WO2017002936A1 - 荷電粒子検出器 - Google Patents
荷電粒子検出器 Download PDFInfo
- Publication number
- WO2017002936A1 WO2017002936A1 PCT/JP2016/069496 JP2016069496W WO2017002936A1 WO 2017002936 A1 WO2017002936 A1 WO 2017002936A1 JP 2016069496 W JP2016069496 W JP 2016069496W WO 2017002936 A1 WO2017002936 A1 WO 2017002936A1
- Authority
- WO
- WIPO (PCT)
- Prior art keywords
- mcp
- charged particle
- electron
- particle detector
- microchannel plate
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/02—Details
- H01J49/025—Detectors specially adapted to particle spectrometers
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01T—MEASUREMENT OF NUCLEAR OR X-RADIATION
- G01T1/00—Measuring X-radiation, gamma radiation, corpuscular radiation, or cosmic radiation
- G01T1/16—Measuring radiation intensity
- G01T1/24—Measuring radiation intensity with semiconductor detectors
- G01T1/241—Electrode arrangements, e.g. continuous or parallel strips or the like
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01T—MEASUREMENT OF NUCLEAR OR X-RADIATION
- G01T1/00—Measuring X-radiation, gamma radiation, corpuscular radiation, or cosmic radiation
- G01T1/16—Measuring radiation intensity
- G01T1/28—Measuring radiation intensity with secondary-emission detectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J43/00—Secondary-emission tubes; Electron-multiplier tubes
- H01J43/04—Electron multipliers
- H01J43/06—Electrode arrangements
- H01J43/18—Electrode arrangements using essentially more than one dynode
- H01J43/24—Dynodes having potential gradient along their surfaces
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/02—Details
- H01J49/06—Electron- or ion-optical arrangements
- H01J49/067—Ion lenses, apertures, skimmers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/02—Details
- H01J49/06—Electron- or ion-optical arrangements
Definitions
- the present invention relates to a charged particle detector that is disposed in a vacuum chamber of a mass spectrometer or the like and detects ions and electrons.
- an ion detector for example, a configuration to which an electron multiplier is applied, a configuration to which a microchannel plate (hereinafter referred to as MCP) is applied, MCP and A configuration in which an electron impact diode is combined is known.
- MCP microchannel plate
- the configuration combining the MCP and the electron impact diode is characterized by a long device life and a large maximum output current.
- the time response characteristic greatly depends on the size of the electron impact diode (area of the electron incident surface).
- Patent Document 1 discloses an ion detector including an MCP, a focusing ring, and an electron impact diode as the above-described ion detector.
- the MCP adapted for such an ion detector is provided with a plurality of channels arranged in parallel while being inclined by a bias angle of about 1 to 2 °.
- Patent Document 2 discloses a time-of-flight mass spectrometry including an MCP detector having a central hole for a laser for irradiating a sample, and a pin anode disposed at a position shifted from the central hole of the MCP. A metering arrangement is disclosed.
- Patent Document 1 discloses an MCP in which each channel is inclined by a bias angle, as can be seen from the example of the electron trajectory shown in FIG. 3, it is caused by the bias angle of the MCP.
- the pin anode is eccentrically arranged with respect to the central axis of the MCP due to the presence of the center hole provided for laser irradiation.
- problems related to focusing of the electron trajectory due to the bias angle there is no mention or suggestion of problems related to focusing of the electron trajectory due to the bias angle. Therefore, in the conventional charged particle detector, the influence of the bias angle set for the MCP on the electron trajectory has not been studied.
- the bias angle of the MCP is an inclination angle of a channel provided to prevent incident charged particles from passing through the MCP without colliding with the inner wall of each channel.
- MCP since MCP has been used for many imaging purposes, the above-mentioned problems have not been recognized.
- Electron impact diodes applied to conventional ion detectors include photodiodes and avalanche photodiodes, but unlike ordinary photodiodes, oxide films (passivation films) formed on the surface are extremely It is characterized in that it is thin or no oxide film is formed.
- the “electron impact diode” is simply referred to as PD.
- the capacity of the PD becomes smaller as the electron incident surface is smaller, the conventional ion detector does not consider the influence of the bias angle of the MCP on the electron trajectory, so it is difficult to reduce the size of the PD. There was also a problem that sufficient response characteristics could not be obtained.
- the trajectory of electrons emitted from the MCP particularly the position of the focused spot of electrons, varies depending on the initial velocity of electrons emitted in the bias angle direction described below. I understood that.
- the present invention has been made in order to solve the above-described problems, and is a charged particle detector to which a combination of an MCP having a predetermined bias angle and an electron impact diode is applied.
- An object of the present invention is to provide a charged particle detector having a structure for improving response characteristics as compared with a particle detector.
- an electrostatic lens focus electrode
- the charged particle detector includes at least an MCP having a predetermined bias angle, a PD, and a focus electrode, and a smaller PD (smaller electron incident surface).
- Each through hole has a secondary electron emission surface on its inner wall, and is arranged so that its central axis is inclined at least by a bias angle defined by an acute angle with respect to the output surface.
- the PD is disposed so as to face the MCP, and has an electron incident surface whose area is smaller than the area of the effective region of the MCP.
- the focus electrode is provided between the MCP and the PD, and continuously surrounds the first opening located on the MCP side, the second opening located on the PD side, and the trajectory of the secondary electrons from the MCP to the PD.
- bias angle means an angle (acute angle) between a reference axis orthogonal to the output surface of the MCP and the central axis of each through hole, and incident charged particles are formed on the inner wall of each through hole.
- each through hole is inclined with respect to the output surface of the MCP.
- an electron multiplication of about 1000 times can be performed in MCP, and an electron multiplication of about 1000 times can be performed in PD.
- electron multiplication is performed by the combination of MCP and PD, there is an effect that the dynamic range is expanded.
- electron multiplication in the PD is performed inside the PD, the electron multiplication factor does not decrease due to contamination on the surface (dirt on the electron incident surface).
- the electron incident surface of the PD is eccentrically arranged in the bias angle direction with respect to the central axis of the MCP.
- the “bias angle direction” passes through the center of the opening corresponding to the output surface of the MCP among the openings of the reference through holes selected from the plurality of through holes on the reference plane corresponding to the electron incident surface of the PD.
- it is prescribed
- the center of the electron incident surface is deviated by a predetermined distance along the bias angle direction with respect to the intersection of the central axis of the MCP, which passes through the center of the effective area of the MCP and is orthogonal to the output surface, and the reference plane.
- the PD is arranged eccentrically.
- the focus electrode such as the emission end opening (second opening) of the focus electrode is biased with respect to the central axis of the MCP. It is eccentrically arranged in the direction. Specifically, the center of the second opening of the focus electrode is predetermined along the bias angle direction with respect to the intersection of the central axis of the MCP, which is an axis passing through the center of the effective region and orthogonal to the output surface, and the reference plane. At least a part of the focus electrode is eccentrically arranged so as to be shifted by a distance.
- the focus electrode may be set to the same potential as the output surface of the MCP.
- the focus electrode may be set to the same potential as the electron incident surface of the PD.
- the charged particle detector can be driven with a smaller number of power sources by matching the potential of the focus electrode with the output surface of the MCP or the potential of the PD (feeding structure). Simplification).
- the charged particle detector may further include a mesh electrode provided between the MCP and the focus electrode. Good.
- the maximum width of the electron incident surface in the PD is preferably 3 mm or less.
- the spot diameter of secondary electrons reaching the electron incident surface of the PD from the output surface of the MCP is 1 mm or less. Is preferred.
- the focus electrode includes a body portion that continuously surrounds the trajectory of secondary electrons from the MCP to the PD, And a flange member for defining the center position and size of the second opening.
- the body portion is composed of a plurality of hollow members arranged in order from the MCP toward the PD. .
- the charged particle detector includes a substrate on which an electron impact diode is mounted on the main surface, A resin flange having an opening for passing secondary electrons from the MCP to the PD and disposed between the focus electrode and the substrate may be further provided.
- the PD is eccentrically arranged with respect to the central axis of the MCP, or the center of the exit end opening of the focus electrode is Due to the eccentric arrangement, it becomes possible to use a smaller PD (for example, the maximum width of the electron incident surface is 3 mm or less), and as a result, a high-speed response of the charged particle detector can be realized.
- the gain of the MCP can be lowered and the linearity can be further improved. It is also effective for MCPs for which a large bias angle is set, and an improvement in mass resolution (reduction in jitter) can be expected.
- FIG. 6 is a diagram for explaining a bias angle direction.
- FIG. 4 is a diagram showing a positional relationship between MCP-PD and equipotential lines and trajectories of secondary electrons in a space between MCP and PD in an example of a charged particle detector according to the first embodiment.
- FIG. 1 is a diagram for explaining a schematic configuration and an operating principle of a charged particle detector according to the present embodiment.
- a charged particle detector 1 according to the present embodiment includes a microchannel plate (MCP) 10, an electron impact diode (PD) 80 that receives secondary electrons output from the MCP 10, and MCP 10 and PD 80. And a focus electrode 60 for converging the trajectory of secondary electrons emitted from the MCP 10.
- the MCP 10 is arranged in parallel with an input surface 10a on which incident charged particles reach and an output surface 10b that emits secondary electrons generated in response to the incident charged particles, each inclined by a predetermined bias angle. It has a plurality of through holes.
- the focus electrode 60 includes a hollow body 60a set at the same potential and a flange 60b. Further, the hollow body 60a has a through hole 60a1 for converging the orbit of secondary electrons to the vicinity of the central axis AX1 of the MCP 10 . Flange portion 60b has an opening 60b 1 for adjusting the spot diameter of the secondary electrons of the focused spot reaching the upper reference plane 100 that matches the electron incident surface of the PD80.
- the position of the focused spot of the secondary electrons on the reference plane 100 is deviated from the central axis AX1 of the MCP 10 depending on the bias angle of the MCP 10. That is, in the configuration in which the PD 80 is arranged such that the center C1 of the electron incident surface is located on the central axis AX1 of the MCP 10, for example, as shown in FIG. 7, some of the secondary electrons emitted from the MCP 10 are PD80. It will be in the state which cannot reach
- the PD 80 is eccentrically arranged along the reference plane 100 in the bias angle direction indicated by the arrow S1 in FIG. and / or a configuration in which an eccentric arranged on a bias angle direction indicated the center C2 of the opening 60b 1 of the flange portion 60b by an arrow S2 in in FIG. 1 is adopted.
- FIG. 2 is a view for explaining the relationship between the electron incident surface 800 of the PD 80 and the spot diameter of the focused spot SP of the secondary electrons on the electron incident surface 800.
- the PD 80 with respect to the central axis AX1 of the MCP 10, PD80 and / or center C2 of the opening 60b 1 of the flange portion 60b (the center C1 of the electron incident surface 800) is biased angle direction defined by the bias angle of the MCP 10 Accordingly, the PD 80 itself can be miniaturized. Therefore, in the present embodiment, the maximum width of the electron incident surface 800 in the PD 80 is 3 mm or less, preferably 1 mm or less. The maximum spot diameter of the focused spot SP of secondary electrons is 1 mm or less.
- FIGS. 3A is a perspective view for explaining the structure of the MCP 10
- FIG. 3B is a cross-sectional view of the MCP 10 viewed from the direction indicated by the arrow A in FIG. 3A. It is.
- the MCP 10 includes a plate-like structure (main body) and is known as an electron multiplier element in which a plurality of channels are regularly arranged. That is, the MCP 10 is a thin disk-shaped structure (main body) mainly composed of lead glass, and extends in the thickness direction (direction from the input surface 10a to the output surface 10b) except for the annular outer peripheral portion 11. Through-holes 12 are disposed, and electrodes 13 are formed on both surfaces of the structure by vapor deposition. The electrode 13 does not cover the entire surface of the MCP 10, but is formed by exposing the outer peripheral portion 11 of the MCP 10 from 0.5 mm to 1.0 mm from the outer peripheral end.
- the plurality of through holes 12 are arranged in parallel in a state inclined by a predetermined bias angle with respect to the output surface 10 b of the MCP 10, and their inner wall (channel wall) surface A secondary electron emission surface 121 is formed on the top.
- the “bias angle” is defined by the reference axis AX2 perpendicular to the output surface 10b of the MCP 10 and the center axis AX3 of each through hole 12.
- the acute angle formed by the center axis AX3 of the reference through hole that intersects the reference axis AX2 at the opening center O1 is the bias angle ⁇ .
- the bias angle direction is specified based on the bias angle ⁇ of the MCP 10 defined as described above.
- An intersection point of the reference plane 100 and the reference axis AX2 passing through and orthogonal to the output surface 10b is defined as O2.
- the intersection of the center axis AX3 of the reference through hole and the reference plane 100 is defined as O3.
- the direction indicated by the arrow S3 from the intersection O2 on the reference plane 100 toward the intersection O3 is the bias angle direction.
- the center C1 of the electron incident surface 800 of the PD 80 is set in the bias angle direction S3 defined as described above with respect to the central axis AX1 of the MCP 10. It is realized by moving along. Also, in the case of decentering the opening 60b 1 of the flange portion 60b with respect to the central axis AX1 of the MCP 10, the center C2 of the opening 60b 1 of the flange portion 60b, with respect to the central axis AX1 of the MCP 10, defined as above This is realized by moving along the bias angle direction S3.
- FIG. 4B is a plan view of the MCP 10 as viewed from the input surface 10a.
- the direction from the tip of the marker 14 toward the center of the MCP 10 is the bias angle direction.
- a hatched region R is an effective region of the MCP 10 on which charged particles can enter, and in this embodiment, a PD whose area is smaller than that of the effective region R is applied. Is done.
- FIG. 5 is an assembly process diagram of the charged particle detector 1A according to the first embodiment
- FIG. 6A is a perspective view of the charged particle detector 1A obtained through the assembly process shown in FIG. It is.
- FIG. 6B is a cross-sectional view of the charged particle detector 1A taken along line X1-X1 in FIG.
- An axis AX C1 shown in FIG. 6B is an axis that passes through the center C1 of the electron incident surface 800 of the PD 80 and is perpendicular to the electron incident surface 800 (an axis parallel to the central axis AX1 of the MCP 10). is there.
- the metal cap 5 and the MCP input side electrode 30a (hereinafter referred to as MCP-In) are sequentially arranged along the direction from the MCP 10 toward the focus electrode 60 (the direction along the central axis AX1 of the MCP 10).
- Electrode 20 spacer 20 having a through-hole 20a for accommodating MCP 10, MCP output side electrode 30b (hereinafter referred to as MCP-Out electrode), upper insulating ring 40a, mesh electrode 50, lower insulating ring 40b, and focus electrode
- MCP-Out electrode MCP output side electrode 30b
- the metal cap 5 the MCP-In electrode 30a, the spacer 20, the MCP-Out electrode 30b, the upper insulating ring 40a, the mesh electrode 50, and the lower insulating ring 40b each have four resin screws 6a to
- the focus electrode 60 is fixed by 6d.
- spacers 65a to 65d and a bleeder circuit board 70 on which the PD 80 is mounted are arranged in order along the direction from the focus electrode 60 to the PD 80 (the direction along the central axis AX1 of the MCP 10).
- Each of the spacers 65a to 65d and the bleeder circuit board 70 is fixed to the focus electrode 60 by four resin screws 91a to 91d.
- the metal cap 5 is a metal disk having a window 5a for defining the effective area R (see FIG. 4B) of the MCP 10, and includes resin screws 6a to 6d so as to surround the window 5a.
- Four screw holes are provided for holding in a penetrating state.
- the MCP 10 is sandwiched between the MCP-In electrode 30a and the MCP-Out electrode 30b while being accommodated in the through hole 20a of the disc-shaped spacer 20.
- the MCP-In electrode 30a is electrically connected to the electrode 13 formed on the input surface 10a of the MCP 10
- the MCP-Out electrode 30b is an electrode formed on the output surface 10b of the MCP 10. 13 is electrically connected.
- the MCP-In electrode 30a is electrically connected to an opening 30a1 for exposing the input surface 10a of the MCP 10 and a power supply pin 92d having a predetermined voltage in order to set the MCP-In electrode 30a to a predetermined potential. that has a feeding portion 30a 2.
- MCP-an In electrode 30a is so as to surround the opening 30a 1, 4 screws holes for holding in a state of penetrating the resin screw 6a ⁇ 6d are provided.
- the MCP-Out electrode 30b is electrically connected to an opening 30b1 for exposing the output surface 10b of the MCP 10 and a power supply pin 92c having a predetermined voltage in order to set the MCP-Out electrode 30b to a predetermined potential. that has a feeding portion 30b 2.
- MCP-Out electrode 30b as to surround the opening 30b 1, 4 screws holes for holding in a state of penetrating the resin screw 6a ⁇ 6d are provided.
- the mesh electrode 50 has a disk shape in which an opening in which the metal mesh 50a is disposed is provided, and a power supply unit that is electrically connected to a power supply pin 92b having a predetermined voltage in order to set the mesh electrode 50 to a predetermined potential. 50b. Further, the mesh electrode 50 is sandwiched by the lower insulating ring 40b of the upper insulating ring 40a to the opening 40a 1 is provided, an opening 40b 1 for exposing the metal mesh 50a is provided for exposing the metal mesh 50a It is.
- the upper insulating ring 40a functions as an insulating spacer for electrically separating the MCP-Out electrode 30b and the mesh electrode 50
- the lower insulating ring 40b electrically separates the mesh electrode 50 and the focus electrode 60. Functions as an insulating spacer.
- Both the upper insulating ring 40a and the lower insulating ring 40b are provided with four screw holes so as to surround the openings 40a 1 and 40b 1 , respectively.
- the focus electrode 60 has a cylindrical shape as a whole, and the central axis AX1 of the MCP 10 is the axis center.
- the focus electrode 60 includes a hollow body portion 60a having a through hole 60a 1 (which defines an incident-side opening of the focus electrode 60) for allowing secondary electrons from the output surface 10b of the MCP 10 to pass through.
- a flange portion 60b having an opening 60b 1 for defining an exit-side opening of the focusing electrode 60 is constituted.
- the flange portion 60b is in contact with the hollow body portion 60a so as to have the same potential, and is electrically connected to power supply pins 92a and 92c having a predetermined voltage in order to set the flange portion 60b to a predetermined potential.
- the entrance end side of the hollow body portion 60a is to surround the through hole 60a 1, while the four screw holes for plastic screws 6a ⁇ 6d are provided, also the outgoing end side, a through hole 60a 1
- Four screw holes for resin screws 91a to 91d are provided so as to surround them.
- the flange portion 60b, and four screw holes for the resin screw 91a ⁇ 91d is provided so as to surround the opening 60b 1.
- the bleeder circuit board 70 has a PD 80 mounted on its main surface and four power supplies for supplying a predetermined voltage to the MCP-In electrode 30a, the MCP-Out electrode 30b, the mesh electrode 50, and the flange portion 60b. Pins 92a to 92d are provided.
- the MCP-Out electrode 30b feeding portion 30b 2 and the flange portion 60b feeding portion 60b 3 of, for along with the hollow body portion 60a sets these MCP-Out electrode 30b, a flange portion 60b at the same potential, the feed pins 92c Are electrically connected.
- the bleeder circuit board 70 is provided with an SMA (Sub Miniature type A) connector for taking out a signal from the PD 80 on the surface opposite to the surface on which the PD 80 is mounted, and on each of the power feeding pins 92a to 92d.
- a bleeder circuit 90 for supplying a predetermined voltage is built in.
- the charged particle detector 1A includes a metal cap 5, an MCP-In electrode 30a, a spacer 20 containing the MCP 10, an MCP-Out electrode 30b, an upper insulating ring 40a, a mesh electrode 50, and a lower insulating member.
- the ring 40b is fixed to the incident end side of the hollow body 60a (which constitutes a part of the focus electrode 60) by four resin screws 6a to 6d, while the flange 60b, four spacers 65a to 65d, and
- the bleeder circuit board 70 is obtained by fixing the bleeder circuit board 70 to the emission end side of the hollow body 60a with four resin screws 91a to 91d.
- the focus electrode 60 is set to the same potential as the output surface 10b of the MCP 10 in order to avoid complication of the power feeding structure.
- the focus electrode 60 is formed of the electron incident surface 800 of the PD 80. And may be set to the same potential.
- the potential of the focus electrode 60 coincide with the potential of the output surface 10b of the MCP 10 or the PD 80 (electron incident surface 800)
- the charged particle detector can be driven with a smaller power source.
- FIG. 7A is a plan view (a plan view of the MCP 10 viewed from the input surface 10a of the MCP 10) showing the positional relationship between the MCP 10 and the PD 80 in the charged particle detector according to the comparative example.
- a charged particle detector is obtained through the assembly process shown in FIG.
- FIG. 7B corresponds to a cross-sectional view of the charged particle detector according to the comparative example along the line X2-X2 in FIG. 7A, and is equipotential in the space between the MCP 10 and the PD 80. Line and secondary electron trajectories are shown.
- the marker 14 provided on the MCP 10 indicates that the direction from the marker 14 toward the center of the MCP 10 is the bias angle direction.
- the PD 10 is arranged so that the center C1 of the electron incident surface 800 and the center of the MCP 10 coincide with each other, and the influence of the electron trajectory due to the bias angle of the MCP 10 is not considered. Therefore, as shown in FIG. 7B, the secondary electron focused spot that has reached the reference plane 100 from the output surface 10 b of the MCP 10 is shifted from the central axis AX ⁇ b> 1 of the MCP 10, and the secondary spot that has reached the reference plane 100. Some of the electrons will not be received by the PD 80.
- FIG. 8A is a plan view showing the positional relationship between MCP 10 and PD 80 (an input surface of MCP 10) as an example of the charged particle detector 1A of this example obtained through the assembly process shown in FIG. 10A is a plan view of the MCP 10 as viewed from 10a.
- 8B corresponds to a cross-sectional view of the charged particle detector 1A taken along line X3-X3 in FIG. 8A, and shows equipotential lines and two lines in the space between the MCP 10 and the PD 80. The orbit of the next electron is shown.
- the marker 14 provided on the MCP 10 indicates that the direction from the marker 14 toward the center of the MCP 10 is the bias angle direction, and the PD 10 has the center C1 of the electron incident surface 800.
- the marker 14 is arranged in the bias angle direction indicated by the marker 14. Therefore, as shown in FIG. 8B, even if the focused spot of the secondary electrons reaching the reference plane 100 from the output surface 10b of the MCP 10 is deviated from the central axis AX1 of the MCP 10, the reference plane Most of the secondary electrons that have reached 100 are efficiently received by the PD 80.
- This configuration also enables the application of a small PD.
- FIG. 9 and 10 are examples in which the PD 80 is eccentrically arranged with respect to the central axis AX1 of the MCP 10, but the example of FIG. 9 has a single hollow body 60a that constitutes a part of the focus electrode 60.
- FIG. 9A shows a specific cross-sectional structure of a charged particle detector having a single member hollow body 60a
- FIG. 9B shows the charged particle shown in FIG. 9A.
- the simulation result of the trajectory of the secondary electron in a detector is shown.
- FIG. 9A shows a specific cross-sectional structure of a charged particle detector having a single member hollow body 60a
- FIG. 9B shows the charged particle shown in FIG. 9A.
- the simulation result of the trajectory of the secondary electron in a detector is shown.
- FIG. 9A shows a specific cross-sectional structure of a charged particle detector having a single member hollow body 60a
- FIG. 9B shows the charged particle shown in FIG. 9A.
- FIG. 10 shows a first body 600a (hollow member) in which the hollow body 60a constituting a part of the focus electrode 60 is located on the MCP 10 side, and a second body 600b (hollow member) located on the PD 80 side.
- a charged particle detector configured by (1).
- FIG. 10A shows a specific cross-sectional structure of a charged particle detector in which the hollow body portion 60a is composed of a first body portion 600a and a second body portion 600b, and FIG. The simulation result of the trajectory of the secondary electron in the charged particle detector shown by 10 (a) is shown.
- the diameter of the effective region R in the MCP 10 is 10 mm.
- the thickness of the mesh electrode 50 is 0.5 mm.
- the distance between the MCP 10 and the mesh electrode 50 is 3 mm.
- the inner diameter of the hollow body portion 60a is 22 mm
- the diameter of the opening 60b 1 of the flange portion 60b is 16 mm.
- the thickness of the flange portion 60b is 0.5 mm.
- the outer diameter of the hollow body portion 60a is 34 mm.
- the deviation from the center C1 of the electron incident surface 800 of the PD 80 with respect to the central axis AX1 of the MCP 10 is 0.9 mm (FIG. 9B).
- the hollow body 60a of the focus electrode 60 includes a first body 600a disposed on the MCP 10 side and a second body 600b disposed on the PD 80 side.
- the first body portion 600a is set to the same potential as that of the MCP-Out electrode 30b while being in electrical contact with the flange portion 60b.
- the second body portion 600b is set to the same potential as the PD 80 in a state where the PD 80 is mounted on the opposite side to the first body portion 600a.
- the diameter of the effective region R in the MCP 10 is 25 mm.
- the thickness of the mesh electrode 50 is 0.5 mm.
- the distance between the MCP 10 and the mesh electrode 50 is 3 mm.
- the inner diameter of the first body 600a constituting a part of the hollow body portion 60a of the focusing electrode 60 is 50 mm, the diameter of the opening 60b 1 of the flange portion 60b is 40 mm.
- the total thickness of the first body portion 600a and the flange portion 60b is 20.5 mm.
- the thickness of the second body portion 600b is 27 mm, and the outer diameters of the first and second body portions 600a and 600b are both 70 mm.
- the amount of deviation from the center C1 of the electron incident surface 800 of the PD 80 with respect to the central axis AX1 of the MCP 10 is 1.5 mm (FIG. 10B).
- (Second Embodiment) 11 and 12 show a characteristic structure of the charged particle detector according to the second embodiment in a configuration in which the PD 80 is arranged so that the center of the electron incident surface 800 is positioned on the central axis AX1 of the MCP 10. It is a diagram for explaining a configuration in which is decentered with respect to the central axis AX1 mainly of MCP10 opening 60b 1 of the flange portion 60b of the electrode 60.
- the configuration of the charged particle detector according to the second embodiment is the same as that of the charged particle detector 1A (FIGS. 5 and 6) according to the first embodiment described above, except for the structure of the flange portion 60b in the focus electrode 60. It is the same.
- FIG. 11 as a characteristic configuration of a charged particle detector according to the second embodiment, among the focus electrode 60, the flange portion 60b of the center of the opening 60b 1 relative to the central axis AX1 of the MCP10 are eccentric It is a figure for demonstrating a structure.
- the opening 60b 1 of the flange portion 60b as shown in FIG. 11 (a), when the charged particle detector are assembled, the central axis AX1 and the center C2 of the opening 60b 1 of MCP10 matches Formed.
- the center C2 of the opening 60b1 is deviated in the bias angle direction indicated by the marker 14 of the MCP 10 with respect to the central axis AX1 of the MCP 10. I have a heart.
- FIG. 12A is a plan view of the MCP 10 as viewed from the input surface 10a side of the MCP 10
- FIG. 12B is a diagram illustrating detection of the charged particles along line X4-X4 in FIG. This corresponds to a sectional view of the vessel.
- FIG. 12 (b) the charged particle detector according to the second embodiment, while the length in the through hole 60a 1 in (see FIG.
- the trajectory of the secondary electrons emitted from the output surface 10b of the MCP 10 is greatly decentered in the bias angle direction due to the influence of the bias angle of the MCP 10, but the flange portion 60b.
- the position of the focused spot of secondary electrons is adjusted so as to approach the central axis AX1 side of the MCP 10 by the opening 60b1.
- FIG. 13 is a diagram for explaining a cross-sectional structure of the charged particle detector according to the third embodiment.
- the charged particle detector 1B according to the third embodiment includes a focus electrode 60 and a bleeder circuit board 70. Except for the connection structure, it has the same structure as the charged particle detector 1A according to the first embodiment described above. That is, the charged particle detector 1B according to the third embodiment has a structure in which only the PD 80 can be easily replaced for the purpose of improving maintenance work in a situation where the charged particle detector 1B is fixed to a vacuum chamber such as a mass spectrometer.
- FIG. 13A is a cross-sectional view showing the configuration of the charged particle detector 1B according to the third embodiment attached to the opening 210 of the vacuum chamber 200.
- FIG. 13B is a cross-sectional view showing a state where only the bleeder circuit board 70 on which the PD 80 is mounted is removed from the vacuum chamber 200.
- 13A and 13B correspond to the cross-sectional view along the line X5-X5 in FIG. 6A, and the axis AX C1 in the drawing represents the electron incident surface 800 of the PD 80. Is an axis perpendicular to the electron incident surface 800 (an axis parallel to the central axis AX1 of the MCP 10).
- the cause of gain deterioration (life end) of a charged particle detector is mainly a decrease in the electron implantation gain of the PD80.
- the charge particle detector 1 ⁇ / b> B electrons irradiated to the PD 80 deposit amorphous carbon on the PD 80. Therefore, in the configuration using the combination of the MCP 10 and the PD 80 which are at the end of life, the gain can be restored by exchanging only the PD 80.
- the upper stage of the charged particle detector 1 ⁇ / b> B including the MCP 10 and the focus electrode 60 surrounds the opening 210 while being inserted into the opening 210 of the vacuum chamber 200.
- the resin flange (insulating flange) 300 installed outside the vacuum chamber 200 is fixed by four resin screws (only two resin screws 91b and 91d are shown in FIG. 13A).
- the lower part of the apparatus including the bleeder circuit board 70 on which the PD 80 is mounted is fixed to the resin flange 300 from the outside of the vacuum chamber 200 by four resin screws (only 93b and 93d are shown in the figure). Yes.
- the bleeder circuit board 70 is provided with power supply pins 92a to 92d for driving the charged particle detector 1B and an SMA connector 95 for outputting a signal, and these serve as a vacuum flange. ing.
- the upper stage of the apparatus is located inside the vacuum chamber 200 (vacuum side), while the lower stage of the apparatus is located outside the vacuum chamber 200 (atmosphere side).
- a sealing O-ring 350 is attached to a contact portion between the vacuum chamber 200 and the resin flange 300 in order to maintain airtightness in the vacuum chamber 200.
- an O-ring 350 is also attached between the resin flange 300 and the bleeder circuit board 70.
- the bleeder circuit board 70 on which the PD 80 is mounted can be separated from the vacuum chamber 200.
- the procedure is the reverse of the above-described separation operation, that is, the bleeder circuit board 70 on which the PD 80 capable of normal operation is mounted is replaced with the resin flange 93b, 93d by the resin screws 93b and 93d. It is attached to 300.
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Measurement Of Radiation (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Abstract
本実施形態に係る荷電粒子検出器(1)は、バイアス角を有するMCP(10)とPD(80)を組み合わせた構成において、従来と比較してより応答特性を向上させるために、フォーカス電極(60)を挟んで配置されたMCPとPDを備える。MCPは、それぞれがバイアス角θだけ傾斜した複数の貫通孔を有し、MCPの中心軸(AX1)に対して電子入射面の中心がバイアス角方向S3に沿って所定距離だけずれるよう、PDが偏心配置される。
Description
本発明は、質量分析装置等の真空チャンバ内に配置され、イオンや電子を検出する荷電粒子検出器に関するものである。
質量分析装置等に適用可能な荷電粒子検出器、例えばイオン検出器の構成として、例えば、電子増倍管が適用された構成、マイクロチャネルプレート(以下、MCPという)が適用された構成、MCPと電子衝撃型ダイオードを組み合わせた構成等が知られている。特に、MCPと電子衝撃型ダイオードを組み合わせた構成は、装置寿命が長く、最大出力電流が大きいという特徴がある。一方で、時間応答特性については、電子衝撃型ダイオードのサイズ(電子入射面の面積)に大きく依存している。
以下の特許文献1には、上述のようなイオン検出器として、MCP、集束リング、電子衝撃型ダイオードで構成されたイオン検出器が開示されている。また、係るイオン検出器に適応されるMCPには、1~2°程度のバイアス角だけ傾斜した状態で平行に配置された複数のチャネルが設けられている。
一方、以下の特許文献2には、試料に照射するレーザのため中心孔を有するMCP検出器と、MCPの中心孔からずれた位置に配置されたピンアノードと、を備えた飛行時間型質量分析計配列装置が開示されている。
発明者らは、従来の荷電粒子検出器について検討した結果、以下のような課題を発見した。すなわち、上記特許文献1には、各チャネルがバイアス角だけ傾斜しているMCPが開示されているが、図3に示された電子軌道の例からも分かるように、MCPのバイアス角に起因した、電子軌道の集束に関する課題について記載も示唆もない。また、上記特許文献2には、レーザ照射用に設けられた中心孔の存在に起因して、ピンアノードがMCPの中心軸に対して偏心配置されているが、この特許文献2も、MCPのバイアス角に起因した、電子軌道の集束に関する課題について記載も示唆もない。したがって、従来の荷電粒子検出器において、MCPに設定されるバイアス角の、電子軌道への影響については何ら検討されていなかった。
MCPのバイアス角は、入射荷電粒子が各チャネルの内壁に衝突することなく当該MCPを通過することを防止するために設けられるチャネルの傾斜角である。従来、MCPの用途はイメージングが多かったため、当然、上述のような課題は認識されていなかった。
また、従来のイオン検出器に適用される電子衝撃型ダイオードは、フォトダイオード、アバランシェフォトダイオード等が含まれるが、通常のフォトダイオードとは異なり、表面に形成される酸化膜(パッシベーション膜)は極薄い、あるいは酸化膜が形成されていないという特徴がある。本明細書では、以下、「電子衝撃型ダイオード」を単にPDと記す。PDは、電子入射面が小さいほど容量が小さくなるが、従来のイオン検出器では、MCPのバイアス角による電子軌道への影響は考慮されていないため、PDの小型化が困難であり、結果、十分な応答特性が得られないという課題もあった。なお、発明者らの知見によれば、MCPから出射される電子の軌道、特に電子の集束スポットの位置は、以下に説明するバイアス角方向に出射される電子の初速度に依存して変動することが分かった。
本発明は、上述のような課題を解決するためになされたものであり、所定のバイアス角を有するMCPと電子衝撃型ダイオードとの組み合わせが適用された荷電粒子検出器であって、従来の荷電粒子検出器と比較して応答特性を向上させるための構造を備えた荷電粒子検出器を提供することを目的としている。
MCPとPDの組み合わせが適用された構成において、十分な応答特性を得るためには、該PDにおける電子入射面(有効エリア)を小さくするのが好ましい。そのため、MCPから出射される電子の軌道を小さなPDに集束させるためには、静電レンズ(フォーカス電極)が必要になる。
本実施形態に係る荷電粒子検出器は、上述の目的を達成するため、所定のバイアス角を有するMCPと、PDと、フォーカス電極と、を少なくとも備えるとともに、より小型のPD(より小さい電子入射面を有するダイオード)の適用が可能な構造を実現する。すなわち、MCPは、荷電粒子が入射される入力面と、二次電子が出射される出力面と、それぞれが入力面と出力面を連絡する複数の貫通孔(チャネル)を有する。各貫通孔は、その内壁上に二次電子放出面を有し、かつ、その中心軸が少なくとも出力面に対して鋭角で規定されるバイアス角だけ傾斜するよう配置されている。PDは、MCPに対面するよう配置され、かつ、その面積が該MCPの有効領域の面積よりも小さい電子入射面を有する。フォーカス電極は、MCPとPDとの間に設けられ、MCP側に位置する第1開口と、PD側に位置する第2開口と、MCPからPDへ向かう二次電子の軌道を連続的に取り囲む形状を有する。なお、本明細書において「バイアス角」とは、MCPの出力面に直交する基準軸と各貫通孔の中心軸とのなす角度(鋭角)を意味し、入射荷電粒子が貫通孔それぞれの内壁にぶつからずに当該MCPを通過することを防止するため、貫通孔それぞれが当該MCPの出力面に対して傾斜配置されている。
上述のようにMCPとPDの組み合わせにより構成された荷電粒子検出器の場合、MCPにおいて約1000倍の電子増倍、PDにおいてさらに約1000倍の電子増倍が可能になる。このようにMCPとPDの組み合わせにより電子増倍が行われるため、ダイナミックレンジが拡大するという効果がある。また、PDでの電子増倍は、当該PDの内部で行われるため、表面の汚れ(電子入射面の汚れ)で電子増倍率が低下することがない。
特に、本実施形態に係る第1の態様では、PDの電子入射面が、MCPの中心軸に対してバイアス角方向に偏心配置される。具体的に、「バイアス角方向」は、PDの電子入射面に一致する基準平面において、複数の貫通孔から選択された基準貫通孔の開口のうちMCPの出力面に一致する開口の中心を通りかつ該出力面に直交する基準軸と基準平面との交点から、基準貫通孔の中心軸と基準平面との交点へ向かう方向により規定される。このとき、MCPの有効領域の中心を通りかつ出力面に直交する軸であるMCPの中心軸と基準平面との交点に対して、電子入射面の中心がバイアス角方向に沿って所定距離だけずれるよう、PDが偏心配置される。
また、本実施形態に係る第2の態様では、PDの偏心に替えて、例えばフォーカス電極の出射端開口(第2開口)など、フォーカス電極の少なくとも一部がMCPの中心軸に対してバイアス角方向に偏心配置される。具体的には、有効領域の中心を通りかつ出力面に直交する軸であるMCPの中心軸と基準平面との交点に対して、フォーカス電極の第2開口の中心がバイアス角方向に沿って所定距離だけずれるよう、フォーカス電極の少なくとも一部が偏心配置される。
上記第1または第2の態様に適用可能な第3の態様として、フォーカス電極は、MCPの出力面と同電位に設定されてもよい。上記第1~第3の態様のうち少なくとも何れかの態様に適用可能な第4の態様として、フォーカス電極は、PDの電子入射面と同電位に設定されてもよい。これら第3および第4の態様によれば、フォーカス電極の電位を、MCPの出力面またはPDの電位に一致させることで、より少ない電源で当該荷電粒子検出器の駆動が可能になる(給電構造の簡素化)。
上記第1~第4の態様のうち少なくとも何れかの態様に適用可能な第5の態様として、当該荷電粒子検出器は、MCPとフォーカス電極との間に設けられたメッシュ電極をさらに備えてもよい。
上記第1~第5の態様のうち少なくとも何れかの態様に適用可能な第6の態様として、PDにおける電子入射面の最大幅は、3mm以下であるのが好ましい。一方、上記第1~第6の態様のうち少なくとも何れかの態様に適用可能な第7の態様として、MCPの出力面からPDの電子入射面に到達する二次電子のスポット径は、1mm以下であるのが好ましい。
なお、上記第1~第7の態様のうち少なくとも何れかの態様に適用可能な第8の態様として、フォーカス電極は、MCPからPDへ向かう二次電子の軌道を連続的に取り囲む胴体部と、第2開口の中心位置および大きさを規定するためのフランジ部材と、で構成されてもよい。上記第1~第8の態様のうち少なくとも何れかの態様に適用可能な第9の態様として、胴体部は、MCPからPDに向かって順に配置された複数の中空部材で構成されるのが好ましい。さらに、上記第1~第9の態様のうち少なくとも何れかの態様に適用可能な第10の態様として、当該荷電粒子検出器は、電子衝撃型ダイオードがその主面上に搭載された基板と、MCPからPDに向かう二次電子を通過させるための開口を有し、フォーカス電極と基板との間に配置された樹脂フランジと、をさらに備えてもよい。
なお、本発明に係る各実施形態は、以下の詳細な説明及び添付図面によりさらに十分に理解可能となる。これら実施例は単に例示のために示されるものであって、本発明を限定するものと考えるべきではない。
また、本発明のさらなる応用範囲は、以下の詳細な説明から明らかになる。しかしながら、詳細な説明及び特定の事例はこの発明の好適な実施形態を示すものではあるが、例示のためにのみ示されているものであって、本発明の範囲における様々な変形および改良はこの詳細な説明から当業者には自明であることは明らかである。
本実施形態によれば、MCPのバイアス角に起因して二次電子が軌道偏心した場合でも、該MCPの中心軸に対してPDが偏心配置され、または、フォーカス電極の出射端開口の中心が偏心配置されたことにより、より小さなPD(例えば、電子入射面の最大幅が3mm以下)の使用が可能になり、その結果、当該荷電粒子検出器の高速応答が実現可能になる。
さらに、上述の構成は、MCPとPDの双方で電子増倍が行われるため、MCPのゲインを下げることができ、さらなるリニアリティの向上が図れる。また、大きなバイアス角が設定されているMCPに対しても有効であり、質量分解能の向上(ジッターの低減)も期待できる。
以下、本発明に係る荷電粒子検出器の種々の実施形態を、添付図面を参照しながら詳細に説明する。なお、図面の説明において同一の要素には同一符号を付して重複する説明を省略する。さらに、本発明は、これら例示に限定されるものではなく、特許請求の範囲によって示され、また、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内での全ての変更が含まれることが意図されている。
図1は、本実施形態に係る荷電粒子検出器の概略構成および動作原理を説明するための図である。図1において、本実施形態に係る荷電粒子検出器1は、マイクロチャネルプレート(MCP)10と、MCP10から出力された二次電子を受光する電子衝撃型ダイオード(PD)80と、MCP10とPD80との間に設けられ、MCP10から出射された二次電子の軌道を集束するためのフォーカス電極60を備える。MCP10は、入射荷電粒子が到達する入力面10aと、該入射荷電粒子に応答して発生した二次電子を出射させる出力面10bと、それぞれが所定のバイアス角だけ傾斜した状態で並列配置された複数の貫通孔を有する。フォーカス電極60は、同電位に設定された中空胴体部60aと、フランジ部60bにより構成されている。また、中空胴体部60aは、二次電子の軌道をMCP10の中心軸AX1付近に集束させるための貫通孔60a1を有する。フランジ部60bは、PD80の電子入射面に一致した基準平面100上に到達する二次電子の集束スポットのスポット径を調整するための開口60b1を有する。
上述の装置構成において、基準平面100上における二次電子の集束スポットの位置は、MCP10のバイアス角に依存してMCP10の中心軸AX1からずれてしまう。すなわち、電子入射面の中心C1がMCP10の中心軸AX1上に位置するようPD80が配置された構成では、例えば図7に示されたように、MCP10から出射された二次電子の一部がPD80の電子入射面に到達できない状態となる。そのため、MCP10のバイアス角による電子軌道への影響を考慮しない場合、PD80の小型化は困難になる。
本実施形態では、上述のようなMCP10のバイアス角による電子軌道への影響を考慮し、PD80を基準平面100に沿って図1中の矢印S1で示されたバイアス角方向に偏心配置する構成、および/または、フランジ部60bの開口60b1の中心C2を図1中の矢印S2で示されたバイアス角方向に偏心配置する構成が採用されている。
図2は、PD80の電子入射面800と、該電子入射面800上における二次電子の集束スポットSPのスポット径との関係を説明するための図である。本実施形態では、MCP10の中心軸AX1に対して、PD80(電子入射面800の中心C1)および/またはフランジ部60bの開口60b1の中心C2が、MCP10のバイアス角で規定されるバイアス角方向に沿って偏心配置されるため、PD80自体の小型化が可能になる。そのため、本実施形態において、PD80における電子入射面800の最大幅は3mm以下、好ましくは1mm以下である。また、二次電子の集束スポットSPの最大スポット径は1mm以下である。
次に、本実施形態に係る荷電粒子検出器1に適用されるMCP10の具体的な構成、バイアス角、およびバイアス角方向を、図3および図4を用いて詳細に説明する。なお、図3(a)は、MCP10の構造を説明するための斜視図であり、図3(b)は、図3(a)中の矢印Aで示された方向から見たMCP10の断面図である。
図3(a)に示されたように、MCP10は板状の構造体(本体)を備え、複数のチャネルが規則正しく配列された電子増倍素子として知られている。すなわち、MCP10は、鉛ガラスを主成分とする薄型円盤状の構造体(本体)であり、環状の外周部11を除いて厚み方向(入力面10aから出力面10bへ向かう方向)に伸びた複数の貫通孔12が配置され、該構造体の両面には電極13が蒸着により形成されている。電極13は、MCP10の全面をカバーするのではなく、MCP10の外周部11を外周端から0.5mm~1.0mm露出させて形成されている。
複数の貫通孔12は、図3(b)に示されたように、MCP10の出力面10bに対して所定のバイアス角だけ傾斜した状態で並列配置されており、それらの内壁(チャネル壁)面上には二次電子放出面121が形成されている。また、「バイアス角」は、MCP10の出力面10bに垂直な基準軸AX2と、各貫通孔12の中心軸AX3により規定される。すなわち、複数の貫通孔12のうちから選択された貫通孔(基準貫通孔)について、該基準貫通孔の開口のうち出力面10bに一致した開口の中心O1を通る基準軸AX2を規定したとき、この開口中心O1において基準軸AX2と交差する基準貫通孔の中心軸AX3とのなす鋭角がバイアス角θである。
さらに、上述のように規定されたMCP10のバイアス角θに基づいてバイアス角方向が特定される。具体的には、図4(a)に示されたように、PD80の電子入射面800に一致する基準平面100において、基準貫通孔の開口のうちMCP10の出力面10bに一致する開口の中心O1を通りかつ該出力面10bに直交する基準軸AX2と、基準平面100との交点をO2とする。また、基準貫通孔の中心軸AX3と基準平面100との交点をO3とする。この時、基準平面100上の交点O2から交点O3へ向かう、矢印S3で示された方向がバイアス角方向となる。
具体的に、PD80をMCP10の中心軸AX1に対して偏心させる場合、PD80の電子入射面800の中心C1を、MCP10の中心軸AX1に対して、上述のように規定されたバイアス角方向S3に沿って移動させることにより実現される。また、フランジ部60bの開口60b1をMCP10の中心軸AX1に対して偏心させる場合、フランジ部60bの開口60b1の中心C2を、MCP10の中心軸AX1に対して、上述のように規定されたバイアス角方向S3に沿って移動させることにより実現される。
なお、本実施形態では、荷電粒子検出器1を組み立てる際に、MCP10のバイアス角θで規定されるバイアス角方向の確認を可能にするため、図4(b)に示されたように、MCP10にバイアス角方向を示すマーカ14が設けられている。図4(b)は、MCP10を入力面10aから見た、該MCP10の平面図である。図4(b)の平面図において、マーカ14の先端から当該MCP10の中心(中心軸AX1と入力面10aとの交点)へ向かう方向がバイアス角方向である。また、図4(b)において、斜線で示された領域Rは、荷電粒子が入射可能なMCP10の有効領域であり、本実施形態では、その面積が有効領域Rの面積よりも小さいPDが適用される。
(第1実施形態)
図5は、第1実施形態に係る荷電粒子検出器1Aの組み立て工程図であり、図6(a)は、図5に示された組立工程を経て得られた荷電粒子検出器1Aの斜視図である。また、図6(b)は、図6(a)中のX1-X1線に沿った当該荷電粒子検出器1Aの断面図である。なお、図6(b)中に示された軸AXC1は、PD80の電子入射面800の中心C1を通り、該電子入射面800に垂直な軸(MCP10の中心軸AX1に平行な軸)である。
図5は、第1実施形態に係る荷電粒子検出器1Aの組み立て工程図であり、図6(a)は、図5に示された組立工程を経て得られた荷電粒子検出器1Aの斜視図である。また、図6(b)は、図6(a)中のX1-X1線に沿った当該荷電粒子検出器1Aの断面図である。なお、図6(b)中に示された軸AXC1は、PD80の電子入射面800の中心C1を通り、該電子入射面800に垂直な軸(MCP10の中心軸AX1に平行な軸)である。
当該荷電粒子検出器1Aの組み立て工程では、MCP10からフォーカス電極60へ向かう方向(MCP10の中心軸AX1に沿った方向)に沿って順に、金属キャップ5、MCP入力側電極30a(以下、MCP-In電極という)、MCP10を収納する貫通孔20aを有するスペーサ20、MCP出力側電極30b(以下、MCP-Out電極という)、上側絶縁リング40a、メッシュ電極50、下側絶縁リング40b、および、フォーカス電極60が配置され、これら金属キャップ5、MCP-In電極30a、スペーサ20、MCP-Out電極30b、上側絶縁リング40a、メッシュ電極50、下側絶縁リング40bのそれぞれが、4本の樹脂ネジ6a~6dにより、フォーカス電極60に固定される。さらに、フォーカス電極60からPD80へ向かう方向(MCP10の中心軸AX1に沿った方向)に沿って順に、4個のスペーサ65a~65d、および、PD80が搭載されたブリーダ回路基板70が配置され、これらスペーサ65a~65d、ブリーダ回路基板70のそれぞれが、4本の樹脂ネジ91a~91dによりフォーカス電極60に固定される。
具体的に、金属キャップ5は、MCP10の有効領域R(図4(b)参照)を規定するための窓5aを有する金属ディスクであって、窓5aを取り囲むように、樹脂ネジ6a~6dを貫通させた状態で保持するための4個のネジ孔が設けられている。
MCP10は、ディスク形状を有するスペーサ20の貫通孔20a内に収納された状態で、MCP-In電極30aと、MCP-Out電極30bに挟まれる。その際、MCP-In電極30aは、MCP10の入力面10a上に形成された電極13に電気的に接続され、同様に、MCP-Out電極30bは、MCP10の出力面10b上に形成された電極13に電気的に接続される。なお、MCP-In電極30aは、MCP10の入力面10aを露出させるための開口30a1と、当該MCP-In電極30aを所定電位に設定するため、所定電圧の給電ピン92dに電気的に接続される給電部30a2を有する。さらに、MCP-In電極30aは、開口30a1を取り囲むように、樹脂ネジ6a~6dを貫通させた状態で保持するための4個のネジ孔が設けられている。一方、MCP-Out電極30bは、MCP10の出力面10bを露出させるための開口30b1と、当該MCP-Out電極30bを所定電位に設定するため、所定電圧の給電ピン92cに電気的に接続される給電部30b2を有する。さらに、MCP-Out電極30bは、開口30b1を取り囲むように、樹脂ネジ6a~6dを貫通させた状態で保持するための4個のネジ孔が設けられている。
メッシュ電極50は、金属メッシュ50aが配置された開口が設けられたディスク形状を有するとともに、当該メッシュ電極50を所定電位に設定するため、所定電圧の給電ピン92bに電気的に接続される給電部50bを有する。また、メッシュ電極50は、金属メッシュ50aを露出させるための開口40a1が設けられた上側絶縁リング40aと、金属メッシュ50aを露出させるための開口40b1が設けられた下側絶縁リング40bにより挟まれる。なお、上側絶縁リング40aは、MCP-Out電極30bとメッシュ電極50を電気的に分離するための絶縁スペーサとして機能し、下側絶縁リング40bは、メッシュ電極50とフォーカス電極60を電気的に分離するための絶縁スペーサとして機能する。これら上側絶縁リング40a、下側絶縁リング40bの双方にも、それぞれ開口40a1、40b1を取り囲むように4個のネジ孔が設けられている。
フォーカス電極60は、全体として円筒形状を有し、MCP10の中心軸AX1を軸中心とする。具体的に、フォーカス電極60は、MCP10の出力面10bからの二次電子を通過させるための貫通孔60a1(当該フォーカス電極60の入射側開口を規定している)を有する中空胴体部60aと、当該フォーカス電極60の出射側開口を規定するための開口60b1を有するフランジ部60bにより、構成されている。フランジ部60bは、中空胴体部60aに対して同電位になるよう接触しており、当該フランジ部60bを所定電位に設定するため、所定電圧の給電ピン92a、92cに電気的にそれぞれ接続される給電部60b2、60b3を有する。なお、中空胴体部60aの入射端側には、貫通孔60a1を取り囲むように、樹脂ネジ6a~6d用の4個のネジ孔が設けられる一方、出射端側にも、貫通孔60a1を取り囲むように、樹脂ネジ91a~91d用の4個のネジ孔が設けられている。フランジ部60bには、開口60b1を取り囲むように樹脂ネジ91a~91d用の4個のネジ孔が設けられている。
フランジ部60bとブリーダ回路基板70との間には、絶縁材料からなる4個のスペーサ65a~65dは配置されており、これらスペーサ65a~65dにも、樹脂ネジ91a~91dをそれぞれ貫通させるためのネジ孔が設けられている。ブリーダ回路基板70には、その主面上にPD80が搭載されるとともに、MCP-In電極30a、MCP-Out電極30b、メッシュ電極50、フランジ部60bに所定電圧を供給するための4本の給電ピン92a~92dが設けられている。なお、MCP-Out電極30bの給電部30b2とフランジ部60bの給電部60b3には、中空胴体部60aとともにこれらMCP-Out電極30b、フランジ部60bを同電位に設定するため、給電ピン92cが電気的に接続されている。また、ブリーダ回路基板70には、PD80が搭載された面とは反対側の面にPD80からの信号を取り出すためのSMA(Sub Miniature type A)コネクタが取り付けられる一方、給電ピン92a~92dそれぞれに所定の電圧を供給するためのブリーダ回路90が作り込まれている。
第1実施形態に係る荷電粒子検出器1Aは、金属キャップ5、MCP-In電極30a、MCP10を収納したスペーサ20、MCP-Out電極30b、上側絶縁リング40a、メッシュ電極50、および、下側絶縁リング40bを、4本の樹脂ネジ6a~6dにより中空胴体部60a(フォーカス電極60の一部を構成する)の入射端側に固定する一方、フランジ部60b、4個のスペーサ65a~65d、および、ブリーダ回路基板70を、4本の樹脂ネジ91a~91dにより中空胴体部60aの出射端側に固定することにより、得られる。なお、給電構造の複雑化を避けるため、この第1実施形態では、フォーカス電極60が、MCP10の出力面10bと同電位に設定されているが、該フォーカス電極60は、PD80の電子入射面800と同電位に設定されてもよい。このように、フォーカス電極60の電位を、MCP10の出力面10bまたはPD80(電子入射面800)の電位に一致させることで、より少ない電源で当該荷電粒子検出器の駆動が可能になる。
次に、上述のように組み立てられる荷電粒子検出器において、PD80の偏心配置およびフランジ部60bにおける開口60b1の偏心配置について、図7~図12を用いて詳細に説明する。
まず、図7(a)は、比較例に係る荷電粒子検出器において、MCP10-PD80間の位置関係を示す平面図(MCP10の入力面10aから見たMCP10の平面図)である。係る荷電粒子検出器は、図5に示された組み立て工程を経て得られる。また、図7(b)は、図7(a)中のX2-X2線に沿った、比較例に係る荷電粒子検出器の断面図に相当し、MCP10とPD80との間の空間における等電位線および二次電子の軌道が示されている。
この比較例に係る荷電粒子検出器では、MCP10に設けられたマーカ14により、該マーカ14からMCP10の中心に向かう方向がバイアス角方向であることが分かる。一方、PD10は、電子入射面800の中心C1とMCP10の中心とが一致するように配置されており、MCP10のバイアス角による電子軌道の影響は考慮されていない。そのため、図7(b)に示されたように、MCP10の出力面10bから基準平面100に到達した二次電子の集束スポットは、MCP10の中心軸AX1からずれ、基準平面100に到達した二次電子の一部がPD80により受光されないこととなる。
これに対し、第1実施形態に係る荷電粒子検出器1Aの一例において、PD80をMCP10の中心軸AX1に対して偏心配置した場合が図8に示されている。すなわち、図8(a)は、図5に示された組み立て工程を経て得られる、この例の荷電粒子検出器1Aの一例として、MCP10-PD80間の位置関係を示す平面図(MCP10の入力面10aから見たMCP10の平面図)である。また、図8(b)は、図8(a)中のX3-X3線に沿った、荷電粒子検出器1Aの断面図に相当し、MCP10とPD80との間の空間における等電位線および二次電子の軌道が示されている。
この例に係る荷電粒子検出器1Aでは、MCP10に設けられたマーカ14により、該マーカ14からMCP10の中心に向かう方向がバイアス角方向であることが分かり、PD10は、電子入射面800の中心C1がマーカ14で指示されたバイアス角方向に配置されている。そのため、図8(b)に示されたように、MCP10の出力面10bから基準平面100に到達した二次電子の集束スポットが、MCP10の中心軸AX1からずれた場合であっても、基準平面100に到達した二次電子の大部分が効率よくPD80により受光される。また、この構成は小型のPDの適用も可能にする。
続いて、図8に示された荷電粒子検出器1A(PD80が偏心配置された構成)の例について、より具体的なシミュレーション結果を示す。図9および図10は、いずれもPD80がMCP10の中心軸AX1に対して偏心配置された例であるが、図9の例は、フォーカス電極60の一部を構成する中空胴体部60aが単一部材で構成された荷電粒子検出器の例である。特に、図9(a)は、単一部材の中空胴体部60aを有する荷電粒子検出器の具体的な断面構造を示し、図9(b)は、図9(a)に示された荷電粒子検出器における二次電子の軌道のシミュレーション結果を示す。一方、図10には、フォーカス電極60の一部を構成する中空胴体部60aがMCP10側に位置する第1胴体部600a(中空部材)と、PD80側に位置する第2胴体部600b(中空部材)により構成された荷電粒子検出器の例である。特に、図10(a)は、中空胴体部60aが第1胴体部600aと第2胴体部600bで構成された荷電粒子検出器の具体的な断面構造を示し、図10(b)は、図10(a)に示された荷電粒子検出器における二次電子の軌道のシミュレーション結果を示す。
図9の例では、図9(a)に示されたように、MCP10における有効領域Rの直径は10mmである。メッシュ電極50の厚みは0.5mmである。MCP10とメッシュ電極50との間隔は3mmである。フォーカス電極60において、中空胴体部60aの内径は22mmであり、フランジ部60bの開口60b1の直径は16mmである。なお、フランジ部60bの厚みは0.5mmである。また、中空胴体部60aの外周径は34mmである。この例において、MCP10の中心軸AX1に対するPD80の電子入射面800の中心C1(図中、AXC1は電子入射面800の中心軸)とのずれ量は0.9mmである(図9(b))。
一方、図10の例では、フォーカス電極60の中空胴体部60aは、MCP10側に配置される第1胴体部600aと、PD80側に配置される第2胴体部600bで構成されている。第1胴体部600aは、フランジ部60bと電気的に接触した状態で、MCP-Out電極30bと同電位に設定されている。第2胴体部600bは、第1胴体部600aとは逆側にPD80を搭載した状態で、該PD80と同電位に設定されている。
図10(a)に示されたように、MCP10における有効領域Rの直径は25mmである。メッシュ電極50の厚みは0.5mmである。MCP10とメッシュ電極50との間隔は3mmである。フォーカス電極60の中空胴体部60aの一部を構成する第1胴体部600aの内径は50mmであり、フランジ部60bの開口60b1の直径は40mmである。なお、第1胴体部600aとフランジ部60bを合わせた厚みは20.5mmである。また、第2胴体部600bの厚みは27mm、第1および第2胴体部600a、600bの外周径はともに70mmである。さらに、MCP10の中心軸AX1に対するPD80の電子入射面800の中心C1(図中、AXC1は電子入射面800の中心軸)とのずれ量は1.5mmである(図10(b))。
(第2実施形態)
図11および図12は、第2実施形態に係る荷電粒子検出器の特徴的な構造として、MCP10の中心軸AX1上に電子入射面800の中心が位置するようPD80が配置された構成において、フォーカス電極60のフランジ部60bにおける開口60b1の中心をMCP10の中心軸AX1に対して偏心させた構成を説明するための図である。なお、この第2実施形態に係る荷電粒子検出器の構成は、フォーカス電極60におけるフランジ部60bの構造を除き、上述の第1実施形態に係る荷電粒子検出器1A(図5、図6)と同様である。
図11および図12は、第2実施形態に係る荷電粒子検出器の特徴的な構造として、MCP10の中心軸AX1上に電子入射面800の中心が位置するようPD80が配置された構成において、フォーカス電極60のフランジ部60bにおける開口60b1の中心をMCP10の中心軸AX1に対して偏心させた構成を説明するための図である。なお、この第2実施形態に係る荷電粒子検出器の構成は、フォーカス電極60におけるフランジ部60bの構造を除き、上述の第1実施形態に係る荷電粒子検出器1A(図5、図6)と同様である。
すなわち、図11は、第2実施形態に係る荷電粒子検出器の特徴的な構成として、フォーカス電極60のうち、MCP10の中心軸AX1に対して開口60b1の中心が偏心しているフランジ部60bの構造を説明するための図である。通常、フランジ部60bの開口60b1は、図11(a)に示されたように、当該荷電粒子検出器が組み立てられたときに、MCP10の中心軸AX1と開口60b1の中心C2が一致するよう形成される。しかしながら、この第2実施形態では、図11(b)に示されたように、MCP10の中心軸AX1に対して開口60b1の中心C2が、MCP10のマーカ14により指示されるバイアス角方向に偏心している。
上述の構成において、MCP10-PD80間の位置関係が図12(a)に示され、MCP10とPD80との間の空間における等電位線および二次電子の軌道が図12(b)に示されている。なお、図12(a)は、MCP10の入力面10a側から見たMCP10の平面図であり、図12(b)は、図12(a)中のX4-X4線に沿った当該荷電粒子検出器の断面図に相当する。図12(b)から分かるように、この第2実施形態に係る荷電粒子検出器において、フランジ部60bの一方(図12(b)中の左側)が中空胴体部60aの貫通孔60a1に長さD1だけ飛び出しているのに対し、フランジ部60bの他方(図12(b)中の右側)が長さD2(>D1)だけ飛び出す構造となっており、この結果、開口60b1の中心C2がMCP10の中心軸AX1に対して、MCP10のマーカ14で指示されるバイアス角方向に偏心した状態が実現されている。
すなわち、図12(b)に示されたように、MCP10の出力面10bから出射された二次電子の軌道は、一旦MCP10のバイアス角の影響によりバイアス角方向に大きく偏心するが、フランジ部60bの開口60b1により、二次電子の集束スポットの位置がMCP10の中心軸AX1側に近づくよう調節されている。
(第3実施形態)
図13は、第3実施形態に係る荷電粒子検出器の断面構造を説明するための図であり、この第3実施形態に係る荷電粒子検出器1Bは、フォーカス電極60とブリーダ回路基板70との接続構造を除き、上述の第1実施形態に係る荷電粒子検出器1Aと同様の構造を有する。すなわち、この第3実施形態に係る荷電粒子検出器1Bは、質量分析装置等の真空チャンバに固定された状況でのメンテナンス作業の向上を目的とし、PD80のみを容易に交換できる構造を備える。なお、図13(a)は、真空チャンバ200の開口210に取り付けられた当該第3実施形態に係る荷電粒子検出器1Bの構成を示す断面図である。図13(b)は、真空チャンバ200からPD80が搭載されたブリーダ回路基板70だけを取り外した状態を示す、断面図である。また、図13(a)および図13(b)は、図6(a)のX5-X5線に沿った断面図に対応しており、図中の軸AXC1は、PD80の電子入射面800の中心C1を通り、該電子入射面800に垂直な軸(MCP10の中心軸AX1に平行な軸)である。
図13は、第3実施形態に係る荷電粒子検出器の断面構造を説明するための図であり、この第3実施形態に係る荷電粒子検出器1Bは、フォーカス電極60とブリーダ回路基板70との接続構造を除き、上述の第1実施形態に係る荷電粒子検出器1Aと同様の構造を有する。すなわち、この第3実施形態に係る荷電粒子検出器1Bは、質量分析装置等の真空チャンバに固定された状況でのメンテナンス作業の向上を目的とし、PD80のみを容易に交換できる構造を備える。なお、図13(a)は、真空チャンバ200の開口210に取り付けられた当該第3実施形態に係る荷電粒子検出器1Bの構成を示す断面図である。図13(b)は、真空チャンバ200からPD80が搭載されたブリーダ回路基板70だけを取り外した状態を示す、断面図である。また、図13(a)および図13(b)は、図6(a)のX5-X5線に沿った断面図に対応しており、図中の軸AXC1は、PD80の電子入射面800の中心C1を通り、該電子入射面800に垂直な軸(MCP10の中心軸AX1に平行な軸)である。
一般に荷電粒子検出器のゲイン劣化(ライフエンド)の原因は、主としてPD80の、電子打込みゲインの低下である。当該荷電粒子検出器1Bでイオンを検出するとPD80に照射された電子が、該PD80上にアモルファスカーボンを堆積させる。したがって、ライフエンドとなったMCP10とPD80の組み合わせにより構成では、PD80のみを交換することでゲインを復活させることができる。
図13(a)に示されたように、当該荷電粒子検出器1BのうちMCP10とフォーカス電極60を含む装置上段は、真空チャンバ200の開口210に挿入された状態で、該開口210を取り囲むように当該真空チャンバ200の外側に設置された樹脂フランジ(絶縁フランジ)300に、4本の樹脂ネジ(図13(a)では2本の樹脂ネジ91b、91dのみが示されている)により固定されている。さらに、PD80が搭載されたブリーダ回路基板70を含む装置下段が、4本の樹脂ネジ(図中、93b、93dのみ示されている)により、真空チャンバ200の外側から樹脂フランジ300に固定されている。なお、ブリーダ回路基板70には、当該荷電粒子検出器1Bを駆動するための給電ピン92a~92dや信号を出力するためのSMAコネクタ95が取り付けられており、これらが、真空フランジの役割を担っている。
上述の構成により、装置上段は、真空チャンバ200の内側(真空側)に位置する一方、装置下段は真空チャンバ200の外側(大気側)に位置することとなる。なお、真空チャンバ200と樹脂フランジ300の接触部分には、真空チャンバ200内の気密性を維持するため、密閉用のOリング350が取り付けられている。また、同様の理由で、樹脂フランジ300とブリーダ回路基板70との間にもOリング350が取り付けられている。
上述のように当該荷電粒子検出器1Bが真空チャンバ200の開口210に取り付けられた状態(図13(a))から、PD80を交換する場合、図13(b)に示されたように、樹脂フランジ300から樹脂ネジ93b、93dを取り外すことにより、PD80が搭載されたブリーダ回路基板70を真空チャンバ200から分離することが可能になる。分離後は、上述の分離作業とは逆の手順、すなわち、取り外されたブリーダ回路基板70に替え、正常動作可能なPD80が搭載された別のブリーダ回路基板が、樹脂ネジ93b、93dにより樹脂フランジ300に取り付けられる。
以上の本発明の説明から、本発明を様々に変形しうることは明らかである。そのような変形は、本発明の思想および範囲から逸脱するものとは認めることはできず、すべての当業者にとって自明である改良は、以下の請求の範囲に含まれるものである。
1、1A、1B…荷電粒子検出器、10…MCP(マイクロチャネルプレート)、12…貫通孔、121…二次電子放出面、30a…MCP入力側電極(MCP-In)、30b…MCP出力側電極(MCP-Out)、50…メッシュ電極、60…フォーカス電極、60a…中空胴体部、600a…第1胴体部、600b…第2胴体部、60b…フランジ部、60b1…開口、80…PD(電子衝撃型ダイオード)、800…電子入射面、70…ブリーダ回路基板(基板)。
Claims (10)
- 荷電粒子が入射される入力面と、二次電子が出射される出力面と、それぞれが前記入力面と前記出力面を連絡するとともにその内壁上に二次電子放出面を有する複数の貫通孔であって、それぞれの中心軸が少なくとも前記出力面に対して鋭角で規定されるバイアス角だけ傾斜するよう配置された複数の貫通孔と、を有するマイクロチャネルプレートと、
前記マイクロチャネルプレートに対面するよう配置され、その面積が前記マイクロチャネルプレートの有効領域の面積よりも小さい電子入射面を有する電子衝撃型ダイオードと、
前記マイクロチャネルプレートと前記電子衝撃型ダイオードとの間に設けられ、前記マイクロチャネルプレートから前記電子衝撃型ダイオードへ向かう二次電子の軌道を連続的に取り囲む形状を有するフォーカス電極と、
を備えた荷電粒子検出器であって、
前記電子入射面に一致する基準平面において、前記複数の貫通孔から選択された基準貫通孔の開口のうち前記出力面に一致する開口の中心を通りかつ前記出力面に直交する基準軸と前記基準平面との交点から、前記基準貫通孔の中心軸と前記基準平面との交点へ向かう方向をバイアス角方向と規定するとき、
前記有効領域の中心を通りかつ前記出力面に直交する軸である前記マイクロチャネルプレートの中心軸と前記基準平面との交点に対して、前記電子入射面の中心が前記バイアス角方向に沿って所定距離だけずれるよう、前記電子衝撃型ダイオードが偏心配置されていることを特徴とする荷電粒子検出器。 - 荷電粒子が入射される入力面と、二次電子が出射される出力面と、それぞれが前記入力面と前記出力面を連絡するとともにその内壁上に二次電子放出面を有する複数の貫通孔であって、それぞれの中心軸が少なくとも前記出力面に対して鋭角で規定されるバイアス角だけ傾斜するよう配置された複数の貫通孔と、を有するマイクロチャネルプレートと、
前記マイクロチャネルプレートに対面するよう配置され、その面積が前記マイクロチャネルプレートの有効領域の面積よりも小さい電子入射面を有する電子衝撃型ダイオードと、
前記マイクロチャネルプレートと前記電子衝撃型ダイオードとの間に設けられ、前記マイクロチャネルプレート側に位置する第1開口と、前記電子衝撃型ダイオード側に位置する第2開口と、前記マイクロチャネルプレートから前記電子衝撃型ダイオードへ向かう二次電子の軌道を連続的に取り囲む形状を有するフォーカス電極と、
を備えた荷電粒子検出器であって、
前記電子入射面に一致する基準平面において、前記複数の貫通孔から選択された基準貫通孔の開口のうち前記出力面に一致する開口の中心を通りかつ前記出力面に直交する基準軸と前記基準平面との交点から、前記基準貫通孔の中心軸と前記基準平面との交点へ向かう方向をバイアス角方向と規定するとき、
前記有効領域の中心を通りかつ前記出力面に直交する軸である前記マイクロチャネルプレートの中心軸と前記基準平面との交点に対して、前記第2開口の中心が前記バイアス角方向に沿って所定距離だけずれるよう、前記フォーカス電極の少なくとも一部が偏心配置されていることを特徴とする荷電粒子検出器。 - 前記フォーカス電極は、前記マイクロチャネルプレートの前記出力面と同電位に設定されていることを特徴とする請求項1または2に記載の荷電粒子検出器。
- 前記フォーカス電極は、前記電子衝撃型ダイオードの前記電子入射面と同電位に設定されていることを特徴とする請求項1または2に記載の荷電粒子検出器。
- 前記マイクロチャネルプレートと前記フォーカス電極との間に設けられたメッシュ電極をさらに備えたことを特徴とする請求項1または2に記載の荷電粒子検出器。
- 前記電子衝撃型ダイオードにおける前記電子入射面の最大幅は、3mm以下であることを特徴とする請求項1または2に記載の荷電粒子検出器。
- 前記マイクロチャネルプレートの前記出力面から前記電子衝撃型ダイオードの前記電子入射面に到達する前記二次電子のスポット径は、1mm以下であることを特徴とする請求項1または2に記載の荷電粒子検出器。
- 前記フォーカス電極は、前記マイクロチャネルプレートから前記電子衝撃型ダイオードへ向かう二次電子の軌道を連続的に取り囲む胴体部と、前記第2開口の中心位置および大きさを規定するためのフランジ部材と、で構成されていることを特徴とする請求項1または2に記載の荷電粒子検出器。
- 前記胴体部は、前記マイクロチャネルプレートから前記電子衝撃型ダイオードに向かって順に配置された複数の中空部材で構成されていることを特徴とする請求項8に記載の荷電粒子検出器。
- 前記電子衝撃型ダイオードがその主面上に搭載された基板と、
前記マイクロチャネルプレートから前記電子衝撃型ダイオードに向かう二次電子を通過させるための開口を有し、前記フォーカス電極と前記基板との間に配置された樹脂フランジと、をさらに備えたことを特徴とする請求項1または2に記載の荷電粒子検出器。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US15/740,164 US10312068B2 (en) | 2015-07-02 | 2016-06-30 | Charged particle detector |
CN201680037897.2A CN107710380B (zh) | 2015-07-02 | 2016-06-30 | 带电粒子检测器 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015-133538 | 2015-07-02 | ||
JP2015133538A JP6452561B2 (ja) | 2015-07-02 | 2015-07-02 | 荷電粒子検出器 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
WO2017002936A1 true WO2017002936A1 (ja) | 2017-01-05 |
Family
ID=57608271
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PCT/JP2016/069496 WO2017002936A1 (ja) | 2015-07-02 | 2016-06-30 | 荷電粒子検出器 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10312068B2 (ja) |
JP (1) | JP6452561B2 (ja) |
CN (1) | CN107710380B (ja) |
WO (1) | WO2017002936A1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019145389A (ja) * | 2018-02-22 | 2019-08-29 | 浜松ホトニクス株式会社 | イオン検出器 |
GB2580799A (en) * | 2018-06-01 | 2020-07-29 | Micromass Ltd | An outer source assembly and associated components |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6959882B2 (ja) * | 2018-02-22 | 2021-11-05 | 浜松ホトニクス株式会社 | イオン検出器 |
JP7021012B2 (ja) * | 2018-06-22 | 2022-02-16 | 浜松ホトニクス株式会社 | Mcpアセンブリおよび荷電粒子検出器 |
JP7081995B2 (ja) * | 2018-06-22 | 2022-06-07 | 浜松ホトニクス株式会社 | Mcpアセンブリおよび荷電粒子検出器 |
JP7174663B2 (ja) * | 2019-04-01 | 2022-11-17 | 浜松ホトニクス株式会社 | イオン検出器 |
JP7333292B2 (ja) * | 2020-06-11 | 2023-08-24 | 浜松ホトニクス株式会社 | イオン検出器 |
JP7330138B2 (ja) | 2020-06-11 | 2023-08-21 | 浜松ホトニクス株式会社 | イオン検出器 |
CN111965688B (zh) * | 2020-08-12 | 2021-04-09 | 中国科学院国家空间科学中心 | 一种基于碳膜二次电子产额的原子鉴别系统及方法 |
CN112255666B (zh) * | 2020-10-23 | 2022-11-18 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 中子灵敏微通道板 |
US11875984B2 (en) * | 2021-05-11 | 2024-01-16 | Inficon, Inc. | Time-of-flight mass spectrometer assembly with a secondary flange |
CN115020184B (zh) * | 2022-05-09 | 2024-04-16 | 北方夜视科技(南京)研究院有限公司 | 空间探测用紧凑轻型环形微通道板组件 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0773847A (ja) * | 1992-12-17 | 1995-03-17 | Intevac Inc | 集束された電子衝撃検出器 |
JP2007535104A (ja) * | 2004-04-26 | 2007-11-29 | マイクロマス ユーケー リミテッド | 質量分析計 |
JP2011129362A (ja) * | 2009-12-17 | 2011-06-30 | Institute Of Physical & Chemical Research | マイクロチャネルプレート組立体及びマイクロチャネルプレート検出器 |
JP2014078388A (ja) * | 2012-10-10 | 2014-05-01 | Hamamatsu Photonics Kk | Mcpユニット、mcp検出器および飛行時間型質量分析器 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AU2001269921A1 (en) | 2000-06-28 | 2002-01-08 | The Johns Hopkins University | Time-of-flight mass spectrometer array instrument |
JP6076729B2 (ja) | 2012-01-25 | 2017-02-08 | 浜松ホトニクス株式会社 | イオン検出装置 |
-
2015
- 2015-07-02 JP JP2015133538A patent/JP6452561B2/ja active Active
-
2016
- 2016-06-30 WO PCT/JP2016/069496 patent/WO2017002936A1/ja active Application Filing
- 2016-06-30 US US15/740,164 patent/US10312068B2/en active Active
- 2016-06-30 CN CN201680037897.2A patent/CN107710380B/zh active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0773847A (ja) * | 1992-12-17 | 1995-03-17 | Intevac Inc | 集束された電子衝撃検出器 |
JP2007535104A (ja) * | 2004-04-26 | 2007-11-29 | マイクロマス ユーケー リミテッド | 質量分析計 |
JP2011129362A (ja) * | 2009-12-17 | 2011-06-30 | Institute Of Physical & Chemical Research | マイクロチャネルプレート組立体及びマイクロチャネルプレート検出器 |
JP2014078388A (ja) * | 2012-10-10 | 2014-05-01 | Hamamatsu Photonics Kk | Mcpユニット、mcp検出器および飛行時間型質量分析器 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019145389A (ja) * | 2018-02-22 | 2019-08-29 | 浜松ホトニクス株式会社 | イオン検出器 |
GB2580799A (en) * | 2018-06-01 | 2020-07-29 | Micromass Ltd | An outer source assembly and associated components |
GB2580799B (en) * | 2018-06-01 | 2021-02-03 | Micromass Ltd | A lens assemby |
US12106952B2 (en) | 2018-06-01 | 2024-10-01 | Micromass Uk Limited | Outer source assembly and associated components |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20180174810A1 (en) | 2018-06-21 |
JP6452561B2 (ja) | 2019-01-16 |
CN107710380B (zh) | 2019-06-18 |
CN107710380A (zh) | 2018-02-16 |
US10312068B2 (en) | 2019-06-04 |
JP2017016918A (ja) | 2017-01-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6452561B2 (ja) | 荷電粒子検出器 | |
JP6462526B2 (ja) | 荷電粒子検出器およびその制御方法 | |
EP2297763B1 (en) | Charged particle detection system and method | |
US20060011826A1 (en) | Focal plane detector assembly of a mass spectrometer | |
JP5345784B2 (ja) | 遷移時間を小さくする光電子増倍管 | |
US8022606B2 (en) | Electron multipler and electron detector | |
US5883466A (en) | Electron tube | |
JP6535250B2 (ja) | 荷電粒子検出器およびその制御方法 | |
US20080054180A1 (en) | Apparatus and method of detecting secondary electrons | |
US20240272312A1 (en) | Charged particle detector assembly | |
JP5479946B2 (ja) | マイクロチャンネルプレートアセンブリ | |
US6198221B1 (en) | Electron tube | |
JP2005216742A (ja) | マイクロチャンネルプレートを用いた検出器 | |
JP4832898B2 (ja) | 電子管 | |
CN113808904A (zh) | 离子检测器 | |
US20080035855A1 (en) | Particle detector | |
US20230005706A1 (en) | Charged particle device, detector, and methods | |
EP4170695A1 (en) | Detector assembly, charged particle device, apparatus, and methods | |
EP4117016A1 (en) | Charged particle detector | |
CN118266056A (zh) | 检测器组件、带电粒子设备、装置和方法 | |
CA3235823A1 (en) | Detector assembly, charged particle device, apparatus, and methods | |
US20060255283A1 (en) | Apparatus for amplifying a stream of charged particles | |
JP2006092877A (ja) | ストリーク管 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
121 | Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application |
Ref document number: 16818044 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |
|
WWE | Wipo information: entry into national phase |
Ref document number: 15740164 Country of ref document: US |
|
NENP | Non-entry into the national phase |
Ref country code: DE |
|
122 | Ep: pct application non-entry in european phase |
Ref document number: 16818044 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |