WO2014192901A1

WO2014192901A1 - 防眩フィルム、防眩フィルム製造用金型及びそれらの製造方法

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Publication number: WO2014192901A1
Application number: PCT/JP2014/064356
Authority: WO
Inventors: 朋子秋山; 勉古谷
Original assignee: 住友化学株式会社
Priority date: 2013-05-28
Filing date: 2014-05-23
Publication date: 2014-12-04
Also published as: TW201510579A; JP2014232159A

Abstract

　優れた防眩性及び高コントラストを示すとともに、ギラツキ及び白ちゃけの双方を効果的に抑制することができる防眩フィルム及びこれを製造するための金型を提供する。　透光性支持層上に積層される防眩層を含み、防眩層は透光性支持層とは反対側の表面が第１凹凸表面で構成されており、空間周波数０．０１μｍ^-1における第１凹凸表面の標高のエネルギースペクトルＨ₁ ²と、空間周波数０．１μｍ^-1における標高のエネルギースペクトルＨ₂ ²との比Ｈ₁ ²／Ｈ₂ ²が２０００～６０００の範囲内であり、空間周波数０．０４μｍ^-1における標高のエネルギースペクトルＨ₃ ²と、空間周波数０．１μｍ^-1における標高のエネルギースペクトルＨ₂ ²との比Ｈ₃ ²／Ｈ₂ ²が３０～６０の範囲内である防眩フィルム及びこれを製造するための金型である。

Description

防眩フィルム、防眩フィルム製造用金型及びそれらの製造方法

　本発明は、防眩フィルム及び金型を用いた防眩フィルムの製造方法に関する。また本発明は、防眩フィルム製造用金型及びその製造方法に関する。

　液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイパネル、ブラウン管（陰極線管：ＣＲＴ）ディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイのような画像表示装置は、その表示面に外光が映り込むと視認性が著しく損なわれてしまう。外光の映り込みを防止するための方法として、外表面に微細な凹凸を有する防眩フィルムを画像表示装置の表面に配置することが従来行われている。
　近年、防眩フィルムに求められる要求特性は益々高度になっており、防眩性（外光の映り込み防止性能）が求められることは勿論、画像表示装置の表面に配置した際に良好なコントラストを発現できること、画像表示装置の表面に配置した際に散乱光によって表示面全体が白っぽくなり、表示が濁った色になる「白ちゃけ」の発生を抑制できること、さらには、画像表示装置の表面に配置した際に画像表示装置の画素と防眩フィルムの表面凹凸形状とが干渉することにより輝度分布が発生して表示画像が見えにくくなる「ギラツキ」の発生を抑制できることが要求されている。
　改善された光学特性を示す防眩フィルムとして、従来様々なものが提案されている。例えば特開２０１１−１１２９６４号公報（特許文献１）には、外景の映り込み、ギラツキ及びコントラストの低下を防止し得る防眩性の光学積層体として、防眩層の凹凸形状が、防眩層を構成するバインダー樹脂の相分離により形成された凹凸形状（Ａ）と、防眩層に含まれる内部散乱粒子により形成された凹凸形状（Ｂ）とからなり、十点平均粗さＲｚが３μｍ未満である光学積層体が開示されている。
　特開２０１２−１０３７０１号公報（特許文献２）には、ギラツキ防止性及び黒色再現性を向上させ得る防眩性の光学積層体として、防眩層の表面凹凸が所定の平均間隔Ｓｍ、平均傾斜角θａ及び平均粗さＲｚを満たす光学積層体が開示されている。
　特開２０１１−２５３１０６号公報（特許文献３）には、防眩性、明室下での黒味及びギラツキ防止性を兼ね備え得る防眩性の光学積層体として、光学機能層（防眩層）の凹凸形状について測定した傾斜角度分布に占める０．５度以下の傾斜角度分布の割合、０．６度以上１．６度以下の傾斜角度分布の割合及び３．０度以上の傾斜角度成分の割合がそれぞれ所定の範囲内である光学積層体が開示されている。
　特開２０１１−２０９７００号公報（特許文献４）には、白ちゃけ及びギラツキの発生による視認性の低下を防止し得る防眩フィルムとして、防眩層の凹凸表面が特定のエネルギースペクトル特性を示す防眩フィルムが開示されている。

特開２０１１−１１２９６４号公報特開２０１２−１０３７０１号公報特開２０１１−２５３１０６号公報特開２０１１−２０９７００号公報

　従来提案されてきた防眩フィルムは、これに求められる光学特性、とりわけ、ギラツキ防止性や白ちゃけ防止性の面でなお改善の余地があった。また、防眩フィルムの薄膜化を達成しにくい；防眩層の表面凹凸形状の制御が困難であるか、又は、不十分になりやすいといった問題を伴うこともあった。防眩層の表面凹凸形状の制御が不精密であると、満足する光学特性を得ることができない。
　本発明は、以上の課題に鑑みなされたものであり、その目的は、優れた防眩性及び高コントラストを示すとともに、ギラツキ及び白ちゃけの双方を効果的に抑制することができる防眩フィルムを提供することにある。
　また本発明の他の目的は、防眩層の表面凹凸形状を精密に制御して、上記優れた光学特性を備える防眩フィルムを再現性良く製造するのに好適な防眩フィルム製造用金型及び当該金型の製造方法を提供することにある。本発明のさらに他の目的は、当該金型を用いた防眩フィルムの製造方法を提供することにある。

　本発明は、次の防眩フィルム、防眩フィルム製造用の金型、金型の製造方法及び防眩フィルムの製造方法を含む。
　［１］　透光性支持層と、透光性支持層上に積層される防眩層とを含み、
　前記防眩層は、前記透光性支持層とは反対側の表面が第１凹凸表面で構成されており、
　空間周波数０．０１μｍ^−１における前記第１凹凸表面の標高のエネルギースペクトルＨ_１ ^２と、空間周波数０．１μｍ^−１における前記第１凹凸表面の標高のエネルギースペクトルＨ_２ ^２との比Ｈ_１ ^２／Ｈ_２ ^２が２０００~６０００の範囲内であり、
　空間周波数０．０４μｍ^−１における前記第１凹凸表面の標高のエネルギースペクトルＨ_３ ^２と、空間周波数０．１μｍ^−１における前記第１凹凸表面の標高のエネルギースペクトルＨ_２ ^２との比Ｈ_３ ^２／Ｈ_２ ^２が３０~６０の範囲内である、防眩フィルム。
　［２］　空間周波数０．０６μｍ^−１における前記第１凹凸表面の標高のエネルギースペクトルＨ_４ ^２と、空間周波数０．１μｍ^−１における前記第１凹凸表面の標高のエネルギースペクトルＨ_２ ^２との比Ｈ_４ ^２／Ｈ_２ ^２が１０以上である、［１］に記載の防眩フィルム。
　［３］　前記第１凹凸表面は、傾斜角度が５°以下である面を９５％以上含む、［１］又は［２］に記載の防眩フィルム。
　［４］　全ヘイズが１．５％未満である、［１］~［３］のいずれかに記載の防眩フィルム。
　［５］　［１］~［４］のいずれかに記載の防眩フィルムを製造するための金型であって、
　基材と、第１銅めっき層と、ニッケルめっき層とをこの順に含み、
　前記基材とは反対側の最表面は、第２凹凸表面で構成されており、
　空間周波数０．０１μｍ^−１における前記第２凹凸表面の標高のエネルギースペクトルＨ_１ ^２と、空間周波数０．１μｍ^−１における前記第２凹凸表面の標高のエネルギースペクトルＨ_２ ^２との比Ｈ_１ ^２／Ｈ_２ ^２が２０００~６０００の範囲内であり、
　空間周波数０．０４μｍ^−１における前記第２凹凸表面の標高のエネルギースペクトルＨ_３ ^２と、空間周波数０．１μｍ^−１における前記第２凹凸表面の標高のエネルギースペクトルＨ_２ ^２との比Ｈ_３ ^２／Ｈ_２ ^２が３０~６０の範囲内である、金型。
　［６］　空間周波数０．０６μｍ^−１における前記第２凹凸表面の標高のエネルギースペクトルＨ_４ ^２と、空間周波数０．１μｍ^−１における前記第２凹凸表面の標高のエネルギースペクトルＨ_２ ^２との比Ｈ_４ ^２／Ｈ_２ ^２が１０以上である、［５］に記載の金型。
　［７］　前記ニッケルめっき層上に積層される炭素を主成分とする保護層をさらに含む、［５］又は［６］に記載の金型。
　［８］　前記基材と、第２銅めっき層と、銀めっき層と、前記第１銅めっき層と、前記ニッケルめっき層とをこの順に含む、［５］~［７］のいずれかに記載の金型。
　［９］　［５］~［８］のいずれかに記載の金型を製造するための方法であって、
　前記基材上に前記第１銅めっき層を形成する工程と、
　前記第１銅めっき層の表面を研磨する工程と、
　前記第１銅めっき層の研磨された表面に感光性樹脂膜を形成する工程と、
　前記感光性樹脂膜上にパターンを露光する工程と、
　前記パターンが露光された感光性樹脂膜を現像する工程と、
　現像された感光性樹脂膜をマスクとして第１エッチング処理を行い、前記第１銅めっき層の研磨された表面に凹凸形状を形成する工程と、
　前記感光性樹脂膜を剥離する工程と、
　前記凹凸形状を第２エッチング処理によって鈍らせる工程と、
　第２エッチング処理によって鈍らされた凹凸形状からなる前記第１銅めっき層の凹凸表面上に前記ニッケルめっき層を形成する工程と、
を含み、
　前記パターンは、空間周波数０．０５~０．１μｍ^−１の範囲内に極大値を有するエネルギースペクトルを示す、金型の製造方法。
　［１０］　前記エネルギースペクトルは、空間周波数０．００７~０．０１５μｍ^−１の範囲内に極大値をさらに有する、［９］に記載の金型の製造方法。
　［１１］　［５］~［８］のいずれかに記載の金型を用意する工程と、
　透光性支持層上に積層される樹脂層の表面に、前記金型の前記第２凹凸表面の凹凸形状を転写する工程と、
を含む、防眩フィルムの製造方法。

　本発明によれば、優れた防眩性を示しつつ、トレードオフの関係にある高いコントラストと高いギラツキ抑制性とが両立されており、さらに白ちゃけを効果的に抑制できる防眩フィルムを提供することができる。本発明が提供する防眩フィルム製造用の金型によれば、防眩層の表面凹凸形状を精密に制御して、上記優れた光学特性を備える防眩フィルムを再現性良く製造することができる。

本発明の防眩フィルムの一例を模式的に示す断面図である。本発明の防眩フィルムの表面を模式的に示す斜視図である。標高を表す関数ｈ（ｘ，ｙ）が離散的に得られる状態を示す模式図である。本発明の防眩フィルムが備える防眩層の第１凹凸表面の標高を二次元の離散関数ｈ（ｘ，ｙ）で表した図である。図４に示した二次元関数ｈ（ｘ，ｙ）を離散フーリエ変換して得られた標高のエネルギースペクトルＨ^２（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）を白と黒のグラデーションで示したものである。図５に示したエネルギースペクトルＨ^２（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）のｆ_ｘ＝０における断面を示す図である。第１凹凸表面の傾斜角度の測定方法を説明するための模式図である。防眩層が有する微細凹凸表面の傾斜角度分布のヒストグラムの一例を示すグラフである。本発明に係る防眩フィルム製造用金型の製造方法の一例を模式的に示す断面図である。二次元エネルギースペクトルＧ^２（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）を空間周波数空間における原点からの距離ｆで平均化する方法を説明する模式図である。実施例１の金型作製の際に使用したパターンを示す図である。実施例１の金型作製の際に使用したパターンについて求めたエネルギースペクトルＧ^２（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）のｆ_ｘ＝０における断面を示す図である。実施例１及び比較例１~３で作製した防眩フィルムが有する第１凹凸表面の標高のエネルギースペクトルＨ^２（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）のｆ_ｘ＝０における断面を示す図である。

　＜防眩フィルム＞
　図１は、本発明の防眩フィルムの一例を模式的に示す断面図である。本発明の防眩フィルムは、図１に示される例のように、透光性支持層１０１と、透光性支持層１０１上に積層される防眩層１０２とを含む。防眩層１０２における透光性支持層１０１とは反対側の表面（最表面）は、微細な凹凸表面からなる第１凹凸表面１０３で構成されている。以下、本発明の防眩フィルムについてより詳細に説明する。
　（１）透光性支持層
　透光性支持層１０１は、透光性の熱可塑性樹脂フィルムであることができ、好ましくは、実質的に光学的に透明な熱可塑性樹脂フィルムである。熱可塑性樹脂フィルムを構成する熱可塑性樹脂の具体例は、例えば、鎖状ポリオレフィン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂（ノルボルネン系樹脂等）のようなポリオレフィン系樹脂；ポリエステル系樹脂；（メタ）アクリル系樹脂；セルローストリアセテート、セルロースジアセテートのようなセルロースエステル系樹脂；ポリカーボネート系樹脂；ポリビニルアルコール系樹脂；ポリ酢酸ビニル系樹脂；ポリアリレート系樹脂；ポリスチレン系樹脂；ポリエーテルスルホン系樹脂；ポリスルホン系樹脂；ポリアミド系樹脂；ポリイミド系樹脂；及びこれらの混合物、共重合物等を含む。
　なかでも、透明性、機械的強度、防眩層１０２との密着性等の観点から、熱可塑性樹脂フィルムを構成する熱可塑性樹脂は、セルロースエステル系樹脂、ポリエステル系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂等であることが好ましい。
　透光性支持層１０１は、１種又は２種以上の熱可塑性樹脂からなる１つの樹脂層からなる単層構造であってもよいし、１種又は２種以上の熱可塑性樹脂からなる樹脂層を複数積層した多層構造であってもよい。透光性支持層１０１の厚みは特に制限されないが、通常１０~２５０μｍであり、好ましくは２０~１２５μｍである。透光性支持層１０１のヘイズは、０．５％以下であることが好ましく、０．３％以下であることがより好ましく、実質的にゼロであることが最も好ましい。
　ヘイズとは、透光性支持層１０１に光を照射して透過した光線の全量を表す全光線透過率Ｔｔと、透光性支持層１０１により拡散されて透過した拡散光線透過率Ｔｄとの比から下記式〔Ａ〕：
　ヘイズ（％）＝（Ｔｄ／Ｔｔ）×１００　　　　〔Ａ〕
により求められる。
　全光線透過率Ｔｔは、入射光と同軸のまま透過した平行光線透過率Ｔｐと拡散光線透過率Ｔｄの和である。全光線透過率Ｔｔ及び拡散光線透過率Ｔｄは、ＪＩＳ　Ｋ　７３６１に準拠して測定される値である。
　（２）防眩層
　〔第１凹凸表面の空間周波数分布特性〕
　本発明の防眩フィルムが備える防眩層１０２は、空間周波数０．０１μｍ^−１における第１凹凸表面１０３の標高のエネルギースペクトルＨ_１ ^２と、空間周波数０．１μｍ^−１における第１凹凸表面１０３の標高のエネルギースペクトルＨ_２ ^２との比Ｈ_１ ^２／Ｈ_２ ^２が２０００~６０００の範囲内であり、かつ、空間周波数０．０４μｍ^−１における第１凹凸表面１０３の標高のエネルギースペクトルＨ_３ ^２と、空間周波数０．１μｍ^−１における第１凹凸表面１０３の標高のエネルギースペクトルＨ_２ ^２との比Ｈ_３ ^２／Ｈ_２ ^２が３０~６０の範囲内である。
　上記のような「標高のエネルギースペクトル」を用いて規定される特定の空間周波数分布を示す第１凹凸表面１０３を備えることにより、本発明の防眩フィルムは、優れた防眩性を示しつつ、高いコントラストと高いギラツキ抑制性とが両立されており、さらに白ちゃけを効果的に抑制することができる。
　以下ではまず、防眩層１０２が有する第１凹凸表面の標高のエネルギースペクトルについて説明する。図２は、本発明の防眩フィルムの表面を模式的に示す斜視図である。図２に示されるように、本発明の防眩フィルム１は、微細な凹凸２から構成される第１凹凸表面を有する防眩層を備える。本発明でいう「第１凹凸表面の標高」とは、防眩フィルム１の第１凹凸表面の任意の点Ｐにおける、第１凹凸表面の最低点の高さにおいて当該高さを有する仮想的な平面（標高は基準として０μｍ）からの防眩フィルムの主法線方向５（上記仮想的な平面における法線方向）における直線距離を意味する。図２に示すように、防眩フィルム面内の直交座標を（ｘ，ｙ）で表示した際には、第１凹凸表面の標高は座標（ｘ，ｙ）の二次元関数ｈ（ｘ，ｙ）で表すことができる。図２には、防眩フィルム全体の面を投影面３で表示している。
　第１凹凸表面の標高は、共焦点顕微鏡、干渉顕微鏡、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）等の装置により測定される表面形状の三次元情報から求めることができる。測定機に要求される水平分解能は、少なくとも５μｍ以下、好ましくは２μｍ以下であり、また垂直分解能は、少なくとも０．１μｍ以下、好ましくは０．０１μｍ以下である。この測定に好適な非接触三次元表面形状・粗さ測定機として、Ｎｅｗ　Ｖｉｅｗ　５０００シリーズ（Ｚｙｇｏ　Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ社製、日本ではザイゴ（株）から入手可能）、三次元顕微鏡ＰＬμ２３００（Ｓｅｎｓｏｆａｒ社製）等を挙げることができる。測定面積は、標高のエネルギースペクトルの分解能が０．０１μｍ^−１以下である必要があるため、少なくとも２００μｍ×２００μｍ以上とすることが好ましく、より好ましくは５００μｍ×５００μｍ以上である。
　次に、標高を表す二次元関数ｈ（ｘ，ｙ）から標高のエネルギースペクトルを求める方法について説明する。まず、二次元関数ｈ（ｘ，ｙ）より、下記式（１）で定義される二次元フーリエ変換によって二次元関数Ｈ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）を求める。

　ｆ_ｘ及びｆ_ｙは、それぞれｘ方向及びｙ方向の空間周波数であり、長さの逆数の次元を持つ。また、式（１）中のπは円周率、ｉは虚数単位である。得られた二次元関数Ｈ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）を二乗することによって、標高のエネルギースペクトルＨ^２（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）を求めることができる。このエネルギースペクトルＨ^２（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）は、防眩層が有する第１凹凸表面の空間周波数分布を表している。
　防眩層が有する第１凹凸表面の標高のエネルギースペクトルを求める方法をさらに具体的に説明する。上記の共焦点顕微鏡、干渉顕微鏡、原子間力顕微鏡等によって実際に測定される表面形状の三次元情報は、一般的に離散的な値、すなわち、多数の測定点に対応する標高として得られる。図３は、標高を表す関数ｈ（ｘ，ｙ）が離散的に得られる状態を示す模式図である。図３に示すように、防眩フィルム面内の直交座標を（ｘ，ｙ）で表示し、防眩フィルムの投影面３上にｘ軸方向にΔｘ毎に分割した線及びｙ軸方向にΔｙ毎に分割した線を破線で示すと、実際の測定では第１凹凸表面の標高は、防眩フィルムの投影面３上の各破線の交点毎の離散的な標高値として得られる。
　得られる標高値の数は、測定範囲とΔｘ及びΔｙとによって決まり、図３に示すようにｘ軸方向の測定範囲をＸ＝ＭΔｘとし、ｙ軸方向の測定範囲をＹ＝ＮΔｙとすると、得られる標高値の数は（Ｍ＋１）×（Ｎ＋１）個である。
　図３に示すように、防眩フィルムの投影面３上の着目点Ａの座標を（ｊΔｘ，ｋΔｙ）〔ｊは０以上Ｍ以下であり、ｋは０以上Ｎ以下である。〕とすると、着目点Ａに対応する防眩フィルムの第１凹凸表面上の点Ｐの標高は、ｈ（ｊΔｘ，ｋΔｙ）と表すことができる。
　測定間隔Δｘ及びΔｙは、測定機器の水平分解能に依存し、精度良く第１凹凸表面を評価するためには、上述したとおり、Δｘ及びΔｙはともに５μｍ以下であることが好ましく、２μｍ以下であることがより好ましい。また、測定範囲Ｘ及びＹは、上述したとおり、ともに２００μｍ以上であることが好ましく、ともに５００μｍ以上であることがより好ましい。
　このように、実際の測定では第１凹凸表面の標高を表す関数は（Ｍ＋１）×（Ｎ＋１）個の値を持つ離散関数ｈ（ｘ，ｙ）として得られる。したがって、測定によって得られた離散関数ｈ（ｘ，ｙ）と下記式（２）で定義される離散フーリエ変換によって離散関数Ｈ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）が求まり、離散関数Ｈ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）を二乗することによってエネルギースペクトルの離散関数Ｈ^２（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）が求められる。下記式（２）中のｌは−（Ｍ＋１）／２以上（Ｍ＋１）／２以下の整数であり、ｍは−（Ｎ＋１）／２以上（Ｎ＋１）／２以下の整数である。また、Δｆ_ｘ及びΔｆ_ｙは、それぞれｘ方向及びｙ方向の空間周波数間隔であり、それぞれ下記式（３）及び式（４）で定義される。Δｆ_ｘ及びΔｆ_ｙは、標高のエネルギースペクトルの水平分解能に相当する。

　図４は、本発明の防眩フィルムが備える防眩層の第１凹凸表面の標高を二次元の離散関数ｈ（ｘ，ｙ）で表した図の一例である。図４においては、標高を白と黒のグラデーションで示している。図４に示した離散関数ｈ（ｘ，ｙ）は、５１２×５１２個の値を持ち、水平分解能Δｘ及びΔｙは１．６６μｍである。
　また図５は、図４に示した二次元関数ｈ（ｘ，ｙ）を離散フーリエ変換して得られた標高のエネルギースペクトルＨ^２（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）を白と黒のグラデーションで示したものである。図５に示した標高のエネルギースペクトルＨ^２（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）もまた、５１２×５１２個の値を持つ離散関数であり、標高のエネルギースペクトルの水平分解能Δｆ_ｘ及びΔｆ_ｙは０．００１２μｍ^−１である。
　図４に示される例のように、本発明の防眩フィルムが備える防眩層の第１凹凸表面は、ランダムに形成された凹凸からなるため、標高のエネルギースペクトルは、図５に示されるように、原点を中心に対称となる。よって、ある空間周波数（あるｆ_ｘ又はｆ_ｙ）における標高のエネルギースペクトルＨ^２（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）は、二次元関数であるエネルギースペクトルＨ^２（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）の原点を通る断面より求めることができる。図６に、図５に示したエネルギースペクトルＨ^２（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）のｆ_ｘ＝０における断面を示した。図６において、空間周波数０．０１μｍ^−１における第１凹凸表面の標高のエネルギースペクトルＨ_１ ^２は３６．５、空間周波数０．１μｍ^−１における第１凹凸表面の標高のエネルギースペクトルＨ_２ ^２は０．００６８、空間周波数０．０４μｍ^−１における第１凹凸表面の標高のエネルギースペクトルＨ_３ ^２は０．３２であり、したがって、比Ｈ_１ ^２／Ｈ_２ ^２は５３４９、比Ｈ_３ ^２／Ｈ_２ ^２は４８と算出される。
　上述したように、本発明において、空間周波数０．０１μｍ^−１における第１凹凸表面の標高のエネルギースペクトルＨ_１ ^２と、空間周波数０．１μｍ^−１における標高のエネルギースペクトルＨ_２ ^２との比Ｈ_１ ^２／Ｈ_２ ^２は、２０００~６０００の範囲内とされる。標高のエネルギースペクトルの比Ｈ_１ ^２／Ｈ_２ ^２が２０００未満であることは、第１凹凸表面に１０μｍ未満の短周期成分が多く含まれることを示しており、この場合、白ちゃけが生じやすい。
すなわち、第１凹凸表面に含まれる１０μｍ未満の短周期成分は、防眩性に効果的に寄与しない一方、第１凹凸表面に入射した光を散乱させて白ちゃけの原因となる。また、比Ｈ_１ ^２／Ｈ_２ ^２が６０００を超えることは、第１凹凸表面に１００μｍ以上の長周期の凹凸形状が多く含まれ、１０μｍ未満の短周期の凹凸形状が少ないことを示している。そのような場合には、防眩フィルムを高精細の画像表示装置に配置した際にギラツキを発生させる傾向にある。
　白ちゃけ及びギラツキをより効果的に抑制するために、標高のエネルギースペクトルの比Ｈ_１ ^２／Ｈ_２ ^２は、３０００~６０００の範囲内であることが好ましく、４０００~６０００の範囲内であることがより好ましい。
　また本発明において、空間周波数０．０４μｍ^−１における第１凹凸表面の標高のエネルギースペクトルＨ_３ ^２と、空間周波数０．１μｍ^−１における標高のエネルギースペクトルＨ_２ ^２との比Ｈ_３ ^２／Ｈ_２ ^２は、３０~６０の範囲内とされ、好ましくは４０~５５の範囲内とされる。標高のエネルギースペクトルの比Ｈ_３ ^２／Ｈ_２ ^２が３０未満であることは、第１凹凸表面に１０μｍ未満の短周期成分が多く含まれることを示しており、白ちゃけが生じやすい。また、比Ｈ_３ ^２／Ｈ_２ ^２が６０を超えることは、第１凹凸表面に２５μｍ未満の短周期の凹凸形状が多く含まれることを示している。そのような場合には、外光の映り込みを効果的に防止することができず、十分な防眩性能が得られない。
　空間周波数０．０６μｍ^−１における第１凹凸表面の標高のエネルギースペクトルＨ_４ ^２と、空間周波数０．１μｍ^−１における標高のエネルギースペクトルＨ_２ ^２との比Ｈ_４ ^２／Ｈ_２ ^２は、１０以上であることが好ましい。標高のエネルギースペクトルの比Ｈ_４ ^２／Ｈ_２ ^２が１０未満であることは、第１凹凸表面に１００μｍ以上の長周期の凹凸形状が多く含まれ、１７μｍ未満の短周期の凹凸形状が少ないことを示している。そのような場合には、防眩フィルムを高精細の画像表示装置に配置した際にギラツキを発生させる場合があり得る。ギラツキをより効果的に抑制するために、比Ｈ_４ ^２／Ｈ_２ ^２は１２以上であることがより好ましい。
　〔第１凹凸表面の傾斜角度〕
　防眩層１０２の第１凹凸表面１０３は、傾斜角度が５°以下である面（微小面）を９５％以上含むことが好ましい。傾斜角度が５°以下である面の割合が９５％を下回ると、凹凸表面の傾斜角度が急峻になって、周囲からの光を集光し、表示面が全体的に白くなる白ちゃけが発生しやすくなる。このような集光効果を抑制し、白ちゃけを効果的に防止するためには、傾斜角度が５°以下である面の割合は高ければ高いほどよく、９７％以上であることが好ましく、９９％以上であることがより好ましい。
　「第１凹凸表面の傾斜角度」とは、図２を参照して、防眩フィルム１の第１凹凸表面の任意の点Ｐにおいて、防眩フィルムの主法線方向５に対する、そこでの凹凸を加味した局所的な法線６のなす角度（表面傾斜角度）ψを意味する。第１凹凸表面の傾斜角度もまた、標高と同様に、共焦点顕微鏡、干渉顕微鏡、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）等の装置により測定される表面形状の三次元情報から求めることができる。
　図７は、第１凹凸表面の傾斜角度の測定方法を説明するための模式図である。図７に基づいて、具体的な傾斜角度の決定方法を説明すると、まず、点線で示される仮想的な平面ＦＧＨＩ上の着目点Ａを決定し、そこを通るｘ軸上の着目点Ａの近傍に、点Ａに対してほぼ対称に点Ｂ及びＤを、また点Ａを通るｙ軸上の着目点Ａの近傍に、点Ａに対してほぼ対称に点Ｃ及びＥをとり、これらの点Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅに対応する防眩フィルムの第１凹凸表面上の点Ｑ，Ｒ，Ｓ，Ｔを決定する。なお図７では、防眩フィルム面内の直交座標を（ｘ，ｙ）で表示し、防眩フィルム厚み方向の座標をｚで表示している。平面ＦＧＨＩは、ｙ軸上の点Ｃを通るｘ軸に平行な直線、及び同じくｙ軸上の点Ｅを通るｘ軸に平行な直線と、ｘ軸上の点Ｂを通るｙ軸に平行な直線、及び同じくｘ軸上の点Ｄを通るｙ軸に平行な直線とのそれぞれの交点Ｆ，Ｇ，Ｈ，Ｉによって形成される面である。また図７では、平面ＦＧＨＩに対して、実際の防眩フィルム面の位置が上方にくるように描かれているが、着目点Ａのとる位置によって、実際の防眩フィルム面の位置が平面ＦＧＨＩの上方にくることもあるし、下方にくることもある。
　傾斜角度は、着目点Ａに対応する実際の防眩フィルムの第１凹凸表面上の点Ｐと、着目点Ａの近傍にとられた４点Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅに対応する実際の防眩フィルムの第１凹凸表面上の点Ｑ，Ｒ，Ｓ，Ｔの合計５点により張られるポリゴン４平面、すなわち、四つの三角形ＰＱＲ，ＰＲＳ，ＰＳＴ，ＰＴＱの各法線ベクトル６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄを平均して得られる平均法線ベクトル（平均法線ベクトルは、図２に示される凹凸を加味した局所的な法線６と同義である）の極角を、測定された表面形状の三次元情報から求めることにより得ることができる。各測定点について傾斜角度を求めた後、ヒストグラムが計算される。
　図８は、防眩層が有する第１凹凸表面の傾斜角度分布のヒストグラムの一例を示すグラフである。図８に示すグラフにおいて、横軸は傾斜角度であって、０．５°刻みで分割してある。例えば、一番左の縦棒は、傾斜角度が０~０．５°の範囲にある集合の分布を示し、以下、右へ行くにつれて角度が０．５°ずつ大きくなっている。図８では、横軸の２目盛毎に値の下限値を表示しており、例えば、横軸で「１」とある部分は、傾斜角度が１~１．５°の範囲にある集合の分布を示す。また、縦軸は傾斜角度の分布を表し、合計すれば１（１００％）になる値である。この例では、傾斜角度が５°以下である面の割合は略１００％である。
　〔第１凹凸表面の最大断面高さＲｔ〕
　防眩層１０２の第１凹凸表面１０３は、ＪＩＳ　Ｂ　０６０１の規定に準拠した最大断面高さＲｔが０．３~１μｍであることが好ましい。最大断面高さＲｔが０．３μｍを下回る場合には、防眩性が不十分となる可能性がある。一方、最大断面高さＲｔが１μｍを上回る場合には、白ちゃけが発生する可能性があり、凹凸形状の均一性が低下してギラツキを生じる可能性がある。
　〔防眩層の構成〕
　防眩層１０２は透光性を有する樹脂層であり、例えば、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂等の活性エネルギー線硬化性樹脂；熱硬化性樹脂；熱可塑性樹脂；金属アルコキシド等から形成することができる。これらの中でも、高い硬度を有し、高い耐擦傷性を付与できることから、活性エネルギー線硬化性樹脂が好適である。活性エネルギー線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂又は金属アルコキシドを用いる場合は、活性エネルギー線の照射又は加熱により当該樹脂を硬化させることにより防眩層１０２が形成される。
　活性エネルギー線硬化性樹脂としては、多官能（メタ）アクリレート化合物を含有するものであることができる。多官能（メタ）アクリレート化合物とは、分子中に少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物である。活性エネルギー線硬化性樹脂は、１種又は２種以上の多官能（メタ）アクリレート化合物を含むことができる。
　多官能（メタ）アクリレート化合物の具体例は、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル化合物、ウレタン（メタ）アクリレート化合物、ポリエステル（メタ）アクリレート化合物、エポキシ（メタ）アクリレート化合物等の（メタ）アクリロイル基を２個以上含む多官能重合性化合物を含む。
　多価アルコールとしては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、テトラプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、プロパンジオール、ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、２，２’−チオジエタノール、１，４−シクロヘキサンジメタノールのような２価のアルコール；トリメチロールプロパン、グリセロール、ペンタエリスリトール、ジグリセロール、ジペンタエリスリトール、ジトリメチロールプロパンのような３価以上のアルコールが挙げられる。
　多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル化物の具体例は、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタグリセロールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートを含む。
　ウレタン（メタ）アクリレート化合物としては、１分子中に複数個のイソシアネート基を有するイソシアネートと、水酸基を有する（メタ）アクリル酸誘導体のウレタン化反応物を挙げることができる。１分子中に複数個のイソシアネート基を有する有機イソシアネートとしては、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネートのような１分子中に２個のイソシアネート基を有する有機イソシアネートの他、それら有機イソシアネートをイソシアヌレート変性、アダクト変性又はビウレット変性した１分子中に３個のイソシアネート基を有する有機イソシアネート等が挙げられる。
　水酸基を有する（メタ）アクリル酸誘導体の具体例は、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートを含む。
　ポリエステル（メタ）アクリレート化合物の好適な例は、水酸基含有ポリエステルと（メタ）アクリル酸とを反応させて得られるポリエステル（メタ）アクリレートである。好ましく用いられる水酸基含有ポリエステルは、多価アルコールとカルボン酸や複数のカルボキシル基を有する化合物及び／又はその無水物とのエステル化反応によって得られる水酸基含有ポリエステルである。
　多価アルコールとしては前述した化合物と同様のものが例示できる。また、多価アルコールとして、ビスフェノールＡのようなフェノール性水酸基を有する化合物を用いることもできる。カルボン酸としては、ギ酸、酢酸、ブチルカルボン酸、安息香酸等が挙げられる。複数のカルボキシル基を有する化合物及び／又はその無水物としては、マレイン酸、フタル酸、フマル酸、イタコン酸、アジピン酸、テレフタル酸、無水マレイン酸、無水フタル酸、トリメリット酸、シクロヘキサンジカルボン酸無水物等が挙げられる。
　以上のような多官能（メタ）アクリレート化合物の中でも、硬化物の硬度や入手容易性の点から、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等のエステル化合物；ヘキサメチレンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートの付加体；イソホロンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートの付加体；トリレンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートの付加体；アダクト変性イソホロンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートの付加体；及び、ビウレット変性イソホロンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとの付加体を用いることが好ましい。さらに、活性エネルギー線硬化性樹脂は、その硬化物が良好な可撓性を示すことから、ウレタン（メタ）アクリレート化合物を含むことが好ましい。
　活性エネルギー線硬化性樹脂は、多官能（メタ）アクリレート化合物の他に、単官能（メタ）アクリレート化合物を含有することができる。単官能（メタ）アクリレート化合物の具体例は、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルフォリン、Ｎ−ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリール（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、アセチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、フェノキシ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド（メタ）アクリレート、ノニルフェノール（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート等を含む。単官能（メタ）アクリレート化合物は、１種のみを単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
　活性エネルギー線硬化性樹脂は、多官能（メタ）アクリレート化合物の他に、重合性オリゴマーを含有することができる。重合性オリゴマーを含有させることにより、防眩層１０２の硬度を調整することができる。重合性オリゴマーは、１種のみを単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
　重合性オリゴマーは、例えば、前述の多官能（メタ）アクリレート化合物、すなわち、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル化合物、ウレタン（メタ）アクリレート化合物、ポリエステル（メタ）アクリレート化合物又はエポキシ（メタ）アクリレート等の２量体、３量体等のようなオリゴマーであることができる。
　また、重合性オリゴマーの他の例として、分子中に少なくとも２個のイソシアネート基を有するポリイソシアネートと、少なくとも１個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多価アルコールとの反応により得られるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを挙げることができる。ポリイソシアネートの具体例は、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネートの重合物等を含む。少なくとも１個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多価アルコールの具体例は、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル化反応によって得られる水酸基含有（メタ）アクリル酸エステルであって、多価アルコールが、例えば、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール等であるものを含む。この少なくとも１個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多価アルコールは、多価アルコールのアルコール性水酸基の一部が（メタ）アクリル酸とエステル化反応しているとともに、アルコール性水酸基が分子中に残存するものである。
　さらに、重合性オリゴマーの他の例として、複数のカルボキシル基を有する化合物及び／又はその無水物と、少なくとも１個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多価アルコールとの反応により得られるポリエステル（メタ）アクリレートオリゴマーを挙げることができる。複数のカルボキシル基を有する化合物及び／又はその無水物としては、前述のポリエステル（メタ）アクリレート化合物について記載したものと同様のものが例示できる。また、少なくとも１個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多価アルコールとしては、前述のウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーについて記載したものと同様のものが例示できる。
　ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーの他の例として、水酸基含有ポリエステル、水酸基含有ポリエーテル又は水酸基含有（メタ）アクリル酸エステルの水酸基にイソシアネート類を反応させて得られる化合物を挙げることができる。好ましく用いられる水酸基含有ポリエステルは、多価アルコールとカルボン酸や複数のカルボキシル基を有する化合物及び／又はその無水物のエステル化反応によって得られる水酸基含有ポリエステルである。多価アルコールや、複数のカルボキシル基を有する化合物及び／又はその無水物としては、それぞれ、前述のポリエステル（メタ）アクリレート化合物について記載したものと同様のものが例示できる。
　好ましく用いられる水酸基含有ポリエーテルは、多価アルコールに１種又は２種以上のアルキレンオキサイド及び／又はε−カプロラクトンを付加することによって得られる水酸基含有ポリエーテルである。多価アルコールは、前述の水酸基含有ポリエステルに使用できるものと同じものであってよい。
　好ましく用いられる水酸基含有（メタ）アクリル酸エステルとしては、前述の重合性オリゴマーとしてのウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーについて記載したものと同様のものが例示できる。イソシアネート類は、分子中に１個以上のイソシアネート基を有する化合物であることが好ましく、トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネートのような２価のイソシアネート化合物であることがより好ましい。
　熱硬化性樹脂の具体例は、アクリルポリオールとイソシアネートプレポリマーとからなる熱硬化性ウレタン樹脂；フェノール樹脂；尿素メラミン樹脂；エポキシ樹脂；不飽和ポリエステル樹脂；シリコーン樹脂を含む。
　熱可塑性樹脂の具体例は、アセチルセルロース、ニトロセルロース、アセチルブチルセルロース、エチルセルロース、メチルセルロースのようなセルロース誘導体；酢酸ビニル及びその共重合体、塩化ビニル及びその共重合体、塩化ビニリデン及びその共重合体のようなビニル系樹脂；ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラールのようなアセタール系樹脂；アクリル樹脂及びその共重合体、メタクリル樹脂及びその共重合体のような（メタ）アクリル系樹脂；ポリスチレン系樹脂；ポリアミド系樹脂；ポリエステル系樹脂；ポリカーボネート系樹脂を含む。
　金属アルコキシドとしては、珪素アルコキシド系の材料を原料とする酸化珪素系マトリックス等を使用することができる。具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等であり、加水分解や脱水縮合により無機系又は有機無機複合系マトリックスとすることができる。
　防眩層１０２は、内部散乱を生じさせるような透光性微粒子を含有することもできるが、このような透光性微粒子を含有しないことが好ましい。透光性微粒子を含有させる場合には、ギラツキを改善できる傾向にはあるものの、白ちゃけを生じやすい。また、コントラストも低下する傾向にある。
　透光性微粒子としては、（メタ）アクリル系樹脂、メラミン樹脂、ポリエチレン、ポリスチレン、有機シリコーン樹脂、アクリル−スチレン共重合体等からなる有機微粒子や、炭酸カルシウム、シリカ、酸化アルミニウム、炭酸バリウム、硫酸バリウム、酸化チタン、ガラス等からなる無機微粒子を挙げることができる。透光性微粒子の重量平均粒径は、好ましくは０．５~２０μｍ程度（より好ましくは５~１０μｍ）であり、また、その形状は、好ましくは球状又は略球状である。
　防眩層１０２の厚みは、通常１~２０μｍ程度であり、好ましくは３~１５μｍである。「防眩層の厚み」とは、防眩層１０２における透光性支持層１０１側の面から反対側の面（第１凹凸表面１０３）までの最大厚みを指す。
　〔防眩層のヘイズ〕
　防眩層１０２の全ヘイズ及び内部ヘイズはそれぞれ、５％以下であることが好ましく、３％以下であることがより好ましく、１．５％未満であることがさらに好ましい。また、防眩層１０２の第１凹凸表面１０３に起因する表面ヘイズは、１．２％以下であることが好ましく、１％以下であることがより好ましい。透光性支持層１０１上に防眩層１０２を備える防眩フィルムの全ヘイズ、内部ヘイズ及び表面ヘイズの好ましい範囲も同様である。
　「全ヘイズ」とは、上記式〔Ａ〕により求められる防眩層１０２のヘイズである。「内部ヘイズ」とは、全ヘイズのうち、第１凹凸表面１０３に起因するヘイズ（表面ヘイズ）以外のヘイズである。
　防眩層１０２の全ヘイズ及び内部ヘイズがあまりに高いと、コントラストが低下する傾向にある。また、第１凹凸表面１０３に起因する表面ヘイズがあまりに高いと、表面乱反射により白ちゃけが発生しやすい。
　防眩フィルム又は防眩層１０２の全ヘイズ、内部ヘイズ及び表面ヘイズは、次のようにして測定することができる。まず、被測定物の反りを防止するため、光学的に透明な粘着剤を用いて被測定物を、第１凹凸表面１０３が表面となるようにガラス基板に貼合して測定用サンプルを作製し、当該測定用サンプルについて全ヘイズ値を測定する。全ヘイズ値は、ＪＩＳ　Ｋ　７１３６に準拠したヘイズ透過率計（例えば、株式会社村上色彩技術研究所製のヘイズメータ「ＨＭ−１５０」）を用いて、全光線透過率Ｔｔ及び拡散光線透過率Ｔｄを測定し、上記式〔Ａ〕によって算出される。
　次に、第１凹凸表面１０３に、ヘイズが実質的にゼロであるトリアセチルセルロースフィルムを、グリセリンを用いて貼合し、全ヘイズの測定と同様にしてヘイズを測定する。
当該ヘイズは、第１凹凸表面１０３に起因するヘイズが貼合されたトリアセチルセルロースフィルムによって打ち消されていることから、内部ヘイズとみなすことができる。従って、表面ヘイズは、下記式〔Ｂ〕：
　表面ヘイズ（％）＝全ヘイズ（％）−内部ヘイズ（％）　　　　〔Ｂ〕
より求めることができる。
　＜防眩フィルムの製造方法＞
　本発明の防眩フィルムは、透光性支持層１０１上に積層された、紫外線硬化性樹脂のような硬化性樹脂や熱可塑性樹脂等で構成される樹脂層の表面に、金型の凹凸表面（以下、「第２凹凸表面」という。）の凹凸形状を転写する工程を含む方法によって好適に製造することができる。第２凹凸表面の凹凸形状は、防眩層１０２が有する第１凹凸表面１０３の凹凸形状の転写構造である。この製造方法において好ましく用いられる金型及びその製造方法については後述する。
　防眩層１０２となる上記樹脂層は、これを形成する樹脂成分（活性エネルギー線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂又は金属アルコキシド等）を含み、さらに必要に応じて有機溶剤等の溶剤、レベリング剤、分散剤、帯電防止剤、防汚剤のようなその他の成分を含む塗工液を透光性支持層１０１上に塗工し、必要に応じて乾燥させることにより形成することができる。樹脂成分として紫外線硬化性樹脂を用いる場合、塗工液は、光重合開始剤（ラジカル重合開始剤）をさらに含む。
　光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン系光重合開始剤、ベンゾイン系光重合開始剤、ベンゾフェノン系光重合開始剤、チオキサントン系光重合開始剤、トリアジン系光重合開始剤、オキサジアゾール系光重合開始剤等を用いることができる。また、光重合開始剤として、例えば、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、１０−ブチル−２−クロロアクリドン、２−エチルアントラキノン、ベンジル、９，１０−フェナンスレンキノン、カンファーキノン、フェニルグリオキシル酸メチル、チタノセン化合物等を用いることもできる。光重合開始剤の使用量は、塗工液に含有される樹脂成分１００重量部に対して、通常０．５~２０重量部であり、好ましくは１~５重量部である。
　有機溶剤の具体例は、ヘキサン、シクロヘキサン、オクタンのような脂肪族炭化水素；トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素；エタノール、１−プロパノール、イソプロパノール、１−ブタノール、シクロヘキサノールのようなアルコール類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンのようなケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチルのようなエステル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルのようなグリコールエーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートのようなエステル化グリコールエーテル類；２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、２−ブトキシエタノールのようなセルソルブ類；２−（２−メトキシエトキシ）エタノール、２−（２−エトキシエトキシ）エタノール、２−（２−ブトキシエトキシ）エタノールのようなカルビトール類を含む。塗工液は、１種又は２種以上の有機溶剤を含むことができる。
　透光性支持層１０１上への塗工液の塗工は、例えば、グラビアコート法、マイクログラビアコート法、ロッドコート法、ナイフコート法、エアーナイフコート法、キスコート法、ダイコート法等によって行うことができる。
　塗工液の塗工性の改良又は防眩層１０２との接着性の改良を目的として、透光性支持層１０１の表面（樹脂層側表面）に各種表面処理を施してもよい。表面処理としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、酸表面処理、アルカリ表面処理、紫外線照射処理等が挙げられる。また、例えばプライマー層等の他の層を透光性支持層１０１上に形成し、この他の層の上に樹脂層を形成するようにしてもよい。
　次いで、得られた樹脂層の表面に金型の第２凹凸表面を押し付けることによって第２凹凸表面の凹凸形状を樹脂層の表面に転写し、その後、金型から剥離することによって第１凹凸表面１０３を有する防眩層１０２と透光性支持層１０１とからなる防眩フィルムを得る。樹脂層が硬化性樹脂で構成される場合には、樹脂層の表面に金型の第２凹凸表面を密着させた状態で、透光性支持層１０１側から活性エネルギー線を照射するか、又は、加熱することによって樹脂層を硬化させる。
　活性エネルギー線としては、塗工液に含まれる硬化性樹脂の種類に応じて紫外線、電子線、近紫外線、可視光、近赤外線、赤外線、Ｘ線等から適宜選択することができるが、これらの中で紫外線、電子線が好ましく、特に取り扱いが簡便で高エネルギーが得られることから紫外線が好ましい。
　紫外線の光源としては、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。
また、ＡｒＦエキシマレーザ、ＫｒＦエキシマレーザ、エキシマランプ、シンクロトロン放射光等を用いることもできる。
　電子線としては、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される５０~１０００ｋｅＶ、好ましくは１００~３００ｋｅＶのエネルギーを有する電子線を挙げることができる。
　＜防眩フィルム製造用の金型及びその製造方法＞
　本発明の防眩フィルム製造用の金型は、その最表面（基材とは反対側の最表面）が、防眩層１０２が有する第１凹凸表面１０３の凹凸形状の転写構造からなる第２凹凸表面で構成される、前述の本発明に係る防眩フィルムを製造するのに好適な金型である。本発明の金型は、基材と、第１銅めっき層と、ニッケルめっき層とをこの順に含む積層構造を有している。本発明の金型は、任意でニッケルめっき層上に積層される炭素を主成分とする保護層をさらに含むことができる。また、基材と第１銅めっき層との間に配置される第２銅めっき層及び銀めっき層を任意で含むこともできる。
　また、金型の第２凹凸表面は、次の空間周波数分布特性：
　空間周波数０．０１μｍ^−１における第２凹凸表面の標高のエネルギースペクトルＨ_１ ^２と、空間周波数０．１μｍ^−１における標高のエネルギースペクトルＨ_２ ^２との比Ｈ_１ ^２／Ｈ_２ ^２が２０００~６０００の範囲内（好ましくは３０００~６０００の範囲内）であり、かつ
　空間周波数０．０４μｍ^−１における第２凹凸表面の標高のエネルギースペクトルＨ_３ ^２と、空間周波数０．１μｍ^−１における標高のエネルギースペクトルＨ_２ ^２との比Ｈ_３ ^２／Ｈ_２ ^２が３０~６０の範囲内（好ましくは４０~５５の範囲内）である、
を満足する。第２凹凸表面はまた、好ましくは、次の空間周波数分布特性：
　空間周波数０．０６μｍ^−１における前記第２凹凸表面の標高のエネルギースペクトルＨ_４ ^２と、空間周波数０．１μｍ^−１における前記第２凹凸表面の標高のエネルギースペクトルＨ_２ ^２との比Ｈ_４ ^２／Ｈ_２ ^２が１０以上（より好ましくは１２以上）である、
を満足する。
　第２凹凸表面が示す上記の空間周波数分布特性は、第１凹凸表面１０３の空間周波数分布特性と同じである。従って、本発明の金型を用いることにより、これが有する空間周波数分布特性と同等の空間周波数分布特性を示す第１凹凸表面１０３を備えた防眩フィルムを制御性良く、かつ再現性良く製造することができる。
　また、最表面（炭素を主成分とする保護層を設ける場合には、その直下）にニッケルめっき層を配した本発明の金型は、ニッケルめっき層に微細なクラックが発生しにくく耐久性に優れている。また本発明の金型によれば、クラック構造の転写によって防眩層１０２の第１凹凸表面１０３に形成される意図しない微細な凹凸に起因するギラツキの発生を防止することができる。
　本発明の金型は、次の工程：
　基材上に第１銅めっき層を形成する第３めっき工程、
　第１銅めっき層の表面を研磨する研磨工程、
　第１銅めっき層の研磨された表面に感光性樹脂膜を形成する感光性樹脂膜形成工程、
　感光性樹脂膜上にパターンを露光する露光工程、
　パターンが露光された感光性樹脂膜を現像する現像工程、
　現像された感光性樹脂膜をマスクとして第１エッチング処理を行い、第１銅めっき層の研磨された表面に凹凸形状を形成する第１エッチング工程、
　感光性樹脂膜を剥離する感光性樹脂膜剥離工程、
　第１エッチング工程によって形成された凹凸形状を第２エッチング処理によって鈍らせる第２エッチング工程、
　第２エッチング処理によって鈍らされた凹凸形状からなる第１銅めっき層の凹凸表面上にニッケルめっき層を形成する第４めっき工程、
を含む方法によって好適に製造することができる。また、第３めっき工程の前に、基材表面上に第２銅めっき層を形成する第１めっき工程、及び、第２銅めっき層上に銀めっき層を形成する第２めっき工程を設けてもよく、第４めっき工程後に、炭素を主成分とする保護層を蒸着により形成する蒸着工程を設けてもよい。以下、各工程での金型の断面を模式的に示す図９を参照しながら、金型の製造方法について詳細に説明する。
　（１）第１めっき工程
　本工程は、金型に用いる基材７の表面に、下地となる第２銅めっき層７１を形成する、任意で設けられる工程である〔図９（ａ）〕。基材７の表面に第２銅めっき層７１を形成することにより、基材７表面に存在していた欠陥を効果的に解消することができる。すなわち、被覆性が高く、平滑化作用が強い銅めっきを施すことにより、基材７の微小な凹凸や鬆等を埋めて、平坦で光沢のある表面を形成することができる。また、銅めっき層は良好な加工性を有するため、後述する研磨加工等が容易となる。
　第１めっき工程において用いられる銅は、銅の純金属であってもよく、銅を主体とする合金であってもよい。銅めっきは、電解めっきで行っても無電解めっきで行ってもよいが、通常は電解めっきで行う。
　第２銅めっき層７１があまりに薄いと、基材７の表面の影響を排除しきれないことから、その厚みは５０μｍ以上であるのが好ましい。また第２銅めっき層７１の厚みは、通常５００μｍ程度以下である。
　基材７は、コスト等の観点から、アルミニウム又は鉄等で構成することができ、取扱性の観点から、軽量なアルミニウムで構成することが好ましい。ここでいうアルミニウムや鉄も、それぞれ純金属であることができるほか、アルミニウム又は鉄を主体とする合金であってもよい。
　基材７の形状は、当該分野において従来採用されている適宜の形状であることができ、例えば平板状であってもよいし、円柱状又は円筒状のロールであってもよい。ロール状の基材を用いて金型を作製すれば、防眩フィルムを連続的なロール状で製造することができるという利点がある。
　（２）第２めっき工程
　本工程は、第１めっき工程にて基材７の表面に形成された第２銅めっき層７１上に、銀めっき層７２を形成する、任意で設けられる工程である〔図９（ｂ）〕。この銀めっき層７２は、続く第３めっき工程にて形成される第１銅めっき層８との密着性が低いため、基材７を再利用する場合に好都合な層である。すなわち、一度作製した金型の表面凹凸形状を除去する際に、第１銅めっき層８から上の層を容易に剥離することが可能となる。第１銅めっき層８から上の層が剥離され、再利用される基材７は、第２銅めっき層７１及び銀めっき層７２をすでに有しているため、第１めっき工程及び第２めっき工程は不要である。また、第１めっき工程後に、基材７上の第２銅めっき層７１の表面に所望の機械精度を有するように機械加工を行っておけば、基材７を再利用する際にはその機械加工も不要となる。
　第２めっき工程で形成される銀めっき層７２は、置換銀めっきによって形成されることが好ましい。置換銀めっきは、置換銀めっき液を塗布することによって行われる。塗布方法は、回転塗布、スプレー塗布、浸漬塗布等の従来公知の方法であることができる。
　置換銀めっき液は、可溶性銀塩と錯化剤とを含む溶液である。可溶性銀塩としては、溶液中で銀イオンを生成する可溶性の塩類であれば任意のものが使用でき、その具体例は、硫酸銀、亜硫酸銀、炭酸銀、酢酸銀、乳酸銀、スルホコハク酸銀、硝酸銀、有機スルホン酸銀、ホウフッ化銀、クエン酸銀、酒石酸銀、グルコン酸銀、スルファミン酸銀、シュウ酸銀、酸化銀、メタンスルホン酸銀、エタンスルホン酸銀、酢酸銀、乳酸銀、クエン酸銀を含む。また錯化剤としては、チオ尿素類、スルフィド類、メルカプタン類のような含イオウ化合物が挙げられる。
　銀めっき層７２は、第１めっき工程において形成された第２銅めっき層７１の形状に影響を及ぼさないことが望まれるため、その厚みは薄い方が好ましい。具体的には１μｍ以下であることが好ましく、０．５μｍ以下であることがより好ましい。
　第２めっき工程を実施する前に、第２銅めっき層７１の表面は研磨加工によって所望の精度に機械加工されていることが好ましい。これは第１めっき工程において第２銅めっき層７１を形成した状態のままでは、表面が完全に平滑になるとは限らないためである。また、前述したように第１めっき工程後に、第２銅めっき層７１の表面に対して所望の機械精度を有するような機械加工を行っておけば、基材７の再利用が容易となる。第２銅めっき層７１の表面を研磨する方法としては、回転砥石による機械研磨加工や切削工具を用いた鏡面切削加工が好ましく用いられる。
　（３）第３めっき工程
　本工程は、基材上（第１及び第２めっき工程を実施する場合には銀めっき層７２）上に第１銅めっき層８を形成する工程である〔図９（ｃ）〕。第３めっき工程において用いられる銅は、上記第１めっき工程と同様に、銅の純金属であってもよく、銅を主体とする合金であってもよい。銅めっきは、電解めっきで行っても無電解めっきで行ってもよいが、通常は電解めっきで行う。
　第１銅めっき層８があまりに薄いと、基材７の表面の影響を排除しきれないことから、その厚みは５０μｍ以上であるのが好ましい。また第１銅めっき層８の厚みは、通常５００μｍ程度以下である。
　（４）研磨工程
　本工程は、第１銅めっき層８における銀めっき層７２とは反対側の表面８０を研磨する工程である〔図９（ｃ）〕。この研磨工程を経て、第１銅めっき層８の表面８０は、鏡面に近い状態に研磨されることが好ましい。これは、基材７（金属板や金属ロール等）は、その表面形状を所望の精度にするために、切削や研削等の機械加工が施されていることが多く、それにより基材表面に加工目が残っており、銅めっきが施された状態でも、それらの加工目が残ることがあり、また、めっきした状態で表面が完全に平滑になるとは限らないためである。
　すなわち、このような加工目等が残った表面に後述する工程を施したとしても、各工程を施した後に形成される凹凸よりも加工目等の凹凸の方が深いことがあり、加工目の影響が残る可能性があり、そのような金型を用いて防眩フィルムを製造した場合には、光学特性に予期できない影響を及ぼすことがある。
　第１銅めっき層８の表面８０を研磨する方法については特に制限されるものではなく、機械研磨法、電解研磨法、化学研磨法のいずれも使用できる。機械研磨法としては、超仕上げ法、ラッピング、流体研磨法、バフ研磨法が例示される。また、切削工具を用いて鏡面切削することによって表面８０を鏡面としてもよい。その際の切削工具の材質や形状等は特に制限されず、超硬バイト、ＣＢＮバイト、セラミックバイト、ダイヤモンドバイト等を使用することができるが、加工精度の観点からダイヤモンドバイトを用いることが好ましい。
　研磨工程後の表面８０の表面粗度は、ＪＩＳ　Ｂ　０６０１の規定に準拠した中心線平均粗さＲａが０．１μｍ以下であることが好ましく、０．０５μｍ以下であることがより好ましい。研磨後の中心線平均粗さＲａが０．１μｍより大きいと、最終的に得られる金型の第２凹凸表面の凹凸形状に研磨後の表面粗度の影響が残る可能性があるので好ましくない。中心線平均粗さＲａの下限については特に制限されず、加工時間や加工コスト等を考慮して適宜決定される。
　（５）感光性樹脂膜形成工程
　本工程は、上述した研磨工程によって研磨を施した第１銅めっき層８の表面８０に、感光性樹脂を含む塗工液を塗工し、加熱・乾燥することにより、感光性樹脂膜９を形成する工程である〔図９（ｄ）〕。
　感光性樹脂としては従来公知の感光性樹脂を用いることができる。感光部分が硬化する性質をもったネガ型の感光性樹脂としては、例えば、分子中に（メタ）アクリル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの単量体やプレポリマー、ビスアジドとジエンゴムとの混合物、ポリビニルシンナマート系化合物等を用いることができる。また、現像により感光部分が溶出し、未感光部分だけが残る性質をもったポジ型の感光性樹脂としては、例えば、フェノール樹脂系やノボラック樹脂系等を用いることができる。感光性樹脂には、必要に応じて、増感剤、現像促進剤、密着性改質剤、塗布性改良剤等の各種添加剤を配合してもよい。
　良好な塗膜を形成するために、上記塗工液は溶媒を含むことが好ましい。溶媒としては、セロソルブ系溶媒、プロピレングリコール系溶媒、エステル系溶媒、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、高極性溶媒等を使用することができる。
　感光性樹脂膜９は、その膜厚の変動係数が１０％未満になるように形成されることが好ましく、５％以下となるように形成されることがより好ましい。このように膜厚の変動係数を所定値未満とし、より均一な膜厚とすることにより、得られる金型の第２凹凸表面の凹凸形状のムラを軽減することが可能となる。加えて、金型を使用して作製される防眩フィルムの第１凹凸表面の凹凸形状のムラも抑制することが可能となる。
　「感光性樹脂膜の膜厚の変動係数」とは、感光性樹脂膜９の膜厚の標準偏差を感光性樹脂膜９の膜厚の平均値で割った値を意味する。すなわち、この変動係数が大きいほど、膜厚にムラが生じていることを意味する。感光性樹脂膜９の膜厚が異なると、後の露光工程における感度や、後の現像工程における現像時間も変化する。従って、膜厚の変動係数が１０％以上になると、現像工程により感光性樹脂膜９に現像されるパターンにも大きなムラを生じることになり、結果として、得られる金型の第２凹凸表面の凹凸形状や、防眩フィルムの第１凹凸表面の凹凸形状にも大きなムラが生じることになる。
　膜厚の変動係数は、感光性樹脂膜９の膜厚を３箇所以上測定し、その平均値と標準偏差を計算することによって求めることができる。精度良く変動係数を求めるためには感光性樹脂膜９の膜厚を１０箇所以上測定することが好ましい。
　膜厚の変動係数が１０％未満になるように感光性樹脂膜９を塗布形成する方法としては、（ａ）感光性樹脂を含有する塗工液に添加するレベリング剤の種類や量を調整することにより、塗工液のレベリング性を調整する方法、（ｂ）塗工液の希釈率を調整する方法、（ｃ）適した塗工形式を採用する方法、（ｄ）塗工条件を調整する方法等を挙げることができる。
　レベリング剤としては、シリコーン系のレベリング剤を使用することが好ましい。シリコーン系のレベリング剤を塗工液に添加すると、塗工された塗工液の表面張力が効果的に低下し、レベリング性が向上する。シリコーン系のレベリング剤の具体例は、アルキル変性シリコーンオイル、ポリエーテル変性シリコーンオイル、エポキシ変性シリコーンオイル、アミノ変性シリコーンオイル、カルボキシ変性シリコーンオイル、カルビノール変性シリコーンオイル、アルコキシ変性シリコーンオイル、両末端変性シリコーンオイル、ポリエステル変性シリコーンオイル、アラルキル変性シリコーンオイル、アクリル系シリコーンオイルのような有機変性されたシリコーンオイルを含む。
　レベリング剤は、１種のみを単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。レベリング剤の添加量は、感光性樹脂１００重量部に対して０．１~５重量部であることが好ましい。レベリング剤の添加量が少なすぎると、レベリング性向上の効果が得られにくく、多すぎると感光性樹脂膜９の密着性が低下したり、塗工液の安定性が低下したりする。
　塗工液における感光性樹脂の含有量は、３~５０重量％であることが好ましく、５~２０重量％であることがより好ましい。感光性樹脂の含有量が５０重量％を上回る場合には、塗工液を塗工し、乾燥させる際のレベリング性が不十分となり、感光性樹脂膜９の膜厚の変動係数が大きくなるおそれがある。一方、感光性樹脂の含有量が３重量％を下回る場合には、塗工液を塗工し、乾燥させる際に液垂れ等が発生し、感光性樹脂膜９の膜厚の変動係数が大きくなるおそれがある。
　感光性樹脂を希釈する溶媒としては前述のものを用いることができるが、レベリング性を向上させるためには、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、メチルエチルケトンのような沸点の比較的低い溶媒と、メチルイソブチルケトン、メチルセロソルブ、エチルチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテルのような沸点の比較的高い溶媒との混合溶媒を用いることが好ましい。
　塗工液の塗工形式としては、回転塗布、ロール塗布、ワイヤーバー塗布、リングコートを好ましく採用することができる。これらの中でも、リングコート方式が特に好ましく採用される。リングコート方式は、円筒状の基材に対して塗工液を均一に塗工する方法として効果的なものである。リングコート方式では、円筒状基材の外周を取り囲む円盤状の塗工ヘッドが円筒状基材に沿って相対的に移動することによって塗工液が塗工される。塗工装置中で円筒状基材は鉛直に支持され、その外周を取り囲む円盤状塗工ヘッドに塗工液が供給された後、塗工ヘッドを円筒状基材の上端部側から下端部側に所定の速度で移動させることにより、円筒状基材の表面に塗工液が均一に塗工される。塗工液が円筒状基材に塗工される間は所定量の塗工液が塗工ヘッドに供給され続ける。リングコート方式を採用する場合、均一に塗工液を塗工するために重要なパラメータは、塗工ヘッドの相対移動速度である。塗工ヘッドの相対移動速度は、塗工される塗工液の粘度やレベリング性に依存するため一概には言えないが、０．５~３００ｍｍ／秒であることが好ましい。
　塗工液を塗工した後、加熱による乾燥処理を施すことが好ましい。乾燥温度は２０~８０℃であることが好ましく、２５~４０℃であることがより好ましい。乾燥温度が２０℃を下回る場合には、乾燥時間が長くなり、乾燥中に液垂れが発生する可能性が高くなる。
一方、乾燥温度が８０℃を上回る場合には、乾燥時間が極端に短くなり、乾燥中においてレベリング効果が発現せず、感光性樹脂膜９の膜厚の変動係数が大きくなる可能性がある。
　（６）露光工程
　本工程は、所定のパターンを上述した感光性樹脂膜形成工程で形成された感光性樹脂膜９上に露光する工程である〔図９（ｅ）〕。露光工程に用いる光源は、感光性樹脂の感光波長や感度等に合わせて適宜選択すればよく、例えば、高圧水銀灯のｇ線（波長：４３６ｎｍ）、高圧水銀灯のｈ線（波長：４０５ｎｍ）、高圧水銀灯のｉ線（波長：３６５ｎｍ）、半導体レーザ（波長：８３０ｎｍ、５３２ｎｍ、４８８ｎｍ、４０５ｎｍ等）、ＹＡＧレーザ（波長：１０６４ｎｍ）、ＫｒＦエキシマーレーザ（波長：２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマーレーザ（波長：１９３ｎｍ）、Ｆ２エキシマーレーザ（波長：１５７ｎｍ）等を用いることができる。
　金型の第２凹凸表面の凹凸形状、ひいては防眩フィルムの第１凹凸表面の凹凸形状を精度良く形成するためには、パターンを感光性樹脂膜９上に精密に制御された状態で露光することが好ましく、具体的には、コンピュータ上でパターンを画像データとして作成し、その画像データに基づいたパターンを、コンピュータ制御されたレーザヘッドから発するレーザ光によって描画することが好ましい。レーザ描画には印刷版作成用のレーザ描画装置を使用することができる。このようなレーザ描画装置としては、例えばＬａｓｅｒ　Ｓｔｒｅａｍ　ＦＸ（（株）シンク・ラボラトリー製）等が挙げられる。
　「パターン」とは、計算機によって作成された２階調（例えば、白と黒とに二値化された画像データ）又は３階調以上のグラデーションからなる画像データを意味するが、当該画像データへ一義的に変換可能なデータ（行列データ等）も含み得る。画像データへ一義的に変換可能なデータとしては、各画素の座標及び階調のみが保存されたデータ等が挙げられる。
　図９（ｅ）は、感光性樹脂膜９にパターンが露光された状態を模式的に示している。感光性樹脂膜９をネガ型の感光性樹脂で形成した場合には、露光された領域９１は露光によって樹脂の架橋反応が進行し、後述する現像液に対する溶解性が低下する。よって、現像工程において露光されていない領域９０は、現像液によって溶解され、露光された領域９１のみが残り、これがマスクとなる。一方、感光性樹脂膜９をポジ型の感光性樹脂で形成した場合には、露光された領域９１は露光によって樹脂の結合が切断され、後述する現像液に対する溶解性が増加する。よって、現像工程において露光された領域９１は、現像液によって溶解され、露光されていない領域９０のみが残り、これがマスクとなる。
　〔露光されるパターンの空間周波数分布特性〕
　感光性樹脂膜９上に露光されるパターンは、そのエネルギースペクトルが空間周波数０．０５~０．１μｍ^−１の範囲内に極大値を有するものであることが好ましく、空間周波数０．００７~０．０１５μｍ^−１の範囲内に別の極大値をさらに有するものであることがより好ましい。このような空間周波数分布特性を示すパターンを用いることにより、前述した空間周波数分布特性を有する第２凹凸表面を備えた金型を精度良く作製することができる。
　空間周波数０．００７~０．０１５μｍ^−１の範囲内におけるエネルギースペクトル強度の極大値は、空間周波数０．０５~０．１μｍ^−１の範囲内におけるエネルギースペクトル強度の極大値より小さいことが好ましい。これにより、ギラツキをより効果的に抑制することができる。
　パターンのエネルギースペクトルは、例えば画像データであれば、画像データを２階調の二値化画像データに変換した後、画像データの階調を二次元関数ｇ（ｘ，ｙ）で表し、得られた二次元関数ｇ（ｘ，ｙ）をフーリエ変換して二次元関数Ｇ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）を計算し、得られた二次元関数Ｇ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）を二乗することによって求められる。ｘ及びｙは、画像データ面内の直交座標を表し（例えばｘ方向が画像データの横方向、ｙ方向が画像データの縦方向である。）、ｆ_ｘ及びｆ_ｙは、それぞれｘ方向の空間周波数及びｙ方向の空間周波数を表す。
　防眩層１０２の第１凹凸表面１０３の標高のエネルギースペクトルを求める場合と同様に、パターンのエネルギースペクトルを求める場合においても、画像データの階調を表す二次元関数ｇ（ｘ，ｙ）は、画素毎の階調が各画素に対応する値として得られるため、離散関数となるのが一般的である。その場合は、防眩層１０２が有する第１凹凸表面１０３の標高のエネルギースペクトルを求める場合と同様に、離散フーリエ変換によってエネルギースペクトルが計算される。
　具体的には、下記式（５）で定義される離散フーリエ変換によって離散関数Ｇ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）を計算し、離散関数Ｇ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）を二乗することによってエネルギースペクトルが求められる。式（５）中のπは円周率、ｉは虚数単位である。また、Ｍはｘ方向の画素数であり、Ｎはｙ方向の画素数であり、ｌは−Ｍ／２以上Ｍ／２以下の整数であり、ｍは−Ｎ／２以上Ｎ／２以下の整数である。Δｆ_ｘ及びΔｆ_ｙは、それぞれｘ方向及びｙ方向の空間周波数間隔であり、それぞれ下記式（６）及び式（７）で定義される。式（６）及び式（７）中のΔｘ及びΔｙは、それぞれｘ軸方向、ｙ軸方向における水平分解能である。
なお、パターンが画像データである場合には、Δｘ及びΔｙは、それぞれ１画素のｘ軸方向の長さ及びｙ軸方向の長さと等しい。すなわち、６４００ｄｐｉの画像データとしてパターンを作成した場合には、Δｘ＝Δｙ＝４μｍであり、１２８００ｄｐｉの画像データとしてパターンを作成した場合には、Δｘ＝Δｙ＝２μｍである。

　露光されるパターンはランダムであることが好ましく、パターンがランダムである場合、エネルギースペクトルＧ^２（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）は原点（ｆ_ｘ＝０，ｆ_ｙ＝０）を中心に対称となる。よって、ある空間周波数（あるｆ_ｘ又はｆ_ｙ）におけるエネルギースペクトルＧ^２（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）は、二次元関数であるエネルギースペクトルＧ^２（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）の原点を通る断面より求めることができる。
　なお、パターンがランダムである場合、Ｇ^２（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）は、その原点からの距離ｆ（単位：μｍ^−１）を変数とする一次元関数Ｇ^２（ｆ）に変換することができる。
　具体的には、図１０を参照して、まず原点Ｏ（ｆ_ｘ＝０，ｆ_ｙ＝０）から（ｎ−１／２）Δｆ以上（ｎ＋１／２）Δｆ未満の距離に位置する全ての点（図１０中の黒丸の点）の個数Ｎ_ｎを計算する。図１０に示した例ではＮ_ｎ＝１６個である。次に、原点Ｏから（ｎ−１／２）Δｆ以上（ｎ＋１／２）Δｆ未満の距離に位置する全ての点のＧ^２（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）の合計値Ｇ^２ _ｎ（図１０中の黒丸の点におけるＧ^２（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）の合計値）を計算する。一次元関数Ｇ^２（ｆ）は、下記式（８）：

に示されるように、Ｇ^２（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）の平均値、すなわち、合計値Ｇ^２ _ｎを点の個数Ｎ_ｎで除したものとして定義される。
　Ｍ≧Ｎの場合、ｎは０以上Ｎ／２以下の整数であり、Ｍ＜Ｎの場合、ｎは０以上Ｍ／２以下の整数である。また、式（８）中のΔｆは（Δｆ_ｘ＋Δｆ_ｙ）／２を表す。
　上記のような空間周波数分布特性を示すパターンは、例えば、多数のドットをランダムに配置して作成したパターンや、乱数又は計算機によって生成された擬似乱数により濃淡を決定したランダムな明度分布を有するパターンに対して、特定の空間周波数Ｓ以下の低空間周波数成分と特定の空間周波数Ｔ以上の高空間周波数成分を除去するバンドパスフィルター処理を施すことによって得ることができる。多数のドットをランダムに配置する場合、ドットの形状は、円形、楕円形のような丸状や多角形等であってよく、同一の形状を有する多数のドットを配置してもよいし、異なる２種以上の形状のドットを多数配置してもよい。ドット径は特に制限されない。また、バンドパスフィルター処理における上記空間周波数Ｓは、表示装置の平均的な１辺の画素サイズに対して約１０分の１以下の周期に対応する周波数であることが好ましい。上記空間周波数Ｔは、１／（Ｄ×２）μｍ^−１以下であることが好ましい。Ｄ（μｍ）は、金型上に凹凸形状を加工する際に用いられる加工装置（例えば上述のレーザ描画装置）の分解能である。
　（７）露光工程
　本工程は、パターンが露光された感光性樹脂膜を現像する工程である〔図９（ｆ）〕。
感光性樹脂膜９にネガ型の感光性樹脂を用いた場合には、露光されていない領域９０は現像液によって溶解され、露光された領域９１のみが第１銅めっき層８上に残存し、続く第１エッチング工程においてマスクとして機能する。一方、感光性樹脂膜９にポジ型の感光性樹脂を用いた場合には、露光された領域９１のみが現像液によって溶解され、露光されていない領域９０が第１銅めっき層８上に残存して、続く第１エッチング工程におけるマスクとして機能する。図９（ｆ）は、感光性樹脂膜９にポジ型の感光性樹脂を用いた例である。
　現像液は、従来公知のものであることができる。現像液の具体例は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア水のような無機アルカリ類；エチルアミン、ｎ−プロピルアミンのような第一アミン類；ジエチルアミン、ジ−ｎ−ブチルアミンのような第二アミン類；トリエチルアミン、メチルジエチルアミンのような第三アミン類；ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミンのようなアルコールアミン類；テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルヒドロキシエチルアンモニウムヒドロキシドのような第四級アンモニウム塩；ピロール、ピペリジンのような環状アミン類等に代表されるアルカリ性水溶液の他、キシレン、トルエンのような有機溶剤を含む。
　現像方法については特に制限されず、浸漬現像、スプレー現像、ブラシ現像、超音波現像等の方法を用いることができる。
　（８）第１エッチング工程
　本工程は、現像工程後に残存した感光性樹脂膜９をマスクとして用いて、第１銅めっき層８のマスクの無い領域８１を主にエッチングし（第１エッチング処理）、第１銅めっき層８の研磨された表面に凹凸形状を形成する工程である〔図９（ｇ）〕。
　第１エッチング処理は通常、塩化第二鉄（ＦｅＣｌ_３）液、塩化第二銅（ＣｕＣｌ_２）液又はアルカリエッチング液（Ｃｕ（ＮＨ_３）_４Ｃｌ_２）等を用いて、金属表面を腐食させることによって行うが、塩酸や硫酸等の強酸を用いることもできるし、電解めっき時と逆の電位をかけることによる逆電解エッチングを用いることもできる。
　第１エッチング処理におけるエッチング量は、好ましくは１~５０μｍであり、より好ましくは２~１０μｍである。「エッチング量」とは、エッチングにより削られる第１銅めっき層８の厚みである。エッチング量が１μｍ未満である場合には、第１銅めっき層８の表面に凹凸形状がほとんど形成されず、ほぼ平坦な金型となってしまうので、防眩フィルムの作製には適さない。また、エッチング量が５０μｍを超える場合には、第１銅めっき層８の表面に形成される凹凸形状の高低差が過度に大きくなり、得られた金型を使用して作製した防眩フィルムを適用した画像表示装置において白ちゃけを生じやすい。傾斜角度が５°以下である面を９５％以上含む第１凹凸表面を有する防眩フィルムを得るために、第１エッチング処理におけるエッチング量は、２~８μｍであることがさらに好ましい。
　第１エッチング処理は、１回のエッチング処理によって行ってもよいし、２回以上に分けて行ってもよい。エッチング処理を２回以上に分けて行う場合には、これらのエッチング処理のエッチング量の合計が上記範囲内とされることが好ましい。エッチング量は、エッチング処理の手法、エッチング処理に使用する処理液の組成、エッチング処理温度、エッチング処理時間等を調整することにより、制御することができる。中でも、エッチング処理の手法、処理液の組成、処理温度を固定して、処理時間の長短を調整することにより、エッチング量の大小を制御する方法が簡便であり好ましい。
　（９）感光性樹脂膜剥離工程
　本工程では、第１エッチング工程で凹凸形状８２が形成された第１銅めっき層８の表面から、マスクとして使用した感光性樹脂膜９を剥離する工程である〔図９（ｈ）〕。感光性樹脂膜９は通常、剥離液を用いて溶解除去される。剥離液としては、上述した現像液と同様のものを用いることができる。剥離液のｐＨ、温度、濃度及び／又は浸漬時間等の調整により、ネガ型の感光性樹脂膜を用いた場合には露光部の、ポジ型の感光性樹脂膜を用いた場合には非露光部の感光性樹脂膜を完全に溶解して除去する。剥離方法については特に制限されず、浸漬現像、スプレー現像、ブラシ現像、超音波現像等の方法を用いることができる。
　（１０）第２エッチング工程
　本工程は、第１エッチング工程によって形成された凹凸形状８２を第２エッチング処理によって鈍らせる工程である〔図９（ｉ）〕。この第２エッチング処理によって、第１エッチング処理によって形成された凹凸形状８２における表面傾斜が急峻な部分がなくなり、これにより、得られた金型を用いて製造された防眩フィルムの光学特性は好ましい方向へと変化する。
　第２エッチング処理も、第１エッチング処理と同様に、通常、塩化第二鉄（ＦｅＣｌ_３）液、塩化第二銅（ＣｕＣｌ_２）液又はアルカリエッチング液（Ｃｕ（ＮＨ_３）_４Ｃｌ_２）等を用い、表面を腐食させることによって行うが、塩酸や硫酸等の強酸を用いることもできるし、電解めっき時と逆の電位をかけることによる逆電解エッチングを用いることもできる。
　第２エッチング処理を施した後の凹凸の鈍り具合は、下地金属の種類、エッチング手法、及び第１エッチング工程により得られた凹凸のサイズと深さ等によって異なるため、一概には言えないが、鈍り具合を制御する上で最も大きな因子は、エッチング量である。ここでいうエッチング量も、第１銅めっき層８の厚みである。エッチング量が小さいと、第１エッチング工程により得られた凹凸形状８２を鈍らせる効果が不十分であり、その凹凸形状を転写して得られる防眩フィルムの光学特性があまり良くならない。一方で、エッチング量が大きすぎると、凹凸形状がほとんどなくなってしまい、ほぼ平坦な金型となってしまうので、防眩フィルムの作製には適さない。そこで、エッチング量は１~５０μｍの範囲内とすることが好ましく、また、傾斜角度が５°以下である面を９５％以上含む第１凹凸表面を有する防眩フィルムを得るために、４~２０μｍの範囲内とすることがより好ましい。
　第２エッチング処理についても、第１エッチング処理と同様に、１回のエッチング処理によって行ってもよいし、２回以上に分けて行ってもよい。エッチング処理を２回以上に分けて行う場合には、これらのエッチング処理のエッチング量の合計が上記範囲内とされることが好ましい。
　（１１）第４めっき工程
　本工程は、第２エッチング処理によって鈍らされた凹凸形状８２からなる第１銅めっき層８の凹凸表面上にニッケルめっき層８３を形成する工程である〔図９（ｊ）〕。ニッケルめっき層８３は、金型表面を保護する役割を担う層であるが、これをニッケルめっきで構成することにより、クラックの生じにくい耐久性の高い保護層を形成することができる。また、微細な凹凸形状が形成された第１銅めっき層８の表面に被覆性の高いニッケルめっき層８３を形成することによって、工業的に有利に凹凸形状が鈍らせられ、その凹凸形状が防眩フィルム製造用金型として好ましい方向に変化する。
　ニッケルめっきではなく、クロムめっきで保護層を形成した場合には、クロムめっき保護層表面の全体に微細なクラックが生じる。このクラック構造が防眩フィルムの第１凹凸表面１０３の一部として転写されると、微細な凹凸に起因して表面散乱が増加し、ギラツキが生じたり、コントラストが低下したりする。また、クラックから露出する第１銅めっき層８が次第に錆びるため、クロムめっき保護層を有する金型は長期保存安定性に欠ける傾向がある。さらに、このような錆びは金型表面に欠陥を生じさせ、欠陥は防眩フィルムの第１凹凸表面１０３の凹凸形状に悪影響を与え得る。
　ニッケルめっきの種類は特に制限されないが、いわゆる光沢ニッケルめっきなどと呼ばれる、良好な光沢を発現するニッケルめっきを用いることが好ましい。ニッケルめっきは電解によって行うことが好ましく、そのめっき浴としては硫酸ニッケル、塩化ニッケル、ホウ酸を含む水溶液が用いられる。電流密度と電解時間を調節することにより、ニッケルめっき層８３の厚みを制御することができる。
　ニッケルめっき層８３による凹凸形状の鈍り具合を制御するうえで最も大きな因子は、めっき厚みである。ニッケルめっき層８３の厚みが薄いと、凹凸形状を鈍らせる効果が不十分であり、その凹凸形状を転写して得られる防眩フィルムの光学特性があまり良くならない。一方で、ニッケルめっき層８３の厚みが厚すぎると、コストアップや生産性低下を生じるうえに、ノジュールと呼ばれる突起状のめっき欠陥が発生し得る。そこで、ニッケルめっき層８３の厚みは１~１０μｍの範囲内であることが好ましく、２~８μｍの範囲内であることがより好ましい。
　ニッケルめっき層８３の厚みが１μｍ未満であると、膜厚制御が困難であるために均一にめっきが行えずムラが発生したり、十分に下地の保護が不十分になったりするという不具合も生じ得る。また、ニッケルめっき層８３の厚みが１０μｍ以上であると、金型表面の凹凸形状が平坦化し、所望の光学特性が得られない可能性がある。
　（１２）蒸着工程
　本工程は、ニッケルめっき層８３の第１銅めっき層８とは反対側の表面８４に、炭素を主成分とする保護層８５を蒸着により形成する、任意で設けられる工程である〔図９（ｋ）〕。保護層８５を形成する場合には、保護層８５の表面が第２凹凸表面となり、保護層８５を形成しない場合には、ニッケルめっき層８３の表面が第２凹凸表面となる。炭素を主成分とする保護層８５は、光沢があって、硬度が高く、また、摩擦係数が小さいので良好な離型性を与え得る。この保護層８５によって、金型の表面硬度及び耐摩耗性を向上させ、金型としての耐久性をさらに向上させることができる。すなわち、保護層８５を形成することによって、使用中に凹凸が磨り減ったり、金型が損傷したりすることを防止することができる。
　保護層８５は、水素化アモルファス炭素膜、テトラヘドラル形アモルファス炭素膜、水素化テトラヘドラル形アモルファス膜、スパッタアモルファス炭素膜等のダイヤモンド・ライク・カーボンと呼ばれる保護膜であることが好ましい。保護層８５は、水素や酸素のような他の元素をある程度含んでいてもよい。
　保護層８５の形成方法としては、各種の蒸着法を用いることができ、例えば、水素化アモルファス炭素膜や水素化テトラヘドラル形アモルファス膜はプラズマＣＶＤ法やイオン化蒸着法等により、テトラヘドラル形アモルファス炭素膜はイオンビーム蒸着法等により、スパッタアモルファス炭素膜はスパッタリング法等により形成することができる。
　保護層８５の形成によっても、ニッケルめっき層８３を形成した後の金型表面の凹凸形状は、ほとんど変化しないことが望ましく、従って、保護層８５の厚みは０．１~５μｍの範囲内であることが好ましく、０．５~３μｍの範囲内であることがより好ましい。保護層８５の厚みが過度に薄いと、金型耐久性向上効果が不十分となる可能性がある。一方で、保護層８５の厚みが過度に厚いと、生産性が低下するだけでなく、金型表面の凹凸形状が保護層８５の形成によって変化し、所望の第１凹凸表面を有する防眩フィルムが得られないおそれがある。

　以下、実施例を挙げて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。以下の例において行った防眩フィルム製造用の金型、金型の製造に用いたパターン及び防眩フィルムの評価項目及びその評価方法は、次のとおりである。
　〔１〕防眩フィルム、金型及びパターンの空間周波数分布特性の測定
　（ａ）防眩層が有する第１凹凸表面の標高のエネルギースペクトル
　三次元顕微鏡「ＰＬμ２３００」（Ｓｅｎｓｏｆａｒ社製）を用いて、防眩フィルムの防眩層が有する第１凹凸表面の凹凸形状を測定した。防眩フィルムの反りを防止するため、光学的に透明な粘着剤を用いて第１凹凸表面が最表面となるように防眩フィルムをガラス基板に貼合してから測定を行った。測定の際、対物レンズの倍率は１０倍とした。水平分解能Δｘ及びΔｙはともに１．６６μｍであり、測定面積は８５０μｍ×８５０μｍであった。
　上で得られた測定データから、防眩フィルムの第１凹凸表面の標高を二次元関数ｈ（ｘ，ｙ）として求め、得られた二次元関数ｈ（ｘ，ｙ）を離散フーリエ変換して二次元関数Ｈ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）を求めた。二次元関数Ｈ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）を二乗して標高のエネルギースペクトルの二次元関数Ｈ^２（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）を計算し、ｆ_ｘ＝０の断面曲線であるＨ^２（０，ｆ_ｙ）より、空間周波数０．０１μｍ^−１におけるエネルギースペクトルＨ_１ ^２、空間周波数０．１μｍ^−１におけるエネルギースペクトルＨ_２ ^２、空間周波数０．０４μｍ^−１におけるエネルギースペクトルＨ_３ ^２及び空間周波数０．０６μｍ^−１におけるエネルギースペクトルＨ_４ ^２を求め、エネルギースペクトルの比Ｈ_１ ^２／Ｈ_２ ^２、Ｈ_３ ^２／Ｈ_２ ^２及びＨ_４ ^２／Ｈ_２ ^２を計算した。
　（ｂ）金型が有する第２凹凸表面の標高のエネルギースペクトル
　防眩層が有する第１凹凸表面の標高のエネルギースペクトルと同様にして、金型が有する第２凹凸表面の凹凸形状を測定し、エネルギースペクトルの比Ｈ_１ ^２／Ｈ_２ ^２、Ｈ_３ ^２／Ｈ_２ ^２及びＨ_４ ^２／Ｈ_２ ^２を計算した。
　（ｃ）パターンのエネルギースペクトル
　画像データとして作成した金型製造用のパターンの階調を二次元の離散関数ｇ（ｘ，ｙ）で表した。離散関数ｇ（ｘ，ｙ）の水平分解能Δｘ及びΔｙはともに２μｍとした。得られた二次元の離散関数ｇ（ｘ，ｙ）を離散フーリエ変換して二次元関数Ｇ（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）を求め、これを二乗してエネルギースペクトルの二次元関数Ｇ^２（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）を計算し、ｆ_ｘ＝０の断面曲線であるＧ^２（０，ｆ_ｙ）より、空間周波数０．０５~０．１μｍ^−１の範囲内及び０．００７~０．０１５μｍ^−１の範囲内における極大値の有無及びその極大値（ピークにおけるエネルギースペクトルの強度）を求めた。
　〔２〕防眩層が有する第１凹凸表面の傾斜角度
　上で得られた三次元顕微鏡による測定データをもとに、前述のアルゴリズムに基づいて計算し、第１凹凸表面の傾斜角度のヒストグラムを作成し、そこから傾斜角度毎の分布を求め、傾斜角度が５°以下である面の割合を計算した。
　〔３〕防眩層が有する第１凹凸表面の最大断面高さＲｔ
　ＪＩＳ　Ｂ　０６０１：２００１に準拠した小形表面粗さ測定機　サーフテスト　ＳＪ−３０１（株式会社ミツトヨ製）を用いて、防眩層が有する第１凹凸表面の最大断面高さＲｔを測定した。
　〔４〕防眩フィルムの光学特性
　（ａ）ヘイズ
　ＪＩＳ　Ｋ　７１３６に準拠したヘイズメータ「ＨＭ−１５０」（株式会社村上色彩技術研究所製）を用いて、上記式〔Ａ〕に従って、防眩フィルムの全ヘイズを測定した。防眩フィルムの反りを防止するため、光学的に透明な粘着剤を用いて第１凹凸表面が最表面となるように防眩フィルムをガラス基板に貼合してから測定を行った。
　次に、第１凹凸表面に、ヘイズが実質的にゼロであるトリアセチルセルロースフィルムを、グリセリンを用いて貼合し、全ヘイズの測定と同様にしてヘイズを測定して、これを内部ヘイズとした。得られた全ヘイズ値及び内部ヘイズ値から、上記式〔Ｂ〕により表面ヘイズを算出した。
　一般的にヘイズが大きくなると、防眩フィルムを画像表示装置に適用したときに画像が暗くなり、その結果、正面コントラストが低下しやすくなる。それ故に、ヘイズは低い方が好ましい。
　（ｂ）映り込み及び白ちゃけ
　防眩フィルムの裏面からの反射を防止するために、第１凹凸表面が最表面となるように黒色アクリル樹脂板に防眩フィルムを貼合した後、蛍光灯のついた明るい室内で第１凹凸表面側から観察し、蛍光灯の映り込みの有無、白ちゃけの程度を、下記の基準に従って目視で評価した。
　映り込み　　　Ａ：映り込みが観察されない、
　　　　　　　　Ｂ：映り込みが少し観察される、
　　　　　　　　Ｃ：映り込みが明瞭に観察される。
　白ちゃけ　　　Ａ：白ちゃけが観察されない、
　　　　　　　　Ｂ：白ちゃけが少し観察される、
　　　　　　　　Ｃ：白ちゃけが明瞭に観察される。
　（ｃ）コントラスト及びギラツキ
　市販の液晶テレビ５５ＸＳ５（（株）東芝製）から液晶セルの表裏両面にあるオリジナルの偏光板を剥離し、背面側及び表示面側の双方に、偏光板「スミカラン　ＳＲＤＢ３１Ｅ」（住友化学（株）製）を、それぞれの吸収軸がオリジナルの偏光板の吸収軸と一致するように粘着剤を介して貼合した。次いで、表示面側偏光板の上に、以下の各例に示す防眩フィルムを第１凹凸表面が最表面となるように粘着剤を介して貼合して、評価用液晶表示装置を作製した。
　暗室内で、輝度計ＢＭ−５Ａ（トプコン社製）を用いて、評価用液晶表示装置の白表示状態と黒表示状態における正面輝度を測定し、これらの比としてコントラスト（正面コントラスト）を算出し、下記の基準に従って評価した。
　また、蛍光灯のついた明るい室内で評価用液晶表示装置を稼働させ、表示面から約３０ｃｍ離れた位置から目視観察することにより、ギラツキの程度を下記の基準に従って評価した。
　コントラスト　Ａ：防眩フィルムを貼合しない状態と比較してコントラストの低下が５％未満である、
　　　　　　　　Ｂ：防眩フィルムを貼合しない状態と比較してコントラストの低下が５~１０％である、
　　　　　　　　Ｃ：防眩フィルムを貼合しない状態と比較してコントラストの低下が１０％超である。
　ギラツキ　　　Ａ：ギラツキが観察されない、
　　　　　　　　Ｂ：ギラツキが少し観察される、
　　　　　　　　Ｃ：ギラツキが明瞭に観察される。
　〔５〕金型の耐久性
　実施例１、２及び比較例１で作製した金型を木箱に入れ、調温調湿を行っていない室内にて３か月間保管した。保管後、金型表面を目視観察し、第１銅めっき層での腐食の発生の有無を評価した。腐食が発生していない場合をＡ、発生している場合をＢとした。
　＜実施例１＞
　（防眩フィルム製造用金型の作製）
　直径２００ｍｍのアルミロール（ＪＩＳによるＡ５０５６）の表面に銅バラードめっきが施されたものを用意した。銅バラードめっきは、第２銅めっき層／銀めっき層／第１銅めっき層からなるものであり、これらのめっき層の全体の厚みは、約２００μｍである。
第１銅めっき層の表面を鏡面研磨し、研磨された表面に感光性樹脂を塗工、乾燥して感光性樹脂膜を形成した。感光性樹脂膜にはポジ型の感光性樹脂を使用した。
　次に、図１１に示される画像データからなるパターンの複数を連続して繰り返し並べたパターンを感光性樹脂膜上にレーザ光によって露光し、現像した。レーザ光による露光、及び現像は「Ｌａｓｅｒ　Ｓｔｒｅａｍ　ＦＸ」（（株）シンク・ラボラトリー製）を用いて行った。図１１に示されるパターンは、ランダムな明度分布を有するパターンに対して、空間周波数０．０４０μｍ^−１以下の低空間周波数成分と空間周波数０．０７０μｍ^−１以上の高空間周波数成分を除去するバンドパスフィルターを適用して作成した。露光に用いたパターンについて求めたエネルギースペクトルＧ^２（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）のｆ_ｘ＝０における断面を図１２に示す。図１２に示されるとおり、このパターンは、空間周波数０．０５~０．１μｍ^−１の範囲内及び０．００７~０．０１５μｍ^−１の範囲内に極大値を有していた。それぞれの極大値（ピークにおけるエネルギースペクトルの強度）は、１．１、０．１１であった。
　その後、現像された感光性樹脂膜をマスクとして、塩化第二銅液により第１エッチング処理を行った。エッチング量は３μｍとした。次いで、第１銅めっき層上の感光性樹脂膜を除去した後、塩化第二銅液を用いて第２エッチング処理を行った。エッチング量は１０μｍとした。その後、ニッケルめっき加工を行って金型を作製した。ニッケルめっき層の厚みは４μｍとした。
　（防眩フィルムの作製）
　光硬化性樹脂組成物ＧＲＡＮＤＩＣ　８０６Ｔ（大日本インキ化学工業（株）製）を酢酸エチルで希釈して５０重量％濃度の溶液とし、さらに、光重合開始剤であるルシリンＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製、化学名：２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド）を、光硬化性樹脂成分１００重量部あたり５重量部添加して防眩層形成用の塗工液を調製した。
　厚み８０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムの片面に、上記塗工液を乾燥後の光硬化性樹脂組成物層の厚みが５μｍとなるように塗工し、６０℃に設定した乾燥機中で３分間乾燥させた。乾燥後のフィルムを、上で得られた金型の凹凸面（第２凹凸表面）に、光硬化性樹脂組成物層が金型側となるようにゴムロールで押し付けて密着させた。この状態でＴＡＣフィルム側より、強度２０ｍＷ／ｃｍ^２の高圧水銀灯からの光をｈ線換算光量で２００ｍＪ／ｃｍ^２となるように照射して、光硬化性樹脂組成物層を硬化させた。その後、ＴＡＣフィルムを硬化樹脂層ごと金型から剥離して、第１凹凸表面を有する硬化樹脂層（防眩層）とＴＡＣフィルムとの積層体からなる、透明な防眩フィルムを作製した。
　＜実施例２＞
　ニッケルめっき層の上にスパッタ法によって保護膜８５としてのダイヤモンド・ライク・カーボン（ＤＬＣ）膜からなる保護層を形成したこと以外は、実施例１と同様にして金型を作製した。保護層の厚みは０．５μｍであった。次いで、この金型を用いたこと以外は、実施例１と同様にして防眩フィルムを作製した。
　＜比較例１＞
　ニッケルめっき加工の代わりに、クロムめっき加工を行ったこと以外は、実施例１と同様にして金型を作製した。クロムめっき層の厚みは４μｍとした。次いで、この金型を用いたこと以外は、実施例１と同様にして防眩フィルムを作製した。
　＜比較例２＞
　金型を使用することなく、次のようにして防眩フィルムを作製した。ペンタエリスリトールトリアクリレート６０重量部、多官能ウレタン化アクリレート（イソホロンジイソシアネートとｔ−ブチルメタクリレートとの反応生成物）４０重量部、ポリスチレン系粒子（屈折率：１．５９、重量平均粒子径：２μｍ）３重量部及びイソプロパノールを混合して、固形分５０重量％の溶液を得た後、これに光重合開始剤であるＩｒｇａｃｕｒｅ１８４（チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製）を光硬化性樹脂成分１００重量部あたり５重量部添加して、防眩層形成用の塗工液を調整した。
　厚み８０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムの片面に、上記塗工液を乾燥後の光硬化性樹脂組成物層の厚みが２μｍとなるように塗工し、６０℃に設定した乾燥機中で３分間乾燥させた。乾燥後のフィルムに対して、光硬化性樹脂組成物層側から、強度２０ｍＷ／ｃｍ^２の高圧水銀灯からの光をｈ線換算光量で２００ｍＪ／ｃｍ^２となるように照射して、光硬化性樹脂組成物層を硬化させることにより、第１凹凸表面を有する硬化樹脂層（防眩層）とＴＡＣフィルムとの積層体からなる、透明な防眩フィルムを作製した。
　＜比較例３＞
　防眩層形成用の塗工液に、光硬化性樹脂成分１００重量部あたり２５重量部のポリスチレン系粒子（屈折率：１．５９、重量平均粒子径：３μｍ）を含有させたこと以外は、比較例１と同様にして防眩フィルムを作製した。
　実施例１、実施例２、比較例１及び比較例３で作製した金型の空間周波数分布特性の測定結果、耐久性の評価結果を表１に示す。なお、実施例２の金型は、実施例１の金型とほぼ同等の空間周波数分布特性を示したので、実施例２の金型の空間周波数分布特性は割愛する。

　第２凹凸表面を形成する最表面にクロムめっき層を形成した比較例１及び３の金型の第２凹凸表面を光学顕微鏡で観察したところ、表面全体に微細なクラックが確認された。また、上述の耐久性試験において、このクラックから露出している第１銅めっき層に腐食が確認された。
　各実施例及び比較例で作製した防眩フィルムの構成及び評価結果を表２にまとめた。また、実施例１及び比較例１~３で作製した防眩フィルムが有する第１凹凸表面の標高のエネルギースペクトルＨ^２（ｆ_ｘ，ｆ_ｙ）のｆ_ｘ＝０における断面を示す図を図１３に示す。なお、実施例２の防眩フィルムは、実施例１の防眩フィルムとほぼ同等のエネルギースペクトルを示した。

　実施例１及び２の防眩フィルムは、所定の空間周波数分布特性を示しており、優れた防眩性能を有するとともに、高コントラストを発現し、白ちゃけ及びギラツキを防止できるものであった。これに対して、最表面がクロムめっき層からなる金型を用いて作製した比較例１の防眩フィルムは、所定の空間周波数分布特性を満足せず、ギラツキが認められた。同じく最表面がクロムめっき層からなる金型を用いて作製した比較例３の防眩フィルムは、防眩層に多量の粒子を含有させたため、ギラツキは解消されているものの、白ちゃけが生じ、コントラストも低下した。比較例１及び３の防眩フィルムの第１凹凸表面を光学顕微鏡で観察したところ、表面全体に微細なクラックが確認された。
　金型を用いずに作製した比較例２の防眩フィルムもまた、所定の空間周波数分布特性を満足しておらず、白ちゃけ及びギラツキを生じた。

　１　防眩フィルム、２　第１凹凸表面を構成する凹凸、３　防眩フィルムの投影面、５　防眩フィルムの主法線方向、６　凹凸を加味した局所的な法線、ψ　表面傾斜角度、６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄ　ポリゴン面の法線ベクトル、７　基材、８　第１銅めっき層、９　感光性樹脂膜、７１　第２銅めっき層、７２　銀めっき層、８０　第１銅めっき層の表面、８１　第１銅めっき層のマスクの無い領域、８２　第１銅めっき層の凹凸形状、８３　ニッケルめっき層、８４　ニッケルめっき層の表面、８５　保護層、９０　感光性樹脂膜の露光されていない領域、９１　感光性樹脂膜の露光された領域、１０１　透光性支持層、１０２　防眩層、１０３　第１凹凸表面。

Claims

　透光性支持層と、透光性支持層上に積層される防眩層とを含み、
　前記防眩層は、前記透光性支持層とは反対側の表面が第１凹凸表面で構成されており、
　空間周波数０．０１μｍ^−１における前記第１凹凸表面の標高のエネルギースペクトルＨ_１ ^２と、空間周波数０．１μｍ^−１における前記第１凹凸表面の標高のエネルギースペクトルＨ_２ ^２との比Ｈ_１ ^２／Ｈ_２ ^２が２０００~６０００の範囲内であり、
　空間周波数０．０４μｍ^−１における前記第１凹凸表面の標高のエネルギースペクトルＨ_３ ^２と、空間周波数０．１μｍ^−１における前記第１凹凸表面の標高のエネルギースペクトルＨ_２ ^２との比Ｈ_３ ^２／Ｈ_２ ^２が３０~６０の範囲内である、防眩フィルム。
　空間周波数０．０６μｍ^−１における前記第１凹凸表面の標高のエネルギースペクトルＨ_４ ^２と、空間周波数０．１μｍ^−１における前記第１凹凸表面の標高のエネルギースペクトルＨ_２ ^２との比Ｈ_４ ^２／Ｈ_２ ^２が１０以上である、請求項１に記載の防眩フィルム。
　前記第１凹凸表面は、傾斜角度が５°以下である面を９５％以上含む、請求項１又は２に記載の防眩フィルム。
　全ヘイズが１．５％未満である、請求項１~３のいずれかに記載の防眩フィルム。
　請求項１~４のいずれかに記載の防眩フィルムを製造するための金型であって、
　基材と、第１銅めっき層と、ニッケルめっき層とをこの順に含み、
　前記基材とは反対側の最表面は、第２凹凸表面で構成されており、
　空間周波数０．０１μｍ^−１における前記第２凹凸表面の標高のエネルギースペクトルＨ_１ ^２と、空間周波数０．１μｍ^−１における前記第２凹凸表面の標高のエネルギースペクトルＨ_２ ^２との比Ｈ_１ ^２／Ｈ_２ ^２が２０００~６０００の範囲内であり、
　空間周波数０．０４μｍ^−１における前記第２凹凸表面の標高のエネルギースペクトルＨ_３ ^２と、空間周波数０．１μｍ^−１における前記第２凹凸表面の標高のエネルギースペクトルＨ_２ ^２との比Ｈ_３ ^２／Ｈ_２ ^２が３０~６０の範囲内である、金型。
　空間周波数０．０６μｍ^−１における前記第２凹凸表面の標高のエネルギースペクトルＨ_４ ^２と、空間周波数０．１μｍ^−１における前記第２凹凸表面の標高のエネルギースペクトルＨ_２ ^２との比Ｈ_４ ^２／Ｈ_２ ^２が１０以上である、請求項５に記載の金型。
　前記ニッケルめっき層上に積層される炭素を主成分とする保護層をさらに含む、請求項５又は６に記載の金型。
　前記基材と、第２銅めっき層と、銀めっき層と、前記第１銅めっき層と、前記ニッケルめっき層とをこの順に含む、請求項５~７のいずれかに記載の金型。
　請求項５~８のいずれかに記載の金型を製造するための方法であって、
　前記基材上に前記第１銅めっき層を形成する工程と、
　前記第１銅めっき層の表面を研磨する工程と、
　前記第１銅めっき層の研磨された表面に感光性樹脂膜を形成する工程と、
　前記感光性樹脂膜上にパターンを露光する工程と、
　前記パターンが露光された感光性樹脂膜を現像する工程と、
　現像された感光性樹脂膜をマスクとして第１エッチング処理を行い、前記第１銅めっき層の研磨された表面に凹凸形状を形成する工程と、
　前記感光性樹脂膜を剥離する工程と、
　前記凹凸形状を第２エッチング処理によって鈍らせる工程と、
　第２エッチング処理によって鈍らされた凹凸形状からなる前記第１銅めっき層の凹凸表面上に前記ニッケルめっき層を形成する工程と、
を含み、
　前記パターンは、空間周波数０．０５~０．１μｍ^−１の範囲内に極大値を有するエネルギースペクトルを示す、金型の製造方法。
　前記エネルギースペクトルは、空間周波数０．００７~０．０１５μｍ^−１の範囲内に極大値をさらに有する、請求項９に記載の金型の製造方法。
　請求項５~８のいずれかに記載の金型を用意する工程と、
　透光性支持層上に積層される樹脂層の表面に、前記金型の前記第２凹凸表面の凹凸形状を転写する工程と、
を含む、防眩フィルムの製造方法。