WO2016167224A1

WO2016167224A1 - 吸着装置、真空処理装置

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Publication number: WO2016167224A1
Application number: PCT/JP2016/061719
Authority: WO
Inventors: 大輔川久保; 前平　謙; 不破　耕; 傑之鈴木
Original assignee: 株式会社アルバック
Priority date: 2015-04-15
Filing date: 2016-04-11
Publication date: 2016-10-20
Also published as: KR20170129940A; CN107431040B; KR102002719B1; JP6400188B2; CN107431040A; TW201703186A; JPWO2016167224A1; TWI669777B

Abstract

【課題】吸着力が弱くならない吸着装置を提供する。　【解決手段】吸着装置１９ａの受電端子２４を、受電側凹部２３内に配置し、蓋部２５ａによって蓋ができるようにする。基板５₁～５₃を吸着する際には、吸着装置１９ａを給電台１８ａ上に載置し、給電端子６４を受電端子２４に接触させ、基板５₁～５₃と吸着電極２２との間の等価容量を充電する。吸着装置１９ａを移動させる際には、等価容量の残留電荷で基板５₁～５₃を吸着しながら、蓋部２５ａによって、受電側凹部２３を蓋し、受電端子２４に真空槽中の残留ガスが接触しないようにする。受電端子２４が腐食したり、薄膜が形成されたりすることが無くなり、等価容量の残留電荷が放出されないようになる。

Description

吸着装置、真空処理装置

　本発明は、吸着装置と真空処理装置に係り、特に、真空雰囲気中で基板を吸着した状態で移動できる吸着装置と、その吸着装置が載置される給電台を有する真空処理装置に関する。

　真空雰囲気中で基板を処理する場合には、基板を吸着装置に載置し、吸着装置に吸着させ、吸着装置の温度を制御することで、間接的に基板の温度を制御する方法が行われている。
　近年では、バッテリーを搭載し、バッテリーの動作によって基板を吸着した状態で移動できる吸着装置があるが、高価であり、また、体積も大きくなる。

　また、バッテリーレスであり、吸着装置の吸着電極に接続された受電端子と、電源に接続された給電装置の給電端子とは、静止状態では接触され、吸着電極と基板との間の等価容量が充電され、受電端子と給電端子とが離間され、移動できる吸着装置があり、等価容量に蓄積された残留電荷によって、移動中も基板を吸着できる吸着装置が知られている。
　しかしながら、そのような吸着装置では、真空処理中の吸着力や、移動中の吸着力が低下することがあり、対策が求められている。

特開２００７－５３３４８号公報特開２００９－９９６７４号公報ＷＯ２００６－１２３６８０号公報

　本発明は上記従来技術の不都合を解決するために創作されたものであり、その目的は、真空処理中や移動中の吸着力が低下せずに、基板を吸着できる技術を提供することにある。

　本願発明の発明者等は、吸着装置の受電端子は、等価容量に残留する残留電荷によって高電圧が印加された状態で、真空槽中の導電ガス雰囲気に接触するため、移動中に残留電荷が放出されてしまい、移動中に吸着力が低下することを見いだした。従って、受電端子の導電性ガスへの露出を防止すれば、吸着力の低下は無くなることになる。

　本願発明は、上記知見に基づいて創作されたものであり、装置本体と、前記装置本体に設けられた受電側凹部と、前記受電側凹部に少なくとも一部が露出された受電端子と、前記装置本体に設けられ、前記受電端子に電気的に接続された吸着電極と、を有し、前記装置本体の表面に載置された基板に電気伝導性を有する気体状の物質が接触し、前記吸着電極に電圧が印加されると前記基板が前記吸着電極に吸着される吸着装置であって、前記吸着電極は、前記吸着装置が載置される給電台に設けられ、電源装置に接続された給電端子が前記受電側凹部に挿入されて、前記給電端子が前記受電端子の露出部分に接触すると、前記電源装置が出力する吸着電圧が印加され、前記吸着電極に前記吸着電圧が印加された後、前記受電端子と前記給電端子とを離間させると前記吸着電極に残留電荷が残り、前記受電端子と前記給電端子とを離間させて前記吸着装置を移動する際には、前記吸着電極の前記残留電荷によって前記基板が前記吸着電極に吸着されると共に、前記装置本体に設けられた蓋部によって、前記受電側凹部が閉塞される吸着装置である。
　本願発明は吸着装置であって、前記吸着装置は、前記装置本体が水平姿勢のときに前記蓋部が開けられて前記受電端子と前記給電端子との接触が可能にされ、前記給電端子が前記受電側凹部から抜去されて前記吸着装置が水平姿勢から鉛直姿勢になると、前記受電側凹部は前記蓋部で閉塞される吸着装置である。
　本願発明は吸着装置であって、前記蓋部には伸縮部材が設けられ、前記給電端子が前記受電側凹部に挿入されるときに前記蓋部は前記給電端子に押圧され、前記伸縮部材が変形しながら前記蓋部の少なくとも一部は移動して前記受電側凹部が開けられた状態になって前記給電端子と前記受電端子とが接触し、前記給電端子が前記受電側凹部から抜去されると、前記伸縮部材の変形は元に戻り、前記蓋部によって、前記受電側凹部が蓋をされる吸着装置である。
　本願発明は吸着装置であって、前記蓋部は押圧されると変形し、押圧が解除されると元の形状に戻る材料で形成され、前記給電端子が前記受電側凹部に挿入されるときに前記蓋部は前記給電端子に押圧され、前記蓋部は変形して前記受電側凹部が開けられた状態になって前記給電端子と前記受電端子とが接触し、前記給電端子が前記受電側凹部から抜去されると、前記蓋部の変形は元に戻り、前記蓋部によって、前記受電側凹部が蓋をされる吸着装置である。
　また、本発明は、装置本体と、前記装置本体に設けられた受電端子と、前記装置本体に設けられた整流回路と、前記装置本体に設けられ、前記整流回路を介して前記受電端子に接続された吸着電極と、を有し、前記装置本体の表面に載置された基板に電気伝導性を有する気体状の物質が接触し、前記吸着電極に吸着電圧が印加されると前記基板が前記吸着電極に吸着される吸着装置であって、前記受電端子は前記装置本体の外部の雰囲気とは分離され、前記吸着装置が給電台に載置されると、前記給電台に設けられた給電端子と前記受電端子とが非接触の状態で近接し、前記給電端子に印加される交流電圧を前記受電端子が受電し、前記整流回路を介して前記吸着電極に前記吸着電圧が印加され、前記吸着装置が前記給電台から分離されて移動する際には、前記吸着電極の残留電荷によって前記基板が前記吸着電極に吸着される吸着装置である。
　本願発明は吸着装置であって、前記給電台に設けられた給電側接地端子に接触可能な受電側接地端子と、前記吸着電極と前記受電側接地端子との間を導通又は遮断させ、前記吸着電極と前記受電端子との間を導通又は遮断させる切替装置と、前記切替装置の接続を切り替える制御装置とを有し、前記給電端子に印加される交流電圧には前記切替装置の導通と遮断を制御する制御信号が重畳されており、前記受電端子が受電した電圧から前記制御信号が抽出され、前記制御装置に入力される吸着装置である。
　本願発明は吸着装置であって、前記給電台に設けられた給電側接地端子に接触可能な受電側接地端子と、前記吸着電極と前記受電側接地端子との間を導通又は遮断させ、前記吸着電極と前記受電端子との間を導通又は遮断させる切替装置と、前記切替装置の接続を切り替える制御装置と、前記制御装置に接続され、前記給電台に設けられた給電側制御端子から前記切替装置の導通と遮断を制御する制御信号が入力される受電側制御端子と、が設けられた吸着装置である。
　本願発明は吸着装置であって、前記受電端子と前記給電端子とは、それぞれ平板電極で構成され、前記吸着装置が前記給電台に載置されると、前記受電端子と前記給電端子とでコンデンサが形成される吸着装置である。
　本願発明は吸着装置であって、前記給電側制御端子と前記受電側制御端子とはそれぞれ平行平板型電極で構成され、前記吸着装置が前記給電台に載置されると、前記受電側制御端子と前記給電側制御端子とでコンデンサが形成され、前記給電側制御端子が出力する前記制御信号が、前記受電側制御端子に伝達される吸着装置である。
　本願発明は吸着装置であって、前記受電端子と前記給電端子とは、それぞれコイルで構成され、前記吸着装置が前記給電台に載置されると、前記受電端子と前記給電端子とが磁気結合したトランスが形成される吸着装置である。
　本願発明は吸着装置であって、前記給電側制御端子と前記受電側制御端子とはそれぞれコイルで構成され、前記吸着装置が前記給電台に載置されると、前記受電側制御端子と前記給電側制御端子とが磁気結合したトランスが形成され、前記給電側制御端子が出力する前記制御信号が、前記受電側制御端子に伝達される吸着装置である。
　本願発明は吸着装置であって、前記吸着電極上には、複数の前記基板が載置される吸着装置である。
　本願発明は吸着装置であって、前記吸着電極上には、複数の前記基板が載置される吸着装置である。
　本願発明は吸着装置であって、電気伝導性を有する気体状の前記物質はプラズマである吸着装置である。
　本願発明は吸着装置であって、電気伝導性を有する気体状の前記物質はプラズマである吸着装置である。
　また、本発明は、電気伝導性を有する気体状の物質が形成される真空槽と、前記真空槽の内部に配置された給電台と、前記給電台に設けられた給電端子と、を有し、前記給電台は、吸着装置が分離可能に配置されるように構成され、前記吸着装置が前記給電台に配置されたときに、前記吸着装置に設けられた受電端子は、前記給電端子に接触し、前記給電端子に接続された電源装置が出力する吸着電圧が、前記給電端子と前記受電端子とを介して、前記吸着装置に設けられた吸着電極に印加され、前記吸着装置に配置された基板が静電吸着される真空処理装置である。
　本願発明は前記吸着装置を有する真空処理装置であって、前記吸着装置は、装置本体と、前記装置本体に設けられた受電側凹部とを有し、前記受電端子は前記受電側凹部に少なくとも一部が露出され、吸着電極は前記装置本体に設けられ、前記受電端子に電気的に接続され、前記装置本体の表面に載置された基板に電気伝導性を有する気体状の物質が接触し、前記吸着電極に前記吸着電圧が印加されると前記基板が前記吸着電極に吸着されるようにされ、前記給電端子が前記受電側凹部に挿入されて、前記給電端子が前記受電端子の露出部分に接触すると、前記電源装置が出力する吸着電圧が前記受電端子を介して前記吸着電極に印加され、前記吸着電極に前記吸着電圧が印加された後、前記受電端子と前記給電端子とを離間させると前記吸着電極に残留電荷が残り、前記受電端子と前記給電端子とを離間させて前記吸着装置を移動する際には、前記吸着電極の前記残留電荷によって前記基板が前記吸着電極に吸着されると共に、前記装置本体に設けられた蓋部によって、前記受電側凹部が閉塞される吸着装置である真空処理装置である。
　本願発明は真空処理装置であって、前記吸着装置は、前記装置本体が水平姿勢のときに前記蓋部が開けられて前記受電端子と前記給電端子との接触が可能にされ、前記給電端子が前記受電側凹部から抜去されて前記吸着装置が水平姿勢から鉛直姿勢になると、前記受電側凹部は前記蓋部で閉塞される真空処理装置である。
　本願発明は真空処理装置であって、前記蓋部には伸縮部材が設けられ、前記給電端子が前記受電側凹部に挿入されるときに前記蓋部は前記給電端子に押圧され、前記伸縮部材が変形しながら前記蓋部の少なくとも一部は移動して前記受電側凹部が開けられた状態になって前記給電端子と前記受電端子とが接触し、前記給電端子が前記受電側凹部から抜去されると、前記伸縮部材の変形は元に戻り、前記蓋部によって、前記受電側凹部が蓋をされる真空処理装置である。
　本願発明は真空処理装置であって、前記蓋部は押圧されると変形し、押圧が解除されると元の形状に戻る材料で形成され、前記給電端子が前記受電側凹部に挿入されるときに前記蓋部は前記給電端子に押圧され、前記蓋部は変形して前記受電側凹部が開けられた状態になって前記給電端子と前記受電端子とが接触し、前記給電端子が前記受電側凹部から抜去されると、前記蓋部の変形は元に戻り、前記蓋部によって、前記受電側凹部が蓋をされる真空処理装置である。
　本願発明は真空処理装置であって、電気伝導性を有する気体状の物質が形成される真空槽と、前記真空槽の内部に配置された給電台と、前記給電台に設けられた給電端子と、を有し、前記給電台は、吸着装置が分離可能に配置されるように構成され、前記吸着装置が前記給電台に配置されたときに、前記吸着装置に設けられた受電端子は、前記給電端子に非接触で近接し、前記給電端子に接続された電源装置が出力する交流電圧が、前記給電端子を介して前記受電端子に印加され、前記受電端子に接続された整流回路によって整流された整流電圧が前記吸着装置に設けられた吸着電極に印加され、前記吸着装置に配置された基板が静電吸着される真空処理装置である。
　本願発明は前記吸着装置を有する真空処理装置であって、前記吸着装置は、装置本体を有し、前記整流回路と前記受電端子と前記吸着電極とは前記装置本体に設けられ、前記装置本体の表面に載置された基板に電気伝導性を有する気体状の物質が接触し、前記吸着電極に前記整流電圧が印加されると前記基板が前記吸着電極に吸着されるように構成され、前記受電端子は前記装置本体の外部の雰囲気とは分離され、前記吸着電極に前記整流電圧が印加された後、前記吸着電極に残留電荷が残り、前記吸着装置が前記給電台から分離されて移動する際には、前記吸着電極の前記残留電荷によって前記基板が前記吸着電極に吸着されるように構成された真空処理装置である。
　本願発明は真空処理装置であって、前記給電台には給電側接地端子が設けられ、前記装置本体には、前記給電側接地端子に接触可能な受電側接地端子と、前記吸着電極と前記受電側接地端子との間を導通又は遮断させ、前記吸着電極と前記受電端子との間を導通又は遮断させる切替装置と、前記切替装置の前記導通と前記遮断を制御する制御装置とが設けられ、前記給電端子に印加される交流電圧には前記切替装置の導通と遮断を制御する制御信号が重畳されており、前記受電端子が受電した電圧から前記制御信号が抽出され、前記制御装置に入力される真空処理装置である。
　本願発明は真空処理装置であって、前記給電台には給電側接地端子が設けられ、前記装置本体には、前記給電側接地端子に接触可能な受電側接地端子と、前記吸着電極と前記受電側接地端子との間を導通又は遮断させ、前記吸着電極と前記受電端子との間を導通又は遮断させる切替装置と、前記切替装置の前記導通と前記遮断を制御する制御装置と、前記制御装置に接続され、前記給電台に設けられた給電側制御端子から前記制御装置に、前記導通と前記遮断とを制御するための制御信号が入力される受電側制御端子と、が設けられた真空処理装置である。
　本願発明は真空処理装置であって、前記受電端子と前記給電端子とは、それぞれ平板電極で構成され、前記吸着装置が前記給電台に載置されると、前記受電端子と前記給電端子とでコンデンサが形成されるように構成された真空処理装置である。
　本願発明は真空処理装置であって、前記給電側制御端子と前記受電側制御端子とはそれぞれ平行平板型電極で構成され、前記吸着装置が前記給電台に載置されると、前記受電側制御端子と前記給電側制御端子とでコンデンサが形成され、前記給電側制御端子が出力する前記制御信号が、前記受電側制御端子に伝達される真空処理装置である。
　本願発明は真空処理装置であって、前記受電端子と前記給電端子とは、それぞれコイルで構成され、前記吸着装置が前記給電台に載置されると、前記受電端子と前記給電端子とが磁気結合したトランスが形成される真空処理装置である。
　本願発明は真空処理装置であって、前記給電側制御端子と前記受電側制御端子とはそれぞれコイルで構成され、前記吸着装置が前記給電台に載置されると、前記受電側制御端子と前記給電側制御端子とが磁気結合したトランスが形成され、前記給電側制御端子が出力する前記制御信号が、前記受電側制御端子に伝達される真空処理装置である。

　受電端子の変質、腐食、薄膜形成が防止されることで、吸着力の低下は無くなり、また、吸着装置の寿命が長くなる。

(ａ)～(ｃ)：本発明の真空処理装置を説明するための図 (ａ)、(ｂ)：本発明の第一例の吸着装置を説明するための図鉛直姿勢の第一例の吸着装置を説明するための図 (ａ)、(ｂ)：本発明の第二例の吸着装置を説明するための図 (ａ)、(ｂ)：本発明の第三例の吸着装置を説明するための図 (ａ)、(ｂ)：本発明の第四例の吸着装置を説明するための図 (ａ)、(ｂ)：本発明の第五例の吸着装置を説明するための図

＜実施形態＞
　図１(ａ)～(ｃ)の符号２は、本発明の真空装置である。

　図１(ａ)を参照し、この真空装置２は、一台又は複数台の真空処理装置１５₁，１５₂を有している。
　真空処理装置１５₁、１５₂は、真空槽１６を有しており、真空槽１６の内部には、給電台１８と、処理部１７とが配置されている。

　先ず、図１(ｂ)に示す様に、前段の処理装置１４₁から最初の真空処理装置１５₁の内部に、複数枚の基板５が載置された吸着装置１９が搬入され、給電台１８の上に載置される。

　給電台１８には給電装置６０が設けられ、吸着装置１９には受電装置２０が設けられている。給電装置６０は電源装置６６に接続され、受電装置２０は吸着装置１９に設けられた一枚の吸着電極２２に接続されており、電源装置６６が動作して給電装置６０に電圧が印加されると、受電装置２０に給電装置６０から電圧が供給される。受電装置２０に供給された電圧により、受電装置２０から吸着電極２２に吸着電圧が供給される。真空槽１６は接地電位に接続されている。吸着電極２２の電位は正電位でも負電位でも吸着が可能である。

　吸着装置１９に載置された複数の基板５の真下位置には、吸着電極２２が位置するようにされており、吸着電極２２は、ここでは、一枚の導電性の板又は膜であり、各基板５は、吸着電極２２の外周よりも内側の場所に載置されている。ここでは一枚の吸着電極２２が用いられているが、複数の小径電極で吸着電極を構成し、各小径電極には、同じ大きさの吸着電圧が供給されるようにしてもよい。

　真空処理装置１５₁、１５₂の真空槽１６には、真空排気装置６８がそれぞれ接続されており、真空排気装置６８を動作させ、真空槽１６の内部を真空排気して真空雰囲気を形成した後、真空槽１６の内部にプラズマを形成すると、プラズマが導電性を有する気体状の帯電物質となり、吸着装置１９に載置された基板５と真空槽１６の壁面とに接触し、基板５を真空槽１６に電気的に接続する。
　各真空槽１６は、接地電位に接続されており、基板５は接地電位に接続される。

　基板５と吸着電極２２との間には、等価容量が形成されており、基板５がプラズマによって接地電位に接続された状態で、吸着電極２２に吸着電圧が供給されると、等価容量が充電され、基板５と吸着電極２２とが互いに逆極性の電圧に帯電し、その間に静電気力が発生し、基板５が吸着電極２２に静電吸着される。

　その状態で、処理部１７を動作させると、基板５が真空処理される。
　ここでは、処理部１７はシャワープレートであり、処理部１７からエッチングガスが導入され、真空槽１６の内部には、エッチングガスプラズマが形成されており、吸着装置１９に吸着された基板５は、基板５の表面に形成された薄膜がエッチングされるようになっている。

　この真空処理の際には、吸着によって基板５と吸着装置１９とは密着しており、熱伝導率が高くなっている。従って、給電台１８に加熱装置や冷却装置を設け、それら加熱装置や冷却装置によって吸着装置１９を加熱又は冷却することで、基板５を加熱又は冷却することができる。

　真空処理の最中には、吸着電極２２には、吸着電圧が供給されており、真空処理が終了すると、給電装置６０から受電装置２０への電圧供給は終了され、吸着電極２２への電圧供給が終了する。

　その状態で、搬送装置等により、最初の真空処理装置１５₁内の吸着装置１９は、給電台１８から分離され、次の真空処理装置１５₂の真空槽１６の内部に移動され、図１（ｃ）に示すように、新しい吸着装置１９が最初の真空処理装置１５₁の給電台１８に載置される。図中、符号１１は、真空処理装置１５₁，１５₂の間や、処理装置１４₁、１４₂等との間を接続し、開状態になったときに吸着装置１９を通過させる真空バルブである。

　移動中の吸着装置１９の受電装置２０には、給電装置６０から電圧は供給されないが、吸着電極２２への電圧供給が終了しても、吸着電極２２と基板５とには反対極性の残留電荷が残存しており、残留電荷の吸着力によって、基板５は、吸着装置１９に吸着された状態が維持される。

　吸着装置１９と給電台１８の具体的な例について説明する。
　図２、図４～図７の符号１９ａ～１９ｅは、具体的な第一例～第五例の吸着装置を示しており、符号１８ａ～１８ｅは、第一例～第五例の吸着装置１９ａ～１９ｅに対応する具体的な第一例～第五例の給電台を示している。

　第一例～第五例の吸着装置１９ａ～１９ｅでは、吸着電極２２は、絶縁物が板状に形成されて成る装置本体２１の内部に配置されており、吸着電極２２の表面は装置本体２１の外部には露出しないようにされている。
　装置本体２１の表面上には、複数の基板５₁～５₃が載置されている。各基板５₁～５₃の真下位置には、吸着電極２２が位置するようにされている。

＜第一例～第三例＞
　第一例～第三例の吸着装置１９ａ～１９ｃの受電装置２０ａ～２０ｃは、装置本体２１の裏面側に設けられた受電側凹部２３と、受電側凹部２３の内部であって、その底面に配置された受電端子２４と、受電側凹部２３の蓋をする蓋部２５ａ、２５ｂ、２５ｃ、２５ｄとをそれぞれ有している。受電端子２４は、少なくとも一部が受電側凹部２３内に露出しており、ここでは、受電端子２４は、金属等の電気導電性を有する部材で構成され、膜表面が受電側凹部２３に露出されている。

　第一例～第三例の給電台１８ａ～１８ｃは、絶縁物が台状に形成されて成る台本体６１を有しており、第一例～第三例の給電台１８ａ～１８ｃの給電装置６０ａ～６０ｃは、給電端子６４を有している。

　ここでは、第一例～第三例の給電装置６０ａ～６０ｃは、台本体６１の表面に形成された給電側凹部６３を有しており、給電端子６４は、給電側凹部６３の底面に、バネ等の給電側伸縮部材６２を介して取り付けられている。

　第一例～第三例の給電台１８ａ～１８ｃの給電端子６４の上端は、台本体６１の表面よりも上方に位置しており、給電端子６４の上端の、台本体６１の表面からの高さは、受電端子２４の下端と装置本体２１の底面との間の距離よりも長くされている。ここでは受電端子２４は膜であり、膜表面が下端になっている。

　第一例と第二例の吸着装置１９ａ、１９ｂでは、蓋部２５ａ、２５ｂは、装置本体２１の底面に回転可能に取り付けられた回転装置２７に設けられている。
　蓋部２５ａ、２５ｂは、蓋部２５ａ、２５ｂの縁の部分が回転装置２７に取り付けられており、蓋部２５ａ、２５ｂは回転装置２７と一緒に回転するようにされている。

　第一例の吸着装置１９ａでは、装置本体２１が水平姿勢のときには、蓋部２５ａは自重によって、回転装置２７に取り付けられた部分が上方に位置し、その反対側の部分が下方に位置し、従って、蓋部２５ａは、受電側凹部２３の開口を閉じないようになっており、装置本体２１が水平姿勢の時には、蓋部２５ａは鉛直姿勢になり、受電側凹部２３の蓋は開くことになっている。

　他方、第一例の吸着装置１９ａが、図３に示すように、受電側凹部２３の回転装置２７が設けられた側が上方、反対側が下方にされて、鉛直に配置された場合には、蓋部２５ａは鉛直になり、また、受電側凹部２３の開口も鉛直になるから、受電側凹部２３は、蓋部２５ａによって蓋をされた状態になる。

　第二例の吸着装置１９ｂでは、蓋部２５ｂは、受電側伸縮部材２８によって装置本体２１に取り付けられており、蓋部２５ｂが押圧されない状態では、第二例の吸着装置１９ｂの受電側凹部２３は、蓋部２５ｂによって蓋をされるようになっている。

　第三例の吸着装置１９ｃでは、柔軟性を有する二枚の蓋部２５ｃ、２５ｄが、側面を互いに接触させて受電側凹部２３を蓋するように設けられており、二枚の蓋部２５ｃ、２５ｄの接触部分は、受電側凹部２３の中央付近に位置するようにされている。

　第二例、第三例の吸着装置１９ｂ、１９ｃでは、受電側凹部２３は蓋部２５ｂ、２５ｃ、２５ｄによって蓋をされており、第二例、第三例の吸着装置１９ｂ、１９ｃが真空槽１６の内部を移動するときには、真空槽１６の内部の残留ガスは、第二例、第三例の吸着装置１９ｂ、１９ｃの受電側凹部２３の内部には進入しないのに対し、第一例の吸着装置１９ａでは鉛直姿勢のときに、受電側凹部２３が蓋をされるから、第一例の吸着装置１９ａは、鉛直姿勢で移動させると、移動する真空槽１６内の残留ガスが受電側凹部２３の内部に進入しないようにすることができる。

　第一例～第三例の吸着装置１９ａ～１９ｃを、第一例～第三例の給電台１８ａ～１８ｃの上方に離間して配置した状態から、第一例～第三例の給電台１８ａ～１８ｃの上に載置する工程を説明する。

　第一例～第三例の吸着装置１９ａ～１９ｃを水平姿勢にし、移動装置(不図示)により、第一例～第三例の給電台１８ａ～１８ｃの上方にそれぞれ配置する。
　移動装置により、第一例～第三例の吸着装置１９ａ～１９ｃを水平姿勢にしながら降下させる。
　降下により、第一例の吸着装置１９ａでは、鉛直姿勢の蓋部２５ａは、給電側凹部６３の中に挿入される。

　鉛直姿勢の蓋部２５ａの下端から装置本体２１の底面までの高さよりも、給電側凹部６３の深さの方が長くされており、従って、蓋部２５ａの下端は給電側凹部６３の底面と接触せずに、受電端子２４の下端と給電端子６４の上端とが接触する。

　第二例の吸着装置１９ｂでは、給電端子６４の上端が蓋部２５ｂの底面に接触し、更に第二例の吸着装置１９ｂが降下されると、給電端子６４が蓋部２５ｂを下方から押圧し、受電側伸縮部材２８は圧縮変形され、蓋部２５ｂは上方に押し上げられて、受電端子２４の真下位置から給電端子６４が移動され、受電側凹部２３の内部に位置する受電端子２４が、受電側凹部２３の外部雰囲気に露出する。

　他方、第三例の吸着装置１９ｃでは、給電端子６４は、第三例の吸着装置１９ｃが降下したときに、給電端子６４の上端が二枚の蓋部２５ｃ、２５ｄが接触した部分に当接できる位置に配置されている。

　二枚の蓋部２５ｃ、２５ｄは、押圧されると変形する材料で形成されており、給電端子６４の上端が二枚の蓋部２５ｃ、２５ｄ同士が接触した部分に当接した後、更に第三例の吸着装置１９ｃが降下されると、二枚の蓋部２５ｃ、２５ｄの接触部分は下方から押圧されて上方に押し上げられ、蓋部２５ｃ、２５ｄの形状は湾曲変形され、受電端子２４の真下位置に位置する蓋部２５ｃ、２５ｄの部分が移動され、受電側凹部２３の内部に位置する受電端子２４が、受電側凹部２３の外部雰囲気に露出する。

　その状態から第二例と第三例の吸着装置１９ｂ、１９ｃとが更に降下されると、給電端子６４の上端が受電側凹部２３内を移動して受電端子２４に近づき、給電端子６４の上端が受電端子２４の下端に接触する。

　第一例～第三例の吸着装置１９ａ～１９ｃの受電端子２４の下端と、第一例～第三例の給電台１８ａ～１８ｃの給電端子６４の上端とが接触したときには、装置本体２１の底面と台本体６１の表面とは接触しておらず、更に第一例～第三例の吸着装置１９ａ～１９ｃを降下させると、給電側伸縮部材６２が圧縮され、給電側伸縮部材６２が短くなりながら、第一例～第三例の吸着装置１９ａ～１９ｃは、第一例～第三例の給電台１８ａ～１８ｃに近接し、装置本体２１の底面と台本体６１の表面とが接触すると、第一例～第三例の吸着装置１９ａ～１９ｃは、第一例～第三例の給電台１８ａ～１８ｃ上に載置されたことになる。

　受電端子２４は、吸着電極２２に電気的に接続されており、給電端子６４は、真空槽１６の外部に配置された電源装置６６に電気的に接続されている。

　第一例～第三例の給電台１８ａ～１８ｃでは、電源装置６６には可変直流電圧源が用いられており、電源装置６６が起動し、直流の吸着電圧を出力すると、給電端子６４と受電端子２４とを介して、吸着電極２２に吸着電圧が印加される。

　そして、上述したように、第一例～第三例の給電台１８ａ～１８ｃが配置された真空槽１６の内部に、処理部１７からエッチングガスが導入され、エッチングガスのプラズマが生成されると、そのプラズマが、電気伝導性を有する気体状の物質となり、第一例～第三例の吸着装置１９ａ～１９ｃ上の基板５₁～５₃と真空槽１６の壁面とに接触し、基板５₁～５₃が接地電位に接続され、等価容量が充電され、基板５₁～５₃は、第一例～第三例の吸着装置１９ａ～１９ｃの吸着電極２２に吸着される。
　各基板５₁～５₃の表面の薄膜がエッチングされると、エッチングガスの導入は停止され、プラズマは消滅される。

　電源装置６６の動作を停止させ、次いで、吸着電極２２を、真空槽１６と同じ接地電位に接続し、等価容量に蓄積された電荷を放電させた後、移動装置によって、第一例～第三例の吸着装置１９ａ～１９ｃを第一例～第三例の給電台１８ａ～１８ｃから離間させ、受電端子２４と給電端子６４とを離間させる。

　第一例の吸着装置１９ａは、給電端子６４が受電側凹部２３から抜去された後、蓋部２５ａで受電側凹部２３を蓋するために、水平姿勢から鉛直姿勢にする。

　第二例の吸着装置１９ｂでは、給電端子６４が受電側凹部２３から抜去されると、圧縮されていた受電側伸縮部材２８が元の形状に戻り、第二例の吸着装置１９ｂの受電側凹部２３は、蓋部２５ｂによって蓋がされる。

　また、第三例の吸着装置１９ｃでは、給電端子６４が受電側凹部２３から抜去されると、変形していた二枚の蓋部２５ｃ、２５ｄは元の形状に戻り、第三例の吸着装置１９ｃの受電側凹部２３は、二枚の蓋部２５ｃ、２５ｄによって蓋がされる。

　第一例～第三例の吸着装置１９ａ～１９ｃの吸着電極２２には、接地電位に接続し、給電端子６４から離間させた後も電荷が残存しており、吸着電極２２の電位と接地電位との差である電圧は大きい状態である。
　この状態で、反応性を有するガスに受電端子２４が接触すると、受電端子２４の変質や腐食が発生したり、薄膜が形成されたりしてしまう。

　第一例～第三例の吸着装置１９ａ～１９ｃでは、受電側凹部２３は蓋部２５ａ～２５ｄによって蓋をされた状態になるから、第一例～第三例の給電台１８ａ～１８ｃから分離され、蓋をされた状態で別の真空槽１６に搬入されるときに、搬入される真空槽１６の内部の残留ガスは、受電側凹部２３の内部に侵入できないので、受電端子２４には、変質、腐食、薄膜の形成等の不都合は生じにくい。

　第一例～第三例の給電台１８ａ～１８ｃでは、電源装置６６の出力電圧は接地電位にされており、給電端子６４は接地電位に接続されているから、残留ガスに接触しても、変質、腐食、薄膜形成等の不都合は生じにくい。

＜第四例、第五例＞
　次に、図６(ａ)、(ｂ)と図７(ａ)、(ｂ)とを参照し、第四例、第五例の吸着装置１９ｄ、１９ｅを説明する。

　先ず、第四例、第五例の吸着装置１９ｄ、１９ｅの共通する構成と、第四例、第五例の給電台１８ｄ、１８ｅの共通する構成とを説明する。

　第四例、第五例の吸着装置１９ｄ、１９ｅの受電装置２０ｄ、２０ｅは、吸着電極２２の他に、切替装置３６と、整流回路３４と、受電側制御装置３５と、受電側接地端子３３と、受電側制御端子３２、４２と、受電端子３１、４１を有している。

　受電端子３１、４１と受電側制御端子３２、４２とは、装置本体２１の内部の底面近傍に配置されており、装置本体２１の外部の雰囲気には接触しないようにされている。
　受電側接地端子３３は、装置本体２１の底面に設けられており、ここでは、受電側接地端子３３の厚み以上の深さを有する接地用凹部３８の内部に露出して配置されている。
　受電端子３１、４１は整流回路３４に接続され、整流回路３４と受電側接地端子３３とは、切替装置３６を介して吸着電極２２に接続されている。
　受電端子３１、４１を切替装置３６を介して整流回路３４に接続させ、整流回路３４を吸着電極２２に接続させるようにしてもよい。

　切替装置３６は、受電側制御装置３５によって制御され、受電側制御装置３５が切替装置３６に出力する信号によって、吸着電極２２を、受電側接地端子３３と、受電端子３１とのいずれか一方に接続するか、又は、吸着電極２２を受電側接地端子３３と整流回路３４の両方から遮断させるように動作する。吸着電極２２は、整流回路３４を介して受電端子３１に接続される。
　搬送中は吸着電極２２は両方から遮断され、浮遊電位に置かれる。

　第四例、第五例の給電台１８ｄ、１８ｅの給電装置６０ｄ、６０ｅは、それぞれ給電端子６５、７５と給電側制御端子６７、７７と、給電側接地端子８４とを有している。

　給電端子６５、７５は、交流電圧源である電源装置６６に接続されており、給電側制御端子６７，７７は、給電側制御装置６９に接続され、給電側接地端子８４は接地電位に接続されている。

　第四例の吸着装置１９ｄ、給電台１８ｄと、第五例の吸着装置１９ｅと給電台１８ｅとの間の異なる構成を説明すると、第四例の吸着装置１９ｄの受電端子３１と受電側制御端子３２と、第四例の給電台１８ｄの給電端子６５と給電側制御端子６７とは、それぞれ平板状の電極で構成されているのに対し、第五例の吸着装置１９ｅの受電端子４１と受電側制御端子４２と、第五例の給電台１８ｅの給電端子７５と給電側制御端子７７とは、それぞれコイルで構成されている。

　第四例、第五例の吸着装置１９ｄ、１９ｅを第四例、第五例の給電台１８ｄ、１８ｅ上にそれぞれ乗せると、第四例の吸着装置１９ｄの受電端子３１と第四例の給電台１８ｄの給電端子６５とは、互いに平行に近接して配置され、受電端子３１と給電端子６５とを電極にした電力側コンデンサが形成され、第五例の吸着装置１９ｅの受電端子４１と第五例の給電台１８ｅの給電端子７５とは、互いに近接して配置され、受電端子４１と給電端子７５とが磁気結合したトランスが形成される。

　また、第四例、第五例の吸着装置１９ｄ、１９ｅを第四例、第五例の給電台１８ｄ、１８ｅ上にそれぞれ乗せると、給電側制御端子６７、７７と、受電側制御端子３２，４２とが近接し、第四例の給電台１８ｄと吸着装置１９ｄとでは、給電側制御端子６７と受電側制御端子３２とによって制御用コンデンサが形成され、第五例の給電台１８ｅと吸着装置１９ｅとでは、給電側制御端子７７と受電側制御端子４２とが磁気結合するトランスが形成される。

　給電側制御端子６７，７７は、給電側制御装置６９に接続されており、給電側制御装置６９から制御信号を含む電圧が給電側制御端子６７，７７に印加され、その電圧によって給電側制御端子６７，７７に流れる電流が変化すると、受電側制御端子３２，４２に、制御信号を含む電圧が誘起され、制御信号が受電側制御装置３５に入力される。

　受電側制御装置３５は、入力された制御信号の内容に応じて切替装置３６の接続を切り替える。ここでは、二個のスイッチ３７ａ、３７ｂのいずれか一方を導通させ、他方を遮断させる。

　基板５₁～５₃が載置された吸着装置１９ｄ、１９ｅが給電台１８ｄ、１８ｅ上に乗せられたときには、給電側制御装置６９は、吸着電極２２を整流回路３４に接続する内容の信号を給電側制御端子６７，７７と受電側制御端子３２，４２とを介して、受電側制御装置３５に伝達すると、受電側制御装置３５は、吸着電極２２を整流回路３４に接続する。この状態では、吸着電極２２は、受電側接地端子３３から切り離される。

　真空槽１６の内部にプラズマが生成され、プラズマによって基板５₁～５₃が接地電位に接続されており、電源装置６６が動作し、交流電圧が出力されているものとすると、第四例の給電台１８ｄと吸着装置１９ｄとでは、各基板５₁～５₃と吸着電極２２との間の等価容量と、電力側コンデンサとは、電源装置６６に対して直列接続され、電源装置６６が交流電圧を出力すると、整流回路３４によって整流された電圧が吸着電極２２に印加され、等価容量が正電圧又は負電圧のいずれか一方の極性の電圧で充電される。

　他方、第五例の給電台１８ｅと吸着装置１９ｅとでは、電源装置６６が交流電圧を出力し、給電端子７５に交流電流が流れると、磁気結合によって、受電端子４１に交流電圧が誘起され、その交流電圧は整流回路３４に印加される。

　給電側接地端子８４は接地電位に接続されており、第四例、第五例の吸着装置１９ｄ、１９ｅが第四例、第五例の給電台１８ｄ、１８ｅ上にそれぞれ乗せられた状態では、受電側接地端子３３と給電側接地端子８４とは接触し、受電側接地端子３３は接地電位に接続されており、第５例の受電端子４１であるコイルの一端は、受電側接地端子３３に接続され、給電側接地端子８４を介して接地電位に接続されており、他端は整流回路３４に接続され、受電端子４１に誘起された交流電圧は整流回路３４に印加されると、整流回路３４で整流された電流が等価容量に流れ、等価容量が正電圧又は負電圧のいずれか一方の極性の電圧で充電される。コイルの中点が、受電側接地端子３３に接続されてもよい。

　従って、第四例、第五例の吸着装置１９ｄ、１９ｅで、各基板５₁～５₃は吸着電極２２に吸着される。
　真空槽１６の内部に形成されたプラズマによって、各基板５₁～５₃が真空処理されると、真空処理は終了する。

　次の処理まで搬送される場合は、プラズマは消滅され、電源装置６６、給電側制御装置６９の出力も停止されると、吸着電極２２は浮遊電位となり、等価容量には電荷が残留されており、基板５₁～５₃が吸着電極２２に吸着された状態が維持される。

　次の処理がなく吸着電極２２から基板５₁～５₃の吸着を中止しても良い場合は、給電側制御装置６９から吸着電極２２を受電側接地端子３３に接続する内容に制御信号を含む電圧が出力され、給電側制御端子６７，７７と受電側制御端子３２，４２とを介して受電側制御装置３５に伝達され、切替装置３６は、吸着電極２２を整流回路３４から切り離し、受電側接地端子３３に接続し、プラズマを介した接地電位との間で等価容量を放電させ、吸着を中止することができ、プラズマを消滅させ、電源装置６６と給電側制御装置６９との出力も停止させ、移動装置によって、第四例、第五例の吸着装置１９ｄ、１９ｅを第四例、第五例の給電台１８ｄ、１８ｅから離間させ、移動させる。

　要するに、搬送中は次のプロセスに向けて吸着状態を維持したまま吸着装置１９ｄ、１９ｅごと搬送されるため、二個のスイッチ３７ａ、３７ｂは遮断させる。

　また、大気中に搬出する場合は、接地側のスイッチ３７ａを導通させ、受電側のスイッチ３７ｂは遮断させ、吸着電極２２を接地電位に接続した状態でプラズマに曝した後、大気中に搬出する。

　第四例、第五例の吸着装置１９ｄ、１９ｅの吸着電極２２を接地電位に接続し、第四例、第五例の給電台１８ｄ、１８ｅから離間させても、等価容量には電荷が残留されており、基板５₁～５₃が吸着電極２２に吸着された状態が維持される。

　受電端子３１、４１の表面は、絶縁性の材料で覆われており、受電端子３１、４１と給電端子６５、７５との間には、少なくとも、受電端子３１、４１の表面を覆う絶縁性の材料が配置されている。ここでは、受電端子３１、４１の表面を覆う絶縁性の材料は装置本体２１を構成する材料である。

　受電端子３１，４１は、残留電荷によって高電圧になっているが、受電端子３１、４１は、装置本体２１の外部雰囲気には接触しないようにされているので、受電端子３１，４１が変質、腐食せず、薄膜が形成されることもない。

　受電端子３１、４１と、受電側制御端子３２、４２と、給電端子６５、７５と、給電側制御端子６７、７７とは装置本体２１内又は台本体６１内に配置され、真空槽１６の内部雰囲気に露出されないので、変質、腐食、薄膜形成等の不都合は生じない。各端子３１、３２、４１、４２、６５，６７、７５、７７の表面を薄膜で被覆して真空槽１６の内部雰囲気に露出されないようにしてもよい。

　給電側接地端子８４は接地電位に接続され、受電側接地端子３３は接地電位又は浮遊電位に置かれるので、給電側接地端子８４と受電側接地端子３３も変質、腐食、薄膜形成等の不都合は生じにくい。

＜他の例＞
　なお、上記各例では、エッチングガスのプラズマを用いる例であったが、他に、例えば処理部１７はスパッタリングターゲットであり、真空槽１６の内部には、スパッタリングガス導入装置からスパッタリングガスが導入され、真空槽１６の内部にスパッタリングガスのプラズマが形成される成膜装置でも、スパッタリングガスのプラズマによって、基板５₁～５₃が接地電位に接続され、第一例～第三例の吸着装置１９ａ～１９ｃの吸着電極２２に吸着されるため、本発明の真空処理装置に含まれる。

　その場合、形成されたスパッタリングガスによって、スパッタリングターゲットがスパッタリングされると、第一例～第三例の吸着装置１９ａ～１９ｃに吸着された各基板５₁～５₃の表面に薄膜が形成される。

　また、処理部１７からＣＶＤの原料ガスを導入し、原料ガスのプラズマを形成して、基板５₁～５₃の表面に薄膜を形成するプラズマＣＶＤ装置も本発明の真空処理装置に含まれる。

　更に、プラズマに限定されるものではなく、電気伝導性を有する気体状の物質であれば、吸着装置１９ａ～１９ｅに載置された基板５₁～５₃を、真空槽１６の壁面に電気的に接続させることができ、等価容量を充電することができるので、本発明に用いることができる。
　電気伝導性を有する気体状の物質となるガスは、処理部１７以外の装置から導入してもよい。

　上記吸着電極２２は装置本体２１の内部に配置されていたが、装置本体２１の表面に配置し、吸着電極２２を保護膜で覆い、吸着電極２２を装置本体２１の内部に配置したときと同様に、基板５₁～５₃と接触せず、また、真空槽１６内の雰囲気から分離されるように構成してもよい。

　上記例では、給電側制御端子６７，７７が出力する制御信号を受電側制御端子３２，４２で受信したが、給電端子６４，６５，７５が出力する電圧に制御信号を重畳させ、受電端子２４，３１，４１に供給された電圧から制御信号を抽出回路で抽出し、受電側制御装置３５に入力させてもよい。

５，５₁～５₃……基板
１５₁，１５₂……真空処理装置
１６……真空槽
１８，１８ａ～１８ｅ……給電台
１９，１９ａ～１９ｅ……吸着装置
２１……装置本体
２４，３１，４１……受電端子
３２，４２……受電側制御端子
３４……整流回路
３５……受電側制御装置
６１……台本体
６４，６５，７５……給電端子
６６……電源装置
６７、７７……給電側制御端子

Claims

　装置本体と、
　前記装置本体に設けられた受電側凹部と、
　前記受電側凹部に少なくとも一部が露出された受電端子と、
　前記装置本体に設けられ、前記受電端子に電気的に接続された吸着電極と、
　を有し、
　前記装置本体の表面に載置された基板に電気伝導性を有する気体状の物質が接触し、前記吸着電極に電圧が印加されると前記基板が前記吸着電極に吸着される吸着装置であって、
　前記吸着電極は、前記吸着装置が載置される給電台に設けられ、電源装置に接続された給電端子が前記受電側凹部に挿入されて、前記給電端子が前記受電端子の露出部分に接触すると、前記電源装置が出力する吸着電圧が印加され、
　前記吸着電極に前記吸着電圧が印加された後、前記受電端子と前記給電端子とを離間させると前記吸着電極に残留電荷が残り、
　前記受電端子と前記給電端子とを離間させて前記吸着装置を移動する際には、前記吸着電極の前記残留電荷によって前記基板が前記吸着電極に吸着されると共に、前記装置本体に設けられた蓋部によって、前記受電側凹部が閉塞される吸着装置。
　前記吸着装置は、前記装置本体が水平姿勢のときに前記蓋部が開けられて前記受電端子と前記給電端子との接触が可能にされ、
　前記給電端子が前記受電側凹部から抜去されて前記吸着装置が水平姿勢から鉛直姿勢になると、前記受電側凹部は前記蓋部で閉塞される請求項１記載の吸着装置。
　前記蓋部には伸縮部材が設けられ、
　前記給電端子が前記受電側凹部に挿入されるときに前記蓋部は前記給電端子に押圧され、前記伸縮部材が変形しながら前記蓋部の少なくとも一部は移動して前記受電側凹部が開けられた状態になって前記給電端子と前記受電端子とが接触し、
　前記給電端子が前記受電側凹部から抜去されると、前記伸縮部材の変形は元に戻り、前記蓋部によって、前記受電側凹部が蓋をされる請求項１記載の吸着装置。
　前記蓋部は押圧されると変形し、押圧が解除されると元の形状に戻る材料で形成され、
　前記給電端子が前記受電側凹部に挿入されるときに前記蓋部は前記給電端子に押圧され、前記蓋部は変形して前記受電側凹部が開けられた状態になって前記給電端子と前記受電端子とが接触し、
　前記給電端子が前記受電側凹部から抜去されると、前記蓋部の変形は元に戻り、前記蓋部によって、前記受電側凹部が蓋をされる請求項１記載の吸着装置。
　装置本体と、
　前記装置本体に設けられた受電端子と、
　前記装置本体に設けられた整流回路と、
　前記装置本体に設けられ、前記整流回路を介して前記受電端子に接続された吸着電極と、を有し、
　前記装置本体の表面に載置された基板に電気伝導性を有する気体状の物質が接触し、前記吸着電極に吸着電圧が印加されると前記基板が前記吸着電極に吸着される吸着装置であって、
　前記受電端子は前記装置本体の外部の雰囲気とは分離され、
　前記吸着装置が給電台に載置されると、前記給電台に設けられた給電端子と前記受電端子とが非接触の状態で近接し、前記給電端子に印加される交流電圧を前記受電端子が受電し、前記整流回路を介して前記吸着電極に前記吸着電圧が印加され、
　前記吸着装置が前記給電台から分離されて移動する際には、前記吸着電極の残留電荷によって前記基板が前記吸着電極に吸着される吸着装置。
　前記給電台に設けられた給電側接地端子に接触可能な受電側接地端子と、
　前記吸着電極と前記受電側接地端子との間を導通又は遮断させ、前記吸着電極と前記受電端子との間を導通又は遮断させる切替装置と、
　前記切替装置の接続を切り替える制御装置とを有し、
　前記給電端子に印加される交流電圧には前記切替装置の導通と遮断を制御する制御信号が重畳されており、
　前記受電端子が受電した電圧から前記制御信号が抽出され、前記制御装置に入力される請求項５記載の吸着装置。
　前記給電台に設けられた給電側接地端子に接触可能な受電側接地端子と、
　前記吸着電極と前記受電側接地端子との間を導通又は遮断させ、前記吸着電極と前記受電端子との間を導通又は遮断させる切替装置と、
　前記切替装置の接続を切り替える制御装置と、
　前記制御装置に接続され、前記給電台に設けられた給電側制御端子から前記切替装置の導通と遮断を制御する制御信号が入力される受電側制御端子と、
　が設けられた請求項５記載の吸着装置。
　前記受電端子と前記給電端子とは、それぞれ平板電極で構成され、
　前記吸着装置が前記給電台に載置されると、前記受電端子と前記給電端子とでコンデンサが形成される請求項５記載の吸着装置。
　前記給電側制御端子と前記受電側制御端子とはそれぞれ平行平板型電極で構成され、
　前記吸着装置が前記給電台に載置されると、前記受電側制御端子と前記給電側制御端子とでコンデンサが形成され、
　前記給電側制御端子が出力する前記制御信号が、前記受電側制御端子に伝達される請求項７記載の吸着装置。
　前記受電端子と前記給電端子とは、それぞれコイルで構成され、
　前記吸着装置が前記給電台に載置されると、前記受電端子と前記給電端子とが磁気結合したトランスが形成される請求項５記載の吸着装置。
　前記給電側制御端子と前記受電側制御端子とはそれぞれコイルで構成され、
　前記吸着装置が前記給電台に載置されると、前記受電側制御端子と前記給電側制御端子とが磁気結合したトランスが形成され、
　前記給電側制御端子が出力する前記制御信号が、前記受電側制御端子に伝達される請求項７記載の吸着装置。
　前記吸着電極上には、複数の前記基板が載置される請求項１記載の吸着装置。
　前記吸着電極上には、複数の前記基板が載置される請求項５記載の吸着装置。
　電気伝導性を有する気体状の前記物質はプラズマである請求項１記載の吸着装置。
　電気伝導性を有する気体状の前記物質はプラズマである請求項５記載の吸着装置。
　電気伝導性を有する気体状の物質が形成される真空槽と、
　前記真空槽の内部に配置された給電台と、
　前記給電台に設けられた給電端子と、
　を有し、
　前記給電台は、吸着装置が分離可能に配置されるように構成され、
　前記吸着装置が前記給電台に配置されたときに、
　前記吸着装置に設けられた受電端子は、前記給電端子に接触し、前記給電端子に接続された電源装置が出力する吸着電圧が、前記給電端子と前記受電端子とを介して、前記吸着装置に設けられた吸着電極に印加され、前記吸着装置に配置された基板が静電吸着される真空処理装置。
　前記吸着装置を有する請求項１６記載の真空処理装置であって、
　前記吸着装置は、
　装置本体と、
　前記装置本体に設けられた受電側凹部とを有し、
　前記受電端子は前記受電側凹部に少なくとも一部が露出され、
　吸着電極は前記装置本体に設けられ、前記受電端子に電気的に接続され、
　前記装置本体の表面に載置された基板に電気伝導性を有する気体状の物質が接触し、前記吸着電極に前記吸着電圧が印加されると前記基板が前記吸着電極に吸着されるようにされ、
　前記給電端子が前記受電側凹部に挿入されて、前記給電端子が前記受電端子の露出部分に接触すると、前記電源装置が出力する吸着電圧が前記受電端子を介して前記吸着電極に印加され、
　前記吸着電極に前記吸着電圧が印加された後、前記受電端子と前記給電端子とを離間させると前記吸着電極に残留電荷が残り、
　前記受電端子と前記給電端子とを離間させて前記吸着装置を移動する際には、前記吸着電極の前記残留電荷によって前記基板が前記吸着電極に吸着されると共に、前記装置本体に設けられた蓋部によって、前記受電側凹部が閉塞される吸着装置である真空処理装置。
　前記吸着装置は、前記装置本体が水平姿勢のときに前記蓋部が開けられて前記受電端子と前記給電端子との接触が可能にされ、
　前記給電端子が前記受電側凹部から抜去されて前記吸着装置が水平姿勢から鉛直姿勢になると、前記受電側凹部は前記蓋部で閉塞される請求項１７記載の真空処理装置。
　前記蓋部には伸縮部材が設けられ、
　前記給電端子が前記受電側凹部に挿入されるときに前記蓋部は前記給電端子に押圧され、前記伸縮部材が変形しながら前記蓋部の少なくとも一部は移動して前記受電側凹部が開けられた状態になって前記給電端子と前記受電端子とが接触し、
　前記給電端子が前記受電側凹部から抜去されると、前記伸縮部材の変形は元に戻り、前記蓋部によって、前記受電側凹部が蓋をされる請求項１７記載の真空処理装置。
　前記蓋部は押圧されると変形し、押圧が解除されると元の形状に戻る材料で形成され、
　前記給電端子が前記受電側凹部に挿入されるときに前記蓋部は前記給電端子に押圧され、前記蓋部は変形して前記受電側凹部が開けられた状態になって前記給電端子と前記受電端子とが接触し、
　前記給電端子が前記受電側凹部から抜去されると、前記蓋部の変形は元に戻り、前記蓋部によって、前記受電側凹部が蓋をされる請求項１７記載の真空処理装置。
　電気伝導性を有する気体状の物質が形成される真空槽と、
　前記真空槽の内部に配置された給電台と、
　前記給電台に設けられた給電端子と、
　を有し、
　前記給電台は、吸着装置が分離可能に配置されるように構成され、
　前記吸着装置が前記給電台に配置されたときに、
　前記吸着装置に設けられた受電端子は、前記給電端子に非接触で近接し、前記給電端子に接続された電源装置が出力する交流電圧が、前記給電端子を介して前記受電端子に印加され、前記受電端子に接続された整流回路によって整流された整流電圧が前記吸着装置に設けられた吸着電極に印加され、前記吸着装置に配置された基板が静電吸着される真空処理装置。
　前記吸着装置を有する請求項２１記載の真空処理装置であって、
　前記吸着装置は、
　装置本体を有し、
　前記整流回路と前記受電端子と前記吸着電極とは前記装置本体に設けられ、
　前記装置本体の表面に載置された基板に電気伝導性を有する気体状の物質が接触し、前記吸着電極に前記整流電圧が印加されると前記基板が前記吸着電極に吸着されるように構成され、
　前記受電端子は前記装置本体の外部の雰囲気とは分離され、
　前記吸着電極に前記整流電圧が印加された後、前記吸着電極に残留電荷が残り、
　前記吸着装置が前記給電台から分離されて移動する際には、前記吸着電極の前記残留電荷によって前記基板が前記吸着電極に吸着されるように構成された真空処理装置。
　前記給電台には給電側接地端子が設けられ、
　前記装置本体には、
　前記給電側接地端子に接触可能な受電側接地端子と、
　前記吸着電極と前記受電側接地端子との間を導通又は遮断させ、前記吸着電極と前記受電端子との間を導通又は遮断させる切替装置と、
　前記切替装置の前記導通と前記遮断を制御する制御装置とが設けられ、
　前記給電端子に印加される交流電圧には前記切替装置の導通と遮断を制御する制御信号が重畳されており、
　前記受電端子が受電した電圧から前記制御信号が抽出され、前記制御装置に入力される請求項２２記載の真空処理装置。
　前記給電台には給電側接地端子が設けられ、
　前記装置本体には、
　前記給電側接地端子に接触可能な受電側接地端子と、
　前記吸着電極と前記受電側接地端子との間を導通又は遮断させ、前記吸着電極と前記受電端子との間を導通又は遮断させる切替装置と、
　前記切替装置の前記導通と前記遮断を制御する制御装置と、
　前記制御装置に接続され、前記給電台に設けられた給電側制御端子から前記制御装置に、前記導通と前記遮断とを制御するための制御信号が入力される受電側制御端子と、
　が設けられた請求項２２記載の真空処理装置。
　前記受電端子と前記給電端子とは、それぞれ平板電極で構成され、
　前記吸着装置が前記給電台に載置されると、前記受電端子と前記給電端子とでコンデンサが形成されるように構成された請求項２４記載の真空処理装置。
　前記給電側制御端子と前記受電側制御端子とはそれぞれ平行平板型電極で構成され、
　前記吸着装置が前記給電台に載置されると、前記受電側制御端子と前記給電側制御端子とでコンデンサが形成され、
　前記給電側制御端子が出力する前記制御信号が、前記受電側制御端子に伝達される請求項２５記載の真空処理装置。
　前記受電端子と前記給電端子とは、それぞれコイルで構成され、
　前記吸着装置が前記給電台に載置されると、前記受電端子と前記給電端子とが磁気結合したトランスが形成される請求項２４記載の真空処理装置。
　前記給電側制御端子と前記受電側制御端子とはそれぞれコイルで構成され、
　前記吸着装置が前記給電台に載置されると、前記受電側制御端子と前記給電側制御端子とが磁気結合したトランスが形成され、
　前記給電側制御端子が出力する前記制御信号が、前記受電側制御端子に伝達される請求項２７記載の真空処理装置。