WO2017026215A1

WO2017026215A1 - 機能性フィルムの製造方法、および、機能性フィルムの製造装置

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Publication number: WO2017026215A1
Application number: PCT/JP2016/070299
Authority: WO
Inventors: 諭司國安
Original assignee: 富士フイルム株式会社
Priority date: 2015-08-11
Filing date: 2016-07-08
Publication date: 2017-02-16
Also published as: JPWO2017026215A1; CN107921470A; US20180161803A1; JP6475843B2

Abstract

酸素により性能劣化する素材を含む塗布液でフィルムを製造する際に、性能劣化のない機能性フィルムを製造する機能性フィルムの製造方法および製造装置を提供する。機能性フィルムの製造方法は、溶存酸素濃度が１０００ｐｐｍ以下の塗布液を、バックアップローラ４４を有するダイコータ３６に供給し、バックアップローラ４４に巻き掛けられて搬送される可撓性支持体Ｗにダイコータ３６で塗布液を塗布する塗布工程と、を有し、可撓性支持体Ｗの搬送方向に対し、ダイコータ３６の上流側に可撓性支持体Ｗの表面を覆う減圧チャンバー１５を備え、減圧チャンバーに不活性ガスを供給し、減圧チャンバー１５からの排気量が、減圧チャンバー１５への不活性ガスの供給量より多い。

Description

機能性フィルムの製造方法、および、機能性フィルムの製造装置

　本発明は、機能性フィルムの製造方法、および、機能性フィルムの製造装置に係り、特に、酸素により性能劣化しやすい素材を含む塗布液を用いた機能性フィルムの製造方法、および、機能性フィルムの製造装置に関する。

　光学特性等の機能性を有する素材を含む塗布液を可撓性支持体に塗布して塗膜フィルムを形成することにより、光学的な機能を有する機能性フィルムを製造することが行われている。

　しかし、機能性を有する素材の中には酸素により機能性を劣化させてしまう素材があり、機能性フィルムを製造する上での問題点となっている。酸素により性能劣化する素材としては、例えば、液晶表示装置（ＬＣＤ：ｌｉｑｕｉｄ　ｃｒｙｓｔａｌ　ｄｉｓｐｌａｙ）（以下、ＬＣＤともいう）などのフラットパネルディスプレイの発光材料として使用される量子ドット（Ｑｕａｎｔｕｍ　Ｄｏｔ、ＱＤ、量子点とも呼ばれる。）がある。

　フラットパネルディスプレイ市場では、ＬＣＤ性能改善として、色再現性の向上が進行しており、量子ドットが、近年、発光材料として、注目を集めている。例えば、バックライトから量子ドットを含む光変換部材に励起光が入射すると、量子ドットが励起され蛍光を発光する。ここで異なる発光特性を有する量子ドットを用いることで、赤色光、緑色光、青色光の半値幅の狭い光を発光させて白色光を具現化することができる。量子ドットによる傾向は、半値幅が狭いため、波長を適切に選択することで得られる白色光を高輝度にしたり色再現性に優れる設計にすることが可能である。

　このような量子ドットを用いた３波長光源化技術の振興により、色再現域は、ＴＶ（ｔｅｌｅｖｉｓｉｏｎ）規格（ＦＨＤ（Ｆｕｌｌ　Ｈｉｇｈ　Ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ）、ＮＴＳＣ（Ｎａｔｉｏｎａｌ　Ｔｅｌｅｖｉｓｉｏｎ　Ｓｙｓｔｅｍ　Ｃｏｍｍｉｔｔｅｅ））比７２％から１００％へと拡大している。

　しかしながら、量子ドットは、酸素や水蒸気により量子収率の劣化が起こるため、その対策として、可撓性支持体に塗布形成された塗膜（量子ドット含有層）にガスバリア性のフィルムを貼合して酸素や水蒸気から保護することが行われている。

　特許文献１には、量子ドットを酸素や水蒸気から保護するために、量子ドット含有層の両面を酸素バリア性や水蒸気バリア性の高いガスバリアフィルムで挟み込んで積層して積層フィルムにすることが記載されている。また、特許文献２には、塗布ビード上流側を酸素濃度０．５～８％、かつ、有機溶媒の関係湿度が８０～１００％、水分量が０．５～５Ｖｏｌ％の不活性ガスを主たる成分としたガスを満たすことで、塗布時の酸素濃度を低減することが記載されている。

特表２０１３－５４４０１８号公報特開２００３－１８１３５０号公報

　しかしながら、量子ドット含有層の両面を酸素バリア性や水蒸気バリア性の高いガスバリアフィルムで挟み込んで積層しても酸素に対する保護が十分ではなく、製造された機能性フィルムに酸素による性能劣化が見られるという問題があった。また、特許文献２に記載の装置は、塗布故障の発生を低減するために、不活性ガスを供給しており、塗布液中に酸素により劣化する成分を含む場合においては、特許文献２に記載の濃度では、不十分であった。

　そして、この問題は、量子ドットに限らず、酸素により性能劣化する素材を含む塗布液を用いた機能性フィルムの製造において共通の問題である。

　本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、酸素により性能劣化する素材を含む塗布液でフィルムを製造する際に、性能劣化のない機能性フィルムを製造する機能性フィルムの製造方法、および、機能性フィルムの製造装置を提供することを目的とする。

　本発明は上記目的を達成するために、溶存酸素濃度が１０００ｐｐｍ以下の塗布液を、バックアップローラを有するダイコータに供給し、バックアップローラに巻き掛けられて搬送される可撓性支持体にダイコータで塗布液を塗布する塗布工程を有し、可撓性支持体の搬送方向に対し、ダイコータの上流側に可撓性支持体の表面を覆う減圧チャンバーを備え、減圧チャンバーに不活性ガスを供給し、減圧チャンバーからの排気量が、減圧チャンバーへの不活性ガスの供給量より多い機能性フィルムの製造方法を提供する。

　本発明によれば、塗布工程において、溶存酸素濃度が１０００ｐｐｍ以下の塗布液を、バックアップロールを有するダイコータに供給して、バックアップローラに巻き掛けられて搬送される可撓性支持体に塗布する。したがって、塗布液内の酸素濃度を低くすることができるので、塗布液中に酸素により性能劣化する素材を含んでいる場合においても、製造される機能性フィルムの性能が劣化することを抑制できる。

　また、塗布をダイコータにより行うことで、他の塗布装置に比べて塗布液と外気（外気中の酸素）との接触機会を効果的に小さくすることができる。さらに、ダイコータの上流側に減圧チャンバーを設け、この減圧チャンバーの排気量を不活性ガスの供給量より多くすることで、減圧チャンバー内を減圧することができる。減圧チャンバー内を減圧することで、ダイコータと可撓性支持体の間にビードを形成するとともに、減圧チャンバー内に供給するガスを不活性ガスとすることで、ビード周囲を不活性ガス雰囲気下とすることができ、塗布工程において塗布液と酸素の接触を抑制することができる。

　本発明の別の態様においては、塗布液中の有機溶媒の濃度が１００００ｐｐｍ以下であることが好ましい。

　この態様によれば、塗布液中の有機溶媒の濃度を１００００ｐｐｍ以下とすることで、減圧チャンバー内において、ビードからの溶剤ガス流下のない状態をつくることができ、減圧チャンバー内の気体の流れを安定させることができる。気体の流れを安定させることによって、減圧チャンバー内の酸素濃度の変動幅を小さくすることができ、製造される機能性フィルムの性能劣化を抑制することができる。

　本発明の別の態様においては、減圧チャンバー内の減圧度が１０Ｐａ以上であることが好ましい。

　この態様は、減圧チャンバー内の減圧度を規定したものであり、減圧度を１０Ｐａ以上とすることで、減圧チャンバー内の気体の流れを安定させることができ、減圧チャンバー内の酸素濃度の変動幅を小さくすることができ、製造される機能性フィルムの性能劣化を抑制することができる。

　本発明の別の態様においては、不活性ガスは、酸素濃度が５０００ｐｐｍ未満に調整されていることが好ましい。

　この態様によれば、酸素濃度が調整された不活性ガスを用いることで、減圧チャンバー内の酸素濃度を不活性ガスの酸素濃度とすることができ、減圧チャンバー内の酸素濃度を安定させることができ、製造される機能性フィルムの性能劣化を抑制することができる。

　本発明の別の態様においては、不活性ガスの供給量が１００Ｌ／ｍｉｎ／ｍ以上１００００Ｌ／ｍｉｎ／ｍ以下であることが好ましい。

　この態様は、不活性ガスの供給量を規定したものであり、不活性ガスの供給量を上記範囲とすることで、減圧チャンバー内を不活性ガス雰囲気下とすることができる。不活性ガスの供給量が、上記範囲から外れると、減圧チャンバー内に空気が入り込みやすくなるため、もしくは、酸素濃度が安定しないため好ましくない。

　本発明は上記目的を達成するために、バックアップローラとダイコータとを有し、バックアップローラに巻き掛けられて搬送される可撓性支持体に、溶存酸素濃度が１０００ｐｐｍ以下の塗布液を塗布する塗布手段と、可撓性支持体の搬送方向上流側に、可撓性支持体の表面を覆う減圧チャンバーと、減圧チャンバー内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段と、減圧チャンバー内の気体を排気する排気手段と、を備え、排気手段の排気量が、不活性ガス供給手段の供給量より多い機能性フィルムの製造装置を提供する。

　本発明は、上記記載の機能性フィルムの製造方法を実現する構成を有する、機能性フィルムの製造装置であり、塗布液と酸素との接触を抑制し、塗布液中に酸素により性能劣化する素材を含んでいる場合においても、製造される機能性フィルムの性能が劣化することを抑制できる。

　本発明の別の態様においては、不活性ガス供給手段は、可撓性支持体の搬送方向に対してダイコータの上流側に配置され、不活性ガスを供給するスリットを有するダイブロックであることが好ましい。

　この態様によれば、不活性ガス供給手段を、ダイコータの上流側に配置されたスリットを有するダイブロックとし、このスリットから不活性ガスを供給することで、塗布位置の上流側を不活性ガス雰囲気下とすることができ、塗布液と外気との接触を抑制することができる。

　これらの態様は、上記記載の機能性フィルムの製造方法を装置構成としたものであり、機能性フィルムの製造方法と同様の効果を有する。

　本発明の機能性フィルムの製造方法、および、機能性フィルムの製造装置によれば、ダイコータの上流側に減圧チャンバーを備え、減圧チャンバー内を不活性ガスの雰囲気下にすることで、塗布液の塗布時に、塗布液が酸素と接触することを抑制することができる。したがって、製造される機能性フィルムの性能劣化を抑制することができる。

図１は、機能性フィルムの製造装置の全体構成図である。図２は、ダイブロック方式の不活性ガス供給手段を用いた機能性フィルムの製造装置の要部を示す図である。図３は、塗布部分の拡大図である。図４は、不活性ガス供給手段の他の実施形態を用いた機能性フィルムの製造装置の要部を示す図である。

　以下、添付図面に従って、本発明に係る機能性フィルムの製造方法、および、機能性フィルムの製造装置について説明する。本発明は、酸素により性能劣化する素材を含む塗布液で機能性フィルムを製造する技術であり、酸素により性能劣化する素材として、量子ドットを含む塗布液で波長変換部材としての光学機能層を有する機能性フィルムを製造する例で説明する。しかし、本発明は、量子ドットに限らす、酸素により性能劣化する素材を含む塗布液を用いた機能性フィルムの製造の全てに適用できる。なお、本明細書において、「～」とは、その前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。

　＜機能性フィルムの製造装置＞
　図１は、機能性フィルムの製造装置の全体構成図であり、図２はダイブロック方式の不活性ガス供給手段を用いた機能性フィルムの製造装置の要部を示す図である。機能性フィルムの製造装置１０は、主として、量子ドットを含有する機能層形成用塗布液（以下「塗布液」という）の塗布液中の溶存酸素濃度を１０００ｐｐｍ以下に低減する溶存酸素低減装置１２と、塗布液を塗布する塗布装置１４（塗布手段に相当）と、塗布装置１４の可撓性支持体Ｗの搬送方向上流側に設けられ、帯状可撓性支持体表面を覆う減圧チャンバー１５と、減圧チャンバー１５内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給装置１６（不活性ガス供給手段に相当）と、塗布により形成された塗膜ＣにフィルムＦを貼合する貼合装置１８と、塗膜を硬化する硬化装置２０とで構成される。なお、本実施形態では、不活性ガスとして窒素ガス（Ｎ_２ガス）の例で以下に説明する。また、量子ドットを含有する塗布液の組成内容の詳細については、機能性フィルムの製造方法の欄で説明する。

　また、以下の説明では、可撓性支持体Ｗに塗布液を塗布して得られたフィルムを塗膜フィルムＣＦ、塗膜フィルムＣＦにフィルムＦを貼合して得られたフィルムを積層フィルムＬＦ、積層フィルムＬＦの塗膜Ｃに硬化処理を行って光学機能層を得たフィルムを機能性フィルムＦＦということとする。

　（溶存酸素低減装置）
　溶存酸素低減装置１２は、塗布液中の溶存酸素濃度を１０００ｐｐｍ以下に低減できればどのような装置構成でもよいが、例えば、図１に示す装置構成のものを用いることができる。

　図１に示すように、溶存酸素低減装置１２は、主として、窒素ガス置換手段２２と、溶存酸素が低減された塗布液を塗布装置１４に供給する塗布液供給手段２４と、で構成される。

　窒素ガス置換手段２２は、塗布液を貯留する密閉形状のタンク２６と、タンク２６内に塗布液を供給する塗布液配管２８と、タンク２６内に窒素ガスを供給する窒素ガス配管３０と、塗布液を撹拌して塗布液中に窒素ガスを取り込むことにより、塗布液中の溶存酸素を低減する撹拌機３２と、タンク２６内を減圧することにより、タンク２６内の有機溶媒を揮発させる減圧用配管３３と、で構成される。タンク２６にはエアベント管３４が設けられ、塗布液配管２８及び窒素ガス配管３０には開閉バルブ２８Ａ及び３０Ａがそれぞれ設けられる。また、減圧用配管３３は、図示しない真空装置に接続されており、真空装置を稼働することにより、タンク２６内を減圧し、塗布液中の溶存酸素を脱気するとともに、塗布液中に有機溶媒を含有している場合には有機溶媒を蒸発させる。

　塗布液供給手段２４は、タンク２６内の塗布液を塗布装置１４のダイコータ３６に送液する送液配管３８及び送液ポンプ４０と、送液配管３８内に窒素ガスを吹き込んで送液配管３８内及びダイコータ３６内部（マニホールド、スリット）の空気を窒素ガスに置換する窒素ガス吹き込み管４２と、で構成される。

　なお、図１には示さなかったが、窒素ガス置換手段２２を複数並列配置し、塗布液供給手段２４との間で窒素ガス置換手段２２を切り替えて使用できる構成を採用することで、連続塗布を行うことが可能となる。

　（塗布装置）
　図１に示すように、塗布装置１４は、主として、バックアップローラ４４とダイコータ３６とで構成される。

　ダイコータ３６は、ダイブロック４６Ａ、４６Ｂ及び４６Ｃから形成され、塗布幅方向に対して、直交する胴体部３６Ａの断面が四角状であり、先端リップ部３６Ｂの断面が三角状に形成され、塗布幅方向に長尺なブロックで形成される。ダイブロック４６Ａ及び４６Ｂを組み合わせることにより、ダイコータ３６の内部に、ダイコータ３６に供給された塗布液を塗布幅方向に拡流するマニホールド４８と、拡流された塗布液を先端リップ部３６Ｂの吐出口５０Ａから吐出する狭隘なスリット５０（スロットともいう）とが形成される。また、ダイブロック４６Ｂ及び４６Ｃを組み合わせることにより、窒素ガスを塗布幅方向に吐出するためのマニホールド５２とスリット５４が形成される。

　スリット５０の吐出口５０Ａが形成される先端リップ部３６Ｂの先端面には、ランド３７と呼ばれる平坦部が形成され、バックアップローラ４４に巻き掛けられて搬送される可撓性支持体Ｗの搬送方向から見て、スリット上流側のランドを上流側リップランド３６Ｃ、下流側のランドを下流側リップランド３６Ｄと称する（図２参照）。

　（減圧チャンバー）
　ダイコータ３６の先端リップ部３６Ｂの下方（可撓性支持体Ｗの搬送方向から見てダイコータの上流側）には、バックアップローラ４４に対向して減圧チャンバー１５が配置される。

　減圧チャンバー１５は、一対のサイドプレート１５Ａ及び１５Ａと、一対のバックプレート１５Ｂ及び１５Ｂと、ボトムプレート１５Ｃとにより、バックアップローラ４４のローラ面に沿った開口１５Ｄを有する箱体として形成される。そして、サイドプレート１５Ａの上端とバックアップローラに巻き掛けられて搬送される可撓性支持体Ｗとの間、及びバックプレート１５Ｂの上端と可撓性支持体Ｗとの間には、互いに接触しない程度の隙間が形成される。また、減圧チャンバー１５のバックプレート１５Ｂのダイコータ３６側は、ダイコータ３６の三角状に形成された先端リップ部３６Ｂの上流側傾斜面３６Ｅと当接され、窒素ガスが吐出されるスリット５４の位置に開口部１５Ｅを有する。

　減圧チャンバー１５内は、配管５６によりブロア５８（排気手段に相当）に接続して、減圧チャンバー１５内部の空気を連続的に吸引することにより減圧される。配管５６の位置は、ダイコータ３６と反対側の面のバックプレート１５Ｂの面の中央、あるいは、ボトムプレート１５Ｃの面の中央に設けることが好ましい。減圧チャンバー１５とブロア５８との間には、バッファ６０を設けて圧力変動の影響を低減してもよい。また、減圧チャンバー１５とブロア５８との間に、減圧度を調整するバルブを設置してもよいし、ブロアの回転数を制御することで、減圧度を調整してもよい。

　（不活性ガス供給装置）
　不活性ガス供給装置１６は、ダイコータ３６に形成されたマニホールド５２に窒素ガス（不活性ガス）を供給する装置である。窒素ガスは、酸素濃度が調整されていない窒素ガスを供給してもよいが、酸素濃度を調整した窒素ガスを供給することが好ましい。

　窒素ガスの酸素濃度の調整は、窒素ガス中の酸素濃度を所定の濃度以下にすることができればどのような装置構成でもよいが、例えば図１に示す装置構成のものを用いることができる。不活性ガス供給装置１６は、窒素ガスが充填された窒素ボンベ６２、および、空気が充填されたエアーボンベ６４と、混合した窒素ガスと空気をダイコータ３６のマニホールド５２に供給する共通供給配管６６と、を備える。窒素ボンベ６２と共通供給配管６６とは窒素ガス供給配管６８により接続されており、窒素ガスの流量を調節する開閉バルブ６８Ａを備える。また、エアーボンベ６４と共通供給配管６６とは空気供給配管７０により接続されており、空気の流量を調節する開閉バルブ７０Ａを備える。共通供給配管６６には、酸素濃度が調整された窒素ガスの酸素濃度を測定する測定手段７２が設けられており、この測定手段７２の濃度値に基づいて、開閉バルブ６８Ａ及び７０Ａを制御することで、酸素濃度の調整を行うことができる。

　不活性ガスを不活性ガス供給装置１６により減圧チャンバー１５内に供給するとともに、ブロア５８を稼働することで、減圧チャンバー１５内を減圧状態で、不活性ガス雰囲気下とすることができる。これにより、ダイコータ３６のスリット５０から吐出された塗布液は、ランド３７と、バックアップローラ４４に巻き掛けられて搬送される可撓性支持体Ｗとの間に塗布液のビードを形成し、ビードを介して塗布液が可撓性支持体Ｗに塗布される。また、減圧チャンバー１５を設けることにより、ビードが安定した状態で形成され、塗布液が可撓性支持体Ｗに精度良く塗布される。これにより、量子ドットを含有する塗布液の塗膜Ｃが形成された塗膜フィルムＣＦが形成される。

　図３は、塗布装置の塗布部分の拡大図である。図３に示すように、ダイコータ３６のスリット５０から吐出された塗布液は、塗布液のビードを介して可撓性支持体Ｗに塗布され、ビードの周囲は窒素ガス雰囲気とすることができ、酸素との接触を抑制することができる。

　このように、溶存酸素濃度が１０００ｐｐｍ以下の低溶存酸素濃度の塗布液を、マニホールド４８とスリット５０とで構成されるエクストルージョン塗布方式のダイコータ３６に供給し、ビードを介してバックアップローラ４４に巻き掛けされて搬送される可撓性支持体Ｗに塗布するとともに、スリット５０の上流側を不活性ガス雰囲気下とすることで、塗布液と外気（外気中の酸素）との接触機会を小さくできる。

　（貼合装置）
　図１に示すように、貼合装置１８は、バックアップローラ４４上で塗膜フィルムＣＦの塗膜面の側にフィルムＦを貼合する装置である。貼合装置１８は、塗布装置１４と兼用するバックアップローラ４４と、バックアップローラ４４の回転方向から見て塗布装置１４の下流側にバックアップローラ４４に対向配置された貼合ローラ７４と、で構成される。これにより、貼合ローラ７４とバックアップローラ４４とでニップロールを構成する。貼合ローラ７４の位置は、塗膜Ｃと空気中の酸素との接触を抑制するため、ダイコータ３６に近い位置とすることが好ましい。

　図示しない送出機から送出されたフィルムＦは、貼合ローラ７４に巻き掛けられ、貼合ローラ７４とバックアップローラ４４との間に連続搬送され、貼合ローラ７４とバックアップローラ４４とでニップ操作を行うことにより、塗膜フィルムＣＦの塗膜面にフィルムＦを貼り合わせていく。これにより、塗膜Ｃを可撓性支持体ＷとフィルムＦで挟持した積層フィルムＬＦが形成され、塗膜Ｃが酸素などの劣化要因から保護される。

　貼合ローラ７４とバックアップローラ４４とによるニップ圧は、線圧０～３００Ｎ／ｃｍの間でニップして塗膜Ｃの上にフィルムＦを貼り合わせていくことが好ましく、線圧０～２００Ｎ／ｃｍの間でニップすることがより好ましく、線圧０～１００Ｎ／ｃｍの間でニップすることが特に好ましい。中でも、貼合ローラ７４をバックアップローラ４４に近接した近接ローラとし、線圧０Ｎ／ｃｍで貼合されることが好ましい。

　貼合ローラ７４とバックアップローラ４４との距離は、可撓性支持体Ｗと、塗膜Ｃを重合硬化させた光学機能層と、フィルムＦと、の合計厚みの長さ以上で、合計厚みに５ｍｍを加えた長さ以下であることが好ましい。貼合ローラ７４とバックアップローラ４４との距離を合計厚みに５ｍｍを加えた長さ以下にすることにより、フィルムＦと塗膜Ｃとの間に泡が侵入することを抑制することができる。ここで貼合ローラ７４とバックアップローラ４４との距離とは、貼合ローラ７４の外周面とバックアップローラ４４の外周面との最短距離をいう。

　また、可撓性支持体ＷとフィルムＦとで塗膜Ｃを挟持した後の熱変形を抑制するため、バックアップローラ４４の温度と可撓性支持体Ｗの温度との差、及びバックアップローラ４４の温度とフィルムＦの温度との差は３０℃以下であることが好ましく、より好ましくは１５℃以下、最も好ましくは同じである。

　可撓性支持体Ｗが、温度調整されたバックアップローラ４４に巻き掛けられることにより、バックアップローラ４４によって可撓性支持体Ｗを加熱してもよい。一方、フィルムについては、貼合ローラ７４をヒートローラとすることにより、フィルムＦを貼合ローラ７４で加熱することができる。ただし、バックアップローラ４４の温度調整や貼合ローラ７４のヒートローラは必須ではなく、必要に応じて設けることができる。

　このように、可撓性支持体Ｗに塗布形成された塗膜ＣをフィルムＦで貼合することにより、塗膜Ｃが外気に接触する接触機会が少なくなり、量子ドットの性能劣化を低減することができる。

　（硬化装置）
　塗膜フィルムＣＦにフィルムＦを貼合して積層フィルムＬＦを形成した後、活性線照射により塗膜Ｃを重合硬化させて、光学機能層を得ることができる。硬化条件は、使用する硬化性化合物の種類や塗布液の組成に応じて、適宜設定することができる。

　図１に示すように、硬化装置２０は、塗膜面に活性線を照射して塗膜Ｃを硬化することにより光学機能層を得る装置である。硬化装置２０は、塗布装置１４及び貼合装置１８と兼用するバックアップローラ４４と、バックアップローラ４４の回転方向から見て貼合装置１８の下流側にバックアップローラ４４に対向配置された活性線照射装置７６と、で構成される。そして、バックアップローラ４４と活性線照射装置７６との間を、積層フィルムＬＦが連続搬送される。

　活性線照射装置７６により照射される活性線は、塗布液に含まれる硬化性化合物の種類に応じて決定すればよく、一例としては、紫外線が挙げられる。紫外線を発生する光源として、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ＬＥＤ（light emitting diode）、レーザー等を用いることができる。活性線の照射量は塗膜Ｃの重合硬化を進行させ得る範囲に設定すればよく、例えば、一例として１０～１００００ｍＪ／ｃｍ^２の照射量の紫外線を塗膜Ｃに向けて照射することができる。塗膜Ｃへの活性線の照射量は、１０～１０００ｍＪ／ｃｍ^２とすることが好ましく、５０～８００ｍＪ／ｃｍ^２とすることがより好ましい。

　また、活性線照射装置７６の活性線照射雰囲気は窒素パージ等により低酸素雰囲気にすることが好ましい。

　また、バックアップローラ４４の温度は、活性線照射時の発熱と、塗膜Ｃの硬化効率と、積層フィルムＬＦのバックアップローラ４４上でのシワ変形の発生と、を考慮して、決定することができる。バックアップローラ４４は、例えば、１０～９５℃の温度範囲に設定することが好ましく、１５～８５℃であることがより好ましい。ここでバックアップローラに関する温度とは、バックアップローラの表面温度をいうものとする。

　このように、塗布や貼合を行うロールと同じバックアップローラ４４上で硬化を行うことにより、積層フィルムＬＦはバックアップローラ４４に支持された弛みのない状態を維持したままで塗膜面に活性線が照射されて硬化する。これにより、製造される機能性フィルムＦＦの皺発生を低減でき、機能性フィルムＦＦの性能を一層向上できる。

　塗布装置１４、貼合装置１８、及び硬化装置２０をバックアップローラ４４上に配置する場合、バックアップローラの直径は１５０～８００ｍｍの範囲であることが好ましい。

　なお、本実施の形態では、重合処理を活性線照射により行う方法で説明したが、塗布液に含まれる硬化性化合物が加熱により硬化するもの（熱硬化性）である場合には、加熱処理を行う硬化装置を使用することができる。

　また、本実施の形態では、硬化装置２０を塗布装置１４及び貼合装置１８と同じバックアップローラ４４上に配置したが、これに限定するものではない。貼合装置１８により塗膜Ｃが可撓性支持体ＷとフィルムＦとで挟持されて積層フィルムＬＦとなることで、塗膜Ｃは外気（外気の酸素）から保護される。したがって、バックアップローラ４４以降の例えばパスローラ上に硬化装置２０を配置することもできる。

　（不活性ガス供給手段および減圧チャンバーの他の実施形態構成）
　図４は、不活性ガス供給装置および減圧チャンバーの他の実施形態を説明する図である。図４に示す不活性ガス供給装置は、減圧チャンバー２１５に供給する不活性ガスを、減圧チャンバー２１５のサイドプレート２１５Ａに設けている点が、図１及び図２に示す不活性ガス供給手段および減圧チャンバーと異なっている。

　図４に示す不活性ガス供給手段および減圧チャンバーによれば、ダイコータに不活性ガスを供給するマニホールドおよびスリットを形成する必要がないため、ダイコータ２３６は、２つのダイブロック２４６Ａ及び２４６Ｂから構成され、塗布液を吐出するためのマニホールド２４８、スリット２５０及び吐出口２５０Ａが形成されている。

　減圧チャンバー２１５は、一対のサイドプレート２１５Ａ及び２１５Ａと、一対のバックプレート２１５Ｂ及び２１５Ｂと、ボトムプレート２１５Ｃとにより、形成される。減圧チャンバー２１５のサイドプレート２１５Ａには、不活性ガスを供給するための不活性ガス供給口２１５Ｅを備える。不活性ガスを減圧チャンバー２１５のサイドプレート２１５Ａから供給することで、減圧チャンバー２１５内を不活性ガス雰囲気下とすることができる。サイドプレート２１５Ａに設けられる不活性ガス供給口２１５Ｅの位置は、ダイコータ２３６により塗布液が塗布される位置（以下「塗布位置」ともいう）に近い位置に設けることが好ましい。減圧チャンバー２１５と可撓性支持体Ｗとの間には、隙間が形成されており、減圧チャンバー２１５内を減圧にすることで、この隙間から空気が入ることになる。不活性ガス供給口２１５Ｅを塗布位置近傍に設けることで、塗布位置、すなわち、ビードの周囲を不活性ガス雰囲気下とすることができ、空気（空気中の酸素）との接触を抑制することができる。

　また、図４においては、塗布位置近傍に不活性ガス供給口２１５Ｅを設け、バックプレート２１５Ｂに配管５６を設け、空気を吸引する構成で説明したが、供給位置と吸引位置を反対にしてもよい。すなわち、バックプレート２１５Ｂに設けられた配管５６から不活性ガスを供給し、図４に示す不活性ガス供給口２１５Ｅの位置に、気体を吸引する配管を設けてもよい。このような構成としても、バックプレート２１５Ｂに設けられた配管から供給された不活性ガスが、ビードの周囲に流れて不活性ガス雰囲気を形成し、排気されるので、塗布液と酸素との接触を抑制することができる。

　［機能性フィルムの製造方法］
　次に、上記の如く構成された本発明の実施の形態の機能性フィルムの製造装置１０を用い、量子ドットを含有し、且つ、揮発性の有機溶媒を実質的に含まない塗布液で光学機能性層を有する機能性フィルムＦＦを製造する方法を説明する。なお、揮発性の有機溶媒を実質的に含まないとは、塗布液中の揮発性の有機溶媒の割合が１００００ｐｐｍ以下であることを意味する。

　（塗布液調整工程）
　塗布液調整工程では、量子ドット（または量子ロッド）、硬化性化合物、チキソトロピー剤、重合開始剤、および、シランカップリング剤などの各成分をタンクなどにより混合し、機能層形成用塗布液を調整する。

　＜量子ドット、量子ロッド＞
　量子ドットは、数ｎｍ～数十ｎｍの大きさをもつ化合物半導体の微粒子であり、少なくとも、入射する励起光により励起され蛍光を発光する。

　本実施形態の塗布液に含まれる量子ドットとしては、少なくとも一種の量子ドットを含み、発光特性の異なる二種以上の量子ドットを含むこともできる。公知の量子ドットには、６００ｎｍ～６８０ｎｍの範囲の波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ａ）、５００ｎｍ～６００ｎｍの範囲の波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ｂ）、４００ｎｍ～５００ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ｃ）があり、量子ドット（Ａ）は、励起光により励起され赤色光を発光し、量子ドット（Ｂ）は緑色光を、量子ドット（Ｃ）は青色光を発光する。例えば、量子ドット（Ａ）と量子ドット（Ｂ）を含む光学機能層へ励起光として青色光を入射させると、量子ドット（Ａ）により発光される赤色光、量子ドット（Ｂ）により発光される緑色光と、光学機能層を透過した青色光により、白色光を具現化することができる。または、量子ドット（Ａ）、（Ｂ）、および（Ｃ）を含む光学機能層を有する機能性フィルムに励起光として紫外光を入射させることにより、量子ドット（Ａ）により発光される赤色光、量子ドット（Ｂ）により発光される緑色光、および量子ドット（Ｃ）により発光される青色光により、白色光を具現化することができる。

　量子ドットについては、例えば特開２０１２－１６９２７１号公報段落００６０～００６６を参照することができるが、ここに記載のものに限定されるものではない。量子ドットとしては、市販品を何ら制限なく用いることができる。量子ドットの発光波長は、通常、粒子の組成、サイズにより調整することができる。

　量子ドットは、塗布液の全量１００質量部に対して、例えば０．１～１０質量部程度添加することができる。

　量子ドットは、塗布液中に粒子の状態で添加してもよく、有機溶媒に分散した分散液の状態で添加してもよい。分散液の状態で添加することが、量子ドットの粒子の凝集を抑制する観点から好ましい。量子ドットの分散のために使用される有機溶媒は、特に限定されるものではない。

　ただし、塗布装置１４に供給される塗布液中の揮発性の有機溶媒が１００００ｐｐｍ以下の含有率まで、好ましくは１０００ｐｐｍ以下の含有率まで低減されていることが好ましい。

　そのため、量子ドットを有機溶媒に分散した分散液の状態で塗布液に添加した場合には、塗布液を可撓性支持体Ｗ上に塗布する前に、塗布液中の有機溶媒を乾燥させる必要がある。即ち、塗布液を塗布装置１４に供給する時点では、塗布液に有機溶媒を実質的に含まない状態を形成する。

　なお、揮発性の有機溶媒とは、沸点が１６０℃以下の、塗布液中の硬化性化合物と外部刺激により硬化しない化合物であり、２０℃で液状の化合物のことを言う。揮発性の有機溶媒の沸点は、１１５℃以下が更に好ましく、最も好ましくは３０℃以上１００℃以下である。

　塗布液中の有機溶媒の含有率を１００００ｐｐｍ以下とする方法は、塗布液の調整に有機溶媒を使用しない、または、塗布液中の有機溶媒を乾燥させることにより行うことができる。塗布液中の有機溶媒を乾燥させる方法としては、塗布液中の揮発性の有機溶媒の割合を１００００ｐｐｍ以下にできる方法であればどのような方法でもよいが、例えば、図１に示すように、減圧用配管３３でタンク２６内を減圧することで有機溶媒を気散させることができる。また、溶存酸素低減装置１２のタンク２６において、塗布液中の空気（酸素）を窒素ガスで置換する操作で有機溶媒を気散させることができる。この場合、有機溶媒が気散し易いように、タンク２６に加温手段を設けることが好ましい。

　量子ドットに代えて量子ロッドを用いることができる。量子ロッドは、細長い形状の棒状粒子であり、量子ドットと同様の性質を有する。量子ロッドの添加量、塗布液への添加方法などについては、量子ドットと同じ量、同様の方法により行うことができる。また、量子ドットと量子ロッドを組み合わせて用いることもできる。

　＜硬化性化合物＞
　本実施の形態で用いられる硬化性化合物は、重合性基を有するものが広く採用できる。重合性基の種類は、特に限定されないが、好ましくは、（メタ）アクリレート基、ビニル基またはエポキシ基であり、より好ましくは、（メタ）アクリレート基であり、さらに好ましくは、アクリレート基である。また、２つ以上の重合性基を有する重合性単量体は、それぞれの重合性基が同一であってもよいし、異なっていても良い。

　－（メタ）アクリレート系－
　硬化後の硬化被膜の透明性、密着性等の観点からは、単官能または多官能（メタ）アクリレートモノマー等の（メタ）アクリレート化合物や、そのポリマー、プレポリマー等が好ましい。なお本発明及び本明細書において、「（メタ）アクリレート」との記載は、アクリレートとメタクリレートとの少なくとも一方、または、いずれかの意味で用いるものとする。「（メタ）アクリロイル」等も同様である。

　－－２官能のもの－－
　重合性基を２つ有する重合性単量体として、エチレン性不飽和結合含有基を２個有する２官能重合性不飽和単量体を挙げることができる。２官能の重合性不飽和単量体は組成物を低粘度にするのに適している。本実施形態では、反応性に優れ、残存触媒などの問題の無い（メタ）アクリレート系化合物が好ましい。

　特に、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート等が本発明に好適に用いられる。

　２官能（メタ）アクリレートモノマーの使用量は、塗布液に含まれる硬化性化合物の全量１００質量部に対して、塗布液の粘度を好ましい範囲に調整する観点からは、５質量部以上とすることが好ましく、１０～８０質量部とすることがより好ましい。

　－－３官能以上のもの－－
　重合性基を３つ以上有する重合性単量体として、エチレン性不飽和結合含有基を３個以上有する多官能重合性不飽和単量体を挙げることができる。これら多官能の重合性不飽和単量体は機械的強度付与の点で優れる。本実施形態では、反応性に優れ、残存触媒などの問題の無い（メタ）アクリレート系化合物が好ましい。

　具体的には、ＥＣＨ（Epichlorohydrin）変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ＥＯ（ethylene oxide）変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ＰＯ（propylene oxide）変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ＥＯ変性リン酸トリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等が好適である。

　これらの中で特に、ＥＯ変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレートが本発明に好適に用いられる。

　多官能（メタ）アクリレートモノマーの使用量は、塗布液に含まれる硬化性化合物の全量１００質量部に対して、硬化後の光学機能層の塗膜強度の観点からは、５質量部以上とすることが好ましく、塗布液のゲル化抑制の観点からは、９５質量部以下とすることが好ましい。

　－－単官能のもの－－
　単官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、アクリル酸およびメタクリル酸、それらの誘導体、より詳しくは、（メタ）アクリル酸の重合性不飽和結合（（メタ）アクリロイル基）を分子内に１個有するモノマーを挙げることができる。それらの具体例として以下に化合物を挙げるが、本実施形態はこれに限定されるものではない。

　メチル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、ｎ－オクチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート等のアルキル基の炭素数が１～３０であるアルキル（メタ）アクリレート；ベンジル（メタ）アクリレート等のアラルキル基の炭素数が７～２０であるアラルキル（メタ）アクリレート；ブトキシエチル（メタ）アクリレート等のアルコキシアルキル基の炭素数が２～３０であるアルコキシアルキル（メタ）アクリレート；Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート等の（モノアルキル又はジアルキル）アミノアルキル基の総炭素数が１～２０であるアミノアルキル（メタ）アクリレート；ジエチレングリコールエチルエーテルの（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールブチルエーテルの（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールモノメチルエーテルの（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノメチルエーテルの（メタ）アクリレート、オクタエチレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ノナエチレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ヘプタプロピレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールのモノエチルエーテル（メタ）アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が１～１０で末端アルキルエーテルの炭素数が１～１０のポリアルキレングリコールアルキルエーテルの（メタ）アクリレート；ヘキサエチレングリコールフェニルエーテルの（メタ）アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が１～３０で末端アリールエーテルの炭素数が６～２０のポリアルキレングリコールアリールエーテルの（メタ）アクリレート；シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、メチレンオキシド付加シクロデカトリエン（メタ）アクリレート等の脂環構造を有する総炭素数４～３０の（メタ）アクリレート；ヘプタデカフロロデシル（メタ）アクリレート等の総炭素数４～３０のフッ素化アルキル（メタ）アクリレート；２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールのモノ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、オクタプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、グリセロールのモノ又はジ（メタ）アクリレート等の水酸基を有する（メタ）アクリレート；グリシジル（メタ）アクリレート等のグリシジル基を有する（メタ）アクリレート；テトラエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、オクタプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が１～３０のポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート；(メタ)アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチル(メタ)アクリルアミド、N－イソプロピル(メタ)アクリルアミド、２－ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、アクリロイルモルホリン等の(メタ)アクリルアミドなどが挙げられる。

　単官能（メタ）アクリレートモノマーの使用量は、塗布液に含まれる硬化性化合物の全量１００質量部に対して、塗布液の粘度を好ましい範囲に調整する観点からは、１０質量部以上とすることが好ましく、１０～８０質量部とすることがより好ましい。

　－エポキシ系化合物他－
　本実施の形態で用いる重合性単量体として、エポキシ基、オキセタニル基等の開環重合可能な環状エーテル基等の環状基を有する化合物を挙げることができる。そのような化合物としてより好ましくは、エポキシ基を有する化合物（エポキシ化合物）を有する化合物を挙げることができる。エポキシ基やオキセタニル基を有する化合物を、（メタ）アクリレート系化合物と組み合わせて使用することにより、バリア層との密着性が向上する傾向にある。

　エポキシ基を有する化合物としては、例えば、多塩基酸のポリグリシジルエステル類、多価アルコールのポリグリシジルエーテル類、ポリオキシアルキレングリコールのポリグリシジルエーテル類、芳香族ポリオールのポリグリシジルエテーテル類、芳香族ポリオールのポリグリシジルエーテル類の水素添加化合物類、ウレタンポリエポキシ化合物およびエポキシ化ポリブタジエン類等を挙げることができる。これらの化合物は、その一種を単独で使用することもできるし、また、その二種以上を混合して使用することもできる。

　その他に好ましく使用することのできるエポキシ基を有する化合物としては、例えば、脂肪族環状エポキシ化合物、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、１,４－ブタンジオールジグリシジルエーテル、１,６－ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル類；エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリンなどの脂肪族多価アルコールに１種または２種以上のアルキレンオキサイドを付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル類；脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル類；脂肪族高級アルコールのモノグリシジルエーテル類；フェノール、クレゾール、ブチルフェノールまたはこれらにアルキレンオキサイドを付加して得られるポリエーテルアルコールのモノグリシジルエーテル類；高級脂肪酸のグリシジルエステル類などを例示することができる。

　これらの成分の中、脂肪族環状エポキシ化合物、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、１,４－ブタンジオールジグリシジルエーテル、１,６－ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテルが好ましい。

　エポキシ基やオキセタニル基を有する化合物として好適に使用できる市販品としては、ＵＶＲ－６２１６（ユニオンカーバイド社製）、グリシドール、ＡＯＥＸ２４、サイクロマーＡ２００、セロキサイド２０２１Ｐ、セロキサイド８０００（以上、商品名であり、ダイセル化学工業（株）製）、シグマアルドリッチ社製の４－ビニルシクロヘキセンジオキシド、エピコート８２８、エピコート８１２、エピコート１０３１、エピコート８７２、エピコートＣＴ５０８（以上、油化シェル（株）製、エピコートは登録商標）、ＫＲＭ－２４００、ＫＲＭ－２４１０、ＫＲＭ－２４０８、ＫＲＭ－２４９０、ＫＲＭ－２７２０、ＫＲＭ－２７５０（以上、商品名であり、旭電化工業（株）製）などを挙げることができる。これらは、１種単独で、または２種以上組み合わせて用いることができる。

　また、これらのエポキシ基やオキセタニル基を有する化合物はその製法は問わないが、例えば、丸善ＫＫ出版、「第四版実験化学講座２０有機合成ＩＩ」、２１３～、平成４年、Ｅｄ．ｂｙ　Ａｌｆｒｅｄ　Ｈａｓｆｎｅｒ，「Ｔｈｅ　ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ　ＯＦ　ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ　ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ－Ｓｍａｌｌ　Ｒｉｎｇ　Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｅｓ　ｐａｒｔ３　Ｏｘｉｒａｎｅｓ」，Ｊｏｈｎ　＆　Ｗｉｌｅｙ　ａｎｄ　Ｓｏｎｓ, Ａｎ　Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ　Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ，　Ｎｅｗ　Ｙｏｒｋ，１９８５、吉村、「接着」、２９巻１２号、３２、１９８５、吉村、「接着」、３０巻５号、４２、１９８６、吉村、「接着」、３０巻７号、４２、１９８６、特開平１１－１００３７８号公報、特許第２９０６２４５号公報、特許第２９２６２６２号公報などの文献を参考にして合成できる。

　本実施形態で用いる硬化性化合物として、ビニルエーテル化合物を用いてもよい。

　ビニルエーテル化合物は公知のものを適宜選択することができ、例えば、特開２００９－７３０７８号公報の段落番号００５７に記載のものを好ましく採用することができる。

　これらのビニルエーテル化合物は、例えば、Ｓｔｅｐｈｅｎ．Ｃ．Ｌａｐｉｎ，「Ｐｏｌｙｍｅｒｓ　Ｐａｉｎｔ　Ｃｏｌｏｕｒ　Ｊｏｕｒｎａｌ」，１７９（４２３７）、３２１（１９８８）に記載されている方法、即ち多価アルコールもしくは多価フェノールとアセチレンとの反応、または多価アルコールもしくは多価フェノールとハロゲン化アルキルビニルエーテルとの反応により合成することができ、これらは１種単独あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。

　本実施の形態の塗布液には、低粘度化、高硬度化の観点から特開２００９－７３０７８号公報に記載の反応性基を有するシルセスキオキサン化合物を用いることも可能である。

　＜チキソトロピー剤＞
　チキソトロピー剤は、無機化合物または有機化合物である。

　－無機物－
　チキソトロピー剤の好ましい１つの態様は無機物のチキソトロピー剤であり、例えば針状化合物、鎖状化合物、扁平状化合物、層状化合物を好ましく用いることができる。なかでも、層状化合物であることが好ましい。

　層状化合物としては特に制限はないが、タルク、雲母、長石、カオリナイト（カオリンクレー）、パイロフィライト（ろう石クレー）、セリサイト（絹雲母）、ベントナイト、スメクタイト・バーミキュライト類（モンモリロナイト、バイデライト、ノントロナイト、サポナイトなど）、有機ベントナイト、有機スメクタイトなどが挙げられる。

　これらを単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。市販されている層状化合物としては、例えば、無機化合物としては、クラウンクレー、バーゲスクレー＃６０、バーゲスクレーＫＦ、オプチホワイト（以上、商品名であり、白石工業（株）製）、カオリンＪＰ－１００、ＮＮカオリンクレー、ＳＴカオリンクレー、ハードシル（以上、商品名であり、土屋カオリン工業（株）製）、ＡＳＰ－０７２、サテントンプラス、トランスリンク３７、ハイドラスデラミＮＣＤ（以上、商品名であり、エンジェルハード（株）製）、ＳＹカオリン、ＯＳクレー、ＨＡクレー、ＭＣハードクレー（以上、商品名であり、丸尾カルシウム（株）製）、ルーセンタイトＳＷＮ、ルーセンタイトＳＡＮ、ルーセンタイトＳＴＮ、ルーセンタイトＳＥＮ、ルーセンタイトＳＰＮ（以上、商品名であり、コープケミカル社製）、スメクトン（商品名、クニミネ工業社製）、ベンゲル、ベンゲルＦＷ、エスベン、エスベン７４、オルガナイト、オルガナイトＴ（以上、商品名であり、ホージュン（株）製）、穂高印、オルベン、２５０Ｍ、ベントン３４、ベントン３８（以上、商品名であり、ウイルバー・エリス社製）、ラポナイト、ラポナイトＲＤ、ラポナイトＲＤＳ（以上、商品名であり、日本シリカ工業（株）製）などが挙げられる。これら化合物は溶媒に分散されていてもかまわない。

　塗布液に添加するチキソトロピー剤においては、層状無機化合物の中でも、ｘＭ（Ｉ）_２Ｏ・ｙＳｉＯ_２で表される珪酸塩化合物（酸化数が２，３であるＭ（ＩＩ）Ｏ、Ｍ（ＩＩＩ）_２Ｏ_３に相当するものもある。ｘ、ｙは正の数を表す）であり、更に好ましい化合物としてはヘクトライト、ベントナイト、スメクタイト、バーミキュライトなどの膨潤性層状粘土鉱物である。

　特に好ましくは、有機カチオンで修飾された層状（粘土）化合物（珪酸塩化合物のナトリウムなどの層間陽イオンを有機カチオン化合物で交換したもの）が好適に使用でき、例えば、珪酸ナトリウム・マグネシウム（ヘクトライト）のナトリウムイオンを次のようなアンモニウムイオンで交換したものが挙げられる。

　アンモニウムイオンの例としては、炭素数６から１８のアルキル鎖を有するモノアルキルトリメチルアンモニウムイオン、ジアルキルジメチルアンモニウムイオン、トリアルキルメチルアンモニウムイオン、オキシエチレン鎖が４から１８であるジポリオキシエチレンヤシ油アルキルメチルアンモニウムイオン、ビス（２－ヒドロキシエチル）ヤシ油アルキルメチルアンモニウムイオン、オキソプロピレン鎖が４から２５であるポリオキシプロピレンメチルジエチルアンモニウムイオンなどが挙げられる。これらアンモニウムイオンは単独でまたは２種類以上を組み合わせて使用することができる。

　珪酸ナトリウム・マグネシウムのナトリウムイオンをアンモニウムイオンで交換した有機カチオンで修飾珪酸塩鉱物を製造する方法としては、珪酸ナトリウム・マグネシウムを水に分散させ十分撹拌した後、１６時間以上放置し、４質量％の分散液を調整する。この分散液を撹拌しながら、所望のアンモニウム塩を珪酸ナトリウム・マグネシウムに対して３０質量％～２００質量％添加する。添加後、陽イオン交換が起こり、層間にアンモニウム塩を含んだヘクトライトは水に不溶となり沈殿するので、沈殿を濾取し、乾燥することで得られる。調製の際、分散を速めるために加熱してもよい。

　アルキルアンモニウム変性珪酸塩鉱物の市販品としては、ルーセンタイトＳＡＮ、ルーセンタイトＳＡＮ－３１６、ルーセンタイトＳＴＮ、ルーセンタイトＳＥＮ、ルーセンタイトＳＰＮ（以上、商品名であり、コープケミカル社製）などが挙げられ、単独又は２種以上を組み合わせて用いることができる。

　本実施の形態においては、無機物のチキソトロピー剤として、シリカ、アルミナ、窒化珪素、二酸化チタン、炭酸カルシウム、酸化亜鉛などを用いることができる。これらの化合物は必要に応じて、表面に親水性又は疎水性を調節する処理を行うこともできる。

　－有機物－
　チキソトロピー剤は、有機物のチキソトロピー剤を用いることができる。

　有機物のチキソトロピー剤としては、酸化ポリオレフィン、変性ウレア等が挙げられる。

　前述の酸化ポリオレフィンは、自家調製してもよいし、市販品を用いてもよい。市販品としては、例えば、ディスパロン４２００－２０（商品名、楠本化成（株）製）、フローノンＳＡ３００（商品名、共栄社化学（株）製）等があげられる。

　前述の変性ウレアは、イソシアネート単量体あるいはそのアダクト体と有機アミンとの反応物である。前述の変性ウレアは、自家調製してもよいし、市販品を用いてもよい。市販品としては、例えば、ＢＹＫ４１０（ビッグケミー社製）等があげられる。

　－含有量－
　チキソトロピー剤の含有量は、塗布液中、硬化性化合物１００質量部に対して０．１５～２０質量部であることが好ましく、０．２～１０質量部であることがより好ましく、０．２～８質量部であることが特に好ましい。特に無機物のチキソトロピー剤の場合、硬化性化合物１００質量部に対して２０質量以下であると、脆性が良化方向にある。

　＜重合開始剤＞
　上記塗布液は、重合開始剤としては、公知の重合開始剤を含むことができる。重合開始剤については、例えば、特開２０１３－０４３３８２号公報段落００３７を参照できる。重合開始剤は、塗布液に含まれる硬化性化合物の全量の０．１モル％以上であることが好ましく、０．５～２モル％であることがより好ましい。また、揮発性有機溶媒を除いた全硬化性組成物中に質量％として、０．１質量％～１０質量％含むことが好ましく、更に好ましくは０．２質量％～８質量％である。

　＜シランカップリング剤＞
　シランカップリング剤を含む塗布液から形成される光学機能層は、シランカップリング剤により隣接する層との密着性が強固なものとなるため、優れた耐久性を示すことができる。また、シランカップリング剤を含む塗布液から形成される光学機能層は、密着力条件の可撓性支持体とバリア層の密着力Ａ＜光学機能層とバリア層との密着力Ｂの関係を形成する上でも好ましい。これは主に、光学機能層に含まれるシランカップリング剤が、加水分解反応や縮合反応により、隣接する層の表面やこの光学機能層の構成成分と共有結合を形成することによるものである。また、シランカップリング剤がラジカル重合性基等の反応性官能基を有する場合、光学機能層を構成するモノマー成分と架橋構造を形成することも、光学機能層と隣接する層との密着性向上に寄与し得る。

　シランカップリング剤としては、公知のシランカップリング剤を、何ら制限なく使用することができる。密着性の観点から好ましいシランカップリング剤としては、特開２０１３－４３３８２号公報に記載の下記一般式（１）で表されるシランカップリング剤を挙げることができる。

（一般式（１）中、Ｒ_１～Ｒ_６は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換のアルキル基またはアリール基である。但し、Ｒ_１～Ｒ_６のうち少なくとも１つは、ラジカル重合性の炭素－炭素二重結合を含む置換基である。）
　Ｒ_１～Ｒ_６は、それぞれ独立に置換または無置換のアルキル基またはアリール基である。Ｒ_１～Ｒ_６は、ラジカル重合性の炭素－炭素二重結合を含む置換基である場合を除き、無置換のアルキル基または無置換のアリール基が好ましい。アルキル基としては炭素数１～６のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。アリール基としては、フェニル基が好ましい。Ｒ_１～Ｒ_６は、メチル基が特に好ましい。

　Ｒ_１～Ｒ_６のうち少なくとも１つは、ラジカル重合性の炭素－炭素二重結合を含む置換基を有し、Ｒ_１～Ｒ_６の２つがラジカル重合性の炭素－炭素二重結合を含む置換基であることが好ましい。さらに、Ｒ_１～Ｒ_３の中で、ラジカル重合性の炭素－炭素二重結合を含む置換基を有するものの数が１であって、Ｒ_４～Ｒ_６のなかでラジカル重合性の炭素－炭素二重結合を含む置換基を有するものの数が１であることが特に好ましい。

　一般式（１）で表されるシランカップリング剤が２つ以上のラジカル重合性の炭素－炭素二重結合を含む置換基は、それぞれの置換基は同じであってもよいし、異なっていてもよく、同じであることが好ましい。

　ラジカル重合性の炭素－炭素二重結合を含む置換基は、－Ｘ－Ｙで表されることが好ましい。ここで、Ｘは、単結合、炭素数１～６のアルキレン基、アリーレン基であり、好ましくは、単結合、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、フェニレン基である。Ｙは、ラジカル重合性の炭素－炭素二重結合基であり、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、アクリロイルアミノ基、メタクリロイルアミノ基、ビニル基、プロペニル基、ビニルオキシ基、ビニルスルホニル基が好ましく、（メタ）アクリロイルオキシ基がより好ましい。

　また、Ｒ_１～Ｒ_６はラジカル重合性の炭素－炭素二重結合を含む置換基以外の置換基を有してもよい。置換基の例としては、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－デシル基、ｎ－ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基等）、ハロゲン原子（例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）、アシル基（例えば、アセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェニルオキシカルボニル基等）、スルホニル基（例えば、メタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基等）、等が挙げられる。

　シランカップリング剤は、隣接層との密着性をより一層向上する観点からは、塗布液中に、１～３０質量％の範囲で含まれることが好ましく、より好ましくは３～３０質量％であり、さらに好ましくは５～２５質量％である。

　（溶存酸素低減工程）
　塗布液調製工程で調製された塗布液は、次に溶存酸素低減装置１２により、塗布液中の溶存酸素濃度が１０００ｐｐｍ以下になるように調整される。なお、塗布液調製工程で調製された塗布液の溶存酸素濃度が１０００ｐｐｍ以下であれば、溶存酸素低減工程を省略することができ、また溶存酸素低減工程によりさらに溶存酸素濃度を下げることもできる。

　溶存酸素低減工程では、塗布液調製工程で調製された塗布液をタンク２６内に供給する。この場合、塗布液をタンク２６内に供給する前に、窒素ガス配管３０から窒素ガスをタンク２６内に供給して予めタンク２６内の空気を窒素ガスに置換してくことが好ましい。

　そして、窒素ガス配管３０から窒素ガスをタンク２６内に供給しながら撹拌機３２でタンク２６内の塗布液を撹拌し、塗布液中に溶存する溶存酸素を窒素ガスに変換する。これにより、塗布液中に溶存する溶存酸素を好ましくは１０００ｐｐｍ以下、さらに好ましくは５００ｐｐｍ以下、特に好ましくは１００ｐｐｍ以下に低減する。

　塗布液中の溶存酸素濃度が１０００ｐｐｍ以下になったかは、タンク２６から塗布液を外気に触れないようにサンプリングして図示しない溶存酸素計で測定することができる。また、図示しなかったが、タンク２６に測定用のバイパス配管を取り付けて、バイパス配管に溶存酸素計を取り付けることにより、塗布液中の溶存酸素を自動的に測定してもよい。

　なお、量子ドットの分散液として揮発性の有機溶媒を使用した場合には、窒素ガス置換の撹拌操作、および、減圧用配管３３に接続された真空装置を稼働することにより、有機溶媒の割合が好ましくは１００００ｐｐｍ以下、さらに好ましくは１０００ｐｐｍ以下になるようにする。

　次に、送液ポンプ４０を稼働して、タンク２６内の塗布液をダイコータ３６のマニホールド４８に送液する。この場合、溶存酸素低減装置１２で溶存酸素が低減された塗布液を塗布装置１４のダイコータ３６に送液する前に、窒素ガス吹き込み管４２から送液配管３８内に窒素ガスを吹き込むことが好ましい。これにより、送液配管３８内、及びダイコータ３６の内部（マニホールド４８、スリット５０）の空気を窒素ガスで予め置換することができる。

　したがって、溶存酸素低減工程で塗布液中の溶存酸素を１０００ｐｐｍ以下にした状態を維持したままで塗布液をダイコータ３６に供給することができる。

　（塗布工程）
　次に、塗布工程では、ダイコータ３６のマニホールド４８に供給された塗布液を、バックアップローラ４４に巻き掛けられて搬送される可撓性支持体Ｗに塗布して塗膜フィルムＣＦを形成する。

　即ち、マニホールド４８に供給された塗布液は、マニホールド４８によって塗布幅方向に拡流された後、スリット５０を流れてスリット吐出口５０Ａから搬送される可撓性支持体Ｗに向けて吐出される。これにより、ダイコータ３６のランド３７と可撓性支持体Ｗとのクリアランスに塗布液のビードが形成される。

　可撓性支持体Ｗとは、可撓性を有する帯状の支持体であって、例えば可視光に対して透明である透明支持体であることが好ましく、易接着層付きポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムである東洋紡（株）製　コスモシャインＡ４１００（商品名）などを用いることができる。

　ここで可視光に対して透明とは、可視光領域における線透過率が、８０％以上、好ましくは８５％以上であることをいう。透明の尺度として用いられる光線透過率は、ＪＩＳ－Ｋ７１０５（JIS: Japan Industrial Standards）に記載された方法、すなわち積分球式光線透過率測定装置を用いて全光線透過率および散乱光量を測定し、全光線透過率から拡散透過率を引いて算出することができる。可撓性支持体については、特開２００７－２９０３６９号公報段落００４６～００５２、特開２００５－０９６１０８号公報段落００４０～００５５を参照できる。可撓性支持体の厚さは、ガスバリア性、耐衝撃性等の観点から、１０～５００μｍの範囲内、中でも１５～１００μｍの範囲内、更には２５～６０μｍであることが好ましい。

　また、使用する可撓性支持体Ｗは、酸素に対するバリア性に優れたガスバリアフィルムであることが好ましく、ガスバリアフィルムの形成については後述のガスバリアフィルム形成装置の欄で詳しく説明する。

　なお、図４に示す２つのダイブロック２４６Ａ及び２４６Ｂから構成されるダイコータ２３６においても、同様の方法により、溶存酸素低減工程及び塗布工程を行うことができ、マニホールド２４８及びスリット２５０を介して、塗布液を可撓性支持体に塗布することができる。

　（不活性ガス供給工程）
　不活性ガス供給工程においては、図１及び図２に示すダイブロック方式の不活性ガス供給装置１６により、あるいは、図４に示す減圧チャンバー２１５のサイドプレート２１５Ａに設けられた不活性ガス供給口２１５Ｅから不活性ガスを供給するとともに、減圧チャンバー１５及び２１５内をブロアで吸引することにより減圧チャンバー内が減圧される。

　減圧チャンバー１５及び２１５内を減圧することで、安定なビードが形成され、ビードを介して塗布液を可撓性支持体Ｗに精度良く塗布することができる。

　ダイブロック方式の不活性ガス供給手段は、ダイコータ３６のマニホールド５２に不活性ガスを供給し、スリット５４から可撓性支持体Ｗに向けて幅方向に不活性ガスを吐出する。吐出された不活性ガスは、ビード付近に吐出されることで、ビード近傍のガス雰囲気を不活性ガス雰囲気とすることができる。また、減圧チャンバー１５内を吸引しているため、ビードを安定させることができる。不活性ガスを供給しながら減圧チャンバー１５内を減圧するため、減圧チャンバー１５からの不活性ガスの排気量（吸引量）を不活性ガスの供給量より多くすることが好ましい。不活性ガスの供給量は、開閉バルブ６８Ａ及び７０Ａを調節することにより行うことができ、不活性ガスの排気量はブロア５８により行うことができる。

　減圧チャンバー１５内の減圧度としては、１０Ｐａ以上とすることが好ましい。ここで、減圧度とは、大気圧との差を意味する。塗布ビードを安定させるためには、減圧度を１０Ｐａ以上とすることで十分である。また、減圧度が高くなると可撓性支持体Ｗと減圧チャンバー１５との間の隙間から、空気が入り込みやすくなり、減圧チャンバー内の酸素濃度が安定しなくなるため好ましくない。減圧度の上限としては２０００Ｐａ以下とすることが好ましい。

　不活性ガスは、酸素濃度が５０００ｐｐｍ未満に調整された不活性ガスを用いることが好ましい。酸素濃度が調整された不活性ガスを用いることで、減圧チャンバー内の酸素濃度を安定させることができ、製造される機能性フィルムの性能を安定させることができる。調整された不活性ガスの酸素濃度は、３０００ｐｐｍ以下とすることが好ましく、１０００ｐｐｍ以下とすることがより好ましい。不活性ガス中の酸素濃度の調整は、不活性ガスと酸素とを混合した気体の濃度を測定手段７２により測定し、この測定値に基づいて、開閉バルブ６８Ａ及び７０Ａを調節することで行うことができる。

　減圧チャンバー１５への不活性ガスの供給量は、１００Ｌ／ｍｉｎ／ｍ以上１００００Ｌ／ｍｉｎ／ｍ以下とすることが好ましい。なお、不活性ガスの供給量の単位の「ｍ」は、減圧チャンバーの幅１ｍ当たりを意味する。

　また、図４に示す減圧チャンバー２１５のサイドプレート２１５Ａから不活性ガスを供給する場合においても同様の条件で行うことができる。

　（貼合工程）
　次に、貼合工程では、貼合ローラ７４に巻き掛けられて搬送されるフィルムＦと、バックアップローラ４４に巻き掛けられて搬送される塗膜フィルムＣＦとを、貼合ローラ７４とバックアップローラ４４とで挟み込んでニップすることにより、塗膜フィルムＣＦの塗膜面の側にフィルムＦを貼合（ラミネート）する。

　これにより、可撓性ローラ支持体ＷとフィルムＦとで塗膜Ｃを挟んだ３層構造の積層フィルムＬＦが形成されるので、塗膜Ｃと外気（外気中の酸素）との接触機会を小さくできる。これにより、塗膜中に含まれる量子ドットが酸素により性能劣化することを抑制できる。

　また、貼合に使用するフィルムＦは、可撓性支持体Ｗの場合と同様に酸素に対するバリア性に優れたガスバリアフィルムであることが好ましい。ガスバリアフィルムについては、後述する。

　（硬化工程）
　硬化工程では、可撓性支持体ＷとフィルムＦとにより塗膜Ｃを挟持した積層フィルムＬＦをバックアップローラ４４上で連続搬送しながら活性線照射装置７６から活性線照射を行い、塗膜Ｃを硬化させて光学機能層を形成する。また、硬化工程をバックアップローラ４４上で行うので、製造された機能性フィルムＦＦの皺発生を低減できる。

　以上の工程により、機能性フィルムＦＦを得ることができる。得られた機能性フィルムＦＦは、剥離ローラ７８によりバックアップローラ４４から剥離された後、図示しない巻取機に連続搬送され、ロール状に巻き取られる。

　ところで、酸素により性能劣化する素材によって酸素に対する劣化容易性が異なるので、本発明の機能性フィルムの製造方法において、塗布液を塗布する可撓性支持体Ｗ及び塗膜Ｃに貼合するフィルムＦを、酸素に対してバリア性を有するバリア層が形成されたガスバリアフィルムに限定するものではない。

　しかし、酸素により性能劣化する素材が本実施の形態の量子ドットの場合には、塗布液を塗布する可撓性支持体Ｗ及び塗膜Ｃに貼合するフィルムＦの少なくとも一方のフィルムとして、ガスバリアフィルムを使用することが好ましい。

　バリア層は少なくとも無機層を含んでいればよく、ガスバリアフィルムを形成する支持体上に少なくとも無機層１層と少なくとも１層の有機層を含むものであってもよい。このように複数の層を積層することは、より一層バリア性を高めることができるため、耐光性向上の観点からは好ましい。他方、積層する層の数が増えるほど、光学機能層の光透過率は低下する傾向があるため、良好な光透過率を維持し得る範囲で、積層数を増やすことが望ましい。

　具体的には、バリア層は、可視光領域における全光線透過率が好ましくは８０％以上であり、かつ、酸素透過度が１．００ｃｍ³／（ｍ²・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であることが好ましい。全光線透過率とは、可視光領域にわたる光透過率の平均値を示す。

　バリア層の酸素透過度は、より好ましくは０．１ｃｍ³／（ｍ²・ｄａｙ・ａｔｍ）以下、特に好ましくは０．０１ｃｍ³／（ｍ²・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であり、より特に好ましいのは０．００１ｃｍ³／（ｍ²・ｄａｙ・ａｔｍ）以下である。ここで、上記酸素透過率は、測定温度２３℃、相対湿度９０％の条件下で、酸素ガス透過率測定装置（ＭＯＣＯＮ社製、ＯＸ－ＴＲＡＮ　２／２０：商品名）を用いて測定した値である。また、可視光領域とは、３８０～７８０ｎｍの波長帯域をいうものとし、全光線透過率とは、光学機能層の光吸収および反射の寄与を除いた光透過率の平均値を示す。

　可視光領域における全光線透過率は、より好ましくは９０％以上である。酸素透過率は低いほど好ましく、可視光領域における全光線透過率は高いほど好ましい。

　－無機層－
　無機層とは、無機材料を主成分とする層であり、好ましくは無機材料のみから形成される層である。

　無機層は酸素を遮断するガスバリア機能を有する層であることが好ましい。具体的には、無機層の酸素透過度は、１．００ｃｍ³／（ｍ²・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であることが好ましい。無機層の酸素透過係数はオービスフェアラボラトリー社製型酸素濃度計の検出部に波長変換層を、シリコングリスを介して貼付し、平衡酸素濃度値から酸素透過係数を換算して求めることができる。無機層は、水蒸気を遮断する機能を有することも好ましい。

　無機層は、バリア層中に２つまたは３つ以上含まれていてもよい。

　無機層を構成する無機材料としては、特に限定されるものではなく、例えば、金属、または無機酸化物、窒化物、酸化窒化物等の各種無機化合物を用いることができる。無機材料を構成する元素としては、ケイ素、アルミニウム、マグネシウム、チタン、スズ、インジウムおよびセリウムが好ましく、これらを一種または二種以上含んでいてもよい。無機化合物の具体例としては、酸化ケイ素、酸化窒化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化インジウム合金、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、窒化チタンを挙げることができる。また、無機層として、金属膜、例えば、アルミニウム膜、銀膜、錫膜、クロム膜、ニッケル膜、又はチタン膜を設けてもよい。

　上記の材料の中でも、上記バリア性を有する無機層が窒化珪素、酸化窒化珪素、酸化珪素、酸化アルミニウムから選ばれる少なくとも一種の化合物を含む無機層であることが特に好ましい。これらの材料からなる無機層は、有機層との密着性が良好であることから、無機層にピンホールがある場合でも、有機層がピンホールを効果的に埋めることができ、破断を抑制できるとともに、更に無機層を積層したケースにおいても極めて良好な無機層膜形成ができ、バリア性をより一層高くすることができるからである。

　無機層の形成方法としては、特に限定されず、例えば成膜材料を蒸発ないし飛散させ被蒸着面に堆積させることができる各種成膜方法を用いることができる。

　無機層の形成方法の例としては、無機酸化物、無機窒化物、無機酸化窒化物、金属等の無機材料を、加熱して蒸着させる真空蒸着法；無機材料を原料として用い、酸素ガスを導入することにより酸化させて、蒸着させる酸化反応蒸着法；無機材料をターゲット原料として用い、アルゴンガス、酸素ガスを導入して、スパッタリングすることにより、蒸着させるスパッタリング法；無機材料にプラズマガンで発生させたプラズマビームにより加熱させて、蒸着させるイオンプレーティング法等の物理気相成長法（Ｐｈｙｓｉｃａｌ　Ｖａｐｏｒ　Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法）；酸化ケイ素又は窒化ケイ素の蒸着膜を成膜させる場合は、有機ケイ素化合物を原料とするプラズマ化学気相成長法（Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｖａｐｏｒ　Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法）等が挙げられる。蒸着は、支持体、基材フィルム、波長変換層、有機層などを基材としてその表面に行えばよい。

　酸化ケイ素膜は、有機ケイ素化合物を原料として、低温プラズマ化学気相成長法を用いて形成することが好ましい。この有機ケイ素化合物としては、具体的には、１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、ビニルトリメチルシラン、ヘキサメチルジシラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシラン、ビニルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、オクタメチルシクロテトラシロキサン等が挙げられる。また、上記有機ケイ素化合物の中でも、テトラメトキシシラン（ＴＭＯＳ）、ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）を用いることが好ましい。これらは、取り扱い性や蒸着膜の特性に優れるからである。

　無機層の厚さは、１ｎｍ～５００ｎｍであればよく、５ｎｍ～３００ｎｍであることが好ましく、特に１０ｎｍ～１５０ｎｍのであることが好ましい。隣接無機層の膜厚が、上述した範囲内であることにより、良好なバリア性を実現しつつ、無機層における反射を抑制することができ、光透過率がより高い積層フィルムを提供することができるからである。

　機能性フィルムＬＦにおいて、光学機能層に隣接している無機層が少なくとも一層含まれていることが好ましい。光学機能層の両面に無機層が直接接していることも好ましい。

　－有機層－
　有機層とは、有機材料を主成分とする層であって、好ましくは有機材料が５０質量％以上、更には８０質量％以上、特に９０質量％以上を占める層を言うものとする。

　有機層としては、特開２００７－２９０３６９号公報段落００２０～００４２、特開２００５－０９６１０８号公報段落００７４～０１０５を参照できる。なお有機層は、上記の密着力条件を満足する範囲内でカルドポリマーを含むことが好ましい。これにより、有機層と隣接する層との密着性、特に、無機層とも密着性が良好になり、より一層優れたガスバリア性を実現することができるからである。カルドポリマーの詳細については、上述の特開２００５－０９６１０８号公報段落００８５～００９５を参照できる。有機層の膜厚は、０．０５μｍ～１０μｍの範囲内であることが好ましく、中でも０．５～１０μｍの範囲内であることが好ましい。有機層がウェットコーティング法により形成される場合には、有機層の膜厚は、０．５～１０μｍの範囲内、中でも１μｍ～５μｍの範囲内であることが好ましい。また、ドライコーティング法により形成される場合には、０．０５μｍ～５μｍの範囲内、中でも０．０５μｍ～１μｍの範囲内であることが好ましい。ウェットコーティング法またはドライコーティング法により形成される有機層の膜厚が上述した範囲内であることにより、無機層との密着性をより良好なものとすることができるからである。

　無機層、有機層のその他詳細については、上述の特開２００７－２９０３６９号公報、特開２００５－０９６１０８号公報、更にＵＳ２０１２／０１１３６７２Ａ１の記載を参照できる。

　以下に実施例を挙げ、本発明を詳細に説明する。ただし、本発明はこの実施例に限定されるものでなく、以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順などは、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。

　［実施例１］
　（機能性フィルムの作成）
　光学機能層を形成する塗布液として量子ドットを含む光学機能層形成用塗布液(以下、塗布液という)を使用し、可撓性支持体Ｗ及びフィルムＦとしてガスバリアフィルムを使用した。また、減圧チャンバー１５に供給する不活性ガスは、ダイコータ３６に設けられたスリット５４から供給した。

　《可撓性支持体の作製》
　＜支持体＞
　一方面にのみ易接着層が下塗りされているポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム、東洋紡社製、商品名：コスモシャインＡ４３００、厚さ５０μｍｍ、幅１０００ｍｍ、長さ１００ｍ）を用いた。

　＜有機層の形成＞
　上記の支持体に、有機層の形成を行った。まず、有機層形成用塗布液の調整を行った。有機層形成用塗布液は、ＴＭＰＴＡ（トリメチロールプロパントリアクリレート、ダイセルサイテック社製）及び光重合開始剤（ランベルティ社製、ＥＳＡＣＵＲＥＫＴＯ４６）を用意し、ＴＭＰＴＡ：光重合開始剤の重量比率が、９５：５となるように、秤量し、これらをメチルエチルケトンに溶解させ、固形分濃度１５％とした。

　この有機層形成用塗布液を、ダイコータを用いて、ロール・トゥ・ロール（roll to roll）方式により支持体であるＰＥＴフィルムの易接着面とは反対側の平滑面に塗布した。塗布後のＰＥＴフィルムを５０℃の乾燥ゾーンを３分間通過させた後、紫外線を照射し（積算照射量約６００ｍＪ／ｃｍ^２）、ＵＶ硬化により硬化させた。また、ＵＶ硬化直後のパスロールにて保護フィルムのポリエチレンフィルム（ＰＥフィルム、サンエー化研製、商品名：ＰＡＣ２－３０－Ｔ）を可撓性支持体Ｗに貼り付けてから、搬送し、その後、巻き取った。支持体上に形成された有機層の厚みは１μｍであった。

　＜無機層の形成＞
　次に、ロール・トゥ・ロール方式のＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）装置を用いて、支持体に形成した有機層の表面に無機層（窒化ケイ素（ＳｉＮ）層）を形成した。送出機より有機層が形成された支持体を送り出し、無機層の成膜前の最後の膜面タッチロール通過後に保護フィルムを剥離し、暴露された有機層の上に無機層を形成した。無機層の形成には、原料ガスとして、シランガス（流量１６０ｓｃｃｍ）、アンモニアガス（流量３７０ｓｃｃｍ）、水素ガス（流量５９０ｓｃｃｍ）、および窒素ガス（流量２４０ｓｃｃｍ）を用いた。電源として、周波数１３．５６ＭＨｚの高周波電源を用いてＳｉＮ層を形成した。製膜圧力は４０Ｐａ、到達膜厚は５０ｎｍであった。

　このようにして有機層の上に無機層を形成し、形成後の膜面タッチロール部にて、保護ＰＥフィルムを貼り付け、無機膜がパスロールに触れることなく搬送した後、巻き取った。これにより、塗布液を塗布するための可撓性支持体Ｗを作製した。

　（塗布液調整工程）
　＜塗布液の組成＞
　下記の組成の量子ドット分散液を調整し、塗布液とした。
・量子ドット１のトルエン分散液（発光極大：５２０ｎｍ）１０質量部
・量子ドット２のトルエン分散液（発光極大：６３０ｎｍ）　１質量部
・ラウリルメタクリレート　　　　　　　　　　　　２．４質量部
・トリメチロールプロパントリアクリレート　　　　０．５４質量部
・光重合開始剤　　　　　　　　　　　　　　　　　０．００９質量部
　（イルガキュア８１９（登録商標）（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製））
　量子ドット１、２としては、下記のコアーシェル構造（ＩｎＰ／ＺｎＳ）を有するナノ結晶を用いた。

　・量子ドット１：ＩＮＰ５３０－１０（ＮＮ－ｌａｂｓ社製）
　・量子ドット２：ＩＮＰ６２０－１０（ＮＮ－ｌａｂｓ社製）
　（溶剤揮発および溶存酸素低減工程）
　塗布液調整工程により得られた塗布液を、タンク２６内に供給し、窒素ガスをタンク２６に供給しながら撹拌機３２で塗布液を撹拌し、塗布液中の溶存酸素を窒素ガスに置換することで、塗布液中の溶存酸素を１０００ｐｐｍ以下になるようにした。そして、タンク２６内を減圧用配管３３により減圧することで、塗布液中のトルエンを揮発させた。塗布液中のトルエンの濃度は、１１０００ｐｐｍであった。その後、塗布液をダイコータ３６のマニホールド４８に供給した。溶媒揮発後の塗布液の粘度は５０ｍＰａ・ｓであった。

　（塗布工程）
　ダイコータ３６のスリット５０から塗布液を吐出して、バックアップローラ４４に巻き掛けられて搬送される可撓性支持体Ｗ（保護ＰＥ（polyethylene）フィルムを剥がしたもの）の無機層上に塗布液を連続塗布した。これにより、塗膜フィルムＣＦを形成した。なお、ダイコータ３６のランド３７と、バックアップローラ４４との隙間は２００μｍとし、ダイブロック幅が１０００ｍｍのダイコータを用いて塗布した。

　（不活性ガス供給工程）
　ダイコータ３６に設けられたスリット５４から窒素ガスを１０００Ｌ／ｍｉｎ/ｍの供給量で減圧チャンバー１５内および可撓性支持体Ｗに向けて吐出した。また、減圧チャンバー１５内の空気をブロア５８で排気した。減圧チャンバー１５からの気体の排気量は１０３０Ｌ／ｍｉｎ/ｍとした。減圧チャンバー１５内の減圧度は２Ｐａであった。また、減圧チャンバー内の酸素濃度の調整は、減圧チャンバー１５内の酸素濃度の目標値を１０００ｐｐｍとし、供給する不活性ガスと、減圧チャンバー１５と可撓性支持体Ｗの間の隙間から吸引する空気と、で混合することにより行った（調整なし）。

　（貼合工程）
　バックアップローラ４４上で塗膜フィルムＣＦの塗膜面の側とフィルムＦとを貼合した。即ち、バックアップローラ４４に巻き掛けられて搬送される塗膜フィルムＣＦの塗膜面に、貼合ローラ７４に巻き掛けられて搬送するフィルムＦを貼合した。

　（硬化工程）
　バックアップローラ４４上に配置した硬化装置２０を用いた。即ち、窒素パージしながら、１６０Ｗ／ｃｍ^２の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）の活性線照射装置７６を用いて、積層フィルムＬＦに紫外線を照射することにより、塗膜Ｃを硬化させて機能性フィルムＦＦを製造した。

　［参考例］
　減圧チャンバーへの窒素ガスの供給、および、減圧チャンバーからの排気を行わず、塗布液を塗布したサンプルを参考例として製造した。

　［比較例１］
　供給する窒素ガスの供給量を１０００Ｌ／ｍｉｎ/ｍ、減圧チャンバー１５からの排気量を１０００Ｌ／ｍｉｎ/ｍとし、減圧チャンバー内の減圧度を０Ｐａとした以外は実施例１と同様の方法により行った。

　［実施例２］
　タンク２６内を減圧用配管３３により減圧することで、塗布液中のトルエンの濃度を９０００ｐｐｍまで揮発させた以外は実施例１と同様の方法により行った。

　［実施例３］
　供給する窒素ガスの供給量を１０００Ｌ／ｍｉｎ／ｍ、減圧チャンバー１５からの排気量を１０７０Ｌ／ｍｉｎ／ｍとし、減圧チャンバー内の減圧度を１２Ｐａとした以外は実施例１と同様の方法により行った。

　［実施例４］
　供給する窒素ガスを、ダイコータ３６で吐出する前に酸素濃度が１００ｐｐｍに調整された窒素ガスを用いた以外は、実施例３と同様の方法により行った（調整あり）。

　［評価方法］
　（酸素濃度変動幅）
　減圧チャンバー内の酸素濃度分布を測定し、減圧チャンバー内の酸素濃度の上限値と平均値の差、および、下限値と平均値の差を、酸素濃度の平均値で除した値（百分率）で評価した。

　Ａ・・・±５％以内
　Ｂ・・・±１０％以内
　Ｃ・・・±１０％より大きい
　（機能性フィルムの性能）
　サンプル作製直後の輝度（ｃｄ／ｃｍ^２）、および、８５℃の乾燥オーブンに１００時間入れた後の輝度を測定し、サンプル作製直後の輝度を、乾燥オーブンに１００時間入れた後の輝度で、除した値で評価を行った。なお、下記の評価で、ＡおよびＢが本発明の範囲である。

　Ａ・・・０．９５～１．０
　Ｂ・・・０．８５～０．９５未満
　Ｃ・・・０．８５未満
　結果を表１に示す。

　［評価結果］
　減圧チャンバー１５内を減圧にした実施例１～４においては、減圧チャンバー内の酸素濃度を安定させることができ、製造された機能性フィルムの性能も良好であった。減圧チャンバー１５内を減圧にしない比較例１においては、減圧チャンバー１５内の酸素濃度分布が安定せず、製造された機能性フィルムの性能にも差が見られた。また、窒素ガスの供給を行わない参考例においては、製造される機能性フィルムの性能の低下が見られた。塗布液中の有機溶媒の濃度を下げる（実施例２）、減圧チャンバー１５内の減圧度を高くする（実施例３）、又は酸素濃度が調整された窒素ガスを供給する（実施例４）ことで、減圧チャンバー１５内の酸素濃度をさらに安定させることができ、性能に差のない機能性フィルムを製造することができた。

１０　機能性フィルムの製造装置
１２　溶存酸素低減装置
１４　塗布装置
１５　減圧チャンバー
１５Ａ　サイドプレート
１５Ｂ　バックプレート
１５Ｃ　ボトムプレート
１５Ｄ　開口
１５Ｅ　開口部
１６　不活性ガス供給装置
１８　貼合装置
２０　硬化装置
２２　窒素ガス置換装置
２４　塗布液供給手段
２６　タンク
２８　塗布液配管
３０　窒素ガス配管
３２　撹拌機
３４　エアベント管
３６　ダイコータ
３６Ａ　胴体部
３６Ｂ　先端リップ部
３６Ｃ　上流側リップランド
３６Ｄ　下流側リップランド
３６Ｅ　上流側傾斜面
３７　ランド
３８　送液配管
４０　送液ポンプ
４２　窒素ガス吹き込み管
４４　バックアップローラ
４６Ａ、４６Ｂ、４６Ｃ　ダイブロック
４８、５２　マニホールド
５０、５４　スリット
５０Ａ　スリット吐出口
５６　配管
５８　ブロア
６２　窒素ボンベ
６４　エアーボンベ
６６　共通供給配管
６８　窒素ガス供給配管
７０　空気供給配管
７２　測定手段
７４　貼合ローラ
７６　活性線照射装置
７８　剥離ローラ
２１５　減圧チャンバー
２１５Ａ　サイドプレート
２１５Ｂ　バックプレート
２１５Ｃ　ボトムプレート
２１５Ｅ　不活性ガス供給口
２３６　ダイコータ
２４６Ａ、２４６Ｂ　ダイブロック
２４８　マニホールド
２５０　スリット
２５０Ａ　吐出口
Ｗ　可撓性支持体
ＣＦ　塗膜フィルム
Ｆ　貼合するフィルム
ＬＦ　積層フィルム
ＦＦ　機能性フィルム
Ｃ　塗膜

Claims

　溶存酸素濃度が１０００ｐｐｍ以下の塗布液を、バックアップローラを有するダイコータに供給し、前記バックアップローラに巻き掛けられて搬送される可撓性支持体に前記ダイコータで前記塗布液を塗布する塗布工程を有し、
　前記可撓性支持体の搬送方向に対し、前記ダイコータの上流側に前記可撓性支持体の表面を覆う減圧チャンバーを備え、
　前記減圧チャンバーに不活性ガスを供給し、前記減圧チャンバーからの排気量が、前記減圧チャンバーへの不活性ガスの供給量より多い機能性フィルムの製造方法。
　前記塗布液中の有機溶媒の濃度が１００００ｐｐｍ以下である請求項１に記載の機能性フィルムの製造方法。
　前記減圧チャンバー内の減圧度が１０Ｐａ以上である請求項１又は２に記載の機能性フィルムの製造方法。
　前記不活性ガスは、酸素濃度が５０００ｐｐｍ未満に調整されている請求項１から３のいずれか１項に記載の機能性フィルムの製造方法。
　前記不活性ガスの供給量が１００Ｌ／ｍｉｎ／ｍ以上１００００Ｌ／ｍｉｎ／ｍ以下である請求項１から４のいずれか１項に記載の機能性フィルムの製造方法。
　バックアップローラとダイコータとを有し、前記バックアップローラに巻き掛けられて搬送される可撓性支持体に、溶存酸素濃度が１０００ｐｐｍ以下の塗布液を塗布する塗布手段と、
　前記可撓性支持体の搬送方向上流側に、前記可撓性支持体の表面を覆う減圧チャンバーと、
　前記減圧チャンバー内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段と、
　前記減圧チャンバー内の気体を排気する排気手段と、を備え、
　前記排気手段の排気量が、前記不活性ガス供給手段の供給量より多い機能性フィルムの製造装置。
　前記塗布液中の有機溶媒の濃度が１００００ｐｐｍ以下である請求項６に記載の機能性フィルムの製造装置。
　前記不活性ガス供給手段は、前記可撓性支持体の搬送方向に対して前記ダイコータの上流側に配置され、前記不活性ガスを供給するスリットを有するダイブロックである請求項６又は７に記載の機能性フィルムの製造装置。
　前記減圧チャンバー内の減圧度が１０Ｐａ以上である請求項６から８のいずれか１項に記載の機能性フィルムの製造装置。
　前記不活性ガスは、酸素濃度が５０００ｐｐｍ未満に調整されている請求項６から９のいずれか１項に記載の機能性フィルムの製造装置。
　前記不活性ガスの供給量が１００Ｌ／ｍｉｎ／ｍ以上１００００Ｌ／ｍｉｎ／ｍ以下である請求項６から１０のいずれか１項に記載の機能性フィルムの製造装置。