WO2015014078A1 - 一种制造彩色滤光片的方法和彩色滤光片 - Google Patents

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layer
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glass substrate
alignment mark
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肖洋
齐勤瑞
许志军
王恒英
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BOE Technology Group Co Ltd
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Beijing BOE Display Technology Co Ltd
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    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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    • G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
    • G03F9/7073—Alignment marks and their environment
    • G03F9/7084—Position of mark on substrate, i.e. position in (x, y, z) of mark, e.g. buried or resist covered mark, mark on rearside, at the substrate edge, in the circuit area, latent image mark, marks in plural levels

Definitions

  • the present invention relates to the field of manufacturing color filters, and more particularly to a method of fabricating a color filter and a color filter.
  • CF Coior Filter
  • BM black matrix
  • R red color filter film
  • G green color filter film
  • B blue color filter film
  • PS separator
  • FIG. 1 is a schematic diagram of alignment between a mask and a glass substrate in the prior art
  • the alignment mark 1 can be fabricated. In the white glass region of the substrate, so that the reticle is aligned with the glass substrate.
  • the so-called large-size panel refers to the case where the panel cannot be completely exposed at one time by using the mask, that is, the panel can be completely exposed after being spliced and exposed multiple times using the mask.
  • the present invention provides a method of manufacturing a color filter and a color filter which can be used for the manufacture of a color filter of a large panel.
  • a method of fabricating a color filter comprising:
  • the method for manufacturing a color light sheet further includes:
  • a first exposure developing process is performed to form a color filter layer on the first substrate pattern layer of the glass substrate.
  • the step of performing a first exposure and development process according to the alignment mark to form a color filter layer on the first substrate pattern layer of the glass substrate comprises:
  • the first color filter layer, the second color filter layer, and the first color filter layer a red filter layer, a green filter layer, and a blue filter layer;
  • the first color filter layer, the second color filter layer, and the first color filter layer a red filter layer, a blue filter layer, and a green filter layer;
  • the first color filter layer, the second color filter layer, and the first color filter layer a blue filter layer, a red filter layer, and a green filter layer;
  • the first color filter layer, the second color filter layer, and the first color filter layer a blue filter layer, a green filter layer, and a red filter layer;
  • the first color filter layer, the second color filter layer, the first color filter layer a green filter layer, a red filter layer, and a blue filter layer; or
  • the first color filter layer, the second color filter layer, and the first color filter layer Green filter layer, blue filter layer and red filter layer.
  • the method for manufacturing a color filter further includes:
  • a color filter including a glass substrate on which a first substrate pattern layer is disposed, and an alignment mark is disposed in a pixel opening region of the first substrate pattern layer.
  • the alignment mark is a figure having an area of less than or equal to 2500 square micrometers, and the figure is any one of a rectangle, a circle, a triangle, or a polygon.
  • the alignment mark is a square having a side length of less than or equal to 50 microns.
  • the first substrate pattern layer further includes: a black matrix, where the pixel opening area is formed on a portion of the glass substrate that is not covered by the black matrix.
  • a color filter layer is disposed on the first substrate pattern layer.
  • a spacer pattern layer is disposed on the color filter layer.
  • the alignment mark is disposed in the pixel opening region of the first substrate pattern layer.
  • the alignment mark is used to align the mask to the substrate, and the alignment mark does not need to occupy an additional position, which can be applied to There are no white glass scenes when producing large panel color filters.
  • FIG. 1 is a schematic diagram of alignment of a mask and a glass substrate in the prior art
  • FIG. 2 is a schematic flow chart of an embodiment of a method for preparing a color filter according to the present invention
  • Figure 3 is a plan view showing the color filter after the process of step 23;
  • FIG. 4 is a cross-sectional view of the color filter in the AA direction after the process of step 23;
  • FIG. 5 is a plan view of the color filter in the A-A direction after the process of step 25;
  • FIG. a cross-sectional view of a color filter after the 25th process;
  • Figure ⁇ shows a top view of the color filter after the process of step 27;
  • Figure 8 is a cross-sectional view showing the color filter in the A-A direction after the process of the step 27;
  • Figure 9 is a cross-sectional view showing the color filter in the B-B direction after the process of the step 27;
  • a method of manufacturing a color filter according to the present invention will be described below with reference to Figs. As shown in FIG. 2, the method includes:
  • Step 21 providing a glass substrate 61
  • Step 22 providing a black matrix material on the glass substrate 61;
  • Step 23 exposing the black matrix material to form a first substrate pattern layer, the first substrate pattern layer comprising: a black matrix 21, an alignment mark 22, and a pixel opening region; wherein, the glass substrate is not The pixel opening area is formed by a portion covered by the black matrix, and the alignment mark is located in the pixel opening area.
  • Fig. 3 is a plan view showing the color filter after the step 23 process;
  • Fig. 4 is a cross-sectional view showing the color filter in the A-A direction after the step 23 process.
  • the alignment mark is created while the black matrix is being produced. It is to be noted that the alignment mark is prepared simultaneously with the black matrix, and the method for preparing the black matrix is the same as that of the black matrix by using the pattern of the alignment mark on the used mask. And, the material of the alignment mark is the same as the material of the black matrix.
  • the method for manufacturing a color filter further comprises:
  • Step 24 coating a first layer of photoresist on the first substrate pattern layer
  • Step 25 Perform a first exposure and development process according to the alignment mark to form a color filter layer on the first substrate pattern layer of the glass substrate.
  • Step 25 is specifically: coating a first layer of photoresist on the first substrate pattern layer;
  • a third color filter layer 33 is formed on the pattern layer.
  • the first color filter layer 31, the second color filter layer 32, and the third color filter layer 33 are respectively a red filter layer, a green filter layer, and a blue filter layer;
  • the first color filter layer 31, the second color filter layer 32, and the third color filter layer 33 are a red filter layer, a blue filter layer, and a green filter layer, respectively.
  • the first color filter layer 31, the second color filter layer 32, and the third color filter layer 33 are a blue color filter layer, a red filter layer, and a green filter layer, respectively.
  • the first color filter layer 31, the second color filter layer 32, and the third color filter layer 33 are a blue color filter layer, a green filter layer, and a red filter layer, respectively.
  • the first color filter layer 31, the second color filter layer 32, and the third color filter layer 33 are a green filter layer, a red filter layer, and a blue filter layer, respectively.
  • the first color filter layer 31, the second color filter layer 32, and the third color filter layer 33 are a green filter layer, a blue filter layer, and a red filter layer, respectively.
  • Fig. 5 is a plan view showing the color filter in the A A direction after the step 25 process
  • Fig. 6 is a cross-sectional view showing the color filter after the step 25 process.
  • the method for manufacturing a color filter further includes:
  • Step 26 coating a fourth layer of photoresist on the color filter layer
  • Step 27 according to the alignment mark, placing a fourth mask on the glass substrate coated with the fourth layer of photoresist, performing a second exposure and development process on the glass substrate
  • a spacer pattern layer 51 is formed on the color filter layer.
  • Figure 7 illustrates a top view of the color filter after the process of step 27.
  • Figure 8 is a cross-sectional view showing the color filter in the AA direction after the process of the step 27;
  • Figure 9 is a cross-sectional view showing the color filter in the B-B direction after the process of the step 27.
  • the method further comprises: performing a step of coating the protective layer 4! on the color filter layer, and then performing the step of forming the spacer pattern layer.
  • a color filter according to the present invention includes a glass substrate 61.
  • the glass substrate 61 is provided with a first substrate pattern layer, and a pixel opening region of the first substrate pattern layer.
  • An alignment mark 22 is provided.
  • the alignment mark is a pattern having an area smaller than or equal to 2500 square micrometers, and the figure is any one of a rectangle, a circle, a triangle, or a polygon.
  • the present invention is not limited to this size, and may be other shapes as long as the area of the alignment mark is smaller than the area of the pixel opening area, the alignment mark is disposed in the pixel opening area, and the exposure device of the color filter can recognize and satisfy the exposure.
  • Equipment accuracy requirements preferably, the alignment marks are squares having a side length of less than or equal to 50 microns.
  • the size and area of the alignment mark are mainly set according to the recognition accuracy of the exposure device itself and the size of the black missing area that can be recognized by the human warming.
  • the minimum recognition accuracy of the existing CF exposure device is 50 X 50 ⁇ m Mark, so the present invention proposes less than or equal to 2500 square micrometers (50 X 50 m), in fact, regarding the size and area of the alignment mark, in principle, it is set within the range of the recognition capability of the exposure machine, The smaller the better, the more you display it, the more you will not be noticed by the warmth. According to the actual test, the black missing area is 28338 square micron (163x163 m), which is not noticed by the human eye when displayed.
  • the first substrate pattern layer further includes: a black matrix 21, where the pixel opening area is formed on a portion of the glass substrate that is not covered by the black matrix.
  • the pixel opening area on the first substrate pattern layer is provided with a color filter layer, which is a red color filter layer 3, a green color filter layer 32, and a blue color filter layer 33.
  • a color filter layer which is a red color filter layer 3, a green color filter layer 32, and a blue color filter layer 33.
  • the color filter layer is provided with a spacer pattern layer 51.
  • a protective layer 41 is further disposed between the color filter layer and the spacer pattern layer.
  • the alignment mark is disposed in the pixel opening region of the first substrate pattern layer. In the subsequent process, the alignment mark is used to align the mask to the substrate, and the alignment mark does not need to occupy an additional position, which can be applied to There are no white glass scenes when producing large panel color filters.
  • Figure 10 is a schematic illustration of the alignment of a color filter and a mask using the present invention.
  • the alignment mark is disposed in the pixel opening region of the first substrate pattern layer.
  • the alignment mark is used to align the mask with the substrate, and the alignment mark does not need to occupy an additional position. It can be applied to scenes where there is no white glass when producing large-size panel color filters.
  • the so-called large-size panel refers to the case where the panel cannot be completely exposed at one time by using the mask, that is, the panel can be completely exposed after being spliced and exposed multiple times using the mask.
  • the invention reduces the size of the alignment mark so as to be formed in the pixel opening region of the first substrate pattern layer, and appears to be a tiny black defect on the finished panel, since the size of the alignment mark is reduced, Therefore, according to the repair specifications of the color filter, it will not be judged as bad.
  • the invention is suitable for a scene in which a large-sized panel is required to be stitched and exposed.

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Abstract

一种制造彩色滤光片的方法和彩色滤光片。制造彩色滤光片的方法包括：提供一玻璃基板（61）；在玻璃基板上设置一层黑矩阵材料；对黑矩阵材料进行曝光，形成第一基板图案层，第一基板图案层包括：黑矩阵（21）、对准记号（22）以及像素开口区；其中，玻璃基板上未被黑矩阵覆盖的地方形成像素开口区，对准记号位于像素开口区内。由于对准记号设置在第一基板图案层的像素开口区内，在后续工艺中，使用对准记号进行掩模板与基板的对准，对准记号不需要占额外的位置，能够适用于生产大面板彩色滤光片时需要拼接曝光的场景。

Description

本发明涉及彩色滤光片的制造领域， 特别涉及一种制造彩色滤光片的方 法和彩色滤光片。
CF(Coior Filter)的现有生产工艺中， 在制作 BM (黑矩阵）、 R (红色滤色 膜）、 G (绿色滤色膜）、 B (蓝色滤色膜）、 PS (隔垫物） 的过程中， 均需曝 光（Exposure)工艺， 通过掩模板（Mask) 以近接式曝光形式将光刻胶（PR) 曝出所需要的图案（ Pattern )。 在曝光工艺中， 需要将掩模板（Mask )上的对 准记号 ( Mask Alignment Mark )与基板上的对准记号 ( Glass Alignment Mark, 由 BM黑矩阵工艺制作） 进行准确的对位后， 才可以保证图案 （Pattern) 的 正确曝光。
如图 1所示， 为现有技术中掩模板与玻璃基板的对位示意图， 在制作小 尺寸面板 （Panel) 时， 由于面板与面板之间存在白玻璃区域， 因此可以将对 准记号 1制作在基板的白玻璃区域， 以便掩模板与玻璃基板的对位。
但是， 在制作大尺寸面板时， 由于需要进行多次拼接， 没有相应的白玻 璃区域来放置对准记号。 所谓大尺寸面板， 是指采用掩模板无法一次将面板 (Panel) 完整曝光出来的情况， 也就是需要使用掩模板多次拼接曝光后才可 将面板 （Panel ) 完整曝光出来的情况。 本发明提供一种制造彩色滤光片的方法和彩色滤光片， 能够用于大面板 的彩色滤光片的制造。
一方面， 提供一种制造彩色滤光片的方法， 包括：
提供一玻璃基板；
在所述玻璃基板上设置一层黑矩阵材料；
对所述黑矩阵材料进行曝光， 形成第一基板图案层， 所述第一基板图案 层包括： 黑矩阵、 对准记号以及像素开口区； 其中， 所述玻璃基板上未被黑 述像素开口区，所述对准记号位于所述像素开口区内。 所述的制造彩 光片的方法， 还包括：
根据所述对准记号， 迸行第一曝光显影工艺， 在所述玻璃基板的第一基 板图案层上形成彩色滤色膜层。
所述根据所述对准记号， 进行第一曝光显影工艺， 在所述玻璃基板的第 一基板图案层上形成彩色滤色膜层的步骤包括：
在所述第一基板图案层上涂覆第一层光刻胶；
根据所述对准记号， 将第一掩模板对准放置在涂覆有所述第一层光刻胶 的所述玻璃基板上， 进行第一曝光显影步骤， 在所述玻璃基板的第一基板图 案层上形成第一彩色滤色膜层；
在所述第一基板图案层上涂覆第二层光刻胶；
根据所述对准记号， 将第二掩模板对准放置在涂覆有所述第二层光刻胶 的所述玻璃基板上， 进行第二曝光显影步骤， 在所述玻璃基板的第一基板图 案层上形成第二彩色滤色膜层；
在所述第一基板图案层上涂覆第三层光刻胶；
根据所述对准记号， 将第≡掩模板对准放置在涂覆有所述第≡层光刻胶 的所述玻璃基板上， 进行第三曝光显影步骤， 在所述玻璃基板的第一基板图 案层上形成第三彩色滤色膜层。
所述第一彩色滤色膜层、 第二彩色滤色膜层、 第 彩色滤色膜层： 红色滤色膜层、 绿色滤色膜层和蓝色滤色膜层；
所述第一彩色滤色膜层、 第二彩色滤色膜层、 第 彩色滤色膜层： 红色滤色膜层、 蓝色滤色膜层和绿色滤色膜层；
所述第一彩色滤色膜层、 第二彩色滤色膜层、 第 彩色滤色膜层： 蓝色滤色膜层、 红色滤色膜层和绿色滤色膜层；
所述第一彩色滤色膜层、 第二彩色滤色膜层、 第 彩色滤色膜层： 蓝色滤色膜层、 绿色滤色膜层和红色滤色膜层；
所述第一彩色滤色膜层、 第二彩色滤色膜层、 第 彩色滤色膜层： 绿色滤色膜层、 红色滤色膜层和蓝色滤色膜层； 或
所述第一彩色滤色膜层、 第二彩色滤色膜层、 第 彩色滤色膜层： 绿色滤色膜层、 蓝色滤色膜层和红色滤色膜层。
所述的制造彩色滤光片的方法， 还包括：
在所述彩色滤色膜层上涂覆第四层光刻胶；
根据所述对准记号， 将第四掩模板对准放置在涂覆有所述第四层光刻胶 的所述玻璃基板上， 进行第二曝光显影工艺， 在所述玻璃基板的所述彩色滤 色膜层上形成隔垫物图案层。
另一方面， 提供一种彩色滤光片， 包括玻璃基板， 所述玻璃基板上设置 有第一基板图案层， 所述第一基板图案层的像素开口区内设置有对准记号。
所述对准记号为面积小于或等于 2500 平方微米的图形， 所述图形为矩 形、 圆形、 三角形或多边形中的任意一种。
所述对准记号为边长小于或等于 50微米的正方形。
所述第一基板图案层还包括： 黑矩阵， 所述玻璃基板上未被所述黑矩阵 覆盖的地方形成所述像素开口区。
所述第一基板图案层上设置有彩色滤色膜层。
所述彩色滤色膜层上设置有隔垫物图案层。
本发明的上述技术方案的有益效果如下：
本发明将对准记号设置在第一基板图案层的像素开口区内， 在后续工艺 中， 使用对准记号进行掩模板与基板的对准， 对准记号不需要占额外的位置， 能够适用于生产大面板彩色滤光片时没有白玻璃的场景。
图 i为现有技术中掩模板与玻璃基板的对位示意图；
图 2 为本发明所述的彩色滤光片的制备方法的一实施方式的流程示意 图；
图 3示意出经过步骤 23工艺以后的彩色滤光片的俯视图；
图 4示意出经过歩骤 23工艺以后的彩色滤光片的 A A方向的剖视图； 图 5示意出经过步骤 25工艺以后的彩色滤光片的 A- A方向的俯视图； 图 6示意出经过歩骤 25工艺以后的彩色滤光片的剖视图；
图 Ί示意出经过步骤 27工艺以后的彩色滤光片的俯视图； 图 8示意出经过步骤 27工艺以后的彩色滤光片的 A- A方向的剖视图； 图 9示意出经过步骤 27工艺以后的彩色滤光片的 B- B方向的剖视图； 图 10示意出使用本发明的彩色滤光片与掩模板的对位示意图。
为使本发明要解决的技术问题、 技术方案和优点更加清楚， 下面将结合 附图及具体实施方式进行详细描述。
以下结合图 2-图 9， 描述本发明所述的一种制造彩色滤光片的方法。 如 图 2所示， 所述方法包括：
步骤 21 , 提供一玻璃基板 61 ;
步骤 22, 在所述玻璃基板 61上设置一层黑矩阵材料；
歩骤 23 , 对所述黑矩阵材料进行曝光， 形成第一基板图案层， 所述第一 基板图案层包括： 黑矩阵 21、 对准记号 22 以及像素开口区； 其中， 所述玻 璃基板上未被黑矩阵覆盖的地方形成所述像素开口区， 所述对准记号位于所 述像素开口区内。 图 3示意出经过步骤 23工艺以后的彩色滤光片的俯视图; 图 4示意出经过步骤 23工艺以后的彩色滤光片的 A- A方向的剖视图。 该步 骤中， 制作黑矩阵的同时， 将对准记号制作出来。 予以说明， 所述对准记号 与所述黑矩阵是同时制备的， 与所述黑矩阵的制备方法相同， 通过在使用的 掩模板上设置所述对准记号的图形， 利用曝光显影即可得到， 并且， 所述对 准记号的材料与所述黑矩阵的材料相同。
优选的， 制造彩色滤光片的方法， 还包括：
歩骤 24, 在所述第一基板图案层上涂覆第一层光刻胶；
步骤 25 , 根据所述对准记号， 进行第一曝光显影工艺， 在所述玻璃基板 的第一基板图案层上形成彩色滤色膜层。
步骤 25具体为： 在所述第一基板图案层上涂覆第一层光刻胶；
根据所述对准记号， 将第一掩模板对准放置在涂覆有所述第一层光刻胶 的所述玻璃基板上， 进行第一曝光显影步骤， 在所述玻璃基板的第一基板图 案层上形成第一彩色滤色膜层 3
在所述第一基板图案层上涂覆第二层光刻胶； 根据所述对准记号， 将第二掩模板对准放置在涂覆有所述第二层光刻胶 的所述玻璃基板上， 进行第二曝光显影步骤， 在所述玻璃基板的第一基板图 案层上形成第二彩色滤色膜层 32;
在所述第一基板图案层上涂覆第三层光刻胶；
根据所述对准记号， 将第三掩模板对准放置在涂覆有所述第三层光刻胶 的所述玻璃基板上， 进行第三曝光显影步骤， 在所述玻璃基板的第一基板图 案层上形成第三彩色滤色膜层 33。
所述第一彩色滤色膜层 31、 第二彩色滤色膜层 32 、 第三彩色滤色膜层 33分别为红色滤色膜层、 绿色滤色膜层和蓝色滤色膜层； 或者
所述第一彩色滤色膜层 31、 第二彩色滤色膜层 32 、 第三彩色滤色膜层 33分别为红色滤色膜层、 蓝色滤色膜层和绿色滤色膜层
所述第一彩色滤色膜层 31、 第二彩色滤色膜层 32 、 第三彩色滤色膜层 33分别为蓝色滤色膜层、 红色滤色膜层和绿色滤色膜层
所述第一彩色滤色膜层 31、 第二彩色滤色膜层 32、 第三彩色滤色膜层 33分别为蓝色滤色膜层、 绿色滤色膜层和红色滤色膜层
所述第一彩色滤色膜层 31、 第二彩色滤色膜层 32、 第三彩色滤色膜层 33分别为绿色滤色膜层、 红色滤色膜层和蓝色滤色膜层
所述第一彩色滤色膜层 31、 第二彩色滤色膜层 32、 第三彩色滤色膜层 33分别为绿色滤色膜层、 蓝色滤色膜层和红色滤色膜层
图 5示意出经过步骤 25工艺以后的彩色滤光片的 A A方向的俯视图；图 6示意出经过步骤 25工艺以后的彩色滤光片的剖视图。
优选的， 所述的制造彩色滤光片的方法， 还包括：
步骤 26, 在所述彩色滤色膜层上涂覆第四层光刻胶；
歩骤 27, 根据所述对准记号， 将第四掩模板对准放置在涂覆有所述第四 层光刻胶的所述玻璃基板上， 进行第二曝光显影工艺， 在所述玻璃基板的所 述彩色滤色膜层上形成隔垫物图案层 51。 图 7示意出经过步骤 27工艺以后 的彩色滤光片的俯视图。 图 8示意出经过步骤 27工艺以后的彩色滤光片的 A A方向的剖视图；图 9示意出经过步骤 27工艺以后的彩色滤光片的 B- B方 向的剖视图。 优选的， 在步骤 26之前， 所述方法还包括： 在所述彩色滤色膜层上进行 涂覆保护层 4!的步骤， 然后再进行制作隔垫物图案层的步骤。
如图 8所示， 为本发明所述的一种彩色滤光片， 包括玻璃基板 61， 所述 玻璃基板 61上设置有第一基板图案层，所述第一基板图案层的像素开口区内 设置有对准记号 22。
为了减少对准记号的占用面积，所述对准记号为面积小于或等于 2500平 方微米的图形， 所述图形为矩形、 圆形、 三角形或多边形中的任意一种。 本 发明不限于此尺寸， 并且也可以为其他形状， 只要对准记号的面积小于像素 开口区的面积， 对准记号设置在像素开口区内， 并且彩色滤光片的曝光设备 可以识别， 满足曝光设备精度要求， 优选的， 所述对准记号为边长小于或等 于 50微米的正方形。关于对准记号的尺寸和面积， 主要是根据曝光机设备自 身的识别精度和人暖所能识别的黑缺面积大小两个方面考虑来设定的， 现有 CF曝光机设备的最低识别精度是 50 X 50 μ m的 Mark， 所以本发明提出小于 或等于 2500平方微米 （50 X 50 m)， 实际上关于对准记号的尺寸和面积， 原 则上是设在满足曝光机设备识别能力范围内， 越小越好， 这样在显示^, 才 不会被人暖所察觉出来。 根据实际测试， 黑缺面积在 28338 平方微米 (163x163 m)的情况下， 在显示时， 是不会被人眼所察觉到的。
优选的， 所述第一基板图案层还包括： 黑矩阵 21 , 所述玻璃基板上未被 所述黑矩阵覆盖的地方形成所述像素开口区。
优选的， 所述第一基板图案层上像素开口区设置有彩色滤色膜层， 分别 为红色滤色膜层 3 绿色滤色膜层 32、 蓝色滤色膜层 33
优选的， 所述彩色滤色膜层上设置有隔垫物图案层 51。
优选的， 所述彩色滤色膜层和隔垫物图案层之间还设置有保护层 41。 本发明将对准记号设置在第一基板图案层的像素开口区内， 在后续工艺 中， 使用对准记号进行掩模板与基板的对准， 对准记号不需要占额外的位置, 能够适用于生产大面板彩色滤光片时没有白玻璃的场景。图 10示意出使用本 发明的彩色滤光片与掩模板的对位示意图。
本发明将对准记号设置在第一基板图案层的像素开口区内， 在后续工艺 中， 使用对准记号进行掩模板与基板的对准， 对准记号不需要占额外的位置, 能够适用于生产大尺寸面板彩色滤光片时没有白玻璃的场景。 所谓大尺寸面 板， 是指采用掩模板无法一次将面板 （Panel) 完整曝光出来的情况， 也就是 需要使用掩模板多次拼接曝光后， 才可将面板（Panel)完整曝光出来的情况。 本发明通过减小对准记号的尺寸， 以便将其制作在第一基板图案层的像素开 口区内， 在制作完的面板上会表现为微小黑缺， 由于减小了对准记号的尺寸， 因此根据彩色滤光片的修理规范， 不会判为不良。
本发明适用于大尺寸面板制作需要拼接曝光的场景。
以上所述仅是本发明的优选实施方式， 应当指出， 对于本技术领域的普 通技术人员来说， 在不脱离本发明原理的前提下， 还可以做出若干改进和润 饰， 这些改进和润饰也应视本发明的保护范围。

Claims

1. 一种制造彩色滤光片的方法， 其特征在于， 包括：
提供一玻璃基板；
在所述玻璃基板上设置一层黑矩阵材料；
对所述黑矩阵材料进行曝光， 形成第一基板图案层， 所述第一基板图案 层包括： 黑矩阵、 对准记号以及像素开口区； 其中， 所述玻璃基板上未被黑 矩阵覆盖的地方形成所述像素开口区，所述对准记号位于所述像素开口区内。
2. 根据权利要求 1所述的制造彩色滤光片的方法，其特征在于，还包括： 根据所述对准记号， 进行第一曝光显影工艺， 在所述玻璃基板的第一基 板图案层上形成彩色滤色膜层。
3. 根据权利要求 2所述的制造彩色滤光片的方法， 其特征在于， 所述根 据所述对准记号， 迸行第一曝光显影工艺， 在所述玻璃基板的第一基板图案 层上形成彩色滤色膜层的步骤包括：
在所述第一基板图案层上涂覆第一层光刻胶；
根据所述对准记号， 将第一掩模板对准放置在涂覆有所述第一层光刻胶 的所述玻璃基板上， 进行第一曝光显影步骤， 在所述玻璃基板的第一基板图 案层上形成第一彩色滤色膜层；
在所述第一基板图案层上涂覆第二层光刻胶；
根据所述对准记号， 将第二掩模板对准放置在涂覆有所述第二层光刻胶 的所述玻璃基板上， 进行第二曝光显影步骤， 在所述玻璃基板的第一基板图 案层上形成第二彩色滤色膜层；
在所述第一基板图案层上涂覆第三层光刻胶；
根据所述对准记号， 将第≡掩模板对准放置在涂覆有所述第≡层光刻胶 的所述玻璃基板上， 进行第三曝光显影步骤， 在所述玻璃基板的第一基板图 案层上形成第三彩色滤色膜层。
4. 根据权利要求 3所述的制造彩色滤光片的方法， 其特征在于， 所述第一彩色滤色膜层、 第二彩色滤色膜层、 第三彩色滤色膜层分别为 红色滤色膜层、 绿色滤色膜层和蓝色滤色膜层； 色膜层分别为 色膜层分别为 所述第一彩色滤色膜层、 第二彩色滤色膜层、 第 色膜层分别为 蓝色滤色膜层、 绿色滤色膜层和红色滤色膜层；
Figure imgf000011_0001
Figure imgf000011_0002
色膜层分别为 绿色滤色膜层、 蓝色滤色膜层和红色滤色膜层。
5. 根据权利要求 3所述的制造彩色滤光片的方法，其特征在于，还包括: 在所述彩色滤色膜层上涂覆第四层光刻胶；
根据所述对准记号， 将第四掩模板对准放置在涂覆有所述第四层光刻胶 的所述玻璃基板上， 进行第二曝光显影工艺， 在所述玻璃基板的所述彩色滤 色膜层上形成隔垫物图案层。
6. —种彩色滤光片， 其特征在于， 包括玻璃基板， 所述玻璃基板上设置 有第一基板图案层， 所述第一基板图案层的像素开口区内设置有对准记号。
7. 根据权利要求 6所述的彩色滤光片， 其特征在于， 所述对准记号为面 积小于或等于 2500平方微米的图形。
8. 根据权利要求 7所述的彩色滤光片， 其特征在于， 所述图形为矩形、 圆形、 ≡角形或多边形中的任意一种。
9. 根据权利要求 7所述的彩色滤光片， 其特征在于， 所述对准记号为边 长小于或等于 50微米的正方形。
10. 根据权利要求 6 所述的彩色滤光片， 其特征在于， 所述第一基板图 案层还包括： 黑矩阵， 所述玻璃基板上未被所述黑矩阵覆盖的地方形成所述 像素开口区。
11. 根据权利要求 6所述的彩色滤光片， 其特征在于， 所述第一基板图 案层上设置有彩色滤色膜层。
12. 根据权利要求 11所述的彩色滤光片， 其特征在于， 所述彩色滤色膜 层上设置有隔垫物图案层。
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