WO2015096261A1 - 阵列基板的走线结构 - Google Patents

阵列基板的走线结构 Download PDF

Info

Publication number
WO2015096261A1
WO2015096261A1 PCT/CN2014/071182 CN2014071182W WO2015096261A1 WO 2015096261 A1 WO2015096261 A1 WO 2015096261A1 CN 2014071182 W CN2014071182 W CN 2014071182W WO 2015096261 A1 WO2015096261 A1 WO 2015096261A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
line
thin film
film transistor
curing
green
Prior art date
Application number
PCT/CN2014/071182
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
柴立
Original Assignee
深圳市华星光电技术有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 深圳市华星光电技术有限公司 filed Critical 深圳市华星光电技术有限公司
Priority to KR1020167020084A priority Critical patent/KR20160102518A/ko
Priority to US14/240,385 priority patent/US20150179666A1/en
Priority to JP2016542975A priority patent/JP2017502354A/ja
Priority to GB1609366.8A priority patent/GB2535103B/en
Priority to RU2016124652A priority patent/RU2636800C1/ru
Publication of WO2015096261A1 publication Critical patent/WO2015096261A1/zh

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362Active matrix addressed cells
    • G02F1/136286Wiring, e.g. gate line, drain line
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362Active matrix addressed cells
    • G02F1/1368Active matrix addressed cells in which the switching element is a three-electrode device
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/12Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
    • H01L27/1214Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs
    • H01L27/124Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs with a particular composition, shape or layout of the wiring layers specially adapted to the circuit arrangement, e.g. scanning lines in LCD pixel circuits
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1337Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
    • G02F1/133711Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by organic films, e.g. polymeric films

Definitions

  • TFT LCD thin film transistor liquid crystal display
  • PSVA polymer polymer stable vertical alignment
  • the trace structure of the array substrate of the vertical alignment type liquid crystal panel in the prior art includes a red line 14 , a green line 15 , a blue line 16 , an odd line 17 , an even line 8 , an array substrate common line 13 , and a color filter substrate.
  • Common line 19 a total of seven curing lines.
  • the red line 14, the green line 15, and the blue line 16 belong to the data line of the curing process, and the odd line 7 and the even line 18 belong to the scanning line of the curing process.
  • the wiring structure of the vertical alignment type liquid crystal panel in the prior art further includes seven corresponding curing pads and an array substrate test pad. For the curing process, a voltage is applied to the curing pad, and the voltage is applied to the corresponding capacitor through a trace connected to the corresponding curing pad (i.e., - of the above seven lines).
  • the wiring structure of the vertical alignment type liquid crystal panel of the prior art includes at least seven traces and curing requirements.
  • the array substrate common line 13 is connected by a trace to be transmitted to the pixel display.
  • the traces of the pad 134 are connected to the common line 13 of the array substrate, most of the traces may be bridged or bridged or connected in a through-hole manner.
  • the trace of the curing pad 13-1 as shown in Fig. 1 is connected to other traces to form a wiring area, which has the risk of electrostatic discharge (ESD).
  • the seven traces will increase the layout space of the array substrate design. Under the condition of the fixed glass substrate size, the more the trace requirements, the smaller the design space; and the more the traces, the more the intersections, the more The risk of ESD (Electronic Static Discharge) increases the risk of product yield loss.
  • ESD Electro Static Discharge
  • the present invention has improved the wiring structure of the array substrate.
  • the invention improves the curing trace design of the array substrate of the vertical alignment type liquid crystal panel according to the actual opening condition of the curing alignment needle of the vertical alignment type liquid crystal panel, thereby reducing the number of curing traces, thereby increasing the installation space. , reducing the risk of yield loss, reducing the number of curing mats, and reducing the number of liquid crystal panel curing probes, reducing the cost of mass production.
  • the present invention proposes a wiring structure of an array substrate.
  • the wiring structure of the array substrate according to the present invention includes red, green and blue lines as data lines during curing, odd and even lines as scanning lines during curing, array substrate common lines, and color film substrate common lines, and respectively connected
  • the red, green, and blue lines, the parity line, the array substrate common line, and the color film substrate common line are corresponding to the red, green, and blue curing pads, the parity curing pad, the array substrate curing pad, and the color film substrate. pad.
  • the trace structure according to the present invention reduces the number of traces and curing pads compared to the prior art, thereby reducing the peripheral routing of the array substrate, increasing the buffer space for design layout, and reducing the occurrence of the process. Bad risks.
  • the number of curing traces is reduced, thereby increasing the space of the design, reducing the risk of yield loss, reducing the number of curing pads, and reducing the number of curing probes required for the liquid crystal panel, thereby reducing the cost of mass production.
  • the red, green and blue lines comprise a red line, a blue line and a green line, and two adjacent ones of the red line, the blue line and the green line are connected by a first thin film transistor, through a gate of the first thin film transistor
  • the poles are controlled to be turned on and off, thereby controlling the adjacent two wires to be short-circuited or separated.
  • a first signal line capable of applying a signal voltage is further included, and a drain of the first thin film transistor is connected to the first signal line.
  • the first signal line can control the first thin film transistor.
  • the blue line and the red line are connected by a first thin film transistor, and the green line and the red line are connected by a first thin film transistor.
  • the blue line and the green line are connected by a first thin film transistor, and the red line and the green line are connected by a first thin film transistor.
  • the odd-numbered line includes an odd-numbered line and an even-numbered line connected by a second thin film transistor, and is controlled to be turned on and off by a gate of the second thin film transistor, thereby controlling the odd-numbered line and the even-numbered line to be short-circuited or separated .
  • By connecting the odd-numbered lines and the even-numbered lines through the thin film transistor it is convenient, quick, and uniform to control the odd-numbered lines and the even-numbered lines, thereby reducing energy consumption and improving the efficiency of the curing process.
  • Fig. 2 shows the arrangement of the red line 4, the green line 15, the blue line 16, the odd line ⁇ and the even line 18 of the wiring structure of the vertical type liquid crystal panel of the prior art. It can be seen that in the prior art, the red line 14, the green line 15, the blue line 6, the odd line 17 and the even line 18 act as five independent lines, individually receiving voltage.
  • the auxiliary curing line 24 is connected to the poles of the first thin film transistor 11 and the second thin film transistor 15, and the auxiliary curing pad 24-1 is configured to receive the gates of the first thin film transistor 11 and the second thin film transistor 15. Pressure.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

阵列基板的走线结构涉及液晶显示技术领域。其中包括在固化过程中作为数据线的红绿蓝线(21)、在固化过程中作为扫描线的奇偶数线(22)、阵列基板公共线(20)和彩膜基板公共线(23),以及分别连接到所述红绿蓝线(21)、奇偶数线(22)、阵列基板公共线(20)和彩膜基板公共线(23)的用于接收电压的相应的红绿蓝固化垫(21-1)、奇偶数固化垫(22-1)、阵列基板固化垫(20-1)和彩膜基板固化垫(23-1)。通过改进现有技术,减少了固化总线数目,从而减小了阵列基板的外围走线,增加了设计排版的缓冲空间,也减小了发生制程不良的风险。

Description

阵列基板的走线结构 技术领域
本发明涉及液晶显示技术领域, 尤其涉及一种阵列基板的走线结构。 背景技术
随着信息社会的发展, 人 ί门对显示设备的需求得到了增长, 因而也推动了液 晶面板行业的快速发展, 面板需求量也是急速增长, 对产品品质的要求也越来越 高, 从而对设计及制程能力也提出更高要求。
一般在高分子聚合物稳定型垂直配向 (PSVA)工艺的薄膜晶体管液晶显示器 (TFT LCD)阵列基板的设计中, 都有用于固化线的走线结构, 使得阵列测试垫 (Array test pad)与固化垫 (curing pad)连接起来, 阵列测试垫 (Array test pad)用于阵 列基板制程完成后进行面板电性检査 ¾针使用, 固化垫 (omng pad)用于液晶面板 固化 ¾针使用。 一般情况下, 阵列测试总线 (Array test bus line)与固化总线 (curing bus Ime)都是相同数目且 ·一对应。 这样在产品设计中, 因为固化走线需求, 外 围走线会增加许多 , 对设 排版及制程良率造成风险。
因此, 在现有技术中, 在高分子聚合物稳定型垂直配向 (PSVA)工艺的薄膜晶 体管液晶显示器 0TT LCD)阵列基板的设计中, 都有用于固化线的走线结构, 以 供垂直配向型液晶面板制程中的固化扎针使用。
图 1显示了现有技术中的阵列基板的走线结构。
参照图 1 , 现有技术中垂直配向型液晶面板的阵列基板的走线结构包括红线 14、 绿线 15、 蓝线 16、 奇数线 17、 偶数线】8、 阵列基板公共线 13和彩膜基板 公共线 19, 共七根固化线。 其中红线 14、 绿线 15、 蓝线 16属于固化过程的数据 线, 奇数线 7和偶数线 18属于固化过程的扫描线。 现有技术中垂直配向型液晶 面板的走线结构还包括七个相应的固化垫以及阵列基板测试垫。 对于固化过程而 言, 对固化垫施加电压, 电压通过与相应固化垫相连的走线(即上述七条线之 - -) 施加到相应的电容。
因此, 现有技术中的垂直配向型液晶面板的走线结构包括至少七条走线和固 化的需求。 一般而言, 为了通过陈列基板薄膜晶体管的公共线 13 施加固化电压 (Curing Voltage) , 需要额外设计固化垫 (Curing Pad) 13-1 , 并以走线将固化垫 (Curing Pad)l 3-1 电连通到阵列基板的像素显示区域内各像素的公共线 13。 借此, 固化电
134灌入, 通过走线连接阵列基板公共线 13 , 以传送至像素显示
Figure imgf000003_0001
然而, 在圏化垫 134 的走线连接阵列基板公共线 13之前, 多半会跨过或桥 接或以贯孔方式连接其它走线。如图 1所示的固化垫 13-1的走线即与其它走线衔 接形成了接线区, 具有静电放电 (ESD, Electronic Static Discharge)的风险。
如此可见, 七根走线将增加阵列基板设计的排版空间, 在固定的玻璃基板大 小条件下, 走线需求越多, 设计空间越小; 而走线过多, 交叉处也越多, 也增加 外围交叉处静电放电 (ESD, Electronic Static Discharge)的风险, 增加产品良率流失 的风险。
针对上述现有技术中的不足和缺陷, 本发明对阵列基板的走线结构进行了改 进。
如上所述, 在现有技术中的阵列基板的走线结构中, 至少七根走线将增加阵 列基板设计的排版空间, 在固定的玻璃基板大小条件下, 走线需求越多, 设计空 间越小;而走线过多,交叉处也越多,也增加外围交叉处静电放电 (ESD, Electronic Static Discharge)的风险, 增加产品良率流失的风险。
本发明根据垂直配向型液晶面板的固化扎针的实际通入¾号情况, 改进了垂 直配^型液晶面板的阵列基板的固化走线设计, 减少了固化走线的数目, 从而增 加了设^空间, 降低了良率流失风险, 减少了固化垫的数量, 同时也减少了液晶 面板固化探针的需求数目, 降低了大规模生产的成本。
因此, 本发明提出了一种阵列基板的走线结构。
根据本发明的阵列基板的走线结构包括在固化过程中作为数据线的红绿蓝 线、 在固化过程中作为扫描线的奇偶数线、 阵列基板公共线和彩膜基板公共线, 以及分别连接到所述红绿蓝线、 奇偶数线、 阵列基板公共线和彩膜基板公共线的 ffl于接收电压的相应的红绿蓝固化垫、 奇偶数固化垫、 阵列基板固化垫和彩膜基 板固化垫。 以此方式,根据本发明的走线结构相比现有技术减少了走线和固化垫的数量, 从而减少了阵列基板的外围走线, 增加了设计排版的缓冲空间, 也减小了发生制 程不良的风险。 减少了固化走线的数目, 从而增加了设^空间, 降低了良率流失 风险, 减少了固化垫的数量, 同时也减少了液晶面板固化探针的需求数目, 降低 了大规模生产的成本。
优选地, 所述红绿蓝线包括红线、 蓝线和绿线, 所述红线、 蓝线和绿线中相 邻的两根线通过第一薄膜晶体管相连, 通过所述第一薄膜晶体管的栅极来控制其 通断,从而控制所述相邻的两根线短路或分开。通过薄膜晶体管来连接相邻的线, 可以方便、 快捷、 统一地控制红线、 蓝线和绿线, 减小了能源消耗, 提高了固化 工艺的效率。
优选地, 还包括能够施加信号电压的第一信号线, 所述第一薄膜晶体管的樋 极连接到所述第一信号线。 第一信号线可 ]¾来控制第一薄膜晶体管。
优选地, 所述红线和所述蓝线通过第一薄膜晶体管相连, 且所述绿线和所述 蓝线通过第一薄膜晶体管相连。
优选地, 所述蓝线和所述红线通过第一薄膜晶体管相连, 且所述绿线和所述 红线通过第一薄膜晶体管相连。
优选地, 所述蓝线和所述绿线通过第一薄膜晶体管相连, 且所述红线和所述 绿线通过第一薄膜晶体管相连。
优选地, 所述奇偶数线包括通过第二薄膜晶体管相连的奇数线和偶数线, 通 过所述第二薄膜晶体管的栅极来控制其通断, 从而控制所述奇数线和偶数线短路 或分开。 通过薄膜晶体管来连接奇数线和偶数线, 可以方便、 快捷、 统一地控刺 奇数线和偶数线, 减小了能源消耗, 提高了固化工艺的效率。
优选地, 还包括能够施加信号电压的第二信号线, 所述第二薄膜晶体管的極 极连接到所述第二信号线。 第二信号线可用来控制第二薄膜晶体管。
优选地, 所述走线结构还包括至少一条辅助固化线和连接到所述辅助固化线 的辅助固化垫。
优选地, 所述辅助固化线连接到所述第一薄膜晶体管和所述第二薄膜晶体管 的栅极, 所述辅助固化垫 于接收所述第一薄膜晶体管和所述第二薄膜晶体管的 櫥极电压。 仅通过一条辅助固化线, 可以方便、 快捷、 统一地控制红线、 绿线、 蓝线、 奇数线和偶数线的通断, 减小了能源消耗, 提高了固化工艺的效率。 同时, 本发明通过改进现有设 t, 减少了固化总线数目, 从而减少了阵列基 板的外围走线, 增加了设计排版的缓冲空间, 也减小了发生制程不良的风险。 另 ····-方面,减少了电路的交叉处,有效避免了交叉处静电放电 (ESD, Electronic Static Discharge)的风险
上述技术特征可以各种适合的方式组合或由等效的技术特征来替代, 只要能 够达到本发明的目的。 附图说明
在下文中将基于仅为非限定性的实施例并参考附图来对本发明进行更详细 的描述。 其中- 图 1显示了现有技术中的阵列基板的走线结构- 图 2显示了现有技术中的阵列基板的走线结构的红线、 绿线、 蓝线、 奇数线 和偶数线的布置;
图 3显示了根据本发明的阵列基板的走线结构;
图 4 显示了根据本发明的阵列基板的走线结构的红绿蓝线和奇偶数线的布 置。
在图中, 相同的构件由相同的附图标记标示。 對图并未按照实际的比例绘制。 具体实施方式
下面将参照付图来详细地介绍本发明。
图 2显示了现有技术中的垂直配 ^型液晶面板的走线结构的红线】 4、绿线 15、 蓝线 16、 奇数线 Π和偶数线 18的布置。 可见在现有技术中, 红线 14、 绿线 15、 蓝线】 6、 奇数线 17和偶数线 18作为五条彼此独立的线路, 单独地接受电压。
参照图 2, 申请人经过研究认为, 在固化工艺过程中, 红线 14、 绿线 15和蓝 线 16 .只需在同一时刻承受相同额度的电压。 同理, 奇数线 17和偶数线 18也只 需在同一时刻承受相同额度的电压。 因此, 在固化工艺过程中, 红线 :4、 绿线 15和蓝线 16不需要作为三根相互独立的走线相应地接受电压, 同理, 奇数线 17 和偶数线 18也不需要作为两根相互独立的走线相应地接受电压。
据此, 本发明提出了一种阵列基板的走线结构。 图 3显示了根据本发明的垂 直配向型液晶面板的阵列基板的走线结构。 参照图 3, 根据本发明的阵列基板的走线结构包括在固化过程中作为数据线 的红绿蓝线 21、 在固化过程中作为扫描线的奇偶数线 22、 阵列基板公共线 20和 彩膜基板公共线 23 , 以及分别连接到所述红绿蓝线 2】、 奇偶数线 22、 阵列基板 公共线 20和彩膜基板公共线 23的用于接收电压的相应的红绿蓝固化垫 2i-l、 奇 偶数圏化垫 22-1、 阵列基板圏化垫 20-1和彩膜基板固化垫 23 1。
图 4 显示了根据本发明的阵列基板的走线结构的红绿蓝线和奇偶数线的布 置。
参照图 4, 所述红绿蓝线 21包括红线 6、 蓝线 8和绿线 7, 所述红线 6、 蓝线 8和绿线 7中相邻的两根线通过第一薄膜晶体管 11相连,可以通过第一薄膜晶体 管 11的栅极来控制第一薄膜晶体管 1 1的通断, 从而控制通过该第一薄膜晶体管
1 1 相连的两根线短路或分开。 其中根据具体的结构设计需求, 第一薄膜晶体管 11的数量可以为一个或多个。
在图 4所示的实施例中, 蓝线 8和绿线 7通过第一薄膜晶体管 11相连, 且绿 线 7和红线 6通过第 ·薄膜晶体管相连。
备选地, 也可以是如 T情况: 红线 6和蓝线 8通过第一薄膜晶体管 11相连, 且绿线 7和蓝线 8通过第一薄膜晶体管 i i相连。
备选地, 也可以是如 T情况: 蓝线 8和红线 6通过第一薄膜晶体管 11相连, 且绿线 7和红线 6通过第一薄膜晶体管 11相连。
在一个实施例中, 根据本发明的阵列基板的走线结构还包括能够施加信号电 压的第一信号线, 第一薄膜晶体管 11的栅极 12连接到第一信号线。
参照图 4, 在一个优选的实施例中, 奇偶数线 22包括通过第二薄膜晶体管 15 相连的奇数线 9和偶数线 10, 通过第二薄膜晶体管 15的栅极来控制其通断, 从 而控制奇数线 9和偶数线 10短路或分开。 其中根据具体的结构设计需求, 第二 薄膜晶体管 15的数量可以为一个或多个。
在 ·个实施例中, 还包括能够施加信号电压的第二信号线, 第二薄膜晶体管 5的栅极 12连接到第二信号线。
再次参照图 3, 根据本发明的阵列基板的走线结构还包括至少一条辅助固化 线 24和连接到辅助固化线 24的辅助圏化垫 24-1。
优选地,辅助固化线 24连接到第一薄膜晶体管 11和第二薄膜晶体管 15的極 极,辅助固化垫 24-1 ^于接收第一薄膜晶体管 11和第二薄膜晶体管 15的栅极电 压。
本发明通过改进现有技术, 减少了固化总线数目, 从而减少了阵列基板的夕卜 围走线, 增加了设计排版的缓冲空间, 也减小了发生制程不良的风险。 相对于现 有技术带来了显著进步。
虽然已经参考优选实施例对本发明进行了描述, 但在不脱离本发明的范围的 情况下, 可以对其进行各种改进并且可以用等效物替换其中的部件。 本发明并不 局限于文中公幵的特定实施例 ' 而是包括落入权利要求的范圈內的所有技术方 案。

Claims

权利要求书
1. 阵列基板的走线结构, 其中, 包括在固化过程中作为数据线的红绿蓝线 (21), 在固化过程中作为扫描线的奇偶数线 (22)、 阵列基板公共线 (20)和彩膜基板 公共线 (23), 以及分别连接到所述红绿蓝线 (21)、 奇偶数线 (22)、 阵列基板公共线
(20)和彩膜基板公共线 (23)的用于接收电压的相应的红绿蓝固化垫 (21- 1)、 奇偶数 固化垫 (22-1)、 阵列基板固化垫 (20 1)和彩膜基板固化垫 (23- 1)。
2. 根据权利要求 1所述的走线结构, 其中, 所述红绿蓝线 (21)包括红线、 蓝 线和绿线, 所述红线、 蓝线和绿线中相邻的两根线通过第一薄膜晶体管相连, 通 过所述第一薄膜晶体管的栅极来控制其通断, 从而控制所述相邻的两根线短路或 分开。
3. 根据权利要求 2所述的走线结构, 其中, 还包括能够施加信号电压的第一 信号线, 所述第一薄膜晶体管的櫥极连接到所述第一信号线。
4. 根据权利要求 2所述的走线结构, 其中, 所述红线和所述蓝线通过第一薄 膜晶体管相连, ϋ所述绿线和所述蓝线通过第一薄膜晶体管相连。
5. 根据权利要求 2所述的走线结构, 其中, 所述蓝线和所述红线通过第一薄 膜晶体管相连, ϋ所述绿线和所述红线通过第一薄膜晶体管相连。
6. 根据权利要求 2所述的走线结构, 其中, 所述蓝线和所述绿线通过第一薄 膜晶体管相连, 所述红线和所述绿线通过第一薄膜晶体管相连。
7. 根据权利要求 2所述的走线结钩, 其中, 所述奇偶数线 (22)包括通过第二 薄膜晶体管相连的奇数线和偶数线, 通过所述第二薄膜晶体管的樋极来控制其通 断, 从而控制所述奇数线和偶数线短路或分开。
8. 根据权利要求 7所述的走线结构, 其中, 还包括能够施加信号电压的第二 信号线, 所述第二薄膜晶体管的櫥极连接到所述第二信号线。
9. 根据权利要求 7所述的走线结构, 其中, 所述走线结构还包括至少一条辅 助固化线 (24)和连接到所述辅助固化线 (24)的辅助固化垫 (24-1)。
10. 根据权利要求 9所述的走线结构, 其中, 所述辅助固化线 (24)连接到所述 第一薄膜晶体管和所述第二薄膜晶体管的栅极, 所述辅助固化垫 (24-1)用于接收 所述第一薄膜晶体管和所述第二薄膜晶体管的栅极电压。
PCT/CN2014/071182 2013-12-25 2014-01-23 阵列基板的走线结构 WO2015096261A1 (zh)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020167020084A KR20160102518A (ko) 2013-12-25 2014-01-23 어레이 기판의 배선구조
US14/240,385 US20150179666A1 (en) 2013-12-25 2014-01-23 Wiring structure of array substrate
JP2016542975A JP2017502354A (ja) 2013-12-25 2014-01-23 アレイ基板の配線構造
GB1609366.8A GB2535103B (en) 2013-12-25 2014-01-23 Wiring structure of array substrate
RU2016124652A RU2636800C1 (ru) 2013-12-25 2014-01-23 Структура металлических дорожек подложки матрицы

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201310726450.4 2013-12-25
CN201310726450.4A CN103760693B (zh) 2013-12-25 2013-12-25 阵列基板的走线结构

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2015096261A1 true WO2015096261A1 (zh) 2015-07-02

Family

ID=50527952

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/CN2014/071182 WO2015096261A1 (zh) 2013-12-25 2014-01-23 阵列基板的走线结构

Country Status (6)

Country Link
JP (1) JP2017502354A (zh)
KR (1) KR20160102518A (zh)
CN (1) CN103760693B (zh)
GB (1) GB2535103B (zh)
RU (1) RU2636800C1 (zh)
WO (1) WO2015096261A1 (zh)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104076567A (zh) * 2014-07-22 2014-10-01 深圳市华星光电技术有限公司 阵列基板及其制造方法、显示装置
CN105974703A (zh) * 2016-07-13 2016-09-28 武汉华星光电技术有限公司 液晶显示面板
CN107065374B (zh) * 2017-04-01 2019-10-22 上海天马微电子有限公司 一种电子纸的阵列基板、电子纸及其驱动方法
CN107037637B (zh) * 2017-06-13 2020-02-28 深圳市华星光电技术有限公司 液晶光配向面板走线结构及液晶显示面板光配向方法
US10627684B2 (en) * 2017-08-30 2020-04-21 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. Liquid crystal mother substrate and vertical alignment curing method thereof
CN107367872A (zh) * 2017-08-30 2017-11-21 深圳市华星光电技术有限公司 液晶母基板及其垂直配向固化的方法
CN107632473B (zh) * 2017-10-18 2020-05-12 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 Psva液晶显示面板
CN107664892B (zh) * 2017-11-03 2019-08-13 惠科股份有限公司 一种显示基板的走线结构
CN108681168B (zh) 2018-06-27 2020-12-25 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 一种阵列基板、显示面板及显示设备
CN109637405B (zh) * 2018-12-05 2021-04-06 惠科股份有限公司 阵列基板的测试方法、装置及存储介质
CN110189671B (zh) * 2019-06-26 2022-02-01 滁州惠科光电科技有限公司 成盒测试电路、阵列基板和液晶显示装置
CN112904607B (zh) * 2021-03-02 2022-07-29 Tcl华星光电技术有限公司 一种走线结构及液晶显示面板

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003255903A (ja) * 2002-02-28 2003-09-10 Toshiba Corp 表示装置
CN101017299A (zh) * 2007-02-14 2007-08-15 友达光电股份有限公司 像素结构以及在该像素结构中产生驱动电压的方法
JP2009236937A (ja) * 2008-03-07 2009-10-15 Casio Comput Co Ltd 液晶表示装置及びその駆動方法
CN101592810A (zh) * 2008-05-27 2009-12-02 乐金显示有限公司 液晶显示设备
CN101833910A (zh) * 2009-03-11 2010-09-15 上海天马微电子有限公司 显示装置及其阵列基板的测试方法
CN102338948A (zh) * 2011-10-24 2012-02-01 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 内嵌式液晶触控面板

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4252528B2 (ja) * 1998-03-27 2009-04-08 シャープ株式会社 アクティブマトリクス型液晶表示パネル及びその検査方法
JP3865627B2 (ja) * 2001-12-13 2007-01-10 シャープ株式会社 液晶表示装置用基板及びそれを備えた液晶表示装置
JP2003248208A (ja) * 2002-02-22 2003-09-05 Fujitsu Display Technologies Corp 液晶表示パネルの製造方法
TWI307437B (en) * 2004-06-30 2009-03-11 Chi Mei Optoelectronics Corp Liquid crystal display panel and method of manufacturing the same
JP4459006B2 (ja) * 2004-10-07 2010-04-28 シャープ株式会社 液晶表示装置及びその製造方法
JP2007011139A (ja) * 2005-07-01 2007-01-18 Toshiba Corp 液晶表示装置及びその製造方法
JP2008033107A (ja) * 2006-07-31 2008-02-14 Victor Co Of Japan Ltd 液晶表示装置
KR20090073903A (ko) * 2007-12-31 2009-07-03 엘지디스플레이 주식회사 컬러 epd 장치의 화소배치방법
US8325315B2 (en) * 2008-08-19 2012-12-04 Samsung Display Co., Ltd. Mother panel and method of manufacturing display panel using the same
KR101992103B1 (ko) * 2011-12-09 2019-06-25 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치 및 그 구동방법

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003255903A (ja) * 2002-02-28 2003-09-10 Toshiba Corp 表示装置
CN101017299A (zh) * 2007-02-14 2007-08-15 友达光电股份有限公司 像素结构以及在该像素结构中产生驱动电压的方法
JP2009236937A (ja) * 2008-03-07 2009-10-15 Casio Comput Co Ltd 液晶表示装置及びその駆動方法
CN101592810A (zh) * 2008-05-27 2009-12-02 乐金显示有限公司 液晶显示设备
CN101833910A (zh) * 2009-03-11 2010-09-15 上海天马微电子有限公司 显示装置及其阵列基板的测试方法
CN102338948A (zh) * 2011-10-24 2012-02-01 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 内嵌式液晶触控面板

Also Published As

Publication number Publication date
JP2017502354A (ja) 2017-01-19
RU2636800C1 (ru) 2017-11-28
CN103760693B (zh) 2016-06-29
CN103760693A (zh) 2014-04-30
GB201609366D0 (en) 2016-07-13
GB2535103A (en) 2016-08-10
KR20160102518A (ko) 2016-08-30
GB2535103B (en) 2020-09-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2015096261A1 (zh) 阵列基板的走线结构
CN104977740A (zh) 显示基板及其制备方法、显示装置
US8786814B2 (en) Liquid crystal display apparatus
CN102866551B (zh) 液晶显示装置及其驱动电路
US9972232B2 (en) Liquid crystal display device and method for testing pixels of the same
KR20120076900A (ko) 디스플레이 장치 및 그 테스트 방법
CN102629053A (zh) 阵列基板及显示装置
CN104934005A (zh) 显示面板及显示装置
CN102393587A (zh) 用于液晶显示器的goa电路中的信号走线结构
WO2018233067A1 (zh) 显示面板的测试电路及测试方法
CN103268029A (zh) 一种显示模组及显示器
WO2021056771A1 (zh) 一种阵列基板、显示面板
CN105242416B (zh) 一种液晶显示器及其制备方法
WO2020259318A1 (zh) 成盒测试电路、阵列基板和液晶显示装置
WO2016011766A1 (zh) 显示装置
CN107678219A (zh) 液晶显示母板
WO2017041341A1 (zh) 阵列基板及触控显示装置
US20150179666A1 (en) Wiring structure of array substrate
WO2016095314A1 (zh) 阵列基板及显示装置
CN107093391B (zh) 液晶显示面板的检测电路结构与液晶显示面板
WO2024046070A1 (zh) 阵列基板及其检测方法、显示装置
CN105549270B (zh) 液晶光配向电路及液晶面板
CN102156366A (zh) 一种显示面板修补电路
WO2015135234A1 (zh) 阵列基板及液晶显示面板
JP2007171993A (ja) 画像表示装置

Legal Events

Date Code Title Description
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 14240385

Country of ref document: US

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 14875763

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 201609366

Country of ref document: GB

Kind code of ref document: A

Free format text: PCT FILING DATE = 20140123

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2016124652

Country of ref document: RU

Kind code of ref document: A

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2016542975

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 20167020084

Country of ref document: KR

Kind code of ref document: A

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 14875763

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1