TW201510579A - 防眩薄膜、防眩薄膜製造用模具及該等之製造方法 - Google Patents

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Tomoko Akiyama
Tsutomu Furuya
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Sumitomo Chemical Co
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Abstract

提供顯示優良防眩性及高對比，而且可有效抑制眩光及脫色兩者之防眩薄膜及用以製造其之模具。 包含層合於透光性支持層上之防眩層，防眩層與透光性支持層相反側之表面係以第1凹凸表面構成，空間頻率0.01μm-1之第1凹凸表面之標高的能譜H12、與空間頻率0.1μm-1之標高的能譜H22的比H12/H22為2000~6000之範圍內，空間頻率0.04μm-1之標高的能譜H32、與空間頻率0.1μm-1之標高的能譜H22的比H32/H22為30~60之範圍內之防眩薄膜及用以製造其之模具。

Description

防眩薄膜、防眩薄膜製造用模具及該等之製造方法
本發明係關於防眩薄膜及使用模具之防眩薄膜之製造方法。又，本發明係關於防眩薄膜製造用模具及其製造方法。
如液晶顯示器、電漿顯示器面板、布朗管(陰極射線管：CRT)顯示器、有機電致發光(EL)顯示器之影像顯示裝置，若外部光於其顯示面背景反射，則顯著損及視覺辨識性。用以防止外部光之背景反射的方法，以往係進行將於外表面具有微細凹凸之防眩薄膜配置於影像顯示裝置之表面。
近年來，防眩薄膜所要求之要求特性變得更加高程度，不僅當然要求防眩性(外部光之背景反射防止性能)，亦要求於配置於影像顯示裝置表面時可展現良好的對比、可抑制配置於影像顯示裝置之表面時，因散射光而顯示面全體會帶有白色，顯示會成為混濁的顏色之「脫色」發生、進而，可抑制配置於影像顯示裝置之表面時，因影像顯示裝置之畫素與防眩薄膜之表面凹凸形狀產生干 涉，而產生輝度分布，不易見到顯示影像之「眩光」產生。
作為顯示經改善之光學特性的防眩薄膜，以往提出有各種者。例如日本特開2011-112964號公報(專利文獻1)中，作為可防止外部景之背景反射、眩光及對比之降低的防眩性光學層合體，揭示了一種光學層合體，其中，防眩層之凹凸形狀係由因構成防眩層之黏結劑樹脂的相分離，而形成之凹凸形狀(A)；與由防眩層所含之內部散射粒子所形成之凹凸形狀(B)所構成，且十點平均粗度Rz未達3μm。
日本特開2012-103701號公報(專利文獻2)中，作為可提高眩光防止性及黑色再現性之防眩性光學層合體，揭示了一種光學層合體，其防眩層之表面凹凸滿足特定之平均間隔Sm、平均傾斜角θa及平均粗度Rz。
日本特開2011-253106號公報(專利文獻3)中，作為可兼備防眩性、亮室下之帶黑色及眩光防止性之防眩性光學層合體，揭示了一種光學層合體，其對光學功能層(防眩層)之凹凸形狀所測定之傾斜角度分布中，0.5度以下之傾斜角度分布所佔的比例、0.6度以上1.6度以下之傾斜角度分布所佔的比例及3.0度以上之傾斜角度成分所佔的比例分別為特定範圍內。
日本特開2011-209700號公報(專利文獻4)中，作為可防止脫色及眩光產生所致之視覺辨識性降低的防眩薄膜，揭示了防眩層之凹凸表面顯示特定之能譜特性的防眩 薄膜。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]：日本特開2011-112964號公報
[專利文獻2]：日本特開2012-103701號公報
[專利文獻3]：日本特開2011-253106號公報
[專利文獻4]：日本特開2011-209700號公報
以往提出之防眩薄膜，對其所要求之光學特性、特別是眩光防止性或脫色防止性之方面，尚有改善的餘地。又，亦有伴隨者難以達成防眩薄膜之薄膜化；防眩層之表面凹凸形狀控制困難、或容易不充分等問題者。防眩層之表面凹凸形狀的控制不精密時，無法得到滿足之光學特性。
本發明係有鑑於以上課題而為者，其目的係提供顯示優良防眩性及高對比，而且可有效抑制眩光及脫色兩者的防眩薄膜。
又，本發明之其他目的，係提供精密地控制防眩層之表面凹凸形狀，適合再現性良好地製造具備上述優良光學特性之防眩薄膜的防眩薄膜製造用模具及該模具之製造方法。本發明之又一其他目的，係提供使用該模具之防眩薄 膜之製造方法。
本發明係包含以下之防眩薄膜、防眩薄膜製造用之模具、模具之製造方法及防眩薄膜之製造方法。
[1]一種防眩薄膜，其係包含透光性支持層、與層合於透光性支持層上之防眩層，前述防眩層，其與前述透光性支持層相反側之表面，係以第1凹凸表面構成，空間頻率0.01μm-1之前述第1凹凸表面之標高的能譜H1 2、與空間頻率0.1μm-1之前述第1凹凸表面之標高的能譜H2 2的比H1 2/H2 2為2000~6000之範圍內，空間頻率0.04μm-1之前述第1凹凸表面之標高的能譜H3 2、與空間頻率0.1μm-1之前述第1凹凸表面之標高的能譜H2 2的比H3 2/H2 2為30~60之範圍內。
[2]如[1]之防眩薄膜，其中空間頻率0.06μm-1之前述第1凹凸表面之標高的能譜H4 2、與空間頻率0.1μm-1之前述第1凹凸表面之標高的能譜H2 2的比H4 2/H2 2為10以上。
[3]如[1]或[2]之防眩薄膜，其中前述第1凹凸表面係包含95%以上之傾斜角度為5°以下的面。
[4]如[1]~[3]中任一項之防眩薄膜，其全霧度未達1.5%。
[5]一種模具，其係用以製造如[1]~[4]中任一項之防 眩薄膜之模具，其係依序包含基材、第1鍍銅層、與鍍鎳層，與前述基材相反側之最表面，係以第2凹凸表面構成，空間頻率0.01μm-1之前述第2凹凸表面之標高的能譜H1 2、與空間頻率0.1μm-1之前述第2凹凸表面之標高的能譜H2 2的比H1 2/H2 2為2000~6000之範圍內，空間頻率0.04μm-1之前述第2凹凸表面之標高的能譜H3 2、與空間頻率0.1μm-1之前述第2凹凸表面之標高的能譜H2 2的比H3 2/H2 2為30~60之範圍內。
[6]如[5]之模具，其中空間頻率0.06μm-1之前述第2凹凸表面之標高的能譜H4 2、與空間頻率0.1μm-1之前述第2凹凸表面之標高的能譜H2 2的比H4 2/H2 2為10以上。
[7]如[5]或[6]之模具，其係進一步包含層合於前述鍍鎳層上之以碳為主成分的保護層。
[8]如[5]~[7]中任一項之模具，其係依序包含前述基材、第2鍍銅層、鍍銀層、前述第1鍍銅層、與前述鍍鎳層。
[9]一種模具之製造方法，其係用以製造如[5]~[8]中任一項之模具之方法，其係包含於前述基材上形成前述第1鍍銅層之步驟、研磨前述第1鍍銅層的表面之步驟、於前述第1鍍銅層之經研磨的表面，形成感光性樹脂膜之步驟、 於前述感光性樹脂膜上使圖型曝光之步驟、將經使前述圖型曝光之感光性樹脂膜顯影之步驟、將經顯影之感光性樹脂膜作為遮罩，進行第1蝕刻處理，於前述第1鍍銅層之經研磨的表面，形成凹凸形狀之步驟、剝離前述感光性樹脂膜之步驟、將前述凹凸形狀藉由第2蝕刻處理以鈍化的步驟、與於由藉由第2蝕刻處理而鈍化之凹凸形狀所構成之前述第1鍍銅層的凹凸表面上，形成前述鍍鎳層之步驟，且前述圖型，係顯示於空間頻率0.05~0.1μm-1之範圍內具有極大值的能譜。
[10]如[9]之模具之製造方法，其中前述能譜，進一步於空間頻率0.007~0.015μm-1之範圍內具有極大值。
[11]一種防眩薄膜之製造方法，其係包含準備如[5]~[8]中任一項之模具之步驟、與於層合於透光性支持層上之樹脂層表面，轉印前述模具之前述第2凹凸表面的凹凸形狀之步驟。
依照本發明，可提供一邊顯示優良防眩性，同時兼顧互為取捨關係之高對比與高眩光抑制性，且進一步可有效抑制脫色之防眩薄膜。依照本發明所提供之防眩薄膜製造用之模具，可精密地控制防眩層之表面凹凸形狀，再現性良好地製造具備上述優良光學特性之防眩薄膜。
1‧‧‧防眩薄膜
2‧‧‧構成第1凹凸表面之凹凸
3‧‧‧防眩薄膜之投影面
5‧‧‧防眩薄膜之主法線方向
6‧‧‧添加了凹凸後的局部的法線
‧‧‧表面傾斜角度
6a、6b、6c、6d‧‧‧多邊形面之法線向量
7‧‧‧基材
8‧‧‧第1鍍銅層
9‧‧‧感光性樹脂膜
71‧‧‧第2鍍銅層
72‧‧‧鍍銀層
80‧‧‧第1鍍銅層之表面
81‧‧‧第1鍍銅層之無遮罩區域
82‧‧‧第1鍍銅層之凹凸形狀
83‧‧‧鍍鎳層
84‧‧‧鍍鎳層之表面
85‧‧‧保護層
90‧‧‧感光性樹脂膜之未經曝光之區域
91‧‧‧感光性樹脂膜之經曝光之區域
101‧‧‧透光性支持層
102‧‧‧防眩層
103‧‧‧第1凹凸表面
圖1：示意性顯示本發明之防眩薄膜的一例之截面圖。
圖2：示意性顯示本發明之防眩薄膜的表面之斜視圖。
圖3：顯示離散地得到表示標高之函數h(x,y)的狀態之示意圖。
圖4：以二維的離散函數h(x,y)來表示本發明之防眩薄膜所具備之防眩層的第1凹凸表面之標高的圖。
圖5：以白與黑之階度來表示將圖4所示之二維函數h(x,y)予以離散傅立葉轉換而得之標高的能譜H2(fx,fy)的圖。
圖6：顯示圖5所示之能譜H2(fx,fy)在fx=0之截面的圖。
圖7：用以說明第1凹凸表面之傾斜角度的測定方法之示意圖。
圖8：顯示防眩層所具有之微細凹凸表面的傾斜角度分布之直方圖一例的圖。
圖9：示意性顯示本發明之防眩薄膜製造用模具之製造方法的一例之截面圖。
圖10：說明將二維能譜G2(fx,fy)以自空間頻率空間之原點起的距離f來平均化之方法之示意圖。
圖11：顯示實施例1之模具製作時所使用之圖型的 圖。
圖12：顯示對於實施例1之模具製作時所使用之圖型所求得之能譜G2(fx,fy)在fx=0之截面的圖。
圖13：顯示實施例1及比較例1~3中製作之防眩薄膜所具有的第1凹凸表面之標高的能譜H2(fx,fy)在fx=0之截面的圖。
<防眩薄膜>
圖1係示意性顯示本發明之防眩薄膜的一例之截面圖。本發明之防眩薄膜，如圖1所示之例子，係包含透光性支持層101、與層合於透光性支持層101上之防眩層102。防眩層102中與透光性支持層101相反側之表面(最表面)，係以由微細凹凸表面所成之第1凹凸表面103來構成。以下，對本發明之防眩薄膜予以更詳細說明。
(1)透光性支持層
透光性支持層101，可為透光性之熱可塑性樹脂薄膜，較佳為實質上係光學上透明的熱可塑性樹脂薄膜。構成熱可塑性樹脂薄膜之熱可塑性樹脂的具體例子，係包含例如鏈狀聚烯烴系樹脂、如環狀聚烯烴系樹脂(降莰烯系樹脂等)之聚烯烴系樹脂；聚酯系樹脂；(甲基)丙烯酸系樹脂；如纖維素三乙酸酯、纖維素二乙酸酯之纖維素酯 系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；聚乙烯醇系樹脂；聚乙酸乙烯酯系樹脂；聚芳酯系樹脂；聚苯乙烯系樹脂；聚醚碸系樹脂；聚碸系樹脂；聚醯胺系樹脂；聚醯亞胺系樹脂；及此等之混合物、共聚物等。
其中，就透明性、機械強度、與防眩層102之密合性等觀點而言，構成熱可塑性樹脂薄膜之熱可塑性樹脂，尤以纖維素酯系樹脂、聚酯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、環狀聚烯烴系樹脂等較佳。
透光性支持層101，可為由1種或2種以上之熱可塑性樹脂所構成之1個樹脂層所成的單層構造、亦可為由1種或2種以上之熱可塑性樹脂所構成之樹脂層複數層合而得的多層構造。透光性支持層101之厚度並無特殊限制，通常為10~250μm、較佳為20~125μm。透光性支持層101之霧度，較佳為0.5%以下、更佳為0.3%以下、最佳係實質為零。
霧度，係由表示對透光性支持層101照射光而透過之光線全量的全光線透過率Tt、與因透光性支持層101而擴散所透過之擴散光線透過率Td的比，由下述式[A]：霧度(%)=(Td/Tt)×100 [A]求出。
全光線透過率Tt，係在與入射光同軸的情況下透過之平行光線透過率Tp與擴散光線透過率Td的和。全光線透過率Tt及擴散光線透過率Td，係根據JIS K 7361所測定之值。
(2)防眩層 [第1凹凸表面之空間頻率分布特性]
本發明之防眩薄膜所具備的防眩層102，空間頻率0.01μm-1之第1凹凸表面103之標高的能譜H1 2、與空間頻率0.1μm-1之第1凹凸表面103之標高的能譜H2 2的比H1 2/H2 2為2000~6000之範圍內，且空間頻率0.04μm-1之第1凹凸表面103之標高的能譜H3 2、與空間頻率0.1μm-1之第1凹凸表面103之標高的能譜H2 2的比H3 2/H2 2為30~60之範圍內。
藉由具備顯示使用如上述之「標高的能譜」所規定之特定空間頻率分布的第1凹凸表面103，本發明之防眩薄膜，在顯示優良防眩性的同時，可兼顧高對比與高眩光抑制性，進而可有效地抑制脫色。
以下首先，說明防眩層102所具有之第1凹凸表面之標高的能譜。圖2係示意性顯示本發明之防眩薄膜的表面之斜視圖。如圖2所示，本發明之防眩薄膜1，具備具有由微細的凹凸2所構成之第1凹凸表面的防眩層。本發明中所稱之「第1凹凸表面的標高」，意指防眩薄膜1之第1凹凸表面的任意點P中，於第1凹凸表面之最低點高度中，自具有該高度的假想平面(標高係以0μm為基準)起於防眩薄膜之主法線方向5(上述假想平面的法線方向)的直線距離。如圖2所示，將防眩薄膜面內之直角座標以(x,y)表示時，第1凹凸表面之標高能夠以座標 (x,y)之二維函數h(x,y)表示。圖2中係將防眩薄膜全體的面以投影面3表示。
第1凹凸表面之標高，可由藉由共軛焦顯微鏡、干涉顯微鏡、原子力顯微鏡(AFM)等裝置所測定的表面形狀之三維資訊來求得。測定機所要求之水平解像力，至少係5μm以下、較佳為2μm以下，又垂直解像力，至少係0.1μm以下、較佳為0.01μm以下。適於此測定之非接觸三維表面形狀．粗度測定機，可列舉New View 5000系列(Zygo Corporation公司製、日本可由Zygo(股)獲得)、三維顯微鏡PLμ2300(Sensofar公司製)等。因標高的能譜之解像力必須為0.01μm-1以下，因此測定面積至少200μm×200μm以上較佳、更佳為500μm×500μm以上。
接著，說明由表示標高之二維函數h(x,y)來求得標高的能譜之方法。首先，由二維函數h(x,y)，藉由以下述式(1)定義之二維傅立葉轉換，求得二維函數H(fx,fy)。
fx及fy，各為x方向及y方向之空間頻率，具備長度之倒數的維度。又，式(1)中之π為圓周率、i為虛數單位。藉由將所得之二維函數H(fx,fy)予以二次方，可求得標高的能譜H2(fx,fy)。此能譜H2(fx,fy)係表示防眩層所具有有之第1凹凸表面的空間頻率分布。
進一步具體說明求得防眩層所具有之第1凹凸表面之標高的能譜之方法。上述之以共軛焦顯微鏡、干涉顯微 鏡、原子力顯微鏡等所實際測定之表面形狀的三維資訊，一般係作為離散值、亦即對應於多數測定點之標高而得到。圖3係顯示離散地得到表示標高之函數h(x,y)的狀態之示意圖。如圖3所示，將防眩薄膜面內之直角座標以(x,y)表示，將於防眩薄膜之投影面3上，於x軸方向每隔△x所分割之線及於y軸方向每隔△y所分割之線以虛線顯示時，實際測定中第1凹凸表面之標高，可作為防眩薄膜之投影面3上各虛線之每個交點之離散的標高值而得到。
所得之標高值數目，係由測定範圍與△x及△y而決定，如圖3所示，以x軸方向之測定範圍為X=M△x、以y軸方向之測定範圍為Y=N△y時，所得之標高值數目為(M+1)×(N+1)個。
如圖3所示，以防眩薄膜之投影面3上的著眼點A之座標為(j△x,k△y)[j為0以上、M以下；k為0以上、N以下]時，對應於著眼點A之防眩薄膜的第1凹凸表面上之點P之標高，可表示為h(j△x,k△y)。
測定間隔△x及△y，係依賴於測定機器之水平解像力，為了精度良好地評估第1凹凸表面，如上所述，較佳係△x及△y均為5μm以下、更佳為2μm以下。又，測定範圍X及Y，如上所述，較佳均為200μm以上、更佳均為500μm以上。
如此地，實際測定中，表示第1凹凸表面之標高的函數，能夠作為具備(M+1)×(N+1)個值之離散函數h (x,y)而得到。因此，藉由以測定所得之離散函數h(x,y)與以下述式(2)定義之離散傅立葉轉換，求得離散函數H(fx,fy)；藉由將離散函數H(fx,fy)予以二次方，求得能譜之離散函數H2(fx,fy)。下述式(2)中之1，係-(M+1)/2以上、(M+1)/2以下之整數，m為-(N+1)/2以上、(N+1)/2以下之整數。又，△fx及△fy，各為x方向及y方向之空間頻率間隔，分別以下述式(3)及式(4)定義。△fx及△fy，係相當於標高的能譜之水平解像力。
圖4係以二維之離散函數h(x,y)來表示本發明之防眩薄膜所具備之防眩層的第1凹凸表面之標高的圖之一例。圖4中，將標高以白與黑之階度來表示。圖4所示之離散函數h(x,y)，係具備512×512個的值、水平解像力△x及△y為1.66μm。
又，圖5係以白與黑之階度來表示將圖4所示之二維函數h(x,y)予以離散傅立葉轉換而得之標高的能譜H2(fx,fy)的圖。圖5所示之標高的能譜H2(fx,fy)，亦為具備512×512個的值之離散函數、標高的能譜之水平解像力△fx及△fy為0.0012μm-1。
如圖4所示之例子，本發明之防眩薄膜所具備之防眩層之第1凹凸表面，係由隨機形成的凹凸所構成，因此標高的能譜，如圖5所示，係以原點為中心而呈對稱。因而，在某空間頻率(某個fx或fy)之標高的能譜H2(fx,fy)，可由通過二維函數之能譜H2(fx,fy)的原點之截面來求得。圖6係顯示圖5所示之能譜H2(fx,fy)在fx=0之截面。圖6中，空間頻率0.01μm-1之第1凹凸表面之標高的能譜H1 2為36.5、空間頻率0.1μm-1之第1凹凸表面之標高的能譜H2 2為0.0068、空間頻率0.04μm-1之第1凹凸表面之標高的能譜H3 2為0.32，因此，比H1 2/H2 2係算出為5349、比H3 2/H2 2係算出為48。
如上所述，本發明中，空間頻率0.01μm-1之第1凹凸表面之標高的能譜H1 2、與空間頻率0.1μm-1之標高的能譜H2 2的比H1 2/H2 2，為2000~6000之範圍內。標高的能譜之比H1 2/H2 2未達2000，表示於第1凹凸表面中多含有未達10μm的短週期成分，此時容易產生脫色。
亦即，第1凹凸表面中所含之未達10μm的短週期成分，未對防眩性有效地作出貢獻，另一方面會使入射於第1凹凸表面之光散射而成為脫色的原因。又，比H1 2/H2 2超過6000，係表示於第1凹凸表面多含有100μm以上之長週期凹凸形狀，未達10μm的短週期之凹凸形狀少。此時，將防眩薄膜配置於高精細之影像顯示裝置時，會有發生眩光的傾向。
為了更有效地抑制脫色及眩光，標高的能譜之比 H1 2/H2 2，較佳為3000~6000之範圍內、更佳為4000~6000之範圍內。
又，本發明中，空間頻率0.04μm-1之第1凹凸表面之標高的能譜H3 2、與空間頻率0.1μm-1之標高的能譜H2 2之比H3 2/H2 2，係30~60之範圍內、較佳為40~55之範圍內。標高的能譜之比H3 2/H2 2未達30，表示於第1凹凸表面中多含有未達10μm之短週期成分，容易產生脫色。又，比H3 2/H2 2超過60，表示於第1凹凸表面多含有未達25μm之短週期的凹凸形狀。此時，無法有效地防止外部光之背景反射，無法得到充分的防眩性能。
空間頻率0.06μm-1之第1凹凸表面之標高的能譜H4 2、與空間頻率0.1μm-1之標高的能譜H2 2的比H4 2/H2 2，較佳為10以上。標高的能譜之比H4 2/H2 2未達10，係表示於第1凹凸表面多含有100μm以上之長週期的凹凸形狀，未達17μm之短週期的凹凸形狀少。此時，將防眩薄膜配置於高精細之影像顯示裝置時，可能產生眩光。為了更有效地抑制眩光，更佳係比H4 2/H2 2為12以上。
[第1凹凸表面之傾斜角度]
防眩層102之第1凹凸表面103，較佳為包含95%以上之傾斜角度5°以下的面(微小面)。傾斜角度為5°以下之面的比例低於95%時，凹凸表面之傾斜角度變陡峭，容易使來自周圍之聚光，而發生顯示面全體變白的脫色。為 了抑制如此之聚光效果，有效地防止脫色，傾斜角度為5°以下之面的比例越高則越佳，較佳為97%以上、更佳為99%以上。
「第1凹凸表面之傾斜角度」，參照圖2，意指於防眩薄膜1之第1凹凸表面的任意點P中，相對於防眩薄膜之主法線方向5，添加了其中的凹凸後的局部的法線6所成的角度(表面傾斜角度)。第1凹凸表面之傾斜角度，亦與標高相同地，可由以共軛焦顯微鏡、干涉顯微鏡、原子力顯微鏡(AFM)等裝置所測定之表面形狀的三維資訊所求得。
圖7係用以說明第1凹凸表面之傾斜角度的測定方法之示意圖。基於圖7說明具體的傾斜角度之決定方法，首先，決定以點線所示之假想平面FGHI上的著眼點A，於通過其之x軸上之著眼點A附近，與對點A大致對稱地取點B及D，且於通過點A之y軸上的著眼點A附近，與對點A大致對稱地取點C及E，決定對應於此等點B,C,D,E之防眩薄膜的第1凹凸表面上之點Q,R,S,T。再者圖7中，係將防眩薄膜面內之直角座標以(x,y)表示，將防眩薄膜厚度方向之座標以z表示。平面FGHI，係由平行於通過y軸上之點C的x軸之直線、及相同地平行於通過y軸上之點E的x軸之直線、平行於通過x軸上之點B的y軸之直線、及相同地平行於通過x軸上之點D的y軸之直線的各個交點F,G,H,I所形成之面。又，圖7中，係對於平面FGHI，係以實際之防眩薄膜面位置來到 上方的方式描繪，但因著眼點A所採取的位置不同，實際之防眩薄膜面的位置有來到平面FGHI上方的情況、亦有來到下方的情況。
傾斜角度，係可藉由自所測定之表面形狀的三維資訊，求得將由對應於著眼點A之實際防眩薄膜之第1凹凸表面上的點P、與對應於著眼點A附近所採之4點B,C,D,E的實際防眩薄膜之第1凹凸表面上的點Q,R,S,T合計5點所決定的多邊形4平面、亦即四個三角形PQR,PRS,PST,PTQ之各法線向量6a,6b,6c,6d平均而得之平均法線向量(平均法線向量，係與圖2所示之添加了凹凸之局部法線6相同意義)的極角而得到。對各測定點求得傾斜角度後，計算直方圖(histogram)。
圖8，係表示防眩層所具有之第1凹凸表面之傾斜角度分布的直方圖之一例的圖。圖8所示之圖中，橫軸為傾斜角度，係以每隔0.5°來分割。例如，最左邊之直條，表示傾斜角度在0~0.5°之範圍的集合之分布，以下，隨著向右進行，角度每次增大0.5°。圖8中，係於橫軸之每2刻度表示值的下限值，例如橫軸中標記「1」之部分，表示傾斜角度為1~1.5°之範圍的集合之分布。又，縱軸表示傾斜角度之分布，合計則為1(100%)之值。此例子中，傾斜角度為5°以下之面的比例為大致100%。
[第1凹凸表面之最大截面高度Rt]
防眩層102之第1凹凸表面103，根據JIS B 0601之 規定，最大截面高度Rt較佳為0.3~1μm。最大截面高度Rt低於0.3μm時，防眩性可能不充分。另一方面，最大截面高度Rt高於1μm時，可能產生脫色，凹凸形狀之均勻性可能降低而產生眩光。
[防眩層之構成]
防眩層102係具有透光性之樹脂層，例如，可由紫外線硬化性樹脂、電子束硬化性樹脂等之活性能量線硬化性樹脂；熱硬化性樹脂；熱可塑性樹脂；金屬烷氧化物等形成。此等之中，因具有高硬度、可賦予高的耐擦傷性，尤以活性能量線硬化性樹脂為適合。使用活性能量線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂或金屬烷氧化物時，係藉由以活性能量線照射或加熱使該樹脂硬化，而形成防眩層102。
活性能量線硬化性樹脂，可為含有多官能(甲基)丙烯酸酯化合物者。多官能(甲基)丙烯酸酯化合物，係指於分子中具有至少2個(甲基)丙烯醯氧基之化合物。活性能量線硬化性樹脂，可含有1種或2種以上之多官能(甲基)丙烯酸酯化合物。
多官能(甲基)丙烯酸酯化合物之具體例子，係包含多元醇與(甲基)丙烯酸之酯化合物、胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物、聚酯(甲基)丙烯酸酯化合物、(甲基)丙烯酸環氧酯化合物等之含有2個以上(甲基)丙烯醯基之多官能聚合性化合物。
多元醇可列舉例如如乙二醇、二乙二醇、三乙二醇、 四乙二醇、聚乙二醇、丙二醇(propylene glycol)、二丙二醇、三丙二醇、四丙二醇、聚丙二醇、丙二醇(propanediol)、丁二醇、戊二醇、己二醇、新戊二醇、2-乙基-1,3-己二醇、2,2’-硫代二乙醇、1,4-環己烷二甲醇之2元醇；如三羥甲基丙烷、甘油、季戊四醇、二甘油、二季戊四醇、二-三羥甲基丙烷之3元以上之醇。
多元醇與(甲基)丙烯酸之酯化物的具體例子，包含乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、四羥甲基甲烷三(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、四羥甲基甲烷四(甲基)丙烯酸酯、五甘油三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯。
胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物，可列舉1分子中具有複數個異氰酸酯基之異氰酸酯、與具有羥基之(甲基)丙烯酸衍生物的胺基甲酸酯化反應物。1分子中具有複數個異氰酸酯基之有機異氰酸酯，可列舉如六亞甲基二異氰酸酯、異佛酮二異氰酸酯、甲伸苯基二異氰酸酯、萘二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯、二環己基甲烷二異氰酸酯之1分子中具有2個異氰酸 酯基之有機異氰酸酯，此外可列舉將此等有機異氰酸酯予以三聚異氰酸酯改質、加合物改質或縮二脲改質而得之1分子中具有3個異氰酸酯基之有機異氰酸酯等。
具有羥基之(甲基)丙烯酸衍生物的具體例子，係包含(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸2-羥基-3-苯氧基丙酯、季戊四醇三丙烯酸酯。
聚酯(甲基)丙烯酸酯化合物之適合的例子，係使含有羥基之聚酯與(甲基)丙烯酸反應而得之聚酯(甲基)丙烯酸酯。較佳可使用之含有羥基之聚酯，係藉由多元醇與羧酸或具有複數個羧基之化合物及/或其酐的酯化反應而得之含有羥基之聚酯。
作為多元醇，可舉例與前述化合物相同者。又，作為多元醇，亦可使用如雙酚A之具有酚性羥基之化合物。羧酸可列舉甲酸、乙酸、丁基羧酸、安息香酸等。作為具有複數個羧基之化合物及/或其酐，可列舉馬來酸、鄰苯二甲酸、富馬酸、依康酸、己二酸、對苯二甲酸、馬來酸酐、鄰苯二甲酸酐、偏苯三甲酸、環己烷二羧酸酐等。
如以上之多官能(甲基)丙烯酸酯化合物當中，就硬化物之硬度或獲得容易性的觀點而言，尤較佳為使用己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三 (甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等之酯化合物；六亞甲基二異氰酸酯與(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯之加成物；異佛酮二異氰酸酯與(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯之加成物；甲伸苯基二異氰酸酯與(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯之加成物；加合物改質異佛酮二異氰酸酯與(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯之加成物；及縮二脲改質異佛酮二異氰酸酯與(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯之加成物。進一步地，活性能量線硬化性樹脂，由其硬化物會顯示良好可撓性而言，較佳為含有胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物。
活性能量線硬化性樹脂，於多官能(甲基)丙烯酸酯化合物以外，可含有單官能(甲基)丙烯酸酯化合物。單官能(甲基)丙烯酸酯化合物之具體例子，包含(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸t-丁酯、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸羥基丁酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸2-羥基-3-苯氧基丙酯、(甲基)丙烯酸環氧丙酯、丙烯醯基嗎啉、N-乙烯基吡咯啶酮、(甲基)丙烯酸四氫呋喃甲酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸異莰酯、(甲基)丙烯酸乙醯酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丁酯、乙基卡必醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苯氧酯、環氧 乙烷改質(甲基)丙烯酸苯氧酯、環氧丙烷(甲基)丙烯酸酯、壬基酚(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改質(甲基)丙烯酸酯、環氧丙烷改質壬基酚(甲基)丙烯酸酯、甲氧基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、鄰苯二甲酸2-(甲基)丙烯醯氧基乙基-2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸二甲基胺基乙酯、甲氧基三乙二醇(甲基)丙烯酸酯等。單官能(甲基)丙烯酸酯化合物可僅1種單獨使用、亦可合併使用2種以上。
活性能量線硬化性樹脂，於多官能(甲基)丙烯酸酯化合物以外，可含有聚合性寡聚物。藉由含有聚合性寡聚物，可調整防眩層102之硬度。聚合性寡聚物可僅1種單獨使用、亦可合併使用2種以上。
聚合性寡聚物，例如可為如前述多官能(甲基)丙烯酸酯化合物，亦即多元醇與(甲基)丙烯酸之酯化合物、胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物、聚酯(甲基)丙烯酸酯化合物或(甲基)丙烯酸環氧酯等之2聚體、3聚體等的寡聚物。
又，聚合性寡聚物之其他例子，可列舉藉由分子中具有至少2個異氰酸酯基之聚異氰酸酯、與具有至少1個(甲基)丙烯醯氧基之多元醇的反應所得到之胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯寡聚物。聚異氰酸酯之具體例子，係包含六亞甲基二異氰酸酯、異佛酮二異氰酸酯、甲伸苯基二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯之聚合物等。具有至少1個(甲基)丙烯醯氧基之多元醇 的具體例子，係藉由多元醇與(甲基)丙烯酸之酯化反應所得到之含有羥基之(甲基)丙烯酸酯，多元醇係包含例如1,3-丁二醇、1,4-丁二醇、1,6-己二醇、二乙二醇、三乙二醇、新戊二醇、聚乙二醇、聚丙二醇、三羥甲基丙烷、甘油、季戊四醇、二季戊四醇等。此具有至少1個(甲基)丙烯醯氧基之多元醇，係多元醇之醇性羥基的一部分與(甲基)丙烯酸進行酯化反應，且醇性羥基殘存於分子中者。
進一步地，作為聚合性寡聚物之其他例子，可列舉藉由具有複數個羧基之化合物及/或其酐、與具有至少1個(甲基)丙烯醯氧基之多元醇的反應所得到之聚酯(甲基)丙烯酸酯寡聚物。具有複數個羧基之化合物及/或其酐，可舉例與關於前述聚酯(甲基)丙烯酸酯化合物所記載的為相同者。又，具有至少1個(甲基)丙烯醯氧基之多元醇，可舉例與關於前述胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯寡聚物所記載的為相同者。
作為胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯寡聚物之其他例子，可列舉使異氰酸酯類與含有羥基之聚酯、含有羥基之聚醚或含有羥基之(甲基)丙烯酸酯之羥基反應所得到之化合物。較佳可使用之含有羥基之聚酯，係藉由多元醇與羧酸或具有複數個羧基之化合物及/或其酐的酯化反應所得之含有羥基之聚酯。作為多元醇、或具有複數個羧基之化合物及/或其酐，各自可舉例與關於前述聚酯(甲基)丙烯酸酯化合物所記載的為相同者。
較佳可使用之含有羥基之聚醚，係藉由於多元醇加成1種或2種以上之環氧烷及/或ε-己內酯而得到之含有羥基之聚醚。多元醇可為與前述之含有羥基之聚酯可使用的為相同者。
較佳可使用之含有羥基之(甲基)丙烯酸酯，可舉例與關於作為前述聚合性寡聚物之胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯寡聚物所記載的為相同者。異氰酸酯類，較佳為分子中具有1個以上異氰酸酯基之化合物；更佳為如甲伸苯基二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、異佛酮二異氰酸酯之2價異氰酸酯化合物。
熱硬化性樹脂之具體例子，係包含由丙烯酸多元醇(acrylic polyol)與異氰酸酯預聚物所構成之熱硬化性胺基甲酸酯樹脂；酚樹脂；尿素三聚氰胺樹脂；環氧基樹脂；不飽和聚酯樹脂；聚矽氧樹脂。
熱可塑性樹脂之具體例子，係包含如乙醯基纖維素、硝基纖維素、乙醯基丁基纖維素、乙基纖維素、甲基纖維素之纖維素衍生物；如乙酸乙烯酯及其共聚物、氯乙烯及其共聚物、偏二氯乙烯及其共聚物之乙烯基系樹脂；如聚乙烯基甲縮醛、聚乙烯基丁縮醛之縮醛系樹脂；如丙烯酸樹脂及其共聚物、甲基丙烯酸樹脂及其共聚物之(甲基)丙烯酸系樹脂；聚苯乙烯系樹脂；聚醯胺系樹脂；聚酯系樹脂；聚碳酸酯系樹脂。
金屬烷氧化物，可使用以烷氧化矽系材料為原料之氧化矽系基質等。具體而言，係四甲氧基矽烷、四乙氧基矽 烷等，可藉由水解或脫水縮合而作為無機系或有機無機複合系基質。
防眩層102，亦可含有會產生內部散射之透光性微粒子，但較佳為不含有如此之透光性微粒子。含有透光性微粒子時，雖有可改善眩光之傾向，但容易產生脫色。又，對比亦有降低之傾向。
透光性微粒子，可列舉由(甲基)丙烯酸系樹脂、三聚氰胺樹脂、聚乙烯、聚苯乙烯、有機聚矽氧樹脂、丙烯酸-苯乙烯共聚物等所成之有機微粒子；或由碳酸鈣、二氧化矽、氧化鋁、碳酸鋇、硫酸鋇、氧化鈦、玻璃等所成之無機微粒子。透光性微粒子之重量平均粒徑，較佳為0.5~20μm左右(更佳為5~10μm)，又，其形狀較佳為球狀或大致球狀。
防眩層102之厚度，通常係1~20μm左右、較佳為3~15μm。「防眩層之厚度」，係指防眩層102中自透光性支持層101側之面起至相反側之面(第1凹凸表面103)為止的最大厚度。
[防眩層之霧度]
防眩層102之全霧度及內部霧度，分別以5%以下較佳、更佳為3%以下、又更佳為未達1.5%。又，起因於防眩層102之第1凹凸表面103的表面霧度，較佳為1.2%以下、更佳為1%以下。於透光性支持層101上具備防眩層102之防眩薄膜的全霧度、內部霧度及表面霧度的較佳 範圍亦相同。
「全霧度」，係指由上述式[A]所求得之防眩層102之霧度。「內部霧度」係指全霧度當中，起因於第1凹凸表面103之霧度(表面霧度)以外的霧度。
防眩層102之全霧度及內部霧度太高時，對比有降低之傾向。又，起因於第1凹凸表面103之表面霧度太高時，因表面漫反射而容易產生脫色。
防眩薄膜或防眩層102之全霧度、內部霧度及表面霧度，可由如下方式測定。首先，為了防止被測定物之翹曲，係使用光學上透明之黏著劑，將被測定物，以第1凹凸表面103為表面的方式貼合於玻璃基板，製作測定用樣品，對該測定用樣品測定全霧度值。全霧度值係使用根據了JIS K 7136之霧度透過率計(例如、村上色彩技術研究所股份有限公司製之霧度計「HM-150」)，測定全光線透過率Tt及擴散光線透過率Td，由上述式[A]算出。
接著，使用甘油將霧度實質為零的三乙醯基纖維素薄膜貼合於第1凹凸表面103，以與全霧度之測定相同方式來測定霧度。
該霧度，係由起因於第1凹凸表面103之霧度被貼合之三乙醯基纖維素薄膜所消去，因此可見為內部霧度。因此，表面霧度可由下述式[B]：表面霧度(%)=全霧度(%)-內部霧度(%) [B]來求出。
<防眩薄膜之製造方法>
藉由包含於層合於透光性支持層101上之以如紫外線硬化性樹脂般的硬化性樹脂或熱可塑性樹脂等所構成之樹脂層表面，轉印模具之凹凸表面(以下稱為「第2凹凸表面」)的凹凸形狀之步驟的方法，可適合製造本發明之防眩薄膜。第2凹凸表面之凹凸形狀，係防眩層102所具有之第1凹凸表面103的凹凸形狀之轉印構造。此製造方法中較佳可使用之模具及其製造方法係如後述。
作為防眩層102之上述樹脂層，係包含形成其之樹脂成分(活性能量線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂或金屬烷氧化物等)，且可藉由進一步依需要將含有如有機溶劑等之溶劑；如調平劑、分散劑、抗靜電劑、防污劑之其他成分的塗覆液塗覆於透光性支持層101上，且依需要使其乾燥而形成。使用紫外線硬化性樹脂作為樹脂成分時，塗覆液係進一步含有光聚合起始劑(自由基聚合起始劑)。
光聚合起始劑，可使用例如苯乙酮系光聚合起始劑、苯偶姻系光聚合起始劑、二苯甲酮系光聚合起始劑、噻噸酮系光聚合起始劑、三嗪系光聚合起始劑、噁二唑系光聚合起始劑等。又，光聚合起始劑，亦可使用例如2,4,6-三甲基苄醯基二苯基膦氧化物、2,2’-雙(o-氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-聯咪唑、10-丁基-2-氯吖啶酮、2-乙基蒽醌、苄基、9,10-菲醌、樟腦醌、苯基乙醛酸甲酯、二茂鈦化合物等。光聚合起始劑之使用量，相對於塗覆液中 所含有之樹脂成分100重量份，通常為0.5~20重量份、較佳為1~5重量份。
有機溶劑之具體例子，係包含如己烷、環己烷、辛烷之脂肪族烴；如甲苯、二甲苯之芳香族烴；如乙醇、1-丙醇、異丙醇、1-丁醇、環己醇之醇類；如甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮之酮類；如乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸異丁酯之酯類；如乙二醇單甲基醚、乙二醇單乙基醚、二乙二醇單乙基醚、丙二醇單甲基醚、丙二醇單乙基醚之二醇醚類；如乙二醇單甲基醚乙酸酯、丙二醇單甲基醚乙酸酯之酯化二醇醚類；如2-甲氧基乙醇、2-乙氧基乙醇、2-丁氧基乙醇之賽珞蘇類；如2-(2-甲氧基乙氧基)乙醇、2-(2-乙氧基乙氧基)乙醇、2-(2-丁氧基乙氧基)乙醇之卡必醇類。塗覆液可含有1種或2種以上之有機溶劑。
塗覆液對透光性支持層101上之塗覆，例如可藉由凹版塗佈法、微凹版塗佈法、棒塗佈法、刮刀塗佈法、氣刀塗佈法、吻合塗佈(kiss coating)法、模塗佈法等進行。
以塗覆液之塗覆性改良或與防眩層102之接著性改良為目的，亦可對透光性支持層101之表面(樹脂層側表面)施以各種表面處理。表面處理可列舉電暈放電處理、輝光放電處理、酸表面處理、鹼表面處理、紫外線照射處理等。又，例如亦可於透光性支持層101上形成底塗層等其他層，於此其他層之上形成樹脂層。
接著，於所得樹脂層之表面，壓合模具之第2凹凸表 面，藉以將第2凹凸表面之凹凸形狀轉印於樹脂層表面，之後，藉由自模具剝離，得到由具有第1凹凸表面103之防眩層102與透光性支持層101所構成之防眩薄膜。樹脂層以硬化性樹脂構成的情況時，係於使模具之第2凹凸表面密合於樹脂層表面的狀態下，由透光性支持層101側照射活性能量線、或藉由加熱使樹脂層硬化。
作為活性能量線，可依照塗覆液中所含的硬化性樹脂種類，由紫外線、電子束、近紫外線、可見光、近紅外線、紅外線、X射線等中適當選擇，此等之中較佳為紫外線、電子束；特別就操作簡便且可得到高能量而言，以紫外線為佳。
紫外線之光源可使用例如低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、碳弧光燈、金屬鹵化物燈、氙燈等。
又，亦可使用ArF準分子雷射、KrF準分子雷射、準分子燈、同步輻射光等。
電子束可列舉具有由柯克勞夫-沃耳吞型、凡得格拉夫型、共振變壓型、絕緣核心變壓型、直線型、高頻高壓(dynamitron)型、高頻率型等各種電子束加速器所放出之50~1000keV、較佳為100~300keV之能量的電子束。
<防眩薄膜製造用之模具及其製造方法>
本發明之防眩薄膜製造用之模具，係其最表面(與基材相反側之最表面)以防眩層102所具有之第1凹凸表面 103之凹凸形狀的轉印構造所成之第2凹凸表面所構成，且適合製造前述本發明之防眩薄膜的模具。本發明之模具，具有依序包含基材、第1鍍銅層、與鍍鎳層之層合構造。本發明之模具，可進一步包含任意層合於鍍鎳層上之以碳為主成分的保護層。又，亦可任意包含配置於基材與第1鍍銅層之間的第2鍍銅層及鍍銀層。
又，模具之第2凹凸表面，係滿足下述之空間頻率分布特性：空間頻率0.01μm-1之第2凹凸表面之標高的能譜H1 2、與空間頻率0.1μm-1之標高的能譜H2 2的比H1 2/H2 2為2000~6000之範圍內(較佳為3000~6000之範圍內)，且空間頻率0.04μm-1之第2凹凸表面之標高的能譜H3 2、與空間頻率0.1μm-1之標高的能譜H2 2的比H3 2/H2 2為30~60之範圍內(較佳為40~55之範圍內)。
第2凹凸表面，又較佳為滿足下述之空間頻率分布特性：空間頻率0.06μm-1之前述第2凹凸表面之標高的能譜H4 2、與空間頻率0.1μm-1之前述第2凹凸表面之標高的能譜H2 2的比H4 2/H2 2為10以上(更佳為12以上)。
第2凹凸表面所示之上述空間頻率分布特性，係與第1凹凸表面103之空間頻率分布特性相同。因此，藉由使用本發明之模具，可控制性良好、且再現性良好地來製造具備顯示與其所具有之空間頻率分布特性同等之空間頻率 分布特性的第1凹凸表面103的防眩薄膜。
又，於最表面(設置以碳為主成分之保護層時，係其正下方)配置有鍍鎳層之本發明之模具，不易於鍍鎳層產生微細的龜裂，耐久性優良。又，依照本發明之模具，可防止因龜裂構造之轉印，而於防眩層102之第1凹凸表面103無意間形成之微細凹凸所造成的眩光產生。
本發明之模具，可藉由包含下列步驟的方法而適合地製造：於基材上形成第1鍍銅層之第3鍍敷步驟、研磨第1鍍銅層表面之研磨步驟、於第1鍍銅層之經研磨的表面，形成感光性樹脂膜之感光性樹脂膜形成步驟、於感光性樹脂膜上使圖型曝光之曝光步驟、將圖型經曝光之感光性樹脂膜顯影之顯影步驟、以經顯影之感光性樹脂膜為遮罩，進行第1蝕刻處理，於第1鍍銅層之經研磨的表面，形成凹凸形狀之第1蝕刻步驟、將感光性樹脂膜剝離之感光性樹脂膜剝離步驟、將以第1蝕刻步驟所形成之凹凸形狀，藉由第2蝕刻處理予以鈍化的第2蝕刻步驟、於由以第2蝕刻處理而被鈍化的凹凸形狀所構成之第1鍍銅層之凹凸表面上，形成鍍鎳層之第4鍍敷步驟。
又，於第3鍍敷步驟之前，亦可設置於基材表面上形成第2鍍銅層之第1鍍敷步驟、及於第2鍍銅層上形成鍍 銀層之第2鍍敷步驟，於第4鍍敷步驟後，亦可設置藉由蒸鍍而形成以碳為主成分之保護層的蒸鍍步驟。以下，一邊參照示意性顯示於各步驟之模具截面的圖9，一邊詳細說明模具之製造方法。
(1)第1鍍敷步驟
本步驟，係於模具所使用之基材7表面，形成作為基底之第2鍍銅層71之可任意設置的步驟[圖9(a)]。藉由於基材7之表面形成第2鍍銅層71，可有效地消除基材7表面所存在之缺陷。亦即，藉由施以被覆性高、平滑化作用強之鍍銅，可填平基材7之微小的凹凸或孔洞等，形成平坦且有光澤的表面。又，鍍銅層具有良好的加工性，因此後述之研磨加工等變得容易。
第1鍍敷步驟中所使用之銅，可為銅之純金屬、亦可為以銅為主體的合金。鍍銅能夠以電解鍍敷進行、亦能夠以無電解鍍敷進行，但通常係以電解鍍敷進行。
第2鍍銅層71太薄時，無法完全排除基材7之表面的影響，因此其厚度較佳為50μm以上。又，第2鍍銅層71之厚度，通常係500μm左右以下。
就成本等之觀點而言，基材7能夠以鋁或鐵等構成，就操作性之觀點而言，較佳為以輕量的鋁構成。此處所指的鋁或鐵，亦各可為純金屬、此外亦可為以鋁或鐵為主體之合金。
基材7之形狀，可為該領域中以往所採用的適當形 狀，例如可為平板狀、亦可為圓柱狀或圓筒狀之滾筒。若使用滾筒狀基材來製作模具，則有可將防眩薄膜製造為連續的滾筒狀之有利點。
(2)第2鍍敷步驟
本步驟係於在第1鍍敷步驟中形成於基材7表面的第2鍍銅層71上，形成鍍銀層72之可任意設置的步驟[圖9(b)]。此鍍銀層72，與接下來的第3鍍敷步驟中所形成之第1鍍銅層8的密合性低，因此係適合於將基材7再利用的情況之層。亦即，在將一度製作後之模具的表面凹凸形狀去除時，能夠將自第1鍍銅層8起上方的層輕易地剝離。自第1鍍銅層8起上方的層被剝離，且被再利用之基材7，因為已具有第2鍍銅層71及鍍銀層72，故不需要第1鍍敷步驟及第2鍍敷步驟。又，於第1鍍敷步驟後，若對基材7上之第2鍍銅層71表面預先進行機械加工，使具有所期望之機械精度，則將基材7再利用時，亦不需要該機械加工。
第2鍍敷步驟中形成之鍍銀層72，較佳為藉由取代鍍銀而形成。取代鍍銀係藉由塗佈取代鍍銀液而進行。塗佈方法可為旋轉塗佈、噴塗佈、浸漬塗佈等以往周知之方法。
取代鍍銀液係含有可溶性銀鹽與錯化劑之溶液。作為可溶性銀鹽者，只要係於溶液中會生成銀離子之可溶性的鹽類，則可使用任意者，其具體例子，係包含硫酸銀、亞 硫酸銀、碳酸銀、乙酸銀、乳酸銀、磺琥珀酸銀、硝酸銀、有機磺酸銀、四氟硼酸銀、檸檬酸銀、酒石酸銀、葡萄糖酸銀、磺胺酸銀、草酸銀、氧化銀、甲烷磺酸銀、乙烷磺酸銀、乙酸銀、乳酸銀、檸檬酸銀。又，錯化劑可列舉如硫脲類、硫醚類、硫醇類之含硫化合物。
鍍銀層72，因期望不對第1鍍敷步驟中所形成之第2鍍銅層71的形狀造成影響，因此其厚度以薄者為佳。具體而言較佳為1μm以下、更佳為0.5μm以下。
實施第2鍍敷步驟前，第2鍍銅層71之表面較佳為藉由研磨加工，而被機械加工為所期望之精度。此係因第1鍍敷步驟中若在形成第2鍍銅層71之狀態時，表面不一定要完全成為平滑之故。又，若於如前述般於第1鍍敷步驟後，對第2鍍銅層71之表面預先進行可具有所期望機械精度之機械加工，則基材7之再利用則變得容易。作為研磨第2鍍銅層71表面的方法，較佳可使用以旋轉砥石進行之機械研磨加工或使用切削工具之鏡面切削加工。
(3)第3鍍敷步驟
本步驟係於基材上(實施第1及第2鍍敷步驟時係鍍銀層72)上形成第1鍍銅層8之步驟[圖9(c)]。第3鍍敷步驟中可使用之銅，與上述第1鍍敷步驟相同地，可為銅之純金屬、亦可為以銅為主體之合金。鍍銅能夠以電解鍍敷進行、亦能夠以無電解鍍敷進行，通常係以電解鍍敷進行。
第1鍍銅層8太薄時，無法完全排除基材7之表面的影響，因此其厚度較佳為50μm以上。又，第1鍍銅層8之厚度，通常為500μm左右以下。
(4)研磨步驟
本步驟係研磨第1鍍銅層8中與鍍銀層72為相反側的表面80之步驟[圖9(c)]。經此研磨步驟，第1鍍銅層8之表面80，較佳為被研磨為接近鏡面的狀態。此係因基材7(金屬板或金屬滾筒等)，為了使其表面形狀成為所期望之精度，多施以切削或研削等機械加工，藉此基材表面會殘留加工鋸縫，即使於施以鍍銅的狀態，該等之加工鋸縫亦可能殘留，又，在經鍍敷之狀態下，表面不限於完全平滑之故。
亦即，即使於如此之殘留有加工鋸縫等的表面，施以後述之步驟時，加工鋸縫等之凹凸有時會比施以各步驟後所形成之凹凸更深，加工鋸縫會有殘留影響的可能性，使用如此之模具製造防眩薄膜時，可能對光學特性造成無法預期的影響。
關於研磨第1鍍銅層8之表面80的方法，並無特殊限制，其係機械研磨法、電解研磨法、化學研磨法均可使用。機械研磨法可舉例超精加工法(super-finishing)、研光(lapping)、流體研磨法、擦光(buffing)研磨法。又，亦可藉由使用切削工具進行鏡面切削，使表面80成為鏡面。此時的切削工具材質或形狀等並無特殊限制，可 使用超硬刀頭、CBN刀頭、陶瓷刀頭、金剛石刀頭等，然就加工精度之觀點而言較佳為使用金剛石刀頭。
研磨步驟後之表面80的表面粗度而言，根據JIS B 0601規定之中心線平均粗度Ra較佳為0.1μm以下、更佳為0.05μm以下。研磨後之中心線平均粗度Ra大於0.1μm時，於最終所得之模具的第2凹凸表面之凹凸形狀，可能會殘留研磨後之表面粗度的影響，故不佳。中心線平均粗度Ra之下限並無特殊限制，係考慮加工時間或加工成本等來適當決定。
(5)感光性樹脂膜形成步驟
本步驟係於經上述研磨步驟施以研磨之第1鍍銅層8的表面80，塗覆含有感光性樹脂之塗覆液並加熱．乾燥，藉以形成感光性樹脂膜9之步驟[圖9(d)]。
感光性樹脂可使用以往周知之感光性樹脂。具有感光部分會硬化之性質的負型感光性樹脂，例如可使用分子中具有(甲基)丙烯酸基之(甲基)丙烯酸酯的單體或預聚物、雙疊氮與二烯橡膠之混合物、聚桂皮酸乙烯酯系化合物等。又，具有藉由顯影而溶出感光部分，而僅殘留未感光部分之性質的正型感光性樹脂，例如可使用酚樹脂系或酚醛清漆樹脂系等。感光性樹脂中，亦可依需要，摻合增感劑、顯影促進劑、密合性改質劑、塗佈性改良劑等各種添加劑。
為了形成良好的塗膜，上述塗覆液較佳為含有溶劑。 溶劑可使用賽璐蘇系溶劑、丙二醇系溶劑、酯系溶劑、醇系溶劑、酮系溶劑、高極性溶劑等。
感光性樹脂膜9，較佳為以其膜厚之變異係數成為未達10%的方式形成、更佳為以成為5%以下的方式形成。如此地藉由將膜厚之變異係數設為未達特定值，使成為更加均勻的膜厚，可減輕所得模具之第2凹凸表面的凹凸形狀不均。此外，亦可抑制使用模具所製作之防眩薄膜之第1凹凸表面的凹凸形狀不均。
「感光性樹脂膜之膜厚之變異係數」，意指感光性樹脂膜9之膜厚的標準差除以感光性樹脂膜9之膜厚的平均值之值。亦即，意指此變異係數越大，則越會產生膜厚不均。感光性樹脂膜9之膜厚相異時，之後的曝光步驟之感度、或之後的顯影步驟之顯影時間亦會變化。因此，膜厚之變異係數為10%以上時，藉由顯影步驟而顯影於感光性樹脂膜9之圖型亦產生大的不均，結果，所得模具之第2凹凸表面的凹凸形狀、或防眩薄膜之第1凹凸表面的凹凸形狀亦會產生大的不均。
膜厚之變異係數，可藉由測定3處以上之感光性樹脂膜9的膜厚，並計算其平均值與標準差而求得。為了精度良好地求得變異係數，較佳為測定10處以上之感光性樹脂膜9的膜厚。
以膜厚之變異係數成為未達10%的方式塗佈形成感光性樹脂膜9之方法，可列舉(a)藉由調整添加於含有感光性樹脂之塗覆液中的調平劑之種類或量，來調整塗覆液 之調平性的方法、(b)調整塗覆液之稀釋率的方法、(c)採用適宜之塗覆形式的方法、(d)調整塗覆條件之方法等。
調平劑較佳為使用聚矽氧系之調平劑。將聚矽氧系之調平劑添加於塗覆液中時，所塗覆之塗覆液的表面張力會有效降低，提高調平性。聚矽氧系之調平劑的具體例子，係包含如烷基改質聚矽氧油、聚醚改質聚矽氧油、環氧基改質聚矽氧油、胺基改質聚矽氧油、羧基改質聚矽氧油、原醇(carbinol)改質聚矽氧油、烷氧基改質聚矽氧油、兩末端改質聚矽氧油、聚酯改質聚矽氧油、芳烷基改質聚矽氧油、丙烯酸系聚矽氧油之經有機改質的聚矽氧油。
調平劑可單獨僅使用1種、亦可合併使用2種以上。調平劑之添加量，相對於感光性樹脂100重量份，較佳為0.1~5重量份。調平劑之添加量過少時，難以得到調平性提高之效果；過多時則感光性樹脂膜9之密合性降低、或塗覆液之安定性降低。
塗覆液中之感光性樹脂的含量，較佳為3~50重量%、更佳為5~20重量%。感光性樹脂之含量高於50重量%時，會有將塗覆液塗覆並乾燥時的調平性變得不充分，感光性樹脂膜9之膜厚的變異係數增大之虞。另一方面，感光性樹脂之含量低於3重量%時，將塗覆液塗覆並乾燥時會有發生垂流(dripping)等，感光性樹脂膜9之膜厚的變異係數增大之虞。
作為稀釋感光性樹脂的溶劑，可使用前述者，然為了 提高調平性，較佳為使用如甲醇、乙醇、異丙醇、甲基乙基酮之沸點較低的溶劑；與如甲基異丁基酮、甲基賽璐蘇、乙基賽璐蘇、丙二醇單甲基醚之沸點較高的溶劑之混合溶劑。
塗覆液之塗覆形式，較佳可採用旋轉塗佈、滾筒塗佈、線棒式(wire bar)塗佈、環式塗佈(ring coating)。此等之中，尤以採用環式塗佈方式特佳。環式塗佈方式，係有效於作為對圓筒狀之基材均勻塗覆塗覆液之方法。環式塗佈方式中，圍繞圓筒狀基材之外周的圓盤狀塗覆頭，係沿著圓筒狀基材而相對地移動，藉以塗覆塗覆液。於塗覆裝置中，圓筒狀基材係被支撐為鉛直，對圍繞其外周之圓盤狀塗覆頭供給塗覆液後，使塗覆頭由圓筒狀基材之上端部側向下端部側以特定速度移動，藉以於圓筒狀基材之表面均勻地塗覆塗覆液。塗覆液被塗覆於圓筒狀基材的期間，持續供給特定量之塗覆液至塗覆頭。採用環式塗佈方式時，為了均勻地塗覆塗覆液，重要的參數為塗覆頭之相對移動速度。塗覆頭之相對移動速度，係依賴於所塗覆之塗覆液的黏度或調平性，故無法一概而論，但較佳為0.5~300mm/秒。
塗覆塗覆液後，較佳為施以加熱之乾燥處理。乾燥溫度較佳為20~80℃、更佳為25~40℃。乾燥溫度低於20℃時，乾燥時間變長，乾燥中發生垂流的可能性增高。
另一方面，乾燥溫度高於80℃時，會有乾燥時間極端縮短，乾燥中未展現調平效果，感光性樹脂膜9之膜厚 的變異係數增大的可能性。
(6)曝光步驟
本步驟係使特定圖型於在上述感光性樹脂膜形成步驟中所形成的感光性樹脂膜9上曝光之步驟[圖9(e)]。曝光步驟所用的光源，只要配合感光性樹脂之感光波長或感度等予以適當選擇即可，例如可使用高壓水銀燈之g線(波長：436nm)、高壓水銀燈之h線(波長：405nm)、高壓水銀燈之i線(波長：365nm)、半導體雷射(波長：830nm、532nm、488nm、405nm等)、YAG雷射(波長：1064nm)、KrF準分子雷射(波長：248nm)、ArF準分子雷射(波長：193nm)、F2準分子雷射(波長：157nm)等。
為了使模具之第2凹凸表面的凹凸形狀，進而防眩薄膜之第1凹凸表面的凹凸形狀精度良好地形成，較佳為在使圖型於感光性樹脂膜9上被精密控制的狀態下曝光，具體而言，較佳為在電腦上將圖型製成為影像數據，藉由自經電腦控制之雷射頭所發出之雷射光，來描繪根據該影像數據的圖型。雷射描繪可使用印刷版製成用之雷射描繪裝置。如此之雷射描繪裝置，可列舉例如Laser Stream FX((股)Think Laboratory製)等。
「圖型」意指由以計算機所製成之2階度(例如二值化為白與黑的影像數據)或3階度以上之階度所成之影像數據，然亦可包含可明白轉換為該影像數據之數據(矩陣 數據等)。作為可明白轉換為影像數據之數據，可列舉僅保存有各畫素之座標及階度的數據等。
圖9(e)係示意性顯示於感光性樹脂膜9曝光圖型後之狀態。以負型感光性樹脂形成感光性樹脂膜9時，經曝光之區域91藉由曝光而進行樹脂之交聯反應，對後述之顯影液的溶解性降低。因而，於顯影步驟中未經曝光之區域90，係被顯影液溶解，僅殘留經曝光之區域91，此係成為遮罩。另一方面，以正型感光性樹脂形成感光性樹脂膜9時，經曝光之區域91因曝光而樹脂的鍵結被切斷，對後述之顯影液的溶解性增加。因而，顯影步驟中經曝光之區域91，係被顯影液溶解，僅殘留未經曝光之區域90，此係成為遮罩。
[被曝光之圖型的空間頻率分布特性]
於感光性樹脂膜9上被曝光之圖型，較佳為其能譜於空間頻率0.05~0.1μm-1之範圍內具有極大值、更佳為於空間頻率0.007~0.015μm-1之範圍內進一步具有別的極大值。藉由使用顯示如此空間頻率分布特性之圖型，可精度良好地製作具備具有前述空間頻率分布特性之第2凹凸表面的模具。
空間頻率0.007~0.015μm-1之範圍內的能譜強度之極大值，較佳為小於空間頻率0.05~0.1μm-1之範圍內的能譜強度之極大值。藉此，可更有效地抑制眩光。
圖型之能譜，例如若為影像數據，則可藉由將影像數 據轉換為2階度之二值化影像數據後，將影像數據之階度以二維函數g(x,y)表示，將所得之二維函數g(x,y)進行傅立葉轉換，計算二維函數G(fx,fy)，將所得之二維函數G(fx,fy)平方而求得。x及y表示影像數據面內之直角座標(例如x方向為影像數據之橫方向、y方向為影像數據之縱方向)、fx及fy分別表示x方向之空間頻率及y方向之空間頻率。
與求得防眩層102之第1凹凸表面103之標高的能譜的情況同樣地，求得圖型的能譜的情況時，表示影像數據之階度的二維函數g(x,y)，每畫素之階度亦可作為對應於各畫素的值而得到，因此一般係成為離散函數。此時，與求得防眩層102所具有之第1凹凸表面103之標高的能譜的情況同樣地，係藉由離散傅立葉轉換來計算能譜。
具體而言，藉由下述式(5)所定義之離散傅立葉轉換來計算離散函數G(fx,fy)，藉由將離散函數G(fx,fy)平方來求得能譜。式(5)中之π為圓周率、i為虛數單位。又，M為x方向之畫素數、N為y方向之畫素數，l為-M/2以上、M/2以下之整數，m為-N/2以上、N/2以下之整數。△fx及△fy各為x方向及y方向之空間頻率間隔，分別以下述式(6)及式(7)定義。式(6)及式(7)中之△x及△y，各為x軸方向、y軸方向之水平解像力。
再者，圖型為影像數據的情況時，△x及△y分別等於1畫素在x軸方向之長度及y軸方向之長度。亦即，將 圖型製成為6400dpi之影像數據時，係△x=△y=4μm，將圖型製成為12800dpi之影像數據時，係△x=△y=2μm。
被曝光之圖型較佳為隨機，圖型為隨機時，能譜G2(fx,fy)係以原點(fx=0,fy=0)為中心而為對稱。因而，某空間頻率(某fx或fy)之能譜G2(fx,fy)，可由通過二維函數之能譜G2(fx,fy)之原點的截面來求得。
再者，圖型為隨機時，G2(fx,fy)可轉換為以距其原點之距離f(單位：μm-1)為變數的一維函數G2(f)。
具體而言，參照圖10，首先計算位於離原點O(fx=0,fy=0)為(n-1/2)△f以上、未達(n+1/2)△f之距離的全部點(圖10中之黑圓點)之個數Nn。於圖10所示之例子中Nn=16個。接著，計算位於離原點O為(n-1/2)△f以上、未達(n+1/2)△f之距離的全部點之G2(fx,fy)的合計值G2 n(圖10中黑圓點中之G2(fx,fy)的合計值)。一維函數G2(f)，係如下述式(8)： 所示般，以G2(fx,fy)之平均值，亦即合計值G2 n除以點的個數Nn來定義。
M≧N時，n為0以上、N/2以下之整數，M<N時，n 為0以上、M/2以下之整數。又，式(8)中之△f表示(△fx+△fy)/2。
顯示如上述之空間頻率分布特性的圖型，例如，可藉由對於將多數網點(dot)隨機配置所製成之圖型、或具有由以亂數或計算機生成之擬亂數來決定濃淡之隨機明度分布的圖型，施以去除特定空間頻率S以下之低空間頻率成分與特定空間頻率T以上之高空間頻率成分的帶通濾波器處理而得到。隨機配置多數網點時，網點的形狀可為如圓形、橢圓形之圓狀或多角形等，可配置具有同一形狀之多數網點、亦可多數配置相異2種以上之形狀的網點。網點直徑無特殊限制。又，帶通濾波器處理中之上述空間頻率S，較佳為相對於顯示裝置之平均1邊的畫素大小而言，對應於約10分之1以下週期的頻率。上述空間頻率T，較佳為1/(D×2)μm-1以下。D(μm)，係於模具上加工凹凸形狀時所用的加工裝置(例如上述雷射描繪裝置)之解像力。
(7)曝光步驟
本步驟係將圖型經曝光之感光性樹脂膜顯影之步驟[圖9(f)]。
感光性樹脂膜9使用負型感光性樹脂時，未經曝光之區域90係被顯影液溶解，僅經曝光之區域91會殘存在第1鍍銅層8上，在接下來的第1蝕刻步驟中發揮作為遮罩的功能。另一方面，感光性樹脂膜9使用正型感光性樹脂 時，僅經曝光之區域91被顯影液溶解，未經曝光之區域90殘存在第1鍍銅層8上，在接下來的第1蝕刻步驟中發揮作為遮罩的功能。圖9(f)係使用正型感光性樹脂作為感光性樹脂膜9的例子。
顯影液可為以往周知者。顯影液之具體例子，係包含以如氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、矽酸鈉、偏矽酸鈉、氨水之無機鹼類；如乙基胺、n-丙基胺之一級胺類；如二乙基胺、二-n-丁基胺之二級胺類；如三乙基胺、甲基二乙基胺之三級胺類；如二甲基乙醇胺、三乙醇胺之醇胺類；如氫氧化四甲基銨、氫氧化四乙基銨、氫氧化三甲基羥基乙基銨之四級銨鹽；如吡咯、哌啶之環狀胺類等所代表之鹼性水溶液，此外包含如二甲苯、甲苯之有機溶劑。
顯影方法並無特殊限制，可使用浸漬顯影、噴霧顯影、毛刷顯影、超音波顯影等方法。
(8)第1蝕刻步驟
本步驟係使用顯影步驟後殘存之感光性樹脂膜9作為遮罩，主要蝕刻第1鍍銅層8之無遮罩區域81(第1蝕刻處理)，於第1鍍銅層8之經研磨的表面形成凹凸形狀之步驟[圖9(g)]。
第1蝕刻處理通常係藉由使用氯化鐵(III)(FeCl3)液、氯化銅(II)(CuCl2)液或鹼蝕刻液(Cu(NH3)4Cl2)等，腐蝕金屬表面來進行，但亦可使用鹽酸或硫酸等強酸、亦可使用以施加與電解鍍敷時相反的 電位來進行的逆電解蝕刻。
第1蝕刻處理之蝕刻量，較佳為1~50μm、更佳為2~10μm。「蝕刻量」係指以蝕刻所削去之第1鍍銅層8的厚度。蝕刻量未達1μm時，於第1鍍銅層8之表面幾乎不形成凹凸形狀，成為大致上平坦的模具，因此不適於防眩薄膜的製作。又，蝕刻量超過50μm時，形成於第1鍍銅層8之表面的凹凸形狀之高低差變得過大，應用使用所得之模具所製作之防眩薄膜的影像顯示裝置中容易產生脫色。為了得到具有含有95%以上之傾斜角度5°以下之面的第1凹凸表面之防眩薄膜，第1蝕刻處理之蝕刻量更佳為2~8μm。
第1蝕刻處理可藉由1次蝕刻處理來進行、亦可分2次以上進行。分2次以上進行蝕刻處理時，較佳為此等蝕刻處理之蝕刻量合計在上述範圍內。蝕刻量可藉由調整蝕刻處理之手法、蝕刻處理所使用之處理液的組成、蝕刻處理溫度、蝕刻處理時間等來控制。其中尤以藉由固定蝕刻處理之手法、處理液的組成、處理溫度，調整處理時間的長短，來控制蝕刻量大小之方法，係簡便而較佳。
(9)感光性樹脂膜剝離步驟
本步驟，係由在第1蝕刻步驟中形成有凹凸形狀82之第1鍍銅層8表面，剝離作為遮罩使用的感光性樹脂膜9之步驟[圖9(h)]。感光性樹脂膜9通常係使用剝離液而被溶解去除。剝離液可使用與上述顯影液相同者。藉由 剝離液之pH、溫度、濃度及/或浸漬時間等的調整，使用負型感光性樹脂膜時係完全溶解去除曝光部之感光性樹脂膜、使用正型感光性樹脂膜時係完全溶解去除非曝光部之感光性樹脂膜。剝離方法並無特殊限制，可使用浸漬顯影、噴霧顯影、毛刷顯影、超音波顯影等方法。
(10)第2蝕刻步驟
本步驟係將由第1蝕刻步驟所形成之凹凸形狀82，藉由第2蝕刻處理以鈍化的步驟[圖9(i)]。藉此第2蝕刻處理，由第1蝕刻處理所形成之凹凸形狀82中表面傾斜陡峭的部分會消失，藉此，使用所得模具而製造之防眩薄膜的光學特性會朝向較佳的方向變化。
第2蝕刻處理亦與第1蝕刻處理同樣地，通常係藉由使用氯化鐵(III)(FeCl3)液、氯化銅(II)(CuCl2)液或鹼蝕刻液(Cu(NH3)4Cl2)等腐蝕表面來進行，然可使用鹽酸或硫酸等強酸、亦可使用以施加與電解鍍敷時相反的電位來進行的逆電解蝕刻。
施以第2蝕刻處理後之凹凸的鈍化狀況，雖隨著基底金屬種類、蝕刻手法、及由第1蝕刻步驟所得之凹凸大小與深度等而相異，故無法一概而論，但控制鈍化狀況上最大的因乃係蝕刻量。此處所言之蝕刻量，亦為第1鍍銅層8之厚度。蝕刻量小時，使由第1蝕刻步驟所得之凹凸形狀82鈍化的效果不充分，轉印其凹凸形狀所得之防眩薄膜的光學特性不甚佳。另一方面蝕刻量過大時，則凹凸形 狀幾乎消失，成為大致上平坦的模具，因此不適於防眩薄膜製作。因而，蝕刻量較佳為1~50μm之範圍內，又，為了得到具有含有95%以上之傾斜角度5°以下的面之第1凹凸表面的防眩薄膜，更佳為4~20μm之範圍內。
第2蝕刻處理，亦與第1蝕刻處理同樣地，可藉由1次蝕刻處理來進行、亦可分2次以上進行。分2次以上進行蝕刻處理時，較佳為此等蝕刻處理之蝕刻量合計在上述範圍內。
(11)第4鍍敷步驟
本步驟係於由藉由第2蝕刻處理而鈍化之凹凸形狀82所成之第1鍍銅層8的凹凸表面上行成鍍鎳層83之步驟[圖9(j)]。鍍鎳層83係扮演保護模具表面之角色的層，藉由以鍍鎳來構成該層，可形成不易產生龜裂之耐久性高的保護層。又，藉由於形成有微細凹凸形狀之第1鍍銅層8的表面，形成被覆性高之鍍鎳層83，可工業上有利地鈍化凹凸形狀，該凹凸形狀係朝向作為防眩薄膜製造用模具的較佳方向變化。
非以鍍鎳而係以鍍鉻形成保護層時，於鍍鉻保護層表面之全體會產生微細龜裂。此龜裂構造作為防眩薄膜之第1凹凸表面103的一部分被轉印時，起因於微細凹凸而表面散射會增加，產生眩光、或對比降低。又，由龜裂所露出之第1鍍銅層8會逐漸地生鏽，因此具有鍍鉻保護層之模具會有欠缺長期保存安定性的傾向。進一步地，如此的 生鏽，會使模具表面產生缺陷，缺陷可對防眩薄膜之第1凹凸表面103的凹凸形狀造成不良影響。
鍍鎳之種類並無特殊限制，較佳為使用稱作所謂光澤鍍鎳等之展現良好光澤的鍍鎳。鍍鎳較佳為藉由電解進行，作為其鍍敷浴，可使用含有硫酸鎳、氯化鎳、硼酸之水溶液。藉由調節電流密度與電解時間，可控制鍍鎳層83之厚度。
在控制鍍鎳層83所致之凹凸形狀的鈍化狀況上最大的因子係鍍敷厚度。鍍鎳層83之厚度薄時，使凹凸形狀鈍化的效果不充分，轉印該凹凸形狀所得之防眩薄膜的光學特性不甚佳。另一方面，鍍鎳層83之厚度過厚時，會產生成本上昇或生產性降低，且可能產生稱為團塊(nodule)之突起狀的鍍敷缺陷。因而，鍍鎳層83之厚度較佳為1~10μm之範圍內、更佳為2~8μm之範圍內。
鍍鎳層83之厚度未達1μm時，膜厚控制困難，因此亦可能發生無法進行均勻鍍敷，產生不均、或充分的基底保護變得不充分之不良情況。又，鍍鎳層83之厚度為10μm以上時，會有模具表面之凹凸形狀平坦化，無法得到所期望之光學特性的可能性。
(12)蒸鍍步驟
本步驟係於與鍍鎳層83之第1鍍銅層8相反側的表面84，藉由蒸鍍以形成以碳為主成分之保護層85之可任意設置的步驟[圖9(k)]。形成保護層85的情況時，保 護層85之表面成為第2凹凸表面、不形成保護層85的情況時，鍍鎳層83之表面成為第2凹凸表面。以碳為主成分之保護層85係有光澤、硬度高、且摩擦係數小，因此可賦予良好的脫模性。藉由此保護層85，可提高模具之表面硬度及耐摩耗性，進而提高作為模具之耐久性。亦即，藉由形成保護層85，可防止使用中凹凸被磨損減少、或模具損傷。
保護層85較佳為氫化非晶質碳膜、四面體形非晶質碳膜、氫化四面體形非晶質膜、濺鍍非晶質碳膜等之稱作類金剛石碳(diamond-like carbon)的保護膜。保護層85亦可含有一定程度的如氫或氧之其他元素。
保護層85之形成方法，可使用各種蒸鍍法，例如，氫化非晶質碳膜或氫化四面體形非晶質膜可藉由電漿CVD法或離子化蒸鍍法等、四面體形非晶質碳膜可藉由離子束蒸鍍法等、濺鍍非晶質碳膜可藉由濺鍍法等來形成。
即使形成保護層85，亦期望幾乎不因此使形成鍍鎳層83後之模具表面的凹凸形狀變化，因此，保護層85之厚度較佳為0.1~5μm之範圍內、更佳為0.5~3μm之範圍內。保護層85之厚度過薄時，會有模具耐久性提高效果變得不充分的可能性。另一方面，保護層85之厚度過厚時，不僅生產性降低，且有模具表面之凹凸形狀因形成保護層85而變化，無法得到具有所期望之第1凹凸表面的防眩薄膜之虞。
[實施例]
以下列舉實施例以更詳細說明本發明，但本發明不受此等限定。以下例子中所進行之防眩薄膜製造用模具、模具製造所用之圖型及防眩薄膜的評估項目及其評估方法，係如下所述。
[1]防眩薄膜、模具及圖型之空間頻率分布特性之測定 (a)防眩層所具有之第1凹凸表面之標高的能譜
使用三維顯微鏡「PLμ2300」(Sensofar公司製)，測定防眩薄膜之防眩層所具有之第1凹凸表面的凹凸形狀。為了防止防眩薄膜之翹曲，使用光學上透明的黏著劑，以第1凹凸表面成為最表面的方式將防眩薄膜貼合於玻璃基板之後進行測定。測定時，物鏡之倍率設為10倍。水平解像力△x及△y均為1.66μm、測定面積為850μm×850μm。
由上所得之測定數據，作為二維函數h(x,y)求得防眩薄膜之第1凹凸表面的標高，將所得之二維函數h(x,y)予以離散傅立葉轉換，求得二維函數H(fx,fy)。將二維函數H(fx,fy)平方，計算標高的能譜之二維函數H2(fx,fy)，由fx=0之截面曲線的H2(0,fy)，求得空間頻率0.01μm-1之能譜H1 2、空間頻率0.1μm-1之能譜H2 2、空間頻率0.04μm-1之能譜H3 2及空間頻率0.06μm-1之能譜H4 2，計算能譜之比H1 2/H2 2、H3 2/H2 2及H4 2/H2 2。
(b)模具所具有之第2凹凸表面之標高的能譜
與防眩層所具有之第1凹凸表面之標高的能譜相同地，測定模具所具有之第2凹凸表面之凹凸形狀，計算能譜之比H1 2/H2 2、H3 2/H2 2及H4 2/H2 2。
(c)圖型之能譜
以二維之離散函數g(x,y)，來表示作為影像數據所製成之模具製造用圖型的階度。離散函數g(x,y)之水平解像力△x及△y均為2μm。將所得之二維離散函數g(x,y)予以離散傅立葉轉換，求得二維函數G(fx,fy)，將其平方以計算能譜之二維函數G2(fx,fy)，由fx=0之截面曲線的G2(0,fy)，求得空間頻率0.05~0.1μm-1之範圍內及0.007~0.015μm-1之範圍內之極大值有無及其極大值(波峰之能譜的強度)。
[2]防眩層所具有之第1凹凸表面之傾斜角度
以如上所得之三維顯微鏡的測定數據為準，基於前述演算法計算，製成第1凹凸表面之傾斜角度的直方圖，由其求得各傾斜角度之分布，計算傾斜角度為5°以下之面的比例。
[3]防眩層所具有之第1凹凸表面的最大截面高度Rt
使用根據了JIS B 0601：2001之小形表面粗度測定機 Surftest SJ-301(Mitutoyo股份有限公司製)，測定防眩層所具有之第1凹凸表面的最大截面高度Rt。
[4]防眩薄膜之光學特性 (a)霧度
使用根據了JIS K 7136之霧度計「HM-150」(村上色彩技術研究所股份有限公司製)，遵照上述式[A]，測定防眩薄膜之全霧度。為了防止防眩薄膜之翹曲，係使用光學上透明的黏著劑，以第1凹凸表面成為最表面的方式，將防眩薄膜貼合於玻璃基板後進行測定。
接著，於第1凹凸表面，使用甘油貼合霧度實質為零的三乙醯基纖維素薄膜，以與全霧度之測定同樣方式來測定霧度，以其為內部霧度。由所得之全霧度值及內部霧度值，由上述式[B]算出表面霧度。
一般而言霧度增大時，將防眩薄膜應用於影像顯示裝置時，影像變暗，其結果，正面對比容易降低。因此，霧度係低者較佳。
(b)背景反射及脫色
為了防止來自防眩薄膜之背面的反射，係以第1凹凸表面成為最表面的方式於黑色丙烯酸樹脂板貼合防眩薄膜後，在開啟螢光燈之明亮室內由第1凹凸表面側觀察，遵照下述基準目視評估螢光燈之背景反射有無、脫色的程度。
背景反射 A：未觀察到背景反射、B：稍微觀察到背景反射、C：明確觀察到背景反射。
脫色 A：未觀察到脫色、B：稍微觀察到脫色、C：明確觀察到脫色。
(c)對比及眩光
由市售液晶電視55XS5((股)東芝製)剝離在液晶晶胞之表背兩面的原(original)偏光板，於背面側及顯示面側兩者，以各自的吸收軸與原偏光板之吸收軸成為一致的方式透過黏著劑貼合偏光板「SUMIKARAN SRDB31E」(住友化學(股)製)。接著。於表示面側偏光板之上，以第1凹凸表面成為最表面的方式透過黏著劑貼合以下各例所示之防眩薄膜，製作評估用液晶顯示裝置。
於暗室內，使用輝度計BM-5A(Topcon公司製)，測定評估用液晶顯示裝置在白顯示狀態與黑顯示狀態的正面輝度，作為此等之比而算出對比(正面對比)，遵照下述基準評估。
又，在開啟螢光燈之明亮室內使評估用液晶顯示裝置動作，由離顯示面約30cm的位置目視觀察，藉此遵照下述基準評估眩光的程度。
對比 A：相較於未貼合防眩薄膜的狀態，對比的 降低未達5%、B：相較於未貼合防眩薄膜的狀態，對比的降低為5~10%、C：相較於未貼合防眩薄膜的狀態，對比的降低超過10%。
眩光 A：未觀察到眩光、B：稍微觀察到眩光、C：明確觀察到眩光。
[5]模具之耐久性
將實施例1、2及比較例1中製作之模具置入木箱，於未進行調溫調濕之室內保管3個月。保管後，目視觀察模具表面，評估於第1鍍銅層有無產生腐蝕。以未產生腐蝕的情況為A、產生腐蝕的情況為B。
<實施例1> (防眩薄膜製造用模具之製作)
準備於直徑200mm之鋁滾筒(JIS之A5056)表面施有巴拉德(Ballard)鍍銅者。巴拉德鍍銅係由第2鍍銅層/鍍銀層/第1鍍銅層所構成者，此等鍍敷層之全體厚度約為200μm。
將第1鍍銅層之表面予以鏡面研磨，於經研磨之表面塗覆感光性樹脂並乾燥，形成感光性樹脂膜。感光性樹脂膜係使用正型感光性樹脂。
接著，將使複數個由圖11所示之影像數據所成之圖型連續地重複排列所得的圖型於感光性樹脂膜上以雷射光曝光並顯影。雷射光之曝光及顯影係使用「Laser Stream FX」((股)Think Laboratory製)進行。圖11所示之圖型，相對於具有隨機的明度分布之圖型而言，係應用了去除空間頻率0.040μm-1以下之低空間頻率成分與空間頻率0.070μm-1以上之高空間頻率成分的帶通濾波器所製成。對曝光所用之圖型所求得的能譜G2(fx,fy)在fx=0之截面係如圖12所示。如圖12所示，此圖型於空間頻率0.05~0.1μm-1之範圍內及0.007~0.015μm-1之範圍內具有極大值。各自的極大值(波峰中之能譜強度)係1.1、0.11。
之後，以經顯影之感光性樹脂膜作為遮罩，藉由氯化銅(II)液進行第1蝕刻處理。蝕刻量為3μm。接著，將第1鍍銅層上之感光性樹脂膜去除後，使用氯化銅(II)液進行第2蝕刻處理。蝕刻量為10μm。之後，進行鍍鎳加工製作模具。鍍鎳層之厚度為4μm。
(防眩薄膜之製作)
將光硬化性樹脂組成物GRANDIC 806T(大日本油墨化學工業(股)製)以乙酸乙酯稀釋成為50重量%濃度之溶液，進一步地，光硬化性樹脂成分每100重量份添加5重量份之光聚合起始劑之Lucirin TPO(BASF公司製、化學名：2,4,6-三甲基苄醯基二苯基膦氧化物)，配製防 眩層形成用之塗覆液。
於厚度80μm之三乙醯基纖維素(TAC)薄膜的單面，塗覆上述塗覆液，使乾燥後之光硬化性樹脂組成物層厚度成為5μm，在設定為60℃之乾燥機中乾燥3分鐘。將乾燥後之薄膜，於上述所得模具之凹凸面(第2凹凸表面)，以光硬化性樹脂組成物層成為模具側的的方式以橡膠滾筒壓合使其密合。於此狀態，由TAC薄膜側照射強度20mW/cm2之高壓水銀燈的光，使h線換算光量成為200mJ/cm2，使光硬化性樹脂組成物層硬化。之後，將TAC薄膜連同硬化樹脂層由模具剝離，製作由具有第1凹凸表面之硬化樹脂層(防眩層)與TAC薄膜之層合體所構成的透明防眩薄膜。
<實施例2>
除了於鍍鎳層上以濺鍍法形成由作為保護膜85之類金剛石碳(DLC)膜所構成之保護層以外，係與實施例1相同方式製作模具。保護層之厚度為0.5μm。接著，除了使用此模具以外，係與實施例1相同方式製作防眩薄膜。
<比較例1>
除了進行鍍鉻加工以取代鍍鎳加工以外，係與實施例1相同方式製作模具。鍍鉻層之厚度為4μm。接著，除了使用此模具以外，係與實施例1相同方式製作防眩薄膜。
<比較例2>
不使用模具，以如下方式製作防眩薄膜。混合季戊四醇三丙烯酸酯60重量份、多官能胺基甲酸酯化丙烯酸酯(異佛酮二異氰酸酯與甲基丙烯酸t-丁酯之反應生成物)40重量份、聚苯乙烯系粒子(折射率：1.59、重量平均粒子徑：2μm)3重量份及異丙醇，得到固體成分50重量%之溶液後，於其中以光硬化性樹脂成分每100重量份添加5重量份之作為光聚合起始劑之Irgacure184(Ciba Specialty Chemicals公司製)，配製防眩層形成用之塗覆液。
於厚度80μm之三乙醯基纖維素(TAC)薄膜的單面，塗覆上述塗覆液，使乾燥後之光硬化性樹脂組成物層厚度成為2μm，於設定為60℃之乾燥機中乾燥3分鐘。對乾燥後之薄膜，由光硬化性樹脂組成物層側，照射強度20mW/cm2之高壓水銀燈的光，使h線換算光量成為200mJ/cm2，使光硬化性樹脂組成物層硬化，藉以製作由具有第1凹凸表面之硬化樹脂層(防眩層)與TAC薄膜之層合體所構成之透明防眩薄膜。
<比較例3>
除了於防眩層形成用塗覆液中，以光硬化性樹脂成分每100重量份，含有25重量份之聚苯乙烯系粒子(折射率：1.59、重量平均粒子徑：3μm)以外，係與比較例1相同方式製作防眩薄膜。
表1顯示實施例1、實施例2、比較例1及比較例3中製作之模具的空間頻率分布特性之測定結果、耐久性之評估結果。再者，實施例2之模具，因與實施例1之模具顯示大致同等的空間頻率分布特性，因此實施例2之模具的空間頻率分布特性省略。
以光學顯微鏡觀察於形成第2凹凸表面之最表面形成有鍍鉻層的比較例1及3之模具的第2凹凸表面後，於表面全體確認到微細的龜裂。又，上述耐久性試驗中，於自此龜裂所露出之第1鍍銅層，確認到腐蝕。
將各實施例及比較例中製作之防眩薄膜的構成及評估結果歸納於表2。又，表示實施例1及比較例1~3中製作之防眩薄膜所具有之第1凹凸表面之標高的能譜H2(fx,fy)在fx=0之截面的圖，係如圖13所示。再者，實施例2之防眩薄膜，顯示了與實施例1之防眩薄膜大致同等之能譜。
實施例1及2之防眩薄膜，顯示了特定空間頻率分布特性，具有優良防眩性能，而且展現高對比，可防止脫色及眩光。相對於此，使用最表面由鍍鉻層所成之模具來製作之比較例1之防眩薄膜，未滿足特定空間頻率分布特性，觀察到眩光。相同地使用最表面由鍍鉻層所成之模具來製作之比較例3之防眩薄膜，由於在防眩層中含有多量粒子，故雖消除了眩光，但產生脫色、對比亦降低。以光學顯微鏡觀察比較例1及3之防眩薄膜的第1凹凸表面後，於表面全體確認到微細的龜裂。
未使用模具所製作之比較例2之防眩薄膜，亦未滿足特定空間頻率分布特性，產生脫色及眩光。
101‧‧‧透光性支持層
102‧‧‧防眩層
103‧‧‧第1凹凸表面

Claims (11)

  1. 一種防眩薄膜，其係包含透光性支持層、與層合於透光性支持層上之防眩層，前述防眩層，其與前述透光性支持層相反側之表面，係以第1凹凸表面構成，空間頻率0.01μm-1之前述第1凹凸表面之標高的能譜H1 2、與空間頻率0.1μm-1之前述第1凹凸表面之標高的能譜H2 2的比H1 2/H2 2為2000~6000之範圍內，空間頻率0.04μm-1之前述第1凹凸表面之標高的能譜H3 2、與空間頻率0.1μm-1之前述第1凹凸表面之標高的能譜H2 2的比H3 2/H2 2為30~60之範圍內。
  2. 如請求項1之防眩薄膜，其中空間頻率0.06μm-1之前述第1凹凸表面之標高的能譜H4 2、與空間頻率0.1μm-1之前述第1凹凸表面之標高的能譜H2 2的比H4 2/H2 2為10以上。
  3. 如請求項1或2之防眩薄膜，其中前述第1凹凸表面係包含95%以上之傾斜角度為5°以下的面。
  4. 如請求項1~3中任一項之防眩薄膜，其全霧度未達1.5%。
  5. 一種模具，其係用以製造如請求項1~4中任一項之防眩薄膜之模具，其係依序包含基材、第1鍍銅層、與鍍鎳層，與前述基材相反側之最表面，係以第2凹凸表面構成， 空間頻率0.01μm-1之前述第2凹凸表面之標高的能譜H1 2、與空間頻率0.1μm-1之前述第2凹凸表面之標高的能譜H2 2的比H1 2/H2 2為2000~6000之範圍內，空間頻率0.04μm-1之前述第2凹凸表面之標高的能譜H3 2、與空間頻率0.1μm-1之前述第2凹凸表面之標高的能譜H2 2的比H3 2/H2 2為30~60之範圍內。
  6. 如請求項5之模具，其中空間頻率0.06μm-1之前述第2凹凸表面之標高的能譜H4 2、與空間頻率0.1μm-1之前述第2凹凸表面之標高的能譜H2 2的比H4 2/H2 2為10以上。
  7. 如請求項5或6之模具，其係進一步包含層合於前述鍍鎳層上之以碳為主成分的保護層。
  8. 如請求項5~7中任一項之模具，其係依序包含前述基材、第2鍍銅層、鍍銀層、前述第1鍍銅層、與前述鍍鎳層。
  9. 一種模具之製造方法，其係用以製造如請求項5~8中任一項之模具之方法，其包含：於前述基材上形成前述第1鍍銅層之步驟、研磨前述第1鍍銅層的表面之步驟、於前述第1鍍銅層之經研磨的表面，形成感光性樹脂膜之步驟、於前述感光性樹脂膜上使圖型曝光之步驟、將經使前述圖型曝光之感光性樹脂膜顯影之步驟、將經顯影之感光性樹脂膜作為遮罩，進行第1蝕刻處 理，於前述第1鍍銅層之經研磨的表面，形成凹凸形狀之步驟、剝離前述感光性樹脂膜之步驟、將前述凹凸形狀藉由第2蝕刻處理以鈍化的步驟、與於由藉由第2蝕刻處理而鈍化之凹凸形狀所構成之前述第1鍍銅層的凹凸表面上，形成前述鍍鎳層之步驟，且前述圖型，係顯示於空間頻率0.05~0.1μm-1之範圍內具有極大值的能譜。
  10. 如請求項9之模具之製造方法，其中前述能譜，進一步於空間頻率0.007~0.015μm-1之範圍內具有極大值。
  11. 一種防眩薄膜之製造方法，其係包含準備如請求項5~8中任一項之模具之步驟、與於層合於透光性支持層上之樹脂層表面，轉印前述模具之前述第2凹凸表面的凹凸形狀之步驟。
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