JP2004022679A - 半導体レーザモジュール - Google Patents
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Abstract
【課題】ラマン増幅器などの励起用光源に適し、小型でしかも製造が容易で、偏光度を小さくすることができる半導体レーザモジュールを提供すること。
【解決手段】2つの独立した半導体レーザ1−1,1−2を有する半導体レーザアレイ1と、第1レンズ2a,2bと、第1レンズ2bからの第2のレーザ光K2の偏光面を90度回転する半波長板3と、第1レンズ2bからの第1のレーザ光K1を屈折させる斜面4aを有し、第1のレーザ光K1と第2のレーザ光K2との光路間隔を狭めるプリズム4と、斜面5aを有し、第1のレーザ光K1をこの斜面5aから入射させて異常光として伝搬し、第2のレーザ光K2を常光として伝搬し、偏波合成する偏波合成部材5とを備える。
【選択図】 図2
【解決手段】2つの独立した半導体レーザ1−1,1−2を有する半導体レーザアレイ1と、第1レンズ2a,2bと、第1レンズ2bからの第2のレーザ光K2の偏光面を90度回転する半波長板3と、第1レンズ2bからの第1のレーザ光K1を屈折させる斜面4aを有し、第1のレーザ光K1と第2のレーザ光K2との光路間隔を狭めるプリズム4と、斜面5aを有し、第1のレーザ光K1をこの斜面5aから入射させて異常光として伝搬し、第2のレーザ光K2を常光として伝搬し、偏波合成する偏波合成部材5とを備える。
【選択図】 図2
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明は、2つのレーザ光を偏波合成して出力する半導体レーザモジュールに関し、特に小型でしかも製造が容易で、誘導ブリルアン散乱を減少でき、偏光度の小さい高出力動作を可能とする半導体レーザモジュールに関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、たとえばラマン増幅を用いた光ファイバ増幅器において、複数の半導体レーザモジュールを励起光源として用いることにより、高出力の励起光源を実現し、これを用いて高利得の光ファイバ増幅器を実現できることが知られている。ラマン増幅においては、信号光と励起光の偏波方向が一致している状態で信号光が増幅されるので、信号光と励起光との偏光面のずれの影響を極力小さくする必要がある。そのため、励起光の偏波を解消(非偏光化:デポラライズ)して、偏光度(DOP:Degree Of Polarization)を低減させることがおこなわれている。
【0003】
ここで、偏波合成されるレーザ光がそれぞれ異なる半導体レーザモジュールから出射されることとすると光ファイバ増幅器の製造工程が複雑化し、光ファイバ増幅器のサイズも大型化するという問題が生じる。そこで、一度に2つの発光領域を有する半導体レーザ素子を利用してラマン増幅器を構成する手法が提案されている。この場合、製造工程は簡略となり、また、同一基板上に複数のストライプを構成するため、半導体レーザ素子そのものが小型化し、さらに半導体レーザモジュールの数も低減することができる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、複数のストライプ構造、特に2本のストライプ構造(以下、「2本レーザアレイ型」と言う)からなる半導体レーザ素子をラマン増幅器に使用した場合、新たな問題が生じる。すなわち、2本レーザアレイ型からなる半導体レーザ素子を使用した場合には、ストライプから発振されるレーザ光を個別に制御し難い構造であるので、別々の半導体素子を偏波合成した場合と比較して偏光度(DOP)が十分に低減されない場合があるという問題がある。
【0005】
DOPが低減されない場合、励起光源からのレーザ光の偏光度は解消されない。ラマン増幅器における増幅利得は信号光と同一偏波のレーザ光成分の強度によって決まるため、励起光源からのレーザ光が特定方向に偏波していた場合、信号光の偏波方向によってラマン増幅器における増幅利得が変化することとなる。すなわち、安定した増幅利得を得ることができない。
【0006】
したがって、DOPを低減するためには、図9に示す半導体レーザモジュールのように、モジュール内において、独立した2つの半導体レーザ素子101a,101bおよび2つの第1レンズ102a,102bを設け、各半導体レーザ素子101a,101bを独立して制御し、各半導体レーザ素子101a,101bから出射されたレーザ光を、偏波合成部材105によって偏波合成して出力することが望ましい。これによって、DOPを低減させることができ、ラマン利得として信号光の偏光方向とは無関係に安定した増幅利得を得ることができる。また、この場合、2本レーザアレイ型の半導体レーザ素子を用いる場合に比して、各半導体レーザ素子101a,101bが離隔しているため、電気配線が容易になる。なお、2本レーザアレイ型の各ストライプの略中心間隔は数百μm程度であるが、各半導体レーザ素子101a,101bの間隔LXは500μm程度となる。
【0007】
しかしながら、逆に各半導体レーザ素子101a,101bを1つの半導体レーザモジュール内に設けると、各半導体レーザ素子101a,101bの間隔LXが大きくなるため、複屈折部材である偏波合成部材105の長手方向の距離LZが大きくなり、結果的に偏波合成部材105が大型化し、半導体レーザモジュール自体も大きくなるという問題点があった。
【0008】
この発明は、上述した問題点に鑑みてなされたものであり、ラマン増幅器などの励起用光源に適し、小型でしかも製造が容易で、偏光度を小さくすることができる半導体レーザモジュールを提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、請求項1にかかる半導体レーザモジュールは、それぞれ独立したレーザ光を出力する2つの半導体レーザ素子と、前記2つのレーザ光の各光分布をそれぞれ整形する2つの第1レンズを有する第1レンズ群と、一方の第1レンズ側から出力されたレーザ光の偏光方向を偏光回転手段によって所望角度に回転する、たとえば半波長板(たとえば90度)と、他方の第1レンズ側から出力されたレーザ光と前記偏光回転手段を経由して出力されたレーザ光とを偏波合成する偏波合成素子とを有した半導体レーザモジュールにおいて、前記第1レンズ群側から出力された各レーザ光の光路間隔を狭めて該各レーザ光を前記偏波合成素子の入射側に出力する光路間隔変換手段を備えたことを特徴とする。
【0010】
この請求項1の発明によれば、光路間隔変換手段が、前記第1レンズ群側から出力された各レーザ光の光路間隔を狭めて該各レーザ光を前記偏波合成素子の入射側に出力するようにしているので、偏波合成素子を小型化することができる。
【0011】
また、請求項2の発明にかかる半導体レーザモジュールは、上記の発明において、前記光路間隔変換手段は、プリズムであることを特徴とする。また、プリズムは、BK7(ホウケイ酸クラウンガラス)等の光学ガラスで作られている。
【0012】
また、請求項3の発明にかかる半導体レーザモジュールは、上記の発明において、前記光路間隔変換手段は、前記一方の第1レンズから出力されたレーザ光が出射される部分端面を傾斜させ、光路方向が変化しない前記偏光回転手段から出力されたレーザ光に対して傾けた非平行となるレーザ光を出射し、前記偏波合成素子は、前記部分端面から出力されたレーザ光が入射される部分端面が傾斜されていることを特徴とする。
【0013】
また、請求項4の発明にかかる半導体レーザモジュールは、上記の発明において、前記光路間隔変換手段は、前記一方の第1レンズから入射されたレーザ光が出射される部分端面が傾斜した第1のプリズムと、前記第1のプリズムの部分端面から出射されたレーザ光が入射される部分端面が傾斜した第2のプリズムとを備え、前記第2のプリズムの出射側端面から、各レーザ光を平行光として出射することを特徴とする。
【0014】
また、請求項5の発明にかかる半導体レーザモジュールは、上記の発明において、前記第2のプリズムと前記偏波合成素子とは、同一のホルダに収容されていることを特徴とする。
【0015】
また、請求項6の発明にかかる半導体レーザモジュールは、上記の発明において、前記光路変換手段は、互いに平行なミラー面を有することを特徴とする。
【0016】
また、請求項7の発明にかかる半導体レーザモジュールは、上記の発明において、前記光路変換手段は、前記レンズ群側から出力された2つのレーザ光のうち、少なくとも1つのレーザ光を異常光として伝搬させる複屈折素子であることを特徴とする。
【0017】
また、請求項8の発明にかかる半導体レーザモジュールは、上記の発明において、前記2つの半導体レーザ素子は、1つのレーザ素子から前記2つのレーザ光を出射可能としたレーザアレイ型(以下、「半導体レーザアレイ」という。)によって形成されることを特徴とする。
【0018】
【発明の実施の形態】
以下に図面を参照して、この発明にかかる半導体レーザモジュールの好適な実施の形態について説明する。
【0019】
(実施の形態1)
まず、この発明の実施の形態1について説明する。図1は、この発明の実施の形態1である半導体レーザモジュールの構成を示す断面図であり、図2はこの発明の実施の形態1である半導体レーザモジュールの構成を模式化して示す説明図である。
【0020】
図1に示すように、この実施の形態1にかかる半導体レーザモジュール10は、内部を気密封止したパッケージ11と、そのパッケージ11内に設けられ、2つのレーザ光を出射する半導体レーザアレイ1と、第1レンズ2a,2bと、半波長板3(偏光回転手段)と、プリズム4と、偏波合成部材(PBC:Polarization Beam Combiner)5と、光ファイバ8、フォトダイオード13とを有する。
【0021】
半導体レーザアレイ1は、図2に示すように、間隔L0を隔てて長手方向に互いに同一平面上に平行に形成された半導体レーザ1−1,1−2を有し、半導体レーザ1−1,1−2の端面からそれぞれ第1のレーザ光K1及び第2のレーザ光K2を出射する。なお、半導体レーザ1−1,1−2間の間隔L0は、250〜500μm程度である。
【0022】
半導体レーザアレイ1は、チップキャリア15上に固定して取り付けられる。なお、半導体レーザアレイ1は、図示しないヒートシンク上に固定して取り付けられ、そのヒートシンクがチップキャリア15上に固定して取り付けられていてもよい。
【0023】
フォトダイオード13は、半導体レーザ1−1,1−2の後側(図中、左側)端面から出射されたモニタ用のレーザ光を受光する。フォトダイオード13は、フォトダイオードキャリア14に固定して取り付けられている。
【0024】
第1レンズ2a,2bは、半導体レーザ1−1,1−2の前側(図中、右側)端面から出射された第1のレーザ光K1と第2のレーザ光K2とが入射され、第1のレーザ光K1と第2のレーザ光K2とをそれぞれ平行光として出射させる。
【0025】
第1レンズ2a,2bは、第1のレンズ保持部材21によって保持されている。第1レンズ2a,2bは、それぞれ半導体レーザ1−1,1−2から出射された第1のレーザ光K1および第2のレーザ光K2の光軸が、レンズ中央部分に入射されるように位置決めされる。これによって、第1のレーザ光K1及び第2のレーザ光K2が、ともに収差の小さい領域である第1レンズ54の中心軸近傍を通過するため、レーザ光の波面の乱れがなくなる。
【0026】
半波長板3は、第1レンズ2bを通過した第2のレーザ光K2のみが入射され、入射された第2のレーザ光K2の偏波面を所望角度(たとえば90度)回転させる。
【0027】
プリズム4は、第1レンズ2a,2bと偏波合成部材5との間に配設され、第1レンズ2a,2b側端面は、入射される第1のレーザ光K1および第2のレーザ光K2の光軸に対して垂直な平面が形成され、偏波合成部材5側端面のうち、第1のレーザ光K1が出射される端面は傾斜され、第2のレーザ光K2が出射される端面は、第2のレーザ光K2に対して垂直な平面が形成される。したがって、第1のレーザ光K1は、第2のレーザ光K2側に屈折して出射され、平行光として入射された第1のレーザ光K1および第2のレーザ光K2は、非平行光として偏波合成部材5側に出射される。
【0028】
偏波合成部材5は、複屈折素子によって実現され、第1のレーザ光K1が入射される端面が傾斜され、屈折して斜め入射した第1のレーザ光K1を異常光として伝搬し、第2のレーザ光K2が入射される端面は、第2のレーザ光K2の光軸に対して垂直な平面が形成され、第2のレーザ光K2を常光として伝搬する。この場合、偏波合成部材5に入射される第1のレーザ光K1と第2のレーザ光K2との光路の間隔L1は、間隔L0に比して狭められる。偏波合成部材5の長手方向の長さL2は、第1のレーザ光線K1と第2のレーザ光線K2とが出射側端面において一致する長さをもたせる。第1のレーザ光線K1と第2のレーザ光K2とは、この端面において合波されて第2レンズ6側に出射される。この場合、合波されたレーザ光の光軸は、第2のレーザ光K2の光軸と同じである。なお、偏波合成部材5が複屈折素子の場合、複屈折率性が高くレーザ光間の分離幅を大きくとれるように、例えばTiO2(ルチル結晶)で作られる。ルチル結晶の場合、間隔L1に対し、長さL2は約10倍程度の比で大きくなる。
【0029】
この実施の形態1においては、半波長板3,プリズム4、及び偏波合成部材5は、同一のホルダ部材22に固定されている。この場合、プリズム4と偏波合成部材5との位置関係は、プリズム4あるいは偏波合成部材5を長手方向に摺動することによって設定される。この設定とは、第1のレーザ光K1と第2のレーザ光K2とが、偏波合成部材5の出力点において一致することである。
【0030】
光ファイバ8は、偏波合成部材5から出射されるレーザ光を受光し外部に送出する。光ファイバ8には、偏波合成部材5と光ファイバ8との間には、偏波合成部材5から出射されるレーザ光を光ファイバ8に光結合させる第2レンズ6が配設されている。
【0031】
半導体レーザアレイ1を固定したチップキャリア15と、フォトダイオード13を固定したフォトダイオードキャリア14とは、断面ほぼL字形状の第1の基台16上に半田付けして固定される。第1の基台16は、半導体レーザアレイ1の発熱に対する放熱性を高めるためにCuW系合金等で作られているのが好ましい。
【0032】
第1レンズ54を固定した第1のレンズ保持部材21と、半波長板3、プリズム4及び偏波合成部材5を固定したホルダ部材22とは、第2の基台17上にそれぞれ第1の支持部材17a及び第2の支持部材17bを介してYAGレーザ溶接により固定される。このため、第2の基台17は、溶接性の良好な金属、たとえばステンレス鋼等で作られているのが好ましい。また、第2の基台17は、第1の基台16の平坦部16a上に銀ろう付けして固定される。
【0033】
第1の基台16の下部にはペルチェ素子等からなる冷却装置19が設けられている。半導体レーザアレイ1からの発熱による温度上昇はチップキャリア15上に設けられたサーミスタ12によって検出され、サーミスタ12より検出された温度が一定温度になるように、冷却装置19が制御される。これによって、半導体レーザモジュール10のレーザ出力を高出力化かつ安定化させることができる。
【0034】
パッケージ11の側部に形成されたフランジ部11aの内部には、偏波合成部材5を通過した光が入射する窓部11bが設けられ、フランジ部11aの端面には中間部材11dが固定されている。中間部材11d内にはレーザ光を集光する第2レンズ6を保持する第2のレンズ保持部材23がYAGレーザ溶接により固定されている。第2のレンズ保持部材23の端部には金属製のスライドリング24がYAGレーザ溶接により固定される。
【0035】
光ファイバ8はフェルール7によって保持され、そのフェルール7は、スライドリング24の内部にYAGレーザ溶接により固定されている。
【0036】
次に、この実施の形態1にかかる半導体レーザモジュールの動作について説明する。半導体レーザアレイ1の半導体レーザ1−1,1−2の前側端面からそれぞれ出射された第1のレーザ光K1及び第2のレーザ光K2は、第1レンズ2a,2bを通過し、平行光を維持したまま、プリズム4に入射されるが、第2のレーザ光K2は、半波長板3を介して偏光方向が90度回転されてプリズム4に入射される。第2のレーザ光K2は、そのまま偏波合成部材5に入射されるが、第1のレーザ光K1は、プリズム4の傾斜端面4aによって第2のレーザ光K2側に屈折して出射され、偏波合成部材5の傾斜端面5aに入射される。
【0037】
偏波合成部材5では、傾斜端面5aから入射された第1のレーザ光K1と、第2のレーザ光K2とを合波して第2レンズ6に出射する。偏波合成部材5から出射されたレーザ光は、第2レンズ6によって集光され、フェルール7によって保持固定された光ファイバ8に入射され外部に送出される。
【0038】
なお、図1および図2では、半導体レーザアレイ1を用いて第1のレーザ光K1および第2のレーザ光K2を出射するようにしていたが、これに限らず、図3に示すように、2つの半導体レーザ素子1a,1bを用いて第1のレーザ光K1および第2のレーザ光K2を出射するようにしてもよい。いずれの場合においても、半導体レーザ1−1,1−2あるいは半導体レーザ素子1a,1bに対する駆動を独立して行うことができ、DOPの制御が可能になるとともに、電気配線も容易になる。
【0039】
また、上述した実施の形態1では、一つのプリズム4を用いていたが、これに限らず、2つのプリズムを用いるようにしてもよい。たとえば、図4に示すように、プリズム4と偏波合成部材32との間に、新たなプリズム31を設けるようにしてもよい。この場合、偏波合成部材5に対応する偏波合成部材32には傾斜端面5aが形成されず、この傾斜端面5aに対応した傾斜端面31aがプリズム31に設けられる。換言すれば、偏波合成部材5の傾斜端面5aの機能をプリズム31によって実現している。これによって、偏波合成部材32は、研磨等によって傾斜端面を形成する加工が不必要となる。なお、プリズム31と偏波合成部材32とは、同一のホルダ33内に設けられる。これによって、偏波合成部材32の出力点の調芯は、ホルダ33全体を長手方向に摺動調整のみによって容易に実現できる。
【0040】
この実施の形態1では、半導体レーザアレイ1から出力された第1のレーザ光K1と第2のレーザ光K2との平行光の光路間隔L0(500μm程度)を維持したまま、偏波合成部材5に入射するのではなく、プリズム4によって光路間隔L0を狭め、偏波合成部材5に入射する際の光路間隔を光路間隔L0に比して小さい光路間隔L1にし、結果的に偏波合成部材5を小型化し、半導体レーザモジュール10全体の小型化をも促進させている。
【0041】
(実施の形態2)
つぎに、この発明の実施の形態2について説明する。上述した実施の形態1では、偏波合成部材5に入射される2つのレーザ光は基本的に非平行光であったが、この実施の形態2では、偏波合成部材5に入射される第1のレーザ光K1と第2のレーザ光K2とを平行光として入射するようにしている。
【0042】
図5は、この発明の実施の形態2である半導体レーザモジュールの構成を模式的に示した説明図である。この図5に示した半導体レーザモジュール40は、図3に示した半導体レーザモジュール20に対応し、プリズム4に代えてプリズム41を設けるとともに、偏波合成部材5の傾斜端面5aを無くした偏波合成部材43を用いるようにしている。その他の構成は図3に示した構成と同じであり、同一構成部分には同一符号を付している。
【0043】
プリズム41は、半導体レーザ素子1a,1b側方向に、くの字形状を有した角柱であり、第1のレーザ光K1および第2のレーザ光K2の入射側端面と出射側端面とは平行である。したがって、第1のレーザ光K1および第2のレーザ光K2は、ともに屈折後において、同一方向の光軸を有し、入射された第1のレーザ光K1と第2のレーザ光K2とが平行状態を維持しているので、出射される第1のレーザ光K1と第2のレーザ光K2とは平行状態を維持することになる。ここで、半導体レーザ素子1a,1b側方向に、くの字形状を形成しているので、出射されたレーザ光の間隔L1は、入射されたレーザ光の間隔L0を狭めることなる。この結果、実施の形態1と同様に、偏波合成部材43の小型化を実現し、ひいては半導体レーザモジュール全体の小型化を促進することができる。なお、偏波合成部材43は、傾斜端面を形成する加工が必要ないので製造が容易になる。ここで、図5に示した半導体レーザ素子1a,1b間の間隔L0は、1.8mm程度であり、間隔L1は400〜500μm程度である。また、第1レンズ2a,2bの直径は1.4mmである。さらに、プリズム41は、屈折率が約1.5のBK7を用いている。
【0044】
なお、プリズム41による間隔L0を間隔L1に狭める割合は、プリズム41の角度θ1によって調整できる。また、プリズム41の厚みd1によっても変化させることができる。さらに、2つのレーザ光が平行状態で所望の間隔L1に入射されればよく、プリズム41は分割型でもよく、互いを間隔をあけて配置してもよい。また、別々に角度θ1を調整してもよい。
【0045】
ここで、この実施の形態2の変形例について説明する。図5に示した半導体レーザモジュール40では、プリズム41が、第1のレーザ光K1および第2のレーザ光K2のいずれをも屈折させるようにしていたが、図6に示したこの変形例では、第1のレーザ光K2のみを屈折させるプリズム51を用いている。この変形例においても、第1のレーザ光K2の屈折によって光路間隔を狭めることができる。
【0046】
なお、図6に示した構成は、図5に示したプリズム41の配置を変更した構成としてとらえることができる。すなわち、プリズム51は、点P1を中心にした配置角度θ2を変化させ、第1のレーザ光K1に対する屈折がなくなる状態とした場合に等しい。ただし、この場合、配置角度θ2の変化によって、プリズム41から出射される平行光としてのレーザ光の横方向位置がずれることになる。このため、偏波合成部材43との位置関係を考慮する必要がある。なお、プリズム51の角度θ2を変化させ、あるいはプリズム51の厚さを変化させることによって、間隔L0を所望の間隔L1に調整することができる。なお、2つのレーザ光が平行状態で所望の間隔L1になればよく、プリズム51は分割型であってもよいし、互いを間隔をあけて配置してもよい。
【0047】
また、図6に示した構成では、第1のレーザ光K1と第2のレーザ光K2との光路差が無視できなくなり、第2レンズ6に対する集光が一致しなくなる。このため、第1のレーザ光K1における部分光路長(n・L11+ne・L21)と第2のレーザ光K2における部分光路長(n・L12+no・L22)とがほぼ等しくなるように、光路長n・L12が光路長n・L11に比して大きくなるように設定することが好ましい。なお、「n」は、プリズム51の屈折率、「ne」は異常光の屈折率、「no」は、常光の屈折率である。
【0048】
(実施の形態3)
つぎに、この発明の実施の形態3について説明する。この実施の形態3では、平行配置されたプリズムミラー、あるいは平行配置されたミラー(以下、「平行配置ミラー」という。)を用いて入射されたレーザ光の光路を変換するようにしている。
【0049】
図7は、この発明の実施の形態3である半導体レーザモジュールの構造を模式的に示した説明図である。図7に示した半導体レーザモジュール60は、図5に示した半導体レーザモジュール40におけるプリズム41に代えて平行配置ミラー61を設けている。その他の構成は図5に示した半導体レーザモジュール40と同じであり、同一構成部分には同一符号を付している。
【0050】
平行配置ミラー61は、平行配置された2つの対向ミラー61a,61bによって構成される。対向ミラー61aに第1のレーザ光K1が入射されると、第1のレーザ光K1は、対向ミラー61bに反射し、対向ミラー61bは、さらに偏波合成部材43側に反射出力する。この場合、入射された第1のレーザ光K1は、出射される第1のレーザ光K1と平行状態を保つが、対向ミラー61a,61b間の反射距離に対応する分だけ、光路間隔が狭まる。すなわち、間隔L0が間隔L1に変化する。
【0051】
なお、平行配置ミラー61は、第1のレーザ光K1に対する光路変換を行うようにしているが、これに限らず、第2のレーザ光K2に対する光路変換を行うようにしてもよいし、第1のレーザ光K1および第2のレーザ光K2の双方に対する光路変換を行うべく、2つの平行配置ミラーを配置するようにしてもよい。なお、平行配置ミラー61を回転させることによって、対向ミラー61a,61b間の反射距離を変化させることができ、これによって間隔L1を任意に変更設定することができる。
【0052】
この実施の形態3によっても、偏波合成部材43に入射する際の光路間隔が狭められるので、偏波合成部材43の小型化を実現でき、半導体レーザモジュール全体に対する小型化をも促進する。
【0053】
(実施の形態4)
つぎに、この発明の実施の形態4について説明する。上述した実施の形態1〜3では、第1のレーザ光K1および第2のレーザ光K2の光路変換をプリズムあるいは平行配置ミラーによって実現していたが、この実施の形態4では、複屈折素子を用いて光路変換を行うようにしている。
【0054】
図8は、この発明の実施の形態4である半導体レーザモジュールの構成を模式的に示した説明図である。図8において、この半導体レーザモジュール70は、プリズム41,51あるいは平行配置ミラー61に代えて複屈折素子71a,71bを設けている。また、半波長板を第1レンズ2bの後段に設けず、複屈折素子71bと偏波合成部材73との間に半波長板72(偏光回転手段)に設け、半波長板72と偏波合成部材73とは、一つのホルダ74に固定配置される。その他の構成は図7に示した半導体レーザモジュール60を同じであり、同一構成部分には同一符号を付している。
【0055】
図8において、第1のレーザ光K1は、複屈折素子71aに入射され、異常光線として屈折して出射される。同様に、第2のレーザ光K2は、複屈折素子71bに入射され、異常光として屈折して出射される。複屈折素子71aから出射された第1のレーザ光K1は、偏波合成部材73に入射され、異常光として偏波合成部材73から出射され、一方の、複屈折素子71bから出射された第2のレーザ光K2は、半波長板72によって偏波面が90度回転された後、偏波合成部材73に常光として入射され、偏波合成部材73から第1のレーザ光K1と第2のレーザ光K2とが偏波合成される。ここで、複屈折素子71a,71bは、異常光が互いに接近するように配置する。これによって、第1のレーザ光K1と第2のレーザ光K2との間隔L0は、間隔L1に狭められる。
【0056】
なお、上述した実施の形態4では、第1のレーザ光K1と第2のレーザ光K2の双方に対応する複屈折素子71a,71bを設けたが、これに限らず、いずれか一方に対してのみ設けるようにしてもよい。また、間隔L1は、複屈折素子71a,71bの大きさによって設定変更することができる。
【0057】
この実施の形態4では、プリズムや平行配置ミラーなどの斜面が設けられる光学部材を用いないので、光学調整や角度調整などの調整が簡易になり、半導体レーザモジュールの組立が容易になる。
【0058】
なお、上述した実施の形態1〜4において、第1のレーザ光K1や第2のレーザ光K2が屈折しない部分、たとえば、図2に示したプリズム4における第2のレーザ光K2が通過する部分を削除する構成としてもよい。
【0059】
また、半導体レーザ素子が3つ以上、半導体レーザアレイのストライプが3本以上のものであってもよい。この場合、レーザ光は偶数の方が偏波合成する設計がし易いので、好ましい。
【0060】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項1〜8の発明によれば、光路間隔変換手段が、第1レンズ群側から出力された各レーザ光の光路間隔を狭めて該各レーザ光を偏波合成素子の入射側に出力するようにしているので、偏波合成素子を小型化することができ、半導体レーザモジュール全体としても小型化を促進することができる。また、半導体レーザ素子の間隔は離隔されているため、半導体レーザ素子に対する電気配線が容易となる。
【0061】
また、この半導体レーザモジュールは、光通信機器やラマン増幅器などの光増幅器の光源として用いられる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の実施の形態1にかかる半導体レーザモジュールの構成を示す断面図である。
【図2】この発明の実施の形態1にかかる半導体レーザモジュールの構成を模式的に示す説明図である。
【図3】この発明の実施の形態1にかかる半導体レーザモジュールの変形例の構成を模式的に示す説明図である。
【図4】この発明の実施の形態1にかかる半導体レーザモジュールの変形例の構成を模式的に示す説明図である。
【図5】この発明の実施の形態2にかかる半導体レーザモジュールの構成を模式的に示す説明図である。
【図6】この発明の実施の形態2にかかる半導体レーザモジュールの変形例の構成を模式的に示す説明図である。
【図7】この発明の実施の形態3にかかる半導体レーザモジュールの構成を模式的に示す説明図である。
【図8】この発明の実施の形態4にかかる半導体レーザモジュールの構成を模式的に示す説明図である。
【図9】従来の半導体レーザモジュールの構成を模式的に示す説明図である。
【符号の説明】
1 半導体レーザアレイ
1a,1b 半導体レーザ素子
1−1,1−2 半導体レーザ
2a,2b 第1レンズ
3 半波長板
4 プリズム
5 偏波合成部材
6 第2レンズ
7 フェルール
8 光ファイバ
10,20,30,40,50,60,70 半導体レーザモジュール
11 パッケージ
11a フランジ部
11b 窓部
11c 蓋
11d 中間部材
12 サーミスタ
13 フォトダイオード
14 フォトダイオードキャリア
15 チップキャリア
16 第1の基台
17 第2の基台
17a 第1の支持部材
17b 第2の支持部材
19 冷却装置
21 第1のレンズ保持部材
22 ホルダ
23 第2のレンズ保持部材
24 スライドリング
【発明の属する技術分野】
この発明は、2つのレーザ光を偏波合成して出力する半導体レーザモジュールに関し、特に小型でしかも製造が容易で、誘導ブリルアン散乱を減少でき、偏光度の小さい高出力動作を可能とする半導体レーザモジュールに関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、たとえばラマン増幅を用いた光ファイバ増幅器において、複数の半導体レーザモジュールを励起光源として用いることにより、高出力の励起光源を実現し、これを用いて高利得の光ファイバ増幅器を実現できることが知られている。ラマン増幅においては、信号光と励起光の偏波方向が一致している状態で信号光が増幅されるので、信号光と励起光との偏光面のずれの影響を極力小さくする必要がある。そのため、励起光の偏波を解消(非偏光化:デポラライズ)して、偏光度(DOP:Degree Of Polarization)を低減させることがおこなわれている。
【0003】
ここで、偏波合成されるレーザ光がそれぞれ異なる半導体レーザモジュールから出射されることとすると光ファイバ増幅器の製造工程が複雑化し、光ファイバ増幅器のサイズも大型化するという問題が生じる。そこで、一度に2つの発光領域を有する半導体レーザ素子を利用してラマン増幅器を構成する手法が提案されている。この場合、製造工程は簡略となり、また、同一基板上に複数のストライプを構成するため、半導体レーザ素子そのものが小型化し、さらに半導体レーザモジュールの数も低減することができる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、複数のストライプ構造、特に2本のストライプ構造(以下、「2本レーザアレイ型」と言う)からなる半導体レーザ素子をラマン増幅器に使用した場合、新たな問題が生じる。すなわち、2本レーザアレイ型からなる半導体レーザ素子を使用した場合には、ストライプから発振されるレーザ光を個別に制御し難い構造であるので、別々の半導体素子を偏波合成した場合と比較して偏光度(DOP)が十分に低減されない場合があるという問題がある。
【0005】
DOPが低減されない場合、励起光源からのレーザ光の偏光度は解消されない。ラマン増幅器における増幅利得は信号光と同一偏波のレーザ光成分の強度によって決まるため、励起光源からのレーザ光が特定方向に偏波していた場合、信号光の偏波方向によってラマン増幅器における増幅利得が変化することとなる。すなわち、安定した増幅利得を得ることができない。
【0006】
したがって、DOPを低減するためには、図9に示す半導体レーザモジュールのように、モジュール内において、独立した2つの半導体レーザ素子101a,101bおよび2つの第1レンズ102a,102bを設け、各半導体レーザ素子101a,101bを独立して制御し、各半導体レーザ素子101a,101bから出射されたレーザ光を、偏波合成部材105によって偏波合成して出力することが望ましい。これによって、DOPを低減させることができ、ラマン利得として信号光の偏光方向とは無関係に安定した増幅利得を得ることができる。また、この場合、2本レーザアレイ型の半導体レーザ素子を用いる場合に比して、各半導体レーザ素子101a,101bが離隔しているため、電気配線が容易になる。なお、2本レーザアレイ型の各ストライプの略中心間隔は数百μm程度であるが、各半導体レーザ素子101a,101bの間隔LXは500μm程度となる。
【0007】
しかしながら、逆に各半導体レーザ素子101a,101bを1つの半導体レーザモジュール内に設けると、各半導体レーザ素子101a,101bの間隔LXが大きくなるため、複屈折部材である偏波合成部材105の長手方向の距離LZが大きくなり、結果的に偏波合成部材105が大型化し、半導体レーザモジュール自体も大きくなるという問題点があった。
【0008】
この発明は、上述した問題点に鑑みてなされたものであり、ラマン増幅器などの励起用光源に適し、小型でしかも製造が容易で、偏光度を小さくすることができる半導体レーザモジュールを提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、請求項1にかかる半導体レーザモジュールは、それぞれ独立したレーザ光を出力する2つの半導体レーザ素子と、前記2つのレーザ光の各光分布をそれぞれ整形する2つの第1レンズを有する第1レンズ群と、一方の第1レンズ側から出力されたレーザ光の偏光方向を偏光回転手段によって所望角度に回転する、たとえば半波長板(たとえば90度)と、他方の第1レンズ側から出力されたレーザ光と前記偏光回転手段を経由して出力されたレーザ光とを偏波合成する偏波合成素子とを有した半導体レーザモジュールにおいて、前記第1レンズ群側から出力された各レーザ光の光路間隔を狭めて該各レーザ光を前記偏波合成素子の入射側に出力する光路間隔変換手段を備えたことを特徴とする。
【0010】
この請求項1の発明によれば、光路間隔変換手段が、前記第1レンズ群側から出力された各レーザ光の光路間隔を狭めて該各レーザ光を前記偏波合成素子の入射側に出力するようにしているので、偏波合成素子を小型化することができる。
【0011】
また、請求項2の発明にかかる半導体レーザモジュールは、上記の発明において、前記光路間隔変換手段は、プリズムであることを特徴とする。また、プリズムは、BK7(ホウケイ酸クラウンガラス)等の光学ガラスで作られている。
【0012】
また、請求項3の発明にかかる半導体レーザモジュールは、上記の発明において、前記光路間隔変換手段は、前記一方の第1レンズから出力されたレーザ光が出射される部分端面を傾斜させ、光路方向が変化しない前記偏光回転手段から出力されたレーザ光に対して傾けた非平行となるレーザ光を出射し、前記偏波合成素子は、前記部分端面から出力されたレーザ光が入射される部分端面が傾斜されていることを特徴とする。
【0013】
また、請求項4の発明にかかる半導体レーザモジュールは、上記の発明において、前記光路間隔変換手段は、前記一方の第1レンズから入射されたレーザ光が出射される部分端面が傾斜した第1のプリズムと、前記第1のプリズムの部分端面から出射されたレーザ光が入射される部分端面が傾斜した第2のプリズムとを備え、前記第2のプリズムの出射側端面から、各レーザ光を平行光として出射することを特徴とする。
【0014】
また、請求項5の発明にかかる半導体レーザモジュールは、上記の発明において、前記第2のプリズムと前記偏波合成素子とは、同一のホルダに収容されていることを特徴とする。
【0015】
また、請求項6の発明にかかる半導体レーザモジュールは、上記の発明において、前記光路変換手段は、互いに平行なミラー面を有することを特徴とする。
【0016】
また、請求項7の発明にかかる半導体レーザモジュールは、上記の発明において、前記光路変換手段は、前記レンズ群側から出力された2つのレーザ光のうち、少なくとも1つのレーザ光を異常光として伝搬させる複屈折素子であることを特徴とする。
【0017】
また、請求項8の発明にかかる半導体レーザモジュールは、上記の発明において、前記2つの半導体レーザ素子は、1つのレーザ素子から前記2つのレーザ光を出射可能としたレーザアレイ型(以下、「半導体レーザアレイ」という。)によって形成されることを特徴とする。
【0018】
【発明の実施の形態】
以下に図面を参照して、この発明にかかる半導体レーザモジュールの好適な実施の形態について説明する。
【0019】
(実施の形態1)
まず、この発明の実施の形態1について説明する。図1は、この発明の実施の形態1である半導体レーザモジュールの構成を示す断面図であり、図2はこの発明の実施の形態1である半導体レーザモジュールの構成を模式化して示す説明図である。
【0020】
図1に示すように、この実施の形態1にかかる半導体レーザモジュール10は、内部を気密封止したパッケージ11と、そのパッケージ11内に設けられ、2つのレーザ光を出射する半導体レーザアレイ1と、第1レンズ2a,2bと、半波長板3(偏光回転手段)と、プリズム4と、偏波合成部材(PBC:Polarization Beam Combiner)5と、光ファイバ8、フォトダイオード13とを有する。
【0021】
半導体レーザアレイ1は、図2に示すように、間隔L0を隔てて長手方向に互いに同一平面上に平行に形成された半導体レーザ1−1,1−2を有し、半導体レーザ1−1,1−2の端面からそれぞれ第1のレーザ光K1及び第2のレーザ光K2を出射する。なお、半導体レーザ1−1,1−2間の間隔L0は、250〜500μm程度である。
【0022】
半導体レーザアレイ1は、チップキャリア15上に固定して取り付けられる。なお、半導体レーザアレイ1は、図示しないヒートシンク上に固定して取り付けられ、そのヒートシンクがチップキャリア15上に固定して取り付けられていてもよい。
【0023】
フォトダイオード13は、半導体レーザ1−1,1−2の後側(図中、左側)端面から出射されたモニタ用のレーザ光を受光する。フォトダイオード13は、フォトダイオードキャリア14に固定して取り付けられている。
【0024】
第1レンズ2a,2bは、半導体レーザ1−1,1−2の前側(図中、右側)端面から出射された第1のレーザ光K1と第2のレーザ光K2とが入射され、第1のレーザ光K1と第2のレーザ光K2とをそれぞれ平行光として出射させる。
【0025】
第1レンズ2a,2bは、第1のレンズ保持部材21によって保持されている。第1レンズ2a,2bは、それぞれ半導体レーザ1−1,1−2から出射された第1のレーザ光K1および第2のレーザ光K2の光軸が、レンズ中央部分に入射されるように位置決めされる。これによって、第1のレーザ光K1及び第2のレーザ光K2が、ともに収差の小さい領域である第1レンズ54の中心軸近傍を通過するため、レーザ光の波面の乱れがなくなる。
【0026】
半波長板3は、第1レンズ2bを通過した第2のレーザ光K2のみが入射され、入射された第2のレーザ光K2の偏波面を所望角度(たとえば90度)回転させる。
【0027】
プリズム4は、第1レンズ2a,2bと偏波合成部材5との間に配設され、第1レンズ2a,2b側端面は、入射される第1のレーザ光K1および第2のレーザ光K2の光軸に対して垂直な平面が形成され、偏波合成部材5側端面のうち、第1のレーザ光K1が出射される端面は傾斜され、第2のレーザ光K2が出射される端面は、第2のレーザ光K2に対して垂直な平面が形成される。したがって、第1のレーザ光K1は、第2のレーザ光K2側に屈折して出射され、平行光として入射された第1のレーザ光K1および第2のレーザ光K2は、非平行光として偏波合成部材5側に出射される。
【0028】
偏波合成部材5は、複屈折素子によって実現され、第1のレーザ光K1が入射される端面が傾斜され、屈折して斜め入射した第1のレーザ光K1を異常光として伝搬し、第2のレーザ光K2が入射される端面は、第2のレーザ光K2の光軸に対して垂直な平面が形成され、第2のレーザ光K2を常光として伝搬する。この場合、偏波合成部材5に入射される第1のレーザ光K1と第2のレーザ光K2との光路の間隔L1は、間隔L0に比して狭められる。偏波合成部材5の長手方向の長さL2は、第1のレーザ光線K1と第2のレーザ光線K2とが出射側端面において一致する長さをもたせる。第1のレーザ光線K1と第2のレーザ光K2とは、この端面において合波されて第2レンズ6側に出射される。この場合、合波されたレーザ光の光軸は、第2のレーザ光K2の光軸と同じである。なお、偏波合成部材5が複屈折素子の場合、複屈折率性が高くレーザ光間の分離幅を大きくとれるように、例えばTiO2(ルチル結晶)で作られる。ルチル結晶の場合、間隔L1に対し、長さL2は約10倍程度の比で大きくなる。
【0029】
この実施の形態1においては、半波長板3,プリズム4、及び偏波合成部材5は、同一のホルダ部材22に固定されている。この場合、プリズム4と偏波合成部材5との位置関係は、プリズム4あるいは偏波合成部材5を長手方向に摺動することによって設定される。この設定とは、第1のレーザ光K1と第2のレーザ光K2とが、偏波合成部材5の出力点において一致することである。
【0030】
光ファイバ8は、偏波合成部材5から出射されるレーザ光を受光し外部に送出する。光ファイバ8には、偏波合成部材5と光ファイバ8との間には、偏波合成部材5から出射されるレーザ光を光ファイバ8に光結合させる第2レンズ6が配設されている。
【0031】
半導体レーザアレイ1を固定したチップキャリア15と、フォトダイオード13を固定したフォトダイオードキャリア14とは、断面ほぼL字形状の第1の基台16上に半田付けして固定される。第1の基台16は、半導体レーザアレイ1の発熱に対する放熱性を高めるためにCuW系合金等で作られているのが好ましい。
【0032】
第1レンズ54を固定した第1のレンズ保持部材21と、半波長板3、プリズム4及び偏波合成部材5を固定したホルダ部材22とは、第2の基台17上にそれぞれ第1の支持部材17a及び第2の支持部材17bを介してYAGレーザ溶接により固定される。このため、第2の基台17は、溶接性の良好な金属、たとえばステンレス鋼等で作られているのが好ましい。また、第2の基台17は、第1の基台16の平坦部16a上に銀ろう付けして固定される。
【0033】
第1の基台16の下部にはペルチェ素子等からなる冷却装置19が設けられている。半導体レーザアレイ1からの発熱による温度上昇はチップキャリア15上に設けられたサーミスタ12によって検出され、サーミスタ12より検出された温度が一定温度になるように、冷却装置19が制御される。これによって、半導体レーザモジュール10のレーザ出力を高出力化かつ安定化させることができる。
【0034】
パッケージ11の側部に形成されたフランジ部11aの内部には、偏波合成部材5を通過した光が入射する窓部11bが設けられ、フランジ部11aの端面には中間部材11dが固定されている。中間部材11d内にはレーザ光を集光する第2レンズ6を保持する第2のレンズ保持部材23がYAGレーザ溶接により固定されている。第2のレンズ保持部材23の端部には金属製のスライドリング24がYAGレーザ溶接により固定される。
【0035】
光ファイバ8はフェルール7によって保持され、そのフェルール7は、スライドリング24の内部にYAGレーザ溶接により固定されている。
【0036】
次に、この実施の形態1にかかる半導体レーザモジュールの動作について説明する。半導体レーザアレイ1の半導体レーザ1−1,1−2の前側端面からそれぞれ出射された第1のレーザ光K1及び第2のレーザ光K2は、第1レンズ2a,2bを通過し、平行光を維持したまま、プリズム4に入射されるが、第2のレーザ光K2は、半波長板3を介して偏光方向が90度回転されてプリズム4に入射される。第2のレーザ光K2は、そのまま偏波合成部材5に入射されるが、第1のレーザ光K1は、プリズム4の傾斜端面4aによって第2のレーザ光K2側に屈折して出射され、偏波合成部材5の傾斜端面5aに入射される。
【0037】
偏波合成部材5では、傾斜端面5aから入射された第1のレーザ光K1と、第2のレーザ光K2とを合波して第2レンズ6に出射する。偏波合成部材5から出射されたレーザ光は、第2レンズ6によって集光され、フェルール7によって保持固定された光ファイバ8に入射され外部に送出される。
【0038】
なお、図1および図2では、半導体レーザアレイ1を用いて第1のレーザ光K1および第2のレーザ光K2を出射するようにしていたが、これに限らず、図3に示すように、2つの半導体レーザ素子1a,1bを用いて第1のレーザ光K1および第2のレーザ光K2を出射するようにしてもよい。いずれの場合においても、半導体レーザ1−1,1−2あるいは半導体レーザ素子1a,1bに対する駆動を独立して行うことができ、DOPの制御が可能になるとともに、電気配線も容易になる。
【0039】
また、上述した実施の形態1では、一つのプリズム4を用いていたが、これに限らず、2つのプリズムを用いるようにしてもよい。たとえば、図4に示すように、プリズム4と偏波合成部材32との間に、新たなプリズム31を設けるようにしてもよい。この場合、偏波合成部材5に対応する偏波合成部材32には傾斜端面5aが形成されず、この傾斜端面5aに対応した傾斜端面31aがプリズム31に設けられる。換言すれば、偏波合成部材5の傾斜端面5aの機能をプリズム31によって実現している。これによって、偏波合成部材32は、研磨等によって傾斜端面を形成する加工が不必要となる。なお、プリズム31と偏波合成部材32とは、同一のホルダ33内に設けられる。これによって、偏波合成部材32の出力点の調芯は、ホルダ33全体を長手方向に摺動調整のみによって容易に実現できる。
【0040】
この実施の形態1では、半導体レーザアレイ1から出力された第1のレーザ光K1と第2のレーザ光K2との平行光の光路間隔L0(500μm程度)を維持したまま、偏波合成部材5に入射するのではなく、プリズム4によって光路間隔L0を狭め、偏波合成部材5に入射する際の光路間隔を光路間隔L0に比して小さい光路間隔L1にし、結果的に偏波合成部材5を小型化し、半導体レーザモジュール10全体の小型化をも促進させている。
【0041】
(実施の形態2)
つぎに、この発明の実施の形態2について説明する。上述した実施の形態1では、偏波合成部材5に入射される2つのレーザ光は基本的に非平行光であったが、この実施の形態2では、偏波合成部材5に入射される第1のレーザ光K1と第2のレーザ光K2とを平行光として入射するようにしている。
【0042】
図5は、この発明の実施の形態2である半導体レーザモジュールの構成を模式的に示した説明図である。この図5に示した半導体レーザモジュール40は、図3に示した半導体レーザモジュール20に対応し、プリズム4に代えてプリズム41を設けるとともに、偏波合成部材5の傾斜端面5aを無くした偏波合成部材43を用いるようにしている。その他の構成は図3に示した構成と同じであり、同一構成部分には同一符号を付している。
【0043】
プリズム41は、半導体レーザ素子1a,1b側方向に、くの字形状を有した角柱であり、第1のレーザ光K1および第2のレーザ光K2の入射側端面と出射側端面とは平行である。したがって、第1のレーザ光K1および第2のレーザ光K2は、ともに屈折後において、同一方向の光軸を有し、入射された第1のレーザ光K1と第2のレーザ光K2とが平行状態を維持しているので、出射される第1のレーザ光K1と第2のレーザ光K2とは平行状態を維持することになる。ここで、半導体レーザ素子1a,1b側方向に、くの字形状を形成しているので、出射されたレーザ光の間隔L1は、入射されたレーザ光の間隔L0を狭めることなる。この結果、実施の形態1と同様に、偏波合成部材43の小型化を実現し、ひいては半導体レーザモジュール全体の小型化を促進することができる。なお、偏波合成部材43は、傾斜端面を形成する加工が必要ないので製造が容易になる。ここで、図5に示した半導体レーザ素子1a,1b間の間隔L0は、1.8mm程度であり、間隔L1は400〜500μm程度である。また、第1レンズ2a,2bの直径は1.4mmである。さらに、プリズム41は、屈折率が約1.5のBK7を用いている。
【0044】
なお、プリズム41による間隔L0を間隔L1に狭める割合は、プリズム41の角度θ1によって調整できる。また、プリズム41の厚みd1によっても変化させることができる。さらに、2つのレーザ光が平行状態で所望の間隔L1に入射されればよく、プリズム41は分割型でもよく、互いを間隔をあけて配置してもよい。また、別々に角度θ1を調整してもよい。
【0045】
ここで、この実施の形態2の変形例について説明する。図5に示した半導体レーザモジュール40では、プリズム41が、第1のレーザ光K1および第2のレーザ光K2のいずれをも屈折させるようにしていたが、図6に示したこの変形例では、第1のレーザ光K2のみを屈折させるプリズム51を用いている。この変形例においても、第1のレーザ光K2の屈折によって光路間隔を狭めることができる。
【0046】
なお、図6に示した構成は、図5に示したプリズム41の配置を変更した構成としてとらえることができる。すなわち、プリズム51は、点P1を中心にした配置角度θ2を変化させ、第1のレーザ光K1に対する屈折がなくなる状態とした場合に等しい。ただし、この場合、配置角度θ2の変化によって、プリズム41から出射される平行光としてのレーザ光の横方向位置がずれることになる。このため、偏波合成部材43との位置関係を考慮する必要がある。なお、プリズム51の角度θ2を変化させ、あるいはプリズム51の厚さを変化させることによって、間隔L0を所望の間隔L1に調整することができる。なお、2つのレーザ光が平行状態で所望の間隔L1になればよく、プリズム51は分割型であってもよいし、互いを間隔をあけて配置してもよい。
【0047】
また、図6に示した構成では、第1のレーザ光K1と第2のレーザ光K2との光路差が無視できなくなり、第2レンズ6に対する集光が一致しなくなる。このため、第1のレーザ光K1における部分光路長(n・L11+ne・L21)と第2のレーザ光K2における部分光路長(n・L12+no・L22)とがほぼ等しくなるように、光路長n・L12が光路長n・L11に比して大きくなるように設定することが好ましい。なお、「n」は、プリズム51の屈折率、「ne」は異常光の屈折率、「no」は、常光の屈折率である。
【0048】
(実施の形態3)
つぎに、この発明の実施の形態3について説明する。この実施の形態3では、平行配置されたプリズムミラー、あるいは平行配置されたミラー(以下、「平行配置ミラー」という。)を用いて入射されたレーザ光の光路を変換するようにしている。
【0049】
図7は、この発明の実施の形態3である半導体レーザモジュールの構造を模式的に示した説明図である。図7に示した半導体レーザモジュール60は、図5に示した半導体レーザモジュール40におけるプリズム41に代えて平行配置ミラー61を設けている。その他の構成は図5に示した半導体レーザモジュール40と同じであり、同一構成部分には同一符号を付している。
【0050】
平行配置ミラー61は、平行配置された2つの対向ミラー61a,61bによって構成される。対向ミラー61aに第1のレーザ光K1が入射されると、第1のレーザ光K1は、対向ミラー61bに反射し、対向ミラー61bは、さらに偏波合成部材43側に反射出力する。この場合、入射された第1のレーザ光K1は、出射される第1のレーザ光K1と平行状態を保つが、対向ミラー61a,61b間の反射距離に対応する分だけ、光路間隔が狭まる。すなわち、間隔L0が間隔L1に変化する。
【0051】
なお、平行配置ミラー61は、第1のレーザ光K1に対する光路変換を行うようにしているが、これに限らず、第2のレーザ光K2に対する光路変換を行うようにしてもよいし、第1のレーザ光K1および第2のレーザ光K2の双方に対する光路変換を行うべく、2つの平行配置ミラーを配置するようにしてもよい。なお、平行配置ミラー61を回転させることによって、対向ミラー61a,61b間の反射距離を変化させることができ、これによって間隔L1を任意に変更設定することができる。
【0052】
この実施の形態3によっても、偏波合成部材43に入射する際の光路間隔が狭められるので、偏波合成部材43の小型化を実現でき、半導体レーザモジュール全体に対する小型化をも促進する。
【0053】
(実施の形態4)
つぎに、この発明の実施の形態4について説明する。上述した実施の形態1〜3では、第1のレーザ光K1および第2のレーザ光K2の光路変換をプリズムあるいは平行配置ミラーによって実現していたが、この実施の形態4では、複屈折素子を用いて光路変換を行うようにしている。
【0054】
図8は、この発明の実施の形態4である半導体レーザモジュールの構成を模式的に示した説明図である。図8において、この半導体レーザモジュール70は、プリズム41,51あるいは平行配置ミラー61に代えて複屈折素子71a,71bを設けている。また、半波長板を第1レンズ2bの後段に設けず、複屈折素子71bと偏波合成部材73との間に半波長板72(偏光回転手段)に設け、半波長板72と偏波合成部材73とは、一つのホルダ74に固定配置される。その他の構成は図7に示した半導体レーザモジュール60を同じであり、同一構成部分には同一符号を付している。
【0055】
図8において、第1のレーザ光K1は、複屈折素子71aに入射され、異常光線として屈折して出射される。同様に、第2のレーザ光K2は、複屈折素子71bに入射され、異常光として屈折して出射される。複屈折素子71aから出射された第1のレーザ光K1は、偏波合成部材73に入射され、異常光として偏波合成部材73から出射され、一方の、複屈折素子71bから出射された第2のレーザ光K2は、半波長板72によって偏波面が90度回転された後、偏波合成部材73に常光として入射され、偏波合成部材73から第1のレーザ光K1と第2のレーザ光K2とが偏波合成される。ここで、複屈折素子71a,71bは、異常光が互いに接近するように配置する。これによって、第1のレーザ光K1と第2のレーザ光K2との間隔L0は、間隔L1に狭められる。
【0056】
なお、上述した実施の形態4では、第1のレーザ光K1と第2のレーザ光K2の双方に対応する複屈折素子71a,71bを設けたが、これに限らず、いずれか一方に対してのみ設けるようにしてもよい。また、間隔L1は、複屈折素子71a,71bの大きさによって設定変更することができる。
【0057】
この実施の形態4では、プリズムや平行配置ミラーなどの斜面が設けられる光学部材を用いないので、光学調整や角度調整などの調整が簡易になり、半導体レーザモジュールの組立が容易になる。
【0058】
なお、上述した実施の形態1〜4において、第1のレーザ光K1や第2のレーザ光K2が屈折しない部分、たとえば、図2に示したプリズム4における第2のレーザ光K2が通過する部分を削除する構成としてもよい。
【0059】
また、半導体レーザ素子が3つ以上、半導体レーザアレイのストライプが3本以上のものであってもよい。この場合、レーザ光は偶数の方が偏波合成する設計がし易いので、好ましい。
【0060】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項1〜8の発明によれば、光路間隔変換手段が、第1レンズ群側から出力された各レーザ光の光路間隔を狭めて該各レーザ光を偏波合成素子の入射側に出力するようにしているので、偏波合成素子を小型化することができ、半導体レーザモジュール全体としても小型化を促進することができる。また、半導体レーザ素子の間隔は離隔されているため、半導体レーザ素子に対する電気配線が容易となる。
【0061】
また、この半導体レーザモジュールは、光通信機器やラマン増幅器などの光増幅器の光源として用いられる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の実施の形態1にかかる半導体レーザモジュールの構成を示す断面図である。
【図2】この発明の実施の形態1にかかる半導体レーザモジュールの構成を模式的に示す説明図である。
【図3】この発明の実施の形態1にかかる半導体レーザモジュールの変形例の構成を模式的に示す説明図である。
【図4】この発明の実施の形態1にかかる半導体レーザモジュールの変形例の構成を模式的に示す説明図である。
【図5】この発明の実施の形態2にかかる半導体レーザモジュールの構成を模式的に示す説明図である。
【図6】この発明の実施の形態2にかかる半導体レーザモジュールの変形例の構成を模式的に示す説明図である。
【図7】この発明の実施の形態3にかかる半導体レーザモジュールの構成を模式的に示す説明図である。
【図8】この発明の実施の形態4にかかる半導体レーザモジュールの構成を模式的に示す説明図である。
【図9】従来の半導体レーザモジュールの構成を模式的に示す説明図である。
【符号の説明】
1 半導体レーザアレイ
1a,1b 半導体レーザ素子
1−1,1−2 半導体レーザ
2a,2b 第1レンズ
3 半波長板
4 プリズム
5 偏波合成部材
6 第2レンズ
7 フェルール
8 光ファイバ
10,20,30,40,50,60,70 半導体レーザモジュール
11 パッケージ
11a フランジ部
11b 窓部
11c 蓋
11d 中間部材
12 サーミスタ
13 フォトダイオード
14 フォトダイオードキャリア
15 チップキャリア
16 第1の基台
17 第2の基台
17a 第1の支持部材
17b 第2の支持部材
19 冷却装置
21 第1のレンズ保持部材
22 ホルダ
23 第2のレンズ保持部材
24 スライドリング
Claims (8)
- それぞれ独立したレーザ光を出力する2つの半導体レーザ素子と、
前記2つのレーザ光の各光分布をそれぞれ整形する2つの第1レンズを有する第1レンズ群と、
一方の第1レンズ側から出力されたレーザ光の偏光方向を所望角度に回転する偏光回転手段と、
他方の第1レンズ側から出力されたレーザ光と前記偏光回転手段を経由して出力されたレーザ光とを偏波合成する偏波合成素子とを有した半導体レーザモジュールにおいて、
前記第1レンズ群側から出力された各レーザ光の光路間隔を狭めて該各レーザ光を前記偏波合成素子の入射側に出力する光路間隔変換手段を備えたことを特徴とする半導体レーザモジュール。 - 前記光路間隔変換手段は、プリズムであることを特徴とする請求項1に記載の半導体レーザモジュール。
- 前記光路間隔変換手段は、前記一方の第1レンズから出力されたレーザ光が出射される部分端面を傾斜させ、光路方向が変化しない前記偏光回転手段から出力されたレーザ光に対して傾けた非平行となるレーザ光を出射し、
前記偏波合成素子は、前記部分端面から出力されたレーザ光が入射される部分端面が傾斜されていることを特徴とする請求項1または2に記載の半導体レーザモジュール。 - 前記光路間隔変換手段は、
前記一方の第1レンズから入射されたレーザ光が出射される部分端面が傾斜した第1のプリズムと、
前記第1のプリズムの部分端面から出射されたレーザ光が入射される部分端面が傾斜した第2のプリズムとを備え、
前記第2のプリズムの出射側端面から、各レーザ光を平行光として出射することを特徴とする請求項1または2に記載の半導体レーザモジュール。 - 前記第2のプリズムと前記偏波合成素子とは、同一のホルダに収容されていることを特徴とする請求項4に記載の半導体レーザモジュール。
- 前記光路変換手段は、互いに平行なミラー面を有することを特徴とする請求項1に記載の半導体レーザモジュール。
- 前記光路変換手段は、前記レンズ群側から出力された2つのレーザ光のうち、少なくとも1つのレーザ光を異常光として伝搬させる複屈折素子であることを特徴とする請求項1に記載の半導体レーザモジュール。
- 前記2つの半導体レーザ素子は、1つのレーザ素子から前記2つのレーザ光を出射可能としたレーザアレイ型によって形成されることを特徴とする請求項1〜7のいずれか一つに記載の半導体レーザモジュール。
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