WO2014163035A1 - 被膜付きガラス基板およびその製造方法 - Google Patents

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Definitions

  • the present invention relates to a glass substrate with a coating and a method for producing the same, and more particularly to a glass substrate with a coating having a coating for improving the resin adhesion on the surface of the glass substrate and a method for producing the same.
  • a substrate used for a color liquid crystal display usually forms a black matrix having a light shielding layer in a matrix form on a transparent glass plate in order to prevent light from leaking from between pixels. Further, a color filter layer is provided in a region to be a pixel, and an overcoat layer (usually using an organic resin) for further planarizing the surface is provided on the color filter layer. An ITO transparent conductive film is provided on the surface of the overcoat layer.
  • the black matrix has a role of improving display characteristics by suppressing light leaking from outside the pixel effective area.
  • the black matrix In recent years, resin materials have come to be used as the black matrix, and in this case, it is generally formed by patterning using a photolithography technique. However, due to the small interaction between the resin black matrix and the transparent glass substrate forming the black matrix, the adhesion may be insufficient, and the black matrix may be locally peeled off during the patterning process. was there. Therefore, the production yield of the liquid crystal display is reduced, or the production process conditions are strictly controlled to increase the labor and the manufacturing cost in order to suppress the peeling.
  • the present invention has good adhesion to the resin that is the black matrix raw material, high resolution, and the burden of manufacturing management and cost. It aims at providing the glass substrate which can reduce.
  • the coated glass substrate of the present invention is a glass substrate in which a resin region is formed on the substrate, and a cationic surfactant or an average molecular weight having a hydrophobic group having 14 or more carbon atoms on the surface of the glass substrate.
  • a cationic surfactant or an average molecular weight having a hydrophobic group having 14 or more carbon atoms on the surface of the glass substrate.
  • the surface of the glass substrate contains a cationic surfactant having a hydrophobic group having 14 or more carbon atoms or a cationic polymer having an average molecular weight of 5 to 10 million. It has a step of forming a film made of the cationic surfactant or the cationic polymer by contacting and drying the solution.
  • the coating for improving the adhesion with the resin material is provided on the surface of the glass substrate, and the resin material can be stably formed on the glass surface.
  • a black matrix can be formed stably during the manufacture of a color liquid crystal display.
  • the glass substrate provided with this coating can improve the resolution of black matrix formation, and can stably produce a high-definition liquid crystal display.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of a glass substrate with a coating according to the present invention.
  • a glass substrate 1 with a coating according to the present invention is composed of a glass substrate 2 and a coating 3 formed on the surface thereof. .
  • the glass substrate 2 used here is not particularly limited as long as it is a glass substrate that forms a resin region on its surface.
  • this glass substrate 2 what has a transparent and flat surface is preferable, for example, the glass substrate for color liquid crystal displays which forms resin-made black matrices etc. on the surface is mentioned as a preferable thing.
  • Examples of the material of the glass substrate 2 include silicon dioxide, aluminum oxide, boron oxide, alkali metal oxides, alkaline earth metal oxides, and the like.
  • borosilicate-based materials mainly composed of silicon dioxide and boron oxide.
  • Preferable examples include alkali-free glass and soda lime silica glass mainly composed of silicon dioxide, sodium oxide and calcium oxide.
  • the coating 3 used in the present invention is a single-layer film provided on the surface of the glass substrate 2.
  • the film 3 is a film composed of a cationic surfactant having a hydrophobic group having 14 or more carbon atoms or a cationic polymer having an average molecular weight of 5 to 10 million.
  • the cationic surfactant used here is not particularly limited as long as it is a cationic surfactant having a hydrophobic group having 14 or more carbon atoms.
  • the cationic surfactant may be either an amine salt type or a quaternary ammonium salt type.
  • a trimethylammonium salt such as tetradecyltrimethylammonium chloride, hexadecyltrimethylammonium chloride, octadecyltrimethylammonium chloride
  • pyridinium salts such as decylpyridinium, hexadecylpyridinium chloride, and octadecylpyridinium chloride.
  • the cationic polymer used here may be any polymer having an average molecular weight of 5 to 10 million and having a cationic group in the molecule.
  • an average molecular weight means a weight average molecular weight.
  • Examples of the cationic polymer used here include polydiallyldimethylammonium chloride (PDAC or PDADMAC), poly (dimethylaminoethyl acrylate methyl chloride quaternary salt), poly (dimethylaminoethyl methacrylate methyl chloride quaternary salt), trimethylammonium.
  • Examples include alkyl acrylamide polymer salts, dimethylamine epichlorohydrin condensate salts, polyallylamine, polyethyleneimine, and the like.
  • the cationic polymer preferably has 4 to 25 cationic groups per 1000 molecular weight.
  • the cationic group is a group that becomes a cation when dissolved in a solvent such as water, and examples thereof include an amino group and a quaternary ammonium group.
  • the amino group is a monovalent functional group obtained by removing hydrogen from ammonia, primary amine, or secondary amine, and forms a primary amine, secondary amine, or tertiary amine, respectively.
  • the quaternary ammonium group forms a quaternary ammonium cation.
  • the film 3 is a single-layered film, and has a function of improving the adhesion with the resin material on the glass surface while the manufacturing operation is simple and the structure is simple.
  • the film 3 formed here is made of a surfactant and is bonded to the surface of the glass substrate by electrostatic bonding, and can be easily removed by washing with pure water or an alkaline detergent.
  • a solution containing a cationic surfactant having a hydrophobic group having 14 or more carbon atoms or a cationic polymer having an average molecular weight of 5 to 10 million on the surface of the glass substrate 2 is used. May be contacted and dried to form a film made of a cationic surfactant or a cationic polymer.
  • the cationic surfactant or the cationic polymer is dissolved in pure water or an aqueous solution of a water-soluble organic solvent such as ethanol as a solvent to obtain a solution.
  • the concentration (equivalent) of the cationic group is preferably 0.01 meq / L to 100 meq / L, and more preferably 0.1 to 10 meq / L so as not to become excessive while covering the glass product surface appropriately.
  • the concentration is expressed as 1 eq / L.
  • the pH of the solution can be acidic to alkaline (for example, about pH 4 to 12), but the electrostatic bond strength is further strengthened by promoting the ionization of silanol groups on the glass surface and negatively charging it.
  • the pH of the solution is preferably 8 to 12 and more preferably 10 to 11 in that the amount of adhesion can be increased.
  • the coating method includes a coating method used in a known film forming method of coating by dip coating, spray coating, sponge or the like.
  • the cationic surfactant or cationic polymer contained in the solution can be brought into contact with the cationic group so that the hydrophilic group of the cationic surfactant or the cationic portion of the cationic polymer is placed on the surface side of the glass substrate. Alignment is toward an atmosphere in which the main chain portion of the polymer that connects the hydrophobic group of the surfactant or the cationic portion of the cationic polymer is on the opposite side.
  • silanol group (—Si—OH) present on the surface of the glass substrate is easily charged to a ⁇ charge, so that the hydrophilic group of the cationic surfactant or the cationic polymer that is charged only by contact is charged. This is because the cationic portion is electrostatically attracted to the surface side of the glass substrate.
  • the solvent is removed by heating, air blowing or the like in the state where the cationic surfactants or cationic polymers are aligned in this way, a homogeneous first film can be easily formed.
  • it is preferable to heat to 50 to 90 ° C. in the heat drying, and it is preferable to blow air of 15 to 30 ° C. in the air blow.
  • this film when forming this film, it can be achieved by a simple operation of applying the solution at room temperature, and further, surface modification of the glass substrate can be achieved without compromising drainage regulations and without increasing the environmental load. .
  • the glass substrate with a coating obtained in this way can stably form a resin region on its surface via the coating. Therefore, when the resin region is formed on the substrate surface, a product with high accuracy of the resin region and good yield can be manufactured.
  • a transparent glass substrate of borosilicate non-alkali glass or soda lime silica glass prepare a transparent glass substrate of borosilicate non-alkali glass or soda lime silica glass, and form the above film on the surface to form a glass substrate with a film.
  • a resin black matrix, a color filter layer, an overcoat layer, and an ITO transparent conductive film may be sequentially provided on the glass substrate via the coating film.
  • the resin black matrix a resin in which a black substance such as fine carbon is dispersed and mixed in an acrylic resin, an epoxy resin, a polyimide resin, a polyester resin or the like that can form a pattern with high dimensional accuracy is used. Form a black matrix.
  • the color filter layer may also be formed of a known material used for a color liquid crystal display by a known method such as a pigment dispersion method, a film transfer method, a dyeing method, a printing method, or an electrodeposition method.
  • the overcoat layer is provided to flatten the unevenness generated at the boundary of R, G, B of the color filter layer provided on the resin black matrix, such as acrylic resin, epoxy resin, polyimide resin, etc. These may be formed by a known method. Furthermore, an ITO transparent electrode film may be formed by a known method.
  • the color liquid crystal display thus obtained uses the glass substrate with a film of the present invention, the resin such as a black matrix is hardly peeled off during production and use, the product yield is good, and the performance It will be stable.
  • ⁇ Solution 3 for film formation Each component was dissolved in pure water so that the concentration of dodecyltrimethylammonium chloride, which is a cationic surfactant, was 2 mmol / L and ammonia was 10 mmol / L, thereby preparing a solution 3 for film formation. The pH of this solution is about 10.5.
  • ⁇ Solution 4 for film formation Each component was dissolved in pure water so that the concentration of tetradecyltrimethylammonium chloride as a cationic surfactant was 2 mmol / L and ammonia was 10 mmol / L to prepare a solution 4 for film formation. The pH of this solution is about 10.5.
  • ⁇ Solution 5 for film formation Each component was dissolved in pure water so that the concentration of hexadecyltrimethylammonium chloride, which is a cationic surfactant, was 2 mmol / L and ammonia was 10 mmol / L, thereby preparing a solution 5 for film formation. The pH of this solution is about 10.5.
  • ⁇ Solution 6 for film formation Each component was dissolved in pure water so that the concentration of octadecyltrimethylammonium chloride as a cationic surfactant was 2 mmol / L and ammonia was 10 mmol / L to prepare a solution 6 for film formation. The pH of this solution is about 10.5.
  • ⁇ Solution 8 for film formation The polydiallyldimethylammonium chloride cationic polymer (PDAC or PDADMAC; colloid titration standard solution manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., molecular weight 60,000 to 110,000) is 2 meq / L and ammonia is 10 mmol / L. Each component was dissolved in pure water to prepare a solution 8 for film formation. The pH of this solution is about 10.5.
  • Comparative Examples 2-3 A glass with a coating is prepared in the same manner as in Comparative Example 1 except that the solution 2 for film formation (Comparative Example 2) or the solution 3 for film formation (Comparative Example 3) is used instead of the solution 1 for film formation. A substrate was manufactured.
  • Example 1 A surface-polished glass plate made of alkali-free borosilicate glass having a length of 50 mm, a width of 50 mm, and a thickness of 0.7 mm was dipped in the solution 4 for film formation for 10 seconds and then pulled up. A film was formed on the surface of the glass plate by a dip coating method that was dried by air blow to obtain a glass substrate with a film.
  • Example 5 instead of the film forming solution 4, the film forming solution 5 (Example 2), the film forming solution 6 (Example 3), the film forming solution 7 (Example 4), or the film forming solution A coated glass substrate was produced in the same manner as in Example 1 except that Solution 8 (Example 5) was used.
  • sodium lauryl sulfate as an anionic surfactant and Triton X-100 (polyethylene glycol p-octylphenyl ether) as a nonionic surfactant were subjected to a film formation treatment on a glass substrate in the same manner as described above, and the remaining resolution. Although the test was conducted, the remaining resolution was the same as that of the glass substrate on which no film was formed.
  • a negative photoresist is applied on the surface of the glass substrate to be measured, and potassium hydroxide (photolithographic process is used so that the resist width becomes 2 ⁇ m, 5 ⁇ m, 7 ⁇ m, 9 ⁇ m, 10 ⁇ m, 13 ⁇ m, 15 ⁇ m, and 20 ⁇ m).
  • the development was performed with KOH), and the resolution was determined by leaving the minimum line width of the resist that remained on the glass substrate without peeling.
  • the coated glass substrate of the present invention can adjust the water repellency to the glass substrate, improve the adhesion of the resin to the glass substrate, and the remaining resolution is good, and a fine pattern can be formed. I found it possible.
  • the coated glass substrate of the present invention and the method for producing the same can be widely applied to a glass substrate, the size of the characteristics can be adjusted according to the number of carbons of the hydrophobic group to be used, and the material can be appropriately selected according to the purpose of use. Can produce a glass substrate with an optimum coating.
  • the present invention is particularly suitable for a glass substrate used for a color liquid crystal display.

Abstract

 ブラックマトリックス材料である樹脂との密着性が良好で、解像性も高く、かつ、製造管理やコストの負担を軽減できるガラス基板の提供を目的とする。ガラス基板2の表面に、炭素数が14以上の疎水性基を有する陽イオン界面活性剤又は平均分子量が500~1000万のカチオンポリマーからなる被膜3を有する被膜付きガラス基板1。この被膜を設けることで、ガラス基板と樹脂材料との密着性を改善でき、さらに、フォトリソグラフィープロセスによる解像性も向上できる。

Description

被膜付きガラス基板およびその製造方法
 本発明は被膜付きガラス基板およびその製造方法に係り、特に、ガラス基板表面の樹脂密着力を改善する被膜を有してなる被膜付きガラス基板およびその製造方法に関する。
 カラー液晶ディスプレイに用いる基板は、通常、透明ガラス板上に画素の間から光が漏洩するのを防止するために、遮光層をマトリックス状としたブラックマトリックスを形成している。さらに、画素となる領域に、カラーフィルター層を設け、カラーフィルター層の上にさらに表面を平坦化するためのオーバーコート(通常有機樹脂が用いられる)層が設けられる。そしてこのオーバーコート層の表面に、ITO透明導電膜が設けられて形成される。ブラックマトリックスは、画素有効領域以外から漏れる光を抑制して、表示特性を向上させる役割をもつ。
 近年では、このブラックマトリックスとして樹脂材料が使われるようになってきており、この場合、一般にフォトリソグラフィー技術によるパターニングにより形成される。ところが、この樹脂製のブラックマトリックスとブラックマトリックスを形成する透明ガラス基板との相互作用が小さいために密着性が不十分となることがあり、パターニングプロセスにおいて、局部的にブラックマトリックスの剥離が生じることがあった。したがって、液晶ディスプレイの生産歩留まりが低下してしまったり、この剥離を抑制しようと、生産工程の条件を厳格に管理して、管理の手間や製造コストが増大してしまったり、していた。
 このような問題を解消するため、例えば、樹脂材料とガラス基板との相互作用を改善して密着性を向上するために、ガラス基板に有機官能基を付与したり、二酸化ケイ素膜を形成したりするなどの方法が知られている(特許文献1~3参照)。
特開2000-221485号公報 特開2000-302487号公報 特開2001-192235号公報
 しかしながら、カラー液晶ディスプレイが高精細化されるに伴い、ブラックマトリックスにより微細なパターン形成が要求されるようになってきている。すなわち、ブラックマトリックスのパターニング時の剥離をより効果的に抑制でき、さらに製造時の管理やコストの負担をも抑制できるようなガラス基板が求められてきている。
 そこで、本発明は、従来のカラー液晶ディスプレイ用基板における上記問題点を解決すべく、ブラックマトリックス原料である樹脂との密着性が良好で、解像性も高く、かつ、製造管理やコストの負担を軽減できるガラス基板の提供を目的とする。
 本発明の被膜付きガラス基板は、基板上に樹脂領域が形成されるガラス基板であって、前記ガラス基板の表面に、炭素数が14以上の疎水性基を有する陽イオン界面活性剤又は平均分子量が500~1000万のカチオンポリマーからなる被膜を有することを特徴とする。
 また、本発明の被膜付きガラス基板の製造方法は、ガラス基板の表面に、炭素数が14以上の疎水性基を有する陽イオン界面活性剤又は平均分子量が500~1000万のカチオンポリマーを含有する溶液を接触、乾燥させて、前記陽イオン界面活性剤又は前記カチオンポリマーからなる被膜を形成する工程を有することを特徴とする。
 本発明の被膜付きガラス基板及びその製造方法によれば、ガラス基板の表面に、樹脂材料との密着性を改善する被膜が設けられており、樹脂材料をガラス表面に安定して形成できる。特に、カラー液晶ディスプレイの製造時に安定してブラックマトリックスを形成できる。また、この被膜を設けたガラス基板は、ブラックマトリックス形成の解像性も改善でき、高精細な液晶ディスプレイを安定して製造できる。
本発明の被膜付きガラス基板の概略構成を示す断面図である。 実施例及び比較例のガラス基板の純水との接触角を示した図である。 実施例及び比較例のガラス基板の純水との接触角と残し解像度との関係を示したグラフである。
 本発明の被膜付きガラス基板について、以下、図面を参照しながら説明する。なお、図1は、本発明の被膜付きガラス基板の概略構成を示す断面図であり、本発明の被膜付きガラス基板1は、ガラス基板2と、その表面に形成された被膜3で構成される。
 ここで用いられるガラス基板2は、その表面に樹脂領域を形成するガラス基板であれば特に限定されずに挙げられる。このガラス基板2としては、透明で平坦な表面を有するものが好ましく、例えば、樹脂製のブラックマトリックス等を表面に形成するカラー液晶ディスプレイ用のガラス基板が好ましいものとして挙げられる。
 このガラス基板2の素材としては、二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ホウ素、アルカリ金属酸化物、アルカリ土類金属酸化物等が挙げられ、特に、二酸化ケイ素および酸化ホウ素を主成分とするボロシリケート系の無アルカリガラスや、二酸化ケイ素と酸化ナトリウムと酸化カルシウムを主成分とするソーダライムシリカ系のガラス等が好ましく挙げられる。
 本発明に用いられる被膜3は、ガラス基板2の表面に設けられた単層構造の膜である。ここで、被膜3は、炭素数が14以上の疎水性基を有する陽イオン界面活性剤又は平均分子量が500~1000万のカチオンポリマーから構成される膜である。
 ここで使用する陽イオン界面活性剤としては、炭素数が14以上の疎水性基を有する陽イオン界面活性剤であれば特に限定されずに使用できる。この陽イオン界面活性剤としては、アミン塩型または第4級アンモニウム塩型のいずれでもよく、例えば、塩化テトラデシルトリメチルアンモニウム、塩化ヘキサデシルトリメチルアンモニウム、塩化オクタデシルトリメチルアンモニウム等のトリメチルアンモニウム塩;塩化テトラデシルピリジニウム、塩化ヘキサデシルピリジニウム、塩化オクタデシルピリジニウム等のピリジニウム塩;等が挙げられる。この陽イオン界面活性剤により、樹脂材料とガラス基板との密着性を改善させることができる。
 また、ここで使用されるカチオンポリマーとしては、平均分子量が500~1000万であって分子中にカチオン性基を有するポリマーであればよい。なお、本明細書において平均分子量は、重量平均分子量を意味する。
 ここで使用するカチオンポリマーとしては、例えば、ポリジアリルジメチルアンモニウムクロライド(PDACまたはPDADMAC)、ポリ(ジメチルアミノエチルアクリレートメチルクロライド4級塩)、ポリ(ジメチルアミノエチルメタクリレートメチルクロライド4級塩)、トリメチルアンモニウムアルキルアクリルアミド重合体塩、ジメチルアミンエピクロルヒドリン縮合体塩、ポリアリルアミン、ポリエチレンイミン等が挙げられる。
 カチオンポリマーとしては、カチオン性基の個数が分子量1000当たり4~25個を持つことが好ましい。カチオン性基とは、水等の溶媒に溶解させたときにカチオンとなる基であり、例えば、アミノ基、4級アンモニウム基等が挙げられる。このとき、アミノ基はアンモニア、1級アミン、2級アミンから水素を除去した1価の官能基であり、それぞれ1級アミン、2級アミン、3級アミンを形成する。また、4級アンモニウム基は4級アンモニウムカチオンを形成する。
 上記の被膜3は単層構造の被膜であり、その製造操作が簡便で構造も簡素でありながら、ガラス表面の樹脂材料との密着性を改善する機能を有する。また、ここで形成される被膜3は界面活性剤からなり、ガラス基板の表面とは静電結合により結合されており、純水やアルカリ洗剤を使用した洗浄で容易に除去できる。
 次に、被膜付きガラス基板の製造方法について説明する。
 本発明における被膜3を形成する方法としては、ガラス基板2の表面に、炭素数が14以上の疎水性基を有する陽イオン界面活性剤又は平均分子量が500~1000万のカチオンポリマーを含有する溶液を接触、乾燥させて、陽イオン界面活性剤又はカチオンポリマーからなる被膜を形成すればよい。
 このとき、陽イオン界面活性剤又はカチオンポリマーは、溶媒として純水又はエタノール等の水溶性有機溶剤の水溶液を用いて、これに溶解して溶液とする。このとき、カチオン性基の濃度(当量)は0.01meq/L~100meq/Lが好ましく、ガラス製品表面を適度に覆いながら過剰とならないようにするため0.1~10meq/Lがより好ましい。ちなみに、溶液1L中にカチオン性基を1mol有する場合に、その濃度を1eq/Lと表す。また、溶液のpHは酸性~アルカリ性(例えば、pH4~12程度)で使用が可能であるが、ガラス表面のシラノール基の電離を促進しマイナス帯電させることで静電的な結合力をより強固にしつつ付着量を増加できる点で、溶液のpHは8~12が好ましく、10~11がより好ましい。
 このようにして得られた溶液を、被膜を形成するガラス基板表面に接触させて塗布する。このとき、塗布方法は、ディップコート、スプレーコート、スポンジ等による塗布の公知の膜形成方法に使用される塗布方法が挙げられる。また、この工程では、溶液中に含まれる陽イオン界面活性剤又はカチオンポリマーが、接触させるだけで陽イオン界面活性剤の親水性基又はカチオンポリマーのカチオン部分がガラス基板の表面側に、陽イオン界面活性剤の疎水性基又はカチオンポリマーのカチオン部分を繋ぐポリマーの主鎖部分がその反対側である雰囲気中に向かって、整列する。これは、ガラス基板の表面に存在するシラノール基(-Si-OH)が-電荷に帯電しやすいため、接触させるだけで+電荷を帯びている陽イオン界面活性剤の親水性基又はカチオンポリマーのカチオン部分がガラス基板の表面側に静電的にひきつけられるためである。
 このように陽イオン界面活性剤又はカチオンポリマーを整列させた状態で、加熱やエアブロー等により溶媒を除去すると、均質な第1の膜を容易に形成できる。このとき、加熱乾燥では、50~90℃に加熱することが好ましく、エアブローでは15~30℃のエアーを吹き付けることが好ましい。
 また、この被膜を形成する場合、溶液を室温で塗布する簡便な操作で達成でき、さらに、排水規制に抵触することもなく、環境負荷を増大させることのないガラス基板の表面改質を達成できる。
 そして、このようにして得られた被膜付きガラス基板は、その表面に被膜を介して樹脂領域を安定して形成できる。そのため、基板表面に樹脂領域を形成する場合に、樹脂領域の精度が高く、かつ、歩留まりが良好な製品が製造できる。
 例えば、カラー液晶ディスプレイを製造する場合には、ボロシリケート系の無アルカリガラスやソーダライムシリカ系のガラスの透明ガラス基板を用意し、その表面に上記被膜を形成して被膜付きのガラス基板を形成し、次いで、上記ガラス基板上に、上記被膜を介して樹脂製ブラックマトリックス、カラーフィルター層、オーバーコート層、ITO透明導電膜を順次設ければよい。
 ここで、樹脂製ブラックマトリックスとしては、寸法精度良くパターン形成できるアクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂等に微粉カーボン等の黒色物質を分散混合されてなる樹脂を用い、公知のパターン形成によりブラックマトリックスを形成する。また、カラーフィルター層も、カラー液晶ディスプレイに使用される公知の材料を、公知の方法、例えば、顔料分散法、フィルム転写法、染色法、印刷法、電着法等により形成すればよい。
 また、オーバーコート層は、樹脂製のブラックマトリックスの上に設けられるカラーフィルター層のR,G,Bがその境界で生じる凹凸を平坦化するために設けられ、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂等の公知のものを公知の方法で形成すればよい。さらに、公知の方法でITO透明電極膜を形成すればよい。
 このようにして得られたカラー液晶ディスプレイは、上記本発明の被膜付きガラス基板を使用しているため、製造時、使用時におけるブラックマトリックス等の樹脂剥がれが生じにくく、製品歩留まりが良好で、性能の安定したものとなる。
 以下、実施例及び比較例に基づいてさらに本発明を詳細に説明する。
[各種溶液の調製]
<被膜形成用の溶液1>
 陽イオン性界面活性剤である塩化オクチルトリメチルアンモニウムが2mmol/L及びアンモニアが10mmol/Lの濃度となるように、各成分を純水に溶解して、被膜形成用の溶液1を調製した。この溶液のpHは約10.5である。
<被膜形成用の溶液2>
 陽イオン性界面活性剤である塩化デシルトリメチルアンモニウムが2mmol/L及びアンモニアが10mmol/Lの濃度となるように、各成分を純水に溶解して、被膜形成用の溶液2を調製した。この溶液のpHは約10.5である。
<被膜形成用の溶液3>
 陽イオン性界面活性剤である塩化ドデシルトリメチルアンモニウムが2mmol/L及びアンモニアが10mmol/Lの濃度となるように、各成分を純水に溶解して、被膜形成用の溶液3を調製した。この溶液のpHは約10.5である。
<被膜形成用の溶液4>
 陽イオン性界面活性剤である塩化テトラデシルトリメチルアンモニウムが2mmol/L及びアンモニアが10mmol/Lの濃度となるように、各成分を純水に溶解して、被膜形成用の溶液4を調製した。この溶液のpHは約10.5である。
<被膜形成用の溶液5>
 陽イオン性界面活性剤である塩化ヘキサデシルトリメチルアンモニウムが2mmol/L及びアンモニアが10mmol/Lの濃度となるように、各成分を純水に溶解して、被膜形成用の溶液5を調製した。この溶液のpHは約10.5である。
<被膜形成用の溶液6>
 陽イオン性界面活性剤である塩化オクタデシルトリメチルアンモニウムが2mmol/L及びアンモニアが10mmol/Lの濃度となるように、各成分を純水に溶解して、被膜形成用の溶液6を調製した。この溶液のpHは約10.5である。
<被膜形成用の溶液7>
 陽イオン性界面活性剤である塩化ヘキサデシルピリジニウム(CPC)が2mmol/LM及びアンモニアが10mmol/Lの濃度となるように、各成分を純水に溶解して、被膜形成用の溶液7を調製した。この溶液のpHは約10.5である。
<被膜形成用の溶液8>
 カチオンポリマーであるポリジアリルジメチルアンモニウムクロライド(PDACまたはPDADMAC;和光純薬工業社製コロイド滴定用標準液、分子量6万~11万)が2meq/L及びアンモニアが10mmol/Lの濃度となるように、各成分を純水に溶解して、被膜形成用の溶液8を調製した。この溶液のpHは約10.5である。
(比較例1)
 表面研磨をした、縦50mm×横50mm×厚さ0.7mmの無アルカリボロシリケートガラス製のガラス板を、上記被膜形成用の溶液1中に10秒間浸漬して引き上げた後、表面の溶液をエアブローで乾燥するディップコート法により、ガラス板の表面に被膜を形成し、被膜付きのガラス基板とした。
(比較例2~3)
 被膜形成用の溶液1の代わりに、被膜形成用の溶液2(比較例2)又は被膜形成用の溶液3(比較例3)を使用した以外は、比較例1と同様の操作により被膜付きガラス基板を製造した。
(実施例1)
 表面研磨をした、縦50mm×横50mm×厚さ0.7mmの無アルカリボロシリケートガラス製のガラス板を、上記被膜形成用の溶液4中に10秒間浸漬して引き上げた後、表面の溶液をエアブローで乾燥するディップコート法により、ガラス板の表面に被膜を形成し、被膜付きのガラス基板とした。
(実施例2~5)
 被膜形成用の溶液4の代わりに、被膜形成用の溶液5(実施例2)、被膜形成用の溶液6(実施例3)、被膜形成用の溶液7(実施例4)又は被膜形成用の溶液8(実施例5)を使用した以外は、実施例1と同様の操作により被膜付きガラス基板を製造した。
(試験例)
 被膜を形成していないガラス基板、実施例1~5及び比較例1~3のガラス基板の表面の水の接触角を測定し、その結果を図2に示した。この結果から、形成された被膜の疎水性基の炭素数が長くなることで撥水性が向上することがわかった。カチオンポリマーを塗布した場合は、一部のカチオン基がガラスの反対側に向いているため、接触角はやや小さくなる。
 また、被膜を形成していないガラス基板、実施例1~5及び比較例3のガラス基板の表面に、それぞれ所定のフォトレジストのパターニングを形成し、残し解像度試験を行い、その結果を図3に示した。この結果から、疎水基の炭素数が14以上となる陽イオン界面活性剤およびカチオンポリマーを用いた実施例においては残し解像性が向上し、ガラス基板への樹脂の密着力が向上し、安定した樹脂パターンが形成でき、より高精細なカラー液晶ディスプレイを製造できることがわかった。なお、比較例3の疎水性基の炭素数が12のものは、被膜なしのガラス基板と同程度の解像性であり、解像性の向上効果がほとんどなかった。
 また、陰イオン界面活性剤としてラウリル硫酸ナトリウム、非イオン界面活性剤としてTriton X-100(ポリエチレングリコールpオクチルフェニルエーテル)についても、上記と同様にガラス基板上への被膜形成処理を行い、残し解像度試験を行ったが、被膜を形成しないガラス基板と同様の残し解像度であった。
[接触角]
 測定対象のガラス基板の表面に純水を1滴滴下し、その表面の水滴を基板側面から撮像したデータに基づいて、5点の測定結果を平均して各基板における純水との接触角を算出した。
[残し解像度]
 測定対象のガラス基板の表面に、ネガ型フォトレジストを塗布し、レジスト幅が2μm、5μm、7μm、9μm、10μm、13μm、15μm、20μmの線幅となるようにフォトリソグラフィー工程により水酸化カリウム(KOH)で現像を行い、剥離せずガラス基板上に残ったレジストの最小線幅を残し解像度とした。
 これらの結果から、本発明の被膜付きガラス基板は、ガラス基板への撥水性を調整し、樹脂のガラス基板への密着力を改善でき、また、残し解像度も良好で、微細なパターンの形成も可能であることがわかった。
 本発明の被膜付きガラス基板及びその製造方法は、広くガラス基板に適用でき、使用する疎水性基の炭素数に応じてその特性の大小を調整でき、使用目的に応じて適宜材料を選択することで最適な被膜付きのガラス基板を製造できる。本発明は、特に、カラー液晶ディスプレイに使用されるガラス基板に好適である。

Claims (7)

  1.  基板上に樹脂領域が形成されるガラス基板であって、
     前記ガラス基板の表面に、炭素数が14以上の疎水性基を有する陽イオン界面活性剤又は平均分子量が500~1000万のカチオンポリマーからなる被膜を有することを特徴とする被膜付きガラス基板。
  2.  前記陽イオン界面活性剤の疎水性基の炭素数が16~18である請求項1記載の被膜付きガラス基板。
  3.  前記カチオンポリマーが、分子量1000あたり、4~25個のカチオン性基を有する請求項1記載の被膜付きガラス基板。
  4.  前記被膜付きガラス基板の、純水との接触角が20~90度である請求項1~3のいずれか1項記載の被膜付きガラス基板。
  5.  前記ガラス基板が、カラー液晶ディスプレイ用である請求項1~4のいずれか1項記載の被膜付きガラス基板。
  6.  ガラス基板の表面に、炭素数が14以上の疎水性基を有する陽イオン界面活性剤又は平均分子量が500~1000万のカチオンポリマーを含有する溶液を接触、乾燥させて、前記陽イオン界面活性剤又は前記カチオンポリマーからなる被膜を形成する工程を有することを特徴とする被膜付きガラス基板の製造方法。
  7.  前記被膜を形成する際に使用する溶液が、pH8~12の水溶液である請求項6記載の被膜付きガラス基板の製造方法。
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Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016060663A (ja) * 2014-09-18 2016-04-25 旭硝子株式会社 帯電防止膜付きガラス基板および帯電防止膜付きガラス基板の製造方法
JP2016064960A (ja) * 2014-09-25 2016-04-28 旭硝子株式会社 円滑性改善膜付きガラス板、その製造方法、ガラス板梱包体、およびガラス板の梱包方法
JP2017519249A (ja) * 2014-04-04 2017-07-13 コーニング インコーポレイテッド 接着性を改善するためのガラス表面の処理
JP2018535172A (ja) * 2015-10-02 2018-11-29 コーニング インコーポレイテッド 除去可能なガラス表面処理および粒子付着を低下させる方法
WO2019036710A1 (en) * 2017-08-18 2019-02-21 Corning Incorporated TEMPORARY BINDING USING POLYCATIONIC POLYMERS
KR20210058826A (ko) 2018-09-18 2021-05-24 에이지씨 가부시키가이샤 유리 기판, 블랙 매트릭스 기판 및 디스플레이 패널
US11097509B2 (en) 2016-08-30 2021-08-24 Corning Incorporated Siloxane plasma polymers for sheet bonding
WO2021173372A1 (en) * 2020-02-26 2021-09-02 Corning Incorporated Temporary bonding of substrates with large roughness using multilayers of polyelectrolytes
US11123954B2 (en) 2014-01-27 2021-09-21 Corning Incorporated Articles and methods for controlled bonding of thin sheets with carriers
US11167532B2 (en) 2015-05-19 2021-11-09 Corning Incorporated Articles and methods for bonding sheets with carriers
US11192340B2 (en) 2014-04-09 2021-12-07 Corning Incorporated Device modified substrate article and methods for making
US11331692B2 (en) 2017-12-15 2022-05-17 Corning Incorporated Methods for treating a substrate and method for making articles comprising bonded sheets
US11535553B2 (en) 2016-08-31 2022-12-27 Corning Incorporated Articles of controllably bonded sheets and methods for making same
US11885998B2 (en) 2020-02-07 2024-01-30 Corning Incorporated Method of treating a glass surface and treated glass articles
US11905201B2 (en) 2015-06-26 2024-02-20 Corning Incorporated Methods and articles including a sheet and a carrier

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113851153B (zh) * 2018-03-09 2023-12-26 Hoya株式会社 间隔件、基板的层积体和基板的制造方法
JP7422410B2 (ja) * 2021-07-29 2024-01-26 日化精工株式会社 ウェーハ上のデバイスの保護処理方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5432521A (en) * 1977-08-17 1979-03-09 Asahi Denka Kogyo Kk Method of protecting glass
JPS5547249A (en) * 1978-08-17 1980-04-03 Pilkington Brothers Ltd Plane glass treating method and device
JPS5567542A (en) * 1978-11-10 1980-05-21 Nippon Oil & Fats Co Ltd Lubrication treating method for glass container
JP2000319038A (ja) * 1999-02-02 2000-11-21 Corning Inc ガラス製品を一時的に保護する方法
JP2002220258A (ja) * 2001-01-24 2002-08-09 Cci Corp ガラス用撥水処理剤

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000221485A (ja) * 1999-01-29 2000-08-11 Nippon Sheet Glass Co Ltd 液晶ディスプレー用基板およびその製造方法
TW593187B (en) * 1999-10-25 2004-06-21 Nippon Sheet Glass Co Ltd Method for preparing article covered with light absorption pattern film and article covered with light absorption pattern film
JP5137611B2 (ja) * 2007-03-28 2013-02-06 富士フイルム株式会社 着色硬化性樹脂組成物、着色パターン形成方法、着色パターン、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、及び液晶表示素子

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5432521A (en) * 1977-08-17 1979-03-09 Asahi Denka Kogyo Kk Method of protecting glass
JPS5547249A (en) * 1978-08-17 1980-04-03 Pilkington Brothers Ltd Plane glass treating method and device
JPS5567542A (en) * 1978-11-10 1980-05-21 Nippon Oil & Fats Co Ltd Lubrication treating method for glass container
JP2000319038A (ja) * 1999-02-02 2000-11-21 Corning Inc ガラス製品を一時的に保護する方法
JP2002220258A (ja) * 2001-01-24 2002-08-09 Cci Corp ガラス用撥水処理剤

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11123954B2 (en) 2014-01-27 2021-09-21 Corning Incorporated Articles and methods for controlled bonding of thin sheets with carriers
JP2017519249A (ja) * 2014-04-04 2017-07-13 コーニング インコーポレイテッド 接着性を改善するためのガラス表面の処理
US11192340B2 (en) 2014-04-09 2021-12-07 Corning Incorporated Device modified substrate article and methods for making
JP2016060663A (ja) * 2014-09-18 2016-04-25 旭硝子株式会社 帯電防止膜付きガラス基板および帯電防止膜付きガラス基板の製造方法
JP2016064960A (ja) * 2014-09-25 2016-04-28 旭硝子株式会社 円滑性改善膜付きガラス板、その製造方法、ガラス板梱包体、およびガラス板の梱包方法
US11660841B2 (en) 2015-05-19 2023-05-30 Corning Incorporated Articles and methods for bonding sheets with carriers
US11167532B2 (en) 2015-05-19 2021-11-09 Corning Incorporated Articles and methods for bonding sheets with carriers
US11905201B2 (en) 2015-06-26 2024-02-20 Corning Incorporated Methods and articles including a sheet and a carrier
JP2018535172A (ja) * 2015-10-02 2018-11-29 コーニング インコーポレイテッド 除去可能なガラス表面処理および粒子付着を低下させる方法
US11097509B2 (en) 2016-08-30 2021-08-24 Corning Incorporated Siloxane plasma polymers for sheet bonding
US11535553B2 (en) 2016-08-31 2022-12-27 Corning Incorporated Articles of controllably bonded sheets and methods for making same
JP7260523B2 (ja) 2017-08-18 2023-04-18 コーニング インコーポレイテッド ポリカチオン性高分子を使用した一時的結合
JP2020531385A (ja) * 2017-08-18 2020-11-05 コーニング インコーポレイテッド ポリカチオン性高分子を使用した一時的結合
WO2019036710A1 (en) * 2017-08-18 2019-02-21 Corning Incorporated TEMPORARY BINDING USING POLYCATIONIC POLYMERS
US11331692B2 (en) 2017-12-15 2022-05-17 Corning Incorporated Methods for treating a substrate and method for making articles comprising bonded sheets
KR20210058826A (ko) 2018-09-18 2021-05-24 에이지씨 가부시키가이샤 유리 기판, 블랙 매트릭스 기판 및 디스플레이 패널
US11885998B2 (en) 2020-02-07 2024-01-30 Corning Incorporated Method of treating a glass surface and treated glass articles
WO2021173372A1 (en) * 2020-02-26 2021-09-02 Corning Incorporated Temporary bonding of substrates with large roughness using multilayers of polyelectrolytes

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