WO2014157328A1

WO2014157328A1 - 光分配機構及びこれを備えたコヒーレントミキサ装置

Info

Publication number: WO2014157328A1
Application number: PCT/JP2014/058518
Authority: WO
Inventors: 松本　崇
Original assignee: 日本電気株式会社
Priority date: 2013-03-26
Filing date: 2014-03-26
Publication date: 2014-10-02

Abstract

【課題】コヒーレント光を有意な位置で入射させると共にこれを有効に分配する歩留まりのよい光分配機構及びこれを備えたコヒーレントミキサ装置を提供すること。【解決手段】入射光を少なくとも二方向に分配する多層膜フィルタ２０Ｂと、光導波路基板上において透過コア８１と反射コア８２とを隔てる位置に設けられ且つ多層膜フィルタ２０Ｂを上記入射光に対して所定の角度に配置し保持するスリット状溝部７１と、を備えた光分配機構２１Ｂにおいて、多層膜フィルタ２０Ｂは、第２の溝側面７１Ｂ側に設けられたガイド傾斜面７１Ｄに沿って第１の溝側面７１Ａに対して平行状態にある位置に組み込まれ且つ屈折率整合剤９１にて固定装備されている。また、一方の狭幅側面７１Ｆの幅寸法ｓは、多層膜フィルタ２０Ｂの厚さ寸法ｄよりも小さく設定されている。

Description

光分配機構及びこれを備えたコヒーレントミキサ装置

　本発明は、光学素子を基板上に集積化した光集積回路に係り、特に、該光学素子としての光分配機構及びこれを備えたコヒーレントミキサ装置に関する。

　近年の光通信における伝送方式は、劇的な変動を見せており、これまで主流であったＩＭ－ＤＤ方式(Intensity Modulation-Direct Detection)から、ＱＰＳＫ(Quadrature Phase Shift Keying)をはじめとするコヒーレント検波へと変化している。中でも直交する光の偏光に対して信号を載せた、ＤＰ－ＱＰＳＫ(Dual Polarization-Quadrature Phase Shift Keying：偏波多重４値位相変調)方式は、４０Gbps以降の本命として研究開発が進められ、一部製品に採用されている。

　また、ＤＰ－ＱＰＳＫ方式のキーコンポーネントであるコヒーレントレシーバには、ＰＬＣ(Planer Lightwave Circuit：石英系平面光導波路)型の光コヒーレントミキサ，偏光分離素子(ＰＢＳ：Polarization Beam Splitter)，受光素子としての光検出器(ＰＤ：Photo Detector)，ＴＩＡ(Trans Impedance Amplifier)などが搭載されており，多くのデバイスベンダから出荷されている。

　さらに、今後の展望としてＭＳＡ（Multi Source Agreement）では、Generation２と呼ばれる小型コヒーレントレシーバの検討も進められている。その中で、特に注目されているものは、ＰＢＳをＰＬＣ上に集積したＰＬＣコヒーレントミキサである。

　上記ＰＢＳには、ファイバタイプや結晶の複屈折を用いたものが多く、このため、その厚さ等の各寸法が数ｍｍ～数ｃｍと非常に大きくなることから、集積に不向きであるという不都合があった。他に、ＳｉＯ２の応力による複屈折を利用してＰＬＣ上にＰＢＳを集積するという手法の検討も進められているが、コヒーレントミキサの９０°の位相遅延とＰＢＳ用の複屈折調整とを同時に行うことは困難であり、このため、歩留りの向上を図る上での問題がある。

　また、ＰＢＳを集積したＰＬＣコヒーレントミキサにかかる関連技術では、まずＰＬＣ上に光導波路を形成し、次いで多層膜を用いた薄膜型ＰＢＳ挿入用の溝部を形成し、この溝部にコヒーレント光である入射光を分離すると共に出射するＰＢＳを挿入するという製造方法を採り、当該製造工程において上記光導波路は、溝部に挿入されたＰＢＳからの出射光の位置を想定した上で配置される、という構成を採っている。

　ここで、上記同様に形成されるＰＢＳ集積型のＰＬＣコヒーレントミキサのうち、ＰＢＳを組み込んだ溝部の周辺部分を示す図１３乃至図１５を参照して、関連技術にかかる構成内容を説明する。また、当該溝部の周辺部分を光分配機構２０１と指称する。

　この光分配機構２０１は、図１３乃至図１５に示す通り、外部から入射された光を二方向に分配するＰＢＳ２００と、このＰＢＳ２００が挿入されて固定されたスリット状溝部（溝部）７００と、基板（図示せず）の主面上にクラッド（図示せず）と共に積層された、ＰＢＳ２００が入射光を透過する方向に光を伝搬する透過コア（透過光導波路）８０１と、ＰＢＳ２００が入射光を反射する方向に光を伝搬する反射コア（反射光導波路）８０２と、を備えている。
　スリット状溝部７００は、入射光に対して一定の角度を成す当該入射光側の側面（第１の溝側面）７０１と、この第１の溝側面７０１に対向する側面（第２の溝側面）７０２と、を有している。

　すなわち、光分配機構２０１は、図１３乃至図１５に示す通り、外部からレンズ１００を介して入射された光をＰＢＳ２００にて、当該入射方向と平行な方向に偏光（ＴＥ偏光）したＴＥ光と、当該入射方向と垂直な方向に偏光（ＴＭ偏光）したＴＭ光と、に分離して出射するように構成されている。

　まず、図１３に示すような、ＰＢＳ２００の厚さ（ＰＢＳ厚）ｄとＰＬＣ５００に形成された溝部７００の幅寸法（溝幅）ｔとが同じ幅である理想的な状態を想定すると共に、コヒーレント光であるＴＥ／ＴＭ光がレンズ１００で集光されてＰＢＳ２００に入射する位置を入射位置Ｍと指称する。

　上述したＰＢＳ２００は、入射されたコヒーレント光であるＴＥ／ＴＭ光を分離すると共に、透過する方向にＴＥ光を、反射する方向にＴＭ光を、それぞれ出射するように構成されている。また、図１３に示す理想状態にあっては、ＴＥ／ＴＭ光が第１の溝側面７０１に入射する位置と入射位置Ｍとが一致し、この入射位置ＭはＰＢＳ設計値に基づいて調整されたものであるため、すなわち、当該位置から入射されたＴＥ／ＴＭ光は、ＰＢＳ２００を介してＴＥ光を伝搬する透過コア８０１とＴＭ光を伝搬する反射コア８０２に結合される。

　しかしながら、実際には、ＰＢＳ２００の膜厚自体がバラ付きをもつことから、溝部７００は、溝幅ｔがＰＢＳ厚ｄよりも広くなるように設計される。このため、かかる設計に基づいて形成された溝部７００にＰＢＳ２００を挿入する場合には、その挿入位置が所望の位置（ＰＢＳ２００の透過側出射位置と反射側出射位置との双方がそれぞれ透過コア８０１と反射コア８０２とに適合する位置）からずれるという不都合が生じる。

　ここで、図１４を参照し、上記理想状態における入射位置Ｍ（図１３）を基準として透過コア８０１及び反射コア８０２を配置した１つの状況を説明する。

　図１４に示すように、挿入したＰＢＳ２００が溝部７００の第１の溝側面７０１に貼り付いた場合において、レンズ１００で集光されたＴＥ／ＴＭ光のＰＢＳ２００への入射位置Ｍ’は、図１３に示す入射位置Ｍと一致するため、反射側のＴＭ光の出射位置も同じとなることから、反射コア８０２に結合することができる。
　また、溝部７００内の、第２の溝側面７０２側に存するＰＢＳ２００との間隙には、ＰＬＣ５００と屈折率が整合し且つ接着剤の役割を果たす反射防止用の屈折率整合剤９０１が充填されているため、透過側についても入射角度と出射角度が等しくなり、ＴＥ光を透過コア８０１に結合することができる。
　即ち、かかる場合には、ＴＥ光とＴＭ光の双方を各コアに結合することができる。

　他の関連技術としては、例えば下記の技術内容（特許文献１又は２）が知られている。
　特許文献１では、２つの波長の光を反射又は透過によって分離する構成を備えた光導波路基板が開示されている。この光導波路基板の製造工程においては、下層クラッドをエッチングすることで２箇所に設けた支持部の間（保持部）に多層膜フィルタを樹脂部材に張り付けて成る波長フィルタを圧入し、その上部に上層クラッドを形成するという方法を採用している。
　また、特許文献２に記載の光導波路は、２つのフィルタ位置決めガイドが一方の側面から突出するように形成された溝部を有し、当該光導波路の製造工程においては、フィルタを上記フィルタ位置決めガイドの突き当て面に押し当てるように挿入して固定するという技術内容が開示されている。

特開２００７－５８０９８号公報特開平１１－３８２４０号公報

　しかしながら、上記図１４と同様に、理想状態における入射位置Ｍ（図１３）を基準として各コア（８０１及び８０２）を配置した図１５に示す状況のように、ＰＢＳ２００が溝部７００の第２の溝側面７０２側にずれた場合には、反射側にかかるＴＭ光の出射位置も同様にずれることとなる。これは、屈折率整合剤９０２が充填されている溝部７００の第１の溝側面７０１側に示す破線矢印の分だけＰＢＳ２００への入射位置Ｍ’’がずれ、これに応じて反射点がずれることに起因する。
　すなわち、当該反射点の位置ずれは、図１５に示す通り、反射コア８０２への光結合を悪化させるため、大きな問題となる。

　また、特許文献１にかかる波長フィルタは、薄膜である多層膜フィルタとその強度を維持するための基部とから成るものである。すなわち、多層膜フィルタは非常に薄いため、何ら補強せずに圧入を実現することは不可能であることを考慮し、特許文献１にかかる光導波路基板の製造工程では、多層膜フィルタを樹脂部材に貼り付けることで該多層膜フィルタに機械的強度を付加するという手法を採用している。かかる構成により、特許文献１にかかる技術においては、波長フィルタの幅よりもやや小さく形成した保持部への上からの圧入及び位置決めを実行しているが、これには、工数及び部材数といった点での不都合がある。

　さらに、特許文献２に開示された光導波路にあっては、クラッド層及びコア層の積層工程において、溝部の一側面から突出させるフィルタ位置決めガイドを形成する必要があるため、上記同様に工数等の問題がある。加えて、ここでは、フィルタを上記突き当て面に押し当てて挿入する工程を採用しているため、このフィルタとして薄膜である多層膜フィルタを採用した場合、当該多層膜フィルタに過度の負担をかけてしまうという不都合が生じる。

（発明の目的）
　本発明は、上記関連技術の有する不都合を改善するものであり、特に、コヒーレント光を有意な位置で入射させる共にこれを有効に分配する歩留まりのよい光分配機構及びこれを備えたコヒーレントミキサ装置を提供することを、その目的とする。

　上記目的を達成するために、本発明にかかる光分配機構では、入射されるコヒーレント光である入射光を少なくとも二方向に分配する多層膜フィルタと、この多層膜フィルタを前記入射光に対して所定の角度に配置し保持するスリット状溝部と、このスリット状溝部が形成された光導波路基板と、備えた光分配機構であって、前記スリット状溝部を、前記入射光の入射側に位置する第１の溝側面とこれに対向する第２の溝側面と備えると共に、前記多層膜フィルタの組み込み時に機能し当該多層膜フィルタを前記第１の溝側面に対して平行状態を維持する位置に案内するガイド傾斜面を前記第２の溝側面の側に設けて構成し、前記多層膜フィルタは、このガイド傾斜面に沿って前記スリット状溝部内に組み込まれ且つ屈折率整合剤にて固定装備されたものである、という構成を採っている。

　また、本発明にかかるコヒーレントミキサ装置では、入射されるコヒーレント光である信号光を二方向に分配する第１の光分配機構と、コヒーレント光である局部発振光を前記信号光に対応させて二方向に分配する第２の光分配機構と、この第１，第２の光分配機構から各二方向に分配出力されるコヒーレント光を光導波路を介して個別に取り込むと共に特性に合わせて変調し更に分配出力する光ミキサ領域と、を有するという構成を採り、且つ、前記各光分配機構が備えている光導波路基板を前記光ミキサ領域と共通の光導波路基板により構成したことを特徴とする。

　本発明によれば、特に、入射光を少なくとも二方向に分配する多層膜フィルタを当該入射光に対して所定の角度に配置し保持するスリット状溝部が、上記多層膜フィルタを第１の溝側面に対して平行状態を維持する位置に案内するガイド傾斜面を有するという構成を採ったため、これにより、コヒーレント光を有意な位置で入射させると共にこれを有効に分配する歩留まりのよい光分配機構及びこれを備えたコヒーレントミキサ装置を提供することが可能となる。

本発明の第１実施形態にかかる光分配機構の構成を示す概略図である。本発明の実施形態にかかる光分配機構を備えたコヒーレントミキサ装置を示すブロック図である。図１におけるＰ－Ｐ線に沿った端面図を示す。図１に開示した光分配機構の製造工程において、多層膜フィルタが溝部内に挿入された状態を例示する概略図のうち、図４（ａ）は第１の溝側面側の位置に、図４（ｂ）は中央の位置に、図４（ｃ）は第２の溝側面側の位置に、それぞれ挿入された状態を示す。図４（ｂ）に例示した挿入位置から、多層膜フィルタが狭窄部に向かって移動する様子を示す概略図である。図４（ｃ）に例示した挿入位置から、多層膜フィルタが狭窄部に向かって移動する様子を示す概略図である。図１に開示した光分配機構を製造する工程を示すフローチャートである。本発明の第２実施形態にかかる光分配機構の構成を示す概略図である。図８におけるＱ－Ｑ線に沿った端面図を示す。図８に開示した光分配機構の製造工程において、多層膜フィルタが溝部内に挿入された状態を例示する概略図のうち、図１０（ａ）は第１の溝側面側の位置に、図１０（ｂ）は中央の位置に、図１０（ｃ）は第２の溝側面側の位置に、それぞれ挿入された状態を示す。図１０（ａ）に例示した挿入位置から、多層膜フィルタが狭窄部に向かって移動する様子を示す概略図である。図１０（ｃ）に例示した挿入位置から、多層膜フィルタが狭窄部に向かって移動する様子を示す概略図である。関連技術にかかる光分配機構において、溝部と多層膜フィルタとが理想的な状態にある場合を示す概略図である。関連技術にかかる光分配機構において、溝部に挿入された多層膜フィルタが第１の溝側面側にずれた状態を示す概略図である。関連技術にかかる光分配機構において、溝部に挿入された多層膜フィルタが第２の溝側面側にずれた状態を示す概略図である。

〔第１実施形態〕
　本発明にかかる光分配機構及びこの光分配機構を備えたコヒーレントミキサ装置（光コヒーレントミキサ）の第１実施形態を、図１乃至図７に基づいて説明する。

（全体的構成）
　本第１実施形態におけるコヒーレントミキサ装置６０は、図２に示すように、外部から送信されてくる信号光及び局部発振光を、第１，第２のレンズ１０Ａ，１０Ｂを介して個別に集光し入射すると共に、これらをそれぞれＴＭ光とＴＥ光とに分離し、さらに分配処理して計４対の高速差動電気信号に変換し外部へ伝送出力するＰＬＣ（石英系平面光導波路）５０を備えている。

　このＰＬＣ５０は、具体的には、基板５２（図３）と、この基板５２上に装備された第１，第２の光ハイブリッド３３，３４と、この各光ハイブリッド３３，３４に対して前述した信号光及び局部発振光をそれぞれＴＥ光とＴＭ光とに分配して同時に送り込む第１，第２の光分配機構２１Ａ，２１Ｂと、を備えて構成されている。

　この内、第１の光分配機構２１Ａは、上記光信号をＴＭ光とＴＥ光とに分配出力する第１の多層膜フィルタ（多層膜を用いた薄膜型ＰＢＳ）２０Ａを装備し、当該光信号に対応して基板５２の一端部に設置されている。また、第２の光分配機構２１Ｂは、上記局部発振光をＴＭ光とＴＥ光とに分配出力する第２の多層膜フィルタ（多層膜を用いた薄膜型ＰＢＳ）２０Ｂを装備し、当該局部発光に対応して基板５２の一端部に、上記第１の光分配機構２１Ａに隣接して設置されている。

　ここで、外部から入射されるコヒーレント光である信号光及び局部発振光は、上述したように、それぞれがＴＥ波及びＴＭ波の特性を備えた合成波であり、すなわち、これらのコヒーレント光は、第１及び第２の光分配機構２１Ａ，２１Ｂにて、入射方向に対して平行な方向に偏光（ＴＥ偏光）された光であるＴＥ光と、入射方向に対して垂直な方向に偏光（ＴＭ偏光）された光であるＴＭ光と、に分離されて出射される。

　また、第１の光分配機構２１ＡからのＴＥ光と第２の光分配機構２１ＢからのＴＥ光を取得すると共にこれらを振り分けて出射する第１の光ハイブリッド３３と、第１の光分配機構２１ＡからのＴＭ光と第２の光分配機構２１ＢからのＴＭ光を取得すると共にこれらを振り分けて出射する第２の光ハイブリッド３４と、を有して成る構成を光ミキサ領域と指称する。この光ミキサ領域は、第１及び第２の光分配機構２１Ａ，２１Ｂの各々から分配出力されるＴＥ光及びＴＭ光を、ＰＬＣ５０上に形成された光導波路を介して個別に取り込むと共に、特性に合わせて変調し更に分配出力するように構成されている。

　各光分配機構（２１Ａ及び２１Ｂ）が備えている光導波路基板は、図２に示す通り、上記光ミキサ領域と共通の光導波路基板により構成されている。

　第１の光ハイブリッド３３は、１入力２出力の光カプラ３１Ａ及び３１Ｂと、２入力２出力の光カプラ３２Ａ及び３２Ｂと、光カプラ３１Ｂと光カプラ３２Ｂとの間に設けられπ／２位相の遅延を与える第１のπ／２位相シフタ４１と、を有すると共に、各光カプラを編み込むような配線により、入力した各ＴＥ光の振り分け及び出射を行うという構成を採っている。

　第２の光ハイブリッド３４は、１入力２出力の光カプラ３１Ｃ及び３１Ｄと、２入力２出力の光カプラ３２Ｃ及び３２Ｄと、光カプラ３１Ｃと光カプラ３２Ｄとの間に設けられπ／２位相の遅延を与える第２のπ／２位相シフタ４２と、を有すると共に、各光カプラを編み込むような配線により、入力した各ＴＭ光の振り分け及び出射を行うという構成を採っている。

　次に、図２に示した第２の光分配機構２１Ｂの具体的構成を、図１乃至図６に基づいて説明する。ここでは、第２の光分配機構２１Ｂにかかる構成内容を説明するが、第１の光分配機構２１Ａにかかる構成内容も同様である。
　以下では、上述した第２のレンズ１０Ｂ，第２の多層膜フィルタ２０Ｂ，及び第２の光分配機構２１Ｂを、単にそれぞれ、レンズ１０Ｂ，多層膜フィルタ２０Ｂ，及び光分配機構２１Ｂと指称する。

　まず、図１及びこの図１に示すＰ－Ｐ線に沿った端面図である図３を参照すると、光分配機構２１Ｂは、基板５２の主面５２Ａ上に積層されたクラッド及びコアと、外部から入射された光を二方向に分配する多層膜フィルタ２０Ｂと、を備えている。また、この光分配機構２１Ｂには、上記入射光に対して一定の角度を成す当該入射光側の側面（以下、第１の溝側面とする）７１Ａと、この第１の溝側面７１Ａに対向する側面（以下、第２の溝側面とする）７１Ｂと、上記各側面の端部を連結する断面楔形状の狭窄部７１Ｃと、を有するスリット状溝部（以下、溝部とする）７１が設けられている。さらに、多層膜フィルタ２０Ｂは、溝部７１に主面５２Ａ側から挿入されたのちに固定され、第１の溝側面７１Ａに平行で且つ狭窄部７１Ｃに当接した状態にある、という構成を採っている。

　続いて、図３に示すように、光分配機構２１Ｂは、基板５２の主面５２Ａ上に形成された下層クラッド５３上に設けられた、多層膜フィルタ２０Ｂが透過する方向（第１方向）に光を伝搬する透過コア（透過光導波路）８１と、多層膜フィルタ２０Ｂが反射する方向（第２方向：第１方向に交差する方向）に光を伝搬する反射コア（反射光導波路）８２と、この透過コア８１及び反射コア８２を覆うように形成された上層クラッド５４と、を有している。

　また、光分配機構２１Ｂは、透過コア８１と反射コア８２とを隔てる部分に、透過コア側の側面（第２の溝側面）７１Ｂと反射コア側の側面（第１の溝側面）７１Ａとを有する溝部７１を備え、この溝部７１には、入射光の透過と反射を行う多層膜フィルタ２０Ｂが主面５２Ａ側（各層の積層面側）から挿入されて設置されている。

　さらに、多層膜フィルタ２０Ｂは、その底端面２４が溝部７１の溝底面７１Ｈに当接した状態にあり、溝部７１における間隙には、少なくとも各コアより高い位置まで、反射防止用の屈折率整合剤（図示せず）が充填され硬化された構成となっている。

　本第１実施形態では、基板５２として高さ（積層方向の厚さ）約８００μｍのＳｉ基板を採用し、下層クラッド５３及び上層クラッド５４の高さは約１５μｍであり、透過コア８１及び反射コア８２の高さは約１．５μｍである、という構成を採っている。
　また、多層膜フィルタ２０Ｂとしては、膜厚（厚さ寸法）ｄが約２０μｍで且つ高さが約３００μｍであるものを、光分配機構２１Ｂの構成部材として採用した。この多層膜フィルタ２０Ｂは、深さ約１５０μｍの溝部７１に、その底端面２４を溝底面７１Ｈに対向させた状態で上から真っ直ぐに挿入され（図３に示す挿入方向）、後述する摺動過程を経て設置される、という構成を採っている。

　ここで、図１を参照して、溝部７１に設けられた、第１の溝側面７１Ａの端部と第２の溝側面７１Ｂの端部とを連結する断面楔形状の狭窄部７１Ｃ等を説明する。

　この狭窄部７１Ｃは、第２の溝側面７１Ｂから第１の溝側面７１Ａに向かって窄まるように形成されたガイド傾斜面７１Ｄと、第１の溝側面７１Ａの端部とガイド傾斜面７１Ｄの端部を連結する一方の狭幅側面７１Ｆと、を有する。

　また、溝部７１には、主面５２Ａ側から真っ直ぐに挿入され、さらに狭窄部７１Ｃに向かう方向への力を受けてスライドしながら移動した多層膜フィルタ２０Ｂが、その入射光側端面（反射コア８２側の端面）２２を第１の溝側面７１Ａに当接させ且つその一端（透過側端面２３と底端面２４とが交わる辺）をガイド傾斜面７１Ｄに突き当てた（当接させた）状態で設置されている。

　さらに、一方の狭幅側面７１Ｆの幅寸法（厚さ方向の幅）ｓは、多層膜フィルタ２０Ｂの厚さ寸法（膜厚）ｄに比して小さい、という構成を採っている。

　また、溝部７１の第２の溝側面７１Ｂと多層膜フィルタ２０Ｂの透過側端面（透過コア８１側の端面）２３との間隙（溝部７１と多層膜フィルタ２０Ｂとの間隙）には、反射防止用に下層クラッド５３及び上層クラッド５４（ＰＬＣ５０）と屈折率が整合する屈折率整合剤９１が充填されて硬化された構成を採っている。

　したがって、外部から入力されレンズ１０Ｂで集光されたＴＥ／ＴＭ光が、端面５１に入射されると共にクラッド層を伝搬されて入射光側端面２２（第１の溝側面７１Ａ）に到達すると、多層膜フィルタ２０Ｂが、これを透過する方向（ＴＥ光）と反射する方向（ＴＭ光）とに分離すると共に、各々を透過コア８１と反射コア８２とに出射するように構成されている。

　すなわち、多層膜フィルタ２０Ｂの入射光側端面２２は、第１の溝側面７１Ａに当接した状態にあり、本第１実施形態にかかる光分配機構２１Ｂでは、この当接状態を想定して多層膜フィルタ２０ＢのＰＢＳ設計値及び透過コア８１と反射コア８２の位置が予め設定されているため、これにより、ＴＭ光を反射コア８２に対して有意に結合することができる。
　また、溝部７１と多層膜フィルタ２０Ｂとの間隙で硬化された屈折率整合剤９１の屈折率が、下層クラッド５３及び上層クラッド５４（ＰＬＣ５０）に整合することから、ＴＥ光を透過コア８１に対して有意に結合することができる。

　さらに、屈折率整合剤９１は、溝部７１に挿入されて定置された多層膜フィルタ２０Ｂを接着することにより固定（設置）する、という機能を有する構成である。本第１実施形態では、紫外線と熱の両方で固まる機能を有する屈折率整合剤９１を採用し、この屈折率整合剤９１を硬化させることにより、溝部７１内にて定置させた多層膜フィルタ２０Ｂを固定する、という構成を採用した。もっとも、溝部７１の溝底面７１Ｈ近傍に至るまでの硬化が可能であれば、屈折率整合剤９１として、紫外線硬化性のみのものや熱硬化性のみのもの等を採用するようにしてもよい。

　ここで、図４乃至図６を参照して、本第１実施形態にかかる狭窄部７１Ｃの特徴的形状に基づく多層膜フィルタ２０Ｂの挿入及び摺動過程を説明する。これら図４乃至図６は、図２に開示した光分配機構２１Ｂのうち、溝部７１及び多層膜フィルタ２０Ｂのみを抽出して示したものである。

　上述した通り、多層膜フィルタ２０Ｂの厚さ寸法ｄ等にはばらつきがあるため、生産性を考慮して、溝部７１は大きめに形成される。したがって、挿入位置（溝部７１に多層膜フィルタ２０Ｂを挿入することにより底端面２４が溝底面７１Ｈに当接した際の位置）としては、例えば図４に示すように、（ａ）第１の溝側面７１Ａ側に寄った位置，（ｂ）溝部７１の中央の位置，（ｃ）第２の溝側面７１Ｂ側に寄った位置などが想定でき、即ち、必ずしも好適な位置に挿入されるとは限らない。

　このため、本第１実施形態にかかる光分配機構２１Ｂでは、断面楔形状の狭窄部７１Ｃを有する溝部７１を採用すると共に、かかる特徴的形状を有効に機能させるため、上記挿入後の多層膜フィルタ２０Ｂを、入射光側端面２２と第１の溝側面７１Ａとが平行な状態（平行状態）を保ったまま狭窄部７１Ｃに向けて移動させ、これにより、多層膜フィルタ２０Ｂを狭窄部７１Ｃに突き当てた後に定置させる、という構成を採った。

　ここで、図５及び図６を参照して、図４に示した挿入位置にある多層膜フィルタ２０Ｂの入射光側端面２２が、第１の溝側面７１Ａに当接するまでの移動過程を説明する。

　図５（ａ）には、図４（ｂ）と同様に、溝部７１の中央の位置に多層膜フィルタ２０Ｂが挿入された状態を示す。
　本第１実施形態では、平行状態にある多層膜フィルタ２０Ｂに対して、狭窄部７１Ｃ（一方の狭幅側面７１Ｆ）に向かう方向（摺動方向）への均等な力を加えることで、挿入された多層膜フィルタ２０Ｂを摺動（スライド）させ、これにより、図５（ｂ）に示す多層膜フィルタ２０Ｂがガイド傾斜面７１Ｄ（狭窄部７１Ｃ）に突き当たった状態となるように構成されている。

　ここでの摺動とは、多層膜フィルタ２０Ｂの底端面２４（図３）が溝部７１の溝底面７１Ｈ（図３）に接した状態でスライドしながら移動することをいう。もっとも、本第１実施形態では、多層膜フィルタ２０Ｂを溝部７１に挿入するのに先立って、上層クラッド５４及び下層クラッド５３と屈折率が整合する反射防止用の屈折率整合剤９１を充填するという構成を採っているため、底端面２４と溝底面７１Ｈとの間に屈折率整合剤９１が幾分か介在する状態で、当該摺動が実現される。

　また、本第１実施形態では、図５（ｂ）に示す状態にある多層膜フィルタ２０Ｂに対しても、摺動方向への力を継続的に加えるため、多層膜フィルタ２０Ｂの一端が、ガイド傾斜面７１Ｄに接触した状態でこれに沿って移動することとなり、これにより、入射光側端面２２を第１の溝側面７１Ａに近づける、という構成を採ることができる。
　したがって、薄膜である多層膜フィルタ２０Ｂに過剰な負担をかけることなく、図２に示すように、その入射光側端面２２が第１の溝側面７１Ａに当接し且つその一端がガイド傾斜面７１Ｄに当接した状態で定置させることができる。

　続いて、図６（ａ）には、図４（ｃ）と同様に、溝部７１の第２の溝側面７１Ｂ側に寄った位置に多層膜フィルタ２０Ｂが挿入された場合を示す。かかる場合の摺動過程も上記図５に示す場合と同様である。

　すなわち、図６（ａ）に示すように、第２の溝側面７１Ｂ側に寄った位置に挿入された多層膜フィルタ２０Ｂは、摺動方向への力を受けてスライドしながら移動し、狭窄部７１Ｃに達した（突き当たった）図６（ｂ）に示す状態になると、さらに平行状態を保ったままガイド傾斜面７１Ｄに沿って摺動すると共に、図６（ｃ）に示す状態を経て入射光側端面２２が第１の溝側面７１Ａに近づいていくこととなり、最終的に断面楔形状である狭窄部７１Ｃに当接した状態で定置される、という構成を採っている。
　したがって、一方の狭幅側面７１Ｆへ向けての摺動により、薄膜である多層膜フィルタ２０Ｂに過剰な負担をかけることなく、入射光側端面２２が第１の溝側面７１Ａに当接し且つ多層膜フィルタ２０Ｂの一端がガイド傾斜面７１Ｄに当接した図１に示す構成を採ることが可能となる。

　また、図４（ａ）に示すような挿入位置の場合も同様に、多層膜フィルタ２０Ｂに対して摺動方向への力を加えることで、図１に示す状態に定置させることができる。

　本第１実施形態では、一方の狭幅側面７１Ｆとガイド傾斜面７１Ｄとを含む断面楔形状の狭窄部７１Ｃを溝部７１に採用したことで、挿入位置如何にかかわらず、多層膜フィルタ２０Ｂが所望の位置に確実に固定されるという構成となるため、これにより、各コア（８１及び８２）への結合損のばらつきを抑えることが可能となる。

（動作説明）
　次に、図２及び図３に示す光分配機構２１Ｂの製造方法にかかる動作を、図７に示すフローチャートに基づいて説明する。

　まず、基板５２の主面５２Ａ上に下層クラッド５３を形成し（図７：Ｓ１０１）、この下層クラッド５３上に、第１方向に光を伝搬する透過コア８１と、上記第１方向と交差する方向（第２方向）に光を伝搬する反射コア８２と、を設け（図７：Ｓ１０２）、この透過コア８１及び反射コア８２を覆うように上層クラッド５４を形成する（図７：Ｓ１０３）。

　次いで、透過コア８１と反射コア８２とを隔てる部分に、第１の溝側面７１Ａと第２の溝側面７１Ｂとこれら各側面の端部を連結する断面楔形状の狭窄部７１Ｃとを有する溝部７１を形成する（図７：Ｓ１０４）。

　ここで、狭窄部７１Ｃの一方の狭幅側面７１Ｆに向けて狭窄する形状は、第２の溝側面７１Ｂが第１の溝側面７１Ａに向かって窄まっていくように設けたガイド傾斜面７１Ｄを含んで形成し、その際、一方の狭幅側面７１Ｆの幅寸法ｓが、多層膜フィルタ２０Ｂの厚さ寸法ｄに比して小さくなるように調整する（図７：Ｓ１０４）。

　次いで、上記により形成した溝部７１に、下層クラッド５３及び上層クラッド５４と屈折率が整合する反射防止用の屈折率整合剤９１を充填する（図７：Ｓ１０５）。

　続いて、屈折率整合剤９１が充填された溝部７１に、平行状態にある多層膜フィルタ２０Ｂを、主面５２Ａ側（各層の積層面側）から真っ直ぐに挿入する（図７：Ｓ１０６）。

　次いで、溝部７１に挿入された平行状態にある多層膜フィルタ２０Ｂに対して、挿入方向に向けた均等な力を加え、これにより、多層膜フィルタ２０Ｂを狭窄部７１Ｃに向けて移動させる（図７：Ｓ１０７）。

　ここで、多層膜フィルタ２０Ｂが図４に例示したような挿入位置にあるとき、すなわち、多層膜フィルタ２０Ｂとガイド傾斜面７１Ｄとが離れた状態にあるときは、まず、平行状態を保ったまま多層膜フィルタ２０Ｂを、ガイド傾斜面７１Ｄに突き当たるまで摺動させる。
　さらに、図５（ｂ）又は図６（ｂ）（ｃ）に例示するように、多層膜フィルタ２０Ｂの一端がガイド傾斜面７１Ｄに接触した状態になっても、挿入方向への均等な力を継続的に加えることで、多層膜フィルタ２０Ｂを、その一端がガイド傾斜面７１Ｄに接触した状態で摺動させる。
　これにより、平行状態を保ったまま入射光側端面２２を第１の溝側面７１Ａに近づけ、最終的に多層膜フィルタ２０Ｂを、その入射光側端面２２が第１の溝側面７１Ａに当接し且つその一端がガイド傾斜面７１Ｄに当接した状態で定置させる（図７：Ｓ１０７）。

　次いで、溝部７１内の屈折率整合剤９１に対し、紫外線を照射することによりこれを硬化させ、さらに、熱をかけることにより溝底面７１Ｈ近傍の屈折率整合剤９１を硬化させる（図７：Ｓ１０８）。

　上記各ステップＳ１０１～Ｓ１０８（図７）における各工程を、本第１実施形態では機械的に実行した。しかし、これら各工程の一部又は全部を人為的に実行するようにしてもよい。
　また、上記一連の各工程内容を簡潔にまとめると、以下のように表すことができる。

　光分配機構２１Ｂは、
　主面５２Ａ上にクラッド及びコアを積層した基板に、
　外部からの入射光に対して一定の角度を成す第１の溝側面７１Ａと、これに対向する第２の溝側面７１Ｂと、上記各側面の端部を連結する断面楔形状の狭窄部７１Ｃと、を有するスリット状溝部７１を形成し、
　このスリット状溝部７１に、入射光を分離して上記コアに出射する多層膜フィルタ２０Ｂを主面５２Ａ側から挿入し、
　この挿入した多層膜フィルタ２０Ｂを、第１の溝側面７１Ａに平行な状態で狭窄部７１Ｃに向けて移動させることにより当該狭窄部７１Ｃに当接させ、屈折率整合剤９１にてスリット状溝部７１内に固定することにより製造される。

　上記スリット状溝部７１を形成するに際しては、
　狭窄部７１Ｃに、第２の溝側面７１Ｂから第１の溝側面７１Ａに向かって窄まるように形成したガイド傾斜面７１Ｄと、第１の溝側面７１Ａの端部とガイド傾斜面７１Ｄの端部とを連結する一方の狭幅側面７１Ｆと、を設け、
　一方の狭幅側面７１Ｆの幅寸法ｓは、多層膜フィルタ２０Ｂの厚さ寸法ｄに比して小さくなるようにし、
　上記挿入後の移動により、多層膜フィルタ２０Ｂを、その入射光側端面２２が第１の溝側面７１Ａに当接し且つその一端がガイド傾斜面７１Ｄに当接した状態となるようにして上記固定を実現する。

　さらに、上記各ステップＳ１０１～Ｓ１０８（図７）における各工程の実行内容をプログラム化すると共に、この一連の各制御プログラムをコンピュータによって実現するように構成してもよい。

（第１実施形態の効果等）
　本第１実施形態にかかる光分配機構２１Ｂは、その溝部７１に、第１の溝側面７１Ａ側の構造を変えず、第２の溝側面７１Ｂ側のみを徐々に第１の溝側面７１Ａに近づけていくという構造を採用した。すなわち、溝部７１は、第２の溝側面７１Ｂから一方の狭幅側面７１Ｆに向けて狭窄するように形成されたガイド傾斜面７１Ｄを有するため、挿入後の摺動を経てガイド傾斜面７１Ｄに当接した多層膜フィルタ２０Ｂを、さらにガイド傾斜面７１Ｄに沿って移動させることができ、これにより、その入射光側端面２２を第１の溝側面７１Ａに当接させた状態で定置することが可能となる。

　したがって、溝部７１に挿入された多層膜フィルタ２０Ｂを、断面楔形状である狭窄部７１Ｃに向かって移動させることで、挿入位置如何にかかわらず所望の位置に固定することができ、このため、入射光の分離と出射を有効に実現することが可能となり、即ち、各コア（導波路）への結合損のばらつきを抑えることができることから、生産性の向上を図ることが可能となる。

　また、上述した通り、光分配機構２１Ｂを構成する部材数及びその製造にかかる工数は最低限に抑えられているため、コストや時間を削減することができる。

　さらに、図１に例示する、各多層膜フィルタ（２０Ａ又は２０Ｂ）をＰＬＣ５０の入射端部に配置したＰＢＳ集積型コヒーレントミキサ（コヒーレントミキサ装置）６０では、各レンズ（１０Ａ又は１０Ｂ）で集光した光を、ＰＬＣ５０の入射端部に配置した各多層膜フィルタ（２０Ａ又は２０Ｂ）に対して入射させ、これにより、ＴＥ光を透過させると共にＴＭ光を反射させてＰＬＣ５０上に設けた導波路を伝搬させ、さらに各光ハイブリッド（３３及び３４）によりこれらを振り分けて出射するという構成を採用した。ここで、各レンズ（１０Ａ及び１０Ｂ）の焦点位置は、ＰＬＣ５０の導波路端面に合わせることができるため、これにより、回折損の影響を小さくすることが可能となり、全体として有意な光伝搬を実現することができる。

　また、本第１実施形態では、基板５２の主面５２Ａ側に積層するクラッドとして下層クラッド５３及び上層クラッド５４を採用し、同じくコアとして透過コア８１及び反射コア８２を採用した。しかし、コアの本数や各々が成す角度等は、これに限定されるものではない。

　加えて、本第１実施形態では、狭窄部７１Ｃを一方の狭幅側面７１Ｆ側に設けると共に、ガイド傾斜面７１Ｄを第２の溝側面７１Ｂの側に設けて構成した。しかし、狭窄部７１Ｃと同等の構成を、図１に示す他方の狭幅側面７１Ｇ側に形成するようにしてもよい。
　すなわち、ガイド傾斜面７１Ｄに代えて、これと同等のガイド傾斜面を第２の溝側面７１Ｂと他方の狭幅側面７１Ｇとを連結する位置に設けると共に、挿入後の多層膜フィルタ２０Ｂを他方の狭幅側面７１Ｇ側に向けて移動させることにより、その入射光側端面２２が第１の溝側面７１Ａに当接し且つその一端が当該ガイド傾斜面に当接した状態で固定するように構成してもよい。

　また、ガイド傾斜面７１Ｄに代えて、これと同等のガイド傾斜面を第２の溝側面７１Ｂと溝底面７１Ｈとを連結する位置に設けるようにしてもよい。このように構成すれば、多層膜フィルタ２０Ｂが主面５２Ａ側から挿入される際に、その一端が当該溝底面７１Ｈ側のガイド傾斜面に当接し、且つその後、当該ガイド傾斜面に沿って上記同様に移動するため、これにより、多層膜フィルタ２０Ｂを、その入射光側端面２２が第１の溝側面７１Ａに当接し且つその一端が当該溝底面７１Ｈ側のガイド傾斜面に当接した状態で固定装備することが可能となる。

　なお、溝部７１が有する狭窄部７１Ｃについては、上述したガイド傾斜面７１Ｄに代えて、断面テーパ状の湾曲した側面形状を採用するようにしてもよい。
　また、一方の狭幅側面７１Ｆを設けずに狭窄部７１Ｃを形成するようにしてもよい。すなわち、一方の狭幅側面７１Ｆの幅寸法ｓについて「ｓ＝０」としてもよい。

〔第２実施形態〕
　本発明にかかる光分配機構及びこの光分配機構を備えたコヒーレントミキサ装置の第２実施形態を、図８乃至図１２に基づいて説明する。

　本第２実施形態にかかるコヒーレントミキサ装置は、前述した第１実施形態にかかるコヒーレントミキサ装置６０と同様の構成であり、各光分配機構２１Ａ，２１Ｂの具体的構成のみが異なる。このため、ここでは図８を参照して、光分配機構にかかる具体的構成を説明する。
　また、本第２実施形態にて開示する光分配機構は、特に、溝部が有する狭窄部の断面楔形状（狭窄形状）が前述した第１実施形態にかかる光分配機構２１Ｂと異なるため、その符号を２２Ｂとするが、この光分配機構２２Ｂは、図１において２１Ｂに対応するものである。さらに、前述した第１実施形態と同一の構成部材については、同一の符号を用いるものとし、重複した説明については省略する。

　図８に示すように、光分配機構２２Ｂには、透過コア８１と反射コア８２とを隔てる部分に、第１の溝側面７２Ａと第２の溝側面７２Ｂとこれら各側面の端部を連結する断面楔形状の狭窄部７２Ｃとを有する溝部７２が形成され、この溝部７２には、多層膜フィルタ２０Ｂが挿入された後に固定された構成を採っている。

　本第２実施形態における狭窄部７２Ｃの断面楔形状は、溝部７２の第２の溝側面７２Ｂと第１の溝側面７２Ａとから等距離にある中央平面２５に向かって均等に窄まるように形成された、第２の溝側面７２Ｂに連結する第１のガイド傾斜面７２Ｄと第１の溝側面７２Ａに連結する第２のガイド傾斜面７２Ｅとを有して成り、また、一方の狭幅側面７２Ｆの幅寸法（厚さ方向の幅）ｓ’は、多層膜フィルタ２０Ｂの厚さ寸法（膜厚）ｄに比して小さい、という構成を採っている。
　すなわち、第１のガイド傾斜面７２Ｄと、これに連結する第２のガイド傾斜面７２Ｅと、を有して成る断面Ｖ字状のＶ字状傾斜面により、断面楔形状の狭窄部７２Ｃを構成している。

　かかる狭窄部７２Ｃの特徴的形状により、溝部７１では、主面５２Ａ側から真っ直ぐに挿入され且つ狭窄部７１Ｃに向かう方向への力を受けてスライドしながら移動した多層膜フィルタ２０Ｂが、その端部を第１のガイド傾斜面７２Ｄ及び第２のガイド傾斜面７２Ｅに当接させた状態で設置された構成を採っている。
　すなわち、両側面（７２Ａ及び７２Ｂ）から溝部７２を細くする方法を採ることにより、断面楔形状である狭窄部７２Ｃが形成されているため、溝部７２に挿入された多層膜フィルタ２０Ｂは、その中心が中央平面２５と一致する状態で設置される、という構成を採ることができる。

　ここで、図８に示すＱ－Ｑ線に沿った端面図である図９を参照すると、本第２実施形態にかかる光分配機構２２Ｂにおいて、基板５２の主面５２Ａ上に積層された下層クラッド５３，透過コア（透過光導波路）８１，反射コア（反射光導波路）８２，及び上層クラッド５４にかかる構成は、前述した第１実施形態における光分配機構２１Ｂと同様である。また、多層膜フィルタ２０Ｂは、その底端面２４が溝部７２の溝底面７２Ｈに当接した状態にある。

　しかし、図８に示した通り、溝部７２の形状が異なるため、多層膜フィルタ２０Ｂは、その中心が、第１の溝側面７２Ａと第２の溝側面７２Ｂとから等距離にある中央平面２５と一致する状態で設置されている。

　したがって、本第２実施形態にかかる溝部７２を有する光分配機構２２Ｂを採用する場合は、多層膜フィルタ２０Ｂが溝部７２の中央に配置されることを想定して、予めＰＢＳ設計値に基づくＴＥ／ＴＭ光の出射位置を算定し、これをもとに各コア（８１及び８２）を好適な位置に形成するという構成を採る。
　また、前述した第１実施形態と同様に、溝部７２と多層膜フィルタ２０Ｂとの間隙に充填されている反射防止用の屈折率整合剤９２は、下層クラッド５３及び上層クラッド５４（ＰＬＣ５０）と屈折率が整合するように構成されている。
　これらにより、多層膜フィルタ２０Ｂにて分離されたＴＥ光とＴＭ光をそれぞれ、透過コア８１と反射コア８２に対して有意に結合することができることから、歩留まりの向上を図ることが可能となる。

　すなわち、外部から入力されレンズ１０Ｂで集光されたＴＥ／ＴＭ光は、端面５１に入射されると共にクラッドを伝搬されて第１の溝側面７２Ａに到達しても、屈折することなく入射光側端面２２に入射され、多層膜フィルタ２０Ｂにより透過する方向（ＴＥ光）と反射する方向（ＴＭ光）とに分離されると共に、各々が透過コア８１と反射コア８２とに有意に出射される、という構成を採ることができる。

　ここで、図１０乃至図１２を参照して、本第２実施形態にかかる狭窄部７２Ｃの特徴的形状に基づく多層膜フィルタ２０Ｂの挿入過程を説明する。この図１０乃至図１２は、図８に開示した光分配機構２２Ｂのうち、溝部７２及び多層膜フィルタ２０Ｂのみを抽出して示したものである。

　上記同様に、生産性向上の観点から、多層膜フィルタ２０Ｂの厚さ寸法ｄ等のばらつきを勘案して、溝部７２は大きめに形成される。このため、多層膜フィルタ２０Ｂの挿入位置としては、例えば図１０に示すように、（ａ）第１の溝側面７２Ａ側に寄った位置、（ｂ）溝部７２の中央の位置、（ｃ）第２の溝側面７２Ｂ側に寄った位置などが想定でき、即ち、必ずしも好適な位置に挿入されるとは限らない。

　このため、本第２実施形態にかかる光分配機構２２Ｂでは、断面楔形状の狭窄部７２Ｃを有する溝部７２を採用すると共に、かかる特徴的形状を有効に機能させるため、溝部７２内に挿入した多層膜フィルタ２０Ｂを、平行状態に保ったまま狭窄部７２Ｃに向けて移動させ、狭窄部７２Ｃに突き当てた後に定置させる、という構成を採った。

　ここで、図１１及び図１２を参照して、図１０に示した挿入位置にある多層膜フィルタ２０Ｂの中心が中央平面２５と一致する状態で定置されるまでの移動過程を説明する。

　図１１（ａ）には、図１０（ａ）と同様に、多層膜フィルタ２０Ｂが、溝部７２の第１の溝側面７２Ａ側に寄った位置に挿入された状態を示す。
　本第２実施形態では、平行状態にある多層膜フィルタ２０Ｂに対して、狭窄部７２Ｃ（一方の狭幅側面７２Ｆ）に向かう方向（摺動方向）への均等な力を加えることで、挿入された多層膜フィルタ２０Ｂを摺動（スライド）させ、これにより、図１１（ｂ）に示す多層膜フィルタ２０Ｂが第２のガイド傾斜面７２Ｅ（狭窄部７２Ｃ）に突き当たった（当接した）状態となるように構成されている。

　また、本第２実施形態では、図１１（ｂ）に示す状態にある多層膜フィルタ２０Ｂに対しても、摺動方向への力を継続的に加えるため、多層膜フィルタ２０Ｂの一端が第２のガイド傾斜面７２Ｅに接触した状態で移動することとなり、これにより、多層膜フィルタ２０Ｂの中心が溝部７２の中心（中央平面２５）に近づいていくという構成を採ることができる。
　したがって、薄膜である多層膜フィルタ２０Ｂに過剰な負担をかけることなく、図８に示すように、多層膜フィルタ２０Ｂの端部を第１のガイド傾斜面７２Ｄ及び第２のガイド傾斜面７２Ｅに突き当てた状態で定置させることが可能となる。

　続いて、図１２（ａ）には、図１０（ｃ）と同様に、溝部７２の第２の溝側面７２Ｂ側に寄った位置に多層膜フィルタ２０Ｂが挿入された場合を示す。かかる場合の摺動過程も上記図１４に示す場合と同様である。

　すなわち、図１２（ａ）に示すように、第２の溝側面７２Ｂ側に寄った位置に挿入された多層膜フィルタ２０Ｂは、摺動方向への力を受けてスライドしながら移動し、狭窄部７２Ｃに達した（突き当たった）図１２（ｂ）に示す状態になると、さらに平行状態を保ったまま第１のガイド傾斜面７２Ｄに沿って摺動すると共に、図１２（ｃ）に示す状態を経て所望の位置である溝部７２の中心部分に移動していくこととなり、最終的に断面楔形状である狭窄部７２Ｃに当接した状態で定置される、という構成を採っている。
　したがって、一方の狭幅側面７２Ｆへ向けての摺動により、薄膜である多層膜フィルタ２０Ｂに過剰な負担をかけることなく、多層膜フィルタ２０Ｂの端部が第１のガイド傾斜面７２Ｄ及び第２のガイド傾斜面７２Ｅに突き当たった図８に示す構成を採ることが可能となる。

　また、図１０（ｂ）に示すような挿入位置の場合も同様に、多層膜フィルタ２０Ｂに対して摺動方向への力を加えることで、図８に示す状態に定置させることができる。

　他の構成内容は、前述した第１実施形態にかかる光分配機構２１Ｂと同様である。
　加えて、図８に示す光分配機構２２Ｂの製造方法にかかる動作は、前述した第１実施形態において図７（ステップＳ１０１～Ｓ１０８）をもとに説明した動作内容と同様である。すなわち、本第２実施形態では、光分配機構２２Ｂの製造にかかる各工程を機械的に実行したが、これら各工程の一部又は全部を人為的に実行するようにしてもよい。
　また、当該一連の各工程内容を簡潔にまとめると、以下のように表せる。

　光分配機構２２Ｂは、
　主面５２Ａ上にクラッド及びコアを積層した基板に、
　外部からの入射光に対して一定の角度を成す第１の溝側面７２Ａと、これに対向する第２の溝側面７２Ｂと、上記各側面の端部を連結する断面楔形状の狭窄部７２Ｃと、を有するスリット状溝部７２を形成し、
　このスリット状溝部７２に、入射光を分離して上記コアに出射する多層膜フィルタ２０Ｂを主面５２Ａ側から挿入し、
　この挿入した多層膜フィルタ２０Ｂを、第１の溝側面７２Ａに平行な状態で狭窄部７２Ｃに向けて移動させることにより当該狭窄部７２Ｃに当接させ、屈折率整合剤９２にてスリット状溝部７２内に固定することにより製造される。

　上記スリット状溝部７２を形成するに際しては、
　狭窄部７２Ｃに、第１の溝側面７２Ａと第２の溝側面７２Ｂとから等距離にある中央平面２５に向かって均等に窄まるように形成した、第２の溝側面７２Ｂに連結する第１のガイド傾斜面７２Ｄと第１の溝側面７２Ａに連結する第２のガイド傾斜面７２Ｅとを設けると共に、第１のガイド傾斜面７２Ｄの端部と第２のガイド傾斜面７２Ｅの端部とを連結する一方の狭幅側面７２Ｆを、その幅寸法ｓが多層膜フィルタ２０Ｂの厚さ寸法ｄに比して小さくなるように形成し、
　上記挿入後の移動により、多層膜フィルタ２０Ｂの端部を、第１のガイド傾斜面７２Ｄと第２のガイド傾斜面７２Ｅとに当接させると共に上記固定を実現する。

　さらに、前述した第１実施形態と同様に実行する各ステップＳ１０１～Ｓ１０８（図７）に示した各工程の処理内容をプログラム化すると共に、この一連の各制御プログラムをコンピュータによって実現するように構成してもよい。

（第２実施形態の効果等）
　本第２実施形態においても、第１のガイド傾斜面７２Ｄ，及び第２のガイド傾斜面７２Ｅ，一方の狭幅側面７２Ｆを有する断面楔形状の狭窄部７２Ｃを溝部７２に採用したことで、溝部７１に挿入された多層膜フィルタ２０Ｂが、挿入位置如何にかかわらず所望の位置に確実に固定されるという構成となるため、これにより、各コア（導波路）への結合損のばらつきを抑えることができることから、生産性の向上を図ることが可能となる。

　すなわち、多層膜フィルタ２０Ｂを、第１の溝側面７２Ａ及び第２の溝側面７２Ｂから所定距離（ＰＢＳ設計値等に基づいて予め設定された距離）だけ離れた位置に実装することができるため、当該位置に対応づけて各コア（導波路）を形成しておくことにより、入射光の分離と出射を有効に実現することができる光分配機構を、歩留まりよく製造することが可能となる。

　また、仮に、多層膜フィルタ２０Ｂが、溝部形成のばらつきの影響で意図しない位置に配置されたとしても、設計中心が溝部７２の中央（中央平面２５）にあるため、図１４及び図１５に示す従来関連技術の構成に比べて、位置ずれ量を半分に抑えることができ、これにより、製造ばらつきに強いデバイスを提供することが可能となる。

　本第２実施形態では、狭窄部７２Ｃを一方の狭幅側面７２Ｆ側に設けると共に、第１のガイド傾斜面７２Ｄと第２のガイド傾斜面７２Ｅとが中央平面２５に向けて均等に窄まるように形成するという構成を採用した。
　しかし、第１のガイド傾斜面７２Ｄと第２のガイド傾斜面７２Ｅとのそれぞれを、中央平面２５に向けて異なる傾斜角を成して窄まるように形成してもよい。
　また、狭窄部７２Ｃと同等の構成を、図８に示す他方の狭幅側面７２Ｇ側に形成するようにしてもよい。すなわち、第１のガイド傾斜面７２Ｄ及び第２のガイド傾斜面７２Ｅに代えて、これと同等のガイド傾斜面を他方の狭幅側面７２Ｇの側に設けると共に、挿入後の多層膜フィルタ２０Ｂを他方の狭幅側面７２Ｇ側に向けて移動させることにより、多層膜フィルタ２０Ｂの端部を第１のガイド傾斜面７２Ｄ及び第２のガイド傾斜面７２Ｅに当接させた状態で固定するように構成してもよい。

　また、第１のガイド傾斜面７２Ｄ及び第２のガイド傾斜面７２Ｅに代えて、これと同様の各ガイド傾斜面を溝底面７１Ｈの側に設けるようにしてもよい。このように構成すれば、多層膜フィルタ２０Ｂが主面５２Ａ側から挿入される際に、その一端が当該溝底面７１Ｈ側の各ガイド傾斜面の何れかに当接し、且つその後、当該何れかのガイド傾斜面に沿って上記同様に移動するため、これにより、多層膜フィルタ２０Ｂを所望の位置に固定装備することが可能となる。

　他の効果等については、前述した第１実施形態と同様である。
　なお、溝部７２が有する狭窄部７２Ｃについては、上述した第１のガイド傾斜面７２Ｄ及び第２のガイド傾斜面７２Ｅに代えて、断面テーパ状の湾曲した側面形状を有する２つのガイド傾斜面を採用するようにしてもよい。
　また、一方の狭幅側面７２Ｆを設けずに狭窄部７２Ｃを形成するようにしてもよい。すなわち、一方の狭幅側面７２Ｆの幅寸法ｓ’について「ｓ’＝０」としてもよい。

　ここで、上述した各実施形態は、光分配機構及びこれを備えたコヒーレントミキサ装置における好適な具体例であり、技術的に好ましい種々の限定を付している場合もあるが、本発明の技術範囲は、特に本発明を限定する記載がない限り、これらの態様に限定されるものではない。

　以下は、上述した実施形態についての新規な技術的内容の要点をまとめたものであるが、本発明は必ずしもこれに限定されるものではない。

（付記１）
　入射されるコヒーレント光である入射光を少なくとも二方向に分配する多層膜フィルタと、この多層膜フィルタを前記入射光に対して所定の角度に配置し保持するスリット状溝部と、このスリット状溝部が形成された光導波路基板と、備えた光分配機構であって、
　前記スリット状溝部を、前記入射光の入射側に位置する第１の溝側面とこれに対向する第２の溝側面とを備えると共に、前記多層膜フィルタの組み込み時に機能し当該多層膜フィルタを前記第１の溝側面に対して平行状態を維持する位置に案内するガイド傾斜面を前記第２の溝側面の側に設けて構成し、
　前記多層膜フィルタは、このガイド傾斜面に沿って前記スリット状溝部内に組み込まれ且つ屈折率整合剤にて固定装備されたものであることを特徴とする光分配機構。

（付記２）
　前記付記１に記載の光分配機構において、
　前記スリット状溝部を、前記第１，第２の各溝側面と、この第１，第２の各溝側面を連結する溝底面と、この溝底面と前記第１，第２の各溝側面を連結する一方と他方の狭幅側面とにより構成すると共に、
　前記ガイド傾斜面は、前記一方の狭幅側面，他方の狭幅側面，又は前記溝底面の何れか一つの面と前記第２の溝側面とを連結する位置に設けたものであることを特徴とする光分配機構。

（付記３）
　前記付記１に記載の光分配機構において、
　前記スリット状溝部を、前記第１，第２の各溝側面と、この第１，第２の各溝側面を連結する溝底面と、この溝底面と前記第１，第２の各溝側面を連結する一方と他方の狭幅側面とにより構成すると共に、
　前記ガイド傾斜面を、前記一方の狭幅側面，他方の狭幅側面，又は前記溝底面の何れか一つの面に連なる前記第２の溝側面の側に設けた第１のガイド傾斜面と、この第１のガイド傾斜面に対向して前記第１の溝側面側に設けた第２のガイド傾斜面と、により成る断面Ｖ字状のＶ字状傾斜面としたことを特徴とする光分配機構。

（付記４）
　前記付記１乃至３の何れか一つに記載の光分配機構において、
　前記ガイド傾斜面が形成された状態にある前記溝底面，一方の狭幅側面，又は他方の狭幅側面の幅寸法は、前記多層膜フィルタの厚さ寸法よりも小さく設定されていることを特徴とした光分配機構。

（付記５）
　前記付記１乃至４の何れか一つに記載の光分配機構において、
　前記スリット状溝部の幅は、前記多層膜フィルタの幅の最大値よりも大きく設定されていることを特徴とした光分配機構。

（付記６）
　入射されるコヒーレント光である信号光を二方向に分配する第１の光分配機構と、コヒーレント光である局部発振光を前記信号光に対応させて二方向に分配する第２の光分配機構と、この第１，第２の光分配機構から各二方向に分配出力されるコヒーレント光を光導波路を介して個別に取り込むと共に特性に合わせて変調し更に分配出力する光ミキサ領域と、を有するコヒーレントミキサ装置であって、
　前記第１，第２の光分配機構として前記請求項１乃至５の何れか一つに記載の光分配機構を装備すると共に、前記各光分配機構が備えている光導波路基板を前記光ミキサ領域と共通の光導波路基板により構成したことを特徴とするコヒーレントミキサ装置。

（付記７）
　前記付記６に記載のコヒーレントミキサ装置において、
　前記入射光としての信号光及び局部発振光は、それぞれがＴＥ波及びＴＭ波の特性を備えた合成波であることを特徴とするコヒーレントミキサ装置。

　この出願は２０１３年３月２６日に出願された日本出願特願２０１３－０６３９０６を基礎とする優先権を主張し、その開示の全てをここに取り込む。

　本発明にかかる光分配機構は、１チップのＰＬＣに各種の光学素子を集積化した光コヒーレントミキサ等に適用可能である

　　１０Ａ　　第１のレンズ
　　１０Ｂ　　第２のレンズ（レンズ）
　　１００　　レンズ
　　２０Ａ　　第１の多層膜フィルタ
　　２０Ｂ　　第２の多層膜フィルタ（多層膜フィルタ）
　　２００　　多層膜フィルタ（ＰＢＳ）
　　２１Ａ　　第１の光分配機構
　　２１Ｂ　　第２の光分配機構
　　２２Ｂ、２０１　　光分配機構
　　２２　　入射光側端面
　　２３　　透過側端面
　　２４　　底端面
　　２５　　中央平面
　　３３　　第１の光ハイブリッド
　　３４　　第２の光ハイブリッド
　　４１　　第１のπ／２位相シフタ
　　４２　　第２のπ／２位相シフタ
　　５０、５００　　ＰＬＣ（石英系平面光導波路）
　　５１　　端面
　　５２　　基板
　　５２Ａ　　主面
　　５３　　下層クラッド
　　５４　　上層クラッド
　　６０　　コヒーレントミキサ装置
　　７１、７２、７００　　スリット状溝部（溝部）
　　７１Ａ、７２Ａ、７０１　　第１の溝側面
　　７１Ｂ、７２Ｂ、７０２　　第２の溝側面
　　７１Ｃ、７２Ｃ　　狭窄部
　　７１Ｄ　　ガイド傾斜面
　　７２Ｄ　　第１のガイド傾斜面
　　７２Ｅ　　第２のガイド傾斜面
　　７１Ｆ、７２Ｆ　　一方の狭幅側面
　　７１Ｇ、７２Ｇ　　他方の狭幅側面
　　７１Ｈ、７２Ｈ　　溝底面
　　８１、８０１　　透過コア（透過光導波路）
　　８２、８０２　　反射コア（反射光導波路）
　　９１、９２、９０１、９０２　　屈折率整合剤

Claims

　入射されるコヒーレント光である入射光を少なくとも二方向に分配する多層膜フィルタと、この多層膜フィルタを前記入射光に対して所定の角度に配置し保持するスリット状溝部と、このスリット状溝部が形成された光導波路基板と、備えた光分配機構であって、
　前記スリット状溝部を、前記入射光の入射側に位置する第１の溝側面とこれに対向する第２の溝側面とを備えると共に、前記多層膜フィルタの組み込み時に機能し当該多層膜フィルタを前記第１の溝側面に対して平行状態を維持する位置に案内するガイド傾斜面を前記第２の溝側面の側に設けて構成し、
　前記多層膜フィルタは、このガイド傾斜面に沿って前記スリット状溝部内に組み込まれ且つ屈折率整合剤にて固定装備されたものであることを特徴とする光分配機構。
　前記請求項１に記載の光分配機構において、
　前記スリット状溝部を、前記第１，第２の各溝側面と、この第１，第２の各溝側面を連結する溝底面と、この溝底面と前記第１，第２の各溝側面を連結する一方と他方の狭幅側面とにより構成すると共に、
　前記ガイド傾斜面は、前記一方の狭幅側面，他方の狭幅側面，又は前記溝底面の何れか一つの面と前記第２の溝側面とを連結する位置に設けたものであることを特徴とする光分配機構。
　前記請求項１に記載の光分配機構において、
　前記スリット状溝部を、前記第１，第２の各溝側面と、この第１，第２の各溝側面を連結する溝底面と、この溝底面と前記第１，第２の各溝側面を連結する一方と他方の狭幅側面とにより構成すると共に、
　前記ガイド傾斜面を、前記一方の狭幅側面，他方の狭幅側面，又は前記溝底面の何れか一つの面に連なる前記第２の溝側面の側に設けた第１のガイド傾斜面と、この第１のガイド傾斜面に対向して前記第１の溝側面側に設けた第２のガイド傾斜面と、により成る断面Ｖ字状のＶ字状傾斜面としたことを特徴とする光分配機構。
　前記請求項１乃至３の何れか一つに記載の光分配機構において、
　前記ガイド傾斜面が形成された状態にある前記溝底面，一方の狭幅側面，又は他方の狭幅側面の幅寸法は、前記多層膜フィルタの厚さ寸法よりも小さく設定されていることを特徴とした光分配機構。
　前記請求項１乃至４の何れか一つに記載の光分配機構において、
　前記スリット状溝部の幅は、前記多層膜フィルタの幅の最大値よりも大きく設定されていることを特徴とした光分配機構。
　入射されるコヒーレント光である信号光を二方向に分配する第１の光分配機構と、コヒーレント光である局部発振光を前記信号光に対応させて二方向に分配する第２の光分配機構と、この第１，第２の光分配機構から各二方向に分配出力されるコヒーレント光を光導波路を介して個別に取り込むと共に特性に合わせて変調し更に分配出力する光ミキサ領域と、を有するコヒーレントミキサ装置であって、
　前記第１，第２の光分配機構として前記請求項１乃至５の何れか一つに記載の光分配機構を装備すると共に、前記各光分配機構が備えている光導波路基板を前記光ミキサ領域と共通の光導波路基板により構成したことを特徴とするコヒーレントミキサ装置。
　前記請求項６に記載のコヒーレントミキサ装置において、
　前記入射光としての信号光及び局部発振光は、それぞれがＴＥ波及びＴＭ波の特性を備えた合成波であることを特徴とするコヒーレントミキサ装置。