JP2020024361A - 表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】トランジスタの動作不良や、工程不良などを低減できる表示装置を提供する。【解決手段】表示装置は、各画素ＰＸａ，ＰＸｂ，ＰＸｃ中に、第１トランジスタＱａの第１ドレイン電極１７５ａおよび第２トランジスタＱｂの第２ドレイン電極１７５ｂと、第１及び第２副画素電極１９１ａ，１９１ｂと、第１および第２トランジスタＱａ，Ｑｂを少なくとも部分的に覆い、第１および第２副画素電極１９１ａ，１９１ｂと重なり合うカラーフィルター層とを含む。また、少なくとも第１トランジスタＱａおよび第１副画素電極１９１ａと重なり合う第１のカラーフィルター２３０ａと異なる色を示し、少なくとも一つの画素における一部の領域にのみ配置される第１のカラーフィルターパターンとを含む。第１のカラーフィルターパターンは、第１のカラーフィルター２３０ａに重なり合う第１副画素電極１９１ａ、第１トランジスタＱａおよび第２トランジスタＱｂと重なる。【選択図】図２

Description

本発明は表示装置に関する。

液晶表示装置（ｌｉｑｕｉｄ ｃｒｙｓｔａｌ ｄｉｓｐｌａｙａｙ、ＬＣＤ）、有機発光表示装置（ｏｒｇａｎｉｃ ｌｉｇｈｔ ｅｍｉｔｔｉｎｇ ｄｉｏｄｅ ｄｉｓｐｌａｙ）などの表示装置は、一般に、映像を表示する単位である複数の画素を含む表示パネルを含む。

液晶表示装置の表示パネルは、液晶を含む液晶層、液晶層の液晶の配向を制御するための電場生成電極、及び、電場生成電極の少なくとも一部に電圧を印加するための複数の信号線およびこれに連結されている複数のスイッチング素子を含む。電場生成電極に電圧が印加されると、液晶層に電場が生成されて液晶は再配列され、これによって透過する光の量を調節して所望の映像を表示することができる。透過する光の量を調節するために、表示板は少なくとも１つの偏光子を含むことができる。

液晶表示装置に含まれる電場生成電極は、データ電圧が印加される画素電極と、共通電圧が印加される共通電極とを含む。画素電極はトランジスタであるスイッチング素子を通じてデータ電圧が印加される。

本発明は、表示装置に含まれるトランジスタのしきい電圧の変化を減らし、パターンサイズの均一性を効果的に管理し、パターン剥離などの不良率を減らすことができる表示装置を提供する。

本発明の一実施例による表示装置は、基板、前記基板上にて、各画素中に位置する第１トランジスタおよび第２トランジスタ、各画素中に位置し、前記第１トランジスタの第１ドレイン電極と電気的に連結されている第１副画素電極、各画素中に位置し、前記第２トランジスタの第２ドレイン電極と電気的に連結されている第２副画素電極、及び、前記第１および第２トランジスタを少なくとも部分的に覆い、前記第１および第２副画素電極と重なり合うカラーフィルター層を含み、前記カラーフィルター層は、少なくとも前記第１トランジスタおよび前記第１副画素電極と重なり合う第１のカラーフィルター、及び、前記第１のカラーフィルターと異なる色を示し、各一つが、少なくとも一つの画素における一部の領域にのみ配置される第１のカラーフィルターパターンとを含み、前記第１のカラーフィルターパターンは、各一つが、前記第１のカラーフィルターに重なり合う第１副画素電極に連結された少なくとも一つの前記第１トランジスタ、および、前記第２トランジスタに重なり合う。

１つの映像信号に対して互いに異なるデータ電圧を伝達できる第１データ線および第２データ線をさらに含み、前記第１トランジスタは前記第１データ線に電気的に連結されている第１ソース電極を含み、前記第２トランジスタは前記第２データ線に電気的に連結されている第２ソース電極を含み、前記第１トランジスタと前記第２トランジスタは、平面ビューにおいて、各画素中、前記第１データ線と前記第２データ線の間に位置することができる。

前記第１トランジスタおよび前記第２トランジスタと電気的に連結されているゲート線をさらに含み、前記ゲート線は前記第１ソース電極と重なり合う第１開口部および前記第２ソース電極と重なり合う第２開口部を有し、前記第１のカラーフィルターパターンは前記第１開口部および前記第２開口部と重なり合わなくてもよい。

前記カラーフィルター層は、前記第１のカラーフィルターパターンと同じ色を示す第２のカラーフィルターをさらに含み、前記第１のカラーフィルターパターンは前記第２のカラーフィルターと離隔されている。

前記第２のカラーフィルターと重なり合う第３トランジスタおよび第４トランジスタをさらに含んでもよい。

前記第１トランジスタに含まれる第１ソース電極と電気的に連結されている第１データ線、そして前記第２トランジスタに含まれる第２ソース電極と電気的に連結されている第２データ線をさらに含み、前記第１データ線と前記第２データ線はそれぞれ別個の映像信号に対するデータ電圧を伝達できる。

前記第１のカラーフィルターパターンは、各一つが、前記第１データ線および前記第２データ線と重なり合うことができる。

前記カラーフィルター層は、前記第２トランジスタおよび前記第２副画素電極と重なり合う第２のカラーフィルター、そして前記第１のカラーフィルターパターンと同じ色を示す第３のカラーフィルターをさらに含み、前記第２のカラーフィルターは前記第１のカラーフィルターパターンと異なる色を示し、前記第１のカラーフィルターパターンは前記第３のカラーフィルターと離隔されていてもよい。

前記第３のカラーフィルターと重なり合う第３トランジスタおよび第４トランジスタをさらに含み、平面ビューにおいて前記第２トランジスタと前記第４トランジスタの間に位置する第５トランジスタをさらに含み、前記カラーフィルター層は、前記第３のカラーフィルターに連結されており、前記第５トランジスタと重なり合う第２のカラーフィルターパターンをさらに含んでもよい。

前記第１のカラーフィルターパターンは、断面ビューにて、前記基板と前記第１のカラーフィルターとの間に位置することができる。

前記第１のカラーフィルターパターンは赤色を示すことができる。

一実施例による表示装置は、第１方向に順次隣接した第１画素、第２画素および第３画素、第１データ線および第２データ線、そしてカラーフィルター層を含み、前記第２画素は、前記第１データ線と電気的に連結されている第１ソース電極を含む第１トランジスタおよび前記第２データ線と電気的に連結されている第２ソース電極を含む第２トランジスタを含み、前記カラーフィルター層は、前記第１画素に対応する第１のカラーフィルター、前記第２画素に対応する第２のカラーフィルター、そして前記第１トランジスタおよび前記第２トランジスタと重なり合い前記第２のカラーフィルターと異なる色を示す第１のカラーフィルターパターンを含む。

前記第１のカラーフィルターパターンは前記第１のカラーフィルターと離隔されていてもよい。

前記第１トランジスタおよび前記第２トランジスタと電気的に連結されているゲート線をさらに含み、前記ゲート線は前記第１ソース電極と重なり合う第１開口部および前記第２ソース電極と重なり合う第２開口部を有し、前記第１のカラーフィルターパターンは前記第１開口部および前記第２開口部と重なり合わなくてもよい。

一実施例による表示装置は、第１方向に順次隣接した第１画素、第２画素および第３画素、第１データ線および第２データ線、そしてカラーフィルター層を含み、前記第３画素は前記第１データ線と電気的に連結されている第１ソース電極を含む第１トランジスタを含み、前記第２画素は前記第２データ線と電気的に連結されている第２ソース電極を含む第２トランジスタを含み、前記カラーフィルター層は、前記第１画素に対応する第１のカラーフィルター、前記第２画素に対応する第２のカラーフィルター、そして前記第１トランジスタおよび前記第２トランジスタと重なり合い前記第２のカラーフィルターと異なる色を示す第１のカラーフィルターパターンを含む。

前記第１のカラーフィルターパターンは前記第１のカラーフィルターと離隔されていてもよい。

前記第１のカラーフィルターパターンは前記第１データ線および前記第２データ線と重なり合うことができる。

前記第２画素は第３トランジスタをさらに含み、前記カラーフィルター層は、前記第１のカラーフィルターに連結されており、前記第３トランジスタと重畳する第２のカラーフィルターパターンをさらに含んでもよい。

前記第１のカラーフィルターパターンと前記第２のカラーフィルターパターンは、前記第１のカラーフィルターと同じ色を示すことができる。

前記第２のカラーフィルターは前記第２画素と前記第３画素の境界において、前記第２画素の内側に窪んだ凹部を含み、前記凹部は、前記第１のカラーフィルターパターンと重畳し、前記凹部と重なり合う遮光部をさらに含んでもよい。

本発明の実施例によれば、トランジスタのしきい電圧の変化を減らすことができ、パターンサイズの均一性を効果的に管理することができ、パターン剥離などの不良率を減らすことができる。

一実施例による表示装置の隣接した３つの画素に対する配置図である。 一実施例による表示装置の隣接した３つの画素の一部に対する配置図である。 図２に示す表示装置をＩＩＩａ−ＩＩＩｂ線に沿って切断して示す断面図である。 一実施例による表示装置の隣接した３つの画素の一部に対する配置図である。 図４に示す表示装置をＶａ−Ｖｂ線に沿って切断して示す断面図である。 一実施例による表示装置の隣接した３つの画素の一部に対する配置図である。 一実施例による表示装置の隣接した３つの画素の一部に対する配置図である。

以下、添付した図面を参照して本発明の様々な実施形態について本発明の属する技術分野における通常の知識を有する者が容易に実施できるように詳しく説明する。本発明は様々な異なる形態に実現でき、ここで説明する実施形態に限定されない。

本発明を明確に説明するために、説明上不必要な部分は省略し、明細書全体にわたって同一または類似の構成要素については、同一の参照符号を付与する。

図面に示された各構成の大きさおよび厚さは説明の便宜のために任意に示しており、本発明が必ずしも図示されたものに限定されるわけではない。図面では、様々な層および領域を明確に表現するために、厚さを拡大して示している。そして図面において、説明の便宜のために、一部の層および領域の厚さを誇張して示している。

層、膜、領域、板などの部分が他の部分の“上に”あるというとき、これは他の部分の“直上に”ある場合だけでなく、その中間にまた他の部分がある場合も含む。逆に、ある部分が他の部分の“直上”にあるというときは、その中間に他の部分がないことを意味する。また、基準となる部分の“上に”あるというのは基準となる部分の上または下に位置することであり、必ずしも重力の反対の方向に向かって“上に”位置することを意味するのではない。

明細書全体で、ある部分がある構成要素を“含む”というとき、これは、特に反する記載がない限り、他の構成要素を除くのではなく、他の構成要素をさらに含むことができることを意味する。

明細書全体で、平面ビュー（ｉｎ ａ ｐｌａｎ ｖｉｅｗ）は、互いに交差する２つの方向（例えば、第１方向ＤＲ１および第２方向ＤＲ２）に平行な面を、この面に垂直の方向から観察するビューを意味し（平面上ともいう）、断面ビュー（ｉｎ ａ ｃｒｏｓｓ−ｓｅｃｔｉｏｎａｌ ｖｉｅｗ）は、第１方向ＤＲ１および第２方向ＤＲ２に平行な面に対して垂直である方向（例えば、第３方向ＤＲ３）に切断した面を、この切断面に垂直の方向から観察するビューを意味する。また、２つの構成要素が重なり合うというときは、他の言及がない限り、２つの構成要素が第３方向ＤＲ３に（例えば、基板の上面に垂直な方向に）重なり合うことを意味する。

まず、図１乃至図３を参照して、一実施例による表示装置について説明する。

図１は、一実施例による表示装置の隣接した３つの画素に対する配置図であり、図２は、一実施例による表示装置における隣接した３つの画素の一部に対する配置図であり、図３は、図２に示す表示装置を、ＩＩＩａ−ＩＩＩｂ線に沿って切断して示す断面図である。

一実施例による表示装置は、液晶表示装置であって、図３に示すように、断面ビューにて、第１表示板１００、第２表示板２００、および、これら２つの表示板１００、２００の間に位置する液晶層３を含む。

液晶表示装置は、平面ビューにおいて、映像を表示できる表示領域を含み、表示領域は複数の画素ＰＸａ、ＰＸｂ、ＰＸｃを含む。画素ＰＸａ、ＰＸｂ、ＰＸｃは、第１方向ＤＲ１に交互に配列されていてもよい。

第１表示板１００は、ガラス、プラスチックなどの絶縁物質を含む基板１１０と、この上に位置して、ゲート線１２１、維持電極線１３１、ダミーパターン１２９などを含むゲート導電層とを含む。

ゲート線１２１は、主に第１方向ＤＲ１に伸びており、ゲート信号を伝達することができる。ゲート線１２１は、各画素ＰＸａ、ＰＸｂ、ＰＸｃに位置する第１ゲート電極１２４ａおよび第２ゲート電極１２４ｂを含むことができる。

ゲート線１２１は、１つの画素ＰＸａ、ＰＸｂ、ＰＸｃの第２ゲート電極１２４ｂと、隣接した画素ＰＸａ、ＰＸｂ、ＰＸｃの第１ゲート電極１２４ａとの間に位置する領域の一部が除去されて、開口部２１ａ、２１ｂを形成するかまたは有することができる。開口部２１ａは、第１ゲート電極１２４ａに隣接して位置し、開口部２１ｂは第２ゲート電極１２４ｂに隣接して位置することができる。

維持電極線１３１は、ゲート線１２１にほぼ並んで伸びた横部１３１ａ、および、横部１３１ａに連結されている縦部１３１ｂを含むことができる。維持電極線１３１の縦部１３１ｂは、隣接した２つの画素ＰＸａ、ＰＸｂ、ＰＸｃの間の境界に沿って伸びている。

ダミーパターン１２９は、互いに隣接する、維持電極線１３１の横部１３１ａと、ゲート線１２１との間に位置することができ、各画素ＰＸａ、ＰＸｂ、ＰＸｃに一対のダミーパターン１２９が位置することができる。各ダミーパターン１２９は島型であってもよい。

ゲート導電層上にはゲート絶縁膜（ｇａｔｅ ｉｎｓｕｌａｔｉｎｇ ｌａｙｅｒ）１４０が位置する。ゲート絶縁膜１４０は窒化ケイ素（ＳｉＮｘ）、酸化ケイ素（ＳｉＯｘ）、窒酸化ケイ素などといった絶縁物質を含むことができる。

ゲート絶縁膜１４０の上には、第１半導体１５４ａと第２半導体１５４ｂとを含む半導体層が位置する。第１半導体１５４ａは第１ゲート電極１２４ａと重なり合い、第２半導体１５４ｂは第２ゲート電極１２４ｂと重なり合うことができる。

半導体層は、非晶質シリコン（ａｍｏｒｐｈｏｕｓ ｓｉｌｉｃｏｎ）、多結晶シリコン（ｐｏｌｙｃｒｙｓｔａｌｌｉｎｅ ｓｉｌｉｃｏｎ）、または金属酸化物（ｍｅｔａｌ ｏｘｉｄｅ）などを含むことができる。

半導体層の上には、オーミック接触部材（ｏｈｍｉｃ ｃｏｎｔａｃｔ ｍｅｍｂｅｒ）１６３ａ、１６５ａが位置することができる。一対のオーミック接触部材１６３ａ、１６５ａは第１半導体１５４ａの上に位置し、他の一対のオーミック接触部材は第２半導体１５４ｂの上に位置することができる。オーミック接触部材は、シリサイド（ｓｉｌｉｃｉｄｅ）、または、ｎ型不純物が高濃度にドーピングされているｎ^＋水素化非晶質シリコンなどの物質で作られる。オーミック接触部材１６３ａ、１６５ａは省略することもできる。

オーミック接触部材１６３ａ、１６５ａの上には、第１データ線１７１ａおよび第２データ線１７１ｂを含む複数のデータ線、複数の第１ドレイン電極１７５ａ、及び、複数の第２ドレイン電極１７５ｂを含むデータ導電層が位置する。

第１データ線１７１ａおよび第２データ線１７１ｂは、データ信号を伝達し、主に第２方向ＤＲ２に伸びて、ゲート線１２１および維持電極線１３１の横部１３１ａと交差することができる。

各画素ＰＸａ、ＰＸｂまたはＰＸｃに対応する、第１データ線１７１ａと第２データ線１７１ｂは、１つの映像信号に対して互いに異なる輝度を示すことができるデータ電圧を、それぞれ伝達できる。例えば、１つの階調の映像信号に対して、第２データ線１７１ｂから伝達されるデータ電圧が、第１データ線１７１ａから伝達されるデータ電圧と比べて、より低いかまたは同じでありうる。注目する一の画素に隣接した画素ＰＸａ、ＰＸｂ、ＰＸｃには、これらのそれぞれに位置する第１および第２データ線１７１ａ、１７１ｂに、注目する一の画素とは別個の映像信号に対するデータ電圧を伝達できる。

第１データ線１７１ａは、第１ゲート電極１２４ａと重なり合う第１ソース電極１７３ａを含み、第２データ線１７１ｂは、第２ゲート電極１２４ｂと重なり合う第２ソース電極１７３ｂを含むことができる。

第１ドレイン電極１７５ａおよび第２ドレイン電極１７５ｂは、いずれも、一方の側の棒状の端部と、他方の側の幅広の端部としての拡張部１７７ａ、１７７ｂとを含むことができる。第１ドレイン電極１７５ａおよび第２ドレイン電極１７５ｂの拡張部１７７ａ、１７７ｂは、維持電極線１３１とゲート線１２１との間に位置することができる。

各ドレイン電極１７５ａ、１７５ｂは、ゲート導電層のダミーパターン１２９と重なり合うことができる。第１ドレイン電極１７５ａおよび第２ドレイン電極１７５ｂの棒状端部はそれぞれ第１ソース電極１７３ａおよび第２ソース電極１７３ｂによって一部囲まれている。

第１ゲート電極１２４ａ、第１ソース電極１７３ａ、第１ドレイン電極１７５ａは、第１半導体１５４ａとともに第１トランジスタＱａをなしており、第２ゲート電極１２４ｂ、第２ソース電極１７３ｂ、第２ドレイン電極１７５ｂは、第２半導体１５４ｂとともに第２トランジスタＱｂをなす。第１および第２トランジスタＱａ、Ｑｂのチャンネルは、第１半導体１５４ａにおける、互いに向き合う第１ソース電極１７３ａと第１ドレイン電極１７５ａとの間の箇所、及び、第２半導体１５４ｂにおける、第２ソース電極１７３ｂと第２ドレイン電極１７５ｂとの間の箇所に、それぞれ位置することができる。

各画素ＰＸａ、ＰＸｂ、ＰＸｃに位置する第１および第２トランジスタＱａ、Ｑｂは、ゲート線１２１が伸びた方向、つまり、第１方向ＤＲ１に配列されている。また、平面ビューにおいて、第１および第２トランジスタＱａ、Ｑｂは、各画素ＰＸａ、ＰＸｂ、ＰＸｃ中、第１データ線１７１ａと第２データ線１７１ｂとの間に位置することができる。

第１および第２トランジスタＱａ、Ｑｂは、ゲート線１２１から伝達されるゲート信号によって、第１および第２データ線１７１ａ、１７１ｂから伝達されたデータ電圧を伝達する、スイッチング素子として機能することができる。

図１および図２を参照すれば、ゲート線１２１、維持電極線１３１の横部１３１ａ、第１および第２トランジスタＱａ、Ｑｂが位置する領域は遮光部材２２０によって囲まれている。遮光部材２２０は、ほぼ第１方向ＤＲ１（図１〜２の左右方向）に伸びて、各画素ＰＸａ、ＰＸｂ、ＰＸｃの遮光領域を形成することができる。

図示の例で、各画素ＰＸａ、ＰＸｂ、ＰＸｃにて、遮光領域は、トランジスタＱａ、Ｑｂの近傍における画素電極１９１ａ、１９１ｂが省かれた領域の全体、及び、これに隣接する、画素電極１９１ａ、１９１ｂの縁部の箇所を含む。また、各画素ＰＸａ、ＰＸｂ、ＰＸｃにおける第１方向ＤＲ１（図１〜２の左右方向）の幅の全体にわたって延びている。図示の具体例によると、遮光領域は矩形状であり、各画素ＰＸａ、ＰＸｂ、ＰＸｃには、この遮光領域を第２方向ＤＲ２（図１〜２の上下方向）から挟むように、矩形状の第１副画素電極１９１ａと、これより面積の大きい矩形状の第２画素電極１９１ｂとが、配置されている。また、図示の具体例で、遮光部材２２０は、等幅の帯状である。

データ導電層上には、第１絶縁層１８０ａが位置する。第１絶縁層１８０ａは、有機絶縁物質または無機絶縁物質を含むことができる。

第１絶縁層１８０ａの上には、液晶表示装置の表示領域（マトリクス状の画素配列領域）を画素ごと、または画素のグループごとに塗り分けるための複数のカラーフィルター２３０ａ、２３０ｂ、２３０ｃと、画素内の特定部位のみに配置される局所的なカラーフィルターパターン２３０Ｄとを含む、カラーフィルター層が位置しうる。

表示領域（画素配列領域）を塗り分ける各カラーフィルター２３０ａ、２３０ｂ、２３０ｃは、赤色、緑色および青色の三原色または四原色などの基本色（ｐｒｉｍａｒｙ ｃｏｌｏｒ）のうちの１つを表示する。カラーフィルター２３０ａ、２３０ｂ、２３０ｃは、赤色、緑色および青色の三原色に制限されず、青緑色（ｃｙａｎ）、紫紅色（ｍａｇｅｎｔａ）、黄色（ｙｅｌｌｏｗ）及び白色のうちの少なくとも一つを、上記三原色に加えて含むか、または上記三原色の少なくともいずれかに代えて含む、一連の基本色を表示することができる。例えば、カラーフィルター２３０ａは赤色を表示し、カラーフィルター２３０ｂは緑色を表示し、カラーフィルター２３０ｃは青色を表示することができる。

第１の基本色のカラーフィルター２３０ａは画素ＰＸａに対応して位置し、第２の基本色のカラーフィルター２３０ｂは画素ＰＸｂに対応して位置し、第３の基本色のカラーフィルター２３０ｃは画素ＰＸｃに対応して位置しうる。各カラーフィルター２３０ａ、２３０ｂ、２３０ｃは、第２方向ＤＲ２に長く伸びて１列（ｃｏｌｕｍｎ）に位置する複数の画素に対応することができる。すなわち、各カラーフィルター２３０ａ、２３０ｂ、２３０ｃがストライプ状をなす、ストライプ配列とすることができる。３つの基本色のカラーフィルター２３０ａ、２３０ｂ、２３０ｃをこの順で含む、一組（１つのグループ）のカラーフィルターが、第１方向ＤＲ１に繰り返されて配置されている。つまり、３つの基本色のカラーフィルター２３０ａ、２３０ｂ、２３０ｃは、第１方向ＤＲ１に、この順で代（か）わる代（が）わる配置されている。

互いに隣接した（隣り合う）２つの画素ＰＸａ、ＰＸｂ、ＰＸｃの境界にて、隣り合う２つの画素ＰＸａ、ＰＸｂ、ＰＸｃに対応する２つのカラーフィルター２３０ａ、２３０ｂ、２３０ｃは、基板１１０の上で第３方向ＤＲ３に積層されるように重なり合うことができる。例えば、画素ＰＸａのカラーフィルター２３０ａは、隣り合う２つの画素ＰＸａ、ＰＸｂの間の境界にて、隣（となり）の画素ＰＸｂのカラーフィルター２３０ｂと、重なり合うことができる。隣り合う２つのカラーフィルター２３０ａ、２３０ｂが重なり合う部分は、維持電極線１３１の縦部１３１ｂと重なり合うことができる。

隣り合う２つの画素ＰＸａ、ＰＸｂ、ＰＸｃの間（境界部分）で重なり合う２つのカラーフィルター２３０ａ、２３０ｂ、２３０ｃは、隣り合う２つの画素ＰＸａ、ＰＸｂ、ＰＸｃの間（境界部分）での光漏れを防止する遮光機能を有することができる。

表示領域（画素配列領域）を塗り分ける各カラーフィルター２３０ａ、２３０ｂ、２３０ｃは、第１および第２ドレイン電極１７５ａ、１７５ｂの拡張部１７７ａ、１７７ｂとそれぞれ重なり合う開口部２３５ａ、２３５ｂを含むことができる。

局所的なカラーフィルターパターン２３０Ｄは、第１の基本色のカラーフィルター２３０ａと同じ色を示し、同じ層に位置し、同じ物質を含み、同じ工程で同時に形成されうる。特に、局所的なカラーフィルターパターン２３０Ｄは赤色を表すことができる。

局所的なカラーフィルターパターン２３０Ｄは、局所的なカラーフィルターパターン２３０Ｄと同じ色(第１の基本色)を示すカラーフィルター２３０ａまたは画素ＰＸａと離隔しており、第１の基本色のカラーフィルター２３０ａとは異なる色を示すカラーフィルター２３０ｂ、２３０ｃが位置する画素ＰＸｂ、ＰＸｃに、それぞれ１つずつ、局所的なカラーフィルターパターン２３０Ｄが位置することができる。

第１の基本色の画素ＰＸａを除いて各画素ＰＸｂ、ＰＸｃに位置する局所的なカラーフィルターパターン２３０Ｄは、第１および第２トランジスタＱａ、Ｑｂと重なり合う。特には、これらの局所的なカラーフィルターパターン２３０Ｄは、第１および第２トランジスタＱａ、Ｑｂの第１および第２半導体１５４ａ、１５４ｂのチャンネルと重なり合うことができる。

そのため、上側（表示面の側）から第１および第２トランジスタＱａ、Ｑｂのチャンネルの側に入射される光の大部分が、カラーフィルターパターン２３０Ｄに吸収されて、第１および第２トランジスタＱａ、Ｑｂに到達しないのでありうる。したがって、第１および第２トランジスタＱａ、Ｑｂの初期しきい電圧を改善して、しきい電圧の変化量を減らすことができるのであり、表示装置の色変化を減らして信頼性を高めることができる。

局所的なカラーフィルターパターン２３０Ｄは、断面ビューにて、表示領域（画素配列領域）を塗り分けるカラーフィルター２３０ｂ、２３０ｃと、データ導電層を覆う第１絶縁層１８０ａとの間に位置することができる。平面ビューにおいて、局所的なカラーフィルターパターン２３０Ｄは、遮光部材２２０が位置する領域中に位置することができる。また、局所的な各カラーフィルターパターン２３０Ｄは、１つの画素ＰＸｂ、ＰＸｃに対応する、第１データ線１７１ａと第２データ線１７１ｂとの間に位置することができる。

局所的な各カラーフィルターパターン２３０Ｄは、第１方向ＤＲ１の長さが、第２方向ＤＲ２の長さより長くてもよい。局所的な各カラーフィルターパターン２３０Ｄの第１方向ＤＲ１の長さは、およそ、３０マイクロメーターより大きくてもよい。

このように、各画素ＰＸｂ、ＰＸｃの領域中、トランジスタに入射される光（Light；図３）を遮断する局所的なカラーフィルターパターン２３０Ｄは、複数のトランジスタＱａ、Ｑｂと重なり合う１つの一体化したべた（solid）パターンとして形成される。このことによって、トランジスタＱａ、Ｑｂごとにそれぞれの局所的なカラーフィルターパターンが形成されている場合に比べて、局所的なカラーフィルターパターン２３０Ｄのサイズを拡張できるので、表示装置の製造工程にて、局所的なカラーフィルターパターン２３０Ｄのサイズの均一性を、効果的に管理できる。また、各画素ＰＸｂ、ＰＸｃの領域中、複数のトランジスタＱａ、Ｑｂに対して１つのカラーフィルターパターン２３０Ｄだけが形成されているため、局所的なカラーフィルターパターン２３０Ｄの剥離の発生率を低くすることができる。

局所的なカラーフィルターパターン２３０Ｄが適用されない画素ＰＸａにおける第１トランジスタＱａと第２トランジスタＱｂとの間には、データ導電層に位置するダミーパターン１７０ａ、１７０ｂを配置することができる。しかし、局所的なカラーフィルターパターン２３０Ｄが位置する画素ＰＸｂ、ＰＸｃの領域中、局所的なカラーフィルターパターン２３０Ｄと重なり合うデータ導電層のパターンとしては、第１および第２トランジスタＱａ、Ｑｂのソース電極１７３ａ、１７３ｂおよびドレイン電極１７５ａ、１７５ｂだけを含むことができる。そのため、これらの画素ＰＸｂ、ＰＸｃの領域中にて、局所的なカラーフィルターパターン２３０Ｄが、上方へと異常に突き出ることを防ぐことができる。

第１の基本色以外の各画素の領域中、ゲート線１２１の第１（図１〜２における左側）の開口部２１ａは、第１データ線１７１ａおよび第１ソース電極１７３ａの一部と重なり合うことができ、ゲート線１２１の第２（図１〜２における右側）の開口部２１ｂは、第２データ線１７１ｂおよび第２ソース電極１７３ｂの一部と重なり合うことができる。画素に不良が発生した際、レーザ光を、開口部２１ａ、２１ｂを通じて第１ソース電極１７３ａおよび／または第２ソース電極１７３ｂに照射して、第１トランジスタＱａおよび／または第２トランジスタＱｂを、第１データ線１７１ａおよび／または第２データ線１７１ｂから切り離して、不良画素をリペアすることができる。

図１乃至図３を参照すれば、局所的なカラーフィルターパターン２３０Ｄは、開口部２１ａ、２１ｂと重なり合わないのでありうる。したがって、各画素ＰＸａ、ＰＸｂ、ＰＸｃの開口部２１ａ、２１ｂの上には、１つのカラーフィルター２３０ａ、２３０ｂ、２３０ｃだけが位置するので、不良画素に対するリペアの際に、２つ以上の色のカラーフィルターにレーザ光が照射されることで発生しうる、ブラックスポットといった表示不良が発生する可能性が低い。

表示領域を塗り分ける各色のカラーフィルター２３０ａ、２３０ｂ、２３０ｃと、局所的なカラーフィルターパターン２３０Ｄとを覆うように、これらの上には、第２絶縁層１８０ｂが位置することができる。第２絶縁層１８０ｂは、無機絶縁物質または有機絶縁物質を含むことができるが、特には、有機絶縁物質を含み、ほぼ平坦な上面をなすことができる。第２絶縁層１８０ｂは、各色のカラーフィルター２３０ａ、２３０ｂ、２３０ｃと、局所的なカラーフィルターパターン２３０Ｄとを、その端面をも含めて完全に被覆する被覆膜としての役割を果たし、各色のカラーフィルター２３０ａ、２３０ｂ、２３０ｃと、局所的なカラーフィルターパターン２３０Ｄとについて、露出することを防止するのであり、顔料などの不純物が液晶層３に流入することを防止することができる。

カラーフィルター層も、第２絶縁層１８０ｂと同様に、有機絶縁物質から形成できる。好ましくは、カラーフィルター層及び第２絶縁層１８０ｂが、露光工程によりパターニングが可能なレジストパターンなどの、硬化性の樹脂材料から形成される。また、カラーフィルター層の各基本色のパターンが、それぞれ、顔料を含む樹脂材料のコーティング、及びパターニングを含む工程により形成される。

第１絶縁層１８０ａと第２絶縁層１８０ｂは、第１ドレイン電極１７５ａの拡張部１７７ａの上に位置する接触孔（コンタクトホール）１８５ａ、及び、第２ドレイン電極１７５ｂの拡張部１７７ｂの上に位置する接触孔１８５ｂを含む。平面ビューにおいて各画素中、左右の接触孔１８５ａ、１８５ｂは、カラーフィルター２３０ａ、２３０ｂ、２３０ｃにおける左右の開口部２３５ａ、２３５ｂ内にそれぞれ位置することができる。

カラーフィルター層を覆う第２絶縁層１８０ｂの上には、複数の第１副画素電極１９１ａおよび複数の第２副画素電極１９１ｂを含む画素電極と、遮蔽電極１９９とを含む画素電極層が位置することができる。各画素ＰＸａ、ＰＸｂ、ＰＸｃ中にて、第１および第２トランジスタＱａ、Ｑｂが位置する狭い領域を基準として（第２方向ＤＲ２から挟むように）、一側には第１副画素電極１９１ａが位置し、他側には第２副画素電極１９１ｂが位置することができる。

第１副画素電極１９１ａおよび第２副画素電極１９１ｂは、いずれも、全体的な平面形状が、四角形、特には長方形または正方形であってもよい。第１副画素電極１９１ａは、横幹部１９２ａおよび縦幹部１９３ａを含む十字形状の幹部、そして十字形状の幹部から外側に伸びる複数の枝部１９４ａを含むことができる。全く同様に、第２副画素電極１９１ｂは、横幹部１９２ｂおよび縦幹部１９３ｂを含む十字形状の幹部、そして十字形状の幹部から外側に伸びる複数の枝部１９４ｂを含むことができる。

第１副画素電極１９１ａの、平面ビューにおけるサイズは、第２副画素電極１９１ｂの、平面ビューにおけるサイズより、小さくてもよい。

第１副画素電極１９１ａは、十字形状の幹部１９２ａ,１９３ａ及び多数の枝部１９４ａがなす四角形の輪郭から突き出して、第１ドレイン電極１７５ａの拡張部１７７ａに向かって延びる延長部１９５ａ、および、延長部１９５ａの終端に連結された接触部１９６ａを含むことができる。同様に、第２副画素電極１９１ｂは、十字形状の幹部１９２ｂ,１９３ｂ及び多数の枝部１９４ｂがなす四角形の輪郭から突き出して、第２ドレイン電極１７５ｂの拡張部１７７ｂに向かって延びる延長部１９５ｂ、および、この延長部１９５ｂの終端に連結された接触部１９６ｂを含むことができる。第１副画素電極１９１ａからの接触部１９６ａは、第１（平面図の左側）の接触孔１８５ａを通じて、第１ドレイン電極１７５ａの拡張部１７７ａと電気的に連結されており、第２副画素電極１９１ｂからの接触部１９６ｂは、第２（平面図の右側）の接触孔１８５ｂを通じて、第２ドレイン電極１７５ｂの拡張部１７７ｂと電気的に連結されている。

第１トランジスタＱａおよび第２トランジスタＱｂがターンオンされると、第１副画素電極１９１ａおよび第２副画素電極１９１ｂには、それぞれ第１ドレイン電極１７５ａおよび第２ドレイン電極１７５ｂから、それぞれのデータ電圧が印加される。

遮蔽電極１９９は、第１方向ＤＲ１に伸びた横部および／または第２方向ＤＲ２に伸びた縦部（すなわち、これらの少なくとも一方）を含むことができる。遮蔽電極１９９は、第１方向ＤＲ１に隣り合う画素ＰＸａ、ＰＸｂ、ＰＸｃの間、および／または、第２方向ＤＲ２に隣り合う画素ＰＸａ、ＰＸｂ、ＰＸｃの間を伸びて、隣り合う画素ＰＸａ、ＰＸｂ、ＰＸｃ同士の間のカップリングおよび光漏れを防止することができる。遮蔽電極１９９の縦部は、維持電極線１３１の縦部１３１ｂと重なり合うことができる。

画素電極層は、インジウム−スズ酸化物（ＩＴＯ、Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）、インジウム−亜鉛酸化物（ＩＺＯ、Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ）、金属薄膜などといった透明な導電物質を含むことができる。

本実施例で説明した画素ＰＸａ、ＰＸｂ、ＰＸｃの配置方式及び形態、トランジスタの構造、および画素電極の形状は、一例に過ぎず、多様な変更が可能である。

図示していないが、画素電極層と第２絶縁層１８０ｂの上には、複数のスペーサが位置することができる。スペーサは、ダミーパターン１７０ａ、１７０ｂと重なり合う位置に形成されうる。

画素電極層と第２絶縁層１８０ｂの上には、配向膜（ａｌｉｇｎｍｅｎｔ ｌａｙｅｒ）１１が塗布されているのでありうる。配向膜１１は垂直配向膜であってもよい。配向膜１１は少なくとも一方向にラビング処理されてもよく、光反応物質を含む光配向膜であってもよい。

次に、第２表示板２００は、ガラス、プラスチックなどの絶縁物質を含む基板２１０の上に（図３では基板２１０の下）、遮光部材２２０が位置することができる。上述したように遮光部材２２０は、第１方向ＤＲ１に伸びた部分を含み、複数の画素ＰＸａ、ＰＸｂ、ＰＸｃに含まれる第１および第２トランジスタＱａ、Ｑｂと重なり合うことができる。他の実施例によれば、遮光部材２２０は、第２表示板２００ではなく、第１表示板１００に位置することもできる。

遮光部材２２０の上には（図３では遮光部材２２０の下に）、共通電極２７０が位置することができる。共通電極２７０は、基板２１０全面にわたって、一体のべた（solid）パターンとして形成されていてもよい。つまり、共通電極２７０には、スリットなどのように除去される部分がなくてもよい。共通電極２７０は一定の大きさの共通電圧Ｖｃｏｍを伝達できる。

共通電極２７０は、ＩＴＯ、ＩＺＯ、金属薄膜などの透明な導電物質を含むことができる。

共通電極２７０の上には（図３では共通電極２７０の下）、配向膜２１が塗布されていてもよい。配向膜２１は垂直配向膜であってもよい。配向膜２１は、少なくとも一方向にラビングされていてもよく、光反応物質を含む光配向膜であってもよい。

液晶層３は、複数の液晶分子３１を含む。液晶分子３１は、負の誘電率異方性を有することができ、液晶層３に電場が生成されない状態で、基板１１０、２１０にほぼ垂直な方向に配向するのでありうる。液晶分子３１は、液晶層３に電場が生成されないときに一定方向にプレチルトをなすこともできる。例えば、液晶分子３１は、第１および第２副画素電極１９１ａ、１９１ｂの枝部１９４ａ、１９４ｂに沿って、ほぼ並んだ方向にプレチルトをなして傾いていてもよい。

第１表示板１００の下または裏には、光を供給するバックライトが位置することができる。図３に示したように、バックライトの光がゲート導電層およびデータ導電層のパターンの間を通過して、第２表示板２００の共通電極２７０などで反射して、再び第１表示板１００の第１トランジスタＱａまたは第２トランジスタＱｂに向かって入射しうる。このようにして、トランジスタＱａ、Ｑｂへと向かって入射したとき、光の大部分が局所的なカラーフィルターパターン２３０Ｄで吸収されることで、第１トランジスタＱａまたは第２トランジスタＱｂに到達しなくなり、上述したように表示装置の信頼性を高めることができる。

次に、上述した図面と共に図４および図５を参照して、一実施例による表示装置について説明する。

図４は、一実施例による表示装置における互いに連なった３つの画素の一部に対する配置図であり、図５は、図４に示す表示装置をＶａ−Ｖｂ線に沿って切断して示す断面図である。

図４および図５を参照すれば、本実施例による表示装置は、上述した図１乃至図３に示す表示装置とほとんど同じであるが、複数のカラーフィルター２３０ａ、２３０ｂ、２３０ｃの構造が異なりうるのであり、局所的なカラーフィルターパターン２３０Ｄと同じ層に位置するが、局所的なカラーフィルターパターン２３０Ｄと異なる構造のカラーフィルターパターン２３０Ｄ１、２３０Ｄ２、２３０Ｄ３が位置することができる。

画素ＰＸａに対応する第１の基本色のカラーフィルター２３０ａと同じ層に位置し、同じ色を示すことができる局所的なカラーフィルターパターン２３０Ｄ１が、第１の基本色のカラーフィルター２３０ａまたは画素ＰＸａと離隔しており、隣り合う２つの画素ＰＸｂ、ＰＸｃにまたがって、連続して形成されている。

具体的には、第１の局所的なカラーフィルターパターン２３０Ｄ１は、第２の基本色の画素ＰＸｂ中、その右側の箇所に位置する第２トランジスタＱｂに重なり合うとともに、その右側に位置する第３の基本色の画素ＰＸｃ中、その左側の箇所に位置する第１トランジスタＱａ重なり合うことができる。特に、第１の局所的なカラーフィルターパターン２３０Ｄ１は、画素ＰＸｂ中の右側の箇所に位置する第２トランジスタＱｂ、および、その右側の画素ＰＸｃ中の左側の箇所に位置する第１トランジスタＱａにおける、半導体１５４ａ、１５４ｂのチャンネルと重なり合うことができる。１つの局所的なカラーフィルターパターン２３０Ｄ１と重なり合う、２つの画素ＰＸｂ、ＰＸｃの第１トランジスタＱａおよび第２トランジスタＱｂは、ほぼ第１方向ＤＲ１に整列されて配列されている。

第１の局所的なカラーフィルターパターン２３０Ｄ１は、第２の基本色の画素ＰＸｂ中の右側の箇所に位置する第２トランジスタＱｂに電気的に連結される第２データ線１７１ｂ、及び、第３の基本色の画素ＰＸｃの左側に位置する第１トランジスタＱａに電気的に連結される第１データ線１７１ａと重なり合うことができる。

第３の基本色の画素ＰＸｃ中の右側の箇所にあって、第１の基本色のカラーフィルター２３０ａと同じ層に位置し、同じ色を示すことができる第２の局所的なカラーフィルターパターン２３０Ｄ２は、その右側にある第１の基本色のカラーフィルター２３０ａにおける左側部分と連結されており、第１の基本色の画素ＰＸａに隣接した第３の基本色の画素ＰＸｃの第２トランジスタＱｂと重なり合うことができる。特に、第２の局所的なカラーフィルターパターン２３０Ｄ２は、画素ＰＸｃの第２トランジスタＱｂの第２半導体１５４ｂのチャンネルと重なり合うことができる。

第２の基本色の画素ＰＸｂ中の左側の箇所にあって、第１の基本色のカラーフィルター２３０ａと同じ層に位置し、同じ色を示すことができる第３の局所的なカラーフィルターパターン２３０Ｄ３は、その左側にある第１の基本色のカラーフィルター２３０ａの右側部分と連結されており、第１の基本色の画素ＰＸａに隣接した第２の基本色の画素ＰＸｂの第１トランジスタＱａと重なり合うことができる。特に、第３の局所的なカラーフィルターパターン２３０Ｄ３は、第２の基本色の画素ＰＸｂの第１トランジスタＱａにおける第１半導体１５４ａのチャンネルと重なり合うことができる。

つまり、第２の局所的なカラーフィルターパターン２３０Ｄ２、及び、第３の局所的なカラーフィルターパターン２３０Ｄ３は、第１の基本色のカラーフィルター２３０ａと分離されず、第１の基本色のカラーフィルター２３０ａから左右方向に突出したパターンであってもよい。そのため、第１方向ＤＲ１に連なり合う３つの画素ＰＸａ、ＰＸｂ、ＰＸｃには、第１の基本色のカラーフィルター２３０ａと分離された島型のカラーフィルターパターンとして、第１の局所的なカラーフィルターパターン２３０Ｄ１だけが存在しうる。第１の局所的なカラーフィルターパターン２３０Ｄ１における第１方向ＤＲ１の長さは第２方向ＤＲ２の長さよりも長くなり、第１の局所的なカラーフィルターパターン２３０Ｄ１における第１方向ＤＲ１の長さは、およそ、３０マイクロメーターより大きくてもよい。

このように、第１方向ＤＲ１（左右方向）に連なり合う３つの画素ＰＸａ、ＰＸｂ、ＰＸｃに対して、島型のパターンとしては、１つの局所的なカラーフィルターパターン２３０Ｄ１だけが存在する。そのため、トランジスタＱａ、Ｑｂごとにそれぞれの局所的なカラーフィルターパターンが形成されている場合に比べて、局所的なカラーフィルターパターン２３０Ｄのサイズを拡張できるので、表示装置の製造工程にて、カラーフィルターパターン２３０Ｄのサイズの均一性を効果的に管理でき、局所的なカラーフィルターパターン２３０Ｄ１、２３０Ｄ２、２３０Ｄ３の剥離の発生率を減らすことができる。

上述した局所的なカラーフィルターパターン２３０Ｄと同様に、第１〜３の局所的なカラーフィルターパターン２３０Ｄ１、２３０Ｄ２、２３０Ｄ３も、上側から第１および第２トランジスタＱａ、Ｑｂのチャンネル側へと向かって入射される光の大部分が、局所的なカラーフィルターパターン２３０Ｄ１、２３０Ｄ２、２３０Ｄ３で吸収されて第１および第２トランジスタＱａ、Ｑｂに到達しないのでありうる。これによって、第１および第２トランジスタＱａ、Ｑｂの初期しきい電圧を改善して、しきい電圧の変化量を減らすことができ、表示装置の色変化を減らして信頼性を高めることができる。

カラーフィルターパターン２３０Ｄ１、２３０Ｄ２、２３０Ｄ３は、遮光部材２２０が位置する領域に位置することができる。

第１の局所的なカラーフィルターパターン２３０Ｄ１が位置する隣り合う２つの画素ＰＸｂ、ＰＸｃの間の境界で、第２の基本色のカラーフィルター２３０ｂは、画素ＰＸｂの内側に向かって凹む凹部２３ｂ２を含み、第３の基本色のカラーフィルター２３０ｃは画素ＰＸｃの内側に向かって凹む凹部２３ｃを含むことができる。凹部２３ｂ２および凹部２３ｃは、第１の局所的なカラーフィルターパターン２３０Ｄ１と重なり合うことができる。

そのため、第１の局所的なカラーフィルターパターン２３０Ｄ１が位置する隣り合う２つの画素ＰＸｂ、ＰＸｃの間の境界で、第２及び第３の基本色のカラーフィルター２３０ｂ、２３０ｃが互いに重なり合わないのでありうる。つまり、隣り合う２つの画素ＰＸｂ、ＰＸｃの間の境界のうちで、島状のカラーフィルターパターン２３０Ｄ１と重ならない境界領域でのみ、隣り合う２つのカラーフィルター２３０ｂ、２３０ｃが互いに重なり合うのであり、カラーフィルターパターン２３０Ｄ１と重なる境界領域では、島状のカラーフィルターパターン２３０Ｄ１だけが存在する。このようにして、隣り合う２つの画素ＰＸｂ、ＰＸｃの間の境界部分で、カラーフィルター層のうちの３つのパターン（ストライプ状などに塗り分けるカラーフィルターまたは局所的なカラーフィルターパターン）が互いに重なり合って、段差が異常に高くなるということを防ぐことができる。

図４に示した凹部２３ｂ２および凹部２３ｃのうちの１つは省略することもできる。

図４の中央部より左側の部分を参照すれば、隣り合う２つの画素ＰＸａ、ＰＸｂの間（第１の基本色の画素ＰＸａと、その右側の第２の基本色の画素ＰＸｂとの間）の境界で、第２の基本色のカラーフィルター２３０ｂは、第２の基本色の画素ＰＸｂの内側に向かって凹む凹部２３ｂ１をさらに含んでもよい。凹部２３ｂ１は、第３の局所的なカラーフィルターパターン２３０Ｄ３と重なり合うことができる。凹部２３ｂ１は省略することもできる。

図示していないが、隣り合う２つの画素ＰＸｃ、ＰＸａの間（第３の基本色の画素ＰＸｃと、その右側の第１の基本色の画素ＰＸａとの間）の境界でも、第３の基本色のカラーフィルター２３０ｃは、画素ＰＸｃの内側に向かって凹む凹部をさらに含みうる。

次に、上述した図面と共に図６および図７を参照して、一実施例による表示装置について説明する。

図６および図７は、それぞれ一実施例による表示装置における、第１方向ＤＲ１（左右方向）に連なり合う３つの画素の一部に対する配置図である。

まず、図６を参照すれば、本実施例による表示装置は、上述した図４および図５に示す表示装置とほとんど同じであるが、ゲート線１２１については異なりうる。

本実施例によれば、ゲート導電層は、遮光部材２２０が位置しない領域に位置する凹部２３ｂ１、２３ｂ２、２３ｃと重なり合う遮光部１２５、１２６をさらに含んでもよい。遮光部１２５、１２６はゲート線１２１と連結されていてもよい。

隣り合う画素ＰＸａ、ＰＸｂ、ＰＸｃの間の境界で、凹部２３ｂ１、２３ｂ２、２３ｃが位置する領域では、隣り合う２つのカラーフィルター２３０ａ、２３０ｂ、２３０ｃが重なり合わないため、遮光効果が低くなり、特に遮光部材２２０が位置しない領域では凹部２３ｂ１、２３ｂ２、２３ｃの付近から光が漏れ得る。しかし、本実施例によれば、遮光部材２２０が位置しない領域では、凹部２３ｂ１、２３ｂ２、２３ｃと重なり合う遮光部１２５、１２６によって、光漏れを防止できる。

図示の例で、遮光部１２５、１２６は、帯状の遮光部材２２０におけるゲート線１２１を覆う領域から、手前側（第２副画素電極１９１ｂの側；図６の平面図での下側）へと、画素ＰＸｂと画素ＰＸｃとの境界、及び、画素ＰＸｂと画素ＰＸａとの境界を覆うように矩形状に突き出して延びている。

次に、図７を参照すれば本実施例による表示装置は、上述した図４および図５に示す表示装置とほとんど同じであるが、遮光部材２２０については異なりうる。

本実施例によれば、遮光部材２２０は、凹部２３ｂ１、２３ｂ２、２３ｃの全領域と重なり合うことができる。特に、ゲート線１２１の手前側（第２副画素電極１９１ｂの側；図７の平面図での下側）に形成された、凹部２３ｂ１、２３ｂ２、２３ｃの手前側部分は、遮光部材２２０に含まれる遮光部２２１、２２２によって全体が覆われている。

本実施例によれば、遮光部材２２０が凹部２３ｂ１、２３ｂ２、２３ｃのすべての領域と重なり合うため、第１方向ＤＲ１（左右方向）に連なり合う画素ＰＸａ、ＰＸｂ、ＰＸｃの間の境界の中で、凹部２３ｂ１、２３ｂ２、２３ｃが位置する領域では、隣り合う２つのカラーフィルター２３０ａ、２３０ｂ、２３０ｃが互いに重なり合わなくても、光漏れを防止できる。

今まで、一実施例による表示装置の１つの画素ＰＸａ、ＰＸｂ、ＰＸｃが、２つのトランジスタＱａ、Ｑｂを含む例に対して主に説明したが、これに限定されずに、１つの画素ＰＸａ、ＰＸｂ、ＰＸｃが３つ以上のトランジスタを含むこともできる。この場合、局所的な各カラーフィルターパターンは、１つの画素中で、２つ以上のトランジスタをまとめて覆うサイズおよび平面形状を有することができ、また、隣り合う２つ以上の画素にまたがるように延び、これらの画素に分かれて位置する２つ以上のトランジスタをまとめて覆うサイズおよび平面形状を有することもできる。これによって、トランジスタに光が流入することを防ぐための局所的なカラーフィルターパターンについてのサイズの均一性を効果的に管理できるのであり、また、局所的なカラーフィルターパターンのサイズを大きく維持できるのでカラーフィルターパターン剥離の可能性を低くすることができ、表示装置の製造工程を容易にすることができる。

以上、本発明の実施形態について詳細に説明したが、本発明の権利範囲は、これに限定されるものではなく、以下の特許請求の範囲で定義している本発明の基本概念を利用した当業者の様々な変形および改良形態も本発明の権利範囲に属するものである。

好ましい一実施形態においては、本願の具体的な課題、および具体的な解決手段は、下記のとおりである。

一般に、各画素ドットに複数の副画素電極を有する液晶表示装置では、副画素電極ごとにスイッチング用のトランジスタ（ＴＦＴ）Ｑａ、Ｑｂが備えられる。各画素ドット中、複数のＴＦＴが、覆われた遮光領域中に配置される。

遮光部材２２０が、対向基板（第２の基板２００）に備えられる場合、図３に示すように、裏面側からの光が、第２の基板２００の共通電極２７０などで、反射して、トランジスタＱａ、Ｑｂに入射してしまうことがありうる。

アレイ基板（第１の基板１００）に、表示領域を塗り分けるための、各基本色のカラーフィルター２３０ａ、２３０ｂ、２３０ｃが備えられ、各カラーフィルターが、トランジスタＱａ、Ｑｂの近傍をも覆っている場合、赤色のカラーフィルター２３０ａは、トランジスタＱａ、Ｑｂに悪影響を与える波長部分を吸収するので、トランジスタＱａ、Ｑｂの動作に悪影響を与えない。

そのため、赤色以外のカラーフィルター２３０ｂ、２３０ｃにより覆われるトランジスタＱａ、Ｑｂの箇所のチャネルを覆う、赤色の島状のカラーフィルターパターンを配置することが考えられる。

ところが、このように、トランジスタＱａ、Ｑｂごとに、赤色の島状のカラーフィルターパターンを配置する場合、そのサイズが、かなり小さくなる。
この結果、露光工程を含むパターニングの際に、サイズを均一に維持するための管理が面倒となる。また、パターニングの後に、赤色の島状のカラーフィルターパターン２３０Ｄが、剥離してしまうことがありうる。

そこで、下記Ａ〜Ｂのとおりとし、具体的には下記のＢ１またはＢ２とする。
Ａ 赤色以外のカラーフィルター２３０ｂ、２３０ｃに重なり合うこととなる、トランジスタＱａ、Ｑｂの箇所に、予め、赤色の島状のカラーフィルターパターン２３０Ｄを配置する。
すなわち、赤色の島状のカラーフィルターパターン２３０Ｄが、面積の大きい、カラーフィルター２３０ｂ、２３０ｃにより覆われるようにする。

Ｂ 赤色で島状の各カラーフィルターパターン２３０Ｄは、
隣り合う複数のトランジスタＱａ、Ｑｂを覆うように、データ線に沿った方向に延びるように形成される（図３の２３０Ｄ、および、図４の第１のカラーフィルターパターン２３０Ｄ１）か、または、
赤色のカラーフィルター２３０ａから延びる部分（図４の第２〜３のカラーフィルターパターン２３０Ｄ２、２３０Ｄ３）として形成される。

Ｂ１ 各画素中の隣り合う複数のトランジスタＱａ、Ｑｂが、一つのカラーフィルターパターン２３０Ｄにより覆われる（図４）。

Ｂ２ 赤色のカラーフィルター２３０ａに近接して配置されているトランジスタＱａ、Ｑｂについては、色のカラーフィルター２３０ａから延びる部分（図４の左右端にある、第２〜３のカラーフィルターパターン２３０Ｄ２、２３０Ｄ３）が覆い、
それ以外のトランジスタＱａ、Ｑｂについては、ゲート線方向にて隣り合う複数の画素にまたがって延びる島状のカラーフィルターパターン（図４の中央にある、第１のカラーフィルターパターン２３０Ｄ１）が覆う。

上記Ｂ２の場合、好ましくは、次のとおりとする。
Ｃ 赤色の島状のカラーフィルターパターン（２３０Ｄ１、２３０Ｄ２、２３０Ｄ３）と重なる、画素間の境界の箇所の近傍にて、赤色以外のカラーフィルター２３０ｂ、２３０ｃを省く。
すなわち、赤色以外のカラーフィルター２３０ｂ、２３０ｃに、凹部２３ｂ１、２３ｂ２、２３ｃを設ける。
これにより、カラーフィルター層により生じる段差が過大にならないようにする。

Ｄ 上記Ｃの場合、帯状に延びる、ゲート線１２１に、隣接する副画素電極の側に突き出す部分（遮光部１２５、１２６）を設ける。
これにより、凹部２３ｂ１、２３ｂ２、２３ｃの箇所での、光漏れを防止する。

１１０、２１０：基板
１２１：ゲート線
１２４ａ、１２４ｂ：ゲート電極
１３１：維持電極線
１４０：ゲート絶縁膜
１５４ａ、１５４ｂ：半導体
１７１ａ、１７１ｂ：データ線
２２０：遮光部材
２３０ａ、２３０ｂ、２３０ｃ：表示領域を塗り分ける各原色のカラーフィルター
２３０Ｄ１、２３０Ｄ２、２３０Ｄ３：局所的なカラーフィルターパターン
１９１ａ、１９１ｂ：副画素電極

Claims (10)

1. 基板と、
   前記基板上にて、各画素中に位置する第１トランジスタおよび第２トランジスタと、
   各画素中に位置し、前記第１トランジスタの第１ドレイン電極と電気的に連結されている第１副画素電極と、
   各画素中に位置し、前記第２トランジスタの第２ドレイン電極と電気的に連結されている第２副画素電極と、
   前記第１および第２トランジスタを少なくとも部分的に覆い、前記第１および第２副画素電極と重なり合うカラーフィルター層とを含み、
   前記カラーフィルター層は、
   少なくとも前記第１トランジスタおよび前記第１副画素電極と重なり合う第１のカラーフィルターと、
   前記第１のカラーフィルターと異なる色を示し、各一つが、少なくとも一つの画素における一部の領域にのみ配置される第１のカラーフィルターパターンとを含み、
   前記第１のカラーフィルターパターンは、各一つが、前記第１のカラーフィルターに重なり合う第１副画素電極に連結された少なくとも一つの前記第１トランジスタ、および、少なくとも一つの前記第２トランジスタに重なり合う、表示装置。
2. １つの映像信号に対して互いに異なるデータ電圧を伝達できる第１データ線および第２データ線をさらに含み、
   前記第１トランジスタは、前記第１データ線に電気的に連結されている第１ソース電極を含み、
   前記第２トランジスタは、前記第２データ線に電気的に連結されている第２ソース電極を含み、
   前記第１トランジスタおよび前記第２トランジスタは、平面ビューにおいて、各画素中、前記第１データ線と前記第２データ線との間に位置する、請求項１に記載の表示装置。
3. 前記第１トランジスタおよび前記第２トランジスタと電気的に連結されているゲート線をさらに含み、
   前記ゲート線は、前記第１ソース電極と重なり合う第１開口部および前記第２ソース電極と重なり合う第２開口部を有し、
   前記第１のカラーフィルターパターンは、前記第１開口部および前記第２開口部と重なり合わない、請求項２に記載の表示装置。
4. 前記カラーフィルター層は、前記第１のカラーフィルターパターンと同じ色を示す第２のカラーフィルターをさらに含み、
   前記第１のカラーフィルターパターンは、前記第２のカラーフィルターと離隔されている、請求項１に記載の表示装置。
5. 前記第２のカラーフィルターと重なり合う第３トランジスタおよび第４トランジスタをさらに含む、請求項４に記載の表示装置。
6. 前記第１トランジスタに含まれる第１ソース電極と電気的に連結されている第１データ線と、
   前記第２トランジスタに含まれる第２ソース電極と電気的に連結されている第２データ線とをさらに含み、
   前記第１データ線と前記第２データ線は、それぞれ別個の映像信号に対するデータ電圧を伝達する、請求項１に記載の表示装置。
7. 前記第１のカラーフィルターパターンは、各一つが、前記第１データ線および前記第２データ線と重なり合う、請求項６に記載の表示装置。
8. 前記カラーフィルター層は、
   少なくとも前記第２トランジスタおよび前記第２副画素電極と重なり合う第２のカラーフィルターと、
   前記第１のカラーフィルターパターンと同じ色を示す第３のカラーフィルターとをさらに含み、
   前記第２のカラーフィルターは、前記第１のカラーフィルターパターンと異なる色を示し、
   前記第１のカラーフィルターパターンは、前記第３のカラーフィルターと離隔されている、請求項７に記載の表示装置。
9. 前記第３のカラーフィルターと重なり合う第３トランジスタおよび第４トランジスタをさらに含み、
   平面ビューにおいて前記第２トランジスタと前記第４トランジスタの間に位置する第５トランジスタをさらに含み、
   前記カラーフィルター層は、
   前記第３のカラーフィルターに連結されており、前記第５トランジスタと重なり合う第２のカラーフィルターパターンをさらに含む、請求項８に記載の表示装置。
10. 前記第１のカラーフィルターパターンは、断面ビューにて、前記基板と前記第１のカラーフィルターとの間に位置する、請求項１に記載の表示装置。
    

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