WO2016190233A1

WO2016190233A1 - 表示装置の駆動方法及び表示装置の製造方法

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Publication number: WO2016190233A1
Application number: PCT/JP2016/064991
Authority: WO
Inventors: 真也門脇; 吉田　秀史; 龍三結城
Original assignee: シャープ株式会社
Priority date: 2015-05-28
Filing date: 2016-05-20
Publication date: 2016-12-01
Also published as: US20180143486A1; US10185172B2

Abstract

格子状をなす遮光部２３と、遮光部２３のパターンに囲まれる領域内に領域毎に異なる色で形成された複数色の着色部２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂと、を有するカラーフィルタ基板２０を含む表示パネル１０を備え、複数色の着色部２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂの組み合わせ毎に１つの表示画素が構成されるとともに、表示パネル１０のうち表示パネル１０の外形形状に沿った端縁部の少なくとも一部に遮光領域Ａ４が形成された表示装置の駆動方法であって、表示パネル１０の平面視において遮光領域Ａ４の近傍に位置する着色部２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂのうち、表示画素を構成しない着色部２２Ｄを常に黒表示とする。

Description

表示装置の駆動方法及び表示装置の製造方法

　本明細書で開示される技術は、表示装置の駆動方法及びその駆動方法によって駆動される表示装置の製造方法に関する。

　従来、基板上に遮光部及び複数色の着色部が形成されたカラーフィルタ基板を含み、複数色の着色部の組み合わせ毎に１つの表示画素が構成される表示パネルを備える表示装置が知られている。この種の表示装置では、表示パネルのパネル面のうち表示領域と当該表示領域を囲む額縁領域との境界部において光漏れが生じ、表示装置の表示品位が低下することがある。そこで例えば下記特許文献１には、このような表示パネルからの光漏れを抑制することで、表示装置の表示特性を向上させた液晶表示装置が開示されている。

　下記特許文献１に開示される液晶表示装置では、表示パネルの額縁領域に当該表示パネルの外形形状に沿って遮光テープが付着されるとともに、カラーフィルタ基板の上記額縁領域と重畳する部位の全域に上記外形形状に沿ってブラックマトリクスがパターニングされてなる遮光領域が形成されている。この液晶表示装置では、上記遮光テープと上記遮光テープによって、表示パネルの上記境界部における光漏れを抑制できるようになっている。

特開２００４－３１００３８号公報

（発明が解決しようとする課題）
　ところで、表示装置を構成する表示パネルは、平面視における外形形状が長方形状や正方形状であるものが一般的であるが、近年では、表示パネルの端縁部の大部分を加工することが可能となり、平面視における外形形状が半円形状や台形形状のもの等、様々な外形形状をなすものが製造されている。このように表示パネルの外形形状が異なると、表示パネルの製造過程において、その外形形状に応じた形で額縁領域の全域にブラックマトリクスをパターニングするために、異なる外形形状毎にフォトマスクを用意する必要がある。

　しかしながら、フォトマスクは非常に高価であるため、表示パネルの外形形状が異なる毎にフォトマスクを別途用意すると、表示パネルの製造コストが増大する。一方で、表示パネルの額縁領域の全域にブラックマトリクスをパターニングする必要がない場合は、例えば汎用のフォトマスクを用いて長方形状や正方形状の表示パネルを製造した後、その表示パネルを所望の外形形状に沿って切断することで、用意すべきフォトマスクの数が嵩むことなく所望する外形形状の表示パネルを製造できる。

　このように表示パネルの額縁領域の全域にブラックマトリクスをパターニングすることなく所望する外形形状の表示パネルを製造した場合、表示パネルの額縁領域に遮光テープを付着するだけでは、表示パネルの額縁領域の近傍からの上記光漏れを抑制できない虞がある。また、表示パネルの額縁領域に遮光テープを付着すると、表示画素を構成する複数色の着色部の一部が遮光テープと重畳し、遮光テープと重畳する表示画素及びその近傍の表示画素が表示装置の駆動時に表示色が適正な色度からずれて色づきを生じ、表示画素を構成せず、表示装置の表示品位が低下する虞がある。

　本明細書で開示される技術は、上記の課題に鑑みて創作されたものであって、製造コストの低減化を図るとともに表示品位の低下を抑制しながら、所望する外形形状の表示装置を実現することを目的とする。

（課題を解決するための手段）
　本明細書で開示される技術は、格子状をなす遮光部と、該遮光部のパターンに囲まれる領域内に領域毎に異なる色で形成された複数色の着色部と、を有するカラーフィルタ基板を含む表示パネルを備え、複数色の前記着色部の組み合わせ毎に１つの表示画素が構成されるとともに、前記表示パネルのうち該表示パネルの外形形状に沿った端縁部の少なくとも一部に遮光領域が形成された表示装置の駆動方法であって、平面視において前記表示パネルの前記遮光領域の近傍に位置する前記着色部のうち、前記表示画素を構成しない前記着色部を常に黒表示とする表示装置の駆動方法に関する。なお、本明細書でいう遮光領域の近傍に位置する着色部とは、遮光領域に隣接する着色部だけでなく、平面視において遮光領域と重畳する着色部も含む。

　上記の駆動方法によって駆動される表示装置では、表示パネルの外形形状に沿った端縁部の少なくとも一部、即ち表示パネルのパネル面における額縁領域の少なくとも一部に遮光領域が形成されている。そして、上記の表示装置の駆動方法では、この遮光領域の近傍に位置する着色部のうち、表示画素を構成しない着色部を常に黒表示とする。このように遮光領域における遮光に加えて遮光領域の近傍に位置する少なくとも一部の着色部を黒表示とすることで、表示パネルにおける額縁領域の近傍からの光漏れを効果的に抑制することができる。

　また、表示パネルの額縁領域の全域にブラックマトリクスをパターニングすることなく表示パネルを製造した場合であっても、上記のように遮光領域の近傍に位置する少なくとも一部の着色部を常に黒表示とすることで、遮光領域と重畳する表示画素及びその近傍の表示画素の表示色が表示装置の駆動時に適正な色度からずれて色づきを生じることを抑制することができる。このため、例えば汎用のフォトマスクを用いて長方形状や正方形状の表示パネルを製造した後、その表示パネルを所望の外形形状に沿って切断することで、用意すべきフォトマスクの数が嵩むことなく所望する外形形状の表示パネルを製造した場合であっても、遮光領域と重畳する表示画素及びその近傍の表示画素の色づきを抑制することができる。その結果、製造コストの低減化を図るとともに表示品位の低下を抑制しながら、所望する外形形状の表示装置を実現することができる。

　上記の駆動方法において、前記表示装置の前記遮光領域は、前記表示パネルのパネル面のうち前記表示パネルの厚み方向において該遮光領域と重畳する部位に遮光部材を貼り付けることで形成されてなってもよい。

　この駆動方法によって駆動される表示装置では、当該表示装置の製造過程において、表示パネルの一部に遮光テープ等の遮光部材を貼り付けることで上記遮光領域を形成することができる。このように、表示装置に上記遮光領域を形成するための具体的な構成を提供することができる。

　上記の駆動方法において、前記表示装置の前記遮光領域は、前記カラーフィルタ基板上のうち前記表示パネルの厚み方向において該遮光領域と重畳する領域に前記遮光部が配されることで形成されてなってもよい。

　この駆動方法によって駆動される表示装置では、当該表示パネルの製造過程において、表示パネルを構成するカラーフィルタ基板の一部にブラックマトリクスがパターニングされるように表示パネルを製造することで、例えば表示パネルに遮光テープ等を貼り付けなくとも、上記遮光領域を形成することができる。このように、表示装置に上記遮光領域を形成するための具体的な構成を提供することができる。

　上記の駆動方法において、前記表示パネルが、前記カラーフィルタ基板と複数の薄膜トランジスタを有するアレイ基板との間に液晶層が介在してなるものであり、前記表示装置が、前記液晶層に電圧を印加する電圧印加部と、前記電圧を制御する電圧制御部と、を有するものであって、前記電圧印加部によって前記液晶層に電圧を印加するとともに、該液晶層のうち前記表示パネルの厚み方向において前記黒表示とする前記着色部と重畳する部位に印加する電圧を前記電圧制御部によって制御することで当該部位の透過率を最小としてもよい。

　この駆動方法によると、カラーフィルタ基板とアレイ基板との間に液晶層が介在してなる表示パネルとしての液晶パネルにおいて、電圧印加部と電圧制御部とによって液晶層の配向状態を制御して当該液晶層の一部の透過率を最小とすることで、当該一部と重畳する着色部を常に黒表示とすることができる。このように、表示画素を構成しない着色部を常に黒表示とするための具体的な構成を提供することができる。

　上記の駆動方法において、前記表示パネルのパネル面の法線方向に対してなす角度のうち該パネル面において表示を視認できる最大角度をθとし、前記黒表示とされる前記着色部のうち前記表示パネルの厚み方向において前記遮光領域と重畳しない部位の幅をＷ１とし、前記黒表示とされる前記着色部の幅をＷ２とし、前記アレイ基板の屈折率をＮとするとともにその厚みをＴ１としたとき、前記表示パネルが、下記の式（１）、（２）を満たすように形成されてなってもよい。
　Ｗ１≧Ｔ１×ｔａｎ（ｓｉｎ－１（ｓｉｎθ／Ｎ））　　　（１）
　Ｗ２≧２×Ｗ１　　　（２）

　この駆動方法によって駆動される表示装置では、表示装置における遮光領域及び黒表示とされる着色部の配置条件が上記（１）、（２）の式を満たすことで、表示パネルからの上記光漏れを抑制しながら、上記遮光領域と重畳する表示画素及びその近傍の表示画素の表示色が表示装置の駆動時に適正な色度からずれて色づきを生じることを抑制されるように、液晶パネルを光が透過する。このため、遮光領域及び黒表示とされる着色部の配置条件について、具体的な値を設定することができる。

　本明細書で開示される他の技術は、上記の表示装置の駆動方法によって駆動される表示装置を製造する方法であって、前記カラーフィルタ基板を構成する基板の一部にレーザ光を照射することで、該基板に形成された前記着色部のうち前記レーザ光が照射された領域における前記着色部を除去する除去工程を備える表示装置の製造方法に関する。

　例えば表示装置の製造過程において、カラーフィルタ基板を他の基板と貼り合わせる場合、両基板の貼り合わせにはシール剤が用いられる。このようなシール剤は、通常、熱硬化性又は光硬化性の樹脂材料からなっており、上記着色部に対する密着性に比べてガラス基板に対する密着性の方が高い場合が多い。

　上記の表示装置の製造方法では、表示装置の製造過程においてカラーフィルタ基板を構成する基板としてガラス基板を用いるとともにシール剤を用いて当該カラーフィルタ基板を他の基板と貼り合わせる場合、シール剤を塗布する前に上記除去工程においてカラーフィルタ基板のうちシール剤と重畳する領域における着色部を除去することで、その後にシール剤を用いてカラーフィルタ基板を他の基板と貼り合わせると、間に着色部を介することなくシール剤が直接ガラス基板に密着した状態となる。このため、シール剤とガラス基板との間に着色部が介在する場合と比べてシール剤とガラス基板との間の密着性を高めることができ、製造後の表示パネルにおいてカラーフィルタ基板と他方の基板との間の剥離強度が低下することを抑制することができる。

　本明細書で開示される他の技術は、上記の表示装置の駆動方法によって駆動される表示装置を製造する方法であって、前記カラーフィルタ基板と前記アレイ基板とをシール剤を介して貼り合わせて貼り合わせ基板を形成する貼り合わせ工程と、前記貼り合わせ工程の後に、前記貼り合わせ基板の前記アレイ基板のうち、少なくとも製造する前記表示パネルの外形形状をなす輪郭線と前記シール剤との間に位置する部分に、該外形形状に沿って前記薄膜トランジスタを駆動するための配線群にレーザ光を走査させつつ照射することで該配線群を切断する切断工程と、を備える表示装置の製造方法に関する。

　上記の表示装置の製造方法では、切断工程において、アレイ基板のうち製造する表示パネルの外形形状をなす輪郭線とシール剤との間に位置する部分において当該外形形状に沿って上記配線群を予め切断することで、切断工程の後に貼り合わせ基板を製造する表示パネルの外形形状に沿って当該表示パネルを分断する際、シール剤の外側で上記配線同士が短絡することを抑制することができる。このため、製造コストの低減化を図るとともに表示品位の低下を抑制しながら、所望する外形形状の表示装置を製造することができる。

　本明細書で開示される他の技術は、上記の表示装置の駆動方法によって駆動される表示装置を製造する方法であって、前記アレイ基板のうち少なくとも製造する前記表示パネルの外形形状に沿った輪郭線の内側に位置する部分に、該外形形状に沿って前記薄膜トランジスタを駆動するための配線群にレーザ光を走査させつつ照射することで該配線群を切断する切断工程と、前記切断工程の後に、該切断工程で切断された前記配線群の切断端面を覆う形で前記アレイ基板上にシール剤を塗布し、該シール剤を介して前記カラーフィルタ基板と前記アレイ基板とをシール剤を介して貼り合わせて貼り合わせ基板を形成する貼り合わせ工程と、を備える表示装置の製造方法に関する。

　上記の表示装置の製造方法では、貼り合わせ工程の前に、アレイ基板のうち製造する表示パネルの外形形状に沿った輪郭線の内側に位置する部分において上記配線群を予め切断する切断工程を行い、貼り合わせ工程では、切断工程で切断された上記配線群の切断端面を覆う形でシール剤を塗布する。このため、アレイ基板上に水分等が浸入した場合に配線群の切断端面が腐食することをシール剤によって抑制することができ、品質信頼性が低下することを抑制することができる。このように上記の製造方法では、シール剤の外側で上記配線同士が短絡することを抑制しながら、品質信頼性の低下を抑制することができる。

　上記の表示装置の製造方法において、前記アレイ基板上に、その一部が前記薄膜トランジスタのゲート電極を構成するゲート配線の薄膜パターンと、その一部が前記薄膜トランジスタのソース電極を構成するソース配線の薄膜パターンと、前記アレイ基板の厚み方向において前記ゲート配線及び前記ソース配線と絶縁膜を挟んで対向する面状の面状電極の薄膜パターンと、を形成するパターン形成工程を備え、前記パターン形成工程では、前記ソース配線が配された領域のうち前記アレイ基板の厚み方向において該ソース配線が前記面状電極と重畳しない第１の非重畳領域と、前記ゲート配線が配された領域のうち前記アレイ基板の厚み方向において該ゲート配線が前記面状電極と重畳しない第２の非重畳領域と、を確保しつつ前記面状電極の薄膜パターンを形成し、前記切断工程では、前記ソース配線及び前記ゲート配線を前記配線群として切断し、前記ソース配線を切断する際に前記第１の非重畳領域を通過するとともに前記ゲート配線を切断する際に前記第２の非重畳領域を通過する走査経路で前記レーザ光を走査させつつ照射してもよい。

　上記切断工程では、レーザ光が照射される位置やレーザ光の出力の変動態様によっては、レーザ光の出力が瞬間的に低下する部分が生じることがある。このため、アレイ基板上に、ゲート配線及びソース配線と絶縁膜を挟んで対向する面状電極が形成されている構成では、ゲート配線及びソース配線をレーザ光で切断する際、レーザ光の出力が低下した位置においてゲート配線及びソース配線が切断されることなく溶解するに留まり、ゲート配線及びソース配線が面状電極と短絡して品質信頼性が低下する虞がある。これに対し上記の表示装置の製造方法では、ソース配線を切断する際に上記第１の非重畳領域を通過するとともに、ゲート配線を切断する際に上記第２の非重畳領域を通過する走査経路でレーザ光を走査させつつ照射する。このため、仮にゲート配線又はソース配線をレーザ光で切断する際に各配線が溶解した場合であっても、各配線が面状電極と短絡することを抑制することができる。その結果、シール剤の外側で両配線が短絡することを抑制しながら、各配線と面状電極との短絡に起因する品質信頼性の低下を抑制することができる。

　本明細書で開示される技術によれば、製造コストの低減化を図るとともに表示品位の低下を抑制しながら、所望する外形形状の表示装置を実現することができる。

実施形態１に係る液晶表示装置の概略平面図図１におけるII－II断面の断面構成であって、液晶表示装置の概略断面図液晶パネルの概略平面図図３におけるIV－IV断面の断面構成であって、液晶パネルの概略断面図液晶パネルを構成するアレイ基板において、表示領域と額縁領域との境界部近傍の平面構成を示す平面図図５におけるVI－VI断面の断面構成であって、ＴＦＴの断面図液晶パネルのオフ状態において、パネル斜辺における額縁領域と表示領域との境界部近傍を表側から視た平面図液晶パネルのオン状態において、パネル斜辺における額縁領域と表示領域との境界部近傍を表側から視た平面図図８におけるIX－IX断面の断面構成であって、液晶パネルの概略断面図液晶パネルにおける遮光領域及び黒表示とされる着色部の配置条件を説明するための概略断面図液晶パネルの製造手順を説明するためのフロー図液晶パネルの製造工程（１）を示す平面図液晶パネルの製造工程（２）を示す平面図液晶パネルの製造工程（３）を示す平面図図１４におけるXV－XV断面の断面図実施形態２に係る液晶パネルの概略断面図液晶パネルの製造工程（１）を示す平面図液晶パネルの製造工程（２）を示す平面図図１８におけるXIX－XIX断面の断面図実施形態３に係る液晶パネルの概略断面図液晶パネルの製造工程（１）を示す平面図液晶パネルの製造工程（２）を示す平面図図２２の一部を拡大した拡大平面図

　＜実施形態１＞
　図１から図１５を参照して実施形態１を説明する。本実施形態では、図１に示すように、液晶パネル１０を備える液晶表示装置１について例示する。なお、各図面の一部にはＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸を示しており、各軸方向が各図面で共通した方向となるように描かれている。また、各断面図では、図の上側を液晶表示装置１（液晶パネル１０）の上側（表側）とする。

　本実施形態で例示する液晶表示装置１は、平面視における外形形状が一般的な長方形状、正方形状ではなく、不等角の六角形状となっている。詳しくは、液晶表示装置１は、図１に示すように、図１の下側に示す２つの角部の角度が略９０°とされ、残りの４つの角部の角度がそれぞれ略１３５°とされた六角形状をなしている。そして、液晶表示装置１の外形形状をなす輪郭線のうち２つの辺の延びる方向がＸ軸方向と一致しており、他の２つの辺の延びる方向がＹ軸方向と一致しており、他の２つの辺がＸ軸方向及びＹ軸方向に対して斜め方向に延びている。

　液晶表示装置１は、図１及び図２に示すように、外部光源であるバックライト装置２と、上述した液晶パネル１０と、を備え、これらが枠状をなすベゼル３により一体的に保持されている。液晶表示装置１において液晶パネル１０は、画像を表示可能な表示面が表側を向いた姿勢で組み付けられている。バックライト装置２は、液晶パネル１０の裏側に配されて組み付けられており、当該液晶パネル１０に光を供給する。

　先にバックライト装置２について簡単に説明する。バックライト装置２は、図２に示すように、導光板４と、導光板４の表面に載置される光学シート群５と、導光板４の裏側に配される反射シート６と、導光板４の少なくとも一つの端面に対向状に配される図示しない光源と、これらの各部材を収容するとともにバックライト装置２の裏側の外観を構成する箱型のシャーシ７と、を少なくとも備える。本実施形態に係るバックライト装置２は、光源からの光が導光板４の端面に設けられた光入射面に入射される、いわゆるエッジライト型とされている。

　導光板４は、透光性に優れた合成樹脂製とされ、厚みが大きな板状をなすとともに、その表面が光出射面４Ａとされている。光学シート群５は、導光板４からの出射光を透過するとともにその透過光に所定の光学作用を付与する機能を有し、導光板４の表面（光出射面４Ａ）側から順に、拡散シート５Ａ、レンズシート５Ｂ、反射型偏光シート５Ｃ、が積層されたものである。反射シート６は、合成樹脂製とされるとともにその表面が光反射性に優れた白色とされ、導光板４とシャーシ７の底板部７Ａとの間に挟持されることで、導光板４の裏面側から漏れた光を反射させる機能を有する。

　シャーシ７は、例えばアルミニウム板や電気亜鉛めっき鋼板（ＳＥＣＣ）等の金属製とされ、図２に示すように、バックライト装置２の底板をなす底板部７Ａと、底板部７Ａの各端縁から表側に立ち上がる側壁部７Ｂと、から構成されている。シャーシ７の側壁部７Ｂの内面（導光板４側に向けられた面）のうち、光学シート群５の上面と同じ高さ位置には、上下方向に段差をなしてなる段差部７Ｂ１が設けられている。そして、この段差部７Ｂ１上及び光学シート群５の端縁上には、両者の間に跨る形で遮光テープ９が貼り付けられている。この遮光テープ９は、その表裏両面が粘着性を有しており、全体が黒色とされることで遮光性を有するとともに、液晶表示装置１の外形形状に沿って枠状に配されている。

　次に、液晶パネル１０の構成について詳しく説明する。本実施形態で例示する液晶パネル１０は、図３に示すように、平面視における外形形状が液晶表示装置１の外形形状に倣った形状をなしている。以下では、液晶パネル１０の外形形状をなす輪郭のうちＸ軸方向及びＹ軸方向に対して斜め方向に延びる２つの斜辺をそれぞれパネル斜辺１１と称する。液晶パネル１０では、図３に示すように、その大部分に画像を表示可能な表示領域Ａ１が配され、表示領域Ａ１外の領域が、画像が表示されない非表示領域Ａ２とされている。非表示領域Ａ２のうち、表示領域Ａ１を囲む枠状の部分は、液晶パネル１０の額縁領域Ａ３とされる。また、液晶パネル１０における額縁領域Ａ３のうち上下方向（液晶パネル１０の厚み方向）において上述した遮光テープ９と重畳する領域は遮光領域Ａ４とされる。

　液晶パネル１０における非表示領域Ａ２の一部であって、液晶パネル１０のＹ軸方向における一方の端部側（図３に示す下側）に偏った位置には、ＩＣチップ１２及びフレキシブル基板１４が実装されている。ＩＣチップ１２は、液晶パネル１０を駆動するための電子部品であり、フレキシブル基板１４は、ＩＣチップ１２に各種入力信号を外部から供給するコントロール基板（電圧制御部の一例）１６を当該液晶パネル１０と接続するための基板である。また本実施形態では、後述するＴＦＴ３２を駆動するためのゲートドライバ１７が液晶パネル１０の裏面側の略中央部に配されている。このような配置態様でゲートドライバ１７が配されることで、後述する液晶パネル１０の製造過程において、液晶パネル１０の端縁部の大部分を加工することが可能となっている。

　液晶パネル１０は、図２及び図４に示すように、透光性に優れた一対のガラス製の基板２０、３０と、電界印加に伴って光学特性が変化する物質である液晶分子を含む液晶層１８と、を備えている。液晶パネル１０を構成する両基板２０，３０は、液晶層１８の厚さ分のセルギャップを維持した状態でシール剤４０によって貼り合わされている。両基板２０，３０のうち、表側（正面側）の基板２０がカラーフィルタ基板２０とされ、裏側（背面側）の基板３０がアレイ基板３０とされる。両基板２０，３０の内面側には、液晶層１８に含まれる液晶分子を配向させるための配向膜１０Ａ，１０Ｂがそれぞれ形成されている。カラーフィルタ基板２０を構成する第１ガラス基板２０Ａの外面側、及びアレイ基板３０を構成する第２ガラス基板３０Ａの外面側には、それぞれ偏光板１０Ｃ，１０Ｄが貼り付けられている。

　アレイ基板３０を構成する第２ガラス基板３０Ａは、その主要部分にカラーフィルタ基板２０及び偏光板１０Ｄが貼り合わされており、ＩＣチップ１２及びフレキシブル基板１４の実装領域が確保された部分がカラーフィルタ基板２０及び偏光板１０Ｄと非重畳とされている。液晶パネル１０を構成する両基板２０，３０を貼り合わせるためのシール剤４０は、両基板２０，３０が重なり合う部分において、表示領域Ａ１を囲むとともに遮光領域Ａ４の一部と重畳する形で、カラーフィルタ基板２０の外形に沿って額縁領域Ａ３内に配されている。

　カラーフィルタ基板２０を構成する第１ガラス基板２０Ａは、その主要部分にアレイ基板３０及び偏光板１０Ｃが貼り合わされている。カラーフィルタ基板２０は、図３に示すように、Ｘ軸方向の寸法がアレイ基板３０とほぼ同等であるものの、Ｙ軸方向の寸法がアレイ基板３０よりも小さく、アレイ基板３０に対してＹ軸方向についての一方の端部（図３に示す上側、輪郭線が曲線状とされた側）を揃えた状態で貼り合わされている。従って、アレイ基板３０のうちＹ軸方向についての他方の端部（図３に示す下側）は、所定範囲に亘ってカラーフィルタ基板２０が重なり合うことがなく、表裏両板面が外部に露出した状態とされており、ここにＩＣチップ１２及びフレキシブル基板１４の実装領域が確保されている。

　続いてアレイ基板３０における表示領域Ａ１内の構成について説明する。なお、本実施形態に係る液晶パネル１０は、動作方式がＴＮ（Twisted Nematic）方式のノーマリホワイト型であり、図４に示すように、一対の基板２０，３０のうちアレイ基板３０側に画素電極３４が形成され、カラーフィルタ基板２０側に液晶層１８を挟んで画素電極３４と対向する共通電極２４が形成されている。画素電極３４及び共通電極２４はいずれも、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透明電極材料からなる透明電極膜とされる。画素電極３４及び共通電極２４に印加される電圧は、コントロール基板１６によって制御される。画素電極３４及び共通電極２４は、それぞれ電圧印加部の一例である。

　液晶パネル１０の表示領域Ａ１では、アレイ基板３０を構成する第２ガラス基板３０Ａの内面側（液晶層１８側）に、積層された複数の薄膜パターンからなる薄膜パターン群３０Ｌが形成されている。具体的には、薄膜パターン群３０Ｌは、スイッチング素子であるＴＦＴ３２の薄膜パターンと、上述した画素電極３４の薄膜パターンと、を含んでいる。このうちＴＦＴ３２は、図５に示すように、ゲート電極３２Ｇ、ソース電極３２Ｓ、及びドレイン電極３２Ｄを有している。第２ガラス基板３０Ａの内面側には、図５に示すように、ＴＦＴ３２と、ＴＦＴ３２のドレイン電極３２Ｄに接続された画素電極３４と、が多数個ずつマトリクス状に並んで設けられている。

　ＴＦＴ３２及び画素電極３４の周りには、図５に示すように、格子状をなすゲート配線３６Ｇ及びソース配線３６Ｓが取り囲むようにして配設されている。ゲート配線３６ＧはＸ軸方向に沿って伸びており、ソース配線３６Ｓはゲート配線３６Ｇと直交する形でＹ軸方向に沿って伸びている。ゲート配線３６Ｇは、その一部がソース配線３６Ｓと交差する部位の近傍からソース配線３６Ｓと平行に伸びる形で分岐している。ソース配線３６Ｓもまた、その一部がゲート配線３６Ｇと交差する部位の近傍からゲート配線３６Ｇと平行に伸びる形で分岐している。そして、ゲート配線３６Ｇが分岐して伸びる先端部とソース配線３６Ｓが分岐して伸びる先端部とが平面視において重畳しており、その重畳する部位にＴＦＴ３２が設けられている。

　ゲート配線３６Ｇのうち平面視においてＴＦＴ３２と重畳する部位は、ＴＦＴ３２のゲート電極３２Ｇを構成しており、ソース配線３６Ｓのうち平面視においてゲート電極３２Ｇと重畳する部位は、ＴＦＴ３２のソース電極３２Ｓを構成している。また、ＴＦＴ３２は、ソース電極３２Ｓとの間にＸ軸方向について所定の間隔を空けつつ対向状に配されることで島状をなすドレイン電極３２Ｄを有している。画素電極３４は、図３に示すように、ゲート配線３６Ｇとソース配線３６Ｓとに囲まれた領域の略全域に設けられ、平面視において縦長の長方形状をなしている。

　また、アレイ基板３０には、ゲート配線３６Ｇに並行するとともに画素電極３４に対して平面に視て重畳する容量配線（不図示）が設けられている。この容量配線は、Ｙ軸方向についてゲート配線３６Ｇと交互に配されている。ゲート配線３６ＧがＹ軸方向に隣り合う画素電極３４の間に配されているのに対し、容量配線は、各画素電極３４におけるＹ軸方向のほぼ中央部を横切る位置に配されている。このアレイ基板３０の端部には、ゲート配線３６Ｇ及び容量配線から引き回された端子部及びソース配線３６Ｓから引き回された端子部が設けられている。これらの各端子部には、図１に示すコントロール基板１６から各信号または基準電位が入力されるようになっており、それによりＴＦＴ３２の駆動が制御される。

　ＴＦＴ３２は、図６に示すように、下層側（第２ガラス基板３０Ａ側）から順に、ゲート電極３２Ｇ、ゲート電極３２Ｇを覆うゲート絶縁膜３８、半導体膜３８、ソース電極３２Ｓ及びドレイン電極３２Ｄ、層間絶縁膜３９、が積層された構成とされ、層間絶縁膜３９上に画素電極３４が形成されている。このうち半導体膜３８は、ソース電極３２Ｓとドレイン電極３２Ｄとの間を架け渡す形で形成されている。ここでＴＦＴ３２では、ソース電極３２Ｓ及びドレイン電極３２Ｄが所定の間隔を挟んで対向状に配されており、相互が直接的には電気的に接続されていない。しかし、ソース電極３２Ｓ及びドレイン電極３２Ｄは、その下層側の半導体膜３８を介して間接的に電気的に接続されており、この半導体膜３８における両電極３２Ｓ，３２Ｄ間のブリッジ部分が、ドレイン電流が流れるチャネル領域として機能する。

　また、ＴＦＴ３２の近傍では、層間絶縁膜３９のうち、平面視においてドレイン電極３２Ｄの一部と重畳する位置に、コンタクトホールＣＨ１が上下に貫通する形で形成されており、コンタクトホールＣＨ１の開口内にドレイン電極３２Ｄが露出している。画素電極３４は、このコンタクトホールＣＨ１を跨ぐ形で形成されており、コンタクトホールＣＨ１を通して画素電極３４がドレイン電極３２Ｄに接続されている。画素電極３４がドレイン電極３２Ｄに接続されることで、ＴＦＴ３２のゲート電極３２Ｇが通電すると（ＴＦＴ３２がオンされると）、チャネル領域を介してソース電極３２Ｓとドレイン電極３２Ｄとの間に電流が流されるとともに、画素電極３４に所定の電圧が印加されるようになっている。一方、共通電極２４には、共通電極配線から基準電位が印加されるようになっており、ＴＦＴ３２によって画素電極３４に印加する電位を制御することで、画素電極３４と共通電極２４との間に所定の電位差を生じさせることができる。

　なお、ＴＦＴ３２を構成する上記半導体膜３８は、酸化物半導体からなっており、半導体膜３８をなす具体的な酸化物半導体としては、例えばインジウム（Ｉｎ）、ガリウム（Ｇａ）、亜鉛（Ｚｎ）、酸素（Ｏ）を含む透明なIn－Ga－Zn－O系半導体（酸化インジウムガリウム亜鉛）が用いられる。ここで、In－Ga－Zn－O系半導体は、Ｉｎ（インジウム）、Ｇａ（ガリウム）、Ｚｎ（亜鉛）の三元系酸化物であって、Ｉｎ、Ｇａ及びＺｎの割合（組成比）は特に限定されず、例えばＩｎ：Ｇａ：Ｚｎ＝２：２：１、Ｉｎ：Ｇａ：Ｚｎ＝１：１：１、Ｉｎ：Ｇａ：Ｚｎ＝１：１：２等を含む。半導体膜３８をなす酸化物半導体（In－Ga－Zn－O系半導体）は、アモルファスでもよいが、好ましくは結晶質部分を含む結晶性を有するものとされる。結晶性を有する酸化物半導体としては、例えば、ｃ軸が層面に概ね垂直に配向した結晶質In－Ga－Zn－O系半導体が好ましい。このような酸化物半導体（In－Ga－Zn－O系半導体）の結晶構造は、例えば、特開２０１２－１３４４７５号公報に開示されている。参考のために、特開２０１２－１３４４７５号公報の開示内容の全てを本明細書に援用する。

　また、半導体膜３８は、電子移動度がアモルファスシリコン薄膜等に比べると、例えば２０倍～５０倍程度高くなっているので、ＴＦＴ３２を容易に小型化して画素電極３４の透過光量を極大化することができる。このため液晶パネル１０の高精細化及びこの液晶パネル１０に光を供給するバックライト装置２の低消費電力化を図る上で好適とされる。しかもＴＦＴ３２のチャネル領域の材料を酸化物半導体とすることで、仮にチャネル領域の材料としてアモルファスシリコンを用いた場合に比べると、ＴＦＴ３２のオフ特性が高く、オフリーク電流が例えば１００分の１程度と極めて少なくなるので、画素電極３４の電圧保持率が高くなり、液晶パネル１０の低消費電力化を図る上で好適とされる。このようなチャネル領域を有するＴＦＴ３２は、ゲート電極３２Ｇが最下層に配され、その上層側に第１絶縁膜３９Ａを介してチャネル領域が積層されてなる、いわゆる逆スタガ型とされており、一般的なアモルファスシリコン薄膜を有するＴＦＴと同様の積層構造とされる。

　続いてカラーフィルタ基板２０における表示領域Ａ１内の構成について説明する。表示領域Ａ１内において、カラーフィルタ基板２０を構成する第１ガラス基板２０Ａの内面側（液晶層１８側）には、図４に示すように、アレイ基板３０の各画素電極３４と平面に視て重畳する位置に多数個ずつマトリクス状に並列して配置されたカラーフィルタ２２が並んで設けられている。カラーフィルタ２２は、Ｒ（赤色）の着色部，Ｇ（緑色）の着色部，Ｂ（青色）の着色部から構成されている。カラーフィルタ２２を構成する各着色部の間には、混色を防ぐための略格子状の遮光部（ブラックマトリクス）２３が形成されている。遮光部２３は、アレイ基板３０に設けられたゲート配線３６Ｇ、ソース配線３６Ｓ、及び容量配線に対して平面に視て重畳する配置とされる。遮光部２３は遮光性を有する黒色の感光性樹脂（レジスト膜）からなっており、カラーフィルタ２２を構成する各着色部は各色に着色された感光性樹脂（レジスト膜）からなっている。

　また、カラーフィルタ２２及び遮光部２３の内面側（液晶層１８側）には、上述したように、アレイ基板３０側の画素電極３４と対向する共通電極２４が設けられている。なお、図７以降の各平面図では、カラーフィルタ２２を構成する各着色部のうち、赤色の着色部を縦線の模様を施した領域で表すとともに符号２２Ｒで示し、緑色の着色部を斜線の模様を施した領域で表すとともに符号２２Ｇで示し、青色の着色部を横線の模様を施した領域で表すとともに符号２２Ｂで示す。図７に示すように、カラーフィルタ基板２０では、行方向（Ｘ軸方向）に沿って赤色の着色部２２Ｒ，緑色の着色部２２Ｇ，青色の着色部２２Ｂの組み合わせが繰り返し配置されており、列方向（Ｙ軸方向）に沿って同色の着色部２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂが並んで配置されている。

　液晶パネル１０では、Ｒ，Ｇ，Ｂの３色の着色部２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂ及びそれらと対向する３つの画素電極３４の組み合わせ毎に表示単位である１つの表示画素が構成されている。即ち表示画素は、Ｒの着色部２２Ｒを有する赤色画素と、Ｇの着色部２２Ｇを有する緑色画素と、Ｂの着色部２２Ｂを有する青色画素とからなる。これら各色の着色部２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂは、液晶パネル１０の板面において行方向（Ｘ軸方向）に沿って繰り返し並べて配されることで、画素群を構成しており、この画素群が列方向（Ｙ軸方向）に沿って多数並んで配されている（図６参照）。１つの表示画素を構成する３色の着色部２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂのいずれかが遮光等されることで適正な色度からずれた場合、それら３色の着色部２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂは、表示画素を構成しない着色部となる。

　ここで、液晶パネル１０のパネル面のうち両パネル斜辺１１の近傍では、図７に示すように、カラーフィルタ基板２０に形成された各着色部２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂのうち遮光領域Ａ４と重畳する部分が平面視において遮光され、適正な色度からずれた状態となっている。このため、適正な色度からずれた状態となった（少なくとも一部が遮光領域Ａ４と重畳する）着色部は、表示画素を構成しない着色部となる（例えば図７において符号２２Ｂ１で示す青色の着色部や符号２２Ｇ１で示す緑色の着色部）。そして、表示画素を構成しない着色部を含む表示画素の他の着色部もまた、その着色部自体が適正な色度からずれた状態となっていなくとも、表示画素を構成しない着色部となる（例えば図７において符号２２Ｒ１で示す赤色の着色部）。なお、カラーフィルタ基板２０において遮光領域Ａ４と重畳する部分のうち、表示領域Ａ１寄りの部分を除く大部分は、液晶層１８が配向制御され難い配向不良領域となっている（図２において符号Ａ５で示す領域）。

　以上が本実施形態に係る液晶パネル１０の構成であって、次に、上記のような構成とされた液晶パネル１０の駆動方法を説明する。本実施形態では、液晶パネル１０のパネル面のうち両パネル斜辺１１の近傍に位置する着色部２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂのうち、換言すれば、液晶パネル１０の平面視において遮光領域Ａ４の近傍に位置する着色部２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂのうち、表示画素を構成しない着色部２２Ｒ１，２２Ｇ１，２２Ｂ１を常に黒表示とするように液晶パネル１０を駆動する。なお、図８では、黒表示とされた着色部を格子状の模様を施した領域で表すとともに符号２２Ｄで示す。また、上述した遮光領域Ａ４の近傍に位置する着色部２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂとは、遮光領域Ａ４に隣接する着色部だけでなく、平面視において少なくとも一部が遮光領域Ａ４と重畳する着色部も含む。

　本実施形態の液晶パネル１０は、上述したようにノーマリホワイト型であるため、画素電極３４及び共通電極２４に電圧が印加されない状態では、液晶層１８の透過率が最大となっており、平面視において各表示画素は白表示とされる。そこで、表示画素を構成しない着色部２２Ｒ１，２２Ｇ１，２２Ｂ１を常に黒表示とするために、具体的には、コントロール基板１６によって画素電極３４及び共通電極３５に印加される電圧を部分的に制御することで、液晶層１８のうち表示画素を構成しない着色部２２Ｒ１，２２Ｇ１，２２Ｂ１と重畳する部分に印加する電圧を最大にして当該部分の透過率を最小とし、表示画素を構成しない着色部２２Ｒ１，２２Ｇ１，２２Ｂ１を常に黒表示とする（図８において符号２２Ｄで示す着色部）。

　ここで、液晶パネル１０の駆動時において、平面視において液晶パネル１０のパネル面のうち上記黒表示とされた着色部２２Ｄと重畳する領域を黒表示領域Ａ６と称する（図２等参照）。各表示画素（着色部）はマトリクス状に配されているので、液晶パネル１０を視る断面によって黒表示領域Ａ６の幅は異なる。例えば図８におけるIX－IX断面の断面構成を視ると、図９に示すように、２つの赤色の着色部が黒表示となり、液晶パネル１０の厚み方向（Ｚ軸方向）においてこれらの２つの着色部と重畳する領域が黒表示領域Ａ６とされる。図９に示すように、黒表示領域Ａ６は、シール剤４０寄りの一部が遮光領域Ａ４と重畳する。

　次に、本実施形態の液晶パネル１０における遮光領域Ａ４と黒表示領域Ａ６の配置条件について説明する。図１０に示すように、液晶パネル１０のパネル面の法線方向に対してなす角度のうちパネル面において表示を視認できる最大角度をθとし、液晶パネル１０の任意の断面を視たときの黒表示領域Ａ６のうち液晶パネル１０の厚み方向（Ｚ軸方向）において遮光領域Ａ４と重畳しない部位の幅をＷ１とし、その断面における黒表示領域Ａ６の幅をＷ２とし、アレイ基板３０の屈折率をＮとするとともにその厚みをＴ１とする。このとき、本実施形態の液晶パネル１０は、当該液晶パネル１０のいずれの断面を視た場合であっても下記の式（１）、（２）を満たすように形成されている。
　Ｗ１≧Ｔ１×ｔａｎ（ｓｉｎ－１（ｓｉｎθ／Ｎ））　　　（１）
　Ｗ２≧２×Ｗ１　　　（２）

　例えば上記最大角度θを６０度とし、上記厚みＴ１を０．７ｍｍとし、上記屈折率Ｎを１．５１とすると、上記（１）式によってＷ１≧０．４９ｍｍとなり、上記（２）式によってＷ２≧０．９８ｍｍとなる。本実施形態の液晶パネル１０では、これらの条件を満たすことで、液晶パネル１０を透過する光は遮光領域Ａ４及び黒表示領域Ａ６によって図１０の太線の矢印で示すような経路を辿る。その結果、液晶パネル１０のパネル面からの光漏れが抑制されるとともに、遮光領域Ａ４の近傍における色づきが抑制される。このため、遮光領域Ａ４及び黒表示領域Ａ６の配置条件について、遮光領域Ａ４の幅等、具体的な値を設定することができる。

　次に、本実施形態の液晶パネル１０の製造方法について説明する。先にカラーフィルタ基板２０の製造方法について説明する。カラーフィルタ基板２０の製造方法は、図１１に示すように、遮光部形成工程と、着色部形成工程と、配向膜形成工程と、ラビング工程と、シール剤塗布工程と、を備えており、この順に各工程が行われる。なお本実施形態の製造方法では、後述する工程において１枚の第１ガラス基板２０Ａを分断することで、１枚の第１ガラス基板２０Ａから２つの液晶パネル１０を製造する。即ち、第１ガラス基板２０Ａ上の２箇所（以下、「上記２箇所」と称する）にそれぞれカラーフィルタ基板２０を構成する遮光部２３のパターン及びカラーフィルタ２２のパターンを形成する。

　本実施形態のカラーフィルタ基板２０の製造工程では、まず、第１ガラス基板２０Ａ上の全域に亘って遮光部２３を構成する遮光性を有する黒色のレジスト膜を形成し、既知のフォトリソグラフィー法を用いて、第１ガラス基板２０Ａ上の上記２箇所に格子状の遮光部２３のパターンを形成する（遮光部形成工程）。次に、同様に既知のフォトリソグラフィー法を用いて、上記２箇所に形成された遮光部２３のパターンによって囲まれる各領域に、図１２に示すように、カラーフィルタ２２を構成するとともに着色されたレジスト膜からなる各着色部２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂを形成する（着色部形成工程）。着色部形成工程では、製造するカラーフィルタ基板２０における各着色部２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂの配列に従って、遮光部２３のパターンに囲まれる領域毎に異なる色で３つの色からなる各着色部２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂを形成する、

　次に、第１ガラス基板２０Ａ上の上記２箇所に形成された遮光部２３のパターン及び各着色部２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂを覆う形で共通電極２４のパターンを面状（ベタ状）に形成する。次に、共通電極２４を覆う形で保護膜としての透明な絶縁膜（不図示）を形成し、その絶縁膜の表面に配向膜１０Ａを形成する（配向膜形成工程）。次に、配向膜１０Ａの内面（液晶パネル１０の製造後に液晶層１８と対向する面）のほぼ全域を布によって一定方向に擦る配向処理、いわゆるラビング処理を行う（ラビング工程）。このラビング処理により、液晶パネル１０の製造後に液晶層１８に含まれる液晶分子のうち配向膜１０Ａに臨むものの配向状態を一定に維持することができる。次に、製造する液晶パネル１０の外形形状に沿って、第１ガラス基板２０Ａ上（配向膜上）の上記２箇所の当該液晶パネル１０の外縁部となる領域にシール剤４０を枠状に塗布する（シール剤塗布工程）。以上の手順により、１枚の第１ガラス基板２０Ａ上に２つのカラーフィルタ基板２０が完成する。

　次に、アレイ基板３０の製造方法について簡単に説明する。アレイ基板３０の製造方法は、図１１に示すように、パターン形成工程と、配向膜形成工程と、ラビング工程と、を備えており、この順に各工程が行われる。なお、アレイ基板３０についてもカラーフィルタ基板２０と同様に、後述する工程において１枚の第２ガラス基板３０Ａ上に２つのアレイ基板３０を形成する。アレイ基板３０の製造過程では、まず、図１３に示すように、既知のフォトリソグラフィー法を用いて、第２ガラス基板３０Ａ上の上記２箇所にそれぞれ薄膜パターンを繰り返し形成することで、上記２箇所に複数の薄膜パターンからなる上記薄膜パターン群３０Ｌを形成する（パターン形成工程）。なお、図１３では、簡略化のため、薄膜パターン群３０Ｌを単一の膜のように図示している。

　次に、カラーフィルタ基板２０の製造過程と同様に、薄膜パターン群３０Ｌを覆う形で保護膜としての透明な絶縁膜（不図示）を形成し、その絶縁膜の表面に配向膜１０Ａを形成する（配向膜形成工程）。その後、配向膜１０Ａに対してラビング処理を行う（ラビング工程）。以上の手順により、１枚の第１ガラス基板２０Ａ上に２つのアレイ基板３０が完成する。液晶パネル１０の製造過程では、図１１に示すように、カラーフィルタ基板２０及びアレイ基板３０を製造した後、貼り合わせ工程、切断工程、分断工程、外形形状工程の各工程をこの順に行う。

　貼り合わせ工程では、シール剤４０が塗布されたカラーフィルタ基板２０を構成する第１ガラス基板２０Ａに対してアレイ基板３０を構成する第２ガラス基板３０Ａを対向配置し、第１ガラス基板２０Ａの端面と第２ガラス基板３０Ａの端面とが略一致するように位置合わせを行う。そして、液晶滴下装置を用いたＯＤＦ（One Drop Fill）法により、第１ガラス基板２０Ａ上のシール剤４０に囲まれた領域内に液晶を滴下注入し、液晶層１８を形成する。その後、シール剤４０を介して第２ガラス基板３０Ａに第１ガラス基板２０Ａを対向状に貼り合わせ、貼り合わせ基板を形成する。

　次に、図１４に示すように、貼り合わせ基板のうち、製造する液晶パネル１０の外形形状をなす輪郭線Ｌ１とシール剤４０との間に位置する部分Ａ７に、外形形状に沿って各ＴＦＴ３２を駆動する各ゲート配線３６Ｇ及び各ソース配線３６Ｓにレーザ光を走査させつつ照射する（切断工程）。なお、切断工程では、アレイ基板３０が形成された第２ガラス基板３０Ａの裏側（第１ガラス基板２０Ａと貼り合わされた側とは反対側）からレーザ光を照射する。この切断工程によって、図１４に示すように、上記部分Ａ７において、上記外形形状に沿って各ゲート配線３６Ｇ及び各ソース配線３６Ｓが切断される。このときの各配線３６Ｇ，３６Ｓの切断幅Ｗ３（レーザ光の照射幅、図１５参照）は、０．００１～０．０１ｍｍ程度が好ましい。なお、図１５では、カラーフィルタ２２と遮光部２３と共通電極２４とを含むＣＦ層を符号２０Ｌで示しており、ゲート配線３６Ｇの図示を省略している。

　切断工程が終わると、次に、スクライバー等を用いて、上記貼り合わせ基板のうち上記２箇所に対応する部分の境界部分を切断して貼り合わせ基板を２つに分断し、その後、２つに分断された各貼り合わせ基板を、製造する液晶パネル１０の外形形状に沿ってさらに細かく分断する（分断工程）。この分断工程により、両パネル斜辺１１を含む製造する液晶パネル１０の外形形状が形成される。その後、グラインダー等を用いて、分断された貼り合わせ基板のうち分断工程において分断された端面、即ち製造する液晶パネル１０の外形部分を構成する端面を滑らかに加工する（外形加工工程）。

　次に、第２ガラス基板３０Ａのうちシール剤４０の外側に位置する部分に、ＩＣチップ１２及びフレキシブル基板１４を実装し、フレキシブル基板１４にコントロール基板１６を接続する。以上の手順により、２枚の液晶パネル１０が完成する。その後、製造した各液晶パネル１０の裏面のうち上記遮光領域Ａ４とする領域と当該液晶パネル１０の厚み方向において重畳する位置に上記遮光テープ９を貼り付け、その遮光テープ９を介して液晶パネル１０の裏面側にバックライト装置２を組み付ける。そして、液晶パネル１０とバックライト装置２の両者をベゼル３によって保持する。以上の手順により、本実施形態の液晶表示装置１が完成する。

　以上説明したように本実施形態の液晶表示装置１では、液晶パネル１０のパネル面における額縁領域Ａ３の一部に遮光領域Ａ４が形成されている。そして、液晶表示装置１を駆動する際、コントロール基板１６によって液晶層１８の配向状態を制御して当該液晶層１８の一部の透過率を最小とすることで、遮光領域Ａ４の近傍に位置する各着色部２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂのうち、当該一部と重畳するとともに表示画素を構成しない着色部２２Ｒ１，２２Ｇ１，２２Ｂ１を常に黒表示とする。このように液晶表示装置１の駆動時に、遮光領域Ａ４における遮光に加えて遮光領域Ａ４の近傍に位置する一部の着色部２２Ｒ１，２２Ｇ１，２２Ｂ１を常に黒表示とすることで、液晶パネル１０における額縁領域Ａ３の近傍からの光漏れを効果的に抑制することができる。

　また、本実施形態の液晶表示装置１の製造方法では、液晶パネル１０の額縁領域の全域にはブラックマトリクスからなる遮光部２３はパターニングされないが、上記のように液晶表示装置１の駆動時に、遮光領域Ａ４の近傍に位置する少なくとも一部の着色部２２Ｒ１，２２Ｇ１，２２Ｂ１を常に黒表示とすることで、遮光領域Ａ４と重畳する表示画素及びその近傍の表示画素の表示色が液晶表示装置１の駆動時に適正な色度からずれて色づきを生じることを抑制することができる。このため、例えば汎用のフォトマスクを用いて長方形状や正方形状の液晶パネル１０を製造した後、その液晶パネル１０を所望の外形形状に沿って切断することで、用意すべきフォトマスクの数が嵩むことなく所望する外形形状の液晶パネル１０を製造した場合であっても、遮光領域Ａ４と重畳する表示画素及びその近傍の表示画素の色づきを抑制することができる。その結果、製造コストの低減化を図るとともに表示品位の低下を抑制しながら、所望する外形形状の液晶表示装置１を実現することができる。

　また、本実施形態の液晶表示装置１の製造方法では、上記切断工程において、上述したように、アレイ基板３０のうち製造する液晶パネル１０の外形形状をなす輪郭線Ｌ１とシール剤４０との間に位置する部分Ａ７において当該外形形状に沿って各ゲート配線３６Ｇ及び各ソース配線３６Ｓを予め切断することで、その後の分断工程において液晶パネル１０の外形形状に沿って当該液晶パネル１０を分断する際、シール剤４０の外側で各ゲート配線３６Ｇ及び各ソース配線３６Ｓ同士が短絡することを抑制することができる。このため、製造する液晶パネル１０の表示品位が低下することを抑制することができる。

　さらに、本実施形態の液晶表示装置１の製造方法では、用意すべきフォトマスクの数が嵩むことなく所望する外形形状の液晶パネル１０を製造することができるので、異なる外形形状毎に対応するフォトマスクを用いる製造方法と比べて、製造工程の短縮化を図ることもできる。

　＜実施形態２＞
　次に、図１６から図１９を参照して実施形態２を説明する。実施形態２は、液晶表示装置における液晶パネル１１０の一部の構成、及び液晶表示装置の製造方法の一部が実施形態１のものと異なっている。液晶表示装置のその他の構成及び液晶表示装置の製造方法の他の部分については、実施形態１と同様であるため説明を省略する。

　本実施形態の液晶表示装置における液晶パネル１１０は、図１６に示すように、カラーフィルタ基板１２０のうち、液晶パネル１１０の厚み方向においてシール剤４０と重畳する領域にカラーフィルタ２２及び遮光部２３が形成されていない構成となっている。従って、本実施形態の液晶パネル１１０では、図１６に示すように、間に各着色部２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂを介することなくシール剤４０が直接第１ガラス基板２０Ａに密着した状態となっている。

　ここで、本実施形態の液晶パネル１０の製造過程においてカラーフィルタ基板１２０とアレイ基板３０とを貼り合わせる場合に用いられるシール剤４０は、熱硬化性又は光硬化性の樹脂材料からなっており、カラーフィルタ２２を構成する各着色部２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂに対する密着性に比べて第１ガラス基板２０Ａに対する密着性の方が高い。このため、本実施形態の液晶表示装置では、仮にシール剤と第１ガラス基板との間に着色部が介在する場合と比べてシール剤４０と第１ガラス基板２０Ａとの間の密着性が高められている。その結果、カラーフィルタ基板１２０とアレイ基板３０との間の剥離強度が低下することを抑制することができる。

　次に、本実施形態の液晶表示装置の製造方法のうち実施形態１と異なる部分について説明する。本実施形態の液晶表示装置の製造方法では、液晶パネル１１０の製造過程において、図１７に示すように、分断工程において貼り合わせ基板を分断することで、１枚の貼り合わせ基板１５０から８つの液晶パネル１１０を製造する。また、本実施形態の液晶表示装置の製造方法では、液晶パネル１１０を構成するカラーフィルタ基板１２０を製造するための各工程のうち、着色部形成工程と配向膜形成工程の間に以下に説明する除去工程を行う。

　即ちこの除去工程では、カラーフィルタ基板１２０を構成する第１ガラス基板２０Ａのうち、その後に行うシール剤塗布工程でシール剤４０が塗布される領域にレーザ光を照射する。このとき照射するレーザ光は、例えば波長が３５５（ｎｍ）であり、パルスエネルギーが５（μＪ）である。このように上記領域にレーザ光を照射することで、当該領域における着色部２２Ｒ，２２Ｇ，２２Ｂが蒸発して除去される。このため、その後のシール剤塗布工程において、第１ガラス基板２０Ａ上における上記領域では、シール剤４０が第１ガラス基板２０Ａ上に直接塗布される。その結果、製造後の液晶パネル１１０は、当該液晶パネル１１０の厚み方向においてシール剤４０と重畳する領域にカラーフィルタ２２及び遮光部２３が形成されていない構成となる。

　また、実施形態の液晶表示装置の製造方法では、液晶パネル１１０の製造過程において、貼り合わせ工程の前、詳しくは、アレイ基板１３０の製造過程におけるパターン形成工程と配向膜形成工程の間に切断工程を行う。そしてこの切断工程では、図１８に示すように、第２ガラス基板１３０Ａのうち、製造する液晶パネル１１０の外形形状をなす輪郭線Ｌ１の内側に位置するとともにその後のシール剤塗布工程でシール剤４０が塗布される領域と重畳する部分Ａ８に、上記外形形状に沿ってレーザ光を走査させつつ照射する。これにより、図１８に示すように、上記部分Ａ８において、上記外形形状に沿って各ゲート配線３６Ｇ及び各ソース配線３６Ｓが切断される。

　そして、その後のシール剤塗布工程では、図１９に示すように、切断工程で切断された各ゲート配線３６Ｇ及び各ソース配線３６Ｓの切断端面３６Ｓ１を覆う形でアレイ基板１３０上にシール剤４０を塗布する。なお、図１９では、カラーフィルタ２２と遮光部２３とを含むＣＦ層を符号１２０Ｌで示しており、ゲート配線３６Ｇの図示を省略している。本実施形態では、このように上記切断端面３６Ｓ１がシール剤４０によって覆われることで、アレイ基板１３０上に水分等が浸入した場合に上記切断端面３６Ｓ１が腐食することをシール剤４０によって抑制することができ、製造する液晶パネル１１０の品質信頼性が低下することを抑制することができる。

　＜実施形態３＞
　次に、図２０から図２３を参照して実施形態３を説明する。実施形態３は、液晶表示装置における液晶パネル２１０の一部の構成、及び液晶表示装置の製造方法の一部が実施形態１のものと異なっている。液晶表示装置のその他の構成及び液晶表示装置の製造方法の他の部分については、実施形態１と同様であるため説明を省略する。

　本実施形態の液晶表示装置における液晶パネル２１０では、パネル斜辺における額縁領域の大部分において、図１９に示すように、カラーフィルタ基板２２０のうち第１ガラス基板２０Ａ寄りの部分の全域に遮光部２３が形成されており、液晶層１８寄りの一部にカラーフィルタ２２が形成されている。これにより、パネル斜辺における額縁領域の大部分が遮光領域Ａ９となっている。このような構成とされたカラーフィルタ基板２２０は、例えば以下のような製造工程によって製造することができる。即ち、カラーフィルタ基板２２０の製造過程において、まず、第１ガラス基板２０Ａ上に遮光性を有するネガ型のレジスト膜を形成する。次に、形成する遮光部２３のパターンに応じたパターンを有するフォトマスクを介して上記レジスト膜の一部を選択的に露光する。

　次に、製造する液晶パネルの外形形状に沿って上記レジスト膜に光を走査させつつ照射することで、レジスト膜の一部、具体的には、製造後の液晶パネル２１０のパネル斜辺と対応する部分Ａ１０（図２０参照）を選択的に露光する。これにより、上記レジスト膜のうち製造後の液晶パネル２１０のパネル斜辺と対応する部分Ａ１０について、フォトマスクを使用することなく露光させることができる。次に、上記レジスト膜を現像することで、図２０に示すように、上記レジスト膜のうち露光されなかった部分を除去して第１ガラス基板２０Ａ上に上記レジスト膜からなる遮光部２３のパターンを形成する。その後、着色部形成工程以降の各工程を順に行い、本実施形態のカラーフィルタ基板２２０が完成する。

　上記のような製造方法でカラーフィルタ基板２２０を製造することで、パネル斜辺と対応する部分Ａ１０について、フォトマスクを使用することなく、カラーフィルタ基板２０の外形形状に応じた形にパターニングできるため、フォトマスクを１枚使用するのみで、所望するカラーフィルタ基板２２０の外形形状に応じたパターンの遮光部２３を第１ガラス基板２０Ａ上に形成することができる。このため、用意すべきフォトマスクの数が嵩むことなく所望する外形形状のカラーフィルタ基板２２０を製造することができ、製造コストの低減化を図ることができる。

　また、上記のような製造方法でカラーフィルタ基板２２０を製造することで、液晶パネル２１０のパネル斜辺における額縁領域の大部分において、第１ガラス基板２０Ａ上にブラックマトリクスからなる遮光部２３がパターニングされる。そして、このようにフォトマスクを使用することなくレジスト膜を露光させることによりパターニングされた遮光部２３と重畳する領域は、当該遮光部２３によって光が遮られるため、上記遮光領域Ａ９とされる。このため、例えば液晶パネル２１０に遮光テープ等を貼り付けなくとも、また、フォトマスクの数が嵩むことなく、遮光領域Ａ９を形成することができる。

　また、本実施形態の液晶パネル２１０は、駆動方式がＦＦＳ（Fringe Field Switching）方式のノーマリホワイト型であり、図２３に示すように、一対の基板２２０，２３０のうちアレイ基板３０側に透明電極材料からなる画素電極３４及び共通電極（面状電極の一例）２３５が共に形成されている。このうち共通電極２３５は、画素電極３４の下層側において面状（ベタ状）に配されている。詳しくは、共通電極２３５は、アレイ基板２３０の厚み方向（Ｚ軸方向）において、ゲート配線３６Ｇ及びソース配線３６Ｓと図示しない絶縁膜を挟んで対向している。また、共通電極２３５はソース配線３６Ｓが配された領域及びゲート配線３６Ｇが配された領域のほぼ全域に亘って形成されている。

　本実施形態のアレイ基板２３０では、図２３に示すように、コンタクトホールＣＨ１と重畳する位置を含むＴＦＴ３２近傍の位置に、アレイ基板２３０の厚み方向において共通電極２３５が画素電極３４と重畳しないコンタクト領域ＣＡ１が形成されている。また、本実施形態のアレイ基板２３０では、図２３に示すように、ソース配線３６Ｓが配された領域の一部にアレイ基板２３０の厚み方向において当該ソース配線３６Ｓが共通電極２３５と重畳しない第１の非重畳領域Ａ１１が各画素電極３４と対応する形で等間隔で複数設けられており、ソース配線３６Ｓが配された領域の一部にアレイ基板２３０の厚み方向において当該ソース配線３６Ｓが共通電極２３５と重畳しない第２の非重畳領域Ａ１２が各画素電極３４と対応する形で等間隔で複数設けられている。

　なお、本実施形態の液晶パネル２１０は、上述したように駆動方式がＦＦＳ方式であり、画素電極３４のうちゲート配線３６Ｇ及びソース配線３６Ｓによって囲まれた部位には、図２３に示すように、わずかに屈曲した縦長のスリット状の開口（以下、「スリット開口部３４Ａ」と称する）が３本形成されている。３本のスリット開口部３４Ａは、所定の間隔を空けてソース配線３６Ｓに沿う形で、画素毎にそれぞれ形成されている。そして、画素電極３４と共通電極２３５との間に電位差が生じると、液晶層１８には、画素電極３４のスリット開口部３４Ａによってアレイ基板３０の板面に沿う成分に加え、アレイ基板３０の板面と直交する方向の成分を含むフリンジ電界（斜め電界）が印加される。これにより、液晶層１８に含まれる液晶分子のうち、スリット開口部３４Ａ上に存在するものに加えて、共通電極２３５上に存在するものもその配向状態を適切にスイッチングすることができる。このため、液晶パネル１０の開口率が高くなり、十分な透過光量が得られるとともに、高い視野角性能を得ることができる。

　次に、本実施形態の液晶表示装置の製造方法について上述した遮光領域Ａ９の形成以外で、実施形態１と異なる部分について説明する。本実施形態の液晶表示装置の製造方法では、アレイ基板２３０の製造過程のうちパターン形成工程において、上記第１の非重畳領域Ａ１１と、上記第２の非重畳領域Ａ１２と、を確保しつつ上記共通電極２３５の薄膜パターンを形成する。さらに、切断工程では、照射するレーザ光の照射幅を実施形態１の場合や実施形態２の場合と比べて小さくする。そして、製造する液晶パネル２１０の外形形状をなす輪郭線Ｌ１の内側に位置する部分において、ソース配線３６Ｓを切断する際に上記第１の非重畳領域Ａ１１を通過するとともにゲート配線３６Ｇを切断する際に上記第２の非重畳領域Ａ１２を通過する走査経路（図２２及び図２３の符号Ｌ２で示す一点鎖線）で、上記外形形状に沿ってレーザ光を走査させつつ照射する。

　切断工程においてレーザ光を上記のような態様で照射することで、図２２及び図２３に示すように、レーザ光の走査経路は、製造する液晶パネル２１０のパネル斜辺の内側に位置する部分において、平面視において階段状をなす走査経路となる。なお、本実施形態では、実施形態１のように切断工程を貼り合わせ工程の後に行ってもよいし、図２２に示すように、実施形態２のように切断工程を貼り合わせ工程の前に行うとともに、切断工程で切断された各ゲート配線３６Ｇ及び各ソース配線３６Ｓの切断端面３６Ｓ１を覆う形でアレイ基板１３０上にシール剤４０を塗布してもよい。

　ところで上記切断工程では、レーザ光が照射される位置やレーザ光の出力の変動態様によっては、レーザ光の出力が瞬間的に低下する部分が生じることがある。このため、切断工程においてゲート配線３６Ｇ及びソース配線３６Ｓをレーザ光で切断する際、レーザ光の出力が低下した位置においてゲート配線３６Ｇ及びソース配線３６Ｓが切断されることなく溶解するに留まり、ゲート配線３６Ｇ及びソース配線３６Ｓが共通電極２３５と短絡して製造する表示装置の品質信頼性が低下する虞がある。

　これに対し本実施形態の液晶表示装置の製造方法では、切断工程において、ソース配線３６Ｓを切断する際に上記第１の非重畳領域Ａ１１を通過するとともに、ゲート配線３６Ｇを切断する際に上記第２の非重畳領域Ａ１２を通過する走査経路でレーザ光を走査させつつ照射する。このため、仮に切断工程においてゲート配線又はソース配線をレーザ光で切断する際に各配線が溶解した場合であっても、各配線が面状電極と短絡することを抑制することができる。その結果、シール剤４０の外側で両配線３６Ｓ，３６Ｇが短絡することを抑制しながら、各配線３６Ｓ，３６Ｇと面状電極との短絡に起因して製造する液晶表示装置の品質信頼性が低下することを抑制することができる。

　上記の各実施形態の変形例を以下に列挙する。
（１）上記の各実施形態では、表示画素が赤色の着色部と緑色の着色部と青色の着色部との組み合わせによって構成される例を示したが、これに限定されない。例えば、これらの着色部に加えて黄色の着色部を組み合わせることにより表示画素が構成されてもよい。

（２）上記の実施形態１では、切断工程において切断された部分の両側に生じる両切断端面が製造する液晶パネルの外形形状をなす輪郭線の内側に位置するような態様でレーザ光を照射する例を示したが、当該両切断端面のうち内側に位置する切断端面のみが上記輪郭線の内側に位置するような態様でレーザ光を照射してもよい。

（３）上記の実施形態２では、切断工程において切断された部分の両側に生じる両切断端面がシール剤によって覆われる例を示したが、外側に位置する切断端面に腐食が生じても製造する液晶パネルの表示品位には影響を及ぼさないため、当該両切断端面のうち内側に位置する切断端面のみがシール剤によって覆われてもよい。

（４）上記の各実施形態では、ＴＦＴを構成する半導体膜がIn－Ga－Zn－O系半導体とされた構成を例示したが、これに限定されない。例えばＴＦＴを構成する半導体膜がポリシリコン（Poly-Silicon）とされた構成であってもよいし、ＣＧシリコン（Continuous Grain Silicon）とされた構成であってもよい。

（５）上記の各実施形態では、駆動方式がＴＮ（Twisted Nematic）型及びＦＦＳ（Fringe Field Switching）型の液晶パネルを例示したが、これに限定されない。例えば駆動方式がＶＡ（Vertical Alignment）型、ＩＰＳ（In-Plane Switching）型とされた液晶パネルであってもよい。

（６）上記の各実施形態では、表示装置として液晶表示装置を例示したが、これに限定されず、例えば、有機ＥＬ表示装置を構成する基板の製造過程において本発明を適用してもよい。この場合、遮光領域の近傍に形成された各着色部のうち表示画素を構成しない着色部と重畳する発光素子を発光させないように有機ＥＬ表示パネルを駆動することで、上記表示画素を構成しない着色部を常に黒表示とすることができる。

（７）上記の各実施形態では、ノーマリホワイト型とされた液晶パネルを例示したが、液晶層のうち電圧を印加しない部分の透過率が最小となるノーマリブラック型の液晶パネルであってもよい。

　以上、各実施形態について詳細に説明したが、これらは例示に過ぎず、特許請求の範囲を限定するものではない。特許請求の範囲に記載の技術には、以上に例示した具体例を様々に変形、変更したものが含まれる。

　１：液晶表示装置、２：バックライト装置、４：導光板、５：光学シート群、６：反射シート、７：シャーシ、９：遮光テープ、１０，１１０，２１０：液晶パネル、１１：パネル斜辺、１２：ＩＣチップ、１４：フレキシブル基板、１６：コントロール基板、１７：ゲートドライバ、１８：液晶層、２０，１２０，２２０：カラーフィルタ基板、２０Ａ：第１ガラス基板、２２：カラーフィルタ、２２Ｒ：赤色の着色部、２２Ｇ：緑色の着色部、２２Ｂ：青色の着色部、２２Ｄ：黒表示とされた着色部、２３：遮光部、２４、２３５：共通電極、３０，１３０，２３０：アレイ基板、３０Ａ：第２ガラス基板、３０Ｌ：薄膜パターン群、３２：ＴＦＴ、３２Ｇ：ゲート電極、３２Ｓ：ソース電極、３２Ｄ：ドレイン電極、３４：画素電極、３４Ａ：スリット開口部、３６Ｇ：ゲート配線、３６Ｓ：ソース配線、３６Ｓ１：切断端面、３８：半導体膜、３９：層間絶縁膜、４０：シール剤、１５０：貼り合わせ基板、Ａ１：表示領域、Ａ２：非表示領域、Ａ３：額縁領域、Ａ４，Ａ９：遮光領域、Ａ５：配向不良領域、Ａ６：黒表示領域、Ａ７：輪郭線とシール剤との間に位置する部分、Ａ８：シール剤が塗布される領域と重畳する部分、Ａ１０：液晶パネルのパネル斜辺と対応する部分、Ａ１１：第１の非重畳領域、Ａ１２：第２の非重畳領域、ＣＡ１：コンタクト領域、ＣＨ１：コンタクトホール、Ｌ１：輪郭線、Ｌ２：走査経路、Ｎ：アレイ基板の屈折率、Ｔ１：アレイ基板の厚み、Ｗ１：黒表示領域のうち遮光領域と重畳しない部位の幅、Ｗ２：黒表示領域の幅、θ：パネル面において表示を視認できる最大角度

Claims

　格子状をなす遮光部と、該遮光部のパターンに囲まれる領域内に領域毎に異なる色で形成された複数色の着色部と、を有するカラーフィルタ基板を含む表示パネルを備え、複数色の前記着色部の組み合わせ毎に１つの表示画素が構成されるとともに、前記表示パネルのうち該表示パネルの外形形状に沿った端縁部の少なくとも一部に遮光領域が形成された表示装置の駆動方法であって、
　平面視において前記表示パネルの前記遮光領域の近傍に位置する前記着色部のうち、前記表示画素を構成しない前記着色部を常に黒表示とする表示装置の駆動方法。
　前記表示装置の前記遮光領域は、前記表示パネルのパネル面のうち前記表示パネルの厚み方向において該遮光領域と重畳する部位に遮光部材を貼り付けることで形成されてなる、請求項１に記載の表示装置の駆動方法。
　前記表示装置の前記遮光領域は、前記カラーフィルタ基板上のうち前記表示パネルの厚み方向において該遮光領域と重畳する領域にブラックマトリクスが配されることで形成されてなる、請求項１に記載の表示装置の駆動方法。
　前記表示パネルが、前記カラーフィルタ基板と複数の薄膜トランジスタを有するアレイ基板との間に液晶層が介在してなるものであり、
　前記表示装置が、前記液晶層に電圧を印加する電圧印加部と、前記電圧を制御する電圧制御部と、を有するものであって、
　前記電圧印加部によって前記液晶層に電圧を印加するとともに、該液晶層のうち前記表示パネルの厚み方向において前記黒表示とする前記着色部と重畳する部位に印加する電圧を前記電圧制御部によって制御することで当該部位の透過率を最小とする、請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の表示装置の駆動方法。
　前記表示パネルのパネル面の法線方向に対してなす角度のうち該パネル面において表示を視認できる最大角度をθとし、前記黒表示とされる前記着色部のうち前記表示パネルの厚み方向において前記遮光領域と重畳しない部位の幅をＷ１とし、前記黒表示とされる前記着色部の幅をＷ２とし、前記アレイ基板の屈折率をＮとするとともにその厚みをＴ１としたとき、
　前記表示パネルが、下記の式（１）、（２）を満たすように形成されてなる、請求項４に記載の表示装置の駆動方法。
　Ｗ１≧Ｔ１×ｔａｎ（ｓｉｎ－１（ｓｉｎθ／Ｎ））　　　（１）
　Ｗ２≧２×Ｗ１　　　（２）
　請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の表示装置の駆動方法によって駆動される表示装置を製造する方法であって、
　前記カラーフィルタ基板を構成する基板の一部にレーザ光を照射することで、該基板に形成された前記着色部のうち前記レーザ光が照射された領域の前記着色部を除去する除去工程を備える表示装置の製造方法。
　請求項４または請求項５に記載の表示装置の駆動方法によって駆動される表示装置を製造する方法であって、
　前記カラーフィルタ基板と前記アレイ基板とをシール剤を介して貼り合わせて貼り合わせ基板を形成する貼り合わせ工程と、
　前記貼り合わせ工程の後に、前記貼り合わせ基板の前記アレイ基板のうち、少なくとも製造する前記表示パネルの外形形状をなす輪郭線と前記シール剤との間に位置する部分に、該外形形状に沿って前記薄膜トランジスタを駆動するための配線群にレーザ光を走査させつつ照射することで該配線群を切断する切断工程と、
　を備える表示装置の製造方法。
　請求項４または請求項５に記載の表示装置の駆動方法によって駆動される表示装置を製造する方法であって、
　前記アレイ基板のうち少なくとも製造する前記表示パネルの外形形状に沿った輪郭線の内側に位置する部分に、該外形形状に沿って前記薄膜トランジスタを駆動するための配線群にレーザ光を走査させつつ照射することで該配線群を切断する切断工程と、
　前記切断工程の後に、該切断工程で切断された前記配線群の切断端面を覆う形で前記アレイ基板上にシール剤を塗布し、該シール剤を介して前記カラーフィルタ基板と前記アレイ基板とをシール剤を介して貼り合わせて貼り合わせ基板を形成する貼り合わせ工程と、
　を備える表示装置の製造方法。
　請求項７または請求項８に記載の表示装置の製造方法であって、
　前記アレイ基板上に、その一部が前記薄膜トランジスタのゲート電極を構成するゲート配線の薄膜パターンと、その一部が前記薄膜トランジスタのソース電極を構成するソース配線の薄膜パターンと、前記アレイ基板の厚み方向において前記ゲート配線及び前記ソース配線と絶縁膜を挟んで対向する面状の面状電極の薄膜パターンと、を形成するパターン形成工程を備え、
　前記パターン形成工程では、前記ソース配線が配された領域のうち前記アレイ基板の厚み方向において該ソース配線が前記面状電極と重畳しない第１の非重畳領域と、前記ゲート配線が配された領域のうち前記アレイ基板の厚み方向において該ゲート配線が前記面状電極と重畳しない第２の非重畳領域と、を確保しつつ前記面状電極の薄膜パターンを形成し、
　前記切断工程では、前記ソース配線及び前記ゲート配線を前記配線群として切断し、前記ソース配線を切断する際に前記第１の非重畳領域を通過するとともに前記ゲート配線を切断する際に前記第２の非重畳領域を通過する走査経路で前記レーザ光を走査させつつ照射する表示装置の製造方法。