射しないような遮光手段を有している。
これにより、Ｏリングに真空紫外光が照射されないの
で、Ｏリングが劣化することが少ない。従って光路が良
好に密封されて空気から遮断されるので、レーザ光の吸
収が少なく、そのパワーの減衰が少ない。また、Ｏリン
グが長寿命化し、真空紫外レーザのメンテナンス間隔が
長くなる。また、Ｏリングに真空紫外光が照射されない
ので、Ｏリングから有機物が発生することが少ない。こ
れにより、光路の密封がよく保たれるので、光路中に有
機物が混入して光路中の光学素子に付着してレーザ光が
吸収されたり、光学素子が汚損することが少ない。従っ
て、真空紫外レーザを長期にわたって安定に稼働するこ
とが可能である。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、図を参照しながら、本発明
に係る実施形態を詳細に説明する。尚、実施形態におい
て、前記従来技術の説明に使用した図と同一の要素には
同一符号を付し、重複説明は省略する。

【００１５】本発明の実施形態を、図１〜図７に基づい
て説明する。本実施形態では、真空紫外レーザの一例と
して、Ｆ2レーザを例にとって説明する。図１は、本実
施形態に係るＦ2レーザの構成図である。同図におい
て、Ｆ2レーザ１は、レーザガスを封入し、その内部で
放電を起こして真空紫外領域のレーザ光１１を発振させ
るレーザチャンバ２と、このレーザチャンバ２から発振
されるレーザ光１１を狭帯域化する狭帯域化ユニット１
０と、狭帯域化されたレーザ光１１の波長特性及びパワ
ーを測定する波長測定装置３とを備えている。

【００１６】レーザチャンバ２は、その前端部と後端部
に、略円筒形のウィンドウホルダ６，６をそれぞれ備
え、それらの先端に、それぞれ所定の角度でフロントウ
ィンドウ７及びリアウィンドウ９を固定している。ま
た、レーザチャンバ２の内部には、レーザガスとして例
えばフッ素（Ｆ2）とヘリウム（Ｈｅ）とが所定の圧力
比で封入されており、その内部の所定位置には１組の放
電電極５，５が設置されている。レーザチャンバ２の所
定位置には貫流ファン２６が設置されており、図示しな
いモータによって回転駆動されて、放電電極５，５間に
レーザガスを送り込んでいる。そして、図示しない高圧
電源より放電電極５，５間に高電圧を印加することによ
り、放電によってレーザガスを励起し、約１５７nmの波
長を有するレーザ光１１を発振させている。尚、一般に
このようなＦ2レーザ１において、高電圧はパルス状に
印加され、レーザ光１１はパルス発振する。

【００１７】レーザチャンバ２で発振したレーザ光１１
は、リアウィンドウ９を透過して、レーザチャンバ２の
外部後方に設けられた狭帯域化ユニット１０に入射す
る。狭帯域化ユニット１０は、例えば２個のプリズム３
２，３２と、波長選択素子であるグレーティング３３と
を備えている。そして、プリズム３２，３２によって拡
大されたレーザ光１１をグレーティング３３に入射さ
せ、所定の波長特性のレーザ光１１のみを入射光と同じ
方向に折り返して、レーザ光１１を狭帯域化している。
狭帯域化されたレーザ光１１は、狭帯域化ユニット１０
から出射してレーザチャンバ２を通過し、レーザチャン
バ２の前端部に設けられたフロントウィンドウ７を透過
する。フロントウィンドウ７を透過したレーザ光１１の
一部は、レーザチャンバ２の外部前方に設けられたフロ
ントミラー８で部分反射されてレーザチャンバ２内に戻
る。また、残りのレーザ光１１は、フロントミラー８を
部分透過して波長測定装置３に入射する。このとき、レ
ーザ光１１の一部は、ウィンドウ７，９や放電電極５，
５等で反射され、乱反射光１１Ｂとなってレーザチャン
バ２の内部で乱反射を繰り返している。

【００１８】波長測定装置３は、入射したレーザ光１１
の光路上に、ビームスプリッタ１２を有している。レー
ザ光１１は、このビームスプリッタ１２によって一部を
図中下方に反射され、サンプル光１１Ａとなる。また、
ビームスプリッタ１２を透過したレーザ光１１は、加工
機１５に入射し、その内部で精密加工を行なうための光
源となる。ビームスプリッタ１２で下方に反射されたサ
ンプル光１１Ａの一部は、第２のビームスプリッタ３４
で反射され、例えばフォトダイオード等を備えたパワー
検出器３５に入射してそのパワーを測定される。また、
第２のビームスプリッタ３４を透過したサンプル光１１
Ａは、例えばエタロン等の分光手段を備えた波長検出器
３６に入射し、その波長特性を検出される。

【００１９】このとき、真空紫外光であるレーザ光１１
は、空気中の酸素や水蒸気等に非常によく吸収されるた
め、空気中を通ることによってパワーが減衰する。この
ようなパワーの減衰を防止するため、前述の狭帯域化ユ
ニット１０及び波長測定装置３は、それぞれ狭帯域化ボ
ックス１４及び波長ボックス１３の内部に収納されてい
る。また、レーザチャンバ２と、波長ボックス１３及び
狭帯域化ボックス１４との間は、密封カバー２２，２２
でそれぞれ覆われている。そして、これらの光路を覆う
光路カバー１３，１４，２２は、Ｏリング溝２４及びそ
の内部に嵌挿されたＯリング２５によって密封構造を形
成し、光路の内部を例えば不活性ガスでパージして空気
を遮断している。

【００２０】尚、レーザチャンバ２は、レーザ光１１を
発振させる際に、放電電極５，５間の放電から発生した
熱によって、レーザ光１１の光軸方向（図中左右方向）
に膨張する。このとき、狭帯域化ボックス１４及び波長
ボックス１３とウィンドウホルダ６との間が固定されて
いると、この膨張によって狭帯域化ユニット１０及び波
長測定装置３が光軸方向に押され、Ｆ2レーザ１の光軸
がずれてしまう。これを避けるため、ウィンドウホルダ
６，６は狭帯域化ボックス１４及び波長ボックス１３に
それぞれ固定された密封カバー２２，２２に対して、光
路の密封を保ちながら光軸方向に摺動自在になってい
る。

【００２１】以下に、レーザガスを封止するためにレー
ザチャンバ２に設けられているＯリング１７が、乱反射
光１１Ｂに照射されるのを防止する遮光手段について説
明する。

【００２２】図１に示すように、レーザチャンバ２は上
部チャンバ２Ａと下部チャンバ２Ｂとを備えており、上
部チャンバ２Ａの下端面に形成されたフランジ部と下部
チャンバ２Ｂの上端面に形成されたフランジ部とを当接
して、両フランジ部を互いにボルト等（図示せず）で固
定している。図２に、図１におけるＰ部の詳細断面図を
示す。同図に示すように、下部チャンバ２Ｂの上端面の
フランジ部当接面には、Ｏリング溝１６が全周にわたっ
て設けられており、このＯリング溝１６に嵌挿されたＯ
リング１７と上部チャンバ２Ａの下端面のフランジ部当
接面との間でレーザガスを封止している。このとき、下
部チャンバ２ＢのＯリング溝１６よりも内周側の上端面
には、全周にわたって遮光溝２８が設けられている。ま
た、この遮光溝２８に対向する上部チャンバ２Ａの下端
面のフランジ部には、この遮光溝２８の幅よりもわずか
に幅が狭く、かつ遮光溝２８の深さよりもわずかに高さ
が低い遮光突起２７が全周にわたって設けられている。
そして、同図に示すように、上部チャンバ２Ａを下部チ
ャンバ２Ｂに固定する際には、この遮光溝２８に遮光突
起２７が嵌まり込むようになっている。即ち、遮光溝２
８と遮光突起２７とがラビリンスを構成しているので、
レーザチャンバ２内部の乱反射光１１Ｂをラビリンスに
より遮って、乱反射光１１ＢからＯリング１７を遮光し
ている。

【００２３】また、図３、図４に、図２と同じ箇所のＯ
リング１７を遮光するための遮光手段の他の例を示す。
図３において、上部チャンバ２Ａの内壁には、遮光板２
９がボルト３０等の固定手段によって着脱自在に固定さ
れている。この遮光板２９によって、乱反射光１１Ｂが
上部チャンバ２Ａの下端面のフランジ部と下部チャンバ
２Ｂの上端面のフランジ部との隙間に入り込むのを防止
し、Ｏリング１７を乱反射光１１Ｂから遮光している。
また、図４において、上部チャンバ２Ａの下端面のフラ
ンジ部には、Ｏリング溝１６よりも内周側に、全周にわ
たって遮光突起２７が設けられており、下部チャンバ２
Ｂの上端面のフランジ部に全周にわたって設けられた遮
光凹み３１と対向している。この遮光突起２７及び遮光
凹み３１により、乱反射光１１Ｂが上部チャンバ２Ａと
下部チャンバ２Ｂとの隙間に入り込むのを防止し、Ｏリ
ング１７を乱反射光１１Ｂから遮光している。尚、遮光
突起２７及び遮光凹み３１の形状は、これに限定され
ず、例えば同図に二点鎖線で示すように、遮光突起２７
を全周にわたって斜めに形成し、この形状に合わせて遮
光凹み３１を斜めに形成してもよい。

【００２４】また、図１において、上部チャンバ２Ａの
上端面のフランジ部には上面開口部１２が設けられてお
り、この上面開口部１２を塞ぐようにして放電電極５，
５と接続した放電回路４が固定され、レーザガスを封止
している。この封止箇所にもＯリング１７が使用されて
おり、以下、このＯリング１７を遮光する遮光手段につ
いて説明する。図５に、図１におけるＱ部の詳細断面図
を示す。同図において、上部チャンバ２Ａの上端面に
は、上面開口部１２の外周に全周にわたってＯリング溝
１６が設けられており、その内部にはＯリング１７が嵌
挿されている。また、放電回路４の下端面には、Ｏリン
グ溝１６と対向し、かつＯリング１７に当接する位置
に、全周にわたって遮光突起２７が形成され、この遮光
突起２７とＯリング１７との間でレーザガスを封止して
いる。そして、遮光突起２７は、放電回路４と上部チャ
ンバ２Ａとの隙間に入り込んだ乱反射光１１Ｂを遮り、
Ｏリング１７を乱反射光１１Ｂから遮光している。

【００２５】以上説明したように、レーザチャンバ２に
設けられたＯリング１７に乱反射光１１Ｂが照射しない
ような遮光手段を有しているので、Ｏリング１７の劣化
が防止される。また、Ｏリング１７に乱反射光１１Ｂが
当たらないので、Ｏリング１７からの有機物の発生によ
るレーザガスの汚染が防止される。

【００２６】尚、レーザガスを封止するＯリング１７と
して、放電回路４とレーザチャンバ２との間を封止する
Ｏリング１７及び上部チャンバ２Ａと下部チャンバ２Ｂ
との間を封止するＯリング１７を例示したが、遮光手段
が遮光する対象はこれらに限られるものではない。例え
ば、貫流ファン２６を駆動するための、モータ（図示せ
ず）の駆動力を導入する導入手段（図示せず）を封止す
るＯリング等、レーザガスを封止するＯリング１７すべ
てに対して適用可能である。また、Ｏリング溝１６は、
放電回路４、上部チャンバ２Ａ、下部チャンバ２Ｂのい
ずれの側に設けてもよい。

【００２７】次に、レーザチャンバ２を出射したレーザ
光１１の光路を密封するためのＯリング２５を、光路内
の乱反射光１１Ｂから遮光する遮光手段の例について説
明する。

【００２８】図６は、図１におけるＲ部詳細断面図であ
り、レーザチャンバ２に固定されたウィンドウホルダ６
と、狭帯域化ボックス１４に固定された密封カバー２２
との間の接続部の構成例を示している。同図において、
略円筒状のウィンドウホルダ６の外周面上には、全周に
わたってＯリング溝２４が設けられ、Ｏリング溝２４の
内部にはＯリング２５が嵌挿されている。ウィンドウホ
ルダ６は、略円筒状の密封カバー２２の内周側に挿着さ
れ、この密封カバー２２の内周面とＯリング２５との間
で光路を密封している。また、ウィンドウホルダ６の端
面よりも外側の密封カバー２２の内周面には、全周にわ
たって遮光突起２７が設けられている。この遮光突起２
７が、乱反射光１１Ｂが密封カバー２２とウィンドウホ
ルダ６との隙間に侵入するのを防止し、Ｏリング２５を
乱反射光１１Ｂから遮光している。或いはこのとき、密
封カバー２２の内周面に遮光突起２７を設ける代わり
に、略同一位置（同図では説明のため、遮光板２９をず
らして描いている）に断面がＬ字型の形状をした環状の
遮光板２９を、ボルト３０等により固定してもよい。
尚、上述したように、レーザチャンバ２はレーザ光１１
が発振する際に図中矢印方向に膨張するので、その場合
にウィンドウホルダ６が遮光突起２７や遮光板２９に衝
突しないように所定の隙間Ｌを設けて構成する必要があ
る。

【００２９】また、図７は、図１におけるＳ部詳細断面
図であり、狭帯域化ボックス１４と密封カバー２２との
間の接続部の構成例を示している。同図において、密封
カバー２２の一端部にはフランジ２２Ａが形成され、図
示しないボルトでこのフランジ２２Ａを狭帯域化ボック
ス１４の側面に固定している。フランジ２２Ａの端面に
は、全周にわたってＯリング溝２４が形成されており、
その内部にはＯリング２５が嵌挿されている。そして、
このＯリング２５と狭帯域化ボックス１４の側面とが当
接し、光路を密封している。そして、密封カバー２２の
内周面には、全周にわたって略円筒形状の遮光板２９が
ボルト３０等によって固定され、Ｏリング２５を乱反射
光１１Ｂから遮光している。このとき、同図に二点鎖線
で示すように、遮光板２９の一端側の外周部に、環状の
遮光突起２７を形成するようにすれば、さらに遮光性能
が向上する。

【００３０】以上、狭帯域化ボックス１４側のＯリング
２５を例にとって説明したが、これらの遮光手段は、レ
ーザ光１１が出射する波長ボックス１３側の光路に備え
られたＯリング２５（図１参照）に対しても同様に設け
られるものである。

【００３１】尚、本実施形態においては、光路を密封す
るＯリング２５として、密封カバー２２と狭帯域化ボッ
クス１４、波長ボックス１３及びウィンドウホルダ６，
６との間の接続部に設けられたＯリング２５を例示した
が、これらに限られるものではない。例えば、狭帯域化
ボックス１４や波長ボックス１３にも、これらを密封す
るためのＯリング（図示せず）が使用されており、その
内部でレーザ光１１やサンプル光１１Ａから乱反射光１
１Ｂが発生する。これらのＯリング等に対しても、乱反
射光１１Ｂから遮光する遮光手段を備えるようにする。

【００３２】以上説明したように、本実施形態によれ
ば、Ｆ2レーザ１等の真空紫外レーザにおいて、レーザ
ガスを封止するＯリング１７を真空紫外光から遮光する
遮光手段（実施形態によれば遮光突起２７、遮光溝２
８、遮光板２９、及び遮光凹み３１）を有している。
尚、実施形態には真空紫外光として乱反射光１１Ｂのみ
を例示したが、例えば光軸の調整時等に、レーザ光１１
やサンプル光１１ＡがこのようなＯリング１７，２５に
照射されることもあり、このようなレーザ光１１やサン
プル光１１Ａを遮光する遮光手段としても有効である。
これにより、Ｏリング１７に真空紫外光が照射されない
ので、Ｏリング１７から有機物が発生することが少な
い。これにより、レーザガスに有機物が混入してレーザ
光１１のパワーや波長特性が低下したり、有機物がレー
ザチャンバ２内の光学素子に付着して光学素子が汚損し
たりすることが少ない。従って、真空紫外レーザを長期
にわたって安定に稼働することが可能である。

【００３３】また、真空紫外レーザにおいて、レーザ光
１１の通過する光路を密封するために、光路カバー１
４，１３，２２に設けられたＯリング２５を、真空紫外
光から遮光する遮光手段（実施形態によれば遮光突起２
７及び遮光板２９）を有している。これにより、Ｏリン
グ２５に真空紫外光が照射されないので、Ｏリング２５
の劣化が少なく、光路の密封がよく保たれる。従って、
光路に空気が混入することが少なく、レーザ光１１が吸
収されないため、そのパワーの減衰が少ない。また、Ｏ
リング２５が長寿命化し、真空紫外レーザのメンテナン
ス間隔が長くなる。また、Ｏリング２５に真空紫外光が
照射されないので、Ｏリング２５から有機物が発生する
ことが少ない。これにより、光路中に有機物が混入して
光学素子に付着し、光学素子が汚損することが少ない。
従って、真空紫外レーザを長期にわたって安定に稼働す
ることが可能である。

【００３４】尚、本実施形態では、Ｏリング１７，２５
を遮光する遮光手段として図２〜図７に示すような遮光
手段を例示したが、例示した手段に限られるものではな
い。即ち、光路内やレーザチャンバ２内の真空紫外光か
らＯリング１７，２５を遮光するような遮光手段であれ
ば、他の遮光手段でもよい。さらに、これらの遮光手段
と遮光されるＯリング１７，２５との組み合わせも、例
示した組み合わせに限られるものではない。即ち、真空
紫外レーザを設計する際に、レーザチャンバ２や光路カ
バー１３，１４，２２等の形状に合わせて、適宜遮光手
段を設ければよい。

【００３５】また、真空紫外レーザとして、グレーティ
ング３３によって狭帯域化されたＦ2レーザを例にとっ
て説明したが、狭帯域化のための波長選択素子は、グレ
ーティング３３に限らず、例えばエタロンや分散プリズ
ムでもよい。さらに、狭帯域化されたレーザに限られる
ものではなく、狭帯域化ユニット１０に代えてリアミラ
ー等を配置してもよい。また、本発明はＦ2レーザに限
らず、前述したＡｒＦエキシマレーザ等の真空紫外光を
発振するガスレーザすべてにおいて適用可能である。ま
た、放電により励起されるガスレーザばかりでなく、放
電以外の手段（例えばレーザビーム等）によって励起さ
れるガスレーザに対しても適用可能である。さらに、本
発明は、ガスレーザ以外の真空紫外レーザに対しても適
用可能である。即ち、ガスレーザ以外の真空紫外レーザ
では、レーザガスを密封するためのＯリング１７は不要
であるが、一般にその光路を密封するためにＯリング２
５が設けられており、このＯリング２５に対して適用可
能である。このような遮光手段を設けることにより、真
空紫外光の照射によるＯリング２５の劣化や有機物の発
生を防ぐことができる。

【００３６】また、実施形態においては、密封された光
路中に不活性ガスを封止するように説明したが、これに
限らず、例えば光路内に不活性ガスをパージする手段
と、光路内を真空引きする手段とを備え、不活性ガスを
光路内に連続的にパージするようにしてもよい。また、
光路を真空引きして、光路内の酸素を除去するようにし
てもよい。このような場合、光路内の圧力に応じて、Ｏ
リング溝２４の形状やＯリング２５の径を適宜選択する
ようにする。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施形態に係るＦ2レーザの断面図。

【図２】図１のＰ部詳細断面図

【図３】遮光手段の他の例を示す断面図。

【図４】遮光手段の他の例を示す断面図。

【図５】図１のＱ部詳細断面図。

【図６】図１のＲ部詳細断面図。

【図７】図１のＳ部詳細断面図。

【図８】従来技術に係るＦ2レーザの断面図。

【符号の説明】

１：Ｆ2レーザ、２：レーザチャンバ、２Ａ：上部チャ
ンバ、２Ｂ：下部チャンバ、３：波長測定装置、４：放
電回路、５：放電電極、６：ウィンドウホルダ、７：フ
ロントウィンドウ、８：フロントミラー、９：リアウィ
ンドウ、１０：狭帯域化ユニット、１１：レーザ光、１
１Ａ：サンプル光、１１Ｂ：乱反射光、１２：ビームス
プリッタ、１３：波長ボックス、１４：狭帯域化ボック
ス、１５：加工機、１６：Ｏリング溝、１７：Ｏリン
グ、２２：密封カバー、２４：Ｏリング溝、２５：Ｏリ
ング、２６：貫流ファン、２７：遮光突起、２８：遮光
溝、２９：遮光板、３０：ボルト、３１：遮光凹み、３
２：プリズム、３３：グレーティング、３４：ビームス
プリッタ、３５：パワー検出器、３６：波長検出器。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 真空紫外領域のレーザ光(11)を発振させ
   る真空紫外レーザ(1)において、 レーザガスを封止するためにレーザチャンバ(2)に設け
   られたＯリング(17)、又はレーザ光(11)の光路を密封す
   るために光路カバー(13,14,22)に設けられたＯリング(2
   5)の少なくともいずれか一方を、真空紫外光(11,11A,11
   B)から遮光する遮光手段(27,28,29,31)を備えたことを
   特徴とする真空紫外レーザ(1)。