WO2016159314A1 - 誘電体導波線路 - Google Patents

誘電体導波線路 Download PDF

Info

Publication number
WO2016159314A1
WO2016159314A1 PCT/JP2016/060827 JP2016060827W WO2016159314A1 WO 2016159314 A1 WO2016159314 A1 WO 2016159314A1 JP 2016060827 W JP2016060827 W JP 2016060827W WO 2016159314 A1 WO2016159314 A1 WO 2016159314A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
dielectric
ptfe
ghz
molded body
waveguide
Prior art date
Application number
PCT/JP2016/060827
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
洋之 吉本
恭平 村山
拓 山中
深見 大
Original Assignee
ダイキン工業株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ダイキン工業株式会社 filed Critical ダイキン工業株式会社
Priority to CN201680018973.5A priority Critical patent/CN107408751B/zh
Priority to JP2017510229A priority patent/JP6414632B2/ja
Priority to EP16773194.2A priority patent/EP3249742B1/en
Priority to US15/552,320 priority patent/US10601098B2/en
Publication of WO2016159314A1 publication Critical patent/WO2016159314A1/ja

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01PWAVEGUIDES; RESONATORS, LINES, OR OTHER DEVICES OF THE WAVEGUIDE TYPE
    • H01P3/00Waveguides; Transmission lines of the waveguide type
    • H01P3/16Dielectric waveguides, i.e. without a longitudinal conductor
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18Manufacture of films or sheets
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J9/00Working-up of macromolecular substances to porous or cellular articles or materials; After-treatment thereof
    • C08J9/28Working-up of macromolecular substances to porous or cellular articles or materials; After-treatment thereof by elimination of a liquid phase from a macromolecular composition or article, e.g. drying of coagulum
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R27/00Arrangements for measuring resistance, reactance, impedance, or electric characteristics derived therefrom
    • G01R27/02Measuring real or complex resistance, reactance, impedance, or other two-pole characteristics derived therefrom, e.g. time constant
    • G01R27/26Measuring inductance or capacitance; Measuring quality factor, e.g. by using the resonance method; Measuring loss factor; Measuring dielectric constants ; Measuring impedance or related variables
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01PWAVEGUIDES; RESONATORS, LINES, OR OTHER DEVICES OF THE WAVEGUIDE TYPE
    • H01P11/00Apparatus or processes specially adapted for manufacturing waveguides or resonators, lines, or other devices of the waveguide type
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01PWAVEGUIDES; RESONATORS, LINES, OR OTHER DEVICES OF THE WAVEGUIDE TYPE
    • H01P11/00Apparatus or processes specially adapted for manufacturing waveguides or resonators, lines, or other devices of the waveguide type
    • H01P11/001Manufacturing waveguides or transmission lines of the waveguide type
    • H01P11/006Manufacturing dielectric waveguides
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01PWAVEGUIDES; RESONATORS, LINES, OR OTHER DEVICES OF THE WAVEGUIDE TYPE
    • H01P3/00Waveguides; Transmission lines of the waveguide type
    • H01P3/16Dielectric waveguides, i.e. without a longitudinal conductor
    • H01P3/165Non-radiating dielectric waveguides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2201/00Foams characterised by the foaming process
    • C08J2201/02Foams characterised by the foaming process characterised by mechanical pre- or post-treatments
    • C08J2201/03Extrusion of the foamable blend
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2201/00Foams characterised by the foaming process
    • C08J2201/04Foams characterised by the foaming process characterised by the elimination of a liquid or solid component, e.g. precipitation, leaching out, evaporation
    • C08J2201/05Elimination by evaporation or heat degradation of a liquid phase
    • C08J2201/0502Elimination by evaporation or heat degradation of a liquid phase the liquid phase being organic
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2327/00Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Derivatives of such polymers
    • C08J2327/02Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
    • C08J2327/12Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment containing fluorine atoms
    • C08J2327/18Homopolymers or copolymers of tetrafluoroethylene

Definitions

  • the present invention relates to a dielectric waveguide having a polytetrafluoroethylene molded body.
  • Polytetrafluoroethylene can reduce the dielectric loss of a cable that transmits a high-frequency signal. Accordingly, it has been proposed to use polytetrafluoroethylene as an insulating coating layer material for cables that transmit high-frequency signals.
  • Patent Document 1 a porous tetrafluoroethylene resin insulating layer that has been heat-treated on the outer periphery of the central conductor and adjusted to have a surface crystallization ratio of 75 to 92% and a porosity of the entire insulating layer of 5 to 30%.
  • a semi-rigid coaxial cable is proposed in which an outer metal conductor layer in which an electroless plating anchor metal layer and an electroplating metal layer are sequentially applied is provided on the porous tetrafluoroethylene resin insulating layer. .
  • Patent Document 2 when polytetrafluoroethylene is used as an insulating coating layer material, heat treatment of polytetrafluoroethylene is performed in order to balance electrical characteristics such as dielectric constant and dielectric loss tangent with workability. It is stated that the degree needs to be controlled.
  • Patent Document 1 and Patent Document 2 both disclose the use of polytetrafluoroethylene as an insulating coating layer material for a high-frequency signal transmission cable using a metal material for the core wire.
  • a high-frequency signal transmission cable using a metal material for the core wire can transmit microwaves having a long wavelength, but the attenuation is too large to transmit millimeter waves and submillimeter waves. Therefore, it is known to use a polytetrafluoroethylene molded body for a waveguide line for transmitting millimeter waves and submillimeter waves.
  • Patent Document 3 a rod-shaped center dielectric made of stretched continuous porous polytetrafluoroethylene fired and fixed and a stretched continuous porosity polytetrafluoroethylene tape are wound around the outside of the center dielectric.
  • a transmission line comprising a dielectric layer is described.
  • Patent Document 4 describes that a wave energy transmission portion of a dielectric waveguide for transmitting millimeter waves and submillimeter waves is formed by an unfired or incompletely fired polytetrafluoroethylene molded product. Yes.
  • An object of the present invention is to provide a dielectric waveguide having excellent transmission efficiency in view of the above situation.
  • a dielectric waveguide for transmitting millimeter waves and submillimeter waves, it is necessary to form a central portion with a high dielectric constant material and an outer layer with a low dielectric constant material.
  • an optical fiber is composed of an inner layer and an outer layer. If the difference in refractive index between the inner layer and the outer layer is large, the optical signal confinement effect is enhanced and the transmission efficiency is excellent. Based on this knowledge, the inventors of the present invention have considered that increasing the dielectric constant difference between the central portion and the outer layer in the dielectric waveguide increases the electromagnetic wave confinement effect and increases the transmission efficiency.
  • the dielectric loss tangent is low in order to increase the dielectric constant difference and at the same time reduce the attenuation.
  • the research on polytetrafluoroethylene molded products was aimed at lowering both the dielectric constant and the dielectric loss tangent than the dielectric constant and dielectric loss tangent normally expected for polytetrafluoroethylene, and therefore has a high dielectric constant.
  • the inventors have succeeded in producing a polytetrafluoroethylene molded product having a high dielectric constant and a low dielectric loss tangent.
  • the present invention has been completed based on this success.
  • the present invention provides a polytetrafluoroethylene having a dielectric constant of 2.05 or more at 2.45 GHz or 12 GHz, a dielectric loss tangent of 2.20 ⁇ 10 ⁇ 4 or less at 2.45 GHz or 12 GHz, and a hardness of 95 or more.
  • the polytetrafluoroethylene molded product is preferably obtained by heating unsintered polytetrafluoroethylene at 326 to 345 ° C. for 10 seconds to 2 hours.
  • the dielectric waveguide includes the polytetrafluoroethylene molded body as a central dielectric, and further includes a dielectric layer provided around the central dielectric. It is preferable that the dielectric constant is 1.90 or less at .45 GHz or 12 GHz and the dielectric loss tangent at 2.45 GHz or 12 GHz is 2.00 ⁇ 10 ⁇ 4 or less.
  • the dielectric waveguide further includes a conductor substrate and a dielectric composed of a material having a dielectric constant lower than that of the polytetrafluoroethylene molded body, and the polytetrafluoroethylene molded body is It is also preferable to be provided on the conductor substrate via a dielectric.
  • the dielectric waveguide further includes a pair of conductive plates, and the polytetrafluoroethylene molded body is preferably sandwiched between the pair of conductive plates.
  • the present invention includes a step of heating unsintered polytetrafluoroethylene at 326 to 345 ° C. for 10 seconds to 2 hours to obtain a molded product of polytetrafluoroethylene, and a dielectric conductive material using the polytetrafluoroethylene molded product.
  • the present invention is also a dielectric waveguide including a dielectric A and a dielectric B having a dielectric constant lower than that of the dielectric A, and the dielectric A is made of a polytetrafluoroethylene molded body.
  • the dielectric constant of dielectric A at 2.45 GHz or 12 GHz is ⁇ A
  • the dielectric constant of dielectric B at 2.45 GHz or 12 GHz is ⁇ B
  • a ⁇ B it is also a dielectric waveguide line characterized in that ⁇ is 0.70 or more (in this specification, sometimes referred to as a second dielectric waveguide line).
  • is preferably 0.90 or more.
  • epsilon A is 2.05 or more.
  • the dielectric loss tangent of the dielectric A at 2.45 GHz or 12 GHz is preferably 1.20 ⁇ 10 ⁇ 4 or less, and the hardness of the dielectric A is preferably 95 or more.
  • the conventional polytetrafluoroethylene molded body has low dielectric constant and dielectric loss tangent, but the present inventors have succeeded in producing a polytetrafluoroethylene molded body having a high dielectric constant and a low dielectric loss tangent.
  • the first dielectric waveguide of the present invention includes a polytetrafluoroethylene molded body having a high dielectric constant and a low dielectric loss tangent, the transmission efficiency of millimeter waves and submillimeter waves is high.
  • the second dielectric waveguide of the present invention has the above configuration, the transmission efficiency of millimeter waves and submillimeter waves is high.
  • the first dielectric waveguide of the present invention has a dielectric constant of 2.05 or more at 2.45 GHz or 12 GHz, and a dielectric loss tangent (tan ⁇ ) at 2.45 GHz or 12 GHz of 1.20 ⁇ 10 ⁇ 4 or less. And having a polytetrafluoroethylene (PTFE) molded body having a hardness of 95 or more.
  • PTFE polytetrafluoroethylene
  • the dielectric constant is preferably 2.10 or more, and more preferably 2.16 or more.
  • the upper limit is not particularly limited, but may be 2.30.
  • the dielectric loss tangent (tan ⁇ ) is preferably 1.00 ⁇ 10 ⁇ 4 or less, and more preferably 0.95 ⁇ 10 ⁇ 4 or less.
  • the lower limit of the dielectric loss tangent (tan ⁇ ) is not particularly limited, but may be 0.10 ⁇ 10 ⁇ 4 or 0.80 ⁇ 10 ⁇ 4 .
  • the dielectric waveguide may include the PTFE molded body as a central dielectric.
  • the dielectric waveguide further includes a dielectric layer provided around the central dielectric, and the dielectric layer has a dielectric constant of 1.90 or less at 2.45 GHz or 12 GHz. It is preferable to be made of a material having a dielectric loss tangent at .45 GHz or 12 GHz of 2.00 ⁇ 10 ⁇ 4 or less. An example of this preferred embodiment is shown in FIG.
  • the appropriate diameter of the central dielectric is determined by the frequency and the dielectric constant of the central dielectric. Generally, when the frequency is from 1 GHz to 1 THz, it is from 0.1 mm to 100 mm.
  • the dielectric waveguide may include the PTFE molded body, a conductor substrate, and a dielectric composed of a material having a dielectric constant lower than that of the PTFE molded body.
  • the PTFE molded body is provided on the conductor substrate via the dielectric.
  • the conductor substrate may be a metal plate.
  • the dielectric is preferably a dielectric made of a material having a dielectric constant of 1.90 or less at 2.45 GHz or 12 GHz and a dielectric loss tangent at 2.45 GHz or 12 GHz of 2.00 ⁇ 10 ⁇ 4 or less. An example of this preferred embodiment is shown in FIG.
  • the dielectric waveguide may include the PTFE molded body and a pair of conductive plates.
  • the PTFE molded body is sandwiched between the pair of conductive plates.
  • it may be provided with a dielectric that is sandwiched between the pair of conductive plates and made of a material having a dielectric constant lower than that of the PTFE molded body.
  • the conductive plate may be a metal plate.
  • the dielectric is preferably a dielectric made of a material having a dielectric constant of 1.90 or less at 2.45 GHz or 12 GHz and a dielectric loss tangent at 2.45 GHz or 12 GHz of 2.00 ⁇ 10 ⁇ 4 or less. An example of these preferred embodiments is shown in FIG. 3 or FIG.
  • the second dielectric waveguide of the present invention can transmit high frequency waves such as millimeter waves and submillimeter waves using the difference in dielectric constant between the dielectric A and the dielectric B, and the difference is zero. Since it is 70 or more, the transmission efficiency is extremely high.
  • is preferably 0.90 or more, more preferably 1.00 or more, and even more preferably 1.10 or more from the viewpoint of transmission efficiency.
  • the upper limit may be 1.50.
  • ⁇ A is preferably 2.05 or more, more preferably 2.10 or more, and still more preferably 2.16 or more, from the viewpoint of transmission efficiency.
  • the upper limit is not particularly limited, but may be 2.30.
  • the dielectric loss tangent of the dielectric A at 2.45 GHz or 12 GHz is preferably 1.20 ⁇ 10 ⁇ 4 or less, more preferably 1.00 ⁇ 10 ⁇ 4 or less, and further preferably 0.95 ⁇ 10 ⁇ 4 or less.
  • the lower limit is not particularly limited, but may be 0.10 ⁇ 10 ⁇ 4 or 0.80 ⁇ 10 ⁇ 4 .
  • the hardness of the dielectric A is preferably 95 or more.
  • the dielectric A is composed of a PTFE molded body.
  • the PTFE molded body is preferably the same as the PTFE molded body included in the first dielectric waveguide line because it is easy to provide a difference in dielectric constant ( ⁇ ). According to this configuration, not only high transmission efficiency can be obtained by the difference in dielectric constant ( ⁇ ), but also the dielectric A has a high dielectric constant and a low dielectric loss tangent, so that it is possible to transmit high frequency with even higher efficiency.
  • a dielectric waveguide line can be realized.
  • the dielectric constant of the dielectric B at 2.45 GHz or 12 GHz is preferably 1.50 or less, more preferably 1.43 or less, still more preferably 1.35 or less, and particularly preferably 1.30 or less. Preferably, it is 1.03 or more.
  • the dielectric loss tangent of the dielectric B at 2.45 GHz or 12 GHz is preferably 1.00 ⁇ 10 ⁇ 4 or less, more preferably 0.60 ⁇ 10 ⁇ 4 or less, and further preferably 0.30 ⁇ 10 ⁇ 4 or less.
  • Examples of the material constituting the dielectric B include expanded PTFE porous material, polyethylene foam, and the like.
  • the dielectric constant and dielectric loss tangent are measured at 2.45 GHz using a cavity resonator manufactured by Kanto Electronics Application Development Co., Ltd. when the shape of the PTFE molded body is a cylinder or a tube.
  • the dielectric constant and dielectric loss tangent are measured at 12 GHz according to MW87-7 “Measurement of microwave complex dielectric constant of dielectric flat plate material” by Prof. Kobayashi of Saitama University when the shape of the PTFE molded product is a flat plate.
  • the PTFE molded product preferably has a specific gravity of 2.160 or more.
  • the specific gravity is more preferably 2.165 or more, and further preferably 2.170 or more.
  • the upper limit is not particularly limited, but may be 2.30. When the specific gravity of the PTFE molded product is within the above range, a molded product having a high dielectric constant and a low dielectric loss tangent can be easily realized.
  • the specific gravity is measured by a submerged weighing method (conforming to JIS Z 8807).
  • the PTFE molded product preferably has a crystallinity of 70% or more.
  • the crystallinity is more preferably 73% or more, and further preferably 75% or more.
  • the upper limit is not particularly limited, but may be 99%. When the crystallinity of the PTFE molded product is within the above range, a molded product having a high dielectric constant and a low dielectric loss tangent can be realized.
  • the crystallinity is measured by a specific gravity method.
  • the PTFE molded product preferably has a hardness of 97 or more.
  • the hardness is more preferably 98 or more, and still more preferably 99 or more.
  • the upper limit is not particularly limited, but may be 99.9.
  • a PTFE molded body having a high dielectric constant and a low dielectric loss tangent can be easily realized. Further, even when the PTFE molded body is applied to a dielectric waveguide, the dielectric waveguide is not easily damaged and is not easily blocked or broken.
  • the hardness is a hardness according to JIS A.
  • the hardness is measured with a spring-type hardness meter (JIS-A type) specified in JIS K6301-1975.
  • the said PTFE molded object contains PTFE.
  • the PTFE may be a homopolymer of TFE or a modified PTFE modified with other monomers.
  • the modified PTFE is PTFE composed of tetrafluoroethylene [TFE] and a monomer other than TFE (hereinafter also referred to as “modifier”).
  • TFE tetrafluoroethylene
  • modifier a monomer other than TFE
  • the modified PTFE may be uniformly modified or a modified PTFE having a core-shell structure described later.
  • the modified PTFE is composed of a TFE unit based on TFE and a modifier unit based on a modifier.
  • the modifier unit is preferably 0.005 to 1% by mass of the total monomer units. More preferably, it is 0.02 to 0.5% by mass.
  • the “modifier unit” is a part of the molecular structure of the modified PTFE, and means a repeating unit derived from a comonomer used as a modifier.
  • the above modifier unit is represented by — [CF 2 —CF (—OC 3 F 7 )] — when perfluoropropyl vinyl ether is used as the modifier, and — [CF 2 when hexafluoropropylene is used. 2 -CF (-CF 3 )]-.
  • the modifier is not particularly limited as long as it can be copolymerized with TFE.
  • a perfluoroolefin such as hexafluoropropylene [HFP]; a chlorofluoroolefin such as chlorotrifluoroethylene [CTFE];
  • HFP hexafluoropropylene
  • CFE chlorofluoroolefin
  • HFP hexafluoropropylene
  • CTFE chlorofluoroolefin
  • Examples thereof include hydrogen-containing fluoroolefins such as trifluoroethylene and vinylidene fluoride [VDF]; perfluorovinyl ether; perfluoroalkylethylene and ethylene.
  • VDF trifluoroethylene and vinylidene fluoride
  • perfluorovinyl ether perfluoroalkylethylene and ethylene.
  • 1 type may be sufficient as the modifier used, and multiple types may be sufficient as it.
  • the perfluorovinyl ether is not particularly limited.
  • Rf represents a perfluoro organic group
  • the “perfluoro organic group” means an organic group in which all hydrogen atoms bonded to carbon atoms are substituted with fluorine atoms.
  • the perfluoro organic group may have ether oxygen.
  • perfluorovinyl ether examples include perfluoro (alkyl vinyl ether) [PAVE] in which Rf is a perfluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms in the above general formula.
  • the perfluoroalkyl group preferably has 1 to 5 carbon atoms.
  • Examples of the perfluoroalkyl group in the PAVE include a perfluoromethyl group, a perfluoroethyl group, a perfluoropropyl group, a perfluorobutyl group, a perfluoropentyl group, and a perfluorohexyl group.
  • the group is preferably a perfluoropropyl group. That is, the PAVE is preferably perfluoropropyl vinyl ether [PPVE].
  • Rf is a perfluoro (alkoxyalkyl) group having 4 to 9 carbon atoms in the above general formula, and Rf is represented by the following formula:
  • Rf is the following formula:
  • n an integer of 1 to 4.
  • the perfluoroalkylethylene is not particularly limited, and examples thereof include (perfluorobutyl) ethylene (PFBE) and (perfluorohexyl) ethylene.
  • the modifying agent in the modified PTFE is preferably at least one selected from the group consisting of HFP, CTFE, VDF, PAVE, PFAE, and ethylene. PAVE is more preferable, and PPVE is still more preferable.
  • the modified PTFE may have a core-shell structure composed of a particle core and a particle shell.
  • the PTFE preferably has fibrillation properties.
  • the presence or absence of fibrillation can be determined by “paste extrusion” which is a typical method for forming “high molecular weight PTFE powder” which is a powder made from a TFE polymer.
  • paste extrusion is possible because high molecular weight PTFE has fibrillation properties.
  • an unfired molded product obtained by paste extrusion does not have substantial strength or elongation, for example, when the elongation breaks when pulled at 0%, it can be considered that there is no fibrillation property.
  • the PTFE preferably has non-melt processability.
  • the above-mentioned non-melt processability means the property that the melt flow rate cannot be measured at a temperature higher than the crystallization melting point in accordance with ASTM D-1238 and D-2116.
  • the PTFE preferably has a standard specific gravity [SSG] of 2.13 to 2.23, and more preferably 2.15 to 2.19.
  • the standard specific gravity is a value measured by an underwater substitution method in accordance with ASTM D-4895 98.
  • the PTFE preferably has a first melting point of 333 to 347 ° C. More preferably, it is 335 to 345 ° C.
  • the first melting point corresponds to the maximum value in the heat of fusion curve when the temperature is increased at a rate of 10 ° C./minute using a differential scanning calorimeter [DSC] for PTFE that has not been heated to a temperature of 300 ° C. or higher. Temperature.
  • the high molecular weight PTFE has a first melting point of preferably 333 to 347 ° C, more preferably 335 to 345 ° C.
  • the low molecular weight PTFE has a first melting point of preferably 322 to 333 ° C, and more preferably 324 to 332 ° C.
  • the first melting point corresponds to the maximum value in the heat of fusion curve when the temperature is increased at a rate of 10 ° C./minute using a differential scanning calorimeter [DSC] for PTFE that has not been heated to a temperature of 300 ° C. or higher. Temperature.
  • the mass ratio of the high molecular weight PTFE and the low molecular weight PTFE is preferably 80/20 to 99/1, more preferably 85/15 to 97/3, and 90/10 to 95/5. More preferably it is.
  • the PTFE molded body may be a molded body made of a resin other than the PTFE and the PTFE.
  • the resin other than the PTFE include TFE / hexafluoropropylene [HFP] copolymer [FEP], TFE / perfluoro (alkyl vinyl ether) [PAVE] copolymer [PFA], ethylene / TFE copolymer [ ETFE], polyvinylidene fluoride [PVdF], polychlorotrifluoroethylene [PCTFE], polypropylene, polyethylene and the like.
  • the PTFE molded product may contain other components.
  • the other components include a surfactant, an antioxidant, a light stabilizer, a fluorescent brightener, a colorant, a pigment, a dye, and a filler.
  • powders or fiber powders of carbon black, graphite, alumina, mica, silicon carbide, boron nitride, titanium oxide, bismuth oxide, bronze, gold, silver, copper, nickel, and the like are also included.
  • the PTFE molded product may include high dielectric constant inorganic particles as the other component.
  • high dielectric constant inorganic particles include barium titanate, calcium titanate, strontium titanate, magnesium titanate, lead titanate, zinc titanate, lead zirconate, calcium zirconate, strontium zirconate, and barium zirconate titanate. And lead zirconate titanate.
  • the PTFE molded product Even if the PTFE molded product contains a resin other than the PTFE and the other components, the PTFE molded product preferably contains 99.0% by mass or more of the PTFE with respect to the molded product. It is more preferable that the content of PTFE is at least%.
  • the PTFE molded body can be obtained by heating the unsintered PTFE under the condition that the unsintered PTFE can be discharged to the outside and at the same time the unsintered PTFE is not completely fired. Is preferred.
  • the PTFE molded product is preferably obtained, for example, by heating unsintered PTFE at 326 to 345 ° C. for 10 seconds to 2 hours.
  • the heating temperature is more preferably 330 ° C. or higher.
  • the unsintered PTFE is PTFE having no history of heating to 326 ° C. or higher, and is preferably PTFE having no history of heating to 300 ° C. or higher.
  • a manufacturing method for obtaining the above-mentioned PTFE molded product, which comprises a step of heating unsintered PTFE at 326 to 345 ° C. for 10 seconds to 2 hours, is a novel manufacturing method.
  • the air contained in the unsintered PTFE is released to the outside, so that it is presumed that a PTFE molded body having a high dielectric constant can be obtained. Moreover, since unsintered PTFE is not completely fired, it is presumed that a PTFE molded product having a low dielectric loss tangent can be obtained.
  • the above heating can be performed using a salt bath, a sand bath, a hot air circulation type electric furnace or the like, but is preferably performed using a salt bath in terms of easy control of heating conditions. It is also advantageous in that the heating time is shortened within the above range. Heating using the salt bath can be performed using, for example, a coated cable manufacturing apparatus described in JP-A-2002-157930.
  • the molded body is preferably obtained without heating unsintered PTFE above 345 ° C. Once heated to over 345 ° C., the crystallinity originally possessed by the unfired PTFE collapses, and there is a possibility that a PTFE molded product having a high crystallinity cannot be obtained.
  • a PTFE molded product obtained by heating unsintered PTFE at 326 to 345 ° C. for 10 seconds to 2 hours without heating to over 345 ° C. has a crystallinity equivalent to that of the unsintered PTFE. And has a high dielectric constant and a low dielectric loss tangent.
  • the degree of firing PTFE is proportional to the dielectric constant and dielectric loss tangent.
  • semi-fired PTFE has a higher dielectric constant and dielectric loss tangent than unfired PTFE
  • fully fired PTFE has a higher dielectric constant and dielectric loss tangent. It is described as high.
  • the dielectric loss tangent is not so high as compared with unfired PTFE, contrary to conventional common sense, It has been found that the dielectric constant is higher than that of completely fired PTFE.
  • the above knowledge is a knowledge that can be found for the first time by using a salt bath that requires skill in operation, and by setting the heating conditions that could not be realized conventionally.
  • the unsintered PTFE is preferably obtained by paste extrusion molding a mixture of unsintered PTFE powder and an extrusion aid.
  • the extrusion aid may be removed by drying the obtained extrudate after paste extrusion molding.
  • the mixture may be obtained by mixing unsintered PTFE powder and an extrusion aid by a known method, aging for 1 to 24 hours, and preforming at a pressure of 0.5 to 2.0 MPa. Good.
  • the paste extrusion can be performed at an extrusion pressure of 2 to 100 MPa.
  • the shape of the PTFE molded body is not particularly limited, and can be a shape that matches the characteristics required for the dielectric waveguide.
  • the cross-sectional shape may be a rectangle, a circle, an ellipse, a ring, etc.
  • the PTFE molded body can be suitably manufactured by a dielectric waveguide transmission method described later.
  • the present invention includes a step of heating unsintered PTFE at 326 to 345 ° C. for 10 seconds to 2 hours to obtain a molded product of PTFE, and a step of manufacturing a dielectric waveguide using the PTFE molded product. This is also a method for manufacturing a dielectric waveguide.
  • the heating time of the unsintered PTFE varies depending on the diameter of the unsintered PTFE, the heating temperature, and the equipment used for heating. For example, when the unfired PTFE has a diameter of 0.1 mm to 6 mm and is heated with a salt bath, it is preferably 10 seconds to 10 minutes, more preferably 30 seconds to 6 minutes.
  • the unfired PTFE When the unfired PTFE has a diameter of 0.1 mm to 6 mm and is heated in a hot air circulating electric furnace, it is preferably 3 minutes to 2 hours, more preferably 10 minutes to 30 minutes. Further, when the diameter of the unsintered PTFE is more than 6 mm to 20 mm and heated by a salt bath, it is preferably 1 minute to 20 minutes, more preferably 3 minutes to 10 minutes. When the unfired PTFE has a diameter of more than 6 mm to 20 mm and is heated in a hot air circulation type electric furnace, it is preferably 10 minutes to 2 hours, more preferably 30 minutes to 1 hour.
  • the above manufacturing method is A step of paste extrusion molding a mixture of unsintered PTFE powder and an extrusion aid to obtain a unsintered PTFE molded body, Drying the green PTFE molded body to remove the extrusion aid; Heating the dried molded body at 326 to 345 ° C. for 10 seconds to 2 hours; and It is preferable to include a step of manufacturing a dielectric waveguide using the PTFE molded body.
  • the heating temperature and the heating time are the shape and size of the PTFE molded product, the heating medium (molten salt such as a 1: 1 mixture of hot air, potassium nitrate and sodium nitrate, and powder such as sand for sand bath). It changes suitably in the said range by the above.
  • the above production method preferably does not include any step of heating unsintered PTFE to above 345 ° C. Since a method for manufacturing a dielectric waveguide using the PTFE molded body is different depending on characteristics required for the dielectric waveguide, it will be described in an experimental example described later.
  • the first and second dielectric waveguide lines preferably include the PTFE molded body as a waveguide medium. Further, the first dielectric waveguide line is preferably a dielectric waveguide line that transmits a high frequency wave such as a millimeter wave or a submillimeter wave using a dielectric constant difference between dielectrics. Since the PTFE molded body in the first dielectric waveguide has a high dielectric constant and a low dielectric loss tangent, it is excellent in transmission efficiency when combined with a dielectric having a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent. A dielectric waveguide line is realized.
  • first and second dielectric waveguide lines cylindrical dielectric lines, tube-shaped dielectric lines, image lines, insulin image lines, trapped image lines, rib guides, strip dielectric lines, reverse strip lines, H guide, non-radiative dielectric line (NRD guide), etc. are mentioned.
  • the dielectric waveguide shown in FIG. 1 is a cylindrical dielectric line having a circular cross section.
  • a central dielectric 11 is provided, and a dielectric layer 12 is further provided around it.
  • the central dielectric 11 can be composed of the PTFE molded body.
  • the dielectric layer 12 in the first dielectric waveguide line can be made of a material having a dielectric constant lower than that of the PTFE molded body. With these structures, high frequencies such as millimeter waves and submillimeter waves can be increased. It can be transmitted efficiently.
  • the dielectric layer 12 can be formed, for example, by winding an expanded PTFE porous material or foamed polyethylene around the central dielectric 11.
  • the PTFE molded body in the first dielectric waveguide line has a high dielectric constant
  • the central dielectric 11 is composed of the PTFE molded body
  • the difference in dielectric constant between the central dielectric 11 and the dielectric layer 12 is determined. Can be increased.
  • the center dielectric 11 in the first dielectric waveguide line has a low dielectric loss tangent, a dielectric waveguide line capable of transmitting a high frequency with high efficiency can be realized.
  • a protective layer 13 for protecting the central dielectric 11 and the dielectric layer 12 is further provided on the outer periphery of the dielectric layer 12. Is optional.
  • the protective layer 13 can be comprised from the material conventionally used for the protective layer (sheath layer) of electric wires, such as polyvinyl chloride and polyolefin.
  • the first dielectric waveguide line preferably includes the PTFE molded body as a central dielectric.
  • the first dielectric waveguide line preferably further includes a dielectric layer provided around the central dielectric.
  • the dielectric layer preferably has a dielectric constant of 2.90 GHz or less at 2.45 GHz or 12 GHz.
  • the dielectric layer is preferably made of a material having a dielectric loss tangent of 2.000 ⁇ 10 ⁇ 4 or less at 2.45 GHz or 12 GHz. That is, a PTFE molded body as a central dielectric and a dielectric layer provided around the central dielectric are provided, and the dielectric layer has a dielectric constant of 1.90 or less at 2.45 GHz or 12 GHz.
  • a dielectric waveguide line made of a material having a dielectric loss tangent at 2.45 GHz or 12 GHz of 2.00 ⁇ 10 ⁇ 4 or less is also a preferred embodiment of the first dielectric waveguide line of the present invention. It is.
  • the dielectric constant of the material constituting the dielectric layer is more preferably 1.70 or less, further preferably 1.50 or less, and 1.30 or less. Particularly preferred is 1.03 or more.
  • the dielectric loss tangent of the material constituting the dielectric layer is more preferably 1.00 ⁇ 10 ⁇ 4 or less, and 0.60 ⁇ 10 ⁇ 4 or less. More preferably, it is particularly preferably 0.30 ⁇ 10 ⁇ 4 or less.
  • the material constituting the dielectric layer include expanded PTFE porous material and polyethylene foam.
  • the expanded PTFE porous body may be an expanded PTFE porous film obtained by stretching a sheet-like PTFE molded body, or an expanded PTFE porous body obtained by stretching a tubular PTFE molded body. It may be a tube.
  • the expanded PTFE porous body can be produced by a conventionally known method.
  • the dielectric constant and dielectric loss tangent of the expanded PTFE porous material can be appropriately controlled by stretching conditions such as a stretching ratio, a stretching speed, and a stretching temperature. For example, the higher the draw ratio, the lower both the dielectric constant and the dielectric loss tangent.
  • the dielectric waveguide of FIG. 2 is an insulator image line.
  • the dielectric 21 is provided on the conductor substrate 23 via the dielectric 22.
  • the dielectric 21 can be constituted by the PTFE molded body provided in the first dielectric waveguide.
  • the dielectric 22 can be made of a material having a dielectric constant lower than that of the PTFE molded body included in the first dielectric waveguide line.
  • the PTFE molded body in the first dielectric waveguide line has a higher dielectric constant than that of the conventional PTFE molded body, the dielectric 21 and the dielectric 22 even if the dielectric 22 is formed of the conventional PTFE molded body. A difference in dielectric constant can be provided between the two.
  • the dielectric loss tangent of the dielectric 21 is low, a dielectric waveguide that can transmit millimeter waves with high efficiency can be realized.
  • a conductor substrate 23 may be further provided on the dielectric 21.
  • An adhesive layer may be provided between the dielectric 21, the dielectric 22, and the conductor substrate 23.
  • the adhesive layer can be formed of, for example, a fluororesin sheet having an adhesive function.
  • fluororesin sheet examples include a sheet made of a tetrafluoroethylene / perfluoro (alkyl vinyl ether) copolymer (PFA) having an adhesive functional group such as a hydroxyl group, a carboxyl group, and an amino group.
  • PFA tetrafluoroethylene / perfluoro (alkyl vinyl ether) copolymer
  • the dielectric waveguide may be an image line (not shown).
  • the PTFE molded body When the PTFE molded body is used as the dielectric of the image line, the PTFE molded body has a low dielectric loss tangent and a high dielectric constant, so that the diameter of the dielectric can be reduced. It becomes possible to reduce the size.
  • the dielectric waveguide of FIG. 3 is a non-radiative dielectric line (NRD guide).
  • the dielectric waveguide shown in FIG. 3 includes a pair of conductive plates 31a and 31b, and a dielectric 32 sandwiched between the conductive plates 31a and 31b.
  • the dielectric 32 can be constituted by the PTFE molded body provided in the first dielectric waveguide. Since the PTFE molded body provided in the first dielectric waveguide has a low dielectric loss tangent and a high dielectric constant, the wire diameter of the dielectric 32 can be reduced, and the NRD guide can be reduced in size. It becomes possible.
  • the adhesive layer may be provided between each of the conductive plates 31 a and 31 b and the dielectric 32.
  • the adhesive layer can be formed of, for example, a fluororesin sheet having an adhesive function.
  • the fluororesin sheet include a sheet made of a tetrafluoroethylene / perfluoro (alkyl vinyl ether) copolymer (PFA) having an adhesive functional group such as a hydroxyl group, a carboxyl group, and an amino group.
  • the dielectric may be composed of a dielectric 41 and a dielectric 42 having a dielectric constant lower than that of the dielectric 41.
  • the dielectric 41 when a high frequency is input / output via the dielectric 42 having a low dielectric constant, reflection of the high frequency can be suppressed as compared with a case where the high frequency is directly input / output to the dielectric 41 having a high dielectric constant, Easy high-frequency input / output.
  • the PTFE molded body has a dielectric constant higher than that of the conventional PTFE molded body, if the dielectric 41 is composed of the PTFE molded body provided in the first dielectric waveguide, the dielectric 42 is formed by the conventional PTFE molded body. Even when configured by a body, a difference in dielectric constant can be provided between the dielectric 41 and the dielectric 42.
  • the dielectric waveguide shown in FIG. 1 is a cylindrical dielectric line having a circular cross section.
  • a central dielectric 11 is provided as the dielectric A
  • a dielectric layer 12 is provided as a dielectric B around the dielectric 11.
  • the central dielectric 11 is composed of the PTFE molded body.
  • dielectric constant
  • millimeter waves and submillimeter waves are provided. It is possible to transmit high frequencies such as high efficiency.
  • the appropriate diameter of the central dielectric 11 is determined by the frequency and the dielectric constant of the central dielectric. Generally, when the frequency is from 1 GHz to 1 THz, it is from 0.1 mm to 100 mm.
  • the dielectric layer 12 can be formed by, for example, winding a stretched PTFE porous material, foamed polyethylene or the like around the central dielectric 11.
  • a protective layer 13 for protecting the central dielectric 11 and the dielectric layer 12 is further provided on the outer periphery of the dielectric layer 12. Is optional.
  • the protective layer 13 can be comprised from the material conventionally used for the protective layer (sheath layer) of electric wires, such as polyvinyl chloride and polyolefin.
  • the dielectric waveguide of FIG. 2 is an insulator image line.
  • the dielectric 21 as the dielectric A is provided on the conductor substrate 23 via the dielectric 22 as the dielectric B.
  • the dielectric 21 is composed of the PTFE molded body.
  • the conductor substrate 23 may be a metal plate.
  • a difference in dielectric constant ( ⁇ ) is provided between the dielectric constant ⁇ A of the dielectric 21 and the dielectric constant ⁇ B of the dielectric 22, so that millimeter waves, submillimeter waves, etc. High frequency can be transmitted with high efficiency.
  • the dielectric 22 can be formed of expanded PTFE porous material, foamed polyethylene or the like.
  • a conductor substrate 23 may be further provided on the dielectric 21.
  • An adhesive layer may be provided between the dielectric 21, the dielectric 22, and the conductor substrate 23.
  • the adhesive layer can be formed of, for example, a fluororesin sheet having an adhesive function.
  • the fluororesin sheet include a sheet made of a tetrafluoroethylene / perfluoro (alkyl vinyl ether) copolymer (PFA) having an adhesive functional group such as a hydroxyl group, a carboxyl group, and an amino group.
  • the dielectric waveguide of FIG. 4 is a non-radiative dielectric line (NRD guide).
  • the dielectric waveguide shown in FIG. 4 includes a pair of conductive plates 43a and 43b, a dielectric 41 as the dielectric A, and a dielectric 42 as the dielectric B.
  • the dielectric 41 and the dielectric 42 is sandwiched between the conductive plates 43a and 43b.
  • a dielectric constant difference ( ⁇ ) is provided between the dielectric constant ⁇ A of the dielectric 41 and the dielectric constant ⁇ B of the dielectric 42, the dielectric 42 having a low dielectric constant is provided.
  • the dielectric 41 is constituted by the PTFE molded body.
  • the conductive plates 43a and 43b may be metal plates.
  • the dielectric 42 can be formed of expanded PTFE porous material, foamed polyethylene, or the like.
  • An adhesive layer may be provided between the conductive plate 43 a and the dielectrics 41 and 42 and / or between the conductive plate 43 b and the dielectrics 41 and 42.
  • the adhesive layer can be formed of, for example, a fluororesin sheet having an adhesive function.
  • the fluororesin sheet include a sheet made of a tetrafluoroethylene / perfluoro (alkyl vinyl ether) copolymer (PFA) having an adhesive functional group such as a hydroxyl group, a carboxyl group, and an amino group.
  • the expanded PTFE porous body may be an expanded PTFE porous film obtained by stretching a sheet-like PTFE molded body, or an expanded PTFE porous body obtained by stretching a tubular PTFE molded body. It may be a tube.
  • the expanded PTFE porous body can be produced by a conventionally known method.
  • the dielectric constant and dielectric loss tangent of the expanded PTFE porous material can be appropriately controlled by stretching conditions such as a stretching ratio, a stretching speed, and a stretching temperature. For example, the higher the draw ratio, the lower both the dielectric constant and the dielectric loss tangent.
  • Dielectric constant and dielectric loss tangent (tan ⁇ ) The dielectric constant measurement and dielectric loss tangent (tan ⁇ ) measurement of the cylindrical PTFE molded body, tube-shaped PTFE molded body, and expanded PTFE porous tube are performed by a cavity resonator (2.45 GHz) manufactured by Kanto Electronics Application Development Co., Ltd. Measurement of dielectric constant and dielectric loss tangent (tan ⁇ ) of flat plate PTFE molded body and expanded PTFE porous film is based on MW87-7 “Microwave complex dielectric constant measurement of dielectric flat plate material” by Prof. Kobayashi, Saitama University (12 GHz) .
  • Hardness was measured with a spring-type hardness meter (JIS-A type) defined in JIS K6301-1975.
  • Experimental example 1 A PTFE paste was prepared by mixing 400 g of a hydrocarbon solvent with 2 kg of PTFE fine powder having a standard specific gravity (SSG) of 2.175.
  • the PTFE paste was molded by paste extrusion molding using an extrusion die having a diameter of 2.0 mm to obtain a cylindrical and unfired PTFE molded body (A).
  • the obtained PTFE molded body (A) is placed in a hot air circulation type electric furnace, and the temperature is raised stepwise from 100 ° C. to 250 ° C., and the hydrocarbon solvent is removed by evaporation to obtain a cylindrical PTFE molded body. (B) was obtained.
  • the obtained cylindrical PTFE compact (B) was placed in a salt bath (1: 1 mixture of molten salt potassium nitrate and sodium nitrate) and heated to obtain a cylindrical PTFE compact (C).
  • the diameter after heating was 1.95 mm. Table 1 shows the heating temperature, time, and results.
  • Experimental example 3 In the same manner as in Experimental Example 1, a dried cylindrical PTFE molded product (B) was obtained. The dried cylindrical PTFE molded body (B) was placed in a hot air circulating electric furnace and heated. Table 1 shows the heating temperature, time, and results.
  • Experimental Example 4 A PTFE paste was prepared by mixing 400 g of a hydrocarbon solvent with 2 kg of PTFE fine powder having a standard specific gravity (SSG) of 2.175.
  • SSG standard specific gravity
  • the PTFE paste was extruded onto a silver-plated copper-coated steel wire having a diameter of 0.511 mm by paste extrusion using an extrusion die having a diameter of 2.2 mm to obtain a PTFE-coated metal wire.
  • the PTFE-coated metal wire was installed in a hot air circulation type electric furnace, and the temperature was raised stepwise from 100 ° C. to 250 ° C. to remove the hydrocarbon solvent by evaporation.
  • the dried PTFE-coated metal wire was placed in a salt bath and heated. Table 1 shows the heating temperature and time.
  • Experimental Example 5 A PTFE paste was prepared by mixing 600 g of a hydrocarbon solvent with 2 kg of PTFE fine powder having a standard specific gravity (SSG) of 2.160.
  • the PTFE paste was molded by paste extrusion using a ⁇ 16 mm extrusion die to obtain a cylindrical PTFE molded body.
  • the said cylindrical PTFE molded object was shape
  • the obtained flat plate-shaped PTFE molded product (D) is placed in a hot air circulation type electric furnace, the temperature is raised stepwise from 100 ° C. to 250 ° C., and the hydrocarbon solvent is removed by evaporation, so that the flat plate-shaped PTFE molded product is obtained. (E) was obtained.
  • the flat plate-shaped PTFE molded product (E) was cut into 100 mm ⁇ 150 mm, immersed in a salt bath, and heated to obtain a flat plate-shaped PTFE molded product (F).
  • Table 1 shows the heating temperature, time, and results.
  • Experimental Example 6 The flat plate-shaped PTFE molded product (E) obtained in Experimental Example 5 was stretched 5 times in the length direction in a 250 ° C. atmosphere by a uniaxial stretching machine to obtain a stretched PTFE porous membrane G (thickness: 200 ⁇ m).
  • the obtained expanded porous PTFE film G had a dielectric constant of 1.41 and a dielectric loss tangent of 0.4 ⁇ 10 ⁇ 4 as measured by the cavity resonator plate method.
  • Experimental Example 7 An expanded PTFE porous membrane H was obtained in the same manner as in Experimental Example 6 except that the stretching ratio was changed to 15.
  • the dielectric constant measured by the cavity resonator plate method was 1.07, and the dielectric loss tangent was 0.1 ⁇ 10 ⁇ 4 .
  • Experimental Example 8 A PTFE paste was prepared by mixing 410 g of a hydrocarbon solvent with 2 kg of PTFE fine powder having a standard specific gravity (SSG) of 2.175.
  • a tubular and unfired PTFE molded body was obtained by paste extrusion molding using an extrusion die of ⁇ 6.2 mm and a core pin of ⁇ 2.2 mm.
  • the obtained tube-shaped unfired PTFE compact was placed in a hot-air circulating electric furnace, and the temperature was raised stepwise from 100 ° C. to 250 ° C. to remove the hydrocarbon solvent by evaporation.
  • the dried and tube-shaped unfired PTFE molded body was stretched 5 times in the length direction in a 250 ° C. atmosphere by a uniaxial stretching machine, and expanded PTFE porous tube I (outer diameter: 6.0 mm, inner diameter: 2. 0 mm).
  • expanded PTFE porous tube I outer diameter: 6.0 mm, inner diameter: 2. 0 mm.
  • the dielectric constant measured by the cavity resonator plate method was 1.20 and the dielectric loss tangent was 0.3 ⁇ 10 ⁇ 4 .
  • Experimental Example 9 A cylindrical PTFE molded body C (dielectric constant 2.14, diameter 1.95 mm) obtained in Experimental Example 1 as a central dielectric, and a stretched PTFE porous film G (dielectric) obtained in Example 6 as a dielectric layer. Wrapping a tape with a slit ratio of 1.41 and a dielectric loss tangent of 0.4 ⁇ 10 ⁇ 4 ) to a width of 5 mm, the thickness is set to 2.0 mm, and the difference ⁇ between the center dielectric and the dielectric layer is 0. 73, a HE11 hybrid mode cylindrical dielectric line having a diameter of 6.0 mm was obtained.
  • Experimental Example 10 The cylindrical PTFE molded body C (dielectric constant 2.14, diameter 1.95 mm) obtained in Experimental Example 1 as the central dielectric, and the expanded PTFE porous tube I (dielectric) obtained in Example 8 as the dielectric layer.
  • HE1 hybrid mode cylindrical dielectric having a dielectric constant of 1.20 and a dielectric loss tangent of 0.3 ⁇ 10 ⁇ 4 ), a difference ⁇ between the central dielectric and the dielectric layer of 0.94, and a diameter of 6.0 mm I got the track.
  • Experimental Example 11 A cylindrical PTFE molded body (dielectric constant 2.19, diameter 1.95 mm) obtained in Experimental Example 3 as a central dielectric, and an expanded PTFE porous film H (dielectric constant) obtained in Example 7 as a dielectric layer. 1.07, dielectric tangent 0.1 ⁇ 10 ⁇ 4 ) was further slit to a width of 5 mm, the thickness was set to 2.0 mm, and the difference ⁇ in the dielectric constant between the central dielectric and the dielectric layer was 1.12. A HE11 hybrid mode cylindrical dielectric line having a diameter of 6.0 mm was obtained.
  • Experimental Example 12 An insulator image line was fabricated with the layer structure described below.
  • First layer Copper foil (conductor substrate)
  • Second layer PFA sheet having an adhesive function (thickness: 12.5 ⁇ m)
  • Third layer flat plate-shaped PTFE molded product (F) obtained in Experimental Example 5 (dielectric constant: 2.14)
  • Fourth layer PFA sheet having an adhesive function (thickness 12.5 ⁇ m)
  • Fifth layer expanded PTFE porous film G obtained in Experimental Example 6 (dielectric constant: 1.41, dielectric loss tangent 0.4 ⁇ 10 ⁇ 4 )
  • Sixth layer PFA sheet having an adhesive function (thickness: 12.5 ⁇ m)
  • Seventh layer Copper foil (conductor substrate)
  • press bonding was performed at a pressure of 1.0 MPa for 10 minutes with a 310 ° C. press.
  • the first and seventh layers and part of each layer were removed by etching to produce an HE11 mode insulin image line.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Waveguides (AREA)
  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Organic Insulating Materials (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

伝送効率に優れる誘電体導波線路を提供する。2.45GHz又は12GHzにおける誘電率が2.05以上であり、2.45GHz又は12GHzにおける誘電正接が1.20×10-4以下であり、硬度が95以上であるポリテトラフルオロエチレン成形体を備えることを特徴とする誘電体導波線路である。

Description

誘電体導波線路
本発明は、ポリテトラフルオロエチレン成形体を備える誘電体導波線路に関する。
同軸ケーブルやLANケーブルのような高周波信号を伝送するケーブルには常に誘電損失が生ずる。ポリテトラフルオロエチレンは、高周波信号を伝送するケーブルの誘電損失を低減することができる。従って、高周波信号を伝送するケーブルの絶縁被覆層材料としてポリテトラフルオロエチレンを使用することが提案されている。
例えば、特許文献1では、中心導体の外周に、表面の結晶化率を75~92%、また絶縁層全体の気孔率を5~30%に熱処理調整した多孔質四弗化エチレン樹脂絶縁層を設け、この多孔質四弗化エチレン樹脂絶縁層上に無電解めっきアンカー金属層と電気めっき金属層を順次施した外部金属導体層を設けたことを特徴とするセミリジッド型同軸ケーブルが提案されている。
また、特許文献2には、ポリテトラフルオロエチレンを絶縁被覆層材料として使用する場合、誘電率や誘電正接といった電気的特性と加工性などとのバランスを取るために、ポリテトラフルオロエチレンの熱処理の程度を制御する必要があることが記載されている。
特許文献1及び特許文献2は、いずれも、芯線に金属材料を使用する高周波信号伝送用ケーブルの絶縁被覆層材料として、ポリテトラフルオロエチレンを使用することを開示している。しかし、芯線に金属材料を使用する高周波信号伝送用ケーブルは、波長の長いマイクロ波を伝送することができるが、ミリ波やサブミリ波を伝送するには、減衰量が大きすぎる。そこで、ミリ波やサブミリ波を伝送するための導波線路にポリテトラフルオロエチレン成形体を使用することが知られている。
例えば、特許文献3には、焼成固定した延伸連続気孔性ポリテトラフルオロエチレンよりなる棒状の中心誘電体と、上記中心誘電体の外側に延伸連続気孔性ポリテトラフルオロエチレンテープを重ね巻きして設けた誘電体層とからなる伝送線路が記載されている。
また、特許文献4には、ミリ波やサブミリ波を伝送するための誘電体導波路の波動エネルギー伝送部分を、未焼成または不完全焼成のポリテトラフルオロエチレン成形物により形成することが記載されている。
特開2000-21250号公報 特開2002-157930号公報 特公昭63-38884号公報 特開平10-123072号公報
本発明は、上記現状に鑑み、伝送効率に優れる誘電体導波線路を提供することを目的とする。
ミリ波やサブミリ波を伝送するための誘電体導波線路では、中心部分を高誘電率の材料により形成し、その外層を低誘電率の材料により形成する必要がある。光ファイバーの分野において、光ファイバーは内層と外層とからなり、内層と外層との間の屈折率差が大きいと光信号の閉じ込め効果が高まり、伝送効率に優れることが知られている。本発明者らは、この知見に基づき、誘電体導波線路において、中心部分と外層との誘電率差を大きくすることにより、電磁波の閉じ込め効果が大きくなり、伝送効率が高くなると考えた。また、伝送効率を高めるためには、誘電率差を大きくすると同時に、減衰量を低減するために、誘電正接が低いことも求められる。
ポリテトラフルオロエチレン成形体についての研究は、ポリテトラフルオロエチレンに通常期待される誘電率及び誘電正接よりも、誘電率及び誘電正接の両方を低下させることを目的としていたので、高い誘電率を有すると同時に、低い誘電正接を有するポリテトラフルオロエチレン成形体を得る試みはなされていなかった。しかしながら、本発明者らは、高い誘電率を有すると同時に、低い誘電正接を有するポリテトラフルオロエチレン成形体を製造することに成功した。本発明は、この成功に基づいて完成した発明である。
すなわち、本発明は、2.45GHz又は12GHzにおける誘電率が2.05以上であり、2.45GHz又は12GHzにおける誘電正接が1.20×10-4以下であり、硬度が95以上であるポリテトラフルオロエチレン成形体を備えることを特徴とする誘電体導波線路である(本明細書において、第1の誘電体導波線路ということがある)。
上記ポリテトラフルオロエチレン成形体は、未焼成ポリテトラフルオロエチレンを326~345℃で10秒~2時間加熱することにより得られるものであることが好ましい。
上記誘電体導波線路は、中心誘電体として上記ポリテトラフルオロエチレン成形体を備えており、更に上記中心誘電体の周囲に設けられた誘電体層を備えており、上記誘電体層は、2.45GHz又は12GHzにおける誘電率が1.90以下であり、2.45GHz又は12GHzにおける誘電正接が2.00×10-4以下である材料からなることが好ましい。
上記誘電体導波線路は、更に、導体基板と、上記ポリテトラフルオロエチレン成形体よりも誘電率が低い材料により構成された誘電体と、を備えており、上記ポリテトラフルオロエチレン成形体が上記誘電体を介して上記導体基板上に設けられていることも好ましい。
上記誘電体導波線路は、更に、一対の導電板を備えており、上記ポリテトラフルオロエチレン成形体が上記一対の導電板に挟着されていることも好ましい。
本発明は、未焼成ポリテトラフルオロエチレンを326~345℃で10秒~2時間加熱してポリテトラフルオロエチレンの成形体を得る工程、及び、上記ポリテトラフルオロエチレン成形体を用いて誘電体導波線路を製造する工程、を含むことを特徴とする誘電体導波線路の製造方法でもある。
本発明は、また、誘電体Aと、誘電体Aよりも誘電率が低い誘電体Bとを備える誘電体導波線路であって、誘電体Aはポリテトラフルオロエチレン成形体により構成されており、誘電体Aの2.45GHz又は12GHzにおける誘電率をε、誘電体Bの2.45GHz又は12GHzにおける誘電率をε、誘電体Aと誘電体Bとの誘電率の差をΔε=ε-εと表すとき、Δεが0.70以上であることを特徴とする誘電体導波線路でもある(本明細書において、第2の誘電体導波線路ということがある)。
第2の誘電体導波線路において、Δεが0.90以上であることが好ましい。
第2の誘電体導波線路において、εが2.05以上であることが好ましい。
第2の誘電体導波線路において、誘電体Aの2.45GHz又は12GHzにおける誘電正接が1.20×10-4以下であり、誘電体Aの硬度が95以上であることが好ましい。
従来のポリテトラフルオロエチレン成形体は、誘電率及び誘電正接のいずれも低かったが、本発明者らは、高い誘電率と低い誘電正接を有するポリテトラフルオロエチレン成形体を製造することに成功した。
本発明の第1の誘電体導波線路は、高い誘電率と低い誘電正接を有するポリテトラフルオロエチレン成形体を備えるものであることから、ミリ波及びサブミリ波の伝送効率が高い。
本発明の第2の誘電体導波線路は、上記の構成を備えることから、ミリ波及びサブミリ波の伝送効率が高い。
円柱状誘電体線路の断面の模式図である。 インシュラーイメージ線路の模式図である。 非放射性誘電体線路の模式図である。 非放射性誘電体線路の模式図である。
以下、本発明を具体的に説明する。
本発明の第1の誘電体導波線路は、2.45GHz又は12GHzにおける誘電率が2.05以上であり、2.45GHz又は12GHzにおける誘電正接(tanδ)が1.20×10-4以下であり、硬度が95以上であるポリテトラフルオロエチレン(PTFE)成形体を備えることを特徴とする。
上記誘電率は、2.10以上であることが好ましく、2.16以上であることがより好ましい。上限は、特に限定されないが、2.30であってよい。
上記誘電正接(tanδ)は、1.00×10-4以下であることが好ましく、0.95×10-4以下であることがより好ましい。上記誘電正接(tanδ)の下限は、特に限定されないが、0.10×10-4であってよく、0.80×10-4であってよい。
上記誘電体導波線路は、中心誘電体として上記PTFE成形体を備えることができる。上記誘電体導波線路は、更に上記中心誘電体の周囲に設けられた誘電体層を備えており、上記誘電体層は、2.45GHz又は12GHzにおける誘電率が1.90以下であり、2.45GHz又は12GHzにおける誘電正接が2.00×10-4以下である材料からなることが好ましい。この好ましい態様の一例を図1に示す。
上記中心誘電体の適正な直径は、周波数と中心誘電体の誘電率によって決まる。一般的に、上記周波数が1GHz~1THzまでの場合、0.1mm~100mmである。
上記誘電体導波線路は、上記PTFE成形体と、更に、導体基板と、上記PTFE成形体よりも誘電率が低い材料により構成された誘電体と、を備えるものであってもよい。この場合、上記PTFE成形体が上記誘電体を介して上記導体基板上に設けられていることが好ましい。上記導体基板は、金属板であってよい。上記誘電体としては、2.45GHz又は12GHzにおける誘電率が1.90以下であり、2.45GHz又は12GHzにおける誘電正接が2.00×10-4以下である材料からなる誘電体が好ましい。この好ましい態様の一例を図2に示す。
上記誘電体導波線路は、上記PTFE成形体と、更に、一対の導電板とを備えるものであってもよい。この場合、上記PTFE成形体が上記一対の導電板に挟着されていることが好ましい。また、更に、上記一対の導電板に挟着されており、上記PTFE成形体よりも誘電率が低い材料により構成された誘電体を備えるものであってもよい。上記導電板は、金属板であってよい。上記誘電体としては、2.45GHz又は12GHzにおける誘電率が1.90以下であり、2.45GHz又は12GHzにおける誘電正接が2.00×10-4以下である材料からなる誘電体が好ましい。これらの好ましい態様の一例を図3又は図4に示す。
本発明の第2の誘電体導波線路は、誘電体Aと、誘電体Aよりも誘電率が低い誘電体Bとを備え、誘電体Aの2.45GHz又は12GHzにおける誘電率をε、誘電体Bの2.45GHz又は12GHzにおける誘電率をε、誘電体Aと誘電体Bとの誘電率の差をΔε=ε-εと表すとき、Δεが0.70以上であることを特徴とする。本発明の第2の誘電体導波線路は、誘電体Aと誘電体Bとの誘電率の差を利用して、ミリ波、サブミリ波等の高周波を伝送することができ、その差が0.70以上であることから、伝送効率が極めて高い。
Δεとしては、伝送効率の観点から、0.90以上が好ましく、1.00以上がより好ましく、1.10以上が更に好ましい。上限は1.50であってよい。
εとしては、伝送効率の観点から、2.05以上が好ましく、2.10以上がより好ましく、2.16以上が更に好ましい。上限は、特に限定されないが、2.30であってよい。
誘電体Aの2.45GHz又は12GHzにおける誘電正接としては、1.20×10-4以下が好ましく、1.00×10-4以下がより好ましく、0.95×10-4以下が更に好ましい。下限は、特に限定されないが、0.10×10-4であってよく、0.80×10-4であってよい。また、誘電体Aの硬度としては、95以上が好ましい。
誘電体Aは、PTFE成形体により構成されている。上記PTFE成形体は、誘電率の差(Δε)を設けることが容易であることから、第1の誘電体導波線路が備える上記PTFE成形体と同一であることが好ましい。この構成によれば、誘電率の差(Δε)によって高い伝送効率が得られるだけでなく、誘電体Aの誘電率が高く、誘電正接が低いことから、より一層高効率で高周波を伝送可能な誘電体導波線路が実現できる。
誘電体Bの2.45GHz又は12GHzにおける誘電率としては、1.50以下が好ましく、1.43以下がより好ましく、1.35以下であることが更に好ましく、1.30以下であることが特に好ましく、1.03以上であることが好ましい。
誘電体Bの2.45GHz又は12GHzにおける誘電正接としては、1.00×10-4以下が好ましく、0.60×10-4以下がより好ましく、0.30×10-4以下が更に好ましい。
誘電体Bを構成する材料としては、延伸PTFE多孔質体、発泡ポリエチレン等が挙げられる。
次に、第1及び第2の誘電体導波線路が備える上記PTFE成形体に共通する好適な態様について詳述する。
上記誘電率及び誘電正接は、上記PTFE成形体の形状が円柱又はチューブである場合、株式会社関東電子応用開発製空洞共振器を使用して、2.45GHzで測定する。
また、上記誘電率及び誘電正接は、上記PTFE成形体の形状が平板である場合、埼玉大学小林教授のMW87-7「誘電体平板材料のマイクロ波複素誘電率測定」に従って、12GHzで測定する。
上記PTFE成形体は、比重が2.160以上であることが好ましい。上記比重は、2.165以上であることがより好ましく、2.170以上であることが更に好ましい。上限は、特に限定されないが、2.30であってよい。上記PTFE成形体の上記比重が上記範囲内であると、高い誘電率を有すると同時に、低い誘電正接を有する成形体を容易に実現することができる。
上記比重は、液中ひょう量法(JIS Z 8807準拠)により測定する。
上記PTFE成形体は、結晶化度が70%以上であることが好ましい。上記結晶化度は、73%以上であることがより好ましく、75%以上であることが更に好ましい。上限は、特に限定されないが、99%であってよい。上記PTFE成形体の上記結晶化度が上記範囲内であると、高い誘電率を有すると同時に、低い誘電正接を有する成形体を実現することができる。
上記結晶化度は、比重法により測定する。
上記PTFE成形体は、硬度が97以上であることが好ましい。上記硬度は、98以上であることがより好ましく、99以上であることが更に好ましい。上限は、特に限定されないが、99.9であってよい。上記成形体の上記硬度が上記範囲内であると、高い誘電率を有すると同時に、低い誘電正接を有するPTFE成形体を容易に実現することができる。また、上記PTFE成形体を誘電体導波線路に適用しても、上記誘電体導波線路が破損しにくく、閉塞や折れを生じにくい。
上記硬度は、JIS Aによる硬さである。上記硬度は、JIS K6301-1975に規定されていたスプリング式硬さ計(JIS-A形)により測定する。
上記PTFE成形体は、PTFEを含む。上記PTFEは、TFEの単独重合体であっても、他の単量体で変性された変性PTFEであってもよい。
上記変性PTFEは、テトラフルオロエチレン〔TFE〕とTFE以外のモノマー(以下、「変性剤」ともいう。)とからなるPTFEである。変性PTFEは、均一に変性されたものであってもよいし、後述するコアシェル構造を有する変性PTFEであってもよい。
上記変性PTFEは、TFEに基づくTFE単位と変性剤に基づく変性剤単位とからなるものである。上記変性PTFEは、変性剤単位が全単量体単位の0.005~1質量%であることが好ましい。より好ましくは、0.02~0.5質量%である。
本明細書において、「変性剤単位」は、変性PTFEの分子構造上の一部分であって、変性剤として用いた共単量体に由来する繰り返し単位を意味する。上記変性剤単位は、例えば、変性剤としてパーフルオロプロピルビニルエーテルを用いた場合、-[CF-CF(-OC)]-で表され、ヘキサフルオロプロピレンを用いた場合、-[CF-CF(-CF)]-で表される。
上記変性剤としては、TFEとの共重合が可能なものであれば特に限定されず、例えば、ヘキサフルオロプロピレン〔HFP〕等のパーフルオロオレフィン;クロロトリフルオロエチレン〔CTFE〕等のクロロフルオロオレフィン;トリフルオロエチレン、フッ化ビニリデン〔VDF〕等の水素含有フルオロオレフィン;パーフルオロビニルエーテル;パーフルオロアルキルエチレン、エチレン等が挙げられる。また、用いる変性剤は1種であってもよいし、複数種であってもよい。
上記パーフルオロビニルエーテルとしては特に限定されず、例えば、下記一般式
CF=CF-ORf 
(式中、Rfは、パーフルオロ有機基を表す。)で表されるパーフルオロ不飽和化合物等が挙げられる。本明細書において、上記「パーフルオロ有機基」とは、炭素原子に結合する水素原子が全てフッ素原子に置換されてなる有機基を意味する。上記パーフルオロ有機基は、エーテル酸素を有していてもよい。
上記パーフルオロビニルエーテルとしては、例えば、上記一般式において、Rfが炭素数1~10のパーフルオロアルキル基であるパーフルオロ(アルキルビニルエーテル)〔PAVE〕が挙げられる。上記パーフルオロアルキル基の炭素数は、好ましくは1~5である。
上記PAVEにおけるパーフルオロアルキル基としては、例えば、パーフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基等が挙げられるが、パーフルオロアルキル基がパーフルオロプロピル基であることが好ましい。すなわち、上記PAVEは、パーフルオロプロピルビニルエーテル〔PPVE〕が好ましい。
上記パーフルオロビニルエーテルとしては、更に、上記一般式において、Rfが炭素数4~9のパーフルオロ(アルコキシアルキル)基であるもの、Rfが下記式:
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
(式中、mは、0又は1~4の整数を表す。)で表される基であるもの、Rfが下記式:
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
(式中、nは、1~4の整数を表す。)で表される基であるもの等が挙げられる。
パーフルオロアルキルエチレン(PFAE)としては特に限定されず、例えば、(パーフルオロブチル)エチレン(PFBE)、(パーフルオロヘキシル)エチレン等が挙げられる。
上記変性PTFEにおける変性剤としては、HFP、CTFE、VDF、PAVE、PFAE及びエチレンからなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましい。より好ましくは、PAVEであり、更に好ましくは、PPVEである。
上記変性PTFEは、粒子芯部と粒子殻部とからなるコアシェル構造を有するものであってもよい。
上記PTFEは、フィブリル化性を有することが好ましい。フィブリル化性の有無は、TFEの重合体から作られた粉末である「高分子量PTFE粉末」を成形する代表的な方法である「ペースト押出し」で判断できる。通常、ペースト押出しが可能であるのは、高分子量のPTFEがフィブリル化性を有するからである。ペースト押出しで得られた未焼成の成形物に実質的な強度や伸びがない場合、例えば伸びが0%で引っ張ると切れるような場合はフィブリル化性がないとみなすことができる。
上記PTFEは、非溶融加工性を有することが好ましい。上記非溶融加工性とは、ASTM D-1238及びD-2116に準拠して、結晶化融点より高い温度でメルトフローレートを測定できない性質を意味する。
上記PTFEは、標準比重〔SSG〕が2.13~2.23であることが好ましく、2.15~2.19であることがより好ましい。上記標準比重は、ASTM D-4895 98に準拠して、水中置換法により測定する値である。
上記PTFEは、第一融点が333~347℃であることが好ましい。より好ましくは、335~345℃である。上記第一融点は、300℃以上の温度に加熱した履歴がないPTFEについて示差走査熱量計〔DSC〕を用いて10℃/分の速度で昇温したときの融解熱曲線における極大値に対応する温度である。
また、上記PTFEとして、高分子量PTFEと低分子量PTFEとを使用することも可能である。上記高分子量PTFEは、第一融点が333~347℃であることが好ましく、335~345℃であることがより好ましい。上記低分子量PTFEは、第一融点が322~333℃であることが好ましく、324~332℃であることがより好ましい。上記第一融点は、300℃以上の温度に加熱した履歴がないPTFEについて示差走査熱量計〔DSC〕を用いて10℃/分の速度で昇温したときの融解熱曲線における極大値に対応する温度である。
上記高分子量PTFEと上記低分子量PTFEとの質量比は、80/20~99/1であることが好ましく、85/15~97/3であることがより好ましく、90/10~95/5であることが更に好ましい。
上記PTFE成形体は、上記PTFE及び上記PTFE以外の樹脂からなる成形体であってもよい。上記PTFE以外の樹脂としては、例えば、TFE/ヘキサフルオロプロピレン〔HFP〕共重合体〔FEP〕、TFE/パーフルオロ(アルキルビニルエーテル)〔PAVE〕共重合体〔PFA〕、エチレン/TFE共重合体〔ETFE〕、ポリビリニデンフルオライド〔PVdF〕、ポリクロロトリフルオロエチレン〔PCTFE〕、ポリプロピレン、ポリエチレン等が挙げられる。
上記PTFE成形体は、他の成分を含むものであってもよい。上記他の成分としては、界面活性剤、酸化防止剤、光安定剤、蛍光増白剤、着色剤、顔料、染料、フィラー等も挙げられる。また、カーボンブラック、グラファイト、アルミナ、マイカ、炭化珪素、窒化硼素、酸化チタン、酸化ビスマス、ブロンズ、金、銀、銅、ニッケル等の粉末又は繊維粉末等も挙げられる。
上記PTFE成形体は、上記他の成分として、高誘電率無機粒子を含むものであってもよい。上記高誘電率無機粒子としては、チタン酸バリウム、チタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸マグネシウム、チタン酸鉛、チタン酸亜鉛、ジルコン酸鉛、ジルコン酸カルシウム、ジルコン酸ストロンチウム、チタン酸ジルコン酸バリウム、チタン酸ジルコン酸鉛等が挙げられる。
上記PTFE成形体は、上記PTFE以外の樹脂や上記他の成分を含む場合であっても、上記成形体に対して99.0質量%以上の上記PTFEを含むものであることが好ましく、99.9質量%以上の上記PTFEを含むものであることがより好ましい。
上記PTFE成形体は、未焼成PTFEが含んでいた空気を外部に放出することができ、同時に、未焼成PTFEを完全に焼成しない条件で、未焼成PTFEを加熱することにより得られるものであることが好ましい。
具体的な加熱条件は、PTFE成形体の形状及び大きさにより適宜変更する。上記PTFE成形体は、例えば、未焼成PTFEを326~345℃で10秒~2時間加熱することにより得られるものであることが好ましい。加熱温度は、330℃以上であることがより好ましい。
上記未焼成PTFEは、326℃以上に加熱した履歴のないPTFEであり、300℃以上に加熱した履歴のないPTFEであることが好ましい。上述したPTFE成形体を得るための製造方法であって、未焼成PTFEを326~345℃で10秒~2時間加熱する工程を含むことを特徴とする製造方法は、新規な製造方法である。
上記温度で所定時間加熱することにより、未焼成PTFEが含んでいた空気が外部に放出されるため、高い誘電率を有するPTFE成形体を得ることができると推測される。また、未焼成PTFEを完全に焼成しないので、低い誘電正接を有するPTFE成形体を得ることができると推測される。
上記の加熱は、ソルトバス、サンドバス、熱風循環式電気炉等を使用して行うことができるが、加熱条件の制御が容易である点で、ソルトバスを使用して行うことが好ましい。また、加熱時間が上記範囲内で短くなる点でも有利である。上記ソルトバスを使用した加熱は、例えば特開2002-157930号公報に記載の被覆ケーブルの製造装置を使用して行うことができる。
上記成形体は、未焼成PTFEを345℃超に加熱することなく得られたものであることが好ましい。一度でも345℃超に加熱すると、未焼成PTFEがもともと有していた結晶性が崩壊し、高い結晶化度を有するPTFE成形体を得ることができないおそれがある。一方、未焼成PTFEを345℃超に加熱することなく、326~345℃で10秒~2時間加熱することにより得られるPTFE成形体は、未焼成PTFEが有していた結晶性と同等の結晶性を有しており、高い誘電率と低い誘電正接を有する。
従来、PTFEの焼成の程度と誘電率及び誘電正接とは比例すると考えられてきた。例えば、特許文献2の段落〔0003〕には、未焼成のPTFEよりも半焼成のPTFEの方が誘電率及び誘電正接が高いこと、完全に焼成したPTFEの方が誘電率及び誘電正接が更に高いことが記載されている。
しかしながら、本発明者らが鋭意検討した結果、従来は実施されていなかった条件でPTFEを加熱すると、従来の常識に反して、未焼成のPTFEと比べて、誘電正接がそれほど高くならず、一方で、誘電率が完全に焼成したPTFEよりも高くなることが見出された。
上記の知見は、運用に熟練した技術が要求されるソルトバスを使用し、従来は実現できなかった加熱条件を細く設定できたことにより、初めて見出すことができた知見である。
上記未焼成PTFEは、未焼成PTFEの粉末と押出助剤とからなる混合物をペースト押出成形して得られるものであることが好ましい。また、ペースト押出成形した後、得られた押出物を乾燥することによって押出助剤を除去したものであってもよい。上記混合物は、未焼成PTFEの粉末と押出助剤とを公知の方法により混合し、1~24時間熟成させ、圧力0.5~2.0MPaで予備成形して得られたものであってもよい。上記ペースト押出は、押出圧力2~100MPaにて行うことができる。
上記PTFE成形体の形状は特に限定されず、上記誘電体導波線路に要求される特性に合った形状とすることができる。上記PTFE成形体としては、断面形状が矩形、円形、楕円形、円環等であってよい。
上記PTFE成形体は、後述する誘電体導波線路の製造方法により好適に製造することができる。
本発明は、未焼成PTFEを326~345℃で10秒~2時間加熱してPTFEの成形体を得る工程、及び、上記PTFE成形体を用いて誘電体導波線路を製造する工程、を含むことを特徴とする誘電体導波線路の製造方法でもある。
上記未焼成PTFEの加熱時間は、上記未焼成PTFEの直径、加熱温度、加熱に使用する設備によって異なる。
例えば、上記未焼成PTFEの直径が0.1mm~6mmで、ソルトバスで加熱する場合は10秒~10分が好ましく、30秒~6分がより好ましい。
上記未焼成PTFEの直径が0.1mm~6mmで、熱風循環式電気炉で加熱する場合は3分~2時間が好ましく、10分~30分がより好ましい。
また、上記未焼成PTFEの直径が6mm超~20mmで、ソルトバスで加熱する場合は1分~20分が好ましく、3分~10分がより好ましい。
上記未焼成PTFEの直径が6mm超~20mmで、熱風循環式電気炉で加熱する場合は10分~2時間が好ましく、30分~1時間がより好ましい。
上記製造方法は、
未焼成PTFEの粉末と押出助剤とからなる混合物をペースト押出成形して未焼成PTFEの成形体を得る工程、
上記未焼成PTFEの成形体を乾燥して押出助剤を除去する工程、
乾燥させた上記成形体を326~345℃で10秒~2時間加熱する工程、及び、
上記PTFE成形体を用いて誘電体導波線路を製造する工程
を含むことが好ましい。
上記製造方法において、加熱温度と加熱時間は、PTFE成形体の形状及び大きさ、加熱媒体(熱風、硝酸カリウムおよび硝酸ナトリウムの1:1混合物などの溶融塩、サンドバス用の砂などの粉体)などにより上記範囲で適宜変更する。
上記製造方法は、高い誘電率と低い誘電正接を有する成形体を得るために、未焼成PTFEを345℃超に加熱する工程を一切含まないことが好ましい。
上記PTFE成形体を用いて誘電体導波線路を製造する方法については、誘電体導波線路に要求される特性によって相違するので、後述する実験例等で説明する。
第1及び第2の誘電体導波線路は、導波媒体として上記PTFE成形体を備えることが好ましい。また、第1の誘電体導波線路は、誘電体間の誘電率差を利用して、ミリ波、サブミリ波等の高周波を伝送する誘電体導波線路であることが好ましい。第1の誘電体導波線路における上記PTFE成形体は、高い誘電率及び低い誘電正接を有していることから、低い誘電率及び低い誘電正接を有する誘電体と組み合わせることにより、伝送効率に優れた誘電体導波線路が実現する。
第1及び第2の誘電体導波線路としては、円柱状誘電体線路、チューブ状誘電体線路、イメージ線路、インシュラーイメージ線路、トラップドイメージ線路、リブガイド、ストリップ誘電体線路、逆ストリップ線路、Hガイド、非放射性誘電体線路(NRDガイド)等が挙げられる。
第1の誘電体導波線路の一実施形態を図1に示す。図1に示す誘電体導波線路は、断面が円形の円柱状誘電体線路である。図1に示す誘電体導波線路では、中心誘電体11が設けられており、更にその周囲に誘電体層12が設けられている。中心誘電体11は、上記PTFE成形体により構成することができる。第1の誘電体導波線路における誘電体層12は、上記PTFE成形体と比べて誘電率が低い材料により構成することができ、これらの構成によって、ミリ波、サブミリ波等の高周波を、高効率で伝送させることができる。誘電体層12は、例えば、延伸PTFE多孔質体、発泡ポリエチレンを中心誘電体11に巻きつけて形成することができる。
第1の誘電体導波線路における上記PTFE成形体は、誘電率が高いので、中心誘電体11を上記PTFE成形体により構成すれば、中心誘電体11と誘電体層12との誘電率の差を大きくすることができる。しかも、第1の誘電体導波線路における中心誘電体11は、誘電正接も低いので、高効率で高周波を伝送可能な誘電体導波線路が実現できる。
図1に示す誘電体導波線路では、誘電体層12の外周に、中心誘電体11及び誘電体層12を保護するための保護層13が更に設けられているが、保護層13の設置は任意である。保護層13は、ポリ塩化ビニル、ポリオレフィン等の電線の保護層(シース層)に従来から使用されてきた材料から構成できる。
第1の誘電体導波線路は、中心誘電体として上記PTFE成形体を備えていることが好ましい。第1の誘電体導波線路は、更に上記中心誘電体の周囲に設けられた誘電体層を備えていることが好ましい。第1の誘電体導波線路において、上記誘電体層は、2.45GHz又は12GHzにおける誘電率が1.90以下であることが好ましい。第1の誘電体導波線路において、上記誘電体層は、2.45GHz又は12GHzにおける誘電正接が2.00×10-4以下である材料からなることが好ましい。すなわち、中心誘電体としてのPTFE成形体と、上記中心誘電体の周囲に設けられた誘電体層とを備えており、上記誘電体層は、2.45GHz又は12GHzにおける誘電率が1.90以下であり、2.45GHz又は12GHzにおける誘電正接が2.00×10-4以下である材料からなる誘電体導波線路も、本発明の第1の誘電体導波線路の好適な態様の一つである。
第1の誘電体導波線路において、上記誘電体層を構成する材料の誘電率は、1.70以下であることがより好ましく、1.50以下であることが更に好ましく、1.30以下であることが特に好ましく、1.03以上であることが好ましい。また、第1の誘電体導波線路において、上記誘電体層を構成する材料の誘電正接は、1.00×10-4以下であることがより好ましく、0.60×10-4以下であることが更に好ましく、0.30×10-4以下であることが特に好ましい。上記誘電体層を構成する材料としては、延伸PTFE多孔質体、発泡ポリエチレン等が挙げられる。
上記延伸PTFE多孔質体は、シート状のPTFE成形体を延伸することによって得られる延伸PTFE多孔質膜であってもよいし、チューブ状のPTFE成形体を延伸することによって得られる延伸PTFE多孔質チューブであってもよい。上記延伸PTFE多孔質体は、従来公知の方法で作製することができる。上記延伸PTFE多孔質体の誘電率及び誘電正接は、延伸倍率、延伸速度、延伸温度等の延伸条件によって適宜コントロールすることができる。例えば、延伸倍率が高いほど、誘電率及び誘電正接はともに低下する。
上記誘電体導波線路の別の実施形態を図2に示す。図2の誘電体導波線路は、インシュラーイメージ線路である。図2に示す誘電体導波線路では、誘電体21が誘電体22を介して導体基板23上に設けられている。誘電体21は、第1の誘電体導波線路が備える上記PTFE成形体により構成することができる。誘電体22は、第1の誘電体導波線路が備える上記PTFE成形体より誘電率が低い材料により構成することができ、これらの構成によって、ミリ波、サブミリ波等の高周波を、高効率で伝送させることができる。第1の誘電体導波線路における上記PTFE成形体は、従来のPTFE成形体よりも誘電率が高いので、誘電体22を従来のPTFE成形体により構成しても、誘電体21と誘電体22との間に誘電率の差を設けることができる。しかも、誘電体21の誘電正接も低いので、高効率でミリ波を伝送可能な誘電体導波線路が実現できる。また、図示しないが、誘電体21の上に導体基板23を更に設けてもよい。誘電体21、誘電体22及び導体基板23の各層間に接着層を設けてもよい。接着層は、例えば、接着機能をもつフッ素樹脂シートにより形成できる。上記フッ素樹脂シートとしては、水酸基、カルボキシル基、アミノ基等の接着性官能基を有するテトラフルオロエチレン/パーフルオロ(アルキルビニルエーテル)共重合体(PFA)からなるシートが挙げられる。
また、上記誘電体導波線路は、イメージ線路(図示せず)であってもよい。上記イメージ線路の誘電体として、上記PTFE成形体を使用すると、上記PTFE成形体は、誘電正接が低いと同時に、誘電率が高いので、誘電体の線径を小さくすることができ、イメージ線路を小型化することが可能となる。
上記誘電体導波線路の別の実施形態を図3に示す。図3の誘電体導波線路は、非放射性誘電体線路(NRDガイド)である。図3に示す誘電体導波線路は、一対の導電板31a及び31bと、導電板31a及び31bに挟着された誘電体32とを備えている。誘電体32は、第1の誘電体導波線路が備える上記PTFE成形体により構成することができる。第1の誘電体導波線路が備える上記PTFE成形体は、誘電正接が低いと同時に、誘電率が高いので、誘電体32の線径を小さくすることができ、NRDガイドを小型化することが可能となる。導電板31a、31b及び誘電体32の各層間に接着層を設けてもよい。接着層は、例えば、接着機能をもつフッ素樹脂シートにより形成できる。上記フッ素樹脂シートとしては、水酸基、カルボキシル基、アミノ基等の接着性官能基を有するテトラフルオロエチレン/パーフルオロ(アルキルビニルエーテル)共重合体(PFA)からなるシートが挙げられる。
また、図4に示すように、誘電体41と、誘電体41よりも誘電率の低い誘電体42とから誘電体を構成してもよい。この構成において、誘電率の低い誘電体42を介して高周波を入出力させると、誘電率の高い誘電体41に高周波を直接入出力する場合に比べて、高周波の反射を抑制することができ、高周波の入出力が容易である。上記PTFE成形体は、従来のPTFE成形体よりも誘電率が高いので、誘電体41を第1の誘電体導波線路が備える上記PTFE成形体から構成すれば、誘電体42を従来のPTFE成形体により構成しても、誘電体41と誘電体42との間に誘電率の差を設けることができる。
次に、図1、2及び4を使用して、第2の誘電体導波線路の実施形態を説明する。
図1に示す誘電体導波線路は、断面が円形の円柱状誘電体線路である。図1に示す誘電体導波線路では、誘電体Aとして、中心誘電体11が設けられており、更にその周囲に、誘電体Bとして誘電体層12が設けられている。中心誘電体11は、上記PTFE成形体により構成されている。第2の誘電体導波線路では、中心誘電体11の誘電率εと誘電体層12の誘電率εとに誘電率の差(Δε)が設けられているので、ミリ波、サブミリ波等の高周波を、高効率で伝送させることができる。
中心誘電体11の適正な直径は、周波数と中心誘電体の誘電率によって決まる。一般的に、上記周波数が1GHz~1THzまでの場合、0.1mm~100mmである。
誘電体層12は、例えば、延伸PTFE多孔質体、発泡ポリエチレン等を中心誘電体11に巻きつけて形成することができる。
図1に示す誘電体導波線路では、誘電体層12の外周に、中心誘電体11及び誘電体層12を保護するための保護層13が更に設けられているが、保護層13の設置は任意である。保護層13は、ポリ塩化ビニル、ポリオレフィン等の電線の保護層(シース層)に従来から使用されてきた材料から構成できる。
上記誘電体導波線路の別の実施形態を図2に示す。図2の誘電体導波線路は、インシュラーイメージ線路である。図2に示す誘電体導波線路では、誘電体Aとしての誘電体21が誘電体Bとしての誘電体22を介して導体基板23上に設けられている。誘電体21は、上記PTFE成形体により構成されている。導体基板23は金属板であってよい。第2の誘電体導波線路では、誘電体21の誘電率εと誘電体22の誘電率εとに誘電率の差(Δε)が設けられているので、ミリ波、サブミリ波等の高周波を、高効率で伝送させることができる。誘電体22は、延伸PTFE多孔質体、発泡ポリエチレン等により形成することができる。
また、図示しないが、誘電体21の上に導体基板23を更に設けてもよい。誘電体21、誘電体22及び導体基板23の各層間に接着層を設けてもよい。接着層は、例えば、接着機能をもつフッ素樹脂シートにより形成できる。上記フッ素樹脂シートとしては、水酸基、カルボキシル基、アミノ基等の接着性官能基を有するテトラフルオロエチレン/パーフルオロ(アルキルビニルエーテル)共重合体(PFA)からなるシートが挙げられる。
上記誘電体導波線路の別の実施形態を図4に示す。図4の誘電体導波線路は、非放射性誘電体線路(NRDガイド)である。図4に示す誘電体導波線路は、一対の導電板43a及び43bと、誘電体Aとしての誘電体41と、誘電体Bとしての誘電体42とを備えており、誘電体41及び誘電体42は導電板43a及び43bに挟着されている。第2の誘電体導波線路では、誘電体41の誘電率εと誘電体42の誘電率εとに誘電率の差(Δε)が設けられているので、誘電率の低い誘電体42を介して高周波を入出力させると、誘電率の高い誘電体41に高周波を直接入出力する場合に比べて、高周波の反射を抑制することができ、高周波の入出力が容易である。誘電体41は、上記PTFE成形体により構成されている。導電板43a及び43bは、金属板であってよい。
誘電体42は、延伸PTFE多孔質体、発泡ポリエチレン等により形成することができる。導電板43aと誘電体41及び42との層間、及び/又は、導電板43bと誘電体41及び42との層間に接着層を設けてもよい。接着層は、例えば、接着機能をもつフッ素樹脂シートにより形成できる。上記フッ素樹脂シートとしては、水酸基、カルボキシル基、アミノ基等の接着性官能基を有するテトラフルオロエチレン/パーフルオロ(アルキルビニルエーテル)共重合体(PFA)からなるシートが挙げられる。
上記延伸PTFE多孔質体は、シート状のPTFE成形体を延伸することによって得られる延伸PTFE多孔質膜であってもよいし、チューブ状のPTFE成形体を延伸することによって得られる延伸PTFE多孔質チューブであってもよい。上記延伸PTFE多孔質体は、従来公知の方法で作製することができる。上記延伸PTFE多孔質体の誘電率及び誘電正接は、延伸倍率、延伸速度、延伸温度等の延伸条件によって適宜コントロールすることができる。例えば、延伸倍率が高いほど、誘電率及び誘電正接はともに低下する。
つぎに本発明を実験例をあげて説明するが、本発明はかかる実験例のみに限定されるものではない。
実験例の各数値は以下の方法により測定した。
誘電率及び誘電正接(tanδ)
円柱状PTFE成形体、チューブ状PTFE成形体、および延伸PTFE多孔質チューブの誘電率測定及び誘電正接(tanδ)の測定は、株式会社関東電子応用開発製空洞共振器(2.45GHz)による。
平板状PTFE成形体と延伸PTFE多孔質膜の誘電率測定及び誘電正接(tanδ)の測定は、埼玉大学小林教授のMW87-7「誘電体平板材料のマイクロ波複素誘電率測定」(12GHz)による。
硬度
JIS K6301-1975に規定されていたスプリング式硬さ計(JIS-A形)により硬さを測定した。
比重
液中ひょう量法(JIS Z 8807準拠)により測定した。
実験例1
標準比重(SSG)が2.175であるPTFEファインパウダー2kgに炭化水素系溶剤を400g混合して、PTFEペーストを作製した。
次に、φ2.0mmの押出ダイを用いて、ペースト押出成形により上記PTFEペーストを成形して、円柱状で未焼成のPTFE成形体(A)を得た。得られたPTFE成形体(A)を熱風循環式電気炉内に設置して、100℃から250℃へ段階的に温度上昇させ、炭化水素系溶剤を蒸散除去させることで、円柱状PTFE成形体(B)を得た。
得られた円柱状PTFE成形体(B)をソルトバス(溶融塩 硝酸カリウムおよび硝酸ナトリウムの1:1混合物)へ入れて加熱を行い、円柱状PTFE成形体(C)を得た。加熱後の直径は1.95mmであった。加熱の温度、時間及び結果を表1に示す。
実験例2及び比較例1~2
加熱温度及び加熱時間を表1記載の通り変更した以外は実験例1と同様に円柱状PTFE成形体を得た。結果を表1に示す。
実験例3
実験例1と同様にして、乾燥させた円柱状PTFE成形体(B)を得た。乾燥後の円柱状PTFE成形体(B)を熱風循環式電気炉内へ入れて加熱を行った。加熱の温度、時間及び結果を表1に示す。
実験例4
標準比重(SSG)が2.175であるPTFEファインパウダー2kgに炭化水素系溶剤を400g混合して、PTFEペーストを作製した。
次に、φ2.2mmの押出ダイを用いて、ペースト押出成形により、φ0.511mmの銀メッキ銅被覆鋼線に上記PTFEペーストを押し出し、PTFE被覆金属線を得た。PTFE被覆金属線を熱風循環式電気炉内に設置して、100℃から250℃へ段階的に温度上昇させて、炭化水素系溶剤を蒸散除去させた。
乾燥後のPTFE被覆金属線をソルトバスへ入れて加熱を行った。加熱の温度及び時間を表1に示す。
加熱後のPTFE被覆金属線を2m程度に切断して、銀メッキ銅被覆鋼線のみを引き抜き、銀メッキ銅被覆鋼線とPTFE被覆とを分離して、チューブ状(円筒状)のPTFE成形体を得た。上記PTFE成形体の各物性を表1に示す。
実験例5
標準比重(SSG)が2.160であるPTFEファインパウダー2kgに炭化水素系溶剤を600g混合して、PTFEペーストを作製した。
次に、φ16mmの押出ダイを用いて、ペースト押出成形により上記PTFEペーストを成形して、円柱状PTFE成形体を得た。
更に、カレンダーロールを使用して、圧延成形により上記円柱状PTFE成形体を成形し、厚み1.0mmの平板状PTFE成形体(D)を得た。
得られた平板状PTFE成形体(D)を熱風循環式電気炉内に設置して、100℃から250℃へ段階的に温度上昇させ、炭化水素系溶剤を蒸散除去させ、平板状PTFE成形体(E)を得た。
平板状PTFE成形体(E)を100mm×150mmに切断して、ソルトバスに浸漬し、加熱を行い、平板状PTFE成形体(F)を得た。加熱の温度、時間及び結果を表1に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
実験例6
実験例5で得られた平板状PTFE成形体(E)を一軸延伸機で250℃雰囲気中で長さ方向に5倍に延伸し、延伸PTFE多孔質膜G(厚み200μm)を得た。
得られた延伸PTFE多孔質膜Gについて、上記空洞共振器平板法で測定した誘電率は1.41、誘電正接は0.4×10-4であった。
実験例7
延伸倍率を15倍に変更する以外は実験例6と同様にして、延伸PTFE多孔質膜Hを得た。上記空洞共振器平板法で測定した誘電率は1.07、誘電正接は0.1×10-4であった。
実験例8
標準比重(SSG)が2.175であるPTFEファインパウダー2kgに炭化水素系溶剤を410g混合して、PTFEペーストを作製した。
次に、φ6.2mmの押出ダイとφ2.2mmのコアピンを用いて、ペースト押出成形により、チューブ状で未焼成のPTFE成形体を得た。得られたチューブ状で未焼成のPTFE成形体を熱風循環式電気炉内に設置して、100℃から250℃へ段階的に温度上昇させて、炭化水素系溶剤を蒸散除去させた。
乾燥後のチューブ状で未焼成のPTFE成形体を一軸延伸機で250℃雰囲気中で長さ方向に5倍に延伸し、延伸PTFE多孔質チューブI(外径:6.0mm、内径:2.0mm)を得た。
得られた延伸PTFE多孔質チューブIについて、上記空洞共振器平板法で測定した誘電率は1.20、誘電正接は0.3×10-4であった。
実験例9
中心誘電体として実験例1で得られた円柱状PTFE成形体C(誘電率2.14、直径1.95mm)に、誘電体層として実施例6で得られた延伸PTFE多孔質膜G(誘電率1.41、誘電正接0.4×10-4)を更に5mm幅にスリットしたテープを巻きつけ、厚みを2.0mmとし、中心誘電体と誘電体層の誘電率の差Δεが0.73、直径6.0mmのHE11混成モードの円柱状誘電体線路を得た。
実験例10
中心誘電体として実験例1で得られた円柱状PTFE成形体C(誘電率2.14、直径1.95mm)を、誘電体層として実施例8で得られた延伸PTFE多孔質チューブI(誘電率1.20、誘電正接0.3×10-4)に挿入し、中心誘電体と誘電体層の誘電率の差Δεが0.94、直径6.0mmのHE11混成モードの円柱状誘電体線路を得た。
実験例11
中心誘電体として実験例3で得られた円柱状PTFE成形体(誘電率2.19、直径1.95mm)に、誘電体層として実施例7で得られた延伸PTFE多孔質膜H(誘電率1.07、誘電正接0.1×10-4)を更に5mm幅にスリットしたテープを巻きつけ、厚みを2.0mmとし、中心誘電体と誘電体層の誘電率の差Δεが1.12、直径6.0mmのHE11混成モードの円柱状誘電体線路を得た。
実験例12
以下に記載する層構造にてインシュラーイメージ線路を作製した。
第1の層:銅箔(導体基板)
第2の層:接着機能をもつPFAシート(厚み12.5μm)
第3の層:実験例5で得られた平板状PTFE成形体(F)(誘電率:2.14)
第4の層:接着機能をもつPFAシート(厚み12.5μm)
第5の層:実験例6で得られた延伸PTFE多孔質膜G(誘電率:1.41、誘電正接0.4×10-4
第6の層:接着機能をもつPFAシート(厚み12.5μm)
第7の層:銅箔(導体基板)
7層の材料を重ねてから310℃プレスにて10分間、1.0MPaの圧力にてプレス接着を行った。第1、第7の層、および各層の一部をエッチングにより除去することでHE11モードであるインシュラーイメージ線路を作製した。
11 中心誘電体
12 誘電体層
13 保護層
21、22 誘電体
23 導体基板
31a、31b、43a、43b 導電板
32、41、42 誘電体

Claims (10)

  1. 2.45GHz又は12GHzにおける誘電率が2.05以上であり、2.45GHz又は12GHzにおける誘電正接が1.20×10-4以下であり、硬度が95以上であるポリテトラフルオロエチレン成形体を備えることを特徴とする誘電体導波線路。
  2. 前記ポリテトラフルオロエチレン成形体は、未焼成ポリテトラフルオロエチレンを326~345℃で10秒~2時間加熱することにより得られる請求項1記載の誘電体導波線路。
  3. 中心誘電体としてポリテトラフルオロエチレン成形体を備えており、更に前記中心誘電体の周囲に設けられた誘電体層を備えており、前記誘電体層は、2.45GHz又は12GHzにおける誘電率が1.90以下であり、2.45GHz又は12GHzにおける誘電正接が2.00×10-4以下である材料からなる請求項1又は2記載の誘電体導波線路。
  4. 更に、導体基板と、前記ポリテトラフルオロエチレン成形体よりも誘電率が低い材料により構成された誘電体と、を備えており、前記ポリテトラフルオロエチレン成形体が前記誘電体を介して前記導体基板上に設けられている請求項1又は2記載の誘電体導波線路。
  5. 更に、一対の導電板を備えており、前記ポリテトラフルオロエチレン成形体が前記一対の導電板に挟着されている請求項1又は2記載の誘電体導波線路。
  6. 未焼成ポリテトラフルオロエチレンを326~345℃で10秒~2時間加熱してポリテトラフルオロエチレンの成形体を得る工程、及び、
    前記ポリテトラフルオロエチレン成形体を用いて誘電体導波線路を製造する工程、
    を含むことを特徴とする誘電体導波線路の製造方法。
  7. 誘電体Aと、誘電体Aよりも誘電率が低い誘電体Bとを備える誘電体導波線路であって、
    誘電体Aはポリテトラフルオロエチレン成形体により構成されており、
    誘電体Aの2.45GHz又は12GHzにおける誘電率をε、誘電体Bの2.45GHz又は12GHzにおける誘電率をε、誘電体Aと誘電体Bとの誘電率の差をΔε=ε-εと表すとき、Δεが0.70以上である
    ことを特徴とする誘電体導波線路。
  8. Δεが0.90以上である請求項7記載の誘電体導波線路。
  9. εが2.05以上である請求項7又は8記載の誘電体導波線路。
  10. 誘電体Aの2.45GHz又は12GHzにおける誘電正接が1.20×10-4以下であり、誘電体Aの硬度が95以上である請求項7、8又は9記載の誘電体導波線路。
PCT/JP2016/060827 2015-03-31 2016-03-31 誘電体導波線路 WO2016159314A1 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201680018973.5A CN107408751B (zh) 2015-03-31 2016-03-31 电介质波导线路
JP2017510229A JP6414632B2 (ja) 2015-03-31 2016-03-31 誘電体導波線路
EP16773194.2A EP3249742B1 (en) 2015-03-31 2016-03-31 Dielectric waveguide line
US15/552,320 US10601098B2 (en) 2015-03-31 2016-03-31 Dielectric waveguide line comprising a polytetrafluoroethylene molded article and method of manufacture

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015073369 2015-03-31
JP2015-073369 2015-03-31

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2016159314A1 true WO2016159314A1 (ja) 2016-10-06

Family

ID=57005152

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2016/060827 WO2016159314A1 (ja) 2015-03-31 2016-03-31 誘電体導波線路

Country Status (5)

Country Link
US (1) US10601098B2 (ja)
EP (1) EP3249742B1 (ja)
JP (1) JP6414632B2 (ja)
CN (1) CN107408751B (ja)
WO (1) WO2016159314A1 (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018096803A1 (ja) * 2016-11-22 2018-05-31 オリンパス株式会社 内視鏡システム
WO2019066956A1 (en) * 2017-09-29 2019-04-04 Intel Corporation INTRA-SEMICONDUCTOR CHIP COMMUNICATION THROUGH A WAVEGUIDE IN A MULTI-CHIP SEMICONDUCTOR HOUSING
JPWO2018100908A1 (ja) * 2016-11-30 2019-10-17 パイオニア株式会社 電磁波伝送ケーブル
WO2020158868A1 (ja) * 2019-02-01 2020-08-06 ダイキン工業株式会社 配線板
WO2021167073A1 (ja) 2020-02-20 2021-08-26 ダイキン工業株式会社 誘電体導波線路

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3220476B1 (en) * 2016-03-16 2019-12-04 TE Connectivity Germany GmbH Low-loss dielectric waveguide for transmission of millimeter-wave signals and cable comprising the same
US10944146B2 (en) * 2016-09-30 2021-03-09 Daikin Industries, Ltd. Dielectric waveguide having a dielectric waveguide body and a dielectric waveguide end with specified densities and method of producing
CN108281742B (zh) * 2018-01-17 2024-06-18 上海阖煦微波技术有限公司 免充气椭圆波导的制备方法
WO2019155319A1 (en) 2018-02-09 2019-08-15 Marvell World Trade Ltd. Mm-wave waveguide physical layer interconnect for automotive and industrial networks
US10879578B2 (en) 2018-04-04 2020-12-29 Marvell Asia Pte, Ltd. MM-wave waveguide with an electrically-insulating core having an electrically-conductive transmission line disposed inside the core
US11381441B2 (en) 2018-11-28 2022-07-05 Nxp Usa, Inc. Dispersion compensation in mm-wave communication over plastic waveguide using OFDM
CN113316866B (zh) * 2018-12-21 2024-07-23 胡贝尔舒纳公司 介电波导电缆
CN113851806A (zh) * 2021-09-07 2021-12-28 珠海汉胜科技股份有限公司 一种介质波导及其制作方法
CN114184845B (zh) * 2021-11-05 2022-08-09 西南交通大学 一种基于变温介电性能的车载电缆服役状态评估方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55159602A (en) * 1979-05-30 1980-12-11 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Slot array antenna
JPS5748804A (en) * 1980-09-05 1982-03-20 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Slot array antenna
WO2003077363A1 (fr) * 2002-03-13 2003-09-18 Daikin Industries, Ltd. Radome
JP2012184422A (ja) * 2011-03-03 2012-09-27 Daikin Industries Ltd 含浸体の製造方法、及び、多層プリント配線板用積層板の製造方法
US20140240062A1 (en) * 2013-02-27 2014-08-28 Texas Instruments Incorporated Dielectric Waveguide with Deformable Interface Surface

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3995238A (en) * 1975-06-30 1976-11-30 Epsilon Lambda Electronics Corporation Image waveguide transmission line and mode launchers utilizing same
JPS5985B2 (ja) * 1977-02-14 1984-01-05 株式会社潤工社 伝送線路の接続部
US4463329A (en) 1978-08-15 1984-07-31 Hirosuke Suzuki Dielectric waveguide
JPS5875301A (ja) 1982-07-09 1983-05-07 Junkosha Co Ltd 伝送線路
US4603942A (en) * 1983-10-11 1986-08-05 General Dynamics, Pomona Division Flexible, dielectric millimeter waveguide
JPS61163704A (ja) * 1985-01-16 1986-07-24 Junkosha Co Ltd 誘電体線路
US4785268A (en) * 1987-07-30 1988-11-15 W. L Gore & Associates, Inc. Dielectric waveguide delay line
JP3866804B2 (ja) 1996-10-25 2007-01-10 財団法人山形県産業技術振興機構 誘電体導波路付き共振器とそれを備えた発振器及び測定装置
JP3635560B2 (ja) 1998-07-02 2005-04-06 東京特殊電線株式会社 セミリジッド型同軸ケーブル及びその製造方法
JP4797237B2 (ja) 2000-11-20 2011-10-19 ダイキン工業株式会社 被覆ケーブルの製造装置
KR100358970B1 (ko) * 2001-02-20 2002-11-01 엔알디테크 주식회사 모드 변환기
JP4325337B2 (ja) * 2003-09-19 2009-09-02 日立化成工業株式会社 樹脂組成物、それを用いたプリプレグ、積層板及び多層プリント配線板
US7337528B2 (en) * 2004-12-23 2008-03-04 Motorola, Inc. Textured dielectric patch antenna fabrication method
SG187278A1 (en) * 2011-07-20 2013-02-28 Sony Corp A waveguide
CN103096612B (zh) * 2011-11-01 2015-07-22 昆山雅森电子材料科技有限公司 高频基板结构

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55159602A (en) * 1979-05-30 1980-12-11 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Slot array antenna
JPS5748804A (en) * 1980-09-05 1982-03-20 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Slot array antenna
WO2003077363A1 (fr) * 2002-03-13 2003-09-18 Daikin Industries, Ltd. Radome
JP2012184422A (ja) * 2011-03-03 2012-09-27 Daikin Industries Ltd 含浸体の製造方法、及び、多層プリント配線板用積層板の製造方法
US20140240062A1 (en) * 2013-02-27 2014-08-28 Texas Instruments Incorporated Dielectric Waveguide with Deformable Interface Surface

Non-Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
BILL RIDDLE ET AL.: "Complex Permittivity Measurements of Common Plastics Over Variable Temperatures", IEEE TRANSACTIONS ON MICROWAVE THEORY AND TECHNIQUES, vol. 51, no. 3, 2003, pages 727 - 733, XP055317337 *
ROBERT FERBECKER ET AL.: "Estimation of Permittivity and Loss Tangent of High Frequency Materials in the Millimeter Wave Band using a Hemispherical Open Resonator;", 2011 IEEE INTERNATIONAL CONFERENCE ON MICROWAVES, COMMUNICATIONS, ANTENNAS AND ELECTRONICS SYSTEMS (COMCAS) PROCEEDINGS;, pages 1 - 8, XP032076218 *
See also references of EP3249742A4 *

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018082836A (ja) * 2016-11-22 2018-05-31 オリンパス株式会社 内視鏡システム
WO2018096803A1 (ja) * 2016-11-22 2018-05-31 オリンパス株式会社 内視鏡システム
JPWO2018100908A1 (ja) * 2016-11-30 2019-10-17 パイオニア株式会社 電磁波伝送ケーブル
JP2020092451A (ja) * 2016-11-30 2020-06-11 パイオニア株式会社 電磁波伝送ケーブル
US11018403B2 (en) 2016-11-30 2021-05-25 Pioneer Corporation Electromagnetic wave transmission cable including a hollow dielectric tube surrounded by a foamed resin member having different expansion ratios at different regions therein
US11450629B2 (en) 2017-09-29 2022-09-20 Intel Corporation Intra-semiconductor die communication via waveguide in a multi-die semiconductor package
WO2019066956A1 (en) * 2017-09-29 2019-04-04 Intel Corporation INTRA-SEMICONDUCTOR CHIP COMMUNICATION THROUGH A WAVEGUIDE IN A MULTI-CHIP SEMICONDUCTOR HOUSING
CN111149253A (zh) * 2017-09-29 2020-05-12 英特尔公司 多管芯半导体封装中的经由波导的半导体管芯间通信
CN111149253B (zh) * 2017-09-29 2024-09-03 英特尔公司 多管芯半导体封装中的经由波导的半导体管芯间通信
WO2020158868A1 (ja) * 2019-02-01 2020-08-06 ダイキン工業株式会社 配線板
JPWO2020158868A1 (ja) * 2019-02-01 2021-11-18 ダイキン工業株式会社 配線板
JP7144698B2 (ja) 2019-02-01 2022-09-30 ダイキン工業株式会社 配線板
US12087988B2 (en) 2019-02-01 2024-09-10 Daikin Industries, Ltd. Wiring board
KR20220120697A (ko) 2020-02-20 2022-08-30 다이킨 고교 가부시키가이샤 유전체 도파 선로
WO2021167073A1 (ja) 2020-02-20 2021-08-26 ダイキン工業株式会社 誘電体導波線路

Also Published As

Publication number Publication date
CN107408751A (zh) 2017-11-28
EP3249742B1 (en) 2021-04-28
JP6414632B2 (ja) 2018-10-31
US10601098B2 (en) 2020-03-24
CN107408751B (zh) 2022-08-12
EP3249742A1 (en) 2017-11-29
JPWO2016159314A1 (ja) 2017-09-21
EP3249742A4 (en) 2018-07-18
US20180040936A1 (en) 2018-02-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6414632B2 (ja) 誘電体導波線路
US20220407206A1 (en) Dielectric waveguide line
CN112020752B (zh) 绞合电线及其制造方法
US20200362192A1 (en) Electric wire with a core and a coating
WO2012077760A1 (ja) 多層チューブ、及び、該多層チューブの製造方法
JP5880748B2 (ja) ポリテトラフルオロエチレンを含むペースト及びその製造方法
JP6214708B2 (ja) 電線の製造方法
JP4626014B2 (ja) 高周波信号伝送用製品およびその製法
JP2016195295A (ja) 誘電体導波線路
JP7144698B2 (ja) 配線板
JP7568991B2 (ja) フッ素樹脂シート、銅張積層体、回路用基板及びアンテナ
JPWO2008102878A1 (ja) ポリテトラフルオロエチレン成形品の製造方法
JP2024084724A (ja) 組成物、シート及びその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 16773194

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2017510229

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 15552320

Country of ref document: US

REEP Request for entry into the european phase

Ref document number: 2016773194

Country of ref document: EP

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE