WO2016072169A1 - 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、感活性光線性又は感放射線性膜を備えたマスクブランクス、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び電子デバイス - Google Patents
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Abstract
Description
[1]
(A)アニオン部に少なくとも1つのフッ素原子を含み、且つ、カチオン部に少なくとも1つの窒素原子を含むオニウム塩化合物、及び
(B)少なくとも1つのフッ素原子を含む、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物
を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、
化合物(A)の全質量に対する化合物(A)中のフッ素原子の含有率が、化合物(B)の全質量に対する化合物(B)中のフッ素原子の含有率より大きい感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
化合物(A)中のフッ素原子の上記含有率と、化合物(B)中のフッ素原子の上記含有率の差が、質量百分率に換算して0.5質量%以上である[1]に記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
化合物(A)の上記カチオン部は、上記窒素原子を含む塩基性部位を備えている、[1]~[3]のいずれか1項に記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
化合物(A)の上記塩基性部位は、アミノ基又は含窒素複素環基を含んでいる、[4]に記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
RA及びRBは、各々独立に、水素原子又は有機基を表す。
Aは、硫黄原子又はヨウ素原子を表す。
化合物(A)と化合物(B)が、同一のアニオン部を有する、[3]乃至[7]のいずれか1項に記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
上記感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物中の全固形分に対する化合物(A)の含有率は、0.1~20質量%の範囲である、[1]~[8]のいずれか1項に記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
更に、(C)酸架橋性基を含む化合物を含有する、[1]~[9]のいずれか1項に記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
酸架橋性基を含む化合物(C)は、ヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル基を分子内に2個以上含む、[10]に記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
更に、(D)フェノール性水酸基を含む化合物を含有する、[1]~[11]のいずれか1項に記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
R2は、水素原子、置換基を有していてもよいメチル基、又はハロゲン原子を表す。
B’は、単結合又は2価の有機基を表す。
Ar’は、芳香環基を表す。
mは1以上の整数を表す。
Ar1は、芳香環基を表す。
R1及びR2は、各々独立に、アルキル基、シクロアルキル基、又は、アリール基を表す。
Xは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアシル基を表す。
R3は、水素原子、有機基又はハロゲン原子を表す。
Bは、単結合又は連結基を表す。
nは、1以上の整数を表す。
Ar1、R1及びR2のうち少なくとも2つは互いに結合して環を形成してもよい。nが2以上の整数を表す場合、複数のR1、複数のR2及び複数のXは各々、互いに同一でも異なっていてもよい。
[1]~[14]のいずれか1項に記載の組成物を含む感活性光線性又は感放射線性膜。
[15]に記載の感活性光線性又は感放射線性膜を備えたマスクブランクス。
[1]~[14]のいずれか1項に記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて感活性光線性又は感放射線性膜を形成すること、
上記感活性光線性又は感放射線性膜に活性光線又は放射線を照射すること、及び
活性光線又は放射線を照射した上記感活性光線性又は感放射線性膜を現像すること
を含むパターン形成方法。
上記活性光線又は放射線の照射は、電子線又は極紫外線を用いて行われる、[17]に記載のパターン形成方法。
[17]又は[18]に記載のパターン形成方法を含む電子デバイスの製造方法。
[19]に記載の電子デバイスの製造方法によって製造された電子デバイス。
本明細書における基(原子団)の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さない基(原子団)と共に置換基を有する基(原子団)をも包含するものである。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基(無置換アルキル基)のみならず、置換基を有するアルキル基(置換アルキル基)をも包含するものである。
本発明の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物(以下、「本発明の組成物」ともいう)は、アニオン部に少なくとも1つのフッ素原子を含み、且つ、カチオン部に少なくとも1つの窒素原子を含むオニウム塩化合物(A)(以下、「オニウム塩化合物(A)」又は「化合物(A)という)と、少なくとも1つのフッ素原子を含む、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)(以下、「酸発生剤(B)」又は「化合物(B)」という)とを含有する。本発明の組成物において、オニウム塩化合物(A)と酸発生剤(B)は、オニウム塩化合物(A)における全質量に対するフッ素原子の含有率が、酸発生剤(B)における全質量に対するフッ素原子の含有率より大きいという関係を有する。
オニウム塩化合物(A)は、アニオン部に少なくとも1つのフッ素原子を含み、且つ、カチオン部に少なくとも1つの窒素原子を含むオニウム塩化合物である。
オニウム塩化合物(A)は、上記塩基性部位を2つ以上備えていてもよい。
RA及びRBは、各々独立に、水素原子又は有機基を表す。
Xは、単結合又は連結基を表す。
RA、RB及びXの少なくとも2つは、互いに結合して、環を形成していてもよい。
RA又はRBにより表される有機基としては、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、複素環式炭化水素基、アルコキシカルボニル基、及びラクトン基等が挙げられる。
これらの基は置換基を有していてもよく、置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、カルボキシル基、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基などが挙げられる。
RA又はRBにより表されるアルケニル基は、直鎖状であってもよく、分岐鎖状であってもよい。このアルケニル基の炭素数は、2~50であることが好ましく、2~30であることがより好ましく、3~20であることが更に好ましい。このようなアルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、及びスチリル基等が挙げられる。
RA又はRBにより表される複素環式炭化水素基は、炭素数5~20のものが好ましく、炭素数6~15のものがより好ましい。複素環式炭化水素基は、芳香族性を有していてもよく、芳香族性を有していなくてもよい。この複素環式炭化水素基は、芳香族性を有していることが好ましい。
Aは、硫黄原子又はヨウ素原子を表す。
R1は、水素原子又は有機基を表す。R1が複数存在する場合、R1は同一であっても異なっていても良い。
Rは、(o+1)価の有機基を表す。Rが複数存在する場合、Rは同一であっても異なっていても良い。
Xは、単結合又は連結基を表す。Xが複数存在する場合、Xは同一であっても異なっていても良い。
ANは、窒素原子を含んだ塩基性部位を表す。ANが複数存在する場合、ANは同一であっても異なっていても良い。
Aが硫黄原子である場合、nは、1~3の整数であり、mは、m+n=3なる関係を満たす整数である。
Aがヨウ素原子である場合、nは、1又は2であり、mは、m+n=2なる関係を満たす整数である。
oは、1~10の整数を表す。
Y-は、アニオンを表し、少なくとも1つのフッ素原子を含む。詳細は、化合物(A)のアニオン部として後述する通りである。
Xにより表される連結基は、上述した一般式(N-I)中のXにより表される連結基と同義であり、同様の具体例が挙げられる。
R1により表されるアルキル基は、直鎖状であってもよく、分岐鎖状であってもよい。このアルキル基の炭素数は、1~50であることが好ましく、1~30であることがより好ましく、1~20であることが更に好ましい。このようなアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクダデシル基、イソプロピル基、イソブチル基、sec-ブチル基、t-ブチル基、1-エチルペンチル基、及び、2-エチルヘキシル基が挙げられる。
R1により表される脂肪族環式基は、例えば、シクロアルキル基である。シクロアルキル基は、単環式であってもよく、多環式であってもよい。この脂肪族環式基としては、好ましくは、シクロプロピル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基等の炭素数3~8の単環のシクロアルキル基が挙げられる。
R1により表される複素環式炭化水素基は、芳香族性を有していてもよく、芳香族性を有していなくてもよい。この複素環式炭化水素基は、芳香族性を有していることが好ましい。
R1、X、R、ANの少なくとも2つが互いに結合して形成してもよい環は、4~7員環であることが好ましく、5又は6員環であることがより好ましく、5員環であることが特に好ましい。また、環骨格中に、酸素原子、硫黄原子、窒素原子などのヘテロ原子を含んでいても良い。
一般式(N-II)において、oは、1~4の整数であることが好ましく、1又は2であることがより好ましく、1であることが更に好ましい。
即ち、この態様における化合物(A)では、ANにより表される塩基性部位が、Rにより表される芳香族炭化水素基に直結した炭素原子を介して、上記芳香族炭化水素基に結合している。
芳香環基は、炭素数が6~14であることが好ましい。このような基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、及びアントリル基等のアリール基が挙げられる。芳香環基が複素環を含んでいる場合、複素環としては、例えば、チオフェン環、フラン環、ピロール環、ベンゾチオフェン環、ベンゾフラン環、ベンゾピロール環、トリアジン環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、トリアゾール環、チアジアゾール環、及びチアゾール環が挙げられる。
Rにより表される芳香族炭化水素基は、以下に説明する-(X-AN)により表される基以外に、置換基を更に備えていてもよい。置換基としては、例えば、先にR1における置換基として列挙したものを用いることができる。
Xにより表される連結基が含み得るシクロアルキレン基は、単環式であってもよく、多環式であってもよい。このシクロアルキレン基の炭素数は、3~20であることが好ましく、3~10であることがより好ましい。このようなシクロアルキレン基としては、例えば、1,4-シクロヘキシレン基が挙げられる。
Xにより表される連結基が含み得るアリーレン基の炭素数は、6~20であることが好ましく、6~10であることがより好ましい。このようなアリーレン基としては、例えば、フェニレン基及びナフチレン基が挙げられる。
R2及びR3は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、脂肪族環式基、芳香族炭化水素基、又は複素環式炭化水素基を表す。R2とR3とは、互いに結合して、環を形成していてもよい。R2及びR3の少なくとも一方は、Eと互いに結合して、環を形成していてもよい。
Eは、連結基又は単結合を表す。
Jは、酸素原子、又は、硫黄原子を表す。
Eは、連結基又は単結合を表す。
X及びANは、一般式(N-II)における各基と同義であり、具体例及び好ましい例も同様である。
Y-は、アニオンを表し、少なくとも1つのフッ素原子を含む。詳細は、化合物(A)のアニオン部として後述する通りである。
Aは、硫黄原子又はヨウ素原子を表す。
R11は、各々独立に、アルキル基、アルケニル基、脂肪族環式基、芳香族炭化水素基、又は複素環式炭化水素基を表す。m=2の場合、2つのR11が互いに結合して、環を形成していてもよい。
Arは、各々独立に、芳香族炭化水素基を表す。
X1は、各々独立に、2価の連結基を表す。
R12は、各々独立に、水素原子又は有機基を表す。
Aが硫黄原子である場合、mは、1~3の整数であり、nは、m+n=3なる関係を満たす整数である。
Aがヨウ素原子である場合、mは、1又は2の整数であり、nは、m+n=2なる関係を満たす整数である。
Y-は、アニオンを表し、少なくとも1つのフッ素原子を含む。詳細は、化合物(A)のアニオン部として後述する通りである)。
Arとしての芳香族炭化水素基の具体例及び好ましい例は、上記一般式(N-II)におけるRとしての芳香族炭化水素基の具体例及び好ましい例と同様である。
R12としての有機基の具体例及び好ましい例は、上記一般式(N-I)におけるRA及びRBとしての有機基の具体例及び好ましい例と同様である。
スルホン酸アニオンとしては、例えば、脂肪族スルホン酸アニオン、芳香族スルホン酸アニオン、カンファースルホン酸アニオンなどが挙げられる。
カルボン酸アニオンとしては、例えば、脂肪族カルボン酸アニオン、芳香族カルボン酸アニオン、アラルキルカルボン酸アニオンなどが挙げられる。
芳香族スルホン酸アニオンにおける芳香族基としては、好ましくは炭素数6~14のアリール基、例えば、フェニル基、トリル基、ナフチル基等を挙げることができる。
芳香族カルボン酸アニオンにおける芳香族基としては、芳香族スルホン酸アニオンにおけると同様のアリール基を挙げることができる。
アラルキルカルボン酸アニオンにおけるアラルキル基としては、好ましくは炭素数6~12のアラルキル基、例えば、ベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基、ナフチルエチル基、ナフチルブチル基等を挙げることができる。
スルホニルイミドアニオンとしては、例えば、サッカリンアニオンを挙げることができる。
非求核性アニオンとしては、スルホン酸のα位がフッ素原子で置換された脂肪族スルホン酸アニオン、フッ素原子又はフッ素原子を有する基で置換された芳香族スルホン酸アニオン、アルキル基がフッ素原子で置換されたビス(アルキルスルホニル)イミドアニオン、アルキル基がフッ素原子で置換されたトリス(アルキルスルホニル)メチドアニオンが好ましい。非求核性アニオンとして、より好ましくは炭素数4~8のパーフロロ脂肪族スルホン酸アニオン、フッ素原子を有するベンゼンスルホン酸アニオン、更により好ましくはノナフロロブタンスルホン酸アニオン、パーフロロオクタンスルホン酸アニオン、ペンタフロロベンゼンスルホン酸アニオン、3,5-ビス(トリフロロメチル)ベンゼンスルホン酸アニオンである。
Xfは、各々独立に、フッ素原子、又は、少なくとも1つのフッ素原子で置換されたアルキル基を表す。
R1及びR2は、各々独立に、水素原子、フッ素原子、又は、アルキル基を表す。
Lは、各々独立に、2価の連結基を表す。
Cyは、環状の有機基を表す。
Xf、R1、R2、L及びCyの少なくとも1つは、少なくとも1つのフッ素原子を含む。
yは、0~10の整数を表す。
zは、0~10の整数を表す。
Xfは、好ましくは、フッ素原子又は炭素数1~4のパーフルオロアルキル基である。より具体的には、Xfは、フッ素原子、CF3、C2F5、C3F7、C4F9、C5F11、C6F13、C7F15、C8F17、CH2CF3、CH2CH2CF3、CH2C2F5、CH2CH2C2F5、CH2C3F7、CH2CH2C3F7、CH2C4F9、又はCH2CH2C4F9であることが好ましい。
脂環基は、単環式であってもよく、多環式であってもよい。単環式の脂環基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、及びシクロオクチル基などの単環のシクロアルキル基が挙げられる。多環式の脂環基としては、例えば、ノルボルニル基、トリシクロデカニル基、テトラシクロデカニル基、テトラシクロドデカニル基、及びアダマンチル基などの多環のシクロアルキル基が挙げられる。中でも、ノルボルニル基、トリシクロデカニル基、テトラシクロデカニル基、テトラシクロドデカニル基、及びアダマンチル基などの炭素数7以上のかさ高い構造を有する脂環基が、PEB(Post Exposure Bake)工程での膜中拡散性の抑制及びMEEF(Mask Error Enhancement
Factor)の向上の観点から好ましい。
複素環基は、単環式であってもよく、多環式であってもよいが、多環式の方がより酸の拡散を抑制可能である。また、複素環基は、芳香族性を有していてもよく、芳香族性を有していなくてもよい。芳香族性を有している複素環としては、例えば、フラン環、チオフェン環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、ジベンゾフラン環、ジベンゾチオフェン環、及びピリジン環が挙げられる。芳香族性を有していない複素環としては、例えば、テトラヒドロピラン環、ラクトン環、及びデカヒドロイソキノリン環が挙げられる。複素環基における複素環としては、フラン環、チオフェン環、ピリジン環、又はデカヒドロイソキノリン環が特に好ましい。また、ラクトン環の例としては、上記一般式(N-1)におけるRAおよびRBに関して例示したラクトン環が挙げられる。
Rfによる表されるフッ素原子を含んだ基としては、例えば、少なくとも1つのフッ素原子を有するアルキル基、少なくとも1つのフッ素原子を有するシクロアルキル基、及び少なくとも1つのフッ素原子を有するアリール基が挙げられる。
また、これらアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基は、フッ素原子を含んでいない置換基によって更に置換されていてもよい。この置換基としては、例えば、先にCyについて説明したもののうち、フッ素原子を含んでいないものを挙げることができる。
本発明の一形態において、オニウム塩化合物(A)と後述する酸発生剤(B)は、活性光線又は放射線の照射により、アニオン部から発生する酸のpKaの差が小さいことが好ましい。pKaの差が小さい方が、オニウム塩化合物(A)と酸発生剤(B)から発生する酸の酸強度に不均一性が生じにくいため、発生する酸による架橋反応性や脱保護反応性をより均一にすることができる。pKaの差は、例えば、好ましくは5以下であり、より好ましくは3以下であり、更に好ましくは1以下であり、理想的には0である。
化合物(A)の含有率は、組成物中の全固形分を基準として、通常は0.001~20質量%の範囲内にあり、好ましくは0.1~20質量%、より好ましくは1~20質量%の範囲内にある。
なお、化合物(A)からの発生酸の体積が大きい方が、解像性向上の観点から好ましい。
酸発生剤(B)は、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物であって、少なくとも1つのフッ素原子を含有する化合物である。上述の通り、本発明の組成物に含有される酸発生剤(B)は、フッ素原子の含有率が、上述したオニウム塩化合物(A)におけるフッ素原子の含有率よりも小さいという関係を有する。
本発明の一形態において、酸発生剤(B)は、アニオン部に少なくとも1つのフッ素原子を含むオニウム塩化合物であることが好ましく、アニオン部に少なくとも1つのフッ素原子を含むスルホン酸塩であることがより好ましい。
本発明において、好ましいオニウム塩化合物として、下記一般式(7)で表されるスルホニウム化合物、もしくは一般式(8)で表されるヨードニウム化合物を挙げることができる。
Ra1、Ra2、Ra3、Ra4及びRa5は、各々独立に、有機基を表す。
X-は、有機アニオンを表す。
Ra1、Ra2、Ra3、Ra4、Ra5及びX-の少なくとも1つは、少なくとも1つのフッ素原子を含有する。
一般式(7)及び(8)におけるX-の有機アニオンは、例えばスルホン酸アニオン、カルボン酸アニオン、ビス(アルキルスルホニル)アミドアニオン、トリス(アルキルスルホニル)メチドアニオンなどが挙げられ、好ましくは、下記一般式(9)、(10)又は(11)で表される有機アニオンであり、より好ましくは下記一般式(9)で表される有機アニオンである。
上記X-の有機アニオンが、電子線や極紫外線などの活性光線又は放射線により発生する酸であるスルホン酸、イミド酸、メチド酸などに対応する。
上記Rc1、Rc2、Rc3及びRc4の有機基としては、例えば、アルキル基、アリール基又はこれらの複数が連結された基を挙げることができる。これら有機基のうち、より好ましくは1位がフッ素原子又はフロロアルキル基で置換されたアルキル基、フッ素原子又はフロロアルキル基で置換されたフェニル基である。フッ素原子又はフロロアルキル基を有することにより、光照射によって発生した酸性度が上がり、感度が向上する。ただし、末端基は置換基としてフッ素原子を含有しないことが好ましい。
酸発生剤(B)の組成物中の含有率は、組成物の全固形分を基準として、好ましくは0.1~40質量%であり、より好ましくは0.5~30質量%であり、更に好ましくは1~25質量%である。
酸発生剤は、1種単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
本発明の組成物は、酸架橋性基を有する化合物(C)(以下、「化合物(C)」又は「架橋剤」とも称する)を含有し得る。化合物(C)としては、ヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル基を分子内に2個以上含む化合物であることが好ましい。また、LER向上の観点からは、化合物(C)がメチロール基を含んでいることが好ましい。
アルコキシメチル基としては、メトキシメチル基、エトキシメチル基が好ましい。
化合物(C’)の具体例の中で特に好ましいものを以下に挙げる。
本発明の一形態において、化合物(C’)は、下記一般式(1)で表される化合物であることが好ましい。
R1及びR6は、各々独立に、水素原子、又は炭素数5以下の炭化水素基を表す。
R2及びR5は、各々独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、又はアシル基を表す。
R3及びR4は、各々独立に、水素原子、又は炭素数2以上の有機基を表す。R3及びR4は、互いに結合して環を形成してもよい。
本発明の一形態において、R2及びR5は、アルキル基であることが好ましく、より好ましくは炭素数1~6のアルキル基であることがより好ましく、メチル基であることが特に好ましい。
化合物(C’)は、例えば、一般式(I)中のR3及びR4が結合して、下記一般式(I-a)で表されるフルオレン構造を形成していることが好ましい。
R7及びR8は、各々独立に、置換基を表す。置換基としては、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリール基、アルコキシメチル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、ニトロ基、ハロゲン、又はヒドロキシ基等が挙げられる。
n1及びn2は、各々独立に、0~4の整数を表し、好ましくは0又は1を表す。
*は、フェノール核との連結部位を表す。
R1b及びR6bは、各々独立に、炭素数5以下のアルキル基を表す。
R2b及びR5bは、各々独立に、炭素数6以下のアルキル基又は炭素数3~12のシクロアルキル基を表す。
Zは、式中の炭素原子と共に環を形成するのに必要な原子群を表す。
Zが式中の炭素原子と共に形成する環については、上述した一般式(I)の説明において、R3及びR4が互いに結合して形成する環について説明したものと同様である。
一般式(I)で表される化合物(C’)の母核となるビスフェノール化合物は、一般に、対応する2分子のフェノール化合物と、対応する1分子のケトンを、酸触媒存在下、脱水縮合反応することにより合成される。
以下に、一般式(I)で表される化合物(C’)の具体例を示す。
例えば、上記のフェノール誘導体に加え、他の化合物(C’)、例えば上述のN-アルコキシメチル基を有する化合物を併用する場合、上記のフェノール誘導体と他の化合物(C’)との比率は、モル比で通常90/10~20/80であり、好ましくは85/15~40/60、より好ましくは80/20~50/50である。
ここで、「メチロール基」とは、下記一般式(M)で表される基であり、本発明の一形態において、ヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル基であることが好ましい。
R1は、水素原子、メチル基、又はハロゲン原子を表す。
R2及びR3は、水素原子、アルキル基又はシクロアルキル基を表す。
Lは、2価の連結基もしくは単結合を表す。
Yは、メチロール基を除く置換基を表す。
Zは、水素原子又は置換基を表す。
mは、0~4の整数を表す。
nは、1~5の整数を表す。
m+nは5以下である。
mが2以上である場合、複数のYは互いに同一であっても異なっていてもよい。
nが2以上である場合、複数のR2、R3及びZは互いに同一であっても異なっていてもよい。
また、Y、R2、R3及びZの2つ以上が互いに結合して環構造を形成していてもよい。
R1、R2、R3、L及びYは、それぞれ置換基を有していてもよい。
R1、R2、R3、Y、Z、m及びnは、一般式(1)で定義した通りである。
Arは、芳香環を表す。
W1及びW2は、2価の連結基又は単結合を表す。
上記一般式(3’)において、W3は、2価の連結基である。
上記一般式(2’)及び(3’)において、gは0又は1である。
上記一般式(1-b)~(1-c)において、
Y”は、水素原子又は1価の置換基を表す。ただし、Y”は、メチロール基であってもよい。
R4は、水素原子又は1価の置換基を表す。
fは1~6の整数を表す。
mは0又は1であり、nは1~3の整数を表す。
化合物(C”)の含有量は、ネガ型レジスト組成物の全固形分中、好ましくは5~50質量%であり、より好ましくは10~40質量%である。
化合物(C”)に含まれる酸架橋性基を有する繰り返し単位の具体例としては、例えば、国際公開第2014/017268号の<0110>に開示された構造を挙げることができる。
本発明の組成物は、一態様において、フェノール性水酸基を含む化合物(D)(以下、化合物(D)とも言う)を含有することが好ましい。
本発明におけるフェノール性水酸基とは、芳香環基の水素原子をヒドロキシ基で置換してなる基である。上記芳香環基の芳香環は単環又は多環の芳香環であり、ベンゼン環やナフタレン環等が挙げられる。
フェノール性水酸基を含む化合物(D)は、反応性及び感度の観点から、高分子化合物であることが好ましい。
R2は、水素原子、置換基を有していてもよいメチル基、又はハロゲン原子を表す。
R2は、水素原子又はメチル基であることが好ましく、水素原子であることが現像性の理由から好ましい。
B’は、単結合、カルボニルオキシ基(-C(=O)-O-)又は-C(=O)-NH-を表すことが好ましく、単結合又はカルボニルオキシ基(-C(=O)-O-)を表すことがより好ましく、単結合であることがドライエッチング耐性向上の観点で特に好ましい。
R12は、水素原子又はメチル基を表す。
Arは、芳香族環を表す。
R12は、水素原子又はメチル基を表し、水素原子であることが現像性の理由から好ましい。
より具体的には、非酸分解性の多環脂環炭化水素構造を有する基は、酸及びアルカリに安定な基であることが好ましい。酸及びアルカリに安定な基とは、酸分解性及びアルカリ分解性を示さない基を意味する。ここで酸分解性とは、光酸発生剤が発生する酸の作用により分解反応を起こす性質を意味する。
多環脂環炭化水素構造を有する基とは、多環脂環炭化水素構造を有する一価の基である限り特に限定されないが、総炭素数が5~40であることが好ましく、7~30であることがより好ましい。多環脂環炭化水素構造は、環内に不飽和結合を有していてもよい。
(47)~(50)の構造))の化学式を以下に表示する。
多環脂環炭化水素構造を有する基としては、上記の多環脂環炭化水素構造の任意の一つの水素原子を結合手とした一価の基であることが好ましい。
Xは非酸分解性の多環脂環炭化水素構造を有する基を表す。
Ar1は芳香族環を表す。
m2は1以上の整数である。
一般式(3)のAr1の芳香族環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フルオレン環、フェナントレン環などの炭素数6~18の置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環、又は、例えば、チオフェン環、フラン環、ピロール環、ベンゾチオフェン環、ベンゾフラン環、ベンゾピロール環、トリアジン環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、トリアゾール環、チアジアゾール環、チアゾール環等のヘテロ環を含む芳香環ヘテロ環を挙げることができる。中でも、ベンゼン環、ナフタレン環が解像性の観点で好ましく、ベンゼン環が最も好ましい。
m2は1~5の整数であることが好ましく、1が最も好ましい。m2が1でAr1がベンゼン環の時、-OXの置換位置はベンゼン環のポリマー主鎖との結合位置に対して、パラ位でもメタ位でもオルト位でもよいが、パラ位又はメタ位が好ましく、パラ位がより好ましい。
一般式(4)で表される繰り返し単位を有する高分子化合物(D)を使用すると、高分子化合物(D)のTgが高くなり、非常に硬い感活性光線性又は感放射線性膜を形成するため、酸の拡散性やドライエッチング耐性をより確実に制御できる。
Yは単結合又は2価の連結基を表す。
X2は非酸分解性の多環脂環炭化水素基を表す。
一般式(4)におけるR13は水素原子又はメチル基を表すが、水素原子が特に好ましい。
このような多環脂環炭化水素基は、単環型の脂環炭化水素基を複数有する基、若しくは、多環型の脂環炭化水素基であり、有橋式であってもよい。単環型の脂環炭化水素基としては、炭素数3~8のシクロアルキル基が好ましく、例えば、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロブチル基、シクロオクチル基等を挙げることができ、これらの基を複数有する。単環型の脂環炭化水素基を複数有する基は、単環型の脂環炭化水素基を2~4個有することが好ましく、2個有することが特に好ましい。
一般式(4)における-O-Y-X2の置換位置はベンゼン環のポリマー主鎖との結合位置に対して、パラ位でもメタ位でもオルト位でもよいが、パラ位が好ましい。
一般式(4’)におけるR13は水素原子又はメチル基を表すが、水素原子が特に好ましい。
一般式(4’)におけるアダマンチルエステル基の置換位置はベンゼン環のポリマー主鎖との結合位置に対して、パラ位でもメタ位でもオルト位でもよいが、パラ位が好ましい。
このような架橋性基を有する繰り返し単位としては、下記一般式(III)で表される繰り返し単位が好ましい。
Ar1は芳香環基を表す。
Xは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアシル基を表す。
R3は、水素原子、有機基又はハロゲン原子を表す。
Bは、単結合又は連結基を表す。
nは、1以上の整数を表す。
Ar1、R1及びR2のうち少なくとも2つは互いに結合して環を形成してもよい。nが2以上の整数を表す場合、複数のR1、複数のR2及び複数のXは各々、互いに同一でも異なっていてもよい。
これら他の繰り返し単位を形成するための重合性モノマーの例としてはスチレン、アルキル置換スチレン、アルコキシ置換スチレン、ハロゲン置換スチレン、O-アルキル化スチレン、O-アシル化スチレン、水素化ヒドロキシスチレン、無水マレイン酸、アクリル酸誘導体(アクリル酸、アクリル酸エステル等)、メタクリル酸誘導体(メタクリル酸、メタクリル酸エステル等)、N-置換マレイミド、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、ビニルナフタレン、ビニルアントラセン、置換基を有しても良いインデン等を挙げることができる。
高分子化合物としての化合物(D)の重量平均分子量は、好ましくは1000~200000であり、更に好ましくは2000~50000であり、更により好ましくは2000~15000である。
本発明の組成物に対する化合物(D)の添加量は組成物の全固形分に対して、好ましくは30~95質量%、より好ましくは40~90質量%、特に好ましくは50~85質量%で用いられる。
本発明の組成物は、上記成分の他に、塩基性化合物を酸捕捉剤として含有することが好ましい。塩基性化合物を用いることにより、露光から後加熱までの経時による性能変化を小さくすることができる。このような塩基性化合物としては、有機塩基性化合物であることが好ましく、より具体的には、脂肪族アミン類、芳香族アミン類、複素環アミン類、カルボキシル基を有する含窒素化合物、スルホニル基を有する含窒素化合物、ヒドロキシ基を有する含窒素化合物、ヒドロキシフェニル基を有する含窒素化合物、アルコール性含窒素化合物、アミド誘導体、イミド誘導体、等が挙げられる。アミンオキサイド化合物(特開2008-102383号公報に記載)、アンモニウム塩(好ましくはヒドロキシド又はカルボキシレートである。より具体的にはテトラブチルアンモニウムヒドロキシドに代表されるテトラアルキルアンモニウムヒドロキシドがLERの観点で好ましい。)も適宜用いられる。
アミン類の具体例としては、トリ-n-ブチルアミン、トリ-n-ペンチルアミン、トリ-n-オクチルアミン、トリ-n-デシルアミン、トリイソデシルアミン、ジシクロヘキシルメチルアミン、テトラデシルアミン、ペンタデシルアミン、ヘキサデシルアミン、オクタデシルアミン、ジデシルアミン、メチルオクタデシルアミン、ジメチルウンデシルアミン、N,N-ジメチルドデシルアミン、メチルジオクタデシルアミン、N,N-ジブチルアニリン、N,N-ジヘキシルアニリン、2,6-ジイソプロピルアニリン、2,4,6-トリ(t-ブチル)アニリン、トリエタノールアミン、N,N-ジヒドロキシエチルアニリン、トリス(メトキシエトキシエチル)アミンや、米国特許第6040112号明細書のカラム3、60行目以降に例示の化合物、2-[2-{2―(2,2―ジメトキシ-フェノキシエトキシ)エチル}-ビス-(2-メトキシエチル)]-アミンや、米国特許出願公開第2007/0224539A1号明細書の段落<0066>に例示されている化合物(C1-1)~(C3-3)などが挙げられる。含窒素複素環構造を有する化合物としては、2-フェニルベンゾイミダゾール、2,4,5-トリフェニルイミダゾール、N-ヒドロキシエチルピペリジン、ビス(1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジル)セバケート、4-ジメチルアミノピリジン、アンチピリン、ヒドロキシアンチピリン、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0]ノナ-5-エン、1,8-ジアザビシクロ〔5.4.0〕-ウンデカ-7-エン、テトラブチルアンモニウムヒドロキシドなどが挙げられる。
これら塩基性化合物の中でも解像性向上の観点からアンモニウム塩が好ましい。
本発明の組成物は、更に、塗布性を向上させるため界面活性剤を含有していてもよい。界面活性剤の例としては、特に限定されるものではないが、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル類、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックコポリマー類、ソルビタン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステルなどのノニオン系界面活性剤、メガファック(登録商標)F171及びメガファックF176(DIC(株)製)やフロラードFC430(住友スリーエム製)やサーフィノールE1004(旭硝子製)、OMNOVA社製のPF656及びPF6320、等のフッ素系界面活性剤、オルガノシロキサンポリマー、ポリシロキサンポリマーが挙げられる。
本発明の組成物は、上記成分の他に、有機カルボン酸を含有することが好ましい。このような有機カルボン酸化合物として、脂肪族カルボン酸、脂環式カルボン酸、不飽和脂肪族カルボン酸、オキシカルボン酸、アルコキシカルボン酸、ケトカルボン酸、安息香酸誘導体、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、2-ナフトエ酸、1-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸、2-ヒドロキシ-3-ナフトエ酸などを挙げることができるが、電子線露光を真空下で行う際には、レジスト膜表面より揮発して描画チャンバー内を汚染してしまう恐れがあるので、好ましい化合物としては、芳香族有機カルボン酸、その中でも例えば安息香酸、1-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸、2-ヒドロキシ-3-ナフトエ酸が好適である。
本発明の組成物は、カルボン酸オニウム塩を含有してもよい。カルボン酸オニウム塩としては、カルボン酸スルホニウム塩、カルボン酸ヨードニウム塩、カルボン酸アンモニウム塩などを挙げることができる。特に、カルボン酸オニウム塩としては、カルボン酸スルホニウム塩、カルボン酸ヨードニウム塩が好ましい。更に、本発明においては、カルボン酸オニウム塩のカルボキシレート残基が芳香族基、炭素-炭素2重結合を含有しないことが好ましい。特に好ましいアニオン部としては、炭素数1~30の直鎖、分岐、単環または多環環状アルキルカルボン酸アニオンが好ましい。さらに好ましくはこれらのアルキル基の一部または全てがフッ素置換されたカルボン酸のアニオンが好ましい。アルキル鎖中に酸素原子を含んでいても良い。これにより220nm以下の光に対する透明性が確保され、感度、解像力が向上し、疎密依存性、露光マージンが改良される。
本発明の感活性光線性又は感放射線性組成物は、更に、酸の作用により分解して酸を発生する化合物(以下、酸増殖剤とも表記する)を1種又は2種以上含んでいてもよい。酸増殖剤が発生する酸は、スルホン酸、メチド酸又はイミド酸であることが好ましい。酸増殖剤の含有量としては、組成物の全固形分を基準として、0.1~50質量%であることが好ましく、0.5~30質量%であることがより好ましく、1.0~20質量%であることが更に好ましい。
以下に本発明に用いることができる酸増殖剤の例を示すが、これらに限定されるものではない。
本発明の組成物は溶剤を含有していてもよく、溶剤としては、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、2-ヘプタノン、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME、別名1-メトキシ-2-プロパノール)、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA、別名1-メトキシ-2-アセトキシプロパン)、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、3-メトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、β-メトキシイソ酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸プロピル、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸イソアミル、乳酸エチル、2-ヒドロキシイソ酪酸メチル、トルエン、キシレン、酢酸シクロヘキシル、ジアセトンアルコール、N-メチルピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド、γ-ブチロラクトン、N,N-ジメチルアセトアミド、プロピレンカーボネート、エチレンカーボネートなどが好ましい。これらの溶剤は単独もしくは組み合わせて用いられる。
本発明は、本発明の組成物を含む感活性光線性又は感放射線性膜にも関し、このような膜は、例えば、本発明の組成物が基板等の支持体上に塗布されることにより形成される。この膜の厚みは、0.02~0.1μmが好ましい。基板上に塗布する方法としては、スピンコート、ロールコート、フローコート、ディップコート、スプレーコート、ドクターコート等の適当な塗布方法により基板上に塗布されるが、スピン塗布が好ましく、その回転数は1000~3000rpmが好ましい。塗布膜は60~150℃で1~20分間、好ましくは80~120℃で1~10分間プリベークして薄膜を形成する。
本発明の組成物は、以下に示すネガ型パターンの形成プロセスに好適に用いることができる。すなわち、本発明の組成物を基板上に塗布して感活性光線性又は感放射線性膜を形成することと、感活性光線性又は感放射線性膜に活性光線又は放射線を照射(すなわち露光)することと、露光した膜を現像液を用いて現像することによりネガ型パターンを得ることとを含むプロセスに好ましく用いることができる。このようなプロセスとしては、例えば、特開2008-292975号公報、特開2010-217884号公報などに記載されているプロセスを用いることができる。
本発明の組成物は、ネガ型パターンの形成に用いられるネガ型レジスト組成物であるため、未露光部分の膜は溶解し、露光された部分は化合物の架橋により現像液に溶解し難い。これを利用して、基板上に目的のパターンを形成することができる。
本発明の電子デバイスは、電気電子機器(家電、OA・メディア関連機器、光学用機器及び通信機器等)に、好適に、搭載されるものである。
公知の方法により、後掲のオニウム塩化合物(A-1)~(A-9)を合成した。
公知の方法により、後掲の酸発生剤(B-1)~(B-7)を合成した。
9,9-ビス(4-ヒドロキシ-3-メチルフェニル)フルオレン(和光純薬)18.8g、50%ジメチルアミン水溶液 19.8g、パラホルムアルデヒド 6.6g、エタノール 10mLの混合物を80℃で2時間攪拌した。エタノールを留去した後、酢酸エチル50mLと水50mLを加えて分液操作を行い、有機層を水50mLで2回洗浄した。得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後ろ過し、ろ液の溶媒を留去することで、粗生成物として(C-1A)23.4g(収率95%)を得た。図2に、化合物(CL-7A)の1H-NMR(acetone-d6)チャートを示す。
上記で得られた化合物(CL-7A)23.4gに無水酢酸 37.2gを加え、80℃で6時間攪拌した。放冷した後、酢酸と無水酢酸を留去し、化合物(D-2B)27.1gを得た。得られた化合物(CL-7B)はこれ以上の精製は行うことなく、化合物(CL-7)の合成に使用した。
上記で得られた化合物(CL-7B)27.1gにメタノール58gと炭酸カリウム6.9gを加え、60℃で2時間攪拌した。放冷した後、メタノールを留去した。酢酸エチル100mLと水100mLを加えて分液操作を行い、有機層を1N塩酸水溶液100mLで洗浄し、さらに水100mLで3回洗浄した。得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、乾燥剤をろ過し、ろ液の溶媒を留去することで、化合物(CL-7)を19.8g得た(トータル収率85%)。図1に、化合物(CL-7)の1H-NMR(acetone-d6)チャートを示す。
オニウム塩化合物(A)としては、以下のものを用いた。フッ素原子含有率(質量%)とpKa値と共に示す。ここでpKaは、上述した通り、ソフトウェアパッケージ1を用いて算出した値を示す。
フェノール性水酸基を含む化合物(D)としては、以下のものを用いた。組成比(モル比)、重量平均分子量(Mw)及び分散度(重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn))と共に以下に示す。
W-1:PF6320(OMNOVA(株)製)
W-2:メガファックF176(DIC(株)製;フッ素系)
W-3:ポリシロキサンポリマーKP-341(信越化学工業(株)製;シリコン系)
〔溶剤〕
S1:プロピレングリコールモノメチルエーテル(1-メトキシ-2-プロパノール)
S2:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(1-メトキシ-2-アセトキシプロパン)
S3:2-ヘプタノン
S4:乳酸エチル
S5:シクロヘキサノン
S6:γ-ブチロラクトン
S7:プロピレンカーボネート
(1)支持体の準備
酸化Cr蒸着した6インチウェハー(通常のフォトマスクブランクスに使用する遮蔽膜処理を施した物)を準備した。
上記6インチウェハー上に東京エレクトロン製スピンコーターMark8を用いてレジスト組成物を塗布し、100℃、600秒間ホットプレート上で乾燥して、膜厚50nmのレジスト膜を得た。すなわち、レジスト塗布ウェハーを得た。
このレジスト膜に電子線描画装置((株)エリオニクス社製;ELS-7500、加速電圧50KeV)を用いて、パターン照射を行った。照射後に、120℃、60秒ホットプレート上で加熱し、2.38質量%テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド(TMAH)水溶液を用いて120秒間浸漬した後、30秒間、水でリンスして乾燥した。
得られたパターンを下記の方法で、感度、解像力、パターン倒れ、ブリッジ欠陥について評価した。結果を後掲の表2に示す。
線幅50nmの1:1ラインアンドスペースパターンを解像する時の照射エネルギーを感度(Eop)とした。この値が小さいほど性能が良好であることを示す。
上記感度(Eop)を示す露光量における限界解像力(ラインとスペース(ライン:スペース=1:1)が分離解像する最小の線幅)を解像力(nm)とした。
上記感度(Eop)における孤立スペース(ライン:スペース=100:1)の限界解像力(ラインとスペースが分離解像する最小のスペース幅)を求めた。そして、この値を「孤立スペースパターン解像力(nm)」とした。この値が小さいほど性能が良好であることを示す。
上記の感度(Eop)から露光量を減らしてライン線幅を細くした際に、パターンが倒れずに解像する最小の線幅を測定し、この最小の線幅をパターン倒れ発生の抑制の指標とした。値が小さいほど、より細いパターンが倒れずに解像することを表し、パターン倒れの発生の抑制能に優れることを表す。
上記感度(Eop)で形成した線幅50nmの1:1ラインアンドスペースパターンをケー・エル・エー・テンコール社製の欠陥検査装置KLA2360(商品名)を用い、欠陥検査装置のピクセルサイズを0.16μmに、また閾値を20に設定して、単位面積あたりの欠陥数(個数/cm2)を測定した後、欠陥レビューを行うことで全欠陥の中からブリッジ欠陥を抽出した。比較イメージとピクセル単位の重ね合わせによって生じる差異から抽出される欠陥(個数/cm2)を検出して、単位面積あたりの欠陥数を算出した。
この数値が小さいほど、ブリッジ欠陥低減性能に優れている。
Claims (20)
- (A)アニオン部に少なくとも1つのフッ素原子を含み、且つ、カチオン部に少なくとも1つの窒素原子を含むオニウム塩化合物、及び
(B)少なくとも1つのフッ素原子を含む、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物
を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、
化合物(A)の全質量に対する化合物(A)中のフッ素原子の含有率が、化合物(B)の全質量に対する化合物(B)中のフッ素原子の含有率より大きい感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 - 化合物(A)中のフッ素原子の上記含有率と、化合物(B)中のフッ素原子の上記含有率の差が、質量百分率に換算して0.5質量%以上である請求項1に記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
- 化合物(B)が、アニオン部に少なくとも1つのフッ素原子を含むスルホン酸塩化合物である、請求項1又は2に記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
- 化合物(A)の上記カチオン部は、上記窒素原子を含む塩基性部位を備えている、請求項1~3のいずれか1項に記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
- 化合物(A)の上記塩基性部位は、アミノ基又は含窒素複素環基を含んでいる、請求項4に記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
- 化合物(A)は、下記一般式(N-II)で表されるオニウム塩である、請求項1~6のいずれか1項に記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
式中、
Aは、硫黄原子又はヨウ素原子を表す。
R1は、水素原子又は有機基を表し、R1が複数存在する場合、R1は同一であっても異なっていてもよい。
Rは、(o+1)価の有機基を表し、Rが複数存在する場合、Rは同一であっても異なっていてもよい。
Xは、単結合又は連結基を表し、Xが複数存在する場合、Xは同一であっても異なっていてもよい。
ANは、窒素原子を含んだ塩基性部位を表し、ANが複数存在する場合、ANは同一であっても異なっていてもよい。
Aが硫黄原子である場合、nは、1~3の整数であり、mは、m+n=3なる関係を満たす整数である。
Aがヨウ素原子である場合、nは、1又は2であり、mは、m+n=2なる関係を満たす整数である。
oは、1~10の整数を表す。
Y-は、アニオンを表す。
R1、X、R及びANの中の少なくとも2つは、互いに結合して環を形成していてもよい。 - 化合物(A)と化合物(B)が、同一のアニオン部を有する、請求項3乃至7のいずれか1項に記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
- 上記感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物中の全固形分に対する化合物(A)の含有率は、0.1~20質量%の範囲である、請求項1~8のいずれか1項に記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
- 更に、(C)酸架橋性基を含む化合物を含有する、請求項1~9のいずれか1項に記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
- 酸架橋性基を含む化合物(C)は、ヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル基を分子内に2個以上含む、請求項10に記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
- 更に、(D)フェノール性水酸基を含む化合物を含有する、請求項1~11のいずれか1項に記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
- フェノール性水酸基を含む化合物(D)は、下記一般式(III)で表される繰り返し単位を更に含む樹脂である、請求項13に記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
式中、
Ar1は、芳香環基を表す。
R1及びR2は、各々独立に、アルキル基、シクロアルキル基、又は、アリール基を表す。
Xは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアシル基を表す。
R3は、水素原子、有機基又はハロゲン原子を表す。
Bは、単結合又は連結基を表す。
nは、1以上の整数を表す。
Ar1、R1及びR2のうち少なくとも2つは互いに結合して環を形成してもよい。nが2以上の整数を表す場合、複数のR1、複数のR2及び複数のXは各々、互いに同一でも異なっていてもよい。 - 請求項1~14のいずれか1項に記載の組成物を含む感活性光線性又は感放射線性膜。
- 請求項15に記載の感活性光線性又は感放射線性膜を備えたマスクブランクス。
- 請求項1~14のいずれか1項に記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて感活性光線性又は感放射線性膜を形成すること、
上記感活性光線性又は感放射線性膜に活性光線又は放射線を照射すること、及び
活性光線又は放射線を照射した上記感活性光線性又は感放射線性膜を現像すること
を含むパターン形成方法。 - 上記活性光線又は放射線の照射は、電子線又は極紫外線を用いて行われる、請求項17に記載のパターン形成方法。
- 請求項17又は18に記載のパターン形成方法を含む電子デバイスの製造方法。
- 請求項19に記載の電子デバイスの製造方法によって製造された電子デバイス。
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