WO2017051670A1 - ミラー装置及び光源装置 - Google Patents

Abstract

反射ミラーをミラー支持体に接着剤を介して接着する場合に、反射ミラーが所望の位置から傾いた状態でミラー支持体に接着されることを抑制することで、反射光の利用効率の悪化や光源装置の出力低下を抑制できる技術を提供する。　ミラー装置は、反射面及び反射面の反対側の裏面を含む反射ミラーと、接着剤を介して反射ミラーを支持するミラー支持体と、を有する。ミラー支持体は、反射ミラーの裏面に対向し、接着剤が載置される接着面と、裏面に接する当接面と、を含む。

Description

ミラー装置及び光源装置

　本発明は、ミラー装置及び光源装置に関する。

　従来、複数の半導体レーザ素子等の半導体発光素子を光源として用い、各光源からの出射光の光軸上に反射ミラーを配置した光源装置が知られている。

　このような光源装置において、出射光の光軸に平行な方向及び垂直な方向に関し各反射ミラーの位置をずらして配置することで、出射光の間隔よりも狭い間隔で各出射光を反射させる技術がある（例えば特許文献１）。

　この技術によれば、出射光の間隔に比べて反射光の間隔を狭めることができるため、反射光を集光するレンズを小さくすることができ、光源装置の小型化が可能になるという利点がある。

特開２０１１－７６７８１号公報

　特許文献１の技術では、光源装置は、反射ミラー及びミラー支持体を有するミラー装置を備える。ミラー支持体は、各反射ミラーが所望の位置に配置されるよう階段形状に構成されており、各反射ミラーは、ミラー支持体に接着剤を介して接着されている。

　ここで、特許文献１の技術では、反射ミラー及びミラー支持体の間の接着剤の厚みが一定とならず、反射ミラーが支持される角度にバラつきが生じるおそれがあった。そのため、各反射ミラーが非平行の状態でミラー支持体に支持され、反射光の進行方向にバラつきが生じるという問題があった。

　また、特許文献１の技術は、複数の反射ミラーが一つのミラー支持体に支持される構成である都合上、反射ミラーの位置を個別に調整することはできない。そのため、反射光の進行方向が平行になるよう各反射ミラーの位置を個別に調整することもできなかった。

　以上のように、特許文献１の技術では、接着剤の厚みが一定とならず、反射ミラーが支持される角度にバラつきが生じることに起因して、反射光の進行方向にもバラつきが生じる結果、反射光が集光レンズに非平行の状態で入射するという問題があった。そのため、集光レンズによって反射光を集光しきれず、反射光の利用効率が悪化し、光源装置の出力が低下する、という問題があった。

　そのため、反射ミラーをミラー支持体に接着剤を介して接着する際、反射ミラーを所望の位置に精度よく固定可能な技術が求められる。

　上述の問題は、ミラー支持体に複数の反射ミラーを接着する場合に限らず、一つの反射ミラーを接着する場合においても同様に起こり得る。具体的には、反射ミラーが一つの場合、反射ミラー及びミラー支持体の間の接着剤の厚みが一定とならない場合、反射ミラーが所望の角度から傾いた状態で接着される。そのため、反射光が意図した方向に進行せず、反射光の利用効率が悪化し、光源装置の出力が低下するという問題があった。

　なお、反射ミラーが一つである場合には、反射光が所望する方向に進行するように、ミラー支持体の位置を調整することが可能とも思われる。しかし、ミラー支持体に反射ミラーを接着後、ミラー支持体の位置を調整するという微細で煩雑な調整工程を要求することは、製造効率の悪化、さらには製造コストの上昇に繋がり望ましくない。

　そのため、一つの反射ミラーをミラー支持体に支持させる場合であっても、このような位置調整を強いることなく、反射ミラーを精度よくミラー支持体に固定することができる技術が求められる。

　本発明は、上記の課題に鑑み、反射ミラーをミラー支持体に接着剤を介して接着する場合に、反射ミラーが所望の位置から傾いた状態でミラー支持体に接着されることを抑制することで、反射光の利用効率の悪化や光源装置の出力低下を抑制できる技術を提供することを目的とする。

　本発明のミラー装置は、
　反射面及び前記反射面の反対側の裏面を含む反射ミラーと、
　接着剤を介して前記反射ミラーを支持するミラー支持体と、を有し、
　前記ミラー支持体は、
　　前記反射ミラーの前記裏面に対向し、前記接着剤が載置される接着面と、
　　前記裏面に接する当接面と、を含むことを特徴とする。

　上記構成によれば、反射ミラーの裏面は、ミラー支持体の当接面に接した状態で、ミラー支持体の接着面に接着剤を介して接着される。これにより、反射ミラーは、ミラー支持体の当接面の加工精度に従って支持されるため、所望の位置から傾いた状態でミラー支持体に支持されることを抑制でき、反射光の利用効率の悪化や光源装置の出力低下を抑制できる。

　また、上記構成において、
　前記ミラー支持体は、前記接着面を底面に含むとともに前記接着剤を収納する凹部を形成されるものとしても構わない。

　上記構成によれば、反射ミラーが例えば直方体形状の場合に、反射ミラーが所望の位置から傾いた状態で支持されることを抑制できる。

　また、上記構成において、
　前記接着面及び前記当接面は、前記反射ミラーの前記反射面に垂直な方向から見たとき、前記当接面が前記接着面を挟むように前記接着面に対して外側に位置しているものとしても構わない。

　上記構成によれば、反射ミラーを接着する際、反射ミラーの反射面のうち比較的外側の領域をミラー支持体の当接面に向かって押さえることができる。即ち、反射ミラーの反射面のうち比較的内側の領域に触れることを抑制でき、反射面に汚れ等が付着することで反射ミラーの反射特性が悪化することを抑制できる。

　また、上記構成において、
　複数の前記反射ミラーを有し、
　前記ミラー支持体は、前記反射ミラーごとに前記接着面及び前記当接面を含むとともに、複数の前記反射ミラーの前記反射面の各々が平行となるよう、前記複数の反射ミラーの各々を平行に支持するものとしても構わない。

　また、上記構成において、
　前記ミラー支持体は、
　　前記接着面及び前記当接面を含み、前記反射ミラーが載置される複数の載置領域と、
　　隣り合う前記載置領域を接続する接続領域と、を含み、
　前記載置領域は、前記当接面の反対側に、前記当接面に平行な背面を含み、
　前記当接面に垂直な方向に関し、前記当接面と前記背面との間の厚みは、前記接続領域の厚みに比べて小さいものとしても構わない。

　上記構成によれば、ミラー支持体における当接面及び背面が平行となる。そして、当接面と背面との間の厚みが接続領域の厚みに比べて小さくなるように構成される。そのため、例えば反射ミラーが直方体形状の場合、反射ミラーの反射面及び裏面がミラー支持体の当接面及びミラー支持体の背面と平行となるよう、反射ミラーをミラー支持体に載置することができるとともに、反射ミラー及びミラー支持体を治具で挟んで押さえる工程が容易になる。

　また、上記構成において、
　前記ミラー支持体は、
　　前記接着面及び前記当接面を含み、前記反射ミラーが載置される複数の載置領域と、
　　隣り合う前記載置領域を接続する接続領域と、を含み、
　前記載置領域は、前記当接面の反対側に、前記当接面に平行な背面を含み、
　前記当接面に平行な方向に関し、前記当接面及び前記背面は、前記接続領域から突出するように形成されているものとしても構わない。

　上記構成によれば、隣り合う載置領域における当接面及び背面は、接続領域を介さずに離間する。これにより、治具が反射ミラー及びミラー支持体を挟み込む方向について自由度が増し、これに伴い、使用する治具の大きさの自由度も増す。詳細は、発明を実施するための形態の欄で説明する。

　また、上記構成において、
　前記ミラー装置における前記反射ミラーの前記反射面に向かって、光を出射する光源部を有する光源装置としても構わない。

　本発明のミラー装置及び光源装置によれば、反射ミラーをミラー支持体に接着剤を介して接着する場合に、反射ミラーが所望の位置から傾いた状態でミラー支持体に支持されることを抑制することで、反射光の利用効率の悪化や光源装置の出力低下を抑制できる。

本発明の実施形態である光源装置を模式的に示す図である。 本発明の第一実施形態であるミラー装置を模式的に示す全体斜視図である。 反射ミラーをミラー支持体に接着前の状態及び接着後の状態を示す模式図である。 参考例のミラー装置を模式的に示す全体斜視図である 図４におけるミラー支持体をｘｙ平面で切断したときの模式的な断面図である。 本発明の第二実施形態であるミラー支持体を模式的に示す全体斜視図である。 本発明の第二実施形態であるミラー支持体の模式的な－ｘ方向視図である。 本発明の第二実施形態であるミラー支持体に反射ミラーを載置し治具で押さえたときの模式的な全体斜視図である。 本発明の第三実施形態であるミラー支持体を模式的に示す全体斜視図である。 本発明の第三実施形態のミラー支持体の模式的な－ｙ方向視図である。 本発明の第三実施形態であるミラー支持体に反射ミラーを載置し治具で押さえたときの模式的な全体斜視図である。 本発明の別実施形態であるミラー支持体の模式的な断面図である。

　本発明のミラー装置及び光源装置につき、図面を参照して説明する。なお、各図において図面の寸法比と実際の寸法比は必ずしも一致しない。

　（第一実施形態）
　以下、第一実施形態について説明する。

　［光源装置の構成］
　図１に示すように、光源装置１は、光源部１１、ミラー装置１３を備える。

　光源部１１は、レーザ光を出射する複数の半導体レーザ素子１１ａ、及び、半導体レーザ素子１１ａからのレーザ光を平行光に変換する複数のコリメータレンズ１１ｂを含む。以下では、半導体レーザ素子１１ａからのレーザ光を出射光Ｌ１と呼ぶ。

　半導体レーザ素子１１ａは、行及び列をなして配列される。列方向は、図１における紙面鉛直方向であり、行方向は、当該列方向及び出射光Ｌ１の光軸に直交する方向（紙面左右方向）である。本実施形態では、一例として、４行６列に半導体レーザ素子１１ａが配列されている。また、本実施形態では、半導体レーザ素子１１ａは、青色光（例えば、波長が４３０～４７０ｎｍの光）を発している。なお、光源部１１は、青色光と異なる波長帯の光を発する半導体レーザ素子により構成されても構わないし、ＬＥＤ素子により構成されても構わないし、他の固体光源素子により構成されていても構わない。

　コリメータレンズ１１ｂは、各半導体レーザ素子１１ａからの出射光Ｌ１の光軸上に配置される。即ち、コリメータレンズ１１ｂは、半導体レーザ素子１１ａと同数配置されている。なお、光源部１１は、コリメータレンズ１１ｂを備えないものとしても構わない。

　ミラー装置１３は、複数の反射ミラー１５及びミラー支持体１７を有する。

　反射ミラー１５は、コリメータレンズ１１ｂにより平行化された出射光Ｌ１を反射して反射光Ｌ２にする。反射光Ｌ２は、集光レンズ１６により集光され、必要に応じて種々の光学系を介して光源装置１の外部へ出射される。

　反射ミラー１５は、半導体レーザ素子１１ａの列数と同数存在する。即ち、同じ列に存在する半導体レーザ素子１１ａは、同一の反射ミラー１５によって反射されるようになっている。本実施形態では、６列の半導体レーザ素子１１ａが配置されており、６個の反射ミラー１５が配置されている。なお、反射ミラー１５は、一例として、ガラスからなる基板の表面に高い反射特性を有する金属膜または誘電体多層膜を蒸着したものである。

　ミラー支持体１７は、各反射ミラー１５を平行に支持する。ミラー支持体１７は、出射光Ｌ１に対して反射ミラー１５の反射面１５Ａの法線方向が一定の角度θをなすように反射ミラー１５を支持する。本実施形態では、一例として、ミラー支持体１７は６個の反射ミラー１５を、角度θが４５度となるように支持する。

　また、ミラー支持体１７は、各反射ミラー１５を、出射光Ｌ１を反射可能な位置であって、かつ、反射光Ｌ２の間隔が出射光Ｌ１の間隔よりも狭くなるような位置に支持する。以下、ミラー支持体１７の構成について図２を参照して説明する。なお、ミラー支持体は、一例としてアルミ合金等の金属からなり、ＮＣフライス盤やマシンニングセンタ等の周知の工作機械を用いた金属加工によって製造される。

　［ミラー支持体の構成］
　図２を参照してミラー支持体１７について説明する。図２は、ミラー装置１３を模式的に示す全体斜視図である。なお、図２では、説明の都合上、１つの反射ミラー１５が支持されておらず、５つの反射ミラー１５がミラー支持体１７に支持された状態を示し、各反射ミラー１５の反射面１５Ａに斜線を付している。

　図２に示すように、反射ミラー１５は、直方体の形状をなす。なお、図２以降において、反射ミラー１５の長手方向をｘ方向、反射面１５Ａに垂直な方向をｙ方向、ｘ方向及びｙ方向に直交する方向をｚ方向としている。ミラー支持体１７は、接着面１７Ａ及び当接面１７Ｂを含む。本実施形態では、ミラー支持体１７は、一例として一つの反射ミラー１５に対し一つの接着面１７Ａ及び二つの当接面１７Ｂを含む。即ち、本実施形態では、ミラー支持体１７は、６個の接着面１７Ａ及び１２個の当接面１７Ｂを含む。

　以下、接着面１７Ａ及び当接面１７Ｂについて詳細を説明する。

　図３に反射ミラー１５をミラー支持体１７に接着前の状態及び接着後の状態を示す。図３では、ミラー支持体１７の接着面１７Ａ及び当接面１７Ｂをｘｙ平面で切断したときの断面図を用いている。

　図３（ａ）は、反射ミラー１５をミラー支持体１７に接着前の状態である。図３（ａ）に示すように、ミラー支持体１７の接着面１７Ａ及び当接面１７Ｂは、反射ミラー１５の反射面１５Ａの反対側の裏面１５Ｂに平行な面である。また、接着面１７Ａは当接面１７Ｂに比べ－ｙ方向側に形成される。より具体的には、ミラー支持体１７の接着面１７Ａ及び当接面１７Ｂの反対側の底面１７Ｃから接着面１７Ａまでのｙ方向における長さは、当該底面１７Ｃから当接面１７Ｂまでのｙ方向における長さよりも短い。即ち、ミラー支持体１７は、接着面１７Ａを底面に含む凹部１９を形成される構成となっている。

　図３（ｂ）は、反射ミラー１５をミラー支持体１７に接着後の状態である。図３（ｂ）に示すように、接着面１７Ａは、反射ミラー１５の裏面１５Ｂに対向し、接着剤２１を載置される。当接面１７Ｂは、接着剤２１を介することなく、当該裏面１５Ｂに接する。即ち、反射ミラー１５の裏面１５Ｂは、二つの当接面１７Ｂに接した状態で、接着面１７Ａに接着剤２１を介して接着される。

　なお、図３（ｂ）では、接着剤２１は接着面１７Ａのうち内側の一部の領域に載置される状態を示したが、接着剤２１は図３（ｂ）とは異なる他の領域に載置されても構わないし、接着面１７Ａの全面に載置されても構わない。また、接着剤２１の量は、ミラー支持体１７の凹部１９に収納されるよう、当該凹部１９の容積以下の範囲で調整される。但し、接着剤２１の量は、少なくとも当該接着剤２１の厚みが当該凹部１９のｙ方向における長さとなるように調整される。反射ミラー１５の裏面１５Ｂを接着面１７Ａに接着可能とするためである。

　また、本実施形態では、接着面１７Ａは、二つの当接面１７Ｂの間に挟まれるように、当接面１７Ｂに対して内側に形成される。換言すると、当接面１７Ｂは、接着面１７Ａを挟むように接着面１７Ａに対して外側に形成されている。

　［参考例の構成］
　第一実施形態のミラー装置１３による効果を説明するため、参考例のミラー装置９３について説明する。図４は参考例のミラー装置９３を模式的に示す全体斜視図である。ミラー装置９３は、反射ミラー１５及びミラー支持体９５を有する。なお、図４では、説明の都合上、１つの反射ミラー１５が支持されておらず、５つの反射ミラー１５が支持された状態を示し、各反射ミラー１５の反射面１５Ａに斜線を付している。

　図４に示すように、ミラー支持体９５は、反射ミラー１５の裏面１５Ｂ（図示略）に平行な平面９５Ａを含む。即ち、ミラー支持体９５は、第一実施形態のミラー支持体１７と異なり、接着面及び当接面を含まない。なお、ミラー支持体９５は、一つの反射ミラー１５に対し、一つの平面９５Ａを含む。本実施形態では、ミラー支持体９５は、６個の平面９５Ａを含む。平面９５Ａには、接着剤２１が載置される。以下、参考例のミラー装置９３に生じる問題について具体的に説明する。

　図５は図４におけるミラー支持体９５の平面９５Ａをｘｙ平面で切断したときの断面図である。なお、説明の都合上、図５では反射ミラー１５がミラー支持体９５に支持された状態を示す。

　図５に示すように、平面９５Ａには接着剤２１が載置される。そして、反射ミラー１５の裏面１５Ｂは、当該接着剤２１を介して、平面９５Ａに接着されている。

　参考例のミラー装置９３では、反射ミラー１５の裏面１５Ｂとミラー支持体９５の平面９５Ａとの間には、接着剤２１が介在している。そのため、反射ミラー１５の位置は、ミラー支持体９５との間にある接着剤２１の厚みに依存する。ここで、例えばミラー支持体９５の平面９５Ａに接着剤２１を載置した後、反射ミラー１５及びミラー支持体９５のそれぞれを相互に押さえて接着する場合、押さえつける力が均等に加わらず、接着剤２１の厚みが一定とならないおそれがある。そのため、反射ミラー１５は、図５に示すように、反射面１５Ａ及び裏面１５Ｂが、ミラー支持体９５の平面９５Ａに非平行の状態でミラー支持体９５に接着される。

　このように、参考例のミラー装置９３では、各反射ミラー１５の位置が接着剤２１の厚みに依存することから、各反射ミラー１５が非平行の状態でミラー支持体９５に接着されるおそれがある。そのため、反射光Ｌ２の進行方向にバラつきが生じ、反射光Ｌ２の利用効率が悪化し、光源装置１の出力が低下するという問題が生じる。

　［第一実施形態による作用効果］
　これに対し、本実施形態のミラー装置１３によれば、図３（ｂ）に示すように、反射ミラー１５の裏面１５Ｂは、ミラー支持体１７の当接面１７Ｂに接する。そのため、反射ミラー１５は、ミラー支持体１７の当接面１７Ｂの加工精度に従って支持される。ここで、ミラー支持体１７は、上述のように周知の金属加工によって製造されるところ、当該金属加工によれば、例えば公差±０．００５ｍｍの比較的高い加工精度が得られる。

　即ち、本実施形態のミラー装置１３によれば、反射ミラー１５の位置は、接着剤２１の厚みに依存することなく、ミラー支持体１７の当接面１７Ｂにおける比較的高い加工精度に従う。そのため、出射光Ｌ１に対する反射ミラー１５の反射面１５Ａの法線方向の角度が一定の角度θ（本実施形態では４５度）からズレた状態で、反射ミラー１５がミラー支持体１７に支持されることを抑制できる。即ち、ミラー支持体１７は、各反射ミラー１５を平行に支持することができ、その結果、反射光Ｌ２の利用効率の悪化や光源装置１の出力低下を抑制できる。

　さらに、本実施形態のミラー装置１３によれば、ミラー支持体１７における当接面１７Ｂは接着面１７Ａに対して外側に形成される。そのため、反射ミラー１５をミラー支持体１７に接着するために反射ミラー１５の反射面１５Ａをミラー支持体１７の当接面１７Ｂに向かって押さえる際、反射面１５Ａのうち比較的外側の領域を押さえることができる。即ち、反射面１５Ａのうち比較的内側の領域に触れることを抑制でき、反射面１５Ａのうち、出射光Ｌ１が反射される領域に汚れ等が付着することで反射ミラー１５の反射特性が悪化することを抑制できる。

　（第二実施形態）
　以下、第二実施形態について説明する。なお、第二実施形態は、第一実施形態とミラー支持体の構成のみ異なりその他は同じであるため、以下では第一実施形態のミラー支持体１７の構成と異なる点を重点的に説明する。

　［ミラー支持体の構成］
　図６に第二実施形態のミラー支持体２７を模式的に示す全体斜視図を示す。ミラー支持体２７は、第一実施形態のミラー支持体１７と同様に、反射ミラー１５の裏面１５Ｂ（図示略）に対向し、接着剤２１を載置される接着面２７Ａと、当該裏面１５Ｂに接する当接面２７Ｂとを含む。ミラー支持体２７は、第一実施形態のミラー支持体１７と、二つの当接面２７Ｂのそれぞれの反対側に、当該当接面２７Ｂに平行な背面２７Ｃを形成される点で異なる。即ち、図６に示すように、ミラー支持体２７のｘ方向における両端には、背面２７Ｃを含む凹部２８が形成されている。

　なお、本実施形態では、一例として、背面２７Ｃのｘ方向における長さは、当接面２７Ｂのｘ方向における長さと同じであるが、当接面２７Ｂのｘ方向における長さよりも長くても短くても構わない。換言すれば、背面２７Ｃは、接着面２７Ａ及び当接面２７Ｂの境界よりも接着面２７Ａ側まで形成されていても構わないし、当該境界よりも当接面２７Ｂ側に形成されていても構わない。

　図７に第二実施形態のミラー支持体２７の模式的な－ｘ方向視図を示す。なお、図７では、説明の都合上、ミラー支持体２７を－ｘ方向からみたときに現れる凹部２８の底面に斜線を付している。図７に示すように、ミラー支持体２７は、反射ミラー１５が載置される載置領域２９と、隣り合う載置領域２９を接続する接続領域３１と、を含む。載置領域２９は、１個の接着面２７Ａと２個の当接面２７Ｂと２個の背面２７Ｃとを含む。ミラー支持体２７は、反射ミラー１５の個数と同数の載置領域２９を含む。本実施形態では、ミラー支持体２７は、６個の載置領域２９と、５個の接続領域３１とを含む。

　図７に示すように、当接面２７Ｂ及び背面２７Ｃの間のｙ方向における長さは、接続領域３１のｙ方向における長さに比べて小さくなっている。即ち、当接面２７Ｂ及び背面２７Ｃの間の厚みは、接続領域３１の厚みに比べて小さくなっている。

　［第二実施形態による作用効果］
　第二実施形態のミラー支持体２７によれば、反射ミラー１５は、接着剤２１の厚みに依存することなく、当接面２７Ｂの比較的高い加工精度に従ってミラー支持体２７に接着される。そのため、第一実施形態と同様に、各反射ミラー１５が平行となるため、反射光Ｌ２の利用効率の悪化や光源装置１の出力低下を抑制できる。

　また、第二実施形態のミラー支持体２７によれば、当接面２７Ｂの反対側に、当該当接面２７Ｂに平行な背面２７Ｃが形成される。即ち、反射ミラー１５の反射面１５Ａ及び裏面１５Ｂ、そしてミラー支持体２７の当接面２７Ｂ及び背面２７Ｃの４個の面が平行になる。これにより、例えば図８に示すように、治具３３によって反射面１５Ａ及び背面２７Ｃのそれぞれを当接面２７Ｂに向かって押さえることが可能になる。即ち、治具３３は、反射面１５Ａ及び背面２７Ｃという平行な二つの面を挟むこととなるため、非平行な二つの面を挟む場合に比べて挟みやすい。また、治具３３は、二つの平行な反射面１５Ａ及び背面２７Ｃを押さえやすく、力を均等に加えることが可能である。そのため、反射ミラー１５に変形等の損傷が発生しにくい。さらに、背面２７Ｃは、当接面２７Ｂとの間の厚みが接続領域の厚みよりも小さくなるように形成される。そのため、反射ミラー１５及びミラー支持体２７を治具３３により容易に挟んで押さえることができる。なお、図８では、説明の都合上、ミラー支持体２７に５個の反射ミラー１５が支持されている状態を示しており、反射面１５Ａに斜線を付した。なお、図８では治具３３を簡略化して示している。

　（第三実施形態）
　以下、第三実施形態について説明する。なお、第三実施形態は、第一実施形態及び第二実施形態とミラー支持体の構成のみ異なりその他は同じであるため、以下では第一実施形態のミラー支持体１７の構成及び第二実施形態のミラー支持体２７の構成と異なる点を重点的に説明する。

　［ミラー支持体の構成］
　図９は第三実施形態のミラー支持体３７を模式的に示す全体斜視図である。ミラー支持体３７は、第一実施形態のミラー支持体１７及び第二実施形態のミラー支持体２７と同様に、反射ミラー１５の裏面１５Ｂ（図示略）に対向し、接着剤２１を載置される接着面３７Ａと、当該裏面１５Ｂに接する当接面３７Ｂとを含む。また、第二実施形態のミラー支持体２７と同様に、当接面３７Ｂの反対側に当該当接面３７Ｂに平行な背面３７Ｃが形成されている。本実施形態では、一例として、背面３７Ｃのｘ方向における長さは、当接面３７Ｂのｘ方向における長さと同じであるが、当接面３７Ｂのｘ方向における長さよりも長くても短くても構わない。換言すれば、背面３７Ｃは、接着面３７Ａ及び当接面３７Ｂの境界よりも接着面３７Ａ側まで形成されていても構わないし、当該境界よりも当接面３７Ｂ側に形成されていても構わない。図１０を参照してミラー支持体３７の説明を続ける。

　図１０に、第三実施形態のミラー支持体３７の模式的な－ｙ方向視図を示す。図１０に示すように、ミラー支持体３７は、反射ミラー１５が載置される載置領域３９と、当該載置領域３９と隣り合う載置領域３９を接続する接続領域４１と、を含む。載置領域３９は、１個の接着面３７Ａと２個の当接面３７Ｂと２個の背面３７Ｃとを含む。なお、本実施形態では、ミラー支持体３７は、６個の載置領域３９及び５個の接続領域４１を含む。

　図１０に示すように、載置領域３９における当接面３７Ｂ及び背面３７Ｃ（図示略）は、接続領域４１からｘ方向及びｚ方向に突出する構成となっている。より具体的には、第二実施形態のミラー支持体２７では、図７に示すように、隣り合う載置領域２９における２個の当接面２７Ｂ及び２個の背面２７Ｃのそれぞれは、接続領域３１を介して離間する。これに対し、第三実施形態のミラー支持体３７では、図１０に示すように、隣り合う載置領域３９における２個の当接面３７Ｂ及び２個の背面３７Ｃのそれぞれは、接続領域４１を介さずに離間する。即ち、ミラー支持体３７によれば、隣り合う載置領域３９における２個の当接面３７Ｂ及び２個の背面３７Ｃのそれぞれの間に、空間が存在している。

　なお、図１０に示すように、当接面３７Ｂは、ｘ方向における長さがｚ方向における長さよりも長くなっている。図示しないが背面３７Ｃについても同様である。

　［第三実施形態による作用効果］
　第三実施形態のミラー支持体３７によれば、反射ミラー１５は、当接面３７Ｂの比較的高い加工精度に従って接着されるため、第一実施形態及び第二実施形態と同様に、反射光Ｌ２の利用効率の悪化や光源装置１の出力低下を抑制できる。

　また、ミラー支持体３７は、当接面３７Ｂの反対側に、当接面３７Ｂに平行な背面３７Ｃを形成されるため、第二実施形態と同様に、反射ミラー１５及びミラー支持体３７を治具３３により挟んで押さえる工程が容易になる。

　さらに、ミラー支持体３７によれば、隣り合う載置領域３９における２個の当接面３７Ｂ及び２個の背面３７Ｃのそれぞれの間に空間が存在するため、図１１に示すように、治具４３により－ｚ方向から反射面１５Ａ及び背面３７Ｃを挟むことができる。なお、図示しないが、ｚ方向から反射面１５Ａ及び背面３７Ｃを挟むことも可能である。また、図１１では治具４３を簡略化して示している。

　第二実施形態のミラー支持体２７によれば、図８に示すように、治具３３は、ｘ方向または－ｘ方向から反射ミラー１５の反射面１５Ａ及びミラー支持体２７の背面２７Ｃを挟むことは可能であるものの、ｚ方向または－ｚ方向から当該反射面１５Ａ及び当該背面２７Ｃを挟むことはできない。隣り合う載置領域２９における２個の当接面２７Ｂ及び２個の背面２７Ｃのそれぞれの間には、接続領域３１が介在しており、ｚ方向または－ｚ方向から治具が入り込むための空間が存在しないためである。

　これに対し、第三実施形態のミラー支持体３７によれば、図１１に示すように、治具４３は、ｘ方向及び－ｘ方向のみならず、ｚ方向及び－ｚ方向から反射面１５Ａ及び背面３７Ｃを挟むことができる。上述のように、当接面３７Ｂ及び背面３７Ｃは、ｘ方向における長さがｚ方向における長さに比べて長い。そのため、図１１に示すように、治具３３よりも大きい治具４３を使用可能となり、第二実施形態に比べて使用可能な治具の自由度が増す。即ち、第三実施形態によれば、専用の治具を設計、製造等する必要がなく、汎用されている治具を用いてミラー支持体３７を製造することができる。なお、図１１では、説明の都合上、１つの反射ミラーが支持されておらず、ミラー支持体３７に５個の反射ミラー１５が支持されている状態を示しており、反射面１５Ａに斜線を付した。

　（別実施形態）
　なお、光源装置は、上記の実施形態の構成に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。例えば、以下の別実施形態に係る構成を任意に選択して、上記の実施形態に係る構成に採用してもよいことは勿論である。

　〈１〉本実施形態では、ミラー支持体（１７、２７、３７）は、６個の反射ミラー１５を支持する場合を例に説明したが、反射ミラー１５の個数はこれに限らない。例えば、ミラー支持体（１７、２７、３７）は、２～５個、あるいは、７個以上の反射ミラー１５を支持するように構成しても構わない。また、第一実施形態において、ミラー支持体１７は、１個の反射ミラーを支持するように構成しても構わない。

　〈２〉ミラー支持体（１７、２７、３７）における接着面（１７Ａ、２７Ａ、３７Ａ）及び当接面（１７Ｂ、２７Ｂ、３７Ｂ）は、同一平面上に位置するように形成しても構わない。換言すると、本実施形態では、ミラー支持体（１７、２７、３７）に接着面（１７Ａ、２７Ａ、３７Ａ）を底面に含む凹部１９が形成されていたが、凹部１９が形成されないものとしても構わない。この場合、図１２に示すように、ミラー支持体を図４に示す参考例のミラー支持体９５とし、ミラー支持体９５にＵの字型の反射ミラー４５を支持させても構わない。この場合、ミラー支持体９５の平面９５Ａのうち、反射ミラー４５の裏面４５Ｂａに対向する接着領域９５Ａａに接着剤２１が載置される。なお、接着領域９５Ａａが接着面に対応する。また、平面９５Ａのうち、接着剤２１が載置されない当接領域９５Ａｂは、反射ミラー４５の裏面４５Ｂｂに接する。なお、当接領域９５Ａｂが当接面に対応する。

　〈３〉本実施形態では、ミラー支持体（１７、２７、３７）は、２個の当接面（１７Ｂ、２７Ｂ、３７Ｂ）が１個の接着面（１７Ａ、２７Ａ、３７Ａ）を挟むように当該接着面に対して外側に形成されるが、これに限らない。例えば、ミラー支持体（１７、２７、３７）は、１個の反射ミラー１５に対し、２個の接着面及び１個の当接面を含み、接着面が当接面を挟むように当該当接面に対して外側に形成されても構わない。また、接着面及び当接面の個数は１個の反射ミラー１５に対し少なくとも１個ずつ存在すれば、適宜変更できる。

　〈４〉接着面（１７Ａ、２７Ａ、３７Ａ）及び当接面（１７Ｂ、２７Ｂ、３７Ｂ）は反射ミラー１５の裏面１５Ｂに平行な平面に限らない。例えば、接着面（１７Ａ、２７Ａ、３７Ａ）は、曲面であってもよいし、凹部１９のｙ方向における長さを越えない範囲で凹凸を有する面であってもよい。即ち、ミラー支持体に接着面を含む凹部１９が形成されれば接着面の形状は問わない。当接面（１７Ｂ、２７Ｂ、３７Ｂ）についても、反射ミラーの裏面に接する形状であれば何れの形状であっても構わない。

　　　　１　　　：　　光源装置
　　　１１　　　：　　光源部
　　１１ａ　　　：　　半導体レーザ素子
　　１１ｂ　　　：　　コリメータレンズ
　　　１３　　　：　　ミラー装置
　　　１５　　　：　　反射ミラー
　　１５Ａ　　　：　　反射面
　　１５Ｂ　　　：　　裏面
　　　１６　　　：　　集光レンズ
　　　１７　　　：　　第一実施形態におけるミラー支持体
１７Ａ、２７Ａ、３７Ａ　：　　接着面
１７Ｂ、２７Ｂ、３７Ｂ　：　　当接面
　２７Ｃ、３７Ｃ：　　背面
　　　１９　　　：　　凹部
　　　２１　　　：　　接着剤
　　　２７　　　：　　第二実施形態におけるミラー支持体
　　　２９、３９：　　載置領域
　　　３１、４１：　　接続領域
　　　３３、４３：　　治具
　　　３７　　　：　　第三実施形態におけるミラー支持体
　　　９５　　　：　　参考例及び別実施形態におけるミラー支持体
　　９５Ａ　　　：　　平面
　９５Ａａ　　　：　　接着領域
　９５Ａｂ　　　：　　当接領域

Claims (7)

1. 　反射面及び前記反射面の反対側の裏面を含む反射ミラーと、
   　接着剤を介して前記反射ミラーを支持するミラー支持体と、を有し、
   　前記ミラー支持体は、
   　　前記反射ミラーの前記裏面に対向し、前記接着剤が載置される接着面と、
   　　前記裏面に接する当接面と、を含むことを特徴とするミラー装置。
2. 　前記ミラー支持体は、前記接着面を底面に含むとともに前記接着剤を収納する凹部を形成されることを特徴とする請求項１に記載のミラー装置。
3. 　前記接着面及び前記当接面は、前記反射ミラーの前記反射面に垂直な方向から見たとき、前記当接面が前記接着面を挟むように前記接着面に対して外側に位置していることを特徴とする請求項１または２に記載のミラー装置。
4. 　複数の前記反射ミラーを有し、
   　前記ミラー支持体は、前記反射ミラーごとに前記接着面及び前記当接面を含むとともに、複数の前記反射ミラーの前記反射面の各々が平行となるよう、前記複数の反射ミラーの各々を平行に支持することを特徴とする請求項１～３のいずれかに記載のミラー装置。
5. 　前記ミラー支持体は、
   　　前記接着面及び前記当接面を含み、前記反射ミラーが載置される複数の載置領域と、
   　　隣り合う前記載置領域を接続する接続領域と、を含み、
   　前記載置領域は、前記当接面の反対側に、前記当接面に平行な背面を含み、
   　前記当接面に垂直な方向に関し、前記当接面と前記背面との間の厚みは、前記接続領域の厚みに比べて小さいことを特徴とする請求項４に記載のミラー装置。
6. 　前記ミラー支持体は、
   　　前記接着面及び前記当接面を含み、前記反射ミラーが載置される複数の載置領域と、
   　　隣り合う前記載置領域を接続する接続領域と、を含み、
   　前記載置領域は、前記当接面の反対側に、前記当接面に平行な背面を含み、
   　前記当接面に平行な方向に関し、前記当接面及び前記背面は、前記接続領域から突出するように形成されていることを特徴とする請求項４に記載のミラー装置。
7. 　請求項１～７のいずれかに記載のミラー装置と、
   　前記ミラー装置における前記反射ミラーの前記反射面に向かって、光を出射する光源部と、を有することを特徴とする光源装置。

Images