WO2016000958A1 - Vorrichtung und verfahren zum erzeugen eines dampfes für eine cvd- oder pvd-einrichtung - Google Patents

Vorrichtung und verfahren zum erzeugen eines dampfes für eine cvd- oder pvd-einrichtung Download PDF

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    • F22STEAM GENERATION
    • F22DPREHEATING, OR ACCUMULATING PREHEATED, FEED-WATER FOR STEAM GENERATION; FEED-WATER SUPPLY FOR STEAM GENERATION; CONTROLLING WATER LEVEL FOR STEAM GENERATION; AUXILIARY DEVICES FOR PROMOTING WATER CIRCULATION WITHIN STEAM BOILERS
    • F22D1/00Feed-water heaters, i.e. economisers or like preheaters
    • F22D1/003Feed-water heater systems

Definitions

  • the invention relates to a method for producing a vapor in a CVD or PVD device, in which is transferred to solid or liquid particles by contacting a first, brought to an evaporation temperature heat transfer surface of a single or multi-stage evaporator heat of vaporization and by Vaporization of the particles generated vapor is transported by a carrier gas in a flow direction of the carrier gas from the evaporation device.
  • the invention further relates to a device for generating a vapor for a CVD or PVD device, in particular for carrying out the method, with an evaporation device which has a heatable to an evaporation temperature first heat transfer surface for transmitting heat of vaporization brought into the evaporator solid or liquid particles, wherein the vapor generated by evaporation of the particles is transported by a carrier gas in a flow direction of the carrier gas from the evaporation device.
  • a device for providing a vapor comprising one or more fine-pore foam bodies, which are brought to an evaporation temperature by passing an electric current are shown in WO 2012/175124, DE 10 2011 051 261 A1 or DE 10 2011 051 260 A1.
  • These documents describe, inter alia, that it is advantageous to thin coat the cell walls of an open-cell foam body due to the non-uniform particle size with the aerosol, so that by supplying heat through the Coated cell walls through the coating can evaporate evenly.
  • WO 2012/175126 and WO 2012/175128 describe an evaporation device and an evaporation method in which a vapor is brought into a multi-stage tempering device. In the upstream tempering stage of the steam or the vapor-carrying carrier gas is brought to a homogeneous temperature. This is done in an open-pored
  • Foam body which is heated to a temperature such that the vapor does not condense on the cell walls of the foam body.
  • a downstream second open-pore foam body has a lower temperature so that the vapor can condense there at the cell surfaces.
  • the downstream tempering stage is maintained at a temperature at which condensation and evaporation are in equilibrium so that no accumulation of a non-gaseous substance occurs on the cell walls over the course of time.
  • valves are used which divert the process gas flow transported in a carrier gas into a bypass line, which allows the process gas flow to flow past the process chamber.
  • the process gas flow stabilized in the vent mode can be introduced into the process chamber.
  • the total flow of the gas flowing through the process chamber changes, so that the process gas flow only stabilizes after a settling phase.
  • the bypassing of the process gas to the process chamber produces an undesirable effect.
  • the substances used are high-priced organic, in particular high-purity substances, which are to be used for cost reasons with the highest possible efficiency.
  • the organic particles evaporate at an evaporation temperature and must be maintained at a temperature during their transport in a carrier gas which avoids condensation. For this purpose, the walls of the transport tubes are heated. Furthermore, it is technologically problematic that the aerosol has a relatively low heat capacity under nearly vacuum conditions, so that the supply of sufficiently large heat of evaporation requires a correspondingly high temperature gradient. On the other hand, the organic particles have only a limited chemical stability. They can chemically decompose at temperatures above the evaporation temperature.
  • the field of application of the invention is both physical vapor deposition and chemical vapor deposition. The invention has for its object to further develop a generic method or a generic device nutzsvorteilhaft.
  • the modulation device is arranged behind the evaporation device in the flow direction and can be single-stage or multi-stage.
  • the one- or multi-stage evaporation device which may be formed by a solid-state foam, as described in the above-mentioned prior art, is heated to an evaporation temperature.
  • One preferred preheated carrier gas is fed into the porous body forming the first heat transfer surfaces.
  • an aerosol is fed, which has liquid or solid particles. The particles come into contact with the heat transfer surfaces brought to an evaporation temperature.
  • the heat transfer surfaces are the cell walls of an open cell foam.
  • the process is carried out at a pressure at which the free path of the particles in the carrier gas is only slightly smaller than the pore width of the solid-state foam, which forms the evaporation surfaces.
  • the pressure can be a few millibars.
  • At least one element of the modulation device can not only be maintained at the vaporization temperature, so that vapor and carrier gas pass unhindered through the modulation device. According to the invention, at least one Element of the modulation device is cooled to a condensation temperature of the vapor.
  • the modulation device is cooled to a condensation temperature at which condenses also the vapor with the lowest evaporation temperature.
  • the condensation temperature may be 20 ° C lower than the evaporation temperature.
  • the evaporation temperature may be 350 ° C.
  • the modulation device is then at least partially cooled from 350 ° C to 330 ° C.
  • the vapor condenses on the heat transfer surfaces of the modulation device, ie on the cell walls of the open-celled solid state foam.
  • the steam delivery phase there is no accumulation of material on the heat transfer surfaces over the course of time. Any condensation of the vapor on the heat transfer surfaces is in thermodynamic equilibrium with re-evaporation, so that, on average, steam and carrier gas pass unhindered through the modulation device.
  • the modulation device and the evaporation device are preferably located in a housing, wherein the housing walls are heated to a temperature which is greater than or equal to the temperature at which the particles evaporate. This ensures that in the steam delivery phase, in which the device delivers a vapor which is supplied to a gas inlet member of a CVD or PVD reactor, no condensation on the Walls takes place. In an interruption phase in which the gas inlet member of the CVD or PVD reactor is not to be supplied with steam, at least one element of the modulation device is cooled to a temperature at which the vapor condenses out of the carrier gas.
  • a coolant is a cooling gas, which is fed into the carrier gas stream.
  • a cooling gas line can protrude into the intermediate space between two elements of the modulation device.
  • the refrigerant gas fed into the space thereby cools both the downstream portion of an upstream element of the modulator and an upstream portion of the downstream element of the modulator to a temperature resulting in deposition of the vapor on the cell walls.
  • an aerosol is further fed into the evaporation device.
  • the evaporation device can contain a plurality of elements, wherein an upstream element in the form of an open-pored foam body merely serves to heat the carrier gas.
  • the aerosol is fed into a gap between the two downstream elements.
  • An Aersol feed line which opens into the gap, is used for this purpose.
  • vaporization takes place not only in the downstream element of the evaporator, but also in the downstream portion of the upstream element of the evaporator.
  • the device has a control device.
  • the control device is connected to a sensor which is arranged downstream of the modulation device and which is able to determine the concentration or the partial pressure of the vapor in the carrier gas.
  • the control device outputs control signals to the heating device of the modulation device and to a mass flow controller with which the flow of cooling gas can be adjusted.
  • the function of the modulation device can be switched from vapor-permeable to vapor-blocking.
  • the temperature of the modulation device can also be sensitively adjusted such that, in a steam delivery phase, condensate formed on the second heat transfer surfaces evaporates.
  • the evaporation temperature can be adjusted so that the evaporator provides a constant steam rate.
  • a rough delivery rate for the steam can be set.
  • the steam delivery rate can be controlled sensitively, wherein the modulation device can be adjusted continuously between the state completely permeable to vapor and completely vapor-impermeable. It is considered advantageous that with the device according to the invention or with the method according to the invention, the steam delivery device can be switched abruptly or also continuously between two operating states. It can be dispensed with mechanical valves, the switching accuracy and tightness at the temperatures used here above 250 ° C problems. Efficient utilization of the organic starting materials is possible because passing steam to a process chamber when there are no substrates therein is not required. In a growth stop, the aerosol feed into the evaporator need not be interrupted for at least about 30 minutes.
  • a storage mass builds up in the modulation device by condensation of the vaporized particles, which can then be degraded again for coating the substrates when substrates are present in the process chamber.
  • the gas flowing through the tempered solid-state foams of the evaporation device and the modulation device or gas-vapor mixture is heated to a homogeneous temperature, so that even at low total pressures a condensation of the vapor is prevented at surface portions of pipelines effectively.
  • the steam delivery can be switched off and on according to the invention without influencing the carrier gas flow.
  • a cooling gas flow fed into the modulation device can be compensated for by a corresponding reduction of a hot gas stream otherwise injected at the same point.
  • the individual elements of the modulation device or the evaporation device may have a material thickness of about 1 cm. They are able to be heated at a total pressure of one millibar to 350 ° C.
  • the opening area of the solid foam is preferably 97%, wherein the pore size is about 250 ⁇ (100 pores / per inch). Nitrogen, which as
  • Carrier gas is used, has a kinetic diameter of about 3.16 A and at the pressure of 1 mbar and the temperature of 350 ° C used here a mean free path length of about 61 ⁇ .
  • a material used for the OLED deposition process A1Q 3 (C27H18AIN3O3) has a kinetic diameter of about 11.4 A and at 350 ° C, a pressure of 1 mbar a mean free path of 18 ⁇ .
  • the mean free path of the molecules to be vaporized is sufficiently close to the pore width. Thus, there is a sufficiently high probability that each molecule will come into contact with the cell wall at least once as it passes through the solid state foam. Heat transfer also occurs due to the collision of the particles / molecules with the nitrogen molecules.
  • the selected passage or interruption of a vapor flow without any significant resistance to the carrier gas by the modulation device opens up new process possibilities.
  • the steam delivery rate can be switched off abruptly when the desired layer thickness is reached in a coating process.
  • the steam have to be diverted into a bypass, as in the prior art. Since only the steam flow is interrupted, the other pressure conditions in the process chamber do not change. The constancy of the pressure is also advantageous in the exhaust gas disposal downstream of the substrate, which is coated.
  • FIG. 1 shows schematically the section through an evaporator of a first exemplary embodiment
  • FIG. 2 shows the section through an integrated in a coating device evaporator of a second embodiment
  • Fig. 3 shows the section along the line III-III in Figure 2 and
  • Fig. 4 is a schematic representation of a control device of the supply of a stationary steam flow.
  • the devices shown in FIGS. 1 and 2 for producing a vapor transported in a carrier gas for depositing an OLED structure on a substrate have a housing 5.
  • the housing 5 has heated housing walls.
  • a carrier gas feed line 13 through which a carrier gas, for example nitrogen, is introduced into the inlet section of the housing.
  • the inlet portion of the housing 5 widens in a funnel-like manner.
  • the housing then continues like a cylinder, with a total of four of graphite or a similar suitable material existing open-cell foam body in the flow direction are arranged one behind the other, wherein each of the foam body 1, 2, 3, 4 fills the entire cross-section of the housing 5.
  • the foam bodies may have a cross-sectional area of about 36 cm 2 and a thickness of about 1 cm. They have a pore size of 250 ⁇ (100 pores per inch) and an open cross-sectional area of about 97%.
  • the solid state foam of the body 1, 2, 3, 4 is electrically conductive, so that the foam body can be heated by passing an electric current.
  • an aerosol consisting of a carrier gas, for example nitrogen, and, for example, A1Q 3 can be fed into an intermediate space 10 between a first foam body 1 and a second foam body 2.
  • a carrier gas for example nitrogen
  • A1Q 3 can be fed into an intermediate space 10 between a first foam body 1 and a second foam body 2.
  • a cooling gas feed line 14 opens into the intermediate space 12. by which a cooled, but possibly also only room temperature exhibiting cooling gas can be fed.
  • the cooling gas may also be nitrogen.
  • an outlet closes with a heated conical surface 7 and a heated cylinder section 8 at.
  • a heated conical surface 7 and a heated cylinder section 8 In the discharge channel 6 formed thereby enters a carrier gas vapor mixture.
  • four foam bodies are shown one behind the other. In the embodiment not shown, the number of foam bodies may be larger or smaller.
  • a first foam body with which an aerosol fed in through the aerosol feed line 9 evaporates and at least one second foam body, which is arranged behind the first foam body, which can be tempered to a temperature which is lower than the evaporation temperature, so that in the cell walls of the open-cell foam, the vapor can condense almost completely, so that only the carrier gas passes through the outlet channel 6.
  • the mouth 9 'of the aerosol feed line 9 projects into the intermediate space 10 between the foam body 1, which forms a preheating device for the carrier gas fed through the carrier gas supply line 13.
  • the preheater 1 which is heated to evaporation temperature, but can also cause evaporation of the aerosol, which can diffuse upstream by back diffusion in the preheater 1.
  • the substantial evaporation of the aerosol takes place in the second foam body in the flow direction, namely in the evaporation device 2.
  • the foam bodies 3 and 4 form a modulation device.
  • the modulation device 3, 4 can be heated to a temperature corresponding to the evaporation temperature. In this mode, the device operates in a steam delivery phase. The steam and the carrier gas pass unhindered through the modulation device 3, 4.
  • a carrier gas heated to evaporation temperature can occur in this mode.
  • no gas enters the intermediate space 12 between the two foam bodies 3, 4 of the modulation device through the cooling gas supply line 14 during the steam delivery phase.
  • a cooling gas is introduced through the cooling gas feed line 14 into the intermediate space 12.
  • the two solid-state foams 3, 4 of the modulation device are not actively heated in this operating mode. This has the consequence that the regions of the foam bodies 3, 4 adjoining the intermediate space 12 cool by about 20 °.
  • the downstream foamed body 4 is cooled to a condensation temperature at which the vapor generated in the evaporator 2 condenses on the cell walls of the foamed body as a thin film.
  • the vapor concentration in the carrier gas in the outlet channel 6 can thus be brought to zero, without the total pressure or carrier gas flow being appreciably affected.
  • the cooling gas flow which is fed by the cooling gas supply line 14 into the total gas flow, can be compensated by a corresponding reduction of the carrier gas fed through the carrier gas feed line 13.
  • the temperature of the modulation device can be brought above the condensation temperature, so that the film deposited on the cell walls of the modulation device evaporates in a controlled manner.
  • the steam delivery rate of the device can be adjusted sensitively.
  • FIG. 2 additionally shows schematically an aerosol generator 19 and a mass flow controller 20.
  • the mass flow controller 20 sets a carrier gas flow which flows through the aerosol generator 19. Particles produced in the aerosol generator are thus transported in the gas flow through the aerosol feed line 9 into the intermediate space 10.
  • a heater 21 a set via a mass flow controller 22 carrier gas stream can be heated.
  • the reference numeral 23 denotes a tempering device for the cooling gas 14.
  • the tempering device 23 is optional.
  • the cooling gas 14 is also adjusted via a mass flow controller 30.
  • the housing 5 of the gas delivery device is arranged in a reactor housing 27 of a CVD reactor.
  • a shower head-like gas inlet member 24 which is fed by a gas outlet channel 6 of the gas supply device.
  • a sensor 29 which is able to determine the partial pressure or the concentration of the vapor within the carrier gas stream.
  • the gas outlet member 24 has on its side facing a substrate 26 a plurality of gas outlet openings through which the carrier gas-vapor mixture can flow into a process chamber whose bottom forms a susceptor 25 which is tempered.
  • the susceptor 25 may for example be tempered such that a layer of the evaporated organic material is deposited on the surface of the substrate 26 lying thereon.
  • the total pressure within the process chamber and within the evaporation device can be adjusted to about 1 mbar.
  • the temperatures to which the preheater 1, the evaporator 2 or the modulation means 3, 4 is heated depends on the substance to be evaporated. The temperatures are usually between 250 and 350 ° C.
  • FIG. 4 schematically shows a control circuit with which the steam generation rate can be adjusted constantly to a predetermined value with the aid of the sensor 29 and a regulator 31.
  • the controller 31 controls the mass flow of the aerosol via the mass flow controller 20, the mass flow of the carrier gas via the mass flow controller 22, the mass flow of the cooling gas via the mass flow controller 30, the temperature of the cooling gas via the tempering device 23 and into the heatable foam body 1 to 4 fed heating power through the through the contacts 15 ', 16', 17 ', 18' in the foam body 1, 2, 3, 4 fed electrical currents.
  • a method which is characterized in that the modulation device 3, 4 is actively cooled, in particular by introducing a cooling gas to the second modulation temperature, wherein it is provided in particular that the cooling gas in a gap 12 either between the evaporation device 1, 2 or the modulation device , 4 or between two elements of the modulation device 3, 4 is introduced.
  • a device which is characterized by a second heat transfer surfaces arranged downstream of the evaporation device 1, 2 modulation means 3, 4, wherein the second heat transfer surfaces at least partially temperature-controlled to a modulation temperature, wherein the modulation temperature at least the value of a condensation temperature at which the steam condensed on the second heat transfer surface, and can take the value of the evaporation temperature.
  • a device or a method which are characterized by a feed line 14 for feeding a cooling gas into the modulation means 3, 4 for lowering the modulation temperature.
  • a device or a method which are characterized in that the evaporation device 1, 2 and / or the modulation device 3, 4 each have two in the flow direction one behind the other arranged open-pore foam body, wherein it is provided in particular that in the evaporation device 1, an upstream foam body, a preheater for the carrier gas and is separated from a second foam body of the evaporation device 2 by a gap 10, in which intermediate space an aerosol feed line 9 opens for feeding a particle having the aerosol and / or wherein it is particularly provided that the two in the flow direction successively arranged foam body of the modulation device 3, 4 are separated from each other by a gap 12, in which a cooling gas supply line 14 opens for introducing the cooling gas.
  • a device or a method which is characterized in that four essentially identically designed foam bodies 1, 2, 3, 4 are arranged one after the other in the flow direction in an evaporator housing whose housing walls 7, 8 arranged downstream of the modulation device 3, 4 are heated to a temperature are above the evaporation temperature.

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Abstract

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zum Erzeugen eines Dampfes in einer CVD- oder PVD-Einrichtung, bei dem auf feste oder flüssige Partikel durch Inkontaktbringen an eine erste, auf eine Verdampfungstemperatur gebrachte Wärmeübertragungsfläche einer ein- oder mehrstufigen Verdampfungseinrichtung (1, 2) Verdampfungswärme übertragen wird und der durch Verdampfen der Partikel erzeugte Dampf von einem Trägergas in einer Strömungsrichtung des Trägergases aus der Verdampfungseinrichtung (1, 2) transportiert wird. Erfindungsgemäß wird der Dampf vom Trägergas durch eine in Strömungsrichtung hinter der Verdampfungseinrichtung (1, 2) angeordneten ein- oder mehrstufigen Modulationseinrichtung (3, 4) transportiert, welche Modulationseinrichtung (3, 4) zweite Wärmeübertragungsflächen aufweist, die in einer Dampflieferphase auf eine erste Modulationstemperatur temperiert werden, bei der der Dampf ohne Kondensation an den zweiten Wärmeübertragungsflächen durch die Modulationseinrichtung (3, 4) hindurchtritt, und die in einer Unterbrechungsphase auf eine zweite Modulationstem- peratur temperiert werden, bei der zumindest ein Teil des Dampfes an den zweiten Wärmeübertragungsflächen kondensiert. Die Kühlung kann durch ein Kühlgas erfolgen.

Description

Vorrichtung und Verfahren zum Erzeugen eines Dampfes für eine CVD- oder PVD-Einrichtung
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Erzeugen eines Dampfes in einer CVD- oder PVD-Einrichtung, bei dem auf feste oder flüssige Partikel durch In- kontaktbringen an eine erste, auf eine Verdampfungstemperatur gebrachte Wärmeübertragungsfläche einer ein- oder mehrstufigen Verdampfungseinrichtung Verdampfungswärme übertragen wird und der durch Verdampfen der Partikel erzeugte Dampf von einem Trägergas in einer Strömungsrichtung des Trägergases aus der Verdampfungseinrichtung transportiert wird.
Die Erfindung betrifft darüber hinaus eine Vorrichtung zum Erzeugen eines Dampfes für eine CVD- oder PVD-Einrichtung, insbesondere zur Durchführung des Verfahrens, mit einer Verdampfungseinrichtung, die eine auf eine Verdampfungstemperatur aufheizbare erste Wärmeübertragungsfläche aufweist zur Übertragung von Verdampfungswärme auf in die Verdampfungseinrichtung gebrachte feste oder flüssige Partikel, wobei der durch Verdampfen der Partikel erzeugte Dampf von einem Trägergas in einer Strömungsrichtung des Trägergases aus der Verdampfungseinrichtung transportiert wird.
Eine Vorrichtung zum Bereitstellen eines Dampfes aufweisend eine oder mehrere feinporige Schaumkörper, die durch Hindurchleiten eines elektrischen Stroms auf eine Verdampfungstemperatur gebracht werden, zeigen die WO 2012/175124, DE 10 2011 051 261 AI oder DE 10 2011 051 260 AI. Diese Druckschriften beschreiben unter anderem, dass es vorteilhaft ist, aufgrund der nicht einheitlichen Partikelgröße mit dem Aerosol die Zellwände eines offenporigen Schaumkörpers dünn zu beschichten, so dass durch Wärmezufuhr durch die beschichteten Zellwände hindurch die Beschichtung gleichmäßig verdampfen kann.
Die WO 2012/175126 bzw. WO 2012/175128 beschreiben eine Verdampfungsvorrichtung und ein Verdampfungsverfahren, bei dem ein Dampf in eine mehrstufige Temperiereinrichtung gebracht wird. In der stromauf wärtigen Temperierstufe wird der Dampf bzw. das den Dampf tragende Trägergas auf eine homogene Temperatur gebracht. Dies erfolgt in einem offenporigen
Schaumkörper, der auf eine derartige Temperatur aufgeheizt ist, dass der Dampf nicht an den Zellwänden des Schaumkörpers kondensiert. Ein strom- abwärts angeordneter zweiter offenporiger Schaumkörper besitzt eine geringere Temperatur, sodass der Dampf dort an den Zelloberflächen kondensieren kann. Die stromabwärtige Temperierstufe wird auf einer Temperatur gehalten, bei der Kondensation und Verdampfung im Gleichgewicht stehen, sodass sich auf den Zellwänden im zeitlichen Mittel keine Anreicherung eines nicht gasförmigen Stoffes bildet.
In einem Beschichtungsverfahren oder in einer Beschichtungsvorrichtung ist es erwünscht, die Reaktionsgase, die insbesondere durch Verdampfen eines Aerosols bereitgestellt werden, abrupt abzuschalten oder anzuschalten. In der Praxis bedient man sich hierzu Ventile, die den in einem Trägergas transpor- tierten Prozessgasfluss in eine Bypassleitung umleiten, die den Prozessgasfluss an der Prozesskammer vorbeifließen lässt. Durch Umschalten kann der sich im Vent-Betrieb stabilisierte Prozessgasfluss in die Prozesskammer eingeleitet werden. Bei einem derartigen Umschalten ändert sich in der Regel der Gesamt- fluss des durch die Prozesskammer fließenden Gases, so dass sich der Prozess- gasfluss erst nach einer Einschwingphase stabilisiert. Ferner entsteht durch die Vorbeileitung des Prozessgases an der Prozesskammer ein unerwünschter Ma- terialverlust. Bei den verwendeten Stoffen handelt es sich um hochpreisige organische, insbesondere hochreine Stoffe, die aus Kostengründen mit einer höchstmöglichen Effizienz verwendet werden sollen.
Die organischen Partikel verdampfen bei einer Verdampfungstemperatur und müssen während ihres Transportes in einem Trägergas auf einer Temperatur gehalten werden, die eine Kondensation vermeidet. Hierzu werden die Wände der Transportrohre beheizt. Ferner ist es technologisch problematisch, dass das Aerosol unter nahezu Vakuumbedingungen eine relativ geringe Wärmekapazität besitzt, so dass die Zufuhr von ausreichend großer Verdampfungswärme einen entsprechend hohen Temperaturgradienten erfordert. Andererseits haben die organischen Partikel aber nur eine begrenzte chemische Stabilität. Sie können sich bei Temperaturen oberhalb der Verdampfungstemperatur chemisch zerlegen. Das Anwendungsgebiet der Erfindung ist sowohl die physikalische Gasphasenabscheidung als auch die chemische Gasphasenabscheidung. Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein gattungsgemäßes Verfahren beziehungsweise eine gattungsgemäße Vorrichtung gebrauchsvorteilhaft weiterzubilden.
Gelöst wird die Aufgabe durch die in den Ansprüchen angegebene Erfindung.
Zunächst und im Wesentlichen wird eine Modulationseinrichtung vorgeschla- gen. Die Modulationseinrichtung ist in Strömungsrichtung hinter der Verdampfungseinrichtung angeordnet und kann ein- oder mehrstufig sein. Die ein- oder mehrstufige Verdampfungseinrichtung, die von einem Festkörperschaum ausgebildet sein kann, wie sie im oben genannten Stand der Technik beschrieben wird, wird auf eine Verdampfungstemperatur aufgeheizt. Ein bevorzugt vorgeheiztes Trägergas wird in den die ersten Wärmeübertragungsflächen ausbildenden porösen Körper eingespeist. In diesem porösen Körper wird auch ein Aerosol eingespeist, welches flüssige oder feste Partikel aufweist. Die Partikel treten in Kontakt zu den auf eine Verdampfungstemperatur gebrachten Wär- meübertragungsflächen. Die Wärmeübertragungsflächen sind die Zellwände eines offenporigen Schaums. Bevorzugt wird das Verfahren bei einem Druck durchgeführt, bei dem die freie Weglänge der Partikel im Trägergas nur geringfügig kleiner ist, als die Porenweite des Festkörperschaums, der die Verdampfungsflächen bildet. Der Druck kann wenige Millibar betragen. Beim In- kontakttreten der Partikel zu den Verdampfungsflächen wird den Partikeln Verdampfungswärme zugeführt, so dass sie verdampft werden. Der Dampf wird vom Trägergas aus der Verdampfungseinrichtung heraustransportiert und tritt in eine Modulationseinrichtung ein. Die Modulationseinrichtung besitzt zumindest ein Element, welches zweite Wärmeübertragungsflächen aufweist. Bevorzugte Weiterbildungen der Erfindung werden im Folgenden beschrieben: Die ein oder mehreren Elemente der Modulationseinrichtung sind mit ein oder mehreren Elementen der Verdampfungseinrichtung baugleich ausgebildet. Es können mehrere Ver dampf ungs stufen für voneinander verschiedene Ausgangsstoffe, die jeweils als Aerosol einem Verdampfungskörper zugeführt werden, hintereinander angeordnet sein. Dies hat dann zur Folge, dass in einem stromaufwärtigen Verdampfungskörper erzeugter Dampf durch einen strom- abwärtigen Verdampfungskörper einer zweiten Verdampfungsstufe hindurchtritt. Aus dem letzten Wärmeübertragungsträger kann dann ein Gemisch aus mehreren Dämpfen austreten. Es handelt sich in allen Fällen vorzugsweise um elektrisch leitende Festkörperschäume. Zumindest ein Element der Modulationseinrichtung kann nicht nur auf der Verdampfungstemperatur gehalten werden, so dass Dampf und Trägergas ungehindert durch die Modulationseinrichtung hinaustreten. Erfindungsgemäß ist vorgesehen, dass zumindest ein Element der Modulationseinrichtung auf eine Kondensationstemperatur des Dampfes abkühlbar ist. Werden mehrere Dämpfe mit voneinander verschiedenen Verdampfungstemperaturen erzeugt, so ist die Modulationseinrichtung auf eine Kondensationstemperatur abkühlbar, bei der auch der Dampf mit der geringsten Verdampfungstemperatur kondensiert. Die Kondensationstemperatur kann 20°C niedriger als die Verdampfungstemperatur sein. Beispielsweise kann die Verdampfungstemperatur bei 350°C liegen. Die Modulationseinrichtung ist dann zumindest bereichsweise von 350°C auf 330°C abkühlbar. Bei dieser Temperatur kondensiert zumindest der größte Teil des von der Ver- dampf ungseinrichtung in die Modulationseinrichtung transportierten Dampfes in der Modulationseinrichtung, so dass bevorzugt lediglich das Trägergas behinderungsfrei durch die Modulationseinrichtung hindurchtritt, der Dampf jedoch vollständig, zumindest aber nahezu vollständig aus dem Trägergas herausgefroren wird. Der Dampf kondensiert an den Wärmeübertragungsflä- chen der Modulationseinrichtung, also an den Zellwänden des offenzelligen Festkörper schaums. In der Dampflieferphase findet im zeitlichen Mittel keine Materialanreicherung an den Wärmeübertragungsflächen statt. Eine etwaige- Kondensation des Dampfes an den Wärmeübertragungsflächen steht mit einer Re-Evaporation im thermodynamischen Gleichgewicht, sodass im Mittel Dampf und Trägergas ungehindert durch die Modulationseinrichtung hindurchtreten. Bei einer Absenkung der Modulationstemperatur findet im zeitlichen Mittel eine Materialanreicherung auf den zweiten Wärmeübertragungsflächen durch Kondensation statt. Die Modulationseinrichtung und die Verdampfungseinrichtung befinden sich bevorzugt in einem Gehäuse, wobei die Gehäusewände auf eine Temperatur aufgeheizt sind, die größer oder gleich der Temperatur ist, bei der die Partikel verdampfen. Hierdurch ist sichergestellt, dass in der Dampflieferphase, bei der die Vorrichtung einen Dampf liefert, der einem Gaseinlassorgan eines CVD- oder PVD-Reaktors zugeführt wird, keine Kondensation an den Wänden stattfindet. In einer Unterbrechungsphase, in der das Gaseinlassorgan des CVD- oder PVD-Reaktors nicht mit Dampf versorgt werden soll, wird zumindest ein Element der Modulationseinrichtung auf eine Temperatur gekühlt, bei der der Dampf aus dem Trägergas heraus kondensiert. Dies wird bevorzugt durch Einleiten eines Kühlmittels erreicht, wobei vorgesehen ist, dass das Kühlmittel ein Kühlgas ist, welches in den Trägergasstrom eingespeist wird. Hierzu kann eine Kühlgas-Leitung in den Zwischenraum zwischen zwei Elementen der Modulationseinrichtung hineinragen. Das dadurch in den Zwischenraum eingespeiste Kühlgas kühlt sowohl den stromabwärtigen Abschnitt eines stromauf wärtigen Elementes der Modulationseinrichtung als auch einen stromaufwärtigen Abschnitt des stromabwärtigen Elementes der Modulationseinrichtung auf eine Temperatur, die zu einer Abscheidung des Dampfes auf den Zellwänden führt. Während der Unterbrechungsphase wird weiter ein Aerosol in die Verdampfungseinrichtung eingespeist. Die Verdampfungsein- richtung kann mehrere Elemente enthalten, wobei ein stromauf wärtiges Element in Form eines offenporigen Schaumkörpers lediglich der Erwärmung des Trägergases dient. Das Aerosol wird in einen Zwischenraum zwischen den beiden in Stromrichtung nachgeordneten Elementen eingespeist. Hierzu dient eine Aersol-Einspeiseleitung, die in den Zwischenraum mündet. Durch Rück- diffusion des Aerosols findet die Verdampfung aber nicht nur in dem stromabwärtigen Element der Verdampfungseinrichtung, sondern auch im stromabwärtigen Abschnitt des stromaufwärtigen Elementes der Verdampfungseinrichtung statt. Die Vorrichtung weist eine Regeleinrichtung auf. Die Regelungseinrichtung ist mit einem Sensor verbunden, der stromabwärts der Mo- dulationseinrichtung angeordnet ist, und der in der Lage ist, die Konzentration oder den Partialdruck des Dampfes im Trägergas zu ermitteln. Die Regeleinrichtung gibt Steuersignale an die Heizeinrichtung der Modulationseinrichtung und an einen Massenflusskontroller, mit dem der Kühlgasfluss einstellbar ist. Durch Variation der Heizleistung der Modulationseinrichtung, aber insbesondere durch Variation des Kühlgasflusses kann die Funktion der Modulationseinrichtung von dampfdurchlässig zu dampfsperrend umgeschaltet werden. Mittels der Regeleinrichtung kann die Temperatur der Modulationseinrichtung aber auch feinfühlig so eingestellt werden, dass in einer Dampflieferphase sich an den zweiten Wärmeübertragungsflächen gebildetes Kondensat abdampft. Durch eine moderate Dosierung des Kühlgases kann die Verdampfungstemperatur so eingestellt werden, dass der Verdampfer eine gleichbleibende Dampfrate liefert. Mittels der Verdampfungseinrichtung lässt sich eine grobe Liefer- rate für den Dampf einstellen. Mittels der Modulationseinrichtung lässt sich die Dampflieferrate feinfühlig steuern, wobei die Modulationseinrichtung stufenlos zwischen dem Zustand vollständig dampfdurchlässig und vollständig dampfundurchlässig eingestellt werden kann. Es wird als vorteilhaft angesehen, dass mit der erfindungsgemäßen Vorrichtung beziehungsweise mit dem erfin- dungsgemäßen Verfahren die Dampfliefervorrichtung zwischen zwei Be- triebszuständen abrupt oder aber auch kontinuierlich umgeschaltet werden kann. Es kann auf mechanische Ventile, deren Schaltgenauigkeit und Dichtigkeit bei den hier verwendeten Temperaturen über 250°C Probleme bereiten, verzichtet werden. Es ist eine effiziente Ausnutzung der organischen Aus- gangsstoffe möglich, weil ein Vorbeileiten eines Dampfes an einer Prozesskammer, wenn darin keine Substrate vorhanden sind, nicht erforderlich ist. Bei einem Wachstumsstopp braucht die Aerosoleinspeisung in den Verdampfer zumindest für ungefähr 30 Minuten nicht unterbrochen werden. Während dieser Zeit baut sich in der Modulationseinrichtung durch Kondensation der ver- dampften Partikel eine Speichermasse auf, die danach, wenn Substrate in der Prozesskammer vorhanden sind, zum Beschichten der Substrate wieder abgebaut werden kann. Das durch die temperierten Festkörperschäume der Verdampfungseinrichtung und der Modulationseinrichtung durchströmende Gas beziehungsweise Gas-Dampfgemisch wird homogen temperiert, so dass auch bei niedrigen Totaldrücken ein Auskondensieren des Dampfes an Oberflächenabschnitten von Rohrleitungen wirksam verhindert ist. Die Dampflieferung kann erfindungsgemäß aus- und eingeschaltet werden, ohne den Träger- gasstrom zu beeinflussen. Ein in die Modulationseinrichtung eingespeister Kühlgasstrom kann durch eine entsprechende Verminderung eines ansonsten an gleicher Stelle eingespeisten Heißgasstrom kompensiert werden. Die einzelnen Elemente der Modulationseinrichtung oder der Verdampfungseinrichtung können eine Materialstärke von etwa 1 cm aufweisen. Sie sind in der Lage, bei einem Total druck von einem Millibar auf 350°C aufgeheizt zu werden. Die Öffnungsfläche des Festkörper schaums beträgt bevorzugt 97%, wobei die Porengröße etwa bei 250 μιτι (100 Poren/ pro Inch) liegt. Stickstoff, welches als
Trägergas benutzt wird, hat einen kinetischen Durchmesser von etwa 3,16 A und bei dem hier verwendeten Druck von 1 mbar und der hier verwendeten Temperatur von 350°C eine mittlere freie Wegelänge von etwa 61 μιτι. Ein für den OLED-Abscheideprozess verwendetes Material A1Q3 (C27H18AIN3O3) hat einen kinetischen Durchmesser von etwa 11,4 A und bei 350°C, einem Druck von 1 mbar eine mittlere freie Weglänge von 18 μιτι. Die mittlere freie Weglänge der zu verdampfenden Moleküle ist ausreichend nah an der Porenbreite. Es besteht somit eine ausreichend hohe Wahrscheinlichkeit, dass jedes Molekül beim Durchtritt durch den Festkörperschaum zumindest einmal in Kontakt zur Zellwandung tritt. Ein Wärmeübertrag tritt darüber hinaus auch durch die Kollision der Partikel/ Moleküle mit den Stickstoffmolekülen. Das ausgewählte Hindurchlassen beziehungsweise Unterbrechen eines Dampfflusses ohne nen- nenswerten Widerstand gegenüber dem Trägergas durch die Modulationseinrichtung eröffnet neue Verfahrensmöglichkeiten. So kann die Dampfförderrate abrupt abgeschaltet werden, wenn bei einem Beschichtungsprozess die gewünschte Schichtdicke erreicht ist. Dabei werden keine ergänzenden mechani- sehen Ventile verwendet. Der Dampf muss auch nicht, wie beim Stand der Technik, in einen Bypass abgeleitet werden. Da lediglich der Dampffluss unterbrochen wird, ändern sich die sonstigen Druckverhältnisse in der Prozesskammer nicht. Die Konstanz des Drucks ist auch von Vorteil bei der Ab- gasentsorgung stromabwärts des Substrates, welches beschichtet wird.
Ausführungsbeispiele der Erfindung werden nachfolgend anhand beigefügter Zeichnungen erläutert. Es zeigen
Fig. 1 schematisch den Schnitt durch einen Verdampfer eines ersten Ausfüh- rungsbeispiels,
Fig. 2 den Schnitt durch einen in einer Beschichtungseinrichtung integrierten Verdampfer eines zweiten Ausführungsbeispiels, Fig. 3 den Schnitt gemäß der Linie III-III in Figur 2 und
Fig. 4 eine schematische Darstellung einer Regeleinrichtung der Lieferung eines stationären Dampfflusses. Die in den Figuren 1 und 2 dargestellten Vorrichtungen zur Erzeugung eines in einem Trägergas transportierten Dampfs zum Abscheiden einer OLED-Struktur auf einem Substrat besitzen ein Gehäuse 5. Das Gehäuse 5 besitzt beheizte Gehäusewände. In einem Einlassabschnitt des Gehäuses 5 befindet sich eine Trägergaszuleitung 13, durch die ein Trägergas, beispielsweise Stickstoff, in den Einlassabschnitt des Gehäuses eingeleitet wird. Der Einlassabschnitt des Gehäuses 5 weitet sich trichterartig auf. Das Gehäuse setzt sich dann zylinderartig fort, wobei insgesamt vier aus Graphit oder einem ähnlich geeigneten Material bestehende offenzellige Schaumkörper in Strömungsrichtung hintereinander angeordnet sind, wobei jeder der Schaumkörper 1, 2, 3, 4 den gesamten Querschnitt des Gehäuses 5 ausfüllt. Die Schaumkörper können etwa eine Querschnittsfläche von 36 cm2 besitzen und eine Dicke von etwa 1 cm. Sie besitzen eine Porenweite von 250 μιτι (100 Poren pro Inch) und eine offene Querschnittsfläche von etwa 97%. Der Festkörperschaum der Körper 1, 2, 3, 4 ist elektrisch leitend, so dass die Schaumkörper durch Hindurchleiten eines elektrischen Stroms aufheizbar sind. In den Figuren 2 und 3 sind diesbezügliche Zuleitungen 15, 16, 17, 18 und Kontakte 15' angedeutet. An den Kontakten 15', 16', 17', 18' kann ein von einem Regler 31 geregelte Spannung anliegen beziehungsweise ein geregelter Strom eingespeist werden.
Durch eine Aerosol-Einspeiseleitung 9 kann ein Aerosol bestehend aus einem Trägergas, beispielsweise Stickstoff, und beispielsweise A1Q3 in einen Zwi- schenraum 10 zwischen einem ersten Schaumkörper 1 und einem zweiten Schaumkörper 2 eingespeist werden. Zwischen dem in Strömungsrichtung zweiten Schaumkörper 2 und dem in Strömungsrichtung dritten Schaumkörper 3 befindet sich ein Zwischenraum 11. Zwischen dem in Strömungsrichtung dritten Schaumkörper 3 und dem in Strömungsrichtung vierten Schaumkörper 4 befindet sich ebenfalls ein Zwischenraum 12. In den Zwischenraum 12 mündet eine Kühlgaszuleitung 14, durch die ein gekühltes, gegebenenfalls aber auch nur Raumtemperatur aufweisendes Kühlgas eingespeist werden kann. Bei dem Kühlgas kann es sich ebenfalls um Stickstoff handeln.
An den zylinderförmigen Abschnitt des Gehäuses 5, der die im Ausführungsbeispiel vier Schaumkörper 1 bis 4 aufnimmt, schließt sich ein Auslassabschnitt mit einer geheizten Konusfläche 7 und einem geheizten Zylinderabschnitt 8 an. In den dadurch gebildeten Austrittskanal 6 tritt ein Trägergas-Dampf gemisch ein. Im Ausführungsbeispiel sind vier Schaumkörper hintereinander dargestellt. Im nicht dargestellten Ausführungsbeispiel kann die Anzahl der Schaumkörper größer oder kleiner sein.
Wesentlich ist ein erster Schaumkörper, mit dem ein durch die Aero- sol-Einspeiseleitung 9 eingespeistes Aerosol verdampft und zumindest ein zweiter Schaumkörper, der hinter dem ersten Schaumkörper angeordnet ist, der auf eine Temperatur temperierbar ist, die niedriger ist als die Verdampfungstemperatur, so dass bei den Zellwänden des offenporigen Schaumes der Dampf nahezu vollständig kondensieren kann, so dass durch den Austrittskanal 6 nur das Trägergas hindurchtritt.
Bei dem in den Figuren 1 und 2 dargestellten Ausführungsbeispiel ragt die Mündung 9' der Aerosol-Zuleitung 9 in den Zwischenraum 10 zwischen dem Schaumkörper 1, der eine Vorheizeinrichtung für das durch die Träger- gas-Zuleitung 13 eingespeiste Trägergas ausbildet. Die Vorheizeinrichtung 1, die auf Verdampfungstemperatur aufgeheizt wird, kann aber auch eine Verdampfung des Aerosols bewirken, welches durch Rückdiffusion stromaufwärts in die Vorheizeinrichtung 1 diffundieren kann. Die wesentliche Verdampfung des Aerosols findet aber in dem in Strömungsrichtung zweiten Schaumkörper, nämlich in der Verdampfungseinrichtung 2 statt. In den Zwischenraum 11 zwischen dem Schaumkörper 2 und dem Schaumkörper 3 tritt somit ein reines Trägergas-Dampfgemisch. Die Schaumkörper 3 und 4 bilden eine Modulationseinrichtung aus. Die Modulationseinrichtung 3, 4 kann auf eine Temperatur aufgeheizt werden, die der Verdampfungstemperatur entspricht. In dieser Betriebsart arbeitet die Vorrichtung in einer Dampf-Lieferphase. Der Dampf und das Trägergas durchtre- ten ungehindert die Modulationseinrichtung 3, 4.
Durch die Kühlgas-Zuleitung 14 kann in dieser Betriebsart ein auf Verdampfungstemperatur aufgeheiztes Trägergas eintreten. Bevorzugt tritt durch die Kühlgas-Zuleitung 14 während der Dampf-Lieferphase aber überhaupt kein Gas in den Zwischenraum 12 zwischen den beiden Schaumkörpern 3, 4 der Modulationseinrichtung.
In einer Unterbrechungsphase wird ein Kühlgas durch die Kühlgas-Einspeiseleitung 14 in den Zwischenraum 12 eingeleitet. Die beiden Fest- körperschäume 3, 4 der Modulationseinrichtung werden in dieser Betriebsart nicht aktiv beheizt. Dies hat zur Folge, dass sich die an den Zwischenraum 12 angrenzenden Bereiche der Schaumkörper 3, 4 um etwa 20° abkühlen. Insbesondere der stromabwärts liegende Schaumkörper 4 wird auf eine Kondensationstemperatur abgekühlt, bei der der in der Verdampfungseinrichtung 2 er- zeugte Dampf auf den Zellwänden des Schaumkörpers als dünner Film kondensiert. Durch die Abkühlung der Modulationseinrichtung 3, 4 auf eine Kondensationstemperatur kann somit die Dampfkonzentration im Trägergas im Austrittskanal 6 auf Null gebracht werden, ohne dass der Totaldruck oder Trägergasstrom nennenswert beeinflusst wird. Der Kühlgasstrom, der durch die Kühlgas-Zuleitung 14 in den Gesamtgasstrom eingespeist wird, kann durch eine entsprechende Reduzierung des durch die Trägergas-Zuleitung 13 eingespeisten Trägergases kompensiert werden. Durch eine Reduzierung des Kühlgasstromes beziehungsweise durch eine entsprechende Temperierung der Modulationseinrichtung 3, 4 durch Hindurchleiten eines elektrischen Stromes kann die Temperatur der Modulationseinrichtung über die Kondensationstemperatur gebracht werden, so dass der auf den Zellwänden der Modulationseinrichtung abgeschiedene Film kontrolliert verdampft. Hierdurch kann die Dampflieferrate der Vorrichtung feinfühlig eingestellt werden.
Die Figur 2 zeigt zusätzlich schematisch einen Aerosolerzeuger 19 und einen Massenflusskontroller 20. Mit dem Massenflusskontroller 20 wird ein Trägergasstrom eingestellt, der durch den Aerosolerzeuger 19 strömt. Im Aerosolerzeuger erzeugte Partikel werden somit im Gasstrom durch die Aerosol-Einspeiseleitung 9 in den Zwischenraum 10 transportiert. Mittels einer Heizeinrichtung 21 kann ein über einen Massenflusskontroller 22 eingestellter Trägergasstrom aufgeheizt werden. Die Heizeinrichtung 21 ist aber nicht erforderlich, wenn die Vorheizeinrichtung 1 ausreichend groß dimensioniert ist. Mit der Bezugsziffer 23 ist eine Temperiereinrichtung für das Kühlgas 14 bezeichnet. Die Temperiereinrichtung 23 ist optional. Das Kühlgas 14 wird ebenfalls über einen Massenflusskontroller 30 eingestellt. Das Gehäuse 5 der Gasliefervorrichtung ist in einem Reaktorgehäuse 27 eines CVD-Reaktors angeordnet. Innerhalb des Reaktorgehäuses 27 befindet sich ein duschkopf artiges Gaseinlassorgan 24, das von einem Gasaustrittskanal 6 der Gasliefervorrichtung gespeist wird. Im Gasaustrittskanal 6 befindet sich ein Sensor 29, der in der Lage ist, den Partialdruck beziehungsweise die Konzentration des Dampfes innerhalb des Trägergasstromes zu ermitteln. Das Gasauslassorgan 24 hat an seiner zu einem Substrat 26 weisenden Seite eine Vielzahl von Gasaustrittsöffnungen, durch die das Trägergas-Dampfgemisch in eine Prozesskammer ausströmen kann, deren Boden ein Suszeptor 25 ausbildet, der temperiert ist. Der Suszeptor 25 kann beispielsweise derart temperiert sein, dass auf der Oberfläche des darauf aufliegenden Substrates 26 eine Schicht aus dem verdampften organischen Material abgeschieden wird.
Mittels einer Vakuumpumpe 28 kann der Totaldruck innerhalb der Prozess- kammer und innerhalb der Verdampfungseinrichtung auf etwa 1 mbar eingestellt werden.
Die Temperaturen, auf die die Vorheizeinrichtung 1, die Verdampfungseinrichtung 2 oder die Modulationseinrichtung 3, 4 aufgeheizt wird, hängt von dem zu verdampfenden Stoff ab. Die Temperaturen liegen üblicherweise zwischen 250 und 350°C.
Die Figur 4 zeigt schematisch einen Regelkreis, mit dem mit Hilfe des Sensors 29 und eines Reglers 31 die Dampferzeugungsrate konstant auf einem vorgegebe- nen Wert eingeregelt werden kann. Der Regler 31 steuert hierzu den Massen- fluss des Aerosols über den Massenflussregler 20, den Massenfluss des Trägergases über den Massenflussregler 22, den Massenfluss des Kühlgases über den Massenflussregler 30, die Temperatur des Kühlgases über die Temperiereinrichtung 23 sowie die in die beheizbaren Schaumkörper 1 bis 4 eingespeisten Heizleistungen über die durch die Kontakte 15', 16', 17', 18' in die Schaumkörper 1, 2, 3, 4 eingespeisten elektrischen Ströme. Die vorstehenden Ausführungen dienen der Erläuterung der von der Anmeldung insgesamt erfassten Erfindungen, die den Stand der Technik zumindest durch die folgenden Merkmalskombinationen jeweils eigenständig weiterbilden, nämlich:
Ein Verfahren, das dadurch gekennzeichnet ist, dass der Dampf vom Trägergas durch eine in Strömungsrichtung hinter der Verdampfungseinrichtung 1, 2 angeordneten Modulationseinrichtung 3, 4 transportiert wird, welche Modulationseinrichtung 3, 4 zweite Wärmeübertragungsflächen aufweist, die in einer Dampf lief erphase auf eine erste Modulationstemperatur temperiert werden, bei der der Dampf ohne Kondensation an den zweiten Wärmeübertragungsflächen durch die Modulationseinrichtung 3, 4 hindurchtritt, und die in einer Unterbrechungsphase auf eine zweite Modulationstemperatur temperiert werden, bei der zumindest ein Teil des Dampfes an den zweiten Wärmeübertragungsflächen kondensiert.
Ein Verfahren, das dadurch gekennzeichnet ist, dass die Modulationseinrichtung 3, 4 aktiv insbesondere durch Einleiten eines Kühlgases auf die zweite Modulationstemperatur gekühlt wird, wobei insbesondere vorgesehen ist, dass das Kühlgas in einen Zwischenraum 12 entweder zwischen der Verdampfungseinrichtung 1, 2 oder der Modulationseinrichtung 3, 4 oder zwischen zwei Elementen der Modulationseinrichtung 3, 4 eingebracht wird.
Ein Verfahren, das dadurch gekennzeichnet ist, dass ein bei der zweiten Modu- lationstemperatur auf den Wärmeübertragungsflächen der Modulationseinrichtung 3, 4 abgeschiedene Kondensat des Dampfes bei einer Modulationstemperatur, die der Verdampfungstemperatur entspricht, verdampft wird. Ein Verfahren, das dadurch gekennzeichnet ist, dass die Massenflussrate des Dampfes durch eine von einem Regler 31 geregelte Temperatur der Modulationseinrichtung 3, 4 insbesondere durch Beeinflussung der Heizleistung eine Heizeinrichtung der Modulationseinrichtung 3, 4 und/ oder durch den Massen- fluss eines Kühlgases in die Modulationseinrichtung 3, 4 eingestellt wird.
Eine Vorrichtung, die gekennzeichnet ist durch eine in Strömungsrichtung hinter der Verdampfungseinrichtung 1, 2 angeordnete zweite Wärmeübertragungsflächen aufweisende Modulationseinrichtung 3, 4, wobei die zweiten Wärmeübertragungsflächen zumindest bereichsweise auf eine Modulationstemperatur temperierbar sind, wobei die Modulationstemperatur zumindest den Wert einer Kondensationstemperatur, bei der der Dampf auf der zweiten Wärmeübertragungsfläche kondensiert, und den Wert der Verdampfungstemperatur einnehmen kann.
Eine Vorrichtung oder ein Verfahren, die dadurch gekennzeichnet sind, dass die Wärmeübertragungsflächen von den Oberflächen von Wänden offenporiger Zellen eines Schaumkörpers gebildet sind, wobei insbesondere vorgesehen ist, dass der Schaumkörper aus elektrisch leitendem Material besteht und durch Hindurchleiten eines elektrischen Stromes beheizbar ist, eine Porosität von 500 bis 200, bevorzugt 100 Poren pro Zoll aufweist und/ oder der Anteil aller offenen Flächen an der Oberfläche des Schaumkörpers größer als 90% ist.
Eine Vorrichtung oder ein Verfahren, die gekennzeichnet sind durch eine Ein- speiseleitung 14 zum Einspeisen eines Kühlgases in die Modulationseinrichtung 3, 4 zur Absenkung der Modulationstemperatur. Eine Vorrichtung oder ein Verfahren, die dadurch gekennzeichnet sind, dass die Verdampfungseinrichtung 1, 2 und/ oder die Modulationseinrichtung 3, 4 jeweils zwei in Strömungsrichtung hintereinander angeordnete offenporige Schaumkörper aufweisen, wobei insbesondere vorgesehen ist, dass bei der Verdampfungseinrichtung 1 ein stromaufwärtiger Schaumkörper eine Vorheizeinrichtung für das Trägergas ist und von einem zweiten Schaumkörper der Verdampfungseinrichtung 2 durch einen Zwischenraum 10 beabstandet ist, in welchem Zwischenraum eine Aerosol-Einspeiseleitung 9 mündet zur Einspei- sung eines die Partikel aufweisenden Aerosols und/ oder wobei insbesondere vorgesehen ist, dass die beiden in Strömungsrichtung hintereinander angeordneten Schaumkörper der Modulationseinrichtung 3, 4 durch einen Zwischenraum 12 voneinander getrennt sind, in den eine Kühlgas-Zuleitung 14 mündet zum Einleiten des Kühlgases. Eine Vorrichtung oder ein Verfahren, die dadurch gekennzeichnet sind, dass vier im Wesentlichen gleich gestaltete Schaumkörper 1, 2, 3, 4 in Strömungsrichtung hintereinander in einem Verdampfergehäuse angeordnet sind, dessen stromabwärts der Modulationseinrichtung 3, 4 angeordnete Gehäusewände 7, 8 auf eine Temperatur aufgeheizt sind, die oberhalb der Verdampfungstempera- tur liegt.
Eine Vorrichtung oder ein Verfahren, die gekennzeichnet sind durch einen stromabwärts der Modulationseinrichtung 3, 4 angeordneten Sensor 29 zur Messung des Partialdrucks oder der Konzentration des Dampfes im Trägergas.
Eine Vorrichtung oder ein Verfahren, die dadurch gekennzeichnet sind, dass die Vorrichtung Teil eines ein Gaseinlassorgan 24 und einen Suszeptor 25 aufweisenden CVD- oder PVD-Reaktors ist, wobei der vom Trägergas transportierte Dampf durch das Gaseinlassorgan 24 in Richtung auf ein auf dem Suszeptor 25 aufliegendes Substrat 26 transportiert wird, wo es aufgrund einer chemischen Reaktion oder eines Temperaturgefälles kondensiert, wobei insbesondere eine Vakuumpumpe 28 vorgesehen ist, um das Innere des CVD- oder PVD-Reaktors zu evakuieren.
Alle offenbarten Merkmale sind (für sich, aber auch in Kombination untereinander) erfindungswesentlich. In die Offenbarung der Anmeldung wird hiermit auch der Offenbarungsinhalt der zugehörigen/ beigefügten Prioritätsunterlagen (Abschrift der Voranmeldung) vollinhaltlich mit einbezogen, auch zu dem Zweck, Merkmale dieser Unterlagen in Ansprüche vorliegender Anmeldung mit aufzunehmen. Die Unteransprüche charakterisieren mit ihren Merkmalen eigenständige erfinderische Weiterbildungen des Standes der Technik, insbesondere um auf Basis dieser Ansprüche Teilanmeldungen vorzunehmen.
Bezugszeichenliste:
1 Vorheizeinrichtung 21 Heizeinrichtung
2 Verdampfungseinrichtung 22 Massenflusskontroller, -regier
3 Modulationseinrichtung 23 Temperiereinrichtung
4 Modulationseinrichtung 24 Gaseinlassorgan, Gasauslassorgan
5 Gehäuse 25 Suszeptor
6 Austrittskanal 26 Substrat
7 Konusfläche, Gehäusewand 27 Reaktorgehäuse
8 Zylinderabschnitt, Gehäusewand 28 Vakuumpumpe
9 Aerosol-Einspeiseleitung 29 Sensor
9' Mündung 30 Massenflusskontroller, -regier
10 Zwischenraum 31 Regler
11 Zwischenraum
12 Zwischenraum
13 Träger gas-Zuleitung
14 Kühlgas-Zuleitung
15 elektrische Zuleitung
15' Kontakt
16 elektrische Zuleitung
16' Kontakt
17 elektrische Zuleitung
17' Kontakt
18 elektrische Zuleitung
18' Kontakt
19 Aerosol-Erzeuger
20 Massenflusskontroller, -regier

Claims

ANSPRÜCHE
1. Verfahren zum Erzeugen eines Dampfes in einer CVD- oder
PVD-Einrichtung, bei dem auf feste oder flüssige Partikel durch Inkon- taktbringen an eine erste, auf eine Verdampfungstemperatur gebrachte Wärmeübertragungsfläche einer ein- oder mehrstufigen Verdampfungseinrichtung (1, 2) Verdampfungswärme übertragen wird und der durch Verdampfen der Partikel erzeugte Dampf von einem Trägergas in einer Strömungsrichtung des Trägergases aus der Verdampfungseinrichtung (1, 2) transportiert wird, dadurch gekennzeichnet, dass der Dampf vom Trä- gergas durch eine in Strömungsrichtung hinter der Verdampfungseinrichtung (1, 2) angeordneten ein- oder mehrstufigen Modulationseinrichtung (3, 4) transportiert wird, welche Modulationseinrichtung (3, 4) zweite Wärmeübertragungsflächen aufweist, die zumindest in einer Dampflieferphase auf eine erste Modulationstemperatur temperiert werden, bei der der Dampf ohne eine materialanreichernde Kondensation an den zweiten
Wärmeübertragungsflächen durch die Modulationseinrichtung (3, 4) hindurchtritt, und die zumindest in einer Unterbrechungsphase auf eine zweite Modulationstemperatur temperiert werden, bei der zumindest ein Teil des Dampfes an den zweiten Wärmeübertragungsflächen materialan- reichernd kondensiert.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Modulationseinrichtung (3, 4) aktiv insbesondere durch Einleiten eines Kühlgases auf die zweite Modulationstemperatur gekühlt wird, wobei insbesondere vorgesehen ist, dass das Kühlgas in einen Zwischenraum (12) entweder zwischen der Verdampfungseinrichtung (1, 2) oder der Modulationseinrichtung (3, 4) oder zwischen zwei Elementen der Modulationseinrichtung (3, 4) eingebracht wird. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass ein bei der zweiten Modulationstemperatur auf den Wärmeübertragungsflächen der Modulationseinrichtung (3, 4) abgeschiedene Kondensat des Dampfes bei einer Modulationstemperatur, die der Verdampfungstemperatur entspricht, die Materialanreicherung vermindernd verdampft wird.
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Massenflussrate des Dampfes durch eine von einem Regler (31) geregelte Temperatur der Modulationseinrichtung (3, 4) insbesondere durch Beeinflussung der Heizleistung einer Heizeinrichtung der Modulationseinrichtung (3, 4) und/ oder durch den Massenf luss eines Kühlgases in die Modulationseinrichtung (3, 4) eingestellt wird.
Vorrichtung zum Erzeugen eines Dampfes für eine CVD- oder
PVD-Einrichtung, insbesondere zur Durchführung des in den Ansprüchen 1 bis 4 angegebenen Verfahrens, mit einer ein- oder mehrstufigen Verdampfungseinrichtung (1, 2), die eine auf eine Verdampfungstemperatur aufheizbare erste Wärmeübertragungsfläche aufweist zur Übertragung von Verdampfungswärme auf in die Verdampfungseinrichtung (1, 2) gebrachte feste oder flüssige Partikel, wobei der durch Verdampfen der Partikel erzeugte Dampf von einem Trägergas in einer Strömungsrichtung des Trägergases aus der Verdampfungseinrichtung (1, 2) transportiert wird, gekennzeichnet durch eine in Strömungsrichtung hinter der Verdampfungseinrichtung (1, 2) angeordnete zweite Wärmeübertragungsflächen aufweisende ein- oder mehrstufige Modulationseinrichtung (3, 4), wobei die zweiten Wärmeübertragungsflächen zumindest bereichsweise auf eine Modulationstemperatur temperierbar sind, wobei die Modulationstemperatur zumindest den Wert einer Kondens ationstemperatur, bei der der Dampf auf der zweiten Wärmeübertragungsfläche eine Speichermasse aufbauend kondensiert, und den Wert der Verdampfungstemperatur einnehmen kann, bei der sich keine Speichermasse an den zweiten Wärmeübertragungsflächen aufbaut.
Vorrichtung nach Anspruch 5 oder Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Wärmeübertragungsflächen von den Oberflächen von Wänden offenporiger Zellen eines Schaumkörpers gebildet sind, wobei insbesondere vorgesehen ist, dass der Schaumkörper aus elektrisch leitendem Material besteht und durch Hindurchleiten eines elektrischen Stromes beheizbar ist, eine Porosität von 500 bis 200, bevorzugt 100 Poren pro Zoll aufweist und/ oder der Anteil aller offenen Flächen an der Oberfläche des Schaumkörpers größer als 90% ist.
Vorrichtung oder Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch eine Einspeiseleitung (14) zum Einspeisen eines Kühlgases in die Modulationseinrichtung (3, 4) zur Absenkung der Modulationstemperatur.
Vorrichtung oder Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Verdampfungseinrichtung (1, 2) und/ oder die Modulationseinrichtung (3, 4) jeweils zwei in Strömungsrichtung hintereinander angeordnete offenporige Schaumkörper aufweisen, wobei insbesondere vorgesehen ist, dass bei der Verdampfungseinrichtung (1) ein stromaufwärtiger Schaumkörper eine Vorheizeinrichtung für das Trägergas ist und von einem zweiten Schaumkörper der Ver- dampf ungseinrichtung (2) durch einen Zwischenraum (10) beabstandet ist, in welchem Zwischenraum eine Aerosol-Einspeiseleitung (9) mündet zur Einspeisung eines die Partikel aufweisenden Aerosols und/ oder wobei insbesondere vorgesehen ist, dass die beiden in Strömungsrichtung hintereinander angeordneten Schaumkörper der Modulationseinrichtung (3, 4) durch einen Zwischenraum (12) voneinander getrennt sind, in den eine Kühlgas-Zuleitung (14) mündet zum Einleiten des Kühlgases.
Vorrichtung oder Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass vier im Wesentlichen gleich gestaltete Schaumkörper (1, 2, 3, 4) in Strömungsrichtung hintereinander in einem Verdampfergehäuse angeordnet sind, dessen stromabwärts der Modulationseinrichtung (3, 4) angeordnete Gehäusewände (7, 8) auf eine Temperatur aufgeheizt sind, die oberhalb der Verdampfungstemperatur liegt.
Vorrichtung oder Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch einen stromabwärts der Modulationseinrichtung (3, 4) angeordneten Sensor (29) zur Messung des Partialdrucks oder der Konzentration des Dampfes im Träger gas.
Vorrichtung oder Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Vorrichtung Teil eines ein Gaseinlassorgan (24) und einen Suszeptor (25) aufweisenden CVD- oder
PVD-Reaktors ist, wobei der vom Trägergas transportierte Dampf durch das Gaseinlassorgan (24) in Richtung auf ein auf dem Suszeptor (25) aufliegendes Substrat (26) transportiert wird, wo es aufgrund einer chemischen Reaktion oder eines Temperaturgefälles kondensiert, wobei insbesondere eine Vakuumpumpe (28) vorgesehen ist, um das Innere des CVD- oder PVD-Reaktors zu evakuieren.
Vorrichtung oder Verfahren, gekennzeichnet durch eines oder mehrere der kennzeichnenden Merkmale eines der vorhergehenden Ansprüche.
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