WO2017002632A1 - ディスプレイ用ガラス基板の製造方法 - Google Patents

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WO2017002632A1
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sheet glass
cooling rate
glass
cooling
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公彦 中嶋
祐介 塩地
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ＡｖａｎＳｔｒａｔｅ株式会社
アヴァンストレート コリア インコーポレイテッド
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    • Y02P40/57—Improving the yield, e-g- reduction of reject rates

Definitions

  • the present invention relates to a method for manufacturing a glass substrate for display.
  • the glass substrate for display is thermally contracted by heat treatment. At this time, if the thermal contraction rate of the glass substrate is large, a pitch shift in which the arrangement of elements formed on the surface of the glass substrate is shifted easily occurs. For this reason, from the viewpoint of reducing the pitch deviation, the glass substrate for display is required to have a small thermal shrinkage rate during the heat treatment.
  • Methods for reducing the thermal shrinkage of the glass substrate include (1) adjusting the glass composition to increase the strain point of the glass, and (2) reducing the cooling rate of the sheet glass after the molding step.
  • a technique for reducing the thermal shrinkage rate of a glass substrate a technique for improving the glass composition so that the strain point is 680 ° C. or higher is known (Patent Document 1).
  • the cooling step includes a first cooling step of cooling the sheet glass until the temperature of the central region of the formed sheet glass reaches the annealing point, and the temperature of the central region is changed from the annealing point to the strain point of ⁇ 50 ° C.
  • This is divided into a second cooling step in which the sheet glass is cooled until the temperature reaches the point, and a third cooling step in which the temperature in the central region is cooled from the strain point of ⁇ 50 ° C. to the strain point of ⁇ 200 ° C.
  • the average cooling rate in the first cooling step is made faster than the average cooling rate in the third cooling step
  • the average cooling rate in the third cooling step is made faster than the average cooling rate in the second cooling step.
  • Patent Document 2 The technology is known (Patent Document 2).
  • Patent Document 1 if the composition is adjusted so that the strain point becomes high, problems such as devitrification and difficult melting are likely to occur, so there is a limit to increasing the strain point. In addition, when producing a glass substrate by the overflow down draw method, there is a problem that if the cooling rate of the sheet glass is reduced in the cooling step performed after the molding step, the slow cooling path becomes long and the cost of the slow cooling device increases. .
  • the average cooling rate in the first cooling step is made faster than the average cooling rate in the third cooling step, and the average cooling rate in the third cooling step is changed to the average cooling rate in the second cooling step. Even if it is faster than the speed, there is a problem that there is a limit to the reduction of the heat shrinkage rate, which is not sufficient.
  • an object of the present invention is to provide a method for producing a glass substrate for display, which can reduce the thermal shrinkage rate of the glass substrate in comparison with the conventional method in the cooling step performed after molding.
  • the first aspect of the present invention is a method for producing a glass substrate for display.
  • the manufacturing method is A molding step of molding the molten glass into a sheet glass by a downdraw method; A cooling step of cooling until the temperature of the central portion in the width direction orthogonal to the flow direction of the sheet glass reaches 300 ° C. when the formed sheet glass is flowed.
  • a cooling rate of a central region that is an inner side of the sheet glass in the width direction than both ends of the sheet glass in the width direction and includes the center portion, and the temperature of the center portion Is lower than the average cooling rate in the central region in the temperature region other than the temperature region in the cooling step.
  • the cooling step includes After being formed into the sheet glass, when the temperature of the center part in the width direction of the sheet glass is equal to or higher than the annealing point, the sheet glass is located on the inner side in the width direction of the sheet glass than both ends in the width direction.
  • the third average cooling rate is preferably smaller than the first average cooling rate and the second average cooling rate.
  • the cooling step further includes a fourth cooling step of cooling the central region at a fourth average cooling rate when the temperature of the central portion is less than 300 ° C. and 100 ° C. or more,
  • the fourth average cooling rate is preferably larger than the third average cooling rate.
  • the 2nd aspect of this invention is a manufacturing method of the glass substrate for a display for performing heat processing at predetermined processing temperature and forming a thin film on the surface.
  • the manufacturing method is A molding step of molding the molten glass into a sheet glass by a downdraw method; When flowing the formed sheet glass, the temperature of the central portion in the width direction perpendicular to the flow direction of the sheet glass is lower by 250 ° C. than the processing temperature, that is, (the processing temperature ⁇ 250 ° C.). And a cooling step for cooling to a low temperature.
  • a cooling rate of a central region that is an inner side of the sheet glass in the width direction than both ends of the sheet glass in the width direction and includes the center portion, and the temperature of the center portion Is less than a temperature lower by 100 ° C. than the treatment temperature, that is, less than (the treatment temperature ⁇ 100 ° C.), more than a temperature lower than the treatment temperature by 250 ° C.
  • the cooling rate is smaller than the average cooling rate of the central region in the temperature region other than the temperature region in the cooling step.
  • the cooling step includes After being formed into the sheet glass, when the temperature of the center part in the width direction of the sheet glass is equal to or higher than the annealing point, the sheet glass is located on the inner side in the width direction of the sheet glass than both ends in the width direction, A first cooling step of cooling a central region, which is a region including the central portion, at a first average cooling rate; When the temperature of the central portion is lower than the annealing point and not less than 100 ° C. lower than the treatment temperature, that is, not less than (the treatment temperature ⁇ 100 ° C.), the central region is cooled at the second average cooling rate. A second cooling step; The temperature of the central portion is less than 100 ° C.
  • a third cooling step of cooling the central region at a third average cooling rate is preferably smaller than the first average cooling rate and the second average cooling rate.
  • the temperature of the central part is further lower than a temperature lower by 250 ° C. than the processing temperature, that is, the processing temperature (° C.) is lower than ⁇ 250 ° C., and is equal to or higher than a temperature lower than the processing temperature by 450 ° C.
  • the first average cooling rate is larger than the second average cooling rate.
  • the third average cooling rate is 5.0 ° C./second or less.
  • the thermal shrinkage rate of the glass substrate is 15 ppm or less.
  • the said heat shrinkage rate is a value calculated
  • Thermal shrinkage (ppm) ⁇ Shrinkage of glass substrate after heat treatment / length of glass substrate before heat treatment ⁇ ⁇ 10 6
  • the strain point of the glass substrate is preferably 680 ° C. or higher.
  • the heat shrinkage rate can be reduced as compared with the conventional method.
  • treatment temperature ⁇ X ° C. represents a temperature X ° C. lower than the treatment temperature (° C.) (X is a positive number).
  • FIG. 1 is a diagram illustrating an example of steps of a method for manufacturing a display glass substrate according to the present embodiment
  • FIG. 2 is a schematic diagram illustrating an example of a glass substrate manufacturing apparatus used in the method for manufacturing a display glass substrate according to the present embodiment.
  • the glass substrate manufacturing method mainly includes a melting step S1, a clarification step S2, a forming step S3, and a cooling step S4.
  • the melting step S1 is a step in which the glass raw material is melted.
  • the glass raw material is prepared so as to have a desired composition, and then charged into the melting apparatus 11.
  • the glass raw material is melted by the melting device 11 to become a molten glass FG.
  • the melting temperature is adjusted according to the type of glass. In the present embodiment, heating is performed so that the maximum temperature of the molten glass FG in the melting step S1 is 1500 ° C. to 1650 ° C.
  • the molten glass FG is sent to the refining device 12 through the upstream pipe 23.
  • the clarification step S2 is a step of removing bubbles in the molten glass FG.
  • the molten glass FG from which bubbles have been removed in the refining device 12 is then sent to the forming device 40 through the downstream pipe 24.
  • the forming step S3 is a step of forming the molten glass FG into a sheet glass SG that is a sheet-like glass. Specifically, the molten glass FG overflows from the molded body 41 after being continuously supplied to the molded body 41 (see FIG. 3) included in the molding apparatus 40. The overflowed molten glass FG flows down along the surface of the molded body 41. The molten glass FG is then merged at the lower end of the molded body 41 and formed into a sheet glass SG.
  • Cooling step S4 is a step of cooling the sheet glass SG.
  • the glass sheet is cooled to a temperature close to room temperature through the cooling step S4.
  • the thickness (plate thickness) of the glass substrate, the amount of warpage of the glass substrate, and the plane strain value of the glass substrate are determined according to the cooling state.
  • the cutting step is a step of cutting the sheet glass SG having a temperature close to room temperature into a predetermined size by the cutting device 90.
  • size at the cutting process turns into a glass substrate through processes, such as an end surface process, after that.
  • the glass substrate is shipped to a panel manufacturer or the like.
  • a panel manufacturer forms a device on the surface of a glass substrate to manufacture a display.
  • the sheet glass SG cooled in the cooling step S4 may be shipped as it is after being packed as it is.
  • a panel maker manufactures a display by forming an element on the surface of the sheet glass SG and then cutting the sheet glass SG into a predetermined size and processing the end face.
  • the width direction of the sheet glass SG means a direction that intersects a direction (flow direction) in which the sheet glass SG flows down among the in-plane directions of the surface of the sheet glass SG, that is, a horizontal direction. To do.
  • FIGS. 3 is a cross-sectional view of the molding apparatus 40.
  • FIG. 4 is a side view of the molding apparatus 40.
  • the forming apparatus 40 has a path through which the sheet glass SG passes and a space surrounding the path.
  • the space surrounding the passage is configured by, for example, a molded body chamber 20, a first cooling chamber 30, and a second cooling chamber 80.
  • the temperature along the flow direction of the sheet glass SG when the sheet glass SG flows downward from the position where the molten glass FG merges at the lower end 41a of the formed body 41 and the sheet glass SG is formed.
  • the average cooling rate in the temperature region where the temperature of the central portion C (see FIG. 4) of the sheet glass SG is less than 450 ° C. and 300 ° C. or higher is, as will be described later, of the central portion C in the cooling step S4.
  • the temperature is smaller than the average cooling rate in the temperature region other than the temperature region where the temperature is less than 450 ° C. and 300 ° C. or more. This point will be described later.
  • the both ends of the width direction of the sheet glass SG mean the area
  • region inside the width direction of a part is called center area
  • Both end portions R and L of the sheet glass SG are regions including a target portion to be cut and removed after manufacturing, whereas the central region CA of the sheet glass SG is a region including a target portion to make the plate thickness uniform. It is.
  • the central area CA of the sheet glass SG is, for example, within 85% of the width in the width direction of the sheet glass SG from the center in the width direction of the sheet glass SG.
  • the center part C refers to the center position in the width direction of the sheet glass SG.
  • the average cooling rate is the average cooling rate of the central area CA including the center portion C, and the sheet glass SG passes through this temperature range with respect to the temperature difference in the flow direction at the same position in the width direction in the defined temperature range. It is the value divided by the transit time.
  • a temperature range represented as less than X1 ° C and greater than or equal to X2 ° C such as a temperature range less than 450 ° C and greater than or equal to 300 ° C
  • the temperature difference at the center C is treated as X1-X2 (° C).
  • a cooling rate is calculated.
  • the average cooling rate of the portion other than the central portion C of the central region CA is also a value obtained by dividing the temperature difference in the temperature region by the passage time.
  • the molded body chamber 20 is a space in which the molten glass FG sent from the clarification device 12 is formed into a sheet glass SG.
  • the first cooling chamber 30 is a space for adjusting the thickness and the amount of warpage of the sheet glass SG, which is disposed below the molded body chamber 20.
  • the sheet glass SG in a state where the temperature of the central portion C of the sheet glass SG is higher than the annealing point is cooled.
  • the center portion C of the sheet glass SG is the center in the width direction of the sheet glass SG.
  • the second cooling chamber 80 is a space for adjusting the warp, thermal contraction rate, and strain value of the sheet glass SG, which is disposed below the molded body chamber 20 and the first cooling chamber 30.
  • the sheet glass SG that has passed through the first cooling chamber 30 is cooled to a temperature that is at least 100 ° C. lower than the strain point through the slow cooling point and the strain point.
  • the sheet glass SG may be cooled to a temperature near room temperature.
  • the inside of the second cooling chamber 80 may be divided into a plurality of spaces by a heat insulating member 80b.
  • the plurality of heat insulating members 80b are arranged on both sides in the thickness direction of the sheet glass SG between the plurality of pull-down rollers 81a to 81g. Thereby, the temperature management of the sheet glass SG can be performed more accurately.
  • the molding apparatus 40 includes, for example, a molded body 41, a partition member 50, a cooling roller 51, a temperature adjustment unit 60, pulling rollers 81a to 81g, and heaters 82a to 82g. Furthermore, the shaping
  • the molded body 41 is provided in the molded body chamber 20.
  • the formed body 41 forms the molten glass FG into a sheet glass SG that is a sheet-like glass by causing the molten glass FG to overflow.
  • the molded body 41 has a substantially pentagonal shape (a shape similar to a wedge shape) with respect to the cross-sectional shape.
  • the substantially pentagonal tip corresponds to the lower end portion 41 a of the molded body 41.
  • the molded body 41 has an inlet 42 at the first end (see FIG. 4).
  • a groove 43 is formed on the upper surface of the molded body 41.
  • the inlet 42 is connected to the above-described downstream pipe 24, and the molten glass FG that has flowed out of the refining device 12 is poured into the groove 43 from the inlet 42.
  • the molten glass FG poured into the groove 43 of the molded body 41 overflows from the pair of top portions 41 b and 41 b of the molded body 41 and flows down along the pair of side surfaces (surfaces) 41 c and 41 c of the molded body 41. Thereafter, the molten glass FG joins at the lower end 41a of the molded body 41 to become a sheet glass SG.
  • the partition member 50 is a member that blocks heat transfer from the molded body chamber 20 to the first cooling chamber 30.
  • the partition member 50 is arrange
  • the partition member 50 is a heat insulating material, for example.
  • the cooling roller 51 is provided in the first cooling chamber 30. More specifically, the cooling roller 51 is disposed directly below the partition member 50. Moreover, the cooling roller 51 is arrange
  • the cooling roller 51 is cooled by an air cooling tube or a water cooling tube passed through the inside.
  • the cooling roller 51 contacts both end portions R and L of the sheet glass SG, and rapidly cools both end portions R and L of the sheet glass SG by heat conduction.
  • the viscosities of both end portions R and L of the sheet glass SG in contact with the cooling roller 51 are, for example, 10 9.0 poise or more.
  • the cooling roller 51 is rotationally driven by a cooling roller drive motor 390 (see FIG. 5).
  • the cooling roller 51 cools both end portions R and L of the sheet glass SG and also has a function of lowering the sheet glass SG downward.
  • cooling of the both ends R and L of the sheet glass SG by the cooling roller 51 affects the uniformity of the width of the sheet glass SG and the thickness of the sheet glass SG.
  • the temperature adjustment unit 60 is a unit that is provided in the first cooling chamber 30 and cools the sheet glass SG to the vicinity of the annealing point.
  • the temperature adjustment unit 60 is disposed below the partition member 50 and above the top plate 80 a of the second cooling chamber 80.
  • the temperature adjustment unit 60 cools the sheet glass SG until the temperature of the central portion C of the sheet glass SG becomes near the annealing point. Thereafter, the central portion C of the sheet glass SG is cooled in the second cooling chamber 80 to a temperature in the vicinity of room temperature via a slow cooling point and a strain point.
  • the temperature adjustment unit 60 may have a cooling unit 61.
  • a plurality of cooling units 61 (three here) are arranged in the width direction of the sheet glass SG and a plurality are arranged in the flow direction.
  • the cooling units 61 are arranged one by one so as to face each surface of both end portions R and L of the sheet glass SG, and each surface of a central area CA (see FIG. 4) described later.
  • One is arranged so as to oppose.
  • the pull-down rollers 81a to 81g are provided in the second cooling chamber 80, and pull down the sheet glass SG that has passed through the first cooling chamber 30 in the flow direction of the sheet glass SG.
  • the pulling rollers 81a to 81g are arranged in the second cooling chamber 80 at a predetermined interval along the flow direction.
  • a plurality of pull-down rollers 81a to 81g are arranged on both sides in the thickness direction of the sheet glass SG (see FIG. 3) and on both ends R and L in the width direction of the sheet glass SG (see FIG. 4). That is, the pulling rollers 81a to 81g pull the sheet glass SG downward while being in contact with both ends of the sheet glass SG in the thickness direction of the sheet glass SG in the width direction.
  • the pulling rollers 81a to 81g are driven by a pulling roller driving motor 391 (see FIG. 5).
  • the peripheral speed of the pulling rollers 81a to 81g is preferably increased as the lowering rollers 81a to 81g are installed on the downstream side. That is, among the plurality of lowering rollers 81a to 81g, the peripheral speed of the lowering roller 81a is the smallest, and the peripheral speed of the lowering roller 81g is the highest.
  • the pull-down rollers 81a to 81g arranged on both sides in the thickness direction of the sheet glass SG operate in pairs, and the pair of pull-down rollers 81a, 81a, ... pulls the sheet glass SG downward.
  • the heaters 82 a to 82 g are provided inside the second cooling chamber 80 and adjust the temperature of the internal space of the second cooling chamber 80. Specifically, a plurality of heaters 82a to 82g are arranged in the flow direction of the sheet glass SG and the width direction of the sheet glass SG. For example, seven heaters are arranged in the flow direction of the sheet glass SG, and three heaters are arranged in the width direction of the sheet glass. The three heaters arranged in the width direction respectively control the temperature of the central region CA of the sheet glass SG and both end portions R and L of the sheet glass SG. The outputs of the heaters 82a to 82g are controlled by a control device 91 described later.
  • the atmospheric temperature in the vicinity of the sheet glass SG passing through the inside of the second cooling chamber 80 is controlled.
  • the temperature of the sheet glass SG is controlled by controlling the atmospheric temperature in the second cooling chamber 80 by the heaters 82a to 82g. Further, the sheet glass SG transitions from the viscous region to the elastic region through the viscoelastic region by temperature control.
  • the temperature of the sheet glass SG is cooled from the temperature near the annealing point to the temperature near room temperature by the control of the heaters 82a to 82g.
  • an ambient temperature detecting means (in this embodiment, a thermocouple) 380 (see FIG. 5) for detecting the ambient temperature may be provided.
  • the several thermocouple 380 is arrange
  • the thermocouple 380 can detect the temperature of the surface of the sheet glass SG.
  • the thermocouple 380 detects the temperature of the center portion C of the sheet glass SG and the temperatures of both end portions R and L of the sheet glass SG.
  • the outputs of the heaters 82a to 82g are controlled based on the ambient temperature detected by the thermocouple 380.
  • the cutting device 90 cuts the sheet glass SG cooled to a temperature near room temperature in the second cooling chamber 80 into a predetermined size. Thereby, the sheet glass SG becomes a several glass plate.
  • the cutting device 90 is driven by a cutting device drive motor 392 (see FIG. 5). Note that the cutting device 90 is not necessarily provided directly below the second cooling chamber 80.
  • the sheet glass SG may not be cut by the cutting device 90, and the sheet glass SG may be wound into a roll shape to produce a roll-shaped sheet glass.
  • FIG. 5 is a diagram illustrating an example of the configuration of the control device 91.
  • the control device 91 includes a CPU, a RAM, a ROM, a hard disk, and the like, and controls various devices included in the glass substrate manufacturing apparatus 100. Specifically, as shown in FIG. 5, the control device 91 receives signals from various sensors (eg, thermocouple 380) and switches (eg, main power switch 381) included in the glass substrate manufacturing apparatus 100.
  • the temperature adjustment unit 60, heaters 82a to 82g, cooling roller drive motor 390, pulling roller drive motor 391, cutting device drive motor 392, and the like are controlled.
  • the cooling rate of the central region CA, and the average cooling rate in the temperature region where the temperature of the central portion C is less than 450 ° C and 300 ° C or higher is smaller than the average cooling rate of the central region CA in the temperature region other than the temperature region in which the temperature of the central portion C is less than 450 ° C. and 300 ° C. or more in the cooling step S4. That is, in the cooling step S4, the average cooling rate in the central region CA is the smallest in the temperature region where the temperature of the central portion C is less than 450 ° C. and 300 ° C. or higher.
  • the average cooling rate is adjusted using the cooling roller 51, the temperature adjustment unit 60, and the heaters 82a to 82g described above.
  • the temperature profiles TP1 to TP10 in the width direction of the sheet glass SG as shown in FIG. 6 are used as target temperature profiles in the respective temperature regions in the flow direction, and the temperatures of the first cooling chamber 30 and the second cooling chamber 80 are set. By controlling, the thickness, warpage amount, and distortion of the sheet glass SG can be adjusted.
  • FIG. 6 is a diagram illustrating temperature profiles TP1 to TP10 that are examples of target temperature profiles in the cooling process.
  • the temperature of the central region CA of the sheet glass SG is uniform, and both end portions R and L of the sheet glass SG are lower than the temperature of the central region CA. Cooling of both end portions R and L of the sheet glass SG is performed using the cooling roller 51 after molding so that the sheet glass SG has this temperature profile TP1.
  • the temperature distribution of the central area CA is changed from a rectangular shape to a substantially parabolic shape that is convex upward while the temperature of the entire sheet glass SG is lowered, and the degree of convexity of the substantially parabolic shape is gradually reduced.
  • the temperatures at both ends R and L and the central area CA are made constant. Thereafter, in the temperature profiles TP7 to TP10, the temperature distribution has a substantially convex parabolic shape that is convex downward, and the temperature distribution of the central region CA is increased downward while lowering the temperature of the entire sheet glass SG.
  • the temperature of the first cooling chamber 30 and the second cooling chamber 80 is adjusted using the cooling unit 61 and the heaters 82a to 82g so that the temperature of the sheet glass SG has such a temperature profile.
  • the temperature of the sheet glass SG may be an actual value of the temperature of the sheet glass SG, and is controlled by the heaters 82a to 82g. A value calculated by simulation based on the ambient temperature of the sheet glass SG may be used.
  • FIG. 7 is a diagram illustrating an example of a temperature history (change in temperature with time) along the flow direction of the sheet glass SG at the center C in the present embodiment.
  • the sheet glass SG is formed at the lower end portion 41 a of the molded body 41.
  • the temperature of the sheet glass SG at this time is 1200 degreeC, for example.
  • the temperature of the sheet glass SG becomes a slow cooling point (temperature when the viscosity of the glass is 10 13 poise, for example, 775 ° C.), and at time C, the temperature of the sheet glass SG becomes 450 ° C.
  • the temperature of the sheet glass SG becomes 300 ° C.
  • the temperature of the sheet glass SG becomes 200 ° C. or less and is cut by the cutting device 90.
  • the temperature region of the sheet glass SG from the time point A to the time point B (a temperature region equal to or higher than the annealing point after the formation of the sheet glass SG) is defined as the first temperature region R1, and the sheet glass SG from the time point B to the time point C is elapsed.
  • the second temperature region R2 the temperature region of the sheet glass SG (the temperature region less than 450 ° C. and 300 ° C. or more) up to the time D after the time C has passed is the second temperature region R2.
  • the temperature range of the sheet glass SG from the time point D to the time point E (temperature range of less than 300 ° C. and 100 ° C. or higher) is defined as a fourth temperature region R4.
  • the third average cooling rate in the third temperature region R3 is the first, second and fourth averages of the other first, second, and fourth temperature regions R1, R2, and R4. Small compared to the cooling rate.
  • the sheet glass SG cooling step in the first temperature region R1 is a first cooling step
  • the sheet glass SG cooling steps in the second to fourth temperature regions R2 to R4 are second to fourth cooling steps, respectively.
  • the third average cooling rate in the temperature region R3 is a case where the temperature region (temperature region having a temperature difference of 10 ° C. or more) is determined by arbitrarily dividing a range other than the temperature region R3. Smallest.
  • the first average cooling rate in the first temperature region R1 is larger than the second average cooling rate in the second temperature region because the thermal contraction rate can be efficiently reduced.
  • the heat shrinkage rate is more efficient if the cooling rate of the second to fourth temperature regions R2 to R4 is slower than that of the first temperature region R1. It is preferable from the viewpoint of reducing it.
  • region R4 of a 4th cooling process is larger than the 3rd average cooling speed in a 3rd temperature area
  • the third average cooling rate in the third temperature region R3 is preferably 5 ° C./second or less from the viewpoint that the thermal shrinkage rate can be reduced.
  • the lower limit of the third average cooling rate is not particularly limited, but it is, for example, 0.5 ° C. from the point of not changing the length of the path of the sheet glass SG or the reduction of the production efficiency of the glass substrate. / Second or more is preferable.
  • the third average cooling rate is preferably 1 ° C./second to 4.5 ° C./second.
  • the first average cooling rate in the first temperature region R1 is preferably 5 ° C./second to 50 ° C./second, for example, and more preferably 15 ° C./second to 35 ° C./second.
  • the second average cooling rate in the second temperature region R2 is, for example, 5 ° C./second or less, preferably 1 ° C./second to 5 ° C./second, and preferably 2 ° C./second to 5 ° C./second. More preferred.
  • the fourth average cooling rate in the fourth temperature region R4 in which the temperature of the central portion C is less than 300 ° C. and 100 ° C. or higher is larger than the third average cooling rate in the third temperature region R3. It is preferable in that the path of the sheet glass SG is not lengthened and the thermal shrinkage rate is lowered.
  • the temperature history shown in FIG. 7 is the temperature history in the center portion C, but the time history of the temperature at the same position in the width direction of the other part of the center region CA that is out of the center portion C is also the third temperature region.
  • the average cooling rate in R3 is the smallest.
  • the first to fourth average cooling rates in the first temperature range R1 to the fourth temperature range R4 are obtained by adjusting the atmospheric temperature of the first cooling chamber 30 and the second cooling chamber 80, and are naturally released at normal temperature. It is a small speed compared to cold.
  • glass is amorphous, and high-temperature glass changes its molecular structure toward an optimal structure due to heat, that is, it tends to shrink due to thermal relaxation. For this reason, in order to produce a glass substrate with a small thermal shrinkage rate, it is preferable to cool slowly so that the thermal relaxation of the sheet glass SG proceeds sufficiently.
  • the sheet glass SG is cooled and the sheet glass SG is cooled without sufficient thermal relaxation, changes in the molecular structure in the glass are suppressed or prevented by high viscosity during the thermal relaxation. For this reason, when the glass substrate obtained from such a sheet glass SG is reheated for heat treatment, the suppression or prevention of thermal relaxation is released, and the process starts from the middle of thermal relaxation.
  • glass has a plurality of relaxations having different speeds, and the relaxation of glass can be expressed by a superposition of relaxations having different relaxation speeds (hereinafter, relaxations having different relaxation speeds are referred to as relaxation “components”). Call).
  • relaxations having different relaxation speeds are referred to as relaxation “components”. Call).
  • the glass relaxation component there are a large number of components that rapidly heat relax and contract, a component that gently relaxes and contracts, and a component that relaxes and contracts at an intermediate speed. For this reason, in the cooling process, it is preferable to set a temperature history such that thermal relaxation sufficiently proceeds in all of these components. However, as shown in FIG.
  • the path of the sheet glass SG in the cooling step S ⁇ b> 4 is a path from the vertical upper side to the lower side of the forming apparatus 40, and is provided in a structure such as a building. It is difficult to extend the route because it is necessary to renovate or add to the structure such as a building. For this reason, in the existing conveyance path
  • the heat shrinkage rate of the glass substrate is reduced by making the average cooling rate in the third temperature region R3 smaller than the average cooling rate in the temperature region other than the third temperature region R3 in the cooling step S4. Can be efficiently reduced. The reason is assumed as follows.
  • FIG. 8 is a schematic diagram of temperature histories T1 to T3 (solid lines) in the cooling process of the sheet glass SG in the cooling process S4 in which time is plotted on the horizontal axis and temperature is plotted on the vertical axis.
  • Time points A and E in the figure correspond to time points A and E in FIG.
  • the temperature history T1 is an example of the temperature history of the present embodiment.
  • the temperature history T2 is a high temperature state
  • the cooling rate is decreased with respect to the temperature history T1, and then the cooling rate is set to the temperature history T1.
  • the cooling rate is increased to a cooling rate equivalent to the temperature history T1
  • the temperature history T3 is set to a cooling rate equivalent to the temperature history T1 in a high temperature state, and then cooled to the temperature history T1.
  • This is a mode in which the speed is reduced and then the cooling speed is increased with respect to the temperature history T1.
  • the component that slowly relaxes and contracts as described above (this component is referred to as component X) cannot follow the cooling rate in the high temperature state, and the change in the molecular structure related to component X at point P1 is Suppressed or blocked by viscosity.
  • the temperature history T2 since the cooling rate in the high temperature state is small, the change in the molecular structure related to the component X at the point P2 is suppressed or prevented by the viscosity.
  • a component that quickly shrinks by thermal relaxation (this component is referred to as component Y) cannot follow the cooling rate at the point P3, and changes in the molecular structure related to the component Y (thermal relaxation) at the point P3.
  • the component Y cannot follow the cooling rate at the point P4, and the change (thermal relaxation) of the molecular structure related to the component Y is suppressed or prevented by the viscosity at the point P4.
  • the component Y cannot follow the cooling rate at the point P5, and the change (thermal relaxation) of the molecular structure related to the component Y is suppressed or prevented by the viscosity at the point P5.
  • the temperature at which the change in the molecular structure (thermal relaxation) at points P1 and P2 is suppressed or prevented does not differ significantly between points P1 and P2, but the molecule related to component Y
  • the temperatures at points P3 to P5 where the change in structure is suppressed are greatly different. Specifically, the temperature at the point P3 is the lowest. Accordingly, in the temperature histories T1 to T3, the lower the temperature at which thermal relaxation is suppressed or prevented, the more the thermal relaxation proceeds. Therefore, the lower the temperature at which the change in molecular structure related to the component Y is suppressed or prevented.
  • the heat shrinkage rate can be reduced.
  • the temperature history T1 that suppresses or prevents the change in the molecular structure related to the component Y at the lowest temperature can sufficiently perform thermal relaxation before cutting the sheet glass SG, As a result, it is possible to provide a sheet glass SG with a reduced thermal shrinkage efficiently.
  • the first to fourth average cooling rates in the first to fourth temperature regions can be set so that the thermal contraction rate of the sheet glass SG achieves a predetermined target value.
  • the thermal shrinkage rate of the sheet glass SG is actually measured under a plurality of types of cooling conditions, and a calibration curve is created based on the obtained measurement values.
  • the flow direction of the temperature profiles TP1 to TP10 which are targets in the width direction of the set sheet glass SG using the created calibration curve so that the thermal shrinkage rate of the sheet glass SG achieves a predetermined target value.
  • the first to fourth average cooling rates in the first to fourth temperature regions can be set by adjusting the temperature distribution along.
  • the temperature range of the third temperature region R3 is set to less than 450 ° C. and 300 ° C. or more, but when applied to a glass substrate for display for performing a heat treatment at a predetermined processing temperature to form a thin film on the surface,
  • the third temperature region R3 may be a temperature region of less than (treatment temperature ⁇ 100 ° C.) (above treatment temperature ⁇ 250 ° C.) or more.
  • the treatment temperature is preferably 300 ° C. or higher, more preferably 400 ° C. or higher.
  • a thin film typified by a TFT such as a low-temperature polysilicon TFT (Thin Film Transistor) or an oxide semiconductor such as IGZO (indium, gallium, zinc, oxygen) is formed on the surface of a glass substrate.
  • a processing temperature for example, 300 ° C. or higher, or 400 ° C. or higher. Therefore, the glass substrate may determine the temperature range of the third temperature region R3 according to the processing temperature of this heat treatment.
  • the heat treatment temperature during the formation of the thin film is, for example, 300 ° C. to 700 ° C. or 400 ° C. to 650 ° C.
  • the temperature region where the temperature of the central portion C is equal to or higher than the annealing point is defined as the first temperature region R1, and the temperature of the central portion C is lower than the annealing point (treatment temperature (° C.) ⁇ 100 ° C. )
  • the third average cooling rate in the third temperature range R3 is the first average cooling rate in the first temperature range R1 and the second average cooling rate in the second temperature range R2.
  • a temperature region where the temperature of the central portion C is less than (treatment temperature (° C.) ⁇ 250 ° C.) (treatment temperature (° C.) ⁇ 450 ° C. or more) is defined as a fourth temperature region R4, and the fourth average in the fourth temperature region R4.
  • the cooling rate is preferably larger than the third average cooling rate in the third temperature region R3 in terms of reducing the heat shrinkage rate without lengthening the conveyance path.
  • the thermal contraction rate of a glass substrate shall be 15 ppm or less by defining such temperature history by cooling process S4. More preferably, the thermal shrinkage of the glass substrate is 10 ppm or less.
  • the strain point of the glass substrate (temperature when the viscosity of the glass is 10 14.5 poise) is preferably 680 ° C. or higher from the viewpoint of reducing the thermal shrinkage of the glass substrate, and is 700 ° C. or higher. It is more preferable that the temperature is 720 ° C. or higher.
  • the upper limit of the strain point of the glass substrate is preferably 780 ° C. or less, and preferably 760 ° C. or less. More preferred.
  • the devitrification temperature is preferably 1280 ° C. or less, and preferably 1100 ° C. to 1270 ° C. from the viewpoint of achieving both a reduction in heat shrinkage and devitrification resistance. It is more preferable to be.
  • Glass composition As a glass composition of the glass substrate manufactured by this embodiment, the following glass compositions are illustrated by mol% display, for example. SiO 2 55-80%, B 2 O 3 0-18%, Al 2 O 3 3-20%, MgO 0-20%, CaO 0-20%, SrO 0-20%, BaO 0-20%, RO 5-25% (Wherein R is at least one selected from Mg, Ca, Sr and Ba), R ' 2 O 0% to 2.0% (However, R ′ is at least one selected from Li, Na and K) including.
  • the total content of metal oxides whose valence fluctuates in the molten glass is not particularly limited, but may be 0.05 to 1.5%, for example. Further, it is preferred not to include As 2 O 3, Sb 2 O 3 and PbO substantially.
  • the glass substrate produced by the method for producing a glass substrate of the present embodiment is particularly suitable as a glass substrate for a display such as a liquid crystal display, a plasma display, and an organic EL display, and a cover glass for protecting the display.
  • the display using the glass substrate for display includes a flat panel display having a flat display surface, an organic EL display and a liquid crystal display, and a curved display having a curved display surface.
  • the glass substrate is a glass substrate for a high-definition display, such as a glass substrate for a liquid crystal display, a glass substrate for an organic EL (Electro-Luminescence) display, an LTPS (Low Temperature Poly-silicon) thin film semiconductor, or an IGZO (Indium, Gallium, It is preferable to use as a glass substrate for display using an oxide semiconductor such as Zinc or Oxide.
  • a glass substrate for display non-alkali glass or alkali trace glass is used.
  • the glass substrate for display has high viscosity at high temperatures. For example, the temperature of the molten glass having a 10 2.5 poise of viscosity is 1500 ° C. or higher.
  • the alkali-free glass is a glass having a composition that does not substantially contain an alkali metal oxide (R ′ 2 O).
  • Alkali metal oxide is not practically contained means a glass having a composition in which an alkali metal oxide is not added as a glass raw material except for impurities mixed in from the raw material and the like. It is less than 1% by mass.
  • the thermal contraction rate in the present embodiment is measured by performing a heat treatment.
  • a glass substrate is cut into a rectangle of a predetermined size, a marking line is put on both ends of the long side, and the glass is cut in half at the center of the short side to obtain two glass samples.
  • One of the glass samples is heat-treated (at 500 ° C. for 30 minutes). Measure the length of the other glass sample without heat treatment. Further, the heat-treated glass sample and the untreated glass sample are put together to measure the deviation amount of the marking line with a laser microscope or the like, and the difference in the length of the glass sample is obtained to obtain the thermal contraction amount of the sample. be able to.
  • the heat shrinkage rate is obtained by the following equation.
  • the thermal shrinkage rate of this glass sample be the thermal shrinkage rate of a glass substrate.
  • Thermal contraction rate (ppm) (difference) / (length of glass sample before heat treatment) ⁇ 10 6
  • glass substrates of Examples 1 to 3 and Comparative Example were manufactured under the following conditions.
  • the composition of the glass (mol%) is, SiO 2 70.5%, B 2 O 3 7.2%, Al 2 O 3 11.0%, K 2 O 0.2%, CaO 11.0%, SnO 2 They were 0.09% and Fe 2 O 3 0.01%.
  • the devitrification temperature of the glass was 1206 ° C., and the liquidus viscosity was 1.9 ⁇ 10 5 dPa ⁇ s.
  • the annealing point of the glass was 758 ° C., and the strain point was 699 ° C.
  • the sheet glass SG has a width of 1600 mm and a thickness of 0.7 mm (Example 1, Comparative Example 1), 0.5 mm (Example 2, Comparative Example 2), 0.4 mm (Example 3, Comparative Example 3). Moreover, the heat processing temperature for forming a thin film in a glass substrate was 550 degreeC.
  • the average cooling rate when the temperature of the central portion C in the width direction of the sheet glass SG is equal to or higher than the annealing point is the first average cooling rate, and the average when the temperature of the central portion C is 450 ° C. or higher below the annealing point.
  • the cooling rate was the second average cooling rate, and the average cooling rate when the temperature of the central portion C was less than 450 ° C. and 300 ° C. or higher was taken as the third average cooling rate.
  • the third average cooling rate was slower than the first average cooling rate and the second average cooling rate.
  • Comparative Examples 1 to 3 the second average cooling rate was made slower than the second average cooling rate of Examples 1 to 3, and the third average cooling rate was made faster than the third average cooling rate of Examples 1 to 3.
  • the second average cooling rate of Comparative Examples 1 to 3 was slower than the third average cooling rate of Comparative Examples 1 to 3.
  • the thermal shrinkage rate of Examples 1 to 3 was 15 ppm or less, but the thermal shrinkage rate of Comparative Examples 1 to 3 exceeded 15 ppm. From this, the effect of this embodiment is clear.
  • this invention is not limited to the said embodiment and Example, Even if it is variously improved and changed in the range which does not deviate from the main point of this invention. Of course it is good.

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Abstract

熱収縮率の小さいディスプレイ用ガラス基板を製造するとき、成形工程により成形されたシートガラスの幅方向の中心部の温度が３００℃になるまで冷却する。このとき、シートガラスの幅方向の両端部よりも前記シートガラスの幅方向内側にあり、前記中心部を含む領域である中央領域の冷却速度であって、前記中心部の温度が４５０℃未満３００℃以上の温度領域における平均冷却速度は、前記冷却工程の中の、前記温度領域以外の温度領域における前記中央領域の平均冷却速度に比べて小さい。

Description

ディスプレイ用ガラス基板の製造方法
　本発明は、ディスプレイ用ガラス基板の製造方法に関する。
　ディスプレイを製造する工程において、ディスプレイ用ガラス基板は、熱処理により熱収縮をする。このとき、ガラス基板の熱収縮率が大きいと、ガラス基板の表面に形成される素子の配置がずれるピッチズレが生じやすくなる。このため、ピッチズレを低減する観点から、ディスプレイ用ガラス基板には、熱処理時における熱収縮率が小さいことが求められている。
　ガラス基板の熱収縮率を小さくする方法としては、（１）ガラス組成を調整することで、ガラスの歪点を高くすること、（２）成形工程後のシートガラスの冷却速度を低減することなどが挙げられる。例えば、ガラス基板の熱収縮率を小さくする技術として、歪点が６８０℃以上になるようにガラス組成を改良する技術が知られている（特許文献１）。
　また、冷却工程を、成形後のシートガラスの中央領域の温度が徐冷点になるまでシートガラスを冷却する第１の冷却工程と、中央領域の温度が、徐冷点から歪点－５０℃になるまでシートガラスを冷却する第２の冷却工程と、中央領域の温度が、歪点－５０℃から歪点－２００℃になるまでシートガラスを冷却する第３の冷却工程と、に分ける。このとき、第１の冷却工程における平均冷却速度を、第３の冷却工程における平均冷却速度より速くし、第３の冷却工程における平均冷却速度を、第２の冷却工程における平均冷却速度より速くする技術が知れている（特許文献２）。
特表２００３－５０３３０１号公報 特許第５１５３９６５号公報
　しかし、特許文献１に従って、歪点が高くなるように組成を調整すると、失透及び難熔解という問題が生じやすいため、歪点を高くするには限界がある。また、オーバーフローダウンドロー法でガラス基板を作製するとき、成形工程後に行う冷却工程においてシートガラスの冷却速度を小さくすると、徐冷経路が長くなり、徐冷装置のコストが増大するという問題があった。
　また、特許文献２に従って、第１の冷却工程における平均冷却速度を、第３の冷却工程における平均冷却速度より速くし、第３の冷却工程における平均冷却速度を、第２の冷却工程における平均冷却速度より速くしても、熱収縮率の低減に限界があり、十分ではないという問題があった。
　携帯電話等のモバイル機器に搭載されるディスプレイには、益々高精細化及び低消費電力化が求められている。そのため、近年、ディスプレイの製造工程における熱処理時に生じるガラス基板の熱収縮率をさらに小さくすることが益々求められている。
　そこで、本発明は、成形後に行う冷却工程において、ガラス基板の熱収縮率を従来に比べて低減することができるディスプレイ用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
　本発明の第１の態様は、ディスプレイ用ガラス基板の製造方法である。当該製造方法は、
　熔融ガラスをダウンドロー法によってシートガラスに成形する成形工程と、
　成形された前記シートガラスを流すときに、前記シートガラスの流れ方向と直交する幅方向の中心部の温度が３００℃になるまで冷却する冷却工程と、を備える。
　前記冷却工程において、前記シートガラスの幅方向の両端部よりも前記シートガラスの前記幅方向の内側にあり、前記中心部を含む領域である中央領域の冷却速度であって、前記中心部の温度が４５０℃未満３００℃以上の温度領域における平均冷却速度は、前記冷却工程の中の、前記温度領域以外の温度領域における前記中央領域の平均冷却速度に比べて小さい。
　前記冷却工程は、
　前記シートガラスに成形された後、前記シートガラスの前記幅方向の中心部の温度が徐冷点以上であるとき、前記シートガラスの幅方向の両端部よりも前記シートガラスの幅方向内側にあり、前記中心部を含む領域である中央領域を第１平均冷却速度で冷却する第１冷却工程と、
　前記中心部の温度が前記徐冷点未満４５０℃以上であるとき、前記中央領域を第２平均冷却速度で冷却する第２冷却工程と、
　前記中心部の温度が４５０℃未満３００℃以上であるとき、前記中央領域を第３平均冷却速度で冷却する第３冷却工程と、を含み、
　前記第３平均冷却速度は、前記第１平均冷却速度及び前記第２平均冷却速度より小さい、ことが好ましい。
　前記冷却工程は、さらに、前記中心部の温度が３００℃未満１００℃以上であるとき、前記中央領域を第４平均冷却速度で冷却する第４冷却工程を含み、
　前記第４平均冷却速度は、前記第３平均冷却速度よりも大きい、ことが好ましい。
　また、本発明の第２の態様は、所定の処理温度で熱処理を施して表面に薄膜を形成するためのディスプレイ用ガラス基板の製造方法である。当該製造方法は、
　熔融ガラスをダウンドロー法によってシートガラスに成形する成形工程と、
　成形された前記シートガラスを流すときに、前記シートガラスの流れ方向と直交する幅方向の中心部の温度が、前記処理温度よりも２５０℃低い温度、すなわち（前記処理温度-２５０℃）になるまで冷却する冷却工程と、を備える。
　前記冷却工程において、前記シートガラスの幅方向の両端部よりも前記シートガラスの前記幅方向の内側にあり、前記中心部を含む領域である中央領域の冷却速度であって、前記中心部の温度が、前記処理温度よりも１００℃低い温度未満、すなわち（前記処理温度-１００℃）未満、前記処理温度よりも２５０℃低い温度以上、すなわち（前記処理温度-２５０℃）以上の温度領域における平均冷却速度は、前記冷却工程の中の、前記温度領域以外の温度領域における前記中央領域の平均冷却速度に比べて小さい。
　前記冷却工程は、
　前記シートガラスに成形された後、前記シートガラスの幅方向の中心部の温度が徐冷点以上であるとき、前記シートガラスの幅方向の両端部よりも前記シートガラスの幅方向内側にあり、前記中心部を含む領域である中央領域を第１平均冷却速度で冷却する第１冷却工程と、
　前記中心部の温度が、前記徐冷点未満、前記処理温度よりも１００℃低い温度以上、すなわち（前記処理温度－１００℃）以上であるとき、前記中央領域を第２平均冷却速度で冷却する第２冷却工程と、
　前記中心部の温度が、前記処理温度よりも１００℃低い温度未満、すなわち（前記処理温度-１００℃）未満、前記処理温度よりも２５０℃低い温度以上、すなわち（前記処理温度-２５０℃）以上であるとき、前記中央領域を第３平均冷却速度で冷却する第３冷却工程と、を含み、
　前記第３平均冷却速度は、前記第１平均冷却速度及び前記第２平均冷却速度より小さい、ことが好ましい。
　前記冷却工程は、さらに、前記中心部の温度が、前記処理温度よりも２５０℃低い温度未満、すなわち前記処理温度（℃）－２５０℃未満、前記処理温度よりも４５０℃低い温度以上、すなわち前記処理温度（℃）－４５０℃以上であるとき、前記中央領域を第４平均冷却速度で冷却する第４冷却工程を含み、
　前記第４平均冷却速度は、前記第３平均冷却速度よりも大きい、ことが好ましい。
　前記第１の態様及び第２の態様のいずれにおいても、前記第１平均冷却速度は、前記第２平均冷却速度より大きい、ことが好ましい。
　前記第１の態様及び第２の態様のいずれにおいても、前記第３平均冷却速度は、５．０℃／秒以下である、ことが好ましい。
　前記第１の態様及び第２の態様のいずれにおいても、前記ガラス基板の熱収縮率は１５ｐｐｍ以下である、ことが好ましい。
　ただし、前記熱収縮率とは、５００℃で３０分保持の熱処理が施された後のガラス基板の収縮量を用いて、以下の式にて求められる値である。
　熱収縮率（ｐｐｍ）
　　＝｛熱処理後のガラス基板の収縮量／熱処理前のガラス基板の長さ｝×１０６
　前記第１の態様及び第２の態様のいずれにおいても、前記ガラス基板の歪点は、６８０℃以上である、ことが好ましい。
　上述のディスプレイ用ガラス基板の製造方法によれば、従来に比べて熱収縮率を低減することができる。
本実施形態のディスプレイ用ガラス基板の製造方法の工程の一例を示す図である。 本実施形態のディスプレイ用ガラス基板の製造方法に用いるガラス基板製造装置の一例の模式図である。 本実施形態のディスプレイ用ガラス基板の製造方法における成形装置の一例を示す断面図である。 本実施形態のディスプレイ用ガラス基板の製造方法で用いる成形装置の一例を示す側面図である。 本実施形態のディスプレイ用ガラス基板の製造方法で用いる制御装置の構成の一例を示す図である。 本実施形態のディスプレイ用ガラス基板の製造方法の冷却工程で用いる温度プロファイルの例を示す図である。 本実施形態のディスプレイ用ガラス基板の製造方法におけるシートガラスの流れ方向に沿った温度履歴の一例を示す図である。 ディスプレイ用ガラス基板の製造方法で用いるシートガラスの冷却工程における複数の温度履歴の例の模式図である。
　以下、本実施形態のディスプレイ用ガラス基板の製造方法について説明する。本実施形態のディスプレイ用ガラス基板の製造方法では、オーバーフローダウンドロー法を用いてガラス基板が製造される。なお、本明細書では、（処理温度-Ｘ℃）は、処理温度（℃）よりＸ℃低い温度を表す（Ｘは正数）。
　（１）ガラス基板の製造方法の概要
　まず、図１および図２を参照して、ディスプレイ用ガラス基板製造方法に含まれる複数の工程および複数の工程に用いられるガラス基板製造装置１００を説明する。図１は、本実施形態のディスプレイ用ガラス基板の製造方法の工程の一例を示す図であり、図２は、本実施形態のディスプレイ用ガラス基板の製造方法に用いるガラス基板製造装置の一例の模式図である。
　ガラス基板製造方法は、図１に示すように、主として、熔融工程Ｓ１と、清澄工程Ｓ２と、成形工程Ｓ３と、冷却工程Ｓ４とを含む。
　熔融工程Ｓ１は、ガラスの原料が熔融される工程である。ガラスの原料は、所望の組成になるように調合された後、熔融装置１１に投入される。ガラスの原料は、熔融装置１１で熔融されて、熔融ガラスＦＧになる。熔融温度は、ガラスの種類に応じて調整される。本実施形態では、熔融工程Ｓ１における熔融ガラスＦＧの最高温度が１５００℃～１６５０℃となるように加熱される。熔融ガラスＦＧは、上流パイプ２３を通って清澄装置１２に送られる。
　清澄工程Ｓ２は、熔融ガラスＦＧ中の気泡の除去を行う工程である。清澄装置１２内で気泡が除去された熔融ガラスＦＧは、その後、下流パイプ２４を通って、成形装置４０へと送られる。
　成形工程Ｓ３は、熔融ガラスＦＧをシート状のガラスであるシートガラスＳＧに成形する工程である。具体的に、熔融ガラスＦＧは、成形装置４０に含まれる成形体４１（図３参照）に連続的に供給された後、成形体４１からオーバーフローする。オーバーフローした熔融ガラスＦＧは、成形体４１の表面に沿って流下する。熔融ガラスＦＧは、その後、成形体４１の下端部で合流してシートガラスＳＧへと成形される。
　冷却工程Ｓ４は、シートガラスＳＧを冷却する工程である。ガラスシートは、冷却工程Ｓ４を経て室温に近い温度へと冷却される。なお、冷却工程Ｓ４における、冷却の状態に応じて、ガラス基板の厚み（板厚）、ガラス基板の反り量、およびガラス基板の平面歪の値が決まる。
　なお、冷却工程Ｓ４の後に、切断工程を設けてもよい。例えば、切断工程は、室温に近い温度になったシートガラスＳＧを、切断装置９０において所定の大きさに切断する工程である。
　なお、切断工程で所定の大きさに切断されたシートガラスＳＧは、その後、端面加工等の工程を経て、ガラス基板となる。ガラス基板は、梱包された後、パネルメーカー等に出荷される。パネルメーカーは、ガラス基板の表面に素子を形成して、ディスプレイを製造する。
　なお、冷却工程Ｓ４の後に、切断工程を設けなくてもよい。すなわち、冷却工程Ｓ４で冷却されたシートガラスＳＧは、そのまま梱包された後、パネルメーカー等に出荷されてもよい。この場合、パネルメーカーは、シートガラスＳＧの表面に素子を形成した後に、シートガラスＳＧを所定の大きさに切断して端面加工することで、ディスプレイを製造する。
　以下、図３～図５を参照して、ガラス基板製造装置１００に含まれる成形装置４０の構成を説明する。なお、本実施形態において、シートガラスＳＧの幅方向とは、シートガラスＳＧの表面の面内方向のうち、シートガラスＳＧが流下する方向（流れ方向）に交差する方向、すなわち、水平方向を意味する。
　（２）成形装置の構成
　まず、図３および図４に、成形装置４０の概略構成を示す。図３は、成形装置４０の断面図である。図４は、成形装置４０の側面図である。
　成形装置４０は、シートガラスＳＧが通過する経路と、経路を取り囲む空間とを有する。通路を取り囲む空間は、例えば、成形体室２０、第１冷却室３０、および第２冷却室８０で構成されている。
　本実施形態では、成形体４１の下端部４１ａで熔融ガラスＦＧが合流してシートガラスＳＧが形成された位置から、シートガラスＳＧが下方に流れるときに、シートガラスＳＧの流れ方向に沿った温度領域のうち、シートガラスＳＧの中心部Ｃ（図４参照）の温度が４５０℃未満３００℃以上の温度領域における平均冷却速度が、後述するように、冷却工程Ｓ４の中の、中心部Ｃの温度が４５０℃未満３００℃以上である温度領域以外の温度領域における平均冷却速度に比べて小さい。この点は後述する。なお、中心部Ｃの温度が４５０℃未満３００℃以上である温度領域の平均冷却速度と平均冷却速度が比較される温度領域は、例えば上流側と下流側の温度差が少なくとも１０℃以上である温度領域である。
　なお、シートガラスＳＧの幅方向の両端部とは、シートガラスＳＧの両側の端からシートガラスＳＧの幅方向の内側に向かって２００ｍｍ進んだ位置までの幅方向の範囲内の領域をいい、両端部の幅方向の内側の領域をシートガラスＳＧの中央領域ＣＡ（図４参照）という。シートガラスＳＧの両端部Ｒ，Ｌは、製造後に切断除去される対象の部分を含む領域であるのに対し、シートガラスＳＧの中央領域ＣＡは、板厚を均一にする対象の部分を含む領域である。シートガラスＳＧの中央領域ＣＡは、シートガラスＳＧの幅方向の幅のうちシートガラスＳＧの幅方向の中心から幅の半分の例えば８５％以内の範囲である。中心部Ｃとは、シートガラスＳＧの幅方向の中心位置をいう。平均冷却速度とは、中心部Ｃを含んだ中央領域ＣＡの平均冷却速度であり、定められる温度領域における同じ幅方向の位置での流れ方向の温度差を、シートガラスＳＧがこの温度領域を通過する通過時間で割った値である。４５０℃未満３００℃以上の温度領域のように、Ｘ１℃未満Ｘ２℃以上と表される温度領域では、中心部Ｃの温度差はＸ１－Ｘ２（℃）と扱われて、中心部Ｃにおける平均冷却速度が算出される。中央領域ＣＡの中心部Ｃ以外の部分の平均冷却速度も、その温度領域における温度差を通過時間で割った値である。
　成形体室２０は、前述の清澄装置１２から送られる熔融ガラスＦＧがシートガラスＳＧに成形される空間である。
　第１冷却室３０は、成形体室２０の下方に配置され、シートガラスＳＧの厚みおよび反り量を調整するための空間である。第１冷却室３０では、シートガラスＳＧの中心部Ｃの温度が徐冷点より高い状態のシートガラスＳＧが冷却される。シートガラスＳＧの中心部Ｃは、シートガラスＳＧの幅方向の中心である。
　第２冷却室８０は、成形体室２０及び第１冷却室３０の下方に配置され、シートガラスＳＧの反り、熱収縮率、および歪値を調整するための空間である。第２冷却室８０では、第１冷却室３０内を通過したシートガラスＳＧが、徐冷点、歪点を経て、少なくとも、歪点より１００℃低い温度まで冷却される。しかし、第２冷却室８０では、シートガラスＳＧが、室温付近の温度まで冷却されてもよい。なお、第２冷却室８０の内部は、断熱部材８０ｂによって、複数の空間に区分けされていてもよい。複数の断熱部材８０ｂは、複数の引下げローラ８１ａ～８１ｇのそれぞれの間で、シートガラスＳＧの厚み方向の両側に配置される。これにより、シートガラスＳＧの温度管理を、より精度よく行うことができる。
　また、成形装置４０は、例えば、成形体４１と、仕切り部材５０と、冷却ローラ５１と、温度調整ユニット６０と、引下げローラ８１ａ～８１ｇと、ヒータ８２ａ～８２ｇと、を備える。さらに、成形装置４０は、制御装置９１を備える（図５参照）。制御装置９１は、成形装置４０に含まれる各構成の駆動部を制御する。
　以下、成形装置４０に含まれる各構成について詳細に説明する。
　（２－１）成形体
　成形体４１は、成形体室２０内に設けられる。成形体４１は、熔融ガラスＦＧをオーバーフローさせることによって、熔融ガラスＦＧをシート状のガラスであるシートガラスＳＧへと成形する。図３に示すように、成形体４１は、断面形状に関して略五角形の形状（楔形に類似する形状）を有する。略五角形の先端は、成形体４１の下端部４１ａに相当する。
　また、成形体４１は、第１端部に流入口４２を有する（図４参照）。成形体４１の上面には、溝４３が形成されている。流入口４２は、上述の下流パイプ２４と接続されており、清澄装置１２から流れ出た熔融ガラスＦＧは、流入口４２から溝４３に流し込まれる。成形体４１の溝４３に流し込まれた熔融ガラスＦＧは、成形体４１の一対の頂部４１ｂ，４１ｂからオーバーフローし、成形体４１の一対の側面（表面）４１ｃ，４１ｃを沿いながら流下する。その後、熔融ガラスＦＧは、成形体４１の下端部４１ａで合流してシートガラスＳＧになる。
　（２－２）仕切り部材
　仕切り部材５０は、成形体室２０から第１冷却室３０への熱の移動を遮断する部材である。仕切り部材５０は、熔融ガラスＦＧの合流ポイントの近傍に配置されている。また、図３に示すように、仕切り部材５０は、合流ポイントで合流した熔融ガラスＦＧ（シートガラスＳＧ）の厚み方向両側に配置される。仕切り部材５０は、例えば、断熱材である。仕切り部材５０は、熔融ガラスＦＧの合流ポイントの上側雰囲気および下側雰囲気を仕切ることにより、仕切り部材５０の上側と下側との間の熱の移動を遮断する。
　（２－３）冷却ローラ
　冷却ローラ５１は、第１冷却室３０内に設けられる。より具体的に、冷却ローラ５１は、仕切り部材５０の直下に配置されている。また、冷却ローラ５１は、シートガラスＳＧの厚み方向両側で、且つ、シートガラスＳＧの幅方向の両端部Ｒ，Ｌの位置に配置される。シートガラスＳＧの厚み方向両側に配置された冷却ローラ５１は対で動作する。すなわち、シートガラスＳＧの幅方向両端部は、二対の冷却ローラ５１によって挟み込まれる。
　例えば、冷却ローラ５１は、内部に通された空冷管や水冷管により冷却されている。冷却ローラ５１は、シートガラスＳＧの両端部Ｒ，Ｌに接触し、熱伝導によりシートガラスＳＧの両端部Ｒ，Ｌを急冷する。冷却ローラ５１に接触したシートガラスＳＧの両端部Ｒ，Ｌの粘度は、例えば、１０9.0ｐｏｉｓｅ以上である。
　冷却ローラ５１は、冷却ローラ駆動モータ３９０（図５を参照）により回転駆動される。冷却ローラ５１は、シートガラスＳＧの両端部Ｒ，Ｌを冷却すると共に、シートガラスＳＧを下方に引き下げる機能も有する。なお、冷却ローラ５１によるシートガラスＳＧの両端部Ｒ，Ｌの冷却は、シートガラスＳＧの幅およびシートガラスＳＧの厚みの均一化に影響を与える。
　（２－４）温度調整ユニット
　温度調整ユニット６０は、第１冷却室３０内に設けられ、シートガラスＳＧを徐冷点近傍まで冷却するユニットである。温度調整ユニット６０は、仕切り部材５０の下方であって、第２冷却室８０の天板８０ａの上方に配置される。
　温度調整ユニット６０は、シートガラスＳＧの中心部Ｃの温度が徐冷点近傍になるまで、シートガラスＳＧを冷却する。シートガラスＳＧの中心部Ｃは、その後、第２冷却室８０内で、徐冷点、歪点を経て、室温近傍の温度まで冷却される。
　温度調整ユニット６０は、冷却ユニット６１を有してもよい。冷却ユニット６１は、シートガラスＳＧの幅方向に複数（ここでは、３つ）及びその流れ方向に複数配置される。具体的には、冷却ユニット６１は、シートガラスＳＧの両端部Ｒ，Ｌの各表面に対向するように、１つずつ配置され、且つ、後述する中央領域ＣＡ（図４を参照）の各表面に対向するように１つ配置されている。
　（２－５）引下げローラ
　引下げローラ８１ａ～８１ｇは、第２冷却室８０内に設けられ、第１冷却室３０内を通過したシートガラスＳＧを、シートガラスＳＧの流れ方向へ引き下げる。引下げローラ８１ａ～８１ｇは、第２冷却室８０の内部で、流れ方向に沿って所定の間隔を空けて配置される。引下げローラ８１ａ～８１ｇは、シートガラスＳＧの厚み方向両側（図３参照）、および、シートガラスＳＧの幅方向の両端部Ｒ，Ｌの位置に（図４参照）に複数配置される。すなわち、引下げローラ８１ａ～８１ｇは、シートガラスＳＧの幅方向の両端部Ｒ，Ｌの位置で、かつ、シートガラスＳＧの厚み方向の両側に接触しながらシートガラスＳＧを下方に引き下げる。
　引下げローラ８１ａ～８１ｇは、引下げローラ駆動モータ３９１（図５参照）によって駆動される。引下げローラ８１ａ～８１ｇの周速度は、引下げローラ８１ａ～８１ｇが下流側に設置されている程、大きくすることが好ましい。すなわち、複数の引下げローラ８１ａ～８１ｇのうち、引下げローラ８１ａの周速度が最も小さく、引下げローラ８１ｇの周速度が最も大きい。シートガラスＳＧの厚み方向両側に配置された引下げローラ８１ａ～８１ｇは、対で動作し、対の引下げローラ８１ａ，８１ａ，・・・が、シートガラスＳＧを下方向に引き下げる。
　（２－６）ヒータ
　ヒータ８２ａ～８２ｇは、第２冷却室８０の内部に設けられ、第２冷却室８０の内部空間の温度を調整する。具体的に、ヒータ８２ａ～８２ｇは、シートガラスＳＧの流れ方向およびシートガラスＳＧの幅方向に複数配置される。例えば、シートガラスＳＧの流れ方向には、７つのヒータが配置され、シートガラスの幅方向には３つのヒータが配置される。幅方向に配置される３つのヒータは、シートガラスＳＧの中央領域ＣＡと、シートガラスＳＧの両端部Ｒ，Ｌとをそれぞれ温度制御する。ヒータ８２ａ～８２ｇの出力は、後述する制御装置９１によって制御される。これにより、第２冷却室８０内部を通過するシートガラスＳＧの近傍の雰囲気温度が制御される。ヒータ８２ａ～８２ｇによって第２冷却室８０内の雰囲気温度が制御されることによって、シートガラスＳＧの温度制御が行われる。また、温度制御により、シートガラスＳＧは、粘性域から粘弾性域を経て弾性域へと推移する。このように、ヒータ８２ａ～８２ｇの制御により、第２冷却室８０では、シートガラスＳＧの温度が、徐冷点近傍の温度から室温付近の温度まで冷却される。
　なお、シートガラスＳＧの近傍には、雰囲気温度を検出する雰囲気温度検出手段（本実施形態では、熱電対）３８０（図５参照）が設けられていてもよい。例えば、複数の熱電対３８０が、シートガラスＳＧの流れ方向およびシートガラスＳＧの幅方向に配置される。熱電対３８０は、シートガラスＳＧの表面の温度を検出することができる。例えば、熱電対３８０は、シートガラスＳＧの中心部Ｃの温度と、シートガラスＳＧの両端部Ｒ，Ｌの温度とをそれぞれ検出する。ヒータ８２ａ～８２ｇの出力は、熱電対３８０によって検出される雰囲気温度に基づいて制御される。
　（２－７）切断装置
　切断装置９０は、第２冷却室８０内で室温付近の温度まで冷却されたシートガラスＳＧを、所定のサイズに切断する。これにより、シートガラスＳＧは、複数のガラス板になる。切断装置９０は、切断装置駆動モータ３９２（図５を参照）によって駆動される。なお、切断装置９０は、必ずしも第２冷却室８０の直下に設けられていなくてもよい。また、シートガラスＳＧは切断装置９０で切断されなくてもよく、シートガラスＳＧをロール状に巻き回してロール状のシートガラスを作製してもよい。
　（２－８）制御装置
　図５は、制御装置９１の構成の一例を示す図である。
　制御装置９１は、ＣＰＵ、ＲＡＭ、ＲＯＭ、およびハードディスク等から構成されており、ガラス基板製造装置１００に含まれる種々の機器の制御を行う。具体的には、図５に示すように、制御装置９１は、ガラス基板製造装置１００に含まれる各種のセンサ（例えば、熱電対３８０）やスイッチ（例えば、主電源スイッチ３８１）等による信号を受けて、温度調整ユニット６０、ヒータ８２ａ～８２ｇ、冷却ローラ駆動モータ３９０、引下げローラ駆動モータ３９１、切断装置駆動モータ３９２等の制御を行う。
　（３）温度管理
　本実施形態に係るガラス基板の製造方法の冷却工程Ｓ４では、中央領域ＣＡの冷却速度であって、中心部Ｃの温度が４５０℃未満３００℃以上の温度領域における平均冷却速度が、冷却工程Ｓ４の中の、中心部Ｃの温度が４５０℃未満３００℃以上である上記温度領域以外の温度領域における中央領域ＣＡの平均冷却速度に比べて小さい。すなわち、冷却工程Ｓ４において、中心部Ｃの温度が４５０℃未満３００℃以上である温度領域において、中央領域ＣＡにおける平均冷却速度は最も小さい。このように平均冷却速度を調整することにより、ガラス基板の製造ライン上で、極めて低い熱収縮率を達成することができる。この場合、平均冷却速度の調整は、上述した、冷却ローラ５１、温度調整ユニット６０、およびヒータ８２ａ～８２ｇを用いて行われる。勿論、このとき、図６に示すようなシートガラスＳＧの幅方向の温度プロファイルＴＰ１～ＴＰ１０を流れ方向の各温度領域における目標温度プロファイルとして、第１冷却室３０及び第２冷却室８０の温度を制御することにより、シートガラスＳＧの厚み、反り量、及び歪を調整することができる。
　図６は、冷却工程における目標温度プロファイルの一例である温度プロファイルＴＰ１～ＴＰ１０を説明する図である。温度プロファイルＴＰ１では、シートガラスＳＧの中央領域ＣＡの温度が均一であり、シートガラスＳＧの両端部Ｒ，Ｌは、中央領域ＣＡの温度よりも低い。シートガラスＳＧが、この温度プロファイルＴＰ１になるように、成形後の冷却ローラ５１を用いてシートガラスＳＧの両端部Ｒ，Ｌの冷却が行なわれる。温度プロファイルＴＰ２～ＴＰ５では、シートガラスＳＧ全体の温度を下げながら、中央領域ＣＡの温度分布を矩形形状から上に凸の略放物線形状にし、略放物線形状の凸の程度を徐々に小さくする。温度プロファイルＴＰ６において両端部Ｒ，Ｌ及び中央領域ＣＡにおける温度を一定にする。この後、温度プロファイルＴＰ７～ＴＰ１０では、下に凸の略放物線形状の温度分布にし、シートガラスＳＧ全体の温度を下げながら、中央領域ＣＡの温度分布を下に凸の程度を大きくする。シートガラスＳＧの温度が、このような温度プロファイルになるように、冷却ユニット６１及びヒータ８２ａ～８２ｇを用いて第１冷却室３０及び第２冷却室８０の温度調整を行なう。
　なお、第１冷却室３０及び第２冷却室８０の温度調整を行なう場合、シートガラスＳＧの温度は、シートガラスＳＧの温度の実測値を用いてもよく、また、ヒータ８２ａ～８２ｇによって制御されるシートガラスＳＧの雰囲気温度に基づいてシミュレーションにより算出された値を用いてもよい。
　図７は、本実施形態における中心部ＣのシートガラスＳＧの流れ方向に沿った温度履歴（温度の時間変化）の一例を示す図である。図７において、時点Ａで、成形体４１の下端部４１ａにおいてシートガラスＳＧが形成される。このときのシートガラスＳＧの温度は、例えば１２００℃である。時点Ｂでは、シートガラスＳＧの温度は徐冷点（ガラスの粘度が１０１３ｐｏｉｓｅのときの温度、例えば７７５℃）になり、時点Ｃでは、シートガラスＳＧの温度は４５０℃になる。時点Ｄでは、シートガラスＳＧの温度は３００℃になり、時点Ｅでは、シートガラスＳＧの温度は２００℃以下になり切断装置９０で切断される。このとき、時点Ａから時点ＢまでのシートガラスＳＧの温度領域（シートガラスＳＧの形成後徐冷点以上の温度領域）を第１温度領域Ｒ１とし、時点Ｂ経過後時点ＣまでのシートガラスＳＧの温度領域（徐冷点未満４５０℃以上の温度領域）を第２温度領域Ｒ２とし、時点Ｃ経過後時点ＤまでのシートガラスＳＧの温度領域（４５０℃未満３００℃以上の温度領域）を第３温度領域Ｒ３とし、時点Ｄ経過後時点ＥまでのシートガラスＳＧの温度領域（３００℃未満１００℃以上の温度領域）を第４温度領域Ｒ４としている。このとき、第１～４温度領域Ｒ１～Ｒ４において、第３温度領域Ｒ３における第３平均冷却速度が、他の第１，２，４温度領域Ｒ１、Ｒ２，Ｒ４の第１，２，４平均冷却速度に比べて小さい。第１温度領域Ｒ１におけるシートガラスＳＧの冷却工程は、第１冷却工程であり、第２～４温度領域Ｒ２～Ｒ４におけるシートガラスＳＧの冷却工程は、それぞれ第２～４冷却工程である。
　本実施形態では、温度領域Ｒ３における第３平均冷却速度は、温度領域Ｒ３以外の範囲を任意に区切って温度領域（１０℃以上の温度差を有する温度領域）を定めた場合であっても、最も小さい。
　なお、第１温度領域Ｒ１における第１平均冷却速度は、第２温度領域における第２平均冷却速度より大きいことが、効率的に熱収縮率を低減させることができる点で好ましい。具体的には、第１温度領域Ｒ１におけるガラスの緩和は素早く進行するため、第１温度領域Ｒ１よりも第２～４温度領域Ｒ２～Ｒ４の冷却速度を遅くした方が熱収縮率を効率的に低減させるという観点から好ましい。
　また、第４冷却工程の第４温度領域Ｒ４における第４平均冷却速度は、第３温度領域における第３平均冷却速度よりも大きいことが、冷却工程Ｓ４のシートガラスＳＧの経路の長さを変更しないで済む点及びガラス基板の生産効率の低下を抑える点で好ましい。
　また、第３温度領域Ｒ３における第３平均冷却速度は、５℃／秒以下であることが、熱収縮率を低減させることができる点から好ましい。また、第３平均冷却速度の下限は特に制限されないが、シートガラスＳＧの経路の長さを変更しない点から、あるいはガラス基板の生産効率の低下を抑えることができる点から、例えば０．５℃／秒以上であることが好ましい。さらに、生産性を保ちつつ熱収縮率を低減させるという観点からは、第３平均冷却速度は、１℃／秒～４．５℃／秒であることが好ましい。
　また、第１温度領域Ｒ１における第１平均冷却速度は、例えば、５℃／秒～５０℃／秒であることが好ましく、より好ましくは１５℃／秒～３５℃／秒である。第２温度領域Ｒ２における第２平均冷却速度は、例えば５℃／秒以下であり、１℃／秒～５℃／秒であることが好ましく、２℃／秒～５℃／秒であることがより好ましい。
　また、本実施形態のように、中心部Ｃの温度が３００℃未満１００℃以上である第４温度領域Ｒ４における第４平均冷却速度は、第３温度領域Ｒ３における第３平均冷却速度よりも大きいことが、シートガラスＳＧの経路を長くせず、熱収縮率を低くする点で、好ましい。
　図７に示す温度履歴は、中心部Ｃにおける温度履歴であるが、中心部Ｃから外れた中央領域ＣＡの他の部分の幅方向の同じ位置における温度の時間履歴も同様に、第３温度領域Ｒ３における平均冷却速度が最も小さい。
　第１温度領域Ｒ１～第４温度領域Ｒ４における第１～４平均冷却速度は、第１冷却室３０及び第２冷却室８０の雰囲気温度を調整することに得られるものであり、常温における自然放冷に比べて小さい速度である。
　一般的に、ガラスは非晶質であり、高温のガラスは、熱によって分子構造が最適な構造に向かって変化し、すなわち熱緩和して収縮しようとする。このため、熱収縮率の小さいガラス基板を作製するには、シートガラスＳＧの熱緩和が十分に進行するように、ゆっくり冷却することが好ましい。シートガラスＳＧの冷却速度が速く、熱緩和が十分になされずにシートガラスＳＧが冷却されると、熱緩和の途中でガラス内の分子構造の変化は高い粘性によって抑制あるいは阻止される。このため、このようなシートガラスＳＧから得られるガラス基板を熱処理のために再加熱すると、熱緩和の抑制あるいは阻止が解除されて熱緩和の途中から再開し始める。
　ところで、ガラスは速度の異なる複数の緩和を有しており、ガラスの緩和は異なる緩和速度をもつ緩和の重ね合わせで表すことができる（以下、緩和速度の異なる緩和を、緩和の「成分」と呼ぶ）。上述したようにガラスの緩和成分として、すばやく熱緩和して収縮する成分、緩やかに熱緩和して収縮する成分、さらに、中間の速さで熱緩和して収縮する成分等が多数存在する。このため、冷却工程では、これらの成分全てにおいて熱緩和が十分に進行するような温度履歴を設定することが好ましい。しかし、冷却工程Ｓ４におけるシートガラスＳＧの経路は、図４に示すように、成形装置４０の鉛直上方から下方に向かう経路であり、建物等の構造物内に設けられているので、経路を延長することは建物等の構造物を改修、増築等をする必要があるため、経路を延長することは難しい。このため、既存の搬送経路において、シートガラスＳＧの温度履歴を適切に行なって冷却工程Ｓ４におけるガラス基板の熱収縮率を効率よく小さくすることが好ましい。本実施形態では、第３温度領域Ｒ３における平均冷却速度を、冷却工程Ｓ４の中の、第３温度領域Ｒ３以外の温度領域における平均冷却速度に比べて小さくすることにより、ガラス基板の熱収縮率を効率よく小さくすることができる。この理由は、以下のように想定される。
　図８は、横軸に時間、縦軸に温度を表した冷却工程Ｓ４におけるシートガラスＳＧの冷却工程における温度履歴Ｔ１～Ｔ３（実線）の模式図である。図中の時点Ａ，Ｅは、図７における時点Ａ，Ｅに対応する。ここで、温度履歴Ｔ１は、本実施形態の温度履歴の一例であり、温度履歴Ｔ２は、高温状態で温度履歴Ｔ１に対して冷却速度を小さくし、その後、冷却速度を温度履歴Ｔ１に対して大きくし、その後、冷却速度を温度履歴Ｔ１と同等の冷却速度にする形態であり、温度履歴Ｔ３は、高温状態で、温度履歴Ｔ１と同等の冷却速度にし、その後、温度履歴Ｔ１に対して冷却速度を小さくし、その後、温度履歴Ｔ１に対して冷却速度を大きくする形態である。
　温度履歴Ｔ１、Ｔ３では、上述した緩やかに熱緩和して収縮する成分（この成分を成分Ｘという）は、高温状態における冷却速度に追従できなくなり、点Ｐ１において、成分Ｘに関する分子構造の変化は粘性によって抑制あるいは阻止される。温度履歴Ｔ２では、高温状態の冷却速度は小さいため、点Ｐ２において、成分Ｘに関する分子構造の変化は粘性によって抑制あるいは阻止される。
　一方、温度履歴Ｔ１では、すばやく熱緩和して収縮する成分（この成分を成分Ｙという）は、点Ｐ３において冷却速度に追従できなくなり、点Ｐ３で、成分Ｙに関する分子構造の変化（熱緩和）は粘性によって抑制あるいは阻止される。温度履歴Ｔ２では、成分Ｙは、点Ｐ４において冷却速度に追従できなくなり、点Ｐ４で成分Ｙに関する分子構造の変化（熱緩和）は粘性によって抑制あるいは阻止される。温度履歴Ｔ３では、成分Ｙは、点Ｐ５において冷却速度に追従できなくなり、点Ｐ５で成分Ｙに関する分子構造の変化（熱緩和）は粘性によって抑制あるいは阻止される。
　このような温度履歴Ｔ１～Ｔ３において、点Ｐ１，Ｐ２の、分子構造の変化（熱緩和）が抑制あるいは阻止されるときの温度は、点Ｐ１，Ｐ２間であまり異ならないが、成分Ｙに関する分子構造の変化が抑制される点Ｐ３～Ｐ５における温度は大きく異なる。具体的には、点Ｐ３における温度が最も低い。したがって、温度履歴Ｔ１～Ｔ３において、熱緩和が抑制あるいは阻止される温度が低いほど、熱緩和が進んでいることから、成分Ｙに関する分子構造の変化が抑制あるいは阻止される時点の温度が低い程、熱収縮率を小さくすることができる。したがって、温度履歴Ｔ１～Ｔ３のうち、最も低い温度で成分Ｙに関する分子構造の変化を抑制あるいは阻止する温度履歴Ｔ１が、シートガラスＳＧの切断前に、熱緩和を十分に行わせることができ、これによって、効率よく熱収縮率を低減したシートガラスＳＧを提供することができる。
　なお、シートガラスＳＧの熱収縮率が所定の目標値を達成するように第１～４温度領域における第１～４平均冷却速度を設定することができる。例えば、シートガラスＳＧの熱収縮率を複数種種の冷却条件の下で実際に測定し、得られた測定値に基づいて検量線を作成する。さらに、シートガラスＳＧの熱収縮率が所定の目標値を達成するように、作成した検量線を用いて、設定されているシートガラスＳＧの幅方向の目標となる温度プロファイルＴＰ１～ＴＰ１０の流れ方向に沿った温度分布を調整することで、第１～４温度領域における第１～４平均冷却速度を設定することができる。
　本実施形態では、第３温度領域Ｒ３の温度範囲を４５０℃未満３００℃以上としているが、所定の処理温度で熱処理を施して表面に薄膜を形成するためのディスプレイ用ガラス基板に適用する場合、第３温度領域Ｒ３を（処理温度-１００℃）未満（前記処理温度-２５０℃）以上の温度領域とすることもできる。この場合、処理温度は、３００℃以上、さらには４００℃以上であることが好ましい。
　例えば、ガラス基板の表面に、低温ポリシリコンＴＦＴ（Thin Film Transistor）等のＴＦＴ、あるいはＩＧＺＯ（インジウム、ガリウム、亜鉛、酸素）等の酸化物半導体に代表される薄膜が形成される。この半導体等の薄膜の形成時に、ガラス基板は、例えば、３００℃以上、あるいは４００℃以上の処理温度で熱処理される。したがって、ガラス基板は、この熱処理の処理温度に応じて、第３温度領域Ｒ３の温度範囲を定めるとよい。なお、薄膜の形成時の熱処理の処理温度は、例えば、３００℃～７００℃であり、あるいは、４００℃～６５０℃である。
　この場合、シートガラスＳＧの形成後、中心部Ｃの温度が徐冷点以上の温度領域を第１温度領域Ｒ１とし、中心部Ｃの温度が徐冷点未満（処理温度（℃）－１００℃）以上の温度領域を第２温度領域Ｒ２としたとき、第３温度領域Ｒ３における第３平均冷却速度は、第１温度領域Ｒ１における第１平均冷却速度及び第２温度領域Ｒ２における第２平均冷却速度より小さいことが好ましい。
　また、中心部Ｃの温度が（処理温度（℃）－２５０℃）未満（処理温度（℃）－４５０℃以上である温度領域を第４温度領域Ｒ４とし、第４温度領域Ｒ４における第４平均冷却速度は、第３温度領域Ｒ３における第３平均冷却速度よりも大きいことが、搬送経路を長くせず、熱収縮率を低くする点で好ましい。
　本実施形態では、このような温度履歴を冷却工程Ｓ４で定めることにより、ガラス基板の熱収縮率を１５ｐｐｍ以下にすることが、ディスプレイ用ガラス基板に適したガラス基板を提供できる点から好ましい。ガラス基板の熱収縮率を１０ｐｐｍ以下にすることがより好ましい。
　また、ガラス基板の歪点（ガラスの粘度が１０１４．５ｐｏｉｓｅのときの温度）は、ガラス基板の熱収縮率を小さくするという観点から６８０℃以上であることが好ましく、７００℃以上であることがより好ましく、７２０℃以上であることがさらに好ましい。ただし、歪点が高くなるようにガラス組成を調整すると、失透温度が高くなる傾向にあるため、ガラス基板の歪点の上限は７８０℃以下であることが好ましく、７６０℃以下であることがより好ましい。
　なお、失透温度は、１２８０℃以下であることが好ましく、熱収縮率の低減と耐失透性を両立するという観点からは、１１００℃～１２７０℃であることが好ましく、１１５０℃～１２４０℃であることがより好まししい。
（ガラス組成）
　本実施形態で製造されるガラス基板のガラス組成として、例えば以下のガラス組成がモル％表示で例示される。
ＳｉＯ２５５～８０％、
Ｂ２Ｏ３ ０～１８％、
Ａｌ２Ｏ３ ３～２０％、
ＭｇＯ ０～２０％、
ＣａＯ ０～２０％、
ＳｒＯ ０～２０％、
ＢａＯ ０～２０％、
ＲＯ ５～２５％
（ただしＲはＭｇ、Ｃａ、ＳｒおよびＢａから選ばれる少なくとも１種である）、
Ｒ’２Ｏ ０％～２．０％
（ただしＲ’はＬｉ、ＮａおよびＫから選ばれる少なくとも１種である）
を含む。
　熔融ガラス中で価数変動する金属の酸化物の合計含有率は特に制限されないが、例えば、０．０５～１．５％含んでもよい。また、Ａｓ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ３およびＰｂＯを実質的に含まないことが好ましい。
（ガラス基板の適用例）
　本実施形態のガラス基板の製造方法によって製造されるガラス基板は、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ等のディスプレイ用ガラス基板やディスプレイを保護するカバーガラスとして、特に適している。ディスプレイ用ガラス基板を用いるディスプレイには、ディスプレイ表面がフラットなフラットパネルディスプレイの他、有機ＥＬディスプレイ、液晶ディスプレイであって、ディスプレイ表面が湾曲した曲面ディスプレイが含まれる。ガラス基板は、高精細ディプレイ用ガラス基板として、例えば液晶ディスプレイ用ガラス基板、有機ＥＬ（Electro-Luminescence）ディスプレイ用ガラス基板、ＬＴＰＳ（Low Temperature Poly-silicon）薄膜半導体、あるいはＩＧＺＯ（Indium，Gallium，Zinc，Oxide）等の酸化物半導体を用いたディプレイ用ガラス基板として用いることが好ましい。
　ディスプレイ用ガラス基板としては、無アルカリガラス、または、アルカリ微量含有ガラスが用いられる。ディスプレイ用ガラス基板は、高温時における粘性が高い。例えば、１０2.5ポアズの粘性を有する熔融ガラスの温度は、１５００℃以上である。なお、無アルカリガラスは、アルカリ金属酸化物（Ｒ’２Ｏ）を実質的に含まない組成のガラスである。アルカリ金属酸化物を実施的に含まないとは、原料等から混入する不純物を除き、ガラス原料としてアルカリ金属酸化物を添加しない組成のガラスであり、例えば、アルカリ金属酸化物の含有量は０．１質量％未満である。
（熱収縮率）
　本実施形態における熱収縮率は、熱処理を行って測定される。
　ガラス基板を所定のサイズの長方形に切りだし、長辺両端部にケガキ線を入れ、短辺中央部で半分に切断し、２つのガラスサンプルを得る。このうちの一方のガラスサンプルを、熱処理（５００℃で３０分）する。熱処理をしない他方のガラスサンプルの長さを計測する。さらに、熱処理したガラスサンプルと未処理のガラスサンプルとをつき合わせてケガキ線のずれ量を、レーザ顕微鏡等で測定して、ガラスサンプルの長さの差分を求めることでサンプルの熱収縮量を求めることができる。この熱収縮量である差分と、熱処理前のガラスサンプルの長さを用いて、以下の式により熱収縮率が求められる。このガラスサンプルの熱収縮率をガラス基板の熱収縮率とする。
　熱収縮率（ｐｐｍ）＝（差分）／（熱処理前のガラスサンプルの長さ）×１０６
（実験例）
　上記ガラス基板製造装置１００およびガラス基板の製造方法を用いて、以下の条件で実施例１～３ならびに比較例のガラス基板を製造した。ガラスの組成（モル％）は、ＳｉＯ2 ７０．５％，Ｂ2Ｏ3 ７．２％，Ａｌ2Ｏ3 １１．０％，Ｋ2Ｏ ０．２％，ＣａＯ １１．０％，ＳｎＯ2 ０．０９％，Ｆｅ2Ｏ3０．０１％であった。ガラスの失透温度は、１２０６℃であり、液相粘度は、１．９×１０5ｄＰａ・ｓであった。ガラスの徐冷点は７５８℃であり、歪点は６９９℃であった。また、シートガラスＳＧの幅は１６００ｍｍ、厚みは、０．７ｍｍ（実施例１、比較例１）、０．５ｍｍ（実施例２、比較例２）、０．４ｍｍ（実施例３、比較例３）とした。また、ガラス基板に薄膜を形成するための熱処理温度は５５０℃であった。
　シートガラスＳＧの幅方向の中心部Ｃの温度が徐冷点以上であるときの平均冷却速度を第１平均冷却速度とし、中心部Ｃの温度が徐冷点未満４５０℃以上であるときの平均冷却速度を第２平均冷却速度とし、中心部Ｃの温度が４５０℃未満３００℃以上であるときの平均冷却速度を第３平均冷却速度とした。実施例１～３では、第３平均冷却速度は、第１平均冷却速度及び第２平均冷却速度よりも遅かった。一方、比較例１～３では、第２平均冷却速度を実施例１～３の第２平均冷却速度より遅くし、第３平均冷却速度を実施例１～３の第３平均冷却速度より速くしたため、比較例１～３の第２平均冷却速度は、比較例１～３の第３平均冷却速度より遅かった。その結果、実施例１～３の熱収縮率は１５ｐｐｍ以下であったが、比較例１～３の熱収縮率は１５ｐｐｍを超えた。
　これより、本実施形態の効果は明らかである。
　以上、本発明のガラス基板の製造方法について詳細に説明したが、本発明は上記実施形態及び実施例に限定されず、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々の改良や変更をしてもよいのはもちろんである。
　１１　　　　　　　　　　熔融装置
　１２　　　　　　　　　　清澄装置
　２０　　　　　　　　　　成形体室
　３０　　　　　　　　　　第１冷却室
　４０　　　　　　　　　　成形装置
　４１　　　　　　　　　　成形体
　５１　　　　　　　　　　冷却ローラ
　６０　　　　　　　　　　温度調整ユニット
　８０　　　　　　　　　　第２冷却室
　８０ａ　　　　　　　　　天板
　８０ｂ　　　　　　　　　断熱部材
　８１ａ～８１ｇ　　　　　引下げローラ
　８２ａ～８２ｇ　　　　　ヒータ
　９０　　　　　　　　　　切断装置
　９１　　　　　　　　　　制御装置
　１００　　　　　　　　　ガラス基板製造装置

Claims (10)

  1. 　熔融ガラスをダウンドロー法によってシートガラスに成形する成形工程と、
    　成形された前記シートガラスを流すときに、前記シートガラスの流れ方向と直交する幅方向の中心部の温度が３００℃になるまで冷却する冷却工程と、を備え、
    　前記冷却工程において、前記シートガラスの幅方向の両端部よりも前記シートガラスの前記幅方向の内側にあり、前記中心部を含む領域である中央領域の冷却速度であって、前記中心部の温度が４５０℃未満３００℃以上の温度領域における平均冷却速度は、前記冷却工程の中の、前記温度領域以外の温度領域における前記中央領域の平均冷却速度に比べて小さい、ディスプレイ用ガラス基板の製造方法。
  2. 　所定の処理温度で熱処理を施して表面に薄膜を形成するためのディスプレイ用ガラス基板の製造方法であって、
    　熔融ガラスをダウンドロー法によってシートガラスに成形する成形工程と、
    　成形された前記シートガラスを流すときに、前記シートガラスの流れ方向と直交する幅方向の中心部の温度が、前記処理温度よりも２５０℃低い温度になるまで冷却する冷却工程と、を備え、
    　前記冷却工程において、前記シートガラスの幅方向の両端部よりも前記シートガラスの前記幅方向の内側にあり、前記中心部を含む領域である中央領域の冷却速度であって、前記中心部の温度が、前記処理温度よりも１００℃低い温度未満、前記処理温度よりも２５０℃低い温度以上の温度領域における平均冷却速度は、前記冷却工程の中の、前記温度領域以外の温度領域における前記中央領域の平均冷却速度に比べて小さい、ディスプレイ用ガラス基板の製造方法。
  3. 　前記冷却工程は、
    　前記シートガラスに成形された後、前記シートガラスの前記幅方向の中心部の温度が徐冷点以上であるとき、前記シートガラスの幅方向の両端部よりも前記シートガラスの幅方向内側にあり、前記中心部を含む領域である中央領域を第１平均冷却速度で冷却する第１冷却工程と、
    　前記中心部の温度が前記徐冷点未満４５０℃以上であるとき、前記中央領域を第２平均冷却速度で冷却する第２冷却工程と、
    　前記中心部の温度が４５０℃未満３００℃以上であるとき、前記中央領域を第３平均冷却速度で冷却する第３冷却工程と、を含み、
    　前記第３平均冷却速度は、前記第１平均冷却速度及び前記第２平均冷却速度より小さい、請求項１に記載のディスプレイ用ガラス基板の製造方法。
  4. 　前記冷却工程は、さらに、前記中心部の温度が３００℃未満１００℃以上であるとき、前記中央領域を第４平均冷却速度で冷却する第４冷却工程を含み、
    　前記第４平均冷却速度は、前記第３平均冷却速度よりも大きい、請求項３に記載のディスプレイ用ガラス基板の製造方法。
  5. 　前記冷却工程は、
    　前記シートガラスに成形された後、前記シートガラスの幅方向の中心部の温度が徐冷点以上であるとき、前記シートガラスの幅方向の両端部よりも前記シートガラスの幅方向内側にあり、前記中心部を含む領域である中央領域を第１平均冷却速度で冷却する第１冷却工程と、
    　前記中心部の温度が、前記徐冷点未満、前記処理温度よりも１００℃低い温度以上であるとき、前記中央領域を第２平均冷却速度で冷却する第２冷却工程と、
    　前記中心部の温度が、前記処理温度よりも１００℃低い温度未満、前記処理温度よりも２５０℃低い温度以上であるとき、前記中央領域を第３平均冷却速度で冷却する第３冷却工程と、を含み、
    　前記第３平均冷却速度は、前記第１平均冷却速度及び前記第２平均冷却速度より小さい、請求項２に記載のディスプレイ用ガラス基板の製造方法。
  6. 　前記冷却工程は、さらに、前記中心部の温度が、前記処理温度よりも２５０℃低い温度未満、前記処理温度よりも４５０℃低い温度以上であるとき、前記中央領域を第４平均冷却速度で冷却する第４冷却工程を含み、
    　前記第４平均冷却速度は、前記第３平均冷却速度よりも大きい、請求項５に記載のディスプレイ用ガラス基板の製造方法。
  7. 　前記第１平均冷却速度は、前記第２平均冷却速度より大きい、請求項３～６のいずれか１項に記載のディスプレイ用ガラス基板の製造方法。
  8. 　前記第３平均冷却速度は、５．０℃／秒以下である、請求項３～７のいずれか１項に記載のディスプレイ用ガラス基板の製造方法。
  9. 　前記ガラス基板の熱収縮率は１５ｐｐｍ以下である、請求項１～８のいずれか１項に記載のディスプレイ用ガラス基板の製造方法。
    　ただし、前記熱収縮率とは、５００℃で３０分保持の熱処理が施された後のガラス基板の収縮量を用いて、以下の式にて求められる値である。
    熱収縮率（ｐｐｍ）
    　　＝｛熱処理後のガラス基板の収縮量／熱処理前のガラス基板の長さ｝×１０６
  10. 　前記ガラス基板の歪点は、６８０℃以上である、請求項１～９のいずれか１項に記載のディスプレイ用ガラス基板の製造方法。
     
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021131668A1 (ja) * 2019-12-23 2021-07-01 日本電気硝子株式会社 ガラス基板の製造方法及びガラス基板

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009502706A (ja) * 2005-07-21 2009-01-29 コーニング インコーポレイテッド 制御された冷却を用いた板ガラス製造方法
WO2012133838A1 (ja) * 2011-03-31 2012-10-04 ＡｖａｎＳｔｒａｔｅ株式会社 ガラス基板の製造方法
JP2012197185A (ja) * 2010-03-23 2012-10-18 Nippon Electric Glass Co Ltd ガラス基板の製造方法及びガラス基板
WO2014157649A1 (ja) * 2013-03-29 2014-10-02 ＡｖａｎＳｔｒａｔｅ株式会社 ガラス基板製造方法及びガラス基板製造装置

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW544445B (en) 1999-06-29 2003-08-01 Hoya Corp Glass substrate and glass composition for use in a liquid crystal panel
JP5327702B2 (ja) * 2008-01-21 2013-10-30 日本電気硝子株式会社 ガラス基板の製造方法
JP5648635B2 (ja) * 2009-07-13 2015-01-07 旭硝子株式会社 ガラス板の製造方法及び製造装置
JP5375385B2 (ja) * 2009-07-13 2013-12-25 日本電気硝子株式会社 ガラス基板の製造方法
KR101850164B1 (ko) * 2010-05-26 2018-04-18 코닝 인코포레이티드 흐르는 녹은 유리 리본의 두께를 제어하는 장치 및 방법
EP2695863A1 (en) * 2011-04-08 2014-02-12 Asahi Glass Company, Limited Non-alkali glass for substrates and process for manufacturing non-alkali glass for substrates
JP2013139342A (ja) * 2011-12-28 2013-07-18 Avanstrate Inc ガラス板の製造方法
CN104010981B (zh) * 2012-09-28 2017-07-18 安瀚视特控股株式会社 玻璃基板的制造方法及玻璃基板制造装置
JP5805602B2 (ja) * 2012-09-28 2015-11-04 ＡｖａｎＳｔｒａｔｅ株式会社 ガラス基板の製造方法、および、冷却器
JP2014189483A (ja) * 2013-03-28 2014-10-06 Avanstrate Inc ガラス板製造方法、および、ガラス板製造装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009502706A (ja) * 2005-07-21 2009-01-29 コーニング インコーポレイテッド 制御された冷却を用いた板ガラス製造方法
JP2012197185A (ja) * 2010-03-23 2012-10-18 Nippon Electric Glass Co Ltd ガラス基板の製造方法及びガラス基板
WO2012133838A1 (ja) * 2011-03-31 2012-10-04 ＡｖａｎＳｔｒａｔｅ株式会社 ガラス基板の製造方法
WO2014157649A1 (ja) * 2013-03-29 2014-10-02 ＡｖａｎＳｔｒａｔｅ株式会社 ガラス基板製造方法及びガラス基板製造装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021131668A1 (ja) * 2019-12-23 2021-07-01 日本電気硝子株式会社 ガラス基板の製造方法及びガラス基板
CN114845962A (zh) * 2019-12-23 2022-08-02 日本电气硝子株式会社 玻璃基板的制造方法以及玻璃基板

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