WO2017150478A1 - スルホキシド誘導体の製造方法 - Google Patents

スルホキシド誘導体の製造方法 Download PDF

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WO2017150478A1
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信吾 安村
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Definitions

  • the present invention relates to a method for producing a sulfoxide derivative.
  • Sulfoxide derivatives are attracting attention in the field of agricultural chemicals and the like (see Patent Document 1). Therefore, it is important that the sulfoxide derivative be produced selectively and in high yield.
  • oxidation of a sulfide derivative is known.
  • this method has a problem that a sulfon derivative, which is an over-oxidized product, is produced as a by-product.
  • By-product sulfone derivatives that are not required reduce the yield of the desired sulfoxide derivative.
  • Patent Document 1 discloses that a sulfoxide derivative can be produced by an oxidation reaction with metachloroperbenzoic acid (for example, see Examples 13 and 27 of Patent Document 1).
  • metachloroperbenzoic acid for example, see Examples 13 and 27 of Patent Document 1.
  • metachloroperbenzoic acid is not preferred for industrial production. The reason is as follows. After the reaction, metachloroperbenzoic acid becomes metachlorobenzoic acid which becomes waste. As a result, the use of metachloroperbenzoic acid places a heavy burden on the environment.
  • metachloroperbenzoic acid is expensive, a method using metachloroperbenzoic acid is industrially unpreferable.
  • oxidation using hydrogen peroxide is an industrially preferable and useful method.
  • the reason is as follows. Hydrogen peroxide is environmentally friendly because it becomes harmless water after the reaction. Furthermore, hydrogen peroxide is industrially inexpensive.
  • Non-Patent Document 1 discloses asymmetric oxidation from a sulfide derivative to an optically active sulfoxide derivative.
  • Non-Patent Document 1 discloses a method using a conventionally known Schiff base as a ligand and a benzoic acid compound. This method has also been reported to give some yield. However, the method described in Non-Patent Document 1 requires further improvement in yield.
  • Non-Patent Document 1 describes that the yield and enantiomeric excess change depending on the difference in the substituent of the aryl moiety of the arylalkyl sulfide derivative.
  • Non-Patent Document 1 only discloses the yield and enantiomeric excess when the substituents are limited. In other words, Non-Patent Document 1 does not disclose a method for producing a target compound of the present invention that can provide a satisfactory and satisfactory yield.
  • 3,5-diiodosalicylaldehyde as a salicylaldehyde moiety of a Schiff base as a ligand is industrially unfavorable due to difficulty in availability, difficulty in industrial production, and / or cost.
  • an object of the present invention is to provide a method for producing a sulfoxide derivative that is industrially preferable, economical, and friendly to the environment.
  • a more specific object of the present invention is to provide a method capable of producing a sulfoxide derivative selectively and in a high yield. To achieve this goal, it is necessary to provide a controlled oxidation reaction from sulfide derivatives to sulfoxide derivatives that avoids over-oxidation to sulfone derivatives.
  • Another more specific object of the present invention is to provide a method that is inexpensive and can reduce the environmental load.
  • one of the specific objects of the present invention is to produce a sulfoxide derivative using hydrogen peroxide, which is attracting attention as a clean and excellent oxidizing agent, without using metachloroperbenzoic acid as an oxidizing agent. It is to be.
  • an inexpensive compound is preferable as the ligand of the catalyst used in the oxidation reaction.
  • a chlorine atom is acceptable, but an iodine atom is not preferable because it is expensive.
  • an industrially preferred salicylaldehyde derivative is used as the salicylaldehyde moiety of the Schiff base as a ligand without using a salicylaldehyde derivative having the above-mentioned drawbacks such as 3,5-diiodosalicylaldehyde. It is desirable to do.
  • the present inventor has intensively studied a method for producing a sulfoxide derivative.
  • the inventor surprisingly has the general formula (1):
  • this invention solves the said subject by providing the invention as described in the following [1] to [21].
  • R 1 is a C1-C10 alkyl group, C3-C6 cycloalkyl C1-C6 alkyl group, wherein the C3-C6 cycloalkyl group moiety is mono- or poly-substituted by halogen atom, C1-C4 alkyl group, C1-C4 alkoxy group or C1-C4 haloalkyl group May be,
  • R 4 and R 5 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, a phenyl C1-C6 alkyl group, a C6-C10 aryl group, a cyano group, a nitro group, or a C1-C6 alkoxy group.
  • R 6 is a C1-C4 alkyl group, a cyano group, a nitro group, a carboxy group, a C1-C4 alkoxycarbonyl group, a C1-C4 alkylcarbonyl group, a hydroxy C1-C4 alkyl group, a C1-C4 alkoxy C1-C4 alkyl group, An amino C1-C4 alkyl group, a cyano C1-C4 alkyl group, a nitro C1-C4 alkyl group, a carboxy C1-C4 alkyl group or a C1-C4 alkoxycarbonyl C1-C4 alkyl group; R 71 and R 72 are each independently a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group, a phenyl C1-C6 alkyl group or a C6-C10 aryl group. However, the case where both R 71 and R 72 are hydrogen atoms is excluded. )
  • a 1 is a C1-C2 alkoxy group
  • a 2 is a hydrogen atom
  • a 3 is a hydrogen atom or a C1-C2 alkoxy group
  • a 4 is a hydrogen atom
  • a 5 is a C1-C2 alkoxy group
  • M is a hydrogen atom, an alkali metal atom or an alkaline earth metal atom
  • n is 1 or 2.
  • R 1 is a C1-C10 alkyl group, A C3-C6 cycloalkyl C1-C6 alkyl group, wherein the C3-C6 cycloalkyl group moiety may be mono- or polysubstituted by a halogen atom or a C1-C4 alkyl group, A phenyl C1-C6 alkyl group, wherein the phenyl group moiety may be mono- or poly-substituted by a halogen atom or a C1-C4 alkyl group, A C1-C4 alkoxy C2-C10 alkyl group, A C1-C4 haloalkoxy C2-C10 alkyl group, A C1-C4 alkylthio C2-C10 alkyl group, A C1-C4 alkylsulfinyl C2-C10 alkyl group, A C1-C4 alkylsulfonyl C2-C10 alkyl group, A
  • R 1 is a C1-C10 alkyl group, A C1-C4 alkoxy C2-C10 alkyl group, A C1-C4 haloalkoxy C2-C10 alkyl group, A C1-C4 alkylthio C2-C10 alkyl group, A C1-C4 alkylsulfinyl C2-C10 alkyl group, A C1-C4 alkylsulfonyl C2-C10 alkyl group, A C1-C4 haloalkylthio C2-C10 alkyl group, A C1-C4 haloalkylsulfinyl C2-C10 alkyl group, The method according to [1], which is a C1-C4 haloalkylsulfonyl C2-C10 alkyl group or a C1-C6 haloalkyl group.
  • R 1 is a 5-trifluoromethylthiopentyl group or 6-trifluoromethylthiohexyl group; and R 2 is a fluorine atom and R 3 is a chlorine atom, or R 2 and R 3 are methyl
  • R 1 is a 5-trifluoromethylthiopentyl group; The method according to [1], wherein R 2 is a fluorine atom; and R 3 is a chlorine atom.
  • the metal compound is an iron compound; R 4 is a hydrogen atom; R 5 is a hydrogen atom or a halogen atom; R 6 is a hydroxymethyl group; and R 71 and R 72 are each independently a hydrogen atom or a C1-C6 alkyl group (except when both R 71 and R 72 are hydrogen atoms). ), The method according to any one of [1] to [7].
  • the metal compound is an iron compound; R 4 is a hydrogen atom; R 5 is a hydrogen atom, a chlorine atom or a bromine atom; [1] to [7] wherein R 6 is a hydroxymethyl group; and R 71 is a methyl group and R 72 is a methyl group, or R 71 is a hydrogen atom and R 72 is an isopropyl group. ] The method of any one of these.
  • the metal compound is an iron compound; R 4 is a hydrogen atom; R 5 is a hydrogen atom or a chlorine atom; [1] to [7] wherein R 6 is a hydroxymethyl group; and R 71 is a methyl group and R 72 is a methyl group, or R 71 is a hydrogen atom and R 72 is an isopropyl group. ] The method of any one of these.
  • the metal compound is an iron compound; R 4 is a hydrogen atom; R 5 is a hydrogen atom; R 6 is a hydroxymethyl group; The method according to any one of [1] to [7], wherein R 71 is a methyl group; and R 72 is a methyl group.
  • the metal compound is an iron compound; R 4 is a hydrogen atom; R 5 is a chlorine atom; R 6 is a hydroxymethyl group; The method according to any one of [1] to [7], wherein R 71 is a methyl group; and R 72 is a methyl group.
  • a 1 is methoxy group
  • a 2 is a hydrogen atom
  • a 3 is a hydrogen atom or a methoxy group
  • a 4 is a hydrogen atom
  • a 5 is a methoxy group
  • a 1 is methoxy group
  • a 2 is a hydrogen atom
  • a 3 is a hydrogen atom
  • a 4 is a hydrogen atom
  • a 5 is a methoxy group
  • a 1 is methoxy group
  • a 2 is a hydrogen atom
  • a 3 is a methoxy group
  • a 4 is a hydrogen atom
  • a 5 is a methoxy group
  • the present invention provides a novel and industrially applicable production method for the sulfoxide derivative represented by the above general formula (1) useful as an acaricide or the like. According to the present invention, there is provided a method for producing a sulfoxide derivative, which can solve one or more of the above-mentioned disadvantages or problems in the prior art.
  • the target sulfoxide derivative can be selectively produced while avoiding excessive oxidation to the sulfone derivative.
  • the desired sulfoxide derivative can be produced in high yield.
  • the present invention can reduce the environmental load.
  • the method of the present invention does not require a salicylaldehyde derivative having the aforementioned disadvantages such as 3,5-diiodosalicylaldehyde as the salicylaldehyde moiety of the Schiff base as a ligand.
  • the method of the present invention is industrially preferable, economical, and environmentally friendly.
  • the method according to the present invention has the following scheme:
  • the halogen atom is a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom. From the viewpoint of the usefulness and economics of the product, preferred examples of the halogen atom are a fluorine atom and a chlorine atom.
  • alkali metal atom examples include a lithium atom, a sodium atom, a potassium atom, a rubidium atom and a cesium atom, preferably a lithium atom, a sodium atom, a potassium atom and a cesium atom, more preferably a lithium atom, a sodium atom and a potassium atom.
  • alkaline earth metal atoms examples include magnesium atoms, calcium atoms, strontium atoms and barium atoms, preferably magnesium atoms, calcium atoms and barium atoms.
  • Ca to Cb means that the number of carbon atoms is a to b.
  • C1 to C4 in “C1 to C4 alkyl group” means that the alkyl group has 1 to 4 carbon atoms.
  • alkyl are understood to include both straight and branched chain groups such as butyl and tert-butyl.
  • butyl group when specific terms such as “butyl group” are used, this is specific for “normal butyl group”, ie “n-butyl group”.
  • the specific term “butyl group” means a “normal butyl group” of a linear group, and branched isomers such as “tert-butyl” are specifically referred to when intended.
  • pentyloxy group means a linear “normal pentyloxy group”.
  • hexyloxy group means a linear “normal hexyloxy group”.
  • n-”, “s-” and “sec-”, “i-”, “t-” and “tert-”, [neo-], “c-” and “cyc-”, “o-” “,“ M- ”, and“ p- ” have their usual meanings: normal, secondary, iso, tertiary, neo, cyclo, ortho, meta, and para.
  • Me means methyl group
  • Et means ethyl group
  • Pr and “n-Pr” mean a propyl group (ie, a normal propyl group)
  • I-Pr means isopropyl group
  • Bu and “n-Bu” mean a butyl group (ie, a normal butyl group)
  • S-Bu means a sec-butyl group
  • I-Bu means an isobutyl group
  • T-Bu means a tert-butyl group
  • Ph means phenyl group
  • Bn means a benzyl group.
  • the term “optionally monosubstituted” or “monosubstituted” means that one hydrogen atom on a target functional group is substituted with a substituent selected from the specified substituents.
  • the term “optionally polysubstituted” or “polysubstituted” refers to at least two hydrogen atoms (eg, in one embodiment, 2 to 5 hydrogen atoms) on a functional group of interest. Means that the hydrogen atom, in another embodiment 2 to 3 hydrogen atoms) is substituted by the same or different substituents independently selected from the specified substituents.
  • C1-C10 alkyl group means a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.
  • C1-C10 alkyl groups are: Methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, Butyl group, sec-butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, Including, but not limited to, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl and the like.
  • C2 to C10 alkyl group means a linear or branched alkyl group having 2 to 10 carbon atoms.
  • Examples of C2 to C10 alkyl groups include, but are not limited to, suitable examples of the above examples of C1 to C10 alkyl groups.
  • C1-C6 alkyl group means a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
  • Examples of C1-C6 alkyl groups include, but are not limited to, suitable examples of the above-described examples of C1-C10 alkyl groups.
  • C1-C4 alkyl group means a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
  • Examples of C1-C4 alkyl groups are suitable examples of the above-mentioned examples of C1-C10 alkyl groups.
  • C1-C2 alkyl group means a linear alkyl group having 1 to 2 carbon atoms.
  • C1-C2 alkyl groups are methyl and ethyl groups.
  • the haloalkyl group means a linear or branched alkyl group substituted with one or more halogen atoms which are the same or different.
  • the C1-C6 haloalkyl group means a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, which is substituted with the same or different 1 to 13 halogen atoms (wherein the halogen atom is Has the same meaning as defined above).
  • C1-C6 haloalkyl groups are Fluoromethyl group, difluoromethyl group, trifluoromethyl group, chlorodifluoromethyl group, 2-fluoroethyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2,2-difluoroethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, pentafluoroethyl group, 3-fluoropropyl group, 3-chloropropyl group, 3-bromopropyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, 2,2,2-trifluoro-1-trifluoromethylethyl group, Heptafluoropropyl group, 1,2,2,2-tetrafluoro-1-trifluoromethylethyl group, 4-fluorobutyl group, 4-chlorobutyl group, 4-bromobutyl group, 2,2,3,3,4,4,4-heptafluorobutyl
  • the C1-C4 haloalkyl group means a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, which is substituted with 1 to 9 halogen atoms which are the same or different (wherein the halogen atom is Has the same meaning as defined above).
  • C1-C4 haloalkyl groups include, but are not limited to, suitable examples of the above-described examples of C1-C6 haloalkyl groups.
  • C1-C6 alkoxy group means a (C1-C6 alkyl) -O- group (wherein the C1-C6 alkyl group portion has the same meaning as defined above).
  • C1-C6 alkoxy groups are methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, Butoxy group, sec-butoxy group, isobutoxy group, tert-butoxy group, Including, but not limited to, a pentyloxy group, an isopentyloxy group, a hexyloxy group, an isohexyloxy group, and the like.
  • C1-C4 alkoxy group means a (C1-C4 alkyl) -O- group (wherein the C1-C4 alkyl group has the same meaning as defined above).
  • Examples of C1-C4 alkoxy groups are suitable examples of the above-mentioned examples of C1-C6 alkoxy groups.
  • C1-C2 alkoxy group means a (C1-C2 alkyl) -O- group (wherein the C1-C2 alkyl group has the same meaning as defined above).
  • C1-C2 alkoxy groups are methoxy and ethoxy groups.
  • C1-C6 haloalkoxy group means a (C1-C6 haloalkyl) -O- group (wherein the C1-C6 haloalkyl group portion has the same meaning as described above).
  • C1-C6 haloalkoxy groups are Fluoromethoxy group, difluoromethoxy group, trifluoromethoxy group, chlorodifluoromethoxy group, 2-fluoroethoxy group, 2-chloroethoxy group, 2-bromoethoxy group, 2,2-difluoroethoxy group, 2,2,2-trifluoroethoxy group, pentafluoroethoxy group, 3-fluoropropoxy group, 3-chloropropoxy group, 3-bromopropoxy group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropoxy group, 2,2,2-trifluoro-1-trifluoromethylethoxy group, Heptafluoropropoxy group, 1,2,2,2-tetrafluoro-1-trifluoromethylethoxy group, 4-fluorobutoxy group, 4-chlorobutoxy group, 4-bromobutoxy group, 2,2,3,3,4,4,4-heptafluorobutoxy group, 5-fluoropentyloxy group, 5-flu
  • C1-C4 haloalkoxy group means a (C1-C4 haloalkyl) -O- group (wherein the C1-C4 haloalkyl group portion has the same meaning as described above).
  • C1-C4 haloalkoxy groups are Fluoromethoxy group, difluoromethoxy group, trifluoromethoxy group, chlorodifluoromethoxy group, 2-fluoroethoxy group, 2-chloroethoxy group, 2,2,2-trifluoroethoxy group, pentafluoroethoxy group, 3-fluoropropoxy group, 3-chloropropoxy group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropoxy group, heptafluoropropoxy group, 2,2,2-trifluoro-1-trifluoromethylethoxy group, Examples include, but are not limited to, 4-fluorobutoxy group, 2,2,3,3,4,4,4-heptafluorobutoxy group and the like.
  • C1-C4 alkylthio group means a (C1-C4 alkyl) -S- group (wherein the C1-C4 alkyl group portion has the same meaning as described above).
  • C1-C4 haloalkylthio group means a (C1-C4 haloalkyl) -S- group (wherein the C1-C4 haloalkyl group portion has the same meaning as described above).
  • C1-C4 alkylsulfinyl group means (C1-C4 alkyl) -SO- group (wherein the C1-C4 alkyl group portion has the same meaning as above).
  • C1-C4 haloalkylsulfinyl group means a (C1-C4 haloalkyl) -SO- group (wherein the C1-C4 haloalkyl group portion has the same meaning as described above).
  • C1-C4 haloalkylsulfinyl groups are Fluoromethylsulfinyl group, difluoromethylsulfinyl group, trifluoromethylsulfinyl group, chlorodifluoromethylsulfinyl group, 2-fluoroethylsulfinyl group, 2-chloroethylsulfinyl group, 2,2,2-trifluoroethylsulfinyl group, pentafluoroethylsulfinyl group, 3-fluoropropylsulfinyl group, 3-chloropropylsulfinyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropylsulfinyl group, heptafluoropropylsulfinyl group, 2,2,2-trifluoro-1-trifluoromethyl An ethylsulfinyl group, Examples include, but are not limited to, 4-fluoro
  • Examples of the C1-C4 alkylsulfonyl group include a methylsulfonyl group, an ethylsulfonyl group, a propylsulfonyl group, an isopropylsulfonyl group, a butylsulfonyl group, a sec-butylsulfonyl group, an isobutylsulfonyl group, and a tert-butylsulfonyl group.
  • the C1-C4 haloalkylsulfonyl group means a (C1-C4 haloalkyl) -SO 2 -group (wherein the C1-C4 haloalkyl group portion has the same meaning as described above).
  • the phenyl C1-C6 alkyl group means a C1-C6 alkyl group substituted by phenyl (wherein the C1-C6 alkyl group portion has the same meaning as defined above).
  • phenyl C1-C6 alkyl group examples include benzyl group, 1-phenylethyl group, 2-phenylethyl group, 3-phenylpropyl group, 4-phenylbutyl group, 5-phenylpentyl group, 6-phenylhexyl group and the like. Including, but not limited to.
  • the C1-C4 alkylthio C2-C10 alkyl group means a C2-C10 alkyl group substituted by a C1-C4 alkylthio group (wherein the C1-C4 alkylthio group and the C2-C10 alkyl group have the same meanings as described above). Have).
  • C1-C4 alkylthio C2-C10 alkyl groups are: 2-methylthioethyl group, 3-methylthiopropyl group, 4-methylthiobutyl group, 5-methylthiopentyl group, 5-ethylthiopentyl group, 5-propylthiopentyl group, 5-butylthiopentyl group, 6-methylthiohexyl group, 6-ethylthiohexyl group, 6-propylthiohexyl group, 6-butylthiohexyl group, Examples include, but are not limited to, 7-methylthioheptyl group, 8-methylthiooctyl group, 9-methylthiononyl group, 10-methylthiodecyl group, and the like.
  • the C1-C4 haloalkylthio C2-C10 alkyl group means a C2-C10 alkyl group substituted by a C1-C4 haloalkylthio group (wherein the C1-C4 haloalkylthio group and the C2-C10 alkyl group are as described above). Have the same meaning).
  • C1-C4 haloalkylthio C2-C10 alkyl group include a 5-trifluoromethylthiopentyl group and a 6-trifluoromethylthiohexyl group.
  • Examples of the C1-C4 alkylsulfonyl C2-C10 alkyl group include, but are not limited to, a 5-methylsulfonylpentyl group and a 6-methylsulfonylhexyl group.
  • C1-C4 haloalkylsulfonyl C2-C10 alkyl groups include 5-difluoromethylsulfonylpentyl group, 5-trifluoromethylsulfonylpentyl group, 6-difluoromethylsulfonylhexyl group, 6-trifluoromethylsulfonylhexyl group and the like. Including, but not limited to.
  • C1-C4 alkoxy C1-C4 alkyl group means a C1-C4 alkyl group substituted by a C1-C4 alkoxy group (wherein the C1-C4 alkoxy group and the C1-C4 alkyl group have the same meaning as described above). Have).
  • the amino C1-C4 alkyl group means a C1-C4 alkyl group substituted by an amino group (wherein the C1-C4 alkyl group has the same meaning as described above).
  • amino C1-C4 alkyl groups include aminomethyl group, 1-aminoethyl group, 2-aminoethyl group, 1-aminopropyl group, 2-aminopropyl group, 1-aminobutyl group, 2-aminobutyl group, Including, but not limited to, 3-aminobutyl group.
  • the cyano C1-C4 alkyl group means a C1-C4 alkyl group substituted by a cyano group (wherein the C1-C4 alkyl group has the same meaning as described above).
  • nitro C1-C4 alkyl groups are nitromethyl, 1-nitroethyl, 2-nitroethyl, 1-nitropropyl, 2-nitropropyl, 1-nitrobutyl, 2-nitrobutyl, 3-nitrobutyl, etc. However, it is not limited to these.
  • carboxy C1-C4 alkyl group examples include carboxymethyl group, 1-carboxyethyl group, 2-carboxyethyl group, 1-carboxypropyl group, 2-carboxypropyl group, 1-carboxybutyl group, 2-carboxybutyl group, Including, but not limited to, 3-carboxybutyl group.
  • C1-C4 alkoxycarbonyl C1-C4 alkyl group means a C1-C4 alkyl group substituted by a C1-C4 alkoxycarbonyl group (wherein the C1-C4 alkoxycarbonyl group and the C1-C4 alkyl group are as described above). Have the same meaning).
  • Mono (C1-C4 alkyl) amino group means (C1-C4 alkyl) -NH-group (wherein the C1-C4 alkyl group portion has the same meaning as defined above).
  • Examples of mono (C1-C4 alkyl) amino groups include, but are not limited to, methylamino group, ethylamino group, propylamino group, isopropylamino group, butylamino group, and the like.
  • the di (C1-C4 alkyl) amino group means a (C1-C4 alkyl) 2 N-group (wherein the C1-C4 alkyl group moieties are the same or different and have the same meaning as defined above). .)
  • R 1 is a C1-C10 alkyl group, A C3-C6 cycloalkyl C1-C6 alkyl group, wherein the C3-C6 cycloalkyl group moiety may be mono- or polysubstituted by a halogen atom or a C1-C4 alkyl group, A phenyl C1-C6 alkyl group, wherein the phenyl group moiety may be mono- or poly-substituted by a halogen atom or a C1-C4 alkyl group, A C1-C4 alkoxy C2-C10 alkyl group, A C1-C4 haloalkoxy C2-C10 alkyl group, A C1-C4 alkylthio C2-C10 alkyl group, A C1-C4 alkylsulfinyl C2-C
  • R 1 is a C1-C10 alkyl group, A C1-C4 alkoxy C2-C10 alkyl group, A C1-C4 haloalkoxy C2-C10 alkyl group, A C1-C4 alkylthio C2-C10 alkyl group, A C1-C4 alkylsulfinyl C2-C10 alkyl group, A C1-C4 alkylsulfonyl C2-C10 alkyl group, A C1-C4 haloalkylthio C2-C10 alkyl group, A C1-C4 haloalkylsulfinyl C2-C10 alkyl group, A C1-C4 haloalkylsulfonyl C2-C10 alkyl group, or a C1-C6 haloalkyl group; and R 2 and R 3 are each independently a C1-C10 alkyl group, A C1-C4 alkoxy C2-C10 alkyl group,
  • R 1 , R 2 and R 3 are: R 1 is a C1-C4 haloalkylthio C2-C10 alkyl group; and R 2 and R 3 are each independently a halogen atom or a C1-C4 alkyl group.
  • R 1 , R 2 and R 3 are: R 1 is a 5-trifluoromethylthiopentyl group or 6-trifluoromethylthiohexyl group; and R 2 is a fluorine atom and R 3 is a chlorine atom, or R 2 and R 3 are methyl groups .
  • R 1 , R 2 and R 3 are: R 1 is a 6-trifluoromethylthiohexyl group; and R 2 and R 3 are methyl groups.
  • R 1 , R 2 and R 3 are: R 1 is a 5-trifluoromethylthiopentyl group; R 2 is a fluorine atom; and R 3 is a chlorine atom.
  • the oxidizing agent used in the present invention may be any oxidizing agent as long as the reaction proceeds.
  • An oxidizing agent capable of oxidizing the corresponding raw material compound (sulfide derivative) to the target compound (sulfoxide derivative) can be used.
  • the oxidizing agent used in the present invention include, but are not limited to, inorganic peroxides (for example, hydrogen peroxide, urea-hydrogen peroxide adduct, etc.). From the viewpoint of safety, reactivity, selectivity, economic efficiency, etc., a preferred oxidizing agent is hydrogen peroxide. You may use an oxidizing agent individually or in combination of 2 or more types of arbitrary ratios.
  • the amount of the oxidizing agent used in the method of the present invention may be any amount as long as the reaction proceeds.
  • the lower limit of the oxidizing agent in the present invention is preferably 0.9 mol or more, based on 1 mol of the sulfide derivative (raw material compound) represented by the general formula (2).
  • the amount of the oxidizing agent used in the present invention includes appropriate and arbitrary combinations of the above lower limit and upper limit. Therefore, from the viewpoints of safety, yield improvement, suppression of by-products, economic efficiency, etc., the amount of the oxidizing agent used in the present invention is the sulfide derivative (raw material compound) represented by the general formula (2). Examples are 0.9 to 4.0 moles, preferably 1.0 to 3.0 moles, and more preferably 1.0 to 2.5 moles with respect to 1 mole. However, the amount of the oxidizing agent used in the present invention can be appropriately adjusted by those skilled in the art according to the purpose and situation.
  • the catalyst in the present invention is a metal-ligand complex.
  • the metal-ligand complex can be prepared from a metal compound and a ligand.
  • the metal-ligand complex may contain components other than the metal compound and the ligand. Accordingly, the metal-ligand complex includes a metal compound ligand.
  • the metal compound contained in the metal-ligand complex in the present invention will be described.
  • the metal compound used in the present invention may be any metal compound as long as the reaction proceeds.
  • the metal compound used in the present invention is a known compound or a compound that can be produced from a known compound according to a known method.
  • the metal of the metal compound is preferably a transition metal.
  • metal compounds include, but are not limited to, iron compounds, vanadium compounds, titanium compounds, manganese compounds, copper compounds, molybdenum compounds, zirconium compounds, and the like.
  • iron compounds are iron (III) acetylacetonate, iron (III) chloride, iron (III) bromide, iron (III) methoxide, iron (III) ethoxide, iron (III) propoxide, iron (III) Including, but not limited to, isopropoxide.
  • Iron (III) acetylacetonate is also referred to as “Fe (acac) 3 ” or “tris (2,4-pentanedionato) iron (III)”.
  • preferable examples of the iron compound include iron (III) acetylacetonate and iron (III) chloride.
  • a more preferred example of the iron compound includes iron (III) acetylacetonate.
  • vanadium compounds examples include, but are not limited to, vanadyl acetylacetonate, vanadium oxide (V), triisopropoxy vanadium (V) oxide, and the like.
  • vanadyl acetylacetonate is also referred to as “VO (acac) 2 ”, “bis (2,4-pentanedionato) vanadium (IV) oxide” or “vanadium (IV) oxyacetylacetonate”.
  • Triisopropoxyvanadium (V) oxide is also referred to as “VO (OiPr) 3 ” or “triisopropoxyoxovanadium (V)”.
  • preferable examples of the vanadium compound include vanadyl acetylacetonate and vanadium oxide (V). More preferred examples of vanadium compounds include vanadyl acetylacetonate.
  • titanium compounds include titanium tetrachloride, titanium (IV) methoxide, titanium (IV) ethoxide, titanium (IV) propoxide, titanium (IV) isopropoxide, titanium (IV) tert-butoxide, etc. It is not limited to.
  • manganese compounds include, but are not limited to, manganese (III) acetylacetonate, manganese (II) chloride, and the like. “Manganese (III) acetylacetonate” is also referred to as “Mn (acac) 3 ”.
  • copper compounds include, but are not limited to, copper (II) acetylacetonate, copper (I) chloride, copper (II) chloride, and the like. “Copper (II) acetylacetonate” is also referred to as “Cu (acac) 2 ”.
  • molybdenum compounds include, but are not limited to, molybdenyl acetylacetonate and the like. “Molybenyl acetylacetonate” is also referred to as “MoO 2 (acac) 2 ”, “bis (2,4-pentanedionato) molybdenum (VI) dioxide” or “molybdenum (IV) dioxyacetylacetonate”.
  • zirconium compounds include, but are not limited to, zirconium (IV) acetylacetonate, zirconium tetrachloride, and the like. “Zirconium (IV) acetylacetonate” is also referred to as “Zr (acac) 4 ” or “tetrakis (2,4-pentanedionato) zirconium (IV)”.
  • the metal compounds in the present invention may be used alone or in combination of two or more in any ratio.
  • the form of the metal compound in the present invention may be any form as long as the reaction proceeds.
  • the form of the metal compound in the present invention can be appropriately selected by those skilled in the art.
  • the amount of the metal compound used in the method of the present invention may be any amount as long as the reaction proceeds.
  • the usage-amount of a metal compound can be reduced by use of the benzoic acid compound represented by General formula (4).
  • the amount of the metal compound used in the present invention is a sulfide derivative (raw material compound) 1 represented by the general formula (2). 0.1 to 20.0 mol%, preferably 0.1 to 10.0 mol%, more preferably 0.3 to 10.0 mol%, still more preferably 0.4 to 10.0 mol% with respect to mol can do.
  • the amount of the metal compound used in the present invention is preferably 0.1 with respect to 1 mol of the sulfide derivative (raw material compound) represented by the general formula (2). 3 to 6.0 mol%, more preferably 0.3 to 5.0 mol%, still more preferably 0.4 to 5.0 mol%, still more preferably 0.4 to 4.0 mol%, still more preferably 0.4 to Examples also include 3.0 mol%, particularly preferably 0.4 to 2.0 mol%.
  • the amount of the metal compound used in the present invention can be appropriately adjusted by those skilled in the art according to the purpose and situation.
  • the ligand contained in the metal-ligand complex in the present invention will be described.
  • the ligand used in the present invention is a known compound or a compound that can be produced from a known compound according to a known method.
  • R 4 , R 5 , R 6 , R 71 and R 72 are as follows. It is a compound represented by these.
  • R 4 and R 5 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, a phenyl C1-C6 alkyl group, a C6-C10 aryl group, a cyano group, a nitro group, or A C1-C6 alkoxy group;
  • R 4 and R 5 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, more preferably each independently a hydrogen atom or a halogen atom.
  • R 4 is a hydrogen atom.
  • R 5 are a hydrogen atom or a chlorine atom, particularly preferably a hydrogen atom.
  • R 6 represents a C1 to C4 alkyl group, a cyano group, a nitro group, a carboxy group, a C1 to C4 alkoxycarbonyl group, a C1 to C4 alkylcarbonyl group, a hydroxy C1 to C4 alkyl group, or a C1 to C4.
  • R 6 is a hydroxy C1-C4 alkyl group, more preferably a hydroxymethyl group.
  • R 71 and R 72 are each independently a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group, a phenyl C1-C6 alkyl group or a C6-C10 aryl group (provided that both of R 71 and R 72 are Except when is a hydrogen atom).
  • R 71 and R 72 are independently a hydrogen atom or a C1-C6 alkyl group (provided that both R 71 and R 72 are hydrogen atoms). Excluding) More preferably, R 71 is a methyl group and R 72 is a methyl group, or R 71 is a hydrogen atom and R 72 is an isopropyl group, Particularly preferably, R 71 is a methyl group and R 72 is a methyl group.
  • R 4 is a hydrogen atom
  • R 5 is a hydrogen atom or a chlorine atom
  • R 6 is a hydroxymethyl group
  • R 71 is a methyl group
  • R 72 is a methyl group.
  • R 4 , R 5 , R 6 , R 71 and R 72 are: R 4 is a hydrogen atom; R 5 is a hydrogen atom; R 6 is a hydroxymethyl group; R 71 is a methyl group; R 72 is a methyl group.
  • ligands include those represented by the formulas (3-1), (3-2), (3-3), (3-4), (3-8), (3-9), (3-10), and (3-12).
  • More preferred specific examples of the ligand include the formula (3-1), (3-2), (3-3), (3-4), (3-9), or (3-12).
  • More preferred specific examples of the ligand are the formula (3-1), (3-4), (3-9), or (3-12).
  • a more preferred specific example of the ligand is the formula (3-4) or (3-9).
  • a particularly preferred specific example of the ligand is a compound of the formula (3-4).
  • the ligands in the present invention may be used alone or in combination of two or more in any ratio.
  • the form of the ligand in the present invention may be any form as long as the reaction proceeds.
  • the form of the ligand compound in the present invention can be appropriately selected by those skilled in the art.
  • the amount of the ligand used in the method of the present invention may be any amount as long as the reaction proceeds.
  • the usage-amount of a ligand can be reduced by use of the benzoic acid compound represented by General formula (4).
  • the amount of the ligand used in the present invention is a sulfide derivative represented by the general formula (2) (raw material compound) from the viewpoints of yield improvement, reduction of environmental burden, economic efficiency, and the like.
  • the amount of the ligand used in the present invention is preferably 0 with respect to 1 mol of the sulfide derivative (raw material compound) represented by the general formula (2). 0.3 to 6.0 mol%, more preferably 0.3 to 5.0 mol%, still more preferably 0.4 to 5.0 mol%, still more preferably 0.4 to 4.0 mol%, still more preferably 0.4. Examples of ⁇ 3.0 mol%, particularly preferably 0.4 to 2.0 mol% can also be mentioned. However, the usage-amount of the ligand in this invention can be suitably adjusted by those skilled in the art according to the objective and the condition.
  • a 1 , A 2 , A 3 , A 4 , A 5 , M and n are as follows.
  • the benzoic acid compound of the general formula (4) used in the present invention is a known compound or a compound that can be produced from a known compound according to a known method.
  • a 1 , A 2 , A 3 , A 4 and A 5 are preferably examples in which A 1 is a C1-C2 alkoxy group from the viewpoints of yield and economic efficiency;
  • a 2 is a hydrogen atom;
  • a 3 is a hydrogen atom or a C1-C2 alkoxy group;
  • a 4 is a hydrogen atom;
  • a 5 is a C1-C2 alkoxy group.
  • a more preferred example of A 1 is a methoxy group.
  • a more preferred example of A 3 is a hydrogen atom or a methoxy group, more preferably a hydrogen atom.
  • a more preferred example of A 5 is a methoxy group.
  • M is a hydrogen atom, an alkali metal atom or an alkaline earth metal atom.
  • M is preferably an alkali metal atom or an alkaline earth metal atom, more preferably an alkali metal atom.
  • M include, but are not limited to, a lithium atom, a sodium atom, a potassium atom, a cesium atom, a magnesium atom, a calcium atom, and a barium atom.
  • M are a lithium atom, a sodium atom, a potassium atom, a cesium atom, a magnesium atom, and a calcium atom.
  • M More preferred specific examples of M are a lithium atom, a sodium atom, a potassium atom, and a cesium atom.
  • a more preferred specific example of M is a sodium atom.
  • n is 1 or 2. More specifically, n may be 1 or 2 as long as it is chemically acceptable. For example, n is 1 when M is a hydrogen atom or an alkali metal atom. As another example, n is 2 when M is an alkaline earth metal atom.
  • a 1 is a C1-C2 alkoxy group
  • a 2 is a hydrogen atom
  • a 3 is a hydrogen atom or a C1-C2 alkoxy group
  • a 4 is a hydrogen atom
  • a 5 is a C1-C2 alkoxy group
  • M is a sodium atom
  • n is 1.
  • a 1 is a methoxy group
  • a 2 is a hydrogen atom
  • a 3 is a hydrogen atom or a methoxy group
  • a 4 is a hydrogen atom
  • a 5 is a methoxy group
  • M is a sodium atom
  • n is 1.
  • a 1 is a methoxy group
  • a 2 is a hydrogen atom
  • a 3 is a hydrogen atom
  • a 4 is a hydrogen atom
  • a 5 is a methoxy group
  • M is a sodium atom
  • n is 1.
  • a 1 is a methoxy group
  • a 2 is a hydrogen atom
  • a 3 is a methoxy group
  • a 4 is a hydrogen atom
  • a 5 is a methoxy group
  • M is a sodium atom
  • n is 1.
  • a 1 is a methoxy group
  • a 2 is a hydrogen atom
  • a 3 is a hydrogen atom
  • a 4 is a hydrogen atom
  • a 5 is a methoxy group
  • M is a sodium atom
  • n is 1.
  • benzoic acid compounds used in Examples and Comparative Examples of the present invention, related benzoic acid compounds, and other benzoic acid compounds are shown below:
  • Preferred specific examples of the benzoic acid compound in the present invention include the compounds of formulas (4-1) and (4-2) described above.
  • a particularly preferred specific example of the benzoic acid compound in the present invention is the compound of the formula (4-1) described above.
  • benzoic acid of general formula (4) is used in an oxidation reaction for producing a sulfoxide derivative of general formula (1) (target compound of the present invention) from a sulfide derivative of general formula (2) (raw compound of the present invention.
  • the reaction can proceed even when no compound is used. Therefore, as long as the reaction proceeds, the benzoic acid compound of the general formula (4) may or may not be used.
  • the benzoic acid compound of the general formula (4) is preferably used in the reaction of the present invention.
  • the benzoic acid compound of the general formula (4) is preferably used in the reaction of the present invention.
  • the reaction of the present invention is preferably carried out in the presence of a benzoic acid compound of the general formula (4).
  • the advantageous effect of the present invention was obtained by using the benzoic acid compound represented by the general formula (4).
  • the combination of M and n is a combination of the above-mentioned “particularly preferable specific combinations”.
  • the amount of the benzoic acid compound represented by the general formula (4) in the method of the present invention may be any amount as long as the reaction proceeds.
  • the amount of the benzoic acid compound represented by the general formula (4) in the present invention is the sulfide derivative (raw material compound) represented by the general formula (2). ) 0.1 to 20 mol%, preferably 3 to 20 mol%, more preferably 3 to 15 mol%, still more preferably 3 to 10 mol%, and particularly preferably 3 to 5 mol% with respect to 1 mol. .
  • the amount of the benzoic acid compound represented by the general formula (4) in the present invention is the sulfide derivative (raw material compound) represented by the general formula (2).
  • An amount of 1 to 20 mol%, more preferably 1 to 15 mol%, still more preferably 1 to 10 mol%, and particularly preferably 1 to 5 mol% can be exemplified with respect to 1 mol.
  • the usage-amount of the benzoic acid compound represented by General formula (4) in this invention can be suitably adjusted by those skilled in the art according to the objective and the condition.
  • a catalyst solution can be prepared by stirring a metal compound and a compound represented by the general formula (3) as a ligand and a benzoic acid compound represented by the general formula (4) in a predetermined solvent.
  • the solvent in the preparation of the catalyst solution of the present invention include the following “solvent in the reaction of the present invention”.
  • the temperature in the preparation of the catalyst solution of the present invention is not particularly limited, but can be exemplified in the range of 0 ° C. to 50 ° C., preferably 15 to 30 ° C. (room temperature) from the viewpoint of catalyst stability and the like.
  • the time in the preparation of the catalyst solution of the present invention is not particularly limited, but is in the range of 10 minutes to 12 hours, more preferably 10 minutes to 2 hours, still more preferably 10 minutes to 1 hour from the viewpoint of catalyst stability and the like. Can be illustrated. Specific examples include 30 minutes, 1 hour and 2 hours, preferably 30 minutes and 1 hour, more preferably 30 minutes. However, as long as the reaction proceeds, the method for preparing the catalyst solution can be appropriately selected and adjusted by those skilled in the art.
  • the sulfoxide derivative represented by the general formula (1) can be produced by reacting the sulfide derivative represented by the general formula (2), the catalyst solution prepared above and an oxidizing agent in a predetermined solvent.
  • the method of the present invention is not limited to the method for preparing the catalyst solutions shown in Examples and above. The order of adding raw materials, reagents, solvents, etc. can be appropriately selected and adjusted by those skilled in the art.
  • the reaction of the present invention is preferably carried out in the presence of a solvent.
  • the solvent in the reaction of the present invention may be any solvent as long as the reaction proceeds.
  • Halogenated aliphatic hydrocarbons eg, dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, 1,3-dichloropropane, 1,4-dichlorobutane, trichloroethane, trichloroethylene, tetrachloroethane, tetrachloroethylene, pentachloroethane, etc.
  • Halogenated aliphatic hydrocarbons eg, dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, 1,3-dichloropropane, 1,4-dichlorobutane, trichloroethane, trichloroethylene, tetrachloroethane, tetrachloroethylene, pentachloroethane, etc.
  • dichloromethane Preferably dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, more preferably dichloromethane
  • Aromatic hydrocarbon derivatives eg, benzene, toluene, xylene, trimethylbenzene, chlorobenzene, dichlorobenzene, trichlorobenzene, chlorotoluene, benzotrifluoride, 4-chlorobenzotrifluoride, difluorobenzene, bromobenzene, nitrobenzene, etc.
  • Nitriles for example, acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, etc., preferably acetonitrile
  • Carboxylates eg, ethyl acetate, isopropyl acetate, butyl acetate, etc.
  • Amides for example, N, N-dimethylformamide (DMF), N, N-dimethylacetamide (DMAC), N, N-diethylacetamide, N-methylpyrrolidone (NMP), etc., preferably N, N-dimethylformamide ( DMF), N, N-dimethylacetamide (DMAC), N-methylpyrrolidone (NMP), more preferably N, N-dimethylformamide (DMF)), Alkylureas (for example, N, N′-dimethylimidazolidinone (DMI), etc.
  • DMF N-dimethylformamide
  • DMAC N-dimethylacetamide
  • NMP N-methylpyrroli
  • the solvent include water, halogenated aliphatic hydrocarbons, aromatic hydrocarbon derivatives, nitriles, carboxylic acid esters, amides, and any proportion thereof. Including any combination of
  • solvents include water, halogenated aliphatic hydrocarbons, aromatic hydrocarbon derivatives, nitriles, amides, and any combination thereof in any proportion.
  • solvents include water, halogenated aliphatic hydrocarbons, aromatic hydrocarbon derivatives, and any combination thereof in any proportion.
  • solvents include water, halogenated aliphatic hydrocarbons, and any combination thereof in any proportion.
  • Preferred examples of the solvent are water, dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, toluene, xylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, chlorotoluene, acetonitrile, ethyl acetate, isopropyl acetate, butyl acetate, N, N- Including dimethylformamide (DMF), N, N-dimethylacetamide (DMAC), N-methylpyrrolidone (NMP), and any combination thereof in any proportion.
  • DMF dimethylformamide
  • DMAC N-dimethylacetamide
  • NMP N-methylpyrrolidone
  • solvents are water, dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, toluene, xylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, acetonitrile, N, N-dimethylformamide (DMF), and any proportions of Including any combination thereof.
  • solvent More preferred specific examples of the solvent include water, dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, toluene, xylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, and any combination thereof in any proportion.
  • Particularly preferred embodiments of the solvent include water, dichloromethane, and any combination thereof in any proportion.
  • the solvent in the reaction of the present invention can be appropriately selected by those skilled in the art.
  • the amount of solvent used may be any amount as long as the reaction proceeds. From the viewpoints of yield improvement, suppression of by-products, economic efficiency, etc., 0.01 to 10.0 L (liter) per 1 mol of the sulfide derivative (raw compound) represented by the general formula (2) Preferably, 0.1 to 5.0 L can be exemplified. However, the amount of the solvent used in the reaction of the present invention can be appropriately adjusted by those skilled in the art. When a combination of two or more solvents is used, the ratio of the two or more solvents may be any ratio as long as the reaction proceeds.
  • reaction temperature The reaction temperature of the present invention is not particularly limited. In one embodiment, from the viewpoint of improvement in yield, suppression of by-products, economic efficiency, etc. ⁇ 20 ° C. to 50 ° C. (ie, minus 20 ° C. to plus 50 ° C.), Preferably ⁇ 10 ° C. to 30 ° C. (ie, minus 10 ° C. to plus 30 ° C.), More preferably, ⁇ 10 ° C. to 20 ° C. (that is, minus 10 ° C. to plus 20 ° C.), More preferably, ⁇ 5 ° C. to 15 ° C. (that is, minus 5 ° C.
  • a range of 0 ° C. to 10 ° C. (that is, zero ° C. to plus 10 ° C.) can be exemplified.
  • ⁇ 20 ° C. to 50 ° C. ie, minus 20 ° C. to plus 50 ° C.
  • Preferably ⁇ 10 ° C. to 40 ° C. ie, minus 10 ° C. to plus 40 ° C.
  • More ⁇ 5 ° C. to 40 ° C. that is, minus 5 ° C. to plus 40 ° C.
  • the range of 0 ° C. to 10 ° C. (that is, zero ° C. to plus 10 ° C.) can also be exemplified.
  • reaction time The reaction time of the present invention is not particularly limited. In one embodiment, from the viewpoint of improvement in yield, suppression of by-products, economic efficiency, etc., 0.5 hours to 120 hours, preferably 1 hour to 72 hours, more preferably 1 hour to 48 hours, More preferably, a range of 1 hour to 24 hours can be exemplified. In another embodiment, from the same viewpoint as described above, a range of 6 hours to 120 hours, preferably 8 hours to 72 hours, more preferably 8 hours to 48 hours, and further preferably 8 hours to 24 hours can also be exemplified. . However, the reaction time of the present invention can be appropriately adjusted by those skilled in the art.
  • reaction yield (Reaction yield and yield)
  • reaction yield In the present invention, the organic layer of the reaction mixture was analyzed under the following HPLC analysis conditions (A) to determine the reaction yield. In this specification, the reaction yield is shown as the HPLC area percentage of the target compound.
  • the reaction yield in the present invention is preferably in the range of 90 to 100%, more preferably 95 to 100%.
  • the yield in the present invention is preferably in the range of 90 to 100%.
  • reaction vessels commonly used by those skilled in the art were used as reaction vessels in preparation of the catalyst solution and production of the title compound.
  • a screw vial vial with screw cap
  • a magnetic stirrer with a cross-shaped magnetic stirrer having an outer diameter (length) of 10 mm and a height (thickness) of 5 mm and a thermostatic bath ) was used.
  • the room temperature is 15 ° C to 30 ° C.
  • the catalyst solution prepared in (1) above was added thereto.
  • the mixture was cooled to 0 ° C. 30% hydrogen peroxide (113.4 mg, 1.0 mmol) was added thereto.
  • the mixture was stirred at 0 ° C. for 14 hours.
  • the organic layer of the reaction mixture was analyzed by HPLC (area percentage).
  • the catalyst solution prepared in (1) above was added thereto.
  • the mixture was cooled to 0 ° C. 30% hydrogen peroxide (113.4 mg, 1.0 mmol) was added thereto.
  • the mixture was stirred at 0 ° C. for 15 hours.
  • the organic layer of the reaction mixture was analyzed by HPLC (area percentage).
  • the catalyst solution prepared in (1) above was added thereto.
  • the mixture was cooled to 0 ° C. 30% hydrogen peroxide (113.4 mg, 1.0 mmol) was added thereto.
  • the mixture was stirred at 0 ° C. for 60 hours.
  • the organic layer of the reaction mixture was analyzed by HPLC (area percentage).
  • the catalyst solution prepared in (1) above was added thereto.
  • the mixture was cooled to 0 ° C. 30% hydrogen peroxide (113.4 mg, 1.0 mmol) was added thereto.
  • the mixture was stirred at 0 ° C. for 22 hours.
  • the organic layer of the reaction mixture was analyzed by HPLC (area percentage).
  • the catalyst solution prepared in (1) above was added thereto.
  • the mixture was cooled to 0 ° C. 30% hydrogen peroxide (113.4 mg, 1.0 mmol) was added thereto.
  • the mixture was stirred at 10 ° C. for 14 hours.
  • the organic layer of the reaction mixture was analyzed by HPLC (area percentage).
  • the catalyst solution prepared in (1) above was added thereto.
  • the mixture was cooled to 0 ° C. 30% hydrogen peroxide (113.4 mg, 1.0 mmol) was added thereto.
  • the mixture was stirred at 20 ° C. for 36 hours.
  • the organic layer of the reaction mixture was analyzed by HPLC (area percentage).
  • the catalyst solution prepared in (1) above was added thereto.
  • the mixture was cooled to 0 ° C. 30% hydrogen peroxide (113.4 mg, 1.0 mmol) was added thereto.
  • the mixture was stirred at 0 ° C. for 15 hours.
  • the organic layer of the reaction mixture was analyzed by HPLC (area percentage).
  • the catalyst solution prepared in (1) above was added thereto.
  • the mixture was cooled to 0 ° C. 30% hydrogen peroxide (113.4 mg, 1.0 mmol) was added thereto.
  • the mixture was stirred at 0 ° C. for 16 hours.
  • the organic layer of the reaction mixture was analyzed by HPLC (area percentage).
  • the catalyst solution prepared in (1) above was added thereto.
  • the mixture was cooled to 0 ° C. 30% hydrogen peroxide (113.4 mg, 1.0 mmol) was added thereto.
  • the mixture was stirred at 0 ° C. for 16 hours.
  • the organic layer of the reaction mixture was analyzed by HPLC (area percentage).
  • the catalyst solution prepared in (1) above was added thereto.
  • the mixture was cooled to 0 ° C. 30% hydrogen peroxide (113.4 mg, 1.0 mmol) was added thereto.
  • the mixture was stirred at 0 ° C. for 24 hours.
  • the organic layer of the reaction mixture was analyzed by HPLC (area percentage).
  • the sulfoxide derivative represented by the general formula (1) has excellent acaricidal activity.
  • the industrially preferable novel manufacturing method of the sulfoxide derivative represented by General formula (1) useful as agricultural chemicals, such as an acaricide is provided.
  • the method of the present invention is economical, environmentally friendly and has a high industrial utility value.
  • the target sulfoxide derivative can be selectively produced while avoiding excessive oxidation to the sulfone derivative. Therefore, the present invention has the advantage that it is not necessary to remove the by-product sulfone derivative, which is difficult to remove.
  • the present invention has high industrial applicability.

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Abstract

【課題】　工業的に好ましいスルホキシド誘導体の製造方法を提供する。 【解決手段】 一般式（１）：で表されるスルホキシド誘導体の製造方法であって、一般式（２）：で表されるスルフィド誘導体を、金属化合物および配位子としての一般式（３）：で表される化合物を含む金属－配位子錯体である触媒、ならびに一般式（４）：で表される安息香酸化合物の存在下で、酸化剤と反応させることを特徴とする方法。

Description

スルホキシド誘導体の製造方法
　本発明は、スルホキシド誘導体の製造方法に関する。
　スルホキシド誘導体は農薬等の分野において、注目されている（特許文献１参照）。したがって、スルホキシド誘導体が選択的にそして高い収率で製造されることは、重要である。スルホキシド誘導体の製造方法として、スルフィド誘導体の酸化が知られている。しかし、一般的に、この方法には、過剰酸化された生成物であるスルホン誘導体が副生するという問題がある。必要とされない副生したスルホン誘導体は、目的とするスルホキシド誘導体の収率を低下させる。さらに、両方の誘導体の物理的性質が似ているために、工業生産において、酸化反応後の粗生成物から副生成物のスルホン誘導体を除去することにより、精製された目的のスルホキシド誘導体を得ることが難しい。すなわち、工業的規模で高い収率で目的物を分離精製することが難しい。したがって、スルホン誘導体への過剰酸化を回避して、スルホキシド誘導体を選択的に製造できることが、望まれていた。
　特許文献１は、スルホキシド誘導体が、メタクロロ過安息香酸による酸化反応により製造できることを開示する（例えば、特許文献１の実施例１３及び２７参照）。しかし、環境的側面を考慮すると、メタクロロ過安息香酸の使用は工業生産に好ましくない。その理由は以下の通りである。反応後に、メタクロロ過安息香酸は、廃棄物になるメタクロロ安息香酸になる。結果として、メタクロロ過安息香酸の使用は、環境に対して重い負荷を与える。加えて、メタクロロ過安息香酸は高価であるから、メタクロロ過安息香酸を使用する方法は工業的に好ましくない。
　一方で、過酸化水素を使用する酸化は、工業的に好ましく有用な方法である。その理由は以下の通りである。過酸化水素は、反応後に無害な水となるから、環境に優しい。そしてさらに、過酸化水素は工業的に安価である。
　非特許文献１は、スルフィド誘導体から光学活性なスルホキシド誘導体への不斉酸化を開示する。非特許文献１は、配位子としての従来から知られているシッフ塩基、及び安息香酸化合物を使用する方法を開示する。この方法はある程度の収率を与えることも報告されている。しかし、非特許文献１に記載の方法は収率のさらなる改善が必要である。加えて、非特許文献１には、アリールアルキルスルフィド誘導体のアリール部分の置換基の違いにより、収率およびエナンチオマー過剰率が変化することが記載されている。しかし、非特許文献１では、置換基が限定された場合の収率とエナンチオマー過剰率が開示されるだけである。言い換えれば、非特許文献１は、十分で満足できる収率等を得ることができる本発明の目的化合物の製造方法を開示しない。
　安息香酸化合物としては、収率およびエナンチオマー過剰率の観点から、４－メトキシ安息香酸アルカリ金属塩および４－（Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノ）安息香酸アルカリ金属塩が優れていることが報告されている。さらに、配位子のシッフ塩基については、以下のように報告されている。配位子としてのシッフ塩基のアミン部分としては、収率およびエナンチオマー過剰率の観点から、ｔｅｒｔ－ロイシノールがバリノールよりも優れていた。配位子としてのシッフ塩基のサリチルアルデヒド部分としては、上記と同様の観点から、３，５－ジヨードサリチルアルデヒドおよび３，５－ジブロモサリチルアルデヒドが無置換のサリチルアルデヒドよりも優れていた（非特許文献１、表１参照）。しかし、本発明の目的化合物の製造において、これらの安息香酸化合物と配位子が工業的に有利な効果を有するかどうかは、知られていなかった。さらに、入手の困難性、工業的製造における困難性、および／またはコストの面から、配位子としてのシッフ塩基のサリチルアルデヒド部分として３，５－ジヨードサリチルアルデヒドの使用は工業的に好ましくない。
国際公開第２０１３／１５７２２９号
Ｃｈｅｍ．Ｅｕｒ．Ｊ．、２００５年、１１巻、１０８６－１０９２頁
　上記した従来技術における１以上の欠点または問題を解決することができる、スルホキシド誘導体の製造方法に対する緊急の必要性があった。
　したがって、本発明の目的は、工業的に好ましく、経済的であり、そして環境にも優しい、スルホキシド誘導体の製造方法を提供することにある。
　本発明のより具体的な目的は、スルホキシド誘導体を選択的にそして高い収率で製造できる方法を提供することにある。この目的を達成するためには、スルホン誘導体への過剰酸化を回避した、スルフィド誘導体からスルホキシド誘導体への制御された酸化反応を提供する必要がある。
　本発明のより具体的な他の目的は、安価でありかつ環境負荷を低減できる方法を提供することにある。
　例えば、本発明の具体的な目的の一つは、メタクロロ過安息香酸を酸化剤として使用しないで、クリーンで優れた酸化剤として注目を集めている過酸化水素を使用して、スルホキシド誘導体を製造することである。
　さらに、酸化反応に用いられる触媒の配位子としては、安価な化合物が好ましい。例えば、配位子中のベンゼン環上の置換基としては、塩素原子は許容できるが、ヨウ素原子は高価であるから好ましくない。言い換えれば、配位子としてのシッフ塩基のサリチルアルデヒド部分として、３，５－ジヨードサリチルアルデヒドのような前述の欠点を有するサリチルアルデヒド誘導体を使用せずに、工業的に好ましいサリチルアルデヒド誘導体を使用することが望まれる。
　上記のような状況に鑑み、本発明者は、スルホキシド誘導体の製造方法について鋭意研究した。その結果、本発明者は、意外にも、一般式（１）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
（式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、後述の通りである。）
で表されるスルホキシド誘導体が、一般式（２）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
（式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、後述の通りである。）
で表されるスルフィド誘導体を、金属化合物および配位子としての一般式（３）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
（式中、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７１およびＲ７２は、後述の通りである。）
で表される化合物を含む金属－配位子錯体である触媒、ならびに一般式（４）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
（式中、Ａ１、Ａ２、Ａ３、Ａ４、Ａ５、Ｍおよびｎは、後述の通りである。）
で表される安息香酸化合物の存在下で、酸化剤と反応させることにより、製造できることを見出した。本発明者はこの知見に基づき本発明を完成するに至った。
　すなわち、本発明は、下記〔１〕から〔２１〕項に記載の発明を提供することにより上記課題を解決したものである。
　〔１〕一般式（１）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
（式中、
Ｒ１が、Ｃ１～Ｃ１０アルキル基、
Ｃ３～Ｃ６シクロアルキルＣ１～Ｃ６アルキル基、ここで当該Ｃ３～Ｃ６シクロアルキル基部分はハロゲン原子、Ｃ１～Ｃ４アルキル基、Ｃ１～Ｃ４アルコキシ基またはＣ１～Ｃ４ハロアルキル基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい、
フェニルＣ１～Ｃ６アルキル基、ここで当該フェニル基部分はハロゲン原子、Ｃ１～Ｃ４アルキル基、Ｃ１～Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６ハロアルキル基、シアノ基またはニトロ基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい、
Ｃ１～Ｃ４アルコキシＣ２～Ｃ１０アルキル基、
Ｃ１～Ｃ４ハロアルコキシＣ２～Ｃ１０アルキル基、
Ｃ１～Ｃ４アルキルチオＣ２～Ｃ１０アルキル基、
Ｃ１～Ｃ４アルキルスルフィニルＣ２～Ｃ１０アルキル基、
Ｃ１～Ｃ４アルキルスルホニルＣ２～Ｃ１０アルキル基、
Ｃ１～Ｃ４ハロアルキルチオＣ２～Ｃ１０アルキル基、
Ｃ１～Ｃ４ハロアルキルスルフィニルＣ２～Ｃ１０アルキル基、
Ｃ１～Ｃ４ハロアルキルスルホニルＣ２～Ｃ１０アルキル基、
Ｃ１～Ｃ６ハロアルキル基、
Ｃ３～Ｃ６シクロアルキルＣ１～Ｃ６ハロアルキル基、ここで当該Ｃ３～Ｃ６シクロアルキル基部分はハロゲン原子、Ｃ１～Ｃ４アルキル基、Ｃ１～Ｃ４アルコキシ基またはＣ１～Ｃ６ハロアルキル基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい、
フェニルＣ１～Ｃ６ハロアルキル基、ここで当該フェニル基部分はハロゲン原子、Ｃ１～Ｃ４アルキル基、Ｃ１～Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１～Ｃ４ハロアルキル基、シアノ基またはニトロ基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい、または
Ｃ１～Ｃ４ハロアルキルチオＣ１～Ｃ６ハロアルキル基であり；
Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子またはＣ１～Ｃ４アルキル基である。）で表されるスルホキシド誘導体の製造方法であって、一般式（２）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
（式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、上記で定義した通りである。）
で表されるスルフィド誘導体を、金属化合物および配位子としての一般式（３）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
（式中、
Ｒ４およびＲ５は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１～Ｃ６アルキル基、フェニルＣ１～Ｃ６アルキル基、Ｃ６～Ｃ１０アリール基、シアノ基、ニトロ基またはＣ１～Ｃ６アルコキシ基であり；
Ｒ６は、Ｃ１～Ｃ４アルキル基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、Ｃ１～Ｃ４アルコキシカルボニル基、Ｃ１～Ｃ４アルキルカルボニル基、ヒドロキシＣ１～Ｃ４アルキル基、Ｃ１～Ｃ４アルコキシＣ１～Ｃ４アルキル基、アミノＣ１～Ｃ４アルキル基、シアノＣ１～Ｃ４アルキル基、ニトロＣ１～Ｃ４アルキル基、カルボキシＣ１～Ｃ４アルキル基またはＣ１～Ｃ４アルコキシカルボニルＣ１～Ｃ４アルキル基であり；
Ｒ７１およびＲ７２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１～Ｃ６アルキル基、フェニルＣ１～Ｃ６アルキル基またはＣ６～Ｃ１０アリール基である。但し、Ｒ７１およびＲ７２の両方が水素原子である場合を除く。）
で表される化合物を含む金属－配位子錯体である触媒、ならびに一般式（４）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
（式中、
Ａ１がＣ１～Ｃ２アルコキシ基であり；
Ａ２が水素原子であり；
Ａ３が水素原子またはＣ１～Ｃ２アルコキシ基であり；
Ａ４が水素原子であり；
Ａ５がＣ１～Ｃ２アルコキシ基であり；
Ｍは、水素原子、アルカリ金属原子またはアルカリ土類金属原子であり；そして
ｎは１または２である。）
で表される安息香酸化合物の存在下で、酸化剤と反応させることを特徴とする方法。
　〔２〕Ｒ１が、Ｃ１～Ｃ１０アルキル基、
Ｃ３～Ｃ６シクロアルキルＣ１～Ｃ６アルキル基、ここで当該Ｃ３～Ｃ６シクロアルキル基部分はハロゲン原子またはＣ１～Ｃ４アルキル基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい、
フェニルＣ１～Ｃ６アルキル基、ここで当該フェニル基部分はハロゲン原子またはＣ１～Ｃ４アルキル基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい、
Ｃ１～Ｃ４アルコキシＣ２～Ｃ１０アルキル基、
Ｃ１～Ｃ４ハロアルコキシＣ２～Ｃ１０アルキル基、
Ｃ１～Ｃ４アルキルチオＣ２～Ｃ１０アルキル基、
Ｃ１～Ｃ４アルキルスルフィニルＣ２～Ｃ１０アルキル基、
Ｃ１～Ｃ４アルキルスルホニルＣ２～Ｃ１０アルキル基、
Ｃ１～Ｃ４ハロアルキルチオＣ２～Ｃ１０アルキル基、
Ｃ１～Ｃ４ハロアルキルスルフィニルＣ２～Ｃ１０アルキル基、
Ｃ１～Ｃ４ハロアルキルスルホニルＣ２～Ｃ１０アルキル基、
Ｃ１～Ｃ６ハロアルキル基、
Ｃ３～Ｃ６シクロアルキルＣ１～Ｃ６ハロアルキル基、ここで当該Ｃ３～Ｃ６シクロアルキル基部分はハロゲン原子またはＣ１～Ｃ４アルキル基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい、または
フェニルＣ１～Ｃ６ハロアルキル基、ここで当該フェニル基部分はハロゲン原子またはＣ１～Ｃ４アルキル基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい、である、〔１〕に記載の方法。
　〔３〕Ｒ１が、Ｃ１～Ｃ１０アルキル基、
Ｃ１～Ｃ４アルコキシＣ２～Ｃ１０アルキル基、
Ｃ１～Ｃ４ハロアルコキシＣ２～Ｃ１０アルキル基、
Ｃ１～Ｃ４アルキルチオＣ２～Ｃ１０アルキル基、
Ｃ１～Ｃ４アルキルスルフィニルＣ２～Ｃ１０アルキル基、
Ｃ１～Ｃ４アルキルスルホニルＣ２～Ｃ１０アルキル基、
Ｃ１～Ｃ４ハロアルキルチオＣ２～Ｃ１０アルキル基、
Ｃ１～Ｃ４ハロアルキルスルフィニルＣ２～Ｃ１０アルキル基、
Ｃ１～Ｃ４ハロアルキルスルホニルＣ２～Ｃ１０アルキル基、または
Ｃ１～Ｃ６ハロアルキル基である、〔１〕に記載の方法。
　〔４〕Ｒ１がＣ１～Ｃ４ハロアルキルチオＣ２～Ｃ１０アルキル基であり；そして
Ｒ２およびＲ３が、それぞれ独立して、ハロゲン原子またはＣ１～Ｃ４アルキル基である、〔１〕に記載の方法。
　〔５〕Ｒ１が５－トリフルオロメチルチオペンチル基または６－トリフルオロメチルチオヘキシル基であり；そして
Ｒ２がフッ素原子でありかつＲ３が塩素原子であるか、またはＲ２およびＲ３がメチル基である、〔１〕に記載の方法。
　〔６〕Ｒ１が５－トリフルオロメチルチオペンチル基であり；
Ｒ２がフッ素原子であり；そして
Ｒ３が塩素原子である、〔１〕に記載の方法。
　〔７〕Ｒ１が６－トリフルオロメチルチオヘキシル基であり；そして
Ｒ２およびＲ３がメチル基である、〔１〕に記載の方法。
　〔８〕金属化合物が鉄化合物であり；
Ｒ４が水素原子であり；
Ｒ５が水素原子またはハロゲン原子であり；
Ｒ６がヒドロキシメチル基であり；そして
Ｒ７１およびＲ７２が、それぞれ独立して、水素原子またはＣ１～Ｃ６アルキル基である（但し、Ｒ７１およびＲ７２の両方が水素原子である場合を除く）、〔１〕～〔７〕のいずれか１項に記載の方法。
　〔９〕金属化合物が鉄化合物であり；
Ｒ４が水素原子であり；
Ｒ５が水素原子、塩素原子または臭素原子であり；
Ｒ６がヒドロキシメチル基であり；そして
Ｒ７１がメチル基でありかつＲ７２がメチル基であるか、またはＲ７１が水素原子でありかつＲ７２がイソプロピル基である、〔１〕～〔７〕のいずれか１項に記載の方法。
　〔１０〕金属化合物が鉄化合物であり；
Ｒ４が水素原子であり；
Ｒ５が水素原子または塩素原子であり；
Ｒ６がヒドロキシメチル基であり；そして
Ｒ７１がメチル基でありかつＲ７２がメチル基であるか、またはＲ７１が水素原子でありかつＲ７２がイソプロピル基である、〔１〕～〔７〕のいずれか１項に記載の方法。
　〔１１〕金属化合物が鉄化合物であり；
Ｒ４が水素原子であり；
Ｒ５が水素原子であり；
Ｒ６がヒドロキシメチル基であり；
Ｒ７１がメチル基であり；そして
Ｒ７２がメチル基である、〔１〕～〔７〕のいずれか１項に記載の方法。
　〔１２〕金属化合物が鉄化合物であり；
Ｒ４が水素原子であり；
Ｒ５が塩素原子であり；
Ｒ６がヒドロキシメチル基であり；
Ｒ７１がメチル基であり；そして
Ｒ７２がメチル基である、〔１〕～〔７〕のいずれか１項に記載の方法。
　〔１３〕Ｍがアルカリ金属原子であり；そして
ｎが１である、〔１〕～〔１２〕のいずれか１項に記載の方法。
　〔１４〕Ｍがナトリウム原子であり；そして
ｎが１である、〔１〕～〔１２〕のいずれか１項に記載の方法。
　〔１５〕Ａ１がメトキシ基であり；
Ａ２が水素原子であり；
Ａ３が水素原子またはメトキシ基であり；
Ａ４が水素原子であり；
Ａ５がメトキシ基であり；
Ｍがナトリウム原子であり；そして
ｎが１である、〔１〕～〔１２〕のいずれか１項に記載の方法。
　〔１６〕Ａ１がメトキシ基であり；
Ａ２が水素原子であり；
Ａ３が水素原子であり；
Ａ４が水素原子であり；
Ａ５がメトキシ基であり；
Ｍがナトリウム原子であり；そして
ｎが１である、〔１〕～〔１２〕のいずれか１項に記載の方法。
　〔１７〕Ａ１がメトキシ基であり；
Ａ２が水素原子であり；
Ａ３がメトキシ基であり；
Ａ４が水素原子であり；
Ａ５がメトキシ基であり；
Ｍがナトリウム原子であり；そして
ｎが１である、〔１〕～〔１２〕のいずれか１項に記載の方法。
　〔１８〕反応が－１０℃～３０℃で行われる、〔１〕～〔１７〕のいずれか１項に記載の方法。
　〔１９〕反応が－５℃～１０℃で行われる、〔１〕～〔１７〕のいずれか１項に記載の方法。
　〔２０〕反応収率が９０～１００％である、〔１〕～〔１９〕のいずれか１項に記載の方法。
　〔２１〕反応収率が９５～１００％である、〔１〕～〔１９〕のいずれか１項に記載の方法。
　本発明により、殺ダニ剤等として有用な上記一般式（１）で表されるスルホキシド誘導体の新規で工業的に適用できる製造方法が提供される。本発明によれば、従来技術における上記した１以上の欠点または問題を解決することができる、スルホキシド誘導体の製造方法が提供される。
　本発明によれば、スルホン誘導体への過剰酸化を回避して、目的とするスルホキシド誘導体を選択的に製造することができる。同時に、目的とするスルホキシド誘導体を高い収率で製造することができる。
　さらに、酸化剤としてメタクロロ過安息香酸を使用しないで、過酸化水素を使用するから、本発明は環境負荷を低減できる。
　加えて、本発明の方法は、配位子としてのシッフ塩基のサリチルアルデヒド部分として、３，５－ジヨードサリチルアルデヒドのような前述の欠点を有するサリチルアルデヒド誘導体を必要としない。
　したがって、本発明の方法は、工業的に好ましく、経済的であり、そして環境にも優しい。
　以下、本発明について詳細に説明する。
　本発明による方法は、以下のスキーム：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
（式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、上記の〔１〕に記載の通りである。）
によって示される。
　本明細書において用いられる用語および記号について以下に説明する。
　ハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子である。生成物の有用性および経済性等の観点から、ハロゲン原子の好ましい例は、フッ素原子および塩素原子である。
　アルカリ金属原子の例は、リチウム原子、ナトリウム原子、カリウム原子、ルビジウム原子およびセシウム原子、好ましくはリチウム原子、ナトリウム原子、カリウム原子およびセシウム原子、より好ましくはリチウム原子、ナトリウム原子およびカリウム原子を含む。
　アルカリ土類金属原子の例は、マグネシウム原子、カルシウム原子、ストロンチウム原子およびバリウム原子、好ましくはマグネシウム原子、カルシウム原子およびバリウム原子を含む。
　「Ｃａ～Ｃｂ」とは、炭素原子数がａ～ｂ個であることを意味する。例えば、「Ｃ１～Ｃ４アルキル基」の「Ｃ１～Ｃ４」とは、アルキル基の炭素原子数が１～４であることを意味する。
　本明細書中、「アルキル」のような一般的用語は、ブチル及びｔｅｒｔ－ブチルのような直鎖及び分岐鎖基の両方を含むと理解される。しかしながら、「ブチル基」のような具体的な用語が使用された場合は、これは「ノルマルブチル基」、すなわち「ｎ－ブチル基」に対して特異的である。言い換えれば、具体的な用語「ブチル基」は直鎖基の「ノルマルブチル基」を意味し、そして「ｔｅｒｔ－ブチル」のような分岐鎖異性体は、意図した場合に具体的に言及される。もう一つの例としては、「ペンチルオキシ基」は直鎖基の「ノルマルペンチルオキシ基」を意味する。さらに別の例としては、「ヘキシルオキシ基」は直鎖基の「ノルマルヘキシルオキシ基」を意味する。
　接頭語「ｎ－」、「ｓ－」および「ｓｅｃ－」、「ｉ－」、「ｔ－」及び「ｔｅｒｔ－」、［ｎｅｏ－］、「ｃ－」および「ｃｙｃ－」、「ｏ－」、「ｍ－」、および「ｐ－」は、それらの以下の通常の意味を有する：ノルマル、セカンダリー、イソ、ターシャリー、ネオ、シクロ、オルソ、メタ、およびパラ。
　本明細書中、以下の略語が使用されることがある：
「Ｍｅ」はメチル基を意味する；
「Ｅｔ」はエチル基を意味する；
「Ｐｒ」および「ｎ－Ｐｒ」はプロピル基（すなわち、ノルマルプロピル基）を意味する；
「ｉ－Ｐｒ」はイソプロピル基を意味する；
「Ｂｕ」および「ｎ－Ｂｕ」はブチル基（すなわち、ノルマルブチル基）を意味する；
「ｓ－Ｂｕ」はｓｅｃ－ブチル基を意味する；
「ｉ－Ｂｕ」はイソブチル基を意味する；
「ｔ－Ｂｕ」はｔｅｒｔ－ブチル基を意味する；
「Ｐｈ」はフェニル基を意味する；
「Ｂｎ」はベンジル基を意味する。
　本明細書中、用語「モノ置換されていてもよい」または「モノ置換」とは、対象となる官能基上の１個の水素原子が、指定された置換基から選択される置換基により置換されていることを意味する。
　本明細書中、用語「ポリ置換されていてもよい」または「ポリ置換」とは、対象となる官能基上の少なくとも２個の水素原子（例えば、一つの態様においては２個～５個の水素原子、別の態様においては２個～３個の水素原子）が、指定された置換基から独立して選択される同一または異なる置換基により置換されていることを意味する。
　本明細書において用いられる官能基の定義および例について以下に説明する。
　Ｃ１～Ｃ１０アルキル基とは、１～１０個の炭素原子を有する直鎖または分岐鎖のアルキル基を意味する。
　Ｃ１～Ｃ１０アルキル基の例は、
メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、
ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、
ペンチル基、ヘキシル基、へプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等を含むが、これらに限定されるものではない。
　Ｃ２～Ｃ１０アルキル基とは、２～１０個の炭素原子を有する直鎖または分岐鎖のアルキル基を意味する。
　Ｃ２～Ｃ１０アルキル基の例は、上記のＣ１～Ｃ１０アルキル基の例のうちの適切な例を含むが、これらに限定されるものではない。
　Ｃ１～Ｃ６アルキル基とは、１～６個の炭素原子を有する直鎖または分岐鎖のアルキル基を意味する。
　Ｃ１～Ｃ６アルキル基の例は、上記のＣ１～Ｃ１０アルキル基の例のうちの適切な例を含むが、これらに限定されるものではない。
　Ｃ１～Ｃ４アルキル基とは、１～４個の炭素原子を有する直鎖または分岐鎖のアルキル基を意味する。
　Ｃ１～Ｃ４アルキル基の例は、上記のＣ１～Ｃ１０アルキル基の例のうちの適切な例である。
　Ｃ１～Ｃ２アルキル基とは、１～２個の炭素原子を有する直鎖のアルキル基を意味する。
　Ｃ１～Ｃ２アルキル基の例は、メチル基およびエチル基である。
　ハロアルキル基とは、同一または異なる１以上のハロゲン原子により置換された直鎖または分岐鎖のアルキル基を意味する。
　Ｃ１～Ｃ６ハロアルキル基とは、同一または異なる１～１３個のハロゲン原子により置換されている、炭素原子数が１～６の直鎖または分岐鎖のアルキル基を意味する（ここで、ハロゲン原子は上記の定義と同じ意味を有する。）。
　Ｃ１～Ｃ６ハロアルキル基の例は、
フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロジフルオロメチル基、
２－フルオロエチル基、２－クロロエチル基、２－ブロモエチル基、２，２－ジフルオロエチル基、２，２，２－トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、
３－フルオロプロピル基、３－クロロプロピル基、３－ブロモプロピル基、２，２，３，３，３－ペンタフルオロプロピル基、２，２，２－トリフルオロ－１－トリフルオロメチルエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、１，２，２，２－テトラフルオロ－１－トリフルオロメチルエチル基、
４－フルオロブチル基、４－クロロブチル基、４－ブロモブチル基、２，２，３，３，４，４，４－へプタフルオロブチル基、
５－フルオロペンチル基、５－クロロペンチル基、５－ブロモペンチル基、５－ヨードペンチル基、
６－フルオロヘキシル基、６－クロロヘキシル基、６－ブロモヘキシル基、６－ヨードヘキシル基等を含むが、これらに限定されるものではない。
　Ｃ１～Ｃ４ハロアルキル基とは、同一または異なる１～９個のハロゲン原子により置換されている、炭素原子数が１～４の直鎖または分岐鎖のアルキル基を意味する（ここで、ハロゲン原子は上記の定義と同じ意味を有する。）。
　Ｃ１～Ｃ４ハロアルキル基の例は、上記のＣ１～Ｃ６ハロアルキル基の例のうちの適切な例を含むが、これらに限定されるものではない。
　Ｃ１～Ｃ６アルコキシ基とは、（Ｃ１～Ｃ６アルキル）－Ｏ－基を意味する（ここで、Ｃ１～Ｃ６アルキル基部分は上記の定義と同じ意味を有する。）。
　Ｃ１～Ｃ６アルコキシ基の例は、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、
ブトキシ基、ｓｅｃ－ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔｅｒｔ－ブトキシ基、
ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、イソヘキシルオキシ基等を含むが、これらに限定されるものではない。
　Ｃ１～Ｃ４アルコキシ基とは、（Ｃ１～Ｃ４アルキル）－Ｏ－基を意味する（ここで、Ｃ１～Ｃ４アルキル基は上記の定義と同じ意味を有する。）。
　Ｃ１～Ｃ４アルコキシ基の例は、上記のＣ１～Ｃ６アルコキシ基の例のうちの適切な例である。
　Ｃ１～Ｃ２アルコキシ基とは、（Ｃ１～Ｃ２アルキル）－Ｏ－基を意味する（ここで、Ｃ１～Ｃ２アルキル基は上記の定義と同じ意味を有する。）。
　Ｃ１～Ｃ２アルコキシ基の例は、メトキシ基およびエトキシ基である。
　Ｃ１～Ｃ６ハロアルコキシ基とは、（Ｃ１～Ｃ６ハロアルキル）－Ｏ－基を意味する（ここで、Ｃ１～Ｃ６ハロアルキル基部分は上記と同じ意味を有する。）。
　Ｃ１～Ｃ６ハロアルコキシ基の例は、
フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、クロロジフルオロメトキシ基、
２－フルオロエトキシ基、２－クロロエトキシ基、２－ブロモエトキシ基、２，２－ジフルオロエトキシ基、２，２，２－トリフルオロエトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、
３－フルオロプロポキシ基、３－クロロプロポキシ基、３－ブロモプロポキシ基、２，２，３，３，３－ペンタフルオロプロポキシ基、２，２，２－トリフルオロ－１－トリフルオロメチルエトキシ基、ヘプタフルオロプロポキシ基、１，２，２，２－テトラフルオロ－１－トリフルオロメチルエトキシ基、
４－フルオロブトキシ基、４－クロロブトキシ基、４－ブロモブトキシ基、２，２，３，３，４，４，４－へプタフルオロブトキシ基、
５－フルオロペンチルオキシ基、５－クロロペンチルオキシ基、５－ブロモペンチルオキシ基、５－ヨードペンチルオキシ基、
６－フルオロヘキシルオキシ基、６－クロロヘキシルオキシ基、６－ブロモヘキシルオキシ基、６－ヨードヘキシルオキシ基等を含むが、これらに限定されるものではない。
　Ｃ１～Ｃ４ハロアルコキシ基とは、（Ｃ１～Ｃ４ハロアルキル）－Ｏ－基を意味する（ここで、Ｃ１～Ｃ４ハロアルキル基部分は上記と同じ意味を有する。）。
　Ｃ１～Ｃ４ハロアルコキシ基の例は、
フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、クロロジフルオロメトキシ基、
２－フルオロエトキシ基、２－クロロエトキシ基、２，２，２－トリフルオロエトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、
３－フルオロプロポキシ基、３－クロロプロポキシ基、２，２，３，３，３－ペンタフルオロプロポキシ基、ヘプタフルオロプロポキシ基、２，２，２－トリフルオロ－１－トリフルオロメチルエトキシ基、
４－フルオロブトキシ基、２，２，３，３，４，４，４－へプタフルオロブトキシ基等を含むが、これらに限定されるものではない。
　Ｃ１～Ｃ４アルキルチオ基とは、（Ｃ１～Ｃ４アルキル）－Ｓ－基を意味する（ここで、Ｃ１～Ｃ４アルキル基部分は上記と同じ意味を有する。）。
　Ｃ１～Ｃ４アルキルチオ基の例は、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ブチルチオ基、ｓｅｃ－ブチルチオ基、イソブチルチオ基、ｔｅｒｔ－ブチルチオ基を含む。
　Ｃ１～Ｃ４ハロアルキルチオ基とは、（Ｃ１～Ｃ４ハロアルキル）－Ｓ－基を意味する（ここで、Ｃ１～Ｃ４ハロアルキル基部分は上記と同じ意味を有する。）。
　Ｃ１～Ｃ４ハロアルキルチオ基の例は、
フルオロメチルチオ基、ジフルオロメチルチオ基、トリフルオロメチルチオ基、クロロジフルオロメチルチオ基、
２－フルオロエチルチオ基、２－クロロエチルチオ基、２，２，２－トリフルオロエチルチオ基、ペンタフルオロエチルチオ基、
３－フルオロプロピルチオ基、３－クロロプロピルチオ基、２，２，３，３，３－ペンタフルオロプロピルチオ基、ヘプタフルオロプロピルチオ基、２，２，２－トリフルオロ－１－トリフルオロメチルエチルチオ基、
４－フルオロブチルチオ基、２，２，３，３，４，４，４－へプタフルオロブチルチオ基等を含むが、これらに限定されるものではない。
　Ｃ１～Ｃ４アルキルスルフィニル基とは、（Ｃ１～Ｃ４アルキル）－ＳＯ－基を意味する（ここで、Ｃ１～Ｃ４アルキル基部分は上記と同じ意味を有する。）。
　Ｃ１～Ｃ４アルキルスルフィニル基の例は、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、プロピルスルフィニル基、イソプロピルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、ｓｅｃ－ブチルスルフィニル基、イソブチルスルフィニル基、ｔｅｒｔ－ブチルスルフィニル基を含む。
　Ｃ１～Ｃ４ハロアルキルスルフィニル基とは、（Ｃ１～Ｃ４ハロアルキル）－ＳＯ－基を意味する（ここで、Ｃ１～Ｃ４ハロアルキル基部分は上記と同じ意味を有する。）。
　Ｃ１～Ｃ４ハロアルキルスルフィニル基の例は、
フルオロメチルスルフィニル基、ジフルオロメチルスルフィニル基、トリフルオロメチルスルフィニル基、クロロジフルオロメチルスルフィニル基、
２－フルオロエチルスルフィニル基、２－クロロエチルスルフィニル基、２，２，２－トリフルオロエチルスルフィニル基、ペンタフルオロエチルスルフィニル基、
３－フルオロプロピルスルフィニル基、３－クロロプロピルスルフィニル基、２，２，３，３，３－ペンタフルオロプロピルスルフィニル基、ヘプタフルオロプロピルスルフィニル基、２，２，２－トリフルオロ－１－トリフルオロメチルエチルスルフィニル基、
４－フルオロブチルスルフィニル基、２，２，３，３，４，４，４－へプタフルオロブチルスルフィニル基等を含むが、これらに限定されるものではない。
　Ｃ１～Ｃ４アルキルスルホニル基とは、（Ｃ１～Ｃ４アルキル）－ＳＯ２－基を意味する（ここで、Ｃ１～Ｃ４アルキル基部分は上記と同じ意味を有する。）。
　Ｃ１～Ｃ４アルキルスルホニル基の例は、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、ｓｅｃ－ブチルスルホニル基、イソブチルスルホニル基、ｔｅｒｔ－ブチルスルホニル基を含む。
　Ｃ１～Ｃ４ハロアルキルスルホニル基とは、（Ｃ１～Ｃ４ハロアルキル）－ＳＯ２－基を意味する（ここで、Ｃ１～Ｃ４ハロアルキル基部分は上記と同じ意味を有する。）。
　Ｃ１～Ｃ４ハロアルキルスルホニル基の例は、
フルオロメチルスルホニル基、ジフルオロメチルスルホニル基、トリフルオロメチルスルホニル基、クロロジフルオロメチルスルホニル基、
２－フルオロエチルスルホニル基、２－クロロエチルスルホニル基、２，２，２－トリフルオロエチルスルホニル基、ペンタフルオロエチルスルホニル基、
３－フルオロプロピルスルホニル基、３－クロロプロピルスルホニル基、２，２，３，３，３－ペンタフルオロプロピルスルホニル基、ヘプタフルオロプロピルスルホニル基、２，２，２－トリフルオロ－１－トリフルオロメチルエチルスルホニル基、
４－フルオロブチルスルホニル基、２，２，３，３，４，４，４－へプタフルオロブチルスルホニル基等を含むが、これらに限定されるものではない。
　Ｃ３～Ｃ６シクロアルキル基とは、３～６個の炭素原子を有するシクロアルキル基を意味する。
　Ｃ３～Ｃ６シクロアルキル基の例は、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等を含むが、これらに限定されるものではない。
　Ｃ３～Ｃ６シクロアルキルＣ１～Ｃ６アルキル基とは、Ｃ３～Ｃ６シクロアルキル基により置換されたＣ１～Ｃ６アルキル基を意味する（ここで、Ｃ３～Ｃ６シクロアルキル基部分およびＣ１～Ｃ６アルキル基部分は上記の定義と同じ意味を有する。）。
　Ｃ３～Ｃ６シクロアルキルＣ１～Ｃ６アルキル基の例は、
シクロプロピルメチル基、２－シクロプロピルエチル基、３－シクロプロピルプロピル基、４－シクロプロピルブチル基、５－シクロプロピルペンチル基、６－シクロプロピルヘキシル基、
シクロブチルメチル基、シクロペンチルメチル基、シクロヘキシルメチル基、２－シクロヘキシルエチル基等を含むが、これらに限定されるものではない。
　「Ｃ３～Ｃ６シクロアルキルＣ１～Ｃ６アルキル基、ここで当該Ｃ３～Ｃ６シクロアルキル基部分はハロゲン原子、Ｃ１～Ｃ４アルキル基、Ｃ１～Ｃ４アルコキシ基またはＣ１～Ｃ４ハロアルキル基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい」の例は、
上記のＣ３～Ｃ６シクロアルキルＣ１～Ｃ６アルキル基の例、および
２－（２，２－ジフルオロシクロプロピル）エチル基、２－（４，４－ジフルオロシクロへキシル）エチル基、２－（４－ｔｅｒｔ－ブチルシクロへキシル）エチル基、２－（４－メトキシシクロへキシル）エチル基、２－（４－トリフルオロメチルシクロへキシル）エチル基、
３－（２，２－ジフルオロシクロプロピル）プロピル基、４－（２，２－ジフルオロシクロプロピル）ブチル基等を含むが、これらに限定されるものではない。
　「Ｃ３～Ｃ６シクロアルキルＣ１～Ｃ６アルキル基、ここで当該Ｃ３～Ｃ６シクロアルキル基部分はハロゲン原子またはＣ１～Ｃ４アルキル基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい」の例は、上記の例のうちの適切な例を含むが、これらに限定されるものではない。
　フェニルＣ１～Ｃ６アルキル基とは、フェニルにより置換されたＣ１～Ｃ６アルキル基を意味する（ここで、Ｃ１～Ｃ６アルキル基部分は上記の定義と同じ意味を有する。）。
　フェニルＣ１～Ｃ６アルキル基の例は、ベンジル基、１－フェニルエチル基、２－フェニルエチル基、３－フェニルプロピル基、４－フェニルブチル基、５－フェニルペンチル基、６－フェニルヘキシル基等を含むが、これらに限定されるものではない。
　「フェニルＣ１～Ｃ６アルキル基、ここで当該フェニル基部分はハロゲン原子、Ｃ１～Ｃ４アルキル基、Ｃ１～Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６ハロアルキル基、シアノ基、ニトロ基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい」の例は、
上記のフェニルＣ１～Ｃ６アルキル基の例、および
２－（４－フルオロフェニル）エチル基、２－（３，４，５－トリフルオロフェニル）エチル基、２－（４－メチルフェニル）エチル基、２－（４－メトキシフェニル）エチル基、２－（４－トリフルオロメチルフェニル）エチル基、２－（４－シアノフェニル）エチル基、２－（４－ニトロフェニル）エチル基、
３－（４－フルオロフェニル）プロピル基、４－（４－フルオロフェニル）ブチル基、５－（４－フルオロフェニル）ペンチル基等を含むが、これらに限定されるものではない。
　「フェニルＣ１～Ｃ６アルキル基、ここで当該フェニル基部分はハロゲン原子またはＣ１～Ｃ４アルキル基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい」の例は、上記の例のうちの適切な例を含むが、これらに限定されるものではない。
　Ｃ３～Ｃ６シクロアルキルＣ１～Ｃ６ハロアルキル基とは、Ｃ３～Ｃ６シクロアルキル基により置換されたＣ１～Ｃ６ハロアルキル基を意味する（ここで、Ｃ３～Ｃ６シクロアルキル基部分およびＣ１～Ｃ６ハロアルキル基部分は上記の定義と同じ意味を有する。）。
　Ｃ３～Ｃ６シクロアルキルＣ１～Ｃ６ハロアルキル基の例は、
２－シクロプロピル－２，２－ジフルオロエチル基、３－シクロプロピル－３，３－ジフルオロプロピル基、４－シクロプロピル－４，４－ジフルオロブチル基、５－シクロプロピル－５，５－ジフルオロペンチル基、６－シクロプロピル－６，６－ジフルオロヘキシル基、
２－シクロブチル－２，２－ジフルオロエチル基、２－シクロペンチル－２，２－ジフルオロエチル基、２－シクロヘキシル－２，２－ジフルオロエチル基等を含むが、これらに限定されるものではない。
　「Ｃ３～Ｃ６シクロアルキルＣ１～Ｃ６ハロアルキル基、ここで当該Ｃ３～Ｃ６シクロアルキル基部分はハロゲン原子、Ｃ１～Ｃ４アルキル基、Ｃ１～Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１～Ｃ４ハロアルキル基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい」の例は、
上記のＣ３～Ｃ６シクロアルキルＣ１～Ｃ６ハロアルキル基の例、および
２－（２，２－ジフルオロシクロプロピル）－２，２－ジフルオロエチル基、２－（４，４－ジフルオロシクロへキシル）－２，２－ジフルオロエチル基、２－（４－ｔｅｒｔ－ブチルシクロへキシル）－２，２－ジフルオロエチル基、２－（４－メトキシシクロへキシル）－２，２－ジフルオロエチル基、２－（４－トリフルオロメチルシクロへキシル）－２，２－ジフルオロエチル基、
３－（２，２－ジフルオロシクロプロピル）－３，３－ジフルオロプロピル基、４－（２，２－ジフルオロシクロプロピル）－４，４－ジフルオロブチル基等を含むが、これらに限定されるものではない。
　「Ｃ３～Ｃ６シクロアルキルＣ１～Ｃ６ハロアルキル基、ここで当該Ｃ３～Ｃ６シクロアルキル基部分はハロゲン原子またはＣ１～Ｃ４アルキル基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい」の例は、上記の例のうちの適切な例を含むが、これらに限定されるものではない。
　フェニルＣ１～Ｃ６ハロアルキル基とは、フェニルにより置換されたＣ１～Ｃ６ハロアルキル基を意味する（ここで、Ｃ１～Ｃ６ハロアルキル基部分は上記の定義と同じ意味を有する。）。
　フェニルＣ１～Ｃ６ハロアルキル基の例は、２－フェニル－２，２－ジフルオロエチル基、３－フェニル－３，３－ジフルオロプロピル基、４－フェニル－４，４－ジフルオロブチル基、５－フェニル－５，５－ジフルオロペンチル基等を含むが、これらに限定されるものではない。
　「フェニルＣ１～Ｃ６ハロアルキル基、ここで当該フェニル基部分はハロゲン原子、Ｃ１～Ｃ４アルキル基、Ｃ１～Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６ハロアルキル基、シアノ基、ニトロ基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい」の例は、
上記のフェニルＣ１～Ｃ６ハロアルキル基の例、および
２－（４－フルオロフェニル）－２，２－ジフルオロエチル基、２－（３，４，５－トリフルオロフェニル）－２，２－ジフルオロエチル基、２－（４－メチルフェニル）－２，２－ジフルオロエチル基、２－（４－メトキシフェニル）－２，２－ジフルオロエチル基、２－（４－トリフルオロメチルフェニル）－２，２－ジフルオロエチル基、２－（４－シアノフェニル）－２，２－ジフルオロエチル基、２－（４－ニトロフェニル）－２，２－ジフルオロエチル基、
３－（４－フルオロフェニル）－３，３－ジフルオロプロピル基、４－（４－フルオロフェニル）－４，４－ジフルオロブチル基、５－（４－フルオロフェニル）－５，５－ジフルオロペンチル基等を含むが、これらに限定されるものではない。
　「フェニルＣ１～Ｃ６ハロアルキル基、ここで当該フェニル基部分はハロゲン原子またはＣ１～Ｃ４アルキル基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい」の例は、上記の例のうちの適切な例を含むが、これらに限定されるものではない。
　Ｃ１～Ｃ４アルコキシＣ２～Ｃ１０アルキル基とは、Ｃ１～Ｃ４アルコキシ基により置換されたＣ２～Ｃ１０アルキル基を意味する（ここで、Ｃ１～Ｃ４アルコキシ基およびＣ２～Ｃ１０アルキル基は上記と同じ意味を有する。）。
　Ｃ１～Ｃ４アルコキシＣ２～Ｃ１０アルキル基の例は、５－メトキシペンチル基、６－メトキシヘキシル基等を含むが、これらに限定されるものではない。
　Ｃ１～Ｃ４ハロアルコキシＣ２～Ｃ１０アルキル基とは、Ｃ１～Ｃ４ハロアルコキシ基により置換されたＣ２～Ｃ１０アルキル基を意味する（ここで、Ｃ１～Ｃ４ハロアルコキシ基およびＣ２～Ｃ１０アルキル基は上記と同じ意味を有する。）。
　Ｃ１～Ｃ４ハロアルコキシＣ２～Ｃ１０アルキル基の例は、
５－ジフルオロメトキシペンチル基、５－トリフルオロメトキシペンチル基、
６－ジフルオロメトキシヘキシル基、６－トリフルオロメトキシヘキシル基等を含むが、これらに限定されるものではない。
　Ｃ１～Ｃ４アルキルチオＣ２～Ｃ１０アルキル基とは、Ｃ１～Ｃ４アルキルチオ基により置換されたＣ２～Ｃ１０アルキル基を意味する（ここで、Ｃ１～Ｃ４アルキルチオ基およびＣ２～Ｃ１０アルキル基は上記と同じ意味を有する。）。
　Ｃ１～Ｃ４アルキルチオＣ２～Ｃ１０アルキル基の例は、
２－メチルチオエチル基、３－メチルチオプロピル基、４－メチルチオブチル基、
５－メチルチオペンチル基、５－エチルチオペンチル基、５－プロピルチオペンチル基、５－ブチルチオペンチル基、
６－メチルチオヘキシル基、６－エチルチオヘキシル基、６－プロピルチオヘキシル基、６－ブチルチオヘキシル基、
７－メチルチオへプチル基、８－メチルチオオクチル基、９－メチルチオノニル基、１０－メチルチオデシル基等を含むが、これらに限定されるものではない。
　生成物の有用性および経済性等の観点から、Ｃ１～Ｃ４アルキルチオＣ２～Ｃ１０アルキル基の好ましい例は、５－メチルチオペンチル基および６－メチルチオヘキシル基を含む。
　Ｃ１～Ｃ４ハロアルキルチオＣ２～Ｃ１０アルキル基とは、Ｃ１～Ｃ４ハロアルキルチオ基により置換されたＣ２～Ｃ１０アルキル基を意味する（ここで、Ｃ１～Ｃ４ハロアルキルチオ基およびＣ２～Ｃ１０アルキル基は上記と同じ意味を有する。）。
　Ｃ１～Ｃ４ハロアルキルチオＣ２～Ｃ１０アルキル基の例は、
２－トリフルオロメチルチオエチル基、３－トリフルオロメチルチオプロピル基、４－トリフルオロメチルチオブチル基、
５－ジフルオロメチルチオペンチル基、５－トリフルオロメチルチオペンチル基、５－（２，２，２－トリフルオロエチルチオ）ペンチル基、５－ペンタフルオロエチルチオペンチル基、５－（２，２，３，３，３－ペンタフルオロプロピルチオ）ペンチル基、５－（２，２，３，３，４，４，４－へプタフルオロブチルチオ）ペンチル基、
６－ジフルオロメチルチオヘキシル基、６－トリフルオロメチルチオヘキシル基、６－（２，２，２－トリフルオロエチルチオ）ヘキシル基、６－ペンタフルオロエチルチオヘキシル基、６－（２，２，３，３，３－ペンタフルオロプロピルチオ）ヘキシル基、６－（２，２，３，３，４，４，４－へプタフルオロブチルチオ）ヘキシル基、
７－トリフルオロメチルチオへプチル基、８－トリフルオロメチルチオオクチル基、９－トリフルオロメチルチオノニル基、１０－トリフルオロメチルチオデシル基等を含むが、これらに限定されるものではない。
　生成物の有用性および経済性等の観点から、Ｃ１～Ｃ４ハロアルキルチオＣ２～Ｃ１０アルキル基の好ましい例は、５－トリフルオロメチルチオペンチル基および６－トリフルオロメチルチオヘキシル基を含む。
　Ｃ１～Ｃ４アルキルスルフィニルＣ２～Ｃ１０アルキル基とは、Ｃ１～Ｃ４アルキルスルフィニル基により置換されたＣ２～Ｃ１０アルキル基を意味する（ここで、Ｃ１～Ｃ４アルキルスルフィニル基およびＣ２～Ｃ１０アルキル基は上記と同じ意味を有する。）。
　Ｃ１～Ｃ４アルキルスルフィニルＣ２～Ｃ１０アルキル基の例は、５－メチルスルフィニルペンチル基および６－メチルスルフィニルヘキシル基等を含むが、これらに限定されるものではない。
　Ｃ１～Ｃ４アルキルスルホニルＣ２～Ｃ１０アルキル基とは、Ｃ１～Ｃ４アルキルスルホニル基により置換されたＣ２～Ｃ１０アルキル基を意味する（ここで、Ｃ１～Ｃ４アルキルスルホニル基およびＣ２～Ｃ１０アルキル基は上記と同じ意味を有する。）。
　Ｃ１～Ｃ４アルキルスルホニルＣ２～Ｃ１０アルキル基の例は、５－メチルスルホニルペンチル基および６－メチルスルホニルヘキシル基等を含むが、これらに限定されるものではない。
　Ｃ１～Ｃ４ハロアルキルスルフィニルＣ２～Ｃ１０アルキル基とは、Ｃ１～Ｃ４ハロアルキルスルフィニル基により置換されたＣ２～Ｃ１０アルキル基を意味する（ここで、Ｃ１～Ｃ４ハロアルキルスルフィニル基およびＣ２～Ｃ１０アルキル基は上記と同じ意味を有する。）。
　Ｃ１～Ｃ４ハロアルキルスルフィニルＣ２～Ｃ１０アルキル基の例は、５－ジフルオロメチルスルフィニルペンチル基、５－トリフルオロメチルスルフィニルペンチル基、６－ジフルオロメチルスルフィニルヘキシル基、および
６－トリフルオロメチルスルフィニルヘキシル基等を含むが、これらに限定されるものではない。
　Ｃ１～Ｃ４ハロアルキルスルホニルＣ２～Ｃ１０アルキル基とは、Ｃ１～Ｃ４ハロアルキルスルホニル基により置換されたＣ２～Ｃ１０アルキル基を意味する（ここで、Ｃ１～Ｃ４ハロアルキルスルホニル基およびＣ２～Ｃ１０アルキル基は上記と同じ意味を有する。）。
　Ｃ１～Ｃ４ハロアルキルスルホニルＣ２～Ｃ１０アルキル基の例は、５－ジフルオロメチルスルホニルペンチル基、５－トリフルオロメチルスルホニルペンチル基、６－ジフルオロメチルスルホニルヘキシル基、および６－トリフルオロメチルスルホニルヘキシル基等を含むが、これらに限定されるものではない。
　Ｃ６～Ｃ１０アリール基とは、環を構成するすべての原子が６～１０個の炭素原子である、芳香族の環式基を意味する。
　Ｃ６～Ｃ１０アリール基の例は、フェニル基、１－ナフチル基、および２－ナフチル基である。１－ナフチル基はナフタレン－１－イル基とも言う。２－ナフチル基はナフタレン－２－イル基とも言う。
　Ｃ１～Ｃ４アルコキシカルボニル基とは、（Ｃ１～Ｃ４アルキル）－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－基を意味する（ここで、Ｃ１～Ｃ４アルキル基部分は上記の定義と同じ意味を有する。）。
　Ｃ１～Ｃ４アルコキシカルボニル基の例は、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等を含むが、これらに限定されるものではない。
　Ｃ１～Ｃ４アルキルカルボニル基とは、（Ｃ１～Ｃ４アルキル）－Ｃ（＝Ｏ）－基を意味する（ここで、Ｃ１～Ｃ４アルキル基部分は上記の定義と同じ意味を有する。）。
　Ｃ１～Ｃ４アルキルカルボニル基の例は、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基等を含むが、これらに限定されるものではない。
　ヒドロキシＣ１～Ｃ４アルキル基とは、ヒドロキシ基により置換されたＣ１～Ｃ４アルキル基を意味する（ここで、Ｃ１～Ｃ４アルキル基は上記と同じ意味を有する。）。
　ヒドロキシＣ１～Ｃ４アルキル基の例は、ヒドロキシメチル基、１－ヒドロキシエチル基、２－ヒドロキシエチル基、１－ヒドロキシプロピル基、２－ヒドロキシプロピル基、１－ヒドロキシブチル基、２－ヒドロキシブチル基、３－ヒドロキシブチル基等を含むが、これらに限定されるものではない。
　Ｃ１～Ｃ４アルコキシＣ１～Ｃ４アルキル基とは、Ｃ１～Ｃ４アルコキシ基により置換されたＣ１～Ｃ４アルキル基を意味する（ここで、Ｃ１～Ｃ４アルコキシ基およびＣ１～Ｃ４アルキル基は上記と同じ意味を有する。）。
　Ｃ１～Ｃ４アルコキシＣ１～Ｃ４アルキル基の例は、
メトキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、イソプロポキシメチル基、
１－メトキシエチル基、２－メトキシエチル基、１－エトキシエチル基、２－エトキシエチル基、１－プロポキシエチル基、２－プロポキシエチル基、１－イソプロポキシエチル基、２－イソプロポキシエチル基、
１－メトキシプロピル基、２－メトキシプロピル基、３－メトキシプロピル基、
１－メトキシブチル基、２－メトキシブチル基、３－メトキシブチル基、４－メトキシブチル基等を含むが、これらに限定されるものではない。
　アミノＣ１～Ｃ４アルキル基とは、アミノ基により置換されたＣ１～Ｃ４アルキル基を意味する（ここで、Ｃ１～Ｃ４アルキル基は上記と同じ意味を有する。）。
　アミノＣ１～Ｃ４アルキル基の例は、アミノメチル基、１－アミノエチル基、２－アミノエチル基、１－アミノプロピル基、２－アミノプロピル基、１－アミノブチル基、２－アミノブチル基、３－アミノブチル基等を含むが、これらに限定されるものではない。
　シアノＣ１～Ｃ４アルキル基とは、シアノ基により置換されたＣ１～Ｃ４アルキル基を意味する（ここで、Ｃ１～Ｃ４アルキル基は上記と同じ意味を有する。）。
　シアノＣ１～Ｃ４アルキル基の例は、シアノメチル基、１－シアノエチル基、２－シアノエチル基、１－シアノプロピル基、２－シアノプロピル基、１－シアノブチル基、２－シアノブチル基、３－シアノブチル基等を含むが、これらに限定されるものではない。
　ニトロＣ１～Ｃ４アルキル基とは、ニトロ基により置換されたＣ１～Ｃ４アルキル基を意味する（ここで、Ｃ１～Ｃ４アルキル基は上記と同じ意味を有する。）。
　ニトロＣ１～Ｃ４アルキル基の例は、ニトロメチル基、１－ニトロエチル基、２－ニトロエチル基、１－ニトロプロピル基、２－ニトロプロピル基、１－ニトロブチル基、２－ニトロブチル基、３－ニトロブチル基等を含むが、これらに限定されるものではない。
　カルボキシＣ１～Ｃ４アルキル基とは、カルボキシ基により置換されたＣ１～Ｃ４アルキル基を意味する（ここで、Ｃ１～Ｃ４アルキル基は上記と同じ意味を有する。）。
　カルボキシＣ１～Ｃ４アルキル基の例は、カルボキシメチル基、１－カルボキシエチル基、２－カルボキシエチル基、１－カルボキシプロピル基、２－カルボキシプロピル基、１－カルボキシブチル基、２－カルボキシブチル基、３－カルボキシブチル基等を含むが、これらに限定されるものではない。
　Ｃ１～Ｃ４アルコキシカルボニルＣ１～Ｃ４アルキル基とは、Ｃ１～Ｃ４アルコキシカルボニル基により置換されたＣ１～Ｃ４アルキル基を意味する（ここで、Ｃ１～Ｃ４アルコキシカルボニル基およびＣ１～Ｃ４アルキル基は上記と同じ意味を有する。）。
　Ｃ１～Ｃ４アルコキシカルボニルＣ１～Ｃ４アルキル基の例は、
メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、プロポキシカルボニルメチル基、イソプロポキシカルボニルメチル基、
１－メトキシカルボニルエチル基、２－メトキシカルボニルエチル基、１－エトキシカルボニルエチル基、２－エトキシカルボニルエチル基、１－プロポキシカルボニルエチル基、２－プロポキシカルボニルエチル基、１－イソプロポキシカルボニルエチル基、２－イソプロポキシカルボニルエチル基、
１－メトキシカルボニルプロピル基、２－メトキシカルボニルプロピル基、３－メトキシカルボニルプロピル基、
１－メトキシカルボニルブチル基、２－メトキシカルボニルブチル基、３－メトキシカルボニルブチル基、４－メトキシカルボニルブチル基等を含むが、これらに限定されるものではない。
　モノ（Ｃ１～Ｃ４アルキル）アミノ基とは、（Ｃ１～Ｃ４アルキル）－ＮＨ－基を意味する（ここで、Ｃ１～Ｃ４アルキル基部分は上記の定義と同じ意味を有する。）。
　モノ（Ｃ１～Ｃ４アルキル）アミノ基の例は、メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ブチルアミノ基等を含むが、これらに限定されるものではない。
　ジ（Ｃ１～Ｃ４アルキル）アミノ基とは、（Ｃ１～Ｃ４アルキル）２Ｎ－基を意味する（ここで、Ｃ１～Ｃ４アルキル基部分は、同一または異なって、上記の定義と同じ意味を有する。）。
　ジ（Ｃ１～Ｃ４アルキル）アミノ基の例は、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジブチルアミノ基、メチルエチルアミノ基等を含むが、これらに限定されるものではない。
　上記以外の官能基の定義と例は、上記の官能基と同様に当業者により理解されることができる。
　（原料化合物：一般式（２）で表されるスルフィド誘導体）
　一般式（２）で表されるスルフィド誘導体の調製は、例えば、国際公開第２０１３／１５７２２９号（特許文献１）に記載されているか、または同様の方法で行われ得る。
　生成物の有用性および経済性等の観点から、一般式（２）中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３の好ましい組み合わせは：
Ｒ１が、Ｃ１～Ｃ１０アルキル基、
Ｃ３～Ｃ６シクロアルキルＣ１～Ｃ６アルキル基、ここで当該Ｃ３～Ｃ６シクロアルキル基部分はハロゲン原子またはＣ１～Ｃ４アルキル基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい、
フェニルＣ１～Ｃ６アルキル基、ここで当該フェニル基部分はハロゲン原子またはＣ１～Ｃ４アルキル基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい、
Ｃ１～Ｃ４アルコキシＣ２～Ｃ１０アルキル基、
Ｃ１～Ｃ４ハロアルコキシＣ２～Ｃ１０アルキル基、
Ｃ１～Ｃ４アルキルチオＣ２～Ｃ１０アルキル基、
Ｃ１～Ｃ４アルキルスルフィニルＣ２～Ｃ１０アルキル基、
Ｃ１～Ｃ４アルキルスルホニルＣ２～Ｃ１０アルキル基、
Ｃ１～Ｃ４ハロアルキルチオＣ２～Ｃ１０アルキル基、
Ｃ１～Ｃ４ハロアルキルスルフィニルＣ２～Ｃ１０アルキル基、
Ｃ１～Ｃ４ハロアルキルスルホニルＣ２～Ｃ１０アルキル基、
Ｃ１～Ｃ６ハロアルキル基、
Ｃ３～Ｃ６シクロアルキルＣ１～Ｃ６ハロアルキル基、ここで当該Ｃ３～Ｃ６シクロアルキル基部分はハロゲン原子またはＣ１～Ｃ４アルキル基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい、または
フェニルＣ１～Ｃ６ハロアルキル基、ここで当該フェニル基部分はハロゲン原子またはＣ１～Ｃ４アルキル基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい、であり；そして
Ｒ２およびＲ３が、それぞれ独立して、ハロゲン原子またはＣ１～Ｃ４アルキル基である。
　上記と同様の観点から、一般式（２）中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３のより好ましい組み合わせは：
Ｒ１が、Ｃ１～Ｃ１０アルキル基、
Ｃ１～Ｃ４アルコキシＣ２～Ｃ１０アルキル基、
Ｃ１～Ｃ４ハロアルコキシＣ２～Ｃ１０アルキル基、
Ｃ１～Ｃ４アルキルチオＣ２～Ｃ１０アルキル基、
Ｃ１～Ｃ４アルキルスルフィニルＣ２～Ｃ１０アルキル基、
Ｃ１～Ｃ４アルキルスルホニルＣ２～Ｃ１０アルキル基、
Ｃ１～Ｃ４ハロアルキルチオＣ２～Ｃ１０アルキル基、
Ｃ１～Ｃ４ハロアルキルスルフィニルＣ２～Ｃ１０アルキル基、
Ｃ１～Ｃ４ハロアルキルスルホニルＣ２～Ｃ１０アルキル基、または
Ｃ１～Ｃ６ハロアルキル基であり；そして
Ｒ２およびＲ３が、それぞれ独立して、ハロゲン原子またはＣ１～Ｃ４アルキル基である。
　上記と同様の観点から、一般式（２）中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３のさらに好ましい組み合わせは：
Ｒ１がＣ１～Ｃ４ハロアルキルチオＣ２～Ｃ１０アルキル基であり；そして
Ｒ２およびＲ３が、それぞれ独立して、ハロゲン原子またはＣ１～Ｃ４アルキル基である。
　上記と同様の観点から、一般式（２）中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３のさらに好ましい組み合わせは：
Ｒ１が５－トリフルオロメチルチオペンチル基または６－トリフルオロメチルチオヘキシル基であり；そして
Ｒ２がフッ素原子でありかつＲ３が塩素原子であるか、またはＲ２およびＲ３がメチル基である。
　一つの態様において、上記と同様の観点から、一般式（２）中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３のさらに好ましい具体的な組み合わせは：
Ｒ１が５－トリフルオロメチルチオペンチル基であり；
Ｒ２がフッ素原子であり；そして
Ｒ３が塩素原子である。
　別の態様において、上記と同様の観点から、一般式（２）中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３のさらに好ましい具体的な組み合わせは：
Ｒ１が６－トリフルオロメチルチオヘキシル基であり；そして
Ｒ２およびＲ３がメチル基である。
　上記と同様の観点から、一般式（２）中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３の特に好ましい具体的な組み合わせは：
Ｒ１が５－トリフルオロメチルチオペンチル基であり；
Ｒ２がフッ素原子であり；そして
Ｒ３が塩素原子である。
　（目的化合物：一般式（１）で表されるスルホキシド誘導体）
　上記と同様の観点から、一般式（１）中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３の好ましい組み合わせ、より好ましい組み合わせ、さらに好ましい組み合わせ、および特に好ましい組み合わせは、上記した一般式（２）中のそれらと同様である。
　（酸化剤）
　本発明で使用される酸化剤は、反応が進行する限りは、いずれの酸化剤でもよい。対応する原料化合物（スルフィド誘導体）を目的化合物（スルホキシド誘導体）に酸化できる酸化剤を用いることができる。本発明で使用される酸化剤の例は、無機過酸化物（例えば、過酸化水素、尿素－過酸化水素付加体等）等を含むが、これらに限定されるものではない。安全性、反応性、選択性および経済効率等の観点から、好ましい酸化剤は過酸化水素である。酸化剤は、単独でまたは任意の割合の２種以上の組み合わせで使用してもよい。
　酸化剤の形態は、反応が進行する限りは、いずれの形態でもよい。酸化剤の形態は、当業者により適切に選択されることができる。酸化剤として過酸化水素を用いるときは、過酸化水素の形態は、反応が進行する限りは、いずれの形態でもよい。危険性と経済効率を考慮して、好ましい形態の過酸化水素の例は、５～６０ｗｔ％過酸化水素水溶液、好ましくは５～４０ｗｔ％過酸化水素水溶液、より好ましくは１０～３５ｗｔ％過酸化水素水溶液、さらに好ましくは２５～３５ｗｔ％過酸化水素水溶液を含む。なお、本明細書中、例えば、「３０％過酸化水素水溶液」は「３０％過酸化水素」とも言う。
　（酸化剤の使用量）
　本発明の方法における酸化剤の使用量は、反応が進行する限りは、いずれの量でもよい。
　収率の向上および経済効率等の観点から、本発明における酸化剤の下限としては、一般式（２）で表されるスルフィド誘導体（原料化合物）１モルに対して、０．９モル以上、好ましくは１．０モル以上を例示することができる。
　安全性、副生成物の抑制および経済効率等の観点から、本発明における酸化剤の上限としては、一般式（２）で表されるスルフィド誘導体（原料化合物）１モルに対して、４．０モル以下、好ましくは３．０モル以下、より好ましくは２．５モル以下を例示することができる。
　さらに、本発明における酸化剤の使用量としては、上記の下限と上限の適宜な且つ任意の組み合わせを例示することができる。したがって、安全性、収率の向上、副生成物の抑制、および経済効率等の観点から、本発明における酸化剤の使用量としては、一般式（２）で表されるスルフィド誘導体（原料化合物）１モルに対して、０．９～４．０モル、好ましくは１．０～３．０モル、より好ましくは１．０～２．５モルを例示することができる。しかしながら、本発明における酸化剤の使用量は、目的と状況に応じて、当業者により適宜調整されることができる。
　（触媒：金属－配位子錯体）
　本発明における触媒は、金属－配位子錯体である。金属－配位子錯体は、金属化合物と配位子から調製することができる。加えて、金属－配位子錯体は、金属化合物および配位子以外の成分を含んでいてもよい。したがって、金属－配位子錯体は、金属化合物配位子を含む。
　（金属化合物）
　本発明における金属－配位子錯体に含まれる金属化合物について説明する。本発明で使用される金属化合物は、反応が進行する限りは、いずれの金属化合物でもよい。本発明で使用される金属化合物は公知の化合物であるか、または公知の化合物から公知の方法に準じて製造することができる化合物である。
　金属化合物は、金属アセチルアセトネート、金属ハロゲン化物、金属酸化物、金属アルコキシド等であるが、これらに限定されるものではない。
　金属化合物の金属は好ましくは遷移金属である。
　金属化合物の例は、鉄化合物、バナジウム化合物、チタン化合物、マンガン化合物、銅化合物、モリブデン化合物、ジルコニウム化合物等を含むが、これらに限定されるものではない。
　収率および経済効率等の観点から、金属化合物は、好ましくは鉄化合物、バナジウム化合物、より好ましくは鉄化合物である。
　鉄化合物の例は、鉄（ＩＩＩ）アセチルアセトネート、塩化鉄（ＩＩＩ）、臭化鉄（ＩＩＩ）、鉄（ＩＩＩ）メトキシド、鉄（ＩＩＩ）エトキシド、鉄（ＩＩＩ）プロポキシド、鉄（ＩＩＩ）イソプロポキシド等を含むが、これらに限定されるものではない。「鉄（ＩＩＩ）アセチルアセトネート」は、「Ｆｅ（ａｃａｃ）３」または「トリス（２，４－ペンタンジオナト）鉄（ＩＩＩ）」とも言う。上記と同様の観点から、鉄化合物の好ましい例は、鉄（ＩＩＩ）アセチルアセトネート、塩化鉄（ＩＩＩ）を含む。鉄化合物のより好ましい例は、鉄（ＩＩＩ）アセチルアセトネートを含む。
　バナジウム化合物の例は、バナジルアセチルアセトネート、酸化バナジウム（Ｖ）、トリイソプロポキシバナジウム（Ｖ）オキシド等を含むが、これらに限定されるものではない。「バナジルアセチルアセトネート」は、「ＶＯ（ａｃａｃ）２」、「ビス（２，４－ペンタンジオナト）バナジウム（ＩＶ）オキシド」または「バナジウム（ＩＶ）オキシアセチルアセトネート」とも言う。「トリイソプロポキシバナジウム（Ｖ）オキシド」は、「ＶＯ（ＯｉＰｒ）３」または「トリイソプロポキシオキソバナジウム（Ｖ）」とも言う。上記と同様の観点から、バナジウム化合物の好ましい例は、バナジルアセチルアセトネート、酸化バナジウム（Ｖ）を含む。バナジウム化合物のより好ましい例は、バナジルアセチルアセトネートを含む。
　チタン化合物の例は、四塩化チタン、チタン（ＩＶ）メトキシド、チタン（ＩＶ）エトキシド、チタン（ＩＶ）プロポキシド、チタン（ＩＶ）イソプロポキシド、チタン（ＩＶ）ｔｅｒｔ－ブトキシド等を含むが、これらに限定されるものではない。
　マンガン化合物の例は、マンガン（ＩＩＩ）アセチルアセトネート、塩化マンガン（ＩＩ）等を含むが、これらに限定されるものではない。「マンガン（ＩＩＩ）アセチルアセトネート」は、「Ｍｎ（ａｃａｃ）３」とも言う。
　銅化合物の例は、銅（ＩＩ）アセチルアセトネート、塩化銅（Ｉ）、塩化銅（ＩＩ）等を含むが、これらに限定されるものではない。「銅（ＩＩ）アセチルアセトネート」は、「Ｃｕ（ａｃａｃ）２」とも言う。
　モリブデン化合物の例は、モリブデニルアセチルアセトネート等を含むが、これらに限定されるものではない。「モリブデニルアセチルアセトネート」は、「ＭｏＯ２（ａｃａｃ）２」、「ビス（２，４－ペンタンジオナト）モリブデン（ＶＩ）ジオキシド」または「モリブデン（ＩＶ）ジオキシアセチルアセトネート」とも言う。
　ジルコニウム化合物の例は、ジルコニウム（ＩＶ）アセチルアセトネート、四塩化ジルコニウム等を含むが、これらに限定されるものではない。「ジルコニウム（ＩＶ）アセチルアセトネート」は、「Ｚｒ（ａｃａｃ）４」または「テトラキス（２，４－ペンタンジオナト）ジルコニウム（ＩＶ）」とも言う。
　本発明における金属化合物は、単独でまたは任意の割合の２種以上の組み合わせで使用してもよい。本発明における金属化合物の形態は、反応が進行する限りは、いずれの形態でもよい。本発明における金属化合物の形態は、当業者により適切に選択されることができる。
　（金属化合物の使用量）
　本発明の方法における金属化合物の使用量は、反応が進行する限りは、いずれの量でもよい。金属化合物の使用量は、一般式（４）で表される安息香酸化合物の使用により、低減することができる。一つの態様において、収率の向上、環境負荷の低減、および経済効率等の観点から、本発明における金属化合物の使用量としては、一般式（２）で表されるスルフィド誘導体（原料化合物）１モルに対して、０．１～２０．０ｍｏｌ％、好ましくは０．１～１０．０ｍｏｌ％、より好ましくは０．３～１０．０ｍｏｌ％、さらに好ましくは０．４～１０．０ｍｏｌ％を例示することができる。さらに、別の態様において、上記と同様の観点から、本発明における金属化合物の使用量としては、一般式（２）で表されるスルフィド誘導体（原料化合物）１モルに対して、好ましくは０．３～６．０ｍｏｌ％、より好ましくは０．３～５．０ｍｏｌ％、さらに好ましくは０．４～５．０ｍｏｌ％、さらに好ましくは０．４～４．０ｍｏｌ％、さらに好ましくは０．４～３．０ｍｏｌ％、特に好ましくは０．４～２．０ｍｏｌ％もまた例示することができる。しかしながら、本発明における金属化合物の使用量は、目的と状況に応じて、当業者により適宜調整されることができる。
　（配位子）
　本発明における金属－配位子錯体に含まれる配位子について説明する。本発明で使用される配位子は公知の化合物であるか、または公知の化合物から公知の方法に準じて製造することができる化合物である。
　収率および経済効率等の観点から、好ましい配位子は、一般式（３）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
（式中、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７１およびＲ７２は、下記の通りである。）
で表される化合物である。
　一般式（３）中、Ｒ４およびＲ５は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１～Ｃ６アルキル基、フェニルＣ１～Ｃ６アルキル基、Ｃ６～Ｃ１０アリール基、シアノ基、ニトロ基またはＣ１～Ｃ６アルコキシ基である。
　収率および経済効率等の観点から、Ｒ４およびＲ５の好ましい例はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子またはＣ１～Ｃ６アルキル基、より好ましくはそれぞれ独立して水素原子またはハロゲン原子である。
　Ｒ４のさらに好ましい例は水素原子である。
　Ｒ５のさらに好ましい例は水素原子または塩素原子、特に好ましくは水素原子である。
　一般式（３）中、Ｒ６は、Ｃ１～Ｃ４アルキル基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、Ｃ１～Ｃ４アルコキシカルボニル基、Ｃ１～Ｃ４アルキルカルボニル基、ヒドロキシＣ１～Ｃ４アルキル基、Ｃ１～Ｃ４アルコキシＣ１～Ｃ４アルキル基、アミノＣ１～Ｃ４アルキル基、シアノＣ１～Ｃ４アルキル基、ニトロＣ１～Ｃ４アルキル基、カルボキシＣ１～Ｃ４アルキル基またはＣ１～Ｃ４アルコキシカルボニルＣ１～Ｃ４アルキル基である。
　収率および経済効率等の観点から、Ｒ６の好ましい例はヒドロキシＣ１～Ｃ４アルキル基、より好ましくはヒドロキシメチル基である。
　一般式（３）中、Ｒ７１およびＲ７２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１～Ｃ６アルキル基、フェニルＣ１～Ｃ６アルキル基またはＣ６～Ｃ１０アリール基（但し、Ｒ７１およびＲ７２の両方が水素原子である場合を除く。）である。
　収率および経済効率等の観点から、Ｒ７１およびＲ７２の好ましい例は、それぞれ独立して、水素原子またはＣ１～Ｃ６アルキル基（但し、Ｒ７１およびＲ７２の両方が水素原子である場合を除く。）であり、
より好ましくはＲ７１がメチル基でありかつＲ７２がメチル基であるか、またはＲ７１が水素原子でありかつＲ７２がイソプロピル基であり、
特に好ましくはＲ７１がメチル基でありかつＲ７２がメチル基である。
　一般式（３）中、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７１およびＲ７２の好ましい具体的な組み合わせは：
Ｒ４が水素原子であり；
Ｒ５が水素原子または塩素原子であり；
Ｒ６がヒドロキシメチル基であり；
Ｒ７１がメチル基であり；
Ｒ７２がメチル基である。
　一般式（３）中、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７１およびＲ７２の特に好ましい具体的な組み合わせは：
Ｒ４が水素原子であり；
Ｒ５が水素原子であり；
Ｒ６がヒドロキシメチル基であり；
Ｒ７１がメチル基であり；
Ｒ７２がメチル基である。
　本発明の実施例および比較例で使用される配位子、および関連する配位子、並びにその他の配位子の具体例を以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
　収率および経済効率等の観点から、配位子の好ましい具体例は、式（３－１）、（３－２）、（３－３）、（３－４）、（３－８）、（３－９）、（３－１０）、および（３－１２）を含む。
　配位子のより好ましい具体例は、式（３－１）、（３－２）、（３－３）、（３－４）、（３－９）、または（３－１２）を含む。
　配位子のさらに好ましい具体例は、式（３－１）、（３－４）、（３－９）、または（３－１２）である。
　配位子のさらに好ましい具体例は、式（３－４）または（３－９）である。
　配位子の特に好ましい具体例は、式（３－４）の化合物である。
　本発明における配位子は、単独でまたは任意の割合の２種以上の組み合わせで使用してもよい。本発明における配位子の形態は、反応が進行する限りは、いずれの形態でもよい。本発明における配位子化合物の形態は、当業者により適切に選択されることができる。
　（配位子の使用量）
　本発明の方法における配位子の使用量は、反応が進行する限りは、いずれの量でもよい。配位子の使用量は、一般式（４）で表される安息香酸化合物の使用により、低減することができる。一つの態様において、収率の向上、環境負荷の低減、および経済効率等の観点から、本発明における配位子の使用量としては、一般式（２）で表されるスルフィド誘導体（原料化合物）１モルに対して、０．１～２０．０ｍｏｌ％、好ましくは０．１～１０．０ｍｏｌ％、より好ましくは０．３～１０．０ｍｏｌ％、さらに好ましくは０．４～１０．０ｍｏｌ％を例示することができる。さらに、別の態様において、上記と同様の観点から、本発明における配位子の使用量としては、一般式（２）で表されるスルフィド誘導体（原料化合物）１モルに対して、好ましくは０．３～６．０ｍｏｌ％、より好ましくは０．３～５．０ｍｏｌ％、さらに好ましくは０．４～５．０ｍｏｌ％、さらに好ましくは０．４～４．０ｍｏｌ％、さらに好ましくは０．４～３．０ｍｏｌ％、特に好ましくは０．４～２．０ｍｏｌ％もまた例示することができる。しかしながら、本発明における配位子の使用量は、目的と状況に応じて、当業者により適宜調整されることができる。
　（安息香酸化合物）
　本発明における一般式（４）で表される安息香酸化合物について説明する。本発明の反応は、一般式（４）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
（式中、Ａ１、Ａ２、Ａ３、Ａ４、Ａ５、Ｍおよびｎは、下記の通りである。）
で表される安息香酸化合物の存在下で行われる。本発明で使用される一般式（４）の安息香酸化合物は公知の化合物であるか、または公知の化合物から公知の方法に準じて製造することができる化合物である。
　一般式（４）中、Ａ１、Ａ２、Ａ３、Ａ４およびＡ５は、収率および経済効率等の観点から、好ましい例は
Ａ１がＣ１～Ｃ２アルコキシ基であり；
Ａ２が水素原子であり；
Ａ３が水素原子またはＣ１～Ｃ２アルコキシ基であり；
Ａ４が水素原子であり；
Ａ５がＣ１～Ｃ２アルコキシ基である。
　Ａ１のより好ましい例はメトキシ基である。
　Ａ３のより好ましい例は水素原子またはメトキシ基、さらに好ましくは水素原子である。
　Ａ５のより好ましい例はメトキシ基である。
　一般式（４）中、Ｍは水素原子、アルカリ金属原子またはアルカリ土類金属原子である。
　収率および経済効率等の観点から、Ｍは好ましくはアルカリ金属原子またはアルカリ土類金属原子、より好ましくはアルカリ金属原子ある。
　Ｍの具体例は、リチウム原子、ナトリウム原子、カリウム原子、セシウム原子、マグネシウム原子、カルシウム原子、およびバリウム原子を含むが、これらに限定されるものではない。
　収率および経済効率等の観点から、Ｍの好ましい具体例は、リチウム原子、ナトリウム原子、カリウム原子、セシウム原子、マグネシウム原子、およびカルシウム原子である。
　Ｍのより好ましい具体例は、リチウム原子、ナトリウム原子、カリウム原子、およびセシウム原子である。
　Ｍのさらに好ましい具体例はナトリウム原子である。
　一般式（４）中、ｎは１または２である。より詳細には、それが化学的に許容される限りは、ｎは１または２であればよい。例えば、Ｍが水素原子またはアルカリ金属原子のとき、ｎは１である。他の例としては、Ｍがアルカリ土類金属原子のとき、ｎは２である。
　収率および経済効率等の観点から、一般式（４）中、Ａ１、Ａ２、Ａ３、Ａ４、Ａ５、Ｍおよびｎの好ましい組み合わせは：
Ａ１がＣ１～Ｃ２アルコキシ基であり；
Ａ２が水素原子であり；
Ａ３が水素原子またはＣ１～Ｃ２アルコキシ基であり；
Ａ４が水素原子であり；
Ａ５がＣ１～Ｃ２アルコキシ基であり；
Ｍがナトリウム原子であり；そして
ｎが１である。
　一般式（４）中、Ａ１、Ａ２、Ａ３、Ａ４、Ａ５、Ｍおよびｎのより好ましい組み合わせは：
Ａ１がメトキシ基であり；
Ａ２が水素原子であり；
Ａ３が水素原子またはメトキシ基であり；
Ａ４が水素原子であり；
Ａ５がメトキシ基であり；
Ｍがナトリウム原子であり；そして
ｎが１である。
　一つの態様において、一般式（４）中、Ａ１、Ａ２、Ａ３、Ａ４、Ａ５、Ｍおよびｎのさらに好ましい具体的な組み合わせは：
Ａ１がメトキシ基であり；
Ａ２が水素原子であり；
Ａ３が水素原子であり；
Ａ４が水素原子であり；
Ａ５がメトキシ基であり；
Ｍがナトリウム原子であり；そして
ｎが１である。
　別の態様において、一般式（４）中、Ａ１、Ａ２、Ａ３、Ａ４、Ａ５、Ｍおよびｎのさらに好ましい具体的な組み合わせは：
Ａ１がメトキシ基であり；
Ａ２が水素原子であり；
Ａ３がメトキシ基であり；
Ａ４が水素原子であり；
Ａ５がメトキシ基であり；
Ｍがナトリウム原子であり；そして
ｎが１である。
　一般式（４）中、Ａ１、Ａ２、Ａ３、Ａ４、Ａ５、Ｍおよびｎの特に好ましい具体的な組み合わせは：
Ａ１がメトキシ基であり；
Ａ２が水素原子であり；
Ａ３が水素原子であり；
Ａ４が水素原子であり；
Ａ５がメトキシ基であり；
Ｍがナトリウム原子であり；そして
ｎが１である。
　本発明の実施例および比較例で使用される安息香酸化合物、および関連する安息香酸化合物、並びにその他の安息香酸化合物の具体例を以下に示す；
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
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Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
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Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
　本発明における安息香酸化合物の好ましい具体例は、前述した式（４－１）および（４－２）の化合物を含む。
　本発明における安息香酸化合物の特に好ましい具体例は、前述した式（４－１）の化合物である。
　一般的に、一般式（２）のスルフィド誘導体（本発明の原料化合物）から一般式（１）のスルホキシド誘導体（本発明の目的化合物）を製造する酸化反応では、一般式（４）の安息香酸化合物を使用しない場合でも、反応が進行し得る。したがって、反応が進行する限りは、一般式（４）の安息香酸化合物を使用してもよく、また使用しなくてもよい。しかしながら、収率の向上等の観点から、本発明の反応では、好ましくは一般式（４）の安息香酸化合物が用いられる。加えて、触媒の量（すなわち、金属化合物の量および配位子の量）の低減等の観点からも、本発明の反応では、好ましくは一般式（４）の安息香酸化合物が用いられる。言い換えれば、本発明の反応は、好ましくは一般式（４）の安息香酸化合物の存在下で行われるのである。
　一般式（４）で表される安息香酸化合物の使用により、本発明の有利な効果が得られた。これに関連して、本発明における最も好ましいＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７１、Ｒ７２、Ａ１、Ａ２、Ａ３、Ａ４、Ａ５、Ｍおよびｎの組み合わせは、それぞれ上述の「特に好ましい具体的な組み合わせ」の組み合わせである。
　（一般式（４）で表される安息香酸化合物の使用量）
　本発明の方法における一般式（４）で表される安息香酸化合物の使用量は、反応が進行する限りは、いずれの量でもよい。一つの態様において、収率および経済効率等の観点から、本発明における一般式（４）で表される安息香酸化合物の使用量としては、一般式（２）で表されるスルフィド誘導体（原料化合物）１モルに対して、０．１～２０ｍｏｌ％、好ましくは３～２０ｍｏｌ％、より好ましくは３～１５ｍｏｌ％、さらに好ましくは３～１０ｍｏｌ％、特に好ましくは３～５ｍｏｌ％を例示することができる。さらに、別の態様において、上記と同様の観点から、本発明における一般式（４）で表される安息香酸化合物の使用量としては、一般式（２）で表されるスルフィド誘導体（原料化合物）１モルに対して、好ましくは１～２０ｍｏｌ％、より好ましくは１～１５ｍｏｌ％、さらに好ましくは１～１０ｍｏｌ％、特に好ましくは１～５ｍｏｌ％もまた例示することができる。しかしながら、本発明における一般式（４）で表される安息香酸化合物の使用量は、目的と状況に応じて、当業者により適宜調整されることができる。
　（触媒溶液の調製）
　金属化合物および配位子として一般式（３）で表される化合物、並びに一般式（４）で表される安息香酸化合物を所定の溶媒中撹拌して、触媒溶液を調製することができる。本発明の触媒溶液の調製における溶媒としては、下記の「本発明の反応における溶媒」の溶媒が挙げられる。本発明の触媒溶液の調製における温度は、特に制限されないが、触媒の安定性等の観点から、０℃～５０℃、好ましくは１５～３０℃（室温）の範囲を例示できる。本発明の触媒溶液の調製における時間は、特に制限されないが、触媒の安定性等の観点から、１０分～１２時間、より好ましくは１０分～２時間、さらに好ましくは１０分～１時間の範囲を例示できる。その具体例は３０分、１時間および２時間、好ましくは３０分および１時間、さらに好ましくは３０分を含む。しかしながら、反応が進行する限りは、触媒溶液を調製する方法は、当業者により適宜選択かつ調整されることができる。
　（スルホキシド誘導体の製造方法）
　一般式（２）で表されるスルフィド誘導体および上記で調製した触媒溶液並びに酸化剤を所定の溶媒中反応させることにより、一般式（１）で表されるスルホキシド誘導体を製造することができる。しかしながら、反応が進行する限りは、本発明の方法は実施例および上記に示される触媒溶液を先に調製する方法に限定されるものではない。原料、試薬、溶媒等を加える順番は、当業者により適宜選択かつ調整されることができる。
　（溶媒）
　反応の円滑な進行等の観点から、本発明の反応は溶媒の存在下で実施することが好ましい。本発明の反応における溶媒は、反応が進行する限りは、いずれの溶媒でもよい。
　本発明の反応における溶媒としては、例えば、
水、
ハロゲン化脂肪族炭化水素類（例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２－ジクロロエタン、１，３－ジクロロプロパン、１，４－ジクロロブタン、トリクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエタン、テトラクロロエチレン、ペンタクロロエタン等、好ましくはジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２－ジクロロエタン、より好ましくはジクロロメタン）
芳香族炭化水素誘導体類（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、クロロトルエン、ベンゾトリフルオリド、４－クロロベンゾトリフルオリド、ジフルオロベンゼン、ブロモベンゼン、ニトロベンゼン等、好ましくはトルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、クロロトルエン）、
ニトリル類（例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル等、好ましくはアセトニトリル）、
カルボン酸エステル類（例えば、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等）、
アミド類（例えば、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）、Ｎ，Ｎ－ジエチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン（ＮＭＰ）等、好ましくはＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）、Ｎ－メチルピロリドン（ＮＭＰ）、より好ましくはＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ））、
アルキル尿素類（例えば、Ｎ，Ｎ’－ジメチルイミダゾリジノン（ＤＭＩ）等）、
スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）等）、
スルホン類（例えば、スルホラン等）、
炭酸エステル類（例えば、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等）
アルコール類（例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、２－プロパノール、ブタノール、エチレングリコール等）、
エーテル類（例えば、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、２－メチルテトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジ－ｔｅｒｔ－ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル（ＣＰＭＥ）、メチル－ｔｅｒｔ－ブチルエーテル（ＭＴＢＥ）、ｔｅｒｔ－アミルメチルエーテル（ＴＡＭＥ）、１，２－ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジグリム（ｄｉｇｌｙｍｅ）、トリグリム（ｔｒｉｇｌｙｍｅ）、４－メトキシベンゼン、ジフェニルエーテル等）、および
任意の割合のそれらの任意の組み合わせを含むが、これらに限定されるものではない。
　反応性および経済効率等の観点から、溶媒の好ましい例は、水、ハロゲン化脂肪族炭化水素類、芳香族炭化水素誘導体類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、アミド類、および任意の割合のそれらの任意の組み合わせを含む。
　溶媒のより好ましい例は、水、ハロゲン化脂肪族炭化水素類、芳香族炭化水素誘導体類、ニトリル類、アミド類、および任意の割合のそれらの任意の組み合わせを含む。
　溶媒のさらに好ましい例は、水、ハロゲン化脂肪族炭化水素類、芳香族炭化水素誘導体類、および任意の割合のそれらの任意の組み合わせを含む。
　溶媒の特に好ましい例は、水、ハロゲン化脂肪族炭化水素類、および任意の割合のそれらの任意の組み合わせを含む。
　溶媒の好ましい具体例は、水、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２－ジクロロエタン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、クロロトルエン、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）、Ｎ－メチルピロリドン（ＮＭＰ）、および任意の割合のそれらの任意の組み合わせを含む。
　溶媒のより好ましい具体例は、水、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２－ジクロロエタン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、および任意の割合のそれらの任意の組み合わせを含む。
　溶媒のさらに好ましい具体例は、水、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２－ジクロロエタン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、および任意の割合のそれらの任意の組み合わせを含む。
　溶媒の特に好ましい具体例は、水、ジクロロメタン、および任意の割合のそれらの任意の組み合わせを含む。しかしながら、本発明の反応における溶媒は当業者により適切に選択されることができる。
　溶媒の使用量は、反応が進行する限りは、いずれの量でもよい。収率の向上、副生成物の抑制、および経済効率等の観点から、一般式（２）で表されるスルフィド誘導体（原料化合物）１モルに対して、０．０１～１０．０Ｌ（リットル）、好ましくは０．１～５．０Ｌを例示できる。しかしながら、本発明の反応における溶媒の使用量は当業者により適切に調整されることができる。２種以上の溶媒の組み合わせを用いるときは、２種以上の溶媒の割合は、反応が進行する限りは、いずれの割合でもよい。
　（反応温度）
　本発明の反応温度は、特に制限されない。一つの態様においては、収率の向上、副生成物の抑制、および経済効率等の観点から、
－２０℃～５０℃（すなわち、マイナス２０℃～プラス５０℃）、
好ましくは－１０℃～３０℃（すなわち、マイナス１０℃～プラス３０℃）、
より好ましくは－１０℃～２０℃（すなわち、マイナス１０℃～プラス２０℃）、
さらに好ましくは－５℃～１５℃（すなわち、マイナス５℃～プラス１５℃）、
特に好ましくは０℃～１０℃（すなわち、ゼロ℃～プラス１０℃）の範囲を例示できる。別の態様においては上記と同様の観点から、
－２０℃～５０℃（すなわち、マイナス２０℃～プラス５０℃）、
好ましくは－１０℃～４０℃（すなわち、マイナス１０℃～プラス４０℃）、
より好ましくは－５℃～４０℃（すなわち、マイナス５℃～プラス４０℃）、
さらに好ましくは－５℃～３０℃（すなわち、マイナス５℃～プラス３０℃）、
特に好ましくは０℃～１０℃（すなわち、ゼロ℃～プラス１０℃）の範囲もまた例示できる。
　（反応時間）
　本発明の反応時間は、特に制限されない。一つの態様においては、収率の向上、副生成物の抑制、および経済効率等の観点から、０．５時間～１２０時間、好ましくは１時間～７２時間、より好ましくは１時間～４８時間、さらに好ましくは１時間～２４時間の範囲を例示できる。別の態様においては、上記と同様の観点から、６時間～１２０時間、好ましくは８時間～７２時間、より好ましくは８時間～４８時間、さらに好ましくは８時間～２４時間の範囲もまた例示できる。しかしながら、本発明の反応時間は当業者により適切に調整されることができる。
　（反応収率および収率）
　本明細書中、用語「反応収率」と用語「収率」は、それぞれ下記の意味を有する。
　（反応収率）
　本発明では、反応混合物の有機層を下記のＨＰＬＣ分析条件（Ａ）により分析して、反応収率を求めた。本明細書では、反応収率を目的化合物のＨＰＬＣ面積百分率で示す。
　本発明における反応収率としては、好ましくは９０～１００％、より好ましくは９５～１００％の範囲を例示できる。
　（収率）
　本発明における収率は、一般式（２）で表されるスルフィド誘導体（原料化合物）のモル数に対する、得られた一般式（１）で表されるスルホキシド化合物（目的化合物）のモル数から計算することができる。すなわち、本発明における収率は、以下の式で表される：
収率（％）＝（得られた目的化合物のモル数）／（原料化合物のモル数）×１００
　本発明における収率としては、好ましくは９０～１００％の範囲を例示できる。
　以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は、これら実施例によって何ら限定されるものではない。
　本明細書中、実施例および比較例の各物性の測定には、次の機器および条件を用いた。
　（ＨＰＬＣ：高速液体クロマトグラフィー）
（ＨＰＬＣ分析条件（Ａ））
ポンプ：ＬＣ－２０ＡＴ（株式会社島津製作所製）
検出器：ＳＰＤ－２０Ａ（株式会社島津製作所製）
カラム：ＣＥＲＩ　Ｌ－ｃｏｌｕｍｎ　ＯＤＳ（４．６ｘ２５０ｍｍ），Ｌ－Ｃ１８，５μｍ，１２ｎｍ
溶離液：
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000048
流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
検出：ＵＶ　２５４ｎｍ
カラム温度：４０℃
　上述の通り、反応収率の評価においては、上記のＨＰＬＣ分析条件（Ａ）による面積百分率が用いられた。
　ＨＰＬＣ分析方法に関しては、必要に応じて、以下の文献を参照することができる。
文献（ａ）：（社）日本化学会編、「新実験化学講座９　分析化学　ＩＩ」、第８６～１１２頁（１９７７年）、発行者　飯泉新吾、丸善株式会社
文献（ｂ）：（社）日本化学会編、「実験化学講座２０－１　分析化学」第５版、第１３０～１５１頁（２００７年）、発行者　村田誠四郎、丸善株式会社
　（１Ｈ－ＮＭＲ：１Ｈ核磁気共鳴スペクトル；分析条件（Ａ））
機器：ＪＥＯＬ　ＪＭＮ－ＥＣＳ－３００またはＪＥＯＬ　ＪＭＮ－Ｌａｍｂｄａ－４００（株式会社ＪＥＯＬ　ＲＥＳＯＮＡＮＣＥ製）
内部基準物質：テトラメチルシラン（ＴＭＳ）
　（ＬＣ／ＭＳ：液体クロマトグラフ質量分析）
（ＬＣ／ＭＳ分析条件）
ポンプ：Ｗａｔｅｒｓ　Ａｃｑｕｉｔｙ　Ｈ　Ｃｌａｓｓ
検出器：Ｗａｔｅｒｓ　Ｑ－Ｔｏｆ　Ｐｒｅｍｉｅｒ
カラム：ＣＥＲＩ　Ｌ－ｃｏｌｕｍｎ　ＯＤＳ（４．６×２５０ｍｍ），Ｌ－Ｃ１８，５μｍ，１２ｎｍ
溶離液：
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000049
流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
カラム温度：４０℃
　本発明の実施例および比較例では、触媒溶液の調製及び標題化合物の製造などにおける反応容器としては、当業者が通常使用する反応容器を用いた。例えば、外径（長さ）１０ｍｍ、高さ（厚さ）５ｍｍの十字型磁気撹拌子および恒温槽付きのマグネチックスターラーを備えた内径１５ｍｍ、高さ４０ｍｍの約６ｍＬスクリューバイアル（スクリューキャップ付きバイアル）を用いた。
　本明細書中、室温は１５℃～３０℃である。
　実施例１
　５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルスルフィニル）フェニル］エーテルの製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000050
　（１）触媒溶液の調製
　スクリューキャップ付きバイアルにＦｅ（ａｃａｃ）３（１．８ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ）、式（３－４）の化合物（１．０ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ）、式（４－１）の化合物（２，６－ジメトキシ安息香酸ナトリウム；５．１ｍｇ、０．０２５ｍｍｏｌ）、およびジクロロメタン（１ｍＬ）を加えた。混合物を室温で３０分間撹拌した。
　（２）標題化合物の製造
　５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルチオ）フェニル］エーテル（２１５．４ｍｇ、０．５００ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（１．０ｍＬ）に溶解した。そこに上記（１）で調製した触媒溶液を加えた。混合物を０℃に冷却した。そこに３０％過酸化水素（１１３．４ｍｇ、１．０ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を０℃で１４時間撹拌した。反応混合物の有機層をＨＰＬＣ（面積百分率）により分析した。その結果、反応混合物中の溶媒等を除く成分は以下の通りであった；
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルスルフィニル）フェニル］エーテル（目的化合物）：９８％、
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルチオ）フェニル］エーテル（原料化合物）：０％、
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルスルホニル）フェニル］エーテル（過剰酸化による副生成物）：０％。
　実施例２
　５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルスルフィニル）フェニル］エーテルの製造
　（１）触媒溶液の調製
　スクリューキャップ付きバイアルにＦｅ（ａｃａｃ）３（１．８ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ）、式（３－４）の化合物（１．０ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ）、式（４－１）の化合物（２，６－ジメトキシ安息香酸ナトリウム；５．１ｍｇ、０．０２５ｍｍｏｌ）、およびジクロロメタン（１ｍＬ）を加えた。混合物を室温で３０分間撹拌した。
　（２）標題化合物の製造
　５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルチオ）フェニル］エーテル（２１５．４ｍｇ、０．５００ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（１．０ｍＬ）に溶解した。そこに上記（１）で調製した触媒溶液を加えた。混合物を０℃に冷却した。そこに３０％過酸化水素（１１３．４ｍｇ、１．０ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を０℃で１５時間撹拌した。反応混合物の有機層をＨＰＬＣ（面積百分率）により分析した。その結果、反応混合物中の溶媒等を除く成分は以下の通りであった；
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルスルフィニル）フェニル］エーテル（目的化合物）：９８％、
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルチオ）フェニル］エーテル（原料化合物）：０％、
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルスルホニル）フェニル］エーテル（過剰酸化による副生成物）：０％。
　反応混合物に亜硫酸水素ナトリウム水溶液を加えた後、混合物を室温で５分間撹拌した。混合物を有機層と水層に分配し、有機層を分離した。得られた有機層に炭酸水素ナトリウムを加えた後、混合物を室温で５分間撹拌した。混合物を有機層と水層に分配し、有機層を分離した。得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮し、目的化合物２１４．２ｍｇ（ＨＰＬＣ純度９７．６％）を得た。
純度換算収率：９４％。
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ，ＴＭＳ基準）：１．５７－１．６６（ｍ，２Ｈ），１．７４－１．９３（ｍ，４Ｈ），２．９２（ｔ，２Ｈ），３．３０－３．４３（ｍ，１Ｈ），３．６６－３．７８（ｍ，１Ｈ），４．１３（ｔ，２Ｈ），７．２１（ｄ，１Ｈ），７．５４（ｄ，１Ｈ）
　実施例３
　５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルスルフィニル）フェニル］エーテルの製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000052
　（１）触媒溶液の調製
　スクリューキャップ付きバイアルにＦｅ（ａｃａｃ）３（５．３ｍｇ、０．０１５ｍｍｏｌ）、式（３－１２）の化合物（３．６ｍｇ、０．０１５ｍｍｏｌ）、式（４－１）の化合物（２，６－ジメトキシ安息香酸ナトリウム；１５．３ｍｇ、０．０７５ｍｍｏｌ）、およびジクロロメタン（１ｍＬ）を加えた。混合物を室温で３０分間撹拌した。
　（２）標題化合物の製造
　５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルチオ）フェニル］エーテル（２１５．４ｍｇ、０．５００ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（１．０ｍＬ）に溶解した。そこに上記（１）で調製した触媒溶液を加えた。混合物を０℃に冷却した。そこに３０％過酸化水素（１１３．４ｍｇ、１．０ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を０℃で６０時間撹拌した。反応混合物の有機層をＨＰＬＣ（面積百分率）により分析した。その結果、反応混合物中の溶媒等を除く成分は以下の通りであった；
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルスルフィニル）フェニル］エーテル（目的化合物）：９６％、
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルチオ）フェニル］エーテル（原料化合物）：０％、
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルスルホニル）フェニル］エーテル（過剰酸化による副生成物）：０％。
　実施例４
　５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルスルフィニル）フェニル］エーテルの製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000053
　（１）触媒溶液の調製
　スクリューキャップ付きバイアルにＦｅ（ａｃａｃ）３（１．８ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ）、式（３－９）の化合物（１．１ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ）、式（４－１）の化合物（２，６－ジメトキシ安息香酸ナトリウム；５．１ｍｇ、０．０２５ｍｍｏｌ）、およびジクロロメタン（１ｍＬ）を加えた。混合物を室温で３０分間撹拌した。
　（２）標題化合物の製造
　５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルチオ）フェニル］エーテル（２１５．４ｍｇ、０．５００ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（１．０ｍＬ）に溶解した。そこに上記（１）で調製した触媒溶液を加えた。混合物を０℃に冷却した。そこに３０％過酸化水素（１１３．４ｍｇ、１．０ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を０℃で２２時間撹拌した。反応混合物の有機層をＨＰＬＣ（面積百分率）により分析した。その結果、反応混合物中の溶媒等を除く成分は以下の通りであった；
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルスルフィニル）フェニル］エーテル（目的化合物）：９７％、
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルチオ）フェニル］エーテル（原料化合物）：０％、
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルスルホニル）フェニル］エーテル（過剰酸化による副生成物）：０％。
　実施例５
　５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルスルフィニル）フェニル］エーテルの製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000054
　（１）触媒溶液の調製
　スクリューキャップ付きバイアルに２，６－ジメトキシ安息香酸（４．６ｍｇ、０．０２５ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム粉末（１．０ｍｇ、０．０２５ｍｍｏｌ）、およびジクロロメタン（１ｍＬ）を加えた。混合物を室温で３０分間撹拌した。その溶液にＦｅ（ａｃａｃ）３（１．８ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ）、および式（３－９）の化合物（１．１ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を室温で３０分間撹拌した。
　（２）標題化合物の製造
　５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルチオ）フェニル］エーテル（２１５．４ｍｇ、０．５００ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（１．０ｍＬ）に溶解した。そこに上記（１）で調製した触媒溶液を加えた。混合物を０℃に冷却した。そこに３０％過酸化水素（１１３．４ｍｇ、１．０ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を０℃で２１時間撹拌した。反応混合物の有機層をＨＰＬＣ（面積百分率）により分析した。その結果、反応混合物中の溶媒等を除く成分は以下の通りであった；
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルスルフィニル）フェニル］エーテル（目的化合物）：９６％、
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルチオ）フェニル］エーテル（原料化合物）：０％、
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルスルホニル）フェニル］エーテル（過剰酸化による副生成物）：０％。
　実施例６
　５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルスルフィニル）フェニル］エーテルの製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000055
　（１）触媒溶液の調製
　スクリューキャップ付きバイアルにＦｅ（ａｃａｃ）３（１．８ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ）、式（３－４）の化合物（１．０ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ）、式（４－１）の化合物（２，６－ジメトキシ安息香酸ナトリウム；５．１ｍｇ、０．０２５ｍｍｏｌ）、およびジクロロメタン（１ｍＬ）を加えた。混合物を室温で３０分間撹拌した。
　（２）標題化合物の製造
　５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルチオ）フェニル］エーテル（２１５．４ｍｇ、０．５００ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（１．０ｍＬ）に溶解した。そこに上記（１）で調製した触媒溶液を加えた。混合物を０℃に冷却した。そこに３０％過酸化水素（１１３．４ｍｇ、１．０ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を１０℃で１４時間撹拌した。反応混合物の有機層をＨＰＬＣ（面積百分率）により分析した。その結果、反応混合物中の溶媒等を除く成分は以下の通りであった；
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルスルフィニル）フェニル］エーテル（目的化合物）：９８％、
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルチオ）フェニル］エーテル（原料化合物）：０％、
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルスルホニル）フェニル］エーテル（過剰酸化による副生成物）：０％。
　実施例７
　５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルスルフィニル）フェニル］エーテルの製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000056
　（１）触媒溶液の調製
　スクリューキャップ付きバイアルにＦｅ（ａｃａｃ）３（１．８ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ）、式（３－４）の化合物（１．０ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ）、式（４－１）の化合物（２，６－ジメトキシ安息香酸ナトリウム；５．１ｍｇ、０．０２５ｍｍｏｌ）、およびジクロロメタン（１ｍＬ）を加えた。混合物を室温で３０分間撹拌した。
　（２）標題化合物の製造
　５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルチオ）フェニル］エーテル（２１５．４ｍｇ、０．５００ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（１．０ｍＬ）に溶解した。そこに上記（１）で調製した触媒溶液を加えた。混合物を０℃に冷却した。そこに３０％過酸化水素（１１３．４ｍｇ、１．０ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を２０℃で３６時間撹拌した。反応混合物の有機層をＨＰＬＣ（面積百分率）により分析した。その結果、反応混合物中の溶媒等を除く成分は以下の通りであった；
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルスルフィニル）フェニル］エーテル（目的化合物）：９４％、
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルチオ）フェニル］エーテル（原料化合物）：４％、
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルスルホニル）フェニル］エーテル（過剰酸化による副生成物）：０％。
　（３）追加の過酸化水素を用いた標題化合物の製造
　上記で得られた反応混合物に、３０％過酸化水素（５６．７ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を２０℃で１５時間撹拌した。反応混合物の有機層をＨＰＬＣ（面積百分率）により分析した。その結果、反応混合物中の溶媒等を除く成分は以下の通りであった；
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルスルフィニル）フェニル］エーテル（目的化合物）：９４％、
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルチオ）フェニル］エーテル（原料化合物）：４％、
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルスルホニル）フェニル］エーテル（過剰酸化による副生成物）：０％。
　比較例１
　５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルスルフィニル）フェニル］エーテルの製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000057
　（１）触媒溶液の調製
　スクリューキャップ付きバイアルにＦｅ（ａｃａｃ）３（１．８ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ）、式（３－１３）の化合物（１．０ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ）、式（４－１）の化合物（２，６－ジメトキシ安息香酸ナトリウム；５．１ｍｇ、０．０２５ｍｍｏｌ）、およびジクロロメタン（１ｍＬ）を加えた。混合物を室温で３０分間撹拌した。
　（２）標題化合物の製造
　５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルチオ）フェニル］エーテル（２１５．４ｍｇ、０．５００ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（１．０ｍＬ）に溶解した。そこに上記（１）で調製した触媒溶液を加えた。混合物を０℃に冷却した。そこに３０％過酸化水素（１１３．４ｍｇ、１．０ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を０℃で１５時間撹拌した。反応混合物の有機層をＨＰＬＣ（面積百分率）により分析した。その結果、反応混合物中の溶媒等を除く成分は以下の通りであった；
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルスルフィニル）フェニル］エーテル（目的化合物）：１４％、
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルチオ）フェニル］エーテル（原料化合物）：８３％、
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルスルホニル）フェニル］エーテル（過剰酸化による副生成物）：０％。
　（３）追加の触媒溶液の調製
　スクリューキャップ付きバイアルにＦｅ（ａｃａｃ）３（５．４ｍｇ、０．０１５ｍｍｏｌ）、式（３－１３）の化合物（３．０ｍｇ、０．０１５ｍｍｏｌ）、式（４－１）の化合物（２，６－ジメトキシ安息香酸ナトリウム；５．１ｍｇ、０．０２５ｍｍｏｌ）、およびジクロロメタン（１ｍＬ）を加えた。混合物を室温で３０分間撹拌した。
　（４）追加の触媒と追加の過酸化水素を用いた標題化合物の製造
　上記（２）で得られた反応混合物に０℃で続けて上記（３）で調製した触媒溶液を加えた。そこに３０％過酸化水素（５６．７ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を０℃で８時間撹拌した。反応混合物の有機層をＨＰＬＣ（面積百分率）により分析した。その結果、反応混合物中の溶媒等を除く成分は以下の通りであった；
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルスルフィニル）フェニル］エーテル（目的化合物）：２３％、
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルチオ）フェニル］エーテル（原料化合物）：７４％、
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルスルホニル）フェニル］エーテル（過剰酸化による副生成物）：０％。
　比較例２
　５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルスルフィニル）フェニル］エーテルの製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000058
　（１）触媒溶液の調製
　スクリューキャップ付きバイアルにＦｅ（ａｃａｃ）３（１．８ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ）、式（３－４）の化合物（１．０ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ）、式（４－１９）の化合物（２－メトキシ安息香酸ナトリウム；４．４ｍｇ、０．０２５ｍｍｏｌ）、およびジクロロメタン（１ｍＬ）を加えた。混合物を室温で３０分間撹拌した。
　（２）標題化合物の製造
　５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルチオ）フェニル］エーテル（２１５．４ｍｇ、０．５００ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（１．０ｍＬ）に溶解した。そこに上記（１）で調製した触媒溶液を加えた。混合物を０℃に冷却した。そこに３０％過酸化水素（１１３．４ｍｇ、１．０ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を０℃で１４時間撹拌した。反応混合物の有機層をＨＰＬＣ（面積百分率）により分析した。その結果、反応混合物中の溶媒等を除く成分は以下の通りであった；
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルスルフィニル）フェニル］エーテル（目的化合物）：２０％、
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルチオ）フェニル］エーテル（原料化合物）：７７％、
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルスルホニル）フェニル］エーテル（過剰酸化による副生成物）：０％。
　比較例３
　５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルスルフィニル）フェニル］エーテルの製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000059
　（１）触媒溶液の調製
　スクリューキャップ付きバイアルにＦｅ（ａｃａｃ）３（１．８ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ）、式（３－４）の化合物（１．０ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ）、式（４－５）の化合物（４－メトキシ安息香酸ナトリウム；４．４ｍｇ、０．０２５ｍｍｏｌ）、およびジクロロメタン（１ｍＬ）を加えた。混合物を室温で３０分間撹拌した。
　（２）標題化合物の製造
　５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルチオ）フェニル］エーテル（２１５．４ｍｇ、０．５００ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（１．０ｍＬ）に溶解した。そこに上記（１）で調製した触媒溶液を加えた。混合物を０℃に冷却した。そこに３０％過酸化水素（１１３．４ｍｇ、１．０ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を０℃で１６時間撹拌した。反応混合物の有機層をＨＰＬＣ（面積百分率）により分析した。その結果、反応混合物中の溶媒等を除く成分は以下の通りであった；
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルスルフィニル）フェニル］エーテル（目的化合物）：１９％、
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルチオ）フェニル］エーテル（原料化合物）：８０％、
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルスルホニル）フェニル］エーテル（過剰酸化による副生成物）：０％。
　比較例４
　５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルスルフィニル）フェニル］エーテルの製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000060
　（１）触媒溶液の調製
　スクリューキャップ付きバイアルにＦｅ（ａｃａｃ）３（１．８ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ）、式（３－４）の化合物（１．０ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ）、式（４－１２）の化合物（安息香酸ナトリウム；３．６ｍｇ、０．０２５ｍｍｏｌ）、およびジクロロメタン（１ｍＬ）を加えた。混合物を室温で３０分間撹拌した。
　（２）標題化合物の製造
　５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルチオ）フェニル］エーテル（２１５．４ｍｇ、０．５００ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（１．０ｍＬ）に溶解した。そこに上記（１）で調製した触媒溶液を加えた。混合物を０℃に冷却した。そこに３０％過酸化水素（１１３．４ｍｇ、１．０ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を０℃で１６時間撹拌した。反応混合物の有機層をＨＰＬＣ（面積百分率）により分析した。その結果、反応混合物中の溶媒等を除く成分は以下の通りであった；
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルスルフィニル）フェニル］エーテル（目的化合物）：１６％、
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルチオ）フェニル］エーテル（原料化合物）：８２％、
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルスルホニル）フェニル］エーテル（過剰酸化による副生成物）：０％。
　比較例５
　５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルスルフィニル）フェニル］エーテルの製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000061
　（１）触媒溶液の調製
　スクリューキャップ付きバイアルにＦｅ（ａｃａｃ）３（１．８ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ）、式（３－４）の化合物（１．０ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ）、酢酸ナトリウム（２．１ｍｇ、０．０２５ｍｍｏｌ）、およびジクロロメタン（１ｍＬ）を加えた。混合物を室温で３０分間撹拌した。
　（２）標題化合物の製造
　５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルチオ）フェニル］エーテル（２１５．４ｍｇ、０．５００ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（１．０ｍＬ）に溶解した。そこに上記（１）で調製した触媒溶液を加えた。混合物を０℃に冷却した。そこに３０％過酸化水素（１１３．４ｍｇ、１．０ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を０℃で１６時間撹拌した。反応混合物の有機層をＨＰＬＣ（面積百分率）により分析した。その結果、反応混合物中の溶媒等を除く成分は以下の通りであった；
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルスルフィニル）フェニル］エーテル（目的化合物）：１９％、
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルチオ）フェニル］エーテル（原料化合物）：７９％、
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルスルホニル）フェニル］エーテル（過剰酸化による副生成物）：０％。
　比較例６
　５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルスルフィニル）フェニル］エーテルの製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000062
　（１）触媒溶液の調製
　スクリューキャップ付きバイアルにＦｅ（ａｃａｃ）３（１．８ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ）、式（３－４）の化合物（１．０ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ）、およびジクロロメタン（１ｍＬ）を加えた。混合物を室温で３０分間撹拌した。
　（２）標題化合物の製造
　５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルチオ）フェニル］エーテル（２１５．４ｍｇ、０．５００ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（１．０ｍＬ）に溶解した。そこに上記（１）で調製した触媒溶液を加えた。混合物を０℃に冷却した。そこに３０％過酸化水素（１１３．４ｍｇ、１．０ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を０℃で１６時間撹拌した。反応混合物の有機層をＨＰＬＣ（面積百分率）により分析した。その結果、反応混合物中の溶媒等を除く成分は以下の通りであった；
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルスルフィニル）フェニル］エーテル（目的化合物）：２％、
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルチオ）フェニル］エーテル（原料化合物）：９６％、
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルスルホニル）フェニル］エーテル（過剰酸化による副生成物）：０％。
　比較例７
　５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（エチルスルフィニル）フェニル］エーテルの製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000063
　（１）触媒溶液の調製
　スクリューキャップ付きバイアルにＦｅ（ａｃａｃ）３（１．８ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ）、式（３－４）の化合物（１．０ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ）、式（４－１）の化合物（２，６－ジメトキシ安息香酸ナトリウム；５．１ｍｇ、０．０２５ｍｍｏｌ）、およびジクロロメタン（１ｍＬ）を加えた。混合物を室温で３０分間撹拌した。
　（２）標題化合物の製造
　５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（エチルチオ）フェニル］エーテル（１８８．４ｍｇ、０．５００ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（１．０ｍＬ）に溶解した。そこに上記（１）で調製した触媒溶液を加えた。混合物を０℃に冷却した。そこに３０％過酸化水素（１１３．４ｍｇ、１．０ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を０℃で２４時間撹拌した。反応混合物の有機層をＨＰＬＣ（面積百分率）により分析した。その結果、反応混合物中の溶媒等を除く成分は以下の通りであった；
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（エチルスルフィニル）フェニル］エーテル（目的化合物）：３９％、
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（エチルチオ）フェニル］エーテル（原料化合物）：５５％、
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（エチルスルホニル）フェニル］エーテル（過剰酸化による副生成物）：０％。
生成物のＬＣ／ＭＳ（目的化合物）；Ｅｘａｃｔ　Ｍａｓｓ：３９２．０２９５、実測値（ポジティブ）：３９３．０３７０
　比較例８
　メチルフェニルスルホキシドの製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000064
　（１）触媒溶液の調製
　スクリューキャップ付きバイアルにＦｅ（ａｃａｃ）３（１．８ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ）、式（３－４）の化合物（１．０ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ）、式（４－１）の化合物（２，６－ジメトキシ安息香酸ナトリウム；５．１ｍｇ、０．０２５ｍｍｏｌ）、およびジクロロメタン（１ｍＬ）を加えた。混合物を室温で３０分間撹拌した。
　（２）標題化合物の製造
　チオアニソール（６２．１ｍｇ、０．５００ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（１．０ｍＬ）に溶解した。そこに上記（１）で調製した触媒溶液を加えた。混合物を０℃に冷却した。そこに３０％過酸化水素（１１３．４ｍｇ、１．０ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を０℃で２０時間撹拌した。反応混合物の有機層をＨＰＬＣ（面積百分率）により分析した。その結果、反応混合物中の溶媒等を除く成分は以下の通りであった；
メチルフェニルスルホキシド（目的化合物）：１６％、
チオアニソール（原料化合物）：７７％、
メチルフェニルスルホン（過剰酸化による副生成物）：７％。
目的化合物のＬＣ／ＭＳ；Ｅｘａｃｔ　Ｍａｓｓ：１４０．０、実測値（ポジティブ）：１４１．１
副生成物のＬＣ／ＭＳ；Ｅｘａｃｔ　Ｍａｓｓ：１５６．０、実測値（ポジティブ）：１５７．１
　比較例９
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルスルフィニル）フェニル］エーテルの製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000065
　（１）標題化合物の製造
　５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルチオ）フェニル］エーテル（２１５．４ｍｇ、０．５００ｍｍｏｌ）をアセトニトリル（１．０ｍＬ）に溶解した。そこにタングステン酸ナトリウム二水和物（８．２ｍｇ、０．０２５ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を室温で撹拌しながら、そこに３０％過酸化水素（１１３．４ｍｇ、１．０ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を室温で１５時間撹拌した。反応混合物の有機層をＨＰＬＣ（面積百分率）により分析した。その結果、反応混合物中の溶媒等を除く成分は以下の通りであった；
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルスルフィニル）フェニル］エーテル（目的化合物）：６１％、
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルチオ）フェニル］エーテル（原料化合物）：３２％、
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルスルホニル）フェニル］エーテル（過剰酸化による副生成物）：２％。
　（２）追加の過酸化水素を用いた標題化合物の製造
　上記で得られた反応混合物に、３０％過酸化水素（１１３．４ｍｇ、１．０ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を室温で２３時間撹拌した。反応混合物の有機層をＨＰＬＣ（面積百分率）により分析した。その結果、反応混合物中の溶媒等を除く成分は以下の通りであった；
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルスルフィニル）フェニル］エーテル（目的化合物）：７９％、
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルチオ）フェニル］エーテル（原料化合物）：０％、
５－トリフルオロメチルチオペンチル－［４－クロロ－２－フルオロ－５－（２，２，２－トリフルオロエチルスルホニル）フェニル］エーテル（過剰酸化による副生成物）：１２％。
　特許文献１に開示されるように、一般式（１）で表されるスルホキシド誘導体は優れた殺ダニ活性を有する。
　本発明によれば、殺ダニ剤等の農薬として有用である一般式（１）で表されるスルホキシド誘導体の工業的に好ましい新規な製造方法が提供される。
本明細書において上述したように、本発明の方法は経済的であり、環境にも優しく、高い工業的な利用価値を有する。
特に、本発明の方法では、スルホン誘導体への過剰酸化を回避して、目的とするスルホキシド誘導体を選択的に製造することができる。
したがって、本発明には除去が難しい副生成物のスルホン誘導体を除去する必要がないという利点がある。
　要するに、本発明は高い産業上の利用可能性を有する。

 

Claims (17)

  1. 　一般式（１）：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     （式中、
    Ｒ１が、Ｃ１～Ｃ１０アルキル基、
    Ｃ３～Ｃ６シクロアルキルＣ１～Ｃ６アルキル基、ここで当該Ｃ３～Ｃ６シクロアルキル基部分はハロゲン原子、Ｃ１～Ｃ４アルキル基、Ｃ１～Ｃ４アルコキシ基またはＣ１～Ｃ４ハロアルキル基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい、
    フェニルＣ１～Ｃ６アルキル基、ここで当該フェニル基部分はハロゲン原子、Ｃ１～Ｃ４アルキル基、Ｃ１～Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６ハロアルキル基、シアノ基またはニトロ基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい、
    Ｃ１～Ｃ４アルコキシＣ２～Ｃ１０アルキル基、
    Ｃ１～Ｃ４ハロアルコキシＣ２～Ｃ１０アルキル基、
    Ｃ１～Ｃ４アルキルチオＣ２～Ｃ１０アルキル基、
    Ｃ１～Ｃ４アルキルスルフィニルＣ２～Ｃ１０アルキル基、
    Ｃ１～Ｃ４アルキルスルホニルＣ２～Ｃ１０アルキル基、
    Ｃ１～Ｃ４ハロアルキルチオＣ２～Ｃ１０アルキル基、
    Ｃ１～Ｃ４ハロアルキルスルフィニルＣ２～Ｃ１０アルキル基、
    Ｃ１～Ｃ４ハロアルキルスルホニルＣ２～Ｃ１０アルキル基、
    Ｃ１～Ｃ６ハロアルキル基、
    Ｃ３～Ｃ６シクロアルキルＣ１～Ｃ６ハロアルキル基、ここで当該Ｃ３～Ｃ６シクロアルキル基部分はハロゲン原子、Ｃ１～Ｃ４アルキル基、Ｃ１～Ｃ４アルコキシ基またはＣ１～Ｃ６ハロアルキル基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい、
    フェニルＣ１～Ｃ６ハロアルキル基、ここで当該フェニル基部分はハロゲン原子、Ｃ１～Ｃ４アルキル基、Ｃ１～Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１～Ｃ４ハロアルキル基、シアノ基またはニトロ基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい、または
    Ｃ１～Ｃ４ハロアルキルチオＣ１～Ｃ６ハロアルキル基であり；
    Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子またはＣ１～Ｃ４アルキル基である。）で表されるスルホキシド誘導体の製造方法であって、一般式（２）：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
     （式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、上記で定義した通りである。）
    で表されるスルフィド誘導体を、金属化合物および配位子としての一般式（３）：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
     （式中、
    Ｒ４およびＲ５は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１～Ｃ６アルキル基、フェニルＣ１～Ｃ６アルキル基、Ｃ６～Ｃ１０アリール基、シアノ基、ニトロ基またはＣ１～Ｃ６アルコキシ基であり；
    Ｒ６は、Ｃ１～Ｃ４アルキル基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、Ｃ１～Ｃ４アルコキシカルボニル基、Ｃ１～Ｃ４アルキルカルボニル基、ヒドロキシＣ１～Ｃ４アルキル基、Ｃ１～Ｃ４アルコキシＣ１～Ｃ４アルキル基、アミノＣ１～Ｃ４アルキル基、シアノＣ１～Ｃ４アルキル基、ニトロＣ１～Ｃ４アルキル基、カルボキシＣ１～Ｃ４アルキル基またはＣ１～Ｃ４アルコキシカルボニルＣ１～Ｃ４アルキル基であり；
    Ｒ７１およびＲ７２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１～Ｃ６アルキル基、フェニルＣ１～Ｃ６アルキル基またはＣ６～Ｃ１０アリール基である。但し、Ｒ７１およびＲ７２の両方が水素原子である場合を除く。）
    で表される化合物を含む金属－配位子錯体である触媒、ならびに一般式（４）：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
     （式中、
    Ａ１がＣ１～Ｃ２アルコキシ基であり；
    Ａ２が水素原子であり；
    Ａ３が水素原子またはＣ１～Ｃ２アルコキシ基であり；
    Ａ４が水素原子であり；
    Ａ５がＣ１～Ｃ２アルコキシ基であり；
    Ｍは、水素原子、アルカリ金属原子またはアルカリ土類金属原子であり；そして
    ｎは１または２である。）
    で表される安息香酸化合物の存在下で、酸化剤と反応させることを特徴とする方法。
  2. 　Ｒ１が、Ｃ１～Ｃ１０アルキル基、
    Ｃ３～Ｃ６シクロアルキルＣ１～Ｃ６アルキル基、ここで当該Ｃ３～Ｃ６シクロアルキル基部分はハロゲン原子またはＣ１～Ｃ４アルキル基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい、
    フェニルＣ１～Ｃ６アルキル基、ここで当該フェニル基部分はハロゲン原子またはＣ１～Ｃ４アルキル基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい、
    Ｃ１～Ｃ４アルコキシＣ２～Ｃ１０アルキル基、
    Ｃ１～Ｃ４ハロアルコキシＣ２～Ｃ１０アルキル基、
    Ｃ１～Ｃ４アルキルチオＣ２～Ｃ１０アルキル基、
    Ｃ１～Ｃ４アルキルスルフィニルＣ２～Ｃ１０アルキル基、
    Ｃ１～Ｃ４アルキルスルホニルＣ２～Ｃ１０アルキル基、
    Ｃ１～Ｃ４ハロアルキルチオＣ２～Ｃ１０アルキル基、
    Ｃ１～Ｃ４ハロアルキルスルフィニルＣ２～Ｃ１０アルキル基、
    Ｃ１～Ｃ４ハロアルキルスルホニルＣ２～Ｃ１０アルキル基、
    Ｃ１～Ｃ６ハロアルキル基、
    Ｃ３～Ｃ６シクロアルキルＣ１～Ｃ６ハロアルキル基、ここで当該Ｃ３～Ｃ６シクロアルキル基部分はハロゲン原子またはＣ１～Ｃ４アルキル基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい、または
    フェニルＣ１～Ｃ６ハロアルキル基、ここで当該フェニル基部分はハロゲン原子またはＣ１～Ｃ４アルキル基によりモノ置換またはポリ置換されていてもよい、である、請求項１に記載の方法。
  3. 　Ｒ１が、Ｃ１～Ｃ１０アルキル基、
    Ｃ１～Ｃ４アルコキシＣ２～Ｃ１０アルキル基、
    Ｃ１～Ｃ４ハロアルコキシＣ２～Ｃ１０アルキル基、
    Ｃ１～Ｃ４アルキルチオＣ２～Ｃ１０アルキル基、
    Ｃ１～Ｃ４アルキルスルフィニルＣ２～Ｃ１０アルキル基、
    Ｃ１～Ｃ４アルキルスルホニルＣ２～Ｃ１０アルキル基、
    Ｃ１～Ｃ４ハロアルキルチオＣ２～Ｃ１０アルキル基、
    Ｃ１～Ｃ４ハロアルキルスルフィニルＣ２～Ｃ１０アルキル基、
    Ｃ１～Ｃ４ハロアルキルスルホニルＣ２～Ｃ１０アルキル基、または
    Ｃ１～Ｃ６ハロアルキル基である、請求項１に記載の方法。
  4. 　Ｒ１がＣ１～Ｃ４ハロアルキルチオＣ２～Ｃ１０アルキル基であり；そして
    Ｒ２およびＲ３が、それぞれ独立して、ハロゲン原子またはＣ１～Ｃ４アルキル基である、請求項１に記載の方法。
  5. 　Ｒ１が５－トリフルオロメチルチオペンチル基または６－トリフルオロメチルチオヘキシル基であり；そして
    Ｒ２がフッ素原子でありかつＲ３が塩素原子であるか、またはＲ２およびＲ３がメチル基である、請求項１に記載の方法。
  6. 　Ｒ１が５－トリフルオロメチルチオペンチル基であり；
    Ｒ２がフッ素原子であり；そして
    Ｒ３が塩素原子である、請求項１に記載の方法。
  7. 　Ｒ１が６－トリフルオロメチルチオヘキシル基であり；そして
    Ｒ２およびＲ３がメチル基である、請求項１に記載の方法。
  8. 　金属化合物が鉄化合物であり；
    Ｒ４が水素原子であり；
    Ｒ５が水素原子またはハロゲン原子であり；
    Ｒ６がヒドロキシメチル基であり；そして
    Ｒ７１およびＲ７２が、それぞれ独立して、水素原子またはＣ１～Ｃ６アルキル基である（但し、Ｒ７１およびＲ７２の両方が水素原子である場合を除く。）、請求項１～７のいずれか１項に記載の方法。
  9. 　金属化合物が鉄化合物であり；
    Ｒ４が水素原子であり；
    Ｒ５が水素原子、塩素原子または臭素原子であり；
    Ｒ６がヒドロキシメチル基であり；そして
    Ｒ７１がメチル基でありかつＲ７２がメチル基であるか、またはＲ７１が水素原子でありかつＲ７２がイソプロピル基である、請求項１～７のいずれか１項に記載の方法。
  10. 　金属化合物が鉄化合物であり；
    Ｒ４が水素原子であり；
    Ｒ５が水素原子または塩素原子であり；
    Ｒ６がヒドロキシメチル基であり；そして
    Ｒ７１がメチル基でありかつＲ７２がメチル基であるか、またはＲ７１が水素原子でありかつＲ７２がイソプロピル基である、請求項１～７のいずれか１項に記載の方法。
  11. 　金属化合物が鉄化合物であり；
    Ｒ４が水素原子であり；
    Ｒ５が水素原子であり；
    Ｒ６がヒドロキシメチル基であり；
    Ｒ７１がメチル基であり；そして
    Ｒ７２がメチル基である、請求項１～７のいずれか１項に記載の方法。
  12. 　金属化合物が鉄化合物であり；
    Ｒ４が水素原子であり；
    Ｒ５が塩素原子であり；
    Ｒ６がヒドロキシメチル基であり；
    Ｒ７１がメチル基であり；そして
    Ｒ７２がメチル基である、請求項１～７のいずれか１項に記載の方法。
  13. 　Ｍがアルカリ金属原子であり；そして
    ｎが１である、請求項１～１２のいずれか１項に記載の方法。
  14. 　Ｍがナトリウム原子であり；そして
    ｎが１である、請求項１～１２のいずれか１項に記載の方法。
  15. 　Ａ１がメトキシ基であり；
    Ａ２が水素原子であり；
    Ａ３が水素原子またはメトキシ基であり；
    Ａ４が水素原子であり；
    Ａ５がメトキシ基であり；
    Ｍがナトリウム原子であり；そして
    ｎが１である、請求項１～１２のいずれか１項に記載の方法。
  16. 　Ａ１がメトキシ基であり；
    Ａ２が水素原子であり；
    Ａ３が水素原子であり；
    Ａ４が水素原子であり；
    Ａ５がメトキシ基であり；
    Ｍがナトリウム原子であり；そして
    ｎが１である、請求項１～１２のいずれか１項に記載の方法。
  17. 　Ａ１がメトキシ基であり；
    Ａ２が水素原子であり；
    Ａ３がメトキシ基であり；
    Ａ４が水素原子であり；
    Ａ５がメトキシ基であり；
    Ｍがナトリウム原子であり；そして
    ｎが１である、請求項１～１２のいずれか１項に記載の方法。

     
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