WO2015108168A1 - シクロブタンテトラカルボン酸誘導体の製造方法 - Google Patents

シクロブタンテトラカルボン酸誘導体の製造方法 Download PDF

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淳平 島田
近藤 光正
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日産化学工業株式会社
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    • H10K85/00Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
    • H10K85/10Organic polymers or oligomers

Definitions

  • the present invention relates to a method for producing an alicyclic tetracarboxylic dianhydride that can be a raw material monomer such as polyamic acid and polyimide for optical materials.
  • a polyimide resin is widely used as an electronic material such as a protective material or an insulating material in a liquid crystal display element or a semiconductor because of its high mechanical strength, heat resistance, insulation, solvent resistance, and the like.
  • an optical communication material such as an optical waveguide material is also expected.
  • the development of this field has been remarkable, and correspondingly, higher and higher properties are required for the materials used. That is, it is expected not only to be excellent in heat resistance and solvent resistance, but also to have a large number of performances depending on the application.
  • the wholly aromatic polyimide resin has a dark amber color and has a problem in applications requiring high transparency.
  • a polyimide precursor is formed by a polycondensation reaction between an alicyclic tetracarboxylic dianhydride and an aromatic diamine, and the precursor is imidized to produce a polyimide.
  • a polyimide precursor is formed by a polycondensation reaction between an alicyclic tetracarboxylic dianhydride and an aromatic diamine, and the precursor is imidized to produce a polyimide.
  • relatively transparent and highly transparent polyimide can be obtained (see Patent Documents 1 and 2).
  • 1,3-dimethylcyclobutane-1,2 is obtained by photodimerization reaction of citraconic anhydride (abbreviated as MMA) as shown in the following scheme.
  • 3,4-tetracarboxylic acid-1,2 3,4-dianhydride (abbreviated 1,3-DM-CBDA) and 1,2-dimethylcyclobutane-1,2,3,4-tetracarboxylic acid
  • 1,3-DM-CBDA 3,4-dianhydride
  • 1,2-DM-CBDA 1,2-dimethylcyclobutane-1,2,3,4-tetracarboxylic acid
  • 1,2-DM-CBDA 1,2-DM-CBDA
  • 1,3-DMCBDA when 1,3-DMCBDA is compared with 1,2-DMCBDA, the former 1,3-DMCBDA having a highly symmetric structure produces a higher molecular weight polyimide than the latter 1,2-DMCBDA. And is known to be more useful.
  • Patent Document 3 describes that a mixture of 1,3-DMCBDA and 1,2-DMCBDA is obtained, the former 1,3-DMCBDA, which is a highly useful isomer, is described. There is no description about manufacturing selectively and in high yield.
  • Japanese Patent Publication No. 2-24294 Japanese Unexamined Patent Publication No. 58-208322 Japanese Unexamined Patent Publication No. 4-106127
  • An object of the present invention is an isomer having a highly symmetrical structure with high photoreaction efficiency and high yield by photodimerizing a maleic anhydride compound represented by the following formula (1):
  • a maleic anhydride compound represented by the following formula (1) To provide a method capable of producing a 3-dialkyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic acid-1,2: 3,4-dianhydride (hereinafter also referred to as 1,3-DACBDA) derivative. is there.
  • 1,3-DACBDA derivative which is an isomer having a highly symmetric structure when a specific solvent is used. Has been found to be improved and can be produced in high yield.
  • the present invention is based on such novel findings and has the following gist.
  • the sensitizer is benzophenone, benzaldehyde, benzophenone substituted with an electron withdrawing group, acetophenone substituted with an electron withdrawing group, benzaldehyde substituted with an electron withdrawing group, or anthraquinone. . 10.
  • the electron withdrawing group is at least one selected from the group consisting of a fluoro group, a chloro group, a bromo group, an iodo group, a nitro group, a cyano group, and a trifluoromethyl group. .
  • the number of electron withdrawing groups is 1 to 5. 12 12.
  • 1,2,3,4-Cyclobutanetetracarboxylic acid-1,2 3,4-dianhydride derivative represented by formula (2) by photodimerization reaction of maleic anhydride compound represented by formula (1)
  • This production method is represented by the following reaction scheme.
  • R represents an alkyl group having 1 to 20, more preferably 1 to 12, and particularly preferably 1 to 6 carbon atoms.
  • the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms may be either a linear or branched saturated alkyl group or a linear or branched unsaturated alkyl group. Specific examples thereof include methyl, ethyl, n-propyl, i-propyl, n-butyl, i-butyl, s-butyl, t-butyl, n-pentyl, 1-methyl-n-butyl, 2-methyl- n-butyl, 3-methyl-n-butyl, 1,1-dimethyl-n-propyl, n-hexyl, 1-methyl-n-pentyl, 2-methyl-n-pentyl, 1,1-dimethyl-n- Saturated alkyl groups such as butyl, 1-ethyl-n-butyl, 1,1,2-trimethyl-n-propyl, n-heptyl, n-octyl, n-nonyl, n-decyl
  • maleic anhydride compound represented by the formula (1) examples include citraconic anhydride, 2-ethyl maleic anhydride, 2-isopropyl maleic anhydride, 2-n-butyl maleic anhydride, 2-t-butyl anhydride.
  • citraconic anhydride 2-ethyl maleic anhydride, 2-isopropyl maleic anhydride, 2-n-butyl maleic anhydride, 2-t-butyl maleic anhydride, 2-n-pentylmaleic anhydride, 2-n-hexylmaleic anhydride, 2-n-heptylmaleic anhydride, 2-n-octylmaleic anhydride, 2-n-nonylmaleic anhydride, 2-n-decylmaleic anhydride, 2-n-dodecylmaleic anhydride and the like are preferable, citraconic anhydride, 2-ethylmaleic anhydride, 2-isopropylmaleic anhydride, 2-n-butylmaleic anhydride 2-t-butylmaleic anhydride, 2-n-pentylmaleic anhydride, 2-n-hexylmaleic anhydride, and the like are more preferable.
  • the reaction solvent plays an important role in this photoreaction, and the reaction solvent is a carbonic acid diester.
  • the carbonic acid diester an alkyl diester having a carbon number of preferably 1 to 4, more preferably 1 to 3, and particularly preferably 1 or 2 is preferable.
  • dimethyl carbonate or diethyl carbonate is preferable, and dimethyl carbonate is particularly preferable.
  • a carbonic acid diester and a sub-solvent other than the carbonic acid diester can be used in combination.
  • solvents include methyl formate, ethyl formate, n-propyl formate, i-propyl formate, n-butyl formate, i-butyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, n-propyl acetate, i-propyl acetate, acetic acid n-butyl, i-butyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, n-propyl propionate, i-propyl propionate, n-butyl propionate, i-butyl propionate, ethylene glycol diformate, ethylene glycol di- Examples include acetate and ethylene glycol dipropionate.
  • more preferable solvents are methyl formate, ethyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, n-propyl acetate, i-propyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, n-propyl propionate, i-propionate.
  • Propyl, ethylene glycol diformate, ethylene glycol diacetate, and the like, and the most preferred solvent is ethyl acetate.
  • the excellent feature of the method for producing a DACBDA derivative using a carbonic acid diester as a solvent is that although the solubility of the raw maleic anhydride compound is high, the produced CBDA compound has low solubility and precipitates as a crystal. A side reaction such as a reverse reaction from the compound to a maleic anhydride compound and oligomer formation can be suppressed.
  • the amount of the solvent used is 3 to 300 times by mass, more preferably 3 to 250 times by mass with respect to the maleic anhydride compound.
  • the amount of the reaction solvent used is preferably smaller when the reaction is desired to be accelerated or when the yield of the product is desired to be increased.
  • the amount of the solvent used is preferably 3 to 10 times by mass with respect to the maleic anhydride compound.
  • the wavelength of light is 200 to 400 nm, more preferably 250 to 350 nm, and particularly preferably 280 to 330 nm.
  • a low-pressure mercury lamp, a medium-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultrahigh-pressure mercury lamp, a xenon lamp, an electrodeless lamp, a light-emitting diode and the like are preferable because they give a CBDA derivative compound in a particularly high yield.
  • a high pressure mercury lamp, an ultra high pressure mercury lamp, or a light emitting diode is preferable.
  • the light source cooling tube from quartz glass to Pyrex (registered trademark) glass, coloring polymer adhesion to the light source cooling tube and impurities are reduced, and the yield of CBDA derivative compounds is improved. preferable.
  • the reaction temperature is preferably from ⁇ 20 to 80 ° C., more preferably ⁇ 20 to 80 ° C., since a polymer is by-produced when the temperature is high, and the solubility of the maleic anhydride compound is reduced and the production efficiency is decreased. 10 to 50 ° C. In particular, in the temperature range of 0 to 20 ° C., the formation of by-products is greatly suppressed, and a CBDA derivative compound can be obtained with high selectivity and yield.
  • the reaction time varies depending on the amount of maleic anhydride compound, the type of light source, the amount of irradiation, etc., but the time required until the unreacted maleic anhydride compound reaches 0 to 40%, preferably 0 to 10%. Can do.
  • the reaction time is a high pressure mercury lamp or a light emitting diode as a light source, dimethyl carbonate or ethyl acetate as a reaction solvent, and 4,4′-difluorobenzophenone or 4,4′-dichlorobenzophenone as a sensitizer.
  • the reaction temperature range of 0 to 20 ° C., it is usually 1 to 200 hours, preferably 1 to 100 hours, more preferably 1 to 60 hours.
  • the conversion can be obtained by analyzing the reaction solution by gas chromatography or the like.
  • reaction time becomes longer, the conversion rate of the maleic anhydride compound increases, and the amount of CBDA derivative compound deposited increases, the produced CBDA derivative compound begins to adhere to the outer wall (reaction liquid side) of the light source cooling tube, and the decomposition reaction
  • the coloration of crystals due to the simultaneous use of light and a decrease in light efficiency (yield per unit of power x time) are observed. Therefore, in order to increase the conversion rate of the maleic anhydride compound, it is not preferable to spend a long time in one batch with a decrease in production efficiency.
  • reaction can be performed by a batch type or a distribution type, a batch type is used preferably.
  • the pressure at the time of reaction may be either normal pressure or pressurization. Preferably, it is a normal pressure.
  • the production method of the present invention can also be performed by adding a sensitizer.
  • the sensitizer include benzophenone, benzaldehyde, anthraquinone, benzophenone substituted with an electron withdrawing group, acetophenone substituted with an electron withdrawing group, and benzaldehyde substituted with an electron withdrawing group.
  • Examples of the electron withdrawing group include at least one selected from the group consisting of a fluoro group, a chloro group, a bromo group, an iodo group, a nitro group, a cyano group, and a trifluoromethyl group, such as a fluoro group, a chloro group, A bromo group, a cyano group, a trifluoromethyl group, and the like are preferable.
  • Particularly preferred electron withdrawing groups are fluoro groups or chloro groups.
  • the number of electron-withdrawing groups is 1 to 10, but 1 to 5 is preferable, and 1 to 3 is preferable from the viewpoint of the effect of the present invention.
  • the substitution position of the electron withdrawing group includes an ortho position, a meta position, and a para position with respect to the carbonyl group, and an ortho position or a para position is preferable.
  • the electron withdrawing groups may be the same or different. Further, a case where two electron-withdrawing groups substituted at the ortho position together form a carbonyl group (anthraquinone) may be used.
  • benzophenone and benzophenone substituted with an electron withdrawing group include benzophenone, 2-fluorobenzophenone, 3-fluorobenzophenone, 4-fluorobenzophenone, 2-chlorobenzophenone, 3-chlorobenzophenone, 4-chlorobenzophenone, 2 -Cyanobenzophenone, 3-cyanobenzophenone, 4-cyanobenzophenone, 2-nitrobenzophenone, 3-nitrobenzophenone, 4-nitrobenzophenone, 2,4'-dichlorobenzophenone, 4,4'-difluorobenzophenone, 4,4'- Dichlorobenzophenone, 4,4'-dibromobenzophenone, 3,3'-bis (trifluoromethyl) benzophenone, 3,4'-dinitrobenzophenone, 3,3'-dinitrobenzophenone, 4,4'-di Trobenzophenone, 2-chloro-5-nitrobenzophenone, 1,3-bis (4-fluorobenzoyl)
  • acetophenone and acetophenone substituted with an electron withdrawing group include acetophenone, 2′-fluoroacetophenone, 3′-fluoroacetophenone, 4′-fluoroacetophenone, 2′-chloroacetophenone, 3′-chloroacetophenone, 4 ′ '-Chloroacetophenone, 2'-cyanoacetophenone, 3'-cyanoacetophenone, 4'-cyanoacetophenone, 2'-nitroacetophenone, 3'-nitroacetophenone, 4'-nitroacetophenone, 2', 4'-difluoroacetophenone, 3 ′, 4′-difluoroacetophenone, 2 ′, 4′-dichloroacetophenone, 3 ′, 4′-dichloroacetophenone, 4′-chloro-3′-nitroacetophenone, 4′-bromo-3′-nitroacetophenone, 4 '-F
  • 4'-fluoroacetophenone, 4'-chloroacetophenone, 2 ', 4'-difluoroacetophenone, 3', 4'-difluoroacetophenone, 2 ', 4'-dichloroacetophenone, or 3', 4 ' -Dichloroacetophenone and the like are preferred.
  • benzaldehyde substituted with benzaldehyde and electron withdrawing groups examples include benzaldehyde, 2-fluorobenzaldehyde, 3-fluorobenzaldehyde, 4-fluorobenzaldehyde, 2-chlorobenzaldehyde, 3-chlorobenzaldehyde, 4-chlorobenzaldehyde, 2-cyanobenzaldehyde.
  • 4-fluorobenzaldehyde, 4-chlorobenzaldehyde, 2,4-difluorobenzaldehyde, 3,4-difluorobenzaldehyde, 2,4-dichlorobenzaldehyde, 3,4-dichlorobenzaldehyde, and the like are preferable.
  • the amount of the sensitizer used is not particularly limited as long as the photoreaction rate is accelerated, but is preferably 0.1 to 20 mol%, more preferably 0.1 to 5 mol%.
  • the above benzophenone derivative, acetophenone derivative, or benzaldehyde derivative may be used alone or in combination with one or more of these, but from the ease of treatment after the reaction, Use alone is preferred.
  • the target compound can be obtained by photoreaction, filtering the precipitate in the reaction solution, washing the filtered product with an organic solvent, and drying under reduced pressure.
  • the amount of the organic solvent used for washing the filtered material may be an amount that can transfer the precipitate remaining in the reaction tank to the filter, but if the amount of the organic solvent is large, the target product is transferred to the filtrate. It will shift and the recovery rate will decrease.
  • the amount of the organic solvent used for washing the filtered product is preferably 0.5 to 10 times by weight, more preferably 1 to 2 times by weight, based on the maleic anhydride compound used in the reaction.
  • the organic solvent used for washing the filtered product is not particularly limited, but the use of a solvent having a high product solubility is not preferable because the target compound is transferred to the filtrate and the recovery rate is lowered. For this reason, as an organic solvent used for washing the filtered product, there are methyl formate, ethyl formate, n-propyl formate, i-propyl formate, n-butyl formate, and formic acid i, which are reaction solvents used for the photodimerization reaction.
  • solvents that do not dissolve the product and do not react with the product such as , Toluene, hexane, heptane, acetonitrile, acetone, chloroform, anhydrous
  • acids and mixtures of these solvents ethyl acetate, dimethyl carbonate, acetic anhydride and the like are preferable, and ethyl acetate or dimethyl carbonate is more preferable.
  • ⁇ 1 H NMR analysis conditions Apparatus: Fourier transform type superconducting nuclear magnetic resonance apparatus (FT-NMR) INOVA-400 (manufactured by Varian) 400 MHz, Solvent: DMSO-d6, internal standard substance: tetramethylsilane (TMS).
  • FT-NMR Fourier transform type superconducting nuclear magnetic resonance apparatus
  • Solvent DMSO-d6, internal standard substance: tetramethylsilane (TMS).
  • TMS tetramethylsilane
  • Melting point analysis conditions Equipment: DSC1 (Metler Toledo), Temperature: 35 ° C-5 ° C / min-400 ° C, Pan: Au (sealed).
  • Comparative Examples 2 to 28 and Example 2 A series of operations was carried out in the same manner as in Comparative Example 1, with each solvent added by 200 wt times with respect to citraconic anhydride (CA), and in the same manner as in Comparative Example 1, citraconic anhydride (CA) remained.
  • the ratio and the production ratio of 1,3-DM-CBDA and 1,2-DM-CBDA (1,3-DM-CBDA: 1,2-DM-CBDA) were calculated.
  • Solvent, temperature, amount of by-products and results are shown in the table below.
  • the residual ratio of citraconic anhydride in the reaction solution obtained here and the production ratio of 1,3-DM-CBDA and 1,2-DM-CBDA were calculated and obtained in Comparative Example 1 and Example 1.
  • the results are shown in the table.
  • the reaction rates in the table were calculated from the number of moles of citraconic acid used and the residual ratio of citraconic acid when reacted for 4 hours.
  • Example 3 In a nitrogen atmosphere, in a 5-mL flask made of 300 mL Pyrex (registered trademark), citraconic anhydride (CA) 35.0 g (312 mmol) and dimethyl carbonate 152 g (1682 mmol, citraconic anhydride (CA) 4.33 wt.times.) was dissolved by stirring with a magnetic stirrer. Thereafter, a 100 W high-pressure mercury lamp was irradiated for 48 hours while stirring at 10-15 ° C. The reaction solution was confirmed by gas chromatography analysis to have a raw material residual ratio of 23.7%.
  • citraconic anhydride CA 35.0 g (312 mmol)
  • dimethyl carbonate 152 g (1682 mmol, citraconic anhydride (CA) 4.33 wt.times.
  • Example 4 In a nitrogen atmosphere, in a 30 mL Pyrex (registered trademark) glass test tube, 0.10 g (0.89 mmol) of citraconic anhydride (CA), 0.020 g (0.11 mmol of benzophenone (BP), 0.11 mmol, citraconic anhydride (CA) 20 mass%) and 20 g of dimethyl carbonate (222 mmol, 200 mass times with respect to citraconic anhydride (CA)) were stirred and dissolved by stirring with a magnetic stirrer. Thereafter, a 100 W high pressure mercury lamp was irradiated for 4 hours while stirring at 10-15 ° C.
  • CA citraconic anhydride
  • BP benzophenone
  • CA citraconic anhydride
  • CA dimethyl carbonate
  • Example 5 A series of operations were carried out in the same manner as in Example 4 with the addition of 4,4′-dichlorobenzophenone (DClBP) as a sensitizer, and in the same manner as in Comparative Example 1, the residual ratio of citraconic anhydride (CA) And the production ratio of 1,3-DM-CBDA to 1,2-DM-CBDA (1,3-DM-CBDA: 1,2-DM-CBDA) was calculated. Solvent, temperature, sensitizer, amount of by-products and results are shown in the table below. Also, the residual ratio of citraconic anhydride in the reaction solution obtained here and the production ratio of 1,3-DM-CBDA and 1,2-DM-CBDA were calculated, and the results obtained in Example 4 It is also shown in the table. The reaction rates in the table were calculated from the number of moles of citraconic acid used and the residual ratio of citraconic acid when reacted for 4 hours.
  • DClBP 4,4′-dichlorobenzophenone
  • Reference example 1 A mixture containing 1,3-DM-CBDA and 1,2-DM-CBDA (1,3-DM-) obtained in the same manner as in Example 3 in a 200 mL four-necked flask under nitrogen flow.
  • CBDA: 1,2-DM-CBDA 85: 15
  • 18.3 g and acetic anhydride 92 g were charged and suspended at 25 ° C. while stirring with a magnetic stirrer. Thereafter, the mixture was heated to reflux (130 ° C.) for 4 hours. Thereafter, the internal temperature was cooled to 25 ° C. or lower and stirred at 25 ° C. or lower for 1 hour.
  • the cyclobutanetetracarboxylic acid derivative obtained in the present invention is a compound useful as a raw material for polyamic acid, polyimide, etc.
  • the polyimide is a resin composition used for electronic materials such as liquid crystal display elements, protective materials in semiconductors, insulating materials, etc. Widely used industrially as a product.
  • the entire contents of the specification, claims, and abstract of Japanese Patent Application No. 2014-007186 filed on January 17, 2014 are incorporated herein as the disclosure of the specification of the present invention. Is.

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Abstract

 ポリイミド等の原料として有用な、1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸-1,2:3,4-二無水物誘導体の効率的製造方法の提供。 下記式(1)で表される無水マレイン酸化合物を、炭酸ジエステル溶媒中で光二量化反応させることによる、式(2)で表される1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸-1,2:3,4-二無水物誘導体の製造方法。 (式中、Rは炭素数1~20のアルキル基を表す。)

Description

シクロブタンテトラカルボン酸誘導体の製造方法
 本発明は、光学材料用のポリアミック酸、ポリイミド等の原料モノマーとなり得る脂環式テトラカルボン酸二無水物の製造法に関する。
 一般に、ポリイミド樹脂は、その特徴である、高い機械的強度、耐熱性、絶縁性、耐溶剤性等により、液晶表示素子や半導体における保護材料、絶縁材料などの電子材料として広く用いられている。また、最近では光導波路用材料等の光通信用材料としての用途も期待されている。
 近年、この分野の発展は目覚ましく、それに対応して、用いられる材料に対しても益々高度な特性が要求される様になっている。即ち、単に耐熱性、耐溶剤性に優れるだけでなく、用途に応じた性能を多数あわせもつことが期待されている。
 しかし、特に、全芳香族ポリイミド樹脂においては、濃い琥珀色を呈し着色するため、高い透明性を要求される用途において、問題を有している。
 一方、透明性を実現する一つの方法としては、脂環式テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミンとの重縮合反応によりポリイミド前駆体を形成し、当該前駆体をイミド化してポリイミドを製造すれば、比較的着色が少なく、高透明性のポリイミドが得られることは知られている(特許文献1及び2参照。)。
 従来、アルキルシクロブタン酸二無水物の合成においては、下記のスキームで表される様に、シトラコン酸無水物(MMAと略す。)の光二量化反応によって、1,3-ジメチルシクロブタン-1,2,3,4-テトラカルボン酸-1,2:3,4-二無水物(1,3-DM-CBDAと略す。)と1,2-ジメチルシクロブタン-1,2,3,4-テトラカルボン酸-1,2:3,4-二無水物(1,2-DM-CBDAと略す。)の混合物が得られる(特許文献3参照。)。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
 一方、1,3-DMCBDAと1,2-DMCBDAとを対比した場合、対称性の高い構造を有する前者の1,3-DMCBDAが、後者の1,2-DMCBDAよりも分子量の高いポリイミドが製造でき、より有用性が高いことが知られている。
 しかし、特許文献3には、1,3-DMCBDAと1,2-DMCBDAとの混合物が得られることは記載されているが、有用性の高い異性体である、前者の1,3-DMCBDAを選択的に、かつ高収率で製造することについての記載はない。
日本特公平2-24294号公報 日本特開昭58-208322号公報 日本特開平4-106127号公報
 本発明の目的は、下記式(1)で表される無水マレイン酸化合物を光二量化反応させ、高光反応効率で、かつ高収率で、対称性の高い構造を有する異性体である、1,3-ジアルキル-1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸-1,2:3,4-二無水物(以下、1,3-DACBDAともいう。)誘導体を製造できる方法を提供することにある。
 本発明者らは、上記の課題を解決するために鋭意研究を進めた結果、特定の溶媒を使用した場合、対称性の高い構造を有する異性体である、1,3-DACBDA誘導体の選択性が向上し、高収率で製造できることを見出した。
 本発明は、かかる新規な知見に基づくものであり、下記の要旨を有する。
 1.下記式(1)で表される無水マレイン酸化合物を、炭酸ジエステル溶媒中で光二量化反応させることを特徴とする、式(2)で表される1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸-1,2:3,4-二無水物誘導体の製造方法。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
 (式中、Rは炭素数1~20のアルキル基を表す。)
 2.Rが炭素数1~4のアルキル基である、上記1に記載の製造方法。
 3.炭酸ジエステルが、炭酸の炭素数1~4のアルキルのジエステルである、上記1又は2に記載の製造方法。
 4.炭酸ジエステルが、炭酸ジメチル又は炭酸ジエチルである、上記1~3のいずれかに記載の製造方法。
 5.溶媒が、ギ酸メチル、ギ酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n-プロピル、酢酸i-プロピル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸n-プロピル、プロピオン酸i-プロピル、エチレングリコールジホルメート、又はエチレングリコールジアセテートである炭酸ジエステル以外の溶媒を含有する、上記4に記載の製造方法。
 6.反応に用いる全溶媒の使用量が、無水マレイン酸化合物に対し3~300質量倍である、上記1~5のいずれかに記載の製造方法。
 7.反応に用いる全溶媒の使用量が、無水マレイン酸化合物に対し3~10質量倍である、上記1~5のいずれかに記載の製造方法。
 8.増感剤を用いる、請求項1~7のいずれかに記載の製造方法。
 9.増感剤が、ベンゾフェノン、ベンズアルデヒド、電子求引性基が置換したベンゾフェノン、電子求引性基が置換したアセトフェノン、電子求引性基が置換したベンズアルデヒド又はアントラキノンである、上記8に記載の製造方法。
 10.前記電子求引性基が、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基、ニトロ基、シアノ基、及びトリフルオロメチル基からなる群から選ばれる少なくとも1種である、上記9に記載の製造方法。
 11.電子求引性基の数が1~5である、請求項9又は10に記載の製造方法。
 12.増感剤の使用量が、無水マレイン酸化合物に対し0.1~20モル%である、上記8~11のいずれかに記載の製造方法。
 13.反応温度が、0~20℃である、上記1~12のいずれかに記載の製造方法。
 本発明の製造方法によれば、無水マレイン酸化合物の光二量化反応による1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸-1,2:3,4-二無水物誘導体の製造に際し、1,3-ジアルキルシクロブタン-1,2,3,4-テトラカルボン酸-1,2:3,4-二無水物の選択性を向上させることができる。
 以下、本発明についてさらに詳しく説明する。
 式(1)で表される無水マレイン酸化合物の光二量化反応による式(2)で表される1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸-1,2:3,4-二無水物誘導体の製造方法は、下記の反応スキームで表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
 式中、Rは、炭素数が1~20、より好ましくは1~12、特に好ましくは1~6のアルキル基を表す。
 炭素数1~20のアルキル基としては、直鎖若しくは分岐状の飽和アルキル基、又は直鎖状又は分岐状の不飽和アルキル基のいずれでもよい。
 その具体例としては、メチル、エチル、n-プロピル、i-プロピル、n-ブチル、i-ブチル、s-ブチル、t-ブチル、n-ペンチル、1-メチル-n-ブチル、2-メチル-n-ブチル、3-メチル-n-ブチル、1,1-ジメチル-n-プロピル、n-ヘキシル、1-メチル-n-ペンチル、2-メチル-n-ペンチル、1,1-ジメチル-n-ブチル、1-エチル-n-ブチル、1,1,2-トリメチル-n-プロピル、n-ヘプチル、n-オクチル、n-ノニル、n-デシル、n-ドデシル、n-エイコシル等の飽和アルキル基、1-メチルビニル、2-アリル、1-エチルビニル、2-メチルアリル、2-ブテニル、2-メチル-2-ブテニル、3-メチル-2-ブテニル、3-メチル-3-ブテニル、2-ヘキセニル、4-メチル-3-ペンテニル、4-メチル-4-ペンテニル、2,3-ジメチル-2-ブテニル、1-エチル-2-ペンテニル、3-ドデセニル、プロパルギル、3-ブチニル、3-メチル-2-プロピニル、9-デシニル等の不飽和アルキル基が挙げられる。
 なお、nはノルマルを、iはイソを、sはセカンダリーを、tはターシャリーを、それぞれ表す。
 式(1)で表される無水マレイン酸化合物の一例としては、無水シトラコン酸、2-エチル無水マレイン酸、2-イソプロピル無水マレイン酸、2-n-ブチル無水マレイン酸、2-t-ブチル無水マレイン酸、2-n-ペンチルマレイン酸無水物、2-n-ヘキシルマレイン酸無水物、2-n-ヘプチルマレイン酸無水物、2-n-オクチルマレイン酸無水物、2-n-ノニルマレイン酸無水物、2-n-デシルマレイン酸無水物、2-n-ドデシルマレイン酸無水物、2-n-エイコシルマレイン酸無水物、2-(1-メチルビニル)マレイン酸無水物、2-(2-アリル)マレイン酸無水物、2-(1-エチルビニル)マレイン酸無水物、2-(2-メチルアリル)マレイン酸無水物、2-(2-ブテニル)マレイン酸無水物、2-(2-ヘキセニル)マレイン酸無水物、2-(1-エチル-2-ペンテニル)マレイン酸無水物、2-(3-ドデセニル)マレイン酸無水物、2-プロパルギルマレイン酸無水物、2-(3-ブチニル)マレイン酸無水物、2-(3-メチル-2-プロピニル)マレイン酸無水物、2-(9-デシニル)マレイン酸無水物等が挙げられる。
 光反応が効率よく進行することから、これらの中では無水シトラコン酸、2-エチル無水マレイン酸、2-イソプロピル無水マレイン酸、2-n-ブチル無水マレイン酸、2-t-ブチル無水マレイン酸、2-n-ペンチルマレイン酸無水物、2-n-ヘキシルマレイン酸無水物、2-n-ヘプチルマレイン酸無水物、2-n-オクチルマレイン酸無水物、2-n-ノニルマレイン酸無水物、2-n-デシルマレイン酸無水物、又は2-n-ドデシルマレイン酸無水物等が好ましく、無水シトラコン酸、2-エチル無水マレイン酸、2-イソプロピル無水マレイン酸、2-n-ブチル無水マレイン酸、2-t-ブチル無水マレイン酸、2-n-ペンチルマレイン酸無水物、又は2-n-ヘキシルマレイン酸無水物等がより好ましい。
 本光反応で重要な役割を果たしているのが反応溶媒であるが、反応溶媒は、炭酸ジエステルである。炭酸ジエステルとしては、なかでも、炭酸の炭素数が好ましくは1~4、より好ましくは1~3、特に好ましくは1又は2のアルキルジエステルが好適である。具体的には、炭酸ジメチル又は炭酸ジエチルが好ましく、炭酸ジメチルが特に好ましい。
 本発明では、炭酸ジエステルと、炭酸ジエステル以外の副溶媒とを併用することもできる。そのような溶媒としては、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸n-プロピル、ギ酸i-プロピル、ギ酸n-ブチル、ギ酸i-ブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n-プロピル、酢酸i-プロピル、酢酸n-ブチル、酢酸i-ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸n-プロピル、プロピオン酸i-プロピル、プロピオン酸n-ブチル、プロピオン酸i-ブチル、エチレングリコールジホルメート、エチレングリコールジアセテート、エチレングリコールジプロピオネート等が挙げられる。
 これらの中で、より好ましい溶媒は、ギ酸メチル、ギ酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n-プロピル、酢酸i-プロピル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸n-プロピル、プロピオン酸i-プロピル、エチレングリコールジホルメート、エチレングリコールジアセテート等であり、最も好ましい溶媒は、酢酸エチルである。
 炭酸ジエステルを溶媒として用いる、DACBDA誘導体の製造方法の優れた特徴は、原料の無水マレイン酸化合物の溶解度が高いにも拘わらず、生成したCBDA化合物の溶解度が低く、結晶として析出するために、DACBDA化合物からの無水マレイン酸化合物への逆反応やオリゴマー生成等の副反応を抑制することができることである。
 溶媒の使用量は、無水マレイン酸化合物に対して3~300質量倍、より好ましくは3~250質量倍である。
 なお、反応溶媒の使用量は反応を速くしたい場合や、生成物の収量を多くしたい場合は少ない方が好ましく、例えば、無水マレイン酸化合物の濃度が濃くなると、反応が速くなり、得られる生成物の収量が多くなる。従って、反応を速くしたい場合や、生成物の収量を多くしたい場合は、溶媒の使用量は無水マレイン酸化合物に対して3~10質量倍が好ましい。
 本光反応では、光の波長が200~400nm、より好ましく250~350nm、特に好ましくは280~330nmである。光源としては、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ、無電極ランプ、発光ダイオード等が、特異的に高収率でCBDA誘導体化合物を与えることから好ましい。なかでも、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、又は発光ダイオードが好ましい。
 更に、光化学反応装置として、光源冷却管を石英ガラスからパイレックス(登録商標)ガラスに変えることにより、光源冷却管への着色ポリマー付着や不純物が減少し、CBDA誘導体化合物の収率改善が見られるので好ましい。
 反応温度は、高温になると重合物が副生し、また低温になると無水マレイン酸化合物の溶解度が低下し生産効率が減少することから、-20~80℃で行うことが好ましく、更に好ましくは-10~50℃である。特に、0~20℃の温度範囲では、副生物の生成が大幅に抑制され、高い選択率及び収率でCBDA誘導体化合物が得られる。
 反応時間は、無水マレイン酸化合物の量、光源の種類、照射量等によっても変わるが、未反応の無水マレイン酸化合物が0~40%、好ましくは0~10%に達するまでの時間で行なうことができる。
 反応時間は、具体的には、光源として高圧水銀灯又は発光ダイオードを用い、反応溶媒として炭酸ジメチル又は酢酸エチルを用い、増感剤として4、4‘-ジフルオロベンゾフェノン又は4、4’-ジクロロベンゾフェノンを用い、0~20℃の反応温度範囲の条件下では、通常、1~200時間、好ましくは1~100時間、さらに好ましくは、1~60時間である。
 なお、転化率はガスクロマトグラフィーなどで反応液を分析することにより、求めることができる。
 反応時間が長くなり、無水マレイン酸化合物の転化率が上がり、CBDA誘導体化合物の析出量が多くなると、生成したCBDA誘導体化合物が、光源冷却管の外壁(反応液側)に付着し始め、分解反応の併発による結晶の着色化、光効率(単位電力x時間当たりの収率)の低下がみられる。従って、無水マレイン酸化合物の転化率を上げるために、1バッチで長時間かけることは、実用上、生産効率の低下を伴い好ましくない。
 なお、反応はバッチ式又は流通式で行うことが可能であるが、バッチ式が好ましく用いられる。
 また、反応時の圧力は、常圧でも加圧でも、どちらでもかまわない。好ましくは、常圧である。
 なお、本発明の製造方法は、増感剤を添加して行うこともできる。増感剤としては、ベンゾフェノン、ベンズアルデヒド、アントラキノン、電子求引性基が置換したベンゾフェノン、電子求引性基が置換したアセトフェノン、電子求引性基が置換したベンズアルデヒド等が挙げられる。
 電子求引性基としては、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基、ニトロ基、シアノ基、及びトリフルオロメチル基からなる群から選ばれる少なくとも1種が挙げられ、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、シアノ基、及びトリフルオロメチル基等が好ましい。特に好ましい電子求引性基としては、フルオロ基又はクロロ基である。
 電子求引性基の数としては、1~10個であるが、1~5個が好ましく、本発明の効果の点で、1~3個が好ましい。
 電子求引性基の置換位置としては、カルボニル基に対してオルト位、メタ位、パラ位が挙げられるが、オルト位又はパラ位が好ましい。
 電子求引性基の数が2以上の場合は、電子求引性基は同一でも、それぞれ異なるものであってもよい。また、オルト位に置換した2個の電子求引性基が一緒になってカルボニル基を形成する場合(アントラキノン)でもよい。
 ベンゾフェノン及び電子求引性基が置換したベンゾフェノンの具体例としては、ベンゾフェノン、2-フルオロベンゾフェノン、3-フルオロベンゾフェノン、4-フルオロベンゾフェノン、2-クロロベンゾフェノン、3-クロロベンゾフェノン、4-クロロベンゾフェノン、2-シアノベンゾフェノン、3-シアノベンゾフェノン、4-シアノベンゾフェノン、2-ニトロベンゾフェノン、3-ニトロベンゾフェノン、4-ニトロベンゾフェノン、2,4’-ジクロロベンゾフェノン、4,4’-ジフルオロベンゾフェノン、4,4’-ジクロロベンゾフェノン、4,4’-ジブロモベンゾフェノン、3,3’-ビス(トリフルオロメチル)ベンゾフェノン、3,4’-ジニトロベンゾフェノン、3,3’-ジニトロベンゾフェノン、4,4’-ジニトロベンゾフェノン、2-クロロ-5-ニトロベンゾフェノン、1,3-ビス(4-フルオロベンゾイル)ベンゼン、1,3-ビス(4-クロロベンゾイル)ベンゼン、2,6-ジベンゾイルベンゾニトリル、1,3-ジベンゾイル-4,6-ジニトロベンゼン、アントラキノン等が挙げられる。
 これらの中では、4,4’-ジフルオロベンゾフェノン、又は4,4’-ジクロロベンゾフェノン等が好ましい。
 アセトフェノン及び電子求引性基が置換したアセトフェノンの具体例としては、アセトフェノン、2’-フルオロアセトフェノン、3’-フルオロアセトフェノン、4’-フルオロアセトフェノン、2’-クロロアセトフェノン、3’-クロロアセトフェノン、4’-クロロアセトフェノン、2’-シアノアセトフェノン、3’-シアノアセトフェノン、4’-シアノアセトフェノン、2’-ニトロアセトフェノン、3’-ニトロアセトフェノン、4’-ニトロアセトフェノン、2’,4’-ジフルオロアセトフェノン、3’,4’-ジフルオロアセトフェノン、2’,4’-ジクロロアセトフェノン、3’,4’-ジクロロアセトフェノン、4’-クロロ-3’-ニトロアセトフェノン、4’-ブロモ-3’-ニトロアセトフェノン、4’-フルオロ-3’-ニトロアセトフェノン等が挙げられる。
 これらの中では、4’-フルオロアセトフェノン、4’-クロロアセトフェノン、2’,4’-ジフルオロアセトフェノン、3’,4’-ジフルオロアセトフェノン、2’,4’-ジクロロアセトフェノン、又は3’,4’-ジクロロアセトフェノン等が好ましい。
 ベンズアルデヒド及び電子求引性基が置換したベンズアルデヒドとしては、ベンズアルデヒド、2-フルオロベンズアルデヒド、3-フルオロベンズアルデヒド、4-フルオロベンズアルデヒド、2-クロロベンズアルデヒド、3-クロロベンズアルデヒド、4-クロロベンズアルデヒド、2-シアノベンズアルデヒド、3-シアノベンズアルデヒド、4-シアノベンズアルデヒド、2-ニトロベンズアルデヒド、3-ニトロベンズアルデヒド、4-ニトロベンズアルデヒド、2,4-ジフルオロベンズアルデヒド、3,4-ジフルオロベンズアルデヒド、2,4-ジクロロベンズアルデヒド、3,4-ジクロロベンズアルデヒド、2-クロロ-5-ニトロベンズアルデヒド、4-クロロ-2-ニトロベンズアルデヒド、4-クロロ-3-ニトロベンズアルデヒド、5-クロロ-2-ニトロベンズアルデヒド、2-フルオロ-5-ニトロベンズアルデヒド、4-フルオロ-3-ニトロベンズアルデヒド、5-フルオロ-2-ニトロベンズアルデヒド等が挙げられる。
これらの中では、4-フルオロベンズアルデヒド、4-クロロベンズアルデヒド、2,4-ジフルオロベンズアルデヒド、3,4-ジフルオロベンズアルデヒド、2,4-ジクロロベンズアルデヒド、又は3,4-ジクロロベンズアルデヒド等が好ましい。
 使用する増感剤の量は、光反応速度が加速する量であればよく、特に限定しないが、好ましくは、無水マレイン酸化合物に対し0.1~20モル%、より好ましくは0.1~5モル%である。
 増感剤は、上記のベンゾフェノン誘導体、アセトフェノン誘導体、又はベンズアルデヒド誘導体をそれぞれ単独で、あるいは、これらの1種以上を共存させて使用してもよいが、反応後の処理のし易さからは、単独での使用が好ましい。
 目的化合物は、光反応後、反応液中の析出物をろ過し、ろ取物を有機溶媒にて洗浄した後、減圧乾燥することにより得られる。
 ろ取物の洗浄に使用する有機溶媒の量は、反応槽内に残存した析出物をろ過器へ移送できる量であればよいが、有機溶媒の量が多い場合には目的物がろ液へ移行してしまい回収率が低下する。このため、ろ取物の洗浄に使用する有機溶媒の量は、反応に使用した無水マレイン酸化合物に対し、0.5~10重量倍が好ましく、より好ましくは1~2重量倍である。
 ろ取物の洗浄に使用する有機溶媒としては、特に限定されないが、生成物の溶解度の高い溶媒の使用は、目的化合物がろ液へ移行してしまい回収率が低下するため好ましくない。このため、ろ取物の洗浄に使用する有機溶媒としては、光二量化反応に使用する反応溶媒である、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸n-プロピル、ギ酸i-プロピル、ギ酸n-ブチル、ギ酸i-ブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n-プロピル、酢酸i-プロピル、酢酸n-ブチル、酢酸i-ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸n-プロピル、プロピオン酸i-プロピル、プロピオン酸n-ブチル、プロピオン酸i-ブチル、エチレングリコールジホルメート、エチレングリコールジアセテート、エチレングリコールジプロピオネート、炭酸ジメチル、炭酸ジエチル等や生成物を溶解せず、生成物と反応しない溶媒、例えば、トルエン、ヘキサン、ヘプタン、アセトニトリル、アセトン、クロロホルム、無水酢酸やこれらの混合溶媒などが挙げられる。中でも酢酸エチル、炭酸ジメチル、無水酢酸などが好ましく、より好ましくは酢酸エチル又は炭酸ジメチルである。
 以下に実施例を挙げ、本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
尚、実施例で用いた分析法は以下の通りである。
<GC分析条件>
装置 :GC-2010 Plus(SHIMADZU社製)、
カラム :DB-1(ジーエルサイエンス社製) 0.25 mm×30 m、膜厚0.25 um、
キャリアガス:He 、検出器:FID 、試料注入量:1 um 、注入口温度:160℃ 、検出器温度:220℃ 、カラム温度:70℃(20min)-40℃/min-220℃(15min) 、スプリット比:1:50 、内部標準物質:乳酸ブチル。
1H NMR分析条件>
装置 :フーリエ変感型超伝導核磁気共鳴装置(FT-NMR)INOVA-400(Varian社製) 400 MHz、
溶媒:DMSO-d6 、内標準物質:テトラメチルシラン(TMS)。
<融点分析条件>
装置 :DSC1(メトラー・トレド社製)、
温度:35℃-5℃/min-400℃ 、パン:Au(密閉)。
比較例1
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
 窒素雰囲気下、30 mL パイレックス(登録商標)ガラス製試験管に、シトラコン酸無水物(CA)0.10 g (0.89 mmol)、及び酢酸メチル20 g(270 mmol、シトラコン酸無水物(CA)に対して200 wt倍)を仕込み、マグネチックスターラーで攪拌させて溶解させた。その後、5-10℃で撹拌しながら、100W高圧水銀灯を4時間照射した。照射後に反応液をガスクロマトグラフィーで定量分析した結果、シトラコン酸無水物(CA)の残存率は29.9%であった。また、反応器中の反応液を2 g採取し、エバポレーターで70-80 Torrにて溶媒留去した。得られた粗物は、1H NMR解析によって、1,3-DM-CBDAと1,2-DM-CBDAを含む混合物(1,3-DM-CBDA:1,2-DM-CBDA = 42.6:57.4)であることを確認した。
1H NMR ( DMSO-d6, δ ppm ) ( 1,3-DM-CBDA ): 1.38 ( s, 6H ), 3.89 ( s, 2H ).
1H NMR ( DMSO-d6, δ ppm ) ( 1,2-DM-CBDA ): 1.37 ( s, 6H ), 3.72 ( s, 2H ).
実施例1
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
 窒素雰囲気下、30 mL パイレックス(登録商標)ガラス製試験管に、シトラコン酸無水物(CA)0.10 g (0.89 mmol)、及び炭酸ジメチル20 g(222 mmol、シトラコン酸無水物(CA)に対して200 wt倍)を仕込み、マグネチックスターラーで攪拌させて溶解させた。その後、15-20℃で撹拌しながら、100W高圧水銀灯を4時間照射した。照射後に反応液をガスクロマトグラフィーで定量分析した結果、シトラコン酸無水物(CA)の残存率は26.2%であった。また、反応器中の反応液を2 g採取し、エバポレーターで70-80 Torrにて溶媒留去した。得られた粗物は、1H NMR解析によって、1,3-DM-CBDAと1,2-DM-CBDAを含む混合物(1,3-DM-CBDA:1,2-DM-CBDA = 48.3:51.7)であることを確認した。
比較例2~28、及び実施例2
 一連の操作は比較例1と同様に、各溶媒をシトラコン酸無水物(CA)に対して200 wt倍加えて実施し、比較例1と同様の方法で、シトラコン酸無水物(CA)の残存率、及び1,3-DM-CBDAと1,2-DM-CBDAの生成比(1,3-DM-CBDA:1,2-DM-CBDA)を算出した。
 溶媒、温度、副生物量及び結果を以下の表に示す。また、ここで得られた反応液のシトラコン酸無水物の残存率、及び1,3-DM-CBDAと1,2-DM-CBDAの生成比を算出し、比較例1及び実施例1で得られた結果と併せて表に示す。なお、表中の反応速度は、用いたシトラコン酸のモル数と、4時間反応させた時点でのシトラコン酸の残存率から計算した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000007
実施例3
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
 窒素雰囲気下、300 mLパイレックス(登録商標)ガラス製5口フラスコに、シトラコン酸無水物(CA)35.0 g (312 mmol)、及び炭酸ジメチル152 g(1682 mmol、シトラコン酸無水物(CA)に対して4.33 wt倍)を仕込み、マグネチックスターラーで攪拌させて溶解させた。その後、10-15℃で撹拌しながら、100W高圧水銀灯を48時間照射した。反応液はガスクロマトグラフィー分析により、原料残存率が23.7%であることを確認した。次いで、析出した白色結晶を10-15℃にてろ過により取り出し、この結晶を酢酸エチル43.8 g(497 mmol、シトラコン酸無水物(CA)に対して1.25 wt倍)で2回洗浄した。これを減圧乾燥することで、白色結晶8.1 g(収率23.1%)を得た。この結晶は、1H NMR解析により、1,3-DM-CBDAと1,2-DM-CBDAを含む混合物(1,3-DM-CBDA:1,2-DM-CBDA = 90.3:9.7)であることを確認した。また、得られた結晶、ろ液、洗浄液をそれぞれ1H NMR解析及びガスクロマトグラフィーで定量分析し、仕込量に対するマスバランスは88.9%であった。
実施例4
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
 窒素雰囲気下、30 mL パイレックス(登録商標)ガラス製試験管に、シトラコン酸無水物(CA)0.10 g (0.89 mmol)、ベンゾフェノン(BP)0.020 g (0.11 mmol、シトラコン酸無水物(CA)に対して20 質量%)、及び炭酸ジメチル20 g(222 mmol、シトラコン酸無水物(CA)に対して200質量倍)を仕込み、マグネチックスターラーで攪拌させて溶解させた。その後、10-15℃で撹拌しながら、100W高圧水銀灯を4時間照射した。照射後に反応液をガスクロマトグラフィーで定量分析した結果、シトラコン酸無水物(CA)の残存率は3.9%であった。また、反応器中の反応液を2 g採取し、エバポレーターで70-80 Torrにて溶媒留去した。得られた粗物は、1H NMR解析によって1,3-DM-CBDAと1,2-DM-CBDAを含む混合物(1,3-DM-CBDA:1,2-DM-CBDA = 48.3:51.7)であることを確認した。
実施例5
 一連の操作は実施例4と同様に、増感剤として4、4’-ジクロロベンゾフェノン(DClBP)を加えて実施し、比較例1と同様の方法で、シトラコン酸無水物(CA)の残存率、及び1,3-DM-CBDAと1,2-DM-CBDAの生成比(1,3-DM-CBDA:1,2-DM-CBDA)を算出した。
 溶媒、温度、増感剤、副生物量及び結果を以下の表に示す。また、ここで得られた反応液のシトラコン酸無水物の残存率、及び1,3-DM-CBDAと1,2-DM-CBDAの生成比を算出し、実施例4で得られた結果と併せて表に示す。なお、表中の反応速度は、用いたシトラコン酸のモル数と、4時間反応させた時点でのシトラコン酸の残存率から計算した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000010
参考例1
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
 窒素気流下中、200mLの四つ口フラスコに、実施例3と同様の方法で得られた、1,3-DM-CBDAと1,2-DM-CBDAを含む混合物(1,3-DM-CBDA:1,2-DM-CBDA = 85:15)18.3g、及び無水酢酸92gを仕込み、マグネチックスターラーで攪拌下、25℃にて懸濁させた。その後、4時間加熱還流(130℃)させた。その後、内温が25℃以下まで冷却し、1時間25℃以下で攪拌させた。その後、析出した白色結晶をろ過し、その結晶を酢酸エチル18gで2回洗浄した後、得られた白色結晶を減圧乾燥することにより、高純度の1,3-DM-CBDA 14.4g(収率92%)を得た。この結晶は、1H NMR解析により、1,3-DM-CBDAと1,2-DM-CBDAの比率が1,3-DM-CBDA:1,2-DM-CBDA = 99.5:0.5であることを確認した。
1H NMR ( DMSO-d6, δ ppm ) ( 1,3-DM-CBDA ): 1.38 ( s, 6H ), 3.89 ( s, 2H ).
1H NMR ( DMSO-d6, δ ppm ) ( 1,2-DM-CBDA ): 1.37 ( s, 6H ), 3.72 ( s, 2H ).
mp. ( 1,3-DM-CBDA ):316-317℃
 本発明で得られるシクロブタンテトラカルボン酸誘導体は、ポリアミック酸、ポリイミド等の原料として有用な化合物であり、該ポリイミド等は液晶表示素子や半導体における保護材料、絶縁材料などの電子材料に用いられる樹脂組成物として産業上、広く利用されている。
なお、2014年1月17日に出願された日本特許出願2014-007186号の明細書、特許請求の範囲、及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。

Claims (13)

  1.  下記式(1)で表される無水マレイン酸化合物を、炭酸ジエステル溶媒中で光二量化反応させることを特徴とする、式(2)で表される1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸-1,2:3,4-二無水物誘導体の製造方法。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
    (式中、Rは炭素数1~20のアルキル基を表す。)
  2.  Rが炭素数1~4のアルキル基である、請求項1に記載の製造方法。
  3.  炭酸ジエステルが、炭酸の炭素数1~4のアルキルジエステルである、請求項1又は2に記載の製造方法。
  4.  炭酸ジエステルが、炭酸ジメチル又は炭酸ジエチルである、請求項1~3のいずれかに記載の製造方法。
  5.  溶媒が、ギ酸メチル、ギ酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n-プロピル、酢酸i-プロピル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸n-プロピル、プロピオン酸i-プロピル、エチレングリコールジホルメート、又はエチレングリコールジアセテートである炭酸ジエステル以外の副溶媒を含有する、請求項4に記載の製造方法。
  6.  反応に用いる全溶媒の使用量が、無水マレイン酸化合物に対し3~300質量倍である、請求項1~5のいずれかに記載の製造方法。
  7.  反応に用いる全溶媒の使用量が、無水マレイン酸化合物に対し3~10質量倍である、請求項1~5のいずれかに記載の製造方法。
  8.  さらに、増感剤を用いる、請求項1~7のいずれかに記載の製造方法。
  9.  増感剤が、ベンゾフェノン、ベンズアルデヒド、電子求引性基が置換したベンゾフェノン、電子求引性基が置換したアセトフェノン、電子求引性基が置換したベンズアルデヒド又はアントラキノンである、請求項8に記載の製造方法。
  10.  前記電子求引性基が、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基、ニトロ基、シアノ基、及びトリフルオロメチル基からなる群から選ばれる少なくとも1種である、請求項9に記載の製造方法。
  11.  電子求引性基の数が1~5である、請求項9又は10に記載の製造方法。
  12.  増感剤の使用量が、無水マレイン酸化合物に対し0.1~20モル%である、請求項8~11のいずれかに記載の製造方法。
  13.  反応温度が、0~20℃である、請求項1~12のいずれかに記載の製造方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019043850A (ja) * 2017-08-29 2019-03-22 Jsr株式会社 シクロブタン誘導体の製造方法

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110590798A (zh) * 2014-01-17 2019-12-20 日产化学工业株式会社 环丁烷四羧酸衍生物的制造方法
CN105916865B (zh) * 2014-01-17 2019-06-25 日产化学工业株式会社 环丁烷四羧酸衍生物的制造方法
KR102254089B1 (ko) * 2014-01-17 2021-05-18 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 시클로부탄테트라카르복실산 유도체의 제조 방법
CN118164995B (zh) * 2024-02-29 2024-09-13 广东聚石科技研究院有限公司 一种高纯度1,3-二甲基-1,2,3,4-环丁烷四甲酸二酐的制备方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006328027A (ja) * 2005-05-30 2006-12-07 Nof Corp シクロブタンテトラカルボン酸二無水物類の製造方法
JP2006347931A (ja) * 2005-06-15 2006-12-28 Nissan Chem Ind Ltd ジアルキルシクロブタン酸二無水物及びその製造法
WO2008153287A1 (en) * 2007-06-13 2008-12-18 Korea Research Institute Of Chemical Technology Low temperature processable substituted alicyclic polyimide photo-alignment layers and method for preparing liquid crystal cells

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58208322A (ja) 1982-05-31 1983-12-05 Japan Synthetic Rubber Co Ltd ポリイミド化合物の製造方法
JPS60188427A (ja) 1984-03-09 1985-09-25 Nissan Chem Ind Ltd 新規なポリイミド樹脂及びその製造方法
JPH0224294Y2 (ja) 1984-10-25 1990-07-03
JP2923007B2 (ja) 1990-08-28 1999-07-26 チッソ株式会社 溶媒可溶性ポリイミド、その製造法及びカラーフィルター用材料
JP4852206B2 (ja) * 2001-12-26 2012-01-11 日産化学工業株式会社 シクロブタンテトラカルボン酸二無水物化合物の製造法
CN105916865B (zh) * 2014-01-17 2019-06-25 日产化学工业株式会社 环丁烷四羧酸衍生物的制造方法
KR102254089B1 (ko) * 2014-01-17 2021-05-18 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 시클로부탄테트라카르복실산 유도체의 제조 방법

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006328027A (ja) * 2005-05-30 2006-12-07 Nof Corp シクロブタンテトラカルボン酸二無水物類の製造方法
JP2006347931A (ja) * 2005-06-15 2006-12-28 Nissan Chem Ind Ltd ジアルキルシクロブタン酸二無水物及びその製造法
WO2008153287A1 (en) * 2007-06-13 2008-12-18 Korea Research Institute Of Chemical Technology Low temperature processable substituted alicyclic polyimide photo-alignment layers and method for preparing liquid crystal cells

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
POLYMER INTERNATIONAL, vol. 63, no. ISSUE, pages 486 - 500 *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019043850A (ja) * 2017-08-29 2019-03-22 Jsr株式会社 シクロブタン誘導体の製造方法

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