WO2016158791A1 - 有機薄膜太陽電池モジュール - Google Patents

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organic thin
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直哉 二宮
勝矢 船山
泰典 松下
▲靖▼ 日浦
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三菱化学株式会社
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    • H01G9/2077Sealing arrangements, e.g. to prevent the leakage of the electrolyte
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/549Organic PV cells

Definitions

  • the present invention relates to an organic thin film solar cell module.
  • Patent Document 1 proposes a solar power generation film that is used by being attached to a window glass of a building as a product to which a transparent film type solar cell module is applied.
  • the solar power generation film as described above is installed and used near a human eye such as a window glass, the solar power generation film is required to have high designability. Therefore, it is thought that the finishing of the thin film solar cell module on the glass or the like and the handling of the solar cell module at the time of construction are important.
  • a general wind film is attached to glass by a method called water sticking. This method of water sticking is to stick a film on glass with a sprayer sprayed with water containing a small amount of neutral detergent on the adhesive surface and glass surface of the film, and then use a squeegee to make the film surface uniform one after another. The film and glass are brought into close contact with each other. As a result, water and air bubbles between the film and the glass are expelled from the end of the film, and a good bonding surface free from wrinkles and air bubbles can be obtained.
  • this invention provides the thin film solar cell module which does not impair the designability at the time of construction to a construction target object.
  • the power generation efficiency of the thin film solar cell module is higher when the substrate of the thin film solar cell element is on the light receiving surface side
  • the gist of the present invention is as follows.
  • the present inventors created a thin film solar cell module having the same configuration as Patent Document 1 except that a collector wire was installed on the organic thin film solar cell element, and as a result of examining the installation on the window glass, Water bubbles remained between the glass and the thin-film solar cell module outside the installation location of the current collector. This is because the thickness of the current collector installed portion increases corresponding to the thickness of the current collector, while the peripheral portion of the thin film solar cell module becomes thinner because the organic thin film solar cell elements are not stacked, resulting in the thin film solar cell. This is because the module has regions with different thicknesses, and the water bubbles cannot be properly removed by the squeegee.
  • the thin film solar cell module has a barrier layer to suppress deterioration of the organic thin film solar cell element, it is difficult to remove water bubbles by evaporation. For these reasons, it was found that when the collector wire was sealed together with the organic thin film solar cell element, the design properties after the thin film solar cell module was installed on the glass deteriorated.
  • the present inventors have intensively studied paying attention to the thickness of the barrier layer and the sealing layer, and as a result, the thin film solar in the region where the current collector is further installed in the organic thin film solar cell element. It has been found that the problem can be solved by making the difference between the thickness of the battery module and the thickness of the thin film solar cell module in a region where the organic thin film solar cell element is not sealed within a certain range. That is, another gist of the present invention may be as follows.
  • a first gas barrier layer, a first sealing layer, an organic thin film solar cell element, a second sealing layer, and a second gas barrier layer are sequentially provided, and the first sealing layer and the organic thin film solar cell element
  • An organic thin film solar cell module having a current collector electrically connected to the organic thin film solar cell element between,
  • the thickness x ( ⁇ m) of the organic thin film solar cell module at the center of the current collecting wire installation region in the width direction of the power collection line, and the thickness y ( ⁇ m) of the thin film solar cell module 5 mm outside from the outer peripheral edge of the organic thin film solar cell element Satisfies the following formula (I): an organic thin film solar cell module.
  • the present invention it is possible to provide a thin-film solar cell module that maintains the initial performance of the organic thin-film solar cell element even after squeegee construction during water application. Furthermore, according to the present invention, it is possible to provide a thin-film solar cell module having a good design without causing end portions to peel off during finishing. Moreover, according to another summary of this invention, the organic thin film solar cell module which maintained the design property after the time of water pasting construction can be provided.
  • An organic thin film solar cell module is an organic thin film solar cell module having a first gas barrier layer, a first sealing layer, and an organic thin film solar cell element in order,
  • An organic thin-film solar cell module having a storage elastic modulus of 5 ⁇ 10 6 Pa to 1 ⁇ 10 8 Pa at 25 ° C. and a frequency of 10 Hz.
  • the organic thin film solar cell module preferably further includes a second sealing layer and a second gas barrier layer in this order. It is preferable that it is the 2nd sealing layer side with respect to an organic thin-film solar cell element.
  • an organic thin-film solar cell element has an element substrate in the 2nd sealing layer side.
  • An organic thin film solar cell module includes a first gas barrier layer 2, a first sealing layer 4, an organic thin film solar as shown in the schematic cross-sectional view of FIG.
  • the battery element 9, the second sealing layer 3, and the second gas barrier layer 1 are sequentially provided.
  • a collector wire (not shown in FIG. 1) for taking out electricity is installed on the upper electrode or lower electrode of each solar cell forming the organic thin-film solar cell. To do.
  • the organic thin film solar cell element 9 usually has a structure in which a lower electrode 6, a photoelectric conversion layer 7, and an upper electrode 8 are sequentially laminated on an element substrate 5. According to the power generation mechanism of the organic thin-film solar cell element 9, power generation is performed regardless of whether the substrate side is the light-receiving surface side or the non-light-receiving surface side with respect to the light-receiving surface for light that contributes to power generation such as sunlight.
  • the power generation of the thin film solar cell element is in the order of the element substrate 5, the lower electrode 6, the photoelectric conversion layer 7, and the upper electrode 8 from the light receiving surface side as shown in FIG. It is preferable from the viewpoint of efficiency.
  • the first sealing layer 4 and the second sealing layer 3 (hereinafter, the first sealing layer and the second sealing layer may be collectively referred to as a sealing layer) for sealing the thin film solar cell element 9 It is a layer to be provided and is provided so as to cover most of the thin film solar cell element 9 and is usually provided so as to completely cover the thin film solar cell element 9 with the first sealing layer 4 and the second sealing layer 3. Is sealed. Special restrictions on the positional relationship and relative size between the first gas barrier layer 2 and the second gas barrier layer 1 (hereinafter, the first gas barrier layer and the second gas barrier layer may be collectively referred to as a gas barrier layer) and the sealing layer.
  • the sealing layer and the gas barrier layer are laminated with the same size and the same shape, with the ends aligned, or the gas barrier layer covers the entire surface of the sealing layer and the gas barrier layer is sealed. Laminated larger than the stop layer.
  • the end face of the gas barrier layer is arranged so that the distance between the end face of the gas barrier layer and the end face of the element substrate is 5 mm or more. It is preferable to install outside the end face of the substrate.
  • the thin film solar cell module in this embodiment contains the adhesion layer for sticking to a construction target object in the outermost layer, and is installed in a window glass etc. by this adhesion layer.
  • the adhesive layer 10 is provided on the second gas barrier layer 1, and the first gas barrier layer 2, the first sealing layer 4, the thin film solar cell element 9, the second sealing layer 3, and the second gas barrier. It can be set as the structure which has the layer 1 and the adhesion layer 10 one by one.
  • a conventionally known pressure-sensitive adhesive can be used for the pressure-sensitive adhesive layer 10, but an acrylic pressure-sensitive adhesive is preferably used from the viewpoint of weather resistance and transparency.
  • the adhesive layer can be provided by a known method on the outermost layer on the substrate side (light receiving surface) or photoelectric conversion layer side (non-light receiving surface) of the thin film solar cell element used in the thin film solar cell module.
  • the adhesive layer 10 is attached to a construction object such as a glass window, whereby the thin film solar cell module is installed on the construction object.
  • the organic thin film solar cell module preferably has translucency.
  • the visible light transmittance measured by a method according to JIS R 3106 is usually 3% or more, preferably 5% or more, more preferably 8% or more, still more preferably 10% or more. Particularly preferably, it is 20% or more, usually 80% or less, preferably 60% or less, more preferably 50% or less. It is preferable that it is at least the above lower limit in that the daylighting property can be improved. It is preferable at the point which can improve electric power generation efficiency by being below the said upper limit.
  • the organic thin film solar cell module having translucency is, for example, an organic thin film solar cell element having translucency by using a transparent electrode as an electrode of the organic thin film solar cell element, and an organic thin film other than the organic thin film solar cell element. It is realizable by making the structural member of a solar cell module into the member which has translucency.
  • the organic thin film solar cell module according to the present embodiment is preferably an organic thin film solar cell module having flexibility.
  • the organic thin-film solar cell module can be transported as a roll, and the handleability is improved.
  • the organic thin film solar cell module according to the present invention hardly causes delamination in the organic thin film solar cell element even when bent as described later. Therefore, the present invention is particularly suitable for an organic thin film solar cell module having flexibility.
  • the term “flexible” means that the thin-film solar cell module is not broken (not plastically deformed) even if it is bent at a curvature radius of 170 mm.
  • the thin-film solar cell module is preferably not broken even when bent at a radius of curvature of 85 mm, more preferably the thin-film solar cell module does not break even when bent at a radius of curvature of 50 mm, and particularly preferably even when bent at a radius of curvature of 35 mm.
  • the module does not break.
  • the thin film solar cell module satisfies the flexibility, for example, as a material for an element substrate described later, a material satisfying the flexibility described above or the thickness and elastic modulus of each member constituting the organic thin film solar cell module Can be achieved by appropriately adjusting the above.
  • the structural member of the organic thin film solar cell module of this invention is demonstrated.
  • the gas barrier layer is a layer that prevents permeation of water and oxygen.
  • Organic thin-film solar cell elements tend to be sensitive to moisture and oxygen, and in particular, transparent electrodes and photoelectric conversion layers constituting organic thin-film solar cells may be deteriorated by moisture and oxygen. Therefore, by covering the thin film solar cell element with the gas barrier layer, the organic thin film solar cell element can be protected from water and oxygen, and the power generation performance can be kept high.
  • the degree of moisture-proof capability required for the gas barrier layer is such that the water vapor permeability per unit area (1 m 2 ) per day is preferably 1 ⁇ 10 ⁇ 1 g / m 2 / day or less, and 1 ⁇ 10 ⁇ It is more preferably 2 g / m 2 / day or less, further preferably 1 ⁇ 10 ⁇ 3 g / m 2 / day or less, and more preferably 1 ⁇ 10 ⁇ 4 g / m 2 / day or less. Among these, 1 ⁇ 10 ⁇ 5 g / m 2 / day or less is particularly preferable, and 1 ⁇ 10 ⁇ 6 g / m 2 / day or less is particularly preferable.
  • the gas barrier layer is preferably one that transmits visible light from the viewpoint of not impeding the light absorption of the organic thin film solar cell element.
  • the transmittance of visible light (wavelength 360 to 830 nm) measured by a method according to JIS R 3106 is usually 60% or more, preferably 70% or more, more preferably 75% or more, still more preferably 80% or more. Among them, preferably 85% or more, particularly preferably 90% or more, particularly preferably 95% or more, and particularly preferably 97% or more. This is to convert more sunlight into electrical energy.
  • the gas barrier layer preferably has a low haze from the viewpoint of design properties such as a sense of unity with the construction object and appearance.
  • the haze value when using a D65 light source defined by JIS K 7136 is usually 10 or less, preferably 5 or less, more preferably 2 or less, and even more preferably 1 or less.
  • the gas barrier layer preferably has heat resistance.
  • the melting point of the constituent material of the gas barrier layer is usually 100 ° C. or higher, preferably 120 ° C. or higher, more preferably 130 ° C. or higher, and usually 350 ° C. or lower, preferably 320 ° C. or lower, more preferably 300 It is below °C.
  • the specific configuration of the gas barrier layer is arbitrary as long as the organic thin film solar cell element can be protected from water and oxygen. However, since the manufacturing cost increases as the amount of water vapor or oxygen that can permeate the gas barrier layer increases, it is preferable to use an appropriate material in consideration of these points comprehensively. Specifically, a structure in which an inorganic layer is laminated on a resin base material is preferable.
  • the material for forming the resin substrate is not particularly limited.
  • a polyolefin resin such as a homopolymer or copolymer such as ethylene, propylene, or butene; an amorphous polyolefin resin such as a cyclic polyolefin; polyethylene terephthalate Polyester resins such as (PET) and polyethylene naphthalate (PEN); Polyamide resins such as nylon 6, nylon 66, nylon 12, copolymer nylon; ethylene-vinyl acetate copolymer partial hydrolyzate (EVOH), polyimide Resin, polyetherimide resin, polysulfone resin, polyethersulfone resin, polyether ether ketone resin, polycarbonate resin, polyvinyl butyral resin, polyarylate resin, fluororesin, acrylic resin, biodegradable Examples thereof include resins.
  • the resin base material may be formed with 2 or more types of materials, and may be a laminated structure.
  • polyester resins are preferable, and polyethylene terephthalate (PET) or polyethylene naphthalate (PEN) is particularly preferable.
  • the material for forming the inorganic layer is not particularly limited, but silicon, aluminum, magnesium, zinc, tin, nickel, titanium, or oxides, carbides, nitrides, oxycarbides, oxynitrides, oxycarbonitrides of these Products, diamond-like carbon, or a mixture thereof.
  • the inorganic layer may be formed of two or more kinds of materials, or may have a laminated structure.
  • the material constituting the inorganic layer is silicon oxide, silicon oxycarbide, silicon oxynitride, silicon oxycarbonitride, aluminum oxide, aluminum oxycarbide, aluminum oxynitride, silicon nitride, Aluminum nitride, diamond-like carbon and mixtures thereof are preferred. Further, among these, silicon oxide, silicon oxycarbide, silicon oxynitride, silicon oxycarbonitride, silicon nitride, aluminum oxide, aluminum oxycarbide, aluminum oxynitride, and aluminum nitride are able to stably maintain high moisture resistance. And mixtures thereof are particularly preferred.
  • the inorganic layer may be composed of a plurality of inorganic materials. Moreover, you may have a some inorganic layer. Also in this case, the plurality of inorganic layers may be formed of the same material or may be formed of different materials. Further, from the viewpoint of the design properties of the organic thin film solar cell module, the optical properties are preferably more transparent, and silicon oxide, silicon oxynitride, and silicon nitride are preferable, and silicon oxide is particularly preferable.
  • a suitable gas barrier layer examples include a film obtained by vacuum-depositing silicon oxide (SiOx) on a base film such as polyethylene terephthalate (PET) or polyethylene naphthalate (PEN).
  • the gas barrier layer may be formed of one kind of material or two or more kinds of materials.
  • the gas barrier layer may be formed as a single layer, but may be a laminate of two or more layers.
  • the thickness of the gas barrier layer is not particularly defined, but is usually 10 ⁇ m or more, preferably 15 ⁇ m or more, more preferably 20 ⁇ m or more, and usually 200 ⁇ m or less, preferably 180 ⁇ m or less, more preferably 150 ⁇ m or less. Increasing the thickness tends to increase gas barrier properties, and decreasing the thickness tends to increase flexibility and improve visible light transmittance.
  • the storage modulus of the gas barrier layer at 25 ° C. and a frequency of 10 Hz is not particularly limited, but is 1.0 ⁇ 10 8 Pa or more, preferably 3.0 ⁇ 10 8 Pa or more, on the other hand, 6.0 ⁇ 10 9 Pa or less. In the case of 4.0 ⁇ 10 9 Pa or less, the present invention can exert the effect more remarkably for the following reasons.
  • the storage elastic modulus of the gas barrier layer is less than or equal to the above upper limit value, the pressure of the squeegee during squeegee tends to have a greater effect on the organic thin film solar cell element, and the storage elastic modulus of the gas barrier layer has the above lower limit value.
  • the present invention can exhibit the effect more remarkably.
  • the formation position is not limited, but the surfaces at both ends of the thin-film solar cell element in the stacking direction, specifically the light-receiving surface side (see FIG. 1 and the surface opposite to the light receiving surface (upper surface in FIG. 1).
  • the sealing layer and the gas barrier layer are laminated with the same size and the same shape and with the ends aligned.
  • the gas barrier layer covers the entire surface of the sealing layer, and the gas barrier layer is laminated larger than the sealing layer.
  • the end face of the gas barrier layer is set so that the distance between the end face of the gas barrier layer and the end face of the element substrate is 5 mm or more. Is preferably disposed outside the end face of the element substrate.
  • the gas barrier layer is hard-coated to prevent scratches when handling organic thin-film solar cell modules, to prevent scratches due to squeegees when applying water to construction objects, and to improve the smoothness of the gas barrier layer.
  • a layer may be provided.
  • Sealing layer (first sealing layer and second sealing layer)
  • the storage elastic modulus at 25 ° C. and a frequency of 10 Hz of the first sealing layer is preferably 5.0 ⁇ 10 6 Pa or more, more preferably 7.0 ⁇ 10 6 or more. Particularly preferably, it is 1.0 ⁇ 10 7 Pa or more, while it is preferably 5.0 ⁇ 10 8 Pa or less, more preferably 3.0 ⁇ 10 8 Pa or less, particularly preferably 1. 0 ⁇ 10 8 Pa or less.
  • the storage elastic modulus was made into the storage elastic modulus in the case of 25 degreeC in consideration of the temperature at the time of normal squeegee construction.
  • a sealing layer is melted and then processed into a test piece (including a curing treatment when curing is required), and a conventionally known dynamic viscoelasticity measuring device is used from the obtained test piece. It is calculated
  • the organic thin film solar cell element uses an organic semiconductor compound for the photoelectric conversion layer and the like, for example, compared with a silicon-based solar cell element using amorphous silicon or the like, It was found that there were many portions with weak adhesion inside the device and there was a tendency to peel off. Therefore, it has been found that in order to put a thin film solar cell module using an organic thin film solar cell element into practical use, it is necessary to consider delamination due to external pressure or the like rather than a silicon solar cell.
  • the organic thin-film solar cell module is to be water-attached from the first gas barrier layer side to the construction object such as a window glass by squeegee construction, if the storage modulus of the first sealing layer is too low, the first gas barrier layer In addition to the deformation, the first sealing layer is also deformed, and the deformation reaches the organic thin film solar cell element. For this reason, stress is applied to the organic thin film solar cell element, delamination occurs inside the organic thin film solar cell element, and a part of the organic thin film solar cell element is damaged to reduce the conversion efficiency.
  • the photoelectric conversion layer of the organic thin film solar cell element is generally colored, the color tone is remarkably different between the portion where the delamination occurs and the portion where the separation does not occur, and thus the design is remarkably impaired.
  • the storage elastic modulus of the first sealing layer is too high, when trimming the solar cell module end in the finishing process of the thin film solar cell module, or when bending the thin film solar cell module, The interlayer strength in the organic thin-film solar cell element cannot withstand the bending stress of the first sealing layer, and delamination occurs in the element. As a result, the conversion efficiency is lowered, and the design properties of the organic thin film solar cell module are significantly impaired.
  • the second barrier layer since a thick element substrate is generally disposed between the second sealing layer and the organic thin film solar cell element, for example, when the second barrier layer side is applied, The stress of the barrier layer can be relaxed by the element substrate. Therefore, the storage elastic modulus at 25 ° C. and a frequency of 10 Hz of the second sealing layer is not particularly limited. However, in order to prevent warpage of the organic thin film solar cell module, it is preferable that the second barrier layer also has the same storage elastic modulus as the first barrier layer.
  • the sealing layer is used on the light receiving surface side of the organic thin film solar cell element, it is preferable to transmit visible light from the viewpoint of preventing light absorption.
  • the transmittance of visible light (wavelength 360 to 830 nm) measured by a method according to JIS R 3106 is usually 75% or more, preferably 80% or more, more preferably 85% in a single sealing layer.
  • the sealing layer preferably has a low haze from the viewpoint of design properties such as a sense of unity with the construction object and appearance.
  • the haze value when using a D65 light source defined by JIS K 7136 is usually 15 or less, preferably 10 or less, more preferably 5 or less, and even more preferably 2 or less in a single sealing layer.
  • the sealing layer preferably has heat resistance.
  • the melting point of the constituent material of the sealing layer is usually 100 ° C. or higher, preferably 120 ° C. or higher, more preferably 130 ° C. or higher, and usually 350 ° C. or lower, preferably 320 ° C. or lower, more preferably It is 300 degrees C or less.
  • the melting point of the sealing layer may be 50 ° C. or higher. Preferably, it is 80 ° C. or higher, and more preferably 100 ° C. or higher.
  • the melting point of the sealing layer Is preferably 250 ° C. or lower, more preferably 200 ° C. or lower, more preferably 180 ° C. or lower, particularly preferably 160 ° C.
  • the adhesive layer has adhesiveness in the above temperature range. It is preferable to have.
  • the lower limit of the sum of the thicknesses of the first sealing layer and the second sealing layer is sealed.
  • it is usually 40 ⁇ m or more, preferably 60 ⁇ m or more, more preferably 80 ⁇ m or more, and usually 800 ⁇ m or less, preferably 400 ⁇ m or less, more preferably 300 ⁇ m or less, more preferably 200 ⁇ m or less.
  • Increasing the thickness tends to increase the strength (koshi) of the entire organic thin-film solar cell module, and decreasing the thickness tends to increase flexibility and improve visible light transmittance.
  • the sealing layer when deviating from the above range, if the sealing layer is too thick, water bubbles remain between the organic thin-film solar cell module and the construction object due to poor workability during squeegee construction when applying water, If the sealing layer is too thin, the organic thin-film solar cell element may be damaged by the squeegee pressure, and the power generation performance of the element may be reduced.
  • the thickness of the above-mentioned sealing layer and the thickness of the sealing layer described below are cross-sectional observations using a microscope of the cut surface when the organic thin film solar cell module was cut after the organic thin film solar cell module was created. The thickness obtained from the results is shown.
  • Each thickness of the first sealing layer or the second sealing layer is not particularly defined, but is usually 20 ⁇ m or more, preferably 30 ⁇ m or more, more preferably 40 ⁇ m or more, further preferably 60 ⁇ m or more, and usually 400 ⁇ m or less. Preferably it is 200 micrometers or less, More preferably, it is 150 micrometers or less, More preferably, it is 100 micrometers or less. Increasing the thickness can prevent damage to the organic thin-film solar cell element, and decreasing the thickness tends to improve the transmittance of visible light. For this reason, it is desirable to set it as the said range as a range which has both advantages.
  • the thickness T1 of the first sealing layer and the thickness T2 of the second sealing layer is not particularly specified, but is usually in the range of 0.3 to 0.7, preferably in the range of 0.4 to 0.6. More preferably, it is 0.5.
  • the thickness ratio is within this range, the organic thin-film solar cell module can be handled easily, and the remaining water bubbles at the time of water application can be reduced. In particular, by being below the upper limit, it becomes possible to suppress the warp of the organic thin film solar cell module, and the workability is improved.
  • the material constituting the sealing layer is not particularly limited, and a thermosetting resin such as a vinyl acetate-ethylene copolymer composition containing a crosslinking agent, polyurethane, epoxy resin, polyolefin resin, polyester, acrylic resin or the like. It may be an elastomeric resin such as a plastic resin, butyl rubber, or silicone rubber, or the above composite.
  • the material constituting the first sealing layer is an epoxy resin, an acrylic resin, or a polyolefin resin because it is easy to control the storage elastic modulus and the bending elastic modulus depending on the viewpoint of transparency and the material composition. Is preferred.
  • the sealing layer may be formed of one kind of material or two or more kinds of materials. Further, the sealing layer may be a single layer or a stacked layer.
  • the sealing layer may be provided with functions such as ultraviolet blocking, heat blocking, conductivity, antireflection, antiglare, light diffusion, light scattering, wavelength conversion, and gas barrier properties.
  • functions such as ultraviolet blocking, heat blocking, conductivity, antireflection, antiglare, light diffusion, light scattering, wavelength conversion, and gas barrier properties.
  • a gas barrier property and an ultraviolet blocking function As a method for imparting such a function, a layer having a function may be laminated on the sealing layer by coating film formation or the like, or a material that exhibits a function may be dissolved and dispersed in the sealing layer. You may make it contain.
  • the gas barrier property examples include those satisfying the following water vapor permeability and oxygen permeability.
  • the water vapor transmission rate Pd when the sealing material is 100 ⁇ m thick is usually 10 ⁇ 1 g / m 2 / day or less, preferably 10 ⁇ 2 g / m 2 / day, in an environment of 40 ° C. and 90% RH.
  • it is more preferably 10 ⁇ 3 g / m 2 / day or less, still more preferably 10 ⁇ 4 g / m 2 / day or less.
  • the water vapor transmission rate is measured in an environment of 40 ° C. and 90% RH by a measurement using an apparatus equipped with a humidity sensor, an infrared sensor, and a gas chromatograph according to JIS K7129, or by a cup method (JIS Z0208).
  • the oxygen permeability per day of a unit area (1 m 2 ) at a thickness of 100 ⁇ m in a 25 ° C. environment is usually 1 cc / m 2 / day / atm or less.
  • 1 is preferably ⁇ 10 -1 or less cc / m 2 / day / atm , more preferably not more than 1 ⁇ 10 -2 cc / m 2 / day / atm, 1 ⁇ 10 -3 cc / m 2 / day / atm or less is more preferable, 1 ⁇ 10 ⁇ 4 cc / m 2 / day / atm or less is particularly preferable, and 1 ⁇ 10 ⁇ 5 cc / m 2 / day / atm or less. It is particularly preferred. There is an advantage that deterioration due to oxidation of the organic thin-film solar cell element can be suppressed as much as oxygen does not permeate.
  • the oxygen permeability can be measured with an apparatus based on a differential pressure method according to JIS K7126A, or an apparatus equipped with an infrared sensor and a gas chromatograph based on an isobaric method according to JIS K7126B.
  • the sealing layer may be formed of a single layer film, but may be a laminated film including two or more layers.
  • a method for forming the sealing layer in the form of a sheet or film in advance a known method, for example, extrusion using a T-die, having a melt mixing facility such as a single screw extruder, a multi-screw extruder, a Banbury mixer, a kneader, etc.
  • a casting method, a calendar method, or the like can be employed, and is not particularly limited.
  • a method of applying the sealing layer as a coating liquid for example, a bar coating method, a roll coating method, a knife coating method, a roll knife coating method, a die coating method, a gravure coating method, an air doctor coating method, a doctor blade It can carry out by a conventionally known coating method such as a coating method.
  • the sealing layer is usually formed by laminating a sealing material and an organic thin film solar cell element, preferably by laminating a laminate of a gas barrier layer and a sealing layer and an organic thin film solar cell element. Is done.
  • the step of laminating the sealing material on the thin film solar cell element may be performed after the step of installing the current collector on the organic thin film solar cell element (current collector installation step), or may be performed before the current collector installation step. .
  • the sealing material is laminated on the organic thin-film solar cell element on which the current collector is installed, A slit can be formed at a location where the electric wire is taken out, and the current collecting wire can be taken out from the slit.
  • the number of locations where the collector wire is connected to the upper electrode of the organic thin film solar cell element is arbitrary as long as it is one or more.
  • a collector wire may be connected to the organic thin film solar cell element so that a desired potential can be taken out.
  • the organic thin film solar cell element has a structure in which a lower electrode, a photoelectric conversion layer, and an upper electrode are sequentially laminated on a normal element substrate (hereinafter also simply referred to as a substrate).
  • the organic thin film solar cell element usually has a total film thickness of layers constituting the organic thin film solar cell element including the element substrate of 300 ⁇ m or less, and particularly the film thickness of the portion excluding the element substrate is 150 ⁇ m or less. It is preferable that
  • any material may be used for the photoelectric conversion layer of the organic thin film solar cell element as long as the effects of the present invention are not impaired, but it is preferable to use an organic dye material, an organic semiconductor material, or the like. Among these, it is particularly preferable to use an organic semiconductor material because it is particularly excellent in productivity and meets the object of the present invention.
  • an organic thin film solar cell element using an organic semiconductor material will be described.
  • the substrate is a member that supports the organic thin film solar cell element.
  • the material of the substrate is not particularly limited as long as the present invention can be applied, and known materials such as inorganic materials, organic materials, paper materials, and composite materials can be used.
  • inorganic materials such as quartz, glass, sapphire or titania; polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyethersulfone, polyimide, nylon, polystyrene, polyvinyl alcohol, ethylene vinyl alcohol copolymer, fluororesin film, vinyl chloride Or polyolefin such as polyethylene; organic materials such as cellulose, polyvinylidene chloride, aramid, polyphenylene sulfide, polyurethane, polycarbonate, polyarylate, polynorbornene or epoxy resin; paper materials such as paper or synthetic paper; stainless steel, titanium or aluminum Examples thereof include composite materials such as those obtained by coating or laminating the surface of a metal to impart insulating properties.
  • a resin substrate using an organic material can impart transparency to the substrate, it is possible to create both a super straight structure and a substrate structure, as well as a translucent see-through solar cell element. It is preferable in that it can be created.
  • the substrate is preferably a flexible (flexible) substrate. Because the substrate is flexible, the organic thin film solar cell element can be manufactured by a roll-to-roll method, and the degree of freedom of installation of the organic thin film solar cell element is improved. Moreover, a thin film solar cell module can be made flexible. Having flexibility means, for example, that the substrate is not broken (plastically deformed) even when the substrate is bent at a curvature radius of 170 mm.
  • the flexible substrate material is preferably an organic material, a paper material, or a composite material, more preferably an organic material or a composite material, and particularly preferably an organic material.
  • the organic material usually has Tm (melting temperature) and Tg (glass transition temperature), but the deterioration of the appearance due to deformation of the substrate is suppressed by sealing the organic thin film solar cell element at less than Tm, preferably less than Tg. be able to.
  • the glass transition temperature (Tg) of the resin substrate is usually 30 ° C. or higher, preferably 50 ° C. or higher, usually 400 ° C. or lower, preferably 300 ° C. or lower, more preferably 200 ° C. or lower, More preferably, it is 160 degrees C or less.
  • Tg glass transition temperature
  • the glass transition temperature in the present specification is a value obtained by differential scanning calorimetry (DSC) defined in JIS K-7121 1987 “Method for measuring plastic transition temperature”.
  • the thickness of the substrate is not limited, but is usually 5 ⁇ m or more, preferably 20 ⁇ m or more, and is usually 20 mm or less, preferably 10 mm or less. It is preferable that the thickness of the substrate is 5 ⁇ m or more because the possibility that the strength of the organic thin film solar cell element is insufficient is reduced. It is preferable that the thickness of the substrate is 20 mm or less because the cost is suppressed and the weight does not increase.
  • the thickness is usually 0.01 mm or more, preferably 0.1 mm or more, and is usually 1 cm or less, preferably 0.5 cm or less. It is preferable that the thickness of the substrate is 0.01 mm or more because mechanical strength is increased and cracking is difficult. Moreover, it is preferable that the thickness of the substrate is 0.5 cm or less because the weight does not increase.
  • the storage elastic modulus of the substrate at 25 ° C. and a frequency of 10 Hz is not particularly limited, but when the thickness of the substrate is 5 ⁇ m or more and 20 mm or less, the coefficient of restitution against damage to the organic thin film solar cell element due to external stress is suppressed. Therefore, it is preferably 6.0 ⁇ 10 9 Pa or less, and particularly preferably 4.0 ⁇ 10 9 Pa or less.
  • the storage elastic modulus at 25 ° C. and a frequency of 10 Hz of the substrate at the film thickness is 1. It is preferably 0 ⁇ 10 8 Pa or more, and particularly preferably 3.0 ⁇ 10 8 Pa or more.
  • 10 cm or more Preferably it is 1 m or more, More preferably, it is 10 m or more, More preferably, it is 50 m or more, Most preferably, it is 100 m or more.
  • the upper limit is usually 10 km or less, preferably 5 km or less, more preferably 1 km or less, still more preferably 500 m or less.
  • it is usually 10 m or more, preferably 20 m or more, more preferably 50 m or more, still more preferably 100 m or more, and particularly preferably 200 m or more.
  • an upper limit in particular is not restrict
  • limited Usually, it is 10 km or less, Preferably it is 5 km or less, More preferably, it is 1 km or less.
  • the length within this range, efficient production by a roll-to-roll system can be performed.
  • the substrate of one roll is as long as the manufacturing apparatus allows. On the other hand, it should be noted that handling becomes difficult when the roll becomes heavy.
  • the organic thin film solar cell element has a pair of electrodes including a lower electrode and an upper electrode.
  • the lower electrode means an electrode arranged on the substrate side
  • the upper electrode means an electrode arranged above the lower electrode when the substrate is the bottom.
  • these electrodes have a function of collecting holes and electrons generated by light absorption.
  • one electrode is an electrode suitable for collecting holes (hereinafter sometimes referred to as an anode), and the other electrode is an electrode suitable for collecting electrons ( Hereinafter, it may be described as a cathode).
  • the lower electrode may be an anode
  • the upper electrode may be a cathode
  • the lower electrode may be a cathode
  • the upper electrode may be an anode.
  • Any one of the lower electrode and the upper electrode may be translucent, and both may be translucent.
  • the sunlight transmittance that is, the ratio of transmitting light with a wavelength of 360 to 830 nm in sunlight is usually 40% or more, preferably 50% or more, More preferably, it is 60% or more, More preferably, it is 70% or more.
  • the transparent electrode has a solar ray transmittance of usually 70% or more in order to allow light to reach the photoelectric conversion layer through the transparent electrode.
  • the lower electrode and the upper electrode can be formed of a conductive material, for example, a metal such as platinum, gold, silver, aluminum, chromium, nickel, copper, titanium, magnesium, calcium, barium, sodium, or the like Alloys thereof: metal oxides such as nickel oxide, indium oxide, tungsten oxide, tin oxide, zinc oxide, or indium-tin oxide (ITO), indium-zinc oxide (IZO), indium-tungsten oxide ( Composite oxides such as IWO).
  • a metal such as platinum, gold, silver, aluminum, chromium, nickel, copper, titanium, magnesium, calcium, barium, sodium, or the like Alloys thereof: metal oxides such as nickel oxide, indium oxide, tungsten oxide, tin oxide, zinc oxide, or indium-tin oxide (ITO), indium-zinc oxide (IZO), indium-tungsten oxide ( Composite oxides such as IWO).
  • a material having a large work function for the anode it is preferable to use a material having a small work function for the cathode.
  • a material having a small work function for the cathode By optimizing the work function, there is an advantage of favorably collecting holes and electrons generated by light absorption.
  • a lower electrode and an upper electrode can also be formed using the material of the same work function by adjusting the work function of a buffer layer.
  • the electrode on the light receiving surface side has translucency and is preferably transparent.
  • the electrode is not necessarily transparent if it does not significantly adversely affect the power generation performance. If the material of a transparent electrode is mentioned, said metal oxide, composite oxide, a metal thin film, etc. will be mentioned, A metal oxide and composite oxide are preferable.
  • the light transmittance of the upper electrode is preferably 80% or more, excluding loss due to partial reflection at the optical interface, considering the power generation efficiency of the organic thin film solar cell element.
  • the lower electrode formed on the substrate side is preferably translucent. That is, by using a metal or alloy having a predetermined thickness as the upper electrode, it is easy to install the current collector with respect to the upper electrode, and the resistance between the current collector and the electrode can be easily lowered.
  • each of the lower electrode and / or the upper electrode may be a single layer or a stacked layer.
  • the translucent electrode is preferably formed of a metal oxide or a composite oxide among the above materials, but in order to improve conductivity, the translucency is not lost. A structure in which a thin metal layer is stacked on these oxide layers may be employed.
  • the lower electrode and the upper electrode can be formed by a known method according to the material to be used.
  • it can be formed by a dry process such as vacuum deposition or sputtering. It can also be formed by a wet process using conductive ink or the like.
  • conductive ink for example, a conductive polymer, a metal particle dispersion, or the like can be used.
  • two or more electrodes may be laminated, and characteristics (electric characteristics, wetting characteristics, etc.) due to surface treatment may be improved.
  • the thicknesses of the upper electrode and the lower electrode are not particularly limited, but are usually 5 nm or more, preferably 10 nm or more, more preferably 20 nm or more, and further preferably 50 nm or more. On the other hand, it is usually 400 ⁇ m or less, preferably 10 ⁇ m or less, more preferably 1 ⁇ m or less, and further preferably 500 nm or less.
  • the thickness of the electrode is equal to or more than the lower limit, sheet resistance is suppressed and sufficient conduction is possible. On the other hand, by being below the above upper limit, flexibility can be maintained.
  • the sheet resistance of the electrode is not particularly limited, but is usually 1 ⁇ / ⁇ or more, on the other hand, 1000 ⁇ / ⁇ or less, preferably 500 ⁇ / ⁇ or less, more preferably 100 ⁇ / ⁇ or less.
  • the photoelectric conversion layer of the organic thin film solar cell element is formed including an organic semiconductor compound, and usually contains a p-type semiconductor compound and an n-type semiconductor compound.
  • p-type and n-type indicate whether holes or electrons contribute to electrical conduction, and depend on the electronic state, doping state, and trap state of the material. Therefore, there are cases where p-type and n-type cannot always be clearly classified, and there are cases where the same substance exhibits both p-type and n-type characteristics.
  • the photoelectric conversion layer includes a p-type semiconductor compound and an n-type semiconductor compound
  • at least the p-type semiconductor compound is an organic semiconductor compound
  • both the p-type semiconductor compound and the n-type semiconductor compound are organic semiconductor compounds.
  • a bulk heterojunction type having a layer (i layer) in which a p-type semiconductor and an n-type semiconductor are phase-separated in the layer, a layer containing a p-type semiconductor (p layer) and n, respectively.
  • a layered type in which a layer containing an n-type semiconductor (n layer) has an interface, or a Schottky type having only one of a p-type semiconductor layer and an n-type semiconductor layer, and combinations thereof It is done.
  • a bulk heterojunction type or a combination of a bulk heterojunction type and a stacked type pin junction type is preferable because it exhibits high performance.
  • Examples of p-type semiconductors include p-type high-molecular organic semiconductor compounds or p-type low-molecular organic semiconductor compounds.
  • the p-type organic polymer semiconductor compound is not particularly limited, and is a conjugated polymer semiconductor such as polythiophene, polyfluorene, polyphenylene vinylene, polythienylene vinylene, polyacetylene, or polyaniline; oligothiophene substituted with an alkyl group or other substituent Polymer semiconductors such as; and the like.
  • the semiconductor polymer which copolymerized 2 or more types of monomer units is also mentioned. Examples of the conjugated polymer include Handbook of Conducting Polymers, 3rd Ed. (2 volumes), 2007, Materials Science and Engineering, 2001, 32, 1-40, Pure Appl. Chem.
  • the polymer organic semiconductor compound used as the p-type semiconductor compound may be a single compound or a mixture of a plurality of compounds.
  • the p-type low-molecular organic semiconductor compound is not particularly limited as long as it can function as a p-type semiconductor material. Specifically, it is a condensed aromatic hydrocarbon such as naphthacene, pentacene, or pyrene; Oligothiophenes containing 4 or more thiophene rings such as thiophene; including at least one of thiophene ring, benzene ring, fluorene ring, naphthalene ring, anthracene ring, thiazole ring, thiadiazole ring and benzothiazole ring, and a total of 4 Phthalocyanine compounds such as phthalocyanine, copper phthalocyanine, zinc phthalocyanine and metal complexes thereof, or macrocyclic compounds such as porphyrin compounds such as tetrabenzoporphyrin, tetrabenzocopper porphyrin, tetrabenzozinc porphyrin and metal complex
  • Cited That are a phthalocyanine compound and its metal complex, or a porphyrin compound and its metal complex.
  • the molecular weight of the low-molecular organic semiconductor compound is not particularly limited both at the upper limit and the lower limit, but is usually 5000 or less, preferably 2000 or less, and is usually 100 or more, preferably 200 or more.
  • a low molecular organic-semiconductor compound precursor can be converted into a low-molecular-weight organic semiconductor compound after application
  • a method using a low molecular weight organic semiconductor compound precursor is more preferable in that coating film formation is easier.
  • a low molecular organic semiconductor compound precursor is a compound that changes its chemical structure and is converted into a low molecular organic semiconductor compound by applying an external stimulus such as heating or light irradiation.
  • a low molecular organic semiconductor compound precursor is preferable in that it has excellent film-forming properties.
  • the n-type semiconductor is not particularly limited. Specifically, fullerenes; fullerene compounds; quinolinol derivative metal complexes represented by 8-hydroxyquinoline aluminum; naphthalene tetracarboxylic acid anhydrides; naphthalene tetracarboxylic acid diimides or Condensed ring tetracarboxylic acid diimides such as perylenetetracarboxylic acid diimide; perylene diimide derivative, terpyridine metal complex, tropolone metal complex, flavonol metal complex, perinone derivative, benzimidazole derivative, benzoxazole derivative, thiazole derivative, benzthiazole derivative, benzo Thiadiazole derivatives, oxadiazole derivatives, thiadiazole derivatives, triazole derivatives, aldazine derivatives, bisstyryl derivatives, pyrazine derivatives, phenanthroline derivatives , Quinoxaline derivatives, benzoquinoline
  • n-type semiconductor compounds include fullerene compounds, borane derivatives, thiazole derivatives, benzothiazole derivatives, benzothiadiazole derivatives, N-alkyl substituted naphthalene tetracarboxylic acid diimides and N-alkyl substituted perylene diimide derivatives. More preferred are fullerene compounds, N-alkyl-substituted perylene diimide derivatives and N-alkyl-substituted naphthalene tetracarboxylic acid diimides. One of the above compounds may be used, or a mixture of a plurality of compounds may be used. An n-type semiconductor is also included as an n-type semiconductor.
  • 1 type may each be used for an n-type semiconductor compound and a p-type semiconductor compound, and 2 or more types may be used together in arbitrary combinations and ratios.
  • the method for producing the photoelectric conversion layer is not particularly limited, but a coating method is preferable, and a wet coating method is particularly preferable.
  • a coating method any method can be used, for example, spin coating method, reverse roll coating method, gravure coating method, kiss coating method, roll brush method, spray coating method, air knife coating method, wire barber coating method, Examples include the pipe doctor method, the impregnation / coating method, and the curtain coating method.
  • spin coating method any method can be used, for example, spin coating method, reverse roll coating method, gravure coating method, kiss coating method, roll brush method, spray coating method, air knife coating method, wire barber coating method, Examples include the pipe doctor method, the impregnation / coating method, and the curtain coating method.
  • it is preferable to apply a wet coating method because the apparatus is simple, the cost is low, and the photoelectric conversion layer can be formed quickly in large quantities.
  • the film thickness of the photoelectric conversion layer is not particularly limited, but is usually 50 nm or more, preferably 100 nm or more in order to increase the photocurrent, while it is usually 1000 nm or less in order to suppress series resistance. , 500 nm or less.
  • the organic thin-film solar cell element in the present embodiment may include a buffer layer between the lower electrode and the photoelectric conversion layer and / or the upper electrode and the photoelectric conversion layer.
  • the buffer layer refers to an electron extraction layer and / or a hole extraction layer.
  • the buffer layer is not essential in the organic thin film solar cell element, and may include only one of the electron extraction layer and the hole extraction layer.
  • the electron extraction layer is preferably present between the cathode and the photoelectric conversion layer, and the hole extraction layer is preferably present between the anode and the photoelectric conversion layer.
  • the organic thin-film solar cell element when the upper electrode is an anode, the lower electrode is a cathode, and the organic thin-film solar cell element has both an electron extraction layer and a hole extraction layer as buffer layers, the organic thin-film solar cell element is It is preferable to have a lower electrode, an electron extraction layer, a photoelectric conversion layer, a hole extraction layer, and an upper electrode in this order.
  • the organic thin film solar cell element has an electron extraction layer and does not have a hole extraction layer
  • the organic thin film solar cell element has a lower electrode, an electron extraction layer, a photoelectric conversion layer, and an upper electrode in this order. preferable.
  • the organic thin film solar cell element has a hole extraction layer and does not have an electron extraction layer
  • the organic thin film solar cell element has a lower electrode, a photoelectric conversion layer, a hole extraction layer, and an upper electrode. It is preferable to have this order. Further, at least one of the electron extraction layer and the hole extraction layer may be composed of a plurality of different layers.
  • the material of the electron extraction layer is not particularly limited as long as it is a material that improves the efficiency of extracting electrons from the photoelectric conversion layer to the cathode, and examples thereof include inorganic compounds and organic compounds.
  • inorganic compound materials include alkali metal salts such as Li, Na, K or Cs; n-type semiconductor oxides such as titanium oxide (TiOx) and zinc oxide (ZnO).
  • the alkali metal salt is preferably a fluoride salt such as LiF, NaF, KF or CsF
  • the n-type semiconductor oxide is preferably zinc oxide (ZnO).
  • organic compound materials include, for example, phosphine compounds having a double bond between a phosphorus atom and a group 16 element such as triarylphosphine oxide compounds; bathocuproin (BCP) or bathophenanthrene (Bphen), A phenanthrene compound which may have a substituent and may be substituted at the 1-position and the 10-position with a heteroatom; a boron compound such as triarylboron; such as (8-hydroxyquinolinato) aluminum (Alq3) Organometallic oxide; Compound having 1 or 2 ring structure which may have a substituent such as oxadiazole compound or benzimidazole compound; Naphthalenetetracarboxylic anhydride (NTCDA) or perylenetetracarboxylic acid Dicarboxylic anhydrides, such as anhydride (PTCDA) Aromatic compounds and the like having a condensed dicarboxylic acid structure, such as.
  • NTCDA Naphthalenetetracarboxylic
  • the thickness of the electron extraction layer is not particularly limited, but is usually 0.01 nm or more, preferably 0.1 nm or more, more preferably 0.5 nm or more. On the other hand, it is usually 400 nm or less, preferably 200 nm or less. When the thickness of the electron extraction layer is equal to or more than the above lower limit, the function as a buffer material is achieved. When the thickness of the electron extraction layer is not more than the above upper limit, electrons can be easily extracted and the photoelectric conversion efficiency can be improved.
  • the method of forming the electron extraction layer there is no limitation on the method of forming the electron extraction layer.
  • a material having sublimation property it can be formed by a vacuum deposition method or the like.
  • the electron extraction layer can be formed by using a vacuum film formation method such as vacuum deposition or sputtering.
  • a vacuum film formation method such as vacuum deposition or sputtering.
  • the spin coating method, reverse roll coating method, gravure coating method, kiss coating method, roll brush method, spray coating method are used in the same manner as the method for producing the photoelectric conversion layer described above. It can be formed by a wet coating method such as an air knife coating method, a wire barber coating method, a pipe doctor method, an impregnation / coating method, a curtain coating method, or the like.
  • n-type semiconductors for metal oxides of n-type semiconductors, for example, when zinc oxide ZnO is used as the material for the electron extraction layer, a vacuum film formation method such as sputtering can be used. It is desirable to form the extraction layer.
  • a vacuum film formation method such as sputtering can be used. It is desirable to form the extraction layer.
  • an electron extraction layer composed of zinc oxide can be formed.
  • the thickness is usually 0.1 nm or more, preferably 2 nm or more, more preferably 5 nm or more, and usually 1 ⁇ m or less, preferably 100 nm or less, more preferably 50 nm or less. If the electron extraction layer is too thin, the effect of improving the electron extraction efficiency is not sufficient, and if it is too thick, the electron extraction layer tends to deteriorate the characteristics of the device by acting as a series resistance component.
  • the electron extraction layer is formed by a roll-to-roll method
  • the material for the hole extraction layer is not particularly limited as long as it is a material that can improve the efficiency of extracting holes from the photoelectric conversion layer to the anode.
  • a conductive polymer in which polythiophene, polypyrrole, polyacetylene, triphenylenediamine, polyaniline, or the like is doped with sulfonic acid and / or iodine, etc .
  • a conductive polymer doped with sulfonic acid is preferable, and (3,4-ethylenedioxythiophene) poly (styrenesulfonic acid) (PEDOT: PSS) in which a polythiophene derivative is doped with polystyrene sulfonic acid is more preferable. It is.
  • a thin film of metal such as gold, indium, silver or palladium can also be used.
  • a thin film of metal or the like may be formed alone or in combination with the above organic material.
  • the thickness of the hole extraction layer is not particularly limited, but is usually 0.2 nm or more. On the other hand, it is usually 400 nm or less, preferably 200 nm or less. When the thickness of the hole extraction layer is 0.2 nm or more, it functions as a buffer material. When the thickness of the hole extraction layer is 400 nm or less, holes can be easily extracted and the photoelectric conversion efficiency can be improved.
  • the method of forming the hole extraction layer there is no limitation on the method of forming the hole extraction layer.
  • a material having sublimation property when used, it can be formed by a vacuum deposition method or the like.
  • a spin coating method, a reverse roll coating method, a gravure coating method, a kiss coating method, a roll brush method, a spray coating method, an air knife coating method, a wire barber coating method, a pipe doctor It can be formed by a wet coating method such as a method, an impregnation / coating method, or a curtain coating method.
  • the hole extraction layer is preferably formed by coating.
  • the precursor may be converted into a semiconductor compound after the layer is formed using the precursor, similarly to the low-molecular organic semiconductor compound of the organic photoelectric conversion layer described later.
  • PEDOT: PSS As a material of a hole taking-out layer, it is preferable to form a hole taking-out layer by the method of apply
  • the dispersion of PEDOT: PSS include CLEVIOSTM series manufactured by Heraeus, ORGACONTM series manufactured by Agfa, and the like.
  • the hole extraction layer is formed by a roll-to-roll method, it is preferable to apply a wet coating method because the apparatus is simple, the cost is low, and the hole extraction layer can be formed quickly in large quantities.
  • performing the wet coating method it is preferable to select a solvent that does not dissolve the coating layer.
  • a general thin film solar cell module usually has a current collector for extracting electricity from the thin film solar cell element.
  • a material for the current collector metals, alloys, and the like are often used, and among them, it is preferable to use copper, aluminum, silver, gold, nickel, or the like having a low resistivity. Among these, copper and aluminum are particularly preferable because they are inexpensive.
  • the current collector may be plated with tin, silver or the like, the surface may be coated with resin, or a film may be laminated.
  • the shape of the current collecting wire there are a rectangular wire, foil, flat plate, and wire shape, but for reasons such as securing a bonding area, it is preferable to use a flat wire, foil, or flat plate shape.
  • foil means a material having a thickness of less than 100 ⁇ m
  • plate means a material having a thickness of 100 ⁇ m or more.
  • the “flat wire” refers to a wire whose cross section is rolled to make the cross section into a quadrangle.
  • the current collector is not particularly limited as long as it has conductivity, but preferably has a lower electrical resistance value than the upper electrode and lower electrode to be connected, and in particular, by increasing the thickness of the upper electrode and lower electrode. It is preferable to reduce the electric resistance value.
  • the thickness of the current collector is preferably 5 ⁇ m or more, more preferably 10 ⁇ m or more. Moreover, it is preferable that it is 2 mm or less, More preferably, it is 1 mm or less, More preferably, it is 300 micrometers or less, Most preferably, it is 200 micrometers or less. If the thickness is smaller than the above range, the resistance value of the current collector increases, and the generated power may not be efficiently taken out to the outside. If the thickness is larger than the above range, the weight of the thin-film solar cell module increases and the flexibility decreases, irregularities are easily generated on the module surface, and the production cost increases. There is a fear.
  • the width of the current collecting line is preferably 0.5 mm or more, more preferably 1 mm or more, and particularly preferably 2 mm or more.
  • variety of a current collection line is 50 mm or less, More preferably, it is 20 mm or less, Most preferably, it is 10 mm or less. If the width of the current collection line is narrower than the above range, the electrical resistance value of the current collection line will increase, and the generated power may not be taken out efficiently. In addition, the mechanical strength of the current collector decreases, which may cause breakage and the like.
  • variety of a current collection line is wider than the said range, the aperture ratio in the whole module will reduce, and there exists a possibility of leading to the fall of the power generation amount of a module.
  • the shape of the current collector can be made embossed.
  • the embossed shape means a shape formed by embossing some uneven shape.
  • the emboss depth is usually 5 to 100 ⁇ m, preferably 10 to 50 ⁇ m.
  • the emboss depth means the height of the convex portion formed by embossing, and is specifically a value obtained by subtracting the thickness of the current collector from the thickness including the convex portion. Such an embossing depth is preferable because the embossed convex portion can directly contact the electrode.
  • the current collector is connected to the electrode through the conductive adhesive layer.
  • a conductive adhesive component to be installed on an electrode of a solar cell a thermosetting composition containing conductive particles, a thermoplastic plastic containing conductive particles, solder, a metal paste, and the like are known, and known conductive adhesion Layers can be used.
  • the gas barrier layer covers the entire surface of the sealing layer, and the gas barrier layer is stacked larger than the thin film solar cell element.
  • the distance between the end face of the gas barrier layer and the end face of the element substrate is set to 5 mm or more. It is preferable to install the end face outside the end face of the element substrate.
  • thickness x micrometer
  • thickness y ⁇ m
  • the current collector installed region in the present embodiment refers to the left and right ends of the current collector 11, that is, the surface parallel to the thickness direction of the organic thin film solar cell module in contact with the outer edge of the current collector. It is a region on the surface of the organic thin film solar cell module surrounded by a line intersecting with the surface, and is a region indicated by a chain line 13. Specifically, the thickness x ( ⁇ m) of the organic thin film solar cell module in the center of the current collecting wire installation region 13 in the width direction of the current collecting wire is, for example, an organic thin film solar cell at the position of BB ′ dashed line in FIG. The thickness of the module.
  • the thickness y ( ⁇ m) of the thin film solar cell module 5 mm outside from the outer peripheral edge of the organic thin film solar cell element is the organic thin film solar cell from the end surface of the organic thin film solar cell element indicated by the CC—2 chain line in the figure.
  • the thickness is 5 mm outside the end face of the module, and is the thickness of the organic thin-film solar cell module at the DD ′ dotted line in FIG.
  • the AA ′ chain line indicates the central portion of the organic thin film solar cell module.
  • the thickness of the organic thin film solar cell module is the shortest distance between the surface on the second gas barrier layer side and the surface on the first gas barrier layer side with respect to the organic thin film solar cell element of the organic thin film solar cell module. It means the length of the organic thin film solar module in the normal direction with respect to the surface on the second gas barrier layer side.
  • the thickness of the organic thin film solar cell module can be measured using, for example, a contact thickness meter (KG601A, manufactured by Anritsu Corporation).
  • the above formula (I) is a range in which water and bubbles can be easily removed from between the organic thin film solar cell module and the construction object when the organic thin film solar cell module is attached to the construction object by water adhesion. Is specified.
  • the organic thin film solar cell module can have a step on its surface due to the sealed collector wire or organic thin film solar cell element.
  • the pressure of the squeegee becomes weak, especially in the step region where the squeegee moves from a thick part to a thin part of the organic thin film solar cell module. It is difficult to apply uniform pressure to the module, and water and bubbles cannot be expelled.
  • the above formula (I) defines the upper limit of the difference between the thickness x ( ⁇ m) of the thickest portion and the thickness y ( ⁇ m) of the thinnest portion of the organic thin film solar cell module. That is, in the organic thin-film solar cell module according to the configuration of the present embodiment, the central portion (corresponding to x) of the current collection line installation region in the current collection line installation region is usually set as the thinnest place as the thickest place of the organic thin film solar cell module. This defines a position (corresponding to y) of 5 mm from the outer peripheral edge of the organic thin film solar cell element toward the module edge.
  • (xy) ( ⁇ m) is preferably 90 or less, more preferably 85 or less, and still more preferably 80 or less. Although a minimum is not limited, Usually, 0.5 or more, Preferably it is 1 or more, More preferably, it is 3 or more, More preferably, it is 5 or more.
  • the storage elastic modulus at 25 ° C. and a frequency of 10 Hz of the first sealing layer and the second sealing layer is not particularly limited. However, if the storage elastic modulus of the sealing layer is too small, water and bubbles are discharged during squeegeeing. It may not be able to be removed sufficiently. Therefore, the storage elastic modulus at 25 ° C. and a frequency of 10 Hz of the first sealing layer and the second sealing layer is preferably 1 ⁇ 10 6 or more, more preferably 5 ⁇ 10 6 Pa or more. It is particularly preferable that it is ⁇ 10 7 or more. On the other hand, in order to ensure flexibility, the storage elastic modulus at 25 ° C. and a frequency of 10 Hz of the first sealing layer and the second sealing layer is preferably 6 ⁇ 10 9 or less, and 2 ⁇ 10 9 or less. It is particularly preferred that
  • the present invention is more effective by setting (xy) ( ⁇ m) in the above range. Especially, it is further effective when the thickness of the organic thin film solar cell module is 700 ⁇ m or less, and is particularly effective when the thickness of the organic thin film solar cell module is 500 ⁇ m or less. On the other hand, if the thickness of the organic thin film solar cell module is too small, the organic thin film solar cell module is likely to be broken. Therefore, the thickness of the organic thin film solar cell module is usually 100 ⁇ m or more.
  • the value of (xy) ( ⁇ m) is set, for example, by setting the thickness of the sealing layer, the current collector, and / or the organic thin film solar cell element, It can be controlled by adjusting the pressure.
  • the thickness of the second sealing layer is made thicker than the thickness of the current collector connected to the organic thin film solar cell element, or the sum of the thicknesses of the first sealing layer and the second sealing layer is set to the organic thin film.
  • x ( ⁇ m) and y ( ⁇ m) is not limited, but x ( ⁇ m) is preferably 300 or more, more preferably 330 or more, still more preferably 340 or more, and most preferably 350 or more.
  • an upper limit is not limited, Usually, it is 2000 or less.
  • (xy) ( ⁇ m) can be easily reduced, and pressure can be applied uniformly to the organic thin film solar cell module during squeegee construction. It becomes easy to remove water and air bubbles between the battery module and the glass that is the construction object.
  • Y ( ⁇ m) is preferably 230 or more, more preferably 280 or more, and most preferably 320 or more.
  • the organic thin film solar cell module has a large recess in the region within 5mm from the outer peripheral edge of the organic thin film solar cell element toward the module end, and pressure can be applied uniformly during squeegee construction. Water and air bubbles between the module and the construction object can be removed.
  • y ( ⁇ m) can be controlled, for example, by making the thickness of the first gas barrier layer and the second gas barrier layer thicker than the sum of the organic thin-film solar cell element and the current collector.
  • the organic thin film solar cell module according to the present invention may have constituent members other than those described above.
  • you may have a protective layer, an ultraviolet cut layer, a getter material layer, etc. between the surface of a gas barrier layer, between a gas barrier layer and a sealing layer, and between a gas barrier layer and an adhesion layer. These layers can also be used as a gas barrier layer.
  • FIG. 3 shows a configuration example of an organic thin film solar cell module in which a getter layer is provided between a gas barrier layer and a sealing layer.
  • FIG. 3 shows a configuration in which a collecting wire 11 is installed on the upper electrode.
  • the getter layer is a layer that absorbs moisture and / or oxygen. Some components of the thin-film solar cell element are deteriorated by moisture as described above, and some are deteriorated by oxygen. Therefore, by covering the thin film solar cell element with the getter layer, the thin film solar cell element and the like are protected from moisture and / or oxygen, and the power generation performance is maintained high.
  • the moisture getter layer does not prevent moisture permeation but absorbs moisture.
  • the getter layer captures the moisture that slightly enters the space formed between the gas barrier layers, and the thin film solar cell element due to moisture The influence on can be eliminated.
  • the degree of water absorption capacity of the getter layer is usually 0.1 mg / cm 2 or more, preferably 0.5 mg / cm 2 or more, more preferably 1 mg / cm 2 or more. The higher this value, the higher the water absorption capacity, and the deterioration of the thin film solar cell element can be suppressed. Moreover, although there is no restriction
  • the getter layer is preferably one that transmits visible light from the viewpoint of not impeding the light absorption of the thin film solar cell element.
  • the transmittance of visible light (wavelength 360 to 830 nm) is usually 60% or more, preferably 70% or more, more preferably 75% or more, still more preferably 80% or more, and particularly preferably 85% or more, especially Preferably it is 90% or more, Especially preferably, it is 95% or more, Especially preferably, it is 97% or more. This is to convert more sunlight into electrical energy.
  • the getter layer preferably has resistance to heat.
  • the melting point of the constituent material of the getter layer is usually 100 ° C. or higher, preferably 120 ° C. or higher, more preferably 130 ° C. or higher, and usually 350 ° C. or lower, preferably 320 ° C. or lower, more preferably 300 ° C. It is below °C.
  • the material constituting the getter layer is arbitrary as long as it can absorb moisture and / or oxygen.
  • the material include alkali metal, alkaline earth metal or alkaline earth metal oxides; alkali metal or alkaline earth metal hydroxides; silica gel, zeolitic compounds, magnesium sulfate. And sulfates such as sodium sulfate and nickel sulfate; and organometallic compounds such as aluminum metal complexes and aluminum oxide octylates.
  • examples of the alkaline earth metal include Ca, Sr, and Ba.
  • the alkaline earth metal oxide include CaO, SrO, and BaO.
  • Other examples include Zr—Al—BaO and aluminum metal complexes.
  • Specific product names include, for example, OleDry (Futaba Electronics).
  • the substance that absorbs oxygen examples include activated carbon, silica gel, activated alumina, molecular sieve, magnesium oxide, and iron oxide.
  • Fe, Mn, Zn, and inorganic salts such as sulfates, chlorides, and nitrates of these metals are also included.
  • the getter layer may be formed of one kind of material or may be formed of two or more kinds of materials.
  • the getter layer may be formed as a single layer, but may be a laminate including two or more layers.
  • the thickness of the getter layer is not particularly limited, but is usually 5 ⁇ m or more, preferably 10 ⁇ m or more, more preferably 15 ⁇ m or more, and usually 200 ⁇ m or less, preferably 180 ⁇ m or less, more preferably 150 ⁇ m or less. Increasing the thickness tends to increase mechanical strength, and decreasing the thickness tends to increase flexibility.
  • the storage elastic modulus of the getter layer at 25 ° C. and a frequency of 10 Hz is not particularly limited, but in order to prevent the organic thin film solar cell element from being damaged due to the deformation of the getter layer when subjected to external stress, 1 is preferably .0 ⁇ 10 6 Pa or more, more preferably 5.0 ⁇ 10 6 Pa or more, and particularly preferably 1.0 ⁇ 10 7 Pa or higher.
  • the getter layer has a temperature of 25 ° C.
  • the storage elastic modulus at 10 Hz is preferably 5.0 ⁇ 10 8 Pa or less, more preferably 3.0 ⁇ 10 8 Pa or less, and particularly preferably 1.0 ⁇ 10 8 Pa or less. .
  • the formation position of the getter layer is not limited as long as it is in the space formed between the gas barrier layers, but both surfaces of the thin film solar cell element, specifically, the light receiving surface side surface (the lower surface in FIG. 3). It is preferable to cover the surface opposite to the light receiving surface (the upper surface in FIG. 3).
  • the surface on the light-receiving surface side and the surface opposite to the light-receiving surface side are often formed in a larger area than the other surfaces, so moisture and oxygen enter through these surfaces. Because there is a tendency to. From this viewpoint, the getter layer is preferably provided between the gas barrier layer and the thin film solar cell element.
  • the getter layer can be formed by any method depending on the type of the water-absorbing agent or desiccant.
  • coat this by a spin coat method, the inkjet method, or a dispenser method etc. can be used.
  • a film forming method such as a vacuum evaporation method or a sputtering method may be used.
  • the film for the water-absorbing agent or drying agent examples include polyethylene resins, polypropylene resins, cyclic polyolefin resins, polystyrene resins, acrylonitrile-styrene copolymers (AS resins), and acrylonitrile-butadiene-styrene copolymers.
  • ABS resin polyvinyl chloride resin
  • fluorine resin poly (meth) acrylic resin
  • polycarbonate resin or the like
  • a film of polyethylene resin, fluorine resin, cyclic polyolefin resin or polycarbonate resin is preferable.
  • the said resin may use 1 type and may use 2 or more types together by arbitrary combinations and a ratio.
  • the organic thin-film solar cell module according to the present invention may have a protective layer (surface protective layer and / or back surface protective layer).
  • a protective layer is a layer which protects an organic thin film solar cell module from the installation environment of an organic thin film solar cell module, such as a temperature change, humidity change, light, and a wind and rain.
  • the protective layer is located on the outermost layer of the organic thin film solar cell module, it is suitable as a surface covering material for the organic thin film solar cell module such as weather resistance, heat resistance, transparency, water repellency, contamination resistance, mechanical strength, etc. It is preferable to have performance and to maintain it for a long period of time in outdoor exposure.
  • a protective layer is used for the light-receiving surface side of an organic thin-film solar cell element, it is preferable to transmit visible light from the viewpoint of not preventing light absorption.
  • the transmittance of visible light (wavelength 360 to 830 nm) is usually 75% or more, preferably 80% or more, more preferably 85% or more, further preferably 90% or more, and particularly preferably 95% or more.
  • the protective layer preferably has a low haze from the viewpoint of design properties such as a sense of unity with the construction object and appearance.
  • the haze value when using a D65 light source defined by JIS K 7136 is usually 10 or less, preferably 5 or less, more preferably 2 or less, and even more preferably 1 or less.
  • the protective layer on the side opposite to the light-receiving surface of the thin-film solar cell element does not necessarily need to transmit visible light and may be opaque, but when pasted on a transparent construction object such as a window glass, the thin-film solar cell It is preferable to have the same visible light transmittance and haze as the light receiving surface side of the element.
  • the protective layer preferably has resistance to heat.
  • the melting point of the constituent material of the protective layer is usually 100 ° C. or higher, preferably 120 ° C. or higher, more preferably 130 ° C. or higher, and usually 350 ° C. or lower, preferably 320 ° C. or lower, more preferably 300 It is below °C. By increasing the melting point, it is possible to reduce the possibility that the protective layer melts and deteriorates when the thin film solar cell element is used.
  • the material constituting the protective layer is arbitrary as long as it can protect the organic thin film solar cell module.
  • the material include polyethylene resin, polypropylene resin, cyclic polyolefin resin, AS (acrylonitrile-styrene) resin, ABS (acrylonitrile-butadiene-styrene) resin, polyvinyl chloride resin, fluorine resin, polyethylene terephthalate, polyethylene
  • polyester resins such as naphthalate, phenol resins, polyacrylic resins, polyamide resins such as various nylons, polyimide resins, polyamide-imide resins, polyurethane resins, cellulose resins, silicone resins, and polycarbonate resins.
  • fluorine resin is preferable, and specific examples thereof include polytetrafluoroethylene (PTFE), 4-fluoroethylene-perchloroalkoxy copolymer (PFA), 4-fluoroethylene-6-fluoride.
  • PTFE polytetrafluoroethylene
  • PFA 4-fluoroethylene-perchloroalkoxy copolymer
  • FEP Propylene copolymer
  • ETFE 2-ethylene-4-fluoroethylene copolymer
  • PCTFE poly-3-fluoroethylene chloride
  • PVDF polyvinylidene fluoride
  • PVF polyvinyl fluoride
  • the protective layer may be formed of one kind of material or two or more kinds of materials.
  • the protective layer may be formed of a single layer film, but may be a laminated film including two or more films.
  • the thickness of the protective layer is not particularly defined, but is usually 10 ⁇ m or more, preferably 15 ⁇ m or more, more preferably 20 ⁇ m or more, further preferably 30 ⁇ m or more, particularly preferably 50 ⁇ m or more, and usually 200 ⁇ m or less, preferably 180 ⁇ m or less. More preferably, it is 150 ⁇ m or less. It exists in the tendency for the mechanical strength of an organic thin-film solar cell module to increase by being more than the said minimum, and it exists in the tendency for a softness
  • the protective layer may be subjected to surface treatment such as corona treatment or plasma treatment in order to improve the adhesion with other films.
  • the protective layer is preferably provided on the outer side of the organic thin film solar cell module as much as possible. This is because more device components can be protected.
  • the protective layer has ultraviolet blocking, heat blocking, antifouling, hydrophilic, hydrophobic, antifogging, abrasion resistance, conductivity, antireflection, antiglare, light diffusion, light scattering, wavelength conversion, gas barrier properties Such functions may be given.
  • an ultraviolet blocking function in the case of an organic thin film solar cell, since it may be deteriorated by the ultraviolet rays of sunlight, it is preferable to have an ultraviolet blocking function.
  • a layer having a function may be laminated on the protective layer by coating film formation or the like, or a material that exhibits a function may be dissolved and dispersed to be contained in the protective layer. May be.
  • the protective layer is hard-coated to prevent scratches when handling organic thin-film solar cell modules, to prevent scratches due to squeegees when applying water to construction objects, and to improve the smoothness of the protective layer.
  • a layer may be provided.
  • the hard coat layer conventionally known ones can be used, such as an ultraviolet curable resin; an electron beam curable resin; an alkoxysilane hydrolytic condensation resin; a melamine resin; a (meth) acrylate alcohol-modified polyfunctional compound; Examples include layers made of acrylic resins such as methylolpropane (meth) acrylate, tripropylene glycol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, 1,6 hexanediol (meth) acrylate, but are not limited thereto.
  • the hard coat layer preferably has a pencil hardness of 2H or higher, more preferably 3H or higher.
  • the film thickness is preferably 1 to 10 ⁇ m. If it is less than 1 ⁇ m, the effect of scratch resistance may not be sufficient, and if it is 10 ⁇ m or more, the protective layer may curl due to curing shrinkage of the hard coat layer.
  • the organic thin-film solar cell module according to the present invention may have an ultraviolet cut layer.
  • the ultraviolet cut layer is a layer that prevents transmission of ultraviolet rays.
  • Some components of the organic thin film solar cell module are deteriorated by ultraviolet rays.
  • Some gas barrier layers are deteriorated by ultraviolet rays depending on the type. Therefore, an ultraviolet cut layer is provided on the light receiving portion of the organic thin film solar cell module, and the thin film solar cell element and, if necessary, the gas barrier layer are protected from ultraviolet rays by covering the light receiving surface of the thin film solar cell element with the ultraviolet cut layer.
  • the power generation performance can be kept high.
  • the degree of the ability to suppress the transmission of ultraviolet rays required for the ultraviolet cut layer is such that the transmittance of ultraviolet rays (for example, wavelength of 300 nm) is preferably 50% or less, more preferably 30% or less, and particularly preferably 10 % Or less.
  • the ultraviolet cut layer is preferably one that transmits visible light from the viewpoint of not hindering light absorption of the thin film solar cell element.
  • the transmittance of visible light (wavelength 360 to 830 nm) is preferably 80% or more, more preferably 90% or more, and particularly preferably 95% or more.
  • the ultraviolet cut layer also has heat resistance.
  • the melting point of the constituent material of the ultraviolet cut layer is usually 100 ° C. or higher, preferably 120 ° C. or higher, more preferably 130 ° C. or higher. Moreover, it is 350 degrees C or less normally, Preferably it is 320 degrees C or less, More preferably, it is 300 degrees C or less. If the melting point is too low, there is a possibility that the ultraviolet cut layer melts when the organic thin film solar cell module is used.
  • the ultraviolet cut layer is preferably highly flexible, has good adhesion with an adjacent layer, and can cut water vapor and oxygen.
  • the material constituting the ultraviolet cut layer is arbitrary as long as it can weaken the intensity of ultraviolet rays.
  • the material include a layer formed by blending an ultraviolet absorber with an epoxy resin, an acrylic resin, a urethane resin, or an ester resin.
  • the ultraviolet absorber for example, salicylic acid-based, benzophenone-based, benzotriazole-based, and cyanoacrylate-based ones can be used. Of these, benzophenone and benzotriazole are preferable. Examples of this include various aromatic organic compounds such as benzophenone and benzotriazole.
  • a ultraviolet absorber may use 1 type and may use 2 or more types together by arbitrary combinations and a ratio. As an example of a specific product of the ultraviolet cut layer, cut ace (MKV Plastic Co., Ltd.) and the like can be given.
  • the ultraviolet cut layer may be formed of one type of material or may be formed of two or more types of materials. Further, the ultraviolet cut layer may be formed of a single layer film, but may be a laminate including two or more layers.
  • the thickness of the ultraviolet cut layer is not particularly defined, but is usually 5 ⁇ m or more, preferably 10 ⁇ m or more, more preferably 15 ⁇ m or more. Moreover, it is 200 micrometers or less normally, Preferably it is 180 micrometers or less, More preferably, it is 150 micrometers or less. Increasing the thickness tends to increase the absorption of ultraviolet rays, and decreasing the thickness tends to increase the transmittance of visible light.
  • the ultraviolet cut layer may be provided at a position covering at least a part of the light receiving surface of the thin film solar cell element. It is preferable to provide it at a position covering the entire light receiving surface of the thin film solar cell element. However, the ultraviolet cut layer may be provided at a position other than the position covering the light receiving surface of the thin film solar cell element.
  • the organic thin film solar cell module according to this embodiment preferably has an adhesive layer for installation on a window glass.
  • the adhesive layer is located on the outermost layer of the organic thin film solar cell module, and is a layer for adhering the organic thin film solar cell module to a construction object such as glass.
  • a known transparent adhesive can be used.
  • acrylic adhesives, polyester adhesives, rubber adhesives, silicone adhesives, polyurethane adhesives and the like can be mentioned.
  • an acrylic pressure-sensitive adhesive material is preferable from the viewpoint of weather resistance and transparency.
  • the adhesive layer can be provided by a known method on the outermost layer of the organic thin film solar cell module on the substrate side (light receiving surface) or photoelectric conversion layer side (non-light receiving surface) of the organic thin film solar cell element. From the viewpoint of power generation efficiency of the solar cell element, it is preferable to provide it on the outermost layer on the substrate side (light receiving surface) of the organic thin film solar cell element.
  • the adhesive layer can be provided by a known method on the outermost layer on the light receiving surface or non-light receiving surface side of the organic thin film solar cell module.
  • an adhesive material can be provided on a release paper, dry laminated on the outermost layer of the solar cell, and then released by peeling the release paper. It is preferable that the adhesive layer has sufficient adhesive force and adhesive force so that the glass does not scatter when the window glass is broken.
  • a method having a peeling force of about 4.0 N / 25 mm or more can be used by the method shown in JIS A 5759.
  • the thickness of the adhesive layer is not particularly limited, but is usually 20 ⁇ m or more, preferably 30 ⁇ m or more, more preferably 50 ⁇ m or more, and usually 500 ⁇ m, preferably 300 ⁇ m or less, more preferably 200 ⁇ m or less. Sufficient adhesiveness is ensured by being more than the said minimum, and the squeegee property at the time of installing in construction objects, such as a window glass, improves by being below the said upper limit.
  • an organic thin film solar cell module can be manufactured by a well-known method using said structural member.
  • it can be manufactured by laminating a gas barrier layer, a sealing layer, a thin film solar cell element and the like, and vacuum-sucking the laminated body and thermocompression bonding.
  • you may manufacture by a batch system and can also manufacture by a roll-to-roll system.
  • Organic thin film solar cell module construction method can be arbitrarily selected according to the construction object, but the organic thin film solar cell module of this embodiment is suitable as a solar cell integrated wind film. In this case, it can be applied in the same manner as a general window film.
  • a general wind film is attached to glass by a method called water sticking. This method of sticking with water is to stick the film on the glass surface by spraying water containing a small amount of neutral detergent on the adhesive surface and glass surface of the film with a sprayer, and then squeegeeing the film surface sequentially. Rub evenly to adhere. As a result, water and air bubbles between the film and the glass are expelled from the end of the film, and a good bonding surface free from wrinkles and air bubbles can be obtained.
  • the organic thin film solar cell module of the present invention can be used by being attached to an adherend such as glass such as a partition, glass such as a window, a door, a wall surface, or a ceiling, such as a building or a vehicle. At this time, power is generated using sunlight, indoor lighting, indoor sunlight scattered light, etc., and the electric power taken out from the current collector is charged and used using a known current-voltage conversion circuit, storage battery, etc. be able to.
  • the organic thin film solar cell module of the present invention is excellent in durability and design as a solar cell integrated wind film.
  • EL light emission of the thin film solar cell element was evaluated using a solar cell EL inspection device manufactured by ITES.
  • the evaluation criteria are as follows. ⁇ : There is no change in the initial EL light emission image of the thin film solar cell element and the EL light emission image after the squeegee. ⁇ : When comparing the initial EL light emission image of the thin film solar cell element and the EL light emission image after the squeegee, it depends on the squeegee pressure. Damaged portion is less than 5% with respect to the initial area.
  • X When comparing the initial EL emission image of the thin-film solar cell element with the EL emission image after squeegee, the damaged portion due to squeegee pressure is 5% or more with respect to the initial area.
  • a thin-film solar cell module having the layer configuration shown in the schematic cross-sectional view of FIG. 2 was prepared by the following procedure.
  • a pre-preparation before stacking a plurality of organic thin film solar cell elements 150 mm long and 100 mm wide formed on a 100 ⁇ m PEN substrate (total thickness of PEN substrate and organic thin film solar cell element is 120 ⁇ m),
  • a conductive wire with a conductive thermosetting resin composition (DT101C4, manufactured by Dexerials, (Epoxy-based conductive curable resin containing nickel particles as conductive particles, curing temperature 120 ° C.) 15 ⁇ m + copper foil 35 ⁇ m thickness, width 4 mm).
  • a barrier film Mitsubishi Resin, VIEW-BARRIER, VDK3DA
  • 300 mm wide, 200 mm wide film 1 60 ⁇ m thick barrier film (Mitsubishi Resin, VIEW-BARRIER, VDK3DA) as second gas barrier layer
  • the organic thin film formed on the PEN substrate so as to be in the order of the first gas barrier layer, the first sealing layer, the organic thin film solar cell element, the element substrate, the second sealing layer, and the second gas barrier layer.
  • the laminated body in which the solar cell element, the film 1 and the film 2 were stacked was put into a vacuum laminator (NLM-270 ⁇ 400, manufactured by NPC).
  • NLM-270 ⁇ 400 manufactured by NPC
  • the interior of the laminator is held under reduced pressure for 30 minutes, and then the laminate is held in a pressure-bonded state at atmospheric pressure for 5 minutes at 120 ° C.
  • a commercially available acrylic adhesive having a thickness of 120 ⁇ m is placed on the second gas barrier layer.
  • the organic thin film solar cell module was manufactured by bonding the agent with a roll laminator (MCK, MRS630A).
  • Example A2> An organic thin-film solar cell module was produced in the same manner as in Example A1, except that the first and second sealing layers were made of an olefin resin having a thickness of 60 ⁇ m (manufactured by Kurabo Industries, Clanbetter, M-2).
  • Example A3> An organic thin film solar cell module was produced in the same manner as in Example A1, except that the thickness of the first and second sealing layers was 20 ⁇ m.
  • Example A4> An organic thin film solar cell module was produced in the same manner as in Example A1, except that the thickness of the first and second sealing layers was 60 ⁇ m.
  • Example A5> An organic thin-film solar cell module was fabricated in the same manner as in Example A1, except that the first and second sealing layers were made of an ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA) resin (CHI Kasei Co., Ltd., UFHCE40) having a thickness of 50 ⁇ m. Manufactured.
  • EVA ethylene-vinyl acetate copolymer
  • Example A6> An organic thin film solar cell module was produced in the same manner as in Example A4 except that the second sealing layer was not used.
  • ⁇ Comparative Example A1> Except that the first and second sealing layers were acrylic adhesives having a thickness of 20 ⁇ m (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., SK Dyne, main agent 1811L / curing agent L-45, solid content ratio: 100/1), An organic thin film solar cell module was produced in the same manner as Example A1.
  • ⁇ Comparative Example A2> An organic thin-film solar cell module was produced in the same manner as in Example A2, except that the first and second sealing layers were epoxy thermosetting adhesives having a thickness of 60 ⁇ m (manufactured by ThreeBond, 16 ⁇ 134).
  • Table 1 shows the evaluation results of the organic thin film solar cell modules of Examples A1 to A6 and Comparative Examples A1 to A8.
  • organic thin film solar cell module according to the first sealing layer and the second seal are both 1 ⁇ 10 8 Pa greater than Comparative Example storage modulus of the sealing layer A2 and A5, trimming of the organic thin film solar cell module At the time and when the organic thin film solar cell module was bent, delamination occurred in the organic thin film solar cell element, and the design of the organic thin film solar cell module was significantly impaired as in Comparative Examples A1, A3 and A4.
  • the organic thin-film solar cell modules according to Examples A1 to A5 in which the first sealing layer and the second sealing layer have an appropriate storage elastic modulus are used for squeegee, trimming and It can be seen that in any of the cases where the thin-film solar cell module was bent, high designability could be maintained with almost no delamination in the organic thin-film solar cell element. Moreover, the same result was obtained also in Example A6 and Comparative Example A8 in which the second sealing layer was not used. In particular, as shown in Comparative Examples A6 and A7, in the case of the thin film solar cell module in which the photoelectric conversion layer is formed of amorphous silicon, delamination in the thin film solar cell element due to the difference in storage elastic modulus does not occur.
  • the organic thin film solar cell module was evaluated by the following method.
  • [Thickness measurement method] Using a contact thickness meter (KG601A, manufactured by Anritsu Co., Ltd.), the thickness x ( ⁇ m) of the organic thin film solar cell module in the center of the current collecting wire width direction in the current collecting wire installation region and the outer peripheral edge of the organic thin film solar cell element The thickness y ( ⁇ m) of the organic thin film solar cell module having a thickness of 5 mm was measured, and the value of (xy) ( ⁇ m) was calculated.
  • a pre-preparation before stacking a plurality of organic thin film solar cell elements 150 mm long and 100 mm wide formed on a 100 ⁇ m PEN substrate (total thickness of PEN substrate and organic thin film solar cell element is 120 ⁇ m),
  • a conductive wire with a conductive thermosetting resin composition (DT101C4, manufactured by Dexerials, (Epoxy-based conductive curable resin containing nickel particles as conductive particles, curing temperature 120 ° C.) 15 ⁇ m + copper foil 35 ⁇ m thickness, width 4 mm).
  • a 60 ⁇ m thick barrier film (Mitsubishi Resin, VIEW-BARRIER, VDK3DA), which is the material of the second gas barrier layer, and a 40 ⁇ m thick sealing material (ThreeBond, epoxy thermosetting resin as a second sealing layer) , TB1651D) and a barrier film (Mitsubishi Resin, VIEW-BARRIER, VDK3DA) having the same thickness as the first gas barrier layer and a thickness of 40 ⁇ m as the first sealing layer.
  • a film 2 having a length of 300 mm and a width of 200 mm was prepared by laminating a sealing material (manufactured by ThreeBond, epoxy thermosetting resin, 16 ⁇ 134).
  • the organic thin film formed on the PEN substrate so as to be in the order of the first gas barrier layer, the first sealing layer, the organic thin film solar cell element, the element substrate, the second sealing layer, and the second gas barrier layer.
  • the laminated body in which the solar cell element and the film 1 and the film 2 were overlapped were placed in a vacuum laminator (NPC, LM-50 ⁇ 50).
  • the inside of the vacuum laminator was held under reduced pressure for 14 minutes, and then the laminate was held at 140 ° C. for 3 minutes while being brought into a pressure-bonded state at atmospheric pressure.
  • the laminated body taken out from the vacuum laminator was heated for 60 minutes in a 120 ° C. hot air oven (manufactured by Yugrop Co., Ltd.), and after cooling, a commercially available acrylic pressure-sensitive adhesive having a thickness of 120 ⁇ m was applied to the surface of the second gas barrier layer using a roll laminator (MCK , MRS630A) to produce an organic thin film solar cell module.
  • the organic thin film solar cell module was attached to a 3.2 mm thick float glass sprayed with the same 1% surfactant aqueous solution, and acrylic with a nylon squeegee. A 1% aqueous surfactant solution and air bubbles between the adhesive and the float glass were removed, and an organic thin film solar cell module was placed on the float glass.
  • Example B2> An organic thin film solar cell module was produced in the same manner as in Example B1, except that the thickness of each of the first sealing layer and the second sealing layer was 50 ⁇ m, and the organic thin film solar cell module was placed on the float glass. .
  • Example B3> An organic thin film solar cell module was manufactured in the same manner as in Example B1, except that the thickness of each of the first sealing layer and the second sealing layer was 60 ⁇ m, and the organic thin film solar cell module was placed on the float glass. .
  • Example B4> An organic thin film solar cell module was produced in the same manner as in Example B1, except that the thickness of the first sealing layer was 30 ⁇ m and the thickness of the second sealing layer was 60 ⁇ m.
  • Example B5> An organic thin film solar cell module was produced in the same manner as in Example B1, except that the thickness of the first sealing layer was 60 ⁇ m and the thickness of the second sealing layer was 30 ⁇ m. Installed on float glass.
  • Example B6> A thin-film solar cell module was manufactured in the same manner as in Example B1, except that the first and second sealing layers were made of an olefin resin having a thickness of 3 ⁇ m (manufactured by Kurabo Industries, Clanbetter, M-2).
  • Example B7 A thin-film solar cell module was manufactured in the same manner as in Example B1, except that the first and second sealing layers were butyl rubber-based pressure-sensitive adhesives (manufactured by Sumitomo 3M) having a thickness of 30 ⁇ m.
  • the first and second sealing layers were butyl rubber-based pressure-sensitive adhesives (manufactured by Sumitomo 3M) having a thickness of 30 ⁇ m.
  • ⁇ Comparative Example B1> An organic thin film solar cell module was manufactured in the same manner as in Example B1, except that the thickness of each of the first sealing layer and the second sealing layer was 30 ⁇ m, and the temperature at the time of pressure bonding by the vacuum laminator was 120 ° C. The organic thin film solar cell module was installed on the float glass.
  • ⁇ Comparative Example B2> An organic thin film solar cell module is manufactured in the same manner as in Example B1 except that the thickness of each of the first sealing layer and the second sealing layer is 30 ⁇ m, and the organic thin film solar cell module is installed on the float glass. did.
  • Example B3 A thin-film solar cell module was manufactured in the same manner as in Example B1, except that the first and second sealing layers were butyl rubber-based pressure-sensitive adhesives (manufactured by Sumitomo 3M) having a thickness of 60 ⁇ m.
  • Table 2 shows the evaluation results of the organic thin film solar cell modules of Examples B1 to B7 and Comparative Examples B1 to B3.
  • the thin-film solar cell module of the present embodiment is a thin-film solar cell module with good design after squeegee construction at the time of water pasting construction.

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Abstract

 水貼り施工時におけるスキージ後においても有機薄膜太陽電池素子の初期性能を維持でき、また、仕上げ加工時において端部が剥離することがなく、意匠性が良好な有機薄膜太陽電池モジュールを提供する。 第一ガスバリア層、第一封止層、及び有機薄膜太陽電池素子を順次有する有機薄膜太陽電池モジュールであって、 前記第一封止層の25℃、周波数10Hzにおける貯蔵弾性率が5×106Pa以上1×108Pa以下であることを特徴とする有機薄膜太陽電池モジュール。

Description

有機薄膜太陽電池モジュール
 本発明は、有機薄膜太陽電池モジュールに関する。
 近年、色素増感型太陽電池や有機薄膜太陽電池などを用いた透明フィルム型太陽電池モジュールの開発が行われている。特に、透明フィルム型の太陽電池モジュールは、軽量であり、またフレキシブル化が可能であることから、建物等に設置して使用することが検討されている。例えば、特許文献1には、透明フィルム型太陽電池モジュールを応用した製品として、建物の窓ガラスに貼りつけて使用する太陽光発電フィルムが提案されている。
特開2012-186310号公報
 上記のような、太陽光発電フィルムは、窓ガラス等人目に近いところに設置して使用するために、該太陽光発電フィルムは、高い意匠性が求められる。そのため、薄膜太陽電池モジュールのガラス等への施工仕上がりや施工時の太陽電池モジュールの取り扱いが重要であると考えられる。
 一般的なウインドフィルムは水貼りという方法でガラスに貼られる。この水貼りという方法は、フィルムをガラスに貼る際に、フィルムの粘着面およびガラス面に噴霧器で微量の中性洗剤を含む水を噴霧してから仮貼りし、その後スキージでフィルム表面を順次均一に擦り付けてフィルムとガラスを密着させる。その結果、フィルムとガラスの間にある水と気泡がフィルム端部から追い出され、シワおよび気泡のない良好な貼合面を得ることができる。
 しかしながら、本発明者らが特許文献1に準じた構成を有する薄膜太陽電池モジュールを製造し、水貼りにより窓ガラスへの貼り付けを行ったところ、施工時のスキージ圧や、仕上げ加工又は施工時の該薄膜太陽電池モジュールの取り扱いにより、太陽電池素子内において層間剥離が発生する場合があることが判明した。層間剥離が生じた部分は、層間剥離が発生していない部分と比較して、色調が大幅に変化してしまうために、薄膜太陽電池モジュールの意匠性が著しく失われることになる。
 すなわち、本発明は、施工対象物への施工時等において意匠性を損なわない薄膜太陽電池モジュールを提供するものである。
 本発明者らは、上記課題を解決するために薄膜太陽電池モジュールの構成に関して鋭意検討した結果、
(i)薄膜太陽電池素子の基板が受光面側にある方が薄膜太陽電池モジュールの発電効率が高いこと、
(ii)薄膜太陽電池素子の基板が受光面側にある場合、すなわち素子基板に対して薄膜太陽電池素子側をスキージ施工する際には、封止層の貯蔵弾性率が特定の範囲でないと、薄膜太陽電池素子が損傷する場合があること、及び
(iii)第一封止層(スキージ施工する側の封止層)の厚さが薄すぎると、スキージ施工の際に薄膜太陽電池素子が損傷する場合があること、
を見出して本発明を完成した。
 すなわち、本発明の要旨は以下の通りである。
[A1]第一ガスバリア層、第一封止層、及び有機薄膜太陽電池素子を順次有する有機薄膜太陽電池モジュールであって、
 前記第一封止層の25℃、周波数10Hzにおける貯蔵弾性率が5×106Pa以上1×108Pa以下であることを特徴とする有機薄膜太陽電池モジュール。
[A2]可撓性を有する、[A1]に記載の有機薄膜太陽電池モジュール。
[A3]前記第一封止層の厚さが20μm以上200μm以下である、[A1]又は[A2]に記載の有機薄膜太陽電池モジュール。
[A4]第一ガスバリア層、第一封止層、有機薄膜太陽電池素子、第二封止層、及び第二ガスバリア層を順次有する、[A1]~[A3]のいずれかに記載の有機薄膜太陽電池モジュール。
[A5]受光面が前記有機薄膜太陽電池素子に対して第二封止層側である、[A4]に記載の有機薄膜太陽電池モジュール。
[A6]第一ガスバリア層、第一封止層、薄膜太陽電池素子、第二封止層、第二ガスバリア層、及び粘着層を順次有する、[A1]~[A5]のいずれかに記載の有機薄膜太陽電池モジュール。
 また、本発明者らは、有機薄膜太陽電池素子上に集電線を設置した以外は、特許文献1と同様の構成を有する薄膜太陽電池モジュールを作成し、窓ガラスへの設置を検討した結果、集電線の設置箇所の外側にガラスと薄膜太陽電池モジュールとの間の水泡が残った。
 これは、集電線設置箇所が集電線の厚さに対応して厚さが大きくなり、一方で薄膜太陽電池モジュールの周縁部は有機薄膜太陽電池素子が積層されないため薄くなり、その結果薄膜太陽電池モジュールが厚さの異なる領域を有することになり、前記スキージによる水泡の除去が適切に行えなかったことに起因する。
 さらに、薄膜太陽電池モジュールは、有機薄膜太陽電池素子の劣化を抑制するためにバリア層を有するため、水泡を蒸発により除去することが難しい。
 これらの理由により、有機薄膜太陽電池素子と共に集電線を封止すると、薄膜太陽電池モジュールをガラスに設置した後の意匠性が悪化することがわかった。
 本発明者らは、このような課題を解決するためにバリア層と封止層との厚さに着目して鋭意検討した結果、有機薄膜太陽電池素子に更に集電線を設置した領域の薄膜太陽電池モジュールの厚さと、有機薄膜太陽電池素子が封止されていない領域の薄膜太陽電池モジュールの厚さの差を一定の範囲内にすることにより、課題が解決されることを見出した。すなわち、本発明の別の要旨は以下のものであってもよい。
[B1]第一ガスバリア層、第一封止層、有機薄膜太陽電池素子、第二封止層、及び第二ガスバリア層を順次有し、前記第一封止層と前記有機薄膜太陽電池素子との間に前記有機薄膜太陽電池素子と電気的に接続した集電線を有する、有機薄膜太陽電池モジュールであって、
 集電線設置領域の集電線幅方向の中央における有機薄膜太陽電池モジュールの厚さx(μm)と、前記有機薄膜太陽電池素子の外周端から5mm外側の薄膜太陽電池モジュールの厚さy(μm)とが以下の式(I)を満たすことを特徴とする有機薄膜太陽電池モジュール。
 (x-y)≦90   (I)
[B2]前記第一ガスバリア層、前記第一封止層、前記有機薄膜太陽電池素子、前記第二封止層、前記第二ガスバリア層、及び粘着層を順次有する、[B1]に記載の有機薄膜太陽電池モジュール。
 本発明により、水貼り施工時におけるスキージ施工後においても有機薄膜太陽電池素子の初期性能を維持した薄膜太陽電池モジュールを提供することができる。さらに、本発明によれば、仕上げ加工時において端部が剥離することがなく、意匠性が良好な薄膜太陽電池モジュールを提供することができる。
 また、本発明の別の要旨によれば、水貼り施工時後においても意匠性を維持した有機薄膜太陽電池モジュールを提供することができる。
本発明の一実施形態としての薄膜太陽電池モジュールの模式断面図である。 本発明の一実施形態としての薄膜太陽電池モジュールの模式断面図である。 本発明の一実施形態としての薄膜太陽電池モジュールの模式断面図である。 本発明の別の実施形態としての薄膜太陽電池モジュールの模式断面図である。
 以下、本発明の実施の形態を詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本発明の実施形態の一例(代表例)であり、本発明はその要旨を超えない限り、これらの内容に限定されない。
 本発明の一実施形態に係る有機薄膜太陽電池モジュールは、第一ガスバリア層、第一封止層、有機薄膜太陽電池素子を順次有する有機薄膜太陽電池モジュールであって、前記第一封止層の25℃、周波数10Hzにおける貯蔵弾性率が5×106Pa以上1×108Pa以下であることを特徴とする有機薄膜太陽電池モジュールである。有機薄膜太陽電池モジュールは、第一ガスバリア層、第一封止層、有機薄膜太陽電池素子に加えて、更に第二封止層、及び第二ガスバリア層をこの順に有することが好ましく、受光面が有機薄膜太陽電池素子に対して第二封止層側であるのが好ましい。また、有機薄膜太陽電池素子が第二封止層側に素子基板を有することが好ましい。
1.有機薄膜太陽電池モジュール
1.1 構成
 本発明の一実施形態に係る有機薄膜太陽電池モジュールは、図1の模式断面図に示すように第一ガスバリア層2、第一封止層4、有機薄膜太陽電池素子9、第二封止層3、第二ガスバリア層1を順次有する。また、有機薄膜太陽電池素子から電気を取り出す場合は、通常、有機薄膜太陽電池を形成する各太陽電池セルの上部電極または下部電極に電気取り出し用の集電線(図1には図示しない)を設置する。
 有機薄膜太陽電池素子9は、通常、素子基板5上に下部電極6、光電変換層7、および上部電極8が順次積層された構造を有する。有機薄膜太陽電池素子9の発電機構からすれば、太陽光等の発電に寄与する光に対する受光面に対しては、基板側が受光面側、および非受光面側のどちらであっても発電することは可能であるため特段の制限はないが、図1のように受光面側から素子基板5、下部電極6、光電変換層7、上部電極8の順である方が、薄膜太陽電池素子の発電効率の観点から好ましい。
 第一封止層4および第二封止層3(以下、第一封止層および第二封止層を合わせて封止層という場合がある)は薄膜太陽電池素子9を封止するために設けられる層であり、薄膜太陽電池素子9の大部分を覆うように設けられ、通常、第一封止層4と第二封止層3とで薄膜太陽電池素子9を完全に覆うように設けられることで封止される。第一ガスバリア層2および第二ガスバリア層1(以下、第一ガスバリア層および第二ガスバリア層を合わせてガスバリア層という場合がある)と封止層との位置関係、相対的大きさに特段の制限はないが、通常は封止層とガスバリア層は同一の大きさ、および同一の形状で端部を揃えて積層されるか、あるいはガスバリア層が封止層の全面を覆いかつ、ガスバリア層が封止層よりも大きく積層される。また、水分又は酸素による劣化を防止し、長期にわたって太陽電池素子の性能を維持するためには、ガスバリア層の端面と素子基板の端面との距離が5mm以上になるようにガスバリア層の端面を素子基板の端面の外側に設置するのが好ましい。
 また、本実施形態における薄膜太陽電池モジュールは、その最外層に、施工対象物に貼着するための粘着層を含み、該粘着層によって窓ガラス等に設置されるのが好ましい。
 例えば、図2に示した通り、粘着層10を第二ガスバリア層1に設け、第一ガスバリア層2、第一封止層4、薄膜太陽電池素子9、第二封止層3、第二ガスバリア層1、粘着層10を順次有する構成とすることができる。粘着層10は従来公知の粘着剤を使用することができるが、耐候性や透明性の観点からアクリル系粘着剤を用いることが好ましい。粘着層は、薄膜太陽電池モジュールに用いられる薄膜太陽電池素子の基板側(受光面)又は光電変換層側(非受光面)の最外層に、公知の方法で設けることができるが、薄膜太陽電池素子の発電効率の観点から薄膜太陽電池素子の基板側(受光面)の最外層に設ける方が好ましい。
 粘着層10は、ガラス窓等の施工対象物と貼着することで、薄膜太陽電池モジュールが施工対象物に設置される。
 有機薄膜太陽電池モジュールは、透光性を有することが好ましい。薄膜太陽電池モジュールの透光性は、JIS R 3106に準じた方法で測定した可視光線透過率が通常3%以上、好ましくは5%以上、より好ましくは8%以上、更に好ましくは10%以上、特に好ましくは20%以上であって、通常80%以下、好ましくは60%以下、より好ましくは50%以下である。上記下限以上であると採光性を向上することができる点で好ましい。上記上限以下であることにより発電効率を向上することができる点で好ましい。
 透光性を有する有機薄膜太陽電池モジュールは、例えば、有機薄膜太陽電池素子の電極として透明電極を使用することで透光性を有する有機薄膜太陽電池素子とし、有機薄膜太陽電池素子以外の有機薄膜太陽電池モジュールの構成部材を、透光性を有する部材とすることで実現できる。
 本実施形態に係る有機薄膜太陽電池モジュールは、可撓性を有する有機薄膜太陽電池モジュールであることが好ましい。可撓性を有することで、有機薄膜太陽電池モジュールをロール状として運搬することが可能となり、取扱い性が向上する。さらに、本発明に係る有機薄膜太陽電池モジュールは、後述するように曲げに対しても有機薄膜太陽電池素子内の層間剥離が発生しにくい。そのため、本発明は可撓性を有する有機薄膜太陽電池モジュールに特に適したものである。本明細書において可撓性とは、曲率半径170mmで曲げたとしても、薄膜太陽電池モジュールが破壊しないこと(塑性変形しないこと)を意味する。好ましくは曲率半径85mmで曲げても薄膜太陽電池モジュールが破壊せず、より好ましくは曲率半径50mmで曲げても薄膜太陽電池モジュールが破壊せず、特に好ましくは曲率半径35mmで曲げても薄膜太陽電池モジュールが破壊しない可撓性を有する。薄膜太陽電池モジュールが上記可撓性を満たすことは、例えば、後述する素子基板の材料として、上記可撓性を満たすものを用いることや有機薄膜太陽電池モジュールを構成する各部材の厚さと弾性率を適宜調整する等により達成することができる。
 以下、本発明の有機薄膜太陽電池モジュールの構成部材を説明する。
1.2 構成部材
1.2.1 ガスバリア層(第一ガスバリア層および第二ガスバリア層)
 ガスバリア層は水及び酸素の透過を防止する層である。
 有機薄膜太陽電池素子は湿気及び酸素に弱い傾向があり、特に、有機薄膜太陽電池を構成する透明電極や光電変換層は水分及び酸素により劣化することがある。そこで、ガスバリア層で薄膜太陽電池素子を被覆することにより、有機薄膜太陽電池素子を水及び酸素から保護し、発電性能を高く維持することができる。
 ガスバリア層に要求される防湿能力の程度は、単位面積(1m2)の1日あたりの水蒸気透過率が、1×10-1g/m2/day以下であることが好ましく、1×10-2g/m2/day以下であることがより好ましく、1×10-3g/m2/day以下であることが更に好ましく、1×10-4g/m2/day以下であることが中でも好ましく、1×10-5g/m2/day以下であることがとりわけ好ましく、1×10-6g/m2/day以下であることが特に好ましい。水蒸気の透過を抑制するほど、薄膜太陽電池素子及び当該素子のZnO:Al等の透明電極の水分との反応に起因する劣化が抑えられるので、発電効率が維持されることにより有機薄膜太陽電池モジュールの寿命が延びる。このようなガスバリア層を適用することにより有機薄膜太陽電池素子の優れた性質を活かした有機薄膜太陽電池モジュールの実施が容易となる。
 また、ガスバリア層は、有機薄膜太陽電池素子の光吸収を妨げない観点から可視光を透過させるものが好ましい。例えば、JIS R 3106に準じた方法で測定した可視光(波長360~830nm)の透過率は、通常60%以上、好ましくは70%以上、より好ましくは75%以上、更に好ましくは80%以上、中でも好ましくは85%以上、とりわけ好ましくは90%以上、特に好ましくは95%以上、その中でも特に好ましくは97%以上である。太陽光をより多く電気エネルギーに変換するためである。
 さらに、ガスバリア層は、施工対象物との一体感や外観等の意匠性の観点から曇り度(ヘーズ)が低いものが好ましい。例えば、JIS K 7136で規定されるD65光源を使用する場合のヘーズ値は通常10以下、好ましくは5以下、より好ましくは2以下、さらに好ましくは1以下である。
 さらに、有機薄膜太陽電池モジュールは光を受けて熱せられることが多いため、ガスバリア層も熱に対する耐性を有することが好ましい。この観点から、ガスバリア層の構成材料の融点は、通常100℃以上、好ましくは120℃以上、より好ましくは130℃以上であり、また、通常350℃以下、好ましくは320℃以下、より好ましくは300℃以下である。融点を高くすることで薄膜太陽電池モジュールの使用時にガスバリア層が融解・劣化する可能性を低減できる。
 ガスバリア層の具体的な構成は、有機薄膜太陽電池素子を水及び酸素から保護できる限り任意である。ただし、ガスバリア層を透過しうる水蒸気や酸素の量を少なくできる構成ほど製造コストが高くなるため、これらの点を総合的に勘案して適切なものを使用することが好ましい。具体的には、樹脂基材に無機層を積層させた構成とすることが好ましい。
 樹脂基材を形成する材料は、特段の制限はなく、例えば、エチレン、プロピレン、ブテン等の単独重合体又は共重合体等のポリオレフィン系樹脂;環状ポリオレフィン等の非晶質ポリオレフィン系樹脂;ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル系樹脂;ナイロン6、ナイロン66、ナイロン12、共重合ナイロン等のポリアミド系樹脂;エチレン-酢酸ビニル共重合体部分加水分解物(EVOH)、ポリイミド系樹脂、ポリエーテルイミド系樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、ポリアリレート系樹脂、フッ素樹脂、アクリル樹脂、生分解性樹脂等が挙げられる。なお、樹脂基材は2種以上の材料で形成されていてもよいし、積層構造であってもよい。これらのなかでも、フィルム物性の観点から、ポリエステル系樹脂が好ましく、ポリエチレンテレフタレート(PET)又はポリエチレンナフタレート(PEN)が特に好ましい。
 無機層を形成する材料は特段の制限はないが、珪素、アルミニウム、マグネシウム、亜鉛、錫、ニッケル、チタン、あるいは、これらの酸化物、炭化物、窒化物、酸化炭化物、酸化窒化物、酸化炭化窒化物、ダイヤモンドライクカーボン又はこれらの混合物等が挙げられる。また、無機層は、2種以上の材料により形成されていてもよいし、積層構造であってもよい。これらのなかでも、電流のリークを防ぐために、無機層を構成する材料は、酸化珪素、酸化炭化珪素、酸化窒化珪素、酸化炭化窒化珪素、酸化アルミニウム、酸化炭化アルミニウム、酸化窒化アルミニウム、窒化珪素、窒化アルミニウム、ダイヤモンドライクカーボン並びにこれらの混合物が好ましい。さらに、これらのなかでも、高い防湿性が安定に維持できるために、酸化珪素、酸化炭化珪素、酸化窒化珪素、酸化炭化窒化珪素、窒化珪素、酸化アルミニウム、酸化炭化アルミニウム、酸化窒化アルミニウム、窒化アルミニウム及びこれらの混合物が特に好ましい。なお、無機層は複数の無機材料により構成されていてもよい。また、複数の無機層を有していてもよい。この場合も、複数の無機層は同じ材料で形成されていてもよいし、異なる材料で形成されていてもよい。また、有機薄膜太陽電池モジュールの意匠性の観点から、光学物性はより透明であることがよく、酸化珪素、酸化窒化珪素、窒化珪素が好ましく、なかでも、酸化珪素が特に好ましい。
 上記の中でも、好適なガスバリア層としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)或いはポリエチレンナフタレート(PEN)等の基材フィルムに酸化ケイ素(SiOx)を真空蒸着したフィルム等が挙げられる。
 なお、ガスバリア層は1種の材料で形成されていてもよく、2種以上の材料で形成されていてもよい。また、ガスバリア層は単層で形成されていてもよいが、2層以上の積層体であってもよい。
 ガスバリア層の厚さは特に規定されないが、通常10μm以上、好ましくは15μm以上、より好ましくは20μm以上であり、また、通常200μm以下、好ましくは180μm以下、より好ましくは150μm以下である。厚さを厚くすることでガスバリア性が高まる傾向にあり、薄くすることで柔軟性が高まりまた可視光の透過率が向上する傾向にある。
 なお、ガスバリア層の25℃、周波数10Hzにおける貯蔵弾性率は特に限定されないが、1.0×108Pa以上、好ましくは3.0×108Pa以上、一方、6.0×109Pa以下、好ましくは4.0×109Pa以下の際に下記の理由により、本発明はより顕著に効果を発揮することができる。ガスバリア層の貯蔵弾性率が上記の上限値以下であると、スキージの際のスキージの圧が有機薄膜太陽電池素子への影響が大きくなる傾向があり、ガスバリア層の貯蔵弾性率が上記の下限値以下であると薄膜太陽電池モジュールを曲げた際の応力により有機薄膜太陽電池素子内の層間剥離が発生しやすくなる傾向がある。そのため、当該ガスバリア層を用いた場合、本発明はより顕著に効果を発揮することができる。
 ガスバリア層は、有機薄膜太陽電池素子を被覆して湿気及び酸素から保護できればその形成位置に制限は無いが、薄膜太陽電池素子の積層方向両端の面、具体的には受光面側の面(図1における下側の面)及び受光面とは反対側の面(図1における上側の面)を覆うことが好ましい。
 ガスバリア層と封止層の位置関係、相対的大きさに特段の制限はないが、通常は封止層とガスバリア層は同一の大きさ、および同一の形状で端部を揃えて積層されるか、あるいはガスバリア層が封止層の全面を覆いかつ、ガスバリア層が封止層よりも大きく積層される。また、水分又は酸素による劣化を防止し、長期にわたって有機薄膜太陽電池素子の性能を維持するためには、ガスバリア層の端面と素子基板の端面との距離が5mm以上になるようにガスバリア層の端面を素子基板の端面の外側に設置するのが好ましい。
 またガスバリア層には、有機薄膜太陽電池モジュールのハンドリングの際の傷付き防止、施工対象物へ水貼りする際のスキージによる傷付き防止、さらにはガスバリア層の平滑性を向上させるために、ハードコート層を設けてもよい。
1.2.2 封止層(第1封止層と第2封止層)
 本発明の実施形態では、薄膜太陽電池モジュールの製造過程において、薄膜太陽電池素子を封止材で封止し、薄膜太陽電池素子を保護することが好ましい。薄膜太陽電池素子の封止は、薄膜太陽電池素子の補強や、耐衝撃性を上げるために行う。
 以下の理由により、第一の封止層の25℃、周波数10Hzにおけるにおける貯蔵弾性率は、好ましくは5.0×106Pa以上であり、さらに好ましくは、7.0×106以上であり、特に好ましくは、1.0×107Pa以上であり、一方、好ましくは5.0×108Pa以下であり、さらに好ましくは3.0×108Pa以下であり、特に好ましくは1.0×108Pa以下である。なお、貯蔵弾性率は、通常スキージ施工する際の温度を考慮し、25℃の場合の貯蔵弾性率とした。貯蔵弾性率の測定方法としては、封止層を溶融した後に試験片に加工し(硬化が必要な場合は硬化処理を含む)、得られた試験片から従来公知の動的粘弾性測定装置を用いて温度分散測定を行なうことにより求められる。
 本発明者らの検討によると、有機薄膜太陽電池素子は、光電変換層等に有機半導体化合物が用いられているために、例えば、アモルファスシリコン等を用いたシリコン系太陽電池素子と比較して、素子内部の密着性が弱い部分が多く、剥離しやすい傾向があることが分かった。そのため、有機薄膜太陽電池素子を用いた薄膜太陽電池モジュールの実用化のためには、シリコン系太陽電池よりも外部からの圧力等による層間剥離を考慮する必要があることが判明した。
 有機薄膜太陽電池モジュールを第一ガスバリア層側から窓ガラス等の施工対象物へスキージ施工により水貼りしようとすると、第一の封止層の貯蔵弾性率が低すぎる場合には、第一ガスバリア層の変形だけに留まらず、第一の封止層も変形してしまい、その変形が有機薄膜太陽電池素子にまで及んでしまう。そのため、有機薄膜太陽電池素子に応力がかかり、有機薄膜太陽電池素子内部で層間剥離が発生してしまい、有機薄膜太陽電池素子の一部が破損して変換効率が低下してしまう。さらに、一般的に有機薄膜太陽電池素子の光電変換層は着色されているために、層間剥離が発生した部分と、発生していない部分では著しく色調が異なるために意匠性を著しく損なうことになる。一方で、第一の封止層の貯蔵弾性率が高すぎる場合には、薄膜太陽電池モジュールの仕上げ加工における太陽電池モジュール端部のトリミング時や、または薄膜太陽電池モジュールを曲げたりする際に、第一の封止層の曲げ応力に対して、有機薄膜太陽電池素子内の層間強度が耐えることができなくなり、該素子内での層間剥離が発生する。その結果、変換効率が低下するとともに、有機薄膜太陽電池モジュールの意匠性が著しく損なわれることになる。
 なお、第二の封止層と有機薄膜太陽電池素子の間には、一般的に厚い素子基板が配置されているために、例えば、第二のバリア層側から施工した際には、第二のバリア層の応力を素子基板で緩和することができる。そのため、第二封止層の25℃、周波数10Hzにおけるにおける貯蔵弾性率は、特段の制限はない。しかしながら、有機薄膜太陽電池モジュールの反り等を防ぐためには、第二のバリア層も第一のバリア層と同様の貯蔵弾性率を有することが好ましい。
 また、封止層は、有機薄膜太陽電池素子の受光面側に用いられる場合、光吸収を妨げない観点から可視光を透過させるものが好ましい。例えば、JIS R 3106に準じた方法で測定した可視光(波長360~830nm)の光の透過率は、単一の封止層において通常75%以上、好ましくは80%以上、より好ましくは85%以上、さらに好ましくは90%以上、なかでも好ましくは95%以上、特に好ましくは97%以上である。これは、太陽光をより多く電気エネルギーに変換するためである。
 さらに、封止層は、施工対象物との一体感や外観等の意匠性の観点から曇り度(ヘーズ)が低いものが好ましい。例えば、JIS K 7136で規定されるD65光源を使用する場合のヘーズ値は単一の封止層において通常15以下、好ましくは10以下、より好ましくは5以下、さらに好ましくは2以下である。
 一方、有機薄膜太陽電池素子の受光面と反対側に封止材を用いる場合は、必ずしも可視光を透過させる必要がなく、不透明でもよいが、窓ガラス等の透明な施工対象物に貼り付けた場合は、有機薄膜太陽電池素子の受光面側と同様の可視光透過率および曇り度を有することが好ましい。
 さらに、有機薄膜太陽電池モジュールは光を受けて熱せられることが多いため、封止層も熱に対する耐性を有することが好ましい。この観点から、封止層の構成材料の融点は、通常100℃以上、好ましくは120℃以上、より好ましくは130℃以上であり、また、通常350℃以下、好ましくは320℃以下、より好ましくは300℃以下である。融点を高くすることで有機薄膜太陽電池モジュールの使用時に封止層が融解・劣化するのを防ぐことができる。
 また、有機薄膜太陽電池モジュールの使用時に、有機薄膜太陽電池モジュール自体の変形を抑えるという観点からは、封止層に融点が存在する場合、封止層の融点は、50℃以上であることが好ましく、80℃以上であることが好ましく、100℃以上であることがさらに好ましい。一方、太陽電池モジュールの製造時に封止層以外の部材の熱膨張や熱収縮が大きくなるために有機薄膜太陽電池モジュールに反りやうねりが発生するのを防ぐという観点からは、封止層の融点は、250℃以下であることが好ましく、200℃以下であることがさらに好ましく、180℃以下であることがより好ましく、160℃以下であることが殊更好ましく、140℃以下であることが特に好ましい。また、封止層が融点を持たない場合は、有機薄膜太陽電池素子、基板、ガスバリア層、および、他の層との十分な接着性、密着性を確保するために上記温度範囲において粘着性を有していることが好ましい。
 有機薄膜太陽電池モジュールが、第一の封止層及び第二の封止層の両方の封止層を有する場合、第一封止層及び第二封止層の厚さの和の下限は封止層のスキージ跡残りの観点からは限定されないが通常40μm以上、好ましくは60μm以上、より好ましくは80μm以上であり、また、通常800μm以下、好ましくは400μm以下、より好ましくは300μm以下、さらに好ましくは200μm以下である。厚くすることで有機薄膜太陽電池モジュール全体の強度(コシ)が高まる傾向にあり、薄くすることで柔軟性が高まり、また可視光の透過率が向上する傾向にある。このため、両方の利点を兼ね備える範囲として、上記範囲とするのが望ましい。一方で、上記範囲を逸脱した場合、封止層が厚すぎると水貼りに際のスキージ施工時に施工性が悪くなることで有機薄膜太陽電池モジュールと施工対象物の間に水泡が残ってしまい、封止層が薄すぎるとスキージ圧により有機薄膜太陽電池素子にダメージを与えてしまい、素子の発電性能の低下を引き起こす場合がある。なお、上述の封止層の厚さおよび後述する封止層の厚さは、有機薄膜太陽電池モジュールを作成後、有機薄膜太陽電池モジュールを切断した際の切断面を、顕微鏡を用いて断面観察した結果から得られる厚さを示す。
 第一封止層もしくは第二封止層の各厚さは特に規定されないが、通常20μm以上、好ましくは30μm以上、より好ましくは40μm以上、さらに好ましくは60μm以上であり、また、通常400μm以下、好ましくは200μm以下、より好ましくは150μm以下、さらに好ましくは100μm以下である。厚くすることで有機薄膜太陽電池素子へのダメージを防止することができ、薄くすることで可視光の透過率が向上する傾向にある。このため、両方の利点を兼ね備える範囲として、上記範囲とするのが望ましい。
 有機薄膜太陽電池モジュールが、第一の封止層及び第二の封止層の両方の封止層を有する場合、第一封止層の厚さT1と第二封止層の厚さT2の合計厚さに対する第一封止層の厚さT1の比率T1/(T1+T2)は特に規定されないが、通常0.3~0.7の範囲であり、好ましくは0.4~0.6の範囲、より好ましくは0.5である。厚さの比率がこの範囲にあることで、有機薄膜太陽電池モジュールのハンドリング性が良く、水貼り施工時の水泡残りを低減できる。特に、上限以下であることで、有機薄膜太陽電池モジュールの反りを抑制することが可能となり、施工性が向上する。
 封止層を構成する材料としては、特に限定されず、架橋剤を含む酢酸ビニル-エチレン共重合体組成物、ポリウレタン、エポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリエステル、アクリル樹脂などの熱可塑性樹脂、ブチルゴム、シリコーンゴム等のエラストマー系樹脂、または上記の複合体でもよい。なかでも、第一の封止層を構成する材料は、透明性の観点や、材料組成により貯蔵弾性率等や曲げ弾性率の制御が容易であることから、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、又はポリオレフィン樹脂が好ましい。
 なお、封止層は1種の材料で形成されていてもよく、2種以上の材料で形成されていても良い。また、封止層は、単層であってもよいし、積層であってもよい。
 また、封止層に、紫外線遮断、熱線遮断、導電性、反射防止、防眩性、光拡散、光散乱、波長変換、ガスバリア性等の機能を付与してもよい。特に、有機薄膜太陽電池の場合は、水や酸素により劣化する場合があり、また、太陽光の紫外線により劣化する場合があるため、ガスバリア性や紫外線遮断機能を持つことが好ましい。
 このような機能を付与する方法としては、機能を有する層を塗布成膜等により封止層上に積層してもよいし、機能を発現する材料を溶解・分散させるなどして封止層に含有させてもよい。
 ガスバリア性としては、例えば、以下の水蒸気透過率および酸素透過性を満たすものが挙げられる。
 水蒸気透過率としては、封止材100μm厚における水蒸気透過率Pdが、40℃90%RH環境下で、通常10-1g/m2/day以下、好ましくは10-2g/m2/day以下、より好ましくは10-3g/m2/day以下、さらに好ましくは10-4g/m2/day以下である。水蒸気透過率は、JIS K7129に準じた感湿センサ、赤外線センサ、ガスクロマトグラフを備えた装置による測定、カップ法(JIS Z0208)により、40℃90%RH環境で測定する。
 酸素透過性としては、例えば、一般的には、25℃環境下で100μm厚での単位面積(1m2)の1日あたりの酸素透過率が、通常1cc/m2/day/atm以下であり、1×10-1cc/m2/day/atm以下であることが好ましく、1×10-2cc/m2/day/atm以下であることがより好ましく、1×10-3cc/m2/day/atm以下であることがさらに好ましく、1×10-4cc/m2/day/atm以下であることがとりわけ好ましく、1×10-5cc/m2/day/atm以下であることが特に好ましい。酸素が透過しなければしないほど、有機薄膜太陽電池素子の酸化による劣化が抑えられる利点がある。なお、酸素透過率は、JIS K7126Aに準じた差圧法に基づく装置、あるいはJIS K7126Bに準じた等圧法に基づく赤外線センサ、ガスクロマトグラフを備えた装置で測定することができる。
 また、封止層は単層フィルムにより形成されていても良いが、2層以上のフィルムを備えた積層フィルムであってもよい。封止層を予めシート状もしくはフィルム状に形成する方法としては、公知の方法、例えば単軸押出機、多軸押出機、バンバリーミキサー、ニーダーなどの溶融混合設備を有し、Tダイを用いる押出キャスト法やカレンダー法等を採用することができ、特に限定されるものではない。さらに、封止層を塗工液として塗工する方法としては、例えば、バーコート法、ロールコート法、ナイフコート法、ロールナイフコート法、ダイコート法、グラビアコート法、エアドクターコート法、ドクターブレードコート法等、従来公知の塗工方法により行うことができる。
 封止層は通常、封止材と有機薄膜太陽電池素子とを積層することで形成され、好ましくはガスバリア層と封止層との積層体と、有機薄膜太陽電池素子とを積層することで形成される。封止材を薄膜太陽電池素子に積層する工程は、有機薄膜太陽電池素子に集電線を設置する工程(集電線設置工程)の後に行ってもよく、集電線設置工程の前に行ってもよい。
 集電線設置工程の後に、封止材を有機薄膜太陽電池素子に積層する工程を有する場合には、集電線が設置された有機薄膜太陽電池素子に封止材を積層し、封止材の集電線を取り出す箇所にスリットを形成し、該スリットから集電線を取り出すことができる。有機薄膜太陽電池素子の上部電極へ集電線を接続する個所は1か所以上であれば任意である。複数の有機薄膜太陽電池素子が直列に接続している場合には、所望の電位を取り出せるように、有機薄膜太陽電池素子に集電線を接続すればよい。
 工程1の前に、有機薄膜太陽電池素子に封止材を積層する工程を有する場合には、封止後の封止材にスリットを形成し、スリットにおいて有機薄膜太陽電池素子の上部電極が露出した状態とする。そして、スリットの位置の上部電極と集電線を接続すればよい。また、封止を行う前の封止材に、あらかじめ特定の位置にスリットを設けることで、封止後にスリットを形成する手間が省ける。このようにあらかじめスリットを設けることで、封止後にスリットを形成する際に生じる有機薄膜太陽電池素子へのダメージの可能性を排除することが可能となる。
1.2.3 有機薄膜太陽電池素子
 有機薄膜太陽電池素子は、通常素子基板(以下、単に基板ともいう)上に下部電極、光電変換層および上部電極が順次積層された構造を有する。なお、有機薄膜太陽電池素子とは、通常、素子基板を含む有機薄膜太陽電池素子を構成する層の総膜厚の和が300μm以下であり、特に素子基板を除いた部分の膜厚が150μm以下であることが好ましい。
 有機薄膜太陽電池素子の光電変換層の材料は、本発明の効果を損なわない限りどのようなものであっても用いてもよいが、有機色素材料、有機半導体材料等を用いることが好ましい。これらのうち、有機半導体材料を用いることが、生産性に特に優れ、本発明の目的に沿うことから特に好ましい。
 以下、有機半導体材料を用いた有機薄膜太陽電池素子の例を説明する。
1.2.3.1 基板(素子基板)
 基板は有機薄膜太陽電池素子を支持する部材である。基板の材料としては、本発明を適用できる限り特に限定されず、無機材料、有機材料、紙材料および複合材料等の公知の材料が使用できる。具体的には、石英、ガラス、サファイア又はチタニア等の無機材料;ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリイミド、ナイロン、ポリスチレン、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール共重合体、フッ素樹脂フィルム、塩化ビニル又はポリエチレン等のポリオレフィン;セルロース、ポリ塩化ビニリデン、アラミド、ポリフェニレンスルフィド、ポリウレタン、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリノルボルネン又はエポキシ樹脂等の有機材料;紙又は合成紙等の紙材料;ステンレス、チタン又はアルミニウム等の金属に、絶縁性を付与するために表面をコート又はラミネートしたもの等の複合材料等が挙げられる。これらのうち、有機材料を用いた樹脂基板は、基板に透明性を付与できるため、スーパーストレート構造、サブストレート構造どちらの構造も作成が可能である上、透光性を有するシースルー太陽電池素子の作成が可能である点で好ましい。
 なかでも、基板は可撓性を有する(フレキシブル)基板であることが好ましい。基板がフレキシブルであることで、有機薄膜太陽電池素子をロール・トゥ・ロール方式により製造することが可能になり、また、有機薄膜太陽電池素子の設置の自由度が向上するためである。また、薄膜太陽電池モジュールを可撓性とすることができる。可撓性を有するとは、例えば、基板を曲率半径170mmで曲げても破壊(塑性変形)しないことをいう。
 フレキシブル基板の材料としては、上記材料の中でも、有機材料、紙材料、複合材料が好ましく、有機材料および複合材料がより好ましく、有機材料が特に好ましい。
 有機材料は通常Tm(溶融温度)およびTg(ガラス転移温度)を有するが、有機薄膜太陽電池素子の封止をTm未満、好ましくはTg未満で行うことにより基板の変形による外観の悪化を抑制することができる。
 基板が樹脂基板である場合、樹脂基板のガラス転移温度(Tg)は、通常30℃以上、好ましくは50℃以上であり、通常400℃以下、好ましくは300℃以下、より好ましくは200℃以下、更に好ましくは160℃以下である。ガラス転移温度(Tg)が上記範囲であることで樹脂基板を製造する際に成形加工しやすく、かつ薄膜太陽電池モジュールの製造する際の加工で変形が起きにくい。
 本明細書におけるガラス転移温度とは、JIS K-7121 1987「プラスチックの転移温度測定方法」に定義された示差走査熱量測定(DSC)により求められる値である。
 基板の厚さに制限はないが、通常5μm以上、好ましくは20μm以上であり、通常20mm以下、好ましくは10mm以下である。基板の厚さが5μm以上であることは、有機薄膜太陽電池素子の強度が不足する可能性が低くなるために好ましい。基板の厚さが20mm以下であることは、コストが抑えられ、かつ重量が重くならないために好ましい。基板の材料がガラスである場合の厚さは、通常0.01mm以上、好ましくは0.1mm以上であり、一方、通常1cm以下、好ましくは0.5cm以下である。基板の厚さが0.01mm以上であることは、機械的強度が増加し、割れにくくなるために、好ましい。また、基板の厚さが0.5cm以下であることは、重量が重くならないために好ましい。
 基板の25℃、周波数10Hzにおける貯蔵弾性率は、特段の制限はないが、基板の厚さが5μm以上20mm以下の場合、外的応力により受ける有機薄膜太陽電池素子へのダメージに対する反発係数を抑えるために、6.0×109Pa以下であることが好ましく、4.0×109Pa以下であることが特に好ましい。一方、有機薄膜太陽電池モジュールの製造時の基板のハンドリングの際に発生し得る有機薄膜太陽電池素子の破損を防ぐために、当該膜厚における基板の25℃、周波数10Hzにおける貯蔵弾性率は、1.0×108Pa以上であることが好ましく、3.0×108Pa以上であることが特に好ましい。
 基板の長さに制限はないが、通常10cm以上、好ましくは1m以上、より好ましくは10m以上、更に好ましくは50m以上、特に好ましくは100m以上である。上限は、通常10km以下、好ましくは5km以下、より好ましくは1km以下、更に好ましくは500m以下である。
 ロール・トゥ・ロール方式により製造する場合は、通常10m以上、好ましくは20m以上、より好ましくは50m以上、更に好ましくは100m以上、特に好ましくは200m以上である。上限は特に制限されないが、通常10km以下、好ましくは5km以下、より好ましくは1km以下である。この範囲の長さにすることで、ロール・トゥ・ロール方式による効率的な生産を行うことができる。ロール・トゥ・ロール方式では、ロールの切り替えに時間がかかるため、ロールの切り替えによる時間のロスを少なくするためには、製造装置が許容する範囲で1つのロールの基板は長い方がよい。一方、ロールが重くなるとハンドリングしづらくなる点にも留意する必要がある。
1.2.3.2 電極
 有機薄膜太陽電池素子は、下部電極および上部電極からなる一対の電極を有する。なお、本発明において、下部電極とは、基板側に配置される電極を意味し、上部電極とは、基板をボトムとした際に、下部電極よりも上部に配置される電極を意味する。なお、これらの電極は、光吸収により生じた正孔及び電子を捕集する機能を有する。具体的には、一対の電極のうち、一方の電極を正孔の捕集に適した電極(以下、アノードと記載する場合もある)とし、他方の電極を電子の捕集に適した電極(以下、カソードと記載する場合もある)とすることが好ましい。下部電極がアノードであり、上部電極がカソードであってもよいし、下部電極がカソードであり、上部電極がアノードであってもよい。下部電極および上部電極は、いずれか一方が透光性であればよく、両方が透光性であっても構わない。
 なお、本発明において、電極が透光性を有する場合、太陽光線透過率、すなわち太陽光のうち波長360~830nmの光が透過する割合が、通常40%以上であり、好ましくは50%以上、より好ましくは60%以上、更に好ましくは70%以上である。
 また、透明電極の太陽光線透過率が通常70%以上であることが、透明電極を透過させて光電変換層に光を到達させるために好ましい。
 これらの光線透過率は、JIS7375:2008に準拠して測定した値である。
 下部電極及び上部電極としては導電性を有する材料により形成することが可能であり、例えば、白金、金、銀、アルミニウム、クロム、ニッケル、銅、チタン、マグネシウム、カルシウム、バリウム、ナトリウム等の金属あるいはそれらの合金;酸化ニッケル、酸化インジウム、酸化タングステン、酸化錫、酸化亜鉛等の金属酸化物、あるいは、インジウム-スズ酸化物(ITO)、インジウム-亜鉛酸化物(IZO)、インジウム-タングステン酸化物(IWO)等の複合酸化物;が挙げられる。
 なかでも、アノードは、仕事関数の大きな材料を用いることが好ましい。一方、カソードは、仕事関数の小さな材料を用いることが好ましい。仕事関数を最適化することにより、光吸収により生じた正孔及び電子を良好に捕集する利点がある。なお、後述するように有機薄膜太陽電池素子にバッファ層を設ける場合、バッファ層の仕事関数を調整することにより、下部電極及び上部電極は同じ仕事関数の材料を用いて形成することもできる。
 なお、上述の通り、一対の電極のうち少なくとも一方の電極は透光性を有するが、少なくとも受光面側の電極が透光性を有しており、好ましくは透明であることが好ましい。但し、電極は、発電性能に著しく悪影響を与えない場合は必ずしも透明でなくてもよい。透明な電極の材料を挙げると、上記の金属酸化物、複合酸化物及び金属薄膜などが挙げられ、金属酸化物および複合酸化物が好ましい。また、上部電極の光の透過率は、有機薄膜太陽電池素子の発電効率を考慮すると、光学界面での部分反射によるロスを除き、80%以上が好ましい。
 この場合、基板側に形成される下部電極が透光性を有するのが好ましい。すなわち、上部電極として所定の厚さを有する金属または合金を使用することにより、上部電極に対する集電線の設置が容易になり、集電線と電極との間の抵抗を下げやすくなる。
 下部電極及び上部電極の材料は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。また、下部電極及び/又は上部電極はそれぞれ単層であってもよいし、積層であってもよい。特に、透光性を有する電極は、上記の材料のなかでも、金属酸化物又は複合酸化物により形成されることが好ましいが、導電性を向上するために、透光性を失わない範囲で、これらの酸化物層上に薄膜の金属層を積層した構造であってもよい。
 本実施形態において、下部電極及び上部電極の形成方法に制限はなく、使用する材料に合わせて公知の方法により形成することができる。例えば、真空蒸着、スパッタ等のドライプロセスにより形成することができる。また、導電性インク等を用いたウェットプロセスにより形成することもできる。この導電性インクとしては、例えば、導電性高分子、金属粒子分散液等を用いることができる。さらに、電極は2層以上積層してもよく、表面処理による特性(電気特性やぬれ特性等)を改良してもよい。
 上部電極及び下部電極の厚さは、特に制限は無いが、通常5nm以上、好ましくは10nm以上、より好ましくは20nm以上、さらに好ましくは、50nm以上である。一方、通常400μm以下、好ましくは10μm以下、より好ましくは1μm以下、さらに好ましくは500nm以下である。電極の厚さが上記下限以上であることにより、シート抵抗が抑えられ、また、十分な導通が可能となる。一方、上記上限以下であることにより、柔軟性を維持することができる。電極が透明電極である場合には、光透過率とシート抵抗とを両立できる膜厚を選ぶ必要がある。
 電極のシート抵抗は、特段の制限はないが、通常1Ω/□以上、一方、1000Ω/□以下、好ましくは500Ω/□以下、さらに好ましくは100Ω/□以下である。
1.2.3.3 光電変換層
 有機薄膜太陽電池素子の光電変換層は、有機半導体化合物を含んで形成され、通常、p型の半導体化合物と、n型の半導体化合物とを含有する。なお、p型及びn型は、電気伝導に寄与するのが、正孔及び電子いずれであるかを示しており、材料の電子状態、ドーピング状態、トラップ状態に依存する。したがって、p型、n型は必ずしも明確に分類できない場合があり、同一物質でp型、n型両方の特性を示すものもある。なお、光電変換層が、p型半導体化合物及びn型半導体化合物を有する場合、少なくともp型半導体化合物が有機半導体化合物であることが好ましく、p型半導体化合物及びn型半導体化合物がともに有機半導体化合物であることが好ましい。
 光電変換層の具体的な構成例としては、p型半導体とn型半導体が層内で相分離した層(i層)を有するバルクヘテロ接合型、それぞれp型半導体を含む層(p層)とn型半導体を含む層(n層)が界面を有する積層型(ヘテロpn接合型)、又はp型半導体層及びn型半導体層のどちらか一方の層のみを有するショットキー型およびそれらの組合せが挙げられる。これらの中でもバルクへテロ接合型又はバルクへテロ接合型と積層型を組み合わせた(p-i-n接合型)が高い性能を示すことから好ましい。
 p型半導体の例として、p型の高分子有機半導体化合物又はp型の低分子有機半導体化合物等が挙げられる。
 p型の高分子有機半導体化合物として、特に限定はなく、ポリチオフェン、ポリフルオレン、ポリフェニレンビニレン、ポリチエニレンビニレン、ポリアセチレン又はポリアニリン等の共役ポリマー半導体;アルキル基やその他の置換基が置換されたオリゴチオフェン等のポリマー半導体;等が挙げられる。また、二種以上のモノマー単位を共重合させた半導体ポリマーも挙げられる。共役ポリマーとしては、例えば、Handbook of Conducting Polymers,3rd Ed.(全2巻),2007、Materials Science and Engineering,2001,32,1-40、Pure Appl.Chem.2002,74,2031-3044、Handbook of THIOPHENE-BASED MATERIALS(全2巻),2009、国際公開第2011/016430号パンフレット、国際公開第2013/180243号パンフレット、日本国特開2012-191194号公報等の公知文献に記載されたポリマーやその誘導体、及び記載されているモノマーの組み合わせによって合成し得るポリマーを用いることができる。p型半導体化合物として用いられる高分子有機半導体化合物は、一種の化合物でも複数種の化合物の混合物でもよい。
 p型の低分子有機半導体化合物としては、p型半導体材料として働きうるのであれば特段の制限はないが、具体的には、ナフタセン、ペンタセン又はピレン等の縮合芳香族炭化水素;α-セキシチオフェン等のチオフェン環を4個以上含むオリゴチオフェン類;チオフェン環、ベンゼン環、フルオレン環、ナフタレン環、アントラセン環、チアゾール環、チアジアゾール環及びベンゾチアゾール環のうち少なくとも一つ以上を含み、かつ合計4個以上連結したもの;フタロシアニン、銅フタロシアニン、亜鉛フタロシアニン等のフタロシアニン化合物及びその金属錯体、又はテトラベンゾポルフィリン、テトラベンゾ銅ポルフィリン、テトラベンゾ亜鉛ポルフィリン等のポルフィリン化合物及びその金属錯体、等の大環状化合物等が挙げられる。好ましくは、フタロシアニン化合物及びその金属錯体又はポルフィリン化合物及びその金属錯体である。低分子有機半導体化合物の分子量は、上限、下限ともに特に制限されないが、通常5000以下、好ましくは2000以下であり、一方、通常100以上、好ましくは200以上である。なお、p型半導体層の形成を塗布により行う場合、低分子有機半導体化合物前駆体を塗布後に低分子有機半導体化合物に変換することができる。塗布成膜がより容易である点で、低分子有機半導体化合物前駆体を用いる方法がより好ましい。低分子有機半導体化合物前駆体とは、例えば加熱や光照射等の外的刺激を与えることにより、その化学構造が変化し、低分子有機半導体化合物に変換される化合物である。低分子有機半導体化合物前駆体は成膜性に優れる点で好ましい。
 n型半導体としては、特段の制限はないが、具体的には、フラーレン;フラーレン化合物;8-ヒドロキシキノリンアルミニウムに代表されるキノリノール誘導体金属錯体;ナフタレンテトラカルボン酸無水物;ナフタレンテトラカルボン酸ジイミド又はペリレンテトラカルボン酸ジイミド等の縮合環テトラカルボン酸ジイミド類;ペリレンジイミド誘導体、ターピリジン金属錯体、トロポロン金属錯体、フラボノール金属錯体、ペリノン誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、ベンズオキサゾール誘導体、チアゾール誘導体、ベンズチアゾール誘導体、ベンゾチアジアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、アルダジン誘導体、ビススチリル誘導体、ピラジン誘導体、フェナントロリン誘導体、キノキサリン誘導体、ベンゾキノリン誘導体、ビピリジン誘導体、ボラン誘導体、アントラセン、ピレン、ナフタセン又はペンタセン等の縮合多環芳香族炭化水素の全フッ化物;単層カーボンナノチューブ等が挙げられる。
 これらのなかでも、n型半導体化合物は、フラーレン化合物、ボラン誘導体、チアゾール誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、ベンゾチアジアゾール誘導体、N-アルキル置換されたナフタレンテトラカルボン酸ジイミド及びN-アルキル置換されたペリレンジイミド誘導体が好ましく、フラーレン化合物、N-アルキル置換されたペリレンジイミド誘導体及びN-アルキル置換されたナフタレンテトラカルボン酸ジイミドがより好ましい。上記のうち一種の化合物を用いてもよいし、複数種の化合物の混合物を用いてもよい。また、n型半導体としては、n型高分子半導体も挙げられる。
 なお、n型の半導体化合物及びp型の半導体化合物は、それぞれ、1種を用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。
 光電変換層の作成方法としては、特に制限はないが、塗布法が好ましく、なかでも湿式塗布法が好ましい。塗布法としては、任意の方法を用いることができるが、例えば、スピンコート法、リバースロールコート法、グラビアコート法、キスコート法、ロールブラッシュ法、スプレーコート法、エアナイフコート法、ワイヤーバーバーコート法、パイプドクター法、含浸・コート法、カーテンコート法等が挙げられる。光電変換層をロール・トゥ・ロール方式で形成する場合、装置が簡便であり、コストが低く、大量に速く形成できるため、湿式塗布法を適用するのが好ましい。湿式塗布法を行う際には、被塗装層を溶解しない溶媒を選定するのが好ましい。
 光電変換層の膜厚は、特段の制限はないが、光電流を増加させるために、通常50nm以上であり、好ましくは100nm以上であり、一方、直列抵抗を抑えるために、通常1000nm以下であり、500nm以下である。
1.2.3.4 バッファ層
 本実施形態における有機薄膜太陽電池素子は、下部電極と光電変換層及び/又は上部電極と光電変換層との間にバッファ層を含んでいてもよい。バッファ層とは、電子取り出し層および/または正孔取り出し層を指す。バッファ層は、有機薄膜太陽電池素子において必須ではなく、電子取り出し層と正孔取り出し層のいずれか一方のみを含んでもよい。電子取り出し層はカソードと光電変換層との間に存在するのが好ましく、正孔取り出し層はアノードと光電変換層との間に存在するのが好ましい。
 具体的には、上部電極をアノード、下部電極をカソードとし、有機薄膜太陽電池素子がバッファ層として電子取り出し層と正孔取り出し層の両方のバッファ層を有するときは、有機薄膜太陽電池素子は、下部電極、電子取り出し層、光電変換層、正孔取り出し層、及び上部電極をこの順に有するのが好ましい。有機薄膜太陽電池素子が、電子取り出し層を有し、正孔取り出し層を有さない場合は、有機薄膜太陽電池素子が下部電極、電子取り出し層、光電変換層、上部電極をこの順に有するのが好ましい。同様に、有機薄膜太陽電池素子が、正孔取り出し層を有し、電子取り出し層を有さない場合は、有機薄膜太陽電池素子が下部電極、光電変換層、正孔取り出し層、及び上部電極をこの順に有するのが好ましい。
 また電子取り出し層と正孔取り出し層の少なくとも一方が異なる複数の層により構成されていてもよい。
 〔電子取り出し層〕
 電子取り出し層の材料は、光電変換層からカソードへ電子の取り出し効率を向上させる材料であれば特段の制限はないが、無機化合物又は有機化合物が挙げられる。
 無機化合物の材料の例としては、Li、Na、K又はCs等のアルカリ金属の塩;酸化チタン(TiOx)や酸化亜鉛(ZnO)のようなn型半導体酸化物等が挙げられる。なかでも、アルカリ金属の塩としては、LiF、NaF、KF又はCsFのようなフッ化物塩が好ましく、n型半導体酸化物としては、酸化亜鉛(ZnO)が好ましい。このような材料の動作機構は不明であるが、Al等で構成されるカソードと組み合わされた際にカソードの仕事関数を小さくし、有機薄膜太陽電池素子内部に印加される電圧を上げる事が考えられる。
 有機化合物の材料の例としては、例えば、トリアリールホスフィンオキシド化合物のようなリン原子と第16族元素との二重結合を有するホスフィン化合物;バソキュプロイン(BCP)又はバソフェナントレン(Bphen)のような、置換基を有してもよく、1位及び10位がヘテロ原子で置き換えられていてもよいフェナントレン化合物;トリアリールホウ素のようなホウ素化合物;(8-ヒドロキシキノリナト)アルミニウム(Alq3)のような有機金属酸化物;オキサジアゾール化合物又はベンゾイミダゾール化合物のような、置換基を有していてもよい1又は2の環構造を有する化合物;ナフタレンテトラカルボン酸無水物(NTCDA)又はペリレンテトラカルボン酸無水物(PTCDA)のような、ジカルボン酸無水物のような縮合ジカルボン酸構造を有する芳香族化合物等が挙げられる。
 電子取り出し層の厚さは特に限定はないが、通常0.01nm以上、好ましくは0.1nm以上、より好ましくは0.5nm以上である。一方、通常400nm以下、好ましくは200nm以下である。電子取り出し層の厚さが上記下限以上であることで、バッファ材料としての機能を果たすことになる。電子取り出し層の厚さが上記上限以下であることで、電子が取り出しやすくなり、光電変換効率が向上しうる。
 電子取り出し層の形成方法に制限はない。例えば、昇華性を有する材料を用いる場合は真空蒸着法等により形成することができる。具体的には、例えばアルカリ金属塩を電子取り出し層の材料として用いる場合、真空蒸着、スパッタ等の真空成膜方法を用いて電子取り出し層を成膜することが可能である。なかでも、抵抗加熱による真空蒸着によって、電子取り出し層を形成するのが望ましい。真空蒸着を用いることにより、光電変換層等の他の層へのダメージを小さくすることができる。
 また、例えば、溶媒に可溶な材料を用いる場合は、前述の光電変換層の作成方法と同様に、スピンコート法、リバースロールコート法、グラビアコート法、キスコート法、ロールブラッシュ法、スプレーコート法、エアナイフコート法、ワイヤーバーバーコート法、パイプドクター法、含浸・コート法、カーテンコート法等の湿式塗布法等により形成することができる。
 一方、n型半導体の金属酸化物については、例えば、酸化亜鉛ZnOを電子取り出し層の材料として用いる場合には、スパッタ法等の真空成膜方法を用いることもできるが、塗布法を用いて電子取り出し層を成膜することが望ましい。例えば、Sol-Gel Science、C.J.Brinker,G.W.Scherer著、Academic Press(1990)に記載のゾルゲル法に従って、酸化亜鉛で構成される電子取り出し層を形成できる。この場合の厚さは、通常0.1nm以上、好ましくは2nm以上、より好ましくは5nm以上であり、通常1μm以下、好ましくは100nm以下、より好ましくは50nm以下である。電子取り出し層が薄すぎると、電子の取り出し効率を向上させる効果が十分でなくなり、厚すぎると、電子取り出し層が直列抵抗成分として作用することにより素子の特性を損なう傾向がある。
 電子取り出し層をロール・トゥ・ロール方式で形成する場合、装置が簡便であり、コストが低く、大量に速く形成できるため、湿式塗布法を適用するのが好ましい。湿式塗布法を行う際には、被塗装層を溶解しない溶媒を選定するのが好ましい。
〔正孔取り出し層〕
 正孔取り出し層の材料に特に限定は無く、光電変換層からアノードへの正孔の取り出し効率を向上させることが可能な材料であれば特に限定されない。具体的には、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリアセチレン、トリフェニレンジアミン又はポリアニリン等に、スルホン酸及び/又はヨウ素等がドーピングされた導電性ポリマー;スルホニル基を置換基に有するポリチオフェン誘導体、アリールアミン等の導電性有機化合物;酸化銅、酸化ニッケル、酸化マンガン、酸化モリブデン、酸化バナジウム又は酸化タングステン等の金属酸化物;ナフィオン、後述のp型半導体等が挙げられる。その中でも好ましくは、スルホン酸をドーピングした導電性ポリマーであり、より好ましくは、ポリチオフェン誘導体にポリスチレンスルホン酸をドーピングした(3,4-エチレンジオキシチオフェン)ポリ(スチレンスルホン酸)(PEDOT:PSS)である。また、金、インジウム、銀又はパラジウム等の金属等の薄膜も使用することができる。金属等の薄膜は、単独で形成してもよいし、上記の有機材料と組み合わせて用いることもできる。
 正孔取り出し層の厚さは特に限定はないが、通常0.2nm以上である。一方、通常400nm以下、好ましくは200nm以下である。正孔取り出し層の厚さが0.2nm以上であることで、バッファ材料としての機能を果たすことになる。正孔取り出し層の厚さが400nm以下であることで、正孔が取り出し易くなり、光電変換効率が向上しうる。
 正孔取り出し層の形成方法に制限はない。例えば、昇華性を有する材料を用いる場合は真空蒸着法等により形成することができる。また、例えば、溶媒に可溶な材料を用いる場合は、スピンコート法、リバースロールコート法、グラビアコート法、キスコート法、ロールブラッシュ法、スプレーコート法、エアナイフコート法、ワイヤーバーバーコート法、パイプドクター法、含浸・コート法、カーテンコート法等の湿式塗布法等により形成することができる。正孔取り出し層は塗布により形成することが好ましい。正孔取り出し層に半導体材料を用いる場合は、後述の有機光電変換層の低分子有機半導体化合物と同様に、前駆体を用いて層を形成した後に前駆体を半導体化合物に変換してもよい。
 なかでも、正孔取り出し層の材料としてPEDOT:PSSを用いる場合、分散液を塗布する方法によって正孔取り出し層を形成することが好ましい。PEDOT:PSSの分散液としては、ヘレウス社製のCLEVIOSTMシリーズや、アグファ社製のORGACONTMシリーズ等が挙げられる。
 正孔取り出し層をロール・トゥ・ロール方式で形成する場合、装置が簡便であり、コストが低く、大量に速く形成できるため、湿式塗布法を適用するのが好ましい。湿式塗布法を行う際には、被塗装層を溶解しない溶媒を選定するのが好ましい。
1.2.4 集電線
 一般的な薄膜太陽電池モジュールは、通常、薄膜太陽電池素子から電気を取り出すための集電線を有する。集電線の材料としては、金属や合金などがよく用いられ、その中でも抵抗率の低い銅やアルミ、銀、金、ニッケルなどを用いることが好ましい。その中でも銅やアルミが安価であることから、特に好ましい。また、錆防止のため、集電線の周囲をスズや銀などでメッキしたり、表面を樹脂などでコートしてあったり、フィルムをラミネートしてあってもよい。集電線の形状としては、平角線、箔、平板、ワイヤー状のものがあるが、接着面積の確保などの理由から、平角線や、箔、平板状のものを用いることが好ましい。
 なお、ここでいう「箔」は厚さが100μm未満のものをいい、「板」は厚さが100μm以上のものをいう。また「平角線」とは、断面が円形のワイヤーを圧延して、断面の形状を四角形にしたものをいう。
 また集電線は、導電性を有する限り特段の限定はされないが、接続する上部電極や下部電極よりも電気抵抗値が低いものが好ましく、特に、上部電極や下部電極より厚さを厚くすることによって、電気抵抗値を低減させることが好ましい。集電線の厚さとしては、5μm以上であることが好ましく、より好ましくは10μm以上である。また、2mm以下であることが好ましく、より好ましくは1mm以下、さらに好ましくは300μm以下、特に好ましくは200μm以下である。上記範囲より厚さが薄いと、集電線の抵抗値が上昇し、発電した電力を効率よく外部に取り出すことができなくなる恐れがある。また、上記範囲より厚さが厚いと、薄膜太陽電池モジュールの重量が増加するとともに可撓性が減少したり、モジュール表面に凹凸が発生しやすくなったり、生産コストが増加するなどの問題が生じる恐れがある。
 また、集電線の幅としては、0.5mm以上であることが好ましく、より好ましくは1mm以上、特に好ましくは2mm以上である。また、集電線の幅は、50mm以下であることが好ましく、より好ましくは20mm以下、特に好ましくは10mm以下である。上記範囲より集電線の幅が狭いと、集電線の電気抵抗値が上昇し、発電した電力を効率よく取り出すことができなくなる恐れがある。また、集電線の機械強度が減少し、破断等の原因になる恐れがある。また、上記範囲より集電線の幅が広いと、モジュール全体における開口率が減少し、モジュールの発電量の低下に繋がる恐れがある。
 また、集電線の形状をエンボス形状にすることもできる。エンボス形状とは、何らかの凹凸形状を型押しする等により施された形状を意味する。集電線をエンボス形状にすることで、接着層を用いても、エンボス形状の凹凸の一部が電極に直接接するか、または極めて近接することができるため導電性が高まる。
 エンボス深さは、通常5~100μmであり、10~50μmであることが好ましい。なお、エンボス深さとは、エンボス加工によって形成された凸部の高さを意味していて、具体的には凸部を含む厚さから集電線の厚さを差し引いた値である。このようなエンボス深さとすることで、エンボスの凸部が電極に直接接することができるため好ましい。
 集電線は、導電接着層を介して電極に接続させる。太陽電池の電極に設置する導電性接着成分として、導電性粒子を含む熱硬化性組成物、導電性粒子を含む熱可塑性塑性物、はんだ、金属ペースト、等が知られており、公知の導電接着層を用いることができる。
 本実施形態においては、ガスバリア層が封止層の全面を覆いかつ、ガスバリア層が薄膜太陽電池素子よりも大きく積層される。具体的には、水分又は酸素による劣化を防止し、長期にわたって太陽電池素子の性能を維持するためには、ガスバリア層の端面と素子基板の端面との距離が5mm以上になるようにガスバリア層の端面を素子基板の端面の外側に設置するのが好ましい。
 また、本実施形態においては、薄膜太陽電池素子として有機薄膜太陽電池素子を用いる場合、集電線設置領域の集電線幅方向の中央の有機薄膜太陽電池モジュールの厚さx(μm)と、有機薄膜太陽電池素子の外周端から5mm外側の有機薄膜太陽電池モジュールの厚さy(μm)とが以下の式(I)を満たすことが好ましい。以下、図を用いて説明する。
 (x-y)≦90   (I)
 本実施形態における集電線設置領域とは、図4において、集電線11の左右両端、すなわち集電線の外縁に接する有機薄膜太陽電池モジュールの厚さ方向に水平な面が、有機薄膜太陽電池モジュールの表面と交わる線より囲まれる、有機薄膜太陽電池モジュールの表面における領域であり、鎖線13で示された領域である。集電線設置領域13の集電線幅方向の中央の有機薄膜太陽電池モジュールの厚さx(μm)とは、具体的には例えば、図4におけるB-B´一点鎖線の位置における有機薄膜太陽電池モジュールの厚さである。有機薄膜太陽電池素子の外周端から5mm外側の薄膜太陽電池モジュールの厚さy(μm)とは、図中C-C´二点鎖線で示される有機薄膜太陽電池素子の端面から有機薄膜太陽電池モジュールの端面に向かって5mm外側の位置の厚さであり、図4におけるD-D´点線の位置における有機薄膜太陽電池モジュールの厚さである。なお、図中A-A´鎖線は、有機薄膜太陽電池モジュールの中央部を示す。
 有機薄膜太陽電池モジュールの厚さとは、有機薄膜太陽電池モジュールの、有機薄膜太陽電池素子に対して第二ガスバリア層側の表面と第一ガスバリア層側の表面との最短距離であり、通常、前記第二ガスバリア層側の表面に対して法線方向の有機薄膜太陽モジュールの長さを意味する。有機薄膜太陽電池モジュールの厚さは、例えば接触厚さ計(KG601A、アンリツ株式会社製)を用いて測定することができる。
 本実施形態において上記式(I)は、有機薄膜太陽電池モジュールを水貼りにより施工対象物に貼り付ける際に、水や気泡を有機薄膜太陽電池モジュールと施工対象物との間から除去しやすい範囲を規定したものである。
 ウインドフィルムをガラス等の施工対象物に貼り付ける際には、ウインドフィルムとガラスの間に存在する水や気泡を除去するため、スキージでフィルム表面の中央部分から外側に圧力を均一に加えながら順次擦り付けて、フィルムとガラスを密着させる必要がある。本実施形態において有機薄膜太陽電池モジュールは、封止された集電線や有機薄膜太陽電池素子により、その表面に段差を生じ得る。有機薄膜太陽電池モジュールの表面に段差があると、特に、有機薄膜太陽電池モジュールの厚さが厚い箇所から薄い箇所にスキージを移行する段差の領域は、スキージの圧力が弱くなり、有機薄膜太陽電池モジュールに均一に圧力を加える事が困難で、水や気泡が追い出せない。
 上記の式(I)は、有機薄膜太陽電池モジュールの最も厚い箇所の厚さx(μm)と最も薄い箇所の厚さy(μm)の差の上限を規定するものである。すなわち、本実施形態の構成による有機薄膜太陽電池モジュールにおいて、有機薄膜太陽電池モジュールの最も厚い場所として集電線設置領域の集電線幅方向の中央部(前記xに対応)を、最も薄い場所として通常有機薄膜太陽電池素子の外周端からモジュール端部方向へ5mmの位置(前記yに対応)を規定したものである。
 本実施形態において(x-y)(μm)は90以下が好ましく、85以下がより好ましく、80以下が更に好ましい。下限は限定されないが、通常0.5以上、好ましくは1以上、より好ましくは3以上、より好ましくは5以上である。
 第一封止層及び第二封止層の25℃、周波数10Hzにおける貯蔵弾性率は特段の制限はないが、封止層の貯蔵弾性率が小さすぎると、スキージの際に、水や気泡を充分に取り除くことができなくなる場合がある。そのため、第一封止層及び第二封止層の25℃、周波数10Hzにおける貯蔵弾性率は、1×106以上であることが好ましく、5×106Pa以上であることがさらに好ましく、1×107以上であることが特に好ましい。一方で、フレキシブル性を担保するために、第一封止層及び第二封止層の25℃、周波数10Hzにおける貯蔵弾性率は、6×109以下であることが好ましく、2×109以下であることが特に好ましい。
 また、有機薄膜太陽電池モジュールの厚さが900μm以下の場合、段差の問題が顕著になる傾向がある。そのため、有機薄膜太陽電池モジュールの厚さが900μm以下の場合に、(x-y)(μm)を上記の範囲とすることで、本発明はより効果的である。なかでも、有機薄膜太陽電池モジュールの厚さが700μ以下の場合にさらに有効であり、有機薄膜太陽電池モジュールの厚さが500μm以下の場合に特に有効である。一方で、有機薄膜太陽電池モジュールの厚さが小さすぎると、有機薄膜太陽電池モジュールに折れが発生しやすくなるために、有機薄膜太陽電池モジュールの厚さは通常100μm以上である。
 上記上限以下であることにより、スキージで有機薄膜太陽電池モジュールの表面を順次均一に圧力を加えながら擦り付けて施工対象物に密着させる際に、有機薄膜太陽電池モジュールの表面の段差部分に圧力を均一に加える事ができ、有機薄膜太陽電池モジュールと施工対象物であるガラスの間にある水と気泡を効率的に追い出すことができる。また、上記下限以上であることにより、有機薄膜太陽電池モジュールに使用する集電線の種類の選択肢が多くなる。有機薄膜太陽電池素子から取り出す電圧および又は電流を大きくする場合には、集電線を厚くする必要があるため、集電線の選択肢を増やすことにより、有機薄膜太陽電池モジュールの設計の自由度を上げることができる。また、有機薄膜太陽電池モジュールを製造する際の積層条件の自由度が上がるため好ましい。さらには、有機薄膜太陽電池モジュール内での有機薄膜太陽電池素子配列の自由度も上げることができる。
 (x-y)(μm)の値は、例えば、封止層、集電線、および/または有機薄膜太陽電池素子の厚さを設定したり、有機薄膜太陽電池モジュールの積層条件において付加する熱および/または圧力を調整することにより制御できる。例えば、第二封止層の厚さを有機薄膜太陽電池素子に接続している集電線の厚さよりも厚くしたり、第一封止層および第二封止層の厚さの和を有機薄膜太陽電池素子および集電線の厚さの和より大きくすることで、上記上限以下にすることができる。
 x(μm)およびy(μm)の範囲は限定されないが、x(μm)は300以上が好ましく、330以上がより好ましく、340以上が更に好ましく、350以上が最も好ましい。上限は限定されないが、通常2000以下である。
 x(μm)が上記下限以上であることにより、(x-y)(μm)を小さくしやすくなり、スキージ施工の際に有機薄膜太陽電池モジュールに圧力を均一に加える事が出来、有機薄膜太陽電池モジュールと施工対象物であるガラスとの間にある水と気泡を除去しやすくなる。
 y(μm)は230以上が好ましく、280以上が更に好ましく、320以上が最も好ましい。有機薄膜太陽電池素子の外周端からモジュール端部方向へ5mm以内の領域に、有機薄膜太陽電池モジュールの大きな凹が少なくなり、スキージ施工の際に圧力を均一に加える事が出来、有機薄膜太陽電池モジュールと施工対象物との間にある水と気泡を除去できる。y(μm)は、例えば第一ガスバリア層および第二ガスバリア層の厚さを有機薄膜太陽電池素子と集電線の和より厚くすることで制御できる。
1.2.5 その他の層
 本発明に係る有機薄膜太陽電池モジュールは、上記以外の構成部材を有していてもよい。例えば、ガスバリア層の表面、ガスバリア層と封止層との間、ガスバリア層と粘着層との間に、保護層、紫外線カット層、ゲッター材層等を有してもよい。また、これらの層をガスバリア層として使用することもできる。ゲッター層をガスバリア層と封止層との間に備えた有機薄膜太陽電池モジュールの構成例を、図3に示す。また、図3には、上部電極に集電線11を設置した構成である。
(ゲッター層)
 ゲッター層は水分及び/又は酸素を吸収する層である。薄膜太陽電池素子の構成部品のなかには前記のように水分で劣化するものがあり、また、酸素によって劣化するものもある。そこで、ゲッター層で薄膜太陽電池素子を覆うことにより、薄膜太陽電池素子等を水分及び/又は酸素から保護し、発電性能を高く維持するようにしている。
 ここで、水分ゲッター層は前記のようなガスバリア層とは異なり、水分の透過を妨げるものではなく、水分を吸収するものである。水分を吸収する層を用いることにより、ガスバリア層等で薄膜太陽電池素子を被覆した場合に、ガスバリア層間で形成される空間に僅かに浸入する水分をゲッター層が捕捉して水分による薄膜太陽電池素子への影響を排除できる。
 ゲッター層の水分吸収能力の程度は、通常0.1mg/cm2以上、好ましくは0.5mg/cm2以上、より好ましくは1mg/cm2以上である。この数値が高いほど水分吸収能力が高く薄膜太陽電池素子の劣化を抑制しうる。また、上限に制限は無いが、通常10mg/cm2以下である。
 また、ゲッター層が酸素を吸収することにより、ガスバリア層等で薄膜太陽電池素子を被覆した場合に、ガスバリア層で形成される空間に僅かに浸入する酸素をゲッター層が捕捉して酸素による薄膜太陽電池素子への影響を排除できる。
 さらに、ゲッター層は、薄膜太陽電池素子の光吸収を妨げない観点から可視光を透過させるものが好ましい。例えば、可視光(波長360~830nm)の光の透過率は、通常60%以上、好ましくは70%以上、より好ましくは75%以上、更に好ましくは80%以上、中でも好ましくは85%以上、とりわけ好ましくは90%以上、特に好ましくは95%以上、その中でも特に好ましくは97%以上である。太陽光をより多く電気エネルギーに変換するためである。
 さらに、有機薄膜太陽電池モジュールは光を受けて熱せされることが多いため、ゲッター層も熱に対する耐性を有することが好ましい。この観点から、ゲッター層の構成材料の融点は、通常100℃以上、好ましくは120℃以上、より好ましくは130℃以上であり、また、通常350℃以下、好ましくは320℃以下、より好ましくは300℃以下である。融点を高くすることで有機薄膜太陽電池モジュールの使用時にゲッター層が融解・劣化する可能性を低減できる。
 ゲッター層を構成する材料は、水分及び/又は酸素を吸収することができるものであれば任意である。その材料の例を挙げると、水分を吸収する物質としてアルカリ金属、アルカリ土類金属又はアルカリ土類金属の酸化物;アルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物;シリカゲル、ゼオライト系化合物、硫酸マグネシウム、硫酸ナトリウム又は硫酸ニッケル等の硫酸塩;アルミニウム金属錯体又はアルミニウムオキサイドオクチレート等の有機金属化合物等が挙げられる。具体的には、アルカリ土類金属としては、Ca、Sr又はBa等が挙げられる。アルカリ土類金属の酸化物としては、CaO、SrO又はBaO等が挙げられる。その他にZr-Al-BaOやアルミニウム金属錯体等も挙げられる。具体的な商品名を挙げると、例えば、OleDry(双葉電子社製)等が挙げられる。
 酸素を吸収する物質としては、活性炭、シリカゲル、活性アルミナ、モレキュラーシーブ、酸化マグネシウム又は酸化鉄等が挙げられる。またFe、Mn、Zn、及びこれら金属の硫酸塩・塩化物塩・硝酸塩等の無機塩も挙げられる。
 なお、ゲッター層は1種の材料で形成されていてもよく、2種以上の材料で形成されていてもよい。また、ゲッター層は単層で形成されていてもよいが、2層以上からなる積層体であってもよい。
 ゲッター層の厚さは特に規定されないが、通常5μm以上、好ましくは10μm以上、より好ましくは15μm以上であり、また、通常200μm以下、好ましくは180μm以下、より好ましくは150μm以下である。厚さを厚くすることで機械的強度が高まる傾向にあり、薄くすることで柔軟性が高まる傾向にある。
 ゲッター層の25℃、周波数10Hzにおける貯蔵弾性率は、特段の制限はないが、外的応力を受けた際のゲッター層の変形の影響による有機薄膜太陽電池素子の破損を防止するために、1.0×106Pa以上であることが好ましく、5.0×106Pa以上であることがさらに好ましく、1.0×107Pa以上であることが特に好ましい。一方、太陽電池モジュールを曲げた際に、第一封止層にかかる曲げ応力に対する緩和層としての機能を持たせ、有機薄膜太陽電池素子内の層剥離を防ぐために、ゲッター層の25℃、周波数10Hzにおける貯蔵弾性率は、5.0×108Pa以下であることが好ましく、3.0×108Pa以下であることがさらに好ましく、1.0×108Pa以下であることが特に好ましい。
 ゲッター層は、ガスバリア層間で形成される空間内であればその形成位置に制限は無いが、薄膜太陽電池素子の両面、具体的には、受光面側の面(図3における下側の面)及び受光面側と反対側の面(図3における上側の面)を覆うことが好ましい。有機薄膜太陽電池モジュールにおいてはその受光面側の面及び受光面側と反対側の面が他の面よりも大面積に形成されることが多いため、これらの面を介して水分及び酸素が浸入する傾向があるからである。この観点から、ゲッター層はガスバリア層と薄膜太陽電池素子との間に設けることが好ましい。
 ゲッター層は吸水剤又は乾燥剤の種類に応じて任意の方法で形成することができるが、例えば、吸水剤又は乾燥剤を分散したフィルムを粘着剤で添付する方法、吸水剤又は乾燥剤の溶液をスピンコート法、インクジェット法又はディスペンサー法等で塗布する方法等を用いることができる。また真空蒸着法やスパッタリング法等の成膜法を使用してもよい。
 吸水剤又は乾燥剤のためのフィルムとしては、例えば、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリロニトリル-スチレン共重合体(AS樹脂)、アクリロニトリル-ブタジエン-スチレン共重合体(ABS樹脂)、ポリ塩化ビニル系樹脂、フッ素系樹脂、ポリ(メタ)アクリル系樹脂又はポリカーボネート系樹脂等を用いることができる。中でも、ポリエチレン系樹脂、フッ素系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂又はポリカーボネート系樹脂のフィルムが好ましい。なお、前記樹脂は1種を用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。
(保護層)
 上述の通り、本発明に係る有機薄膜太陽電池モジュールは、保護層(表面保護層及び/又は裏面保護層)を有していてもよい。
 保護層は温度変化、湿度変化、光、風雨など、有機薄膜太陽電池モジュールの設置環境から有機薄膜太陽電池モジュールを保護する層である。保護層で有機薄膜太陽電池モジュール表面を覆うことにより、有機薄膜太陽電池モジュールの成材料、特に有機薄膜太陽電池素子が保護され、劣化することなく、高い発電能力を得ることができるという利点がある。
 保護層は、有機薄膜太陽電池モジュールの最表層に位置するため、耐候性、耐熱性、透明性、撥水性、耐汚染性、機械強度などの、有機薄膜太陽電池モジュールの表面被覆材として好適な性能を備え、しかもそれを屋外暴露において長期間維持する性質を有することが好ましい。
 また、保護層は、有機薄膜太陽電池素子の受光面側に用いられる場合、光吸収を妨げない観点から可視光を透過させるものが好ましい。例えば、可視光(波長360~830nm)の光の透過率は、通常75%以上、好ましくは80%以上、より好ましくは85%以上、さらに好ましくは90%以上、なかでも好ましくは95%以上、特に好ましくは97%以上である。これは、太陽光をより多く電気エネルギーに変換するためである。
 さらに、保護層は、施工対象物との一体感や外観等の意匠性の観点から曇り度(ヘーズ)が低いものが好ましい。例えば、JIS K 7136で規定されるD65光源を使用する場合のヘーズ値は通常10以下、好ましくは5以下、より好ましくは2以下、さらに好ましくは1以下である。
 一方、薄膜太陽電池素子の受光面と反対側の保護層は、必ずしも可視光を透過させる必要がなく不透明でもよいが、窓ガラス等の透明な施工対象物に貼り付けた場合は、薄膜太陽電池素子の受光面側と同様の可視光透過率および曇り度を有することが好ましい。
 さらに、薄膜太陽電池素子は光を受けて熱せられることが多いため、保護層も熱に対する耐性を有することが好ましい。この観点から、保護層の構成材料の融点は、通常100℃以上、好ましくは120℃以上、より好ましくは130℃以上であり、また、通常350℃以下、好ましくは320℃以下、より好ましくは300℃以下である。融点を高くすることで薄膜太陽電池素子の使用時に保護層が融解・劣化する可能性を低減できる。
 保護層を構成する材料は、有機薄膜太陽電池モジュールを保護することができるものであれば任意である。その材料の例を挙げると、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、環状ポリオレフィン樹脂、AS(アクリロニトリル-スチレン)樹脂、ABS(アクリロニトリル-ブタジエン-スチレン)樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、フッ素系樹脂、ポリエチレンテレフタラート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂、フェノール樹脂、ポリアクリル系樹脂、各種ナイロン等のポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド-イミド樹脂、ポリウレタン樹脂、セルロース系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリカーボネート樹脂などが挙げられる。
 中でも好ましくはフッ素系樹脂が挙げられ、その具体例を挙げるとポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、4-フッ化エチレン-パークロロアルコキシ共重合体(PFA)、4-フッ化エチレン-6-フッ化プロピレン共重合体(FEP)、2-エチレン-4-フッ化エチレン共重合体(ETFE)、ポリ3-フッ化塩化エチレン(PCTFE)、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)及びポリフッ化ビニル(PVF)等が挙げられる。
 なお、保護層は1種の材料で形成されていてもよく、2種以上の材料で形成されていてもよい。また、保護層は単層フィルムにより形成されていてもよいが、2層以上のフィルムを備えた積層フィルムであってもよい。
 保護層の厚さは特に規定されないが、通常10μm以上、好ましくは15μm以上、より好ましくは20μm以上、更に好ましくは30μm以上、特に好ましくは50μm以上であり、また、通常200μm以下、好ましくは180μm以下、より好ましくは150μm以下である。上記下限以上であることで有機薄膜太陽電池モジュールの機械的強度が高まる傾向にあり、上記上限以下であることで柔軟性が高まる傾向にある。このため、両方の利点を兼ね備える範囲として、上記範囲とするのが望ましい。
 また保護層には、他のフィルムとの接着性の改良のために、コロナ処理、プラズマ処理等の表面処理を行なってもよい。
 保護層は、有機薄膜太陽電池モジュールにおいてできるだけ外側に設けることが好ましい。デバイス構成部材のうちより多くのものを保護できるようにするためである。
 また、保護層に紫外線遮断、熱線遮断、防汚性、親水性、疎水性、防曇性、耐擦性、導電性、反射防止、防眩性、光拡散、光散乱、波長変換、ガスバリア性等の機能を付与してもよい。特に、有機薄膜太陽電池の場合は、太陽光の紫外線により劣化する場合があるため、紫外線遮断機能を持つことが好ましい。
 このような機能を付与する方法としては、機能を有する層を塗布成膜等により保護層上に積層してもよいし、機能を発現する材料を溶解・分散させるなどして保護層に含有させてもよい。
 また保護層には、有機薄膜太陽電池モジュールのハンドリングの際の傷付き防止、施工対象物へ水貼りする際のスキージによる傷付き防止、さらには保護層の平滑性を向上させるために、ハードコート層を設けてもよい。
 ハードコート層としては、従来公知のものを使用することができ、紫外線硬化樹脂;電子線硬化樹脂;アルコキシシラン加水分解縮合系樹脂;メラミン系樹脂;(メタ)アクリレート系アルコール変性多官能化合物、トリメチロールプロパン(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、1,6ヘキサンジオール(メタ)アクリレート等のアクリル系樹脂等からなる層が挙げられるが、これらに限定されるものではない。ハードコート層としては、硬度が鉛筆硬度で2H以上であるのが好ましく、3H以上であるのがさらに好ましい。またその膜厚は1~10μmであることが好ましい。1μm未満であると耐擦傷性の効果が十分でない可能性があり、10μm以上であるとハードコート層の硬化収縮により保護層がカールする場合がある。
(紫外線カット層)
 上述の通り、本発明に係る有機薄膜太陽電池モジュールは、紫外線カット層を有していてもよい。
 紫外線カット層は紫外線の透過を防止する層である。
 有機薄膜太陽電池モジュールの構成部品のなかには紫外線により劣化するものがある。また、ガスバリア層は種類によっては紫外線により劣化するものがある。そこで、紫外線カット層を有機薄膜太陽電池モジュールの受光部分に設け、紫外線カット層で薄膜太陽電池素子の受光面を覆うことにより、薄膜太陽電池素子及び必要に応じてガスバリア層を紫外線から保護し、発電性能を高く維持することができるようになっている。
 紫外線カット層に要求される紫外線の透過抑制能力の程度は、紫外線(例えば、波長300nm)の透過率が50%以下であることが好ましく、30%以下であることがより好ましく、特に好ましくは10%以下である。
 また、紫外線カット層は、薄膜太陽電池素子の光吸収を妨げない観点から可視光を透過させるものが好ましい。例えば、可視光(波長360~830nm)の光の透過率が80%以上であることが好ましく、90%以上であることがより好ましく、特に好ましくは95%以上である。
 さらに、有機薄膜太陽電池モジュールは光を受けて熱せられることが多いため、紫外線カット層も熱に対する耐性を有することが好ましい。この観点から、紫外線カット層の構成材料の融点は、通常100℃以上、好ましくは120℃以上、より好ましくは130℃以上である。また、通常350℃以下、好ましくは320℃以下、より好ましくは300℃以下である。融点が低すぎると有機薄膜太陽電池モジュールの使用時に紫外線カット層が融解する可能性がある。
 また、紫外線カット層は、柔軟性が高く、隣接する層との接着性が良好であり、水蒸気や酸素をカットしうるものが好ましい。
 紫外線カット層を構成する材料は、紫外線の強度を弱めることができるものであれば任意である。その材料の例として、エポキシ系、アクリル系、ウレタン系又はエステル系の樹脂に紫外線吸収剤を配合して成膜した層などが挙げられる。また、紫外線吸収剤を樹脂中に分散あるいは溶解させたものの層(以下、適宜「紫外線吸収層」という)を基材フィルム上に形成した積層体として用いてもよい。
 紫外線吸収剤としては、例えば、サリチル酸系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、シアノアクリレート系のものを用いることができる。中でもベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系が好ましい。この例としては、ベンゾフェノン系やベンゾトリアゾール系の種々の芳香族系有機化合物等が挙げられる。なお、紫外線吸収剤は、1種を用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。
 紫外線カット層の具体的な商品の例として、カットエース(MKVプラスティック株式会社)等が挙げられる。
 なお、紫外線カット層は1種の材料で形成されていてもよく、2種以上の材料で形成されていてもよい。また、紫外線カット層は単層フィルムにより形成されていてもよいが、2層以上を備えた積層体であってもよい。
 紫外線カット層の厚さは特に規定されないが、通常5μm以上、好ましくは10μm以上、より好ましくは15μm以上である。また、通常200μm以下、好ましくは180μm以下、より好ましくは150μm以下である。厚さを厚くすることで紫外線の吸収が高まる傾向にあり、薄くすることで可視光の透過率を増加させられる傾向にある。
 紫外線カット層は、薄膜太陽電池素子の受光面の少なくとも一部を覆う位置に設ければよい。好ましくは薄膜太陽電池素子の受光面の全てを覆う位置に設ける方がよい。ただし、薄膜太陽電池素子の受光面を覆う位置以外の位置にも紫外線カット層が設けられていてもよい。
1.2.6 粘着層
 本実施形態に係る有機薄膜太陽電池モジュールは、窓ガラスに設置するための粘着層を有するのが好ましい。粘着層は有機薄膜太陽電池モジュールの最外層に位置し、有機薄膜太陽電池モジュールをガラス等の施工対象物に貼着するための層である。
 粘着層としては、公知の透明な粘着剤を用いることができる。例えば、アクリル系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤、及びポリウレタン系粘着剤などが挙げられる。中でも耐候性および透明性の観点からアクリル系粘着材が好ましい。
 粘着層は、有機薄膜太陽電池モジュールの、有機薄膜太陽電池素子の基板側(受光面)又は光電変換層側(非受光面)の最外層に、公知の方法で設けることができるが、有機薄膜太陽電池素子の発電効率の観点から有機薄膜太陽電池素子の基板側(受光面)の最外層に設ける方が好ましい。
 粘着層は、有機薄膜太陽電池モジュールの受光面又は非受光面側の最外層に、公知の方法で設けることができる。例えば、剥離紙上に粘着材を設け、太陽電池の最外層にドライラミネートしたのち、剥離紙を剥がすことにより設けることができる。
 粘着層は、窓ガラス破損時にガラスが飛び散らないために充分な接着力や粘着力を有することが好ましい。具体的には、JIS A 5759に示された方法で、約4.0N/25mm以上の剥離力を有するものを用いることができる。
 粘着層の厚さは、特に限定されないが、例えば通常20μm以上、好ましくは30μm以上、より好ましくは50μm以上であり、通常500μm、好ましくは300μm以下、より好ましくは200μm以下である。上記下限以上であることで充分な粘着性が担保され、上記上限以下であることで、窓ガラス等の施工対象物に設置する際のスキージ性が向上する。
 なお、有機薄膜太陽電池モジュールは、上記の構成部材等を用いて公知の方法により製造することができる。例えば、ガスバリア層、封止層、薄膜太陽電池素子等を積層する工程と、当該積層体を真空吸引し加熱圧着することにより製造することができる。また、バッチ方式で製造してもよいし、ロール・ツー・ロール方式により製造することもできる。
2.有機薄膜太陽電池モジュールの施工方法
 有機薄膜太陽電池モジュールの施工方法は施工対象物により任意に選択することができるが、本実施形態の有機薄膜太陽電池モジュールは、太陽電池一体型ウインドフィルムとして好適に用いることができ、その場合は一般的なウインドフィルムと同様の方法で施工することができる。
 一般的なウインドフィルムは水貼りという方法でガラスに貼られる。この水貼りという貼り方は、フィルムをガラスに貼る際に、フィルムの粘着面およびガラス面に噴霧器で微量の中性洗剤を含む水を噴霧してから仮貼りし、その後スキージでフィルム表面を順次均一に擦り付けて密着させる。その結果、フィルムとガラスの間にある水と気泡がフィルム端部から追い出され、シワおよび気泡のない良好な貼合面を得ることができる。
3.用途
 本発明の有機薄膜太陽電池モジュールは、建物や車両等の、窓、ドア、壁面、又は天井等のガラス等、パーティション等のガラス等の被着体に貼りつけて使用することができる。この際、太陽光、室内の照明、室内の太陽光の散乱光等を利用して発電し、集電線から取り出した電力を、公知の電流電圧変換回路、蓄電池等を利用して充電、利用することができる。特に、本発明の有機薄膜太陽電池モジュールは、太陽電池一体型ウインドフィルムとして耐久性、意匠性に優れる。
 以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
<評価手法A>
 本実施例において、有機薄膜太陽電池モジュールの評価は以下の方法で行った。
 [封止層の貯蔵弾性率]
 封止層を塗布、もしくは積層し、シリコーン離型PETフィルム上で溶融させた後に、プレス、冷却過程を経て厚さ200μmとなるようにシート状サンプルを作成した。得られたシート状サンプルから縦4mm、横60mm、厚さ200μmの短冊状サンプルを切り出した。
 作製した短冊状サンプルを動的粘弾性測定装置(RSAIII、ティー・エイ・インスツルメント社製)を用いて温度分散測定(振動周波数:10Hz、昇温速度:2℃/分、歪0.05%の条件で、貯蔵弾性率(E’)を-100℃~100℃まで測定)を行い、25℃、周波数10Hzにおける貯蔵弾性率(E’)を測定した。
 [トリミング後の切断面]
 有機薄膜太陽電池モジュールの作成後、一般的に用いられるラシャ鋏を使用して所定寸法で裁断した。裁断は、ガスバリア層端面と素子基板端面の間のうち、該素子基板端面から5mm以上離れた位置で行なった。モジュール端部を観察し、以下の基準に照らし合わせて評価した。
 ○:有機薄膜太陽電池モジュール端部切断面の剥離なし
 ×:有機薄膜太陽電池モジュール端部切断面の一部もしくは全面に剥離あり
 [素子耐久性(EL発光)]
 作成した有機薄膜太陽電池モジュールをスキージ施工による水貼りを行なった後、アイテス社製太陽電池EL検査装置を使用して薄膜太陽電池素子のEL発光を評価した。評価基準は以下のとおりである。
 ○:薄膜太陽電池素子の初期のEL発光画像とスキージ後のEL発光画像の変化がない
 △:薄膜太陽電池素子の初期のEL発光画像とスキージ後のEL発光画像を比較した場合、スキージ圧による損傷部が初期面積に対して5%未満
 ×:薄膜太陽電池素子の初期のEL発光画像とスキージ後のEL発光画像を比較した場合、スキージ圧による損傷部が初期面積に対して5%以上
 [曲げ試験]
 作製した有機薄膜太陽電池モジュールを曲率半径85mmで曲げ、有機薄膜太陽電池モジュール内部の層間剥離の有無を確認した。評価基準は以下のとおりである。
 ○:有機薄膜太陽電池モジュールを曲げた後に内部に層間剥離が起きていない。
 ×:有機薄膜太陽電池モジュールを曲げた後に内部に層間剥離が発生していた。
<実施例A1>
 図2の模式断面図に示す層構成を有する薄膜太陽電池モジュールを以下の手順で作成した。
 積層前の前準備として、100μmのPEN基材上に形成した、縦150mm、横100mmの複数の有機薄膜太陽電池素子(PEN基材と有機薄膜太陽電池素子の厚さの合計は120μm)の、両端の有機薄膜太陽電池素子の上部電極上に、導電性熱硬化樹脂組成物付集電線(デグセリアルズ社製 DT101C4、(導電性粒子としてニッケル粒子を含むエポキシ系導電性硬化樹脂、硬化温度120℃)15μm+銅箔35μm厚、幅4mm)を設置した。
 さらに、第一ガスバリア層として厚さ60μmのバリアフィルム(三菱樹脂製、VIEW-BARRIER、VDK3DA)に、第一封止層として厚さ40μmのブチルゴム系粘着剤(住友3M社製)を積層した縦300mm、横200mmのフィルム1と、第二ガスバリア層として厚さ60μmのバリアフィルム(三菱樹脂製、VIEW-BARRIER、VDK3DA)に、第二封止層として厚さ40μmのブチルゴム系粘着剤(住友3M社製)を積層した縦300mm、横200mmのフィルム2を作製した。次に、第一ガスバリア層、第一封止層、有機薄膜太陽電池素子、素子基板、第二封止層、及び第二ガスバリア層の順になるように、PEN基材上に形成された有機薄膜太陽電池素子と、フィルム1及びフィルム2を重ねた積層体を、真空ラミネータ(NPC社製、NLM-270×400)に投入した。最初にラミネータ内部を減圧下で30分間保持した後、積層体を大気圧で圧着状態としつつ、120℃で5分間保持し、冷却後、第二ガスバリア層に厚さ120μmの市販のアクリル系粘着剤をロールラミ機(MCK製、MRS630A)で貼り合わせて有機薄膜太陽電池モジュールを製造した。
<実施例A2>
 第一および第二封止層を厚さ60μmのオレフィン樹脂(クラボウ社製、クランベター、M-2)としたこと以外は、実施例A1と同様に有機薄膜太陽電池モジュールを製造した。
<実施例A3>
 第一および第二封止層の厚さを20μmとしたこと以外は、実施例A1と同様に有機薄膜太陽電池モジュールを製造した。
<実施例A4>
 第一および第二封止層の厚さを60μmとしたこと以外は、実施例A1と同様に有機薄膜太陽電池モジュールを製造した。
<実施例A5>
 第一および第二封止層を厚さ50μmのエチレン-酢酸ビニル共重合体(EVA)樹脂(シーアイ化成社製、UFHCE40)としたこと以外は、実施例A1と同様に有機薄膜太陽電池モジュールを製造した。
<実施例A6>
 第二封止層を用いない以外は、実施例A4と同様に有機薄膜太陽電池モジュールを製造した。
<比較例A1>
 第一および第二封止層を厚さ20μmのアクリル系粘着剤(綜研化学社製、SKダイン、主剤1811L/硬化剤L-45、固形分配合比:100/1)としたこと以外は、実施例A1と同様に、有機薄膜太陽電池モジュールを製造した。
<比較例A2>
 第一および第二封止層を厚さ60μmのエポキシ系熱硬化接着剤(スリーボンド製、16X134)としたこと以外は、実施例A2と同様に、有機薄膜太陽電池モジュールを製造した。
<比較例A3>
 第一および第二封止層の厚さを60μmとしたこと以外は、比較例A1と同様に有機薄膜太陽電池モジュールを製造した。
<比較例A4>
 第一および第二封止層を厚さ50μmのSEBS系樹脂(旭化成ケミカルズ社製、タフテックH1221)としたこと以外は、実施例A1と同様に、有機薄膜太陽電池モジュールを製造した。
<比較例A5>
 第一および第二封止層を厚さ20μmのポリビニルブチラール樹脂(積水化学工業社製、エスレックBH-6)としたこと以外は、実施例A1と同様に、有機薄膜太陽電池モジュールを製造した。
<比較例A6>
 光電変換層として、アモルファスシリコンを用いたこと以外は、比較例A3と同様に有機薄膜太陽電池モジュールを製造した。
<比較例A7>
 光電変換層として、アモルファスシリコンを用いたこと以外は、実施例A2と同様に有機薄膜太陽電池モジュールを製造した。
<比較例A8>
 第二封止層を用いない以外は、比較例A3と同様に有機薄膜太陽電池モジュールを製造した。
 表1に、実施例A1~A6および比較例A1~A8の有機薄膜太陽電池モジュールの評価結果を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
 表1の結果から分かるように、第一の封止層及び第二の封止層の貯蔵弾性率が共に5×106Pa未満である比較例A1、比較例A3及び比較例A4に係る有機薄膜太陽電池モジュールは、いずれも水貼り施工の際のスキージ施工後において、有機薄膜太陽電池素子において層間剥離が発生しており、その結果、著しく意匠性が損なわれた。また、第一の封止層及び第二の封止層の貯蔵弾性率が共に1×108Paより大きい比較例A2及びA5に係る有機薄膜太陽電池モジュールにおいても、有機薄膜太陽電池モジュールのトリミング時及び有機薄膜太陽電池モジュールを曲げた際に有機薄膜太陽電池素子内における層間剥離が発生し、比較例A1、A3及びA4と同様に有機薄膜太陽電池モジュールの意匠性が著しく損なわれた。一方で、第一の封止層及び第二の封止層が適度な貯蔵弾性率を有する実施例A1~A5に係る有機薄膜太陽電池モジュールは、水貼り施工の際のスキージ時、トリミング時及び薄膜太陽電池モジュールを曲げた際のいずれにおいても、有機薄膜太陽電池素子内における層間剥離が殆ど発生せずに高い意匠性を維持することができたことが分かる。また、第二の封止層を用いなかった実施例A6と比較例A8においても同様の結果が得られた。特に、比較例A6及びA7に示すように、光電変換層をアモルファスシリコンにより形成した薄膜太陽電池モジュールの場合、貯蔵弾性率の違いによる薄膜太陽電池素子内の層間剥離が発生していないことから、有機薄膜太陽電池素子を用いた場合に、第一の封止層として、適切な貯蔵弾性率を有する封止層を用いることが重要であることが分かる。また、実施例A1~A6のなかでも、第1の封止層の膜厚を適切な厚さとすることにより、さらに水貼り施工のスキージの際の有機薄膜太陽電池素子内の層間剥離を抑えられることができることが判明した。
<評価手法B>
 本実施例において、有機薄膜太陽電池モジュールの評価は以下の方法で行った。
[厚さの測定方法]
 接触厚さ計(KG601A、アンリツ株式会社製)を用いて、集電線設置領域の集電線幅方向の中央の有機薄膜太陽電池モジュールの厚さx(μm)と、有機薄膜太陽電池素子の外周端から5mmの有機薄膜太陽電池モジュールの厚さy(μm)を測定し、(x-y)(μm)の値を算出した。
[スキージ施工後の気泡の評価方法]
 有機薄膜太陽電池モジュールの観察結果から、○、△、×を以下の基準で判定した。
 有機薄膜太陽電池モジュールを作成後、1日以上経過したのち、1m離れた位置と、0.1m離れた位置とから有機薄膜太陽電池モジュールとガラスの間の水と気泡の有無を観察した。評価基準は以下のとおり。
○:0.1m離れた位置から水と気泡が視認出来ない
△:1m離れた位置から水と気泡が視認出来ない
×:1m離れた位置から水と気泡が視認出来る
<実施例B1>
 図2に示す構成を有する有機薄膜太陽電池モジュールを以下の手順で作成した。
 積層前の前準備として、100μmのPEN基材上に形成した、縦150mm、横100mmの複数の有機薄膜太陽電池素子(PEN基材と有機薄膜太陽電池素子の厚さの合計は120μm)の、両端の有機薄膜太陽電池素子の上部電極上に、導電性熱硬化樹脂組成物付集電線(デグセリアルズ社製 DT101C4、(導電性粒子としてニッケル粒子を含むエポキシ系導電性硬化樹脂、硬化温度120℃)15μm+銅箔35μm厚、幅4mm)を設置した。
 第二ガスバリア層の材料である厚さ60μmのバリアフィルム(三菱樹脂製、VIEW-BARRIER、VDK3DA)に、第二封止層として厚さ40μmの封止材(スリーボンド製、エポキシ系熱硬化性樹脂、TB1651D)を積層した縦300mm、横200mmのフィルム1と、第一ガスバリア層と同じ厚さ60μmのバリアフィルム(三菱樹脂製、VIEW-BARRIER、VDK3DA)に、第一封止層として厚さ40μmの封止材(スリーボンド製、エポキシ系熱硬化性樹脂、16X134)を積層した縦300mm、横200mmのフィルム2を作製した。次に、第一ガスバリア層、第一封止層、有機薄膜太陽電池素子、素子基板、第二封止層、及び第二ガスバリア層の順になるように、PEN基材上に形成された有機薄膜太陽電池素子と、フィルム1及びフィルム2を重ねた積層体を、真空ラミネータ(NPC社製、LM-50×50)内に設置した。
 真空ラミネータ内部を減圧下で14分間保持した後、積層体を大気圧で圧着状態としつつ、140℃で3分間保持した。真空ラミネータから取り出した積層体を120℃の熱風オーブン(ユーグロップ社製)で60分間加熱し、冷却後、第二ガスバリア層の表面に厚さ120μmの市販のアクリル系粘着剤をロールラミ機(MCK製、MRS630A)で張り合わせて、有機薄膜太陽電池モジュールを製造した。
 アクリル粘着剤に1%界面活性剤水溶液を吹き付けた後、有機薄膜太陽電池モジュールを、同じく1%界面活性剤水溶液を吹き付けた厚さ3.2mmのフロートガラスに貼り付け、ナイロン製のスキージでアクリル粘着剤と前記フロートガラスの間の1%界面活性剤水溶液と気泡を除去して有機薄膜太陽電池モジュールを前記フロートガラスに設置した。
<実施例B2>
 第一封止層および第二封止層の厚さをそれぞれ50μmとしたこと以外は、実施例B1と同様に、有機薄膜太陽電池モジュールを製造し、有機薄膜太陽電池モジュールをフロートガラスに設置した。
<実施例B3>
 第一封止層および第二封止層の厚さをそれぞれ60μmとしたこと以外は、実施例B1と同様に、有機薄膜太陽電池モジュールを製造し、有機薄膜太陽電池モジュールをフロートガラスに設置した。
<実施例B4>
 第一封止層の厚さを30μm、第二封止層の厚さを60μmとしたこと以外は、実施例B1と同様に、有機薄膜太陽電池モジュールを製造し、有機薄膜太陽電池モジュールを前記フロートガラスに設置した。
<実施例B5>
 第一封止層の厚さを60μm、第二封止層の厚さを30μmとしたこと以外は、実施例B1と同様に、有機薄膜太陽電池モジュールを製造し、有機薄膜太陽電池モジュールを前記フロートガラスに設置した。
<実施例B6>
 第一および第二封止層を厚さ3μmのオレフィン樹脂(クラボウ社製、クランベター、M-2)としたこと以外は、実施例B1と同様に薄膜太陽電池モジュールを製造した。
<実施例B7>
 第一および第二封止層として厚さ30μmのブチルゴム系粘着剤(住友3M社製)としたこと以外は、実施例B1と同様に薄膜太陽電池モジュールを製造した。
<比較例B1>
 第一封止層および第二封止層の厚さをそれぞれ30μmとし、真空ラミネータによる圧着時の温度を120℃としたこと以外は、実施例B1と同様に、有機薄膜太陽電池モジュールを製造し、有機薄膜太陽電池モジュールを前記フロートガラスに設置した。
<比較例B2>
 第一封止層および第二封止層の厚さをそれぞれ30μmとしたこと以外は、実施例B1と同様に、有機薄膜太陽電池モジュールを製造し、有機薄膜太陽電池モジュールを前記フロートガラスに設置した。
<比較例B3>
 第一および第二封止層として厚さ60μmのブチルゴム系粘着剤(住友3M社製)としたこと以外は、実施例B1と同様に薄膜太陽電池モジュールを製造した。
 表2に、実施例B1~7、比較例B1~3の有機薄膜太陽電池モジュールの評価結果を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
 表2より、本実施形態の薄膜太陽電池モジュールは水貼り施工時におけるスキージ施工後において、意匠性が良好な薄膜太陽電池モジュールであることが明らかである。
1 第二ガスバリア層
2 第一ガスバリア層
3 第二封止層
4 第一封止層
5 素子基板
6 下部電極
7 有機光電変換層
8 上部電極
9 有機薄膜太陽電池素子
10 粘着層
11 集電線
12 ゲッター層
13 集電線設置領域

Claims (6)

  1.  第一ガスバリア層、第一封止層、及び有機薄膜太陽電池素子を順次有する有機薄膜太陽電池モジュールであって、
     前記第一封止層の25℃、周波数10Hzにおける貯蔵弾性率が5×106Pa以上1×108Pa以下であることを特徴とする有機薄膜太陽電池モジュール。
  2.  可撓性を有する、請求項1に記載の有機薄膜太陽電池モジュール。
  3.  前記第一封止層の厚さが20μm以上200μm以下である、請求項1又は2に記載の有機薄膜太陽電池モジュール。
  4.  第一ガスバリア層、第一封止層、有機薄膜太陽電池素子、第二封止層、及び第二ガスバリア層を順次有する、請求項1~3のいずれか1項に記載の有機薄膜太陽電池モジュール。
  5.  受光面が前記有機薄膜太陽電池素子に対して第二封止層側である、請求項4に記載の有機薄膜太陽電池モジュール。
  6.  第一ガスバリア層、第一封止層、薄膜太陽電池素子、第二封止層、第二ガスバリア層、及び粘着層を順次有する、請求項1~5のいずれか1項に記載の有機薄膜太陽電池モジュール。
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