WO2017170639A1 - チタン合金製コーティング膜及びチタン合金製ターゲット材 - Google Patents

チタン合金製コーティング膜及びチタン合金製ターゲット材 Download PDF

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film
alloy coating
melting
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裕正 武田
亘 荒木
一哉 坂口
克子 大藤
巡 戸塚
和希 南
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大同特殊鋼株式会社
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    • C22C14/00Alloys based on titanium
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
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    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation

Definitions

  • the present invention relates to a titanium alloy coating film and a titanium alloy target material.
  • Patent Document 1 a technique of coating a hard film such as TiC, TiN, or TiAlN on the surface of the tool or the mold is widely known (for example, Patent Document 1). reference).
  • the inventors of the present invention focused on Ti—Mo alloys from the viewpoint of versatility such as ease of coating and cost in order to improve the functionality of the coating film, and compared with conventional TiN and TiAlN coating films,
  • the present inventors have found a nitride film, a carbide film, and a carbonitride film of a Ti—Mo alloy that can improve the life of manufactured parts because of its excellent hardness and adhesion.
  • the present inventors have succeeded in developing a Ti—Mo alloy as a target material suitable for producing a coating film having the above characteristics.
  • Patent Document 1 discloses a technique in which Ti-50Mo (% by weight) is used as a target material and a coating film having a TiN + 30% Mo (volume%) composition is obtained by the AIP method.
  • the coating film based on this disclosed technique has a Ti—Mo alloy structure (solid solution) as a whole in that it is a mixed structure of TiN as the metal compound phase and Mo as the metal phase.
  • the composition of the present invention is greatly different from that of the present invention.
  • Mo having a low hardness lowers the overall hardness (having a hardness of about 1700 HV), so that the life of manufactured parts is increased. There was a problem that I could not.
  • the present invention was made against the background as described above, and its purpose is to improve the functionality of the coating film, and it has excellent versatility and excellent hardness and adhesion.
  • An object of the present invention is to provide a titanium alloy coating film and a titanium alloy target material used therefor.
  • the first titanium alloy coating film of the present invention is a titanium alloy coating film represented by (Ti 1-a Mo a ) 1-x N x , wherein a and x each represent an atomic ratio, and titanium
  • the alloy coating film as a whole satisfies 0.04 ⁇ a ⁇ 0.32, 0.40 ⁇ x ⁇ 0.60, and the film hardness of the titanium alloy coating film satisfies the condition of at least 3000 HV or more.
  • Second titanium alloy coating film of the present invention (Ti 1-a Mo a ) a titanium alloy coating film represented by 1-y C y, a and y each atomic ratio of titanium
  • the alloy coating film as a whole satisfies 0.04 ⁇ a ⁇ 0.32, 0.40 ⁇ y ⁇ 0.60, and the film hardness of the titanium alloy coating film satisfies the condition of at least 3000 HV or more.
  • the third titanium alloy coating film of the present invention is a titanium alloy coating film represented by (Ti 1-a Mo a ) 1-xy Cy N x , wherein a, x, and y are respectively The atomic ratio is 0.04 ⁇ a ⁇ 0.32, 0.20 ⁇ x, y ⁇ 0.40, and 0.40 ⁇ 1-xy ⁇ 0.60 for the entire titanium alloy coating film. And the film hardness of the titanium alloy coating film satisfies the condition of at least 3000 HV or more.
  • the titanium alloy target material of the present invention is a titanium alloy target material represented by Ti 1-a Mo a , wherein a represents an atomic ratio satisfying 0.04 ⁇ a ⁇ 0.32, and When the X-ray diffraction profile is measured on the surface of the target material made of titanium alloy, the diffraction peak intensity resulting in the single metal phase of Mo is not detected.
  • the first titanium alloy coating film of the present invention it is possible to obtain a coating film having good adhesion to the base material while obtaining the same hardness as TiAlN. Further, according to the second and third titanium alloy coating films of the present invention, the coating layer needs to be a multilayer or inclined layer in order to improve the adhesion to the base material, but harder than TiAlN. Therefore, it is possible to obtain a coating film that is even better.
  • Each of the first to third titanium alloy coating films has (Ti—Mo) as a main alloy structure (solid solution structure), and greatly contributes to a long life of manufactured parts.
  • the titanium alloy target material of the present invention it is not necessary to prepare two types of target materials made of Ti and Mo, and only one type of target material is used, and the titanium alloy coating having the above characteristics is used. It is possible to manufacture the membrane easily. In this case, if the titanium alloy target material is manufactured by melting, the purity of the target material can be set higher.
  • Ti-Mo binary equilibrium phase diagram Ti-Mo binary equilibrium phase diagram.
  • Example 6 Graph showing the X-ray diffraction peak intensity of a coating film containing (Ti-8Mo) C (melted) as a component.
  • Example 10 Graph showing the X-ray diffraction peak intensity of a coating film containing (Ti-8Mo) CN (melted) as a component.
  • Example 13 Graph showing the X-ray diffraction peak intensity of a coating film containing (Ti-4Mo) N (powder sintered) as a component.
  • Example 14 Graph showing the X-ray diffraction peak intensity of a coating film containing (Ti-8Mo) N (sintered powder) as a component.
  • Comparative Example 1 Graph showing the X-ray diffraction peak intensity of a coating film containing TiN (melted) as a component. The graph which shows the X-ray-diffraction peak intensity of the target material which uses Ti-8Mo (melting) as a component.
  • Example 2 Photograph showing a reflected electron beam image of (Ti-8Mo) N (melted). The graph which shows the EDX spectrum corresponding to the area
  • Example 14 Photograph showing a reflection electron beam image of (Ti-8Mo) N (sintered powder).
  • Ti 1-a Mo a As illustrated in FIG. 1, the Ti—Mo binary equilibrium diagram shows a ⁇ -total solid solution type in the temperature range of 900 ° C. to 1600 ° C. A segregation type in which the ⁇ phase separates into two phases ( ⁇ -Ti, ⁇ - (MoTi)) at a segregation temperature of about 850 ° C. or less, and from about one of the two phases ( ⁇ -Ti) at about 700 ° C. or less. The ⁇ phase ( ⁇ -Ti) starts to precipitate.
  • the provided titanium alloy coating film can be obtained.
  • the film hardness of the titanium alloy coating film represented by (Ti 1-a Mo a ) 1-x N x satisfies the condition that the film hardness is at least 3000 HV or more.
  • the film hardness satisfies the condition that the film hardness is at least 3000 HV or more.
  • the film life by cold forging can be improved.
  • the film hardness of the titanium alloy coating film represented by (Ti 1-a Mo a ) 1-y C y satisfies the condition that the film hardness is at least 3000 HV or more.
  • the film hardness satisfies the condition that the film hardness is at least 3000 HV or more. For example, it is possible to further improve the film life by forging.
  • Ti 1-a Mo a ) 1-xy Cy N x a and y each represent an atomic ratio.
  • the whole titanium alloy coating film satisfies 0.04 ⁇ a ⁇ 0.32, and satisfies 0.20 ⁇ x, y ⁇ 0.40, and 0.40 ⁇ 1-xy ⁇ 0.60.
  • a coating film made of a titanium alloy having sufficient film hardness and adhesion can be obtained as shown in the test results described later.
  • the film hardness of the titanium alloy coating film represented by (Ti 1-a Mo a ) 1-xy C y N x satisfies the condition that it is at least 3000 HV or more.
  • the condition that the film hardness is at least 3000 HV or more.
  • Ti-4Mo melted product
  • Ti-4Mo powdered product
  • Ti 0.92 Mo 0.08 (hereinafter referred to as Ti-8Mo (melted) for powdered product and Ti-8Mo (sintered powder) for sintered powder), Ti 0.84 Mo 0 .16 (hereinafter referred to as Ti-16Mo (melted) as a molten product, and Ti-16Mo (sintered powder) as a sintered powder) and Ti 0.68 Mo 0.32 (hereinafter referred to as a molten product).
  • Each target material was made of Ti-32Mo (melting) made of powder, and Ti-32Mo (powder sintering) made of powder sintered).
  • Comparative Examples (1 to 8) a titanium alloy as a target material was produced by both melting and powder sintering methods.
  • the atomic ratio is Ti 1.00 (hereinafter referred to as Ti (melted) for the molten product and Ti (powder sintered) for the sintered powder), Ti 0.50 Al 0. 50 (hereinafter referred to as the melted product is referred to as Ti-50Al (melted product), and the powdered product is referred to as Ti-50Al (sintered powder)), Cr 1.00 (hereinafter referred to as the melted product as Cr ( ), Powder sintered product is referred to as Cr (powder sintered)), Al 0.50 Cr 0.50 (hereinafter referred to as Al-50Cr (melted product), powder sintered product) Each target material was made of Al-50Cr (sintered powder).
  • Target material melting method Using a water-cooled crucible induction melting furnace to melt the target titanium alloy, etc., while melting the upper part of the material while keeping the lower part of the titanium alloy material etc. in contact with the inner bottom part of the water-cooled copper crucible, The molten metal was alloyed while reducing the contact area with the inner wall of the crucible by the electromagnetic force generated by the induction coil. According to this melting method, it is possible to obtain an ingot in which each component constituting the titanium alloy or the like is uniformly dissolved while reducing contamination due to contact with the crucible.
  • the melting method is not limited to the water-cooled crucible induction melting method, and for example, a plasma melting method using a plasma melting furnace or an EB melting method using an electron beam may be adopted.
  • the produced ingot was subjected to hot forging and rolling, formed into a predetermined shape (for example, round bar, plate material, etc.) and subjected to heat treatment, and then a disk-shaped target was formed by machining.
  • a predetermined shape for example, round bar, plate material, etc.
  • Example 1 Example 1), (Ti-8Mo) N (melting: Example 2), (Ti-16Mo) N (melting: Example 3), (Ti-32Mo) N (melting: Example 4) (The above nitrides are referred to as TiMoN (melting)), (Ti-4Mo) C (melting: Example 5), (Ti-8Mo) C (melting: Example 6), (Ti-16Mo) C (melting: Example 7), (Ti-32Mo) C (melting: Example 8) (The above carbides are collectively referred to as TiMoC (melting)), (Ti-4Mo) CN (melting: implementation) Example 9), (Ti-8Mo) CN (melting: Example 10), (Ti-16Mo) CN (melting: Example 11), (Ti-32Mo) CN (melting: Example 12) (The above carbonitrides are collectively referred to as TiMoCN (melting)), (Ti-4Mo) N (
  • TiN melting: comparative example
  • TP test piece TP (SKH51, 12 mm ⁇ 12 mm ⁇ 5 mm, 64HRC)
  • AIP arc ion plating
  • Example 2 is (Ti-8Mo) N (melted)
  • Example 6 is (Ti-8Mo) C (melted)
  • Example 10 is (Ti-8Mo) CN (melted).
  • Example 13 is (Ti-4Mo) N (powder sintered)
  • Example 14 is (Ti-8Mo) N (powder sintered)
  • Comparative Example 1 is TiN (melted)
  • Comparative Example 6 is Corresponds to TiAlN (powder sintering).
  • each diffraction peak was measured as follows. By using Cu K ⁇ rays (wavelength: about 0.154 nm) as incident X-rays, diffraction profile measurement was performed by the diffractometer method, and diffraction peak intensities appearing in the diffraction angle 2 ⁇ range of 20 to 120 ° were detected. . The measurement results are shown in FIGS.
  • Example 2 (Ti-8Mo) N (melting) and Example 14: (Ti-8Mo) N (powder sintering), energy dispersion incorporated into a scanning electron microscope (SEM).
  • SEM scanning electron microscope
  • An EDX spectrum based on characteristic X-rays of Ti, Mo, and N components was detected on the basis of the reflected electron beam image by a type X-ray analyzer (Energy Dispersive X-ray spectroscopy; EDX).
  • the reflected electron beam image photograph (10,000 times) is shown in FIGS. 16A and 17A
  • the detection results of the EDX spectrum corresponding to FIG. 16A are shown in FIGS. 16B and 16C
  • indicates that the maximum height is less than 5.0 ⁇ m (threshold)
  • indicates that the maximum height is less than 5.0 to 7.5 ⁇ m
  • indicates that the maximum height is 7.5 ⁇ m or more.
  • Film hardness measuring machine Dynamic ultra micro hardness tester DUH-211 (Shimadzu Corporation)
  • indicates that the film hardness is 4000 HV or more
  • indicates that the film hardness is 3000 (threshold) to less than 4000 HV
  • indicates that the film hardness is less than 2000 to 3000 HV
  • indicates that the film hardness is less than 2000 HV. It was judged that it passed when the standard of “ ⁇ ” was reached.
  • the deposition rate in Ti-8Mo (melting) is (Ti-8Mo) N (Example 2), (Ti-8Mo) C (Example 6), (Ti-8Mo) CN (Example 10). The same is true. In any case, no peeling in appearance was observed.
  • the detected diffraction peak intensity position of TiN is slightly shifted to the high angle side from the diffraction peak intensity position unique to TiN. This is because there is a difference in the lattice constant a between Ti and Mo (Ti lattice constant a> Mo lattice constant a), and a part of (TiN) is replaced by Mo (TiN ⁇ MoN). It is estimated that Also, the detection results of the EDX spectra in FIGS. 16B and 16C corresponding to the regions (I) and (II) in the reflected electron beam image in FIG. 16A, and the region (III) in the reflected electron beam image in FIG. From the detection results of each EDX spectrum of FIG. 17B and FIG.
  • the arithmetic average roughness is almost the same, and the maximum height is almost the same.
  • the surface roughness is almost uniform within the range of 4 to 32 Mo content. The transition was the same as in the case of melting.
  • the film hardness of TiMoN (powder sintered), TiMoC (powder sintered), and TiMoCN (powder sintered) is also the same as in the case of melting. All are larger than the film hardness of TiN (powder sintered), TiAlN (powder sintered), CrN (powder sintered), and AlCrN (powder sintered), and TiMoN (powder sintered) and TiMoCN (powder sintered). It was confirmed that the film hardness was approximately equal to 3000 HV or higher, and the film hardness of TiMoC (powder sintered) was 4000 HV or higher. When viewed from film to film, the film hardness of each film varied substantially uniformly within the range of 4 to 32 Mo content, as in the case of melting.
  • TiMoN melting
  • TiMoC melting
  • TiMoCN melting
  • a life investigation using a cold forging punch (material: HAP40, dimension: ⁇ 25 (punch diameter) ⁇ 100 mm, hardness: 64HRC) was performed.
  • the coating surface of the cold forging punch 11 shown in FIG. 18 is coated with various coatings using TiN (melted) TiAlN (powder sintered) and Ti-8Mo (melted) as target materials.
  • Forming a film (target 2 ⁇ m), for example, workpiece 12 material: SKD11 / phosphate coating treatment specification, dimension: ⁇ 25 (workpiece surface diameter) as shown in FIG.
  • the film life is compared when cold forging is performed on ⁇ ⁇ 9.5 ⁇ 40 mm, lubricant: forging oil).
  • the life determination is performed until a streak on the workpiece surface 14 as shown in FIG. 20B is visually recognized due to transfer of cracks in the coating film on the punch use surface 13 as shown in FIG. 20A.
  • the number was used as a reference. The results are shown in FIG.
  • (Ti-8Mo) N (melting) was about 3.5 times the number of processing (73,400 shots) compared to TiN and about 3 times compared to TiAlN.
  • the same results as (Ti-8Mo) N (melted) were obtained for (Ti-8Mo) C (melted) and (Ti-8Mo) CN (melted).
  • the titanium alloy coating films of the above examples all have (Ti—Mo) as the main alloy structure, but contain Mo as a single metal phase. is not. Thereby, the hardness equivalent to TiAlN can be obtained, and the film life by punching (cold forging) can be improved, for example.
  • TiMoN a coating film having good adhesion to the base material can be obtained.
  • a titanium alloy coating film having the above characteristics can be easily produced.
  • each of the films in Examples 1 to 12 is formed using a target material made by a melting method with little contamination of refractories, and a coating film containing (Ti—Mo) as a component is It is excellent in recyclability because it is not an alloy with a complicated composition.
  • the titanium alloy coating film and the titanium alloy target material according to the present embodiment have been described.
  • the present invention is not limited to the above-described embodiments and examples, and may be changed as appropriate without departing from the spirit of the present invention. Is possible.
  • a coating film made of a titanium alloy which is excellent in versatility in achieving high functionality of a coating film, and excellent in hardness and adhesion, and can improve the life of manufactured parts, and used in the same.
  • a titanium alloy target material can be provided.

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Abstract

本発明のチタン合金製コーティング膜は、(Ti1-aMo1-xで表され、0.04≦a≦0.32、0.40≦x≦0.60を満たし、かつ膜硬さが少なくとも3000HV以上の条件を満たし、チタン合金製ターゲット材は、Ti1-aMoで表され、0.04≦a≦0.32を満たし、かつターゲット材の表面においてX線回折プロファイルを測定したとき、Moの単一金属相に帰着される回折ピーク強度が検出されない。

Description

チタン合金製コーティング膜及びチタン合金製ターゲット材
 本発明は、チタン合金製コーティング膜及びチタン合金製ターゲット材に関する。
 工具や金型を高寿命化・高機能化するための手法として、工具や金型の表面にTiCやTiN、TiAlNなどの硬質被膜をコーティングする技術が広く知られている(例えば、特許文献1参照)。
日本国特開平9-071856号公報
 ところで昨今、自動車産業の分野では、例えば高張力鋼を冷間加工で鍛造する場合等、冷間加工では対応が困難な加工が増えており、これに応じて温間加工であったり熱間加工であったりと加工温度を上げざるを得ない状況下にある。加工温度を上げると、加工品の寸法精度や強度の点で不利となるため、加工温度を抑えることには十分な意義がある。しかし、そのためには金型関係における製造部品の高寿命化を図ることが前提となる。そこで、高寿命化の要求に沿いつつも、製造コストが安価に済むコーティング膜の開発が望まれている。
 本発明者らは、コーティング膜の高機能化を図る上でコーティングのし易さやコストなどの汎用性の観点からTi-Mo合金に着目したところ、従来のTiNやTiAlNのコーティング膜に比べて、硬さや密着性に優れることから製造部品の高寿命化を良好に図り得るTi-Mo合金の窒化膜や炭化膜、炭窒化膜を見出したものである。またこれに付随して、上記特性を具備したコーティング膜を製造するのに好適なターゲット材としてのTi-Mo合金の開発に成功したものである。なお、下記特許文献1には、ターゲット材としてTi-50Mo(重量%)を使用し、AIP法によりTiN+30%Mo(体積%)組成のコーティング膜を得るようにした技術が開示されている。しかしながら、この開示された技術に基づくコーティング膜は、金属化合物相としてのTiNと、金属相としてのMoとの混合組織とされる点で、全体がほぼTi-Moの合金組織(固溶体)となる本願発明の組成とは大きく異なっており、従来の組成のコーティング膜では、硬度の低いMoが全体の硬度を下げてしまうことから(1700HV程度の硬さとなる)、製造部品の高寿命化を図ることができないという問題があった。
 本願発明は以上のような事情を背景としてなされたものであり、その目的は、コーティング膜の高機能化を図る上で汎用性に優れ、しかも硬さや密着性に優れることから製造部品の高寿命化を良好に図り得るチタン合金製コーティング膜、及びそれに用いるチタン合金製ターゲット材を提供することにある。
 本発明の第1のチタン合金製コーティング膜は、(Ti1-aMo1-xで表されるチタン合金製コーティング膜であって、a及びxはそれぞれ原子比を示し、チタン合金製コーティング膜の全体で0.04≦a≦0.32、0.40≦x≦0.60を満たし、かつチタン合金製コーティング膜の膜硬さが少なくとも3000HV以上の条件を満たすことを特徴とする。
 本発明の第2のチタン合金製コーティング膜は、(Ti1-aMo1-yで表されるチタン合金製コーティング膜であって、a及びyはそれぞれ原子比を示し、チタン合金製コーティング膜の全体で0.04≦a≦0.32、0.40≦y≦0.60を満たし、かつチタン合金製コーティング膜の膜硬さが少なくとも3000HV以上の条件を満たすことを特徴とする。
 本発明の第3のチタン合金製コーティング膜は、(Ti1-aMo1-x-yで表されるチタン合金製コーティング膜であって、a、x及びyはそれぞれ原子比を示し、チタン合金製コーティング膜の全体で0.04≦a≦0.32、0.20≦x,y≦0.40、及び0.40≦1-x-y≦0.60を満たし、かつチタン合金製コーティング膜の膜硬さが少なくとも3000HV以上の条件を満たすことを特徴とする。
 そして、本発明のチタン合金製ターゲット材は、Ti1-aMoで表されるチタン合金製ターゲット材であって、aは0.04≦a≦0.32を満たす原子比を示し、かつチタン合金製ターゲット材の表面においてX線回折プロファイルを測定したとき、Moの単一金属相に帰着される回折ピーク強度が検出されないことを特徴とする。
 本発明の第1チタン合金製コーティング膜によれば、TiAlNと同等の硬さを得つつも、母材との密着性が良好なコーティング膜を得ることが可能である。また、本発明の第2及び第3チタン合金製コーティング膜によれば、母材との密着性を高めるためにはコーティング層を多層あるいは傾斜層とする必要性はあるものの、TiAlNに比べて硬さが一段と優れたコーティング膜を得ることが可能である。そして、上記第1~第3チタン合金製コーティング膜は、いずれも(Ti-Mo)を主要な合金組織(固溶組織)とするものであり、製造部品の高寿命化に大きく寄与する。また、本発明のチタン合金製ターゲット材を用いれば、Ti製及びMo製の2種類のターゲット材を用意する必要がなく、一種類のターゲット材のみを用いて、上記特性を有するチタン合金製コーティング膜を簡易に製造することが可能である。この場合、チタン合金製ターゲット材を溶解により製造すれば、ターゲット材の純度をより一層高く設定することが可能である。
Ti-Mo二元平衡状態図。 ターゲット材が溶製であるときのMo含有量と各コーティング膜の算術平均粗さとの関係を示すグラフ。 ターゲット材が粉末焼結製であるときのMo含有量と各コーティング膜の算術平均粗さとの関係を示すグラフ。 ターゲット材が溶製であるときのMo含有量と各コーティング膜の最大高さとの関係を示すグラフ。 ターゲット材が粉末焼結製であるときのMo含有量と各コーティング膜の最大高さとの関係を示すグラフ。 ターゲット材が溶製であるときのMo含有量と各コーティング膜の膜密着性との関係を示すグラフ。 ターゲット材が粉末焼結製であるときのMo含有量と各コーティング膜の膜密着性との関係を示すグラフ。 ターゲット材が溶製であるときのMo含有量と各コーティング膜の膜硬度との関係を示すグラフ。 ターゲット材が粉末焼結製であるときのMo含有量と各コーティング膜の膜硬度との関係を示すグラフ。 膜種別の断面写真。 圧痕試験後の膜種別の表面写真。 図6に対応した膜種別の拡大写真。 膜種別の表面組織写真。 実施例2:(Ti-8Mo)N(溶製)を成分とするコーティング膜のX線回折ピーク強度を示すグラフ。 実施例6:(Ti-8Mo)C(溶製)を成分とするコーティング膜のX線回折ピーク強度を示すグラフ。 実施例10:(Ti-8Mo)CN(溶製)を成分とするコーティング膜のX線回折ピーク強度を示すグラフ。 実施例13:(Ti-4Mo)N(粉末焼結)を成分とするコーティング膜のX線回折ピーク強度を示すグラフ。 実施例14:(Ti-8Mo)N(粉末焼結)を成分とするコーティング膜のX線回折ピーク強度を示すグラフ。 比較例1:TiN(溶製)を成分とするコーティング膜のX線回折ピーク強度を示すグラフ。 Ti-8Mo(溶製)を成分とするターゲット材のX線回折ピーク強度を示すグラフ。 実施例2:(Ti-8Mo)N(溶製)の反射電子線像を示す写真。 図16Aの領域(I)に対応したEDXスペクトルを示すグラフ。 図16Aの領域(II)に対応したEDXスペクトルを示すグラフ。 実施例14:(Ti-8Mo)N(粉末焼結)の反射電子線像を示す写真。 図17Aの領域(III)に対応したEDXスペクトルを示すグラフ。 図17Aの領域(IV)に対応したEDXスペクトルを示すグラフ。 パンチング(冷間鍛造)による膜寿命調査のために用いた冷間鍛造パンチを示す外観写真。 パンチングで使用した被加工材を示す外観写真。 図18の冷間鍛造パンチのパンチ使用面を示す外観写真。 図19の被加工材の被加工材表面を示す外観写真。 膜寿命調査結果を膜種別に示すグラフ。
 以下、本発明のチタン合金製コーティング膜、及びそのコーティング膜を形成するために用いられるターゲット材の各化学成分の限定理由について説明する。
(ターゲット材)
(1)Ti1-aMo
 図1に例示されるように、Ti-Mo二元平衡状態図は、900℃~1600℃の温度領域でβ全率固溶体型を示す。約850℃以下の偏析温度ではβ相が2相(β-Ti,β-(MoTi))に分離する偏析型を示し、約700℃以下になると2相のうちの一方(β-Ti)からα相(α-Ti)が析出するようになる。平衡状態を前提とした場合、理論的には0.04≦a≦0.10を満たす領域で、α-Ti及びβ-(MoTi)を主体とした共析組織になると考えられ、MoはTiと完全に固溶した状態にある。この場合、β相からα相に変化する中間段階でω相(ω-Ti)と呼ばれる準安定中間相が生じることもある。
(コーティング膜)
(2)(Ti1-aMo1-x
 a及びxはそれぞれ原子比を示し、チタン合金製コーティング膜の全体で0.04≦a≦0.32を満たし、かつ0.40≦x≦0.60を満たすこと
 0.04≦a≦0.32を満たす領域内の合金組成に対応したターゲット材を使用し、かつ0.40≦x≦0.60を満たすことで、後述する試験結果に示されるように十分な膜硬さと密着性を備えたチタン合金製コーティング膜を得ることができる。好ましくは0.04≦a≦0.10、より好ましくは0.04≦a≦0.08である。
 また、(Ti1-aMo1-xで表されるチタン合金製コーティング膜の膜硬さが少なくとも3000HV以上の条件を満たすこと
 膜硬さが少なくとも3000HV以上の条件を満たすことで、例えば冷間鍛造による膜寿命を向上させることが可能となる。
(3)(Ti1-aMo1-y
 a及びyはそれぞれ原子比を示す。チタン合金製コーティング膜の全体で0.04≦a≦0.32を満たし、かつ0.40≦y≦0.60を満たすこと
 0.04≦a≦0.32を満たす領域内の合金組成に対応したターゲット材を使用し、かつ0.40≦y≦0.60を満たすことで、後述する試験結果に示されるように十分な膜硬さと密着性を備えたチタン合金製コーティング膜を得ることができる。好ましくは0.04≦a≦0.10、より好ましくは0.04≦a≦0.08である。
 また、(Ti1-aMo1-yで表されるチタン合金製コーティング膜の膜硬さが少なくとも3000HV以上の条件を満たすこと
 膜硬さが少なくとも3000HV以上の条件を満たすことで、例えば鍛造による膜寿命をより一層良好に向上させることが可能となる。
(4)(Ti1-aMo1-x-y
 a及びyはそれぞれ原子比を示す。チタン合金製コーティング膜の全体で0.04≦a≦0.32を満たし、0.20≦x,y≦0.40、及び0.40≦1-x-y≦0.60を満たすこと
 0.04≦a≦0.32を満たす領域内の合金組成に対応したターゲット材を使用し、かつ0.20≦x,y≦0.40、及び0.40≦1-x-y≦0.60を満たすことで、後述する試験結果に示されるように十分な膜硬さと密着性を備えたチタン合金製コーティング膜を得ることができる。好ましくは0.04≦a≦0.10、より好ましくは0.04≦a≦0.08である。
 また、(Ti1-aMo1-x-yで表されるチタン合金製コーティング膜の膜硬さが少なくとも3000HV以上の条件を満たすこと
 膜硬さが少なくとも3000HV以上の条件を満たすことで、(Ti1-aMo1-xの場合と同様、例えば冷間鍛造による膜寿命を向上させることが可能となる。
 以下、本発明の実施例について説明する。
(ターゲット材の組成(at%))
 まず、本実施例(1~24:表1参照)では、ターゲット材となるチタン合金を、溶製と粉末焼結の両方法により作製した。具体的には、原子比としてTi0.96Mo0.04(以下、溶製のものをTi-4Mo(溶製)、粉末焼結製のものをTi-4Mo(粉末焼結)と称する)、Ti0.92Mo0.08(以下、溶製のものをTi-8Mo(溶製)、粉末焼結製のものをTi-8Mo(粉末焼結)と称する)、Ti0.84Mo0.16(以下、溶製のものをTi-16Mo(溶製)、粉末焼結製のものをTi-16Mo(粉末焼結)と称する)、及びTi0.68Mo0.32(以下、溶製のものをTi-32Mo(溶製)、粉末焼結製のものをTi-32Mo(粉末焼結)と称する)の各ターゲット材を作製した。
 一方、比較例(1~8)においても、ターゲット材となるチタン合金を、溶製と粉末焼結の両方法により作製した。具体的には、原子比としてTi1.00(以下、溶製のものをTi(溶製)、粉末焼結製のものをTi(粉末焼結)と称する)、Ti0.50Al0.50(以下、溶製のものをTi-50Al(溶製)、粉末焼結製のものをTi-50Al(粉末焼結)と称する)、Cr1.00(以下、溶製のものをCr(溶製)、粉末焼結製のものをCr(粉末焼結)と称する)、Al0.50Cr0.50(以下、溶製のものをAl-50Cr(溶製)、粉末焼結製のものをAl-50Cr(粉末焼結)と称する)、の各ターゲット材を作製した。
(ターゲット材の溶解方法)
 ターゲット材となるチタン合金等を溶解するために水冷ルツボ誘導溶解炉を用いて、水冷銅ルツボの内底部に接触するチタン合金材料等の下部を凝固状態に保ちつつ、材料の上部を溶解し、その溶湯を誘導コイルによる電磁気力によってルツボの内壁面との接触面積を低減しつつ合金化させるようにした。この溶解方法によれば、ルツボとの接触による汚染を低減しつつも、チタン合金等を構成する各成分が均一に固溶したインゴットを得ることができる。
 具体的には、水冷ルツボ誘導溶解炉を用いて、不活性ガス雰囲気中で溶解した。まずTiを溶解し、溶融後にMoを添加して約2トンの合金インゴットを作製した。なお、溶解法は水冷ルツボ誘導溶解法に限らず、例えばプラズマ溶解炉を用いたプラズマ溶解法、あるいは電子ビームを用いたEB溶解法を採用してもよい。
 作製したインゴットに熱間鍛造・圧延を施し、所定形状(例えば丸棒、板材など)に形成して熱処理を施した後、機械加工により円板状のターゲットを形成した。
(コーティング膜の製造方法)
 上記各実施例用のターゲットに対してAIP(アークイオンプレーティング法)により、各テストピースTP(SKH51製、12mm×12mm×5mm、64HRC)の表面上に、(Ti-4Mo)N(溶製:実施例1)、(Ti-8Mo)N(溶製:実施例2)、(Ti-16Mo)N(溶製:実施例3)、(Ti-32Mo)N(溶製:実施例4)(以上の窒化物をTiMoN(溶製)と称する)、(Ti-4Mo)C(溶製:実施例5)、(Ti-8Mo)C(溶製:実施例6)、(Ti-16Mo)C(溶製:実施例7)、(Ti-32Mo)C(溶製:実施例8)(以上の炭化物をTiMoC(溶製)と総称する)、(Ti-4Mo)CN(溶製:実施例9)、(Ti-8Mo)CN(溶製:実施例10)、(Ti-16Mo)CN(溶製:実施例11)、(Ti-32Mo)CN(溶製:実施例12)(以上の炭窒化物をTiMoCN(溶製)と総称する)、(Ti-4Mo)N(粉末焼結:実施例13)、(Ti-8Mo)N(粉末焼結:実施例14)、(Ti-16Mo)N(粉末焼結:実施例15)、(Ti-32Mo)N(粉末焼結:実施例16)(以上の窒化物をTiMoN(粉末焼結)と総称する)、(Ti-4Mo)C(粉末焼結:実施例17)、(Ti-8Mo)C(粉末焼結:実施例18)、(Ti-16Mo)C(粉末焼結:実施例19)、(Ti-32Mo)C(粉末焼結:実施例20)(以上の炭化物をTiMoC(粉末焼結)と総称する)、(Ti-4Mo)CN(粉末焼結:実施例21)、(Ti-8Mo)CN(粉末焼結:実施例22)、(Ti-16Mo)CN(粉末焼結:実施例23)、及び(Ti-32Mo)CN(粉末焼結:実施例24)(以上の炭窒化物をTiMoCN(粉末焼結)と総称する)の各コーティング膜を形成した。
 一方、上記各比較例用のターゲットに対してAIP(アークイオンプレーティング)法により、各テストピースTP(SKH51製、12mm×12mm×5mm、64HRC)の表面上に、TiN(溶製:比較例1)、(Ti-50Al)N(溶製:比較例2、以下、単にTiAlN(溶製)と称する)、CrN(溶製:比較例3)、(Al-50Cr)N(溶製:比較例4、以下、単にAlCrN(溶製)と称する)、TiN(粉末焼結:比較例5)、(Ti-50Al)N(粉末焼結:比較例6、以下、単にTiAlN(粉末焼結)と称する)、CrN(粉末焼結:比較例7)、及び(Al-50Cr)N(粉末焼結:比較例8、以下、単にAlCrN(粉末焼結)と称する)の各コーティング膜を形成した(いずれも単層)。なお、2μm程度の膜厚が得られるように製造条件(コーティング時間、アーク電流値、バイアス電圧値など)を適宜設定した。
(評価方法)
(1)断面観察
 断面観察(400倍の倍率)を行なった。断面写真を図5に示す。なお、図5~図8において、実施例2は(Ti-8Mo)N(溶製)、実施例6は(Ti-8Mo)C(溶製)、実施例10は(Ti-8Mo)CN(溶製)、実施例13は(Ti-4Mo)N(粉末焼結)、実施例14は(Ti-8Mo)N(粉末焼結)、比較例1はTiN(溶製)、比較例6はTiAlN(粉末焼結)に対応する。
(2)膜組成
 エネルギー分散型蛍光X線分析(Energy Dispersive X-ray Fluorescence ; EDXRF)により、膜中の各成分の含有比率を求めた。測定結果を表1に示す。また、ディフラクトメータ法によるX線回折プロファイル測定により、(Ti-8Mo)N(溶製)(実施例2)、(Ti-8Mo)C(溶製)(実施例6)、(Ti-8Mo)CN(溶製)(実施例10)、(Ti-4Mo)N(粉末焼結)(実施例13)、(Ti-8Mo)N(粉末焼結)(実施例14)、TiN(溶製)(比較例1)、及びターゲット材を代表してTi-8Mo(溶製)について各々の組成を分析した。具体的に、各回折ピークは以下のようにして測定した。CuのKα線(波長:約0.154nm)を入射X線として用いることにより、ディフラクトメータ法による回折プロファイル測定を行い、回折角2θが20~120°の範囲に現れる回折ピーク強度を検出した。測定結果を図9~図15に示す。
 さらに、実施例2:(Ti-8Mo)N(溶製)と実施例14:(Ti-8Mo)N(粉末焼結)について、走査型電子顕微鏡(Scanning Electron Microscope ; SEM)に組み込んだエネルギー分散型X線分析装置(Energy Dispersive X-ray spectroscopy ; EDX)により、反射電子線像に基づいて、Ti,Mo,N成分の特性X線によるEDXスペクトルを検出した。反射電子線像写真(10,000倍)を図16A、図17Aに示し、図16Aに対応するEDXスペクトルの検出結果を図16B、図16Cに示し、図17Aに対応するEDXスペクトルの検出結果を図17B、図17Cに示す。
(3)表面粗さ
 表面粗さ規格JIS B 0601-2013に準拠した測定方法により、算術平均粗さRa及び最大高さ粗さRzを測定した。算術平均粗さの測定結果を表1及び図2A、図2Bに示し、最大高さの測定結果を表1及び図2C、図2Dに示す。表1において、算術平均粗さが0.5μm(閾値)未満の場合を「○」、0.5~1.0μm未満の場合を「△」、1.0μm以上の場合を「×」で示し、「○」の基準に達しているとき合格と判定した。また、最大高さが5.0μm(閾値)未満の場合を「○」、5.0~7.5μm未満の場合を「△」、7.5μm以上の場合を「×」で示し、「○」の基準に達しているとき合格と判定した。
(4)圧痕試験
 ロックウェル試験機を用いて、ロックウェル押し付け荷重150kgにおける圧痕付近のコーティング膜の剥離状態(クラックの有無)から密着性の良否を判定した。判定に際して、圧痕を光学顕微鏡により100倍及び400倍の倍率で観察した。圧痕付近の表面組織を図6(100倍)、及び図7(400倍)に示し、圧痕付近を除く表面組織を図8(400倍)に示す。
(5)スクラッチ試験
 ダイヤモンドコーンをコーティング膜に押し付けて引っ掻く際に、その押し付け荷重(N)を連続的に増加させることにより、剥離開始時の臨界荷重(Lc)を測定した。測定結果を表1及び図3A、図3Bに示す。表1において、臨界荷重が50N(閾値)以上の場合を「○」、40~50N未満の場合を「△」、40N未満の場合を「×」で示し、「○」の基準に達しているとき合格と判定した。
(6)膜硬度
 測定機:ダイナミック超微小硬度計DUH-211(島津製作所)
 圧子:三角錐圧子(陵間角115°)を用いて、負荷除荷曲線から求める押込み硬さ試験(インデンテーション法)により、膜硬さとしてビッカース硬さ(HV)を算出した。なお、測定時の押込み量は膜厚の1/10程度とし、基材の影響を受けないように測定した。そして、測定した押込み硬さ(Hit)を下記換算式によりビッカース硬さへ換算した。
HV=0.0924×Hit
 測定結果を表1及び図4A、図4Bに示す。表1において、膜硬度が4000HV以上の場合を「◎」、3000(閾値)~4000HV未満の場合を「○」、2000~3000HV未満の場合を「△」、2000HV未満の場合を「×」で示し、「○」の基準に達しているとき合格と判定した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
 
(評価結果)
(1)断面写真
 図5に示される断面組織より、窒化物における成膜速度は(Ti-4Mo)N(粉末焼結)(実施例13)、(Ti-8Mo)N(溶製・粉末焼結)(実施例2、実施例14)、TiAlN(比較例6)の順に遅くなる(同じコーティング条件とした場合に上記の順に膜厚が薄くなる)傾向が見られた。(Ti-8Mo)N(溶製)(実施例2)は、TiN(溶製)(比較例1)に比べてそれほど成膜速度が遅くならないことから、TiAlNと比べて生産性への寄与が高いことが分かる。他方、Ti-8Mo(溶製)における成膜速度は、(Ti-8Mo)N(実施例2)、(Ti-8Mo)C(実施例6)、(Ti-8Mo)CN(実施例10)で同様である。なお、いずれにおいても、外観上の剥離は見られなかった。
(2)膜組成
 表1に示される組成の観察結果より、実施例1~24、及び比較例1~8のいずれにおいても、ターゲット材の組成比とほぼ同じ原子比率の成分が検出された。また、図9~図15に示されるように、(Ti-8Mo)N(溶製・粉末焼結)、(Ti-8Mo)C(溶製)、(Ti-8Mo)CN(溶製)、(Ti-4Mo)N(粉末焼結)の全ての膜に加えて、Ti-8Mo(溶製)から成るターゲット材からも、Moの単一金属相に帰着される回折ピーク強度は検出されなかった。ここで、図9~図13において、検出されたTiNの回折ピーク強度位置が、TiNに固有の回折ピーク強度位置よりも若干量だけ高角度側にずれている。これは、TiとMoの格子定数aの大きさに違いがあるところ(Tiの格子定数a>Moの格子定数a)、(TiN)の一部がMoに置換(TiN→MoN)されることで生じたものと推定される。
 また、図16Aの反射電子線像中の領域(I),(II)にそれぞれ対応する図16B、図16Cの各EDXスペクトルの検出結果、また図17Aの反射電子線像中の領域(III),(IV)にそれぞれ対応する図17B、図17Cの各EDXスペクトルの検出結果から、実施例2:(Ti-8Mo)N(溶製)及び実施例14:(Ti-8Mo)N(粉末焼結)のいずれのマトリクス層においても、各成分が固溶状態にあることが確認された。ただし、図16Cや図17Cに示されるように、蒸着時における成膜欠陥として、一部の微細な領域にMoが濃化した層が存在することが確認された。しかしながら、この種の欠陥は、AIP法によって蒸着膜を製造する上で回避が困難であること、図16Bや図17Bに示される固溶状態にあるマトリクス層とは明らかに異なる層であること、極く微細な領域に点状に存在するものであること等に鑑み、この実施例では不可避の不純物と同等に扱うこととした。
(3)表面粗さ
 表1及び図2A、図2Cに示される各表面粗さの測定結果より、TiMoN(溶製)、TiMoC(溶製)、及びTiMoCN(溶製)の表面粗さは、算術平均粗さがほぼ同等であり、最大高さもほぼ同等であって、膜ごとに見た場合、それぞれの表面粗さは4~32Mo含有量の範囲内においてほぼ一様に推移することが確認された。また、表1及び図2B、図2Dに示される各表面粗さの測定結果より、TiMoN(粉末焼結)、TiMoC(粉末焼結)、及びTiMoCN(粉末焼結)の表面粗さも、溶製の場合と同様、算術平均粗さがほぼ同等であり、最大高さもほぼ同等であって、膜ごとに見た場合、それぞれの表面粗さは4~32Mo含有量の範囲内においてほぼ一様に推移することも溶製の場合と同様であった。
(4)スクラッチ試験
 表1及び図3Aに示される臨界荷重の測定結果より、TiMoN(溶製)、TiMoC(溶製)、及びTiMoCN(溶製)の臨界荷重(膜密着性)は、いずれも50N以上でほぼ同等であることが確認された。膜ごとに見た場合、それぞれの臨界荷重は4~32Mo含有量の範囲内においてほぼ一様に推移することが確認された。また、表1及び図3Bに示される臨界荷重の測定結果より、TiMoN(粉末焼結)、TiMoC(粉末焼結)、及びTiMoCN(粉末焼結)の臨界荷重も、溶製の場合と同様、50N以上でほぼ同等であって、膜ごとに見た場合、それぞれの臨界荷重は4~32Mo含有量の範囲内においてほぼ一様に推移することも溶製の場合と同様であった。
(5)膜硬さ
 表1及び図4Aに示される膜硬度の測定結果より、TiMoN(溶製)、TiMoC(溶製)、及びTiMoCN(溶製)の膜硬度は、いずれもTiN(溶製)TiAlN(溶製)、CrN(溶製)、及びAlCrN(溶製)の膜硬度よりも大きいことが確認された。また、TiMoN(溶製)及びTiMoCN(溶製)の膜硬度は3000HV以上でほぼ同等である一方、TiMoC(溶製)の膜硬度は4000HV以上であることが確認された。膜ごとに見た場合、それぞれの膜硬度は4~32Mo含有量の範囲内においてほぼ一様に推移することが確認された。また、表1及び図4Bに示される膜硬度の測定結果より、TiMoN(粉末焼結)、TiMoC(粉末焼結)、及びTiMoCN(粉末焼結)の膜硬度も、溶製の場合と同様、いずれもTiN(粉末焼結)TiAlN(粉末焼結)、CrN(粉末焼結)、及びAlCrN(粉末焼結)の膜硬度よりも大きく、TiMoN(粉末焼結)及びTiMoCN(粉末焼結)の膜硬度は3000HV以上でほぼ同等であって、TiMoC(粉末焼結)の膜硬度は4000HV以上であることが確認された。膜ごとに見た場合、それぞれの膜硬度は4~32Mo含有量の範囲内においてほぼ一様に推移することも溶製の場合と同様であった。
(6)圧痕試験
 図6及び図7に示される表面組織より、TiAlN(比較例6)では円環状のクラックが見られたが、溶製の(Ti-8Mo)N(実施例2)、(Ti-8Mo)C(実施例6)、(Ti-8Mo)CN(実施例10)、粉末焼結製の(Ti-4Mo)N(実施例13)、(Ti-8Mo)N(実施例14)のいずれにも円環状のクラックは見られなかった。
(7)表面観察
 図8に示される表面組織より、表面のマクロパーティクル(黒い点で示されるもの)の数は、実施例2,6,10,13,14において、一様であることが確認された。
(8)小括
・TiMoN(溶製)、TiMoC(溶製)、及びTiMoCN(溶製)では、TiN(溶製)TiAlN(溶製)、CrN(溶製)、及びAlCrN(溶製)よりも膜硬度が優れ、TiMoN(粉末焼結)、TiMoC(粉末焼結)、及びTiMoCN(粉末焼結)では、TiN(粉末焼結)TiAlN(粉末焼結)、CrN(粉末焼結)、及びAlCrN(粉末焼結)よりも膜硬度が優れている。これにより、ターゲット材としては、溶製、粉末焼結製のいずれも使用することが可能である。
・TiMoN(溶製)、TiMoC(溶製)、及びTiMoCN(溶製)同士では、臨界荷重(密着性)や表面粗さに大きな差はなく、TiMoN(粉末焼結)、TiMoC(粉末焼結)、及びTiMoCN(粉末焼結)同士も、臨界荷重(密着性)や表面粗さに大きな差はない。
 上記評価方法に加えて、冷間鍛造パンチ(材質:HAP40、寸法:φ25(パンチ径)×100mm、硬度:64HRC)を用いた寿命調査を行った。この調査は、例えば図18に示すような冷間鍛造パンチ11のパンチ使用面に、TiN(溶製)TiAlN(粉末焼結)、Ti-8Mo(溶製)をそれぞれターゲット材として、各種のコーティング膜(2μm狙い)を形成し、例えば図19に示すような笠付き軸部品を一例とする被加工材12(材質:SKD11・リン酸塩被膜処理仕様、寸法:φ25(被加工材表面径)×φ9.5×40mm、潤滑剤:鍛造油)に冷間鍛造を施したときの膜寿命を比較するものである。寿命判断は、例えば図20Aに示すようなパンチ使用面13におけるコーティング膜の割れの転写に起因する、図20Bに示すような被加工材表面14での筋状の傷が視認されるまでのshot数(加工数)を基準として行った。結果を図21に示す。
 (Ti-8Mo)N(溶製)はTiNに比して約3.5倍、TiAlNに比して約3倍の加工数(73,400shot)となった。また、(Ti-8Mo)C(溶製)、(Ti-8Mo)CN(溶製)についても、(Ti-8Mo)N(溶製)と同様の結果が得られた。
 以上の説明からも明らかなように、上記実施例のチタン合金製コーティング膜は、いずれも(Ti-Mo)を主要な合金組織とするものであるが、Moを単一の金属相として含むものではない。これにより、TiAlNと同等の硬さを得ることができ、例えばパンチング(冷間鍛造)による膜寿命を向上させることができる。特に、TiMoN系については、母材との密着性が良好なコーティング膜を得ることができる。また、溶解により作製されたチタン合金製ターゲット材を用いることで、上記特性を有するチタン合金製コーティング膜を簡易に製造することができる。
 また、上記実施例1~12の各膜は、耐火物の汚染の少ない溶解法で作られたターゲット材を用いて形成されたものであること、(Ti-Mo)を成分とするコーティング膜は複雑な組成の合金ではないこと、等からリサイクル性にも優れている。
 なお、上記実施例では(Ti1-aMo1-x、(Ti1-aMo1-y、(Ti1-aMo1-x-yの各コーティング膜をテストピースの表面に単一層として形成した場合について説明したが、膜層の構成はこれに限らず、例えば(Ti1-aMo1-xを1層目に形成し、(Ti1-aMo1-x-y又は(Ti1-aMo1-yを2層目に形成する場合など、(Ti1-aMo1-x、(Ti1-aMo1-y、(Ti1-aMo1-x-yの各コーティング膜を2層以上形成した複合層としてもよい。あるいは、(Ti1-aMo1-xから(Ti1-aMo1-x-yを経て、(Ti1-aMo1-yへ変化させる場合など、C,Nの含有比率が連続的に変化する傾斜層としてもよい。これらによっても、パンチング(冷間鍛造)による膜寿命を向上させ得ることが類推できる。
 以上、本実施例に係るチタン合金製コーティング膜及びチタン合金製ターゲット材について説明したが、本発明は上記実施態様、実施例に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない範囲内で適宜変更することが可能である。
 本発明によれば、コーティング膜の高機能化を図る上で汎用性に優れ、しかも硬さや密着性に優れることから製造部品の高寿命化を良好に図り得るチタン合金製コーティング膜、及びそれに用いるチタン合金製ターゲット材を提供することができる。
 本発明を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは当業者にとって明らかである。
 本出願は、2016年3月29日出願の日本特許出願(特願2016-066573)及び2017年3月23日出願の日本特許出願(特願2017-057131)に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。
11 冷間鍛造パンチ
12 被加工材
13 パンチ使用面
14 被加工材表面

Claims (7)

  1.  (Ti1-aMo1-xで表されるチタン合金製コーティング膜であって、a及びxはそれぞれ原子比を示し、前記チタン合金製コーティング膜の全体で0.04≦a≦0.32、0.40≦x≦0.60を満たし、かつ前記チタン合金製コーティング膜の膜硬さが少なくとも3000HV以上の条件を満たすことを特徴とするチタン合金製コーティング膜。
  2.  前記チタン合金製コーティング膜の表面においてX線回折プロファイルを測定したとき、Moの単一金属相に帰着される回折ピーク強度が検出されないことを特徴とする請求項1に記載のチタン合金製コーティング膜。
  3.  (Ti1-aMo1-yで表されるチタン合金製コーティング膜であって、a及びyはそれぞれ原子比を示し、前記チタン合金製コーティング膜の全体で0.04≦a≦0.32、0.40≦y≦0.60を満たし、かつ前記チタン合金製コーティング膜の膜硬さが少なくとも3000HV以上の条件を満たすことを特徴とするチタン合金製コーティング膜。
  4.  前記チタン合金製コーティング膜の表面においてX線回折プロファイルを測定したとき、Moの単一金属相に帰着される回折ピーク強度が検出されないことを特徴とする請求項3に記載のチタン合金製コーティング膜。
  5.  (Ti1-aMo1-x-yで表されるチタン合金製コーティング膜であって、a、x及びyはそれぞれ原子比を示し、前記チタン合金製コーティング膜の全体で0.04≦a≦0.32、0.20≦x,y≦0.40、及び0.40≦1-x-y≦0.60を満たし、かつ前記チタン合金製コーティング膜の膜硬さが少なくとも3000HV以上の条件を満たすことを特徴とするチタン合金製コーティング膜。
  6.  前記チタン合金製コーティング膜の表面においてX線回折プロファイルを測定したとき、Moの単一金属相に帰着される回折ピーク強度が検出されないことを特徴とする請求項5に記載のチタン合金製コーティング膜。
  7.  Ti1-aMoで表されるチタン合金製ターゲット材であって、aは0.04≦a≦0.32を満たす原子比を示し、かつ前記チタン合金製ターゲット材の表面においてX線回折プロファイルを測定したとき、Moの単一金属相に帰着される回折ピーク強度が検出されないことを特徴とするチタン合金製ターゲット材。
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