WO2016121752A1 - 積層膜付きガラス板および複層ガラス - Google Patents

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WO2016121752A1
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laminated film
layer
metal
glass
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和也 矢尾板
佳人 片山
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    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/04—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B32B17/00—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres
    • B32B17/06—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C27/00—Joining pieces of glass to pieces of other inorganic material; Joining glass to glass other than by fusing
    • C03C27/06—Joining glass to glass by processes other than fusing

Definitions

  • the present invention relates to a glass plate with a laminated film and a multilayer glass, and particularly relates to a glass plate with a laminated film and a multilayer glass suitable for tempered glass.
  • Low-E glass When considering the energy saving performance of architectural window glass, for example, a plate glass with a low emissivity laminated film called Low-E glass is used to achieve high heat shielding performance.
  • high heat insulation can be achieved by reducing the solar heat gain of the glass, but to reduce the solar heat gain, it is necessary to lower the visible light transmittance.
  • Patent Document 1 describes a technique for adjusting the film thickness of a metal layer and a dielectric layer mainly composed of silver constituting a low emissivity laminated film. .
  • Patent Document 1 it has been difficult to say that the heat insulation performance and the design properties when viewed from the plate glass side are sufficiently satisfactory.
  • the present invention aims to provide a glass sheet with a laminated film capable of achieving both high heat shielding performance and a good external appearance when it is made into a multilayer glass, and a multilayer glass using the glass sheet with the laminated film And
  • the glass plate with a laminated film is provided with a glass plate having a reinforced main surface on a rectangular glass plate and one main surface of the glass plate, and on two or more end surfaces of the glass plate. It is a glass plate with a laminated film having a laminated film that is not provided, and the laminated film is a glass plate with a laminated film having the following characteristics in the following multilayer glass using the laminated film.
  • the laminated film is formed on one main surface of a first transparent glass plate having a thickness of 5 mm to form a glass plate with a laminated film for testing, and the glass plate with the laminated film for testing and a glass plate having a thickness of 6 mm.
  • the transparent glass plate of 2 is spaced apart from the main surface of the second transparent glass plate through a spacer disposed at the periphery thereof so that the laminated film surface of the glass plate with the laminated film for test faces one main surface.
  • the solar heat acquisition rate (g value) on the second transparent glass plate side with respect to solar radiation from the glass plate side with the test laminate film, measured in accordance with ISO 9050: 2003, is 0.265 or less
  • the visible light reflectance measured on the basis of ISO 9050: 2003 on the side of the glass plate with a laminated film for test is 20% or less.
  • the glass plate with a laminated film of another embodiment of the present invention is provided with a reinforced main surface on a rectangular glass plate and one main surface of the glass plate, and on two or more end surfaces of the glass plate. Is provided, and the laminated film is formed by stacking n + 1 (n is an integer of 2 or more) metal layers containing silver as a main component and n + 1 laminated so as to sandwich the metal layer, respectively.
  • the first metal layer closest to the glass plate among the metal layers is made of at least one metal selected from palladium, gold, chromium, cobalt and nickel, silver and the metal 6% by mass or more with respect to the total amount, and when the ratio is less than 9% by mass, the first metal layer and the second metal layer second closest to the glass plate
  • the thickness of the dielectric layer in between is less than 100 nm
  • at least one of the first metal layer and the metal layer other than the first metal layer independently represents at least one metal selected from palladium, gold, chromium, cobalt and nickel, silver
  • the total content of the metal in the metal layer containing 1.5% by mass or more with respect to the total amount of the metal and the metal is 4% by mass. %
  • the thickness of the dielectric layer between the first metal layer and the second metal layer closest to the glass plate is 95 nm or less.
  • the multilayer glass according to an aspect of the present invention is provided on a first glass plate having a reinforced main surface having a rectangular shape and one main surface of the first glass plate, and the first glass plate A glass plate with a laminated film having a laminated film that is not provided on two or more end faces of the glass, and a second glass having a rectangular main surface disposed with a gap through the glass plate with the laminated film and a spacer.
  • a double-glazed glass having the following characteristics.
  • the solar heat acquisition rate (g value) on the second glass plate side with respect to the solar radiation from the laminated film-attached glass plate side measured according to ISO 9050: 2003 is 0.265 or less.
  • b * is 1 or less by CIE1976L * a * b * chromaticity coordinates.
  • the present invention when a multi-layer glass is used, it is possible to provide a glass plate with a laminated film and a multi-layer glass that can achieve both high heat shielding performance and a good external appearance.
  • FIG. 1A It is a front view which shows a glass plate with a laminated film schematically. It is sectional drawing in the XX line of the glass plate with a laminated film shown to FIG. 1A. It is sectional drawing which shows an example of a multilayer glass. It is sectional drawing of one Embodiment of the glass plate with a laminated film. It is sectional drawing which shows the modification of one Embodiment of the glass plate with a laminated film.
  • FIGS. 1A and 1B are a front view schematically showing a laminated film-coated glass plate according to an embodiment of the present invention and a sectional view taken along line XX.
  • a glass plate 10 with a laminated film according to an embodiment of the present invention shown in FIGS. 1A and 1B has a reinforced glass plate 1 and a laminated film 2 provided on one main surface 1 s of the glass plate 1.
  • the glass plate 1 has a main surface 1s having a rectangular shape and four end surfaces 1t.
  • the laminated film 2 is not provided on the end surface 1 t of the glass plate 1.
  • up to two of the four end faces may have a laminated film.
  • the laminated film 2 can impart the following properties (1-a) to (3-a) to the multilayer glass when it is used to produce a multilayer glass having the following specific configuration. It is a low emissivity laminated film.
  • the multilayer glass for evaluating the laminated film is a glass plate with a laminated film for testing by forming the laminated film on one main surface of a first transparent glass plate having a thickness of 5 mm.
  • a laminated film surface of the glass sheet with a test laminated film is the second transparent glass through a spacer disposed on the periphery of a glass sheet with the laminated film and a second transparent glass plate having a thickness of 6 mm. It is made to be spaced so as to face one main surface of the plate, and to have an air layer having a thickness of 12 mm between the glass plate with a laminated film for test and the second transparent glass plate.
  • the multilayer glass thus produced has the following properties (1-a), (2-a) and (3-a).
  • the glass plate 1 is not particularly limited as long as the reinforced main surface is a rectangular plate-like glass.
  • the glass plate 1 is manufactured by a window glass for buildings, a commonly used float glass, or a roll-out method.
  • a glass plate having inorganic transparency such as soda-lime glass can be used.
  • the glass plate strengthening method includes air cooling strengthening, chemical strengthening, etc., and the glass plate 1 is preferably a glass plate strengthened by air cooling.
  • the glass plate 1 may be strengthened before the laminated film 2 is provided on the main surface, and as described later, a non-heat treated product in which the laminated film is formed on the main surface of the glass plate is heat-treated at the time of manufacture. It is good also as the glass plate 1 strengthened by air-cooling. The latter is preferred in embodiments of the present invention.
  • the glass plate 1 is appropriately selected according to the performance required as the glass plate 10 with a laminated film.
  • the glass plate 1 is preferably a colorless glass such as a transparent glass or a high-transmission glass. . Further, colorless glass is preferable from the viewpoint of obtaining high color rendering properties.
  • the glass plate 1 various glasses such as borosilicate glass, low expansion glass, zero expansion glass, low expansion crystallized glass, and zero expansion crystallized glass can be used.
  • the thickness of the glass plate 1 is not necessarily limited, but is preferably a thickness that can secure a sufficient mechanical strength while maintaining the visible light transmittance of the glass plate 1 at a certain level or more, for example, 0.5 to 20 mm is preferable. is there.
  • the shape of the glass plate 1 is not particularly limited as long as it is a plate shape and has a pair of rectangular main surfaces.
  • the flat plate shape in which the pair of main surfaces are flat surfaces or the curved plate shape in which the entire or part of the pair of main surfaces has a curvature may be used.
  • the main surface is rectangular means that the main surface has a substantially rectangular shape.
  • a glass plate obtained by cutting off the corners of the peripheral portion is included in the category.
  • the laminated film 2 is provided over the entire surface on the main surface 1 s of the glass plate 1, but is not provided on the four end surfaces 1 t of the glass plate 1.
  • one or two of the four end faces of the glass plate may have a laminated film, but it is preferable that no laminated film is provided on any of the four end faces. .
  • FIG. 2 shows a cross-sectional view of an example of the multilayer glass of the embodiment of the present invention using the laminated film-attached glass plate 10 as a constituent member.
  • the multi-layer glass 3 is composed of a glass plate 10 with a laminated film having a first transparent glass plate 1 and a laminated film 2 and a second transparent glass plate 32 via a spacer 33 disposed on the periphery thereof. It is the structure separated so that it may have the intermediate
  • the laminated film 2 surface of the laminated film-attached glass plate 10 is spaced so as to face one main surface of the second transparent glass plate 32.
  • the laminated film is not provided on two or more end faces of the glass sheet, preferably all the end faces, it is fitted into a window of a building or the like. It is preferable because there is an effect of suppressing deterioration of the laminated film by a material containing a plasticizer, such as a setting block and a glazing channel, and an effect of suppressing a decrease in adhesive strength of the meshed glass with a rust preventive material.
  • the laminated film 2 has a low emissivity that satisfies all of the above (1-a) to (3-a) when evaluated as a multilayer glass for evaluation of the specific configuration. It is a laminated film.
  • the laminated film 2 is, for example, a multi-layer glass having a configuration similar to that shown in FIG. 2, the intermediate layer 34 is an air layer, the thickness t1 of the first transparent glass plate 1, and the second transparent glass.
  • the plate thickness t2 of the plate 32 and the thickness t3 of the intermediate layer (air layer) 34 can be evaluated by a multi-layer glass (hereinafter referred to as “multi-layer glass 30”) of 5 mm, 6 mm, and 12 mm, respectively.
  • multi-layer glass 30 multi-layer glass
  • the transparent glass plate 1 having a thickness of 5 mm on which the laminated film 2 to be evaluated is provided is referred to as “a glass plate 10x with a laminated film for test”.
  • the transparent glass plate used for the above evaluation and the like in this specification has a visible light transmittance of 80% or more measured in accordance with ISO 9050: 2003 regardless of the thickness, and is defined in ISO 9050: 2003.
  • the CIE 1976L * a * b * chromaticity coordinates of the transmitted light obtained by irradiating visible light is glass whose absolute values of a * and b * are both 5 or less.
  • the visible light transmittance measured in conformity with ISO 9050: 2003 is denoted as “Tv” and the visible light reflectance is denoted as “Rv” as necessary.
  • the transmitted light obtained by irradiating visible light defined by ISO 9050: 2003 is also simply referred to as “transmitted light”
  • the reflected light obtained by irradiating visible light defined by ISO 9050: 2003 is similarly Also simply called “reflected light”.
  • CIE1976L * a * b * b * and a * based on chromaticity coordinates are also simply referred to as “b * ” and “a * ”, respectively.
  • the characteristics of the laminated film in the glass plate with laminated film of the embodiment evaluated using the multilayer glass for evaluation for example, the multilayer glass 30 will be described.
  • the laminated film-attached glass plate is usually prepared so as to face the other glass plate with a gap between the laminated film and the laminated film.
  • the attached glass plate side is exposed to the outdoors, and the opposite glass plate side is used indoors.
  • the evaluation using the multilayer glass 30 is an evaluation assuming such use.
  • the solar heat gain rate (g value) is 0.265 or less.
  • the solar heat gain rate (g value) is preferably 0.257 or less.
  • the solar heat acquisition rate (g value) is on the second transparent glass plate 32 side (indoor side) when the solar energy incident from the glass plate 10x side (outdoor side) with the test laminated film is taken as 1. It is a value indicating the ratio of the amount of heat flowing in. From the solar heat acquisition rate (g value), it is possible to know the degree of heat shielding, that is, how much heat generated by sunlight (sun heat) is blocked.
  • the solar heat acquisition rate is the heat that directly permeates the solar energy incident from the glass plate with test laminated film 10x side (outdoor side) (hereinafter also referred to as “transmitted heat”) and is absorbed after that. This is the ratio of the total amount of heat with the heat released to the glass plate 32 side (inside the room) (hereinafter also referred to as “radiant heat”).
  • the solar heat acquisition rate is represented by a number between 0 and 1.
  • the solar heat gain rate can be calculated by measuring the spectral characteristics and emissivity of the multilayer glass 30 and introducing them into a predetermined calculation formula. The smaller the solar heat acquisition rate, the smaller the ratio of the total heat quantity of the transmitted heat and the radiant heat to the solar heat quantity incident from the glass film 10x side with the laminated film for testing in the multilayer glass 30.
  • the transmitted light obtained by irradiating visible light specified in ISO 9050: 2003 has a b * of 1 according to CIE1976L * a * b * chromaticity coordinates. It is as follows.
  • the transmitted light is transmitted light that enters the glass plate 10x side (outdoor side) with the laminated glass 30 for test of the multilayer glass 30 and transmits to the second transparent glass plate 32 side (indoor side), the multilayer glass 30
  • the transmitted light that is incident from the second transparent glass plate 32 side (indoor side) 30 and transmitted to the glass plate with test laminated film 10x side (outdoor side). May be used.
  • the b * of the light transmitted through the multilayer glass 30 is preferably b * ⁇ 0. If b * of the transmitted light is within the above-mentioned range in the multi-layer glass 30, when the sunlight incident from the glass plate with test laminated film 10x side (outdoor side) hits a blind installed indoors, yellow It does not have a shabby color.
  • the visible light reflectance on the glass plate with test multilayer film 10x side measured in accordance with (3-a) ISO 9050: 2003 is 20% or less.
  • the visible light reflectance on the glass plate 10x side with a test laminated film measured in accordance with ISO 9050: 2003 is also referred to as Rv out .
  • Rv out is preferably 18% or less. If Rv out is in the above range in the multilayer glass 30, reflection is not too high when the glass is viewed from the outdoor side, and the appearance is excellent in design.
  • the multilayer glass 30 using the laminated film 2 has the following characteristics (1-a), (2-a), and (3-a), and further has the following (4-a), ( It preferably has one or more properties selected from 5-a), (6-a), (7-a) and (8-a). It is more preferable to have all the characteristics (4-a) to (8-a).
  • the visible light reflectance on the front side of the second transparent glass plate 32 measured in accordance with ISO 9050: 2003 is also referred to as Rv in .
  • Rv in the above preferably 20% or less as (4-a), more preferably 18% or less, and particularly preferably 16%. Since the double-glazed glass 30 has the characteristic (4-a), it is possible to suppress reflection in the room due to reflected light on the second transparent glass plate 32 side (indoor side).
  • the difference between Rv out and Rv in is preferably 10% or less, more preferably 9% or less, and particularly preferably 8% or less, as described in (5-a) above.
  • the difference Rv out and Rv in refers to a value obtained by subtracting one value from having a large value of Rv out and Rv in small. Since the double-glazed glass 30 has the characteristic (5-a), it is easy to adjust the color tone with excellent design properties on both the outdoor side and the indoor side.
  • the CIE1976L * a * b * chromaticity coordinate a * and b * in the reflected light on the test laminated glass plate 10x side and the reflected light on the second transparent glass plate 32 side are as described in (6-a) above. Is preferably 2 or less. Since the double-glazed glass 30 has the above-mentioned characteristics (6-a), the red light of the reflected light on both the glass plate with test laminated film 10x side (outdoor side) and the second transparent glass plate 32 side (indoor side). , And yellowishness can be suppressed.
  • the a * of the reflected light on the glass plate with test laminated film 10x side (outdoor side) is more preferably ⁇ 20 to 1, and particularly preferably ⁇ 15 to 0.
  • the b * of the reflected light on the glass plate with test laminated film 10x side (outdoor side) is more preferably ⁇ 30 to 1, and particularly preferably ⁇ 25 to 0.
  • the a * of the reflected light on the second transparent glass plate 32 side (inside the room) is more preferably ⁇ 20 to 1, and particularly preferably ⁇ 15 to 0.
  • the b * of the reflected light on the second transparent glass plate 32 side (inside the room) is more preferably ⁇ 30 to 1, and particularly preferably ⁇ 25 to 0.
  • the Tv of the multilayer glass 30 is preferably 30% or more as described above (7-a). Since the double-glazed glass 30 has the characteristic (7-a), the lighting in the building can be sufficient.
  • the Tv of the multilayer glass 30 is preferably 60% or less from the viewpoint of antiglare properties.
  • the Tv of the multilayer glass 30 is particularly preferably 35 to 55%.
  • the color rendering properties of the transmitted light evaluated by the average color rendering index (Ra) using a D65 light source in accordance with JIS Z8726 (1990) of the multilayer glass 30 is 85% or more as described in (8-a) above. is there.
  • the color rendering property according to (8-a) is 85% or more, the appearance when the double glazing 30 is viewed from the outside of the building becomes a natural intermediate color.
  • the color rendering property is preferably 87% or more, and more preferably 90% or more.
  • each of the glass plate with a laminated film for test used above and the structure of the multilayer glass using the same is a structure for evaluating the laminated film of the glass sheet with a laminated film of the embodiment, and is a laminate of the present invention.
  • the structure of the film-attached glass plate is not limited to the structure of the test laminated film-attached glass plate.
  • the use of the laminated film-attached glass plate of the present invention is not limited to the multilayer glass, and the configuration of the multilayer glass of the embodiment of the present invention is the configuration of the multilayer glass for the evaluation. It is not limited.
  • the glass plate with a laminated film of the embodiment of the present invention preferably has a haze value of 2% or less in order to ensure transparency.
  • the haze value of the laminated film-attached glass plate is more preferably 1% or less.
  • the haze value of the glass plate is usually about 0.0 to 0.1%, and the haze value of the whole glass plate with a laminated film depends largely on the haze value of the laminated film. That is, the laminated film must have the characteristics satisfying (1-a), (2-a) and (3-a) in the above evaluation, and can be selected from (4-a) to (8-a).
  • the laminated film has a haze value of 2% or less when a glass plate with a laminated film is obtained.
  • the precursor of the laminated film-attached glass plate may be heat-treated at, for example, 600 ° C. or more to obtain the laminated film-attached glass plate of the embodiment. . That is, by heat-treating a glass plate to, for example, 600 ° C. or more, a laminated film is formed on one main surface as an air-cooled tempered glass plate or a curved glass plate to obtain a laminated film-attached glass plate.
  • a curved glass plate is a curved glass plate reinforced by heat treatment.
  • the constituent material of the laminated film is selected as described below so that the heat-treated laminated film has a haze value of 2% or less of the laminated film-attached glass plate.
  • the laminated film-attached glass plate of the embodiment has a diameter observed in a range of 100 mm ⁇ 100 mm on the surface of the laminated film after a moisture resistance test in which the laminated film-attached glass plate is stored at 50 ° C. and 90% RH for 2 weeks.
  • the number of white spots of 0.5 mm or more is preferably 5 or less. If the surface of the laminated film after the moisture resistance test satisfies the above conditions, for example, when producing a multi-layer glass using the laminated film-attached glass plate of the embodiment, sufficient moisture resistance when storing the laminated film-attached glass plate It can be said that it has sex.
  • the structure of the laminated film in the glass plate with laminated film of the embodiment is not particularly limited as long as it has characteristics satisfying (1-a), (2-a), and (3-a) in the above evaluation.
  • Examples of the laminated film that can satisfy the characteristics (1-a), (2-a), and (3-a) in the above evaluation include a laminated film (X) or a laminated film (Y) having the following configuration. .
  • the laminated film (X) has n layers (n is an integer of 2 or more) of metal layers containing silver as a main component, and n + 1 dielectric layers laminated so as to sandwich the metal layer,
  • the first metal layer closest to the glass plate is 6% by mass of at least one metal selected from palladium, gold, chromium, cobalt and nickel with respect to the total amount of silver and the metal. It contains in the above ratio. However, when the ratio of the metal to the total amount of silver and the metal is 6% by mass or more and less than 9% by mass, between the first metal layer and the second metal layer second closest to the glass plate.
  • the dielectric layer has a thickness of 100 nm or less.
  • the dielectric between the first metal layer and the second metal layer second closest to the glass plate The thickness of the layer is not particularly limited. In the present specification, the thicknesses of the metal layer, dielectric layer, and other layers constituting the laminated film represent geometric thicknesses.
  • the laminated film (Y) has n layers (n is an integer of 2 or more) of metal layers containing silver as a main component and n + 1 dielectric layers laminated so as to sandwich the metal layer.
  • the first metal layer closest to the glass plate among the metal layers is composed of at least one metal selected from palladium, gold, chromium, cobalt, and nickel, silver and the metal.
  • the laminated film (Y) includes the dielectric layer between the first metal layer and the second metal layer second closest to the glass plate while the configuration of the n metal layers satisfies the above-described condition. Is 95 nm or less.
  • the metal layer of the laminated film (X) and the laminated film (Y) that is a metal layer containing silver as a main component (n is an integer of 2 or more) plays a role of imparting low radiation to the laminated film. is there.
  • containing a certain component as a main component means that the ratio of the component contained as a main component with respect to all the structural components exceeds 50 mass%.
  • at least one metal selected from palladium, gold, chromium, cobalt and nickel is used as the specific metal layer in the metal layer containing n layers of silver as a main component.
  • the first metal layer closest to the glass plate and the second closest one are essential as necessary in the laminated body (Y).
  • the thickness of the dielectric layer between the second metal layer within the above range, all the characteristics of (1-a), (2-a) and (3-a) can be achieved in the above evaluation. It is said.
  • the number of metal layers containing silver as a main component may be 2 or more, preferably 2 to 4, more preferably 2 or 3, and particularly preferably 2.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view of an embodiment of a laminated film-attached glass plate 10A having a laminated film in which the number of metal layers containing silver as a main component is 2 as the laminated film (X).
  • the laminated film-attached glass plate 10 ⁇ / b> A has a laminated film 2 ⁇ / b> A on one main surface 1 s of the glass plate 1.
  • the laminated film 2A includes a first dielectric layer 21, a first metal layer 22, a second dielectric layer 23, a second metal layer 24, and a third dielectric layer 25 in order from the glass plate 1 side.
  • the first metal layer 22 and the second metal layer 24 are both metal layers containing silver as a main component.
  • the first metal layer 22 contains at least one metal selected from palladium, gold, chromium, cobalt and nickel in a proportion of 6% by mass or more based on the total amount of silver and the metal.
  • the thickness of the second dielectric layer 23 in between is 100 nm or less.
  • the thickness of the second dielectric layer 23 is not particularly limited.
  • the side close to the glass plate 1 is called “glass plate side”, and the opposite side is called “surface side”.
  • the first metal layer 22 contains silver as a main component, and in addition to silver as a main component, at least one metal selected from palladium, gold, chromium, cobalt, and nickel is a total amount of silver and the metal. It contains in the ratio of 6 mass% or more with respect to.
  • at least one metal selected from palladium, gold, chromium, cobalt, and nickel is also referred to as a metal M.
  • the ratio (mass%) of the metal M with respect to the total amount of silver and the metal M is called content of the metal M.
  • content of the metal M in the 1st metal layer 22 7.5 mass% or more is more preferable, and 9 mass% or more is especially preferable.
  • the upper limit of the content of the metal M in the first metal layer 22 is preferably about 30% by mass from the balance between effect and economy.
  • the metal M one selected from palladium, gold, chromium, cobalt and nickel may be used alone, or two or more may be used in combination. Among these, as the metal M, palladium and gold are preferable, and palladium is particularly preferable.
  • the metal M is a metal that easily forms a solid solution with silver, which is the main material of the first metal layer 22. By using the metal M, the haze value of the laminated film 2A obtained by the heat treatment does not greatly increase even if the heat treatment is performed in the strengthening process or bending process of the glass plate.
  • the first metal layer 22 can contain additive elements other than silver and metal M.
  • the additive element include metal elements such as copper and titanium.
  • the total content of the additive element is preferably 5% by mass or less, more preferably 3% by mass or less, and more preferably 1% by mass or less in all the components constituting the first metal layer 22. preferable.
  • the second metal layer 24 is not particularly limited as long as it is a metal layer containing silver as a main component.
  • the second metal layer 24 may contain the same metal M as that of the first metal layer 22 as necessary.
  • a preferred embodiment of the metal M is the same as that of the first metal layer 22.
  • about content of the metal M in case the 2nd metal layer 24 contains the metal M it depends on the performance calculated
  • the ratio of the thickness of the second metal layer 24 to the thickness of the first metal layer 22 is 0.8 to 1.6. It is preferable that it exists in the range.
  • the ratio value of the two metal layers is more preferably 0.85 to 1.5, and particularly preferably 0.9 to 1.4.
  • the thickness of the first metal layer 22 is preferably 8 to 25 nm, and more preferably 10 to 20 nm.
  • the thickness of the second metal layer 24 is preferably 10 to 30 nm, more preferably 12 to 25 nm after satisfying the value of the above ratio.
  • the metal layer is sandwiched between laminated films each having a metal layer containing silver as a main component.
  • a dielectric layer generally used in the form can be used without particular limitation. Specifically, a dielectric layer containing oxides, nitrides, oxynitrides or the like of metals or elements that can be formed on the glass plate 1, the first metal layer 22, or the second metal layer 24 is provided. Can be mentioned. Examples of the metal and element include zinc, tin, titanium, silicon, aluminum, chromium, nickel, niobium, and alloys thereof.
  • metals and elements for example, tin, aluminum, chromium, titanium, silicon, boron, magnesium, gallium are included in the metal and element oxides, nitrides, oxynitrides, and the like constituting the dielectric layer.
  • An element selected from the above may be doped in the form of an oxide, nitride, or oxynitride.
  • the nitride layer and the oxynitride layer have a large stress change due to the heat treatment, and the stress accumulated in the film by the heat treatment causes the stability of the metal layer to be lost.
  • the structure which does not have a nitride layer or an oxynitride layer between the metal layer nearest to the laminated film surface among the said metal layers and a glass plate is preferable.
  • at least the first dielectric layer 21 and the second dielectric layer 23 are preferably neither a nitride layer nor an oxynitride layer from the viewpoint of film formation efficiency. More preferably, all of the first dielectric layer 21, the second dielectric layer 23, and the third dielectric layer 25 are preferably oxide layers.
  • the first dielectric layer 21, the second dielectric layer 23, and the third dielectric layer 25 include a first metal layer 22 containing silver as a main component, a second dielectric layer 25, and a second dielectric layer 25. Since the metal layer 24 is sandwiched, the metal layers 22 and 24 can be made homogeneous and dense, and a dielectric layer capable of improving adhesion to the metal layers 22 and 24, for example, containing an oxide of zinc A dielectric layer is preferred.
  • oxide constituent elements other than zinc can be contained.
  • oxide constituent elements other than zinc include tin, aluminum, chromium, titanium, silicon, boron, magnesium, and gallium, and these can contain one or more.
  • Tin, aluminum, chromium, titanium, silicon, boron, magnesium, and gallium which are oxide constituent elements other than zinc, are included in the dielectric layers 21, 23, and 25, for example, tin oxide (SnO 2 ), aluminum oxide (Al 2 ). O 3 ), chromium oxide (Cr 2 O 3 ), titanium oxide (TiO 2 ), silicon oxide (SiO 2 ), boron oxide (B 2 O 3 ), magnesium oxide (MgO), gallium oxide (Ga 2 O 3 ) Or as a composite oxide thereof.
  • oxide constituent elements other than zinc aluminum and tin are preferable because they are inexpensive.
  • Aluminum is preferable because it is an inexpensive material and can increase the deposition rate. Tin is also preferable because it is a relatively inexpensive material.
  • an oxide constituent element other than zinc in the dielectric layer containing zinc oxide, in the total amount (in 100 mass%) of zinc and oxide constituent elements other than zinc (excluding oxygen), zinc It is preferable that the oxide constituting elements other than 1 to 50% by mass. Visible light transmittance can be effectively improved by making the ratio of oxide constituent elements other than zinc into 1 mass% or more. Moreover, stability of the metal layers 22 and 24 formed between the dielectric layers 21, 23, and 25 can be ensured by setting the ratio of oxide constituent elements other than zinc to 50 mass% or less.
  • the thicknesses of the first to third dielectric layers 21, 23, and 25 are not necessarily limited. It is not a thing.
  • the thicknesses of the first and third dielectric layers 21 and 25 are each preferably 10 to 50 nm and more preferably 20 to 45 nm.
  • the thickness of the second dielectric layer 23 sandwiched between the first metal layer 22 and the second metal layer 24 is thicker than the thickness of the first and third dielectric layers 21 and 25. 60 to 120 nm is preferable, and 70 to 110 nm is more preferable.
  • the content of the metal M in the first metal layer 22 is set to 9% by mass or more, and the thicknesses of the dielectric layers 21, 23, and 25 are set in the above ranges, whereby the visible light reflectance is increased. Can be made lower and a good reflection color tone can be realized.
  • the thickness of the second dielectric layer 23 is 100 nm or less.
  • the thickness of the second dielectric layer 23 is preferably 60 to 100 nm, and more preferably 70 to 100 nm.
  • the thicknesses of the first dielectric layer 21 and the third dielectric layer 25 are not necessarily limited, but both are preferably thinner than the thickness of the second dielectric layer 23. Specifically, the thickness of the first dielectric layer 21 and the third dielectric layer 25 is the first dielectric when the content of the metal M in the first metal layer 22 is 9% by mass or more.
  • the thickness can be the same as that of the body layer 21 and the third dielectric layer 25.
  • the content of the metal M in the first metal layer 22 is 6 mass% or more and less than 9 mass%, and the thickness of the dielectric layers 21, 23, 25 is in the above range, Visible light reflectance can be further lowered, and a good reflection color tone can be realized.
  • the laminated film (Y) may have two or more metal layers containing silver as a main component, preferably 2 to 4, more preferably 2 or 3, 2 is particularly preferred.
  • the content of the metal M is 1.5% by mass or more in any metal layer, and the total content of the metal M in each layer is 4%. It is at least mass%.
  • the number of metal layers containing silver as a main component is 3 or more, at least one of the metal layers closest to the glass plate and the remaining metal layers has a ratio of 1.5% by mass or more of metal M.
  • the total content of metal M in each layer is 4% by mass or more.
  • the content of the metal M may be the same or different in each metal layer.
  • the more preferable content of the metal M in each metal layer is 4% by mass or more and particularly preferably 7% by mass or more in the metal layer closest to the glass plate. Furthermore, in the other metal layer containing 1.5% by mass or more of metal M, the content of metal M is more preferably 2% by mass or more, and particularly preferably 2.5% by mass or more. In the metal layer in which the content of the metal M is not specified, the metal M may or may not be contained. When the metal M is contained, the content is preferably 1.5% by mass or more. The upper limit of the content of the metal M in each metal layer is preferably about 20% by mass.
  • the laminated structure in the laminated film (Y) for example, the same laminated structure as the laminated film 2A of the laminated film 10A shown in FIG. 3, that is, the first dielectric layer, And a structure having a second metal layer, a second dielectric layer, a second metal layer, and a third dielectric layer.
  • the laminated film (Y) is the same as the laminated film (X) except that the metal layer is different in the content of the metal M in the first metal layer and the second metal layer. A configuration is preferred.
  • the dielectric film is the laminated film (X) except that the thickness of the second dielectric layer is different.
  • the thickness of the second dielectric layer sandwiched between the first metal layer and the second metal layer is 95 nm or less.
  • the thickness of the second dielectric layer is preferably 60 to 95 nm, and more preferably 70 to 95 nm.
  • the thicknesses of the first dielectric layer and the third dielectric layer are not necessarily limited, but both are preferably thinner than the thickness of the second dielectric layer.
  • the thicknesses of the first dielectric layer and the third dielectric layer can be made similar to the thicknesses of the first dielectric layer and the third dielectric layer in the laminated film (X).
  • the metal layer is configured as described above, and the thickness of the dielectric layer is set in the above range, whereby the visible light reflectance can be further lowered and a good reflection color tone can be realized. Can do.
  • the laminated film when the number of metal layers containing silver as a main component is 2, the laminated film (X) wherein the content of the metal M in the first metal layer close to the glass plate is 6% by mass or more. Even so, the content of the metal M in the first metal layer close to the glass plate and the second metal layer far from the glass plate is 1.5% by mass or more, and the content of the metal M in each layer Even if it is the said laminated film (Y) whose sum total is 4 mass% or more, it is preferable that a laminated film is a layer structure which shows a cross section in FIG.
  • FIG. 4 is a cross-sectional view showing a modification of one embodiment of the laminated film-attached glass plate.
  • the laminated film-attached glass plate 10 ⁇ / b> B has a laminated film 2 ⁇ / b> B on one main surface 1 s of the glass plate 1.
  • the laminated film 2B includes, in order from the glass plate 1, the first dielectric layer 21, the first metal layer 22, the first barrier layer 26, the second dielectric layer 23, the second metal layer 24, Two barrier layers 27, a third dielectric layer 25, and a protective layer 28.
  • Both the first metal layer 22 and the second metal layer 24 can be the same as the first metal layer 22 and the second metal layer 24 of the laminated film 2A in the laminated film-attached glass plate 10A.
  • the first dielectric layer 21 includes a first amorphous dielectric layer 211 and a first crystalline dielectric layer 212 from the glass plate side.
  • the second dielectric layer 23 includes a second crystalline dielectric layer 231, a second amorphous dielectric layer 232, and a third crystalline dielectric layer 233 from the glass plate side.
  • the third dielectric layer 25 includes a fourth crystalline dielectric layer 251 and a third amorphous dielectric layer 252 from the glass plate side.
  • the first, second, and third dielectric layers 21, 23, and 25 have the crystalline dielectric layer and the amorphous dielectric layer, respectively, and sandwich the first metal layer 22 therebetween.
  • the third crystalline dielectric layer 233 and the fourth crystalline dielectric layer are arranged such that the first crystalline dielectric layer 212 and the second crystalline dielectric layer 231 sandwich the second metal layer 24 therebetween.
  • 251 is arranged, and first, second, and third amorphous dielectric layers 211, 232, and 252 are arranged on both sides thereof.
  • the total thickness of each layer constituting the first dielectric layer 21, that is, the thickness of the first dielectric layer 21 is the case of either the laminated film (X) or the laminated film (Y).
  • the thickness can be the same as the thickness of the laminated film (X) and the laminated film (Y) in the laminated film 2A.
  • the laminated film 2B has a first barrier layer 26 and a second barrier layer 27 on the surface side of the first metal layer 22 and the second metal layer 24 so as to be in contact with the metal layers, respectively.
  • the protective layer 28 is provided on the surface side of the third dielectric layer 25 on the surface side.
  • the laminated film in the laminated film-attached glass plate of the embodiment preferably has no nitride layer or oxynitride layer between the metal layer closest to the laminated film surface and the glass plate among the metal layers.
  • the laminated film 2B at least the first dielectric layer 21, the first barrier layer 26, and the second dielectric layer 23 are neither a nitride layer nor an oxynitride layer from the viewpoint of film formation efficiency. It is preferable. More preferably, the first dielectric layer 21, the first barrier layer 26, the second dielectric layer 23, the second barrier layer 27, and the third dielectric layer 25 are all oxide layers. Is preferred.
  • the first to fourth crystalline dielectric layers 212, 231, 233, and 251 are arranged so as to sandwich the first and second metal layers 22 and 24 as described above, and are highly crystalline dielectric layers. It is.
  • the crystalline dielectric layer can be made dense by making the first metal layer 22 and the second metal layer 24 formed therebetween uniform by crystallization or the like.
  • a dielectric material having a high crystallinity among the dielectric materials described above as materials constituting the dielectric layers 21, 23, and 25 in the laminated film 2A A material can be appropriately selected and used.
  • a dielectric material having high crystallinity specifically, an oxide of zinc or zinc containing an oxide constituent element other than zinc such as aluminum, titanium, tin, or the like. Oxides are preferred.
  • an oxide of zinc containing aluminum is particularly preferable in terms of crystallinity, film formation rate, and economy.
  • aluminum is contained in the oxide of zinc, it is contained in the form of aluminum oxide (Al 2 O 3 ) or a composite oxide of zinc and aluminum as described above.
  • the content of aluminum in the zinc oxide containing aluminum is preferably 1 to 10% by mass of aluminum in the total amount of zinc and aluminum (in 100% by mass), preferably 1 to 5% by mass. It is more preferable.
  • each of the first to fourth crystalline dielectric layers 212, 231, 233, and 251 is preferably 3 to 15 nm independently. By setting the thickness of the crystalline dielectric layers 212, 231, 233, and 251 to 3 nm or more, crystallization can be promoted, and the first and second metal layers 22 and 24 formed therebetween are made homogeneous. It can be precise. If the thickness of the crystalline dielectric layers 212, 231, 233, and 251 is 15 nm, it is sufficient for promoting crystallization. By making the thickness less than this, the crystalline dielectric layers 212, 231, 233 are reduced. , 251 can be prevented from deteriorating the characteristics of the first and second metal layers 22 and 24 due to the rough surface.
  • the thickness of the crystalline dielectric layers 212, 231, 233, and 251 is 5 from the viewpoint of making the first and second metal layers 22 and 24 more homogeneous and dense, and having excellent characteristics. More preferably, it is ⁇ 11 nm.
  • a first barrier layer 26 and a second barrier layer 27 are disposed on the surface side of the first and second metal layers 22 and 24 so as to be in contact with the metal layers, respectively. Therefore, the second crystalline dielectric layer disposed on the surface side of the first and second metal layers 22, 24 among the first to fourth crystalline dielectric layers 212, 231, 233, 251. 231 and the fourth crystalline dielectric layer 251 are arranged on the surface side of the first and second metal layers 22 and 24 with the first barrier layer 26 and the second barrier layer 27 interposed therebetween.
  • the function of making the first and second metal layers 22 and 24 homogeneous and dense is that the first crystal disposed on the glass plate side of the first and second metal layers 22 and 24 This can be sufficiently achieved by using the conductive dielectric layer 212 and the third crystalline dielectric layer 233 together.
  • the first, second, and third amorphous dielectric layers 211, 232, and 252 are first to fourth crystalline dielectric layers 212 provided so as to sandwich the first and second metal layers 22 and 24, respectively. , 231, 233, 251, or an amorphous dielectric layer disposed above and below. Since the amorphous dielectric layer does not grow crystal grains, it is possible to ensure the flatness of the entire laminated film 2B by providing the amorphous dielectric layer between or above and below the crystalline dielectric layer.
  • an amorphous dielectric material is appropriately selected from the above-described dielectric materials as materials constituting the dielectric layers 21, 23, 25, etc. in the laminated film 2A. It can be selected and used.
  • an amorphous dielectric material specifically, an oxide of zinc containing 10% by mass or more of an oxide constituent element other than zinc, such as tin, aluminum, titanium, etc. Etc. are preferred.
  • zinc oxide containing tin is particularly preferable in terms of non-crystallinity and economy.
  • tin is contained in the zinc oxide, it is contained in the form of tin oxide (SnO 2 ) or a composite oxide of zinc and tin as described above.
  • the content of tin in the zinc oxide containing tin should be 20 to 80% by mass in the total amount of zinc and tin (in 100% by mass). The content is preferably 30 to 70% by mass.
  • the thicknesses of the first, second and third amorphous dielectric layers 211, 232 and 252 are preferably 5 to 45 nm independently for the thicknesses of the first and third amorphous dielectric layers 211 and 252. 10 to 35 nm is more preferable. Further, regarding the thickness of the second amorphous dielectric layer 232 sandwiched between the second crystalline dielectric layer 231 and the third crystalline dielectric layer 233, the laminated film 2B has the laminated film (X), Considering whether it belongs to one of the laminated films (Y), the thickness of the second dielectric layer 23 is set to be within the thickness range in each case described above.
  • the thickness of the second amorphous dielectric layer 232 is 30 to 30%. 100 nm is preferable, and 40 to 80 nm is more preferable.
  • the thickness of the second amorphous dielectric layer 232 Is preferably 50 to 90 nm, more preferably 60 to 90 nm.
  • the thickness of the second amorphous dielectric layer 232 is preferably 50 to 85 nm, and more preferably 60 to 85 nm.
  • the visible light transmittance is increased while ensuring the flatness of the entire laminated film 2B.
  • the film formation time can be shortened appropriately and the productivity can be improved.
  • the first barrier layer 26 and the second barrier layer 27 are the first metal layer 22 and the second barrier layer 27, respectively, when the second crystalline dielectric layer 231 and the fourth crystalline dielectric layer 251 are formed. It is provided to suppress oxidation of the metal layer 24.
  • the constituent materials of the first barrier layer 26 and the second barrier layer 27 are not particularly limited as long as they can suppress the oxidation.
  • the constituent materials of the first and second barrier layers 26 and 27 include, for example, titanium, zinc aluminum alloy, nickel chrome alloy, or oxides thereof, and have a metal or stoichiometric composition. On the other hand, those made of an oxide deficient in oxygen can be mentioned.
  • a metal or an oxide-deficient material for the stoichiometric composition the first metal layer 22 is oxidized during the formation of the second crystalline dielectric layer 231, and the fourth The oxidation of the second metal layer 24 during the formation of the crystalline dielectric layer 251 can be suppressed.
  • the first and second barrier layers 26 and 27 are preferably composed mainly of titanium or an oxide of titanium.
  • the thing which has an oxide of titanium as a main component is what contains 50 atomic% or more of titanium in the total amount (100 atomic%) of oxide constituent elements (except oxygen) other than titanium and titanium.
  • the first and second barrier layers 26 and 27 can contain a constituent element other than titanium.
  • constituent elements other than titanium include niobium, tantalum, zirconium, silicon, tungsten, and molybdenum, and these can contain one or more of them.
  • Titanium, niobium, tantalum, tungsten, and molybdenum are included in the oxidation barrier layer, for example, TiO x (x ⁇ 2), Nb 2 O x (x ⁇ 5), Ta 2 O x (x ⁇ 5), ZrO x ( x ⁇ 2), SiO x (x ⁇ 2), WO x (x ⁇ 3), MoO x (x ⁇ 3), or a composite thereof.
  • first and second barrier layers 26 and 27 contain constituent elements other than titanium
  • titanium is included in the total amount (100 atomic%) of titanium and constituent elements other than titanium from the viewpoint of reducing material costs.
  • the constituent elements other than are preferably 30 atomic percent or less, more preferably 20 atomic percent or less, and even more preferably 10 atomic percent or less.
  • the first and second barrier layers 26 and 27 are preferably made of only titanium or an oxide of titanium, and particularly TiO x (1) which is an oxide deficient in oxygen with respect to the stoichiometric composition. ⁇ X ⁇ 2) is preferable.
  • the first and second barrier layers 26 and 27 are partially or wholly oxidized when the second crystalline dielectric layer 231 and the fourth crystalline dielectric layer 251 are formed. Therefore, after the second crystalline dielectric layer 231 and the fourth crystalline dielectric layer 251 are formed, it is not always necessary to be made of an oxide deficient in oxygen with respect to the stoichiometric composition. It may be composed of an oxide layer having a stoichiometric composition formed by oxidation and an unoxidized layer remaining without being oxidized, or only an oxide layer having a stoichiometric composition formed by oxidation. It may be made up of.
  • each of the first and second barrier layers 26 and 27 is preferably 1 nm or more independently. By setting the thickness of the first and second barrier layers 26 and 27 to 1 nm or more, the oxidation of the first metal layer 22 and the second metal layer 24 can be effectively suppressed.
  • the thicknesses of the first and second barrier layers 26 and 27 are not particularly limited as long as they are 1 nm or more, but in order to suppress oxidation of the first metal layer 22 and the second metal layer 24. If it is less than 10 nm, the visible light transmittance can be effectively increased.
  • the protective layer 28 has a function of improving the durability of the laminated film 2B, particularly the scratch resistance of the surface, and a function as a barrier against moisture and oxygen during heat treatment.
  • the protective layer 28 is not particularly limited as long as it improves the above function.
  • the protective layer 28 mainly composed of oxynitride such as titanium, silicon, or aluminum is preferable.
  • a carbon layer containing carbon as a main component that can improve the scratch resistance from film formation to heat treatment may be provided on the outermost layer of the protective layer 28.
  • the protective layer 28 is preferably a layer mainly composed of titanium oxide in advance.
  • the thickness of the protective layer 28 is preferably 1 nm or more. When the thickness of the protective layer 28 is 1 nm or more, the durability is effectively improved. If the thickness of the protective layer 28 is 15 nm, it is sufficient for ensuring the durability, and by making it less than this, the productivity of the protective layer 28 is improved.
  • the thickness of the protective layer 28 is more preferably 10 nm or less, and further preferably 6 nm or less.
  • the respective layers constituting the laminated film are formed in that order on one principal surface of the glass plate having a larger principal surface than the laminated film-attached glass plate to be produced by a conventional method.
  • the strengthening of the glass plate in the laminated film-attached glass plate is usually performed by air-cooling strengthening, and specifically by performing a heat treatment (heat treatment step) after laminating the respective layers.
  • heat treatment step As an order of each process, it is essential that a cutting process is performed after a film-forming process.
  • the order of the heat treatment steps is not limited, but it is preferable to perform the heat treatment after the cutting step.
  • the film forming method is not particularly limited, and physical vapor deposition (vacuum vapor deposition, ion plating, sputtering), chemical vapor deposition (thermal CVD, plasma CVD, photo CVD), ion beam sputtering Etc. can be applied.
  • physical vapor deposition vacuum vapor deposition, ion plating, sputtering
  • chemical vapor deposition thermal CVD, plasma CVD, photo CVD
  • ion beam sputtering Etc ion beam sputtering Etc.
  • each layer will be described in detail by taking as an example the glass plate with laminated film 10A shown in FIG. 3 and the glass plate with laminated film 10B shown in FIG. 3 and 4 are shown in a state where they have already been cut, but in actuality, the film formation of each layer is larger than the glass plate with a laminated film to be manufactured.
  • the film is formed on one main surface of the glass plate.
  • the method for forming the first, second, and third dielectric layers 21, 23, and 25 in the laminated film 2A of the laminated glass plate 10A is not particularly limited.
  • the film can be formed by selecting a sputtering target and an atmospheric gas corresponding to the constituent materials and performing sputtering by a conventional method.
  • these dielectric layers are provided as, for example, metal oxide layers
  • a metal target is used as a sputtering target, and film formation is performed by reactive sputtering in a sputtering gas with a sufficiently high oxidizing gas concentration. can do.
  • the metal target for example, a metal target containing zinc is preferably used.
  • the metal target containing zinc can contain oxide constituent elements other than zinc.
  • oxide constituent elements other than zinc include tin, aluminum, chromium, titanium, silicon, boron, magnesium, and gallium, and these can contain one or more kinds.
  • the oxide constituent element other than zinc is preferably 1 to 50 mass% in the total amount (100 mass%) of zinc and the oxide constituent element other than zinc. .
  • the first to fourth crystalline dielectric layers 212, 231, 233, and 251 in the laminated film 2B of the laminated film glass plate 10B are formed as, for example, zinc oxide layers containing aluminum.
  • reactive sputtering is performed using a metal target containing 1 to 10% by mass of aluminum in a desired ratio of zinc and aluminum, for example, in the total amount of zinc and aluminum (in 100% by mass).
  • a film can be formed.
  • the first, second, and third amorphous dielectric layers 211, 232, and 252 in the laminated film 2B of the laminated glass plate 10B are formed as, for example, zinc oxide layers containing tin.
  • reactive sputtering is performed using a metal target containing 30 to 70% by mass of tin and zinc in a desired ratio, for example, in the total amount of zinc and tin (in 100% by mass).
  • a film can be formed by performing.
  • the method for forming the first metal layer 22 and the second metal layer 24 is not particularly limited.
  • the first metal layer 22 and the second metal layer 24 contain, for example, silver as a main component as a sputtering target, and at least one metal M selected from palladium, gold, chromium, cobalt, and nickel is silver.
  • Film formation can be performed by performing sputtering in an atmosphere containing only an inert gas such as argon, using a target that is contained in a predetermined ratio with respect to the total amount of metal and metal M.
  • the sputter target used for forming the first metal layer 22 contains silver as a main component
  • the metal M contains silver and metal.
  • a target containing 6% by mass or more of the total amount with M is used, and the second metal layer 24 uses a target containing silver as a main component as a sputter target.
  • the sputter target used for forming the first metal layer 22 and the second metal layer 24 are each independently a metal containing silver as a main component as a sputter target.
  • M is contained in a ratio of 1.5% by mass or more with respect to the total amount of silver and metal M, and the content of metal M with respect to the total amount of silver and metal M in first metal layer 22 ( Mass%) and a target in which the total content (mass%) of metal M with respect to the total amount of silver and metal M in second metal layer 24 is 4 mass% or more is used.
  • the first barrier layer 26 and the second barrier layer 27 are preferably formed by sputtering using a metal target such as titanium or a reducing oxide target and using an inert gas as a sputtering gas.
  • the titanium oxynitride layer is formed, for example, as follows.
  • the layer is obtained by heat treatment as described below.
  • the titanium nitride layer can be formed by sputtering in a sputtering gas atmosphere made of a mixed gas of argon and nitrogen using a titanium target.
  • the protective layer 28 has a carbon layer containing carbon as a main component, the carbon layer is sputtered in an atmosphere containing only an inert gas such as argon using a carbon target. And film formation may be performed.
  • the glass plate with the laminated film is cut into a desired product shape.
  • the laminated film is not provided in the end surface of 2 or more as for the glass plate with a laminated film of embodiment of this invention.
  • the laminated film is also formed on the end face of the glass plate.
  • a non-heat treated product of a laminated film-coated glass plate can be obtained.
  • the non-heat treated product thus obtained is subjected to heat treatment to obtain the laminated film-attached glass plate of the embodiment, these are treated as precursors, and the laminated film-attached glass plate obtained by heat treatment is used in the present invention.
  • the glass plate with the laminated film of the embodiment is used.
  • the precursor of the glass sheet with a laminated film obtained above is used in a heating furnace according to the purpose, for example, for heating temperature or bending for strengthening.
  • Heat at a heating temperature for a predetermined time For example, for the precursor of a glass plate with a laminated film using a float glass substrate as the glass plate, when performing air-cooling strengthening of the glass substrate, the heat treatment is performed as the surface temperature of the precursor of the glass plate with a laminated film. A temperature of 500 to 700 ° C. for 1 to 30 minutes is preferable.
  • the following methods are known. Two types of metal targets containing silver and metal M are prepared so that the content of metal M is different. Metal obtained by laminating metal films having different metal M contents such that the film thickness and the content of metal M are the desired values as the finally obtained metal layer using the two types of targets obtained A layer precursor is obtained. By firing this precursor, a metal layer mainly composed of silver containing a predetermined amount of metal M is obtained as a single layer having a uniform composition.
  • the other layers constituting the laminated film are formed in the same manner as described above, and when the metal layer is formed by such a method, the desired size is obtained after the film formation.
  • a precursor of the laminated film-attached glass plate in which at least the metal layer is not in the final form is obtained.
  • the surface temperature of the precursor of the glass sheet with a laminated film is 500 to 700 ° C. Firing conditions are preferred.
  • the glass plate with a laminated film according to the embodiment of the present invention preferably has a haze value of 2% or less even when heat treatment is performed under a temperature condition of 600 ° C. or higher, for example, in the process of manufacturing.
  • the use of the laminated film-attached glass plate of the embodiment of the present invention is not limited.
  • it can be used as a constituent member of low-radiation laminated glass or multilayer glass. It is preferable to use it as a structural member of a double glazing.
  • the laminated glass examples include laminated glass having a configuration in which two transparent substrates arranged opposite to each other sandwich an intermediate film and are bonded by the intermediate film.
  • the glass plate with a laminated film of the embodiment can be used for one of such laminated glass transparent substrates.
  • the laminated film is used by being disposed on the intermediate film side.
  • the other transparent substrate is preferably a transparent glass plate.
  • the laminated glass-attached glass plate side is used as an outdoor side.
  • the laminated glass may have three or more transparent substrates.
  • the multi-layer glass examples include a multi-layer glass having a configuration in which two transparent substrates arranged opposite to each other are sealed at the periphery thereof with a spacer and an intermediate layer is formed between the opposing transparent substrates.
  • the glass plate with a laminated film of the embodiment can be used on one of the transparent substrates of such multilayer glass. In that case, the laminated film is disposed on the intermediate layer side.
  • the other transparent substrate is preferably a transparent glass plate.
  • the intermediate layer is preferably an air layer or an inert gas such as argon. When such a multi-layer glass is used as a window glass, it is used so that the glass plate side with a laminated film becomes the outdoor side.
  • the multi-layer glass may have three or more transparent substrates.
  • the multilayer glass of the embodiment of the present invention is configured by using the laminated film-attached glass plate of the embodiment on one of the transparent substrates of the multilayer glass and using the second transparent glass plate as the other transparent substrate.
  • the FIG. 2 shows a cross-sectional view of an example of the multilayer glass of the embodiment of the present invention.
  • the multi-layer glass 3 is an example in which the laminated film-attached glass plate 10 is used as a constituent member, and the laminated film 2 surface of the laminated film-attached glass plate 10 is opposed to one main surface of the second transparent glass plate 32. Are spaced apart.
  • the multilayer glass 3 has an intermediate layer 34 between the laminated film-attached glass plate 10 and the second transparent glass plate 32 by spacers 33 arranged on the periphery.
  • the multilayer glass of the embodiment of the present invention has the following properties (1-b), (2-b) and (3-b).
  • (1-b) The solar heat acquisition rate (g value) on the second glass plate side with respect to the solar radiation from the laminated film-coated glass plate side measured in accordance with ISO 9050: 2003 is 0.265 or less. is there.
  • (3-b) The visible light reflectance of the laminated film-attached glass plate side measured in accordance with ISO 9050: 2003 is 20% or less.
  • the characteristics (1-b) to (3-b) are characteristics corresponding to (1-a) to (3-a) in the evaluation of the laminated film-attached glass plate of the embodiment of the present invention, respectively.
  • the preferred range for (1-b) to (3-b) in the multilayer glass of the embodiment of the present invention is the same as the preferred range for (1-a) to (3-a).
  • the multilayer glass of the embodiment of the present invention preferably has characteristics corresponding to (4-a) to (8-a) in the evaluation of the laminated film-coated glass plate of the embodiment of the present invention. A preferable range in these characteristics is more preferable.
  • the transparent substrate with a laminated film is suitable for buildings, but is not necessarily limited to buildings, and can be used for vehicles such as automobiles to the extent applicable.
  • Examples 1, 2, and 8 are examples, and examples 3 to 7 are comparative examples.
  • Examples 1-8) As glass plates with laminated films, glass plates with laminated films 1 to 8 having the constitution shown in Table 1 were produced. That is, a soda-lime glass plate (Asahi Glass Co., Ltd. (FL5, FL6), 100 mm ⁇ 180 mm ⁇ 5 mmt, 100 mm ⁇ 180 mm ⁇ 6 mmt) was used as the glass plate, and the DC sputtering method was performed on one main surface by the following method. After forming the precursor of the laminated film by cutting, it is cut and fired to form each film so as to have the film configuration and thickness shown in Table 1, and laminated on one main surface of the glass plate A glass plate with a laminated film having a film and having no laminated film on four end faces was produced.
  • a soda-lime glass plate As ahi Glass Co., Ltd. (FL5, FL6), 100 mm ⁇ 180 mm ⁇ 5 mmt, 100 mm ⁇ 180 mm ⁇ 6 mmt
  • each film of the glass plate and the laminated film is described in the order of lamination from the left.
  • Each film is indicated by a constituent material and a thickness indicated by a number in parentheses (the unit is all [nm]).
  • the abbreviations of the constituent materials according to Examples 1 to 8 shown in Table 1 have the following meanings, and the thicknesses of the layers having no thickness indication are as follows.
  • the laminated film-attached glass plates 1 to 8 are laminated film-attached glass plates having the same configuration as the laminated film-attached glass plate 10B whose cross section is shown in FIG.
  • the layer thickness is 10 nm.
  • AgPd layer in which palladium is doped in silver. In Table 1, the number after AgPd indicates the ratio (mass%) of palladium to the total amount of palladium and silver.
  • TiOx a layer made of titanium oxide having a stoichiometric composition ratio or a non-stoichiometric composition ratio, or a layer thickness of 4 nm when no thickness is described.
  • TiOxNy a layer composed of titanium oxynitride having a stoichiometric composition ratio or a non-stoichiometric composition ratio, and when there is no description of the thickness, the layer thickness is 3.5 nm.
  • the in-line type sputtering apparatus used for sputtering contains a titanium target (Ti target), a target made of a zinc alloy containing 50% by mass of tin (SnZn alloy target), and 2% by mass of aluminum in the film forming chamber.
  • a target made of a zinc alloy (AlZn alloy target), a silver target containing 1% by mass of palladium (AgPd1 target), and a silver target containing 30% by mass of palladium (AgPd30 target) were placed on the cathode. Then, the cleaned glass plate was introduced into the load lock chamber, and the entire inside of the vacuum chamber was evacuated to 2.0 ⁇ 10 ⁇ 4 Pa to form each layer as shown below.
  • ⁇ SnZn oxide layer> Argon and oxygen were introduced into the vacuum chamber at 30:70 sccm as discharge gases, and formed by reactive DC magnetron sputtering using the SnZn alloy target described above.
  • the sputtering target was 70 ⁇ 200 mm 2 and 500 W was applied as the sputtering power. At this time, the pressure in the vacuum chamber was 0.4 Pa.
  • Oxygen was introduced into the vacuum chamber as a discharge gas at 100 sccm and formed by DC magnetron sputtering using the AlZn alloy target described above.
  • the sputtering target was 70 ⁇ 200 mm 2 and 500 W was applied as the sputtering power. At this time, the pressure in the vacuum chamber was 0.4 Pa.
  • the thickness of the AlZn oxide layer was all 10.0 nm.
  • Argon was introduced into the vacuum chamber by 50 sccm as a discharge gas and formed by DC magnetron sputtering using the above AgPd1 target.
  • the sputtering target was 70 ⁇ 200 mm 2 and 100 W was applied as the sputtering power.
  • ⁇ AgPd layer> Argon was introduced into the vacuum chamber as a discharge gas by 50 sccm, and the above-described AgPd1 target and AgPd30 target were successively used in this order and formed by DC magnetron sputtering. In either case, the sputtering target was 70 ⁇ 200 mm 2 and 100 W was applied as the sputtering power.
  • the continuously formed AgPd1 layer and AgPd30 layer are formed into a single AgPd layer by the following heat treatment (firing) after the production of the laminated film precursor on the glass plate, and the total thickness of each is determined as the final AgPd layer. The layer thickness was taken.
  • Ti barrier layer> Argon was introduced into the vacuum chamber as a discharge gas at 100 sccm, and the magnet was formed by DC magnetron sputtering using the Ti target described above.
  • the sputtering target was 70 ⁇ 200 mm 2 and 50 W was applied as the sputtering power. At this time, the pressure in the vacuum chamber was 0.4 Pa.
  • the thickness of the Ti barrier layer was all 4.0 nm.
  • the Ti barrier layer is a layer existing as a TiOx layer in the laminated film of the finally obtained glass plate with laminated film.
  • TiNx layer Argon and nitrogen were introduced into the vacuum chamber at 70:30 sccm as discharge gases, and formed by DC magnetron sputtering using the Ti target described above.
  • the sputtering target was 70 ⁇ 200 mm 2 and 500 W was applied as the sputtering power. At this time, the pressure in the vacuum chamber was 0.4 Pa.
  • the thickness of the TiNx layer was all set to 3.5 nm.
  • the TiNx layer is a layer present as a TiOxNy layer in the laminated film of the finally obtained glass plate with laminated film.
  • the glass plate with the precursor of the laminated film obtained above is cut with a glass cutter so that the size of the main surface becomes a rectangular shape of 70 mm ⁇ 100 mm.
  • the precursor examples 1 to 8 of the glass plates with laminated films having the laminated film precursors on the four end surfaces of the glass plates without the laminated film precursors were obtained.
  • the glass plates with laminated films 1 to 8 obtained above were evaluated as follows.
  • the multilayer glass using the laminated film-attached glass plates of Examples 1, 2, and 8 is the multilayer glass of the examples of the present invention.
  • the double-layer glass having the following constitution, that is, the double-layer for evaluation having the same constitution as shown in FIG.
  • the performance of the glass 30 was determined by calculation.
  • the multi-layer glass uses a transparent glass plate having a thickness of 6 mm as a transparent counter substrate (second transparent glass plate 32 in the multi-layer glass 30) facing the glass plate with the multi-layer film, and is transparently opposed to the glass plate with the multi-layer film.
  • the thickness of the intermediate layer between the substrate and the substrate was 12 mm, and the intermediate layer was filled with air.
  • the spectrophotometer measurement was performed using “U4100” manufactured by HITACHI.
  • the emissivity was measured using a conversion formula between the measurement result of the FT / IR “Frontier Gold” manufactured by the infrared spectrometer Perkin Elmer and the surface resistance value (Rs) obtained in advance. When the vertical emissivity was less than 0.03 in the conversion formula, the vertical emissivity was calculated as 0.03.
  • the surface resistance value (Rs) of the laminated film surfaces of the glass plates with laminated films 1 to 8 was measured using a portable surface resistance measuring instrument “STRATOMETER” manufactured by NAYY.
  • the solar heat acquisition rate (g value) on the transparent counter substrate side with respect to the solar radiation from the laminated film glass plate side, visible light transmittance ( Tv), visible light reflectance (Rv out ) on the side of the laminated film-attached glass plate, and visible light reflectance (Rv in ) on the transparent counter substrate side were determined.
  • the solar heat acquisition rate (g), visible light transmittance (Tv), and visible light reflectance (Rv) were determined based on ISO 9050: 2003.
  • ⁇ Glass plate with laminated film; haze value> The haze values (H (%)) of the glass plates with laminated films 1 to 8 were measured. The haze measurement was performed using a haze meter “HZ-2 type” manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.
  • ⁇ Glass plate with laminated film; moisture resistance> The number of white spots with a diameter of 0.5 mm or more observed in a predetermined range on the surface of the laminated film after a moisture resistance test in which 1 to 8 laminated glass plates with a laminated film are stored at 50 ° C. and 90% RH for 2 weeks. It was observed visually. The case where the number of white spots per 100 mm ⁇ 100 mm was 5 or less was marked as “ ⁇ ”. Table 2 shows the evaluation results obtained above.

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Abstract

　複層ガラスとした際に、高い遮熱性能と屋外からの良好な外観の両立が可能な積層膜付きガラス板および複層ガラスの提供。強化されたガラス板と、ガラス板の一方の主面上に設けられ２以上の端面には設けられない積層膜とを有する積層膜付きガラス板であって、積層膜が下記特性を有する積層膜付きガラス板；板厚５ｍｍの第１の透明ガラス板上に積層膜を形成して試験用ガラス板とし、該試験用ガラス板と、板厚６ｍｍの第２の透明ガラス板とを、スペーサを介して試験用ガラス板の積層膜面を内側にして隔置し、試験用ガラス板と第２の透明ガラス板の間に厚さ１２ｍｍの空気層を有するように作製した複層ガラスにおいて、試験用ガラス板側からの日射に対する第２の透明ガラス板側での日射熱取得率（ｇ値）が０．２６５以下であり、ＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色度座標による透過光のｂ＊が１以下であり、試験用ガラス板側の可視光反射率が２０％以下である。

Description

積層膜付きガラス板および複層ガラス
　本発明は、積層膜付きガラス板および複層ガラスに関し、特に強化ガラスに適した積層膜付きガラス板および複層ガラスに関する。
　建築用窓ガラスの省エネルギー性能を考える場合、例えばＬｏｗ－Ｅガラスと呼ばれる低放射率積層膜付き板ガラスが、高遮熱性能を達成するために使用される。ここで、高い遮熱性は、ガラスの日射熱取得率を低減することで達成できるが、日射熱取得率を低減するには、可視光透過率を下げる必要がある。
　一般的に、Ｌｏｗ－Ｅガラスにおいて、日射熱取得率を低減するために可視光透過率を下げると、反射率が高くなりすぎる。一方、反射率をある程度まで下げようとすると、特に板ガラス側、すなわち建物の外側から見た場合の反射色調が赤味を帯びやすくなり、意匠性が損なわれる。また商業ビルにおいては、室内にブラインドが設置されることが多く、ガラスの透過色調が黄色味を帯びていると、やはり建物の外側から見た場合の意匠性が損なわれる。
　このような問題を解決する試みとして、例えば、特許文献１には、低放射率積層膜を構成する銀を主成分とする金属層および誘電体層の膜厚を調整する技術が記載されている。しかしながら、特許文献１に記載の技術では、高い遮熱性能と板ガラス側から見た場合の意匠性が十分に満足できるレベルとは言い難かった。
特開２０１４－７６９１８号公報
　本発明は、複層ガラスとした際に、高い遮熱性能と屋外からの良好な外観の両立が可能な積層膜付きガラス板およびその積層膜付きガラス板を用いた複層ガラスの提供を目的とする。
　本発明の一形態に係る積層膜付きガラス板は、強化された主面が矩形状のガラス板と、前記ガラス板の一方の主面上に設けられ、前記ガラス板の２以上の端面には設けられていない積層膜とを有する積層膜付きガラス板であって、前記積層膜は、該積層膜を用いた下記複層ガラスにおいて下記特性を有する積層膜付きガラス板である。
　板厚が５ｍｍの第１の透明ガラス板の一方の主面上に前記積層膜を形成して試験用積層膜付きガラス板とし、該試験用積層膜付きガラス板と、板厚が６ｍｍの第２の透明ガラス板とを、その周縁に配設したスペーサを介して前記試験用積層膜付きガラス板の積層膜面が前記第２の透明ガラス板の一方の主面に対向するように隔置し、前記試験用積層膜付きガラス板と前記第２の透明ガラス板の間に厚さ１２ｍｍの空気層を有するように作製した複層ガラスにおいて、
　ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して測定される、前記試験用積層膜付きガラス板側からの日射に対する前記第２の透明ガラス板側での日射熱取得率（ｇ値）が０．２６５以下であり、
　ＩＳＯ９０５０：２００３に規定される可視光を照射して得られる透過光について、ＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色度座標によるｂ＊が１以下であり、
　ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して測定される、前記試験用積層膜付きガラス板側の可視光反射率が２０％以下である。
　また、本発明の別形態の積層膜付きガラス板は、強化された主面が矩形状のガラス板と、前記ガラス板の一方の主面上に設けられ、前記ガラス板の２以上の端面には設けられていない積層膜とを備え、前記積層膜は、銀を主成分として含有するｎ層（ｎは２以上の整数）の金属層と、前記金属層をそれぞれ挟むように積層されるｎ＋１層の誘電体層を有し、前記金属層のうち前記ガラス板に最も近い第１の金属層は、パラジウム、金、クロム、コバルトおよびニッケルから選ばれる少なくとも１種の金属を、銀と前記金属との合計量に対して６質量％以上の割合で含有する、ただし、前記割合が９質量％未満の場合は前記第１の金属層と前記ガラス板に２番目に近い第２の金属層との間の前記誘電体層の厚さが１００ｎｍ以下である、もしくは、前記第１の金属層および前記第１の金属層以外の前記金属層の少なくとも１層が、それぞれ独立に、パラジウム、金、クロム、コバルトおよびニッケルから選ばれる少なくとも１種の金属を、銀と前記金属との合計量に対して１．５質量％以上の割合で含有し、かつ前記金属を１．５質量％以上の割合で含有する金属層における前記金属の含有量の合計が４質量％以上であり、かつ前記第１の金属層と前記ガラス板に２番目に近い第２の金属層との間の前記誘電体層の厚さが９５ｎｍ以下である積層膜付きガラス板である。
　本発明の一形態に係る複層ガラスは、強化された主面が矩形状の第１のガラス板と、前記第１のガラス板の一方の主面上に設けられ、前記第１のガラス板の２以上の端面には設けられていない積層膜とを有する積層膜付きガラス板と、前記積層膜付きガラス板とスペーサを介して離間して配置された主面が矩形状の第２のガラス板と、を備える複層ガラスであり、下記特性を有する。
　ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して測定される、前記積層膜付きガラス板側からの日射に対する前記第２のガラス板側での日射熱取得率（ｇ値）が０．２６５以下である。
　ＩＳＯ９０５０：２００３に規定される可視光を照射して得られる透過光について、ＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色度座標によるｂ＊が１以下である。
　ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して測定される、前記積層膜付きガラス板側の可視光反射率が２０％以下である。
　本発明によれば、複層ガラスとした際に、高い遮熱性能と屋外からの良好な外観の両立が可能な積層膜付きガラス板および複層ガラスを提供できる。
積層膜付きガラス板を概略的に示す正面図である。 図１Ａに示す積層膜付きガラス板のＸ－Ｘ線における断面図である。 複層ガラスの一例を示す断面図である。 積層膜付きガラス板の一実施形態の断面図である。 積層膜付きガラス板の一実施形態の変形例を示す断面図である。
　以下、本発明の実施の形態を、図面を参照しながら説明する。なお、本発明は、下記説明に限定して解釈されるものではない。
［積層膜付きガラス板］
　図１Ａ、図１Ｂは本発明の実施形態の積層膜付きガラス板を概略的に示す正面図およびそのＸ－Ｘ線における断面図である。図１Ａ、図１Ｂに示す本発明の実施形態の積層膜付きガラス板１０は、強化されたガラス板１と、ガラス板１の一方の主面１ｓ上に設けられた積層膜２とを有する。ガラス板１は主面１ｓが矩形状であり４つの端面１ｔを有する。積層膜２は、ガラス板１の端面１ｔには設けられていない。なお、本発明の実施形態の積層膜付きガラス板において、４つの端面のうち２つまでは積層膜を有してもよい。積層膜２は、これを用いて以下の特定の構成の複層ガラスを作製した場合に、該複層ガラスに下記（１－ａ）～（３－ａ）の特性を付与することが可能な低放射率積層膜である。
　上記積層膜を評価するための複層ガラスは、板厚が５ｍｍの第１の透明ガラス板の一方の主面上に前記積層膜を形成して試験用積層膜付きガラス板とし、該試験用積層膜付きガラス板と、板厚が６ｍｍの第２の透明ガラス板とを、その周縁に配設したスペーサを介して前記試験用積層膜付きガラス板の積層膜面が前記第２の透明ガラス板の一方の主面に対向するように隔置し、前記試験用積層膜付きガラス板と前記第２の透明ガラス板の間に厚さ１２ｍｍの空気層を有するようにして作製される。このように作製される複層ガラスは、下記（１－ａ）、（２－ａ）および（３－ａ）の特性を有する。
　（１－ａ）ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して測定される、前記試験用積層膜付きガラス板側からの日射に対する前記第２の透明ガラス板側での日射熱取得率（ｇ値）が０．２６５以下である。
　（２－ａ）ＩＳＯ９０５０：２００３に規定される可視光を照射して得られる透過光について、ＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色度座標によるｂ＊が１以下である。
　（３－ａ）ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して測定される、前記試験用積層膜付きガラス板側の可視光反射率が２０％以下である。
　以下、実施形態の積層膜付きガラス板１０が有するガラス板１および積層膜２について説明する。
（ガラス板）
　ガラス板１は、強化された主面が矩形状の板状のガラスであれば特に限定されず、例えば、建築物用の窓ガラスや通常使用されるフロートガラス、またはロールアウト法によって製造されるソーダ石灰ガラス等の無機質の透明性を有するガラス板を使用できる。ガラス板の強化方法には、風冷強化、化学強化等があり、ガラス板１としては風冷強化されたガラス板が好ましい。ガラス板１の強化は、積層膜２を主面上に設ける前に行われてもよく、後述のように、製造時にガラス板の主面上に積層膜を形成した非熱処理品を熱処理することで風冷強化されたガラス板１としてもよい。本発明の実施形態においては後者が好ましい。
　ガラス板１は、積層膜付きガラス板１０として求められる性能に応じて適宜選択される。積層膜付きガラス板１０を複層ガラスの一部として使用する際に、一定以上の可視光透過率が求められる場合には、ガラス板１は、透明ガラス、高透過ガラス等の無色ガラスが好ましい。また、高い演色性を得る観点からも無色ガラスが好ましい。
　ガラス板１としては、また、ホウケイ酸塩ガラス、低膨張ガラス、ゼロ膨張ガラス、低膨張結晶化ガラス、ゼロ膨張結晶化ガラス等の各種ガラスを用いることができる。ガラス板１の厚さは、必ずしも限定されないが、ガラス板１の可視光透過率を一定以上に保ちつつ、十分な機械的強度を確保できる厚さが好ましく、例えば０．５～２０ｍｍが好適である。
　ガラス板１の形状は、板状であって矩形状の一対の主面を有する形状であれば特に限定されない。一対の主面が平坦な平面である平板状のものでも、一対の主面の全面または一部が曲率を有する曲板状のものでもよい。なお、主面が矩形状であるとは、主面が実質的に矩形の形状を呈していることをいい、例えば、周辺部の隅を切り落としたガラス板もその範疇に含まれる。
（積層膜）
　積層膜付きガラス板１０において、積層膜２は、ガラス板１の主面１ｓ上の全面に亘って設けられている一方、ガラス板１の４つの端面１ｔには設けられていない。実施形態の積層膜付きガラス板においては、ガラス板の４つの端面のうち１または２に積層膜を有してもよいが、４つの端面のいずれにも積層膜が設けられていないことが好ましい。
　本発明の実施形態の積層膜付きガラス板は、単独で、あるいは、他の部材とともに合わせガラスや複層ガラスとされて、通常、窓に嵌め込まれて用いられる。図２に積層膜付きガラス板１０を構成部材として用いた本発明の実施形態の複層ガラスの一例の断面図を示す。複層ガラス３は、第１の透明ガラス板１と積層膜２を有する積層膜付きガラス板１０と、第２の透明ガラス板３２とが、その周縁に配設したスペーサ３３を介して両者の間に中間層３４を有するように隔置された構成である。複層ガラス３においては、積層膜付きガラス板１０の積層膜２面が第２の透明ガラス板３２の一方の主面に対向するように隔置されている。
　本発明の実施形態の積層膜付きガラス板やこれを用いた複層ガラスでは、ガラス板の２以上の端面、好ましくは全ての端面に積層膜が設けられていないため、建物等の窓に嵌め込む際、セッティングブロックやグレイジングチャンネルなど、可塑剤を含む資材が積層膜を劣化させることを抑制する効果や、網入りガラスの防錆材との接着力低下を抑制する効果があり好ましい。
　積層膜付きガラス板１０において、積層膜２は、上記特定の構成の評価用の複層ガラスとして評価された場合に、上記（１－ａ）～（３－ａ）を全て満足する低放射率積層膜である。
＜積層膜の特性＞
　積層膜２は、例えば、図２に示すのと同様の構成の複層ガラスであって、中間層３４が空気層であり、第１の透明ガラス板１の板厚ｔ１、第２の透明ガラス板３２の板厚ｔ２、および中間層（空気層）３４の厚さｔ３が、それぞれ、５ｍｍ、６ｍｍ、１２ｍｍである複層ガラス（以下、「複層ガラス３０」という。）により評価できる。また、この場合、評価されるべき積層膜２が設けられた板厚５ｍｍの透明ガラス板１を「試験用積層膜付きガラス板１０ｘ」という。
　ここで、本明細書において上記評価等に用いる透明ガラス板とは、厚さによらず、ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して測定される可視光透過率が８０％以上であり、ＩＳＯ９０５０：２００３に規定される可視光を照射して得られる透過光のＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色度座標によるａ＊およびｂ＊の絶対値が共に５以下のガラスをいう。
　本明細書において、必要に応じて、ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して測定される可視光透過率を「Ｔｖ」、可視光反射率を「Ｒｖ」と示す。また、ＩＳＯ９０５０：２００３に規定される可視光を照射して得られる透過光を、単に「透過光」ともいい、同様にＩＳＯ９０５０：２００３に規定される可視光を照射して得られる反射光を、単に「反射光」ともいう。ＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色度座標によるｂ＊およびａ＊を、それぞれ単に「ｂ＊」、「ａ＊」ともいう。
　以下、上記評価用の複層ガラス、例えば、複層ガラス３０を用いて評価される、実施形態の積層膜付きガラス板における積層膜の特性について説明する。なお、以下の説明は、複層ガラス３０の特性として記載するが、これらはすべて積層膜２の特性に起因するものである。また、実施形態の積層膜付きガラス板を用いる複層ガラスにおいては、通常、積層膜付きガラス板は積層膜を内側にして他のガラス板と隙間をおいて対向するように作製され、積層膜付きガラス板側が屋外に晒され、対向するガラス板側が室内に位置するようにして使用される。複層ガラス３０を用いた評価は、このような使用を想定した評価である。
　積層膜２を用いた複層ガラス３０において、（１－ａ）ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して測定される、試験用積層膜付きガラス板１０ｘ側からの日射に対する第２の透明ガラス板３２側での日射熱取得率（ｇ値）は０．２６５以下である。日射熱取得率（ｇ値）は、０．２５７以下が好ましい。
　ここで、日射熱取得率（ｇ値）は、試験用積層膜付きガラス板１０ｘ側（屋外側）から入射した太陽エネルギーを１としたときの第２の透明ガラス板３２側（室内側）に流入する熱量の割合を示す値である。日射熱取得率（ｇ値）により、遮熱性、すなわち太陽光によって生じる熱（日射熱）をどの程度遮断するかを知ることができる。
　日射熱取得率は、試験用積層膜付きガラス板１０ｘ側（屋外側）から入射した太陽エネルギーに対する、直接透過する熱（以下「透過熱」ともいう。）と、吸収されてその後第２の透明ガラス板３２側（室内側）へ放出される熱（以下、「輻射熱」ともいう。）との合計の熱量の割合である。日射熱取得率は、０から１の間の数で表される。
　なお、日射熱取得率は、具体的には複層ガラス３０における分光特性および放射率を測定し、所定の計算式に導入することで算出できる。日射熱取得率が小さいほど、複層ガラス３０において試験用積層膜付きガラス板１０ｘ側から入射した日射熱量に対する、透過熱および輻射熱の合計の熱量の割合が少なくなる。
　積層膜２を用いた複層ガラス３０において、（２－ａ）ＩＳＯ９０５０：２００３に規定される可視光を照射して得られる透過光について、ＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色度座標によるｂ＊が１以下である。
　透過光は、複層ガラス３０の試験用積層膜付きガラス板１０ｘ側（屋外側）から入射し第２の透明ガラス板３２側（室内側）に透過した透過光であっても、複層ガラス３０の第２の透明ガラス板３２側（室内側）から入射し試験用積層膜付きガラス板１０ｘ側（屋外側）に透過した透過光であっても、同様であり、測定に際してどちらの透過光を用いてもよい。
　複層ガラス３０の透過光のｂ＊は、ｂ＊≦０が好ましい。複層ガラス３０において透過光のｂ＊が上記範囲内であれば、試験用積層膜付きガラス板１０ｘ側（屋外側）から入射した太陽光が室内側に設置されたブラインドに当たった際、黄色がかった色味とはならない。
　積層膜２を用いた複層ガラス３０において、（３－ａ）ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して測定される、試験用積層膜付きガラス板１０ｘ側の可視光反射率は２０％以下である。以下、ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して測定される、試験用積層膜付きガラス板１０ｘ側の可視光反射率をＲｖｏｕｔともいう。Ｒｖｏｕｔは、１８％以下が好ましい。複層ガラス３０においてＲｖｏｕｔが上記範囲内であれば、屋外側からガラスを見た際に、反射が高過ぎず、意匠性に優れた外観となる。
　積層膜２を用いた複層ガラス３０においては、上記（１－ａ）、（２－ａ）、および（３－ａ）の特性を有しながら、さらに、以下の（４－ａ）、（５－ａ）、（６－ａ）、（７－ａ）および（８－ａ）から選ばれる１つまたは２つ以上の特性を有することが好ましい。（４－ａ）～（８－ａ）のすべての特性を有することがより好ましい。
　（４－ａ）ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して測定される、前記第２の透明ガラス板側の可視光反射率が２０％以下である。
　（５－ａ）ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して測定される前記試験用積層膜付きガラス板側の可視光反射率と、前記第２の透明ガラス板側の可視光反射率の差が、１０％以下である。
　（６－ａ）前記試験用積層膜付きガラス板側および前記第２の透明ガラス板側に、ＩＳＯ９０５０：２００３に規定される可視光を照射して得られる各反射光の、ＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色度座標によるａ＊およびｂ＊がいずれも２以下である。
　（７－ａ）ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して測定される可視光透過率が３０％以上である。
　（８－ａ）ＪＩＳ　Ｚ８７２６（１９９０）に準拠してＤ６５光源を使用し平均演色性評価数（Ｒａ）により評価される透過光の演色性が８５％以上である。
　上記Ｒｖｏｕｔと同様に、ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して測定される、前第２の透明ガラス板３２側の可視光反射率をＲｖｉｎともいう。Ｒｖｉｎは、上記（４－ａ）のとおり２０％以下が好ましく、１８％以下がより好ましく、１６％以下が特に好ましい。複層ガラス３０が上記（４－ａ）の特性を有することで、第２の透明ガラス板３２側（室内側）への反射光による室内の映り込みを抑制することが可能となる。
　ＲｖｏｕｔとＲｖｉｎの差は上記（５－ａ）のとおり１０％以下であることが好ましく、９％以下がより好ましく、８％以下が特に好ましい。なお、ＲｖｏｕｔとＲｖｉｎの差とは、ＲｖｏｕｔとＲｖｉｎのうちで値が大きいものから値が小さいものを引いて得られる値をいう。複層ガラス３０が上記（５－ａ）の特性を有することで、室外側、室内側ともに意匠性に優れた色調に調整することが容易となる。
　試験用積層膜付きガラス板１０ｘ側の反射光および第２の透明ガラス板３２側の反射光におけるＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色度座標によるａ＊およびｂ＊は上記（６－ａ）のとおりいずれも２以下であることが好ましい。複層ガラス３０が上記（６－ａ）の特性を有することで、試験用積層膜付きガラス板１０ｘ側（屋外側）、第２の透明ガラス板３２側（室内側）ともに反射光の赤味、および黄色味を抑制することが可能となる。
　試験用積層膜付きガラス板１０ｘ側（屋外側）の反射光のａ＊は－２０～１がより好ましく、－１５～０が特に好ましい。試験用積層膜付きガラス板１０ｘ側（屋外側）の反射光のｂ＊は－３０～１がより好ましく、－２５～０が特に好ましい。第２の透明ガラス板３２側（室内側）の反射光のａ＊は－２０～１がより好ましく、－１５～０が特に好ましい。第２の透明ガラス板３２側（室内側）の反射光のｂ＊は－３０～１がより好ましく、－２５～０が特に好ましい。
　複層ガラス３０のＴｖは、上記（７－ａ）のとおり３０％以上が好ましい。複層ガラス３０が上記（７－ａ）の特性を有することで、建物内への採光を十分とすることができる。複層ガラス３０のＴｖは、防眩性の観点からは６０％以下が好ましい。複層ガラス３０のＴｖは、３５～５５％が特に好ましい。
　複層ガラス３０のＪＩＳ　Ｚ８７２６（１９９０）に準拠してＤ６５光源を使用し平均演色性評価数（Ｒａ）により評価される透過光の演色性は、上記（８－ａ）のとおり８５％以上である。（８－ａ）による演色性が８５％以上であることで、建物の外側から複層ガラス３０を見た際の外観が自然な中間色となる。演色性は８７％以上が好ましく、９０％以上がより好ましい。
　以上、本発明の実施形態の積層膜付ガラス板の積層膜の特性を、上記試験用積層膜付ガラス板を用いた複層ガラスにより評価した場合について説明した。上記に用いた試験用積層膜付ガラス板および、これを用いた複層ガラスの構成はいずれも、実施形態の積層膜付ガラス板の積層膜を評価するための構成であり、本発明の積層膜付ガラス板の構成は上記試験用積層膜付ガラス板の構成に限定されない。また、本発明の積層膜付ガラス板の使用は、複層ガラスに限定されるものではなく、また、本発明の実施形態の複層ガラスの構成は、上記評価用の複層ガラスの構成に限定されるものではない。
　本発明の実施形態の積層膜付ガラス板は、透明性を確保するためにヘイズ値が２％以下であることが好ましい。積層膜付ガラス板のヘイズ値は、１％以下がより好ましい。積層膜付ガラス板において、ガラス板のヘイズ値は通常、０．０～０．１％程度であり、積層膜付ガラス板全体のヘイズ値は積層膜のヘイズ値によるところが大きい。すなわち、積層膜は上記評価において（１－ａ）、（２－ａ）および（３－ａ）を満足する特性を有することが必須であり、（４－ａ）～（８－ａ）から選択される１以上の特性を有することが好ましく、さらに積層膜付ガラス板としたときのヘイズ値を２％以下とする積層膜が好ましい。 
　実施形態の積層膜付ガラス板における積層膜の構成および製造方法は後述のとおりである。ガラス板が風冷強化ガラス板や曲板状ガラス板の場合、積層膜付ガラス板の前駆体を、例えば、６００℃以上に熱処理して、実施形態の積層膜付ガラス板を得ることがある。すなわち、ガラス板を、例えば、６００℃以上に熱処理することで、風冷強化ガラス板や曲板状ガラス板として、その一方の主面上に積層膜を形成して積層膜付ガラス板を得るのではなく、上記熱処理を施す前のガラス板に積層膜の前駆体を形成させ、これを熱処理してガラス板が風冷強化ガラス板や曲板状ガラス板である積層膜付ガラス板を得ることがある。曲板状ガラス板は熱処理により強化された曲板状のガラス板である。このような場合、熱処理された積層膜として、積層膜付ガラス板のヘイズ値が２％以下となるように、後述のようにして積層膜の構成材料を選択する。
　実施形態の積層膜付ガラス板は、該積層膜付きガラス板を５０℃、９０％ＲＨの条件下に２週間保管する耐湿試験後に、前記積層膜表面の１００ｍｍ×１００ｍｍの範囲で観察される直径０．５ｍｍ以上の白点の個数が５個以内であることが好ましい。上記耐湿試験後の積層膜表面が上記条件を満たせば、例えば、実施形態の積層膜付ガラス板を用いて複層ガラスを製造する際に、積層膜付ガラス板を保管する場合に十分な耐湿性を有するといえる。
＜積層膜の構成＞
　実施形態の積層膜付ガラス板における積層膜は、上記評価において（１－ａ）、（２－ａ）および（３－ａ）を満足する特性を有すれば、その構成は特に制限されない。上記評価において（１－ａ）、（２－ａ）および（３－ａ）の特性を満足できる積層膜としては、例えば、以下の構成の積層膜（Ｘ）または積層膜（Ｙ）が挙げられる。
　積層膜（Ｘ）は、銀を主成分として含有する金属層のｎ層（ｎは２以上の整数）と、前記金属層を挟むように積層されるｎ＋１層の誘電体層を有し、前記金属層のうち前記ガラス板に最も近い第１の金属層は、パラジウム、金、クロム、コバルトおよびニッケルから選ばれる少なくとも１種の金属を、銀と前記金属との合計量に対して６質量％以上の割合で含有する。ただし、銀と前記金属との合計量に対する前記金属の割合が６質量％以上９質量％未満の場合は前記第１の金属層と前記ガラス板に２番目に近い第２の金属層との間の前記誘電体層の厚さが１００ｎｍ以下である。銀と前記金属との合計量に対する前記金属の割合が９質量％以上の場合には、前記第１の金属層と前記ガラス板に２番目に近い第２の金属層との間の前記誘電体層の厚さは特に制限されない。なお、本明細書において、積層膜を構成する金属層、誘電体層およびその他の層の厚さは、幾何学的厚さを表す。
　積層膜（Ｙ）は、銀を主成分として含有する金属層のｎ層（ｎは２以上の整数）と、前記金属層を挟むように積層されるｎ＋１層の誘電体層を有する。積層膜（Ｙ）において、前記金属層のうち前記ガラス板に最も近い第１の金属層は、パラジウム、金、クロム、コバルトおよびニッケルから選ばれる少なくとも１種の金属を、銀と前記金属との合計量に対して１．５質量％以上の割合で含有し、かつ、前記金属層のうち前記第１の金属層以外の前記金属層の少なくとも１層は、パラジウム、金、クロム、コバルトおよびニッケルから選ばれる少なくとも１種の金属を、銀と前記金属との合計量に対して１．５質量％以上の割合で含有する。さらに、積層膜（Ｙ）においては、前記金属を１．５質量％以上の割合で含有する金属層における前記金属の含有量の合計が４質量％以上である。積層膜（Ｙ）は、ｎ層の金属層の構成が上記の条件を満たすとともに、前記第１の金属層と前記ガラス板に２番目に近い第２の金属層との間の前記誘電体層の厚さが９５ｎｍ以下である。
　積層膜（Ｘ）および積層膜（Ｙ）が有する、銀を主成分として含有する金属層のｎ層（ｎは２以上の整数）が、積層膜に低放射性を付与する役割を担う金属層である。なお、本明細書において、ある成分を主成分として含有するとは、全構成成分に対する主成分として含有する成分の割合が５０質量％を超えることをいう。積層膜（Ｘ）および積層膜（Ｙ）においては、ｎ層の銀を主成分として含有する金属層における特定の金属層が、パラジウム、金、クロム、コバルトおよびニッケルから選ばれる少なくとも１種の金属を上記含有量となるように含有し、積層体（Ｘ）においては必要に応じて、積層体（Ｙ）においては必須の要件として、ガラス板に最も近い第１の金属層と２番目に近い第２の金属層との間の誘電体層の厚さを上記範囲とすることで、上記評価において（１－ａ）、（２－ａ）および（３－ａ）の特性の全てを達成可能としている。
　積層膜（Ｘ）において、銀を主成分として含有する金属層の層数は２以上であればよく、２～４が好ましく、２または３がより好ましく、２が特に好ましい。図３は、積層膜（Ｘ）として、上記銀を主成分として含有する金属層の層数が２である積層膜を有する積層膜付きガラス板１０Ａの一実施形態の断面図である。積層膜付きガラス板１０Ａは、ガラス板１の一方の主面１ｓ上に積層膜２Ａを有する。
　積層膜２Ａは、ガラス板１側から順に、第１の誘電体層２１、第１の金属層２２、第２の誘電体層２３、第２の金属層２４、第３の誘電体層２５を有する。第１の金属層２２および第２の金属層２４は、いずれも、銀を主成分として含有する金属層である。また、第１の金属層２２は、パラジウム、金、クロム、コバルトおよびニッケルから選ばれる少なくとも１種の金属を、銀と前記金属との合計量に対して６質量％以上の割合で含有する。なお、第１の金属層２２において、銀と前記金属との合計量に対する前記金属の割合が６質量％以上９質量％未満の場合は第１の金属層２２と第２の金属層２４との間の第２の誘電体層２３の厚さが１００ｎｍ以下である。第１の金属層２２において、銀と前記金属との合計量に対する前記金属の割合が９質量％以上の場合には、第２の誘電体層２３の厚さは特に制限されない。各層においてガラス板１に近い側を「ガラス板側」、その反対側を「表面側」という。
　以下、積層膜２Ａを構成する各層について説明する。
　第１の金属層２２は、銀を主成分として含有し、主成分としての銀以外に、パラジウム、金、クロム、コバルトおよびニッケルから選ばれる少なくとも１種の金属を銀と前記金属との合計量に対して６質量％以上の割合で含有する。以下、パラジウム、金、クロム、コバルトおよびニッケルから選ばれる少なくとも１種の金属を金属Ｍともいう。また、銀と金属Ｍとの合計量に対する金属Ｍの割合（質量％）を、金属Ｍの含有量という。第１の金属層２２における金属Ｍの含有量は、７．５質量％以上がより好ましく、９質量％以上が特に好ましい。第１の金属層２２における金属Ｍの含有量の上限は、効果と経済性のバランスから３０質量％程度が好ましい。
　上記金属Ｍとしては、パラジウム、金、クロム、コバルトおよびニッケルから選ばれる１種を単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。これらのうちでも金属Ｍとしては、パラジウム、金が好ましく、パラジウムが特に好ましい。なお、金属Ｍは、第１の金属層２２の主材料である銀と固溶体を形成しやすい金属である。金属Ｍを用いることで、たとえ、ガラス板の強化処理や曲げ処理において熱処理が施された場合であっても、熱処理して得られる積層膜２Ａのヘイズ値が大きく上昇することはない。
　第１の金属層２２は、銀および金属Ｍ以外の添加元素を含有できる。添加元素としては、例えば、銅、チタン等の金属元素が挙げられる。添加元素を含有する場合、添加元素の合計した含有量は、第１の金属層２２を構成する全成分中、５質量％以下が好ましく、３質量％以下がより好ましく、１質量％以下がさらに好ましい。
　第２の金属層２４は、銀を主成分として含有する金属層であれば、特に制限されない。第２の金属層２４は、必要に応じて第１の金属層２２と同様の金属Ｍを含有してもよい。好ましい金属Ｍの態様は、上記第１の金属層２２の場合と同様である。なお、第２の金属層２４が金属Ｍを含有する場合の金属Ｍの含有量については、積層膜に求められる性能による。
　第１の金属層２２および第２の金属層２４の厚さについては、第１の金属層２２の厚さに対する、第２の金属層２４の厚さの比が、０．８～１．６の範囲にあることが好ましい。この２つの金属層の比の値は、より好ましくは０．８５～１．５であり、特に好ましくは０．９～１．４である。第１の金属層２２の厚さは、具体的には、８～２５ｎｍが好ましく、１０～２０ｎｍがより好ましい。第２の金属層２４の厚さは、上記比の値を満足させた上で１０～３０ｎｍが好ましく、１２～２５ｎｍがより好ましい。
　積層膜２Ａにおける第１の誘電体層２１、第２の誘電体層２３および第３の誘電体層２５としては、銀を主成分として含有する金属層を有する積層膜に、該金属層を挟む形で一般的に用いられる誘電体層が特に制限なく使用可能である。具体的には、ガラス板１上や第１の金属層２２上、第２の金属層２４上に成膜可能な金属や元素の酸化物、窒化物、酸窒化物等を含む誘電体層が挙げられる。上記金属や元素としては、亜鉛、スズ、チタン、ケイ素、アルミニウム、クロム、ニッケル、ニオブ、および、それらの合金等が挙げられる。また、誘電体層を構成する上記金属や元素の酸化物、窒化物、酸窒化物等には、例えば、上記金属や元素以外に、スズ、アルミニウム、クロム、チタン、ケイ素、ホウ素、マグネシウム、ガリウム等から選ばれる元素が酸化物、窒化物、酸窒化物の形でドープされていてもよい。
　なお、窒化物層や酸窒化物層は熱処理による応力変化が大きく、熱処理によって膜内部に蓄積した応力が金属層の安定性を失わせるため、実施形態の積層膜付きガラス板における積層膜は、上記金属層のうちの最も積層膜表面に近い金属層とガラス板の間に窒化物層または酸窒化物層を有しない構成が好ましい。積層膜２Ａにおいては、少なくとも第１の誘電体層２１および第２の誘電体層２３は、成膜効率の観点から、窒化物層でもなく、酸窒化物層でもないことが好ましい。より好ましくは、第１の誘電体層２１、第２の誘電体層２３および第３の誘電体層２５の全てが酸化物層であることが好ましい。
　酸化物層のなかでも、第１の誘電体層２１、第２の誘電体層２３および第３の誘電体層２５としては、銀を主成分として含有する第１の金属層２２、第２の金属層２４を挟むことから、これらの金属層２２、２４を均質および緻密にでき、および金属層２２、２４との密着性を向上させることが可能な誘電体層、例えば亜鉛の酸化物を含有する誘電体層が好ましい。
　誘電体層２１、２３、２５が亜鉛の酸化物を含有する誘電体層である場合、亜鉛以外の酸化物構成元素を含有させることができる。亜鉛以外の酸化物構成元素としては、例えば、スズ、アルミニウム、クロム、チタン、ケイ素、ホウ素、マグネシウム、ガリウムが挙げられ、これらは１種または２種以上を含有させることができる。亜鉛以外の酸化物構成元素を含有させることで、この層に接する層との密着性を向上させるとともに、可視光透過率を向上させることができる。
　亜鉛以外の酸化物構成元素であるスズ、アルミニウム、クロム、チタン、ケイ素、ホウ素、マグネシウム、ガリウムは、誘電体層２１、２３、２５中、例えば、酸化スズ（ＳｎＯ２）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、酸化クロム（Ｃｒ２Ｏ３）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、酸化ホウ素（Ｂ２Ｏ３）、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、酸化ガリウム（Ｇａ２Ｏ３）として、またはこれらの複合酸化物として含有される。亜鉛以外の酸化物構成元素としては、アルミニウム、スズが安価であるため好ましい。アルミニウムは、安価な材料であるとともに、成膜速度を高くできるために好ましい。スズについても、比較的安価な材料であるために好ましい。
　亜鉛の酸化物を含有する誘電体層に亜鉛以外の酸化物構成元素を含有させる場合、亜鉛と亜鉛以外の酸化物構成元素（酸素を除く）との合計量中（１００質量％中）、亜鉛以外の酸化物構成元素を１～５０質量％とすることが好ましい。亜鉛以外の酸化物構成元素の割合を１質量％以上とすることで、可視光透過率を効果的に向上させることができる。また、亜鉛以外の酸化物構成元素の割合を５０質量％以下とすることで、誘電体層２１、２３、２５の間に形成される金属層２２、２４の安定性を確保できる。
　積層膜２Ａにおいて、第１の金属層２２における金属Ｍの含有量が９質量％以上の場合には、第１～第３の誘電体層２１、２３、２５の厚さは、必ずしも限定されるものではない。第１、第３の誘電体層２１、２５の厚さについては、それぞれ独立に１０～５０ｎｍが好ましく、２０～４５ｎｍがより好ましい。また、第１の金属層２２および第２の金属層２４で挟まれた第２の誘電体層２３の厚さについては、上記第１、第３の誘電体層２１、２５の厚さより厚く、６０～１２０ｎｍが好ましく、７０～１１０ｎｍがより好ましい。積層膜（Ｘ）においては、第１の金属層２２における金属Ｍの含有量を９質量％以上とし、誘電体層２１、２３、２５の厚さを上記範囲とすることで、可視光反射率をより低くすることができるとともに、良好な反射色調を実現することができる。
　一方、積層膜２Ａにおいて、第１の金属層２２における金属Ｍの含有量が６質量％以上９質量％未満の場合には、第１の金属層２２および第２の金属層２４で挟まれた第２の誘電体層２３の厚さは１００ｎｍ以下である。第２の誘電体層２３の厚さについては、６０～１００ｎｍが好ましく、７０～１００ｎｍがより好ましい。第１の誘電体層２１および第３の誘電体層２５の厚さは、必ずしも限定されるものではないが、いずれも上記第２の誘電体層２３の厚さより薄いことが好ましい。第１の誘電体層２１および第３の誘電体層２５の厚さは、具体的には、上記第１の金属層２２における金属Ｍの含有量が９質量％以上の場合の第１の誘電体層２１および第３の誘電体層２５の厚さと同様にできる。積層膜（Ｘ）においては、第１の金属層２２における金属Ｍの含有量を６質量％以上９質量％未満とし、誘電体層２１、２３、２５の厚さを上記範囲とすることで、可視光反射率をより低くすることができるとともに、良好な反射色調を実現することができる。
　上記積層膜（Ｘ）と同様、積層膜（Ｙ）についても、銀を主成分として含有する金属層の層数は２以上であればよく、２～４が好ましく、２または３がより好ましく、２が特に好ましい。銀を主成分として含有する金属層の層数が２の場合、いずれの金属層においても金属Ｍの含有量は１．５質量％以上であり、かつ各層の金属Ｍの含有量の合計が４質量％以上である。銀を主成分として含有する金属層の層数が３以上の場合、ガラス板に最も近い金属層と、残りの金属層のうちの少なくとも１層が金属Ｍを１．５質量％以上の割合で含有し、かつ各層の金属Ｍの含有量の合計が４質量％以上である。金属Ｍの含有量は、各金属層で同一であっても異なってもよい。
　各金属層における金属Ｍの含有量のより好ましい含有量は、ガラス板に最も近い金属層で４質量％以上であり、７質量％以上が特に好ましい。さらに、金属Ｍを１．５質量％以上含有するその他の金属層では、金属Ｍの含有量は２質量％以上がより好ましく、２．５質量％以上が特に好ましい。金属Ｍの含有量に規定のない金属層においては、金属Ｍを含有してもよく、含有しなくてもよい。金属Ｍを含有する場合は、含有量は１．５質量％以上が好ましい。各金属層における金属Ｍの含有量の上限は、２０質量％程度が好ましい。
　積層膜（Ｙ）における積層構成としては、例えば、図３に示す積層膜付きガラス板１０Ａの積層膜２Ａと同様の積層構成、すなわち、ガラス板側から順に、第１の誘電体層、第１の金属層、第２の誘電体層、第２の金属層、第３の誘電体層を有する構成が挙げられる。積層膜（Ｙ）は、このような積層膜において、金属層については、第１の金属層および第２の金属層における金属Ｍの含有量が異なる以外は、積層膜（Ｘ）と全て同様の構成が好ましい。
　また、このような積層膜２Ａと同様の積層構成を有する積層膜（Ｙ）としたときに、誘電体層については、第２の誘電体層の厚さが異なる以外は、積層膜（Ｘ）と全て同様の構成が好ましい。積層膜（Ｙ）においては、第１の金属層および第２の金属層で挟まれた第２の誘電体層の厚さは９５ｎｍ以下である。第２の誘電体層の厚さについては、６０～９５ｎｍが好ましく、７０～９５ｎｍがより好ましい。第１の誘電体層および第３の誘電体層の厚さは、必ずしも限定されるものではないが、いずれも上記第２の誘電体層の厚さより薄いことが好ましい。第１の誘電体層および第３の誘電体層の厚さは、具体的には、上記積層膜（Ｘ）における第１の誘電体層および第３の誘電体層の厚さと同様にできる。積層膜（Ｙ）においては、金属層を上記構成とし、誘電体層の厚さを上記範囲とすることで、可視光反射率をより低くすることができるとともに、良好な反射色調を実現することができる。
　積層膜において、銀を主成分として含有する金属層の層数が２である場合、ガラス板に近い第１の金属層における金属Ｍの含有量が６質量％以上である上記積層膜（Ｘ）であっても、ガラス板に近い第１の金属層およびガラス板から遠い第２の金属層における金属Ｍの含有量がともに１．５質量％以上であり、かつ各層の金属Ｍの含有量の合計が４質量％以上である上記積層膜（Ｙ）であっても、積層膜は図４に断面を示す層構成であることが好ましい。
　図４は、積層膜付きガラス板の一実施形態の変形例を示す断面図である。積層膜付きガラス板１０Ｂは、ガラス板１の一方の主面１ｓ上に積層膜２Ｂを有する。積層膜２Ｂは、ガラス板１側から順に、第１の誘電体層２１、第１の金属層２２、第１のバリア層２６、第２の誘電体層２３、第２の金属層２４、第２のバリア層２７、第３の誘電体層２５、および保護層２８を有する。
　第１の金属層２２および第２の金属層２４は、いずれも、積層膜付きガラス板１０Ａにおける積層膜２Ａの第１の金属層２２および第２の金属層２４と同様とできる。
　第１の誘電体層２１は、ガラス板側から第１のアモルファス誘電体層２１１、第１の結晶性誘電体層２１２からなる。第２の誘電体層２３は、ガラス板側から第２の結晶性誘電体層２３１、第２のアモルファス誘電体層２３２、第３の結晶性誘電体層２３３からなる。さらに、第３の誘電体層２５は、ガラス板側から第４の結晶性誘電体層２５１および第３のアモルファス誘電体層２５２からなる。
　積層膜２Ｂにおいては、第１、第２、第３の誘電体層２１、２３、２５が、それぞれ上記結晶性誘電体層およびアモルファス誘電体層を有し、第１の金属層２２を挟むように第１の結晶性誘電体層２１２と第２の結晶性誘電体層２３１が、第２の金属層２４を挟むように第３の結晶性誘電体層２３３と第４の結晶性誘電体層２５１がそれぞれ配置され、さらにその両側に第１、第２、第３のアモルファス誘電体層２１１、２３２、２５２が配置された構成である。
　積層膜２Ｂにおいて、積層膜（Ｘ）、積層膜（Ｙ）のいずれの場合についても、第１の誘電体層２１を構成する各層の合計の厚さ、すなわち第１の誘電体層２１の厚さは、積層膜２Ａにおける、積層膜（Ｘ）、積層膜（Ｙ）の場合の厚さと同様にできる。第２の誘電体層２３の厚さ、第３の誘電体層２５の厚さについても同様である。
　また、積層膜２Ｂは、第１の金属層２２および第２の金属層２４のそれぞれ表面側に各金属層に接するように第１のバリア層２６および第２のバリア層２７を有し、最も表面側の第３の誘電体層２５の表面側に保護層２８を有する構成である。
　上記のとおり、実施形態の積層膜付きガラス板における積層膜は、上記金属層のうちの最も積層膜表面に近い金属層とガラス板の間に窒化物層または酸窒化物層を有しない構成が好ましい。積層膜２Ｂにおいては、少なくとも第１の誘電体層２１、第１のバリア層２６および第２の誘電体層２３は、成膜効率の観点から、窒化物層でもなく、酸窒化物層でもないことが好ましい。より好ましくは、第１の誘電体層２１、第１のバリア層２６、第２の誘電体層２３、第２のバリア層２７および第３の誘電体層２５の全てが酸化物層であることが好ましい。
　第１～第４の結晶性誘電体層２１２、２３１、２３３、２５１は、上記のように第１、第２の金属層２２、２４を挟み込むように配置される、結晶性の高い誘電体層である。結晶性誘電体層は、その結晶化等により、その間に形成される第１の金属層２２、第２の金属層２４を均質にするとともに緻密なものとすることができる。
　結晶性誘電体層２１２、２３１、２３３、２５１の構成材料としては、積層膜２Ａにおいて誘電体層２１、２３、２５等を構成する材料として上記した誘電体材料のうちから結晶性の高い誘電体材料を適宜選択して用いることができる。上に説明した誘電体材料のうちでも、結晶性の高い誘電体材料として、具体的には、亜鉛の酸化物、もしくはアルミニウム、チタン、スズ等の亜鉛以外の酸化物構成元素を含有する亜鉛の酸化物が好ましい。
　これらのなかでも、アルミニウムを含有する亜鉛の酸化物が、結晶性、成膜速度、経済性の点で特に好ましい。亜鉛の酸化物にアルミニウムを含有させる場合、上記のとおり酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）または、亜鉛とアルミニウムの複合酸化物のかたちで含有される。アルミニウムを含有する亜鉛の酸化物におけるアルミニウムの含有量は、亜鉛とアルミニウムとの合計量中（１００質量％中）、アルミニウムを１～１０質量％とすることが好ましく、１～５質量％とすることがより好ましい。
　第１～第４の結晶性誘電体層２１２、２３１、２３３、２５１の厚さは、それぞれ独立に３～１５ｎｍが好ましい。結晶性誘電体層２１２、２３１、２３３、２５１の厚さを３ｎｍ以上とすることで、結晶化を促進でき、その間に形成される第１、第２の金属層２２、２４を均質にするとともに緻密なものとすることができる。結晶性誘電体層２１２、２３１、２３３、２５１の厚さは１５ｎｍもあれば、結晶化の促進には十分であり、これ以下の厚さとすることで、結晶性誘電体層２１２、２３１、２３３、２５１の表面が粗くなることにより第１、第２の金属層２２、２４の特性が低下することを抑制できる。結晶性誘電体層２１２、２３１、２３３、２５１の厚さは、より第１、第２の金属層２２、２４を均質にするとともに緻密なものとし、特性に優れたものとする観点から、５～１１ｎｍがより好ましい。
　なお、第１、第２の金属層２２、２４の表面側には、各金属層に接するように、それぞれ第１のバリア層２６、第２のバリア層２７が配置されている。したがって、上記第１～第４の結晶性誘電体層２１２、２３１、２３３、２５１のうち第１、第２の金属層２２、２４の表面側に配設される第２の結晶性誘電体層２３１および第４の結晶性誘電体層２５１は、第１のバリア層２６および第２のバリア層２７を介して第１、第２の金属層２２、２４の表面側に配置されている。しかしながら、上記第１、第２の金属層２２、２４を均質にするとともに緻密なものとする機能は、第１、第２の金属層２２、２４のガラス板側に配置される第１の結晶性誘電体層２１２および第３の結晶性誘電体層２３３とともに用いることで十分に果たすことが可能である。
　第１、第２、第３のアモルファス誘電体層２１１、２３２、２５２は、第１、第２の金属層２２、２４を挟み込むように設けられた第１～第４の結晶性誘電体層２１２、２３１、２３３、２５１の間、もしくは上下に配置される非結晶性の誘電体層である。アモルファス誘電体層は、結晶粒が成長しないことから、これを結晶性誘電体層の間、もしくは上下に設けることで、積層膜２Ｂ全体としての平坦性を確保することが可能となる。
　アモルファス誘電体層２１１、２３２、２５２の構成材料としては、積層膜２Ａにおいて誘電体層２１、２３、２５等を構成する材料として上記した誘電体材料のうちから非結晶性の誘電体材料を適宜選択して用いることができる。上に説明した誘電体材料のうちでも、非結晶性の誘電体材料として、具体的には、スズ、アルミ、チタン等の亜鉛以外の酸化物構成元素を１０質量％以上含有する亜鉛の酸化物等が好ましい。
　これらのなかでも、スズを含有する亜鉛の酸化物が、非結晶性、経済性の点で特に好ましい。亜鉛の酸化物にスズを含有させる場合、上記のとおり酸化スズ（ＳｎＯ２）または、亜鉛とスズの複合酸化物のかたちで含有される。スズを含有する亜鉛の酸化物におけるスズの含有量は、十分な非結晶性を得るために、亜鉛とスズとの合計量中（１００質量％中）、スズを２０～８０質量％とすることが好ましく、３０～７０質量％とすることがより好ましい。
　第１、第２、第３のアモルファス誘電体層２１１、２３２、２５２の厚さは、第１、第３のアモルファス誘電体層２１１、２５２の厚さについては、それぞれ独立に５～４５ｎｍが好ましく、１０～３５ｎｍがより好ましい。また、第２の結晶性誘電体層２３１および第３の結晶性誘電体層２３３で挟まれた第２のアモルファス誘電体層２３２の厚さについては、積層膜２Ｂが、積層膜（Ｘ）、積層膜（Ｙ）のいずれかに属するかを勘案して、第２の誘電体層２３の厚さが、上記したそれぞれの場合の厚さの範囲内となるように設定される。
　積層膜２Ｂが積層膜（Ｘ）であって、第１の金属層２２における金属Ｍの含有量が９質量％以上の場合には、第２のアモルファス誘電体層２３２の厚さは、３０～１００ｎｍが好ましく、４０～８０ｎｍがより好ましい。積層膜２Ｂが積層膜（Ｘ）であって、第１の金属層２２における金属Ｍの含有量が６質量％以上９質量％未満の場合には、第２のアモルファス誘電体層２３２の厚さは、５０～９０ｎｍが好ましく、６０～９０ｎｍがより好ましい。積層膜２Ｂが積層膜（Ｙ）の場合には、第２のアモルファス誘電体層２３２の厚さは、５０～８５ｎｍが好ましく、６０～８５ｎｍがより好ましい。
　第１、第２、第３のアモルファス誘電体層２１１、２３２、２５２の厚さをそれぞれ上記範囲とすることで、積層膜２Ｂ全体としての平坦性を確保しつつ、可視光透過率を高くすることができるとともに、成膜時間を適度に短縮でき生産性を良好とすることができる。
　第１のバリア層２６および第２のバリア層２７は、それぞれ、第２の結晶性誘電体層２３１および第４の結晶性誘電体層２５１の成膜時における第１の金属層２２および第２の金属層２４の酸化を抑制するために設けられる。
　第１のバリア層２６および第２のバリア層２７の構成材料は、上記酸化を抑制できるものであれば特に制限されない。第１、第２のバリア層２６、２７の構成材料としては、例えば、チタン、亜鉛アルミニウム合金、ニッケルクロム合金、またはそれらの酸化物を含有するものであって、金属、または化学量論組成に対して酸素が欠乏した酸化物からなるものが挙げられる。金属、または化学量論組成に対して酸素が欠乏した酸化物からなる材料とすることで、第２の結晶性誘電体層２３１の成膜時における第１の金属層２２の酸化、および第４の結晶性誘電体層２５１の成膜時における第２の金属層２４の酸化をそれぞれ抑制できる。
　第１、第２のバリア層２６、２７は、チタン、またはチタンの酸化物を主成分とするものが好ましい。チタンの酸化物を主成分とするものとは、チタンとチタン以外の酸化物構成元素（酸素を除く）との合計量（１００原子％）中、チタンを５０原子％以上含有するものである。
　第１、第２のバリア層２６、２７には、チタン以外の構成元素を含有させることができる。チタン以外の構成元素としては、例えば、ニオブ、タンタル、ジルコニウム、ケイ素、タングステン、モリブデンが挙げられ、これらは１種または２種以上を含有させることができる。チタン、ニオブ、タンタル、タングステン、モリブデンは、酸化防止バリア層中、例えば、ＴｉＯｘ（ｘ＜２）、Ｎｂ２Ｏｘ（ｘ＜５）、Ｔａ２Ｏｘ（ｘ＜５）、ＺｒＯｘ（ｘ＜２）、ＳｉＯｘ（ｘ＜２）、ＷＯｘ（ｘ＜３）、ＭｏＯｘ（ｘ＜３）、またはこれらの複合物として含有される。
　第１、第２のバリア層２６、２７にチタン以外の構成元素を含有させる場合、材料費を安価にする観点から、チタンとチタン以外の構成元素との合計量（１００原子％）中、チタン以外の構成元素を３０原子％以下とすることが好ましく、２０原子％以下とすることがより好ましく、１０原子％以下とすることがさらに好ましい。第１、第２のバリア層２６、２７は、チタン、またはチタンの酸化物のみからなるものとすることが好ましく、特に化学量論組成に対して酸素が欠乏した酸化物であるＴｉＯｘ（１＜ｘ＜２）のみからなるものとすることが好ましい。
　なお、第１、第２のバリア層２６、２７は、それぞれ第２の結晶性誘電体層２３１および第４の結晶性誘電体層２５１の成膜時に一部または全部が酸化される。このため、第２の結晶性誘電体層２３１および第４の結晶性誘電体層２５１の成膜後は、必ずしも化学量論組成に対して酸素が欠乏した酸化物からなる必要はなく、例えば、酸化により形成された化学量論組成を有する酸化層と、酸化されずに残った未酸化層とからなるものとなっていてもよいし、酸化により形成された化学量論組成を有する酸化層のみからなるものとなっていてもよい。
　第１、第２のバリア層２６、２７の厚さは、それぞれ独立に１ｎｍ以上が好ましい。第１、第２のバリア層２６、２７の厚さを１ｎｍ以上とすることで、第１の金属層２２および第２の金属層２４の酸化を効果的に抑制できる。第１、第２のバリア層２６、２７の厚さは、１ｎｍ以上であれば特に制限されるものではないが、第１の金属層２２および第２の金属層２４の酸化を抑制するためには１０ｎｍもあれば十分であり、これ以下とすることで可視光透過率を効果的に高くできる。
　保護層２８は、積層膜２Ｂの耐久性、特に表面の耐擦傷性を向上させる機能と、水分や、熱処理中の酸素に対するバリアとしての機能を有する。保護層２８としては、上記機能を向上させるものであれば特に制限されない。例えば、チタン、ケイ素、アルミニウム等の酸窒化物を主成分とする保護層２８が好ましい。さらに、熱処理を行ったときに消失するが、成膜から熱処理までの耐擦傷性を向上できる炭素を主成分として含有する炭素層を保護層２８の最表層に設けてもよい。一方、熱処理前の非熱処理品においては、保護層２８は、予め酸化チタンを主成分とする層としておくことが好ましい。
　保護層２８の厚さは、１ｎｍ以上が好ましい。保護層２８の厚さが１ｎｍ以上の場合、耐久性が効果的に向上する。保護層２８の厚さは、１５ｎｍもあれば耐久性の確保に十分であり、これ以下とすることで保護層２８の生産性が向上する。保護層２８の厚さは、１０ｎｍ以下がより好ましく、６ｎｍ以下がさらに好ましい。
（積層膜付きガラス板の製造）
　実施形態の積層膜付きガラス板の製造は、製造しようとする積層膜付きガラス板より主面が大きなガラス板の一方の主面上に、常法によって、積層膜を構成する各層をその順に成膜する成膜工程、および、成膜工程後の積層膜付きガラス板を主面が矩形状の所望の大きさに切断する切断工程を有する。積層膜付きガラス板におけるガラス板の強化は、通常風冷強化により行われ、具体的には上記各層を積層後、熱処理すること（熱処理工程）で行われる。各工程の順番としては、成膜工程後に切断工程が行われることが必須である。熱処理工程の順番は問わないが、切断工程後に熱処理を行うことが好ましい。
　積層膜の成膜に際しては、ガラス板の積層膜が形成される主面は清浄化処理され、この主面上に積層膜の各層が順次成膜される。成膜方法は、特に限定されず、物理的蒸着法（真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法）、化学的蒸着法（熱ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法、光ＣＶＤ法）、イオンビームスパッタリング法等を適用できる。透明基板１１の面積が大きい場合、厚さの均一性が制御しやすく、生産性に優れることから、直流または交流デュアルスパッタリング法が好ましい。
　以下に、図３に示す積層膜付きガラス板１０Ａ、図４に示す積層膜付きガラス板１０Ｂを例にして各層の成膜方法について具体的に説明する。なお、図３、図４の積層膜付きガラス板１０Ａ、１０Ｂは既に切断された状態で示されるが、実際には、各層の成膜は製造しようとする積層膜付きガラス板より主面が大きなガラス板の一方の主面上に成膜されるものである。
　積層膜付きガラス板１０Ａの積層膜２Ａにおける、第１、第２、第３の誘電体層２１、２３、２５の成膜方法は、特に限定されるものではない。例えば、構成材料に応じたスパッタリングターゲットと雰囲気ガスを選択して常法によりスパッタリングを行うことで成膜できる。これらの誘電体層を、例えば、金属の酸化物層として設ける場合には、スパッタリングターゲットとして金属ターゲットを用い、酸化性ガス濃度を十分に高くしたスパッタガス中で反応性スパッタを行うことにより成膜することができる。金属ターゲットとしては、例えば、亜鉛を含有する金属ターゲットが好適に用いられる。
　亜鉛を含有する金属ターゲットには、亜鉛以外の酸化物構成元素を含有させることができる。亜鉛以外の酸化物構成元素としては、例えば、スズ、アルミニウム、クロム、チタン、シリコン、ホウ素、マグネシウム、ガリウムが挙げられ、これらは１種または２種以上を含有させることができる。亜鉛以外の酸化物構成元素を含有させる場合、亜鉛と亜鉛以外の酸化物構成元素との合計量（１００質量％）中、亜鉛以外の酸化物構成元素を１～５０質量％とすることが好ましい。
　積層膜付きガラス板１０Ｂの積層膜２Ｂにおける、第１～第４の結晶性誘電体層２１２、２３１、２３３、２５１を、例えば、アルミニウムを含有する亜鉛の酸化物層として成膜する場合には、上記において亜鉛とアルミニウムを所望の割合、例えば、亜鉛とアルミニウムとの合計量中（１００質量％中）、アルミニウムを１～１０質量％で含有する金属ターゲットを用いて反応性スパッタを行うことで成膜できる。
　同様に、積層膜付きガラス板１０Ｂの積層膜２Ｂにおける、第１、第２、第３のアモルファス誘電体層２１１、２３２、２５２を、例えば、スズを含有する亜鉛の酸化物層として成膜する場合には、上記において亜鉛とスズを所望の割合、例えば、亜鉛とスズとの合計量中（１００質量％中）、スズを３０～７０質量％で含有する金属ターゲットを用いて反応性スパッタを行うことで成膜できる。
　第１の金属層２２および第２の金属層２４の成膜方法も、特に限定されるものではない。第１の金属層２２および第２の金属層２４は、例えば、スパッタターゲットとして、銀を主成分として含有し、パラジウム、金、クロム、コバルトおよびニッケルから選ばれる少なくとも１種の金属Ｍを、銀と金属Ｍとの合計量に対して所定の割合で含有するターゲットを使用して、アルゴン等の不活性ガスのみを含む雰囲気下でスパッタを行うことにより成膜することができる。
　具体的には、積層膜を積層膜（Ｘ）の構成とする場合には、第１の金属層２２の成膜に用いるスパッタターゲットとして、銀を主成分として含有し金属Ｍを、銀と金属Ｍとの合計量に対して６質量％以上の割合で含有するターゲットを使用し、第２の金属層２４はスパッタターゲットとして銀を主成分として含有するターゲットを使用する。積層膜（Ｙ）の構成とする場合には、第１の金属層２２の成膜に用いるスパッタターゲットおよび第２の金属層２４はスパッタターゲットとして、それぞれ独立に、銀を主成分として含有し金属Ｍを、銀と金属Ｍとの合計量に対して１．５質量％以上の割合で含有し、かつ、第１の金属層２２における銀と金属Ｍとの合計量に対する金属Ｍの含有量（質量％）と第２の金属層２４における銀と金属Ｍとの合計量に対する金属Ｍの含有量（質量％）の合計が４質量％以上となるターゲットを使用する。
　第１のバリア層２６および第２のバリア層２７は、チタン等の金属ターゲットまたは還元性酸化物ターゲットを用い、スパッタガスとして不活性ガスを用いて、スパッタすることにより成膜することが好ましい。
　積層膜付きガラス板１０Ｂの積層膜２Ｂが、保護層２８として、例えば、チタン酸窒化物層を有する場合には、該チタン酸窒化物層は、例えば、以下のように形成されるチタン窒化物層が後述のように熱処理されることで得られる。チタン窒化物層は、チタンターゲットを用いてアルゴンと窒素の混合ガスからなるスパッタガスの雰囲気下でスパッタを行うことにより成膜することができる。また、保護層２８として、例えば、炭素を主成分として含有する炭素層を有する場合には、該炭素層は、炭素ターゲットを使用して、アルゴン等の不活性ガスのみを含む雰囲気下でスパッタリングを行って成膜すればよい。
　積層膜を成膜後、積層膜付きガラス板を所望の製品形状となるように切断する。積層膜が形成されたガラス板を切断するため、本発明の実施形態の積層膜付きガラス板は、積層膜が２以上の端面には設けられていない。製品形状に切断してから成膜を行う方法では、積層膜がガラス板端面にも成膜されてしまう。
　以上のようにして積層膜付きガラス板の非熱処理品が得られる。このようにして得られる非熱処理品に熱処理を施して実施形態の積層膜付きガラス板を得る場合には、これらを前駆体として扱い、熱処理されて得られた積層膜付きガラス板を本発明の実施形態の積層膜付きガラス板とする。
　積層膜付きガラス板を熱処理品として得る場合には、上記で得られた積層膜付きガラス板の前駆体を加熱炉で目的に応じた、例えば、強化のための加熱温度や曲げ加工のために加熱温度で所定の時間、加熱する。例えば、ガラス板としてフロートガラス基板を用いた積層膜付きガラス板の前駆体について、該ガラス基板の風冷強化を行う場合には、加熱処理は、積層膜付きガラス板の前駆体の表面温度として５００～７００℃で１～３０分間が好ましい。
　また、上記第１の金属層２２および第２の金属層２４の成膜の方法として、例えば、以下の方法が知られている。
　銀および金属Ｍを含有する金属ターゲットを、金属Ｍの含有量が異なるように２種類調製する。得られた２種類のターゲットを用いて、最終的に得られる金属層として膜厚と金属Ｍの含有量が所望の値となるように、金属Ｍの含有量が異なる金属膜を積層させた金属層の前駆体を得る。この前駆体を、焼成することで、所定量の金属Ｍを含有する銀を主成分とする金属層が、１層の均一な組成の層として得られる。
　実施形態の積層膜付きガラス板において、積層膜を構成する他の層については上記同様にして成膜し、金属層をこのような方法で成膜した場合、成膜後、所望の大きさの矩形状に切断して、少なくとも金属層が最終形態となっていない積層膜付きガラス板の前駆体が得られる。該積層膜付きガラス板の前駆体を、金属層が１層の均一な組成の層となるように焼成する条件としては、積層膜付きガラス板の前駆体の表面温度として５００～７００℃での焼成条件が好ましい。
　本発明の実施形態の積層膜付きガラス板は、このように製造の過程で、例えば、６００℃以上の温度条件による熱処理が施された場合においてもヘイズ値が２％以下であることが好ましい。
　本発明の実施形態の積層膜付きガラス板の用途は限定されない。例えば、低放射性の合わせガラスや複層ガラスの構成部材として使用できる。複層ガラスの構成部材として使用することが好ましい。
　合わせガラスとしては、例えば、対向配置された２枚の透明基板が中間膜を挟持し該中間膜により接着された構成の合わせガラスが挙げられる。このような合わせガラスの透明基板の一方に実施形態の積層膜付きガラス板を用いることができる。その場合、積層膜は中間膜側に配置されて使用される。他方の透明基板は透明ガラス板が好ましい。このような合わせガラスを窓ガラスとして用いる場合には、積層膜付きガラス板側が屋外側となるようにして用いられる。なお、合わせガラスとしては３枚以上の透明基板を有するものであってもよい。
　複層ガラスとしては、例えば、対向配置した２枚の透明基板をその周縁部にスペーサを介して封止し対向する透明基板間に中間層を形成した構成の複層ガラスが挙げられる。このような複層ガラスの透明基板の一方に実施形態の積層膜付きガラス板を用いることができる。その場合、積層膜は中間層側に配置される。他方の透明基板は透明ガラス板が好ましい。また、中間層は空気層、アルゴン等の不活性ガスが好ましい。このような複層ガラスを窓ガラスとして用いる場合には、積層膜付きガラス板側が屋外側となるようにして用いられる。なお、複層ガラスとしては３枚以上の透明基板を有するものであってもよい。
［複層ガラス］
　本発明の実施形態の複層ガラスは、このような複層ガラスの透明基板の一方に実施形態の積層膜付きガラス板を用い、他方の透明基板として第２の透明ガラス板を用いて構成される。図２は本発明の実施形態の複層ガラスの一例の断面図を示す。複層ガラス３は、積層膜付きガラス板１０を構成部材として用いた例であり、積層膜付きガラス板１０の積層膜２面が第２の透明ガラス板３２の一方の主面に対向するように隔置されている。また、複層ガラス３は、積層膜付きガラス板１０と第２の透明ガラス板３２の周縁に配設したスペーサ３３により両者の間に中間層３４を有する。
　本発明の実施形態の複層ガラスは、以下の（１－ｂ）、（２－ｂ）および（３－ｂ）の特性を有する。
　（１－ｂ）ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して測定される、前記積層膜付きガラス板側からの日射に対する前記第２のガラス板側での日射熱取得率（ｇ値）が０．２６５以下である。
　（２－ｂ）ＩＳＯ９０５０：２００３に規定される可視光を照射して得られる透過光について、ＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色度座標によるｂ＊が１以下である。
　（３－ｂ）ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して測定される、前記積層膜付きガラス板側の可視光反射率が２０％以下である。
　（１－ｂ）～（３－ｂ）の特性は、それぞれ、本発明の実施形態の積層膜付ガラス板の評価における（１－ａ）～（３－ａ）に相当する特性である。本発明の実施形態の複層ガラスにおける（１－ｂ）～（３－ｂ）について、好ましい範囲は（１－ａ）～（３－ａ）における好ましい範囲と同様である。さらに、本発明の実施形態の複層ガラスは、本発明の実施形態の積層膜付ガラス板の評価における（４－ａ）～（８－ａ）に相当する特性を有することが好ましく、特にはこれらの特性における好ましい範囲であることがより好ましい。
　以上、本発明の実施形態について説明したが、これらの実施形態は例として提示したものであり、発明の範囲を限定しない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。例えば、積層膜付き透明基板は、建築物用に好適であるが、必ずしも建築物用に限られず、適用可能な限度において自動車等の車両用に用いることもできる。
　以下、本発明の積層膜付きガラス板について実施例を参照して具体的に説明する。なお、本発明はこれらに限定されるものではない。例１、２、８が実施例であり、例３～７が比較例である。
（例１～８）
　積層膜付きガラス板として、表１に示す構成の１～８の積層膜付きガラス板を製造した。すなわち、ガラス板としてソーダライムガラス板（旭硝子株式会社製（ＦＬ５、ＦＬ６）、１００ｍｍ×１８０ｍｍ×５ｍｍｔ、１００ｍｍ×１８０ｍｍ×６ｍｍｔ）を用い、その一方の主面上に、以下の方法によりＤＣスパッタリング法により積層膜の前駆体を成膜した後、切断し、焼成することで、表１に示す膜構成および厚さとなるように各膜を成膜して、ガラス板の一方の主面上に積層膜を有し、４つの端面に積層膜を有しない積層膜付きガラス板を製造した。
　表１において、ガラス板、積層膜の各膜は左から積層順に記載されている。各膜は構成材料と括弧内の数字で示す厚さ（単位は全て［ｎｍ］である）で表示した。また、表１に示す例１～８にかかる構成材料の略号は以下の意味であり、厚さの表示のない層の厚さについても以下のとおりである。なお、１～８の積層膜付きガラス板は、図４に断面を示す積層膜付きガラス板１０Ｂと同様の構成の積層膜付きガラス板である。
　ＦＬ５；旭硝子株式会社製、ソーダライムガラス板、ＦＬ５（５ｍｍｔ）
　ＦＬ６；旭硝子株式会社製、ソーダライムガラス板、ＦＬ６（６ｍｍｔ）
　ＳＺＯ；亜鉛およびスズの酸化物層（ＳｎＺｎ酸化物層）
　ＡＺＯ；亜鉛およびアルミニウムの酸化物層（ＡｌＺｎ酸化物層）、厚さの記載がない場合は１０ｎｍの層厚である。
　ＡｇＰｄ；銀にパラジウムがドープされた層、表１においてＡｇＰｄの後の数字はパラジウムと銀の合計量に対するパラジウムの割合（質量％）を示す。
　ＴｉＯｘ；化学量論的な組成比または非化学量論的な組成比のチタン酸化物からなる層、厚さの記載がない場合は４ｎｍの層厚である。
　ＴｉＯｘＮｙ；化学量論的な組成比または非化学量論的な組成比のチタン酸窒化物からなる層、厚さの記載がない場合は３．５ｎｍの層厚である。
（１）積層膜前駆体の成膜
　例１～８において、以下の方法で、積層膜の前駆体を、上記ガラス板上に、第１の亜鉛およびスズの酸化物層（ＳｎＺｎ酸化物層）、第１の亜鉛およびアルミニウムの酸化物層（ＡｌＺｎ酸化物層）、第１の銀パラジウム１層（ＡｇＰｄ１層＝ＡｇとＰｄの合計量に対してＰｄを１質量％含有する層）または第１の銀パラジウム１層（ＡｇＰｄ１層）および銀パラジウム３０層（ＡｇＰｄ３０層＝ＡｇとＰｄの合計量に対してＰｄを３０質量％含有する層）、第１のチタン層（Ｔｉバリア層）、第２の亜鉛およびアルミニウムの酸化物層、第２の亜鉛およびスズの酸化物層、第３の亜鉛およびアルミニウムの酸化物層、第２の銀パラジウム１層（ＡｇＰｄ１層）または第２の銀パラジウム１層（ＡｇＰｄ１層）および銀パラジウム３０層（ＡｇＰｄ３０層）、第２のチタン層、第４の亜鉛およびアルミニウムの酸化物層、第３の亜鉛およびスズの酸化物層、チタン窒化物層（ＴｉＮｘ層）を順次形成することで、薄膜積層部として成膜した。
　スパッタに使用するインライン型スパッタ装置には、成膜室内に、チタンターゲット（Ｔｉターゲット）、５０質量％のスズを含有する亜鉛合金からなるターゲット（ＳｎＺｎ合金ターゲット）、２質量％のアルミニウムを含有する亜鉛合金からなるターゲット（ＡｌＺｎ合金ターゲット）、１質量％のパラジウムを含有する銀ターゲット（ＡｇＰｄ１ターゲット）、３０質量％のパラジウムを含有する銀ターゲット（ＡｇＰｄ３０ターゲット）、をカソード上に設置した。そして、洗浄したガラス板をロードロック室に導入するとともに、真空槽内全体を２．０×１０－４Ｐａまで真空排気し、下記に示すように各層を形成した。
＜ＳｎＺｎ酸化物層＞
　放電ガスとしてアルゴンと酸素を３０：７０ｓｃｃｍで真空槽内に導入し、上記したＳｎＺｎ合金ターゲットを用いて反応性ＤＣマグネトロンスパッタにより形成した。スパッタターゲットは７０×２００ｍｍ２であり、スパッタ電力として５００Ｗ印加した。このとき、真空槽内の圧力は０．４Ｐａであった。
＜ＡｌＺｎ酸化物層＞
　放電ガスとして酸素を真空槽内に１００ｓｃｃｍ導入し、上記したＡｌＺｎ合金ターゲットを用いてＤＣマグネトロンスパッタにより形成した。スパッタターゲットは７０×２００ｍｍ２であり、スパッタ電力として５００Ｗ印加した。このとき、真空槽内の圧力は０．４Ｐａであった。ＡｌＺｎ酸化物層の厚さは全て１０．０ｎｍとした。
＜ＡｇＰｄ１層＞
　放電ガスとしてアルゴンを真空槽内に５０ｓｃｃｍ導入し、上記したＡｇＰｄ１ターゲットを用いてＤＣマグネトロンスパッタにより形成した。スパッタターゲットは７０×２００ｍｍ２であり、スパッタ電力として１００Ｗ印加した。
＜ＡｇＰｄ層＞
　放電ガスとしてアルゴンを真空槽内に５０ｓｃｃｍ導入し、上記したＡｇＰｄ１ターゲットとＡｇＰｄ３０ターゲットを順番に連続して用い、ＤＣマグネトロンスパッタにより形成した。いずれもスパッタターゲットは７０×２００ｍｍ２であり、スパッタ電力として１００Ｗ印加した。連続して形成されたＡｇＰｄ１層とＡｇＰｄ３０層は、ガラス板上への積層膜前駆体の作製後、以下の熱処理（焼成）によって１つのＡｇＰｄ層となり、それぞれの膜厚の合計を最終的なＡｇＰｄ層膜厚とした。
＜Ｔｉバリア層＞
　放電ガスとしてアルゴンを真空槽内に１００ｓｃｃｍ導入し、上記したＴｉターゲットを用いてＤＣマグネトロンスパッタにより形成した。スパッタターゲットは７０×２００ｍｍ２であり、スパッタ電力として５０Ｗ印加した。このとき、真空槽内の圧力は０．４Ｐａであった。Ｔｉバリア層の厚さは全て４．０ｎｍとした。なお、Ｔｉバリア層は最終的に得られる積層膜付きガラス板の積層膜中においては、ＴｉＯｘ層として存在する層である。
＜Ｔｉ窒化物層＞
　放電ガスとしてアルゴンと窒素を７０：３０ｓｃｃｍで真空槽内に導入し、上記したＴｉターゲットを用いてＤＣマグネトロンスパッタにより形成した。スパッタターゲットは７０×２００ｍｍ２であり、スパッタ電力として５００Ｗ印加した。このとき、真空槽内の圧力は０．４Ｐａであった。ＴｉＮｘ層の厚さは全て３．５ｎｍとした。なお、ＴｉＮｘ層は最終的に得られる積層膜付きガラス板の積層膜中においては、ＴｉＯｘＮｙ層として存在する層である。
（２）切断
　上記で得られた積層膜の前駆体付きガラス板を、主面の大きさが７０ｍｍ×１００ｍｍの矩形状となるようにガラスカッターで切断して、ガラス板の一方の主面上に積層膜の前駆体を有し、ガラス板の４つの端面には積層膜の前駆体を有しない積層膜付きガラス板の前駆体例１～８を得た。
（３）焼成（熱処理）
　上記で作製した積層膜付きガラス板の前駆体例１～７を、卓上型電気炉を用いて、設定温度７００℃にて５分間焼成して、また前駆体例８を、設定温度７５０℃にて４分間焼成して、表１に積層の構成を示す例１～８の積層膜付きガラス板を得た。このときのガラス板表面の最高到達温度は６５０℃であった。焼成後のＡｇＰｄ層におけるＰｄ含有量（ＡｇとＰｄの合計量に対するＰｄの質量％）を、リガク社製蛍光Ｘ線「ＺＳＸ－１００ｅ」もしくは日立ハイテク社製ＩＣＰ－ＯＥＳ「ＳＰＳ３１００」を用いて測定した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
（評価）
　上記で得られた１～８の積層膜付きガラス板を以下のとおり評価した。なお、以下に説明する評価用の複層ガラスにおいて、例１、２、８の積層膜付きガラス板を用いた複層ガラスは本発明の実施例の複層ガラスである。
　１～８の積層膜付きガラス板に関する分光光度計による分光測定結果、放射率測定結果を使用し、以下の構成の複層ガラス、すなわち図２に示すのと同様の構成の評価用の複層ガラス３０とした場合の性能を計算により求めた。
　複層ガラスは、積層膜付きガラス板に対向する透明対向基板（複層ガラス３０における第２の透明ガラス板３２）として、厚さ６ｍｍの透明ガラス板を用い、積層膜付きガラス板と透明対向基板との間の中間層の厚さを１２ｍｍとし、中間層に空気を充填した場合とした。分光光度計測定はＨＩＴＡＣＨＩ社製「Ｕ４１００」を用いて行った。放射率は、予め求めた赤外分光機Ｐｅｒｋｉｎ　Ｅｌｍｅｒ社製ＦＴ／ＩＲ「Ｆｒｏｎｔｉｅｒ　Ｇｏｌｄ」での測定結果と表面抵抗値（Ｒｓ）との換算式を用いて行った。換算式にて垂直放射率が０．０３未満となる場合は、垂直放射率を０．０３として計算した。
　なお、１～８の積層膜付きガラス板の積層膜面の表面抵抗値（Ｒｓ）の測定は、ＮＡＧＹ社製の携帯式表面抵抗測定器「ＳＴＲＡＴＯＭＥＴＥＲ」を用いて行った。
＜複層ガラス；光学特性＞
　１～８の積層膜付きガラス板を用いた評価用の複層ガラスについて、積層膜付きガラス板側からの日射に対する透明対向基板側での日射熱取得率（ｇ値）、可視光透過率（Ｔｖ）、積層膜付きガラス板側の可視光反射率（Ｒｖｏｕｔ）、および透明対向基板側の可視光反射率（Ｒｖｉｎ）を求めた。日射熱取得率（ｇ）、可視光透過率（Ｔｖ）、可視光反射率（Ｒｖ）は、ＩＳＯ９０５０：２００３に基づいて求めた。
＜複層ガラス；光学特性（色調）＞
　１～８の積層膜付きガラス板を用いた評価用の複層ガラスについて、ＩＳＯ９０５０：２００３に規定される可視光を照射して得られる透過光、積層膜付きガラス板側の反射光、および透明対向基板側の反射光について、ＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色度座標によるａ＊およびｂ＊を求めた。
＜複層ガラス；演色性＞
　１～８の積層膜付きガラス板を用いた評価用の複層ガラスについて、ＪＩＳ　Ｚ８７２６（１９９０）に準拠してＤ６５光源を使用し平均演色性評価数（Ｒａ）により評価される透過光の演色性を求めた。
＜積層膜付きガラス板；ヘイズ値＞
　１～８の積層膜付きガラス板のヘイズ値（Ｈ（％））を測定した。ヘイズ測定は、スガ試験機社製ヘーズメーター「ＨＺ－２型」を用いて測定した。
＜積層膜付きガラス板；耐湿性＞
　１～８の積層膜付きガラス板を５０℃、９０％ＲＨの条件下に２週間保管する耐湿試験後に、積層膜表面の所定の範囲で観察される直径０．５ｍｍ以上の白点の個数を目視で観察した。１００ｍｍ×１００ｍｍあたりの該白点の個数が５個以内の場合を「○」とした。
　上記で得られた評価の結果を表２に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
　１０…積層膜付きガラス板、１…ガラス板（第１の透明ガラス板）、２…積層膜、３…複層ガラス、１０…積層膜付きガラス板、３２…第２の透明ガラス板、３３…スペーサ、３４…中間層、１０Ａ，１０Ｂ…積層膜付きガラス板、２Ａ，２Ｂ……積層膜、２１…第１の誘電体層、２２…第１の金属層、２３…第２の誘電体層、２４…第２の金属層、２５…第３の誘電体層、２６…第１のバリア層、２７…第１のバリア層、２８…保護層。

Claims (14)

  1. 　強化された主面が矩形状のガラス板と、前記ガラス板の一方の主面上に設けられ、前記ガラス板の２以上の端面には設けられていない積層膜とを有する積層膜付きガラス板であって、前記積層膜は、該積層膜を用いた下記複層ガラスにおいて下記特性を有する積層膜付きガラス板。
    　板厚が５ｍｍの第１の透明ガラス板の一方の主面上に前記積層膜を形成して試験用積層膜付きガラス板とし、該試験用積層膜付きガラス板と、板厚が６ｍｍの第２の透明ガラス板とを、その周縁に配設したスペーサを介して前記試験用積層膜付きガラス板の積層膜面が前記第２の透明ガラス板の一方の主面に対向するように隔置し、前記試験用積層膜付きガラス板と前記第２の透明ガラス板の間に厚さ１２ｍｍの空気層を有するように作製した複層ガラスにおいて、
    　ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して測定される、前記試験用積層膜付きガラス板側からの日射に対する前記第２の透明ガラス板側での日射熱取得率（ｇ値）が０．２６５以下であり、
    　ＩＳＯ９０５０：２００３に規定される可視光を照射して得られる透過光について、ＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色度座標によるｂ＊が１以下であり、
    　ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して測定される、前記試験用積層膜付きガラス板側の可視光反射率が２０％以下である。
  2. 　前記積層膜は、銀を主成分として含有するｎ層（ｎは２以上の整数）の金属層と、前記金属層をそれぞれ挟むように積層されるｎ＋１層の誘電体層を有し、
    　前記金属層のうち前記ガラス板に最も近い第１の金属層は、パラジウム、金、クロム、コバルトおよびニッケルから選ばれる少なくとも１種の金属を、銀と前記金属との合計量に対して６質量％以上の割合で含有する、ただし、前記割合が９質量％未満の場合は前記第１の金属層と前記ガラス板に２番目に近い第２の金属層との間の前記誘電体層の厚さが１００ｎｍ以下である、もしくは、
    　前記第１の金属層および前記第１の金属層以外の前記金属層の少なくとも１層が、それぞれ独立に、パラジウム、金、クロム、コバルトおよびニッケルから選ばれる少なくとも１種の金属を、銀と前記金属との合計量に対して１．５質量％以上の割合で含有し、前記金属を１．５質量％以上の割合で含有する金属層における前記金属の含有量の合計が４質量％以上であり、かつ前記第１の金属層と前記ガラス板に２番目に近い第２の金属層との間の前記誘電体層の厚さが９５ｎｍ以下である
    　請求項１に記載の積層膜付きガラス板。
  3. 　前記積層膜は、前記積層膜表面に最も近い金属層と前記ガラス板の間に窒化物層または酸窒化物層を有しない請求項１または２に記載の積層膜付きガラス板。
  4. 　強化された主面が矩形状のガラス板と、
    　前記ガラス板の一方の主面上に設けられ、前記ガラス板の２以上の端面には設けられていない積層膜とを備え、
    　前記積層膜は、
    　銀を主成分として含有するｎ層（ｎは２以上の整数）の金属層と、前記金属層をそれぞれ挟むように積層されるｎ＋１層の誘電体層を有し、
    　前記金属層のうち前記ガラス板に最も近い第１の金属層は、パラジウム、金、クロム、コバルトおよびニッケルから選ばれる少なくとも１種の金属を、銀と前記金属との合計量に対して６質量％以上の割合で含有する、ただし、前記割合が９質量％未満の場合は前記第１の金属層と前記ガラス板に２番目に近い第２の金属層との間の前記誘電体層の厚さが１００ｎｍ以下である、もしくは、
    　前記第１の金属層および前記第１の金属層以外の前記金属層の少なくとも１層が、それぞれ独立に、パラジウム、金、クロム、コバルトおよびニッケルから選ばれる少なくとも１種の金属を、銀と前記金属との合計量に対して１．５質量％以上の割合で含有し、かつ前記金属を１．５質量％以上の割合で含有する金属層における前記金属の含有量の合計が４質量％以上であり、かつ前記第１の金属層と前記ガラス板に２番目に近い第２の金属層との間の前記誘電体層の厚さが９５ｎｍ以下である
    　積層膜付きガラス板。
  5. 　前記積層膜は、前記積層膜表面に最も近い前記金属層と、前記ガラス板との間に窒化物層または酸窒化物層を有しない請求項４に記載の積層膜付きガラス板。
  6. 　前記積層膜付きガラス板は、ヘイズ値が２％以下である請求項１～５のいずれか１項に記載の積層膜付きガラス板。
  7. 　前記積層膜付きガラス板を、５０℃、９０％ＲＨの条件下に２週間保管した後、前記積層膜表面の１００ｍｍ×１００ｍｍの範囲で観察される直径０．５ｍｍ以上の白点が５個以内である請求項１～６のいずれか１項に記載の積層膜付きガラス板。
  8. 　前記金属層の層数は２であり、前記第１の金属層の厚さに対する、もう一方の金属層の厚さの比が、０．８～１．６の範囲にある請求項２～７のいずれか１項に記載の積層膜付きガラス板。
  9. 　強化された主面が矩形状の第１のガラス板と、前記第１のガラス板の一方の主面上に設けられ、前記第１のガラス板の２以上の端面には設けられていない積層膜とを有する積層膜付きガラス板と、
    　前記積層膜付きガラス板とスペーサを介して離間して配置された主面が矩形状の第２のガラス板と、
    　を備える複層ガラスであり、
    　ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して測定される、前記積層膜付きガラス板側からの日射に対する前記第２のガラス板側での日射熱取得率（ｇ値）が０．２６５以下であり、
    　ＩＳＯ９０５０：２００３に規定される可視光を照射して得られる透過光について、ＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色度座標によるｂ＊が１以下であり、
    　ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して測定される、前記積層膜付きガラス板側の可視光反射率が２０％以下である複層ガラス。
  10. 　ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して測定される、前記第２のガラス板側の可視光反射率が２０％以下である請求項９に記載の複層ガラス。
  11. 　ＪＩＳ　Ｚ８７２６（１９９０）に準拠してＤ６５光源を使用し平均演色性評価数（Ｒａ）により評価される透過光の演色性が８５％以上である請求項９または１０に記載の複層ガラス。
  12. 　前記積層膜付きガラス板側および前記第２のガラス板側に、ＩＳＯ９０５０：２００３に規定される可視光を照射して得られる各反射光の、ＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色度座標によるａ＊およびｂ＊がいずれも２以下である請求項９～１１のいずれか１項に記載の複層ガラス。
  13. 　ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して測定される可視光透過率が３０％以上である、請求項９～１２のいずれか１項に記載の複層ガラス。
  14. 　ＩＳＯ９０５０：２００３に準拠して測定される前記積層膜付きガラス板側の可視光反射率と、前記第２のガラス板側の可視光反射率の差が、１０％以下である、請求項９～１３のいずれか１項に記載の複層ガラス。
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