WO2015173397A1 - Ermittlung einer korrigierten grösse - Google Patents

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WO2015173397A1
WO2015173397A1 PCT/EP2015/060770 EP2015060770W WO2015173397A1 WO 2015173397 A1 WO2015173397 A1 WO 2015173397A1 EP 2015060770 W EP2015060770 W EP 2015060770W WO 2015173397 A1 WO2015173397 A1 WO 2015173397A1
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Christoph Petri
Christian Wald
Daniel Runde
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Carl Zeiss Smt Gmbh
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Definitions

  • the invention relates to a method and a device for determining a corrected variable which is dependent on at least one parameter in a parameter range of the at least one parameter.
  • the invention further relates to a method for adjusting an imaging optical system of an optical system, and to a method for determining a plurality of corrected wavefront errors in an image field.
  • measured values in a parameter range of interest of the at least one parameter can be provided by means of a measurement.
  • performing the measurement in the entire parameter range can be associated with a high outlay and at a high cost for a measuring device used for the measurement. This can be circumvented by obtaining measured values of the size only in subregions of the parameter range. These can be disjunctive, ie separate and non-overlapping subregions.
  • Such a procedure is for example in a opti ⁇ rule inspection system into account, which is used for examination of an object, for example, a lithography mask or a reticle.
  • the inspection system can have means for illuminating the object arranged in an object plane with radiation and imaging optics. With the help of imaging optics, an object field in a picture field of a Image plane. For radiation measurement, a sensor arranged in the image plane can be used.
  • the wavefront error represents the above-mentioned size and the image field represents the parameter range, in the present case with two parameters in the form of location coordinates.
  • the measurement can be divided into discrete subregions or image regions . Obtain subfields of the image field. This can be achieved, for example, by arranging a sensor used for the measurement successively at different measuring positions. In this case, a plurality of partial measurements are successively performed with the aid of the sensor, and the sensor is moved between them to the individual measuring positions. Also possible is a radiation measurement with the aid of a sensor, which has partial sensors with non-overlapping detection areas.
  • the provision of measured values of a variable in a plurality or disjoint subregions of a parameter region can result in the measurement values of the variable in the individual subregions having measurement errors which only occur individually in the corresponding subregions. From subarea to subarea, there may be a varying measurement error. Such a falsification of the measured values of the size impairs their informative value.
  • determining a wavefront error may be used to determine adjustment processes for adjusting the imaging optics to reduce their aberrations.
  • the use of a sensor at different measuring positions may be accompanied by incorrect positioning of the sensor. This can lead to measured values of the wavefront error in individual subdivisions. Regions of the image field in each case with a constant measurement error (offset or offset) are afflicted.
  • the offset errors can be significantly greater than other measurement errors and in particular as the field variation of the resulting from the imaging optics wavefront error. This complicates the Bestim ⁇ tion of suitable Justage methodologiesen.
  • Such a disadvantage can occur in a corresponding manner when using a sensor with a plurality of non-overlapping part sensors. In this case, offset errors occurring in partial areas of the image field can be a consequence of positional errors of the partial sensors.
  • An object of the present invention is to provide a method and a device by means of which a reliable correction of measured values of a quantity throughput is feasible, wherein the measurement values are obtained in portions of a Para ⁇ meter range. Another object is to provide an inexpensive and reliable method for adjusting an imaging optics of an optical system. Another object is to provide a reliable method for determining multiple corrected wavefront errors in an image field.
  • a method for determining a corrected variable which is dependent on at least one parameter in a parameter range of the at least one parameter.
  • the method includes
  • the method further comprises performing a correction of measured values of the size using an approximation in which measured values of the variable with a smooth function and with the partial regions assigned to the partial regions of the parameter region. approximate functions.
  • a smooth function a progression of the size can be displayed over the parameter range.
  • a subrange functions an individual change of the size in the subregions of the parameter range can be brought about.
  • measured values of the size which relate to associated values of the at least one parameter, are provided in a plurality of disjoint partial areas of the parameter area. This makes it possible to perform the underlying measurement with a low measurement cost and low cost. However, this procedure can be associated with a faulty measurement, so that the measured values of the variable in individual partial areas of the parameter area can each have their own measuring errors that are independent of other partial areas.
  • the actual, ie OH ne measurement error based on the Parameterbe prone size ⁇ can rich have corresponding regularities and predictable properties, and accordingly be described by a smooth function over the parameter range leaves.
  • regularities are not or substantially not available.
  • the method takes this circumstance into account by approximating the measured values of the size both with a smooth function that maps the course of the variable over the parameter range and with the subrange functions assigned to the subregions.
  • a smooth function that maps the course of the variable over the parameter range and with the subrange functions assigned to the subregions.
  • an individual change of the size in the associated subareas that is to say independently of other subareas, can be brought about via the subarea functions.
  • an accurate approximation to the measured values of the size can be achieved with a small or minimal deviation.
  • the bewirkbare using the sub-region features individu ⁇ elle change in size in individual areas of the parameter area is not only used for the approximation, but also serves as a basis for correction.
  • individual measurement errors in individual subregions can be suppressed, ie eliminated, or at least partially or to a considerable extent reduced. It is therefore possible to provide a corrected and reconstructed size in the para- meter area, which the actual size, optionally up to a difference in the form of a kon ⁇ constants global offset value may come close.
  • the method can be carried out with a suitable evaluation device.
  • the size may depend on one parameter, but also on several, for example two parameters.
  • the parameter range includes the multiple parameters, and the measured values of the quantity refer to associated parameter values of the several parameters.
  • the at least one parameter is a location coordinate.
  • the parameter area can be used for
  • Example include two parameters in the form of location coordinates.
  • the two location coordinates may, for example, be coordinates of a two-dimensional orthogonal coordinate system.
  • the parameter range can represent, for example, an image field.
  • the measured values of the size can relate to field or picture elements of the image field with associated pixel coordinates.
  • Other parameters may also be used for the method.
  • the at least one parameter may be a time.
  • Another example is a parameter area comprising a time and one or more location coordinates.
  • the size can in each case be changed by the same value in the associated subareas with the aid of the subregion functions.
  • This embodiment can be used when constant or substantially constant measurement errors (displacements or offsets) are present in some areas of the parameter area, are subject to which all the measured values of the size in the relevant part preparation ⁇ chen.
  • the smooth function used in the method may include several basic functions.
  • the smooth function may be, for example, a polynomial function. It is possible to use basic polynomial functions.
  • the correction includes forming corrected values of the magnitude.
  • faulty measured values of the size can be replaced by the corresponding corrected values of the size.
  • the corrected values of the size which can be as reconstructed values be ⁇ records, can actual, ie without measurement error-prone values of size come close and this essentially correspond.
  • the approximation comprises a determination of coefficients of the subregion functions.
  • measurements of the magnitude are corrected using the coefficients of the subrange functions.
  • corrected values of the size can be formed with which as described above faulty measured values of the size can be replaced.
  • the coefficients of the subrange functions can be used to reproduce entries or weightings thereof, and thus a magnitude of measurement errors in the individual subareas. The use of the coefficients of the subrange functions therefore makes it possible to reliably correct or suppress measurement errors. In this case mean values of the size can be reliably reconstructed in the subregions of the parameter range.
  • the approximation comprises a formation of a function matrix of subrange functions and basic functions of the smooth function, a formation the pseudo inverse of the function matrix, and multiplying the pseudo inverse of the function matrix by a vector of measured values of magnitude to form a coefficient vector.
  • the coefficient vector comprises coefficients of the subrange functions and coefficients of the smooth function basis functions.
  • the correction comprises multiplying a matrix of subrange functions by a vector of coefficients (determined by the approximation) of the subrange functions to form a product, and subtracting the product to its mean value from the vector of magnitude measures. By doing so, corrected values of the size may be formed which may substantially correspond to the actual size.
  • the product may be the entries or weights of all approximated subrange functions.
  • the associated mean can also be called
  • Gleichanteil be designated.
  • the phrase "up to its average” can be met by the average value of the product is subtracted from the product, and the ⁇ ser term is subtracted from the vector of measured values of the size.
  • mean-free subrange functions are used. These are subrange functions which have the mean value zero with respect to the parameter range. Such subrange functions can be formed by subtracting from each of the subvalued subrange functions the respective mean value.
  • telwertectomy with ⁇ portion functions the subtraction of the average value of the product described above is included (mean of total entries of the partial region functions) implicitly in the approximation and correction.
  • the average value of the product has the value zero when using mean-free subrange functions, so that a sub ⁇ tratechnisch of the same can be omitted.
  • correction step therefore, if the other steps use mean-free partial area functions, only the product can be subtracted from the vector of measured values of the size.
  • a polynomial function which can comprise simple polynomial basis functions can be used as a smooth function.
  • a smooth function which comprises orthogonalized or orthonormal basis functions. It is also possible to use a polynomial function with normalized polynomial basis functions.
  • the approximation and correction are performed in a common manner by forming a function matrix of subrange functions and basis functions of the smooth function, forming the pseudoinverse of the function matrix, forming a sub-matrix from the pseudo-inverse of the function matrix, via the sub-matrix Coefficients of the subarea functions are generated, a matrix of subarea functions is multiplied by the subarray to form a product, the product is subtracted from an identity matrix to form a correction matrix, and the correction matrix is multiplied by a vector of measured values of magnitude.
  • This embodiment with the aid of which corrected values of the size can be formed in a simple manner, likewise satisfies the requirement of approximating the measured values of the variable with a minimum deviation.
  • the approximation and correction are based on a simple multiplication of measured values of the size with the correction matrix.
  • the method can be performed such that corrected values constituted the size of the ⁇ .
  • the correction comprises formation of an approximated course of the variable.
  • the approximated Ver ⁇ run the size of the actual, ie affected without measurement error size come close and this substantially. It is possible to replace the measured values of the size by the approximated course of the size. In this way For example, a plot of the size over the entire parameter range of interest may be reconstructed.
  • the formation of the approximated shape of the size allows elimination of dot noise.
  • the correction struts comprises a forming we ⁇ a complement value of the quantity, wherein the complement value of the variable to a value of at least one parameter is one for which a measured value of the size before ⁇ located.
  • the providing of the at least one incremental value of the magnitude may be done based on an approximated history of the magnitude.
  • an approximate curve of the magnitude can be carried out with the aid of the embodiment described below, in which the approximation and correction are likewise carried out in a common manner.
  • it is provided to form a function matrix of subrange functions and basic functions of the smooth function, to form the pseudoinverse of the function matrix, to form a sub-matrix from the pseudo-inverse of the function matrix, whereby coefficients of the basic functions of the smooth function can be generated via the sub-matrix, a matrix from basic functions of the smooth function to multiply with the sub-matrix to form a history generation matrix, and to multiply the history generation matrix with a vector of measurements of magnitude.
  • This embodiment with the help of an approximated course of the size can be easily formed of the claim shall also meet, to achieve a Ann ⁇ ⁇ approximation of the measured values of size with a minimum deviate ⁇ chung.
  • the approximation and correction are based on a simple multiplication of measured values of the size with the progression generation matrix. It is possible to use the progression generation matrix that has once been formed in each case in order to obtain approximated progressions of the magnitude from measured values of the Size to be formed, which are obtained by means of various measurements.
  • the processing performed in the method, measurement on a plurality of separate, non-overlapping partial areas, and in addition at least ei ⁇ NEN further partial region of the parameter area refers which overlaps with at least one of the separate, non-overlapping portions.
  • different configurations may be considered.
  • At least a portion of the disjoint portions considered in the method is a merged portion for which common measures of size are provided.
  • Such foiled ⁇ nigter portion can be composed of overlapping portions.
  • Common measurements of interest ⁇ the size may be provided on the basis of appropriate pre-processing or correction of first in the individual over- lapping portions obtained measurement values.
  • a stitching method can be performed.
  • the merged section ⁇ area and the associated common measuring values in the evaluation performed with the aid of the smooth function and the portion functions correction or approximation may be used.
  • the associated partial area can be assigned a corresponding partial area function, and the correction sequence as described above or according to one of the embodiments described above (for example formation of corrected values of the size, determination and use of coefficients of the partial area functions for correction, use of the pseudo inverses of the function matrix , the correction matrix, the history generation matrix, etc.).
  • Assigned to the combined portion partial area function is selected such that hereby an indi vidual ⁇ changing the size or the size summonrufbar JE because it can be changed by the same value in the subarea.
  • the further section Subregion function carried out with the help of a indi ⁇ viduelle change in size in the other sub-range of the parameter range can be caused.
  • Rich functional further Sectionbe- may be selected such that hereby which is variable in size ⁇ teressierende each by the same value in the ⁇ be encountered portion.
  • a number of further subarea functions can be used in a corresponding manner.
  • the correction process may be as described above or according to one of the embodiments described above (for example formation of corrected values of the size, determination and use of coefficients of the subrange functions for correction, use of the pseudo inverses of the function matrix, the correction matrix, the history generation matrix, etc.). be performed.
  • a double, or in the case of more than two overlapping subareas a multiple approximation takes place.
  • an optical size is considered.
  • the parameter area may include two location coordinates, and represent a picture field.
  • the optical size may be, for example, a
  • Distortion act act with which an occurring in an image ⁇ field distortion, for example, a pillow-shaped or barrel distortion can be reproduced.
  • erroneous measured values of the distortion variable which are obtained in several or discrete partial areas of the image field, can be corrected as indicated above. This may for example be considered to reconstruct the distortion across the entire image ⁇ field by, for example, an approximated course of Veronias devis over the image field and / or He ⁇ t tshong size for the purpose of interpolation and / or extrapolation are formed.
  • the wavefront error may be in the form of a coefficient to a Zernike polynomial of a wavefront evolution.
  • This may be, for example, a Zernike coefficient Z2 or Z3 representing a distortion or possibly local image offset, or Zernike coefficient Z4 representing a focus offset to Zernike polynomial Z4.
  • the Zernike polynomials Z2, Z3, Z4 considered here are Zernike polynomials according to Noll's indexing.
  • the method may be applied to erroneous measured values of the wavefront error, which are provided in the disjoint partial preparation ⁇ surfaces of an image field, to correct as above angege ⁇ ben.
  • the measurement is a radiation measurement carried out with the aid of a spatially resolving sensor.
  • the spatially resolving sensor can be, for example, an electronic sensor having a plurality of radiation-sensitive sensor elements or pixels.
  • the sensor may, for example, be realized in the form of a CCD sensor (charge-coupled device) with radiation-sensitive photodiodes. Measuring signals of the sensor can, after a corresponding further processing or evaluation, be translated into location-dependent measured values of the optical variable which relate to picture elements of a picture field.
  • the provision of measured values of the optical size at picture elements in a plurality or disjoint subregions of an image field using a spatially resolving sensor can be realized in different ways. For example, it can be considered to arrange the sensor for the measurement at different measuring positions.
  • it can be considered to arrange the sensor for the measurement at different measuring positions.
  • a spatially resolving sensor for the measurement, which has several partial sensors with non-adjacent and non-overlapping detection areas.
  • measured values of the optical quantity at pixels in disjoint subregions of an image field can be provided.
  • measuring errors can, by which measurement values of the optical size in single ⁇ NEN portions of the image field distorted differently be caused by misalignment of part sensors of the sensor.
  • a sensor having a photosensitive layer such as a photographic plate or a film. After the radiation measurement or exposure of the light-sensitive layer, a development of the same can take place, and as part of an analysis of the layer, location-dependent measured values of the optical variable at image points of an image field can be provided.
  • Providing measured values of the optical quantity in disjoint partial regions of the image field can be effected, for example, by the analysis only relating to partial regions of the layer, the layer being irradiated only in partial regions, or a subdivided layer being used.
  • the method can also be used with respect to other variables measured in several or disjoint subareas of a parameter range.
  • a possible example is a height or vertical From ⁇ elongation of a test specimen. This may come in also Be ⁇ tracht to provide by means of a measurement corresponding location-dependent measurements in disjoint portions of a saudi ⁇ dimensional image field, and to correct measurement errors caused by performing the method described above.
  • the measurement of the height can be carried out, for example, with the aid of a raster force microscope or with the aid of a surface interferometer.
  • a method for adjusting an imaging optics of an optical system is proposed.
  • the method described above or according to one of the above-described embodiments is used.
  • men designed methods for determining a corrected optical size performed.
  • the determination of the corrected optical quantity on the basis of which the adjustment is performed may include, for example, a formation of corrected values of the optical quantity. Additionally or alternatively, the formation of an approximate course of the optical variable and / or the formation of at least one additional value of the optical variable may be provided.
  • the spatially resolving sensor may or may not be part of the optical system.
  • the sensor can be used, for example, within the framework of a construction of the optical system.
  • an object ⁇ example, a reticle may be used, which has the Teststruk- structure (s) and which is irradiated with the radiation used.
  • the imaging optics the radiation coming from the object, ie a transmitted or reflected radiation component, can be guided to the spatially resolving sensor.
  • a device for determining a corrected variable which is dependent on at least one parameter in a parameter range of the at least one parameter has a measuring device with the help of which measured values of the size can be provided in a plurality of separate and non-overlapping partial regions of the parameter range.
  • the pre ⁇ device further comprises an evaluation device for the correction of measured values of the size.
  • the evaluation device is designed to perform the correction using an approximation, in which measured values of the variable are approximated with a smooth function and with the sub-area-assigned subrange functions. With the aid of the smooth function, a progression of the size can be displayed over the parameter range. With the aid of the subrange functions, an individual change of the size in the subregions of the parameter range can be brought about.
  • measured values of the size can be provided in a plurality of disjoint partial areas of the parameter area. Therefore, the measuring device can have a low-cost construction. A possible effect associated therewith, that the measured values of the size each have separate and independent from other part preparation ⁇ chen measurement errors in individual areas of the parameter area, can be suppressed by the correction by means of the evaluation device.
  • a plurality corrected large ⁇ SEN in the same range of parameters.
  • measured values of the plurality of sizes can be provided in several or disjunctive subareas of the parameter area, and a separate error correction (each with its own approximation), as described above, can be carried out for each of the variables.
  • a separate error correction each with its own approximation
  • an approximated course and / or at least one supplementary value can be provided. This may, for example, be considered for optical variables such as the wavefront errors or coefficients to Zernike polynomials of a wavefront development described above.
  • an additional correction of the second size or of measured values of the second size is performed.
  • the additional correction of the second variable may be based on coefficients of subrange functions that are determined in the error correction of the first quantity.
  • the additional correction of the second quantity may be provided before or after a second size error correction performed according to the above approaches using an approximation.
  • subrange functions where all subrange functions or a part or a subgroup of the subrange functions together describe a smooth progression over the parameter range.
  • modified subrange functions whose sum is equal to zero for all subrange functions or for the subset of subrange functions. That's for
  • Example is possible by the scaled sum of all these subrange functions of each of these subrange functions is subtracted, where the scaling factor is the reciprocal of the number of these subrange functions.
  • the associated coefficients of the subrange functions may be modified accordingly prior to the formation of the product described above (product of the matrix of subrange functions with the vector of the coefficients of the subrange functions) for subtraction from the vector of measured values of the considered variable.
  • a method for determining a plurality of corrected wavefront aberrations dependent on two location coordinates in one image field.
  • the method comprises performing a radiation measurement with the aid of a spatially resolving sensor, wherein measured values of the plurality of wavefront errors are provided in a plurality of separate and non-overlapping partial regions of the image field.
  • the method further comprises performing a joint correction of measured values of the plurality of wavefront errors using an approximation in which measured values of the wavefront errors are approximated with a plurality of smooth functions associated with the wavefront errors and with subregion functions assigned to the partial areas of the image field.
  • Used to be ⁇ sought wavefront errors associated smooth features, about which courses of the wavefront error can be reproduced over the image field, and assigned to the portions of the image field portion functions.
  • the subrange functions are chosen such that actual effects of erroneous positioning of the sensor on the measured wavefront errors are simulated or modeled. In this way, an accurate and reliable correction of the wavefront error is possible and can be provided, which agree well with the ⁇ did neuter wavefront errors thus corrected wavefront error.
  • the effects of erroneous positioning of the spatially resolving sensor on the measured wavefront errors can be determined, for example, by means of a measurement or a simulation, for example by beam propagation.
  • the subrange functions used in the method can be specified.
  • faulty positioning with respect to translational degrees of freedom and rotational degrees of freedom can be described.
  • dx, dy, dz-translations and DRX dry-, drz rotations are modeled.
  • the wavefront aberration may be caused by a Abbil ⁇ dung optics of an optical system.
  • the spatially resolving sensor can be irradiated with the radiation coming from the imaging optics.
  • it is further executed to the possibility ⁇ instructed in carrying out the method for determining the plurality of corrected wavefront error, and thereafter to adjust the imaging optics based.
  • the wavefront errors corrected by means of the method can be present, for example, in the form of coefficients for Zernike polynomials of a wavefront development.
  • the Zernike coefficients can be corrected to the Zernike polynomials Z2, Z3 and Z4 in a common manner.
  • the spatially resolving sensor is arranged at different measuring positions. Measuring errors can be caused by incorrect positioning of the sensor.
  • the spatially resolving sensor has several partial sensors. In this case, erroneous positioning and thus measurement errors can be a consequence of positional errors of partial sensors of the sensor.
  • the smooth functions used may each comprise several basic functions.
  • the smooth functions may be, for example, polynomial functions.
  • the correction includes forming corrected values of the plurality of wavefront errors. Faulty measured values of the wavefront errors can hereby be replaced by the corresponding corrected values, which can also be referred to as reconstructed values.
  • the approximation comprises a determination of coefficients of the subregion functions. Furthermore, measurements of the multiple wavefront errors are corrected using the coefficients of the subrange functions. In this way, corrected values for ⁇ He set can be formed of faulty measurements of the wavefront error.
  • the approximation includes forming a function matrix of subrange functions and basic functions of the smooth functions, forming the pseudo inverse of the function matrix, and multiplying the pseudo inverse of the function matrix by a vector of measurements of the plurality of wavefront errors to form a coefficient vector.
  • the coefficient vector comprises Ko ⁇ efficient the portion functions and coefficients of the basis functions of the smooth functions.
  • the correction comprises a multiplication of a matrix of partial area functions with a vector from (determined by means of the approximation) coefficients of the partial region functions to form a product, and a subtraction of the product up to its With ⁇ mean value of the vector of measured values of the several wavefront errors. In this way, corrected values of the Wavefront errors are formed, which may correspond to the actual wavefront errors substantially.
  • the product may be the entries or weights of all approximated subrange functions.
  • the phrase "to the mean” may be met by subtracting the mean of the product from the product and subtracting that term from the vector of measurements of the multiple wavefront errors partial region to partial region of the image field present and based on measurement errors differences in the measured values of wave front errors are corrected. A uniform or glo ⁇ bale correction over all the portions of the image field is therefore avoided.
  • mean-free subrange functions are used. These are subrange functions which have the mean value zero with respect to the image field. Such subrange functions may be formed by subtracting from each of the subset of the averaged subrange functions the respective mean.
  • mean-free subrange functions allows a unique approximation and makes it possible for the subtraction of the mean value of the product described above to be included implicitly in the approximation and correction.
  • the product in this case has to with ⁇ average value zero, thus the subtraction can be omitted. Therefore, with respect to the above-described correction step, if mean-free subrange functions are used, only the product may be subtracted from the vector of measurements of the multiple wavefront errors.
  • this can be achieved by correspondingly modifying the associated coefficients before forming the product described above (product of the matrix of subrange functions with the vector of the coefficients of the subrange functions) for subtraction from the vector of measured values of the multiple wavefront errors become.
  • the approximation and correction are performed together by forming a function matrix of subrange functions and basic functions of the smooth functions, forming the pseudoinverse of the function matrix, forming a sub-matrix from the pseudoinverse of the function matrix, via the sub-matrix Coefficients of the subarea functions are generated, a matrix of subarea functions is multiplied by the subarray to form a product, the product is subtracted from an identity matrix to form a correction matrix, and the correction matrix is multiplied by a vector of measurements of the plurality of wavefront errors.
  • This embodiment in which corrected values of the multiple wavefront errors can be easily formed, also satisfies the requirement of approximating the measured values of the wavefront errors to achieve the smooth functions and subrange functions with a minimum deviation.
  • a further embodiment can be carried out in which the correction comprises formation of approximated profiles of the plurality of wavefront errors. This allows elimination of dot noise. It may be considered to replace the measured values of the multiple wavefront errors by the approximated ones.
  • interpolation and / or extrapolation can be performed by forming at least one supplementary value of at least one of the wavefront errors, wherein the supplemental value belongs to spatial coordinates for which there is no measured value of the wavefront error.
  • This embodiment can be carried out on the basis of an approximated curve of the Subject Author ⁇ fenden wavefront error.
  • the formation of approximated progressions of the multiple wavefront errors can be realized by the following embodiment. In this case, a function matrix of subrange functions and basic functions of the smooth functions is formed; if the pseudo inverse of the function matrix is formed, a subarray of the pseudoinverse of the
  • Function matrix is formed, wherein coefficients of the basic functions of the smooth functions can be generated via the sub-matrix, a matrix of basic functions of the smooth functions is multiplied by the sub-matrix to form a history generator matrix, and the history generator ⁇ matrix with a vector of measured values of the multiple wave front error multiplied.
  • the radiation measurement relates to a plurality of separate, non-overlapping partial regions and additionally at least one further partial region of the image field which overlaps with at least one of the separate, non-overlapping partial regions.
  • at least one subarea of the disjoint subregions considered in the method is a unified subarea for which common measured values of the plurality of wavefront errors are provided, and for which an assigned subrange function is used to reproduce the influence of erroneous sensor positions becomes.
  • a more unified subarea can be composed of overlapping subareas.
  • Common measurements of meh ⁇ reren wavefront error of the united portion may be provided based on an appropriate pre-processing (such as stitching) of first in each overlapping sub-areas measured values obtained. Subsequently, the combined subarea and the associated measured values can be used for the common correction or approximation carried out with the help of the smooth functions and the subarea functions. It can also be formed and considered several unified subsections.
  • measured values of the plurality of wave front errors are provided in at least one further partial region of the parameter area, wherein the white ⁇ tere portion with at least one of the separate and non-overlapping portions overlapped and Approxima ⁇ tion is performed with another, the further partial region zugeordne- th subregion function , with the help of which incorrect positioning of the spatially resolving sensor can be reproduced.
  • the white ⁇ tere portion with at least one of the separate and non-overlapping portions overlapped and Approxima ⁇ tion is performed with another, the further partial region zugeordne- th subregion function , with the help of which incorrect positioning of the spatially resolving sensor can be reproduced.
  • a corresponding device can be used for determining a plurality of corrected wavefront errors that depend on two location coordinates in one image field.
  • the device has a spatially resolving sensor for carrying out a radiation measurement, with the aid of which measured values of the plurality of wavefront errors can be provided in a plurality of separate and non-overlapping partial regions of the image field.
  • the device further has an evaluation device for the common correction of measured values of the plurality of wavefront errors.
  • the evaluation device is configured to perform the correction using an approximative tion, in which measured values of the wavefront aberration with a plurality of the wavefront errors associated with smooth functions with the partial areas of the image field supplied arrange ⁇ th subregion functions are approximated.
  • Figure 1 shows an optical system comprising an imaging optics, by means of which the radiation reflected at an object to egg ⁇ nem sensor can be performed;
  • FIG. 2 shows a representation of measuring positions of a sensor including lateral mispositioning and its effect on a measurement of a wavefront error
  • FIG. 3 shows a representation of an image field with a distortion grid and with partial regions which illustrate desired measurement positions and deviating actual measurement positions of a sensor
  • 4 shows another representation of the image field of Figure 3, wherein belonging to the actual measurement positions partial areas of the image field are integrally ⁇ assigns to the target measurement positions
  • FIG. 5 shows a further illustration of measurement positions of a sensor including vertical mispositioning and its effect on a measurement of a wavefront error
  • FIG. 6 shows a further optical system comprising imaging optics with the aid of which radiation transmitted through an object can be guided to a sensor;
  • FIG. 7 shows a representation of values of a wavefront error at picture elements in subareas of a picture field, comprising actual, measured and reconstructed values of the wavefront error
  • FIG. 8 to 10 representations of an image field with different arrangements of subregions.
  • the following is a concept for determining a corrected and dependent on at least one parameter size in a parameter range of the at least one parameter be ⁇ written .
  • measured values of the size are provided on the basis of a measurement in a plurality or disjoint, ie separate and non-overlapping, subregions of the parameter range. This can cause the measured values of size are afflicted in individual areas of the parameter area with measurement errors that occur individu ⁇ ell in the partial regions. From subarea to subarea, there may be a variation of the measurement errors. Such a falsification of the measured values of the size diminishes their informative value.
  • error contributions can be adjusted using the method described here or at least partially or substantially reduced.
  • the size to be corrected is a location-dependent optical quantity, namely an imaging or wavefront error caused by the imaging optics 130.
  • Zernike coefficients are considered among the Zernike polynomials Z2 and Z3, through which an image defect in the form of a lateral directories voltage or an image offset is reproduced, and to ei ⁇ NEN a focus offset reproducing Zernike coefficients for the Zernike polynomial Z4.
  • These are the Zernike polynomials according to Noll's indexing.
  • the coefficients to the corresponding Zernike polynomials are also designated below by Z2, Z3, Z4.
  • the associated parameter range of the wavefront aberrations comprises two lateral orthogonal spatial coordinates, denoted by x and y below, and represents a two-dimensional image field 150.
  • image field 150 For the purpose of simplification of the following description, such and relating to the image field 150 are Location coordinates x, y, possibly supplemented by a further vertical orthogonal location coordinate z, indicated in the figures by axes of an orthogonal xy or xyz coordinate system.
  • the object 121 can be a lithography mask or a reticle, which can be examined with the inspection system 100 with regard to defects.
  • the object 121 is located in an object plane 120.
  • the system 100 includes means for irradiating the object 121 with radiation 115. Such means are summarized in FIG. 1 in the form of an illumination system 110.
  • a further component of the system 100 is a projection or imaging optical system 130, which serves to guide a portion of the radiation 115 reflected by the object 121 in the direction of an image plane 140.
  • an object field of the object plane 120 can be imaged with the aid of the imaging optics 130 in an image field 150 of the image plane 140.
  • the image ⁇ field 150 may comprise, for example lateral dimensions in two stel ⁇ then centimeter range, for example, of about 21cm x 28cm.
  • a spatially resolving and radiation-measuring sensor 141 is arranged, which can be irradiated with the radiation 115 coming from the imaging optics 130.
  • the sensor 141 may be an electronic sensor with an array of radiation-sensitive sensor elements or pixels.
  • the sensor 141 is realized in the form of a CCD sensor (charge-coupled device) with radiation-sensitive photodiodes.
  • the sensor 141 as a time-delay integrating CCD sensor (TDI-CCD, Time Delay and Integration
  • Charge-Coupled Device be formed.
  • the sensor 141 coupled evaluation 160 is used.
  • measured values of an optical variable of interest can be provided at picture elements of the image field 150.
  • radiation 115 having the same wavelength as used in a lithography process may be used. Therefore, this process can be called an acute examination.
  • the sensor 141 does not have a full surface and the entire frame 150 covering Er chargedsbe ⁇ rich but has a configuration with a plurality of spaced apart spatially resolving part sensors.
  • Each sub-sensor has a corresponding sub-array of sensor elements or photodiodes and thus a corresponding sub-array
  • the object 121 can be correspondingly positioned or moved in the object plane 120 during the examination.
  • Each partial sensor of the sensor 141 may, for example, have a megapixel CCD chip with a number of sensor elements in the range of 10 6 .
  • An example is an arrangement with approx. 3000 x 3000 pixels.
  • an exemplary structure of the sensor 141 is indicated with four sub-sensors, wherein the partial sensors entspre ⁇ accordingly the part regions 151 of Figure 3 arranged to be Kgs ⁇ NEN. It is possible that the sensor 141 another or Has a larger number of sub-sensors, so that a corresponding number of detectable sub-fields 151 may be present.
  • Picture ⁇ or wavefront errors that can be caused by the imaging optical system 130 to determine.
  • a combination of distortion and phase retrieval measurement technology can be used.
  • the aberrations are determined can be used to Justageprozes- se for adjusting the imaging optics 130 to develop so that the aberrations in terms of a reliable and accurate operation of the system are minimized 100 Kings ⁇ nen.
  • Such a determination of aberrations for the purpose of adjusting the imaging optics 130 may already be provided within the scope of a construction of the system 100.
  • a single spatially resolving sensor 143 for radiation detection can be used instead of the sensor 141 with partial sensors used in the constructed system 100.
  • the positions of the partial sensors of the sensor 141 can be approached with the sensor 143, and in each case a partial measurement of the radiation 115 can be carried out at these measuring positions. In this way, radiation detection can again take place only in disjoint partial regions 151 of the image field 150.
  • FIG. 1 (and corresponding to FIG.
  • the sensor 143 has a Er chargedsbe ⁇ rich with other and larger lateral dimensions than the part of the sensors of the sensor 141, so that correspondingly different or larger portions 151 of the image field 150 he ⁇ are tangible.
  • the sensor 143 Auswer ⁇ te worn 160 used.
  • This evaluation device 160 may be other than that in the constructed system 100 used and assigned to the sensor 141 evaluation device 160.
  • the sensor 143 can be realized in a manner comparable to the sensor 141 in the form of an electronic sensor, for example in the form of a CCD or TDI-CCD sensor, with an arrangement of radiation-sensitive sensor elements or photodiodes. In a corresponding manner, the sensor can have a megapixel CCD chip.
  • measured values of one or more wave front-end errors of interest can be provided in pixels in disjoint partial regions 151 of the image field 150. These may be, for example, the Zernike coefficients Z2, Z3 and / or Z4.
  • the sensor 143 may be, for example, a distortion measuring head. It should be noted that within the scope of a measurement of aberrations an object or reticle 121 with suitable test structures (not shown) can also be used, which can be imaged into the image field 150 by means of the imaging optics 130. By evaluating associated measurement signals, the desired measurement values of the wavefront error or frequencies of interest can be made available. For example, with respect to detecting a distortion error, a raster of markers may be used. Distortion of the imaging optics 130 causes a shift of the markings imaged in the image field 150. From the position of the imaged markers relative to their desired positions, the distortion can be determined.
  • the positioning or positioning of the sensor 143 at different measuring positions can be carried out with the aid of a suitable positioning device, for example with the aid of a positioning table (not shown).
  • the positioning accuracy of the sensor 143 is limited by the accuracy of the positioning device.
  • the measurement may be affected due to mispositioning of the sensor 143.
  • These may in particular be incorrect positioning in the degrees of translational freedom, ie in the x, y and z directions.
  • This results in that the measured values provided an imaging or wavefront error 150 may have a constant measurement error or offset in each sub preparation ⁇ surfaces 151 of the image field.
  • the incorrect positioning can be different, so that the offset errors which occur individually in subregions 151 of the image field 150 also vary, and may differ from each other with regard to the magnitude and / or the sign.
  • this relationship figure shows 2 different lateral measurement positions of the sensor 143 with respect to the image or the image sensor plane 140 and the off ⁇ effect on the provision of measured values of a distortion reproducing wavefront error Z2, Z3. Furthermore, a target measuring position 145 provided for the sensor 143 or its detection range is indicated in the image plane 140. If the sensor 143, as shown in the middle illustration of Figure 2, is at its desired position 145, this leads to no deviation in the measurement the wavefront error Z2, Z3.
  • a lateral Bloodpositionie ⁇ tion in the form of a deviation dx or dy of the sensor 143 with respect to the target measuring position 145, as illustrated in the left and right view of Figure 2, has the consequence that in the measurement of the wavefront error Z2 , Z3 in each case a deviation in the form of an offset error occurs.
  • FIGS. 3 and 4 illustrate the relationship between lateral positioning errors of the sensor 143 and the measurement of falsifying offset errors in a further illustration. Shown here are an image field 150 and an exemplary aberration in the form of a pincushion distortion 165 present in the image field 150, which is indicated by a grating. Also shown are four partial regions 151 of the image field 150, in which a radiation measurement is carried out with the aid of the sensor 143 arranged at different measuring positions.
  • Figure 3 shows both present in the measurement actual actual measurement positions of the sensor 143 with the corresponding scanned portions 151 and the target measurement positions of the sensor 143 with the corresponding portions 151 ⁇ (hatched lines).
  • FIG. 4 This is illustrated in FIG. 4 in that the partial regions 151 of FIG. 3 including the solid grid lines of the distortion 165 are shifted relative to the desired measurement positions of the sensor 143.
  • the present in the image field 150 distortion 165 is indicated by dashed grid lines.
  • the discernible in the sub-areas 151 in Figures 4 dislocations between the solid and the Dashed grid lines make the offset errors that occur during the measurement clear.
  • FIG. 5 shows different vertical measurement positions of the sensor 143 with Be ⁇ train on the image sensor plane 140 and its effect on providing measurements of the wavefront error Z4.
  • the sensor 143 or its detection area is located at its nominal measuring position 145, this does not lead to any deviation in the measurement of the wavefront error Z4.
  • Abnormal positioning dx, dy, dz of the sensor 143 are expressed in the disjoint measured wavefront errors by offset errors, ie apparent aberrations.
  • the offset errors are within the detected with the sensor 143 sub-regions 151 of the image field 150 constant or substantially constant, and be ⁇ act in this manner a displacement of the measured wavefront error, including the mean values of the wavefront error, in the relevant part areas 151 From subarea 151 to subarea 151, and as non-systematic measurement errors also from measurement to measurement, there may be a variation of the offset errors.
  • the offset errors can be significantly greater than other measurement errors and in particular as the field variation of the actual or true wavefront errors. This may apply in particular to the low-order wavefront errors or Zernike coefficients, in particular Z2, Z3 and Z4. This makes the determination of suitable The adjustment process may result in system 100 ultimately failing to meet the specification.
  • the system 100 which is equipped with the sensor 141 with a plurality of non-overlapping partial sensors, it may be comparable to readings of one or more imaging aberrations of interest, for example the wavefront errors Z2, Z3 and / or Z4, to image ⁇ points in disjoint sections 151 of the image field 150 provide.
  • a measurement is carried out with the aid of the sensor 141, and measuring signals of the sensor 141 are evaluated with the aid of the associated evaluation device 160 for providing the measured values. Based on this, a further adjustment or fine adjustment of the imaging optical system 130 can be carried out.
  • the arrangement of the sensors of the sensor portion 141 is erroneous, so that the part having sensors capable ⁇ error, particularly with respect to the degrees of freedom x, y, z.
  • Such positional errors similar to the above-described positioning errors of the sensor 143, can lead to constant or substantially constant offset errors in the subregions 151 of the image field 150 in the measurement of the wavefront errors Z2, Z3, Z4 (possibly also crosstalk to image errors higher order).
  • For further details, reference is made to the above description ⁇ .
  • the positional errors of the image sensors of the sensor 141 may be a result of installation errors, but also during operation and / or over the life of drift such as temperature-induced dimensional changes of components are ⁇ call fixturege. Therefore, systematic, that is, the same for each measurement, as well as non-systematic, ie from measurement to measurement different measurement errors can be present. This likewise leads to an impairment of the adjustment of the imaging optics 130.
  • the problem identified in the reflective system 100 can also occur in an inspection system operated in transmission, in which a transmitted radiation component is detected.
  • Such a system 101 which has substantially the same construction and operation as the system 100, is shown schematically in FIG. It should be noted that correspond ⁇ provoking aspects and the same and equivalent com- ponents not be described again in detail here, but that instead, reference is made to the above description.
  • the optical system 101 also includes system 110 for illuminating a ⁇ is arranged in an object plane 120 object 122 to radiation 115 to ariesssys-.
  • the object 122 which can be partially irradiated, may be a reticle.
  • a transmit ⁇ -oriented by the object 122 portion of the radiation 115 is by means of a Abbil- dung optics 130 guided toward an image plane 140th
  • the imaging optics 130 can be used to image an object field of the object plane 120 into an image field 150 of the image plane 140.
  • a position-resolving sensor is arranged 141 with multiple sensors, whose measurement signals can be further processed with an evaluation device 160, counted from ⁇ . In this way a Strah ⁇ lung gathering is carried out in the disjoint partial regions 151 of the image field 150 (see FIG. 3).
  • system 101 it is also of interest
  • a single spatially resolving sensor 143 can be used, which is moved to the positions of the partial sensors of the sensor 141 for radiation detection. Malpositioning of the sensor 143 in the Translational degrees of freedom x, y, z can lead to offset errors being provided by measured wavefront errors of interest, for example Z2, Z3 and / or Z4. Such offset errors can occur individually in partial areas 151 of the image field 150 and differ from offset errors of other partial areas 151.
  • the correction can in the form of a permanent calibration on the basis of one or more measurements gen, for example, once or in rotation, provided ⁇ the.
  • a tat ⁇ neuter that is not afflicted with measurement errors aberrations 150 may have regularities and predictable properties with respect to the entire image field, and extending through a smooth function across the image field 150 can be described. This is not or substantially not the case for the offset errors that occur indivi ⁇ duell in the subregions 151 of the image field.
  • the correction is performed using an approximation, be in which provided readings of interest aberration approximated by a smooth function with the sub-regions 151 of the image field 150 associated Colourbe ⁇ rich functions.
  • a profile of the imaging error can be displayed via the image field 150.
  • the USAGE ⁇ finished smooth function or the basis functions can be assigned fixed ⁇ on the knowledge of the operation of the imaging optics 130th
  • the subrange functions are chosen such that, within the framework of the approximation, the considered aberration can be changed by the same value in the individual subregions 151 of the image field 150 in each case. In this way, the effect of a faulty measurement or the individual occurrence of the offset error which falsifies the actual aberration can be reproduced in the subregions 151 of the image field 150. This can be achieved an accurate approximation of the measured values with a minimum deviate ⁇ chung, which in turn allows reliable reset or suppressing the measurement error.
  • the object or image field 150 will be described on N diskre ⁇ th field points (xi, yi).
  • x and y ⁇ ⁇ entspre the constituent local coordinates of the image points, and it is i 1, 2, ...,.
  • the coordinates xi and y of all pixels of the image field 150 are preferably chosen such that the average of all coordinates xi and the average of all coordinates yi are zero. Such a determination of the Koordinatenur ⁇ jump proves to be numerically favorable.
  • the frame 150 comprises n sections 151, which are referred to in Fol ⁇ constricting with Fi.
  • 1 1, 2, n.
  • ni of the N pixels (xi, yi) belong to the
  • each pixel belongs to exactly one subfield Fi.
  • the component power is defined as follows
  • 0, 1, 2, Wv and v 0, 1, 2, w.
  • the characteristic subrange functions used in the approximation or their corresponding vectors, with the aid of which the aberration in the individual subregions Fi of the image field 150 can each be changed by the same value, can be defined with the identity matrix I as follows: ti (Xi> yi) and t ti (11)
  • the function set of smooth function and subrange functions is compared to the measured aberrations or the corresponding measured values, hereinafter referred to as the vectors. tor a 'marked, approximated.
  • the following procedure can be considered, in which initially matrices, ie a matrix of the subrange functions
  • ßw x , w y J comprises the coefficients associated with the basis functions of the smooth function.
  • the coefficients allow weightings of the individual functions to be defined or reproduced.
  • the weighting coefficients a of the subrange functions are included. These are linked to the offset errors occurring during the measurement, and can therefore be used for error suppression, as described below.
  • the feasible with the aid of the evaluation device 160 Def ⁇ lerkorrektur may refer to provide corrected values of the image defect, characterized corr hereinafter with the vector a.
  • the measured values U 'of the aberration can be corrected by the corrected values a corr. be set.
  • the corrected values a corr, which did the aberrations can correspond primarily Ü ⁇ extraneous, 130 may be used in the adjustment of the imaging optics.
  • the vector c is formed according to formula (22) to obtain the coefficient vector a in accordance with formula (19), and the matrix T of the subrange functions is multiplied by the corresponding coefficient vector a to form a product.
  • the product is the entries or weights of all approximated subrange functions.
  • the product except for its mean value, is subtracted from the vector u 'of the measured values as follows:
  • the mean value of the product can be subtracted from the product, and this term can be subtracted from the vector Ü '.
  • this term can be subtracted from the vector Ü '.
  • exemplary results of a Si ⁇ mulation in reference are shown on a wavefront error Z2 in FIG. 7
  • This relates to values of the wavefront error Z2 at picture elements in four partial areas 151 of a picture field 150, wherein the partial areas 151 can be arranged corresponding to FIG.
  • simulated actual values Z s of the wavefront error Z2 in the subregions 151 present at image points of the image field 150 are illustrated (true state).
  • the values Z s were simulated based on rigid body tilting or movements of objective mirrors of imaging optics 130.
  • FIG. 7 also shows reconstructed values Z r of the wavefront error Z2 formed on the pixels in the subregions 151 on the basis of larger solid points using the above-explained correction procedure.
  • the smooth function used here was a third order polynomial in x and fifth Okay in y. It can be seen that in each of the sections the same Ver ⁇ reduction between the corrected values Z r and the actual values of Z s loan of the wavefront error is present Z2 151st This is the above-mentioned small global offset between the values Z r and Z s . It is clear from this illustration that the correction method makes it possible to reliably suppress offset errors which are the result of the measurement in disjoint subfields 151 of the image field 150.
  • mean value-free subrange functions t t are used which, based on the image field 150, have the mean value zero.
  • the approximation can be unique.
  • the mean value of the entries of the subrange functions can be contained twice in the set of used functions, namely as Constant in the function and smooth as the sum of Operabe ⁇ rich functions in accordance with:
  • Coefficients ä of the subrange functions, and the remaining coefficients ß can be generated via the other sub-matrix M p :
  • I is the identity matrix.
  • the matrix S formed by subtracting the product from the matrix T of the mean-free subrange functions and the sub-matrix M T from the identity matrix I, ie is referred to below as a correction matrix.
  • Another variant of using the evaluation 160 feasible error correction is, in addition or as an alternative to corrected error-corrected values of the aberration under consideration, to form an approximated profile of the aberration.
  • the approximated curve can essentially correspond to the actual imaging error, ie, without measurement error. It is also possible here to replace erroneous measured values of the aberration by the approximated curve, and to perform an adjustment of the imaging optical system 130 based on the approximated curve.
  • the formation of the approximated course can also be carried out within the framework of a joint approximation and correction.
  • the procedure can be similar to the above described simplification, said mean value-free partial region functions t t of the formula (24) are used and the pseudoinverse M "of the function matrix M is decomposed according to formula (27).
  • R: PM ⁇ , (33) is referred to below as the history generation matrix.
  • a further variant of the procedure which can be carried out with the aid of the evaluation device 160 comprises an interpolation
  • a supplementary value belongs to a pixel for which no measured value of the aberration is present.
  • Forming the tendonss we ⁇ a supplementary value which can also be considered in the context of adjustment of the imaging optics 130, is performed on the basis of the approximated curve.
  • crosstalk may also occur.
  • causes of errors for offset errors of a first measured aberration can also have an effect on at least one second measured aberration, so that it can be subject to corresponding offset errors.
  • verti ⁇ kale incorrect positioning of a sensor by which offset errors in the measurement of the wavefront error Z4 departmentgeru ⁇ be called (see FIG. 4), also in an occurrence of offset errors in the measurement of the wavefront error Z2 and / or Z3 lead.
  • Such a crosstalk to the second aberration can be suppressed by performing an approximation on the basis of an error correction of the first aberration (for example Z4), which is done in the manner described above, using an approximation.
  • an additional correction of the second error Abbil ⁇ dung is performed.
  • the additional correction can be made based on the coefficient ä ⁇ Operabe rich functions which are determined on the basis of the error correction of the first aberration, for example.
  • an error correction of the second aberration may be performed according to the above approaches using an approximation.
  • a further correction method can furthermore be used, which will be discussed in more detail below.
  • erroneous measurement values are Droppings of several Abbil- or wavefront errors which can be caused by the Abticiansop ⁇ tik 130, corrected in a common manner. Much the same or comparable features may be used as described above with respect to the correction of a single measured wavefront error. With regard to matching details and aspects, reference is therefore made to the above description.
  • measured values of the wavefront errors of interest are provided on the basis of a radiation measurement at pixels in a plurality of disjoint partial regions 151 of the image field 150. This is done with the help of several Sectionsenso ⁇ ren having sensor 141 or by means of the disposed at different measuring positions of the sensor 143.
  • the measurement signals from the sensor 141 or 143 are evaluated using the da ⁇ associated evaluation device 160, whereby the measuring values of the plurality of interest wavefront errors are provided can. Due to faulty sensor positions, which are 141 position errors of the sensors in the sensor part, the measurements can include corresponding measurement ⁇ error.
  • faulty positioning can tion degrees of freedom with respect to translational degrees of freedom and rotavirus, that dx, dy, dz-translations and rotations or tilts Ver ⁇ with respect to the x, y, z axes are considered.
  • the method is carried out using an approximation in which measured values of the wavefront errors of interest are jointly approximated with a plurality of smooth functions assigned to the wavefront errors and subrange functions assigned to the subregions of the image field become.
  • the smooth functions which include several Basisfunktio ⁇ nen and in which it may be polynomial are determined such that hereby profiles of the corresponding wavefront error can be reproduced over the image field 150th
  • the smooth functions or their basic functions can be determined on the knowledge of the operation of the Ab ⁇ education optics 130.
  • the subrange functions are chosen such that hereby the influence of erroneous positioning of the sensor
  • the 141 or 143 are reproducible to the measured values of the plurality of wavefront errors.
  • the actual effects of incorrect positioning can be simulated or modeled on the measurement of the wavefront errors.
  • Such effects can be determined, for example, by means of a measurement or a simulation, for example by beam propagation.
  • the subrange functions are defined. With the help of such subrange functions can be in the
  • Steps for suppressing the measurement errors can also be used here with the aid of the evaluation device connected to the sensor 141 or 143
  • the sensor 141 or 143 and the associated evaluation device as ⁇ 160 may form an apparatus for determining a plurality of corrected wavefront errors in this sense. Furthermore, the adjustment of the imaging optics 130 may be based on the corrected wavefront errors.
  • corrected values a may be formed of several corr ⁇ ren wavefront error, with which measured values are a 'of the wavefront error replaced. This can be done as follows.
  • a function matrix M consisting of a matrix T of subrange functions and a matrix P of basic functions of the smooth functions, as well as the pseudoinverse M "of the radio functions formation matrix M formed.
  • a coefficient vector c belonging to the function matrix M is formed by multiplication of the matrix M " with the vector Ü 'of the measured values of the several wavefront errors according to formula (22) This represents a solution of the fit problem indicated under formula (18)
  • Coefficient vector c comprises coefficients a belonging to the subarea functions and coefficients b associated with the basis functions
  • Mean value of the vector Ü 'of the measured values according to formula (23) is subtracted to form the corrected values a corr of the multiple wave front errors.
  • This procedure makes it mög ⁇ Lich, primarily relative, that is, from partial region to Operabe ⁇ area of the image field 150 present differences in the measurement values to correct ⁇ and a uniform or global Cor ⁇ rection over all the portions to be avoided.
  • a correction matrix S is formed by the product of the matrix T of the central value-free portion functions and the sub-matrix M T from the identity matrix I in accordance with formula (30) is subtracted.
  • the formation of the corrected values a korr of the plurality of wave front error (by multiplying the matrix S with the measured values Ü 'according to formula This procedure also leads to the solution of the fit problem according to formula (18).
  • a formation of approximated progressions a flt of the plurality of wavefront errors takes place. This allows elimination of dot noise. It is possible to replace measured values of the wavefront errors by the approximated characteristics.
  • a sub-matrix M p is formed from the provided pseudoinverse M "of the matrix M, via which coefficients ⁇ the
  • Basic functions P of the smooth functions can be generated. Furthermore, a course generation matrix R is formed by multiplying the matrix P of the basic functions of the smooth functions by the sub-matrix M p according to formula (33). The formation of the approximated curves a flt of the multiple wavefront errors is performed by multiplying the matrix R by the measured values U 'according to formula (34). This pre ⁇ hens, likewise leads to the solution of the Fitproblems of mel For ⁇ (18).
  • Another variation includes an interpolation and / or extrapolation, by a complement value of we ⁇ iquess one of the plurality of wavefront error is formed at least, wherein the complement value is one of location coordinates, is present for wel ⁇ che no measured value of the wavefront error.
  • This embodiment can take place on the basis of an approximated course of the relevant wavefront error.
  • the measurement relates to at least one further subarea 152 of the image field 150 which coincides with at least one of the separate non-overlapping subareas 151 overlaps (see, for example, Figure 9, which will be discussed in more detail below).
  • a formation of a combined partial area with common measured values may be considered, which comprises the further partial area 152 and the at least one partial area 151 overlapping therewith.
  • Common measured values of the wavefront error or errors may be provided on the basis of a suitable preprocessing or correction of measured values initially obtained in the individual overlapping partial regions 151, 152. This can be done for example by means of a stitching method.
  • the combined portion and its ⁇ corresponding measured values can then come in accordance with the arrival and the disjoint partial regions thereof in the correction and Approximation used.
  • the associated subarea is assigned a corresponding subarea function.
  • a plurality of merged section ⁇ areas can be formed, this common measurement values soirge ⁇ represents, and these used for less of the correction approximation and be.
  • This case can be considered when several other parts of present 152, which overlap with other sub-areas ⁇ 151 (see FIG. 9). In this case, it is also possible that only unified and discrete subregions are formed.
  • the further subarea 152 overlapping with at least one of the separate and non-overlapping subregions 151
  • the following sequence may also be considered.
  • the approximation is performed with a further partial area function assigned to the further partial area 152.
  • the further partial range function may be selected such that a change of the considered wavefront error can be produced by the same value within the context of the approximation in the respective partial region 152, or erroneous sensor positioning can be reproduced.
  • the further overlapping partial area 152 is treated like the remaining partial areas 151. Therefore, in an overlap region of overlapping partial regions 151, 152, a double approximation, or in the case of more than two overlapping partial regions, a multiple approximation can take place. In the case of a plurality of further subareas 152, a plurality of further subarea functions can be used in a corresponding manner. In the following, with reference to FIGS. 8 to 10, he will explain with which configurations or arrangements of subregions 151, 152 of an image field 150 intended for measurement the methods described above can be used.
  • the sub-regions 151, 152 may have different geometric shapes, so that different from the fi gures ⁇ 3, 4, other than rectangular shapes even round nikför- such case ⁇ game triangular, hexagonal or or Mige contours may be present, as shown by way of example in Figures 8 to 10.
  • Such forms depend on the design of a sensor used for the measurement or on its detection range. If only one sensor, for example the sensor 143 moved to different measuring positions, is used, all partial regions 151, 152, deviating from FIGS. 8 to 10, can have the same contours.
  • FIG. 8 illustrates a measurement in which all partial regions 151 of the image field 150 are disjoint. ⁇ thereof from yielding to a measurement and thus the provision of measured values can relate to at least one further partial area 152 of the image field 150 in addition that overlaps with Wenig ⁇ least one of the separate, non-overlapping portions of the 151st This can be realized for example by means of arranged on ⁇ under different measurement positions union sensor 143rd
  • Figure 9 illustrates an example ⁇ exemplary measurement with six pairs of overlapping portions 151, 152.
  • the Darge ⁇ presented with solid lines portions 151 mutually disjoint, and are indicated by dashed lines further subregions 152 to each other disjoint.
  • the above-described approaches may be considered. It is possible, for example, to form three composite or combined subregions from the six pairs overlapping subregions 151, 152, to provide common measured values for each of the unified subregions with the aid of preprocessing, and to base these on the correction and approximation.
  • subareas assigned to the merged subareas are used.
  • FIG. 10 illustrates another exemplary measurement with overlapping partial regions 151, 152. Together, these cover a coherent region of the image field 150.
  • the partial regions 151 are disjoint with each other, and the further partial regions 152 indicated by dashed lines are disjoint to one another.
  • the method sequence for carrying out the approximation with the subarea functions assigned to the individual subregions 151, 152 comes into consideration.
  • the sub-area functions are selected such that an individual change of the size in the sub-areas of the parameter area can be brought about in the context of the approximation.
  • the correction can refer to it, corrected values of the quantity, an ap ⁇ proxim believing course of the size and / or form at least a supplementary value of the quantity.
  • Ver ⁇ a drawing size by which an image field in a passing on ⁇ distortion can be reproduced.
  • erroneous measured values of the distortion variable which can be obtained in several or disjoint partial areas of the image field can be corrected. This includes, for example, forming corrected values of the distortion quantity to replace measured values. It is also possible to reconstruct the distortion over the entire image field. This can be done, for example, by forming an approximated curve and / or by forming supplementary values for interpolation and extrapolation.
  • a different size in subregions of a parameter range can also be measured and corrected according to the approaches described above.
  • the measurement can be carried out, for example, with the aid of an atomic force microscope or with the aid of a surface interferometer.
  • the associated parameter range may additionally or alternatively also have one or more other parameters than location coordinates.
  • the at least one parameter on which the variable is dependent can also be a time.
  • Another case ⁇ play a parameter area comprising a time and we ⁇ ilias a spatial coordinate.
  • a further possible modification with regard to the method for determining a single corrected variable is to correct, instead of offset errors, other measurement errors that occur individually in partial regions of a parameter range.
  • suitable subrange functions are used with the aid of which a falsification of the measured quantity can be simulated by such measurement errors in the subregions of the parameter range.

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Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Ermittlung einer korrigierten und von mindestens einem Parameter abhängigen Größe in einem Parameterbereich des mindestens einen Parameters. Das Verfahren umfasst ein Durchführen einer Messung, wobei Messwerte der Größe in mehreren separaten und nicht überlappenden Teilbereichen des Parameterbereichs bereitgestellt werden. Das Verfahren umfasst des Weiteren ein Durchführen einer Korrektur von Messwerten der Größe unter Verwendung einer Approximation, in welcher Messwerte der Größe mit einer glatten Funktion und mit den Teilbereichen des Parameterbereichs zugeordneten Teilbereichsfunktionen approximiert werden. Mit Hilfe der glatten Funktion ist ein Verlauf der Größe über den Parameterbereich wiedergebbar. Mit Hilfe der Teilbereichsfunktionen ist eine individuelle Veränderung der Größe in den Teilbereichen des Parameterbereichs hervorrufbar. Die Erfindung betrifft des Weiteren ein Verfahren zur Justage einer Abbildungsoptik eines optischen Systems, und eine Vorrichtung zur Ermittlung einer korrigierten und von mindestens einem Parameter abhängigen Größe in einem Parameterbereich des mindestens einen Parameters. Die Erfindung betrifft darüber hinaus ein Verfahren zur Ermittlung von mehreren korrigierten Wellenfrontfehlern in einem Bildfeld.

Description

Beschreibung
Ermittlung einer korrigierten Größe Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Ermittlung einer korrigierten und von mindestens einem Parameter abhängigen Größe in einem Parameterbereich des mindestens einen Parameters. Die Erfindung betrifft des Weiteren ein Verfahren zur Justage einer Abbildungsoptik eines opti- sehen Systems, und ein Verfahren zur Ermittlung von mehreren korrigierten Wellenfrontfehlern in einem Bildfeld.
Diese Patentanmeldung beansprucht die Priorität der deutschen Patentanmeldung 10 2014 209 348.1, deren Offenbarungsgehalt hiermit durch Rückbezug aufgenommen wird.
Zu einer Größe, welche von mindestens einem Parameter abhängig ist, können mit Hilfe einer Messung Messwerte in einem interessierenden Parameterbereich des mindestens einen Para- meters bereitgestellt werden. Ein Durchführen der Messung in dem gesamten Parameterbereich kann, je nach Umfang des Parameterbereichs und Genauigkeit der Messung, mit einem hohen Aufwand und mit hohen Kosten einer zur Messung eingesetzten Messeinrichtung verbunden sein. Dies kann umgangen werden, indem Messwerte der Größe lediglich in Teilbereichen des Parameterbereichs gewonnen werden. Hierbei kann es sich um dis- junkte, d.h. separate und nicht überlappende Teilbereiche handeln . Eine solche Vorgehensweise kommt zum Beispiel bei einem opti¬ schen Inspektionssystem in Betracht, welches zur Untersuchung eines Objekts, beispielsweise einer Lithographiemaske bzw. eines Retikels, dient. Das Inspektionssystem kann Mittel zum Beleuchten des in einer Objektebene angeordneten Objekts mit einer Strahlung und eine Abbildungsoptik aufweisen. Mit Hilfe der Abbildungsoptik kann ein Objektfeld in ein Bildfeld einer Bildebene abgebildet werden. Zur Strahlungsmessung kann ein in der Bildebene angeordneter Sensor zum Einsatz kommen.
Bei dem Inspektionssystem kann es von Interesse sein, einen von der Abbildungsoptik verursachten Abbildungs- bzw. Wellen- frontfehler in dem Bildfeld zu ermitteln. Hierbei stellen der Wellenfrontfehler die oben genannte Größe und das Bildfeld den Parameterbereich, vorliegend mit zwei Parametern in Form von Ortskoordinaten, dar. Anstatt die Strahlungsmessung zum Bereitstellen von Messwerten des Abbildungsfehlers in dem gesamten Bildfeld durchzuführen, kann sich die Messung auf dis- junkte Teilbereiche bzw. Teilfelder des Bildfelds beziehen. Dies lässt sich zum Beispiel verwirklichen, indem ein zur Messung eingesetzter Sensor nacheinander an unterschiedlichen Messpositionen angeordnet wird. Hierbei werden mit Hilfe des Sensors nacheinander mehrere Teilmessungen durchgeführt, und wird der Sensor dazwischen zu den einzelnen Messpositionen bewegt. Möglich ist auch eine Strahlungsmessung mit Hilfe eines Sensors, welcher Teilsensoren mit nicht überlappenden Er- fassungsbereichen aufweist.
Ein Bereitstellen von Messwerten einer Größe in mehreren bzw. disjunkten Teilbereichen eines Parameterbereichs kann zur Folge haben, dass die Messwerte der Größe in den einzelnen Teilbereichen mit Messfehlern behaftet sind, welche lediglich individuell in den entsprechenden Teilbereichen auftreten. Von Teilbereich zu Teilbereich kann ein variierender Messfehler vorliegen. Eine solche Verfälschung der Messwerte der Größe beeinträchtigt deren Aussagekraft.
Im Hinblick auf das oben beschriebene Inspektionssystem kann das Ermitteln eines Wellenfrontfehlers dazu dienen, Justage- prozesse zur Justage der Abbildungsoptik zu bestimmen, um deren Abbildungsfehler zu verkleinern. Die Verwendung eines Sensors an unterschiedlichen Messpositionen kann mit Fehlpositionierungen des Sensors einhergehen. Dies kann dazu führen, dass Messwerte des Wellenfrontfehlers in einzelnen Teil- bereichen des Bildfelds jeweils mit einem konstanten Messfehler (Versetzung bzw. Offset) behaftet sind. Die Offsetfehler können deutlich größer sein als andere Messfehler und insbesondere als die Feldvariation des von der Abbildungsoptik herrührenden Wellenfrontfehlers . Dies erschwert die Bestim¬ mung von geeigneten Justageprozessen . Ein derartiger Nachteil kann in entsprechender Weise bei Verwendung eines Sensors mit mehreren nicht überlappenden Teilsensoren auftreten. Hierbei können in Teilbereichen des Bildfelds auftretende Offsetfeh- 1er eine Folge von Lagefehlern der Teilsensoren sein.
Eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht darin, ein Verfahren und eine Vorrichtung anzugeben, mit deren Hilfe eine zuverlässige Korrektur von Messwerten einer Größe durch- führbar ist, wobei die Messwerte in Teilbereichen eines Para¬ meterbereichs gewonnen werden. Eine weitere Aufgabe besteht darin, ein kostengünstiges und zuverlässiges Verfahren zur Justage einer Abbildungsoptik eines optischen Systems anzugeben. Eine weitere Aufgabe besteht darin, ein zuverlässiges Verfahren zur Ermittlung von mehreren korrigierten Wellen- frontfehlern in einem Bildfeld anzugeben.
Diese Aufgaben werden durch die Merkmale der unabhängigen Patentansprüche gelöst. Weitere vorteilhafte Ausführungsformen der Erfindung sind in den abhängigen Ansprüchen angegeben.
Gemäß einem Aspekt der Erfindung wird ein Verfahren zur Ermittlung einer korrigierten und von mindestens einem Parameter abhängigen Größe in einem Parameterbereich des mindestens einen Parameters vorgeschlagen. Das Verfahren umfasst ein
Durchführen einer Messung, wobei Messwerte der Größe in mehreren separaten und nicht überlappenden Teilbereichen des Parameterbereichs bereitgestellt werden. Das Verfahren umfasst des Weiteren ein Durchführen einer Korrektur von Messwerten der Größe unter Verwendung einer Approximation, in welcher Messwerte der Größe mit einer glatten Funktion und mit den Teilbereichen des Parameterbereichs zugeordneten Teilbe- reichsfunktionen approximiert werden. Mit Hilfe der glatten Funktion ist ein Verlauf der Größe über den Parameterbereich wiedergebbar. Mit Hilfe der Teilbereichsfunktionen ist eine individuelle Veränderung der Größe in den Teilbereichen des Parameterbereichs hervorrufbar .
Bei dem Verfahren werden Messwerte der Größe, welche sich auf dazugehörige Werte des mindestens einen Parameters beziehen, in mehreren disjunkten Teilbereichen des Parameterbereichs bereitgestellt. Dies macht es möglich, die zugrundeliegende Messung mit einem geringen Messaufwand und geringen Kosten durchzuführen. Diese Vorgehensweise kann jedoch mit einer fehlerhaften Messung verbunden sein, so dass die Messwerte der Größe in einzelnen Teilbereichen des Parameterbereichs jeweils eigene und von anderen Teilbereichen unabhängige Messfehler aufweisen können.
Zur Unterdrückung bzw. Korrektur derartiger Messfehler wird bei dem Verfahren ausgenutzt, dass die tatsächliche, d.h. oh- ne Messfehler behaftete Größe bezogen auf den Parameterbe¬ reich entsprechende Regelmäßigkeiten bzw. vorhersagbare Eigenschaften aufweisen kann, und sich demzufolge durch eine glatte Funktion über den Parameterbereich beschreiben lässt. Bei den individuellen Messfehlern in den Teilbereichen liegen im Unterschied hierzu solche Regelmäßigkeiten nicht bzw. im Wesentlichen nicht vor.
Diesem Umstand trägt das Verfahren Rechnung, indem die Messwerte der Größe sowohl mit einer den Verlauf der Größe über den Parameterbereich abbildenden glatten Funktion als auch mit den Teilbereichen zugeordneten Teilbereichsfunktionen angenähert werden. Über die Teilbereichsfunktionen kann im Rahmen der Approximation jeweils eine individuelle Veränderung der Größe in den dazugehörigen Teilbereichen, also unabhängig von anderen Teilbereichen, hervorgerufen werden. Auf diese Weise ist es möglich, den Effekt einer fehlerhaften Messung der Größe in den betreffenden Teilbereichen und damit das Auftreten der Messfehler mit Hilfe der Teilbereichfunktionen nachzubilden. Infolgedessen kann mit Hilfe der glatten Funktion und der Teilbereichsfunktionen eine genaue Annäherung an die Messwerte der Größe mit einer kleinen bzw. minimalen Ab- weichung erzielt werden.
Die mit Hilfe der Teilbereichsfunktionen bewirkbare individu¬ elle Veränderung der Größe in einzelnen Teilbereichen des Parameterbereichs wird nicht nur zur Approximation genutzt, sondern dient auch als Grundlage zur Korrektur. Hierbei können individuelle Messfehler in einzelnen Teilbereichen unterdrückt, also elimininiert oder zumindest teilweise bzw. zu einem wesentlichen Teil verringert werden. Es ist daher möglich, eine korrigierte bzw. rekonstruierte Größe in dem Para- meterbereich bereitzustellen, welche der tatsächlichen Größe, gegebenenfalls bis auf einen Unterschied in Form eines kon¬ stanten globalen Offsetwerts, nahe kommen kann.
Es wird darauf hingewiesen, dass sich die hier verwendete Formulierung „tatsächlich" bzw. „tatsächliche Größe" auf die Größe ohne Messfehler, und damit auf eine Größe bezieht, wel¬ che im Rahmen einer idealisierten Messung ohne Messfehlereinträge in den Teilbereichen des Parameterbereichs zur Verfü¬ gung stellbar ist.
Im Folgenden werden weitere mögliche Ausführungsformen und Details des Verfahrens beschrieben.
Für das Durchführen der Approximation ist gemäß einer Ausfüh- rungsform vorgesehen, den Parameterbereich in eine endliche Anzahl an Stützstellen zu diskretisieren . Auf diese Weise kann das Verfahren mit einer geeigneten Auswerteeinrichtung durchgeführt werden. Die Größe kann von einem Parameter, aber auch von mehreren, zum Beispiel von zwei Parametern, abhängig sein. In einer solchen Ausführungsform umfasst der Parameterbereich die meh- reren Parameter, und beziehen sich die Messwerte der Größe auf dazugehörige Parameterwerte der mehreren Parameter.
In einer weiteren Ausführungsform ist der mindestens eine Pa- rameter eine Ortskoordinate. Der Parameterbereich kann zum
Beispiel zwei Parameter in Form von Ortskoordinaten umfassen. Bei den zwei Ortskoordinaten kann es sich zum Beispiel um Koordinaten eines zweidimensionalen orthogonalen Koordinatensystems handeln. In einer solchen Ausgestaltung kann der Pa- rameterbereich zum Beispiel ein Bildfeld darstellen. Hierbei können sich die Messwerte der Größe auf Feld- bzw. Bildpunkte des Bildfelds mit dazugehörigen Bildpunktkoordinaten beziehen . Für das Verfahren können auch andere Parameter zur Anwendung kommen. Beispielsweise kann es sich bei dem mindestens einen Parameter um eine Zeit handeln. Ein weiteres Beispiel ist ein Parameterbereich umfassend eine Zeit und eine oder mehrere Ortskoordinaten .
In einer weiteren Ausführungsform ist mit Hilfe der Teilbereichsfunktionen die Größe jeweils um den gleichen Wert in den dazugehörigen Teilbereichen veränderbar. Diese Ausführungsform kann zur Anwendung kommen, wenn konstante bzw. im Wesentlichen konstante Messfehler (Versetzungen bzw. Offsets) in Teilbereichen des Parameterbereichs vorliegen, mit welchen sämtliche Messwerte der Größe in den betreffenden Teilberei¬ chen behaftet sind. Durch die Verwendung der Teilbereichs¬ funktionen mit der vorgenannten Eigenschaft ist es möglich, den Effekt der Offsetfehler nachzubilden und infolgedessen Mittelwerte der Größe in den Teilbereichen des Parameterbe¬ reichs zuverlässig zu rekonstruieren. Anders ausgedrückt, kann die in den Teilbereichen individuell vorliegende konstante bzw. im Wesentlichen konstante Verfälschung von Mess- werten der Größe infolge von Messfehlern unterdrückt werden. Die bei dem Verfahren verwendete glatte Funktion kann mehrere Basisfunktionen umfassen. Bei der glatten Funktion kann es sich zum Beispiel um eine Polynomfunktion handeln. Es ist möglich, einfache Polynom-Basisfunktionen einzusetzen.
In einer weiteren Ausführungsform umfasst die Korrektur ein Bilden von korrigierten Werten der Größe. Hierbei können fehlerbehaftete Messwerte der Größe durch die entsprechenden korrigierten Werte der Größe ersetzt werden. Die korrigierten Werte der Größe, welche auch als rekonstruierte Werte be¬ zeichnet werden können, können tatsächlichen, d.h. ohne Messfehler behafteten Werten der Größe nahe kommen und diesen im Wesentlichen entsprechen. In einer weiteren Ausführungsform umfasst die Approximation eine Bestimmung von Koeffizienten der Teilbereichsfunktionen. Des Weiteren werden Messwerte der Größe unter Verwendung der Koeffizienten der Teilbereichsfunktionen korrigiert. Auf diese Weise können korrigierte Werte der Größe gebildet werden, mit welchen wie vorstehend beschrieben fehlerbehaftete Mess¬ werte der Größe ersetzt werden können. Über die Koeffizienten der Teilbereichsfunktionen können Einträge bzw. Gewichtungen derselben, und damit eine Stärke von Messfehlern in den einzelnen Teilbereichen wiedergegeben werden. Die Verwendung der Koeffizienten der Teilbereichsfunktionen macht es daher möglich, Messfehler auf zuverlässige Weise zu bereinigen bzw. zu unterdrücken. Hierbei können Mittelwerte der Größe in den Teilbereichen des Parameterbereichs zuverlässig rekonstruiert werden .
In Bezug auf die Verwendung von Koeffizienten der Teilbereichsfunktionen können ferner folgende Ausgestaltungen des Verfahrens zur Anwendung kommen. In einer weiteren Ausführungsform umfasst die Approximation eine Bildung einer Funktionenmatrix aus Teilbereichsfunktionen und Basisfunktionen der glatten Funktion, eine Bildung der Pseudoinversen der Funktionenmatrix, und eine Multiplikation der Pseudoinversen der Funktionenmatrix mit einem Vektor aus Messwerten der Größe zur Bildung eines Koeffizientenvektors. Der Koeffizientenvektor umfasst Koeffizienten der Teil- bereichsfunktionen und Koeffizienten der Basisfunktionen der glatten Funktion. Mit Hilfe der vorgenannten Schritte lässt sich der Forderung nach einer Annäherung an die Messwerte der Größe durch die glatte Funktion und die Teilbereichsfunktio¬ nen mit einer minimalen Abweichung entsprechen. Hierdurch können die Koeffizienten der Teilbereichsfunktionen, mit welchen Messwerte der Größe korrigiert werden können, auf zuver¬ lässige Weise bereitgestellt werden. Die Korrektur kann wie im Folgenden beschrieben erfolgen. In einer weiteren Ausführungsform umfasst die Korrektur eine Multiplikation einer Matrix aus Teilbereichsfunktionen mit einem Vektor aus (mittels der Approximation ermittelten) Koeffizienten der Teilbereichsfunktionen zur Bildung eines Produkts, und eine Subtraktion des Produkts bis auf dessen Mit- telwert von dem Vektor aus Messwerten der Größe. Durch diese Vorgehensweise können korrigierte Werte der Größe gebildet werden, welche der tatsächlichen Größe im Wesentlichen entsprechen können. Bei dem Produkt kann es sich um die Einträge bzw. Gewichtungen sämtlicher angenäherter Teilbereichfunktio- nen handeln. Der dazugehörige Mittelwert kann auch als
Gleichanteil bezeichnet werden. Der Formulierung „bis auf dessen Mittelwert" kann entsprochen werden, indem der Mittelwert des Produkts von dem Produkt subtrahiert wird, und die¬ ser Term von dem Vektor aus Messwerten der Größe subtrahiert wird.
Durch den Abzug des Mittelwerts des Produkts kann sicherge¬ stellt werden, dass vorwiegend relative, also von Teilbereich zu Teilbereich des Parameterbereichs vorliegende Unterschiede in den Messwerten der Größe korrigiert werden, und im Wesent¬ lichen keine globale bzw. einheitliche Größenkorrektur über sämtliche Teilbereiche erfolgt. Dadurch können die korrigier¬ ten Werte der Größe der tatsächlichen Größe nahe kommen.
In einer weiteren Ausführungsform werden mittelwertfreie Teilbereichsfunktionen verwendet. Hierbei handelt es sich um Teilbereichsfunktionen, welche bezogen auf den Parameterbereich den Mittelwert Null besitzen. Derartige Teilbereichs¬ funktionen können gebildet werden, indem von jeder der mittelwertbehafteten Teilbereichsfunktionen jeweils der dazuge- hörige Mittelwert subtrahiert wird. Bei Verwendung von mit¬ telwertfreien Teilbereichsfunktionen ist die oben beschriebene Subtraktion des Mittelwerts des Produkts (Mittelwert der gesamten Einträge der Teilbereichsfunktionen) implizit in der Approximation und Korrektur enthalten. Der Mittelwert des Produkts weist bei Verwendung von mittelwertfreien Teilbereichsfunktionen den Wert Null auf, so dass auch eine Sub¬ traktion desselben entfallen kann. In Bezug auf den oben beschriebenen Korrekturschritt kann daher, sofern bei den anderen Schritten mittelwertfreie Teilbereichsfunktionen zum Ein- satz kommen, lediglich das Produkt von dem Vektor aus Messwerten der Größe subtrahiert werden.
Ein weiterer Vorteil der Verwendung von mittelwertfreien Teilbereichsfunktionen besteht darin, dass die Approximation der Messwerte der Größe eindeutig durchgeführt werden kann. Im Unterschied hierzu kann bei mittelwertbehafteten Teilbe¬ reichsfunktionen der Mittelwert der Einträge der Teilbe¬ reichsfunktionen doppelt in der verwendeten Menge aus Funktionen bzw. in der Funktionenmatrix enthalten sein, und zwar als Konstante in der glatten Funktion und als Summe der Teil¬ bereichsfunktionen. Dies kann eine uneindeutige Approximation zur Folge haben.
Wie oben angegeben wurde, kann als glatte Funktion eine Poly- nomfunktion verwendet werden, welche einfache Polynom- Basisfunktionen umfassen kann. Zum Zwecke der Regularisierung und dadurch Verbesserung der Approximation kann des Weiteren eine glatte Funktion zum Einsatz kommen, welche orthogonali- sierte oder orthonormierte Basisfunktionen umfasst. Möglich ist auch eine Verwendung einer Polynomfunktion mit normierten Polynom-Basisfunktionen .
In einer weiteren Ausführungsform werden die Approximation und Korrektur in gemeinsamer Weise durchgeführt, indem eine Funktionenmatrix aus Teilbereichsfunktionen und Basisfunktionen der glatten Funktion gebildet wird, die Pseudoinverse der Funktionenmatrix gebildet wird, eine Teilmatrix aus der Pseu- doinversen der Funktionenmatrix gebildet wird, wobei über die Teilmatrix Koeffizienten der Teilbereichsfunktionen erzeugbar sind, eine Matrix aus Teilbereichsfunktionen mit der Teilmatrix zum Bilden eines Produkts multipliziert wird, das Pro- dukt von einer Identitätsmatrix zur Bildung einer Korrekturmatrix subtrahiert wird, und die Korrekturmatrix mit einem Vektor aus Messwerten der Größe multipliziert wird. Diese Ausführungsform, mit deren Hilfe korrigierte Werte der Größe auf einfache Weise gebildet werden können, genügt ebenfalls der Forderung, eine Annäherung an die Messwerte der Größe mit einer minimalen Abweichung zu erzielen. Die Approximation und Korrektur basieren hierbei auf einer einfachen Multiplikation von Messwerten der Größe mit der Korrekturmatrix. In diesem Zusammenhang ist es ferner möglich, die einmal gebildete Kor- rekturmatrix jeweils zur Korrektur von Messwerten der Größe heranzuziehen, welche mit Hilfe verschiedener Messungen gewonnen werden.
Wie oben angegeben wurde, lässt sich das Verfahren derart durchführen, dass korrigierte Werte der Größe gebildet wer¬ den. In einer weiteren, zusätzlich oder alternativ durchführbaren Ausführungsform umfasst die Korrektur eine Bildung eines approximierten Verlaufs der Größe. Der approximierte Ver¬ lauf der Größe kann der tatsächlichen, d.h. ohne Messfehler behafteten Größe nahe kommen und dieser im Wesentlichen entsprechen. Es ist möglich, die Messwerte der Größe durch den approximierten Verlauf der Größe zu ersetzen. Auf diese Weise kann zum Beispiel ein Verlauf der Größe über den gesamten interessierenden Parameterbereich rekonstruiert werden. Die Bildung des approximierten Verlaufs der Größe ermöglicht eine Eliminierung von Punktrauschen.
Im Rahmen der Korrektur kann ferner eine Interpolation und/oder Extrapolation erfolgen. Eine weitere Ausführungsform schlägt hierzu vor, dass die Korrektur eine Bildung von we¬ nigstens einem Ergänzungswert der Größe umfasst, wobei der Ergänzungswert der Größe zu einem Wert des mindestens einen Parameters gehört, für welchen kein Messwert der Größe vor¬ liegt. Das Bereitstellen des wenigstens eines Ergänzungswerts der Größe kann auf der Grundlage eines approximierten Verlaufs der Größe erfolgen.
Das Bilden eines approximierten Verlaufs der Größe kann mit Hilfe der im Folgenden beschriebenen Ausführungsform erfolgen, in welcher die Approximation und Korrektur ebenfalls in gemeinsamer Weise durchgeführt werden. Hierzu ist vorgesehen, eine Funktionenmatrix aus Teilbereichsfunktionen und Basisfunktionen der glatten Funktion zu bilden, die Pseudoinverse der Funktionenmatrix zu bilden, eine Teilmatrix aus der Pseu- doinversen der Funktionenmatrix zu bilden, wobei über die Teilmatrix Koeffizienten der Basisfunktionen der glatten Funktion erzeugbar sind, eine Matrix aus Basisfunktionen der glatten Funktion mit der Teilmatrix zur Bildung einer Verlaufserzeugungsmatrix zu multiplizieren, und die Verlaufserzeugungsmatrix mit einem Vektor aus Messwerten der Größe zu multiplizieren. Diese Ausführungsform, mit deren Hilfe ein approximierter Verlauf der Größe auf einfache Weise gebildet werden kann, wird ebenfalls der Forderung gerecht, eine Annä¬ herung an die Messwerte der Größe mit einer minimalen Abwei¬ chung zu erzielen. Die Approximation und Korrektur basieren hierbei auf einer einfachen Multiplikation von Messwerten der Größe mit der Verlaufserzeugungsmatrix. Es ist möglich, die einmal gebildete Verlaufserzeugungsmatrix jeweils heranzuzie¬ hen, um approximierte Verläufe der Größe aus Messwerten der Größe zu bilden, welche mit Hilfe verschiedener Messungen gewonnen werden.
In einer Weiterbildung des Verfahrens bezieht sich die bei dem Verfahren durchgeführte Messung auf mehrere separate, nicht überlappende Teilbereiche und zusätzlich wenigstens ei¬ nen weiteren Teilbereich des Parameterbereichs, welcher mit wenigstens einem der separaten, nicht überlappenden Teilbereiche überlappt. In Bezug auf diese Verfahrensvariante kön- nen unterschiedliche Ausgestaltungen in Betracht kommen.
Es ist zum Beispiel möglich, dass wenigstens ein Teilbereich der bei dem Verfahren berücksichtigten disjunkten Teilbereiche ein vereinigter Teilbereich ist, für welchen gemeinsame Messwerte der Größe bereitgestellt werden. Ein solcher verei¬ nigter Teilbereich kann aus überlappenden Teilbereichen zusammengesetzt werden. Gemeinsame Messwerte der interessieren¬ den Größe können auf der Grundlage einer geeigneten Vorverarbeitung bzw. Korrektur von zunächst in den einzelnen überlap- penden Teilbereichen gewonnenen Messwerten bereitgestellt werden. Hierfür kann zum Beispiel ein Stitching-Verfahren durchgeführt werden. Nachfolgend können der vereinigte Teil¬ bereich und die dazugehörigen gemeinsamen Messwerte bei der mit Hilfe der glatten Funktion und der Teilbereichsfunktionen durchgeführten Korrektur bzw. Approximation zur Anwendung kommen. Hierbei kann dem vereinigten Teilbereich eine entsprechende Teilbereichsfunktion zugeordnet werden, und kann der Korrekturablauf wie oben beschrieben bzw. gemäß einer der oben beschriebenen Ausführungsformen (beispielsweise Bildung von korrigierten Werten der Größe, Bestimmung und Verwendung von Koeffizienten der Teilbereichsfunktionen zur Korrektur, Verwendung der Pseudoinversen der Funktionenmatrix, der Korrekturmatrix, der Verlaufserzeugungsmatrix usw.) durchgeführt werden. Die dem vereinigten Teilbereich zugeordnete Teilbe- reichsfunktion ist derart gewählt, dass hiermit eine indivi¬ duelle Veränderung der Größe hervorrufbar bzw. die Größe je- weils um den gleichen Wert in dem Teilbereich veränderbar ist .
Es können auch mehrere vereinigte Teilbereiche gebildet, hierfür Messwerte bereitgestellt, und diese bei der Korrektur und Approximation berücksichtigt werden. Dieser Fall kann in Betracht kommen, wenn sich die Messung auf mehrere weitere Teilbereiche bezieht, welche mit anderen Teilbereichen über¬ lappen .
In einer weiteren Ausführungsform des Verfahrens, in welcher Messwerte der Größe in wenigstens einem weiteren Teilbereich des Parameterbereichs bereitgestellt werden, wobei der weite¬ re Teilbereich mit wenigstens einem der separaten und nicht überlappenden Teilbereiche überlappt, wird die Approximation mit einer weiteren, dem weiteren Teilbereich zugeordneten Teilbereichsfunktion durchgeführt, mit deren Hilfe eine indi¬ viduelle Veränderung der Größe in dem weiteren Teilbereich des Parameterbereichs hervorrufbar ist. Die weitere Teilbe- reichsfunktion kann derart gewählt sein, dass hiermit die in¬ teressierende Größe jeweils um den gleichen Wert in dem be¬ treffenden Teilbereich veränderbar ist. Bei mehreren weiteren Teilbereichen können in entsprechender Weise mehrere weitere Teilbereichsfunktionen zum Einsatz kommen.
Im Vergleich zu der zuvor beschriebenen Variante erfolgt somit keine Vorverarbeitung bzw. Vereinigung von Teilbereichen. Stattdessen wird ein weiterer überlappender Teilbereich wie die übrigen Teilbereiche behandelt. Der Korrekturablauf kann hierbei wie oben beschrieben bzw. gemäß einer der oben beschriebenen Ausführungsformen (beispielsweise Bildung von korrigierten Werten der Größe, Bestimmung und Verwendung von Koeffizienten der Teilbereichsfunktionen zur Korrektur, Verwendung der Pseudoinversen der Funktionenmatrix, der Korrek- turmatrix, der Verlaufserzeugungsmatrix usw.) durchgeführt werden. In dieser Ausgestaltung kann in einem Überlappungsbereich von überlappenden Teilbereichen eine zweifache, oder bei mehr als zwei überlappenden Teilbereichen eine mehrfache Approximation erfolgen.
Das Verfahren bzw. dessen unterschiedliche Ausführungsformen können im Hinblick auf unterschiedliche Größen zur Anwendung kommen. In Betracht kommt zum Beispiel eine optische Größe. Hierbei kann der Parameterbereich zwei Ortskoordinaten umfassen, und ein Bildfeld darstellen. Bei der optischen Größe kann es sich zum Beispiel um eine
Verzeichnungsgröße handeln, mit welcher eine in einem Bild¬ feld auftretende Verzeichnung, zum Beispiel eine kissenförmi- ge oder tonnenförmige Verzeichnung, wiedergegeben werden kann. Mit Hilfe des Verfahrens können fehlerbehaftete Mess- werte der Verzeichnungsgröße, welche in mehreren bzw. dis- junkten Teilbereichen des Bildfelds gewonnen werden, wie oben angegeben korrigiert werden. Hierbei kann es beispielsweise in Betracht kommen, die Verzeichnung über das gesamte Bild¬ feld zu rekonstruieren, indem zum Beispiel ein approximierter Verlauf der Verzeichnungsgröße über das Bildfeld und/oder Er¬ gänzungswerte der Größe zum Zwecke der Interpolation und/oder Extrapolation gebildet werden.
Ein weiteres Beispiel für eine optische Größe ist ein Wellen- frontfehler. Der Wellenfrontfehler kann zum Beispiel in Form eines Koeffizienten zu einem Zernike-Polynom einer Wellen- frontentwicklung vorliegen. Hierbei kann es sich zum Beispiel um einen eine Verzeichnung bzw. einen, ggf. lokalen, Bildversatz wiedergebenden Zernike-Koeffizienten zu Zernike-Polynom Z2 oder Z3, oder um einen einen Fokusversatz wiedergebenden Zernike-Koeffizienten zu Zernike-Polynom Z4 handeln. Bei den hier betrachteten Zernike-Polynomen Z2, Z3, Z4 handelt es sich um Zernike-Polynome gemäß der Nollschen Indizierung. Das Verfahren kann zur Anwendung kommen, um fehlerbehaftete Mess- werte des Wellenfrontfehlers , welche in disjunkten Teilberei¬ chen eines Bildfelds bereitgestellt werden, wie oben angege¬ ben zu korrigieren. In Bezug auf eine optische Größe ist gemäß einer weiteren Ausführungsform vorgesehen, dass die Messung eine mit Hilfe eines ortsauflösenden Sensors durchgeführte Strahlungsmessung ist. Bei dem ortsauflösenden Sensor kann es sich zum Beispiel um einen elektronischen Sensor mit einer Mehrzahl an strahlungsempfindlichen Sensorelementen bzw. Pixeln handeln. Der Sensor kann zum Beispiel in Form eines CCD-Sensors (Charge- Coupled Device) mit strahlungsempfindlichen Fotodioden ver- wirklicht sein. Messsignale des Sensors können, nach einer entsprechenden Weiterverarbeitung bzw. Auswertung, in ortsabhängige und sich auf Bildpunkte eines Bildfelds beziehende Messwerte der optischen Größe übersetzt werden. Das Bereitstellen von Messwerten der optischen Größe an Bildpunkten in mehreren bzw. disjunkten Teilbereichen eines Bildfelds unter Verwendung eines ortsauflösenden Sensors kann auf unterschiedliche Weise verwirklicht sein. Beispielsweise kann es in Betracht kommen, den Sensor für die Messung an unter- schiedlichen Messpositionen anzuordnen. Hierbei werden mit
Hilfe des Sensors nacheinander mehrere Teilmessungen durchge¬ führt, und wird der Sensor dazwischen zu den einzelnen Messpositionen bewegt. Bei einer solchen Vorgehensweise können Messfehler, durch welche Messwerte der optischen Größe in einzelnen Teilbereichen des Bildfelds unterschiedlich verfälscht werden können, eine Folge von Fehlpositionierungen des Sensors sein.
Möglich ist es auch, für die Messung einen ortsauflösenden Sensor zu verwenden, welcher mehrere Teilsensoren mit nicht aneinander grenzenden und nicht überlappenden Erfassungsbereichen aufweist. Auch auf diese Weise können Messwerte der optischen Größe an Bildpunkten in disjunkten Teilbereichen eines Bildfelds bereitgestellt werden. Hierbei können Mess- fehler, durch welche Messwerte der optischen Größe in einzel¬ nen Teilbereichen des Bildfelds unterschiedlich verfälscht sein können, durch Lagefehler von Teilsensoren des Sensors verursacht sein.
Neben einem elektronischen Sensor bzw. CCD-Sensor können auch andere ortsauflösende Sensoren zum Einsatz kommen. Ein Beispiel ist ein Sensor, welcher eine lichtempfindliche Schicht, beispielsweise eine fotografische Platte oder einen Film, aufweist. Nach der Strahlungsmessung bzw. Belichtung der lichtempfindlichen Schicht kann eine Entwicklung derselben erfolgen, und können im Rahmen einer Analyse der Schicht ortsabhängige Messwerte der optischen Größe an Bildpunkten eines Bildfelds bereitgestellt werden. Ein Bereitstellen von Messwerten der optischen Größe in disjunkten Teilbereichen des Bildfelds kann zum Beispiel dadurch erfolgen, dass sich die Analyse nur auf Teilbereiche der Schicht bezieht, die Schicht nur in Teilbereichen bestrahlt wird, oder eine in Teilbereiche unterteilte Schicht verwendet wird.
Anstelle einer optischen Größe kann das Verfahren auch in Be- zug auf andere, in mehreren bzw. disjunkten Teilbereichen eines Parameterbereichs gemessene Größen zur Anwendung kommen. Ein mögliches Beispiel ist eine Höhe bzw. eine vertikale Aus¬ dehnung eines Prüflings. Hierbei kann es in ebenfalls Be¬ tracht kommen, mit Hilfe einer Messung entsprechende ortsab- hängige Messwerte in disjunkten Teilbereichen eines zweidi¬ mensionalen Bildfelds bereitzustellen, und Messfehler durch Durchführen des oben beschriebenen Verfahrens zu korrigieren. Die Messung der Höhe kann zum Beispiel mit Hilfe eines Ras- terkraftmikroskops oder mit Hilfe eines Oberflächeninterfero- meters durchgeführt werden.
Gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung wird ein Verfahren zur Justage einer Abbildungsoptik eines optischen Systems vorgeschlagen. Hierbei wird unter Verwendung eines ortsauflö- senden Sensors, welcher mit einer von der Abbildungsoptik kommenden Strahlung bestrahlbar ist, das oben beschriebene bzw. gemäß einer der vorstehend beschriebenen Ausführungsfor- men ausgestaltete Verfahren zur Ermittlung einer korrigierten optischen Größe durchgeführt. Des Weiteren wird die Abbil¬ dungsoptik auf der Grundlage der korrigierten optischen Größe j ustiert .
Durch das Bereitstellen von Messwerten der optischen Größe in mehreren bzw. disjunkten Teilbereichen eines Bildfelds, was wie oben angegeben zum Beispiel durch Messen mit einem Sensor an unterschiedlichen Messpositionen oder Verwendung eines Sensors mit mehreren Teilsensoren erfolgen kann, ist eine kostengünstige Messung möglich. Die Korrektur von hiermit einhergehenden Messfehlern ermöglicht es, die Justage der Abbildungsoptik mit einer hohen Zuverlässigkeit und Genauigkeit durchführen. Mit Hilfe der korrigierten optischen Größe kön- nen die Abbildungseigenschaften der Abbildungsoptik genau wiedergegeben, und dadurch im Rahmen der Justage berücksichtigt und optimiert werden. Der Einfluss von Messfehlern, was zu einer Verfälschung von Messwerten der optischen Größe führt, kann durch die Korrektur weitgehend eliminiert werden.
Im Hinblick auf das Justageverfahren ist es möglich, die bei der Approximation und Korrektur verwendete glatte Funktion bzw. deren Basisfunktionen auf der Kenntnis der optischen Eigenschaften der Abbildungsoptik festzulegen.
Das Ermitteln der korrigierten optischen Größe, auf deren Grundlage die Justage durchgeführt wird, kann zum Beispiel eine Bildung von korrigierten Werten der optischen Größe umfassen. Zusätzlich oder alternativ kann die Bildung eines ap- proximierten Verlaufs der optischen Größe und/oder die Bildung wenigstens eines Ergänzungswerts der optischen Größe vorgesehen sein.
Der ortsauflösende Sensor kann ein Bestandteil des optischen Systems sein oder nicht. In der zweiten Variante kann der Sensor zum Beispiel im Rahmen eines Aufbaus des optischen Systems zum Einsatz kommen. Mit Bezug auf die mit Hilfe des ortsauflösenden Sensors durchgeführte Strahlungsmessung kann es ferner in Betracht kommen, eine oder mehrere geeignete Teststrukturen bzw. Mar- kierungen, auf deren Grundlage die ortsabhängigen Messwerte der optischen Größe bereitgestellt werden können, in das teilbereichsweise bzw. disjunkt gemessene Bildfeld abzubil¬ den. Zu diesem Zweck kann zum Beispiel ein Objekt, beispiels¬ weise ein Retikel, zum Einsatz kommen, welches die Teststruk- tur (en) aufweist, und welches mit der verwendeten Strahlung bestrahlt wird. Über die Abbildungsoptik kann die von dem Objekt kommende Strahlung, d.h. ein transmittierter oder reflektierter Strahlungsanteil, zu dem ortsauflösenden Sensor geführt werden.
Gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung wird eine Vorrichtung zur Ermittlung einer korrigierten und von mindestens einem Parameter abhängigen Größe in einem Parameterbereich des mindestens einen Parameters vorgeschlagen. Die Vorrichtung weist eine Messeinrichtung auf, mit deren Hilfe Messwerte der Größe in mehreren separaten und nicht überlappenden Teilbereichen des Parameterbereichs bereitstellbar sind. Die Vor¬ richtung weist ferner eine Auswerteeinrichtung zur Korrektur von Messwerten der Größe auf. Die Auswerteeinrichtung ist ausgebildet, die Korrektur unter Verwendung einer Approximation durchzuführen, in welcher Messwerte der Größe mit einer glatten Funktion und mit den Teilbereichen zugeordneten Teilbereichsfunktionen approximiert werden. Mit Hilfe der glatten Funktion ist ein Verlauf der Größe über den Parameterbereich wiedergebbar. Mit Hilfe der Teilbereichsfunktionen ist eine individuelle Veränderung der Größe in den Teilbereichen des Parameterbereichs hervorrufbar .
Bei der Vorrichtung können Messwerte der Größe in mehreren disjunkten Teilbereichen des Parameterbereichs bereitgestellt werden. Daher kann die Messeinrichtung einen kostengünstigen Aufbau besitzen. Ein hiermit verbundener möglicher Effekt, dass die Messwerte der Größe in einzelnen Teilbereichen des Parameterbereichs jeweils eigene und von anderen Teilberei¬ chen unabhängige Messfehler aufweisen, kann durch die Korrektur mit Hilfe der Auswerteeinrichtung unterdrückt werden.
Es wird darauf hingewiesen, dass oben mit Bezug auf das Kor¬ rekturverfahren und das Justageverfahren beschriebene Aspekte und Details auch bei der Vorrichtung zur Anwendung kommen können. In diesem Zusammenhang wird ferner auf die Möglich- keit hingewiesen, die Vorrichtung im Rahmen der oben beschriebenen Justage einer Abbildungsoptik eines optischen Systems einzusetzen.
Des Weiteren wird auf die Möglichkeit hingewiesen, mit Hilfe des Verfahrens bzw. der Vorrichtung mehrere korrigierte Grö¬ ßen in einem gemeinsamen Parameterbereich zu ermitteln. Hierbei können Messwerte der mehreren Größen in mehreren bzw. disjunkten Teilbereichen des Parameterbereichs bereitgestellt werden, und kann für jede der Größen eine eigene separate Fehlerkorrektur (mit jeweils eigenständiger Approximation), wie sie oben beschrieben wurde, durchgeführt werden. Für jede der betrachteten Größen können zum Beispiel korrigierte Werte, ein approximierter Verlauf und/oder wenigstens ein Ergänzungswert bereitgestellt werden. Dies kann zum Beispiel für optische Größen wie die oben beschriebenen Wellenfrontfehler bzw. Koeffizienten zu Zernike-Polynomen einer Wellenfrontent- wicklung in Betracht kommen.
Bei mehreren interessierenden Größen, insbesondere optischen Größen wie Wellenfrontfehlern, kann es zu einem Übersprechen zwischen verschiedenen Größen kommen. Hierbei können Fehlerursachen für Mess- bzw. Offsetfehler, welche sich auf eine erste Größe beziehen, auch eine Messverfälschung von wenigstens einer weiteren zweiten Größe hervorrufen. Beispielsweise können Fehlpositionierungen eines Sensors, durch welche Messfehler bei der Messung des einen Fokusversatz wiedergebenden Koeffizienten zu Zernike-Polynom Z4 hervorgerufen werden, auch zu Messfehlern in Bezug auf den einen Bildversatz wiedergebenden Zernike-Koeffizienten zu Zernike-Polynom Z2 und/oder Z3 führen. Das Übersprechen lässt sich unterdrücken, indem auf der
Grundlage einer Fehlerkorrektur der ersten Größe, welche gemäß den obigen Ansätzen unter Verwendung einer Approximation erfolgt, eine zusätzliche Korrektur der zweiten Größe bzw. von Messwerten der zweiten Größe durchgeführt wird. Bei- spielsweise kann die zusätzliche Korrektur der zweiten Größe basierend auf Koeffizienten von Teilbereichsfunktionen erfolgen, welche im Rahmen der Fehlerkorrektur der ersten Größe bestimmt werden. Die zusätzliche Korrektur der zweiten Größe kann vor oder nach einer, gemäß den obigen Ansätzen unter Verwendung einer Approximation durchgeführten Fehlerkorrektur der zweiten Größe vorgesehen sein.
Des Weiteren wird auf die Möglichkeit hingewiesen, das Ver¬ fahren bzw. die Vorrichtung nicht nur zur Unterdrückung von Offsetfehlern, sondern auch zur Unterdrückung von anderen, in Teilbereichen des Parameterbereichs individuell auftretenden Messfehlern einzusetzen. Hierzu werden geeignete Teilbereichsfunktionen verwendet, mit deren Hilfe das Auftreten derartiger Messfehler in den Teilbereichen des Parameterbe- reichs nachgebildet werden kann.
In diesem Zusammenhang kann es zum Beispiel in Betracht kommen, Teilbereichsfunktionen zu verwenden, wobei sämtliche Teilbereichsfunktionen oder ein Teil bzw. eine Untergruppe der Teilbereichsfunktionen zusammengesetzt einen glatten Verlauf über den Parameterbereich beschreiben. Um hierbei eine eindeutige Approximation zu ermöglichen, ist es denkbar, für sämtliche Teilbereichsfunktionen oder für die Untergruppe der Teilbereichsfunktionen modifizierte Teilbereichsfunktionen bereitzustellen, deren Summe gleich Null ist. Das ist zum
Beispiel möglich, indem von jeder dieser Teilbereichsfunktio¬ nen die skalierte Summe aller dieser Teilbereichsfunktionen abgezogen wird, wobei der Skalierungsfaktor das Reziproke der Anzahl dieser Teilbereichsfunktionen ist. Alternativ zur Modifikation der Teilbereichsfunktionen sind weitere Vorgehensweisen denkbar, um eine eindeutige Approximation zu ermögli- chen. Beispielsweise können die zugehörigen Koeffizienten der Teilbereichsfunktionen vor Bildung des oben beschriebenen, zur Subtraktion von dem Vektor aus Messwerten der betrachteten Größe vorgesehenen Produkts (Produkt der Matrix aus Teil¬ bereichsfunktionen mit dem Vektor der Koeffizienten der Teil- bereichsfunktionen) entsprechend modifiziert werden.
Im Hinblick auf mehrere Wellenfrontfehler kann ferner die folgende Vorgehensweise in Betracht kommen. Gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung wird ein Verfahren zur Ermittlung von mehreren korrigierten und von zwei Ortskoordinaten abhängigen Wellenfrontfehlern in einem Bildfeld vorgeschlagen. Das Verfahren umfasst ein Durchführen einer Strahlungsmessung mit Hilfe eines ortsauflösenden Sensors, wobei Messwerte der mehreren Wellenfrontfehler in mehreren separaten und nicht überlappenden Teilbereichen des Bildfelds bereitgestellt werden. Das Verfahren umfasst des Weiteren ein Durchführen einer gemeinsamen Korrektur von Messwerten der mehreren Wellenfrontfehler unter Verwendung einer Approxima- tion, in welcher Messwerte der Wellenfrontfehler mit mehreren, den Wellenfrontfehlern zugeordneten glatten Funktionen und mit den Teilbereichen des Bildfelds zugeordneten Teilbereichsfunktionen approximiert werden. Mit Hilfe der glatten Funktionen sind Verläufe der mehreren Wellenfrontfehler über das Bildfeld wiedergebbar. Mit Hilfe der Teilbereichsfunktio¬ nen ist der Einfluss von fehlerhaften Positionierungen des ortsauflösenden Sensors auf die Messwerte der mehreren Wel¬ lenfrontfehler wiedergebbar. Dieses Verfahren ermöglicht eine kostengünstige Messung, da Messwerte in mehreren Teilbereichen des Bildfelds bereitge¬ stellt werden. Dies kann zur Folge haben, dass die Messwerte aufgrund von fehlerhaften Positionierungen des Sensors Messfehler aufweisen. Anstatt eine separate Fehlerkorrektur durchzuführen, werden bei dem vorstehend beschriebenen Verfahren die interessierenden Wellenfrontfehler gemeinsam be- handelt und simultan approximiert. Verwendet werden den be¬ trachteten Wellenfrontfehlern zugeordnete glatte Funktionen, über welche Verläufe der Wellenfrontfehler über das Bildfeld wiedergebbar sind, und den Teilbereichen des Bildfelds zugeordnete Teilbereichsfunktionen. Die Teilbereichsfunktionen sind derart gewählt, dass hiermit tatsächliche Auswirkungen von fehlerhaften Positionierungen des Sensors auf die gemessenen Wellenfrontfehler nachgebildet bzw. modelliert werden. Auf diese Weise ist eine genaue und zuverlässige Korrektur der Wellenfrontfehler möglich, und können daher korrigierte Wellenfrontfehler bereitgestellt werden, welche mit den tat¬ sächlichen Wellenfrontfehlern gut übereinstimmen.
Die Wirkungen von fehlerhaften Positionierungen des ortsauflösenden Sensors auf die gemessenen Wellenfrontfehler lassen sich zum Beispiel mit Hilfe einer Messung oder einer Simulation, beispielsweise durch Strahlpropagation, bestimmen. Hierauf basierend können die bei dem Verfahren verwendeten Teilbereichsfunktionen festgelegt werden. Mit Hilfe der Teilbereichsfunktionen können zum Beispiel fehlerhafte Positionie- rungen bezogen auf Translationsfreiheitsgrade und Rotations- freiheitsgrade beschrieben werden. In Bezug auf ein orthogo¬ nales xyz-Koordinatensystem können dx-, dy-, dz-Translationen und drx-, dry-, drz-Rotationen modelliert werden. Im Folgenden werden weitere mögliche Ausführungsformen und Details des Verfahrens zur gemeinsamen Korrektur mehrerer Wellenfrontfehler beschrieben. Hierbei können zu einem großen Teil dieselben bzw. übereinstimmende Merkmale und analoge Schritte zur Anwendung kommen, wie sie oben mit Bezug auf das Verfahren zur Ermittlung einer einzelnen korrigierten Größe beschrieben wurden. In diesem Sinne wird auf die obige Beschreibung Bezug genommen. Beispielsweise können die Wellenfrontfehler von einer Abbil¬ dungsoptik eines optischen Systems verursacht sein. Im Rahmen der Strahlungsmessung kann der ortsauflösende Sensor mit der von der Abbildungsoptik kommenden Strahlung bestrahlt werden. In diesem Zusammenhang wird ferner auf die Möglichkeit hinge¬ wiesen, das Verfahren zur Ermittlung der mehreren korrigierten Wellenfrontfehler durchzuführen, und hierauf basierend die Abbildungsoptik zu justieren.
Die mit Hilfe des Verfahrens korrigierten Wellenfrontfehler können zum Beispiel in Form von Koeffizienten zu Zernike- Polynomen einer Wellenfrontentwicklung vorliegen. Mit Hilfe des Verfahrens können zum Beispiel die Zernike-Koeffizienten zu den Zernike-Polynomen Z2, Z3 und Z4 in gemeinsamer Weise korrigiert werden.
In einer weiteren Ausführungsform wird der ortsauflösende Sensor an unterschiedlichen Messpositionen angeordnet. Mess- fehler können hierbei durch Fehlpositionierungen des Sensors verursacht sein.
Möglich ist es auch, dass der ortsauflösende Sensor mehrere Teilsensoren aufweist. Hierbei können fehlerhafte Positionie- rungen und dadurch Messfehler eine Folge von Lagefehlern von Teilsensoren des Sensors sein.
Die verwendeten glatten Funktionen können jeweils mehrere Basisfunktionen umfassen. Bei den glatten Funktionen kann es sich zum Beispiel um Polynomfunktionen handeln.
In einer weiteren Ausführungsform umfasst die Korrektur eine Bildung von korrigierten Werten der mehreren Wellenfrontfehler. Hierbei können fehlerbehaftete Messwerte der Wellen- frontfehler durch die entsprechenden korrigierten Werte, welche auch als rekonstruierte Werte bezeichnet werden können, ersetzt werden. In einer weiteren Ausführungsform umfasst die Approximation eine Bestimmung von Koeffizienten der Teilbereichsfunktionen. Des Weiteren werden Messwerte der mehreren Wellenfrontfehler unter Verwendung der Koeffizienten der Teilbereichsfunktionen korrigiert. Auf diese Weise können korrigierte Werte zum Er¬ setzen von fehlerbehafteten Messwerten der Wellenfrontfehler gebildet werden. Oben genannte Verfahrensvarianten, in welchen Komponenten wie beispielsweise eine Funktionenmatrix bzw. deren Pseudoinverse verwendet werden, können in analoger Weise zur Anwendung kommen. Mögliche Ausführungsformen werden im Folgenden näher beschrieben .
In einer weiteren Ausführungsform umfasst die Approximation eine Bildung einer Funktionenmatrix aus Teilbereichsfunktionen und Basisfunktionen der glatten Funktionen, eine Bildung der Pseudoinversen der Funktionenmatrix, und eine Multiplika- tion der Pseudoinversen der Funktionenmatrix mit einem Vektor aus Messwerten der mehreren Wellenfrontfehler zur Bildung eines Koeffizientenvektors. Der Koeffizientenvektor umfasst Ko¬ effizienten der Teilbereichsfunktionen und Koeffizienten der Basisfunktionen der glatten Funktionen. Auf diese Weise lässt sich der Forderung nach einer Annäherung an die Messwerte der Wellenfrontfehler durch die glatten Funktionen und die Teilbereichsfunktionen mit einer minimalen Abweichung entsprechen, und können Koeffizienten der Teilbereichsfunktionen zuverlässig bereitgestellt werden.
In einer weiteren Ausführungsform umfasst die Korrektur eine Multiplikation einer Matrix aus Teilbereichsfunktionen mit einem Vektor aus (mittels der Approximation ermittelten) Koeffizienten der Teilbereichsfunktionen zur Bildung eines Pro- dukts, und eine Subtraktion des Produkts bis auf dessen Mit¬ telwert von dem Vektor aus Messwerten der mehreren Wellen- frontfehler. Auf diese Weise können korrigierte Werte der Wellenfrontfehler gebildet werden, welche den tatsächlichen Wellenfrontfehlen im Wesentlichen entsprechen können.
Bei dem Produkt kann es sich um die Einträge bzw. Gewichtun- gen sämtlicher angenäherter Teilbereichfunktionen handeln.
Der Formulierung „bis auf dessen Mittelwert" kann entsprochen werden, indem der Mittelwert des Produkts von dem Produkt subtrahiert wird, und dieser Term von dem Vektor aus Messwerten der mehreren Wellenfrontfehler subtrahiert wird. Hier- durch kann erzielt werden, dass vorwiegend relative, also von Teilbereich zu Teilbereich des Bildfelds vorliegende und auf Messfehlern beruhende Unterschiede in den Messwerten der Wellenfrontfehler korrigiert werden. Eine einheitliche bzw. glo¬ bale Korrektur über sämtliche Teilbereiche des Bildfelds wird daher vermieden.
In einer weiteren Ausführungsform werden mittelwertfreie Teilbereichsfunktionen verwendet. Hierbei handelt es sich um Teilbereichsfunktionen, welche bezogen auf das Bildfeld den Mittelwert Null besitzen. Solche Teilbereichsfunktionen können gebildet werden, indem von jeder der mittelwertbehafteten Teilbereichsfunktionen jeweils der dazugehörige Mittelwert subtrahiert wird. Der Einsatz von mittelwertfreien Teilbereichsfunktionen ermöglicht eine eindeutige Approximation und macht es möglich, dass die oben beschriebene Subtraktion des Mittelwerts des Produkts implizit in der Approximation und Korrektur enthalten ist. Das Produkt weist hierbei den Mit¬ telwert Null auf, wodurch die Subtraktion entfallen kann. In Bezug auf den oben beschriebenen Korrekturschritt kann daher, sofern mittelwertfreie Teilbereichsfunktionen verwendet werden, lediglich das Produkt von dem Vektor aus Messwerten der mehreren Wellenfrontfehler subtrahiert werden.
Darüber hinaus sind folgende weitere Ausführungsformen denk- bar, welche eine eindeutige Approximation ermöglichen. Sollen beispielsweise durch alle oder einen Teil der Teilbereichs¬ funktionen die Wirkungen von Fehlpositionierungen eines Sen- sors bezüglich eines bestimmten Freiheitsgrads wiedergegeben werden, wobei das Ausmaß der Fehlpositionierung der Einfachheit halber für jede Teilbereichsfunktion gleich groß gewählt sein kann, können für diese Teilbereichsfunktionen modifi- zierte Teilbereichsfunktionen bereitgestellt werden, deren Summe gleich Null ist. Das ist möglich, indem von jeder dieser Teilbereichsfunktionen die skalierte Summe aller dieser Teilbereichsfunktionen abgezogen wird, wobei der Skalierungsfaktor das Reziproke der Anzahl dieser Teilbereichsfunktionen ist. Dadurch kann erreicht werden, dass durch diese Teilbe¬ reichsfunktionen nur Unterschiede in der Positionierung des Sensors bezüglich dieses Freiheitsgrads erfasst werden, je¬ doch keine globale Fehlpositionierung. Alternativ zur Modifikation der Teilbereichsfunktionen kann dies erreicht werden, indem die zugehörigen Koeffizienten vor Bildung des oben beschriebenen, zur Subtraktion von dem Vektor aus Messwerten der mehreren Wellenfrontfehler vorgesehenen Produkts (Produkt der Matrix aus Teilbereichsfunktionen mit dem Vektor der Koeffizienten der Teilbereichsfunktionen) entsprechend modifi- ziert werden.
In einer weiteren Ausführungsform werden die Approximation und Korrektur in gemeinsamer Weise durchgeführt, indem eine Funktionenmatrix aus Teilbereichsfunktionen und Basisfunktio- nen der glatten Funktionen gebildet wird, die Pseudoinverse der Funktionenmatrix gebildet wird, eine Teilmatrix aus der Pseudoinversen der Funktionenmatrix gebildet wird, wobei über die Teilmatrix Koeffizienten der Teilbereichsfunktionen erzeugbar sind, eine Matrix aus Teilbereichsfunktionen mit der Teilmatrix zum Bilden eines Produkts multipliziert wird, das Produkt von einer Identitätsmatrix zur Bildung einer Korrekturmatrix subtrahiert wird, und die Korrekturmatrix mit einem Vektor aus Messwerten der mehreren Wellenfrontfehler multipliziert wird. Diese Ausführungsform, in welcher korrigierte Werte der mehreren Wellenfrontfehler auf einfache Weise gebildet werden können, wird ebenfalls der Forderung gerecht, eine Annäherung an die Messwerte der Wellenfrontfehler durch die glatten Funktionen und die Teilbereichsfunktionen mit einer minimalen Abweichung zu erzielen.
Zusätzlich oder alternativ zur Bildung von korrigierten Wer- ten der Wellenfrontfehler lässt sich eine weitere Ausführungsform durchführen, in welcher die Korrektur eine Bildung von approximierten Verläufen der mehreren Wellenfrontfehler umfasst. Dies ermöglicht eine Eliminierung von Punktrauschen. Es kann in Betracht kommen, die Messwerte der mehreren Wel- lenfrontfehler durch die approximierten Verläufe zu ersetzen.
Des Weiteren kann eine Interpolation und/oder Extrapolation erfolgen, indem wenigstens ein Ergänzungswert von wenigstens einem der Wellenfrontfehler gebildet wird, wobei der Ergän- zungswert zu Ortskoordinaten gehört, für welche kein Messwert des Wellenfrontfehlers vorliegt. Diese Ausführungsform kann auf der Grundlage eines approximierten Verlaufs des betref¬ fenden Wellenfrontfehlers durchgeführt werden. Das Bilden von approximierten Verläufen der mehreren Wellen- frontfehler kann mit Hilfe der folgenden Ausführungsform verwirklicht werden. Hierbei wird eine Funktionenmatrix aus Teilbereichsfunktionen und Basisfunktionen der glatten Funktionen gebildet, wird die Pseudoinverse der Funktionenmatrix gebildet, wird eine Teilmatrix aus der Pseudoinversen der
Funktionenmatrix gebildet, wobei über die Teilmatrix Koeffizienten der Basisfunktionen der glatten Funktionen erzeugbar sind, wird eine Matrix aus Basisfunktionen der glatten Funktionen mit der Teilmatrix zur Bildung einer Verlaufserzeu- gungsmatrix multipliziert, und wird die Verlaufserzeugungs¬ matrix mit einem Vektor aus Messwerten der mehreren Wellen- frontfehler multipliziert. Diese Ausführungsform, gemäß wel¬ cher approximierte Verläufe der mehreren Wellenfrontfehler auf einfache Weise gebildet werden können, wird ebenfalls der Forderung gerecht, eine Annäherung an die Messwerte der Wel¬ lenfrontfehler mit einer minimalen Abweichung zu verwirkli- chen .
Hinsichtlich des vorstehend beschriebenen Verfahrens ist es denkbar, dass sich die Strahlungsmessung auf mehrere separa- te, nicht überlappende Teilbereiche und zusätzlich wenigstens einen weiteren Teilbereich des Bildfelds bezieht, welcher mit wenigstens einem der separaten, nicht überlappenden Teilbereiche überlappt. Hierbei kann es in Betracht kommen, dass wenigstens ein Teilbereich der bei dem Verfahren berücksich- tigten disjunkten Teilbereiche ein vereinigter Teilbereich ist, für welchen gemeinsame Messwerte der mehreren Wellen- frontfehler bereitgestellt werden, und für welchen eine zugeordnete Teilbereichsfunktion zur Wiedergabe des Einflusses fehlerhafter Sensorpositionierungen eingesetzt wird. Ein sol- eher vereinigter Teilbereich kann aus überlappenden Teilbereichen zusammengesetzt werden. Gemeinsame Messwerte der meh¬ reren Wellenfrontfehler des vereinigten Teilbereichs können basierend auf einer geeigneten Vorverarbeitung (zum Beispiel Stitching) von zunächst in den einzelnen überlappenden Teil- bereichen gewonnenen Messwerten bereitgestellt werden. Nachfolgend können der vereinigte Teilbereich und die dazugehörigen Messwerte bei der mit Hilfe der glatten Funktionen und der Teilbereichsfunktionen durchgeführten gemeinsamen Korrektur bzw. Approximation zur Anwendung kommen. Es können auch mehrere vereinigte Teilbereiche gebildet und berücksichtigt werden .
Anstelle mit vereinigten Teilbereichen zu arbeiten, ist folgende Ausführungsform möglich. Hierbei werden Messwerte der mehreren Wellenfrontfehler in wenigstens einem weiteren Teilbereich des Parameterbereichs bereitgestellt, wobei der wei¬ tere Teilbereich mit wenigstens einem der separaten und nicht überlappenden Teilbereiche überlappt, und wird die Approxima¬ tion mit einer weiteren, dem weiteren Teilbereich zugeordne- ten Teilbereichsfunktion durchgeführt, mit deren Hilfe fehlerhafte Positionierungen des ortsauflösenden Sensors wiedergebbar sind. Bei mehreren weiteren Teilbereichen kommen in entsprechender Weise mehrere zugehörige Teilbereichsfunktio¬ nen zum Einsatz.
Es kann ferner eine entsprechende Vorrichtung zur Ermittlung von mehreren korrigierten und von zwei Ortskoordinaten abhängigen Wellenfrontfehlern in einem Bildfeld zum Einsatz kommen. Die Vorrichtung weist einen ortsauflösenden Sensor zum Durchführen einer Strahlungsmessung auf, mit dessen Hilfe Messwerte der mehreren Wellenfrontfehler in mehreren separa- ten und nicht überlappenden Teilbereichen des Bildfelds bereitstellbar sind. Die Vorrichtung weist ferner eine Auswerteeinrichtung zur gemeinsamen Korrektur von Messwerten der mehreren Wellenfrontfehler auf. Die Auswerteeinrichtung ist ausgebildet, die Korrektur unter Verwendung einer Approxima- tion durchzuführen, in welcher Messwerte der Wellenfrontfehler mit mehreren, den Wellenfrontfehlern zugeordneten glatten Funktionen und mit den Teilbereichen des Bildfelds zugeordne¬ ten Teilbereichsfunktionen approximiert werden. Mit Hilfe der glatten Funktionen sind Verläufe der mehreren Wellenfrontfeh- 1er über das Bildfeld wiedergebbar. Mit Hilfe der Teilbe¬ reichsfunktionen ist der Einfluss von fehlerhaften Positionierungen des ortsauflösenden Sensors auf die Messwerte der mehreren Wellenfrontfehler wiedergebbar. Oben mit Bezug auf das Verfahren zur gemeinsamen Korrektur mehrerer Wellenfrontfehler beschriebene Aspekte und Details können auch bei der Vorrichtung zur Anwendung kommen.
Die vorstehend erläuterten und/oder in den Unteransprüchen wiedergegebenen vorteilhaften Aus- und Weiterbildungen der Erfindung können - außer zum Beispiel in Fällen eindeutiger Abhängigkeiten oder unvereinbarer Alternativen - einzeln oder aber auch in beliebiger Kombination miteinander zur Anwendung kommen .
Die Erfindung wird im Folgenden anhand der schematischen Figuren näher erläutert. Es zeigen: Figur 1 ein optisches System umfassend eine Abbildungsoptik, mit deren Hilfe an einem Objekt reflektierte Strahlung zu ei¬ nem Sensor geführt werden kann;
Figur 2 eine Darstellung von Messpositionen eines Sensors einschließlich lateraler Fehlpositionierungen und deren Auswirkung auf eine Messung eines Wellenfrontfehlers ; Figur 3 eine Darstellung eines Bildfelds mit einem Verzeichnungsgitter und mit Teilbereichen, welche Soll-Messpositionen und hiervon abweichende tatsächliche Messpositionen eines Sensors veranschaulichen; Figur 4 eine weitere Darstellung des Bildfelds von Figur 3, wobei die zu den tatsächlichen Messpositionen gehörenden Teilbereiche des Bildfelds an den Soll-Messpositionen ange¬ ordnet sind; Figur 5 eine weitere Darstellung von Messpositionen eines Sensors einschließlich vertikaler Fehlpositionierungen und deren Auswirkung auf eine Messung eines Wellenfrontfehlers ;
Figur 6 ein weiteres optisches System umfassend eine Abbil- dungsoptik, mit deren Hilfe durch ein Objekt transmittierte Strahlung zu einem Sensor geführt werden kann;
Figur 7 eine Darstellung von Werten eines Wellenfronfehlers an Bildpunkten in Teilbereichen eines Bildfelds, umfassend tatsächliche, gemessene und rekonstruierte Werte des Wellen- frontfehlers ; und
Figuren 8 bis 10 Darstellungen eines Bildfelds mit unterschiedlichen Anordnungen von Teilbereichen.
Im Folgenden wird ein Konzept zur Ermittlung einer korrigierten und von mindestens einem Parameter abhängigen Größe in einem Parameterbereich des mindestens einen Parameters be¬ schrieben. Hierbei werden auf der Grundlage einer Messung Messwerte der Größe in mehreren bzw. disjunkten, d.h. voneinander separaten und nicht überlappenden Teilbereichen des Parameterbereichs bereitgestellt. Dies kann dazu führen, dass die Messwerte der Größe in einzelnen Teilbereichen des Parameterbereichs mit Messfehlern behaftet sind, welche individu¬ ell in den Teilbereichen auftreten. Von Teilbereich zu Teilbereich kann eine Variation der Messfehler vorliegen. Eine solche Verfälschung der Messwerte der Größe vermindert deren Aussagekraft. Derartige Fehlerbeiträge können mit der hier beschriebenen Methode bereinigt oder zumindest teilweise bzw. zu einem wesentlichen Teil verringert werden. Zur besseren Verdeutlichung wird das Korrekturverfahren beispielhaft im Zusammenhang mit optischen Systemen 100, 101 beschrieben, welche eine Abbildungsoptik 130 umfassen. Bei der zu korrigierenden Größe handelt es sich um eine ortsabhängige optische Größe, und zwar um einen von der Abbildungsoptik 130 verursachten Abbildungs- bzw. Wellenfrontfehler . Dies wird zum Teil anhand von Koeffizienten zu einem Zernike-Polynom einer Wellenfrontentwicklung erläutert. Betrachtet werden Zernike-Koeffizienten zu den Zernike-Polynomen Z2 und Z3, über welche ein Bildfehler in Form einer lateralen Verzeich- nung bzw. eines Bildversatzes wiedergegeben wird, und um ei¬ nen einen Fokusversatz wiedergebenden Zernike-Koeffizienten zum Zernike-Polynom Z4. Hierbei handelt es sich um die Zerni- ke-Polynome gemäß der Nollschen Indizierung. Zur Vereinfachung der folgenden Beschreibung werden im Folgenden mit Z2, Z3, Z4 auch die Koeffizienten zu den entsprechenden Zernike- Polynomen bezeichnet.
Der dazugehörige Parameterbereich der Wellenfrontaberrationen umfasst zwei laterale orthogonale Ortskoordinaten, im Folgen- den mit x und y bezeichnet, und stellt ein zweidimensionales Bildfeld 150 dar. Zur Vereinfachung der folgenden Beschreibung sind derartige und sich auf das Bildfeld 150 beziehende Ortskoordinaten x, y, gegebenenfalls ergänzt um eine weitere vertikale orthogonale Ortskoordinate z, in den Figuren anhand von Achsen eines orthogonalen xy- bzw. xyz-Koordinatensystems angedeutet .
Figur 1 zeigt ein optisches System 100, welches zur Inspekti¬ on eines reflektierenden Objekts 121 eingesetzt werden kann. Bei dem Objekt 121 kann es sich um eine Lithographiemaske bzw. um ein Retikel handeln, welches mit dem Inspektionssys- tem 100 im Hinblick auf Defekte untersucht werden kann. Das Objekt 121 befindet sich in einer Objektebene 120.
Das System 100 weist Mittel zum Bestrahlen des Objekts 121 mit Strahlung 115 auf. Derartige Mittel sind in Figur 1 in Form eines Beleuchtungssystems 110 zusammengefasst . Eine wei¬ tere Komponente des Systems 100 ist eine Projektions- bzw. Abbildungsoptik 130, welche dazu dient, einen an dem Objekt 121 reflektierten Anteil der Strahlung 115 in Richtung einer Bildebene 140 zu führen. Auf diese Weise kann ein Objektfeld der Objektebene 120 mit Hilfe der Abbildungsoptik 130 in ein Bildfeld 150 der Bildebene 140 abgebildet werden. Das Bild¬ feld 150 kann zum Beispiel laterale Abmessungen im zweistel¬ ligen Zentimeterbereich, zum Beispiel von ca. 21cm x 28cm, aufweisen .
Im Bereich der Bildebene 140 ist ein ortsauflösender und zur Strahlungsmessung ausgebildeter Sensor 141 angeordnet, welcher mit der von der Abbildungsoptik 130 kommenden Strahlung 115 bestrahlbar ist. Der Sensor 141 kann ein elektronischer Sensor mit einer Anordnung aus strahlungsempfindlichen Sensorelementen bzw. Pixeln sein. In einer möglichen Ausgestaltung ist der Sensor 141 in Form eines CCD-Sensors (Charge-Coupled Device) mit strahlungsempfindlichen Fotodioden verwirklicht. Beispielsweise kann der Sensor 141 als zeitverzögernd integ- rierender CCD-Sensor (TDI-CCD, Time Delay and Integration
Charge-Coupled Device) ausgebildet sein. Um Messsignale des Sensors 141 weiterzuverarbeiten bzw. auszuwerten, kommt eine mit dem Sensor 141 gekoppelte Auswerteeinrichtung 160 zum Einsatz. Mit Hilfe der Auswerteeinrichtung 160 können Messwerte einer interessierenden optischen Größe an Bildpunkten des Bildfelds 150 bereitgestellt werden.
Bei einer mit Hilfe des Systems 100 durchgeführten Maskeninspektion kann zum Beispiel Strahlung 115 mit derselben Wellenlänge eingesetzt werden, wie sie auch in einem Lithogra- phieprozess verwendet wird. Daher kann dieser Vorgang als ak- tinische Untersuchung bezeichnet werden.
Bei dem System 100 erfolgt eine Strahlungserfassung nicht in dem gesamten Bildfeld 150 der Abbildungsoptik 130, sondern stattdessen in disjunkten Teilbereichen 151 des Bildfelds 150 (vgl. Figur 3) . Der Sensor 141 besitzt daher keinen vollflächigen und das gesamte Bildfeld 150 abdeckenden Erfassungsbe¬ reich, sondern weist eine Ausgestaltung mit mehreren zueinander beabstandeten ortsauflösenden Teilsensoren auf. Jeder Teilsensor weist eine entsprechende Teilanordnung aus Senso- relementen bzw. Fotodioden und damit einen entsprechenden
Teilerfassungsbereich auf. Hierdurch sind ein kostengünstiger Aufbau des Sensors 141 und infolgedessen eine kostengünstige Messung möglich. Um trotz des unterteilten Sensoraufbaus einen zusammenhängenden Bereich des Objekts bzw. Retikels 121 untersuchen zu können, kann das Objekt 121 im Rahmen der Untersuchung in der Objektebene 120 entsprechend positioniert bzw. bewegt werden.
Jeder Teilsensor des Sensors 141 kann zum Beispiel einen Me- gapixel CCD-Chip mit einer Anzahl an Sensorelementen im Bereich von 106 aufweisen. Ein Beispiel ist eine Anordnung mit ca. 3000 x 3000 Pixeln.
In Figur 1 ist ein beispielhafter Aufbau des Sensors 141 mit vier Teilsensoren angedeutet, wobei die Teilsensoren entspre¬ chend der Teilbereiche 151 von Figur 3 angeordnet sein kön¬ nen. Es ist möglich, dass der Sensor 141 eine andere bzw. größere Anzahl an Teilsensoren aufweist, so dass auch eine entsprechende Anzahl an erfassbaren Teilfeldern 151 vorliegen kann . In Bezug auf das System 100 ist es von Interesse, Abbildungs¬ bzw. Wellenfrontfehler, welche von der Abbildungsoptik 130 verursacht werden können, zu ermitteln. Für die Wellenfront- messung kann eine Kombination aus Verzeichnungs- und Phase- Retrieval-Messtechnik zur Anwendung kommen. Die ermittelten Abbildungsfehler können dazu verwendet werden, Justageprozes- se zur Justage der Abbildungsoptik 130 zu entwickeln, so dass die Abbildungsfehler im Hinblick auf eine zuverlässige und genaue Funktionsweise des Systems 100 minimiert werden kön¬ nen .
Ein solches Ermitteln von Abbildungsfehlern zum Zwecke der Justage der Abbildungsoptik 130 kann bereits im Rahmen eines Aufbaus des Systems 100 vorgesehen sein. Zu diesem Zweck kann, anstelle des bei dem aufgebauten System 100 eingesetz- ten Sensors 141 mit Teilsensoren, ein einzelner ortsauflösender Sensor 143 zur Strahlungserfassung verwendet werden. Um eine mit dem Sensor 141 durchgeführte Messung nachzubilden, können mit dem Sensor 143 die Positionen der Teilsensoren des Sensors 141 angefahren werden, und kann an diesen Messpositi- onen jeweils eine Teilmessung der Strahlung 115 durchgeführt werden. Auf diese Weise kann eine Strahlungserfassung erneut lediglich in disjunkten Teilbereichen 151 des Bildfelds 150 erfolgen. Die beispielhafte Darstellung von Figur 1 (und entsprechend Figur 3) kann daher auch als Veranschaulichung von vier Messpositionen des Sensors 143 aufgefasst werden, wobei entsprechend der obigen Beschreibung eine andere bzw. größere Anzahl an Messpositionen in Betracht kommen kann. Es ist gegebenenfalls möglich, dass der Sensor 143 einen Erfassungsbe¬ reich mit anderen bzw. größeren lateralen Abmessungen besitzt als die Teilsensoren des Sensors 141, so dass entsprechend andere bzw. größere Teilbereiche 151 des Bildfelds 150 er¬ fassbar sind. Zur Weiterverarbeitung bzw. Auswertung von Messsignalen des Sensors 143 kommt eine mit dem Sensor 143 gekoppelte Auswer¬ teeinrichtung 160 zum Einsatz. Diese Auswerteeinrichtung 160 kann eine andere sein als die bei dem aufgebauten System 100 eingesetzte und dem Sensor 141 zugeordnete Auswerteeinrichtung 160. Dies kann in gleicher Weise auf das Beleuchtungs¬ system 110 sowie das Objekt bzw. Retikel 121 zutreffen. In diesem Zusammenhang ist es ferner möglich, bei einer Messung mit dem Sensor 143 eine Strahlung 115 mit einer anderen Wellenlänge als bei einer Messung mit dem Sensor 141 einzuset¬ zen .
Der Sensor 143 kann vergleichbar zu dem Sensor 141 in Form eines elektronischen Sensors, zum Beispiel in Form eines CCD- bzw. TDI-CCD-Sensors, mit einer Anordnung aus strahlungsempfindlichen Sensorelementen bzw. Fotodioden verwirklicht sein. In entsprechender Weise kann der Sensor einen Megapixel CCD- Chip aufweisen. Auf der Grundlage einer an unterschiedlichen Messpositionen des Sensors 143 durchgeführten Messung können, nach einer entsprechenden Auswertung von Messsignalen des Sensors 143 mit Hilfe der dazugehörigen Auswerteeinrichtung 160, Messwerte eines oder mehrerer interessierender Wellen- frontfehler an Bildpunkten in disjunkten Teilbereichen 151 des Bildfelds 150 bereitgestellt werden. Hierbei kann es sich zum Beispiel um die Zernike-Koeffizienten Z2, Z3 und/oder Z4 handeln. Im Hinblick auf die Koeffizienten Z2, Z3 kann der Sensor 143 zum Beispiel ein Verzeichnungs-Messkopf sein. Es wird darauf hingewiesen, dass im Rahmen einer Messung von Abbildungsfehlern ferner ein Objekt bzw. Retikel 121 mit geeigneten Teststrukturen (nicht dargestellt) zum Einsatz kommen kann, welche mittels der Abbildungsoptik 130 in das Bildfeld 150 abgebildet werden können. Durch eine Auswertung da- zugehöriger Messsignale können die gewünschten Messwerte des bzw. der interessierenden Wellenfrontfehler bereitgestellt werden . In Bezug auf ein Erfassen eines Verzeichnungsfehlers kann zum Beispiel ein Raster von Markierungen zum Einsatz kommen. Eine Verzeichnung der Abbildungsoptik 130 bewirkt eine Verschie- bung der in das Bildfeld 150 abgebildeten Markierungen. Aus der Position der abgebildeten Markierungen relativ zu deren Sollpositionen kann die Verzeichnung ermittelt werden.
Das Anordnen bzw. Positionieren des Sensors 143 an verschie- denen Messpositionen kann mit Hilfe einer geeigneten Positionierungseinrichtung, zum Beispiel mit Hilfe eines Positionie- rungstischs, durchgeführt werden (nicht dargestellt) . Hierbei ist die Positionierungsgenauigkeit des Sensors 143 durch die Genauigkeit der Positionierungseinrichtung begrenzt. Anders ausgedrückt, kann die Messung aufgrund von Fehlpositionierungen des Sensors 143 beeinträchtigt sein. Hierbei kann es sich insbesondere um Fehlpositionierungen in den Translationsfrei- heitsgraden, d.h. in der x-, y- sowie z-Richtung, handeln. Dies führt dazu, dass die bereitgestellten Messwerte eines Abbildungs- bzw. Wellenfrontfehlers in einzelnen Teilberei¬ chen 151 des Bildfelds 150 einen konstanten Messfehler bzw. Offset aufweisen können. Die Fehlpositionierungen können verschieden sein, so dass die individuell in Teilbereichen 151 des Bildfelds 150 auftretenden Offsetfehler ebenfalls variie- ren, und sich hinsichtlich des Betrags und/oder des Vorzeichens voneinander unterscheiden können.
Zur Veranschaulichung dieses Zusammenhangs zeigt Figur 2 unterschiedliche laterale Messpositionen des Sensors 143 mit Bezug auf die Bild- bzw. Bildsensorebene 140 und deren Aus¬ wirkung auf das Bereitstellen von Messwerten der eine Verzeichnung wiedergebenden Wellenfrontfehler Z2, Z3. In der Bildebene 140 ist des Weiteren eine für den Sensor 143 bzw. dessen Erfassungsbereich vorgesehene Soll-Messposition 145 angedeutet. Sofern sich der Sensor 143, wie in der mittleren Darstellung von Figur 2 gezeigt ist, an dessen Soll-Position 145 befindet, führt dies zu keiner Abweichung bei der Messung der Wellenfrontfehler Z2, Z3. Eine laterale Fehlpositionie¬ rung in Form einer Abweichung dx bzw. dy des Sensors 143 mit Bezug auf die Soll-Messposition 145, wie es in der linken und rechten Darstellung von Figur 2 veranschaulicht ist, hat zur Folge, dass bei der Messung der Wellenfrontfehler Z2, Z3 jeweils eine Abweichung in Form eines Offsetfehlers auftritt.
In den Figuren 3 und 4 ist der Zusammenhang zwischen lateralen Positionierungsfehlern des Sensors 143 und die Messung verfälschenden Offsetfehlern in einer weiteren Darstellung veranschaulicht. Hier gezeigt sind ein Bildfeld 150 und ein in dem Bildfeld 150 vorliegender beispielhafter Abbildungsfehler in Form einer kissenförmigen Verzeichnung 165, welche anhand eines Gitters angedeutet ist. Weiter dargestellt sind vier Teilbereiche 151 des Bildfelds 150, in welchen mit Hilfe des an unterschiedlichen Messpositionen angeordneten Sensors 143 eine Strahlungsmessung durchgeführt wird.
Figur 3 zeigt sowohl die bei der Messung vorliegenden tat- sächlichen Ist-Messpositionen des Sensors 143 mit den dazugehörigen erfassten Teilbereichen 151 als auch die Soll- Messpositionen des Sensors 143 mit den dazugehörigen Teilbereichen 151 λ (schraffiert angedeutet). Infolge von unter¬ schiedlichen lateralen Fehlpositionierungen des Sensors 143 weisen die Teilbereiche 151 jeweils eine entsprechende Ver¬ setzung gegenüber den Teilbereichen 151 λ auf. Dies hat daher zur Folge, dass bei der Messung der Verzeichnung 165, ausgedrückt durch Zernike-Koeffizienten Z2 und Z3, unterschiedliche Offsetfehler auftreten.
In Figur 4 ist dies veranschaulicht, indem die Teilbereiche 151 von Figur 3 einschließlich der durchgezogenen Gitterlinien der Verzeichnung 165 zu den Soll-Messpositionen des Sensors 143 verschoben sind. Hierbei ist die in dem Bildfeld 150 vorliegende Verzeichnung 165 anhand von gestrichelten Gitterlinien angedeutet. Die in Figur 4 in den Teilbereichen 151 erkennbaren Versetzungen zwischen den durchgezogenen und den gestrichelten Gitterlinien machen die bei der Messung auftretenden Offsetfehler deutlich.
Bei der Messung des einen Fokusversatz wiedergebenden Wellen- frontfehlers Z4 können vertikale Fehlpositionierungen des
Sensors 143 zu einem Auftreten von Offsetfehlern führen. Zur Veranschaulichung dieses Zusammenhangs zeigt Figur 5 unterschiedliche vertikale Messpositionen des Sensors 143 mit Be¬ zug auf die Bildsensorebene 140 und deren Auswirkung auf das Bereitstellen von Messwerten des Wellenfrontfehlers Z4. Sofern sich der Sensor 143 bzw. dessen Erfassungsbereich, wie in der mittleren Darstellung von Figur 5 angedeutet ist, an dessen Soll-Messposition 145 befindet, führt dies zu keiner Abweichung bei der Messung des Wellenfrontfehlers Z4. Eine falsche Positionierung mit Bezug auf die Höhe in Form einer vertikalen Abweichung dz, wie es in der linken und rechten Darstellung von Figur 5 gezeigt ist, hat jeweils ein Auftre¬ ten eines Offsetfehlers bei der Messung des Wellenfrontfehlers Z4 zur Folge.
Fehlpositionierungen dx, dy, dz des Sensors 143 äußern sich in den disjunkt gemessenen Wellenfrontfehlern durch Offsetfehler, d.h. scheinbare Bildfehler. Die Offsetfehler sind innerhalb der mit dem Sensor 143 erfassten Teilbereiche 151 des Bildfelds 150 konstant bzw. im Wesentlichen konstant, und be¬ wirken auf diese Weise eine Versetzung der gemessenen Wellen- frontfehler, einschließlich der Mittelwerte der Wellenfront- fehler, in den entsprechenden Teilbereichen 151. Von Teilbereich 151 zu Teilbereich 151, und als nichtsystematische Messfehler auch von Messung zu Messung, kann eine Variation der Offsetfehler vorliegen. Die Offsetfehler können deutlich größer sein als andere Messfehler und insbesondere als die Feldvariation der tatsächlichen bzw. wahren Wellenfrontfeh- ler. Dies kann insbesondere auf die Wellenfrontfehler bzw. Zernike-Koeffizienten niedriger Ordnung, insbesondere Z2, Z3 und Z4 zutreffen. Dies erschwert die Bestimmung von geeigne- ten Justageprozessen und kann dazu führen, dass das System 100 am Ende nicht die Spezifikation erfüllt.
In Bezug auf das System 100, welches mit dem Sensor 141 mit mehreren nicht überlappenden Teilsensoren ausgestattet ist, kann es in vergleichbarer Weise in Betracht kommen, Messwerte eines oder mehrerer interessierender Abbildungsfehler, zum Beispiel der Wellenfrontfehler Z2, Z3 und/oder Z4, an Bild¬ punkten in disjunkten Teilbereichen 151 des Bildfelds 150 be- reitzustellen . Zu diesem Zweck wird mit Hilfe des Sensors 141 eine Messung durchgeführt, und werden Messsignale des Sensors 141 mit Hilfe der dazugehörigen Auswerteeinrichtung 160 zum Bereitstellen der Messwerte ausgewertet. Hierauf basierend kann eine weitere Justage bzw. Feinjustage der Abbildungsop- tik 130 vorgenommen werden.
Es ist möglich, dass die Anordnung der Teilsensoren des Sensors 141 fehlerbehaftet ist, so dass die Teilsensoren Lage¬ fehler, insbesondere mit Bezug auf die Freiheitsgrade x, y, z aufweisen. Derartige Lagefehler können, vergleichbar zu den oben beschriebenen Positionierungsfehlern des Sensors 143, zu einem Auftreten von in den Teilbereichen 151 des Bildfelds 150 konstanten bzw. im Wesentlichen konstanten Offsetfehlern bei der Messung der Wellenfrontfehler Z2, Z3, Z4 (gegebenen- falls auch Übersprechen auf Bildfehler höherer Ordnung) führen. Für weitere Details hierzu wird auf die obige Beschrei¬ bung verwiesen.
Die Lagefehler der Bildsensoren des Sensors 141 können eine Folge von Einbaufehlern sein, aber auch während des Betriebs und/oder über die Lebensdauer durch Driften wie zum Beispiel temperaturinduzierte Größenänderungen von Bauteilen hervorge¬ rufen werden. Daher können systematische, d.h. bei jeder Messung gleiche, als auch nichtsystematische, d.h. von Messung zu Messung unterschiedliche Messfehler vorliegen. Dies führt ebenfalls zu einer Beeinträchtigung der Justage der Abbildungsoptik 130. Die bei dem reflektiv arbeitenden System 100 aufgezeigte Problematik kann auch bei einem in Transmission betriebenen Inspektionssystem, bei welchem ein transmittierter Strah- lungsanteil erfasst wird, auftreten. Ein solches System 101, welches im Wesentlichen den gleichen Aufbau und die gleiche Funktionsweise wie das System 100 besitzt, ist schematisch in Figur 6 gezeigt. Es wird darauf hingewiesen, dass überein¬ stimmende Aspekte sowie gleiche und gleich wirkende Komponen- ten an dieser Stelle nicht erneut detailliert beschrieben werden, sondern dass stattdessen auf die obige Beschreibung Bezug genommen wird.
Das optische System 101 weist ebenfalls ein Beleuchtungssys- tem 110 zum Beleuchten eines in einer Objektebene 120 ange¬ ordneten Objekts 122 mit Strahlung 115 auf. Bei dem Objekt 122, welches teilweise durchstrahlt werden kann, kann es sich um ein Retikel handeln. Ein durch das Objekt 122 transmit¬ tierter Anteil der Strahlung 115 wird mit Hilfe einer Abbil- dungsoptik 130 in Richtung einer Bildebene 140 geführt. Über die Abbildungsoptik 130 kann ein Objektfeld der Objektebene 120 in ein Bildfeld 150 der Bildebene 140 abgebildet werden. Im Bereich der Bildebene 140 ist ein ortsauflösenden Sensor 141 mit mehreren Teilsensoren angeordnet, dessen Messsignale mit einer Auswerteeinrichtung 160 weiterverarbeitet bzw. aus¬ gewertet werden können. Auf diese Weise erfolgt eine Strah¬ lungserfassung in disjunkten Teilbereichen 151 des Bildfelds 150 (vgl . Figur 3) . In Bezug auf das System 101 ist es ebenfalls von Interesse,
Abbildungs- bzw. Wellenfrontfehler mit Hilfe einer Messung zu ermitteln, um hierauf basierend die Abbildungsoptik 130 justieren zu können. Hierzu kann im Rahmen eines Aufbaus des Systems 101 anstelle des Sensors 141 ein einzelner ortsauflö- sender Sensor 143 zum Einsatz kommen, welcher zur Strahlungserfassung an die Positionen der Teilsensoren des Sensors 141 bewegt wird. Fehlpositionierungen des Sensors 143 in den Translationsfreiheitsgraden x, y, z können dazu führen, dass bereitgestellte Messwerte von interessierenden Wellenfront- fehlern, zum Beispiel Z2, Z3 und/oder Z4, mit Offsetfehlern behaftet sind. Derartige Offsetfehler können individuell in Teilbereichen 151 des Bildfelds 150 auftreten, und sich von Offsetfehlern anderer Teilbereiche 151 unterscheiden. Dies ist ebenso der Fall bei einer Messung mit Hilfe des Sensors 141 bei dem aufgebauten System 101, wobei die Offsetfehler hier durch Lagefehler der Teilsensoren des Sensors 141 verur- sacht werden können. Für weitere Details wird auf die obigen Ausführungen Bezug genommen. Dies betrifft auch den Aspekt, bei der Messung von Abbildungsfehlern ein Objekt bzw. Retikel 122 mit geeigneten Teststrukturen (nicht dargestellt) einzu¬ setzen .
Im Folgenden werden mögliche Ausgestaltungen eines Verfahrens beschrieben, um fehlerbehaftete Messwerte eines interessie¬ renden Abbildungsfehlers, welche wie vorstehend erläutert auf der Grundlage einer Messung mit dem Sensor 141 des Systems 100 bzw. 101 oder dem Sensor 143 an Bildpunkten in disjunkten Teilbereichen 151 eines Bildfelds 150 bereitgestellt werden können, zu korrigieren. Hierauf basierend kann eine zuverläs¬ sige Justage der dazugehörigen Abbildungsoptik 130 vorgenommen werden. Einzelne der erläuterten Schritte zur Unterdrü- ckung der Messfehler können von der bzw. mit Hilfe der mit dem Sensor 141 bzw. 143 verbundenen Auswerteinrichtung 160 durchgeführt werden. Der Sensor 141 bzw. 143 und die dazuge¬ hörige Auswerteeinrichtung 160 können in diesem Sinne eine Vorrichtung zur Ermittlung eines korrigierten Abbildungsfeh- lers bilden.
In Bezug auf das mit dem Sensor 141 versehene System 100 bzw. 101 kann es sinnvoll sein, die Unterdrückung für jede Messung neu durchzuführen. Dies kann bei überwiegend nichtsystemati- sehen Messfehlern in Betracht kommen. Bei überwiegend syste¬ matischen Messfehlern kann die Korrektur in Form einer dauerhaften Kalibrierung auf der Basis einer oder mehrerer Messun- gen, zum Beispiel einmalig oder turnusmäßig, vorgesehen wer¬ den .
Zur Unterdrückung der in den Teilbereichen 151 des Bildfelds 150 auftretenden Offsetfehler wird ausgenutzt, dass ein tat¬ sächlicher, d.h. nicht mit Messfehlern behafteter Abbildungsfehler bezogen auf das gesamte Bildfeld 150 Regelmäßigkeiten bzw. vorhersagbare Eigenschaften aufweisen kann, und sich durch eine glatte Funktion über das Bildfeld 150 beschreiben lässt. Auf die in den Teilbereichen 151 des Bildfelds indivi¬ duell auftretenden Offsetfehler trifft dies nicht bzw. im Wesentlichen nicht zu. Um diese Gegebenheiten zu berücksichti¬ gen, erfolgt die Korrektur unter Anwendung einer Approximation, in welcher bereitgestellte Messwerte des interessierenden Abbildungsfehlers mit einer glatten Funktion und mit den Teilbereichen 151 des Bildfelds 150 zugeordneten Teilbe¬ reichsfunktionen angenähert werden.
Mit Hilfe der glatten Funktion ist ein Verlauf des Abbil- dungsfehlers über das Bildfeld 150 wiedergebbar. Die verwen¬ dete glatte Funktion bzw. deren Basisfunktionen können auf der Kenntnis der Funktionsweise der Abbildungsoptik 130 fest¬ gelegt werden. Die Teilbereichsfunktionen sind derart gewählt, dass im Rahmen der Approximation der betrachtete Ab- bildungsfehler jeweils um den gleichen Wert in den einzelnen Teilbereichen 151 des Bildfelds 150 verändert werden kann. Auf diese Weise kann der Effekt einer fehlerhaften Messung bzw. das individuelle Auftreten der den tatsächlichen Abbildungsfehler verfälschenden Offsetfehler in den Teilbereichen 151 des Bildfelds 150 nachgebildet werden. Dadurch kann eine genaue Annäherung an die Messwerte mit einer minimalen Abwei¬ chung erzielt werden, was wiederum eine zuverlässige Zurücksetzung bzw. Unterdrückung der Messfehler ermöglicht. Bevor mögliche Ausgestaltungen des Korrekturablaufs im Detail beschrieben werden, werden zunächst die folgenden Randbedingungen und Definitionen festgelegt. Das Objekt- bzw. Bildfeld 150 wird beschrieben auf N diskre¬ ten Feldpunkten ( xi , yi ) . Hierbei sind x± und yi die entspre¬ chenden Ortskoordinaten der Bildpunkte, und es gilt i = 1, 2, ... , .
Die Koordinaten xi und y sämtlicher Bildpunkte des Bildfelds 150 werden vorzugsweise so gewählt, dass der Mittelwert aller Koordinaten xi und der Mittelwert aller Koordinaten yi je- weils Null ist. Eine Solche Festlegung des Koordinatenur¬ sprungs erweist sich als numerisch günstig.
Das Bildfeld 150 umfasst n Teilbereiche 151, welche im Fol¬ genden auch mit Fi bezeichnet werden. Hierbei gilt 1 = 1, 2, n. Des Weiteren gehören ni der N Bildpunkte ( xi , yi ) zum
Teilbereich Fi . Außerdem gilt n
(1) d.h. jeder Bildpunkt gehört zu genau einem Teilfeld Fi .
Für Größen, die von den Bildpunkten abhängen, wird folgende Notation eingeführt: fi = fixl ,yl) , für i = 1, 2, N (2) ist somit der Wert einer ortsabhängigen Funktion. Ferner rd folgende Definition verwendet:
Figure imgf000045_0001
Ein Beispiel hierfür ist die Sammlung aller Ortskoordinaten der Bildpunkte gemäß:
Figure imgf000046_0001
Des Weiteren werden folgende Terme bzw. Vektoren eingeführt, d.h. der Mittelwert gemäß
1 N
</>■■= -Yf- (5) und die Norm
Figure imgf000046_0002
mit dem kanonischen Skalarprodukt Die komponentenweise Multiplikation „ <S> " von Vektoren /, g wird wie folgt definiert:
Figure imgf000046_0003
In Formel (7) bezeichnet jeweils die gewöhnliche Multi- plikation von Zahlen.
Die komponentenweise Potenz wird wie folgt definiert
(v) ._ (8)
Figure imgf000046_0004
Hieraus folgt zum Beispiel ® f , USW (9)
Figure imgf000047_0001
Für die in der Approximation verwendete glatte Funktion kann, aufgrund der Abhängigkeit des interessierenden Abbildungsfehlers von zwei Ortskoordinaten, eine zweidimensionale Polynom¬ funktion der Ordnungen wx und wy in x bzw. y vorgegeben werden. Die dazugehörigen Basisfunktionen bzw. -vektoren mit den Ordnungen μ und v in x bzw. y lassen sich wie folgt definieren :
Figure imgf000047_0002
Hierbei gilt μ = 0, 1, 2, Wv und v 0, 1, 2, w.
Die in der Approximation verwendeten charakteristischen Teilbereichsfunktionen bzw. deren entsprechende Vektoren, mit deren Hilfe der Abbildungsfehler in den einzelnen Teilbereichen Fi des Bildfelds 150 jeweils um den gleichen Wert veränderbar ist, können, mit der Identitätsmatrix I, wie folgt festgelegt werden : ti (Xi > yi ) und tti (11)
0, sonst
Figure imgf000047_0003
Hierbei sind i = 1, 2, N und 1 = 1, 2, n.
Dies bedeutet anschaulich, dass die Einträge einer Teilbe¬ reichsfunktion tl , die zu Bildpunkten gehört, die in dem da- zugehörigen Teilbereich Fi liegen, gleich eins sind. Die Einträge von tl zu den Bildpunkten anderer Teilbereiche sind hingegen Null.
Ein tatsächlicher Abbildungsfehler, zum Beispiel der Z2-, Z3- oder Z4-Koeffizient einer Wellenfrontaberration, welcher im Folgenden mit
Figure imgf000048_0001
bezeichnet wird, kann in der Messung durch Messfehler verfälscht werden. Hierunter fallen die oben erwähnten zu bereinigenden (falschen) Offsets in den Teilfeldern Fi des Bildfelds 150, welche den tatsächlichen Abbildungsfehler Ü um einen Term
Figure imgf000048_0002
verfälschen. Der gemeinsame Mittelwert der Offsetfehler
Figure imgf000048_0003
ändert nichts an der Form des Verlaufs des Abbildungsfehlers über das Bildfeld 150 und kann nicht aus der Forderung eines glatten Verlaufs über das Feld 150 bestimmt werden. Eine durch die Offsetfehler verursachte Variation von Teilbereich zu Teilbereich Fi des Bildfelds 150 lässt sich hieraus jedoch bestimmen und dadurch korrigieren. Zu diesem Zweck wird der Funktionensatz aus glatter Funktion und Teilbereichsfunktionen an die gemessenen Abbildungsfehler bzw. die entsprechenden Messwerte, im Folgenden mit dem Vek- tor a' gekennzeichnet , angenähert. Hierfür kommt die folgende Vorgehensweise in Betracht, in welcher zunächst Matrizen, d.h. eine Matrix der Teilbereichsfunktionen
(15) und eine Matrix der Basisfunktionen der glatten Funktion
Figure imgf000049_0001
definiert werden. Die vorgenannten Matrizen werden in der Funktionenmatrix
M = (T P) (17) zusammengefasst .
Für die verwendeten Funktionen wird eine solche Annäherung an die Messwerte Ü' des interessierenden Abbildungsfehlers ange¬ strebt, dass nur noch eine minimale Abweichung verbleibt. Dies kann gemäß dem Annäherungs- bzw. Fitproblem -c-αΙ = minimal (IS umschrieben werden, wobei
Figure imgf000049_0002
ein zu der Funktionenmatrix M gehörender Koeffizientenvektor ist. Hierbei umfasst der Vektor
a (20) nJ die den Teilbereichsfunktionen zugehörigen Koeffizienten, und der Vektor
Figure imgf000050_0001
ßwx,wy J umfasst die den Basisfunktionen der glatten Funktion zugehörigen Koeffizienten. Über die Koeffizienten können Gewichtungen der einzelnen Funktionen festgelegt bzw. wiedergegeben werden .
Eine Lösung des unter Formel (18) angegebenen Fitproblems, eine Annäherung an die Messwerte durch die glatte Funktion und die Teilbereichsfunktionen mit einer minimalen Abweichung zu erzielen, wird durch die folgende, mit Hilfe der Auswer- teeinrichtung 160 durchführbare Vorgehensweise ermöglicht.
Hierbei wird nach dem Bilden der Funktionenmatrix M die Pseu- doinverse M" der Funktionenmatrix M gebildet und mit dem Vektor a ' aus Messwerten des Abbildungsfehlers gemäß c=M~-W (22) multipliziert, um den Koeffizientenvektor c zu erhalten.
In dem Vektor c sind die Gewichtungskoeffizienten ä der Teilbereichsfunktionen enthalten. Diese sind verknüpft mit den bei der Messung auftretenden Offsetfehlern, und können daher, wie im Folgenden beschrieben, zur Fehlerunterdrückung verwendet werden. Die mit Hilfe der Auswerteeinrichtung 160 durchführbare Feh¬ lerkorrektur kann sich darauf beziehen, korrigierte Werte des Abbildungsfehlers, im Folgenden mit dem Vektor akorr gekennzeichnet, bereitzustellen. Hierbei können die Messwerte Ü' des Abbildungsfehlers durch die korrigierten Werte akorr er- setzt werden. Die korrigierten Werte akorr , welche dem tat¬ sächlichen Abbildungsfehler Ü im Wesentlichen entsprechen können, können bei der Justage der Abbildungsoptik 130 verwendet werden.
Zum Bereitstellen der korrigierten Werte akorr wird der Vektor c gemäß Formel (22) gebildet, um hieraus entsprechend Formel (19) den Koeeffizientenvektor ä zu erhalten, und wird die Matrix T der Teilbereichsfunktionen mit dem dazugehörigen Koeeffizientenvektor ä zur Bildung eines Produkts multipliziert. Bei dem Produkt handelt es sich um die Einträge bzw. Gewichtungen sämtlicher angenäherter Teilbereichfunktionen. Zur Bildung der korrigierten Werte akorr wird das Produkt, bis auf dessen Mittelwert, von dem Vektor Ü' der Messwerte wie folgt subtrahiert:
^=α'-(Γ· -<ί· >) (23)
Hierbei kann der Mittelwert des Produkts von dem Produkt ab- gezogen werden, und dieser Term kann von dem Vektor Ü' subtrahiert werden. Auf diese Weise kann sichergestellt werden, dass vorwiegend die aufgrund der Offsetfehler hervorgerufenen relativen, also von Teilbereich zu Teilbereich des Bildfelds 150 vorliegenden Versetzungen bzw. Unterschiede in den Mess- werten Ü' korrigiert werden, und im Wesentlichen keine glo¬ bale bzw. einheitliche Größenkorrektur über sämtliche Teilbe¬ reiche erfolgt. Dadurch kann erzielt werden, dass die korri¬ gierten Werte akorr dem tatsächlichen Abbildungsfehler Ü, abgesehen von einem kleinen Unterschied in Form eines konstan- ten bzw. globalen Offsetwerts und einem Punktrauschen, nahe kommen können. Infolgedessen ist eine zuverlässige Rekonstruktion der aufgrund der Offsetfehler verschobenen Mittelwerte des gemessenen Abbildungsfehlers in den Teilbereichen Fi möglich.
Die vorstehend beschriebene Vorgehensweise hat gegenüber der einfacheren Lösung, die auf den ersten Blick nicht messbaren, weil in den Offsetfehlern verschwindenden Mittelwerte des interessierenden Abbildungsfehlers in den Teilbereichen Fi des Bildfelds 150 zu eliminieren, indem von den Messwerten Ü' in jedem der Teilbereiche Fi jeweils der dazugehörige Mittelwert subtrahiert wird, oder die Mittelwerte des Abbildungsfehlers bei einer Justagerechnung nicht zu berücksichtigen, den Vorzug, dass auch diese Größen bei der Justage der Abbildungsop¬ tik 130 berücksichtigt werden können. Die Anwendung der einfacheren Lösung kann jedoch für den Fall in Betracht kommen, dass die Regelmäßigkeit des Feldverlaufs des Abbildungsfeh¬ lers durch andere Messfehlerbeiträge in einem solchen Ausmaß gestört ist, dass eine sinnvolle Korrektur und dadurch Rekon¬ struktion der Mittelwerte des Abbildungsfehlers in den Teil¬ bereichen Fi nicht möglich ist. Hierdurch kann verhindert werden, dass die Justage der Abbildungsoptik 130 auf der Grundlage von Messfehlern bzw. Messrauschen durchgeführt wird .
Zur weiteren Veranschaulichung des auf die Approximation mit glatter Funktion und Teilbereichsfunktionen gestützten Verfahrens zur Korrektur von fehlerbehafteten bzw. verrauschten Messwerten sind in Figur 7 beispielhaft Ergebnisse einer Si¬ mulation in Bezug auf einen Wellenfrontfehler Z2 gezeigt. Dies bezieht sich auf Werte des Wellenfrontfehlers Z2 an Bildpunkten in vier Teilbereichen 151 eines Bildfelds 150, wobei die Teilbereiche 151 entsprechend Figur 3 angeordnet sein können.
Anhand von relativ kleinen Punkten sind an Bildpunkten des Bildfelds 150 vorliegende simulierte tatsächliche Werte Zs des Wellenfrontfehlers Z2 in den Teilbereichen 151 veranschaulicht (wahrer Zustand) . Die Werte Zs wurden basierend auf Starrkörperverkippungen bzw. Bewegungen von Objektivspiegeln einer Abbildungsoptik 130 simuliert.
Mit kreisförmigen Punkten sind simulierte gemessene Werte Zm des Wellenfrontfehlers Z2 an den entsprechenden Bildpunkten angedeutet. Hierbei handelt es sich um die Summe aus tatsäch¬ lichen Werten Zs und mit der Messung einhergehenden Offsetfehlern, welche in jedem der Teilbereiche 151 im Wesentlichen gleich, und von Teilbereich 151 zu Teilbereich 151 hinsicht- lieh des Vorzeichens und/oder des Betrags unterschiedlich sind. Aufgrund der Offsetfehler ist die Differenz zwischen den Werten Zs und Zm in jedem der Teilbereiche 151 annähernd konstant. Der funktionale Verlauf des Wellenfrontfehlers Z2 (beispielsweise die Krümmung) auf jedem der Teilbereiche 151 ist daher für Zs und Zm fast gleich.
Figur 7 zeigt darüber hinaus anhand von größeren ausgefüllten Punkten unter Anwendung des oben erläuterten Korrekturablaufs gebildete rekonstruierte Werte Zr des Wellenfrontfehlers Z2 an den Bildpunkten in den Teilbereichen 151. Bei der hier benutzten glatten Funktion handelte es sich um ein Polynom dritter Ordnung in x und fünfter Ordnung in y. Es ist zu erkennen, dass in jedem der Teilbereiche 151 die gleiche Ver¬ setzung zwischen den korrigierten Werten Zr und den tatsäch- liehen Werten Zs des Wellenfrontfehlers Z2 vorliegt. Hierbei handelt es sich um den oben erwähnten kleinen globalen Offset zwischen den Werten Zr und Zs. Anhand dieser Darstellung wird deutlich, dass das Korrekturverfahren eine zuverlässige Unterdrückung von Offsetfehlern ermöglicht, welche Folge der Messung in disjunkten Teilfeldern 151 des Bildfelds 150 sind.
Für das oben erläuterte und gemäß Formel (18) auf einer Annä¬ herung mit glatter Funktion und Teilbereichsfunktionen basierende Korrekturverfahren können unterschiedliche und ggf. ei- ne Verbesserung ermöglichende Abwandlungen in Betracht kommen. Auf derartige Ausgestaltungen des Korrekturablaufs, wel¬ che ebenfalls mit Hilfe der Auswerteeinrichtung 160 durchführbar sind, und welche in gleicher Weise als Grundlage zur Justage der Abbildungsoptik 130 dienen können, wird im Fol- genden näher eingegangen. Übereinstimmende Merkmale und As¬ pekte werden im Folgenden nicht erneut detailliert beschrie¬ ben. Für Details hierzu wird stattdessen auf die vorstehende Beschreibung Bezug genommen. Des Weiteren wird auf die Möglichkeit hingewiesen, mehrere der im Folgenden erläuterten Varianten gemeinsam anzuwenden und/oder Merkmale von zwei o- der mehreren der beschriebenen Ausgestaltungen miteinander zu kombinieren.
In einer möglichen Variante werden anstelle der oben gemäß Formel (11) definierten Teilbereichsfunktionen tl mittelwertfreie Teilbereichsfunktionen tt verwendet, welche bezogen auf das Bildfeld 150 den Mittelwert Null besitzen. Derartige
Teilbereichsfunktionen können gebildet werden, indem von jeder der mittelwertbehafteten Teilbereichsfunktion tl jeweils der dazugehörige Mittelwert subtrahiert wird: t, :=t,-<t, > (24)
Das Durchführen der oben beschriebenen Schritte, d.h. Bildung der Funktionenmatrix M, Bildung der Pseudoinversen M", Bildung des Koeffizientenvektors c, Bildung der korrigierten Werte akorr des betrachteten Abbildungsfehlers, mit mittel¬ wertfreien Teilbereichsfunktionen bietet mehrere Vorteile. Hierunter fällt zum Beispiel, dass die oben erläuterte Sub¬ traktion des Mittelwerts des Produkts (Gewichtungen sämtli¬ cher angenäherter Teilbereichfunktionen) bei der Bildung der korrigierte Werten akorr des Abbildungsfehlers entfallen kann.
Aufgrund der mittelwertfreien Teilbereichsfunktionen kann diese Subtraktion implizit enthalten sein, so dass der Mittelwert des Produkts den Wert Null aufweisen kann. Die korri¬ gierten Werte können daher, abweichend von Formel (23) , wie folgt gebildet werden: akorr =a'-T -ä , mit T = tl t2 ... FB) (25)
Des Weiteren kann die Approximation eindeutig sein. Denn bei mittelwertbehafteten Teilbereichsfunktionen kann der Mittelwert der Einträge der Teilbereichsfunktionen doppelt in der Menge der verwendeten Funktionen enthalten sein, und zwar als Konstante in der glatten Funktion und als Summe der Teilbe¬ reichsfunktionen gemäß:
Figure imgf000055_0001
Dadurch kann die Approximation uneindeutig sein.
Eine weitere numerische Verbesserung lässt sich durch folgende Regularisierung erzielen. Hierbei wird das Verfahren bzw. werden oben angegebene Schritte nicht mit den einfachen Poly¬ nom-Basisfunktionen gemäß Formel (10), sondern stattdessen mit orthogonalisierten oder orthonormierten Basisfunktionen durchgeführt. In einer weiteren Variante kommen normierte Po¬ lynom-Basisfunktionen zum Einsatz. Dies vereinfacht eine sinnvolle Regularisierung mit Singulärwert-Schwelle, die bei¬ spielsweise bei der Berechnung der Pseudoinversen M" angewandt werden kann.
Des Weiteren ist eine Vereinfachung des mit Hilfe der Auswer- teeinrichtung 160 durchführbaren Ablaufs dergestalt möglich, dass die Approximation und Korrektur in gemeinsamer Weise durchgeführt werden. Hierfür werden mittelwertfreie Teilbe¬ reichsfunktionen tj gemäß Formel (24) verwendet, und wird die bereitgestellte Pseudoinverse M" der Funktionenmatrix M in zwei Teilmatrizen zerlegt, wobei über eine Teilmatrix MT die
Koeffizienten ä der Teilbereichsfunktionen, und über die andere Teilmatrix Mp die übrigen Koeffizienten ß erzeugbar sind :
Figure imgf000055_0002
Unter Verwendung der mittelwertfreien Teilbereichsfunktionen und der Teilmatrix MT lässt sich der gemäß Formel (25) beschriebene Zusammenhang zwischen den korrigierten und den gemessenen Werten des Abbildungsfehlers wie folgt ausdrücken: a, = a -T-ä = ä'-T■MT■ä'= (i -T■MT)·ä'= S■ä' , (28)
Figure imgf000056_0001
Hierbei ist I die Identitätsmatrix. Die Matrix S, gebildet durch Subtraktion des Produkts aus der Matrix T der mittelwertfreien Teilbereichsfunktionen und der Teilmatrix MT von der Identitätsmatrix I, d.h.
Figure imgf000056_0002
wird im Folgenden als Korrekturmatrix bezeichnet.
Durch Bereitstellen bzw. Bilden der Korrekturmatrix S gemäß Formel (30) ist es möglich, den Ablauf der Korrektur der Offsetfehler zur Bildung von korrigierten Werten des interessierenden Abbildungsfehlers mit Hilfe einer einfachen Multipli¬ kation der Messwerte mit der Matrix S durchzuführen:
Das Bilden der Matrix S und die Multiplikation führen ebenfalls zu einer Lösung des unter Formel (18) angegebenen Fitproblems, eine Annäherung an die Messwerte durch die glatte Funktion und die Teilbereichsfunktionen mit einer minimalen Abweichung zu erzielen.
In diesem Zusammenhang wird ferner auf die Möglichkeit hinge¬ wiesen, die einmal gebildete Korrekturmatrix S jeweils zur Korrektur von Messwerten des Abbildungsfehlers heranzuziehen, welche mit Hilfe verschiedener Messungen gewonnen werden.
Eine weitere Variante der mit Hilfe der Auswerteeinrichtung 160 durchführbaren Fehlerkorrektur besteht darin, zusätzlich oder alternativ zu korrigierten fehlerbereinigten Werten des betrachteten Abbildungsfehlers einen approximierten Verlauf des Abbildungsfehlers zu bilden. Der approximierte Verlauf kann dem tatsächlichen, d.h. ohne Messfehler behafteten Ab- bildungsfehler im Wesentlichen entsprechen. Es ist auch hier möglich, fehlerbehaftete Messwerte des Abbildungsfehlers durch den approximierten Verlauf zu ersetzen, und basierend auf dem approximierten Verlauf eine Justage der Abbildungsop¬ tik 130 vorzunehmen.
Durch die Bildung des approximierten Verlaufs des Abbildungs¬ fehlers kann Punktrauschen eliminiert werden. Es ist jedoch möglich, dass in dem approximierten Verlauf lokale Bildfehler, im Gegensatz zu den korrigierten Werten des Abbildungs- fehlers, nicht mehr enthalten, und dadurch gegebenenfalls nicht mehr erkennbar sind. Dieser Nachteil kann umgangen werden, indem neben dem approximierten Verlauf auch korrigierte Werte des Abbildungsfehlers gebildet bzw. bei der Justage be¬ rücksichtigt werden.
Die Bildung des approximierten Verlaufs kann ebenfalls im Rahmen einer gemeinsam durchgeführten Approximation und Korrektur erfolgen. Hierzu kann vergleichbar zu der oben beschriebenen Vereinfachung vorgegangen werden, wobei mittel- wertfreie Teilbereichsfunktionen tt gemäß Formel (24) verwendet werden und die Pseudoinverse M" der Funktionenmatrix M entsprechend Formel (27) zerlegt wird. Der approximierte Ver¬ lauf, bei welchem es sich um die angenäherte und einen rekon¬ struierten bzw. fehlerbereinigten Gesamtmittelwert aufweisen- de glatte Funktion handelt, und welcher im Folgenden mit aflt gekennzeichnet wird, hängt mit der Matrix P der Basisfunktio¬ nen der glatten Funktion, der Teilmatrix Mp und den Messwerten α' des Abbildungsfehlers wie folgt zusammen: äflt=P-MP-ä'=R-ä' (32) Die Matrix R, gebildet durch Multiplikation der Matrix P der Basisfunktionen der glatten Funktion mit der Teilmatrix Mp gemäß
R:=P-M~, (33) wird im Folgenden als Verlaufserzeugungsmatrix bezeichnet.
Durch Bereitstellen der Verlaufserzeugungsmatrix R gemäß Formel (33) ist es möglich, die Bildung des approximierten Ver- laufs des Abbildungsfehlers mit Hilfe einer einfachen Multi¬ plikation der Messwerte mit der Matrix R durchzuführen: äfit=R-ä' (34) Das Bilden der Matrix R und die Multiplikation führen ebenfalls zu einer Lösung des unter Formel (18) angegebenen Fitproblems, eine Annäherung an die Messwerte durch die glatte Funktion und die Teilbereichsfunktionen mit einer minimalen Abweichung zu erzielen.
In diesem Zusammenhang wird ferner auf die Möglichkeit hinge¬ wiesen, die einmal gebildete Matrix R jeweils heranzuziehen, um approximierte Verläufe des Abbildungsfehlers aus Messwer¬ ten zu bilden, welche mit Hilfe verschiedener Messungen ge- wonnen werden.
Eine weitere Variante des mit Hilfe der Auswerteeinrichtung 160 durchführbaren Ablaufs umfasst eine Interpolation
und/oder Extrapolation, indem wenigstens ein Ergänzungswert des betrachteten Abbildungsfehlers gebildet wird. Ein solcher Ergänzungswert gehört zu einem Bildpunkt, für welchen kein Messwert des Abbildungsfehlers vorliegt. Das Bilden des we¬ nigstens einen Ergänzungswerts, welcher ebenfalls im Rahmen einer Justage der Abbildungsoptik 130 berücksichtigt werden kann, wird auf der Grundlage des approximierten Verlaufs durchgeführt . Im Hinblick auf das oben beschriebene Verfahren und dessen unterschiedliche Ausgestaltungen wird auf die Möglichkeit hingewiesen, von mehreren Abbildungsfehlern, zum Beispiel den Wellenfrontfehlern Z2, Z3 und Z4, jeweils dazugehörige Mess- werte an Bildpunkten in disjunkten Teilbereichen 151 eines Bildfelds 150 bereitzustellen und eine eigene separate Feh¬ lerkorrektur durchzuführen. Hierbei ist es möglich, für jeden der betrachteten Abbildungsfehler korrigierte Werte, einen approximierten Verlauf und/oder wenigstens einen Ergänzungs- wert bereitzustellen, und hierauf basierend die Justage der Abbildungsoptik 130 durchzuführen.
Im Hinblick auf mehrere Abbildungsfehler kann es auch zu einem Übersprechen kommen. Hierbei können Fehlerursachen für Offsetfehler eines ersten gemessenen Abbildungsfehlers sich auch auf wenigstens einen zweiten gemessenen Abbildungsfehler auswirken, so dass dieser mit entsprechenden Offsetfehlern behaftet sein kann. Es ist zum Beispiel möglich, dass verti¬ kale Fehlpositionierungen eines Sensors, durch welche Offset- fehler bei der Messung des Wellenfrontfehlers Z4 hervorgeru¬ fen werden (vgl. Figur 4), auch zu einem Auftreten von Offsetfehlern bei der Messung des Wellenfrontfehlers Z2 und/oder Z3 führen. Ein solches Übersprechen auf den zweiten Abbildungsfehler (zum Beispiel Z2 bzw. Z3) lässt sich unterdrü- cken, indem auf der Grundlage einer Fehlerkorrektur des ersten Abbildungsfehlers (zum Beispiel Z4), welche in der oben beschriebenen Art und Weise unter Verwendung einer Approximation erfolgt, eine zusätzliche Korrektur des zweiten Abbil¬ dungsfehlers durchgeführt wird. Die zusätzliche Korrektur kann zum Beispiel basierend auf Koeffizienten ä der Teilbe¬ reichsfunktionen erfolgen, welche im Rahmen der Fehlerkorrektur des ersten Abbildungsfehlers bestimmt werden. Vor oder nach der zusätzlichen Korrektur kann eine Fehlerkorrektur des zweiten Abbildungsfehlers gemäß den obigen Ansätzen unter Verwendung einer Approximation durchgeführt werden. In Bezug auf das System 100 bzw. 101 der Figuren 1, 6 kann darüber hinaus ein weiteres Korrekturverfahren zur Anwendung kommen, auf welches im Folgenden näher eingegangen wird.
Hierbei werden fehlerbehaftete Messwerte von mehreren Abbil- dungs- bzw. Wellenfrontfehlern, welche von der Abbildungsop¬ tik 130 verursacht werden können, in gemeinsamer Weise korrigiert. Es können zu einem großen Teil dieselben bzw. vergleichbare Merkmale zur Anwendung kommen, wie sie oben mit Bezug auf die Korrektur eines einzelnen gemessenen Wellen- frontfehlers beschrieben wurden. Hinsichtlich übereinstimmender Details und Aspekte wird daher auf die obige Beschreibung Bezug genommen.
Bei dem Verfahren werden Messwerte der interessierenden Wellenfrontfehler, zum Beispiel der Wellenfrontfehler Z2, Z3 und Z4, auf der Grundlage einer Strahlungsmessung an Bildpunkten in mehreren disjunkten Teilbereichen 151 des Bildfelds 150 bereitgestellt. Dies erfolgt mit Hilfe des mehrere Teilsenso¬ ren aufweisenden Sensors 141 oder mit Hilfe des an unterschiedlichen Messpositionen angeordneten Sensors 143. Die Messsignale des Sensors 141 oder 143 werden mit Hilfe der da¬ zugehörigen Auswerteeinrichtung 160 ausgewertet, wodurch die Messwerte der mehreren interessierenden Wellenfrontfehler bereitgestellt werden können. Aufgrund von fehlerhaften Sensorpositionierungen, welche bei dem Sensor 141 Lagefehler der Teilsensoren sind, können die Messwerte entsprechende Mess¬ fehler aufweisen. Bei dem Verfahren können fehlerhafte Positionierungen bezogen auf Translationsfreiheitsgrade und Rota- tionsfreiheitsgrade, also dx-, dy-, dz-Translationen und Ver¬ kippungen bzw. Rotationen bezüglich der x- , y- , z-Achsen, berücksichtigt werden.
Das Verfahren wird unter Anwendung einer Approximation durchgeführt, in welcher Messwerte der interessierenden Wellen- frontfehler mit mehreren, den Wellenfrontfehlern zugeordneten glatten Funktionen und mit den Teilbereichen des Bildfelds zugeordneten Teilbereichsfunktionen gemeinsam approximiert werden. Die glatten Funktionen, welche mehrere Basisfunktio¬ nen umfassen und bei welchen es sich um Polynomfunktionen handeln kann, sind derart festgelegt, dass hiermit Verläufe der dazugehörigen Wellenfrontfehler über das Bildfeld 150 wiedergebbar sind. Die glatten Funktionen bzw. deren Basisfunktionen können auf der Kenntnis der Funktionsweise der Ab¬ bildungsoptik 130 festgelegt werden.
Die Teilbereichsfunktionen sind derart gewählt, dass hiermit der Einfluss von fehlerhaften Positionierungen des Sensors
141 oder 143 auf die Messwerte der mehreren Wellenfrontfehler wiedergebbar sind. Dadurch können tatsächliche Auswirkungen von fehlerhaften Positionierungen auf die Messung der Wellen- frontfehler nachgebildet bzw. modelliert werden. Derartige Wirkungen lassen sich zum Beispiel mit Hilfe einer Messung oder einer Simulation, beispielsweise durch Strahlpropagati- on, bestimmen. Hierauf basierend werden die Teilbereichsfunktionen festgelegt. Mit Hilfe derartiger Teilbereichsfunktionen lassen sich im
Rahmen der Approximation kompliziertere Veränderungen in den Teilbereichen 151 bewirken als lediglich eine Größenveränderung um den gleichen Wert, wie es der Fall bei den oben beschriebenen Teilbereichsfunktionen ist. Es ist zum Beispiel möglich, dass eine dz-Translation des verwendeten Sensors außer zu einer Veränderung des Wellenfrontfehlers Z4 auch zu einem linearen Anstieg des Wellenfrontfehlers Z2 über einen Teilbereich 151 des Bildfelds 150 führt. In diesem Fall kann eine Teilbereichsfunktion zur Anwendung kommen, welche eine Gerade beschreibt, deren Steigung abhängig ist von der Sensi- tivität bzw. Wirkung der dz-Verschiebung des Sensors. Die dz- Verschiebung des Sensors kann sich auch auf andere Wellen- frontfehler auswirken. Möglich ist zum Beispiel eine kubische Variation des Wellenfrontfehlers Z3. In diesem Fall kann als Teilbereichsfunktion ein Polynom dritter Ordnung mit festgelegten Koeffizienten verwendet werden. Es wird darauf hinge¬ wiesen, dass die vorgenannten Angaben lediglich der beispiel- haften Erläuterung dienen, und dass andere bzw. komplexere Zusammenhänge vorliegen können.
Im Rahmen des Verfahrens zur gemeinsamen Korrektur mehrerer Wellenfrontfahler können vergleichbare Schritte durchgeführt werden, wie sie oben mit Bezug auf die Korrektur eines ein¬ zelnen Wellenfrontfehlers beschrieben wurden. Derartige
Schritte zur Unterdrückung der Messfehler, auf welche im Folgenden näher eingegangen wird, können auch hier mit Hilfe der mit dem Sensor 141 bzw. 143 verbundenen Auswerteinrichtung
160 durchgeführt werden. Der Sensor 141 bzw. 143 und die da¬ zugehörige Auswerteeinrichtung 160 können in diesem Sinne eine Vorrichtung zur Ermittlung von mehreren korrigierten Wellenfrontfehlern bilden. Des Weiteren kann die Justage der Ab- bildungsoptik 130 basierend auf den korrigierten Wellenfront- fehlern erfolgen.
Bei den im Folgenden beschriebenen Schritten zur Fehlerkorrektor werden dieselben Bezeichnungen für Vektoren und Matri- zen benutzt, und wird zum Teil auf dieselben Formeln Bezug genommen, wie sie oben angegeben sind. Es wird darauf hinge¬ wiesen, dass sich derartige Komponenten hierbei, abweichend von den obigen Ausführungen, auf die mehreren Wellenfrontfeh- ler, die dazugehörigen mehreren glatten Funktionen, und die fehlerhafte Positionierungen wiedergebenden Teilbereichsfunktionen beziehen. In diesem Zusammenhang kann für in den Vektoren und Matrizen enthaltene Elemente eine geeignete Anord¬ nung bzw. Gruppierung vorgesehen sein. Zur Fehlerkorrektur können korrigierte Werte akorr der mehre¬ ren Wellenfrontfehler gebildet werden, mit welchen Messwerte a' der Wellenfrontfehler ersetzt werden. Dies kann wie folgt durchgeführt werden. Hierzu werden eine Funktionenmatrix M aus einer Matrix T aus Teilbereichsfunktionen und einer Matrix P aus Basisfunktionen der glatten Funktionen, sowie die Pseudoinverse M" der Funk- tionenmatrix M gebildet. Ferner wird ein zu der Funktionenmatrix M gehörender Koeffizientenvektor c durch Multiplkati- on der Matrix M" mit dem Vektor Ü' der Messwerte der mehreren Wellenfrontfehler gemäß Formel (22) gebildet. Dies stellt eine Lösung des unter Formel (18) angegebenen Fitproblems dar. Der Koeffizientenvektor c umfasst den Teilbereichsfunktionen zugehörige Koeeffizienten ä und den Basisfunktionen zugehörige Koeffizienten ß . Des Weiteren wird die Matrix T der Teilbereichsfunktionen mit dem entsprechenden Koeeffizientenvektor ä zur Bildung eines
Produkts multipliziert, und wird das Produkt bis auf dessen
Mittelwert von dem Vektor Ü' der Messwerte gemäß Formel (23) subtrahiert, um die korrigierten Werte akorr der mehreren Wel- lenfrontfehler zu bilden. Diese Vorgehensweise macht es mög¬ lich, vorwiegend relative, also von Teilbereich zu Teilbe¬ reich des Bildfelds 150 vorliegende Unterschiede in den Mess¬ werten zu korrigieren und eine einheitliche bzw. globale Kor¬ rektur über sämtliche Teilbereiche zu vermeiden.
Für die gemeinsame Korrektor der mehreren Wellenfrontfehler stehen in analoger Weise dieselben Varianten und Abwandlungen zur Verfügung, wie sie oben erläutert wurden. In einer möglichen Variante des Korrekturablaufs werden mit¬ telwertfreie Teilbereichsfunktionen verwendet, welche bezogen auf das Bildfeld 150 den Mittelwert Null besitzen. Zur Bil¬ dung solcher Funktionen kann von jeder der mittelwertbehafteten Teilbereichsfunktionen jeweils der dazugehörige Mittel- wert subtrahiert werden. Dadurch ergibt sich eine eindeutige Approximation, und ist es möglich, dass die oben beschriebene Subtraktion des Mittelwerts des Produkts implizit enthalten ist und dadurch entfallen kann. Das Verfahren kann mit einfachen Polynom-Basisfunktionen, o- der auch mit orthogonalisierten oder orthonormierten Basis- funktionen der glatten Funktionen durchgeführt werden. Ferner können normierte Polynom-Basisfunktionen zum Einsatz kommen.
In einer weiteren, unter Verwendung mittelwertfreier Teilbe- reichsfunktionen durchgeführten Variante wird aus der bereitgestellten Pseudoinversen M" der Matrix M eine Teilmatrix MT gebildet, über welche Koeffizienten ä der Teilbereichsfunktionen erzeugbar sind. Des Weiteren wird eine Korrekturmatrix S gebildet, indem das Produkt aus der Matrix T der mittel- wertfreien Teilbereichsfunktionen und der Teilmatrix MT von der Identitätsmatrix I gemäß Formel (30) subtrahiert wird. Das Bilden der korrigierten Werte akorr der mehreren Wellen- frontfehler wird durch Multiplikation der Matrix S mit den Messwerten Ü' gemäß Formel (31) durchgeführt. Diese Vorge- hensweise führt ebenfalls zur Lösung des Fitproblems gemäß Formel (18) .
In einer weiteren Variante erfolgt zusätzlich oder alternativ zur Bildung von korrigierten Werten eine Bildung von approxi- mierten Verläufen aflt der mehreren Wellenfrontfehler . Dies ermöglicht eine Eliminierung von Punktrauschen. Es ist möglich, Messwerte der Wellenfrontfehler durch die approximierten Verläufe zu ersetzen. In einem hierzu geeigneten, erneut unter Verwendung mittelwertfreier Teilbereichsfunktionen durchgeführten Ablauf wird aus der bereitgestellten Pseudoinversen M" der Matrix M eine Teilmatrix Mp gebildet, über welche Koeffizienten ß der
Basisfunktionen P der glatten Funktionen erzeugbar sind. Des Weiteren wird eine Verlaufserzeugungsmatrix R gebildet, indem die Matrix P der Basisfunktionen der glatten Funktionen mit der Teilmatrix Mp gemäß Formel (33) multipliziert wird. Das Bilden der approximierten Verläufe aflt der mehreren Wellen- frontfehler wird durch Multiplikation der Matrix R mit den Messwerten Ü' gemäß Formel (34) durchgeführt. Diese Vorge¬ hensweise führt ebenfalls zur Lösung des Fitproblems von For¬ mel (18) . Eine weitere Variante umfasst eine Interpolation und/oder Extrapolation, indem wenigstens ein Ergänzungswert von we¬ nigstens einem der mehreren Wellenfrontfehler gebildet wird, wobei der Ergänzungswert zu Ortskoordinaten gehört, für wel¬ che kein Messwert des Wellenfrontfehlers vorliegt. Diese Aus¬ gestaltung kann auf der Grundlage eines approximierten Verlaufs des betreffenden Wellenfrontfehlers erfolgen. Mit Bezug auf das Verfahren zur Ermittlung eines einzelnen korrigierten Wellenfrontfehlers und das Verfahren zur gemeinsamen Ermittlung mehrerer korrigierter Wellenfrontfehler ist die Möglichkeit gegeben, dass sich die Messung auf wenigstens einen weiteren Teilbereich 152 des Bildfelds 150 bezieht, welcher mit wenigstens einem der separaten, nicht überlappenden Teilbereiche 151 überlappt (vgl. zum Beispiel Figur 9, auf welche weiter noch unten näher eingegangen wird) .
In diesem Zusammenhang kann zum Beispiel eine Bildung eines vereinigten Teilbereichs mit gemeinsamen Messwerten in Betracht kommen, welcher den weiteren Teilbereich 152 und den wenigstens einen hiermit überlappenden Teilbereich 151 umfasst. Gemeinsame Messwerte des bzw. der Wellenfrontfehler können auf der Grundlage einer geeigneten Vorverarbeitung bzw. Korrektur von zunächst in den einzelnen überlappenden Teilbereichen 151, 152 gewonnenen Messwerten bereitgestellt werden. Dies kann zum Beispiel mit Hilfe eines Stitching- Verfahrens erfolgen. Der vereinigte Teilbereich und die dazu¬ gehörigen Messwerte können anschließend, entsprechend der an- deren und hiervon disjunkten Teilbereiche, bei der Korrektur und Approximation zur Anwendung kommen. Bei dieser Vorgehensweise wird dem vereinigten Teilbereich eine entsprechende Teilbereichsfunktion zugeordnet. In entsprechender Weise können auch mehrere vereinigte Teil¬ bereiche gebildet, hierfür gemeinsame Messwerte bereitge¬ stellt, und diese bei der Korrektur und Approximation verwen- det werden. Dieser Fall kann in Betracht kommen, wenn mehrere weitere Teilbereiche 152 vorliegen, welche mit anderen Teil¬ bereichen 151 überlappen (vgl. Figur 9) . Hierbei ist es ferner möglich, dass lediglich vereinigte, und voneinander dis- junkte Teilbereiche gebildet werden.
Sofern Messwerte des bzw. der Wellenfrontfehler in wenigstens einem weiteren Teilbereich 152 des Bildfelds 150 gewonnen werden, wobei der weitere Teilbereich 152 mit wenigstens ei- nem der separaten und nicht überlappenden Teilbereiche 151 überlappt, kann ferner folgender Ablauf in Betracht kommen. Hierbei wird die Approximation mit einer weiteren, dem weiteren Teilbereich 152 zugeordneten Teilbereichsfunktion durchgeführt. Je nach Ausgestaltung des Verfahrens kann die weite- re Teilbereichsfunktion derart gewählt sein, dass hiermit im Rahmen der Approximation in dem betreffenden Teilbereich 152 eine Veränderung des betrachteten Wellenfrontfehlers jeweils um den gleichen Wert hervorrufbar, oder fehlerhafte Sensor- Positionierungen wiedergebbar sind.
Es erfolgt somit keine Vereinigung von Teilbereichen. Stattdessen wird der weitere überlappende Teilbereich 152 wie die übrigen Teilbereiche 151 behandelt. Daher kann in einem Überlappungsbereich von überlappenden Teilbereichen 151, 152 eine zweifache, oder bei mehr als zwei überlappenden Teilbereichen eine mehrfache Approximation stattfinden. Bei mehreren weiteren Teilbereichen 152 können in entsprechender Weise mehrere weitere Teilbereichsfunktionen eingesetzt werden. Ergänzend wird im Folgenden anhand der Figuren 8 bis 10 er¬ läutert, mit welchen Ausgestaltungen bzw. Anordnungen von zur Messung vorgesehenen Teilbereichen 151, 152 eines Bildfelds 150 die vorstehend beschriebenen Verfahren zur Anwendung kommen können. Die Teilbereiche 151, 152 können unterschiedliche geometrische Formen aufweisen, so dass abweichend von den Fi¬ guren 3, 4 auch andere als rechteckige Formen wie zum Bei¬ spiel dreieckige, sechseckige oder auch runde bzw. kreisför- mige Konturen vorliegen können, wie es in den Figuren 8 bis 10 beispielhaft gezeigt ist.
Derartige Formen richten sich nach der Ausgestaltung eines zur Messung eingesetzten Sensors bzw. nach dessen Erfassungsbereich. Sofern lediglich ein Sensor, zum Beispiel der an unterschiedliche Messpositionen bewegte Sensor 143, zum Einsatz kommt, können sämtliche Teilbereiche 151, 152, abweichend von den Figuren 8 bis 10, dieselben Konturen besitzen.
Figur 8 veranschaulicht eine Messung, in welcher sämtliche Teilbereiche 151 des Bildfelds 150 disjunkt sind. Hiervon ab¬ weichend kann sich eine Messung und damit das Bereitstellen von Messwerten zusätzlich auf wenigstens einen weiteren Teil- bereich 152 des Bildfelds 150 beziehen, welcher mit wenigs¬ tens einem der separaten, nicht überlappenden Teilbereiche 151 überlappt. Dies kann zum Beispiel mit Hilfe des an unter¬ schiedlichen Messpositionen angeordneten Sensors 143 verwirklicht werden.
In diesem Zusammenhang veranschaulicht Figur 9 eine beispiel¬ hafte Messung mit sechs paarweise überlappenden Teilbereichen 151, 152. Hierbei sind die mit durchgezogenen Linien darge¬ stellten Teilbereiche 151 zueinander disjunkt, und sind die gestrichelt angedeuteten weiteren Teilbereiche 152 zueinander disjunkt. Bei einer solchen Messung können die oben erläuterten Vorgehensweisen in Betracht kommen. Es ist zum Beispiel möglich, aus den sechs paarweise überlappenden Teilbereichen 151, 152 drei zusammengesetzte bzw. vereinigte Teilbereiche zu bilden, für jeden der vereinigten Teilbereiche mit Hilfe einer Vorverarbeitung gemeinsame Messwerte bereitstellen, und diese der Korrektur und Approximation zugrunde zu legen.
Hierbei werden den vereinigten Teilbereichen zugeordnete Teilbereichsfunktionen eingesetzt .
Des Weiteren ist es in Bezug auf Figur 9 möglich, keine Vereinigung vorzunehmen, sondern stattdessen die Approximation mit den einzelnen Teilbereichen 151, 152 zugeordneten Teilbereichsfunktionen durchzuführen. Da vorliegend jeweils zwei Teilbereiche 151, 152 überlappend sind, findet in jedem Über¬ lappungsbereich eine zweifache Approximation statt.
Figur 10 veranschaulicht eine weitere beispielhafte Messung mit überlappenden Teilbereichen 151, 152. Diese decken zusammen einen zusammenhängenden Bereich des Bildfelds 150 ab. Auch hierbei sind die Teilbereiche 151 zueinander disjunkt, und sind die gestrichelt angedeuteten weiteren Teilbereiche 152 zueinander disjunkt. Bei einer solchen Gegebenheit kommt ebenfalls der Verfahrensablauf, die Approximation mit den einzelnen Teilbereichen 151, 152 zugeordneten Teilbereichsfunktionen durchzuführen, in Betracht.
Die oben erläuterten Ausführungsformen stellen bevorzugte bzw. beispielhafte Ausführungsformen der Erfindung dar. Darüber hinaus sind weitere Ausführungsformen vorstellbar, welche weitere Abwandlungen und/oder Kombinationen von Merkmalen umfassen können.
Es ist zum Beispiel möglich, mit Hilfe der oben beschriebenen Ansätze fehlerbehaftete Messwerte einer anderen interessie¬ renden einzelnen Größe, welche von wenigstens einem Parameter abhängig ist, zu korrigieren. Der dazugehörige Parameterbe¬ reich kann ein Bildfeld darstellen oder nicht. In entsprechender Weise wird eine Messung durchgeführt, um hierauf ba¬ sierend Messwerte der Größe in mehreren Teilbereichen des Pa¬ rameterbereichs bereitzustellen. Eine Korrektur wird unter Verwendung einer Approximation durchgeführt, in welcher Messwerte der Größe mit einer den Verlauf der Größe in dem Para¬ meterbereich wiedergebenden glatten Funktion und mit den Teilbereichen des Parameterbereichs zugeordneten Teilbe¬ reichsfunktionen approximiert werden. Die Teilbereichsfunkti- onen sind derart gewählt, dass im Rahmen der Approximation eine individuelle Veränderung der Größe in den Teilbereichen des Parameterbereichs hervorrufbar ist. Die Korrektur kann sich darauf beziehen, korrigierte Werte der Größe, einen ap¬ proximierten Verlauf der Größe und/oder wenigstens einen Ergänzungswert der Größe zu bilden. Ein mögliches Beispiel für eine andere Größe ist eine Ver¬ zeichnungsgröße, mit deren Hilfe eine in einem Bildfeld auf¬ tretende Verzeichnung wiedergegeben werden kann. Durch Durchführen des Verfahrens können fehlerbehaftete Messwerte der Verzeichnungsgröße, welche in mehreren bzw. disjunkten Teil- bereichen des Bildfelds gewonnen werden können, korrigiert werden. Dies umfasst zum Beispiel ein Bilden von korrigierten Werten der Verzeichnungsgröße zum Ersatz von Messwerten. Möglich ist des Weiteren eine Rekonstruktion der Verzeichnung über das gesamte Bildfeld. Dies kann zum Beispiel durch eine Bildung eines approximierten Verlaufs und/oder eine Bildung von Ergänzungswerten zur Interpolation und Extrapolation erfolgen .
Anstelle einer optischen Größe kann auch eine andere Größe in Teilbereichen eines Parameterbereichs gemessen und gemäß den oben beschriebenen Ansätzen korrigiert werden. Hierunter fällt zum Beispiel eine gemessene Höhe bzw. ein gemessenes Höhenprofil eines Prüflings. Hierbei kann es in Betracht kom¬ men, Messwerte der Höhe in disjunkten Teilbereichen eines zweidimensionalen Bildfelds bereitzustellen, und Messfehler wie oben angegeben zu korrigieren. Die Messung kann zum Beispiel mit Hilfe eines Rasterkraftmikroskops oder mit Hilfe eines Oberflächeninterferometers durchgeführt werden. In Abhängigkeit der jeweiligen messfehlerbehafteten und zu korrigierenden Größe kann der dazugehörige Parameterbereich zusätzlich oder alternativ auch einen oder mehrere andere Parameter als Ortskoordinaten aufweisen. Beispielsweise kann es sich bei dem mindestens einen Parameter, von welchem die Grö- ße abhängig ist, auch um eine Zeit handeln. Ein weiteres Bei¬ spiel ist ein Parameterbereich umfassend eine Zeit und we¬ nigstens eine Ortskoordinate. Eine weitere mögliche Abwandlung in Bezug auf das Verfahren zur Ermittlung einer einzelnen korrigierten Größe besteht darin, anstelle von Offsetfehlern andere, in Teilbereichen ei- nes Parameterbereichs individuell auftretende Messfehler zu korrigieren. Zu diesem Zweck werden geeignete Teilbereichsfunktionen verwendet, mit deren Hilfe eine Verfälschung der gemessenen Größe durch derartige Messfehler in den Teilbereichen des Parameterbereichs nachgebildet werden kann.
Bezugs zeichenliste
100, 101 System
110 Beleuchtungssystem
115 Strahlung
120 Objektebene
121, 122 Objekt, Retikel
130 Abbildungsoptik
140 Bildebene
141, 143 Sensor
145 Soll-Messposition
150 Bildfeld
151, 152 Teilbereich
160 Auswerteeinrichtung
165 Verzeichnung
dx, dy, dz Abweichung
x,y,z Ortskoordinate
Z2, Z3, Z4 Wellenfrontfehler
Zs tatsächlicher Wellenfrontfehler Zm gemessener Wellenfrontfehler
Zr rekonstruierter Wellenfrontfehler

Claims

Verfahren zur Ermittlung einer korrigierten und von mindestens einem Parameter (x, y) abhängigen Größe (Z2, Z3, Z4) in einem Parameterbereich (150) des mindestens einen Parameters (x, y) , umfassend die Verfahrensschritte:
Durchführen einer Messung, wobei Messwerte der Größe (Z2, Z3, Z4) in mehreren separaten und nicht überlappenden Teilbereichen (151) des Parameterbereichs (150) be¬ reitgestellt werden; und
Durchführen einer Korrektur von Messwerten der Größe (Z2, Z3, Z4) unter Verwendung einer Approximation, in welcher Messwerte der Größe (Z2, Z3, Z4) mit einer glat¬ ten Funktion und mit den Teilbereichen (151) des Parameterbereichs (150) zugeordneten Teilbereichsfunktionen approximiert werden, wobei mit Hilfe der glatten Funktion ein Verlauf der Größe (Z2, Z3, Z4) über den Parameterbereich (150) wiedergebbar ist, und wobei mit Hilfe der Teilbereichsfunktionen eine individuelle Veränderung der Größe (Z2, Z3, Z4) in den Teilbereichen (151) des Parameterbereichs (150) hervor¬ rufbar ist.
Verfahren nach Anspruch 1,
wobei der mindestens eine Parameter eine Ortskoordinate (x, y) ist.
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der Parameterbereich ein Bildfeld (150) darstellt.
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei mit Hilfe der Teilbereichsfunktionen die Größe (Z2, Z3, Z4) jeweils um den gleichen Wert in den dazuge¬ hörigen Teilbereichen (151) veränderbar ist.
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Korrektur eine Bildung von korrigierten Werten der Größe (Z2, Z3, Z4) umfasst.
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Approximation eine Bestimmung von Koeffizienten der Teilbereichsfunktionen umfasst, und wobei Messwerte der Größe (Z2, Z3, Z4) unter Verwendung der Koeffizienten der Teilbereichsfunktionen korrigiert werden.
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Approximation folgende Schritte umfasst:
Bildung einer Funktionenmatrix aus Teilbereichsfunktionen und Basisfunktionen der glatten Funktion;
Bildung der Pseudoinversen der Funktionenmatrix; und
Multiplikation der Pseudoinversen der Funktionenmatrix mit einem Vektor aus Messwerten der Größe (Z2, Z3, Z4) zur Bildung eines Koeffizientenvektors, welcher Koeffi¬ zienten der Teilbereichsfunktionen und Koeffizienten der Basisfunktionen der glatten Funktion umfasst.
Verfahren nach Anspruch 7,
wobei die Korrektur folgende Schritte umfasst:
Multiplikation einer Matrix aus Teilbereichsfunktionen mit einem Vektor aus Koeffizienten der Teilbereichsfunktionen zur Bildung eines Produkts; und
Subtraktion des Produkts bis auf dessen Mittelwert von dem Vektor aus Messwerten der Größe (Z2, Z3, Z4) . Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei mittelwertfreie Teilbereichsfunktionen verwendet werden .
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Approximation und Korrektur folgende Schritte umfasst :
Bildung einer Funktionenmatrix aus Teilbereichsfunktionen und Basisfunktionen der glatten Funktion;
Bildung der Pseudoinversen der Funktionenmatrix;
Bildung einer Teilmatrix aus der Pseudoinversen der Funktionenmatrix, über welche Koeffizienten der Teilbereichsfunktionen erzeugbar sind;
Multiplikation einer Matrix aus Teilbereichsfunktionen mit der Teilmatrix zum Bilden eines Produkts;
Subtraktion des Produkts von einer Identitätsmatrix zur Bildung einer Korrekturmatrix; und
Multiplikation der Korrekturmatrix mit einem Vektor aus Messwerten der Größe (Z2, Z3, Z4) .
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Korrektur eine Bildung eines approximierten Verlaufs der Größe (Z2, Z3, Z4) umfasst.
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Korrektur eine Bildung von wenigstens einem Ergänzungswert der Größe (Z2, Z3, Z4) umfasst, wobei der Ergänzungswert der Größe zu einem Wert des mindestens einen Parameters gehört, für welchen kein Messwert der Größe (Z2, Z3, Z4) vorliegt. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Approximation und Korrektur folgende Schritte umfasst :
Bildung einer Funktionenmatrix aus Teilbereichsfunktionen und Basisfunktionen der glatten Funktion;
Bildung der Pseudoinversen der Funktionenmatrix;
Bildung einer Teilmatrix aus der Pseudoinversen der Funktionenmatrix, über welche Koeffizienten der Basisfunktionen der glatten Funktion erzeugbar sind;
Multiplikation einer Matrix aus Basisfunktionen der glatten Funktion mit der Teilmatrix zur Bildung einer Verlaufserzeugungsmatrix; und
Multiplikation der Verlaufserzeugungsmatrix mit einem Vektor aus Messwerten der Größe (Z2, Z3, Z4) .
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei Messwerte der Größe (Z2, Z3, Z4) in wenigstens ei¬ nem weiteren Teilbereich (152) des Parameterbereichs
(150) bereitgestellt werden, wobei der weitere Teilbe¬ reich (152) mit wenigstens einem der separaten und nicht überlappenden Teilbereiche (151) überlappt, und wobei die Approximation mit einer weiteren, dem weiteren Teilbereich (152) zugeordneten Teilbereichsfunktion durchgeführt wird, mit deren Hilfe eine individuelle Verände¬ rung der Größe (Z2, Z3, Z4) in dem weiteren Teilbereich
(152) des Parameterbereichs (150) hervorrufbar ist.
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Größe eine Größe aus der folgenden Gruppe ist: eine optische Größe;
eine Verzeichnungsgröße;
ein Wellenfrontfehler ; ein Koeffizient zu einem Zernike-Polynom einer Wellen- frontentwieklung .
Verfahren nach Anspruch 15,
wobei die Messung eine mit Hilfe eines ortsauflösenden Sensors (141, 143) durchgeführte Strahlungsmessung ist.
Verfahren nach Anspruch 16,
wobei der ortsauflösende Sensor (143) an unterschiedli¬ chen Messpositionen angeordnet wird oder der ortsauflösende Sensor (141) mehrere Teilsensoren aufweist.
Verfahren zur Justage einer Abbildungsoptik (130) eines optischen Systems (100, 101), wobei unter Verwendung eines ortsauflösenden Sensors (141, 143), welcher mit einer von der Abbildungsoptik (130) kommenden Strahlung (115) bestrahlbar ist, ein
Verfahren nach einem der Ansprüche 14 bis 16 zur Ermitt lung einer korrigierten optischen Größe (Z2, Z3, Z4) durchgeführt wird, und wobei die Abbildungsoptik (130) auf der Grundlage der korrigierten optischen Größe (Z2, Z3, Z4) justiert wird .
Vorrichtung zur Ermittlung einer korrigierten und von mindestens einem Parameter (x, y) abhängigen Größe (Z2, Z3, Z4) in einem Parameterbereich (150) des mindestens einen Parameters (x, y) , aufweisend: eine Messeinrichtung (141, 143, 160), mit deren Hilfe Messwerte der Größe (Z2, Z3, Z4) in mehreren separaten und nicht überlappenden Teilbereichen (151) des Parameterbereichs (150) bereitstellbar sind; und
Auswerteeinrichtung (160) zur Korrektur von Mess werten der Größe (Z2, Z3, Z4), wobei die Auswerteeinrichtung (160) ausgebildet ist, die Korrektur unter Verwendung einer Approximation durchzuführen, in welcher Messwerte der Größe (Z2, Z3, Z4) mit einer glatten Funktion und mit den Teilbereichen (151) zugeordneten Teilbereichsfunktionen approximiert werden, wobei mit Hilfe der glatten Funktion ein Verlauf der Größe (Z2, Z3, Z4) über den Parameterbereich (150) wiedergebbar ist, und wobei mit Hilfe der Teilbereichsfunktionen eine individuelle Veränderung der Größe (Z2, Z3, Z4) in den Teilbereichen (151) des Parameterbereichs (150) hervor¬ rufbar ist.
Verfahren zur Ermittlung von mehreren korrigierten und von zwei Ortskoordinaten (x, y) abhängigen Wellenfront- fehlern (Z2, Z3, Z4) in einem Bildfeld (150), umfassend die Verfahrensschritte:
Durchführen einer Strahlungsmessung mit Hilfe eines ortsauflösenden Sensors (141, 143), wobei Messwerte der mehreren Wellenfrontfehler (Z2, Z3, Z4) in mehreren separaten und nicht überlappenden Teilbereichen (151) des Bildfelds (150) bereitgestellt werden; und
Durchführen einer gemeinsamen Korrektur von Messwerten der mehreren Wellenfrontfehler (Z2, Z3, Z4) unter Verwendung einer Approximation, in welcher Messwerte der Wellenfrontfehler (Z2, Z3, Z4) mit mehreren, den Wellen- frontfehlern (Z2, Z3, Z4) zugeordneten glatten Funktionen und mit den Teilbereichen (151) des Bildfelds (150) zugeordneten Teilbereichsfunktionen approximiert werden, wobei mit Hilfe der glatten Funktionen Verläufe der mehreren Wellenfrontfehler (Z2, Z3, Z4) über das Bildfeld (150) wiedergebbar sind, und wobei mit Hilfe der Teilbereichsfunktionen der Ein- fluss von fehlerhaften Positionierungen des ortsauflösenden Sensors (141, 143) auf die Messwerte der mehreren Wellenfrontfehler (Z2, Z3, Z4) wiedergebbar ist.
Verfahren nach Anspruch 20,
wobei der ortsauflösende Sensor (143) an unterschiedli¬ chen Messpositionen angeordnet wird oder der ortsauflösende Sensor (141) mehrere Teilsensoren aufweist.
Verfahren nach einem der Ansprüche 20 oder 21,
wobei die Korrektur wenigstens eines der Folgenden um- fasst :
eine Bildung von korrigierten Werten der mehreren Wellenfrontfehler ;
eine Bildung von approximierten Verläufen der mehreren Wellenfrontfehler ;
eine Bildung von wenigstens einem Ergänzungswert von we¬ nigstens einem der Wellenfrontfehler, wobei der Ergänzungswert zu Ortskoordinaten gehört, für welche kein Messwert des Wellenfrontfehlers vorliegt.
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