DE102019213233A1

DE102019213233A1 - Verfahren und Vorrichtung zur Korrektur von Abbildungsfehlern einer Abbildungsoptik

Info

Publication number: DE102019213233A1
Application number: DE102019213233.2A
Authority: DE
Inventors: Jörg Tschischgale; Rüdiger Mack; Toralf Gruner
Original assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Current assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date: 2018-11-09
Filing date: 2019-09-02
Publication date: 2020-05-14
Also published as: DE102018219127A1

Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren (10) zur Korrektur von Abbildungsfehlern einer mehrere optische Elemente (42, 44, 46, 48) umfassenden Abbildungsoptik (40), bei dem Korrekturflächen (62, 64, 66) im Strahlengang der Abbildungsoptik (40) aus optischen Flächen der Abbildungsoptik (40) ausgewählt werden, welche die Wellenfront einer die Abbildungsoptik (40) durchlaufenden Welle verändern. Weiterhin wird eine feldpunkt- sowie richtungsaufgelöste Wellenfrontfehlerverteilung der Abbildungsoptik (40) vermessen (12). Ferner werden Korrekturwerte durch tomographische Rückprojektion der Wellenfrontfehlerverteilung auf die Korrekturflächen (62, 64, 66) bestimmt und die jeweilige Form der Korrekturflächen (62, 64, 66) anhand der Korrekturwerte verändert (30). Weiterhin betrifft die Erfindung eine entsprechende Vorrichtung zur Korrektur von Abbildungsfehlern.

Description

Hintergrund der Erfindung
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Korrektur von Abbildungsfehlern einer mehrere optische Elemente umfassenden Abbildungsoptik, bei welchem eine Messung einer feldpunkt- und richtungsaufgelösten Wellenfrontfehlerverteilung der Abbildungsoptik erfolgt. Weiterhin betrifft die Erfindung eine Vorrichtung zur Korrektur von Abbildungsfehlern einer Abbildungsoptik mit mehreren optischen Elementen.
Aus dem Stand der Technik sind verschiedene Verfahren und Vorrichtungen zum Messen einer feldpunkt- und richtungsaufgelöste Wellenfront beziehungsweise einer Wellenfrontfehlerverteilung bekannt. Beispielsweise erfolgt eine solche Messung mit Hilfe von phasenschiebenden Interferometrietechniken, wie etwa einer Scher- bzw. Shearinginterferometrie. Auch eine dem Fachmann bekannte Punktbeugungsinterferometrie bzw. Point-Diffraction-Interferometrie eignet sich zur richtungsaufgelösten Vermessung einer Wellenfront bei verschiedenen Feldpunkten einer Feldebene der Abbildungsoptik. In der Mikrolithographie werden beispielsweise entsprechende Messvorrichtungen bei Abbildungsoptiken zum Abbilden von Maskenstrukturen auf ein Substrat für eine Bestimmung von Wellenfrontfehlern in der Bildebene verwendet.
Zur Korrektur von Abbildungsfehlern mit Hilfe einer gemessenen Wellenfrontfehlerverteilung erfolgt bei herkömmlichen Verfahren zunächst eine Zerlegung von gemessenen Wellenfronten in eine vordefinierte Auswahl von so genannten Zernikepolynomen und zugehörigen Zernikekoeffizienten. Zernikepolynome sind Basisfunktionen eines linearen Raums und eignen sich besonders zur Beschreibung von Abbildungsfehler bei Abbildungsoptiken. Dem Fachmann sind Zernikepolynome zum Beispiel aus Kapitel 13.2.3 des Lehrbuchs „Optical Shop Testing“, 2nd Edition (1992) von Daniel Malacara, Hrsg. John Wiley & Sons, Inc. bekannt.
Eine Korrektur bei einer Abbildungsoptik kann beispielsweise mit Hilfe einer Lageränderung mittels Manipulatoren oder einer entsprechenden Bearbeitung einer oder mehrerer optischer Oberflächen von optischen Elementen der Abbildungsoptik erfolgen. Eine Wirkung von Stellwegen x bei Manipulatoren oder eine entsprechenden Formbearbeitung wird im Raum der Wellenfrontänderungen üblicherweise mit einer Sensitivitätsmatrix M beschrieben. Zum Bestimmen von geeigneten Stellwegen oder Formänderungen für eine Korrektur erfolgt bei bekannten Verfahren mit einer gemessenen Wellenfrontfehlerverteilung a die wie folgt eine Minimierung einer Zielfunktion: $min \frac{1}{2} {‖ M x - a ‖}^{2} = min (\frac{1}{2} x^{T} M^{T} M x - {(M^{T} a)}^{T} x)$
Nachteilig an einer solchen Optimierung mit einer Zerlegung einer Wellenfront in Zernikepolynome ist, dass sich diese Polynome nur schlecht für hochfrequente Störungen und insbesondere periodische hochfrequente Störungen eignen. Solche Fehler können zum Beispiel bei optischen Elementen mit einem Substratmaterial auftreten, bei dem die Härte und somit auch ein Materialabtragsverhalten periodisch variieren. Eine weitere Ursache dieser Fehler können Artefakte einer interferometrischen Passemesstechnik darstellen. Ermittelte Zernikekoeffizienten sind in diesen Fällen sehr sensitiv auf Rauschen, so dass die Lösung des inversen Problems schlecht konditioniert ist und durch Rauschverstärkung eine sehr geringe Korrekturwirkung auftreten kann.
Zugrunde liegende Aufgabe
Es ist eine Aufgabe der Erfindung, ein Verfahren und eine Vorrichtung bereitzustellen, womit die vorgenannten Probleme gelöst werden, und insbesondere eine bessere Korrektur von Abbildungsfehlern bei einer Abbildungsoptik erreicht wird.
Erfindungsgemäße Lösung
Die vorgenannte Aufgabe kann erfindungsgemäß beispielsweise gelöst werden mit einem Verfahren zur Korrektur von Abbildungsfehlern einer mehrere optische Elemente umfassenden Abbildungsoptik, bei dem Korrekturflächen im Strahlengang der Abbildungsoptik aus den optischen Flächen der Abbildungsoptik ausgewählt werden, welche die Wellenfront einer die Abbildungsoptik durchlaufenden Welle verändern.
Weiterhin werden bei dem erfindungsgemäßen Verfahren eine feldpunkt- sowie richtungsaufgelöste Wellenfrontfehlerverteilung der Abbildungsoptik vermessen und Korrekturwerte durch tomographische Rückprojektion der Wellenfrontfehlerverteilung auf die Korrekturflächen bestimmt. Schließlich wird die jeweilige Form der Korrekturflächen anhand der Korrekturwerte verändert.
Als Korrekturflächen werden beispielsweise unkompliziert zu bearbeitende oder mit Hilfe von Manipulatoren in ihren optischen Eigenschaften einstellbare optische Flächen verwendet. Für eine Vermessung eines Wellenfrontfehler der Abbildungsoptik können z.B. phasenschiebenden Interferometrietechniken, wie etwa eine Scher- bzw. Shearinginterferometrie oder eine Punktbeugungsinterferometrie eingesetzt werden. Mit einer tomographischen Rückprojektion der gemessenen Wellenfrontfehlerverteilung wird eine Rückprojektion entlang des Strahlengangs der Abbildungsoptik zu verschiedenen Korrekturflächen an unterschiedlichen Orten in der Abbildungsoptik bezeichnet.
Die Formänderung einer Korrekturfläche erfolgt nach einer Ausführungsform mittels eines geeigneten Werkzeugs zur Materialabtragung, wie beispielsweise eines Polierpads, eines magnetorheologischen Werkzeugs, eines Elektronenstrahls oder eines lonenstrahls. Vorzugweise wird die Bearbeitung mit dem Werkzeug mittels einer entsprechenden Werkzeugfunktion, z.B. einer rotationssymmetrischen Gaußfunktion mit einer charakteristischen Breite beschrieben. Bei einer alternativen Ausführungsform erfolgt anstelle einer Materialabtragung eine Stellwegsänderung eines Manipulators und somit eine Lageänderung der Korrekturfläche eines optischen Elements der Abbildungsoptik.
Mit der Rückprojektion und der Nutzung der Information der Strahlenausbreitung in der Abbildungsoptik gemäß dem erfindungsgemäßen Verfahren wird eine gegenüber herkömmlichen Verfahren wesentlich robustere und an höherfrequente Fehler besser angepasste Bestimmung von Korrekturwerten zur Reduzierung von Abbildungsfehlern erreicht.
Gemäß einer Ausführungsform nach der Erfindung werden die Korrekturflächen jeweils in Korrekturabschnitte eingeteilt, der Abbildungsstrahlengang der Abbildungsoptik simuliert, und Einzelstrahlen des Abbildungsstrahlengangs derart den Korrekturabschnitten zugeordnet, dass jeder der zugeordneten Einzelstrahlen eine charakteristische Kombination der Korrekturflächen durchläuft. Unter dem Begriff „Durchlaufen“ von Korrekturflächen oder optischen Flächen wird im Folgenden neben einem Passieren einer optischen Fläche, etwa einer Oberfläche einer Linse, auch eine Reflektion an einer optischen Fläche, z.B. an einem Spiegel, oder eine Beugung an einer optischen Fläche und somit ganz allgemein eine Wechselwirkung eines Einzelstrahls mit einer optischen Fläche beziehungsweise einer Korrekturfläche verstanden. Die Anzahl der Korrekturabschnitte einer Korrekturfläche in einer lateralen Richtung kann gemäß einer Ausführungsform größer als fünfzig, insbesondere größer als hundert, sein. Gemäß einer Ausführungsvariante beträgt die Gesamtzahl der Korrekturabschnitte pro Korrekturfläche in beiden lateralen Dimensionen, d.h. in der Fläche, einige tausend. Eine Einteilung einer Korrekturfläche erfolgt zum Beispiel in gleichgroße Korrekturabschnitte, welche die gesamte Korrekturfläche bedecken. Alternativ kann auch eine Einteilung in unterschiedlich große Korrekturabschnitte, in nicht die gesamte Korrekturfläche abdeckende Korrekturabschnitte oder beides erfolgen. Auch können Korrekturabschnitte anhand von ausgewählten Einzelstrahlen, welche den jeweiligen Korrekturabschnitt durchlaufen, festgelegt werden.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform nach der Erfindung erfolgt ein Identifizieren eines der Einzelstrahlen als fehlerhaften Einzelstrahl durch Zuordnen eines Fehlerwertes aus der Wellenfrontfehlerverteilung zu dem identifizierten Einzelstrahl und werden Korrekturwerte an von dem identifizierten Einzelstrahl durchlaufene Korrekturabschnitte zugewiesen. Jeder Einzelstrahl wird durch den Feldpunkt, bei dem er eine Feldebene der Abbildungsoptik, z.B. die Bildebene, durchläuft, und den Einfallswinkel eindeutig festgelegt. Mit der gemessenen feldpunkt- und richtungsaufgelösten Wellenfrontfehlerverteilung lässt sich somit bei jedem Einzelstrahl ein eventuell vorhandener Wellenfrontfehler zuordnen.
Gemäß einer Ausführungsform wird die feldpunkt- sowie richtungsaufgelöste Wellenfrontfehlerverteilung der Abbildungsoptik in Bezug auf eine Sollwellenfront vermessen. Weiterhin werden das Identifizieren eines Einzelstrahls, das Zuweisen von Korrekturwerten, ein Berechnen einer korrigierten Sollwellenfront durch Simulation des Strahlengangs auf Grundlage der mit den Korrekturwerten versehenen Abbildungsoptik, sowie ein Bestimmen einer korrigierten Wellenfrontfehlerverteilung der Abbildungsoptik in Bezug auf die korrigierte Sollwellenfront iterativ ausgeführt, bis die Wellenfrontfehlerverteilung eine vorgegebene Schwelle unterschreitet. Ferner erfolgt eine Veränderung der jeweiligen Form der Korrekturflächen anhand der Korrekturwerte, welche bei Unterschreitung der vorgegebenen Schwelle durch die korrigierte Wellenfrontfehlerverteilung vorliegen.
Es erfolgt somit in einer Iteration zunächst eine Zuweisung von Korrekturwerten an jeweilige Korrekturabschnitte von Korrekturflächen mit Hilfe einer Rückprojektion von fehlerhaften Einzelstrahlen und anschließend in einer Vorwärtsrechnung eine Simulation des Strahlengangs mit entsprechend korrigierten Korrekturflächen. Dabei kann nach einer Ausführungsform mittels einer Werkzeugfunktion eine Vorgabe von möglichen Korrekturen durchgeführt werden. Die bei der Simulation ermittelte korrigierte Sollwellenfront wird zum Bestimmen einer korrigierten Wellenfrontfehlerverteilung für die nächste Iteration verwendet. Beispielsweise erfolgt zur Bestimmung der korrigierten Wellenfrontfehlerverteilung ein Vergleich der korrigierten Sollwellenfront mit der gemessenen Wellenfront.
Bei einer weiteren erfindungsgemäßen Ausführungsform werden beim Zuweisen eines Korrekturwerts an einen Korrekturabschnitt der einem Einzelstrahl zugeordnete Fehlerwert und die von dem Einzelstrahl durchlaufenen Korrekturflächen berücksichtigt. Vorzugsweise wird bei einer Ausführungsform die Anzahl von durchlaufenen Korrekturflächen berücksichtigt. Ferner kann eine geeignete Gewichtung der durchlaufenen Korrekturflächen bei einem Zuweisen eines Korrekturwerts an einen Korrekturabschnitt einer Korrekturfläche durchgeführt werden.
Dabei erfolgt nach einer Ausführungsform ein Aufteilen des einem Einzelstrahl zugeordneten Fehlerwerts auf die von dem Einzelstrahl durchlaufenen Korrekturflächen. Beispielsweise wird eine zu korrigierenden Wellenfrontabweichung WFR(x, y; k_x, k_y) mit den Feldpunktkoordinaten (x, y) und den Pupillenkoordinaten (k_x, k_y) gleichmäßig auf alle durchlaufenen Korrekturflächen verteilt. Mit der Anzahl N von durchlaufenen Korrekturflächen ergibt sich damit für einen Aufteilungsfaktor g_fl $g_{f l} = \frac{1}{N}$
und somit für eine Wellenfrontabweichung pro Korrekturfläche WFR_fl(x, y; k_x, k_y) ${WFR}_{fl} (x, y; k_{x}, k_{y}) = - g_{fl} WFR (x, y; k_{x}, k_{y})$
In alternativen Ausführungen kann auch eine andere geeignete Aufteilung mit $\sum_{fl = 1}^{N} g_{fl} = 1$
erfolgen. Die Summe über alle Wellenfrontabweichung pro Korrekturfläche kompensiert somit den Gesamtfehler.
Gemäß einer Ausführungsform nach der Erfindung werden bei einer Zuweisung eines Korrekturwerts zu einem Korrekturabschnitt mehrere oder alle den Korrekturabschnitt durchlaufende Einzelstrahlen berücksichtigt. Beispielsweise erfolgt eine Addition der Korrekturwellenfrontanteile Δp_fl aller den Korrekturabschnitt durchlaufenden Einzelstrahlen. Der Korrekturwellenfrontanteil Δp_fl eines Einzelstrahls entspricht beispielsweise dem der Korrekturfläche zugeordneten Anteil der Wellenfrontabweichung: $Δ p_{fl} (j, k) = g_{fl} WFR (x, y; k_{x}, k_{y})$
Bei einer erfindungsgemäßen Ausführungsform erfolgt dabei eine geeignete Gewichtung der Fehlerwerte der einen Korrekturabschnitt durchlaufenden Einzelstrahlen für eine Zuweisung eines Korrekturwerts zu dem Korrekturabschnitt. Bei der Gewichtung der Fehlerwerte kann zum Beispiel die Anzahl der den Korrekturabschnitt durchlaufenden Einzelstrahlen berücksichtigt werden. Gemäß einer Ausführungsform erfolgt als Gewichtung eine Mittelung der einzelnen Fehlerwerte über die Anzahl der Einzelstrahlen.
Nach einer weiteren erfindungsgemäßen Ausführungsform umfasst die Abbildungsoptik eine Vielzahl von optischen Flächen, welche die Wellenfront einer die Abbildungsoptik durchlaufenden Welle verändern, und umfassen die Korrekturflächen lediglich eine Teilmenge der optischen Flächen. Dieses bedeutet, dass nicht alle optischen Flächen der Abbildungsoptik als Korrekturflächen dienen. In gewisser Weise wird die Abbildungsoptik für eine Korrektur auf die Korrekturflächen reduziert. Beispielsweise umfassen die optischen Flächen bei einem Spiegelobjektiv die Spiegeloberflächen und bei einem Linsenobjektiv die Linsenoberflächen. Weiterhin können die optischen Flächen auch Flächen von eigens zur Wellenfrontkorrektur in den Strahlengang der Abbildungsoptik eingebrachten Korrekturelementen umfassen. Von allen optischen Flächen wird nur ein Teil als Korrekturflächen verwendet.
Gemäß einer Ausführungsform nach der Erfindung werden die Einzelstrahlen derart Korrekturabschnitten zugeordnet, dass sich die Kombination an Korrekturabschnitten eines jeweiligen Einzelstrahls von der jeweiligen Kombination der übrigen Einzelstrahlen unterscheidet. Somit ist jedem Einzelstrahl eine Kombination an Korrekturabschnitten auf verschiedenen Korrekturflächen zugewiesen, die keinem anderen Einzelstrahlen zugewiesen ist. Beispielsweise können Einzelstrahlen mit einer gleichen Kombination von Korrekturabschnitten zu einem Einzelstrahl zusammengefasst und diesem Einzelstrahl ein Fehlerwert basierend auf den Fehlerwerten der zusammengefassten Einzelstrahlen zugeordnet werden.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform nach der Erfindung ist der dem identifizierten Einzelstrahl zugeordnete Fehlerwert der Wert der Wellenfrontfehlerverteilung, welcher den Feld- und Richtungskoordinaten des identifizierten Einzelstrahls in der Bildebene der Abbildungsoptik entspricht. Mit anderen Worten wird bei der Zuordnung des Fehlerwertes zu dem identifizierten Einzelstrahl derjenige Wert der feldpunkt- und richtungsaufgelösten Wellenfrontfehlerverteilung ermittelt, welcher an der Ortskoordinate sowie der Richtungskoordinate des Schnittpunktes des Einzelstrahls mit der Bildebene vorliegt, und dem Einzelstrahl zugeordnet. Die Wellenfrontfehlerverteilung wird dafür zum Beispiel als Abweichung einer in der Bildebene gemessenen orts- und richtungsabhängigen Wellenfront von einer Sollwellenfront bestimmt.
Nach einer erfindungsgemäßen Ausführungsform werden bei einer Zuordnung eines Korrekturwerts an einen Korrekturabschnitt Fehlerwerte von Einzelstrahlen mit gegenüber anderen Einzelstrahlen geringerer Messgenauigkeit niedriger gewichtet oder nicht berücksichtigt. Beispielsweise wird ein Grenzwert für eine Messgenauigkeit vorgegeben und bei einer Messgenauigkeit unterhalb dieses Grenzwerts der entsprechende Fehlerwert gegenüber Fehlerwerten von anderen Einzelstrahlen geringer gewichtet oder gar nicht berücksichtigt. Bei anderen Ausführungsformen können zusätzlich oder alternativ Filtervorgänge zur Reduzierung von Rauscheffekten während einer Iteration zur Bestimmung von Korrekturwerten vorgesehen sein.
Gemäß einer Ausführungsform nach der Erfindung ist die Abbildungsoptik als Projektionsobjektiv einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie konfiguriert. Mit dem Projektionsobjektiv erfolgt bei der Mikrolithographie während eines Belichtungsvorganges eine Abbildung von Maskenstrukturen auf ein Substrat in Form eines Wafers. Dabei werden für eine möglichst fehlerfreie Abbildung der Maskenstrukturen hohe Anforderungen an die Abbildungsqualität des Projektionsobjektivs gestellt. Das Projektionsobjektiv sollte nur sehr geringe Wellenfrontaberrationen aufweisen.
Ferner ist bei einer weiteren erfindungsgemäßen Ausführungsform die Abbildungsoptik zum Betrieb mit EUV-Strahlung ausgelegt. Strahlung im extrem ultravioletten Wellenlängenbereich (EUV-Strahlung) ist elektromagnetische Strahlung mit einer Wellenlänge kleiner als 100 nm. Insbesondere ist die Abbildungsoptik für Strahlung mit einer Wellenlänge von etwa 13,5 nm oder etwa 6,7 nm konfiguriert. Die Abbildungsoptik umfasst daher im Wesentlichen Spiegel als optische Elemente. Gegenüber Abbildungsoptiken für Strahlung in einem anderen, langwelligeren Spektralbereich weisen EUV-Abbildungsoptiken üblicherweise deutlich weniger optische Elemente beziehungsweise optische Flächen auf. Eine Rückprojektion von Einzelstrahlen auf Korrekturflächen für eine Korrektur von Abbildungsfehlern lässt sich daher schnell und mit hoher Genauigkeit durchführen.
Die vorgenannte Aufgabe kann weiterhin beispielsweise gelöst werden mit einer Vorrichtung zur Korrektur von Abbildungsfehlern einer Abbildungsoptik mit mehreren optischen Elementen. Die Vorrichtung umfasst eine Messeinrichtung zum feldpunktsowie richtungsaufgelösten Vermessen einer Wellenfrontfehlerverteilung der Abbildungsoptik, ein Bestimmungsmodul zum Bestimmen von Korrekturwerten durch tomographische Rückprojektion der Wellenfrontfehlerverteilung auf Korrekturflächen, wobei die Korrekturflächen aus optischen Flächen der Abbildungsoptik ausgewählt sind, welche die Wellenfront einer die Abbildungsoptik durchlaufenden Welle verändern, sowie eine Einrichtung zum Verändern der jeweiligen Form der Korrekturflächen anhand der Korrekturwerte.
Analog zum erfindungsgemäßen Verfahren wird bei der Vorrichtung durch die Rückprojektion der Wellenfrontfehlerverteilung entlang des Strahlengang zu verschiedenen Korrekturflächen an unterschiedlichen Orten in der Abbildungsoptik und somit der Nutzung der Information der Strahlenausbreitung in der Abbildungsoptik eine gegenüber herkömmlichen Vorrichtungen bessere Korrektur von Abbildungsfehlern erzielt.
Die bezüglich der vorstehend aufgeführten Ausführungsformen, Ausführungsbeispiele bzw. Ausführungsvarianten, etc. des erfindungsgemäßen Korrekturverfahrens angegebenen Merkmale können entsprechend auf die erfindungsgemäße Korrekturvorrichtung übertragen werden. Diese und andere Merkmale der erfindungsgemäßen Ausführungsformen werden in der Figurenbeschreibung und den Ansprüchen erläutert. Die einzelnen Merkmale können entweder separat oder in Kombination als Ausführungsformen der Erfindung verwirklicht werden. Weiterhin können sie vorteilhafte Ausführungsformen beschreiben, die selbstständig schutzfähig sind und deren Schutz ggf. erst während oder nach Anhängigkeit der Anmeldung beansprucht wird.
Figurenliste
Die vorstehenden, sowie weitere vorteilhafte Merkmale der Erfindung werden in der nachfolgenden detaillierten Beschreibung beispielhafter erfindungsgemäßer Ausführungsformen unter Bezugnahme auf die beigefügten schematischen Zeichnungen veranschaulicht. Es zeigt:

1 ein schematisches Flussdiagramm zur Veranschaulichung eines Ausführungsbeispiels des erfindungsgemäßen Verfahrens,
2 eine schematische Darstellung einer beispielhaften Abbildungsoptik bei einer Korrektur von Abbildungsfehlern mit dem Ausführungsbeispiel nach 1, sowie
3a bis 3e eine Veranschaulichung von Verfahrensschritten des Ausführungsbeispiels nach 1 bei einer Korrektur der Abbildungsoptik gemäß 2.

Detaillierte Beschreibung erfindungsgemäßer Ausführungsbeispiele
In den nachstehend beschriebenen Ausführungsbeispielen bzw. Ausführungsformen oder Ausführungsvarianten sind funktionell oder strukturell einander ähnliche Elemente soweit wie möglich mit den gleichen oder ähnlichen Bezugszeichen versehen. Daher sollte zum Verständnis der Merkmale der einzelnen Elemente eines bestimmten Ausführungsbeispiels auf die Beschreibung anderer Ausführungsbeispiele oder die allgemeine Beschreibung der Erfindung Bezug genommen werden.
Zur Erleichterung der Beschreibung sind in einigen Zeichnungen kartesische xyz-Koordinatensystem angegeben, aus dem sich die jeweilige Lagebeziehung der in den Figuren dargestellten Komponenten ergibt. In 2 verläuft die y-Richtung senkrecht zur Zeichenebene aus dieser heraus, die x-Richtung nach rechts und die z-Richtung nach unten.
In 1 wird ein Verfahren 10 zur Korrektur von Abbildungsfehlern einer Abbildungsoptik in einem schematischen Flussdiagram veranschaulicht. Das Verfahren 10 eignet sich besonders zur Korrektur von Abbildungsfehlern bei Projektionsobjektiven der EUV-Mikrolithographie. Mit einem Projektionsobjektiv werden in der Mikrolithographie Maskenstrukturen auf ein Substrat in Form eines Wafers abgebildet. Dabei wird bei immer kleiner werdenden Strukturen eine Abbildung mit möglichst geringen Abbildungsfehlern benötigt. Die EUV-Mikrolithographie verwendet zur Belichtung des Substrats elektromagnetische Strahlung im extrem ultravioletten (EUV-) Wellenlängenbereich. Die Wellenlänge ist vorzugsweise kleiner als 100 nm und beträgt zum Beispiel etwa 13,5 nm oder etwa 6,7 nm. Bei solchen Abbildungsoptiken kommen als optische Elemente im Wesentlichen Spiegel zu Einsatz. Ferner ist die Anzahl der verwendeten optischen Elemente üblicherweise kleiner als bei Projektionsobjektiven für größere Wellenlängen.
Bei dem Verfahren 10 erfolgt ein Vermessen 12 einer feldpunkt- und richtungsabhängigen Wellenfrontfehlerverteilung in einer Feldebene, wie beispielsweise der Bildebene der Abbildungsoptik. Hierfür wird ein dem Fachmann bekanntes Messverfahren zur Bestimmung von Wellenfronten, etwa eine phasenschiebende Interferometrie, z.B. eine Scher- bzw. Shearinginterferometrie oder eine Punktbeugungsinterferometrie verwendet. Die Wellenfrontfehlerverteilung lässt sich beispielsweise mit Hilfe eines Vergleichs der an verschiedenen Feldpunkten der Feldebene gemessenen Wellenfront mit einer Sollwellenfront bestimmen. Die vermessene, feldpunkt- und richtungsaufgelöste Wellenfrontfehlerverteilung oder Wellenfrontabweichung wird hier auch als WFR(x, y; k_x, k_y) mit den Feldpunktkoordinaten (x, y) und den Richtungs- oder Pupillenkoordinaten (k_x, k_y) bezeichnet.
Weiterhin wird bei dem Verfahren 10 eine Bestimmung 14 von Korrekturflächen durchgeführt. Die Abbildungsoptik umfasst eine Vielzahl von optischen Flächen, welche die Wellenfront einer die Abbildungsoptik durchlaufenden Welle verändern. Beispiele solcher optischen Flächen sind reflektierende Flächen von Spiegeln, Grenz- bzw. Oberflächen von Linsen oder Prismen, oder Flächen mit diffraktiven Strukturen. Unter diesen optischen Flächen wird nur ein Teil als Korrekturflächen bestimmt. Die Korrekturflächen stellen somit eine Teilmenge der optischen Flächen der Abbildungsoptik dar. Bei einer Auswahl von Korrekturflächen kann unter anderem eine Eignung der Korrekturfläche zur Oberflächenbearbeitung oder zur Lage- oder Formveränderung durch Manipulatoren, oder deren Korrekturpotential bei bestimmten Abbildungsfehlern berücksichtigt werden.
Jede Korrekturfläche wird in einem Verfahrensschritt 16 in Korrekturabschnitte eingeteilt. Die Einteilung einer Korrekturfläche in Korrekturabschnitte erfolgt beispielsweise unter Berücksichtigung von Durchstoßpunkten relevanter Einzelstrahlen. Dabei kann eine Einteilung in gleich große oder unterschiedlich große Korrekturabschnitte erfolgen, welche die gesamte Korrekturfläche oder auch nur einen Teil davon bedecken.
Die Korrekturabschnitte einer Korrekturfläche fl werden im Folgenden auch als p_fl(j, k) bezeichnet, wobei j und k die Positionskoordinaten des Korrekturabschnitts auf der zugehörigen Korrekturfläche darstellen.
Anschließend wird eine Zuweisung jeweils eines Fehlerwerts der gemessenen Wellenfrontfehlerverteilung WFR(x, y; k_x, k_y) an einen Einzelstrahl durchgeführt. Die Feldpunktkoordinaten x, y und Richtungskoordinaten k_x, k_y identifizieren dabei jeweils eindeutig einen Einzelstrahl durch die Abbildungsoptik. Zusätzlich wird jedem Einzelstrahl mit Hilfe einer Rückprojektion bei jeder Korrekturfläche der von dem Einzelstrahl durchlaufene Korrekturabschnitt p_fl(j, k) zugeordnet. Insgesamt erfolgt in einem Verfahrensschrittschritt 18 somit die folgende Zuordnung: $WFR (x, y; k_{x}, k_{y}) \leftrightarrow Strahl \leftrightarrow p_{f l} (j, k) = f (fl, x, y, k_{x}, k_{y})$
Die Funktion f ordnet somit jeder einzelstrahlaufgelösten Wellenfrontfehlerverteilung eine Fehlerverteilung auf geeigneten Korrekturabschnitten zu. Dabei kann zusätzlich ein Übersetzungsfaktor einer Oberflächenabweichung Δh am jeweiligen Korrekturabschnitt zugeordnet werden. Beispielweise gilt bei einem Spiegel ΔWFR = -2 Δh cos(α), wobei α den Einfallswinkel gegenüber dem lokalen Flächenlot bezeichnet.
Nach einem Verfahrensschritt 20, bei dem die Korrekturwerte bei jedem Korrekturabschnitt initialisiert werden, indem die Korrekturwerte z.B. gleich Null gesetzt werden, wird bei einem Verfahrensschritt 22 eine Addition eines gewichteten Fehlerwerts bzw. Wellenfrontbeitrags für alle gemessenen feldabhängigen Wellenfrontpositionen und bei jedem Korrekturabschnitt durchgeführt. In diesem Ausführungsbeispiel erfolgt als Gewichtung eine gleichmäßige Aufteilung des einem Einzelstrahl zugewiesenen Fehlerwerts auf alle Korrekturflächen. Mit der Anzahl N von durchlaufenen Korrekturflächen ergibt sich als Gewichtungsfaktor g_fl $g_{f l} = \frac{1}{N}$
und somit für eine Wellenfrontabweichung pro Korrekturfläche WFR_fl(x, y; k_x, k_y) ${WFR}_{fl} (x, y; k_{x}, k_{y}) = - g_{fl} WFR (x, y; k_{x}, k_{y})$
In alternativen Ausführungen kann auch eine andere geeignete Aufteilung mit $\sum_{fl = 1}^{N} g_{fl} = 1$
erfolgen. Die Summe über alle den Korrekturflächen zugeordneten Wellenfrontabweichung kompensiert somit den Gesamtfehler. Die gewichtete Wellenfrontabweichung WFR_fl (x, y; k_x, k_y) eines Einzelstrahls wird dem Korrekturabschnitt der Korrekturfläche als Korrekturanteil bzw. Korrekturwert Δp_fl hinzuaddiert, welche von dem Einzelstrahl durchstoßen wird: $Δ p_{fl} (j, k) = - g_{fl} WFR (x, y; k_{x}, k_{y})$
Für einen Korrekturabschnitt können dabei Korrekturanteile von verschiedenen Wellenfronten bzw. Einzelstrahlen aufsummiert und die Summe als Korrekturwert verwendet werden. Weiterhin wird in diesem Ausführungsbeispiel bei der Aufsummierung von Korrekturanteilen für einen Korrekturabschnitt die Anzahl von durchlaufenden Einzelstrahlen berücksichtigt. Eine solche Gewichtung wird weiter unten mit Bezug auf 2 und 3 näher erläutert.
Für den Fall, dass bei einer Vermessung der Wellenfrontfehlerverteilung Feldpunkte unterschiedliche Bildfehlergewichte aufweisen, werden die Feldgewichte nach einem Ausführungsbeispiel mit den jeweiligen Wellenfrontabweichungen multipliziert. Für jeden Korrekturabschnitt wird für eine Normierung die Summe der Feldgewichte g_fl der durchlaufenden Einzelstrahlen erstellt $G_{f l} (j, k) = \sum_{S t r a h l e n a u f p_{f l} (j, k)} g_{f l} (j, k)$
und der Korrekturwert Δp_fl (j, k) durch diesen Normierungswert G_fl geteilt. Feldpunkte mit unterschiedlichen Bildfehlergewichten können beispielsweise bei Abbildungsoptiken in der Mikrolithographie durch unterschiedliche Helligkeiten auftreten, etwa bei einer Beleuchtungsrampe entlang einer Scanlinie.
Mit den ermittelten Korrekturwerten und einer Korrekturfunktion eines verwendeten Werkzeugs wird in einem nächsten Verfahrensschritt 24 eine zu erwartende Oberflächenänderung Δh_fl ^Korr(x, y) für jede Korrekturfläche berechnet. Dabei kann bei einem Material abtragenden Werkzeug, zum Beispiel einem Polierwerkzeug, einem magnetorheologischen Werkzeug oder einem Elektronen-, Ionen- oder Plasmastrahl, als Korrekturfunktion bzw. Werkzeugfunktion w(Δx, Δy) eine rotationssymmetrische Gaußfunktion mit einer charakteristischen Breite β verwendet werden: $w (Δ r) = k e^{- {(\frac{Δ r}{β})}^{2}} mit Δ r = \sqrt{Δ x^{2} + Δ y^{2}}$
Die Berechnung einer zu erwartenden Oberflächenänderung kann ferner ein Belegen der Korrekturfläche mit den aktuellen Korrekturwerten und eine Faltung der daraus resultierenden ortsverteilten Korrekturwerte mit der Werkzeugfunktion umfassen. Die berechnete Oberflächenänderung Δh_fl ^Korr(x, y) wird gegebenenfalls zu einer bereits berechneten Oberflächenänderung gemäß einer vorausgegangenen Iteration hinzuaddiert.
Anschließend wird in einem Verfahrensschritt 26 in einer Vorwärtsrechnung eine Berechnung von korrigierten Wellenfronten durchgeführt, wie sie anhand der gemessenen Wellenfronten und der Korrekturflächen mit aktualisierten Oberflächenänderungen zu erwarten sind. Es folgt in einem Verfahrensschritt 28 eine Überprüfung, ob die korrigierten Wellenfronten ein vorgegebenes Qualitätskriterium erfüllen. Beispielsweise kann geprüft werden, ob ausgewählte Zernike-Werte oder RMS-Werte unterhalb vorgegebener Toleranzwerte liegen. Mit anderen Worten wird überprüft, ob ein Restfehler der korrigierten Wellenfronten akzeptabel ist.
Trifft diese zu, erfolgt eine entsprechende Bearbeitung der Korrekturflächen gemäß den berechneten Oberflächenänderungen. Weiterhin erfolgt ein Abbruch des Verfahrens, falls eine maximale Anzahl von Iterationen erreicht wurde oder berechnete Oberflächenänderungen unterhalb einer vorgegeben Konvergenzschwelle liegen. Ist kein Abbruchkriterium erfüllt, erfolgt eine weitere Iteration, siehe Pfeil 32. Dabei werden in einem Verfahrensschritt 34 die simulierten korrigierten Wellenfrontwerte als neue Eingangswerte für eine aktualisierte Wellenfrontabweichung verwendet.
2 zeigt in einer schematischen Ansicht eine beispielhafte Abbildungsoptik 40 bei einer Korrektur von Abbildungsfehlern mit dem beschriebenen Verfahren 10. Die Abbildungsoptik 40 umfasst exemplarisch vier optische Elemente 42, 44, 46, 48 mit denen eine Abbildung von Strukturen in einer Objektebene 50 auf eine Bildebene 52 der Abbildungsoptik 40 erfolgt. In 2 sind drei Feldpunkte FP1, FP2, FP3 der Objektebene 50 dargestellt, welche in die Bildebene 52 abgebildet werden.
Für jeden Feldpunkt FP1, FP2, FP3 sind in 2 die Strahlengänge von drei beispielhaft ausgewählten Einzelstrahlen dargestellt. Die vom Feldpunkt FP1 in der Objektebene 50 ausgehenden Einzelstrahlen 54 sind als durchgezogene Linien dargestellt, die vom Feldpunkt FP2 ausgehenden Einzelstrahlen 56 als gestrichelte Linien, und die vom Feldpunkt FP3 ausgehenden Einzelstrahlen 58 als punktgestrichelte Linien. Unterhalb der Bildebene 52 sind in 2 für jeden Feldpunkt FP1, FP2, FP3 die unterschiedlichen Richtungs- oder Pupillenkoordinaten der Einzelstrahlen 54, 56, 58 als Ortskoordinaten in einer Pupillenebene 60 dargestellt.
Gemäß dem oben beschriebenen Verfahren 10 sind für eine Korrektur von Abbildungsfehlern drei optische Flächen der Abbildungsoptik als Korrekturflächen 62, 64, 66 bestimmt worden. Somit dienen beispielsweise optische Flächen des vierten optischen Elements 48 nicht als Korrekturflächen. Die Korrekturflächen 62, 64, 66 stellen somit lediglich eine Teilmenge aller optischen Flächen der Abbildungsoptik 40 dar.
Jede der Korrekturflächen 62, 64, 66 ist in drei Korrekturabschnitte K1, K2, K3 mit unterschiedlicher Größe eingeteilt. Deutlich ist in 2 zu erkennen, dass der erste Korrekturabschnitt K1 der ersten Korrekturfläche 62 nur von einem Einzelstrahl 54 des ersten Feldpunkts FP1 durchlaufen wird. Durch den zweiten Korrekturabschnitt K2 der ersten Korrekturfläche laufen dagegen die anderen beiden Einzelstrahlen des ersten Feldpunkts FP1, alle drei Einzelstrahlen 56 des zweiten Feldpunkts FP2 und zwei Einzelstrahlen 58 des dritten Feldpunkts FP3. Der dritte Korrekturabschnitt K3 der ersten Korrekturfläche 62 wird dagegen nur von einem Einzelstrahl 58 des dritten Feldpunkts FP3 durchlaufen. Entsprechend ist in 2 erkennbar, welche Einzelstrahlen jeweils die Korrekturabschnitte der zweiten und dritten Korrekturfläche 64, 66 durchlaufen.
In 3a bis 3e werden einzelne Verfahrensschritte des Ausführungsbeispiels nach 1 bei einer Korrektur der Abbildungsoptik gemäß 2 veranschaulicht. Dazu wird zunächst, wie in 3a dargestellt, eine Einheitsstörung 68 in dem ersten optischen Element im Bereich des ersten Korrekturabschnitts K1 bei der ersten Korrekturfläche 62 angenommen. Diesen Bereich wird nur von einem Einzelstrahl 54 des ersten Feldpunkts FP1 durchlaufen. Eine in 3b in Pupillenkoordinaten dargestellte Vermessung der Wellenfrontfehlerverteilung ergibt daher nur für diesen einen Einzelstrahl 54 bei dem ersten Feldpunkt FP1 einen Wellenfrontfehler 70.
3c veranschaulicht eine Zuweisung von Korrekturwerten an Korrekturabschnitte K1, K2, K3. Da aus der gemessenen Wellenfrontfehlerverteilung nicht hervorgeht, welches optisches Element 42, 44, 46, 48 den Fehler 70 verursacht, wird der Einheitsfehler 70 auf alle drei Korrekturflächen 62, 64, 66 gleich verteilt. Wie bereits beschrieben, erfolgt somit als Gewichtung eine gleichmäßige Aufteilung des dem Einzelstrahl 54 zugewiesenen Fehlerwerts 70 auf alle Korrekturflächen 62, 64, 66. Jedem ersten Korrekturabschnitt K1 der Korrekturflächen wird zunächst der Korrekturwert 1/3 zugewiesen.
Zusätzlich erfolgt mit Hilfe einer Mittelung eine Berücksichtigung der Anzahl von Einzelstrahlen 54, 56, 58, welche einen Korrekturabschnitt K1, K2, K3 durchlaufen. Der mit einem Fehler belegte Einzelstrahl 54 durchläuft als einziger den ersten Korrekturabschnitt K1 der ersten Korrekturfläche 62. Diesem Korrekturabschnitt K1 wird somit als Korrekturwert 1/3 zugewiesen. Der erste Korrekturabschnitt K1 der zweiten Korrekturfläche 64 wird dagegen neben dem Einzelstrahl 54 auch von einem Einzelstrahl 58 des dritten Feldpunkts FP3 durchlaufen. Für diesen Einzelstrahl 58 wurde kein Fehler gemessen. Die Mittelung (1/3+0)/2, also die Summe der Fehlerwerte der Einzelstrahlen geteilt durch die Anzahl der Einzelstrahlen bei einem Korrekturabschnitt, ergibt für den ersten Korrekturabschnitt K1 der zweiten Korrekturfläche 64 den Korrekturwert 1/6.
Entsprechend wird der erste Korrekturabschnitt K1 der dritten Korrekturfläche 66 von dem fehlerbehafteten Einzelstrahl 54 des ersten Feldpunkts FP1 und jeweils von einem fehlerfreien Einzelstrahl 56, 58 des zweiten und dritten Feldpunkts FP2, FP3 durchlaufen. Eine Mittelung ergibt hier somit (1/3+0+0)/3=1/9 als Korrekturwert für den ersten Korrekturabschnitt K1 der dritten Korrekturfläche 66. Bei allen anderen Korrekturabschnitten wird der während der Initialisierung im Verfahrensschritt 20 zugewiesene Korrekturwert Null nicht geändert. Mit diesen Korrekturwerten erfolgt im Verfahrensschritt 26 eine Bestimmung von korrigierten Wellenfronten.
3d zeigt die durch die Korrekturwerte bewirkte Änderung der Wellenfronten, welche bei der Bestimmung von korrigierten Wellenfronten bei jedem Einzelstrahl 54, 56, 58 auftreten. Der in 3d linke Einzelstrahl 54 des ersten Feldpunkts FP1 durchläuft alle drei mit einem Korrekturwert versehenen ersten Korrekturabschnitte K1. Der linke Einzelstrahl 56 des zweiten Feldpunkts FP2 durchläuft die zweiten Korrekturabschnitte K2 der ersten und zweiten Korrekturflächen 62, 64 ohne Korrekturwert und dann den ersten Korrekturabschnitt K1 der dritten Korrekturfläche 66 mit dem Korrekturwert 1/9. Der linke Einzelstrahl 58 des dritten Feldpunkts FP3 durchläuft insbesondere die ersten Korrekturabschnitte K1 der zweiten und dritten Korrekturfläche 64, 66.
3e zeigt das Ergebnis einer Subtraktion der neu rekonstruierten, korrigierten Wellenfront gemäß 3d von der gemessenen Wellenfront nach 3b. Dieses Ergebnis wird als Eingabe für eine erneute Iteration verwendet. Dabei wird wiederum eine Gleichverteilung der Fehlerwerte auf alle drei Korrekturflächen 62, 64, 66 durchgeführt und anschließend als Mittelung bei jedem Korrekturabschnitt die Summe der Korrekturwerte durch die Anzahl der durchlaufenden Einzelstrahlen geteilt. Für eine erneute Berechnung von korrigierten Wellenfronten werden zunächst bei jedem Korrekturabschnitt die Korrekturwerte aller vorherigen Iterationen addiert und diese Werte in einer Wellenfrontsimulation verwendet.
Die Iterationen werden solange durchgeführt, bis die im Verfahrensschritt 28 erfolgende Überprüfung einen akzeptablen Restfehler bei den korrigierten Wellenfronten oder eine maximale Anzahl von Iterationen feststellt. Bei einem akzeptablen Restwert werden schließlich die Korrekturwerte jedes Korrekturabschnitts für eine Bearbeitung der Korrekturflächen verwendet.
Die vorstehende Beschreibung beispielhafter Ausführungsbeispiele, Ausführungsformen bzw. Ausführungsvarianten ist exemplarisch zu verstehen. Die damit erfolgte Offenbarung ermöglicht es dem Fachmann einerseits, die vorliegende Erfindung und die damit verbundenen Vorteile zu verstehen, und umfasst andererseits im Verständnis des Fachmanns auch offensichtliche Abänderungen und Modifikationen der beschriebenen Strukturen und Verfahren. Daher sollen alle derartigen Abänderungen und Modifikationen, insoweit sie in den Rahmen der Erfindung gemäß der Definition in den beigefügten Ansprüchen fallen, sowie Äquivalente vom Schutz der Ansprüche abgedeckt sein.
Bezugszeichenliste

10: Verfahren zur Korrektur von Abbildungsfehlern
12: Vermessen Wellenfrontfehlerverteilung
14: Bestimmen Korrekturflächen
16: Einteilen Korrekturabschnitte
18: Zuweisung Fehlerwert - Einzelstrahl - Korrekturabschnitt
20: Initialisierung Korrekturwerte
22: Addieren Korrekturwerte
24: Berechnen Oberflächenänderung
26: Bestimmen korrigierter Wellenfronten
28: Überprüfen des Restfehlers
30: Bearbeitung der Korrekturflächen
32: Iteration
40: Abbildungsoptik
42, 44: erstes, zweites optisches Element
46, 48: drittes, viertes optisches Element
50: Objektebene
52: Bildebene
54: Einzelstrahlen FP1
56: Einzelstrahlen FP2
58: Einzelstrahlen FP3
60: Pupillenebene
62, 64, 66: erste, zweite, dritte Korrekturfläche
68: Störung
70: gemessener Wellenfrontfehler
FP1-FP3: Feldpunkte
K1, K2, K3: Korrekturabschnitte

Claims

Verfahren (10) zur Korrektur von Abbildungsfehlern einer mehrere optische Elemente (42, 44, 46, 48) umfassenden Abbildungsoptik (40), bei dem: - Korrekturflächen (62, 64, 66) im Strahlengang der Abbildungsoptik (40) aus optischen Flächen der Abbildungsoptik (40) ausgewählt werden, welche die Wellenfront einer die Abbildungsoptik (40) durchlaufenden Welle verändern, - eine feldpunkt- sowie richtungsaufgelöste Wellenfrontfehlerverteilung der Abbildungsoptik (40) vermessen wird (12), - Korrekturwerte durch tomographische Rückprojektion der Wellenfrontfehlerverteilung auf die Korrekturflächen (62, 64, 66) bestimmt werden, sowie - die jeweilige Form der Korrekturflächen (62, 64, 66) anhand der Korrekturwerte verändert wird (30).
Verfahren nach Anspruch 1, bei dem: - die Korrekturflächen (62, 64, 66) jeweils in Korrekturabschnitte (K1, K2, K3) eingeteilt werden, - der Abbildungsstrahlengang der Abbildungsoptik (40) simuliert wird, und - Einzelstrahlen (54, 56, 58) des Abbildungsstrahlengangs derart den Korrekturabschnitten (K1, K2, K3) zugeordnet werden, dass jeder der zugeordneten Einzelstrahlen (54, 56, 58) eine charakteristische Kombination der Korrekturflächen (62, 64, 66) durchläuft.
Verfahren nach Anspruch 2, bei dem ein Identifizieren eines der Einzelstrahlen (54, 56, 58) als fehlerhaften Einzelstrahl (54) durch Zuordnen eines Fehlerwertes aus der Wellenfrontfehlerverteilung zu dem identifizierten Einzelstrahl (54) erfolgt, und Korrekturwerte an von dem identifizierten Einzelstrahl (54) durchlaufene Korrekturabschnitte (K1) zugewiesen (18) werden.
Verfahren nach Anspruch 3, bei dem die feldpunkt- sowie richtungsaufgelöste Wellenfrontfehlerverteilung der Abbildungsoptik (40) in Bezug auf eine Sollwellenfront vermessen (12) wird, das Identifizieren eines Einzelstrahls (54), das Zuweisen (18) von Korrekturwerten, ein Berechnen einer korrigierten Sollwellenfront durch Simulation des Strahlengangs auf Grundlage der mit den Korrekturwerten versehenen Abbildungsoptik (40), sowie ein Bestimmen (26) einer korrigierten Wellenfrontfehlerverteilung der Abbildungsoptik (40) in Bezug auf die korrigierte Sollwellenfront iterativ ausgeführt werden, bis die Wellenfrontfehlerverteilung eine vorgegebene Schwelle unterschreitet, und die jeweilige Form der Korrekturflächen (62, 64, 66) anhand der Korrekturwerte, welche bei Unterschreitung der vorgegebenen Schwelle durch die korrigierte Wellenfrontfehlerverteilung vorliegen, verändert (30) wird.
Verfahren nach Anspruch 3 oder 4, wobei beim Zuweisen (18) eines Korrekturwerts an einen Korrekturabschnitt (K1, K2, K3) der einem Einzelstrahl (54, 56, 58) zugeordnete Fehlerwert und die von dem Einzelstrahl (54, 56, 58) durchlaufenen Korrekturflächen (62, 64, 66) berücksichtigt werden.
Verfahren nach Anspruch 5, wobei ein Aufteilen des einem Einzelstrahl (54, 56, 58) zugeordneten Fehlerwerts auf die von dem Einzelstrahl (54, 56, 58) durchlaufenen Korrekturflächen (62, 64, 66) erfolgt.
Verfahren nach einem der Ansprüche 3 bis 6, wobei bei einer Zuweisung eines Korrekturwerts zu einem Korrekturabschnitt (K1, K2, K3) mehrere oder alle den Korrekturabschnitt (K1, K2, K3) durchlaufende Einzelstrahlen (54, 56, 58) berücksichtigt werden.
Verfahren nach Anspruch 7, wobei eine geeignete Gewichtung der Fehlerwerte der einen Korrekturabschnitt (K1, K2, K3) durchlaufenden Einzelstrahlen (54, 56, 58) für eine Zuweisung eines Korrekturwerts zu dem Korrekturabschnitt (K1, K2, K3) erfolgt.
Verfahren nach einem der vorausgehenden Ansprüche, wobei die Abbildungsoptik (40) eine Vielzahl von optischen Flächen umfasst, welche die Wellenfront einer die Abbildungsoptik (40) durchlaufenden Welle verändern, und die Korrekturflächen (62, 64, 66) lediglich eine Teilmenge der optischen Flächen umfassen.
Verfahren nach einem der Ansprüche 2 bis 9, bei dem die Einzelstrahlen (54, 56, 58) derart Korrekturabschnitten (K1, K2, K3) zugeordnet werden, dass sich die Kombination an Korrekturabschnitten (K1, K2, K3) eines jeweiligen Einzelstrahls (54, 56, 58) von der jeweiligen Kombination der übrigen Einzelstrahlen (54, 56, 58) unterscheidet.
Verfahren nach einem der Ansprüche 3 bis 10, wobei der dem identifizierten Einzelstrahl (54) zugeordnete Fehlerwert der Wert der Wellenfrontfehlerverteilung ist, welcher den Feld- und Richtungskoordinaten des identifizierten Einzelstrahls (54) in der Bildebene der Abbildungsoptik (40) entspricht.
Verfahren nach einem der Ansprüche 3 bis 11, wobei bei einer Zuordnung eines Korrekturwerts an einen Korrekturabschnitt (K1, K2, K3) Fehlerwerte von Einzelstrahlen mit gegenüber anderen Einzelstrahlen (54, 56, 58) geringerer Messgenauigkeit niedriger gewichtet oder nicht berücksichtigt werden.
Verfahren nach einem der vorausgehenden Ansprüche, bei dem die Abbildungsoptik (40) als Projektionsobjektiv einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie konfiguriert ist.
Verfahren nach einem der vorausgehenden Ansprüche, bei dem die Abbildungsoptik (40) zum Betrieb mit EUV-Strahlung ausgelegt ist.
Vorrichtung zur Korrektur von Abbildungsfehlern einer Abbildungsoptik (40) mit mehreren optischen Elementen (42, 44, 46, 48), umfassend: - eine Messeinrichtung zum feldpunkt- sowie richtungsaufgelösten Vermessen einer Wellenfrontfehlerverteilung der Abbildungsoptik, - ein Bestimmungsmodul zum Bestimmen von Korrekturwerten durch tomographische Rückprojektion der Wellenfrontfehlerverteilung auf Korrekturflächen (62, 64, 66), wobei die Korrekturflächen aus optischen Flächen der Abbildungsoptik (40) ausgewählt sind, welche die Wellenfront einer die Abbildungsoptik (40) durchlaufenden Welle verändern, sowie - eine Einrichtung zum Verändern der jeweiligen Form der Korrekturflächen anhand der Korrekturwerte.