JP6823457B2 - ディスプレイ用ガラス基板の製造方法 - Google Patents
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Description
熔融ガラスをダウンドロー法によってシートガラスに成形する成形工程と、
成形された前記シートガラスを流すときに、前記シートガラスの流れ方向と直交する幅方向の中心部の温度が300℃になるまで冷却する冷却工程と、を備える。
前記冷却工程において、前記シートガラスの幅方向の両端部よりも前記シートガラスの前記幅方向の内側にあり、前記中心部を含む領域である中央領域のうち、前記中心部の温度が450℃未満300℃以上の温度領域における平均冷却速度は、前記中央領域の前記温度領域以外の領域における平均冷却速度に比べて小さい。
前記シートガラスに成形された後、前記シートガラスの前記幅方向の中心部の温度が徐冷点以上であるとき、前記シートガラスの幅方向の両端部よりも前記シートガラスの幅方向内側にあり、前記中心部を含む領域である中央領域を第1平均冷却速度で冷却する第1冷却工程と、
前記中心部の温度が前記徐冷点未満450℃以上であるとき、前記中央領域を第2平均冷却速度で冷却する第2冷却工程と、
前記中心部の温度が450℃未満300℃以上であるとき、前記中央領域を第3平均冷却速度で冷却する第3冷却工程と、を含み、
前記第3平均冷却速度は、前記第1平均冷却速度及び前記第2平均冷却速度より小さい、ことが好ましい。
前記第4平均冷却速度は、前記第3平均冷却速度よりも大きい、ことが好ましい。
熔融ガラスをダウンドロー法によってシートガラスに成形する成形工程と、
成形された前記シートガラスを流すときに、前記シートガラスの流れ方向と直交する幅方向の中心部の温度が、前記処理温度よりも250℃低い温度、すなわち(前記処理温度-250℃)になるまで冷却する冷却工程と、を備える。
前記冷却工程において、前記シートガラスの幅方向の両端部よりも前記シートガラスの前記幅方向の内側にあり、前記中心部を含む領域である中央領域のうち、前記中心部の温度が、前記処理温度よりも100℃低い温度未満、すなわち(前記処理温度−100℃)未満、かつ前記処理温度よりも250℃低い温度以上、すなわち(前記処理温度−250℃)以上の温度領域における平均冷却速度は、前記中央領域の前記温度領域以外の領域における平均冷却速度に比べて小さい。
前記シートガラスに成形された後、前記シートガラスの幅方向の中心部の温度が徐冷点以上であるとき、前記シートガラスの幅方向の両端部よりも前記シートガラスの幅方向内側にあり、前記中心部を含む領域である中央領域を第1平均冷却速度で冷却する第1冷却工程と、
前記中心部の温度が、前記徐冷点未満、前記処理温度よりも100℃低い温度以上、すなわち(前記処理温度−100℃)以上であるとき、前記中央領域を第2平均冷却速度で冷却する第2冷却工程と、
前記中心部の温度が、前記処理温度よりも100℃低い温度未満、すなわち(前記処理温度-100℃)未満、前記処理温度よりも250℃低い温度以上、すなわち(前記処理温度-250℃)以上であるとき、前記中央領域を第3平均冷却速度で冷却する第3冷却工程と、を含み、
前記第3平均冷却速度は、前記第1平均冷却速度及び前記第2平均冷却速度より小さい、ことが好ましい。
前記第4平均冷却速度は、前記第3平均冷却速度よりも大きい、ことが好ましい。
ただし、前記熱収縮率とは、500℃で30分保持の熱処理が施された後のガラス基板の収縮量を用いて、以下の式にて求められる値である。
熱収縮率(ppm)
={熱処理後のガラス基板の収縮量/熱処理前のガラス基板の長さ}×106
まず、図1および図2を参照して、ディスプレイ用ガラス基板製造方法に含まれる複数の工程および複数の工程に用いられるガラス基板製造装置100を説明する。図1は、本実施形態のディスプレイ用ガラス基板の製造方法の工程の一例を示す図であり、図2は、本実施形態のディスプレイ用ガラス基板の製造方法に用いるガラス基板製造装置の一例の模式図である。
ガラス基板製造方法は、図1に示すように、主として、熔融工程S1と、清澄工程S2と、成形工程S3と、冷却工程S4とを含む。
まず、図3および図4に、成形装置40の概略構成を示す。図3は、成形装置40の断面図である。図4は、成形装置40の側面図である。
本実施形態では、成形体41の下端部41aで熔融ガラスFGが合流してシートガラスSGが形成された位置から、シートガラスSGが下方に流れるときに、シートガラスSGの流れ方向に沿った温度領域のうち、シートガラスSGの中心部C(図4参照)の温度が450℃未満300℃以上の温度領域における平均冷却速度が、後述するように、冷却工程S4の中の、中心部Cの温度が450℃未満300℃以上である温度領域以外の温度領域における平均冷却速度に比べて小さい。この点は後述する。なお、中心部Cの温度が450℃未満300℃以上である温度領域の平均冷却速度と平均冷却速度が比較される温度領域は、例えば上流側と下流側の温度差が少なくとも10℃以上である温度領域である。
なお、シートガラスSGの幅方向の両端部とは、シートガラスSGの両側の端からシートガラスSGの幅方向の内側に向かって200mm進んだ位置までの幅方向の範囲内の領域をいい、両端部の幅方向の内側の領域をシートガラスSGの中央領域CA(図4参照)という。シートガラスSGの両端部R,Lは、製造後に切断除去される対象の部分を含む領域であるのに対し、シートガラスSGの中央領域CAは、板厚を均一にする対象の部分を含む領域である。シートガラスSGの中央領域CAは、シートガラスSGの幅方向の幅のうちシートガラスSGの幅方向の中心から幅の半分の例えば85%以内の範囲である。中心部Cとは、シートガラスSGの幅方向の中心位置をいう。平均冷却速度とは、中心部Cを含んだ中央領域CAの平均冷却速度であり、定められる温度領域における同じ幅方向の位置での流れ方向の温度差を、シートガラスSGがこの温度領域を通過する通過時間で割った値である。450℃未満300℃以上の温度領域のように、X1℃未満X2℃以上と表される温度領域では、中心部Cの温度差はX1−X2(℃)と扱われて、中心部Cにおける平均冷却速度が算出される。中央領域CAの中心部C以外の部分の平均冷却速度も、その温度領域における温度差を通過時間で割った値である。
成形体41は、成形体室20内に設けられる。成形体41は、熔融ガラスFGをオーバーフローさせることによって、熔融ガラスFGをシート状のガラスであるシートガラスSGへと成形する。図3に示すように、成形体41は、断面形状に関して略五角形の形状(楔形に類似する形状)を有する。略五角形の先端は、成形体41の下端部41aに相当する。
仕切り部材50は、成形体室20から第1冷却室30への熱の移動を遮断する部材である。仕切り部材50は、熔融ガラスFGの合流ポイントの近傍に配置されている。また、図3に示すように、仕切り部材50は、合流ポイントで合流した熔融ガラスFG(シートガラスSG)の厚み方向両側に配置される。仕切り部材50は、例えば、断熱材である。仕切り部材50は、熔融ガラスFGの合流ポイントの上側雰囲気および下側雰囲気を仕切ることにより、仕切り部材50の上側と下側との間の熱の移動を遮断する。
冷却ローラ51は、第1冷却室30内に設けられる。より具体的に、冷却ローラ51は、仕切り部材50の直下に配置されている。また、冷却ローラ51は、シートガラスSGの厚み方向両側で、且つ、シートガラスSGの幅方向の両端部R,Lの位置に配置される。シートガラスSGの厚み方向両側に配置された冷却ローラ51は対で動作する。すなわち、シートガラスSGの幅方向両端部は、二対の冷却ローラ51によって挟み込まれる。
温度調整ユニット60は、第1冷却室30内に設けられ、シートガラスSGを徐冷点近傍まで冷却するユニットである。温度調整ユニット60は、仕切り部材50の下方であって、第2冷却室80の天板80aの上方に配置される。
引下げローラ81a〜81gは、第2冷却室80内に設けられ、第1冷却室30内を通過したシートガラスSGを、シートガラスSGの流れ方向へ引き下げる。引下げローラ81a〜81gは、第2冷却室80の内部で、流れ方向に沿って所定の間隔を空けて配置される。引下げローラ81a〜81gは、シートガラスSGの厚み方向両側(図3参照)、および、シートガラスSGの幅方向の両端部R,Lの位置に(図4参照)に複数配置される。すなわち、引下げローラ81a〜81gは、シートガラスSGの幅方向の両端部R,Lの位置で、かつ、シートガラスSGの厚み方向の両側に接触しながらシートガラスSGを下方に引き下げる。
ヒータ82a〜82gは、第2冷却室80の内部に設けられ、第2冷却室80の内部空間の温度を調整する。具体的に、ヒータ82a〜82gは、シートガラスSGの流れ方向およびシートガラスSGの幅方向に複数配置される。例えば、シートガラスSGの流れ方向には、7つのヒータが配置され、シートガラスの幅方向には3つのヒータが配置される。幅方向に配置される3つのヒータは、シートガラスSGの中央領域CAと、シートガラスSGの両端部R,Lとをそれぞれ温度制御する。ヒータ82a〜82gの出力は、後述する制御装置91によって制御される。これにより、第2冷却室80内部を通過するシートガラスSGの近傍の雰囲気温度が制御される。ヒータ82a〜82gによって第2冷却室80内の雰囲気温度が制御されることによって、シートガラスSGの温度制御が行われる。また、温度制御により、シートガラスSGは、粘性域から粘弾性域を経て弾性域へと推移する。このように、ヒータ82a〜82gの制御により、第2冷却室80では、シートガラスSGの温度が、徐冷点近傍の温度から室温付近の温度まで冷却される。
切断装置90は、第2冷却室80内で室温付近の温度まで冷却されたシートガラスSGを、所定のサイズに切断する。これにより、シートガラスSGは、複数のガラス板になる。切断装置90は、切断装置駆動モータ392(図5を参照)によって駆動される。なお、切断装置90は、必ずしも第2冷却室80の直下に設けられていなくてもよい。また、シートガラスSGは切断装置90で切断されなくてもよく、シートガラスSGをロール状に巻き回してロール状のシートガラスを作製してもよい。
図5は、制御装置91の構成の一例を示す図である。
制御装置91は、CPU、RAM、ROM、およびハードディスク等から構成されており、ガラス基板製造装置100に含まれる種々の機器の制御を行う。具体的には、図5に示すように、制御装置91は、ガラス基板製造装置100に含まれる各種のセンサ(例えば、熱電対380)やスイッチ(例えば、主電源スイッチ381)等による信号を受けて、温度調整ユニット60、ヒータ82a〜82g、冷却ローラ駆動モータ390、引下げローラ駆動モータ391、切断装置駆動モータ392等の制御を行う。
本実施形態に係るガラス基板の製造方法の冷却工程S4では、中央領域CAの冷却速度であって、中心部Cの温度が450℃未満300℃以上の温度領域における平均冷却速度が、冷却工程S4の中の、中心部Cの温度が450℃未満300℃以上である上記温度領域以外の温度領域における中央領域CAの平均冷却速度に比べて小さい。すなわち、冷却工程S4において、中心部Cの温度が450℃未満300℃以上である温度領域において、中央領域CAにおける平均冷却速度は最も小さい。このように平均冷却速度を調整することにより、ガラス基板の製造ライン上で、極めて低い熱収縮率を達成することができる。この場合、平均冷却速度の調整は、上述した、冷却ローラ51、温度調整ユニット60、およびヒータ82a〜82gを用いて行われる。勿論、このとき、図6に示すようなシートガラスSGの幅方向の温度プロファイルTP1〜TP10を流れ方向の各温度領域における目標温度プロファイルとして、第1冷却室30及び第2冷却室80の温度を制御することにより、シートガラスSGの厚み、反り量、及び歪を調整することができる。
なお、第1冷却室30及び第2冷却室80の温度調整を行なう場合、シートガラスSGの温度は、シートガラスSGの温度の実測値を用いてもよく、また、ヒータ82a〜82gによって制御されるシートガラスSGの雰囲気温度に基づいてシミュレーションにより算出された値を用いてもよい。
本実施形態では、温度領域R3における第3平均冷却速度は、温度領域R3以外の範囲を任意に区切って温度領域(10℃以上の温度差を有する温度領域)を定めた場合であっても、最も小さい。
また、第4冷却工程の第4温度領域R4における第4平均冷却速度は、第3温度領域における第3平均冷却速度よりも大きいことが、冷却工程S4のシートガラスSGの経路の長さを変更しないで済む点及びガラス基板の生産効率の低下を抑える点で好ましい。
また、第3温度領域R3における第3平均冷却速度は、5℃/秒以下であることが、熱収縮率を低減させることができる点から好ましい。また、第3平均冷却速度の下限は特に制限されないが、シートガラスSGの経路の長さを変更しない点から、あるいはガラス基板の生産効率の低下を抑えることができる点から、例えば0.5℃/秒以上であることが好ましい。さらに、生産性を保ちつつ熱収縮率を低減させるという観点からは、第3平均冷却速度は、1℃/秒〜4.5℃/秒であることが好ましい。
また、第1温度領域R1における第1平均冷却速度は、例えば、5℃/秒〜50℃/秒であることが好ましく、より好ましくは15℃/秒〜35℃/秒である。第2温度領域R2における第2平均冷却速度は、例えば5℃/秒以下であり、1℃/秒〜5℃/秒であることが好ましく、2℃/秒〜5℃/秒であることがより好ましい。
また、本実施形態のように、中心部Cの温度が300℃未満100℃以上である第4温度領域R4における第4平均冷却速度は、第3温度領域R3における第3平均冷却速度よりも大きいことが、シートガラスSGの経路を長くせず、熱収縮率を低くする点で、好ましい。
第1温度領域R1〜第4温度領域R4における第1〜4平均冷却速度は、第1冷却室30及び第2冷却室80の雰囲気温度を調整することに得られるものであり、常温における自然放冷に比べて小さい速度である。
一方、温度履歴T1では、すばやく熱緩和して収縮する成分(この成分を成分Yという)は、点P3において冷却速度に追従できなくなり、点P3で、成分Yに関する分子構造の変化(熱緩和)は粘性によって抑制あるいは阻止される。温度履歴T2では、成分Yは、点P4において冷却速度に追従できなくなり、点P4で成分Yに関する分子構造の変化(熱緩和)は粘性によって抑制あるいは阻止される。温度履歴T3では、成分Yは、点P5において冷却速度に追従できなくなり、点P5で成分Yに関する分子構造の変化(熱緩和)は粘性によって抑制あるいは阻止される。
例えば、ガラス基板の表面に、低温ポリシリコンTFT(Thin Film Transistor)等のTFT、あるいはIGZO(インジウム、ガリウム、亜鉛、酸素)等の酸化物半導体に代表される薄膜が形成される。この半導体等の薄膜の形成時に、ガラス基板は、例えば、300℃以上、あるいは400℃以上の処理温度で熱処理される。したがって、ガラス基板は、この熱処理の処理温度に応じて、第3温度領域R3の温度範囲を定めるとよい。なお、薄膜の形成時の熱処理の処理温度は、例えば、300℃〜700℃であり、あるいは、400℃〜650℃である。
この場合、シートガラスSGの形成後、中心部Cの温度が徐冷点以上の温度領域を第1温度領域R1とし、中心部Cの温度が徐冷点未満(処理温度(℃)−100℃)以上の温度領域を第2温度領域R2としたとき、第3温度領域R3における第3平均冷却速度は、第1温度領域R1における第1平均冷却速度及び第2温度領域R2における第2平均冷却速度より小さいことが好ましい。
また、中心部Cの温度が(処理温度(℃)−250℃)未満(処理温度(℃)−450℃以上である温度領域を第4温度領域R4とし、第4温度領域R4における第4平均冷却速度は、第3温度領域R3における第3平均冷却速度よりも大きいことが、搬送経路を長くせず、熱収縮率を低くする点で好ましい。
また、ガラス基板の歪点(ガラスの粘度が1014.5poiseのときの温度)は、ガラス基板の熱収縮率を小さくするという観点から680℃以上であることが好ましく、700℃以上であることがより好ましく、720℃以上であることがさらに好ましい。ただし、歪点が高くなるようにガラス組成を調整すると、失透温度が高くなる傾向にあるため、ガラス基板の歪点の上限は780℃以下であることが好ましく、760℃以下であることがより好ましい。
なお、失透温度は、1280℃以下であることが好ましく、熱収縮率の低減と耐失透性を両立するという観点からは、1100℃〜1270℃であることが好ましく、1150℃〜1240℃であることがより好まししい。
本実施形態で製造されるガラス基板のガラス組成として、例えば以下のガラス組成がモル%表示で例示される。
SiO255〜80%、
B2O3 0〜18%、
Al2O3 3〜20%、
MgO 0〜20%、
CaO 0〜20%、
SrO 0〜20%、
BaO 0〜20%、
RO 5〜25%
(ただしRはMg、Ca、SrおよびBaから選ばれる少なくとも1種である)、
R’2O 0%〜2.0%
(ただしR’はLi、NaおよびKから選ばれる少なくとも1種である)
を含む。
熔融ガラス中で価数変動する金属の酸化物の合計含有率は特に制限されないが、例えば、0.05〜1.5%含んでもよい。また、As2O3、Sb2O3およびPbOを実質的に含まないことが好ましい。
本実施形態のガラス基板の製造方法によって製造されるガラス基板は、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ELディスプレイ等のディスプレイ用ガラス基板やディスプレイを保護するカバーガラスとして、特に適している。ディスプレイ用ガラス基板を用いるディスプレイには、ディスプレイ表面がフラットなフラットパネルディスプレイの他、有機ELディスプレイ、液晶ディスプレイであって、ディスプレイ表面が湾曲した曲面ディスプレイが含まれる。ガラス基板は、高精細ディプレイ用ガラス基板として、例えば液晶ディスプレイ用ガラス基板、有機EL(Electro-Luminescence)ディスプレイ用ガラス基板、LTPS(Low Temperature Poly-silicon)薄膜半導体、あるいはIGZO(Indium,Gallium,Zinc,Oxide)等の酸化物半導体を用いたディプレイ用ガラス基板として用いることが好ましい。
ディスプレイ用ガラス基板としては、無アルカリガラス、または、アルカリ微量含有ガラスが用いられる。ディスプレイ用ガラス基板は、高温時における粘性が高い。例えば、102.5ポアズの粘性を有する熔融ガラスの温度は、1500℃以上である。なお、無アルカリガラスは、アルカリ金属酸化物(R’2O)を実質的に含まない組成のガラスである。アルカリ金属酸化物を実施的に含まないとは、原料等から混入する不純物を除き、ガラス原料としてアルカリ金属酸化物を添加しない組成のガラスであり、例えば、アルカリ金属酸化物の含有量は0.1質量%未満である。
本実施形態における熱収縮率は、熱処理を行って測定される。
ガラス基板を所定のサイズの長方形に切りだし、長辺両端部にケガキ線を入れ、短辺中央部で半分に切断し、2つのガラスサンプルを得る。このうちの一方のガラスサンプルを、熱処理(500℃で30分)する。熱処理をしない他方のガラスサンプルの長さを計測する。さらに、熱処理したガラスサンプルと未処理のガラスサンプルとをつき合わせてケガキ線のずれ量を、レーザ顕微鏡等で測定して、ガラスサンプルの長さの差分を求めることでサンプルの熱収縮量を求めることができる。この熱収縮量である差分と、熱処理前のガラスサンプルの長さを用いて、以下の式により熱収縮率が求められる。このガラスサンプルの熱収縮率をガラス基板の熱収縮率とする。
熱収縮率(ppm)=(差分)/(熱処理前のガラスサンプルの長さ)×106
上記ガラス基板製造装置100およびガラス基板の製造方法を用いて、以下の条件で実施例1〜3ならびに比較例のガラス基板を製造した。ガラスの組成(モル%)は、SiO2 70.5%,B2O3 7.2%,Al2O3 11.0%,K2O 0.2%,CaO 11.0%,SnO2 0.09%,Fe2O30.01%であった。ガラスの失透温度は、1206℃であり、液相粘度は、1.9×105dPa・sであった。ガラスの徐冷点は758℃であり、歪点は699℃であった。また、シートガラスSGの幅は1600mm、厚みは、0.7mm(実施例1、比較例1)、0.5mm(実施例2、比較例2)、0.4mm(実施例3、比較例3)とした。また、ガラス基板に薄膜を形成するための熱処理温度は550℃であった。
これより、本実施形態の効果は明らかである。
12 清澄装置
20 成形体室
30 第1冷却室
40 成形装置
41 成形体
51 冷却ローラ
60 温度調整ユニット
80 第2冷却室
80a 天板
80b 断熱部材
81a〜81g 引下げローラ
82a〜82g ヒータ
90 切断装置
91 制御装置
100 ガラス基板製造装置
Claims (8)
- 熔融ガラスをダウンドロー法によってシートガラスに成形する成形工程と、
成形された前記シートガラスを流すときに、前記シートガラスの流れ方向と直交する幅方向の中心部の温度が300℃になるまで冷却する冷却工程と、を備え、
前記冷却工程において、前記シートガラスの幅方向の両端部よりも前記シートガラスの前記幅方向の内側にあり、前記中心部を含む領域である中央領域のうち、前記中心部の温度が450℃未満300℃以上の温度領域における平均冷却速度が、前記中央領域の、前記温度領域以外の温度領域における前記中央領域の平均冷却速度に比べて小さく、
前記冷却工程は、前記シートガラスに成形された後、前記シートガラスの前記幅方向の中心部の温度が徐冷点以上であるとき、前記シートガラスの幅方向の両端部よりも前記シートガラスの幅方向内側にあり、前記中心部を含む領域である中央領域を第1平均冷却速度で冷却する第1冷却工程と、
前記中心部の温度が前記徐冷点未満450℃以上であるとき、前記中央領域を第2平均冷却速度で冷却する第2冷却工程と、
前記中心部の温度が450℃未満300℃以上であるとき、前記中央領域を第3平均冷却速度で冷却する第3冷却工程と、を含み、
前記第3平均冷却速度は、前記第1平均冷却速度及び前記第2平均冷却速度より小さい、ディスプレイ用ガラス基板の製造方法。 - 所定の処理温度で熱処理を施して表面に薄膜を形成するためのディスプレイ用ガラス基板の製造方法であって、
熔融ガラスをダウンドロー法によってシートガラスに成形する成形工程と、
成形された前記シートガラスを流すときに、前記シートガラスの流れ方向と直交する幅方向の中心部の温度が、前記処理温度よりも250℃低い温度になるまで冷却する冷却工程と、を備え、
前記冷却工程において、前記シートガラスの幅方向の両端部よりも前記シートガラスの前記幅方向の内側にあり、前記中心部を含む領域である中央領域のうち、前記中心部の温度が、前記処理温度よりも100℃低い温度未満、かつ前記処理温度よりも250℃低い温度以上の温度領域における平均冷却速度が、前記中央領域の、前記温度領域以外の温度領域における平均冷却速度に比べて小さく、
前記冷却工程は、前記シートガラスに成形された後、前記シートガラスの幅方向の中心部の温度が徐冷点以上であるとき、前記シートガラスの幅方向の両端部よりも前記シートガラスの幅方向内側にあり、前記中心部を含む領域である中央領域を第1平均冷却速度で冷却する第1冷却工程と、
前記中心部の温度が、前記徐冷点未満、かつ前記処理温度よりも100℃低い温度以上であるとき、前記中央領域を第2平均冷却速度で冷却する第2冷却工程と、
前記中心部の温度が、前記処理温度よりも100℃低い温度未満、かつ前記処理温度よりも250℃低い温度以上であるとき、前記中央領域を第3平均冷却速度で冷却する第3冷却工程と、を含み、
前記第3平均冷却速度は、前記第1平均冷却速度及び前記第2平均冷却速度より小さい、ディスプレイ用ガラス基板の製造方法。 - 前記冷却工程は、成形された前記シートガラスを流すときに、前記シートガラスの流れ方向と直交する幅方向の中心部の温度が100℃になるまで冷却する工程であり、
前記冷却工程は、さらに、前記中心部の温度が300℃未満100℃以上であるとき、前記中央領域を第4平均冷却速度で冷却する第4冷却工程を含み、
前記第4平均冷却速度は、前記第3平均冷却速度よりも大きい、請求項1に記載のディスプレイ用ガラス基板の製造方法。 - 前記冷却工程は、成形された前記シートガラスを流すときに、前記シートガラスの流れ方向と直交する幅方向の中心部の温度が、前記処理温度よりも450℃低い温度になるまで冷却する工程であり、
前記冷却工程は、さらに、前記中心部の温度が、前記処理温度よりも250℃低い温度未満、前記処理温度よりも450℃低い温度以上であるとき、前記中央領域を第4平均冷却速度で冷却する第4冷却工程を含み、
前記第4平均冷却速度は、前記第3平均冷却速度よりも大きい、請求項2に記載のディスプレイ用ガラス基板の製造方法。 - 前記第1平均冷却速度は、前記第2平均冷却速度より大きい、請求項1〜4のいずれか1項に記載のディスプレイ用ガラス基板の製造方法。
- 前記第3平均冷却速度は、5.0℃/秒以下である、請求項1〜5のいずれか1項に記載のディスプレイ用ガラス基板の製造方法。
- 前記ガラス基板の熱収縮率は15ppm以下である、請求項1〜6のいずれか1項に記載のディスプレイ用ガラス基板の製造方法。
ただし、前記熱収縮率とは、500℃で30分保持の熱処理が施された後のガラス基板の収縮量を用いて、以下の式にて求められる値である。
熱収縮率(ppm)
={熱処理後のガラス基板の収縮量/熱処理前のガラス基板の長さ}×106 - 前記ガラス基板の歪点は、680℃以上である、請求項1〜7のいずれか1項に記載のディスプレイ用ガラス基板の製造方法。
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