WO2014157720A1

WO2014157720A1 - 硬化性組成物、硬化膜、カラーフィルタ、保護膜、表示装置、及び固体撮像素子

Info

Publication number: WO2014157720A1
Application number: PCT/JP2014/059475
Authority: WO
Inventors: 福重　裕一; 壮二石坂; 漢那　慎一
Original assignee: 富士フイルム株式会社
Priority date: 2013-03-29
Filing date: 2014-03-31
Publication date: 2014-10-02

Abstract

　（Ａ）少なくとも二つのエチレン性不飽和二重結合基及び少なくとも一つの２級水酸基を有する化合物と、（Ｂ）側鎖に酸性基を有する樹脂と、（Ｃ）光重合開始剤及び熱重合開始剤からなる群より選ばれる少なくとも１種の開始剤と、（Ｄ）光酸発生剤と、（Ｅ）酸架橋性化合物と、を含む硬化性組成物が提供される。また、（Ａ）少なくとも二つのエチレン性不飽和二重結合基及び少なくとも一つの２級水酸基を有する化合物と、（Ｂ）側鎖に酸性基を有する樹脂と、（Ｃ）光重合開始剤及び熱重合開始剤からなる群より選ばれる少なくとも１種の開始剤と、（Ｄ'）熱酸発生剤と、（Ｅ）酸架橋性化合物と、を含む硬化性組成物が提供される。さらに、これらの硬化性組成物を用いた硬化膜、カラーフィルタ、保護膜、表示装置及び固体撮像素子も提供される。

Description

硬化性組成物、硬化膜、カラーフィルタ、保護膜、表示装置、及び固体撮像素子

　本発明は、硬化性組成物、硬化膜、カラーフィルタ、保護膜、表示装置、及び固体撮像素子に関する。詳しくは、高硬度および低温硬化特性を有する硬化性組成物並びにその用途に関する。

　液晶表示装置は、高画質画像を表示する表示装置に広く利用されている。表示装置用基板（例えば、カラーフィルタ基板、アクティブマトリクス基板、有機ＥＬディスプレイ基板等）は、基板上にカラーフィルタや保護膜等の構造物が形成された構成となっている。これらの構造物のうち、カラーフィルタや保護膜の形成方法としては、感光性を有する硬化性組成物（以下、「感光性樹脂組成物」ともいう。）を用いてフォトリソグラフィーにより形成する方法が主流となっている。

　このような感光性樹脂組成物として、プラスチック基板のような耐熱性が低い基板上に、カラーフィルタ等の用途に必要とされる解像度、耐薬品性をもつパターンを、前記基板が変形しない程度の温度でパターンを形成することが可能なものとして、着色剤、樹脂、重合性化合物及び重合開始剤を含み、前記樹脂として、不飽和カルボン酸に由来する構造単位を有する付加重合体にオキシラニル基有する不飽和化合物を反応させたものを含み、かつ前記重合性化合物として、デンドリマー及びハイパーブランチポリマーからなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物を含む着色感光性樹脂組成物が開示されている（例えば、特開２０１２－１７３５４６号公報参照）。この着色感光性樹脂組成物は、パターン露光及び現像して形成された着色パターンを、更に２５℃以上２３０℃以下の温度で加熱処理するポストベークを施すことにより、硬化されたパターンが得られると説明されているが、具体的な実施例においては、上記ベークは行われておらず、それでも耐溶剤性に優れる着色パターンが得られると説明されている。
　また、ガラスのような硬質材料の基板上にパターンを形成するための硬化性組成物として、複数のエチレン性不飽和二重結合と２級水酸基とを有する化合物、光重合開始剤及び着色剤を含有する硬化性組成物が開示されている。この硬化性組成物を硬質材料表面に塗布した硬化性層をパターン露光し、現像して形成した硬化パターンを、更に１００℃～２４０℃でポストベークすることにより、硬化を完全なものとすることができることも記載されている（例えば、特開２００８－７０８２２号公報参照）。

　一般に、硬化性組成物を用いて基板上にパターン（例えば、カラーフィルタの画素など）又は保護膜を形成する場合、紫外線等による露光のみでは硬化が不十分である場合が多く、更に加熱処理を施す必要を生ずる場合がある。このような加熱処理を行う場合、耐熱性の高いガラス基板が使用されることが一般的であったが、プラスチック基板のような可撓性に優れた基板の使用も久しく望まれている。
　しかし、プラスチック基板は耐熱性が低いため、加熱処理の温度をプラスチック基板が変形しない程度の温度とする必要がある。そのため、従来よりも更に一段と低い温度で、高い硬度を有するパターン又は保護膜を形成することができる硬化性組成物が要望されている。
　即ち、本発明の第１の態様は、従来よりも低い温度で、高い硬度を有するパターン又は保護膜が形成される硬化性組成物、並びに当該硬化性組成物を用いた硬化膜、カラーフィルタ、保護膜、表示装置及び固体撮像素子を提供することを課題とする。また、本発明の第２の態様は、従来よりも低い温度で、高い硬度を有するパターン又は保護膜が形成される硬化性組成物、並びに当該硬化性組成物を用いた硬化膜、カラーフィルタ、保護膜、表示装置及び固体撮像素子を提供することを課題とする。

　第１の態様に係る課題を達成するための具体的手段は以下の通りである。
＜１＞　（Ａ）少なくとも二つのエチレン性不飽和二重結合基及び少なくとも一つの２級水酸基を有する化合物と、（Ｂ）側鎖に酸性基を有する樹脂と、（Ｃ）光重合開始剤及び熱重合開始剤からなる群より選ばれる少なくとも１種の開始剤と、（Ｄ）光酸発生剤と、（Ｅ）酸架橋性化合物と、を含む硬化性組成物。
＜２＞　更に、（Ｆ）多分岐化合物を含む＜１＞に記載の硬化性組成物。
＜３＞　前記（Ｆ）多分岐化合物が、デンドリマー及びハイパーブランチポリマーからなる群より選ばれる少なくとも１種を含む＜２＞に記載の硬化性組成物。

＜４＞　更に、（Ｇ）着色剤を含む＜１＞～＜３＞のいずれか一項に記載の硬化性組成物。を含む
＜５＞　更に、（Ｈ）屈折率調整材料を含む＜１＞～＜４＞のいずれか一項に記載の硬化性組成物。
＜６＞　前記（Ｈ）屈折率調整材料が、金属微粒子及び金属酸化物微粒子から選ばれた少なくとも一種の無機微粒子である＜５＞に記載の硬化性組成物。

＜７＞　＜１＞～＜６＞のいずれか一項に記載の硬化性組成物を硬化してなる硬化膜。
＜８＞　＜７＞に記載の硬化膜を含むカラーフィルタ。
＜９＞　＜７＞に記載の硬化膜を含む保護膜。

＜１０＞　＜８＞に記載のカラーフィルタを含む表示装置。
＜１１＞　＜９＞に記載の保護膜を含む表示装置。
＜１２＞　＜８＞に記載のカラーフィルタを含む固体撮像素子。
＜１３＞　＜９＞に記載の保護膜を含む固体撮像素子。

　また、第２の態様に係る課題を達成するための具体的手段は以下の通りである。
＜１４＞　（Ａ）少なくとも二つのエチレン性不飽和二重結合基及び少なくとも一つの２級水酸基を有する化合物と、（Ｂ）側鎖に酸性基を有する樹脂と、（Ｃ）光重合開始剤及び熱重合開始剤からなる群より選ばれる少なくとも１種の開始剤と、（Ｄ’）熱酸発生剤と、（Ｅ）酸架橋性化合物と、を含む硬化性組成物。
＜１５＞　更に、（Ｆ）多分岐化合物を含む＜１４＞に記載の硬化性組成物。
＜１６＞　前記（Ｆ）多分岐化合物が、デンドリマー及びハイパーブランチポリマーからなる群より選ばれる少なくとも１種を含む＜１５＞に記載の硬化性組成物。

＜１７＞　更に、（Ｇ）着色剤を含む＜１４＞～＜１６＞のいずれか一項に記載の硬化性組成物。を含む
＜１８＞　更に、（Ｈ）屈折率調整材料を含む＜１４＞～＜１７＞のいずれか一項に記載の硬化性組成物。
＜１９＞　前記（Ｈ）屈折率調整材料が、金属微粒子及び金属酸化物微粒子から選ばれた少なくとも一種の無機微粒子である＜１８＞に記載の硬化性組成物。

＜２０＞　＜１４＞～＜１９＞のいずれか一項に記載の硬化性組成物を硬化してなる硬化膜。
＜２１＞　＜２０＞に記載の硬化膜を含むカラーフィルタ。
＜２２＞　＜２０＞に記載の硬化膜を含む保護膜。

＜２３＞　＜２１＞に記載のカラーフィルタを含む表示装置。
＜２４＞　＜２２＞に記載の保護膜を含む表示装置。
＜２５＞　＜２１＞に記載のカラーフィルタを含む固体撮像素子。
＜２６＞　＜２２＞に記載の保護膜を含む固体撮像素子。

　本発明の第１の態様によれば、従来よりも低い温度で、高い硬度を有するパターン又は保護膜が形成される硬化性組成物、並びに当該硬化性組成物を用いた硬化膜、カラーフィルタ、保護膜、表示装置及び固体撮像素子が提供される。

　本発明の第２の態様によれば、従来よりも低い温度で、高い硬度を有するパターン又は保護膜が形成される硬化性組成物、並びに当該硬化性組成物を用いた硬化膜、カラーフィルタ、保護膜、表示装置及び固体撮像素子が提供される。

ＩＴＯパターンのテーパー角αの説明図である。

　以下、本発明の第１の実施形態に係る硬化性組成物、並びに、この硬化性組成物を用いた硬化膜、カラーフィルタ、保護膜、表示装置、及び固体撮像素子について詳細に説明する。さらに、本発明の第２の実施形態に係る硬化性組成物、並びに、この硬化性組成物を用いた硬化膜、カラーフィルタ、保護膜、表示装置、及び固体撮像素子について詳細に説明する。
［硬化性組成物］
　第１の実施形態に係る硬化性組成物は、（Ａ）少なくとも二つのエチレン性不飽和二重結合基及び少なくとも一つの２級水酸基を有する化合物と、（Ｂ）側鎖に酸性基を有する樹脂と、（Ｃ）光重合開始剤及び熱重合開始剤からなる群より選ばれる少なくとも１種の開始剤と、（Ｄ）光酸発生剤と、（Ｅ）酸架橋性化合物と、を含む。

　第１の実施形態に係る硬化性組成物により、低い温度で、高い硬度を有する硬化膜が得られる理由は、以下のようであると思われる。
（１）前記（Ｃ）開始剤に由来するラジカルにより、前記（Ａ）の化合物に含まれるエチレン性不飽和二重結合基が連鎖付加重合反応を生じる（以下、この反応を「連鎖付加重合反応」ともいう）。
（２）前記（Ｄ）光酸発生剤に由来する酸により、前記（Ｅ）酸架橋性化合物が賦活化された賦活化物が生成する。この賦活化物は、低い温度での加熱で、前記（Ａ）の化合物、および／または、上記（１）の反応で生じた前記（Ａ）の重合物に含まれる２級水酸基、および／または、前記（Ｂ）の樹脂に含まれる酸性基と反応する（以下、この反応を「熱架橋反応Ａ」ともいう）。
　上記（１）の連鎖付加重合反応、及び（２）の熱架橋反応が重畳されて、第１の実施形態に係る硬化性組成物は、従来よりも低い温度で、高度に架橋、硬化する。

　第２の実施形態に係る硬化性組成物は、（Ａ）少なくとも二つのエチレン性不飽和二重結合基及び少なくとも一つの２級水酸基を有する化合物と、（Ｂ）側鎖に酸性基を有する樹脂と、（Ｃ）光重合開始剤及び熱重合開始剤からなる群より選ばれる少なくとも１種の開始剤と、（Ｄ’）熱酸発生剤と、（Ｅ）酸架橋性化合物と、を含む。

　第２の実施形態に係る硬化性組成物により、低い温度で、高い硬度を有する硬化膜が得られる理由は、以下のようであると思われる。
（１）前記（Ｃ）開始剤に由来するラジカルにより、前記（Ａ）の化合物に含まれるエチレン性不飽和二重結合基が連鎖付加重合反応を生じる（以下、この反応を「連鎖付加重合反応」ともいう）。
（２’）前記（Ｄ’）熱酸発生剤に由来する酸により、前記（Ｅ）酸架橋性化合物が賦活化された賦活化物が生成する。この賦活化物は、低い温度での加熱で、前記（Ａ）の化合物、および／または、上記（１）の反応で生じた前記（Ａ）の重合物に含まれる２級水酸基、および／または、前記（Ｂ）の樹脂に含まれる酸性基と反応する（以下、この反応を「熱架橋反応Ｂ」ともいう）。
　上記（１）の連鎖付加重合反応、及び（２’）の熱架橋反応が重畳されて、第２の実施形態に係る硬化性組成物は、従来よりも低い温度で、高度に架橋、硬化する。
　以下、第１の実施形態に係る硬化性組成物および第２の実施形態に係る硬化性組成物に含まれる各成分について、詳しく説明する。

＜（Ａ）少なくとも二つのエチレン性不飽和二重結合基及び少なくとも一つの２級水酸基を有する化合物（以下、「特定重合性化合物」ともいう。）＞
　特定重合性化合物は、前記（Ｃ）開始剤に由来するラジカルの作用を受けて、特定重合性化合物が有する少なくとも二つのエチレン性不飽和二重結合基が連鎖付加重合反応を起こして分子量が増大する化合物である。特定重合性化合物は、好ましくは分子量１３００未満の化合物から選ばれる。
　特定重合性化合物が少なくとも一つの２級水酸基を有していることに起因して、特定重合性化合物の極性が向上していること、２級水酸基に隣接する水素原子が引き抜かれ易いことに起因して、酸素による前記重合反応の阻害が抑制されて反応進行が速いこと、及び、前記（２）の熱架橋反応Ａ又は前記（２’）の熱架橋反応Ｂに２級水酸基が関与することが相俟って、架橋、硬化が促進され、硬度の高い硬化膜が得られるものと思われる。

　特定重合性化合物は、好ましくは下記一般式（１）で示される分子量１３００未満の化合物である。

（一般式（１）中、Ｘは水素原子又はメチル基を表す。ｎは、２以上６以下の整数を表す。Ａは、ｍ価の多価アルコールから、ｎ個のヒドロキシ基の水素原子を除いたｎ価の基を表す。ここで、ｍは、２以上６以下の整数を表すが、ｍ≧ｎである。）

　上記ｍ価の多価アルコールには、脂肪族アルコール及び芳香族ポリヒドロキシ化合物が含まれる。
　ｍ価の脂肪族アルコールの例としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、およびテトラエチレングリコール等のエチレングリコールオリゴマー、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，３－プロパンジオール、１－メチル－１，３－プロパンジオール、２，２－ジメチル－１，３－プロパンジオール、１，４－ジメチロールシクロヘキサン、１，２，３－トリヒドロキシプロパン、１，１，１－トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトールなどが挙げられる。
　ｍ価の芳香族ポリヒドロキシ化合物の例としては、ビスフェールＡ、１，４ジメタノールシクロヘキサンなどが挙げられる。
　これらのｍ価の多価アルコールのうち、重合時の系の粘度が低い方が重合進行性が良いという理由から、脂肪族アルコール系が好ましい。一方、架橋膜の硬度重視の場合には芳香族ポリヒドロキシ系の方が好ましいこともあり、要求性能により使い分けることが好ましい。
　以下、一般式（１）で表される化合物の好ましい具体例を挙げる。
　なお、下記化合物（３５）は、一般式（１）で表される化合物には含まれないが、これも特定重合性化合物の好ましい例である。

　第１の実施形態における特定重合性化合物の含有量は、第１の実施形態に係る硬化性組成物の固形分総質量を基準に、１質量％以上６０質量％以下が適当であり、５質量％以上５５質量％以下が好ましく、５質量％以上４０質量％以下が特に好ましい。第２の実施形態における特定重合性化合物の含有量は、第２の実施形態に係る硬化性組成物の固形分総質量を基準に、１質量％以上６０質量％以下が適当であり、５質量％以上５５質量％以下が好ましく、５質量％以上４０質量％以下が特に好ましい。
　第１の実施形態及び第２の実施形態において、特定重合性化合物の含有量が１質量％以上であると、（Ｃ）開始剤として光重合開始剤を含有する場合には、露光による硬化が良好になり、更に、低温での加熱処理により、一段と高い硬度を有する硬化膜が得られ、且つ、この硬化膜を保護膜として使用した場合には劣化の少ないものとなる。他方、特定重合性化合物の含有量が６０質量％以下の範囲であれば、硬化性組成物を塗布液とした場合における塗布液の粘度を適度の範囲に調整することが容易であり、且つ硬化膜の硬度などの調整、露光感度の調整も容易である。

［（Ｂ）側鎖に酸性基を有する樹脂］
　第１の実施形態および第２の実施形態における（Ｂ）側鎖に酸性基を有する樹脂（以下、「特定樹脂」ともいう。）は、側鎖に酸性基を有するものであれば特に制限はないが、酸性基を有する基：Ｙ（ｙモル％）の他、さらに、側鎖に分岐および／または脂環構造を有する基：Ｘ（ｘモル％）と、エチレン性不飽和二重結合基を有する基：Ｚ（ｚモル％）を含有することが好ましく、必要に応じてその他の基（Ｌ）（ｌモル％）を有していてもよい。また、特定樹脂中のひとつの基の中にＸ、Ｙ及びＺから選ばれた少なくとも二種以上の基が含まれていてもよい。

　前記酸性基としては、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、カルボキシル基、スルホン酸基、スルホンアミド基、リン酸基、フェノール性水酸基等が挙げられる。これらの中でも、現像性、及び硬化膜の耐水性が優れる点から、カルボキシ基、フェノール性水酸基であることが好ましい。

　前記特定樹脂の側鎖に酸性基を導入するために用いられる単量体（酸性基を有する単量体）としては、特に制限はなく、スチレン類、（メタ）アクリレート類、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、（メタ）アクリルアミド類などに上記カルボキシル基等の酸性基を導入したものがその例として挙げられ、（メタ）アクリレート類、ビニルエステル類、（メタ）アクリルアミド類に酸性基を導入したものが好ましく、さらに好ましくは（メタ）アクリレート類に酸性基を導入したものである。
　なお、本明細書において、「アクリル」及び「メタクリル」の双方或いはいずれかを指す場合、「（メタ）アクリル」と、「アクリレート」及び「メタクリレート」の双方或いはいずれかを指す場合、「（メタ）アクリレート」と、それぞれ表記することがある。

　前記酸性基を有する単量体の具体例としては、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、（メタ）アクリル酸、ビニル安息香酸、マレイン酸、マレイン酸モノアルキルエステル、フマル酸、イタコン酸、クロトン酸、桂皮酸、ソルビン酸、α－シアノ桂皮酸、アクリル酸ダイマー、水酸基を有する単量体と環状酸無水物との付加反応物、ω－カルボキシ－ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらは、適宜製造したものを使用してもよいし、市販品を使用してもよい。

　前記水酸基を有する単量体と環状酸無水物との付加反応物に用いられる水酸基を有する単量体としては、例えば、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。前記環状酸無水物としては、例えば、無水マレイン酸、無水フタル酸、シクロヘキサンジカルボン酸無水物等が挙げられる。これらの中でも現像性に優れ、低コストである点で（メタ）アクリル酸等が好ましい。

　特定樹脂における側鎖に酸性基を有する単量体の導入量は、５モル％以上７０モル％以下が好ましく、１０モル％以上６０モル％以下が更に好ましく、２０モル％以上５０モル％以下が特に好ましい。側鎖に酸性基を有する基が前記範囲内であると、良好な硬化性、現像性が得られる。

　また、特定樹脂として好適な酸価は、とりうる分子構造により好ましい範囲は変動するが、一般には２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることが好ましく、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることはより好ましく、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上１３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが特に好ましい。酸価が前記好ましい範囲内であると、良好な絶縁性、透明性、耐水性、耐アルカリ性、耐酸性に優れた絶縁層及びオーバーコート層が得られる。このため、酸価が上記範囲となるように、側鎖に酸性基を有する単量体の使用量を決定すればよい。

　また、特定樹脂は、既述のように、さらに、側鎖に「分岐および／または脂環構造を有する基」や、「エチレン性不飽和二重結合基」を有していてもよい。
　即ち、第１の実施形態および第２の実施形態における特定樹脂は、前記側鎖に分岐および／または脂環構造を有する基：Ｘ（ｘモル％）と、酸性基を有する基：Ｙ（ｙモル％）と、エチレン性不飽和二重結合基を有する基：Ｚ（ｚモル％）とをそれぞれ別の共重合単位に有する少なくとも３元共重合以上の共重合体であることが、形成される樹脂パターンの絶縁性、透明性、耐水性、耐アルカリ性、耐酸性現像残渣低減、レチキュレーションの観点から好ましい。具体的には、前記Ｘ、Ｙ、Ｚを構成する各々の単量体を少なくとも１つ共重合させてなる共重合体が好ましい。

　以下、「側鎖に分岐および／または脂環構造を有する基」について説明する。
　分岐を有する基としては、炭素原子数３以上１２以下の分岐状のアルキル基を示し、例えば、ｉ－プロピル基、ｉ－ブチル基、ｓ－ブチル基、ｔ－ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、２－メチルブチル基、イソヘキシル基、２－エチルヘキシル基、２－メチルヘキシル基、ｉ－アミル基、ｔ－アミル基、３－オクチル、ｔ－オクチル等が挙げられる。これらの中でも、ｉ－プロピル基、ｓ－ブチル基、ｔ－ブチル基、イソペンチル基等が好ましく、さらにｉ－プロピル基、ｓ－ブチル基、ｔ－ブチル基等が好ましい。

　脂環構造を有する基としては、炭素原子数５以上２０以下の脂環式炭化水素基を示し、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、アダマンチル基、トリシクロデシル基、ジシクロペンテニル基、ジシクロペンタニル基、トリシクロペンテニル基、及びトリシクロペンタニル基等が挙げられる。これらの中でも、シクロヘキシル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、アダマンチル基、トリシクロデシル基、トリシクロペンテニル基、トリシクロペンタニル基等が好ましく、更にシクロヘキシル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、トリシクロペンテニル基等が好ましい。

　前記側鎖に分岐および／または脂環構造を有する基を含有する単量体としては、スチレン類、（メタ）アクリレート類、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、（メタ）アクリルアミド類などがその例として挙げられ、（メタ）アクリレート類、ビニルエステル類、（メタ）アクリルアミド類が好ましく、さらに好ましくは（メタ）アクリレート類である。

　前記側鎖に分岐構造を有する基を含有する単量体の具体例としては、（メタ）アクリル酸ｉ－プロピル、（メタ）アクリル酸ｉ－ブチル、（メタ）アクリル酸ｓ－ブチル、（メタ）アクリル酸ｔ－ブチル、（メタ）アクリル酸ｉ－アミル、（メタ）アクリル酸ｔ－アミル、（メタ）アクリル酸ｓｅｃ－ｉｓｏ－アミル、（メタ）アクリル酸２－オクチル、（メタ）アクリル酸３－オクチル、（メタ）アクリル酸ｔ－オクチル等が挙げられ、その中でも、（メタ）アクリル酸ｉ－プロピル、（メタ）アクリル酸ｉ－ブチル、メタクリル酸ｔ－ブチル等が好ましく、さらに好ましくは、メタクリル酸ｉ－プロピル、メタクリル酸ｔ－ブチル等である。

　次に、前記側鎖に脂環構造を有する基を含有する単量体の具体例としては、炭素原子数５～２０個の脂環式炭化水素基を有する（メタ）アクリレートである。具体的な例としては、（メタ）アクリル酸（ビシクロ〔２．２．１］ヘプチル－２）、（メタ）アクリル酸－１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸－２－アダマンチル、（メタ）アクリル酸－３－メチル－１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸－３，５－ジメチル－１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸－３－エチルアダマンチル、（メタ）アクリル酸－３－メチル－５－エチル－１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸－３，５，８－トリエチル－１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸－３，５－ジメチル－８－エチル－１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸　２－メチル－２－アダマンチル、（メタ）アクリル酸　２－エチル－２－アダマンチル、（メタ）アクリル酸　３－ヒドロキシ－１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸オクタヒドロ－４，７－メンタノインデン－５－イル、（メタ）アクリル酸オクタヒドロ－４，７－メンタノインデン－１－イルメチル、（メタ）アクリル酸－１－メンチル、（メタ）アクリル酸トリシクロデシル、（メタ）アクリル酸－３－ヒドロキシ－２，６，６－トリメチル－ビシクロ〔３．１．１〕ヘプチル、（メタ）アクリル酸－３，７，７－トリメチル－４－ヒドロキシ－ビシクロ〔４．１．０〕ヘプチル、（メタ）アクリル酸（ノル）ボルニル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸フエンチル、（メタ）アクリル酸－２，２，５－トリメチルシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、などが挙げられる。
　これら（メタ）アクリル酸エステルのなかでも、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸（ノル）ボルニル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸－１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸－２－アダマンチル、（メタ）アクリル酸フエンチル、（メタ）アクリル酸１－メンチル、（メタ）アクリル酸トリシクロデシルなどが好ましく、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸（ノル）ボルニル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸－２－アダマンチルが特に好ましい。

　前記特定樹脂の前記各成分の共重合組成比については、ガラス転移温度と酸価を勘案して決定され、一概に言えないが、「側鎖に分岐および／または脂環構造を有する基」を有する繰り返し単位の含有量は１０モル％以上７０モル％以下が好ましく、１５モル％以上６５モル％以下が更に好ましく、２０モル％以上６０モル％以下が特に好ましい。側鎖に分岐および／または脂環構造を有する基を有する繰り返し単位の含有量が前記範囲内であると、良好な現像性が得られると共に、画像部の現像液耐性も良好である。

　前記「エチレン性不飽和二重結合基」としては、特に制限はないが、アリル基や（メタ）アクリロイル基が好ましい。また、エチレン性不飽和二重結合基と単量体との連結はエステル基、アミド基、カルバモイル基などの２価の連結基であれば特に制限はない。側鎖にエチレン性不飽和二重結合基を導入する方法は公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、酸性基を持つ化合物（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、ビニル安息香酸、マレイン酸、マレイン酸モノアルキルエステル、フマル酸、イタコン酸、クロトン酸、桂皮酸、ソルビン酸、α－シアノ桂皮酸等）にエポキシ基を持つ（メタ）アクリレートを付加する方法、ヒドロキシル基を持つ基（例えば、２－ヒドロキシエチルメタクリレート、２－ヒドロキシエチルアクリレート等）にイソシアネート基を持つ（メタ）アクリレートを付加する方法、イソシアネート基を持つ基にヒドロキシ基を持つ（メタ）アクリレートを付加する方法などが挙げられる。

　その中でも、酸性基を持つ繰り返し単位にエポキシ基を持つ（メタ）アクリレートを付加する方法が最も製造が容易であり、低コストである点で好ましい。
　エチレン性不飽和結合及びエポキシ基を有する（メタ）アクリレートとしては、これらを有すれば特に制限はない。

　「側鎖にエチレン性不飽和二重結合基」を有する繰り返し単位の含有量は１０モル％以上７０モル％以下が好ましく、２０モル％以上７０モル％以下が更に好ましく、３０モル％以上７０モル％以下が特に好ましい。側鎖にエチレン性不飽和二重結合基を有する基が前記範囲内であると、現像性及び硬化性も良好である。

　特定樹脂には、前記３種の繰り返し単位の他、他の単量体に由来する繰り返し単位を含んでもよい。そのような他の単量体としては、特に制限はなく、例えば分岐および／または脂環構造をもたない（メタ）アクリル酸エステル、スチレン、ビニルエーテル、二塩基酸無水物基、ビニルエステル基、炭化水素アルケニル基等を有する単量体などが挙げられる。

　前記ビニルエーテル基としては、特に制限はなく、例えば、ブチルビニルエーテル基などが挙げられる。
　前記二塩基酸無水物基としては、特に制限はなく、例えば、無水マレイン酸基、無水イタコン酸基などが挙げられる。
　前記ビニルエステル基としては、特に制限はなく、例えば、酢酸ビニル基などが挙げられる。
　前記炭化水素アルケニル基としては、特に制限はなく、例えば、ブタジエン基、イソプレン基などが挙げられる。

　前記特定樹脂におけるその他の単量体に由来する繰り返し単位の含有率としては、モル組成比が、０モル％以上３０モル％以下であることが好ましく、０モル％以上２０モル％以下であることがより好ましい。

　特定樹脂の具体例としては、例えば、特開２００８－１４６０１８公報の段落番号［００５７］～［００６３］に記載される化合物Ｐ－１～Ｐ－３５で表される化合物が挙げられる。

　前記特定樹脂は、モノマーの（共）重合反応の工程とエチレン性不飽和二重結合基を導入する工程の二段階の工程から作られる。　まず、（共）重合反応は種々のモノマーの（共）重合反応によって作られ、特に制限はなく公知のものの中から適宜選択することができる。例えば、重合の活性種については、ラジカル重合、カチオン重合、アニオン重合、配位重合などを適宜選択することができる。これらの中でも合成が容易であり、低コストである点からラジカル重合であることが好ましい。また、重合方法についても特に制限はなく公知のものの中から適宜選択することができる。例えば、バルク重合法、懸濁重合法、乳化重合法、溶液重合法などを適宜選択することができる。これらの中でも、溶液重合法であることがより望ましい。

　特定樹脂として好適な前記共重合体の重量平均分子量は、特定樹脂を含有させたことによる硬化膜の強度の向上が得られるという点、及びリソグラフィック・プロセスによるパターン状の硬化膜の作製が容易であるという点から、１万以上１０万以下が好ましく、１．２万以上６万以下が更に好ましく、１．５万以上４．５万以下が特に好ましい。

　特定樹脂として好適なガラス転移温度（Ｔｇ）は、４０℃以上１８０℃以下であることが好ましく、４５℃以上１４０℃以下であることがより好ましく、５０℃以上１３０℃以下であることが特に好ましい。ガラス転移温度（Ｔｇ）が前記好ましい範囲内であると、良好な絶縁性、透明性、耐水性、耐アルカリ性、耐酸性に優れた絶縁層及びオーバーコート層が得られる。

　前記特定樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）が４０℃以上１８０℃以下であり、かつ重量平均分子量が１万以上１０万以下であることが良好な絶縁性、透明性、耐水性、耐アルカリ性、耐酸性に優れた絶縁層及びオーバーコート層が得られる点で好ましい。
　更に、前記特定樹脂の好ましい例の中でも、分子量、ガラス転移温度（Ｔｇ）、及び酸価のいずれもが前記好ましい範囲にある樹脂がより好ましい。

　第１の実施形態における前記特定樹脂の含有量としては、第１の実施形態に係る硬化性組成物の全固形分質量に対して、５質量％以上７０質量％以下が好ましく、１０質量％以上５０質量％以下がより好ましい。第２の実施形態における前記特定樹脂の含有量としては、第２の実施形態に係る硬化性組成物の全固形分質量に対して、５質量％以上７０質量％以下が好ましく、１０質量％以上５０質量％以下がより好ましい。
　なお、ここで固形分とは、硬化性組成物において溶剤を除いた他の成分の合計量を指す。
　第１の実施形態に係る硬化性組成物には、特定樹脂の他に、第１の実施形態の効果を損なわない限りにおいて、側鎖に酸性基を有する樹脂以外の樹脂（他の樹脂）を含有してもよい。同様に、第２の実施形態に係る硬化性組成物には、特定樹脂の他に、第２の実施形態の効果を損なわない限りにおいて、側鎖に酸性基を有する樹脂以外の樹脂（他の樹脂）を含有してもよい。第１の実施形態および第２の実施形態において、他の樹脂を含有する場合、その含有量は、特定樹脂の含有量１００質量部に対して３０質量部以下であることが好ましく、効果の観点からは、樹脂として特定樹脂のみを含む態様がより好ましい。

［（Ｃ）開始剤］
　（Ｃ）開始剤は、光重合開始剤及び熱重合開始剤からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物である。
　（Ｃ）開始剤として、光重合開始剤を含有させた場合には、パターン状の硬化膜をリソグラフィック・プロセスにより形成することができ、カラーフィルタの色分解用画素を形成する場合に有利である。もちろん、全面ベタ露光を行うことにより、保護膜の形成に供することもできる。
　（Ｃ）開始剤として、熱重合開始剤を含有させた場合においても、赤外レーザ光のような赤外線を光源として用いれば、パターン状の硬化膜をリソグラフィック・プロセスにより形成することができる。更に、全面ベタ露光を行うことにより、保護膜の形成に供することもできる。
　（Ｃ）開始剤として、光重合開始剤及び熱重合開始剤の両者を含有させた場合には、例えば紫外線を光源としてリソグラフィック・プロセスによりパターン状の硬化膜を光源として形成し、更にこれを加熱することにより、一段と高い硬度を有するパターン状の硬化膜が得られるので好ましい。

〈（Ｃ－１）光重合開始剤〉
　光重合開始剤としては、公知の化合物を好適に用いることができ、例えば、トリアジン誘導体、オキサジアゾール誘導体、オキシム系開始剤、アセトフェノン系開始剤、チタノセン系開始剤、アシルフォスフィンオキサイド系開始剤などが好ましく挙げられる。
　具体的には、例えば、特開２００６－２３６９６号公報の段落番号［００１２］～［００２０］に記載の成分や、特開２００６－６４９２１号公報の段落番号［００５０］～［００５３］に記載の成分が挙げられる。

　第１の実施形態および第２の実施形態に使用しうる好ましい（Ｃ－１）光重合開始剤としては、例えば、２－トリクロロメチル－５－（ｐ－スチリルメチル）－１，３，４－オキサジアゾール、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－［４－（Ｎ，Ｎ－ジエトキシカルボニルメチル）－３－ブロモフェニル］－ｓ－トリアジン、７－［２－［４－（３－ヒドロキシメチルピペリジノ）－６－ジエチルアミノ］トリアジニルアミノ］－３－フェニルクマリン、２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン、１－ヒドロキシシクロヘキシル－フェニルケトン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニル－プロパン－１－オン、１－［４－２－ヒドロキシエトキシ）－フェニル］－２－ヒドロキシ－２－メチル－１－プロパン－１－オン、２－ヒロドキシ－１－｛４－［４－（２－ヒドロキシ－２－メチル－プロピオニル）－ベンジル］フェニル｝－２－メチル－プロパン－１－オン、２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルフォリノプロパン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタノン－１、２－（ジメチルアミノ）－２－［（４－メチルフェニル）メチル］－１－［４－（４－モルホリニル）フェニル］－１－ブタノン、２，４，６－トリメチルベンゾイル－ジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルフォスフィンオキサイド、ビス（η５－２，４－シクロペンタジエン－１－イル）－ビス（２，６－ジフルオロ－３－（１Ｈ－ピロール－１－イル）－フェニル）チタニウム、１－［４－（フェニルチオ）フェニル］－１，２－オクタンジオン２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）、１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］エタノン（Ｏ－アセチルオキシム）、オキシフェニル酢酸２－［２－オキソ－２－フェニルアセトキシエトキシ］エチルエステルとオキシフェニル酢酸２－（２－ヒドロキシエトキシ）エチルエステルの混合物等が挙げられる。

　なかでも、２－トリクロロメチル－５－（ｐ－スチリルメチル）－１，３，４－オキサジアゾール、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－［４－（Ｎ，Ｎ－ジエトキシカルボニルメチル）－３－ブロモフェニル］－ｓ－トリアジン、７－［２－［４－（３－ヒドロキシメチルピペリジノ）－６－ジエチルアミノ］トリアジニルアミノ］－３－フェニルクマリン、２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン、１－ヒドロキシシクロヘキシル－フェニルケトン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニル－プロパン－１－オン、１－［４－（２－ヒドロキシエトキシ）－フェニル］－２－ヒドロキシ－２－メチル－１－プロパン－１－オン、２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルフォリノプロパン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタノン－１、２－（ジメチルアミノ）－２－［（４－メチルフェニル）メチル］－１－［４－（４－モルホリニル）フェニル］－１－ブタノン、１－［４－（フェニルチオ）フェニル］－１，２－オクタンジオン２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）］、１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］エタノン（０－アセチルオキシム）、オキシフェニル酢酸２－［２－オキソ－２－フェニルアセトキシエトキシ］エチルエステルとオキシフェニル酢酸２－（２－ヒドロキシエトキシ）エチルエステルの混合物が特に好ましいが、これに限定されない。

　更に、下記一般式（ａ）で表されるカルバゾール構造を有する光重合開始剤を少なくとも一種含有することも好ましい。

　一般式（ａ）中、ＲおよびＸは、それぞれ、１価の置換基を表し、Ａは、２価の有機基を表し、Ａｒは、アリール基を表す。ｎは、１～５の整数である。Ｒとしては、高感度化の点から、アシル基が好ましく、具体的には、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基、トルイル基が好ましい。Ａとしては、感度を高め、加熱経時による着色を抑制する点から、無置換のアルキレン基、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ドデシル基）で置換されたアルキレン基、アルケニル基（例えば、ビニル基、アリル基）で置換されたアルキレン基、アリール基（例えば、フェニル基、ｐ－トリル基、キシリル基、クメニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナントリル基、スチリル基）で置換されたアルキレン基が好ましい。

　Ａｒとしては、感度を高め、加熱経時による着色を抑制する点から、置換または無置換のフェニル基が好ましい。置換フェニル基の場合、その置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン基が好ましい。Ｘとしては、溶剤溶解性と長波長領域の吸収効率向上の点から、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアルキニル基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルチオキシ基、置換基を有してもよいアリールチオキシ基、置換基を有してもよいアミノ基が好ましい。
　また、一般式（ａ）におけるｎは１～２の整数が好ましい。

　上記一般式（ａ）で表される光重合開始剤の具体例としては、下記の例示化合物（Ｖ－３）が挙げられる。

〈（Ｃ－２）熱重合開始剤〉
　熱重合開始剤としては、公知の化合物を好適に用いることができ、例えば、ケトンパーオキサイド系化合物、パーオキシケタール系化合物、ハイドロパーオキサイド系化合物、ジアルキルパーオキサイド系化合物、ジアシルパーオキサイド系化合物、パーオキシジカーボネート系化合物、パーオキシエステル系化合物等が用いられ、これらの熱重合開始剤は企業の製品カタログ等で公開されている。又、特表２０１２－５２１５７３に記載のヒドロキシルアミンエステルを含む熱重合開始剤が第１の実施形態および第２の実施形態では好適に使用される。具体的な化合物例は下記である。

　第１の実施形態において、（Ｃ）開始剤の含有量は、第１の実施形態に係る硬化性組成物の全固形分総量を基準として、０．１質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以上１０質量％以下であることがより好ましく、１質量％以上５質量％以下が最も好ましい。第２の実施形態において、（Ｃ）開始剤の含有量は、第２の実施形態に係る硬化性組成物の全固形分総量を基準として、０．１質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以上１０質量％以下であることがより好ましく、１質量％以上５質量％以下が最も好ましい。

［（Ｄ）光酸発生剤］
　第１の実施形態における光酸発生剤は、光照射により酸を発生する化合物である。
　第１の実施形態で使用される光酸発生剤は、光カチオン重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、又はマイクロレジスト等に使用されている公知の酸発生剤等、公知の化合物及びそれらの混合物等を含む。

　代表的な光酸発生剤としては、例えば、（１）ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩、ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、イミニウム塩、ピリジニウム塩、アルソニウム塩、セレノニウム塩等（好ましくはジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、イミニウム塩）の各種オニウム塩；（２） β －ケトエステル、β －スルホニルスルホンとこれらのα －ジアゾ化合物等のスルホン化合物；（３）アルキルスルホン酸エステル、ハロアルキルスルホン酸エステル、アリールスルホン酸エステル、イミノスルホネート等のスルホン酸エステル類；（４）スルホンイミド化合物類；（５）ジアゾメタン化合物類；その他を挙げることができる。
　中でも、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩及びイミニウム塩からなる群より選ばれた光酸発生剤が、光重合開始の光感度、化合物の素材安定性等の点から好ましい。具体的な化合物としては、例えば、特開２００２－２９１６２号公報の段落００５８～００６４に記載されている化合物等が挙げられる。

　更に下記一般式（１）から（２２）であらわされるオキシムスルホネート化合物も好ましい。

（式（１）中、Ｒ¹はアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を表し、Ｒ²はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基又はハロゲン原子を表し、Ａｒ¹はｏ－アリーレン基又はｏ－ヘテロアリーレン基を表し、ＸはＯ又はＳを表し、ｎは１又は２を表す。ただし、化合物中に２以上存在するＲ²のうち、少なくとも１つはアルキル基、アリール基又はハロゲン原子である。）
　上記式（１）で表されるオキシムスルホネート化合物は、より好ましくは下記式（２）～式（４）で表される化合物から選ばれる。

（式（２）～式（４）中、Ｒ¹はアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を表し、Ｒ²はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基又はハロゲン原子を表し、Ｒ⁶はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、スルホン酸基、アミノスルホニル基又はアルコキシスルホニル基を表し、ＸはＯ又はＳを表し、ｎは１又は２を表し、ｍは０～６の整数を表す。ただし、化合物中に２以上存在するＲ²のうち、少なくとも１つはアルキル基、アリール基又はハロゲン原子である。）

（式（５）～（１０）中、Ｒ¹はアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を表し、Ｒ²は水素原子、アルキル基、アリール基又はハロゲン原子を表し、Ｒ⁶はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、スルホン酸基、アミノスルホニル基又はアルコキシスルホニル基を表し、Ｒ⁷はアルキル基、アリール基又はハロゲン原子を表し、Ｒ⁸は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ⁹は水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、ＸはＯ又はＳを表し、ｍは０～６の整数を表す。ただし、式（６）、式（８）及び式（１０）において、Ｒ²、Ｒ⁸及びＲ⁹の全てが水素原子となることはない。）

（式（１１）～（１６）中、Ｒ¹はアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を表し、Ｒ⁸は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ¹⁰は水素原子又は臭素原子を表し、Ｒ¹¹は炭素数１～８の無置換アルキル基、ハロゲン原子、クロロメチル基、ブロモメチル基、ブロモエチル基、メトキシメチル基、フェニル基又はクロロフェニル基を表し、Ｒ¹²は水素原子、ハロゲン原子、メチル基又はメトキシ基を表し、Ｒ¹³は炭素数１～８の無置換アルキル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ブロモエチル基、メトキシメチル基、フェニル基又はクロロフェニル基を表し、ＸはＯ又はＳを表す。）

（式（１７）～（２２）中、Ｒ¹はアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を表し、Ｒ⁸は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ¹⁰は水素原子又は臭素原子を表し、Ｒ¹¹は炭素数１～８の無置換アルキル基、ハロゲン原子、クロロメチル基、ブロモメチル基、ブロモエチル基、メトキシメチル基、フェニル基又はクロロフェニル基を表し、Ｒ¹²は水素原子、ハロゲン原子、メチル基又はメトキシ基を表し、Ｒ¹³は炭素数１～８の無置換アルキル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ブロモエチル基、メトキシメチル基、フェニル基又はクロロフェニル基を表す）。前記式（１）で表されるオキシムスルホネート化合物の具体例としては、下記例示化合物が挙げられるが、第１の実施形態は、これらに限定されるものではない。

　（Ｄ）光酸発生剤の含有量は、第１の実施形態に係る硬化性組成物の全固形分総量を基準として、０．０１質量％以上１０質量％以下であることが、感度と保存安定性という理由から好ましく、０．１質量％以上５質量％以下であることがより好ましく、０．３質量％以上４以下であることが最も好ましい。

［（Ｄ’）熱酸発生剤］
　第２の実施形態における熱酸発生剤は、加熱により酸を発生しうる化合物である。
　好ましい熱酸発生剤は、酸と有機塩基とからなる塩である。
　酸には、例えばスルホン酸、ホスホン酸、カルボン酸など有機酸、例えば硫酸、リン酸などの無機酸が含まれる。
　前述の特定樹脂との相溶性が良いとの理由から、有機酸がより好ましく、スルホン酸、又はホスホン酸が更に好ましく、スルホン酸が最も好ましい。
　好ましいスルホン酸の例としては、ｐ－トルエンスルホン酸（ＰＴＳ）、ベンゼンスルホン酸（ＢＳ）、ｐ－ドデシルベンゼンスルホン酸（ＤＢＳ）、ｐ－クロロベンゼンスルホン酸（ＣＢＳ）、１，４－ナフタレンジスルホン酸（ＮＤＳ）、メタンスルホン酸（ＭｓＯＨ）、ノナフルオロブタン－１－スルホン酸（ＮＦＢＳ）などが挙げられ、何れも好ましく用いることができる（上記括弧内のアルファベットは略称である）。

　（Ｄ’）熱酸発生剤は、酸と組み合わせる有機塩基の塩基性によって保存安定性が大きく変化する。そのため、第２の実施形態においては、上記有機塩基の塩基性が特定の範囲内にあることが、保存安定性に優れる硬化性組成物が得られるので有利であり、これにより、低温での熱硬性と保存安定性とを両立させた硬化性組成物が得られる。

　第２の実施形態においては、（Ｄ’）熱酸発生剤として、共役酸のｐＫａが５．０以上１１．０以下である有機塩基と、酸とからなる塩から選ばれた少なくとも１種の熱酸発生剤を用いることが好ましい。有機塩基の塩基性が低い方が加熱時の酸発生効率が高く、硬化活性の観点からは好ましいが、塩基性が低すぎると保存安定性が低下する。従って、より高い保存安定性を確保する場合には、適度な塩基性を有する有機塩基が選択される。塩基性の指標を共役酸のｐＫａを用いて表すと、第２の実施形態に係る（Ｄ’）熱酸発生剤を構成する有機塩基のｐＫａは、５．０以上１１．０以下であることが好ましく、６．０以上～１１．０以下であることが更に好ましく、６．５以上１１．０以下であることがより更に好ましい。

　具体的な有機塩基のｐＫａの値は、水溶液中での有機塩基のｐＫａの値が「化学便覧　基礎編」（改訂５版、日本化学会編、丸善、２００４年）第２巻のＩＩ、第３３４頁～第３４０頁に記載されているので、これを参考に、その中から適当なｐＫａを有する有機塩基を選ぶことができる。また、上記に記載のない有機塩基であっても、上記の範囲のｐＫａを有するものであれば、好ましく用いることができる。
　参考までに、上記「化学便覧」に記載の適当なｐＫａを有する化合物ｂ－１～ｂ－１９を表１に示すが、第２の実施形態はこれらに限定されるものではない。
　尚、参考までに前記のｐＫａ範囲に入らない化合物ｂ－２０を併せて表１に示す。

　有機塩基の沸点は、低い方が加熱時の酸発生効率が高く、硬化活性の観点からより好ましい。従って、適度な沸点を有する有機塩基を用いることがより好ましい。塩基の沸点としては、１２０℃以下であることが好ましく、８０℃以下であることがより好ましく、７０℃以下であることがさらに好ましい。

　第２の実施形態で好ましく用いることができる有機塩基としては例えば以下の化合物が挙げられるが、これらに限定されるものではない。なお、括弧内に、沸点を示した。
　ｂ－３：ピリジン（１１５℃）
　ｂ－１４：４－メチルモルホリン（１１５℃）
　ｂ－２５：ジアリルメチルアミン（１１１℃）
　ｂ－１９：トリエチルアミン（８８．８℃）
　ｂ－２１：ｔ－ブチルメチルアミン（６７～６９℃）
　ｂ－２２：ジメチルイソプロピルアミン（６６℃）
　ｂ－２３：ジエチルメチルアミン（６３～６５℃）
　ｂ－２４：ジメチルエチルアミン（３６～３８℃）
　ｂ－１８：トリメチルアミン（３～５℃）
　ｂ－２０：ジイソプロピルアミン（８４℃ ）

　第２の実施形態における（Ｄ’）熱酸発生剤は、上記酸と有機塩基からなる塩を単離して用いてもよいし、酸と有機塩基を混合して溶液中で塩を形成させ、その溶液を用いてもよい。また、酸及び有機塩基は、それぞれ１種類だけで用いてもよいし、複数種類のものを混合して用いてもよい。酸と有機塩基を混合して用いる時には、酸と有機塩基の当量比が１：０．９～１：１．５となるように混合することが好ましく、１：０．９５～１：１．３であることがより好ましく、１：１．０～１：１．１であることが更に好ましい。

　（Ｄ’）熱酸発生剤としては、例えば、スルホニウム塩、ベンゾチアゾリウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩等のオニウム塩等も挙げることができ、特にスルホニウム塩およびベンゾチアゾリウム塩も好ましい。これらの具体的化合物の例としては、４－ヒドロキシフェニル・ベンジル・メチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、３－ベンジルベンゾチアゾリウムヘキサフルオロアンチモネートが挙げられる。又、ベンゾチアゾリウム塩の市販品には、商品名で、サンエイドＳＩ－Ｌ８５、同ＳＩ－Ｌ１１０、同ＳＩ－Ｌ１４５、同ＳＩ－Ｌ１５０、同ＳＩ－Ｌ１６０（以上、三新化学工業（株）製）等がある。

　（Ｄ’）熱酸発生剤の含有量は、第２の実施形態に係る硬化性組成物に含まれる（Ａ）特定重合性化合物及び（Ｂ）特定樹脂の合計量１００質量部に対して、好ましくは０.０１質量部以上１０質量部以下であることが、低温での硬化性及び保存安定性に優れる硬化性組成物が得られるので好ましく、より好ましくは０．１質量部以上５質量部以下、更により好ましくは０．２質量部以上３質量部以下の範囲内の含有量である。

　［（Ｅ）酸架橋性化合物］
　第１の実施形態における（Ｅ）酸架橋性化合物は、前記（Ｄ）光酸発生剤が光の照射を受けて発生する酸の作用により架橋反応を起こすように賦活化される化合物である。第２の実施形態における（Ｅ）酸架橋性化合物は、前記（Ｄ’）熱酸発生剤が光の照射を受けて発生する酸の作用により架橋反応を起こすように賦活化される化合物である。いずれの実施形態においても、（Ｅ）酸架橋性化合物に由来する賦活化された化合物のことを「賦活化物」ともいう。第１の実施形態および第２の実施形態における、このような酸架橋性化合物としては、窒素原子に－ＣＨ_２ＯＲ基（ここで、Ｒは、水素原子、アルキル基、アリール基、又はヘテロアリール基を表す。以下、－ＣＨ_２ＯＲ基を「メチロール基等」ともいう。）が少なくとも一つ結合した化合物が好ましく、窒素原子に二つのメチロール基等が結合した化合物が更に好ましい。窒素原子に結合したメチロール基等が二つ以上ある場合には、Ｒは、同一でも異なっていてもよい。
　第１の実施形態および第２の実施形態においては、酸架橋性化合物中のメチロール基等のＯＲ基が前記（Ｄ）光酸発生剤または（Ｄ’）熱酸発生剤に由来する酸により外れて－ＣＨ_２ ^＋基となり、これが前記（Ａ）の特定重合性化合物及び前記（Ｂ）の特定樹脂に含まれる水酸基及びカルボキシル基と反応して、架橋構造を形成するものである。

　酸架橋性化合物としては、例えば、下記一般式（Ａ）で表される化合物（以下、「Ｎ－メチロール化合物」ともいう。）が挙げられる。
　　（Ｒ^１）_ＸＮ（ＣＨ_２Ｏ－Ｒ^２）_３－Ｘ　　　一般式（Ａ）
　一般式（Ａ）中、Ｘは、１又は２を表し、Ｒ^１は、水素原子、アルキル基、アリール基、芳香族ヘテロ環基、又はアシル基を表す。但し、Ｘが１の場合には、Ｒ^１は、アルキル基、アリール基、芳香族ヘテロ環基、又はアシル基を表し、これらの基は、更に－Ｎ（ＣＨ_２Ｏ－Ｒ_２）_３－Ｘで置換されていてもよい。Ｘが２の場合、二つのＲ^１は、互いに異なっていても良く、更に、二つのＲ^１と、それらが結合するＮとで、含窒素複素環を形成しても良い。この場合、該含窒素複素環が二つ以上の窒素原子を有する場合、当該窒素原子が－ＣＨ_２Ｏ－Ｒ_２）_３－Ｘで置換されていてもよい。
　一般式（Ａ）中、Ｒ^２は、水素原子、アルキル基、アリール基、又はヘテロアリール基を表す。Ｘが１の場合、二つのＲ^２は互いに異なっていてもよい。
　上記一般式（Ａ）で表される化合物の好ましい例は、Ｘが１であり、Ｒ^１がアリール基、芳香族ヘテロ環基、又はアシル基を表し、Ｒ_２が水素原子又はアルキル基を表すものであり、ここで、Ｒ^１は特に好ましくはフェニル基、ナフチル基、トリアジン基、又はアシル基であり、Ｒ_２は特に好ましくはメチル基、エチル基又はプロピル基である。
　第１の実施形態および第２の実施形態において、特に好ましい酸架橋性化合物は、下記一般式（Ｂ）で表される化合物が含まれる。

　一般式（Ｂ）中、Ｒ^３～Ｒ^８は、各々独立して、水素原子、アルキル基、アリール基、又はヘテロアリール基を表す。
　Ｒ^３～Ｒ^８は、好ましくはアルキル基であり、特に好ましくはメチル基又はエチル基である。

　上記一般式（Ｂ）で表される化合物の具体例としては、例えば、Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ－ヘキサ（アルコキシメチル）メラミン等が好ましい。前記「アルコキシ」としては、メトキシ、及び、エトキシが特に好ましい。このようなＮ，Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ－ヘキサ（アルコキシメチル）メラミンは、市販品から入手することができ、例えば、サイメル３０３（日本サイテックインダストリーズ株式会社製）が挙げられる。また、メチロール化メラミンも好ましい具体例である。

　第１の実施形態および第２の実施形態において、特に好ましい酸架橋性化合物は、下記一般式（Ｃ）で表される化合物が含まれる。

　上記一般式（Ｃ）中、Ｒ^９～Ｒ^１２は、各々独立して、水素原子、アルキル基、アリール基、又は芳香族ヘテロ環基を表す。
　Ｒ^９～Ｒ^１２は、好ましくはアルキル基であり、特に好ましくはメチル基又はエチル基である。

　上記一般式（Ｃ）で表される化合物の具体例としては、例えば、Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ－テトラ（アルコキシメチル）グリコールウリル等のグリコールウリル、ニカラックＭＸ２７０（三和ケミカル株式会社製、テトラメトキシメチルグリコールウリル）等が挙げられる。

　この他、尿素－ホルムアルデヒド樹脂、チオ尿素－ホルムアルデヒド樹脂、メラミン－ホルムアルデヒド樹脂、グアナミン－ホルムアルデヒド樹脂、ベンゾグアナミン－ホルムアルデヒド樹脂、グリコールウリル－ホルムアルデヒド樹脂、ポリ（ｏ－ビニルフェノール）、ポリ（ｍ－ビニルフェノール）、ポリ（ｐ－ビニルフェノール）等の樹脂に、メチロール基等を導入した化合物等も、上記一般式（Ｃ）で表される化合物の具体例として挙げることができる。
　これらの酸架橋性化合物のうち、アルコキシメチル化メラミンおよびアルコキシメチル化グリコールウリルが好ましく、特にアルコキシメチル化メラミンが好ましい。また、組成物の光架橋性、耐熱性および耐溶剤性のバランスに優れ、かつ低誘電率の硬化物が得られるという観点から、酸架橋性化合物として、アルコキシメチル化メラミンとアルコキシメチル化グリコールウリルとを併用するのも好ましく、この場合のアルコキシメチル化メラミンとアルコキシメチル化グリコールウリルとの質量比は、５／９５以上９５／５以下が適しており、好ましくは１０／９０以上９０／１０以下である。

　第１の実施形態において、（Ｅ）酸架橋性化合物の含有量は、第１の実施形態に係る硬化性組成物の全固形分総量を基準として、０．１質量％以上４０質量％以下であることが、光露光感度を低下させず熱架橋反応を十分進行させる等の理由から好ましく、１質量％以上３５質量％以下であることがより好ましく、２質量％以上３０以下であることが最も好ましい。第２の実施形態において、（Ｅ）酸架橋性化合物の含有量は、第２の実施形態に係る硬化性組成物の全固形分総量を基準として、０．１質量％以上４０質量％以下であることが、光露光感度を低下させず熱架橋反応を十分進行させる等の理由から好ましく、１質量％以上３５質量％以下であることがより好ましく、２質量％以上３０以下であることが最も好ましい。

　第１の実施形態に係る硬化性組成物および第２の実施形態に係る硬化性組成物には、（Ｆ）多分岐化合物を含有させることが好ましい。これにより、更に一段と高い硬度を有する硬化膜が得られる。

［（Ｆ）多分岐化合物］
　（Ｆ）多分岐化合物は、いわゆる櫛型、星型等の部分構造を二段階以上繰り返し有する高次の分枝構造を有する分子量１３００以上の化合物である。（Ｂ）多分岐化合物は、その末端基が、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基、アクリロイル基、及びメタクリロイル基からなる群から選ばれた基であるものが含まれる。このうち、特に好ましい末端基は、アクリロイル基又はメタクリロイル基である。以下、末端基にアクリロイル基及びメタクリロイル基（以下、これらの基を包括的に「（メタ）アクリロイル基」ともいう。）からなる群から選ばれた少なくとも一つの基を有する分子量１３００以上の化合物を「重合性多分岐化合物」ともいう。）
　（Ｆ）多分岐化合物は、重合性多分岐化合物であることが好ましい。重合性多分岐化合物は、末端（メタ）アクリロイル基の数が少なくとも１０個のものが好ましく、更に１２個以上３２以下のものが更に好ましい。
　（Ｆ）多分岐化合物は、分子量１３００以上の化合物であるが、分子量は、１３００以上１０００００以下であり、より好ましくは１３００以上２００００以下のものが更に好ましく、特に１３００以上１５０００以下のものが最も好ましい。１３００以上の分子量を有する場合は、重量平均分子量を意味する。

　第１の実施形態および第２の実施形態においては、（Ｆ）多分岐化合物が、デンドリマー及びハイパーブランチポリマーからなる群より選ばれることが、高い硬度の硬化膜が容易に得られる点で好ましい。
　デンドリマーは、コアを構成する化学構造（以下、「コア部」ともいう。）から、その外側へ規則的に分岐を繰り返した化学構造を有するものであり、球状の高度に制御された化学構造及び分子量を有している。ハイパーブランチポリマーは、デンドリマーと類似の化学構造を有するが、デンドリマーにおける程の高度に規則的な分岐構造又は分子量の高度な制御はなされておらず、分岐は確率分布に従って形成され、広い分子量分布を有するものである。
　デンドリマー及びハイパーブランチポリマーは溶解性に優れ、溶液としたときの粘性が低く、多数の官能基（例えば、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基、アクリロイル基、及びメタクリロイル基など）を有している。このような、化学構造上の特徴が、前記（Ａ）特定重合性化合物との組み合わせによって、低い加熱温度によって、高い硬度を有する硬化膜が得られる要因となっているものと思われる。

　デンドリマー及びハイパーブランチポリマーは、例えば、特開２０１２－１７３５４９号公報、国際公開第２００８－０４７６２０号公報、特開２０１２－８３５９４号公報などに記載されている。これらの化合物は、コア部と、該コア部に結合した分岐鎖部と、さらに該分岐鎖部に結合した末端基を有する。分岐鎖部においては、二次元又は三次元に枝分かれした部分構造を二段階以上繰り返した高度に分岐した構造を含み、末端基には、多数の官能基（例えば、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基、アクリロイル基、及びメタクリロイル基など）を有している。このようなデンドリマー及びハイパーブランチポリマーは、分子量１３００以上の樹枝状化合物である。
　コア部を構成する化合物として、末端にメチロール基を有する鎖状の基を３つ以上有する分岐構造の多価アルコールを使用して合成したものが好ましく、更に、末端にメチロール基を有する鎖状の基を４つ以上有する分岐構造の多価アルコールを使用して合成したものが特に好ましい。
　上記多価アルコールの好ましい具体的には、例えば、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリメチロールプロパン等が含まれる。多価アルコールのヒドロキシ基に分岐構造を有する連結基（以下、分岐鎖部ともいう。）を二段階以上結合させて分岐を繰り返した構造とされる。即ち、多価アルコールのヒドロキシ基に最も近い分岐構造の各分岐鎖末端の各々に、分岐鎖部を結合させて、高度に分岐した構造の化合物とし、その末端に少なくとも一部に前述の官能基が結合される。末端に官能基以外の基が含まれる場合、それらの基には、メチル基等のアルキル基が含まれる。
　コア部としては、例えば、下記の構造（１）～構造（４）で示される構造単位が挙げられる。

〔構造（１）中、＊部は分岐鎖部との結合部位を表す。〕

〔構造（２）中、ｎは０～２の整数を表し、＊部は前記と同じ意味を有する。〕

〔構造（３）中、＊部は前記と同じ意味を有する。〕

〔構造（４）中、＊部は前記と同じ意味を有する。〕

　分岐鎖部としては、分岐構造を３つ以上有する構造単位が好ましく、例えば、ポリアミド、ポリエステル、ポリエーテル、ポリウレタン、ポリウレア等が挙げられる。中でも、ポリエステル単位及びポリウレタン単位が好ましい。分岐鎖部としては、ポリヒドロキシカルボン酸単位が好ましく、下記の構造（５）又は構造（６）で示される単位であることがより好ましい。

〔構造（５）中、＊部はコア部又は分岐鎖部単位との結合部位を表す。〕

〔構造（６）中、＊部はコア部又は分岐鎖部単位との結合部位を表す。〕

　前記コア部と分岐鎖部は、単結合により結合していてもよく、またエチレンオキシドやプロピレンオキシド等のアルキレンオキシドに由来する結合部位を介して結合していてもよい。アルキレンオキシドに由来する結合部位を介して結合する場合、アルキレンオキシドの酸素末端側が分岐鎖部＊部と結合することが好ましい。

　多分岐化合物の末端に結合している基はエチレン性不飽和結合を有する基であることが好ましく、そのような基としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニルオキシ基等が挙げられる。中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。

　又、国際公開第２００８－０４７６２０に記載のあるアルカリ現像型の多分岐ポリマーは放射線による硬化前の溶解性が増大している為、アルカリ現像によるパターン形成に一層有利である。

　これらの化合物は、例えば、国際公開第２００８／０４７６２０号パンフレットや特開２００８－１７４５１８号公報に記載された方法等により製造することができる。
　これらの化合物の分子量又は重量平均分子量は、１３００以上１０００００以下であり、より好ましくは１３００以上２００００以下のものが更に好ましく、特に１３００以上１５０００以下である。２５℃における粘度は、好ましくは１００Ｐａ・ｓ～５０００００Ｐａ・ｓであり、より好ましくは３００～３０００００Ｐａ・ｓである。

　具体的には、例えば、下記の構造式（Ｂ－１）～構造式（Ｂ－５）で示される化合物が挙げられる。

　また、商品名でビスコート＃１０００（大阪有機化学（株）製）、ＳＴＡＲ－５０１（大阪有機化学（株）製）、Ａ－ＨＢＲ－５（新中村化学（株）製）、ニューフロンティアＲ－１１５０（第一工業製薬（株））製）、ＳＮ－２３０１（サートマー社製）、日産化学工業（株）製の「ハイパーテック」の名称で販売されている製品、ＵＲ―１０１等を用いることができる。これらのデンドリマー及びハイパーブランチポリマーからなる群から選ばれた化合物は、単独でも、２種以上を組み合わせて含有させてもよい。

　第１の実施形態において、（Ｆ）多分岐化合物の含有量は、第１の実施形態に係る硬化性組成物の固形分総質量を基準として、好ましくは５質量％以上７０質量％以下であり、特に好ましくは１０質量％以上６５質量％以下である。第２の実施形態において、（Ｆ）多分岐化合物の含有量は、第２の実施形態に係る硬化性組成物の固形分総質量を基準として、好ましくは５質量％以上７０質量％以下であり、特に好ましくは１０質量％以上６５質量％以下である。

　第１の実施形態に係る硬化性組成物および第２の実施形態に係る硬化性組成物は、前記（Ａ）特定重合性化合物、及び所望により含有させる前記（Ｆ）多分岐化合物のいずれとも異なる重合性化合物（以下、「追加的重合性化合物」ともいう。）を含んでいてもよい。このような追加的重合性化合物は、（Ｃ）開始剤から発生した活性ラジカル又は酸ラジカル等によって重合しうる化合物であって、例えば、重合性のエチレン性不飽和結合を有する化合物等が挙げられる。
　具体的には、例えば、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物であり、特開２００６－２３６９６号公報の段落番号［００１０］～［００２０］に記載の成分や、特開２００６－６４９２１号公報の段落番号［００２７］～［００５３］に記載の成分を挙げることができる。重合性化合物としては、好ましくは、末端エチレン性不飽和結合を有する化合物であり、より好ましくは末端エチレン性不飽和結合を２個以上有する化合物から選ばれる。

　このような化合物群は当該産業分野において広く知られているものであり、第１の実施形態および第２の実施形態においてはこれらを特に限定なく用いることができる。これらは、例えば、モノマー、プレポリマー、すなわち２量体、３量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物並びにそれらの多量体などの化学的形態のいずれであってもよい。
　また、イソシアネートと水酸基との付加反応を用いて製造されるウレタン付加の重合性化合物も好適であり、特開昭５１－３７１９３号公報、特公平２－３２２９３号公報、特公平２－１６７６５号公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭５８－４９８６０号公報、特公昭５６－１７６５４号公報、特公昭６２－３９４１７号公報、特公昭６２－３９４１８号公報に記載のエチレンオキサイド骨格を有するウレタン化合物類も好適である。
　その他の例としては、特開昭４８－６４１８３号公報、特公昭４９－４３１９１号公報、特公昭５２－３０４９０号公報の各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られるエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。更に日本接着協会誌ｖｏｌ．２０、Ｎｏ．７、３００～３０８ページ（１９８４年）に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。

　具体例としては、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリ（（メタ）アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレートＥＯ変性体、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートＥＯ変性体などが、並びに、市販品としては、ＮＫエステル　Ａ－ＴＭＭＴ、ＮＫエステル　Ａ－ＴＭＭ－３、ＮＫオリゴＵＡ－３２Ｐ、ＮＫオリゴＵＡ－７２００（以上、新中村化学工業（株）製）、アロニックス　Ｍ－３０５、アロニックス　Ｍ－３０６、アロニックス　Ｍ－３０９、アロニックス　Ｍ－４５０、アロニックス　Ｍ－４０２、ＴＯ－１３８２、ＴＯ－２３４９（以上、東亞合成（株）製）、Ｖ＃８０２（大阪有機化学工業（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３３０、Ｄ－３２０、Ｄ－３１０、ＤＰＨＡ（以上、日本化薬株式会社製）を好ましい例として挙げることができる。
　これらの重合性化合物は単独で、或いは２種以上の併用で用いることができる。

　第１の実施形態または第２の実施形態に係る硬化性組成物に、追加的重合性化合物を含有させる場合、その含有量は、硬化性組成物の全固形分総質量を基準として、０．０１質量％以上２０質量％以下が好ましく、０．１質量％～１０質量％がより好ましく、０．５質量％～８質量％が特に好ましい。

［（Ｇ）着色剤］
　第１の実施形態に係る硬化性組成物および第２の実施形態に係る硬化性組成物は、（Ｇ）着色剤として、顔料及び染料のいずれを用いることも可能である。第１の実施形態に係る硬化性組成物または第２の実施形態に係る硬化性組成物を感光性樹脂組成物としてカラーフィルタに用いる場合、高い輝度を持つ組成物を得る目的では、染料を用いることが望ましい。この場合、染料は単独で用いても良く、また、要求される色相に応じて複数の染料を混合しても良い。多くの場合、単一の染料で得られる吸収スペクトルではカラーフィルタに要求される色を得ることは困難であるため、複数の染料を用いることが実際的である。
また、一般的に染料よりも耐熱性が高い顔料を染料と併用することも可能である。特に一部の用途において、染料では要求される特性を満たせない場合は、輝度は低下するものの顔料のみで着色剤を構成することも考えられる。
　着色剤として染料と顔料のいずれを用いる場合であっても、第１の実施形態または第２の実施形態に係る硬化性組成物中における着色剤の含有量は、該組成物の全固形分に対して、０．５～７０質量％であることが好ましく、１～６０質量％がより好ましい。顔料の含有量が前記範囲内であると、優れた色特性を確保し、かつ硬化性組成物としての性能を両立するのに有効である。

　染料としては、Ｃｏｌｏｕｒ　Ｉｎｄｅｘ　Ｎｕｍｂｅｒにて公知のものを含む様々な染料を用いることが可能であるが、特にバルビツール酸アゾ染料、ピリミジンアゾ系染料、ピラゾールアゾ系染料、ピリドンアゾ系染料、キサンテン系染料、トリアリールメタン系染料、ジピロメテン系染料、アザピロメテン系染料、メチン系染料、シアニン系染料、スクアリリウム系染料、フタロシアニン系染料、ポルフィリン系染料、アントラキノン系染料、メロシアニン系、ペンゾピラン系、インジゴ系染料から少なくとも一種が使用されることが好ましい。
　上記のいずれの染料を用いるかは、要求される色相等によって適宜選択すればよい。

＜一般式（Ｉ）で表される染料＞
　（Ｇ）着色剤として、例えば一般式（Ｉ）で表される染料を用いることが出来る。

　前記一般式（Ｉ）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、及びＲ^６は、各々独立に、水素原子、又は１価の置換基を表し、Ｒ^７は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、又はヘテロ環基を表す。

　一般式（Ｉ）中、Ｒ^１～Ｒ^６が表す一価の置換基としては、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子が挙げられる。）、アルキル基（好ましくは炭素数１～４８、より好ましくは炭素数１～２４の、直鎖、分岐鎖、又は環状のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、２－エチルヘキシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、１－ノルボルニル基、１－アダマンチル基が挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素数２～４８、より好ましくは炭素数２～１８のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリル基、３－ブテン－１－イル基が挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素数６～４８、より好ましくは炭素数６～２４のアリール基であり、例えば、フェニル基、ナフチル基が挙げられる。）、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１～３２、より好ましくは炭素数１～１８のヘテロ環基であり、例えば、２－チエニル基、４－ピリジル基、２－フリル基、２－ピリミジニル基、１－ピリジル基、２－ベンゾチアゾリル基、１－イミダゾリル基、１－ピラゾリル基、ベンゾトリアゾール－１－イル基が挙げられる。）、

シリル基（好ましくは炭素数３～３８、より好ましくは炭素数３～１８のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリブチルシリル基、ｔ－ブチルジメチルシリル基、ｔ－ヘキシルジメチルシリル基が挙げられる）、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシ基（好ましくは炭素数１～４８、より好ましくは炭素数１～２４のアルコキシ基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、１－ブトキシ基、２－ブトキシ基、イソプロポキシ基、ｔ－ブトキシ基、ドデシルオキシ基が挙げられる。また、シクロアルキルオキシ基であれば、例えば、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基が挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６～４８、より好ましくは炭素数６～２４のアリールオキシ基であり、例えば、フェノキシ基、１－ナフトキシ基が挙げられる。）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは炭素数１～３２、より好ましくは炭素数１～１８のヘテロ環オキシ基であり、例えば、１－フェニルテトラゾール－５－オキシ基、２－テトラヒドロピラニルオキシ基が挙げられる。）、シリルオキシ基（好ましくは炭素数１～３２、より好ましくは炭素数１～１８のシリルオキシ基であり、例えば、トリメチルシリルオキシ基、ｔ－ブチルジメチルシリルオキシ基、ジフェニルメチルシリルオキシ基が挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２～４８、より好ましくは炭素数２～２４のアシルオキシ基であり、例えば、アセトキシ基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ドデカノイルオキシ基が挙げられる。）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは炭素数２～４８、より好ましくは炭素数２～２４のアルコキシカルボニルオキシ基であり、例えば、エトキシカルボニルオキシ基、ｔ－ブトキシカルボニルオキシ基、また、シクロアルキルオキシカルボニルオキシ基であれば、例えば、シクロヘキシルオキシカルボニルオキシ基が挙げられる。）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは炭素数７～３２、より好ましくは炭素数７～２４のアリールオキシカルボニルオキシ基であり、例えば、フェノキシカルボニルオキシ基が挙げられる。）、

カルバモイルオキシ基（好ましくは炭素数１～４８、よりこの好ましくは炭素数１～２４のカルバモイルオキシ基であり、例えば、Ｎ，Ｎ－ジメチルカルバモイルオキシ基、Ｎ－ブチルカルバモイルオキシ基、Ｎ－フェニルカルバモイルオキシ基、Ｎ－エチル－Ｎ－フェニルカルバモイルオキシ基が挙げられる。）、スルファモイルオキシ基（好ましくは炭素数１～３２、より好ましくは炭素数１～２４のスルファモイルオキシ基であり、例えば、Ｎ，Ｎ－ジエチルスルファモイルオキシ基、Ｎ－プロピルスルファモイルオキシ基が挙げられる。）、アルキルスルホニルオキシ基（好ましくは炭素数１～３８、より好ましくは炭素数１～２４のアルキルスルホニルオキシ基であり、例えば、メチルスルホニルオキシ基、ヘキサデシルスルホニルオキシ基、シクロヘキシルスルホニルオキシ基が挙げられる。）、アリールスルホニルオキシ基（好ましくは炭素数６～３２、より好ましくは炭素数６～２４のアリールスルホニルオキシ基であり、例えば、フェニルスルホニルオキシ基が挙げられる。）、アシル基（好ましくは炭素数１～４８、より好ましくは炭素数１～２４のアシル基であり、例えば、ホルミル基、アセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、テトラデカノイル基、シクロヘキサノイル基が挙げられる。）、

アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２～４８、より好ましくは炭素数２～２４のアルコキシカルボニル基であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、オクタデシルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基、２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－メチルシクロヘキシルオキシカルボニル基が挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７～３２、より好ましくは炭素数７～２４のアリールオキシカルボニル基であり、例えば、フェノキシカルボニル基が挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１～４８、より好ましくは炭素数１～２４のカルバモイル基であり、例えば、カルバモイル基、Ｎ，Ｎ－ジエチルカルバモイル基、Ｎ－エチル－Ｎ－オクチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ－ジブチルカルバモイル基、Ｎ－プロピルカルバモイル基、Ｎ－フェニルカルバモイル基、Ｎ－メチルＮ－フェニルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ－ジシクロへキシルカルバモイル基が挙げられる。）、アミノ基（好ましくは炭素数３２以下、より好ましくは炭素数２４以下のアミノ基であり、例えば、アミノ基、メチルアミノ基、Ｎ，Ｎ－ジブチルアミノ基、テトラデシルアミノ基、２－エチルへキシルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基が挙げられる。）、アニリノ基（好ましくは炭素数６～３２、より好ましくは６～２４のアニリノ基であり、例えば、アニリノ基、Ｎ－メチルアニリノ基が挙げられる。）、ヘテロ環アミノ基（好ましくは炭素数１～３２、より好ましくは１～１８のヘテロ環アミノ基であり、例えば、４－ピリジルアミノ基が挙げられる。）、カルボンアミド基（好ましくは炭素数２～４８、より好ましくは２～２４のカルボンアミド基であり、例えば、アセトアミド基、ベンズアミド基、テトラデカンアミド基、ピバロイルアミド基、シクロヘキサンアミド基が挙げられる。）、

ウレイド基（好ましくは炭素数１～３２、より好ましくは炭素数１～２４のウレイド基であり、例えば、ウレイド基、Ｎ，Ｎ－ジメチルウレイド基、Ｎ－フェニルウレイド基が挙げられる。）、イミド基（好ましくは炭素数３６以下、より好ましくは炭素数２４以下のイミド基であり、例えば、Ｎ－スクシンイミド基、Ｎ－フタルイミド基が挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２～４８、より好ましくは炭素数２～２４のアルコキシカルボニルアミノ基であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｔ－ブトキシカルボニルアミノ基、オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、シクロヘキシルオキシカルボニルアミノ基が挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７～３２、より好ましくは炭素数７～２４のアリールオキシカルボニルアミノ基であり、例えば、フェノキシカルボニルアミノ基が挙げられる。）、スルホンアミド基（好ましくは炭素数１～４８、より好ましくは炭素数１～２４のスルホンアミド基であり、例えば、メタンスルホンアミド基、ブタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基、ヘキサデカンスルホンアミド基、シクロヘキサンスルホンアミド基が挙げられる。）、スルファモイルアミノ基（好ましくは炭素数１～４８、より好ましくは炭素数１～２４のスルファモイルアミノ基であり、例えば、Ｎ、Ｎ－ジプロピルスルファモイルアミノ基、Ｎ－エチル－Ｎ－ドデシルスルファモイルアミノ基が挙げられる。）、アゾ基（好ましくは炭素数１～３２、より好ましくは炭素数１～２４のアゾ基であり、例えば、フェニルアゾ基、３－ピラゾリルアゾ基が挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１～４８、より好ましくは炭素数１～２４のアルキルチオ基であり、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、オクチルチオ基、シクロヘキシルチオ基が挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６～４８、より好ましくは炭素数６～２４のアリールチオ基であり、例えば、フェニルチオ基が挙げられる。）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数１～３２、より好ましくは炭素数１～１８のヘテロ環チオ基であり、例えば、２－ベンゾチアゾリルチオ基、２－ピリジルチオ基、１－フェニルテトラゾリルチオ基が挙げられる。）、

アルキルスルフィニル基（好ましくは炭素数１～３２、より好ましくは炭素数１～２４のアルキルスルフィニル基であり、例えば、ドデカンスルフィニル基が挙げられる。）、アリールスルフィニル基（好ましくは炭素数６～３２、より好ましくは炭素数６～２４のアリールスルフィニル基であり、例えば、フェニルスルフィニル基が挙げられる。）、アルキルスルホニル基（好ましくは炭素数１～４８、より好ましくは炭素数１～２４のアルキルスルホニル基であり、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、２－エチルヘキシルスルホニル基、ヘキサデシルスルホニル基、オクチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基が挙げられる。）、アリールスルホニル基（好ましくは炭素数６～４８、より好ましくは炭素数６～２４のアリールスルホニル基であり、例えば、フェニルスルホニル基、１－ナフチルスルホニル基が挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素数３２以下、より好ましくは炭素数２４以下のスルファモイル基であり、例えば、スルファモイル基、Ｎ，Ｎ－ジプロピルスルファモイル基、Ｎ－エチル－Ｎ－ドデシルスルファモイル基、Ｎ－エチル－Ｎ－フェニルスルファモイル基、Ｎ－シクロヘキシルスルファモイル基が挙げられる。）、スルホ基、ホスホニル基（好ましくは炭素数１～３２、より好ましくは炭素数１～２４のホスホニル基であり、例えば、フェノキシホスホニル基、オクチルオキシホスホニル基、フェニルホスホニル基が挙げられる。）、ホスフィノイルアミノ基（好ましくは炭素数１～３２、より好ましくは炭素数１～２４のホスフィノイルアミノ基であり、例えば、ジエトキシホスフィノイルアミノ基、ジオクチルオキシホスフィノイルアミノ基が挙げられる。）を表す。

　上述した１価の置換基が更に置換可能な基である場合には、上述した各基のいずれかによって更に置換されていてもよい。なお、２個以上の置換基を有している場合には、それらの置換基は同一であっても異なっていてもよい。

　一般式（Ｉ）において、Ｒ^１とＲ^２、Ｒ^２とＲ^３、Ｒ^４とＲ^５、及びＲ^５とＲ^６は、各々独立に、互いに結合して５員、６員、又は７員の環を形成していてもよい。なお、形成される環としては、飽和環、又は不飽和環のいずれであってもよい。この５員、６員、又は７員の飽和環、又は不飽和環としては、例えば、ピロール環、フラン環、チオフェン環、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ピロリジン環、ピペリジン環、シクロペンテン環、シクロヘキセン環、ベンゼン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環が挙げられ、好ましくは、ベンゼン環、ピリジン環が挙げられる。

　なお、形成される５員、６員、及び７員の環が、更に置換可能な基である場合には、前記一般式（Ｉ）における１価の置換基として例示した基のいずれかで置換されていてもよく、２個以上の置換基で置換されている場合には、それらの置換基は同一であっても異なっていてもよい。
　なお、Ｒ^１とＲ^６とは、環を形成しないことが好ましい。
　また、一般式（Ｉ）において、Ｒ^７がハロゲン原子、アルキル基、アリール基、又はヘテロ環基である場合、これらの好ましい範囲は、前述のＲ^１～Ｒ^６としてのハロゲン原子、アルキル基、アリール基、又はヘテロ環基の好ましい範囲と同様である。

　　次に、金属錯体化合物を形成する金属原子又は金属化合物について説明する。
　金属又は金属化合物としては、錯体を形成可能な金属原子又は金属化合物であればいずれであってもよく、２価の金属原子、２価の金属酸化物、２価の金属水酸化物、又は２価の金属塩化物が含まれる。例えば、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｓｎ、Ｒｈ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｂ等の他に、ＡｌＣｌ、ＩｎＣｌ、ＦｅＣｌ、ＴｉＣｌ_２、ＳｎＣｌ_２、ＳｉＣｌ_２、ＧｅＣｌ_２などの金属塩化物、ＴｉＯ、ＶＯ等の金属酸化物、Ｓｉ（ＯＨ）_２等の金属水酸化物も含まれる。
　これらの中でも、錯体の安定性、分光特性、耐熱、耐光性、及び製造適性等の観点から、Ｆｅ、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｏ、ＴｉＯ、Ｂ、又はＶＯが好ましく、Ｆｅ、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｂ、又はＶＯが更に好ましく、Ｆｅ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｂ、又はＶＯが最も好ましい。これらの中でも、特にＺｎが好ましい。

　前記一般式（Ｉ）で表される構造が金属原子又は金属化合物に配位した金属錯体化合物において、好ましい態様を以下に示す。
　すなわち、前記一般式（Ｉ）において、Ｒ^１及びＲ^６が、各々独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アミノ基、ヘテロ環アミノ基、カルボンアミド基、ウレイド基、イミド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホンアミド基、アゾ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、又はホスフィノイルアミノ基を表し、Ｒ^２及びＲ^５が、各々独立に、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ニトロ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、イミド基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、又はスルファモイル基を表し、Ｒ^３及びＲ^４が、各々独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、カルボンアミド基、ウレイド基、イミド基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホンアミド基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、又はスルファモイル基を表し、Ｒ^７が、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、又はヘテロ環基を表し、金属原子又は金属化合物が、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｂ又はＶＯである態様が好ましい態様として挙げられる。

＜一般式（ＩＩ）で表される染料＞
　着色剤（Ｇ）として、例えば一般式（ＩＩ）で表される染料を用いることが出来る。

　前記一般式（ＩＩ）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６は、それぞれ独立に、水素原子または一価の置換基を表す。
　上記Ｒ^１～Ｒ^６が一価の置換基を表す場合の一価の置換基の例としては、前記一般式（Ｉ）におけるＲ^１～Ｒ^６で例示した一価の置換基が挙げられ、好ましい例も同様である。
　なお、Ｒ^１とＲ^２、Ｒ^２とＲ^３、Ｒ^４とＲ^５、及びＲ^５とＲ^６の少なくとも１組は、それぞれ互いに結合して５員、６員、または７員の飽和環、または不飽和環を形成していてもよい。形成される５員、６員、及び７員の環が、更に置換可能な基である場合には、前記一般式（Ｉ）におけるＲ^１～Ｒ^６で説明した置換基でさらに置換されていてもよく、２個以上の置換基で置換されている場合には、それらの置換基は同一であっても異なっていてもよい。

　一般式（ＩＩ）で表される化合物が金属錯体を形成する場合、その金属は、好ましくは、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｓｃ、Ｆｅ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｓｉ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｏ、ＴｉＯ、またはＶＯであり、より好ましくは、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｓｃ、Ｆｅ、Ａｌ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｏ、ＴｉＯ、またはＶＯであり、特に好ましくは、Ｚｎ、ＣｕまたはＣｏである。

＜一般式（ＩＩＩ）で表される染料＞
　着色剤（Ｇ）として、例えば一般式（ＩＩＩ）で表される染料を用いることが出来る。

　前記一般式（ＩＩＩ）において、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０、及びＲ^１１は、各々独立に、水素原子、炭素数１～１０の飽和炭化水素基、又は炭素数６～１０の芳香族炭化水素基を表す。
前記炭素数１～１０の飽和炭化水素基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、シクロペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、シクロヘプチル、オクチル、２－エチルヘキシル、シクロオクチル、ノニル、デカニル、トリシクロデカニル、メトキシプロピル、エトキシプロピル、ヘキシロキシプロピル、２－エチルヘキシロキシプロピル、メトキシヘキシル、エトキシプロピル等の基が挙げられる。中でも、好ましくは炭素数１～９のアルキル基であり、より好ましくは炭素数１～８のアルキル基である。

　前記炭素数６～１０の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル、ナフチル等の基が挙げられる。炭素数６～１０の芳香族炭化水素基は、ハロゲン原子、炭素数１～１０の飽和炭化水素基、－ＯＨ、－ＯＲ、－ＳＯ_３ ^－、－ＳＯ_３Ｈ、－ＳＯ_３Ｍ、－ＣＯ_２Ｈ、－ＣＯ_２Ｒ^１３、－ＳＯ_３Ｒ^１３、－ＳＯ_２ＮＨＲ^１４、又は－ＳＯ_２ＮＲ^１４Ｒ^１５で置換されていてもよい。Ｒ及びＲ^１３は、炭素数１～１０の飽和炭化水素基を表し、前記Ｒ^８～Ｒ^１１における「炭素数１～１０の飽和炭化水素基」と同義であり、好ましい態様も同様である。Ｒ^１４、Ｒ^１５、及びＭの詳細については、後述する。

　前記ハロゲン原子としては、例えば、フッ素、塩素、臭素等が挙げられる。
　前記「－ＳＯ_３Ｒ^１３」としては、例えば、メタンスルホニル、エタンスルホニル、ヘキサンスルホニル、デカンスルホニル等が挙げられる。
　前記「－ＣＯ_２Ｒ^１３」としては、例えば、メチルオキシカルボニル、エチルオキシカルボニル、プロピルオキシカルボニル、イソプロピルオキシカルボニル、ブチルオキシカルボニル、イソブチルオキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、イソペンチルオキシカルボニル、ネオペンチルオキシカルボニル、シクロペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、ヘプチルオキシカルボニル、シクロヘプチルオキシカルボニル、オクチルオキシカルボニル、２－エチルヘキシルオキシカルボニル、シクロオクチルオキシカルボニル、ノニルオキシカルボニル、デカニルオキシカルボニル、トリシクロデカニルオキシカルボニル、メトキシプロピルオキシカルボニル、エトキシプロピルオキシカルボニル、ヘキシロキシプロピルオキシカルボニル、２－エチルヘキシロキシプロピルオキシカルボニル、メトキシヘキシルオキシカルボニル等が挙げられる。

　Ｒ^１４及びＲ^１５は、各々独立に、水素原子、炭素数１～１０の直鎖又は分岐のアルキル基、炭素数３～３０のシクロアルキル基、炭素数６～１０の芳香族炭化水素基、又は炭素数５～１０の芳香族複素環基を表し、Ｒ^１４とＲ^１５とは互いに結合して炭素数１～１０の複素環を形成してもよい。また、Ｒ^１４及びＲ^１５で表される前記芳香族炭化水素基及び前記芳香族複素環基は、－ＯＨ、炭素数１～１０の飽和炭化水素基、－ＯＲ、－ＮＯ_２、－ＣＨ＝ＣＨ_２、－ＣＨ＝ＣＨＲ、又はハロゲン原子で置換されていてもよい。Ｒは、炭素数１～１０の飽和炭化水素基を表す。炭素数１～１０の飽和炭化水素基は、前記Ｒ^８～Ｒ^１１における「炭素数１～１０の飽和炭化水素基」と同義であり、好ましい態様も同様である。

　Ｒ^１４、Ｒ^１５で表される炭素数１～１０の直鎖又は分岐のアルキル基は、無置換でも置換基を有してもよく、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ペンチル、イソペンチル、ヘキシル、２－エチルヘキシル、１，５－ジメチルヘキシル、オクチル等の基が挙げられる。中でも、炭素数１～８の直鎖又は分岐のアルキル基が好ましい。

　Ｒ^１４、Ｒ^１５で表される炭素数３～３０のシクロアルキル基は、無置換でも置換基を有してもよく、例えば、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、トリシクロデシル等の基が挙げられる。中でも、炭素数３～１５のシクロアルキル基が好ましい。

　Ｒ^１４、Ｒ^１５で表される炭素数６～１０の芳香族炭化水素基は、例えば、フェニル、ナフチル等の基が挙げられる。

　Ｒ^１４、Ｒ^１５で表される炭素数５～１０の芳香族複素環基の例としては、複素原子として酸素原子、窒素原子等を有する芳香族複素環基が挙げられ、より具体的な例としては、ピロール環基、ピラジン環、ピリジン環基、チアジン環基、トリアジン環基、ピラン環基、フラン環基、モルホリン環基、等が挙げられる。

　前記炭素数１～１０の直鎖又は分岐のアルキル基、及び前記炭素数３～３０のシクロアルキル基は、置換されていてもよい。これらが置換されている場合の置換基としては、例えば、水酸基、ハロゲン原子、炭素数６～１０の芳香族炭化水素基、炭素数５～１０の芳香族複素環基、－ＣＨ＝ＣＨ_２、又は－ＣＨ＝ＣＨＲ^６（Ｒ^６：炭素数１～１０の飽和炭化水素基）が挙げられる。前記シクロアルキル基に含まれるメチレン基は、酸素原子、カルボニル基、又は－ＮＲ^６－（Ｒ^６：炭素数１～１０の飽和炭化水素基）で置換されてもよい。炭素数１～１０の飽和炭化水素基は、前記Ｒ^１～Ｒ^４における「炭素数１～１０の飽和炭化水素基」と同義であり、好ましい態様も同様である。
　前記炭素数６～１０の芳香族炭化水素基は、置換されていてもよい。置換されている場合の置換基としては、例えば、エチル、プロピル、フェニル、ジメチルフェニル、－ＳＯ_３Ｒ（Ｒ：炭素数１～１０の飽和炭化水素基）又は－ＳＯ_２ＮＨＲ^１４が好ましい。

　置換されている炭素数６～１０の芳香族炭化水素基としては、例えば、メチルフェニル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニル、エチルフェニル、ヘキシルフェニル、デカニルフェニル、フルオロフェニル、クロロフェニル、ブロモフェニル、ヒドロキシフェニル、メトキシフェニル、ジメトキシフェニル、エトキシフェニル、ヘキシロキシフェニル、デカニロキシフェニル、トリフルオロメチルフェニル等が挙げられる。

　また、Ｒ^１４とＲ^１５とが互いに結合して炭素数１～１０の複素環を形成している場合、炭素数１～１０の複素環は、炭素数１～１０の飽和炭化水素基、水酸基、炭素数６～１０の芳香族炭化水素基、又は炭素数５～１０の芳香族複素環基で置換されていてもよい。

　上記の中でも、Ｒ^１４及びＲ^１５としては、炭素数６～８の分枝状アルキル基、炭素数５～７のシクロアルキル基、アリル基、フェニル基、炭素数８～１０のアラルキル基、炭素数２～８の水酸基含有アルキル、炭素数２～８の水酸基含有アリール基、又は炭素数２～８のアルコキシル基含有アルキル、炭素数２～８のアルコキシル基含有アリール基が好ましく、２－エチルヘキシルが特に好ましい。

　－ＳＯ_３Ｍ中、Ｍは、ナトリウム原子又はカリウム原子を表す。
　Ｒ^１２は、－ＳＯ_３ ^－、－ＳＯ_３Ｈ、－ＳＯ_３Ｍ、－ＣＯ_２Ｈ、－ＣＯ_２Ｒ、－ＳＯ_３Ｒ、－ＳＯ_２ＮＨＲ^１４、又は－ＳＯ_２ＮＲ^１４Ｒ^１５を表す。Ｒ、Ｒ^１４、Ｒ^１５、及びＭは、上記の通りであり、好ましい態様も同様である。

　中でも、Ｒ^１２は、－ＣＯ_２Ｈ、エチルオキシカルボニル、スルホキシル、２－エチルヘキシロキシプロパンスルファモイル、１，５－ジメチルヘキサンスルファモイル、３－フェニル－１－メチルプロパンスルファモイル、イソプロポキシプロパンスルファモイルである態様が好ましい。

　また、ｍは、０～５の整数を表す。ｍが２以上の整数である場合、複数のＲ^１２は同一でも異なっていてもよい。ｎ１、ｎ２、ｎ３及びｎ４は、各々独立に、０又は１を表す。但し、ｎ１～ｎ４の総和は３又は４である。
　Ｘは、ハロゲン原子を表す。ハロゲン原子の例としては、フッ素原子、塩素原子、及び臭素原子などが挙げられる。
　ａは、０又は１の整数を表す。ｎ１～ｎ４の全てが１を表しかつＲ^１２が－ＳＯ_３ ^－を表さない場合はａ＝１であり、それ以外の場合は、窒素原子上の正電荷は存在せず、ａ＝０である。ａ＝０のとき、Ｒ^８～Ｒ^１１、及びＲ^１２の少なくとも１つの基は、水素原子が１つ外れたアニオン基として存在していてもよい。

　上記のうち、Ｒ^８及びＲ^９の少なくとも１つ又はＲ^１０及びＲ^１１の少なくとも１つが、炭素数１～４のアルキル基、又は炭素数６～１０の芳香族炭化水素基である態様が好ましく、Ｒ^８及びＲ^９の少なくとも１つ及びＲ^１０及びＲ^１１の少なくとも１つが、炭素数１～４のアルキル基又は炭素数６～１０の芳香族炭化水素基である態様がより好ましく、更には、Ｒ^８及びＲ^９の少なくとも１つ及びＲ^１０及びＲ^１１の少なくとも１つが、炭素数６～１０の芳香族炭化水素基である態様が好ましい。
　前記一般式（ＩＩＩ）で表される染料の具体例としては、特許第３３８７５４１号の段落番号００１０に記載の化合物が挙げられる。

＜一般式（ＩＶ）で表される染料＞
　着色剤（Ｇ）として、例えば一般式（ＩＶ）で表される染料を用いることが出来る。

　前記一般式（ＩＶ）において、Ｒ^１６、Ｒ^１７、Ｒ^１８、Ｒ^１９、Ｒ^２０、及びＲ^２１は、各々独立に、水素原子、炭素数１～１０の飽和炭化水素基、又は炭素数６～１０の芳香族炭化水素基を表す。

　前記炭素数１～１０の飽和炭化水素基としては、例えば、アルキル基（例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、シクロペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、シクロヘプチル、オクチル、２－エチルヘキシル、シクロオクチル、ノニル、デカニル、トリシクロデカニル、メトキシプロピル、エトキシプロピル、ヘキシロキシプロピル、２－エチルヘキシロキシプロピル、メトキシヘキシル、エトキシプロピル等）、アルケニル基（例えばブテニル基、ヘキセニル基、ペンテニル基、オクテニル基等の直鎖状のアルケニル基）が挙げられる。中でも、好ましくは炭素数１～１０のアルキル基であり、より好ましくは炭素数１～９のアルキル基であり、更に好ましくは炭素数１～８のアルキル基である。

　前記炭素数６～１０の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル、ナフチル等の基が挙げられる。炭素数６～１０の芳香族炭化水素基は、ハロゲン原子、炭素数６～１０の芳香族炭化水素基、炭素数１～１０の飽和炭化水素基、－ＯＨ、－ＯＲ、－ＳＯ_３ ^－、－ＳＯ_３Ｈ、－ＳＯ_３Ｍ、－ＣＯ_２Ｈ、－ＣＯ_２Ｒ、－ＳＯ_３Ｒ、－ＳＯ_２ＮＨＲで置換されていてもよい。

　Ｒは、炭素数６～１０の芳香族炭化水素基、又は炭素数１～１０の飽和炭化水素基を表し、前記Ｒ^１６～Ｒ^２１における「炭素数６～１０の芳香族炭化水素基」、「炭素数１～１０の飽和炭化水素基」とそれぞれ同義であり、好ましい態様も同様である。また、Ｒで表される「炭素数６～１０の芳香族炭化水素基」及び「炭素数１～１０の飽和炭化水素基」は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。炭素数１～１０の飽和炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子、カルボニル基、又は－ＮＲ－で置換されていてもよい。
　前記ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などが挙げられる。
　前記「－ＳＯ_３Ｒ」としては、例えば、メタンスルホニル、エタンスルホニル、ヘキサンスルホニル、デカンスルホニル等が挙げられる。

　前記「－ＣＯ_２Ｒ」としては、例えば、メチルオキシカルボニル、エチルオキシカルボニル、プロピルオキシカルボニル、イソプロピルオキシカルボニル、ブチルオキシカルボニル、イソブチルオキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、イソペンチルオキシカルボニル、ネオペンチルオキシカルボニル、シクロペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、ヘプチルオキシカルボニル、シクロヘプチルオキシカルボニル、オクチルオキシカルボニル、２－エチルヘキシルオキシカルボニル、シクロオクチルオキシカルボニル、ノニルオキシカルボニル、デカニルオキシカルボニル、トリシクロデカニルオキシカルボニル、メトキシプロピルオキシカルボニル、エトキシプロピルオキシカルボニル、ヘキシロキシプロピルオキシカルボニル、２－エチルヘキシロキシプロピルオキシカルボニル、メトキシヘキシルオキシカルボニル等が挙げられる。

　前記「－ＳＯ_２ＮＨＲ」としては、例えば、スルファモイル、メタンスルファモイル、エタンスルファモイル、プロパンスルファモイル、イソプロパンスルファモイル、ブタンスルファモイル、イソブタンスルファモイル、ペンタンスルファモイル、イソペンタンスルファモイル、ネオペンタンスルファモイル、シクロペンタンスルファモイル、ヘキサンスルファモイル、シクロヘキサンスルファモイル、ヘプタンスルファモイル、シクロヘプタンスルファモイル、オクタンスルファモイル、２－エチルヘキサンスルファモイル、１，５－ジメチルヘキサンスルファモイル、シクロオクタンスルファモイル、ノナンスルファモイル、デカンスルファモイル、トリシクロデカンスルファモイル、メトキシプロパンスルファモイル、エトキシプロパンスルファモイル、プロポキシプロパンスルファモイル、イソプロポキシプロパンスルファモイル、ヘキシロキシプロパンスルファモイル、２－エチルヘキシロキシプロパンスルファモイル、メトキシヘキサンスルファモイル、３－フェニル－１－メチルプロパンスルファモイル等が挙げられる。
　前記「－ＯＲ」としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ヘキシロキシ基等が挙げられる。
　前記炭素数６～１０の芳香族炭化水素基が置換されている場合の好ましい置換基としては、エチル、プロピル、フェニル、ジメチルフェニル、－ＳＯ_３Ｒ、又は－ＳＯ_２ＮＨＲなどである。－ＳＯ_３Ｒ及び－ＳＯ_２ＮＨＲは、既述の通りである。

　置換されている炭素数６～１０の芳香族炭化水素基の具体例としては、メチルフェニル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニル、エチルフェニル、ヘキシルフェニル、デカニルフェニル、フルオロフェニル、クロロフェニル、ブロモフェニル、ヒドロキシフェニル、メトキシフェニル、ジメトキシフェニル、エトキシフェニル、ヘキシロキシフェニル、デカニロキシフェニル、トリフルオロメチルフェニル等が挙げられる。
　前記－ＳＯ_３Ｍ中、Ｍは、ナトリウム原子又はカリウム原子を表す。
　Ｒ^２２及びＲ^２３は、各々独立に、水素原子、又は炭素数４～８の飽和炭化水素基を表す。炭素数４～８の飽和炭化水素基の例としては、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基などが挙げられる。
　Ｒ^２２とＲ^２３は、互いに結合して芳香族炭化水素環を形成していてもよい。この場合の芳香族炭化水素環の例としては、ベンゼン環、ナフタレン環などが好適に挙げられる。
　Ｒ^２４は、水素原子、又は炭素数１～１０の飽和炭化水素基を表す。Ｒ^２４で表される炭素数１～１０の飽和炭化水素基は、前記Ｒ^１６～Ｒ^２１における「炭素数１～１０の飽和炭化水素基」と同義である。Ｒ^２４は、好ましくは、水素原子又は炭素数１～３のアルキル基である。
　Ｘは、ハロゲン原子、ＢＦ_４、ＰＦ_６、ＣｌＯ_４、Ｎ（ＳＯ_２ＣＦ_３）_２、又はＡｒＳＯ_３を表す。ＡｒＳＯ_３中のＡｒは、炭素数６～１０の芳香族炭化水素基を表す。炭素数６～１０の芳香族炭化水素基は、前記Ｒ^１６～Ｒ^２１における「炭素数６～１０の芳香族炭化水素基」と同義であり、好ましい態様も同様である。
　Ｘで表されるハロゲン原子の例としては、フッ素原子、塩素原子、及び臭素原子などが挙げられる。

　Ａｒで表される炭素数６～１０の芳香族炭化水素基は、Ｒ^１６～Ｒ^２１で表される炭素数６～１０の芳香族炭化水素基と同義であり、好ましい態様も同様である。炭素数６～１０の芳香族炭化水素基は、ハロゲン原子、炭素数６～１０の芳香族炭化水素基、炭素数１～１０の飽和炭化水素基、－ＯＨ、－ＯＲ、－ＳＯ_３ ^－、－ＳＯ_３Ｈ、－ＳＯ_３Ｍ、－ＣＯ_２Ｈ、－ＣＯ_２Ｒ、－ＳＯ_３Ｒ、－ＳＯ_２ＮＨＲ、－ＳＯ_２Ｎ（Ｒ）_２で置換されていてもよい。中でも、Ａｒとしては、フェニル基、ナフチル基が好ましい。
　また、ａは、０又は１の整数を表し、Ｒ^１６～Ｒ^２１のいずれかが－ＳＯ_３ ^－を含むときはａ＝０であり、Ｒ^１６～Ｒ^２１がいずれも－ＳＯ_３ ^－を含まないときはａ＝１である。一般式（ＩＶ）で表される染料の具体例としては、以下の化合物が挙げられる。

＜一般式（Ｖ）で表される染料＞
　着色剤（Ｇ）として、例えば一般式（Ｖ）で表される染料を用いることが出来る。

　一般式（Ｖ）中、複数存在するＸは、それぞれ独立に、ハロゲン原子を表す。複数存在するＲ^２５は、それぞれ独立に、下記一般式（ＶＩ）又は一般式（ＶＩＩ）で表される基を表す。複数存在するＲは、それぞれ独立に、水素原子又は１価の置換基を表す。Ｍは、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｖ（＝Ｏ）、Ｍｇ、Ｎｉ、Ｔｉ（＝Ｏ）、Ｍｇ、Ｓｎ、又はＳｉを表す。複数のａは、それぞれ独立に、０～４の整数を表し、複数のｎは、それぞれ独立に、０～４の整数を表し、複数のｒは、それぞれ独立に、０～４の整数を表す。但し、複数のａのうち少なくとも１つは、１以上であり、複数のｎのうち少なくとも１つは１以上である。複数のａと複数のｎと複数のｒとの総和は１６である。複数存在するＲ^２５が全て同じ置換基である場合は、複数のａが全て同じであり、且つ、複数のｎの全てが同じとなることはない。

　一般式（ＶＩ）及び一般式（ＶＩＩ）中、ｂ個あるＲ^２６は、それぞれ独立に、下記一般式（ＶＩＩＩ）～一般式（Ｘ）からなる群から選ばれる１価の置換基を表す。Ｒ^２７は１価の置換基を表す。ｂは１～５の整数を表し、ｃは０～４の整数を表す。ただし、一般式（ＶＩ）において、ｂとｃとの合計が５を超えることはない。一般式（ＶＩＩ）において、ｂとｃとの合計が７を超えることはない。Ｙは－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ_２－、又は－ＮＲ^２８－を表す。Ｒ^２８は水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、又は置換基を有してもよいアリール基を表す。

　一般式（ＶＩＩＩ）中、Ｒ^２９は水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいオキシアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいジアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいジアリールアミノ基、又は置換基を有してもよいアルキルアリールアミノ基を表す。一般式（ＩＸ）中、ｄは０～２の整数を表し、ｄが０又は１の場合、Ｒ^３０は置換基を有してもよいアルキル基、又は置換基を有してもよいアリール基を表し、ｄが２の場合、Ｒ^３０は置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいジアルキルアミノ基、置換基を有してもよいジアリールアミノ基、又は置換基を有してもよいアルキルアリールアミノ基を表す。

　一般式（Ｘ）中、Ｒ^３１は、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルキルカルボニル基、置換基を有してもよいアリールカルボニル基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基を表し、Ｒ^３２は水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、又は置換基を有してもよいアリール基を表す。

　第１の実施形態または第２の実施形態で用いる一般式（Ｖ）で表される化合物が、置換数の異なる２種類以上の混合物の場合、ａ、ｎ、ｒは、それぞれ、混合物中の化合物の平均値を意味する。

　一般式（Ｖ）において、Ｘはハロゲン原子を表し、塩素原子又は臭素原子であることが好ましく、塩素原子であることがより好ましい。また、Ｘの置換位置は、フタロシアニン骨格のα位であると、吸収波長が長波化し、グリーン色のカラーフィルタ用として好適に用いることができる。
　複数のｎは、それぞれ独立に、０～４の整数を表し、１～３の整数が好ましい。複数のｎの合計は、１～１４が好ましく、６～１４がより好ましく、９～１２が特に好ましい。
　Ｒ^２５は、一般式（ＶＩ）または一般式（ＶＩＩ）で表される基を表し、一般式（ＶＩ）で表される基であることがより好ましい。
　複数のａは、それぞれ独立に、０～４の整数を表し、１または２が好ましい。複数のａの合計は、１～１４が好ましく、特に好ましくは２～８であり、さらに好ましくは３～５である。
　Ｍは、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｖ（＝Ｏ）、Ｍｇ、Ｎｉ、Ｔｉ（＝Ｏ）、Ｍｇ、Ｓｎ、又はＳｉを表し、Ｚｎ、又はＣｕが好ましい。
　Ｒは水素原子又は１価の置換基を表す。１価の置換基の例としては、後述の置換基Ｔが例示される。Ｒとしては、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、又はアリールオキシ基が好ましく、水素原子、炭素数１～３のアルキル基、炭素数１～３のアルコキシ基、フェノキシ基がより好ましく、水素原子がさらに好ましい。
　複数のｒは、それぞれ独立に、０～４の整数を表す。

　一般式（Ｖ）において、フタロシアニン骨格におけるＲの置換位置については、フタロシアニン骨格のα位、β位のいずれであってもよいが、α位置換体の方が分子会合を抑制する効果が大きく、着色組成物層の吸光係数を高める点で好ましい。
　一般式（ＶＩ）及び一般式（ＶＩＩ）におけるＲ^２６は、それぞれ独立に、一般式（ＶＩＩＩ）～一般式（Ｘ）からなる群から選ばれる１価の置換基を表し、特に、一般式（ＶＩＩＩ）または（ＩＸ）で表される１価の置換基が好ましい。
　ｂは、１～５の整数であり、１または２が好ましい。ｂが２以上の場合は、複数存在するＲ^２６は、同一であってもよいし、異なっていてもよい。

　一般式（ＶＩ）及び一般式（ＶＩＩ）におけるＲ^２７は、１価の置換基を表す。Ｒ^２７で表される１価の置換基は、後述する置換基Ｔから選択でき、ハロゲン原子（好ましくは塩素原子または臭素原子）、シアノ基、ニトロ基、水酸基、アミノ基、アリール基、総炭素数２～２０のアルコキシカルボニル基、総炭素数１～２０のアルキルオキシ基、総炭素数６～２０のアリールオキシ基、総炭素数１～２０のアルキルチオ基、または、総炭素数６～２０のアリールチオ基、総炭素数１～２０のアルキル基、総炭素数１～２０のアルコキシ基が好ましく、メチル基またはメトキシ基がより好ましい。
　ｃは、０～４の整数であり、０または１が好ましく、０がさらに好ましい。ｃが２以上の場合は、複数存在するＲ^３は、同一であってもよいし、異なっていてもよい。

　一般式（ＶＩ）及び一般式（ＶＩＩ）中、Ｙは、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ_２－、又は－ＮＲ^２８－を表し、－Ｏ－又は－ＳＯ_２－が好ましく、－Ｏ－がより好ましい。
　Ｙを－Ｏ－または－ＳＯ_２－とすることにより、ｓｏｒｅｔ帯の吸収を短波長化することができ、吸収のコントラストがより効果的に発揮される傾向にある。
　Ｒ^２８は、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、又は置換基を有してもよいアリール基を表し、水素原子、炭素数１～３のアルキル基、フェニル基が好ましく、水素原子又はメチル基がより好ましく、水素原子がさらに好ましい。置換基を有していてもよいアルキル基等の例は、後述する。

　一般式（ＶＩＩＩ）中におけるＲ^２９は、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいオキシアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいジアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいジアリールアミノ基、又は置換基を有してもよいアルキルアリールアミノ基を表し、水素原子、総炭素数１～２０のアルキル基、総炭素数６～２０のアリール基、総炭素数２～２０のジアルキルアミノ基、総炭素数１２～２０のジアリールアミノ基、または、総炭素数７～２０アルキルアリールアミノ基が好ましく、総炭素数１～２０のアルキル基、総炭素数２～２０のジアルキルアミノ基、総炭素数１２～２０のジアリールアミノ基、または総炭素数７～２０アルキルアリールアミノ基がさらに好ましく、総炭素数１２～２０のジアリールアミノ基または総炭素数２～２０のジアルキルアミノ基が特に好ましい。

　上記したアルキル基、アリール基等のアルキル部位及びアリール部位はさらに置換基を有してもよく、該置換基としてはアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、またはハロゲン原子等が好ましく、アルコキシ基がより好ましく、メトキシ基またはエトキシ基がさらに好ましい。また、置換基を有していない態様も好ましい。置換基を有していてもよいアルキル基等の例は、後述する。

　一般式（ＩＸ）中、ｄは０～２の整数を表し、ｄが０または１のとき、Ｒ^３０は、置換基を有してもよいアルキル基、または置換基を有してもよいアリール基であり、ｄが２のとき、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいジアルキルアミノ基、置換基を有してもよいジアリールアミノ基、または置換基を有してもよいアルキルアリールアミノ基を表す。Ｒ^３０は、ｄが２のとき、炭素数２～２０のジアルキルアミノ基、炭素数１２～２０のジアリールアミノ基、炭素数７～２０アルキルアリールアミノ基が好ましい。

　上記したアルキル基、アリール基等のアルキル部位及びアリール部位はさらに置換基を有してもよく、その置換基としては、後述する置換基Ｔが例示され、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基またはハロゲン原子等が好ましく、アルコキシ基がより好ましく、メトキシ基またはエトキシ基がさらに好ましい。また、置換基を有していない態様も好ましい。置換基を有していてもよいアルキル基等の例は、後述する。

　一般式（Ｘ）中、Ｒ^３１は、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルキルカルボニル基、置換基を有してもよいアリールカルボニル基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基を表し、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数６～２０のアリール基、炭素数２～２０のアルキルカルボニル基、炭素数７～２０のアリールカルボニル基、炭素数１～２０のアルキルスルホニル基、炭素数６～２０のアリールスルホニル基が好ましく、炭素数２～２０のアルキルカルボニル基、炭素数７～２０のアリールカルボニル基、炭素数１～２０のアルキルスルホニル基、炭素数６～２０のアリールスルホニル基がより好ましい。

　一般式（Ｘ）中、Ｒ^３２は水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、又は置換基を有してもよいアリール基を表し、炭素数１～２０のアルキル基又は炭素数６～２０のアリール基が好ましい。

　上記一般式（ＶＩ）～（Ｘ）中の、置換基を有してもよいアルキル基の好適な例を示す。置換基を有してもよいアルキル基の例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、２－エチルヘキシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、１－ノルボルニル基、１－アダマンチル基、フェノキシエチル基、ベンジル基、フェニルエチル基、Ｎ－ブチルアミノスルホニルプロピル基、Ｎ－ブチルアミノカルボニルメチル基、Ｎ，Ｎ－ジブチルアミノスルホニルプロピル基、エトキシエトキシエチル基、２－クロロエチル基が挙げられ、さらに好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、フェノキシエチル基、ベンジル基、フェニルエチル基、Ｎ－ブチルアミノスルホニルプロピル基、Ｎ－ブチルアミノカルボニルメチル基、Ｎ，Ｎ－ジブチルアミノスルホニルプロピル基、エトキシエトキシエチル基が挙げられ、特に好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、フェノキシエチル基、ベンジル基、フェニルエチル基、Ｎ－ブチルアミノスルホニルプロピル基、Ｎ－ブチルアミノカルボニルメチル基、Ｎ，Ｎ－ジブチルアミノスルホニルプロピル基、エトキシエトキシエチル基が挙げられる。

　上記一般式（ＶＩ）～（Ｘ）中の、置換基を有してもよいアリール基の好適な例を示す。置換基を有してもよいアリール基の例としては、フェニル基、２－クロロフェニル基、２－メトキシフェニル基、４－ブトキシカルボニルフェニル基、４－Ｎ，Ｎ－ジブチルアミノカルボニルフェニル基、４－Ｎ－ブチルアミノスルホニルフェニル基、４－Ｎ，Ｎ－ジブチルアミノスルホニルフェニル基が挙げられ、さらに好ましくはフェニル基、４－ブトキシカルボニルフェニル基、４－Ｎ，Ｎ－ジブチルアミノカルボニルフェニル基、４－Ｎ－ブチルアミノスルホニルフェニル基、４－Ｎ，Ｎ－ジブチルアミノスルホニルフェニル基が挙げられ、特に好ましくはフェニル基、４－ブトキシカルボニルフェニル基、４－Ｎ，Ｎ－ジブチルアミノカルボニルフェニル基、４－Ｎ，Ｎ－ジブチルアミノスルホニルフェニル基が挙げられる。

　上記一般式（ＶＩ）～（Ｘ）中の、置換基を有してもよいジアルキルアミノ基の好適な例を示す。置換基を有してもよいジアルキルアミノ基の例としては、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ－ジブチルアミノ基、Ｎ，Ｎ－ジ（２－エチルヘキシル）アミノ基、Ｎ－メチル－Ｎ－ベンジルアミノ基、Ｎ，Ｎ－ジ（２－エトキシエチル）アミノ基、Ｎ．Ｎ－ジ（２－ヒドロキシエチル）アミノ基が挙げられる。

　上記一般式（ＶＩ）～（Ｘ）中の、置換基を有してもよいジアリールアミノ基の好適な例を示す。置換基を有してもよいジアリールアミノ基の例としては、Ｎ，Ｎ－ジフェニルアミノ基、Ｎ，Ｎ－ジ（４－メトキシフェニル）アミノ基、Ｎ，Ｎ－ジ（４－アシルフェニル）アミノ基が挙げられる。

　上記一般式（ＶＩ）～（Ｘ）中の、置換基を有してもよいアルキルアリールアミノ基の好適な例を示す。置換基を有してもよいアルキルアリールアミノ基の例としては、Ｎ－メチル－Ｎ－フェニルアミノ基、Ｎ－ベンジル－Ｎ－フェニルアミノ基、Ｎ－メチル－Ｎ－（４－メトキシフェニル）アミノ基が挙げられる。

　上記一般式（ＶＩ）～（Ｘ）中の、置換基を有してもよいアルキルカルボニル基の好適な例を示す。置換基を有してもよいアルキルカルボニル基の例としては、アセチル基、プロピルカルボニル基、ヘプチル－３－カルボニル基、２－エチルヘキシルオキシメチルカルボニル基、フェノキシメチルカルボニル基、２－エチルヘキシルオキシカルボニルメチルカルボニル基が挙げられる。

　上記一般式（ＶＩ）～（Ｘ）中の、置換基を有してもよいアリールカルボニル基の好適な例を示す。置換基を有してもよいアリールカルボニル基の例としては、ベンゾイル基、４－メトキシベンゾイル基、４－エトキシカルボニルベンゾイル基が挙げられる。

　上記一般式（ＶＩ）～（Ｘ）中の、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基の好適な例を示す。置換基を有してもよいアルキルスルホニル基の例としては、メタンスルホニル基、オクタンスルホニル基、ドデシルスルホニル基、ベンジルスルホニル基、フェノキシプロピルスルホニル基が挙げられる。

　上記一般式（ＶＩ）～（Ｘ）中の、置換基を有してもよいアリールスルホニル基の好適な例を示す。置換基を有してもよいアリールスルホニル基の例としては、フェニルスルホニル基、２－メトキシフェニルスルホニル基、４－エトキシカルボニルフェニルスルホニル基が挙げられる。

　上記一般式（ＶＩ）～（Ｘ）中の、置換基を有してもよいアルキルスルホニルアミノ基の好適な例を示す。置換基を有してもよいアルキルスルホニルアミノ基の例としては、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、ヒドロキシプロピルスルホニルアミノ基、２－エチルヘキシルスルホニルアミノ基、ｎ－オクチルスルホニルアミノ基、フェノキシエチルスルホニルアミノ基、アリルスルホニルアミノ基が挙げられる。

　上記一般式（ＶＩ）～（Ｘ）中の、置換基を有してもよいビニルスルホニルアミノ基の例としては、ビニルスルホニルアミノ基、１－メチルビニルスルホニルアミノ基が挙げられる。

　上記一般式（ＶＩ）～（Ｘ）中の、置換基を有してもよいアリールスルホニルアミノ基の例としては、フェニルスルホニルアミノ基、ｐ－メトキシフェニルスルホニルアミノ基、ｐ－エトキシカルボニルスルホニルアミノ基等が挙げられる。

　上記一般式（ＶＩ）～（Ｘ）中の、置換基を有してもよいアルキルカルボニルアミノ基の例としては、メチルカルボニルアミノ基、２－エチルヘキサノイルアミノ基、ｎ－ヘプチルカルボニルアミノ基、エトキシエトキシメチルカルボニルアミノ基等が挙げられる。

　上記一般式（ＶＩ）～（Ｘ）中の、置換基を有してもよいアリールカルボニルアミノ基の例としては、ベンゾイルアミノ基、２－メトキシベンゾイルアミノ基、４－ビニルベンゾイルアミノ基等が挙げられる。

　以下に、置換基Ｔの例を示す。
　アルキル基（好ましくは炭素数１～２４の、直鎖、分岐鎖、または環状のアルキル基で、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、２－エチルヘキシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、１－ノルボルニル基、１－アダマンチル基）、アルケニル基（好ましくは炭素数２～１８のアルケニル基で、例えば、ビニル基、アリル基、３－ブテン－１－イル基）、アリール基（好ましくは炭素数６～２４のアリール基で、例えば、フェニル基、ナフチル基）、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１～１８のヘテロ環基で、例えば、２－チエニル基、４－ピリジル基、２－フリル基、２－ピリミジニル基、１－ピリジル基、２－ベンゾチアゾリル基、１－イミダゾリル基、１－ピラゾリル基、ベンゾトリアゾール－１－イル基）、シリル基（好ましくは炭素数３～１８のシリル基で、例えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリブチルシリル基、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル基、ｔｅｒｔ－ヘキシルジメチルシリル基）、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシ基（好ましくは炭素数１～２４のアルコキシ基で、例えば、メトキシ基、エトキシ基、１－ブトキシ基、２－ブトキシ基、イソプロポキシ基、ｔｅｒｔ－ブトキシ基、ドデシルオキシ基、また、シクロアルキルオキシ基であれば、例えば、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６～２４のアリールオキシ基で、例えば、フェノキシ基、１－ナフトキシ基）、

ヘテロ環オキシ基（好ましくは炭素数１～１８のヘテロ環オキシ基で、例えば、１－フェニルテトラゾール－５－オキシ基、２－テトラヒドロピラニルオキシ基）、シリルオキシ基（好ましくは炭素数１～１８のシリルオキシ基で、例えば、トリメチルシリルオキシ基、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリルオキシ基、ジフェニルメチルシリルオキシ基）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２～２４のアシルオキシ基で、例えば、アセトキシ基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ドデカノイルオキシ基）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは炭素数２～２４のアルコキシカルボニルオキシ基で、例えば、エトキシカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニルオキシ基、また、シクロアルキルオキシカルボニルオキシ基であれば、例えば、シクロヘキシルオキシカルボニルオキシ基）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは炭素数７～２４のアリールオキシカルボニルオキシ基で、例えば、フェノキシカルボニルオキシ基）、カルバモイルオキシ基（好ましくは炭素数１～２４のカルバモイルオキシ基で、例えば、Ｎ，Ｎ－ジメチルカルバモイルオキシ基、Ｎ－ブチルカルバモイルオキシ基、Ｎ－フェニルカルバモイルオキシ基、Ｎ－エチル－Ｎ－フェニルカルバモイルオキシ基）、スルファモイルオキシ基（好ましくは炭素数１～２４のスルファモイルオキシ基で、例えば、Ｎ，Ｎ－ジエチルスルファモイルオキシ基、Ｎ－プロピルスルファモイルオキシ基）、アルキルスルホニルオキシ基（好ましくは炭素数１～２４のアルキルスルホニルオキシ基で、例えば、メチルスルホニルオキシ基、ヘキサデシルスルホニルオキシ基、シクロヘキシルスルホニルオキシ基）、アリールスルホニルオキシ基（好ましくは炭素数６～２４のアリールスルホニルオキシ基で、例えば、フェニルスルホニルオキシ基）、

アシル基（好ましくは炭素数１～２４のアシル基で、例えば、ホルミル基、アセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、テトラデカノイル基、シクロヘキサノイル基）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２～２４のアルコキシカルボニル基で、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、オクタデシルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基、２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－メチルシクロヘキシルオキシカルボニル基）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７～２４のアリールオキシカルボニル基で、例えば、フェノキシカルボニル基）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１～２４のカルバモイル基で、例えば、カルバモイル基、Ｎ，Ｎ－ジエチルカルバモイル基、Ｎ－エチル－Ｎ－オクチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ－ジブチルカルバモイル基、Ｎ－プロピルカルバモイル基、Ｎ－フェニルカルバモイル基、Ｎ－メチルＮ－フェニルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ－ジシクロへキシルカルバモイル基）、アミノ基（好ましくは炭素数２４以下のアミノ基で、例えば、アミノ基、メチルアミノ基、Ｎ，Ｎ－ジブチルアミノ基、テトラデシルアミノ基、２－エチルへキシルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基）、アニリノ基（好ましくは６～２４のアニリノ基で、例えば、アニリノ基、Ｎ－メチルアニリノ基）、ヘテロ環アミノ基（好ましくは１～１８のヘテロ環アミノ基で、例えば、４－ピリジルアミノ基）、カルボンアミド基（好ましくは２～２４のカルボンアミド基で、例えば、アセトアミド基、ベンズアミド基、テトラデカンアミド基、ピバロイルアミド基、シクロヘキサンアミド基）、ウレイド基（好ましくは炭素数１～２４のウレイド基で、例えば、ウレイド基、Ｎ，Ｎ－ジメチルウレイド基、Ｎ－フェニルウレイド基）、イミド基（好ましくは炭素数２４以下のイミド基で、例えば、Ｎ－スクシンイミド基、Ｎ－フタルイミド基）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２～２４のアルコキシカルボニルアミノ基で、例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニルアミノ基、オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、シクロヘキシルオキシカルボニルアミノ基）、

アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７～２４のアリールオキシカルボニルアミノ基で、例えば、フェノキシカルボニルアミノ基）、スルホンアミド基（好ましくは炭素数１～２４のスルホンアミド基で、例えば、メタンスルホンアミド基、ブタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基、ヘキサデカンスルホンアミド基、シクロヘキサンスルホンアミド基）、スルファモイルアミノ基（好ましくは炭素数１～２４のスルファモイルアミノ基で、例えば、Ｎ、Ｎ－ジプロピルスルファモイルアミノ基、Ｎ－エチル－Ｎ－ドデシルスルファモイルアミノ基）、アゾ基（好ましくは炭素数１～２４のアゾ基で、例えば、フェニルアゾ基、３－ピラゾリルアゾ基）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１～２４のアルキルチオ基で、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、オクチルチオ基、シクロヘキシルチオ基）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６～２４のアリールチオ基で、例えば、フェニルチオ基）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数１～１８のヘテロ環チオ基で、例えば、２－ベンゾチアゾリルチオ基、２－ピリジルチオ基、１－フェニルテトラゾリルチオ基）、アルキルスルフィニル基（好ましくは炭素数１～２４のアルキルスルフィニル基で、例えば、ドデカンスルフィニル基）、アリールスルフィニル基（好ましくは炭素数６～２４のアリールスルフィニル基で、例えば、フェニルスルフィニル基）、アルキルスルホニル基（好ましくは炭素数１～２４のアルキルスルホニル基で、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、２－エチルヘキシルスルホニル基、ヘキサデシルスルホニル基、オクチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基）、アリールスルホニル基（好ましくは炭素数６～２４のアリールスルホニル基で、例えば、フェニルスルホニル基、１－ナフチルスルホニル基）、

スルファモイル基（好ましくは炭素数２４以下のスルファモイル基で、例えば、スルファモイル基、Ｎ，Ｎ－ジプロピルスルファモイル基、Ｎ－エチル－Ｎ－ドデシルスルファモイル基、Ｎ－エチル－Ｎ－フェニルスルファモイル基、Ｎ－シクロヘキシルスルファモイル基）、スルホ基、ホスホニル基（好ましくは炭素数１～２４のホスホニル基で、例えば、フェノキシホスホニル基、オクチルオキシホスホニル基、フェニルホスホニル基）、ホスフィノイルアミノ基（好ましくは炭素数１～２４のホスフィノイルアミノ基で、例えば、ジエトキシホスフィノイルアミノ基、ジオクチルオキシホスフィノイルアミノ基）を表す。

　また、置換基Ｔは、特にアルカリ性現像液に対する現像性を向上させる目的で、アルカリ性水溶液可溶化部、例えば、カルボン酸基、スルホン酸基、リン酸基、スルホンイミド基、フェノール性水酸基、アセトアセタミド基、アセト酢酸エステル基等の置換基及び、それらの基が置換されるアルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基等の置換基が好ましく用いられる。

　上述した置換基がさらに置換可能な基である場合には、上述した各置換基のいずれかによってさらに置換されていてもよい。なお、２個以上の置換基を有している場合には、それらの置換基は同一であっても異なっていてもよい。ただし、第１の実施形態および第２の実施形態における置換基は、１分子あたりの質量が、５００以下であることが好ましい。

＜一般式（ＸＩ）ないし一般式（ＸＩＩ）で表される染料＞
着色剤（Ｇ）として、一般式（ＸＩ）ないしは一般式（ＸＩＩ）で表される染料を用いることが出来る。

　一般式（ＸＩ）中、Ｒ^３３、Ｒ^３４、Ｒ^３５及びＲ^３６は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホニルアミノ基、カルボニルアミノ基、シアノ基、アリール基、又はヘテロアリール基を表し、分子内に複数存在するＲ^３３及びＲ^３４は、それぞれ互いに同じでも、異なっていてもよい。

　一般式（ＸＩＩ）中、Ｒ^３６、Ｒ^３７、Ｒ^３８、Ｒ^３９、及びＲ^４０は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホニルアミノ基、カルボニルアミノ基、シアノ基、アリール基、又はヘテロアリール基を表し、分子内に複数存在するＲ^３７は、互いに同じでも、異なっていてもよい。

　一般式（ＸＩ）ないし（ＸＩＩ）で表される染料の構造としてより好ましい置換基について説明する。一般式（ＸＩ）におけるＲ^３３及び一般式（ＸＩＩ）におけるＲ^３７としては、アルキル基、アリール基、又はシアノ基が好ましく、アルキル基、及び、アリール基はさらに置換基を有していてもよい。ここで、アルキル基及びアリール基に導入可能な置換基の例としては、アルコキシ基、チオアルコキシ基、シアノ基、及びハロゲン原子などが挙げられる。
　Ｒ^３３及びＲ^３７のより好ましい例としては、ｔ－ブチル基、フェニル基、又はｏ－メチルフェニル基が挙げられる。

　一般式（ＸＩ）におけるＲ^３５としてより好ましくは水素原子であり、一般式（ＸＩ）及び一般式（ＸＩＩ）におけるＲ^３６として好ましくは水素原子、又はメチル基であり、より好ましくは水素原子である。Ｒ^３４、Ｒ^３９、及びＲ^４０はそれぞれ、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホニルアミノ基、カルボニルアミノ基、シアノ基、アリール基、及び、ヘテロアリール基のいずれであってもよいが、その構造中に置換アルキル基、ＰＥＯ鎖（ポリエチレングリコール）、ＰＰＯ鎖（ポリプロピレングリコール）、アンモニウム塩、及び重合性基から選択される部分構造を有する、アリール基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホニルアミノ基、又は、カルボニルアミノ基であることが好ましく、より好ましくは前記部分構造を有するスルホニルアミノ基である。分子内に複数存在するＲ^３４は互いに同じでも、異なっていてもよいが、同じであることが好ましい。
好適な染料としては以下があげられる。

＜一般式（ＸＩＩＩ）で表される染料＞
着色剤（Ｇ）として、一般式（ＸＩＩＩ）で表される染料を用いることが出来る。

　一般式（ＸＩＩＩ）中、Ｒ^４１及びＲ^４２は、各々独立に、水素原子、又は１価の置換基を表す。Ｒ^４３は、水素原子、脂肪族基、アリール基、ヘテロ環基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、又はスルファモイル基を表す。Ｑはジアゾ成分残基を表す。一般式（ＸＩＩＩ）で表される色素は、任意の位置で２量体以上の多量体を形成してもよい。

　Ｒ^４１及びＲ^４２で表される１価の置換基として具体的には、各々独立して、ハロゲン原子、脂肪族基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、カルボキシル基、カルバモイル基、脂肪族オキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、ヒドロキシ基、脂肪族オキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アミノ基、脂肪族アミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、アシルアミノ基、カルバモイルアミノ基、スルファモイルアミノ基、脂肪族オキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、脂肪族スルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、ニトロ基、脂肪族チオ基、アリールチオ基、脂肪族スルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、スルホ基、イミド基、又はヘテロ環チオ基を表す。これらのうち、脂肪族基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、カルバモイル基、脂肪族オキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、脂肪族オキシ基、アリールオキシ基、脂肪族アミノ基、又はアリールアミノ基であることが、主に溶解性付与の観点で好ましい。

　これらの各基は更に置換されていてもよく、Ｒ^１～Ｒ^５で表される各１価の置換基は総炭素数が１～４０の範囲であり、３～２５の範囲が好ましい。この範囲とすることで着色硬化性組成物の保存安定性が良好であり、且つ、輝度の高い着色硬化性組成物が得られる。

　Ｒ^４１～Ｒ^４３で表される脂肪族基は、置換基を有していてもよく、飽和であっても不飽和であってもよく、環状であってもよい。具体的には、例えば、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アラルキル基及び置換アラルキル基等が挙げられる。脂肪族基の総炭素数は、１～３０であることが好ましく、１～１６であることが更に好ましい。脂肪族基の具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、ブチル基、イソプロピル基、ｔ－ブチル基、ヒドロキシエチル基、メトキシエチル基、シアノエチル基、トリフルオロメチル基、３－スルホプロピル基、４－スルホブチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、２－フェネチル基、ビニル基、及びアリル基等が挙げられる。

　Ｒ^４１～Ｒ^４３で表されるアリール基は、置換基を有していてもよく、総炭素数は６～３０のアリール基が好ましく、６～１６のアリール基が更に好ましい。具体的には、例えば、フェニル基、４－トリル基、４－メトキシフェニル基、２－クロロフェニル基、３－（３－スルホプロピルアミノ）フェニル基、４－スルファモイル基、４－エトキシエチルスルファモイル及び３－ジメチルカルバモイル基等が挙げられる。

　Ｒ^４１～Ｒ^４３で表されるヘテロ環基は、飽和であっても不飽和であってもよく、その例としては、以下の芳香族ヘテロ環基を含み、環内に窒素原子、イオウ原子、酸素原子等のヘテロ原子のいずれかを含むものが挙げられる。Ｒ^４１～Ｒ^４３で表されるヘテロ環基は、更に置換基を有していてもよく、総炭素数１～３０のヘテロ環基であることが好ましく、１～１５のヘテロ環基であることは更に好ましい。具体的には、例えば、２－ピリジル基、２－チエニル基、２－チアゾリル基、２－ベンゾチアゾリル基、２－ベンゾオキサゾリル基及び２－フリル基等が挙げられる。

　Ｒ^４１～Ｒ^４３で表されるカルバモイル基は、置換基を有していてもよく、総炭素数１～３０のカルバモイル基が好ましく、炭素原子数１～１６のカルバモイル基であることが更に好ましい。具体的には、例えば、メチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル及びＮ－メチル－Ｎ－フェニルカルバモイル基等が挙げられる。

　Ｒ^４１～Ｒ^４３で表される脂肪族オキシカルボニル基は、置換基を有していてもよく、飽和であっても不飽和であってもよく、環状であってもよく、総炭素数２～３０の脂肪族オキシカルボニル基が好ましく、総炭素数２～１６脂肪族オキシカルボニル基であることが更に好ましい。具体的には、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基及び２－メトキシエトキシカルボニル基等が挙げられる。

　Ｒ^４１～Ｒ^４３で表されるアリールオキシカルボニル基は、置換基を有していてもよく、総炭素数７～３０のアリールオキシカルボニル基が好ましく、炭素原子数７～１６のアリールオキシカルボニル基が更に好ましい。具体的には、例えば、フェノキシカルボニル基、４－メチルフェノキシカルボニル基及び３－クロルフェノキシカルボニル基等が挙げられる。

　Ｒ^４１～Ｒ^４３で表されるアシル基には、脂肪族カルボニル基、アリールカルボニル基、及び、ヘテロ環カルボニル基が含まれ、総炭素数が１～３０である態様が好ましく、総炭素数が１～１６である態様が更に好ましい。具体的には、例えば、アセチル基、メトキシアセチル基、チエノイル基及びベンゾイル基等が挙げられる。

　Ｒ^４１～Ｒ^４３で表される脂肪族スルホニル基は、置換基を有していてもよく、飽和であっても不飽和であってもよく、環状であってもよく、総炭素数１～３０である態様が好ましく、総炭素数１～１６である態様が更に好ましい。具体的には、例えば、メタンスルホニル基、メトキシメタンスルホニル及びエトキシエタンスルホニル基等が挙げられる。

　Ｒ^４１～Ｒ^４３で表されるアリールスルホニル基は、置換基を有していてもよく、総炭素数６～３０である態様が好ましく、総炭素数６～１８である態様が更に好ましい。具体的には、例えば、ベンゼンスルホニル及びトルエンスルホニル基等が挙げられる。

　Ｒ^４１～Ｒ^４３で表されるスルファモイル基は、置換基を有していてもよく、総炭素数０～３０である態様が好ましく、総炭素数０～１６である態様が更に好ましい。具体的には、例えば、スルファモイル基、ジメチルスルファモイル基及びジ－（２－ヒドロキシエチル）スルファモイル基等が挙げられる。

　Ｒ^４１～Ｒ^４３で表されるイミド基は、置換基を有していてもよく、５～６員環のイミド基が好ましい。また、イミド基の総炭素数は４～３０である態様が好ましく、４～２０である態様が更に好ましい。具体的には、例えば、コハク酸イミド及びフタル酸イミド基等が挙げられる。

　Ｑで表されるジアゾ成分残基は、ジアゾ成分「Ｂ－ＮＨ_２」の残基であることを意味する。特に、目標とする色再現性の点から、Ｑはアリール基又は芳香族ヘテロ環基であることが好ましい。が好ましい。

　ここで、芳香族ヘテロ環基とは、環内に窒素原子、イオウ原子、酸素原子等のヘテロ原子のいずれかを含む芳香族環であって、５～６員環が好ましい。芳香族ヘテロ環基の炭素原子数としては、１～２５が好ましく、１～１５が更に好ましい。芳香族ヘテロ環としては、具体的には、ピラゾール基、１，２，４－トリアゾール基、イソチアゾール基、ベンゾイソチアゾール基、チアゾール基、ベンゾチアゾール基、オキサゾール基、１，２，４チアジアゾール基等がその例として挙げられる。

　特に、一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物は、以下の態様であることが好ましい。
　即ち、Ｒ^４１がシアノ基、脂肪族オキシカルボニル基又はカルバモイル基であり、Ｒ^４２が脂肪族基であり、Ｒ^４３が脂肪族基、アシル基、アリール基、脂肪族カルボニル基、脂肪族スルホニル基又はアリールスルホニル基であり、Ｑがアリール基である態様。

　以上、一般式（Ｉ）～一般式（ＸＩＩＩ）で示された化合物の具体的な例としては、例えば特開２００８－２９２９７０号公報、特開２０１０－３２９９９号公報、特開２００８－３０４７６６号公報、特開２０１０－１６８５３１号公報、特開平０６－２３０２１０号公報、特開２０１０－２５６５９８号公報、特開２０１２－２３７９９６号公報、特許公報第３３８７５４１号、特開２０１１－１６４５６４号公報、特開２０１２－３２７５４号公報に記載の化合物を挙げることができるが、本発明の趣旨を超えない限り、これらの例の記載に限定されるものではない。

＜その他の着色剤＞
　前述の通り、第１の実施形態および第２の実施形態における着色剤は、顔料を染料と併用する、ないしは耐熱性を重視するなどの理由から顔料のみから構成されることも可能である。
　顔料としては、従来公知の種々の無機顔料又は有機顔料を用いることができるが、信頼性の観点で有機顔料を用いることが好ましい。第１の実施形態および第２の実施形態において有機顔料として、例えば、特開２００９－２５６５７２号公報の段落〔００９３〕に記載の有機顔料が挙げられる。

　また特に、以下に示す顔料が、色再現性の観点で好適であるが、第１の実施形態および第２の実施形態においてはこれらに限定されるものではない。これら有機顔料は、単独で、または、色純度を上げるため種々組合せて用いることもできる。

　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｒｅｄ　１、２、３、４、５、６、７、９、１０、１４、１７、２２、２３、３１、３８、４１、４８：１、４８：２、４８：３、４８：４、４９、４９：１、４９：２、５２：１、５２：２、５３：１、５７：１、６０：１、６３：１、６６、６７、８１：１、８１：２、８１：３、８３、８８、９０、１０５、１１２、１１９、１２２、１２３、１４４、１４６、１４９、１５０、１５５、１６６、１６８、１６９、１７０、１７１、１７２、１７５、１７６、１７７、１７８、１７９、１８４、１８５、１８７、１８８、１９０、２００、２０２、２０６、２０７、２０８、２０９、２１０、２１６、２２０、２２４、２２６、２４２、２４６、２５４、２５５、２６４、２７０、２７２、２７９

　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｙｅｌｌｏｗ　１、２、３、４、５、６、１０、１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、２０、２４、３１、３２、３４、３５、３５：１、３６、３６：１、３７、３７：１、４０、４２、４３、５３、５５、６０、６１、６２、６３、６５、７３、７４、７７、８１、８３、８６、９３、９４、９５、９７、９８、１００、１０１、１０４、１０６、１０８、１０９、１１０、１１３、１１４、１１５、１１６、１１７、１１８、１１９、１２０、１２３、１２５、１２６、１２７、１２８、１２９、１３７、１３８、１３９、１４７、１４８、１５０、１５１、１５２、１５３、１５４、１５５、１５６、１６１、１６２、１６４、１６６、１６７、１６８、１６９、１７０、１７１、１７２、１７３、１７４、１７５、１７６、１７７、１７９、１８０、１８１、１８２、１８５、１８７、１８８、１９３、１９４、１９９、２１３、２１４

　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｏｒａｎｇｅ　２、５、１３、１６、１７：１、３１、３４、３６、３８、４３、４６、４８、４９、５１、５２、５５、５９、６０、６１、６２、６４、７１、７３
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｂｌｕｅ　１、２、１５、１５：１、１５：２、１５：３、１５：４、１５：６、１６、２２、６０、６４、６６、７９、７９のＣｌ置換基をＯＨに変更したもの、８０
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｖｉｏｌｅｔ　１、１９、２３、２７、３２、３７、４２
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｂｒｏｗｎ　２５、２８
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｂｌａｃｋ　１、樹脂で被覆されたカーボンブラックなど。
カーボンブラックの例としては、以下のようなカーボンブラックが挙げられる。

　三菱化学社製：ＭＡ７、ＭＡ８、ＭＡ１１、ＭＡ１００、ＭＡ１００Ｒ、ＭＡ２２０、ＭＡ２３０、ＭＡ６００、＃５、＃１０、＃２０、＃２５、＃３０、＃３２、＃３３、＃４０、＃４４、＃４５、＃４７、＃５０、＃５２、＃５５、＃６５０、＃７５０、＃８５０、＃９５０、＃９６０、＃９７０、＃９８０、＃９９０、＃１０００、＃２２００、＃２３００、＃２３５０、＃２４００、＃２６００、＃３０５０、＃３１５０、＃３２５０、＃３６００、＃３７５０、＃３９５０、＃４０００、＃４０１０、ＯＩＬ７Ｂ、ＯＩＬ９Ｂ、ＯＩＬ１１Ｂ、ＯＩＬ３０Ｂ、ＯＩＬ３１Ｂ　デグサ社製：Ｐｒｉｎｔｅｘ３、Ｐｒｉｎｔｅｘ３ＯＰ、Ｐｒｉｎｔｅｘ３０、Ｐｒｉｎｔｅｘ３０ＯＰ、Ｐｒｉｎｔｅｘ４０、Ｐｒｉｎｔｅｘ４５、Ｐｒｉｎｔｅｘ５５、Ｐｒｉｎｔｅｘ６０、Ｐｒｉｎｔｅｘ７５、Ｐｒｉｎｔｅｘ８０、Ｐｒｉｎｔｅｘ８５、Ｐｒｉｎｔｅｘ９０、Ｐｒｉｎｔｅｘ　Ａ、Ｐｒｉｎｔｅｘ　Ｌ、Ｐｒｉｎｔｅｘ　Ｇ、Ｐｒｉｎｔｅｘ　Ｐ、Ｐｒｉｎｔｅｘ　Ｕ、Ｐｒｉｎｔｅｘ　Ｖ、ＰｒｉｎｔｅｘＧ、ＳｐｅｃｉａｌＢｌａｃｋ５５０、ＳｐｅｃｉａｌＢｌａｃｋ３５０、ＳｐｅｃｉａｌＢｌａｃｋ２５０、ＳｐｅｃｉａｌＢｌａｃｋ１００、ＳｐｅｃｉａｌＢｌａｃｋ６、ＳｐｅｃｉａｌＢｌａｃｋ５、ＳｐｅｃｉａｌＢｌａｃｋ４、Ｃｏｌｏｒ　Ｂｌａｃｋ　ＦＷ１、Ｃｏｌｏｒ　Ｂｌａｃｋ　ＦＷ２、Ｃｏｌｏｒ　Ｂｌａｃｋ　ＦＷ２Ｖ、Ｃｏｌｏｒ　Ｂｌａｃｋ　ＦＷ１８、Ｃｏｌｏｒ　Ｂｌａｃｋ　ＦＷ１８、Ｃｏｌｏｒ　Ｂｌａｃｋ　ＦＷ２００、Ｃｏｌｏｒ　Ｂｌａｃｋ　Ｓ１６０、Ｃｏｌｏｒ　Ｂｌａｃｋ　Ｓ１７０

　キャボット社製：Ｍｏｎａｒｃｈ１２０、Ｍｏｎａｒｃｈ２８０、Ｍｏｎａｒｃｈ４６０、Ｍｏｎａｒｃｈ８００、Ｍｏｎａｒｃｈ８８０、Ｍｏｎａｒｃｈ９００、Ｍｏｎａｒｃｈ１０００、Ｍｏｎａｒｃｈ１１００、Ｍｏｎａｒｃｈ１３００、Ｍｏｎａｒｃｈ１４００、Ｍｏｎａｒｃｈ４６３０、ＲＥＧＡＬ９９、ＲＥＧＡＬ９９Ｒ、ＲＥＧＡＬ４１５、ＲＥＧＡＬ４１５Ｒ、ＲＥＧＡＬ２５０、ＲＥＧＡＬ２５０Ｒ、ＲＥＧＡＬ３３０、ＲＥＧＡＬ４００Ｒ、ＲＥＧＡＬ５５Ｒ０、ＲＥＧＡＬ６６０Ｒ、ＢＬＡＣＫ　ＰＥＡＲＬＳ４８０、ＰＥＡＲＬＳ１３０、ＶＵＬＣＡＮ　ＸＣ７２Ｒ、ＥＬＦＴＥＸ－８、コロンビヤン　カーボン社製：ＲＡＶＥＮ１１、ＲＡＶＥＮ１４、ＲＡＶＥＮ１５、ＲＡＶＥＮ１６、ＲＡＶＥＮ２２ＲＡＶＥＮ３０、ＲＡＶＥＮ３５、ＲＡＶＥＮ４０、ＲＡＶＥＮ４１０、ＲＡＶＥＮ４２０、ＲＡＶＥＮ４５０、ＲＡＶＥＮ５００、ＲＡＶＥＮ７８０、ＲＡＶＥＮ８５０、ＲＡＶＥＮ８９０Ｈ、ＲＡＶＥＮ１０００、ＲＡＶＥＮ１０２０、ＲＡＶＥＮ１０４０、ＲＡＶＥＮ１０６０Ｕ、ＲＡＶＥＮ１０８０Ｕ、ＲＡＶＥＮ１１７０、ＲＡＶＥＮ１１９０Ｕ、ＲＡＶＥＮ１２５０、ＲＡＶＥＮ１５００、ＲＡＶＥＮ２０００、ＲＡＶＥＮ２５００Ｕ、ＲＡＶＥＮ３５００、ＲＡＶＥＮ５０００、ＲＡＶＥＮ５２５０、ＲＡＶＥＮ５７５０、ＲＡＶＥＮ７０００

　また特に、以下に示す顔料が、色再現性の観点で好適であるが、第１の実施形態および第２の実施形態においてはこれらに限定されるものではない。これら有機顔料は、単独で、または、色純度を上げるため種々組合せて用いることもできる。
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｒｅｄ　１７７、２２４、２４２、２５４、２５５、２６４、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｙｅｌｌｏｗ　１３８、１３９、１５０、１８０、１８５、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｏｒａｎｇｅ　３６、３８、７１、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｇｒｅｅｎ　７、３６、５８、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｂｌｕｅ　１５：６、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｖｉｏｌｅｔ　２３、樹脂で被覆されたカーボンブラックを使用することが有効である。例えば特開平０９－７１７３３号公報に記載されているカーボンブラック等が好適に使用できる。

［（Ｈ）屈折率調整材料］
　電子機器では、近年、液晶装置などの表面にタブレット型の入力装置が配置され、液晶装置の画像表示領域に表示された指示画像を参照しながら、この指示画像が表示されている箇所に指またはタッチペンなどを触れることで、指示画像に対応する情報の入力が行えるものがある。
　このような入力装置（タッチパネル）には、抵抗膜型、静電容量型などがあり、静電容量型の入力装置では、例えば、互いに交差する方向に電極パターンを延在させて、指などが接触した際、電極間の静電容量が変化することを検知して入力位置を検出するタイプのものがある。これらの静電容量型入力装置を使用するにあたり、例えば、光源が映り込んだときの正反射近傍から少し離れた位置において、透明電極パターンが目立ち、見栄えが優れないなどの視認性の問題があった。

　透明電極パターンが視認される問題がない透明電極部材あるいは透明積層体の開発が進められており、これは高屈折率材料を使用した透明保護膜である。この透明保護膜はガラス基板上以外にプラスティック基板上にも形成されることが検討されており、第１の実施形態に係る硬化性組成物および第２の実施形態に係る硬化性組成物に高屈折率材料を含有させると有用である。
　第１の実施形態に係る硬化性組成物および第２の実施形態に係る硬化性組成物は、このような屈折率や光透過性を調節することを目的として含有させる屈折率調整材料として、金属酸化物粒子を含有することが好ましい。金属酸化物粒子は、透明性が高く、光透過性を有するため、高屈折率で、透明性に優れた硬化性組成物が得られる。

　前記金属酸化物粒子は、当該粒子を除いた材料からなる硬化性組成物の屈折率より屈折率が高いものであることが好ましく、具体的には、４００ｎｍ～７５０ｎｍの波長を有する光における屈折率が１．５０以上の粒子がより好ましく、屈折率が１．７０以上の粒子が更に好ましく、１．９０以上の粒子が特に好ましい。
　ここで、４００～７５０ｎｍの波長を有する光における屈折率が１．５０以上であるとは、上記範囲の波長を有する光における平均屈折率が１．５０以上であることを意味し、上記範囲の波長を有する全ての光における屈折率が１．５０以上であることを要しない。また、平均屈折率は、上記範囲の波長を有する各光に対する屈折率の測定値の総和を、測定点の数で割った値である。

　なお、前記金属酸化物粒子の金属には、Ｂ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｔｅ等の半金属も含まれるものとする。
　光透過性で屈折率の高い金属酸化物粒子としては、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｓｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｗ、Ｚｎ、Ｂ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｔｅ等の原子を含む酸化物粒子が好ましく、酸化チタン、チタン複合酸化物、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、インジウム／スズ酸化物、アンチモン／スズ酸化物がより好ましく、酸化チタン、チタン複合酸化物、酸化ジルコニウムが更に好ましく、酸化チタン、酸化ジルコニウムが特に好ましく、二酸化チタンが最も好ましい。二酸化チタンとしては、特に屈折率の高いルチル型が好ましい。これら金属酸化物粒子は、分散安定性付与のために表面を有機材料で処理することもできる。又、日産化学工業株式会社製ハイパーテックＵＲ―１０１も好適に用いられる。

　硬化性組成物の透明性の観点から、前記金属酸化物粒子の平均一次粒子径は、１～２００ｎｍが好ましく、３～８０ｎｍが特に好ましい。ここで粒子の平均一次粒子径は、電子顕微鏡により任意の粒子２００個の粒子径を測定し、その算術平均をいう。また、粒子の形状が球形でない場合には、最も長い辺を径とする。
　また、前記金属酸化物粒子は、１種単独で使用してよいし、２種以上を併用することもできる。

　前記硬化性組成物における金属酸化物粒子の含有量は、硬化性組成物により得られる光学部材に要求される屈折率や、光透過性等を考慮して、適宜決定すればよいが、前記硬化性組成物の全固形分に対して、５～８０質量％とすることが好ましく、１０～７０質量％とすることがより好ましい。
　第１の実施形態に係る高屈折率材料を含んでいてもよい硬化性組成物および第２の実施形態に係る高屈折率材料を含んでいてもよい硬化性組成物は、前記透明保護膜が、ＺｒＯ_２粒子及びＴｉＯ_２粒子のうち少なくとも一方を有することが、屈折率を制御する観点から好ましく、ＺｒＯ２粒子がより好ましい。

（有機溶剤）
　第１の実施形態に係る硬化性組成物および第２の実施形態に係る硬化性組成物は、有機溶剤を含有することができる。
　有機溶剤は、並存する各成分の溶解性や硬化性組成物としたときの塗布性を満足できるものであれば、基本的には特に制限はなく、特に、固形分の溶解性、塗布性、安全性を考慮して選ばれることが好ましい。

　有機溶剤としては、エステル類として、例えば、酢酸エチル、酢酸－ｎ－ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸アミル、酢酸イソアミル、酢酸イソブチル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、オキシ酢酸アルキルエステル類（例：オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル（具体的には、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル等がその例として挙げられる。））、３－オキシプロピオン酸アルキルエステル類、２－オキシプロピオン酸アルキルエステル類、２－オキシ－２－メチルプロピオン酸メチル、２－オキシ－２－メチルプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２－オキソブタン酸メチル、２－オキソブタン酸エチル等が挙げられる。

　また、エーテル類としては、例えば、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート等が挙げられる。
　ケトン類としては、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、２－ヘプタノン、３－ヘプタノン等が挙げられる。
　芳香族炭化水素類としては、例えば、トルエン、キシレン等が好適に挙げられる。

　これらの有機溶剤は、前述の各成分の溶解性、及びアルカリ可溶性バインダーを含む場合はその溶解性、塗布面状の改良などの観点から、２種以上を混合することも好ましい。この場合、特に好ましくは、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、２－ヘプタノン、シクロヘキサノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールメチルエーテル、及びプロピレングリコールメチルエーテルアセテートから選択される２種以上で構成される混合溶液である。

　第１の実施形態において、有機溶剤の硬化性組成物中における含有量としては、第１の実施形態に係る硬化性組成物中の全固形分濃度が１０質量％～８０質量％になる量が好ましく、１５質量％～６０質量％になる量がより好ましい。第２の実施形態において、有機溶剤の硬化性組成物中における含有量としては、第２の実施形態に係る硬化性組成物中の全固形分濃度が１０質量％～８０質量％になる量が好ましく、１５質量％～６０質量％になる量がより好ましい。

（界面活性剤）
　第１の実施形態に係る硬化性組成物および第２の実施形態に係る硬化性組成物は、界面活性剤を含有してもよい。
　界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系、又は、両性のいずれでも使用することができるが、好ましい界面活性剤はノニオン系界面活性剤である。具体的には、特開２００９－０９８６１６号公報の段落００５８に記載のノニオン系界面活性剤が例として挙げられ、中でもフッ素系界面活性剤が好ましい。
　第１の実施形態および第２の実施形態に用いることができるこの他の界面活性剤としては、例えば、市販品である、メガファックＦ１４２Ｄ、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１７６、同Ｆ１７７、同Ｆ１８３、同Ｆ４７９、同Ｆ４８２、同Ｆ５５４、同Ｆ７８０、同Ｆ７８１、同Ｆ７８１－Ｆ、同Ｒ３０、同Ｒ０８、同Ｆ－４７２ＳＦ、同ＢＬ２０、同Ｒ－６１、同Ｒ－９０（ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ－１３５、同ＦＣ－１７０Ｃ、同ＦＣ－４３０、同ＦＣ－４３１、Ｎｏｖｅｃ　ＦＣ－４４３０（住友スリーエム（株）製）、アサヒガードＡＧ７１０５，７０００，９５０，７６００、サーフロンＳ－１１２、同Ｓ－１１３、同Ｓ－１３１、同Ｓ－１４１、同Ｓ－１４５、同Ｓ－３８２、同ＳＣ－１０１、同ＳＣ－１０２、同ＳＣ－１０３、同ＳＣ－１０４、同ＳＣ－１０５、同ＳＣ－１０６（旭硝子（株）製）、エフトップＥＦ３５１、同３５２、同８０１、同８０２（三菱マテリアル電子化成（株）製）、フタージェント２５０（ネオス（株）製）などが挙げられる。
　また、界面活性剤として、下記式（Ｗ）で表される構成単位Ａ及び構成単位Ｂを含み、テトラヒドロフランを溶媒としてゲルパーミエーションクロマトグラフィで測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）が１，０００以上１０，０００以下である共重合体を好ましい例として挙げることができる。

　（式（Ｗ）中、Ｒ^１及びＲ^３はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ^２は炭素数１以上４以下の直鎖アルキレン基を表し、Ｒ^４は水素原子又は炭素数１以上４以下のアルキル基を表し、Ｌは炭素数３以上６以下のアルキレン基を表し、ｐ及びｑは重合比を表す重量百分率であり、ｐは１０重量％以上８０重量％以下の数値を表し、ｑは２０重量％以上９０重量％以下の数値を表し、ｒは１以上１８以下の整数を表し、ｎは１以上１０以下の整数を表す。）

　前記Ｌは、下記式（Ｗ－２）で表される分岐アルキレン基であることが好ましい。式（Ｗ－２）におけるＲ^５は、炭素数１以上４以下のアルキル基を表し、相溶性と被塗布面に対する濡れ性の点で、炭素数１以上３以下のアルキル基が好ましく、炭素数２又は３のアルキル基がより好ましい。
　式（Ｗ）におけるｐとｑとの和（ｐ＋ｑ）は、ｐ＋ｑ＝１００、すなわち、１００質量％であることが好ましい。
　前記共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１，５００以上５，０００以下がより好ましい。

　これら界面活性剤は、１種単独で又は２種以上を使用することができる。
　第１の実施形態に係る硬化性組成物および第２の実施形態に係る硬化性組成物における界面活性剤の添加量は、硬化性組成物の全固形分中０．０１～２．０質量％が好ましく、０．０２～１．０質量％が特に好ましい。この範囲であると、塗布性及び硬化膜の均一性が良好となる。

（密着改良剤）
　第１の実施形態に係る硬化性組成物および第２の実施形態に係る硬化性組成物は、密着改良剤を含有してもよい。
　密着改良剤は、支持体となる無機物、例えば、ガラス、シリコン、酸化シリコン、窒化シリコン等のシリコン化合物、金、銅、アルミニウム等と着色硬化性組成物層の硬化膜との密着性を向上させる化合物である。その具体的な例としては、シランカップリング剤等が挙げられる。密着改良剤としてのシランカップリング剤は、界面の改質を目的とするものであり、特に限定することなく、公知のものを使用することができる。
　シランカップリング剤としては、特開２００９－９８６１６号公報の段落００４８に記載のシランカップリング剤が好ましく、中でもγ－グリシドキシプロピルトリアルコキシシランやγ－メタクリロキシプロピルトリアルコキシシランがより好ましい。これらは１種単独又は２種以上を併用できる。
　第１の実施形態に係る硬化性組成物における密着改良剤の含有量は、第１の実施形態に係る硬化性組成物の全固形分量に対して、０．１～２０質量％が好ましく、０．２～５質量％がより好ましい。第２の実施形態に係る硬化性組成物における密着改良剤の含有量は、第２の実施形態に係る硬化性組成物の全固形分量に対して、０．１～２０質量％が好ましく、０．２～５質量％がより好ましい。

（現像促進剤）
　硬化性組成物層を露光した場合の非露光領域のアルカリ溶解性を促進し、硬化性組成物の現像性の更なる向上を図る場合には、現像促進剤を添加することもできる。現像促進剤は好ましくは分子量１０００以下の低分子量有機カルボン酸化合物、分子量１０００以下の低分子量フェノール化合物である。
　具体的には、例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、ピバル酸、カプロン酸、ジエチル酢酸、エナント酸、カプリル酸等の脂肪族モノカルボン酸；シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ブラシル酸、メチルマロン酸、エチルマロン酸、ジメチルマロン酸、メチルコハク酸、テトラメチルコハク酸、シトラコン酸等の脂肪族ジカルボン酸；トリカルバリル酸、アコニット酸、カンホロン酸等の脂肪族トリカルボン酸；安息香酸、トルイル酸、クミン酸、ヘメリト酸、メシチレン酸等の芳香族モノカルボン酸；フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリト酸、トリメシン酸、メロファン酸、ピロメリト酸等の芳香族ポリカルボン酸；フェニル酢酸、ヒドロアトロパ酸、ヒドロケイ皮酸、マンデル酸、フェニルコハク酸、アトロパ酸、ケイ皮酸、ケイ皮酸メチル、ケイ皮酸ベンジル、シンナミリデン酢酸、クマル酸、ウンベル酸等が挙げられる。

（その他の添加物）
　第１の実施形態に係る硬化性組成物および第２の実施形態に係る硬化性組成物には、さらに必要に応じて、各種添加物、例えば、充填剤、上記以外の高分子化合物、紫外線吸収剤、酸化防止剤等を配合することができる。これらの添加物の例としては、特開２００４－２９５１１６号公報の段落〔０１５５〕～〔０１５６〕に記載のものを挙げることができる。
　第１の実施形態に係る硬化性組成物および第２の実施形態に係る硬化性組成物は、特開２００４－２９５１１６号公報の段落〔００７８〕に記載の光安定剤、同公報の段落〔００８１〕に記載の熱重合防止剤を含有することができる。

（硬化性組成物の調製方法）
　第１の実施形態に係る硬化性組成物は、前述の第１の実施形態に係る各成分と必要に応じて任意成分とを混合することで調製される。第２の実施形態に係る硬化性組成物も、前述の第２の実施形態に係る各成分と必要に応じて任意成分とを混合することで調製される。（Ｅ）着色剤を含有させる場合、顔料、染料、又は顔料と染料の混合系などのいずれでもよい。
　なお、いずれの実施形態においても、硬化性組成物の調製に際しては、硬化性組成物を構成する各成分を一括配合してもよいし、各成分を溶剤に溶解・分散した後に逐次配合してもよい。また、配合する際の投入順序や作業条件は特に制約を受けない。例えば、全成分を同時に溶剤に溶解・分散して組成物を調製してもよいし、必要に応じては、各成分を適宜２つ以上の溶液・分散液としておいて、使用時（塗布時）にこれらを混合して硬化性組成物として調製してもよい。
　上記のようにして調製された着色硬化性組成物は、好ましくは、孔径０．０１μｍ～３．０μｍ程度のフィルタなどを用いて濾別した後、使用に供することができる。

　第１の実施形態に係る硬化性組成物または第２の実施形態に係る硬化性組成物が着色剤を含有する場合には、色相及びコントラストに優れた着色硬化膜を形成することができるため、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタなどの着色画素形成用として、また、印刷インキ、インクジェットインキ、及び塗料などの作製用途として好適に用いることができる。

（カラーフィルタ及びその製造方法）
　第１の実施形態に係るカラーフィルタは、基板と、該基板上に第１の実施形態に係る着色硬化性組成物からなる着色領域と、を設けて構成されたものである。基板上の着色領域は、カラーフィルタの各画素をなす例えば赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）等の着色層で構成されている。
　第１の実施形態に係るカラーフィルタの製造方法は、既述の着色硬化性組成物を支持体上に付与して着色層（着色硬化性組成物層）を形成する着色層形成工程（Ａ）と、工程（Ａ）にて形成された着色層に対してパターン様の露光をして潜像を形成する露光工程（Ｂ）と、前記潜像が形成された着色層を現像してパターンを形成する現像工程（Ｃ）と、を有する。
　また、第１の実施形態に係るカラーフィルタの製造方法では、特に、工程（Ｃ）で得られた着色パターンに対して加熱処理を行なう工程（Ｄ）を更に設けた態様が好ましい。
　以下、第１の実施形態に係るカラーフィルタの製造方法について、より具体的に説明する。

－工程（Ａ）－
　第１の実施形態に係るカラーフィルタの製造方法では、まず、支持体上に、既述の第１の実施形態に係る着色硬化性組成物を回転塗布、スリット塗布、流延塗布、ロール塗布、バー塗布、インクジェット等の塗布方法により付与して着色層を形成し、その後、該着色層を加熱（プリベーク）又は真空乾燥などで乾燥させる。

　支持体としては、例えば、液晶表示装置に用いられるソーダガラス、無アルカリガラス、ホウケイ酸ガラス、石英ガラス、シリコン基板、樹脂基板などが挙げられる。また、これらの支持体上には、必要により、上部の層との密着改良、物質の拡散防止、或いは表面の平坦化のために、下塗り層を設けてもよい。

　プリベークの条件の例としては、ホットプレートやオーブンを用いて、７０℃～１３０℃で、０．５分間～１５分間程度加熱する条件が挙げられる。
また、着色硬化性組成物により形成される着色層の厚みは、目的に応じて適宜選択される。液晶表示装置用カラーフィルタにおいては、０．２μｍ～５．０μｍの範囲が好ましく、１．０μｍ～４．０μｍの範囲が更に好ましい。なお、着色層の厚みは、乾燥後の膜厚である。

－工程（Ｂ）－
　続いて、第１の実施形態に係るカラーフィルタの製造方法では、支持体上に形成された着色層に対して、パターン様の露光が行なわれる。露光に適用し得る光もしくは放射線としては、ｇ線、ｈ線、ｉ線、各種レーザー光が好ましく、特にｉ線が好ましい。照射光にｉ線を用いる場合、５ｍＪ／ｃｍ^２～５００ｍＪ／ｃｍ^２の露光量で照射することが好ましい。

　また、その他の露光光源としては、超高圧、高圧、中圧、低圧の各水銀灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、キセノン灯、メタルハライド灯、各種レーザー光源、等が使用できる。

～レーザー光源を用いた露光工程～
　レーザー光源を用いた露光方式では照射光は、３００ｎｍ～４１０ｎｍの範囲内の波長の紫外光レーザーが好ましく、さらに好ましくは３００ｎｍ～３６０ｎｍの範囲内の波長の紫外光レーザーである。具体的には、特に出力が大きく、比較的安価な固体レーザーのＮｄ：ＹＡＧレーザーの第三高調波（３５５ｎｍ）や、エキシマレーザーのＸｅＣｌ（３０８ｎｍ）、ＸｅＦ（３５３ｎｍ）を好適に用いることができる。パターン露光量としては、生産性の観点から、１ｍＪ／ｃｍ^２～１００ｍＪ／ｃｍ^２の範囲が好ましく、１ｍＪ／ｃｍ^２～５０ｍＪ／ｃｍ^２の範囲がより好ましい。

　露光装置としては、特に制限はないが市販されているものとしては、Ｃａｌｌｉｓｔｏ（ブイテクノロジー株式会社製）やＥＧＩＳ（ブイテクノロジー株式会社製）やＤＦ２２００Ｇ（大日本スクリーン株式会社製などが使用可能である。また上記以外の装置も好適に用いられる。

－工程（Ｃ）－
　続いて、露光後の着色層に対して、現像液にて現像が行なわれる。これにより、着色パターンを形成することができる。現像液は、着色層の未硬化部を溶解し、硬化部を溶解しないものであれば、種々の有機溶剤の組み合わせやアルカリ性水溶液を用いることができる。現像液がアルカリ性水溶液である場合、アルカリ濃度が好ましくはｐＨ１０～１３となるように調整するのがよい。前記アルカリ性水溶液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、硅酸ナトリウム、メタ硅酸ナトリウム、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、１，８－ジアザビシクロ－［５，４，０］－７－ウンデセン等のアルカリ性水溶液が挙げられる。
　現像時間は、３０秒～３００秒が好ましく、更に好ましくは３０秒～１２０秒である。現像温度は、２０℃～４０℃が好ましく、更に好ましくは２３℃である。
　現像は、パドル方式、シャワー方式、スプレー方式等で行なうことができる。
　また、アルカリ性水溶液を用いて現像した後は、水で洗浄することが好ましい。

　第１の実施形態に係るカラーフィルタの製造方法では、特に、着色硬化性組成物を用いて形成された着色パターン（画素）に対して、紫外線照射による後露光を行なうことも好ましい。

－工程（Ｄ）－
　現像後の着色パターンに対して、あるいは上記のような紫外線照射による後露光が行なわれた着色パターンに対して、さらに加熱処理を行なうことが好ましい。形成された着色パターンを加熱処理（いわゆるポストベーク処理）することにより、着色パターンを更に硬化させることができる。この加熱処理は、例えば、ホットプレート、各種ヒーター、オーブンなどにより行なうことができる。
　加熱処理の際の温度としては、１００℃～３００℃であることが好ましく、更に好ましくは、１２０℃～２５０℃である。また、加熱時間は、１０分～１２０分程度が好ましい。

　このようにして得られた着色パターンは、カラーフィルタにおける画素を構成する。複数の色相の画素を有するカラーフィルタの作製においては、上記の工程（Ａ）、工程（Ｂ）、工程（Ｃ）、及び工程（Ｄ）を所望の色数に合わせて繰り返せばよい。
　なお、単色の着色層の形成、露光、現像が終了する毎に（１色毎に）、前記工程（Ｄ）を行なってもよいし、所望の色数の全ての着色層の形成、露光、現像が終了した後に、一括して前記工程（Ｄ）を行なってもよい。

　第１の実施形態に係るカラーフィルタの製造方法により得られたカラーフィルタ（第１の実施形態に係るカラーフィルタ）は、第１の実施形態に係る着色硬化性組成物を用いていることから、色相及びコントラストに優れている。液晶表示装置等に用いた場合、良好な色相を達成しながら、分光特性及びコントラストに優れた画像の表示が可能になる。

　第２の実施形態に係るカラーフィルタは、基板と、該基板上に第２の実施形態に係る着色硬化性組成物からなる着色領域と、を設けて構成されたものである。基板上の着色領域は、カラーフィルタの各画素をなす例えば赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）等の着色層で構成されている。
　第２の実施形態に係るカラーフィルタの製造方法は、既述の着色硬化性組成物を支持体上に付与して着色層（着色硬化性組成物層）を形成する着色層形成工程（Ａ’）と、工程（Ａ’）にて形成された着色層に対してパターン様の露光をして潜像を形成する露光工程（Ｂ’）と、前記潜像が形成された着色層を現像してパターンを形成する現像工程（Ｃ’）と、を有する。
　また、第２の実施形態に係るカラーフィルタの製造方法では、特に、工程（Ｃ’）で得られた着色パターンに対して加熱処理を行なう工程（Ｄ’）を更に設けた態様が好ましい。
　以下、第２の実施形態に係るカラーフィルタの製造方法について、より具体的に説明する。

－工程（Ａ’）－
　第２の実施形態に係るカラーフィルタの製造方法では、まず、支持体上に、既述の第２の実施形態に係る着色硬化性組成物を回転塗布、スリット塗布、流延塗布、ロール塗布、バー塗布、インクジェット等の塗布方法により付与して着色層を形成し、その後、該着色層を加熱（プリベーク）又は真空乾燥などで乾燥させる。

－工程（Ｂ’）－
　続いて、第２の実施形態に係るカラーフィルタの製造方法では、支持体上に形成された着色層に対して、パターン様の露光が行なわれる。露光に適用し得る光もしくは放射線としては、ｇ線、ｈ線、ｉ線、各種レーザー光が好ましく、特にｉ線が好ましい。照射光にｉ線を用いる場合、５ｍＪ／ｃｍ^２～５００ｍＪ／ｃｍ^２の露光量で照射することが好ましい。

～レーザー光源を用いた露光工程～
　レーザー光源を用いた露光方式では照射光は、波長が３００ｎｍ～４１０ｎｍの範囲である波長の範囲の紫外光レーザーが好ましく、さらに好ましくは３００ｎｍ～３６０ｎｍの範囲の波長である。具体的には、特に出力が大きく、比較的安価な固体レーザーのＮｄ：ＹＡＧレーザーの第三高調波（３５５ｎｍ）や、エキシマレーザーのＸｅＣｌ（３０８ｎｍ）、ＸｅＦ（３５３ｎｍ）を好適に用いることができる。パターン露光量としては、生産性の観点から、１ｍＪ／ｃｍ^２～１００ｍＪ／ｃｍ^２の範囲が好ましく、１ｍＪ／ｃｍ^２～５０ｍＪ／ｃｍ^２の範囲がより好ましい。

－工程（Ｃ’）－
　続いて、露光後の着色層に対して、現像液にて現像が行なわれる。これにより、着色パターンを形成することができる。現像液は、着色層の未硬化部を溶解し、硬化部を溶解しないものであれば、種々の有機溶剤の組み合わせやアルカリ性水溶液を用いることができる。現像液がアルカリ性水溶液である場合、アルカリ濃度が好ましくはｐＨ１０～１３となるように調整するのがよい。前記アルカリ性水溶液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、硅酸ナトリウム、メタ硅酸ナトリウム、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、１，８－ジアザビシクロ－［５，４，０］－７－ウンデセン等のアルカリ性水溶液が挙げられる。
　現像時間は、３０秒～３００秒が好ましく、更に好ましくは３０秒～１２０秒である。現像温度は、２０℃～４０℃が好ましく、更に好ましくは２３℃である。
　現像は、パドル方式、シャワー方式、スプレー方式等で行なうことができる。
　また、アルカリ性水溶液を用いて現像した後は、水で洗浄することが好ましい。

　第２の実施形態に係るカラーフィルタの製造方法では、特に、着色硬化性組成物を用いて形成された着色パターン（画素）に対して、紫外線照射による後露光を行なうことも好ましい。

－工程（Ｄ’）－
　現像後の着色パターンに対して、あるいは上記のような紫外線照射による後露光が行なわれた着色パターンに対して、さらに加熱処理を行なうことが好ましい。形成された着色パターンを加熱処理（いわゆるポストベーク処理）することにより、着色パターンを更に硬化させることができる。この加熱処理は、例えば、ホットプレート、各種ヒーター、オーブンなどにより行なうことができる。
　加熱処理の際の温度としては、１００℃～３００℃であることが好ましく、更に好ましくは、１２０℃～２５０℃である。また、加熱時間は、１０分～１２０分程度が好ましい。

　このようにして得られた着色パターンは、カラーフィルタにおける画素を構成する。複数の色相の画素を有するカラーフィルタの作製においては、上記の工程（Ａ’）、工程（Ｂ’）、工程（Ｃ’）、及び工程（Ｄ’）を所望の色数に合わせて繰り返せばよい。
　なお、単色の着色層の形成、露光、現像が終了する毎に（１色毎に）、前記工程（Ｄ’）を行なってもよいし、所望の色数の全ての着色層の形成、露光、現像が終了した後に、一括して前記工程（Ｄ’）を行なってもよい。

　第２の実施形態に係るカラーフィルタの製造方法により得られたカラーフィルタ（第２の実施形態に係るカラーフィルタ）は、第２の実施形態に係る着色硬化性組成物を用いていることから、色相及びコントラストに優れている。液晶表示装置等に用いた場合、良好な色相を達成しながら、分光特性及びコントラストに優れた画像の表示が可能になる。

＜液晶表示装置＞
　第１の実施形態に係る液晶表示装置は、既述の第１の実施形態に係るカラーフィルタを備えたものである。また、第２の実施形態に係る液晶表示装置は、既述の第２の実施形態に係るカラーフィルタを備えたものである。第１の実施形態および第２の実施形態における液晶表示装置の定義や各表示装置の詳細については、例えば「電子ディスプレイデバイス（佐々木　昭夫著、（株）工業調査会　１９９０年発行）」、「ディスプレイデバイス（伊吹　順章著、産業図書（株）平成元年発行）」などに記載されている。また、液晶表示装置については、例えば「次世代液晶ディスプレイ技術（内田　龍男編集、（株）工業調査会　１９９４年発行）」に記載されている。第１の実施形態または第２の実施形態が適用できる液晶表示装置に特に制限はなく、例えば、上記の「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。

　第１の実施形態に係るカラーフィルタおよび第２の実施形態に係るカラーフィルタは、中でも特に、カラーＴＦＴ方式の液晶表示装置に対して有効である。カラーＴＦＴ方式の液晶表示装置については、例えば「カラーＴＦＴ液晶ディスプレイ（共立出版（株）１９９６年発行）」に記載されている。更に、第１の実施形態および第２の実施形態はＩＰＳなどの横電界駆動方式、ＭＶＡなどの画素分割方式などの視野角が拡大された液晶表示装置や、ＳＴＮ、ＴＮ、ＶＡ、ＯＣＳ、ＦＦＳ、及びＲ－ＯＣＢ等にも適用できる。また、第１の実施形態に係るカラーフィルタおよび第２の実施形態に係るカラーフィルタは、ＣＯＡ（Ｃｏｌｏｒ－ｆｉｌｔｅｒ　Ｏｎ　Ａｒｒａｙ）方式にも供することが可能である。

　第１の実施形態に係るカラーフィルタまたは第２の実施形態に係るカラーフィルタを液晶表示装置に用いると、従来公知の冷陰極管の三波長管と組み合わせたときに高いコントラストを実現できるが、更に、赤、緑、青のＬＥＤ光源（ＲＧＢ－ＬＥＤ）をバックライトとすることによって輝度が高く、また、色純度の高い色再現性の良好な液晶表示装置を提供することができる。

＜固体撮像素子＞
　第１の実施形態に係る固体撮像素子は、既述の第１の実施形態に係るカラーフィルタを備える。第１の実施形態に係る固体撮像素子の構成としては、第１の実施形態に係るカラーフィルタが備えられた構成であり、固体撮像素子として機能する構成であれば特に限定はないが、例えば、以下のような構成が挙げられる。

　支持体上に、固体撮像素子（ＣＣＤイメージセンサー、ＣＭＯＳイメージセンサー等）の受光エリアを構成する複数のフォトダイオード及びポリシリコン等からなる転送電極を有し、前記フォトダイオード及び前記転送電極上にフォトダイオードの受光部のみ開口したタングステン等からなる遮光膜を有し、遮光膜上に遮光膜全面及びフォトダイオード受光部を覆うように形成された窒化シリコン等からなるデバイス保護膜を有し、前記デバイス保護膜上に、第１の実施形態に係るカラーフィルタを有する構成である。
　更に、前記デバイス保護層上であってカラーフィルタの下（支持体に近い側）に集光手段（例えば、マイクロレンズ等。以下同じ。）を有する構成や、カラーフィルタ上に集光手段を有する構成等であってもよい。

　第２の実施形態に係る固体撮像素子は、既述の第２の実施形態に係るカラーフィルタを備える。第２の実施形態に係る固体撮像素子の構成としては、第２の実施形態に係るカラーフィルタが備えられた構成であり、固体撮像素子として機能する構成であれば特に限定はないが、例えば、以下のような構成が挙げられる。

　支持体上に、固体撮像素子（ＣＣＤイメージセンサー、ＣＭＯＳイメージセンサー等）の受光エリアを構成する複数のフォトダイオード及びポリシリコン等からなる転送電極を有し、前記フォトダイオード及び前記転送電極上にフォトダイオードの受光部のみ開口したタングステン等からなる遮光膜を有し、遮光膜上に遮光膜全面及びフォトダイオード受光部を覆うように形成された窒化シリコン等からなるデバイス保護膜を有し、前記デバイス保護膜上に、第２の実施形態に係るカラーフィルタを有する構成である。
　更に、前記デバイス保護層上であってカラーフィルタの下（支持体に近い側）に集光手段（例えば、マイクロレンズ等。以下同じ。）を有する構成や、カラーフィルタ上に集光手段を有する構成等であってもよい。

（保護膜の形成方法）
　第１の実施形態に係る保護膜は、既述の第１の実施形態に係る硬化性組成物を用いて形成されたものである。
　第１の実施形態に係る保護膜は、第１の実施形態に係る硬化性組成物を用いて構成されるので、低い加熱温度又は加熱処理無しで形成された場合においても高い硬度、膜厚均一性に優れる。

　第１の実施形態に係る保護膜は、第１の実施形態に係る硬化性組成物を用いた方法であれば、いずれの方法で形成されてもよいが、前述のカラーフィルタの製造方法と同様の方法により形成できる。ここで、保護膜にパターニングを施さない場合、即ち、保護膜をいわゆるベタ膜として形成する場合には、前記（ロ）露光工程において、被膜を全面露光する方法が好適である。
タッチパネルなどに使用されている透明保護膜部材を形成できる硬化性組成物としてはＩＴＯパターン視認性の改善特性が組み込まれていてもよい。

　第２の実施形態に係る保護膜は、既述の第２の実施形態に係る硬化性組成物を用いて形成されたものである。
　第２の実施形態に係る保護膜は、第２の実施形態に係る硬化性組成物を用いて構成されるので、低い加熱温度又は加熱処理無しで形成された場合においても高い硬度、膜厚均一性に優れる。

　第２の実施形態に係る保護膜は、第２の実施形態に係る硬化性組成物を用いた方法であれば、いずれの方法で形成されてもよいが、前述のカラーフィルタの製造方法と同様の方法により形成できる。ここで、保護膜にパターニングを施さない場合、即ち、保護膜をいわゆるベタ膜として形成する場合には、前記（ロ）露光工程において、被膜を全面露光する方法が好適である。
タッチパネルなどに使用されている透明保護膜部材を形成できる硬化性組成物としてはＩＴＯパターン視認性の改善特性が組み込まれていてもよい。

　第１の実施形態および第２の実施形態において、基板上に硬化性層を形成する方法の例としては、（ａ）既述の樹脂、重合性化合物、及び光重合開始剤を少なくとも含む硬化性組成物を塗布する塗布法、及び（ｂ）前記硬化性層を有する感光性転写材料を用い、加熱及び／又は加圧により硬化性層をラミネート、転写する転写型のドライフィルム形態が好適に挙げられる。

（ａ）塗布法
　硬化性組成物の塗布は、公知の塗布法、例えば、スピンコート法、カーテンコート法、スリットコート法、ディップコート法、エアーナイフコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、あるいは米国特許第２６８１２９４号明細書に記載のポッパーを使用するエクストルージョンコート法等により行なうことができる。中でも、特開２００４－８９８５１号公報、特開２００４－１７０４３号公報、特開２００３－１７００９８号公報、特開２００３－１６４７８７号公報、特開２００３－１０７６７号公報、特開２００２－７９１６３号公報、特開２００１－３１０１４７号公報等に記載のスリットノズルあるいはスリットコーターによる方法が好適である。

（ｂ）転写法
　転写は、感光性転写材料を用いて、仮支持体上に膜状に形成された硬化性層を所望の基板面に例えば加熱及び／又は加圧したローラー又は平板を用いて圧着又は加熱圧着することによって貼り合せた後、仮支持体の剥離により硬化性層を基板上に転写する。その具体的な例としては、特開平７－１１０５７５号公報、特開平１１－７７９４２号公報、特開２０００－３３４８３６号公報、特開２００２－１４８７９４号公報に記載のラミネーター及びラミネート方法が挙げられ、低異物の観点で、特開平７－１１０５７５号公報に記載の方法を用いるのが好ましい。

　硬化性層を形成する場合、硬化性層と仮支持体との間には更に酸素遮断層（以下、「酸素遮断膜」又は「中間層」ともいう。）を設けることができる。これにより、露光感度をアップすることができる。また、転写性を向上させるために、クッション性を有する熱可塑性樹脂層を設けてもよい。
　感光性転写材料を構成する仮支持体、酸素遮断層、熱可塑性樹脂層、その他の層や該感光性転写材料の作製方法については、特開２００６－２３６９６号公報の段落番号［００２４］～［００３０］に記載の構成、作製方法を適用することができる。

　硬化性層をその上に形成する基板としては、例えば、透明基板（例えばガラス基板やプラスチックス基板）、透明導電膜（例えばＩＴＯ膜）付基板、カラーフィルタ付きの基板（カラーフィルタ基板ともいう。）、駆動素子（例えば、薄膜トランジスタ［ＴＦＴ］）付駆動基板、などが挙げられる。基板の厚みとしては、７００～１２００μｍが一般に好ましい。

　以下、第１の実施形態を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」、「％」は質量基準である。

－硬化性組成物１－１の調製－
　下記の各成分を混合、溶解し、硬化性組成物を調製した。
・有機溶剤１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　７６．６１部
・側鎖に酸性基を有する樹脂：下記アルカリ可溶性バインダーＰ－１（１－メトキシ－２－プロパノール／１－メトキシ－２－プロピルアセテート４５％溶液）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５．９１部
・重合性化合物１：ナガセケムテックス（株）製、ＤＡ－３１４（例示化合物（３４））　　　　　　　　　　　　　　　　　２．８８部
・ハイパーブランチポリマー：大阪有機化学（株）製、ＳＴＡＲ－５０１（重量平均分子量：１１０００）　　　　　　　　　１１．５部
・重合禁止剤：ｐ－メトキシフェノール　　　　０．００３部
・開始剤１：チバスペシャリティ　ケミカルズ製、ＣＧＩ－１２４
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．４５部
・酸架橋性化合物１　ＣＹ３０３：サイメル３０３（日本サイテックインダストリーズ株式会社製メチロール化メラミン）　２．０７部
・光酸発生剤：下記Ａ－１　　　　　　　　　　　０．２２部
・密着改良材：３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．２部
・フッ素系界面活性剤：ＤＩＣ社製　メガファックＦ－５５４、固形分２％のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．０６部

　上記アルカリ可溶性バインダーＰ－１、開始剤１、及び光酸発生剤：Ａ－１は、以下のとおりである。

－硬化性組成物１－２～１－６、並びに硬化性組成物Ｃ１－１～Ｃ１－２及びＣ１－５～Ｃ１－６の調製－
　硬化性組成物１－１と同様にして、但し、下記表２に記載の組成（単位は質量部）を有する硬化性組成物１－２～１－６、並びに硬化性組成物Ｃ１－１～Ｃ１－２及びＣ１－５～Ｃ１－６を調製した。
　なお、表中の光酸発生剤：ＣＧＩ－１３９７は、チバスペシャリティ　ケミカルズ製の化合物であり、下記の構造を有する。

－硬化性組成物層の形成－
　ガラス（＃１７３７；コーニング社製）基板あるいはポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴ）基板上に、各硬化性組成物をスピンコート法で塗布した後、ガラス基板に塗布したものは、８０℃で１２０秒間、ＰＥＴ基板に塗布したものは、５０℃で１２０秒間、乾燥させることにより揮発成分を揮発させて、硬化性組成物層を形成した。硬化性組成物層の膜厚は、いずれも２．１μｍとなるように調整した。この硬化性組成物層にｉ線（波長３６５ｎｍ）を照射した。ｉ線の光源には超高圧水銀ランプを用い、平行光としてから光源の照射光量が４０ｍＪ／ｃｍ^２となるようにベタ露光した。その後、下記表３に記載した熱処理条件で熱処理して硬化膜を得た。これら各実験番号の硬化膜について、後述する方法で、二重結合消費率の測定と鉛筆硬度の測定を行い、下記評価基準に従って、ランク付けした。その結果を下記表３に記載した。

＜二重結合消費率の測定＞
　ＦＴ－ＩＲ装置（サーモ・ニコレー・ジャパン製、ニコレット７１０）を用いて、４００ｃｍ^－１～４０００ｃｍ^－１の波長領域を測定し、Ｃ＝Ｃ結合由来の８１０ｃｍ^－１のピーク強度を求めた。各硬化膜について、塗布・乾燥のみのＵＶ未硬化品のピーク強度（＝二重結合残存量）Ａと、ＵＶ硬化及び熱処理を行った後の硬化膜のピーク強度Ｂを測定し、下記式にしたがって、二重結合消費率を算出した。
式：二重結合消費率＝｛１－（Ｂ／Ａ）｝×１００％
《評価基準》
Ａ：二重結合消費率が８０％以上
Ｂ：二重結合消費率が５０％以上８０％未満
Ｃ：二重結合消費率が５０％未満

＜鉛筆硬度の評価＞
耐傷性の指標としてＪＩＳ　Ｋ　５４００に記載の鉛筆硬度評価を行った。各実施例及び比較例の硬化物切片を、温度２５℃、相対湿度６０％で１時間調湿した後、ＪＩＳ　Ｓ　６００６に規定する２Ｈの試験用鉛筆を用いて、５００ｇの荷重にてｎ＝７の評価を行った。
《評価基準》
Ａ：傷が３つ未満である。
Ｂ：傷が３つ以上、５つ未満である。
Ｃ：傷が５つ以上、６つ未満である。
Ｄ：傷が６つ以上である。

　表３から以下のことがわかる。
　第１の実施形態の実施例に係る硬化性組成物１－１～１－６は、比較例に係る硬化性組成物Ｃ１－１～Ｃ１－２及びＣ１－５～Ｃ１－６に比べて、いずれの加熱処理条件においても二重結合消費率が高く、重合が効率よく進んでおり、高い鉛筆硬度を有する硬化膜が得られる。特に１１０℃の低温で加熱処理した硬化膜、又は加熱処理を行わずにｉ線での露光のみで硬化した硬化膜においても、十分な鉛筆硬度を有する硬化膜が得られる。
　更に、基板として、プラスチィックベースであるＰＥＴを使用した場合においても、１１０℃の熱処理条件で、高い硬度を有する硬化膜が得られている。

－硬化性組成物１－７（着色剤含有）の調製－
　下記の各成分を混合、溶解又は分散し、硬化性組成物１－７を調製した。
・有機溶剤１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　９部
・有機溶剤２：ジエチレングリコールエチルメチルエーテル
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２５部
・側鎖に酸性基を有する樹脂：前記アルカリ可溶性バインダーＰ－１
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　６部
・重合性化合物１：ナガセケムテックス（株）製、ＤＡ－３１４
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１．６部
・ハイパーブランチポリマー：大阪有機化学（株）製、ＳＴＡＲ－５０１
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　６．４部
・重合禁止剤：ｐ－メトキシフェノール　　　　０．００３部
・開始剤：光重合開始剤（例示化合物Ｖ－３）　　０．２６部
・酸架橋性化合物：ＣＹ３０３：サイメル３０３（日本サイテックインダストリーズ株式会社製メチロール化メラミン）　　　　１．５部
・光酸発生剤：前記Ａ－１　　　　　　　　　　　０．１８部
・密着改良剤：３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．２２部
・フッ素系界面活性剤（ＤＩＣ社製　メガファックＦ－５５４、固形分０．２％のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５部
・顔料分散液Ａ：　・下記処方の顔料分散液１　　　　２５部
・染料溶液Ｂ：　　・下記処方の染料溶液１　　　　　２０部

　前記顔料分散液１は、以下のようにして調製した。
　Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６を１２．８部と分散剤（日本ルーブリゾール社製ソルスパース２４０００）７．２部とを、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート８０．０部と混合し、ビーズミルを用いて顔料を十分に分散させて、顔料分散液１を調製した。

　前記染料溶液１は、下記の各成分を混合、溶解して作製した。
・有機溶剤（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　９５部
・染料（下記化合物（Ａ））　　　　　　　　　　　　　５部

－硬化性組成物１－８～１－１７、及び硬化性組成物Ｃ１－７～Ｃ１－１０の調製－
　硬化性組成物１－７と同様にして、表４に記載の組成（単位は質量部）を有する硬化性組成物１－８～１－１７、及び硬化性組成物Ｃ１－７～Ｃ１－１０を調製した。
　なお、表中の顔料分散液２～５、及び染料溶液２～６は、下記のとおりである。
～顔料分散液２～
　Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３を５部と分散剤（日本ルーブリゾール社製ソルスパース２４０００）５部とを、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート９０．０部と混合し、ビーズミルを用いて顔料を十分に分散させて、顔料分散液２を調製した。

～顔料分散液３～
　Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン５８を１２．８部と分散剤（日本ルーブリゾール社製ソルスパース２４０００）７．２部とを、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート８０．０部と混合し、ビーズミルを用いて顔料を十分に分散させて、顔料分散液３を調製した。

～顔料分散液４～
　Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３８を５部と分散剤（日本ルーブリゾール社製ソルスパース３２０００）５部とを、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート９０．０部と混合し、ビーズミルを用いて顔料を十分に分散させて、顔料分散液４を調製した。

～顔料分散液５～
　Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４を１２．８部と分散剤（日本ルーブリゾール社製ソルスパース２４０００）７．２部とを、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート８０．０部と混合し、ビーズミルを用いて顔料を十分に分散させて、顔料分散液５を調製した。

　染料溶液２～６は、染料溶液１の調製と同様にして、但し、染料として、下記化合物（Ｂ）～（Ｆ）をそれぞれ用いて調製した。

－着色硬化性組成物層（着色層）の形成－
　ガラス（＃１７３７；コーニング社製）基板上に、上記で調製した硬化性組成物をスピンコート法で塗布した後、室温で３０分間乾燥させることにより揮発成分を揮発させて、着色硬化性組成物層（これを「着色層Ａ－１」ともいう。）を形成した。この着色硬化性組成物層に、ライン／スペースが２０μｍ／２０μｍのマスクを通してｉ線（波長３６５ｎｍ）を照射した。ｉ線の光源には超高圧水銀ランプを用い、平行光としてから照射するようにした。このとき、照射光量を４０ｍＪ／ｃｍ^２とした。次いで、ｉ線をパターン状に照射した上記着色硬化性組成物層に対して、炭酸ナトリウム／炭酸水素ナトリウムの水溶液（濃度２．４％、ｐＨ１０）を用いて２６℃で４５秒間現像し、次いで、流水で２０秒間リンスした後、乾燥して、細線パターン画像を得た。得られた細線パターン画像を表５に示す加熱処理条件でポストベーク処理を行ない、膜厚２μｍのパターン状の着色硬化膜（これを「着色層Ｂ－１」ともいう。）を得た。

－評価－
　上記で得られた着色硬化膜に基いて、下記に記載の方法で、着色硬化性組成物の感度、液晶の比抵抗、分光特性、コントラスト、密着性及び耐薬品性について評価した。液晶の比抵抗及び耐薬品性については、下記の評価基準に従ってランク分けした。結果を後述の表５に示す。

（１）感度
　得られた細線パターン画像を光学顕微鏡により２００倍の倍率で撮影し、着色ライン画像の細線の幅を測定した。感度が高いほど、細線の幅は太くなるため、マスク幅からの細線幅の太り幅を線幅感度とした。数字が大きい方が高感度となり好ましい。

（２）液晶の比抵抗
　上記で得た着色層Ｂ－１を基板から掻き取り、掻き取った物９．０ｍｇを液晶材料ＺＬＩ－４７９２（メルク社製）２．００ｇに加えて１２０℃で５時間加熱した。その後、濾過し、液晶材料の比抵抗を液晶比抵抗測定装置（型番ＡＤＶＡＮＴＥＳＴ　Ｒ８３４０　ＵＬＴＲＡ　ＨＩＧＨＴ　ＲＥＳＩＳＴＡＮＣＥ　ＭＥ（株）アドバンテスト製）により測定した。金属イオンの溶出により液晶材料の比抵抗は低下するため、その比抵抗の程度で金属イオンの溶出を評価できる。
＜評価基準＞
　Ａ：比抵抗≧１．０×１０^１１ＭΩであり、液晶表示装置に組み込んでパネルとした際に焼付き故障がみられなかった。
　Ｂ：比抵抗＜１．０×１０^１１ＭΩであり、液晶表示装置に組み込んでパネルとした際の焼付き故障が生じた。

（３）分光特性
　上記で得た着色層Ｂ－１の透過スペクトルを、オリンパス（株）製の顕微分光測定装置ＯＳＰ－ＳＰ２００（商品名）を用いて測定した。得られた透過スペクトルより、ＣＩＥ１９３１表色系における色座標ｘ値、ｙ値、Ｙ値を求めた。
　分光特性は、（ｘ、ｙ）＝（０．１３８、０．０８５）におけるＹ値が高い場合、優れた分光特性を有しているといえる。Ｙ値が大きいほど分光特性に優れているといえる。

（４）コントラスト
　得られた各着色層Ｂ－１を有する基板を２枚の偏光フィルムの間に挟み、２枚の偏光フィルムの偏光軸が平行な場合、及び垂直な場合の輝度の値を色彩輝度計（トプコン（株）製、型番：ＢＭ－５Ａ）を使用して測定し、２枚の偏光フィルムの偏光軸が平行な場合の輝度を垂直な場合の輝度で除して、得られた値をコントラストとして求めた。コントラストが高いほど、液晶表示装置用のカラーフィルタとして良好な性能を示す。

（５）密着性
　上記で得た着色層Ａ－１について、ｉ線縮小投影露光装置を使用して、着色層Ａ－１に３６５ｎｍの波長で、５、１０、１５、２０、及び２５μｍのマスク幅を有するマスクを通して露光量４０ｍＪ／ｃｍ^２で照射した。照射後、前記現像液を使用して、２３℃で６０秒間現像した。次いで、流水で２０秒間リンスした後、スプレーで乾燥して、細線パターン画像を得た。画像形成は光学顕微鏡及びＳＥＭ写真観察により通常の方法で観察した。そして、基板に残っている最も細い細線パターンのパターン寸法を密着性の評価とした。
　より細い細線が残っているほうが密着性に優れているとすることができる。

（６）耐薬品性（耐溶剤性）
　ガラス基板（コーニング１７３７、０．７ｍｍ厚（コーニング社製））上に、スピンナーを用いて、各着色硬化性組成物を塗布した後、９０℃にて２分間ホットプレート上でプレベークして膜厚２．１μｍの着色層を形成した。得られた着色層を、キャノン（株）製ＰＬＡ－５０１Ｆ露光機（超高圧水銀ランプ）で積算照射量が４０ｍＪ／ｃｍ^２（照度：２０ｍＷ／ｃｍ^２）となるように全面露光し、その後、この基板をオーブンにて表５記載の条件で加熱して着色硬化膜を得た。
　得られた着色硬化膜の色度を測定した。そして、この硬化膜が形成された基板を２３℃に温度制御されたＮ－メチル－２－ピロリドン中に２０分間浸漬させた後、当該着色硬化膜の色度を測定し、浸漬による色度変化をΔＥ＊ａｂで算出したこの値が３以下のとき、硬化膜の耐溶剤性は良好であるといえる。
〔評価基準〕
Ａ：浸漬前後のΔＥ＊ａｂが、２．０未満
Ｂ：浸漬前後のΔＥ＊ａｂが、２．０以上～３．０以下
Ｃ：浸漬前後のΔＥ＊ａｂが、３．０を超える

　表５から以下のことがわかる。
　第１の実施形態の実施例に係る硬化性組成物１－７～１－１７は、感度、分光特性（Ｙ値）に優れ、コントラストが高く、密着性に優れ、液晶の比抵抗が大きく、かつ耐薬品性良好であることがわかる。その効果は基板としてプラスチィックベースであるＰＥＴを使用した場合においても、１１０℃熱処理条件で有効に発現している。また、硬化性組成物１－７～１－１７を用いて得られた液晶表示装置は、焼きつきが生じなかった。
　これに対し比較例としての硬化性組成物Ｃ１－７～Ｃ１－１０の場合には、加熱処理の温度が１５０℃と低い処理で作製された場合に、液晶の比抵抗が低く、また、密着性も低かった。

－屈折率調整部材の調製－
〔転写フィルムの作製〕
＜熱可塑性樹脂層及び中間層の形成＞
　仮支持体としての厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム上に、スリット状ノズルを用いて、下記処方Ｈ１の熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布し、乾燥して、膜厚が１５μｍの熱可塑性樹脂層を形成した。その上に、下記処方Ｐ１の中間層用塗布液を塗布し、乾燥して、膜厚が１．６μｍの中間層を形成した。

（熱可塑性樹脂層用塗布液：処方Ｈ１）
・メタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　１１．１部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　６．３６部
・メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　５２．４部
・メチルメタクリレート／２－エチルヘキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝５５／１１．７／４．５／２８．８、分子量＝１０万、Ｔｇ≒７０℃）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５．８３部
・スチレン／アクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝６３／３７、重量平均分子量＝１万、Ｔｇ≒１００℃）　　　　１３．６部
・モノマー１（商品名：ＢＰＥ－５００、新中村化学工業（株）製）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　９．１部
・フッ素系ポリマーの３０％メチルエチルケトン溶液
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．５４部
（上記フッ素系ポリマーは、Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ_２と、Ｈ（ＯＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２）_７ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ_２と、Ｈ（ＯＣＨ_２ＣＨ_２）_７ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ_２の４０：５５：５（質量比）との共重合体で、重量平均分子量３万である（商品名：メガファックＦ７８０Ｆ、大日本インキ化学工業（株）製）

（中間層用塗布液：処方Ｐ１）
・ポリビニルアルコール（商品名：ＰＶＡ２０５、（株）クラレ製、鹸化度＝８８％、重合度５５０）　　　　　　　　　　　３２．２部
・ポリビニルピロリドン（商品名：Ｋ－３０、アイエスピー・ジャパン（株）製）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１４．９部
・蒸留水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５２４部
・メタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　４２９部

＜第一の硬化性透明樹脂層＞
次に、上記中間層上に、下記表６に記す組成（単位は質量部）によって調製した第一の硬化性透明樹脂層用の硬化性組成物１－１８～１－２０、Ｃ１－１１～Ｃ１－１４を、塗布量を変更しながら、下記表７に記載した乾燥後の膜厚になるように、塗布し、乾燥して、第一の硬化性透明樹脂層を形成した。

第一の硬化性透明樹脂層を塗布及び乾燥した時点で、この第一の硬化性透明樹脂層を、ミクロトームを用いて表面から切片を切削した。この切片０．１ｍｇに対して、ＫＢｒ粉末２ｍｇを加え、黄色灯下でよく混合し、後述の二重結合消費率の測定におけるＵＶ未硬化品の測定試料とした。

　実施例としての転写材料１－１９から１－２１、比較例としての転写材料Ｃ１－１６からＣ１－１９では、第一の硬化性透明樹脂層を製膜後、紫外線照射（露光量：３００ｍＪ／ｃｍ^２、光源：メタンハライドランプ）を照射し硬化(プレ硬化処理)させた。
　第一層を塗布・乾燥・硬化した時点で、このようにして得られた第一の硬化性透明樹脂層の硬化膜を、ミクロトームを用いて表面から切片を切削した。この切片０．１ｍｇに対して、ＫＢｒ粉末２ｍｇを加え、黄色灯下でよく混合し、後述の二重結合消費率の測定における塗布・乾燥・硬化後の測定試料とした。

（二重結合消費率の測定）
　ＦＴ－ＩＲ装置（サーモ・ニコレー・ジャパン製、ニコレット７１０）を用いて、４００ｃｍ^－１～４０００ｃｍ^－１の波長領域を測定し、Ｃ＝Ｃ結合由来の８１０ｃｍ^－１のピーク強度を求めた。各サンプルの第一の硬化性透明樹脂層について、塗布・乾燥のみのＵＶ未硬化品のピーク強度（＝二重結合残存量）Ａと、硬化後のピーク強度Ｂを求め、下記式にしたがって、二重結合消費率を算出した。
式：二重結合消費率＝｛１－（Ｂ／Ａ）｝×１００％
《評価基準》
　Ａ：二重結合消費率が１０％以上
　Ｂ：二重結合消費率が１０％未満
　なお、二重結合消費率は、第一層と第二層の界面混合の程度の指標になる。

＜第二の硬化性透明樹脂層の形成＞
　前述の第一の硬化性透明樹脂層（プレ硬化済み）上に、前記表６に記載した硬化性組成物１－２１又はＣ１－１５を、塗布量を変更しながら、乾燥後の膜厚が下記表７に記載のとおりになるように塗布し、乾燥して、第二の硬化性透明樹脂層を形成した。ここで、後述の表７に示すように、実施例としての転写材料１－１９～１－２１には第二の硬化性透明樹脂層として硬化性組成物１－２１を用い、比較例としての転写材料Ｃ１－１６～Ｃ１－１９には第二の硬化性透明樹脂層として硬化性組成物Ｃ１－１５をそれぞれ用いた。

＜保護フィルムの圧着＞
　このようにして仮支持体の上に乾燥膜厚が１５．１μｍの熱可塑性樹脂層と、乾燥膜厚が１．７μｍの中間層と、下記表７中の乾燥膜厚になるような第一の硬化性透明樹脂層及び第二の硬化性透明樹脂層を設け、最後に保護フィルム（厚さ１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧着した。

　こうして仮支持体と熱可塑性樹脂層と中間層（酸素遮断膜）と第一の硬化性透明樹脂層と第二の硬化性透明樹脂層と保護フィルムとが一体となった転写材料１－１９～１－２１、及び、Ｃ１－１６～Ｃ１－１９の７種類の転写材料を作製した。

〔透明電極部材の作製〕
　上記の転写材料を用いて、以下の方法で透明電極部材を作製した。

＜１．透明膜の形成＞
　屈折率１．５１のガラス製透明基板上に、上記表６中に示す硬化性組成物１－１８を用いた屈折率１．７、膜厚６５ｎｍの透明膜を以下の方法で積層した。

（転写材料の調製）
　厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、前述の処方Ｈ１の熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布し、乾燥した。次に、前述の処方Ｐ１の中間層用塗布液を塗布し、乾燥した。更に、上記表６に記載の硬化性組成物１－１８を塗布し、乾燥した。
　このようにして、仮支持体の上に膜厚が１５．１μｍの熱可塑性樹脂層と、膜厚が１．７μｍの中間層と、膜厚が６５ｎｍの硬化性組成物層を形成し、最後に保護フィルム（厚さ１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧着した。こうして仮支持体と熱可塑性樹脂層と中間層（酸素遮断膜）と硬化性組成物層と保護フィルムとが一体となった第一転写材料を作製した。

（透明膜の形成）
　上記第一転写材料の保護フィルムを剥離して硬化性組成物層を露出させ、露出した硬化性組成物層の表面が接するように、ガラス製透明基板上に硬化性組成物層、中間層、熱可塑性樹脂層及びＰＥＴ仮支持体を共に積層したのち、仮支持体を剥離した。
　次に、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング（株）製）を用いて、熱可塑性樹脂層側からｉ線、４０ｍＪ／ｃｍ^２にて全面露光した。次に、トリエタノールアミン系現像液（トリエタノールアミン３０％含有、商品名：Ｔ－ＰＤ２（富士フイルム（株）製）を純水で１０倍（Ｔ－ＰＤ２を１部と純水９部の割合で混合）に希釈した液）を３０Ｃで６０秒間、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像し、熱可塑性樹脂と中間層を除去した。引き続き、このガラス製透明基板の上面（透明硬化性樹脂層側）にエアを吹きかけて液きりした後、純水をシャワーにより１０秒間吹きつけて洗浄し、エアを吹きかけてガラス製透明基板上の液だまりを減らした。次に、基板を下記表７に示す条件で加熱処理（ポストベーク）を行い、ガラス製透明基板上に硬化性組成物層の硬化膜（以下、「透明膜」という。）が積層された基板を得た。

＜２．透明電極パターンの形成＞
　上記のようにして得られたガラス製透明基板上に透明膜が積層された基板を、真空チャンバー内に導入し、ＳｎＯ_２含有率が１０％のＩＴＯターゲット（インジウム：錫＝９５：５（モル比））を用いて、ＤＣマグネトロンスパッタリング（条件：基材の温度２５０℃、アルゴン圧０．１３Ｐａ、酸素圧０．０１Ｐａ）により、厚さ４０ｎｍ、屈折率１．８２のＩＴＯ薄膜を形成し、透明電極層を形成した前面板を得た。ＩＴＯ薄膜の表面抵抗は８０Ω／□であった。

（エッチング用感光性フィルムＥ１の調製）
　厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、上述の処方Ｈ１からなる熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布し、乾燥した。次に、上述の処方Ｐ１からなる中間層用塗布液を塗布し、乾燥した。更に、下記エッチング用光硬化性樹脂層用塗布液：処方Ｅ１を塗布、乾燥させた。このようにして仮支持体の上に乾燥膜厚が１５．１μｍの熱可塑性樹脂層と、乾燥膜厚が１．６μｍの中間層と、膜厚２．０μｍエッチング用光硬化性樹脂層から成る積層体を得、最後に保護フイルム（厚さ１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧着した。こうして仮支持体と熱可塑性樹脂層と中間層（酸素遮断膜）とエッチング用光硬化性樹脂層とが一体となったエッチング用感光性転写材料を作製した。

（エッチング用光硬化性樹脂層用塗布液：処方Ｅ１）
・メチルメタクリレート／スチレン／メタクリル酸共重合体（質量比＝３１／４０／２９、重量平均分子量６００００、酸価１６３ｍｇＫＯＨ／ｇ）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１６部
・モノマー１（商品名：ＢＰＥ－５００、新中村化学工業（株）製）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５．６部
・ヘキサメチレンジイソシアネートのテトラエチレンオキシドモノメタクリレート０．５モル付加物　　　　　　　　　　　　　　　７部
・分子中に重合性基を１つ有する化合物としてのシクロヘキサンジメタノールモノアクリレート　：　　　　　　　　　　　２．８質量部
・２－クロロ－Ｎ－ブチルアクリドン　　　　　　０．４２部
・２，２－ビス（ｏ－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニルビイミダゾール　　　　　　　　　　　　　　２．１７部
・マラカイトグリーンシュウ酸塩　　　　　　　　０．０２部
・ロイコクリスタルバイオレット　　　　　　　　０．２６部
・フェノチアジン　　　　　　　　　　　　　　０．０１３部
・界面活性剤（商品名：メガファックＦ－７８０Ｆ、大日本インキ（株）製）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．０３部
・メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　４０部
・１－メトキシ－２－プロパノール　　　　　　　　　２０部
　なお、エッチング用光硬化性樹脂層用塗布液Ｅ１の溶剤除去後の１００℃の粘度は２５００Ｐａ・ｓｅｃであった。

（透明電極パターンの形成）
　前記前面板の透明電極層を洗浄し、その表面に、保護フィルムを除去したエッチング用感光性転写材料を、エッチング用光硬化性樹脂層が接するようにラミネートした（基材温度：１３０℃、ゴムローラー温度１２０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．２ｍ／分）。エッチング用感光性転写材料の仮支持体を剥離後、露光マスク（透明電極パターンを有す石英露光マスク）面と該エッチング用光硬化性樹脂層との間の距離を２００μｍに設定し、露光量５０ｍＪ／ｃｍ^２（ｉ線）でパターン露光した。次に、トリエタノールアミン系現像液（トリエタノールアミン３０質量％含有、商品名：Ｔ－ＰＤ２（富士フイルム（株）製）を純水で１０倍に希釈した液）を２５℃で１００秒間、界面活性剤含有洗浄液（商品名：Ｔ－ＳＤ３（富士フイルム（株）製）を純水で１０倍に希釈した液）を用いて３３℃で２０秒間処理し、回転ブラシ、超高圧洗浄ノズルで残渣除去を行い、さらに１３０℃３０分間のポストベーク処理を行って、透明電極層とエッチング用光硬化性樹脂層パターンとを形成した前面板を得た。
　透明電極層とエッチング用光硬化性樹脂層パターンとを形成した前面板を、ＩＴＯエッチャント（塩酸、塩化カリウム水溶液。液温３０℃）を入れたエッチング槽に浸漬し、１００秒処理し、エッチング用光硬化性樹脂層で覆われていない露出した領域の透明電極層を溶解除去し、エッチング用光硬化性樹脂層パターンのついた透明電極層パターン付の前面板を得た。
　次に、エッチング用光硬化性樹脂層パターンのついた透明電極層パターン付の前面板を、レジスト剥離液（Ｎ－メチル－２－ピロリドン、モノエタノールアミン、界面活性剤（商品名：サーフィノール４６５、エアープロダクツ製）液温４５℃）を入れたレジスト剥離槽に浸漬し、２００秒処理し、エッチング用光硬化性樹脂層を除去し、ガラス製透明基板上に透明膜及び透明電極パターンを形成した基板を得た。

　透明電極パターンの端部をＰｔコート（約２０ｎｍ厚）により、導電性付与及び表面保護を行った後、ＦＥＩ製Ｎｏｖａ２００型ＦＩＢ／ＳＥＭ複合機を用いて、透明電極パターン端部の形状観察（二次電子像、加速電圧２０ｋＶ）を行った。
　形成したＩＴＯパターンは、図１の様なテーパー形状となっており、テーパー角α＝約３°であった。なお、図１はパターン４におけるテーパー角αを説明しているものである。

＜３．第一の硬化性透明樹脂層と第二の硬化性透明樹脂層の形成＞
　上記にて得られたガラス製透明基板上に透明膜及び透明電極パターンを形成した基板と、前述の転写材料１－１９～１－２１、及び、Ｃ１－１６～Ｃ１－１９を用いて、ガラス製透明基板上への透明膜の形成と同様の方法により、透明電極パターン上に、転写材料の第二の硬化性透明樹脂層の硬化膜及び第一の硬化性透明樹脂層の硬化膜がこの順で形成された７種類の積層体を作製し、更に、表７に記載の条件で熱処理して、合計１４種類の透明電極部材を得た。これらの透明電極部材について、下記の評価を行った。

〔透明電極部材の評価〕
＜透明電極パターンの視認性の評価＞
　透明接着テープ（３Ｍ社製、商品名、ＯＣＡテープ８１７１ＣＬ）を介して、上記透明電極部材の第一の硬化性透明樹脂層の硬化膜の表面を全面に亘って黒色ＰＥＴ材を接着させて遮光した。
　透明電極パターン視認性は、暗室において、蛍光灯（光源）を透明電極部材のガラス製透明基板側から光を入射させ、ガラス製透明基板表面からの反射光を、斜めから目視観察することにより行った。

《評価基準》
　Ａ：透明電極パターンが全く見えない。
　Ｂ：透明電極パターンがわずかに見えるが、ほとんど見えない。
　Ｃ：透明電極パターンが見える（分かりにくい）。
　Ｄ：透明電極パターンが見えるが、実用上許容できる。
　Ｅ：透明電極パターンがはっきり見える（分かりやすい）。
　得られた結果を下記表７に記載した。

＜鉛筆硬度の評価＞
　透明電極部材の第一の硬化性透明樹脂層の硬化膜の硬度を下記に従って評価した。
　耐傷性の指標としてＪＩＳ　Ｋ　５４００に記載の鉛筆硬度評価を行った。各透明電極部材を、温度２５℃、相対湿度６０％で１時間調湿した後、ＪＩＳ　Ｓ　６００６に規定する２Ｈの試験用鉛筆を用いて、５００ｇの荷重にてｎ＝７の評価を行った。
《評価基準》
　Ａ：傷が３つ未満である。
　Ｂ：傷が３つ以上、５つ未満である。
　Ｃ：傷が５つ以上、６つ未満である。
　Ｄ：傷が６つ以上である。
　得られた結果を下記表７に記載した。

上記表７より、第１の実施形態の実施例に係る硬化性組成物１－１８～１－２０のいずれかによる硬化膜と、硬化性組成物１－２１による硬化膜を備える透明電極部材は、透明電極パターンの視認性を維持したまま、低温（１５０℃）ベイク処理でも十分な鉛筆硬度を有していることがわかる。
　他方、比較例に係る硬化性組成物Ｃ１－１１～Ｃ１－１４のいずれかによる硬化膜と、硬化性組成物Ｃ１－１５による硬化膜を備える透明電極部材は、透明電極パターンの視認性は良好であるが、鉛筆硬度は低いことがわかる。

　以下、第２の実施形態を実施例により更に具体的に説明するが、第２の実施形態はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」、「％」は質量基準である。

－硬化性組成物２－１の調製－
　下記の各成分を混合、溶解し、硬化性組成物を調製した。
・有機溶剤１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　７６．６１部
・側鎖に酸性基を有する樹脂：下記アルカリ可溶性バインダーＰ－１（１－メトキシ－２－プロパノール／１－メトキシ－２－プロピルアセテート４５％溶液）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５．９１部
・重合性化合物１：ナガセケムテックス（株）製、ＤＡ－３１４（例示化合物（３４））　　　　　　　　　　　　　　　　　２．８８部
・ハイパーブランチポリマー：大阪有機化学（株）製、ＳＴＡＲ－５０１（重量平均分子量：１１０００）　　　　　　　　　１１．５部
・重合禁止剤：ｐ－メトキシフェノール　　　　０．００３部
・開始剤１：チバスペシャリティ　ケミカルズ製、ＣＧＩ－１２４
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．４５部
・酸架橋性化合物１　ＣＹ３０３：サイメル３０３（日本サイテックインダストリーズ株式会社製メチロール化メラミン）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２．０７部
・熱酸発生剤１：ｐ－トルエンスルホン酸（ＰＴＳ）のトリエチルアミン塩［キャタリスト４０５０（三井サイアナミッド株式会社製）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．２２部
・密着改良材：３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．２部
・フッ素系界面活性剤：ＤＩＣ社製　メガファックＦ－５５４、固形分２％のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．０６部

　上記アルカリ可溶性バインダーＰ－１および開始剤１は、以下のとおりである。

－硬化性組成物２－２～２－６、並びに硬化性組成物Ｃ２－１～Ｃ２－２及びＣ２－５～Ｃ２－６の調製－
　硬化性組成物２－１と同様にして、但し、下記表８に記載の組成（単位は質量部）を有する硬化性組成物２－２～２－６、並びに硬化性組成物Ｃ２－１～Ｃ２－２及びＣ２－５～Ｃ２－６を調製した。

－硬化性組成物層の形成－
　ガラス（＃１７３７；コーニング社製）基板あるいはポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴ）基板上に、各硬化性組成物をスピンコート法で塗布した後、ガラス基板に塗布したものは、８０℃で１２０秒間、ＰＥＴ基板に塗布したものは、５０℃で１２０秒間、乾燥させることにより揮発成分を揮発させて、硬化性組成物層を形成した。硬化性組成物層の膜厚は、いずれも２．１μｍとなるように調整した。この硬化性組成物層にｉ線（波長３６５ｎｍ）を照射した。ｉ線の光源には超高圧水銀ランプを用い、平行光としてから光源の照射光量が４０ｍＪ／ｃｍ^２となるようにベタ露光した。その後、下記表９に記載した熱処理条件で熱処理して硬化膜を得た。これら各実験番号の硬化膜について、後述する方法で、二重結合消費率の測定と鉛筆硬度の測定を行い、下記評価基準に従って、ランク付けした。その結果を下記表９に記載した。

　表９から以下のことがわかる。
　第２の実施形態の実施例に係る硬化性組成物２－１～２－６は、比較例に係る硬化性組成物Ｃ２－１～Ｃ２－２及びＣ２－５～Ｃ２－６に比べて、いずれの加熱処理条件においても二重結合消費率が高く、重合が効率よく進んでおり、高い鉛筆硬度を有する硬化膜が得られる。特に１２０℃～１５０℃の低温で加熱処理した硬化膜、又は加熱処理を行わずにｉ線での露光のみで硬化した硬化膜においても、十分な鉛筆硬度を有する硬化膜が得られる。
　更に、基板として、プラスチックベースであるＰＥＴを使用した場合においても、１２０℃の熱処理条件で、高い硬度を有する硬化膜が得られている。

－硬化性組成物２－８（着色剤含有）の調製－
　下記の各成分を混合、溶解又は分散し、硬化性組成物２－８を調製した。
・有機溶剤１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　９部
・有機溶剤２：ジエチレングリコールエチルメチルエーテル
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２５部
・側鎖に酸性基を有する樹脂：前記アルカリ可溶性バインダーＰ－１
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　６部
・重合性化合物１：ナガセケムテックス（株）製、ＤＡ－３１４
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１．６部
・ハイパーブランチポリマー：大阪有機化学（株）製、ＳＴＡＲ－５０１
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　６．４部
・重合禁止剤：ｐ－メトキシフェノール　　　　０．００３部
・開始剤：光重合開始剤（例示化合物Ｖ－３）　　　０．８部
・酸架橋性化合物：ＣＹ３０３：サイメル３０３（日本サイテックインダストリーズ株式会社製メチロール化メラミン）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１．５部
・熱酸発生剤１：ｐ－トルエンスルホン酸（ＰＴＳ）のトリエチルアミン塩［キャタリスト４０５０（三井サイアナミッド株式会社製）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．１８部
・密着改良剤：３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．２２部
・フッ素系界面活性剤（ＤＩＣ社製　メガファックＦ－５５４、固形分０．２％のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５部
・顔料分散液Ａ：　・下記処方の顔料分散液１　　　　　２５部
・染料溶液Ｂ：　　・下記処方の染料溶液１　　　　　　２０部

－硬化性組成物２－７及び２－９～２－１７、並びに硬化性組成物Ｃ２－７～Ｃ２－１０の調製－
　硬化性組成物２－８と同様にして、表１０に記載の組成（単位は質量部）を有する硬化性組成物２－７及び２－９～２－１７、並びに硬化性組成物Ｃ２－７～Ｃ２－１０を調製した。
　なお、表中の顔料分散液２～５、及び染料溶液２～６は、下記のとおりである。
～顔料分散液２～
　Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３を５部と分散剤（日本ルーブリゾール社製ソルスパース２４０００）５部とを、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート９０．０部と混合し、ビーズミルを用いて顔料を十分に分散させて、顔料分散液２を調製した。

－着色硬化性組成物層（着色層）の形成－
　ガラス（＃１７３７；コーニング社製）基板上に、上記で調製した硬化性組成物をスピンコート法で塗布した後、室温で３０分間乾燥させることにより揮発成分を揮発させて、着色硬化性組成物層（これを「着色層Ａ－２」ともいう。）を形成した。この着色硬化性組成物層に、ライン／スペースが２０μｍ／２０μｍのマスクを通してｉ線（波長３６５ｎｍ）を照射した。ｉ線の光源には超高圧水銀ランプを用い、平行光としてから照射するようにした。このとき、照射光量を４０ｍＪ／ｃｍ^２とした。次いで、ｉ線をパターン状に照射した上記着色硬化性組成物層に対して、炭酸ナトリウム／炭酸水素ナトリウムの水溶液（濃度２．４％、ｐＨ１０）を用いて２６℃で４５秒間現像し、次いで、流水で２０秒間リンスした後、乾燥して、細線パターン画像を得た。得られた細線パターン画像を表１１に示す加熱処理条件でポストベーク処理を行ない、膜厚２μｍのパターン状の着色硬化膜（これを「着色層Ｂ－２」ともいう。）を得た。

－評価－
　上記で得られた着色硬化膜に基いて、下記に記載の方法で、着色硬化性組成物の感度、液晶の比抵抗、分光特性、コントラスト、密着性及び耐薬品性について評価した。液晶の比抵抗及び耐薬品性については、下記の評価基準に従ってランク分けした。結果を後述の表１１に示す。

（２）液晶の比抵抗
　上記で得た着色層Ｂ－２を基板から掻き取り、掻き取った物９．０ｍｇを液晶材料ＺＬＩ－４７９２（メルク社製）２．００ｇに加えて１２０℃で５時間加熱した。その後、濾過し、液晶材料の比抵抗を液晶比抵抗測定装置（型番ＡＤＶＡＮＴＥＳＴ　Ｒ８３４０　ＵＬＴＲＡ　ＨＩＧＨＴ　ＲＥＳＩＳＴＡＮＣＥ　ＭＥ（株）アドバンテスト製）により測定した。金属イオンの溶出により液晶材料の比抵抗は低下するため、その比抵抗の程度で金属イオンの溶出を評価できる。
＜評価基準＞
　Ａ：比抵抗≧１．０×１０^１１ＭΩであり、液晶表示装置に組み込んでパネルとした際に焼付き故障がみられなかった。
　Ｂ：比抵抗＜１．０×１０^１１ＭΩであり、液晶表示装置に組み込んでパネルとした際の焼付き故障が生じた。

（３）分光特性
　上記で得た着色層Ｂ－２の透過スペクトルを、オリンパス（株）製の顕微分光測定装置ＯＳＰ－ＳＰ２００（商品名）を用いて測定した。得られた透過スペクトルより、ＣＩＥ１９３１表色系における色座標ｘ値、ｙ値、Ｙ値を求めた。
　分光特性は、（ｘ、ｙ）＝（０．１３８、０．０８５）におけるＹ値が高い場合、優れた分光特性を有しているといえる。Ｙ値が大きいほど分光特性に優れているといえる。

（４）コントラスト
　得られた各着色層Ｂ－２を有する基板を２枚の偏光フィルムの間に挟み、２枚の偏光フィルムの偏光軸が平行な場合、及び垂直な場合の輝度の値を色彩輝度計（トプコン（株）製、型番：ＢＭ－５Ａ）を使用して測定し、２枚の偏光フィルムの偏光軸が平行な場合の輝度を垂直な場合の輝度で除して、得られた値をコントラストとして求めた。コントラストが高いほど、液晶表示装置用のカラーフィルタとして良好な性能を示す。

（５）密着性
　上記で得た着色層Ａ－２について、ｉ線縮小投影露光装置を使用して、着色層Ａ－２に３６５ｎｍの波長で、５、１０、１５、２０、及び２５μｍのマスク幅を有するマスクを通して露光量４０ｍＪ／ｃｍ^２で照射した。照射後、前記現像液を使用して、２３℃で６０秒間現像した。次いで、流水で２０秒間リンスした後、スプレーで乾燥して、細線パターン画像を得た。画像形成は光学顕微鏡及びＳＥＭ写真観察により通常の方法で観察した。そして、基板に残っている最も細い細線パターンのパターン寸法を密着性の評価とした。
　より細い細線が残っているほうが密着性に優れているとすることができる。

（６）耐薬品性（耐溶剤性）
　ガラス基板（コーニング１７３７、０．７ｍｍ厚（コーニング社製））上に、スピンナーを用いて、各着色硬化性組成物を塗布した後、９０℃にて２分間ホットプレート上でプレベークして膜厚２．１μｍの着色層を形成した。得られた着色層を、キャノン（株）製ＰＬＡ－５０１Ｆ露光機（超高圧水銀ランプ）で積算照射量が４０ｍＪ／ｃｍ^２（照度：２０ｍＷ／ｃｍ^２）となるように全面露光し、その後、この基板をオーブンにて表１１記載の条件で加熱して着色硬化膜を得た。
　得られた着色硬化膜の色度を測定した。そして、この硬化膜が形成された基板を２３℃に温度制御されたＮ－メチル－２－ピロリドン中に２０分間浸漬させた後、当該着色硬化膜の色度を測定し、浸漬による色度変化をΔＥ＊ａｂで算出したこの値が３以下のとき、硬化膜の耐溶剤性は良好であるといえる。
〔評価基準〕
Ａ：浸漬前後のΔＥ＊ａｂが、２．０未満
Ｂ：浸漬前後のΔＥ＊ａｂが、２．０以上～３．０以下
Ｃ：浸漬前後のΔＥ＊ａｂが、３．０を超える

　表１１から以下のことがわかる。
　第２の実施形態の実施例に係る硬化性組成物２－７～２－１７は、感度、分光特性（Ｙ値）に優れ、コントラストが高く、密着性に優れ、液晶の比抵抗が大きく、かつ耐薬品性良好であることがわかる。特に１２０℃～１５０℃の低温で加熱処理した硬化膜、又は加熱処理を行わずにｉ線での露光のみで硬化した硬化膜においても、十分な鉛筆硬度を有する硬化膜が得られる。その効果は基板としてプラスチィックベースであるＰＥＴを使用した場合においても、１２０℃熱処理条件で有効に発現している。また、硬化性組成物２－７～２－１７を用いて得られた液晶表示装置は、焼きつきが生じなかった。
　これに対し比較例としての硬化性組成物Ｃ２－７～Ｃ２－１０の場合には、加熱処理の温度が１２０℃～１５０℃と低い処理で作製された場合に、液晶の比抵抗が低く、また、密着性も低かった。

＜第一の硬化性透明樹脂層＞
次に、上記中間層上に、下記表１２に記す組成（単位は質量部）によって調製した第一の硬化性透明樹脂層用の硬化性組成物２－１８～２－２０、Ｃ２－１１～Ｃ２－１４を、塗布量を変更しながら、下記表１３に記載した乾燥後の膜厚になるように、塗布し、乾燥して、第一の硬化性透明樹脂層を形成した。

第一の硬化性透明樹脂層を塗布及び乾燥した時点で、この第一の硬化性透明樹脂層を、ミクロトームを用いて表面から切片を切削した。この切片０．１ｍｇに対して、ＫＢｒ粉末２ｍｇを加え、黄色灯下でよく混合し、後述の二重結合消費率の測定におけるＵＶ未硬化品の測定試料とした。
　実施例としての転写材料２－１８から２－２１、比較例としての転写材料Ｃ２－１６からＣ２－１９では、第一の硬化性透明樹脂層を製膜後、紫外線照射（露光量：３００ｍＪ／ｃｍ^２、光源：メタンハライドランプ）を照射し硬化(プレ硬化処理)させた。

　第一層を塗布・乾燥・硬化した時点で、このようにして得られた第一の硬化性透明樹脂層の硬化膜を、ミクロトームを用いて表面から切片を切削した。この切片０．１ｍｇに対して、ＫＢｒ粉末２ｍｇを加え、黄色灯下でよく混合し、後述の二重結合消費率の測定における塗布・乾燥・硬化後の測定試料とした。

＜第二の硬化性透明樹脂層の形成＞
　前述の第一の硬化性透明樹脂層（プレ硬化済み）上に、前記表１２に記載した硬化性組成物２－２１又はＣ２－１５を、乾燥後の膜厚が下記表１３に記載のとおりになるように塗布し、乾燥して、第二の硬化性透明樹脂層を形成した。ここで、後述の表１３に示すように、実施例としての転写材料２－１８～２－２０には第二の硬化性透明樹脂層として硬化性組成物２－２１を用い、比較例としての転写材料Ｃ２－１６～Ｃ２－１９には第二の硬化性透明樹脂層として硬化性組成物Ｃ２－１５をそれぞれ用いた。

＜保護フィルムの圧着＞
　このようにして仮支持体の上に乾燥膜厚が１５．１μｍの熱可塑性樹脂層と、乾燥膜厚が１．７μｍの中間層と、下記表１２中の乾燥膜厚になるような第一の硬化性透明樹脂層及び第二の硬化性透明樹脂層を設け、最後に保護フィルム（厚さ１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧着した。

　こうして仮支持体と熱可塑性樹脂層と中間層（酸素遮断膜）と第一の硬化性透明樹脂層と第二の硬化性透明樹脂層と保護フィルムとが一体となった転写材料２－１８～２－２０、及び、Ｃ２－１６～Ｃ２－１９の７種類の転写材料を作製した。

＜１．透明膜の形成＞
　屈折率１．５１のガラス製透明基板上に、上記表１２中に示す硬化性組成物２－１８を用いた屈折率１．７、膜厚６５ｎｍの透明膜を以下の方法で積層した。

（転写材料の調製）
　厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、前述の処方Ｈ１の熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布し、乾燥した。次に、前述の処方Ｐ１の中間層用塗布液を塗布し、乾燥した。更に、上記表１２に記載の硬化性組成物２－１８を塗布し、乾燥した。
　このようにして、仮支持体の上に膜厚が１５．１μｍの熱可塑性樹脂層と、膜厚が１．７μｍの中間層と、膜厚が６５ｎｍの硬化性組成物層を形成し、最後に保護フィルム（厚さ１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧着した。こうして仮支持体と熱可塑性樹脂層と中間層（酸素遮断膜）と硬化性組成物層と保護フィルムとが一体となった第一転写材料を作製した。

（透明膜の形成）
　上記第一転写材料の保護フィルムを剥離して硬化性組成物層を露出させ、露出した硬化性組成物層の表面が接するように、ガラス製透明基板上に硬化性組成物層、中間層、熱可塑性樹脂層及びＰＥＴ仮支持体を共に積層したのち、仮支持体を剥離した。
　次に、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング（株）製）を用いて、熱可塑性樹脂層側からｉ線、４０ｍＪ／ｃｍ^２にて全面露光した。次に、トリエタノールアミン系現像液（トリエタノールアミン３０％含有、商品名：Ｔ－ＰＤ２（富士フイルム（株）製）を純水で１０倍（Ｔ－ＰＤ２を１部と純水９部の割合で混合）に希釈した液）を３０Ｃで６０秒間、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像し、熱可塑性樹脂と中間層を除去した。引き続き、このガラス製透明基板の上面（透明硬化性樹脂層側）にエアを吹きかけて液きりした後、純水をシャワーにより１０秒間吹きつけて洗浄し、エアを吹きかけてガラス製透明基板上の液だまりを減らした。次に、基板を下記表１２に示す条件で加熱処理（ポストベーク）を行い、ガラス製透明基板上に硬化性組成物層の硬化膜（以下、「透明膜」という。）が積層された基板を得た。

（エッチング用感光性フィルムＥ１の調製）
　厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、上述の処方Ｈ１からなる熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布し、乾燥した。次に、上述の処方Ｐ１からなる中間層用塗布液を塗布し、乾燥した。更に、下記エッチング用光硬化性樹脂層用塗布液：処方Ｅ１を塗布、乾燥させた。このようにして仮支持体の上に乾燥膜厚が１５．１μｍの熱可塑性樹脂層と、乾燥膜厚が１．６μｍの中間層と、膜厚２．０μｍエッチング用光硬化性樹脂層から成る積層体を得、最後に保護フイルム（厚さ１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧着した。こうして仮支持体と熱可塑性樹脂層と中間層（酸素遮断膜）と透明硬化性樹脂層とが一体となったエッチング用感光性転写材料を作製した。

＜３．第一の硬化性透明樹脂層と第二の硬化性透明樹脂層の形成＞
　上記にて得られたガラス製透明基板上に透明膜及び透明電極パターンを形成した基板と、前述の転写材料２－１８～２－２０、及び、Ｃ２－１６～Ｃ２－１９を用いて、ガラス製透明基板上への透明膜の形成と同様の方法により、透明電極パターン上に、転写フィルムの第二の硬化性透明樹脂層の硬化膜及び第一の硬化性透明樹脂層の硬化膜がこの順で形成された７種類の積層体を作製し、更に、表１３に記載の条件で熱処理して、合計１４種類の透明電極部材を得た。これらの透明電極部材について、下記の評価を行った。

〔透明積層体の評価〕
＜透明電極パターンの視認性の評価＞
　透明接着テープ（３Ｍ社製、商品名、ＯＣＡテープ８１７１ＣＬ）を介して、上記透明電極部材の第一の硬化性透明樹脂層の硬化膜の表面を全面に亘って黒色ＰＥＴ材を接着させて遮光した。
　透明電極パターン視認性は、暗室において、蛍光灯（光源）と作成した基板を、ガラス面側から光を入射させ、ガラス表面からの反射光を、斜めから目視観察することにより行った。

《評価基準》
　Ａ：透明電極パターンが全く見えない。
　Ｂ：透明電極パターンがわずかに見えるが、ほとんど見えない。
　Ｃ：透明電極パターンが見える（分かりにくい）。
　Ｄ：透明電極パターンが見えるが、実用上許容できる。
　Ｅ：透明電極パターンがはっきり見える（分かりやすい）。
　得られた結果を下記表１３に記載した。

＜鉛筆硬度の評価＞
　耐傷性の指標としてＪＩＳ　Ｋ　５４００に記載の鉛筆硬度評価を行った。各実施例および比較例の転写フィルムを、ガラス製透明基板、透明膜及び透明電極パターンを有する基板に転写製膜して得られた各実施例及び比較例の透明積層体を、温度２５℃、相対湿度６０％で１時間調湿した後、ＪＩＳ　Ｓ　６００６に規定する２Ｈの試験用鉛筆を用いて、５００ｇの荷重にてｎ＝７の評価を行った。
《評価基準》
　Ａ：傷が３つ未満である。
　Ｂ：傷が３つ以上、５つ未満である。
　Ｃ：傷が５つ以上、６つ未満である。
　Ｄ：傷が６つ以上である。
　得られた結果を下記表１３に記載した。

　上記表１３より、第２の実施形態の実施例に係る硬化性組成物２－１８～２－２０のいずれかによる硬化膜と、硬化性組成物２－２１による硬化膜を備えるものは、透明電極パターンの視認性を維持したまま、低温（１２０℃）ベイク処理でも十分な鉛筆硬度を有していることがわかる。
　他方、比較例に係る硬化性組成物Ｃ２－１１～Ｃ２－１４のいずれかによる硬化膜と、硬化性組成物Ｃ２－１５による硬化膜を備えるものは、透明電極パターンの視認性は良好であるが、鉛筆硬度は低いことがわかる。

　２０１３年３月２９日に出願された日本国特許出願２０１３－０７３２８６号の開示および２０１３年３月２９日に出願された日本国特許出願２０１３－０７３２８７号の開示は、その全体が参照により本明細書に取り込まれる。本明細書に記載された全ての文献、特許出願、および技術規格は、個々の文献、特許出願、および技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。

Claims

　（Ａ）少なくとも二つのエチレン性不飽和二重結合基及び少なくとも一つの２級水酸基を有する化合物と、
　（Ｂ）側鎖に酸性基を有する樹脂と、
　（Ｃ）光重合開始剤及び熱重合開始剤からなる群より選ばれる少なくとも１種の開始剤と、
　（Ｄ）光酸発生剤と、
　（Ｅ）酸架橋性化合物と、
　を含む硬化性組成物。
　更に、（Ｆ）多分岐化合物を含む請求項１に記載の硬化性組成物。
　前記（Ｆ）多分岐化合物が、デンドリマー及びハイパーブランチポリマーからなる群より選ばれる少なくとも１種を含む請求項２に記載の硬化性組成物。
　更に、（Ｇ）着色剤を含む請求項１～請求項３のいずれか一項に記載の硬化性組成物。
　更に、（Ｈ）屈折率調整材料を含む請求項１～請求項４のいずれか一項に記載の硬化性組成物。
　前記（Ｈ）屈折率調整材料が、金属微粒子及び金属酸化物微粒子から選ばれた少なくとも一種の無機微粒子である請求項５に記載の硬化性組成物。
　請求項１～請求項６のいずれか一項に記載の硬化性組成物を硬化してなる硬化膜。
　請求項７に記載の硬化膜を含むカラーフィルタ。
　請求項７に記載の硬化膜を含む保護膜。
　請求項８に記載のカラーフィルタを含む表示装置。
　請求項９に記載の保護膜を含む表示装置。
　請求項８に記載のカラーフィルタを含む固体撮像素子。
　請求項９に記載の保護膜を含む固体撮像素子。
　（Ａ）少なくとも二つのエチレン性不飽和二重結合基及び少なくとも一つの２級水酸基を有する化合物と、
　（Ｂ）側鎖に酸性基を有する樹脂と、
　（Ｃ）光重合開始剤及び熱重合開始剤からなる群より選ばれる少なくとも１種の開始剤と、
　（Ｄ’）熱酸発生剤と、
　（Ｅ）酸架橋性化合物と、
　を含む硬化性組成物。
　更に、（Ｆ）多分岐化合物を含む請求項１４に記載の硬化性組成物。
　前記（Ｆ）多分岐化合物が、デンドリマー及びハイパーブランチポリマーからなる群より選ばれる少なくとも１種を含む請求項１５に記載の硬化性組成物。
　更に、（Ｇ）着色剤を含む請求項１４～請求項１６のいずれか一項に記載の硬化性組成物。
　更に、（Ｈ）屈折率調整材料を含む請求項１４～請求項１７のいずれか一項に記載の硬化性組成物。
　前記（Ｈ）屈折率調整材料が、金属微粒子及び金属酸化物微粒子から選ばれた少なくとも一種の無機微粒子である請求項１８に記載の硬化性組成物。
　請求項１４～請求項１９のいずれか一項に記載の硬化性組成物を硬化してなる硬化膜。
　請求項２０に記載の硬化膜を含むカラーフィルタ。
　請求項２０に記載の硬化膜を含む保護膜。
　請求項２１に記載のカラーフィルタを含む表示装置。
　請求項２２に記載の保護膜を含む表示装置。
　請求項２１に記載のカラーフィルタを含む固体撮像素子。
　請求項２２に記載の保護膜を含む固体撮像素子。