WO2016170873A1 - ハードコートフィルム、偏光板、及びタッチパネルディスプレイ - Google Patents

ハードコートフィルム、偏光板、及びタッチパネルディスプレイ Download PDF

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WO2016170873A1
WO2016170873A1 PCT/JP2016/057923 JP2016057923W WO2016170873A1 WO 2016170873 A1 WO2016170873 A1 WO 2016170873A1 JP 2016057923 W JP2016057923 W JP 2016057923W WO 2016170873 A1 WO2016170873 A1 WO 2016170873A1
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hard coat
coat layer
acid
film
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達也 岩▲崎▼
健人 大谷
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富士フイルム株式会社
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    • G02F1/13356—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors characterised by the placement of the optical elements
    • G02F1/133562—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors characterised by the placement of the optical elements on the viewer side

Definitions

  • the present invention relates to a hard coat film, a polarizing plate, and a touch panel display.
  • CTR cathode ray tube display
  • PDP plasma display
  • ELD electroluminescence display
  • VFD fluorescent display
  • FED field emission display
  • LCD liquid crystal display
  • Patent Document 1 discloses a method of hydrophilizing a surface by performing a corona discharge treatment or a glow discharge treatment after a hard coat layer is applied.
  • Patent Document 1 since the hydrocarbon-based surfactants described in Patent Document 1 are inferior in hydrophobicity to silicone compounds and fluorine-containing polymers, the leveling properties are impaired accordingly. Further, the method using no surfactant as in Patent Document 2 is cured when the solvent volatilizes during the drying process of the coating film because the remaining hard coat layer forming composition has a high surface tension. The homogeneity of the coating film may be impaired by this time, and it is necessary to strictly control the volatilization of the solvent immediately before curing, which is very difficult.
  • the method of performing a discharge treatment such as corona treatment after the hardening described in Patent Document 1 not only decreases productivity due to an increase in the process, but also irradiates high energy, so that deformation of the film or pin Generation of holes, in-plane hydrophilic non-uniformity, and the like may occur.
  • An object of the present invention is to provide a hard coat film that is excellent in surface shape and hardness, has a small contact angle with water on the surface, and is excellent in lamination properties with other layers, a polarizing plate having this hard coat film, and a touch panel display. There is.
  • the present inventors have at least one selected from a fluorine atom and a silicon atom in the composition for forming a hard coat layer, and are decomposed by the action of an acid.
  • a resin having a group that increases hydrophilicity as a surfactant and reacting with an acid By adding a resin having a group that increases hydrophilicity as a surfactant and reacting with an acid, the leveling property is excellent, the surface contact angle with water is low, and the lamination property with other layers is excellent. It has been found that a hard coat film can be produced.
  • ⁇ 2> On at least one side of the support, (A) formed from a composition for forming a hard coat layer containing a resin having a group that decomposes by the action of an acid to increase hydrophilicity and a group that includes at least one selected from a fluorine atom and a silicon atom A hard coat film obtained by treating a hard coat film having a hard coat layer with an acid.
  • a group containing at least one selected from a fluorine atom and a silicon atom is substituted for a group that is decomposed by the action of an acid to increase hydrophilicity, ⁇ 1> or ⁇ 2 > Hard coat film as described in>.
  • the hard coat layer forming composition further comprises: (C) The hard coat film according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 3>, comprising a compound having 3 or more ethylenically unsaturated double bond groups in the molecule.
  • the hard coat layer forming composition further comprises: (D) The hard coat film according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 4>, comprising a compound having one or more epoxy groups in the molecule.
  • ⁇ 6> The hard coat according to ⁇ 5>, wherein (d) is a compound having one alicyclic epoxy group and one ethylenically unsaturated double bond group in the molecule and having a molecular weight of 300 or less. the film.
  • the hard coat layer forming composition further comprises: (E) The hard coat film according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 6>, comprising inorganic fine particles having reactivity with an epoxy group or an ethylenically unsaturated double bond group.
  • the hard coat layer forming composition further comprises: (F) The hard coat film according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 7>, comprising an ultraviolet absorber.
  • a polarizing plate comprising at least one hard coat film according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 9> and a polarizer.
  • a touch panel display comprising a liquid crystal cell and the polarizing plate according to ⁇ 10> on the viewing side of the liquid crystal cell.
  • a hard coat film that is excellent in surface shape and hardness, has a small contact angle with respect to water on the surface, and is excellent in laminateability with other layers, a polarizing plate having this hard coat film, and a touch panel display. it can.
  • (meth) acryl group is used in the meaning of “one or both of an acryl group and a methacryl group”. The same applies to (meth) acrylic acid (meth) acrylamide and (meth) acryloyl groups.
  • the hard coat film of the present invention is On at least one side of the support, (A) a resin having a group that is decomposed by the action of an acid to increase hydrophilicity and a group containing at least one selected from a fluorine atom and a silicon atom; (B) a hard coat film having a hard coat layer formed from a composition for forming a hard coat layer containing an acid generator; Or On at least one side of the support, (A) formed from a composition for forming a hard coat layer containing a resin having a group that decomposes by the action of an acid to increase hydrophilicity and a group that includes at least one selected from a fluorine atom and a silicon atom A hard coat film obtained by treating a hard coat film having a hard coat layer with an acid.
  • the hard coat layer of the present invention is formed from a composition for forming a hard coat layer containing the resin (a) (also referred to as “resin (a)” or “component (a)”).
  • the resin (a) is a group (“acid-decomposable”) which is decomposed by the action of an acid on the main chain or side chain of the resin, or both of the main chain and the side chain, thereby generating a hydrophilic group. Group).
  • the resin (a) preferably has an acid-decomposable group in the side chain, and a group containing at least one selected from a fluorine atom and a silicon atom is included in the group that is decomposed by the action of an acid to increase hydrophilicity. More preferably, it is substituted.
  • the resin (a) further preferably has a repeating unit having an acid-decomposable group in the side chain, and the repeating unit having an acid-decomposable group is a group containing at least one selected from a fluorine atom and a silicon atom. It is particularly preferred that it is substituted with
  • the acid-decomposable group preferably has a structure protected by a group capable of decomposing and leaving a hydrophilic group by the action of an acid.
  • Hydrophilic groups include phenolic hydroxyl groups, carboxyl groups, fluorinated alcohol groups, sulfonic acid groups, sulfonamido groups, sulfonylimide groups, (alkylsulfonyl) (alkylcarbonyl) methylene groups, (alkylsulfonyl) (alkylcarbonyl) imides.
  • Preferred hydrophilic groups include carboxyl groups, fluorinated alcohol groups (preferably hexafluoroisopropanol groups), and sulfonic acid groups.
  • a preferred group as the acid-decomposable group is a group in which the hydrogen atom of these hydrophilic groups is substituted with a group capable of leaving with an acid.
  • Examples of the group leaving with an acid include —C (R 36 ) (R 37 ) (R 38 ), —C (R 36 ) (R 37 ) (OR 39 ), —C (R 01 ) (R 02 ). ) (OR 39 ) and the like.
  • R 36 to R 39 each independently represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an aralkyl group or an alkenyl group.
  • R 36 and R 37 may be bonded to each other to form a ring.
  • R 01 and R 02 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an aralkyl group or an alkenyl group.
  • the acid-decomposable group is preferably a cumyl ester group, an enol ester group, an acetal ester group, a tertiary alkyl ester group or the like. More preferably, it is a tertiary alkyl ester group.
  • the repeating unit having an acid-decomposable group that can be contained in the resin (a) is preferably a repeating unit represented by the following general formula (AI).
  • Xa 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group which may have a substituent.
  • T represents a single bond or a divalent linking group.
  • Rx 1 to Rx 3 each independently represents an alkyl group (straight or branched) or a cycloalkyl group (monocyclic or polycyclic). Two of Rx 1 to Rx 3 may combine to form a cycloalkyl group (monocyclic or polycyclic).
  • Examples of the optionally substituted alkyl group represented by Xa 1 include a methyl group or a group represented by —CH 2 —R 11 .
  • R 11 represents a halogen atom (such as a fluorine atom), a hydroxyl group or a monovalent organic group, and examples of the monovalent organic group include an alkyl group having 5 or less carbon atoms and an acyl group having 5 or less carbon atoms.
  • Xa 1 is preferably a hydrogen atom, a methyl group, a trifluoromethyl group, a hydroxymethyl group, or the like.
  • Examples of the divalent linking group for T include an alkylene group, —COO—Rt— group, —O—Rt— group, and the like.
  • Rt represents an alkylene group or a cycloalkylene group.
  • T is preferably a single bond or a —COO—Rt— group.
  • Rt is preferably an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, more preferably a —CH 2 — group, — (CH 2 ) 2 — group, or — (CH 2 ) 3 — group.
  • the alkyl group of Rx 1 to Rx 3 is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, or a t-butyl group.
  • Examples of the cycloalkyl group represented by Rx 1 to Rx 3 include a monocyclic cycloalkyl group such as a cyclopentyl group and a cyclohexyl group (preferably a monocyclic cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms), a norbornyl group, and a tetracyclodecanyl group. And a polycyclic cycloalkyl group such as a tetracyclododecanyl group and an adamantyl group (preferably a polycyclic cycloalkyl group having 7 to 12 carbon atoms) is preferred.
  • a monocyclic cycloalkyl group such as a cyclopentyl group and a cyclohexyl group (preferably a monocyclic cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms), a norbornyl group, and a tetracyclodecanyl group.
  • Examples of the cycloalkyl group formed by combining two of Rx 1 to Rx 3 include a monocyclic cycloalkyl group such as a cyclopentyl group and a cyclohexyl group, a norbornyl group, a tetracyclodecanyl group, a tetracyclododecanyl group, an adamantyl group
  • a polycyclic cycloalkyl group such as a group is preferred.
  • a monocyclic cycloalkyl group having 5 to 6 carbon atoms is particularly preferred.
  • the cycloalkyl group formed by combining two of Rx 1 to Rx 3 is, for example, a group in which one of the methylene groups constituting the ring has a heteroatom such as an oxygen atom or a heteroatom such as a carbonyl group It may be replaced with.
  • Each of the above groups may have a substituent.
  • substituents include an alkyl group (preferably having 1 to 4 carbon atoms), a halogen atom, a hydroxyl group, and an alkoxy group (preferably having 1 to 4 carbon atoms).
  • the group containing at least one selected from a fluorine atom and a silicon atom is preferably a fluoroalkyl group (preferably having 1 to 6 carbon atoms) or an alkylsilyl group (preferably having 3 to 8 carbon atoms).
  • the total content of repeating units having an acid-decomposable group is preferably 20 to 100 mol%, more preferably 30 to 95 mol%, based on all repeating units in the resin (a). More preferably, it is ⁇ 90 mol%.
  • repeating unit having a preferred acid-decomposable group examples include but not limited thereto.
  • Rx represents a hydrogen atom, CH 3 , CF 3 , or CH 2 OH.
  • Rxa and Rxb each independently represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
  • Z represents a substituent. This substituent represents a fluoroalkyl group (preferably having 1 to 6 carbon atoms), an alkylsilyl group (preferably having 3 to 8 carbon atoms), or a substituent containing a polar group. is there.
  • p represents 0 or a positive integer.
  • Examples of the substituent containing a polar group represented by Z include a linear or branched alkyl group having a hydroxyl group, a cyano group, an amino group, an alkylamide group, or a sulfonamide group, and a cycloalkyl group. Is an alkyl group having a hydroxyl group. As the branched alkyl group, an isopropyl group is particularly preferable.
  • Resin (a) may contain, for example, a repeating unit represented by the general formula (3) as the repeating unit represented by the general formula (AI).
  • R 31 represents a hydrogen atom or an alkyl group.
  • R 32 represents a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group or a sec-butyl group.
  • R 33 represents an atomic group necessary for forming a monocyclic alicyclic hydrocarbon structure together with the carbon atom to which R 32 is bonded. In the alicyclic hydrocarbon structure, a part of carbon atoms constituting the ring may be substituted with a heteroatom or a group having a heteroatom.
  • the alkyl group for R 31 may have a substituent, and examples of the substituent include a fluorine atom and a hydroxyl group.
  • R 31 preferably represents a hydrogen atom, a methyl group, a trifluoromethyl group or a hydroxymethyl group.
  • R 32 is preferably a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, or an isopropyl group, and more preferably a methyl group or an ethyl group.
  • the monocyclic alicyclic hydrocarbon structure formed by R 33 together with the carbon atom is preferably a 3- to 8-membered ring, more preferably a 5- or 6-membered ring.
  • examples of the hetero atom that can form the ring include an oxygen atom and a sulfur atom.
  • examples of the group having a hetero atom include a carbonyl group and the like. Can be mentioned. However, the group having a hetero atom is preferably not an ester group (ester bond).
  • the monocyclic alicyclic hydrocarbon structure formed by R 33 together with the carbon atom is preferably formed only from the carbon atom and the hydrogen atom.
  • repeating unit having the structure represented by the general formula (3) are listed below, but are not limited thereto.
  • the resin (a) has, for example, at least one of a repeating unit represented by the general formula (I) and a repeating unit represented by the general formula (II) as the repeating unit represented by the general formula (AI). More preferably, it is a resin.
  • R 1 and R 3 each independently represent a hydrogen atom, an optionally substituted methyl group or a group represented by —CH 2 —R 11 .
  • R 11 represents a hydroxyl group or a monovalent organic group.
  • R 2 , R 4 , R 5 and R 6 each independently represents an alkyl group or a cycloalkyl group.
  • R represents an atomic group necessary for forming an alicyclic structure together with the carbon atom to which R 2 is bonded.
  • R 1 and R 3 preferably represent a hydrogen atom, a methyl group, a trifluoromethyl group or a hydroxymethyl group.
  • Specific examples and preferred examples of the monovalent organic group in R 11 are the same as those described for R 11 in formula (AI).
  • the alkyl group in R 2 may be linear or branched, and may have a substituent.
  • the cycloalkyl group in R 2 may be monocyclic or polycyclic and may have a substituent.
  • R 2 is preferably an alkyl group, more preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, still more preferably 1 to 5 carbon atoms, and examples thereof include a methyl group and an ethyl group.
  • R represents an atomic group necessary for forming an alicyclic structure together with a carbon atom.
  • the alicyclic structure formed by R together with the carbon atom is preferably a monocyclic alicyclic structure, and the carbon number thereof is preferably 3 to 7, more preferably 5 or 6.
  • R 3 is preferably a hydrogen atom or a methyl group, and more preferably a methyl group.
  • the alkyl group in R 4 , R 5 , and R 6 may be linear or branched and may have a substituent.
  • the alkyl group those having 1 to 4 carbon atoms such as methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group and t-butyl group are preferable.
  • the cycloalkyl group in R 4 , R 5 and R 6 may be monocyclic or polycyclic and may have a substituent.
  • the cycloalkyl group include a monocyclic cycloalkyl group (a monocyclic cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms) such as a cyclopentyl group and a cyclohexyl group, a norbornyl group, a tetracyclodecanyl group, a tetracyclododecanyl group, an adamantyl group.
  • a polycyclic cycloalkyl group such as a group (preferably a polycyclic cycloalkyl group having 7 to 12 carbon atoms) is preferable.
  • each of the above groups may have include the same groups as those described above as the substituent that each of the groups in the general formula (AI) may have.
  • a group containing at least one selected from a fluorine atom and a silicon atom is preferable.
  • the resin (a) may be a resin containing a repeating unit represented by the general formula (I) and a repeating unit represented by the general formula (II) as the repeating unit represented by the general formula (AI). Good.
  • the repeating unit represented by the general formula (AI) may be a resin containing at least two kinds of repeating units represented by the general formula (I).
  • the alicyclic structure formed by R together with the carbon atom is a monocyclic alicyclic structure, and the alicyclic structure formed by R together with the carbon atom. It is preferable that both the repeating unit which is a polycyclic alicyclic structure is included.
  • the monocyclic alicyclic structure preferably has 5 to 8 carbon atoms, more preferably 5 or 6 carbon atoms, and particularly preferably 5 carbon atoms.
  • As the polycyclic alicyclic structure a norbornyl group, a tetracyclodecanyl group, a tetracyclododecanyl group, and an adamantyl group are preferable.
  • repeating unit having an acid-decomposable group contained in the resin (a) may be used, or two or more types may be used in combination. The following combinations are preferred when used in combination.
  • each R independently represents a hydrogen atom or a methyl group.
  • the repeating unit represented by general formula (I) and the repeating unit represented by general formula (II) which are used for the combination mentioned below are also mentioned as each preferable specific example.
  • the repeating unit having an acid-decomposable group is further substituted with a group containing at least one selected from a fluorine atom and a silicon atom described later.
  • the present invention has a hard coat layer formed from a hard coat layer forming composition containing a resin (a), and in a state where the hard coat layer forming composition is coated on a support, Alternatively, since silicon atoms are unevenly distributed on the surface of the hard coat layer and exhibit an excellent surface shape, wind unevenness can be prevented during application and drying of the hard coat layer.
  • the position of the acid-decomposable group is on one side chain, It is preferably closer to the main chain than fluorine atoms or silicon atoms. That is, the group capable of leaving by an acid is preferably a group containing a group containing at least one selected from a fluorine atom and a silicon atom.
  • the hydrogen atom in the alkyl group or cycloalkyl group represented by Rx 1 to Rx 3 in formula (AI) is substituted with a group containing at least one selected from a fluorine atom and a silicon atom.
  • a hydrogen atom in an atomic group represented by R 33 in the general formula (3), a hydrogen atom in an atomic group represented by R in the general formula (I), or R 4 to R 6 in the general formula (II) More preferably, a hydrogen atom in the alkyl group or cycloalkyl group is substituted with a group containing at least one selected from a fluorine atom and a silicon atom.
  • the hard coat film of the present invention When the hard coat film of the present invention is irradiated with ionizing radiation such as UV or acid treatment, the hydrophobic group in the resin (a) is decomposed to become a hydrophilic group, thereby increasing the hydrophilicity.
  • the contact angle with water on the surface of the layer is reduced and the layer becomes hydrophilic.
  • ionizing radiation irradiation preferably 10 mJ / cm 2 to 1000 mJ / cm 2 UV irradiation
  • acid treatment preferably 0.01 to 1 mol / L sulfuric acid aqueous solution immersion
  • the contact angle between the hard coat layer and water is preferably 75 ° or less, more preferably 60 ° or less, and most preferably 50 ° or less.
  • the lower limit is preferably 10 ° or more.
  • disassembly are also included by this invention.
  • the resin (a) has a group containing at least one atom selected from a fluorine atom and a silicon atom.
  • the group containing a fluorine atom preferably has a structure having an alkyl group having a fluorine atom, a cycloalkyl group having a fluorine atom, or an aryl group having a fluorine atom.
  • the alkyl group having a fluorine atom (preferably having 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 4 carbon atoms) is a linear or branched alkyl group in which at least one hydrogen atom is substituted with a fluorine atom, It may have a substituent.
  • the cycloalkyl group having a fluorine atom is a monocyclic or polycyclic cycloalkyl group in which at least one hydrogen atom is substituted with a fluorine atom, and may further have another substituent.
  • the aryl group having a fluorine atom include those in which at least one hydrogen atom of an aryl group such as a phenyl group or a naphthyl group is substituted with a fluorine atom, and the aryl group may further have another substituent.
  • the alkyl group having a fluorine atom the cycloalkyl group having a fluorine atom, or the aryl group having a fluorine atom
  • a group represented by any one of the following general formulas (F2) to (F4) is preferable.
  • the present invention is not limited to this.
  • R 57 to R 68 each independently represents a hydrogen atom, a fluorine atom or an alkyl group (straight or branched).
  • R 62 and R 63 may combine to form a cycloalkyl group.
  • at least one of R 57 to R 61 , at least one of R 62 to R 64 and at least one of R 65 to R 68 are a fluorine atom or an alkyl group in which at least one hydrogen atom is substituted with a fluorine atom. (Preferably having 1 to 5 carbon atoms). All of R 57 to R 61 and R 65 to R 67 are preferably fluorine atoms.
  • R 62 to R 64 are preferably all fluorine atoms or fluorine atoms or perfluoroalkyl groups having 1 to 5 carbon atoms.
  • R 68 is preferably a fluoroalkyl group (preferably having 1 to 4 carbon atoms), and more preferably a perfluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
  • R 62 and R 63 may be connected to each other to form a ring.
  • Specific examples of the group represented by the general formula (F2) include a p-fluorophenyl group, a pentafluorophenyl group, and a 3,5-di (trifluoromethyl) phenyl group.
  • Specific examples of the group represented by the general formula (F3) include trifluoromethyl group, pentafluoropropyl group, pentafluoroethyl group, heptafluorobutyl group, hexafluoroisopropyl group, heptafluoroisopropyl group, hexafluoro (2 -Methyl) isopropyl group, nonafluorobutyl group, octafluoroisobutyl group, nonafluorohexyl group, nonafluoro-t-butyl group, perfluoroisopentyl group, perfluorooctyl group, perfluoro (trimethyl) hexyl group, 2,2 ,
  • the partial structure containing fluorine may be directly bonded, and is further selected from the group consisting of an alkylene group, a phenylene group, an ether group, a thioether group, a carbonyl group, an ester group, an amide group, a urethane group, or a ureylene group. You may couple
  • the partial structure (group) having a silicon atom is preferably an alkylsilyl group (preferably a trialkylsilyl group) or a group having a cyclic siloxane structure.
  • alkylsilyl group or the group having a cyclic siloxane structure include groups represented by the following general formulas (CS-1) to (CS-3).
  • R 12 to R 26 each independently represents a linear or branched alkyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms) or a cycloalkyl group (preferably having 3 to 20 carbon atoms).
  • L 3 to L 5 each independently represents a single bond or a divalent linking group.
  • the divalent linking group an alkylene group, a phenylene group, an ether group, a thioether group, a carbonyl group, an ester group, an amide group, a urethane group, or a group selected from the group consisting of a ureylene group or two or more groups. A combination is mentioned.
  • n represents an integer of 1 to 5.
  • the group containing at least one selected from a fluorine atom and a silicon atom is contained in the above repeating unit containing an acid-decomposable group, but is contained in other repeating units not containing an acid-decomposable group. However, it is preferably contained in a repeating unit containing an acid-decomposable group, and the group leaving by an acid is a group containing a group containing at least one selected from a fluorine atom and a silicon atom. More preferred.
  • the fluorine atom content is preferably 5 to 80% by mass and more preferably 10 to 80% by mass with respect to the molecular weight of the resin (a).
  • the repeating unit containing a fluorine atom is preferably 10 to 100 mol%, more preferably 30 to 100 mol%, based on all repeating units in the resin (a).
  • the content of the silicon atom is preferably 2 to 50% by mass and more preferably 2 to 30% by mass with respect to the molecular weight of the resin (a).
  • the repeating unit containing a silicon atom is preferably 10 to 90 mol%, more preferably 20 to 80 mol%, based on all repeating units of the resin (a).
  • Resin (a) may further have other repeating units.
  • a preferred embodiment of the other repeating unit includes a repeating unit (cy) that is stable to an acid and hardly soluble or insoluble in an alkaline solution.
  • hardly soluble or insoluble in an alkali solution means that (cy) is an alkali-soluble group or a group that generates an alkali-soluble group by the action of an acid or an alkali solution (for example, an acid-decomposable group or a polarity converting group). ) Is not included.
  • the repeating unit (cy) preferably has an alicyclic hydrocarbon structure having no polar group.
  • the repeating unit (cy) is preferably a repeating unit represented by the following general formula (CIII).
  • R C31 represents a hydrogen atom, an alkyl group which may be substituted with a fluorine atom, a cyano group or a —CH 2 O—Rac 2 group.
  • Rac 2 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an acyl group.
  • R C31 is preferably a hydrogen atom, a methyl group, a hydroxymethyl group or a trifluoromethyl group, particularly preferably a hydrogen atom or a methyl group.
  • R C32 represents a group having an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group, or a cycloalkenyl group. These groups may be substituted with a fluorine atom or a silicon atom.
  • L C3 represents a single bond or a divalent linking group.
  • the alkyl group represented by R C32 is preferably a linear or branched alkyl group having 3 to 20 carbon atoms.
  • the cycloalkyl group is preferably a cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms.
  • the alkenyl group is preferably an alkenyl group having 3 to 20 carbon atoms.
  • the cycloalkenyl group is preferably a cycloalkenyl group having 3 to 20 carbon atoms.
  • R C32 is preferably an unsubstituted alkyl group or an alkyl group substituted with a fluorine atom.
  • the divalent linking group of L C3 is preferably an ester group, an alkylene group (preferably having a carbon number of 1 to 5), an oxy group, a phenylene group, or an ester bond (a group represented by —COO—).
  • the repeating unit (cy) is preferably a repeating unit represented by the following general formula (C4) or (C5).
  • R C5 represents a hydrocarbon group having at least one cyclic structure and having neither a hydroxyl group nor a cyano group.
  • Rac represents a hydrogen atom, an alkyl group which may be substituted with a fluorine atom, a cyano group or a —CH 2 —O—Rac 2 group.
  • Rac 2 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an acyl group.
  • Rac is preferably a hydrogen atom, a methyl group, a hydroxymethyl group or a trifluoromethyl group, particularly preferably a hydrogen atom or a methyl group.
  • the cyclic structure possessed by R C5 includes a monocyclic hydrocarbon group and a polycyclic hydrocarbon group.
  • the monocyclic hydrocarbon group include a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms and a cycloalkenyl group having 3 to 12 carbon atoms.
  • a preferable monocyclic hydrocarbon group is a monocyclic hydrocarbon group having 3 to 7 carbon atoms.
  • the polycyclic hydrocarbon group includes a ring assembly hydrocarbon group and a bridged cyclic hydrocarbon group.
  • the bridged cyclic hydrocarbon ring include a bicyclic hydrocarbon ring, a tricyclic hydrocarbon ring, and a tetracyclic hydrocarbon ring.
  • the bridged cyclic hydrocarbon ring also includes a condensed cyclic hydrocarbon ring (for example, a condensed ring in which a plurality of 5- to 8-membered cycloalkane rings are condensed).
  • Preferred examples of the bridged cyclic hydrocarbon ring include a norbornyl group and an adamantyl group.
  • These alicyclic hydrocarbon groups may have a substituent, and preferred substituents include a halogen atom, an alkyl group, a hydroxyl group protected with a protecting group, an amino group protected with a protecting group, and the like. It is done. Preferred halogen atoms include bromine, chlorine and fluorine atoms, and preferred alkyl groups include methyl, ethyl, butyl and t-butyl groups.
  • the above alkyl group may further have a substituent, and the substituent which may further have a halogen atom, an alkyl group, a hydroxyl group protected with a protecting group, an amino protected with a protecting group The group can be mentioned.
  • Examples of the protecting group include an alkyl group, a cycloalkyl group, an aralkyl group, a substituted methyl group, a substituted ethyl group, an alkoxycarbonyl group, and an aralkyloxycarbonyl group.
  • Preferred alkyl groups include alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms
  • preferred substituted methyl groups include methoxymethyl, methoxythiomethyl, benzyloxymethyl, t-butoxymethyl, 2-methoxyethoxymethyl groups, and preferred substituted ethyl groups.
  • acyl groups include aliphatic acyl groups having 1 to 6 carbon atoms such as formyl, acetyl, propionyl, butyryl, isobutyryl, valeryl and pivaloyl groups, alkoxycarbonyl Examples of the group include an alkoxycarbonyl group having 1 to 4 carbon atoms.
  • R C6 represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group, a cycloalkenyl group, an alkoxycarbonyl group, or an alkylcarbonyloxy group. These groups may be substituted with a fluorine atom or a silicon atom.
  • the alkyl group of R C6 is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms.
  • the cycloalkyl group is preferably a cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms.
  • the alkenyl group is preferably an alkenyl group having 3 to 20 carbon atoms.
  • the cycloalkenyl group is preferably a cycloalkenyl group having 3 to 20 carbon atoms.
  • the alkoxycarbonyl group is preferably an alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms.
  • the alkylcarbonyloxy group is preferably an alkylcarbonyloxy group having 2 to 20 carbon atoms.
  • n represents an integer of 0 to 5. When n is 2 or more, the plurality of R c6 may be the same or different.
  • R C6 is preferably an unsubstituted alkyl group or an alkyl group substituted with a fluorine atom, particularly preferably a trifluoromethyl group or a t-butyl group.
  • (Cy) is preferably a repeating unit represented by the following general formula (CII-AB).
  • R C11 ′ and R C12 ′ each independently represent a hydrogen atom, a cyano group, a halogen atom or an alkyl group.
  • Zc ′ represents an atomic group for forming an alicyclic structure containing two bonded carbon atoms (C—C).
  • the general formula (CII-AB) is more preferably the following general formula (CII-AB1) or general formula (CII-AB2).
  • R C13 ′ to R C16 ′ each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group or a cycloalkyl group. Further, at least two of R C13 ′ to R C16 ′ may be bonded to form a ring. n represents 0 or 1.
  • Ra represents H, CH 3 , CH 2 OH, CF 3 or CN.
  • the content of the repeating unit represented by (cy) is preferably 5 to 40 mol%, more preferably 5 to 30 mol%, based on all repeating units in the resin (a).
  • the resin (a) may have a plurality of repeating units represented by (cy).
  • the resin (a) used in the composition of the present invention can have various repeating structural units in addition to the above repeating structural units.
  • repeating structural units include, but are not limited to, repeating structural units corresponding to the following monomers.
  • a monomer for example, a compound having one addition polymerizable unsaturated bond selected from acrylic acid esters, methacrylic acid esters, acrylamides, methacrylamides, allyl compounds, vinyl ethers, vinyl esters, etc. Etc.
  • any addition-polymerizable unsaturated compound that can be copolymerized with monomers corresponding to the above various repeating structural units may be copolymerized.
  • the weight average molecular weight in terms of standard polystyrene of the resin (a) is preferably 1,000 to 100,000, more preferably 1,000 to 50,000, and still more preferably 2,000 to 15,000.
  • the weight average molecular weight in this invention shall mean the weight average molecular weight measured in gel conversion by gel permeation chromatography (GPC).
  • GPC device HLC-8120 (manufactured by Tosoh Corporation) Column: TSK gelMultipore HXL-M (Tosoh, 7.8 mm ID (inner diameter) ⁇ 30.0 cm)
  • Eluent Tetrahydrofuran (THF)
  • the content of the resin (a) in the total solid content of the hard coat layer forming layer composition can be adjusted as appropriate, but is 0.0001 to 1% by mass based on the total solid content of the hard coat layer forming layer composition. Preferably, it is 0.0005 to 0.1% by mass, more preferably 0.001 to 0.05% by mass.
  • the resin (a) can be synthesized and purified according to a conventional method, and it is natural that the residual monomer or oligomer component is 0 to 10% by mass, as a matter of course, it has few impurities such as metals. Preferably 0 to 5% by mass, and more preferably 0 to 1% by mass. Thereby, a resist having no change over time such as foreign matter in liquid or sensitivity can be obtained.
  • the molecular weight distribution (Mw / Mn, also referred to as dispersity) is preferably in the range of 1 to 3, more preferably 1 to 2, still more preferably 1 to 1.8, and most preferably 1 to 1.5. It is.
  • Resin (a) can use various commercially available products, and can be synthesized according to a conventional method (for example, radical polymerization).
  • resin (a) Specific examples of resin (a) are shown.
  • Resin (a) can be used alone or in combination of two or more.
  • the composition for forming a hard coat layer of the present invention includes, as one embodiment, (b) an acid generator (also referred to as “(b) component”). Although it does not specifically limit as an acid generator, Preferably the compound represented by the following general formula (ZI '), (ZII'), (ZIII ') can be mentioned.
  • R 201 , R 202 and R 203 each independently represents an organic group.
  • the organic group as R 201 , R 202 and R 203 generally has 1 to 30 carbon atoms, preferably 1 to 20 carbon atoms.
  • Two of R 201 to R 203 may be bonded to form a ring structure, and the ring may contain an oxygen atom, a sulfur atom, an ester bond, an amide bond, or a carbonyl group.
  • Examples of the group formed by combining two members out of R 201 to R 203 include an alkylene group (eg, butylene group, pentylene group).
  • Examples of the organic group represented by R 201 , R 202 and R 203 include a corresponding group in the compound (ZI′-1) described later.
  • the compound which has two or more structures represented by general formula (ZI ') may be sufficient.
  • at least one of R 201 to R 203 of the compound represented by the general formula (ZI ′) is different from at least one of R 201 to R 203 of the other compound represented by the general formula (ZI ′).
  • It may be a compound having a structure bonded through a bond or a linking group.
  • Z ⁇ represents a non-nucleophilic anion (an anion having an extremely low ability to cause a nucleophilic reaction).
  • Z ⁇ examples include a sulfonate anion (an aliphatic sulfonate anion, an aromatic sulfonate anion, a camphor sulfonate anion, etc.), a carboxylate anion (an aliphatic carboxylate anion, an aromatic carboxylate anion, an aralkyl carboxylate anion).
  • sulfonylimide anion bis (alkylsulfonyl) imide anion, tris (alkylsulfonyl) methide anion and the like.
  • the aliphatic moiety in the aliphatic sulfonate anion and aliphatic carboxylate anion may be an alkyl group or a cycloalkyl group, preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms and a carbon number. Examples include 3 to 30 cycloalkyl groups.
  • the aromatic group in the aromatic sulfonate anion and aromatic carboxylate anion is preferably an aryl group having 6 to 14 carbon atoms, such as a phenyl group, a tolyl group, and a naphthyl group.
  • the alkyl group, cycloalkyl group and aryl group mentioned above may have a substituent. Specific examples thereof include nitro groups, halogen atoms such as fluorine atoms, carboxyl groups, hydroxyl groups, amino groups, cyano groups, alkoxy groups (preferably having 1 to 15 carbon atoms), cycloalkyl groups (preferably having 3 to 15 carbon atoms). ), An aryl group (preferably 6 to 14 carbon atoms), an alkoxycarbonyl group (preferably 2 to 7 carbon atoms), an acyl group (preferably 2 to 12 carbon atoms), an alkoxycarbonyloxy group (preferably 2 to 2 carbon atoms).
  • an alkylthio group preferably 1 to 15 carbon atoms
  • an alkylsulfonyl group preferably 1 to 15 carbon atoms
  • an alkyliminosulfonyl group preferably 2 to 15 carbon atoms
  • an aryloxysulfonyl group preferably a carbon atom Number 6 to 20
  • alkylaryloxysulfonyl group preferably having 7 to 20 carbon atoms
  • cycloalkylary Examples thereof include an oxysulfonyl group (preferably having 10 to 20 carbon atoms), an alkyloxyalkyloxy group (preferably having 5 to 20 carbon atoms), a cycloalkylalkyloxyalkyloxy group (preferably having 8 to 20 carbon atoms), and the like.
  • examples of the substituent further include an alkyl group (preferably having a carbon number of 1 to 15).
  • aralkyl group in the aralkyl carboxylate anion preferably an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms such as benzyl group, phenethyl group, naphthylmethyl group, naphthylethyl group, naphthylbutyl group and the like can be mentioned.
  • Examples of the sulfonylimide anion include saccharin anion.
  • the alkyl group in the bis (alkylsulfonyl) imide anion and tris (alkylsulfonyl) methide anion is preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
  • the two alkyl groups in the bis (alkylsulfonyl) imide anion may be linked to each other to form an alkylene group (preferably having 2 to 4 carbon atoms) and form a ring together with the imide group and the two sulfonyl groups.
  • the alkylene group formed by linking two alkyl groups in these alkyl groups and bis (alkylsulfonyl) imide anions may have a halogen atom, an alkyl group substituted with a halogen atom, an alkoxy group, an alkylthio group.
  • a fluorine atom or an alkyl group substituted with a fluorine atom is preferable.
  • Z ⁇ examples include fluorinated phosphorus (for example, PF 6 ⁇ ), fluorinated boron (for example, BF 4 ⁇ ), fluorinated antimony (for example, SbF 6 ⁇ ), and the like.
  • Z ⁇ is an aliphatic sulfonate anion substituted at least in the ⁇ -position of the sulfonic acid with a fluorine atom, an aromatic sulfonate anion substituted with a fluorine atom or a group having a fluorine atom, and an alkyl group with a fluorine atom.
  • a substituted bis (alkylsulfonyl) imide anion and a tris (alkylsulfonyl) methide anion in which the alkyl group is substituted with a fluorine atom are preferred.
  • the non-nucleophilic anion is more preferably a perfluoroaliphatic sulfonate anion (more preferably 4 to 8 carbon atoms), a benzenesulfonate anion having a fluorine atom, still more preferably a nonafluorobutanesulfonate anion, or perfluorooctane.
  • the pKa of the generated acid is preferably ⁇ 1 or less in order to improve sensitivity.
  • component (ZI ′) examples include a compound (ZI′-1) described below.
  • the compound (ZI′-1) is an arylsulfonium compound in which at least one of R 201 to R 203 in the general formula (ZI ′) is an aryl group, that is, a compound having arylsulfonium as a cation.
  • Arylsulfonium compound all of R 201 ⁇ R 203 may be an aryl group or a part of R 201 ⁇ R 203 is an aryl group, but the remainder is an alkyl group or a cycloalkyl group, the R 201 ⁇ R 203 All are preferably aryl groups.
  • arylsulfonium compound examples include a triarylsulfonium compound, a diarylalkylsulfonium compound, an aryldialkylsulfonium compound, a diarylcycloalkylsulfonium compound, and an aryldicycloalkylsulfonium compound, and a triarylsulfonium compound is preferable. .
  • the aryl group of the arylsulfonium compound is preferably a phenyl group or a naphthyl group, and more preferably a phenyl group.
  • the aryl group may be an aryl group having a heterocyclic structure having an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom or the like. Examples of the heterocyclic structure include a pyrrole residue, a furan residue, a thiophene residue, an indole residue, a benzofuran residue, and a benzothiophene residue.
  • the two or more aryl groups may be the same or different.
  • the alkyl group or cycloalkyl group optionally possessed by the arylsulfonium compound is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 15 carbon atoms and a cycloalkyl group having 3 to 15 carbon atoms, such as a methyl group, Examples include an ethyl group, a propyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, a t-butyl group, a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, and a cyclohexyl group.
  • the aryl group, alkyl group, and cycloalkyl group of R 201 to R 203 are an alkyl group (for example, 1 to 15 carbon atoms), a cycloalkyl group (for example, 3 to 15 carbon atoms), an aryl group (for example, 6 to 14 carbon atoms).
  • An alkoxy group for example, having 1 to 15 carbon atoms
  • a halogen atom for example, a hydroxyl group, and a phenylthio group may be substituted.
  • Preferred substituents are linear or branched alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms, cycloalkyl groups having 3 to 12 carbon atoms, and linear, branched or cyclic alkoxy groups having 1 to 12 carbon atoms, more preferably carbon atoms.
  • the substituent may be substituted with any one of the three R 201 to R 203 or may be substituted with all three. Further, when R 201 to R 203 are an aryl group, the substituent is preferably substituted at the p-position of the aryl group.
  • R 204 to R 207 each independently represents an aryl group, an alkyl group, or a cycloalkyl group.
  • the aryl group, alkyl group, and cycloalkyl group of R 204 to R 207 are the same as the aryl group described as the aryl group, alkyl group, and cycloalkyl group of R 201 to R 203 in the aforementioned compound (ZI′-1). It is.
  • the aryl group, alkyl group, and cycloalkyl group of R 204 to R 207 may have a substituent.
  • this substituent include those that the aryl group, alkyl group, and cycloalkyl group of R 201 to R 203 in the aforementioned compound (ZI′-1) may have.
  • Z ⁇ represents a non-nucleophilic anion, and examples thereof include the same as the non-nucleophilic anion of Z ⁇ in formula (ZI ′).
  • Examples of the acid generator that can be used in the present invention further include compounds represented by the following general formulas (ZIV ′), (ZV ′), and (ZVI ′).
  • Ar 3 and Ar 4 each independently represents an aryl group.
  • R 208 , R 209 and R 210 each independently represents an alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group.
  • A represents an alkylene group, an alkenylene group or an arylene group.
  • Specific examples of the aryl group of Ar 3 , Ar 4 , R 208 , R 209 and R 210 are the same as the specific examples of the aryl group as R 201 , R 202 and R 203 in the general formula (ZI′-1). Can be mentioned.
  • alkyl group and the cycloalkyl group represented by R 208 , R 209, and R 210 include an alkyl group and a cycloalkyl group represented by R 201 , R 202, and R 203 in the general formula (ZI′-1), respectively.
  • the thing similar to a specific example can be mentioned.
  • the alkylene group of A is alkylene having 1 to 12 carbon atoms (for example, methylene group, ethylene group, propylene group, isopropylene group, butylene group, isobutylene group, etc.), and the alkenylene group of A is 2 to 2 carbon atoms.
  • 12 alkenylene groups for example, ethenylene group, propenylene group, butenylene group, etc.
  • the arylene groups for A are arylene groups having 6 to 10 carbon atoms (for example, phenylene group, tolylene group, naphthylene group, etc.) Can be mentioned.
  • diazonium salts, iodonium salts, sulfonium salts, iminium salts are preferred from the viewpoint of photosensitivity, compound material stability and the like, and iodonium salts are particularly preferred from the viewpoint of light resistance. Is most preferred.
  • Diaryl iodonium salts or triaryl sulfonium salts described in paragraph numbers [0010] to [0011] of the publication and sulfonium salts of thiobenzoic acid S-phenyl ester described in paragraph number [0017] of JP 2001-288205 A; Examples thereof include onium salts described in paragraph numbers [0030] to [0033] of JP-A-2001-133696.
  • organometallic / organic halides described in paragraphs [0059] to [0062] of JP-A-2002-29162, photoacid generators having o-nitrobenzyl type protecting groups, photodecomposition And compounds that generate sulfonic acid (iminosulfonate, etc.).
  • Specific compounds of the iodonium salt-based cationic polymerization initiator include B2380 (manufactured by Tokyo Chemical Industry), BBI-102 (manufactured by Midori Chemical), WPI-113 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries), WPI-124 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries). Industrial), WPI-169 (Wako Pure Chemical Industries), WPI-170 (Wako Pure Chemical Industries), DTBPI-PFBS (Toyo Gosei) can be used.
  • Other specific examples of the acid generator that can be suitably used in the present invention are listed below.
  • the acid generator is preferably contained in an amount of 0 to 5% by mass when the total solid content (all components excluding the solvent) of the composition for forming a hard coat layer in the present invention is 100% by mass. 0.2 to 4% by mass is more preferable, and 0.4 to 3% by mass is still more preferable. When the content is 5% by mass or less, the weather resistance of the film becomes good, and when the content is 0.2% by mass or more, good recoatability can be obtained without acid treatment.
  • the composition for forming a hard coat layer in the present invention further comprises: (C) a compound having 3 or more ethylenically unsaturated double bond groups in the molecule, (D) a compound having one or more epoxy groups in the molecule; (E) inorganic fine particles having reactivity with an epoxy group or an ethylenically unsaturated double bond group, (F) It is preferable to contain at least one ultraviolet absorber, and (d) has one alicyclic epoxy group and one ethylenically unsaturated double bond group in the molecule, and has a molecular weight More preferably, the compound is a compound having an A of 300 or less.
  • composition for forming a hard coat layer of the present invention contains a compound having 3 or more ethylenically unsaturated double bond groups in its molecule (also referred to as “compound (c)” or “(c) component”). Is preferred.
  • the ethylenically unsaturated double bond group include polymerizable functional groups such as (meth) acryloyl group, vinyl group, styryl group and allyl group. Among them, (meth) acryloyl group and —C (O) OCH ⁇ CH 2 is preferable, and a (meth) acryloyl group is particularly preferable.
  • Examples of the compound (c) include esters of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid, vinylbenzene and its derivatives, vinyl sulfone, (meth) acrylamide and the like.
  • a compound having three or more (meth) acryloyl groups is preferable, and examples thereof include acrylate compounds that form a hardened cured product widely used in the industry.
  • Examples of such compounds include esters of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid ⁇ for example, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, EO-modified tris.
  • polyfunctional acrylate compounds having three or more (meth) acryloyl groups include KAYARAD DPHA, DPHA-2C, PET-30, TMPTA, and TPA-320 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. TPA-330, RP-1040, T-1420, D-310, DPCA-20, DPCA-30, DPCA-60, GPO-303, V made by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd. An esterified product of a polyol such as # 400, V # 36095D and (meth) acrylic acid can be used.
  • UV-1400B Purple light UV-1400B, UV-1700B, UV-6300B, UV-7550B, UV-7600B, UV-7605B, UV-7610B, UV-7620EA, UV-7630B, UV-7630B, UV-7640B UV-6630B, UV-7000B, UV-7510B, UV-7461TE, UV-3000B, UV-3200B, UV-3210EA, UV-3310EA, UV-3310EA, UV-3310B, UV-3500BA UV-3520TL, UV-3700B, UV-6100B, UV-6640B, UV-2000B, UV-2010B, UV-2250EA, UV-2250EA (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.), UL-503LN (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), Unidic 17-80 17-813, V-4030, V-4000BA (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.), EB-1290K, EB-220,
  • the compound (c) is preferably contained in an amount of 40 to 90% by mass, when the total solid content (all components excluding the solvent) of the composition for forming a hard coat layer in the present invention is 100% by mass. More preferably, it is -85 mass%, and still more preferably 50-80 mass%. Sufficient hardness can be acquired as content is 40 mass% or more. On the other hand, when the content is 90% by mass or less, the resin (a) is not insufficient, the contact angle on the surface of the hard coat layer can be reduced, and the smoothness is not impaired.
  • the compound (c) preferably has an ethylenically unsaturated bond group equivalent of 80 to 130.
  • the ethylenically unsaturated bond group equivalent means a numerical value obtained by dividing the molecular weight of the compound (c) by the number of ethylenically unsaturated bond groups.
  • the ethylenically unsaturated bond group equivalent of the compound (c) is preferably 80 to 130, more preferably 80 to 110, still more preferably 80 to 100.
  • composition for forming a hard coat layer of the present invention preferably contains a compound having one or more epoxy groups in the molecule (also referred to as “compound (d)” or “component (d)”).
  • the compound (d) is not particularly limited as long as it has one or more epoxy groups.
  • the molecular weight of the compound (d) is preferably 300 or less, more preferably 250 or less, and even more preferably 200 or less. Further, from the viewpoint of suppressing volatilization during formation of the hard coat layer, the molecular weight of the compound (d) is preferably 100 or more, and more preferably 150 or more. In addition, when the said epoxy group is alicyclic and molecular weight shall be 300 or less, hardness can be improved.
  • the compound (d) is preferably contained in an amount of 5 to 40% by mass, preferably 7 to 35% by mass, when the total solid content of the composition for forming a hard coat layer in the present invention is 100% by mass.
  • the content is preferably 10 to 25% by mass.
  • the content is 5% by mass or more, the effect of improving smoothness is excellent, and the surface state of the hard coat layer becomes good.
  • the content is 40% by mass or less, the hardness is improved.
  • the compound (d) preferably further has an ethylenically unsaturated double bond group.
  • the ethylenically unsaturated double bond group is not particularly limited, and examples thereof include a (meth) acryloyl group, a vinyl group, a styryl group, and an allyl group. Among them, a (meth) acryloyl group and —C (O) OCH ⁇ CH 2 Are preferable, and a (meth) acryloyl group is particularly preferable. Since the compound (d) has an ethylenically unsaturated double bond group, the bond strength with the compound (c) is imparted, so that the hardness can be further improved, and crying out during wet heat durability Can be suppressed.
  • the specific compound (d) is not particularly limited as long as it has one or more alicyclic epoxy groups in the molecule, but bicyclohexyl diepoxide; 3,4,3 ', 4'- Diepoxybicyclohexyl, butanetetracarboxylic acid tetra (3,4-epoxycyclohexylmethyl) modified ⁇ -caprolactone, represented by paragraph [0015] of JP-A-10-17614 and the following general formula (1A) or (1B)
  • a compound, 1,2-epoxy-4-vinylcyclohexane or the like can be used.
  • the compound represented by the following general formula (1A) or (1B) is more preferable, and the compound represented by the following general formula (1A) with a low molecular weight is still more preferable.
  • the compound represented by the following general formula (1A) is also preferably an isomer thereof.
  • R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • L 2 represents a divalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms.
  • R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • L 2 represents a divalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms.
  • the divalent aliphatic hydrocarbon group of L 2 in the general formulas (1A) and (1B) has 1 to 6 carbon atoms, more preferably 1 to 3 carbon atoms, and still more preferably 1 carbon atom.
  • a linear, branched or cyclic alkylene group is preferable, a linear or branched alkylene group is more preferable, and a linear alkylene group is still more preferable.
  • the composition for forming a hard coat layer of the present invention comprises inorganic fine particles having reactivity with an epoxy group or an ethylenically unsaturated double bond group (also referred to as “inorganic fine particles (e)” and “(e) component”). It is preferable to include. Since the hydrophilicity of the cured layer can be increased by adding the inorganic fine particles (e), the contact angle can be reduced. Moreover, since the amount of cure shrinkage of the cured layer can be reduced, film curl can be reduced. Furthermore, pencil hardness can be improved by using inorganic fine particles having reactivity with an epoxy group or an ethylenically unsaturated double bond group. Examples of the inorganic fine particles include silica particles, titanium dioxide particles, zirconium oxide particles, and aluminum oxide particles. Of these, silica particles are preferred.
  • inorganic fine particles have low affinity with organic components such as polyfunctional vinyl monomers, and therefore, simple mixing may form an aggregate or a cured layer may be easily cracked.
  • the surface of the inorganic fine particles is treated with a surface modifier containing an organic segment.
  • the surface modifier preferably has a functional group capable of forming a bond with or adsorbing to the inorganic fine particles and a functional group having high affinity with the organic component in the same molecule.
  • Examples of the surface modifier having a functional group capable of binding or adsorbing to the inorganic fine particles include metal alkoxide surface modifiers such as silane, aluminum, titanium, and zirconium, and phosphoric acid groups, sulfuric acid groups, sulfonic acid groups, and carboxylic acid groups.
  • a surface modifier having an anionic group is preferred.
  • the functional group having a high affinity with the organic component may be simply a combination of the organic component and the hydrophilicity / hydrophobicity, but a functional group that can be chemically bonded to the organic component is preferable, and particularly an ethylenically unsaturated double bond.
  • a linking group or a ring-opening polymerizable group is preferred.
  • a preferable inorganic fine particle surface modifier is a curable resin having a metal alkoxide or an anionic group and an ethylenically unsaturated double bond group or a ring-opening polymerizable group in the same molecule.
  • Representative examples of these surface modifiers include the following unsaturated double bond-containing coupling agents, phosphate group-containing organic curable resins, sulfate group-containing organic curable resins, carboxylic acid group-containing organic curable resins, and the like. It is done.
  • the surface modification of these inorganic fine particles is preferably performed in a solution.
  • the surface modifier is present together, or after finely dispersing the inorganic fine particles, the surface modifier is added and stirred, or before the fine inorganic particles are finely dispersed.
  • the surface may be modified (if necessary, heated, dried and then heated, or changed in pH), and then finely dispersed.
  • an organic solvent having a large polarity is preferable. Specific examples include known solvents such as alcohols, ketones and esters.
  • the average primary particle size of the inorganic fine particles (e) is preferably 10 nm to 100 nm, more preferably 10 to 60 nm.
  • the average particle diameter of the fine particles can be determined from an electron micrograph. If the particle size of the inorganic fine particles (e) is too small, the effect of improving the hardness cannot be obtained, and if it is too large, haze increases.
  • Specific examples of the inorganic fine particles (e) include ELECOM V-8802 (spherical silica fine particles with an average particle size of 12 nm manufactured by JGC Catalysts and Chemicals Co., Ltd.) and ELECOM V-8803 (modified products manufactured by JGC Catalysts and Chemicals Co., Ltd.).
  • Silica fine particles Silica fine particles), MiBK-ST (spherical silica fine particles having an average particle diameter of 10 to 20 nm manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), MEK-AC-2140Z (spherical silica fine particles having an average particle diameter of 10 to 20 nm manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) ), MEK-AC-4130 (spherical silica fine particles with an average particle size of 40-50 nm manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), MiBK-SD-L (spherical silica fine particles with an average particle size of 40-50 nm, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) ), MEK-AC-5140Z (spherical silica fine particles having an average particle diameter of 70 to 100 nm manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) and the like.
  • MEK-AC-2140Z spherical silica fine particles having an average particle diameter of 10 to 20 nm manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.
  • MEK-AC-4130 spher
  • the inorganic fine particles (e) are preferably contained in an amount of 10 to 40% by mass, more preferably 10 to 30% by mass, and more preferably 10 to 25% by mass. % Is more preferable.
  • the composition for forming a hard coat layer of the present invention preferably contains an ultraviolet absorber (also referred to as “ultraviolet absorber (f)” or “component (f)”).
  • the hard coat film of the present invention is suitably used for a polarizing plate or a liquid crystal display member, but an ultraviolet absorber is preferably used from the viewpoint of preventing deterioration of the polarizing plate or the liquid crystal.
  • an ultraviolet absorber those excellent in the ability to absorb ultraviolet rays having a wavelength of 370 nm or less and having little absorption of visible light having a wavelength of 400 nm or more are preferably used from the viewpoint of good liquid crystal display properties.
  • ultraviolet absorber Only one type of ultraviolet absorber may be used, or two or more types may be used in combination. Examples thereof include ultraviolet absorbers described in JP-A No. 2001-72782 and JP-T-2002-543265. Specific examples of the ultraviolet absorber include oxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds, salicylic acid ester compounds, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, nickel complex compounds, and the like.
  • the ultraviolet absorber (f) is contained in an amount of 0.1 to 3% by mass, preferably 0.2 to 2.5% by mass, More preferably, the content is 0.3 to 2% by mass.
  • the hard coat layer forming composition may contain a solvent.
  • a solvent various solvents can be used in consideration of the solubility of each component, the dispersibility of the particles, the drying property during coating, and the like.
  • organic solvents include dibutyl ether, dimethoxyethane, diethoxyethane, propylene oxide, 1,4-dioxane, 1,3-dioxolane, 1,3,5-trioxane, tetrahydrofuran, anisole, phenetole, dimethyl carbonate, carbonate Methyl ethyl, diethyl carbonate, acetone, methyl ethyl ketone (MEK), diethyl ketone, dipropyl ketone, diisobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, methylcyclohexanone, ethyl formate, propyl formate, pentyl
  • MEK methyl ethy
  • a solvent is preferably used so that the solid content of the composition for forming a hard coat layer is in the range of 20 to 80% by mass, more preferably 30 to 75% by mass, and still more preferably 40%. -70% by mass.
  • the present inventors have a hard coat layer formed by using the hard coat layer forming composition as a lower layer, and on the surface, even when an upper layer is further formed by coating, repelling at the time of coating hardly occurs, It has been found that an upper layer having a uniform film surface and no unevenness can be produced.
  • the hard coat layer formed of the composition for forming a hard coat layer containing the resin (a) that had a planar smoothing (leveling) function at the time of application is as follows.
  • the composition for forming a hard coat layer may contain additives such as a polymerization initiator in addition to the above (a) to (f).
  • the composition for forming a hard coat layer in the present invention may contain a radical polymerization initiator.
  • Polymerization of the compound having an ethylenically unsaturated double bond group can be carried out by irradiation with ionizing radiation or heating in the presence of a photo radical polymerization initiator or a thermal radical polymerization initiator.
  • Commercially available compounds can be used as the photo and thermal polymerization initiators, and they are described in “Latest UV Curing Technology” (p. 159, publisher: Kazuhiro Takahisa, publisher; Technical Information Association, 1991). Issued) and in the catalog of BASF.
  • radical polymerization initiator examples include alkylphenone-based photopolymerization initiators (Irgacure 651, Irgacure 184, DAROCURE 1173, Irgacure 2959, Irgacure 127, DAROCUREMBBF, Irgacure 907, Irgacure 369, Irgacure 369, Irgacure 369, Irgacure 369 Photopolymerization initiator , LUCIRIN TPO) and others (Irgacure 784, Irgacure OXE01, Irgacure OXE02, Irgacure 754) and the like can be used.
  • alkylphenone-based photopolymerization initiators Irgacure 651, Irgacure 184, DAROCURE 1173, Irgacure 2959, Irgacure 127, DAROCUREMBBF, Irgacure 907
  • the addition amount of the radical polymerization initiator is preferably in the range of 0.1 to 10% by mass when the total solid content of the composition for forming a hard coat layer in the present invention is 100% by mass. More preferably, it is more preferably 2 to 4% by weight. These radical initiators may be used alone or in combination of two or more.
  • the composition for forming a hard coat layer in the present invention may contain a wind unevenness preventing agent.
  • the composition for forming a hard coat layer may contain a fluorine-based surfactant and a silicone-based surfactant. However, it is preferable that the hard coat layer-forming composition does not substantially contain a hydrophobic surface because the contact angle increases. As a result, the surface of the hard coat layer formed is less likely to be hydrophobic, and repelling is less likely to occur when the upper layer is formed.
  • the content of the fluorine-based surfactant and the silicone-based surfactant in the hard coat layer forming composition is 0.05% by mass or less with respect to the total mass of the hard coat layer forming composition, preferably It is 0.01 mass% or less, More preferably, it is 0 mass%.
  • the fluorine-based surfactant is a compound containing fluorine and is unevenly distributed on the surface in the solvent used in the hard coat layer forming composition.
  • the fluorosurfactant having a hydrophobic portion include those containing fluorine among compounds described as alignment control agents described in paragraphs 0028 to 0034 of JP2011-191582A, and Japanese Patent No. 2841611.
  • Examples of commercially available fluorosurfactants include Surflon manufactured by AGC Seimi Chemical Co., MegaFac manufactured by DIC Co., Ltd., and Footent manufactured by NEOS Co., Ltd.
  • the silicone-based surfactant is a compound containing silicone, and is a compound unevenly distributed on the surface in the solvent used in the composition for producing an optical functional layer.
  • the silicone surfactant include polymethylphenylsiloxane, polyether-modified silicone oil, polyether-modified dimethylpolysiloxane, dimethylsilicone, diphenylsilicone, hydrogen-modified polysiloxane, vinyl-modified polysiloxane, hydroxy-modified polysiloxane, Amino modified polysiloxane, carboxyl modified polysiloxane, chloro modified polysiloxane, epoxy modified polysiloxane, methacryloxy modified polysiloxane, mercapto modified polysiloxane, fluorine modified polysiloxane, long chain alkyl modified polysiloxane, phenyl modified polysiloxane, silicone modified copolymer And low molecular weight compounds containing silicon atoms.
  • silicone surfactants include Shin-Etsu Chemical KF-96, X-22-945, Tore Silicone DC3PA, DC7PA, SH11PA, SH21PA, SH28PA, SH29PA, SH30PA, FS -1265-300 (above, manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd.), TSF-4300, -4440, -4445, -4446, -4442, -4460 (above, GE Toshiba Silicon Co., Ltd.) ), Polysiloxane polymer KP341 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), BYK-301, BYK-302, BYK-307, BYK-325, BYK-331, BYK-333, BYK-341 BYK-345, BYK-346, BYK-348, BYK-375 (BIC Chemi) -Japan Co., Ltd.) Aron GS-30 (manufactured by Toa Go, To
  • a transparent support having a transmittance of visible light (400 to 800 nm) of 80% or more is preferable, and glass or a polymer film can be used.
  • polymer film materials used as a support include cellulose acylate films (eg, cellulose triacetate film, cellulose diacetate film, cellulose acetate butyrate film, cellulose acetate propionate film), polyolefins such as polyethylene and polypropylene.
  • Polyester resin films such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polyethersulfone films, polyacrylic resin films such as polymethyl methacrylate, polyurethane resin films, polyester films, polycarbonate films, polysulfone films, polyether films, polymethyl Pentene film, polyetherketone film, (meth) acrylonitrile film And polymers having a cycloaliphatic structure (norbornene resin (Arton: trade name, manufactured by JSR Corporation, amorphous polyolefin (ZEONEX: trade name, manufactured by ZEON Corporation)), etc. Among these, cellulose An acylate film is preferred.
  • the support may be a temporary support that is peeled off after the hard coat layer is formed.
  • the film thickness of the support may be about 1 ⁇ m to 1000 ⁇ m, and since it is preferable to make it thinner in accordance with the mobile application, it is more preferably 1 ⁇ m to 100 ⁇ m, and more preferably 1 ⁇ m to 25 ⁇ m.
  • the hard coat film of this invention can be manufactured by apply
  • the acid generator When the hard coat layer forming composition containing the resin (a) and (b) acid generator is used, the acid generator generates acid by irradiating with ionizing radiation in the drying and curing steps. The acid decomposes the acid-decomposable group of the resin (a) and increases the hydrophilicity.
  • the hard coat layer-forming composition containing the resin (a) is coated on a support, and the obtained hard coat layer is subjected to an acid treatment. The acid-decomposable group of the resin (a) is decomposed and the hydrophilicity is increased.
  • Each layer of the hard coat film of the present invention can be formed by the following coating method, but is not limited to this method. Dip coating method, air knife coating method, curtain coating method, roller coating method, wire bar coating method, gravure coating method, slide coating method and extrusion coating method (die coating method) (see Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-164788), Known methods such as a micro gravure coating method are used, and among them, a micro gravure coating method and a die coating method are preferable.
  • drying and curing conditions Preferred examples of drying and curing methods in the case where the hard coat layer and the like in the present invention are formed by coating will be described below.
  • it is effective to cure by combining the irradiation with ionizing radiation and the heat treatment before, simultaneously with or after the irradiation.
  • the pattern of some manufacturing processes is shown below, it is not limited to these. (The following “-” indicates that no heat treatment was performed.)
  • a step of performing a heat treatment simultaneously with ionizing radiation curing is also preferable.
  • the heat treatment is not particularly limited as long as it does not damage the support layer of the hard coat film and the constituent layers including the hard coat layer, but it is preferably 30 to 150 ° C., more preferably 30 to 80 ° C.
  • the time required for the heat treatment is 15 seconds to 1 hour, preferably 20 seconds to 30 minutes, and most preferably 30 seconds to 5 minutes, although it depends on the molecular weight of the components used, interaction with other components, viscosity, and the like.
  • an ultraviolet-ray is used widely.
  • the coating film is ultraviolet-curable, preferably to cure each layer by an irradiation amount of 10mJ / cm 2 ⁇ 1000mJ / cm 2 by an ultraviolet lamp.
  • the above-mentioned energy may be applied at once, or irradiation may be performed in divided portions.
  • the initial low illuminance is 150 mJ / cm 2 or less. It is preferable to irradiate ultraviolet rays, and then to irradiate ultraviolet rays having a high illuminance of 50 mJ / cm 2 or more, and to apply a higher irradiation dose later than the initial stage.
  • the acid generator (b) it is preferable to irradiate a high dose, and UV irradiation of 200 mJ / cm 2 or more is preferable.
  • the acid treatment includes an acid for neutralization when saponifying the film. Processing.
  • the acid treatment conditions are not particularly limited, but it is preferable to immerse the film in a 0.01 to 1 mol / L sulfuric acid aqueous solution for 5 seconds to 10 minutes, and then wash and dry.
  • the hard coat film of the present invention is preferably produced by the above-described method for producing a hard coat film of the present invention.
  • the hard coat film of the present invention has a configuration in which a hard coat layer is coated on a support in the simplest configuration.
  • the example of the preferable layer structure of the hard coat film of this invention is shown below, it is not necessarily limited only to these layer structures.
  • the thickness of the hard coat layer of the present invention can be selected according to the target hardness, but is preferably 1 to 50 ⁇ m. This is because the hard coat film of the present invention has a very small curl, and even if the hard coat layer is made thick, there is no problem in handling.
  • the hard coat layer is preferably designed to have a thickness of 3 to 10 ⁇ m.
  • the polarizing plate of the present invention has at least one hard coat film of the present invention and a polarizer.
  • the film is subjected to a saponification treatment including an acid treatment and then bonded to a polarizer.
  • the hard coat film of the present invention can be used as a protective film for a polarizing plate.
  • the production method of a polarizing plate is not specifically limited, It can produce by a general method.
  • the polarizing plate is composed of a polarizer and a protective film for protecting both surfaces of the polarizer. Further, the polarizing plate is composed of a protective film on one surface and a separate film on the other surface.
  • the protective film and the separate film are used for the purpose of protecting the polarizing plate at the time of shipping the polarizing plate and at the time of product inspection.
  • the protect film is bonded for the purpose of protecting the surface of the polarizing plate, and is used on the side opposite to the surface where the polarizing plate is bonded to the liquid crystal plate.
  • a separate film is used in order to cover the adhesive layer bonded to a liquid crystal plate, and is used for the surface side which bonds a polarizing plate to a liquid crystal plate.
  • the touch panel display of the present invention includes a liquid crystal cell and the polarizing plate of the present invention on the viewing side of the liquid crystal cell, and an OCR (Optically Clear Resin) or OCA (OCA) on the surface opposite to the liquid crystal cell of the polarizing plate. It is preferable to include (Optically clear adhesive).
  • Hard coat layer forming compositions (hard coat layer coating solutions) A01 to A25 having the compositions shown in Tables 1 to 4 were prepared so that the solid content concentration was 50% by mass.
  • “%” represents “% by mass”
  • the numerical value in the solvent represents the content of each solvent with respect to the total solvent
  • the numerical values in the other components represent the hard coating layer coating solution.
  • the content rate in the component except a solvent is represented.
  • B2380 Bis (4-tert-butylphenyl) iodonium hexafluorophosphate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
  • ⁇ (d) component >> 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate: Cyclomer M100 (manufactured by Daicel Corporation, molecular weight 196) 3 ′, 4′-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate: Celoxide 2021P (manufactured by Daicel Corporation, molecular weight 252) ⁇ Glycidyl methacrylate:
  • solution polymerization was allowed to proceed under reflux at about 105 to 110 ° C., and further aging was performed for 4 hours.
  • the polymerization reaction rate was 96.6%, and the content (weight ratio) of MHMA in the obtained polymer was 20.0%.
  • the resin in the molten state left in the extruder is discharged from the tip of the extruder, pelletized by a pelletizer, and transparent pellets made of an acrylic resin having a lactone ring structure in the main chain Got.
  • the resin has a weight average molecular weight of 148,000, a melt flow rate (based on JIS K7120, obtained at a test temperature of 240 ° C. and a load of 10 kg, the same applies to the following production examples), 11.0 g / 10 min, glass transition The temperature was 130 ° C.
  • the pellets of the resin composition prepared above were melt-extruded from a coat hanger type T die using a twin-screw extruder to prepare a resin film having a thickness of about 120 ⁇ m.
  • the obtained unstretched resin film is simultaneously biaxially stretched 2.0 times in the longitudinal direction (length direction) and 2.0 times in the transverse direction (width direction), thereby protecting the polarizer protective film.
  • the acrylic substrate film thus obtained had a thickness of 30 ⁇ m, a total light transmittance of 92%, a haze of 0.25%, and a glass transition temperature of 127 ° C.
  • ⁇ Coating of hard coat layer> The transparent support to be used was unwound in the form of a roll, and hard coat films S01 to S25 were prepared using hard coat layer coating solutions A01 to A25. Specifically, each hard coat layer coating solution was applied at a transfer speed of 30 m / min by a die coating method using a slot die described in Example 1 of JP-A-2006-122889, and 150 seconds at 60 ° C.
  • sulfuric acid aqueous solution a 0.05 mol / L sulfuric acid aqueous solution was used for the hard coat film S11, and a 0.25 mol / L sulfuric acid aqueous solution was used for the hard coat film S12.
  • the produced hard coat films S01 to S25 were evaluated by the following evaluation methods.
  • the film thickness of the hard coat layer was calculated by measuring the film thickness of a hard coat film prepared with a contact-type film thickness meter, and subtracting the transparent support thickness measured in the same manner. In all of the hard coat films S01 to S25, the thickness of the hard coat layer was 7.5 ⁇ m.
  • a black tape for preventing back reflection was applied to the surface of the hard coat film opposite to the hard coat layer, and the hard coat film was visually observed from the surface of the hard coat layer and evaluated according to the following evaluation criteria.
  • DPHA KAYARD DPHA (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
  • Irgacure 127 Acylphosphine oxide photopolymerization initiator (BASF (manufactured))
  • Hollow silica particles Hollow silica particle dispersion (average particle size 45 nm, refractive index 1.25, surface treated with silane coupling agent having acryloyl group, MEK dispersion concentration 20%)
  • MEK methyl ethyl ketone
  • MMPG-Ac propylene glycol monomethyl ether acetate
  • the coating solution for the low refractive index layer was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1 ⁇ m to prepare a coating solution.
  • the low refractive index layer coating solution Ln-1 was applied to the side of the hard coat film on which the hard coat layer was applied.
  • saponified films were used.
  • the low refractive index layer was dried at 90 ° C. for 60 seconds, and the ultraviolet curing condition was 240 W / cm air-cooled metal halide lamp (eye graphics) while purging with nitrogen so that the atmosphere had an oxygen concentration of 0.01% by volume or less.
  • the irradiance was 600 mW / cm 2 and the irradiation amount was 300 mJ / cm 2 .
  • the low refractive index layer had a refractive index of 1.36 and a film thickness of 95 nm.
  • the hard coat film of the present invention had a low water contact angle on the surface, was excellent in surface shape and hardness, and had less repellency in other layers when laminated.
  • a hard coat film that is excellent in surface shape and hardness, has a small contact angle with respect to water on the surface, and is excellent in laminateability with other layers, a polarizing plate having this hard coat film, and a touch panel display. it can.

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Abstract

支持体の少なくとも一方の面に、（ａ）酸の作用により分解して親水性が増大する基を有し、フッ素原子及びケイ素原子から選択される少なくとも１種を含む基を有する樹脂と、（ｂ）酸発生剤とを含有するハードコート層形成用組成物から形成されるハードコート層を有するハードコートフィルム、又は上記（ａ）を含有するハードコート層形成用組成物から形成されるハードコート層を有するハードコートフィルムを、酸で処理することにより得られるハードコートフィルム、ハードコートフィルムを有する偏光板、及びタッチパネルディスプレイ。

Description

ハードコートフィルム、偏光板、及びタッチパネルディスプレイ
　本発明は、ハードコートフィルム、偏光板、及びタッチパネルディスプレイに関する。
　陰極管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、蛍光表示ディスプレイ（ＶＦＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）や液晶表示装置（ＬＣＤ）のような画像表示装置では、表示面への傷付きを防止するために、支持体上にハードコート層を有するハードコートフィルムを設けることが好適である。
　近年、タッチパネル用途など画像表示装置の多様化に伴い、ハードコート層上に他の機能性層を積層させる（リコート）要求が高まっており、他の層と積層しやすい、すわなち他の層との積層性（リコート性）に優れるハードコート層が求められている。ハードコート層上にリコートする場合、ハードコート層表面が親水的で濡れ性が高くないと、ハジキ状故障や塗布厚みムラなど上層の均質性（面状の平滑性）が損なわれる。しかし、一方で、ハードコート層には通常、ハードコート層自体の塗膜の均質性を高めるため、シリコーン系化合物や、含フッ素ポリマーなどのレベリング剤が添加されており、このレベリング剤の疎水性によってハードコート層表面は疎水化してしまう。よって、ハードコート層の面状とリコート性のトレードオフが問題となる。
　ハードコート層のレベリング性を損なわずに、リコート性のためにハードコート層表面を親水化させる方法としては、シリコーン系化合物や、含フッ素ポリマーを用いない方法がある。例えば、特許文献1に記載されているように、アニオン性、ノニオン性、又はベタイン性の炭化水素系界面活性剤をレベリング剤として用いる方法がある。また、特許文献２には、界面活性剤を用いずに、沸点及び粘度が特定の範囲の溶剤を特定量用いることでレベリング性を与える記載がされている。
　その他の親水化方法として、ハードコート層を塗設後にコロナ放電処理やグロー放電処理を行うことで表面を親水化させる方法が特許文献１に記載されている。
日本国特開２００１－２７２５０３号公報 日本国特開２０１１－２１２５５４号公報
　しかしながら、特許文献１に記載されているような炭化水素系の界面活性剤はシリコーン系化合物や、含フッ素ポリマーに対して疎水性が劣るため、その分レベリング性が損なわれてしまう。また、特許文献２のような、界面活性剤を用いない方法は、塗膜の乾燥過程で溶剤が揮発してしまうと、残ったハードコート層形成用組成物の表面張力は高いため、硬化されるまでに塗膜の均質性が損なわれる可能性があり、溶剤の揮発を硬化直前となるように厳密に制御する必要があり、非常に難しい。また、特許文献１に記載されている硬膜後にコロナ処理などの放電処理を施す方法は、プロセスの増加によって生産性が低下するだけでなく、高いエネルギーを照射させるため、膜の変形や、ピンホールの発生、面内の親水性の不均一性などが生じる場合がある。
　本発明の課題は、面状及び硬度に優れ、表面の水に対する接触角が小さく、他の層との積層性に優れるハードコートフィルム、このハードコートフィルムを有する偏光板、及びタッチパネルディスプレイを提供することにある。
　本発明者らは上記課題を解決するために鋭意検討した結果、ハードコート層形成用組成物中に、フッ素原子及びケイ素原子から選択される少なくとも1種を有し、かつ、酸の作用により分解して親水性が増大する基を有する樹脂を界面活性剤として添加し、酸と反応させることで、レベリング性に優れ、かつ表面の水に対する接触角が低く、他の層との積層性に優れるハードコートフィルムを作製できることを見出した。
　すなわち、下記の構成により上記課題を解決できる。
＜１＞
　支持体の少なくとも一方の面に、
（ａ）酸の作用により分解して親水性が増大する基を有し、フッ素原子及びケイ素原子から選択される少なくとも１種を含む基を有する樹脂と、
（ｂ）酸発生剤
とを含有するハードコート層形成用組成物から形成されるハードコート層を有するハードコートフィルム。
＜２＞
　支持体の少なくとも一方の面に、
（ａ）酸の作用により分解して親水性が増大する基を有し、フッ素原子及びケイ素原子から選択される少なくとも１種を含む基を有する樹脂
を含有するハードコート層形成用組成物から形成されるハードコート層を有するハードコートフィルムを、酸で処理することにより得られるハードコートフィルム。
＜３＞
　上記（ａ）において、上記酸の作用により分解して親水性が増大する基に、上記フッ素原子及びケイ素原子から選択される少なくとも１種を含む基が置換している、＜１＞又は＜２＞に記載のハードコートフィルム。
＜４＞
　上記ハードコート層形成用組成物が、更に、
（ｃ）分子内に３個以上のエチレン性不飽和二重結合基を有する化合物
を含む＜１＞～＜３＞のいずれかに記載のハードコートフィルム。
＜５＞
　上記ハードコート層形成用組成物が、更に、
（ｄ）分子内に１個以上のエポキシ基を有する化合物
を含む＜１＞～＜４＞のいずれかに記載のハードコートフィルム。
＜６＞
　上記（ｄ）が、分子内に１個の脂環式エポキシ基と１個のエチレン性不飽和二重結合基とを有し、分子量が３００以下の化合物である＜５＞に記載のハードコートフィルム。
＜７＞
　上記ハードコート層形成用組成物が、更に、
（ｅ）エポキシ基又はエチレン性不飽和二重結合基との反応性を有する無機微粒子
を含む＜１＞～＜６＞のいずれかに記載のハードコートフィルム。
＜８＞
　上記ハードコート層形成用組成物が、更に、
（ｆ）紫外線吸収剤
を含む＜１＞～＜７＞のいずれかに記載のハードコートフィルム。
＜９＞
　上記支持体がセルロースアシレートフィルムであって、上記支持体の厚みが２５μｍ以下である＜１＞～＜８＞のいずれかに記載のハードコートフィルム。
＜１０＞
　少なくとも１枚の＜１＞～＜９＞のいずれかに記載のハードコートフィルムと、偏光子とを含む偏光板。
＜１１＞
　液晶セルと、上記液晶セルの視認側に＜１０＞に記載の偏光板を含むタッチパネルディスプレイ。
　本発明により、面状及び硬度に優れ、表面の水に対する接触角が小さく、他の層との積層性に優れるハードコートフィルム、このハードコートフィルムを有する偏光板、及びタッチパネルディスプレイを提供することができる。
　以下、本発明を詳細に説明する。
　なお、本明細書において「～」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
　本明細書において、「（メタ）アクリル基」は、「アクリル基及びメタアクリル基のいずれか一方又は双方」の意味で使用される。（メタ）アクリル酸（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリロイル基なども同様である。
［ハードコートフィルム］
　本発明のハードコートフィルムは、
　支持体の少なくとも一方の面に、
（ａ）酸の作用により分解して親水性が増大する基を有し、フッ素原子及びケイ素原子から選択される少なくとも１種を含む基を有する樹脂と、
（ｂ）酸発生剤
とを含有するハードコート層形成用組成物から形成されるハードコート層を有するハードコートフィルム、
　又は、
　支持体の少なくとも一方の面に、
（ａ）酸の作用により分解して親水性が増大する基を有し、フッ素原子及びケイ素原子から選択される少なくとも１種を含む基を有する樹脂
を含有するハードコート層形成用組成物から形成されるハードコート層を有するハードコートフィルムを、酸で処理することにより得られるハードコートフィルムである。
＜ハードコート層＞
　本発明のハードコートフィルムのハードコート層について説明する。
（（ａ）酸の作用により分解して親水性が増大する基を有し、フッ素原子及びケイ素原子から選択される少なくとも１種を含む基を有する樹脂）
　本発明のハードコート層は、上記（ａ）の樹脂（「樹脂（ａ）」、「（ａ）成分」ともいう）を含有するハードコート層形成用組成物から形成される。
［酸分解性基］
　樹脂（ａ）は、樹脂の主鎖又は側鎖、あるいは、主鎖及び側鎖の両方に、酸の作用により分解し、親水性基を生じることで親水性が増大する基（「酸分解性基」ともいう）を有する。
　樹脂（ａ）は、側鎖に酸分解性基を有することが好ましく、酸の作用により分解して親水性が増大する基に、フッ素原子及びケイ素原子から選択される少なくとも１種を含む基が置換していることがより好ましい。
　樹脂（ａ）は、側鎖に酸分解性基を有する繰り返し単位を有することが更に好ましく、上記酸分解性基を有する繰り返し単位は、フッ素原子及びケイ素原子から選択される少なくとも１種を含む基で置換されていることが特に好ましい。
　酸分解性基は、親水性基を酸の作用により分解し脱離する基で保護された構造を有することが好ましい。
　親水性基としては、フェノール性水酸基、カルボキシル基、フッ素化アルコール基、スルホン酸基、スルホンアミド基、スルホニルイミド基、（アルキルスルホニル）（アルキルカルボニル）メチレン基、（アルキルスルホニル）（アルキルカルボニル）イミド基、ビス（アルキルカルボニル）メチレン基、ビス（アルキルカルボニル）イミド基、ビス（アルキルスルホニル）メチレン基、ビス（アルキルスルホニル）イミド基、トリス（アルキルカルボニル）メチレン基、トリス（アルキルスルホニル）メチレン基等が挙げられる。
　好ましい親水性基としては、カルボキシル基、フッ素化アルコール基（好ましくはヘキサフルオロイソプロパノール基）、スルホン酸基が挙げられる。
　酸分解性基として好ましい基は、これらの親水性基の水素原子を酸で脱離する基で置換した基である。
　酸で脱離する基としては、例えば、－Ｃ（Ｒ３６）（Ｒ３７）（Ｒ３８）、－Ｃ（Ｒ３６）（Ｒ３７）（ＯＲ３９）、－Ｃ（Ｒ０１）（Ｒ０２）（ＯＲ３９）等を挙げることができる。
　式中、Ｒ３６～Ｒ３９は、各々独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基又はアルケニル基を表す。Ｒ３６とＲ３７とは、互いに結合して環を形成してもよい。
　Ｒ０１及びＲ０２は、各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基又はアルケニル基を表す。
　酸分解性基としては好ましくは、クミルエステル基、エノールエステル基、アセタールエステル基、第３級のアルキルエステル基等である。更に好ましくは、第３級アルキルエステル基である。
　樹脂（ａ）が含有し得る、酸分解性基を有する繰り返し単位としては、下記一般式（ＡＩ）で表される繰り返し単位が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
　一般式（ＡＩ）に於いて、
　Ｘａ１は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基を表す。
　Ｔは、単結合又は２価の連結基を表す。
　Ｒｘ１～Ｒｘ３は、それぞれ独立に、アルキル基（直鎖若しくは分岐）又はシクロアルキル基（単環若しくは多環）を表す。
　Ｒｘ１～Ｒｘ３の２つが結合して、シクロアルキル基（単環若しくは多環）を形成してもよい。
　Ｘａ１により表される、置換基を有していてもよいアルキル基としては、例えば、メチル基又は－ＣＨ２－Ｒ１１で表される基が挙げられる。Ｒ１１は、ハロゲン原子（フッ素原子など）、ヒドロキシル基又は１価の有機基を表し、１価の有機基としては、例えば、炭素数５以下のアルキル基、炭素数５以下のアシル基が挙げられ、好ましくは炭素数３以下のアルキル基であり、更に好ましくはメチル基である。Ｘａ１は、一態様において、好ましくは水素原子、メチル基、トリフルオロメチル基又はヒドロキシメチル基等である。
　Ｔの２価の連結基としては、アルキレン基、－ＣＯＯ－Ｒｔ－基、－Ｏ－Ｒｔ－基等が挙げられる。式中、Ｒｔは、アルキレン基又はシクロアルキレン基を表す。
　Ｔは、単結合又は－ＣＯＯ－Ｒｔ－基が好ましい。Ｒｔは、炭素数１～５のアルキレン基が好ましく、－ＣＨ２－基、－（ＣＨ２）２－基、－（ＣＨ２）３－基がより好ましい。
　Ｒｘ１～Ｒｘ３のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｔ－ブチル基などの炭素数１～４のものが好ましい。
　Ｒｘ１～Ｒｘ３のシクロアルキル基としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などの単環のシクロアルキル基（好ましくは炭素数５～８の単環のシクロアルキル基）、ノルボルニル基、テトラシクロデカニル基、テトラシクロドデカニル基、アダマンチル基などの多環のシクロアルキル基（好ましくは炭素数７～１２の多環のシクロアルキル基）が好ましい。
　Ｒｘ１～Ｒｘ３の２つが結合して形成されるシクロアルキル基としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などの単環のシクロアルキル基、ノルボルニル基、テトラシクロデカニル基、テトラシクロドデカニル基、アダマンチル基などの多環のシクロアルキル基が好ましい。炭素数５～６の単環のシクロアルキル基が特に好ましい。
　Ｒｘ１～Ｒｘ３の２つが結合して形成される上記シクロアルキル基は、例えば、環を構成するメチレン基の１つが、酸素原子等のヘテロ原子、又は、カルボニル基等のヘテロ原子を有する基で置き換わっていてもよい。
　上記各基は、置換基を有していてもよく、置換基としては、例えば、アルキル基（好ましくは炭素数１～４）、ハロゲン原子、水酸基、アルコキシ基（好ましくは炭素数１～４）、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２～６）、フッ素原子及びケイ素原子から選択される少なくとも１種を含む基などが挙げられ、炭素数８以下が好ましい。フッ素原子及びケイ素原子から選択される少なくとも１種を含む基としては、フルオロアルキル基（好ましくは炭素数１～６）、アルキルシリル基（好ましくは炭素数３～８）が好ましい。
　酸分解性基を有する繰り返し単位の合計としての含有量は、樹脂（ａ）中の全繰り返し単位に対し、２０～１００ｍｏｌ％であることが好ましく、３０～９５ｍｏｌ％であることがより好ましく、４０～９０ｍｏｌ％であることが更に好ましい。
　好ましい酸分解性基を有する繰り返し単位の具体例を以下に示すが、本発明は、これに限定されるものではない。
　具体例中、Ｒｘは、水素原子、ＣＨ３、ＣＦ３、又はＣＨ２ＯＨを表す。Ｒｘａ、Ｒｘｂはそれぞれ独立に炭素数１～４のアルキル基を表す。Ｚは置換基を表す。この置換基としては、フルオロアルキル基（好ましくは炭素数１～６）、アルキルシリル基（好ましくは炭素数３～８）、又は極性基を含む置換基を表し、複数存在する場合は各々独立である。ｐは０又は正の整数を表す。Ｚにより表される極性基を含む置換基としては、例えば、水酸基、シアノ基、アミノ基、アルキルアミド基又はスルホンアミド基を有する、直鎖又は分岐のアルキル基、シクロアルキル基が挙げられ、好ましくは、水酸基を有するアルキル基である。分岐状アルキル基としてはイソプロピル基が特に好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
　樹脂（ａ）は、一般式（ＡＩ）で表される繰り返し単位として、例えば、一般式（３）で表される繰り返し単位を含有していてもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
　一般式（３）中、
　Ｒ３１は、水素原子又はアルキル基を表す。
　Ｒ３２は、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基又はｓｅｃ－ブチル基を表す。
　Ｒ３３は、Ｒ３２が結合している炭素原子とともに単環の脂環炭化水素構造を形成するのに必要な原子団を表す。上記脂環炭化水素構造は、環を構成する炭素原子の一部が、ヘテロ原子、又は、ヘテロ原子を有する基で置換されていてもよい。
　Ｒ３１のアルキル基は、置換基を有していてもよく、上記置換基としてはフッ素原子、水酸基などが挙げられる。
　Ｒ３１は、好ましくは水素原子、メチル基、トリフルオロメチル基又はヒドロキシメチル基を表す。
　Ｒ３２は、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、又は、イソプロピル基であることが好ましく、メチル基、又は、エチル基であることがより好ましい。
　Ｒ３３が炭素原子とともに形成する単環の脂環炭化水素構造は、３～８員環であることが好ましく、５又は６員環であることがより好ましい。
　Ｒ３３が炭素原子とともに形成する単環の脂環炭化水素構造において、環を構成し得るヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子等が挙げられ、ヘテロ原子を有する基としては、カルボニル基等が挙げられる。ただし、ヘテロ原子を有する基は、エステル基（エステル結合）ではないことが好ましい。
　Ｒ３３が炭素原子とともに形成する単環の脂環炭化水素構造は、炭素原子と水素原子とのみから形成されることが好ましい。
　一般式（３）で表される構造を有する繰り返し単位の具体例を以下に挙げるが、これらに限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
　樹脂（ａ）は、一般式（ＡＩ）で表される繰り返し単位として、例えば、一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位及び一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位の少なくともいずれかを有する樹脂であることがより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
　一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）中、
　Ｒ１及びＲ３は、各々独立して、水素原子、置換基を有していてもよいメチル基又は－ＣＨ２－Ｒ１１で表される基を表す。Ｒ１１はヒドロキシル基又は１価の有機基を表す。
　Ｒ２、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、各々独立して、アルキル基又はシクロアルキル基を表す。
　Ｒは、Ｒ２が結合する炭素原子とともに脂環構造を形成するのに必要な原子団を表す。
　Ｒ１及びＲ３は、好ましくは水素原子、メチル基、トリフルオロメチル基又はヒドロキシメチル基を表す。Ｒ１１における１価の有機基の具体例及び好ましい例は、一般式（ＡＩ）のＲ１１で記載したものと同様である。
　Ｒ２におけるアルキル基は、直鎖型でも分岐型でもよく、置換基を有していてもよい。
　Ｒ２におけるシクロアルキル基は、単環でも多環でもよく、置換基を有していてもよい。
　Ｒ２は好ましくはアルキル基であり、より好ましくは炭素数１～１０、更に好ましくは炭素数１～５のアルキル基であり、例えばメチル基、エチル基などが挙げられる。
　Ｒは、炭素原子とともに脂環構造を形成するのに必要な原子団を表す。Ｒが上記炭素原子とともに形成する脂環構造としては、好ましくは、単環の脂環構造であり、その炭素数は好ましくは３～７、より好ましくは５又は６である。
　Ｒ３は好ましくは水素原子又はメチル基であり、より好ましくはメチル基である。
　Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６におけるアルキル基は、直鎖型でも分岐型でもよく、置換基を有していてもよい。アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｔ－ブチル基などの炭素数１～４のものが好ましい。
　Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６におけるシクロアルキル基は、単環でも多環でもよく、置換基を有していてもよい。シクロアルキル基としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などの単環のシクロアルキル基（炭素数５～８の単環のシクロアルキル基）、ノルボルニル基、テトラシクロデカニル基、テトラシクロドデカニル基、アダマンチル基などの多環のシクロアルキル基（好ましくは炭素数７～１２の多環のシクロアルキル基）が好ましい。
　上記各基が有し得る置換基としては、上記一般式（ＡＩ）における各基が有し得る置換基として前述したものと同様の基が挙げられる。置換基としてはフッ素原子及びケイ素原子から選択される少なくとも１種を含む基が好ましい。
　樹脂（ａ）は、一般式（ＡＩ）により表される繰り返し単位として、一般式（Ｉ）により表される繰り返し単位及び一般式（ＩＩ）により表される繰り返し単位を含んだ樹脂であってもよい。
　また、他の形態において、一般式（ＡＩ）により表される繰り返し単位として、一般式（Ｉ）により表される繰り返し単位の少なくとも２種を含んだ樹脂であってもよい。一般式（Ｉ）の繰り返し単位を２種以上含む場合は、Ｒが炭素原子とともに形成する脂環構造が単環の脂環構造である繰り返し単位と、Ｒが炭素原子とともに形成する脂環構造が多環の脂環構造である繰り返し単位とを両方含むことが好ましい。単環の脂環構造としては、炭素数５～８が好ましく、炭素数５若しくは６がより好ましく、炭素数５が特に好ましい。多環の脂環構造としては、ノルボルニル基、テトラシクロデカニル基、テトラシクロドデカニル基、アダマンチル基が好ましい。
　樹脂（ａ）が含有する酸分解性基を有する繰り返し単位は、１種であってもよいし２種以上を併用していてもよい。併用する場合の、以下に挙げる組み合わせが好ましい。下式において、Ｒは、各々独立に、水素原子又はメチル基を表す。
　なお、以下に挙げる組み合わせに用いられている一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位及び一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位は、各々の好ましい具体例としても挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
　酸分解性基を有する繰り返し単位は、更に、後述するフッ素原子及びケイ素原子から選択される少なくとも１種を含む基で置換されていることが好ましい。
　本発明は、樹脂（ａ）を含むハードコート層形成用組成物から形成されるハードコート層を有するものであり、支持体上にハードコート層形成用組成物を塗設した状態では、フッ素原子又はケイ素原子がハードコート層表面に偏在し、優れた面状を示すため、ハードコート層の塗布、乾燥時に風ムラを防止することができる。
　また、後述の（ｂ）酸発生剤を含有するハードコート層形成用組成物を用いる場合においては、ハードコート層を硬膜する際に紫外線（ＵＶ）などの電離放射線を照射することにより、また、（ｂ）を含有しないハードコート層形成用組成物を用いる場合においては、酸処理（例えば、ハードコート層を硬膜した後、フィルムに鹸化処理を行う際の中和のための酸処理）を施すことにより、酸分解性基が分解し、極性変換がなされることによって、ハードコート層表面を親水化することができ、ハードコート層上への他の層の積層性を向上させることができる。
　このため、酸分解性基を有する繰り返し単位が、フッ素原子及びケイ素原子から選択される少なくとも１種を含む基によって置換されている場合、酸分解性基の位置は、１つの側鎖上において、フッ素原子又はケイ素原子よりも主鎖に近いことが好ましい。すなわち、酸で脱離する基が、フッ素原子及びケイ素原子から選択される少なくとも１種を含む基を含む基であることが好ましい。
　具体的には、一般式（ＡＩ）におけるＲｘ１～Ｒｘ３が表すアルキル基又はシクロアルキル基中の水素原子がフッ素原子及びケイ素原子から選択される少なくとも１種を含む基で置換されていることが好ましく、一般式（３）におけるＲ３３が表す原子団中の水素原子、一般式（Ｉ）におけるＲが表す原子団中の水素原子、又は一般式（ＩＩ）におけるＲ４～Ｒ６が表すアルキル基又はシクロアルキル基中の水素原子が、フッ素原子及びケイ素原子から選択される少なくとも１種を含む基で置換されていることがより好ましい。
　本発明のハードコートフィルムに対して、ＵＶ等の電離放射線照射や酸処理を施すと、樹脂（ａ）において疎水性基が分解し親水性基となることで親水性が増大するため、ハードコート層表面の水に対する接触角が小さくなり、親水的になる。具体的には、電離放射線照射（好ましくは、１０ｍＪ／ｃｍ２～１０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線照射）、又は酸処理（好ましくは、０．０１～１ｍｏｌ／Ｌの硫酸水溶液浸漬）を施した場合に、ハードコート層と水との接触角は、７５°以下であることが好ましく、より好ましくは６０°以下、最も好ましくは５０°以下である。下限については１０°以上であることが好ましい。
　なお、酸発生剤による酸又は酸処理により酸分解性基が分解する前のハードコートフィルムも、分解後のハードコートフィルムも本発明に包含される。
［フッ素原子及びケイ素原子から選択される少なくとも１種を含む基］
　樹脂（ａ）は、フッ素原子及びケイ素原子から選択された少なくとも１種の原子を含む基を有する。
　フッ素原子を含む基としては、フッ素原子を有するアルキル基、フッ素原子を有するシクロアルキル基、又は、フッ素原子を有するアリール基を有する構造であることが好ましい。
　フッ素原子を有するアルキル基（好ましくは炭素数１～１０、より好ましくは炭素数１～４）は、少なくとも１つの水素原子がフッ素原子で置換された直鎖又は分岐アルキル基であり、更に他の置換基を有していてもよい。
　フッ素原子を有するシクロアルキル基は、少なくとも１つの水素原子がフッ素原子で置換された単環又は多環のシクロアルキル基であり、更に他の置換基を有していてもよい。
　フッ素原子を有するアリール基としては、フェニル基、ナフチル基などのアリール基の少なくとも１つの水素原子がフッ素原子で置換されたものが挙げられ、更に他の置換基を有していてもよい。
　フッ素原子を有するアルキル基、フッ素原子を有するシクロアルキル基、又は、フッ素原子を有するアリール基として、好ましくは、下記一般式（Ｆ２）～（Ｆ４）のいずれかで表される基を挙げることができるが、本発明は、これに限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
　一般式（Ｆ２）～（Ｆ４）中、
　Ｒ５７～Ｒ６８は、各々独立に、水素原子、フッ素原子又はアルキル基（直鎖若しくは分岐）を表す。Ｒ６２とＲ６３とが結合してシクロアルキル基を形成してもよい。但し、Ｒ５７～Ｒ６１の少なくとも１つ、Ｒ６２～Ｒ６４の少なくとも１つ及びＲ６５～Ｒ６８の少なくとも１つは、フッ素原子又は少なくとも１つの水素原子がフッ素原子で置換されたアルキル基（好ましくは炭素数１～５）を表す。
　Ｒ５７～Ｒ６１及びＲ６５～Ｒ６７は、全てがフッ素原子であることが好ましい。Ｒ６２～Ｒ６４は、全てがフッ素原子であるか、フッ素原子又は炭素数１～５のパーフルオロアルキル基であることが好ましい。
　Ｒ６８は、フルオロアルキル基（好ましくは炭素数１～４）が好ましく、炭素数１～４のパーフルオロアルキル基であることが更に好ましい。Ｒ６２とＲ６３は、互いに連結して環を形成してもよい。
　一般式（Ｆ２）で表される基の具体例としては、例えば、ｐ－フルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、３，５－ジ（トリフルオロメチル）フェニル基等が挙げられる。
　一般式（Ｆ３）で表される基の具体例としては、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロプロピル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロブチル基、ヘキサフルオロイソプロピル基、ヘプタフルオロイソプロピル基、ヘキサフルオロ（２－メチル）イソプロピル基、ノナフルオロブチル基、オクタフルオロイソブチル基、ノナフルオロヘキシル基、ノナフルオロ－ｔ－ブチル基、パーフルオロイソペンチル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロ（トリメチル）ヘキシル基、２，２，３，３－テトラフルオロシクロブチル基、パーフルオロシクロヘキシル基、－（ＣＦ２）６Ｈなどが挙げられる。なかでも、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロプロピル基が好ましい。
　一般式（Ｆ４）で表される基の具体例としては、例えば、－Ｃ（ＣＦ３）２ＯＨ、－Ｃ（Ｃ２Ｆ５）２ＯＨ、－Ｃ（ＣＦ３）（ＣＨ３）ＯＨ、－ＣＨ（ＣＦ３）ＯＨ等が挙げられ、－Ｃ（ＣＦ３）２ＯＨが好ましい。
　フッ素を含む部分構造は、直接結合しても良く、更に、アルキレン基、フェニレン基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、エステル基、アミド基、ウレタン基、又はウレイレン基よりなる群から選択される単独あるいは２つ以上の基の組み合わせを介して結合しても良い。
　ケイ素原子を有する部分構造（基）として、アルキルシリル基（好ましくはトリアルキルシリル基）、又は環状シロキサン構造を有する基であることが好ましい。
　アルキルシリル基、又は環状シロキサン構造を有する基としては、具体的には、下記一般式（ＣＳ－１）～（ＣＳ－３）で表される基などが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
　一般式（ＣＳ－１）～（ＣＳ－３）に於いて、
　Ｒ１２～Ｒ２６は、各々独立に、直鎖若しくは分岐アルキル基（好ましくは炭素数１～２０）又はシクロアルキル基（好ましくは炭素数３～２０）を表す。
　Ｌ３～Ｌ５は、各々独立に、単結合又は２価の連結基を表す。２価の連結基としては、アルキレン基、フェニレン基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、エステル基、アミド基、ウレタン基、又はウレイレン基よりなる群から選択される単独あるいは２つ以上の基の組み合わせを挙げられる。
　ｎは、１～５の整数を表す。
　フッ素原子及びケイ素原子から選択される少なくとも１種を含む基は、上記の酸分解性基を含む繰返し単位において含まれていても、酸分解性基を含まないその他の繰返し単位において含まれていてもよいが、酸分解性基を含む繰返し単位において含まれていることが好ましく、酸で脱離する基がフッ素原子及びケイ素原子から選択される少なくとも１種を含む基を含む基であることがより好ましい。
　樹脂（ａ）がフッ素原子を有する場合、フッ素原子の含有率は、樹脂（ａ）の分子量に対し、５～８０質量％であることが好ましく、１０～８０質量％であることがより好ましい。また、フッ素原子を含む繰り返し単位が、樹脂（ａ）中の全繰り返し単位に対し、１０～１００ｍｏｌ％であることが好ましく、３０～１００ｍｏｌ％であることがより好ましい。
　樹脂（ａ）がケイ素原子を有する場合、ケイ素原子の含有率は、樹脂（ａ）の分子量に対し、２～５０質量％であることが好ましく、２～３０質量％であることがより好ましい。また、ケイ素原子を含む繰り返し単位は、樹脂（ａ）の全繰り返し単位に対し、１０～９０ｍｏｌ％であることが好ましく、２０～８０ｍｏｌ％であることがより好ましい。
　樹脂（ａ）は、更に、その他の繰り返し単位を有していてもよい。その他の繰り返し単位の好ましい態様としては酸に対して安定であり、かつアルカリ溶液に対して難溶若しくは不溶である繰り返し単位（ｃｙ）が挙げられる。
　（ｃｙ）の繰り返し単位における、アルカリ溶液に難溶若しくは不溶とは、（ｃｙ）がアルカリ可溶性基や、酸やアルカリ溶液の作用によりアルカリ可溶性基を生じる基（例えば酸分解性基や極性変換基）を含まないことを示す。
　繰り返し単位（ｃｙ）は極性基を持たない脂環炭化水素構造を有することが好ましい。
　以下に繰り返し単位（ｃｙ）の好ましい態様を示す。
繰り返し単位（ｃｙ）としては、下記一般式（ＣＩＩＩ）で表される繰り返し単位であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
　一般式（ＣＩＩＩ）に於いて、
ＲＣ３１は、水素原子、フッ素原子で置換されていても良いアルキル基、シアノ基又は－ＣＨ２Ｏ－Ｒａｃ２基を表す。式中、Ｒａｃ２は、水素原子、アルキル基又はアシル基を表す。ＲＣ３１は、水素原子、メチル基、ヒドロキシメチル基、トリフルオロメチル基が好ましく、水素原子、メチル基が特に好ましい。
　ＲＣ３２は、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基を有する基を表す。これら基はフッ素原子、ケイ素原子で置換されていても良い。　
　ＬＣ３は、単結合又は２価の連結基を表す。
　一般式（ＣＩＩＩ）に於ける、ＲＣ３２のアルキル基は、炭素数３～２０の直鎖若しくは分岐状アルキル基が好ましい。　
　シクロアルキル基は、炭素数３～２０のシクロアルキル基が好ましい。　
　アルケニル基は、炭素数３～２０のアルケニル基が好ましい。　
　シクロアルケニル基は、炭素数３～２０のシクロアルケニル基が好ましい。
　ＲＣ３２は無置換のアルキル基又はフッ素原子で置換されたアルキル基が好ましい。
　ＬＣ３の２価の連結基は、エステル基、アルキレン基（好ましくは炭素数１～５）、オキシ基、フェニレン基、エステル結合（－ＣＯＯ－で表される基）が好ましい。
　繰り返し単位（ｃｙ）としては、下記一般式（Ｃ４）又は（Ｃ５）で表される繰り返し単位であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
　一般式（Ｃ４）中、ＲＣ５は少なくとも一つの環状構造を有し、水酸基及びシアノ基のいずれも有さない炭化水素基を表す。 
　Ｒａｃは水素原子、フッ素原子で置換されていても良いアルキル基、シアノ基又は－ＣＨ２－Ｏ－Ｒａｃ２基を表す。式中、Ｒａｃ２は、水素原子、アルキル基又はアシル基を表す。Ｒａｃは、水素原子、メチル基、ヒドロキシメチル基、トリフルオロメチル基が好ましく、水素原子、メチル基が特に好ましい。
　ＲＣ５が有する環状構造には、単環式炭化水素基及び多環式炭化水素基が含まれる。単環式炭化水素基としては、たとえば、炭素数３～１２のシクロアルキル基、炭素数３～１２のシクロアルケニル基が挙げられる。好ましい単環式炭化水素基としては、炭素数３から７の単環式炭化水素基である。
　多環式炭化水素基には環集合炭化水素基、架橋環式炭化水素基が含まれる。架橋環式炭化水素環として、２環式炭化水素環、３環式炭化水素環、４環式炭化水素環などが挙げられる。また、架橋環式炭化水素環には、縮合環式炭化水素環（例えば、５～８員シクロアルカン環が複数個縮合した縮合環）も含まれる。好ましい架橋環式炭化水素環としてノルボニル基、アダマンチル基が挙げられる。
　これらの脂環式炭化水素基は置換基を有していても良く、好ましい置換基としてはハロゲン原子、アルキル基、保護基で保護されたヒドロキシル基、保護基で保護されたアミノ基などが挙げられる。好ましいハロゲン原子としては臭素、塩素、フッ素原子、好ましいアルキル基としてはメチル、エチル、ブチル、ｔ－ブチル基が挙げられる。上記のアルキル基は更に置換基を有していても良く、更に有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、保護基で保護されたヒドロキシル基、保護基で保護されたアミノ基を挙げることができる。
　保護基としては、たとえばアルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、置換メチル基、置換エチル基、アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基が挙げられる。好ましいアルキル基としては、炭素数１～４のアルキル基、好ましい置換メチル基としてはメトキシメチル、メトキシチオメチル、ベンジルオキシメチル、ｔ－ブトキシメチル、２－メトキシエトキシメチル基、好ましい置換エチル基としては、１－エトキシエチル、１－メチル－１－メトキシエチル、好ましいアシル基としては、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、ピバロイル基などの炭素数１～６の脂肪族アシル基、アルコキシカルボニル基としては炭素数１～４のアルコキシカルボニル基などが挙げられる。
　一般式（Ｃ５）中、ＲＣ６はアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボニルオキシ基を表す。これら基はフッ素原子、ケイ素原子で置換されていても良い。
　ＲＣ６のアルキル基は、炭素数１～２０の直鎖若しくは分岐状アルキル基が好ましい。シクロアルキル基は、炭素数３～２０のシクロアルキル基が好ましい。 
　アルケニル基は、炭素数３～２０のアルケニル基が好ましい。 
　シクロアルケニル基は、炭素数３～２０のシクロアルケニル基が好ましい。
　アルコキシカルボニル基は、炭素数２～２０のアルコキシカルボニル基が好ましい。
　アルキルカルボニルオキシ基は、炭素数２～２０のアルキルカルボニルオキシ基が好ましい。
　ｎは０～５の整数を表す。ｎが２以上の場合、複数のＲc６は同一でも異なっていても良い。
　ＲＣ６は無置換のアルキル基又はフッ素原子で置換されたアルキル基が好ましく、トリフルオロメチル基、ｔ－ブチル基が特に好ましい。
　（ｃｙ）としては、下記一般式（ＣＩＩ－ＡＢ）で表される繰り返し単位であることも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
　式（ＣＩＩ-ＡＢ）中、
　ＲＣ１１'及びＲＣ１２'は、各々独立に、水素原子、シアノ基、ハロゲン原子又はアルキル基を表す。
　Ｚｃ'は、結合した２つの炭素原子（Ｃ－Ｃ）を含み、脂環式構造を形成するための原子団を表す。
　また、上記一般式（ＣＩＩ-ＡＢ）は、下記一般式（ＣＩＩ－ＡＢ１）又は一般式（ＣＩＩ－ＡＢ２）であることが更に好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
　式（ＣＩＩ－ＡＢ１）及び（ＣＩＩ－ＡＢ２）中、
　ＲＣ１３'～ＲＣ１６'は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基あるいはシクロアルキル基を表す。
　また、ＲＣ１３'～ＲＣ１６'のうち少なくとも２つが結合して環を形成してもよい。
　ｎは０又は１を表す。
　以下に（ｃｙ）の具体例を以下に挙げるが、本発明はこれらに限定されない。式中、Ｒａは、Ｈ、ＣＨ３、ＣＨ２ＯＨ、ＣＦ３又はＣＮを表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
　（ｃｙ）で表される繰り返し単位の含有率は、樹脂（ａ）中の全繰り返し単位に対し、５～４０ｍｏｌ％が好ましく、より好ましくは５～３０ｍｏｌ％である。
　樹脂（ａ）は（ｃｙ）で表される繰り返し単位を複数有していてもよい。
　本発明の組成物に用いられる樹脂（ａ）は、上記の繰り返し構造単位以外に、様々な繰り返し構造単位を有することができる。
　このような繰り返し構造単位としては、下記の単量体に相当する繰り返し構造単位を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
　このような単量体として、例えばアクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類等から選ばれる付加重合性不飽和結合を１個有する化合物等を挙げることができる。
　その他にも、上記種々の繰り返し構造単位に相当する単量体と共重合可能である付加重合性の不飽和化合物であれば、共重合されていてもよい。
　樹脂（ａ）の標準ポリスチレン換算の重量平均分子量は、好ましくは１，０００～１００,０００で、より好ましくは１，０００～５０,０００、更により好ましくは２，０００～１５，０００である。なお本発明における重量平均分子量とは、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）によりポリスチレン換算で測定される重量平均分子量を言うものとする。重量平均分子量の具体的な測定条件の一例としては、以下の測定条件を挙げることができる。
　ＧＰＣ装置：ＨＬＣ－８１２０（東ソー製）
　カラム：ＴＳＫ ｇｅｌＭｕｌｔｉｐｏｒｅ ＨＸＬ－Ｍ（東ソー製、７．８ｍｍＩＤ(内径)×３０．０ｃｍ）
　溶離液：テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）
　ハードコート層形成層組成物の全固形分中の樹脂（ａ）の含有率は、適宜調整できるが、ハードコート層形成層組成物の全固形分を基準として、０．０００１～１質量％であることが好ましく、より好ましくは０．０００５～０．１質量％であり、より好ましくは０．００１～０．０５質量％である。
　樹脂（ａ）は、常法に従って合成、精製することができ、金属等の不純物が少ないのは当然のことながら、残留単量体やオリゴマー成分が０～１０質量％であることが好ましく、より好ましくは０～５質量％、０～１質量％が更により好ましい。それにより、液中異物や感度等の経時変化のないレジストが得られる。また、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ、分散度ともいう）は、１～３の範囲が好ましく、より好ましくは１～２、更に好ましくは１～１．８、最も好ましくは１～１．５の範囲である。
　樹脂（ａ）は、各種市販品を利用することもできるし、常法に従って（例えばラジカル重合）合成することができる。
　樹脂（ａ）の具体例を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
  
・構造が（Ａ－１）で、ａ：ｂ＝５０：５０（モル比）、Ｍｗ＝７０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．４の樹脂
・構造が（Ａ－１）で、ａ：ｂ＝３０：７０（モル比）、Ｍｗ＝９０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．４の樹脂
・構造が（Ａ－１）で、ａ：ｂ＝１０：９０（モル比）、Ｍｗ＝６０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．３の樹脂
・構造が（Ａ－２）で、Ｍｗ＝１００００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．５の樹脂
・構造が（Ａ－３）で、Ｍｗ＝８０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．４の樹脂
・構造が（Ａ－４）で、Ｍｗ＝１２０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．５の樹脂
　樹脂（ａ）は１種類単独又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。
≪（ｂ）酸発生剤≫
　本発明のハードコート層形成用組成物は、一つの態様として、（ｂ）酸発生剤（「（ｂ）成分ともいう」）を含む。
　酸発生剤としては、特に限定されないが、好ましくは下記一般式（ＺＩ’）、（ＺＩＩ’）、（ＺＩＩＩ’）で表される化合物を挙げることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
　上記一般式（ＺＩ’）において、Ｒ２０１、Ｒ２０２及びＲ２０３は、各々独立に、有機基を表す。
　Ｒ２０１、Ｒ２０２及びＲ２０３としての有機基の炭素数は、一般的に１～３０、好ましくは１～２０である。
　また、Ｒ２０１～Ｒ２０３のうち２つが結合して環構造を形成してもよく、環内に酸素原子、硫黄原子、エステル結合、アミド結合、カルボニル基を含んでいてもよい。Ｒ２０１～Ｒ２０３の内の２つが結合して形成する基としては、アルキレン基（例えば、ブチレン基、ペンチレン基）を挙げることができる。
　Ｒ２０１、Ｒ２０２及びＲ２０３により表される有機基としては、例えば、後述する化合物（ＺＩ’－１）における対応する基を挙げることができる。
　なお、一般式（ＺＩ’）で表される構造を複数有する化合物であってもよい。例えば、一般式（ＺＩ’）で表される化合物のＲ２０１～Ｒ２０３の少なくとも１つが、一般式（ＺＩ’）で表されるもうひとつの化合物のＲ２０１～Ｒ２０３の少なくとも一つと、単結合又は連結基を介して結合した構造を有する化合物であってもよい。
　Ｚ－は、非求核性アニオン（求核反応を起こす能力が著しく低いアニオン）を表す。
　Ｚ－としては、例えば、スルホン酸アニオン（脂肪族スルホン酸アニオン、芳香族スルホン酸アニオン、カンファースルホン酸アニオンなど）、カルボン酸アニオン（脂肪族カルボン酸アニオン、芳香族カルボン酸アニオン、アラルキルカルボン酸アニオンなど）、スルホニルイミドアニオン、ビス（アルキルスルホニル）イミドアニオン、トリス（アルキルスルホニル）メチドアニオン等を挙げられる。
　脂肪族スルホン酸アニオン及び脂肪族カルボン酸アニオンにおける脂肪族部位は、アルキル基であってもシクロアルキル基であってもよく、好ましくは炭素数１～３０の直鎖又は分岐のアルキル基及び炭素数３～３０のシクロアルキル基が挙げられる。
　芳香族スルホン酸アニオン及び芳香族カルボン酸アニオンにおける芳香族基としては、好ましくは炭素数６～１４のアリール基、例えば、フェニル基、トリル基、ナフチル基等を挙げることができる。
　上記で挙げたアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基は、置換基を有していてもよい。この具体例としては、ニトロ基、フッ素原子などのハロゲン原子、カルボキシル基、水酸基、アミノ基、シアノ基、アルコキシ基（好ましくは炭素数１～１５）、シクロアルキル基（好ましくは炭素数３～１５）、アリール基（好ましくは炭素数６～１４）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２～７）、アシル基（好ましくは炭素数２～１２）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは炭素数２～７）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１～１５）、アルキルスルホニル基（好ましくは炭素数１～１５）、アルキルイミノスルホニル基（好ましくは炭素数２～１５）、アリールオキシスルホニル基（好ましくは炭素数６～２０）、アルキルアリールオキシスルホニル基（好ましくは炭素数７～２０）、シクロアルキルアリールオキシスルホニル基（好ましくは炭素数１０～２０）、アルキルオキシアルキルオキシ基（好ましくは炭素数５～２０）、シクロアルキルアルキルオキシアルキルオキシ基（好ましくは炭素数８～２０）等を挙げることができる。各基が有するアリール基及び環構造については、置換基として更にアルキル基（好ましくは炭素数１～１５）を挙げることができる。
　アラルキルカルボン酸アニオンにおけるアラルキル基としては、好ましくは炭素数７～１２のアラルキル基、例えば、ベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基、ナフチルエチル基、ナフチルブチル基等を挙げることができる。
　スルホニルイミドアニオンとしては、例えば、サッカリンアニオンを挙げることができる。
　ビス（アルキルスルホニル）イミドアニオン、トリス（アルキルスルホニル）メチドアニオンにおけるアルキル基は、炭素数１～５のアルキル基が好ましい。
　ビス（アルキルスルホニル）イミドアニオンにおける２つのアルキル基が互いに連結してアルキレン基（好ましくは炭素数２～４）を成し、イミド基及び２つのスルホニル基とともに環を形成していてもよい。
　これらのアルキル基及びビス（アルキルスルホニル）イミドアニオンにおける２つのアルキル基が互いに連結して成すアルキレン基が有し得る置換基としてはハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されているアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルオキシスルホニル基、アリールオキシスルホニル基、シクロアルキルアリールオキシスルホニル基等を挙げることができ、フッ素原子又はフッ素原子で置換されているアルキル基が好ましい。
　その他のＺ－としては、例えば、弗素化燐（例えば、ＰＦ６ －）、弗素化硼素（例えば、ＢＦ４ －）、弗素化アンチモン（例えば、ＳｂＦ６ －）等を挙げることができる。
　Ｚ－としては、スルホン酸の少なくともα位がフッ素原子で置換されている脂肪族スルホン酸アニオン、フッ素原子又はフッ素原子を有する基で置換されている芳香族スルホン酸アニオン、アルキル基がフッ素原子で置換されているビス（アルキルスルホニル）イミドアニオン、アルキル基がフッ素原子で置換されているトリス（アルキルスルホニル）メチドアニオンが好ましい。非求核性アニオンとして、より好ましくはパーフロロ脂肪族スルホン酸アニオン（更に好ましくは炭素数４～８）、フッ素原子を有するベンゼンスルホン酸アニオン、更により好ましくはノナフロロブタンスルホン酸アニオン、パーフロロオクタンスルホン酸アニオン、ペンタフロロベンゼンスルホン酸アニオン、３，５－ビス（トリフロロメチル）ベンゼンスルホン酸アニオンである。
　酸強度の観点からは、発生酸のｐＫａが－１以下であることが、感度向上のために好ましい。
　更に好ましい（ＺＩ’）成分として、以下に説明する化合物（ＺＩ’－１）を挙げることができる。
　化合物（ＺＩ’－１）は、上記一般式（ＺＩ’）のＲ２０１～Ｒ２０３の少なくとも１つがアリール基である、アリールスルホニウム化合物、即ち、アリールスルホニウムをカチオンとする化合物である。
　アリールスルホニウム化合物は、Ｒ２０１～Ｒ２０３の全てがアリール基でもよいし、Ｒ２０１～Ｒ２０３の一部がアリール基で、残りがアルキル基又はシクロアルキル基でもよいが、Ｒ２０１～Ｒ２０３の全てがアリール基であることが好ましい。
　アリールスルホニウム化合物としては、例えば、トリアリールスルホニウム化合物、ジアリールアルキルスルホニウム化合物、アリールジアルキルスルホニウム化合物、ジアリールシクロアルキルスルホニウム化合物、アリールジシクロアルキルスルホニウム化合物を挙げることができ、トリアリールスルホニウム化合物であることが好ましい。
　アリールスルホニウム化合物のアリール基としてはフェニル基、ナフチル基が好ましく、更に好ましくはフェニル基である。アリール基は、酸素原子、窒素原子、硫黄原子等を有する複素環構造を有するアリール基であってもよい。複素環構造としては、ピロール残基、フラン残基、チオフェン残基、インドール残基、ベンゾフラン残基、ベンゾチオフェン残基等が挙げられる。アリールスルホニウム化合物が２つ以上のアリール基を有する場合に、２つ以上あるアリール基は同一であっても異なっていてもよい。
　アリールスルホニウム化合物が必要に応じて有しているアルキル基又はシクロアルキル基は、炭素数１～１５の直鎖又は分岐アルキル基及び炭素数３～１５のシクロアルキル基が好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔ－ブチル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基等を挙げることができる。
　Ｒ２０１～Ｒ２０３のアリール基、アルキル基、シクロアルキル基は、アルキル基（例えば炭素数１～１５）、シクロアルキル基（例えば炭素数３～１５）、アリール基（例えば炭素数６～１４）、アルコキシ基（例えば炭素数１～１５）、ハロゲン原子、水酸基、フェニルチオ基を置換基として有してもよい。好ましい置換基としては炭素数１～１２の直鎖又は分岐アルキル基、炭素数３～１２のシクロアルキル基、炭素数１～１２の直鎖、分岐又は環状のアルコキシ基であり、より好ましくは炭素数１～４のアルキル基、炭素数１～４のアルコキシ基である。置換基は、３つのＲ２０１～Ｒ２０３のうちのいずれか１つに置換していてもよいし、３つ全てに置換していてもよい。また、Ｒ２０１～Ｒ２０３がアリール基の場合に、置換基はアリール基のｐ－位に置換していることが好ましい。
　次に一般式（ＺＩＩ’）、（ＺＩＩＩ’）について説明する。
　一般式（ＺＩＩ’）、（ＺＩＩＩ’）中、Ｒ２０４～Ｒ２０７は、各々独立に、アリール基、アルキル基又はシクロアルキル基を表す。
　Ｒ２０４～Ｒ２０７のアリール基、アルキル基、シクロアルキル基としては、前述の化合物（ＺＩ’－１）におけるＲ２０１～Ｒ２０３のアリール基、アルキル基、シクロアルキル基として説明したアリール基と同様である。
　Ｒ２０４～Ｒ２０７のアリール基、アルキル基、シクロアルキル基は、置換基を有していてもよい。この置換基としても、前述の化合物（ＺＩ’－１）におけるＲ２０１～Ｒ２０３のアリール基、アルキル基、シクロアルキル基が有していてもよいものが挙げられる。
　Ｚ－は、非求核性アニオンを表し、一般式（ＺＩ’）に於けるＺ－の非求核性アニオンと同様のものを挙げることができる。
　本発明において使用し得る酸発生剤として、更に、下記一般式（ＺＩＶ’）、（ＺＶ’）、（ＺＶＩ’）で表される化合物も挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
　一般式（ＺＩＶ’）～（ＺＶＩ’）中、
　Ａｒ３及びＡｒ４は、各々独立に、アリール基を表す。
　Ｒ２０８、Ｒ２０９及びＲ２１０は、各々独立に、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基を表す。
　Ａは、アルキレン基、アルケニレン基又はアリーレン基を表す。
　Ａｒ３、Ａｒ４、Ｒ２０８、Ｒ２０９及びＲ２１０のアリール基の具体例としては、上記一般式（ＺＩ’－１）におけるＲ２０１、Ｒ２０２及びＲ２０３としてのアリール基の具体例と同様のものを挙げることができる。
　Ｒ２０８、Ｒ２０９及びＲ２１０のアルキル基及びシクロアルキル基の具体例としては、それぞれ、上記一般式（ＺＩ’－１）におけるＲ２０１、Ｒ２０２及びＲ２０３としてのアルキル基及びシクロアルキル基の具体例と同様のものを挙げることができる。
　Ａのアルキレン基としては、炭素数１～１２のアルキレン（例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基、ブチレン基、イソブチレン基など）を、Ａのアルケニレン基としては、炭素数２～１２のアルケニレン基（例えば、エテニレン基、プロペニレン基、ブテニレン基など）を、Ａのアリーレン基としては、炭素数６～１０のアリーレン基（例えば、フェニレン基、トリレン基、ナフチレン基など）を、それぞれ挙げることができる。
　本発明において、特に好適に用いられる酸発生剤としては、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、イミニウム塩が、光感度、化合物の素材安定性等の点から好ましく、中でも耐光性の観点でヨードニウム塩が最も好ましい。
　本発明において、好適に用いることのできる酸発生剤の具体例としては、例えば、特開平９－２６８２０５号公報の段落番号［００３５］に記載のアミル化されたスルホニウム塩、特開２０００－７１３６６号公報の段落番号［００１０］～［００１１］に記載のジアリールヨードニウム塩又はトリアリールスルホニウム塩、特開２００１－２８８２０５号公報の段落番号［００１７］に記載のチオ安息香酸Ｓ－フェニルエステルのスルホニウム塩、特開２００１－１３３６９６号公報の段落番号［００３０］～［００３３］に記載のオニウム塩等が挙げられる。
　他の例としては、特開２００２－２９１６２号公報の段落番号［００５９］～［００６２］に記載の有機金属／有機ハロゲン化物、ｏ－ニトロベンジル型保護基を有する光酸発生剤、光分解してスルホン酸を発生する化合物（イミノスルフォネート等）等の化合物が挙げられる。
　ヨードニウム塩系のカチオン重合開始剤の具体的な化合物としては、Ｂ２３８０（東京化成製）、ＢＢＩ－１０２（みどり化学製）、ＷＰＩ－１１３（和光純薬工業製）、ＷＰＩ－１２４（和光純薬工業製）、ＷＰＩ－１６９（和光純薬工業製）、ＷＰＩ－１７０（和光純薬工業製）、ＤＴＢＰＩ－ＰＦＢＳ（東洋合成化学製）を用いる事ができる。
　その他に本発明で好適に用いることのできる、酸発生剤の具体例を以下に挙げる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
 
 
　（ｂ）酸発生剤は、本発明におけるハードコート層形成用組成物の全固形分（溶剤を除いた全成分）を１００質量％とした場合に、０～５質量％含有されることが好ましく、０．２～４質量％がより好ましく、０．４～３質量％が更に好ましい。含有量が５質量％以下であるとフィルムの耐候性が良好となり、含有量が０．２質量％以上であると酸処理なしでも良好なリコート性を得ることができる。
　本発明におけるハードコート層形成用組成物は、更に、
（ｃ）分子内に３個以上のエチレン性不飽和二重結合基を有する化合物、
（ｄ）分子内に１個以上のエポキシ基を有する化合物、
（ｅ）エポキシ基又はエチレン性不飽和二重結合基との反応性を有する無機微粒子、
（ｆ）紫外線吸収剤
の少なくとも１種を含むことが好ましく、（ｄ）は、分子内に１個の脂環式エポキシ基と１個のエチレン性不飽和二重結合基とを有し、分子量が３００以下である化合物であることがより好ましい。
≪（ｃ）分子内に３個以上のエチレン性不飽和二重結合基を有する化合物≫
　本発明のハードコート層形成用組成物は、分子内に３個以上のエチレン性不飽和二重結合基を有する化合物（「化合物（ｃ）」、「（ｃ）成分」ともいう）を含むことが好ましい。
　エチレン性不飽和二重結合基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性官能基が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基及び－Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ２が好ましく、特に好ましくは（メタ）アクリロイル基である。エチレン性不飽和二重結合基を有する事によって、高い硬度を維持する事ができ、耐湿熱性も付与する事ができる。更に、分子内に３個以上のエチレン性不飽和二重結合基を有する事によって、より高い硬度を発現できる。
　化合物（ｃ）としては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル、ビニルベンゼン及びその誘導体、ビニルスルホン、（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。中でも硬度の観点から、３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物が好ましく、本業界で広範に用いられる高硬度の硬化物を形成するアクリレート系化合物が挙げられる。このような化合物としては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル｛例えば、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３－クロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。
　３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリレート系化合物類の具体化合物としては、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ、同ＤＰＨＡ－２Ｃ、同ＰＥＴ－３０、同ＴＭＰＴＡ、同ＴＰＡ－３２０、同ＴＰＡ－３３０、同ＲＰ－１０４０、同Ｔ－１４２０、同Ｄ－３１０、同ＤＰＣＡ－２０、同ＤＰＣＡ－３０、同ＤＰＣＡ－６０、同ＧＰＯ－３０３、大阪有機化学工業（株）製Ｖ＃４００、Ｖ＃３６０９５Ｄ等のポリオールと（メタ）アクリル酸のエステル化物を挙げることができる。また紫光ＵＶ－１４００Ｂ、同ＵＶ－１７００Ｂ、同ＵＶ－６３００Ｂ、同ＵＶ－７５５０Ｂ、同ＵＶ－７６００Ｂ、同ＵＶ－７６０５Ｂ、同ＵＶ－７６１０Ｂ、同ＵＶ－７６２０ＥＡ、同ＵＶ－７６３０Ｂ、同ＵＶ－７６４０Ｂ、同ＵＶ－６６３０Ｂ、同ＵＶ－７０００Ｂ、同ＵＶ－７５１０Ｂ、同ＵＶ－７４６１ＴＥ、同ＵＶ－３０００Ｂ、同ＵＶ－３２００Ｂ、同ＵＶ－３２１０ＥＡ、同ＵＶ－３３１０ＥＡ、同ＵＶ－３３１０Ｂ、同ＵＶ－３５００ＢＡ、同ＵＶ－３５２０ＴＬ、同ＵＶ－３７００Ｂ、同ＵＶ－６１００Ｂ、同ＵＶ－６６４０Ｂ、同ＵＶ－２０００Ｂ、同ＵＶ－２０１０Ｂ、同ＵＶ－２２５０ＥＡ、同ＵＶ－２７５０Ｂ（日本合成化学（株）製）、ＵＬ－５０３ＬＮ（共栄社化学（株）製）、ユニディック１７－８０６、同１７－８１３、同Ｖ－４０３０、同Ｖ－４０００ＢＡ（大日本インキ化学工業（株）製）、ＥＢ－１２９０Ｋ、ＥＢ－２２０、ＥＢ－５１２９、ＥＢ－１８３０、Ｂ－４３５８（ダイセルＵＣＢ（株）製）、ハイコープＡＵ－２０１０、同ＡＵ－２０２０（（株）トクシキ製）、アロニックスＭ－１９６０（東亜合成（株）製）、アートレジンＵＮ－３３２０ＨＡ，ＵＮ－３３２０ＨＣ，ＵＮ－３３２０ＨＳ、ＵＮ－９０４，ＨＤＰ－４Ｔなどの３官能以上のウレタンアクリレート化合物、アロニックスＭ－８１００，Ｍ－８０３０，Ｍ－９０５０（東亞合成（株）製、ＫＢＭ－８３０７（ダイセルサイテック（株）製）の３官能以上のポリエステル化合物なども好適に使用することができる。
　また、化合物（ｃ）は単一の化合物から構成しても良いし、複数の化合物を組み合わせて用いる事もできる。
　化合物（ｃ）は、本発明におけるハードコート層形成用組成物の全固形分（溶剤を除いた全成分）を１００質量％とした場合に、４０～９０質量％含有されることが好ましく、４５～８５質量％がより好ましく、５０～８０質量％が更に好ましい。含有量が４０質量％以上であると十分な硬度を得る事ができる。一方、含有量が９０質量％以下であると樹脂（ａ）が不足せず、ハードコート層表面の接触角を小さくでき、平滑性が損なわれない。
　化合物（ｃ）はエチレン性不飽和結合基当量が８０～１３０であることが好ましい。エチレン性不飽和結合基当量とは、化合物（ｃ）の分子量をエチレン性不飽和結合性基の数で除した数値をいう。
　化合物（ｃ）のエチレン性不飽和結合性基当量は、８０～１３０であることが好ましく、８０～１１０がより好ましく、８０～１００が更に好ましい。
≪（ｄ）分子内に１個以上のエポキシ基を有する化合物≫
　本発明のハードコート層形成用組成物は、分子内に１個以上のエポキシ基を有する化合物（「化合物（ｄ）」、「（ｄ）成分」ともいう）を含むことが好ましい。
　化合物（ｄ）が有するエポキシ基は１個以上であれば、特に限定されない。
　化合物（ｄ）の分子量は、３００以下であることが好ましく、２５０以下がより好ましく、２００以下が更に好ましい。また、ハードコート層形成時の揮発を抑制する観点から、化合物（ｄ）の分子量は１００以上であることが好ましく、１５０以上であることがより好ましい。
　なお、上記エポキシ基が脂環式であって、分子量を３００以下にすると、硬度を向上させることができる。
　化合物（ｄ）は、本発明におけるハードコート層形成用組成物の全固形分を１００質量％とした場合に、５～４０質量％含有されることが好ましく、７～３５質量％含有されることが好ましく、１０～２５質量％含有されることがより好ましい。含有量が５質量％以上であると平滑性の向上効果に優れ、ハードコート層の面状が良好となる。一方、含有量が４０質量％以下であると、硬度が向上する。
　化合物（ｄ）は、更にエチレン性不飽和二重結合基を有することが好ましい。エチレン性不飽和二重結合基は特に限定されないが、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基及び－Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ２が好ましく、特に好ましくは（メタ）アクリロイル基である。
　化合物（ｄ）が、エチレン性不飽和二重結合基を有することにより、化合物（ｃ）との結合力が付与されるため、更に硬度を向上させることができ、また、湿熱耐久時の泣き出しを抑制できる。
　化合物（ｄ）の具体的な化合物としては、分子内に１個以上の脂環式エポキシ基を有するものであれば特に限定されないが、ビシクロヘキシルジエポキサイド；３，４，３′，４′－ジエポキシビシクロヘキシル、ブタンテトラカルボン酸　テトラ（３，４－エポキシシクロヘキシルメチル）　修飾ε－カプロラクトン、特開平１０－１７６１４の段落〔００１５〕や、下記一般式（１Ａ）又は（１Ｂ）で表される化合物、又は、１，２－エポキシ－４－ビニルシクロヘキサン等を用いる事ができる。中でも、下記一般式（１Ａ）又は（１Ｂ）で表される化合物がより好ましく、分子量が低い下記一般式（１Ａ）で表される化合物が更に好ましい。なお、下記一般式（１Ａ）で表される化合物はその異性体も好ましい。
　これらの化合物を用いる事によって、ハードコート層の平滑性が向上し、また、高い硬度を維持できる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
　一般式（１Ａ）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｌ２は炭素数１～６の２価の脂肪族炭化水素基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
　一般式（１Ｂ）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｌ２は炭素数１～６の２価の脂肪族炭化水素基を表す。
　一般式（１Ａ）及び（１Ｂ）中のＬ２の２価の脂肪族炭化水素基としては、炭素数１～６であり、炭素数１～３がより好ましく、炭素数１が更に好ましい。２価の脂肪族炭化水素基としては、直鎖状、分岐状又は環状のアルキレン基が好ましく、直鎖状又は分岐状のアルキレン基がより好ましく、直鎖状のアルキレン基が更に好ましい。
≪（ｅ）無機微粒子≫
　本発明のハードコート層形成用組成物は、エポキシ基又はエチレン性不飽和二重結合基との反応性を有する無機微粒子（「無機微粒子（ｅ）」、「（ｅ）成分」ともいう）を含むことが好ましい。
　無機微粒子（ｅ）を添加することで硬化層の親水性を増すことができるため、接触角を低減できる。また、硬化層の硬化収縮量を低減できるため、フィルムカールを低減できる。更に、エポキシ基又はエチレン性不飽和二重結合基との反応性を有する無機微粒子を用いる事によって、鉛筆硬度を向上させる事が可能である。無機微粒子としては例えば、シリカ粒子、二酸化チタン粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化アルミニウム粒子などが挙げられる。中でもシリカ粒子が好ましい。
　一般に、無機微粒子は、多官能ビニルモノマーなどの有機成分との親和性が低いため単に混合するだけでは凝集体を形成したり、硬化後の硬化層がひび割れやすくなる場合がある。無機微粒子と有機成分との親和性を増すため、無機微粒子表面を、有機セグメントを含む表面修飾剤で処理している。
　表面修飾剤は、無機微粒子と結合を形成するか無機微粒子に吸着しうる官能基と、有機成分と高い親和性を有する官能基を同一分子内に有するものが好ましい。無機微粒子に結合若しくは吸着し得る官能基を有する表面修飾剤としては、シラン、アルミニウム、チタニウム、ジルコニウム等の金属アルコキシド表面修飾剤や、リン酸基、硫酸基、スルホン酸基、カルボン酸基等のアニオン性基を有する表面修飾剤が好ましい。更に有機成分との親和性の高い官能基としては単に有機成分と親疎水性を合わせただけのものでもよいが、有機成分と化学的に結合しうる官能基が好ましく、特にエチレン性不飽和二重結合基、若しくは開環重合性基が好ましい。
　本発明において好ましい無機微粒子表面修飾剤は金属アルコキシド若しくはアニオン性基とエチレン性不飽和二重結合基若しくは開環重合性基を同一分子内に有する硬化性樹脂である。有機成分と化学的に結合させる事によって、ハードコート層の架橋密度が上昇し、鉛筆硬度を高める事ができる。
　これら表面修飾剤の代表例として以下の不飽和二重結合含有のカップリング剤や、リン酸基含有有機硬化性樹脂、硫酸基含有有機硬化性樹脂、カルボン酸基含有有機硬化性樹脂等が挙げられる。
　Ｓ－１　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯＣ３Ｈ６Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
　Ｓ－２　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＴｉ（ＯＣ２Ｈ５）３
　Ｓ－３　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＣＯＣ５Ｈ１０ＯＰＯ（ＯＨ）２
　Ｓ－４　（Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＣＯＣ５Ｈ１０Ｏ）２ＰＯＯＨ
　Ｓ－５　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＳＯ３Ｈ
　Ｓ－６　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯ（Ｃ５Ｈ１０ＣＯＯ）２Ｈ
　Ｓ－７　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯＣ５Ｈ１０ＣＯＯＨ
　Ｓ－８　ＣＨ２ＣＨ（Ｏ）ＣＨ２ＯＣ３Ｈ６Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
　（Ｘは、水素原子又はＣＨ３を表す）
　これらの無機微粒子の表面修飾は、溶液中でなされることが好ましい。無機微粒子を機械的に微細分散する時に、一緒に表面修飾剤を存在させるか、又は無機微粒子を微細分散したあとに表面修飾剤を添加して攪拌するか、更には無機微粒子を微細分散する前に表面修飾を行って（必要により、加温、乾燥した後に加熱、又はｐＨ変更を行う）、そのあとで微細分散を行う方法でも良い。表面修飾剤を溶解する溶液としては、極性の大きな有機溶剤が好ましい。具体的には、アルコール、ケトン、エステル等の公知の溶剤が挙げられる。
　無機微粒子（ｅ）の平均１次粒径は、１０ｎｍ～１００ｎｍが好ましく、更に好ましくは１０～６０ｎｍである。微粒子の平均粒径は電子顕微鏡写真から求めることができる。無機微粒子（ｅ）の粒径が小さすぎると、硬度の改良効果が得られず、大きすぎるとヘイズ上昇の原因となってしまう。
　　無機微粒子（ｅ）の具体的な例としては、ＥＬＥＣＯＭ　Ｖ－８８０２（日揮触媒化成（株）製の平均粒径１２ｎｍの球形シリカ微粒子）やＥＬＥＣＯＭ　Ｖ－８８０３（日揮触媒化成（株）製の異形シリカ微粒子）、ＭｉＢＫ－ＳＴ（日産化学工業（株）製平均粒径１０～２０ｎｍの球形シリカ微粒子）、ＭＥＫ－ＡＣ－２１４０Ｚ（日産化学工業（株）製平均粒径１０～２０ｎｍの球形シリカ微粒子）、ＭＥＫ－ＡＣ－４１３０（日産化学工業（株）製平均粒径４０～５０ｎｍの球形シリカ微粒子）、ＭｉＢＫ－ＳＤ－Ｌ（日産化学工業（株）製平均粒径４０～５０ｎｍの球形シリカ微粒子）、ＭＥＫ－ＡＣ－５１４０Ｚ（日産化学工業（株）製平均粒径７０～１００ｎｍの球形シリカ微粒子）等を上げる事ができる。
　ハードコート層形成用組成物の全固形分を１００質量％とした場合に無機微粒子（ｅ）は１０～４０質量％含有されることが好ましく、１０～３０質量％がより好ましく、１０～２５質量％が更に好ましい。
≪（ｆ）紫外線吸収剤≫
　本発明のハードコート層形成用組成物は、紫外線吸収剤（「紫外線吸収剤（ｆ）」、「（ｆ）成分」ともいう）を含むことが好ましい。
　本発明のハードコートフィルムは、偏光板又は液晶表示用部材等に好適に使用されるが、偏光板又は液晶等の劣化防止の観点から、紫外線吸収剤が好ましく用いられる。紫外線吸収剤としては、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。紫外線吸収剤は１種のみ用いても良いし、２種以上を併用しても良い。例えば、特開２００１－７２７８２号公報や特表２００２－５４３２６５号公報に記載の紫外線吸収剤が挙げられる。紫外線吸収剤の具体例としては、例えばオキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられる。
　ハードコート層形成用組成物の全固形分を１００質量％とした場合に紫外線吸収剤（ｆ）は０．１～３質量％含有されるが、０．２～２．５質量％が好ましく、０．３～２質量％が更に好ましい。
≪溶剤≫
　本発明において、ハードコート層形成用組成物は、溶剤を含有することができる。溶剤としては、各成分の溶解性、粒子の分散性、塗工時の乾燥性等を考慮し、各種溶剤を用いることができる。係る有機溶剤としては、例えばジブチルエーテル、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、１，４－ジオキサン、１，３－ジオキソラン、１，３，５－トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、フェネトール、炭酸ジメチル、炭酸メチルエチル、炭酸ジエチル、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、γ－プチロラクトン、２－メトキシ酢酸メチル、２－エトキシ酢酸メチル、２－エトキシ酢酸エチル、２－エトキシプロピオン酸エチル、２－メトキシエタノール、２－プロポキシエタノール、２－ブトキシエタノール、１，２－ジアセトキシアセトン、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル等メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ－ブチルアルコール、シクロヘキシルアルコール、酢酸イソブチル、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、２－オクタノン、２－ペンタノン、２－ヘキサノン、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、メタノール、エタノール、tert-ブチルアルコール等が挙げられ、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
　本発明において、ハードコート層形成用組成物の固形分の濃度は２０～８０質量％の範囲となるように溶剤を用いるのが好ましく、より好ましくは３０～７５質量％であり、更に好ましくは４０～７０質量％である。
　本発明者らは、上記ハードコート層形成用組成物を用いて形成されたハードコート層を下層として、その表面に、更に上層を塗布成膜する際にも塗布時のハジキが生じにくいとともに、膜面が均一でムラのない上層を作製できることを見出した。いずれの理論に拘泥するものではないが、上述のように、塗布時には、面状平滑化(レベリング)機能を示していた樹脂（ａ）を含むハードコート層形成用組成物からなるハードコート層は、ハードコート層を硬膜する際に紫外線などの電離放射線を照射することによる酸発生剤から発生した酸により、又は、ハードコート層を硬膜した後、フィルムに鹸化処理を行う際の中和のための酸処理を施すことにより、樹脂（ａ）の酸分解性基が分解し、極性変換がなされることによって、表面を親水化することができ、上層形成時にハジキが生じることを防止することができると考えられる。上記のような特質から、本発明のハードコート層形成用組成物から形成された層を下層として、その表面に塗布成膜で上層を形成する際の、上層形成用の塗布液の溶剤としては、幅広い溶剤を使用できる。
≪その他の添加剤≫
　ハードコート層形成用組成物は、上記（ａ）～（ｆ）の他に、重合開始剤などの添加剤を含んでいてもよい。
（ラジカル重合開始剤）
　本発明におけるハードコート層形成用組成物は、ラジカル重合開始剤を含有してもよい。
　エチレン性不飽和二重結合基を有する化合物の重合は、光ラジカル重合開始剤又は熱ラジカル重合開始剤の存在下、電離放射線の照射又は加熱により行うことができる。光及び熱重合開始剤としては市販の化合物を利用することができ、それらは、「最新ＵＶ硬化技術」（ｐ．１５９，発行人；高薄一弘，発行所；（株）技術情報協会，１９９１年発行）や、ＢＡＳＦ社のカタログに記載されている。
　ラジカル重合開始剤としては、具体的には、アルキルフェノン系光重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ６５１、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４、ＤＡＲＯＣＵＲＥ１１７３、Ｉｒｇａｃｕｒｅ２９５９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１２７、ＤＡＲＯＣＵＲＥＭＢＦ、Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７、Ｉｒｇａｃｕｒｅ３６９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ３７９ＥＧ）、アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９、ＬＵＣＩＲＩＮ　ＴＰＯ）、その他（Ｉｒｇａｃｕｒｅ７８４、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０１、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０２、Ｉｒｇａｃｕｒｅ７５４）等を用いる事ができる。
　ラジカル重合開始剤の添加量は、本発明におけるハードコート層形成用組成物の全固形分を１００質量％とした場合に、０．１～１０質量％の範囲であることが好ましく、１～５質量％がより好ましく、２～４質量％が更に好ましい。これらラジカル開始剤は単独で用いても良いし、複数種を組み合わせて用いる事もできる。
（風ムラ防止剤）
　本発明におけるハードコート層形成用組成物は、風ムラ防止剤を含有してもよい。
（フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤）
　ハードコート層形成用組成物はフッ素系界面活性剤、及びシリコーン系界面活性剤を含有してもよいが、疎水性が増して接触角が高くなるため実質的に含まないことが好ましい。これにより形成されたハードコート層の表面が疎水的になりにくくなり、上層を形成する際にハジキが生じにくくなる。
　具体的には、ハードコート層形成用組成物のフッ素系界面活性剤及びシリコーン系界面活性剤の含量が、ハードコート層形成用組成物の総質量に対して０．０５質量％以下、好ましくは０．０１質量％以下、より好ましくは０質量％である。
　フッ素系界面活性剤は、フッ素を含む化合物であって、ハードコート層形成用組成物において使用される溶剤中で表面に偏在する化合物である。疎水性部分を有するフッ素系界面活性剤の例としては、特開２０１１－１９１５８２号公報の段落００２８～００３４に記載の配向制御剤として記載される化合物のうちのフッ素を含むもの、特許２８４１６１１号に記載のフッ素系界面活性剤、特開２００５－２７２５６０号公報の段落００１７～００１９に記載のフッ素系界面活性剤などが挙げられる。
　市販品のフッ素系界面活性剤としては、ＡＧＣセイミケミカル株式会社製のサーフロンや、ＤＩＣ株式会社製のメガファック、ＮＥＯＳ株式会社のフタージェントを挙げることができる。
　シリコーン系界面活性剤は、シリコーンを含む化合物であって、光学機能性層作製用組成物において使用される溶剤中で表面に偏在する化合物である。
　シリコーン系界面活性剤としては、例えば、ポリメチルフェニルシロキサン、ポリエーテル変性シリコーンオイル、ポリエーテル変性ジメチルポリシロキサン、ジメチルシリコーン、ジフェニルシリコーン、ハイドロジェン変性ポリシロキサン、ビニル変性ポリシロキサン、ヒドロキシ変性ポリシロキサン、アミノ変性ポリシロキサン、カルボキシル変性ポリシロキサン、クロル変性ポリシロキサン、エポキシ変性ポリシロキサン、メタクリロキシ変性ポリシロキサン、メルカプト変性ポリシロキサン、フッ素変性ポリシロキサン、長鎖アルキル変性ポリシロキサン、フェニル変性ポリシロキサン、シリコーン変性コポリマーなどのケイ素原子含有の低分子化合物が挙げられる。
　シリコーン系界面活性剤の市販品としては、信越化学社製のＫＦ－９６、Ｘ－２２－９４５、トーレシリコーンＤＣ３ＰＡ、同ＤＣ７ＰＡ、同ＳＨ１１ＰＡ、同ＳＨ２１ＰＡ、同ＳＨ２８ＰＡ、同ＳＨ２９ＰＡ、同ＳＨ３０ＰＡ、同ＦＳ－１２６５－３００（以上、東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製）、ＴＳＦ－４３００、同－４４４０、同－４４４５、同－４４４６、同－４４５２、同－４４６０（以上、ＧＥ東芝シリコン（株）製）、ポリシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学（株）製）、ＢＹＫ－３０１、同ＢＹＫ－３０２、同ＢＹＫ－３０７、同ＢＹＫ－３２５、同ＢＹＫ－３３１、同ＢＹＫ－３３３、同ＢＹＫ－３４１、同ＢＹＫ－３４５、同ＢＹＫ－３４６、同ＢＹＫ－３４８、同ＢＹＫ－３７５（ビックケミー・ジャパン（株）製）アロンＧＳ－３０（東亜合成社製）、シリコーンＬ－７５、シリコーンＬ－７６、シリコーンＬ－７７、シリコーンＬ－７８、シリコーンＬ－７９、シリコーンＬ－５２０及びシリコーンＬ－５３０（日本ユニカ社製）等を挙げることができる。
＜支持体＞
　支持体としては、可視光（４００～８００ｎｍ）の透過率が８０％以上の透明支持体が好ましく、ガラス又はポリマーフィルムを用いることができる。支持体として用いられるポリマーフィルムの材料の例には、セルロースアシレートフィルム（例えば、セルローストリアセテートフィルム、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム）、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂フィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリメチルメタクリレート等のポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、（メタ）アクリルニトリルフィルム、ポリオレフィン、脂環式構造を有するポリマー（ノルボルネン系樹脂（アートン：商品名、ＪＳＲ社製、非晶質ポリオレフィン（ゼオネックス：商品名、日本ゼオン社製））、などが挙げられる。このうちセルロースアシレートフィルムが好ましい。
　支持体はハードコート層の形成後剥離される仮支持体であってもよい。
　支持体の膜厚は、１μｍ～１０００μｍ程度あればよく、モバイル用途に合わせて薄層化することが好ましいため、１μｍ～１００μｍが更に好ましく、１μｍ～２５μｍがより好ましい。
［ハードコートフィルムの製造方法］
　本発明のハードコートフィルムは、支持体上に、上記ハードコート層形成用組成物を塗布して、乾燥、硬化させることでハードコート層を形成することにより、製造することができる。
　上記樹脂（ａ）、及び（ｂ）酸発生剤を含むハードコート層形成用組成物を用いる場合、乾燥、硬化工程において電離放射線を照射することにより、（ｂ）酸発生剤が酸を発生し、この酸によって樹脂（ａ）の酸分解性基が分解し、親水性が増大する。
　また、本発明のもう一つの態様では、上記樹脂（ａ）を含むハードコート層形成用組成物を支持体上に塗設し、得られたハードコート層に対して、酸処理を施すことにより、樹脂（ａ）の酸分解性基が分解し、親水性が増大する。
＜塗布方式＞
　本発明のハードコートフィルムの各層は以下の塗布方法により形成することができるが、この方法に制限されない。ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、スライドコート法やエクストルージョンコート法（ダイコート法）（特開２００３－１６４７８８号明細書参照）、マイクログラビアコート法等の公知の方法が用いられ、その中でもマイクログラビアコート法、ダイコート法が好ましい。
＜乾燥、硬化条件＞
　本発明におけるハードコート層などを塗布により層形成する場合の、乾燥、硬化方法に関して、好ましい例を以下に述べる。
　本発明では、電離放射線の照射と、照射の前、照射と同時又は照射後の熱処理とを組み合わせることにより、硬化することが有効である。
　以下に、いくつかの製造工程のパターンを示すが、これらに限定されるものではない。（以下の「－」は熱処理を行っていないことを示す。）
　　　照射前　→　　照射と同時　　→　　照射後
（１）熱処理　→　電離放射線硬化　→　　　－
（２）熱処理　→　電離放射線硬化　→　　熱処理
（３）　－　　→　電離放射線硬化　→　　熱処理
　その他、電離放射線硬化時に同時に熱処理を行う工程も好ましい。
　本発明においては、上記のとおり、電離放射線の照射と組み合わせて熱処理を行うことが好ましい。熱処理は、ハードコートフィルムの支持体、ハードコート層を含めた構成層を損なうものでなければ特に制限はないが、好ましくは３０～１５０℃、更に好ましくは３０～８０℃である。
　熱処理に要する時間は、使用成分の分子量、その他成分との相互作用、粘度などにより異なるが、１５秒～１時間、好ましくは２０秒～３０分、最も好ましくは３０秒～５分である。
　電離放射線の種類については、特に制限はなく、Ｘ線、電子線、紫外線、可視光、赤外線などが挙げられるが、紫外線が広く用いられる。例えば塗膜が紫外線硬化性であれば、紫外線ランプにより１０ｍＪ／ｃｍ２～１０００ｍＪ／ｃｍ２の照射量の紫外線を照射して各層を硬化するのが好ましい。照射の際には、上記エネルギーを一度に当ててもよいし、分割して照射することもできる。特に塗膜の面内での性能ばらつきを少なくする点や、カールを良化させるという観点からは、２回以上に分割して照射することが好ましく、初期に１５０ｍＪ／ｃｍ２以下の低照度の紫外線を照射し、その後、５０ｍＪ／ｃｍ２以上の高照度の紫外線を照射し、かつ初期よりも後期の方で高い照射量を当てることが好ましい。上記（ｂ）酸発生剤の作用させる目的においては、高い照射量を照射することが好ましく、２００ｍＪ／ｃｍ２以上の紫外線照射が好ましい。
　また、上記樹脂（ａ）を含むハードコート層形成用組成物を塗設したハードコート層に対して酸処理する場合、酸処理としては、フィルムに鹸化処理を行う際の中和のための酸処理などが挙げられる。酸処理条件としては特に限定されないが、０．０１～１ｍｏｌ／Ｌの硫酸水溶液にフィルムを５秒～１０分間浸漬させた後、水洗、乾燥させることが好ましい。
　本発明のハードコートフィルムは、上記本発明のハードコートフィルムの製造方法によって製造されることが好ましい。
　本発明のハードコートフィルムは、一般に、最も単純な構成では、支持体上にハードコート層を塗設した構成である。
　本発明のハードコートフィルムの好ましい層構成の例を下記に示すが、特にこれらの層構成のみに限定されるわけではない。
　・支持体／ハードコート層
　・支持体／ハードコート層／低屈折率層
　・支持体／ハードコート層／防眩層（帯電防止層）／低屈折率層
　・支持体／ハードコート層／防眩層／帯電防止層／低屈折率層
　・支持体／ハードコート層／帯電防止層／防眩層／低屈折率層
　・支持体／ハードコート層（帯電防止層）／防眩層／低屈折率層
　・支持体／ハードコート層／高屈折率層／帯電防止層／低屈折率層
　・支持体／ハードコート層／高屈折率層（帯電防止層）／低屈折率層
　・支持体／ハードコート層／帯電防止層／高屈折率層／低屈折率層
　・支持体／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層（帯電防止層）／低屈折率層
　・支持体／ハードコート層／中屈折率層（帯電防止層）／高屈折率層／低屈折率層
　・支持体／ハードコート層（帯電防止層）／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
　・支持体／帯電防止層／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
　・帯電防止層／支持体／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
　ここで、帯電防止層、防眩層はハードコート性を有していても良い。
　本発明のハードコート層の膜厚は、目標とする硬度に合わせて選択することができるが、１～５０μｍが好ましい。これは、本発明のハードコートフィルムはカールが非常に小さいため、ハードコート層を厚くしても、取り扱い上問題が生じないためである。なお、偏光子保護フィルムとして用いる場合には、ハードコート層の厚みは３～１０μｍで設計する事が好ましい。
＜偏光板＞
　本発明の偏光板は、少なくとも１枚の本発明のハードコートフィルムと、偏光子とを有するものである。酸処理を行う態様においては、酸処理を含む鹸化処理をフィルムに施した後に、偏光子と貼り合わされることが好ましい。
　本発明のハードコートフィルムは、偏光板用保護フィルムとして用いることができる。偏光板用保護フィルムとして用いる場合、偏光板の作製方法は特に限定されず、一般的な方法で作製することができる。得られたハードコートフィルムをアルカリ処理し、ポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の両面にポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせる方法がある。アルカリ処理の代わりに特開平６－９４９１５号、特開平６－１１８２３２号に記載されているような易接着加工を施してもよい。また前述のような表面処理を行ってもよい。
　保護フィルム処理面と偏光子を貼り合わせるのに使用される接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルコール系接着剤や、ブチルアクリレート等のビニル系ラテックス等が挙げられる。
　偏光板は偏光子及びその両面を保護する保護フィルムで構成されており、更にこの偏光板の一方の面にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成される。プロテクトフィルム及びセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。この場合、プロテクトフィルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼合され、偏光板を液晶板へ貼合する面の反対面側に用いられる。又、セパレートフィルムは液晶板へ貼合する接着層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶板へ貼合する面側に用いられる。
＜タッチパネルディスプレイ＞
　本発明のタッチパネルディスプレイは、液晶セルと、上記液晶セルの視認側に上記本発明の偏光板を含むものであり、上記偏光板の液晶セルと逆の面にＯＣＲ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ　ｃｌｅａｒ　ｒｅｓｉｇｎ）又はＯＣＡ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ　ｃｌｅａｒ　ａｄｈｅｓｉｖｅ）を含むことが好ましい。
　以下に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の実施例に限定されるものではない。
＜ハードコート層形成用組成物の調製＞
　表１～４に示す組成で、固形分濃度が５０質量％となるようにハードコート層形成用組成物（ハードコート層用塗布液）Ａ０１～Ａ２５を調製した。表１～４において、「％」とは、「質量％」を表し、溶媒における数値は、全溶媒に対する各溶媒の含有率を表し、その他の成分における数値は、ハードコート層用塗布液中の溶媒を除く成分中の含有率を表す。
《（ｃ）成分》
・ＤＰＨＡ：ＫＡＹＡＲＤ　ＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）（６官能）
・ＵＶ１７００Ｂ：ウレタン（メタ）アクリレート（日本合成化学工業（株）製）（１０官能）
・Ａ－ＤＣＰ：トリシクロデカンジメタノールジアクリレート（新中村化学工業（株）製）
《（ｂ）成分：酸発生剤》
・化合物Ｂ－１：下記化合物。特許第４８４１９３５号公報実施例１記載の方法で合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
・Ｂ２３８０：ビス（４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロフォスファート（東京化成工業（株）製）
《（ａ）成分》
・化合物Ａ－１～Ａ－４：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
《（ｇ）成分：極性変換基を含まないレベリング剤》
・フタージェント６１０ＦＭ：（株式会社ネオス製）
・化合物Ｇ－１：下記含フッ素化合物（Ｍｗ：２００００）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
《（ｄ）成分》
・３，４－エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート：サイクロマーＭ１００（（株）ダイセル製、分子量１９６）
・３’，４’－エポキシシクロヘキシルメチル－３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート：セロキサイド２０２１Ｐ（（株）ダイセル製、分子量２５２）
・グリシジルメタクリレート： 
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
《（ｈ）成分：重合開始剤》
・ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４：アルキルフェノン系光重合開始剤（ＢＡＳＦ製）
《（ｅ）成分：無機微粒子》
・ＥＬＥＣＯＭ　Ｖ－８８０２：平均粒径１２ｎｍ、重合性基付き、球形シリカ微粒子の固形分４０質量％のＭｉＢＫ分散液（日揮触媒化成（株）製）
・ＭｉＢＫ－ＳＴ：平均粒径１０～２０ｎｍ、重合性基を付与していないシリカ微粒子の固形分３０質量％のＭｉＢＫ分散液（日産化学社製）
《（ｆ）成分：紫外線吸収剤》
・Ｔｉｎｕｖｉｎ９２８：ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤（ＢＡＳＦ製）
《溶媒》
・ＭＥＫ：メチルエチルケトン
・ＭｉＢＫ：メチルイソブチルケトン
・酢酸メチル
＜セルロースアシレートフィルムの作製＞
（コア層セルロースアシレートドープの作製）
　下記の組成物をミキシングタンクに投入し攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
----------------------------------------------------------------
アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート　　１００質量部
エステルオリゴマー　　　　　　　　　　　　　　　　１０質量部
偏光子耐久性改良剤　　　　　　　　　　　　　　　　　４質量部
紫外線吸収剤（下記構造式の化合物）　　　　　　　　　２質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）　　　　　　　　　４３０質量部
メタノール（第２溶剤）　　　　　　　　　　　　　　６４質量部
----------------------------------------------------------------
　エステルオリゴマーは、ジカルボン酸（アジピン酸：フタル酸＝３：７　モル比）とエチレングリコールとの縮合物であり、末端がアセチル基、分子量１０００である。
偏光子耐久性改良剤
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
紫外線吸収剤
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
（外層セルロースアシレートドープの作製）
　上記のコア層セルロースアシレートドープ９０質量部に下記のマット剤溶液を１０質量部加え、外層セルロースアセテートドープを調製した。
マット剤溶液
----------------------------------------------------------------
平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ　Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）　　　　　　　　　　７６質量部
メタノール（第２溶剤）　　　　　　　　　　　　　　１１質量部
コア層セルロースアシレートドープ　　　　　　　　　　１質量部
----------------------------------------------------------------
（セルロースアシレートフィルムの作製）
　上記コア層セルロースアシレートドープとその両側に外層セルロースアシレートドープとを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した。溶剤含有率略２０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、残留溶剤が３～１５質量％の状態で、横方向に１．１倍延伸しつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、更に乾燥し、厚さ２５μｍのセルロースアシレートフィルム（２５μｍＴＡＣ）を作製した。このとき各層の膜厚比は支持体面側外層：内層：空気界面側外層＝３：９４：３であった。更に、ドープ流量を変更することにより、膜厚４０μｍセルロースアシレートフィルム（４０μｍＴＡＣ）を作製した。
（アクリル基材フィルムの作製）
　攪拌装置、温度センサー、冷却管及び窒素導入管を備えた内容積３０Ｌの反応釜に、メタクリル酸メチル（ＭＭＡ）８０００ｇ、２－（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル（ＭＨＭＡ）２０００ｇ及び重合溶媒としてトルエン１００００ｇを仕込み、これに窒素を通じつつ、１０５℃まで昇温させた。昇温に伴う環流が始まったところで、重合開始剤としてｔ－アミルパーオキシイソノナノエート１０．０ｇを添加するとともに、ｔ－アミルパーオキシイソノナノエート２０．０ｇとトルエン１００ｇとからなる溶液を２時間かけて滴下しながら、約１０５～１１０℃の環流下で溶液重合を進行させ、更に４時間の熟成を行った。重合反応率は９６．６％、得られた重合体におけるＭＨＭＡの含有率（重量比）は２０．０％であった。
　次に、得られた重合溶液に、環化触媒として１０ｇのリン酸ステアリル／リン酸ジステアリル混合物（堺化学工業製、Ｐｈｏｓｌｅｘ　Ａ－１８）を加え、約８０～１００℃の環流下において５時間、環化縮合反応を進行させた。
　次に、得られた重合溶液を、バレル温度２６０℃、回転速度１００ｒｐｍ、減圧度１３．３～４００ｈＰａ（１０～３００ｍｍＨｇ）、リアベント数１個及びフォアベント数４個のベントタイプスクリュー二軸押出機（φ＝２９．７５ｍｍ、Ｌ／Ｄ＝３０）に、樹脂量換算で２．０ｋｇ／時の処理速度で導入し、押出機内で環化縮合反応及び脱揮を行った。次に、脱揮完了後、押出機内に残された熱溶融状態にある樹脂を押出機の先端から排出し、ペレタイザーによりペレット化して、主鎖にラクトン環構造を有するアクリル樹脂からなる透明なペレットを得た。この樹脂の重量平均分子量は１４８０００、メルトフローレート（ＪＩＳ　Ｋ７１２０に準拠し、試験温度を２４０℃、荷重を１０ｋｇとして求めた。以降の製造例においても同じ）は１１．０ｇ／１０分、ガラス転移温度は１３０℃であった。
　次に、得られたペレットとＡＳ樹脂（東洋スチレン製、商品名：トーヨーＡＳ　ＡＳ２０）を、ペレット／ＡＳ樹脂＝９０／１０の重量比で単軸押出機（φ＝３０ｍｍ）を用いて混錬することにより、ガラス転移温度が１２７℃の透明なペレットを得た。
　上記で作製した樹脂組成物のペレットを、二軸押出機を用いて、コートハンガー型Ｔダイから溶融押出し、厚さ約１２０μｍの樹脂フィルムを作製した。
　次に、得られた未延伸の樹脂フィルムを、縦方向（長さ方向）に２．０倍、横方向（幅方向）に２．０倍に同時二軸延伸することにより、偏光子保護フィルムを作製した。このようにして得たアクリル基材フィルムの厚さは３０μｍ、全光線透過率は９２％、ヘイズは０．２５％、ガラス転移温度は１２７℃であった。
＜ハードコート層の塗設＞
　使用する透明支持体をロール形態で巻き出して、ハードコート層用塗布液Ａ０１～Ａ２５を使用し、ハードコートフィルムＳ０１～Ｓ２５を作製した。
　具体的には、特開２００６－１２２８８９号公報実施例１記載のスロットダイを用いたダイコート法で、搬送速度３０ｍ／分の条件で各ハードコート層用塗布液を塗布し、６０℃で１５０秒乾燥の後、更に窒素パージ下酸素濃度約０．０１体積％で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量５００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させてハードコート層を形成した後、巻き取った。
（フィルムの鹸化）
　作製したハードコートフィルムのうち、Ｓ１１及び１２は以下の手順で鹸化処理を行った。
　ハードコートフィルムを、４５℃に保った１．５ｍｏｌ／ＬのＮａＯＨ水溶液（鹸化液）に２分間浸漬した後、フィルムを水洗し、その後、３０℃の下記濃度の硫酸水溶液に１５秒浸漬した後、更に水洗浴を１００秒流水下に通して、フィルムを中性の状態にした。そして、エアナイフによる水切りを３回繰り返し、水を落とした後に９０℃の乾燥ゾーンに６０秒間滞留させて乾燥し、鹸化処理したフィルムを作製した。
　硫酸水溶液は、ハードコートフィルムＳ１１については、０．０５ｍｏｌ／Ｌ硫酸水溶液、ハードコートフィルムＳ１２については、０．２５ｍｏｌ／Ｌ硫酸水溶液をそれぞれ用いた。
　作製したハードコートフィルムＳ０１～Ｓ２５を下記評価方法で評価した。
｛ハードコート層の膜厚｝
　ハードコート層の膜厚は接触式の膜厚計で作製したハードコートフィルムの膜厚を測定し、そこから同様に測定した透明支持体厚みを引いて算出した。ハードコートフィルムＳ０１～Ｓ２５の全てにおいて、ハードコート層の膜厚は、７．５μｍであった。
｛ハードコート層の面状｝
　ハードコートフィルムのハードコート層と反対面の面に、裏面反射を防止するための黒色テープを貼り、ハードコート層の面からハードコートフィルムを目視で観察し、下記評価基準にて評価した。
　Ａ：干渉縞はなかった。
　Ｂ：干渉縞はごく僅かにみられる。
　Ｃ：干渉縞の発生が若干あったが、製品として許容されるものであった。
　Ｄ：干渉縞が強く発生した。
｛鉛筆硬度｝
　ＪＩＳ　Ｋ　５６００－５－４（１９９９）に記載の鉛筆硬度評価を行った。ハードコートフィルムを温度２５℃、相対湿度６０％で２時間調湿した後、ＪＩＳ　Ｓ　６００６（２００７）に規定する２Ｈ～４Ｈの試験用鉛筆を用いて、４．９Ｎの荷重にて、各鉛筆で５回引っ掻いた際の、傷が発生しなかった本数を測定し、下記基準で判定をした。
　Ａ：４Ｈ鉛筆で５回引っ掻いた際、傷が発生する回数が０～２回。
　Ｂ：３Ｈ鉛筆で５回引っ掻いた際、傷が発生する回数が０～２回。
　Ｃ：２Ｈ鉛筆で５回引っ掻いた際、傷が発生する回数が０～２回。
　Ｄ：２Ｈ鉛筆で５回引っ掻いた際、傷が発生する回数が３回以上であり、許容範囲外。
｛水の接触角｝
　接触角計［“ＣＡ－Ｘ”型接触角計、協和界面科学（株）製］を用い、乾燥状態（２０℃、相対湿度６５％）で、液体として純水を使用して直径１．０ｍｍの液滴を針先に作り、これをハードコートフィルムの表面に接触させてフィルム上に液滴を作った。フィルムと液体とが接する点における、液体表面に対する接線とフィルム表面がなす角で、液体を含む側の角度を測定し、接触角とした。その結果を元に、以下の基準で評価した。なお、Ｓ１１、１２については、鹸化後のフィルムを用いて接触角を測定した。
　Ａ：接触角が５０°以下
　Ｂ：接触角が５０°を超え７５°以下
　Ｃ：接触角が７５°を超え８５°以下
　Ｄ：接触角が８５°を超える
｛ハードコート層上に積層したときのハジキ｝
（積層用塗布液Ｌｎ－１の調製）
　各成分を下記のように混合し、ＭＥＫ／ＭＭＰＧ－Ａｃの９０／１０混合物（質量比）に溶解して固形分１質量％の低屈折率層用塗布液を調製した。
《Ｌｎ－１の組成》
　下記のパーフルオロオレフィン共重合体（Ｐ－１）　　　　１５．０ｇ
　ＤＰＨＡ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　７．０ｇ
　ＲＭＳ－０３３　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５．０ｇ
　下記の含フッ素モノマー（Ｍ－１）　　　　　　　　　　　２０．０ｇ
　中空シリカ粒子（固形分として）　　　　　　　　　　　　５０．０ｇ
　イルガキュア１２７　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３．０ｇ
　使用した化合物を以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
・ＤＰＨＡ：ＫＡＹＡＲＤ　ＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）
・ＲＭＳ－０３３：シリコーン系多官能アクリレート（Ｇｅｌｅｓｔ製、Ｍｗｔ＝２８０００）
・イルガキュア１２７：アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤（ＢＡＳＦ（製））
・中空シリカ粒子：中空シリカ粒子分散液（平均粒子サイズ４５ｎｍ、屈折率１．２５、表面を、アクリロイル基を有するシランカップリング剤で表面処理、ＭＥＫ分散液濃度２０％）
・ＭＥＫ：メチルエチルケトン
・ＭＭＰＧ－Ａｃ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
　上記低屈折率層用塗布液は孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して塗布液を調製した。
　次に、ハードコートフィルムのハードコート層が塗設されている側に、上記低屈折率層用塗布液Ｌｎ－１を塗布した。Ｓ１１、１２については、鹸化後のフィルムを用いた。低屈折率層の乾燥条件は９０℃、６０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が０．０１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ２、照射量３００ｍＪ／ｃｍ２の照射量とした。低屈折率層の屈折率は１．３６、膜厚は９５ｎｍであった。得られたフィルム１５ｃｍ×２０ｃｍ中のハジキの個数を数えた。ここで、下層の表面中において上層が形成されていない領域をハジキとした。その結果を元に、以下の基準で評価した。
　Ａ：ハジキが１個以下
　Ｂ：ハジキが２～４個
　Ｃ：ハジキが５個以上
　下記表１～４の結果から分かるように、本発明のハードコートフィルムは、表面の水の接触角が低く、面状及び硬度に優れ、積層したときの他層のハジキが少なかった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000033
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000034
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000035
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000036
　本発明により、面状及び硬度に優れ、表面の水に対する接触角が小さく、他の層との積層性に優れるハードコートフィルム、このハードコートフィルムを有する偏光板、及びタッチパネルディスプレイを提供することができる。
　本発明を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは当業者にとって明らかである。
　本出願は、２０１５年４月２４日出願の日本特許出願（特願２０１５－０８９４７２）に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。
 

Claims (11)

  1. 　支持体の少なくとも一方の面に、
    （ａ）酸の作用により分解して親水性が増大する基を有し、フッ素原子及びケイ素原子から選択される少なくとも１種を含む基を有する樹脂と、
    （ｂ）酸発生剤
    とを含有するハードコート層形成用組成物から形成されるハードコート層を有するハードコートフィルム。
  2. 　支持体の少なくとも一方の面に、
    （ａ）酸の作用により分解して親水性が増大する基を有し、フッ素原子及びケイ素原子から選択される少なくとも１種を含む基を有する樹脂
    を含有するハードコート層形成用組成物から形成されるハードコート層を有するハードコートフィルムを、酸で処理することにより得られるハードコートフィルム。
  3. 　前記（ａ）において、前記酸の作用により分解して親水性が増大する基に、前記フッ素原子及びケイ素原子から選択される少なくとも１種を含む基が置換している、請求項１又は２に記載のハードコートフィルム。
  4. 　前記ハードコート層形成用組成物が、更に、
    （ｃ）分子内に３個以上のエチレン性不飽和二重結合基を有する化合物
    を含む請求項１～３のいずれか１項に記載のハードコートフィルム。
  5. 　前記ハードコート層形成用組成物が、更に、
    （ｄ）分子内に１個以上のエポキシ基を有する化合物
    を含む請求項１～４のいずれか１項に記載のハードコートフィルム。
  6. 　前記（ｄ）が、分子内に１個の脂環式エポキシ基と１個のエチレン性不飽和二重結合基とを有し、分子量が３００以下の化合物である請求項５に記載のハードコートフィルム。
  7. 　前記ハードコート層形成用組成物が、更に、
    （ｅ）エポキシ基又はエチレン性不飽和二重結合基との反応性を有する無機微粒子
    を含む請求項１～６のいずれか１項に記載のハードコートフィルム。
  8. 　前記ハードコート層形成用組成物が、更に、
    （ｆ）紫外線吸収剤
    を含む請求項１～７のいずれか１項に記載のハードコートフィルム。
  9. 　前記支持体がセルロースアシレートフィルムであって、前記支持体の厚みが２５μｍ以下である請求項１～８のいずれか１項に記載のハードコートフィルム。
  10. 　少なくとも１枚の請求項１～９のいずれか１項に記載のハードコートフィルムと、偏光子とを含む偏光板。
  11. 　液晶セルと、前記液晶セルの視認側に請求項１０に記載の偏光板を含むタッチパネルディスプレイ。
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107474608B (zh) * 2017-08-23 2019-09-10 江苏富春江光电有限公司 一种夜间可视光纤
JP6973676B1 (ja) * 2021-03-17 2021-12-01 荒川化学工業株式会社 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、コーティング剤キット、硬化物及び積層物

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001353817A (ja) * 2000-06-14 2001-12-25 Dainippon Ink & Chem Inc 低摩耗構造体
JP2004269644A (ja) * 2003-03-07 2004-09-30 Jsr Corp 硬化性組成物、その硬化物及び積層体
JP2008024874A (ja) * 2006-07-24 2008-02-07 Fujifilm Corp 硬化性組成物、反射防止フィルム、並びにそれを用いた偏光板及び画像表示装置
JP2008106101A (ja) * 2006-10-24 2008-05-08 Fujifilm Corp 硬化性樹脂組成物、硬化物、反射防止フィルム、偏光板、画像表示装置、フルオロオレフィン共重合体およびその製造方法
JP2010121137A (ja) * 2009-12-24 2010-06-03 Fujifilm Corp フルオロ脂肪族基含有ポリマーを含むフィルム、偏光板、及びディスプレイ装置
WO2014069634A1 (ja) * 2012-11-05 2014-05-08 日産化学工業株式会社 含フッ素高分岐ポリマー及びシロキサンオリゴマーを含む硬化性組成物

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4212860B2 (ja) * 2002-09-30 2009-01-21 株式会社きもと 導電性反射防止フィルム
JP4479175B2 (ja) * 2003-06-06 2010-06-09 コニカミノルタオプト株式会社 ハードコートフィルム、その製造方法、偏光板及び表示装置
KR100689401B1 (ko) * 2004-07-30 2007-03-08 주식회사 하이닉스반도체 포토레지스트 중합체 및 이를 함유하는 포토레지스트 조성물
US20060165919A1 (en) * 2005-01-27 2006-07-27 Fuji Photo Film Co., Ltd. Coating composition, optical film, anti-reflection film, polarizing plate and image display device using the same
JP2012118305A (ja) * 2010-12-01 2012-06-21 Bridgestone Corp 紫外線吸収剤含有ハードコートフィルム及びこれを備えたディスプレイ用光学フィルタ
JP5937407B2 (ja) * 2012-04-09 2016-06-22 リケンテクノス株式会社 硝子外貼り用フィルムおよびその製造方法
US9001280B2 (en) * 2012-06-08 2015-04-07 Apple Inc. Devices and methods for shielding displays from electrostatic discharge
TWI627061B (zh) * 2012-06-21 2018-06-21 迪愛生股份有限公司 活性能量線硬化型樹脂組成物、活性能量線硬化型樹脂組成物之製造方法、塗料、塗膜及薄膜
JP6040659B2 (ja) * 2012-09-14 2016-12-07 日油株式会社 紫外線吸収性ハードコートフィルム

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001353817A (ja) * 2000-06-14 2001-12-25 Dainippon Ink & Chem Inc 低摩耗構造体
JP2004269644A (ja) * 2003-03-07 2004-09-30 Jsr Corp 硬化性組成物、その硬化物及び積層体
JP2008024874A (ja) * 2006-07-24 2008-02-07 Fujifilm Corp 硬化性組成物、反射防止フィルム、並びにそれを用いた偏光板及び画像表示装置
JP2008106101A (ja) * 2006-10-24 2008-05-08 Fujifilm Corp 硬化性樹脂組成物、硬化物、反射防止フィルム、偏光板、画像表示装置、フルオロオレフィン共重合体およびその製造方法
JP2010121137A (ja) * 2009-12-24 2010-06-03 Fujifilm Corp フルオロ脂肪族基含有ポリマーを含むフィルム、偏光板、及びディスプレイ装置
WO2014069634A1 (ja) * 2012-11-05 2014-05-08 日産化学工業株式会社 含フッ素高分岐ポリマー及びシロキサンオリゴマーを含む硬化性組成物

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