WO2017119294A1 - 積層フィルム - Google Patents

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WO2017119294A1
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meth
acrylate
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gas barrier
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諭司 國安
保 齋川
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富士フイルム株式会社
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Definitions

  • the present invention relates to a laminated film used for a backlight of a liquid crystal display device and a method for producing the laminated film.
  • LCDs Liquid crystal display devices
  • LCDs consume less power and are increasingly used year by year as space-saving image display devices. Further, in recent liquid crystal display devices, further power saving, color reproducibility improvement and the like are required as LCD performance improvement.
  • quantum dots that are emitted by converting the wavelength of incident light. It has been proposed to be used for backlight.
  • a quantum dot is an electronic state in which the direction of movement is limited in all three dimensions, and when a semiconductor nanoparticle is three-dimensionally surrounded by a high potential barrier, the nanoparticle is quantum. It becomes a dot.
  • Quantum dots exhibit various quantum effects. For example, the “quantum size effect” in which the density of states of electrons (energy level) is discretized appears. According to this quantum size effect, the absorption wavelength and emission wavelength of light can be controlled by changing the size of the quantum dot.
  • Quantum dots are generally dispersed in a matrix made of a resin such as acrylic resin or epoxy resin to form a quantum dot layer.
  • a quantum dot film for wavelength conversion is disposed between a backlight and a liquid crystal panel. To be used. When excitation light enters the quantum dot film from the backlight, the quantum dots are excited and emit fluorescence.
  • quantum dots having different light emission characteristics it is possible to realize white light by emitting light having a narrow half-value width of red light, green light, and blue light. Since the half-value width of the fluorescence due to quantum dots is narrow, it is possible to design white light obtained by appropriately selecting the wavelength to have high luminance or excellent color reproducibility.
  • the quantum dot is likely to be deteriorated by oxygen or the like, and there is a problem that the emission intensity is lowered by a photo-oxidation reaction. Therefore, in the quantum dot film, a gas barrier film is laminated on both sides of the quantum dot layer to protect the quantum dot layer.
  • a gas barrier film is laminated on both sides of the quantum dot layer to protect the quantum dot layer.
  • moisture and oxygen enter the quantum dot layer from the end surface not covered with the gas barrier film, and the quantum dots deteriorate. Therefore, it has been proposed to seal the periphery of the quantum dot layer with a gas barrier film or the like in addition to both surfaces of the quantum dot layer.
  • Patent Document 1 describes a composition in which a quantum dot phosphor is dispersed in a cycloolefin (co) polymer in a concentration range of 0.0 to 20% by mass, and the quantum dots are dispersed.
  • a configuration having a gas barrier layer covering the entire surface of the resin molding is described. Further, it is described that the gas barrier layer is a gas barrier film in which a silica film or an alumina film is formed on at least one surface of the resin layer.
  • Patent Document 2 describes a display backlight unit including a remote phosphor film including a light-emitting quantum dot (QD) population.
  • QD quantum dot
  • a QD phosphor material is sandwiched between two gas barrier films, and the periphery of the QD phosphor material is surrounded.
  • interposed into these two gas barrier films is described.
  • Patent Document 3 discloses a light-emitting device that includes a color conversion layer that converts at least a part of color light emitted from a light source unit into other color light, and an impermeable sealing sheet that seals the color conversion layer.
  • the second bonding layer is provided along the outer periphery of the phosphor layer, that is, in a frame shape so as to surround the planar shape of the phosphor layer, and the second bonding layer has a gas barrier property.
  • a structure made of an adhesive material having the following is described.
  • Patent Document 4 in a quantum dot wavelength converter having a quantum dot layer (wavelength conversion unit) and a sealing member made of silicone or the like that seals the quantum dot layer, the quantum dot layer is sandwiched between sealing members, and The structure which sticks sealing members around the quantum dot layer is described.
  • the laminated film containing quantum dots used for the LCD is a thin film of about 50 ⁇ m to 350 ⁇ m.
  • it is very difficult to coat the entire surface of a thin quantum dot layer with a gas barrier film, and there is a problem that productivity is poor.
  • the gas barrier film is bent, the barrier layer is broken and the gas barrier property is lowered.
  • Patent Documents 2 and 3 in the case of a configuration in which a protective layer having a gas barrier property is formed in an end face region of a quantum dot layer sandwiched between two gas barrier films, a so-called dam-fill type laminated film is After forming a protective layer on the peripheral portion of the gas barrier film, a resin layer is formed in a region surrounded by the protective layer, and then the other gas barrier film is laminated on the protective layer and the resin layer.
  • productivity is extremely poor.
  • the width of the protective layer is increased and the quantum dot layer is not formed at the end, there is a problem that the size of the area that can be effectively used is reduced and the frame portion is increased.
  • Patent Document 4 in the configuration in which the opening at the end of the two gas barrier films sandwiching the quantum dot layer is narrowed and sealed, the thickness of the quantum dot layer at the end becomes thin.
  • the size of the region where the quantum dot layer having a uniform thickness can be effectively used is reduced and the frame portion is increased.
  • a barrier layer having a high gas barrier property is hard and brittle, if the gas barrier film having such a barrier layer is suddenly bent, the barrier layer is cracked, and the gas barrier property is lowered. It was.
  • An object of the present invention is to solve such problems of the prior art, and in a laminated film having a wavelength conversion layer such as a quantum dot layer, while maintaining the size of a region that can be used effectively, from the end face.
  • An object of the present invention is to provide a laminated film that can suppress the deterioration of the wavelength conversion layer due to the penetration of oxygen or the like.
  • the inventor of the present invention has a functional layer laminate including a wavelength conversion layer and a gas barrier film laminated and sandwiched between both main surfaces of the wavelength conversion layer, and a functional layer laminate.
  • the end surface sealing layer that covers from one part of one main surface to the entire end surface and part of the other main surface, and the end surface sealing layer formed on the main surface of the functional layer laminate. It was found that the above-mentioned problems can be solved when the width of the portion from the end surface is 0.01 mm or more and 8% or less of the length of the main surface, and the present invention has been completed. That is, this invention provides the laminated film of the following structures.
  • a laminated film having a wavelength conversion layer such as a quantum dot layer
  • a numerical range expressed using “to” means a range including numerical values described before and after “to” as a lower limit value and an upper limit value.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view conceptually showing an example of the laminated film of the present invention.
  • a laminated film 10 shown in FIG. 1 has a wavelength conversion layer 12, two gas barrier films 14, and an end face sealing layer 16.
  • the laminated film 10 is a functional layer laminate in which a gas barrier film 14 is laminated on each of both surfaces (both main surfaces) of a sheet-like wavelength conversion layer 12 and the wavelength conversion layer 12 is sandwiched between the gas barrier films 14.
  • the entire end face of the body 11 is covered with the end face sealing layer 16.
  • the end surface sealing layer 16 has a configuration in which three layers of the first layer 30, the second layer 32, and the third layer 34 are stacked from the end surface side of the functional layer stacked body 11.
  • the end surface sealing layer 16 covers a part of one main surface of the functional layer laminate 11 to the entire end surface and a part of the other main surface. Further, when the portion formed on the main surface of the functional layer laminate 11 of the end surface sealing layer 16 is a climbing portion M, the width of the climbing portion M from the end surface is 0.01 mm or more, and It is 8% or less of the length of the main surface.
  • the wavelength conversion layer 12 is a layer for expressing the function of wavelength conversion, and is, for example, a sheet-like material having a square planar shape.
  • various layers such as a quantum dot layer that express a function of converting incident light and emitting it can be used.
  • the end face sealing layer 16 it is possible to prevent the deterioration of the optical functional material due to oxygen or water entering from the end face, in that the characteristics of the laminated film of the present invention can be fully expressed, etc.
  • a quantum dot layer that is used in LCDs and the like that are expected to be used in various environments such as in-vehicle high-temperature and high-humidity, and in which deterioration of quantum dots due to oxygen is a serious problem is suitable as the wavelength conversion layer 12 Used.
  • the quantum dot layer is a layer in which a large number of quantum dots are dispersed in a matrix such as a resin, and has a function of converting the wavelength of light incident on the wavelength conversion layer 12 and emitting it.
  • the wavelength conversion layer 12 converts at least part of the blue light into red light or green light due to the effect of quantum dots contained therein. The wavelength is converted into and emitted.
  • blue light is light having an emission center wavelength in a wavelength band of 400 to 500 nm
  • green light is light having an emission center wavelength in a wavelength band of 500 to 600 nm. Is light having an emission center wavelength in a wavelength band exceeding 600 nm and not more than 680 nm.
  • the wavelength conversion function exhibited by the quantum dot layer is not limited to a configuration that converts the wavelength of blue light into red light or green light, and may convert at least part of incident light into light of a different wavelength. That's fine.
  • the quantum dots emit fluorescence by being excited at least by incident excitation light.
  • the type of quantum dots contained in the quantum dot layer and various known quantum dots may be appropriately selected according to the required wavelength conversion performance or the like.
  • quantum dots for example, paragraphs 0060 to 0066 of JP2012-169271A can be referred to, but are not limited to those described here.
  • the quantum dots commercially available products can be used without any limitation.
  • the emission wavelength of the quantum dots can usually be adjusted by the composition and size of the particles.
  • the quantum dots are preferably dispersed uniformly in the matrix, but may be dispersed with a bias in the matrix. Moreover, only 1 type may be used for a quantum dot and it may use 2 or more types together. When using 2 or more types of quantum dots together, you may use the quantum dot from which the wavelength of mutually emitted light differs.
  • the known quantum dots include a quantum dot (A) having an emission center wavelength in the wavelength band of 600 to 680 nm, and a quantum dot (B) having an emission center wavelength in the wavelength band of 500 to 600 nm. ), A quantum dot (C) having an emission center wavelength in a wavelength band of 400 to 500 nm, the quantum dot (A) emits red light when excited by excitation light, and the quantum dot (B) emits green light.
  • the quantum dot (C) emits blue light.
  • red light emitted from the quantum dots (A) and light emitted from the quantum dots (B) can be realized by the green light and the blue light transmitted through the quantum dot layer.
  • ultraviolet light incident on the quantum dot layer including the quantum dots (A), (B), and (C) as excitation light
  • quantum dots (B) White light can be realized by green light emitted by the blue light and blue light emitted by the quantum dots (C).
  • quantum dot a so-called quantum rod or a tetrapod type quantum dot that has a rod shape and has directivity and emits polarized light may be used.
  • the type of matrix of the quantum dot layer there are no particular limitations on the type of matrix of the quantum dot layer, and various resins used in known quantum dot layers can be used. Examples thereof include polyester resins (for example, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate), (meth) acrylic resins, polyvinyl chloride resins, and polyvinylidene chloride resins.
  • a curable compound having a polymerizable group can be used as the matrix.
  • the kind of the polymerizable group is not limited, but is preferably a (meth) acrylate group, a vinyl group or an epoxy group, more preferably a (meth) acrylate group, and particularly preferably an acrylate group.
  • each polymeric group may be the same and may differ.
  • a resin containing the following first polymerizable compound and second polymerizable compound is exemplified.
  • the first polymerizable compound is one or more selected from the group consisting of a bifunctional or higher functional (meth) acrylate monomer and a monomer having two or more functional groups selected from the group consisting of epoxy groups and oxetanyl groups.
  • a bifunctional or higher functional (meth) acrylate monomer and a monomer having two or more functional groups selected from the group consisting of epoxy groups and oxetanyl groups.
  • it is a compound.
  • the bifunctional (meth) acrylate monomers include neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) ) Acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, hydroxypivalate neopentyl glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclo Pentenyloxyethyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl di (meth) acrylate and the like are preferable examples.
  • the trifunctional or higher functional (meth) acrylate monomers include ECH-modified glycerol tri (meth) acrylate, EO-modified glycerol tri (meth) acrylate, and PO-modified glycerol tri (meta).
  • Monomers having two or more functional groups selected from the group consisting of epoxy groups and oxetanyl groups include, for example, aliphatic cyclic epoxy compounds, bisphenol A diglycidyl ether, bisphenol F diglycidyl ether, bisphenol S diglycidyl ether, bromine Bisphenol A diglycidyl ether, brominated bisphenol F diglycidyl ether, brominated bisphenol S diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol F diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol S diglycidyl ether, 1,4 -Butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether , Polyethylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ethers; polyether
  • a monomer having two or more functional groups selected from the group consisting of an epoxy group and an oxetanyl group may be produced by any method.
  • Maruzen KK Publishing Co., Ltd., Fourth Edition Experimental Chemistry Course 20 Organic Synthesis II, 213, 1992, Ed.by Alfred Hasfner The chemistry of heterocyclic compounds-Small Ring Heterocycles part3 Oxiranes, John & Wiley and Sons, An Interscience Publication, New York, 1985, Yoshimura, Adhesion, Vol. 29, No. 12, 32, 1985, Yoshimura, Adhesion, Vol. 30, No. 5, 42, 1986, Yoshimura, Adhesion, Vol. 30, No. 7, 42, 1986, Japanese Patent Laid-Open No. 11-100308, Japanese Patent No. 2906245, Japanese Patent No. 2926262, etc. Can be synthesized.
  • the second polymerizable compound has a functional group having hydrogen bonding properties in the molecule and a polymerizable group capable of undergoing a polymerization reaction with the first polymerizable compound.
  • the functional group having hydrogen bonding include a urethane group, a urea group, or a hydroxyl group.
  • the polymerizable group capable of undergoing a polymerization reaction with the first polymerizable compound for example, when the first polymerizable compound is a bifunctional or higher (meth) acrylate monomer, it may be a (meth) acryloyl group.
  • the polymerizable compound is a monomer having two or more functional groups selected from the group consisting of an epoxy group and an oxetanyl group, it may be an epoxy group or an oxetanyl group.
  • (Meth) acrylate monomers containing urethane groups include diisocyanates such as TDI, MDI, HDI, IPDI, and HMDI, poly (propylene oxide) diol, poly (tetramethylene oxide) diol, ethoxylated bisphenol A, and ethoxylated bisphenol.
  • an adduct of TDI and hydroxyethyl acrylate, an adduct of IPDI and hydroxyethyl acrylate, an adduct of HDI and pentaerythritol triacrylate (PETA), and an adduct of TDI and PETA remained.
  • Examples include compounds obtained by reacting isocyanate and dodecyloxyhydroxypropyl acrylate, adducts of 6,6 nylon and TDI, adducts of pentaerythritol, TDI and hydroxyethyl acrylate, but are not limited thereto. Absent.
  • Examples of the (meth) acrylate monomer containing a hydroxyl group include compounds synthesized by a reaction between a compound having an epoxy group and (meth) acrylic acid. Typical ones are classified into bisphenol A type, bisphenol S type, bisphenol F type, epoxidized oil type, phenol novolak type, and alicyclic type, depending on the compound having an epoxy group.
  • the second polymerizable compound containing a hydroxyl group examples include epoxy ester manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., M-600A, 40EM, 70PA, 200PA, 80MFA, 3002M, 3002A, 3000MK, 3000A, Japan 4-hydroxybutyl acrylate manufactured by Kasei Co., Ltd., monofunctional acrylate A-SA, monofunctional methacrylate SA manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., monofunctional acrylate ⁇ -carboxyethyl acrylate manufactured by Daicel Ornex Co., Ltd., Johoku Chemical Industry For example, JPA-514 manufactured by KK These can be used alone or in combination of two or more.
  • the mass ratio between the first polymerizable compound and the second polymerizable compound may be 10:90 to 99: 1, and is preferably 10:90 to 90:10. It is also preferable that the content of the first polymerizable compound is larger than the content of the second polymerizable compound. Specifically, (content of the first polymerizable compound) / (of the second polymerizable compound) The content is preferably 2 to 10.
  • the matrix further contains a monofunctional (meth) acrylate monomer.
  • Monofunctional (meth) acrylate monomers include acrylic acid and methacrylic acid, derivatives thereof, and more specifically, monomers having one polymerizable unsaturated bond ((meth) acryloyl group) of (meth) acrylic acid in the molecule Can be mentioned. Specific examples thereof include the following compounds, but the present invention is not limited thereto.
  • the monofunctional (meth) acrylate monomer is preferably contained in an amount of 1 to 300 parts by mass, and 50 to 150 parts by mass with respect to a total mass of 100 parts by mass of the first polymerizable compound and the second polymerizable compound. More preferably it is included.
  • the first polymerizable compound, the second polymerizable compound, and the monofunctional (meth) acrylate monomer preferably has a long-chain alkyl group having 4 to 30 carbon atoms.
  • the long chain alkyl group is more preferably a long chain alkyl group having 12 to 22 carbon atoms. This is because the dispersibility of the quantum dots is improved. As the dispersibility of the quantum dots improves, the amount of light that goes straight from the light conversion layer to the exit surface increases, which is effective in improving front luminance and front contrast.
  • the monofunctional (meth) acrylate monomer having a long-chain alkyl group having 4 to 30 carbon atoms include butyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, and oleyl (meth) acrylate.
  • lauryl (meth) acrylate, oleyl (meth) acrylate, and stearyl (meth) acrylate are particularly preferable.
  • trifluoroethyl (meth) acrylate, pentafluoroethyl (meth) acrylate, (perfluorobutyl) ethyl (meth) acrylate, perfluorobutyl-hydroxypropyl (meth) acrylate, (perfluoro Hexyl) ethyl (meth) acrylate, octafluoropentyl (meth) acrylate, perfluorooctylethyl (meth) acrylate, tetrafluoropropyl (meth) acrylate and other compounds having a fluorine atom may be included. By including these compounds, the coating property can be improved.
  • the total amount of the resin serving as a matrix in the quantum dot layer is not limited, but it is preferably 90 to 99.9 parts by mass, and 92 to 99 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the quantum dot layer. It is more preferable that
  • FIG. According to the study by the present inventors, 5 to 200 ⁇ m is preferable and 10 to 150 ⁇ m is more preferable in terms of handleability and light emission characteristics.
  • the thickness is intended to be an average thickness, and the average thickness is obtained by measuring the thickness of any 10 or more points of the quantum dot layer and arithmetically averaging them.
  • a quantum dot layer there is no limitation in the formation method of a quantum dot layer, What is necessary is just to form by a well-known method. For example, it can be formed by preparing a composition (paint / coating composition) in which quantum dots, a matrix resin, and a solvent are mixed, and applying the composition onto the gas barrier film 14 and curing. In addition, you may add a polymerization initiator, a silane coupling agent, etc. to the composition used as a quantum dot layer as needed.
  • a gas barrier film 14 is laminated on both surfaces of the wavelength conversion layer 12 such as a quantum dot layer so as to cover the entire main surface of the wavelength conversion layer 12. That is, the laminated film 10 has a configuration in which the wavelength conversion layer 12 is sandwiched between the gas barrier films 14.
  • the gas barrier films 14 provided on both surfaces of the wavelength conversion layer 12 may be the same or different.
  • the gas barrier film 14 is a layer for suppressing entry of oxygen or the like from the main surface into the wavelength conversion layer 12 such as a quantum dot layer. Therefore, the gas barrier film 14 preferably has a high gas barrier property. Specifically, the gas barrier film 14 preferably has an oxygen permeability of 0.1 cc / (m 2 ⁇ day ⁇ atm) or less, and preferably 0.01 cc / (m 2 ⁇ day ⁇ atm) or less. More preferably, it is particularly preferably 0.001 cc / (m 2 ⁇ day ⁇ atm) or less.
  • the oxygen permeability of the gas barrier film 14 By setting the oxygen permeability of the gas barrier film 14 to 0.1 cc / (m 2 ⁇ day ⁇ atm) or less, the deterioration of the wavelength conversion layer 12 due to oxygen entering from the main surface of the wavelength conversion layer 12 is suppressed, A laminated film such as a long-life quantum dot film can be obtained.
  • the oxygen permeability of the gas barrier film 14 and the end surface sealing layer 16 may be measured according to a known method or an example described later. Further, when the unit of oxygen permeability cc / (m 2 ⁇ day ⁇ atm) is converted to SI unit, it is 9.87 mL / (m 2 ⁇ day ⁇ MPa).
  • the gas barrier film 14 is a layer made of a known material that exhibits gas barrier properties as long as it has sufficient optical characteristics in terms of transparency and the like and can obtain the desired gas barrier properties (oxygen barrier properties).
  • gas barrier properties oxygen barrier properties
  • Various types of (membrane) and known gas barrier films can be used.
  • Examples of the preferred gas barrier film 14 include a gas barrier film having an organic / inorganic laminate structure in which an organic layer and an inorganic layer are alternately laminated on a support (one surface or both surfaces).
  • a gas barrier film 14 shown in FIG. 2 is a gas barrier film having an organic layer 24 on a support 20, an inorganic layer 26 on the organic layer 24, and an organic layer 28 on the inorganic layer 26.
  • the gas barrier property is mainly expressed by the inorganic layer 26.
  • the organic layer 24 under the inorganic layer 26 is a base layer for properly forming the inorganic layer 26.
  • the uppermost organic layer 28 functions as a protective layer for the inorganic layer 26.
  • the gas barrier film 14 having an organic-inorganic laminated structure is not limited to the example shown in FIG.
  • the example shown in FIG. 2 has only one combination of the inorganic layer and the underlying organic layer, but may have two or more combinations of the inorganic layer and the underlying organic layer. In general, the greater the number of combinations of the inorganic layer and the underlying organic layer, the higher the gas barrier property.
  • the structure which forms an inorganic layer on the support body 20, and has 1 set or more of combinations of an inorganic layer and a base organic layer on it may be sufficient.
  • various known gas barrier films used as a support can be used.
  • films made of various resin materials are preferably used in that they are easy to make thinner and lighter and are suitable for flexibility.
  • polyethylene PE
  • PEN polyethylene naphthalate
  • PA polyamide
  • PET polyethylene terephthalate
  • PVC polyvinyl chloride
  • PVA polyvinyl alcohol
  • PAN polyacrylonitrile
  • PI polyacrylonitrile
  • PMMA polycarbonate
  • PC polyacrylate, polymethacrylate, polypropylene (PP), polystyrene (PS), ABS, cyclic olefin copolymer (COC), cycloolefin polymer ( COP) and a plastic film made of triacetyl cellulose (TAC) are preferably exemplified.
  • the thickness of the support body 20 is preferably about 10 ⁇ m to 100 ⁇ m.
  • the support 20 may be provided with functions such as antireflection, phase difference control, and light extraction efficiency improvement on the surface of such a plastic film.
  • an organic layer 24 is formed on the surface of the support 20.
  • the organic layer 24 formed on the surface of the support 20, that is, the organic layer 24 that is the lower layer of the inorganic layer 26, is a base layer of the inorganic layer 26 that mainly exhibits gas barrier properties in the gas barrier film 14.
  • the unevenness of the surface of the support 20, the foreign matter adhering to the surface of the support 20, and the like are embedded, and the film-forming surface of the inorganic layer 26 is formed as the inorganic layer 26. It can be in a state suitable for film formation.
  • the gas barrier film 14 having an oxygen permeability of 0.1 cc / (m 2 ⁇ day ⁇ atm) or less can be stably formed.
  • the material for forming the organic layer 24 is not limited, and various known organic compounds can be used. Specifically, polyester, (meth) acrylic resin, methacrylic acid-maleic acid copolymer, polystyrene, transparent fluororesin, polyimide, fluorinated polyimide, polyamide, polyamideimide, polyetherimide, cellulose acylate, polyurethane, poly Ether ether ketone, polycarbonate, alicyclic polyolefin, polyarylate, polyether sulfone, polysulfone, fluorene ring modified polycarbonate, alicyclic modified polycarbonate, fluorene ring modified polyester, acrylic compounds, thermoplastic resins, polysiloxane and other An organic silicon compound film is preferably exemplified. A plurality of these may be used in combination.
  • the organic layer 24 composed of a polymer of a radical curable compound and / or a cationic curable compound having an ether group as a functional group is preferable in terms of excellent glass transition temperature and strength.
  • acrylic resins and methacrylic resins mainly composed of acrylate and / or methacrylate monomers and oligomer polymers are suitable as the organic layer 24 in terms of low refractive index, high transparency and excellent optical properties. Is exemplified.
  • DPGDA dipropylene glycol di (meth) acrylate
  • TMPTA trimethylolpropane tri (meth) acrylate
  • DPHA dipentaerythritol hexa (meth) acrylate
  • Acrylic resins and methacrylic resins mainly composed of a polymer of acrylate and / or methacrylate monomers or oligomers are preferably exemplified. It is also preferable to use a plurality of these acrylic resins and methacrylic resins.
  • the thickness of the organic layer 24 may be appropriately set according to the material for forming the organic layer 24 and the support 20. According to the study by the present inventors, the thickness of the organic layer 24 is preferably 0.5 to 5 ⁇ m, more preferably 1 to 3 ⁇ m. By setting the thickness of the organic layer 24 to 0.5 ⁇ m or more, the surface of the organic layer 24, that is, the surface of the inorganic layer 26, is embedded by embedding irregularities on the surface of the support 20 and foreign matters attached to the surface of the support 20. The film formation surface can be flattened.
  • the thickness of the organic layer 24 By setting the thickness of the organic layer 24 to 5 ⁇ m or less, the occurrence of problems such as cracks in the organic layer 24 and curling due to the gas barrier film 14 due to the organic layer 24 being too thick is suitably suppressed. be able to.
  • the thickness of each organic layer may be the same or different.
  • the organic layer 24 may be formed by a known method such as a coating method or flash vapor deposition.
  • the organic layer 24 (the composition to be the organic layer 24) preferably contains a silane coupling agent.
  • the formation material of each organic layer may be the same or different. Good. However, in terms of productivity and the like, it is preferable to form all organic layers with the same material.
  • An inorganic layer 26 is formed on the organic layer 24 with the organic layer 24 as a base.
  • the inorganic layer 26 is a film containing an inorganic compound as a main component, and the gas barrier film 14 mainly exhibits gas barrier properties.
  • various kinds of films made of an inorganic compound such as oxide, nitride, oxynitride and the like that exhibit gas barrier properties can be used.
  • metal oxides such as aluminum oxide, magnesium oxide, tantalum oxide, zirconium oxide, titanium oxide, and indium tin oxide (ITO); metal nitrides such as aluminum nitride; metal carbides such as aluminum carbide; silicon oxide, Silicon oxides such as silicon oxynitride, silicon oxycarbide and silicon oxynitride carbide; silicon nitrides such as silicon nitride and silicon nitride carbide; silicon carbides such as silicon carbide; hydrides thereof; mixtures of two or more of these; and Films made of inorganic compounds such as these hydrogen-containing materials are preferably exemplified.
  • a film made of a silicon compound such as silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride and silicon oxide is preferably exemplified in that it has high transparency and can exhibit excellent gas barrier properties.
  • a film made of silicon nitride is preferable because it has high transparency in addition to more excellent gas barrier properties.
  • the thickness of the inorganic layer 26 is preferably 10 to 200 nm, more preferably 10 to 100 nm, and particularly preferably 15 to 75 nm.
  • the inorganic layer 26 that stably exhibits sufficient gas barrier performance can be formed.
  • the inorganic layer 26 is generally brittle, and if it is too thick, there is a possibility of causing cracks, cracks, peeling, etc.
  • the thickness of the inorganic layer 26 is 200 nm or less, cracks will occur. Can be prevented.
  • the thickness of each inorganic layer 26 may be the same, or may differ.
  • the inorganic layer 26 may be formed by a known method depending on the forming material. Specifically, CCP (Capacitively Coupled Plasma) -CVD (chemical vapor deposition) and ICP (Inductively Coupled Plasma) -CVD and other plasma CVD, magnetron sputtering, reactive sputtering, and other sputtering, vacuum deposition
  • CCP Capacitively Coupled Plasma
  • ICP Inductively Coupled Plasma
  • a vapor deposition method is preferably exemplified.
  • the material for forming each inorganic layer may be the same or different. However, in terms of productivity and the like, it is preferable to form all inorganic layers with the same material.
  • An organic layer 28 is provided on the inorganic layer 26.
  • the organic layer 28 is a layer that functions as a protective layer for the inorganic layer 26.
  • the organic layer 28 By having the organic layer 28 as the uppermost layer, it is possible to prevent damage to the inorganic layer 26 that exhibits gas barrier properties, and the gas barrier film 14 can stably exhibit desired gas barrier properties.
  • distribute a quantum dot etc. to resin used as a matrix can also be improved.
  • the organic layer 28 is basically the same as the organic layer 24 described above.
  • the organic layer 28 has an acrylic polymer as a main chain, and has at least one of a urethane polymer having an acryloyl group at its end and a urethane oligomer having an acryloyl group at its side chain, having a molecular weight of 10,000 to 3000000, What consists of a graft copolymer whose acrylic equivalent is 500 g / mol or more can also be utilized suitably.
  • the thickness of the gas barrier film 14 may be appropriately set according to the thickness of the laminated film 10, the size of the laminated film 10, and the like. According to the study by the present inventors, the thickness of the gas barrier film 14 is preferably 5 to 100 ⁇ m, more preferably 10 to 70 ⁇ m, and particularly preferably 15 to 55 ⁇ m. By setting the thickness of the gas barrier film 14 to 100 ⁇ m or less, the gas barrier film 14, that is, the laminated film 10 can be prevented from becoming unnecessarily thick. In addition, the thickness of the gas barrier film 14 is preferably 5 ⁇ m or more, which is preferable in that the thickness of the wavelength conversion layer 12 can be made uniform when the wavelength conversion layer 12 is formed between the two gas barrier films 14.
  • the functional layer laminate 11 is composed of two gas barrier films 14 and a wavelength conversion layer 12, but further, such as a diffusion layer, an anti-Newton ring layer, a protective layer, and an adhesive layer, Layers for obtaining various functions may be laminated.
  • the size and shape of the functional layer laminate 11 in the surface direction are not limited.
  • the gas barrier film 14 is laminated on both surfaces of the wavelength conversion layer 12, and the entire end surface of the functional layer laminate 11 including the wavelength conversion layer 12 and the gas barrier film 14 is end-face sealed.
  • the structure is formed by sealing with the layer 16.
  • the end surface sealing layer 16 extends from a part of one main surface of the functional layer laminate 11 to the entire end surface and a part of the other main surface. Covering.
  • the width s from the end surface of the climbing portion M is 0.01 mm or more, and Or less than 8% of the length of the main surface.
  • a configuration for preventing oxygen and moisture from entering a wavelength conversion layer such as a quantum dot layer
  • a configuration in which the entire surface of the wavelength conversion layer is covered with a gas barrier film, or both sides of the wavelength conversion layer are gas barrier films.
  • a dam-fill method in which the end face region is sealed with a resin layer, a structure in which the openings at the ends of the two gas barrier films sandwiching the wavelength conversion layer are narrowed and sealed have been studied.
  • sufficient gas barrier properties cannot be secured, and there are problems such as a large frame portion and poor productivity.
  • the present inventors prevent oxygen and moisture from entering the wavelength conversion layer from the end face, and In order to increase the area where the wavelength conversion layer can be effectively used by reducing the frame portion, an end face sealing layer having a gas barrier property is provided on the end face of the functional layer laminate, and the end face is sealed. .
  • the end face sealing layer is formed only on the end face from the standpoint of ensuring an area that can effectively use the flatness and wavelength conversion function of the laminated film.
  • it is considered that it is preferably not formed on the main surface. That is, if the end surface sealing layer is also formed on the main surface, the flatness of the entire laminated film may be impaired due to the rise of the end surface sealing layer on the main surface, and the end surface sealing layer wraps around. It is conceivable that when the portion functions as a light shielding layer, a non-light emitting region is generated at the end of the laminated film, the frame portion becomes large, and the area that can be effectively used becomes small.
  • the end surface sealing layer when the end surface sealing layer is formed only on the end surface of the functional layer laminate, the end surface sealing layer partially peels off, etc. It has been found that moisture and oxygen enter from the interface between the end face and the end face sealing layer to reach the wavelength conversion layer, and the wavelength conversion layer may be deteriorated.
  • the end surface sealing layer 16 is formed so as to cover a part of one main surface of the functional layer laminate 11 to the entire end surface and a part of the other main surface,
  • the width s from the end surface of the rising portion M of the end surface sealing layer 16 is set to 0.01 mm or more and 8% or less of the length of the main surface.
  • the adhesiveness of the functional layer laminated body 11 and the end surface sealing layer 16 is improved by setting the width s of the climbing portion of the end surface sealing layer 16 to 0.01 mm or more. Infiltration of moisture and oxygen from the interface between the end face and the end face sealing layer 16 can be suppressed, and deterioration of the wavelength conversion layer can be prevented.
  • the functional layer laminate 11 has a layer formed with a concavo-convex structure on the surface of a diffusion layer or the like, the concavo-convex structure of the diffusion layer is embedded by the rising portion M of the end surface sealing layer 16. Therefore, the function as the diffusion layer may not be expressed. That is, when the width s of the rising portion M of the end surface sealing layer 16 is large, an area that can be effectively used is reduced. On the other hand, in the laminated film 10 of the present invention, since the width s of the rising portion of the end face sealing layer 16 is 8% or less of the length of the main surface, the functional layer laminate 11 has a diffusion layer. In addition, an area that can effectively use the function as the diffusion layer can be secured.
  • the width s of the rising portion M of the end surface sealing layer 16 is preferably 5% or less of the length of the main surface, and more preferably 3% or less.
  • the shape of the main surface of the functional layer laminate 11 is a rectangular shape
  • the length of the short side is the length of the main surface
  • the diameter is the length of the main surface
  • the minor axis is the length of the main surface
  • the diameter of the inscribed circle is the length of the main surface.
  • the width s of the rising portion M of the end face sealing layer 16 is measured, for example, by cutting a cross-section of the laminated film with a retotom REM-710 manufactured by Daiwa Kogyo Co., Ltd. and observing the cross section with an optical microscope. it can.
  • the height t from the main surface of the end surface sealing layer 16 in the direction perpendicular to the main surface of the functional layer laminate 11 is more than 0% and not more than 20% of the thickness of the functional layer laminate 11. Is preferable, 1% to 10% is more preferable, and 1% to 5% is more preferable.
  • the height t of the end surface sealing layer 16 is made from the main surface 20% or less of the thickness of the functional layer laminate 11, it is preferable in that the flatness of the laminated film 10 can be secured.
  • the adhesion between the functional layer laminate 11 and the end surface sealing layer 16 is improved, so that moisture and oxygen can be introduced from the interface between the end surface of the functional layer laminate 11 and the end surface sealing layer 16. Is preferable in that it can be prevented from entering.
  • the thickness of the end face sealing layer 16 in the direction perpendicular to the end face of the functional layer laminate 11 is preferably 5 ⁇ m to 200 ⁇ m, and more preferably 10 ⁇ m to 50 ⁇ m.
  • the thickness of the end surface sealing layer 16 is preferably 5 ⁇ m or more, it is preferable in that the end surface of the functional layer stacked body 11 can be properly covered and sufficient gas barrier properties can be exhibited.
  • the frame portion can be prevented from becoming large and the adhesiveness with the functional layer laminate 11 can be sufficiently provided. .
  • an end face sealing layer may be provided to cover the entire surface of only two opposing end faces, leaving one end face 3
  • An end surface sealing layer may be provided to cover the entire surface of one end surface.
  • you may provide an end surface sealing layer so that each end surface of the functional layer laminated body 11 may be covered partially.
  • the end surface sealing layer 16 has as large an area as possible in that the deterioration of the wavelength conversion layer 12 such as deterioration of quantum dots due to oxygen or the like entering from the end surface of the functional layer laminate 11 can be more suitably prevented.
  • the end surface sealing layer 16 is preferably formed on the first layer 30 on the functional layer laminate 11 side, the second layer 32 laminated on the first layer, and the second layer 32. It has a three-layer configuration having a third layer 34 stacked on the substrate.
  • the present invention is not limited to this, and the end surface sealing layer 16 may have a one-layer configuration, a two-layer configuration, or a configuration including four or more layers.
  • the end-face sealing layer 16 has a multilayer structure of two or more layers, the gas barrier property is improved as compared with the case of a single layer (single layer) by providing the function desired to be provided separately for each layer. Can do.
  • the first layer 30 when a water-soluble material having low oxygen permeability at low humidity and high oxygen permeability at high humidity is used for the first layer 30, a water vapor barrier layer is added to the second layer 32, so Therefore, it is possible to develop a low oxygen permeability in the first layer.
  • a water vapor barrier layer is added to the second layer 32, so Therefore, it is possible to develop a low oxygen permeability in the first layer.
  • an adhesive layer is provided between the oxygen barrier layer and the functional layer laminate 11. It can also be set as the structure provided.
  • the end face sealing layer 16 shown in FIG. 3 has a configuration in which an adhesion layer is provided as the first layer 30, an oxygen barrier layer is provided as the second layer 32, and a water vapor barrier layer is provided as the third layer 34. .
  • an adhesion layer is provided as the first layer 30 on the functional layer laminate 11 side
  • the adhesion between the functional layer laminate 11 and the end face sealing layer 16 can be improved, and by providing the oxygen barrier layer as the second layer 32.
  • the end surface sealing layer 16 can exhibit a high oxygen barrier property
  • by providing the water vapor barrier layer as the third layer 34 the end surface sealing layer 16 can exhibit a high water vapor barrier property and oxygen in the oxygen barrier layer can be formed by moisture. It can suppress that barrier property falls.
  • the oxygen barrier layer preferably has an oxygen permeability of 1.0 [cc / (m 2 ⁇ day ⁇ atm)] or less, preferably 1 ⁇ 10 ⁇ 1 [cc / (m 2 ⁇ day ⁇ atm)] or less. Is more preferably 1 ⁇ 10 ⁇ 2 [cc / (m 2 ⁇ day ⁇ atm)] or less, and more preferably 1 ⁇ 10 ⁇ 3 [cc / (m 2 ⁇ day ⁇ atm)] or less. Is particularly preferred.
  • the material for forming the oxygen barrier layer preferably contains polyvinyl alcohol (PVA), ethylene-vinyl alcohol copolymer (EVOH) or the like.
  • a commercial item can also be suitably used as a material for forming the oxygen barrier layer.
  • a material for forming the oxygen barrier layer For example, Maxive manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company, Eval manufactured by Kuraray Co., Ltd., Eco Stage manufactured by Sakata Inx Co., Ltd. and the like are preferably exemplified.
  • the thickness of the oxygen barrier layer there is no limitation also on the thickness of the oxygen barrier layer, and it may be set to a thickness capable of obtaining a desired oxygen barrier property.
  • inorganic particles particles made of an inorganic compound
  • the oxygen barrier layer contains inorganic particles, the oxygen permeability can be further reduced, and deterioration of the wavelength conversion layer 12 due to oxygen or the like entering from the end face can be more preferably prevented.
  • the size of the inorganic particles dispersed in the oxygen barrier layer is not limited, and may be set as appropriate according to the thickness of the oxygen barrier layer.
  • the size (maximum length) of the inorganic particles dispersed in the oxygen barrier layer is preferably less than the thickness of the oxygen barrier layer.
  • the size of the inorganic particles dispersed in the oxygen barrier layer may be uniform or non-uniform.
  • the content of inorganic particles in the oxygen barrier layer is preferably 50% by mass or less, and more preferably 10 to 30% by mass.
  • the effect of reducing the oxygen permeability by the inorganic particles increases as the content of the inorganic particles increases, but by making the content of the inorganic particles 10% by mass or more, the effect of adding the inorganic particles can be obtained more suitably, An oxygen barrier layer having a low oxygen permeability can be formed.
  • the content of inorganic particles in the oxygen barrier layer is set to 50% by mass or less, the adhesion and durability of the oxygen barrier layer can be sufficient, and the occurrence of cracks when cutting or punching a laminated film can be suppressed. Etc. are preferable.
  • inorganic particles dispersed in the oxygen barrier layer include silica particles, alumina particles, silver particles, copper particles, titanium particles, zirconia particles, and tin particles.
  • the water vapor barrier layer preferably has a water vapor permeability at 40 ° C. and 90% of 100 g / (m 2 ⁇ day) / 30 ⁇ m or less, and more preferably 50 g / (m 2 ⁇ day)) / 30 ⁇ m or less.
  • the material for forming the water vapor barrier layer preferably contains an epoxy resin, a cycloolefin polymer (COP), an ethylene-vinyl alcohol copolymer (EVOH), or the like.
  • COP cycloolefin polymer
  • EVOH ethylene-vinyl alcohol copolymer
  • the water vapor transmission rate is a value measured by a calcium corrosion method (a method described in JP-A-2005-283561).
  • a material that can ensure adhesion between the functional layer stack 11 and the oxygen barrier layer may be selected as appropriate. Specifically, an epoxy resin, a urethane resin, or the like can be used.
  • the end face sealing layer 16 has a configuration in which an adhesion layer is provided as the first layer 30, an oxygen barrier layer is provided as the second layer 32, and a water vapor barrier layer is provided as the third layer 34.
  • an end face resin layer may be provided as the first layer and a metal layer may be provided as the second layer.
  • a metal layer mainly exhibits gas barrier properties.
  • substrate of a metal layer between an end surface resin layer and a metal layer may be sufficient.
  • the first metal layer may be formed on the end surface resin layer by sputtering, and the second metal layer may be formed by plating using the first metal layer as an electrode.
  • a resin layer may be formed on the metal layer.
  • the end surface resin layer is made of a resin material. As described above, by having the end face resin layer, the surface on which a metal layer (underlying layer for forming the metal layer) to be described later can be smoothed, thereby causing defects such as pinholes in the metal layer. Can be prevented, and the gas barrier property by the metal layer can be surely exhibited.
  • the thickness of the end face resin layer is preferably 1 ⁇ m to 100 ⁇ m, more preferably 5 ⁇ m to 50 ⁇ m. According to the study by the present inventors, it was found that when the end face resin layer is too thin, defects such as pinholes occur due to insufficient smoothing of the lower layer when the metal layer is formed. In addition, if the thickness of the end surface resin layer is too thick, the adhesion with the functional layer laminate 11 may be reduced due to curing shrinkage of the material to be the end surface resin layer when the end surface resin layer is formed. I found out.
  • the end surface resin layer is in contact with the support 20 and the organic layer 24 of the gas barrier film 14 and the wavelength conversion layer 12, the support 20 and the organic layer 24 and the wavelength conversion layer 12 are formed by the end surface resin layer.
  • the inorganic layer 26 is bypassed and communicated. Therefore, if the thickness of the end face resin layer is too thick, oxygen and moisture that have passed through the support 20 and the organic layer 24 of the gas barrier film 14 enter the end face resin layer and enter the end face of the wavelength conversion layer 12 from the end face resin layer. There is a risk of intrusion.
  • the thickness of the end face resin layer is set to 1 ⁇ m to 100 ⁇ m, sufficient adhesion with the functional layer laminate 11 can be secured, and defects such as pinholes can be prevented from occurring in the metal layer. Moreover, it is possible to suppress the deterioration of the wavelength conversion layer 12 more suitably by suppressing the intrusion of oxygen and moisture using the end face resin layer as a bypass route.
  • the end surface resin layer can serve as an infiltration path for oxygen and moisture
  • the end surface resin layer preferably has a lower oxygen permeability.
  • oxygen permeability of the end surface resin layer is preferably at 10cc / (m 2 ⁇ day ⁇ atm) or less, 5cc / (m 2 ⁇ day ⁇ atm) , more preferably less, 1 cc / (m 2 ⁇ day ⁇ atm) or less is more preferable.
  • there is no limitation in particular in the minimum of the oxygen permeability of an end surface resin layer Basically, it is so preferable that it is low.
  • the resin material for forming such an end face resin layer is not limited, but a known resin material capable of forming an end face resin layer having an oxygen permeability of 10 cc / (m 2 ⁇ day ⁇ atm) or less. preferable.
  • the end surface resin layer is generally composed mainly of the end surface resin layer, that is, a compound (monomer, dimer, trimer, oligomer, polymer, etc.) that mainly becomes the resin layer, a crosslinking agent or a surface activity that is added as necessary.
  • a composition containing an additive such as an agent, an organic solvent, etc. is prepared, this composition is applied to the surface on which the end face resin layer is formed, the composition is dried, and if necessary, mainly by ultraviolet irradiation or heating. It is preferably formed by polymerizing (crosslinking / curing) the compound constituting the end face resin layer.
  • the composition for forming the end face resin layer preferably contains a polymerizable compound or further contains a hydrogen bonding compound.
  • the polymerizable compound is a compound having polymerizability
  • the hydrogen bondable compound is a compound having hydrogen bondability.
  • the end face resin layer is basically preferably formed mainly of a polymerizable compound or further a hydrogen bonding compound.
  • the polymerizable compound and the hydrogen bonding compound contained in the composition for forming the end face resin layer preferably have a hydrophilicity log P of 4 or less, and more preferably 3 or less.
  • the Log P value indicating the degree of hydrophilicity refers to the logarithmic value of the 1-octanol / water partition coefficient.
  • the LogP value can be calculated by calculation using a fragment method, an atomic approach method, or the like.
  • the LogP value described herein is a LogP value calculated from the structure of the compound using ChemBioDraw Ultra 12.0 manufactured by Cambridge Soft.
  • the wavelength conversion layer 12 is generally formed by dispersing a material that exhibits an optical function in a resin serving as a matrix.
  • a hydrophobic resin is often used as a matrix.
  • a hydrophobic resin is often used as a matrix.
  • the adhesion between the wavelength conversion layer 12 formed by dispersing quantum dots or the like in a matrix resin and the end surface resin layer is high.
  • the end surface resin layer is preferably formed of a hydrophobic compound.
  • a compound is more hydrophilic when the hydrophilicity log P is lower. That is, in order to form an end face resin layer having strong adhesion to the wavelength conversion layer 12, it is preferable that the main polymerizable compound or hydrogen bonding compound has a high hydrophilicity logP.
  • a resin made of a highly hydrophobic compound has a high oxygen permeability, and in terms of oxygen permeability of the resin layer, the main polymerizable compound or hydrogen bonding compound preferably has a low hydrophilicity logP. .
  • the end face resin layer is formed using a polymerizable compound having a hydrophilicity log P of 4 or less and a hydrogen bonding compound, thereby ensuring high adhesion with the wavelength conversion layer 12 with appropriate hydrophobicity, and oxygen An end surface resin layer having a sufficiently low transmittance can be formed.
  • the polymerizable compound and the hydrogen bonding compound preferably have a low hydrophilicity log P.
  • the hydrophilicity log P is preferably 0.0 or more, and more preferably 0.5 or more.
  • the composition forming the end face resin layer preferably contains 30 parts by mass or more of a hydrogen bonding compound when the total solid content of the composition is 100 parts by mass. It is preferable to contain 40 parts by mass or more.
  • the total solid content of the composition is the total amount of components that should remain in the formed end face resin layer, excluding the organic solvent from the composition.
  • a hydrogen bond is a hydrogen atom that is covalently bonded to an atom having a higher electronegativity than a hydrogen atom in a molecule, and is formed by an attractive interaction with an atom or group of atoms in the same molecule or in a different molecule.
  • the functional group having hydrogen bonding property is a functional group containing a hydrogen atom capable of generating such a hydrogen bond. Specific examples include a urethane group, a urea group, a hydroxyl group, a carboxyl group, an amide group, and a cyano group.
  • TDI tolylene diisocyanate
  • MDI diphenylmethane diisocyanate
  • HDI hexamethylene diisocyanate
  • IPDI isophorone diisocyanate
  • Diisocyanates such as MDI (HMDI), poly (propylene oxide) diol, poly (tetramethylene oxide) diol, ethoxylated bisphenol A, ethoxylated bisphenol S spiroglycol, caprolactone-modified diol, carbonate diol and the like polyols, and Hydroxy acrylates such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, glycidol di (meth) acrylate, pentaerythritol triacrylate Monomers obtained and bets are reacted oligomers are exemplified.
  • an epoxy compound obtained by reacting a compound having an epoxy group with a compound such as bisphenol A type, bisphenol S type, bisphenol F type, epoxidized oil type, or phenol novolac type, or an alicyclic epoxy and an amine compound An epoxy compound obtained by reacting an acid anhydride or the like is also exemplified.
  • the cationic polymer of the above-mentioned epoxy compound, polyvinyl alcohol (PVA), ethylene-vinyl alcohol copolymer (EVOH), butenediol-vinyl alcohol copolymer, polyacrylonitrile and the like are also exemplified.
  • attachment with a laminated film is preferable.
  • the composition for forming the end face resin layer is a (meth) acryloyl group, a vinyl group, a glycidyl group, an oxetane group, when the total solid content of the composition is 100 parts by mass. It is preferable to contain 5 parts by mass or more of a polymerizable compound having a polymerizable functional group selected from at least one alicyclic epoxy group, and 10 parts by mass or more of a polymerizable compound having these polymerizable functional groups. Is more preferable.
  • the solid content of the composition forming the end face resin layer contains 5 parts by mass or more of a polymerizable compound having a polymerizable functional group selected from at least one (meth) acryloyl group or the like.
  • a polymerizable compound having a polymerizable functional group selected from at least one (meth) acryloyl group or the like contains 5 parts by mass or more of a polymerizable compound having a polymerizable functional group selected from at least one (meth) acryloyl group or the like.
  • polymerizable compound having a (meth) acryloyl group examples include neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, and ethylene glycol.
  • examples include di (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl di (meth) acrylate, and the like.
  • polymerizable compounds having a glycidyl group, an oxetane group, an alicyclic epoxy group, and the like include bisphenol A diglycidyl ether, bisphenol F diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, and hydrogenated bisphenol F.
  • Examples include diglycidyl ether, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, and trimethylolpropane triglycidyl ether.
  • a commercially available product can be suitably used as the polymerizable compound having a (meth) acryloyl group or a glycidyl group.
  • Examples of commercially available products containing these polymerizable compounds include: Maxive manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company, Nanopox 450 manufactured by EVONIK, Nanopox 500, Nanopox 630, Composeran 102 manufactured by Arakawa Chemical Industries, etc., Flep manufactured by Toray Fine Chemical Co., Ltd.
  • Preferred examples include Thiocol LP, series such as Loctite E-30CL manufactured by Henkel Japan, and series such as EPO-TEX353ND manufactured by Epoxy Technology.
  • the composition for forming the end face resin layer is a polymerizable composition containing no (meth) acryloyl group, vinyl group, glycidyl group, oxetane group, or alicyclic epoxy group, if necessary. You may contain.
  • the polymerizable compound not containing these functional groups is preferably 3 parts by mass or less when the total solid content of the composition is 100 parts by mass.
  • the metal layer is a layer mainly exhibiting gas barrier properties in the end face sealing layer 16 and is formed so as to cover the entire face resin layer (the whole face other than the face in contact with the end face of the functional layer laminate 11).
  • the material for forming the metal layer is not limited as long as it is a metal, but it is a metal layer formed by any one of sputtering, vacuum deposition, ion plating, plasma CVD, and metal plating. Preferably there is.
  • the material for forming the metal layer is at least one selected from the group consisting of aluminum, titanium, chromium, nickel, tin, copper, silver, and gold, or an alloy containing at least one of these. Is preferred.
  • the metal layer can be formed thick and high gas barrier properties can be secured, high productivity, and even if the surface of the end surface resin layer is curved, it can be easily formed on the entire surface of the end surface resin layer with a uniform thickness, etc.
  • the metal layer is preferably formed by metal plating.
  • a known method such as an electrolytic plating process or an electroless plating process can be used.
  • metal materials suitable for formation by electroless plating include nickel, copper, tin, and gold.
  • the thickness of the metal layer is preferably 1 ⁇ m to 100 ⁇ m, more preferably 5 ⁇ m to 50 ⁇ m, from the viewpoint of ensuring gas barrier properties and productivity.
  • a metal layer has few pinholes from a viewpoint of ensuring gas-barrier property.
  • the pinhole in the present invention means a non-covered portion (a missing portion of the metal layer) having a size of 1 ⁇ m or more, which is seen when the metal layer is observed with an optical microscope, and the shape thereof is a circle, a polygon or a line. Etc. are in any form.
  • the number of pinholes is preferably 50 / mm 2 or less, more preferably 20 / mm 2 or less, and particularly preferably 5 / mm 2 or less. The smaller the number of pinholes, the better. There is no particular lower limit.
  • the underlayer is a layer that is laminated on the end surface resin layer and serves as an underlayer for the metal layer.
  • the underlayer is provided when necessary when forming the metal layer according to the method of forming the metal layer.
  • a base layer having high conductivity is provided as a member that functions as an electrode (cathode) during the electrolytic plating.
  • an underlayer having high conductivity is used to increase the adhesion between the end surface of the functional layer laminate 11 and the plating formed by electroless plating. Is provided.
  • an underlayer having high conductivity there is no limitation on such an underlayer having high conductivity, and a resin containing conductive particles formed by a method of applying a conductive paint in which fine particles having high conductivity such as metal nanoparticles are dispersed.
  • a resin containing conductive particles formed by a method of applying a conductive paint in which fine particles having high conductivity such as metal nanoparticles are dispersed examples thereof include a layer and a layer having high conductivity such as a metal formed by a sputtering method, a vacuum deposition method, an ion plating method, a plasma CVD method, or the like.
  • the conductive paint used as the material for the underlayer include a plating primer mainly composed of palladium colloid (nuclear catalyst).
  • a material for forming a layer that can be formed by any of the sputtering method, the vacuum deposition method, the ion plating method, and the plasma CVD method a material composed of aluminum, titanium, chromium, copper, and nickel is used. At least one selected from the group consisting of at least one selected from the group consisting of aluminum, titanium, and chromium, or an alloy including at least one selected from these is preferable. Particularly preferred. It is presumed that by using a metal (aluminum, titanium, chromium) having a high ionization tendency, a metal oxide and a metal nitride are easily formed at the interface with the resin, so that the adhesion becomes high.
  • the base layer is preferably formed by a method of applying a conductive paint in terms of easy formation.
  • the thickness of the underlayer is not limited as long as the metal layer can be properly formed, but is preferably 0.1 ⁇ m to 1.0 ⁇ m from the viewpoint of adhesion between the end face resin layer and the metal layer, coverage, and the like.
  • end surface sealing layer 16 may have layers other than the layer mentioned above.
  • the end surface sealing layer 16 is composed of a plurality of layers, it is only necessary that at least the outermost layer is formed on the main surface of the functional layer laminate 11.
  • the third layer may be formed so as to cover the second layer on the main surface, and the first layer is formed on the main surface of the functional layer stack 11, and the first layer is formed on the main surface.
  • a second layer may be formed to cover the first layer, and a third layer may be formed to cover the second layer. That is, the climbing portion M may be formed only by the third layer, may be formed by the second layer and the third layer, and is formed by the first layer, the second layer, and the third layer. Also good.
  • the functional layer laminate 11 is produced.
  • the organic layer 24 is formed on the surface of the support 20 by a coating method or the like, and the inorganic layer 26 is formed on the surface of the organic layer 24 by plasma CVD or the like.
  • the organic layer 28 is formed on the surface of the inorganic layer 26 by a coating method or the like, and the gas barrier film 14 is produced.
  • the organic layer and the inorganic layer are preferably formed by so-called roll-to-roll. In the following description, roll-to-roll is also referred to as RtoR.
  • the composition used as the wavelength conversion layer 12 such as a quantum dot layer, containing the organic solvent, the compound which forms resin used as a matrix, and quantum dots is prepared.
  • Two gas barrier films 14 are prepared, and the composition to be the wavelength conversion layer 12 is applied to the surface of the organic layer 28 of one gas barrier film 14, and the organic layer 28 is further formed on the composition.
  • Another gas barrier film 14 is laminated toward the composition side, and ultraviolet curing or the like is performed to produce a laminate in which the gas barrier film 14 is laminated on both surfaces of the wavelength conversion layer 12.
  • the produced laminated body is cut into a predetermined size, and the functional layer laminated body 11 is produced.
  • various known methods such as a method of physically cutting using a blade such as a Thomson blade and a method of cutting by irradiating a laser can be used.
  • the end face sealing layer 16 described above is formed on the end face of the manufactured functional layer laminate 11. What is necessary is just to select the formation method of the end surface sealing layer 16 suitably according to the formation material.
  • a resin layer such as the oxygen barrier layer, the water vapor barrier layer, and the end face resin layer
  • a composition containing a compound that becomes the resin layer is prepared, and this composition is applied to the end face of the functional layer laminate 11. Then, the composition is dried, and if necessary, it is formed by polymerizing a compound mainly constituting the resin layer by ultraviolet irradiation or heating.
  • a method for applying the composition to the end surface of the functional layer laminate 11 a known method such as inkjet, spray coating, dipping (dip coating), or the like can be used.
  • a method by transfer of a liquid film shown in FIGS. 4A to 4C is exemplified.
  • a liquid film 31 of a composition to be a resin layer is formed on a flat plate 40 (for example, a glass plate or a bat).
  • the thickness H of the liquid film 31 may be appropriately set according to the thickness of the target resin layer, the solid content concentration in the composition, and the like.
  • the size of the liquid film 31 in the surface direction is not particularly limited as long as one end surface of the functional layer laminate 11 can be entirely contacted.
  • the length of one side of the liquid film 31 is a function. What is necessary is just to be longer than the length of the edge of the layer laminated body 11.
  • the functional layer laminate 11 is lifted vertically upward as shown in FIG. A predetermined amount of the composition that becomes the resin layer is adhered to the end face of the laminate 11.
  • vertical to the extension direction of an end surface of the composition adhering to the end surface of the functional layer laminated body 11 becomes a substantially circular shape by the surface tension of a composition.
  • the amount of immersion of the end surface in the liquid film 31 and the thickness H of the liquid film 31 are the thickness of the resin layer to be formed, the amount of climbing on the main surface of the functional layer laminate 11 (the width s of the climbing portion M). , Height t) and the like may be set as appropriate.
  • the composition attached to the end faces of the functional layer laminate 11 is dried, and irradiation with ultraviolet rays or heating is performed as necessary. To form a desired resin layer.
  • the functional layer laminate 11 is moved vertically upward to bring the liquid film 31 and the functional layer laminate 11 into contact.
  • the present invention is not limited to this, and the liquid film 31 (flat plate 40) may be moved vertically downward, or the functional layer laminate 11 and the liquid film 31 (flat plate 40) may be respectively moved. You may move.
  • the end surface of the functional layer laminate 11 is vertically contacted with the liquid film 31.
  • the structure is not limited to this as long as the liquid film 31 can be contacted.
  • the end surface of one functional layer laminate 11 is in contact with the liquid film 31, but the present invention is not limited to this. It is good also as a structure made to contact the liquid film 31 collectively.
  • the functional layer laminates 11 and the spacers are alternately laminated, and the functional layer laminates 11 are separated from each other in the liquid film 31 of the composition forming the end face sealing layer 16 in the same manner as described above.
  • the end surface sealing layer 16 may be formed on the end surface of each functional layer laminate 11 by contacting the end surfaces.
  • a liquid film 31 of the composition is formed on the flat plate 40, and the end face of the functional layer laminate 11 is brought into contact with the liquid film 31 to form a resin layer.
  • coated to the end surface of the functional layer laminated body 11 it is not limited to this.
  • the adhesion layer is formed on the end face of the functional layer laminate 11 by the application method described above.
  • the oxygen barrier layer is formed on the end surface (on the adhesion layer) of the functional layer laminate on which the adhesion layer is formed by the above-described application method, and the end surface (on the oxygen barrier layer) on which the oxygen barrier layer is further formed.
  • the water vapor barrier layer may be formed by the above coating method.
  • the end face resin layer is formed on the end face of the functional layer laminate 11 by the coating method.
  • a base layer is formed on the end face resin layer, and a metal layer is further formed on the base layer.
  • a sputtering method, a vacuum deposition method, an ion plating method, a plasma CVD method, a coating method, or the like can be used as a method for forming the underlayer.
  • a coating method by transferring a liquid film is preferably exemplified as in the case of the end face resin layer described above.
  • a conductive paint serving as a base layer is attached on the end surface resin layer by the same method as illustrated in FIGS. 4A to 4C on the functional layer laminate 11 on which the end surface resin layer is formed. Thereafter, the base layer can be formed by drying and curing.
  • electroless plating electrolytic plating, sputtering, vacuum deposition, ion plating, plasma CVD, and the like can be used as the method for forming the metal layer.
  • a method for the electroless plating treatment a conventionally known method can be used.
  • the end surface of the functional layer laminate 11 on which the end surface resin layer and the base layer are formed is immersed in an electroless plating solution.
  • a metal layer can be formed by depositing a metal film on the formation. Thereby, the laminated
  • multilayer film of this invention is not limited to the above-mentioned example, as mentioned above, by forming a resin layer by application
  • Example 1 As Example 1, a laminated film 10 having an end face sealing layer having a single layer structure was produced.
  • PET film manufactured by Toyobo Co., Ltd., trade name: Cosmo Shine A4300, thickness 50 ⁇ m, width 1000 mm, length 100 m
  • the organic layer 24 was formed on one surface of the support 20 as follows. First, a composition for forming the organic layer 24 was prepared. Specifically, trimethylolpropane triacrylate (TMPTA, manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd.) and a photopolymerization initiator (Lamberti Co., ESACUREKTO46) are prepared, and the mass ratio of TMPTA: photopolymerization initiator is 95: 5. Then, these were weighed and dissolved in methyl ethyl ketone to prepare a composition having a solid content concentration of 15%.
  • TMPTA trimethylolpropane triacrylate
  • ESACUREKTO46 photopolymerization initiator
  • an organic layer 24 was formed on one surface of the support 20 by a general film forming apparatus that forms a film by a coating method using RtoR.
  • the composition was applied to one surface of the support 20 using a die coater.
  • the coated support 20 was passed through a drying zone at 50 ° C. for 3 minutes, and then the composition was cured by irradiating with ultraviolet rays (integrated irradiation amount: about 600 mJ / cm 2 ) to form an organic layer 24.
  • a polyethylene film (PE film, manufactured by Sanei Kaken Co., Ltd., trade name: PAC2-30-T) was attached to the surface of the organic layer 24 as a protective film, conveyed, and wound.
  • the thickness of the formed organic layer 24 was 1 ⁇ m.
  • an inorganic layer 26 (silicon nitride (SiN) layer) was formed on the surface of the organic layer 24 using a CVD apparatus using RtoR.
  • the support 20 on which the organic layer 24 is formed is sent out from the feeder, and the protective film is peeled off after passing through the final film surface touch roll before forming the inorganic layer, and the inorganic layer is formed on the exposed organic layer 24 by plasma CVD. 26 was formed.
  • silane gas flow rate 160 sccm
  • ammonia gas flow rate 370 sccm
  • hydrogen gas flow rate 590 sccm
  • nitrogen gas (flow rate 240 sccm) were used as source gases.
  • a power source As a power source, a high frequency power source having a frequency of 13.56 MHz was used. The film forming pressure was 40 Pa. The formed inorganic layer 26 had a thickness of 50 nm. The flow rate expressed in unit sccm is a value converted to a flow rate (cc / min) at 1013 hPa and 0 ° C.
  • an organic layer 28 was laminated on the surface of the inorganic layer 26 as follows.
  • a composition for forming the organic layer 28 was prepared. Specifically, a urethane bond-containing acrylic polymer (manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., Acryt 8BR500, mass average molecular weight 250,000) and a photopolymerization initiator (BASF Irgacure 184) are prepared. These were weighed so that the mass ratio of the photopolymerization initiator was 95: 5 and dissolved in methyl ethyl ketone to prepare a composition having a solid content concentration of 15% by mass.
  • a urethane bond-containing acrylic polymer manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., Acryt 8BR500, mass average molecular weight 250,000
  • a photopolymerization initiator BASF Irgacure 184
  • an organic layer 28 was formed on the surface of the inorganic layer 26 by a general film forming apparatus for forming a film by a coating method using RtoR.
  • the composition was applied onto the inorganic layer 26 using a die coater.
  • the support 20 after coating was passed through a drying zone at 100 ° C. for 3 minutes to form an organic layer 28.
  • the gas barrier film 14 as shown in FIG. 2 formed by forming the organic layer 24, the inorganic layer 26, and the organic layer 28 on the support 20 was produced.
  • the thickness of the formed organic layer 24 was 1 ⁇ m.
  • the gas barrier film 14 was wound up after pasting the same polyethylene film on the surface of the organic layer 28 as a protective film in a pass roll immediately after drying the composition.
  • composition for forming a quantum dot layer as the wavelength conversion layer 12 having the following composition was prepared.
  • Composition of composition -Toluene dispersion of quantum dots 1 (luminescence maximum: 520 nm) 10 parts by mass-Toluene dispersion of quantum dots 2 (luminescence maximum: 630 nm) 1 part by weight-Lauryl methacrylate 2.4 parts by weight-Trimethylolpropane triacrylate 0. 54 parts by mass-Photopolymerization initiator (Irgacure 819, manufactured by BASF) 0.009 parts by mass As quantum dots 1 and 2, nanocrystals having the following core-shell structure (InP / ZnS) were used.
  • Quantum dot 1 INP530-10 (manufactured by NN-labs)
  • Quantum dot 2 INP620-10 (manufactured by NN-labs)
  • the viscosity of the prepared composition was 50 mPa ⁇ s.
  • a laminate in which the gas barrier films 14 were laminated on both surfaces of the wavelength conversion layer 12 was produced by a general film forming apparatus that forms a film by a coating method using RtoR. Two gas barrier films 14 were loaded into a predetermined position of the film forming apparatus and passed through. First, after peeling off the protective film of one gas barrier layer, the composition was applied to the surface of the organic layer 28 using a die coater. Next, after the protective film was peeled off from the other gas barrier film 14, the organic layer 28 was directed to the composition and the gas barrier film 14 was laminated.
  • the composition obtained by curing the composition by irradiating the laminated body sandwiching the composition to be the wavelength conversion layer 12 with the gas barrier film 14 with ultraviolet rays forms the wavelength conversion layer 12.
  • a laminate in which the gas barrier film 14 was laminated on both surfaces of the wavelength conversion layer 12 was produced.
  • the thickness of the wavelength conversion layer 12 was 46 ⁇ m
  • the thickness T of the laminate was 150 ⁇ m.
  • the prepared laminate was cut into a sheet of 50 mm ⁇ 100 mm using a Thomson blade with a blade edge angle of 17 ° to obtain a functional layer laminate 11.
  • ⁇ Formation of end face sealing layer As a composition for forming the end face sealing layer 16, a composition having a solid content of the following composition was prepared. In addition, a composition is a mass part when the whole solid content is 100 mass parts. ⁇ Two-component thermosetting epoxy resin (M-100 manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) 32 parts by mass ⁇ Two-component thermosetting epoxy resin curing agent (Mitsubishi Gas Chemical Co., C-93) 68 parts by mass-1-butanol 60 parts by mass
  • the prepared composition was applied on the flat plate 40 to form a liquid film 31 having a thickness of 1000 ⁇ m.
  • the end surface of the functional layer laminate 11 is brought into contact with the liquid film 31 so as to be pressed by 300 ⁇ m, and then lifted vertically upward to adhere a predetermined amount of the composition to the end surface. It was. Then, it dried and hardened for 10 minutes at 80 degreeC, the end surface sealing layer 16 was formed, and the laminated
  • the end face sealing layer 16 covered a part of the gas barrier layer 14 and the optical functional layer 12 over the entire end face of the functional layer laminate 11.
  • the sample of the produced laminated film 10 was cut with a retotome REM-710 manufactured by Daiwa Koki Kogyo Co., Ltd., the cross section was observed with an optical microscope, the width s of the rising portion M of the end face sealing layer 16 and the main surface As a result, the width s was 3.8 mm, and the height t from the main surface was 33 ⁇ m. Moreover, the thickness of the end surface sealing layer was 47 ⁇ m. Therefore, the width s of the climbing portion M is 7.6% of the length of the main surface, and the height t from the main surface is 22% of the thickness of the functional layer laminate 11.
  • a sample for measuring oxygen permeability having a thickness of 100 ⁇ m was prepared on a biaxially stretched polyester film (Lumirror T60, manufactured by Toray Industries, Inc.) in the same manner as the end face sealing layer 16.
  • the oxygen permeability measurement sample was peeled from the polyester film, and measured using an APIMS method (atmospheric pressure ionization mass spectrometry) (manufactured by Japan API Corporation) at a temperature of 25 ° C. and a humidity of 60% RH. Under conditions, oxygen permeability was measured.
  • the oxygen permeability of the sample for measuring oxygen permeability that is, the end face sealing layer 16 was 0.9 cc / (m 2 ⁇ day ⁇ atm).
  • Example 1 A laminated film was produced in the same manner as in Example 1 except that the end face sealing layer was not formed.
  • Example 2 The coating conditions of the end surface sealing layer 16 were the same as in Example 1 except that the thickness of the liquid film 31 was changed to 50 ⁇ m and the end surface of the functional layer laminate 11 was brought into contact with the liquid film 31 so as to be pushed into the liquid film 31 by 5 ⁇ m. Thus, a laminated film was produced.
  • the width s and the height t from the main surface of the rising portion M of the end surface sealing layer 16 of the produced laminated film 10 were measured, the width s was 0.008 mm and the height t from the main surface was 1 ⁇ m. It was. Moreover, the thickness of the end surface sealing layer was 40 ⁇ m.
  • the width s of the climbing portion M was less than 0.01 mm, and the height t from the main surface was 0.7% of the thickness of the functional layer laminate 11.
  • the oxygen permeability of the end face sealing layer 16 was 1.0 cc / (m 2 ⁇ day ⁇ atm).
  • Example 3 The coating conditions of the end surface sealing layer 16 were the same as in Example 1 except that the thickness of the liquid film 31 was changed to 1000 ⁇ m and the end surface of the functional layer laminate 11 was brought into contact with the liquid film 31 so as to be pressed by 500 ⁇ m. Thus, a laminated film was produced.
  • the width s of the rising portion M and the height t from the main surface of the end surface sealing layer 16 of the produced laminated film 10 were measured, the width s was 4.3 mm, and the height t from the main surface was 45 ⁇ m. It was. Moreover, the thickness of the end surface sealing layer was 48 ⁇ m.
  • the width s of the climbing portion M is 8.6% of the length of the main surface, and the height t from the main surface is 30% of the thickness of the functional layer laminate 11.
  • the oxygen permeability of the end face sealing layer 16 was 1.0 cc / (m 2 ⁇ day ⁇ atm).
  • Example 2 The coating conditions of the end surface sealing layer 16 were the same as in Example 1 except that the thickness of the liquid film 31 was changed to 500 ⁇ m and the end surface of the functional layer laminate 11 was brought into contact with the liquid film 31 so as to be pressed by 400 ⁇ m. Thus, a laminated film was produced.
  • the width s and the height t from the main surface of the end portion sealing layer 16 of the produced laminated film 10 were measured, the width s was 1.0 mm and the height t from the main surface was 14 ⁇ m. It was. Moreover, the thickness of the end surface sealing layer was 29 ⁇ m.
  • the width s of the climbing portion M is 2% of the length of the main surface, and the height t from the main surface is 19% of the thickness of the functional layer laminate 11.
  • the oxygen permeability of the end face sealing layer 16 was 1.0 cc / (m 2 ⁇ day ⁇ atm).
  • Example 3 As Example 3, a laminated film 10 was produced in the same manner as Example 1 except that a two-layer end face sealing layer was formed.
  • end face sealing layer 16 composed of two layers was formed on the end face of the functional layer laminate 11.
  • coating method by the transfer similar to the end surface sealing layer of Example 1 was respectively used.
  • the thickness of the first layer was 2 ⁇ m
  • the thickness of the second layer was 30 ⁇ m, for a total of 32 ⁇ m.
  • Second layer >> 2 parts by mass of a two-component thermosetting epoxy resin (Henkel Japan, E-30CL) 1 part of a two-component thermosetting epoxy resin (H-30CL, E-30CL) 1 mass -1-butanol 97 parts by mass
  • Second layer >> ⁇ Polyvinyl alcohol resin (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., G polymer: OKS-8049) 40 parts by mass ⁇ Pure water 44 parts by mass ⁇ 2-propanol 16 parts by mass
  • the width s and the height t from the main surface of the end portion sealing layer 16 of the produced laminated film 10 were measured, the width s was 0.5 mm and the height t from the main surface was 16 ⁇ m. It was. Therefore, the width s of the climbing portion M is 1% of the length of the main surface, and the height t from the main surface is 11% of the thickness of the functional layer laminate 11. Further, the oxygen permeability of the end face sealing layer 16 was 0.01 cc / (m 2 ⁇ day ⁇ atm).
  • Example 4 A laminated film was produced in the same manner as in Example 3 except that the end face sealing layer 16 was formed by laminating a diffusion layer on one surface of the functional layer laminate 11.
  • the diffusion layer was formed as follows.
  • the following light diffusion layer coating solution 1 was filtered through a polypropylene filter having a pore diameter of 30 ⁇ m to prepare a light diffusion layer coating solution.
  • Coating solution for light diffusion layer 1 ⁇ DPHA 15g PET-30 73g Irgacure 184 1g Irgacure 127 1g Particle size 5.0 ⁇ m Styrene particles 8g Particle size 1.5 ⁇ m benzoguanamine particles 2g MEK (methyl ethyl ketone) 50g MIBK (methyl isobutyl ketone) 50g ⁇
  • DPHA Mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate [manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.] PET-30: Pentaerythritol triacrylate [manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.] ⁇ Irgacure 127: Polymerization initiator [Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.] ⁇ Irgacure 184: Polymerization initiator [Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.]
  • the light diffusion layer coating solution was directly extruded and coated using a general die coater. After coating at a transfer speed of 30 m / min and drying at 30 ° C. for 15 seconds and 90 ° C. for 20 seconds, an air-cooled metal halide lamp with an oxygen concentration of 0.2% under nitrogen purge (Igraphics Corporation) )), The coating layer was cured by irradiating with an ultraviolet ray with a dose of 90 mJ / cm 2 to form a diffusion layer. The thickness of the obtained diffusion layer was 8.0 ⁇ m. Thereafter, the end face sealing layer 16 was formed in the same manner as in Example 3.
  • the width s and the height t from the main surface of the end portion sealing layer 16 of the produced laminated film 10 were measured, the width s was 0.5 mm and the height t from the main surface was 16 ⁇ m. It was. Therefore, the width s of the climbing portion M is 1% of the length of the main surface, and the height t from the main surface is 11% of the thickness of the functional layer laminate 11. Further, the oxygen permeability of the end face sealing layer 16 was 0.01 cc / (m 2 ⁇ day ⁇ atm).
  • Example 5 The coating conditions of the end surface sealing layer 16 are the same as in Example 1 except that the thickness of the liquid film 31 is changed to 50 ⁇ m and the end surface of the functional layer laminate 11 is brought into contact with the liquid film 31 so as to be pressed by 30 ⁇ m. Thus, a laminated film was produced.
  • the width s and height t from the main surface of the rising portion M of the end surface sealing layer 16 of the produced laminated film 10 were measured, the width s was 0.05 mm, and the height t from the main surface was 3 ⁇ m. It was. Moreover, the thickness of the end surface sealing layer was 41 ⁇ m.
  • the width s of the climbing portion M is 0.1% of the length of the main surface, and the height t from the main surface is 2.0% of the thickness of the functional layer laminate 11.
  • the oxygen permeability of the end face sealing layer 16 was 1.0 cc / (m 2 ⁇ day ⁇ atm).
  • the barrier property of the end face sealing layer was evaluated by measuring the degree of performance degradation at the end.
  • the initial luminance (Y0) of the laminated film was measured by the following procedure.
  • a commercially available tablet device (Amazon Kindle (registered trademark) Fire HDX 7 ”) was disassembled and the backlight unit was taken out.
  • a laminated film was placed on the light guide plate of the taken out backlight unit, and the orientation was placed on it.
  • the change rate ( ⁇ Y) of the luminance (Y1) after the high-temperature and high-humidity test with respect to the initial luminance value (Y0) was calculated, and evaluated as the luminance change index according to the following criteria.
  • ⁇ Y [%] (Y0 ⁇ Y1) / Y0 ⁇ 100 A: ⁇ Y ⁇ 5% B: 5% ⁇ Y ⁇ 15% C: 15% ⁇ ⁇ Y
  • the laminated film of the present invention has a reduced non-light emitting region at the end compared to the comparative example, and the quantum dot ( It can be seen that the deterioration of the optical functional layer) can be prevented. Moreover, it turns out from the comparison with Example 1 and Example 2 that barrier property can be improved more by making an end surface sealing layer into 2 layer structure. Further, it can be seen from the comparison between Example 2 and Example 3 that the width s of the climbing portion M is preferably 5% or less. Further, from the comparison with Examples 1 to 4, it can be seen that the height t from the main surface is preferably 10% or less. From the above results, the effects of the present invention are clear.

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Abstract

量子ドット層等の波長変換層を有する積層フィルムにおいて、端面からの酸素等の浸入による波長変換層の劣化を抑制できる積層フィルムを提供する。波長変換層（１２）と、波長変換層の両主面それぞれに積層され挟持するガスバリアフィルム（１４）とを有する機能層積層体、および、機能層積層体の一方の主面の一部から端面全体および他方の主面の一部までを覆う端面封止層（１６）を有し、端面封止層の、機能層積層体の主面上に形成される乗り上がり部の、端面からの幅（ｓ）が０．０１ｍｍ以上で、かつ、主面の長さの８％以下である。

Description

積層フィルム
　本発明は、液晶表示装置のバックライト等に用いられる積層フィルムおよび積層フィルムの製造方法に関する。
　液晶表示装置（以下、ＬＣＤともいう）は、消費電力が小さく、省スペースの画像表示装置として年々その用途が広がっている。また、近年の液晶表示装置において、ＬＣＤ性能改善としてさらなる省電力化、色再現性向上等が求められている。
　ＬＣＤに対する省電力化の要求に伴って、バックライト（バックライトユニット）における光利用効率を高め、また、色再現性を向上するために、入射光の波長を変換して出射する量子ドットを、バックライトに利用することが提案されている。
　量子ドットとは、三次元全方向において移動方向が制限された電子の状態のことであり、半導体のナノ粒子が、高いポテンシャル障壁で三次元的に囲まれている場合に、このナノ粒子は量子ドットとなる。量子ドットは種々の量子効果を発現する。例えば、電子の状態密度（エネルギー準位）が離散化される「量子サイズ効果」が発現する。この量子サイズ効果によれば、量子ドットの大きさを変化させることで、光の吸収波長や発光波長を制御できる。
　量子ドットは、一般的に、アクリル樹脂やエポキシ樹脂等の樹脂からなるマトリックスに分散されて量子ドット層とされ、例えば、波長変換を行う量子ドットフィルムとして、バックライトと液晶パネルとの間に配置されて用いられる。
　バックライトから量子ドットフィルムに励起光が入射すると、量子ドットが励起され蛍光を発光する。ここで異なる発光特性を有する量子ドットを用いることで、赤色光、緑色光、青色光の半値幅の狭い光を発光させて白色光を具現化することができる。量子ドットによる蛍光は半値幅が狭いため、波長を適切に選択することで得られる白色光を高輝度にしたり色再現性に優れる設計にすることが可能である。
　ところで、量子ドットは、酸素等によって劣化しやすく、光酸化反応により発光強度が低下するという課題がある。そのため、量子ドットフィルムでは、量子ドット層の両面にガスバリアフィルムを積層して量子ドット層を保護することが行われている。
　しかしながら、量子ドット層の両面をガスバリアフィルムで挟持するのみでは、ガスバリアフィルムで覆われていない端面から量子ドット層に水分や酸素が浸入し、量子ドットが劣化するという問題があった。
　そのため、量子ドット層の両面に加え、量子ドット層の周辺もガスバリアフィルム等で封止することが提案されている。
　例えば、特許文献１には、量子ドット蛍光体を濃度０．０～２０質量％の範囲でシク口オレフィン(共)重合体に分散させた組成物が記載されており、量子ドットが分散された樹脂成型体の全面を被覆するガスバリア層を有する構成が記載されている。また、このガスバリア層は、樹脂層の少なくとも一方の面にシリカ膜またはアルミナ膜を形成したガスバリアフィルムであることが記載されている。
　特許文献２には、発光量子ドット（ＱＤ）集団を含むリモート蛍光体フィルムを備えるディスプレイバックライトユニットが記載されており、ＱＤ蛍光体材料を２つのガスバリアフィルムで挟み、ＱＤ蛍光体材料の周囲周辺の２つのガスバリアフィルムに挟まれた領域にガスバリア性を有する不活性領域を有する構成が記載されている。
　特許文献３には、光源部から発せられた色光の少なくとも一部を他の色光に変換する色変換層と、色変換層を封止する不透水性の封止シートとを備えた発光装置が記載されており、蛍光体層の外周に沿って、すなわち蛍光体層の平面形状を囲むように枠形状に設けられている第２貼合層を有し、この第２貼合層がガスバリア性を有する接着材料からなる構成が記載されている。
　さらに、特許文献４には、量子ドット層（波長変換部）と、量子ドット層を密封するシリコーン等からなる密封部材を有する量子点波長変換体において、量子ドット層を密封部材で挟み、かつ、量子ドット層の周辺において密封部材同士を貼着する構成が記載されている。
国際公開第２０１２／１０２１０７号 特表２０１３－５４４０１８号公報 特開２００９－２８３４４１号公報 特開２０１０－６１０９８号公報
　ところで、ＬＣＤに用いられる、量子ドットを含む積層フィルムは、５０μｍ～３５０μｍ程度の薄型のフィルムである。
　特許文献１のように、薄い量子ドット層の全面をガスバリアフィルムで被覆するのは非常に困難であり、生産性が悪いという問題があった。また、ガスバリアフィルムを折り曲げるとバリア層が割れてガスバリア性が低下するという問題もあった。
　一方、特許文献２および３のように、２つのガスバリアフィルムで挟まれた、量子ドット層の端面領域に、ガスバリア性を有する保護層を形成する構成の場合、いわゆるダムフィル方式の積層フィルムは、一方のガスバリアフィルム上の周縁部分に保護層を形成した後に、保護層に囲まれた領域内に樹脂層を形成し、その後、保護層および樹脂層上に、他方のガスバリアフィルムを積層して作製されるが、全工程がバッチ方式となるため生産性が極めて悪いという問題があった。また、保護層の幅が厚くなってしまい、端部に量子ドット層が形成されないため、有効に利用できる領域の大きさが小さくなり、額縁部分が大きくなってしまうという問題があった。
　また、特許文献４のように、量子ドット層を挟む２つのガスバリアフィルムの端部の開口を狭くして、密封する構成では、端部での量子ドット層の厚さが薄くなってしまうため、ディスプレイ用途では均一な厚さを持つ量子ドット層を有効に利用できる領域の大きさが小さくなり、額縁部分が大きくなってしまうという問題があった。また、一般に、高いガスバリア性を備えるバリア層は、硬く脆いため、このようなバリア層を有するガスバリアフィルムを、急に湾曲させると、バリア層が割れてしまい、ガスバリア性が低下するという問題があった。
　本発明の目的は、このような従来技術の問題点を解決することにあり、量子ドット層等の波長変換層を有する積層フィルムにおいて、有効に利用できる領域の大きさを維持しつつ、端面からの酸素等の浸入による波長変換層の劣化を抑制できる積層フィルムを提供することにある。
　本発明者は、上記課題を達成すべく鋭意研究した結果、波長変換層と、波長変換層の両主面それぞれに積層され挟持するガスバリアフィルムとを有する機能層積層体、および、機能層積層体の一方の主面の一部から端面全体および他方の主面の一部までを覆う端面封止層を有し、端面封止層の、機能層積層体の主面上に形成される乗り上がり部の、端面からの幅が０．０１ｍｍ以上で、かつ、主面の長さの８％以下であることにより、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させた。
　すなわち、本発明は以下の構成の積層フィルムを提供する。
　（１）　波長変換層と、波長変換層の両主面それぞれに積層され挟持するガスバリアフィルムとを有する機能層積層体、および、
　機能層積層体の一方の主面の一部から端面全体および他方の主面の一部までを覆う端面封止層を有し、
　端面封止層の、機能層積層体の主面上に形成される乗り上がり部の、端面からの幅が０．０１ｍｍ以上で、かつ、主面の長さの８％以下である積層フィルム。
　（２）　端面封止層の、主面に垂直な方向における主面からの高さが、機能層積層体の厚さの０％超２０％以下である（１）に記載の積層フィルム。
　（３）　端面封止層が、多層である（１）または（２）に記載の積層フィルム。
　（４）　機能層積層体は、少なくとも一方のガスバリアフィルム上に拡散層を有する（１）～（３）のいずれかに記載の積層フィルム。
　このような本発明によれば、量子ドット層等の波長変換層を有する積層フィルムにおいて、端面からの酸素等の浸入による波長変換層の劣化を抑制できる積層フィルムを提供できる。
本発明の積層フィルムの一例を概念的に示す断面図である。 本発明の積層フィルムに用いられるガスバリアフィルムの一例を概念的に示す断面図である。 端面封止層を拡大して示す断面図である。 本発明の積層フィルムの製造方法を説明するための概念図である。 本発明の積層フィルムの製造方法を説明するための概念図である。 本発明の積層フィルムの製造方法を説明するための概念図である。
　以下、本発明の積層フィルムについて、添付の図面に示される好適実施形態を基に、詳細に説明する。
　以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
　なお、本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
　図１は、本発明の積層フィルムの一例を概念的に示す断面図である。
　図１に示す積層フィルム１０は、波長変換層１２と、２つのガスバリアフィルム１４と、端面封止層１６とを有する。図１に示すように、積層フィルム１０は、シート状の波長変換層１２の両面（両主面）それぞれに、ガスバリアフィルム１４を積層し、波長変換層１２をガスバリアフィルム１４で挟持した機能層積層体１１の端面の全面を、端面封止層１６で覆った構成を有するものである。
　図示例においては、端面封止層１６は、機能層積層体１１の端面側から第１層３０、第２層３２および第３層３４の３層が積層された構成である。
　ここで、端面封止層１６は、機能層積層体１１の一方の主面の一部から端面全体および他方の主面の一部までを覆っている。また、端面封止層１６の、機能層積層体１１の主面上に形成される部位を乗り上がり部Ｍとすると、乗り上がり部Ｍの、端面からの幅が０．０１ｍｍ以上で、かつ、主面の長さの８％以下である。
　波長変換層１２は、波長変換の機能を発現するための層で、例えば、四角形の平面形状を有するシート状物である。
　波長変換層１２は、量子ドット層などの入射した光を波長変換して出射する機能を発現する、各種の層が利用可能である。
　中でも、端面封止層１６を有することで、端面から侵入する酸素や水などに起因する光学機能材料の劣化を防止できるという、本発明の積層フィルムの特徴を十分に発現できる等の点で、車載などの高温高湿等の様々な環境下での使用が想定されるＬＣＤ等に利用され、かつ、酸素による量子ドットの劣化が大きな問題となる量子ドット層は、波長変換層１２として好適に利用される。
　量子ドット層は、一例として、多数の量子ドットを樹脂等のマトリックス中に分散してなる層であり、波長変換層１２に入射した光の波長を変換して出射する機能を有するものである。
　例えば、図示しないバックライトから出射された青色光が波長変換層１２に入射すると、波長変換層１２は、内部に含有する量子ドットの効果により、この青色光の少なくとも一部を赤色光あるいは緑色光に波長変換して出射する。
　ここで、青色光とは、４００～５００ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する光であり、緑色光とは、５００～６００ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する光のことであり、赤色光とは、６００ｎｍを超え６８０ｎｍ以下の波長帯域に発光中心波長を有する光のことである。
　なお、量子ドット層が発現する波長変換の機能は、青色光を赤色光あるいは緑色光に波長変換する構成に限定はされず、入射光の少なくとも一部を異なる波長の光に変換するものであればよい。
　量子ドットは、少なくとも、入射する励起光により励起され蛍光を発光する。
　量子ドット層に含有される量子ドットの種類には特に限定はなく、求められる波長変換の性能等に応じて、種々の公知の量子ドットを適宜選択すればよい。
　量子ドットについては、例えば特開２０１２－１６９２７１号公報の段落００６０～００６６を参照することができるが、ここに記載のものに限定されるものではない。量子ドットとしては、市販品を何ら制限なく用いることができる。量子ドットの発光波長は、通常、粒子の組成、サイズにより調整することができる。
　量子ドットは、マトリックス中に均一に分散されるのが好ましいが、マトリックス中に偏りをもって分散されてもよい。
　また、量子ドットは、１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
　２種以上の量子ドットを併用する場合は、互いの発光光の波長が異なる量子ドットを使用してもよい。
　具体的には、公知の量子ドットには、６００～６８０ｎｍの範囲の波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ａ）、５００～６００ｎｍの範囲の波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ｂ）、４００～５００ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ｃ）があり、量子ドット（Ａ）は、励起光により励起され赤色光を発光し、量子ドット（Ｂ）は緑色光を、量子ドット（Ｃ）は青色光を発光する。例えば、量子ドット（Ａ）と量子ドット（Ｂ）を含む量子ドット含有積層体へ励起光として青色光を入射させると、量子ドット（Ａ）により発光される赤色光、量子ドット（Ｂ）により発光される緑色光と、量子ドット層を透過した青色光により、白色光を具現化することができる。または、量子ドット（Ａ）、（Ｂ）、および（Ｃ）を含む量子ドット層に励起光として紫外光を入射させることにより、量子ドット（Ａ）により発光される赤色光、量子ドット（Ｂ）により発光される緑色光、および量子ドット（Ｃ）により発光される青色光により、白色光を具現化することができる。
　また、量子ドットとして、形状がロッド状で指向性を持ち偏光を発する、いわゆる量子ロッドや、テトラポッド型量子ドットを用いてもよい。
　量子ドット層のマトリックスの種類としては、特に限定はなく、公知の量子ドット層で用いられる各種の樹脂を用いることができる。
　例えば、ポリエステル系樹脂（例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、（メタ）アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂などが挙げられる。あるいは、マトリックスとして、重合性基を有する硬化性化合物を用いることができる。重合性基の種類は、限定はないが、好ましくは、（メタ）アクリレート基、ビニル基またはエポキシ基であり、より好ましくは、（メタ）アクリレート基であり、特に好ましくは、アクリレート基である。また、２つ以上の重合性基を有する重合性単量体は、それぞれの重合性基が同一であってもよいし、異なっていても良い。
　具体的なマトリックスとしては、一例として、以下の第１の重合性化合物と第２の重合性化合物とを含む樹脂が例示される。
　第１の重合性化合物は、２官能以上の（メタ）アクリレートモノマー、ならびにエポキシ基およびオキセタニル基からなる群から選択される官能基を２つ以上有するモノマーからなる群から選択される1つ以上の化合物であるのが好ましい。
　２官能以上の（メタ）アクリレートモノマーのうち、２官能の（メタ）アクリレートモノマーとしては、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート等が好ましい例として挙げられる。
　また、２官能以上の（メタ）アクリレートモノマーのうち、３官能以上の（メタ）アクリレートモノマーとしては、ＥＣＨ変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ＥＯ変性リン酸トリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等が好ましい例として挙げられる。
　エポキシ基およびオキセタニル基からなる群から選択される官能基を２つ以上有するモノマーとしては、例えば、脂肪族環状エポキシ化合物、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、１,４－ブタンジオールジグリシジルエーテル、１,６－ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル類；エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリンなどの脂肪族多価アルコールに１種または２種以上のアルキレンオキサイドを付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル類；脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル類；高級脂肪酸のグリシジルエステル類；エポキシシクロアルカンを含む化合物等が好適に用いられる。
　エポキシ基およびオキセタニル基からなる群から選択される官能基を２つ以上有するモノマーとして好適に使用できる市販品としては、株式会社ダイセルのセロキサイド２０２１Ｐ、セロキサイド８０００、シグマアルドリッチ社製の４－ビニルシクロヘキセンジオキシド等が挙げられる。これらは、１種単独で、または２種以上組み合わせて用いることができる。
　また、エポキシ基およびオキセタニル基からなる群から選択される官能基を２つ以上有するモノマーはその製法は問わないが、例えば、丸善ＫＫ出版、第四版実験化学講座２０有機合成II、２１３～、平成４年、Ed.by Alfred Hasfner,The chemistry of heterocyclic compounds－Small Ring Heterocycles part3 Oxiranes,John & Wiley and Sons,An Interscience Publication,New York,1985、吉村、接着、２９巻１２号、３２、１９８５、吉村、接着、３０巻５号、４２、１９８６、吉村、接着、３０巻７号、４２、１９８６、特開平１１－１００３７８号公報、特許第２９０６２４５号公報、特許第２９２６２６２号公報などの文献を参考にして合成できる。
　第２の重合性化合物は、分子中に水素結合性を有する官能基を有し、かつ、第１の重合性化合物と重合反応できる重合性基を有する。
　水素結合性を有する官能基としては、ウレタン基、ウレア基、またはヒドロキシル基等が挙げられる。
　第１の重合性化合物と重合反応できる重合性基としては、例えば、第１の重合性化合物が２官能以上の（メタ）アクリレートモノマーであるときは（メタ）アクリロイル基であればよく、第１の重合性化合物がエポキシ基およびオキセタニル基からなる群から選択される官能基を２つ以上有するモノマーであるときはエポキシ基またはオキセタニル基であればよい。
　ウレタン基を含む（メタ）アクリレートモノマーとしては、ＴＤＩ、ＭＤＩ、ＨＤＩ、ＩＰＤＩ、ＨＭＤＩ等のジイソシアナートとポリ（プロピレンオキサイド）ジオール、ポリ（テトラメチレンオキサイド）ジオール、エトキシ化ビスフェノールＡ、エトキシ化ビスフェノールＳスピログリコール、カプロラクトン変性ジオール、カーボネートジオール等のポリオール、および２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリシドールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート等のヒドロキシアクリレートを反応させて得られるモノマー、オリゴマーであり、特開２００２－２６５６５０公報や、特開２００２－３５５９３６号公報、特開２００２－０６７２３８号公報等に記載の多官能ウレタンモノマーを挙げることができる。具体的には、ＴＤＩとヒドロキシエチルアクリレートとの付加物、ＩＰＤＩとヒドロキシエチルアクリレートとの付加物、ＨＤＩとペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）との付加物、ＴＤＩとＰＥＴＡとの付加物を作り残ったイソシアナートとドデシルオキシヒドロキシプロピルアクリレートを反応させた化合物、６，６ナイロンとＴＤＩの付加物、ペンタエリスリトールとＴＤＩとヒドロキシエチルアクリレートの付加物等をあげることができるが、これに限定されるものではない。
　ウレタン基を含む（メタ）アクリレートモノマーとして好適に使用できる市販品としては、共栄社化学株式会社製のＡＨ－６００、ＡＴ－６００、ＵＡ－３０６Ｈ、ＵＡ－３０６Ｔ、ＵＡ－３０６Ｉ、ＵＡ－５１０Ｈ、ＵＦ－８００１Ｇ、ＤＡＵＡ－１６７、新中村化学工業株式会社製のＵＡ－１６０ＴＭ、大阪有機化学工業株式会社製のＵＶ－４１０８Ｆ、ＵＶ－４１１７Ｆ等が挙げられる。これらは、１種単独で、または２種以上組み合わせて用いることができる。
　ヒドロキシル基を含む（メタ）アクリレートモノマーとしては、エポキシ基を有する化合物と（メタ）アクリル酸との反応により合成される化合物を挙げることができる。代表的なものは、エポキシ基を有する化合物により、ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＳ型、ビスフェノールＦ型、エポキシ化油型、フェノールのノボラック型、脂環型に分類される。具体的な例としては、ビスフェノールＡとエピクロルヒドリンの付加物に（メタ）アクリル酸を反応させた（メタ）アクリレート、フェノールノボラックにエピクロロヒドリンを反応させ、（メタ）アクリル酸を反応させた（メタ）アクリレート、ビスフェノールＳとエピクロロヒドリンの付加物に（メタ）アクリル酸を反応させた（メタ）アクリレート、ビスフェノールＳとエピクロロヒドリンの付加物に（メタ）アクリル酸を反応させた（メタ）アクリレート、エポキシ化大豆油に（メタ）アクリル酸を反応させた（メタ）アクリレート等を挙げることができる。また、ヒドロキシル基を含む（メタ）アクリレートモノマーとして他には、末端にカルボキシ基、またはリン酸基を有する（メタ）アクリレートモノマー等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
　ヒドロキシル基を含む第２の重合性化合物として好適に使用できる市販品としては、共栄社化学株式会社製のエポキシエステル、Ｍ－６００Ａ、４０ＥＭ、７０ＰＡ、２００ＰＡ、８０ＭＦＡ、３００２Ｍ、３００２Ａ、３０００ＭＫ、３０００Ａ、日本化成株式会社製の４－ヒドロキシブチルアクリレート、新中村化学工業株式会社製の単官能アクリレートＡ－ＳＡ、単官能メタクリレートＳＡ、ダイセル・オルネクス株式会社製の単官能アクリレートβ－カルボキシエチルアクリレート、城北化学工業株式会社製のＪＰＡ－５１４等が挙げられる。これらは、１種単独で、または２種以上組み合わせて用いることができる。
　第１の重合性化合物と第２の重合性化合物との質量比は１０：９０～９９：１であればよく、１０：９０～９０：１０であることが好ましい。第２の重合性化合物の含有量に対し第１の重合性化合物の含有量が多いことも好ましく、具体的には（第１の重合性化合物の含有量）／（第２の重合性化合物の含有量）が２～１０であることが好ましい。
　第１の重合性化合物と第２の重合性化合物とを含む樹脂をマトリックスとして用いる場合には、マトリックス中に、さらに単官能（メタ）アクリレートモノマーを含むことが好ましい。単官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、アクリル酸およびメタクリル酸、それらの誘導体、より詳しくは、（メタ）アクリル酸の重合性不飽和結合（（メタ）アクリロイル基）を分子内に１個有するモノマーを挙げることができる。それらの具体例として以下に化合物を挙げるが、本発明はこれに限定されるものではない。
　メチル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、ｎ－オクチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート等のアルキル基の炭素数が１～３０であるアルキル（メタ）アクリレート；ベンジル（メタ）アクリレート等のアラルキル基の炭素数が７～２０であるアラルキル（メタ）アクリレート；ブトキシエチル（メタ）アクリレート等のアルコキシアルキル基の炭素数が２～３０であるアルコキシアルキル（メタ）アクリレート；Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート等の（モノアルキルまたはジアルキル）アミノアルキル基の総炭素数が１～２０であるアミノアルキル（メタ）アクリレート；ジエチレングリコールエチルエーテルの（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールブチルエーテルの（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールモノメチルエーテルの（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノメチルエーテルの（メタ）アクリレート、オクタエチレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ノナエチレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ヘプタプロピレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールのモノエチルエーテル（メタ）アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が１～１０で末端アルキルエーテルの炭素数が１～１０のポリアルキレングリコールアルキルエーテルの（メタ）アクリレート；ヘキサエチレングリコールフェニルエーテルの（メタ）アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が１～３０で末端アリールエーテルの炭素数が６～２０のポリアルキレングリコールアリールエーテルの（メタ）アクリレート；シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、メチレンオキシド付加シクロデカトリエン（メタ）アクリレート等の脂環構造を有する総炭素数４～３０の（メタ）アクリレート；ヘプタデカフロロデシル（メタ）アクリレート等の総炭素数４～３０のフッ素化アルキル（メタ）アクリレート；２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールのモノ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、オクタプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、グリセロールのモノまたはジ（メタ）アクリレート等の水酸基を有する（メタ）アクリレート；グリシジル（メタ）アクリレート等のグリシジル基を有する（メタ）アクリレート；テトラエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、オクタプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が１～３０のポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート；(メタ)アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチル(メタ)アクリルアミド、N－イソプロピル(メタ)アクリルアミド、２－ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、アクリロイルモルホリン等の(メタ)アクリルアミドなどが挙げられる。
　単官能（メタ）アクリレートモノマーは第１の重合性化合物と第２の重合性化合物との総質量１００質量部に対して、１～３００質量部含まれていることが好ましく、５０～１５０質量部含まれていることがより好ましい。
　また、炭素数４～３０の長鎖アルキル基を有する化合物を含むことが好ましい。具体的には第１の重合性化合物、第２の重合性化合物、または単官能（メタ）アクリレートモノマーの少なくともいずれかが、炭素数４～３０の長鎖アルキル基を有することが好ましい。上記長鎖アルキル基は炭素数１２～２２の長鎖アルキル基であることがより好ましい。これにより、量子ドットの分散性が向上するからである。量子ドットの分散性が向上するほど、光変換層から出射面に直行する光量が増えるため、正面輝度および正面コントラストの向上に有効である。
　炭素数４～３０の長鎖アルキル基を有する単官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、具体的には、ブチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、オレイル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベヘニル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリルアミド、オクチル（メタ）アクリルアミド、ラウリル（メタ）アクリルアミド、オレイル（メタ）アクリルアミド、ステアリル（メタ）アクリルアミド、ベヘニル（メタ）アクリルアミド等が好ましい。中でもラウリル（メタ）アクリレート、オレイル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレートが特に好ましい。
　また、マトリックスとなる樹脂中に、トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、ペンタフルオロエチル(メタ)アクリレート、（パーフルオロブチル）エチル(メタ)アクリレート、パーフルオロブチル－ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、（パーフルオロヘキシル）エチル(メタ)アクリレート、オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレート、パーフルオロオクチルエチル(メタ)アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート等のフッ素原子を有する化合物を含んでいてもよい。これらの化合物を含むことにより塗布性を向上させることができる。
　また、量子ドット層中のマトリックスとなる樹脂の総量には限定はないが、量子ドット層の全量１００質量部に対して、９０～９９．９質量部であることが好ましく、９２～９９質量部であることがより好ましい。
　量子ドット層の厚さは、積層フィルム１０の厚さ等に応じて、適宜、設定すればよい。本発明者らの検討によれば、取り扱い性および発光特性の点で、５～２００μｍが好ましく、１０～１５０μｍがより好ましい。
　なお、上記厚さは平均厚さを意図し、平均厚さは量子ドット層の任意の１０点以上の厚さを測定して、それらを算術平均して求める。
　量子ドット層の形成方法には限定はなく、公知の方法で形成すればよい。例えば、量子ドットとマトリックスとなる樹脂と溶剤とを混合した組成物（塗料・塗布組成物）を調製し、この組成物をガスバリアフィルム１４上に塗布し、硬化することで形成できる。
　なお、量子ドット層となる組成物には、必要に応じて、重合開始剤やシランカップリング剤等を添加してもよい。
　積層フィルム１０において、量子ドット層等の波長変換層１２の両面には、波長変換層１２の主面全面を覆うようにガスバリアフィルム１４が積層される。すなわち、積層フィルム１０は、波長変換層１２をガスバリアフィルム１４で挟持してなる構成を有する。
　なお、波長変換層１２の両面それぞれに設けられるガスバリアフィルム１４は、同じものであっても、異なるものであってもよい。
　ガスバリアフィルム１４は、量子ドット層等の波長変換層１２への、主面からの酸素等の浸入を抑制するための層である。従って、ガスバリアフィルム１４は、高いガスバリア性を有するのが好ましい。具体的には、ガスバリアフィルム１４は、酸素透過度が０．１cc/(m2・day・atm）以下であるのが好ましく、０．０１cc/(m2・day・atm）以下であるのがより好ましく、０．００１cc/(m2・day・atm）以下であるのが特に好ましい。
　ガスバリアフィルム１４の酸素透過度を０．１cc/(m2・day・atm）以下とすることにより、波長変換層１２の主面から侵入する酸素等による波長変換層１２の劣化を抑制して、長寿命な量子ドットフィルム等の積層フィルムを得ることができる。
　なお、本発明において、ガスバリアフィルム１４や端面封止層１６等の酸素透過度は、公知の方法や、後述する実施例に準じて測定すればよい。
　また、酸素透過度の単位cc/(m2・day・atm）をＳＩ単位に換算すると、９．８７mL/(m2・day・MPa）である。
　ガスバリアフィルム１４は、透明性などの点で十分な光学特性を有し、かつ、目的とするガスバリア性（酸素バリア性）を得られる物であれば、ガスバリア性を発現する公知の材料からなる層（膜）や、公知のガスバリアフィルムが、各種、利用可能である。
　好ましいガスバリアフィルム１４として、支持体の上（一方の面もしくは両面）に、有機層と無機層とを交互に積層してなる、有機無機の積層構造を有するガスバリアフィルムが例示される。
　図２に、ガスバリアフィルム１４の一例の断面を概念的に示す。
　図２に示すガスバリアフィルム１４は、支持体２０の上に有機層２４を有し、有機層２４の上に無機層２６を有し、無機層２６の上に有機層２８を有するガスバリアフィルムである。
　このガスバリアフィルム１４において、ガスバリア性は主に無機層２６によって発現される。無機層２６の下層の有機層２４は、無機層２６を適正に形成するための下地層である。最上層の有機層２８は、無機層２６の保護層として作用する。
　なお、本発明の積層フィルムにおいて、有機無機の積層構造を有するガスバリアフィルム１４は、図２に示す例に限定はされない。
　例えば、保護層として作用する最上層の有機層２８を有さなくてもよい。
　また、図２に示す例は、無機層と下地の有機層との組み合わせを１組のみ有するが、無機層と下地の有機層との組み合わせを２組以上有してもよい。一般的に、無機層と下地の有機層との組み合わせの数が多いほど、ガスバリア性は高くなる。
　さらに、支持体２０の上に無機層を形成し、その上に、無機層と下地の有機層との組み合わせを１組以上、有する構成であってもよい。
　ガスバリアフィルム１４の支持体２０としては、公知のガスバリアフィルムで支持体として用いられているものが、各種、利用可能である。
　中でも、薄手化や軽量化が容易である、フレキシブル化に好適である等の点で、各種の樹脂材料（高分子材料）からなるフィルムが好適に利用される。
　具体的には、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリアミド（ＰＡ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリアクリトニトリル（ＰＡＮ）、ポリイミド（ＰＩ）、透明ポリイミド、ポリメタクリル酸メチル樹脂（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ＡＢＳ、環状オレフィン・コポリマー（ＣＯＣ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、および、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）からなるプラスチックフィルムが、好適に例示される。
　支持体２０の厚さは、積層フィルム１０の厚さや大きさ等に応じて、適宜、設定すればよい。ここで、本発明者の検討によれば、支持体２０の厚さは、１０μｍ～１００μｍ程度が好ましい。支持体２０の厚さを、この範囲にすることにより、軽量化や薄手化、等の点で、好ましい結果を得る。
　なお、支持体２０は、このようなプラスチックフィルムの表面に、反射防止や位相差制御、光取り出し効率向上等の機能が付与されていてもよい。
　ガスバリアフィルム１４において、支持体２０の表面には有機層２４が形成される。
　支持体２０の表面に形成される有機層２４すなわち無機層２６の下層となる有機層２４は、ガスバリアフィルム１４において主にガスバリア性を発現する無機層２６の下地層となるものである。
　このような有機層２４を有することにより、支持体２０の表面の凹凸や、支持体２０の表面に付着している異物等を包埋して、無機層２６の成膜面を、無機層２６の成膜に適した状態にできる。これにより、支持体２０の表面の凹凸や異物の影のような、無機層２６となる無機化合物が着膜し難い領域を無くし、基板の表面全面に、隙間無く、適正な無機層２６を成膜することが可能になる。その結果、酸素透過度が０．１cc/(m2・day・atm）以下のガスバリアフィルム１４を安定して形成できる。
　ガスバリアフィルム１４において、有機層２４の形成材料には、限定はなく、公知の有機化合物が、各種、利用可能である。
　具体的には、ポリエステル、（メタ）アクリル樹脂、メタクリル酸－マレイン酸共重合体、ポリスチレン、透明フッ素樹脂、ポリイミド、フッ素化ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、セルロースアシレート、ポリウレタン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、脂環式ポリオレフィン、ポリアリレート、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、フルオレン環変性ポリカーボネート、脂環変性ポリカーボネート、フルオレン環変性ポリエステル、アクリル化合物、などの熱可塑性樹脂、ポリシロキサンや、その他の有機ケイ素化合物の膜が好適に例示される。これらは、複数を併用してもよい。
　中でも、ガラス転移温度や強度に優れる等の点で、ラジカル硬化性化合物および／またはエーテル基を官能基に有するカチオン硬化性化合物の重合物から構成された有機層２４は、好適である。
　中でも特に、屈折率が低い、透明性が高く光学特性に優れる等の点で、アクリレートおよび/またはメタクリレートのモノマーやオリゴマーの重合体を主成分とするアクリル樹脂やメタクリル樹脂は、有機層２４として好適に例示される。
　その中でも特に、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート（ＤＰＧＤＡ）、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート（ＴＭＰＴＡ）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（ＤＰＨＡ）などの、２官能以上、特に３官能以上のアクリレートおよび/またはメタクリレートのモノマーやオリゴマーの重合体を主成分とするアクリル樹脂やメタクリル樹脂は、好適に例示される。また、これらのアクリル樹脂やメタクリル樹脂を、複数、用いるのも好ましい。
　有機層２４の厚さは、有機層２４の形成材料や支持体２０に応じて、適宜設定すればよい。本発明者らの検討によれば、有機層２４の厚さは、０．５～５μｍとするのが好ましく、１～３μｍとするのがより好ましい。
　有機層２４の厚さを０．５μｍ以上とすることにより、支持体２０の表面の凹凸や、支持体２０の表面に付着した異物を包埋して、有機層２４の表面すなわち無機層２６の成膜面を平坦化できる。有機層２４の厚さを５μｍ以下とすることにより、有機層２４が厚すぎることに起因する、有機層２４のクラックや、ガスバリアフィルム１４に起因するカール等の問題の発生を、好適に抑制することができる。
　なお、無機層と下地の有機層との組み合わせを複数有する場合等、複数の有機層を有する場合には、各有機層の厚さは、同じでも異なってもよい。
　有機層２４は、塗布法やフラッシュ蒸着等の公知の方法で成膜すればよい。
　有機層２４の下層となる無機層２６との密着性を向上するために、有機層２４（有機層２４となる組成物）は、シランカップリング剤を含有するのが好ましい。
　なお、後述する有機層２８も含めて、無機層と下地の有機層との組み合わせを複数有する場合等、有機層２４を複数有する場合には、各有機層の形成材料は、同じでも異なってもよい。しかしながら、生産性等の点からは、全ての有機層を、同じ材料で形成するのが好ましい。
　有機層２４の上には、この有機層２４を下地として、無機層２６が成膜される。
　無機層２６は、無機化合物を主成分とする膜で、ガスバリアフィルム１４において、ガスバリア性を主に発現するものである。
　無機層２６としては、ガスバリア性を発現する、酸化物、窒化物、酸窒化物等の無機化合物からなる膜が、各種、利用可能である。
　具体的には、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化タンタル、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）などの金属酸化物；　窒化アルミニウムなどの金属窒化物；　炭化アルミニウムなどの金属炭化物；　酸化ケイ素、酸化窒化ケイ素、酸炭化ケイ素、酸化窒化炭化ケイ素などのケイ素酸化物；　窒化ケイ素、窒化炭化ケイ素などのケイ素窒化物；　炭化ケイ素等のケイ素炭化物；　これらの水素化物；　これら２種以上の混合物；　および、これらの水素含有物等の、無機化合物からなる膜が、好適に例示される。
　特に、透明性が高く、かつ、優れたガスバリア性を発現できる点で、ケイ素酸化物、ケイ素窒化物、ケイ素酸窒化物およびケイ素酸化物等のケイ素化合物からなる膜は、好適に例示される。その中でも特に、窒化ケイ素からなる膜は、より優れたガスバリア性に加え、透明性も高く、好適に例示される。
　無機層２６の厚さは、形成材料に応じて、目的とするガスバリア性を発現できる厚さを、適宜、決定すればよい。本発明者らの検討によれば、無機層２６の厚さは、１０～２００ｎｍが好ましく、１０～１００ｎｍがより好ましく、１５～７５ｎｍが特に好ましい。
　無機層２６の厚さを１０ｎｍ以上とすることにより、十分なガスバリア性能を安定して発現する無機層２６が形成できる。また、無機層２６は、一般的に脆く、厚過ぎると、割れやヒビ、剥がれ等を生じる可能性が有るが、無機層２６の厚さを２００ｎｍ以下とすることにより、割れが発生することを防止できる。
　なお、ガスバリアフィルムが複数の無機層２６を有する場合には、各無機層２６の厚さは、同じでも異なってもよい。
　無機層２６は、形成材料に応じて、公知の方法で形成すればよい。具体的には、ＣＣＰ（Capacitively Coupled Plasma　容量結合プラズマ）－ＣＶＤ（chemical vapor deposition）やＩＣＰ（Inductively Coupled Plasma　誘導結合プラズマ）－ＣＶＤ等のプラズマＣＶＤ、マグネトロンスパッタリングや反応性スパッタリング等のスパッタリング、真空蒸着など、気相堆積法が好適に例示される。
　無機層を複数有する場合には、各無機層の形成材料は、同じでも異なってもよい。しかしながら、生産性等の点からは、全ての無機層を、同じ材料で形成するのが好ましい。
　無機層２６の上には、有機層２８が設けられる。
　前述のように、有機層２８は、無機層２６の保護層として作用する層である。最上層に有機層２８を有することにより、ガスバリア性を発現する無機層２６の損傷を防止して、ガスバリアフィルム１４が安定して目的とするガスバリア性を発現することが可能となる。また、有機層２８を有することにより、マトリックスとなる樹脂に量子ドット等を分散してなる波長変換層１２とガスバリアフィルム１４との密着性も向上できる。
　この有機層２８は、基本的に、前述の有機層２４と同様のものである。また、有機層２８は、これ以外にも、アクリルポリマーを主鎖とし、側鎖に末端がアクリロイル基のウレタンポリマーおよび末端がアクリロイル基のウレタンオリゴマーの少なくとも一方を有する、分子量が１００００～３００００００で、アクリル当量が５００ｇ／ｍｏｌ以上であるグラフト共重合体からなるものも、好適に利用可能である。
　ガスバリアフィルム１４の厚さは、積層フィルム１０の厚さ、積層フィルム１０の大きさ等に応じて、適宜、設定すればよい。
　本発明者らの検討によれば、ガスバリアフィルム１４の厚さは、５～１００μｍが好ましく、１０～７０μｍがより好ましく、１５～５５μｍが特に好ましい。
　ガスバリアフィルム１４の厚さを１００μｍ以下とすることで、ガスバリアフィルム１４すなわち積層フィルム１０が不要に厚くなることを防止できる。また、ガスバリアフィルム１４の厚さを５μｍ以上とすることで、２つのガスバリアフィルム１４の間に波長変換層１２を形成する際に、波長変換層１２の厚さを均一にできる点で好ましい。
　なお、図示例においては、機能層積層体１１は、２つのガスバリアフィルム１４と波長変換層１２とからなる構成としたが、さらに、拡散層、アンチニュートンリング層、保護層、接着層等の、各種の機能を得るための層が積層されていてもよい。
　また、機能層積層体１１の面方向の大きさ、形状には限定はない。
　前述のように、積層フィルム１０は、波長変換層１２の両面にガスバリアフィルム１４を積層して、この波長変換層１２とガスバリアフィルム１４とからなる機能層積層体１１の端面全面を、端面封止層１６で封止してなる構成を有する。
　ここで、図３に示すように、本発明の積層フィルム１０において、端面封止層１６は、機能層積層体１１の一方の主面の一部から端面全体および他方の主面の一部までを覆っている。また、端面封止層１６の、機能層積層体１１の主面上に形成される部位を乗り上がり部Ｍとすると、乗り上がり部Ｍの、端面からの幅ｓが０．０１ｍｍ以上で、かつ、主面の長さの８％以下である。
　前述のとおり、従来、量子ドット層等の波長変換層に酸素や水分が浸入するのを防止する構成として、波長変換層の全面をガスバリアフィルムで被覆する構成や、波長変換層の両面をガスバリアフィルムで挟持し、端面領域を樹脂層で封止するダムフィル方式や、波長変換層を挟む２つのガスバリアフィルムの端部の開口を狭くして密封する構成等が検討されていた。
　しかしながら、これらの構成では、十分なガスバリア性を確保できず、また、額縁部分が大きくなったり、生産性が悪い等の問題があった。
　これに対して、本発明者らは、量子ドット層等の波長変換層をガスバリアフィルムで挟んで形成される積層フィルムにおいて、端面から酸素や水分が波長変換層に浸入するのを防止し、かつ、額縁部分を小さくして波長変換層を有効に利用できる領域を大きくできる構成として、機能層積層体の端面に、ガスバリア性を有する端面封止層を設けて端面を封止する構成を検討した。
　機能層積層体の端面に端面封止層を形成する場合、積層フィルムの平坦性や波長変換の機能を有効に利用できる面積を確保する等の観点からは、端面封止層は端面のみに形成され、主面上には形成されないのが好ましいと考えられる。すなわち、端面封止層が主面上にも形成されると、主面上での端面封止層の盛り上がりにより積層フィルム全体の平坦性が損なわれるおそれがあること、端面封止層の回りこみ部分が遮光層として働くことによって、積層フィルム端部に非発光領域が生じ、額縁部分が大きくなり、有効に利用可能な面積が小さくなること等が考えられる。
　しかしながら、本発明者らの検討によれば、端面封止層を機能層積層体の端面のみに形成した場合には、端面封止層が部分的に剥離するなどして、機能層積層体の端面と端面封止層との界面から水分や酸素が浸入して波長変換層に到達し、波長変換層が劣化するおそれがあることがわかった。
　そこで、本発明の積層フィルムにおいては、端面封止層１６を、機能層積層体１１の一方の主面の一部から端面全体および他方の主面の一部までを覆うように形成し、また、端面封止層１６の乗り上がり部Ｍの、端面からの幅ｓを０．０１ｍｍ以上、主面の長さの８％以下とする。
　端面封止層１６の乗り上がり部の幅ｓを主面の長さの８％以下とすることで、積層フィルム１０として波長変換の機能を有効に利用できる面積を確保でき、また、積層フィルム１０の平坦性を確保できる。
　また、端面封止層１６の乗り上がり部の幅ｓを０．０１ｍｍ以上とすることで、機能層積層体１１と端面封止層１６との密着性を向上して、機能層積層体１１の端面と端面封止層１６との界面から水分や酸素が浸入することを抑制でき、波長変換層が劣化するのを防止できる。
　また、機能層積層体１１が、拡散層等の表面に凹凸構造を形成されてなる層を有する場合には、端面封止層１６の乗り上がり部Ｍにより、拡散層の凹凸構造が包埋されて、拡散層としての機能を発現できなくなるおそれがある。すなわち、端面封止層１６の乗り上がり部Ｍの幅ｓが大きいと、有効に利用できる面積が小さくなってしまう。
　これに対して、本発明の積層フィルム１０は、端面封止層１６の乗り上がり部の幅ｓが主面の長さの８％以下であるので、機能層積層体１１が拡散層を有する場合にも、拡散層としての機能を有効に利用できる面積を確保できる。
　また、積層フィルム１０として波長変換の機能を有効に利用できる面積を確保でき、また、積層フィルム１０の平坦性を確保できる点、拡散層を有する場合に、拡散層を有効に利用できる面積を確保できる点等から、端面封止層１６の乗り上がり部Ｍの幅ｓは主面の長さの５％以下であるのが好ましく、３％以下であるのがより好ましい。
　ここで、機能層積層体１１の主面の形状が長方形状の場合には、短辺の長さを主面の長さとし、円形状の場合には、直径を主面の長さとし、楕円形状の場合には、短径を主面の長さとし、多角形状の場合には、内接する円の直径を主面の長さとする。
　また、端面封止層１６の乗り上がり部Ｍの幅ｓは、例えば、積層フィルムを大和光機工業株式会社製リトラトームＲＥＭ－７１０などで断面切削し、その断面を光学顕微鏡で観察することで測定できる。
　また、端面封止層１６の、機能層積層体１１の主面に垂直な方向における、主面からの高さｔが、機能層積層体１１の厚さの０％超２０％以下であるのが好ましく、１％～１０％がより好ましく、１％～５％がさらに好ましい。
　端面封止層１６の、主面からの高さｔを機能層積層体１１の厚さの２０％以下とすることで、積層フィルム１０の平坦性を確保できる点で好ましい。
　また、０％超とすることで、機能層積層体１１と端面封止層１６との密着性を向上して、機能層積層体１１の端面と端面封止層１６との界面から水分や酸素が浸入することを抑制できる点で好ましい。
　また、端面封止層１６の、機能層積層体１１の端面に垂直な方向における厚さは、５μｍ～２００μｍであるのが好ましく、１０μｍ～５０μｍであるのがより好ましい。
　端面封止層１６の厚さを５μｍ以上とすることで、機能層積層体１１の端面を適正に覆うことができ、十分なガスバリア性を発現できる等の点で好ましい。
　また、端面封止層１６の厚さを２００μｍ以下とすることで、額縁部分が大きくなるのを抑制できる、機能層積層体１１との密着性を十分に持たせることができる等の点で好ましい。
　また、本発明の積層フィルムは、例えば、積層フィルム１０の平面形状が四角形状である場合、対向する２つの端面のみ全面を覆って端面封止層を設けてもよく、１端面を残して３つの端面の全面を覆って端面封止層を設けてもよい。また、機能層積層体１１の各端面を部分的に覆うように端面封止層を設けてもよい。これらは、積層フィルムが利用されるバックライトユニットの構成、積層フィルムの取付け部の構成等に応じて、適宜、設定すればよい。
　しかしながら、機能層積層体１１の端面から侵入する酸素等による量子ドットの劣化等、波長変換層１２の劣化をより好適に防止できる等の点で、端面封止層１６は、可能な限り大きな面積で機能層積層体１１の端面を覆うのが好ましく、機能層積層体１１の端面全面を覆うのが特に好ましい。
　ここで、図示例において、端面封止層１６は、好ましい態様として、機能層積層体１１側の第１層３０と、第１層上に積層される第２層３２と、第２層３２上に積層される第３層３４とを有する３層構成である。しかしながら、これに限定はされず、端面封止層１６は、１層構成であってもよいし、２層構成であってもよいし、４層以上からなる構成であってもよい。
　端面封止層１６を２層以上の多層構造とする場合には、付与させたい機能を層毎に分離して付与することで、単層（１層）の場合よりもガスバリア性を向上させることができる。例えば、低湿では酸素透過度が低く、高湿では酸素透過度が高くなるような水溶性素材を第１層３０に用いる場合、第２層３２に水蒸気バリア層を付与することで、湿度に関わらず１層目の低い酸素透過度を発現させることが可能となる。あるいは、例えば、酸素透過度が低い層（酸素バリア層）と機能層積層体１１（光学機能層１２）の密着性が悪い場合、酸素バリア層と機能層積層体１１との間に接着層を設ける構成とすることもできる。
　なお、端面封止層１６を構成する各層の形成材料には限定はなく、各層に求められる機能に応じて、樹脂材料、金属材料等から適宜選択すればよい。
　一例として、図３に示す端面封止層１６においては、第１層３０として密着層を設け、第２層３２として酸素バリア層を設け、第３層３４として水蒸気バリア層を設けた構成を有する。
　機能層積層体１１側の第１層３０として密着層を設けることで、機能層積層体１１と端面封止層１６との密着性を向上でき、第２層３２として酸素バリア層を設けることで、端面封止層１６として高い酸素バリア性を発現でき、第３層３４として水蒸気バリア層を設けることで、端面封止層１６として高い水蒸気バリア性を発現できると共に、水分により酸素バリア層の酸素バリア性が低下するのを抑制できる。
　上記酸素バリア層は、酸素透過度が１．０［cc/(m2・day・atm)］以下であるのが好ましく、１×１０-1［cc/(m2・day・atm)］以下であるのがより好ましく、１×１０-2［cc/(m2・day・atm)］以下であるのがさらに好ましく、１×１０-3［cc/(m2・day・atm)］以下であるのが特に好ましい。
　酸素バリア層の形成材料は、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、エチレン－ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）等を含有するのが好ましい。
　また、酸素バリア層の形成材料として、市販品も好適に利用可能である。
　例えば、三菱ガス化学社製のマクシーブ、株式会社クラレ製のエバール、サカタインクス株式会社製のエコステージ等が好適に例示される。
　また、酸素バリア層の厚さにも限定はなく、所望の酸素バリア性を得られる厚さとすればよい。
　また、酸素バリア層には、無機物の粒子（無機化合物からなる粒子）が分散されていてもよい。
　酸素バリア層が無機物の粒子を含有することにより、酸素透過度をより低くでき、端面から侵入する酸素等に起因する波長変換層１２の劣化を、より好適に防止できる。
　酸素バリア層に分散する無機物粒子の大きさには、限定は無く、酸素バリア層の厚さ等に応じて、適宜、設定すればよい。酸素バリア層に分散する無機物粒子の大きさ（最大長）は、酸素バリア層の厚さ未満であるのが好ましく、特に、小さいほど有利である。
　なお、酸素バリア層に分散する無機物粒子の大きさは、均一でも不均一でもよい。
　酸素バリア層における無機物粒子の含有量は、無機物粒子の大きさ等に応じて、適宜、設定すればよい。
　本発明者らの検討によれば、酸素バリア層における無機物粒子の含有量は、５０質量％以下が好ましく、１０～３０質量％がより好ましい。
　無機物粒子による酸素透過度の低減効果は、無機物粒子の含有量が多いほど高くなるが、無機物粒子の含有量を１０質量％以上とすることにより、無機物粒子の添加効果をより好適に得て、酸素透過度が小さい酸素バリア層を形成できる。
　酸素バリア層における無機物粒子の含有量を５０質量％以下とすることにより、酸素バリア層の密着性や耐久性を十分にできる、積層フィルムを裁断や打ち抜きする際にクラックが発生することを抑制できる等の点で好ましい。
　酸素バリア層に分散する無機物粒子としては、具体的には、シリカ粒子、アルミナ粒子、銀粒子、銅粒子、チタン粒子、ジルコニア粒子、スズ粒子等が例示される。
　上記水蒸気バリア層は、４０℃９０％における水蒸気透過率が１００ｇ／（ｍ2・ｄａｙ）／３０μｍ以下であるのが好ましく、５０ｇ／（ｍ2・ｄａｙ））／３０μｍ以下であるのがより好ましい。
　水蒸気バリア層の形成材料としては、エポキシ樹脂、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、エチレン－ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）等を含有するのが好ましい。
　また、水蒸気バリア層の厚さにも限定はなく、所望の水蒸気バリア性を得られる厚さとすればよい。
　なお、水蒸気透過率は、カルシウム腐食法（特開２００５－２８３５６１号公報に記載される方法）によって測定した値である。
　上記密着層の形成材料としては、機能層積層体１１と酸素バリア層との密着性を確保できる材料を適宜選択すればよい。
　具体的には、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂等を利用可能である。
　また、上述の例では、端面封止層１６を、第１層３０として密着層を設け、第２層３２として酸素バリア層を設け、第３層３４として水蒸気バリア層を設けた構成としたがこれに限定されず、例えば、第１層として端面樹脂層を設け、第２層として金属層を設ける構成としてもよい。
　このような構成の端面封止層１６において主にガスバリア性を発現するのは金属層である。この金属層と機能層積層体１１の端面との間に端面樹脂層を有することで、金属層の下層を平滑化し、金属層にピンホール等の欠陥が発生するのを防止してガスバリア性を高くできる。
　また、端面樹脂層と金属層との間に金属層の下地となる下地層を有する構成であってもよい。
　また、端面樹脂層の上にスパッタにより第１の金属層を形成し、この第１の金属層を電極として、メッキ処理により第２の金属層を形成してもよい。
　また、金属層の上に樹脂層を形成してもよい。
　端面樹脂層は、樹脂材料からなるものである。
　前述のとおり、端面樹脂層を有することで、後述する金属層（金属層を形成するための下地層）を形成する面を平滑にすることができ、これにより、金属層にピンホール等の欠陥が発生することを防止して、金属層によるガスバリア性を確実に発現することができる。
　端面樹脂層の厚さは、１μｍ～１００μｍが好ましく、５μｍ～５０μｍがより好ましい。
　本発明者らの検討によれば、端面樹脂層の厚さが薄すぎると、金属層を形成する際に、下層の平滑化不足によってピンホール等の欠陥が発生することがわかった。
　また、端面樹脂層の厚さが厚すぎると、端面樹脂層を形成する際の、端面樹脂層となる材料の硬化収縮に起因して、機能層積層体１１との密着性が低下するおそれがあることがわかった。
　また、端面樹脂層は、ガスバリアフィルム１４の支持体２０や有機層２４、および、波長変換層１２と接しているので、支持体２０や有機層２４と波長変換層１２とが、端面樹脂層により無機層２６を迂回して連通した状態である。そのため、端面樹脂層の厚さが厚すぎると、ガスバリアフィルム１４の支持体２０や有機層２４を透過した酸素や水分が、端面樹脂層に浸入し、端面樹脂層から波長変換層１２の端面に浸入しやすくなるおそれがある。
　そこで、端面樹脂層の厚さを、１μｍ～１００μｍとすることで、機能層積層体１１との十分な密着性を確保でき、また、金属層にピンホール等の欠陥が発生するのを防止でき、また、端面樹脂層を迂回経路として酸素や水分が浸入するのを抑制して、波長変換層１２の劣化をより好適に防止できる。
　上述のとおり、端面樹脂層は、酸素や水分の浸入経路となり得るので、端面樹脂層の酸素透過度は、低い方が好ましい。
　具体的には、端面樹脂層の酸素透過度は、１０cc/(m2・day・atm）以下であるのが好ましく、５cc/(m2・day・atm）以下がより好ましく、１cc/(m2・day・atm）以下がさらに好ましい。
　なお、端面樹脂層の酸素透過度の下限には、特に限定はなく、基本的に、低い程、好ましい。
　このような端面樹脂層を形成する樹脂材料には限定はないが、酸素透過度が１０cc/(m2・day・atm）以下となる端面樹脂層を形成可能な公知の樹脂材料であるのが好ましい。
　ここで、端面樹脂層は、一般的に、主に端面樹脂層すなわち主に樹脂層となる化合物（モノマー、ダイマー、トリマー、オリゴマー、ポリマー等）、必要に応じて添加される架橋剤や界面活性剤などの添加剤、有機溶剤等を含む組成物を調製して、この組成物を端面樹脂層の形成面に塗布し、組成物を乾燥し、必要に応じて紫外線照射や加熱等によって主に端面樹脂層を構成する化合物を重合（架橋・硬化）して形成するのが好ましい。
　本発明の積層フィルム１０において、端面樹脂層を形成するための組成物は、重合性化合物を含有し、あるいはさらに、水素結合性化合物を含有するのが好ましい。なお、重合性化合物とは、重合性を有する化合物であり、水素結合性化合物とは、水素結合性を有する化合物である。
　端面樹脂層は、基本的に、重合性化合物あるいはさらに水素結合性化合物を主体として形成されるのが好ましい。ここで、端面樹脂層を形成するための組成物が含有する重合性化合物および水素結合性化合物は、親水度ｌｏｇＰが４以下であるのが好ましく、３以下であるのがより好ましい。
　なお、本発明において、親水度を示すＬｏｇＰ値とは、１－オクタノール／水の分配係数の対数値をいうものである。ＬｏｇＰ値は、フラグメント法、原子アプローチ法等を用いて計算により算出することができる。本明細書に記載のＬｏｇＰ値は、化合物の構造からCambridge Soft社製ChemBioDraw Ultra12.0を用いて計算されるＬｏｇＰ値である。
　前述のように、波長変換層１２は、一般的に、光学的な機能を発現する材料を、マトリックスとなる樹脂に分散してなるものである。
　ここで、波長変換層１２では、マトリックスとして、疎水性の樹脂を用いる場合が少なくない。特に、波長変換層１２が量子ドット層である場合には、マトリックスとして疎水性の樹脂が用いられる場合が多い。
　基本的に、量子ドット等をマトリックスとなる樹脂に分散してなる波長変換層１２と、端面樹脂層との密着力は高い。しかしながら、疎水性のマトリックスを用いる波長変換層１２との密着力を、より高くするためには、端面樹脂層は、疎水性の化合物で形成するのが好ましい。
　一方、周知のように、化合物は、親水度ｌｏｇＰが低い方が親水性が高い。すなわち、波長変換層１２との密着力が強い端面樹脂層を形成するためには、主体となる重合性化合物や水素結合性化合物は、親水度ｌｏｇＰが高い方が好ましい。
　その半面、疎水性の高い化合物からなる樹脂は、酸素透過性が高く、樹脂層の酸素透過度という点では、主体となる重合性化合物や水素結合性化合物は、親水度ｌｏｇＰが低い方が好ましい。
　従って、端面樹脂層を、親水度ｌｏｇＰが４以下の重合性化合物および水素結合性化合物を用いて形成することにより、適度な疎水性によって波長変換層１２との高い密着力を確保しつつ、酸素透過度が十分に低い端面樹脂層を形成することができる。
　なお、酸素透過度の点では、重合性化合物および水素結合性化合物は、親水度ｌｏｇＰは低い方が好ましい。しかしながら、親水度ｌｏｇＰが低すぎると、親水性が高すぎてしまい、端面樹脂層と波長変換層１２との密着力が弱くなってしまい、端面樹脂層の耐久性が低下してしまうことも懸念される。
　この点を考慮すると、重合性化合物および水素結合性化合物の親水度ｌｏｇＰは、０．０以上が好ましく、０．５以上がより好ましい。
　また、本発明の積層フィルム１０において、端面樹脂層を形成する組成物は、組成物の固形分全量を１００質量部とした際に、水素結合性化合物を３０質量部以上含有するのが好ましく、４０質量部以上含有するのが好ましい。
　なお、組成物の固形分全量とは、組成物から有機溶剤を除いた、形成される端面樹脂層に残るべき成分の全量である。
　端面樹脂層を形成する組成物の固形分が、水素結合性化合物を３０質量部以上含有することにより、分子間の相互作用を強くして、酸素透過性を低くできる。
　水素結合とは、分子中で水素原子よりも電気陰性度が高い原子と共有結合している水素原子が、同じ分子中または異なる分子中の原子または原子群との間で引力的相互作用によって作る非共有結合性の結合をいう。
　水素結合性を有する官能基とは、このような水素結合を生じさせることのできる水素原子を含む官能基である。具体的には、ウレタン基、ウレア基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アミド基またはシアノ基等が挙げられる。
　これらの官能基を有する化合物としては、具体的には、トリレンジイソシアナート（ＴＤＩ）、ジフェニルメタンジイソシアナート（ＭＤＩ）、ヘキサメチレンジイソシアナート（ＨＤＩ）、イソホロンジイソシアナート（ＩＰＤＩ）、水素添加ＭＤＩ（ＨＭＤＩ）等のジイソシアナートと、ポリ（プロピレンオキサイド）ジオール、ポリ（テトラメチレンオキサイド）ジオール、エトキシ化ビスフェノールＡ、エトキシ化ビスフェノールＳスピログリコール、カプロラクトン変性ジオール、カーボネートジオール等のポリオール、および、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリシドールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート等のヒドロキシアクリレートとを反応させて得られるモノマー、オリゴマーが例示される。
　また、エポキシ基を有する化合物に、ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＳ型、ビスフェノールＦ型、エポキシ化油型、フェノールノボラック型等の化合物を反応させて得られるエポキシ化合物や、脂環型エポキシに、アミン化合物、酸無水物等を反応させて得られるエポキシ化合物も例示される。
　さらに、前述のエポキシ化合物のカチオン重合物、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、エチレン－ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）、ブテンジオール－ビニルアルコール共重合体、ポリアクリロニトリル等も例示される。
　中でも、硬化収縮が小さく積層フィルムとの密着に優れる観点から、エポキシ基を有する化合物、エポキシ基を有する化合物を反応させて得られる化合物が好ましい。
　さらに、本発明の積層フィルム１０において、端面樹脂層を形成する組成物は、組成物の固形分全量を１００質量部とした際に、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、グリシジル基、オキセタン基、脂環式エポキシ基から少なくとも１つ選ばれる重合性官能基を有する重合性化合物を５質量部以上含有するのが好ましく、これらの重合性官能基を有する重合性化合物を１０質量部以上含有するのがより好ましい。
　本発明の積層フィルム１０においては、端面樹脂層を形成する組成物の固形分が、（メタ）アクリロイル基等から少なくとも１つ選ばれる重合性官能基を有する重合性化合物を５質量部以上含有することにより、高温高湿下での耐久性に優れる端面樹脂層を実現できる。
　（メタ）アクリロイル基を有する重合性化合物としては、具体的には、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート等が例示される。
　また、グリシジル基、オキセタン基、脂環エポキシ基等を有する重合性化合物としては、具体的には、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、１,４－ブタンジオールジグリシジルエーテル、１,６－ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル等が例示される。
　また、本発明において、（メタ）アクリロイル基やグリシジル基を有する重合性化合物は、市販品も好適に利用可能である。
　これらの重合性化合物を含む市販品としては、三菱ガス化学社製のマクシーブ、ＥＶＯＮＩＫ社製のＮａｎｏｐｏｘ４５０、Ｎａｎｏｐｏｘ５００、Ｎａｎｏｐｏｘ６３０、荒川化学工業社製のコンポセラン１０２などのシリーズ、東レ・ファインケミカル社製のフレップ、チオコールＬＰ、ヘンケル・ジャパン社製のロックタイトＥ－３０ＣＬなどのシリーズ、Ｅｐｏｘｙ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ社製のＥＰＯ－ＴＥＸ３５３ＮＤなどのシリーズ等が好適に例示される。
　本発明の積層フィルムにおいて、端面樹脂層を形成する組成物は、必要に応じて、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、グリシジル基、オキセタン基、脂環式エポキシ基を含まない重合性組成物を含有してもよい。
　ただし、端面樹脂層を形成する組成物において、これらの官能基を含まない重合性化合物は、組成物の固形分全量を１００質量部とした際に、３質量部以下とするのが好ましい。
　金属層は、端面封止層１６において、主にガスバリア性を発現する層であり、端面樹脂層の全面（機能層積層体１１の端面に接する面以外の全面）を覆って形成されるのが好ましい。
　金属層の形成材料としては、金属であれば限定はないが、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法、および、金属メッキ処理のいずれかの方法により形成される金属層であるのが好ましい。
　具体的には、金属層の形成材料は、アルミニウム、チタン、クロム、ニッケル、錫、銅、銀、および、金からなる群から選択される少なくとも１種、あるいは、これらの少なくとも１種を含む合金であるのが好ましい。
　中でも、金属層を厚く形成することができ高いガスバリア性を確保できる、生産性が高い、端面樹脂層の表面が曲面であっても容易に均一な厚さで端面樹脂層の全面に形成できる等の観点から、金属層は、金属メッキ処理により形成されるのが好ましい。
　金属層を形成する金属メッキ処理の方法は、電解メッキ処理、無電解メッキ処理等の公知の方法が利用可能である。中でも、メッキ液に浸漬するのみで容易に均一な厚さで形成でき、形成が容易である等の観点から、無電解メッキ処理で形成するのがより好ましい。
　無電解メッキ処理での形成に適した金属材料としては、ニッケル、銅、錫、金、等が挙げられる。
　金属層の厚さは、ガスバリア性の確保、生産性等の観点から、１μｍ～１００μｍとするのが好ましく、５μｍ～５０μｍとするのがより好ましい。
　また、金属層は、ガスバリア性を確保する観点から、ピンホールが少ないことが好ましい。本発明におけるピンホールとは、金属層を光学顕微鏡で観察した際に見られる、大きさ１μｍ以上の非被覆部（金属層の欠落部分）を意味し、その形状は円、多角形、線状など任意の形である。ピンホールの数は５０個／ｍｍ2以下であることが好ましく、２０個／ｍｍ2以下であることがより好ましく、５個／ｍｍ2以下であることが特に好ましい。ピンホール数は少なければ少ないほど好ましく、下限値は特にない。
　下地層は、端面樹脂層上に積層され、金属層の下地となる層である。下地層は、金属層の形成方法に応じて、金属層を形成する際に必要な場合に設けられる。
　例えば、金属層を電解メッキ処理によって形成する場合には、電解メッキ処理の際に電極（カソード）として作用する部材として、高い導電性を有する下地層を設ける。
　また、金属層を無電解メッキ処理によって形成する場合にも、機能層積層体１１の端面と無電解メッキ処理により形成されるメッキとの密着性を高くするために、高い導電性を有する下地層を設ける。
　このような高い導電性を有する下地層としては限定はなく、金属ナノ粒子等の高い導電性を有する微粒子が分散された導電性塗料を塗布する方法で形成される、導電性粒子を含有する樹脂層や、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、および、プラズマＣＶＤ法等により形成される、金属等の高い導電性を有する層が挙げられる。
　下地層の材料として用いられる導電性塗料としては、パラジウムコロイド（核触媒）等を主成分としたメッキプライマーなどが例示される。
　また、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、および、プラズマＣＶＤ法のいずれかの方法で形成可能な層の形成材料としては、アルミニウム、チタン、クロム、銅、および、ニッケルからなる群から選択される少なくとも１種、あるいは、これらの少なくとも１種を含む合金であるのが好ましく、アルミニウム、チタン、クロムからなる群から選択される少なくとも１種、あるいは、これらの少なくとも１種を含む合金が特に好ましい。イオン化傾向が高い金属（アルミニウム、チタン、クロム）を用いることで樹脂との界面において金属酸化物、金属窒化物が形成されやすいため密着性が高くなると推測している。
　形成が容易である等の点で、下地層は、導電性塗料を塗布する方法で形成するのが好ましい。
　下地層の厚さは、金属層を適正に形成できれば限定はないが、端面樹脂層と金属層との密着性や被覆性等の観点から、０．１μｍ～１．０μｍが好ましい。
　なお、端面封止層１６は、上述した層以外の層を有していてもよいのはもちろんである。
　ここで、端面封止層１６が複数の層からなる場合には、少なくとも最表面側の層が機能層積層体１１の主面上に形成されていればよい。
　例えば、３層構成の場合には第３層のみが、機能層積層体１１の主面上に形成される構成であってもよく、あるいは、第２層が機能層積層体１１の主面上に形成され、この主面上の第２層を覆うように、第３層が形成されていてもよし、第１層が機能層積層体１１の主面上に形成され、この主面上の第１層を覆うように第２層が形成され、さらに、この第２層を覆うように第３層が形成されていてもよい。すなわち、乗り上がり部Ｍは、第３層のみで形成されてもよく、第２層と第３層とで形成されてもよく、第１層と第２層と第３層とで形成されてもよい。
　次に、本発明の積層フィルムの製造方法について一例を挙げて説明する。なお、以下の説明は、主に、図１に示す積層フィルム１０を例に行うが、その他の態様も、これに準じて製造することができる。
　まず、機能層積層体１１を作製する。
　機能層積層体１１の作製方法としては、前述のように、支持体２０の表面に塗布法等によって有機層２４を形成し、この有機層２４の表面にプラズマＣＶＤ等によって無機層２６を形成し、無機層２６の表面に塗布法等によって有機層２８を形成して、ガスバリアフィルム１４を作製する。
　このような有機層および無機層の形成は、いわゆるロール・トゥ・ロールによって行うのが好ましい。以下の説明では、ロール・トゥ・ロールをＲｔｏＲとも言う。
　一方で、有機溶剤、マトリクスとなる樹脂を形成する化合物、量子ドット等を含有する、量子ドット層などの波長変換層１２となる組成物を調製する。
　２枚のガスバリアフィルム１４を用意して、一枚のガスバリアフィルム１４の有機層２８の表面に、この波長変換層１２となる組成物を、塗布し、さらに、組成物の上に有機層２８を組成物側に向けてもう１枚のガスバリアフィルム１４を積層して、紫外線硬化等を行って、波長変換層１２の両面にガスバリアフィルム１４を積層した積層体を作製する。
　作製した積層体を所定サイズに切断して、機能層積層体１１を作製する。
　積層体の切断方法には限定はなく、トムソン刃等の刃物を用いて物理的に切断する方法、レーザーを照射して切断する方法等の公知の方法が各種利用可能である。
　また、積層体を所定形状に加工した後、例えば、端面の研磨加工を行ってもよい。
　次に、作製した機能層積層体１１の端面に、上述した端面封止層１６を形成する。
　端面封止層１６の形成方法は、その形成材料に応じて適宜選択すればよい。
　上記酸素バリア層、水蒸気バリア層および端面樹脂層等の樹脂層を形成する場合には、樹脂層となる化合物を含む組成物を調製して、この組成物を機能層積層体１１の端面に塗布して、組成物を乾燥し、必要に応じて紫外線照射や加熱等によって主に樹脂層を構成する化合物を重合して形成する。
　機能層積層体１１の端面への組成物の塗布方法は、インクジェット、スプレー塗布、ディッピング（浸漬塗布）等の公知の方法が利用可能である。好ましい塗布方法として、図４Ａ～図４Ｃに示す、液膜の転写による方法が例示される。
　この塗布方法では、まず、図４Ａに示すように、平板４０（例えば、ガラス板やバット等）上に、樹脂層となる組成物の液膜３１を形成する。この液膜３１の厚さＨは、目的とする樹脂層の厚さ、組成物における固形分濃度等に応じて、適宜、設定すればよい。
　また、液膜３１の面方向の大きさは、機能層積層体１１の１つの端面が全面的に接触可能であれば、特に限定はなく、例えば、液膜３１の一辺の長さが、機能層積層体１１の端辺の長さよりも長ければよい。
　次に、図４Ｂに示すように、液膜３１に、機能層積層体１１の端面を接触させた後、図４Ｃに示すように、機能層積層体１１を鉛直上方に持ち上げることで、機能層積層体１１の端面に、樹脂層となる組成物を所定量、付着させる。
　その際、機能層積層体１１の端面に付着した組成物の、端面の延在方向に垂直な断面形状は、組成物の表面張力により略円形状となる。
　液膜３１への端面の浸漬量、および、液膜３１の厚さＨは、形成する樹脂層の厚さ、機能層積層体１１の主面への乗り上がり量（乗り上がり部Ｍの幅ｓ、高さｔ）等に応じて、適宜、設定すればよい。
　上記のようにして、機能層積層体１１の全ての端面に、組成物を付着させた後、機能層積層体１１の端面に付着した組成物を乾燥し、必要に応じて紫外線照射や加熱等によって硬化して所望の樹脂層を形成する。
　なお、図４Ｃに示す例では、機能層積層体１１の端面と液膜３１とを接触させた後、機能層積層体１１を鉛直上方に移動して液膜３１と機能層積層体１１とを離間させる構成としたが、これに限定はされず、液膜３１（平板４０）を鉛直下方に移動してもよく、あるいは、機能層積層体１１と、液膜３１（平板４０）とをそれぞれ移動してもよい。
　また、図４Ｂに示す例では、機能層積層体１１の端面を鉛直下方に向けて液膜３１と接触させる構成としたが、液膜３１と接触させることができれば、これに限定はされない。
　また、図４Ａ～図４Ｃに示す例では、１枚の機能層積層体１１の端面を液膜３１に接触させる構成としたが、これに限定はされず、複数枚の機能層積層体１１をまとめて液膜３１に接触させる構成としてもよい。
　例えば、機能層積層体１１とスペーサとを交互に積層して、機能層積層体１１同士が離間した状態で、前述と同様にして、端面封止層１６を形成する組成物の液膜３１に端面を接触させて、各機能層積層体１１の端面に端面封止層１６を形成してもよい。
　また、図４Ａ～図４Ｃに示す例では、組成物の液膜３１を平板４０の上に形成し、この液膜３１に機能層積層体１１の端面を接触させて樹脂層となる組成物を機能層積層体１１の端面に塗布する構成としたが、これに限定はされない。
　例えば、樹脂層となる組成物を貯留する容器内に、機能層積層体の端部を浸漬して、各端面に樹脂層となる組成物を塗布する構成としてもよい。
　なお、例えば、上述した密着層と酸素バリア層と水蒸気バリア層とを有する端面封止層１６を形成する場合には、上記塗布方法で、機能層積層体１１の端面に密着層を形成し、密着層が形成された機能層積層体の端面（密着層上）に上記塗布方法で酸素バリア層を形成し、さらに、酸素バリア層が形成された機能層積層体１１の端面（酸素バリア層上）に上記塗布方法で水蒸気バリア層を形成すればよい。
　また、例えば、上述した端面樹脂層と下地層と金属層とを有する端面封止層１６を形成する場合には、上記塗布方法で、機能層積層体１１の端面に端面樹脂層を形成した後、端面樹脂層の上に下地層を形成し、さらに、下地層の上に金属層を形成する。
　前述のとおり、下地層の形成方法としては、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、および、プラズマＣＶＤ法、あるいは、塗布法等が利用可能である。下地層として導電性塗料を塗布する方法としては、前述の端面樹脂層の場合と同様に、液膜の転写による塗布方法が好適に例示される。すなわち、端面樹脂層が形成された機能層積層体１１に対して、図４Ａ～図４Ｃに例示した方法と同様の方法で、下地層となる導電性塗料を端面樹脂層上に付着させる。その後、乾燥、硬化することで、下地層を形成することができる。
　前述のとおり、金属層の形成方法としては、無電解メッキ処理、電解メッキ処理、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、および、プラズマＣＶＤ法等が利用可能である。
　無電解メッキ処理の方法としては、従来公知の方法が利用可能であり、例えば、端面樹脂層および下地層が形成された機能層積層体１１の端面を、無電解メッキ液に浸漬して、下地層上に金属皮膜を析出させることで金属層を形成することができる。
　これにより、本発明の積層フィルム１０が作製される。
　なお、本発明の積層フィルムの製造方法は、上述の例に限定はされないが、上記のように、樹脂層を塗布で形成することで、すなわち、端面封止層１６の各層を液相で形成することで、積層フィルムの製造を簡易にでき、また、大規模な装置が不要となり、生産性やコストの点で好ましい。
　以上、本発明の積層フィルムについて詳細に説明したが、本発明は、上記実施形態に限定はされず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変更を行なってもよいのは、もちろんである。
　以下、本発明の具体的実施例を挙げ、本発明を、より詳細に説明する。ただし、本発明はこの実施例に限定されるものでなく、以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順などは、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。
　［実施例１］
　実施例１として、１層構成の端面封止層を有する積層フィルム１０を作製した。
　＜ガスバリアフィルム１４の作製＞
　　＜＜支持体２０＞＞
　ガスバリアフィルム１４の支持体として、ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム、東洋紡株式会社製、商品名：コスモシャインＡ４３００、厚さ５０μｍ、幅１０００ｍｍ、長さ１００ｍ）を用いた。
　　＜＜有機層２４の形成＞＞
　支持体２０の一面に、以下のようにして有機層２４を形成した。
　まず、有機層２４を形成するための組成物を調製した。具体的には、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ、ダイセルサイテック株式会社製）および光重合開始剤（ランベルティ社製、ＥＳＡＣＵＲＥＫＴＯ４６）を用意し、ＴＭＰＴＡ：光重合開始剤の質量比率が、９５：５となるように、秤量し、これらをメチルエチルケトンに溶解させ、固形分濃度が１５％の組成物を調製した。
　この組成物を用い、ＲｔｏＲを利用して塗布法で成膜を行う一般的な成膜装置によって、支持体２０の一面に有機層２４を形成した。
　まず、ダイコーターを用いて組成物を支持体２０の一面に塗布した。塗布後の支持体２０を５０℃の乾燥ゾーンを３分間通過させた後、紫外線（積算照射量約６００ｍＪ／ｃｍ2）を照射することで組成物を硬化して、有機層２４を形成した。
　また、紫外線硬化直後のパスロールにおいて、保護フィルムとして有機層２４の表面にポリエチレンフィルム（ＰＥフィルム、株式会社サンエー科研製、商品名：ＰＡＣ２－３０－Ｔ）を貼り付け、搬送し、巻き取った。
　形成した有機層２４の厚さは１μｍであった。
　　＜＜無機層２６の形成＞＞
　次に、ＲｔｏＲを利用するＣＶＤ装置を用いて、有機層２４の表面に無機層２６（窒化ケイ素（ＳｉＮ）層）を形成した。
　送出機より有機層２４を形成した支持体２０を送り出し、無機層の成膜前の最後の膜面タッチロール通過後に保護フィルムを剥離し、暴露された有機層２４の上にプラズマＣＶＤによって無機層２６を形成した。
　無機層２６の形成には、原料ガスとして、シランガス（流量１６０ｓｃｃｍ）、アンモニアガス（流量３７０ｓｃｃｍ）、水素ガス（流量５９０ｓｃｃｍ）、および窒素ガス（流量２４０ｓｃｃｍ）を用いた。電源は、周波数１３．５６ＭＨｚの高周波電源を用いた。成膜圧力は４０Ｐａとした。
　形成した無機層２６の厚さは５０ｎｍであった。
　なお、単位ｓｃｃｍで表す流量は、１０１３ｈＰａ、０℃における流量（ｃｃ／ｍｉｎ）に換算した値である。
　　＜＜有機層２８の形成＞＞
　さらに、無機層２６の表面に、以下のようにして有機層２８を積層した。
　まず、有機層２８を形成するための組成物を調製した。具体的には、ウレタン結合含有アクリルポリマー（大成ファインケミカル株式会社製、アクリット８ＢＲ５００、質量平均分子量２５０，０００）と光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製イルガキュア１８４）とを用意し、ウレタン結合含有アクリルポリマー：光重合開始剤の質量比率が、９５：５となるように、秤量し、これらをメチルエチルケトンに溶解させ、固形分濃度が１５質量％の組成物を調製した。
　この組成物を用い、ＲｔｏＲを利用して塗布法で成膜を行う一般的な成膜装置によって、無機層２６の表面に有機層２８を形成した。
　まず、ダイコーターを用いて組成物を無機層２６上に塗布した。塗布後の支持体２０を１００℃の乾燥ゾーンを３分間通過させて、有機層２８を形成した。
　これにより、支持体２０の上に有機層２４、無機層２６および有機層２８を形成してなる、図２に示すようなガスバリアフィルム１４を作製した。形成した有機層２４の厚さは１μｍであった。
　なお、ガスバリアフィルム１４は、組成物を乾燥した直後のパスロールにおいて保護フィルムとして有機層２８の表面に先と同じポリエチレンフィルムを貼り付けた後、巻き取った。
　＜機能層積層体１１の作製＞
　以下の組成を有する、波長変換層１２としての量子ドット層を形成するための組成物を調製した。
　（組成物の組成）
　・量子ドット１のトルエン分散液（発光極大：５２０ｎｍ）　１０質量部
　・量子ドット２のトルエン分散液（発光極大：６３０ｎｍ）　　１質量部
　・ラウリルメタクリレート　　　　　　　　　　　　　　　２．４質量部
　・トリメチロールプロパントリアクリレート　　　　　　０．５４質量部
　・光重合開始剤（イルガキュア８１９、ＢＡＳＦ社製）０．００９質量部
　量子ドット１、２としては、下記のコア－シェル構造（ＩｎＰ／ＺｎＳ）を有するナノ結晶を用いた。
　・量子ドット１：ＩＮＰ５３０－１０（ＮＮ－ｌａｂｓ社製）
　・量子ドット２：ＩＮＰ６２０－１０（ＮＮ－ｌａｂｓ社製）
　調製した組成物の粘度は５０ｍＰａ・ｓであった。
　この組成物を用い、ＲｔｏＲを利用して塗布法で成膜を行う一般的な成膜装置によって、波長変換層１２の両面にガスバリアフィルム１４を積層した積層体を作製した。
　２枚のガスバリアフィルム１４を成膜装置の所定位置に装填、通紙した。まず、一枚のガスバリア層の保護フィルムを剥離した後、ダイコーターを用いて組成物を有機層２８の表面に塗布した。次いで、もう一枚のガスバリアフィルム１４から保護フィルムを剥離した後、組成物に有機層２８を向けて、ガスバリアフィルム１４を積層した。
　さらに、波長変換層１２となる組成物をガスバリアフィルム１４で挟んだ積層体に、紫外線（積算照射量約２０００ｍＪ／ｃｍ2）を照射することで組成物を硬化して波長変換層１２を形成し、波長変換層１２の両面にガスバリアフィルム１４を積層した積層体を作製した。
　波長変換層１２の厚さは、４６μｍであり、積層体の厚さＴは、１５０μｍであった。
　作製した積層体を、刃先角度１７°のトムソン刃を使用して、５０ｍｍ×１００ｍｍのシート状に切断し、機能層積層体１１を得た。
　　＜＜端面封止層の形成＞＞
　端面封止層１６を形成する組成物として、固形分が以下の組成を有する組成物を調製した。なお、組成は、固形分全体を１００質量部とした際の質量部である。
　・２液型熱硬化性エポキシ樹脂の主剤（三菱ガス化学株式会社製、Ｍ－１００）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３２質量部
　・２液型熱硬化性エポキシ樹脂の硬化剤（三菱ガス化学株式会社製、Ｃ－９３）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　６８質量部
　・１－ブタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　６０質量部
　調製した組成物を平板４０上に塗布し、厚さ１０００μｍの液膜３１を形成した。次に、図４Ａ～図４Ｃに示すように、機能層積層体１１の端面を液膜３１に３００μｍ押し込むように接触させたのちに鉛直上方に持ち上げて、端面に所定量の組成物を付着させた。その後、８０℃で１０分乾燥、硬化して、端面封止層１６を形成し、積層フィルム１０を作製した。
　作製した積層フィルム１０は、端面封止層１６が機能層積層体１１の端面の全域にわたって、ガスバリア層１４の一部と光学機能層１２を覆っていた。
　作製した積層フィルム１０のサンプルを、大和光機工業株式会社製リトラトームＲＥＭ－７１０で断面切削し、その断面を光学顕微鏡で観察し、端面封止層１６の乗り上がり部Ｍの幅ｓおよび主面からの高さｔを測定したところ、幅ｓは３．８ｍｍ、主面からの高さｔは３３μｍであった。また、端面封止層の厚さは４７μｍであった。
　したがって、乗り上がり部Ｍの幅ｓは主面の長さの７．６％であり、主面からの高さｔは、機能層積層体１１の厚さの２２％であった。
　また、２軸延伸ポリエステルフィルム（東レ株式会社製、ルミラーＴ６０）に、端面封止層１６と全く同様にして厚さ１００μｍの酸素透過度測定用サンプルを作製した。次いで、ポリエステルフィルムから酸素透過度測定用サンプルを剥離して、ＡＰＩＭＳ法（大気圧イオン化質量分析法）による測定装置（株式会社日本エイピーアイ社製）を用いて、温度２５℃、湿度６０％ＲＨの条件下で、酸素透過度を測定した。
　その結果、酸素透過度測定用サンプルすなわち端面封止層１６の酸素透過度は、０．９cc/(m2・day・atm）であった。
　［比較例１］
　端面封止層を形成しない以外は、実施例１と同様にして、積層フィルムを作製した。
　［比較例２］
　端面封止層１６の塗布条件を、液膜３１の厚みを５０μｍにして、機能層積層体１１の端面を液膜３１に５μｍ押し込むように接触させるように変更した以外は、実施例１と同様にして積層フィルムを作製した。
　作製した積層フィルム１０の端面封止層１６の乗り上がり部Ｍの幅ｓおよび主面からの高さｔを測定したところ、幅ｓは０．００８ｍｍ、主面からの高さｔは１μｍであった。また、端面封止層の厚さは４０μｍであった。
　したがって、乗り上がり部Ｍの幅ｓは０．０１ｍｍ未満、主面からの高さｔは、機能層積層体１１の厚さの０．７％であった。
　また、端面封止層１６の酸素透過度は、１．０cc/(m2・day・atm）であった。
　［比較例３］
　端面封止層１６の塗布条件を、液膜３１の厚みを１０００μｍにして、機能層積層体１１の端面を液膜３１に５００μｍ押し込むように接触させるように変更した以外は、実施例１と同様にして積層フィルムを作製した。
　作製した積層フィルム１０の端面封止層１６の乗り上がり部Ｍの幅ｓおよび主面からの高さｔを測定したところ、幅ｓは４．３ｍｍ、主面からの高さｔは４５μｍであった。また、端面封止層の厚さは４８μｍであった。
　したがって、乗り上がり部Ｍの幅ｓは主面の長さの８．６％であり、主面からの高さｔは、機能層積層体１１の厚さの３０％であった。
　また、端面封止層１６の酸素透過度は、１．０cc/(m2・day・atm）であった。
　［実施例２］
　端面封止層１６の塗布条件を、液膜３１の厚みを５００μｍにして、機能層積層体１１の端面を液膜３１に４００μｍ押し込むように接触させるように変更した以外は、実施例１と同様にして積層フィルムを作製した。
　作製した積層フィルム１０の端面封止層１６の乗り上がり部Ｍの幅ｓおよび主面からの高さｔを測定したところ、幅ｓは１．０ｍｍ、主面からの高さｔは１４μｍであった。また、端面封止層の厚さは２９μｍであった。
　したがって、乗り上がり部Ｍの幅ｓは主面の長さの２％であり、主面からの高さｔは、機能層積層体１１の厚さの１９％であった。
　また、端面封止層１６の酸素透過度は、１．０cc/(m2・day・atm）であった。
　［実施例３］
　実施例３として、２層構成の端面封止層を形成した以外は実施例１と同様にして積層フィルム１０を作製した。
　＜端面封止層１６の形成＞
　機能層積層体１１の端面に、２層からなる端面封止層１６を形成した。なお、各層の形成方法としてはそれぞれ、実施例１の端面封止層と同様の転写による塗布方法を用いた。
　また、第１層の厚さは２μｍとし、第２層の厚さは３０μｍとし、合計３２μｍとした。
　　＜＜第１層＞＞
　　・２液型熱硬化性エポキシ樹脂の主剤（ヘンケル・ジャパン社製、Ｅ－３０ＣＬ）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２質量部
　・２液型熱硬化性エポキシ樹脂の硬化剤（ヘンケル・ジャパン社製、Ｅ－３０ＣＬ）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１質量部
　・１－ブタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　９７質量部
　　＜＜第２層＞＞
　・ポリビニルアルコール系樹脂（日本合成化学工業株式会社製、Ｇポリマー：ＯＫＳ－８０４９）　　　　　　　　　　　　　　　　　　４０質量部
　・純水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４４質量部
　・２－プロパノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１６質量部
　作製した積層フィルム１０の端面封止層１６の乗り上がり部Ｍの幅ｓおよび主面からの高さｔを測定したところ、幅ｓは０．５ｍｍ、主面からの高さｔは１６μｍであった。
　したがって、乗り上がり部Ｍの幅ｓは主面の長さの１％であり、主面からの高さｔは、機能層積層体１１の厚さの１１％であった。
　また、端面封止層１６の酸素透過度は、０．０１cc/(m2・day・atm）であった。
　［実施例４］
　機能層積層体１１の一方の面に拡散層を積層して端面封止層１６を形成した以外は、実施例３と同様にして積層フィルムを作製した。
　拡散層は、以下のようにして形成した。
　下記光拡散層用塗布液１を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して光拡散層用塗布液を調製した。
　光拡散層用塗布液１
――――――――――――――――――――――――――――――――――
　ＤＰＨＡ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１５ｇ
　ＰＥＴ－３０　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　７３ｇ
　イルガキュア１８４　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１ｇ
　イルガキュア１２７　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１ｇ
　粒径５．０μｍスチレン粒子　　　　　　　　　　　　　　　　　　８ｇ
　粒径１．５μｍベンゾグアナミン粒子　　　　　　　　　　　　　　２ｇ
　ＭＥＫ（メチルエチルケトン）　　　　　　　　　　　　　　　　５０ｇ
　ＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン）　　　　　　　　　　　　　５０ｇ
――――――――――――――――――――――――――――――――――
　それぞれ使用した化合物を以下に示す。
　・ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物［日本化薬（株）製］
　・ＰＥＴ－３０：ペンタエリスリトールトリアクリレート［日本化薬（株）製］
　・イルガキュア１２７：重合開始剤［チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製］
　・イルガキュア１８４：重合開始剤［チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製］
　（拡散層の形成）
　機能層積層体１１の一方の表面に、一般的なダイコーターを用いて、光拡散層用塗布液を直接押し出して塗布した。搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布し、３０℃で１５秒間、９０℃で２０秒間乾燥の後、さらに窒素パージ下酸素濃度０．２％で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照射量９０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させて、拡散層を形成した。得られた拡散層の厚さは８．０μｍであった。
　その後、実施例３と同様にして端面封止層１６を形成した。
　作製した積層フィルム１０の端面封止層１６の乗り上がり部Ｍの幅ｓおよび主面からの高さｔを測定したところ、幅ｓは０．５ｍｍ、主面からの高さｔは１６μｍであった。
　したがって、乗り上がり部Ｍの幅ｓは主面の長さの１％であり、主面からの高さｔは、機能層積層体１１の厚さの１１％であった。
　また、端面封止層１６の酸素透過度は、０．０１cc/(m2・day・atm）であった。
　［実施例５］
　端面封止層１６の塗布条件を、液膜３１の厚みを５０μｍにして、機能層積層体１１の端面を液膜３１に３０μｍ押し込むように接触させるように変更した以外は、実施例１と同様にして積層フィルムを作製した。
　作製した積層フィルム１０の端面封止層１６の乗り上がり部Ｍの幅ｓおよび主面からの高さｔを測定したところ、幅ｓは０．０５ｍｍ、主面からの高さｔは３μｍであった。また、端面封止層の厚さは４１μｍであった。
　したがって、乗り上がり部Ｍの幅ｓは主面の長さの０．１％であり、主面からの高さｔは、機能層積層体１１の厚さの２．０％であった。
　また、端面封止層１６の酸素透過度は、１．０cc/(m2・day・atm）であった。
　［評価］
　作製した実施例１～５、および、比較例１～４の積層フィルムについて、端部の性能劣化（バリア性）を評価した。
　＜バリア性＞
　端部の性能劣化の度合を測定することで端面封止層のバリア性を評価した。
　まず、積層フィルムの初期輝度（Ｙ０）を以下の手順で測定した。市販のタブレット端末(Amazon社製Kindle（登録商標） Fire HDX 7”)を分解し、バックライトユニットを取り出した。取り出したバックライトユニットの導光板上に積層フィルムを置き、その上に、向きが直交した２枚のプリズムシートを重ね置いた。青色光源から発し、積層フィルムおよび２枚のプリズムシートを透過した光の輝度を、導光板の面に対して垂直方向７４０ｍｍの位置に設置した輝度計（ＳＲ３、ＴＯＰＣＯＮ社製）にて測定し、積層フィルムの輝度とした。
　次に、６０℃相対湿度９０％に保たれた恒温槽に積層フィルムを投入し、１０００時間保管した。１００時間後、積層フィルムを取り出し、上記と同様の手順で、高温高湿試験後の輝度（Ｙ１）を測定した。下記式のように、初期の輝度値（Ｙ０）に対する、高温高湿試験後の輝度（Ｙ１）の変化率（ΔＹ）を算出し、輝度変化の指標として、以下の基準で評価した。
　　ΔＹ［％］＝（Ｙ０－Ｙ１）／Ｙ０×１００
　　Ａ：ΔＹ≦５％
　　Ｂ：５％＜ΔＹ＜１５％
　　Ｃ：１５％≦ΔＹ
　＜有効面積＞
　また、上記で測定した初期輝度（Ｙ０）の、比較例１（端面未封止）に対する比率に基づいて、以下の基準で有効面積を評価した。
　　Ａ：９５％以上
　　Ｂ：８５％以上９５％未満
　　Ｃ：８５％未満
　結果を表１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　上記表１に示されるように、本発明の積層フィルムは、比較例に対して、端部の非発光領域が低減されており、端面封止層により酸素、水を遮断することで量子ドット（光学機能層）の劣化を防ぐことができることがわかる。
　また、実施例１と実施例２との対比から、端面封止層を２層構成とすることで、バリア性をより向上できることがわかる。
　また、実施例２と実施例３との対比から、乗り上がり部Ｍの幅ｓは、５％以下であるのが好ましいことがわかる。
　また、実施例１～４の対比から、主面からの高さｔは、１０％以下であるのが好ましいことがわかる。
　以上の結果より、本発明の効果は明らかである。
　１０　積層フィルム
　１１　機能層積層体
　１２　波長変換層
　１４　ガスバリアフィルム
　１６　端面封止層
　２０　支持体
　２４、２８　有機層
　２６　無機層
　３０　第１層
　３１　液膜
　３２　第２層
　３４　第３層
　４０　平板

Claims (4)

  1. 　波長変換層と、前記波長変換層の両主面それぞれに積層され挟持するガスバリアフィルムとを有する機能層積層体、および、
    　前記機能層積層体の一方の主面の一部から端面全体および他方の主面の一部までを覆う端面封止層を有し、
    　前記端面封止層の、前記機能層積層体の主面上に形成される乗り上がり部の、端面からの幅が０．０１ｍｍ以上で、かつ、前記主面の長さの８％以下であることを特徴とする積層フィルム。
  2. 　前記端面封止層の、前記主面に垂直な方向における前記主面からの高さが、前記機能層積層体の厚さの０％超２０％以下である請求項１に記載の積層フィルム。
  3. 　前記端面封止層が、多層である請求項１または２に記載の積層フィルム。
  4. 　前記機能層積層体は、少なくとも一方のガスバリアフィルム上に拡散層を有する請求項１～３のいずれか一項に記載の積層フィルム。
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